JP6401364B2 - Composite sheet for protective film formation and laser printing method - Google Patents
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Description
本発明は、半導体ウエハ等のワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物（例えば半導体チップ）に保護膜を形成することのできる保護膜形成フィルムおよび保護膜形成用（複合）シート、ならびにそれらを使用して得られた保護膜付きのワークまたは加工物の検査を行う検査方法に関するものである。また、本発明は、その保護膜形成用複合シートを使用するレーザー印字方法に関するものである。 The present invention relates to a protective film-forming film and a protective film-forming (composite) sheet that can form a protective film on a workpiece such as a semiconductor wafer or a workpiece (for example, a semiconductor chip) obtained by processing the workpiece, and the like The present invention relates to an inspection method for inspecting a workpiece or a workpiece with a protective film obtained by using the above. The present invention also relates to a laser printing method using the composite sheet for forming a protective film.
近年、フェイスダウン方式と呼ばれる実装法により半導体装置を製造することが行われている。この方法では、バンプ等の電極が形成された回路面を有する半導体チップを実装する際に、半導体チップの回路面側をリードフレーム等のチップ搭載部に接合している。したがって、回路が形成されていない半導体チップの裏面側が露出する構造となる。 In recent years, a semiconductor device is manufactured by a mounting method called a face-down method. In this method, when a semiconductor chip having a circuit surface on which electrodes such as bumps are formed is mounted, the circuit surface side of the semiconductor chip is bonded to a chip mounting portion such as a lead frame. Therefore, the back surface side of the semiconductor chip on which no circuit is formed is exposed.
このため、半導体チップの裏面側には、半導体チップを保護するために、硬質の有機材料からなる保護膜が形成されることが多い。この保護膜は、例えば、特許文献１または２に示されるような半導体裏面用フィルムまたはダイシングテープ一体型ウエハ裏面保護フィルムを使用して形成される。
For this reason, a protective film made of a hard organic material is often formed on the back side of the semiconductor chip to protect the semiconductor chip. This protective film is formed using, for example, a film for semiconductor back surface or a dicing tape integrated wafer back surface protective film as disclosed in
特許文献１における半導体裏面用フィルムでは、波長５３２ｎｍ又は１０６４ｎｍにおける光線透過率が２０％以下となるようにしている。これにより、レーザー光の照射による印字加工を可能にするとともに、レーザー光による悪影響が半導体素子に及ぶことを防止している。また、特許文献２におけるウエハ裏面保護フィルムでは、可視光透過率を２０％以下となるようにしている。これにより、光線の通過による半導体素子への影響を小さくしている。
In the film for semiconductor back surface in
ところで、半導体ウエハをダイシングして得られる半導体チップ等においては、加工時に生じた応力によってクラック等が発生していることがある。しかしながら、前述したような光線透過率を有する保護膜が形成されていると、半導体チップの保護膜側に発生したクラック等は、目視によって発見することができない。看過できないクラック等が発生した半導体チップは、製品歩留まりを低下させてしまう。 By the way, in a semiconductor chip or the like obtained by dicing a semiconductor wafer, a crack or the like may be generated due to stress generated during processing. However, when the protective film having the light transmittance as described above is formed, cracks and the like generated on the protective film side of the semiconductor chip cannot be found visually. A semiconductor chip with cracks that cannot be overlooked reduces the product yield.
一方、半導体チップの裏面には、通常、半導体ウエハに対して施されたバックグラインド加工による研削痕が残っている。半導体チップの外観の観点から、かかる研削痕は目視によって見えないことが望ましく、上記の保護膜によって隠蔽されることが望ましい。 On the other hand, grinding marks are usually left on the back surface of the semiconductor chip by back grinding applied to the semiconductor wafer. From the viewpoint of the appearance of the semiconductor chip, it is desirable that such grinding marks are not visible with the naked eye, and are preferably hidden by the protective film.
本発明は、上記のような実状に鑑みてなされたものであり、ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に存在するクラック等の検査が可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することのできる保護膜形成フィルムおよび保護膜形成用（複合）シート、ならびにそれらを使用して得られた保護膜付きのワークまたは加工物の検査を行う検査方法を提供することを目的とする。また、本発明は、保護膜の当該硬化部分と接触している表面は、平滑性（グロス）が高くなり、チップの保護膜として美観に優れたものとなり、また、表面平滑性の高い保護膜にレーザー印字が施されると、その印字の視認性が向上するレーザー印字方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the actual situation as described above, and is capable of inspecting a crack or the like existing in a workpiece or a workpiece obtained by processing the workpiece, and is present in the workpiece or the workpiece. Inspection of protective film-forming film and protective film-forming (composite) sheet capable of forming a protective film in which grinding marks are not visible by visual inspection, and a workpiece or a workpiece with a protective film obtained by using them The purpose is to provide an inspection method. In the present invention, the surface of the protective film that is in contact with the cured portion has a high smoothness (gloss), and is excellent in appearance as a protective film for the chip. Also, the protective film has a high surface smoothness. It is an object of the present invention to provide a laser printing method in which when laser printing is performed, the visibility of the printing is improved.
上記目的を達成するために、第１に本発明は、波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上であり、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であることを特徴とする保護膜形成フィルムを提供する（発明１）。 In order to achieve the above object, first, the present invention provides a protective film-forming film characterized in that the light transmittance at a wavelength of 1600 nm is 25% or more and the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 20% or less. Provided (Invention 1)
上記発明（発明１）によれば、ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に存在するクラック等の赤外線による検査が可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することができる。 According to the said invention (invention 1), the inspection by infrared rays, such as a crack which exists in a workpiece | work or the workpiece obtained by processing the said workpiece | work, is possible, and the grinding trace which exists in a workpiece | work or a workpiece can be seen visually. No protective film can be formed.
上記発明（発明１）において、前記保護膜形成フィルムは、未硬化の硬化性接着剤から構成される単層であることが好ましい（発明２）。 In the said invention (invention 1), it is preferable that the said protective film formation film is a single layer comprised from an uncured curable adhesive (invention 2).
上記発明（発明２）において、前記硬化性接着剤は、着色剤および平均粒径０．０１〜３μｍのフィラーを含有することが好ましい（発明３）。 In the said invention (invention 2), it is preferable that the said curable adhesive contains a coloring agent and a filler with an average particle diameter of 0.01-3 micrometers (invention 3).
第２に本発明は、前記保護膜形成フィルム（発明１〜３）と、前記保護膜形成フィルムの一方の面または両面に積層された剥離シートとを備えたことを特徴とする保護膜形成用シートを提供する（発明４）。 2ndly, this invention was equipped with the said protective film formation film (invention 1-3) and the peeling sheet laminated | stacked on the one or both surfaces of the said protective film formation film. A sheet is provided (Invention 4).
第３に本発明は、基材の一方の面側に粘着剤層が積層されてなる粘着シートと、前記粘着シートの前記粘着剤層側に積層された保護膜形成フィルムとを備えた保護膜形成用複合シートであって、前記粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤から構成され、前記保護膜形成フィルムの波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上であり、前記保護膜形成フィルムの波長５５０ｎｍの光線透過率が１０％以下であることを特徴とする保護膜形成用複合シートを提供する（発明５）。 3rdly, this invention is a protective film provided with the adhesive sheet by which an adhesive layer is laminated | stacked on the one surface side of a base material, and the protective film formation film laminated | stacked on the said adhesive layer side of the said adhesive sheet A composite sheet for forming, wherein the pressure-sensitive adhesive layer is composed of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, the light transmittance of the protective film-forming film at a wavelength of 1600 nm is 25% or more, and the wavelength of the protective film-forming film is 550 nm. The composite film for forming a protective film is provided (Invention 5).
上記発明（発明４，５）によれば、ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に存在するクラック等の赤外線による検査が可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することができる。また、上記発明（発明５）によれば、保護膜の当該硬化部分と接触している表面は、平滑性（グロス）が高くなり、チップの保護膜として美観に優れたものとなり、また、表面平滑性の高い保護膜にレーザー印字が施されると、その印字の視認性が向上することができる。
According to the above inventions (
上記発明（発明５）において、前記保護膜形成フィルムは、未硬化の硬化性接着剤から構成される単層であることが好ましい（発明６）。 In the said invention (invention 5), it is preferable that the said protective film formation film is a single layer comprised from an uncured curable adhesive (invention 6).
上記発明（発明６）において、前記硬化性接着剤は、着色剤および平均粒径０．０１〜３μｍのフィラーを含有することが好ましい（発明７）。 In the said invention (invention 6), it is preferable that the said curable adhesive contains a coloring agent and a filler with an average particle diameter of 0.01-3 micrometers (invention 7).
第４に本発明は、前記保護膜形成フィルム（発明１〜３）、前記保護膜形成用シート（発明４）または前記保護膜形成用複合シート（発明５〜７）を使用してワークに保護膜を形成することにより、保護膜付きワークを製造し、前記保護膜付きワークまたは前記保護膜付きワークを加工して得られた加工物について、赤外線を利用し、前記保護膜を介して検査を行うことを特徴とする検査方法を提供する（発明８）。 4thly, this invention protects a workpiece | work using the said protective film formation film (Invention 1-3), the said protective film formation sheet (Invention 4), or the said protective film formation composite sheet (Invention 5-7). By forming a film, a workpiece with a protective film is manufactured, and the workpiece obtained by processing the workpiece with the protective film or the workpiece with the protective film is inspected through the protective film using infrared rays. An inspection method characterized in that it is performed (Invention 8).
上記発明（発明８）において、前記ワークは半導体ウエハであり、前記加工物は半導体チップであることが好ましい（発明９）。 In the said invention (invention 8), it is preferable that the said workpiece | work is a semiconductor wafer and the said workpiece is a semiconductor chip (invention 9).
第５に本発明は、前記検査方法（発明８，９）に基づいて、良品と判断された保護膜付きワークを提供する（発明１０）。 5thly this invention provides the workpiece | work with a protective film determined to be non-defective based on the said inspection method (invention 8 and 9) (invention 10).
第６に本発明は、前記検査方法（発明８，９）に基づいて、良品と判断された加工物を提供する（発明１１）。
更に、本発明は、表面に回路が形成され、バックグラインド加工された半導体ウエハの裏面に、請求項１〜４のいずれか一項に記載の保護膜形成用複合シートの保護膜形成フィルムを貼付する工程と、前記粘着剤層のエネルギー線硬化性粘着剤の粘着力を、エネルギー線照射により低下させる工程と、前記保護膜形成フィルムを硬化させて保護膜を形成する工程と、前記保護膜に対してレーザー光を照射し、レーザー印字を行う工程と、
を備え、前記保護膜に対して前記レーザー光を照射する際に、前記保護膜形成用複合シートにおける前記粘着剤層は硬化していることを特徴とするレーザー印字方法を提供する。
The present invention to a 6, based on the test method (invention 8, 9), provides a workpiece is determined to be nondefective (invention 11).
Furthermore, this invention sticks the protective film formation film of the composite sheet for protective film formation as described in any one of Claims 1-4 to the back surface of the semiconductor wafer by which the circuit was formed in the surface and it was back-grinded. A step of reducing the adhesive strength of the energy ray-curable adhesive of the pressure-sensitive adhesive layer by energy ray irradiation, a step of curing the protective film-forming film to form a protective film, and the protective film. A process of irradiating a laser beam and performing laser printing;
When the laser beam is irradiated onto the protective film, the pressure-sensitive adhesive layer in the protective film-forming composite sheet is cured.
本発明に係る保護膜形成フィルムおよび保護膜形成用（複合）シートによれば、ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に存在するクラック等の赤外線による検査が可能であり、かつワークまたは加工物に存在する研削痕が目視によって見えない保護膜を形成することができる。また、本発明に係る検査方法によれば、赤外線を利用することにより、ワークまたは加工物に存在するクラック等の検査を行うことができる。また、本発明に係る保護膜形成用複合シートおよびレーザー印字方法によれば、保護膜の当該硬化部分と接触している表面は、平滑性（グロス）が高くなり、チップの保護膜として美観に優れたものとなり、また、表面平滑性の高い保護膜にレーザー印字が施されると、その印字の視認性が向上する。 According to the protective film-forming film and protective film-forming (composite) sheet according to the present invention, inspection by infrared rays such as cracks existing in a workpiece or a workpiece obtained by processing the workpiece is possible, and the workpiece or It is possible to form a protective film in which grinding marks existing on the workpiece are not visible by visual inspection. Further, according to the inspection method of the present invention, it is possible to inspect a crack or the like existing in a workpiece or a workpiece by using infrared rays. In addition, according to the composite sheet for forming a protective film and the laser printing method according to the present invention, the surface of the protective film that is in contact with the cured portion has high smoothness (gross), and is beautiful as a protective film for the chip. When laser printing is performed on a protective film having excellent surface smoothness, the visibility of the printing is improved.
以下、本発明の実施形態について説明する。
〔保護膜形成フィルム〕
本実施形態に係る保護膜形成フィルムは、ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に保護膜を形成するためのものである。この保護膜は、保護膜形成フィルム、好ましくは硬化した保護膜形成フィルムから構成される。ワークとしては、例えば半導体ウエハ等が挙げられ、当該ワークを加工して得られる加工物としては、例えば半導体チップが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、ワークが半導体ウエハの場合、保護膜は、半導体ウエハの裏面側（バンプ等の電極が形成されていない側）に形成される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described.
[Protective film forming film]
The protective film-forming film according to this embodiment is for forming a protective film on a workpiece or a workpiece obtained by processing the workpiece. This protective film is composed of a protective film-forming film, preferably a cured protective film-forming film. Examples of the workpiece include a semiconductor wafer, and examples of a workpiece obtained by processing the workpiece include a semiconductor chip. However, the present invention is not limited to these. When the work is a semiconductor wafer, the protective film is formed on the back side of the semiconductor wafer (the side on which no electrodes such as bumps are formed).
１．物性
本実施形態に係る保護膜形成フィルムは、波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上であり、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であるものである。なお、本明細書における光線透過率は、積分球を使用せずに測定した値とし、測定器具としては分光光度計を使用する。
1. Physical Properties The protective film-forming film according to this embodiment has a light transmittance at a wavelength of 1600 nm of 25% or more and a light transmittance at a wavelength of 550 nm of 20% or less. The light transmittance in this specification is a value measured without using an integrating sphere, and a spectrophotometer is used as a measuring instrument.
半導体ウエハをダイシングして得られる半導体チップ等においては、加工時に生じた応力によってクラック等が発生していることがある。上記のように波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上であると、赤外線の透過性が良好になり、保護膜形成フィルム（または当該保護膜形成フィルムによって形成された保護膜）側から赤外線を取得する赤外線検査を行うことができる。これにより、保護膜形成フィルム（保護膜）を介して半導体チップ等の加工物におけるクラック等を発見することができ、製品歩留まりを向上させることができる。 In a semiconductor chip or the like obtained by dicing a semiconductor wafer, a crack or the like may occur due to stress generated during processing. As described above, when the light transmittance at a wavelength of 1600 nm is 25% or more, infrared transmittance is improved, and infrared rays are obtained from the protective film forming film (or the protective film formed by the protective film forming film) side. Infrared inspection can be performed. Thereby, the crack etc. in workpieces, such as a semiconductor chip, can be discovered through a protective film formation film (protective film), and a product yield can be improved.
上記赤外線透過性の観点から、保護膜形成フィルムの波長１６００ｎｍの光線透過率は、４０％以上であることが好ましく、特に４５％以上であることが好ましく、さらには５０％以上であることが好ましい。なお、波長１６００ｎｍの光線透過率の上限は特に限定されないが、波長５５０ｎｍの光線透過率を２０％以下とすることにより、自ずと定まることとなる。また、保護膜を形成した加工物（半導体チップ等）の使用時には、保護膜形成フィルムの波長１６００ｎｍの光線透過率を９０％以下とすることにより、外部からの赤外線の影響を受けやすい加工物の誤作動を防ぐことができる。 From the viewpoint of infrared transparency, the light transmittance at a wavelength of 1600 nm of the protective film-forming film is preferably 40% or more, particularly preferably 45% or more, and more preferably 50% or more. . In addition, although the upper limit of the light transmittance of wavelength 1600nm is not specifically limited, By setting the light transmittance of wavelength 550nm to 20% or less, it will be decided naturally. Further, when using a workpiece (semiconductor chip or the like) on which a protective film is formed, the protective film-forming film has a light transmittance at a wavelength of 1600 nm of 90% or less, so that the workpiece easily affected by infrared rays from the outside can be obtained. Malfunction can be prevented.
一方、例えば半導体チップの裏面には、通常、半導体ウエハに対して施されたバックグラインド加工による研削痕が残っている。波長５５０ｎｍの光線透過率が上記のように２０％以下であると、保護膜形成フィルムは、可視光線を透過し難いものとなる。したがって、上記の研削痕は、保護膜形成フィルム（保護膜）によって隠蔽され、目視によって殆ど見えなくなる。これにより、半導体チップ等の加工物の外観が優れたものとなる。 On the other hand, for example, on the back surface of the semiconductor chip, grinding marks are usually left by back grinding processing applied to the semiconductor wafer. When the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 20% or less as described above, the protective film-forming film is difficult to transmit visible light. Therefore, the above-mentioned grinding mark is concealed by the protective film forming film (protective film) and hardly visible by visual inspection. Thereby, the external appearance of workpieces, such as a semiconductor chip, will be excellent.
上記研削痕隠蔽性の観点から、保護膜形成フィルムの波長５５０ｎｍの光線透過率は、１５％以下であることが好ましく、特に１０％以下であることが好ましい。なお、波長５５０ｎｍの光線透過率の下限は特に限定されないが、波長１６００ｎｍの光線透過率を２５％以上とすることにより、自ずと定まることとなる。 From the viewpoint of the grinding mark concealing property, the light transmittance at a wavelength of 550 nm of the protective film-forming film is preferably 15% or less, and particularly preferably 10% or less. The lower limit of the light transmittance at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is naturally determined by setting the light transmittance at a wavelength of 1600 nm to 25% or more.
ここで、本実施形態に係る保護膜形成フィルムは、単層からなるものであってもよいし、複数層からなるものであってもよいが、光線透過率の制御の容易性および製造コストの面から単層からなることが好ましい。保護膜形成フィルムが複数層からなる場合には、光線透過率の制御の容易性の面から、当該複数層全体として上記の光線透過率を満たすことが好ましい。 Here, the protective film-forming film according to the present embodiment may be composed of a single layer or may be composed of a plurality of layers. It is preferable that it consists of a single layer from the surface. When the protective film-forming film is composed of a plurality of layers, it is preferable that the light transmittance is satisfied as a whole of the plurality of layers from the viewpoint of easy control of the light transmittance.
２．材料
保護膜形成フィルムは、未硬化の硬化性接着剤からなることが好ましい。この場合、保護膜形成フィルムに半導体ウエハ等のワークを重ね合わせた後、保護膜形成フィルムを硬化させることにより、保護膜をワークに強固に接着することができ、耐久性を有する保護膜をチップ等に形成することができる。
2. Material The protective film-forming film is preferably made of an uncured curable adhesive. In this case, after the workpiece such as a semiconductor wafer is overlaid on the protective film forming film, the protective film forming film is cured, so that the protective film can be firmly adhered to the work, and the durable protective film is formed into a chip. Etc. can be formed.
なお、保護膜形成フィルムが未硬化の硬化性接着剤からなる場合、当該保護膜形成フィルムの光線透過率は、硬化前であっても硬化後であっても殆ど変化しない。したがって、硬化前の保護膜形成フィルムの波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であれば、硬化後の保護膜形成フィルム（保護膜）の波長１６００ｎｍの光線透過率も２５％以上、波長５５０ｎｍの光線透過率も２０％以下となる。 In addition, when a protective film formation film consists of an uncured curable adhesive, the light transmittance of the said protective film formation film hardly changes even before and after hardening. Therefore, if the light transmittance at a wavelength of 1600 nm of the protective film-forming film before curing is 25% or more and the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 20% or less, the wavelength of the protective film-forming film (protective film) after curing is 1600 nm. The light transmittance is 25% or more, and the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 20% or less.
保護膜形成フィルムは、常温で粘着性を有するか、加熱により粘着性を発揮することが好ましい。これにより、上記のように保護膜形成フィルムに半導体ウエハ等のワークを重ね合わせるときに両者を貼合させることができる。したがって、保護膜形成フィルムを硬化させる前に位置決めを確実に行うことができる。 The protective film-forming film preferably has adhesiveness at room temperature or exhibits adhesiveness by heating. Thereby, both can be bonded together when a workpiece such as a semiconductor wafer is superimposed on the protective film forming film as described above. Therefore, positioning can be reliably performed before the protective film forming film is cured.
上記のような特性を有する保護膜形成フィルムを構成する硬化性接着剤は、硬化性成分とバインダーポリマー成分とを含有することが好ましい。硬化性成分としては、熱硬化性成分、エネルギー線硬化性成分、またはこれらの混合物を用いることができるが、熱硬化性成分を用いることが特に好ましい。保護膜形成フィルムは、前述した光線透過率を有することで、紫外線硬化に不適なものとなり、熱硬化性であることが望ましいからである。 The curable adhesive constituting the protective film-forming film having the above properties preferably contains a curable component and a binder polymer component. As the curable component, a thermosetting component, an energy ray curable component, or a mixture thereof can be used, but it is particularly preferable to use a thermosetting component. This is because the protective film-forming film has the light transmittance described above, and thus becomes unsuitable for ultraviolet curing and is desirably thermosetting.
熱硬化性成分としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ベンゾオキサジン樹脂等およびこれらの混合物が挙げられる。これらの中でも、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびこれらの混合物が好ましく用いられる。 Examples of the thermosetting component include epoxy resins, phenol resins, melamine resins, urea resins, polyester resins, urethane resins, acrylic resins, polyimide resins, benzoxazine resins, and mixtures thereof. Among these, an epoxy resin, a phenol resin, and a mixture thereof are preferably used.
エポキシ樹脂は、加熱を受けると三次元網状化し、強固な被膜を形成する性質を有する。このようなエポキシ樹脂としては、従来より公知の種々のエポキシ樹脂が用いられるが、通常は、分子量３００〜２０００程度のものが好ましく、特に分子量３００〜５００のものが好ましい。さらには、分子量３３０〜４００の常態で液状のエポキシ樹脂と、分子量４００〜２５００、特に５００〜２０００の常温で固体のエポキシ樹脂とをブレンドした形で用いることが好ましい。また、エポキシ樹脂のエポキシ当量は、５０〜５０００ｇ／ｅｑであることが好ましい。 Epoxy resins have the property of forming a three-dimensional network upon heating and forming a strong film. As such an epoxy resin, conventionally known various epoxy resins are used. Usually, those having a molecular weight of about 300 to 2000 are preferred, and those having a molecular weight of 300 to 500 are particularly preferred. Furthermore, it is preferably used in a form in which a normal epoxy resin having a molecular weight of 330 to 400 is blended with an epoxy resin solid at room temperature having a molecular weight of 400 to 2500, particularly 500 to 2000. Moreover, it is preferable that the epoxy equivalent of an epoxy resin is 50-5000 g / eq.
このようなエポキシ樹脂としては、具体的には、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、レゾルシノール、フェニルノボラック、クレゾールノボラック等のフェノール類のグリシジルエーテル；ブタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール等のアルコール類のグリシジルエーテル；フタル酸、イソフタル酸、テトラヒドロフタル酸等のカルボン酸のグリシジルエーテル；アニリンイソシアヌレート等の窒素原子に結合した活性水素をグリシジル基で置換したグリシジル型もしくはアルキルグリシジル型のエポキシ樹脂；ビニルシクロヘキサンジエポキシド、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−ジシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシ)シクロヘキシル−５，５−スピロ(３，４−エポキシ)シクロヘキサン−ｍ−ジオキサン等のように、分子内の炭素−炭素二重結合を例えば酸化することによりエポキシが導入された、いわゆる脂環型エポキシドを挙げることができる。その他、ビフェニル骨格、ジシクロヘキサジエン骨格、ナフタレン骨格等を有するエポキシ樹脂を用いることもできる。 Specific examples of such epoxy resins include glycidyl ethers of phenols such as bisphenol A, bisphenol F, resorcinol, phenyl novolac, and cresol novolac; glycidyl ethers of alcohols such as butanediol, polyethylene glycol, and polypropylene glycol; Glycidyl ethers of carboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, tetrahydrophthalic acid; glycidyl type or alkyl glycidyl type epoxy resins in which active hydrogen bonded to nitrogen atom such as aniline isocyanurate is substituted with glycidyl group; 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-dicyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxy) cyclohexyl-5,5-spiro (3,4 As the epoxy) cyclohexane -m- dioxane, carbon in the molecule - epoxy is introduced by for example oxidation to carbon double bond include a so-called alicyclic epoxides. In addition, an epoxy resin having a biphenyl skeleton, a dicyclohexadiene skeleton, a naphthalene skeleton, or the like can also be used.
これらの中でも、ビスフェノール系グリシジル型エポキシ樹脂、ｏ−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂およびフェノールノボラック型エポキシ樹脂が好ましく用いられる。これらエポキシ樹脂は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。 Among these, bisphenol glycidyl type epoxy resins, o-cresol novolac type epoxy resins and phenol novolak type epoxy resins are preferably used. These epoxy resins can be used alone or in combination of two or more.
エポキシ樹脂を用いる場合には、助剤として、熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤を併用することが好ましい。熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤とは、室温ではエポキシ樹脂と反応せず、ある温度以上の加熱により活性化し、エポキシ樹脂と反応するタイプの硬化剤である。熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤の活性化方法には、加熱による化学反応で活性種（アニオン、カチオン）を生成する方法；室温付近ではエポキシ樹脂中に安定に分散しており高温でエポキシ樹脂と相溶・溶解し、硬化反応を開始する方法；モレキュラーシーブ封入タイプの硬化剤で高温で溶出して硬化反応を開始する方法；マイクロカプセルによる方法等が存在する。 When using an epoxy resin, it is preferable to use a thermally activated latent epoxy resin curing agent in combination as an auxiliary agent. The thermally activated latent epoxy resin curing agent is a type of curing agent that does not react with the epoxy resin at room temperature but is activated by heating at a certain temperature or more and reacts with the epoxy resin. The heat activated latent epoxy resin curing agent is activated by a method in which active species (anions and cations) are generated by a chemical reaction by heating; the epoxy resin is stably dispersed in the epoxy resin at around room temperature and is heated at a high temperature. There are a method of initiating a curing reaction by dissolving and dissolving with a solvent; a method of starting a curing reaction by elution at a high temperature with a molecular sieve encapsulated type curing agent; a method using a microcapsule and the like.
熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤の具体例としては、各種オニウム塩や、二塩基酸ジヒドラジド化合物、ジシアンジアミド、アミンアダクト硬化剤、イミダゾール化合物等の高融点活性水素化合物等を挙げることができる。これら熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤は、１種を単独で、または２種以上を組み合わせて用いることができる。上記のような熱活性型潜在性エポキシ樹脂硬化剤は、エポキシ樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．１〜２０重量部、特に好ましくは０．２〜１０重量部、さらに好ましくは０．３〜５重量部の割合で用いられる。 Specific examples of the thermally activated latent epoxy resin curing agent include various onium salts, high melting point active hydrogen compounds such as dibasic acid dihydrazide compounds, dicyandiamides, amine adduct curing agents, and imidazole compounds. These thermally activated latent epoxy resin curing agents can be used singly or in combination of two or more. The thermally activated latent epoxy resin curing agent as described above is preferably from 0.1 to 20 parts by weight, particularly preferably from 0.2 to 10 parts by weight, more preferably from 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. It is used at a ratio of 3 to 5 parts by weight.
フェノール系樹脂としては、アルキルフェノール、多価フェノール、ナフトール等のフェノール類とアルデヒド類との縮合物などが特に制限されることなく用いられる。具体的には、フェノールノボラック樹脂、ｏ−クレゾールノボラック樹脂、p-クレゾールノボラック樹脂、ｔ−ブチルフェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエンクレゾール樹脂、ポリパラビニルフェノール樹脂、ビスフェノールＡ型ノボラック樹脂、あるいはこれらの変性物等が用いられる。 As the phenolic resin, a condensate of phenols such as alkylphenol, polyhydric phenol, naphthol and aldehydes is used without particular limitation. Specifically, phenol novolak resin, o-cresol novolak resin, p-cresol novolak resin, t-butylphenol novolak resin, dicyclopentadiene cresol resin, polyparavinylphenol resin, bisphenol A type novolak resin, or modified products thereof Etc. are used.
これらのフェノール系樹脂に含まれるフェノール性水酸基は、上記エポキシ樹脂のエポキシ基と加熱により容易に付加反応して、耐衝撃性の高い硬化物を形成することができる。このため、エポキシ樹脂とフェノール系樹脂とを併用してもよい。 The phenolic hydroxyl group contained in these phenolic resins can easily undergo an addition reaction with the epoxy group of the epoxy resin by heating to form a cured product having high impact resistance. For this reason, you may use together an epoxy resin and a phenol-type resin.
バインダーポリマー成分は、保護膜形成フィルムに適度なタックを与え、保護膜形成用複合シート３の操作性を向上することができる。バインダーポリマーの重量平均分子量は、通常は５万〜２００万、好ましくは１０万〜１５０万、特に好ましくは２０万〜１００万の範囲にある。分子量が低過ぎると、保護膜形成フィルムのフィルム形成が不十分となり、高過ぎると他の成分との相溶性が悪くなり、結果として均一なフィルム形成が妨げられる。このようなバインダーポリマーとしては、例えば、アクリル系ポリマー、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ウレタン樹脂、シリコーン樹脂、ゴム系ポリマー等が用いられ、特にアクリル系ポリマーが好ましく用いられる。 The binder polymer component can give an appropriate tack to the protective film-forming film and improve the operability of the protective film-forming composite sheet 3. The weight average molecular weight of the binder polymer is usually 50,000 to 2,000,000, preferably 100,000 to 1,500,000, particularly preferably 200,000 to 1,000,000. When the molecular weight is too low, film formation of the protective film-forming film becomes insufficient, and when it is too high, compatibility with other components is deteriorated, and as a result, uniform film formation is prevented. As such a binder polymer, for example, an acrylic polymer, a polyester resin, a phenoxy resin, a urethane resin, a silicone resin, a rubber polymer, and the like are used, and an acrylic polymer is particularly preferably used.
アクリル系ポリマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと（メタ）アクリル酸誘導体から導かれる構成単位とからなる（メタ）アクリル酸エステル共重合体が挙げられる。ここで（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８である（メタ）アクリル酸アルキルエステル、例えば（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル等が用いられる。また、（メタ）アクリル酸誘導体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル等を挙げることができる。 Examples of the acrylic polymer include (meth) acrylic acid ester copolymers composed of (meth) acrylic acid ester monomers and structural units derived from (meth) acrylic acid derivatives. Here, the (meth) acrylic acid ester monomer is preferably a (meth) acrylic acid alkyl ester having an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, (meth ) Propyl acrylate, butyl (meth) acrylate, etc. are used. Examples of the (meth) acrylic acid derivative include (meth) acrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, hydroxyethyl (meth) acrylate, and the like.
上記の中でもメタクリル酸グリシジル等を構成単位として用いてアクリル系ポリマーにグリシジル基を導入すると、前述した熱硬化性成分としてのエポキシ樹脂との相溶性が向上し、保護膜形成フィルムの硬化後のガラス転移温度（Ｔｇ）が高くなり、耐熱性が向上する。また、上記の中でもアクリル酸ヒドロキシエチル等を構成単位として用いてアクリル系ポリマーに水酸基を導入すると、ワークへの密着性や粘着物性をコントロールすることができる。 Among them, when glycidyl group is introduced into an acrylic polymer using glycidyl methacrylate as a structural unit, the compatibility with the epoxy resin as the thermosetting component described above is improved, and the glass after curing of the protective film-forming film The transition temperature (Tg) is increased and the heat resistance is improved. In addition, among the above, when a hydroxyl group is introduced into an acrylic polymer using hydroxyethyl acrylate or the like as a structural unit, adhesion to a workpiece and physical properties of an adhesive can be controlled.
バインダーポリマーとしてアクリル系ポリマーを使用した場合における当該ポリマーの重量平均分子量は、好ましくは１０万以上であり、特に好ましくは１５万〜１００万である。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は通常２０℃以下、好ましくは−７０〜０℃程度であり、常温（２３℃）においては粘着性を有する。 When an acrylic polymer is used as the binder polymer, the weight average molecular weight of the polymer is preferably 100,000 or more, and particularly preferably 150,000 to 1,000,000. The glass transition temperature of the acrylic polymer is usually 20 ° C. or less, preferably about −70 to 0 ° C., and has adhesiveness at room temperature (23 ° C.).
熱硬化性成分とバインダーポリマー成分との配合比率は、バインダーポリマー成分１００重量部に対して、熱硬化性成分を、好ましくは５０〜１５００重量部、特に好ましくは７０〜１０００重量部、さらに好ましくは８０〜８００重量部配合することが好ましい。このような割合で熱硬化性成分とバインダーポリマー成分とを配合すると、硬化前には適度なタックを示し、貼付作業を安定して行うことができ、また硬化後には、被膜強度に優れた保護膜が得られる。 The blending ratio of the thermosetting component and the binder polymer component is preferably 50 to 1500 parts by weight, particularly preferably 70 to 1000 parts by weight, more preferably 100 parts by weight of the binder polymer component. It is preferable to blend 80 to 800 parts by weight. When the thermosetting component and the binder polymer component are blended in such a ratio, an appropriate tack is exhibited before curing, and the sticking operation can be stably performed. A membrane is obtained.
保護膜形成フィルムは、着色剤および／またはフィラーを含有することが好ましく、特に着色剤およびフィラーの両者を含有することが好ましい。これにより、波長１６００ｎｍおよび波長５５０ｎｍの光線透過率を前述した範囲に制御することが可能となる。また、保護膜形成フィルムがフィラーを含有すると、硬化後の保護膜の硬度を高く維持することができるとともに、耐湿性を向上させることができる。さらには、硬化後の保護膜の熱膨張係数を半導体ウエハの熱膨張係数に近づけることができ、これによって加工途中の半導体ウエハの反りを低減することができる。 The protective film-forming film preferably contains a colorant and / or a filler, and particularly preferably contains both a colorant and a filler. Thereby, it becomes possible to control the light transmittance of the wavelength 1600 nm and the wavelength 550 nm within the above-described ranges. Moreover, when a protective film formation film contains a filler, while being able to maintain the hardness of the protective film after hardening high, moisture resistance can be improved. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the protective film after curing can be brought close to the thermal expansion coefficient of the semiconductor wafer, thereby reducing the warpage of the semiconductor wafer during processing.
着色剤としては、例えば、無機系顔料、有機系顔料、有機系染料など公知のものを使用することができるが、光線透過率の制御性の観点から、無機系顔料を使用することが好ましい。 As the colorant, for example, known pigments such as inorganic pigments, organic pigments, and organic dyes can be used, but inorganic pigments are preferably used from the viewpoint of controllability of light transmittance.
無機系顔料としては、例えば、カーボンブラック、コバルト系色素、鉄系色素、クロム系色素、チタン系色素、バナジウム系色素、ジルコニウム系色素、モリブデン系色素、ルテニウム系色素、白金系色素、ＩＴＯ（インジウムスズオキサイド）系色素、ＡＴＯ（アンチモンスズオキサイド）系色素等が挙げられる。 Examples of inorganic pigments include carbon black, cobalt dyes, iron dyes, chromium dyes, titanium dyes, vanadium dyes, zirconium dyes, molybdenum dyes, ruthenium dyes, platinum dyes, ITO (indium) Tin oxide) dyes, ATO (antimony tin oxide) dyes, and the like.
有機系顔料及び有機系染料としては、例えば、アミニウム系色素、シアニン系色素、メロシアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、アズレニウム系色素、ポリメチン系色素、ナフトキノン系色素、ピリリウム系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ナフトラクタム系色素、アゾ系色素、縮合アゾ系色素、インジゴ系色素、ペリノン系色素、ペリレン系色素、ジオキサジン系色素、キナクリドン系色素、イソインドリノン系色素、キノフタロン系色素、ピロール系色素、チオインジゴ系色素、金属錯体系色素（金属錯塩染料）、ジチオール金属錯体系色素、インドールフェノール系色素、トリアリルメタン系色素、アントラキノン系色素、ジオキサジン系色素、ナフトール系色素、アゾメチン系色素、ベンズイミダゾロン系色素、ピランスロン系色素及びスレン系色等が挙げられる。これらの顔料又は染料は、目的とする光線透過率に調整するため適宜混合して使用することができる。 Examples of organic pigments and organic dyes include aminium dyes, cyanine dyes, merocyanine dyes, croconium dyes, squalium dyes, azurenium dyes, polymethine dyes, naphthoquinone dyes, pyrylium dyes, and phthalocyanine dyes. Dyes, naphthalocyanine dyes, naphtholactam dyes, azo dyes, condensed azo dyes, indigo dyes, perinone dyes, perylene dyes, dioxazine dyes, quinacridone dyes, isoindolinone dyes, quinophthalone dyes, Pyrrole dyes, thioindigo dyes, metal complex dyes (metal complex dyes), dithiol metal complex dyes, indolephenol dyes, triallylmethane dyes, anthraquinone dyes, dioxazine dyes, naphthol dyes, azomethine dyes The Zuimidazoron based dyes, pyranthrone pigments and threne color like. These pigments or dyes can be appropriately mixed and used in order to adjust to the desired light transmittance.
上記の中でも、特にカーボンブラックを使用することが好ましい。カーボンブラックによれば、波長１６００ｎｍおよび波長５５０ｎｍの光線透過率を前述した範囲に制御し易い。 Among the above, it is particularly preferable to use carbon black. According to carbon black, it is easy to control the light transmittance at a wavelength of 1600 nm and a wavelength of 550 nm within the above-described ranges.
保護膜形成フィルム中における着色剤（特にカーボンブラック）の配合量は、保護膜形成フィルムの厚さによっても異なるが、例えば保護膜形成フィルムの厚さが２５μｍの場合は、０．０５〜１質量％であることが好ましく、特に０．０７５〜０．７５質量％であることが好ましく、さらには０．１〜０．５質量％であることが好ましい。着色剤の配合量が０．０５質量％以上であると、半導体チップ等における研削痕が目視で見えないように、波長５５０ｎｍの光線透過率を２０％以下に制御し易い。一方、着色剤の配合量が１質量％を超えると、赤外線が保護膜形成フィルム（保護膜）を透過せず、赤外線検査ができないことがある。なお、保護膜形成フィルムの厚さが薄くなると、光線透過率が高くなる傾向があり、保護膜形成フィルムの厚さが厚くなると、光線透過率が低くなる傾向があるため、保護膜形成フィルムの厚さに応じて、着色剤の配合量を適宜調整することが望ましい。具体的には、保護膜形成フィルムの厚さと着色剤の配合量とが反比例の関係になるように調整することが望ましい。 The blending amount of the colorant (particularly carbon black) in the protective film-forming film varies depending on the thickness of the protective film-forming film. For example, when the thickness of the protective film-forming film is 25 μm, 0.05 to 1 mass is used. %, Preferably 0.075 to 0.75% by mass, more preferably 0.1 to 0.5% by mass. When the blending amount of the colorant is 0.05% by mass or more, it is easy to control the light transmittance at a wavelength of 550 nm to 20% or less so that grinding marks on the semiconductor chip or the like cannot be visually observed. On the other hand, if the blending amount of the colorant exceeds 1% by mass, infrared rays may not pass through the protective film-forming film (protective film), and infrared inspection may not be possible. As the thickness of the protective film-forming film decreases, the light transmittance tends to increase. When the thickness of the protective film-forming film increases, the light transmittance tends to decrease. It is desirable to adjust the blending amount of the colorant as appropriate according to the thickness. Specifically, it is desirable to adjust so that the thickness of the protective film-forming film and the blending amount of the colorant have an inversely proportional relationship.
着色剤（特にカーボンブラック）の平均粒径は、１〜５００ｎｍであることが好ましく、特に３〜１００ｎｍであることが好ましく、さらには５〜５０ｎｍであることが好ましい。着色剤の平均粒径が上記の範囲内にあると、波長５５０ｎｍの光線透過率および波長１６００ｎｍの光線透過率を前述した範囲に制御し易い。なお、本明細書における着色剤の平均粒径は、粒度分布測定装置（日機装社製，ナノトラックＷａｖｅ−ＵＴ１５１）を使用して、動的光散乱法により測定した値とする。 The average particle diameter of the colorant (particularly carbon black) is preferably 1 to 500 nm, particularly preferably 3 to 100 nm, and further preferably 5 to 50 nm. When the average particle diameter of the colorant is within the above range, the light transmittance at a wavelength of 550 nm and the light transmittance at a wavelength of 1600 nm can be easily controlled within the above-described ranges. In addition, the average particle diameter of the colorant in this specification is a value measured by a dynamic light scattering method using a particle size distribution measuring device (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Nanotrack Wave-UT151).
フィラーとしては、結晶シリカ、溶融シリカ、合成シリカ等のシリカや、アルミナ、ガラスバルーン等の無機フィラーが挙げられる。中でもシリカが好ましく、合成シリカがより好ましく、特に半導体装置の誤作動の要因となるα線の線源を極力除去したタイプの合成シリカが最適である。フィラーの形状としては、球形、針状、不定形等が挙げられるが、球形であることが好ましく、特に真球形であることが好ましい。フィラーが球形または真球形であると、光線の乱反射が生じ難く、前述した赤外線検査を良好に行うことができる。 Examples of the filler include silica such as crystalline silica, fused silica, and synthetic silica, and inorganic filler such as alumina and glass balloon. Among these, silica is preferable, synthetic silica is more preferable, and synthetic silica of the type in which α-ray sources that cause malfunction of the semiconductor device are removed as much as possible is optimal. Examples of the shape of the filler include a spherical shape, a needle shape, and an indefinite shape, and a spherical shape is preferable, and a true spherical shape is particularly preferable. When the filler is spherical or true spherical, irregular reflection of light hardly occurs, and the above-described infrared inspection can be performed satisfactorily.
また、保護膜形成フィルムに添加するフィラーとしては、上記無機フィラーの他にも、機能性のフィラーが配合されていてもよい。機能性のフィラーとしては、例えば、ダイボンド後の導電性の付与を目的とした、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレス、カーボン、セラミック、またはニッケル、アルミニウム等を銀で被覆した導電性フィラーや、熱伝導性の付与を目的とした、金、銀、銅、ニッケル、アルミニウム、ステンレス、シリコン、ゲルマニウム等の金属材料やそれらの合金等の熱伝導性フィラーなどが挙げられる。 Moreover, as a filler added to a protective film formation film, a functional filler other than the said inorganic filler may be mix | blended. As the functional filler, for example, a conductive filler in which gold, silver, copper, nickel, aluminum, stainless steel, carbon, ceramic, nickel, aluminum, or the like is coated with silver for the purpose of imparting conductivity after die bonding. And metal materials such as gold, silver, copper, nickel, aluminum, stainless steel, silicon, and germanium, and heat conductive fillers such as alloys thereof for the purpose of imparting thermal conductivity.
フィラー（特にシリカフィラー）の平均粒径は、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜３μｍであることがより好ましく、特に０．０３〜２μｍであることが好ましく、さらには０．０５〜１μｍであることが好ましい。フィラーの平均粒径が０．０１μｍ以上であると、半導体チップ等における研削痕が目視で見えないように、波長５５０ｎｍの光線透過率を２０％以下に制御し易い。一方、フィラーの平均粒径が１０μｍを超えると、保護膜形成フィルムの表面状態が悪くなるおそれがある。また、フィラーの平均粒径が３μｍを超えると、赤外線の乱反射により、赤外線検査し難い場合がある。なお、本明細書におけるフィラーの１μｍ未満の平均粒径は、粒度分布測定装置（日機装社製，ナノトラックＷａｖｅ−ＵＴ１５１）を使用して、動的光散乱法により測定した値とする。また、フィラーの１μｍ以上の平均粒径は、粒度分布測定装置（日機装社製，マイクロトラックＭＴ３０００II）を使用して、レーザー回折・散乱法により測定した値とする。 The average particle size of the filler (particularly silica filler) is preferably 0.01 to 10 μm, more preferably 0.01 to 3 μm, particularly preferably 0.03 to 2 μm, and further 0 It is preferable that it is 0.05-1 micrometer. When the average particle size of the filler is 0.01 μm or more, it is easy to control the light transmittance at a wavelength of 550 nm to 20% or less so that grinding marks on a semiconductor chip or the like cannot be seen visually. On the other hand, when the average particle diameter of the filler exceeds 10 μm, the surface state of the protective film-forming film may be deteriorated. Moreover, when the average particle diameter of a filler exceeds 3 micrometers, it may be difficult to carry out an infrared test by irregular reflection of infrared rays. In addition, let the average particle diameter below 1 micrometer of the filler in this specification be the value measured by the dynamic light-scattering method using the particle size distribution measuring apparatus (The Nikkiso Co., Ltd. make, Nanotrack Wave-UT151). The average particle size of 1 μm or more of the filler is a value measured by a laser diffraction / scattering method using a particle size distribution measuring device (manufactured by Nikkiso Co., Ltd., Microtrac MT3000II).
保護膜形成フィルム中におけるフィラー（特にシリカフィラー）の配合量は、１０〜８０質量％であることが好ましく、特に２０〜７０質量％であることが好ましく、さらには３０〜６５質量％であることが好ましい。フィラーの配合量が１０質量％以上であると、半導体チップ等における研削痕が目視で見えないように、波長５５０ｎｍの光線透過率を２０％以下に制御し易い。一方、フィラーの配合量が８０質量％を超えると、赤外線が保護膜形成フィルム（保護膜）を透過せず、赤外線検査ができないことがある。 The amount of filler (especially silica filler) in the protective film-forming film is preferably 10 to 80% by mass, particularly preferably 20 to 70% by mass, and more preferably 30 to 65% by mass. Is preferred. When the blending amount of the filler is 10% by mass or more, it is easy to control the light transmittance at a wavelength of 550 nm to 20% or less so that grinding marks on a semiconductor chip or the like cannot be visually observed. On the other hand, if the blending amount of the filler exceeds 80% by mass, infrared rays may not pass through the protective film-forming film (protective film), and infrared inspection may not be possible.
保護膜形成フィルムは、カップリング剤を含有してもよい。カップリング剤を含有することにより、保護膜形成フィルムの硬化後において、保護膜の耐熱性を損なわずに、保護膜とワークとの接着性・密着性を向上させることができるとともに、耐水性（耐湿熱性）を向上させることができる。カップリング剤としては、その汎用性とコストメリットなどからシランカップリング剤が好ましい。 The protective film-forming film may contain a coupling agent. By containing the coupling agent, after curing of the protective film-forming film, it is possible to improve the adhesion and adhesion between the protective film and the workpiece without impairing the heat resistance of the protective film, (Moisture and heat resistance) can be improved. As the coupling agent, a silane coupling agent is preferable because of its versatility and cost merit.
シランカップリング剤としては、例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−６−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−６−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、ビス（３−トリエトキシシリルプロピル）テトラスルファン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、イミダゾールシランなどが挙げられる。これらは１種を単独で、または２種以上混合して使用することができる。 Examples of the silane coupling agent include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ- (methacryloxy). Propyl) trimethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-6- (aminoethyl) -γ-aminopropylmethyldiethoxysilane, N -Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, bis (3-triethoxysilylpropyl) tetrasulfane, methyltri Methoxysilane , Methyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and imidazolesilane. These can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
保護膜形成フィルムは、硬化前の凝集力を調節するために、有機多価イソシアナート化合物、有機多価イミン化合物、有機金属キレート化合物等の架橋剤を含有してもよい。また、保護膜形成フィルムは、静電気を抑制し、チップの信頼性を向上させるために、帯電防止剤を含有してもよい。さらに、保護膜形成フィルムは、保護膜の難燃性能を高め、パッケージとしての信頼性を向上させるために、リン酸化合物、ブロム化合物、リン系化合物等の難燃剤を含有してもよい。 The protective film-forming film may contain a crosslinking agent such as an organic polyvalent isocyanate compound, an organic polyvalent imine compound, or an organometallic chelate compound in order to adjust the cohesive force before curing. Further, the protective film-forming film may contain an antistatic agent in order to suppress static electricity and improve the reliability of the chip. Furthermore, the protective film-forming film may contain a flame retardant such as a phosphoric acid compound, a bromine compound, or a phosphorus compound in order to enhance the flame retardance performance of the protective film and improve the reliability as a package.
保護膜形成フィルムの厚さは、保護膜としての機能を効果的に発揮させるために、３〜３００μｍであることが好ましく、特に５〜２００μｍであることが好ましく、さらには７〜１００μｍであることが好ましい。 The thickness of the protective film-forming film is preferably 3 to 300 μm, particularly preferably 5 to 200 μm, and more preferably 7 to 100 μm in order to effectively exert the function as the protective film. Is preferred.
〔保護膜形成用シート〕
図１は本発明の一実施形態に係る保護膜形成用シートの断面図である。図１に示すように、本実施形態に係る保護膜形成用シート２は、保護膜形成フィルム１と、保護膜形成フィルム１の一方の面（図１では下側の面）に積層された剥離シート２１とを備えて構成される。ただし、剥離シート２１は、保護膜形成用シート２の使用時に剥離されるものである。
[Protective film forming sheet]
FIG. 1 is a cross-sectional view of a protective film forming sheet according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the protective film-forming
剥離シート２１は、保護膜形成用シート２が使用されるまでの間、保護膜形成フィルム１を保護するものであり、必ずしもなくてもよい。剥離シート２１の構成は任意であり、フィルム自体が保護膜形成フィルム１に対し剥離性を有するプラスチックフィルム、およびプラスチックフィルムを剥離剤等により剥離処理したものが例示される。プラスチックフィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、およびポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィンフィルムが挙げられる。剥離剤としては、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系等を用いることができるが、これらの中で、安価で安定した性能が得られるシリコーン系が好ましい。剥離シート２１の厚さについては特に制限はないが、通常２０〜２５０μｍ程度である。
The
上記のような剥離シート２１は、保護膜形成フィルム１の他方の面（図１では上側の面）にも積層されてもよい。この場合は、一方の剥離シート２１の剥離力を大きくして重剥離型剥離シートとし、他方の剥離シート２１の剥離力を小さくして軽剥離型剥離シートとすることが好ましい。
The
本実施形態に係る保護膜形成用シート２を製造するには、剥離シート２１の剥離面（剥離性を有する面；通常は剥離処理が施された面であるが、これに限定されない）に、保護膜形成フィルム１を形成する。具体的には、保護膜形成フィルム１を構成する硬化性接着剤と、所望によりさらに溶媒とを含有する保護膜形成フィルム用の塗布剤を調製し、ロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、エアナイフコーター、ダイコーター、バーコーター、グラビアコーター、カーテンコーター等の塗工機によって剥離シート２１の剥離面に塗布して乾燥させて、保護膜形成フィルム１を形成する。
In order to manufacture the protective film-forming
本実施形態に係る保護膜形成用シート２を用いて、一例としてワークとしての半導体ウエハから保護膜付きチップを製造する方法を以下に説明する。最初に、表面に回路が形成され、バックグラインド加工された半導体ウエハの裏面に、保護膜形成用シート２の保護膜形成フィルム１を貼付する。このとき、所望により保護膜形成フィルム１を加熱して、粘着性を発揮させてもよい。
As an example, a method for manufacturing a chip with a protective film from a semiconductor wafer as a workpiece using the protective
次いで、保護膜形成フィルム１から剥離シート２１を剥離する。その後、保護膜形成フィルム１を硬化させて保護膜を形成し、保護膜付き半導体ウエハを得る。保護膜形成フィルム１が熱硬化性接着剤の場合には、保護膜形成フィルム１を所定温度で適切な時間加熱すればよい。なお、保護膜形成フィルム１の硬化は、ダイシング工程後に行ってもよい。
Next, the
上記のようにして保護膜付き半導体ウエハが得られたら、所望により、その保護膜に対してレーザー光を照射し、レーザー印字を行う。なお、このレーザー印字は、保護膜形成フィルム１の硬化前に行ってもよい。
If a semiconductor wafer with a protective film is obtained as described above, the protective film is irradiated with laser light as desired to perform laser printing. In addition, you may perform this laser printing before hardening of the protective
次いで、所望のダイシングシートを使用し、常法に従って保護膜付き半導体ウエハをダイシングし、保護膜を有するチップ（保護膜付きチップ）を得る。その後は、所望によりダイシングシートを平面方向にエキスパンドし、ダイシングシートから保護膜付きチップをピックアップする。 Next, using a desired dicing sheet, the semiconductor wafer with a protective film is diced according to a conventional method to obtain a chip having a protective film (chip with a protective film). Thereafter, if necessary, the dicing sheet is expanded in the plane direction, and a chip with a protective film is picked up from the dicing sheet.
上記のようにして得られた保護膜付きチップは、バックグラインド加工による研削痕が保護膜によって隠蔽されて目視で見えないため、外観に優れる。また、当該保護膜付きチップおよび保護膜付き半導体ウエハは、保護膜を介して赤外線検査を行うことができるため、赤外線検査によりクラック等を発見することができ、製品歩留まりを向上させることができる。 The chip with a protective film obtained as described above is excellent in appearance because grinding marks by back grinding are hidden by the protective film and cannot be visually observed. Moreover, since the chip | tip with a protective film and the semiconductor wafer with a protective film can perform an infrared test through a protective film, a crack etc. can be discovered by an infrared test and a product yield can be improved.
なお、赤外線検査は、赤外線を利用して行う検査であり、保護膜付き半導体ウエハ等の保護膜付きワークまたは保護膜付きチップ等の加工物からの赤外線を、保護膜を介して取得することにより行うことができる。取得する赤外線の波長は、通常８００〜２８００ｎｍであり、好ましくは１１００〜２１００ｎｍである。赤外線検査の装置としては、公知の装置、例えば赤外線カメラや赤外線顕微鏡等を有するものを使用することができる。 The infrared inspection is an inspection performed using infrared rays, and by acquiring infrared rays from a workpiece such as a semiconductor wafer with a protective film or a workpiece such as a chip with a protective film through the protective film. It can be carried out. The wavelength of infrared rays to be acquired is usually 800 to 2800 nm, preferably 1100 to 2100 nm. As an infrared inspection apparatus, a known apparatus such as an infrared camera or an infrared microscope can be used.
〔保護膜形成用複合シート〕
図２は本発明の一実施形態に係る保護膜形成用複合シートの断面図である。図２に示すように、本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３は、基材４１の一方の面に粘着剤層４２が積層されてなる粘着シート４と、粘着シート４の粘着剤層４２側に積層された保護膜形成フィルム１と、保護膜形成フィルム１における粘着シート４とは反対側の周縁部に積層された治具用粘着剤層５とを備えて構成される。治具用粘着剤層５は、保護膜形成用複合シート３をリングフレーム等の治具に接着するための層である。
[Composite sheet for protective film formation]
FIG. 2 is a cross-sectional view of a protective film-forming composite sheet according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, the protective film-forming composite sheet 3 according to this embodiment includes a pressure-
実施形態に係る保護膜形成用複合シート３は、ワークを加工するときに、当該ワークに貼付されて当該ワークを保持するとともに、当該ワークまたは当該ワークを加工して得られる加工物に保護膜を形成するために用いられる。この保護膜は、保護膜形成フィルム１、好ましくは硬化した保護膜形成フィルム１から構成される。
When processing a workpiece, the composite sheet 3 for forming a protective film according to the embodiment is attached to the workpiece and holds the workpiece, and a protective film is applied to the workpiece or a workpiece obtained by processing the workpiece. Used to form. This protective film is composed of a protective film-forming
実施形態に係る保護膜形成用複合シート３は、一例として、ワークとしての半導体ウエハのダイシング加工時に半導体ウエハを保持するとともに、ダイシングによって得られる半導体チップに保護膜を形成するために用いられるが、これに限定されるものではない。この場合における保護膜形成用複合シート３の粘着シート４は、通常、ダイシングシートと称される。
As an example, the composite sheet 3 for forming a protective film according to the embodiment is used to hold a semiconductor wafer during dicing processing of a semiconductor wafer as a workpiece and to form a protective film on a semiconductor chip obtained by dicing. It is not limited to this. In this case, the
１．粘着シート
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３の粘着シート４は、基材４１と、基材４１の一方の面に積層された粘着剤層４２とを備えて構成される。
1. Adhesive Sheet The
１−１．基材
粘着シート４の基材４１は、ワークの加工、例えば半導体ウエハのダイシングおよびエキスパンディングに適するものであれば、その構成材料は特に限定されず、通常は樹脂系の材料を主材とするフィルム（以下「樹脂フィルム」という。）から構成される。
1-1. The
樹脂フィルムの具体例として、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）フィルム、直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）フィルム、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）フィルム等のポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、エチレン−ノルボルネン共重合体フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム等のポリオレフィン系フィルム；エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体フィルム、エチレン−（メタ）アクリル酸エステル共重合体フィルム等のエチレン系共重合フィルム；ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム等のポリ塩化ビニル系フィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム等のポリエステル系フィルム；ポリウレタンフィルム；ポリイミドフィルム；ポリスチレンフィルム；ポリカーボネートフィルム；フッ素樹脂フィルムなどが挙げられる。またこれらの架橋フィルム、アイオノマーフィルムのような変性フィルムも用いられる。上記の基材４１はこれらの１種からなるフィルムでもよいし、さらにこれらを２種類以上組み合わせた積層フィルムであってもよい。なお、本明細書における「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸およびメタクリル酸の両方を意味する。他の類似用語についても同様である。
Specific examples of resin films include polyethylene films such as low density polyethylene (LDPE) films, linear low density polyethylene (LLDPE) films, and high density polyethylene (HDPE) films, polypropylene films, polybutene films, polybutadiene films, and polymethylpentene films. Polyolefin films such as ethylene-norbornene copolymer film and norbornene resin film; ethylene-vinyl acetate copolymer film, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer film, ethylene- (meth) acrylic acid ester copolymer Ethylene copolymer film such as film; Polyvinyl chloride film such as polyvinyl chloride film and vinyl chloride copolymer film; Polyethylene terephthalate film, Polybutylene tele Polyester film of tallate films; polyurethane film; polyimide film; polystyrene films; polycarbonate films; and fluorine resin film. Further, modified films such as these crosslinked films and ionomer films are also used. The
上記の中でも、環境安全性、コスト等の観点から、ポリオレフィン系フィルムが好ましく、その中でも耐熱性に優れるポリプロピレンフィルムが好ましい。ポリプロピレンフィルムであれば、粘着シート４のエキスパンド適性やチップのピックアップ適性を損なうことなく、基材４１に耐熱性を付与することができる。基材４１がかかる耐熱性を有することにより、保護膜形成用複合シート３をワークに貼付した状態で保護膜形成フィルム１を熱硬化させた場合にも、粘着シート４の弛みの発生を抑制することができる。
Among these, from the viewpoints of environmental safety, cost, and the like, a polyolefin film is preferable, and among them, a polypropylene film excellent in heat resistance is preferable. If it is a polypropylene film, heat resistance can be provided to the
上記樹脂フィルムは、その表面に積層される粘着剤層４２との密着性を向上させる目的で、所望により片面または両面に、酸化法や凹凸化法などによる表面処理、あるいはプライマー処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、プラズマ放電処理、クロム酸化処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン、紫外線照射処理などが挙げられ、また、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶射処理法などが挙げられる。
The resin film may be subjected to a surface treatment such as an oxidation method or a concavo-convex method or a primer treatment on one or both sides as desired for the purpose of improving the adhesion with the pressure-
基材４１は、上記樹脂フィルム中に、着色剤、難燃剤、可塑剤、帯電防止剤、滑剤、フィラー等の各種添加剤を含有してもよい。
The
基材４１の厚さは、保護膜形成用複合シート３が使用される各工程において適切に機能できる限り、特に限定されない。好ましくは２０〜４５０μｍ、より好ましくは２５〜４００μｍ、特に好ましくは５０〜３５０μｍの範囲である。
The thickness of the
本実施形態における粘着シート４の基材４１の破断伸度は、２３℃、相対湿度５０％のときに測定した値として１００％以上であることが好ましく、特に２００〜１０００％であることが好ましい。ここで、破断伸度はＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４（ＩＳＯ ５２７−１ １９９３）に準拠した引張り試験における、試験片破壊時の試験片の長さの元の長さに対する伸び率である。上記の破断伸度が１００％以上である基材４１は、エキスパンド工程の際に破断し難く、ワークを切断して形成したチップを離間し易いものとなる。
The breaking elongation of the
また、本実施形態における粘着シート４の基材４１の２５％ひずみ時引張応力は５〜１５Ｎ／１０ｍｍであることが好ましく、最大引張応力は１５〜５０ＭＰａであることが好ましい。ここで２５％ひずみ時引張応力および最大引張応力はＪＩＳ Ｋ７１６１：１９９４に準拠した試験により測定される。２５％ひずみ時引張応力が５Ｎ／１０ｍｍ以上、最大引張応力が１５ＭＰａ以上であると、ダイシングシート１にワークを貼着した後、リングフレームなどの枠体に固定した際、基材２に弛みが発生することが抑制され、搬送エラーが生じることを防止することができる。一方、２５％ひずみ時引張応力が１５Ｎ／１０ｍｍ以下、最大引張応力が５０ＭＰａ以下であると、エキスパンド工程時にリングフレームからダイシングシート１自体が剥がれたりすることが抑制される。なお、上記の破断伸度、２５％ひずみ時引張応力、最大引張応力は基材４１における原反の長尺方向について測定した値を指す。
Moreover, it is preferable that the tensile stress at the time of 25% distortion of the
１−２．粘着剤層
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３の粘着シート４が備える粘着剤層４２は、非エネルギー線硬化性粘着剤から構成されてもよいし、エネルギー線硬化性粘着剤から構成されてもよい。非エネルギー線硬化性粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用することができる。これらの中でも、保護膜形成フィルム１との密着性が高く、ダイシング工程等にてワークまたは加工物の脱落を効果的に抑制することのできるアクリル系粘着剤が好ましい。
1-2. The pressure-sensitive adhesive layer The pressure-
一方、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線照射により粘着力が低下するため、ワークまたは加工物と粘着シート４とを分離させたいときに、エネルギー線照射することにより、容易に分離させることができる。
On the other hand, the energy ray curable pressure-sensitive adhesive has an adhesive force that is reduced by irradiation with energy rays. Therefore, when it is desired to separate the workpiece or workpiece and the pressure-
粘着剤層４２がエネルギー線硬化性粘着剤からなる場合、保護膜形成用複合シート３における粘着剤層４２は硬化していることが好ましい。エネルギー線硬化性粘着剤を硬化した材料は、通常、弾性率が高く、かつ表面の平滑性が高いため、かかる材料からなる硬化部分に接触している保護膜形成フィルム３を硬化させて保護膜を形成すると、保護膜の当該硬化部分と接触している表面は、平滑性（グロス）が高くなり、チップの保護膜として美観に優れたものとなる。また、表面平滑性の高い保護膜にレーザー印字が施されると、その印字の視認性が向上する。
When the pressure-
粘着剤層４２を構成するエネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とするものであってもよいし、エネルギー線硬化性を有しないポリマーとエネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの混合物を主成分とするものであってもよい。
The energy ray-curable pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-
エネルギー線硬化性粘着剤が、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とする場合について、以下説明する。 The case where the energy ray curable pressure-sensitive adhesive is mainly composed of a polymer having energy ray curable properties will be described below.
エネルギー線硬化性を有するポリマーは、側鎖にエネルギー線硬化性を有する官能基（エネルギー線硬化性基）が導入された（メタ）アクリル酸エステル（共）重合体（Ａ）（以下「エネルギー線硬化型重合体（Ａ）」という場合がある。）であることが好ましい。このエネルギー線硬化型重合体（Ａ）は、官能基含有モノマー単位を有する（メタ）アクリル系共重合体（ａ１）と、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）とを反応させて得られるものであることが好ましい。 The polymer having energy ray curability is a (meth) acrylic acid ester (co) polymer (A) (hereinafter referred to as “energy ray”) in which a functional group having energy ray curability (energy ray curable group) is introduced into the side chain. It may be referred to as “curable polymer (A)”). This energy ray curable polymer (A) includes a (meth) acrylic copolymer (a1) having a functional group-containing monomer unit, and an unsaturated group-containing compound (a2) having a substituent bonded to the functional group. It is preferable that it is obtained by making it react.
アクリル系共重合体（ａ１）は、官能基含有モノマーから導かれる構成単位と、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位とからなる。 The acrylic copolymer (a1) is composed of a structural unit derived from a functional group-containing monomer and a structural unit derived from a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof.
アクリル系共重合体（ａ１）の構成単位としての官能基含有モノマーは、重合性の二重結合と、ヒドロキシル基、アミノ基、置換アミノ基、エポキシ基等の官能基とを分子内に有するモノマーであることが好ましい。 The functional group-containing monomer as a constituent unit of the acrylic copolymer (a1) is a monomer having a polymerizable double bond and a functional group such as a hydroxyl group, an amino group, a substituted amino group, or an epoxy group in the molecule. It is preferable that
上記官能基含有モノマーのさらに具体的な例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて用いられる。 More specific examples of the functional group-containing monomer include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
アクリル系共重合体（ａ１）を構成する（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、アルキル基の炭素数が１〜２０であるアルキル（メタ）アクリレート、シクロアルキル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレートが用いられる。これらの中でも、特に好ましくはアルキル基の炭素数が１〜１８であるアルキル（メタ）アクリレート、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が用いられる。 Examples of the (meth) acrylic acid ester monomer constituting the acrylic copolymer (a1) include alkyl (meth) acrylates having 1 to 20 carbon atoms in the alkyl group, cycloalkyl (meth) acrylates, and benzyl (meth) acrylates. Is used. Among these, alkyl (meth) acrylates having 1 to 18 carbon atoms in the alkyl group are particularly preferable, such as methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and n-butyl (meth) acrylate. 2-ethylhexyl (meth) acrylate or the like is used.
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記官能基含有モノマーから導かれる構成単位を通常３〜１００質量％、好ましくは５〜４０質量％の割合で含有し、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体から導かれる構成単位を通常０〜９７質量％、好ましくは６０〜９５質量％の割合で含有してなる。 The acrylic copolymer (a1) usually contains 3 to 100% by mass, preferably 5 to 40% by mass of a structural unit derived from the functional group-containing monomer, and is a (meth) acrylic acid ester monomer or its The structural unit derived from the derivative is usually contained in a proportion of 0 to 97% by mass, preferably 60 to 95% by mass.
アクリル系共重合体（ａ１）は、上記のような官能基含有モノマーと、（メタ）アクリル酸エステルモノマーまたはその誘導体とを常法で共重合することにより得られるが、これらモノマーの他にもジメチルアクリルアミド、蟻酸ビニル、酢酸ビニル、スチレン等が共重合されてもよい。 The acrylic copolymer (a1) can be obtained by copolymerizing a functional group-containing monomer as described above with a (meth) acrylic acid ester monomer or a derivative thereof in a conventional manner. Dimethylacrylamide, vinyl formate, vinyl acetate, styrene and the like may be copolymerized.
上記官能基含有モノマー単位を有するアクリル系共重合体（ａ１）を、その官能基に結合する置換基を有する不飽和基含有化合物（ａ２）と反応させることにより、エネルギー線硬化型重合体（Ａ）が得られる。 By reacting the acrylic copolymer (a1) having the functional group-containing monomer unit with an unsaturated group-containing compound (a2) having a substituent bonded to the functional group, an energy beam curable polymer (A ) Is obtained.
不飽和基含有化合物（ａ２）が有する置換基は、アクリル系共重合体（ａ１）が有する官能基含有モノマー単位の官能基の種類に応じて、適宜選択することができる。例えば、官能基がヒドロキシル基、アミノ基または置換アミノ基の場合、置換基としてはイソシアネート基またはエポキシ基が好ましく、官能基がエポキシ基の場合、置換基としてはアミノ基、カルボキシル基またはアジリジニル基が好ましい。 The substituent which an unsaturated group containing compound (a2) has can be suitably selected according to the kind of functional group of the functional group containing monomer unit which an acrylic copolymer (a1) has. For example, when the functional group is a hydroxyl group, an amino group or a substituted amino group, the substituent is preferably an isocyanate group or an epoxy group, and when the functional group is an epoxy group, the substituent is an amino group, a carboxyl group or an aziridinyl group. preferable.
また不飽和基含有化合物（ａ２）には、エネルギー線重合性の炭素−炭素二重結合が、１分子毎に１〜５個、好ましくは１〜２個含まれている。このような不飽和基含有化合物（ａ２）の具体例としては、例えば、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタ−イソプロペニル−α，α−ジメチルベンジルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート、アリルイソシアネート、１，１−（ビスアクリロイルオキシメチル）エチルイソシアネート；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；ジイソシアネート化合物またはポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとの反応により得られるアクリロイルモノイソシアネート化合物；グリシジル（メタ）アクリレート；（メタ）アクリル酸、２−（１−アジリジニル）エチル（メタ）アクリレート、２−ビニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン等が挙げられる。 The unsaturated group-containing compound (a2) contains 1 to 5, preferably 1 to 2, energy-polymerizable carbon-carbon double bonds per molecule. Specific examples of such unsaturated group-containing compound (a2) include, for example, 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, meta-isopropenyl-α, α-dimethylbenzyl isocyanate, methacryloyl isocyanate, allyl isocyanate, 1,1- ( Bisacryloyloxymethyl) ethyl isocyanate; acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction of diisocyanate compound or polyisocyanate compound with hydroxyethyl (meth) acrylate; diisocyanate compound or polyisocyanate compound, polyol compound, and hydroxyethyl (meth) Acryloyl monoisocyanate compound obtained by reaction with acrylate; glycidyl (meth) acrylate; (meth) acrylic acid, 2- (1 -Aziridinyl) ethyl (meth) acrylate, 2-vinyl-2-oxazoline, 2-isopropenyl-2-oxazoline and the like.
不飽和基含有化合物（ａ２）は、上記アクリル系共重合体（ａ１）の官能基含有モノマー１００当量当たり、通常１０〜１００当量、好ましくは２０〜９５当量の割合で用いられる。 The unsaturated group-containing compound (a2) is usually used in a proportion of 10 to 100 equivalents, preferably 20 to 95 equivalents, per 100 equivalents of the functional group-containing monomer of the acrylic copolymer (a1).
アクリル系共重合体（ａ１）と不飽和基含有化合物（ａ２）との反応においては、官能基と置換基との組合せに応じて、反応の温度、圧力、溶媒、時間、触媒の有無、触媒の種類を適宜選択することができる。これにより、アクリル系共重合体（ａ１）中に存在する官能基と、不飽和基含有化合物（ａ２）中の置換基とが反応し、不飽和基がアクリル系共重合体（ａ１）中の側鎖に導入され、エネルギー線硬化型重合体（Ａ）が得られる。 In the reaction between the acrylic copolymer (a1) and the unsaturated group-containing compound (a2), depending on the combination of the functional group and the substituent, the reaction temperature, pressure, solvent, time, presence of catalyst, catalyst Can be selected as appropriate. As a result, the functional group present in the acrylic copolymer (a1) reacts with the substituent in the unsaturated group-containing compound (a2), so that the unsaturated group is contained in the acrylic copolymer (a1). It introduce | transduces into a side chain and an energy beam hardening type polymer (A) is obtained.
このようにして得られるエネルギー線硬化型重合体（Ａ）の重量平均分子量は、１万以上であるのが好ましく、特に１５万〜１５０万であるのが好ましく、さらに２０万〜１００万であるのが好ましい。なお、本明細書における重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ法）により測定したポリスチレン換算の値である。 The weight average molecular weight of the energy ray curable polymer (A) thus obtained is preferably 10,000 or more, particularly preferably 150,000 to 1,500,000, and more preferably 200,000 to 1,000,000. Is preferred. In addition, the weight average molecular weight (Mw) in this specification is the value of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography method (GPC method).
エネルギー線硬化性粘着剤が、エネルギー線硬化性を有するポリマーを主成分とする場合であっても、エネルギー線硬化性粘着剤は、エネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）をさらに含有してもよい。 Even when the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive is mainly composed of a polymer having energy ray-curability, the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive further contains an energy ray-curable monomer and / or oligomer (B). May be.
エネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）としては、例えば、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル等を使用することができる。 As the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B), for example, an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid or the like can be used.
かかるエネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）としては、例えば、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の単官能性アクリル酸エステル類、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート等の多官能性アクリル酸エステル類、ポリエステルオリゴ（メタ）アクリレート、ポリウレタンオリゴ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B) include monofunctional acrylic acid esters such as cyclohexyl (meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, polyethylene glycol Polyfunctional acrylic acid esters such as di (meth) acrylate and dimethyloltricyclodecane di (meth) acrylate, polyester oligo (meth) acrylate, polyurethane oligo (meth) Acrylate, and the like.
エネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）を配合する場合、エネルギー線硬化性粘着剤中におけるエネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）の含有量は、５〜８０質量％であることが好ましく、特に２０〜６０質量％であることが好ましい。 When the energy ray curable monomer and / or oligomer (B) is blended, the content of the energy ray curable monomer and / or oligomer (B) in the energy ray curable pressure-sensitive adhesive is 5 to 80% by mass. It is preferable that there is especially 20-60 mass%.
ここで、エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させるためのエネルギー線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤（Ｃ）を添加することが好ましく、この光重合開始剤（Ｃ）の使用により、重合硬化時間および光線照射量を少なくすることができる。 Here, when using ultraviolet rays as an energy ray for curing the energy ray curable resin composition, it is preferable to add a photopolymerization initiator (C), and by using this photopolymerization initiator (C). The polymerization curing time and the amount of light irradiation can be reduced.
光重合開始剤（Ｃ）としては、具体的には、ベンゾフェノン、アセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾイン安息香酸、ベンゾイン安息香酸メチル、ベンゾインジメチルケタール、２，４−ジエチルチオキサンソン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンジルジフェニルサルファイド、テトラメチルチウラムモノサルファイド、アゾビスイソブチロニトリル、ベンジル、ジベンジル、ジアセチル、β−クロールアンスラキノン、（２，４，６−トリメチルベンジルジフェニル）フォスフィンオキサイド、２−ベンゾチアゾール−Ｎ，Ｎ−ジエチルジチオカルバメート、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−プロペニル）フェニル］プロパノン｝、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。 Specific examples of the photopolymerization initiator (C) include benzophenone, acetophenone, benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin benzoic acid, benzoin methyl benzoate, benzoin dimethyl ketal, 2,4-diethylthioxanthone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, benzyldiphenyl sulfide, tetramethylthiuram monosulfide, azobisisobutyronitrile, benzyl, dibenzyl, diacetyl, β-chloranthraquinone, (2,4 6-trimethylbenzyldiphenyl) phosphine oxide, 2-benzothiazole-N, N-diethyldithiocarbamate, oligo {2-hydroxy-2-methyl 1- [4- (1-propenyl) phenyl] propanone}, and 2,2-dimethoxy-1,2-and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
光重合開始剤（Ｃ）は、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）（エネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）を配合する場合には、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）およびエネルギー線硬化性のモノマーおよび／またはオリゴマー（Ｂ）の合計量１００質量部）１００質量部に対して０．１〜１０質量部、特には０．５〜６質量部の範囲の量で用いられることが好ましい。 The photopolymerization initiator (C) is energy beam curable copolymer (A) (when energy beam curable monomer and / or oligomer (B) is blended, energy beam curable copolymer (A). And a total amount of 100 parts by mass of the energy ray-curable monomer and / or oligomer (B)) used in an amount in the range of 0.1 to 10 parts by mass, particularly 0.5 to 6 parts by mass. It is preferred that
エネルギー線硬化性粘着剤においては、上記成分以外にも、適宜他の成分を配合してもよい。他の成分としては、例えば、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分（Ｄ）、架橋剤（Ｅ）等が挙げられる。 In the energy ray curable pressure-sensitive adhesive, other components may be appropriately blended in addition to the above components. Examples of other components include a polymer component or oligomer component (D) that does not have energy beam curability, and a crosslinking agent (E).
エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分またはオリゴマー成分（Ｄ）としては、例えば、ポリアクリル酸エステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられ、重量平均分子量（Ｍｗ）が３０００〜２５０万のポリマーまたはオリゴマーが好ましい。 Examples of the polymer component or oligomer component (D) having no energy ray curability include polyacrylates, polyesters, polyurethanes, polycarbonates, polyolefins, etc., and polymers having a weight average molecular weight (Mw) of 3000 to 2.5 million. Or an oligomer is preferable.
架橋剤（Ｅ）としては、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）等が有する官能基との反応性を有する多官能性化合物を用いることができる。このような多官能性化合物の例としては、イソシアナート化合物、エポキシ化合物、アミン化合物、メラミン化合物、アジリジン化合物、ヒドラジン化合物、アルデヒド化合物、オキサゾリン化合物、金属アルコキシド化合物、金属キレート化合物、金属塩、アンモニウム塩、反応性フェノール樹脂等を挙げることができる。 As a crosslinking agent (E), the polyfunctional compound which has the reactivity with the functional group which an energy-beam curable copolymer (A) etc. have can be used. Examples of such polyfunctional compounds include isocyanate compounds, epoxy compounds, amine compounds, melamine compounds, aziridine compounds, hydrazine compounds, aldehyde compounds, oxazoline compounds, metal alkoxide compounds, metal chelate compounds, metal salts, ammonium salts. And reactive phenol resins.
これら他の成分（Ｄ），（Ｅ）をエネルギー線硬化性粘着剤に配合することにより、硬化前における粘着性および剥離性、硬化後の強度、他の層との接着性、保存安定性などを改善し得る。これら他の成分の配合量は特に限定されず、エネルギー線硬化型共重合体（Ａ）１００質量部に対して０〜４０質量部の範囲で適宜決定される。 By blending these other components (D) and (E) into the energy ray-curable pressure-sensitive adhesive, tackiness and peelability before curing, strength after curing, adhesion to other layers, storage stability, etc. Can improve. The compounding quantity of these other components is not specifically limited, It determines suitably in the range of 0-40 mass parts with respect to 100 mass parts of energy-beam curable copolymers (A).
次に、エネルギー線硬化性粘着剤が、エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの混合物を主成分とする場合について、以下説明する。 Next, the case where the energy ray-curable adhesive is mainly composed of a mixture of a polymer component not having energy ray curability and an energy ray curable polyfunctional monomer and / or oligomer will be described below.
エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分としては、例えば、前述したアクリル系共重合体（ａ１）と同様の成分が使用できる。エネルギー線硬化性樹脂組成物中におけるエネルギー線硬化性を有しないポリマー成分の含有量は、２０〜９９．９質量％であることが好ましく、特に３０〜８０質量％であることが好ましい。 As a polymer component which does not have energy-beam sclerosis | hardenability, the component similar to the acrylic copolymer (a1) mentioned above can be used, for example. The content of the polymer component having no energy beam curability in the energy beam curable resin composition is preferably 20 to 99.9% by mass, and more preferably 30 to 80% by mass.
エネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとしては、前述の成分（Ｂ）と同じものが選択される。エネルギー線硬化性を有しないポリマー成分とエネルギー線硬化性の多官能モノマーおよび／またはオリゴマーとの配合比は、ポリマー成分１００質量部に対して、多官能モノマーおよび／またはオリゴマー１０〜１５０質量部であるのが好ましく、特に２５〜１００質量部であるのが好ましい。 As the energy ray-curable polyfunctional monomer and / or oligomer, the same one as the above-mentioned component (B) is selected. The blending ratio of the polymer component having no energy beam curability and the energy beam curable polyfunctional monomer and / or oligomer is 10 to 150 parts by mass of the polyfunctional monomer and / or oligomer with respect to 100 parts by mass of the polymer component. It is preferable that it is, and it is especially preferable that it is 25-100 mass parts.
この場合においても、上記と同様に、光重合開始剤（Ｃ）や架橋剤（Ｅ）を適宜配合することができる。 Also in this case, the photopolymerization initiator (C) and the crosslinking agent (E) can be appropriately blended as described above.
粘着剤層４２の厚さは、保護膜形成用複合シート３が使用される各工程において適切に機能できる限り、特に限定されない。具体的には、１〜５０μｍであることが好ましく、特に２〜３０μｍであることが好ましく、さらには３〜２０μｍであることが好ましい。
The thickness of the pressure-
治具用粘着剤層５を構成する粘着剤としては、所望の粘着力および再剥離性を有するものが好ましく、例えば、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリエステル系粘着剤、ポリビニルエーテル系粘着剤等を使用することができる。これらの中でも、リングフレーム等の治具との密着性が高く、ダイシング工程等にてリングフレーム等から保護膜形成用複合シート３が剥がれることを効果的に抑制することのできるアクリル系粘着剤が好ましい。なお、治具用粘着剤層５の厚さ方向の途中には、芯材としての基材が介在していてもよい。
As an adhesive which comprises the
一方、治具用粘着剤層５の厚さは、リングフレーム等の治具に対する接着性の観点から、５〜２００μｍであることが好ましく、特に１０〜１００μｍであることが好ましい。
On the other hand, the thickness of the pressure-
２．保護膜形成用複合シートの製造方法
保護膜形成用複合シート３は、好ましくは、保護膜形成フィルム１を含む第１の積層体と、粘着シート４を含む第２の積層体とを別々に作製した後、第１の積層体および第２の積層体を使用して、保護膜形成フィルム１と粘着シート４とを積層することにより製造することができるが、これに限定されるものではない。
2. Method for Producing Composite Film for Forming Protective Film Preferably, the composite sheet 3 for forming a protective film is prepared separately from a first laminate including the protective film-forming
第１の積層体を製造するには、第１の剥離シートの剥離面に、保護膜形成フィルム１を形成する。具体的には、保護膜形成フィルム１を構成する硬化性接着剤と、所望によりさらに溶媒とを含有する保護膜形成フィルム用の塗布剤を調製し、ロールコーター、ナイフコーター、ロールナイフコーター、エアナイフコーター、ダイコーター、バーコーター、グラビアコーター、カーテンコーター等の塗工機によって第１の剥離シートの剥離面に塗布して乾燥させて、保護膜形成フィルム１を形成する。次に、保護膜形成フィルム１の露出面に第２の剥離シートの剥離面を重ねて圧着し、２枚の剥離シートに保護膜形成フィルム１が挟持されてなる積層体（第１の積層体）を得る。
In order to manufacture the first laminate, the protective film-forming
この第１の積層体においては、所望によりハーフカットを施し、保護膜形成フィルム１（および第２の剥離シート）を所望の形状、例えば円形等にしてもよい。この場合、ハーフカットにより生じた保護膜形成フィルム１および第２の剥離シートの余分な部分は、適宜除去すればよい。
In this 1st laminated body, a half cut may be given if desired, and the protective film formation film 1 (and 2nd peeling sheet) may be made into a desired shape, for example, a circular shape. In this case, what is necessary is just to remove suitably the protective
一方、第２の積層体を製造するには、第３の剥離シートの剥離面に、粘着剤層４２を構成する粘着剤と、所望によりさらに溶媒とを含有する粘着剤層用の塗布剤を塗布し乾燥させて粘着剤層４２を形成する。その後、粘着剤層４２の露出面に基材４１を圧着し、基材４１および粘着剤層４２からなる粘着シート４と、第３の剥離シートとからなる積層体（第２の積層体）を得る。
On the other hand, in order to produce the second laminate, a coating agent for the pressure-sensitive adhesive layer further containing a pressure-sensitive adhesive constituting the pressure-
ここで、粘着剤層４２がエネルギー線硬化性粘着剤からなる場合には、この段階で粘着剤層４２に対してエネルギー線を照射して、粘着剤層４２を硬化させてもよいし、保護膜形成フィルム１と積層した後に粘着剤層４２を硬化させてもよい。また、保護膜形成フィルム１と積層した後に粘着剤層４２を硬化させる場合、ダイシング工程前に粘着剤層４２を硬化させてもよいし、ダイシング工程後に粘着剤層４２を硬化させてもよい。
Here, when the pressure-
エネルギー線としては、通常、紫外線、電子線等が用いられる。エネルギー線の照射量は、エネルギー線の種類によって異なるが、例えば紫外線の場合には、光量で５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、特に１００〜５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。また、電子線の場合には、１０〜１０００ｋｒａｄ程度が好ましい。
As energy rays, ultraviolet rays, electron beams, etc. are usually used. The irradiation amount of energy rays varies depending on the type of energy rays. For example, in the case of ultraviolet rays, the amount of light is preferably 50 to 1000 mJ /
以上のようにして第１の積層体および第２の積層体が得られたら、第１の積層体における第２の剥離シートを剥離するとともに、第２の積層体における第３の剥離シートを剥離し、第１の積層体にて露出した保護膜形成フィルム１と、第２の積層体にて露出した粘着シート４の粘着剤層４２とを重ね合わせて圧着する。粘着シート４は、所望によりハーフカットし、所望の形状、例えば保護膜形成フィルム１よりも大きい径を有する円形等にしてもよい。この場合、ハーフカットにより生じた粘着シート４の余分な部分は、適宜除去すればよい。
When the first laminate and the second laminate are obtained as described above, the second release sheet in the first laminate is released and the third release sheet in the second laminate is released. Then, the protective
このようにして、基材４１の上に粘着剤層４２が積層されてなる粘着シート４と、粘着シート４の粘着剤層４２側に積層された保護膜形成フィルム１と、保護膜形成フィルム１における粘着シート４とは反対側に積層された第１の剥離シートとからなる保護膜形成用複合シート３が得られる。最後に、第１の剥離シートを剥離した後、保護膜形成フィルム１における粘着シート４とは反対側の周縁部に、治具用粘着剤層５を形成する。治具用粘着剤層５も、上記粘着剤層４２と同様の方法により塗布し形成することができる。
Thus, the pressure-
３．保護膜形成用複合シートの使用方法
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３を用いて、一例としてワークとしての半導体ウエハから保護膜付きチップを製造する方法を以下に説明する。
3. Method for Using Protective Film Forming Composite Sheet A method for producing a chip with a protective film from a semiconductor wafer as a workpiece by using the protective film forming composite sheet 3 according to this embodiment will be described below.
図４に示すように、保護膜形成フィルム１を半導体ウエハ６に貼付するとともに、治具用粘着剤層５をリングフレーム７に貼付する。保護膜形成フィルム１を半導体ウエハ６に貼付するにあたり、所望により保護膜形成フィルム１を加熱して、粘着性を発揮させてもよい。
As shown in FIG. 4, the protective
その後、保護膜形成フィルム１を硬化させて保護膜を形成し、保護膜付き半導体ウエハ６を得る。保護膜形成フィルム１が熱硬化性接着剤の場合には、保護膜形成フィルム１を所定温度で適切な時間加熱すればよい。なお、保護膜形成フィルム１の硬化は、ダイシング工程後に行ってもよい。
Thereafter, the protective
上記のようにして保護膜付き半導体ウエハ６が得られたら、所望により、その保護膜に対して、粘着シート４を介してレーザー光を照射し、レーザー印字を行う。なお、このレーザー印字は、保護膜形成フィルム１の硬化前に行ってもよい。
If the semiconductor wafer 6 with a protective film is obtained as mentioned above, laser printing will be performed by irradiating the protective film with a laser beam through the
次いで、常法に従って保護膜付き半導体ウエハ６をダイシングし、保護膜を有するチップ（保護膜付きチップ）を得る。その後は、所望により粘着シート４を平面方向にエキスパンドし、粘着シート４から保護膜付きチップをピックアップする。
Subsequently, the semiconductor wafer 6 with a protective film is diced according to a conventional method to obtain a chip having a protective film (chip with a protective film). Thereafter, the pressure-
上記のようにして得られた保護膜付きチップは、バックグラインド加工による研削痕が保護膜によって隠蔽されて目視で見えないため、外観に優れる。また、当該保護膜付きチップおよび保護膜付き半導体ウエハは、保護膜を介して赤外線検査を行うことができるため、赤外線検査によりクラック等を発見することができ、製品歩留まりを向上させることができる。 The chip with a protective film obtained as described above is excellent in appearance because grinding marks by back grinding are hidden by the protective film and cannot be visually observed. Moreover, since the chip | tip with a protective film and the semiconductor wafer with a protective film can perform an infrared test through a protective film, a crack etc. can be discovered by an infrared test and a product yield can be improved.
４．保護膜形成用複合シートの他の実施形態
図３は本発明の他の実施形態に係る保護膜形成用複合シートの断面図である。図３に示すように、本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３Ａは、基材４１の一方の面に粘着剤層４２が積層されてなる粘着シート４と、粘着シート４の粘着剤層４２側に積層された保護膜形成フィルム１とを備えて構成される。実施形態における保護膜形成フィルム１は、面方向にてワークとほぼ同じか、ワークよりも少し大きく形成されており、かつ粘着シート４よりも面方向に小さく形成されている。保護膜形成フィルム１が積層されていない部分の粘着剤層４２は、リングフレーム等の治具に貼付することが可能となっている。
4). Another Embodiment of Composite Sheet for Protective Film Formation FIG. 3 is a cross-sectional view of a composite sheet for protective film formation according to another embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the protective sheet-forming composite sheet 3 </ b> A according to this embodiment includes a pressure-
本実施形態に係る保護膜形成用複合シート３Ａの各部材の材料および厚さ等は、前述した保護膜形成用複合シート３の各部材の材料および厚さと同様である。ただし、粘着剤層４２がエネルギー線硬化性粘着剤からなる場合、粘着剤層４２における保護膜形成フィルム１と接触する部分は、エネルギー線硬化性粘着剤を硬化させ、それ以外の部分は、エネルギー線硬化性粘着剤を硬化させないことが好ましい。これにより、保護膜形成フィルム１を硬化させた保護膜の平滑性（グロス）を高くすることができるとともに、リングフレーム等の治具に対する接着力を高く維持することができる。
The material and thickness of each member of the protective film-forming
なお、保護膜形成用複合シート３Ａの粘着シート４の粘着剤層４２における基材４１とは反対側の周縁部には、前述した保護膜形成用複合シート３の治具用粘着剤層５と同様の治具用粘着剤層が別途設けられていてもよい。
The jig
以上説明した実施形態は、本発明の理解を容易にするために記載されたものであって、本発明を限定するために記載されたものではない。したがって、上記実施形態に開示された各要素は、本発明の技術的範囲に属する全ての設計変更や均等物をも含む趣旨である。 The embodiment described above is described for facilitating understanding of the present invention, and is not described for limiting the present invention. Therefore, each element disclosed in the above embodiment is intended to include all design changes and equivalents belonging to the technical scope of the present invention.
例えば、保護膜形成用複合シート３，３Ａの保護膜形成フィルム１における粘着シート４とは反対側には、剥離シートが積層されてもよい。
For example, a release sheet may be laminated on the side opposite to the
以下、実施例等により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例等に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example etc. demonstrate this invention further more concretely, the scope of the present invention is not limited to these Examples etc.
〔実施例１〕
次の各成分を表１に示す配合比（固形分換算）で混合し、固形分濃度が６１質量％となるようにメチルエチルケトンで希釈して、保護膜形成フィルム用塗布剤を調製した。
（ａ）バインダーポリマー：ｎ−ブチルアクリレート１０質量部、メチルアクリレート７０質量部、グリシジルメタクリレート５質量部および２−ヒドロキシエチルアクリレート１５質量部を共重合してなる（メタ）アクリル酸エステル共重合体（重量平均分子量：８０万，ガラス転移温度：−１℃）
（ｂ−１）ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製，ｊＥＲ８２８，エポキシ当量１８４〜１９４ｇ／ｅｑ）
（ｂ−２）ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（三菱化学社製，ｊＥＲ１０５５，エポキシ当量８００〜９００ｇ／ｅｑ）
（ｂ−３）ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂（大日本インキ化学工業社製，エピクロンＨＰ−７２００ＨＨ，エポキシ当量２５５〜２６０ｇ／ｅｑ）
（ｃ）熱活性潜在性エポキシ樹脂硬化剤：ジシアンジアミド（ＡＤＥＫＡ社製，アデカハードナーＥＨ−３６３６ＡＳ，活性水素量２１ｇ／ｅｑ）
（ｄ）硬化促進剤：２−フェニル−４，５−ジヒドロキシメチルイミダゾール（四国化成工業社製，キュアゾール２ＰＨＺ）
（ｅ−１）シリカフィラー（アドマテックス社製，ＳＣ２０５０ＭＡ，平均粒径０．５μｍ）
（ｅ−２）シリカフィラー（トクヤマ社製，ＵＦ３１０，平均粒径３μｍ）
（ｅ−３）シリカフィラー（タツモリ社製，ＳＶ−１０，平均粒径８μｍ）
（ｆ）着色剤：カーボンブラック（三菱化学社製，＃ＭＡ６５０，平均粒径２８ｎｍ）
（ｇ）シランカップリング剤（日本ユニカー社製，Ａ−１１１０）
[Example 1]
The following components were mixed at a blending ratio (in terms of solid content) shown in Table 1, and diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 61% by mass to prepare a coating agent for a protective film-forming film.
(A) Binder polymer: (meth) acrylic acid ester copolymer obtained by copolymerizing 10 parts by mass of n-butyl acrylate, 70 parts by mass of methyl acrylate, 5 parts by mass of glycidyl methacrylate and 15 parts by mass of 2-hydroxyethyl acrylate ( (Weight average molecular weight: 800,000, glass transition temperature: -1 ° C)
(B-1) Bisphenol A type epoxy resin (Mitsubishi Chemical Corporation, jER828, epoxy equivalent of 184 to 194 g / eq)
(B-2) Bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, jER1055, epoxy equivalent 800 to 900 g / eq)
(B-3) Dicyclopentadiene type epoxy resin (Dainippon Ink & Chemicals, Epiklone HP-7200HH, epoxy equivalent 255-260 g / eq)
(C) Thermally active latent epoxy resin curing agent: Dicyandiamide (manufactured by ADEKA, Adeka Hardener EH-3636AS, amount of active hydrogen 21 g / eq)
(D) Curing accelerator: 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole (manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd., Curesol 2PHZ)
(E-1) Silica filler (manufactured by Admatechs, SC2050MA, average particle size 0.5 μm)
(E-2) Silica filler (manufactured by Tokuyama, UF310, average particle size 3 μm)
(E-3) Silica filler (manufactured by Tatsumori, SV-10, average particle size 8 μm)
(F) Colorant: Carbon black (Mitsubishi Chemical Corporation, # MA650, average particle size 28 nm)
(G) Silane coupling agent (Nihon Unicar, A-1110)
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第１の剥離シート（リンテック社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１１，厚さ３８μｍ）と、ＰＥＴフィルムの片面にシリコーン系の剥離剤層が形成されてなる第２の剥離シート（リンテック社製：ＳＰ−ＰＥＴ３８１０３１，厚さ３８μｍ）とを用意した。 A first release sheet (manufactured by Lintec: SP-PET3811, thickness 38 μm) having a silicone release agent layer formed on one side of a polyethylene terephthalate (PET) film, and a silicone release agent on one side of the PET film A second release sheet (made by Lintec Corporation: SP-PET 381031, thickness 38 μm) formed with a layer was prepared.
第１の剥離シートの剥離面上に、前述の保護膜形成フィルム用塗布剤を、最終的に得られる保護膜形成フィルムの厚さが２５μｍとなるように、ナイフコーターにて塗布した後、オーブンにて１２０℃で２分間乾燥させて、保護膜形成フィルムを形成した。次いで、保護膜形成フィルムに第２の剥離シートの剥離面を重ねて両者を貼り合わせ、第１の剥離シート（図１における剥離シート２１）と、保護膜形成フィルム（図１における保護膜形成フィルム１）（厚さ：２５μｍ）と、第２の剥離シートとからなる保護膜形成用シートを得た。
On the release surface of the first release sheet, the coating agent for a protective film-forming film is applied with a knife coater so that the final protective film-forming film has a thickness of 25 μm. And dried at 120 ° C. for 2 minutes to form a protective film-forming film. Next, the release surface of the second release sheet is laminated on the protective film-forming film and bonded together, and the first release sheet (
〔実施例２〜４，比較例１〜４〕
保護膜形成フィルムを構成する各成分の種類および配合量を表１に示すように変更する以外、実施例１と同様にして保護膜形成用シートを製造した。
[Examples 2 to 4, Comparative Examples 1 to 4]
A protective film-forming sheet was produced in the same manner as in Example 1 except that the types and blending amounts of the components constituting the protective film-forming film were changed as shown in Table 1.
〔試験例１〕＜光線透過率の測定＞
実施例および比較例で得られた保護膜形成用シートから第２の剥離シートを剥離し、オーブン内において、大気雰囲気下、１３０℃で２時間加熱し、保護膜形成フィルムを熱硬化させて保護膜とした。その後、第１の剥離シートを剥離した。
[Test Example 1] <Measurement of light transmittance>
The second release sheet is peeled from the protective film-forming sheets obtained in the examples and comparative examples, and heated in an oven at 130 ° C. for 2 hours in an oven to thermally cure and protect the protective film-forming film. A membrane was obtained. Thereafter, the first release sheet was peeled off.
分光光度計（ＳＨＩＭＡＤＺＵ社製，ＵＶ−ＶＩＳ−ＮＩＲ ＳＰＥＣＴＲＯＰＨＯＴＯＭＥＴＥＲ ＵＶ−３６００）を用いて、上記保護膜の透過率を測定し、波長５５０ｎｍ（可視光線）および波長１６００ｎｍ（赤外線）の光線透過率（％）を抽出した。測定には、付属の大形試料室ＭＰＣ−３１００を用い、内蔵の積分球を使用せずに測定を行った。結果を表１に示す。 The transmittance of the protective film was measured using a spectrophotometer (manufactured by SHIMADZU, UV-VIS-NIR SPECTROTOPOMETER UV-3600), and the light transmittance (%) at a wavelength of 550 nm (visible light) and a wavelength of 1600 nm (infrared light). ) Was extracted. For the measurement, the attached large sample chamber MPC-3100 was used, and the measurement was performed without using the built-in integrating sphere. The results are shown in Table 1.
〔試験例２〕＜研削痕隠蔽性評価＞
実施例および比較例で得られた保護膜形成用シートから第２の剥離シートを剥離し、保護膜形成用フィルムを露出させた。＃２０００研磨したシリコンウエハ（直径２００ｍｍ，厚さ３５０μｍ）の研磨面に、上記保護膜形成用フィルムを、テープマウンター（リンテック社製 Ａｄｗｉｌｌ ＲＡＤ−３６００ Ｆ／１２）を用いて７０℃に加熱しながら貼付し、次いで、第１の剥離シートを剥離した。その後、１３０℃で２時間加熱して保護膜形成用フィルムを硬化させて保護膜とし、保護膜付きシリコンウエハを得た。
[Test Example 2] <Evaluation of grinding mark concealment>
The 2nd peeling sheet was peeled from the sheet | seat for protective film formation obtained in the Example and the comparative example, and the film for protective film formation was exposed. While the # 2000 polished silicon wafer (diameter: 200 mm, thickness: 350 μm) is heated to 70 ° C. using a tape mounter (Adwill RAD-3600 F / 12, manufactured by Lintec Corporation) Then, the first release sheet was peeled off. Then, it heated at 130 degreeC for 2 hours, the film for protective film formation was hardened, and it was set as the protective film, and the silicon wafer with a protective film was obtained.
得られた保護膜付きシリコンウエハ１０枚について目視で観察を行い、シリコンウエハの研磨面の研削痕が保護膜を通して見えるかどうかを確認した。全ての保護膜付きシリコンウエハにおいて研削痕が見えなかったものを研削痕隠蔽性良好（Ａ）、１枚でも研削痕が見えたものを研削痕隠蔽性不良（Ｂ）と評価した。結果を表１に示す。 The obtained 10 silicon wafers with protective film were visually observed to confirm whether grinding marks on the polished surface of the silicon wafer could be seen through the protective film. In all the silicon wafers with a protective film, those with no grinding marks visible were evaluated as good grinding mark concealability (A), and those with even one grinding mark visible were evaluated as poor grinding mark concealability (B). The results are shown in Table 1.
〔試験例３〕＜赤外線検査適性評価＞
試験例２で得られた保護膜付きシリコンウエハの保護膜面側に、ダイシングテープ（リンテック社製，Ａｄｗｉｌｌ Ｄ−１７５）を貼付した。そして、当該保護膜付きシリコンウエハを３ｍｍ×３ｍｍのサイズにダイシングし、ピックアップして、保護膜付きシリコンチップを得た。得られた保護膜付きシリコンチップの保護膜側を赤外線顕微鏡（オリンパス社製，ＢＸ−ＩＲ）で観察し、保護膜を通してシリコンチップの研削跡およびチッピングが観察できるかどうかを確認し、以下の基準で赤外線検査適性を評価した。結果を表１に示す。
Ａ：研削跡が明確に観察できた。また、チップ側面からの距離が５μｍ以上１０μｍ未満の大きさのチッピングも明確に観察できた。
Ｂ：研削跡が明確に観察できた。また、チップ側面からの距離が１０μｍ以上の大きさのチッピングは明確に観察できたが、チップ側面からの距離が５μｍ以上１０μｍ未満の大きさのチッピングはやや不明瞭であった。
Ｃ：研削跡がある程度観察できた。また、チップ側面からの距離が５μｍ以上１０μｍ未満の大きさのチッピングは観察できず、チップ側面からの距離が１０μｍ以上の大きさのチッピングもやや不明瞭であった。
Ｄ：研削跡が観察できず、チッピングも大きさによらず観察できなかった。
[Test Example 3] <Evaluation of suitability for infrared inspection>
A dicing tape (manufactured by Lintec Corporation, Adwill D-175) was attached to the protective film surface side of the silicon wafer with a protective film obtained in Test Example 2. Then, the silicon wafer with a protective film was diced into a size of 3 mm × 3 mm and picked up to obtain a silicon chip with a protective film. The protective film side of the obtained silicon chip with a protective film is observed with an infrared microscope (Olympus, BX-IR) to confirm whether the silicon chip grinding marks and chipping can be observed through the protective film. The suitability of infrared inspection was evaluated. The results are shown in Table 1.
A: Grinding marks could be clearly observed. Further, chipping with a distance of 5 μm or more and less than 10 μm from the chip side surface could be clearly observed.
B: Grinding marks could be clearly observed. Further, chipping with a distance of 10 μm or more from the chip side face could be clearly observed, but chipping with a distance from the chip side face of 5 μm or more to less than 10 μm was somewhat unclear.
C: Grinding marks were observed to some extent. Further, chipping with a distance of 5 μm or more and less than 10 μm from the side surface of the chip could not be observed, and chipping with a distance of 10 μm or more from the side surface of the chip was somewhat unclear.
D: Grinding marks could not be observed and chipping could not be observed regardless of size.
表１から分かるように、波長５５０ｎｍの光線透過率が２０％以下であり、波長１６００ｎｍの光線透過率が２５％以上である実施例の保護膜形成フィルムは、研削痕隠蔽性および赤外線検査適性の両者に優れるものであった。 As can be seen from Table 1, the protective film-forming film of the example in which the light transmittance at a wavelength of 550 nm is 20% or less and the light transmittance at a wavelength of 1600 nm is 25% or more is suitable for concealing grinding marks and suitability for infrared inspection. Both were excellent.
本発明に係る保護膜形成フィルムおよび保護膜形成用（複合）シートは、半導体ウエハから、保護膜を有するチップを製造するのに好適に用いられる。また、本発明に係る検査方法は、保護膜を有するチップにおけるクラック等を検査するのに好適である。 The protective film-forming film and the protective film-forming (composite) sheet according to the present invention are suitably used for manufacturing a chip having a protective film from a semiconductor wafer. The inspection method according to the present invention is suitable for inspecting cracks and the like in a chip having a protective film.
１…保護膜形成フィルム
２…保護膜形成用シート
２１…剥離シート
３，３Ａ…保護膜形成用複合シート
４…粘着シート
４１…基材
４２…粘着剤層
５…治具用粘着剤層
６…半導体ウエハ
７…リングフレーム
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記粘着シートの前記粘着剤層側に積層された保護膜形成フィルムと
を備えた保護膜形成用複合シートであって、
前記粘着剤層がエネルギー線硬化性粘着剤から構成され、
前記保護膜形成フィルムの波長１６００ｎｍの光線透過率は、２５％以上であり、
前記保護膜形成フィルムの波長５５０ｎｍの光線透過率は、１０％以下である
ことを特徴とする保護膜形成用複合シート。 A pressure-sensitive adhesive sheet in which a pressure-sensitive adhesive layer is laminated on one side of the substrate;
A protective film-forming composite sheet comprising a protective film-forming film laminated on the pressure-sensitive adhesive layer side of the pressure-sensitive adhesive sheet,
The pressure-sensitive adhesive layer is composed of an energy ray-curable pressure-sensitive adhesive,
The protective film forming film has a light transmittance of 25% or more at a wavelength of 1600 nm ,
The protective film-forming composite sheet, wherein the protective film-forming film has a light transmittance of 10% or less at a wavelength of 550 nm.
前記粘着剤層のエネルギー線硬化性粘着剤の粘着力を、エネルギー線照射により低下させる工程と、A step of reducing the adhesive force of the energy ray-curable adhesive of the adhesive layer by energy ray irradiation;
前記保護膜形成フィルムを硬化させて保護膜を形成する工程と、Curing the protective film-forming film to form a protective film;
前記保護膜に対してレーザー光を照射し、レーザー印字を行う工程と、Irradiating the protective film with laser light and performing laser printing;
を備え、With
前記保護膜に対して前記レーザー光を照射する際に、前記保護膜形成用複合シートにおける前記粘着剤層は硬化していることを特徴とするレーザー印字方法。The laser printing method, wherein the pressure-sensitive adhesive layer in the composite sheet for forming a protective film is cured when the protective film is irradiated with the laser beam.
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