JP7513399B2 - Clean bench equipment - Google Patents

Clean bench equipment Download PDF

Info

Publication number
JP7513399B2
JP7513399B2 JP2020008983A JP2020008983A JP7513399B2 JP 7513399 B2 JP7513399 B2 JP 7513399B2 JP 2020008983 A JP2020008983 A JP 2020008983A JP 2020008983 A JP2020008983 A JP 2020008983A JP 7513399 B2 JP7513399 B2 JP 7513399B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
clean
clean room
room
supply unit
air supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020008983A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2021116944A (en
Inventor
堅一 伊藤
均 土屋
裕二 永田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fanuc Corp
Original Assignee
Fanuc Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fanuc Corp filed Critical Fanuc Corp
Priority to JP2020008983A priority Critical patent/JP7513399B2/en
Publication of JP2021116944A publication Critical patent/JP2021116944A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7513399B2 publication Critical patent/JP7513399B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Ventilation (AREA)
  • Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Description

本発明は、クリーンベンチ装置に関する。 The present invention relates to a clean bench device.

従来より、半導体部品や光学機械部品等の精密部品を組み立てる際には、部品への異物の付着や浸入等を抑制して高品質を維持するために、クリーン環境下で組み立てを行う場合がある。クリーン環境としては、室内全体が所定レベルの清浄度に維持されるクリーンルームが一般的であるが、通常の室内の一部にクリーンエリアを局所的に形成してスペースやコストの効率化を図るいわゆるクリーンベンチも使用されている。 Conventionally, when assembling precision parts such as semiconductor parts and optical machine parts, assembly is sometimes carried out in a clean environment in order to maintain high quality by preventing the adhesion or infiltration of foreign matter into the parts. A typical clean environment is a clean room in which the entire room is maintained at a specified level of cleanliness, but so-called clean benches are also used, in which a clean area is locally formed in part of a normal room to improve space and cost efficiency.

上記クリーンベンチのような局所クリーン化を図る装置として、特許文献1には、クリーン作業を行うための上側の第1室と、隔壁によって第1室と仕切られるとともに第1室に連通する連通口を有し、連通口を通して第1室にワークを供給および搬出する搬送機構が設けられた下側の第2室と、を備えた装置が開示されている。当該装置においては、第2室にはワークを洗浄する洗浄ユニットが設けられ、その洗浄ユニットで洗浄されたワークが第2室から第1室に搬送される。また、第1室に設けられたクリーンユニットから第1室内に清浄な空気が供給され、その清浄な空気は、隔壁の連通口を通って搬送機構ないしは第2室に向かって流れるとされている。 As an apparatus for achieving localized cleaning like the above-mentioned clean bench, Patent Document 1 discloses an apparatus that includes an upper first chamber for performing cleaning work, and a lower second chamber that is separated from the first chamber by a partition wall, has a communication port that communicates with the first chamber, and is provided with a transport mechanism that supplies and transports workpieces to and from the first chamber through the communication port. In this apparatus, a cleaning unit that cleans the workpieces is provided in the second chamber, and the workpieces cleaned by the cleaning unit are transported from the second chamber to the first chamber. In addition, clean air is supplied from the cleaning unit provided in the first chamber into the first chamber, and the clean air flows through the communication port in the partition wall toward the transport mechanism or the second chamber.

特開2010-101526号公報JP 2010-101526 A

上記特許文献1に開示されるような装置においては、クリーン作業を行う第1室の清浄度は、第1室に清浄な空気を供給するクリーンユニットの性能に依存するとともに、その性能以上の空気清浄度は得にくい。よって第1室の空気清浄度を向上させるには、より高性能のクリーンユニットを第1室に設置すれば可能となる。しかし、そのようなクリーンユニットは高額であるため、クリーンベンチでありながらコストが掛かってしまうという不都合を招く。また、第1室の上に第2室が設けられる2段構造のため、コンパクトに構成することが難しいものである。したがって、低コスト化およびコンパクト化が図られながら高い空気清浄度が得られるクリーンベンチ装置が望まれている。 In the device disclosed in the above Patent Document 1, the cleanliness of the first chamber where the cleaning work is performed depends on the performance of the clean unit that supplies clean air to the first chamber, and it is difficult to obtain an air cleanliness level higher than that performance. Therefore, in order to improve the air cleanliness of the first chamber, it is possible to install a higher performance clean unit in the first chamber. However, such clean units are expensive, which leads to the inconvenience of incurring costs despite being a clean bench. In addition, because of the two-tier structure in which the second chamber is provided above the first chamber, it is difficult to construct it compactly. Therefore, there is a demand for a clean bench device that can obtain a high air cleanliness level while being low cost and compact.

本開示の一態様に係るクリーンベンチ装置は、第1清浄室と、前記第1清浄室の天井部に設けられ、該第1清浄室の内部に清浄化した空気を供給する第1清浄空気供給部と、前記第1清浄室の内側に配設され、作業台を内部に有する第2清浄室と、前記第2清浄室の天井部に設けられ、前記第1清浄空気供給部から供給される空気が導入されるとともに、前記第2清浄室の内部に清浄化した空気を送出する第2清浄空気供給部と、前記第1清浄室の内側に形成される空気流路と、を備え、前記空気流路は、前記第1清浄空気供給部から前記第2清浄空気供給部を通過して前記第2清浄室の内部に入り、さらに前記作業台の下方に出てから、前記第2清浄室の外側の空間であって前記第1清浄室の内側の空間を上昇して前記第2清浄空気供給部に再度導入される経路を有する。 A clean bench apparatus according to one aspect of the present disclosure includes a first clean room, a first clean air supply unit provided on the ceiling of the first clean room and supplying clean air to the inside of the first clean room, a second clean room arranged inside the first clean room and having a work table inside, a second clean air supply unit provided on the ceiling of the second clean room, receiving air supplied from the first clean air supply unit and sending clean air to the inside of the second clean room, and an air flow path formed inside the first clean room, the air flow path having a path that passes from the first clean air supply unit through the second clean air supply unit, enters the second clean room, and then exits below the work table, and then ascends through the space outside the second clean room and the space inside the first clean room, before being reintroduced into the second clean air supply unit.

一態様によれば、低コスト化およびコンパクト化が図られながら高い空気清浄度が得られるクリーンベンチ装置を提供することができる。 According to one aspect, it is possible to provide a clean bench device that is low cost and compact while still achieving high air cleanliness.

本開示の一実施形態に係るクリーンベンチ装置を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing a clean bench apparatus according to an embodiment of the present disclosure. 図1のII-II矢視図である。FIG. 2 is a view taken along the line II-II of FIG. 図2のIII-III矢視に対応する部分のクリーンベンチ装置の縦断面図であって、第1清浄室内の空気流路の経路を示す図である。3 is a vertical cross-sectional view of the clean bench apparatus of a portion corresponding to the III-III arrow view in FIG. 2, showing the route of the air flow path in the first clean room. FIG.

(実施形態)
以下、本開示の一実施形態について図面を参照しつつ説明する。図1~図3は、本開示の一実施形態に係るクリーンベンチ装置1を示している。図1に示すように、クリーンベンチ装置1は、例えば空気が清浄化されない通常の室内(一般室の室内)RのフロアFに設置される。
(Embodiment)
Hereinafter, an embodiment of the present disclosure will be described with reference to the drawings. Figures 1 to 3 show a clean bench apparatus 1 according to an embodiment of the present disclosure. As shown in Figure 1, the clean bench apparatus 1 is installed on a floor F of a normal room (general room) R where the air is not purified, for example.

図1~図3に示すように、クリーンベンチ装置1は、第1清浄室10と、第1清浄空気供給部11と、第1清浄室10の内側に配設される第2清浄室20と、第2清浄空気供給部21と、第1清浄室10の内側に形成される空気流路30と、を備える。また、クリーンベンチ装置1は、第1清浄室10の内側に、組立部2、搬送部3および搬入出部4を備える。 As shown in Figures 1 to 3, the clean bench apparatus 1 comprises a first clean room 10, a first clean air supply section 11, a second clean room 20 disposed inside the first clean room 10, a second clean air supply section 21, and an air flow path 30 formed inside the first clean room 10. The clean bench apparatus 1 also comprises an assembly section 2, a transport section 3, and a loading/unloading section 4 inside the first clean room 10.

図1および図2に示すように、第1清浄室10は、ラック部12と、天井部13と、ラック部12の周囲を覆うカーテン部14と、を有する。ラック部12は、四隅に立設される柱部12aと、各柱部12aの下端を連結して矩形状の枠を形成する底部12bと、底部12bの四隅に設けられてフロアFに接地する脚部12cと、を有する。天井部13は、四隅の各柱部12aの上端に固定されて設けられている。天井部13は、フレーム13aと、フレーム13aに張られる透明なシート(不図示)と、を有する。カーテン部14は、複数に分割された透明なシートで構成されている。カーテン部14は、ラック部12の柱部12aの間を覆う状態に設けられている。 As shown in Figs. 1 and 2, the first clean room 10 has a rack section 12, a ceiling section 13, and a curtain section 14 that covers the periphery of the rack section 12. The rack section 12 has pillar sections 12a erected at the four corners, a bottom section 12b that connects the lower ends of the pillar sections 12a to form a rectangular frame, and legs 12c that are provided at the four corners of the bottom section 12b and grounded to the floor F. The ceiling section 13 is fixed to the upper ends of the pillar sections 12a at the four corners. The ceiling section 13 has a frame 13a and a transparent sheet (not shown) that is stretched over the frame 13a. The curtain section 14 is composed of a transparent sheet divided into multiple sections. The curtain section 14 is provided in a state that covers the spaces between the pillar sections 12a of the rack section 12.

図1に示すように、カーテン部14の下端とフロアFとの間には、第1清浄室10の室内10aの空気が排出される隙間14aが形成される。第1清浄室10の室内10aは、天井部13とカーテン部14とにより室内Rとほぼ隔てられた内部空間を有する。カーテン部14は、作業者Mが外部から腕を入れて第1清浄室10の内部で手作業が行えるようにする作業者M用の手袋部を有していてもよい。 As shown in FIG. 1, a gap 14a is formed between the lower end of the curtain section 14 and the floor F, through which air from the room 10a of the first clean room 10 is exhausted. The room 10a of the first clean room 10 has an internal space that is almost separated from the room R by the ceiling section 13 and the curtain section 14. The curtain section 14 may have a glove section for the worker M, which allows the worker M to insert his/her arm from the outside and perform manual work inside the first clean room 10.

図2に示すように、第1清浄室10は、前側(図2で下側)の左右に、搬入出口19をそれぞれ有する。左右の搬入出口19は、後述するように組立部2で組み立てられた部品(不図示)を当該クリーンベンチ装置1の外部に搬出する部分である。 As shown in FIG. 2, the first clean room 10 has an entrance/exit 19 on the left and right sides of the front (lower side in FIG. 2). The left and right entrance/exit 19 are used to transport parts (not shown) assembled in the assembly section 2 to the outside of the clean bench apparatus 1, as described below.

第1清浄空気供給部11は、第1清浄室10の天井部13の上に設けられている。第1清浄空気供給部11は、FFU(ファンフィルターユニット)等の電動式空気ろ過装置である。第1清浄空気供給部11には、例えば空調機によって温度および湿度が制御された空気がダクトを通じて供給される。第1清浄空気供給部11は、供給された空気中に存在する浮遊粒子等の有害な異物を除去して清浄化し、清浄化した空気を、第1清浄室10の室内10aに下方に向けて吹き出して供給する。 The first clean air supply unit 11 is provided above the ceiling 13 of the first clean room 10. The first clean air supply unit 11 is an electrically operated air filtration device such as an FFU (fan filter unit). Air whose temperature and humidity have been controlled by, for example, an air conditioner is supplied to the first clean air supply unit 11 through a duct. The first clean air supply unit 11 purifies the supplied air by removing harmful foreign matter such as suspended particles present in the air, and blows the purified air downward into the interior 10a of the first clean room 10.

第2清浄室20は、組立部2を構成する。組立部2は、第2清浄室20の室内20aにおいて所定の部品を組立ロボット29によって組み立てる場所である。 The second clean room 20 constitutes the assembly section 2. The assembly section 2 is a place where predetermined parts are assembled by an assembly robot 29 in the room 20a of the second clean room 20.

図2に示すように、第2清浄室20は、第1清浄室10の室内10aの後側(図2で上側)に配置されている。図1および図2に示すように、後壁部22aと、左右の側壁部22bと、天井部23と、作業台24と、を有する。天井部23は、壁部22の上端に固定されて設けられている。 As shown in FIG. 2, the second clean room 20 is disposed at the rear (upper side in FIG. 2) of the interior 10a of the first clean room 10. As shown in FIGS. 1 and 2, it has a rear wall 22a, left and right side walls 22b, a ceiling 23, and a workbench 24. The ceiling 23 is fixed to the upper end of the wall 22.

図3に示すように、作業台24は、直方体の箱状の形状を有する架台25の上に設置された状態で第2清浄室20の室内20aに設けられている。架台25は、脚部25cを介してフロアFに設置される。架台25の底部には、開口部25bが設けられている。第2清浄室20の室内20aは、後壁部22a、左右の側壁部22b、天井部23および作業台24によって区画される。第2清浄室20は、前方に開口する前方開口部20bを有する。 As shown in FIG. 3, the workbench 24 is installed on a stand 25 having a rectangular box shape and is provided in the interior 20a of the second clean room 20. The stand 25 is installed on the floor F via legs 25c. An opening 25b is provided at the bottom of the stand 25. The interior 20a of the second clean room 20 is partitioned by the rear wall 22a, the left and right side walls 22b, the ceiling 23, and the workbench 24. The second clean room 20 has a front opening 20b that opens forward.

作業台24は、作業台24の上方の空間(第2清浄室20の室内20a)と下方の空間(架台25の内部空間25a)とを連通する多孔質プレート26を含んで構成される。多孔質プレート26は、第2清浄室20の室内20aと架台25の内部空間25aとを連通する多数の孔26aを有する。 The workbench 24 includes a porous plate 26 that connects the space above the workbench 24 (the interior 20a of the second clean room 20) to the space below (the internal space 25a of the stand 25). The porous plate 26 has a large number of holes 26a that connect the interior 20a of the second clean room 20 to the internal space 25a of the stand 25.

図2に示すように、第2清浄室20の室内20aにおける作業台24の後部には、多関節アーム型の組立ロボット29が配置されている。組立ロボット29は、作業台24の上に供給される部品を組み立てる。 As shown in FIG. 2, an articulated arm type assembly robot 29 is disposed behind the work table 24 in the interior 20a of the second clean room 20. The assembly robot 29 assembles parts supplied onto the work table 24.

図1に示すように、第2清浄室20の室内20aには、異物除去装置40および除電装置(イオナイザ)50が設けられている。 As shown in FIG. 1, a foreign matter removal device 40 and a static elimination device (ionizer) 50 are provided in the chamber 20a of the second clean room 20.

異物除去装置40としては、第2清浄室20の室内に浸入したり、作業台24に供給された部品に付着したりする塵埃等の異物を吸引して除去するバキュームブラシが挙げられる。異物除去装置40は、作業者Mが操作するように設けられてもよく、また、組立ロボット29に付随して設けられ、組立ロボット29により操作可能なものであってもよい。異物除去装置40は、イオナイザ等の除電機能を備えたものであってよい。その場合、部品に付着した異物を吸引して除去できるとともに、部品の電荷が中和されて異物の再付着が抑制される。 The foreign matter removal device 40 may be a vacuum brush that sucks up and removes foreign matter such as dust that has entered the second clean room 20 or adhered to parts supplied to the workbench 24. The foreign matter removal device 40 may be provided so that it can be operated by the worker M, or it may be provided in association with the assembly robot 29 and operable by the assembly robot 29. The foreign matter removal device 40 may be provided with a static elimination function such as an ionizer. In this case, it is possible to suck up and remove foreign matter that has adhered to the parts, and the charge of the parts is neutralized to prevent the foreign matter from re-adhering.

除電装置50は、作業台24に供給される部品の電荷を中和させる装置であり、部品が静電気で帯電することを抑制する。除電装置50としては、コロナ放電の発生により周囲の空気をイオン化して除電する一般周知の形式のものが用いられる。 The static eliminator 50 is a device that neutralizes the charge of the parts supplied to the workbench 24, and prevents the parts from becoming charged with static electricity. The static eliminator 50 is a well-known type that ionizes the surrounding air by generating a corona discharge to eliminate static electricity.

除電装置50としては、直流電圧が印加されることにより放出されるイオンの極性が、プラスの電極とマイナスの電極を備えた直流方式と、交流電圧が印可されることによりプラスとマイナスの各イオンが1つの電極から交互に放出される交流方式がある。交流方式は、比較的局所的に除電する特性を有するため、本実施形態では、第2清浄室20の室内20aを全体的にイオン化する直流方式のものが好ましく用いられる。 The static elimination device 50 can be of a DC type equipped with positive and negative electrodes, in which the polarity of the ions released by applying a DC voltage is determined, or an AC type in which positive and negative ions are alternately released from one electrode by applying an AC voltage. Since the AC type has the characteristic of relatively localized static elimination, in this embodiment, a DC type that ionizes the entire interior 20a of the second clean room 20 is preferably used.

図1に示すように、第2清浄空気供給部21は、第2清浄室20の天井部23の上であって、第1清浄空気供給部11の直下に配置されている。第2清浄空気供給部21は、第1清浄空気供給部11と同様の構成を有する電動式空気ろ過装置である。図3に示すように、天井部23は、空気送出口23aを有する。第2清浄空気供給部21は、第1清浄空気供給部から第1清浄室10の室内10aに供給される空気(清浄化した空気)が導入されるとともに、第2清浄室20の室内20aに清浄化した空気を下方に向けて噴出し供給する。 As shown in FIG. 1, the second clean air supply unit 21 is disposed above the ceiling 23 of the second clean room 20 and directly below the first clean air supply unit 11. The second clean air supply unit 21 is an electric air filtration device having a configuration similar to that of the first clean air supply unit 11. As shown in FIG. 3, the ceiling 23 has an air outlet 23a. The second clean air supply unit 21 introduces air (clean air) supplied from the first clean air supply unit to the room 10a of the first clean room 10, and also blows the clean air downward to supply it to the room 20a of the second clean room 20.

空気流路30は、図3の白抜き矢印で示す経路31を有する。経路31は、第1清浄空気供給部11から第2清浄空気供給部21を通過して第2清浄室20の室内20aに入り、次いで作業台24の下方に出てから、第2清浄室20の外側であって第1清浄室10の内側の空間を上昇して第2清浄空気供給部21に再度導入される経路である。第1清浄空気供給部11から第1清浄室10の室内10aに供給される清浄な空気の一部は、第1清浄室10の室内において経路31をループ状に循環する。 The air flow path 30 has a path 31 indicated by the white arrow in FIG. 3. The path 31 passes from the first clean air supply unit 11 through the second clean air supply unit 21, enters the interior 20a of the second clean room 20, then exits below the workbench 24, and then rises through the space outside the second clean room 20 and inside the first clean room 10, before being introduced again into the second clean air supply unit 21. A portion of the clean air supplied from the first clean air supply unit 11 to the interior 10a of the first clean room 10 circulates in a loop around the path 31 within the interior of the first clean room 10.

詳述すると経路31を循環する空気は、次のように流れる。第1清浄空気供給部11から第1清浄室10の室内10aに供給される清浄な空気は、第1清浄空気供給部11から第2清浄空気供給部21に導入されて第2清浄空気供給部21を通過することにより、第2清浄空気供給部21によってさらに清浄化されて第2清浄室20の室内20aに供給される。第2清浄室20の室内20a内に供給された空気は、その室内20aに充満した状態となる。第2清浄室20の室内20aに充満した空気の一部は、作業台24を構成する多孔質プレート26の多数の孔26aを通過して架台25の内部空間25aに入る。内部空間25aに入った空気は、架台25の開口部25bから架台25の下方に流出して側方に流れ、その後、カーテン部14と、架台25および第2清浄室20との間を上昇し、第2清浄空気供給部21に再度導入される。また、第2清浄室20の室内20aに充満した空気の一部は、第2清浄室20の前方開口部20bから第1清浄室10の室内10aに排出される。 In more detail, the air circulating through the path 31 flows as follows. The clean air supplied from the first clean air supply unit 11 to the room 10a of the first clean room 10 is introduced from the first clean air supply unit 11 to the second clean air supply unit 21 and passes through the second clean air supply unit 21, where it is further purified by the second clean air supply unit 21 and supplied to the room 20a of the second clean room 20. The air supplied into the room 20a of the second clean room 20 fills the room 20a. A portion of the air filling the room 20a of the second clean room 20 passes through a large number of holes 26a in the porous plate 26 that constitutes the workbench 24 and enters the internal space 25a of the stand 25. The air that has entered the internal space 25a flows out from the opening 25b of the stand 25 below the stand 25 and flows to the side, then rises between the curtain section 14, the stand 25, and the second clean room 20, and is introduced again into the second clean air supply section 21. In addition, a portion of the air that has filled the room 20a of the second clean room 20 is exhausted from the front opening 20b of the second clean room 20 into the room 10a of the first clean room 10.

第1清浄室10の室内10aおよび第2清浄室20の室内20aは、第1清浄空気供給部11から供給される空気で加圧され、正圧の状態に維持される。このため、カーテン部14の一部を開閉して部品や作業者Mが出入りした場合も、第1清浄室10の室内10aに塵埃等の異物の浸入が抑えられるようになっている。第1清浄室10の室内10aを正圧にする空気の一部は、カーテン部14とフロアFとの間の隙間14aから当該クリーンベンチ装置1の外部に流出する。 The interior 10a of the first clean room 10 and the interior 20a of the second clean room 20 are pressurized with air supplied from the first clean air supply unit 11 and maintained at a positive pressure. Therefore, even when parts or workers M enter or exit by opening or closing part of the curtain unit 14, the intrusion of foreign matter such as dust into the interior 10a of the first clean room 10 is suppressed. A part of the air that makes the interior 10a of the first clean room 10 positive pressure flows out to the outside of the clean bench device 1 through the gap 14a between the curtain unit 14 and the floor F.

搬送部3は、組立部2の作業台24の上で組み立てられた部品を搬入出部4に搬送する部分である。図2に示すように、搬送部3は、組立部2から搬入出部4にわたって設けられた搬送テーブル61を有する。搬送テーブル61は、1軸の駆動機能を備えたNCテーブル等から構成される。組立部2の作業台24の上で組み立てられた部品は、搬送テーブル61に載せられ、部品と搬送テーブル61が通過可能な前方開口部20bを通過して搬入出部4に搬送される。 The conveying unit 3 conveys parts assembled on the workbench 24 of the assembly unit 2 to the carry-in/out unit 4. As shown in FIG. 2, the conveying unit 3 has a conveying table 61 provided from the assembly unit 2 to the carry-in/out unit 4. The conveying table 61 is composed of an NC table with a one-axis drive function or the like. The parts assembled on the workbench 24 of the assembly unit 2 are placed on the conveying table 61 and conveyed to the carry-in/out unit 4 through the front opening 20b through which the parts and the conveying table 61 can pass.

搬入出部4は、搬送部3で搬送される部品を左右の搬入出口19に搬出する部分である。図2に示すように、搬入出部4は、左右の搬入出テーブル65と、搬送テーブル61で搬送される部品を左右の搬入出テーブル65に移す多関節アーム型の移送ロボット66とを有する。搬入出テーブル65は、ベルト式のコンベヤ等から構成される。搬入出部4は、搬送テーブル61で搬送される部品を移送ロボット66がいずれか一方の搬入出テーブル65に移し換え、搬入出テーブル65により搬入出口19に搬出する。搬入出口19において、部品が搬入出テーブル65から作業者Mに受け渡される。図1に示すように、移送ロボット66は、脚部67cを介してフロアFに設置されるロボット台67の上に配置される。 The loading/unloading section 4 is a section that unloads the parts transported by the transport section 3 to the left and right loading/unloading openings 19. As shown in FIG. 2, the loading/unloading section 4 has left and right loading/unloading tables 65 and a multi-joint arm type transfer robot 66 that transfers the parts transported by the transport table 61 to the left and right loading/unloading tables 65. The loading/unloading tables 65 are composed of a belt-type conveyor or the like. In the loading/unloading section 4, the transfer robot 66 transfers the parts transported by the transport table 61 to one of the loading/unloading tables 65, and the loading/unloading table 65 unloads the parts to the loading/unloading opening 19. At the loading/unloading opening 19, the parts are handed over from the loading/unloading table 65 to the worker M. As shown in FIG. 1, the transfer robot 66 is placed on a robot stand 67 installed on the floor F via the legs 67c.

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1では、組立部2において部品が組み立てられる。組み立て前の部品は、第1清浄室10の外部から作業者Mにより搬入出口19に供給され、搬入出テーブル65で移送ロボット66の稼動範囲に搬送された後に移送ロボット66により搬入出部4に移送された後、搬送テーブル61により組立ロボット29の組立位置に供給される。上述したようにカーテン部14が作業者M用の手袋部を有する場合、移送ロボット66による作業を、当該手袋部に腕を入れた作業者Mによって手作業で行うようにしてもよい。部品を組み立てる際には、組立ロボット29が異物除去装置40を用いて部品を清浄にしながら、部品を組み立てる。作業台24上で組み立てられた部品は、搬送部3の搬送テーブル61により搬入出部4に搬送される。搬入出部4では、搬送テーブル61で搬送される部品を移送ロボット66がいずれか一方の搬入出テーブル65に移し換え、搬入出テーブル65により搬入出口19に搬出する。搬入出口19において、部品が搬入出テーブル65から作業者Mに受け渡される。 In the clean bench apparatus 1 according to this embodiment, parts are assembled in the assembly section 2. The parts before assembly are supplied to the loading/unloading port 19 by the worker M from outside the first clean room 10, transported to the operating range of the transfer robot 66 by the loading/unloading table 65, and then transported to the loading/unloading section 4 by the transfer robot 66, and then supplied to the assembly position of the assembly robot 29 by the transport table 61. If the curtain section 14 has a glove section for the worker M as described above, the work by the transfer robot 66 may be performed manually by the worker M with his/her arm in the glove section. When assembling the parts, the assembly robot 29 assembles the parts while cleaning the parts using the foreign matter removal device 40. The parts assembled on the workbench 24 are transported to the loading/unloading section 4 by the transport table 61 of the transport section 3. In the loading/unloading section 4, the transfer robot 66 transfers the part being transported by the transport table 61 to one of the loading/unloading tables 65, which then transports the part to the loading/unloading opening 19. At the loading/unloading opening 19, the part is handed over from the loading/unloading table 65 to the worker M.

本実施形態のクリーンベンチ装置1は、第2清浄室20の室内20aの環境をモニタできる各種測定装置を適宜設けることができる。そのような測定装置としては、室内20aに浮遊する塵埃や粉じん等の量を計測するダストカウンタ、温度計および湿度計、圧力測定装置などが挙げられる。例えば第1清浄空気供給部11および第2清浄空気供給部21の運転状況は、当該測定装置の測定値をフィードバックしながら制御される。 The clean bench apparatus 1 of this embodiment can be appropriately equipped with various measuring devices that can monitor the environment inside the room 20a of the second clean room 20. Examples of such measuring devices include a dust counter that measures the amount of dust and particles floating in the room 20a, a thermometer and a hygrometer, and a pressure measuring device. For example, the operating conditions of the first clean air supply unit 11 and the second clean air supply unit 21 are controlled by feeding back the measured values of the measuring devices.

以上の構成を備える本実施形態に係るクリーンベンチ装置1によれば、以下の効果が奏される。 The clean bench device 1 according to this embodiment, which has the above configuration, provides the following effects:

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1は、第1清浄室10と、第1清浄室10の天井部13に設けられ、第1清浄室10の室内10aに清浄化した空気を供給する第1清浄空気供給部11と、第1清浄室10の室内10aに配設され、作業台24を内部に有する第2清浄室20と、第2清浄室20の天井部23に設けられ、第1清浄空気供給部11から供給される空気が導入されるとともに、第2清浄室20の室内20aに清浄化した空気を送出する第2清浄空気供給部21と、第1清浄室10の室内10aに形成される空気流路30と、を備え、空気流路30は、第1清浄空気供給部11から第2清浄空気供給部21を通過して第2清浄室20の室内20aに入り、作業台24の下方に出てから、第2清浄室20の外側の空間であって第1清浄室10の内側の空間を上昇して第2清浄空気供給部21に再度導入される経路31を有する。 The clean bench device 1 according to this embodiment includes a first clean room 10, a first clean air supply unit 11 that is provided on the ceiling 13 of the first clean room 10 and supplies clean air to the interior 10a of the first clean room 10, a second clean room 20 that is provided in the interior 10a of the first clean room 10 and has a work table 24 therein, and a second clean room 20 that is provided on the ceiling 23 of the second clean room 20 and receives air supplied from the first clean air supply unit 11 and supplies clean air to the interior 20a of the second clean room 20. a, and an air flow path 30 formed in the interior 10a of the first clean room 10. The air flow path 30 has a path 31 through which the air flows from the first clean air supply unit 11 through the second clean air supply unit 21 into the interior 20a of the second clean room 20, exits below the workbench 24, and then rises through the space outside the second clean room 20 and the space inside the first clean room 10, before being reintroduced into the second clean air supply unit 21.

部品が組み立てられる第2清浄室20の室内20aに供給される空気は、第1清浄空気供給部11で清浄化された空気がさらに第2清浄空気供給部21で清浄化されて第2清浄室20に供給される。また、経路31を循環する空気が、第2清浄空気供給部21で常に清浄化されて第2清浄室20に供給される。このため、第2清浄室20の空気は高い清浄度が得られる。例えば、第1清浄空気供給部11および第2清浄空気供給部21の双方がともにクラス1000(米国連邦規格)程度の清浄度の空気を供給可能な性能を備えたものである場合、第2清浄室20の室内20aはクラス100程度の空気清浄度が可能となる。したがって、クラス100程度の清浄度が得られる高性能の空気清浄装置を用いることなく、低コストで高い清浄度の空気を第2清浄室20の室内20aに供給することができる。また、このように第2清浄室20の室内20aを高い空気清浄度に保持することができることから、搬送作業等の一部を作業者Mが行っても、クリーンベンチ装置1内の清浄度が低下することが抑制される。また、クリーンベンチ装置1は、第1清浄室10の室内10aに第2清浄室20が配設された二重構造となっている。これにより、装置全体のコンパクト化が図られる。すなわち本実施形態に係るクリーンベンチ装置1は、低コスト化およびコンパクト化が図られながら高い空気清浄度が得られる。 The air supplied to the room 20a of the second clean room 20 where the parts are assembled is the air purified by the first clean air supply unit 11, which is further purified by the second clean air supply unit 21 and supplied to the second clean room 20. In addition, the air circulating through the path 31 is always purified by the second clean air supply unit 21 and supplied to the second clean room 20. Therefore, the air in the second clean room 20 can be highly clean. For example, if both the first clean air supply unit 11 and the second clean air supply unit 21 have the performance to supply air with a cleanliness of about Class 1000 (US Federal Standard), the room 20a of the second clean room 20 can have an air cleanliness of about Class 100. Therefore, it is possible to supply high-cleanliness air to the room 20a of the second clean room 20 at low cost without using a high-performance air purification device that can obtain a cleanliness of about Class 100. Furthermore, because the interior 20a of the second clean room 20 can be maintained at a high level of air cleanliness in this manner, even if the worker M performs part of the transport work, etc., the cleanliness within the clean bench apparatus 1 is prevented from decreasing. Furthermore, the clean bench apparatus 1 has a double structure in which the second clean room 20 is disposed within the interior 10a of the first clean room 10. This allows the entire apparatus to be made compact. In other words, the clean bench apparatus 1 according to this embodiment can achieve high air cleanliness while being low-cost and compact.

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1において、作業台24は、作業台24の上方の空間(第2清浄室20の室内20a)と下方の空間(架台25の内部空間25a)とを連通する多孔質プレート26を含んで構成される。多孔質プレート26は、第2清浄室20の室内20aと架台25の内部空間25aとを連通する多数の孔26aを有する。 In the clean bench apparatus 1 according to this embodiment, the work table 24 includes a porous plate 26 that connects the space above the work table 24 (the interior 20a of the second clean room 20) to the space below (the internal space 25a of the stand 25). The porous plate 26 has a large number of holes 26a that connect the interior 20a of the second clean room 20 to the internal space 25a of the stand 25.

これにより、第2清浄室20の室内20aに存在する異物は、下方に流れる空気の流れとともに多孔質プレート26の孔26aを通過して架台25の内部空間25aに流出する。このため、第2清浄室20の室内20aから異物が速やかに除去され、第2清浄室20の清浄な状態が保持される。 As a result, foreign matter present in the interior 20a of the second clean room 20 passes through the holes 26a of the porous plate 26 along with the downward air flow and flows out into the internal space 25a of the stand 25. Therefore, foreign matter is quickly removed from the interior 20a of the second clean room 20, and the clean state of the second clean room 20 is maintained.

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1は、第2清浄室20に異物除去装置40が設けられる。 In this embodiment, the clean bench apparatus 1 is provided with a foreign matter removal device 40 in the second clean room 20.

これにより、第2清浄室20の室内20aに存在する異物が異物除去装置40で除去され、第2清浄室20の清浄度の低下を抑制することができる。異物除去装置40が上述したバキュームブラシの場合、作業台24の上で組み立てられる部品にバキュームブラシを接触させて異物を除去することにより、部品に付着する異物を効果的に除去することができる。 As a result, foreign matter present in the chamber 20a of the second clean chamber 20 is removed by the foreign matter removal device 40, and a decrease in the cleanliness of the second clean chamber 20 can be suppressed. When the foreign matter removal device 40 is the above-mentioned vacuum brush, the vacuum brush is brought into contact with the parts being assembled on the workbench 24 to remove the foreign matter, thereby effectively removing the foreign matter adhering to the parts.

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1は、第2清浄室20に、作業台24に供給される物品の電荷を中和させる除電装置50が設けられる。 In the clean bench apparatus 1 according to this embodiment, a static elimination device 50 is provided in the second clean room 20 to neutralize the electric charge of the items supplied to the work table 24.

除電装置50により、第2清浄室20の室内20aに供給された部品の電荷が中和され、部品が静電気で帯電することが抑えられる。このため、第2清浄室20の室内20aに浸入した異物が静電気により部品に付着することが抑えられ、部品の汚染が抑制される。 The charge removal device 50 neutralizes the charge on the parts supplied to the interior 20a of the second clean room 20, preventing the parts from becoming charged with static electricity. This prevents foreign matter that has entered the interior 20a of the second clean room 20 from adhering to the parts due to static electricity, thereby preventing contamination of the parts.

本実施形態に係るクリーンベンチ装置1において、除電装置50は、直流電圧が印加される直流方式が好ましく用いられる。 In the clean bench apparatus 1 according to this embodiment, the static elimination device 50 is preferably of a DC type in which a DC voltage is applied.

除電装置50が直流方式である場合には、第2清浄室20の室内20aが全体的にイオン化されて除電環境にすることができる。このため、第2清浄室20の室内20aにおいて異物が部品に付着しにくくなり、異物は空気の流れにより多孔質プレート26の孔26aを通過して第2清浄室20から速やかに排除される。これにより第2清浄室20の室内20aは高い清浄度が保持される。 When the static elimination device 50 is of the DC type, the interior 20a of the second clean room 20 can be ionized as a whole to create a static elimination environment. This makes it difficult for foreign matter to adhere to parts in the interior 20a of the second clean room 20, and foreign matter passes through the holes 26a of the porous plate 26 due to the air flow and is quickly removed from the second clean room 20. This maintains a high level of cleanliness in the interior 20a of the second clean room 20.

本開示は、上記実施形態に制限されることなく本開示の範囲内であれば適宜変更が可能である。
例えば、第1清浄室10は周囲がカーテン部14で覆われ、天井部13もシートで覆われた形態であるが、第1清浄室10を室内Rから区画する部材はカーテン部14やシートに限定されず、透明なボード等の他の部材で構成してもよい。
第2清浄室20は前方開口部20bを有し前方に開口しているが、前方開口部20bをドア等で開閉可能として密閉度を上げて、第2清浄室20の室内20aの清浄度をさらに向上させるようにしてもよい。
異物除去装置40としては上述したバキュームブラシに限定はされず、第2清浄室20の室内20a内に存在する塵埃等の異物を除去できるものであれば、いかなる態様のものであってよい。
The present disclosure is not limited to the above-described embodiments and can be modified as appropriate within the scope of the present disclosure.
For example, the first clean room 10 is surrounded by a curtain section 14 and the ceiling section 13 is also covered with a sheet, but the material separating the first clean room 10 from the interior R is not limited to the curtain section 14 or a sheet and may be composed of other materials such as a transparent board.
The second clean room 20 has a front opening 20b and is open to the front, but the front opening 20b may be made openable and closable with a door or the like to increase the degree of sealing, thereby further improving the cleanliness of the interior 20a of the second clean room 20.
The foreign matter removal device 40 is not limited to the above-mentioned vacuum brush, and may be of any type as long as it can remove foreign matter such as dust present within the chamber 20a of the second clean chamber 20.

1 クリーンベンチ装置
10 第1清浄室
11 第1清浄空気供給部
13 天井部
20 第2清浄室
21 第2清浄空気供給部
24 作業台
26 多孔質プレート
30 空気流路
31 経路
40 異物除去装置
50 除電装置
REFERENCE SIGNS LIST 1 clean bench device 10 first clean room 11 first clean air supply unit 13 ceiling unit 20 second clean room 21 second clean air supply unit 24 workbench 26 porous plate 30 air flow path 31 path 40 foreign matter removal device 50 static elimination device

Claims (5)

第1清浄室と、
前記第1清浄室の天井部に設けられ、該第1清浄室の内部に清浄化した空気を供給する第1清浄空気供給部と、
前記第1清浄室の内側に配設され、作業台を内部に有する第2清浄室と、
前記第2清浄室の天井部に設けられ、前記第1清浄空気供給部から供給される空気が導入されるとともに、前記第2清浄室の内部に清浄化した空気を送出する第2清浄空気供給部と、
前記第1清浄室の内側に形成される空気流路と、を備え、
前記空気流路は、前記第1清浄空気供給部から前記第2清浄空気供給部を通過して前記第2清浄室の内部に入り、さらに前記作業台の下方に出てから、前記第2清浄室の外側の空間であって前記第1清浄室の内側の空間を上昇して前記第2清浄空気供給部に再度導入される経路を有し、
前記第2清浄室の室内の環境をモニタする測定装置をさらに有し、前記第1清浄空気供給部および前記第2清浄空気供給部の運転状況が、前記測定装置の測定値をフィードバックしながら制御される、クリーンベンチ装置。
A first clean room;
a first clean air supply unit provided on a ceiling of the first clean room and supplying clean air to the inside of the first clean room;
a second clean room disposed inside the first clean room and having a work table therein;
a second clean air supply unit provided on a ceiling of the second clean room, into which air supplied from the first clean air supply unit is introduced and which delivers cleaned air into the second clean room;
an air flow path formed inside the first clean room;
the air flow path has a path that passes from the first clean air supply unit through the second clean air supply unit, enters the second clean room, and then exits below the work table, and then ascends through a space outside the second clean room and a space inside the first clean room, and is again introduced into the second clean air supply unit,
A clean bench apparatus further comprising a measuring device that monitors the environment inside the second clean room, and the operating conditions of the first clean air supply unit and the second clean air supply unit are controlled by feeding back the measurement values of the measuring device.
前記作業台は、該作業台の上方の空間と下方の空間とを連通する多孔質プレートを含む、請求項1に記載のクリーンベンチ装置。 The clean bench apparatus according to claim 1, wherein the work table includes a porous plate that connects the space above the work table to the space below the work table. 前記第2清浄室に異物除去装置が設けられる、請求項1または2に記載のクリーンベンチ装置。 The clean bench apparatus according to claim 1 or 2, wherein a foreign matter removal device is provided in the second clean room. 前記第2清浄室に、前記作業台に供給される物品の電荷を中和させる除電装置が設けられる、請求項1~3のいずれかに記載のクリーンベンチ装置。 The clean bench apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the second clean room is provided with a static elimination device that neutralizes the electric charge of the items supplied to the work table. 前記除電装置は、直流電圧が印加される直流方式である、請求項4に記載のクリーンベンチ装置。 The clean bench apparatus according to claim 4, wherein the static eliminator is a DC type in which a DC voltage is applied.
JP2020008983A 2020-01-23 2020-01-23 Clean bench equipment Active JP7513399B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020008983A JP7513399B2 (en) 2020-01-23 2020-01-23 Clean bench equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020008983A JP7513399B2 (en) 2020-01-23 2020-01-23 Clean bench equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2021116944A JP2021116944A (en) 2021-08-10
JP7513399B2 true JP7513399B2 (en) 2024-07-09

Family

ID=77174566

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020008983A Active JP7513399B2 (en) 2020-01-23 2020-01-23 Clean bench equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7513399B2 (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296044A (en) 2000-04-13 2001-10-26 Hitachi Ltd Clean booth structure
JP2002228220A (en) 2001-01-26 2002-08-14 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Clean room
JP2003309064A (en) 2002-04-18 2003-10-31 Nikon Corp Projection aligner and manufacturing method thereof, and optical apparatus and manufacturing method thereof
JP2004033498A (en) 2002-07-03 2004-02-05 Sharp Corp Method and apparatus for environment adjustment
JP2008145052A (en) 2006-12-11 2008-06-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circulation air duct forming apparatus
JP2008298337A (en) 2007-05-30 2008-12-11 Olympus Corp Clean room device
JP2009257680A (en) 2008-04-17 2009-11-05 Denso Corp Work equipment and local clean room in work equipment
JP2010238669A (en) 2010-06-04 2010-10-21 Hitachi Plant Technologies Ltd Static eliminator and method for static elimination
JP2015111031A (en) 2013-11-11 2015-06-18 株式会社Trinc Clean space maintenance device
JP2016029324A (en) 2014-07-18 2016-03-03 大成建設株式会社 Clean booth

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4267769A (en) * 1979-02-22 1981-05-19 Environmental Air Control, Inc. Prefabricated knockdown clean room
JPS6110446U (en) * 1984-06-26 1986-01-22 関西日本電気株式会社 clean bench
KR100787631B1 (en) * 2006-09-22 2007-12-21 (주)광전엔지니어링 clean bench

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001296044A (en) 2000-04-13 2001-10-26 Hitachi Ltd Clean booth structure
JP2002228220A (en) 2001-01-26 2002-08-14 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd Clean room
JP2003309064A (en) 2002-04-18 2003-10-31 Nikon Corp Projection aligner and manufacturing method thereof, and optical apparatus and manufacturing method thereof
JP2004033498A (en) 2002-07-03 2004-02-05 Sharp Corp Method and apparatus for environment adjustment
JP2008145052A (en) 2006-12-11 2008-06-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Circulation air duct forming apparatus
JP2008298337A (en) 2007-05-30 2008-12-11 Olympus Corp Clean room device
JP2009257680A (en) 2008-04-17 2009-11-05 Denso Corp Work equipment and local clean room in work equipment
JP2010238669A (en) 2010-06-04 2010-10-21 Hitachi Plant Technologies Ltd Static eliminator and method for static elimination
JP2015111031A (en) 2013-11-11 2015-06-18 株式会社Trinc Clean space maintenance device
JP2016029324A (en) 2014-07-18 2016-03-03 大成建設株式会社 Clean booth

Also Published As

Publication number Publication date
JP2021116944A (en) 2021-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100250354B1 (en) Clean room
JP3476395B2 (en) Clean room and clean room air conditioning method
JP5398595B2 (en) Board storage device
GB2321862A (en) Fan filter unit with separate access means to ventilation fan and gas absorption filter
JP3117649B2 (en) Dust removal device for transferred products
KR940003590A (en) Environmental control device
JP2008296069A (en) Air cleaner for eliminating fine particle or fine particle and harmful gas in sheet-like object manufacturing apparatus
JP7513399B2 (en) Clean bench equipment
JP4525789B2 (en) Work equipment and local clean room in work equipment
JP3720421B2 (en) Static elimination method
US6660055B2 (en) Compartment for maintaining a clean production environment
JP3697275B2 (en) Interface box and its clean room for local cleaning
JPH06302487A (en) Air filter device for semiconductor manufacture
JP2005235904A (en) Thin-film solar cell manufacturing system
JP3349919B2 (en) Air purification device for semiconductor manufacturing process
KR100628580B1 (en) Production system
KR101207367B1 (en) Semiconductor cleanroom with local sealing area
JP6036742B2 (en) Dust collecting jig, substrate processing apparatus, and particle collecting method.
JP7069651B2 (en) Load port device
JPH0678735U (en) Clean booth with exhaust hood
JP7504328B1 (en) Quality inspection room structure for polycrystalline silicon blocks
JPS61168735A (en) Clean room
JPH0614473Y2 (en) Portable clean bench
KR20010039709A (en) Substrate conveying device
JPH0745487A (en) Semiconductor production system

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20221121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20230920

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20231003

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20231109

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20240220

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20240328

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20240528

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20240627

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7513399

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150