JPH01213284A - チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 - Google Patents
チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体Info
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Landscapes
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[目的]
(産業上の利用分野)
本発明は、抗アレルギー作用を有する新規なチェノピリ
ミジン−2,4−ジオン誘導体及びその塩に関する。
ミジン−2,4−ジオン誘導体及びその塩に関する。
(当該発明が解決しようとする問題点)本発明者等は、
抗アレルギー作用を有する誘導体の合成とその薬理活性
について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、新規なチ
ェノピリミジン−2,4−ジオン誘導体が、優れた抗ヒ
スタミン作用、抗セロトニン作用、抗アレルギー作用及
び抗喘息作用を有し、毒性が無いこと並びに合成が極め
て容易であることを見出し、本発明を完成した。
抗アレルギー作用を有する誘導体の合成とその薬理活性
について永年に亘り鋭意研究を行なった結果、新規なチ
ェノピリミジン−2,4−ジオン誘導体が、優れた抗ヒ
スタミン作用、抗セロトニン作用、抗アレルギー作用及
び抗喘息作用を有し、毒性が無いこと並びに合成が極め
て容易であることを見出し、本発明を完成した。
[構成]
本発明の新規なチェノピリミジン−2t42オン誘導体
は、 [式中、X、Y及び2のいずれか1つは硫黄原子を示し
、他は炭素原子を示し、 E及びGは同−又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を
示し、 R1は、置換されたピペリジノ基又は置換された1−ピ
ペラジニル基(該置換基としては、アラルキル基、アラ
ルキルオキシ基・、アラルキルカルボニル基、芳香族ア
シル基又はアラルキリデン基を示す。ラ を示し、 R′!及びR3は、同−又は異なって、水素原子、低級
アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を示し、 R4は、水素原子、低級アルキル基又はアシル基を示し
、 Aは、炭素数1乃至4個のアルキレン基を示す。
は、 [式中、X、Y及び2のいずれか1つは硫黄原子を示し
、他は炭素原子を示し、 E及びGは同−又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を
示し、 R1は、置換されたピペリジノ基又は置換された1−ピ
ペラジニル基(該置換基としては、アラルキル基、アラ
ルキルオキシ基・、アラルキルカルボニル基、芳香族ア
シル基又はアラルキリデン基を示す。ラ を示し、 R′!及びR3は、同−又は異なって、水素原子、低級
アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を示し、 R4は、水素原子、低級アルキル基又はアシル基を示し
、 Aは、炭素数1乃至4個のアルキレン基を示す。
]を有する。
上記−数式(I)において、R1に定義された「置換さ
れたピペリジノ基又は置換された1−ピペラジニル基」
の該置換基としての「アラルキル基」とは、例えば、フ
ェニル又はナフチルのようなアリール基が1又は2個置
換した後記低級アルキル基を示し、例えば、ベンジル、
フェネチル、ジフェニルメチル、ナフチルメチル、ナフ
チルエチル及びジナフチルメチル基を拳げることかでき
、好適には、ベンジル、ジフェニルメチルであり、該ア
リール基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かか
る置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロ
ゲン原子(好適には弗素、塩素、臭素)を拳げることか
でき、又、低級アルキル部分にも置換基を有していても
よく、かかる置換基としては置換されていてもよい水酸
基(好適には水酸基)を拳げることかできる。
れたピペリジノ基又は置換された1−ピペラジニル基」
の該置換基としての「アラルキル基」とは、例えば、フ
ェニル又はナフチルのようなアリール基が1又は2個置
換した後記低級アルキル基を示し、例えば、ベンジル、
フェネチル、ジフェニルメチル、ナフチルメチル、ナフ
チルエチル及びジナフチルメチル基を拳げることかでき
、好適には、ベンジル、ジフェニルメチルであり、該ア
リール基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かか
る置換基としては弗素、塩素、臭素、沃素のようなハロ
ゲン原子(好適には弗素、塩素、臭素)を拳げることか
でき、又、低級アルキル部分にも置換基を有していても
よく、かかる置換基としては置換されていてもよい水酸
基(好適には水酸基)を拳げることかできる。
上記低級アルキル基、並びにR:′、R3及びR4に定
義された「低級アルキル基」とは、例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、S−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソ
ペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、n−ヘキ
シル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−
メチルペンチル、3.3−ジメチルブチル、2.2−ジ
メチルブチル、1.1−ジメチルブチル、1.2−ジメ
チルブチル、1.3−ジメチルブチル、2.3−ジメチ
ルブチルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を示し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル
基である。
義された「低級アルキル基」とは、例えば、メチル、エ
チル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソ
ブチル、S−ブチル、t−ブチル、n−ペンチル、イソ
ペンチル、2−メチルブチル、ネオペンチル、n−ヘキ
シル、4−メチルペンチル、3−メチルペンチル、2−
メチルペンチル、3.3−ジメチルブチル、2.2−ジ
メチルブチル、1.1−ジメチルブチル、1.2−ジメ
チルブチル、1.3−ジメチルブチル、2.3−ジメチ
ルブチルのような炭素数1乃至6個の直鎖又は分枝鎖ア
ルキル基を示し、好適には炭素数1乃至4個のアルキル
基である。
上記、置換基としての「置換されていてもよい水酸基」
の置換分としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピ
バロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラ
ウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、バルミトイ
ル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカル
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシア
ルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の脂肪族ア
シル基;後記芳香族アシル基又は前記低級アルキル基を
示す。
の置換分としては、例えば、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、ペンタノイル、ピ
バロイル、バレリル、イソバレリル、オクタノイル、ラ
ウロイル、ミリストイル、トリデカノイル、バルミトイ
ル、ステアロイルのようなアルキルカルボニル基、クロ
ロアセチル、ジクロロアセチル、トリクロロアセチル、
トリフルオロアセチルのようなハロゲン化アルキルカル
ボニル基、メトキシアセチルのような低級アルコキシア
ルキルカルボニル基、(E)−2−メチル−2−ブテノ
イルのような不飽和アルキルカルボニル基等の脂肪族ア
シル基;後記芳香族アシル基又は前記低級アルキル基を
示す。
R1に定義された「アラルキルオキシ基」とは、上記ア
ラルキル基が酸素原子に結合した基を示す。
ラルキル基が酸素原子に結合した基を示す。
R1に定義された「アラルキルカルボニル基」とは、上
記アラルキル基がカルボニル基に結合した基、又はその
カルボニル基が保護された基(かかる保護の型としては
、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ等の炭素数1乃
至6個のアルキレンジオキシ基を拳げることかできる。
記アラルキル基がカルボニル基に結合した基、又はその
カルボニル基が保護された基(かかる保護の型としては
、メチレンジオキシ、エチレンジオキシ等の炭素数1乃
至6個のアルキレンジオキシ基を拳げることかできる。
)を示す。
R1に定義された「芳香族アシル基」とは、ベンゾイル
、ナフトイルのようなアリールカルボニル基(該アリー
ル基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かかる置
換基としては前記ハロゲン原子、ニトロ基を拳げること
かできる。)、又はそのカルボニル基が保護された基(
かかる保護の型としては、メチレンジオキシ、エチレン
ジオキシ等の炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ基
を拳げることかできる。)を示す。
、ナフトイルのようなアリールカルボニル基(該アリー
ル基は置換基を1乃至3個有していてもよく、かかる置
換基としては前記ハロゲン原子、ニトロ基を拳げること
かできる。)、又はそのカルボニル基が保護された基(
かかる保護の型としては、メチレンジオキシ、エチレン
ジオキシ等の炭素数1乃至6個のアルキレンジオキシ基
を拳げることかできる。)を示す。
R1に定義された「アラルキリデン基」とは、上記アラ
ルキル基の低級アルキル部分のω位が二重結合になって
いる基を示し、式R1を有する基に該部分で結合しうる
基を示す。
ルキル基の低級アルキル部分のω位が二重結合になって
いる基を示し、式R1を有する基に該部分で結合しうる
基を示す。
R2及びR3に定義された「ハロゲン原子」とは、前記
ハロゲン原子を示す。
ハロゲン原子を示す。
R4に定義された「アリール基」とは、前記R1におい
て定義した基と同様の基を示す。
て定義した基と同様の基を示す。
R4に定義された「アシル基」とは、例えば前記脂肪族
アシル基;前記芳香族アシル基;メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基
、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル、2−ト
リメチルシリルエトキシカルボニル 低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビのようなアル
ケニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニ
ル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオ
キシカルボニル基のような基を拳げることかでき、好適
には脂肪族アシル基である。
アシル基;前記芳香族アシル基;メトキシカルボニル、
エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、イソブ
トキシカルボニルのような低級アルコキシカルボニル基
、2,2.2−トリクロロエトキシカルボニル、2−ト
リメチルシリルエトキシカルボニル 低級アルキルシリル基で置換された低級アルコキシカル
ボニル基等のアルコキシカルボニル基;ビのようなアル
ケニルオキシカルボニル基又はベンジルオキシカルボニ
ル、4−メトキシベンジルオキシカルボニル、3,4−
ジメトキシベンジルオキシカルボニル、2−ニトロベン
ジルオキシカルボニル、4−ニトロベンジルオキシカル
ボニルのような、1乃至2個の低級アルコキシ又はニト
ロ基でアリール環が置換されていてもよいアラルキルオ
キシカルボニル基のような基を拳げることかでき、好適
には脂肪族アシル基である。
Aに定義された「炭素数1乃至4個のアルキレン基」と
は、例えばメチレン、メチルメチレン、エチレン、1−
メチルエチレン、2−メチルエチレン、プロピレン、ト
リメチレン、1−メチルプロピレン、テトラメチレン、
1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3
−メチルトリメチレン、ブチレンのような炭素数1乃至
4個のアルキレン基を挙げることができ、好適にはメチ
レン、エチレン、トリメチレン、プロピレン又はテトラ
メチレンである。
は、例えばメチレン、メチルメチレン、エチレン、1−
メチルエチレン、2−メチルエチレン、プロピレン、ト
リメチレン、1−メチルプロピレン、テトラメチレン、
1−メチルトリメチレン、2−メチルトリメチレン、3
−メチルトリメチレン、ブチレンのような炭素数1乃至
4個のアルキレン基を挙げることができ、好適にはメチ
レン、エチレン、トリメチレン、プロピレン又はテトラ
メチレンである。
本発明の化合物(I)は、塩にすることができるが、そ
のような塩としては、好適には弗化水素酸塩、塩酸塩、
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩
;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩.p−トルエンスルホン酸
塩のようなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハ
ク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩
等の有機酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩の
ようなアミノ酸塩を拳げることかできる。
のような塩としては、好適には弗化水素酸塩、塩酸塩、
臭化水素酸塩、沃化水素酸塩のようなハロゲン化水素酸
塩、硝酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の無機酸塩
;メタンスルホン酸塩、トリフルオロメタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩のような低級アルキルスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩.p−トルエンスルホン酸
塩のようなアリールスルホン酸塩、フマール酸塩、コハ
ク酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩、蓚酸塩、マレイン酸塩
等の有機酸塩及びグルタミン酸塩、アスパラギン酸塩の
ようなアミノ酸塩を拳げることかできる。
化合物(I)において、好適な基としては、 、(1
)R’が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換
された1−ピペラジニル基である化合物 (2)R”の置換肖れたピペリジノ基又は置換された1
−ピペラジニル基の置換基が、アラルキル基、アラルキ
ルオキシ基又は芳香族アシル基である化合物 (3)R’の置換分のアラルキル基が、ハロゲンで置換
されていてもよいベンジル又はジフェニルメチル基であ
る化合物 (4)R’の置換分のアラルキルオキシ基が、ハロゲン
で置換されていてもよいベンジルオキシ又はジフェニル
メチルオキシ基である化合物(5)R’の置換分の芳香
族アシル基が、カルボニル基が保護されていてもよく、
又,ハロゲンで置換されていてもよいベンゾイルである
化合物 (6)R’及びR3が、同−又は異なって、水素原子、
炭素数1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲ
ン原子である化合物 (7)R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル
基又は脂肪族アシル基である化合物(8)Aが、エチレ
ン又はトリメチレンである化合物 (9)E及びGが、酸素原子である化合物(10) R
1が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換さ
れた1−ピペラジニル基テアリ、該置換基が、アラルキ
ル基、アラルキルオキシ基又は芳香族アシル基であり、
R2及びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数
1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子
であり、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキ
ル基又は脂肪族アシル基であり、Aが、エチレン又はト
リメチレンであり、E及びGが酸素原子である化合物(
11)R”が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で
置換された1−ピペラジニル基であり、該置換基が、ハ
ロゲンで置換されていてもよいベンジル、ジフェニルメ
チル、ベンジルオキシ若しくはジフェニルメチルオキシ
基又はカルボニル基が保護されていてもよく、又、ハロ
ゲンで置換されていてもよいベンゾイルであり、R2及
びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至
4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり
、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル基又
は脂肪族アシル基であり、Aが、ジメチレン又はトリメ
チレンであり、E及びGが酸素原子である化合物 を拳げることかできる。
)R’が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換
された1−ピペラジニル基である化合物 (2)R”の置換肖れたピペリジノ基又は置換された1
−ピペラジニル基の置換基が、アラルキル基、アラルキ
ルオキシ基又は芳香族アシル基である化合物 (3)R’の置換分のアラルキル基が、ハロゲンで置換
されていてもよいベンジル又はジフェニルメチル基であ
る化合物 (4)R’の置換分のアラルキルオキシ基が、ハロゲン
で置換されていてもよいベンジルオキシ又はジフェニル
メチルオキシ基である化合物(5)R’の置換分の芳香
族アシル基が、カルボニル基が保護されていてもよく、
又,ハロゲンで置換されていてもよいベンゾイルである
化合物 (6)R’及びR3が、同−又は異なって、水素原子、
炭素数1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲ
ン原子である化合物 (7)R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル
基又は脂肪族アシル基である化合物(8)Aが、エチレ
ン又はトリメチレンである化合物 (9)E及びGが、酸素原子である化合物(10) R
1が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で置換さ
れた1−ピペラジニル基テアリ、該置換基が、アラルキ
ル基、アラルキルオキシ基又は芳香族アシル基であり、
R2及びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数
1乃至4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子
であり、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキ
ル基又は脂肪族アシル基であり、Aが、エチレン又はト
リメチレンであり、E及びGが酸素原子である化合物(
11)R”が4位で置換されたピペリジノ基又は4位で
置換された1−ピペラジニル基であり、該置換基が、ハ
ロゲンで置換されていてもよいベンジル、ジフェニルメ
チル、ベンジルオキシ若しくはジフェニルメチルオキシ
基又はカルボニル基が保護されていてもよく、又、ハロ
ゲンで置換されていてもよいベンゾイルであり、R2及
びR3が、同−又は異なって、水素原子、炭素数1乃至
4個のアルキル基、フェニル基又はハロゲン原子であり
、R4が、水素原子、炭素数1乃至4個のアルキル基又
は脂肪族アシル基であり、Aが、ジメチレン又はトリメ
チレンであり、E及びGが酸素原子である化合物 を拳げることかできる。
本発明の代表的化合物としては、例えば、第1表に記載
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。
する化合物を拳げることかできるが、本発明はこれらの
化合物に限定されるものではない。
以下に記載する置換基a ” sは、次の基を示す。
/
策よ艮
を示す。
上記例示化合物のうち、好適な化合物としては、1.5
.6.7.9.10.12.15.23.24.25.
27.28、43.44.48.49.50.51.5
2.53.54.55.77.78.79.83.84
.85.86.87.88.91.93.95.101
.111.115.126.128.129.130.
131.132.133.134.135.136.1
44.152.165.173.176及び180の化
合物を拳げることかできる。
.6.7.9.10.12.15.23.24.25.
27.28、43.44.48.49.50.51.5
2.53.54.55.77.78.79.83.84
.85.86.87.88.91.93.95.101
.111.115.126.128.129.130.
131.132.133.134.135.136.1
44.152.165.173.176及び180の化
合物を拳げることかできる。
更に、好適な化合物としては、1.5.1o、12.2
3.68.83及び91ア化合物をあげることができる
。
3.68.83及び91ア化合物をあげることができる
。
本発明のチェノピリミジン−2,4−ジオン誘導体(I
)は、以下に記載する方法によって製造することができ
る。
)は、以下に記載する方法によって製造することができ
る。
[製法1]
上記式中、A、E−G、X、Y−Z、R”、R2、R3
及びR4は前記と同意義を示す。
及びR4は前記と同意義を示す。
第1工程は、チェノピリミジン誘導体(II)を、ピペ
リジン又はピペラジン誘導体(III)と、溶媒存在又
は非存在下に加熱し、所望により、ピリミジン環の窒素
原子を、塩基の存在又は非存在下に、R4基で修飾する
ことにより、氷原発明化合物(I)を製造する工程であ
る。
リジン又はピペラジン誘導体(III)と、溶媒存在又
は非存在下に加熱し、所望により、ピリミジン環の窒素
原子を、塩基の存在又は非存在下に、R4基で修飾する
ことにより、氷原発明化合物(I)を製造する工程であ
る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70℃乃至180℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類及
び量によって異なるが、通常1o分乃至5時間である。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70℃乃至180℃である。反応時間は、
主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類及
び量によって異なるが、通常1o分乃至5時間である。
反応終了後、目的化合物(I)は、結晶として得られる
か、又は常法に従って、反応混合物から採取される。
か、又は常法に従って、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
所望の工程は、上記合成した化合物(R4=H)と、一
般式R4−Wを有する化合物(式中、R4は前記と同意
義を示し、Wは前記ハロゲン原子を示す。)又は一般式
(R4) 20を有する化合物(式中、R4は前記と同
意義を示す。)とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させ
て達成する。
般式R4−Wを有する化合物(式中、R4は前記と同意
義を示し、Wは前記ハロゲン原子を示す。)又は一般式
(R4) 20を有する化合物(式中、R4は前記と同
意義を示す。)とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させ
て達成する。
使用される塩基としては、アルカリ金属塩基であれば特
に限定はないが、好適には水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのようなアルカリ金属水素化物を拳げることかで
きる。
に限定はないが、好適には水素化ナトリウム、水素化カ
リウムのようなアルカリ金属水素化物を拳げることかで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害しないものであれ
ば特に限定はないが、好適にはテトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、エーテル、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類を拳げる
ことかできる。
ば特に限定はないが、好適にはテトラヒドロフラン、ジ
メトキシエタン、エーテル、ジオキサンのようなエーテ
ル類、ジメチルホルムアミドのようなアミド類を拳げる
ことかできる。
[製法2]
上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R1、R2、R3
及びR4は前記と同意義を示す。
及びR4は前記と同意義を示す。
R5は、前記低級アルキル基を示す。
第2工程は、化合物(■■)と化合物(V)を、脱水剤
の存在下に反応させ、化合物(VI)を製造する工程で
ある。
の存在下に反応させ、化合物(VI)を製造する工程で
ある。
使用される脱水剤としては、通常、脱水剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC) 。
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC) 。
、シアノリン酸ジエチル(DEPC)カルボニルジイミ
ダゾール、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)又
は、ジエチルアゾジカルボキシレート−トリフェニルホ
スフィンのような有機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のよ
うな無機脱水剤が挙げられる。
ダゾール、ジフェニルホスホリルアジド(DPPA)又
は、ジエチルアゾジカルボキシレート−トリフェニルホ
スフィンのような有機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のよ
うな無機脱水剤が挙げられる。
有機脱水剤の場合に、使用される溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類フ酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度はO′C乃至
100℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃
である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用
される塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが
、通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場
合には、好適には溶媒を使用せず、反応温度は40℃乃
至150℃である。
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類フ酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度はO′C乃至
100℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃
である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用
される塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが
、通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場
合には、好適には溶媒を使用せず、反応温度は40℃乃
至150℃である。
反応終了後、本反応の目的化合物(VI)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
第3工程は、化合物(VI)を、溶媒存在下、加熱又は
塩基と反応させ、所望により、第1工程の所望の工程に
従って、ピリミジン環の窒素原子をR4基で修飾するこ
とにより、本願発明化合物(1)を製造する工程である
。
塩基と反応させ、所望により、第1工程の所望の工程に
従って、ピリミジン環の窒素原子をR4基で修飾するこ
とにより、本願発明化合物(1)を製造する工程である
。
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムのような無機塩基を挙げることが
できる。
のであれば特に限定はないが、好適には、水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムのような無機塩基を挙げることが
できる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、水;メタノール、エタノール、n−プロパツール
、イソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール
、イソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を
含む上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は
0℃乃至170℃で行なわれるが、好適には、25℃乃
至160℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化
合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、
目的化合物(I)は常法に従って、反応混合物から採取
される。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、水;メタノール、エタノール、n−プロパツール
、イソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール
、イソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を
含む上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は
0℃乃至170℃で行なわれるが、好適には、25℃乃
至160℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化
合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によっ
て異なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、
目的化合物(I)は常法に従って、反応混合物から採取
される。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒
を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
[製法3]
上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R’、R2、
R3及びR5は前記と同意義を示す。
R3及びR5は前記と同意義を示す。
製法3は、化合物(VI)の別途製法である。
第4工程は、カルボン酸誘導体(IV)とアミン誘導体
(VII)を、前記第2工程に準じて、脱水剤を用いて
縮合し、化合物(VIII)を製造する工程である。
(VII)を、前記第2工程に準じて、脱水剤を用いて
縮合し、化合物(VIII)を製造する工程である。
第5工程は、化合物(VIII)と化合物(III)と
を、溶媒存在下、塩基を用いて反応させ、目的化合物(
VI)を製造する工程である。
を、溶媒存在下、塩基を用いて反応させ、目的化合物(
VI)を製造する工程である。
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウムのような無機塩基を挙げることができる。
のであれば特に限定はないが、好適には、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリ
ウムのような無機塩基を挙げることができる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類又はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンのようなケトン類を挙げることができる
。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエ
ーテル類又はアセトン、メチルエチルケトン、メチルイ
ソブチルケトンのようなケトン類を挙げることができる
。
反応温度は0℃乃至180℃で行なわれるが、好適には
、50℃乃至120℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常30分乃至5時間である。
、50℃乃至120℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の
種類によって異なるが、通常30分乃至5時間である。
反応終了後、目的化合物(VI)は常法に従って、反応
混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和
しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。
混合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和
しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することに
よって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
[製法4]
上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R”、R2−1R
3、R4及びR5は前記と同意義を示す。
3、R4及びR5は前記と同意義を示す。
第6エ程は、化合物(II)の窒素原子を、溶媒中、R
5基で修飾し、四級塩の化合物(IX)を製造する工程
である。
5基で修飾し、四級塩の化合物(IX)を製造する工程
である。
R5基で修飾する際、使用される化合物としては、例え
ば、トリメチルオキソニウム テトラフルオロボレート
、トリエチルオキソニウム テトラフルオロボレート、
トリエチルオキソニウムへキサクロロアンチモネート、
トリエチルオキソニウム へキサフルオロホスフェート
のようなトリアルキルオキソニウム塩を拳げることかで
きる。
ば、トリメチルオキソニウム テトラフルオロボレート
、トリエチルオキソニウム テトラフルオロボレート、
トリエチルオキソニウムへキサクロロアンチモネート、
トリエチルオキソニウム へキサフルオロホスフェート
のようなトリアルキルオキソニウム塩を拳げることかで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類を挙げることができる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類を挙げることができる。
反応温度は一20℃乃至100℃で行なわれるが、好適
には、10℃乃至30℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至10時間である。
には、10℃乃至30℃である。反応時間は、主に反応
温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至10時間である。
反応終了後、目的化合物(IX)は析出し、常法に従っ
て、反応混合物から採取される。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
て、反応混合物から採取される。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
第7エ程は、四級塩の化合物(IX)を、化合物(II
I)と、溶媒存在下又は非存在下に反応させ。
I)と、溶媒存在下又は非存在下に反応させ。
本願発明化合物(I)を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類又はジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げること
ができる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、20℃乃至80℃である。反応時間は、主
に反応温度、原料化合物、使用される塩基又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常1分乃至5時間で
ある。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルイソブチルケトンのようなケトン類又はジ
メチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメ
チルホスホロトリアミドのようなアミド類を挙げること
ができる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、20℃乃至80℃である。反応時間は、主
に反応温度、原料化合物、使用される塩基又は使用され
る溶媒の種類によって異なるが、通常1分乃至5時間で
ある。
反応終了後、本反応の目的化合物(I)は常法に従って
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。
、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に水
と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去する
ことによって得られる。得られた目的化合物は必要なら
ば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィ
ー等によって更に精製できる。
本願原料化合物(II)は、以下に記載する方法によっ
て製造することができる。
て製造することができる。
[製法5]
上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R2、R3、
R4及びR5は前記と同意義を示す。
R4及びR5は前記と同意義を示す。
R6は、前記低級アルキル基を示す。
第8工程は、一般式(X)を有する化合物を、−般式(
XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応させる
ことにより、一般式(XII)を有する化合物を製造す
る工程である。化合物(X)は、ビンダー等の方法(D
、Binder、 Arch、 Pharm、、 31
4.557(1981))に従って、製造することがで
きる。
XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応させる
ことにより、一般式(XII)を有する化合物を製造す
る工程である。化合物(X)は、ビンダー等の方法(D
、Binder、 Arch、 Pharm、、 31
4.557(1981))に従って、製造することがで
きる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類フジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類又は過
剰のアミノアルカノール誘導体(XI)を挙げることが
できる。反応温度は一10℃乃至170’Cで行なわれ
るが、好適には、90℃乃至150℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常1時間乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類フジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミ
ド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類
;ジメチルスルホキシドのようなスルホキシド類又は過
剰のアミノアルカノール誘導体(XI)を挙げることが
できる。反応温度は一10℃乃至170’Cで行なわれ
るが、好適には、90℃乃至150℃である。反応時間
は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常1時間乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
第9工程は、一般式(XII)を有する化合物を、例え
ば、チオニルクロリド、チオニルプロミド。
ば、チオニルクロリド、チオニルプロミド。
オキシ塩化リン、オキシ臭化リンのようなハロゲン化剤
と反応させることにより、一般式(XIII)を有する
化合物を製造する工程である。
と反応させることにより、一般式(XIII)を有する
化合物を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類が用いられる。反応温度は0℃乃至10
0℃で行なわれるが、好適には、50℃乃至80℃であ
る。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用さ
れる溶媒の種類及び量によって異なるが、通常10分乃
至10時間である。反応終了後、本反応の目的化合物(
XIII)は常法に従って、反応混合物から採取される
。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え
、水洗後、溶剤を留去することによって得られる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、メチレンクロリド、クロロホルムのようなハロゲ
ン化炭化水素類が用いられる。反応温度は0℃乃至10
0℃で行なわれるが、好適には、50℃乃至80℃であ
る。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用さ
れる溶媒の種類及び量によって異なるが、通常10分乃
至10時間である。反応終了後、本反応の目的化合物(
XIII)は常法に従って、反応混合物から採取される
。例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え
、水洗後、溶剤を留去することによって得られる。
得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製で
きる。
第10工程は、一般式(XIII)を有する化合物のW
基を、塩基存在下に除去し、エーテル結合を形成させ、
環化し、一般式(II)を有する本願原料化合物を製造
する工程である。
基を、塩基存在下に除去し、エーテル結合を形成させ、
環化し、一般式(II)を有する本願原料化合物を製造
する工程である。
使用される塩基としては、通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシグロ[5,4,0]ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ムのような無機塩基を挙げることができる。
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシグロ[5,4,0]ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ムのような無機塩基を挙げることができる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンのようなケトン類又は水を含む上記溶剤混
合物を挙げることができる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;メタノール、エタノール、
n−プロパツール、イソプロパツール、n−ブタノール
、イソブタノール、イソアミルアルコールのようなアル
コール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンのようなケトン類又は水を含む上記溶剤混
合物を挙げることができる。
反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが、好適には
、30℃乃至90℃である。反応時間は、主に反応温度
、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常10分乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(TI)は常法に従って
、反応混合物から採取される。
、30℃乃至90℃である。反応時間は、主に反応温度
、原料化合物、使用される塩基又は使用される溶媒の種
類によって異なるが、通常10分乃至5日間である。反
応終了後、本反応の目的化合物(TI)は常法に従って
、反応混合物から採取される。
例えば、反応混合物に水と混和しない有機溶媒を加え、
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
水洗後、溶剤を留去することによって得られる。得られ
た目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈
殿又はクロマトグラフィー等によって更に精製できる。
[製法6]
上記式中、A、E、G、X、Y、Z、R’、R8及びR
4は前記と同意義を示す。
4は前記と同意義を示す。
第11工程は、一般式(XII)を有する化合物を、常
法により、脱水剤と反応させることにより環化させ、一
般式(II)を有する本願原料化合物を製造する工程で
ある。
法により、脱水剤と反応させることにより環化させ、一
般式(II)を有する本願原料化合物を製造する工程で
ある。
使用される脱水剤としては、通常、脱水剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のような無機脱水剤が挙
げられる。
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤又はポリリン酸、硫酸のような無機脱水剤が挙
げられる。
有機脱水剤の場合に、使用される溶媒としては、反応を
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度は0℃乃至1
00℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用さ
れる塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場合
には、好適には溶媒を使用せず1反応温度は40℃乃至
150℃である。
阻害せず、出発物質をある程度溶解するものであれば特
に限定はないが、好適には、ベンゼン、トルエン、キシ
レンのような芳香族炭化水素類;メチレンクロリド、ク
ロロホルムのようなハロゲン化炭化水素類;酢酸エチル
、酢酸プロピル、のようなエステル類;エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル類;アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの
ようなケトン類又はジメチルホルムアミド、ジメチルア
セトアミド、ヘキサメチルホスホロトリアミドのような
アミド類を挙げることができる。反応温度は0℃乃至1
00℃で行なわれるが、好適には、20℃乃至40℃で
ある。反応時間は、主に反応温度、原料化合物、使用さ
れる塩基又は使用される溶媒の種類によって異なるが、
通常10分乃至5日間である。無機脱水剤を用いる場合
には、好適には溶媒を使用せず1反応温度は40℃乃至
150℃である。
反応終了後、本反応の目的化合物(工I)は常法に従っ
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
て、反応混合物から採取される。例えば、反応混合物に
水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去す
ることによって得られる。得られた目的化合物は必要な
らば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフ
ィー等によって更に精製できる。
[製法7]
第16・工程29.第17エ程
1、llll−一→、)<lll−一一−−→II上記
式中、A、E、G、X、Y、Z、R’、R5及びR5は
前記と同意義を示す。
式中、A、E、G、X、Y、Z、R’、R5及びR5は
前記と同意義を示す。
第12工程は、一般式(■v)を有する化合物を、−般
式(XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応さ
せることにより、一般式(XIv)を有する化合物を製
造する工程である。原料化合物(工■)は常法により、
化合物(X)の加水分解で得られる。
式(XI)を有するアミノアルカノール誘導体と反応さ
せることにより、一般式(XIv)を有する化合物を製
造する工程である。原料化合物(工■)は常法により、
化合物(X)の加水分解で得られる。
使用される縮合剤としては、通常、縮合剤として作用す
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤が挙げられる。
るものであれば特に限定はないが、好適には、ジシクロ
へキシルカルボジイミド(DCC)、シアノリン酸ジエ
チル(DEPC)カルボニルジイミダゾール、ジフェニ
ルホスホリルアジド(DPPA)又は、ジエチルアゾジ
カルボキシレート−トリフェニルホスフィンのような有
機脱水剤が挙げられる。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなニスチル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチ、ルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類ニジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類又はアミノアルカノール誘導体(XI)を
挙げることができる。反応温度は一10℃乃至100℃
で行なわれるが、好適には、0℃乃至40℃である。反
応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常1時間乃至5日間であ
る。反応終了後、本反応の目的化合物(XIv)は常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなニスチル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類;ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチ、ルホスホロトリアミ
ドのようなアミド類ニジメチルスルホキシドのようなス
ルホキシド類又はアミノアルカノール誘導体(XI)を
挙げることができる。反応温度は一10℃乃至100℃
で行なわれるが、好適には、0℃乃至40℃である。反
応時間は、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶
媒の種類によって異なるが、通常1時間乃至5日間であ
る。反応終了後、本反応の目的化合物(XIv)は常法
に従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混
合物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を
留去することによって得られる。得られた目的化合物は
必要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマト
グラフィー等によって更に精製できる。
第13工程は、一般式(XIv)を有する化合物を、直
接加熱するか、溶媒中で加熱することによって、一般式
(XII)を有する化合物を製造する工程である。
接加熱するか、溶媒中で加熱することによって、一般式
(XII)を有する化合物を製造する工程である。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70°C乃至180℃である。反応時間は
、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類
及び量によって異なるが、通常30分乃至5時間である
。反応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
ヘキサメチルホスホロトリアミドのようなアミド類が用
いられる。反応温度は0℃乃至100℃で行なわれるが
、好適には、70°C乃至180℃である。反応時間は
、主に反応温度、原料化合物又は使用される溶媒の種類
及び量によって異なるが、通常30分乃至5時間である
。反応終了後、本反応の目的化合物(XII)は常法に
従って、反応混合物から採取される。例えば、反応混合
物に水と混和しない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留
去することによって得られる。得られた目的化合物は必
要ならば、常法、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグ
ラフィー等によって更に精製できる。
第14工程は、第9工程と同様の工程を行なうことによ
り、化合物(XII)から、化合物(XIII)を製造
する工程である。
り、化合物(XII)から、化合物(XIII)を製造
する工程である。
第15工程は、第10工程と同様の工程を行なうことに
より、化合物(XIII)から、本願原料化合物(■1
)を製造する工程である。
より、化合物(XIII)から、本願原料化合物(■1
)を製造する工程である。
第16エ程は、第13工程と同様の工程を行なうことに
より、化合物(VIII)から、化合物(XIII)を
製造する工程である。
より、化合物(VIII)から、化合物(XIII)を
製造する工程である。
第17エ程は、第15工程と全く同様の工程であり、化
合物(XIII)から、本願原料化合物(II)を製造
する工程である。
合物(XIII)から、本願原料化合物(II)を製造
する工程である。
[製法8]
G :、;すII
上記式中、A、E、G、W、X、Y、Z、R2、R3及
びR6は、前記と同意義を示す。
びR6は、前記と同意義を示す。
第18工程は、一般式(XV)を有する化合物を、−般
式(XVI)を有するイソシアネート誘導体と反応させ
ることにより、一般式(XVH)を有する化合物を製造
する工程である。イソシアネート誘導体(XVI)はカ
ンペ等[K、D、Kampe、 Liebigs、 A
nn、 Chem、、 752.142 (1971)
コの方法に従って、製造することが出来る。
式(XVI)を有するイソシアネート誘導体と反応させ
ることにより、一般式(XVH)を有する化合物を製造
する工程である。イソシアネート誘導体(XVI)はカ
ンペ等[K、D、Kampe、 Liebigs、 A
nn、 Chem、、 752.142 (1971)
コの方法に従って、製造することが出来る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類を挙げることができる。反
応温度は50℃乃至120℃で行なわれるが、好適には
、70℃乃至100℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常1時間乃至5日間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(XVII’)は常法に従って、反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和し
ない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによ
って得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法
、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によ
って更に精製できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類又はエーテル、テトラヒドロフラン、ジ
オキサンのようなエーテル類を挙げることができる。反
応温度は50℃乃至120℃で行なわれるが、好適には
、70℃乃至100℃である。反応時間は、主に反応温
度、原料化合物又は使用される溶媒の種類によって異な
るが、通常1時間乃至5日間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(XVII’)は常法に従って、反応混
合物から採取される。例えば、反応混合物に水と混和し
ない有機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによ
って得られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法
、例えば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によ
って更に精製できる。
第19工程は、塩基の存在下に、化合物(XVII)か
ら、本@原料化合物(II)を製造する工程である。
ら、本@原料化合物(II)を製造する工程である。
使用される塩基としては1通常、塩基として作用するも
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,01ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、アンモニア水のような無機塩基を挙げることができ
る。
のであれば特に限定はないが、好適には、トリエチルア
ミン、N−メチルモルホリン、ピリジン、4− (N、
N−ジメチルアミノ)ピリジン、N、N−ジメチルアニ
リン、1.8−ジアザビシクロ[5,4,01ウンデセ
ン−7(DBU)のような有機塩基又は炭酸ナトリウム
、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化バリウ
ム、アンモニア水のような無機塩基を挙げることができ
る。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類;メタノール、エタノール、n−プロパツール、イ
ソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール、イ
ソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を含む
上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は0℃
乃至170℃で行なわれるが、好適には、60℃乃至1
60℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物
、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(II)は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、反応混合物に水と混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得
られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例え
ば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更
に精製できる。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテ
ル類;メタノール、エタノール、n−プロパツール、イ
ソプロパツール、n−ブタノール、イソブタノール、イ
ソアミルアルコールのようなアルコール類又は水を含む
上記溶剤混合物を挙げることができる。反応温度は0℃
乃至170℃で行なわれるが、好適には、60℃乃至1
60℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物
、使用される塩基又は使用される溶媒の種類によって異
なるが、通常1分乃至5時間である。反応終了後、本反
応の目的化合物(II)は常法に従って、反応混合物か
ら採取される。例えば、反応混合物に水と混和しない有
機溶媒を加え、水洗後、溶剤を留去することによって得
られる。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例え
ば再結晶、再沈殿又はクロマトグラフィー等によって更
に精製できる。
[製法9]
上記式中、E、X、Y、Z、R’、R3及びR6は、前
記と同意義を示す。
記と同意義を示す。
製法9は、本願発明化合物(I)の別途製法である。
第20工程は、インチオシアネート化合物(XVIII
)を、一般式<V)を有する誘導体と、溶媒の存在又は
非存在下に、反応させることにより、本願発明化合物(
I)を製造する工程である。
)を、一般式<V)を有する誘導体と、溶媒の存在又は
非存在下に、反応させることにより、本願発明化合物(
I)を製造する工程である。
イソチオシアネート誘導体(XVIII)は、キニンツ
ル等[F、 Kienzle、 He1vetica
Chemica Acta、 66、148−157
(1983)]の方法に従って、製造することが出来る
。
ル等[F、 Kienzle、 He1vetica
Chemica Acta、 66、148−157
(1983)]の方法に従って、製造することが出来る
。
使用される溶媒としては、反応を阻害せず、出発物質を
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類又はピペリジン又はピペラジ
ン誘導体を挙げることができる。反応温度は50℃乃至
120℃で行なわれるが、好適には、70℃乃至100
℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は
使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分乃至
1時間である。
ある程度溶解するものであれば特に限定はないが、好適
には、ベンゼン、トルエン、キシレンのような芳香族炭
化水素類;メチレンクロリド、クロロホルムのようなハ
ロゲン化炭化水素類;酢酸エチル、酢酸プロピル、のよ
うなエステル類;エーテル、テトラヒドロフラン、ジオ
キサンのようなエーテル類又はピペリジン又はピペラジ
ン誘導体を挙げることができる。反応温度は50℃乃至
120℃で行なわれるが、好適には、70℃乃至100
℃である。反応時間は、主に反応温度、原料化合物又は
使用される溶媒の種類によって異なるが、通常5分乃至
1時間である。
反応終了後、本願発明化合物(I)は、溶媒を留去した
後塩基性にして、更に酸性にすることによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はグロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
後塩基性にして、更に酸性にすることによって得られる
。得られた目的化合物は必要ならば、常法、例えば再結
晶、再沈殿又はグロマトグラフィー等によって更に精製
できる。
(効果)
本発明の新規なチェノピリミジン−2,4−ジオン誘導
体は、抗ヒスタミン作用及び抗セロトニン作用、しかも
優れた抗アレルギー作用及び抗喘息作用を有し、且つ、
毒性もないので、アレルギー疾患又は喘息の治療剤とし
て有用である。
体は、抗ヒスタミン作用及び抗セロトニン作用、しかも
優れた抗アレルギー作用及び抗喘息作用を有し、且つ、
毒性もないので、アレルギー疾患又は喘息の治療剤とし
て有用である。
本発明の化合物(I)の投与形態としては、例えば、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口投与又は注射剤、噴霧剤。
剤、カプセル剤、顆粒剤、散剤若しくはシロップ剤等に
よる経口投与又は注射剤、噴霧剤。
点眼剤若しくは全開等による非経口投与を挙げることが
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて周知の方
法で製造される。その使用量は症状、年齢等により異な
るが、1日0.5−100mgを通常成人に対して、1
日1回又は数回に分けて投与することができる。
できる。これらの製剤は、賦形剤、結合剤、崩壊剤、滑
沢剤、安定剤、矯味矯臭剤等の添加剤を用いて周知の方
法で製造される。その使用量は症状、年齢等により異な
るが、1日0.5−100mgを通常成人に対して、1
日1回又は数回に分けて投与することができる。
以下に、実施例、参考例及び試験例を挙げて本発明を更
に具体的に説明する。
に具体的に説明する。
実施例]6
a)2.3−ジヒドロ−3(5H’)−オキサゾロ[3
,2−a]チェノ[3,2−dコピリミジノン0.8g
と4−フルオロベンゾイルピペリジン1.1gをジメチ
ルホルムアミド2 ml中に加え30分間加熱還流した
。−夜装置し析出する結晶を濾取し乾燥して目的物1.
30 g(79%)を得た。常法により塩酸塩を合成し
た。
,2−a]チェノ[3,2−dコピリミジノン0.8g
と4−フルオロベンゾイルピペリジン1.1gをジメチ
ルホルムアミド2 ml中に加え30分間加熱還流した
。−夜装置し析出する結晶を濾取し乾燥して目的物1.
30 g(79%)を得た。常法により塩酸塩を合成し
た。
融点: 272−275°C(分解)
b )3−[2(4−[2−(4−フルオロフェニル)
−1,3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペリジニ
ル]エチル]−2,4−(lH,3H)−チI/[3,
2−d]ピリミジンジオン0゜8gをイソプロピルアル
コール20m1とクロロホルム20 mlの混合液中に
加温溶解し、4N−塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加
えて5時間還流した。冷却後析出晶を濾取して目的物塩
酸塩を0.82 g(収率95%)得た。
−1,3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペリジニ
ル]エチル]−2,4−(lH,3H)−チI/[3,
2−d]ピリミジンジオン0゜8gをイソプロピルアル
コール20m1とクロロホルム20 mlの混合液中に
加温溶解し、4N−塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加
えて5時間還流した。冷却後析出晶を濾取して目的物塩
酸塩を0.82 g(収率95%)得た。
融点: 274−277℃(分解)
実施例2〜11
実施例1a)と同様にして下記の化合物を合成した。
1]
R″−=R”=R4=H,A=−(CHD。−R”=C
H3,R”=84=H,Aニー(CHz)ニーR2=R
’=R4:H,A=−Ch−CH(CHz)一実施例2
0 3−3−4−4−フルオロベンゾイル−1−ピペ1ジ二
ルユプp−ピル−6−メチル−2,4−IH3H−チェ
ノ3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−N−[
3−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピペリジ
ニル]プロピル]−2−チオフェンカルボン酸アミド0
.26 gをジメチルホルムアミド3.Oml中で6時
間加熱還流した。氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し、溶
媒を留去し、エタノールで洗滌すると目的物0.46
g(収率84%)を得た。常法によりマレイン酸塩を得
た。
H3,R”=84=H,Aニー(CHz)ニーR2=R
’=R4:H,A=−Ch−CH(CHz)一実施例2
0 3−3−4−4−フルオロベンゾイル−1−ピペ1ジ二
ルユプp−ピル−6−メチル−2,4−IH3H−チェ
ノ3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−N−[
3−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピペリジ
ニル]プロピル]−2−チオフェンカルボン酸アミド0
.26 gをジメチルホルムアミド3.Oml中で6時
間加熱還流した。氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し、溶
媒を留去し、エタノールで洗滌すると目的物0.46
g(収率84%)を得た。常法によりマレイン酸塩を得
た。
融点: 158−161℃(分解)
実施例21〜25
実施例20と同様にして下記の化合物を合成した。
1コ
R”=R”=R4=H,A=−(CHユ)ニーR’=C
H2,R″−=R4=H,A=−(CHりニー/ R’=CHヨ、 R’=R4=H,A=−(CH,、)
、−R’=R’=CH已、 R4=H,A=−(CH2
)H−実施例26〜27 実施例2oと同様にして下記の化合物を合成した。
H2,R″−=R4=H,A=−(CHりニー/ R’=CHヨ、 R’=R4=H,A=−(CH,、)
、−R’=R’=CH已、 R4=H,A=−(CH2
)H−実施例26〜27 実施例2oと同様にして下記の化合物を合成した。
R”=R4=H,A=−(CH2)、一実施例20と同
様にして下記の化合物を合成した。
様にして下記の化合物を合成した。
実施例28
R1=置換基m、 R”=R”=R4=H,A”−(C
H2)ニーの化合物丁R(cm”’、 CHCl3)
:、1725. 1645゜融点(’C):Oil 収率Cj:):100 実施例29 R1=置換基m、 R”=R”=CH3,R4=H,A
=−(CH2)2−の化合物 IR(cn+−”、 CFIC13):1715.16
60゜融点(’C) :168−170 収率(%):100 実施例30 R1=置換基m、 R”=H,R2=C1,R4=!(
、A=−(CH,、)、−の化合物 IR(cm−1,KBr):1718.1670゜融点
(’C):240−245 収率(1):55 実施例31 3ユ2−4−(4−フルオロベンゾ ルー1−ピペiジ
二ルエチルー5−メチル−2,4−IH3H−チェノ2
実施例1a)と同様にして目的物を収率70%で得た。
H2)ニーの化合物丁R(cm”’、 CHCl3)
:、1725. 1645゜融点(’C):Oil 収率Cj:):100 実施例29 R1=置換基m、 R”=R”=CH3,R4=H,A
=−(CH2)2−の化合物 IR(cn+−”、 CFIC13):1715.16
60゜融点(’C) :168−170 収率(%):100 実施例30 R1=置換基m、 R”=H,R2=C1,R4=!(
、A=−(CH,、)、−の化合物 IR(cm−1,KBr):1718.1670゜融点
(’C):240−245 収率(1):55 実施例31 3ユ2−4−(4−フルオロベンゾ ルー1−ピペiジ
二ルエチルー5−メチル−2,4−IH3H−チェノ2
実施例1a)と同様にして目的物を収率70%で得た。
融点: 179−181℃
実施例32
a)実施例1b)と同様にして目的物を収率26%で得
た。
た。
融点: 233−235℃(分解)
b)実施例1a)と同様にして目的物を収率95%で得
た。
た。
実施例1b)と同様にして下記の化合物を合成した。
実施例33
R1=置換基1 、 R′!=R”=R4=H,A=−
(CH:)ニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 285−287 収率(%):100 実施例34 R1=置換基1 、 R’=R3=C)I三、 R4=
H,A=−(CHDニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 273−276 収率(%):83 実施例35 R1=置換基1 、 R”−=H,R2=C1,R4=
H。
(CH:)ニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 285−287 収率(%):100 実施例34 R1=置換基1 、 R’=R3=C)I三、 R4=
H,A=−(CHDニーの化合物の塩酸塩 融点(℃) : 273−276 収率(%):83 実施例35 R1=置換基1 、 R”−=H,R2=C1,R4=
H。
A=−(CH,) 、−の化合物の塩酸塩実施例36
3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピ
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.92 gをメタ
ノール2F) mlに加え、水素化ホウ素ナトリウム0
.12 gを追加し、室温で2時間撹拌した。減圧濃縮
し、水を加え酢酸エチルで抽出し、シリカゲル力ラムグ
ロマトグラフイーに付し、タロロホルムーメタノール(
19:1)で溶出して目的物0.54 g(収率58%
)を得た。常法によりマレイン酸塩を合成した。
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.92 gをメタ
ノール2F) mlに加え、水素化ホウ素ナトリウム0
.12 gを追加し、室温で2時間撹拌した。減圧濃縮
し、水を加え酢酸エチルで抽出し、シリカゲル力ラムグ
ロマトグラフイーに付し、タロロホルムーメタノール(
19:1)で溶出して目的物0.54 g(収率58%
)を得た。常法によりマレイン酸塩を合成した。
融点: 119−123℃(分解)
実施例37
3−2−4−4−フルオロ−ベンゾ ルー1−ピペTジ
二ルエチルー1−メチル−24−IH,3H−チェノ3
a )3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−
1−ピペリジニル]エチルコー2.4−(LH,3H)
−チェノ[3,2−dコビリミジンジオン1.05 g
を、ジメチルホルムアミド20 mlに55%水素化ナ
トリウム0.12gを加えた溶液に追加し、室温で2時
間撹拌した。ヨウ化メチル0.42 gを溶解したジメ
チルホルムアミド2T51溶液を加え、さらに室温で2
時間撹拌した。溶媒を留去後、水を加え酢酸エチルで抽
出して目的物0.30 g(収率27%)を得た。常法
により塩酸塩を合成した。
二ルエチルー1−メチル−24−IH,3H−チェノ3
a )3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−
1−ピペリジニル]エチルコー2.4−(LH,3H)
−チェノ[3,2−dコビリミジンジオン1.05 g
を、ジメチルホルムアミド20 mlに55%水素化ナ
トリウム0.12gを加えた溶液に追加し、室温で2時
間撹拌した。ヨウ化メチル0.42 gを溶解したジメ
チルホルムアミド2T51溶液を加え、さらに室温で2
時間撹拌した。溶媒を留去後、水を加え酢酸エチルで抽
出して目的物0.30 g(収率27%)を得た。常法
により塩酸塩を合成した。
融点: 243−246℃(分解)
b)2.3−ジヒドロ−9−メチル−5−オキソ−オキ
サゾロ[3,2−aコチェノ[3,2−d]ピリミジニ
ウム テトラフルオロボレート0.20 gと4〜フル
オロベンゾイルピペリジン0.33 gとをジクロルメ
タン15 mlに加え、5分間加熱還流後溶媒を留去し
、残留物に水および酢酸エチルを加え、濾取して目的物
0゜12g(収率43%)を得た。
サゾロ[3,2−aコチェノ[3,2−d]ピリミジニ
ウム テトラフルオロボレート0.20 gと4〜フル
オロベンゾイルピペリジン0.33 gとをジクロルメ
タン15 mlに加え、5分間加熱還流後溶媒を留去し
、残留物に水および酢酸エチルを加え、濾取して目的物
0゜12g(収率43%)を得た。
融点:、169−171℃
実施例38
3−[2−[4−(4−フルオロベンゾイル)−1−ピ
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.51 gを無水
酢酸10 mlに加え15時間加熱還流した。減圧濃縮
し、酢酸エチルで抽出し目的物0.25 g(収率45
%)を得た。
ペリジニル]エチル]−2,4−(IH,3H)−チェ
ノ[3,2−d]ピリミジンジオン0.51 gを無水
酢酸10 mlに加え15時間加熱還流した。減圧濃縮
し、酢酸エチルで抽出し目的物0.25 g(収率45
%)を得た。
融点: 112−117°C
実施例39−40
実施例1b)と同様にして下記の目的物を合成した。
R:二84=H,A=−(CH:)ニー実施例41−4
4 実施例1a)と同様にして下記の目的物を合成した。
4 実施例1a)と同様にして下記の目的物を合成した。
R二=H,R”=C2Hs、 R4=H,A=−(CH
=)ニー実施例45 3−2−4−ビス4−フルオロフ ニルメ キシ−1−
5H−チェノ32−d ピ1ミジンジオン実施例1a)
と同様にして目的物を収率93%で得た。
=)ニー実施例45 3−2−4−ビス4−フルオロフ ニルメ キシ−1−
5H−チェノ32−d ピ1ミジンジオン実施例1a)
と同様にして目的物を収率93%で得た。
融点: 166−168°C
実施例46〜48
実施例1a)と同様にして下記の目的物を合成した。
1]
R’=R3=R4=H,A=−(CH,)、−実施例4
9゜ メチル 3−イソチオシアナート−2−テオフニンカル
ボキシレート0.8 gと2−[4−[(4−フルオロ
フェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−1−
ピペラジニル]エチルアミン1.2gとをテトラヒドロ
フラン15m1中に加え、1時間加熱還流した。減圧上
濃縮し、残留物を10%水酸化ナトリウムで希釈し、酸
性にして目的物1.8 g(収率97%)を得た。
9゜ メチル 3−イソチオシアナート−2−テオフニンカル
ボキシレート0.8 gと2−[4−[(4−フルオロ
フェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イル]−1−
ピペラジニル]エチルアミン1.2gとをテトラヒドロ
フラン15m1中に加え、1時間加熱還流した。減圧上
濃縮し、残留物を10%水酸化ナトリウムで希釈し、酸
性にして目的物1.8 g(収率97%)を得た。
融点: 237−239℃
実施例50
実施例49と同様にして合成した。
R:!=CH3,R5=R4=H,A=−(CH−り、
一実施例51 3−[2−[4−フルオロフェニル)−1,3−ジオキ
ソラン−2−イル]−1−ピペラジニル]エチル−2−
チオ−2,4−(IH,3H)−チエノーr3.2−d
コピラミジンジオン0.8gをイソプロピルアルコール
20 mlとクロロホルム20m1の混合液中に加熱溶
解し、4規定塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加え、5
時間還流した。冷却後、析出品を濾取し、目的物の塩酸
塩を0.7 g(収率89x)を得た。
一実施例51 3−[2−[4−フルオロフェニル)−1,3−ジオキ
ソラン−2−イル]−1−ピペラジニル]エチル−2−
チオ−2,4−(IH,3H)−チエノーr3.2−d
コピラミジンジオン0.8gをイソプロピルアルコール
20 mlとクロロホルム20m1の混合液中に加熱溶
解し、4規定塩酸−ジオキサン溶液6 mlを加え、5
時間還流した。冷却後、析出品を濾取し、目的物の塩酸
塩を0.7 g(収率89x)を得た。
融点: 235−236℃(分解)
実施例52
実施例51と同様にして合成した。
1]
R”=CH3,R3=R4:)(、A=−(CH:)=
−以下の化合物を、実施例51と同様にして合成した。
−以下の化合物を、実施例51と同様にして合成した。
実施例53
R1=置換基1 、 R’=R3=H,A=−(CH,
、)、−である化合物の塩酸塩 融点(℃) : 235−237゜収率ニア6%。
、)、−である化合物の塩酸塩 融点(℃) : 235−237゜収率ニア6%。
実施例54
R1=置換基1 、 R’=R”=CH3,A=−(C
H,)−!−である化合物の塩酸塩 融点(℃) :207−210゜収率ニア1%。
H,)−!−である化合物の塩酸塩 融点(℃) :207−210゜収率ニア1%。
実施例55
R1:置換基1 、 R′l=H,R3=CH3,Aニ
ー(CH:)z−である化合物の塩酸塩 融点(’C) : 236−238゜収率:67%。
ー(CH:)z−である化合物の塩酸塩 融点(’C) : 236−238゜収率:67%。
参考例1゜
えド
a)3−エトキシカルボニルアミノ−2−チオフェンカ
ルボン酸1.5gと2−[−[4−(4−フルオロフェ
ニル)−1゜3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペ
リジニルコニチルアミン2.27gとをジメチルホルム
アミド7 mlに加え、シアノリン酸ジエチル1.4g
とトリエチルアミン0.77 gとを水冷却下で追加し
た。室温で1時間撹拌後、−夜装置した。氷水中にあけ
酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマトグラフィーに
付し、タロロホルムーエタノール(30:1)で溶出し
て油状物2.1 g(収率61%)を得た。
ルボン酸1.5gと2−[−[4−(4−フルオロフェ
ニル)−1゜3−ジオキソラン−2−イルツー1−ピペ
リジニルコニチルアミン2.27gとをジメチルホルム
アミド7 mlに加え、シアノリン酸ジエチル1.4g
とトリエチルアミン0.77 gとを水冷却下で追加し
た。室温で1時間撹拌後、−夜装置した。氷水中にあけ
酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマトグラフィーに
付し、タロロホルムーエタノール(30:1)で溶出し
て油状物2.1 g(収率61%)を得た。
丁R(CHCI:、 cm−’) : 172
5. 1720(sh)、 1620゜b)3−エト
キシカルボニルアミノ−N−(2−クロルエチル)−2
−チオフェンカルボン酸アミドL38 gと4−[(4
−フルオロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イ
ルコピペリジン1.5gをメチルイソブチルケトン50
m1に加え、無水炭酸ナトリウム2.0gとヨウ化カリ
ウム0.1 gとを追加して12時間加熱還流した。
5. 1720(sh)、 1620゜b)3−エト
キシカルボニルアミノ−N−(2−クロルエチル)−2
−チオフェンカルボン酸アミドL38 gと4−[(4
−フルオロフェニル)−1,3−ジオキソラン−2−イ
ルコピペリジン1.5gをメチルイソブチルケトン50
m1に加え、無水炭酸ナトリウム2.0gとヨウ化カリ
ウム0.1 gとを追加して12時間加熱還流した。
濾過後渡液を濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−エタノール(30:1)で溶出し
、油状物0.82 g(収率33%)を得た。
付し、クロロホルム−エタノール(30:1)で溶出し
、油状物0.82 g(収率33%)を得た。
IR(CHC1=、 cm−1) : 1725.1
620゜参考例2〜4 参考例1と同様にして下記の化合物を合成した。
620゜参考例2〜4 参考例1と同様にして下記の化合物を合成した。
7/
参考例5〜6
参考例1と同様にして下記の化合物を合成した。
参考例7
3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−N−(3
−クロルプロピル)−2−チオフェンカルボン酸アミド
1.5gと4−(4−フルオロベンゾイル)ピペラジン
1.22 gとをメチルイソブチルケトン50m1に加
え、無水炭酸ナトリウム1.5gとヨウ化カリウム0.
1 gを追加し10時間加熱還流した。濾過し濃縮して
得られる残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
ジクロルメタン−エタノール(20: 1)で溶出して
目的物1.47 g(63%)を得た。
−クロルプロピル)−2−チオフェンカルボン酸アミド
1.5gと4−(4−フルオロベンゾイル)ピペラジン
1.22 gとをメチルイソブチルケトン50m1に加
え、無水炭酸ナトリウム1.5gとヨウ化カリウム0.
1 gを追加し10時間加熱還流した。濾過し濃縮して
得られる残留物をシリカゲルクロマトグラフィーに付し
ジクロルメタン−エタノール(20: 1)で溶出して
目的物1.47 g(63%)を得た。
融点: 87−89℃(ヘキサン−酢酸エチル再結晶)
参考例8 参考例7と同様にして目的物を収率66%で得た。
参考例8 参考例7と同様にして目的物を収率66%で得た。
融点: 146−148℃
参考例9
3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−2−チオ
フェンカルボン92.29 gと3−クロルプロピルア
ミン塩酸塩1.50 gをジメチルホルムアミド15m
1中に加え、シアノリン酸ジエチル1.76 gとトリ
エチルアミン]、、76 gとを追加した。−夜放置後
氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(2:
1)で溶出して油状目的物1.6 g(収率53%)を
得た。
フェンカルボン92.29 gと3−クロルプロピルア
ミン塩酸塩1.50 gをジメチルホルムアミド15m
1中に加え、シアノリン酸ジエチル1.76 gとトリ
エチルアミン]、、76 gとを追加した。−夜放置後
氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し、シリカゲルクロマ
トグラフィーに付し、n−ヘキサン−酢酸エチル(2:
1)で溶出して油状目的物1.6 g(収率53%)を
得た。
bp: 130°C10,lmmHg参考例]0
参考例9と同様にして目的物を収率43%で得た。
融点: 88−90℃
参考例11
メチル 3−エトキシカルボニルアミノ−5−メチル−
2−チオフェンカルボン酸エステル15 gをジメチル
ホルムアミド320 mlに溶かし、10%水酸化ナト
リウム70m1を加え70℃で2時間撹拌した。氷水中
にあけ、析出品を除去し希塩酸でpH3に調整した。析
出する結晶を濾取し、酢酸エチル−n−ヘキサンから再
結晶して目的物10.8 g(収率76%)を得た。
2−チオフェンカルボン酸エステル15 gをジメチル
ホルムアミド320 mlに溶かし、10%水酸化ナト
リウム70m1を加え70℃で2時間撹拌した。氷水中
にあけ、析出品を除去し希塩酸でpH3に調整した。析
出する結晶を濾取し、酢酸エチル−n−ヘキサンから再
結晶して目的物10.8 g(収率76%)を得た。
融点: 184−186℃(分解)
参考例]2
メチル 2−エトキシカルボニルアミノ−5−クロル−
3−チオフェンカルボン酸エステル1gをエタノール2
0 mlに溶解し40%水酸化カリウム1 mlを加え
、1時間加熱還流した。減圧濃縮し、水を加え10%塩
酸で酸性にして析出品を濾取して目的物を0.32g(
収率34%)得た。
3−チオフェンカルボン酸エステル1gをエタノール2
0 mlに溶解し40%水酸化カリウム1 mlを加え
、1時間加熱還流した。減圧濃縮し、水を加え10%塩
酸で酸性にして析出品を濾取して目的物を0.32g(
収率34%)得た。
融点: 198−200℃
参考例13〜14
参考例12と同様にして下記の化合物を合成した。
R二・
参考例15
2.3−ジヒドロ−3(5H)−オキサゾロE3.2−
a]チェノ[3,2−d]ピリミジン1.06 gをジ
クロルメタン40 mlにトリメチルオキソニウム テ
トラフルオロボレート0.94 gを懸濁させた溶液中
に氷冷しながら窒素気流中で加え、室温で3時間撹拌し
た。
a]チェノ[3,2−d]ピリミジン1.06 gをジ
クロルメタン40 mlにトリメチルオキソニウム テ
トラフルオロボレート0.94 gを懸濁させた溶液中
に氷冷しながら窒素気流中で加え、室温で3時間撹拌し
た。
析出物を濾取して目的物を1.60 g(収率99%)
得た。
得た。
融点: 167−170℃
参考例16〜17
文献r:He1vetica Chemica Act
a、 66、148−157(1983)]に従って下
記化合物を合成した。
a、 66、148−157(1983)]に従って下
記化合物を合成した。
P゛−。
試験例1
王、 MOta [Immunology、乙 681
−699 (1964)]の方法に従い、卵白アルブミ
ンに対するラットの抗血清(PCA力価256倍)を作
成し、これを生理食塩水で4倍に希釈し、各群4匹の雄
性SDラット(5周令)背部皮内に0.05 ml注射
して感作した。48時間後に本発明化合物を0.5%ト
ラガント水溶液に懸濁して経口投与し、投与60分後に
0.4%卵白アルブミンと1.0%のエバンスブルーを
含む生理食塩水混合液5 ml/kg体重を尾静脈より
注射し、30分後にラットを炭酸ガスを用いて致死に至
らしめ。
−699 (1964)]の方法に従い、卵白アルブミ
ンに対するラットの抗血清(PCA力価256倍)を作
成し、これを生理食塩水で4倍に希釈し、各群4匹の雄
性SDラット(5周令)背部皮内に0.05 ml注射
して感作した。48時間後に本発明化合物を0.5%ト
ラガント水溶液に懸濁して経口投与し、投与60分後に
0.4%卵白アルブミンと1.0%のエバンスブルーを
含む生理食塩水混合液5 ml/kg体重を尾静脈より
注射し、30分後にラットを炭酸ガスを用いて致死に至
らしめ。
背部皮内に漏出したエバンスブルーを、Harada等
の方法CJ、 Pharm、 Pharmac、、 2
3.218−219 (1971)]で測定した。
の方法CJ、 Pharm、 Pharmac、、 2
3.218−219 (1971)]で測定した。
本発明化合物を含まない対照群の平均色素漏出量と比較
して抑制率を計算した。
して抑制率を計算した。
抑制率は次の計算式により算出した。
抑制率(%)= (1−B/A) X 1.00A:対
照群の漏出色素量 B:検体投与群の漏出色素量 試験例2 KQnzett−Rossler法[Arch、 Ex
p、 Path、 Pharmak。
照群の漏出色素量 B:検体投与群の漏出色素量 試験例2 KQnzett−Rossler法[Arch、 Ex
p、 Path、 Pharmak。
、 195 71−74 (1940)](7)変法に
より、ハートレイ系雄性モルモット(体重400−80
0 g)のヒスタミン又はセロトニンによる気道収縮反
応を、気道内圧として測定した。モルモットをウレタン
(500mg/kL IP)フロラロース(50mg/
kg、 ip)で麻酔し気管および頚静脈にカニユーレ
を挿入固定し、陽圧下に人工呼吸(60回/分、毎回5
−8 ml)を施した。
より、ハートレイ系雄性モルモット(体重400−80
0 g)のヒスタミン又はセロトニンによる気道収縮反
応を、気道内圧として測定した。モルモットをウレタン
(500mg/kL IP)フロラロース(50mg/
kg、 ip)で麻酔し気管および頚静脈にカニユーレ
を挿入固定し、陽圧下に人工呼吸(60回/分、毎回5
−8 ml)を施した。
気道内圧は気道カニユーレの側枝に設置したトランスジ
ューサー(L P U−0,1−350,日本光電)を
介して記録した。モルモットはあらかじめヒスタミン6
−8μg/kg又はセロトニン8−12μg/kgを静
脈注射して気道の収縮反応を調べ、次に被検薬物を静脈
注射して5分後、先と同量のヒスタミン又はセロトニン
を静脈注射し、気道収縮を測定した。
ューサー(L P U−0,1−350,日本光電)を
介して記録した。モルモットはあらかじめヒスタミン6
−8μg/kg又はセロトニン8−12μg/kgを静
脈注射して気道の収縮反応を調べ、次に被検薬物を静脈
注射して5分後、先と同量のヒスタミン又はセロトニン
を静脈注射し、気道収縮を測定した。
抑制率は次の計算式により算出した。
抑制率(%)= (1−B/A) X 100A:被検
薬物投与前のヒスタミン又はセロトニンによる気道内圧
(cm H2O) B:被検薬物投与後のヒスタミン又はセロトニンによる
気道内圧(Cm Hユ0) 金物番号 投与量 抑制率 投与量 抑制率(mg
/iv) (%) (mg/iv) (%
)1 0.01 42 0.0033 5
30.033 84 0.01 795
0.01 50 0.01 190.03
3 62 0.033 46試験例3 エッ、5□7ヨnよ2、口、の左゛首 に文・でし
くピ功」通H,R,阿orris[Br、 J、 Ph
armac、、 6LL179−184(1979)]
の方法によりアレルギー性喘息モデルを作成した。ハー
トレイ系雄性モルモット(体重400−500 g)の
皮下および腹腔内に、生理食塩水にとかした卵白アルブ
ミン(Sigma社、 grade 5)50 mg/
ml溶液を0.5 mlづつ一群5匹に注射し、7日後
再び先と同量の卵白アルブミンで追加免疫を施し、更に
8日後に実験に用いた。能動的に感作したモルモットは
実験前日に絶食を行ない、抗原水溶液(10mg/ml
)を噴霧投与すると、6分以内に気道収縮による呼吸困
難の痙肇症状(喘息症状)が発現する。被検薬物を経口
投与し60分後に抗原吸入し、6分間に喘息症状を発現
しないモルモットを有効と判定し、有効率を求め表示し
た。
薬物投与前のヒスタミン又はセロトニンによる気道内圧
(cm H2O) B:被検薬物投与後のヒスタミン又はセロトニンによる
気道内圧(Cm Hユ0) 金物番号 投与量 抑制率 投与量 抑制率(mg
/iv) (%) (mg/iv) (%
)1 0.01 42 0.0033 5
30.033 84 0.01 795
0.01 50 0.01 190.03
3 62 0.033 46試験例3 エッ、5□7ヨnよ2、口、の左゛首 に文・でし
くピ功」通H,R,阿orris[Br、 J、 Ph
armac、、 6LL179−184(1979)]
の方法によりアレルギー性喘息モデルを作成した。ハー
トレイ系雄性モルモット(体重400−500 g)の
皮下および腹腔内に、生理食塩水にとかした卵白アルブ
ミン(Sigma社、 grade 5)50 mg/
ml溶液を0.5 mlづつ一群5匹に注射し、7日後
再び先と同量の卵白アルブミンで追加免疫を施し、更に
8日後に実験に用いた。能動的に感作したモルモットは
実験前日に絶食を行ない、抗原水溶液(10mg/ml
)を噴霧投与すると、6分以内に気道収縮による呼吸困
難の痙肇症状(喘息症状)が発現する。被検薬物を経口
投与し60分後に抗原吸入し、6分間に喘息症状を発現
しないモルモットを有効と判定し、有効率を求め表示し
た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一般式( I ) [式中、X、Y及びZのいずれか1つは硫黄原子を示し
、他は炭素原子を示し、 E及びGは同一又は異なって、酸素原子又は硫黄原子を
示し、 R^1は、置換されたピペリジノ基又は置換された1−
ピペラジニル基(該置換基としては、アラルキル基、ア
ラルキルオキシ基、アラルキルカルボニル基、芳香族ア
シル基又はアラルキリデン基を示す。)を示し、 R^2及びR^3は、同一又は異なって、水素原子、低
級アルキル基、アリール基又はハロゲン原子を示し、 R^4は、水素原子、低級アルキル基又はアシル基を示
し、 Aは、炭素数1乃至4個のアルキレン基を示す。 ]を有するチエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体及
びその塩。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3887188A JPH01213284A (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3887188A JPH01213284A (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH01213284A true JPH01213284A (ja) | 1989-08-28 |
Family
ID=12537275
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3887188A Pending JPH01213284A (ja) | 1988-02-22 | 1988-02-22 | チエノピリミジン−2,4−ジオン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH01213284A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5817819A (en) * | 1994-04-19 | 1998-10-06 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Condensed-ring thiophene derivatives, their production and use |
US5977132A (en) * | 1995-12-08 | 1999-11-02 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Prolactin production inhibitory agent |
WO2000012514A1 (en) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Astrazeneca Ab | Novel compounds |
WO2001083489A1 (en) * | 2000-05-04 | 2001-11-08 | Astrazeneca Ab | THIENO[2,3-d]PYRIMIDINEDIONES AND THEIR USE AS PHARMACEUTICALS |
US6407116B1 (en) | 1997-09-16 | 2002-06-18 | Takeda Chemical Industries, Inc. | Nitrogenous fused-ring compounds, process for the preparation of the same, and drugs |
US9018175B2 (en) | 2009-12-18 | 2015-04-28 | Takeda Gmbh | 3,4,4a,10b-Tetrahydro-1H-thiopyrano-[44,3-c] isoquinoline derivatives |
-
1988
- 1988-02-22 JP JP3887188A patent/JPH01213284A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5817819A (en) * | 1994-04-19 | 1998-10-06 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Condensed-ring thiophene derivatives, their production and use |
US6187788B1 (en) | 1994-04-19 | 2001-02-13 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Condensed-ring thiophene derivatives, their production and use |
US6514988B1 (en) | 1994-04-19 | 2003-02-04 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Condensed-ring thiophene derivatives, their production and use |
US5977132A (en) * | 1995-12-08 | 1999-11-02 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Prolactin production inhibitory agent |
US6407116B1 (en) | 1997-09-16 | 2002-06-18 | Takeda Chemical Industries, Inc. | Nitrogenous fused-ring compounds, process for the preparation of the same, and drugs |
WO2000012514A1 (en) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Astrazeneca Ab | Novel compounds |
WO2001083489A1 (en) * | 2000-05-04 | 2001-11-08 | Astrazeneca Ab | THIENO[2,3-d]PYRIMIDINEDIONES AND THEIR USE AS PHARMACEUTICALS |
US9018175B2 (en) | 2009-12-18 | 2015-04-28 | Takeda Gmbh | 3,4,4a,10b-Tetrahydro-1H-thiopyrano-[44,3-c] isoquinoline derivatives |
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