JP5850739B2 - 摩擦材の製造方法 - Google Patents
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Description
しかしながら、これらの摩擦材は、その製法の困難性、製造する上での高エネルギー、コストが従来品より割高になるなど、課題が残っている。
特許文献7では、押え型、中型及び加圧型からなる摩擦材の熱成形用金型を用いて摩擦材原料の予備成形体を熱成形する際、押え型と加圧型に温度差を設け、熱成形時に予備成形体が最後に硬化する部分を押え型か加圧型のいずれか一方に寄せるとともに、この最終硬化部に対応する押え型または加圧型に前記最終硬化部に突入し、かつ前記の型に外部に通じるガス抜き路を持つ突起を設けることによって前記最終硬化部からガス抜きできるようにした摩擦材の熱成形過程のガス抜き方法が記載されている。
しかし、これらの方法を用いても未だ十分とはいえず、熱成形完了後に製品が徐々に膨張し、ヒビやフクレを起こすケースが確認され、これらの対策を施した場合でも解決にならなかった。
従って、本発明の課題の一つは、高温・高負荷に適合し、有機系摩擦材と同様な工程に焼成工程を付け加えるだけで製造できる高耐熱性摩擦材を提供することである。
また、無機バインダーを用いた摩擦材において、従来の成形法では熱成形完了後に製品が徐々に膨張し、ヒビやフクレを起こすケースが確認され、各種対策を施した場合でも解決にならなかった。従って、本発明の別の目的は、熱成形完了後の製品のヒビやフクレなどといった成形不良を解消することのできる品質の優れた摩擦材を得る成形方法を開発することである。
(1)繊維基材、摩擦調整材、結合材及び無機材料よりなる摩擦材において、該結合材としてケイ素含有ポリマー及びナノ粒子材料を含有する原材料を酸化雰囲気で熱処理することにより不融化して、ケイ素含有ポリマーを酸素と架橋させた後、焼成処理してSi−Cネットワークが形成されたことを特徴とする摩擦材。
(2)前記熱処理が、160〜350℃の温度で、1〜10時間の間行ったものである上記(1)に記載の摩擦材。
(4)前記ケイ素含有ポリマーが摩擦材組成全体の5〜10質量%配合されていることを特徴とする上記(1)〜(3)のいずれか1つに記載の摩擦材。
(5)前記ケイ素含有ポリマー100質量部に対して、前記ナノ粒子材料を15〜50質量部含有することを特徴とする上記(1)〜(4)のいずれか1つに記載の摩擦材。
(6)前記ナノ粒子材料がシリカである上記(1)〜(5)のいずれか1つに記載の摩擦材。
(7)前記シリカがオルガノシリカゾルである上記(6)に記載の摩擦材。
(9)前記不融化処理における熱処理の昇温速度を、1時間あたり14〜140℃で行うことを特徴とする上記(8)に記載の摩擦材の製造方法。
(10)前記不融化処理における熱処理を、ミリ波加熱を用いて行うことを特徴とする上記(8)又は(9)に記載の摩擦材の製造方法。
(12)前記予備成形が圧力25〜300MPaの予備成形を施したことを特徴とする上記(8)〜(11)のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
また、ピッチを焼成摩擦材のバインダーとして使用すると、有害物質であるベンゾピレンが製造工程内で微量排出される恐れがあるが、ケイ素含有ポリマーに替えると環境汚染のない耐熱性に優れた焼成摩擦材として使用することが可能となる。
本発明に用いられるケイ素含有ポリマーは、例えば、SiCからなるセラミックス製品を製造する際、直接賦形化して焼成する方法、プリフォームに含浸した後、熱分解によりセラミックス化する方法等に用いられる、セラミックス前駆体として知られているケイ素含有ポリマーを用いることができる。
本発明の特徴は、フェノール樹脂を結合材とする有機系摩擦材の場合と同様な製法に焼成工程を付け加えるだけで、ケイ素含有ポリマーをバインダーとした摩擦材を製造することである。
本発明においては、結合材をすべてケイ素含有ポリマーとする必要はなく、ケイ素含有ポリマーとともに他の樹脂を併用することができる。これについては後記する。
ポリカルボシランは単独重合体であってもよく、共重合体、ブロック体あるいはグラフト体又はブレンド体であってもよい。本発明における前記ポリカルボシランの数平均分子量は、通常、500〜10,000である。
その実施の形態においては、車両等に搭載されるディスクブレーキ装置のブレーキパッドやドラムブレーキ装置のブレーキライニングなどのブレーキ用の摩擦材を製造するのに適用され、粉粒状の各種の構成成分(原料)を所定の比率で混合させた摩擦材母材を形成する配合・攪拌工程と、その摩擦材母材を予備成形用金型に投入して加圧成形して所定形状の予備成形体を得る予備成形工程と、予備成形体とともに熱成形用金型に投入して所定の成形圧力、温度による熱成形処理を施して所定の摩擦材形状に成形した熱成形体を得る熱成形工程と、熱成形体に対して後熱処理や研摩処理等を適宜実施することで所望形状の摩擦材として完成させる後処理工程とを順に行うようにして実施される。
酸化雰囲気での加熱処理によりケイ素含有ポリマーが不融化して酸素と架橋され、その後焼成処理により、バインダー内でネットワーク状のケイ素−炭素(Si−Cネットワーク)構造が構築される。
酸化雰囲気での熱処理は160〜350℃(好ましくは160〜300℃)、0.1〜0.3MPaの加圧下、処理時間1〜10時間の条件が望ましい。これらの条件範囲内であれば、ケイ素含有ポリマーの流出が抑えられ、寸法安定性も良好である。
例えば、250〜350℃、0.1〜0.3MPaの加圧下にて1〜5時間の処理時間が好ましい。ミリ波加熱を行うことで、上記のとおりケイ素含有ポリマーの流出が抑えられ、緻密なセラミックスネットワークが形成されるとともに、加熱処理時間を短縮させることができる。
焼成温度が800℃以上において、十分なSi−Cの強化ネットワークが達成されるとともに、1000℃以下において、他に配合されている原材料の消失、溶け出しもなく、安定した摩擦性能が得られるため、好ましい。また、摩擦構造体として十分な機械的強度も得られる。
焼成時間(キープ時間)はSi成分のネットワークを形成するための反応を完了させるため、かつ物性安定性を考慮し、1時間以上のキープ時間が好ましい。2時間を超える焼成時間は過剰な高エネルギー製造となり、コスト面から好ましくない。焼成工程においては試料の膨張が懸念されるため、0.5MPa程度の荷重をかけ、寸法安定性を向上させることが好ましい。
耐熱性を考えると無機材料が挙げられる。例えばジルコニア、アルミナ、チタニア、マグネシア、フッ化カルシウム、ボロンナイトライド、SiC等の熱処理温度に耐えられるセラミックスを挙げることができる。
一般的な配合組成としては、摩擦材の配合材全体を100質量%としたとき、繊維基材10〜50質量%、無機材料15〜30質量%、結合材5〜10質量%及び金属粉1〜10質量%である。
実施例1〜6並びに参考例1及び2の試作条件・製造フローは下記の通りである。
(1)無機バインダーA〜Cの調製
ケイ素含有ポリマーのキシレン溶液(宇部興産(株)製:VZ−100、50%溶液)とナノシリカMEK溶液(シーアイ化成(株)製:SIMEK、15%溶液)を表1に示す配合で混合した後、真空オーブンで150℃、24時間加熱乾燥を行った。乾燥後、バインダーを粉砕し、粉末状の無機バインダーA〜Cを得た。
上記ケイ素含有ポリマーのキシレン溶液(VZ−100、50%溶液)を真空オーブンで150℃、24時間加熱乾燥を行った。乾燥後、バインダーを粉砕し、粉末状の無機バインダーDを得た。
表2に示した原材料を、表2に示す配合量で、アイリッヒ混合攪拌機に投入してチョッパ回転数1500rpm、パン回転数42rpmとし、常温で2分間混合攪拌を行った。
上記混合物を予備成形プレスの金型に投入し、室温・25MPaで5秒間加圧成形して予備成形体を作製した。(サンプルサイズ:100×50mm)
4.熱成形
予備成形体を小型熱プレス機で、成形温度160℃、面圧50MPa、成形時間:7分間で加熱加圧成形し、熱成形体を作製した。
5.熱処理(不融化処理)
熱成形体を加熱用治具にセットし、0.2MPaで加圧保持しながら、オーブン中で300℃まで第3表に示す所定の速度で昇温し、不融化処理を行った。
6.焼成
不融化処理品を焼成炉に投入し、0.5MPaで加圧保持しながらアルゴンガス雰囲気下800℃で焼成して摩擦材とした。
摩擦材の各種評価は下記測定法に従った。
(1)無機バインダーの流れ性試験
無機バインダーA〜Dを0.3g秤量し、常温圧縮成形により直径7mm、高さ7mmの円筒形成形体を作製する。ガラス板を20°の角度に傾斜させた状態に保持し、オーブン中でガラス板温度275℃に加熱調整した後、上記の円筒形成形体をガラス板上に載せてオーブン中で15分間保持した後、ガラス板を取り出し、十分に冷却した後、無機バインダーの流れた距離を測定する。
不融化処理後の成形体外周部を目視で観察し、染み出しの程度を下記評点により評価する。
5点:染み出しなし、4点:僅かに染み出しあり、3点:染み出しあり、2点:染み出し大、1点:染み出し極大
a.焼成後の摩擦材厚み(15mm狙い)とロックウェル硬さを測定する。
b.焼成後の摩擦材の形状の状態を「○;良好」、「△;可」、「×;不良」の3段階で評価した。
作製したサンプルをテストピース(13×35mm)に加工し、小型ダイナモ式慣性型摩擦試験機を用いて性能試験を行った。表4に、第2効力及び1stフェードの結果を示した。
(1stフェード試験方法)
初速度:100km/h→3km/h
減速度:0.45G
制動回数:9回
制動サイクル:35秒
なお、フェード率(%)=[(minμ(最低μ))/1回目μ]×100である。
更に、性能試験終了後に、ロータ/パッドの摩耗量(μm/mm)を測定し、ロータ攻撃性(相手材攻撃性)を評価した。
実施例7及び8の試作条件・製造フローは下記の通りである。
(1)無機バインダーE及びFの調製
ナノシリカ溶液として、無機バインダーEでは、ナノシリカ(鎖状粒子)のMEK溶液(日産化学工業(株)製:MEK−ST−UP、固形分20%)を、無機バインダーFでは、ナノシリカのキシレン溶液(日産化学工業(株)製:XBA−ST、固形分30%)を用い、それぞれ表5に示す配合で混合した以外は、上記無機バインダーAの調製方法と同様にして、粉末状の無機バインダーE及びFを得た。
Claims (11)
- 繊維基材、摩擦調整材、結合材及び無機材料よりなる摩擦材の製造方法において、該結合材としてケイ素含有ポリマー及びナノ粒子材料を含有する原材料を酸化雰囲気で熱処理することにより不融化して、ケイ素含有ポリマーを酸素と架橋させた後、焼成処理してSi−Cネットワークが形成されたことを特徴とする摩擦材の製造方法。
- 前記熱処理が、160〜350℃の温度で、1〜10時間の間行ったものである請求項1に記載の摩擦材の製造方法。
- 前記ケイ素含有ポリマーがポリカルボシラン、ポリオルガノボロシラザン、ポリボロシロキサン、ポリカルボシラザン、パーヒドロポリシラザンの群から選択された1つ又は2つ以上の化合物である請求項1又は請求項2に記載の摩擦材の製造方法。
- 前記ケイ素含有ポリマーが摩擦材組成全体の5〜10質量%配合されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記ケイ素含有ポリマー100質量部に対して、前記ナノ粒子材料を15〜50質量部含有することを特徴とする請求項1〜4のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記ナノ粒子材料がシリカである請求項1〜5のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記シリカがオルガノシリカゾルである請求項6に記載の摩擦材の製造方法。
- 前記不融化処理における熱処理の昇温速度を、1時間あたり14〜140℃で行うことを特徴とする請求項1〜7のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記不融化処理における熱処理を、ミリ波加熱を用いて行うことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記熱処理の後、さらに800〜1000℃の温度で1〜2時間焼成することを特徴とする請求項1〜9のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
- 前記熱処理の前に、上記原材料に圧力25〜300MPaの予備成形を施すことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1つに記載の摩擦材の製造方法。
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