JPH03218844A - Manufacture of ink jet recording head - Google Patents

Manufacture of ink jet recording head

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JPH03218844A
JPH03218844A JP1269290A JP1269290A JPH03218844A JP H03218844 A JPH03218844 A JP H03218844A JP 1269290 A JP1269290 A JP 1269290A JP 1269290 A JP1269290 A JP 1269290A JP H03218844 A JPH03218844 A JP H03218844A
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JP
Japan
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active energy
energy ray
curable material
base
solid layer
Prior art date
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Application number
JP1269290A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Nozawa
実 野沢
Tadaki Inamoto
忠喜 稲本
Masami Yokota
横田 雅実
Hideaki Mashio
真塩 英明
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
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  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent bubbles from being entrained during manufacturing process by coating a base with an active energy ray curable material and junctioning a lid plate and the base together in a decompressed atmosphere. CONSTITUTION:An active energy ray curable material layer 2 is laminated on a base having a formed solid layer 8 in a decompressed atmosphere so that the solid layer 8 is covered by the layer 2. A lid plate 4 is junctioned to the active energy ray curable material layer 2 of the base 1 in a decompressed atmosphere. A recessed part 5 for obtaining a specified liquid chamber volume is provided in an area for forming a common liquid chamber, if necessary. Thus a laminated body consisting of the base 1, the solid layer 8, the active energy ray curable material layer 2 and the lid plate 4 laminated sequentially. A mask 52 is laminated on the lid plate 4 which allows transmission of active energy ray, then an active energy ray 11 is projected and an active energy ray curable material in the irradiated area becomes cured into a curable resin layer. Subsequently, the base 1 and the lid plate 4 are junctioned together. A liquid flow path and a common liquid chamber are formed by removing the solid layer 8 and the active energy ray curable material 2 which is not yet cured from the laminated body.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、記録液滴を吐出し記録を行なうためのインク
ジェット記録ヘッドの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method of manufacturing an inkjet recording head for performing recording by discharging recording droplets.

[従来の技術と発明が解決しようとする課題]インクジ
ェット記録方式(液体噴射記録方式)に適用されるイン
クジェット記録ヘッドは、一Mに微細な記録液吐出口(
以下、オリフィスと呼ぶ)、液流路および該液流路の一
部に設けられる液体吐出エネルギー発生部とを備えてい
る。従来、このようなインクジェット記録ヘッドを製造
する方法として、例えば、ガラスや金属等の板を用いこ
の板に切削やエッチング等の加工手段によって微細な溝
を形成した後、この溝が形成された板を他の適当な板と
接合して液流路等の形成を行なう方法が知られている。
[Prior art and problems to be solved by the invention] An inkjet recording head applied to an inkjet recording method (liquid jet recording method) has fine recording liquid ejection ports (1M).
(hereinafter referred to as an orifice), a liquid flow path, and a liquid ejection energy generating section provided in a part of the liquid flow path. Conventionally, as a method for manufacturing such an inkjet recording head, for example, a plate made of glass or metal is used, fine grooves are formed on this plate by processing means such as cutting or etching, and then a plate with these grooves formed is used. A method is known in which a liquid flow path or the like is formed by joining the plate with another appropriate plate.

しかしながら、斯かる従来の製造方法によって作成され
るインクジェット記録ヘッドでは、切削加工によって形
成される液流路内壁面の荒れが大きすぎたり、あるいは
エッチング率の差から液流路に歪が生じたりして、流路
抵抗の一定した液流路が得難く、製造後のインクジェッ
ト記録ヘッドの記録液吐出特性にバラッキが出易いと言
った問題があった。
However, in inkjet recording heads manufactured using such conventional manufacturing methods, the inner wall surface of the liquid flow path formed by cutting may be too rough, or the liquid flow path may be distorted due to the difference in etching rate. However, there is a problem in that it is difficult to obtain a liquid flow path with constant resistance, and the recording liquid ejection characteristics of the inkjet recording head after manufacture tend to vary.

また、切削加工の際に板の欠けや割れが生じ易く、製造
歩留りが悪いと言う問題点もあった。
In addition, there was also the problem that the plate was easily chipped or cracked during cutting, resulting in poor manufacturing yield.

また、エッチング加工を行なう場合には、製造工程が多
く、製造コストの上昇を招くと言う不利もあった。
Further, when etching is performed, there is a disadvantage that there are many manufacturing steps, leading to an increase in manufacturing costs.

更には、上記従来法に共通する問題点として、液流路を
形成した溝付板と、記録液滴を吐出させるための吐出エ
ネルギーを発生する圧電素子や、あるいは電気熱変換素
子等の駆動素子が設けられた蓋板とを貼り合せる際に、
これら板の位置合わせが困難であり、量産性に欠けると
言った問題もあった。
Furthermore, a problem common to the above conventional methods is that the grooved plate forming the liquid flow path and the drive element such as a piezoelectric element that generates ejection energy to eject recording droplets or an electrothermal transducer element are required. When bonding the lid plate with
There was also the problem that alignment of these plates was difficult and mass production was lacking.

上記従来の製造方法に対して、第4図に示すような製造
方法が用いられていた。
In contrast to the conventional manufacturing method described above, a manufacturing method as shown in FIG. 4 has been used.

第4図(a)に示すように、電気熱変換素子等のエネル
ギ発生素子7を基体l上に設け、同図(b)に示すよう
に、通常行なわれているフォトリソグラフィーの手法に
より、基体1上にオリフィス用開口13,開口13に連
通する液流路用溝14,各液流路用溝に共通の共通液室
用溝15をそれぞれ形成し、その後同図(C)に示すよ
うに、接着層3を介して液供給口6が形成されている蓋
板4と基体1とを接合する。
As shown in FIG. 4(a), an energy generating element 7 such as an electrothermal transducer is provided on the substrate l, and as shown in FIG. 4(b), the substrate is 1, an orifice opening 13, a liquid channel groove 14 communicating with the opening 13, and a common liquid chamber groove 15 common to each liquid channel groove are formed, and then as shown in FIG. , the cover plate 4 on which the liquid supply port 6 is formed and the base body 1 are joined via the adhesive layer 3.

この製造方法は、記録ヘッドが小型の場合は比較的有効
な手法であるが、記録ヘッドが大型の場合、例えば被記
録媒体の記録幅に対応した長さにわたりオリフィスが所
定のピッチで配列されているような、いわゆるフルマル
チタイプの記録ヘッドの場合、基体または蓋板の反り、
面粗さ等、接合面の面精度が低くなり、基体と蓋板との
接合そのものが困難であった。
This manufacturing method is relatively effective when the recording head is small, but when the recording head is large, for example, the orifices are arranged at a predetermined pitch over a length corresponding to the recording width of the recording medium. In the case of a so-called full multi-type recording head, the base or cover plate may be warped,
The surface precision of the bonding surface, such as surface roughness, deteriorated, making it difficult to bond the base and the lid plate itself.

また、基体には成膜,バターニング工程がその製造工程
に導入されるためかなりの面精度を出すことができるが
、成膜された膜の内部応力により基体に反りが発生しや
すい。また、蓋板について面精度を高めるには、研磨加
工が必要となり、高価なものとなってしまうという問題
点があった。
Furthermore, since film formation and patterning steps are introduced into the manufacturing process of the substrate, considerable surface precision can be achieved, but the substrate is likely to warp due to the internal stress of the deposited film. Furthermore, in order to improve the surface precision of the lid plate, polishing is required, which poses a problem in that it becomes expensive.

第5図に示す製造方法は、製造方法の他の従来例を示す
ものであり、以下に示す工程よりなる。
The manufacturing method shown in FIG. 5 shows another conventional example of the manufacturing method, and includes the steps shown below.

(1)液体を吐出するのに利用されるエネルギーを発生
するための素子7を設けた基体1上の液流路形成予定部
位および共通液室形成予定部位に、これらの形状に沿っ
て溶解除去可能な固体層8を設ける工程(第5図(a)
)。
(1) Dissolve and remove along the shape of the area where the liquid flow path is to be formed and the area where the common liquid chamber is to be formed on the base body 1 provided with the element 7 for generating energy used to discharge the liquid. Step of providing solid layer 8 (Fig. 5(a))
).

(2)固体層8が設けられた基体1上に、活性エネルギ
ー線硬化性材料2を被覆する工程(第5図(b))。
(2) A step of coating active energy ray-curable material 2 on base 1 provided with solid layer 8 (FIG. 5(b)).

(3)活性エネルギー線硬化性材料2の共通液室形成予
定部位をマスク12によって被覆し、この部位以外の部
分に活性エネルギー線1lを照射し、硬化させる工程(
第5図(b))。
(3) A step of covering the part of the active energy ray curable material 2 where the common liquid chamber is to be formed with the mask 12, and irradiating the part other than this part with the active energy ray 1l to cure it (
Figure 5(b)).

(4)活性エネルギー線硬化性材料2のマスクl2が施
された非硬化部分を溶解除去して共通液室用溝15を形
成する工程(第5図(C))。
(4) Step of dissolving and removing the uncured portion of the active energy ray curable material 2 to which the mask 12 has been applied to form the common liquid chamber groove 15 (FIG. 5(C)).

(5)活性エネルギー線硬化性材料2の硬化部分上に蓋
板4を接着剤3により接着して共通液室9を形成する工
程(第5図(d))。
(5) Step of bonding the lid plate 4 onto the cured portion of the active energy ray-curable material 2 with the adhesive 3 to form the common liquid chamber 9 (FIG. 5(d)).

(6)基体l上に設けられた固体層8を溶解除去する工
程(第5図(d))。
(6) Step of dissolving and removing the solid layer 8 provided on the substrate l (FIG. 5(d)).

しかし、この製造方法には次のような問題点があった。However, this manufacturing method had the following problems.

従来は、大気圧中で全ての工程を行っていたために、工
程(2)において基体と液状の活性エネルギー線硬化性
材料との間、あるいは液状の活性エネルギー線硬化性材
料内部に気泡が混入してしまうことがあった。
Conventionally, all steps were performed at atmospheric pressure, which caused air bubbles to get mixed in between the substrate and the liquid active energy ray curable material or inside the liquid active energy ray curable material in step (2). There were times when I ended up.

また、工程(5)において、蓋板を接着する際にも気泡
の混入が発生することがあった。このような気泡の混入
は液流路の変形を招き、液滴吐出性能に重大な支障をも
たらす。また、混入した気泡の膨張によって基体と蓋板
との剥離を生じることもあった。
Further, in step (5), air bubbles may also be mixed in when bonding the lid plate. The inclusion of such bubbles causes deformation of the liquid flow path, which seriously impedes the droplet ejection performance. In addition, the base body and the lid plate may peel off due to the expansion of the mixed air bubbles.

さらに、上記製造方法では、蓋板を接着する際に、活性
エネルギー線硬化性材料はすでに硬化しているため前も
って蓋板の反り、面精度をかなり高くする必要があった
。このため、前述したように蓋板の高価格化を招いてい
た。
Furthermore, in the above manufacturing method, when bonding the lid plate, since the active energy ray-curable material has already been cured, it is necessary to significantly improve the warpage and surface accuracy of the lid plate in advance. For this reason, as mentioned above, the price of the cover plate has increased.

その他の従来例として、液晶表示体の製造に良く用いら
れている方法で、液晶の減圧注入という方法がある。こ
れを参考としてまず基体と蓋板とを接合した後にその内
部を減圧し、液状の活性エネルギー線硬化性材料を注入
する方法も検討されている。
Another conventional example is a method of injecting liquid crystal under reduced pressure, which is a method often used in manufacturing liquid crystal displays. Using this as a reference, a method is also being considered in which the base and the cover plate are first bonded, the inside of the base is reduced in pressure, and a liquid active energy ray-curable material is injected.

しかし、この方法の場合(11基体と蓋板とを接合する
時に液流路内にごみ,異物等が入り易い。
However, in the case of this method (11), dust, foreign matter, etc. are likely to enter the liquid flow path when the base and the lid plate are joined.

(2)基体と蓋板の周囲を封止する工程が必要。(2) A process of sealing around the base and lid plate is required.

(3)共通液室となる部分にかなりの活性エネルギー線
硬化性材料が詰まり、後工程で、共通液室部分の未硬化
の同材料を除去するときに、かなりの量が詰まっている
ため除去しに《いこと、および同材料がかなり無駄にな
る。というような問題点があった。
(3) A considerable amount of active energy ray-curable material is clogged in the part that will become the common liquid chamber, and when removing the same uncured material from the common liquid chamber in the subsequent process, it is removed because a considerable amount is clogged. However, a lot of the same material is wasted. There were some problems.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明は、上記問題点を解決するためになされたもので
あり、活性エネルギー線硬化性材料の基体への塗布およ
び蓋板と基体との接合を、減圧雰囲気中で行なうことに
より、製造工程中における気泡の混入を防止し、気泡の
混入によって生じる記録液滴の吐出特性への影響や、基
体と蓋板との剥離等がなく、さらに、基体や蓋板の反り
,面精度をそれほど考慮しなくてもよいインクジェット
記録ヘッドの製造方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and by applying an active energy ray-curable material to a substrate and bonding the lid plate and the substrate in a reduced pressure atmosphere, it is possible to reduce the pressure during the manufacturing process. This prevents the inclusion of air bubbles in the process, prevents the influence of air bubbles on the ejection characteristics of recording droplets, and prevents the substrate from peeling off from the cover plate.Furthermore, it does not take into account warping of the substrate or cover plate, and surface precision. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing an inkjet recording head that does not require the above.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

そのために本発明では、液流路の一部に吐出エネルギー
発生素子を有し、該素子が発生する吐出エネルギーを利
用して記録液滴を吐出し記録を行なうためのインクジェ
ット記録ヘッドの製造方法において、前記素子を配設す
る基体上の少なくとも前記液流路に対応するパターンで
、溶解除去可能な固体層を設ける工程、該固体層が設け
られた基体上に、活性エネルギー線硬化性材料を減圧雰
囲気中で被覆する工程、該活性エネルギー線硬化性材料
が被覆された基体と、蓋板とを減圧雰囲気中で接合する
工程、活性エネルギー線を照射することにより、前記活
性エネルギー線硬化性材料が被覆された部位の少なくと
も前記液流路を構成する部位を硬化させる工程、および
前記液流路に対応するパターンの前記固体層を除去する
工程からなることを特徴とする。
To this end, the present invention provides a method for manufacturing an inkjet recording head that includes an ejection energy generating element in a part of the liquid flow path and uses the ejection energy generated by the element to eject recording droplets and perform recording. , a step of providing a solid layer that can be dissolved and removed in a pattern corresponding to at least the liquid flow path on a substrate on which the element is disposed; applying an active energy ray-curable material under reduced pressure on the substrate provided with the solid layer; a step of coating in an atmosphere, a step of bonding the substrate coated with the active energy ray curable material and a lid plate in a reduced pressure atmosphere, and a step of irradiating the active energy ray curable material to cure the active energy ray curable material. The method is characterized by comprising a step of curing at least a portion of the coated region constituting the liquid flow path, and a step of removing the solid layer in a pattern corresponding to the liquid flow path.

[イ乍 用〕 以上の構成によれば、活性エネルギー線硬化性材料の基
体への被覆、および蓋板と基体との接合を減圧雰囲気中
で行なうので、製造工程中における気泡の混入を防止で
きる。
[For use] According to the above configuration, since the coating of the active energy ray-curable material on the substrate and the bonding of the cover plate and the substrate are performed in a reduced pressure atmosphere, it is possible to prevent air bubbles from being mixed in during the manufacturing process. .

また、蓋板と基体との接合が硬化する前の活性エネルギ
ー線硬化性材料を媒介にして行なわれるので、蓋板や基
体の反りや面精度の低さが緩和されて容易に接合するこ
とができる。
In addition, since the bonding between the cover plate and the base is performed using the active energy ray-curable material before it is cured, warpage and poor surface accuracy of the cover plate and the base are alleviated, making it possible to bond easily. can.

〔実施例〕〔Example〕

以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細に説明する
Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図(a)〜(f)は、本発明の一実施例にかかるイ
ンクジェット紀録ヘッドの製造方法を工程順に小してい
る。
FIGS. 1(a) to 1(f) show a method of manufacturing an inkjet journal head according to an embodiment of the present invention in order of steps.

工程(a)(第1図(a)) 基体1は、液流路および共通液室構成材料の一部として
機能し、また後述の固体層および活性エネルギー線硬化
性材料積層時の支持体として機能させるものであり、そ
の形状,材質等、特に限定されることなく使用すること
ができる。
Step (a) (FIG. 1(a)) The substrate 1 functions as part of the liquid flow path and common liquid chamber constituent material, and also serves as a support when laminating a solid layer and an active energy ray-curable material, which will be described later. It can be used without any particular limitations on its shape, material, etc.

基体l上には、電気熱変換素子あるいは圧電素子等の液
体吐出エネルギー発生素子7が吐出口(以下、オリフィ
スという)の数に対応して配設される。このような液体
吐出エネルギー発生素子7によって記録液摘を吐出させ
るための吐出エネルギーが記録液に与えられ、記録が行
なわれる。
Liquid ejection energy generating elements 7 such as electrothermal transducers or piezoelectric elements are arranged on the base 1 in correspondence with the number of ejection ports (hereinafter referred to as orifices). The liquid ejection energy generating element 7 applies ejection energy to the recording liquid to eject the recording liquid, thereby performing printing.

因に、例えば液体吐出エネルギー発生素子7として電気
熱変換素子が用いられるときには、この素子が、近傍の
記録液を加熱することにより、記録液中に気泡を発生さ
せ、この気泡の変化に伴なう記録液中の圧力変動によっ
て吐出が行なわれる。また、例えば圧電素子が用いられ
るときは、この素子の機械的振動による記録液中の圧力
変動によって吐出が行なわれる。
For example, when an electrothermal conversion element is used as the liquid ejection energy generating element 7, this element generates bubbles in the recording liquid by heating the nearby recording liquid, and as the bubbles change, Ejection is performed by pressure fluctuations in the recording liquid. Furthermore, for example, when a piezoelectric element is used, ejection is performed by pressure fluctuations in the recording liquid due to mechanical vibrations of the element.

尚、これ等の素子7には、これら素子を動作させるため
の制御信号人力用電極(不図示)が接続されている。ま
た、一般にはこれら吐出エネルギー発生素子の耐用性の
向上等を目的として、保護層等の各種の機能層が設けら
れるが、もちろん本発明においてもこのような機能層を
設けることは一向に差しつかえない。
Incidentally, these elements 7 are connected to electrodes for manual control signals (not shown) for operating these elements. In addition, various functional layers such as a protective layer are generally provided for the purpose of improving the durability of these ejection energy generating elements, but of course there is no problem in providing such functional layers in the present invention. .

次いで、上記液体吐出エネルギー発生素子7を含む基体
1上の液流路形成部位およびそれと連通ずる共通液室形
成部位に、これらの形状に沿って第1図(a)に示す固
体層8を積層する。
Next, a solid layer 8 shown in FIG. 1(a) is laminated along the shape of the liquid flow path forming area on the base body 1 including the liquid ejection energy generating element 7 and the common liquid chamber forming area communicating therewith. do.

尚、本発明においては液流路および共通液室の形成部位
の双方に固体層を設けることは必ずしも必要ではなく、
固体層は少なくとも液流路形成部位に設ければよい。
In addition, in the present invention, it is not necessarily necessary to provide a solid layer at both the liquid flow path and the common liquid chamber formation site.
The solid layer may be provided at least in the liquid flow path forming region.

また、説明が前後するが、第1図(c)等に示すように
蓋板4は、液室形成予定部位に凹部5および2ヶの記録
液供給口6を有したものとして予め構成されている。
Further, although the explanation will be complicated, as shown in FIG. 1(c) etc., the cover plate 4 is configured in advance to have a recess 5 and two recording liquid supply ports 6 in the area where the liquid chamber is planned to be formed. There is.

固体層8は、後述する各工程を経た後に除去され、除去
部分に液流路および共通液室が構成される。もちろん、
液流路および共通液室の形状は所望のものとすることが
可能であり、固体層8も液流路および共通液室の形状に
応じたものとすることができる。因に、共通液室は液流
路の各々に記録液を供給し得るようにこれらと連通した
ものとされている。
The solid layer 8 is removed after passing through each process described below, and a liquid flow path and a common liquid chamber are formed in the removed portion. of course,
The shapes of the liquid flow path and the common liquid chamber can be made into desired shapes, and the solid layer 8 can also be shaped according to the shapes of the liquid flow path and the common liquid chamber. Incidentally, the common liquid chamber is communicated with each of the liquid flow paths so that recording liquid can be supplied to each of the liquid flow paths.

このような同体層8を構成するに際して用いられる材料
および手段としては、例えば下記に列挙するようなもの
が具体的なものとして挙げられる。
Specific examples of materials and means used to construct such a homogeneous layer 8 include those listed below.

■ 感光性ドライフィルムを用い、所謂ドライフィルム
の画像形成プロセスに従って固体層を形成する。
■ Using a photosensitive dry film, a solid layer is formed according to a so-called dry film image forming process.

■ 基体1上に所望の厚さの溶剤可溶性ボリマー層およ
びフォトレジスト層を順に積層し、フォトレジスト層の
パターン形成後、溶剤可溶性ボリマー層を選択的に除去
する。
(2) A solvent-soluble polymer layer and a photoresist layer of desired thickness are sequentially laminated on the substrate 1, and after patterning of the photoresist layer, the solvent-soluble polymer layer is selectively removed.

■ 樹脂を印刷する。■ Print resin.

■ に挙げた感光性ドライフィルムとしては、ボジ型の
ものもネガ型のものも用いることができるが、例えばボ
ジ型ドライフィルムであれば、活性エネルギー線照射に
よって、現像液に可溶化するボジ型ドライフィルム、ま
たネガ型ドライフィルムであれば、光重合型であるが塩
化メチレンあるいは強アルカリで溶解あるいは剥離除去
し得るネガ型ドライフィルムが適している。
As for the photosensitive dry film listed in (2), both positive type and negative type can be used. In the case of a dry film or a negative type dry film, a negative type dry film which is photopolymerizable but can be dissolved or peeled off with methylene chloride or a strong alkali is suitable.

ボジ型ドライフィルムとしては、具体的には、例えばr
OZATEc  R225J  [商品名、ヘキストジ
ャパン(株)]等、またネガ型ドライフィルムとしては
、rOZATE(: TシリーズJ 〔商品名、ヘキス
トジャパン(株)]、rPHOTEc PITシリーズ
」 〔商品名、日立化成工業(株)]、rRIsTON
J  [商品名、デュ・ボン・ド・ネモアース・Col
等が用いられる。
Specifically, as a positive dry film, for example, r
OZATEc R225J [Product name, Hoechst Japan Co., Ltd.], etc., and as negative dry films, rOZATE (: T Series J [Product name, Hoechst Japan Co., Ltd.], rPHOTEc PIT series) [Product name, Hitachi Chemical Co., Ltd.] Co., Ltd.], rRIsTON
J [Product name: Du Bonn de Nemours Col
etc. are used.

もちろん、これらの市販材料のみならず、ポジティブに
作用する樹脂組成物、例えばナフキノンジアド誘導体と
ノボラック型フェノール樹脂を主体とする樹脂組成物、
およびネガティブに作用する樹脂組成物、例えばアクリ
ルエステルを反応基とするアクリルオリゴマーと熱可塑
性高分子化合物および増感剤を主体とする組成物、ある
いはポリチオールとボリエン化合物および増感剤とから
成る組成物等が同様に用いることができる。
Of course, not only these commercially available materials, but also resin compositions that act positively, such as resin compositions mainly composed of naphquinone diad derivatives and novolac type phenolic resins,
and negatively acting resin compositions, such as compositions mainly consisting of an acrylic oligomer having an acrylic ester as a reactive group, a thermoplastic polymer compound, and a sensitizer, or a composition consisting of a polythiol, a polyene compound, and a sensitizer. etc. can be used similarly.

■に挙げた溶剤可溶性ボリマーとしては、それを溶解す
る溶剤が存在し、コーティングによって被膜形成し得る
高分子化合物であればいずれでも用い得る。ここで用い
得るフォトレジスト層としては、典型的にはノボラック
型フェノール樹脂とナフトキノンジアジドから成るボジ
型液状フォトレジスト,ポリビニルシンナメートから成
るネガ型液状フォトレジスト、環化ゴムとビスアジドか
ら成るネガ型液状フォトレジスト、ネガ型感光性ドライ
フィルム、熱硬化型および紫外線硬化型のインキ等が挙
げられる。
As the solvent-soluble polymer mentioned in (2), any polymer compound can be used as long as it has a solvent that dissolves it and can be coated to form a film. The photoresist layers that can be used here are typically positive-type liquid photoresists made of novolac-type phenolic resin and naphthoquinone diazide, negative-type liquid photoresists made of polyvinyl cinnamate, and negative-type liquid photoresists made of cyclized rubber and bisazide. Examples include photoresists, negative photosensitive dry films, thermosetting and ultraviolet curing inks, and the like.

■に挙げた印刷法によって固体層を形成する材料として
は、例えば蒸発乾燥型、熱硬化型あるいは紫外線硬化型
等のそれぞれの乾燥方式で用いられている平板インキ、
スクリーンインキならびに転写型の樹脂等が用いられる
Materials for forming solid layers using the printing methods listed in (2) include, for example, flat plate inks used in evaporative drying, thermosetting, or ultraviolet curing drying methods;
Screen ink, transfer type resin, etc. are used.

以上に挙げた材料群の中で、加工精度や除去の容易性あ
るいは作業性等の面から見て、■の感光性ドライフィル
ムを用いる手段が好まし《、その中でもボジ型ドライフ
ィルムを用いるのが特に好ましい。すなわち、ボジ型感
光性材料は、例えば解像度がネガ型の感光性材料よりも
優れている、レリーフパターンが垂直かつ平滑な側壁面
を持つ、あるいはテーパ型ないし逆テーバ型の断面形状
が容易につ《れるという特長を持ち、液流路を形づくる
上で最適である。
Among the above-mentioned material groups, from the viewpoint of processing accuracy, ease of removal, workability, etc., method using a photosensitive dry film is preferable. is particularly preferred. In other words, positive-type photosensitive materials have, for example, better resolution than negative-type photosensitive materials, relief patterns with vertical and smooth sidewall surfaces, or tapered or inverted tapered cross-sectional shapes that are easily formed. 《It has the characteristic of being able to flow easily, making it ideal for forming liquid flow paths.

また、レリーフパターンを現像液や有機溶剤で溶解除去
できる等の特長も有しており、本発明における固体層形
成材料として好ましいものである。持に、例えば先に挙
げたナフキノンジアジドとノボラック型フェノール樹脂
を用いたボジ型感光性材料では、弱アルカリ水溶液ある
いはアルコールで完全溶解できるので、吐出エネルギー
発生素子に何ら損傷を与えることなく、かつ後工程での
除去もきわめて速やかである。このようなボジ型感光性
材料の中でも、ドライフィルム状のものは、lO〜10
0μmの厚膜のものが得られる点で、最も好ましい材料
である。
It also has the advantage of being able to dissolve and remove the relief pattern with a developer or an organic solvent, making it preferable as the solid layer forming material in the present invention. In particular, for example, the above-mentioned positive-type photosensitive material using naphquinone diazide and novolac-type phenolic resin can be completely dissolved in a weak alkaline aqueous solution or alcohol, so it can be easily dissolved without causing any damage to the ejection energy-generating element. Removal during the process is also extremely rapid. Among such positive type photosensitive materials, those in dry film form are
This is the most preferable material because it allows a film with a thickness of 0 μm to be obtained.

工程(b)(第1図(b)) 固体層8が形成された基体1には、固体層8を覆うよう
に活性エネルギー線硬化性材料層2が減圧雰囲気中で積
層される。
Step (b) (FIG. 1(b)) On the substrate 1 on which the solid layer 8 is formed, the active energy ray curable material layer 2 is laminated in a reduced pressure atmosphere so as to cover the solid layer 8.

活性エネルギー線硬化性材料としては、上記固体層を覆
設し得るものであれば好適に使用することができるが、
この材料は、液流路および共通液室を形成してインクジ
ェット記録ヘッドの構造材料と成るものであるので、基
体との接着性、機械的強度、寸法安定性、耐蝕性の面で
優れたものを選択して用いるのが好ましい。さらに、前
記固体層を侵さない性質を有することが必要である。ま
た、活性エネルギー線硬化性材料は、減圧雰囲気中で使
用されるため、もし材料中に溶剤が含まれていると発泡
してしまい、液流路の欠陥になってしまうため、無溶剤
型である必要がある。
As the active energy ray-curable material, any material that can cover the above-mentioned solid layer can be suitably used.
This material forms the liquid flow path and common liquid chamber and serves as the structural material of the inkjet recording head, so it has excellent adhesion to the substrate, mechanical strength, dimensional stability, and corrosion resistance. It is preferable to select and use. Furthermore, it is necessary to have the property of not corroding the solid layer. In addition, since active energy ray-curable materials are used in a reduced pressure atmosphere, if the material contains a solvent, it will foam and cause defects in the liquid flow path. There needs to be.

そのような材料を具体的に示せば、液状で、紫外線硬化
および電子ビーム硬化などの活性エネルギー線硬化性材
料が適しており、中でもエボキシ樹脂、アクリル樹脂、
ジグリコールジアルキルカーボネート樹脂、不飽和ポリ
エステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂等が用いられる
Specifically, such materials are suitable as liquid materials that are curable with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and among them, epoxy resins, acrylic resins,
Diglycol dialkyl carbonate resin, unsaturated polyester resin, polyurethane resin, polyimide resin, melamine resin, phenol resin, urea resin, etc. are used.

特に、光によってカチオン重合を開始することのできる
エボキシ樹脂、光によってラジカル重合できるアクリル
エステル基を持ったアクリルオリゴマー類、ポリチオー
ルとボリエンを用いた光付加重合型樹脂、不飽和シクロ
アセクール樹脂等は、重合速度が大きく、重合体の物性
も優れており、構造材料として適している。
In particular, epoxy resins that can initiate cationic polymerization with light, acrylic oligomers with acrylic ester groups that can be radically polymerized with light, photoaddition polymerizable resins using polythiol and polyene, unsaturated cycloacetic resins, etc. It has a high polymerization rate and excellent physical properties, making it suitable as a structural material.

活性エネルギー線硬化性材料2の積層方法および蓋板4
を基体lに接合する工程は、第2図にて後述されるよう
な装置を使用することにより行なう。
Lamination method of active energy ray curable material 2 and lid plate 4
The step of joining the substrate 1 to the substrate 1 is carried out using an apparatus as described below with reference to FIG.

工程(C)(第1図(C)) 次に、基体lの活性エネルギー線硬化性材料層2上に蓋
板4を減圧雰囲気中で接合する。
Step (C) (FIG. 1(C)) Next, the cover plate 4 is bonded onto the active energy ray-curable material layer 2 of the base 1 in a reduced pressure atmosphere.

なお、第1図(b),(C)について述べた減圧雰囲気
の圧力は、10Torr以下が好ましい。何故なら、こ
の圧力であれば仮りに両工程において微小気泡が入った
としても大気圧にもどした時には欠陥にならない位の微
小気泡になる。また、ある時間その減圧雰囲気中に保つ
ことにより気泡は破れつして消滅してしまうからである
Note that the pressure of the reduced pressure atmosphere described in FIGS. 1(b) and 1(C) is preferably 10 Torr or less. This is because, at this pressure, even if microbubbles are introduced in both processes, when the pressure is returned to atmospheric pressure, the microbubbles will be small enough not to cause defects. Moreover, if the air bubbles are kept in the reduced pressure atmosphere for a certain period of time, they will burst and disappear.

この際、蓋板4には、前述したように所望の液室容積を
得るための凹部5を必要に応じて共通液室形成部位に設
けてお《。蓋板4は、活性エネルギー線照射を蓋板4側
から行なうので、活性エネルギー線透過性であることが
必要である。また、蓋板4には、記録液供給用の液供給
口6が予め設けられている。
At this time, as described above, the recess 5 for obtaining a desired liquid chamber volume is provided in the common liquid chamber forming portion of the cover plate 4 as necessary. Since the cover plate 4 is irradiated with active energy rays from the cover plate 4 side, it is necessary that the cover plate 4 is transparent to active energy rays. Further, the lid plate 4 is provided with a liquid supply port 6 for supplying recording liquid in advance.

また、蓋板4を接合するに際しては、活性エネルギー線
硬化性材料層を所要の厚さにするべく、例えば蓋板と基
体との間にスペーサーを設けたり、蓋板4の端部に凸部
を設ける等の工夫をしてもよい。
In addition, when joining the cover plate 4, in order to make the active energy ray-curable material layer have the required thickness, for example, a spacer may be provided between the cover plate and the base, or a convex portion may be formed at the end of the cover plate 4. You may take measures such as providing a

こうして基体1、固体層8、活性エネルギー線硬化性材
料層2および蓋板4が順次積層された積層体を得る。
In this way, a laminate is obtained in which the substrate 1, the solid layer 8, the active energy ray-curable material layer 2, and the lid plate 4 are sequentially laminated.

工程(d)(第1図(d)) 共通液室形成予定部位に対して、それを活性エネルギー
線11から遮蔽するように、活性エネルギー線透過性の
蓋板4にマスク52を積層し、マスク52の上方から活
性エネルギー線11を照射する。
Step (d) (FIG. 1(d)) A mask 52 is laminated on the lid plate 4 that is transparent to active energy rays so as to shield the area where the common liquid chamber is to be formed from the active energy rays 11. Active energy rays 11 are irradiated from above the mask 52 .

この活性エネルギー線l1の照射により、照射部分の活
性エネルギー線硬化性材料が硬化して硬化樹脂層が形成
されるとともに、この硬化によって基体1と蓋板4との
接合も行なわれる。
By irradiating the active energy rays l1, the active energy ray-curable material in the irradiated portion is cured to form a cured resin layer, and the base 1 and the cover plate 4 are also bonded together by this curing.

活性エネルギー線としては、紫外線、電子線、可視光線
等が利用できるが、蓋板4を透過させての露光であるの
で紫外線、可視光線が好ましく、また重合速度の面から
紫外線が最も適している。
As active energy rays, ultraviolet rays, electron beams, visible light, etc. can be used, but ultraviolet rays and visible rays are preferable because the exposure is performed through the cover plate 4, and ultraviolet rays are most suitable in terms of polymerization rate. .

紫外線の線源としては、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハ
ロゲンランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ
、カーボンアーク等のエネルギー密度の高い光源が好ま
しく用いられる。光源からの光線は、平行性が高く、熱
の発生が少ないもの程精度の良い加工が行なえるが、印
刷製版ないしプリント配線板加工あるいは光硬化型塗料
の硬化に一般に用いられている紫外線光源であれば概ね
利用可能である。
As the ultraviolet ray source, a light source with high energy density such as a high-pressure mercury lamp, an ultra-high-pressure mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, a metal halide lamp, and a carbon arc is preferably used. The more parallel the light rays from the light source, the less heat it generates, the more accurate the processing can be. If available, it is generally available.

活性エネルギー線に対するマスクとしては,特に紫外線
もしくは可視光線を用いる場合、メタルマスク、銀塩の
エマルジョンマスク、ジアゾマスク等が挙げられ、その
他、単に共通液室形成部位に黒色のインクの印刷もし《
はシールを貼りつける等の方法でもかまわない。
Examples of masks against active energy rays, especially when using ultraviolet rays or visible rays, include metal masks, silver salt emulsion masks, diazo masks, etc. In addition, black ink may simply be printed on the common liquid chamber forming area.
You may also use a method such as pasting a sticker.

次いで、例えばオリフィス端面が露出していない場合等
、必要に応じてダイヤモンドブレードを用いたグイシン
グソー等によって、上記活性エネルギ一線照射による硬
化を終了した積層体を所要の位置で切断し、オリフィス
端面を露出させる。
Next, if necessary, for example, if the orifice end face is not exposed, the laminate that has been cured by the single line of active energy irradiation is cut at a desired position using a guising saw using a diamond blade to expose the orifice end face. let

しかし、このような切断の操作は、本発明の実施のため
に必ずしも必要ではなく、例えば液状の硬化性材料を用
い、該材料を積層する際に型を使用し、オリフィス先端
部が閉じて覆われてしまうことがなく、且つオリフィス
先端部が平滑に成型されるようにした場合等には、切断
は不要である。
However, such a cutting operation is not necessarily necessary for carrying out the present invention. For example, when a liquid curable material is used and a mold is used when laminating the material, the orifice tip is closed and covered. Cutting is not necessary if the orifice tip is molded so that it does not break and the orifice tip is smooth.

工程(e) . (f) (第1図(e) . (f)
 )次いで、活性エネルギー線照射を終.了した上記積
層体から、固体層8および未硬化の活性エネルギー線硬
化性材料2、すなわち共通液室部の活性エネルギー線硬
化性材料を除去して、液流路および共通液室を形成する
Step (e). (f) (Figure 1 (e). (f)
) Then, the active energy ray irradiation is completed. The solid layer 8 and the uncured active energy ray curable material 2, that is, the active energy ray curable material in the common liquid chamber portion are removed from the completed laminate to form a liquid flow path and a common liquid chamber.

本実施例では共通液室形成部位の活性エネルギー線硬化
性材料には活性エネルギー線照射が行なわれず、未硬化
のまま除去されるので、固体層上に積層する活性エネル
ギー線硬化性材料の層厚を任意に制御することにより、
液流路と無関係に液室を自在に形成することが可能であ
る。
In this example, the active energy ray curable material in the common liquid chamber formation area is not irradiated with active energy rays and is removed uncured, so the layer thickness of the active energy ray curable material laminated on the solid layer is By arbitrarily controlling
It is possible to freely form the liquid chamber regardless of the liquid flow path.

固体層8および未硬化の活性エネルギー線硬化性材料の
除去手段としては特に限定されるものではないが、具体
的には例えば固体層8と未硬化の活性エネルギー線硬化
性材料とを溶解または膨潤あるいは剥離する液体に浸漬
して除去する等の方法が好ましいものとして挙げられる
。この際、必要に応じて超音波処理、スプレー、加熱、
攪拌、振どう、加圧循環、その他の除去促進手段を用い
ることも可能である。
The means for removing the solid layer 8 and the uncured active energy ray curable material is not particularly limited, but specifically, for example, the solid layer 8 and the uncured active energy ray curable material may be dissolved or swollen. Alternatively, methods such as immersion in a peeling liquid and the like are preferred. At this time, ultrasonic treatment, spraying, heating,
Stirring, shaking, pressurized circulation, and other methods of promoting removal may also be used.

上記除去手段に対して用いられる液体としては、例えば
含ハロゲン炭化水素、ケトン、エステル、芳香族炭化水
素、エーテル、アルコール、N−メチルビロリドン、ジ
メチルホルムアミド、フェノール、水、酸あるいはアル
カリを含む水、等が挙げられる。これら液体には、必要
に応じて界面活性剤を加えても良い。
Examples of the liquid used for the above removal means include halogen-containing hydrocarbons, ketones, esters, aromatic hydrocarbons, ethers, alcohols, N-methylpyrrolidone, dimethylformamide, phenol, water, water containing acids or alkalis, etc. can be mentioned. A surfactant may be added to these liquids if necessary.

第1図(f)には、上記のような固体層8および未硬化
の活性エネルギー線硬化性材料の除去を行なった後の状
態が示されているが、本例の場合、固体層8および未硬
化の活性エネルギー線硬化性材料は、これを溶解する液
体中に浸漬され、第1図(e)の矢印で示すようにヘッ
ドのオリフィスと液供給口6を通して溶解除去されてい
る。
FIG. 1(f) shows the state after the solid layer 8 and the uncured active energy ray-curable material have been removed as described above, but in the case of this example, the solid layer 8 and The uncured active energy ray-curable material is immersed in a liquid that dissolves it, and is dissolved and removed through the orifice of the head and the liquid supply port 6, as shown by the arrow in FIG. 1(e).

尚、以上の各工程を終了した後、液体吐出エネルギー発
生素子7とオリウィス13との間隔を最適化するために
、必要に応じてオリフィス先端の切断、研磨、平滑化を
行なってもよい。
Note that after completing each of the above steps, the tip of the orifice may be cut, polished, or smoothed as necessary in order to optimize the distance between the liquid ejection energy generating element 7 and the orifice 13.

第2図は、上記製造方法の工程(b).(c)を可能と
する装置の模式的斜視図である。
FIG. 2 shows step (b) of the above manufacturing method. FIG. 3(c) is a schematic perspective view of a device that enables the process.

第2図において、20は真空チャンバー、21は液状の
活性エネルギー線硬化性材料2を基体1に塗布するディ
スペンサーヘッドであり、塗布のON/OFFを制御す
るバルブが内臓されている。22は同村料2の貯留タン
クであり、チューブ等を介してディスペンサーヘッド2
lに同村料2を圧送する。
In FIG. 2, 20 is a vacuum chamber, 21 is a dispenser head for applying liquid active energy ray-curable material 2 to substrate 1, and has a built-in valve for controlling ON/OFF of the application. 22 is a storage tank for the village fee 2, which is connected to the dispenser head 2 via a tube etc.
The village fee 2 is pumped to l.

また、同村料2を基体1に被覆する方法として、ディス
ベンサーヘッド2lによる塗布方法の他に、アプリケー
タ,カーテンコータ,ロールコータ,スプレーコータ,
スビンコー夕等の手段がある。
In addition, as a method of coating the substrate 1 with the coating material 2, in addition to the coating method using the dispenser head 2l, an applicator, curtain coater, roll coater, spray coater, etc.
There are methods such as Subinko Yu.

まず、設定された圧力に達した後、基体1は、ディスベ
ンサーヘッド2lの下に送られ、液状の活性エネルギー
線硬化性材料2が塗布される。この時ディスペンサーヘ
ッド2lと基体1の相対的な位置決めは、X方向がボー
ルネジ3lとそれを回転駆動するモータ32、Y方向が
ボールネジ33とそれを回転駆動するモータ(不図示)
により成される。
First, after reaching a set pressure, the substrate 1 is sent under the dispenser head 2l, and a liquid active energy ray-curable material 2 is applied thereto. At this time, the relative positioning of the dispenser head 2l and the base 1 is determined by the ball screw 3l and the motor 32 that rotationally drives it in the X direction, and the ball screw 33 and the motor (not shown) that rotationally drives it in the Y direction.
It is done by.

基体1の決められた位置に活性エネルギー線硬化性材料
2を塗布した後に、基体lと蓋板4との接合を行なうた
めの接合機構部34へと送られる。
After the active energy ray-curable material 2 is applied to a predetermined position on the base 1, it is sent to a joining mechanism section 34 for joining the base 1 and the cover plate 4.

接合機構部34では、蓋板4がクランブ部材36により
チャックされ、シリンダ35により上下動される。また
、蓋板4が小さい場合は治具等に取り付け、それを上下
させても良い。
In the joining mechanism section 34 , the lid plate 4 is chucked by a clamp member 36 and moved up and down by a cylinder 35 . Furthermore, if the cover plate 4 is small, it may be attached to a jig or the like and moved up and down.

接合機構部34で基体1と蓋板4との接合が終了した後
に、大気圧にもどして工程(d)の前記したような活性
エネルギー線を照射する装置へと移動させる。
After the bonding between the base 1 and the cover plate 4 is completed in the bonding mechanism section 34, the pressure is returned to atmospheric pressure and the pressure is returned to the step (d), where the device is moved to the apparatus for irradiating active energy rays as described above.

真空チャンバー内の真空度(圧力)は、前記したよ−う
に10Torr以下が好ましく、活性エネルギー線硬化
性材料2や固体層8、その他基体1上の各種膜材料また
は真空チャンバー内の材料がガス化等の変質を発生しな
い真空度であれば、真空度が高い程気泡混入に対する効
果は大である。
As mentioned above, the degree of vacuum (pressure) in the vacuum chamber is preferably 10 Torr or less, and the active energy ray-curable material 2, the solid layer 8, and other various film materials on the substrate 1 or materials in the vacuum chamber are gasified. As long as the degree of vacuum does not cause such deterioration, the higher the degree of vacuum, the greater the effect on bubble inclusion.

第3図(a)〜(e)は、本発明の他の実施例に関し、
基体に対して鉛直方向に吐出口が設けられているタイプ
のインクジェット記録ヘッドの製造方法を工程順に示し
ている。
FIGS. 3(a) to 3(e) relate to other embodiments of the present invention,
A method for manufacturing an inkjet recording head of a type in which ejection ports are provided in a direction perpendicular to a base is shown in the order of steps.

工程(a)において、第1図(a)と同様に、記録液供
給口6,吐出エネルギー発生素子7等が設けられた基体
1上に、後工程において溶解除去可能な固体層8を設け
る(第3図(a))。
In step (a), similarly to FIG. 1(a), a solid layer 8 that can be dissolved and removed in a subsequent step is provided on a substrate 1 provided with a recording liquid supply port 6, an ejection energy generating element 7, etc. Figure 3(a)).

工程(b)において、第1図(b)と同様に、減圧雰囲
気中で液状の活性エネルギー線硬化性材料2を被覆する
(第3図(b))。
In step (b), similarly to FIG. 1(b), liquid active energy ray-curable material 2 is coated in a reduced pressure atmosphere (FIG. 3(b)).

工程(c)において、同村料2上に、記録液滴を吐出す
るためのオリフイス51が設けられている蓋板4を減圧
雰囲気中で接合する。但し、蓋板4は活性エネルギー線
が透過できる材料で形成されている(第3図(C))。
In step (c), a cover plate 4 provided with an orifice 51 for ejecting recording droplets is bonded onto the coating material 2 in a reduced pressure atmosphere. However, the cover plate 4 is made of a material through which active energy rays can pass (FIG. 3(C)).

工程(d)において、活性エネルギー線硬化性材料2を
硬化させる活性エネルギー線を、マスク52を介して照
射し、活性エネルギー線が当たった部位の活性エネルギ
ー線硬化性材料を硬化させ、液流路壁を形成する。活性
エネルギー線を遮断する部分としては、吐出口部分は必
須であり、その他には液流路部を遮断することにより高
さ方向に流路が広くなる(第3図(d))。
In step (d), active energy rays that harden the active energy ray curable material 2 are irradiated through the mask 52 to harden the active energy ray curable material in the areas hit by the active energy rays, and the liquid flow path is form a wall. The discharge port portion is essential as a portion that blocks active energy rays, and the flow path becomes wider in the height direction by blocking the liquid flow path portion (FIG. 3(d)).

工程(e)において、未硬化の前記活性エネルギー線硬
化性材料2と前記固体層8を溶解除去する。例えば、溶
解液中に基体を浸漬し、超音波等の外力を加えると溶解
除去時間を短縮出来る(第3図(e))。
In step (e), the uncured active energy ray-curable material 2 and the solid layer 8 are dissolved and removed. For example, by immersing the substrate in a dissolving solution and applying an external force such as ultrasonic waves, the dissolution and removal time can be shortened (FIG. 3(e)).

〔発明の効果】〔Effect of the invention】

以上説明したように、本発明によれば活性エネルギー線
硬化性材料の基体への塗布、および蓋板と基体との接合
を減圧雰囲気中で行なうので、製造工程中における気泡
の混入を防止できる。
As explained above, according to the present invention, since the application of the active energy ray-curable material to the substrate and the bonding of the cover plate and the substrate are performed in a reduced pressure atmosphere, it is possible to prevent air bubbles from being mixed in during the manufacturing process.

また、蓋板と基体との接合が硬化する前の活性エネルギ
ー線硬化性材料を媒介にして行なわれるので、蓋板や基
体の反りや面精度の低さが緩和されて容易に接合するこ
とができる。
In addition, since the bonding between the cover plate and the base is performed using the active energy ray-curable material before it is cured, warpage and poor surface accuracy of the cover plate and the base are alleviated, making it possible to bond easily. can.

この結果、気泡の混入が皆無となったことにより液流路
の欠陥がな《なった。
As a result, defects in the liquid flow path were eliminated because there was no inclusion of air bubbles.

また、気泡の温度変化による体積膨張を原因とした基体
、蓋板の剥れがな《なった。
In addition, the peeling of the base and lid plate due to volume expansion due to temperature changes of air bubbles has disappeared.

さらに、基体や蓋仮に反りがあったり、また面精度が低
い場合でも容易に接合を行なうことができ、結果として
廉価な記録ヘッドを得ることができる。
Further, even if the substrate or the lid is warped or has low surface accuracy, it can be easily joined, and as a result, an inexpensive recording head can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(a)〜(f)は本発明の一実施例にかかるイン
クジェット記録ヘッドの製造方法を示す模式的斜視図、 第2図は本発明の一実施例にかかるインクジェット記録
ヘッドの製造に使用する装置の模式的斜視図、 第3図(a)〜(e)は本発明の他の実施例にかかるイ
ンクジェット記録ヘッドの製造方法を示す模式的斜視図
、 第4図(a)〜(c)および第5図(a)〜(d)は従
来のインクジェット記録ヘッドの製造方法を示す模式的
斜視図である。 1・・・基体、 2・・・液流路構成部材(活性エネルギー線硬化性材料
)、 4・・・蓋板、 8・・・固体層、 9・・・共通液室、 13. 51・・・オリフィス、 20・・・真空チャンバー 2l・・・ディスペンサーヘッド、 34・・・接合機構部、 52・・・マスク。 第4図 第 1 図 (a冫 6 第3図
1(a) to (f) are schematic perspective views showing a method for manufacturing an inkjet recording head according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a schematic perspective view showing a method for manufacturing an inkjet recording head according to an embodiment of the present invention. A schematic perspective view of the apparatus used; FIGS. 3(a) to (e) are schematic perspective views showing a method of manufacturing an inkjet recording head according to another embodiment of the present invention; FIGS. 4(a) to ( c) and FIGS. 5(a) to 5(d) are schematic perspective views showing a conventional method of manufacturing an inkjet recording head. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1...Base body, 2...Liquid flow path constituent member (active energy ray curable material), 4...Lid plate, 8...Solid layer, 9...Common liquid chamber, 13. 51... Orifice, 20... Vacuum chamber 2l... Dispenser head, 34... Joining mechanism section, 52... Mask. Figure 4 Figure 1 (a 6 Figure 3)

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)液流路の一部に吐出エネルギー発生素子を有し、
該素子が発生する吐出エネルギーを利用して記録液滴を
吐出し記録を行なうためのインクジェット記録ヘッドの
製造方法において、 前記素子を配設する基体上に少なくとも前記液流路に対
応するパターンで、固体層を設ける工程、 該固体層が設けられた基体上に、活性エネルギー線硬化
性材料を減圧雰囲気中で被覆する工程、 該活性エネルギー線硬化性材料が被覆された基体と、蓋
板とを減圧雰囲気中で接合する工程、活性エネルギー線
を照射することにより、前記活性エネルギー線硬化性材
料が被覆された部位の少なくとも前記液流路を構成する
部位を硬化させる工程、および 前記液流路に対応するパターンの前記固体層を除去する
工程 からなることを特徴とするインクジェット記録ヘッドの
製造方法。
(1) A part of the liquid flow path has a discharge energy generating element,
In a method of manufacturing an inkjet recording head for performing recording by ejecting recording droplets using ejection energy generated by the element, a pattern corresponding to at least the liquid flow path is formed on a substrate on which the element is disposed, a step of providing a solid layer, a step of coating an active energy ray curable material in a reduced pressure atmosphere on a substrate provided with the solid layer, a step of coating the substrate coated with the active energy ray curable material and a lid plate. a step of bonding in a reduced pressure atmosphere, a step of curing at least a portion forming the liquid flow path of a portion covered with the active energy ray-curable material by irradiating the active energy ray, and a step of curing the portion forming the liquid flow path by irradiating the active energy ray curable material. A method for manufacturing an inkjet recording head, comprising the step of removing the solid layer in a corresponding pattern.
(2)前記活性エネルギー線硬化性材料は、無溶剤型の
材料であることを特徴とする請求項1に記載のインクジ
ェット記録ヘッドの製造方法。
(2) The method for manufacturing an inkjet recording head according to claim 1, wherein the active energy ray-curable material is a solvent-free material.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8945458B2 (en) 2009-12-21 2015-02-03 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Method and apparatus for producing a structure, molding tool
US9551814B2 (en) 2009-12-21 2017-01-24 Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. Method for manufacturing a structure, optical component, optical layer stack

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