JP6303429B2 - Method for producing functional film and functional film - Google Patents
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Description
本発明は、機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルムに関する。 The present invention relates to a method for producing a functional film and a functional film.
近年、タブレット型ＰＣならびにスマートフォンに代表される双方向の通信機能を備え、かつ情報表示ならびに情報入力用の透明タッチパネルを搭載したモバイル型の情報端末機器が、日本ばかりでなく世界で広く普及しはじめてきた。前記透明タッチパネルとしては、コスト的に優れた抵抗膜方式があるが、マルチタッチなどのジェスチャー操作、透過率向上による表示デバイスの画質維持が可能である等の点で、前記情報端末機器の爆発的な普及もトリガーとなり、静電容量方式のタッチパネル、特に、投影型静電容量方式のタッチパネルの需要が拡大してきている。 In recent years, mobile information terminal devices equipped with a transparent touch panel for information display and information input, which have bidirectional communication functions such as tablet PCs and smartphones, have begun to spread widely not only in Japan but around the world. Came. As the transparent touch panel, there is a resistive film method that is excellent in cost. However, it is explosive in the information terminal device in terms of gesture operation such as multi-touch and maintaining the image quality of the display device by improving the transmittance. Demand for capacitive touch panels, in particular, projected capacitive touch panels, has increased as a result of this widespread use.
前記タッチパネルの基本構造としては、透明なプラスチックのパネル基材上に片面又は両面にＩＴＯ（酸化インジウムスズ）等からなる透明導電層が積層された構成となっており、通常、液晶表示デバイス、有機ＥＬ表示デバイス等の前面に配置される。
また、前記タッチパネルには、パネル基材が、長期の連続の使用においてダメージを受けても動作、視覚に支障が生じない程度の機械的強度、及びタッチパネル全体の光透過率の向上及び透明導電層のパターンの不可視化のための反射防止機能が必要とされ、通常、前記パネル基材として、光透過性基材上にハードコート層及び反射防止層を有する光学積層体が用いられている。
As a basic structure of the touch panel, a transparent conductive layer made of ITO (indium tin oxide) or the like is laminated on one or both sides on a transparent plastic panel substrate. It is arranged on the front surface of an EL display device or the like.
In addition, the touch panel has a mechanical strength to the extent that the panel base material is not damaged even if the panel base material is damaged during long-term continuous use, and an improvement in light transmittance of the entire touch panel and a transparent conductive layer. An antireflection function for making the pattern invisible is required, and an optical laminate having a hard coat layer and an antireflection layer on a light transmissive substrate is usually used as the panel substrate.
上記のハードコート層を含む光学積層体の製造では、ロール状に巻かれた光透過基材の一方の面上に、通常、第１層目となるハードコート層が、塗工、乾燥、硬化の順になる工程により形成され、一時的に他のローラーに巻き取られ、次に第２層目となる反射防止層等の光学機能層が、前記ローラーに巻き取られたロールの前記ハードコート層上に、前記工程と同様に塗工、乾燥、硬化の順になる工程により形成され、他のローラーに巻き取られる。さらに、続く第３層目以降の他の反射防止層等の光学機能層の形成についても、同様の工程で行われ、光学積層体が製造されている。前述した逐次塗工による光学積層体の製造では、製造時にパネル基材間での貼り付きや転写等のブロッキング現象が発生するため、前記光透過基材上の第１層目の層に、球状シリカ等の微粒子を含有させることにより滑り性を付与することによりブロッキング現象の発生を抑制している。（特許文献１参照。）。 In the production of the optical laminate including the above hard coat layer, the hard coat layer that is usually the first layer is coated, dried, and cured on one surface of the light-transmitting substrate wound in a roll shape. The hard coat layer of the roll formed by the steps in the order of, and temporarily wound around another roller, and then the optical function layer such as an antireflection layer as the second layer is wound around the roller. On top, it is formed by the steps of coating, drying and curing in the same manner as in the above step, and it is wound around another roller. Further, the optical layered body is manufactured in the same process for the formation of the optical functional layer such as the subsequent third antireflection layer and the like. In the production of the optical layered body by the sequential coating described above, since a blocking phenomenon such as sticking or transfer between the panel base materials occurs at the time of manufacture, the first layer on the light transmitting base material has a spherical shape. Occurrence of the blocking phenomenon is suppressed by adding slipperiness by containing fine particles such as silica. (See Patent Document 1).
しかしながら、上記のように光透過基材上の第１層目の層に微粒子を含有させた場合、前述したような逐次塗工による従来の製造方法では、第２層目以降の層を積層することに伴う光学積層体のトータルの厚みの増加により、該微粒子由来の光学積層体最表面の隆起が小さくなるため、耐ブロッキング性及び滑り性の付与効果が著しく減少し、十分な改善に至っていなかった。また、これらの耐ブロッキング性及び滑り性を改善するために、第１層目に添加する微粒子の粒子径を大きくしたり、微粒子の添加量を増やすことで、光学積層体表面の凹凸を大きくすることが考えられるものの、この場合には、最表面の外観が悪化することで、透過率の低下やざらつき感の発生を含め視認性が低下し、さらには、後工程における透明導電膜形成の際に、光学積層体表面の物理的な凹凸により、該透明導電膜に直接ダメージが加わり、結果的に透明導電膜の膜特性の低下（クラック等の欠点の発生による機械的特性の低下、拡散性やざらつきの発生等による光学的特性の低下、及び機械的損傷、結晶性の低下による表面抵抗率増大等の電気特性の低下）に繋がってしまうという問題があった。
また、上記のような従来の製造方法では、光学積層体を１層ずつ、パネル基材をローラーから給排して逐次、順に形成することにより複数の層を製造していたため、生産性が低いことはもとより、複数回のロールの巻き出し及び巻き取りによる静電気等に誘発されるゴミの噛み込み等による品質の低下及び歩留まりの低下により製造コストが上昇してしまうという問題があった。
さらに、従来の製造方法では、ロールの偏心や装置の経時的もしくは一時的な給排動作不良等により、ロールの機能性フィルム面にアンバランスな圧力がかかり（特に、端部の面には強い圧力がかかる）、例えば、前記微粒子が端部を含め面内に均一に含有されていたとしても、パネル基材間のローカルな領域に貼り付きが発生するという問題があった。
さらにまた、ロール状に巻かれた光透過基材を構成するフィルム（層）の端部に微粒子が存在しない場合、あるいは存在していても、微粒子の大きさ又は数等により、耐ブロッキング性及び滑り性の効果が不十分である場合には、上述したような種々の品質低下に繋がるため、歩留まりが低下してしまうというおそれもあった。
However, when the fine particles are contained in the first layer on the light-transmitting substrate as described above, the second and subsequent layers are laminated in the conventional manufacturing method by sequential coating as described above. With the increase in the total thickness of the optical laminate, the bulge on the outermost surface of the optical laminate derived from the fine particles is reduced, so that the effect of imparting blocking resistance and slipperiness is significantly reduced, leading to a sufficient improvement. There wasn't. Moreover, in order to improve these blocking resistance and slipperiness, the unevenness | corrugation on the surface of an optical laminated body is enlarged by enlarging the particle diameter of the fine particle added to a 1st layer, or increasing the addition amount of fine particle. However, in this case, the appearance of the outermost surface is deteriorated, so that the visibility is lowered including the reduction of the transmittance and the occurrence of the rough feeling. In addition, physical damage on the surface of the optical laminate directly damages the transparent conductive film, resulting in deterioration of the film characteristics of the transparent conductive film (deterioration of mechanical characteristics due to occurrence of defects such as cracks, diffusibility) There has been a problem that the optical characteristics are lowered due to the occurrence of roughness, and the electrical characteristics are lowered due to mechanical damage and increase in surface resistivity due to lowering of crystallinity.
Moreover, in the conventional manufacturing methods as described above, the optical layered body is manufactured one by one, and the panel base material is supplied and discharged from the roller and sequentially formed in order, so that the productivity is low. In addition, there is a problem that the manufacturing cost increases due to a decrease in quality and a decrease in yield due to dust biting induced by static electricity or the like due to unwinding and winding of a plurality of rolls.
Further, in the conventional manufacturing method, unbalanced pressure is applied to the functional film surface of the roll due to eccentricity of the roll or temporal or temporary supply / discharge failure of the apparatus (especially strong on the end surface). For example, even if the fine particles are uniformly contained in the plane including the end portion, there is a problem that sticking occurs in a local region between the panel base materials.
Furthermore, when the fine particles are not present at the end of the film (layer) constituting the light-transmitting substrate wound in a roll shape, or even if the fine particles are present, depending on the size or number of fine particles, blocking resistance and When the effect of slipperiness is insufficient, it leads to various quality degradations as described above, and there is a possibility that the yield may be lowered.
本発明は、上記問題点に鑑み、生産性が高く、かつ機能性フィルム間のブロッキングの発生を防止した品質の高い機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルムを提供することを課題とする。 In view of the above problems, an object of the present invention is to provide a functional film manufacturing method and a functional film that have high productivity and prevent blocking between functional films.
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意検討した結果、透明基材フィルム上に、当該透明基材フィルム側から、二以上の透明層を連続的に順に形成し、前記二以上の透明層の少なくとも一つの透明層を、微粒子を含む組成物を用い、当該透明層以外の透明層に対する位置関係を特定して形成することにより、生産性が高く、かつ滑り性付与によるブロッキングが防止された品質の高い機能性フィルムが製造できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明の要旨は、以下のとおりである。
（１）透明基材フィルムの少なくとも一方の面上に、当該透明基材フィルム側から二以上の透明層を連続的に順に形成する機能性フィルムの製造方法であって、前記二以上の透明層の少なくとも一つの透明層を、微粒子を含む組成物を用い形成する工程、当該透明層以外の透明層を、前記微粒子を含む透明層の塗工領域の少なくとも端部を除く内側の領域に配置するように形成する工程を含むことを特徴とする機能性フィルムの製造方法。
（２）前記端部の幅が、１〜５０ｍｍである、上記（１）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（３）前記微粒子を含む透明層が、前記透明基材フィルム側から少なくとも２層目以降に形成される、上記（１）又は（２）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（４）前記微粒子を含む透明層が、前記二以上の透明層の最表面の透明層の直前に形成される、上記（１）〜（３）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（５）前記端部が隆起した部位を有し、当該部位の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４）が、２．０〜２０．０ｎｍである、上記（１）〜（４）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（６）前記二以上の透明層の最表面が隆起した部位を有し、当該部位の算術平均粗さＲａが、０．５〜５．０ｎｍである、上記（１）〜（５）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（７）前記端部の隆起した部位の算術平均粗さＲａが、前記二以上の透明層の最表面が隆起した部位の算術平均粗さＲａよりも大きい、上記（６）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（８）前記微粒子の平均粒子径が、前記透明基材フィルムから最も離れた、微粒子を含む透明層の厚みと該透明層より透明基材フィルムとは反対側に存在する透明層の厚みとの和をｔ（ｎｍ）とした場合、ｔの値に対して０．５〜３．０（倍）である、上記（１）〜（７）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（９）前記微粒子が、無機系粒子又は有機系粒子である、上記（１）〜（８）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法．
（１０）前記無機系粒子が、シリカ系粒子又はアルミナ系粒子である、上記（９）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１１）前記有機系粒子が、（メタ）アクリル重合体又はスチレン重合体である、上記（９）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１２）前記二以上の透明層のうち、少なくとも一組の互いに接する層の屈折率が異なる、上記（１）〜（１１）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（１３）前記二以上の透明層が、それぞれ厚み１００ｎｍ以下である、上記（１２）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１４）前記膜厚１００ｎｍ以下である二以上の透明層が、相互で光学干渉機能を有する、上記（１３）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１５）前記基材フィルムと第１層目の透明層との間に、さらにプライマー層を形成する工程を有する、上記（１）〜（１４）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１６）前記二以上の透明層が前記透明基材フィルム側から順に、屈折率が１．５０〜１．６０、厚みが０．５〜１０μｍの範囲にあるハードコート層、前記微粒子を含みかつ屈折率が１．６０〜１．７５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある高屈折率層、及び屈折率が１．４０〜１．５５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある低屈折率層を前記透明基材フィルム側からこの順に形成してなる、上記（１）〜（１５）のいずれかに記載の機能性フィルムの製造方法。
（１７）前記低屈折率層の上に、さらに透明導電層を形成し、当該透明導電層の屈折率が１．９〜３．０、厚みが１５〜３５ｎｍの範囲にある、上記（１６）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１８）前記透明導電層の形成を樹脂組成物コーティング法、物理蒸着法又は化学蒸着法により行う、上記（１７）に記載の機能性フィルムの製造方法。
（１９）透明基材フィルム上に二以上の透明層を有し、当該二以上の透明層の少なくとも一つの透明層が微粒子を含み、当該透明層以外の透明層が、前記微粒子を含む透明層の領域の少なくとも端部を除く内側の領域に配置していることを特徴とする機能性フィルム。
（２０）前記二以上の透明層が、前記透明基材フィルム側から順に、屈折率が１．５０〜１．６０、厚みが０．５〜１０μｍの範囲にあるハードコート層、前記微粒子を含みかつ屈折率が１．６０〜１．７５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある高屈折率層、及び屈折率が１．４０〜１．５５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある低屈折率層からなる、上記（１９）に記載の機能性フィルム。
（２１）前記低屈折率層の上に、さらに透明導電層を有し、当該透明導電層の屈折率が１．７〜３．０、厚みが１５〜３５ｎｍの範囲にある、上記（２０）に記載の機能性フィルム。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the inventors of the present invention formed two or more transparent layers in order from the transparent substrate film side on the transparent substrate film, and the two or more transparent layers. By forming at least one transparent layer of the layer by using a composition containing fine particles and specifying the positional relationship with respect to a transparent layer other than the transparent layer, high productivity is prevented and blocking due to imparting slipperiness is prevented. It was found that a functional film with high quality could be produced, and the present invention was completed.
The gist of the present invention is as follows.
(1) A method for producing a functional film, in which two or more transparent layers are successively formed in order from the transparent substrate film side on at least one surface of the transparent substrate film, the two or more transparent layers Forming at least one transparent layer using a composition containing fine particles, and disposing a transparent layer other than the transparent layer in an inner region excluding at least an end of a coating region of the transparent layer containing the fine particles. The manufacturing method of the functional film characterized by including the process formed so that.
(2) The manufacturing method of the functional film as described in said (1) whose width | variety of the said edge part is 1-50 mm.
(3) The method for producing a functional film according to the above (1) or (2), wherein the transparent layer containing the fine particles is formed in at least the second and subsequent layers from the transparent base film side.
(4) The method for producing a functional film according to any one of (1) to (3), wherein the transparent layer containing the fine particles is formed immediately before the outermost transparent layer of the two or more transparent layers. .
(5) Any of the above (1) to (4), wherein the end has a raised portion, and the arithmetic average roughness Ra (JIS B0601-1994) of the portion is 2.0 to 20.0 nm. A method for producing the functional film according to claim 1.
(6) Any of (1) to (5) above, wherein the outermost surface of the two or more transparent layers has a raised portion, and the arithmetic average roughness Ra of the portion is 0.5 to 5.0 nm. A method for producing the functional film according to claim 1.
(7) The functionality according to (6), wherein the arithmetic average roughness Ra of the raised portion of the end portion is larger than the arithmetic average roughness Ra of the raised portion of the outermost surface of the two or more transparent layers. A method for producing a film.
(8) The average particle diameter of the fine particles is the thickness of the transparent layer containing the fine particles farthest from the transparent base film and the thickness of the transparent layer existing on the opposite side of the transparent base film from the transparent layer. The manufacturing method of the functional film in any one of said (1)-(7) which is 0.5-3.0 (times) with respect to the value of t, when sum is set to t (nm).
(9) The method for producing a functional film according to any one of (1) to (8), wherein the fine particles are inorganic particles or organic particles.
(10) The method for producing a functional film according to (9), wherein the inorganic particles are silica particles or alumina particles.
(11) The method for producing a functional film according to (9), wherein the organic particles are a (meth) acrylic polymer or a styrene polymer.
(12) The method for producing a functional film according to any one of (1) to (11), wherein among the two or more transparent layers, at least one pair of layers in contact with each other has a different refractive index.
(13) The method for producing a functional film according to (12), wherein each of the two or more transparent layers has a thickness of 100 nm or less.
(14) The method for producing a functional film according to (13), wherein the two or more transparent layers having a thickness of 100 nm or less have an optical interference function with each other.
(15) The method for producing a functional film according to the above (1) to (14), further comprising a step of forming a primer layer between the base film and the first transparent layer.
(16) The two or more transparent layers include, in order from the transparent substrate film side, a hard coat layer having a refractive index of 1.50 to 1.60 and a thickness of 0.5 to 10 μm, the fine particles, and High refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 1.75 and a thickness of 10 to 100 nm, and low refractive index layer having a refractive index of 1.40 to 1.55 and a thickness of 10 to 100 nm Are formed in this order from the transparent substrate film side, The manufacturing method of the functional film in any one of said (1)-(15).
(17) The transparent conductive layer is further formed on the low refractive index layer, and the transparent conductive layer has a refractive index of 1.9 to 3.0 and a thickness of 15 to 35 nm. A method for producing the functional film described in 1.
(18) The method for producing a functional film according to (17), wherein the transparent conductive layer is formed by a resin composition coating method, a physical vapor deposition method, or a chemical vapor deposition method.
(19) The transparent substrate film has two or more transparent layers, at least one transparent layer of the two or more transparent layers contains fine particles, and a transparent layer other than the transparent layer contains the fine particles. It is arrange | positioned in the area | region inside except at least the edge part of this area | region, The functional film characterized by the above-mentioned.
(20) The two or more transparent layers include, in order from the transparent base film side, a hard coat layer having a refractive index of 1.50 to 1.60 and a thickness of 0.5 to 10 μm, and the fine particles. And a high refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 1.75 and a thickness of 10 to 100 nm, and a low refractive index of 1.40 to 1.55 and a thickness of 10 to 100 nm. The functional film according to (19), comprising a layer.
(21) The above (20), further comprising a transparent conductive layer on the low refractive index layer, wherein the transparent conductive layer has a refractive index of 1.7 to 3.0 and a thickness of 15 to 35 nm. Functional film described in 2.
本発明によれば、生産性が高く、かつパネル基材間のブロッキングの発生を防止した品質の高い機能性フィルムの製造方法及び機能性フィルムを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method and functional film of high quality film which were high in productivity and prevented generation | occurrence | production of the blocking between panel base materials can be provided.
本発明の機能性フィルムの製造方法は、透明基材フィルムの少なくとも一方の面上に、当該透明基材フィルム側から二以上の透明層を連続的に順に形成する機能性フィルムの製造方法であって、前記二以上の透明層の少なくとも一つの透明層を、微粒子を含む組成物を用い形成する工程、当該透明層以外の透明層を、前記微粒子を含む透明層の塗工領域の少なくとも端部を除く内側の領域に配置するように形成する工程を含むことを特徴とする製造方法である。
本発明の機能性フィルムは、以下に述べるように、透明基材フィルムの片面のみで構成されていてもよく、両面で構成されていてもよい。
The method for producing a functional film of the present invention is a method for producing a functional film in which two or more transparent layers are successively formed in order from the transparent substrate film side on at least one surface of the transparent substrate film. Forming at least one transparent layer of the two or more transparent layers using a composition containing fine particles, and forming a transparent layer other than the transparent layer at least at an end of a coating region of the transparent layer containing fine particles. The manufacturing method characterized by including the process formed so that it may arrange | position in the area | region inside except for.
As described below, the functional film of the present invention may be composed of only one side of the transparent substrate film, or may be composed of both sides.
図１は、本発明の製造方法により製造される機能性フィルムの一例を示す断面図である。この機能性フィルム１０は、透明基材フィルム１の上に、プライマー層２、ハードコート層３、透明層４、透明層５、及び透明導電層６が順に積層されている。同様に、図２は、本発明の製造方法により製造される機能性フィルムの他の一例を示す断面図であり、機能性フィルム２０は、透明基材フィルム１の両面に、プライマー層２ａ、２ｂ、ハードコート層３ａ、３ｂ、透明層４ａ、４ｂ、透明層５ａ、５ｂ、及び透明導電層６ａ、６ｂが積層されている。 FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a functional film produced by the production method of the present invention. In this functional film 10, a primer layer 2, a hard coat layer 3, a transparent layer 4, a transparent layer 5, and a transparent conductive layer 6 are sequentially laminated on a transparent substrate film 1. Similarly, FIG. 2 is a cross-sectional view showing another example of the functional film produced by the production method of the present invention. The functional film 20 has primer layers 2a and 2b on both sides of the transparent substrate film 1. The hard coat layers 3a and 3b, the transparent layers 4a and 4b, the transparent layers 5a and 5b, and the transparent conductive layers 6a and 6b are laminated.
〈機能性フィルム形成工程〉
透明基材フィルム上に二以上の透明層を連続的に順に形成する工程である。
給排紙用ローラーを有する、複数の連接した塗工装置を備えた多色インライン型塗膜形成装置（以下、多色式連続塗工機と称することがある。）を用い、当該装置の給紙用ローラーに巻かれた透明基材フィルムを前記複数の連接した塗工装置に供給し、当該透明基材フィルム上に、当該透明基材フィルム側から二以上の透明層を連続して順に形成すると同時に、形成した二以上の透明層を排紙用ローラーに巻き取ることにより、機能性フィルムを形成させる工程である。
当該光機能性フィルム形成工程は、後述する第１層目の透明層形成工程１、第２層目の透明層形成工程２、第３層目の透明層形成工程３、及び第４層目以降の透明層形成工程を含む。
なお、多色インライン方式で透明層を連続的に形成することで、給排紙用ローラーを有する単一の塗工装置を用いた逐次型塗膜形成装置（以下、一色式塗工機と称することがある。）を用い形成するのに比べ、塗膜形成後の放置時間がほとんどなく、大気雰囲気中における塗膜表面の濡れ性の低下がないため、層間の密着性が向上する。
<Functional film formation process>
In this process, two or more transparent layers are successively formed on the transparent substrate film.
Using a multicolor in-line type coating film forming apparatus (hereinafter, sometimes referred to as a multicolor continuous coating machine) having a plurality of connected coating apparatuses having a feed / discharge roller, A transparent base film wound around a paper roller is supplied to the plurality of connected coating apparatuses, and two or more transparent layers are successively formed on the transparent base film sequentially from the transparent base film side. At the same time, it is a step of forming a functional film by winding the two or more formed transparent layers onto a paper discharge roller.
The optical functional film forming step includes the first transparent layer forming step 1, the second transparent layer forming step 2, the third transparent layer forming step 3, and the fourth and subsequent layers, which will be described later. A transparent layer forming step.
In addition, a sequential coating film forming apparatus (hereinafter referred to as a one-color coating machine) using a single coating apparatus having a roller for feeding and discharging paper by continuously forming a transparent layer by a multicolor inline method. Compared with the formation of the coating layer, there is almost no standing time after the coating film is formed, and there is no decrease in wettability of the coating film surface in the air atmosphere.
図３は、本発明の製造方法に用いた多色インライン型塗膜形成装置の一例を示す模式図である。当該多色インライン型塗膜形成装置３０は、ロールツーロール方式の塗工装置（以下１基からなる塗工装置はユニットと記載することがある。）であり、張力を付与しながら帯状の透明基材フィルム１上に、所定の塗膜を連続的に順に形成する装置である。また、多色インライン型塗膜形成装置３０は、図３中に示すように、第１のユニット３１ａ、第２のユニット３１ｂ及び第３のユニット３１ｃからなり、第１のユニット３１ａには巻き出しローラー３２を含め、塗工部３３ａ、乾燥部３４ａ、硬化部３５ａが、第２のユニット３１ｂには塗工部３３ｂ、乾燥部３４ｂ、硬化部３５ｂが、第３のユニット３１ｃには巻き取りローラー３６を含め、塗工部３３ａ、乾燥部３４ａ、硬化部３５ａを備えている。 FIG. 3 is a schematic view showing an example of a multicolor inline type coating film forming apparatus used in the production method of the present invention. The multicolor inline-type coating film forming apparatus 30 is a roll-to-roll type coating apparatus (hereinafter, a coating apparatus consisting of one unit may be referred to as a unit) and is transparent in a strip shape while applying tension. It is an apparatus for continuously forming a predetermined coating film on the base film 1 in order. Further, as shown in FIG. 3, the multicolor inline-type coating film forming apparatus 30 includes a first unit 31a, a second unit 31b, and a third unit 31c, and unwinds to the first unit 31a. Including roller 32, coating unit 33a, drying unit 34a, curing unit 35a, second unit 31b has coating unit 33b, drying unit 34b, curing unit 35b, and third unit 31c has a take-up roller. 36, the coating part 33a, the drying part 34a, and the hardening part 35a are provided.
本発明に用いる多色インライン型塗膜形成装置としては、仕様等含め特に制限されないが、例えば、第１のユニットを構成する塗工部においては、塗膜を形成する塗工用コーター、また乾燥部においては、塗膜を乾燥する乾燥機、さらに硬化部においては、塗膜を硬化する硬化機からなり、前記ユニットを複数ユニット、順に備えるものが挙げられる。前記のようなユニットを使用すれば、層数の異なる多品種の製品の製造を行う場合でも、透明層の増減等に柔軟な対応が容易に行えるため好ましい。
塗工用コーターとしては、ロールコーター、バーコーター、グラビアコーター、ディップコ−ター、ナイフコ−ター等の各種塗工機が挙げられる。
乾燥機としては、加熱炉、真空加熱炉、赤外線ランプヒーター等が挙げられ、熱風の対向、巡向、サイドあるいは塗面に直接吹き付ける乾燥方法がとられる。
硬化機としては、紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ、ＬＥＤランプ等が挙げられる。また、電子線により硬化する場合は、電子線加速器等が挙げられる。
The multicolor inline-type coating film forming apparatus used in the present invention is not particularly limited including specifications and the like. For example, in the coating part constituting the first unit, a coating coater for forming a coating film, or drying The part includes a dryer for drying the coating film, and the curing part includes a curing machine for curing the coating film, and includes a plurality of units in order. The use of the unit as described above is preferable because even when a variety of products having different numbers of layers are manufactured, it is possible to easily deal with an increase or decrease in the transparent layer and the like.
Examples of the coating coater include various coating machines such as a roll coater, a bar coater, a gravure coater, a dip coater, and a knife coater.
Examples of the dryer include a heating furnace, a vacuum heating furnace, an infrared lamp heater, and the like, and a drying method in which the hot air is opposed to, turned around, or directly sprayed onto the side or coating surface is employed.
Examples of the curing machine include an ultra-high pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, and an LED lamp in the case of ultraviolet curing. Moreover, when hardening with an electron beam, an electron beam accelerator etc. are mentioned.
前記二以上の透明層は、特に制限されないが、例えば、ハードコート層の場合、耐摩耗性、耐擦傷性等を含め機械的特性を向上させるために形成する。また、光機能層の場合は、例えば、二以上の透明層が、前記二以上の透明層のうち、少なくとも一組の互いに接する層の屈折率が異なるように形成し、好ましくは、前記二以上の透明層のそれぞれの厚みを１００ｎｍ以下とし、相互で光学干渉機能を有する反射防止層として光学特性を向上あるいは制御するために形成する。
前記ハードコート層と前記光機能層を組み合わせてもよいし、さらに透明導電層を組み合わせてもよい。
その他、二以上の透明としては、ハードコート層、反射防止層、ニュートンリング防止層の組み合わせ、帯電防止層、ハードコート層、反射防止層の組み合わせ等が挙げられる。
The two or more transparent layers are not particularly limited. For example, in the case of a hard coat layer, the two or more transparent layers are formed in order to improve mechanical properties including wear resistance, scratch resistance and the like. In the case of the optical functional layer, for example, two or more transparent layers are formed such that at least one pair of layers in contact with each other among the two or more transparent layers has a different refractive index, preferably the two or more transparent layers. Each of the transparent layers has a thickness of 100 nm or less, and is formed as an antireflection layer having an optical interference function with each other in order to improve or control optical characteristics.
The hard coat layer and the optical functional layer may be combined, or a transparent conductive layer may be further combined.
In addition, the two or more transparents include a combination of a hard coat layer, an antireflection layer and a Newton ring prevention layer, a combination of an antistatic layer, a hard coat layer and an antireflection layer.
（１）透明層形成工程１
透明層形成工程１は、透明基材フィルム上に第１層目の透明層を形成する工程である。図３においては、第１のユニット３１ａで、巻き出しローラー３２で透明基材フィルムを送り出し、塗工部３３ａで塗工し、続く乾燥部３４ａで乾燥させ、さらに続く硬化部３５ａで硬化させることにより、前記第１層目の透明層が形成される。
(1) Transparent layer forming step 1
The transparent layer forming step 1 is a step of forming a first transparent layer on the transparent substrate film. In FIG. 3, in the first unit 31a, the transparent base film is sent out by the unwinding roller 32, applied by the coating unit 33a, dried by the subsequent drying unit 34a, and further cured by the subsequent curing unit 35a. Thus, the first transparent layer is formed.
本発明に用いる透明基材フィルムは、特に制限されないが、高い透明性、平滑性、耐熱性を備えるとともに、機械的強度にも優れた樹脂からなることが好ましい。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂等が挙げられる。これらの中で、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂が好ましく、ポリエステル系樹脂の中でも、耐熱性の観点からポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが特に好ましい。
透明基材フィルムの厚さは、１００〜３００μｍであることが好ましく、２５〜２５０μｍであることがさらに好ましく、５０〜２００μｍであることが特に好ましい。透明基材フィルムの厚さがこの範囲内であれば、支持体として機械的強度を確保した上で、積層するフィルムの薄膜化が容易であり、また透明基材フィルムにカールやシワが生じにくくなる。
The transparent substrate film used in the present invention is not particularly limited, but preferably comprises a resin having high transparency, smoothness and heat resistance, and excellent mechanical strength. For example, polyester resin, acetate resin, polycarbonate resin, polyamide resin, polyimide resin, polyolefin resin, (meth) acrylic resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl Examples include alcohol resins and polyarylate resins. Among these, polyester resins, polycarbonate resins, and polyolefin resins are preferable. Among polyester resins, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are particularly preferable from the viewpoint of heat resistance.
The thickness of the transparent substrate film is preferably 100 to 300 μm, more preferably 25 to 250 μm, and particularly preferably 50 to 200 μm. If the thickness of the transparent substrate film is within this range, it is easy to reduce the thickness of the film to be laminated while ensuring the mechanical strength as a support, and the transparent substrate film is not easily curled or wrinkled. Become.
透明基材フィルムは、あらかじめ易接着処理を施してもよい。具体的には、透明基材フィルムはプラズマ処理、コロナ放電処理、遠紫外線照射処理、下引き易接着層の形成等の易接着処理が施されたものを用いることが好ましい。 The transparent base film may be subjected to an easy adhesion treatment in advance. Specifically, it is preferable to use a transparent substrate film that has been subjected to plasma treatment, corona discharge treatment, far ultraviolet irradiation treatment, formation of an undercoat easy adhesion layer, or the like.
本発明に用いる二以上の透明層のうち、第１層目の透明層の実施形態として、ハードコート層を形成することが挙げられる。当該ハードコート層は、機能性フィルムとして、屈折率の値を考慮する必要があるが、耐摩耗性、耐擦傷性等を含め機械的特性を向上させることができるため好ましく用いられる。
また、前記ハードコート層は、高い透明性を有するものが好ましく、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化性樹脂が用いられる。
Of the two or more transparent layers used in the present invention, an embodiment of the first transparent layer is to form a hard coat layer. The hard coat layer is preferably used as a functional film, although it is necessary to consider the value of the refractive index, but it can improve mechanical properties including abrasion resistance and scratch resistance.
The hard coat layer preferably has high transparency, and an ionizing radiation curable resin that is a resin curable by ultraviolet rays or an electron beam is used.
電離放射線硬化性樹脂としては、例えば、一つ又は二つ以上の不飽和結合を有するアクリレート系化合物を挙げることができる。一つの不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げられる。また、二つ以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、及び、これらの多官能化合物と（メタ）アクリレート等との反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお、本明細書において、（メタ）アクリレートは、メタクリレート及びアクリレートを意味するものである。 Examples of the ionizing radiation curable resin include acrylate compounds having one or two or more unsaturated bonds. Examples of the compound having one unsaturated bond include ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like. Examples of the compound having two or more unsaturated bonds include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, penta Multifunctional compounds such as erythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentylglycol di (meth) acrylate, and these polyfunctional compounds A reaction product (for example, poly (meth) acrylate ester of polyhydric alcohol) with (meth) acrylate, etc. can be mentioned. In the present specification, (meth) acrylate means methacrylate and acrylate.
前記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹脂等も前記電離放射線硬化性樹脂として使用することができる。 In addition to the compounds, relatively low molecular weight polyester resins having unsaturated double bonds, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins, polybutadiene resins, and the like can also be used as the ionizing radiation curable resins. .
電離放射線硬化性樹脂等の調製に用いる溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、又はエチレングリコール等のアルコール類、アセトン、又はメチルエチルケトン等のケトン類、トルエン、又はキシレン等の芳香族炭化水素、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、カルビトール、又はプロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸エチル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等の酢酸エステル等を適宜使用することができる。 Solvents used for the preparation of ionizing radiation curable resins include, for example, alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, or ethylene glycol, ketones such as acetone or methyl ethyl ketone, and aromatic carbonization such as toluene or xylene. Hydrogen, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, carbitol, glycol ethers such as propylene glycol monoethyl ether, and acetates such as ethyl acetate, butyl acetate, and cellosolve acetate can be used as appropriate.
本発明に用いる光重合開始剤としては、特に限定されないが、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミノキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類等が挙げられる。
前記光重合開始剤の含有量は特に限定されないが、電離放射線硬化性樹脂組成物中の含有量は１〜１０質量％が好ましく、３〜７質量％がさらに好ましい。
The photopolymerization initiator used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include acetophenones, benzophenones, Michler benzoylbenzoate, α-aminoxime ester, tetramethylthiuram monosulfide, thioxanthones, and the like.
The content of the photopolymerization initiator is not particularly limited, but the content in the ionizing radiation curable resin composition is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 3 to 7% by mass.
ハードコート層は前記電離放射線硬化性樹脂組成物を用い前述した方法で、塗膜を形成し、乾燥させた後、塗膜を硬化させることにより形成することができる。塗布後の乾燥条件は、特に限定されないが、通常４０〜１００℃で２０〜１２０秒間行うとよい。前記塗膜を硬化させる方法は、特に限定されず、公知の方法であればよい。電離放射線を照射する方法としては、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、メタルハライドランプなどから発せられる１００ｎｍ〜４００ｎｍ、好ましくは２００ｎｍ〜４００ｎｍの波長領域の紫外線を照射する、又は走査型やカーテン型の電子線加速器から発せられる１００ｎｍ以下の波長領域の電子線を照射することにより行うことができる The hard coat layer can be formed by curing the coating film after the coating film is formed and dried by the above-described method using the ionizing radiation curable resin composition. Although the drying conditions after application | coating are not specifically limited, Usually, it is good to carry out at 40-100 degreeC for 20 to 120 second. The method for curing the coating film is not particularly limited and may be a known method. As a method of irradiating with ionizing radiation, ultra-high pressure mercury lamp, high-pressure mercury lamp, low-pressure mercury lamp, carbon arc, metal halide lamp, etc. emits ultraviolet rays in a wavelength region of 100 nm to 400 nm, preferably 200 nm to 400 nm, or scanning type It can be performed by irradiating an electron beam having a wavelength region of 100 nm or less emitted from a curtain type electron beam accelerator.
ハードコート層の厚みは、０．５〜１０μｍであることが好ましく、１〜７μｍであることがさらに好ましい。前記範囲であると、光学特性が維持され、硬度が充分とれ、製造工程において、ロール等への巻き取りが容易であり、さらにコスト的にも安くできるため好ましい。
なお、ハードコート層の厚みは、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ）等で観察することにより得られた値である。
The thickness of the hard coat layer is preferably 0.5 to 10 μm, and more preferably 1 to 7 μm. Within the above range, the optical properties are maintained, the hardness is sufficient, and the film can be easily wound on a roll or the like in the production process, and can be reduced in cost.
The thickness of the hard coat layer is a value obtained by observing the cross section with an electron microscope (SEM, TEM) or the like.
（プライマー層）
ハードコート層との密着性の向上を主目的として、ハードコート層を形成する前に、前記透明基材フィルム上にプライマー層を形成しておいてもよい。また、このプライマー層を透明基材とハードコート層のそれぞれの屈折率の中間の屈折率とすることで、干渉縞の発生を抑制することができる。
(Primer layer)
A primer layer may be formed on the transparent substrate film before the hard coat layer is formed, mainly for the purpose of improving the adhesion with the hard coat layer. Moreover, the generation of interference fringes can be suppressed by setting the primer layer to a refractive index intermediate between the refractive indexes of the transparent substrate and the hard coat layer.
プライマー層を構成する樹脂組成物としては、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂等を挙げることができる。プライマー層の厚みは、十分な密着性と低干渉性を得る観点から、３０〜２００ｎｍが好ましく、５０〜１５０ｎｍがさらに好ましい。 Examples of the resin composition constituting the primer layer include polyester resins, acrylic resins, and urethane resins. The thickness of the primer layer is preferably from 30 to 200 nm, more preferably from 50 to 150 nm, from the viewpoint of obtaining sufficient adhesion and low interference.
（２）透明層形成工程２
透明層形成工程２は、透明層形成工程１で得られた前記第１層目の透明層上に、連続して第２のユニット３１ｂで、第２層目の透明層を形成する工程である。図３においては、前記第２のユニット３１ｂにおいて、塗工部３３ｂで塗工し、続く乾燥部３４ｂで乾燥させ、さらに続く硬化部３５ｂで硬化させることにより、第２層目の透明層が形成される。
(2) Transparent layer forming step 2
The transparent layer forming step 2 is a step of continuously forming the second transparent layer by the second unit 31b on the first transparent layer obtained in the transparent layer forming step 1. . In FIG. 3, in the second unit 31b, a second transparent layer is formed by coating with the coating unit 33b, drying with the subsequent drying unit 34b, and further curing with the subsequent curing unit 35b. Is done.
第２層目の透明層の実施形態として、高屈折率層を形成する場合は、ゾルゲル法により高屈折率層を材料単体から形成する手法、又はバインダー樹脂に高屈折率粒子を含有させた組成物から形成する手法がある。
前記手法において、ゾルゲル法に用いる材料としては、金属アルコキシドが挙げられ、該金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合することにより高屈折率層を形成させる。金属アルコキシドとしては、機械的強度や安定性、透明導電層や基材等との密着性に優れている観点から、チタニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド又はアルコキシシランが挙げられる。これらのなかでも、ジルコニウムアルコキシドが、屈折率の観点から好ましく用いられる。
バインダー樹脂としては、電離放射線硬化性樹脂又は熱硬化性樹脂が挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂としては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等を原料とする多官能ポリアクリレート系電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。これら原料のなかでも、ポリオールアクリレートやウレタンアクリレートが、柔軟性や硬度の観点から好ましく用いられる。
熱硬化型樹脂としては、メラミン系熱硬化性樹脂、フェノキシ系熱硬化性樹脂、エポキシ系熱硬化性樹脂が挙げられる。
As an embodiment of the second transparent layer, when forming a high refractive index layer, a method of forming a high refractive index layer from a single material by a sol-gel method, or a composition containing high refractive index particles in a binder resin There is a method of forming from objects.
In the above technique, the material used for the sol-gel method includes metal alkoxide, and the high refractive index layer is formed by hydrolysis and condensation polymerization of the metal alkoxide. Examples of the metal alkoxide include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, and alkoxysilane from the viewpoint of excellent mechanical strength and stability, and adhesion to a transparent conductive layer and a substrate. Among these, zirconium alkoxide is preferably used from the viewpoint of refractive index.
Examples of the binder resin include an ionizing radiation curable resin and a thermosetting resin.
Examples of the ionizing radiation curable resin include polyfunctional polyacrylate ionizing radiation curable resins using polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate and the like as raw materials. Among these raw materials, polyol acrylate and urethane acrylate are preferably used from the viewpoints of flexibility and hardness.
Examples of the thermosetting resin include melamine-based thermosetting resin, phenoxy-based thermosetting resin, and epoxy-based thermosetting resin.
高屈折率粒子として、金属酸化物からなる、例えば、Ｂｉ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ5、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2が挙げられ、屈折率調整の観点からＺｒＯ2が好ましく用いられる。
前記高屈折率粒子の１次粒子径は５〜２０ｎｍであるものを用いる。上記範囲であれば、塗膜が白化することなく良好な光学干渉層を形成することができる。なお、添加量は、所望の屈折率に合わせ、適宜調整する。
Examples of the high refractive index particles include metal oxides such as Bi 2 O 3 , In 2 O 3 , La 2 O 3 , Sb 2 O 5 , SnO 2 , TiO 2 , ZnO, and ZrO 2. From the viewpoint of adjustment, ZrO 2 is preferably used.
The primary particle diameter of the high refractive index particles is 5 to 20 nm. If it is the said range, a favorable optical interference layer can be formed, without a coating film whitening. The amount added is appropriately adjusted according to the desired refractive index.
なお、必要に応じて、前述した高屈折率材料の中から所望の屈折率を有する材料を選び、物理蒸着法又は化学蒸着法により低屈折率層を形成してもよい。 If necessary, a material having a desired refractive index may be selected from the above-described high refractive index materials, and the low refractive index layer may be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition.
（３）透明層形成工程３
透明層形成工程２で得られた前記第２層目の透明層上に、連続して第３のユニット３１ｃで、第３層目の透明層を形成する工程である。図３においては、前記第３のユニット３１ｃにおいて、塗工部３３ｃで塗工し、続く乾燥部３４ｃで乾燥させ、さらに続く硬化部３５ｃで硬化させることにより、第３層目の透明層が形成される。
なお、図３においては、前記第３層目の透明層が形成された後、巻き取りローラー３６に巻き取られた態様で塗膜形成が完了する。
(3) Transparent layer forming step 3
This is a step of continuously forming a third transparent layer by the third unit 31c on the second transparent layer obtained in the transparent layer forming step 2. In FIG. 3, in the third unit 31c, the third transparent layer is formed by coating with the coating section 33c, drying with the subsequent drying section 34c, and further curing with the subsequent curing section 35c. Is done.
In addition, in FIG. 3, after the said 3rd transparent layer is formed, coating-film formation is completed by the aspect wound up by the winding roller 36. In FIG.
第３層目の透明層の実施形態として、低屈折率層を形成する場合は、前記２層目の透明層の実施形態と同様、ゾルゲル法により低屈折率層を材料単体から形成する手法、又はバインダー樹脂に低屈折率粒子を含有させた組成物から形成する手法がある。
前記手法において、ゾルゲル法に用いる材料としては、金属アルコキシドが挙げられ、該金属アルコキシドを加水分解並びに縮合重合することにより低屈折率層を形成させる。金属アルコキシドとしては、機械的強度や安定性、透明導電層や基材等との密着性に優れている観点から、チタニウムアルコキシド、ジルコニウムアルコキシド又はアルコキシシランが挙げられ、屈折率の観点からアルコキシシランが好ましく用いられる。また、電離放射線硬化性樹脂としては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等を原料とする多官能ポリアクリレート系電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。これら原料のなかでも、ポリオールアクリレートやウレタンアクリレートが、柔軟性や硬度の観点から好ましく用いられる。熱硬化型樹脂としては、メラミン系熱硬化性樹脂、フェノキシ系熱硬化性樹脂、エポキシ系熱硬化性樹脂が挙げられる。
As an embodiment of the third transparent layer, when forming a low refractive index layer, as in the second transparent layer embodiment, a method of forming the low refractive index layer from a single material by a sol-gel method, Alternatively, there is a method of forming from a composition in which low refractive index particles are contained in a binder resin.
In the above technique, the material used for the sol-gel method includes a metal alkoxide, and the low refractive index layer is formed by hydrolysis and condensation polymerization of the metal alkoxide. Examples of the metal alkoxide include titanium alkoxide, zirconium alkoxide, or alkoxysilane from the viewpoint of excellent mechanical strength and stability, and adhesion to a transparent conductive layer, a base material, and the like. Preferably used. Examples of the ionizing radiation curable resin include polyfunctional polyacrylate ionizing radiation curable resins using polyol acrylate, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate and the like as raw materials. Among these raw materials, polyol acrylate and urethane acrylate are preferably used from the viewpoints of flexibility and hardness. Examples of the thermosetting resin include melamine-based thermosetting resin, phenoxy-based thermosetting resin, and epoxy-based thermosetting resin.
低屈折率粒子としては、金属フッ化物からなるＭｇＦ2、ＬｉＦ、又はＳｉＯ2が挙げられ、屈折率や安定性の観点からＳｉＯ2が好ましく用いられる。
前記低屈折率粒子の１次粒子径は５〜２０ｎｍであるものを用いる。上記範囲であれば、塗膜が白化することなく良好な光学干渉層を形成することができる。
なお、添加量は、所望の屈折率に合わせ、適宜調整する。
Examples of the low refractive index particles include MgF 2 , LiF, or SiO 2 made of metal fluoride, and SiO 2 is preferably used from the viewpoint of the refractive index and stability.
The primary particle diameter of the low refractive index particles is 5 to 20 nm. If it is the said range, a favorable optical interference layer can be formed, without a coating film whitening.
The amount added is appropriately adjusted according to the desired refractive index.
なお、必要に応じて、前述した低屈折率材料の中から所望の屈折率を有する材料を選び、物理蒸着法又は化学蒸着法により低屈折率層を形成してもよい。 If necessary, a material having a desired refractive index may be selected from the low refractive index materials described above, and the low refractive index layer may be formed by physical vapor deposition or chemical vapor deposition.
本発明の第４層目以降の透明層を形成する工程となる透明層形成工程４以降については、当該第４層目以降の透明層の仕様に対応したユニット（図示しないが）を用い、塗工、乾燥、硬化の順に処理されることにより、第４層目以降の透明層が形成される。
なお、最終層となる最上層の透明層は、当該透明層が形成された後、ローラーに巻き取られ、透明層形成工程が完了する。
For the transparent layer forming step 4 and later, which is the step of forming the fourth and subsequent transparent layers of the present invention, a unit (not shown) corresponding to the specifications of the fourth and subsequent transparent layers is used. The fourth and subsequent transparent layers are formed by processing in the order of processing, drying, and curing.
In addition, after the said transparent layer is formed, the transparent layer of the uppermost layer used as the last layer is wound up by the roller, and a transparent layer formation process is completed.
本発明においては、前記透明層の最表面上に、さらに、透明導電層を形成してもよい。
（４）透明導電層形成工程
透明導電層形成工程は、前記透明層の最表面上に、透明導電層を形成する工程である。図１においては、透明層５上に透明導電層６を形成する工程である。前記透明層４を高屈折率層、前記透明層５を低屈折率層とした場合、該低屈折率層に接して透明導電層６を設ける。
In the present invention, a transparent conductive layer may be further formed on the outermost surface of the transparent layer.
(4) Transparent conductive layer formation process A transparent conductive layer formation process is a process of forming a transparent conductive layer on the outermost surface of the said transparent layer. In FIG. 1, the transparent conductive layer 6 is formed on the transparent layer 5. When the transparent layer 4 is a high refractive index layer and the transparent layer 5 is a low refractive index layer, the transparent conductive layer 6 is provided in contact with the low refractive index layer.
透明導電層の形成方法としては、スパッタ法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、又は化学蒸着法、その他印刷法、塗工法等種々あるが、光学特性、電気特性の観点から物理蒸着法、化学蒸着法が好ましい。 There are various methods for forming the transparent conductive layer, such as sputtering, vacuum deposition, ion plating, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, other printing methods, coating methods, etc., from the viewpoint of optical properties and electrical properties. Physical vapor deposition and chemical vapor deposition are preferred.
本発明で用いる透明導電層としては、特に制限されないが、インジウムスズ酸化物であるＩＴＯ膜、酸化亜鉛と酸化インジウムからなるＩＺＯ膜、アンチモン又はフッ素等を含む酸化スズ膜等が挙げられる。
本発明で用いる透明導電層としては、結晶質の酸化インジウムよりなる膜がより好ましい。特に、結晶質のインジウム酸化物からなる層が好ましく、さらに、酸化スズが含まれる結晶質のインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）は透明性、導電性がともに優れ、好ましく用いられる。得られた前記透明導電層の表面抵抗率は１００〜２００Ω／□、厚みは１５〜３５ｎｍである。厚み及び表面抵抗率が前記範囲であれば、高い光透過率と優れた表面抵抗率が得られ、かつそれらの経時的な安定性が確保できる。
Although it does not restrict | limit especially as a transparent conductive layer used by this invention, The ITO film | membrane which is an indium tin oxide, the IZO film | membrane which consists of zinc oxide and an indium oxide, the tin oxide film | membrane containing antimony or a fluorine etc. are mentioned.
The transparent conductive layer used in the present invention is more preferably a film made of crystalline indium oxide. In particular, a layer made of crystalline indium oxide is preferred, and crystalline indium tin oxide (ITO) containing tin oxide is excellent in both transparency and conductivity, and is preferably used. The obtained transparent conductive layer has a surface resistivity of 100 to 200Ω / □ and a thickness of 15 to 35 nm. When the thickness and the surface resistivity are within the above ranges, high light transmittance and excellent surface resistivity can be obtained, and stability over time can be ensured.
前記結晶性のインジウム酸化物からなる層には、透明性向上、表面抵抗値の制御等を目的として、酸化スズ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の金属酸化物を１種又は２種以上添加することができる。 The layer made of crystalline indium oxide is made of a metal oxide such as tin oxide, titanium oxide, aluminum oxide, silicon oxide, zirconium oxide, or zinc oxide for the purpose of improving transparency and controlling the surface resistance value. 1 type (s) or 2 or more types can be added.
前記、結晶性のインジウムスズ酸化物膜は、例えば、図１において透明層５まで積層した積層体をスパッタ装置に入れ、真空下で、成膜時に同時に熱処理を施すことにより得られる。この時の前記透明導電層の熱処理は、通常５０〜１７０℃、１〜６０分間、施される。前記範囲であれば、高い光透過率と優れた表面抵抗率が得られ、かつそれらの経時的な安定性が確保できる。また、製造工程が増えることになるが、成膜後にのみ熱処理を施すことでも、前記透明導電層を得ることができる。 The crystalline indium tin oxide film can be obtained, for example, by putting a laminated body in which layers up to the transparent layer 5 in FIG. 1 are put into a sputtering apparatus and performing heat treatment simultaneously with film formation under vacuum. The heat treatment of the transparent conductive layer at this time is usually performed at 50 to 170 ° C. for 1 to 60 minutes. If it is the said range, high light transmittance and the outstanding surface resistivity will be obtained, and those temporal stability can be ensured. In addition, although the number of manufacturing steps is increased, the transparent conductive layer can be obtained by performing heat treatment only after film formation.
前記透明導電層の成膜後に、さらにパターニングをしてもよい。パターニングは公知の方法であれば、特に制限されない。特に、微細なパターンを形成する場合は、フォトリソ法が用いられる。 Further patterning may be performed after forming the transparent conductive layer. Patterning is not particularly limited as long as it is a known method. In particular, when a fine pattern is formed, a photolithography method is used.
（微粒子）
本発明に用いる二以上の透明層の少なくとも一つの透明層を形成するのに用いる組成物には、微粒子が含まれる。当該微粒子が透明層内に保持されることにより、当該透明層の端部はもとより、次いで順に積層される他の複数の透明層の表面に微粒子の形状に応じて隆起した部位が生成する。
微粒子の形態は、特に制限されず、一次粒子であっても、凝集体の形態であってもよく、それらが任意の割合で混在していてもよい。
(Fine particles)
The composition used to form at least one transparent layer of two or more transparent layers used in the present invention contains fine particles. By holding the fine particles in the transparent layer, not only the end portion of the transparent layer but also the raised portions of the surfaces of the other transparent layers that are sequentially laminated according to the shape of the fine particles are generated.
The form of the fine particles is not particularly limited, and may be a primary particle or an aggregated form, and they may be mixed at an arbitrary ratio.
前記微粒子の形状に応じて隆起した部位により、巻き取り（ロール）状態での機能性フィルムのブロッキングを防止する効果を有する滑り性を付与することができる。また、端部の段差もブロッキング防止効果を促す役割を担っているものと推測される。 By the site | part which protruded according to the shape of the said microparticles | fine-particles, the slipperiness which has the effect which prevents blocking of a functional film in a winding (roll) state can be provided. Moreover, it is estimated that the level | step difference of the edge part also plays the role which promotes the blocking prevention effect.
前記微粒子は、無機系粒子又は有機系粒子であることが好ましく、いずれを併用してもよい。
無機系粒子としては、シリカ系粒子又はアルミナ系粒子からなることが好ましい。なかでも、分散安定性の観点からシリカ系粒子がより好ましい。前記シリカ系粒子としては、コロイダルシリカ等が挙げられる。前記シリカ粒子の市販品としては、例えば、ＣＩＫナノテック社製ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ０３、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６５、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｅ６８、ＳＩＲＭＩＢＫ１５ＷＴ％−Ｈ８４等が挙げられる。なお、シリカ粒子、アルミナ粒子は、単独で使用してもよく、併用してもよい。
また、有機系粒子としては、スチレンビーズ（屈折率１．５９）、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、アクリルビーズ（屈折率１．４９）、アクリル−スチレンビーズ（屈折率１．５４）、ポリカーボネートビーズ、ポリエチレンビーズ等が挙げられる。含有される層に必要な屈折率によって、適宜選択されるが、これらの中で、光透過性、耐湿熱性、耐光性の観点から、アクリルビーズが好ましい。なお、これらの粒子は、単独で使用してもよく、併用してもよい。
The fine particles are preferably inorganic particles or organic particles, and any of them may be used in combination.
The inorganic particles are preferably made of silica particles or alumina particles. Of these, silica-based particles are more preferable from the viewpoint of dispersion stability. Examples of the silica-based particles include colloidal silica. Examples of commercially available silica particles include SIRMIBK15WT% -E03, SIRMIBK15WT% -E65, SIRMIBK15WT% -E68, and SIRMIBK15WT% -H84 manufactured by CIK Nanotech. Silica particles and alumina particles may be used alone or in combination.
As organic particles, styrene beads (refractive index 1.59), melamine beads (refractive index 1.57), acrylic beads (refractive index 1.49), acrylic-styrene beads (refractive index 1.54), Examples thereof include polycarbonate beads and polyethylene beads. Although it selects suitably by the refractive index required for the layer to contain, Acrylic bead is preferable from a viewpoint of light transmittance, wet heat resistance, and light resistance. These particles may be used alone or in combination.
前記微粒子の平均粒子径としては、少なくとも微粒子を含む透明層に隆起部位を形成させる大きさが必要である。前記微粒子の平均粒子径は、透明基材フィルムから最も離れた、微粒子を含む透明層の厚みと該透明層より透明基材フィルムとは反対側に存在する透明層の厚みとの和をｔ（ｎｍ）とした場合、ｔの値に対して０．５〜３．０（倍）であることが好ましく、さらに好ましくは０．８〜２．０（倍）である。この範囲であれば、耐ブロッキング性及び滑り性が発現し、光学特性を維持できるため好ましい。
なお、本発明において微粒子の平均粒子径は、対象となる透明層を有する光機能性フィルムの断面を透過型電子顕微鏡で２０万倍にて撮像した画面において、無作為に１０個のシリカ粒子を抽出し、各々の粒子径を算出した後、その数平均値を平均粒子径とする。各粒子の粒子径は、粒子の断面において、最も長い径と最も短い径との平均値とする。
The average particle diameter of the fine particles needs to be large enough to form a raised portion in a transparent layer containing at least fine particles. The average particle diameter of the fine particles is the sum of the thickness of the transparent layer containing the fine particles farthest from the transparent base film and the thickness of the transparent layer on the opposite side of the transparent base film from the transparent layer t ( nm), it is preferably 0.5 to 3.0 (times), more preferably 0.8 to 2.0 (times) with respect to the value of t. If it is this range, since blocking resistance and slipperiness will express and an optical characteristic can be maintained, it is preferable.
In the present invention, the average particle size of the fine particles is determined by randomly selecting 10 silica particles on the screen obtained by imaging the cross section of the optical functional film having the target transparent layer at a magnification of 200,000 with a transmission electron microscope. After extracting and calculating each particle diameter, the number average value is set as the average particle diameter. The particle diameter of each particle is an average value of the longest diameter and the shortest diameter in the cross section of the particle.
上記滑り性を付与する微粒子の、透明層用樹脂組成物中の含有量が、バインダー樹脂固形分１００質量部に対して０．０５〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５質量部がより好ましい。微粒子がこの範囲にあれば、耐ブロッキング性及び滑り性が発現するとともに、光学特性が確保され、製造コストの増大を抑制することができる。 It is preferable that content in the resin composition for transparent layers of the microparticles | fine-particles which provide the said slipperiness is 0.05-10 mass parts with respect to 100 mass parts of binder resin solid content, 0.1-5 mass Part is more preferred. When the fine particles are within this range, blocking resistance and slipperiness are exhibited, optical characteristics are ensured, and an increase in manufacturing cost can be suppressed.
（透明層の塗工幅と位置関係及び微粒子による隆起）
本発明に用いる二以上の透明層は、本発明に用いたユニットの塗工部の塗工用コーターの塗工条件を適宜調整することにより、所定の位置に、所望の塗工幅を有する透明層として形成することができる。また、前記二以上の透明層の少なくとも一つの層に、当該透明層の膜厚より大きな粒子径を持つ微粒子を含ませることにより、当該透明層の端部はもとより、当該透明層の上に配置される透明層の表面の部位を隆起させることができる。
(Coating width and positional relationship of transparent layer and uplift by fine particles)
The two or more transparent layers used in the present invention are transparent having a desired coating width at a predetermined position by appropriately adjusting the coating conditions of the coating coater of the coating part of the unit used in the present invention. It can be formed as a layer. In addition, at least one of the two or more transparent layers includes fine particles having a particle diameter larger than the film thickness of the transparent layer, so that the transparent layer is disposed on the transparent layer as well as on the edge. A portion of the surface of the transparent layer to be formed can be raised.
本発明では、微粒子を含む少なくとも一つの透明層の塗工領域の、少なくとも端部を除く内側の領域に、当該透明層以外の透明層を配置するように形成する。
図５は、後述する実施例の機能性フィルムがロール状に巻き取られた状態及び透明基材フィルム上の二以上の透明層の塗工領域の一例（第２層目の透明層に微粒子が含有；第１層目と第３層目の塗工幅は同一としてしていない）を示す模式図である。
図５において、第１層目の透明層４３、第３層目の透明層４５には微粒子は含んでおらず、第２層目の透明層４４に微粒子が含まれている。また、塗工幅の大きさは、微粒子を含む第２層目の透明層４４が一番大きく、第３層目の透明層４５、第１層目の透明層４３の順に小さくなっている。
また、端部の幅は、微粒子を含む透明層のうち、両端部が一番外側の領域に配置されるものと、当該透明層以外の透明層の中で、当該透明層に最近接する端部を有する透明層とでなる領域における、両端部間の距離として定義する。図５においては、端部の幅は、第３層目の透明層４５と微粒子を含む第２層目の透明層４４とが重ならない領域の両端部間の距離となる。つまり、４６ａ、４６ｂが端部となる。また、４６ｃが端部以外となる。
In this invention, it forms so that transparent layers other than the said transparent layer may be arrange | positioned in the area | region inside at least except the edge part of the coating area | region of the at least 1 transparent layer containing microparticles | fine-particles.
FIG. 5 shows an example of a functional film of an example to be described later wound in a roll shape and an example of a coating region of two or more transparent layers on a transparent substrate film (fine particles are formed in the second transparent layer). Containing; the coating widths of the first and third layers are not the same).
In FIG. 5, the first transparent layer 43 and the third transparent layer 45 do not contain fine particles, and the second transparent layer 44 contains fine particles. The coating width of the second transparent layer 44 containing fine particles is the largest, and the third transparent layer 45 and the first transparent layer 43 are decreased in this order.
Further, the width of the edge is the edge closest to the transparent layer among the transparent layers containing fine particles, both of which are arranged in the outermost region and the transparent layer other than the transparent layer. It is defined as the distance between both ends in a region composed of a transparent layer having In FIG. 5, the width of the end portion is the distance between both end portions of the region where the third transparent layer 45 and the second transparent layer 44 containing fine particles do not overlap. That is, 46a and 46b are end portions. Further, 46c is other than the end portion.
前記端部の一端の幅が、１〜５０ｍｍであることが好ましく、さらに好ましくは５〜１５ｍｍである。端部の幅が上記範囲にあれば、滑り性による耐ブロッキング効果が確保できる。これは、端部の表面のＲｓｋ（ＪＩＳ Ｂ０６３３−２００１：粗さ曲線のスキューネス）が小さくならないことによるものと推測される。 It is preferable that the width | variety of the end of the said edge part is 1-50 mm, More preferably, it is 5-15 mm. If the width of the end is within the above range, the anti-blocking effect due to slipperiness can be ensured. This is presumed to be due to the fact that Rsk (JIS B0633-2001: skewness of roughness curve) on the surface of the end portion does not become small.
前記微粒子を含む透明層は、前記透明基材フィルム側から少なくとも２層目以降に形成されることが好ましく、二以上の透明層の最表面の透明層の直前に形成されることがさらに好ましい。微粒子を含む透明層が上記のような位置に配置されると、少量の微粒子の添加で滑り性を付与することが可能になり、滑り性によるブロッキング防止効果が発現されることにより品質が安定し、かつ歩留まり向上に繋がるため好ましい。
なお、一色式塗工機では、滑り性の付与のため、１層目に微粒子を含ませることが必須となるのに対し、本発明に用いた多色式連続塗工機ではその制限がない。
The transparent layer containing fine particles is preferably formed in at least the second and subsequent layers from the transparent substrate film side, and more preferably formed immediately before the outermost transparent layer of the two or more transparent layers. When the transparent layer containing fine particles is arranged at the above position, it becomes possible to impart slipperiness by adding a small amount of fine particles, and the anti-blocking effect due to slipperiness is manifested, thereby stabilizing the quality. And it is preferable because it leads to an improvement in yield.
In addition, in the one-color coating machine, it is essential to include fine particles in the first layer for imparting slipperiness, whereas the multi-color continuous coating machine used in the present invention has no limitation. .
前記端部が隆起した部位の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４）（測定範囲：０．１２ｍｍ×０．１２ｍｍ）が、前記二以上の透明層の最表面が隆起した部位の算術平均粗さＲａよりも大きいことが好ましい。また。算術平均粗さＲａは、２．０〜２０．０ｎｍであることが好ましく、５．０〜１６．０ｎｍがより好ましく、さらに好ましくは８．０〜１２．０ｎｍである。算術平均粗さＲａが、上記の範囲であれば、滑り性がフィルム面の端部でより強く発現するため、本発明に用いたロールツーロール方式による製造方法においては、貼り付き防止の観点からより好ましい。 Arithmetic mean roughness Ra (JIS B0601-1994) (measurement range: 0.12 mm × 0.12 mm) of the portion where the end is raised is the arithmetic mean roughness of the portion where the outermost surface of the two or more transparent layers is raised It is preferable that it is larger than Ra. Also. The arithmetic average roughness Ra is preferably 2.0 to 20.0 nm, more preferably 5.0 to 16.0 nm, and still more preferably 8.0 to 12.0 nm. If the arithmetic average roughness Ra is in the above range, the slipperiness is more strongly expressed at the end of the film surface. Therefore, in the production method using the roll-to-roll method used in the present invention, from the viewpoint of preventing sticking. More preferred.
端部以外の表面の隆起した部位の算術平均粗さＲａ（測定範囲：５μｍ×５μｍ）が、０．５〜５．０ｎｍであることが好ましく、０．５〜４．０ｎｍがより好ましく、さらに好ましくは０．５〜３．０ｎｍである。この範囲であれば、光学特性が維持されるため好ましい。 Arithmetic mean roughness Ra (measurement range: 5 μm × 5 μm) of the raised portion of the surface other than the end is preferably 0.5 to 5.0 nm, more preferably 0.5 to 4.0 nm, and further Preferably it is 0.5-3.0 nm. If it is this range, since an optical characteristic is maintained, it is preferable.
前記二以上の透明層は、屈折率が１．５０〜１．６０、厚みが０．５〜１０μｍの範囲にあるハードコート層、前記微粒子を含み屈折率が１．６０〜１．７５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある高屈折率層、及び屈折率が１．４０〜１．５５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある低屈折率層を前記透明基材フィルム側からこの順形成させることが好ましい。 The two or more transparent layers have a refractive index of 1.50 to 1.60, a hard coat layer having a thickness in the range of 0.5 to 10 μm, a refractive index of 1.60 to 1.75 including the fine particles, and a thickness. Is formed in this order from the transparent substrate film side, a high refractive index layer having a thickness of 10 to 100 nm, and a low refractive index layer having a refractive index of 1.40 to 1.55 and a thickness of 10 to 100 nm. It is preferable.
さらに、前記低屈折率層の上に、透明導電層を形成した場合、当該透明導電層の屈 折
率が１．７〜３．０、厚みが１５〜３５ｎｍの範囲にあることが好ましい。
Furthermore, when a transparent conductive layer is formed on the low refractive index layer, the refractive index of the transparent conductive layer is preferably in the range of 1.7 to 3.0 and the thickness is in the range of 15 to 35 nm.
［機能性フィルム］
本発明の機能性フィルムは、透明基材フィルム上に二以上の透明層を有し、当該二以上の透明層の少なくとも一つの透明層が微粒子を含み、当該透明層以外の透明層が、前記微粒子を含む透明層の領域の少なくとも端部を除く内側の領域に配置していることを特徴とする機能性フィルムである。
[Functional film]
The functional film of the present invention has two or more transparent layers on a transparent substrate film, at least one transparent layer of the two or more transparent layers contains fine particles, and the transparent layers other than the transparent layer are The functional film is arranged in an inner region excluding at least an end portion of a region of the transparent layer containing fine particles.
前記二以上の透明層が、好ましくは、前記透明基材フィルム側から順に、屈折率が１．５０〜１．６０、厚みが０．５〜１０μｍの範囲にあるハードコート層、前記微粒子を含み屈折率が１．６０〜１．７５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある高屈折率層、及び屈折率が１．４０〜１．５５、厚みが１０〜１００ｎｍの範囲にある低屈折率層からなる。
前記低屈折率層の上に、さらに透明導電層がなり、好ましくは、当該透明導電層の屈折率が１．７〜３．０、厚みが１５〜３５ｎｍである。
The two or more transparent layers preferably include a hard coat layer having a refractive index of 1.50 to 1.60 and a thickness of 0.5 to 10 μm in order from the transparent base film side, and the fine particles. High refractive index layer having a refractive index of 1.60 to 1.75 and a thickness of 10 to 100 nm, and low refractive index layer having a refractive index of 1.40 to 1.55 and a thickness of 10 to 100 nm Consists of.
A transparent conductive layer is further formed on the low refractive index layer. Preferably, the transparent conductive layer has a refractive index of 1.7 to 3.0 and a thickness of 15 to 35 nm.
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、この例によって何ら限定されるものではない。なお、文中、「部」又は「％」とあるのは特に断りのない限り、質量基準である。 EXAMPLES Next, although an Example demonstrates this invention further in detail, this invention is not limited at all by this example. In the text, “part” or “%” is based on mass unless otherwise specified.
実施例及び比較例で得られた機能性フィルムについて、下記の項目を評価した。
（表面形状）
非接触表面形状測定機（Ｚｙｇｏ社製、商品名Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ ６３００）で測定した表面形状のデータを元に、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて、機能性フィルムを構成する高屈折率層及び低屈折率層の表面形状（Ｒａ）を算出した。測定範囲は０．１２ｍｍ×０．１２ｍｍとし、１０箇所の測定値の平均値をＲａとした。
The following items were evaluated for the functional films obtained in Examples and Comparative Examples.
(Surface shape)
A high refractive index layer and a low refractive index constituting a functional film according to JIS B0601: 1994, based on surface shape data measured with a non-contact surface shape measuring instrument (trade name New View 6300, manufactured by Zygo). The surface shape (Ra) of the layer was calculated. The measurement range was 0.12 mm × 0.12 mm, and the average value of 10 measurement values was Ra.
（耐ブロッキング性）
実施例及び比較例で得られた機能性フィルムを、少なくとも両端部を含むように５０ｍｍ×５０ｍｍの大きさに２枚分カットした。カットした２枚の機能性フィルムの最表面（低屈折率層側）同士を対向するようにして重ね合わせ、圧力５．０ｋｇｆ／ｃｍ2、５０℃の条件で３０時間密着させた後、以下の基準で評価した。
○：貼り付きなし
×：貼り付きあり
(Blocking resistance)
Two functional films obtained in Examples and Comparative Examples were cut into a size of 50 mm × 50 mm so as to include at least both ends. After superposing the outermost surfaces (low refractive index layer side) of the two cut functional films so as to face each other and adhering them for 30 hours under the conditions of pressure 5.0 kgf / cm 2 and 50 ° C., the following Evaluated by criteria.
○: Without sticking ×: With sticking
（実施例１）
３台のユニットを有する多色式連続塗工機用い、巻き出しロールから透明基材フィルム（東洋紡績株式会社製、商品名：Ａ４３００、厚み：１００μｍ、ロール幅：１４５０ｍｍ、両面にプライマ−層あり）を第１のユニットの塗工部に送り出し、まず、下記ハードコート層用組成物（１）を塗工し、乾燥部で温度７０℃、６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、硬化部で紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、ハードコート層（厚み：２．０μｍ、塗工幅：１４３０ｍｍ）を形成した。続いて、前記ハードコート層を形成した面に、連接する第２のユニットの塗工部で、下記微粒子を含む透明層（高屈折率層）用組成物（２）を、他の透明層の塗工領域が当該微粒子を含む層の少なくとも端部を除く内側の領域に配置されるように塗工し（端部の幅：５ｍｍ）、乾燥部で温度７０℃、６０秒間乾燥させた後、硬化部で紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、透明層（厚み：５０ｎｍ、塗工幅：１４４０ｍｍ）を形成（プライマー層を除き第２層目と称する）し、連接する第３のユニットの塗工部で、下記透明層（低屈折率層）用組成物（３）を塗工し、乾燥部で温度７０℃、６０秒間乾燥し、塗膜中の溶剤を蒸発させ、硬化部で紫外線を積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ2になるように照射して塗膜を硬化させることにより、透明層（厚み：３０ｎｍ、塗工幅：１４３０ｍｍ）を形成（プライマー層を除き第３層目と称する）し、連続成膜した機能性フィルムとし、それらを巻き取ることにより機能性フィルムからなる巻き取りロールとした。端部及び端部以外の表面のＲａ（測定範囲：０．１２ｍｍ×０．１２ｍｍ）、また、貼り付き防止性についての評価結果を表１に示す。
図４は、本発明の実施例における、端部及び端部以外の表面に隆起した部位の断面の一例を示す模式図であり、（ａ）が微粒子を含む高屈折率透明層の端部表面、（ｂ）が端部以外の、微粒子を含まない透明層（低屈折率透明層）の表面、に隆起した部位の断面の模式図である。
Example 1
Using a multi-color continuous coating machine having three units, from the unwinding roll to a transparent substrate film (product name: A4300, thickness: 100 μm, roll width: 1450 mm, primer layer on both sides) ) To the coating unit of the first unit, first, the following composition for hard coat layer (1) is applied, dried in a drying unit at a temperature of 70 ° C. for 60 seconds to evaporate the solvent in the coating film. The hard coating layer (thickness: 2.0 μm, coating width: 1430 mm) was formed by curing the coating film by irradiating the cured part with ultraviolet rays so that the integrated light amount was 150 mJ / cm 2 . Subsequently, a composition (2) for transparent layer (high refractive index layer) containing the following fine particles is applied to the surface of the second unit connected to the surface on which the hard coat layer is formed. After coating so that the coating region is disposed in the inner region excluding at least the end of the layer containing the fine particles (width of the end: 5 mm), drying at a temperature of 70 ° C. for 60 seconds in the drying unit, A transparent layer (thickness: 50 nm, coating width: 1440 mm) is formed by irradiating the cured part with ultraviolet rays so that the integrated light quantity becomes 150 mJ / cm 2 to form a transparent layer (thickness: 50 nm, coating width: 1440 mm). The composition for the transparent layer (low refractive index layer) (3) is applied at the coating part of the third unit that is connected, and dried at a temperature of 70 ° C. for 60 seconds in the drying part. The solvent in the coating film is evaporated, and the amount of UV light is 150 mJ / cm 2 in the cured part. In this way, a transparent layer (thickness: 30 nm, coating width: 1430 mm) is formed by curing the coating film (referred to as the third layer except for the primer layer), and a functional film is formed continuously. And, it was set as the winding roll which consists of a functional film by winding them up. Table 1 shows the results of evaluation of Ra (measurement range: 0.12 mm × 0.12 mm) of the end portion and the surface other than the end portion, and the anti-sticking property.
FIG. 4 is a schematic view showing an example of a cross section of an end portion and a portion raised on the surface other than the end portion in the embodiment of the present invention, and (a) is an end surface of the high refractive index transparent layer containing fine particles. (B) is the schematic diagram of the cross section of the site | part which protruded on the surface of the transparent layer (low refractive index transparent layer) which does not contain microparticles | fine-particles other than an edge part.
＜ハードコート層用組成物（１）＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ５０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・光重合開始剤 ２部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１８４）
・シリコーン系レベリング剤 ０．１部
（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８、固形分１０％）
・メチルイソブチルケトン ６０部
・シクロヘキサノン １５部
<Composition for hard coat layer (1)>
・ 50 parts of pentaerythritol triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD-PET-30)
-Photopolymerization initiator 2 parts (BASF, Irgacure 184)
-Silicone leveling agent 0.1 part (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam 10-28, solid content 10%)
・ Methyl isobutyl ketone 60 parts ・ Cyclohexanone 15 parts
＜透明層（高屈折率層）用組成物（２）＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート １０部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・光重合開始剤 ０．７部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．３部
（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８、固形分１０％）
・微粒子 １．０部
（平均粒子径１５０ｎｍの凝集体、固形分３０％）
（ＣＩＫナノテック社製、ＳＩＲＭＩＢＫ−Ｈ８４）
（凝集体を構成する微粒子の平均一次粒子径３０ｎｍ、凝集体の平均粒子径は１５０nm）
・高屈折率粒子（酸化ジルコニウム） ５０部
（住友大阪セメント社製、ＭＺ−２３０Ｘ、固形分３２．５％）
（平均粒子径：２５ｎｍ）
・メチルイソブチルケトン ５００部
・シクロヘキサノン ２５０部
・メチルエチルケトン ５００部
<Composition (2) for transparent layer (high refractive index layer)>
Pentaerythritol triacrylate 10 parts (Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD-PET-30)
-0.7 parts of photopolymerization initiator (BASF, Irgacure 127)
・ 0.3 parts of silicone leveling agent (Daiichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam 10-28, solid content 10%)
・ 1.0 parts of fine particles (aggregates with an average particle diameter of 150 nm, solid content of 30%)
(CIR Nanotech, SIRMIBK-H84)
(The average primary particle diameter of the fine particles constituting the aggregate is 30 nm, and the average particle diameter of the aggregate is 150 nm)
・ High refractive index particles (zirconium oxide) 50 parts (manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd., MZ-230X, solid content 32.5%)
(Average particle size: 25 nm)
・ Methyl isobutyl ketone 500 parts ・ Cyclohexanone 250 parts ・ Methyl ethyl ketone 500 parts
＜透明層（低屈折率層）用組成物（３）＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート ５部
（日本化薬社製、ＫＡＹＡＲＡＤ−ＰＥＴ−３０）
・光重合開始剤 １部
（ＢＡＳＦ社製、イルガキュア１２７）
・シリコーン系レベリング剤 ０．２部
（大日精化工業社製、セイカビーム１０−２８、固形分１０％）
・低屈折率粒子 １７部
（日産化学工業社製、ＭＩＢＫ−ＳＴ、固形分３０％）
（平均粒子径１０〜１５ｎｍ）
・メチルイソブチルケトン １０００部
・シクロヘキサノン ２５０部
<Composition (3) for transparent layer (low refractive index layer)>
Pentaerythritol triacrylate 5 parts (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., KAYARAD-PET-30)
-Photopolymerization initiator 1 part (BASF, Irgacure 127)
-Silicone leveling agent 0.2 parts (manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd., Seika Beam 10-28, solid content 10%)
・ 17 parts of low refractive index particles (manufactured by Nissan Chemical Industries, MIBK-ST, solid content 30%)
(Average particle size 10-15 nm)
・ Methyl isobutyl ketone 1000 parts ・ Cyclohexanone 250 parts
（実施例２〜４）
実施例１において、端部の幅を１、１０、５０ｍｍに代えた以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムを作製した。端部及び端部以外の表面のＲａ、また、貼り付き防止性についての評価結果を表１に示す。
(Examples 2 to 4)
In Example 1, a functional film was produced in the same manner as in Example 1 except that the width of the end was changed to 1, 10, and 50 mm. Table 1 shows the results of evaluation of Ra on the end portion and the surface other than the end portion, and the anti-sticking property.
（比較例１）
実施例１において、端部を設けない以外は、実施例１と同様にして機能性フィルムを作製した。表面のＲａ（測定範囲：０．１２ｍｍ×０．１２ｍｍ）、また、貼り付き防止性についての評価結果を表１に示す。
(Comparative Example 1)
In Example 1, a functional film was produced in the same manner as in Example 1 except that no end was provided. Table 1 shows the results of evaluation of Ra on the surface (measurement range: 0.12 mm × 0.12 mm) and anti-sticking property.
表１より、本発明の実施例１〜４の機能性フィルムは、端部のない比較例１に比べ、貼り付き防止性が良好で、ブロッキング防止効果を奏することが分かった。 From Table 1, it turned out that the functional film of Examples 1-4 of this invention has a sticking prevention property favorable compared with the comparative example 1 without an edge part, and there exists an antiblocking effect.
本発明の機能性フィルムは、静電容量式タッチパネルの品質の優れた構成部材として好適に使用することができる。 The functional film of this invention can be used conveniently as a structural member excellent in the quality of the capacitive touch panel.
１：透明基材フィルム
２，２ａ，２ｂ：プライマー層
３，３ａ，３ｂ：ハードコート層
４，４ａ，４ｂ：透明層（高屈折率層）
５，５ａ，５ｂ：透明層（低屈折率層）
６，６ａ，６ｂ：導電層
１０，２０：機能性フィルム
１１：微粒子により隆起した部位（端部）
１２：微粒子により隆起した部位（端部以外）
３０：多色インライン型塗膜形成装置
３１ａ：第１のユニット，３１ｂ：第２のユニット，３１ｃ：第３のユニット
３２：巻き出しローラー
３３ａ：第１の塗工部，３３ｂ：第２の塗工部，３３ｃ：第３の塗工部
３４ａ：第１の乾燥部，３４ｂ：第２の乾燥部，３４ｃ：第３の乾燥部
３５ａ：第１の硬化部，３５ｂ：第２の硬化部，３５ｃ：第３の硬化部
３６：巻き取りローラー
４１ａ：透明基材フィルム
４１ｂ：ロール状光機能性フィルム
４３：第１層目の透明層
４４：第２層目の透明層（微粒子を含む透明層）
４５：第３層目の透明層
４６ａ，４６ｂ：微粒子を含む透明層の端部の塗工領域（幅）
４６ｃ：微粒子を含む透明層の端部以外の塗工領域（幅）
４７：ロール芯部
1: Transparent base film 2, 2a, 2b: Primer layer 3, 3a, 3b: Hard coat layer 4, 4a, 4b: Transparent layer (high refractive index layer)
5, 5a, 5b: Transparent layer (low refractive index layer)
6, 6a, 6b: Conductive layer 10, 20: Functional film 11: Site raised by fine particles (end)
12: Site raised by fine particles (other than end)
30: Multicolor inline type coating film forming apparatus 31a: first unit, 31b: second unit, 31c: third unit 32: unwinding roller 33a: first coating part, 33b: second coating Construction part, 33c: third coating part 34a: first drying part, 34b: second drying part, 34c: third drying part 35a: first curing part, 35b: second curing part, 35c: third curing unit 36: take-up roller 41a: transparent base film 41b: roll-shaped optical functional film 43: first transparent layer 44: second transparent layer (transparent layer containing fine particles) )
45: Third transparent layer 46a, 46b: coating area (width) at end of transparent layer containing fine particles
46c: Coating area (width) other than the edge of the transparent layer containing fine particles
47: Roll core
Claims (19)
前記二以上の透明層の少なくとも一つの透明層を、微粒子を含む組成物を用い形成する工程、当該透明層以外の透明層を、前記微粒子を含む透明層の塗工領域の少なくとも端部を除く内側の領域に配置するように形成する工程を含み、前記二以上の透明層の最表面が隆起した部位を有し、当該部位の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４）が、０．５〜５．０ｎｍであり、前記端部が隆起した部位を有し、当該部位の算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４）が、８．０ｎｍ以上である、ことを特徴とする機能性フィルムの製造方法。 A method for producing a functional film, in which two or more transparent layers are successively formed in order from the transparent substrate film side on at least one surface of the transparent substrate film,
Forming at least one transparent layer of the two or more transparent layers using a composition containing fine particles, and removing a transparent layer other than the transparent layer from at least an end of a coating region of the transparent layer containing fine particles Including a step of forming the two or more transparent layers so that the outermost surfaces of the two or more transparent layers are raised, and an arithmetic average roughness Ra (JIS B0601-1994) of the portion is 0.5. The functional film is characterized by having a portion where the end is raised, and the arithmetic average roughness Ra (JIS B0601-1994) of the portion is 8.0 nm or more . Production method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013239397A JP6303429B2 (en) | 2013-11-19 | 2013-11-19 | Method for producing functional film and functional film |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013239397A JP6303429B2 (en) | 2013-11-19 | 2013-11-19 | Method for producing functional film and functional film |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2015098139A JP2015098139A (en) | 2015-05-28 |
| JP6303429B2 true JP6303429B2 (en) | 2018-04-04 |
Family
ID=53375109
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013239397A Active JP6303429B2 (en) | 2013-11-19 | 2013-11-19 | Method for producing functional film and functional film |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6303429B2 (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6892751B2 (en) * | 2016-11-28 | 2021-06-23 | 日東電工株式会社 | Double-sided conductive film |
| JP7400263B2 (en) * | 2018-08-23 | 2023-12-19 | 東レ株式会社 | Film and film manufacturing method |
| KR20230031811A (en) * | 2020-07-03 | 2023-03-07 | 도요보 가부시키가이샤 | Resin film and its manufacturing method |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5412321B2 (en) * | 2010-02-25 | 2014-02-12 | 藤森工業株式会社 | Release film with excellent transparency |
| JP2011218618A (en) * | 2010-04-07 | 2011-11-04 | Toppan Printing Co Ltd | Hard coat film, and manufacturing method of the same |
| JP2011248198A (en) * | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Toppan Printing Co Ltd | Optical film and method for manufacturing the same |
| JP5911317B2 (en) * | 2012-01-31 | 2016-04-27 | 東レ株式会社 | Method for producing laminated film |
| JP6048506B2 (en) * | 2012-09-20 | 2016-12-21 | コニカミノルタ株式会社 | Optical film |
-
2013
- 2013-11-19 JP JP2013239397A patent/JP6303429B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2015098139A (en) | 2015-05-28 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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