JP5528606B2 - 偏光板および有機ｅｌパネル - Google Patents

Description

本発明は、偏光板および有機ＥＬパネルに関する。

近年、薄型ディスプレイの普及と共に、有機ＥＬパネルを搭載したディスプレイが提案されている。有機ＥＬパネルは反射性の高い金属層を有するため、外光反射や背景の映り込み等の問題を生じやすい。そこで、円偏光板を視認側に設けることにより、これらの問題を防ぐことが知られている。一般的な円偏光板として、シクロオレフィン（ＣＯＰ）系樹脂フィルムに代表される位相差フィルム（代表的には、λ／４板）を、その遅相軸が偏光子の吸収軸に対して約４５°の角度をなすように積層したものが知られている。ＣＯＰ系樹脂の位相差フィルムは、位相差値が測定光の波長に依存せずほぼ一定であるいわゆるフラットな波長分散特性を有することが知られている。このようなフラットな波長分散特性を有する位相差フィルムを含む円偏光板を有機ＥＬパネルに用いた場合、優れた反射色相が得られないという問題がある。

上記のような問題を解決するために、位相差値が測定光の波長に応じて大きくなるいわゆる逆分散の波長依存性（逆分散波長特性）を有する位相差フィルムを含む円偏光板が提案されている（例えば、特許文献１）。このような円偏光板を有機ＥＬパネルに用いた場合、正面方向における外光反射および反射色相は大きく改善され得る。しかし、パネルを斜め方向から見た場合に、正面方向の色相とは異なる色相が得られてしまい、この色相差が大きな問題となっている。また、経時的にパネルの表示特性が変化するという問題も確認されている。

特許第３３２５５６０号公報

本発明は上記従来の課題を解決するためになされたものであり、その主たる目的は、優れた視野角特性と表示特性の変化を抑制する偏光板を提供することにある。

本発明の偏光板は、有機ＥＬパネルに用いられ、偏光子と第１の位相差層と第２の位相差層とを備え、該第１の位相差層が、ｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、該第２の位相差層が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの屈折率特性を示し、該第１の位相差層と該第２の位相差層との積層体のＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ〜１６０ｎｍで、Ｒｔｈ（５５０）が４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、該第１の位相差層の吸水率が３％以下である。
好ましい実施形態においては、上記偏光子と、上記第１の位相差層または上記第２の位相差層との間に光学異方性層を含まない。
好ましい実施形態においては、上記第１の位相差層が、下記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される。

（上記一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数２０のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキル基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリール基を表し、Ｘは置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキレン基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリーレン基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜５の整数である。）
好ましい実施形態においては、上記第１の位相差層が、下記一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される。

好ましい実施形態においては、上記第１の位相差層が、下記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される。

（上記一般式（５）中、Ｒ_７は置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基を示し、ｐは２から１００の整数である。）
好ましい実施形態においては、上記第１の位相差層が斜め延伸して得られた位相差フィルムである。
本発明の別の局面によれば、有機ＥＬパネルが提供される。この有機ＥＬパネルは、上記偏光板を備える。

本発明によれば、上記の光学特性および吸水率を満足する第１の位相差層と第２の位相差層とを用いることにより、視野角特性を向上させ、かつ、表示特性の変化を抑制することができる。

（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図であり、（ｂ）は、本発明の別の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。

以下、本発明の好ましい実施形態について説明するが、本発明はこれらの実施形態には限定されない。

（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである。
（１）屈折率（ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ）
「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸と直交する方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。
（２）面内位相差（Ｒｅ）
「Ｒｅ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。Ｒｅ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。なお、「Ｒｅ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定した面内位相差である。
（３）厚み方向の位相差（Ｒｔｈ）
「Ｒｔｈ（５５０）」は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。Ｒｔｈ（５５０）は、層（フィルム）の厚みをｄ（ｎｍ）としたとき、式：Ｒｔｈ＝（ｎｘ−ｎｚ）×ｄによって求められる。なお、「Ｒｔｈ（４５０）」は、２３℃における波長４５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差である。
（４）Ｎｚ係数
Ｎｚ係数は、Ｎｚ＝Ｒｔｈ／Ｒｅによって求められる。

Ａ．偏光板
本発明の偏光板は、偏光子と第１の位相差層と第２の位相差層とを備え、偏光子の片側に第１の位相差層および第２の位相差層が積層されている。好ましくは、偏光板は、偏光子と、第１の位相差層または第２の位相差層との間には光学異方性層（例えば、液晶層や位相差フィルム）を含まない。以下、具体例について説明する。

図１（ａ）は、本発明の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。本実施形態の偏光板１００は、偏光子１０と、偏光子１０の片側に配置された保護フィルム２０と、偏光子１０のもう片側に配置された第１の位相差層３０および第２の位相差層４０とを備える。図示例では、第１の位相差層３０が第２の位相差層４０よりも偏光子１０側となるように配置されているが、第２の位相差層４０が偏光子１０側に配置されていてもよい。本実施形態においては、第１の位相差層３０（第２の位相差層４０）は、偏光子１０の保護層としても機能し得る。また、このように偏光子と第１の位相差層（第２の位相差層）とが直接貼り合わされていることにより、より優れた反射色相（特に、視野角特性）を達成し、表示特性の変化を抑制することができる。

図１（ｂ）は、本発明の別の好ましい実施形態による偏光板の概略断面図である。偏光板１００’は、偏光子１０と、偏光子１０の片側に配置された第１の保護フィルム２１と、偏光子１０のもう片側に配置された第１の位相差層３０および第２の位相差層４０と、偏光子１０と第１の位相差層３０との間に配置された第２の保護フィルム２２とを備える。好ましくは、第２の保護フィルム２２は、光学的に等方性である。第２の保護フィルムが光学的に等方性であることにより、より優れた反射色相（特に、視野角特性）を達成することができる。なお、図示例では、第１の位相差層３０が第２の位相差層４０よりも偏光子１０側となるように配置されているが、第２の位相差層４０が偏光子１０側に配置されていてもよい。

第１の位相差層３０は、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示し、遅相軸を有する。偏光子１０と第１の位相差層３０とは、偏光子１０の吸収軸と第１の位相差層３０の遅相軸とが所定の角度をなすように積層されている。偏光子１０の吸収軸と第１の位相差層３０の遅相軸とのなす角度θは、好ましくは３５°≦θ≦５５°の関係を満たし、より好ましくは３８°≦θ≦５２°、さらに好ましくは３９°≦θ≦５１°である。上記範囲を外れると、正面反射率が上昇し、偏光板の反射防止機能を十分に得ることができない。

Ａ−１．偏光子
上記偏光子としては、任意の適切な偏光子が採用され得る。具体例としては、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質による染色処理および延伸処理が施されたもの、ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等ポリエン系配向フィルム等が挙げられる。好ましくは、光学特性に優れることから、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素で染色し一軸延伸して得られた偏光子が用いられる。

上記ヨウ素による染色は、例えば、ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素水溶液に浸漬することにより行われる。上記一軸延伸の延伸倍率は、好ましくは、３〜７倍である。延伸は、染色処理後に行ってもよいし、染色しながら行ってもよい。また、延伸してから染色してもよい。必要に応じて、ポリビニルアルコール系フィルムに、膨潤処理、架橋処理、洗浄処理、乾燥処理等が施される。例えば、染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができるだけでなく、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させて染色ムラなどを防止することができる。

偏光子の厚みは、代表的には、１μｍ〜８０μｍ程度である。

Ａ−２．第１の位相差層
上記第１の位相差層は、上述のとおり、屈折率特性がｎｘ＞ｎｙ≧ｎｚの関係を示す。第１の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは８０ｎｍ〜２００ｎｍ、より好ましくは１００ｎｍ〜１８０ｎｍ、さらに好ましくは１１０ｎｍ〜１７０ｎｍである。

第１の位相差層は、いわゆる逆分散の波長依存性を示す。具体的には、その面内位相差は、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たす。このような関係を満たすことにより、優れた反射色相を達成することができる。Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、好ましくは０．８以上１未満であり、より好ましくは０．８以上０．９５以下である。

第１の位相差層のＮｚ係数は、好ましくは１〜３、より好ましくは１〜２．５、さらに好ましくは１〜１．５、特に好ましくは１〜１．３である。このような関係を満たすことにより、より優れた反射色相を達成し得る。

第１の位相差層は、その吸水率が３％以下であり、好ましくは２．５％以下、より好ましくは２％以下である。このような吸水率を満足することにより、表示特性の経時変化を抑制することができる。なお、吸水率は、ＪＩＳ Ｋ ７２０９に準拠して求めることができる。

第１の位相差層は、代表的には、任意の適切な樹脂で形成された位相差フィルムである。この位相差フィルムを形成する樹脂としては、好ましくは、ポリカーボネート樹脂が用いられる。

好ましい実施形態においては、上記ポリカーボネート樹脂は、下記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、下記一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位と、下記一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物、下記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物、下記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物及び下記一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物からなる群より選ばれた一種以上のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含む。

（上記一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数２０のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキル基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリール基を表し、Ｘは置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキレン基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリーレン基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜５の整数である。）

（上記一般式（３）中、Ｒ_５は炭素数４から炭素数２０の置換若しくは無置換の単環構造のシクロアルキレン基を示す。）

（上記一般式（４）中、Ｒ_６は炭素数４から炭素数２０の置換若しくは無置換の単環構造のシクロアルキレン基を示す。）

（上記一般式（５）中、Ｒ_７は置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基を示し、ｐは２から１００の整数である。）

（上記一般式（６）中、Ｒ_１１は炭素数２から炭素数２０のアルキル基又は下記式（７）に示す基を表す。）

＜前記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的には、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチル−６−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロポキシ）フェニル）フルオレン等が例示され、好ましくは、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレンであり、特に好ましくは、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンである。

＜前記一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物としては、例えば、立体異性体の関係にあるイソソルビド、イソマンニド、イソイデットが挙げられる。これらは１種を単独で用いても良く、２種以上を組み合わせて用いても良い。これらのジヒドロキシ化合物のうち、資源として豊富に存在し、容易に入手可能な種々のデンプンから製造されるソルビトールを脱水縮合して得られるイソソルビドが、入手及び製造のし易さ、光学特性、成形性の面から最も好ましい。

＜前記一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物としては、単環構造のシクロアルキレン基を含む化合物（脂環式ジヒドロキシ化合物）が挙げられる。単環構造とすることにより、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性を改良することが出来る。脂環式ジヒドロキシ化合物の代表例としては、５員環構造又は６員環構造を含む化合物が挙げられる。５員環構造又は６員環構造であることにより、得られるポリカーボネート樹脂の耐熱性を高くすることができる。６員環構造は共有結合によって椅子形もしくは舟形に固定されていてもよい。具体的には、１，２−シクロペンタンジオール、１，３−シクロペンタンジオール、１，２−シクロヘキサンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジオール、２−メチル−１，４−シクロヘキサンジオール等が挙げられる。一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

＜前記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物としては、単環構造のシクロアルキレン基を含む化合物（脂環式ジヒドロキシ化合物）が挙げられる。単環構造とすることにより、得られるポリカーボネート樹脂をフィルムとしたときの靭性を改良することが出来る。脂環式ジヒドロキシ化合物の代表例としては、前記一般式（４）におけるＲ_６が下記一般式（Ｉａ）（式中、Ｒ^３は水素原子、又は、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数１２のアルキル基を表す。）で示される種々の異性体が挙げられる。このような異性体の好ましい具体例としては、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。これらは、入手が容易で、かつ、取扱い性に優れる。一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物は、単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

なお、一般式（３）および（４）で表されるジヒドロキシ化合物に関して上記で例示した化合物は、使用し得る脂環式ジヒドロキシ化合物の一例であって、何らこれらに限定されるものではない。

＜前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的にはジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール（分子量１５０〜２０００）などが挙げられる。

＜前記一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物＞
前記一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物としては、具体的にはエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール又は下記式（８）で表されるスピログリコールなどが挙げられ、その中でもプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、スピログリコールが好ましい。

前記一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位、前記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位、前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位及び前記一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位の中でも、前記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位及び／又は前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることが好ましく、前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることがより好ましい。前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいることにより、延伸性の向上が図れる。

本実施形態のポリカーボネート樹脂は、更にその他のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含んでいてもよい。
＜その他のジヒドロキシ化合物＞
その他のジヒドロキシ化合物としては、例えば、ビスフェノール類等が挙げられる。ビスフェノール類としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン［＝ビスフェノールＡ］、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジエチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−（３，５−ジフェニル）フェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、２，４’−ジヒドロキシ−ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−５−ニトロフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、３，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、２，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジクロロジフェニルエーテル、４，４’−ジヒドロキシ−２，５−ジエトキシジフェニルエーテル等が挙げられる。

前記ポリカーボネート樹脂中、前記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位は１８モル％以上であり、好ましくは２０モル％以上であり、更に好ましくは２５モル％以上である。該構造単位が過度に小さいと、逆分散の波長依存性が得られない場合がある。

前記一般式（３）で表されるジヒドロキシ化合物、前記一般式（４）で表されるジヒドロキシ化合物、前記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物及び前記一般式（６）で表されるジヒドロキシ化合物からなる群より選ばれた一種以上のジヒドロキシ化合物に由来する構造単位が、前記ポリカーボネート樹脂中、２５モル％以上であることが好ましく、より好ましくは３０モル％以上、更に好ましくは３５モル％以上である。該構造単位が過度に少ないと、フィルムとしたときの靭性が乏しくなる場合がある。

前記ポリカーボネート樹脂のガラス転移温度は、１１０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１２０℃以上１４０℃以下である。ガラス転移温度が過度に低いと耐熱性が悪くなる傾向にあり、フィルム成形後に寸法変化を起こす可能性があり、又、得られる有機ＥＬパネルの画像品質を下げる場合がある。ガラス転移温度が過度に高いと、フィルム成形時の成形安定性が悪くなる場合があり、又フィルムの透明性を損なう場合がある。なお、ガラス転移温度は、ＪＩＳ Ｋ ７１２１（１９８７）に準じて求められる。

前記ポリカーボネート樹脂の分子量は、還元粘度で表すことができる。還元粘度は、溶媒として塩化メチレンを用い、ポリカーボネート濃度を０．６ｇ／ｄＬに精密に調製し、温度２０．０℃±０．１℃でウベローデ粘度管を用いて測定される。還元粘度の下限は、通常０．３０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましは０．３５ｄＬ／ｇ以上である。還元粘度の上限は、通常１．２０ｄＬ／ｇが好ましく、より好ましくは１．００ｄＬ／ｇ、更に好ましくは０．８０ｄＬ／ｇである。還元粘度が前記下限値より小さいと成形品の機械的強度が小さくなるという問題が生じる場合がある。一方、還元粘度が前記上限値より大きいと、成形する際の流動性が低下し、生産性や成形性が低下するという問題が生じる場合がある。

位相差フィルムは、代表的には、樹脂フィルムを少なくとも一方向に延伸することにより作製される。

上記樹脂フィルムの形成方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。例えば、溶融押出し法（例えば、Ｔダイ成形法）、キャスト塗工法（例えば、流延法）、カレンダー成形法、熱プレス法、共押出し法、共溶融法、多層押出し、インフレーション成形法等が挙げられる。好ましくは、Ｔダイ成形法、流延法およびインフレーション成形法が用いられる。

樹脂フィルム（未延伸フィルム）の厚みは、所望の光学特性、後述の延伸条件などに応じて、任意の適切な値に設定され得る。好ましくは５０μｍ〜３００μｍである。

上記延伸は、任意の適切な延伸方法、延伸条件（例えば、延伸温度、延伸倍率、延伸方向）が採用され得る。具体的には、自由端延伸、固定端延伸、自由端収縮、固定端収縮などの様々な延伸方法を、単独で用いることも、同時もしくは逐次で用いることもできる。延伸方向に関しても、水平方向、垂直方向、厚さ方向、対角方向等、様々な方向や次元に行なうことができる。延伸の温度は、樹脂フィルムのガラス転移温度（Ｔｇ）に対し、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ＋６０℃であることが好ましく、より好ましくはＴｇ−１０℃〜Ｔｇ＋５０℃である。

上記延伸方法、延伸条件を適宜選択することにより、上記所望の光学特性（例えば、屈折率特性、面内位相差、Ｎｚ係数）を有する位相差フィルムを得ることができる。

１つの実施形態においては、位相差フィルムは、樹脂フィルムを一軸延伸もしくは固定端一軸延伸することによりを作製される。固定端一軸延伸の具体例としては、樹脂フィルムを長手方向に走行させながら、幅方向（横方向）に延伸する方法が挙げられる。延伸倍率は、好ましくは１．１倍〜３．５倍である。

別の実施形態においては、位相差フィルムは、長尺状の樹脂フィルムを長手方向に対して角度θの方向に連続的に斜め延伸することにより作製される。斜め延伸を採用することにより、フィルムの長手方向に対して角度θの配向角（角度θの方向に遅相軸）を有する長尺状の延伸フィルムが得られ、例えば、偏光子との積層に際してロールツーロールが可能となり、製造工程を簡略化することができる。

斜め延伸に用いる延伸機としては、例えば、横および／または縦方向に、左右異なる速度の送り力もしくは引張り力または引き取り力を付加し得るテンター式延伸機が挙げられる。テンター式延伸機には、横一軸延伸機、同時二軸延伸機等があるが、長尺状の樹脂フィルムを連続的に斜め延伸し得る限り、任意の適切な延伸機が用いられ得る。

位相差フィルム（延伸フィルム）の厚みは、好ましくは２０μｍ〜１００μｍ、より好ましくは３０μｍ〜８０μｍ、さらに好ましくは３０μｍ〜６５μｍである。

Ａ−３．第２の位相差層
上記第２の位相差層４０は、上述のとおり、屈折率特性がｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの関係を示す。第２の位相差層の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、好ましくは−２６０ｎｍ〜−１０ｎｍ、より好ましくは−２３０ｎｍ〜−１５ｎｍ、さらに好ましくは−２１５ｎｍ〜−２０ｎｍである。

１つの実施形態においては、第２の位相差層は、その屈折率がｎｘ＝ｎｙの関係を示す。ここで、「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。具体的には、Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍ未満であることをいう。別の実施形態においては、第２の位相差層は、その屈折率がｎｘ＞ｎｙの関係を示す。この場合、第２の位相差層の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、好ましくは１０〜１５０であり、より好ましくは１０〜８０である。

上記第２の位相差層は、任意の適切な材料で形成され得る。好ましくは、ホメオトロピック配向に固定された液晶層である。ホメオトロピック配向させることができる液晶材料（液晶化合物）は、液晶モノマーであっても液晶ポリマーであってもよい。当該液晶化合物および当該液晶層の形成方法の具体例としては、特開２００２−３３３６４２号公報の［００２０］〜［００４２］に記載の液晶化合物および形成方法が挙げられる。この場合、厚みは、好ましくは０．１μｍ〜５μｍ、より好ましくは０．２μｍ〜３μｍである。

別の好ましい具体例として、第２の位相差層は、特開２０１２−３２７８４号公報に記載のフマル酸ジエステル系樹脂で形成された位相差フィルムであってもよい。この場合、厚みは、好ましくは５μｍ〜５０μｍ、より好ましくは１０μｍ〜３５μｍである。

Ａ−４．積層体
上記第１の位相差層と第２の位相差層との積層体の面内位相差Ｒｅ（５５０）は、１２０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、好ましくは１３０ｎｍ〜１５０ｎｍである。当該積層体の厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）は、４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、好ましくは６０ｎｍ〜８０ｎｍである。積層体の光学特性をこのように設定することにより、視野角特性を向上させ、表示特性の変化を抑制することができる。なお、積層体は、第１の位相差層と第２の位相差層とを、任意の適切な粘着剤層または接着剤層を介して積層することにより得られる。

Ａ−５．保護フィルム
上記保護フィルムは、偏光子の保護層として使用できる任意の適切なフィルムで形成される。当該フィルムの主成分となる材料の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のセルロース系樹脂や、ポリエステル系、ポリビニルアルコール系、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリエーテルスルホン系、ポリスルホン系、ポリスチレン系、ポリノルボルネン系、ポリオレフィン系、（メタ）アクリル系、アセテート系等の透明樹脂等が挙げられる。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、（メタ）アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂等も挙げられる。この他にも、例えば、シロキサン系ポリマー等のガラス質系ポリマーも挙げられる。また、特開２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ０１／３７００７）に記載のポリマーフィルムも使用できる。このフィルムの材料としては、例えば、側鎖に置換または非置換のイミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換または非置換のフェニル基ならびにニトリル基を有する熱可塑性樹脂を含有する樹脂組成物が使用でき、例えば、イソブテンとＮ−メチルマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。当該ポリマーフィルムは、例えば、上記樹脂組成物の押出成形物であり得る。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２０℃以上、さらに好ましくは１２５℃以上、特に好ましくは１３０℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。

上記（メタ）アクリル系樹脂としては、本発明の効果を損なわない範囲内で、任意の適切な（メタ）アクリル系樹脂を採用し得る。例えば、ポリメタクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステル、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体、メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（ＭＳ樹脂など）、脂環族炭化水素基を有する重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体など）が挙げられる。好ましくは、ポリ（メタ）アクリル酸メチルなどのポリ（メタ）アクリル酸Ｃ_１−６アルキルが挙げられる。より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分（５０〜１００重量％、好ましくは７０〜１００重量％）とするメタクリル酸メチル系樹脂が挙げられる。

上記（メタ）アクリル系樹脂の具体例としては、例えば、三菱レイヨン社製のアクリペットＶＨやアクリペットＶＲＬ２０Ａ、特開２００４−７０２９６号公報に記載の分子内に環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂、分子内架橋や分子内環化反応により得られる高Ｔｇ（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。

上記（メタ）アクリル系樹脂として、高い耐熱性、高い透明性、高い機械的強度を有する点で、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が特に好ましい。

上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂としては、特開２０００−２３００１６号公報、特開２００１−１５１８１４号公報、特開２００２−１２０３２６号公報、特開２００２−２５４５４４号公報、特開２００５−１４６０８４号公報などに記載の、ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂が挙げられる。

上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、質量平均分子量（重量平均分子量と称することもある）が、好ましくは１０００〜２００００００、より好ましくは５０００〜１００００００、さらに好ましくは１００００〜５０００００、特に好ましくは５００００〜５０００００である。

上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂は、Ｔｇ（ガラス転移温度）が、好ましくは１１５℃以上、より好ましくは１２５℃以上、さらに好ましくは１３０℃以上、特に好ましくは１３５℃、最も好ましくは１４０℃以上である。耐久性に優れ得るからである。上記ラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系樹脂のＴｇの上限値は特に限定されないが、成形性等の観点から、好ましくは１７０℃以下である。

なお、本明細書において「（メタ）アクリル系」とは、アクリル系および／またはメタクリル系をいう。

偏光子に対し各位相差層と反対側に配置される保護フィルム２０（第１の保護フィルム２１）には、必要に応じて、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキング防止処理、アンチグレア処理等の表面処理が施されていてもよい。保護フィルム（第１の保護フィルム）の厚みは、代表的には５ｍｍ以下であり、好ましくは１ｍｍ以下、より好ましくは１μｍ〜５００μｍ、さらに好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。

偏光子１０と第１の位相差層３０との間に配置される第２の保護フィルム２２は、上述のとおり、光学的に等方性であることが好ましい。本明細書において「光学的に等方性である」とは、面内位相差Ｒｅ（５５０）が０ｎｍ〜１０ｎｍであり、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ〜＋１０ｎｍであることをいう。また、上記光学異方性層は、例えば、面内位相差Ｒｅ（５５０）が１０ｎｍを超え、および／または、厚み方向の位相差Ｒｔｈ（５５０）が−１０ｎｍ未満もしくは１０ｎｍを超える層をいう。

第２の保護フィルムの厚みは、好ましくは５μｍ〜２００μｍ、より好ましくは１０μｍ〜１００μｍ、さらに好ましくは１５μｍ〜９５μｍである。

Ａ−６．その他
本発明の偏光板を構成する各層の積層には、任意の適切な粘着剤層または接着剤層が用いられる。粘着剤層は、代表的にはアクリル系粘着剤で形成される。接着剤層は、代表的にはポリビニルアルコール系接着剤で形成される。

図示しないが、偏光板１００，１００’の第２の位相差層４０側には、粘着剤層が設けられていてもよい。粘着剤層が予め設けられていることにより、他の光学部材（例えば、有機ＥＬパネル）へ容易に貼り合わせることができる。なお、この粘着剤層の表面には、使用に供されるまで、剥離フィルムが貼り合わされていることが好ましい。

Ｂ．製造方法
上記偏光板の製造方法としては、任意の適切な方法が採用され得る。１つの好ましい実施形態においては、長尺状で長手方向に吸収軸を有する偏光子および長尺状の第１または第２の位相差層を、それぞれ長手方向に搬送しながら、偏光子の長手方向と位相差層の長手方向とを揃えるようにして積層して積層フィルムを得る工程と、この積層フィルムおよび長尺状の第２または第１の位相差層を、それぞれ長手方向に搬送しながら、積層フィルムの長手方向と位相差層の長手方向とを揃えるようにして積層する工程とを含む方法により製造される。なお、長尺状の第１の位相差層と長尺状の第２の位相差層とを積層して積層位相差フィルムを作製し、この積層位相差フィルムと長尺状の偏光子とを積層することにより製造してもよい。ここで、偏光子１０の吸収軸と第１の位相差層３０の遅相軸とのなす角度θは、上述のとおり、好ましくは３５°≦θ≦５５°の関係を満たし、より好ましくは３８°≦θ≦５２°、さらに好ましくは３９°≦θ≦５１°である。

上記長尺状の第１の位相差層は、その長手方向に対して角度θの方向に遅相軸を有する。このような構成によれば、上述のように、偏光板の製造においてロールツーロールが可能となり、製造工程を格段に短縮することができる。

Ｃ．有機ＥＬパネル
本発明の有機ＥＬパネルは、その視認側に上記偏光板を備える。偏光板は、各位相差層が有機ＥＬパネル側となるように（偏光子が視認側となるように）積層されている。

以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、各特性の測定方法は以下の通りである。

（１）厚み
ダイヤルゲージ（ＰＥＡＣＯＣＫ社製、製品名「ＤＧ−２０５」、ダイヤルゲージスタンド（製品名「ｐｄｓ−２」））を用いて測定した。
（２）位相差
各位相差層から５０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出して、測定サンプルと、Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製のＡｘｏｓｃａｎを用いて測定した。測定波長は４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、測定温度は２３℃であった。
また、アタゴ社製のアッベ屈折率計を用いて平均屈折率を測定し、得られた位相差値から屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出した。
（３）環境試験による位相差変動
位相差フィルムから５０ｍｍ×５０ｍｍにサンプルを切り出して、Ａｘｏｓｃａｎにより位相差を測定した。その後、サンプルを４０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿機中に１００時間静置した後、位相差を測定し、環境試験前後における位相差の差を求めることにより評価した。
（４）吸水率
ＪＩＳ Ｋ ７２０９に記載の「プラスチックの吸水率及び沸騰吸水率試験方法」に準拠して測定した。試験片の大きさは５０ｍｍ辺の正方形で、水温２５℃の水に２４時間試験片を浸水させた後、浸水前後の重量変化を測定することにより求めた。単位は％である。
（５）反射色相
得られた有機ＥＬパネルに黒画像を表示させ、Ａｕｏｒｏｎｉｃ−ＭＥＲＣＨＥＲＳ社製の視野角測定評価装置コノスコープを用いて反射色相を測定した。

［実施例１］
（ポリカーボネート樹脂フィルムの作製）
イソソルビド（ＩＳＢ）３７．５質量部、９，９−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］フルオレン（ＢＨＥＰＦ）９１．５質量部、平均分子量４００のポリエチレングリコール（ＰＥＧ）８．４質量部、ジフェニルカーボネート（ＤＰＣ）１０５．７質量部、および、触媒として炭酸セシウム（０．２質量％水溶液）０．５９４質量部をそれぞれ反応容器に投入し、窒素雰囲気下にて、反応の第１段目の工程として、反応容器の熱媒温度を１５０℃にし、必要に応じて攪拌しながら、原料を溶解させた（約１５分）。

次いで、反応容器内の圧力を常圧から１３．３ｋＰａにし、反応容器の熱媒温度を１９０℃まで１時間で上昇させながら、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。
反応容器内温度を１９０℃で１５分保持した後、第２段目の工程として、反応容器内の圧力を６．６７ｋＰａとし、反応容器の熱媒温度を２３０℃まで、１５分で上昇させ、発生するフェノールを反応容器外へ抜き出した。攪拌機の攪拌トルクが上昇してくるので、８分で２５０℃まで昇温し、さらに発生するフェノールを取り除くため、反応容器内の圧力を０．２００ｋＰａ以下に減圧した。所定の攪拌トルクに到達後、反応を終了し、生成した反応物を水中に押し出した後に、ペレット化を行い、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＰＥＧ＝４２．９モル％／５２．８モル％／４．３モル％の割合でジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂Ａを得た。
得られたポリカーボネート樹脂Ａのガラス転移温度は１２６℃であり、還元粘度は０．３７２ｄＬ／ｇであった。

得られたポリカーボネート樹脂Ａを８０℃で５時間真空乾燥をした後、単軸押出機（いすず化工機社製、スクリュー径２５ｍｍ、シリンダー設定温度：２２０℃）、Ｔダイ（幅３００ｍｍ、設定温度：２２０℃）、チルロール（設定温度：１２０〜１３０℃）および巻取機を備えたフィルム製膜装置を用いて、長さ３ｍ、幅３００ｍｍ、厚み１２０μｍのポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。
得られたポリカーボネート樹脂フィルムの吸水率は１．２％であった。

（第１の位相差層の作製）
得られたポリカーボネート樹脂フィルムを、長さ３００ｍｍ、幅３００ｍｍに切り出し、ラボストレッチャーＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｃｋｎｅｒ社製）を用いて、温度１３６℃、倍率２倍で縦延伸を行い、位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり（ｎｘ：１．５９６９、ｎｙ：１．５９４２、ｎｚ：１．５９４２）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
下記化学式（Ｉ）（式中の数字６５および３５はモノマーユニットのモル％を示し、便宜的にブロックポリマー体で表している：重量平均分子量５０００）で示される側鎖型液晶ポリマー２０重量部、ネマチック液晶相を示す重合性液晶（ＢＡＳＦ社製：商品名ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２）８０重量部および光重合開始剤（チバスペシャリティーケミカルズ社製：商品名イルガキュア９０７）５重量部をシクロペンタノン２００重量部に溶解して液晶塗工液を調製した。そして、基材フィルム（ノルボルネン系樹脂フィルム：日本ゼオン（株）製、商品名「ゼオネックス」）に当該塗工液をバーコーターにより塗工した後、８０℃で４分間加熱乾燥することによって液晶を配向させた。この液晶層に紫外線を照射し、液晶層を硬化させることにより、基材上に第２の位相差層となる液晶固化層（厚み：０．５８μｍ）を形成した。この層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−７１ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２６、ｎｙ：１．５３２６、ｎｚ：１．６５５０）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記位相差フィルム（第１の位相差層）に、アクリル系粘着剤を介して上記液晶固化層（第２の位相差層）を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して、位相差フィルムに液晶固化層が転写された積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７０ｎｍであった。

（偏光子の作製）
ポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ素を含む水溶液中で染色した後、ホウ酸を含む水溶液中で速比の異なるロール間にて６倍に一軸延伸して偏光子を得た。

（偏光板の作製）
上記偏光子の片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介してトリアセチルセルロースフィルム（厚み４０μｍ、コニカミノルタ社製、商品名「ＫＣ４ＵＹＷ」）を貼り合わせた。
偏光子のもう片側に、ポリビニルアルコール系接着剤を介して上記位相差フィルムを貼り合わせた。ここで、位相差フィルムの遅相軸が偏光子の吸収軸に対して反時計回りに４５°となるように貼り合わせた。次いで、位相差フィルム側に、アクリル系粘着剤を介して上記液晶固化層を貼り合わせた後、上記基材フィルムを除去して偏光板を得た。

（有機ＥＬパネルの作製）
得られた偏光板の液晶固化層（第２の位相差層）側にアクリル系粘着剤で粘着剤層を形成し、寸法５０ｍｍ×５０ｍｍに切り出した。
有機ＥＬディスプレイ（ＬＧ社製、製品名「１５ＥＬ９５００」）から有機ＥＬパネルを取り出し、この有機ＥＬパネルに貼り付けられている偏光フィルムを剥がし取り、かわりに、切り出した偏光板を貼り合わせて有機ＥＬパネルを得た。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。なお、表１中、「視野角特性」は、ＣＩＥ表色系のｘｙ色度図上における、正面方向の反射色相と斜め方向の反射色相（極角４５°における最大値または最小値）との２点間距離Δｘｙを示す。また、「正面色相の変化Δｘｙ」および「斜め色相の変化Δｘｙ」は、環境試験投入前後での反射色相の変化を示す。

［実施例２］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を１．８５倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２０ｎｍであり（ｎｘ：１．５９６７、ｎｙ：１．５９４４、ｎｚ：１．５９４４）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．６６μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８０ｎｍであり（ｎｘ：１．５３３９、ｎｙ：１．５３３９、ｎｚ：１．６５５１）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例３］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．１倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１６０ｎｍであり（ｎｘ：１．５９７１、ｎｙ：１．５９４０、ｎｚ：１．５９４０）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．４９μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６０ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２５、ｎｙ：１．５３２５、ｎｚ：１．６５４９）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例４］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
市販の位相差フィルム（帝人社製、商品名「ピュアエースＷＲ（ＥＷＦ）」）をそのまま用いた。このフィルムのＲｅ（５５０）は１４７ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４７ｎｍであり（ｎｘ：１．５９７０、ｎｙ：１．５９４２、ｎｚ：１．５９４２）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、吸水率は０．５％であり、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４７ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７６ｎｍであった。

［実施例５］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
実施例１に準じた手順で、ＢＨＥＰＦ／ＩＳＢ／ＰＥＧ（平均分子量１０００）＝４５モル％／５１モル％／４モル％の割合でジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂Ｂを得た。得られたポリカーボネート樹脂Ｂのガラス転移温度は１３４．１℃であった。このポリカーボネート樹脂Ｂを用いたこと以外は実施例１と同様にして、ポリカーボネート樹脂フィルムを作製した。得られたポリカーボネート樹脂フィルムの吸水率は２．１％であった。
このポリカーボネート樹脂フィルムを用いたこと、および、延伸倍率１．５倍で縦延伸を行ったこと以外は実施例１と同様にして、位相差フィルム（第１の位相差層）を得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．９８であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７０ｎｍであった。

［比較例１］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶硬化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
特開２００５−４２０３９号公報の実施例１のセルロースエステルフィルム（吸水率：３．２％）を、ラボストレッチャーＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｃｋｎｅｒ社製）を用いて、温度１００℃、倍率１．３倍で同時二軸延伸し、位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり（ｎｘ：１．４９１２、ｎｙ：１．４９１２、ｎｚ：１．４８７７）、ｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、吸水率は３．２％、環境試験による位相差変動は１５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
液晶化合物［大日本インキ化学工業（株）製、商品名「ＵＣＬ−００１」］を１００重量部、光重合開始剤［チバスペシャリティーケミカルズ（株）製、商品名「イルガキュア９０７」］を３重量部、およびレベリング剤［ビックケミー社製、商品名「ＢＹＫ３６１」］を０．０５重量部混合した液晶性組成物を、シクロペンタノン（沸点１３１℃）２００重量部に溶解させて溶液を調製した。次いで、市販のポリエチレンテレフタレートフィルム［東レ（株）製、商品名「Ｓ−２７Ｅ」（厚み：７５μｍ）］の表面に、市販のポリビニルアルコール［日本合成化学（株）製、商品名「ＮＨ−１８」］を、ロッドコータを用いて一方向に均一に塗工し、８０℃７０℃±１℃の空気循環式恒温オーブン内で５分間乾燥させた後、ナイロンのパイル糸を有すラビング布を貼り付けた円柱形のローラを用いて、ラビンク処理（回転数１０００ｒ．ｐ．ｍ．、押し込み量０．３０ｍｍ、移動速度６０ｍｍ／秒）し、配向基材を得た。得られた配向基材の表面に、調製した液晶溶液を、ロッドコータを用いて塗工し、９０℃±１℃の空気循環式恒温オーブン内で３分間乾燥して塗工・乾燥させた後、ＵＶ照射を行うことで硬化させ、ホモジニアス配列に配向させた液晶性組成物の硬化層を形成した。
得られた硬化層のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり（ｎｘ：１．４９１６、ｎｙ：１．４８９３、ｎｚ：１．４８９３）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶硬化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は２８２ｎｍであった。

［比較例２］
第２の位相差層を用いなかったこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

［比較例３］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
１０５℃で２時間乾燥させた重合度１８００のＰＶＡ（日本合成化学、ＮＨ−１８）５．０ｇをＤＭＳＯ９５ｍｌに溶解した。ここにメシトアルデヒド３．７８ｇ、プロピオンアルデヒド１．８１ｇ及びｐ−トルエンスルホン酸・１水和物１．７７ｇを加えて、４０℃で４時間撹拌した。炭酸水素ナトリウム２．３５ｇを溶解させた水／メタノール＝２／１溶液に再沈殿を行った。ろ過して得られたポリマーをＴＨＦに溶解し、ジエチルエーテルに再沈殿した。ろ過して乾燥したのち、白色ポリマーが７．８９ｇ得られた。得られたポリマーを前記測定条件下で測定したところ、ビニルメシタール、ビニルプロピオナール、ビニルアルコールの各部位のモル比は２２：４６：３２であり、下記化学式（ＩＩ）で示す構造のポリマーが得られた。また、このポリマーのガラス転移温度は１０２℃であった。得られたポリマーをＤＭＦに溶解し、アプリケーターを用いて製膜した。乾燥して得られたフィルムを、延伸機を用いて１１０℃で１．８倍延伸を行い、厚み８５μｍの一軸延伸フィルムを得た。
得られたフィルムのＲｅ（５５０）は１４１ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり（ｎｘ：１．５９６９、ｎｙ：１．５９４２、ｎｚ：１．５９４２）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、吸水率は４．９％であり、環境試験による位相差変動は２０ｎｍであった。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１４１ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は７０ｎｍであった。

［比較例４］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を１．８２倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１１５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１１５ｎｍであり（ｎｘ：１．５９６６、ｎｙ：１．５９４４、ｎｚ：１．５９４４）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．７μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８５ｎｍであり（ｎｘ：１．５３３８、ｎｙ：１．５３３８、ｎｚ：１．６５５２）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１１５ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３０ｎｍであった。

［比較例５］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．１３倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１７０ｎｍであり（ｎｘ：１．５９７２、ｎｙ：１．５９３９、ｎｚ：１．５９３９）、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．４９μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６０ｎｍであり（ｎｘ：１．５３２５、ｎｙ：１．５３２５、ｎｚ：１．６５４９）、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１７０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１０ｎｍであった。

［実施例６］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を１．７倍としたこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１００ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
３０リットルオートクレーブ中に、部分ケン化ポリビニルアルコール０．２重量％を含む蒸留水１８ｋｇ、フマル酸ジイソプロピル３ｋｇ、重合開始剤として、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート７ｇを仕込み、重合温度５０℃、重合時間２４時間の条件にて懸濁ラジカル重合反応を行なった。得られた粒子を濾過後、メタノールで十分洗浄した後８０℃にて乾燥し、フマル酸ジイソプロピル単独重合体を得た。得られたフマル酸ジイソプロピル単独重合体をＴＨＦ溶液に溶解して２２％溶液とし、さらにフマル酸ジイソプロピル単独重合体１００重量部に対し、ヒンダードフェノール系酸化防止剤としてトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト０．３５重量部およびリン系酸化防止剤としてペンタエリスリトール−テトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート）０．１５重量部、紫外線吸収剤として２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−ｐ−クレゾール１重量部を添加した後、Ｔダイ法により溶液流延装置の支持基板に流延し、４０℃、８０℃および１２０℃で各々１５分乾燥した、厚み２０．７μｍのフィルムを得た。
得られたフィルムを、長さ３００ｍｍ、幅３００ｍｍに切り出し、ラボストレッチャーＫＡＲＯ ＩＶ（Ｂｒｕｃｋｎｅｒ社製）を用いて、温度１５０℃、倍率１．０５倍で自由端縦延伸を行い、位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例７］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
実施例１で作製した位相差フィルムを用いた。

（第２の位相差層の作製）
厚みを１４．８μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−４０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例８］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
実施例１で作製した位相差フィルムを用いた。

（第２の位相差層の作製）
厚みを１４．８μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−４０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例９］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．２倍としたこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１７０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．０２５倍としたこと、および、厚みを４０μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１０］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸温度１９０℃で固定端延伸して（ＭＤ延伸倍率０．８５倍、ＴＤ延伸倍率１．１倍）、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１００ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例６で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１１］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸温度１９０℃、延伸倍率１．２倍で延伸し、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１７０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．０２５倍としたこと、および、厚みを４０μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例６］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を１．６倍としたこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は９０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は９０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例６で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１１０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３０ｎｍであった。

［比較例７］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．３倍としたこと以外は実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１８０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１８０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．０２５倍としたこと、および、厚みを４０μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１７０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は５０ｎｍであった。

［比較例８］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率１．２倍の自由端延伸を行ったこと以外は比較例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１００ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は３．２％、環境試験による位相差変動は１５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例６で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例９］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を１．２８倍としたこと以外は比較例３と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１００ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は４．９％、環境試験による位相差変動は２０ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例６で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１２］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．２倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１３０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．７５μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１３］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層）
実施例１２で作製した位相差フィルムを用いた。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．２５μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例１４］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
ＭＤ延伸倍率３．２倍で自由端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．５倍で固定端延伸したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は３８０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：２．３１μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２８０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例１５］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．６倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１７０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：１．０７μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１６］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸温度１９０℃で同時２軸延伸（ＭＤ延伸倍率０．８５倍、ＴＤ延伸倍率１．１倍）した後、固定端延伸（ＭＤ延伸倍率１．１倍）を行い、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１３０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．７５μｍに調整したこと以外は、実施例４と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１７］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸温度１９０℃で固定端延伸し（延伸倍率１．２倍）、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１７０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：１．０７μｍに調整したこと以外は、実施例４と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例１０］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．２５倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１３０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１４１ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．２５μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−３０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１３０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１１ｎｍであった。

［比較例１１］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
延伸倍率を２．５倍としたこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１８１ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：１．３３μｍに調整したこと以外は、実施例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１６０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１５０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は２１ｎｍであった。

［比較例１２］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
ＭＤ延伸倍率１．３倍の固定端延伸を行ったこと以外は比較例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１３０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は３．２％、環境試験による位相差変動は１５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．７５μｍに調整したこと以外は、比較例１と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例１３］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層）および液晶固化層（第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
ＭＤ延伸倍率２．３倍の固定端延伸を行ったこと以外は比較例３と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１３０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は４．９％、環境試験による位相差変動は２０ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
厚み：０．７５μｍに調整したこと以外は、比較例３と同様にして液晶固化層を得た。
得られた液晶固化層のＲｅ（５５０）は０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムと液晶固化層とを用いたこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１８］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率１．６倍で固定端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．２６倍で横延伸）したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．２倍としたこと、および、厚みを４１μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は８０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−６０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例１９］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率２．７倍で固定端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．１倍で横延伸）したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１６０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１８０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．１倍としたこと、および、厚みを３５μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例２０］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率１．６５倍で固定端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．３１倍で横延伸）したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．３倍としたこと、および、厚みを４１μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１２０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−２０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであった。

［実施例２１］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
ＭＤ延伸倍率２．７５倍で固定端延伸したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１８０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．０２５倍としたこと、および、厚みを４５．５μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−１４０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例２２］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸温度１９０℃で同時２軸延伸し（ＭＤ延伸倍率０．８５倍、ＴＤ延伸倍率１．２倍）、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例１８で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［実施例２３］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
実施例４で用いた市販の位相差フィルムを、延伸倍率１．２５倍で固定端延伸し、第１の位相差層用位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１７０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１８０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例２１で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１６０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例１４］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率１．６５倍で固定端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．３倍で横延伸）したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は５０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１２５ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．２倍としたこと、および、厚みを５０μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は８０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−９０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１３０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は３５ｎｍであった。

［比較例１５］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
ＭＤ延伸倍率２．８倍で固定端延伸したこと以外は、実施例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１８０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１９０ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムのＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は０．８９であった。さらに、環境試験による位相差変動は５ｎｍであった。

（第２の位相差層の作製）
延伸倍率を１．０２５倍としたこと、および、厚みを２６．６μｍとしたこと以外は実施例６と同様にして位相差フィルムを得た。得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は１０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は−８０ｎｍであり、ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙの屈折率特性を示した。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略直交するように配置したこと以外は、実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１７０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１１０ｎｍであった。

［比較例１６］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率１．１８倍で自由端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．０８倍で横延伸）したこと以外は比較例１と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は３．２％、環境試験による位相差変動は１５ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例１８で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

［比較例１７］
以下の位相差フィルム（第１の位相差層および第２の位相差層）を用いたこと以外は、実施例１と同様にして有機ＥＬパネルを作製した。
この有機ＥＬパネルの反射色相の測定結果を表１に示す。

（第１の位相差層の作製）
逐次２軸延伸（ＭＤ延伸倍率１．９６倍で固定端延伸した後、ＴＤ延伸倍率１．３７倍で横延伸）したこと以外は、比較例３と同様にして位相差フィルムを得た。
得られた位相差フィルムのＲｅ（５５０）は４０ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は１００ｎｍであり、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示した。また、得られた位相差フィルムの吸水率は４．９％、環境試験による位相差変動は２０ｎｍであった。

（第２の位相差層）
実施例１８で作製した位相差フィルムを用いた。

（積層体の作製）
上記の位相差フィルムをそれぞれ用いたこと、および、第１の位相差層の遅相軸と第２の位相差層の遅相軸とが略平行となるように配置したこと以外は実施例１と同様にして積層体を得た。
得られた積層体のＲｅ（５５０）は１２０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。

各実施例においては、いずれも、視野角特性が０．０７を下回り良好であり、正面および斜め方向のいずれの色相変化Δｘｙも０．０７を下回り良好であった。第１の位相差層の吸水率、あるいは、第１の位相差層と第２の位相差層との積層体のＲｅ（５５０）またはＲｔｈ（５５０）が、本発明の範囲から外れる比較例においては、視野角特性、正面色相の変化Δｘｙおよび斜め色相の変化Δｘｙのうち少なくとも１つが不十分なものとなった。

本発明の偏光板は、有機ＥＬデバイスに好適に用いられる。

１０ 偏光子
２０ 保護フィルム
２１ 第１の保護フィルム
２２ 第２の保護フィルム
３０ 第１の位相差層
４０ 第２の位相差層
１００ 偏光板
１００’ 偏光板

Claims (7)

1. 偏光子と第１の位相差層と第２の位相差層とを備え、
   該第１の位相差層が、ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの屈折率特性を示し、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）の関係を満たし、
   該第２の位相差層が、ｎｚ＞ｎｘ≧ｎｙの屈折率特性を示し、
   該偏光子の吸収軸と該第１の位相差層の遅相軸とのなす角度θが、３５°≦θ≦５５°の関係を満たし、
   該第１の位相差層と該第２の位相差層との積層体のＲｅ（５５０）が１２０ｎｍ〜１６０ｎｍで、Ｒｔｈ（５５０）が４０ｎｍ〜１００ｎｍであり、
   該第１の位相差層の吸水率が３％以下であり、
   有機ＥＬパネルに用いられる、
   偏光板：
   ここで、Ｒｅ（４５０）およびＲｅ（５５０）は、それぞれ、２３℃における波長４５０ｎｍおよび５５０ｎｍの光で測定した面内位相差を表し、Ｒｔｈ（５５０）は、２３℃における波長５５０ｎｍの光で測定した厚み方向の位相差を表す。
2. 前記偏光子と、前記第１の位相差層または前記第２の位相差層との間に光学異方性層を含まない、請求項１に記載の偏光板。
3. 前記第１の位相差層が、下記一般式（１）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される、請求項１または２に記載の偏光板。
   

   

   （前記一般式（１）中、Ｒ_１〜Ｒ_４はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の炭素数１〜炭素数２０のアルキル基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキル基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリール基を表し、Ｘは置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のシクロアルキレン基、または、置換若しくは無置換の炭素数６〜炭素数２０のアリーレン基を表し、ｍ及びｎはそれぞれ独立に０〜５の整数である。）
4. 前記第１の位相差層が、下記一般式（２）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される、請求項１から３のいずれかに記載の偏光板。
   

   
5. 前記第１の位相差層が、下記一般式（５）で表されるジヒドロキシ化合物に由来する構造単位を含むポリカーボネート樹脂で形成される、請求項１から４のいずれかに記載の偏光板。
   

   

   （上記一般式（５）中、Ｒ_７は置換若しくは無置換の炭素数２〜炭素数１０のアルキレン基を示し、ｐは２から１００の整数である。）
6. 前記第１の位相差層が斜め延伸して得られた位相差フィルムである、請求項１から５のいずれかに記載の偏光板。
7. 請求項１から６のいずれかに記載の偏光板を備える、有機ＥＬパネル。

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