JPH02179941A - Optical information recording medium and its production - Google Patents
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば光ディスクや光カードのような大量の
情仰が記録又は再生される光情報記録媒体及びその製造
方法に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to an optical information recording medium, such as an optical disk or an optical card, on which a large amount of information is recorded or reproduced, and a manufacturing method thereof.
近年、大容量情報記録媒体として、光ディスクや光カー
ドが提唱され、種々の用途への適用が検討されている。In recent years, optical disks and optical cards have been proposed as large-capacity information recording media, and their application to various uses is being considered.
これらの光情報記録媒体はその情報記録面に数ミクロン
ないしサブミクロン程度の微小な信号パターンを形成す
ることにより情報を記録し、その記録された情報を、レ
ーザービーム等の光ビームを照射して、その反射光量の
変化を読取ることにより再生するものである。These optical information recording media record information by forming minute signal patterns of several microns to submicrons on the information recording surface, and then irradiate the recorded information with a light beam such as a laser beam. , and is reproduced by reading changes in the amount of reflected light.
このような光情報記録媒体の表面には、例えば、その名
称や使用目的、種類等の情報がラベル等に印刷されて表
示されている。ところが、これらの表示は、記録再生装
置の光ヘッドによる記録再生の際支障をきたさないよう
に、上記光情報記録媒体表面の記録再生領域を避けてご
く限られた領域に行われているので、表示内容は量的に
もごく限られたものでしかなかった。On the surface of such an optical information recording medium, information such as its name, purpose of use, type, etc. is printed and displayed on a label or the like. However, these displays are performed in a very limited area, avoiding the recording and reproducing area on the surface of the optical information recording medium, so as not to interfere with recording and reproducing by the optical head of the recording and reproducing device. The content displayed was very limited in quantity.
ところで、上記光情報記録媒体は、その情報記録面に上
述したように微小なパターンが形成されており、このパ
ターンの回折効果などにより外観的に美麗なものが多く
、この面上に外観目視により判読可能な文字やイメージ
情報などの模様を描いて、付加価値を高めたいという要
望があった。By the way, the above-mentioned optical information recording medium has a minute pattern formed on its information recording surface as described above, and many of them have a beautiful appearance due to the diffraction effect of this pattern. There was a desire to increase added value by drawing patterns with readable characters and image information.
本発明は、上記記録再生領域内に、記録再生装置の光ヘ
ッドによる記録再生に支障をきたさず、しかも外観目視
により判読可能な文字やイメージなどの模様を具備した
光情報記録媒体及びその製造方法を提供することを目的
としたものである。The present invention provides an optical information recording medium having a pattern such as a character or an image in the recording/reproducing area that does not interfere with recording/reproducing by an optical head of a recording/reproducing device and is visually readable from the outside, and a method for manufacturing the same. The purpose is to provide the following.
上記目的を達成するために本発明による光情報記録媒体
は、光ビームによって読み取られる微小な信号パターン
を表面に有する光情報記録媒体において、所定の模様に
対応した巨視的な領域に存在する前記信号パターンが、
他の部分の信号パターンと比較して、その形状及び大き
さの少なくともいずれかが異なっていることにより、前
記模様が前記表面上で視認し得るような構成とされてい
る。In order to achieve the above object, an optical information recording medium according to the present invention has a minute signal pattern on its surface that can be read by a light beam, and the signal exists in a macroscopic area corresponding to a predetermined pattern. The pattern is
The structure is such that the pattern can be visually recognized on the surface by being different in at least one of its shape and size compared to the signal patterns of other parts.
前記信号パターンが凸状又は凹状である場合には、前記
巨視的な領域における凸状の高さ又は凹状の深さが、他
の部分の凸状の高さ又は凹状の深さに対して、1〜30
0%の範囲でそれぞれ異なっているのが好ましく、ある
いは、前記凸状又は凹状の幅が、他の部分の凸状又は凹
状の幅に対して、1〜500%の範囲で異なっているこ
とが好ましい。凸状又は凹状の高さの変化又は幅の変化
がそれぞれ1%より小さいと、所定の模様が視認し難<
、一方、300%又は500%よりそれぞれ大きいと、
光ビームによる信号読取りに支障を来すおそれがある。When the signal pattern is convex or concave, the height of the convexity or the depth of the concave shape in the macroscopic region is relative to the height of the convexity or the depth of the concave shape in other parts. 1-30
It is preferable that the widths of the convex or concave portions differ within a range of 0%, or the width of the convex or concave portions may differ from the width of the convex or concave portions of other portions within a range of 1 to 500%. preferable. If the height change or width change of the convex or concave shape is less than 1%, the predetermined pattern will be difficult to see.
, while larger than 300% or 500%, respectively.
There is a risk that signal reading by the light beam will be hindered.
また、前記凸状又は凹状はトランク直角方向に略三角形
断面あるいは略台形状断面を有するものでよい。Further, the convex or concave shape may have a substantially triangular cross section or a substantially trapezoidal cross section in the direction perpendicular to the trunk.
また、前記信号パターンが平面状反射率変化部である場
合には、前記巨視的な領域における前記平面状反射率変
化部の幅が、他の部分の幅に対して、1〜500%の範
囲で異なっているのが好ましい。この平面状反射率変化
部の幅の変化が1%より小さいと、所定の模様が視認し
難く、一方、500%より大きいと、光ビームによる信
号読取に支障を来すおそれがある。Further, when the signal pattern is a planar reflectance changing portion, the width of the planar reflectance changing portion in the macroscopic region is within a range of 1 to 500% of the width of other portions. It is preferable that they are different. If the change in the width of the planar reflectance changing portion is smaller than 1%, it will be difficult to visually recognize the predetermined pattern, while if it is larger than 500%, there is a risk that signal reading by the light beam will be hindered.
また、前記凸状又は凹状を信号パターンとして有する前
記光情報記録媒体を製造するための製造方法は、基板の
一方の面上に感光性樹脂層を形成する工程と、前記感光
性樹脂層が形成された基板の面に前記信号パターンに対
応して露光強度を変化させた第1の露光と、前記所定の
模様に対応して露光強度を変化させた第2の露光とを同
時に又はいずれか一方から行う工程と、前記基板を現像
する工程と、現像された前記基板を用いてスタンパを作
成する工程と、前記スタンパを用いて前記光情報記録媒
体のレプリカを作成する工程とをそれぞれ具備する構成
とすることが好ましい。Further, the manufacturing method for manufacturing the optical information recording medium having the convex or concave shape as a signal pattern includes a step of forming a photosensitive resin layer on one surface of a substrate, and a step of forming a photosensitive resin layer on one surface of a substrate. A first exposure in which the exposure intensity is varied in accordance with the signal pattern and a second exposure in which the exposure intensity is varied in correspondence to the predetermined pattern are applied simultaneously or either one to the surface of the printed substrate. a step of developing the substrate, a step of creating a stamper using the developed substrate, and a step of creating a replica of the optical information recording medium using the stamper. It is preferable that
前記第1の露光及び前記第2の露光は、それぞれの所定
のパターンが形成されている第1のマスク及び第2のマ
スクを用いて行なわれてよい、このとき、第2のマスク
は複数としてもよい。The first exposure and the second exposure may be performed using a first mask and a second mask each having a predetermined pattern formed thereon, in which case the second mask may be used as a plurality of masks. Good too.
また、露光用光源と前記基板との間に前記模様に対応し
たパターンの減光手段を設けることによって、あるいは
、前記基板が光透過材料から構成されて前記基板に関し
て露光用光源と反対側に前記模様に対応したパターンの
反射手段を設けることによって、前記第1の露光と前記
第2の露光とを同時に行なうことができる。Further, by providing a light attenuation means with a pattern corresponding to the pattern between the exposure light source and the substrate, or by providing the substrate with a light-transmitting material and disposing the exposure light source on the side opposite to the exposure light source with respect to the substrate. By providing a reflecting means with a pattern corresponding to the pattern, the first exposure and the second exposure can be performed simultaneously.
上述した製造方法の中で用いることのできるスタンパは
凸状部又は凹状部を有し、前記巨視的な領域に存在する
信号バクーンに対応した前記凸状部又は前記凹状部が、
他の部分の信号パターンに対応した前記凸状部又は前記
凹状部とそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少な
くともいずれかが異なっている。The stamper that can be used in the above-described manufacturing method has a convex portion or a concave portion, and the convex portion or the concave portion corresponding to the signal bag existing in the macroscopic region is
Compared with the convex portion or the concave portion corresponding to the signal pattern of other portions, the shape and/or size thereof are different from each other.
また、同じく上述の製造方法の中で用いることのできる
フォトマスクは開口部及び/又は暗部を有し、前記巨視
的な領域に存在する信号パターンに対応した前記開口部
又は前記暗部が、他の部分の信号パターンに対応した前
記開口部又は前記暗部とそれぞれ比較して、その形状及
び大きさの少なくともいずれかが異なっている。このよ
うなフォトマスクを用いても前記第1の露光と前記第2
の露光とを同時に行うことができる。Further, a photomask that can also be used in the above manufacturing method has an opening and/or a dark area, and the opening or the dark area corresponding to the signal pattern existing in the macroscopic area is different from the other one. The opening portion or the dark portion corresponding to the signal pattern of the portion is different from each other in at least one of its shape and size. Even if such a photomask is used, the first exposure and the second exposure
can be performed at the same time.
また、前記平面状反射率変化部を信号パターンとして有
する前記光情報記録媒体の製造方法において、基板の一
方の面上に感光性被膜を形成する工程と、前記巨視的な
領域に存在する信号パターンに対応した開口部又は暗部
が、他の部分の信号パターンに対応した開口部又は暗部
にそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少なくとも
いずれかが異なっているフォトマスクを用いて、前記感
光性被膜を露光することにより平面状反射率変化部を形
成する工程とを具備する構成とすることが望ましい。Further, in the method for manufacturing the optical information recording medium having the planar reflectance changing portion as a signal pattern, the method includes a step of forming a photosensitive film on one surface of the substrate, and a signal pattern existing in the macroscopic region. using a photomask in which the openings or dark areas corresponding to the signal pattern are different in at least one of the shape and size compared to the openings or dark areas corresponding to the signal pattern in other parts, respectively. It is desirable to have a configuration including a step of forming a planar reflectance changing portion by exposing the film to light.
所定の模様に対応した巨視的な領域に存在する微小な信
号パターンが、他の部分の信号パターンと比較して、そ
の形状及び大きさのいずれかが異なっていると、前記巨
視的な領域と他の部分との回折効果に差が生じてその巨
視的な領域における反射回折光の強度や色相が他の領域
と異なるようになるので、前記模様が表面上において視
認される。If a minute signal pattern existing in a macroscopic area corresponding to a predetermined pattern is different in either shape or size compared to signal patterns in other parts, it may be different from the macroscopic area. The pattern is visible on the surface because there is a difference in the diffraction effect from other parts, and the intensity and hue of the reflected diffracted light in that macroscopic area differs from those in other areas.
また、基板に感光性樹脂層を設け、これに凸状又は凹状
を形成するための第1の露光と前記模様を形成するため
の第2の露光とを行なうと、前記模様に対応する巨視的
な領域において存在する前記凸状又は凹状の形状あるい
は大きさが、他の部分と比べて異なるようにできる。ま
た、基板に感光性被膜を形成してから、請求項I6にお
けるフォトマスクを用いて露光すると、前記巨視的な領
域に形成される平面上反射率変化部の幅が、他の部分の
幅と比べて異なるようにできる。Further, when a photosensitive resin layer is provided on a substrate and a first exposure for forming a convex or concave shape and a second exposure for forming the pattern are performed, macroscopic images corresponding to the pattern are formed. The shape or size of the convex or concave shape existing in the area can be made different from that in other parts. Further, when a photosensitive coating is formed on a substrate and then exposed using a photomask according to claim I6, the width of the planar reflectance changing portion formed in the macroscopic region is different from the width of other portions. It can be compared and made different.
以下、本発明を適用した光情報記録媒体及びその製造方
法の実施例を図面を参照して説明する。Embodiments of an optical information recording medium to which the present invention is applied and a method for manufacturing the same will be described below with reference to the drawings.
最初に、第1図に示すような光情報記録媒体として大量
の情報が記録され再生される光カードlに模様2(本例
では文字「K」)が形成された例について説明する。First, an example will be described in which a pattern 2 (letter "K" in this example) is formed on an optical card l on which a large amount of information is recorded and reproduced as an optical information recording medium as shown in FIG.
光カード1は一般的に、追加記録のできる追記可能光カ
ードと読み出しだけが行なわれる再生専用カードとに分
類される。前者の追記可能光カードの場合には事前記録
される情報と追加記録される情報とに分けられて記録さ
れ、事前記録としては、例えばトラッキング、クロッキ
ング及びアドレスなどの情報がある。Optical cards 1 are generally classified into write-once optical cards that allow additional recording and read-only cards that allow only reading. In the case of the former write-once optical card, prerecorded information and additionally recorded information are recorded separately, and the prerecorded information includes, for example, tracking, clocking, and address information.
本実施例は追記可能光カートの場合であって、第1図に
示すような光カード1の平面長手方向に多数のトラッキ
ングトランク3が一定の間隔で直線的に設けられている
。そして、第2図に示すように、このトラッキングトラ
ック3間に存在する領域の中央長手方向にクロックトラ
ック8が直線的に設けられ、このクロックトラック8と
上記トラッキングトラック3との間に1対の記録領域4
が設けられている。更に、上記記録領M4は事前記録領
域4aと追加記録領域4bとに分けられている。上記事
前記録領域4aには、例えばアドレス情報などが記録さ
れる。This embodiment is a case of a write-once optical cart, in which a large number of tracking trunks 3 are linearly provided at regular intervals in the planar longitudinal direction of an optical card 1 as shown in FIG. As shown in FIG. 2, a clock track 8 is linearly provided in the longitudinal direction of the center of the area existing between the tracking tracks 3, and a pair of clock tracks 8 is provided between the clock track 8 and the tracking track 3. Recording area 4
is provided. Further, the recording area M4 is divided into a pre-recording area 4a and an additional recording area 4b. For example, address information is recorded in the pre-recorded area 4a.
上述したトラッキングトラック3、クロックトラック8
及び事前記録領域4aに夫々形成される微小な信号パタ
ーン5は、本実施例ではトラック直角方向に略三角形断
面を有する凸状に形成されている。そして、トラッキン
グトランク3における上記凸状は直線に形成され、クロ
ッキングトランク8と事前記録領域4aとにおける上記
凸状は、それぞれ所定の長さに断続的に形成されている
。Tracking track 3 and clock track 8 described above
In this embodiment, the minute signal patterns 5 formed in the prerecorded areas 4a and 4a are each formed in a convex shape having a substantially triangular cross section in the direction perpendicular to the track. The convex shape in the tracking trunk 3 is formed in a straight line, and the convex shapes in the clocking trunk 8 and the pre-recorded area 4a are formed intermittently at predetermined lengths.
また、上記追加記録領域4bは必要な情報が使用中に書
込めるように平坦となっており、ここに例えばレーザ光
を用いてビットを形成させることができる。この場合、
これらの情報記録を読取る際に凸状のものとピットのよ
うな凹状のものとが混在していても、読取りのだめの光
ビームは同じように散乱するので読取りに支障はない。Further, the additional recording area 4b is flat so that necessary information can be written during use, and bits can be formed there using, for example, a laser beam. in this case,
When reading these information records, even if convex and pit-like concave objects coexist, the reading light beam will be scattered in the same way, so there will be no problem in reading.
第3A図に上記信号パターン5としての上記凸状を断面
的に示すが、凸状11は上記模様2に対応する領域7に
存在するものであって、例えば幅W、が3.8μm、高
さり、が0,7μmである。また凸状12は上記模様2
に対応しない領域6に存在するものであって、例えば幅
Wtが4.0μm、高さh2が0.8μmである。なお
、31は光ビームを反射するための反射被膜である。FIG. 3A shows a cross-sectional view of the convex shape as the signal pattern 5. The convex shape 11 exists in the region 7 corresponding to the pattern 2, and has a width W of 3.8 μm and a height, for example. The thickness is 0.7 μm. Moreover, the convex shape 12 is the pattern 2 mentioned above.
For example, the width Wt is 4.0 μm and the height h2 is 0.8 μm. Note that 31 is a reflective coating for reflecting the light beam.
上述のように、例えば凸状11は凸状12と比較してそ
の幅が5.0%、その高さが12.5%それぞれ減って
異なるが、上記凸状11が上記模様2と対応する領域7
に集合的に存在し、また上記凸状12が上記模様2と対
応しない領域6に集合的に存在する。従って、上記領域
7における反射回折光の強度または色相が上記領域6の
場合と異なり、第1図に示すように模様2例えばrKJ
の文字を視認することができる。As mentioned above, for example, the convex shape 11 is different from the convex shape 12 in that its width is reduced by 5.0% and its height is reduced by 12.5%, but the convex shape 11 corresponds to the pattern 2. Area 7
The convex shapes 12 collectively exist in a region 6 that does not correspond to the pattern 2. Therefore, the intensity or hue of the reflected diffraction light in the region 7 is different from that in the region 6, and as shown in FIG.
characters can be visually recognized.
ところで、光カード1の同一の事前記録領域4a、同一
のトラッキングトラック3及び同一のクロックトランク
8のそれぞれにおいて、上述のように凸状11と凸状1
2との三角形断面の高さ及び幅が異なるように存在する
と、上記光カード1を再生した場合にノイズ等の支障が
生じる恐れがあるが、上述の例の場合には事前記録の読
取り、トラッキング及び追加記録とその読取りのいずれ
の場合においても支障なく行うことができた。By the way, in each of the same pre-recorded area 4a, the same tracking track 3, and the same clock trunk 8 of the optical card 1, the convex shape 11 and the convex shape 1
If the height and width of the triangular cross section are different from those of the optical card 1, there is a risk of problems such as noise occurring when the optical card 1 is reproduced. Additionally, additional recording and reading could be carried out without any problems.
更に、本発明者らが検討したところによると、本実施例
の凸状11の場合、その幅は500%まで、また、その
高さは300%までそれぞれ模様2に対応しない領域に
存在する突条12の幅又は高さに対して異なっても上述
のような読取り、トラッキング等は問題なく行うことが
できた。Furthermore, according to the inventors' studies, in the case of the convex shape 11 of this embodiment, the width of the convex shape 11 is up to 500%, and the height of the convex shape 11 is up to 300%. Even if the width or height of the strip 12 was different, reading, tracking, etc. as described above could be performed without any problem.
また、模様2を視認するために上述の凸状11の幅と高
さは、それぞれ1%程度異なればよいが、模様2が例え
ば絵画のようなものであれば、これらほど変化しない凸
状が領域7の中に存在したとしても模様2の全体を視認
し得る場合がある。In addition, in order to visually recognize the pattern 2, the width and height of the above-mentioned convex shapes 11 need only differ by about 1%, but if the pattern 2 is, for example, a painting, the convex shapes that do not vary as much as these may differ. Even if the pattern 2 exists within the area 7, the entire pattern 2 may be visible.
第3B図に上記信号パターン5の形状の変形例を示す。FIG. 3B shows a modification of the shape of the signal pattern 5.
この場合の形状は略台形状断面を有する凹状であり、凹
状13は上記模様2に対応する領域7に存在するもので
あって、例えば反射被膜31形成面に開口する幅W、が
3.2μm、深さd。In this case, the shape is a concave shape having a substantially trapezoidal cross section, and the concave shape 13 exists in the region 7 corresponding to the pattern 2, and the width W of the opening on the surface on which the reflective coating 31 is formed is, for example, 3.2 μm. , depth d.
が0,7μmである。また凹状14は上記模様2に対応
しない領域6に存在するものであって、例えば幅W4が
3.5.crm、深さd2が0.8μmである。is 0.7 μm. Further, the concave shape 14 exists in the region 6 that does not correspond to the pattern 2, and has a width W4 of, for example, 3.5. crm, and the depth d2 is 0.8 μm.
この場合も模様2例えばl”KJの文字を視認すること
ができ、トラッキング、追加記録及び記録読取りのいず
れも支障なく行うことができた。なお、上記信号パター
ン5が本例の略台形状のような凹状である場合、その断
面形状の幅は1〜500%まで、その深さは1〜300
%までそれぞれ変化させることができる。In this case as well, the pattern 2, for example, the letters l''KJ, could be visually recognized, and tracking, additional recording, and record reading could be performed without any problems. In the case of a concave shape, the width of the cross-sectional shape is 1 to 500%, and the depth is 1 to 300%.
It can be changed up to %.
なお、上述した各形状の変化の程度は、トラッキングト
ラック3の間隔や記録再生装置の光ヘッドから発する光
ビームのスポット径なども考慮に入れる必要がある。Note that the degree of change in each of the shapes described above needs to take into consideration the interval between the tracking tracks 3 and the spot diameter of the light beam emitted from the optical head of the recording/reproducing apparatus.
次に、上記模様2が形成された光情報記録媒体、例えば
光カード1を製造する方法を実施例1〜実施例7につい
て説明する。Next, a method for manufacturing an optical information recording medium, for example, an optical card 1, on which the pattern 2 is formed will be described with reference to Examples 1 to 7.
天m上
第4A図〜第4J図に本実施例の製造工程A〜Jを示し
、この順に製造工程を説明する。なお、工程A−Jの各
符号と図面番号の各アルファベントとは対応する。The manufacturing steps A to J of this embodiment are shown in FIGS. 4A to 4J, and the manufacturing steps will be explained in this order. In addition, each code|symbol of process AJ and each alpha vent of a drawing number correspond.
A、直径127龍、厚さ1.4mmのガラス基板21を
フレオン洗浄して乾燥させた後、フォトレジスト(富士
ハントエレクトロニクステクノロジー社製、WAYCO
AT[F]HPR204)をスピンコード法により乾燥
時の厚みが0.9μmになるように塗布してから、対流
オープン中で110℃、30分のプリベーキングを行っ
てフォトレジスト層22を形成した。A. A glass substrate 21 with a diameter of 127 cm and a thickness of 1.4 mm was washed with Freon and dried, and then a photoresist (manufactured by Fuji Hunt Electronics Technology Co., Ltd., WAYCO) was applied.
AT[F]HPR204) was applied using a spin code method so that the dry thickness was 0.9 μm, and then prebaking was performed at 110° C. for 30 minutes in a convection open environment to form the photoresist layer 22. .
B、 l−ラフキングトラック3を形成するための幅
3μmのラインパターンの開口部とアドレス情報記録及
びクロックトランク8のための幅3μm、長さ任意のピ
ントパターンの開口部とから成る第1のフォトマスク2
3を用いて、第1の露光を行った。この場合の露光条件
は次の通りであった。B. l - A first opening consisting of a line pattern opening with a width of 3 μm for forming the rough king track 3 and an opening with a focus pattern of a width of 3 μm and an arbitrary length for address information recording and clock trunk 8; Photomask 2
The first exposure was performed using No. 3. The exposure conditions in this case were as follows.
露光機:キヤノン製、PLA501 F露光エネルギー
:26mJ/cJ
プリントギャップ=10μm
C1模様2として、例えばアルファベット「K」 (第
5図参照)をゴシック体で線幅3I、大きさ20鳳自角
に黒く描いた暗部34を有する第2のフォトマスク24
を用いて、第5図に示すようにマスク側に露光用光源3
5を配置して第2の露光を行った。その際、rKJの文
字が所定の位置になるように上記第2のフォトマスク2
4を位置決めした。この場合の露光条件は次の通りであ
った。Exposure machine: PLA501 manufactured by Canon F Exposure energy: 26 mJ/cJ Print gap = 10 μm As C1 pattern 2, for example, the alphabet "K" (see Figure 5) is written in Gothic font with a line width of 3I and a size of 20 squares in black. Second photomask 24 with drawn dark areas 34
using the exposure light source 3 on the mask side as shown in FIG.
5 was placed, and a second exposure was performed. At that time, apply the second photomask 2 so that the letters rKJ are in the specified position.
4 was positioned. The exposure conditions in this case were as follows.
露光機:キヤノン製、PLA501F
露光エネルギー: 5 m J / cシブリントギャ
ップ=50μm
上述のように第2の露光を行うことによって、rKJの
文字に対応する領域7は他の領域6と比べて露光強度が
減ぜられるから、領域7における露光量は領域6の場合
より少なかった。Exposure machine: manufactured by Canon, PLA501F Exposure energy: 5 m J/c Sibrint gap = 50 μm By performing the second exposure as described above, the area 7 corresponding to the letters rKJ is exposed to less light than the other areas 6. The exposure in region 7 was less than in region 6 because the intensity was reduced.
D、上記第2の露光を行った上記ガラス基板21を現像
液に浸漬し、露光された部分のフォトレジストを溶解し
て除去することによって、フォトレジスト層22上に上
記パターンに対応した凹部15を形成した。D. The glass substrate 21 subjected to the second exposure is immersed in a developer, and the exposed portions of the photoresist are dissolved and removed, thereby creating recesses 15 corresponding to the pattern on the photoresist layer 22. was formed.
上記現像後、上記ガラス基板21について対流オーブン
中で140℃、60分の熱処理を行った。After the development, the glass substrate 21 was heat-treated at 140° C. for 60 minutes in a convection oven.
E、上記凹部15が形成された面にスパッタリングによ
って750人の厚さのニッケル膜25を形成して電鋳用
導電膜とし、次にこの面にニッケル層を電着によって形
成してこれを剥離する電鋳を行って、0.6鰭厚のスタ
ンパマスター26を得た。E. A nickel film 25 with a thickness of 750 mm is formed by sputtering on the surface on which the recess 15 is formed to serve as a conductive film for electroforming, and then a nickel layer is formed on this surface by electrodeposition and peeled off. Electroforming was performed to obtain a stamper master 26 with a fin thickness of 0.6.
F、このスタンパマスター26に再びニッケル電鋳を行
ってスタンバマザー27を得た。F. This stamper master 26 was again subjected to nickel electroforming to obtain a stamper mother 27.
G、上記スタンパマザー27に更にニッケル電鋳を行っ
て、凸状部19を有する0、3mm厚の成形用スタンバ
28を得た。G. Nickel electroforming was further performed on the stamper mother 27 to obtain a molding stamper 28 having a convex portion 19 and having a thickness of 0.3 mm.
H1上記成形用スタンパ28を用いて、レプリカ29の
基材として0.4mm厚のポリカーボネートシート(奇
人化成製、パンライト■MRシート)に熱プレス成形し
てレプリカ29を作成し、上記凹部15に対応した凹部
5aが上記レプリカ29の面上に形成された。なお、こ
のポリカーボネートシートの熱プレス成形面の反対の面
にはシリコン系表面硬化剤によって表面硬化層30が形
成されている。H1 Using the above molding stamper 28, heat press mold a 0.4 mm thick polycarbonate sheet (Kijin Kasei, Panlite MR Sheet) as a base material for the replica 29 to create a replica 29, and fill the above recess 15 with the molding stamper 28. A corresponding recess 5a was formed on the surface of the replica 29. Note that a surface hardening layer 30 is formed with a silicone surface hardening agent on the opposite surface of the polycarbonate sheet from the hot press molding surface.
上記レプリカ29の面に形成された上記凹部5aを触針
式表面粗さ計(ランクテーラーズホブソン製、クリステ
ツブ)を用いて検査したところ、上記rKJの文字に対
応する領域7に存在する上記凹部5aの形状は、前述し
た高さり、に対応する深さが0.7μm1幅W!が3.
8μmの滑らかな三角形断面の凹状であった。そして、
上記rKJの文字に対応しない領域6に存在する上記凹
部5aの形状は、深さ(h2)が0.8μm、幅W2が
4.0μmの同様の三角形断面の凹状であった。また、
レプリカ29の、全体の反りは長手方向で最大3 mm
程度であった。また、上記表面硬化層30には全く損傷
は見られなかった。When the recess 5a formed on the surface of the replica 29 was inspected using a stylus surface roughness meter (manufactured by Rank Taylors Hobson, Kristetsub), it was found that the recess 5a was present in the region 7 corresponding to the letters rKJ. The shape of 5a has a depth of 0.7 μm and a width W! 3.
It had a concave shape with a smooth triangular cross section of 8 μm. and,
The shape of the recess 5a existing in the region 6 not corresponding to the letters rKJ was a similar triangular cross-section with a depth (h2) of 0.8 μm and a width W2 of 4.0 μm. Also,
The overall warpage of Replica 29 is up to 3 mm in the longitudinal direction.
It was about. Moreover, no damage was observed in the surface hardened layer 30.
■、上記レプリカ29の上記凹部5aが形成された面に
、白金、テルル、セレンが原子数比で5ニア5:20で
ある合金から成る反射被膜31を、スパッタリングによ
って360人の厚さに形成した。(2) On the surface of the replica 29 on which the recess 5a is formed, a reflective coating 31 made of an alloy of platinum, tellurium, and selenium in an atomic ratio of 5:20 is formed to a thickness of 360 mm by sputtering. did.
J、上記レプリカ29に形成された記録膜31の面上に
ポリウレタン系接着剤を用いて接着剤層32を形成し、
これを介して裏打ち基材33としてTiO□の含有した
0 、3m園厚さの白色ポリカーボネートシート(奇人
化成製、パンライト■シート)を裏打ち接着した。この
後、このレプリカ29を54++nX85.511−に
打抜き加工することによって光カード1を得た。J, forming an adhesive layer 32 using a polyurethane adhesive on the surface of the recording film 31 formed on the replica 29;
Through this, a white polycarbonate sheet (manufactured by Kijin Kasei Co., Ltd., Panlite ■ sheet) containing TiO□ and having a thickness of 0.3 m was adhered as a backing base material 33. Thereafter, the optical card 1 was obtained by punching the replica 29 into a size of 54++nX85.511-.
なお、第4J図に示す図面において上方から光が入射す
るように上記光カードlは使用されるので、上記凹部5
aはこの場合は三角形断面を有する凸状となった。Note that in the drawing shown in FIG. 4J, the optical card I is used so that the light enters from above, so the recess 5
In this case, a had a convex shape with a triangular cross section.
また、上記成形用スタンパ28は、凸状部19を有して
いるが、上記領域7に対応した部分の上記凸状部19の
高さ及び幅は、上記領域6に対応した部分の上記凸状部
19の高さ及び幅にそれぞれ比較して小さく形成されて
おり、それらの1法は上記凸状部19と対応する上記レ
プリカ29上の凹部5aの寸法とほぼ一致していた。Further, the molding stamper 28 has a convex portion 19, and the height and width of the convex portion 19 in the portion corresponding to the region 7 are different from the convex portion in the portion corresponding to the region 6. They are formed to be smaller than the height and width of the shaped portion 19, respectively, and one of them almost matches the dimensions of the concave portion 5a on the replica 29 corresponding to the convex portion 19.
ス對U壓1
本実施例では上述の実施例1における工程りの熱処理条
件を120℃、30分に変えた以外は同様の工程A−H
を経て、レプリカ29を得た。In this example, steps A to H were the same as in Example 1 above, except that the heat treatment conditions in the steps were changed to 120°C and 30 minutes.
After that, replica 29 was obtained.
このレプリカ29の面に形成された凹部5aを実施例1
と同様に検査したところ、rKJの文字に対応した領域
7に存在する上記凹部5aの形状は、深さd、が0.7
μm、上記レプリカ29面に開口する下辺幅W、が3.
2μm、上辺幅が1,2μmの台形状の凹状であり、r
KJの文字に対応しない領域6に存在する上記凹部5a
の形状は、深さd2が0.8#m、下辺幅W4が3.5
.cam、上辺幅が1.5μmの台形状の凹状であった
。また、レプリカ29の反りや表面硬化層30の状態も
実施例1と同様であった。Example 1 The recess 5a formed on the surface of this replica 29
When inspected in the same manner as above, it was found that the shape of the recess 5a existing in the region 7 corresponding to the letters rKJ has a depth d of 0.7.
μm, and the width W of the lower side of the opening on the replica 29 surface is 3.
It has a trapezoidal concave shape with a width of 2 μm and an upper side width of 1.2 μm, and r
The recess 5a existing in the area 6 that does not correspond to the letters KJ
The shape has a depth d2 of 0.8 #m and a bottom width W4 of 3.5 m.
.. cam had a trapezoidal concave shape with an upper side width of 1.5 μm. Further, the warpage of the replica 29 and the state of the surface hardening layer 30 were also the same as in Example 1.
上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
1.Jと同様の工程を経て光カード1を得た。Step 1 in Example 1 described above using the replica 29. Optical card 1 was obtained through the same process as J.
ス1」レ−
本実施例では、まずフォトマスク37を次のようにして
得た。即ち、上述の実施例1の工程Bで用いた第1のフ
ォトマスク23自体をゴシック体で線幅3龍、大きさ2
0龍角にアルファベット「K」をくり抜いたマスクで覆
った。次に、このような面上にスパッタリングでクロム
膜を光の透過率が90%に低下するように形成すること
によって、上記第1のフォトマスク23上にrKJの文
字をした減光fi36を設けた。この後、上記「K」を
くり抜いたマスクを取り去って、フォトマスク37を得
た。このような減光層36を減光手段として有するフォ
トマスク37を用い、第6図に示すようにフォトマスク
側に露光用光源35を配置して第1の露光を次の条件で
行った。In this example, a photomask 37 was first obtained as follows. That is, the first photomask 23 itself used in step B of Example 1 described above is written in Gothic font with a line width of 3 and a size of 2.
It was covered with a mask with the letter "K" carved out in the dragon horn. Next, by forming a chromium film on such a surface by sputtering so that the light transmittance is reduced to 90%, a light attenuation fi 36 with the letters rKJ is provided on the first photomask 23. Ta. Thereafter, the mask with the "K" cut out was removed to obtain a photomask 37. Using a photomask 37 having such a light attenuation layer 36 as a light attenuation means, and with an exposure light source 35 disposed on the photomask side as shown in FIG. 6, first exposure was performed under the following conditions.
露光機:キヤノン製、PLA501F
露光エネルギー:30mJ/cIA
プリントギャップ:108m
上記フォトマスク37を用いて第1の露光と同時に第2
の露光も行なった。この際、上記フォトマスク37上の
rKJの文字をした減光層36によってrKJの文字に
対応した領域7の露光強度が他の領域6に比べて減ぜら
れるから、領域7における露光量は領域6の場合より少
なかった。Exposure machine: manufactured by Canon, PLA501F Exposure energy: 30mJ/cIA Print gap: 108m Using the above photomask 37, the first exposure and the second
Exposure was also carried out. At this time, the exposure intensity of the area 7 corresponding to the letters rKJ is reduced by the light attenuation layer 36 with the letters rKJ on the photomask 37 compared to other areas 6, so the exposure amount in the area 7 is It was less than the case of 6.
以上の点を除けば、上述の実施例1における工程A、B
、D−Hと同様の工程を経てレプリカ29を得た。この
レプリカ29の面に形成された四部5aを実施例1と同
様に検査したところ、「K」の文字に対応した領域7に
存在する上記凹部5aの形状は、深さ(hl)が0.7
.El m、幅W、が3.8μmの滑らかな三角形断面
の凹状であり、「K」の文字に対応しない領域6に存在
する上記凹部5aの形状は、深さ(h2)が0.8um
、幅W=が4.0μmの同様の三角形断面の凹状であっ
た。Except for the above points, steps A and B in Example 1 described above
, a replica 29 was obtained through the same steps as DH. When the four parts 5a formed on the surface of this replica 29 were inspected in the same manner as in Example 1, the shape of the recess 5a existing in the region 7 corresponding to the letter "K" had a depth (hl) of 0. 7
.. The shape of the recess 5a, which has a smooth triangular cross section with El m and width W of 3.8 μm, and exists in the region 6 that does not correspond to the letter “K” has a depth (h2) of 0.8 μm.
, had a concave shape with a similar triangular cross section and a width W=4.0 μm.
また、レプリカ29の反りや表面硬化層30の状態も実
施例1と同様であった。Further, the warpage of the replica 29 and the state of the surface hardening layer 30 were also the same as in Example 1.
上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
■、Jと同様の工程を経て光カードlを得た。Using the replica 29, an optical card 1 was obtained through the same steps as steps (2) and (J) in Example 1 described above.
ス11生±
本実施例では上述の実施例1におけるA及びBの工程が
次のように異なるが、他は同様である工程(ただし、工
程Cは省略)を経てレプリカ29を得た。In this example, the replica 29 was obtained through the same steps (however, step C was omitted) except that the steps A and B in the above-mentioned Example 1 were different as follows.
即ち、上記工程Aにおいて用いたガラス基板21上をゴ
シック体で線幅3層−5大きさ20am角のアルファベ
ット「K」をくり抜いたマスクで覆った。次に、この面
上にスパッタリングでクロム膜を、第7A図に示すよう
にガラス基板21を通して入射する光の反射率が20%
となるように形成することによって、上記ガラス基板2
1上に「K」の文字をした反射膜39を設けた。次に、
上記rKJをくり抜いたマスクを取り去ってから、上述
の実施例1の工程Aと同様にして、上記ガラス基板21
の上記クロム反射膜39が形成されていない面上にフォ
トレジスト層22を形成した。That is, the glass substrate 21 used in the above step A was covered with a mask in which the alphabet "K" with a line width of 3 layers and a size of 20 am square was hollowed out in Gothic font. Next, a chromium film is sputtered on this surface so that the reflectance of light incident through the glass substrate 21 is 20% as shown in FIG. 7A.
By forming the glass substrate 2 so that
A reflective film 39 shaped like the letter "K" was provided on top of the reflective film 39. next,
After removing the mask in which the rKJ was hollowed out, the glass substrate 21 is
A photoresist layer 22 was formed on the surface on which the chromium reflective film 39 was not formed.
次に、第7B図に示すように上記フォトレジスト層22
が形成されている側に第1のフォトマスク及び露光用光
1lI35を配置し、第1の露光を上述の実施例1の工
程Bと同様の条件で行った。Next, as shown in FIG. 7B, the photoresist layer 22 is
A first photomask and an exposure light 1lI35 were placed on the side where the was formed, and the first exposure was performed under the same conditions as in step B of Example 1 described above.
上述のようにrKJの文字に対応した反射手段、即ちク
ロム反射膜39を上記ガラス基板21の面上に設け、こ
の反対面側から第1の露光を行なって同時に第2の露光
も行なった。この際、第7C図に示すように上述のrK
Jの文字をした反射膜39によって、第1の露光による
光が反射して「K」の文字に対応した領域7の露光強度
が他の領域6に比べて増大されるから、領域7における
露光量は領域6の場合より多かった。As described above, the reflecting means corresponding to the letters rKJ, that is, the chrome reflecting film 39, was provided on the surface of the glass substrate 21, and the first exposure was carried out from the opposite side, and the second exposure was also carried out at the same time. At this time, as shown in FIG. 7C, the above rK
The light from the first exposure is reflected by the reflective film 39 shaped like the letter "J" and the exposure intensity in the area 7 corresponding to the letter "K" is increased compared to other areas 6, so that the exposure in the area 7 is increased. The amount was higher than in area 6.
以上のようにして得られたレプリカ29の面に形成され
た凹部5aを実施例1と同様に検査したところ、rKJ
の文字に対応した領域7に存在する上記凹部5aの形状
は、深さ(hl)が0.8μm、幅w1が4.0μmの
滑らかな三角形断面の凹状であり、rKJの文字に対応
しない領域6に存在する上記凹部5aの形状は、深さ(
h2)が0.7μm、幅wz3.8μmの同様の三角形
断面の凹状であった。また、レプリカ29の反りや表面
硬化層30の状態も実施例1と同様であった。When the recess 5a formed on the surface of the replica 29 obtained as described above was inspected in the same manner as in Example 1, it was found that rKJ
The shape of the recess 5a existing in the area 7 corresponding to the letters rKJ is a concave shape with a smooth triangular cross section with a depth (hl) of 0.8 μm and a width w1 of 4.0 μm, and the area not corresponding to the letters rKJ The shape of the recessed portion 5a existing at 6 has a depth (
It had a similar concave triangular cross section with h2) of 0.7 μm and width wz of 3.8 μm. Further, the warpage of the replica 29 and the state of the surface hardening layer 30 were also the same as in Example 1.
上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
1.Jと同様の工程を経て光カードlを得た。Step 1 in Example 1 described above using the replica 29. An optical card 1 was obtained through the same process as J.
スm
本実施例では上述の実施例1におけるBの工程が次のよ
うに異なるが、他は同様である工程を経て(ただし、工
程Cは省略)レプリカ29を得た。In this example, the replica 29 was obtained through the same steps (however, step C was omitted) except that the step B in the above-mentioned example 1 was different as follows.
即ち、直径127龍、厚さ100μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムをゴシック体で線幅3鶴、大きさ
20龍角のアルファベット「K」をくり抜いたマスクで
覆った。次に、この面上にスパツタリングでクロム膜を
上記ポリエチレンテレフタレートフィルムを通して入射
する光の反射率が20%となるように形成することによ
って、上述のフィルム上にrKJの文字をした反射膜4
1を設けた。次に、上記rKJをくり抜いたマスクを取
り去ってから、これを下敷きフィルム42とした。That is, a polyethylene terephthalate film having a diameter of 127 mm and a thickness of 100 μm was covered with a mask in which the alphabet "K" with a Gothic font with a line width of 3 cranes and a size of 20 mm was cut out. Next, a chromium film is formed on this surface by sputtering so that the reflectance of light incident through the polyethylene terephthalate film is 20%, and a reflective film 4 with the letters rKJ is formed on the film.
1 was established. Next, the mask in which the rKJ was hollowed out was removed, and this was used as the underlay film 42.
第8図に示すように上記下敷きフィルム42を上記ガラ
ス基板21に関して露光用光源35と反対側に位置させ
、第1の露光を上記第1のマスク23を用いて上記実施
例1と同様の条件で行った。As shown in FIG. 8, the underlay film 42 is positioned on the opposite side of the exposure light source 35 with respect to the glass substrate 21, and the first exposure is performed using the first mask 23 under the same conditions as in Example 1. I went there.
上述のようにrKJの文字に対応した反射膜41を有す
る上記下敷きフィルム42をガラス基板21の一方の面
に配置し、その他方の面から第1の露光を行って同時に
第2の露光を行なった。この際、上記実施例4の第7C
図と同様にして「K」の文字に対応した領域7における
露光量は領域6の場合より多かった。As described above, the underlay film 42 having the reflective film 41 corresponding to the letters rKJ is placed on one surface of the glass substrate 21, and the first exposure is performed from the other surface and the second exposure is simultaneously performed. Ta. At this time, the 7th C of Example 4 above
Similarly to the figure, the exposure amount in area 7 corresponding to the letter "K" was greater than in area 6.
以上のようにして得られたレプリカ290面に形成され
た凹部5aを実施例Iと同様に検査したところ、rKJ
の文字に対応した領域7に存在する上記凹部5aの形状
は、深さ(hl)が0.8μm1幅w1が4.0μmの
滑らかな三角形断面の凹状であり、rKJの文字に対応
しない領域6に存在する上記凹部5aの形状は、深さ(
h2)が0.7μm、幅w2が3.8μmの同様の三角
形断面の凹状であった。また、レプリカ29の反りゃ表
面硬化N30の状態も実施例1と同様であった。When the recess 5a formed in the replica 290 surface obtained as described above was inspected in the same manner as in Example I, it was found that rKJ
The shape of the recess 5a existing in the region 7 corresponding to the letters rKJ is a concave shape with a smooth triangular cross section with a depth (hl) of 0.8 μm and a width w1 of 4.0 μm, and the shape of the recess 5a existing in the region 7 corresponding to the letters rKJ is a concave shape with a smooth triangular cross section. The shape of the recess 5a existing in the depth (
It had a similar concave triangular cross section with h2) of 0.7 μm and width w2 of 3.8 μm. Moreover, the state of the warp and surface hardening N30 of the replica 29 was the same as in Example 1.
上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
1.Jと同様の工程を経て光カード1を得た。Step 1 in Example 1 described above using the replica 29. Optical card 1 was obtained through the same process as J.
スl九l
第9A図〜第9G図に本実施例の製造工程A′〜G′を
示しこの順に説明する。9A to 9G show manufacturing steps A' to G' of this embodiment, and will be explained in this order.
A′、上述したガラス基板21の一方の面にフォトレジ
ストを塗布し乾燥後、この面に電鋳用導電膜をスパッタ
リングによって形成してから、ニッケルを0.3鰭の厚
さに電鋳した。これによって表面が平滑なスタンパマザ
ー用ニッケル基板44を得て、これを105+nx l
05msに加工した。A', a photoresist was applied to one surface of the glass substrate 21 described above, and after drying, a conductive film for electroforming was formed on this surface by sputtering, and then nickel was electroformed to a thickness of 0.3 fin. . As a result, a nickel substrate 44 for the stamper mother with a smooth surface was obtained, and this was
Processed to 05ms.
B′、上記ニッケル基板44をフレオン洗浄し乾燥した
後、フォトレジスト(実施例1と同様のもの)をスピン
コード法により乾燥時の厚みが1.9μmになるように
塗布してから、実施例1と同様のプリベーキングを行っ
てフォトレジスト層22を形成した。B': After the nickel substrate 44 was Freon-cleaned and dried, a photoresist (same as in Example 1) was applied using a spin code method to a dry thickness of 1.9 μm. A photoresist layer 22 was formed by performing the same prebaking as in 1.
G′、実施例1と同様の第1のフォトマスク23を用い
て第1の露光を次のような条件で行った。G', the first exposure was performed using the same first photomask 23 as in Example 1 under the following conditions.
露光機:ミカサ製マスクアライナーMA−20露光エネ
ルギー:18mJ/cJ
プリントギャップ:なしくハードコンタクト露光)
D’、実施例1と同様の第2のフォトマスク24を用い
て第2の露光を次のような条件で行った。Exposure machine: Mikasa Mask Aligner MA-20 Exposure energy: 18 mJ/cJ Print gap: None (hard contact exposure) D', second exposure using the same second photomask 24 as in Example 1 I went under these conditions.
露光機:ミカサ製マスクアライナーMA−20露光エネ
ルギー: 2 m J /cdプリントギャップ:なし
くハードコンタクト露光)
E′、上記露光の終了したニッケル基板44を現像液に
浸漬し、実施例1と同様にフォトレジスト層22上に凹
部15を形成した。Exposure machine: Mikasa Mask Aligner MA-20 Exposure energy: 2 m J / cd Print gap: None (hard contact exposure) E', The nickel substrate 44 that has been exposed above is immersed in a developer, and the same process as in Example 1 is carried out. A recess 15 was formed on the photoresist layer 22.
現像後、対流オーブン中で140″C160分の熱処理
を行った。After development, heat treatment was performed at 140"C for 160 minutes in a convection oven.
F′、上記現像の終了した上記ニッケル基板44のフォ
トレジストJi522が形成された面上で(第9F図参
照)、次のような条件でアルゴンプラズマエツチングを
行って、フォトレジストとニッケルとを同時にエツチン
グした。F', Argon plasma etching is performed under the following conditions on the surface of the nickel substrate 44 on which the photoresist Ji522 has been formed after the development has been completed (see FIG. 9F) to simultaneously remove the photoresist and nickel. Etched.
使用機器:他国製作所製CFS−8EP−55アルゴン
ガス圧= 5 X 10−’Torr印加電圧=150
W
エツチング時間:4時間45分
上記エツチングによりフォトレジスト層22の大部分は
除去され、同時にフォトレジスト層22上に形成された
上記凹部15と対応して、上記ニッケル基板44上に凹
部16が形成された。上述のような凹部16を有するニ
ッケル基板44をスタンパマザー44とした。Equipment used: CFS-8EP-55 made by other country manufacturing companies Argon gas pressure = 5 x 10-'Torr Applied voltage = 150
W Etching time: 4 hours 45 minutes Most of the photoresist layer 22 is removed by the above etching, and at the same time, a recess 16 is formed on the nickel substrate 44 corresponding to the recess 15 formed on the photoresist layer 22. It was done. A nickel substrate 44 having a recess 16 as described above was used as a stamper mother 44.
G′、上記マザー44を用いて、電鋳によって凸状部1
9を有する成形用スタンパ28を得た。G', using the mother 44, the convex part 1 is formed by electroforming.
A molding stamper 28 having a diameter of 9 was obtained.
H′、上記成形用スタンパ28によって、実施例1と同
様にしてレプリカ29を得た。H': A replica 29 was obtained using the molding stamper 28 in the same manner as in Example 1.
以上のレプリカ29の面に形成された凹部5aを実施例
1と同様に検査したところ、rKJの文字に対応した領
域7に存在する上記凹部5aの形状は、深さ(hl)が
0.70μm、幅W2が3.8μmの三角形断面の凹状
であり、rKJの文字に対応しない領域6に存在する上
記凹部5aの形状は、深さ(h2)が0.75.um、
幅W2が4.0 pmの同様の三角形断面の凹状であっ
た。また、レプリカ29の反りや表面硬化層30の状態
も実施例1と同様であった。When the recess 5a formed on the surface of the replica 29 was inspected in the same manner as in Example 1, it was found that the shape of the recess 5a existing in the region 7 corresponding to the letters rKJ had a depth (hl) of 0.70 μm. The shape of the recess 5a, which has a triangular cross section with a width W2 of 3.8 μm and exists in the region 6 not corresponding to the letters rKJ, has a depth (h2) of 0.75. Um,
It had a similar concave triangular cross section with a width W2 of 4.0 pm. Further, the warpage of the replica 29 and the state of the surface hardening layer 30 were also the same as in Example 1.
上記レプリカ29を用いて上述の実施例1における工程
1.Jと同様の工程を経て光カードlを得た。Step 1 in Example 1 described above using the replica 29. An optical card 1 was obtained through the same process as J.
ス1111
本実施例は、信号パターン5が平面状反射率変化である
光カードの製造方法であり、第10A図〜第10D図に
製造工程A“〜D″を示しこの順に説明する。1111 This embodiment is a method of manufacturing an optical card in which the signal pattern 5 is a planar reflectance change, and manufacturing steps A" to D" are shown in FIGS. 10A to 10D and will be explained in this order.
A“、トラッキングトランク3を形成するための幅3゜
5μmのラインパターンの開口部とアドレス情報記録及
びクロックトラック8のための幅3.5μm、長さ任意
のピットパターンの開口部とを有し、さらにゴシック体
で線幅3m■、大きさ2(In角のアルファベット「K
」に対応する部分は上記ラインパターンの開口部の幅が
4.0μmであるフォトマスク46をIC用フォトマス
ク技術を用いて作製した。A" has a line pattern opening with a width of 3.5 μm for forming the tracking trunk 3 and a pit pattern opening with a width of 3.5 μm and an arbitrary length for recording address information and clock track 8. , and a Gothic font with a line width of 3m■ and a size of 2 (In corner alphabet "K").
'', a photomask 46 having an opening width of 4.0 μm in the line pattern was fabricated using IC photomask technology.
上述のようなフォトマスク46を感光性被膜47上にほ
ぼ密着して露光した。The photomask 46 as described above was exposed to light in almost intimate contact with the photosensitive coating 47.
B″、上記感光性被膜47を現像して、この感光性被膜
47上に上述したフォトマスク46の開口部に対応した
黒化部18を形成した。この黒化部18を顕微鏡で観察
すると、上記rKJの文字に対応した領域7に存在する
黒化部18の幅W。B″, the photosensitive film 47 was developed to form a blackened portion 18 corresponding to the opening of the photomask 46 described above. When this blackened portion 18 was observed with a microscope, Width W of the blackened portion 18 existing in the region 7 corresponding to the letters rKJ.
は4μmであり、上記rKJの文字に対応しない領域6
に存在する黒化部18の幅whは3.5μmであった。is 4 μm, and the area 6 that does not correspond to the letters rKJ above
The width wh of the blackened portion 18 present in the sample was 3.5 μm.
C″、上記感光性被膜47の黒化部18が形成された面
に白金−テルルーセレン合金膜49(原子数比5ニア5
:20)を厚さ360人に蒸着した。C'', a platinum-telluroselenium alloy film 49 (atomic ratio 5 near 5
:20) was deposited to a thickness of 360 mm.
D″、上記感光性被膜47の両面に透明な接着剤層32
を形成し、これを介して透明な一対のポリカーボネート
シート48a、48bを接着した。D'', transparent adhesive layer 32 on both sides of the photosensitive coating 47
was formed, and a pair of transparent polycarbonate sheets 48a and 48b were bonded through this.
なお、この場合ポリカーボネートシート48b及びこれ
に接する接着は透明である必要はない。In this case, the polycarbonate sheet 48b and the adhesive in contact with it do not need to be transparent.
以上のような工程を経て光カード1を得た。なお、上記
黒化部18とそれ以外の非黒化部(第2図における信号
パターン5以外の部分)とは、上記白金−テルル−セレ
ン合金膜49によって一様に覆われているが、この合金
膜49はその反射率が100%ではないので、上記黒化
部18においては光を吸収する程度が大であり、上記非
黒化部においては光を反射する程度が大である。従って
、上記黒化部18と上記非黒化部とで光カード1の信号
パターン5である平面状反射率変化部を構成することが
できた。An optical card 1 was obtained through the steps described above. Note that the blackened portion 18 and other non-blackened portions (portions other than the signal pattern 5 in FIG. 2) are uniformly covered with the platinum-tellurium-selenium alloy film 49; Since the reflectance of the alloy film 49 is not 100%, the blackened portion 18 absorbs a large amount of light, and the non-blackened portion reflects light to a large extent. Therefore, the blackened portion 18 and the non-blackened portion could constitute a planar reflectance changing portion which is the signal pattern 5 of the optical card 1.
以上の実施例1〜実施例7において得られた各々の光カ
ードlについて、追記記録の書き込み及び読取り試験を
次のような条件で実施した。For each of the optical cards 1 obtained in Examples 1 to 7 above, write-once recording and reading tests were conducted under the following conditions.
波長:830nm
ビーム径=4.0μm(半値幅)
書込みパワー:10mW
書込み時間:20μs
読取りパワー:0.4mW
その結果、追加記録、記録読取り及びトラッキングは全
て支障なく行われ、またrKJの文字に対応する領域7
及び対応しない領域6において上述の試験の結果に差が
生じることはなかった。Wavelength: 830 nm Beam diameter = 4.0 μm (half width) Write power: 10 mW Write time: 20 μs Read power: 0.4 mW As a result, additional recording, recording reading, and tracking were all performed without any problems, and it also corresponded to the letters rKJ. area 7
There was no difference in the results of the above test in the non-corresponding areas 6 and 6.
また、上記光カード1のラインパターンはいずれの領域
6及び7においても良好なコントラストを形成していた
。そして、領域7における反射回折光の色相が領域6と
異なっているため、上記光カード1の表面上においてr
KJの文字を明瞭に視認することができた。Further, the line pattern of the optical card 1 had good contrast in both areas 6 and 7. Since the hue of the reflected diffracted light in the region 7 is different from that in the region 6, the r
The letters KJ were clearly visible.
上述のように実施例1では第1の露光及び第2の露光を
行うことによって、所定の事前記録のための信号パター
ン5としての凸状を形成し、更に所定の模様2を光カー
ドlに形成することができた。そして、上述の成形用ス
タンパ28を用いて上記光カード1を簡単に複製加工で
きた。また、実施例2では実施例1の場合の現像後の熱
処理条件を変えることによって、上記凸状の形状が変化
しているが、上記試験の結果に差はなかった。また、実
施例3〜実施例5では、第2の露光を第1の露光と同時
に行うことができた。また、実施例6ではエツチングに
よってスタンバマザーをニッケル基板のような金属基板
から直接作ることができた。また、実施例7では信号パ
ターン5として平面状反射率変化部を上述のフォトマス
ク46を用いて簡単に形成することができた。As described above, in Example 1, by performing the first exposure and the second exposure, a convex shape is formed as the signal pattern 5 for predetermined pre-recording, and further a predetermined pattern 2 is formed on the optical card l. was able to form. The optical card 1 could be easily replicated using the molding stamper 28 described above. Further, in Example 2, the shape of the convex shape was changed by changing the post-development heat treatment conditions in Example 1, but there was no difference in the results of the above test. Further, in Examples 3 to 5, the second exposure could be performed simultaneously with the first exposure. Furthermore, in Example 6, the standby mother could be made directly from a metal substrate such as a nickel substrate by etching. Furthermore, in Example 7, a planar reflectance changing portion could be easily formed as the signal pattern 5 using the photomask 46 described above.
なお、例えば、上述の第2の露光を第2のフォトマスク
24を用いて行う場合、この第2のフォトマスク24は
1枚に限る必要はなく、複数の元手透過フォトマスクを
用いて多段階に露光することができ、これによって例え
ば複雑な模様2を形成することが可能である。第2の露
光をホログラムにより行うことも可能であり、これによ
ってホログラムイメージの模様2が得られる。また、第
1および第2の露光はレーザー描画装置を用いて行って
もよい。第1の露光はレーザーカッティソング装置で行
ってもよい。Note that, for example, when the above-mentioned second exposure is performed using the second photomask 24, the number of the second photomask 24 is not limited to one, and a plurality of light transmitting photomasks may be used. Exposure can be carried out in stages, thereby making it possible, for example, to form a complex pattern 2. It is also possible to carry out the second exposure with a hologram, thereby obtaining the pattern 2 of the hologram image. Further, the first and second exposures may be performed using a laser drawing device. The first exposure may be performed with a laser cutting device.
さらに第1の露光は上述した実施例7で用いたフォトマ
スク46を用いてもよく、この場合第2の露光も同時に
行うことができる。Further, the first exposure may be performed using the photomask 46 used in the seventh embodiment described above, and in this case, the second exposure can also be performed at the same time.
また、成形用スタンパ28を用いてレプリカ29を作成
する方法は、射出成型法や2P法などによってもよい。Further, the method for creating the replica 29 using the molding stamper 28 may be an injection molding method, a 2P method, or the like.
また、本実施例は光カードであったが、他の光情報記録
媒体、例えば光ディスク、レーザービジョンディスクな
どについても適用できる。Further, although this embodiment uses an optical card, the present invention can also be applied to other optical information recording media such as optical discs and laser vision discs.
また、本発明は本実施例のみに限定されるものではなく
、本発明の技術的思想に基づいて他の変形も可能である
。Furthermore, the present invention is not limited to this embodiment, and other modifications are possible based on the technical idea of the present invention.
本発明は上述のような構成としているので次に記載する
効果を奏する。Since the present invention has the above-described configuration, it produces the effects described below.
光情報記録媒体の表面上において、所定の模様に対応す
る領域における反射回折光の強度や色相が他の領域と異
なるようになるので、前記模様が表面において視認され
、しかもこの模様を形成したことによる記録再生への影
響はない。On the surface of the optical information recording medium, the intensity and hue of the reflected and diffracted light in a region corresponding to a predetermined pattern are different from those in other regions, so that the pattern is visible on the surface, and the pattern is formed. There is no effect on recording and playback.
また、上述のような光情報記録媒体は、上記所定の模様
に対応した露光を行うことによって極めて容易に得るこ
とができる。Further, the optical information recording medium as described above can be obtained extremely easily by performing exposure corresponding to the predetermined pattern.
第1図〜第3B図は本実施例の光カードに関するもので
、第1図は光カードの平面図、第2図は第1図に示す光
カードの一部拡大平面図、第3A図は光カードの信号パ
ターンとして形成された三角形断面を有する凸状を拡大
して断面を合せて示した斜視図、第3B図は同じく信号
パターンの変形例である台形状断面を有する凹状を拡大
して断面を合わせて示した斜視図である。
第4A図〜第1OD図は、光カードの製造方法の実施例
1〜実施例7に関するもので、第4A図〜第4J図は実
施例1の工程を示した模式的な側断面図、第5図は実施
例1の工程Cにおける第2の露光の状態を示した斜視図
、第6図は実施例3の露光の状態を示した斜視図、第7
A図は実施例4のガラス基板に模様を形成した状態を示
した斜視図、第7B図は同じく露光の状態を示した斜視
図、第7C図は第7B図の■C−■C矢視図、第8図は
実施例5の露光の状態を示した斜視図、第9A図〜第9
H図は実施例6の工程を示した模式的な側断面図、第1
0A図〜第10D図は実施例7の工程を示した模式的な
側断面図である。
なお図面に用いた符号において、
1 ・・・・−・−・−・−・−・−・−光カード2−
・−・・・−・−・−・・−−一−−模様5−・・・・
・・−・−・・−・−・−・・・−信号パターン7 ・
−−−−−一・・−・−・−・−・・−・−模様2に対
応する領域11.12・−・−・・・凸状
13、 14−−−−・−・凹状
18−・・−・・・−・・−・・・−1−1黒化部I9
−・−・−・・・・−・・・・・−・・成形用スタンパ
の凸状部22 ・・・・・・・−・・・−・・−・・−
・フォトレジスト層23 ・−・・・・−・・・・・−
・・・・−・・第1のフォトマスク24−・・−−−−
−−−・−・−・・・・第2のフォトマスク37 ・・
−・・−・−・・・−・・・・−・減光手段を有するフ
ォトマスク39−・−・、・・・・・・・・・・・・反
射膜42−・−・−・・・・−・−・反射膜を有する下
敷きフィルム46−・・・−・−・−−−−−一・−一
−−−・−フォトマスク47−・−一−−−−−−・−
・・−−−−−−−一感光性被膜である。
フォトしりスト層Figures 1 to 3B relate to the optical card of this embodiment. Figure 1 is a plan view of the optical card, Figure 2 is a partially enlarged plan view of the optical card shown in Figure 1, and Figure 3A is a plan view of the optical card. FIG. 3B is an enlarged perspective view of a convex shape with a triangular cross section formed as a signal pattern of an optical card, showing the cross section together, and FIG. FIG. 3 is a perspective view showing a cross section together. Figures 4A to 1 OD relate to Examples 1 to 7 of the optical card manufacturing method, and Figures 4A to 4J are schematic side sectional views showing the steps of Example 1; 5 is a perspective view showing the second exposure state in step C of Example 1, FIG. 6 is a perspective view showing the exposure state of Example 3, and FIG.
Figure A is a perspective view showing a state in which a pattern is formed on the glass substrate of Example 4, Figure 7B is a perspective view similarly showing a state of exposure, and Figure 7C is a view taken along arrows ■C-■C in Figure 7B. FIG. 8 is a perspective view showing the exposure state of Example 5, and FIGS. 9A to 9
Figure H is a schematic side sectional view showing the process of Example 6,
0A to 10D are schematic side sectional views showing the steps of Example 7. In addition, in the symbols used in the drawings, 1 ・・・・−・−・−・−・−・−・−Optical card 2−
・−・・・−・−・−・・−−1−− Pattern 5−・・・・
・・−・−・・−・−・−・・− Signal pattern 7 ・
-------Area corresponding to pattern 2 11.12 --- Convex 13, 14 --- Concave 18 −・・−・・−・・−・・1‐1 Blackened part I9
−・−・−・・−・・・・・・Convex part 22 of molding stamper ・・・・・・−・・・−・・−・・−
・Photoresist layer 23 ・−・・−−・・・−
......First photomask 24-...----
−−−・−・−・・Second photomask 37 ・・
-・・−・−・・・・・・Photomask 39 with light attenuation means −・・・・・・・・・・・・・Reflection film 42 −・−・−・・・・−・−・Underlay film 46 with reflective film 46−・・−・−・−−−−−1・−1−−−・−Photomask 47−・−−1−−−−−−・−
...-----It is a photosensitive coating. Photolist layer
Claims (1)
を表面に有する光情報記録媒体において、所定の模様に
対応した巨視的な領域に存在する前記信号パターンが、
他の部分の信号パターンと比較して、その形状及び大き
さの少なくともいずれかが異なっていることにより、前
記模様が前記表面上で視認し得ることを特徴とする光情
報記録媒体。 2、前記信号パターンが凹状又は凸状で構成されること
を特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。 3、前記信号パターンが略三角形断面を有する凹状又は
凸状で構成されることを特徴とする請求項2記載の光情
報記録媒体。 4、前記信号パターンが略台形状断面を有する凹状又は
凸状で構成されることを特徴とする請求項2記載の光情
報記録媒体。 5、前記巨視的な領域における凹状の深さ又は凸状の高
さが、他の部分の凹状の深さ又は凸状の高さに対して、
1〜300%の範囲でそれぞれ異なっていることを特徴
とする請求項2記載の光情報記録媒体。 6、前記巨視的な領域における凹状又は凸状の幅が、他
の部分の凹状又は凸状の幅に対して、1〜500%の範
囲でそれぞれ異なっていることを特徴とする請求項2記
載の光情報記録媒体。 7、前記信号パターンが平面状反射率変化部で構成され
ることを特徴とする請求項1記載の光情報記録媒体。 8、前記巨視的な領域における平面状反射率変化部の幅
が、他の部分の平面状反射率変化部の幅に対して、1〜
500%の範囲で異なっていることを特徴とする請求項
7記載の光情報記録媒体。 9、請求項2記載の光情報記録媒体の製造に用いられる
凸状部又は凹状部を有するスタンパにおいて、 前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した前
記凸状部又は前記凹状部が、他の部分の信号パターンに
対応した前記凸状部又は前記凹状部とそれぞれ比較して
、その形状及び大きさの少なくともいずれかが異なって
いることを特徴とするスタンパ。 10、請求項2又は7記載の光情報記録媒体の製造に用
いられる開口部及び/又は暗部を有するフォトマスクに
おいて、 前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した前
記開口部又は前記暗部が、他の部分の信号パターンに対
応した前記開口部又は前記暗部とそれぞれ比較して、そ
の形状及び大きさの少なくともいずれかが異なっている
ことを特徴とするフォトマスク。 11、請求項2記載の光情報記録媒体の製造方法におい
て、 基板の一方の面上に感光性樹脂層を形成する工程と、 前記感光性樹脂層が形成された基板の面に前記信号パタ
ーンに対応して露光強度を変化させた第1の露光と、前
記所定の模様に対応して露光強度を変化させた第2の露
光とを同時に又はいずれか一方から行う工程と、 前記基板を現像する工程と、 現像された前記基板を用いてスタンパを作成する工程と
、 前記スタンパを用いて前記光情報記録媒体のレプリカを
作成する工程とをそれぞれ具備する光情報記録媒体の製
造方法。 12、前記信号パターンに対応した開口部又は暗部が形
成された第1のマスクを用いて前記第1の露光を行ない
、前記模様に対応したパターンの開口部又は暗部が形成
された1枚又はそれ以上の第2のマスクを用いて第2の
露光を行なうことを特徴とする請求項11記載の製造方
法。 13、露光用光源と前記基板との間に前記模様に対応し
たパターンの減光手段を設けて前記第1の露光と前記第
2の露光とを同時に行うことを特徴とする請求項11記
載の製造方法。 14、前記基板が光透過材料から構成され、前記基板に
関して露光用光源と反対側に前記模様に対応したパター
ンの反射手段を設けて前記第1の露光と前記第2の露光
とを同時に行うことを特徴とする請求項11記載の製造
方法。 15、前記巨視的な領域に存在する信号パターンに対応
した開口部又は暗部が、他の部分の信号パターンに対応
した開口部又は暗部にそれぞれ比較して、その形状及び
大きさの少なくともいずれかが異なっているフォトマス
クを用いて、前記第1の露光と前記第2の露光とを同時
に行うことを特徴とする請求項11記載の製造方法。 16、請求項7記載の光情報記録媒体の製造方法におい
て、 基板の一方の面上に感光性被膜を形成する工程と、前記
巨視的な領域に存在する信号パターンに対応した開口部
又は暗部が、他の部分の信号パターンに対応した開口部
又は暗部にそれぞれ比較して、その形状及び大きさの少
なくともいずれかが異なっているフォトマスクを用いて
、前記感光性被膜を露光することにより平面状反射率変
化部を形成する工程とを具備する光情報記録媒体の製造
方法。[Claims] 1. In an optical information recording medium having a minute signal pattern on its surface that can be read by a light beam, the signal pattern existing in a macroscopic area corresponding to a predetermined pattern is
An optical information recording medium characterized in that the pattern can be visually recognized on the surface because at least one of its shape and size is different from that of the signal pattern in other parts. 2. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the signal pattern has a concave or convex shape. 3. The optical information recording medium according to claim 2, wherein the signal pattern has a concave or convex shape having a substantially triangular cross section. 4. The optical information recording medium according to claim 2, wherein the signal pattern has a concave or convex shape having a substantially trapezoidal cross section. 5. The depth of the concave or the height of the convexity in the macroscopic region is relative to the depth of the concave or the height of the convexity in other parts,
3. The optical information recording medium according to claim 2, wherein the difference is within a range of 1 to 300%. 6. The width of the concave or convex shape in the macroscopic region is different from the width of the concave or convex shape in other parts within a range of 1 to 500%. optical information recording media. 7. The optical information recording medium according to claim 1, wherein the signal pattern is composed of a planar reflectance changing section. 8. The width of the planar reflectance changing portion in the macroscopic region is 1 to
8. The optical information recording medium according to claim 7, wherein the difference is within a range of 500%. 9. A stamper having a convex portion or a concave portion used for manufacturing an optical information recording medium according to claim 2, wherein the convex portion or the concave portion corresponding to a signal pattern existing in the macroscopic area is A stamper characterized in that at least one of the shape and size of the convex portion or the concave portion is different from that of the convex portion or the concave portion corresponding to a signal pattern of another portion. 10. A photomask having an opening and/or a dark area used for manufacturing the optical information recording medium according to claim 2 or 7, wherein the opening or the dark area corresponding to a signal pattern existing in the macroscopic area is . A photomask, wherein at least one of the shape and size thereof is different from that of the opening or the dark area corresponding to a signal pattern of another portion. 11. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 2, comprising: forming a photosensitive resin layer on one surface of a substrate; and forming a signal pattern on the surface of the substrate on which the photosensitive resin layer is formed. A step of performing a first exposure with a correspondingly changed exposure intensity and a second exposure with a correspondingly changed exposure intensity corresponding to the predetermined pattern, at the same time or one of them; and developing the substrate. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising: a step of creating a stamper using the developed substrate; and a step of creating a replica of the optical information recording medium using the stamper. 12. Performing the first exposure using a first mask in which openings or dark areas corresponding to the signal pattern are formed, and forming one or more masks in which openings or dark areas in a pattern corresponding to the pattern are formed. 12. The manufacturing method according to claim 11, wherein the second exposure is performed using the second mask. 13. The first exposure and the second exposure are performed simultaneously by providing a light attenuation means with a pattern corresponding to the pattern between the exposure light source and the substrate. Production method. 14. The substrate is made of a light-transmitting material, and a reflecting means having a pattern corresponding to the pattern is provided on the side opposite to the exposure light source with respect to the substrate, and the first exposure and the second exposure are performed simultaneously. The manufacturing method according to claim 11, characterized in that: 15. At least one of the shape and size of the opening or the dark part corresponding to the signal pattern existing in the macroscopic area is different from the opening or the dark part corresponding to the signal pattern in other parts, respectively. 12. The manufacturing method according to claim 11, wherein the first exposure and the second exposure are performed simultaneously using different photomasks. 16. The method for manufacturing an optical information recording medium according to claim 7, including the step of forming a photosensitive film on one surface of the substrate, and forming an opening or a dark area corresponding to a signal pattern existing in the macroscopic area. , by exposing the photosensitive film to light using a photomask whose shape and/or size are different from those of the openings or dark areas corresponding to the signal pattern of other parts, respectively. A method for manufacturing an optical information recording medium, comprising the step of forming a reflectance changing portion.
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