JP5401784B2 - Light emitting device - Google Patents

Light emitting device Download PDF

Info

Publication number
JP5401784B2
JP5401784B2 JP2007319269A JP2007319269A JP5401784B2 JP 5401784 B2 JP5401784 B2 JP 5401784B2 JP 2007319269 A JP2007319269 A JP 2007319269A JP 2007319269 A JP2007319269 A JP 2007319269A JP 5401784 B2 JP5401784 B2 JP 5401784B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
light emitting
region
layer
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2007319269A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2008216975A (en
Inventor
岳彦 窪田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Priority to JP2007319269A priority Critical patent/JP5401784B2/en
Priority to KR1020080009329A priority patent/KR101469767B1/en
Priority to US12/024,434 priority patent/US7839083B2/en
Priority to TW097104609A priority patent/TWI455643B/en
Priority to CN2008100058083A priority patent/CN101242691B/en
Publication of JP2008216975A publication Critical patent/JP2008216975A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5401784B2 publication Critical patent/JP5401784B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/131Interconnections, e.g. wiring lines or terminals
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/10OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED]
    • H10K50/11OLEDs or polymer light-emitting diodes [PLED] characterised by the electroluminescent [EL] layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/805Electrodes
    • H10K50/82Cathodes
    • H10K50/824Cathodes combined with auxiliary electrodes
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K50/00Organic light-emitting devices
    • H10K50/80Constructional details
    • H10K50/84Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K50/842Containers
    • H10K50/8426Peripheral sealing arrangements, e.g. adhesives, sealants
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays
    • H10K59/124Insulating layers formed between TFT elements and OLED elements
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K77/00Constructional details of devices covered by this subclass and not covered by groups H10K10/80, H10K30/80, H10K50/80 or H10K59/80
    • H10K77/10Substrates, e.g. flexible substrates
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50Photovoltaic [PV] energy
    • Y02E10/549Organic PV cells

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Description

本発明は、有機EL(Electroluminescence)素子などの発光素子を用いた発光装置に関する。   The present invention relates to a light emitting device using a light emitting element such as an organic EL (Electroluminescence) element.

基板上の有効領域に複数の発光素子が配列され、有効領域を囲む周辺領域に各種配線等が配置された発光装置が知られている。各発光素子は、第1電極と第2電極の間に挟まれ有機EL材料などの発光材料で形成される発光層を有する。多くの場合、この第2電極は複数の発光素子に共通して設けられた共通電極であり、上記有効領域全体にわたって設けられる。しかしながら、電極自体が有する抵抗により電極の面内において電圧降下が発生し、基板における位置によって発光素子に供給される電位がばらついて発光素子の輝度が位置によってばらつくおそれがある。そこで、従来から、共通電極よりも低抵抗の材料で形成され共通電極と電気的に接続された補助電極を設け、共通電極の抵抗を下げることが行われている(例えば、特許文献1)。
特開2002−352963号公報
There is known a light emitting device in which a plurality of light emitting elements are arranged in an effective area on a substrate, and various wirings are arranged in a peripheral area surrounding the effective area. Each light emitting element has a light emitting layer sandwiched between a first electrode and a second electrode and formed of a light emitting material such as an organic EL material. In many cases, the second electrode is a common electrode provided in common to the plurality of light emitting elements, and is provided over the entire effective region. However, a voltage drop occurs in the surface of the electrode due to the resistance of the electrode itself, and the potential supplied to the light-emitting element varies depending on the position on the substrate, and the luminance of the light-emitting element may vary depending on the position. Therefore, conventionally, an auxiliary electrode formed of a material having a resistance lower than that of the common electrode and electrically connected to the common electrode is provided to reduce the resistance of the common electrode (for example, Patent Document 1).
JP 2002-352963 A

ところで、補助電極は、例えば、アルミニウムなどの遮光性の部材で形成される場合が多い。このため、発光素子からの出射光を遮ることがないように発光素子の間隙の領域を通るように形成されるのが望ましく、高精度な位置合わせ機構を用いて形成されるのが望ましい。これに対し、共通電極は光透過性の材料で形成されて、有効領域全体を覆う領域に一様に形成される。よって、補助電極と比較して、位置合わせにおける誤差が許容され得る。よって、補助電極よりも共通陰極の位置合わせの誤差が問題となる。したがって、共通電極の誤差を吸収可能なように基板上において周辺領域の幅(いわゆる、「額縁領域」)を十分に確保することが望ましく、装置の小型化の妨げとなっていた。   By the way, the auxiliary electrode is often formed of a light-shielding member such as aluminum. For this reason, it is desirable that the light emitting element is formed so as to pass through a gap region of the light emitting element so as not to block light emitted from the light emitting element, and it is desirable that the light emitting element be formed using a highly accurate alignment mechanism. On the other hand, the common electrode is made of a light transmissive material and is uniformly formed in a region covering the entire effective region. Therefore, an error in alignment can be allowed as compared with the auxiliary electrode. Therefore, the alignment error of the common cathode becomes more problematic than the auxiliary electrode. Therefore, it is desirable to secure a sufficient width of the peripheral region (so-called “frame region”) on the substrate so as to be able to absorb the error of the common electrode, which hinders downsizing of the device.

また、発光素子の発光を制御するためのトランジスタなどの回路素子は、共通電極や補助電極の下層に配置される。このため、共通電極および補助電極との間に絶縁層を設けて、共通電極および補助電極を回路素子から絶縁する。ところが、絶縁層が段差を含む場合には、その段差と重なる上層部分で電極に断線や亀裂が生じるおそれがある。断線や亀裂が生じた箇所では電極の抵抗値が増加するので、発光素子の輝度ムラが顕著となる。
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであり、発光装置の額縁領域を縮小するとともに、発光素子の輝度ムラを抑制するこが可能な発光装置を提供することを解決課題とする。
A circuit element such as a transistor for controlling light emission of the light emitting element is disposed below the common electrode and the auxiliary electrode. For this reason, an insulating layer is provided between the common electrode and the auxiliary electrode to insulate the common electrode and the auxiliary electrode from the circuit elements. However, when the insulating layer includes a step, the electrode may be broken or cracked in the upper layer portion overlapping the step. Since the resistance value of the electrode increases at the location where the disconnection or crack occurs, the luminance unevenness of the light emitting element becomes remarkable.
The present invention has been made in view of the above-described circumstances, and an object of the present invention is to provide a light-emitting device capable of reducing the frame area of the light-emitting device and suppressing luminance unevenness of the light-emitting element.

上記課題を解決するため、本発明の発光装置は、基板上に設けられたトランジスタと、前記トランジスタ上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された第1電極と、前記第1の電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた第2電極と、前記第2電極と電気的に接続され、前記第2電極上に設けられた導電層と、を備え、前記第2電極および前記導電層は、前記絶縁層の端部よりも外側まで延在して設けられており、前記絶縁層の端部は、前記第2電極と接しており、平面視において、前記第2電極の端部は、前記絶縁層の端部と前記導電層の端部との間に設けられていることを特徴とする。
上記課題を解決するため、本発明の発光装置は、基板上に設けられたトランジスタと、前記トランジスタ上に設けられた絶縁層と、前記絶縁層上に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された第1電極と、前記第1の電極上に設けられた発光層と、前記発光層上に設けられた第2電極と、前記第2電極と電気的に接続され、前記絶縁層上に設けられた導電層と、を備え、前記第2電極および前記導電層は、前記絶縁層の端部よりも外側まで延在して設けられ、前記絶縁層の端部は、前記導電層と接しており、平面視において、前記第2電極の端部は、前記絶縁層の端部と前記導電層の端部との間に設けられていることを特徴とする。
上記課題を解決するため、本発明の第1の発光装置は、基板上に複数の発光素子が配列された有効領域と当該有効領域を囲む周辺領域とを有し、前記各発光素子は第1電極と第2電極と両者の間にある発光層とを有し、前記第2電極は前記複数の発光素子に共通に設けられ、前記発光素子の発光を制御するための回路素子が配置された素子層を有する発光装置であって、前記第2電極と電気的に接続された補助電極と、前記素子層の上層に配置されるとともに、前記第2電極および前記補助電極よりも下層に配置される部分を有し、前記第2電極および前記補助電極を前記回路素子から絶縁するための絶縁層とを有し、前記第2電極は、前記有効領域を覆い、前記周辺領域にはみだして一様に形成され、前記補助電極は、前記有効領域において前記複数の発光素子の間隙を通り、前記周辺領域の一部に形成され、前記周辺領域において、前記第2電極の端は、前記補助電極の端よりも前記基板の面内において内側に位置するとともに、前記絶縁層の端よりも外側に位置する。
本発明の発光装置においては、補助電極の端は共通陰極の端よりも外側に配置される。また、補助電極は、有効領域においては、発光素子の間隙の領域を通るように形成される。このため、高精度な位置合わせ機構を用いて形成されるのが望ましい。これに対し、共通電極は有効領域全体を覆う領域に一様に形成されるから、共通電極の形成に際しては、位置合わせ精度が補助電極ほど要求されない。すなわち、補助電極は共通電極よりも小さな誤差で形成される場合が多い。よって、本発明によれば、共通電極の端を補助陰極の端よりも外側に配置する構成と比較して、補助電極の誤差に応じて額縁領域を縮小することができ、装置の小型化が可能となる。そして、補助電極は、第2電極よりも抵抗が低くなるように構成される。特に、補助電極は、第2電極よりも低抵抗の材料で形成されることが好ましい。
In order to solve the above problems, a light-emitting device of the present invention includes a transistor provided over a substrate, an insulating layer provided over the transistor, and provided over the insulating layer and electrically connected to the transistor. The first electrode, the light emitting layer provided on the first electrode, the second electrode provided on the light emitting layer, and the second electrode are electrically connected and on the second electrode A conductive layer provided, wherein the second electrode and the conductive layer are provided to extend outside an end portion of the insulating layer, and an end portion of the insulating layer is provided in the second portion. It is in contact with the electrode, and in plan view, the end of the second electrode is provided between the end of the insulating layer and the end of the conductive layer.
In order to solve the above problems, a light-emitting device of the present invention includes a transistor provided over a substrate, an insulating layer provided over the transistor, and provided over the insulating layer and electrically connected to the transistor. A first electrode; a light emitting layer provided on the first electrode; a second electrode provided on the light emitting layer; and a second electrode provided on the insulating layer, electrically connected to the second electrode. And the second electrode and the conductive layer are provided to extend to the outside of the end portion of the insulating layer, and the end portion of the insulating layer is in contact with the conductive layer. In plan view, the end of the second electrode is provided between the end of the insulating layer and the end of the conductive layer.
In order to solve the above problem, a first light emitting device of the present invention has an effective region in which a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate and a peripheral region surrounding the effective region, and each of the light emitting elements is a first light emitting device. An electrode, a second electrode, and a light emitting layer between the electrodes, the second electrode is provided in common to the plurality of light emitting elements, and a circuit element for controlling light emission of the light emitting elements is disposed A light-emitting device having an element layer, wherein the auxiliary electrode is electrically connected to the second electrode, and is disposed in an upper layer of the element layer, and is disposed in a lower layer than the second electrode and the auxiliary electrode. And an insulating layer for insulating the second electrode and the auxiliary electrode from the circuit element. The second electrode covers the effective area and protrudes uniformly from the peripheral area. The auxiliary electrode is formed in the effective area. The gaps between the plurality of light emitting elements are formed, and are formed in a part of the peripheral region. In the peripheral region, the end of the second electrode is located inside the surface of the substrate from the end of the auxiliary electrode. At the same time, it is located outside the end of the insulating layer.
In the light emitting device of the present invention, the end of the auxiliary electrode is disposed outside the end of the common cathode. Further, the auxiliary electrode is formed so as to pass through the region of the gap between the light emitting elements in the effective region. For this reason, it is desirable to form using a highly accurate alignment mechanism. On the other hand, since the common electrode is uniformly formed in a region covering the entire effective region, alignment accuracy is not required as much as the auxiliary electrode when forming the common electrode. That is, the auxiliary electrode is often formed with a smaller error than the common electrode. Therefore, according to the present invention, the frame region can be reduced in accordance with the error of the auxiliary electrode, compared with the configuration in which the end of the common electrode is arranged outside the end of the auxiliary cathode, and the apparatus can be downsized. It becomes possible. The auxiliary electrode is configured to have a lower resistance than the second electrode. In particular, the auxiliary electrode is preferably formed of a material having a lower resistance than the second electrode.

さらに、本発明の第1の発光装置では、共通電極の端は絶縁層の端よりも外側に配置される。補助電極のうち、絶縁層の端と重なる部分では、段差による断線または亀裂が生じやすいが、共通電極の端が断線または亀裂が生じ得る箇所よりも外側まで延びて形成されているため、補助電極に断線または亀裂が生じた場合においても、抵抗値の増加を抑制することができる。よって、発光素子の輝度ムラを抑制することが可能である。加えて、絶縁層は、アクリルなどの透湿性の材料で形成される場合が多い。その場合、絶縁層を介して外部から水分が進入し、発光層の劣化が生じるおそれがある。しかしながら、本発明では、共通電極の端が絶縁層の端よりも外側に配置されることにより、絶縁層に水分が進入するのを防止することができるので、発光素子の劣化を抑制することが可能となる。よって、発光素子の劣化による輝度の低下を抑制することができる。   Furthermore, in the first light emitting device of the present invention, the end of the common electrode is disposed outside the end of the insulating layer. Of the auxiliary electrode, the portion overlapping the end of the insulating layer is likely to break or crack due to a step, but the end of the common electrode is formed to extend to the outside of the location where the break or crack may occur. Even when a wire breakage or a crack occurs, an increase in resistance value can be suppressed. Thus, luminance unevenness of the light-emitting element can be suppressed. In addition, the insulating layer is often formed of a moisture-permeable material such as acrylic. In that case, moisture may enter from the outside through the insulating layer, and the light emitting layer may be deteriorated. However, in the present invention, since the end of the common electrode is disposed outside the end of the insulating layer, moisture can be prevented from entering the insulating layer, so that deterioration of the light-emitting element can be suppressed. It becomes possible. Therefore, a reduction in luminance due to deterioration of the light emitting element can be suppressed.

本発明の好適な態様において、前記周辺領域には、前記第2電極に電位を供給するための第2電極用電源線が配設され、前記補助電極は、前記第2電極と重ならない部分で前記第2電極用電源線と接する部分を有する。よって、補助電極だけが第2電極用電源線と重なって、この重なる部分を介して第2電極に電位が供給される。一方、絶縁層の段差の影響で、補助電極に断線または亀裂が生じて抵抗値が増加するおそれがある。この場合、共通電極に供給される電圧の降下が顕著となる。しかしながら、本発明では、共通電極の端が絶縁層の端よりも外側に配置されているので、補助電極のうち断線または亀裂が生じ易い箇所(すなわち、絶縁層の端の段差と重なる部分)よりも、第2電極用電源線側にはみだしている。よって、絶縁層の端の段差により補助電極に断線や亀裂が生じた場合にも、第2電極用電源線からの電位を共通電極および補助電極の他の部分に対して供給することが可能となる。したがって、発光素子の輝度ムラが抑制される。   In a preferred aspect of the present invention, a second electrode power line for supplying a potential to the second electrode is disposed in the peripheral region, and the auxiliary electrode is a portion that does not overlap the second electrode. A portion in contact with the second electrode power line is provided. Therefore, only the auxiliary electrode overlaps with the power supply line for the second electrode, and the potential is supplied to the second electrode through this overlapping portion. On the other hand, the resistance value may increase due to disconnection or cracking of the auxiliary electrode due to the step of the insulating layer. In this case, a drop in the voltage supplied to the common electrode becomes significant. However, in the present invention, since the end of the common electrode is disposed outside the end of the insulating layer, the auxiliary electrode is more likely to be broken or cracked (that is, the portion overlapping the step at the end of the insulating layer). Also protrudes to the second electrode power line side. Therefore, even when the auxiliary electrode is disconnected or cracked due to a step at the end of the insulating layer, the potential from the second electrode power line can be supplied to the other portions of the common electrode and the auxiliary electrode. Become. Therefore, luminance unevenness of the light emitting element is suppressed.

上記態様において、前記第2電極は、前記補助電極よりも下層に配置されるのが好ましい。この態様によれば、第2電極が補助電極の段差から影響を受けることがないので、第2電極の断線あるいは亀裂が生じる可能性を抑制できる。   In the above aspect, it is preferable that the second electrode is disposed in a lower layer than the auxiliary electrode. According to this aspect, since the second electrode is not affected by the step of the auxiliary electrode, it is possible to suppress the possibility that the second electrode is disconnected or cracked.

加えて、前記第2電極および前記補助電極の各々が、前記第2電極用電源線と接する部分を有するのが好ましい。この態様によれば、補助電極に加えて、第2電極も第2電極用電源線に接する部分を有するので、第2電極用電源線から第2電極までの抵抗を低減することができ、電圧の降下を起因とする発光素子の輝度ムラが抑制される。   In addition, it is preferable that each of the second electrode and the auxiliary electrode has a portion in contact with the second electrode power line. According to this aspect, in addition to the auxiliary electrode, since the second electrode also has a portion in contact with the second electrode power line, the resistance from the second electrode power line to the second electrode can be reduced, and the voltage Luminance unevenness of the light emitting element due to the decrease in the brightness is suppressed.

本発明の別の好適な態様において、前記周辺領域には、前記第2電極に電位を供給するための第2電極用電源線が配設され、前記補助電極は、上面が前記第2電極と接し下面が前記第2電極用電源線と接する部分を有する。補助電極に加えて、第2電極も第2電極用電源線に重なる部分を有するので、第2電極用電源線から第2電極までの抵抗を低減することができ電圧の降下を起因とする発光素子の輝度ムラが抑制される。   In another preferred aspect of the present invention, a second electrode power line for supplying a potential to the second electrode is disposed in the peripheral region, and the upper surface of the auxiliary electrode is connected to the second electrode. The contacting lower surface has a portion in contact with the second electrode power line. In addition to the auxiliary electrode, the second electrode also has a portion overlapping the second electrode power line, so that the resistance from the second electrode power line to the second electrode can be reduced, and light emission caused by a voltage drop The luminance unevenness of the element is suppressed.

さらに、本発明に係る第2の発光装置は、基板上に複数の発光素子が配列された有効領域と当該有効領域を囲む周辺領域とを有する発光装置であって、前記複数の発光素子の各々に対応して設けられた複数の第1電極と、前記複数の発光素子に共通に設けられた第2電極と、前記複数の第1電極と前記第2電極との間に介在する発光層と、前記第2電極と電気的に接続した補助電極と、前記発光素子の発光を制御するための回路素子が配置された素子層と、前記第2電極または前記補助配線と前記素子層との間を絶縁する絶縁層とを備え、前記絶縁層は、前記有効領域全体と前記周辺領域の少なくとも一部とを含む第1の領域に設けられており、前記第2電極は、前記有効領域全体において前記第1の領域と重なり、前記周辺領域において前記第1の領域よりも第1の方向にはみ出した第2の領域に設けられており、前記補助電極は、前記有効領域において前記複数の発光素子の間隙を通るように設けられており、且つ、前記周辺領域のうち前記第2の領域が前記第1の領域よりもはみ出した側において、前記第1の領域の内側と前記第1の領域の外側であって且つ前記第2の領域の内側である領域とを通り前記第2の領域の外側に至るように設けられている。   Furthermore, a second light emitting device according to the present invention is a light emitting device having an effective region in which a plurality of light emitting elements are arranged on a substrate and a peripheral region surrounding the effective region, and each of the plurality of light emitting elements. A plurality of first electrodes provided corresponding to the plurality of light emitting elements, a second electrode provided in common to the plurality of light emitting elements, and a light emitting layer interposed between the plurality of first electrodes and the second electrode, An auxiliary electrode electrically connected to the second electrode, an element layer in which a circuit element for controlling light emission of the light emitting element is disposed, and between the second electrode or the auxiliary wiring and the element layer And the insulating layer is provided in a first region including the entire effective region and at least a part of the peripheral region, and the second electrode is provided in the entire effective region. Overlaps the first region and the front in the peripheral region Provided in a second region protruding in a first direction from the first region, and the auxiliary electrode is provided so as to pass through the gaps of the plurality of light emitting elements in the effective region, and On the side of the peripheral region where the second region protrudes beyond the first region, the inside of the first region, the outside of the first region, and the inside of the second region. It is provided so as to pass through a certain region and reach the outside of the second region.

本発明においては、共通電極が設けられた第2の領域が、絶縁層が設けられた第1の領域よりもはみ出した側において、補助電極は第2の領域の外側に至るように設けられる。また、補助電極は、有効領域においては、発光素子の間隙の領域を通るように形成される。よって、補助電極の形成には高精度な位置合わせ機構を用いられるのに対し、共通電極は有効領域全体を覆う領域に一様に形成されるから、共通電極の形成に際しては位置合わせ精度が補助電極ほど要求されない。よって、補助電極の誤差は共通電極よりも小さいので、本発明によれば、共通電極の端を補助陰極の端よりも外側に配置する構成と比較して、補助電極の誤差に応じて額縁領域を縮小することができ、装置の小型化が可能となる。   In the present invention, the auxiliary electrode is provided so as to reach the outside of the second region on the side where the second region where the common electrode is provided protrudes from the first region where the insulating layer is provided. Further, the auxiliary electrode is formed so as to pass through the region of the gap between the light emitting elements in the effective region. Therefore, while a high-precision alignment mechanism is used for forming the auxiliary electrode, the common electrode is uniformly formed in a region covering the entire effective region, so that the alignment accuracy is assisted in forming the common electrode. Less demanding than electrodes. Therefore, since the error of the auxiliary electrode is smaller than that of the common electrode, according to the present invention, the frame region is set according to the error of the auxiliary electrode as compared with the configuration in which the end of the common electrode is arranged outside the end of the auxiliary cathode. The size of the apparatus can be reduced.

また、補助電極のうち、絶縁層の端と重なる部分では、段差による断線または亀裂が生じやすいが、本発明の発光装置では、第2の領域が第1の領域よりもはみ出した側においては、共通電極の端は補助電極の断線または亀裂が生じ得る箇所よりも外側まで延びて形成されている。このため、補助電極に断線または亀裂が生じた場合においても抵抗値の増加を抑制することができる。よって、発光素子の輝度ムラを抑制することが可能である。加えて、絶縁層は、アクリルなどの透湿性の材料で形成される場合が多い。その場合、絶縁層を介して外部から水分が進入し、発光層の劣化が生じるおそれがある。しかしながら、本発明では、共通電極の端が絶縁層の端よりも外側に配置されることにより、絶縁層に水分が進入するのを防止することができるので、発光素子の劣化を抑制することが可能となる。よって、発光素子の劣化による輝度の低下を抑制することができる。   Further, in the portion of the auxiliary electrode that overlaps the end of the insulating layer, disconnection or cracking due to a step is likely to occur, but in the light emitting device of the present invention, on the side where the second region protrudes from the first region, The end of the common electrode is formed so as to extend to the outside of a portion where the disconnection or crack of the auxiliary electrode may occur. For this reason, it is possible to suppress an increase in resistance value even when the auxiliary electrode is disconnected or cracked. Thus, luminance unevenness of the light-emitting element can be suppressed. In addition, the insulating layer is often formed of a moisture-permeable material such as acrylic. In that case, moisture may enter from the outside through the insulating layer, and the light emitting layer may be deteriorated. However, in the present invention, since the end of the common electrode is disposed outside the end of the insulating layer, moisture can be prevented from entering the insulating layer, so that deterioration of the light-emitting element can be suppressed. It becomes possible. Therefore, a reduction in luminance due to deterioration of the light emitting element can be suppressed.

上記第2の発光装置の好適な態様において、前記複数の発光素子は、マトリクス状に配列しており、前記補助電極は、前記複数の発光素子の間隙を通り、且つ、前記有効領域の内側から外側に至るように、前記第1の方向に沿ってストライプ状に設けられた複数の個別電極を有する。好ましくは、前記補助電極は、前記周辺領域において前記複数の個別電極を互いに接続する接続電極をさらに有するようにしてもよい。この場合、前記絶縁層の前記第1の方向における端が前記接続電極と重なるように前記接続電極を配置するようにしてもよい。   In a preferred aspect of the second light emitting device, the plurality of light emitting elements are arranged in a matrix, and the auxiliary electrode passes through the gap between the plurality of light emitting elements and from the inside of the effective region. A plurality of individual electrodes are provided in stripes along the first direction so as to reach the outside. Preferably, the auxiliary electrode may further include a connection electrode that connects the plurality of individual electrodes to each other in the peripheral region. In this case, the connection electrode may be arranged such that an end of the insulating layer in the first direction overlaps the connection electrode.

上記第2の発光装置の別の好適な態様において、前記複数の発光素子は、マトリクス状に配列しており、前記補助電極は、前記複数の発光素子の間隙を通り、且つ、前記有効領域の内側から前記第2の領域の外側に至るように前記第1の方向に沿ってストライプ状に設けられた複数の個別電極である。   In another preferable aspect of the second light-emitting device, the plurality of light-emitting elements are arranged in a matrix, and the auxiliary electrode passes through the gap between the plurality of light-emitting elements and is in the effective region. A plurality of individual electrodes provided in stripes along the first direction from the inside to the outside of the second region;

また、上記第2の発光装置について上述したいずれかの態様において、好ましくは、前記第2電極に電位を供給するための第2電極用電源線が、前記第1の方向と交差するように前記周辺領域に設けられており、前記第2電極用電源線は、前記補助電極と電気的に接続されるようにしてもよい。この場合、前記第2電極用電源線は、前記第1の領域の外側に設けるようにしてもよい。   In any one of the aspects described above for the second light emitting device, preferably, the second electrode power supply line for supplying a potential to the second electrode intersects the first direction. The second electrode power supply line may be electrically connected to the auxiliary electrode. The second electrode power supply line may be electrically connected to the auxiliary electrode. In this case, the second electrode power line may be provided outside the first region.

さらに、本発明は、上記いずれかの態様の第1または第2の発光装置を有する電子機器としても把握される。この電子機器によれば、上述のいずれかの効果を達成可能である。   Furthermore, this invention is grasped | ascertained also as an electronic device which has the 1st or 2nd light-emitting device of the said aspect. According to this electronic device, any of the above-described effects can be achieved.

以下、添付の図面を参照しながら本発明に係る実施の形態を説明する。なお、図面においては、各部の寸法の比率は実際のものとは適宜に異ならせてある。
<A−1:第1実施形態>
図1(A)は、本発明の第1実施形態に係る発光装置1の構成の一部を示す概略平面図であり、図1(B)は図1(A)の状態の後に補助電極150および画素電極76をさらに形成した状態を示す平面図である。図1(A)に示すように、この発光装置1は、基板10とフレキシブル基板20とを備える。基板10の端部には接続端子が形成され、この接続端子とフレキシブル基板20に形成された接続端子とが、ACF(anisotropic conductive film:異方性導電膜)と呼ばれる導電粒子を含有したフィルム状の接着剤を介して圧着固定される。また、フレキシブル基板20には、データ線駆動回路200が設けられており、さらに、フレキシブル基板20を介して各種の電源電圧が基板10に供給される。
Embodiments according to the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. In the drawings, the ratio of dimensions of each part is appropriately changed from the actual one.
<A-1: First Embodiment>
FIG. 1A is a schematic plan view showing a part of the configuration of the light emitting device 1 according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 1B is the auxiliary electrode 150 after the state of FIG. FIG. 6 is a plan view showing a state where a pixel electrode 76 is further formed. As shown in FIG. 1A, the light emitting device 1 includes a substrate 10 and a flexible substrate 20. A connection terminal is formed at the end of the substrate 10, and the connection terminal and the connection terminal formed on the flexible substrate 20 are in a film shape containing conductive particles called ACF (anisotropic conductive film). Crimped and fixed via an adhesive. The flexible substrate 20 is provided with a data line driving circuit 200, and various power supply voltages are supplied to the substrate 10 through the flexible substrate 20.

基板10には、有効領域Aと、その外側(つまり基板もしくは基板10の外周と有効領域Aの間)の周辺領域Bが設けられている。周辺領域Bには走査線駆動回路100Aおよび100B、ならびにプリチャージ回路120が形成されている。プリチャージ回路120は書き込み動作に先立って、データ線112の電位を所定の電位に設定するための回路である。走査線駆動回路100Aおよび100B、ならびにプリチャージ回路120は、有効領域Aの周辺にある周辺回路である。但し、周辺回路は、単位回路Pや配線の良否を検査する検査回路(図示せず)を含んでもよいし、データ線駆動回路200が周辺領域Bに設けられた周辺回路であってもよい。   The substrate 10 is provided with an effective region A and a peripheral region B outside thereof (that is, between the substrate or the outer periphery of the substrate 10 and the effective region A). In the peripheral region B, scanning line drive circuits 100A and 100B and a precharge circuit 120 are formed. The precharge circuit 120 is a circuit for setting the potential of the data line 112 to a predetermined potential prior to the write operation. The scanning line driving circuits 100A and 100B and the precharge circuit 120 are peripheral circuits around the effective area A. However, the peripheral circuit may include a unit circuit P and an inspection circuit (not shown) for inspecting the quality of the wiring, or may be a peripheral circuit in which the data line driving circuit 200 is provided in the peripheral region B.

有効領域Aには、複数の走査線111と複数のデータ線112が形成され、それらの交差点の各々の近傍には複数の単位回路(画素回路)Pが設けられている。単位回路PはOLED(organic light emitting diode)素子を含み、電流供給線113から給電を受ける。複数の電流供給線113は第1電極用電源線130に接続されている。   In the effective area A, a plurality of scanning lines 111 and a plurality of data lines 112 are formed, and a plurality of unit circuits (pixel circuits) P are provided in the vicinity of each of the intersections. The unit circuit P includes an OLED (organic light emitting diode) element and receives power from the current supply line 113. The plurality of current supply lines 113 are connected to the first electrode power line 130.

図2は、発光装置1の単位回路Pの詳細を示す回路図である。各単位回路Pは、nチャネル型のトランジスタ68、pチャネル型のトランジスタ60、容量素子69、および発光素子(OLED素子)70を含む。pチャネル型のトランジスタ60のソース電極は電流供給線113に接続される一方、そのドレイン電極は発光素子70の陽極に接続される。また、トランジスタ60のソース電極とゲート電極との間には、容量素子69が設けられている。nチャネル型のトランジスタ68のゲート電極は走査線111に接続され、そのソース電極は、データ線112に接続され、そのドレイン電極はトランジスタ60のゲート電極と接続される。   FIG. 2 is a circuit diagram illustrating details of the unit circuit P of the light emitting device 1. Each unit circuit P includes an n-channel transistor 68, a p-channel transistor 60, a capacitor element 69, and a light emitting element (OLED element) 70. The source electrode of the p-channel transistor 60 is connected to the current supply line 113, while the drain electrode is connected to the anode of the light emitting element 70. Further, a capacitor 69 is provided between the source electrode and the gate electrode of the transistor 60. The gate electrode of the n-channel transistor 68 is connected to the scanning line 111, the source electrode is connected to the data line 112, and the drain electrode is connected to the gate electrode of the transistor 60.

単位回路Pは、その単位回路Pに対応する走査線111を走査線駆動回路100Aおよび100Bが選択すると、トランジスタ68がオンされて、データ線112を介して供給されるデータ信号を内部の容量素子69に保持する。そして、トランジスタ60が、データ信号のレベルに応じた電流を発光素子70に供給する。これにより、発光素子70は、データ信号のレベルに応じた輝度で発光する。   In the unit circuit P, when the scanning line driving circuits 100A and 100B select the scanning line 111 corresponding to the unit circuit P, the transistor 68 is turned on, and the data signal supplied via the data line 112 is transferred to the internal capacitive element. 69. The transistor 60 supplies a current corresponding to the level of the data signal to the light emitting element 70. As a result, the light emitting element 70 emits light with luminance according to the level of the data signal.

また、図1(A)に示すように、周辺領域Bの外周部側(つまり基板もしくは基板10の外周と周辺領域Bの間)には、コの字状の第2電極用電源線140が形成されている。第2電極用電源線140は、後述するように発光素子の陰極(第2電極)に電源電圧(この例では、Vss:グランドレベル)を供給するための配線である。なお、第2電極用電源線140をコの字状に(つまり、基板10の3辺に沿って)配設する替わりに、基板10の対向する2辺に沿って設ける態様としてもよい。すなわち、図示の例では、各走査線駆動回路100Aおよび100Bに沿って配設されてもよい。   Further, as shown in FIG. 1A, a U-shaped second electrode power line 140 is formed on the outer peripheral side of the peripheral region B (that is, between the outer periphery of the substrate or the substrate 10 and the peripheral region B). Is formed. The second electrode power supply line 140 is a wiring for supplying a power supply voltage (in this example, Vss: ground level) to the cathode (second electrode) of the light emitting element as will be described later. Instead of arranging the second electrode power line 140 in a U shape (that is, along the three sides of the substrate 10), the second electrode power line 140 may be provided along the two opposite sides of the substrate 10. In other words, in the example shown in the figure, the scanning line driving circuits 100A and 100B may be provided.

発光素子70は、画素電極76(陽極)と共通電極72(陰極)との間に挟まれた発光機能層(発光層を含む)74を有する(図4参照)。共通電極72は、図1(B)に示すように有効領域A全体と周辺領域Bの一部とにわたる領域(第2の領域)に形成される。また、共通電極72と第2電極用電源線140とを接続する補助電極150が、周辺領域Bにおいて周辺回路を覆うように形成される。補助電極150は、有効領域Aに設けられた補助電極の第1部分150aと、周辺領域Bに設けられた補助電極の第2部分150bとを含んでいる。有効領域Aでは補助電極150の第1部分150aと画素電極76とが接触しないように、補助電極150の第1部分150aが格子状に形成されている。つまり発光素子70の間隙に補助電極150の第1部分150aが配置されている。本明細書でいう補助電極とは、共通電極72に重ねて電気的に接続され、共通電極72の抵抗を下げる導体のことである。明確化のため、図3に、図1(B)の一部を拡大して示す。   The light emitting element 70 has a light emitting functional layer (including a light emitting layer) 74 sandwiched between a pixel electrode 76 (anode) and a common electrode 72 (cathode) (see FIG. 4). The common electrode 72 is formed in a region (second region) extending over the entire effective region A and a part of the peripheral region B as shown in FIG. In addition, an auxiliary electrode 150 that connects the common electrode 72 and the second electrode power line 140 is formed in the peripheral region B so as to cover the peripheral circuit. The auxiliary electrode 150 includes a first portion 150 a of the auxiliary electrode provided in the effective region A and a second portion 150 b of the auxiliary electrode provided in the peripheral region B. In the effective region A, the first portion 150a of the auxiliary electrode 150 is formed in a lattice shape so that the first portion 150a of the auxiliary electrode 150 and the pixel electrode 76 do not contact each other. That is, the first portion 150 a of the auxiliary electrode 150 is disposed in the gap between the light emitting elements 70. The auxiliary electrode in this specification is a conductor that overlaps and is electrically connected to the common electrode 72 and reduces the resistance of the common electrode 72. For the sake of clarity, FIG. 3 shows an enlarged part of FIG.

この実施形態の発光装置1は、トップエミッションの形式で構成されており、発光機能層74からの光が共通電極72を通過して射出される。共通電極72は、透明材料から形成されている。このため、周辺領域Bを共通電極72によって遮光することはできない。一方、上述した補助電極150には、導電性および遮光性を有する金属が用いられるため、補助電極150によって遮光が可能である。これにより、周辺回路に光が入射して光電流が発生することを抑制できる。また、補助電極150は、有効領域Aの画素電極76と同一の工程で形成され得る。したがって、周辺領域Bに遮光性を付加するために特別な工程は不要である。   The light emitting device 1 of this embodiment is configured in the form of top emission, and light from the light emitting functional layer 74 is emitted through the common electrode 72. The common electrode 72 is made of a transparent material. For this reason, the peripheral region B cannot be shielded by the common electrode 72. On the other hand, the auxiliary electrode 150 described above is made of a metal having conductivity and light shielding properties, and therefore can be shielded by the auxiliary electrode 150. Thereby, it can suppress that light injects into a peripheral circuit and a photocurrent generate | occur | produces. Further, the auxiliary electrode 150 can be formed in the same process as the pixel electrode 76 in the effective area A. Therefore, no special process is required to add light shielding properties to the peripheral region B.

図4に発光装置1の部分断面図を示す。同図において、有効領域Aには発光素子70が形成される一方、周辺領域Bには周辺回路たる走査線駆動回路100Aが形成される。同図において発光装置1の上面が光を射出する射出面となる。同図に示すように、基板10の上に下地保護層31が形成され、その上にトランジスタ40、50、および60が形成される。トランジスタ40はnチャネル型、トランジスタ50および60はpチャネル型である。トランジスタ40,50は走査線駆動回路100Aの一部であり、トランジスタ60と発光素子70は単位回路Pの一部である。   FIG. 4 shows a partial cross-sectional view of the light emitting device 1. In the figure, a light emitting element 70 is formed in the effective area A, while a scanning line driving circuit 100A as a peripheral circuit is formed in the peripheral area B. In the figure, the upper surface of the light emitting device 1 is an emission surface from which light is emitted. As shown in the figure, a base protective layer 31 is formed on a substrate 10, and transistors 40, 50, and 60 are formed thereon. Transistor 40 is an n-channel type, and transistors 50 and 60 are p-channel type. The transistors 40 and 50 are part of the scanning line driving circuit 100A, and the transistor 60 and the light emitting element 70 are part of the unit circuit P.

トランジスタ40、50、および60は、基板10の表面に形成された酸化珪素を主体とする下地保護層31の上に設けられている。下地保護層31の上層にはシリコン層401、501および601が形成される。シリコン層401、501および601を覆うように、ゲート絶縁層32が下地保護層31の上層に設けられる。ゲート絶縁層32は、例えば酸化珪素から形成される。ゲート絶縁層32の上面のうちシリコン層401、501および601に対向する部分にゲート電極42、52および62が設けられる。トランジスタ40においてゲート電極42を介してシリコン層401にはV族元素がドーピングされ、ドレイン領域40cおよびソース領域40aが形成される。ここで、V族元素がドーピングされていない領域がチャネル領域40bとなる。   The transistors 40, 50, and 60 are provided on the base protective layer 31 mainly composed of silicon oxide formed on the surface of the substrate 10. Silicon layers 401, 501 and 601 are formed on the base protective layer 31. A gate insulating layer 32 is provided on the base protective layer 31 so as to cover the silicon layers 401, 501 and 601. The gate insulating layer 32 is made of, for example, silicon oxide. Gate electrodes 42, 52 and 62 are provided on portions of the upper surface of the gate insulating layer 32 facing the silicon layers 401, 501 and 601. In the transistor 40, the silicon layer 401 is doped with the group V element through the gate electrode 42, and the drain region 40c and the source region 40a are formed. Here, the region not doped with the group V element is the channel region 40b.

トランジスタ50および60においてゲート電極52および62を介してシリコン層501および601にはゲート電極52および62を介してIII族元素がドーピングされ、ドレイン領域50aおよび60a、ならびにソース領域50cおよび60cが形成される。ここで、III族元素がドーピングされていない領域がチャネル領域50bおよび60bとなる。なお、トランジスタ40、50、および60のゲート電極42、52、および62を形成するのと同時に走査線111が形成される。   In transistors 50 and 60, silicon layers 501 and 601 are doped with group III elements through gate electrodes 52 and 62 through gate electrodes 52 and 62, and drain regions 50a and 60a and source regions 50c and 60c are formed. The Here, regions where the group III element is not doped become channel regions 50b and 60b. Note that the scanning line 111 is formed simultaneously with the formation of the gate electrodes 42, 52, and 62 of the transistors 40, 50, and 60.

第1層間絶縁層33が、ゲート電極42、52および62を覆うようにゲート絶縁層32の上層に形成される。第1層間絶縁層33の材料には酸化珪素等が用いられる。さらに、ソース電極41、51、および63、ドレイン・ソース電極43、ならびにドレイン電極61が、ゲート絶縁層32および第1層間絶縁層33にわたって開孔するコンタクトホールを介してシリコン層401、501、および601と接続される。また、これらの電極と同一の工程で第2電極用電源線140、データ線112および電流供給線113が形成される。これらの電極および第2電極用電源線140などは導電性を有するアルミニウム等の材料で形成される。   A first interlayer insulating layer 33 is formed on the gate insulating layer 32 so as to cover the gate electrodes 42, 52 and 62. Silicon oxide or the like is used as a material for the first interlayer insulating layer 33. Furthermore, the silicon layers 401, 501, and the source electrodes 41, 51, and 63, the drain / source electrode 43, and the drain electrode 61 through the contact holes that open through the gate insulating layer 32 and the first interlayer insulating layer 33, and 601 is connected. Further, the second electrode power line 140, the data line 112, and the current supply line 113 are formed in the same process as these electrodes. These electrodes, the second electrode power line 140 and the like are formed of a material such as conductive aluminum.

回路保護膜34が、ソース電極41、51、および63、ドレイン・ソース電極43、ドレイン電極61、ならびに第2電極用電源線140を覆うように第1層間絶縁層33の上層に設けられる。回路保護膜34は、例えば、窒化珪素や酸窒化珪素などのガス透過率が低い材料から形成されている。また、これらの窒化珪素や酸窒化珪素は、非晶質材料であってもよいし、水素を含んでいても良い。回路保護膜34により、トランジスタ40、50、および60からの水素の離脱を防止できる。なお、回路保護膜34をソース電極やドレイン電極の下に形成してもよい。   The circuit protective film 34 is provided on the first interlayer insulating layer 33 so as to cover the source electrodes 41, 51, and 63, the drain / source electrode 43, the drain electrode 61, and the second electrode power line 140. The circuit protective film 34 is formed of a material having a low gas permeability such as silicon nitride or silicon oxynitride. These silicon nitride and silicon oxynitride may be an amorphous material or may contain hydrogen. The circuit protective film 34 can prevent hydrogen from being removed from the transistors 40, 50, and 60. Note that the circuit protective film 34 may be formed under the source electrode or the drain electrode.

第2層間絶縁膜35が回路保護膜34の上層に設けられる。ここで、第2層間絶縁膜35は、ソース電極41、51、および63、ドレイン・ソース電極43、ドレイン電極61、ならびに第2電極用電源線140と、後述の画素電極76、補助電極150、あるいは共通電極72との間に設けられ、これらを絶縁する役目を果たす。この際に、走査線や信号線に供給される信号が遅延しないように、膜厚が設定される。尚、第2層間絶縁膜35は、回路保護膜34に対向する下面の凹凸よりも回路保護膜34とは反対の上面の凹凸を小さくすることがこのましい。つまり、トランジスタ40,50,60、走査線111、データ線112、電流供給線113などにより生ずる凹凸を平坦化するために、第2層間絶縁膜35は用いられる。この第2層間絶縁膜35は、有効領域A全体と周辺領域Bの少なくとも一部を含む領域(第1の領域)に設けられる。上述の第2の領域(共通電極72が形成される領域)は、有効領域A全体において第1の領域と重なり、周辺領域Bにおいて第1の領域よりも基板10の面内における外側方向にはみ出した領域である。詳細には、本実施形態においては、基板10の4辺のうち第2電極用電源線140が配設された左右両辺および上辺の少なくとも3辺側においては、第2の領域は第1の領域よりも基板10の面内における外側方向に突出している。   A second interlayer insulating film 35 is provided on the circuit protection film 34. Here, the second interlayer insulating film 35 includes source electrodes 41, 51, and 63, a drain / source electrode 43, a drain electrode 61, a second electrode power line 140, a pixel electrode 76, an auxiliary electrode 150, which will be described later, Alternatively, it is provided between the common electrode 72 and serves to insulate them. At this time, the film thickness is set so that signals supplied to the scanning lines and signal lines are not delayed. In addition, it is preferable that the second interlayer insulating film 35 has the unevenness on the upper surface opposite to the circuit protective film 34 smaller than the unevenness on the lower surface facing the circuit protective film 34. In other words, the second interlayer insulating film 35 is used to planarize unevenness caused by the transistors 40, 50, 60, the scanning line 111, the data line 112, the current supply line 113, and the like. The second interlayer insulating film 35 is provided in a region (first region) including the entire effective region A and at least a part of the peripheral region B. The above-described second region (region where the common electrode 72 is formed) overlaps the first region in the entire effective region A, and protrudes outward in the plane of the substrate 10 in the peripheral region B from the first region. Area. Specifically, in the present embodiment, the second region is the first region on at least three sides of the left and right sides and the upper side of the four sides of the substrate 10 where the second electrode power line 140 is disposed. It protrudes outward in the plane of the substrate 10.

第2層間絶縁膜35の材料には、例えば、アクリル系、ポリイミド系の有機高分子材料が用いられる。この場合、有機樹脂にパターニングのための感光性材料を混合して、フォトレジストと同様に露光でパターニングしても良い。あるいは、酸化珪素、酸窒化珪素等の無機材料から化学気相成長法(chemical vapor deposition: CVD)により第2層間絶縁膜35を形成し、エッチング等によりその上面を平坦化してもよい。無機材料は化学気相成長法によって膜を形成した場合、その膜厚は1μm以下であり、しかもほぼ一様であるから、上面が下層の凹凸の影響を受けやすいのに対し、有機樹脂はコーティングによって形成するのでその膜厚を2〜3μm程度に大きくでき、しかもその上面は下層の凹凸の影響を受け難いので第2層間絶縁膜35の材料に適している。尤も、ある程度の凹凸を許容するのであれば、酸化珪素、酸窒化珪素等の無機材料を第2層間絶縁膜35に用いることもできる。   As the material of the second interlayer insulating film 35, for example, an acrylic or polyimide organic polymer material is used. In this case, a photosensitive material for patterning may be mixed in an organic resin and patterned by exposure in the same manner as in the photoresist. Alternatively, the second interlayer insulating film 35 may be formed from an inorganic material such as silicon oxide or silicon oxynitride by chemical vapor deposition (CVD), and the upper surface thereof may be planarized by etching or the like. When an inorganic material is formed by a chemical vapor deposition method, the film thickness is 1 μm or less and is almost uniform, so the upper surface is easily affected by the unevenness of the lower layer, while the organic resin is coated. Thus, the film thickness can be increased to about 2 to 3 μm, and the upper surface thereof is hardly affected by the unevenness of the lower layer, so that it is suitable for the material of the second interlayer insulating film 35. However, an inorganic material such as silicon oxide or silicon oxynitride can be used for the second interlayer insulating film 35 as long as a certain degree of unevenness is allowed.

第2層間絶縁膜35上には、有効領域Aに画素電極76(第1電極)および補助電極の第1部分150aを形成すると同時に、周辺領域Bに補助電極の第2部分150bを形成する。即ち、画素電極76と補助電極150とは同一の層において、同一の材料を用いて同時に形成される。この実施形態における画素電極76は発光素子70の陽極であり、発光素子70ごとに相互に離間して形成されて、第2層間絶縁膜35および回路保護膜34を貫通するコンタクトホールを介してトランジスタ60のドレイン電極61と接続される。また、陽極である画素電極76の材料としては、仕事関数が大きい材料が望ましく、例えば、ニッケル、金、白金等またはそれらの合金が好適である。これらの材料は反射性を持つので、発光機能層74で発光した光を共通電極72に向けて反射する。この場合には、補助電極150もこれらの材料から形成される。   On the second interlayer insulating film 35, the pixel electrode 76 (first electrode) and the first portion 150a of the auxiliary electrode are formed in the effective region A, and at the same time, the second portion 150b of the auxiliary electrode is formed in the peripheral region B. That is, the pixel electrode 76 and the auxiliary electrode 150 are simultaneously formed in the same layer using the same material. The pixel electrode 76 in this embodiment is an anode of the light emitting element 70, and is formed so as to be spaced apart from each other for each light emitting element 70, and the transistor is connected through a contact hole that penetrates the second interlayer insulating film 35 and the circuit protection film 34. 60 drain electrodes 61 are connected. The material of the pixel electrode 76 that is an anode is preferably a material having a high work function, and for example, nickel, gold, platinum, or an alloy thereof is preferable. Since these materials have reflectivity, the light emitted from the light emitting functional layer 74 is reflected toward the common electrode 72. In this case, the auxiliary electrode 150 is also formed from these materials.

また、画素電極76としては、仕事関数が高いITO(indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、またはZnOのような酸化導電材料からなる光透過性、導電性を備えた第1層と、反射性の金属、例えばアルミニウムからなる第2層とを含み、発光機能層側に第1層が設けられる構成であってもよい。この場合には、補助電極150は、第1層と第2層の両方を有してもよいし、これらのうちいずれかの層を有していてもよい。 The pixel electrode 76 includes a first layer having light transmissivity and conductivity made of an oxide conductive material such as ITO (indium tin oxide), IZO (indium zinc oxide), or ZnO 2 having a high work function. The second layer made of a reflective metal such as aluminum may be included, and the first layer may be provided on the light emitting functional layer side. In this case, the auxiliary electrode 150 may have both the first layer and the second layer, or may have one of these layers.

補助電極150は、有効領域Aにおいて複数の発光素子70の間隙を通るように格子状に形成され(第1部分150a)、周辺領域においては共通電極72が形成された第2の領域が、第2層間絶縁膜35が形成された第1の領域よりもはみ出した側(本実施形態では基板10の左右両辺および上辺側)において、第1の領域の内側と第1の領域の外側であって且つ第2の領域の内側である領域とを通り第2の領域の外側に至るように形成される(第2部分150b)。補助電極150は、周辺領域Bにおいて、回路保護膜34に形成されたコンタクトホールを介して第2電極用電源線140と接続される。図示のように、第2電極用電源線140上には、第2層間絶縁膜35が形成されず、回路保護膜34にコンタクトホールを形成するだけで、補助電極150の第2部分150bを第2電極用電源線140に直接接触させることができる。   The auxiliary electrode 150 is formed in a lattice shape so as to pass through the gaps of the plurality of light emitting elements 70 in the effective region A (first portion 150a), and in the peripheral region, the second region where the common electrode 72 is formed is the first region. On the side that protrudes beyond the first region where the two-layer insulating film 35 is formed (in this embodiment, both the left and right sides and the upper side), the inner side of the first region and the outer side of the first region In addition, the second region 150b is formed so as to pass through a region that is inside the second region and reach the outside of the second region (second portion 150b). In the peripheral region B, the auxiliary electrode 150 is connected to the second electrode power line 140 through a contact hole formed in the circuit protection film 34. As shown in the drawing, the second interlayer insulating film 35 is not formed on the second electrode power supply line 140, and the second portion 150b of the auxiliary electrode 150 is formed by simply forming a contact hole in the circuit protective film 34. Direct contact with the two-electrode power line 140 is possible.

次に、隔壁37を形成する。隔壁37は、各画素電極76の外形縁を覆うように形成されることにより、開口部37aを有する。よって、開口部37aの各々の全体は、画素電極76に重なり、発光機能層74が形成される前の段階では、開口部37aを通して画素電極76が露出している。隔壁37は、画素電極76とその後に形成される共通電極72(第2電極)との間、もしくは複数の画素電極76同士の間を絶縁するものである。隔壁37を設けることによりそれぞれの画素電極76を独立して制御することができ、複数の発光素子をそれぞれ所定の輝度で発光させることができる。つまり隔壁37は複数の発光素子を区分する。例えば、アクリルもしくはポリイミド等が隔壁37の絶縁性材料である。この場合、パターニングのため感光性材料を混合して、フォトレジストと同様に露光でパターニングしても良い。隔壁37にはコンタクトホールCHが同時に形成される。有効領域Aにおいて、このコンタクトホールCHを介して補助電極150の第1部分150aと後述する共通電極72が接続される。また、周辺領域Bにおける補助電極150の第2部分150bの上には、隔壁37と同一の層が設けられていない。   Next, the partition wall 37 is formed. The partition wall 37 is formed so as to cover the outer edge of each pixel electrode 76, thereby having an opening 37a. Therefore, each of the openings 37a entirely overlaps with the pixel electrode 76, and the pixel electrode 76 is exposed through the opening 37a before the light emitting functional layer 74 is formed. The partition 37 insulates between the pixel electrode 76 and the common electrode 72 (second electrode) formed thereafter, or between the plurality of pixel electrodes 76. By providing the partition wall 37, each pixel electrode 76 can be controlled independently, and each of the plurality of light emitting elements can emit light with a predetermined luminance. That is, the partition wall 37 partitions a plurality of light emitting elements. For example, acrylic or polyimide is an insulating material for the partition 37. In this case, a photosensitive material may be mixed for patterning and patterned by exposure in the same manner as the photoresist. A contact hole CH is formed in the partition wall 37 at the same time. In the effective region A, the first portion 150a of the auxiliary electrode 150 and the common electrode 72 described later are connected through the contact hole CH. Further, the same layer as the partition wall 37 is not provided on the second portion 150 b of the auxiliary electrode 150 in the peripheral region B.

次に、画素電極76の上に、少なくとも発光層を含む発光機能層74を形成する。発光層には有機EL物質が用いられる。有機EL物質は、低分子材料であっても良いし、高分子材料であっても良い。発光機能層74を構成する他の層として、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層、正孔ブロック層、および電子ブロック層の一部又は全部を備えていてもよい。   Next, a light emitting functional layer 74 including at least a light emitting layer is formed on the pixel electrode 76. An organic EL material is used for the light emitting layer. The organic EL material may be a low molecular material or a high molecular material. As another layer constituting the light emitting functional layer 74, a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a hole block layer, and a part or all of the electron block layer may be provided. .

次に、有効領域Aおよび周辺領域Bにわたって補助電極150および発光機能層74を覆うように、共通電極72(第2電極)が形成される。共通電極72は透明であり、発光素子70からの光は、共通電極72を透過して図中上側の方向に射出される。この実施形態の共通電極72をすべての発光素子70の陰極として機能させるため、共通電極72は電子を注入しやすいように、仕事関数が低い材料によって形成される。例えば、アルミニウム、カルシウム、マグネシウム、またはリチウム等やそれらの合金である。また、この合金は仕事関数が低い材料とその材料を安定化される材料を用いることが望ましい。例えば、マグネシウムと銀の合金が好適である。これらの金属または合金を共通電極72に使用する場合には、透光性を得るために厚さを小さくすればよい。   Next, the common electrode 72 (second electrode) is formed so as to cover the auxiliary electrode 150 and the light emitting functional layer 74 over the effective region A and the peripheral region B. The common electrode 72 is transparent, and light from the light emitting element 70 passes through the common electrode 72 and is emitted in the upper direction in the figure. In order for the common electrode 72 of this embodiment to function as the cathode of all the light emitting elements 70, the common electrode 72 is formed of a material having a low work function so that electrons can be easily injected. For example, aluminum, calcium, magnesium, lithium or the like or an alloy thereof. In addition, it is desirable that this alloy uses a material having a low work function and a material capable of stabilizing the material. For example, an alloy of magnesium and silver is suitable. When these metals or alloys are used for the common electrode 72, the thickness may be reduced in order to obtain translucency.

また、共通電極72(第2電極)は、上記の仕事関数が低い材料、もしくは、仕事関数が低い材料とその材料を安定化される材料からある第1層と、ITO(indium tin oxide)、IZO(indium zinc oxide)、またはZnOのような酸化導電材料からなる光透過性、導電性を備えた第2層とを含み、発光機能層側に第1層が設けられる構成であってもよい。ITO、IZO、またはZnOのような酸化導電材料は緻密な素材であり、ガス透過率が低い。このような材料で共通電極72を形成すれば、共通電極72が有効領域Aおよび周辺領域Bにわたって形成されているため、有効領域Aの単位回路Pおよび周辺領域Bの周辺回路が外気から保護され、これらの劣化が抑制される。このように、共通電極72(第2電極)が上記の第2層を含む構成であれば、第1層を構成する材料と比して光透過性、導電性が優れているため、共通電極72の電源インピーダンスを大幅に低減することができるとともに、発光機能層からの光取り出し効率を向上させることができる。また、共通電極72(第2電極)が、仕事関数が低い材料とその材料を安定化される材料からある第1層と、上記の酸化導電材料からなる第2層とを含んで構成することにより、第1層と第2層が反応し、電子注入効率が劣化するのを防止することができる。 The common electrode 72 (second electrode) includes a material having a low work function, or a first layer made of a material having a low work function and a material that stabilizes the material, ITO (indium tin oxide), Even if the first layer is provided on the light emitting functional layer side including a light transmissive and conductive second layer made of an oxidized conductive material such as IZO (indium zinc oxide) or ZnO 2. Good. An oxidized conductive material such as ITO, IZO, or ZnO 2 is a dense material and has a low gas permeability. If the common electrode 72 is formed of such a material, since the common electrode 72 is formed over the effective region A and the peripheral region B, the unit circuit P in the effective region A and the peripheral circuit in the peripheral region B are protected from the outside air. These deteriorations are suppressed. Thus, if the common electrode 72 (second electrode) includes the second layer, the common electrode 72 is superior in light transmittance and conductivity as compared with the material forming the first layer. The power supply impedance of 72 can be greatly reduced, and the light extraction efficiency from the light emitting functional layer can be improved. The common electrode 72 (second electrode) includes a first layer made of a material having a low work function, a material that stabilizes the material, and a second layer made of the above-described oxidized conductive material. Thus, it is possible to prevent the first layer and the second layer from reacting and deteriorating the electron injection efficiency.

また、共通電極72を形成するに先立って、隔壁37にはコンタクトホールCHが形成される。このコンタクトホールCHを介して有効領域Aにおいて補助電極の第1部分150aと共通電極72が接続される。有効領域Aにおいて格子状に形成される補助電極の第1部分150a(図1(B)参照)に共通電極72が接続されることにより、共通電極72の電源インピーダンスを大幅に低減することができる。これに加えて、補助電極の第2部分150bは、周辺領域Bにおいて隔壁37により覆われていないため共通電極72と広い面積で面接触するので、接続抵抗を下げることができる。したがって、電源インピーダンスを大幅に低減することが可能となる。   Prior to the formation of the common electrode 72, the contact hole CH is formed in the partition wall 37. The auxiliary electrode first portion 150a and the common electrode 72 are connected to each other in the effective region A through the contact hole CH. By connecting the common electrode 72 to the first portion 150a (see FIG. 1B) of the auxiliary electrode formed in a grid pattern in the effective region A, the power source impedance of the common electrode 72 can be greatly reduced. . In addition, since the second portion 150b of the auxiliary electrode is not covered with the partition wall 37 in the peripheral region B, the second electrode 150b is in surface contact with the common electrode 72 over a wide area, so that the connection resistance can be lowered. Therefore, the power supply impedance can be greatly reduced.

次に、共通電極72および補助電極150を覆うように封止膜80が形成される。封止膜80には、例えば、透明度が高く防湿性が良好な酸窒化珪素、酸化珪素などのガス透過率が低い無機材料が用いられる。この封止膜80は、周辺回路(トランジスタ40,50を有する走査線駆動回路100A、100Bおよびプリチャージ回路120)の領域全体を覆っている。但し、基板10の外端縁には封止膜80が形成されず、この外端縁においては、回路保護膜34の上にシール90が接合され、その上部に透明封止基板(対向基板)110が接合される。シール90は、例えば、接着剤でもよいし、対向基板110を保持するためのスペーサを接着剤で接合してもよい。   Next, a sealing film 80 is formed so as to cover the common electrode 72 and the auxiliary electrode 150. For the sealing film 80, for example, an inorganic material having a low gas permeability such as silicon oxynitride or silicon oxide having high transparency and good moisture resistance is used. The sealing film 80 covers the entire area of the peripheral circuit (scanning line driving circuits 100A and 100B having the transistors 40 and 50 and the precharge circuit 120). However, the sealing film 80 is not formed on the outer edge of the substrate 10, and a seal 90 is bonded on the circuit protection film 34 at the outer edge, and a transparent sealing substrate (counter substrate) is formed thereon. 110 is joined. For example, the seal 90 may be an adhesive, or a spacer for holding the counter substrate 110 may be joined by an adhesive.

図5は、図4における領域Cの簡略断面図である。すなわち、周辺領域Bのうち、走査線駆動回路100の一部であるトランジスタ40,50より外側の端部の断面図である。説明の簡易のため、図4に示した下地保護層31、ゲート絶縁層32、第1層間絶縁層33、回路保護膜34およびこれらの各層に挟まれたトランジスタ40、50および60の各電極を、図5においては素子層30として纏めて示す。この素子層30内の上層部には、第2電極用電源線140が形成されており、上述したように、第2電極用電源線140の上面は上層の電極とのコンタクト領域として機能する。図4には、素子層30および第2電極用電源線140の他に、第2層間絶縁膜35、補助電極150、共通電極72、封止膜80、シール90および対向基板110が示されている。以下、この図を参照して、各層の相対的な位置関係について詳細に説明する。
なお、上述したように、第2層間絶縁膜35は下層に配置されたトランジスタや配線などにより生ずる凹凸を平坦化するために用いられる。加えて、第2層間絶縁膜35は、アクリル系、ポリイミド系の絶縁性の有機高分子材料などで形成されるから、素子層30内に配置されたトランジスタ40、50、60などの回路素子から陽極76、共通電極72、補助電極150等の電極を絶縁する機能も有する。すなわち、発光素子の発光を制御するための回路素子から各電極を絶縁する絶縁層として機能する。
FIG. 5 is a simplified cross-sectional view of region C in FIG. That is, in the peripheral region B, it is a cross-sectional view of an end portion outside the transistors 40 and 50 that are a part of the scanning line driving circuit 100. For simplicity of explanation, the base protective layer 31, the gate insulating layer 32, the first interlayer insulating layer 33, the circuit protective film 34, and the electrodes of the transistors 40, 50, and 60 sandwiched between these layers shown in FIG. 5 collectively shows the element layer 30. The second electrode power supply line 140 is formed in the upper layer portion of the element layer 30. As described above, the upper surface of the second electrode power supply line 140 functions as a contact region with the upper electrode. FIG. 4 shows the second interlayer insulating film 35, the auxiliary electrode 150, the common electrode 72, the sealing film 80, the seal 90, and the counter substrate 110 in addition to the element layer 30 and the second electrode power line 140. Yes. Hereinafter, the relative positional relationship of each layer will be described in detail with reference to this figure.
As described above, the second interlayer insulating film 35 is used to planarize unevenness caused by transistors and wirings disposed in the lower layer. In addition, since the second interlayer insulating film 35 is formed of an acrylic or polyimide insulating organic polymer material or the like, the second interlayer insulating film 35 is formed from circuit elements such as the transistors 40, 50, and 60 disposed in the element layer 30. It also has a function of insulating electrodes such as the anode 76, the common electrode 72, and the auxiliary electrode 150. That is, it functions as an insulating layer that insulates each electrode from a circuit element for controlling light emission of the light emitting element.

図5に示されるように、第2電極用電源線140を含む素子層30の上層には第2層間絶縁膜35が形成され、第2層間絶縁膜35の端E1は、第2電極用電源線140のコンタクト領域の内側の端E3よりもさらに内側である。第2層間絶縁膜35の上面と、素子層30の上面のうち絶縁層の端E1と端E3とに挟まれる領域およびコンタクト領域とには、補助電極150の第2部分150b(以下、単に「補助電極150」という)が形成される。これより、補助電極150は、第2電極用電源線140と接して重なり、第2電極用電源線140と電気的に接続される。図示の例においては、補助電極150の端E4はコンタクト領域の外側の端と一致しているが、一致している必要はなく、補助電極150がコンタクト領域を覆うように形成されていればよい。すなわち補助電極の端E4はコンタクト領域の外側の端よりもさらに外側に位置する構成としてもよい。
なお、本明細書において、「内側」「外側」とは基板10の端E5を基準とした場合の基板面内における相対位置を示す。よって、上述の説明において、「端E1は、(略)端E2よりも内側である」とは、端E1と基板10の端E5との距離は、端E2と端E5との距離よりも長いことを示す。
As shown in FIG. 5, a second interlayer insulating film 35 is formed on the element layer 30 including the second electrode power supply line 140, and an end E <b> 1 of the second interlayer insulating film 35 is a second electrode power supply. It is further inside than the inner end E3 of the contact region of the line 140. A second portion 150b of the auxiliary electrode 150 (hereinafter simply referred to as “a”) is formed between the upper surface of the second interlayer insulating film 35 and the region of the upper surface of the element layer 30 that is sandwiched between the end E1 and the end E3 of the insulating layer. Auxiliary electrode 150 ") is formed. Thus, the auxiliary electrode 150 is in contact with and overlaps with the second electrode power line 140 and is electrically connected to the second electrode power line 140. In the illustrated example, the end E4 of the auxiliary electrode 150 coincides with the outer end of the contact region. However, it does not have to coincide with each other, and the auxiliary electrode 150 may be formed so as to cover the contact region. . In other words, the end E4 of the auxiliary electrode may be positioned further outside than the outer end of the contact region.
In this specification, “inside” and “outside” indicate relative positions in the substrate surface when the end E5 of the substrate 10 is used as a reference. Therefore, in the above description, “the end E1 is (substantially) inside the end E2” means that the distance between the end E1 and the end E5 of the substrate 10 is longer than the distance between the end E2 and the end E5. It shows that.

補助電極150の上には、共通電極72が形成される。共通電極72の端E2は第2層間絶縁膜35の端E1よりも外側に位置する。一方、共通電極72の端E2は、補助電極150の端E4よりも内側に位置する。さらに、端E2は第2電極用電源線の内側の端E3よりも内側に位置する。換言すれば、補助電極150は、共通電極72が形成されていない部分(端E2より外側)で、第2電極用電源線140に重なり電気的に接続される部分(端E3と端E4の間)を有する。なお、上述したように、補助電極150は画素電極76と同時に形成され、次いで、隔壁37、発光機能層74を順に形成した後に、隔壁37および発光機能層74を覆うように、共通電極72が形成される。   A common electrode 72 is formed on the auxiliary electrode 150. The end E2 of the common electrode 72 is located outside the end E1 of the second interlayer insulating film 35. On the other hand, the end E <b> 2 of the common electrode 72 is located inside the end E <b> 4 of the auxiliary electrode 150. Furthermore, the end E2 is located on the inner side of the inner end E3 of the second electrode power line. In other words, the auxiliary electrode 150 is a portion where the common electrode 72 is not formed (outside the end E2) and overlapped and electrically connected to the second electrode power line 140 (between the end E3 and the end E4). ). As described above, the auxiliary electrode 150 is formed at the same time as the pixel electrode 76, and then, after the partition wall 37 and the light emitting functional layer 74 are formed in order, the common electrode 72 is formed so as to cover the partition wall 37 and the light emitting functional layer 74. It is formed.

上述したように、補助電極150には導電性および遮光性を有する金属が用いられる。このため、有効領域Aにおいて補助電極150と画素電極76とが重ならないように、補助電極150の第1部分150aは格子状に形成されている。つまり、有効領域Aにおいては、発光素子70からの出射光を遮断しないように、発光素子70の間隙のみに補助電極150の第1部分150aが配置される。発光素子70は互いに微小な間隔で配置されているから、補助電極150は高精度なアライメント機構を用いて形成されることが望ましい。これに対し、共通電極72は、透明材料から形成されるため、有効領域Aにおいて発光素子70を覆うように有効領域A内において一様に形成されている。このため、共通電極72は、補助電極150の形成に用いるアライメント機構よりも精度が低いものを用いても形成することが可能である。ところが、精度の低いアライメント機構を用いて共通電極72が形成された場合、共通電極72の端E2の位置が変動するおそれがある。   As described above, the auxiliary electrode 150 is made of a metal having conductivity and light shielding properties. Therefore, the first portion 150a of the auxiliary electrode 150 is formed in a lattice shape so that the auxiliary electrode 150 and the pixel electrode 76 do not overlap in the effective region A. That is, in the effective region A, the first portion 150 a of the auxiliary electrode 150 is disposed only in the gap between the light emitting elements 70 so as not to block the light emitted from the light emitting elements 70. Since the light emitting elements 70 are arranged at a minute interval, it is desirable that the auxiliary electrode 150 be formed using a highly accurate alignment mechanism. On the other hand, since the common electrode 72 is formed of a transparent material, the common electrode 72 is uniformly formed in the effective region A so as to cover the light emitting element 70 in the effective region A. For this reason, the common electrode 72 can be formed even if an electrode having a lower accuracy than the alignment mechanism used for forming the auxiliary electrode 150 is used. However, when the common electrode 72 is formed using an alignment mechanism with low accuracy, the position of the end E2 of the common electrode 72 may vary.

いまここで、共通電極72の端E2の位置の誤差の範囲をt1とし、補助電極150の端E4の位置の誤差の範囲をt2とする。補助電極150に対して精度がより高いアライメント機構を用いた場合、t1>t2となる。また、補助電極150の形成に必要とされる程度の精度を有する単一のアライメント機構を補助電極と共通電極72の両方に対して用いた場合には、おおよそt1=t2となる。よって、補助電極150の誤差t2が共通電極72の誤差よりも大きくなる可能性は低く、仮に、後者の場合においてt1<t2となったとしても、高精度のアライメント機構を用いているので、t1の誤差はさほど問題とならない。そこで、本実施形態においては、補助電極150の端E4が共通電極72の端E2よりも外側に位置するように構成する。この構成によれば、補助電極150の誤差が基板10の端E5側で最大となる位置E4max(端E4が基板10の端E5側に最も近づいた場合の位置)から端E5までの距離を考慮して、周辺領域Bの幅(すなわち、「額縁領域」)を決定することができる。よって、より大きな誤差が許容される共通電極72の端E2を補助電極150の端E4よりも外側に配置する場合と比較して、額縁領域を縮小することが可能となる。すなわち、共通電極72の形成に用いられるアライメント機構の精度が額縁領域の幅に与える影響を低減することが可能となる。なお、共通電極72の誤差が基板10の端E5側で最大となる位置E2maxが、補助電極150の誤差が基板10の端E5側で最大となる位置E4maxよりも内側となるように、端E2および端E4の基準位置(誤差がない場合の位置)を定めることが望ましい。   Here, the error range of the position of the end E2 of the common electrode 72 is t1, and the error range of the position of the end E4 of the auxiliary electrode 150 is t2. When an alignment mechanism with higher accuracy is used for the auxiliary electrode 150, t1> t2. Further, when a single alignment mechanism having an accuracy required for forming the auxiliary electrode 150 is used for both the auxiliary electrode and the common electrode 72, t1 = t2. Therefore, it is unlikely that the error t2 of the auxiliary electrode 150 is larger than the error of the common electrode 72. Even if t1 <t2 in the latter case, the high-precision alignment mechanism is used. The error is not a problem. Therefore, in the present embodiment, the auxiliary electrode 150 is configured such that the end E4 of the auxiliary electrode 150 is positioned outside the end E2 of the common electrode 72. According to this configuration, the distance from the position E4max at which the error of the auxiliary electrode 150 is maximum on the end E5 side of the substrate 10 (the position when the end E4 is closest to the end E5 side of the substrate 10) to the end E5 is considered. Thus, the width of the peripheral region B (that is, the “frame region”) can be determined. Therefore, the frame area can be reduced as compared with the case where the end E2 of the common electrode 72 that allows a larger error is disposed outside the end E4 of the auxiliary electrode 150. That is, it is possible to reduce the influence of the accuracy of the alignment mechanism used for forming the common electrode 72 on the width of the frame region. It should be noted that the end E2 is such that the position E2max where the error of the common electrode 72 is maximum on the end E5 side of the substrate 10 is inside the position E4max where the error of the auxiliary electrode 150 is maximum on the end E5 side of the substrate 10. It is desirable to determine the reference position of the end E4 (position when there is no error).

また、以上の構成において、補助電極150は第2層間絶縁膜35の端E1を覆うように形成されている。このため、端E1部分の段差により、補助電極150に断線や亀裂が生じる場合がある。図6に、補助電極150に亀裂が生じた様子を示す。図6に示されるように、第2層間絶縁膜35の端E1に補助電極150が重なる部分で、補助電極150に亀裂Iが生じている。亀裂Iが生じた箇所では電極の抵抗値が増加し、発光素子70の輝度ムラが発生するおそれがある。しかしながら、本実施形態の発光装置1では、図6に示すように、共通電極72の端E2が端E1よりも外側に位置する。すなわち、共通電極72は、亀裂Iよりも第2電極用電源線140に近い領域で補助電極150と重なる部分(端E1と端E2の間)を有しているため、亀裂Iにより補助電極150が完全に断線した場合にも、第2電極用電源線140から供給される電位を共通陰極72に供給することができる。また、亀裂Iにより補助電極150の抵抗値が増加した場合にも、共通電極72を介して電流が流れるので電圧の降下を抑制することが可能となる。よって、発光素子70の輝度ムラが抑制される。   In the above configuration, the auxiliary electrode 150 is formed so as to cover the end E <b> 1 of the second interlayer insulating film 35. For this reason, the auxiliary electrode 150 may be disconnected or cracked due to the step at the end E1. FIG. 6 shows how the auxiliary electrode 150 is cracked. As shown in FIG. 6, the auxiliary electrode 150 has a crack I where the auxiliary electrode 150 overlaps the end E <b> 1 of the second interlayer insulating film 35. At the location where the crack I occurs, the resistance value of the electrode increases, and there is a possibility that the luminance unevenness of the light emitting element 70 may occur. However, in the light-emitting device 1 of this embodiment, as shown in FIG. 6, the end E2 of the common electrode 72 is located outside the end E1. That is, the common electrode 72 has a portion (between the end E1 and the end E2) that overlaps the auxiliary electrode 150 in a region closer to the second electrode power line 140 than the crack I. The potential supplied from the second electrode power supply line 140 can be supplied to the common cathode 72 even when is completely disconnected. Further, even when the resistance value of the auxiliary electrode 150 increases due to the crack I, a current flows through the common electrode 72, so that a voltage drop can be suppressed. Therefore, luminance unevenness of the light emitting element 70 is suppressed.

加えて、第2層間絶縁膜35はアクリルなどの透湿性の材料で構成されているため、第2層間絶縁膜35を介して水分が進入し、発光材料の劣化が生じるおそれがある。そこで、本実施形態では、共通電極72の端E2を第2層間絶縁膜35の端E1よりも外側に配置する構成としている。これにより、端E1からの水分の進入が防止され、発光素子の劣化を抑制することが可能となる。よって、発光機能層74における発光層の劣化による発光素子70の輝度の低下を抑制することができる。   In addition, since the second interlayer insulating film 35 is made of a moisture-permeable material such as acrylic, moisture may enter through the second interlayer insulating film 35 and the light emitting material may be deteriorated. Therefore, in the present embodiment, the end E2 of the common electrode 72 is arranged outside the end E1 of the second interlayer insulating film 35. Thereby, the ingress of moisture from the end E1 is prevented, and deterioration of the light emitting element can be suppressed. Therefore, a decrease in luminance of the light emitting element 70 due to deterioration of the light emitting layer in the light emitting functional layer 74 can be suppressed.

<A−2:第1実施形態の変形例>
上述した実施形態では、補助電極150と画素電極76とが同時に形成された場合の構成について説明したが、画素電極76と同時ではなく隔壁37が形成された後の工程で補助電極150を形成するようにしてもよい。
<A-2: Modification of First Embodiment>
In the above-described embodiment, the configuration in which the auxiliary electrode 150 and the pixel electrode 76 are formed at the same time has been described. However, the auxiliary electrode 150 is formed in a process after the partition wall 37 is formed, not at the same time as the pixel electrode 76. You may do it.

図7は、本変形例に係る発光装置1Aの部分断面図である。図7に示されるように、発光装置1Aにおいては、第2層間絶縁膜35および隔壁37を覆うように補助電極150(150a,150b)が形成されている。上述した実施形態では、図4に示されるように、補助電極150は第2層間絶縁層35と隔壁37との上に形成された部分を有していた。これに対して、この変形例では、隔壁37がある部分では、隔壁37の上に補助電極150が形成される。ここで、隔壁37は、第2層間絶縁層35と同様に、共通電極72や補助電極150をトランジスタ40,50,60から分離する絶縁層として機能する。また、上述した第1実施形態と同様に、補助電極150の端E4は第2電極用電源線140と重なり、共通電極72の端E2は補助電極150の端E4よりも内側であり、且つ、第2層間絶縁膜35の端E1の外側に形成される。   FIG. 7 is a partial cross-sectional view of a light emitting device 1A according to this modification. As shown in FIG. 7, in the light emitting device 1 </ b> A, auxiliary electrodes 150 (150 a and 150 b) are formed so as to cover the second interlayer insulating film 35 and the partition walls 37. In the embodiment described above, as shown in FIG. 4, the auxiliary electrode 150 has a portion formed on the second interlayer insulating layer 35 and the partition wall 37. On the other hand, in this modified example, the auxiliary electrode 150 is formed on the partition 37 in a portion where the partition 37 is present. Here, the partition wall 37 functions as an insulating layer that separates the common electrode 72 and the auxiliary electrode 150 from the transistors 40, 50, 60, similarly to the second interlayer insulating layer 35. Similarly to the first embodiment described above, the end E4 of the auxiliary electrode 150 overlaps the second electrode power line 140, the end E2 of the common electrode 72 is inside the end E4 of the auxiliary electrode 150, and The second interlayer insulating film 35 is formed outside the end E1.

発光装置1Aの製造工程の概略は、以下の通りである。第2層間絶縁膜35を形成した後、第2層間絶縁膜35の上層に画素電極76を形成する。この後、画素電極76の上層に隔壁37を形成し、第2層間絶縁膜35および隔壁37の上の開口部37aを除く表面に補助電極150を形成する。次に、隔壁37で画定された画素電極76上の空間(すなわち、開口部37a)に発光機能層74を形成する。なお、逆に、発光機能層74を形成した後に補助電極150を形成してもよい。さらに、透明な共通電極72を有効領域Aおよび周辺領域Bにわたって形成する。この後、共通電極72の上に封止膜80が形成される。但し、基板10の外端縁には封止膜80は形成されず、この外端縁においては、回路保護膜34の上にシール90が接合され、その上部に透明封止基板110が接合される。   The outline of the manufacturing process of the light emitting device 1A is as follows. After forming the second interlayer insulating film 35, the pixel electrode 76 is formed on the second interlayer insulating film 35. Thereafter, the partition 37 is formed on the upper layer of the pixel electrode 76, and the auxiliary electrode 150 is formed on the surface excluding the second interlayer insulating film 35 and the opening 37a on the partition 37. Next, the light emitting functional layer 74 is formed in the space (that is, the opening 37a) defined by the partition wall 37 on the pixel electrode 76. Conversely, the auxiliary electrode 150 may be formed after the light emitting functional layer 74 is formed. Further, a transparent common electrode 72 is formed over the effective area A and the peripheral area B. Thereafter, the sealing film 80 is formed on the common electrode 72. However, the sealing film 80 is not formed on the outer edge of the substrate 10, and the seal 90 is bonded on the circuit protective film 34 and the transparent sealing substrate 110 is bonded on the upper edge at the outer edge. The

補助電極150を形成した後に発光機能層74を形成するのであれば、補助電極150を形成する時点で発光機能層74が未だ形成されていないため、補助電極150の形成にフォトリソグラフィを用いても発光機能層74を劣化させる虞がない。よって、フォトリソグラフィにより補助電極150のパターンを形成することができ、トランジスタ40、50、60や走査線111などの配線と同様の精度で補助電極150を形成することができる。一方、発光機能層74を形成した後に補助電極150を形成するのであれば、補助電極150が発光材料で汚染されることなく、補助電極150と共通電極72とを接続できるという利点がある。   If the light emitting functional layer 74 is formed after the auxiliary electrode 150 is formed, the light emitting functional layer 74 is not yet formed at the time of forming the auxiliary electrode 150, so that even if photolithography is used to form the auxiliary electrode 150. There is no possibility of deteriorating the light emitting functional layer 74. Therefore, the pattern of the auxiliary electrode 150 can be formed by photolithography, and the auxiliary electrode 150 can be formed with the same accuracy as the wiring of the transistors 40, 50, 60 and the scanning line 111. On the other hand, if the auxiliary electrode 150 is formed after the light emitting functional layer 74 is formed, there is an advantage that the auxiliary electrode 150 and the common electrode 72 can be connected without being contaminated with the light emitting material.

さらに、本変形例では、補助電極150の上層に共通電極72が形成されるので、共通電極72よりも厚い補助電極150を形成しても共通電極72に応力がかからない。よって、上層からの応力による共通電極72の変形が抑制される。
また、補助電極150は共通電極72と同じ材料を用いてもよいし、補助電極150は共通電極72よりも抵抗が高い材料を用いても良い。この場合には、補助電極150の膜厚を共通電極72よりも厚くすることにより、補助電極150の抵抗を共通電極72の抵抗よりも低くしてもよい。
Further, in this modification, the common electrode 72 is formed on the auxiliary electrode 150, so that even if the auxiliary electrode 150 thicker than the common electrode 72 is formed, no stress is applied to the common electrode 72. Therefore, the deformation of the common electrode 72 due to the stress from the upper layer is suppressed.
The auxiliary electrode 150 may be made of the same material as the common electrode 72, and the auxiliary electrode 150 may be made of a material having a higher resistance than the common electrode 72. In this case, the resistance of the auxiliary electrode 150 may be made lower than the resistance of the common electrode 72 by making the thickness of the auxiliary electrode 150 larger than that of the common electrode 72.

<B:第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態に係る発光装置1Bについて説明する。発光装置1Bは、共通電極72の端E2が第2電極用電源線140の内側の端E3よりも外側に位置する点を除いて第1実施形態の発光装置1(図4)または発光装置1A(図7)と同様である。よって、その説明を適宜省略する。
<B: Second Embodiment>
Next, a light emitting device 1B according to a second embodiment of the present invention will be described. The light-emitting device 1B is the same as the light-emitting device 1 (FIG. 4) or the light-emitting device 1A according to the first embodiment except that the end E2 of the common electrode 72 is located outside the end E3 on the inner side of the second electrode power line 140. It is the same as (FIG. 7). Therefore, the description is omitted as appropriate.

図8に、発光装置1Bの部分簡略断面図を示す。図8に示されるように、発光装置1Bにおいては、上記第1実施形態と同様に、共通電極72の端E2は、第2層間絶縁膜35の端E1よりも基板10の面内において外側に形成され、補助電極150の端E4よりも内側に形成される。よって、上記実施形態と同様の効果が得られる。   FIG. 8 is a partial simplified cross-sectional view of the light emitting device 1B. As shown in FIG. 8, in the light emitting device 1B, as in the first embodiment, the end E2 of the common electrode 72 is more outward in the plane of the substrate 10 than the end E1 of the second interlayer insulating film 35. The auxiliary electrode 150 is formed inside the end E4. Therefore, the same effect as the above embodiment can be obtained.

加えて、発光装置1Bにおいては、共通電極72の端E2が、第2電極用電源線140の内側の端E3よりも外側に位置する。第1および第2実施形態ではともに、第2電極用電源線140と共通電極72は、補助電極150を介して電気的に接続されている。しかし、第1実施形態では、共通電極72は、第2電極用電源線140の内側の端E3より内側で補助電極150と接するのに対し、第2実施形態では、端E3と端E2の間でも補助電極150と接している。このため、共通電極72から第2電極用電源線140までの抵抗を低減でき、上記第1実施形態の構成と比較して、電圧の降下による発光素子70の輝度ムラを抑制することが可能である。   In addition, in the light emitting device 1 </ b> B, the end E <b> 2 of the common electrode 72 is located outside the end E <b> 3 inside the second electrode power line 140. In both the first and second embodiments, the second electrode power line 140 and the common electrode 72 are electrically connected via the auxiliary electrode 150. However, in the first embodiment, the common electrode 72 contacts the auxiliary electrode 150 on the inner side of the inner end E3 of the second electrode power line 140, whereas in the second embodiment, the common electrode 72 is between the end E3 and the end E2. However, it is in contact with the auxiliary electrode 150. Therefore, the resistance from the common electrode 72 to the second electrode power supply line 140 can be reduced, and the luminance unevenness of the light emitting element 70 due to the voltage drop can be suppressed as compared with the configuration of the first embodiment. is there.

<C:第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態に係る発光装置について説明する。図9は、本実施形態に係る発光装置2Aの部分断面図である。図9に示すように、補助電極150は共通電極72の上に面接触するように形成され、補助電極150および共通電極72を覆うように封止膜80が形成される。発光装置2Aは、共通電極72が補助電極150の下層に形成される点を除いて第1実施形態の変形例における発光装置1A(図7)と同様である。よって、その説明を適宜省略する。
<C: Third Embodiment>
Next, a light emitting device according to a third embodiment of the invention will be described. FIG. 9 is a partial cross-sectional view of the light emitting device 2A according to the present embodiment. As shown in FIG. 9, the auxiliary electrode 150 is formed on the common electrode 72 so as to be in surface contact, and the sealing film 80 is formed so as to cover the auxiliary electrode 150 and the common electrode 72. The light emitting device 2A is the same as the light emitting device 1A (FIG. 7) in the modified example of the first embodiment except that the common electrode 72 is formed below the auxiliary electrode 150. Therefore, the description is omitted as appropriate.

上記発光装置1Aと同様に、本実施形態では、隔壁37がある部分では、隔壁37より上層に補助電極150が形成される。よって、隔壁37は、第2層間絶縁層35と同様に、共通電極72や補助電極150をトランジスタ40,50,60から分離する絶縁層として機能する。   Similar to the light emitting device 1 </ b> A, in the present embodiment, the auxiliary electrode 150 is formed above the partition wall 37 in the portion where the partition wall 37 is present. Therefore, the partition 37 functions as an insulating layer that separates the common electrode 72 and the auxiliary electrode 150 from the transistors 40, 50, and 60, similarly to the second interlayer insulating layer 35.

発光装置2Aの製造工程の概略は、以下の通りである。第2層間絶縁膜35を形成した後、第2層間絶縁膜35の上層に画素電極76を形成する。この後、画素電極76の上層に隔壁37を形成し、隔壁37で画定された画素電極76上の空間(すなわち、開口部37a)に発光機能層74を形成する。さらに、透光性を有する共通電極72を有効領域Aおよび周辺領域Bにわたって形成する。この後、共通電極72の上の開口部37aの上層を除く領域に補助電極150を形成し、封止膜80が形成される。但し、基板10の外端縁には封止膜80は形成されず、この外端縁においては、回路保護膜34の上にシール90が接合され、その上部に透明封止基板110が接合される。   The outline of the manufacturing process of the light emitting device 2A is as follows. After forming the second interlayer insulating film 35, the pixel electrode 76 is formed on the second interlayer insulating film 35. Thereafter, the partition 37 is formed on the upper layer of the pixel electrode 76, and the light emitting functional layer 74 is formed in a space (that is, the opening 37 a) defined by the partition 37 on the pixel electrode 76. Further, the common electrode 72 having translucency is formed over the effective region A and the peripheral region B. Thereafter, the auxiliary electrode 150 is formed in the region excluding the upper layer of the opening 37a on the common electrode 72, and the sealing film 80 is formed. However, the sealing film 80 is not formed on the outer edge of the substrate 10, and the seal 90 is bonded on the circuit protective film 34 and the transparent sealing substrate 110 is bonded on the upper edge at the outer edge. The

図10に、図9における領域Fの簡略断面図を示す。図9および図10に示されるように、発光装置2Aにおいては、走査線駆動回路100の一部であるトランジスタ40,50より基板10の面内の外側において、共通電極72の端E2は、第2層間絶縁膜35の端E1よりも外側に形成され、補助電極150の端E4よりも内側に形成される。よって、上記第1実施形態と同様の効果が得られる。   FIG. 10 is a simplified cross-sectional view of the region F in FIG. As shown in FIGS. 9 and 10, in the light emitting device 2 </ b> A, the end E <b> 2 of the common electrode 72 is located on the outer side in the plane of the substrate 10 than the transistors 40 and 50 that are part of the scanning line driving circuit 100. It is formed outside the end E1 of the two interlayer insulating film 35 and is formed inside the end E4 of the auxiliary electrode 150. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

さらに、共通電極72が補助電極150の下層に形成されるから、上記第2実施形態の構成と比較して、補助電極150の段差の影響により共通電極72に断線または亀裂が生じる可能性が低減される。よって、共通電極72内の電圧の降下による発光素子70の輝度ムラが抑制される。   Further, since the common electrode 72 is formed below the auxiliary electrode 150, the possibility of disconnection or cracking in the common electrode 72 due to the effect of the step of the auxiliary electrode 150 is reduced as compared with the configuration of the second embodiment. Is done. Therefore, luminance unevenness of the light emitting element 70 due to a voltage drop in the common electrode 72 is suppressed.

<D:第4実施形態>
次に、本発明の第4実施形態に係る発光装置2Bについて説明する。発光装置2Bにおいては、共通電極72が補助電極150の下層に形成され、かつ、共通電極72の端E2が第2電極用電源線140の内側の端E3よりも外側に位置する。なお、発光装置2Aは、これらの点を除いて第3実施形態の発光装置2Aと同様である。よって、その説明を適宜省略する。
<D: Fourth Embodiment>
Next, a light emitting device 2B according to a fourth embodiment of the invention will be described. In the light emitting device 2 </ b> B, the common electrode 72 is formed below the auxiliary electrode 150, and the end E <b> 2 of the common electrode 72 is positioned outside the end E <b> 3 inside the second electrode power line 140. The light emitting device 2A is the same as the light emitting device 2A of the third embodiment except for these points. Therefore, the description is omitted as appropriate.

図11に、発光装置2Bの部分簡略断面図を示す。図11に示されるように、上記第1実施形態と同様に、共通電極72の端E2は、第2層間絶縁膜35の端E1よりも基板10の面内において外側に形成され、補助電極150の端E4よりも内側に形成される。よって、第1実施形態と同様の効果が得られる。   FIG. 11 is a partial simplified cross-sectional view of the light emitting device 2B. As shown in FIG. 11, as in the first embodiment, the end E2 of the common electrode 72 is formed outside the end E1 of the second interlayer insulating film 35 in the plane of the substrate 10, and the auxiliary electrode 150 is formed. It is formed inside the end E4. Therefore, the same effect as the first embodiment can be obtained.

加えて、発光装置2Bにおいては、共通電極72は補助電極150の下層に形成され、かつ、共通電極72の端E2が第2電極用電源線140の内側の端E3よりも外側に位置する。よって、補助電極150の段差の影響により共通電極72に断線または亀裂が生じる可能性が低減される。また、共通電極72が第2電極用電源線140と重なる部分を有するので、第2電極用電源線140のコンタクト領域に補助電極150と共通電極72の両方が電気的に接続される。よって、電圧の降下による発光素子70の輝度ムラが抑制される。   In addition, in the light emitting device 2 </ b> B, the common electrode 72 is formed below the auxiliary electrode 150, and the end E <b> 2 of the common electrode 72 is located outside the end E <b> 3 inside the second electrode power line 140. Therefore, the possibility that the common electrode 72 is disconnected or cracked due to the step difference of the auxiliary electrode 150 is reduced. In addition, since the common electrode 72 has a portion overlapping the second electrode power line 140, both the auxiliary electrode 150 and the common electrode 72 are electrically connected to the contact region of the second electrode power line 140. Therefore, luminance unevenness of the light emitting element 70 due to a voltage drop is suppressed.

<E:変形例>
(1)上記第1〜第4実施形態においては、共通電極72または補助電極150の上層を封止膜80で覆うことにより、素子層30、第2電極用電源線、第2層間絶縁膜35、共通電極72、補助電極150を含む層構造を外気から保護する構成としていたが、封止膜80を省く構成としてもよい。
図12に本変形例に係る発光装置1Eの簡略断面図を示す。図12に示されるように、発光装置1Eにおいては、封止膜80が設けられておらず、シール90と対向基板110により、基板10上に形成された層構造を保護している。なお、対向基板110の内側に、水分を吸着するための乾燥剤(図示略)を配置したり、あるいは、対向基板110自体に乾燥剤を埋め込んだものを用いる構成としてもよい。また、対向基板110とシール90の替わりに封止缶を用いてもよい。
図13に本変形例に係る別の発光装置1Fの簡略断面図を示す。図13に示されるように、発光装置1Fにおいては、対向基板110と基板10の上に形成された層構造との間に防湿性充填材65を充填することにより、層構造を外気から保護している。防湿性充填材65としては光透過性で低吸湿のものが望ましく、エポキシ系、またはウレタン系接着剤等を用いることができる。
(2)上記第1〜第4実施形態においては、第2電極用電源線140が周辺領域Bにコの字状に形成された態様について説明したが、これに限られず適宜変形が可能である。
各図14および図15は、本変形例に係る各発光装置のレイアウトの概略を説明するための図である。これらの図において、上述した実施形態と共通する部分については同一の符号を付し、その説明は適宜省略する。
<E: Modification>
(1) In the first to fourth embodiments, the upper layer of the common electrode 72 or the auxiliary electrode 150 is covered with the sealing film 80, whereby the element layer 30, the second electrode power line, and the second interlayer insulating film 35 are covered. Although the layer structure including the common electrode 72 and the auxiliary electrode 150 is protected from the outside air, the sealing film 80 may be omitted.
FIG. 12 is a simplified cross-sectional view of a light emitting device 1E according to this modification. As shown in FIG. 12, in the light emitting device 1 </ b> E, the sealing film 80 is not provided, and the layer structure formed on the substrate 10 is protected by the seal 90 and the counter substrate 110. Note that a desiccant (not shown) for adsorbing moisture may be disposed inside the counter substrate 110, or a configuration in which a desiccant is embedded in the counter substrate 110 itself may be used. Further, a sealing can may be used instead of the counter substrate 110 and the seal 90.
FIG. 13 shows a simplified cross-sectional view of another light emitting device 1F according to this modification. As shown in FIG. 13, in the light emitting device 1 </ b> F, the layer structure is protected from the outside air by filling a moisture-proof filler 65 between the counter substrate 110 and the layer structure formed on the substrate 10. ing. The moisture-proof filler 65 is preferably light transmissive and low moisture-absorbing, and an epoxy or urethane adhesive can be used.
(2) In the first to fourth embodiments, the mode in which the second electrode power supply line 140 is formed in the U shape in the peripheral region B has been described. However, the present invention is not limited to this and can be modified as appropriate. .
FIG. 14 and FIG. 15 are diagrams for explaining the outline of the layout of each light emitting device according to this modification. In these drawings, portions common to the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted as appropriate.

図14の(A)に示すように、発光装置3Aにおいては、基板10の対向する2辺の各辺縁部に沿って第2電極用電源線140が配設される。さらに、残る2辺の一方の辺に沿う領域に信号入力端子Gが配設され、当該信号入力端子Gの基板10の面内における内側には第1電極用電源線130が配設される。第2電極用電源線140の内側には有効領域Aに沿って走査線駆動回路100Aおよび100Bが各々有効領域Aに沿って配置され、電源線140によって給電されるとともに、信号入力端子Gを介して外部からの制御信号が与えられる。また、第1電極用電源線130の内側にはデータ線駆動回路200が有効領域Aに沿って配置される。データ線駆動回路200は、第1電極用電源線130から給電されつつ信号入力端子Gを介して外部からの制御信号を受け取り、各データ線に与える。   As shown in FIG. 14A, in the light emitting device 3 </ b> A, the second electrode power supply line 140 is arranged along each of the two opposing edges of the substrate 10. Further, the signal input terminal G is disposed in a region along one of the remaining two sides, and the first electrode power line 130 is disposed inside the signal input terminal G in the plane of the substrate 10. Inside the second electrode power supply line 140, scanning line driving circuits 100A and 100B are arranged along the effective area A along the effective area A, and are fed by the power supply line 140 and via the signal input terminal G. And an external control signal is given. Further, the data line driving circuit 200 is disposed along the effective area A inside the first electrode power line 130. The data line driving circuit 200 receives a control signal from the outside through the signal input terminal G while being supplied with power from the first electrode power supply line 130, and applies the control signal to each data line.

この例において、第2層間絶縁膜35は、有効領域A、走査線駆動回路100A,100B、およびデータ線駆動回路200の全部、ならびに第1電極用電源線130の一部(図示の例では、信号入力端子Gが配設された辺を長手方向としたとき、長手方向に延在する部分全部と長手方向と直交する方向に基板10の下辺に向かって延びる部分の一部)を覆うように形成される。また、共通電極72は、有効領域Aおよび走査線駆動回路100A,100Bの全部を覆い、第2電極用電源線140が配設される側のその左右の端は、第2層間絶縁膜35の端よりも外側であり、且つ、第2電極用電源線140の内側に位置するか、もしくは第2電極用電源線140と重なるように形成される。一方、共通電極72の端のうち、下辺側(信号入力端子G側)の端は、有効領域Aの外側且つデータ線駆動回路200の内側に位置し、上辺側の端は第2層間絶縁膜35の端よりも外側に位置する。なお、第1電極用電源線130と第2電極用電源線140とを別の層で形成する場合には、他の辺と同様に、第2電極の端が第2層間絶縁膜35の下辺側の端よりも外側に位置して、第2層間絶縁膜35を完全に覆うようにしてもよい。すなわち、本変形例においては、共通電極72が形成される第2の領域は、少なくとも基板10の左右両辺側および上辺側において第2層間絶縁膜35が形成される第1の領域よりもはみ出している。   In this example, the second interlayer insulating film 35 includes the effective region A, the scanning line driving circuits 100A and 100B, the data line driving circuit 200, and a part of the first electrode power line 130 (in the illustrated example, When the side where the signal input terminal G is disposed is defined as the longitudinal direction, the entire portion extending in the longitudinal direction and a part of the portion extending toward the lower side of the substrate 10 in a direction perpendicular to the longitudinal direction are covered. It is formed. The common electrode 72 covers the effective area A and all of the scanning line driving circuits 100A and 100B, and the left and right ends thereof on the side where the second electrode power line 140 is disposed are formed on the second interlayer insulating film 35. It is formed outside the end and inside the second electrode power line 140 or so as to overlap the second electrode power line 140. On the other hand, of the ends of the common electrode 72, the lower side (signal input terminal G side) is located outside the effective area A and inside the data line driving circuit 200, and the upper side is the second interlayer insulating film. It is located outside the end of 35. When the first electrode power line 130 and the second electrode power line 140 are formed in different layers, the end of the second electrode is the lower side of the second interlayer insulating film 35 as in the other sides. The second interlayer insulating film 35 may be completely covered by being positioned outside the side end. That is, in the present modification, the second region where the common electrode 72 is formed protrudes beyond the first region where the second interlayer insulating film 35 is formed at least on both the left and right sides and the upper side of the substrate 10. Yes.

補助電極は、信号入力端子Gが配設される辺と同じ方向を長手とするストライプ状の個別電極150cとして形成される。詳細には、個別電極150cは有効領域Aにおいては発光素子Pの間隙を通り、周辺領域Bにおいては第1の領域の内側と第1の領域の外側であって且つ第2の領域の内側である領域とを通り、第2の領域の外側に至り、さらに、第2電極用電源線140と重なる領域まで延びて第2電極用電源線140と電気的に接続する。すなわち、その端は、第2層間絶縁膜35の端よりも外側であり、且つ、共通電極72の端よりも外側に位置する。本変形例によっても、上述した各実施形態と同様の効果が得られる。   The auxiliary electrode is formed as a striped individual electrode 150c having the same direction as the side on which the signal input terminal G is disposed. Specifically, the individual electrode 150c passes through the gap between the light emitting elements P in the effective region A, and in the peripheral region B, inside the first region, outside the first region, and inside the second region. It passes through a certain region, reaches the outside of the second region, and further extends to a region overlapping with the second electrode power line 140 to be electrically connected to the second electrode power line 140. That is, the end is located outside the end of the second interlayer insulating film 35 and located outside the end of the common electrode 72. Also by this modification, the same effect as each embodiment mentioned above is acquired.

次に、図14の(B)に示されるように、発光装置3Bは、走査線駆動回路とデータ線駆動回路の位置が逆転している点を除いて、発光装置3Aと同様の構成をしている。すなわち、発光装置3Bにおいては、走査線駆動回路100が基板10の下辺側の周辺領域Bにおいて有効領域Aに沿って配置され、データ線駆動回路200A,200Bが基板10の各左辺および右辺側の周辺領域Bに配置される。第2電極用電源線140は、各データ線駆動回路200A,200Bの外側に、基板10の対向する2辺(左右両辺)に沿って配置され、個別電極150cは、第2電極用電源線140と直交する方向(すなわち、信号入力端子Gが配設される辺と同じ方向)を長手としたストライプ状に形成される。発光装置3Aと同様に、個別電極150cの左右の各端は、第2層間絶縁膜35の端よりも外側であり、且つ、共通電極72の端よりも外側に位置し、第2電極用電源線140と重なり接するように形成される。よって、発光装置3Bによっても、上述した実施形態と同様の効果が得られる。   Next, as shown in FIG. 14B, the light emitting device 3B has the same configuration as the light emitting device 3A except that the positions of the scanning line driving circuit and the data line driving circuit are reversed. ing. That is, in the light emitting device 3B, the scanning line driving circuit 100 is arranged along the effective area A in the peripheral area B on the lower side of the substrate 10, and the data line driving circuits 200A and 200B are arranged on the left and right sides of the substrate 10, respectively. Arranged in the peripheral region B. The second electrode power line 140 is arranged outside the data line drive circuits 200A and 200B along two opposite sides (both left and right sides) of the substrate 10, and the individual electrode 150c is arranged on the second electrode power line 140. Is formed in a stripe shape having a longitudinal direction (that is, the same direction as the side where the signal input terminal G is disposed). Similarly to the light emitting device 3A, the left and right ends of the individual electrode 150c are located outside the end of the second interlayer insulating film 35 and outside the end of the common electrode 72. It is formed so as to overlap the line 140. Therefore, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained by the light emitting device 3B.

なお、発光装置3Aおよび3Bのいずれにおいても、図14の(A)の右側に示されるように、個別電極150cがストライプ状の複数の個別電極150cと周辺領域Bに形成されて複数の個別電極150cを接続する接続電極150dとを有するようにしてもよい。この場合、接続電極150dは、第1の領域の内側に重なる部分と、第1の領域の外側であり且つ第2の領域の内側である領域とを通り第2の領域の外側に至る部分とを有し、さらに第2電極用電源線140と重なるように形成される。すなわち、接続電極150dは、第2電極用電源線140と重なるだけでなく、第2層間絶縁膜35の端および共通電極72の端が接続電極150dと重なるように配置されている。   In both of the light emitting devices 3A and 3B, as shown on the right side of FIG. 14A, the individual electrodes 150c are formed on the plurality of stripe-shaped individual electrodes 150c and the peripheral region B to form a plurality of individual electrodes. You may make it have the connection electrode 150d which connects 150c. In this case, the connection electrode 150d includes a portion that overlaps the inside of the first region, a portion that passes through the region that is outside the first region and inside the second region, and reaches the outside of the second region. And is formed so as to overlap the power supply line 140 for the second electrode. That is, the connection electrode 150d is arranged not only to overlap the second electrode power line 140, but also so that the end of the second interlayer insulating film 35 and the end of the common electrode 72 overlap the connection electrode 150d.

図15の(A)および(B)に、発光装置の他のレイアウト例を示す。図15の(A)に示されるように、発光装置4Aにおいては、基板10の下辺縁に沿って信号入力端子Gが配設され、その内側に第2電極用電源線140がコの字状に配設される。さらに、第2電極用電源線140の内側には第1電極用電源線130がコの字状に配設され、この電源線130と有効領域Aとの間にデータ線駆動回路200が配設される。走査線駆動回路100A,100Bは有効領域Aの左右各辺に沿う領域に各々配設される。   15A and 15B show other layout examples of the light emitting device. As shown in FIG. 15A, in the light emitting device 4A, the signal input terminal G is disposed along the lower edge of the substrate 10, and the second electrode power line 140 is formed in a U shape inside thereof. It is arranged. Further, a first electrode power line 130 is disposed in a U-shape inside the second electrode power line 140, and the data line driving circuit 200 is disposed between the power line 130 and the effective area A. Is done. The scanning line driving circuits 100A and 100B are respectively disposed in regions along the left and right sides of the effective region A.

図示のように、第2層間絶縁膜35は、有効領域A全体と、走査線駆動回路100A,100B、およびデータ線駆動回路200の全部と、第1電極用電源線130の一部(図示の例では、信号入力端子Gが配設された辺を長手方向としたとき、長手方向に延在する部分)を覆うように形成される。共通電極72は、第2層間絶縁膜35とほぼ同じ部分を覆い、且つ、第2層間絶縁膜35を完全に覆うように形成される。すなわち、その矩形領域のすべての辺側において、共通電極72の端は第2層間絶縁膜35よりも基板10の面内において外側に位置する。よって、本変形例においては、基板10のすべての辺側において、共通電極72が形成される第2の領域は、基板10の面内における外側方向に第2層間絶縁膜35が形成される第1の領域よりもはみ出している。   As illustrated, the second interlayer insulating film 35 includes the entire effective area A, all of the scanning line driving circuits 100A and 100B, the data line driving circuit 200, and a part of the first electrode power line 130 (not illustrated). In the example, when the side where the signal input terminal G is disposed is defined as the longitudinal direction, it is formed so as to cover a portion extending in the longitudinal direction. The common electrode 72 is formed to cover substantially the same part as the second interlayer insulating film 35 and completely cover the second interlayer insulating film 35. That is, the end of the common electrode 72 is located outside the second interlayer insulating film 35 in the plane of the substrate 10 on all sides of the rectangular region. Therefore, in this modification, on all sides of the substrate 10, the second region where the common electrode 72 is formed is the second region where the second interlayer insulating film 35 is formed in the outer direction in the plane of the substrate 10. It protrudes beyond the area of 1.

図示のように、補助電極は、走査線駆動回路100A,100Bと平行な方向を長手として延在するストライプ状の個別電極150eとして形成される。基板10の下端側における個別電極150eの端は、第2電極用電源線140と重なって接するように形成される。なお、この例において、個別電極150eは第1電極用電源線130と交差しているが、第1電極用電源線130と第2電極用電源線140とを別々の層で形成することにより、個別電極150eが第1電極用電源線130と接することなく第2電極用電源線140とのみ接するように形成する。同様に、共通電極72と第1電極用電源線130とは重なるが、第1電極用電源線130と第2電極用電源線140とを別々の層で形成することで、共通電極72と第1電極用電源線130とが電気的に接触しない構成とすることができる。一方、基板10の上端側における個別電極150eの端は、第2層間絶縁膜35の端(第1の領域)よりも外側であり、且つ、さらに、共通電極72の端(第2の領域)よりも外側に位置する。よって、発光装置4Aによっても、上述した各実施形態と同様の効果が得られる。   As shown in the figure, the auxiliary electrode is formed as a stripe-like individual electrode 150e extending in a direction parallel to the scanning line driving circuits 100A and 100B. The ends of the individual electrodes 150e on the lower end side of the substrate 10 are formed so as to overlap and contact the second electrode power line 140. In this example, the individual electrode 150e intersects the first electrode power line 130. However, by forming the first electrode power line 130 and the second electrode power line 140 in separate layers, The individual electrode 150e is formed so as to contact only the second electrode power line 140 without contacting the first electrode power line 130. Similarly, although the common electrode 72 and the first electrode power line 130 overlap, the first electrode power line 130 and the second electrode power line 140 are formed in different layers, so that the common electrode 72 The power supply line for one electrode 130 can be configured not to be in electrical contact. On the other hand, the end of the individual electrode 150e on the upper end side of the substrate 10 is outside the end of the second interlayer insulating film 35 (first region), and further, the end of the common electrode 72 (second region). Located outside. Therefore, the same effects as those of the above-described embodiments can be obtained by the light emitting device 4A.

次に、図15の(B)に示されるように、発光装置4Bは、走査線駆動回路とデータ線駆動回路の位置が逆転している点を除いて、発光装置4Aと同様の構成をしている。すなわち、発光装置4Bにおいては、走査線駆動回路100が基板10の下辺側の周辺領域Bにおいて有効領域Aに沿って配置され、データ線駆動回路200A,200Bが基板10の各左辺および右辺側の周辺領域Bに配置される。第2電極用電源線140は、基板10下端側において信号入力端子Gよりも内側にコの字状に配置され、個別電極150eは、データ線駆動回路200A,200Bと平行な方向を長手としたストライプ状に形成される。発光装置4Aと同様に、個別電極150eの上下の各端は、第2層間絶縁膜35の端よりも外側であり、且つ、共通電極72の端よりも外側に位置するとともに、下端は、第2電極用電源線140と重なり接するように形成される。よって、発光装置4Bによっても、上述した実施形態と同様の効果が得られる。   Next, as shown in FIG. 15B, the light emitting device 4B has the same configuration as the light emitting device 4A except that the positions of the scanning line driving circuit and the data line driving circuit are reversed. ing. In other words, in the light emitting device 4B, the scanning line driving circuit 100 is disposed along the effective area A in the peripheral area B on the lower side of the substrate 10, and the data line driving circuits 200A and 200B Arranged in the peripheral region B. The second electrode power line 140 is arranged in a U-shape inside the signal input terminal G on the lower end side of the substrate 10, and the individual electrode 150e has a longitudinal direction parallel to the data line driving circuits 200A and 200B. It is formed in a stripe shape. Similar to the light emitting device 4A, the upper and lower ends of the individual electrode 150e are located outside the end of the second interlayer insulating film 35 and located outside the end of the common electrode 72. It is formed so as to overlap with the two-electrode power supply line 140. Therefore, the same effect as the above-described embodiment can be obtained by the light emitting device 4B.

図14(A)、図14(B)、図15(A)及び図15(B)に示すように、周辺領域Bにおいて、個別電極150c,150eは、第2電極用電源線140の延在方向に対し交差する方向に、ストライプ状に延在している。すなわち、図1〜図3では、補助配線150は第2電極用電源線140の延在方向にも延在しているが、第2電極用電源線140の延在方向に対して交差する方向にのみ延在させてもよい。換言すれば、補助電極150は、第2電極用電源線140の延在方向と平行に形成される必要は必ずしもなく、第2電極用電源140と交差するように形成されていればよい。   As shown in FIGS. 14A, 14B, 15A, and 15B, in the peripheral region B, the individual electrodes 150c and 150e extend the power supply line 140 for the second electrode. It extends in a stripe shape in a direction crossing the direction. That is, in FIGS. 1 to 3, the auxiliary wiring 150 extends in the extending direction of the second electrode power line 140, but intersects the extending direction of the second electrode power line 140. You may extend only to. In other words, the auxiliary electrode 150 is not necessarily formed in parallel with the extending direction of the second electrode power supply line 140, and may be formed so as to intersect the second electrode power supply 140.

<F:電子機器>
次に、本発明に係る発光装置を利用した電子機器について説明する。図16ないし図18には、以上の何れかの形態に係る発光装置を表示装置として採用した電子機器の形態が図示されている。
<F: Electronic equipment>
Next, an electronic apparatus using the light emitting device according to the present invention will be described. FIGS. 16 to 18 show a form of an electronic apparatus that employs the light emitting device according to any one of the above forms as a display device.

図16は、発光装置を採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。パーソナルコンピュータ2000は、各種の画像を表示する発光装置1、1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bと、電源スイッチ2001やキーボード2002が設置された本体部2010とを具備する。発光装置1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bは有機発光ダイオード素子を発光素子70として使用しているので、視野角が広く見易い画面を表示できる。   FIG. 16 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile personal computer employing a light emitting device. The personal computer 2000 includes a light emitting device 1 that displays various images, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, and 4B, and a main body 2010 on which a power switch 2001 and a keyboard 2002 are installed. It comprises. Since the light emitting devices 1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, and 4B use the organic light emitting diode element as the light emitting element 70, it is possible to display an easy-to-see screen with a wide viewing angle.

図17は、発光装置を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。携帯電話機3000は、複数の操作ボタン3001およびスクロールボタン3002と、各種の画像を表示する発光装置1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bとを備える。スクロールボタン3002を操作することによって、発光装置1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bに表示される画面がスクロールされる。   FIG. 17 is a perspective view illustrating a configuration of a mobile phone to which the light emitting device is applied. The cellular phone 3000 includes a plurality of operation buttons 3001 and scroll buttons 3002, and light emitting devices 1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, and 4B that display various images. By operating the scroll button 3002, the screens displayed on the light emitting devices 1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, 4B are scrolled.

図18は、発光装置を適用した携帯情報端末(PDA:Personal Digital Assistants)の構成を示す斜視図である。情報携帯端末4000は、複数の操作ボタン4001および電源スイッチ4002と、各種の画像を表示する発光装置1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bとを備える。電源スイッチ4002を操作すると、住所録やスケジュール帳といった様々な情報が発光装置1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4Bに表示される。   FIG. 18 is a perspective view illustrating a configuration of a personal digital assistant (PDA) to which the light emitting device is applied. The information portable terminal 4000 includes a plurality of operation buttons 4001, a power switch 4002, and light emitting devices 1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, and 4B that display various images. When the power switch 4002 is operated, various information such as an address book and a schedule book are displayed on the light emitting devices 1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, 4B.

なお、本発明に係る発光装置が適用される電子機器としては、図16から図18に示した機器のほか、デジタルスチルカメラ、テレビ、ビデオカメラ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電子ペーパー、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、プリンタ、スキャナ、複写機、ビデオプレーヤ、タッチパネルを備えた機器等などが挙げられる。また、本発明に係る発光装置の用途は画像の表示に限定されない。例えば、光書込型のプリンタや電子複写機といった画像形成装置においては、用紙に形成されるべき画像に応じて感光体を露光する光ヘッド(書込ヘッド)が使用されるが、この種の光ヘッドとしても本発明の発光装置は利用される。   Electronic devices to which the light emitting device according to the present invention is applied include, in addition to the devices shown in FIGS. 16 to 18, a digital still camera, a television, a video camera, a car navigation device, a pager, an electronic notebook, electronic paper, Examples include calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, printers, scanners, copiers, video players, devices equipped with touch panels, and the like. Further, the use of the light emitting device according to the present invention is not limited to the display of images. For example, in an image forming apparatus such as an optical writing type printer or an electronic copying machine, an optical head (writing head) that exposes a photosensitive member according to an image to be formed on a sheet is used. The light emitting device of the present invention is also used as an optical head.

(A)は本発明の第1実施形態に係る発光装置の構成の一部を示す概略平面図であり、(B)は(A)の状態の後に補助電極および画素電極をさらに形成した状態を示す平面図である。(A) is a schematic plan view which shows a part of structure of the light-emitting device concerning 1st Embodiment of this invention, (B) is the state which further formed the auxiliary electrode and the pixel electrode after the state of (A). FIG. 同装置の画素回路の詳細を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows the detail of the pixel circuit of the apparatus. 図1(B)の一部の拡大図である。FIG. 2 is an enlarged view of a part of FIG. 同装置の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the apparatus. 同装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the same device. 同装置の補助電極に亀裂が生じた様子を示す図である。It is a figure which shows a mode that the crack had arisen in the auxiliary electrode of the apparatus. 第1実施形態の変形例に係る発光装置の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the light-emitting device concerning the modification of a 1st embodiment. 本発明の第2実施形態に係る発光装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the light emitting device according to the second embodiment of the present invention. 本発明の第3実施形態に係る発光装置の部分断面図である。It is a fragmentary sectional view of the light-emitting device concerning a 3rd embodiment of the present invention. 同装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the same device. 本発明の第4実施形態に係る発光装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the light emitting device according to the fourth embodiment of the present invention. 本発明の変形例に係る発光装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the light-emitting device which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る発光装置の部分簡略断面図である。It is a partial simplified sectional view of the light-emitting device which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る発光装置のレイアウトの概略である。It is the outline of the layout of the light-emitting device which concerns on the modification of this invention. 本発明の変形例に係る発光装置のレイアウトの概略である。It is the outline of the layout of the light-emitting device which concerns on the modification of this invention. 発光装置を採用したモバイル型のパーソナルコンピュータの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile type personal computer which employ | adopted the light-emitting device. 発光装置を適用した携帯電話機の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the mobile telephone to which the light-emitting device is applied. 発光装置を適用した携帯情報端末の構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of the portable information terminal to which the light-emitting device is applied.

符号の説明Explanation of symbols

1,1A,1B,1E,1F,2A,2B,3A,3B,4A,4B…発光装置、10…基板、70…発光素子、34…回路保護膜、35…第2層間絶縁膜(絶縁層)、37…隔壁、37a…開口部、65…防湿性充填材、72…共通電極(第2電極)、74…発光機能層、76…画素電極(第1電極)、80…封止膜、90…シール、100A,100B…走査線駆動回路(周辺回路)、110…対向基板、111…走査線、112…データ線、113…電源供給線、120…プリチャージ回路、140…第2電極用電源線、150…補助電極、150c,150e…個別電極、150d…接続電極、200,200A,200B…データ線駆動回路、A…有効領域、B…周辺領域、C,F…領域、E1〜E5…端、G…信号入力端子、P…単位回路。   1, 1A, 1B, 1E, 1F, 2A, 2B, 3A, 3B, 4A, 4B ... light emitting device, 10 ... substrate, 70 ... light emitting element, 34 ... circuit protective film, 35 ... second interlayer insulating film (insulating layer) ), 37..., Partition walls, 37 a... Opening, 65. Moisture-proof filler, 72... Common electrode (second electrode), 74... Light emitting functional layer, 76 .. pixel electrode (first electrode), 80. DESCRIPTION OF SYMBOLS 90 ... Seal, 100A, 100B ... Scan line drive circuit (peripheral circuit), 110 ... Counter substrate, 111 ... Scan line, 112 ... Data line, 113 ... Power supply line, 120 ... Precharge circuit, 140 ... For 2nd electrode Power line, 150 ... auxiliary electrode, 150c, 150e ... individual electrode, 150d ... connection electrode, 200, 200A, 200B ... data line drive circuit, A ... effective area, B ... peripheral area, C, F ... area, E1-E5 ... End, G ... Signal input terminal, P Unit circuit.

Claims (9)

基板上に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタ上に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された第1電極と、
前記第1の電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた第2電極と、
前記第2電極と電気的に接続され、前記第2電極上に設けられた導電層と、を備え、
前記基板上には、前記第1電極、前記発光層および前記第2電極を備えた発光素子が複数設けられた第1の領域と、前記第1の領域の外側に設けられた第2の領域と、を有し、
前記絶縁層および前記第2電極は、前記第1の領域から前記第2の領域まで延在するように設けられており、
前記導電層の端部は、前記第2の領域に配置されており、
前記絶縁層の端部は、前記第2電極と接しており、
平面視において、前記第2電極の端部は、前記絶縁層の端部と前記導電層の端部との間に設けられていることを特徴とする発光装置。
A transistor provided on a substrate;
An insulating layer provided on the transistor;
A first electrode provided on the insulating layer and electrically connected to the transistor;
A light emitting layer provided on the first electrode;
A second electrode provided on the light emitting layer;
A conductive layer electrically connected to the second electrode and provided on the second electrode,
On the substrate, a first region in which a plurality of light emitting elements including the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are provided, and a second region provided outside the first region And having
The insulating layer and the second electrode are provided so as to extend from the first region to the second region,
The end of the conductive layer is disposed in the second region,
The end of the insulating layer is in contact with the second electrode,
In plan view, the end portion of the second electrode is provided between the end portion of the insulating layer and the end portion of the conductive layer.
基板上に設けられたトランジスタと、
前記トランジスタ上に設けられた絶縁層と、
前記絶縁層上に設けられ、前記トランジスタと電気的に接続された第1電極と、
前記第1の電極上に設けられた発光層と、
前記発光層上に設けられた第2電極と、
前記第2電極と電気的に接続され、前記絶縁層上に設けられた導電層と、を備え、
前記基板上には、前記第1電極、前記発光層および前記第2電極を備えた発光素子が複数設けられた第1の領域と、前記第1の領域の外側に設けられた第2の領域と、を有し、
前記絶縁層および前記第2電極は、前記第1の領域から前記第2の領域まで延在するように設けられており、
前記導電層の端部は、前記第2の領域に配置されており、
前記絶縁層の端部は、前記導電層と接しており、
平面視において、前記第2電極の端部は、前記絶縁層の端部と前記導電層の端部との間に設けられていることを特徴とする発光装置。
A transistor provided on a substrate;
An insulating layer provided on the transistor;
A first electrode provided on the insulating layer and electrically connected to the transistor;
A light emitting layer provided on the first electrode;
A second electrode provided on the light emitting layer;
A conductive layer electrically connected to the second electrode and provided on the insulating layer,
On the substrate, a first region in which a plurality of light emitting elements including the first electrode, the light emitting layer, and the second electrode are provided, and a second region provided outside the first region And having
The insulating layer and the second electrode are provided so as to extend from the first region to the second region,
The end of the conductive layer is disposed in the second region,
The end of the insulating layer is in contact with the conductive layer,
In plan view, the end portion of the second electrode is provided between the end portion of the insulating layer and the end portion of the conductive layer.
前記第2の領域には、第2電極に電位を供給するための電極用配線が設けられており、
前記電極用配線は、前記基板の外周をなす第1の辺および前記第1の辺と交差する第2の辺に沿って設けられており、
前記電極用配線は、前記導電層と接していることを特徴とする請求項1または2に記載の発光装置。
In the second region, an electrode wiring for supplying a potential to the second electrode is provided,
The electrode wiring is provided along a first side that forms an outer periphery of the substrate and a second side that intersects the first side,
The electrode wiring, the light emitting device according to claim 1 or 2, characterized in that in contact with the conductive layer.
前記導電層は、前記第1の辺および前記第2の辺に沿って設けられており、
前記電極用配線と前記導電層とは、前記第1の辺および前記第2の辺に沿って平面的に重なることを特徴とする請求項に記載の発光装置。
The conductive layer is provided along the first side and the second side,
4. The light emitting device according to claim 3 , wherein the electrode wiring and the conductive layer overlap in a plane along the first side and the second side.
前記電極用配線および前記導電層は、前記第1の辺、前記第2の辺および前記第2の辺と交差する第3の辺に沿って設けられており、
前記電極用配線と前記導電層とは、前記第1の辺、前記第2の辺および前記第3の辺に沿って平面的に重なる
ことを特徴とする請求項に記載の発光装置。
The electrode wiring and the conductive layer are provided along a third side that intersects the first side, the second side, and the second side,
4. The light emitting device according to claim 3 , wherein the electrode wiring and the conductive layer overlap in a plane along the first side, the second side, and the third side.
前記複数の発光素子は、第1の発光素子と、第2の発光素子と、を有し、
前記導電層は、前記第1の領域および前記第2の領域に設けられており、
平面視において、前記導電層は、前記第1の発光素子と前記第2の発光素子との間に設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の発光装置。
The plurality of light emitting elements include a first light emitting element and a second light emitting element,
The conductive layer is provided in the first region and the second region,
In plan view, the conductive layer, the light emitting device according to any one of claims 1 to 5, characterized in that provided between the first light emitting element and the second light emitting element .
前記導電層と前記第1電極は、同層に設けられていることを特徴とする請求項2に記載の発光装置。   The light emitting device according to claim 2, wherein the conductive layer and the first electrode are provided in the same layer. 前記トランジスタと前記電極用配線は、前記基板上の第1の層に設けられていることを特徴とする請求項に記載の発光装置。 The light emitting device according to claim 3 , wherein the transistor and the electrode wiring are provided in a first layer on the substrate. 請求項1ないし請求項に記載の発光装置を有する電子機器。 An electronic device including a light-emitting device according to claims 1 to 8.
JP2007319269A 2007-02-08 2007-12-11 Light emitting device Active JP5401784B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007319269A JP5401784B2 (en) 2007-02-08 2007-12-11 Light emitting device
KR1020080009329A KR101469767B1 (en) 2007-02-08 2008-01-30 Light emitting device and electronic apparatus
US12/024,434 US7839083B2 (en) 2007-02-08 2008-02-01 Light emitting device and electronic apparatus
TW097104609A TWI455643B (en) 2007-02-08 2008-02-05 Light emitting device and electronic apparatus
CN2008100058083A CN101242691B (en) 2007-02-08 2008-02-05 Light emitting device

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007028842 2007-02-08
JP2007028842 2007-02-08
JP2007319269A JP5401784B2 (en) 2007-02-08 2007-12-11 Light emitting device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008216975A JP2008216975A (en) 2008-09-18
JP5401784B2 true JP5401784B2 (en) 2014-01-29

Family

ID=39837024

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007319269A Active JP5401784B2 (en) 2007-02-08 2007-12-11 Light emitting device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP5401784B2 (en)
KR (1) KR101469767B1 (en)
CN (1) CN101242691B (en)
TW (1) TWI455643B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11569313B2 (en) 2019-11-01 2023-01-31 Samsung Display Co., Ltd. Display device with metal layer between pixel defining layer and opposite electrode

Families Citing this family (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5439837B2 (en) 2009-02-10 2014-03-12 ソニー株式会社 Display device
KR20180055923A (en) 2009-05-02 2018-05-25 가부시키가이샤 한도오따이 에네루기 켄큐쇼 Display panel
KR20110019498A (en) * 2009-08-20 2011-02-28 삼성모바일디스플레이주식회사 Organic light emitting display device
JP5799492B2 (en) * 2010-10-05 2015-10-28 セイコーエプソン株式会社 Lighting device
KR101407587B1 (en) 2011-06-02 2014-06-13 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device and manufacturing method thereof
KR101834277B1 (en) 2011-09-20 2018-03-07 주성엔지니어링(주) Light emitting device
KR101829890B1 (en) 2011-12-23 2018-02-20 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display apparatus and method of manufacturing the same
KR102083983B1 (en) * 2013-05-29 2020-03-04 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display apparatus and method of manufacturing the same
KR102159267B1 (en) * 2013-09-06 2020-09-24 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device and method for manufacturing the same
CN104576688B (en) 2013-10-10 2018-11-09 精工爱普生株式会社 Light-emitting device and electronic equipment
CN104733470A (en) * 2013-12-20 2015-06-24 昆山国显光电有限公司 Panel display device and preparation method thereof
KR102272230B1 (en) * 2014-10-29 2021-07-05 삼성디스플레이 주식회사 Display panel for compensating negative power supply voltage, display module and mobile device including the same
KR102351664B1 (en) * 2015-01-14 2022-01-14 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting diode display
KR102426691B1 (en) * 2015-02-05 2022-07-28 삼성디스플레이 주식회사 Organic light emitting diode display and manufacturing method thereof
KR20170065713A (en) * 2015-12-03 2017-06-14 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102483229B1 (en) * 2015-12-31 2022-12-29 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device
KR102632616B1 (en) * 2016-06-27 2024-02-02 삼성디스플레이 주식회사 Display device
US10177212B2 (en) * 2016-09-29 2019-01-08 Lg Display Co., Ltd. Organic electroluminescent display device
KR102636565B1 (en) * 2016-09-30 2024-02-16 엘지디스플레이 주식회사 Organic light emitting display device
KR102325171B1 (en) 2017-03-20 2021-11-10 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102353726B1 (en) * 2017-03-31 2022-01-20 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102527793B1 (en) 2017-10-16 2023-05-04 삼성디스플레이 주식회사 Display device and driving method thereof
KR102523646B1 (en) 2017-11-01 2023-04-21 삼성디스플레이 주식회사 Display device and driving method thereof
JP2019091642A (en) * 2017-11-15 2019-06-13 株式会社ジャパンディスプレイ Display
KR102410500B1 (en) * 2017-11-30 2022-06-16 엘지디스플레이 주식회사 Electroluminescent Display Device
KR102546170B1 (en) 2018-01-19 2023-06-22 삼성디스플레이 주식회사 Display device
KR102480092B1 (en) * 2018-04-30 2022-12-23 삼성디스플레이 주식회사 Display device
US11963402B2 (en) 2019-03-25 2024-04-16 Sharp Kabushiki Kaisha Display device having auxiliary wiring line electrically connected to metal nanowire
CN110112178B (en) * 2019-04-04 2021-07-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 Display panel and display device
US11462608B2 (en) * 2020-03-25 2022-10-04 Apple Inc. Large panel displays with reduced routing line resistance
CN112530301B (en) * 2020-12-02 2023-04-21 湖北长江新型显示产业创新中心有限公司 Display panel and display device
CN113097263B (en) * 2021-03-25 2024-05-24 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and display device

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW484238B (en) * 2000-03-27 2002-04-21 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and a method of manufacturing the same
US6900470B2 (en) * 2001-04-20 2005-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Display device and method of manufacturing the same
JP2002352963A (en) * 2001-05-23 2002-12-06 Sony Corp Display device
JP2003059660A (en) * 2001-08-17 2003-02-28 Toshiba Corp Manufacturing method of self-luminescence display
SG143063A1 (en) * 2002-01-24 2008-06-27 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and method of manufacturing the same
JP4627966B2 (en) * 2002-01-24 2011-02-09 株式会社半導体エネルギー研究所 Light emitting device and manufacturing method thereof
JP4183951B2 (en) * 2002-02-25 2008-11-19 株式会社半導体エネルギー研究所 Light emitting device
TWI289870B (en) * 2002-03-26 2007-11-11 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and method of manufacturing the same
JP4545385B2 (en) * 2002-03-26 2010-09-15 株式会社半導体エネルギー研究所 Method for manufacturing light emitting device
JP4216008B2 (en) * 2002-06-27 2009-01-28 株式会社半導体エネルギー研究所 LIGHT EMITTING DEVICE AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND VIDEO CAMERA, DIGITAL CAMERA, GOGGLE TYPE DISPLAY, CAR NAVIGATION, PERSONAL COMPUTER, DVD PLAYER, ELECTRONIC GAME EQUIPMENT, OR PORTABLE INFORMATION TERMINAL HAVING THE LIGHT EMITTING DEVICE
JP4089544B2 (en) * 2002-12-11 2008-05-28 ソニー株式会社 Display device and manufacturing method of display device
JP4593179B2 (en) * 2003-06-17 2010-12-08 株式会社半導体エネルギー研究所 Display device
JP5017851B2 (en) * 2005-12-05 2012-09-05 セイコーエプソン株式会社 LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP4742835B2 (en) * 2005-12-05 2011-08-10 セイコーエプソン株式会社 LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP5104274B2 (en) * 2007-02-08 2012-12-19 セイコーエプソン株式会社 Light emitting device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11569313B2 (en) 2019-11-01 2023-01-31 Samsung Display Co., Ltd. Display device with metal layer between pixel defining layer and opposite electrode
US11997885B2 (en) 2019-11-01 2024-05-28 Samsung Display Co., Ltd. Display device with metal layer between pixel defining layer and opposite electrode

Also Published As

Publication number Publication date
KR20080074738A (en) 2008-08-13
TW200906219A (en) 2009-02-01
JP2008216975A (en) 2008-09-18
CN101242691B (en) 2011-06-15
CN101242691A (en) 2008-08-13
TWI455643B (en) 2014-10-01
KR101469767B1 (en) 2014-12-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5401784B2 (en) Light emitting device
JP5104274B2 (en) Light emitting device
US7839083B2 (en) Light emitting device and electronic apparatus
US7679284B2 (en) Light emitting device and electronic apparatus
JP5017851B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP4742835B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP4736757B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP4939045B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP5250960B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP4702136B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP2007148216A (en) Light emitting device and electronic equipment
JP6897297B2 (en) Organic EL equipment, manufacturing methods of organic EL equipment, and electronic devices
JP2007156387A (en) Emissive device and electronic apparatus
JP2007147814A (en) Light emitting device and its manufacturing method, and electronic equipment
JP5163430B2 (en) Electro-optical device and electronic apparatus
US20180205039A1 (en) Electro-optical device, electro-optical device manufacturing method, and electronic apparatus
JP2007156388A (en) Emissive device and electronic apparatus
JP2007148219A (en) Light emitting device and electronic equipment
KR102533228B1 (en) Organic light emitting display device
JP5141812B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP2008234841A (en) Light-emitting device
JP5076306B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE
JP2012190045A (en) Light-emitting device and electronic apparatus
JP2010160526A (en) Light emitting device and electronic equipment
JP5114841B2 (en) LIGHT EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC DEVICE

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100129

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20120222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120321

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120518

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121204

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20130122

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20131001

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20131014

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5401784

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350