JP6912147B2 - Pixel array - Google Patents

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Description

本開示は、ディスプレイ技術に関し、特にタッチディスプレイ基板、前記タッチディスプレイ基板を有するタッチディスプレイ装置、ピクセル配列及びその製造方法に関する。 The present disclosure relates to display technology, and more particularly to a touch display substrate, a touch display device having the touch display substrate, a pixel array, and a method for manufacturing the same.

有機発光ダイオード(OLED)は、電場燐光の原理を利用して効率的な方式によりOLED内の電気エネルギーを光に転換させる。OLEDは、バックライトを必要としない自身発光装置である。広い視野、高いコントラスト、高速な応答、高い柔軟性、広い作業温度範囲及びより簡単な構造と製造プロセス等の利点を持つことにより、ディスプレイ領域にて広く応用されている。 The organic light emitting diode (OLED) converts the electrical energy in the OLED into light by an efficient method utilizing the principle of electric field phosphorescence. An OLED is a self-luminous device that does not require a backlight. It is widely applied in the display area due to its advantages such as wide field of view, high contrast, fast response, high flexibility, wide working temperature range and simpler structure and manufacturing process.

従来のタッチディスプレイ有機発光装置において、タッチモジュールが前記ディスプレイモジュールに追加される。前記ディスプレイモジュール及び前記タッチモジュールは、別々に製造し得る。前記タッチモジュールは、前記ディスプレイパネルに付着される。このような類型のタッチディスプレイパネルは、比較的大きな厚さを有し、損傷を受け易い。 In a conventional touch display organic light emitting device, a touch module is added to the display module. The display module and the touch module may be manufactured separately. The touch module is attached to the display panel. Such types of touch display panels have a relatively large thickness and are susceptible to damage.

一つの側面において、本発明は、タッチディスプレイ基板であって、前記タッチディスプレイ基板は複数のピクセルからなるアレイを含み、前記タッチディスプレイ基板の平面図において、各ピクセルは、第1領域と第2領域とを有し、各ピクセルは、サブピクセルにそれぞれ対応される前記第1領域内の複数の第1電極ブロックと前記第2領域内の第2電極ブロックとを含むベース基板上の第1電極層と、前記複数の第1電極ブロックの前記ベース基板から離れる側に位置する前記第1領域内の第1発光層と、前記第2電極ブロックの前記ベース基板から離れる側に位置する前記第2領域内の第2発光層と、前記第1発光層の前記複数の第1電極ブロックから離れる側に位置する前記第1領域内の第2電極層と、前記第2発光層の前記第2電極ブロックから離れる側に位置する前記第2領域内のタッチ電極層とを含み、前記タッチ電極層と前記第2電極層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁されることを特徴とするタッチディスプレイ基板を提供する。 In one aspect, the present invention is a touch display substrate, wherein the touch display substrate includes an array of a plurality of pixels, and in the plan view of the touch display substrate, each pixel is a first region and a second region. Each pixel has a first electrode layer on a base substrate including a plurality of first electrode blocks in the first region and a second electrode block in the second region corresponding to subpixels. The first light emitting layer in the first region located on the side of the plurality of first electrode blocks away from the base substrate, and the second region of the second electrode block located on the side away from the base substrate. The second electrode layer in the first light emitting layer, the second electrode layer in the first region located on the side of the first light emitting layer away from the plurality of first electrode blocks, and the second electrode block of the second light emitting layer. A touch display including a touch electrode layer in the second region located on a side away from the touch electrode layer, and the touch electrode layer and the second electrode layer are separated from each other and electrically insulated from each other. Provide a substrate.

選択的に、各ピクセルは、前記ピクセルを前記第1領域と前記第2領域とに分ける前記ベース基板上のパターン分離層を更に含み、前記パターン分離層は、前記タッチ電極層と前記第2電極層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させ、前記パターン分離層は、前記第1発光層と前記第2発光層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させる。 Optionally, each pixel further comprises a pattern separation layer on the base substrate that divides the pixel into the first region and the second region, the pattern separation layer being the touch electrode layer and the second electrode. The layers are separated from each other and electrically insulated, and the pattern separating layer separates the first light emitting layer and the second light emitting layer from each other and electrically insulates them.

選択的に、前記タッチ電極層は、前記第2電極層と同一の層に位置し、前記第1発光層は、前記第2発光層と同一の層に位置する。 Optionally, the touch electrode layer is located in the same layer as the second electrode layer, and the first light emitting layer is located in the same layer as the second light emitting layer.

選択的に、前記第2領域内の一つの第2電極ブロックは、前記タッチ電極層に電気的に接続される。 Optionally, one second electrode block in the second region is electrically connected to the touch electrode layer.

選択的に、前記第2領域内の前記一つの第2電極ブロックは前記第2発光層内の導電性チャネルを通じて前記タッチ電極層に電気的に接続され、前記導電性チャネルは、前記第2発光層の発光材料、前記第2領域内の前記一つの第2電極ブロックの導電性材料及び前記タッチ電極層の導電性材料のうち少なくとも一つを含む焼結された導電性材料を含む。 Optionally, the one second electrode block in the second region is electrically connected to the touch electrode layer through a conductive channel in the second light emitting layer, and the conductive channel is connected to the second light emitting layer. It includes a light emitting material of the layer, a conductive material of the one second electrode block in the second region, and a sintered conductive material containing at least one of the conductive materials of the touch electrode layer.

選択的に、前記タッチディスプレイ基板は、前記第1領域内の複数の電極リード線と前記第2領域内の複数のタッチ制御リード線とを更に含み、前記複数のタッチ制御リード線は前記複数の電極リード線と同一の層に位置し、前記複数のタッチ制御リード線は前記第2発光層内の導電性チャネルを通じて前記タッチ電極層に電気的に接続され、前記導電性チャネルは、前記第2発光層の発光材料、前記第2領域内のタッチ制御リード線の導電性材料及び前記タッチ電極層の導電性材料のうち少なくとも一つを含む焼結された導電性材料を含む。 Optionally, the touch display substrate further includes a plurality of electrode leads in the first region and a plurality of touch control leads in the second region, the plurality of touch control leads comprising the plurality of touch control leads. Located in the same layer as the electrode leads, the plurality of touch control leads are electrically connected to the touch electrode layer through conductive channels in the second light emitting layer, and the conductive channels are connected to the second light emitting layer. It includes a light emitting material of a light emitting layer, a conductive material of a touch control lead wire in the second region, and a sintered conductive material containing at least one of the conductive materials of the touch electrode layer.

選択的に、各ピクセルは、前記第2領域内のピクセル補償回路を更に含む。 Optionally, each pixel further includes a pixel compensation circuit within said second region.

選択的に、各ピクセルは、前記第1領域内の第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルと、前記第2領域内の複数のピクセル補償回路とを含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第3色のサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel comprises a first-color sub-pixel in the first region, a second-color sub-pixel, a third-color sub-pixel, and a plurality of pixel compensation circuits in the second region. Each pixel compensation circuit is connected to one of a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from an adjacent pixel, and a third color subpixel.

選択的に、各第2領域は、前記同一のピクセルからの前記第1色のサブピクセルと、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルに囲まれ、前記第1色、前記第2色及び前記第3色は、赤色、緑色及び青色から選択される異なる色である。 Optionally, each second region is from the first color subpixel from the same pixel, the second color subpixel from the first adjacent pixel, and the second and third adjacent pixels, respectively. Surrounded by two third color subpixels, the first color, the second color and the third color are different colors selected from red, green and blue.

選択的に、各ピクセルは、三つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの前記第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの前記第2色のサブピクセル及び第2隣接ピクセルからの前記第3色のサブピクセルのうちいずれか一つに接続される。 Optionally, each pixel comprises three pixel compensation circuits, the pixel compensation circuit being said first color subpixel from the same pixel, said second color subpixel from first adjacent pixel and second. 2 Connected to any one of the third color subpixels from adjacent pixels.

選択的に、各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び第3隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel contains four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from a first adjacent pixel, a second adjacent. It is connected to one of a third color subpixel from a pixel and a third color subpixel from a third adjacent pixel.

選択的に、各ピクセルは、前記第1領域内の第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルと、前記第2領域内のタッチサブピクセルとを含み、前記タッチ電極層は、時分割駆動モードに従って操作されるように構成され、前記時分割駆動モードは、ディスプレイモードとタッチ制御モードとを含み、前記タッチ電極層は、前記タッチ制御モードの間に、タッチ信号を伝導するためのタッチ制御電極であり、前記第2領域内の一つの第2電極ブロック及び前記タッチ電極層は、前記ディスプレイモードの間に、前記第2発光層に電圧信号を印加するための電極であり、各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を更に含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び前記タッチサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel includes a first color subpixel, a second color subpixel, a third color subpixel, and a touch subpixel in the second region. The touch electrode layer is configured to be operated according to the time division drive mode, the time division drive mode includes a display mode and a touch control mode, and the touch electrode layer is placed between the touch control modes. , A touch control electrode for conducting a touch signal, and one second electrode block and the touch electrode layer in the second region apply a voltage signal to the second light emitting layer during the display mode. Each pixel further comprises four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel and a second color subpixel from the first adjacent pixel. , A third color subpixel from a second adjacent pixel and one of the touch subpixels.

選択的に、前記第1発光層は、全体的に白色発光層であり、各ピクセルは、前記第2電極層の前記第1発光層から離れる側に位置する複数のカラーフィルターを更に含み、前記複数のカラーフィルターの各々は、一つのサブピクセルに対応される。 Optionally, the first light emitting layer is an overall white light emitting layer, and each pixel further includes a plurality of color filters located on the side of the second electrode layer away from the first light emitting layer. Each of the plurality of color filters corresponds to one subpixel.

選択的に、前記タッチ電極層は、時分割駆動モードに従って操作されるように構成され、前記時分割駆動モードは、ディスプレイモードとタッチ制御モードとを含み、前記タッチ電極層は、前記タッチ制御モードの間に、タッチ信号を伝導するためのタッチ制御電極であり、前記第2領域内の一つの第2電極ブロック及び前記タッチ電極層は、ディスプレイモードの間に、前記第2発光層に電圧信号を印加するための電極である。 Optionally, the touch electrode layer is configured to be operated according to a time-divided drive mode, the time-divided drive mode includes a display mode and a touch control mode, and the touch electrode layer is the touch control mode. A touch control electrode for conducting a touch signal between the two, and one second electrode block and the touch electrode layer in the second region are a voltage signal to the second light emitting layer during the display mode. It is an electrode for applying.

選択的に、前記タッチディスプレイ基板は、P−シリコン基板上の複数の薄膜トランジスタを更に含み、前記複数の薄膜トランジスタの各々は、一つの第1電極ブロック又は一つの第2電極ブロックに対応される。 Optionally, the touch display substrate further comprises a plurality of thin film transistors on a P-silicon substrate, each of the plurality of thin film transistors corresponding to one first electrode block or one second electrode block.

選択的に、前記第1電極層は、アノード層であり、前記第2電極層は、カソード層である。 Optionally, the first electrode layer is an anode layer and the second electrode layer is a cathode layer.

もう一つの側面において、本発明は、複数のピクセルからなるアレイを含むピクセル配列であって、各ピクセルは、第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルと、タッチサブピクセルと、前記タッチサブピクセル内の複数のピクセル補償回路とを含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第3色のサブピクセルのうち一つに接続され、各タッチサブピクセルは、同一のピクセルからの第1色のサブピクセルと、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルとに囲まれるピクセル配列を提供する。 In another aspect, the invention is a pixel array containing an array of pixels, each pixel being a first color subpixel, a second color subpixel, and a third color subpixel. And a touch sub-pixel and a plurality of pixel compensation circuits within the touch sub-pixel, each pixel compensation circuit is a first-color sub-pixel from the same pixel and a second-color sub-pixel from an adjacent pixel. And one of the third color subpixels, each touch subpixel is a first color subpixel from the same pixel and a second color subpixel from the first adjacent pixel, respectively. Provided is a pixel array surrounded by two adjacent pixels and two third color subpixels from a third adjacent pixel.

選択的に、各ピクセルは、三つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel contains three pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from a first adjacent pixel and a second adjacent. Connected to one of the third color subpixels from the pixel.

選択的に、各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び第3隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel contains four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from a first adjacent pixel, a second adjacent. It is connected to one of a third color subpixel from a pixel and a third color subpixel from a third adjacent pixel.

選択的に、各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び前記タッチサブピクセルのうち一つに接続される。 Optionally, each pixel contains four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from a first adjacent pixel, a second adjacent. It is connected to one of the third color subpixels from the pixels and the touch subpixels.

もう一つの側面において、本発明は、タッチディスプレイ基板の製造方法であって、複数のピクセルからなるアレイを形成することを含み、前記タッチディスプレイ基板の平面図において、各ピクセルは、第1領域と第2領域とを含み、各ピクセルを形成するステップは、第1電極層をベース基板に形成するステップを含み、前記第1電極層を形成するステップは、前記第1領域内にサブピクセルにそれぞれ対応される第1電極ブロックを複数形成し、前記第2領域内に第2電極ブロックを形成するステップと、前記第1領域内に前記複数の第1電極ブロックの前記ベース基板から離れる側に第1発光層を形成するステップと、前記第2領域内に前記第2電極ブロックの前記ベース基板から離れる側に第2発光層を形成するステップと、前記第1領域内に前記第1発光層の前記複数の第1電極ブロックから離れる側に第2電極層を形成するステップと、前記第2領域内に前記第2発光層の前記第2電極ブロックから離れる側に、前記第2電極層と相互に離隔され電気的に絶縁されるタッチ電極層を形成するステップとを含むタッチディスプレイ基板の製造方法を提供する。 In another aspect, the present invention is a method of manufacturing a touch display substrate, which comprises forming an array consisting of a plurality of pixels, in which each pixel is a first region in a plan view of the touch display substrate. The step of forming each pixel including the second region includes the step of forming the first electrode layer on the base substrate, and the step of forming the first electrode layer is subpixeled in the first region, respectively. A step of forming a plurality of corresponding first electrode blocks and forming a second electrode block in the second region, and a first step in the first region on the side of the plurality of first electrode blocks away from the base substrate. A step of forming one light emitting layer, a step of forming a second light emitting layer in the second region on the side of the second electrode block away from the base substrate, and a step of forming the first light emitting layer in the first region. The step of forming the second electrode layer on the side away from the plurality of first electrode blocks, and the step of forming the second electrode layer on the side of the second light emitting layer away from the second electrode block in the second region, and mutual with the second electrode layer. Provided is a method for manufacturing a touch display substrate, which comprises a step of forming a touch electrode layer that is separated and electrically insulated.

選択的に、前記方法は、前記ベース基板上に各ピクセルを前記第1領域と前記第2領域とに分けるパターン分離層を形成するステップを更に含み、前記パターン分離層は、前記タッチ電極層と前記第2電極層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させ、前記パターン分離層は、前記第1発光層と前記第2発光層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させる。 Optionally, the method further comprises forming a pattern separation layer on the base substrate that divides each pixel into the first region and the second region, wherein the pattern separation layer is the touch electrode layer. The second electrode layer is separated from each other and electrically insulated, and the pattern separating layer separates the first light emitting layer and the second light emitting layer from each other and electrically insulates the first light emitting layer.

選択的に、前記パターン分離層は、フォトレジスト材料からなり、前記各ピクセルを形成するステップは、前記第1電極層を有する前記ベース基板上にフォトレジスト層を堆積するステップと、前記パターン分離層に対応されるパターンを有するマスクにより前記フォトレジスト層を露光させるステップと、前記露光されたフォトレジスト層を現像して、前記パターン分離層を形成するステップと、前記第1電極層の前記パターン分離層を有するベース基板から離れる側に有機発光材料層を堆積して、前記第1領域内の前記第1発光層及び前記第2領域内の前記第2発光層を形成するステップと、前記有機発光材料層の前記第1電極層から離れる側に電極材料層を堆積して、前記第1領域内の前記第2電極層及び前記第2領域内の前記タッチ電極層を形成するステップとを含む。 Optionally, the pattern separation layer is made of a photoresist material, and the steps of forming the pixels are a step of depositing the photoresist layer on the base substrate having the first electrode layer and the pattern separation layer. A step of exposing the photoresist layer with a mask having a pattern corresponding to the above, a step of developing the exposed photoresist layer to form the pattern separation layer, and the pattern separation of the first electrode layer. A step of depositing an organic light emitting material layer on a side away from a base substrate having a layer to form the first light emitting layer in the first region and the second light emitting layer in the second region, and the organic light emitting. It includes a step of depositing an electrode material layer on a side of the material layer away from the first electrode layer to form the second electrode layer in the first region and the touch electrode layer in the second region.

選択的に、前記方法は、前記第2領域内の一つの第2電極ブロックを前記タッチ電極層に電気的に接続させるステップを更に含む。 Optionally, the method further comprises the step of electrically connecting one second electrode block in the second region to the touch electrode layer.

選択的に、前記第2領域内の一つの第2電極ブロックを前記タッチ電極層に電気的に接続させるステップは、前記第2領域内の前記一つの第2電極ブロックと、前記第2発光層と、前記タッチ電極層とを含む複層構造の一部を焼結するステップと、前記第2発光層に焼結された導電性材料を含む導電性チャネルを形成するステップとを含み、前記焼結された導電性材料は、発光材料、前記一つの第2電極ブロックの導電性材料及び前記タッチ電極層の導電性材料のうち少なくとも一つを含む。 Optionally, the step of electrically connecting one second electrode block in the second region to the touch electrode layer is the step of electrically connecting the one second electrode block in the second region and the second light emitting layer. A step of sintering a part of the multi-layer structure including the touch electrode layer and a step of forming a conductive channel containing the sintered conductive material in the second light emitting layer. The bound conductive material includes at least one of a light emitting material, the conductive material of the one second electrode block, and the conductive material of the touch electrode layer.

選択的に、前記各ピクセルを形成するステップは、前記第2領域内にピクセル補償回路を形成するステップを更に含む。 Optionally, the step of forming each of the pixels further includes a step of forming a pixel compensation circuit in the second region.

選択的に、前記第1領域は、第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルとを含み、各ピクセルを形成するステップは、前記第2領域内に同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第3色のサブピクセルのうち一つに接続されるピクセル補償回路を複数形成するステップを含み、各第2領域が同一のピクセルからの第1色のサブピクセルと、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ他の二つの隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルとに囲まれるように前記複数のピクセルからなるアレイを形成するステップを含む。 Optionally, the first region includes subpixels of the first color, subpixels of the second color, and subpixels of the third color, and the step of forming each pixel is within the second region. Each first involves forming a plurality of pixel compensation circuits connected to one of a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from an adjacent pixel, and a third color subpixel. Two areas are surrounded by a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from an adjacent pixel, and two third color subpixels from two other adjacent pixels, respectively. Includes the step of forming an array of the plurality of pixels.

選択的に、前記タッチ電極層は、前記第2電極層と同一の層に形成され、前記第1発光層は、前記第2発光層と同一の層に形成される。 Optionally, the touch electrode layer is formed in the same layer as the second electrode layer, and the first light emitting layer is formed in the same layer as the second light emitting layer.

選択的に、前記方法は、同一の層に前記第1領域内の複数の電極リード線及び前記第2領域内の複数のタッチ制御リード線を形成するステップと、前記第2発光層内の導電性チャネルを通じて前記複数のタッチ制御リード線を前記タッチ電極層に電気的に接続させるステップとを更に含み、前記複数のタッチ制御リード線を前記タッチ電極層に電気的に接続させるステップは、前記第2領域内のタッチ制御リード線と、前記第2発光層と、前記タッチ電極層とを含む複層構造の一部を焼結するステップと、前記第2発光層に焼結された導電性材料を含む導電性チャネルを形成するステップとを含み、前記焼結された導電性材料は、発光材料、前記タッチ制御リード線の導電性材料及び前記タッチ電極層の導電性材料のうち少なくとも一つを含む。 Optionally, the method comprises forming a plurality of electrode leads in the first region and a plurality of touch control leads in the second region on the same layer, and conductivity in the second light emitting layer. The step of electrically connecting the plurality of touch control leads to the touch electrode layer through the sex channel further includes a step of electrically connecting the plurality of touch control leads to the touch electrode layer, and the step of electrically connecting the plurality of touch control leads to the touch electrode layer is the first step. A step of sintering a part of the multi-layer structure including the touch control lead wire in the two regions, the second light emitting layer, and the touch electrode layer, and a conductive material sintered on the second light emitting layer. The sintered conductive material comprises at least one of a light emitting material, a conductive material of the touch control lead wire, and a conductive material of the touch electrode layer. include.

もう一つの側面において、本発明は、ここで記載されるタッチディスプレイ基板又はここで記載された方法により製造されるタッチディスプレイ基板を含むタッチディスプレイ装置を提供する。 In another aspect, the invention provides a touch display device comprising a touch display substrate described herein or a touch display substrate manufactured by the method described herein.

下記の図面は、開示された各実施例に係るただ説明の目的に使用される実施例であり、本発明の範囲を限定することを意図するものではない。 The drawings below are examples used solely for the purpose of illustration of each disclosed embodiment and are not intended to limit the scope of the invention.

一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。It is a drawing which shows the structure of the touch display board in some Examples. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。It is a drawing which shows the structure of the touch display board in some Examples. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。It is a drawing which shows the structure of the touch display board in some Examples. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板内のピクセル配列を示す図面である。It is a drawing which shows the pixel arrangement in the touch display board in some examples. 従来のタッチディスプレイ基板内のピクセル配列を示す図面である。It is a drawing which shows the pixel arrangement in the conventional touch display board. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板内のピクセル補償回路の配列を示す図面である。It is a drawing which shows the arrangement of the pixel compensation circuit in a touch display board in some examples. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板内のピクセル補償回路の配列を示す図面である。It is a drawing which shows the arrangement of the pixel compensation circuit in a touch display board in some examples. 一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the touch display board in some Examples. 一部の実施例におけるパターン分離層の構造を示す図面である。It is a figure which shows the structure of the pattern separation layer in some Examples. 一部の実施例におけるパターン分離層の構造を示す図面である。It is a figure which shows the structure of the pattern separation layer in some Examples.

以下、下記の実施例を参照しながら本開示を更に詳細に説明する。注意すべきことは、以下の一部の実施例の説明はただ解釈及び説明の目的に使用される。こらは、開示された正確な形態を網羅的に列挙したり限定したりすることを意図するものではない。 Hereinafter, the present disclosure will be described in more detail with reference to the following examples. It should be noted that the description of some of the examples below is used solely for interpretation and explanation purposes. They are not intended to exhaustively list or limit the exact forms disclosed.

本開示は、特に、新型の内装型(in−cell)タッチディスプレイ基板、タッチディスプレイ基板を有するタッチディスプレイ装置及びその製造方法を提供する。一部の実施例において、本タッチディスプレイ基板は、各ピクセルのサブピクセル領域をタッチセンサー領域として使用し、カソード(又はアノード)の一部を電気的に絶縁させてタッチ電極とする。本設計は、ディスプレイモジュールとともに作成可能なコンパクトな内装型タッチ構造を提供する。更に、選択的に、タッチ制御リード線をカソード又はアノードの電極リード線と同一の層に設置し、発光層の一部を焼結することによってタッチ電極とタッチ制御リード線とを電気的に接続してもよい。ディスプレイ基板の厚さを更に減らし、開口率を増加させるために、タッチディスプレイ基板が新型のピクセル配列を持つように設計して、複数のサブピクセルからの複数のピクセル補償回路を同一のタッチサブピクセル領域内に配置できる。 The present disclosure specifically provides a new type of in-cell touch display substrate, a touch display device having a touch display substrate, and a method for manufacturing the same. In some embodiments, the touch display substrate uses a subpixel region of each pixel as a touch sensor region and electrically insulates a portion of the cathode (or anode) to serve as a touch electrode. This design provides a compact interior touch structure that can be created with a display module. Further, selectively, the touch control lead wire is installed in the same layer as the electrode lead wire of the cathode or the anode, and a part of the light emitting layer is sintered to electrically connect the touch electrode and the touch control lead wire. You may. In order to further reduce the thickness of the display board and increase the aperture ratio, the touch display board is designed to have a new pixel array, and multiple pixel compensation circuits from multiple subpixels are combined with the same touch subpixel. Can be placed within the area.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、複数のピクセルからなるアレイを含む。タッチディスプレイ基板の平面図において、各ピクセルは、第1領域と第2領域とを有する。一部の実施例において、各ピクセルは、サブピクセルにそれぞれ対応される第1領域内の複数の第1電極ブロックと第2領域内の少なくても一つの第2電極ブロックとを含むベース基板上の第1電極層と、複数の第1電極ブロックのベース基板から離れる側に位置する第1領域内の第1発光層と、第2電極ブロックのベース基板から離れる側に位置する第2領域内の第2発光層と、第1発光層の複数の第1電極ブロックから離れる側に位置する第1領域内の第2電極層と、第2発光層の第2電極ブロックから離れる側に位置する第2領域内のタッチ電極層とを含む。選択的に、タッチ電極層と第2電極層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁される。選択的に、第1発光層と第2発光層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁される。選択的に、タッチ電極層は、第2電極層と同一の層に位置する。選択的に、第1発光層は、第2発光層と同一の層に位置する。選択的に、タッチ電極層と第2電極層とは、相互に離隔され電気的に絶縁され、第1発光層と第2発光層とは、相互に離隔され電気的に絶縁され、タッチ電極層は、第2電極層と同一の層に位置し、第1発光層は、第2電極層と同一の層に位置する。 In some embodiments, the touch display substrate comprises an array of pixels. In the plan view of the touch display substrate, each pixel has a first region and a second region. In some embodiments, each pixel is on a base substrate that includes a plurality of first electrode blocks in a first region and at least one second electrode block in a second region, each corresponding to a subpixel. The first electrode layer, the first light emitting layer in the first region located on the side away from the base substrate of the plurality of first electrode blocks, and the second region located on the side away from the base substrate of the second electrode block. The second light emitting layer, the second electrode layer in the first region located on the side away from the plurality of first electrode blocks of the first light emitting layer, and the second electrode layer in the second light emitting layer located on the side away from the second electrode block. Includes a touch electrode layer within the second region. Optionally, the touch electrode layer and the second electrode layer are separated from each other and electrically insulated. Optionally, the first light emitting layer and the second light emitting layer are separated from each other and electrically insulated. Optionally, the touch electrode layer is located in the same layer as the second electrode layer. Optionally, the first light emitting layer is located in the same layer as the second light emitting layer. Optionally, the touch electrode layer and the second electrode layer are separated from each other and electrically insulated, and the first light emitting layer and the second light emitting layer are separated from each other and electrically insulated, and the touch electrode layer is provided. Is located in the same layer as the second electrode layer, and the first light emitting layer is located in the same layer as the second electrode layer.

もう一つの側面において、本開示は、タッチディスプレイ基板の製造方法を提供する。該タッチディスプレイ基板は、複数のピクセルからなるアレイを含み、タッチディスプレイ基板の平面図において、各ピクセルは、第1領域と第2領域とを含む。一部の実施例において、各ピクセルを形成するステップは、第1電極層をベース基板に形成するステップを含み、第1電極層を形成するステップは、第1領域内にサブピクセルにそれぞれ対応される第1電極ブロックを複数形成し、第2領域内に第2電極ブロックを形成するステップと、第1領域内に複数の第1電極ブロックのベース基板から離れる側に第1発光層を形成するステップと、第2領域内に第2電極ブロックのベース基板から離れる側に第2発光層を形成するステップと、第1領域内に第1発光層の複数の第1電極ブロックから離れる側に第2電極層を形成するステップと、第2領域内に第2発光層の第2電極ブロックから離れる側にタッチ電極層を形成するステップとを含む。選択的に、タッチ電極層と第2電極層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁されるように形成される。選択的に、第1発光層と第2発光層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁されるように形成される。選択的に、タッチ電極層は、第2電極層と同一の層に形成される。選択的に、第1発光層は、第2発光層と同一の層に形成される。選択的に、タッチ電極層と第2電極層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁されるように形成され、第1発光層と第2発光層とは、相互に離隔され、電気的に絶縁されるように形成され、タッチ電極層は、第2電極層と同一の層に形成され、第1発光層は、第2発光層と同一の層に形成される。 In another aspect, the present disclosure provides a method of manufacturing a touch display substrate. The touch display substrate includes an array of a plurality of pixels, and in the plan view of the touch display substrate, each pixel includes a first region and a second region. In some embodiments, the step of forming each pixel includes the step of forming the first electrode layer on the base substrate, and the step of forming the first electrode layer corresponds to each subpixel in the first region. A step of forming a plurality of first electrode blocks and forming a second electrode block in the second region, and forming a first light emitting layer in the first region on a side away from the base substrate of the plurality of first electrode blocks. A step, a step of forming a second light emitting layer in the second region on the side away from the base substrate of the second electrode block, and a step of forming the second light emitting layer in the first region on the side away from the plurality of first electrode blocks of the first light emitting layer. The step of forming the two-electrode layer and the step of forming the touch electrode layer on the side of the second light emitting layer away from the second electrode block in the second region are included. Optionally, the touch electrode layer and the second electrode layer are formed so as to be separated from each other and electrically insulated. Optionally, the first light emitting layer and the second light emitting layer are formed so as to be separated from each other and electrically insulated. Optionally, the touch electrode layer is formed in the same layer as the second electrode layer. Optionally, the first light emitting layer is formed in the same layer as the second light emitting layer. Optionally, the touch electrode layer and the second electrode layer are formed so as to be separated from each other and electrically insulated, and the first light emitting layer and the second light emitting layer are separated from each other and electrically. The touch electrode layer is formed in the same layer as the second electrode layer, and the first light emitting layer is formed in the same layer as the second light emitting layer.

様々な方法を実行して、タッチ電極層を第2電極層から離隔させ、電気的に絶縁させ、第1発光層を第2発光層から離隔させ、電気的に絶縁できる。例えば、マスクを利用して第1発光層のパターン、第2発光層のパターン、タッチ電極層のパターン及び第2電極層のパターンを形成することにより、第1発光層と第2発光層の間にギャップがあるようにし、タッチ電極層と第2電極層の間にギャップがあるようにすることができる。一部の実施例において、単一過程(例えば、堆積プロセス)にて単一発光層を形成し、該単一発光層をパターン化して第1発光層及び第2発光層を形成することができる(例えば、単一発光層にそれを二つの層に分けるギャップをエッチングする)。同様に、単一過程(例えば、堆積プロセス)にて単一電極層を形成し、該単一電極層をパターン化してタッチ電極層及び第2電極層を形成することができる(例えば、単一電極層にそれを二つの層に分けるギャップをエッチングする)。 Various methods can be performed to separate the touch electrode layer from the second electrode layer and electrically insulate it, and to separate the first light emitting layer from the second light emitting layer and electrically insulate it. For example, by forming a pattern of the first light emitting layer, a pattern of the second light emitting layer, a pattern of the touch electrode layer, and a pattern of the second electrode layer using a mask, between the first light emitting layer and the second light emitting layer. There can be a gap between the touch electrode layer and the second electrode layer. In some embodiments, a single light emitting layer can be formed in a single process (eg, a deposition process) and the single light emitting layer can be patterned to form a first light emitting layer and a second light emitting layer. (For example, etching a single light emitting layer with a gap that divides it into two layers). Similarly, a single electrode layer can be formed in a single process (eg, deposition process) and the single electrode layer can be patterned to form a touch electrode layer and a second electrode layer (eg, single). Etch the gap in the electrode layer that divides it into two layers).

一部の実施例において、各ピクセルは、ピクセルを第1領域と第2領域とに分けるベース基板上のパターン分離層を含む。パターン分離層は、タッチ電極層と第2電極層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させる。選択的に、パターン分離層は、第1発光層と第2発光層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させる。 In some embodiments, each pixel comprises a pattern separation layer on a base substrate that divides the pixel into a first region and a second region. The pattern separation layer separates the touch electrode layer and the second electrode layer from each other and electrically insulates them. Optionally, the pattern separation layer separates the first light emitting layer and the second light emitting layer from each other and electrically insulates them.

従って、選択的に、各ピクセルを形成するステップは、ベース基板上に各ピクセルを第1領域と第2領域とに分けるパターン分離層を形成するステップを含む。パターン分離層は、タッチ電極層と第2電極層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させ、第1発光層と第2発光層とを相互に離隔させ、電気的に絶縁させるように形成される。 Therefore, selectively, the step of forming each pixel includes a step of forming a pattern separation layer on the base substrate which divides each pixel into a first region and a second region. The pattern separation layer is formed so as to separate the touch electrode layer and the second electrode layer from each other and electrically insulate them, and to separate the first light emitting layer and the second light emitting layer from each other and electrically insulate them. Will be done.

図1Aは、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。図1Aを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、複数のピクセル1からなるアレイを含む。各ピクセル1は、複数のサブピクセル、例えば、サブピクセル11A、11B、11C、11Dを含んでもよい。図1Aが示すように、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、ベース基板20上の第1電極層4を含む。第1電極層4は、複数の第1電極ブロック(例えば、第1電極ブロック4A)及び第2電極ブロック(換言すれば、一つ又は複数の第2電極ブロック、例えば、第2電極ブロック4B)を含む。更に、タッチディスプレイ基板は、ベース基板20の平面図においてピクセル1を第1領域2と第2領域3とに分けるパターン分離層5を含む。第1領域2は、画像表示の可能な複数のサブピクセル11A、11B、11Cを含み、複数のサブピクセルの各々は、駆動薄膜トランジスタ10を含む。第2領域3は、少なくとも一つのタッチ制御用のタッチサブピクセル11Dを含む。選択的に、タッチサブピクセル11Dも画像表示が可能である。タッチサブピクセル11Dは、駆動薄膜トランジスタ10を含む。各駆動薄膜トランジスタ10は、第1電極ブロック4A又は第2電極ブロック4Bに電気的に接続される。 FIG. 1A is a drawing showing the structure of a touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 1A, the touch display substrate in this embodiment includes an array of a plurality of pixels 1. Each pixel 1 may include a plurality of sub-pixels, for example, sub-pixels 11A, 11B, 11C, 11D. As shown in FIG. 1A, the touch display substrate in this embodiment includes a first electrode layer 4 on the base substrate 20. The first electrode layer 4 includes a plurality of first electrode blocks (for example, first electrode block 4A) and a second electrode block (in other words, one or more second electrode blocks, for example, second electrode block 4B). including. Further, the touch display substrate includes a pattern separation layer 5 that divides the pixel 1 into a first region 2 and a second region 3 in the plan view of the base substrate 20. The first region 2 includes a plurality of sub-pixels 11A, 11B, 11C capable of displaying an image, and each of the plurality of sub-pixels includes a driving thin film transistor 10. The second region 3 includes at least one touch subpixel 11D for touch control. Optionally, the touch subpixel 11D can also display an image. The touch subpixel 11D includes a driving thin film transistor 10. Each driving thin film transistor 10 is electrically connected to the first electrode block 4A or the second electrode block 4B.

タッチディスプレイ基板を作成及び使用するように様々な実施例を実行してもよい。例えば、ベース基板は、適切な材料、例えば、ガラス、石英又は透明樹脂を利用して作成できる。薄膜トランジスタ10は、ゲート電極と、ソース電極と、ドレイン電極と、活性層とを含む薄膜トランジスタであって良い。 Various embodiments may be performed to create and use the touch display substrate. For example, the base substrate can be made using suitable materials such as glass, quartz or transparent resin. The thin film transistor 10 may be a thin film transistor including a gate electrode, a source electrode, a drain electrode, and an active layer.

一部の実施例において、ベース基板は、P+シリコン基板である。図1Aが示すように、薄膜トランジスタ10は、ゲート構造40と、N−ウェル50と、フィールド酸化物(FOX)絶縁構造60とを含む薄膜トランジスタであって良い。一部の実施例において、ベース基板は、N+シリコン基板である。選択的に、薄膜トランジスタは、ゲート構造と、P−ウェル及びフィールド酸化物(FOX)絶縁構造60とを含む。 In some embodiments, the base substrate is a P + silicon substrate. As shown in FIG. 1A, the thin film transistor 10 may be a thin film transistor including a gate structure 40, an N-well 50, and a field oxide (FOX) insulating structure 60. In some embodiments, the base substrate is an N + silicon substrate. Optionally, the thin film transistor comprises a gate structure and a P-well and field oxide (FOX) insulating structure 60.

選択的に、第1電極層は、アノード層であり、第2電極層は、カソード層である。選択的に、第1電極層は、カソード層であり、第2電極層は、アノード層である。 Optionally, the first electrode layer is an anode layer and the second electrode layer is a cathode layer. Optionally, the first electrode layer is a cathode layer and the second electrode layer is an anode layer.

図1Aが示すように、第1電極ブロック4Aは、第1領域2内にあり、第2電極ブロック4Bは、第2領域3内にある。第1電極ブロック4Aの各々は、サブピクセル11A、11B、11Cのうち一つに対応される。第2電極ブロック4Bは、サブピクセル11Dに対応される。 As shown in FIG. 1A, the first electrode block 4A is in the first region 2 and the second electrode block 4B is in the second region 3. Each of the first electrode blocks 4A corresponds to one of the subpixels 11A, 11B, 11C. The second electrode block 4B corresponds to the subpixel 11D.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第1電極層4のベース基板20から離れる側に位置する発光層6を含む。パターン分離層5は、発光層6を第1領域2内の第1発光層6Aと第2領域3内の第2発光層6Bとに分け、即ち、第1発光層6Aと第2発光層6Bとは、パターン分離層5により離隔される。第1発光層6Aは、サブピクセル11A、11B、11Cに対応し、第2発光層6Bは、サブピクセル11Dに対応する。パターン分離層5は、フォトレジストのような非導電性材料からなるので、第1発光層6Aと第2発光層6Bとも、パターン分離層5により電気的に絶縁される。 In some embodiments, the touch display substrate includes a light emitting layer 6 located on the side of the first electrode layer 4 away from the base substrate 20. The pattern separation layer 5 divides the light emitting layer 6 into a first light emitting layer 6A in the first region 2 and a second light emitting layer 6B in the second region 3, that is, the first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B. Is separated by the pattern separation layer 5. The first light emitting layer 6A corresponds to the subpixels 11A, 11B, 11C, and the second light emitting layer 6B corresponds to the subpixel 11D. Since the pattern separation layer 5 is made of a non-conductive material such as a photoresist, both the first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B are electrically insulated by the pattern separation layer 5.

第1発光層6Aと第2発光層6Bとを、単一過程(例えば、単一堆積プロセス)において作成してもよい。このように、第1発光層6Aと第2発光層6Bとは、同一の層に位置してもよい。第1発光層6Aと第2発光層6Bとを二つの堆積プロセスにおいて作成してもよい。従って、第1発光層6Aと第2発光層6Bとは、異なる層に位置してもよい。 The first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B may be formed in a single process (for example, a single deposition process). As described above, the first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B may be located in the same layer. The first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B may be formed in two deposition processes. Therefore, the first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B may be located in different layers.

図1Aが示すように、第1発光層6Aは、第1電極ブロック4Aのベース基板20から離れる側に位置し、第2発光層6Bは、第2電極ブロック4Bのベース基板20から離れる側に位置する。 As shown in FIG. 1A, the first light emitting layer 6A is located on the side of the first electrode block 4A away from the base substrate 20, and the second light emitting layer 6B is located on the side of the second electrode block 4B away from the base substrate 20. To position.

図1Aを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、発光層6の第1電極層4から離れる側に位置する第2電極層7Aを更に含む。具体的に、第2電極層7Aは、第1発光層6Aの第1電極ブロック4Aから離れる側に位置する。第2電極層7Aは、第1領域2内に位置する。選択的に、第2電極層7Aは、完全な電極層である。 Referring to FIG. 1A, the touch display substrate in this embodiment further includes a second electrode layer 7A located on the side of the light emitting layer 6 away from the first electrode layer 4. Specifically, the second electrode layer 7A is located on the side of the first light emitting layer 6A away from the first electrode block 4A. The second electrode layer 7A is located in the first region 2. Optionally, the second electrode layer 7A is a complete electrode layer.

図1Aを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、発光層6の第1電極層4から離れる側に位置するタッチ電極層7Bを更に含む。具体的に、タッチ電極層7Bは、第2発光層6Bの第2電極ブロック4Bから離れる側に位置する。タッチ電極層7Bは、第2領域3内に位置する。選択的に、タッチ電極層7Bは、完全な電極層である。 Referring to FIG. 1A, the touch display substrate in this embodiment further includes a touch electrode layer 7B located on the side of the light emitting layer 6 away from the first electrode layer 4. Specifically, the touch electrode layer 7B is located on the side of the second light emitting layer 6B away from the second electrode block 4B. The touch electrode layer 7B is located in the second region 3. Optionally, the touch electrode layer 7B is a complete electrode layer.

図1Aが示すように、第1発光層6Aは、第2電極層7Aのベース基板20に近づく側に位置し、第2発光層6Bは、タッチ電極層7Bのベース基板20に近づく側に位置する。 As shown in FIG. 1A, the first light emitting layer 6A is located closer to the base substrate 20 of the second electrode layer 7A, and the second light emitting layer 6B is located closer to the base substrate 20 of the touch electrode layer 7B. do.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第1発光層6と第1電極層4の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第1発光層6Aと第1領域内の第1電極層4(例えば、第1電極ブロック4A)の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層6Bと第2領域内の第1電極層4(例えば、第2電極ブロック4B)の間の一つ又は複数の有機層を含む。一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第1発光層6Aと第2電極層7Aの間の一つ又は複数の有機層を含む。一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層である。 In some embodiments, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the first light emitting layer 6 and the first electrode layer 4. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the first light emitting layer 6A and the first electrode layer 4 (eg, first electrode block 4A) in the first region. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the first electrode layer 4 (eg, second electrode block 4B) in the second region. In some embodiments, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the first light emitting layer 6A and the second electrode layer 7A. In some embodiments, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, one or more organic layers are carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

選択的に、第1発光層6Aは、安全な白色発光層である。選択的に、第2発光層6Bは、安全な白色発光層である。選択的に、第1発光層6Aと第2発光層6Bとは、単一過程において形成される。 Optionally, the first light emitting layer 6A is a safe white light emitting layer. Optionally, the second light emitting layer 6B is a safe white light emitting layer. Optionally, the first light emitting layer 6A and the second light emitting layer 6B are formed in a single process.

第1発光層6Aは、複数の発光ブロックを含み、複数の発光ブロックの各々は、異なる色の光を放射可能なブロック、例えば、赤色発光ブロック、緑色発光ブロック、青色発光ブロック、又は白色発光ブロックである。各発光ブロックは、サブピクセル、例えば、サブピクセル11A、11B、又は11Cに対応する。各発光ブロックは、第1電極ブロック4Aに対応される。選択的に、タッチディスプレイ基板は、各発光ブロックを絶縁させるピクセル定義層(Pixel definition layer)を含む。選択的に、発光ブロックは、赤色発光層を含む。選択的に、発光ブロックは、緑色発光層を含む。選択的に、発光ブロックは、青色発光層を含む。選択的に、発光ブロックは、白色発光層を含む。一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第1発光ブロックと第1電極ブロック4Aの間の一つ又は複数の有機層を含む。一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第1発光ブロックと第2電極層7Aの間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層である。 The first light emitting layer 6A includes a plurality of light emitting blocks, and each of the plurality of light emitting blocks can emit light of a different color, for example, a red light emitting block, a green light emitting block, a blue light emitting block, or a white light emitting block. Is. Each light emitting block corresponds to a subpixel, eg, subpixels 11A, 11B, or 11C. Each light emitting block corresponds to the first electrode block 4A. Optionally, the touch display substrate includes a Pixel definition layer that insulates each light emitting block. Optionally, the light emitting block comprises a red light emitting layer. Optionally, the light emitting block comprises a green light emitting layer. Optionally, the light emitting block comprises a blue light emitting layer. Optionally, the light emitting block comprises a white light emitting layer. In some embodiments, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the first light emitting block and the first electrode block 4A. In some embodiments, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the first light emitting block and the second electrode layer 7A. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, one or more organic layers are carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

パターン分離層5は、第1領域2内の第2電極層7Aを第2領域3内のタッチ電極層7Bから分離させ、即ち、第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとは、パターン分離層5により離隔される。第2電極層7Aは、サブピクセル11A、11B、11Cに対応し、タッチ電極層7Bは、サブピクセル11Dに対応する。パターン分離層5は、フォトレジストのような非導電性材料からなるので、第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとも、パターン分離層5により電気的に絶縁される。 The pattern separation layer 5 separates the second electrode layer 7A in the first region 2 from the touch electrode layer 7B in the second region 3, that is, the second electrode layer 7A and the touch electrode layer 7B are separated from each other. Separated by 5. The second electrode layer 7A corresponds to the subpixels 11A, 11B, 11C, and the touch electrode layer 7B corresponds to the subpixel 11D. Since the pattern separation layer 5 is made of a non-conductive material such as a photoresist, both the second electrode layer 7A and the touch electrode layer 7B are electrically insulated by the pattern separation layer 5.

第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとを、単一過程(例えば、単一堆積プロセス)において作成してもよい。このように、第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとは、同一の層に位置しても良い。選択的に、二つの堆積プロセスにおいて第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとを作成する。従って、第2電極層7Aとタッチ電極層7Bとは、異なる層に位置しても良い。 The second electrode layer 7A and the touch electrode layer 7B may be created in a single process (eg, a single deposition process). As described above, the second electrode layer 7A and the touch electrode layer 7B may be located in the same layer. Optionally, a second electrode layer 7A and a touch electrode layer 7B are created in the two deposition processes. Therefore, the second electrode layer 7A and the touch electrode layer 7B may be located in different layers.

一部の実施例において、第2領域内の第2電極ブロック4Bは、タッチ電極層7Bに電気的に接続される。第2電極ブロック4Bがタッチ電極層7Bに電気的に接続されるように、様々な実施例を実行してもよい。例えば、第2電極ブロック4Bとタッチ電極層7Bとは、第2発光層6Bを貫通して延長するビアホールを通じて電気的に接続されてもよい。ここで検討されるように、第2電極ブロック4Bとタッチ電極層7Bとは、第2発光層6B内の導電性チャネルを通じて電気的に接続されてもよい。導電性チャネルは、発光材料と、第2領域内の第2電極ブロックの導電性材料と、タッチ電極層の導電性材料とを含む焼結された導電性材料を含む。 In some embodiments, the second electrode block 4B in the second region is electrically connected to the touch electrode layer 7B. Various embodiments may be performed such that the second electrode block 4B is electrically connected to the touch electrode layer 7B. For example, the second electrode block 4B and the touch electrode layer 7B may be electrically connected through a via hole extending through the second light emitting layer 6B. As discussed here, the second electrode block 4B and the touch electrode layer 7B may be electrically connected through a conductive channel in the second light emitting layer 6B. The conductive channel includes a sintered conductive material including a light emitting material, a conductive material of the second electrode block in the second region, and a conductive material of the touch electrode layer.

図1Bは、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。図1Bを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、第2発光層6B内の導電性チャネル8を含む。導電性チャネル8は、例えば、レーザーで第2発光層6B、タッチ電極層7B及び第2電極ブロック4Bを焼結して形成できる。導電性チャネル8は、第2発光層6Bの発光材料、第2電極ブロック4Bの導電性材料及びタッチ電極層7Bの導電性材料のうち少なくとも一つを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、タッチ電極層7Bの導電性チャネル8に対応する部分も、タッチ電極層7Bの導電性材料と、第2発光層6Bの発光材料とを少なくとも含む焼結された材料を含む。選択的に、第2電極ブロック4Bの導電性チャネル8に対応する部分も、第2電極ブロック4Bの導電性材料と、第2発光層6Bの発光材料とを少なくとも含む焼結された材料を含む。導電性チャネル8を少なくとも部分的に焼結して、導電性チャネル8を導電性に変化させることにより、第2電極ブロック4Bとタッチ電極層7Bとを電気的に接続させる。 FIG. 1B is a drawing showing the structure of the touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 1B, the touch display substrate in this embodiment includes a conductive channel 8 in the second light emitting layer 6B. The conductive channel 8 can be formed by, for example, sintering the second light emitting layer 6B, the touch electrode layer 7B, and the second electrode block 4B with a laser. The conductive channel 8 includes a sintered conductive material containing at least one of a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the second electrode block 4B, and a conductive material of the touch electrode layer 7B. Optionally, the portion of the touch electrode layer 7B corresponding to the conductive channel 8 also includes a sintered material containing at least the conductive material of the touch electrode layer 7B and the light emitting material of the second light emitting layer 6B. Optionally, the portion of the second electrode block 4B corresponding to the conductive channel 8 also includes a sintered material containing at least the conductive material of the second electrode block 4B and the light emitting material of the second light emitting layer 6B. .. The second electrode block 4B and the touch electrode layer 7B are electrically connected by sintering the conductive channel 8 at least partially to change the conductive channel 8 to be conductive.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層6Bと第2電極ブロック4Bの間の、又は第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の追加的な層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層6Bと第2電極ブロック4Bの間の一つ又は複数の有機層とを含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層である。 In some embodiments, the touch display substrate is an additional layer between the second light emitting layer 6B and the second electrode block 4B in the second region, or between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. including. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the second electrode block 4B in the second region. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, one or more organic layers are carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

従って、選択的に、導電性チャネル8は、第2発光層6Bの発光材料と、第2電極ブロック4Bの導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、第2領域内の第2発光層6Bと第2電極ブロック4Bの間の、又は第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の追加的な層の材料とを含む焼結された導電性材料を含んでもよい。追加的な層の例として、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層と、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層とを含む。選択的に、導電性チャネル8は、第2発光層6Bの発光材料と、第2電極ブロック4Bの導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア輸送層(例えば、ホール輸送層又は電子輸送層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、導電性チャネル8は、第2発光層6Bの発光材料と、第2電極ブロック4Bの導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア注入層(例えば、ホール注入層又は電子注入層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、導電性チャネル8は、第2発光層6Bの発光材料と、第2電極ブロック4Bの導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア輸送層(例えば、ホール輸送層又は電子輸送層)の材料と、キャリア注入層(例えば、ホール注入層又は電子注入層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。 Therefore, selectively, the conductive channel 8 includes the light emitting material of the second light emitting layer 6B, the conductive material of the second electrode block 4B, the conductive material of the touch electrode layer 7B, and the second in the second region. It may include a sintered conductive material that includes an additional layer material between the light emitting layer 6B and the second electrode block 4B, or between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. Examples of additional layers include a carrier-transporting layer such as a hole-transporting layer or an electron-transporting layer and a carrier-injecting layer such as a hole-injecting layer or an electron-injecting layer. Optionally, the conductive channel 8 includes a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the second electrode block 4B, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier transport layer (for example, a hole transport layer). Or includes a sintered conductive material that includes a material of an electron transport layer). Optionally, the conductive channel 8 includes a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the second electrode block 4B, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier injection layer (for example, a hole injection layer). Or includes a sintered conductive material that includes a material of an electron injection layer). Optionally, the conductive channel 8 includes a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the second electrode block 4B, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier transport layer (for example, a hole transport layer). Or an electron transporting layer) and a sintered conductive material comprising a carrier injecting layer (eg, a hole injecting layer or an electron injecting layer).

図1Cは、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の構造を示す図面である。図1Cを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、第2発光層6B内の導電性チャネル8’を含む。図1Cが示すように、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、第1領域内の複数の電極リード線80と、第2領域内の複数のタッチ制御リード線70とを含む。複数のタッチ制御リード線70は、複数の電極リード線80と同一の層に位置する。複数のタッチ制御リード線70は、第2発光層6B内の導電性チャネル8’を通じてタッチ電極層7Bに電気的に接続されてもよい。導電性チャネル8’は、例えば、レーザーで第2発光層6B、タッチ電極層7B及びタッチ制御リード線70を焼結して形成されてもよい。導電性チャネル8’は、第2発光層6Bの発光材料、タッチ制御リード線70の導電性材料及びタッチ電極層7Bの導電性材料のうち少なくとも一つを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、タッチ電極層7Bの導電性チャネル8’に対応する部分も、タッチ電極層7Bの導電性材料及び第2発光層6Bの発光材料を少なくとも含む焼結された材料を含む。選択的に、タッチ制御リード線70の導電性チャネル8’に対応する部分も、タッチ制御リード線70の導電性材料及び第2発光層6Bの発光材料を少なくとも含む焼結された材料を含む。導電性チャネル8’を少なくとも部分的に焼結して、導電性チャネル8’を導電性に変化させることにより、タッチ制御リード線70とタッチ電極層7Bとを電気的に接続させる。 FIG. 1C is a drawing showing the structure of the touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 1C, the touch display substrate in this embodiment includes a conductive channel 8'in the second light emitting layer 6B. As shown in FIG. 1C, the touch display substrate in this embodiment includes a plurality of electrode lead wires 80 in the first region and a plurality of touch control lead wires 70 in the second region. The plurality of touch control lead wires 70 are located in the same layer as the plurality of electrode lead wires 80. The plurality of touch control lead wires 70 may be electrically connected to the touch electrode layer 7B through the conductive channel 8'in the second light emitting layer 6B. The conductive channel 8'may be formed by, for example, sintering the second light emitting layer 6B, the touch electrode layer 7B, and the touch control lead wire 70 with a laser. The conductive channel 8'contains a sintered conductive material containing at least one of a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the touch control lead wire 70, and a conductive material of the touch electrode layer 7B. .. Optionally, the portion of the touch electrode layer 7B corresponding to the conductive channel 8'also includes a sintered material containing at least the conductive material of the touch electrode layer 7B and the light emitting material of the second light emitting layer 6B. Optionally, the portion of the touch control lead 70 corresponding to the conductive channel 8'also includes a sintered material containing at least the conductive material of the touch control lead 70 and the light emitting material of the second light emitting layer 6B. By at least partially sintering the conductive channel 8'and changing the conductive channel 8'to be conductive, the touch control lead wire 70 and the touch electrode layer 7B are electrically connected.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層6Bとタッチ制御リード線70の間の、又は第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の追加的な層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層6Bとタッチ制御リード線70の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層である。 In some embodiments, the touch display substrate is an additional layer between the second light emitting layer 6B and the touch control lead wire 70 in the second region, or between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. including. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the touch control leads 70 in the second region. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, one or more organic layers are carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

従って、選択的に、導電性チャネル8’は、第2発光層6Bの発光材料と、タッチ制御リード線70の導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、第2領域内の第2発光層6Bとタッチ制御リード線70の間の、又は第2発光層6Bとタッチ電極層7Bの間の追加的な層の材料とを含む焼結された導電性材料を含んでもよい。追加的な層の例として、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層と、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層とを含む。選択的に、導電性チャネル8’は、第2発光層6Bの発光材料と、タッチ制御リード線70の導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア輸送層(例えば、ホール輸送層又は電子輸送層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、導電性チャネル8’は、第2発光層6Bの発光材料と、タッチ制御リード線70の導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア注入層(例えば、ホール注入層又は電子注入層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。選択的に、導電性チャネル8’は、第2発光層6Bの発光材料と、タッチ制御リード線70の導電性材料と、タッチ電極層7Bの導電性材料と、キャリア輸送層(例えば、ホール輸送層又は電子輸送層)の材料と、キャリア注入層(例えば、ホール注入層又は電子注入層)の材料とを含む焼結された導電性材料を含む。 Therefore, selectively, the conductive channel 8'is the light emitting material of the second light emitting layer 6B, the conductive material of the touch control lead wire 70, the conductive material of the touch electrode layer 7B, and the second in the second region. It may include a sintered conductive material that includes an additional layer material between the two light emitting layers 6B and the touch control lead wire 70, or between the second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B. Examples of additional layers include a carrier-transporting layer such as a hole-transporting layer or an electron-transporting layer and a carrier-injecting layer such as a hole-injecting layer or an electron-injecting layer. Optionally, the conductive channel 8'is composed of a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the touch control lead wire 70, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier transport layer (for example, hole transport). Includes sintered conductive materials, including materials for layers or electron transport layers). Optionally, the conductive channel 8'is composed of a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the touch control lead wire 70, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier injection layer (for example, hole injection). Includes sintered conductive materials that include (layer or electron-injected layer) materials. Optionally, the conductive channel 8'is composed of a light emitting material of the second light emitting layer 6B, a conductive material of the touch control lead wire 70, a conductive material of the touch electrode layer 7B, and a carrier transport layer (for example, hole transport). Includes a sintered conductive material that includes a material of a layer or electron transport layer) and a material of a carrier injection layer (eg, a hole injection layer or an electron injection layer).

タッチ電極層7Bは、導電性チャネル8’を通じてタッチ制御リード線70に電気的に接続され、タッチ制御リード線70は、導電性チャネル8’を通じてタッチ電極層7Bに接続されてもよい。従って、タッチ制御リード線70は、第1領域内の画像表示を駆動するための電極リード線80と同一の層に形成されてもよい。選択的に、タッチ制御リード線70は、第1電極リード線と同一の層に位置する。選択的に、タッチ制御リード線70は、第2電極リード線と同一の層に位置する。 The touch electrode layer 7B may be electrically connected to the touch control lead wire 70 through the conductive channel 8', and the touch control lead wire 70 may be connected to the touch electrode layer 7B through the conductive channel 8'. Therefore, the touch control lead wire 70 may be formed in the same layer as the electrode lead wire 80 for driving the image display in the first region. Optionally, the touch control lead wire 70 is located on the same layer as the first electrode lead wire. Optionally, the touch control lead wire 70 is located on the same layer as the second electrode lead wire.

図1A乃至図1Cを参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、第2領域内の少なくとも一つのピクセル補償回路9を更に含む。ピクセル補償回路9の例として、6T1C回路と、2T1C回路と、4T1C回路と、5T1C回路とを含むが、これらに限定されない。 Referring to FIGS. 1A to 1C, the touch display substrate in this embodiment further includes at least one pixel compensation circuit 9 in the second region. Examples of the pixel compensation circuit 9 include, but are not limited to, a 6T1C circuit, a 2T1C circuit, a 4T1C circuit, and a 5T1C circuit.

一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、第2領域内で複数の(例えば、二つ、三つ、四つ又はそれ以上)のピクセル補償回路9を含む。例えば、タッチディスプレイ基板は、複数のピクセル補償回路9を含むことができ、複数のピクセル補償回路9の各々は、異なるサブピクセル(例えば、赤色サブピクセル、緑色サブピクセル、又は青色サブピクセル)に対応する。 In some embodiments, the touch display substrate comprises a plurality of (eg, two, three, four or more) pixel compensation circuits 9 within the second region. For example, a touch display board can include a plurality of pixel compensation circuits 9, each of which corresponds to a different subpixel (eg, a red subpixel, a green subpixel, or a blue subpixel). do.

もう一つの側面において、本開示は、タッチディスプレイ基板における新たなピクセル配列を提供する。一部の実施例において、ピクセルは、第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルとを含み、ピクセル内の第2領域は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセルと、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルとに隣接する。第1色と、第2色と、第3色とは、三つの異なる色、例えば、赤色、緑色、青色である。 In another aspect, the present disclosure provides a new pixel array in a touch display substrate. In some embodiments, the pixel comprises a first color subpixel, a second color subpixel, and a third color subpixel, and the second region within the pixel is a second from the same pixel. It is adjacent to a subpixel of one color, a subpixel of the second color from the first adjacent pixel, and two subpixels of the third color from the second adjacent pixel and the third adjacent pixel, respectively. The first color, the second color, and the third color are three different colors, for example, red, green, and blue.

図2は、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板におけるピクセル配列を示す図面である。図2を参照すると、本実施例におけるタッチディスプレイ基板は、赤色サブピクセル11Aと、緑色サブピクセル11Bと、青色サブピクセル11Cと、タッチサブピクセル11Dとを含む。ここで議論されるように、本開示のピクセルは、第1領域と第2領域とを含む。第1領域は、画像表示の可能な赤色サブピクセル11Aと、緑色サブピクセル11Bと、青色サブピクセル11Cとを含む。第2領域は、タッチ制御用のタッチサブピクセル11Dを含む。選択的に、タッチサブピクセル11Dも画像表示が可能である。各ピクセルは、タッチサブピクセル11D内の少なくとも一つのピクセル補償回路を更に含む。例えば、各ピクセルは、タッチサブピクセル11D内の少なくとも三つのピクセル補償回路を含んでもよく、ピクセル補償回路の各々は、赤色サブピクセル11A、緑色サブピクセル11B及び青色サブピクセル11Cのうちの一つに接続される。 FIG. 2 is a drawing showing a pixel arrangement in a touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 2, the touch display substrate in this embodiment includes a red subpixel 11A, a green subpixel 11B, a blue subpixel 11C, and a touch subpixel 11D. As discussed herein, the pixels of the present disclosure include a first region and a second region. The first region includes a red subpixel 11A capable of displaying an image, a green subpixel 11B, and a blue subpixel 11C. The second region includes a touch subpixel 11D for touch control. Optionally, the touch subpixel 11D can also display an image. Each pixel further comprises at least one pixel compensation circuit within the touch subpixel 11D. For example, each pixel may include at least three pixel compensation circuits within the touch subpixel 11D, and each of the pixel compensation circuits may be one of a red subpixel 11A, a green subpixel 11B and a blue subpixel 11C. Be connected.

図2を参照すると、第2領域(及びタッチサブピクセル11D)は、四つのサブピクセルに囲まれ、即ち、同一のピクセルからの青色サブピクセル11C(11Dの左側に位置)と、第1隣接ピクセルからの赤色サブピクセル11A(11Dの右側に位置)と、第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの緑色サブピクセル11C(11Dの上側及び下側に位置)とに囲まれる。 Referring to FIG. 2, the second region (and touch subpixel 11D) is surrounded by four subpixels, namely the blue subpixel 11C (located to the left of 11D) from the same pixel and the first adjacent pixel. Surrounded by a red subpixel 11A (located to the right of 11D) from and two green subpixels 11C (located above and below 11D) from a second adjacent pixel and a third adjacent pixel.

図3は、従来のタッチディスプレイ基板におけるピクセル配列を示す図面である。図3を参照すると、第2領域(及びタッチサブピクセル11D)は、同一のピクセルからの青色サブピクセル11C(11Dの左側に位置)と、第1隣接ピクセルからの赤色サブピクセル11A(11Dの右側に位置)と、第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つのタッチサブピクセル11D(11Dの上側及び下側に位置)とに囲まれる。このように、従来のタッチディスプレイ基板において、第2領域は、緑色サブピクセル11Bに囲まれていない。それ故、緑色サブピクセル11Bに関連するピクセル補償回路を第2領域に配置し難い。 FIG. 3 is a drawing showing a pixel arrangement in a conventional touch display substrate. Referring to FIG. 3, the second region (and touch subpixel 11D) is a blue subpixel 11C (located on the left side of 11D) from the same pixel and a red subpixel 11A (right side of 11D) from the first adjacent pixel. (Positioned at) and two touch subpixels 11D (located above and below 11D) from the second adjacent pixel and the third adjacent pixel. As described above, in the conventional touch display substrate, the second region is not surrounded by the green subpixel 11B. Therefore, it is difficult to arrange the pixel compensation circuit related to the green subpixel 11B in the second region.

従来のタッチディスプレイ基板に比べ、本タッチディスプレイ基板における第2領域は、赤色サブピクセル11Aと、青色サブピクセル11Cと、二つの緑色サブピクセル11Bとに囲まれる。従って、すべての三種類の色のサブピクセルに関連するピクセル補償回路を簡便に同一の第2領域内に配置できる。図4は、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板におけるピクセル補償回路の配列を示す図面である。図4を参照すると、各ピクセルの各第2領域は、三つの部分である11D1と、11D2と、11D3とを含み、各部分は、ピクセル補償回路を含む。例えば、第2領域は、11D2内の第1隣接ピクセルからの赤色サブピクセル(タッチサブピクセルの右側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D3内の同一のピクセルからの青色サブピクセル(タッチサブピクセルの左側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D1内の第2隣接ピクセルからの緑色サブピクセル(タッチサブピクセルの上側に位置)に接続されるピクセル補償回路とを含んでもよい。 Compared to the conventional touch display board, the second region of the touch display board is surrounded by a red subpixel 11A, a blue subpixel 11C, and two green subpixels 11B. Therefore, pixel compensation circuits related to subpixels of all three types of colors can be easily arranged in the same second region. FIG. 4 is a drawing showing an arrangement of pixel compensation circuits in the touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 4, each second region of each pixel includes three parts, 11D1, 11D2, and 11D3, each part containing a pixel compensation circuit. For example, the second region is a pixel compensation circuit connected to a red subpixel (located to the right of the touch subpixel) from the first adjacent pixel in 11D2 and a blue subpixel (touch) from the same pixel in 11D3. It may include a pixel compensation circuit connected to the left side of the subpixel) and a pixel compensation circuit connected to the green subpixel (positioned above the touch subpixel) from the second adjacent pixel in 11D1.

第2領域は、三つ以上のピクセル補償回路を含むことができる。図5は、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板におけるピクセル補償回路の配列を示す図面である。図5を参照すると、各ピクセルの各第2領域は、四つの部分である11D1と、11D2と、11D3と、11D4とを含み、部分の各々は、ピクセル補償回路を含む。例えば、第2領域は、11D2内の第1隣接ピクセルからの赤色サブピクセル(タッチサブピクセルの右側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D3内の同一のピクセルからの青色サブピクセル(タッチサブピクセルの左側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D1内の第2隣接ピクセルからの緑色サブピクセル(タッチサブピクセルの上側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D4内の第3隣接ピクセルからの緑色サブピクセル(タッチサブピクセルの下側に位置)に接続されるピクセル補償回路とを含んでもよい。 The second region can include three or more pixel compensation circuits. FIG. 5 is a drawing showing an arrangement of pixel compensation circuits in the touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 5, each second region of each pixel comprises four parts, 11D1, 11D2, 11D3, and 11D4, each of which contains a pixel compensation circuit. For example, the second region is a pixel compensation circuit connected to a red subpixel (located to the right of the touch subpixel) from the first adjacent pixel in 11D2 and a blue subpixel (touch) from the same pixel in 11D3. A pixel compensation circuit connected to the left side of the subpixel), a pixel compensation circuit connected to the green subpixel (positioned above the touch subpixel) from the second adjacent pixel in 11D1, and the first in 11D4. 3 It may include a pixel compensation circuit connected to a green subpixel (located below the touch subpixel) from an adjacent pixel.

一部の実施例において、タッチ電極層は、時分割駆動モードに従って操作される。例えば、時分割駆動モードは、ディスプレイモードとタッチ制御モードとを含んでもよい。タッチ電極層は、タッチ制御モードの間にタッチ信号を伝導するためのタッチ制御電極である。ディスプレイモードにおいて、第2領域内の第2電極ブロック及びタッチ電極層は、ディスプレイモードの間に、電圧信号を第2発光層に印加して画像表示をするための電極である。選択的に、タッチ電極層が時分割駆動モードに従って操作される時、第2領域は、タッチサブピクセル用のピクセル補償回路を更に含んでもよい。例えば、第2領域は、11D2内の第1隣接ピクセルからの赤色サブピクセル(タッチサブピクセルの右側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D3内の同一のピクセルからの青色サブピクセル(タッチサブピクセルの左側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D1内の第2隣接ピクセルからの緑色サブピクセル(タッチサブピクセルの上側に位置)に接続されるピクセル補償回路と、11D4内のタッチサブピクセル自体用のピクセル補償回路とを含んでもよい。 In some embodiments, the touch electrode layer is operated according to a time division drive mode. For example, the time division drive mode may include a display mode and a touch control mode. The touch electrode layer is a touch control electrode for conducting a touch signal during the touch control mode. In the display mode, the second electrode block and the touch electrode layer in the second region are electrodes for applying a voltage signal to the second light emitting layer to display an image during the display mode. Optionally, when the touch electrode layer is manipulated according to a time division drive mode, the second region may further include a pixel compensation circuit for touch subpixels. For example, the second region is a pixel compensation circuit connected to a red subpixel (located to the right of the touch subpixel) from the first adjacent pixel in 11D2 and a blue subpixel (touch) from the same pixel in 11D3. A pixel compensation circuit connected to the left side of the subpixel), a pixel compensation circuit connected to the green subpixel (located above the touch subpixel) from the second adjacent pixel in 11D1, and a touch in 11D4. It may include a pixel compensation circuit for the subpixel itself.

図1A及び図1Bを参照すると、本実施例における発光層は、白色発光層(第1発光層6Aと、第2発光層6Bとを含む)である。図1A及び図1Bが示すように、第1領域2内で、各ピクセルは、複数のカラーフィルター30A、30B、30Cを更に含む。複数のカラーフィルター30A、30B、30Cは、サブピクセルに対応される。例えば、カラーフィルター30Aは赤色サブピクセルに対応する赤色カラーフィルターであってもよく、カラーフィルター30Bは緑色サブピクセルに対応する緑色カラーフィルターであってもよく、カラーフィルター30Cは青色サブピクセルに対応する青色カラーフィルターであってもよい。選択的に、第1発光層6Aは、全体的に発光層である。 Referring to FIGS. 1A and 1B, the light emitting layer in this embodiment is a white light emitting layer (including a first light emitting layer 6A and a second light emitting layer 6B). As shown in FIGS. 1A and 1B, within the first region 2, each pixel further includes a plurality of color filters 30A, 30B, 30C. The plurality of color filters 30A, 30B, and 30C correspond to subpixels. For example, the color filter 30A may be a red color filter corresponding to a red subpixel, the color filter 30B may be a green color filter corresponding to a green subpixel, and the color filter 30C may be a blue subpixel. It may be a blue color filter. Optionally, the first light emitting layer 6A is an overall light emitting layer.

もう一つの側面において、本開示は、タッチディスプレイ基板の製造方法を提供する。一部の実施例において、方法は、複数のピクセルからなるアレイを形成することを含む。図6は、一部の実施例におけるタッチディスプレイ基板の製造方法を示すフローチャートである。図6を参照すると、本実施例における各ピクセルを形成するステップは、ベース基板上に複数の第1電極ブロックと第2電極ブロックとを含む第1電極層を形成するステップと、ベース基板上に、ベース基板の平面図において各ピクセルを第1領域と第2領域とに分けるパターン分離層を形成するステップと、第1電極層のベース基板から離れる側に、第1領域内の第1発光層とパターン分離層により第1発光層から離隔された第2領域内の第2発光層を含む発光層を形成するステップと、発光層の第1電極層から離れる側の同一の層に、第1領域に位置する第2電極層とパターン分離層により第2電極層から離隔され電気的に絶縁された第2領域に位置するタッチ電極層を形成するステップとを含む。 In another aspect, the present disclosure provides a method of manufacturing a touch display substrate. In some embodiments, the method comprises forming an array of multiple pixels. FIG. 6 is a flowchart showing a method of manufacturing a touch display substrate in some examples. Referring to FIG. 6, the steps of forming each pixel in this embodiment include a step of forming a first electrode layer including a plurality of first electrode blocks and a second electrode block on the base substrate, and a step of forming the first electrode layer on the base substrate. , A step of forming a pattern separation layer that divides each pixel into a first region and a second region in the plan view of the base substrate, and a first light emitting layer in the first region on the side of the first electrode layer away from the base substrate. In the step of forming a light emitting layer including the second light emitting layer in the second region separated from the first light emitting layer by the pattern separation layer, and the same layer on the side of the light emitting layer away from the first electrode layer, the first It includes a second electrode layer located in the region and a step of forming a touch electrode layer located in the second region electrically isolated from the second electrode layer by a pattern separation layer.

様々な適切な材料を使用してパターン分離層を作成できる。一部の実施例において、パターン分離層は、フォトレジスト材料からなる。図7Aは、一部の実施例におけるパターン分離層の構造を示す図面である。図7Aを参照すると、パターン分離層5は、ベース基板上に形成され、発光材料と電極材料とがパターン分離層5を有するベース基板上に順次に堆積される。第1発光層6A及び第2電極層7Aは、第1領域内に形成される。第2発光層6B及びタッチ電極層7Bは、第2領域内に形成される。図7Bが示すように、パターン分離層は、第1領域内の第1発光層6Aと第2領域内の第2発光層6Bとを電気的に絶縁させ、第1領域内の第2電極層7Aと第2領域内のタッチ電極層7Bとを電気的に絶縁させる。 A variety of suitable materials can be used to create the pattern separation layer. In some embodiments, the pattern separation layer is made of a photoresist material. FIG. 7A is a drawing showing the structure of the pattern separation layer in some examples. Referring to FIG. 7A, the pattern separation layer 5 is formed on the base substrate, and the light emitting material and the electrode material are sequentially deposited on the base substrate having the pattern separation layer 5. The first light emitting layer 6A and the second electrode layer 7A are formed in the first region. The second light emitting layer 6B and the touch electrode layer 7B are formed in the second region. As shown in FIG. 7B, the pattern separation layer electrically insulates the first light emitting layer 6A in the first region and the second light emitting layer 6B in the second region, and the second electrode layer in the first region. The 7A and the touch electrode layer 7B in the second region are electrically insulated.

堆積プロセスにおいて、発光材料及び電極材料は、パターン分離層5に堆積され、パターン分離層5上に第3発光部12及び電極層13を形成してもよい。選択的に、第1発光層6A、第2電極層7A、第2発光層6B及びタッチ電極層7Bの形成の後、第3発光部12及び電極層13を除去してもよい(例えば、エッチングや、アッシング等を利用)。図7Bは、一部の実施例におけるパターン分離層の構造を示す図面である。図7Bを参照すると、パターン分離層5は、ベース基板上に形成され、発光材料と電極材料とがパターン分離層5を有するベース基板上に順次に堆積される。パターン分離層5上の発光材料及び電極材料を除去する。 In the deposition process, the light emitting material and the electrode material may be deposited on the pattern separation layer 5 to form a third light emitting portion 12 and an electrode layer 13 on the pattern separation layer 5. Alternatively, after the formation of the first light emitting layer 6A, the second electrode layer 7A, the second light emitting layer 6B, and the touch electrode layer 7B, the third light emitting portion 12 and the electrode layer 13 may be removed (for example, etching). And use ashing etc.). FIG. 7B is a drawing showing the structure of the pattern separation layer in some examples. Referring to FIG. 7B, the pattern separation layer 5 is formed on the base substrate, and the light emitting material and the electrode material are sequentially deposited on the base substrate having the pattern separation layer 5. The light emitting material and the electrode material on the pattern separation layer 5 are removed.

従って、一部の実施例において、各ピクセルを形成するステップは、第1電極層を有するベース基板上にフォトレジスト層を堆積するステップと、パターン分離層に対応するパターンを有するマスクによりフォトレジスト層を露光させるステップと、露光されたフォトレジスト層を現像して、パターン分離層を形成するステップとを含む。一旦パターン分離層が形成されると、ステップは、第1電極層のパターン分離層を有するベース基板から離れる側に有機発光材料層を堆積して、第1領域内の第1発光層及び第2領域内の第2発光層を形成するステップを更に含んでもよい。第1領域内の第1発光層と第2領域内の第2発光層とを、単一の堆積ステップで形成してもよい。選択的に、第1領域内の第1発光層と第2領域内の第2発光層とを、二つのプロセスにおいて別々に形成してもよい。一旦第1領域内の第1発光層及び第2領域内の第2発光層が形成されると、ステップは、有機発光材料層の第1電極層から離れる側に電極材料層を堆積して、第1領域内の第2電極層及び第2領域内のタッチ電極層を形成するステップを更に含んでもよい。第1領域内の第2電極層と第2領域内のタッチ電極層とを、単一の堆積ステップで形成してもよい。選択的に、第1領域内の第2電極層と第2領域内のタッチ電極層とを、二つのプロセスにおいて別々に形成してもよい。 Therefore, in some embodiments, the steps of forming each pixel are a step of depositing a photoresist layer on a base substrate having a first electrode layer and a photoresist layer with a mask having a pattern corresponding to the pattern separation layer. Includes a step of exposing the exposed photoresist layer and a step of developing the exposed photoresist layer to form a pattern separation layer. Once the pattern separation layer is formed, the step deposits an organic light emitting material layer on the side away from the base substrate having the pattern separation layer of the first electrode layer, and the first light emitting layer and the second light emitting layer in the first region. Further may include the step of forming a second light emitting layer in the region. The first light emitting layer in the first region and the second light emitting layer in the second region may be formed in a single deposition step. Alternatively, the first light emitting layer in the first region and the second light emitting layer in the second region may be formed separately in the two processes. Once the first light emitting layer in the first region and the second light emitting layer in the second region are formed, the step deposits the electrode material layer on the side of the organic light emitting material layer away from the first electrode layer. It may further include the step of forming the second electrode layer in the first region and the touch electrode layer in the second region. The second electrode layer in the first region and the touch electrode layer in the second region may be formed in a single deposition step. Alternatively, the second electrode layer in the first region and the touch electrode layer in the second region may be formed separately in the two processes.

選択的に、第1領域内の第1発光層と第2領域内の第2発光層とを、単一の堆積ステップで形成し、第1領域内の第2電極層と第2領域内のタッチ電極層とを、単一の堆積ステップで形成する。選択的に、パターン分離層のベース基板から離れる側に堆積された任意の発光材料及び電極材料を除去してもよい。 Optionally, the first light emitting layer in the first region and the second light emitting layer in the second region are formed in a single deposition step, and the second electrode layer in the first region and the second light emitting layer in the second region are formed. A touch electrode layer is formed in a single deposition step. Alternatively, any luminescent material and electrode material deposited on the side of the pattern separation layer away from the base substrate may be removed.

一部の実施例において、第1電極層を形成するステップは、第1領域内にサブピクセルにそれぞれ対応される第1電極ブロックを複数形成するステップと、第2領域内に第2電極ブロックを形成するステップとを含む。第1領域内の複数の第1電極ブロックと第2領域内の第2電極ブロックとを、単一のプロセス(例えば、単一の堆積プロセス)においてパターン化用の単一マスクを使用してもよい。選択的に、第1領域内の複数の第1電極ブロックと第2領域内の第2電極ブロックとを、別々に形成する。 In some embodiments, the step of forming the first electrode layer includes a step of forming a plurality of first electrode blocks corresponding to subpixels in the first region and a second electrode block in the second region. Includes steps to form. Multiple first electrode blocks in the first region and second electrode blocks in the second region can be combined in a single process (eg, a single deposition process) using a single mask for patterning. good. Optionally, the plurality of first electrode blocks in the first region and the second electrode block in the second region are formed separately.

一部の実施例において、各ピクセルを形成するステップは、第2領域内の第2電極ブロックをタッチ電極層に電気的に接続するステップを更に含む。様々な適切な方法を実施して第2電極ブロックをタッチ電極層に電気的に接続してもよい。例えば、ステップは、第2発光層を貫通して延長するビアホールを形成して第2電極ブロックとタッチ電極層とを電気的に接続するステップを含んでもよい。 In some embodiments, the step of forming each pixel further comprises the step of electrically connecting the second electrode block in the second region to the touch electrode layer. Various suitable methods may be carried out to electrically connect the second electrode block to the touch electrode layer. For example, the step may include a step of forming a via hole extending through the second light emitting layer to electrically connect the second electrode block and the touch electrode layer.

一部の実施例において、第2領域内の第2電極ブロックをタッチ電極層に電気的に接続するステップは、第2領域内の第2電極ブロックと、第2発光層と、タッチ電極層とを含む複層構造の一部を焼結するステップと、第2発光層に導電性チャネルを形成するステップとを含む。導電性チャネルは、発光材料と、第2電極ブロックの導電性材料と、タッチ電極層の導電性材料とを有する焼結された導電性材料を含む。選択的に、焼結ステップをレーザーにより実行してもよい。導電性チャネルを少なくとも部分的に焼結して導電性チャネルを導電性にすることによって、第2電極ブロックとタッチ電極層とを電気的に接続させる。 In some embodiments, the step of electrically connecting the second electrode block in the second region to the touch electrode layer comprises the second electrode block in the second region, the second light emitting layer, and the touch electrode layer. The present invention includes a step of sintering a part of the multi-layer structure including the above, and a step of forming a conductive channel in the second light emitting layer. The conductive channel includes a sintered conductive material having a light emitting material, a conductive material of the second electrode block, and a conductive material of the touch electrode layer. Optionally, the sintering step may be performed by laser. The second electrode block and the touch electrode layer are electrically connected by sintering the conductive channel at least partially to make the conductive channel conductive.

ここで議論されるように、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層と第2電極ブロックの間の、又は第2発光層とタッチ電極層の間の追加的な層を含んでもよい。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2領域内の第2発光層と第2電極ブロックの間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層とタッチ電極層の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層である。 As discussed herein, the touch display substrate may include an additional layer between the second light emitting layer and the second electrode block in the second region, or between the second light emitting layer and the touch electrode layer. good. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer and the second electrode block in the second region. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer and the touch electrode layer. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, one or more organic layers are carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

従って、選択的に、焼結ステップは、第2領域内の第2電極ブロックと、第2発光層と、タッチ電極層と、第2発光層と第2領域内の第2電極ブロックの間の(一つ又は複数の)追加的な層と、第2発光層とタッチ電極層の間の(一つ又は複数の)追加的な層とを含む複層構造の一部を焼結するステップを含んでもよい。追加的な層の例として、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層と、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層とを含む。 Therefore, selectively, the sintering step is performed between the second electrode block in the second region, the second light emitting layer, the touch electrode layer, and the second light emitting layer and the second electrode block in the second region. The step of sintering a part of the multi-layer structure including the additional layer (s) and the additional layer (s) between the second light emitting layer and the touch electrode layer. It may be included. Examples of additional layers include a carrier-transporting layer such as a hole-transporting layer or an electron-transporting layer and a carrier-injecting layer such as a hole-injecting layer or an electron-injecting layer.

一部の実施例において、各ピクセルを形成するステップは、第2領域内の複数のタッチ制御リード線をタッチ電極層に電気的に接続するステップを更に含む。様々な適切な方法を実施して複数のタッチ制御リード線をタッチ電極層に電気的に接続してもよい。例えば、ステップは、第2発光層を貫通して延長するビアホールを形成してタッチ制御リード線とタッチ電極層とを電気的に接続するステップを含んでもよい。 In some embodiments, the step of forming each pixel further comprises the step of electrically connecting a plurality of touch control leads in the second region to the touch electrode layer. Various suitable methods may be implemented to electrically connect the plurality of touch control leads to the touch electrode layer. For example, the step may include a step of forming a via hole extending through the second light emitting layer to electrically connect the touch control lead wire and the touch electrode layer.

一部の実施例において、第2領域内のタッチ制御リード線をタッチ電極層に電気的に接続するステップは、第2領域内のタッチ制御リード線と、第2発光層と、タッチ電極層とを含む複層構造の一部を焼結するステップと、第2発光層に導電性チャネルを形成するステップとを含む。導電性チャネルは、発光材料、タッチ制御リード線の導電性材料及びタッチ電極層の導電性材料のうち少なくとも一つを有する焼結された導電性材料を含む。選択的に、焼結ステップをレーザーにより実行してもよい。導電性チャネルを少なくとも部分的に焼結して導電性チャネルを導電性にすることによって、タッチ制御リード線とタッチ電極層とを電気的に接続させる。 In some embodiments, the step of electrically connecting the touch control lead wire in the second region to the touch electrode layer includes the touch control lead wire in the second region, the second light emitting layer, and the touch electrode layer. A step of sintering a part of the multi-layer structure including the above, and a step of forming a conductive channel in the second light emitting layer are included. The conductive channel includes a sintered conductive material having at least one of a light emitting material, a conductive material of a touch control lead wire, and a conductive material of a touch electrode layer. Optionally, the sintering step may be performed by laser. The touch control lead wire and the touch electrode layer are electrically connected by sintering the conductive channel at least partially to make the conductive channel conductive.

ここで議論されるように、タッチディスプレイ基板は、第2発光層と第2領域内のタッチ制御リード線の間の、又は第2発光層とタッチ電極層の間の追加的な層を含んでもよい。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層と第2領域内のタッチ制御リード線の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、タッチディスプレイ基板は、第2発光層とタッチ電極層の間の一つ又は複数の有機層を含む。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層である。選択的に、一つ又は複数の有機層は、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層であってもよい。 As discussed herein, the touch display substrate may include an additional layer between the second light emitting layer and the touch control leads in the second region, or between the second light emitting layer and the touch electrode layer. good. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer and the touch control leads in the second region. Optionally, the touch display substrate comprises one or more organic layers between the second light emitting layer and the touch electrode layer. Optionally, the one or more organic layers are carrier transport layers such as hole transport layers or electron transport layers. Optionally, the one or more organic layers may be carrier injection layers such as hole injection layers or electron injection layers.

従って、選択的に、焼結ステップは、第2領域内のタッチ制御リード線と、第2発光層と、タッチ電極層と、第2発光層と第2領域内のタッチ制御リード線の間の(一つ又は複数の)追加的な層と、第2発光層とタッチ電極層の間の(一つ又は複数の)追加的な層とを含む複層構造の一部を焼結するステップを含んでもよい。追加的な層の例として、ホール輸送層又は電子輸送層のようなキャリア輸送層と、ホール注入層又は電子注入層のようなキャリア注入層とを含む。 Therefore, selectively, the sintering step is performed between the touch control lead wire in the second region, the second light emitting layer, the touch electrode layer, and the second light emitting layer and the touch control lead wire in the second region. The step of sintering a part of the multi-layer structure including the additional layer (s) and the additional layer (s) between the second light emitting layer and the touch electrode layer. It may be included. Examples of additional layers include a carrier-transporting layer such as a hole-transporting layer or an electron-transporting layer and a carrier-injecting layer such as a hole-injecting layer or an electron-injecting layer.

一部の実施例において、各ピクセルを形成するステップは、第2領域内にピクセル補償回路を形成するステップを更に含む。選択的に、ステップは、第2領域内に複数のピクセル補償回路を形成するステップを含む。 In some embodiments, the step of forming each pixel further comprises forming a pixel compensation circuit within the second region. Optionally, the step comprises forming a plurality of pixel compensation circuits within the second region.

一部の実施例において、第1領域は、第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルとを含む。各ピクセルを形成するステップは、第2領域内に、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第3色のサブピクセルのうち一つに接続されるピクセル補償回路を複数形成するステップを含む。方法は、各第2領域が同一のピクセルからの第1色のサブピクセルと、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ他の二つの隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルとに囲まれるように、複数のピクセルからなるアレイを形成するステップを含む。 In some embodiments, the first region includes subpixels of the first color, subpixels of the second color, and subpixels of the third color. The steps that form each pixel are connected within the second region to one of a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from an adjacent pixel, and a third color subpixel. Including the step of forming a plurality of pixel compensation circuits. The method is to have a first color subpixel from a pixel where each second region is the same, a second color subpixel from an adjacent pixel, and two third color subpixels from two other adjacent pixels, respectively. It involves forming an array of pixels so that it is surrounded by.

一部の実施例において、単一の第2領域内に複数のピクセル補償回路を形成するステップは、同一のピクセルからの第1色のサブピクセルに接続されるピクセル補償回路と、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルに接続されるピクセル補償回路と、それぞれ第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルに接続される二つのピクセル補償回路とをそれぞれ形成するステップを含む。 In some embodiments, the step of forming multiple pixel compensation circuits in a single second region is a pixel compensation circuit connected to first color subpixels from the same pixel and a first adjacent pixel. Form a pixel compensation circuit connected to the second color subpixel from, and two pixel compensation circuits connected to two third color subpixels from the second adjacent pixel and the third adjacent pixel, respectively. Includes steps to do.

一部の実施例において、単一の第2領域内に複数のピクセル補償回路を形成するステップは、同一のピクセルからの第1色のサブピクセルに接続されるピクセル補償回路と、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルに接続されるピクセル補償回路と、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルに接続されるピクセル補償回路と、タッチサブピクセル自体に接続されるピクセル補償回路とを形成するステップを含む。 In some embodiments, the step of forming multiple pixel compensation circuits in a single second region is a pixel compensation circuit connected to first color subpixels from the same pixel and a first adjacent pixel. A pixel compensation circuit connected to the second color subpixel from, a pixel compensation circuit connected to the third color subpixel from the second adjacent pixel, and a pixel compensation circuit connected to the touch subpixel itself. Includes steps to form.

もう一つの側面において、本開示は、ここで記載されるタッチディスプレイ基板又はここで記載される方法により製造されるタッチディスプレイ基板を有するタッチディスプレイ装置を提供する。一部の実施例において、タッチディスプレイ基板は、有機発光基板であり、タッチディスプレイ装置は、有機発光装置である。タッチディスプレイ装置の例として、電子ペーパー、携帯電話、タブレットPC、TV、ノート型パソコン、デジタルアルバム、GPS等を含むが、これらに限定されない。 In another aspect, the present disclosure provides a touch display device having a touch display substrate described herein or a touch display substrate manufactured by the method described herein. In some embodiments, the touch display substrate is an organic light emitting substrate and the touch display device is an organic light emitting device. Examples of the touch display device include, but are not limited to, electronic paper, mobile phones, tablet PCs, TVs, notebook PCs, digital albums, GPS, and the like.

前述した本開示の実施例の説明は、ただ説明及び解釈の目的に提出されたものである。これは、網羅的に列挙したり本開示を正確な形態又は例示的な実施例に限定させることを意図するものではない。従って、前述した説明は、限定的ではなく、説明的なものとして解釈されるべきである。明らかに、当業者達は様々な修正及び変更を行うことができることが理解できる。実施例を、本開示の原理及びその最適なモードの実際的適用を簡便に解釈するように選択及び記載することによって、当業者達が、本開示が特定用途に適用されたり考慮される実際形態の様々な実施例及び様々な変形を理解できるようにする。本開示の範囲は、添付される特許請求の範囲及びその均等な形態により限定されることを意図し、別途に説明されない限り、すべての用語は一番広い合理的な意味を指す。従って、「開示」、「本開示」等の用語は、必ずしも特許請求の範囲を具体的な実施例に限定させようとするものではなく、本開示の例示的な実施例に対する参照は、必ずしも本開示に対する限定を意味するものではなく、且つこのような限定を推理できない。本開示は、添付される特許請求の範囲の精神及び範囲だけにより限定される。また、このような請求項は、名詞又は素子の後に付く「第1」、「第2」等の用語の使用と関連される可能性がある。このような用語は、命名法に従って理解されるべきであり、具体的な数量が提示されない限り、このような命名法により修飾される素子の数量を限定するものとして解釈されてはいけない。ここで記載される任意の優位点及び利点は、本開示の全部の実施例に適用されなくても良い。下記の特許請求の範囲により限定される本開示の範囲を逸脱せず、当業者達は、記載された実施例の変形形態を実施することができることが理解できる。更に、素子及び部品が下記の請求項に明確に記載されているか否かを問わず、本開示における素子又は構成部品は公衆に寄与されることは意図されない。
The description of the embodiments of the present disclosure described above has been submitted solely for the purpose of explanation and interpretation. This is not intended to be an exhaustive list or to limit the disclosure to the exact form or exemplary embodiment. Therefore, the above description should be construed as descriptive rather than limiting. Obviously, it can be understood that those skilled in the art can make various modifications and changes. By selecting and describing the examples so as to conveniently interpret the principles of the present disclosure and the practical application of its optimal mode, those skilled in the art will be able to apply or consider the present disclosure in a particular application. To be able to understand the various examples and variations of. The scope of this disclosure is intended to be limited by the appended claims and their equivalent forms, and all terms refer to the broadest reasonable meaning unless otherwise stated. Therefore, terms such as "disclosure" and "present disclosure" do not necessarily limit the scope of claims to specific examples, and references to exemplary examples of the present disclosure do not necessarily refer to the book. It does not mean a limitation on disclosure, and such limitation cannot be inferred. The present disclosure is limited only by the spirit and scope of the appended claims. Also, such claims may be associated with the use of terms such as "first" and "second" that follow a noun or element. Such terms should be understood according to the nomenclature and should not be construed as limiting the number of elements modified by such a nomenclature unless a specific quantity is provided. Any of the advantages and advantages described herein may not apply to all embodiments of the present disclosure. It can be appreciated that those skilled in the art can implement variants of the described embodiments without departing from the scope of the present disclosure, which is limited by the claims below. Moreover, the elements or components in the present disclosure are not intended to contribute to the public, whether or not the elements and components are expressly described in the following claims.

Claims (4)

複数のピクセルからなるアレイを含むピクセル配列であって、各ピクセルは、第1色のサブピクセルと、第2色のサブピクセルと、第3色のサブピクセルと、タッチサブピクセルと、前記タッチサブピクセル内の複数のピクセル補償回路とを含み、
各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第3色のサブピクセルのうち一つに接続され、
各タッチサブピクセルは、同一のピクセルからの第1色のサブピクセルと、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセルと、それぞれ第2隣接ピクセル及び第3隣接ピクセルからの二つの第3色のサブピクセルとに囲まれることを特徴とするピクセル配列。
It is a pixel array including an array consisting of a plurality of pixels, and each pixel is a subpixel of the first color, a subpixel of the second color, a subpixel of the third color, a touch subpixel, and the touch sub. Including multiple pixel compensation circuits within a pixel
Each pixel compensation circuit is connected to one of a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from an adjacent pixel, and a third color subpixel.
Each touch subpixel is a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from the first adjacent pixel, and two third colors from the second adjacent pixel and the third adjacent pixel, respectively. A pixel array characterized by being surrounded by subpixels of.
各ピクセルは、三つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル及び第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルのうち一つに接続されることを特徴とする請求項1に記載のピクセル配列。 Each pixel contains three pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit being a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from the first adjacent pixel and a second from the second adjacent pixel. The pixel array according to claim 1, wherein the pixel array is connected to one of three color sub-pixels. 各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び第3隣接ピクセルからの第3色のサブピクセルのうち一つに接続されることを特徴とする請求項1に記載のピクセル配列。 Each pixel contains four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit is a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from the first adjacent pixel, a second from the second adjacent pixel. The pixel array according to claim 1, wherein the subpixels of the three colors and the subpixels of the third color from the third adjacent pixel are connected to each other. 各ピクセルは、四つのピクセル補償回路を含み、各ピクセル補償回路は、同一のピクセルからの第1色のサブピクセル、第1隣接ピクセルからの第2色のサブピクセル、第2隣接ピクセルからの第3色のサブピクセル及び前記タッチサブピクセルのうち一つに接続されることを特徴とする請求項1に記載のピクセル配列。
Each pixel contains four pixel compensation circuits, each pixel compensation circuit is a first color subpixel from the same pixel, a second color subpixel from the first adjacent pixel, a second from the second adjacent pixel. The pixel array according to claim 1, wherein the subpixels of three colors and one of the touch subpixels are connected.
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JP4475321B2 (en) * 2007-11-26 2010-06-09 ソニー株式会社 Display device
KR101633096B1 (en) * 2008-12-17 2016-06-24 엘지디스플레이 주식회사 Display panel and display device having the same
JP2011039125A (en) * 2009-08-07 2011-02-24 Hitachi Displays Ltd Display device
US9836165B2 (en) * 2014-05-16 2017-12-05 Apple Inc. Integrated silicon-OLED display and touch sensor panel
US9778800B2 (en) * 2014-06-27 2017-10-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Pixel circuit, display panel and display apparatus
CN104536632B (en) * 2015-01-26 2017-07-21 京东方科技集团股份有限公司 A kind of In-cell touch panel and display device

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