JP5701625B2 - Ophthalmic laser treatment device - Google Patents
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Description
本発明は、患者眼にレーザ光を照射し、治療を行う眼科用レーザ治療装置に関する。 The present invention relates to an ophthalmic laser treatment apparatus that performs treatment by irradiating a patient's eye with laser light.
眼科用レーザ治療装置の1つとして、光凝固装置が知られている。光凝固治療(例えば、汎網膜光凝固治療)では、治療レーザ光を患者眼の眼底組織に1スポットずつ照射し、組織を熱凝固させる。治療レーザ光の照射に際しては、治療レーザ光の照準を合わせるための可視のエイミング光(照準光)が照射される(例えば、特許文献1参照)。近年では、ガルバノミラー等を備えた走査ユニットをレーザ光のデリバリユニットに組み込み、予め設定された複数のスポットの照射パターンに基づいて治療レーザ光のスポットを眼底組織上で走査する装置が提案されている(例えば、特許文献2及び3参照)。この装置においては、例えば、スポットが3×3、5×5等の方形行列で配列されたパターン、スポットが円弧状(扇形の場合も含む)に配列されたパターン、等の複数の所定の照射パターンがメモリに予め記憶されており、術者が組織の状態に応じて所望の照射パターンを選択可能に構成されている。また、エイミング光も照射パターンに基づいて照射される。 A photocoagulation device is known as one of ophthalmic laser treatment devices. In photocoagulation treatment (for example, panretinal photocoagulation treatment), treatment laser light is irradiated to the fundus tissue of a patient's eye one by one to heat the tissue. At the time of irradiation of the treatment laser light, visible aiming light (aim light) for aiming the treatment laser light is irradiated (for example, see Patent Document 1). In recent years, an apparatus has been proposed in which a scanning unit equipped with a galvanometer mirror or the like is incorporated in a laser light delivery unit and a treatment laser light spot is scanned on the fundus tissue based on a preset irradiation pattern of a plurality of spots. (For example, see Patent Documents 2 and 3). In this apparatus, for example, a plurality of predetermined irradiations such as a pattern in which spots are arranged in a rectangular matrix such as 3 × 3, 5 × 5, or a pattern in which spots are arranged in an arc shape (including a fan shape). The pattern is stored in advance in the memory, and the surgeon can select a desired irradiation pattern according to the state of the tissue. Aiming light is also irradiated based on the irradiation pattern.
特許文献2の技術は、エイミング光による照準時に、治療レーザ光が照射されるスポット位置に対して、エイミング光のスポットが全て同時に見えるように高速でエイミング光を走査(組織に照射)するものである。しかし、全てのエイミング光のスポットが同時に見えるので、エイミング光により視野が妨げられ、照準を合わせた眼底組織の状況を観察し難くなってしまう。特に、エイミング光のスポットが大きくなると、その弊害は大きい。また、広い領域にスポットが照射されるように照射パターンが設定されている場合、スポット位置での組織を確認するためには、エイミング光の照射領域を大きくずらす必要があり、この作業は煩雑であり、照準のやり直しにも手間が掛かる。エイミング光の照射と停止をスイッチ操作で切換える作業も煩雑である。 The technique of Patent Document 2 scans the aiming light (irradiates the tissue) at high speed so that all the spots of the aiming light can be seen simultaneously with respect to the spot position irradiated with the treatment laser light when aiming with the aiming light. is there. However, since all the spots of aiming light can be seen at the same time, the field of view is hindered by the aiming light, making it difficult to observe the state of the fundus tissue in which the aim is aimed. In particular, when the spot of aiming light becomes large, the adverse effect is large. In addition, when the irradiation pattern is set so that the spot is irradiated over a wide area, it is necessary to greatly shift the irradiation area of the aiming light in order to confirm the tissue at the spot position, which is complicated. Yes, it takes time to redo the aiming. The work of switching the irradiation and stopping of the aiming light by a switch operation is also complicated.
本発明は、上記従来技術の問題点に鑑み、エイミング光のスポットによる照準時に、照準位置の組織の状況を確認し易い眼科用レーザ治療装置を提供することを技術課題とする。 An object of the present invention is to provide an ophthalmic laser treatment apparatus that makes it easy to confirm the state of the tissue at the aiming position when aiming with a spot of aiming light.
上記課題を解決するために、本発明は以下のような構成を備えることを特徴とする。
(1) 治療レーザ光を出射する治療レーザ光源と、エイミング光を出射するエイミング光源と、治療レーザ光及びエイミング光を患者眼に照射する照射ユニットであって,治療レーザ光及びエイミング光のスポットを患者眼の組織上で2次元的に走査する走査部を含む照射ユニットと、を備え、複数のスポットが所定のパターンで配列された照射パターンに基づいて治療レーザ光のスポットを走査して照射する眼科用レーザ治療装置において、治療レーザ光の照射前の照準時に、前記照射パターンに基づいて前記走査部を駆動してエイミング光の照射を制御する制御手段であって、前記照射パターンの複数のスポットを外周の第1領域と該第1領域の内側の第2領域とに分割し、前記第1領域でのエイミング光のスポットが術者に同時に認識されるようにエイミング光の照射を制御し、第2領域でのエイミング光のスポットが術者に間欠的に認識されるようにエイミング光の照射を制御するか、又は前記第1領域と第2領域でのエイミング光のスポットが術者に別々で且つ間欠的に認識されるようにエイミング光の照射を制御する制御手段を備える。
In order to solve the above problems, the present invention is characterized by having the following configuration.
(1) A treatment laser light source that emits treatment laser light, an aiming light source that emits aiming light, and an irradiation unit that irradiates the treatment laser light and aiming light to a patient's eye. An irradiation unit including a scanning unit that scans two-dimensionally on a tissue of a patient's eye, and scans and irradiates a spot of a treatment laser beam based on an irradiation pattern in which a plurality of spots are arranged in a predetermined pattern In the ophthalmic laser treatment apparatus, when aiming before irradiation of treatment laser light, the control unit drives the scanning unit based on the irradiation pattern to control irradiation of aiming light, and a plurality of spots of the irradiation pattern Is divided into a first area on the outer periphery and a second area inside the first area, and the spot of aiming light in the first area is simultaneously recognized by the operator. The irradiation of the aiming light is controlled so that the spot of the aiming light in the second region is intermittently recognized by the operator, or the first region and the second region are controlled. Control means for controlling the irradiation of the aiming light is provided so that the spot of the aiming light in the region is recognized separately and intermittently by the operator .
本発明によれば、エイミング光のスポットによる照準時にも、照準位置の組織の状況を確認し易くできる。 According to the present invention, it is possible to easily confirm the state of the tissue at the aiming position even when aiming with the spot of aiming light.
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図1は眼底の光凝固治療等を行う眼科用レーザ治療装置の光学系及び制御系を示す概略構成図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an optical system and a control system of an ophthalmic laser treatment apparatus that performs photocoagulation treatment of the fundus.
眼科用レーザ治療装置100は、大別して、レーザ光源ユニット10を含むレーザ照射光学系(照射ユニット)40、観察光学系30、照明光学系60、制御部70、操作ユニット80、を備える。レーザ光源ユニット10には、治療レーザ光を出射する治療レーザ光源11、可視の照準レーザ光(エイミング光)を出射するエイミング光源12、治療レーザ光とエイミング光とを合波するビームスプリッタ(コンバイナ)13、集光レンズ14を備える。ビームスプリッタ13は、治療レーザ光の大部分を反射しエイミング光の一部を透過する。合波されたレーザ光は、集光レンズ14により集光され、レーザ照射光学系40へと導光する光ファイバ20の入射端面に入射される。また、治療レーザ光源11とビームスプリッタ13との間には、治療レーザ光を遮断するシャッタ15が設けられている。また、エイミング光源12からエイミング光及び治療レーザ光が導光される光路には第2のシャッタ16が設けられている。シャッタ16は、異常時に閉じられる安全シャッタであるが、エイミング光が走査(ターゲット面へ照射)されるときに、エイミング光の照射と遮断を行うために使用しても良い。シャッタ15も、治療レーザ光の照射と遮断を行うために使用しても良い。なお、各シャッタは、光路を切換える機能を有するガルバノミラーに置き換えてもよい。
The ophthalmic
レーザ照射光学系40は、本実施形態では、スリットランプ(図示を略す)に装着されるデリバリとされる。光ファイバ20を出射したレーザ光(治療レーザ光及びエイミング光)は、リレーレンズ41、レーザ光のスポットサイズを変更するために光軸方向に移動可能なズームレンズ42、ミラー43、コリメータレンズ44を介した後、走査部50、対物レンズ45、反射ミラー49を経て患者眼Eの眼底に照射される。走査部50は、レーザ光の照射方向(照射位置)を2次元的に移動させるスキャナミラーを持つ走査光学系で構成されている。走査部50は、第1のガルバノミラー(ガルバノスキャナ)51及び第2のガルバノミラー55を備える。ガルバノミラー51は、レーザ光を反射する第1のミラー52と、ミラー52を駆動(回転)する駆動部であるアクチュエータ52を備える。同様に、ガルバノミラー55は、第2ミラー56及びアクチュエータ57を備える。レーザ照射光学系40の各光学素子を通ったレーザ光は、反射ミラー49にて反射され、コンタクトレンズCLを介して患者眼Eのターゲット面(患者眼の組織上)である眼底に照射される。
In this embodiment, the laser irradiation
ズームレンズ42は図示を略すレンズカムに保持されており、術者の操作によりレンズカムが回転されることで、各ズームレンズ42が光軸方向に移動される。ズームレンズ42の位置は、レンズカムに取り付けられたエンコーダ42aにより検出される。制御部70は、各レンズの位置情報(検出信号)をエンコーダ42aより受け取り、レーザ光のスポットサイズを得る。レーザ光(スポット)がターゲット面で2次元上の照射パターンとして形成されるように、走査部50は制御部70からの指令信号に基づいて制御される。照射パターンとは、ターゲット面上でのスポットの配列パターンであり、ターゲット面上でスポットが走査されるパターンを言う。また、図示は略すが、反射ミラー49は、術者の操作により、レーザ光の光軸を2次元的に傾斜させる機構(手動マニュピュレータ)が接続されている。
The
走査部50の構成を説明する。図2は、走査部50の斜視図である。ミラー52は、反射面をx方向に揺動可能となるようにアクチュエータ53に取り付けられる。一方、ミラー56は、反射面をy方向に揺動可能となるようにアクチュエータ57に取り付けられる。本実施形態では、ミラー52の回転軸はy軸と一致し、ミラー56の回転軸はz軸と一致する。また、アクチュエータ53、57は制御部70に接続され、個別に駆動される。アクチュエータ53、57には、モータ及びポテンショメータが内蔵されており(共に図示せず)、ミラー52、56は、制御部70の指令信号に基づき独立に回転(揺動)される。このとき、アクチュエータ53、57のポテンショメータにより、ミラー52、56がどれだけ回転したかの位置情報が制御部70に送られ、制御部70は、指令信号に対するミラー52,56の回転位置を把握できる。
The configuration of the
観察光学系30、照明光学系60はスリットランプに搭載されている。観察光学系30は、対物レンズを初め、変倍光学系、保護フィルタ、正立プリズム群、視野絞り、接眼レンズ等を備える。患者眼をスリット光により照明可能な照明光学系60は、照明光源、コンデンサーレンズ、スリット、投影レンズ等を有する。
The observation
装置100の制御部70には、メモリ71、光源11、12、エンコーダ42a、アクチュエータ53、57、操作ユニット80、レーザ光を照射するトリガ入力手段であるフットスイッチ81が接続されている。操作ユニット80は、レーザ照射条件の設定、照射パターンの変更及び入力を兼ねるタッチパネル式のディスプレイ82を備える。ディスプレイ82には、各種のパネルスイッチが設けられており、レーザ光照射の照射条件のパラメータが設定可能とされる。ディスプレイ82は、グラフィカル・ユーザ・インターフェースの機能を有し、ユーザが視覚的に数値等の確認、設定を行うことができる構成とされる。照射条件の項目としては、治療レーザ光の出力設定部83、照射時間(パルス幅)設定部84、休止時間(治療レーザ光の照射時間間隔)設定部85、治療レーザ光の照射パターン(ターゲット面に形成する治療レーザ光のスポット位置の配列パターン)の設定部86、エイミングのモードを設定するモード設定部(モード選択手段)87、詳細設定スイッチ88、その他の設定部等を呼び出すためのメニュースイッチ82a等が用意されている。モード設定部87では、複数のエイミングモードを切換えて設定できる。
Connected to the
ディスプレイ82上の各項目をタッチすることにより数値を設定できる。例えば、術者が、スイッチ86aをタッチすることによりプルダウンメニューで設定可能な候補が表示され、術者が候補から数値を選択することにより項目における設定値が決定される。照射パターンは、予め複数用意され、術者がディスプレイ82上で選択可能に構成されている。照射パターンは、例えば、スポット(スポット位置)を2×2(縦×横)、3×3、4×4、等の正方行列状に並べるパターン(方形パターン)、スポットを曲線状(又は円弧状)に並べるパターン(曲線パターン又は円弧パターン)、円弧を外径方向や内径方向に並べ扇形を形成するパターン(扇形パターン)、スポットを円状に並べるパターン(円パターン)、この円パターンを分割するパターン(円分割パターン)、スポットを直線状に並べた直線パターン等が装置メーカによって用意され、メモリ71に記憶されている。円パターンには、2分の1円、4分の3円、4分の1円、等が用意されている。
A numerical value can be set by touching each item on the
ここで、上記の照射パターンにおいて、一部のパターンは、スポットをライン(直線又は曲線)状に並べた小パターン(照射パターン全体を分割するスポットの小集合をいう)を複数並べることにより、一つの照射パターンとしている。例えば、3×3の方形パターンは、直線(水平方区に延びた)状に3つのスポットを並べた小パターンを、3つ(3本)並べることにより、一つのパターンとしている。また、扇形パターンでは、曲線状にスポットを並べた小パターンを、3本並べることによって、一つのパターン(ここでは、トリプルアークと呼ぶ)を得ている。 Here, in the irradiation pattern described above, a part of the pattern is obtained by arranging a plurality of small patterns (referring to a small set of spots that divide the entire irradiation pattern) in which spots are arranged in a line (straight line or curved line). Two irradiation patterns are used. For example, a 3 × 3 rectangular pattern is formed as a single pattern by arranging three (three) small patterns in which three spots are arranged in a straight line (extending in the horizontal direction). In the fan-shaped pattern, one pattern (herein referred to as a triple arc) is obtained by arranging three small patterns in which spots are arranged in a curved line.
照射パターンは、設定部86が持つスイッチ86aにより、メモリ71に記憶されている複数の照射パターンの中から選択でき、設定部86の画面に表示される。また、ズームレンズ42の移動によって変えられるレーザ光のスポットサイズの情報は、ディスプレイ82に表示される。
The irradiation pattern can be selected from a plurality of irradiation patterns stored in the
ここで、円パターンは、操作ユニット80によりパターンの半径(又は直径)が定められる。定められた半径の円の上(円となる曲線状)にスポットが並べられる。このとき、スポットサイズ、スポット間隔の設定により、円形パターンのスポット数が変わる。本実施形態では、スポット数が3〜32個の間で変更される。
Here, the radius (or diameter) of the circular pattern is determined by the
フットスイッチ81が術者により踏まれると、制御部70は各種パラメータの設定に基づき、治療レーザ光のパターンをターゲット面に形成するようにレーザ光を照射させる。制御部70は、光源11を制御すると共に設定されたパターンに基づいて走査部50を制御し、ターゲット面(眼底)に治療レーザ光のパターンを形成する。
When the
図3は、治療レーザ光のスポットの照射パターンの一例を示す図である。図示するようにスポットSが、3×3の正方行列状に並べられてパターンが形成される。ここで、スポットSは、エイミング光、治療レーザ光のいずれも指す。このようなパターンに基づいて、治療レーザ光及びエイミング光が走査部50により走査され、ターゲット面にパターンが形成されることとなる。治療レーザ光の照射においては、スタート位置SPからスポットSの照射が開始され、終了位置GPへ向かってスポットSが2次元的に走査される。本実施形態では、図中の矢印が示すように、スポットSはできるだけスポットS間の移動を効率的に行うように、隣接するスポットSへと順番に走査される構成とする。
FIG. 3 is a diagram showing an example of the irradiation pattern of the spot of the treatment laser beam. As shown, the spots S are arranged in a 3 × 3 square matrix to form a pattern. Here, the spot S indicates both aiming light and treatment laser light. Based on such a pattern, the treatment laser beam and the aiming beam are scanned by the
スポットSの間隔は、ディスプレイ82に設けられえたスポット間隔設定部89により、スポット径の0.5倍〜2倍の範囲で任意に設定可能にされている。図3のように、スポットの配列が方形パターンの場合、スポットSの間隔は上下左右方向で等間隔になるように形成される。また、円パターンでは、予め設定した円の直径(又は半径)、スポットサイズ及びスポット間隔に基づいて、円上にスポットを配置する(制御部70が治療レーザ光及びエイミング光を走査する)。
The interval between the spots S can be arbitrarily set within a range of 0.5 to 2 times the spot diameter by a spot
以上のような構成を備える装置において、エイミング光の照射による照準動作を中心に説明する。手術に先立ち、照射パターン、治療レーザ光のスポットサイズ、治療レーザ光の出力、1スポットでのレーザ光の照射時間、等の手術条件が設定される。例えば、汎網膜光凝固治療のために、治療レーザ光のスポットサイズが200μmに設定され、照射パターンは5×5の正方パターンが選択されているものとする。また、エイミング光のモードとして、モード設定部87により第1エイミングモードと第2エイミングモードが選択できる。初めに第1エイミングモードが選択された場合を説明する。
In the apparatus having the above configuration, the sighting operation by the irradiation of aiming light will be mainly described. Prior to surgery, surgical conditions such as irradiation pattern, therapeutic laser beam spot size, therapeutic laser beam output, and laser beam irradiation time at one spot are set. For example, for the panretinal photocoagulation treatment, it is assumed that the spot size of the treatment laser beam is set to 200 μm, and a 5 × 5 square pattern is selected as the irradiation pattern. Further, as the aiming light mode, the
第1エイミングモードは、従来と同じく、エイミング光の全てのスポットが同時に認識されるモードである。術者は、照明光学系60からの照明光によって照らされた眼底を観察光学系30により観察すると共に、エイミング光が照射されるスポット位置を観察し、レーザ照射光学系40が搭載されたスリットランプ(観察光学系30、照明光学系60にて構成される)を患者眼に対して移動し、治療部位への照準合わせを行う。第1エイミングモードでは、照準時に、照射パターンの全てのスポットがエイミング光の残像で術者に同時に観察されるように、照射パターンに基づいてエイミング光源12及び走査部50の駆動が制御される。すなわち、各スポット位置では走査部50のガルバノミラー51、55の駆動が停止されると共に、一定時間のパルス幅(例えば、10ms)でエイミング光が照射される。次のスポット位置にスポットが移動されるときには、エイミング光の照射が停止される。各スポット位置への1スキャンの速度(周期)が人眼において残像効果が起こる時間より短ければ、術者に各スポットが同時に観察される。
The first aiming mode is a mode in which all spots of aiming light are recognized at the same time as in the prior art. The surgeon observes the fundus illuminated by the illumination light from the illumination
次に、第2エイミングモードが設定されている場合を説明する。第1エイミングモードでは、各スポット位置での眼底組織の状況等を確認し難い場合がある。特に、スポットが5×5で配列された方形パターンのように、広い範囲にレーザ光が照射される照射パターンが選択されている場合に、眼底組織の状況等を確認が難しい。この場合には、以下に説明する第2エイミングモードが好適に使用される。 Next, a case where the second aiming mode is set will be described. In the first aiming mode, it may be difficult to confirm the state of the fundus tissue at each spot position. In particular, when an irradiation pattern in which a laser beam is irradiated over a wide range is selected, such as a square pattern in which spots are arranged in 5 × 5, it is difficult to check the state of the fundus tissue. In this case, the second aiming mode described below is preferably used.
第2エイミングモードの第1例を説明する。照射パターンが構成される複数のスポット位置の内で、治療レーザ光の照射範囲を術者に認識させるための外周の第1領域と、第1領域の内側の第2領域と、に分割される。第1領域と第2領域の分割は、選択された照射パターンのスポットの配列に基づいて制御部70により決定される。例えば、スポットが5×5で配列された方形パターンでは、図4に示すように、少なくとも4隅のスポットを含む外周16個のスポットの第1領域Scと、第1領域Scの内側にある9個のスポットの第2領域Siと、に分割される。そして、第1領域に対して少なくとも第2領域Siでは、スポット位置の部位の状況が術者に確認しやすいような時間間隔で、間欠的にエイミング光の照射及び走査部50の駆動が制御される。言い換えると、第2領域Siでは、スポット位置の組織の状況と、エイミング光のスポットと、をある時間(エイミング光のスポットが術者に同時に観察されない所定時間)を隔てて認識できるように、エイミング光の照射及び停止が制御される。
A first example of the second aiming mode will be described. Of the plurality of spot positions constituting the irradiation pattern, the irradiation pattern is divided into a first area on the outer periphery for allowing the operator to recognize the irradiation range of the treatment laser light and a second area inside the first area. . The division of the first area and the second area is determined by the
また、好ましくは、第1領域Scの各スポットは、術者に同時に認識されるようにエイミング光の照射が制御される。第2領域のスポットは、さらに複数のサブ領域に分割され、分割されたサブ領域毎のスポットが間欠的に術者に認識されるように、エイミング光の照射が制御される。ここでは、第1領域と何れか一つのサブ領域により、一つのグループ(照射パターンを分割する)が形成される。図4の5×5の照射パターンでは、サブ領域Siは、横一列毎のサブ領域Si1、Si2、Si3に分割される。 Preferably, the irradiation of the aiming light is controlled so that each spot of the first region Sc is simultaneously recognized by the operator. The spot of the second region is further divided into a plurality of sub-regions, and the irradiation of the aiming light is controlled so that the operator can intermittently recognize the spot for each of the divided sub-regions. Here, one group (dividing the irradiation pattern) is formed by the first region and any one of the sub-regions. In the 5 × 5 irradiation pattern of FIG. 4, the subregion Si is divided into subregions Si1, Si2, and Si3 for each horizontal row.
具体的な制御を説明する。初めの1スキャン目から4スキャン目までは、図5(a)に示すように、第1領域Scの16個のスポット位置にのみエイミング光のスポットが照射されるように、走査部50及びエイミング光源(又はシャッタ16)の駆動が制御部70により制御される。各スポット位置では一定時間のパルス幅Ta(例えば、3ms)でエイミング光が照射され、スポットの移動時にはエイミング光の出射が停止れる。また、エイミング光の出射に同期して各グループのスポット位置にエイミング光を導光するようにガルバノミラー51、55の駆動が停止される。
Specific control will be described. From the first scan to the fourth scan, as shown in FIG. 5A, the
次の5スキャン目では、図5(b)に示すように、第1領域Scに加えて、第2領域Siに内のサブ領域Si1のスポット位置にエイミング光のスポットが照射されるように、走査部50及びエイミング光源(又はシャッタ16)の駆動が制御される。6スキャン目から9スキャン目までは、再び、図5(a)のように、第1領域Scの16個のスポット位置にのみエイミング光のスポットが照射される。次の10スキャン目では、図5(c)のように、第1領域Scに加えて、第2領域Si内のサブ領域Si2のスポット位置にエイミング光のスポットが照射される。11スキャン目から14スキャン目までは、再び、図5(a)のように、第1領域Scの16個のスポット位置にのみエイミング光のスポットが照射される。そして、15スキャン目では、図5(d)のように、第1領域Scに加えて、第2領域Si内のサブ領域Si3のスポット位置にエイミング光のスポットが照射される。以後、上記の1スキャン目から15スキャン目までのサイクルが繰り返される。
In the next fifth scan, as shown in FIG. 5B, in addition to the first region Sc, the spot of the aiming light is irradiated to the spot position of the sub-region Si1 in the second region Si. Driving of the
以上の例において、各スポット位置に照射されるエイミング光の照射時間(パルス幅)Taが3msに設定され、1回のスポットの移動時間が平均的に1msであるとすると、図5(a)の第1領域Scのみの場合の1スキャンの時間は64ms(0.064秒)である。1スキャンのエイミング光の照射が0.1秒未満であれば、人眼による残像の認識により、全てのスポットが同時に認識されやすい。図5(a)のスキャンは4スキャン分繰り返されるので、この時間は224ms(0.224秒)となる。
一方、上記の例のように、4スキャン毎にサブ領域Si1、Si2、Si3へのエイミング光の照射が行われる場合、その1スキャンの時間は76ms(0.076秒)である。したがって、図5(b)、(c)及び(d)のエイミング光の状態が約0.3秒毎に観察される。言い換えると、第2領域Siのサブ領域Si1、Si2、Si3の1つの領域のスポットが0.3秒毎に順次切換わって観察され、2つの領域にはエイミング光のスポットが観察されず、この間に術者は眼底組織の状況を確認できる。また、約0.3秒毎に間欠的に観察される領域Si1、Si2、Si3のエイミング光のスポットにより、治療レーザ光のスポット位置と治療部位との位置関係が把握できる。
In the above example, assuming that the irradiation time (pulse width) Ta of the aiming light irradiated to each spot position is set to 3 ms and the moving time of one spot is 1 ms on average, FIG. In the case of only the first region Sc, the time for one scan is 64 ms (0.064 seconds). If the irradiation of the aiming light of one scan is less than 0.1 seconds, all spots are easily recognized at the same time by the recognition of the afterimage by the human eye. Since the scan in FIG. 5A is repeated for four scans, this time is 224 ms (0.224 seconds).
On the other hand, when the aiming light is applied to the sub-regions Si1, Si2, and Si3 every four scans as in the above example, the time for one scan is 76 ms (0.076 seconds). Therefore, the states of the aiming light in FIGS. 5B, 5C, and 5D are observed about every 0.3 seconds. In other words, the spot of one region of the sub-region Si1, Si2, Si3 of the second region Si is sequentially switched every 0.3 seconds, and no spot of aiming light is observed in the two regions. In addition, the surgeon can confirm the condition of the fundus tissue. Further, the positional relationship between the spot position of the treatment laser beam and the treatment site can be grasped by the aiming light spots of the regions Si1, Si2, and Si3 that are intermittently observed every about 0.3 seconds.
照準合わせの完了後、術者がフットスイッチ81を踏むと、治療レーザ光の照射が開始される。制御部70は、フットスイッチ81からのトリガ信号に基づき、光源12からのエイミング光の出射を停止し、治療レーザ光源11から治療レーザ光を出射すると共に、走査部50を制御し、各スポット位置(5×5の正方パターン)に治療レーザ光を順次照射する。各スポット位置には治療レーザ光のパルス幅の設定時間に基づいて治療レーザ光が照射され、治療レーザ光の休止時間の間にスポットが移動される。
When the surgeon steps on the
以上のようにエイミング光の照射が制御されることにより、目的の治療部位へ照準合わせに平行して各スポット位置での眼底組織の状況等を確認しやすくなる。すなわち、治療レーザ光の照射範囲を示す第1領域Scでのエイミング光により、目的の治療部位へ照準合わせが行え、汎網膜光凝固治療のように照射パターンのスポットを別の部位に移動するときにも、照準合わせを第1エイミングモード時と同じように行える。一方、第2領域Siでは、エイミング光が間欠的に照射されているため、エイミング光が照射されていない間に各スポット位置での眼底組織の状況を確認することができる。また、エイミング光のスポットがある時間を置いて照射されるため、治療レーザ光が照射されるスポット位置も認識できる。 As described above, by controlling the irradiation of the aiming light, it becomes easy to confirm the state of the fundus tissue at each spot position in parallel with aiming at the target treatment site. That is, when aiming light at the first region Sc indicating the irradiation range of the treatment laser beam can be aimed at the target treatment site, and the spot of the irradiation pattern is moved to another site as in panretinal photocoagulation treatment In addition, aiming can be performed in the same manner as in the first aiming mode. On the other hand, since the aiming light is intermittently irradiated in the second region Si, the state of the fundus tissue at each spot position can be confirmed while the aiming light is not irradiated. Further, since the spot of the aiming light is emitted after a certain time, the spot position where the treatment laser light is emitted can be recognized.
なお、上記の例では、第1領域Scのスポット位置では、エイミング光のスポットがほぼ同時に観察されるが、そのスポット位置での眼底組織の状況を確認したいときには、1スポット分だけエイミング光の照射領域をずらせば良いので、大きな負担にならず、再度の照準合わせ時の手間も少ない。 In the above example, the spot of the aiming light is observed almost simultaneously at the spot position of the first region Sc. When it is desired to check the state of the fundus tissue at the spot position, the irradiation of the aiming light is performed for one spot. Since it is sufficient to shift the area, there is no great burden and less time is required for aiming again.
以上の実施形態は種々の変容か可能である。第2領域Siのサブ領域Si1、Si2、Si3にエイミング光が照射されるスキャンの順番(4スキャンの間を空けたスキャン)は例示に過ぎず、照射パターンにおける全体のスポット数、1スポットにおけるエイミング光の照射時間、1スキャンに掛かる時間との関係で適宜設定される。 また、サブ領域Si1、Si2、Si3を設けずに、所定のスキャン数(時間)を空けて第2領域Siの全スポット位置へエイミング光のスポットが照射されるようにしても良い。例えば、0.1秒以上、3秒以下の間欠(切換わり)の時間で、第2領域Siへのエイミング光を照射する。第2領域Siへのエイミング光の間欠の時間が0.1秒未満の場合には、残像により各スポットが同時に認識されたり、各スポットがちらついているように認識され、間欠的な観察に好ましくない。間欠の時間(切換わりの時間)が3秒以上となると、エイミング光によるスポット位置の確認がし難くなる。以上の説明では、エイミング光の間欠の時間を0.1秒以上の時間としたが、エイミング光を間欠的に術者に認識させるために1スキャンあたりの時間の下限を設定すればよい。例えば、1スキャンを0.3秒としてもよい。 The above embodiment can be variously modified. The order of scans in which the aiming light is irradiated onto the sub-regions Si1, Si2, and Si3 of the second region Si (scans with four scans between them) is merely an example, and the total number of spots in the irradiation pattern and aiming at one spot It is appropriately set in relation to the irradiation time of light and the time required for one scan. Further, the spot of aiming light may be irradiated to all spot positions in the second region Si with a predetermined number of scans (time) without providing the subregions Si1, Si2, and Si3. For example, the aiming light is irradiated to the second region Si in an intermittent (switching) time of 0.1 second or more and 3 seconds or less. When the intermittent time of the aiming light to the second region Si is less than 0.1 seconds, each spot is recognized simultaneously by the afterimage, or each spot is recognized as flickering, which is preferable for intermittent observation. Absent. If the intermittent time (switching time) is 3 seconds or more, it is difficult to confirm the spot position by aiming light. In the above description, the intermittent time of the aiming light is set to 0.1 second or longer. However, in order to make the surgeon recognize the aiming light intermittently, a lower limit of time per scan may be set. For example, one scan may be 0.3 seconds.
また、図4の例では、外周のスポット位置の全てを第1領域Scとしたが、照射パターンが方形パターンの場合には、図6(a)、(b)の斜線で示すように、少なくとも4隅のスポット位置が含まれる部分を第1領域Scとしても良い。図6(a)は4隅のスポット位置S11、S15、S51、S55を第1領域Scとした例であり、図6(b)は4隅のスポット位置が含まれ、且つ、外周のスポット位置で1個のスポット位置の間を空けて第1領域Scとした例である。 Further, in the example of FIG. 4, all of the outer peripheral spot positions are defined as the first region Sc. However, when the irradiation pattern is a square pattern, at least as shown by the oblique lines in FIGS. A portion including the spot positions at the four corners may be set as the first region Sc. FIG. 6A shows an example in which the four corner spot positions S11, S15, S51, and S55 are the first region Sc, and FIG. 6B includes the four corner spot positions and the outer peripheral spot positions. In this example, the first region Sc is formed with a space between one spot position.
また、図6(c)のように、スポット位置が1列に並べられるライン状の照射パターンの場合には、両端のスポット位置S11、S15を第1領域Scとし、その内側の領域のスポット位置を第2領域Siとすれば良い。また、スポット位置が円形や扇型に並べられる場合には、図6(b)の方法と同じように、外周のスポット位置で1個又は2個のスポット位置を空けたものを第1領域Scとすれば良い。これらの場合、第1領域Scの内側が第2領域Siとされる。 In the case of a linear irradiation pattern in which the spot positions are arranged in a line as shown in FIG. 6C, the spot positions S11 and S15 at both ends are set as the first area Sc, and the spot positions in the inner area May be the second region Si. Further, when the spot positions are arranged in a circle or a fan shape, as in the method of FIG. 6B, the first area Sc is formed by opening one or two spot positions at the outer spot positions. What should I do? In these cases, the inside of the first region Sc is the second region Si.
また、上記の例に対して、第1領域Scと第2領域Siでのエイミング光のスポットが術者に別々で且つ間欠的に認識されるように、エイミング光の照射が制御されるようにしても良い。例えば、1〜4スキャン目までは、第1領域Scのスポット位置へのみエイミング光が照射され、次の5〜8スキャン目までは、第2領域Siのスポット位置へのみエイミング光が照射され、これが繰り返して行われる。この場合、1スキャンの時間が平均的に0.1秒であるすると、0.4秒毎に、第1領域Scと第2領域Siのスポット位置が交互に切換えられて観察されるようになる。この例においては、第1領域Sc及び第2領域でエイミング光が観察されるときに、目的の治療部位へ照準合わせが行え、各領域でエイミング光が観察されないときに、治療部位の組織の状況を確認できる。この場合においても、間欠の時間は、前述と同じく、0.1秒以上、1秒以下に設定されていることが好ましい。 In addition to the above example, the aiming light irradiation is controlled so that the spot of the aiming light in the first region Sc and the second region Si is recognized by the operator separately and intermittently. May be. For example, the aiming light is irradiated only to the spot position of the first region Sc until the first to fourth scans, and the aiming light is irradiated only to the spot position of the second region Si until the next fifth to eighth scans, This is repeated. In this case, if the time of one scan is 0.1 seconds on average, the spot positions of the first region Sc and the second region Si are alternately switched and observed every 0.4 seconds. . In this example, when aiming light is observed in the first region Sc and the second region, the target treatment site can be aimed, and when the aiming light is not observed in each region, the tissue state of the treatment site Can be confirmed. Also in this case, the intermittent time is preferably set to 0.1 second or more and 1 second or less as described above.
また、走査部50の構成においては、1つのミラーをxy方向に傾斜等させる構成の部材を用いてもよい。あるいは、レーザ光等の走査をレンズの傾斜により実現する構成としてもよい。
In the configuration of the
以上のように、ディスプレイ82上で設定された照射パターンの各スポットは、複数のグループに分割され、エイミング光のスポットが術者に同時に観察されない時間を隔てて各ブループが順次切換えられる。これにより、術者は、エイミング光が照射されていないスポット位置の眼底組織を容易に観察できる。
As described above, each spot of the irradiation pattern set on the
次に、第2エイミングモードのさらなる変容例を説明する。初めに、スポットが横に3列以上並ぶ照射パターンが設定されているときの例を説明する。図7(a)は、スポットが5×5で配列された方形パターンの例である。この例の場合、図7(b)及び図7(c)のように、列に並ぶスポットを1つのグループ内に含むように分割されると共に、1列に並ぶスポットが各グループに重複して含まれないように、2つのグループに分割されている。第1グループSi1は、図7(b)のように、横列に並ぶ最上段の1段目と、最下段の5段目と、中間の3段目と、により構成される。第2グループSi2は、図7(c)のように、第1グループSi1に含まれていない2段目及び4段目により構成されると共に、照射パターンの最外周の4隅にあるスポットSScを含むように構成される。4隅のスポットSScは、第1グループ及び第2グループの両方に含まれるように構成されている。そして、エイミング光のスポットが術者の眼の残像効果によって同時に観察されなように設定された時間STを隔てて、第1グループSi1と第2グループSi2とが順次切換わるようにエイミング光が照射される。 Next, a further modification of the second aiming mode will be described. First, an example where an irradiation pattern in which three or more spots are arranged horizontally is set will be described. FIG. 7A shows an example of a square pattern in which spots are arranged in 5 × 5. In the case of this example, as shown in FIG. 7B and FIG. 7C, it is divided so that spots arranged in a row are included in one group, and spots arranged in a row overlap each group. It is divided into two groups so as not to be included. As shown in FIG. 7B, the first group Si1 is composed of an uppermost first stage, a lowermost fifth stage, and an intermediate third stage arranged in a row. As shown in FIG. 7C, the second group Si2 is composed of the second and fourth stages not included in the first group Si1, and the spots SSc at the four outermost corners of the irradiation pattern. Configured to include. The four corner spots SSc are configured to be included in both the first group and the second group. Then, the aiming light is irradiated so that the first group Si1 and the second group Si2 are sequentially switched at a time ST set so that the spot of the aiming light is not simultaneously observed due to the afterimage effect of the surgeon's eyes. Is done.
具体的な制御を説明する。図7(b)のグループのスポットと図7(c)のグループのスポットとが交互の照射される。図7(b)のグループを第1スキャン、図7(c)のグループを第2スキャンとする。各グループにおける1スキャンは、グループ内のスポットの全体が術者に同時に認識されるように、エイミング光のスポットが点灯され、各スポットが高速で走査される時間(呈示時間)である。第1スキャンと第2スキャンとの切換えの時間STは、切換え前のグループのスポットと切換え後のグループのスポットとが、術者眼の残像効果によっても同時に観察されない時間に設定されている。この時間STは、0.1秒以上、1.0秒以内が好ましい。時間STが0.1秒未満であると、第1スキャンと第2スキャンの間欠時間が短く、眼底組織の観察がし難くなりやすい。時間STが1.0秒を上回ると、時間が長すぎて、5×5の照射パターン全体のスポット位置の照準が行い難くなりやすい。時間STは、さらに好ましくは0.2〜0.5秒であり、本実施形態では0.25秒に設定されている。 Specific control will be described. The spot of the group of FIG.7 (b) and the spot of the group of FIG.7 (c) are irradiated alternately. The group in FIG. 7B is a first scan, and the group in FIG. 7C is a second scan. One scan in each group is a time (presentation time) in which the spots of the aiming light are turned on and each spot is scanned at high speed so that the operator can simultaneously recognize the entire spot in the group. The switching time ST between the first scan and the second scan is set to a time during which the spot of the group before switching and the spot of the group after switching are not simultaneously observed due to the afterimage effect of the surgeon's eyes. This time ST is preferably not less than 0.1 seconds and not more than 1.0 seconds. If the time ST is less than 0.1 seconds, the intermittent time between the first scan and the second scan is short, and it is difficult to observe the fundus tissue. If the time ST exceeds 1.0 seconds, the time is too long and it is difficult to aim the spot position of the entire 5 × 5 irradiation pattern. The time ST is more preferably 0.2 to 0.5 seconds, and is set to 0.25 seconds in this embodiment.
第1スキャンにおいて、4隅のスポットSScを含む領域Si1のスポット(15個)にのみエイミング光のスポットが照射されるように、走査部50及びエイミング光源(又はシャッタ16)の駆動が制御部70により制御される。各スポット位置では一定時間のパルス幅Ta(例えば、3ms)でエイミング光が照射され、スポットの移動時にはエイミング光の出射が停止れる。また、エイミング光の出射に同期してスポットの配置に対応する位置にエイミング光を導光するようにガルバノミラー51、55の駆動が停止される。なお、高速駆動が可能な走査部50の駆動時間がマイクロ秒オーダーの場合、スポットの移動時間は無視して考えることができる。従って、第1スキャンにおける全体の1スキャン時間は、スポット15個分のエイミング光の照射により、45ms程度となる。時間STが0.25秒(250ms)である場合、第1スキャンでは、スキャンが約6.7回分行われることになる。
In the first scan, the driving of the
第1スキャン開始から0.25秒が経過すると、次の第2スキャンが行われる。第2スキャンでは、4隅のスポットSScを含む第2グループSi2のスポット位置(12個)にのみエイミング光のスポットが照射されるように、走査部50及びエイミング光源(又はシャッタ16)の駆動が制御部70により制御される。この場合、1スキャンが36msでお行われるため、第2スキャンではスキャンが6.9回行われる。
When 0.25 seconds have elapsed from the start of the first scan, the next second scan is performed. In the second scan, the
このような、第1スキャンと第2スキャンとを0.25秒毎に交互に行い、術者に5×5の方形パターンを認識させつつ、照射パターンのほぼ全域のスポット位置の下にある組織の状況を確認させることができる。このとき、照射パターンの4隅のスポットSScが第1スキャンと第2スキャンで同時に行われているため、術者は、5×5の照射パターンの照射範囲を容易に認識でき、治療レーザ光の照準範囲の決定、及びフォーカス合わせ等を簡単にできる。また、照射パターンの1列に並ぶスポットが含まれるによう各グループが分割されているため、同時に観察されないスポットが何れの位置にあるかを術者が予想しやすい。 Such a first scan and a second scan are alternately performed every 0.25 seconds to allow the operator to recognize a 5 × 5 square pattern, and the tissue under the spot position in almost the entire area of the irradiation pattern. The situation can be confirmed. At this time, since the spots SSc at the four corners of the irradiation pattern are simultaneously performed in the first scan and the second scan, the operator can easily recognize the irradiation range of the 5 × 5 irradiation pattern, and the treatment laser beam It is easy to determine the aiming range and focus. Further, since each group is divided so as to include spots arranged in one line of the irradiation pattern, it is easy for the operator to predict at which position the spot that is not observed simultaneously is located.
上記と同様に、4×4、3×3の方形パターンでも、横列に並ぶスポット位置を1つのグループ内に含むように2つのグループに分割し、第1スキャンと第2スキャンとを切換えてエイミング光の照射を行う。図8(a)は4×4の方形パターンを説明する図であり、図9(a)は3×3の方形パターンを説明する図である。 Similarly to the above, even in a 4 × 4, 3 × 3 rectangular pattern, the spot positions arranged in a row are divided into two groups so as to be included in one group, and the first scan and the second scan are switched to aiming Irradiate light. FIG. 8A is a diagram illustrating a 4 × 4 square pattern, and FIG. 9A is a diagram illustrating a 3 × 3 square pattern.
4×4の方形パターンでは、第1グループSi1は、図8(b)に示すように、4隅のスポットSScを含み、最上段の1段目と最下段の4段目とにより構成される。第2グループSi2は、図8(c)に示すように、最上段と最下段との間に位置する2段目及び3段目により構成されると共に、4隅のスポットSScを含むように構成される。4×4の方形パターンの場合も、エイミング光の照射は、第1グループの第1スキャンと第2グループの第2スキャンによって、0.25秒の間隔で交互に切換えられる。 In the 4 × 4 rectangular pattern, as shown in FIG. 8B, the first group Si1 includes four corner spots SSc, and is composed of the uppermost first stage and the lowermost fourth stage. . As shown in FIG. 8C, the second group Si2 is composed of the second and third stages located between the uppermost stage and the lowermost stage, and includes spots SSc at the four corners. Is done. Also in the case of a 4 × 4 rectangular pattern, the aiming light irradiation is alternately switched at intervals of 0.25 seconds by the first scan of the first group and the second scan of the second group.
3×3の方形パターンでは、第1グループSi1は、図9(b)に示すように、4隅のスポットSScを含み、最上段の1段目と最下段の3段目とにより構成される。第2グループSi2は、図9(c)に示すように、最上段と最下段との間に位置する2段目により構成されると共に、4隅のスポットSScを含むように構成される。上記の方形パターンと同様に、図9(b)に示す第1スキャンと図9(c)に示す第2スキャンとが、0.25秒の間隔で交互に切換わるように、エイミング光の照射が制御される。 In the 3 × 3 square pattern, as shown in FIG. 9B, the first group Si1 includes four corner spots SSc, and is composed of the uppermost first stage and the lowermost third stage. . As shown in FIG. 9C, the second group Si2 includes a second stage located between the uppermost stage and the lowermost stage and includes spots SSc at four corners. Similarly to the above square pattern, the aiming light irradiation is performed so that the first scan shown in FIG. 9B and the second scan shown in FIG. 9C are alternately switched at intervals of 0.25 seconds. Is controlled.
図10(a)に示される2×2の方形パターンにおいては、4隅のスポットが照射パターン全体を示すことになる。2×2の方形パターンにおいては、第1グループSi1は、図10(b)のように、例えば、左上と右下の対角方向に位置する2個のスポットにより構成される。第1グループSi2は、図10(c)のように、右上と左下の対角方向に位置する2個のスポットにより構成される。もちろん、上段の2個のスポットと下段の2個のスポットとに分割される構成でも良い。 In the 2 × 2 square pattern shown in FIG. 10A, the four corner spots indicate the entire irradiation pattern. In the 2 × 2 square pattern, as shown in FIG. 10B, the first group Si1 is composed of, for example, two spots located in the upper left and lower right diagonal directions. As shown in FIG. 10C, the first group Si2 is composed of two spots located in the diagonal direction on the upper right and the lower left. Of course, it may be divided into two spots on the upper stage and two spots on the lower stage.
次に、直線パターンのエイミング光の照射について説明する。図11(a)は、5つのスポットSLs、SL2、SL3、SL4、SLeが直線状に並べられたパターンである。直線パターンにおいても、上記の方形パターンと同様に、複数のグループに分割される。直線パターンの両端のスポットSLs、SLeは、直線パターンの範囲(照射範囲)を術者に容易に認識させるために、各グループで共通に含まれることが好ましい。5つのスポットが直線状に並べられたパターンでは、3つのグループに分割される。第1グループSi1は、図11(b)に示すように、両端のスポットSLs、SLeと、左から2個目のスポットSL2と、により構成される。第2グループSi2は、図11(c)に示すように、両端のスポットSLs、SLeと、左から3個目のスポットSL3と、により構成される。第1グループSi3は、図11(c)に示すように、両端のスポットSLs、SLeと、左から4個目のスポットSL4と、により構成される。そして、第1グループSi1、第2グループSi2及び第3グループSi3のエイミング光のスポットの照射が、時間STで順次切換えられるように走査部50の駆動及びエイミング光の照射時間が制御される。この例の場合、両端のスポットSLs、SLeの間に挟まれた3つのスポット位置で、エイミング光の1つのスポットが順次左へ移動しているように観察される。これにより、術者は各スポットの照準が行えると共に、両端のスポットSLs、SLeに挟まれた3つのスポット位置の組織を順次観察することができる。
Next, irradiation of aiming light with a linear pattern will be described. FIG. 11A shows a pattern in which five spots SLs, SL2, SL3, SL4, and SLe are arranged in a straight line. The linear pattern is also divided into a plurality of groups in the same manner as the rectangular pattern. The spots SLs and SLe at both ends of the linear pattern are preferably included in common in each group so that the operator can easily recognize the range (irradiation range) of the linear pattern. A pattern in which five spots are arranged in a straight line is divided into three groups. As shown in FIG. 11B, the first group Si1 is composed of spots SLs and SLe at both ends and a second spot SL2 from the left. As shown in FIG. 11C, the second group Si2 includes spots SLs and SLe at both ends and a third spot SL3 from the left. As shown in FIG. 11C, the first group Si3 includes spots SLs and SLe at both ends and a fourth spot SL4 from the left. Then, the driving of the
なお、スポットが等間隔で曲線状に並べられた曲線パターンは、上記直線パターンと手法が同じであるので、説明を略す。 Note that a curve pattern in which spots are arranged in a curved line at equal intervals has the same method as the above-described linear pattern, and thus description thereof is omitted.
次に、スポットが3列以上に並べられた扇形パターンについて説明する。図12(a)に示される扇形パターンの例では、曲線状に並ぶスポットが3列に並べられている。上段の外側から下段の内側に向かってスポット数が減少しており、最上段(1段目)は6個のスポットで構成され、中央(2段目)は5個のスポットで構成され、最下段(3段目)は4つのスポットで構成されている。扇形パターンにおいても、3列以上でスポットが並んでいる場合、4隅のスポットSScが分割される各グループにそれぞれ含まれるように、各グループが構成される。この扇形パターンの例では、3つのグループに分割される。第1グループSi1は、図12(b)に示すように、1段目の6個のスポットで構成されると共に、4隅(左下及び右下)のスポットSScを含むように構成される。第2グループSi2は、図12(c)に示すように、2段目の5個のスポットと4隅のスポットSScを含むように構成される。第3グループSi3は、図12(d)に示すように、最下段(3段目)の4個のスポットで構成されると共に、4隅のスポットSScを含むように構成される。そして、各グループのエイミング光のスポットが予め設定された時間ST(0.25秒)毎に切換えられる。これにより、エイミング光の照射による照準時に、各グループのスポットが設定されていない位置の下の組織を容易に確認できる。また、4隅のスポットの照射により、全体の照射領域を容易に把握可能になる。また、照射パターンの1列に並ぶスポットが含まれるブループの分割により、同時に観察されない他のグループのスポット位置も予想し易い。 Next, a fan pattern in which spots are arranged in three or more rows will be described. In the example of the sector pattern shown in FIG. 12A, the spots arranged in a curved line are arranged in three rows. The number of spots decreases from the outer side of the upper stage toward the inner side of the lower stage. The uppermost stage (first stage) consists of 6 spots, and the center (second stage) consists of 5 spots. The lower stage (third stage) is composed of four spots. Also in the fan-shaped pattern, when the spots are arranged in three or more rows, each group is configured so that the spots SSc at the four corners are included in each divided group. In this sector pattern example, it is divided into three groups. As shown in FIG. 12B, the first group Si1 includes six spots in the first stage and includes spots SSc at four corners (lower left and lower right). As shown in FIG. 12C, the second group Si2 is configured to include five spots on the second stage and spots SSc at the four corners. As shown in FIG. 12D, the third group Si3 is configured by four spots at the bottom (third level) and includes spots SSc at the four corners. And the spot of the aiming light of each group is switched every preset time ST (0.25 seconds). Thereby, at the time of aiming by irradiation of aiming light, it is possible to easily confirm the tissue under the position where the spot of each group is not set. Further, the irradiation area of the four corners makes it easy to grasp the entire irradiation area. Moreover, it is easy to predict spot positions of other groups that are not observed at the same time by dividing a group including spots arranged in one line of the irradiation pattern.
なお、図12(a)の扇形パターンにおいては、方形パターンと同じ分割方法にしても良い。 Note that the sector pattern shown in FIG. 12A may be divided in the same manner as the square pattern.
図13(a)は、スポットが1列のリング状に並ぶ円パターンの例である。図13(a)に示される円パターンは、スポットが予め設定された直径の円の上に、スポットが等間隔で並べられたパターンである。ここでは、始点のスポットSa0と、スポットSa1〜Sa15の16個のスポットが並べられているものとする。図13(a)の円パターンでは、図13(b)、図13(c)及び図13(d)に示されるように、隣り合う2個のスポットが1個のスポット位置のスペースを空けて順次配置されるグループであって、スペースを空けたスポット位置が順次ずれていく3つのグループに分割される。なお、スキャンの開始点を明確に術者に把握させるために、始点のスポットSa0は各グループに共通に含まれる。第1グループSi1は、スポットSa0、Sa1、Sa2、Sa4、Sa5、Sa7、Sa8、Sa10、Sa11、Sa13、Sa14の11個で構成され、スポットSa3、Sa6、Sa9、Sa12、Sa15の5個のスペースが空けられている。第2グループSi2は、スポットSa0、Sa2、Sa3、Sa5、Sa6、Sa8、Sa9、Sa11、Sa12、Sa14、Sa15の11個で構成され、スポットSa1、Sa4、Sa7、Sa10、Sa13の5個のスペースが空けられている。第3グループSi3は、スポットSa0、Sa1、Sa3、Sa4、Sa6、Sa7、Sa9、Sa10、Sa12、Sa13、Sa15の11個で構成され、スポットSa2、Sa5、Sa8、Sa11、Sa14の5個のスペースが空けられている。 FIG. 13A shows an example of a circular pattern in which spots are arranged in a ring shape. The circle pattern shown in FIG. 13A is a pattern in which spots are arranged at equal intervals on a circle having a preset diameter. Here, it is assumed that 16 spots of the starting point Sa0 and the spots Sa1 to Sa15 are arranged. In the circular pattern of FIG. 13 (a), as shown in FIGS. 13 (b), 13 (c) and 13 (d), two adjacent spots leave a space for one spot position. The groups are sequentially arranged, and are divided into three groups in which spot positions with spaces are sequentially shifted. It should be noted that the starting point spot Sa0 is commonly included in each group so that the operator can clearly grasp the starting point of the scan. The first group Si1 is composed of 11 spots Sa0, Sa1, Sa2, Sa4, Sa5, Sa7, Sa8, Sa10, Sa11, Sa13, Sa14, and five spaces of spots Sa3, Sa6, Sa9, Sa12, and Sa15. Is open. The second group Si2 is composed of eleven spots Sa0, Sa2, Sa3, Sa5, Sa6, Sa8, Sa9, Sa11, Sa12, Sa14, Sa15, and five spaces of spots Sa1, Sa4, Sa7, Sa10, Sa13. Is open. The third group Si3 is composed of 11 spots Sa0, Sa1, Sa3, Sa4, Sa6, Sa7, Sa9, Sa10, Sa12, Sa13, Sa15, and five spaces of spots Sa2, Sa5, Sa8, Sa11, Sa14. Is open.
円パターンにおいても、第1グループSi1〜第3グループSi3のスポットのスキャンが、時間STを隔てて順次切換えられるように行われる。これにより、スペースが空けられ各スポット位置が時計回りに移動しているように、術者に観察される。このため、スポットSa0以外のスポット位置の組織が術者に容易に観察可能にされる。 Also in the circular pattern, the scanning of the spots of the first group Si1 to the third group Si3 is performed so as to be sequentially switched over the time ST. As a result, the operator observes the image as if a space is left and each spot position is moving clockwise. For this reason, a tissue at a spot position other than the spot Sa0 can be easily observed by the operator.
なお、円パターンの分割法は、上記の例に限られない。例えば、スポット位置のスペースが1個飛びに空けられた方式で、2つのグループに分けられたものでも良い。 The circle pattern dividing method is not limited to the above example. For example, it may be divided into two groups by a method in which one spot position space is provided.
図14(a)は、6個のスポットが三角形に配置された三角パターンの例である。この三角パターンでは、一辺に3つのスポットが並べられ、スポットSb1〜Sb6の6個のスポットにより構成されている。この三角パターンでは、図14(b)に示すように、第1グループSi1は、三角形の頂点のスポットSb1、Sb4、Sb6で構成され、頂点の間にあるスポットSb2、Sb3、Sb5のスペースが空けられている。これとは逆に、第2グループSi2は、スポットSb2、Sb3、Sb5の3つのスポットで構成され、頂点のスポットSb1、Sb4、Sb6のスペースが空けられた構成とされている。第1グループSi1と第2グループSi2とが、時間STを隔てて順次切換えられることにより、空いたスペースの組織が容易に観察可能にされると共に、各スポット位置Sb1〜Sb6の位置の照準合わせも容易に可能にされる。 FIG. 14A shows an example of a triangular pattern in which six spots are arranged in a triangle. In this triangular pattern, three spots are arranged on one side, and are composed of six spots Sb1 to Sb6. In this triangular pattern, as shown in FIG. 14 (b), the first group Si1 is made up of triangular vertex spots Sb1, Sb4, Sb6, and spaces between spots Sb2, Sb3, Sb5 between the vertices are vacated. It has been. On the contrary, the second group Si2 is composed of three spots Sb2, Sb3, and Sb5, and the vertex spots Sb1, Sb4, and Sb6 have spaces. Since the first group Si1 and the second group Si2 are sequentially switched at intervals of the time ST, the structure of the vacant space can be easily observed, and the aiming of the positions of the spot positions Sb1 to Sb6 is also achieved. Easily enabled.
以上のように、術者に同時に観察されるエイミング光のスポットと、同時に観察されないスポットのスペースが順次切換えられるため、エイミング光の照準位置の眼底組織が容易に観察可能にされると共に、エイミング光の照準位置も容易に観察可能にされ、設定された照射パターンの全体も比較的容易に把握できる。このため、照射パターンの照射領域の確認、フォーカス合わせ等がし易い。 As described above, the spot space of the aiming light that is simultaneously observed by the operator and the space of the spot that is not simultaneously observed are sequentially switched, so that the fundus tissue at the aiming position of the aiming light can be easily observed, and the aiming light can be easily observed. It is also possible to easily observe the aiming position of the lens, and it is relatively easy to grasp the entire set irradiation pattern. For this reason, it is easy to confirm the irradiation area of the irradiation pattern, focus adjustment, and the like.
また、方形パターン(3×3〜5×5)、扇形パターンにおいて、パターンの4隅(最外周)のスポットが術者に常時認識されるため、上記のような広がりのあるパターンにおいては照射領域の認識が容易になる。直線パターンにおいては、始点と終点のスポットが術者に常時認識されるため、全体の照射領域の認識が容易になる。円パターン、曲線パターン、円パターン、三角パターン、2×2の方形パターン、では、パターン全体が回転しているように認識されるため、照射領域の把握が容易になる。 In addition, in the square pattern (3 × 3 to 5 × 5) and the fan-shaped pattern, spots at the four corners (outermost circumference) of the pattern are always recognized by the surgeon. It becomes easy to recognize. In the straight line pattern, since the operator always recognizes the spot of the start point and the end point, the entire irradiation area can be easily recognized. In a circular pattern, a curved pattern, a circular pattern, a triangular pattern, and a 2 × 2 square pattern, since the entire pattern is recognized as rotating, it is easy to grasp the irradiation area.
照準合わせの完了後、術者がフットスイッチ81を踏むと、治療レーザ光の照射が開始される。制御部70は、フットスイッチ81からのトリガ信号に基づき、治療レーザ光源11から治療レーザ光を出射すると共に、走査部50を制御し、各スポット位置に治療レーザ光を順次照射する。各スポット位置には治療レーザ光のパルス幅の設定時間に基づいて治療レーザ光が照射され、治療レーザ光の休止時間の間にスポットが移動される。
When the surgeon steps on the
なお、以上の説明では、方形パターン、扇形パターン等の照射パターンを分割する場合に、横一列のスポットを含むようにグループを構成したが、これに限るものではなない。縦にスポットが一列として含まれる構成であればよい。 In the above description, when the irradiation patterns such as the square pattern and the sector pattern are divided, the group is configured to include the horizontal rows of spots. However, the present invention is not limited to this. Any configuration may be used as long as the spots are vertically included in a line.
また、以上の説明では、方形パターン、扇形パターン等の図形上の角部である4隅のスポット位置が重複するように、グループを分割する構成にしたが、これに限るものではなに。照射パタ−ンの隅が何れのグループにおいても重複する構成であればよい。例えば、多角形、円の内部にもスポットが配列された照射パターンを分割したグループにおいて、隅のスポットが重複する(術者に認識される)構成であればよい。 Further, in the above description, the group is divided so that the spot positions at the four corners which are corners on the figure such as a square pattern and a sector pattern overlap, but the present invention is not limited to this. It is sufficient if the corners of the irradiation pattern overlap in any group. For example, in a group obtained by dividing an irradiation pattern in which spots are arranged inside a polygon or a circle, the corner spots may overlap (recognized by the operator).
10 レーザ光源ユニット
11 治療レーザ光源
12 エイミング光源
20 光ファイバ
30 観察光学系
40 レーザ照射光学系
50 走査部
60 照明光学系
70 制御部
80 操作ユニット
100 眼科用レーザ治療装置
DESCRIPTION OF
Claims (4)
治療レーザ光の照射前の照準時に、前記照射パターンに基づいて前記走査部を駆動してエイミング光の照射を制御する制御手段であって、前記照射パターンの複数のスポットを外周の第1領域と該第1領域の内側の第2領域とに分割し、前記第1領域でのエイミング光のスポットが術者に同時に認識されるようにエイミング光の照射を制御し、第2領域でのエイミング光のスポットが術者に間欠的に認識されるようにエイミング光の照射を制御するか、又は前記第1領域と第2領域でのエイミング光のスポットが術者に別々で且つ間欠的に認識されるようにエイミング光の照射を制御する制御手段を備えることを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 A treatment laser light source that emits treatment laser light, an aiming light source that emits aiming light, and an irradiation unit that irradiates the patient's eye with treatment laser light and aiming light. An ophthalmic laser that scans and irradiates a spot of a treatment laser beam based on an irradiation pattern in which a plurality of spots are arranged in a predetermined pattern. In the treatment device,
Control means for controlling the irradiation of the aiming light by driving the scanning unit based on the irradiation pattern at the time of aiming before the irradiation of the treatment laser light, wherein a plurality of spots of the irradiation pattern are defined as the first region on the outer periphery. The beam is divided into a second region inside the first region, and the irradiation of the aiming light is controlled so that the surgeon can simultaneously recognize the spot of the aiming light in the first region, and the aiming light in the second region The irradiation of the aiming light is controlled so that the spot is intermittently recognized by the operator, or the spot of the aiming light in the first area and the second area is separately and intermittently recognized by the operator. An ophthalmic laser treatment apparatus comprising control means for controlling irradiation of aiming light as described above.
前記制御手段は、前記第1領域でのスキャン数に対して前記第2領域では所定のスキャン数を空けるようにエイミング光の照射を制御することを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 The ophthalmic laser treatment device according to claim 1 .
The ophthalmic laser treatment apparatus, wherein the control means controls the irradiation of aiming light so that a predetermined number of scans is made in the second region with respect to the number of scans in the first region.
前記制御手段は、前記第2領域をさらに複数の領域に分割し、該分割された各領域が異なるスキャンの順番となるようにエイミング光の照射を制御することを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 The ophthalmic laser treatment apparatus according to claim 1 or 2 ,
The control means further divides the second region into a plurality of regions, and controls the irradiation of the aiming light so that the divided regions have different scanning orders. .
前記照射パターンは複数のスポットが方形に配列された方形パターンを含み、
前記制御手段は、前記方形パターンの外周の縦及び横の少なくとも一方の一列のスポット数が3つ以上である場合、前記方形パターンのスポットの少なくとも4隅のスポットを含むように前記第1領域を分割することを特徴とする眼科用レーザ治療装置。 In the ophthalmic laser treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3 ,
The irradiation pattern includes a square pattern in which a plurality of spots are arranged in a square,
When the number of spots in at least one of the vertical and horizontal lines of the outer periphery of the square pattern is three or more, the control means sets the first region to include spots in at least four corners of the spots of the square pattern. An ophthalmic laser treatment apparatus characterized by being divided.
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