JP6132898B2 - 複合材料及び発光素子 - Google Patents
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Description
。また、当該複合材料を用いた発光素子、発光装置、照明装置及び電子機器に関する。ま
た、当該複合材料に用いることが好適なフルオレン誘導体に関する。
置として有機化合物を発光物質とする発光素子(有機EL素子)を用いた発光装置の開発
が加速している。
することにより、電極から注入された電子およびホールが再結合して発光物質が励起状態
となり、その励起状態が基底状態に戻る際に発光する。発光物質が発する光の波長はその
発光物質特有のものであり、異なる種類の有機化合物を発光物質として用いることによっ
て、様々な波長すなわち様々な色の発光を呈する発光素子を得ることができる。
映像を再現するためには、少なくとも赤、緑、青の3色の光を得ることが必要になる。ま
た、照明装置として用いる場合は、高い演色性を得るために、可視光領域において満遍な
く波長成分を有する光を得ることが理想的であり、現実的には、異なる波長の光を2種類
以上合成することによって得られる光が照明用途として用いられることが多い。なお、赤
と緑と青の3色の光を合成することによって、高い演色性を有する白色光を得ることがで
きることが知られている。
良好な発光素子は、その他の素子と比較して同じ輝度を得るために要するエネルギーが小
さくて済む。このため、省エネルギー性能に優れた発光装置を提供することが可能となる
。エネルギー問題に敏感な昨今、発光効率の向上は非常に大きな課題である。
げられる。駆動電圧が低くなると、低い電圧でより大きな電流を流すことができるように
なることから、消費電力が低減し、電力効率が向上する。このため、駆動電圧の低減を目
的として、これまでにも多くの研究がなされてきている(例えば非特許文献1参照)。
、商品としての信用にかかわる特性がある。寿命(信頼性)は商品化にあたり当然に要求
される特性の一つであり、また、ある一定以上の特性を有する場合は大きなセールスポイ
ントとなりうるものである。すなわち、寿命(信頼性)は良好であればあるほど好ましい
。このため、様々な方法によって発光素子の寿命(信頼性)を向上させる研究がなされて
いる(例えば特許文献1参照)。
効率)を向上させることが挙げられる。上述したように発光効率は良好であればあるほど
好ましい。有機EL素子の輝度は電流に比例することから、低い電圧でより大きな電流を
流すことができる(駆動電圧の小さい)発光素子において、単位電流密度あたりの輝度(
電流効率)を向上させることができれば非常に良好な電流効率を有する発光素子を得るこ
とができる。
提供することが可能となる複合材料を提供することを課題とする。
良好な発光素子を提供することが可能となる複合材料を提供することを課題とする。
。
素子を提供することが可能となる複合材料を提供することを課題とする。
頼性)が良好な発光素子を提供することが可能となる複合材料を提供することを課題とす
る。
好で且つ寿命(信頼性)が良好な発光素子を提供することが可能となる複合材料を提供す
ることを課題とする。
題とする。
ことを課題とする。
光素子を提供することを課題とする。
とする。
とする。
とする。
を課題とする。
2000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合
物を含有する複合材料が上記課題を解決できることを見出した。そして、当該複合材料を
用いることで発光効率の高い発光素子を提供することができた。また、駆動時間に対する
発光効率の低下が小さい、寿命の長い発光素子を作製することができた。
量が400以上2000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性
を示す無機化合物を含有する複合材料である。
格が嵩高い構造をしていることから、当該複合材料からなる膜の質が良好であり、寿命の
長い発光素子を作製することが可能となる。
ことから、それに結合するアリール基を適切に選ぶことで、可視光領域での光の吸収が小
さく、透光性の高い複合材料を得ることができる。具体的なアリール基の選択方法として
はそれらアリール基自身の光の吸収が小さいものを選ぶ。このことから、当該複合材料を
用いることによって発光効率の高い発光素子を作製することが可能となる。また、当該炭
化水素化合物は、炭化水素のみで構成されるため、(アミンなど電子供与基を介してアリ
ール同士が結合するよりも)フルオレンとその置換基間で共役が広がりづらく、広いエネ
ルギーギャップを保持したまま適度に分子量の大きい炭化水素化合物を得ることができる
。これにより、熱的に安定な炭化水素化合物を得ることができる。またこれにより、当該
炭化水素化合物を蒸着する際に、蒸着レートの制御がしやすく、安定した品質の発光素子
を提供することが可能となる。また、本発明の複合材料は、炭化水素化合物と、当該炭化
水素化合物より蒸着温度の高い無機化合物との共蒸着により作製する。本発明の複合材料
は、炭化水素化合物がフルオレン骨格を有することにより、エネルギーギャップの低下を
抑制しつつ、分子量を適度に大きくすることができ、当該無機化合物の蒸着温度により近
い温度で共蒸着を行うことが可能となる。また、当該炭化水素化合物は、炭化水素のみで
構成されるため、極性が大きくなりづらく、複合材料としたときにも新たに吸収が発生し
づらい。そのため、より透光性の高い複合材料とすることができる。
ャリアバランスの良い、発光効率の良好な素子を作製することができる。
、より好ましくは1200以下が好ましい。
てアリール基が結合し且つ分子量が400以上2000以下である炭化水素化合物と、当
該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を含有する複合材料である。
結合している炭化水素化合物を用いることが特徴である。これにより、当該炭化水素化合
物はアリール基からフルオレン骨格への共役の広がりを押さえ、さらに有効にエネルギー
ギャップの低下を抑制することができ、エネルギーギャップの大きい炭化水素化合物とす
ることができる。これにより、当該炭化水素化合物を含む複合材料は、可視光領域での光
の吸収が少ない、より透光性の高い複合材料とすることができる。
00以上2000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す
無機化合物を含有する複合材料である。
無置換のビフェニルジイル基を表し、nは0又は1の値をとる。また、Ar1及びAr2
は置換又は無置換のアリール基を表す。また、R11乃至R18はそれぞれ独立に水素、
炭素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフ
ェニル基、置換または無置換のナフチル基及び置換または無置換のフェナントリル基のい
ずれかを表す。
て2環以上4環以下の縮合環が結合し、分子量が400以上2000以下である炭化水素
化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を含有する複合材料である
。
はフルオレンの9位のシグマ結合を介して結合している。そのため、これらアリール間で
共役が広がりづらく、広いバンドギャップを有したまま、バルキーな構造とすることがで
きる。そのため、透光性の高い材料でありながら、結晶化しづらい材料とすることができ
る。
とで、電子又は正孔の輸送性と、当該複合材料よりなる膜の透光性とのバランスの良い発
光素子用の材料として好適な材料とすることができる。
00以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を
含有する複合材料である。
無置換のビフェニルジイル基を表し、nは0又は1の値をとる。また、Ar1は置換又は
無置換の2環以上4環以下の環が縮合したアリール基のいずれかを表し、Ar2は置換又
は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表す。また、R11乃至R18は
それぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置
換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチル基及び置換または無置換の
フェナントリル基のいずれかを表す。
とで、電子又は正孔の輸送性と、当該複合材料よりなる膜の透光性とのバランスの良い発
光素子用の材料として好適な材料とすることができる。
00以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を
含有する複合材料である。
ル基を表す。また、Ar1は置換又は無置換の2環以上4環以下の環が縮合したアリール
基のいずれかを表し、Ar3は置換又は無置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェ
ニル基を表す。また、R11乃至R18はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキ
ル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無
置換のナフチル基及び置換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。
ギーギャップが広いことから、透光性の高い複合材料とすることが可能となる。
水素、炭素数1乃至6のアルキル基及び下記構造式で表される基のいずれかである複合材
料である。
置換基の無いものの方は、合成が簡略となり、合成の観点からは好ましい。
以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を含有
する複合材料である。
ル基を表す。また、Ar1は置換又は無置換の2環以上4環以下の環が縮合したアリール
基のいずれかを表し、Ar3は置換又は無置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェ
ニル基を表す。
料を得ることができる。
は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリ
ル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無
置換のクリセニル基及び置換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一である複合材料
である。
アリール基の結合手が水素でと結合した物質(Ar1−H)が、その吸収スペクトルにお
いて、450nm以上800nm以下の範囲にピークがない物質である複合材料である。
透光性の高い複合材料を得ることができる。
無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル
基及び置換又は無置換のトリフェニレニル基から選ばれる一である複合材料である。
形成したことによる可視光領域への新たな吸収が発生しにくく、可視光の透過率が高い複
合材料とすることができる。
は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置換のテトラセニル
基及び置換又は無置換のトリフェニレニル基から選ばれる一である複合材料である。
が可能である。
基、ナフチル基、フェナントリル基及び下記一般式(Ar1−1)で表される基のいずれ
かである複合材料である。
無置換のビフェニルジイル基を表し、mは0又は1の値をとる。また、Ar4は置換又は
無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表し、R41乃至R48はそれぞれ
独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基及び
フェナントリル基のいずれかを表す。
以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を含有
する複合材料である。
ル基を表す。また、R1乃至R9はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、
フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基及び下記一般式(Ar1−2
)で表される基のいずれかを表す。
ル基を表す。
00以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を
含有する複合材料である。
独立に下記構造式(α−1)乃至(α−6)のいずれかである複合材料である。
量が400以上2000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性
を示す無機化合物を含有し、アリール基がフルオレンの2位又はフルオレンの2位および
7位に結合している複合材料である。
ニル基、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換
のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル
基、置換又は無置換のクリセニル基及び置換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一
である複合材料である。
レン基を介してフルオレンに結合している複合材料である。
00以下である炭化水素化合物と、前記炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を
含有する複合材料である。
、Ar6は水素または置換又は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表し
、α6及びα7はそれぞれ独立に置換又は無置換のフェニレン基又はビフェニルジイル基
を表す。j及びkはそれぞれ独立に0又は1の値をとる。また、R21乃至R28はそれ
ぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換ま
たは無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチル基及び置換または無置換のフェ
ナントリル基のいずれかを表す。
000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物
を含有する複合材料である。
、Ar6は水素または置換又は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表し
、α6及びα7はそれぞれ独立に置換又は無置換のフェニレン基又はビフェニルジイル基
を表す。j及びkはそれぞれ独立に0又は1の値をとる。また、R23乃至R28及びR
31乃至R38はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換
のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチル基及び置
換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。
大きいため、熱物性が優れており好ましい。
00以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物を
含有する複合材料である。
、Ar6は水素または置換又は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表す
。また、R21乃至R28はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、置換ま
たは無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチ
ル基及び置換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。
000以下である炭化水素化合物と、当該炭化水素化合物に電子受容性を示す無機化合物
を含有する複合材料である。
、Ar6は水素または置換又は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいずれかを表す
。また、R23乃至R28及びR31乃至R38はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6
のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換
または無置換のナフチル基及び置換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。
素化合物は、それらアリール基の共役がフルオレン骨格を介して広がりづらく、エネルギ
ーギャップを高く保つことができる(2位のみにアリール基がある場合と比較しても吸収
スペクトルが大きく長波長シフトしづらい)。アリール基が2つ以上付くことで、よりバ
ルキーな構造とすることができるため、エネルギーギャップが高く透光性の高い材料であ
りながら、結晶化しづらい材料とすることができる。
基、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフ
ェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、
置換又は無置換のクリセニル基及び置換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一であ
り、Ar6は水素または置換又は無置換のフェニル基、置換又は無置換のナフチル基、置
換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のト
リフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基及び置
換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一である複合材料である。
化合物が遷移金属の酸化物である複合材料である。
無機化合物がチタン酸化物、バナジウム酸化物、タンタル酸化物、モリブデン酸化物、タ
ングステン酸化物、レニウム酸化物、ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸
化物、ハフニウム酸化物、銀酸化物から選ばれる一種又は複数種である複合材料である。
無機化合物がモリブデン酸化物である複合材料である。
合物を含む層は、少なくとも発光中心物質を含む層と、上記構成を有する複合材料を含む
層とを有する発光素子である。
注入性を有することから、駆動電圧の小さい発光素子とすることができる。また、当該複
合材料を含む膜は膜質が良好であるため、信頼性の高い発光素子とすることができる。ま
た、当該複合材料を用いた発光素子はキャリアバランスが良好であるため、発光効率の高
い発光素子とすることができる。また、当該複合材料は透光性の高い材料であるため、当
該複合材料を使用したことによる発光効率の低下が少なく、発光効率の高い発光素子とす
ることができる。
うち陽極として機能する電極と接して設けられた発光素子である。
から、駆動電圧の小さい発光素子とすることができる。また、当該複合材料を含む膜は膜
質が良好であるため、信頼性の高い発光素子とすることができる。また、当該複合材料を
用いた発光素子はキャリアバランスが良好であるため、発光効率の高い発光素子とするこ
とができる。また、当該複合材料は透光性の高い材料であるため、当該複合材料を使用し
たことによる発光効率の低下が少なく、発光効率の高い発光素子とすることができる。さ
らに、当該複合材料はその膜厚を厚く形成しても駆動電圧の上昇が起きにくいことから、
陽極上に厚く形成することによって陽極が有する凹凸が原因で起こるショートなどの不良
の発生を抑制することもでき、信頼性の高い発光素子を提供することが可能となる。
合物を含む層は、複数の発光ユニットと、上記構成を有する複合材料を含む層とを有し、
複数の発光ユニットは各々発光中心物質を含む層を有し、前記発光ユニット間に当該複合
材料を含む層を有する発光素子である。
ため、駆動電圧の小さい発光素子とすることができる。また、当該複合材料を含む膜は膜
質が良好であるため、信頼性の高い発光素子とすることができる。また、当該複合材料を
用いた発光素子はキャリアバランスが良好であるため、発光効率の高い発光素子とするこ
とができる。また、当該複合材料は透光性の高い材料であるため、当該複合材料を使用し
たことによる発光効率の低下が少なく、発光効率の高い発光素子とすることができる。
の高い発光装置とすることが可能である。
。
の高い電子機器とすることが可能である。
の高い照明装置とすることが可能である。
に用いることができる。また、発光素子のキャリア輸送層、発光層(ホスト材料及び発光
中心材料)としても好適である。特に、青色の蛍光など可視光領域における短波長領域に
スペクトルを有する発光中心材料を分散するホスト材料として用いた場合、色純度の高い
発光を得ることができる。
作製することが可能となる複合材料である。また、信頼性の高い発光素子を提供すること
が可能となる複合材料である。また、発光効率が良好で且つ信頼性の高い発光素子を提供
することが可能な複合材料である。また、上記構成を有する発光素子は発光効率の高い発
光素子である。また、信頼性の高い発光素子である。また、発光効率が良好で且つ信頼性
の高い発光素子である。
高い発光装置である。また、発光効率が良好で且つ信頼性の高い発光装置である。
高い電子機器である。また、発光効率が良好で且つ信頼性の高い電子機器である。
高い照明装置である。また、発光効率が良好で且つ信頼性の高い照明装置である。
施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び
詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態
の記載内容に限定して解釈されるものではない。
ある種の有機化合物と当該有機化合物に電子受容性を示す無機化合物とを含む複合材料
を陽極に接して設けた発光素子は、当該有機化合物のみを同様の位置に設けた発光素子と
比較して、大きく低電圧化されることが知られている(特許文献1参照)。これは、複合
材料が当該有機化合物のみと比較してキャリア注入性及びキャリア輸送性に優れることに
よる結果である。当該複合材料は、また、無機化合物を含むことによって結晶化が抑制さ
れ、有機化合物単体を用いた場合と比較して、信頼性が向上することも報告されている。
さらに、当該複合材料はその膜厚を厚く形成しても駆動電圧の上昇が起きにくいことから
、陽極上に厚く形成することによって陽極が有する凹凸が原因で起こるショートなどの不
良の発生を抑制することもできる。
1または複数結合している炭化水素化合物を用いることによって、従来の複合材料を用い
た発光素子と比較して良好な発光効率を有する発光素子を作製することができた。また、
寿命の長い発光素子も作製することができた。なお、フルオレンにアリール基が1または
複数結合している炭化水素化合物としては、分子量が400以上2000以下のものが蒸
着しやすく好適に使用できる。また、アリール基はアリーレン基を介してフルオレンに結
合していても良い。
る複合材料は、当該フルオレン骨格が嵩高い構造をしていることから、当該複合材料から
なる膜質が良好であり、これを用いた発光素子は寿命の長い発光素子とすることが可能と
なる。
収が小さく、透光性の高い複合材料を得ることができる。このことから、当該複合材料を
用いることによって発光効率の高い発光素子を作製することが可能となる。また、フルオ
レンがある程度の分子量を有しながらもエネルギーギャップが大きいことから、フルオレ
ン骨格を有する炭化水素化合物は、HOMO準位とLUMO準位間のエネルギーギャップ
を高く保ったまま、適度に分子量の大きい炭化水素化合物とすることができる。適度な分
子量を有する炭化水素化合物は、蒸着する際に蒸着レートの制御がしやすく、安定した品
質の発光素子を提供することが可能となる。また、本発明の複合材料は、炭化水素化合物
と、当該炭化水素化合物より蒸着温度の高い無機化合物との共蒸着により作製する。本発
明の複合材料は、炭化水素化合物がフルオレン骨格を有することにより、エネルギーギャ
ップの低下を抑制しつつ、分子量を適度に大きくすることができ、当該無機化合物の蒸着
温度により近い温度で共蒸着を行うことが可能となる。これらのことから、本実施の形態
に置ける複合材料を用いた発光素子は信頼性の高い発光素子とすることが可能となる。
ャリアバランスの良い、発光効率の良好な素子を作製することができる。
及び7位に結合することが好ましい。フルオレン骨格は当該アリール基以外に置換基を有
していても良く、当該置換基としては、炭素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換
のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチル基及び置
換または無置換のフェナントリル基を挙げることができる。また、これら置換基がさらに
置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナ
フチル基、フェナントリル基などを適用することができる。
であっても良いが、環を構成する炭素数が炭素数6乃至18のアリール基が適当である。
なお、縮合する環の数が多いアリール基はキャリアの輸送性に優れ、縮合する環の数が小
さいアリール基は複合材料とした際に透光性に優れる。このため、キャリアの輸送性と、
複合材料の膜の透光性とのバランスを考慮すると、当該アリール基は2環以上4環以下の
縮合環であることが好ましい。なお縮合する環の数が同じでも、ポリアセン構造(縮合環
が直線状)よりも、ヘリセン構造やヘリセン構造の一部を有する構成(曲がった縮合環)
の方がバンドギャップが広く透光性に優れ好ましい。なお、これら縮合環は置換基を有し
ていてもいなくとも良い。このようなアリール基としては、具体的には置換又は無置換の
フェニル基、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無
置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレ
ニル基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置換のテトラセニル基などが挙げら
れる。これらのうち、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置
換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基より選ばれた基
を当該アリール基として用いた複合材料は、電荷移動錯体の形成に基づく新たな吸収の発
生がほとんど見られず、また、炭化水素化合物自身の吸収も可視光領域にほとんどないた
め、透光性に優れていながらキャリア輸送性も良好な複合材料とすることができる。また
、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリ
セニル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のテトラセニル基を当
該アリール基として用いた複合材料は、特にキャリアの輸送性に優れた材料とすることが
できる。なお縮合する環の数が同じでも、ポリアセン構造(縮合環が直線状)よりも、ヘ
リセン構造やヘリセン構造の一部を有する構成(曲がった縮合環)の方がバンドギャップ
が広く透光性に優れ好ましい。なお、これら置換基がさらに置換基を有する場合、当該置
換基としてはアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基な
どを適用することができる。
ては、置換又は無置換のフェニレン基又は置換又は無置換のビフェニルジイル基を用いる
ことができる。これらが置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニ
ル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用することができる。
レンの9位の炭素はsp3混成軌道であるため、アリール基からフルオレン骨格への共役
の広がりを押さえることができる。このことから、さらに有効にエネルギーギャップの低
下を抑制することができ、エネルギーギャップの大きい炭化水素化合物を用いた複合材料
とすることができる。これにより、当該複合材料は、可視光領域での光の吸収が少ない、
より透光性の高い複合材料とすることができる。
ルオレン骨格を有する炭化水素化合物について説明する。
2000以下の炭化水素化合物である。
換のビフェニルジイル基を表している。これらが置換基を有する場合、当該置換基として
は、アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用
することができる。なお蒸着性を考慮するとアルキル基の場合は炭素数6以下が好ましい
。また、α1がフェニレン基である場合、ビフェニルジイル基である場合と比較するとエ
ネルギーギャップが若干大きくなり、一方でビフェニルジイル基である場合はフェニレン
基である場合と比較してガラス転移温度(Tg)が高くなる。また分子量が高くなること
で、蒸着温度が上昇するが、蒸着温度の高い無機化合物と共蒸着することによって作製さ
れる複合材料において、炭化水素化合物の蒸着温度と無機化合物との蒸着温度は近い方が
好ましく、その点において、α1がビフェニルジイル基である構成は有利である。
2000以下の炭化水素化合物である。
以上4環以下の縮合環であることが複合材料のキャリアの輸送性と、透光性とのバランス
から好ましい。このようなアリール基としては、具体的には置換又は無置換のナフチル基
、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換
のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基、
置換又は無置換のテトラセニル基などが挙げられる。これらのうち、置換又は無置換のナ
フチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又
は無置換のトリフェニレニル基より選ばれた基を当該アリール基として用いた複合材料は
、電荷移動錯体の形成に基づく新たな吸収の発生が起こりづらく、また、炭化水素化合物
自身の吸収も可視光領域に少ないため、透光性に優れていながらキャリアの輸送性も良好
な複合材料とすることができる。また、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換
のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基、
置換又は無置換のテトラセニル基を当該アリール基として用いた複合材料は、特にキャリ
アの輸送性に優れた材料とすることができる。なお、これらが置換基を有する場合、当該
置換基としては、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基及び下記一般式(Ar1−
1)で表される基のいずれかを適用することができる。
無置換のビフェニルジイル基を表す。これらが置換基を有する場合、当該置換基としては
、アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用す
ることができる。また、Ar4は置換又は無置換の炭素数6乃至18のアリール基のいず
れかを表し、特に置換又は無置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェニル基である
ことが好ましい。また、mは0又は1の値をとる。なお、mが0である場合、Ar4は無
置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェニル基であることが好ましい。Ar4で表
される基が置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニル基、ビフェ
ニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用することができる。R41乃至R48
はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフ
チル基及びフェナントリル基のいずれかを表す。
の結合手が水素と結合した物質が、その吸収スペクトルにおいて、450nm以上800
nm以下の範囲にピークがない物質であることが好ましい。このような構成を有する炭化
水素化合物を含む本実施の形態に置ける複合材料は、可視光領域に炭化水素化合物の骨格
由来の吸収が小さいことから透光性の高い複合材料を得ることが可能となる。
リール基であることが好ましい。これらが置換基を有する場合は、アルキル基、フェニル
基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用することができる。
Ar2は、置換又は無置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェニル基であることが
、合成が容易で且つエネルギーギャップが広い材料とすることが可能であることから好ま
しい構成である。これを一般式の構成を表したのが、一般式(G2)であり、式中、Ar
3は置換又は無置換のフェニル基又は置換又は無置換のビフェニル基を表す。
置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチル基及
び置換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。これらが置換基を有する場合
、当該置換基としてはアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナント
リル基などを適用することができる。なお、R11乃至R18は水素、炭素数1乃至6の
アルキル基及び下記構造式で表される基であることが、材料コストの関係上より好ましく
、すべて水素であることがさらに好ましい。
物を表す一般式を、一般式(G3)として以下に示す。
する。なお、式中α1、Ar1及びAr3は一般式(G1)及び(G2)と同様であるた
め、記載を省略する。上の記載を参照されたい。
を下記一般式(G4)に示す。
する。式中、α1は一般式(G1)乃至(G3)と同様であるため、上記記載を参照され
たい。また、R1乃至R9はそれぞれ独立に水素、炭素数1乃至6のアルキル基、フェニ
ル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基及び下記一般式(Ar1−2)で表
される基のいずれかを表す。
ル基を表し、α5が置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニル基
、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用することができる。
ないことが、材料コストや合成の容易さから好ましい構成である。当該構成を有する炭化
水素化合物を表す一般式を以下に(G5)として示す。
する。また、式中α11はフェニレン基又はビフェニルジイル基を表す。
ける複合材料は、膜の透光性とキャリアの輸送性のバランスに優れ、発光素子を構成する
材料として非常に好適に用いることが可能な複合材料である。また、キャリアバランスに
も優れることから、発光素子の発光効率の向上にも寄与する。
(α−1)乃至(α−6)のいずれかであることが好ましい。
いて説明する。当該炭化水素化合物はフルオレンにアリール基が1又は複数結合している
分子量が400以上2000以下である炭化水素化合物であり、当該アリール基がフルオ
レンの2位又は2位及び7位に結合している。なお、アリール基が1つ結合している場合
はフルオレンの2位に、複数結合している場合は、少なくとも2位又は7位に結合してい
ることが好ましい。なお、当該アリール基は、一つ、又は二つのフェニレン基を介してフ
ルオレンと結合していても良い。言い換えると、フェニレン基もしくはビフェニルジイル
基を介してフルオレンと結合しているものを含むものとする。なお、当該炭化水素化合物
はケイ素化合物であってもよい。本実施の形態におけるケイ素化合物とは、これまで説明
してきた炭化水素化合物において一つ又は複数の炭素がケイ素に置き換わった化合物であ
るとする。
さないものであっても良いが、環を構成する炭素数が炭素数6乃至18のアリール基が適
当である。なお、縮合する環の数が多いアリール基はキャリアの輸送性に優れ、縮合する
環の数が小さいアリール基は複合材料とした際に透光性に優れる。このため、キャリアの
輸送性と、複合材料の膜の透光性とのバランスを考慮すると、当該アリール基は2環以上
4環以下の縮合環であることが好ましい。なお縮合する環の数が同じでも、ポリアセン構
造(縮合環が直線状)よりも、ヘリセン構造やヘリセン構造一部を有する構成(曲がった
縮合環)の方がバンドギャップが広く透光性に優れ好ましい。なお、これら縮合環は置換
基を有していてもいなくとも良い。このようなアリール基としては、具体的には置換又は
無置換のフェニル基、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置
換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置
換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置換のテトラセニル基など
が挙げられる。これらのうち、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリ
ル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基より選
ばれた基を当該アリール基として用いた複合材料は、電荷移動錯体の形成に基づく新たな
吸収の発生がほとんど見られず、また、炭化水素化合物自身の吸収も可視光領域にほとん
どないことが可能であるため、透光性に優れていながらキャリアの輸送性も良好な複合材
料とすることができる。また、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のピレニ
ル基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は
無置換のテトラセニル基を当該アリール基として用いた複合材料は、特にキャリアの輸送
性に優れた材料とすることができる。なお縮合する環の数が同じでも、ポリアセン構造(
縮合環が直線状)が長い構造は移動度が高く好ましい。なお、これら置換基がさらに置換
基を有する場合、当該置換基としてはアルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル
基、フェナントリル基などを適用することができる。
式(G6)で表され、分子量が400以上2000以下である炭化水素化合物である。
換のビフェニルジイル基を表している。これらが置換基を有する場合、当該置換基として
は、アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用
することができる。なお、α6及び/又はα7がフェニレン基である場合、ビフェニルジ
イル基である場合と比較するとエネルギーギャップが若干大きくなり、一方でビフェニル
ジイル基である場合はフェニレン基である場合と比較してTgが高くなり好ましい。また
分子量が高くなることで、蒸着温度が上昇するが、蒸着温度の高い無機化合物と共蒸着す
ることによって作製される複合材料において、炭化水素化合物の蒸着温度と無機化合物と
の蒸着温度は近い方が好ましく、その点において、α6及び/又はα7がビフェニルジイ
ル基である構成は有利である。また、j及びkはそれぞれ独立に0又は1の値をとる。フ
ルオレンの2位又は2位及び7位にアリール基が結合する構成においては、α6及びα7
で表されるアリーレン基は無くともよい。
を表し、当該アリール基としては、炭素数6乃至18のものが好ましい。中でも、2環以
上4環以下の縮合環は複合材料のキャリアの輸送性と、透光性とのバランスから好ましい
。このようなアリール基としては、具体的には置換又は無置換のナフチル基、置換又は無
置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニ
レニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置
換のテトラセニル基などが挙げられる。これらのうち、置換又は無置換のナフチル基、置
換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のト
リフェニレニル基、より選ばれた基を当該アリール基として用いた複合材料は、電荷移動
錯体の形成に基づく新たな吸収の発生が起こりづらく、また、炭化水素化合物自身の吸収
も可視光領域に少ないため、透光性に優れていながらキャリアの輸送性も良好な複合材料
とすることができる。また、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のピレニル
基、置換又は無置換のクリセニル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無
置換のテトラセニル基を当該アリール基として用いた複合材料は、特にキャリアの輸送性
に優れた材料とすることができる。なお、これらが置換基を有する場合、当該置換基とし
ては、フェニル基、ナフチル基及びフェナントリル基のいずれかを適用することができる
。
たは無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェニル基、置換または無置換のナフチ
ル基及び置換または無置換のフェナントリル基のいずれかを表す。これらが置換基を有す
る場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、フ
ェナントリル基などを適用することができる。なお、隣り合う基同士が互いに結合して環
を形成しても良い。R21とR22がフェニル基であり、互いに結合して環を形成した構
成を下記一般式(G6’)として示す。
であるものとする。また、R23乃至R28、α6及びα7、Ar5及びAr6は上記一
般式(G6)におけるそれと同様であるため、その重複する記載は省略する。一般式(G
6)における該当する記載を参照されたい。R31乃至R38はそれぞれ独立に水素、炭
素数1乃至6のアルキル基、置換または無置換のフェニル基、置換または無置換のビフェ
ニル基、置換または無置換のナフチル基及び置換または無置換のフェナントリル基のいず
れかを表す。これらが置換基を有する場合、当該置換基としては、アルキル基、フェニル
基、ビフェニル基、ナフチル基、フェナントリル基などを適用することができる。
)、(200)乃至(234)、(300)乃至(329)、(400)乃至(415)
、(500)乃至(518)及び(601)乃至(614)に具体的に例示する。なお、
本実施の形態における複合材料に用いることができる炭化水素化合物はこれらに限定され
ず、上記一般式に含まれる炭化水素化合物を適用することができる。
炭化水素化合物の構成である。
する。
合物に対して電子受容性を示す無機化合物を用いることができる。例えば、塩化鉄(II
I)や塩化アルミニウムなどは、電子受容性が高い無機化合物の一例であり好適に用いる
ことができる。
ことができる。好ましくは元素周期表における4〜8族に属する金属の酸化物が望ましい
。特にチタン酸化物、バナジウム酸化物、タンタル酸化物、モリブデン酸化物、タングス
テン酸化物、レニウム酸化物、ルテニウム酸化物、クロム酸化物、ジルコニウム酸化物、
ハフニウム酸化物、銀酸化物が好ましい。この中でもモリブデン酸化物は蒸着がしやすく
、吸湿性が低く、安定であることから特に扱いやすい材料である。
容性はそれほど高くない(反応性は低い)と考えられる。また、上述した通り、本実施の
形態における複合材料においては、電荷移動相互作用に基づく吸収の発生が抑制される(
あるいはほとんど発生しない)場合がある。これらのことから、本実施の形態における複
合材料において、遷移金属酸化物は一般的な意味合いでの電子受容体として作用している
という証明はし難い。しかしながら一方で、実施例で後述するように、実験的には、電界
を印加した際には当該炭化水素化合物単体では流せないほどの電流を流せる事実がある。
したがって、本実施の形態における複合材料において遷移金属酸化物を用いた場合、少な
くとも電界印加のアシストにより容易にキャリアが発生しているものと考えられる。した
がって本明細書では、少なくとも電界印加のアシストによりキャリアが発生していれば、
複合材料中の無機化合物(上述のような遷移金属酸化物など)は電子受容性を有するもの
として扱う。
と無機化合物を同時に蒸着する共蒸着法により形成することができる。本実施の形態にお
ける複合材料において、有機化合物と無機化合物の混合比は質量比で8:1〜1:2(=
有機化合物:無機化合物)程度が好ましく、さらに望ましくは4:1〜1:1(=有機化
合物:無機化合物)である。混合比は複合材料を共蒸着法によって形成する場合は、有機
化合物と無機化合物の蒸着レートをそれぞれ調節することによって制御することができる
。
容性を示す無機化合物を含む複合材料であることからキャリア注入性及びキャリア輸送性
に優れた材料である。このことから、当該複合材料を用いた発光素子は駆動電圧の小さい
発光素子を提供することが可能となる。また、当該複合材料の膜は結晶化が起きにくいこ
とから信頼性の良好な発光素子を提供することも可能となる。さらに、当該複合材料はそ
の膜厚を厚く形成しても駆動電圧の上昇が起きにくいことから、陽極上に厚く形成するこ
とによって陽極が有する凹凸が原因で起こるショートなどの不良の発生を抑制することも
できる。
オレン骨格を有する炭化水素化合物を適用したことによって、可視光における吸収の小さ
い複合材料とすることが可能となる。また、当該複合材料はキャリアバランスに優れた材
料でもある。そのため、当該複合材料を用いることで電流効率が良好な発光素子を提供す
ることが可能となる。すなわち、駆動電圧が低く、電流効率が大きい発光素子を作製する
ことができ、大きな電力効率を有する発光素子を提供することが可能となる。
よって、当該複合材料の膜質は良好であり、寿命の長い発光素子を作製することが可能と
なる。また、フルオレンがある程度の分子量を有しながらもエネルギーギャップが大きい
ことから、フルオレン骨格を有する炭化水素化合物は、エネルギーギャップを高く保った
まま、適度に分子量の大きい炭化水素化合物とすることができる。適度な分子量を有する
炭化水素化合物は、蒸着する際に蒸着レートの制御がしやすく、安定した品質の発光素子
を提供することが可能となる。また、本発明の複合材料は、炭化水素化合物と、当該炭化
水素化合物より蒸着温度の高い無機化合物との共蒸着により作製する。本発明の複合材料
は、炭化水素化合物がフルオレン骨格を有することにより、エネルギーギャップの低下を
抑制しつつ、分子量を適度に大きくすることができ、当該無機化合物の蒸着温度により近
い温度で共蒸着を行うことが可能となる。これらのことから、本実施の形態に置ける複合
材料を用いた発光素子は信頼性の高い発光素子とすることが可能となる。
実施の形態1に記載の複合材料を用いた発光素子の一態様について図1(A)を用いて
以下に説明する。
、発光素子は、第1の電極102と、第2の電極104と、第1の電極102と第2の電
極との間に設けられたEL層103とから構成されている。なお、本形態では第1の電極
102は陽極として機能し、第2の電極104は陰極として機能するものとして、以下説
明をする。つまり、第1の電極102の方が第2の電極104よりも電位が高くなるよう
に、第1の電極102と第2の電極104に電圧を印加したときに、発光が得られる構成
となっている。
、またはプラスチックなどを用いることができる。なお、発光素子の支持体として機能す
るものであれば、これら以外のものでもよい。
金、導電性化合物、およびこれらの混合物などを用いることが好ましい。具体的には、例
えば、酸化インジウム−酸化スズ(ITO:Indium Tin Oxide)、ケイ
素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化スズ、酸化インジウム−酸化亜鉛
(Indium Zinc Oxide)、酸化タングステン及び酸化亜鉛を含有した酸
化インジウム(IWZO)等が挙げられる。これらの導電性金属酸化物膜は、通常スパッ
タにより成膜されるが、ゾル−ゲル法などを応用して作製しても構わない。例えば、酸化
インジウム−酸化亜鉛は、酸化インジウムに対し1〜20wt%の酸化亜鉛を加えたター
ゲットを用いてスパッタリング法により形成することができる。また、酸化タングステン
及び酸化亜鉛を含有した酸化インジウム(IWZO)は、酸化インジウムに対し酸化タン
グステンを0.5〜5wt%、酸化亜鉛を0.1〜1wt%含有したターゲットを用いて
スパッタリング法により形成することができる。この他、金(Au)、白金(Pt)、ニ
ッケル(Ni)、タングステン(W)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)、鉄(Fe
)、コバルト(Co)、銅(Cu)、パラジウム(Pd)、グラフェン、または金属材料
の窒化物(例えば、窒化チタン)等が挙げられる。
たは正孔輸送性の高い物質を含む層、電子注入性の高い物質を含む層、正孔注入性の高い
物質を含む層、バイポーラ性(電子及び正孔の輸送性の高い物質)の物質を含む層等を適
宜組み合わせて構成すればよい。例えば、正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層
、電子注入層等を適宜組み合わせて構成することができる。もちろんその他の機能を有す
る層が含まれていても良いし、複数の機能を担う層があっても良い。本実施の形態では、
EL層103は、第1の電極102の上に順に積層した正孔注入層111、正孔輸送層1
12、発光層113、電子輸送層114を有する構成について説明する。なお、本実施の
形態においては、実施の形態1に記載の複合材料を正孔注入層111として用いる。各層
を構成する材料について以下に具体的に示す。
しい。これは、発光に寄与するべき励起エネルギーが無機化合物(特に金属を含むもの)
によって失活してしまうことを防ぐためである。具体的な対策としては、異なる材料より
なる層を間に挟む(正孔輸送層を設ける)、発光層における発光領域を陰極側に寄せるな
どすればよい。
合材料は、キャリアの注入性が高いことから、駆動電圧の小さい発光素子を作製すること
ができる。また、膜質が良好で結晶化がおきにくいことから信頼性の高い発光素子を作製
することができる。また、厚膜化しても駆動電圧の上昇がおきにくいことから、正孔注入
層111を適当な膜厚とすることによって、第1の電極102に凹凸があったとしても、
当該凹凸起因の不良を抑制することができ、信頼性の高い発光素子を提供することができ
るようになる。
素子を提供することができる。さらに、実施の形態1に記載の複合材料はキャリアバラン
スに優れることから、電流効率の高い発光素子を提供することができる。
、第1の電極102は仕事関数に関係なくその材料を選択できる。
しては、例えば、4,4’−ビス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェ
ニル(略称:NPB又はα−NPD)、N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N
’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4
−フェニル−4’−(9−フェニルフルオレン−9−イル)トリフェニルアミン(略称:
BPAFLP)、4,4’−ビス[N−(9,9−ジメチルフルオレン−2−イル)−N
−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DFLDPBi)、4,4’−ビス[N−(スピ
ロ−9,9’−ビフルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:B
SPB)等の芳香族アミン化合物を用いることができる。ここに述べた物質は、主に10
−6cm2/Vs以上の正孔移動度を有する物質である。但し、電子よりも正孔の輸送性
の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。なお、正孔輸送性の高い物質を
含む層は、単層のものだけでなく、上記物質からなる層が二層以上積層したものとしても
よい。
10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)
、9−フェニル−3−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カ
ルバゾール(略称:PCzPA)のようなカルバゾール誘導体や、2−tert−ブチル
−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、9,10−ジ
(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、9,10−ジフェニルアントラセン(
略称:DPAnth)のようなアントラセン誘導体を用いても良い。
ニルアミン)(略称:PVTPA)、ポリ[N−(4−{N’−[4−(4−ジフェニル
アミノ)フェニル]フェニル−N’−フェニルアミノ}フェニル)メタクリルアミド](
略称:PTPDMA)、ポリ[N,N’−ビス(4−ブチルフェニル)−N,N’−ビス
(フェニル)ベンジジン](略称:Poly−TPD)などの高分子化合物を用いること
もできる。
成する材料として用いることができる。
構成されていても、ホスト材料中に発光中心物質を分散された膜で構成されていても良い
。
な材料としては特に限定は無く、これら材料が発する光は蛍光であっても燐光であっても
良い。上記発光物質又は発光中心物質としては例えば、以下のようなものが挙げられる。
蛍光発光性の物質としては、N,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フ
ェニル]−N,N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)
、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)
トリフェニルアミン(略称:YGAPA)、4−(9H−カルバゾール−9−イル)−4
’−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)トリフェニルアミン(略称:2YGAP
PA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル
]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、ペリレン、2,5,8,1
1−テトラ−tert−ブチルペリレン(略称:TBP)、4−(10−フェニル−9−
アントリル)−4’−(9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル)トリフェニルア
ミン(略称:PCBAPA)、N,N’’−(2−tert−ブチルアントラセン−9,
10−ジイルジ−4,1−フェニレン)ビス[N,N’,N’−トリフェニル−1,4−
フェニレンジアミン](略称:DPABPA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(9,
10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略
称:2PCAPPA)、N−[4−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)フェニル
]−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPAPP
A)、N,N,N’,N’,N’’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベ
ンゾ[g,p]クリセン−2,7,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、クマ
リン30、N−(9,10−ジフェニル−2−アントリル)−N,9−ジフェニル−9H
−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA)、N−[9,10−ビス(1,1’
−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]−N,9−ジフェニル−9H−カルバゾー
ル−3−アミン(略称:2PCABPhA)、N−(9,10−ジフェニル−2−アント
リル)−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPA
PA)、N−[9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−2−アントリル]
−N,N’,N’−トリフェニル−1,4−フェニレンジアミン(略称:2DPABPh
A)、9,10−ビス(1,1’−ビフェニル−2−イル)−N−[4−(9H−カルバ
ゾール−9−イル)フェニル]−N−フェニルアントラセン−2−アミン(略称:2YG
ABPhA)、N,N,9−トリフェニルアントラセン−9−アミン(略称:DPhAP
hA)クマリン545T、N,N’−ジフェニルキナクリドン、(略称:DPQd)、ル
ブレン、5,12−ビス(1,1’−ビフェニル−4−イル)−6,11−ジフェニルテ
トラセン(略称:BPT)、2−(2−{2−[4−(ジメチルアミノ)フェニル]エテ
ニル}−6−メチル−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:DCM
1)、2−{2−メチル−6−[2−(2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベ
ンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパ
ンジニトリル(略称:DCM2)、N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニ
ル)テトラセン−5,11−ジアミン(略称:p−mPhTD)、7,14−ジフェニル
−N,N,N’,N’−テトラキス(4−メチルフェニル)アセナフト[1,2−a]フ
ルオランテン−3,10−ジアミン(略称:p−mPhAFD)、2−{2−イソプロピ
ル−6−[2−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H
,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデ
ン}プロパンジニトリル(略称:DCJTI)、2−{2−tert−ブチル−6−[2
−(1,1,7,7−テトラメチル−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベン
ゾ[ij]キノリジン−9−イル)エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパン
ジニトリル(略称:DCJTB)、2−(2,6−ビス{2−[4−(ジメチルアミノ)
フェニル]エテニル}−4H−ピラン−4−イリデン)プロパンジニトリル(略称:Bi
sDCM)、2−{2,6−ビス[2−(8−メトキシ−1,1,7,7−テトラメチル
−2,3,6,7−テトラヒドロ−1H,5H−ベンゾ[ij]キノリジン−9−イル)
エテニル]−4H−ピラン−4−イリデン}プロパンジニトリル(略称:BisDCJT
M)などが挙げられる。りん光発光性の物質としては、ビス[2−(3’,5’−ビスト
リフルオロメチルフェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)ピコリナー
ト(略称:Ir(CF3ppy)2(pic))、ビス[2−(4’,6’−ジフルオロ
フェニル)ピリジナト−N,C2’]イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称
:FIracac)、トリス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)(略称:
Ir(ppy)3)、ビス(2−フェニルピリジナト)イリジウム(III)アセチルア
セトナート(略称:Ir(ppy)2(acac))、トリス(アセチルアセトナト)(
モノフェナントロリン)テルビウム(III)(略称:Tb(acac)3(Phen)
)、ビス(ベンゾ[h]キノリナト)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称
:Ir(bzq)2(acac))、ビス(2,4−ジフェニル−1,3−オキサゾラト
−N,C2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(dpo)2(
acac))、ビス[2−(4’−パーフルオロフェニルフェニル)ピリジナト]イリジ
ウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(p−PF−ph)2(acac))
、ビス(2−フェニルベンゾチアゾラト−N,C2’)イリジウム(III)アセチルア
セトナート(略称:Ir(bt)2(acac))、ビス[2−(2’−ベンゾ[4,5
−α]チエニル)ピリジナト−N,C3’]イリジウム(III)アセチルアセトナート
(略称:Ir(btp)2(acac))、ビス(1−フェニルイソキノリナト−N,C
2’)イリジウム(III)アセチルアセトナート(略称:Ir(piq)2(acac
))、(アセチルアセトナト)ビス[2,3−ビス(4−フルオロフェニル)キノキサリ
ナト]イリジウム(III)(略称:Ir(Fdpq)2(acac))、(アセチルア
セトナト)ビス(2,3,5−トリフェニルピラジナト)イリジウム(III)(略称:
Ir(tppr)2(acac))、2,3,7,8,12,13,17,18−オクタ
エチル−21H,23H−ポルフィリン白金(II)(略称:PtOEP)、トリス(1
,3−ジフェニル−1,3−プロパンジオナト)(モノフェナントロリン)ユーロピウム
(III)(略称:Eu(DBM)3(Phen))、トリス[1−(2−テノイル)−
3,3,3−トリフルオロアセトナト](モノフェナントロリン)ユーロピウム(III
)(略称:Eu(TTA)3(Phen))などが挙げられる。また、実施の形態1に記
載の複合材料に用いることが可能な炭化水素化合物も発光中心材料として用いることがで
きる場合がある。
えば、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Alq)、トリス(
4−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム(III)(略称:Almq3)、ビス(
10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)ベリリウム(II)(略称:BeBq2)、
ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニルフェノラト)アルミニウム(II
I)(略称:BAlq)、ビス(8−キノリノラト)亜鉛(II)(略称:Znq)、ビ
ス[2−(2−ベンゾオキサゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnPBO)、
ビス[2−(2−ベンゾチアゾリル)フェノラト]亜鉛(II)(略称:ZnBTZ)な
どの金属錯体、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1
,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)、1,3−ビス[5−(p−tert−ブ
チルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD−
7)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニル
)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、2,2’,2’’−(1,3,5−ベ
ンゼントリイル)トリス(1−フェニル−1H−ベンゾイミダゾール)(略称:TPBI
)、バソフェナントロリン(略称:BPhen)、バソキュプロイン(略称:BCP)、
9−[4−(5−フェニル−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル)フェニル]−9
H−カルバゾール(略称:CO11)などの複素環化合物、4,4’−ビス[N−(1−
ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPBまたはα−NPD)、N,
N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ジフェニル−[1,1’−ビフェニル]
−4,4’−ジアミン(略称:TPD)、4,4’−ビス[N−(スピロ−9,9’−ビ
フルオレン−2−イル)−N―フェニルアミノ]ビフェニル(略称:BSPB)などの芳
香族アミン化合物が挙げられる。また、アントラセン誘導体、フェナントレン誘導体、ピ
レン誘導体、クリセン誘導体、ジベンゾ[g,p]クリセン誘導体等の縮合多環芳香族化
合物が挙げられ、具体的には、9,10−ジフェニルアントラセン(略称:DPAnth
)、N,N−ジフェニル−9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−
9H−カルバゾール−3−アミン(略称:CzA1PA)、4−(10−フェニル−9−
アントリル)トリフェニルアミン(略称:DPhPA)、4−(9H−カルバゾール−9
−イル)−4’−(10−フェニル−9−アントリル)トリフェニルアミン(略称:YG
APA)、N,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニ
ル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)、N,9−ジフェニル−N
−{4−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]フェニル}−9H−カル
バゾール−3−アミン(略称:PCAPBA)、N,9−ジフェニル−N−(9,10−
ジフェニル−2−アントリル)−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:2PCAPA
)、6,12−ジメトキシ−5,11−ジフェニルクリセン、N,N,N’,N’,N’
’,N’’,N’’’,N’’’−オクタフェニルジベンゾ[g,p]クリセン−2,7
,10,15−テトラアミン(略称:DBC1)、9−[4−(10−フェニル−9−ア
ントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)、3,6−ジフェニル−
9−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称
:DPCzPA)、9,10−ビス(3,5−ジフェニルフェニル)アントラセン(略称
:DPPA)、9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:DNA)、2−te
rt−ブチル−9,10−ジ(2−ナフチル)アントラセン(略称:t−BuDNA)、
9,9’−ビアントリル(略称:BANT)、9,9’−(スチルベン−3,3’−ジイ
ル)ジフェナントレン(略称:DPNS)、9,9’−(スチルベン−4,4’−ジイル
)ジフェナントレン(略称:DPNS2)、3,3’,3’’−(ベンゼン−1,3,5
−トリイル)トリピレン(略称:TPB3)などを挙げることができる。また、実施の形
態1に記載の複合材料に用いることが可能な炭化水素化合物もホスト材料として用いるこ
とができる場合がある。
これら及び公知の物質の中から、上記発光中心物質のエネルギーギャップより大きなエ
ネルギーギャップを有する物質を、一種もしくは複数種選択して用いればよい。また、発
光中心物質がりん光を発する物質である場合、ホスト材料は該発光中心物質の三重項励起
エネルギー(基底状態と三重項励起状態とのエネルギー差)よりも大きい三重項励起エネ
ルギーを有する物質を選択すれば良い。
の発光層と第2の発光層を正孔輸送層側から順に積層して発光層113とする場合、第1
の発光層のホスト材料として正孔輸送性を有する物質を用い、第2の発光層のホスト材料
として電子輸送性を有する物質を用いる構成などがある。
の共蒸着や、混合溶液としてインクジェット法やスピンコート法やディップコート法など
を用いて作製することができる。
ノリノラト)アルミニウム(略称:Alq)、トリス(4−メチル−8−キノリノラト)
アルミニウム(略称:Almq3)、ビス(10−ヒドロキシベンゾ[h]キノリナト)
ベリリウム(略称:BeBq2)、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)(4−フェニ
ルフェノラト)アルミニウム(略称:BAlq)など、キノリン骨格またはベンゾキノリ
ン骨格を有する金属錯体等からなる層である。また、この他ビス[2−(2−ヒドロキシ
フェニル)ベンズオキサゾラト]亜鉛(略称:Zn(BOX)2)、ビス[2−(2−ヒ
ドロキシフェニル)ベンゾチアゾラト]亜鉛(略称:Zn(BTZ)2)などのオキサゾ
ール系、チアゾール系配位子を有する金属錯体なども用いることができる。さらに、金属
錯体以外にも、2−(4−ビフェニリル)−5−(4−tert−ブチルフェニル)−1
,3,4−オキサジアゾール(略称:PBD)や、1,3−ビス[5−(p−tert−
ブチルフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール−2−イル]ベンゼン(略称:OXD
−7)、3−(4−ビフェニリル)−4−フェニル−5−(4−tert−ブチルフェニ
ル)−1,2,4−トリアゾール(略称:TAZ)、バソフェナントロリン(略称:BP
hen)、バソキュプロイン(略称:BCP)なども用いることができる。ここに述べた
物質は、主に10−6cm2/Vs以上の電子移動度を有する物質である。なお、正孔よ
りも電子の輸送性の高い物質であれば、上記以外の物質を電子輸送層として用いても構わ
ない。
ものとしてもよい。
これは上述したような電子輸送性の高い材料に、電子トラップ性の高い物質を少量添加し
た層であって、電子キャリアの移動を抑制することによって、キャリアバランスを調節す
ることが可能となる。このような構成は、発光層を電子が突き抜けてしまうことにより発
生する問題(例えば素子寿命の低下)の抑制に大きな効果を発揮する。
を設けてもよい。電子注入層としては、フッ化リチウム(LiF)、フッ化セシウム(C
sF)、フッ化カルシウム(CaF2)等のようなアルカリ金属又はアルカリ土類金属又
はそれらの化合物を用いることができる。例えば、電子輸送性を有する物質からなる層中
にアルカリ金属又はアルカリ土類金属又はそれらの化合物を含有させたもの、例えばAl
q中にマグネシウム(Mg)を含有させたもの等を用いることができる。なお、電子注入
層として、電子輸送性を有する物質からなる層中にアルカリ金属又はアルカリ土類金属を
含有させたものを用いることにより、第2の電極104からの電子注入が効率良く行われ
るためより好ましい。
以下)金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などを用いることができる
。このような陰極材料の具体例としては、元素周期表の第1族または第2族に属する元素
、すなわちリチウム(Li)やセシウム(Cs)等のアルカリ金属、およびマグネシウム
(Mg)、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)等のアルカリ土類金属、および
これらを含む合金(MgAg、AlLi)、ユウロピウム(Eu)、イッテルビウム(Y
b)等の希土類金属およびこれらを含む合金等が挙げられる。しかしながら、第2の電極
104と電子輸送層との間に、電子注入層を設けることにより、仕事関数の大小に関わら
ず、Al、Ag、ITO、ケイ素若しくは酸化ケイ素を含有した酸化インジウム−酸化ス
ズ等様々な導電性材料を第2の電極104として用いることができる。これら導電性材料
は、スパッタリング法やインクジェット法、スピンコート法等を用いて成膜することが可
能である。
ることができる。例えば、真空蒸着法、インクジェット法またはスピンコート法など用い
ても構わない。また各電極または各層ごとに異なる成膜方法を用いて形成しても構わない
。
トを用いて湿式法で形成してもよい。また、スパッタリング法や真空蒸着法などの乾式法
を用いて形成しても良い。
生じた電位差により電流が流れ、発光性の高い物質を含む層である発光層113において
正孔と電子とが再結合し、発光するものである。つまり発光層113に発光領域が形成さ
れるような構成となっている。
外部に取り出される。従って、第1の電極102または第2の電極104のいずれか一方
または両方は、透光性を有する電極で成る。第1の電極102のみが透光性を有する電極
である場合、発光は第1の電極102を通って基板側から取り出される。また、第2の電
極104のみが透光性を有する電極である場合、発光は第2の電極104を通って基板と
逆側から取り出される。第1の電極102および第2の電極104がいずれも透光性を有
する電極である場合、発光は第1の電極102および第2の電極104を通って、基板側
および基板と逆側の両方から取り出される。
のには限定されない。しかし、発光領域と電極やキャリア注入層に用いられる金属とが近
接することによって生じる消光が抑制されるように、第1の電極102および第2の電極
104から離れた部位に正孔と電子とが再結合する発光領域を設けた構成が好ましい。ま
た、層の積層順もこれに限定されず、基板側から第2の電極、電子注入層、電子輸送層、
発光層、正孔輸送層、正孔注入層、第1の電極といった、図1(A)とは反対の順番に積
層された積層構造であっても良い。
域に近い方に接するキャリア輸送層は、発光層で生成した励起子からのエネルギー移動を
抑制するため、そのエネルギーギャップが発光層を構成する発光物質もしくは、発光層に
含まれる発光中心物質が有するエネルギーギャップより大きいエネルギーギャップを有す
る物質で構成することが好ましい。
料を用いている。実施の形態1に記載の複合材料は、キャリアの注入性が高いことから、
駆動電圧の小さい発光素子を作製することができる。また、膜質が良好で結晶化がおきに
くいことから信頼性の高い発光素子を作製することができる。また、厚膜化しても駆動電
圧の上昇がおきにくいことから、正孔注入層111を適当な膜厚とすることによって、第
1の電極102に凹凸があったとしても、当該凹凸起因の不良を抑制することができ、信
頼性の高い発光素子を提供することができるようになる。
素子を提供することができる。さらに、実施の形態1に記載の複合材料はキャリアバラン
スに優れることから、電流効率の高い発光素子を提供することができる。
本実施の形態は、複数の発光ユニットを積層した構成の発光素子(以下、積層型素子と
もいう)の態様について、図1(B)を参照して説明する。この発光素子は、第1の電極
と第2の電極との間に、複数の発光ユニットを有する発光素子である。発光ユニットとし
ては、実施の形態2で示したEL層103と同様な構成を用いることができる。つまり、
実施の形態2で示した発光素子は、1つの発光ユニットを有する発光素子であり、本実施
の形態は、複数の発光ユニットを有する発光素子ということができる。但し、正孔注入層
に関しては、本実施の形態においては、必ずしも実施の形態1に記載の複合材料を用いな
くても良い。
化物やバナジウム酸化物、ルテニウム酸化物、タングステン酸化物、マンガン酸化物等を
用いることができる。この他、フタロシアニン(略称:H2Pc)や銅フタロシアニン(
CuPc)等のフタロシアニン系の化合物、4,4’−ビス[N−(4−ジフェニルアミ
ノフェニル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:DPAB)、N,N’−ビス[
4−[ビス(3−メチルフェニル)アミノ]フェニル]−N,N’−ジフェニル−[1,
1’−ビフェニル]−4,4’−ジアミン(略称:DNTPD)等の芳香族アミン化合物
、或いはポリ(エチレンジオキシチオフェン)/ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDO
T/PSS)等の高分子等によっても正孔注入層を形成することができる。
料を用いることができる。電子受容性質としては、7,7,8,8−テトラシアノ−2,
3,5,6−テトラフルオロキノジメタン(略称:F4−TCNQ)、クロラニル等を挙
げることができる。また、遷移金属酸化物を挙げることができる。また元素周期表におけ
る第4族乃至第8族に属する金属の酸化物を挙げることができる。具体的には、酸化バナ
ジウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化クロム、酸化モリブデン、酸化タングステン、
酸化マンガン、酸化レニウムは電子受容性が高いため好ましい。中でも特に、酸化モリブ
デンは大気中でも安定であり、吸湿性が低く、扱いやすいため好ましい。
化合物、芳香族炭化水素、高分子化合物(オリゴマー、デンドリマー、ポリマー等)など
、種々の有機化合物を用いることができる。なお、複合材料に用いる有機化合物としては
、正孔輸送性の高い有機化合物であることが好ましい。具体的には、10−6cm2/V
s以上の正孔移動度を有する物質であることが好ましい。ただし、電子よりも正孔の輸送
性の高い物質であれば、これら以外のものを用いてもよい。
ニット511と第2の発光ユニット512が積層されており、第1の発光ユニット511
と第2の発光ユニット512との間には電荷発生層513が設けられている。第1の電極
501と第2の電極502はそれぞれ実施の形態2における第1の電極102と第2の電
極104に相当し、実施の形態2で説明したものと同様なものを適用することができる。
また、第1の発光ユニット511と第2の発光ユニット512は同じ構成であっても異な
る構成であってもよい。また、電荷発生層513は発光ユニット512の正孔注入層を兼
ねる場合もある。
化合物と金属酸化物の複合材料は、実施の形態1で説明した複合材料、すなわちフルオレ
ン骨格を有する炭化水素化合物と当該炭化水素化合物電子受容性を示す物質との複合材料
を用いることができる。
される層を組み合わせて形成してもよい。例えば、実施の形態1に記載の複合材料の層と
電子供与性物質と電子輸送性の高い化合物とを含む層とを積層して形成しても良い。また
、有機化合物と金属酸化物の複合材料を含む層と、透明導電膜とを組み合わせて形成して
もよい。
荷発生層513は、第1の電極501と第2の電極502に電圧を印加したときに、一方
の発光ユニットに電子を注入し、他方の発光ユニットに正孔を注入するものであれば良い
。例えば、図1(B)において、第1の電極の電位の方が第2の電極の電位よりも高くな
るように電圧を印加した場合、電荷発生層513は、第1の発光ユニット511に電子を
注入し、第2の発光ユニット512に正孔を注入するものであればよい。
、3つ以上の発光ユニットを積層した発光素子についても、適用することが可能である。
本実施の形態に係る発光素子のように、一対の電極間に複数の発光ユニットを電荷発生層
で仕切って配置することで、電流密度を低く保ったまま、高輝度領域での発光が可能であ
る。電流密度を低く保てるため、長寿命素子を実現できる。また、照明を応用例とした場
合は、電極材料の抵抗による電圧降下を小さくできるので、大面積での均一発光が可能と
なる。また、低電圧駆動が可能で消費電力が低い発光装置を実現することができる。
て、所望の色の発光を得ることができる。例えば、2つの発光ユニットを有する発光素子
において、第1の発光ユニットの発光色と第2の発光ユニットの発光色を補色の関係にな
るようにすることで(例えば青とオレンジ)、発光素子全体として白色発光する発光素子
を得ることも可能である。なお、補色とは、混合すると無彩色になる色同士の関係をいう
。つまり、補色の関係にある色を発光する物質から得られた光を混合すると、白色発光を
得ることができる。また、3つの発光ユニットを有する発光素子の場合でも同様であり、
例えば、第1の発光ユニットの発光色が赤色であり、第2の発光ユニットの発光色が緑色
であり、第3の発光ユニットの発光色が青色である場合、発光素子全体としては、白色発
光を得ることができる。
を用いている。実施の形態1に記載の複合材料は、キャリアの注入性が高いことから、駆
動電圧の小さい発光素子を作製することができる。また、膜質が良好で結晶化がおきにく
いことから信頼性の高い発光素子を作製することができる。
素子を提供することができる。さらに、実施の形態1に記載の複合材料はキャリアバラン
スに優れることから、電流効率の高い発光素子を提供することができる。
本実施の形態では、実施の形態1に記載の複合材料を含む発光素子を用いた発光装置に
ついて説明する。
発光装置の一例について図2を用いて説明する。なお、図2(A)は、発光装置を示す上
面図、図2(B)は図2(A)をA−A’およびB−B’で切断した断面図である。この
発光装置は、発光素子の発光を制御するものとして、点線で示された駆動回路部(ソース
側駆動回路)601、画素部602、駆動回路部(ゲート側駆動回路)603を含んでい
る。また、604は封止基板、605はシール材であり、シール材605で囲まれた内側
は、空間607になっている。
力される信号を伝送するための配線であり、外部入力端子となるFPC(フレキシブルプ
リントサーキット)609からビデオ信号、クロック信号、スタート信号、リセット信号
等を受け取る。なお、ここではFPCしか図示されていないが、このFPCにはプリント
配線基板(PWB)が取り付けられていても良い。本明細書における発光装置には、発光
装置本体だけでなく、それにFPCもしくはPWBが取り付けられた状態をも含むものと
する。
部及び画素部が形成されているが、ここでは、駆動回路部であるソース側駆動回路601
と、画素部602中の一つの画素が示されている。
4とを組み合わせたCMOS回路が形成される。また、駆動回路は、種々のCMOS回路
、PMOS回路もしくはNMOS回路で形成しても良い。また、本実施の形態では、基板
上に駆動回路を形成したドライバ一体型を示すが、必ずしもその必要はなく、駆動回路を
基板上ではなく外部に形成することもできる。
ドレインに電気的に接続された第1の電極613とを含む複数の画素により形成される。
なお、第1の電極613の端部を覆って絶縁物614が形成されている。ここでは、ポジ
型の感光性アクリル樹脂膜を用いることにより形成する。
する曲面が形成されるようにする。例えば、絶縁物614の材料としてポジ型の感光性ア
クリルを用いた場合、絶縁物614の上端部のみに曲率半径(0.2μm〜3μm)を有
する曲面を持たせることが好ましい。また、絶縁物614として、光の照射によってエッ
チャントに不溶解性となるネガ型、或いは光の照射によってエッチャントに溶解性となる
ポジ型のいずれも使用することができる。
ぞれ形成されている。ここで、陽極として機能する第1の電極613に用いる材料として
は、仕事関数の大きい材料を用いることが望ましい。例えば、ITO膜、またはケイ素を
含有したインジウム錫酸化物膜、2〜20wt%の酸化亜鉛を含む酸化インジウム膜、窒
化チタン膜、クロム膜、タングステン膜、Zn膜、Pt膜などの単層膜の他、窒化チタン
とアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする
膜と窒化チタン膜との3層構造等を用いることができる。なお、積層構造とすると、配線
としての抵抗も低く、良好なオーミックコンタクトがとれ、さらに陽極として機能させる
ことができる。
スピンコート法等の種々の方法によって形成される。有機化合物を含む層616は、実施
の形態1で示した複合材料を含んでいる。また、有機化合物を含む層616を構成する他
の材料としては、低分子化合物、または高分子化合物(オリゴマー、デンドリマーを含む
)であっても良い。
7に用いる材料としては、仕事関数の小さい材料(Al、Mg、Li、Ca、またはこれ
らの合金や化合物、MgAg、MgIn、AlLi等)を用いることが好ましい。なお、
有機化合物を含む層616で生じた光が第2の電極617を透過させる場合には、第2の
電極617として、膜厚を薄くした金属薄膜と、透明導電膜(ITO、2〜20wt%の
酸化亜鉛を含む酸化インジウム、ケイ素を含有したインジウム錫酸化物、酸化亜鉛(Zn
O)等)との積層を用いるのが良い。
光素子が形成されている。当該発光素子は実施の形態2乃至実施の形態3いずれかの構成
を有する発光素子である。なお、画素部は複数の発光素子が形成されてなっているが、本
実施の形態における発光装置では、実施の形態2又は実施の形態3で説明した構成を有す
る発光素子と、それ以外の構成を有する発光素子の両方が含まれていても良い。
素子基板610、封止基板604、およびシール材605で囲まれた空間607に発光素
子618が備えられた構造になっている。なお、空間607には、充填材が充填されてお
り、不活性気体(窒素やアルゴン等)が充填される場合の他、シール材605で充填され
る場合もある。
はできるだけ水分や酸素を透過しない材料であることが望ましい。また、封止基板604
に用いる材料としてガラス基板や石英基板の他、FRP(Fiberglass−Rei
nforced Plastics)、PVF(ポリビニルフロライド)、ポリエステル
またはアクリル等からなるプラスチック基板を用いることができる。
発光装置を得ることができる。
いているため、良好な特性を備えた発光装置を得ることができる。具体的には、実施の形
態1で示した複合材料を用いた発光素子は発光効率が良好な発光素子であることから消費
電力の低減された発光装置とすることができる。また、駆動電圧の小さい発光素子を得る
ことができることから、駆動電圧の小さい発光装置を得ることができる。また、信頼性の
良好な発光素子を得ることができることから、信頼性の高い発光装置を得ることができる
。
シブマトリクス型の発光装置について説明する。図3には本発明を適用して作製したパッ
シブマトリクス型の発光装置を示す。なお、図3(A)は、発光装置を示す斜視図、図3
(B)は図3(A)をX−Yで切断した断面図である。図3において、基板951上には
、電極952と電極956との間には有機化合物を含む層955が設けられている。電極
952の端部は絶縁層953で覆われている。そして、絶縁層953上には隔壁層954
が設けられている。隔壁層954の側壁は、基板面に近くなるに伴って、一方の側壁と他
方の側壁との間隔が狭くなっていくような傾斜を有する。つまり、隔壁層954の短辺方
向の断面は、台形状であり、底辺(絶縁層953の面方向と同様の方向を向き、絶縁層9
53と接する辺)の方が上辺(絶縁層953の面方向と同様の方向を向き、絶縁層953
と接しない辺)よりも短い。このように、隔壁層954を設けることで、静電気等に起因
した発光素子の不良を防ぐことが出来る。また、パッシブマトリクス型の発光装置におい
ても、低駆動電圧で動作する実施の形態2又は実施の形態3に記載の、実施の形態1に記
載の複合材料を含む発光素子を有することによって、低消費電力で駆動させることができ
る。また、実施の形態1に記載の複合材料を含むために発光効率の高い実施の形態2又は
3に記載の発光素子を含むことによって、低消費電力で駆動させることができる。
れ制御することが可能であるため、画像の表現を行う表示装置として好適に利用できる発
光装置である。
本実施の形態では、実施の形態2又は実施の形態3に示す発光素子をその一部に含む電
子機器について説明する。実施の形態2又は実施の形態3に記載の発光素子は、実施の形
態1に記載の複合材料を含む発光効率の良好な発光素子であることから、消費電力が低減
された発光素子であり、その結果、本実施の形態に記載の電子機器は、消費電力が低減さ
れた発光部を有する電子機器とすることが可能である。また、実施の形態2又は実施の形
態3に記載の発光素子は、駆動電圧の小さい発光素子であるため、駆動電圧の小さい電子
機器とすることが可能である。
テレビジョン受信機ともいう)、コンピュータ用などのモニタ、デジタルカメラ、デジタ
ルビデオカメラ、デジタルフォトフレーム、携帯電話機(携帯電話、携帯電話装置ともい
う)、携帯型ゲーム機、携帯情報端末、音響再生装置、パチンコ機などの大型ゲーム機な
どが挙げられる。これらの電子機器の具体例を以下に示す。
01に表示部7103が組み込まれている。また、ここでは、スタンド7105により筐
体7101を支持した構成を示している。表示部7103により、映像を表示することが
可能であり、表示部7103は、実施の形態2または実施の形態3で説明したものと同様
の発光素子をマトリクス状に配列して構成されている。当該発光素子は、実施の形態1に
記載の複合材料を含むため発光効率の良好な発光素子とすることが可能である。また、駆
動電圧の小さい発光素子とすることが可能である。そのため、当該発光素子で構成される
表示部7103を有するテレビ装置は消費電力の低減されたテレビ装置とすることができ
る。また、駆動電圧の小さいテレビ装置とすることが可能である。
作機7110により行うことができる。リモコン操作機7110が備える操作キー710
9により、チャンネルや音量の操作を行うことができ、表示部7103に表示される映像
を操作することができる。また、リモコン操作機7110に、当該リモコン操作機711
0から出力する情報を表示する表示部7107を設ける構成としてもよい。
般のテレビ放送の受信を行うことができ、さらにモデムを介して有線または無線による通
信ネットワークに接続することにより、一方向(送信者から受信者)または双方向(送信
者と受信者間、あるいは受信者間同士など)の情報通信を行うことも可能である。
ーボード7204、外部接続ポート7205、ポインティングデバイス7206等を含む
。なお、このコンピュータは、実施の形態2または実施の形態3で説明したものと同様の
発光素子をマトリクス状に配列して表示部7203に用いることにより作製される。当該
発光素子は、実施の形態1に記載の複合材料を含むため発光効率の良好な発光素子とする
ことが可能である。また、駆動電圧の小さい発光素子とすることが可能である。そのため
、当該発光素子で構成される表示部7203を有するコンピュータは消費電力の低減され
たコンピュータとすることができる。また、駆動電圧の小さいコンピュータとすることが
可能である。
れており、連結部7303により、開閉可能に連結されている。筐体7301には、実施
の形態2または実施の形態3で説明したものと同様の発光素子をマトリクス状に配列して
作製された表示部7304が組み込まれ、筐体7302には表示部7305が組み込まれ
ている。また、図4(C)に示す携帯型遊技機は、その他、スピーカ部7306、記録媒
体挿入部7307、LEDランプ7308、入力手段(操作キー7309、接続端子73
10、センサ7311(力、変位、位置、速度、加速度、角速度、回転数、距離、光、液
、磁気、温度、化学物質、音声、時間、硬度、電場、電流、電圧、電力、放射線、流量、
湿度、傾度、振動、におい又は赤外線を測定する機能を含むもの)、マイクロフォン73
12)等を備えている。もちろん、携帯型遊技機の構成は上述のものに限定されず、少な
くとも表示部7304および表示部7305の両方、または一方に実施の形態2または実
施の形態3で説明したものと同様の発光素子をマトリクス状に配列して作製された表示部
を用いていればよく、その他付属設備が適宜設けられた構成とすることができる。図4(
C)に示す携帯型遊技機は、記録媒体に記録されているプログラム又はデータを読み出し
て表示部に表示する機能や、他の携帯型遊技機と無線通信を行って情報を共有する機能を
有する。なお、図4(C)に示す携帯型遊技機が有する機能はこれに限定されず、様々な
機能を有することができる。上述のような表示部7304を有する携帯型遊技機は、表示
部7304に用いられている発光素子が、実施の形態1に記載の複合材料を含むことによ
って、良好な発光効率を有することから、消費電力の低減された携帯型遊技機とすること
ができる。また、表示部7304に用いられている発光素子が実施の形態1に記載の複合
材料を含むことによって、低い駆動電圧で駆動させることができることから、駆動電圧の
小さい携帯型遊技機とすることができる。
まれた表示部7402の他、操作ボタン7403、外部接続ポート7404、スピーカ7
405、マイク7406などを備えている。なお、携帯電話機7400は、実施の形態2
または実施の形態3で説明したものと同様の発光素子をマトリクス状に配列して作製され
た表示部7402を有している。当該発光素子は、実施の形態1に記載の複合材料を含む
ため発光効率の良好な発光素子とすることが可能である。また、駆動電圧の小さい発光素
子とすることが可能である。そのため、当該発光素子で構成される表示部7402を有す
る携帯電話機は消費電力の低減された携帯電話機とすることができる。また、駆動電圧の
小さい携帯電話機とすることが可能である。
することができる構成とすることもできる。この場合、電話を掛ける、或いはメールを作
成するなどの操作は、表示部7402を指などで触れることにより行うことができる。
表示モードであり、第2は、文字等の情報の入力を主とする入力モードである。第3は表
示モードと入力モードの2つのモードが混合した表示+入力モードである。
を主とする文字入力モードとし、画面に表示させた文字の入力操作を行えばよい。この場
合、表示部7402の画面のほとんどにキーボードまたは番号ボタンを表示させることが
好ましい。
検出装置を設けることで、携帯電話機の向き(縦か横か)を判断して、表示部7402の
画面表示を自動的に切り替えるようにすることができる。
作ボタン7403の操作により行われる。また、表示部7402に表示される画像の種類
によって切り替えるようにすることもできる。例えば、表示部に表示する画像信号が動画
のデータであれば表示モード、テキストデータであれば入力モードに切り替える。
示部7402のタッチ操作による入力が一定期間ない場合には、画面のモードを入力モー
ドから表示モードに切り替えるように制御してもよい。
402に掌や指で触れ、掌紋、指紋等を撮像することで、本人認証を行うことができる。
また、表示部に近赤外光を発光するバックライトまたは近赤外光を発光するセンシング用
光源を用いれば、指静脈、掌静脈などを撮像することもできる。
組み合わせて用いることができる。
の複合材料を含む発光素子を備えた発光装置の適用範囲は極めて広く、この発光装置をあ
らゆる分野の電子機器に適用することが可能である。実施の形態1に記載の複合材料を含
む発光素子を用いることにより、消費電力の低減された電子機器を得ることができる。ま
た、駆動電圧の小さい電子機器を得ることができる。
できる。実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子を照明装置に用いる一態様を
、図5を用いて説明する。なお、照明装置とは、実施の形態2または実施の形態3に記載
の発光素子を光の照射手段として有し、且つ少なくとも当該発光素子へ電流を供給する入
出力端子部を有するものとする。また、当該発光素子は、封止手段によって、外部雰囲気
(特に水)より遮断されていることが好ましい。
液晶表示装置の一例である。図5に示した液晶表示装置は、筐体901、液晶層902、
バックライトユニット903、筐体904を有し、液晶層902は、ドライバIC905
と接続されている。また、バックライト903には、実施の形態2または実施の形態3に
記載の発光素子が用いられおり、端子906により、電流が供給されている。
用したことにより、消費電力の低減されたバックライトが得られる。また、実施の形態2
または実施の形態3に記載の発光素子を用いることで、面発光の照明装置が作製でき、ま
た大面積化も可能である。これにより、バックライトの大面積化が可能であり、液晶表示
装置の大面積化も可能になる。さらに、実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素
子を適用したバックライトは従来と比較し厚みを小さくできるため、表示装置の薄型化も
可能となる。
タンドに用いた例である。図6に示す電気スタンドは、筐体2001と、光源2002を
有し、光源2002として実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子が用いられ
ている。
1に適用した例である。実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子は消費電力の
低減された発光素子であるため、消費電力の低減された照明装置とすることができる。ま
た、実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子は、大面積化が可能であるため、
大面積の照明装置として用いることができる。また、実施の形態2または実施の形態3に
記載の発光素子は厚みが小さいため、薄型化した照明装置を作製することが可能となる。
シュボードにも搭載することができる。図8に実施の形態2または実施の形態3に記載の
発光素子を自動車のフロントガラスやダッシュボードに用いる一態様を示す。表示500
0乃至表示5005は実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子を用いて設けら
れた表示である。
は実施の形態3に記載の発光素子を搭載した表示装置である。実施の形態2または実施の
形態3に記載の発光素子は、第1の電極と第2の電極を透光性を有する電極で作製するこ
とによって、反対側が透けて見える、いわゆるシースルー状態の表示装置とすることがで
きる。シースルー状態の表示であれば、自動車のフロントガラスに設置したとしても、視
界の妨げになることなく設置することができる。なお、駆動のためのトランジスタなどを
設ける場合には、有機半導体材料による有機トランジスタや、酸化物半導体を用いたトラ
ンジスタなど、透光性を有するトランジスタを用いると良い。
素子を搭載した表示装置である。表示5002には、車体に設けられた撮像手段からの映
像を映し出すことによって、ピラーで遮られた視界を補完することができる。また、同様
に、ダッシュボード部分に設けられた表示5003は車体によって遮られた視界を、自動
車の外側に設けられた撮像手段からの映像を映し出すことによって、死角を補い、安全性
を高めることができる。見えない部分を補完するように映像を映すことによって、より自
然に違和感なく安全確認を行うことができる。
、走行距離、給油量、ギア状態、エアコンの設定など、その他様々な情報を提供すること
ができる。表示は使用者の好みに合わせて適宜その表示項目やレイアウトを変更すること
ができる。なお、これら情報は表示5000乃至表示5003にも設けることができる。
また、表示5000乃至表示5005は照明装置として用いることも可能である。
含むことによって、駆動電圧の小さい発光素子とすることができ、もしくは消費電力の小
さい発光装置とすることができる。このことから、表示5000乃至表示5005のよう
な大きな画面を数多く設けても、バッテリーに負荷をかけることが少なく、快適に使用す
ることができることから実施の形態2または実施の形態3に記載の発光素子を用いた発光
装置または照明装置は、車載用の発光装置又は照明装置として好適に用いることができる
。
本実施の形態では、実施の形態1に記載の複合材料を用いた発光素子を照明装置として
用いる例を図29を参照しながら説明する。図29(B)は照明装置の上面図、図29(
A)は図29(B)におけるc−d断面図である。
の電極401が形成されている。基板400及び第1の電極401は実施の形態2におけ
る基板101及び第1の電極102に相当する。
電極401側から発光を取り出す例を示したため、第1の電極401は透光性を有する材
料により形成する。補助配線402は透光性を有する材料の導電率の低さを補うために設
けられており、第1の電極401の抵抗が高いことによる電圧降下を起因とする発光面内
の輝度むらを抑制する機能を有する。補助配線402は少なくとも第1の電極401の材
料よりも導電率の大きい材料を用いて形成し、好ましくはアルミニウムなどの導電率の大
きい材料を用いて形成すると良い。なお、補助配線402における第1の電極401と接
する部分以外の表面は絶縁層で覆われていることが好ましい。これは、取り出すことがで
きない補助配線402上部からの発光を抑制するためであり、無効電流を低減し、電力効
率の低下を抑制するためである。
なお、補助配線402の形成と同時に第2の電極404に電圧を供給するためのパッド
412を形成しても良い。
3には実施の形態1に記載の複合材料が含まれている。EL層403は実施の形態2にお
けるEL層103の構成、もしくは実施の形態3における発光ユニット511、512及
び電荷発生層513を合わせた構成に相当する。当該記載を参照されたい。なお、EL層
403は第1の電極401よりも平面的に見て少し大きく形成することが、第1の電極4
01と第2の電極404とのショートを抑制する絶縁層の役割も担えるため好ましい構成
である。
における第2の電極104に相当し、同様の構成を有する。本実施の形態においては、発
光は第1の電極401側から取り出されるため、第2の電極404は反射率の高い材料に
よって形成されることが好ましい。本実施の形態において、第2の電極404はパッド4
12と接続することによって、電圧が供給されるものとする。
)を有する発光素子を本実施の形態で示す照明装置は有している。当該発光素子は発光効
率の高い発光素子であるため、本実施の形態における照明装置は消費電力の小さい照明装
置とすることができる。また、当該発光素子は信頼性の高い発光素子であることから、本
実施の形態における照明装置は信頼性の高い照明装置とすることができる。
着し、封止することによって照明装置が完成する。シール材405、406はどちらか一
方でもかまわない。また、内側のシール材406には乾燥剤を混ぜることもでき、これに
より、水分を吸着することができ、信頼性の向上につながる。
406の外に伸張して設けることによって、外部入力端子とすることができる。また、そ
の上にコンバーターなどを搭載したICチップ420などを設けても良い。
含むことから、消費電力の小さい照明装置とすることができる。また、信頼性の高い照明
装置とすることができる。また、寿命の長い照明装置とすることができる。
構造式(124)で表される9−[4−(9−フェニル−フルオレン−9−イル)フェニ
ル]−10−フェニルアントラセン(略称:FLPAnth)、FLPAnthから電子
を受容することができる無機化合物として酸化モリブデンを用いた複合材料について例示
する。
リブデン(VI)とをそれぞれ別の抵抗加熱式の蒸発源に入れ、真空に引いた状態で、同
時に蒸着し(共蒸着法)、FLPAnthと酸化モリブデンとを含む複合材料からなる膜
を形成した。この時、FLPAnthと酸化モリブデンの比率が重量比で4:2(=FL
PAnth:酸化モリブデン)、4:1、4:0.5となるように蒸着レートを調節して
3種類の膜をそれぞれ成膜した。なお、膜厚は50nmとした。
0)にて測定した結果を図9に示す。図9には同時に酸化モリブデンを同時に蒸着せずF
LPAnthのみを蒸着した膜(50nm)を同様に測定した結果も示した。図9におい
ては、横軸は波長(nm)、縦軸は吸収強度(任意単位)を表している。
有さず、透光性の高い膜であることがわかった。さらに、FLPAnthと酸化モリブデ
ンとの複合材料よりなる膜も可視光領域の大半において大きな吸収を有さず、透光性の高
い膜であることがわかった。また、FLPAnthのみを蒸着した膜とほぼ吸収スペクト
ルが変化していないこと、及び酸化モリブデンの存在割合が大きくなっても吸収スペクト
ルに変化が見られないことなどから、FLPAnthと酸化モリブデンとの複合材料から
なる膜は電荷移動に伴う吸収が発生しない膜であることがわかった。電荷移動に伴う吸収
は可視光領域及び赤外領域に現れることが知られており、当該吸収が発生することは光の
吸収、すなわち当該膜を用いた発光素子の発光効率の低下を意味する。しかし、本実施例
で説明したFLPAnthと酸化モリブデンとの複合材料よりなる膜はこのような吸収の
発生がないため、これら複合材料が素子内部で発生した光を吸収することによる発光効率
の低下が起こりづらく、さらに発光効率が良好な発光素子を作製することを容易とする材
料である。
ルオレン−9−イル)フェニル]−10−フェニルアントラセン(略称:FLPAnth
)と酸化モリブデンの共蒸着膜を正孔注入層として用いた発光素子(発光素子1)につい
て説明する。また、比較例として9−[4−(9−フェニルカルバゾール−3−イル)]
フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)と酸化モリブデンの共蒸着
膜を正孔注入層として用いた発光素子(比較発光素子1)を作成したのでそれについても
説明する。
A)において、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造と
した。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
thと酸化モリブデン(VI)とを、FLPAnth:酸化モリブデン=2:1(重量比
)となるように蒸着レートを調節して共蒸着し、正孔注入層111を形成した。膜厚は5
0nmとした。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に
蒸発させる蒸着法である。
3−イル)−フェニリル}−フェナントレン(略称:PCPPn)を10nm成膜するこ
とにより、正孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(iii)で表されるN,N’−ビス〔4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9
−イル)フェニル〕−N,N’−ジフェニルピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6F
LPAPrn)をCzPA:1,6FLPAPrn=1:0.05(重量比)となるよう
に蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって発光層113を形成した。
称:BPhen)を15nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子1を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
LPAnthを、上記構造式(v)で表される9−[4−(9−フェニルカルバゾール−
3−イル)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)に換えること
によって作成した。その他の構成及び作製方法については発光素子1と同じである。
以上により得られた発光素子1及び比較発光素子1を、窒素雰囲気のグローブボックス
内において、発光素子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、これらの発光
素子の動作特性について測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で
行った。
率特性を図12、輝度−外部量子効率特性を図13に示す。図10では縦軸が電流効率(
cd/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図11では縦軸が輝度(cd/m2)、
横軸が電圧(V)を示す。図12では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd
/m2)を示す。図13では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示
す。なお、図中、黒丸が発光素子1の特性を表し、白抜きの四角が比較発光素子1の特性
を表している。
孔注入層に用いた発光素子1は、PCzPAと酸化モリブデンの複合材料を同じ位置に用
いた比較発光素子1と比較して良好な輝度−電流効率特性を示した。なお、絶対値として
みても、発光素子1は非常に良好な電流効率−輝度特性を有する発光素子であり、特に実
用輝度(1000cd/m2〜5000cd/m2程度)での効率が良好であるという好
ましい特性も有している。また、図12及び図13から、発光素子1は輝度−パワー効率
特性、輝度−外部量子効率特性共に良好であり、これらの点から見ても、発光効率が良好
な発光素子であることがわかった。
クトルを図14に示す。図14では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発
光強度は最大発光強度を1とした相対的な値として示した。図14より発光素子1、比較
発光素子1の発光スペクトルは重なっており、いずれも発光中心物質である1,6FLP
APrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
す。
駆動し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図15に規格化輝度−時間特性を示す。
図15から、発光素子1及び比較発光素子1共に、5000cd/m2という非常に高い
輝度での駆動試験であるにもかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であること
がわかった。但し、発光素子1は輝度半減期が約300時間、比較発光素子1は約200
時間と発光素子1は比較発光素子1の約1.5倍もの寿命を有する素子であることがわか
る。
率が向上し、寿命が1.5倍にも向上した。このことから、実施の形態1に記載のフルオ
レン骨格を有する炭化水素化合物と無機化合物を含む複合材料は、発光素子を構成する材
料として非常に好適な材料であることがわかった。
用いることが可能な9−フェニル−10−{4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9
−イル)−ビフェニル−4’−イル}−アントラセン(略称:FLPPA)の合成方法に
ついて説明する。なお、このFLPPAは、発光素子の輸送層やホスト材料、発光中心材
料としても好適に用いることができる。特に、発光層において青色蛍光を発する発光中心
材料を分散するホスト材料として用いた場合、より色純度の高い発光を呈する、シャープ
なスペクトルを有する発光素子を提供することも可能となる。これにより、色再現性の高
いディスプレイの提供に貢献することができる。FLPPAの構造式を以下に示す。
の合成法]
500mL三口フラスコに、9−フェニル−9−(4−ブロモフェニル)−フェニル−
9H−フルオレンを4.0g(10mmol)入れ、フラスコ内の雰囲気を窒素置換した
のち、脱水テトラヒドロフラン(略称:THF)100mLを加えて−78℃にした。こ
の混合液に1.59mol/Lのn−ブチルリチウムヘキサン溶液7.6mL(12mm
ol)を滴下し、2時間撹拌した。この混合物にホウ酸トリメチル1.4mL(15mm
ol)を加え、−78℃で2時間、室温で18時間撹拌した。反応後、この反応溶液に1
M希塩酸を酸性になるまで撹拌しながら加えた。これを酢酸エチルで抽出し、得られた有
機層を飽和食塩水で洗浄した。洗浄後、有機層に硫酸マグネシウムを加えて水分を吸着さ
せた。この懸濁液をろ過し、得られたろ液を濃縮し、ヘキサンを加え超音波をかけたのち
、再結晶したところ、目的の白色粉末を収量3.5g、収率97%で得た。また、上記合
成法の反応スキームを下記(A−1)に示す。
ル)−ビフェニル−4’−イル}−アントラセン(略称:FLPPA)の合成法]
50mL三口フラスコにて、9−(4−ブロモフェニル)−10−フェニルアントラセ
ンを2.1g(5.0mmol)、4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)
−フェニルボロン酸を3.6g(10mmol)、酢酸パラジウム(II)を2.0mg
(10μmol)、トリス(2−メチルフェニル)ホスフィンを6.0mg(20μmo
l)、エチレングリコールジメチルエーテルを15mL、2mol/L炭酸カリウム水溶
液5mLの混合物を、減圧下で攪拌しながら脱気した後、窒素雰囲気下、85℃で10時
間加熱撹拌し、反応させた。
をトルエンで再結晶したところ、淡黄色粉末を収量2.7g、収率84%で得た。また、
上記合成法の反応スキームを下記(A−2)に示す。
溶媒 酢酸エチル:ヘキサン=1:5)は0.63、9−(4−ブロモフェニル)−10
−フェニルアントラセンは0.78だった。
定データを示す。
,15H), 7.47−7.64(m,11H), 7.68−7.83(m,8H)
。
図16(A)を拡大して表したチャートである。測定結果から,目的物であるFLPPA
(略称)が得られたことを確認した。
100イオントラップ型GCMSシステム)により測定した。これにより、分子量646
.6(モードはEI+)をメインとするピークを検出し、目的物のFLPPA(略称)が
得られたことを確認した。
8に、薄膜の吸収スペクトルを図19に発光スペクトルを図20に示す。スペクトルの測
定には紫外可視分光光度計(日本分光株式会社製、V550型)を用いた。トルエン溶液
のスペクトルは、FLPPAのトルエン溶液を石英セルに入れて測定した。また、薄膜の
スペクトルは、FLPPAを石英基板に蒸着してサンプルを作製した。なお、トルエン溶
液の吸収スペクトルは石英セルにトルエンのみを入れて測定した吸収スペクトルを差し引
いた吸収スペクトルを図示し、薄膜の吸収スペクトルは石英基板の吸収スペクトルを差し
引いた吸収スペクトルを図示した。
り極大発光波長は421nm、435nm(励起波長376nm)、図19よりFLPP
Aの薄膜における最大吸収波長は402nm、図20より最大発光波長は445nm付近
(励起波長402nm)にあることがわかった。このことから、FLPPAのみを蒸着し
た膜は、可視光領域の大半において大きな吸収を有さず、透光性の高い膜であることがわ
かった。
理研計器社製、AC−2)で測定した。得られたイオン化ポテンシャルの値を、負の値に
換算した結果、FLPPAのHOMO準位は−5.83eVであった。図19の薄膜の吸
収スペクトルのデータより、直接遷移を仮定したTaucプロットから求めたFLPPA
の吸収端は2.94eVであった。従って、FLPPAの固体状態の光学的エネルギーギ
ャップは2.94eVと見積もられ、先に得たHOMO準位とこのエネルギーギャップの
値から、FLPPAのLUMO準位が−2.89eVと見積もることができる。このよう
に、FLPPAは固体状態において2.94eVの広いエネルギーギャップを有している
事がわかった。
クボルタンメトリ(CV)測定によって調べた。なお測定には、電気化学アナライザー(
ビー・エー・エス(株)製、型番:ALSモデル600A又は600C)を用いた。
Sigma−Aldrich社製、99.8%、カタログ番号;22705−6)を用い
、支持電解質である過塩素酸テトラ−n−ブチルアンモニウム(n−Bu4NClO4)
((株)東京化成製、カタログ番号;T0836)を100mmol/Lの濃度となるよ
うに溶解させ、さらに測定対象を2mmol/Lの濃度となるように溶解させて調製した
。また、作用電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、PTE白金電極)を、
補助電極としては白金電極(ビー・エー・エス(株)製、VC−3用Ptカウンター電極
(5cm))を、参照電極としてはAg/Ag+電極(ビー・エー・エス(株)製、RE
5非水溶媒系参照電極)をそれぞれ用いた。なお、測定は室温(20〜25℃)で行った
。また、CV測定のスキャン速度は0.1V/sに統一した。
Vまで変化させた後、1.20Vから−0.44Vまで変化させる走査を1サイクルとし
、100サイクル測定した。還元反応特性の測定は、参照電極に対する作用電極の電位を
−0.35Vから−2.40Vまで変化させた後、−2.40Vから−0.34Vまで変
化させる走査を1サイクルとし、100サイクル測定した。測定結果を図21及び図22
に示す。なお、図21が酸化反応特性、図22が還元反応特性のCVチャートである。
ピーク及び還元ピークに大きな変化は無くFLPPAは酸化状態と中性状態との間の酸化
還元の繰り返し及び還元状態と中性状態との間の酸化還元の繰り返しに良好な特性を示す
ことがわかった。
。
ギーは−4.85eVである。
た。また、還元ピーク電位Epcは0.80Vであった。したがって、半波電位(Epa
とEpcの中間の電位)は0.88Vと算出できる。このことは、FLPPAは0.88
[V vs.Ag/Ag+]の電気エネルギーにより酸化されることを示しており、この
エネルギーはHOMO準位に相当する。ここで、上述した通り、本実施例で用いる参照電
極の真空準位に対するポテンシャルエネルギーは、−4.85[eV]であるため、FL
PPAのHOMO準位は、−5.73[eV]であることがわかった。
20V、還元ピーク電位Epcは−2.27Vであった。したがって半波電位(Epaと
Epcの中間の電位)は−2.24Vと算出できる。このことは、FLPPAは−2.2
4[V vs.Ag/Ag+]の電気エネルギーにより還元されることを示しており、こ
のエネルギーはLUMO準位に相当する。ここで、上述した通り、本実施例で用いる参照
電極の真空準位に対するポテンシャルエネルギーは、−4.85[eV]であるため、F
LPPAのLUMO準位は、−2.62[eV]であることがわかった。なお、これらの
値は有効数字3桁として四捨五入した値である。
Ag/Ag+電極のフェルミ準位に相当し、その算出は、真空準位からのポテンシャルエ
ネルギーが既知の物質を当該参照電極(Ag/Ag+電極)を用いて測定した値から行え
ば良い。
ルギー(eV)の算出方法を具体的に説明する。メタノール中におけるフェロセンの酸化
還元電位は、標準水素電極に対して+0.610[V vs. SHE]であることが知
られている(参考文献;Christian R.Goldsmith et al.,
「J.Am.Chem.Soc.」, Vol.124, No.1,83−96, 2
002)。一方、本実施例で用いる参照電極を用いて、メタノール中におけるフェロセン
の酸化還元電位を求めたところ、+0.20[V vs.Ag/Ag+]であった。した
がって、この参照電極のポテンシャルエネルギーは、標準水素電極に対して0.41[e
V]低くなっていることがわかった。
ることが知られている(参考文献;大西敏博・小山珠美著、「高分子EL材料」(共立出
版)、p.64−67)。以上のことから、用いた参照電極の真空準位に対するポテンシ
ャルエネルギーは、−4.44−0.41=−4.85[eV]であると算出できる。
−9H−フルオレン−9−イル)−ビフェニル−4’−イル}−アントラセン(略称:F
LPPA)を発光層のホスト材料として用いた発光素子(発光素子2)について説明する
。また、比較例としてFLPPAに代えてCzPAを用いた発光素子(比較発光素子2)
も作製したので同時に説明する。なお、CzPAは発光効率の良好な発光素子を作製する
ことができる発光素子用材料である。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
ス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPB)と酸化モ
リブデン(VI)とを、NPB:酸化モリブデン=4:1(重量比)となるように蒸着レ
ートを調節して共蒸着することにより、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmと
した。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させ
る蒸着法である。
i)で表されるN,9−ジフェニル−N−[4−(10−フェニル−9−アントリル)フ
ェニル]−9H−カルバゾール−3−アミン(略称:PCAPA)をFLPPA:PCA
PA=1:0.05(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着すること
によって発光層113を形成した。
ト)アルミニウム(III)(略称:Alq3)を10nm蒸着することにより、電子輸
送層114を形成した。さらに電子輸送層114上にAlq3とリチウムをAlq3:リ
チウム=1:0.01(重量比)となるように蒸着レートを調節し、共蒸着することによ
って電子注入層を形成した。膜厚は20nmとした。最後に、陰極として機能する第2の
電極104としてアルミニウムを200nm成膜し、発光素子2を完成させた。上述した
蒸着過程においては、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
して用いられたFLPPAを上記構造式(ii)で表されるCzPAに代えることで作製
した。
以上により得られた発光素子2及び比較発光素子2を、窒素雰囲気のグローブボックス
内において、発光素子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、これらの発光
素子の動作特性について測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で
行った。
は縦軸が電流効率(cd/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図24では縦軸が色
度(単位なし)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。
用いた発光素子は、CzPAをホスト材料として用いた発光素子と同様、良好な輝度−発
光効率特性を示し、発光効率が良好な発光素子であることがわかった。特に、100cd
/m2から3000cd/m2の範囲は、良好な特性を有していることがわかった。これ
は、FLPPAが広いエネルギーギャップを有することから、青色の蛍光を発する発光物
質であっても、有効に励起することができるためである。また、図24から、FLPPA
を青色の蛍光を発する発光素子の発光層におけるホスト材料に用いた発光素子は、各輝度
における色変化が少なく、キャリアバランスが良好な発光素子であることがわかった。
す。
図25に示す。図25では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は
最大発光強度を1とした相対的な値として示す。図25より発光素子2、比較発光素子2
のスペクトルはほぼ重なっており、発光中心物質であるPCAPA起因の青色の蛍光を呈
することがわかった。
−9H−フルオレン−9−イル)−ビフェニル−4’−イル}−アントラセン(略称:F
LPPA)を発光層のホスト材料として用いた発光素子(発光素子3)について説明する
。また、比較例としてFLPPAに代えてCzPAを用いた発光素子(比較発光素子3)
も作製したので同時に説明する。なお、CzPAは発光効率の良好な発光素子を作製する
ことができる発光素子用材料である。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
ス[N−(1−ナフチル)−N−フェニルアミノ]ビフェニル(略称:NPB)と酸化モ
リブデン(VI)とを、NPB:酸化モリブデン=4:1(重量比)となるように蒸着レ
ートを調節し、共蒸着することにより、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmと
した。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させ
る蒸着法である。
)で表されるN,N’−ビス[4−(9H−カルバゾール−9−イル)フェニル]−N,
N’−ジフェニルスチルベン−4,4’−ジアミン(略称:YGA2S)をFLPPA:
YGA2S=1:0.05(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着す
ることによって発光層113を形成した。
ト)アルミニウム(III)(略称:Alq3)を10nm蒸着することにより、電子輸
送層114を形成した。さらに電子輸送層114上にAlq3とリチウムをAlq3:リ
チウム=1:0.01(重量比)となるように蒸着レートを調節し、共蒸着することによ
って電子注入層を形成した。膜厚は20nmとした。最後に、陰極として機能する第2の
電極104としてアルミニウムを200nm成膜し、発光素子3を完成させた。上述した
蒸着過程においては、蒸着は全て抵抗加熱法を用いた。
して用いられたFLPPAをCzPAに代えることで作製した。
以上により得られた発光素子3及び比較発光素子3を、窒素雰囲気のグローブボックス
内において、発光素子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、これらの発光
素子の動作特性について測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で
行った。
は縦軸が電流効率(cd/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図27では縦軸が色
度(単位なし)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。
用いた発光素子は、CzPAをホスト材料として用いた発光素子と同様、良好な輝度−発
光効率特性を示し、発光効率が良好な発光素子であることがわかった。また、特に、20
0cd/m2から2000cd/m2の範囲では良好な特性を有していることがわかった
。これは、FLPPAが広いエネルギーギャップを有することから、青色の蛍光を発する
発光物質であっても、有効に励起することができるためである。また、図27から、FL
PPAを青色の蛍光を発する発光素子の発光層におけるホスト材料に用いた発光素子は、
各輝度における色変化が少なく、キャリアバランスが良好な発光素子であることがわかっ
た。
す。
図28に示す。図28では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は
最大発光強度を1とした相対的な値として示す。図28より発光素子3、比較発光素子3
共に、発光中心物質であるYGA2S由来の青色の蛍光を呈した。特に発光素子3ではよ
りシャープなスペクトルを有する色純度の良い青色発光が得られることがわかった。
レニル)フェニル]−9H−フルオレン(略称:BPPF)(構造式(118))と酸化
モリブデンの共蒸着膜を正孔注入層として用いた発光素子(発光素子4)について説明す
る。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
酸化モリブデン(VI)とを、BPPF:酸化モリブデン=2:1(重量比)となるよう
に蒸着レートを調節して共蒸着し、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmとした
。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸
着法である。
)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)を10nm成膜するこ
とにより、正孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(x)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)をCzPA:1,6mMemFLPAPrn=1
:0.04(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって
発光層113を形成した。
称:BPhen)を20nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子4を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子4を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素
子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、この発光素子の動作特性について
測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
特性を図32、輝度−外部量子効率特性を図33に示す。図30では縦軸が電流効率(c
d/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図31では縦軸が輝度(cd/m2)、横
軸が電圧(V)を示す。図32では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd/
m2)を示す。図33では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示す
。
層に用いた発光素子4は、良好な輝度−電流効率特性を示した。また、図32及び図33
から、発光素子4は輝度−パワー効率特性、輝度−外部量子効率特性共に良好であり、こ
れらの点から見ても、発光効率が良好な発光素子であることがわかった。
す。図34では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は最大発光強
度を1とした相対的な値として示した。図34より発光素子4は発光中心物質である1,
6mMemFLPAPrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図35に規格化輝度−時間特性を示す。図3
5から、発光素子4は、5000cd/m2という非常に高い輝度での駆動試験であるに
もかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であることがわかった。
物を含む複合材料は、発光素子を構成する材料として好適な材料であることがわかった。
)スピロ[9H−フルオレン−9,9’−[9H]フルオレン](略称:Spiro−p
ye)(構造式(517))と酸化モリブデンの共蒸着膜を正孔注入層として用いた発光
素子(発光素子5)について説明する。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
ス(1−ピレニル)スピロ[9H−フルオレン−9,9’−[9H]フルオレン](略称
:Spiro−pye)と酸化モリブデン(VI)とを、Spiro−pye:酸化モリ
ブデン=2:1(重量比)となるように蒸着レートを調節して共蒸着し、正孔注入層11
1を形成した。膜厚は50nmとした。なお、共蒸着とは、異なる複数の物質をそれぞれ
異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)を10nm成膜するこ
とにより、正孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(x)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)をCzPA:1,6mMemFLPAPrn=1
:0.04(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって
発光層113を形成した。
称:BPhen)を20nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子5を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子5を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素
子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、この発光素子の動作特性について
測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
特性を図38、輝度−外部量子効率特性を図39に示す。図36では縦軸が電流効率(c
d/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図37では縦軸が輝度(cd/m2)、横
軸が電圧(V)を示す。図38では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd/
m2)を示す。図39では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示す
。
を正孔注入層に用いた発光素子5は、良好な輝度−電流効率特性を示した。また、図38
及び図39から、発光素子5は輝度−パワー効率特性、輝度−外部量子効率特性共に良好
であり、これらの点から見ても、発光効率が良好な発光素子であることがわかった。
す。図40では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は最大発光強
度を1とした相対的な値として示した。図40より発光素子5は発光中心物質である1,
6mMemFLPAPrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図41に規格化輝度−時間特性を示す。図4
1から、発光素子5は、5000cd/m2という非常に高い輝度での駆動試験であるに
もかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であることがわかった。
物を含む複合材料は、発光素子を構成する材料として好適な材料であることがわかった。
スピロビ[9H−フルオレン])(略称:BSBF)(構造式(518))と酸化モリブ
デンの共蒸着膜を正孔注入層として用いた発光素子(発光素子6)について説明する。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
−ビ(9,9’−スピロビ[9H−フルオレン])(略称:BSBF)と酸化モリブデン
(VI)とを、BSBF:酸化モリブデン=2:1(重量比)となるように蒸着レートを
調節して共蒸着し、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmとした。なお、共蒸着
とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)を10nm成膜するこ
とにより、正孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(x)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)をCzPA:1,6mMemFLPAPrn=1
:0.04(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって
発光層113を形成した。
称:BPhen)を20nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子6を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子6を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素
子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、この発光素子の動作特性について
測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
特性を図44、輝度−外部量子効率特性を図45に示す。図42では縦軸が電流効率(c
d/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図43では縦軸が輝度(cd/m2)、横
軸が電圧(V)を示す。図44では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd/
m2)を示す。図45では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示す
。
層に用いた発光素子6は、良好な輝度−電流効率特性を示した。また、図44及び図45
から、発光素子6は輝度−パワー効率特性、輝度−外部量子効率特性共に良好であり、こ
れらの点から見ても、発光効率が良好な発光素子であることがわかった。
す。図46では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は最大発光強
度を1とした相対的な値として示した。図46より発光素子6は発光中心物質である1,
6mMemFLPAPrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図47に規格化輝度−時間特性を示す。図4
7から、発光素子6は、5000cd/m2という非常に高い輝度での駆動試験であるに
もかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であることがわかった。
物を含む複合材料は、発光素子を構成する材料として好適な材料であることがわかった。
スピロビ[9H−フルオレン])(略称:BSBF)(構造式(518))と酸化モリブ
デンの共蒸着膜を正孔注入層として用い、さらにBSBFを正孔輸送層として用いた発光
素子(発光素子7)について説明する。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
−ビ(9,9’−スピロビ[9H−フルオレン])(略称:BSBF)と酸化モリブデン
(VI)とを、BSBF:酸化モリブデン=2:1(重量比)となるように蒸着レートを
調節して共蒸着し、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmとした。なお、共蒸着
とは、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(x)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)をCzPA:1,6mMemFLPAPrn=1
:0.04(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって
発光層113を形成した。
称:BPhen)を20nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子7を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子7を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素
子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、この発光素子の動作特性について
測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
特性を図50、輝度−外部量子効率特性を図51に示す。図48では縦軸が電流効率(c
d/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図49では縦軸が輝度(cd/m2)、横
軸が電圧(V)を示す。図50では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd/
m2)を示す。図51では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示す
。
層に用い、さらにBSBFを正孔輸送層として用いた発光素子7は、良好な輝度−電流効
率特性を示した。また、図50及び図51から、発光素子7は輝度−パワー効率特性、輝
度−外部量子効率特性共に良好であり、これらの点から見ても、発光効率が良好な発光素
子であることがわかった。
す。図52では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は最大発光強
度を1とした相対的な値として示した。図52より発光素子7は発光中心物質である1,
6mMemFLPAPrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図53に規格化輝度−時間特性を示す。図5
3から、発光素子7は、5000cd/m2という非常に高い輝度での駆動試験であるに
もかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であることがわかった。
物を含む複合材料は、発光素子を構成する材料として好適な材料であることがわかった。
ェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル]シラン(略称:TpsiF)と酸化モ
リブデンの共蒸着膜を正孔注入層として用いた発光素子(発光素子8)について説明する
。
おいて、電子輸送層114と第2の電極104との間に電子注入層を設けた構造とした。
まず、第1の電極102として110nmの膜厚でケイ素を含むインジウム錫酸化物(
ITSO)が成膜されたガラス基板101を用意した。ITSO表面は、2mm角の大き
さで表面が露出するよう周辺をポリイミド膜で覆い、電極面積は2mm×2mmとした。
この基板上に発光素子を形成するための前処理として、基板表面を水で洗浄し、200℃
で1時間焼成した後、UVオゾン処理を370秒行った。その後、10−4Pa程度まで
内部が減圧された真空蒸着装置に基板を導入し、真空蒸着装置内の加熱室において170
℃で30分間の真空焼成を行った後、基板を30分程度放冷した。
けられたホルダーに固定した。
フルオレン−9−イル)フェニル]シラン(略称:TpsiF)と酸化モリブデン(VI
)とを、TpsiF:酸化モリブデン=2:1(重量比)となるように蒸着レートを調節
して共蒸着し、正孔注入層111を形成した。膜厚は50nmとした。なお、共蒸着とは
、異なる複数の物質をそれぞれ異なる蒸発源から同時に蒸発させる蒸着法である。
ル)]フェニル−10−フェニルアントラセン(略称:PCzPA)を10nm成膜する
ことにより、正孔輸送層112を形成した。
ェニル−9−アントリル)フェニル]−9H−カルバゾール(略称:CzPA)と上記構
造式(x)で表されるN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)をCzPA:1,6mMemFLPAPrn=1
:0.04(重量比)となるように蒸着レートを調節し、30nm蒸着することによって
発光層113を形成した。
称:BPhen)を20nm蒸着することにより、電子輸送層114を形成した。さらに
電子輸送層114上にフッ化リチウムを1nmとなるように蒸着することによって電子注
入層を形成した。最後に、陰極として機能する第2の電極104としてアルミニウムを2
00nm成膜し、発光素子8を完成させた。上述した蒸着過程においては、蒸着は全て抵
抗加熱法を用いた。
以上により得られた発光素子8を、窒素雰囲気のグローブボックス内において、発光素
子が大気に曝されないように封止する作業を行った後、この発光素子の動作特性について
測定を行った。なお、測定は室温(25℃に保たれた雰囲気)で行った。
特性を図56、輝度−外部量子効率特性を図57に示す。図54では縦軸が電流効率(c
d/A)、横軸が輝度(cd/m2)を示す。図55では縦軸が輝度(cd/m2)、横
軸が電圧(V)を示す。図56では縦軸がパワー効率(lm/W)、横軸が輝度(cd/
m2)を示す。図57では縦軸が外部量子効率(%)、横軸が輝度(cd/m2)を示す
。
の複合材料を正孔注入層に用いた発光素子8は、良好な輝度−電流効率特性を示した。ま
た、図56及び図57から、発光素子8は輝度−パワー効率特性、輝度−外部量子効率特
性共に良好であり、これらの点から見ても、発光効率が良好な発光素子であることがわか
った。
す。図58では縦軸が発光強度、横軸が発光波長(nm)を示す。発光強度は最大発光強
度を1とした相対的な値として示した。図58より発光素子8は発光中心物質である1,
6mMemFLPAPrn起因の青色の発光を呈することがわかった。
駆動し、輝度の駆動時間に対する変化を調べた。図59に規格化輝度−時間特性を示す。
図59から、発光素子8は、5000cd/m2という非常に高い輝度での駆動試験であ
るにもかかわらず良好な特性を示し、信頼性の高い素子であることがわかった。
光素子を構成する材料として好適な材料であることがわかった。
上記実施例で用いたN,N’−ビス〔4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イ
ル)フェニル〕−N,N’−ジフェニルピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLP
APrn)(構造式(iii)の合成方法について具体的に説明する。1,6FLPAP
rnの構造を以下に示す。
100mL三口フラスコにて、マグネシウムを1.2g(50mmol)減圧下で30
分加熱撹拌し、マグネシウムを活性化させた。これを室温に冷まして窒素雰囲気にした後
、ジブロモエタン数滴を加えて発泡、発熱するのを確認した。ここにジエチルエーテル1
0mL中に溶かした2−ブロモビフェニルを12g(50mmol)ゆっくり滴下した後
、2.5時間加熱還流撹拌してグリニヤール試薬とした。
を500mL三口フラスコに入れた。ここに先に合成したグリニヤール試薬をゆっくり滴
下した後、9時間加熱還流撹拌した。
かし、1N−塩酸を加えて2時間撹拌した。この液体の有機層の部分を水で洗浄し、硫酸
マグネシウムを加えて水分を吸着させた。この懸濁液をろ過し、得られたろ液を濃縮し粘
度の高い物質を得た。
Lとを入れ、窒素雰囲気下、130℃で1.5時間加熱撹拌し、反応させた。
水、水、メタノールの順で洗浄したのち乾燥させ、目的物の白色粉末11gを収率69%
で得た。上記ステップ1の合成スキームを下記(E1−1)に示す。
略称:FLPA)の合成法]
9−(4−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレン5.8g(14.6mmol)
、アニリン1.7mL(18.6mmol)、ナトリウム tert−ブトキシド4.2
g(44.0mmol)を200mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。
この混合物にトルエン147.0mLとトリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘ
キサン溶液0.4mLを加えた。この混合物を60℃にし、ビス(ジベンジリデンアセト
ン)パラジウム(0)66.1mg(0.1mmol)を加え3.5時間攪拌した。攪拌
後、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:540−00135)、セラ
イト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16855)、アルミナを通して
吸引ろ過し、ろ液を得た。得られたろ液を濃縮した。得られたろ液を濃縮し得た固体を、
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=2:1)により
精製し、得られたフラクションを濃縮し、目的物の白色固体6.0gを収率99%で得た
。上記ステップ2の合成スキームを下記(E1−2)に示す。
ェニル〕−N,N’−ジフェニルピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLPAPr
n)の合成法]
1,6−ジブロモピレン0.4g(1.2mmol)、参考例1のステップ2で得た4
−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)ジフェニルアミン(略称:FLPA)
1.0g(2.4mmol)、ナトリウム tert−ブトキシド0.3g(3.6mm
ol)を50mL三口フラスコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエ
ン11.5mLとトリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘキサン溶液0.20m
Lを加えた。この混合物を70℃にし、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0
)31.1mg(0.05mmol)を加え4.0時間攪拌した。攪拌後、フロリジール
、セライト、アルミナを通して吸引ろ過し、ろ液を得た。得られたろ液を濃縮した。得ら
れたろ液を濃縮し得た固体を、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はクロロ
ホルム)により精製し、得られたフラクションを濃縮し、黄色固体を得た。得られた固体
を、トルエンとヘキサンの混合溶媒により洗浄した後、吸引ろ過をおこない黄色固体を得
た。得られた黄色固体をクロロホルムとヘキサンの混合溶媒で洗浄したところ、淡黄色粉
末状固体0.8gを、収率68%で得た。
華精製条件は、圧力2.7Pa、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、
360℃で加熱した。昇華精製後、目的物を0.4g、収率56%で得た。上記ステップ
3の合成スキームを下記(E2−A)に示す。
ス〔4−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−N,N’−ジフェ
ニルピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6FLPAPrn)であることを確認した。
1H NMRデータを以下に示す。
7.00−7.03(m、8H)、7.13−7.40(m、26H)、7.73−7.
80(m、6H)、7.87(d、J=9.0Hz、2H)、8.06−8.09(m、
4H)
上記実施例で用いた9−{4−(9−H−9−フェニルカルバゾール−3−イル)−フ
ェニリル}−フェナントレン(略称:PCPPn)(構造式(i))の合成方法について
具体的に説明する。PCPPnの構造を以下に示す。
法]
300mL三口フラスコにて、4−ブロモヨードベンゼン14g(50mmol)、9
−フェニル−9H−カルバゾール−3−ボロン酸14g(50mmol)、酢酸パラジウ
ム(II)110mg(0.5mmol)、トリ(o−トリル)ホスフィン300mg(
1.0mmol)、トルエン50mL、エタノール10mL、2mol/L炭酸カリウム
水溶液25mLの混合物を、減圧下で攪拌しながら脱気した後、窒素雰囲気下、80℃で
6時間加熱撹拌し、反応させた。
ライトを通してろ過した。得られたろ液を水で洗浄し、硫酸マグネシウムを加えて水分を
吸着させた。この懸濁液をろ過してろ液を得た。得られたろ液を濃縮し、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーによる精製を行った。このとき、クロマトグラフィーの展開溶媒と
して、トルエンとヘキサンの混合溶媒(トルエン:ヘキサン=1:4)を用いた。得られ
たフラクションを濃縮し、ヘキサンを加えて超音波をかけたのち、再結晶したところ、目
的物の白色粉末を収量15g、収率75%で得た。上記ステップ1の反応スキームを下記
(F1−1)に示す。
キサン=1:10)は、目的物は0.32、4−ブロモヨードベンゼンは0.74だった
。
定データを示す。測定結果から、3−(4−ブロモフェニル)−9−フェニル−9H−カ
ルバゾールが得られたことを確認した。
1H),7.40−7.64(m,13H),8.17(d,J=7.2Hz,1H),
8.29(s,1H)
酸の合成法]
300mL三口フラスコに、上記反応スキーム(F1−2)で得られた3−(4−ブロ
モフェニル)−9−フェニル−9H−カルバゾールを8.0g(20mmol)入れ、フ
ラスコ内の雰囲気を窒素置換したのち、脱水テトラヒドロフラン(略称:THF)100
mLを加えて−78℃にした。この混合液に1.65mol/Lのn−ブチルリチウムヘ
キサン溶液15mL(24mmol)を滴下し、2時間撹拌した。この混合物にホウ酸ト
リメチル3.4mL(30mmol)を加え、−78℃で2時間、室温で18時間撹拌し
た。反応後、この反応溶液に1M希塩酸を酸性になるまで加えて7時間撹拌した。これを
酢酸エチルで抽出し、得られた有機層を飽和食塩水で洗浄した。洗浄後、有機層に硫酸マ
グネシウムを加えて水分を吸着させた。この懸濁液をろ過し、得られたろ液を濃縮し、ヘ
キサンを加え超音波をかけたのち、再結晶したところ、白色粉末を収量6.4g、収率8
8%で得た。上記ステップ2の反応スキームを下記(F2−1)に示す。
キサン=1:10)は、目的物は0(原点)であり、3−(4−ブロモフェニル)−9−
フェニル−9H−カルバゾールは0.53だった。また、展開溶媒に酢酸エチルを用いた
シリカゲル薄層クロマトグラフィー(TLC)でのRf値は、目的物は0.72で、3−
(4−ブロモフェニル)−9−フェニル−9H−カルバゾールは0.93だった。
カルバゾール(略称:PCPPn)の合成法]
200mL三口フラスコへ9−フェニル−9H−カルバゾール−3−イル−フェニル−
4−ボロン酸を1.5g(5.0mmol)、9−ブロモフェナントレンを3.2g(1
1mmol)、酢酸パラジウム(II)を11mg(0.1mmol)、トリ(o−トリ
ル)ホスフィンを30mg(0.1mmol)、トルエン30mL、エタノール3mL、
2mol/L炭酸カリウム水溶液5mLの混合物を、減圧下で攪拌しながら脱気した後、
窒素雰囲気下、90℃で6時間加熱撹拌し、反応させた。
ール、アルミナ、セライトを通してろ過した。得られたろ液を水で洗浄し、硫酸マグネシ
ウムを加えて水分を吸着させた。この懸濁液をろ過してろ液を得た。得られたろ液を濃縮
し、シリカゲルカラムクロマトグラフィーによる精製を行った。このとき、クロマトグラ
フィーの展開溶媒として、トルエンとヘキサンの混合溶媒(トルエン:ヘキサン=1:4
)を用いた。得られたフラクションを濃縮し、アセトンとメタノールを加えて超音波をか
けたのち、再結晶したところ、白色粉末を収量2.2g、収率75%で得た。ステップ3
の反応スキームを下記(F2−2)に示す。
キサン=1:10)は、目的物は0.33、9−ブロモフェナントレンは0.70だった
。
示す。測定結果から、目的物であるPCPPn(略称)が得られたことを確認した。
11H),7.43−7.78(m,16H),7.86−7.93(m,3H),8.
01(dd,J=0.9Hz,7.8Hz,1H),8.23(d,J=7.8Hz,1
H),8.47(d,J=1.5Hz,1H),8.74(d,J=8.1Hz,1H)
,8.80(d,J=7.8Hz,1H)
上記実施例で用いたN,N’−ビス(3−メチルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(
9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(
略称:1,6mMemFLPAPrn)の合成方法について説明する。1,6mMemF
LPAPrnの構造式を以下に示す。
)フェニルアミン(略称:mMemFLPA)の合成>
9−(3−ブロモフェニル)−9−フェニルフルオレン3.2g(8.1mmol)、
ナトリウム tert−ブトキシド2.3g(24.1mmol)を200mL三口フラ
スコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエン40.0mL、m−トル
イジン0.9mL(8.3mmol)、トリ(tert−ブチル)ホスフィンの10%ヘ
キサン溶液0.2mLを加えた。この混合物を60℃にし、ビス(ジベンジリデンアセト
ン)パラジウム(0)44.5mg(0.1mmol)を加え、この混合物を80℃にし
て2.0時間攪拌した。攪拌後、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:
540−00135)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16
855)、アルミナを通して吸引濾過し、濾液を得た。得られた濾液を濃縮し得た固体を
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=1:1)によ
り精製し、トルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶し、目的の白色固体2.8gを、収率
82%で得た。上記ステップ1の合成スキームを以下に示す。
ェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:
1,6mMemFLPAPrn)の合成>
1,6−ジブロモピレン0.6g(1.7mmol)、3−メチルフェニル−3−(9
−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)フェニルアミン1.4g(3.4mmol)
、ナトリウム tert−ブトキシド0.5g(5.1mmol)を100mL三口フラ
スコに入れ、フラスコ内を窒素置換した。この混合物にトルエン21.0mL、トリ(t
ert−ブチル)ホスフィンの10%ヘキサン溶液0.2mLを加えた。この混合物を6
0℃にし、ビス(ジベンジリデンアセトン)パラジウム(0)34.9mg(0.1mm
ol)を加え、この混合物を80℃にして3.0時間攪拌した。攪拌後、トルエンを40
0mL加えて加熱し、熱いまま、フロリジール(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:
540−00135)、セライト(和光純薬工業株式会社、カタログ番号:531−16
855)、アルミナを通して吸引濾過し、濾液を得た。得られた濾液を濃縮し得た固体を
、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(展開溶媒はヘキサン:トルエン=3:2)によ
り精製し、黄色固体を得た。得られた黄色固体をトルエンとヘキサンの混合溶媒で再結晶
し、目的の黄色固体を1.2g、収率67%で得た。
精製条件は、圧力2.2Pa、アルゴンガスを流量5.0mL/minで流しながら、3
17℃で黄色固体を加熱した。昇華精製後、目的物の黄色固体1.0gを、収率93%で
得た。上記ステップ2の合成スキームを以下に示す。
チルフェニル)−N,N’−ビス〔3−(9−フェニル−9H−フルオレン−9−イル)
フェニル〕−ピレン−1,6−ジアミン(略称:1,6mMemFLPAPrn)である
ことを確認した。
,J=7.2Hz,2H)、6.74(d,J=7.2Hz,2H)、7.17−7.2
3(m,34H)、7.62(d,J=7.8Hz,4H)、7.74(d,J=7.8
Hz,2H)、7.86(d,J=9.0Hz,2H)、8.04(d,J=8.7Hz
,4H)
102 第1の電極
103 有機化合物を含む層
104 第2の電極
111 正孔注入層
112 正孔輸送層
113 発光層
114 電子輸送層
301 基板
302 第1の電極
304 第2の電極
311 電子輸送層
312 発光層
313 正孔輸送層
314 正孔注入層
400 基板
401 第1の電極
402 補助電極
403 EL層
404 第2の電極
405 シール材
406 シール材
407 封止基板
412 パッド
420 ICチップ
501 第1の電極
502 第2の電極
511 第1の発光ユニット
512 第2の発光ユニット
513 電荷発生層
601 駆動回路部(ソース側駆動回路)
602 画素部
603 駆動回路部(ゲート側駆動回路)
604 封止基板
605 シール材
607 空間
608 配線
609 FPC(フレキシブルプリントサーキット)
610 素子基板
611 スイッチング用TFT
612 電流制御用TFT
613 第1の電極
614 絶縁物
616 有機化合物を含む層
617 第2の電極
618 発光素子
623 nチャネル型TFT
624 pチャネル型TFT
901 筐体
902 液晶層
903 バックライトユニット
904 筐体
905 ドライバIC
906 端子
951 基板
952 電極
953 絶縁層
954 隔壁層
955 有機化合物を含む層
956 電極
2001 筐体
2002 光源
3001 照明装置
7101 筐体
7103 表示部
7105 スタンド
7107 表示部
7109 操作キー
7110 リモコン操作機
7201 本体
7202 筐体
7203 表示部
7204 キーボード
7205 外部接続ポート
7206 ポインティングデバイス
7301 筐体
7302 筐体
7303 連結部
7304 表示部
7305 表示部
7306 スピーカ部
7307 記録媒体挿入部
7308 LEDランプ
7309 操作キー
7310 接続端子
7311 センサ
7401 筐体
7402 表示部
7403 操作ボタン
7404 外部接続ポート
7405 スピーカ
7406 マイク
7400 携帯電話機
Claims (4)
- フルオレンの9位に1つ又は2つのフェニレン基のみを介して2環以上4環以下の縮合環が結合し、且つ、分子量が400以上2000以下である炭化水素化合物と、
前記炭化水素化合物に対して電子受容性を示す無機化合物を含有する複合材料。 - 請求項1において、
前記縮合環は置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基及び置換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一である複合材料。 - フルオレンにアリール基が1又は複数結合している、分子量が400以上2000以下である炭化水素化合物と、
前記炭化水素化合物に対して電子受容性を示す無機化合物を含有し、
前記アリール基が、前記フルオレンの2位又は前記フルオレンの2位および7位に直接結合しており、
前記アリール基は、置換又は無置換のナフチル基、置換又は無置換のアントリル基、置換又は無置換のフェナントリル基、置換又は無置換のトリフェニレニル基、置換又は無置換のピレニル基、置換又は無置換のクリセニル基及び置換又は無置換のテトラセニル基から選ばれる一である複合材料。 - 一対の電極間に有機化合物を含む層を有し、前記有機化合物を含む層に請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の複合材料を有する発光素子。
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