JP5392965B2 - Display device - Google Patents

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Description

本発明は、時間階調法で表示を行う表示装置及び該表示装置の駆動方法に関する。 The present invention relates to a display device that performs display by a time gray scale method and a driving method of the display device.

表示装置の一つである発光装置の駆動方法に、デジタルのビデオ信号が有する2値の電圧を用い、1フレーム期間中において画素が発光する時間を制御することで、階調を表示する時間階調法がある。一般的に液晶などに比べて電界発光材料の応答速度は速いため、時間階調法により適していると言える。具体的に時間階調法で表示を行う場合、1フレーム期間を複数のサブフレーム期間に分割する。そしてビデオ信号に従い、各サブフレーム期間において画素を発光または非発光の状態にする。上記構成により、1フレーム期間中に画素が実際に発光する期間の合計の長さを、ビデオ信号により制御し、階調を表示することができる。 A time scale in which gradation is displayed by using a binary voltage of a digital video signal as a driving method of a light emitting device which is one of display devices, and controlling a time during which a pixel emits light during one frame period. There is a law. In general, it can be said that the time gray scale method is more suitable because the electroluminescent material has a higher response speed than liquid crystal. Specifically, when display is performed by the time gray scale method, one frame period is divided into a plurality of subframe periods. Then, in accordance with the video signal, the pixels are caused to emit light or not in each subframe period. With the above structure, the total length of a period during which a pixel actually emits light during one frame period can be controlled by a video signal to display gradation.

しかし時間階調法で表示を行う場合、フレーム周波数によっては画素部に擬似輪郭が表示されてしまうという問題があった。擬似輪郭とは、時間階調法で中間階調を表示したときに度々視認される不自然な輪郭線であって、人間の視覚の特性によって生じる知覚輝度の変動が主な原因とされている。 However, when displaying by the time gray scale method, there is a problem that a pseudo contour is displayed in the pixel portion depending on the frame frequency. Pseudo contour is an unnatural contour line that is often seen when intermediate gray levels are displayed by the time gray scale method, and is mainly caused by fluctuations in perceived luminance caused by human visual characteristics. .

上述した擬似輪郭を防止するための技術として、下記特許文献1には、発光の状態にあるサブフレーム期間を1フレーム期間内に連続的に出現させるプラズマディスプレイの駆動方法について記載されている。上記駆動方法により、隣り合うフレーム期間どうしで、1フレーム期間内において発光の状態にある期間と、非発光の状態にある期間とが互いに反転するような事態が生じなくなるので、擬似輪郭を抑制出来るとされている。
特開2000−231362号公報
As a technique for preventing the above-described pseudo contour, Patent Document 1 below describes a plasma display driving method in which a subframe period in a light emission state appears continuously within one frame period. According to the above driving method, a situation in which a period in which light emission is performed and a period in which light emission is not performed in one frame period does not reverse each other between adjacent frame periods can be prevented, so that a pseudo contour can be suppressed. It is said that.
JP 2000-231362 A

しかし特許文献1に記載されている駆動方法では、総階調数と、1フレーム期間内に出現するサブフレーム期間の数とが一致している。よって、総階調数を高めるためにサブフレーム期間の数を増やすと、各サブフレーム期間を短くする必要が生じる。ところが通常の表示装置では、ビデオ信号をサブフレーム期間ごとに全ての行の画素に入力しなくてはならない。そのため、サブフレーム期間が短すぎる場合、駆動回路の駆動周波数を高める必要がある。よって、駆動回路の信頼性を考慮すると、むやみにサブフレーム期間を短くするのは好ましくない。 However, in the driving method described in Patent Document 1, the total number of gradations matches the number of subframe periods that appear within one frame period. Therefore, if the number of subframe periods is increased in order to increase the total number of gradations, it is necessary to shorten each subframe period. However, in a normal display device, a video signal must be input to all rows of pixels every subframe period. Therefore, when the subframe period is too short, it is necessary to increase the drive frequency of the drive circuit. Therefore, considering the reliability of the drive circuit, it is not preferable to shorten the subframe period unnecessarily.

なお、フレーム期間を長くすることで、各サブフレーム期間をある程度長くすることはできる。しかし、フレーム期間を長くしても総階調数を飛躍的に増やすことは期待できず、その上擬似輪郭が発生しやすくなるので好ましくない。 Note that each subframe period can be lengthened to some extent by lengthening the frame period. However, even if the frame period is lengthened, it is not possible to expect a dramatic increase in the total number of gradations, and it is not preferable because pseudo contours are more likely to occur.

そこで特許文献1では、ディザなどの画像処理を行ない、サブフレームの数を増やさずに、表示する総階調数を擬似的に高める技術についても記載されている。しかしディザなどの画像処理を行うと、高い総階調数を表示することはできるが、砂を撒いたように画像がざらついて表示されるため、画質の低下は免れない。 Therefore, Patent Document 1 also describes a technique for performing pseudo image processing such as dithering and increasing the total number of gradations to be displayed in a pseudo manner without increasing the number of subframes. However, when image processing such as dithering is performed, a high total number of gradations can be displayed. However, since the image is displayed in a rough manner as if sand is sown, deterioration in image quality is inevitable.

本発明は上述した問題に鑑み、駆動回路の駆動周波数を抑えつつ、擬似輪郭の発生を抑えることができる表示装置の駆動方法の提案を課題とする。また本発明は、画質の低下を抑えつつ、擬似輪郭の発生を抑えることができる表示装置の駆動方法の提案を課題とする。 In view of the above-described problems, an object of the present invention is to propose a driving method of a display device that can suppress the generation of a pseudo contour while suppressing the driving frequency of a driving circuit. Another object of the present invention is to propose a method for driving a display device that can suppress the occurrence of pseudo contours while suppressing deterioration in image quality.

また本発明は上述した問題に鑑み、駆動回路の駆動周波数を抑えつつ、擬似輪郭の発生を抑えることができる表示装置の提案を課題とする。また本発明は、画質の低下を抑えつつ、擬似輪郭の発生を抑えることができる表示装置の提案を課題とする。 Another object of the present invention is to propose a display device that can suppress the generation of pseudo contours while suppressing the drive frequency of the drive circuit. Another object of the present invention is to propose a display device that can suppress the occurrence of a pseudo contour while suppressing a decrease in image quality.

上記課題を鑑み本発明は、表示装置に複数のサブフレーム期間のうち、発光の状態となるサブフレームを定めたデータが記憶されたテーブルがそれぞれ設けられていることを特徴とする。複数のサブフレーム期間は、複数の画素から任意の画素に対して決められる。このようなテーブルはメモリに記憶されていることを特徴とする。 In view of the above problems, the present invention is characterized in that the display device is provided with tables each storing data defining subframes in a light emission state among a plurality of subframe periods. A plurality of subframe periods are determined for an arbitrary pixel from a plurality of pixels. Such a table is stored in a memory.

以下に本発明の具体的な構成を示す。 The specific configuration of the present invention is shown below.

本発明の一形態は、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルと、データに従ってビデオ信号を出力するコントローラと、出力されたビデオ信号に従って、画素の階調が制御される画素部と、を有し、複数のテーブルは、画素部のうち隣接する画素間で異なることを特徴とする表示装置である。 According to one embodiment of the present invention, a plurality of tables storing data defining subframe periods in which light emission is performed, a controller that outputs a video signal according to the data, and a pixel gradation according to the output video signal The display device is characterized in that the plurality of tables differ between adjacent pixels in the pixel portion.

本発明の別の形態は、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルと、データに従ってビデオ信号を出力するコントローラと、出力されたビデオ信号に従って、画素の階調が制御される画素部と、を有し、複数のテーブルは、画素部のうち隣接する画素間で異なり、且つサブフレーム期間を有するフレーム期間ごとに、画素に対するテーブルは異なることを特徴とする表示装置である。 According to another aspect of the present invention, a plurality of tables storing data defining subframe periods in which light emission is performed, a controller that outputs a video signal according to the data, and a pixel gradation according to the output video signal A plurality of tables that are different between adjacent pixels in the pixel portion, and the tables for the pixels are different for each frame period having a sub-frame period. Device.

本発明の表示装置において、複数のサブフレーム期間の数及び長さは、共有率Rshにより求められたサブフレーム率RSFに従って決定されていることを特徴とする。 In the display device of the present invention, the number and length of the plurality of sub-frame periods, characterized in that it is determined in accordance with the sub-frame rate R SF obtained by the sharing ratio R sh.

また本発明の表示装置において、複数のテーブル間において、ある階調を表示するために定められたサブフレーム期間の組み合わせは異なっていることを特徴とする。 In the display device of the present invention, a combination of subframe periods determined for displaying a certain gradation is different between a plurality of tables.

また本発明の表示装置には、有機発光素子(OLED)に代表される発光素子を備えた発光装置、液晶表示装置、DMD(Digital Micromirror Device)、PDP(Plasma Display Panel)、FED(Field Emission Display)、その他の時間階調法で表示が可能な表示装置がその範疇に含まれる。また発光装置は、発光素子が封止された状態にあるパネルと、該パネルにコントローラを含むIC等を実装した状態にあるモジュールとを含んだ状態を指す。   The display device of the present invention includes a light emitting device including a light emitting element represented by an organic light emitting element (OLED), a liquid crystal display device, a DMD (Digital Micromirror Device), a PDP (Plasma Display Panel), and an FED (Field Emission Display). ), And other display devices capable of displaying by the time gray scale method are included in the category. The light-emitting device refers to a state including a panel in which the light-emitting element is sealed and a module in which an IC or the like including a controller is mounted on the panel.

また本発明の表示装置の駆動方法の一形態は、隣接する第1の画素及び第2の画素を少なくとも有し、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルから選ばれた第1のテーブルを第1の画素に対して設け、複数のテーブルから選ばれた第2のテーブルを第2の画素に対して設けることを特徴とする。 One embodiment of a display device driving method according to the present invention includes a plurality of tables that have at least adjacent first pixels and second pixels and store data defining subframe periods in which light emission is performed. The selected first table is provided for the first pixel, and the second table selected from the plurality of tables is provided for the second pixel.

また本発明の表示装置の駆動方法の別形態は、隣接する第1の画素及び第2の画素を少なくとも有し、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルから選ばれた第1のテーブルを第1の画素に対して設け、複数のテーブルから選ばれた第2のテーブルを第2の画素に対して設け、複数のテーブル間において、ある階調を表示するために定められたサブフレーム期間の組み合わせが異なることを特徴とする。 Another embodiment of the method for driving a display device according to the present invention includes a plurality of tables having at least adjacent first pixels and second pixels and storing data defining subframe periods in which light is emitted. The selected first table is provided for the first pixel, the second table selected from the plurality of tables is provided for the second pixel, and a certain gradation is displayed between the plurality of tables. Therefore, the combinations of subframe periods determined for this purpose are different.

本発明の表示装置の駆動方法において、サブフレーム期間を有するフレーム期間ごとに、第1のテーブルと、第2のテーブルとを入れ替えることを特徴とする。 In the driving method of the display device of the present invention, the first table and the second table are exchanged for each frame period having a sub-frame period.

このように、少なくとも2以上の画素に対して、それぞれテーブルを設けることにより、擬似輪郭の発生を低減することができる。また1フレーム期間ごとに、第1のテーブルと、第2のテーブルとを変えることにより、さらに擬似輪郭の発生を低減することができる。 Thus, by providing a table for each of at least two or more pixels, the occurrence of pseudo contours can be reduced. Further, by changing the first table and the second table every frame period, the generation of pseudo contours can be further reduced.

以下に、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、実施の形態を説明するための全図において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. However, the present invention can be implemented in many different modes, and those skilled in the art can easily understand that the modes and details can be variously changed without departing from the spirit and scope of the present invention. Is done. Therefore, the present invention is not construed as being limited to the description of this embodiment mode. Note that in all the drawings for describing the embodiments, the same portions or portions having similar functions are denoted by the same reference numerals, and repetitive description thereof is omitted.

(実施の形態1)
本実施の形態では、複数の画素間で、複数のテーブルを用いる場合について説明する。
(Embodiment 1)
In this embodiment, a case where a plurality of tables are used between a plurality of pixels will be described.

図1に示すように、画素部100は複数の画素101を有している。この画素101のうち、隣接する任意の画素(A)(B)に対して、それぞれ異なるテーブル(Table a、b)を設ける。言い換えると、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルから選ばれたテーブルaと、テーブルbを用意し、隣接する画素(A)に対して、テーブルaを設け、画素(B)に対して、テーブルbを設ける。 As shown in FIG. 1, the pixel unit 100 includes a plurality of pixels 101. Among the pixels 101, different tables (Table a, b) are provided for arbitrary adjacent pixels (A) and (B). In other words, a table a and a table b selected from a plurality of tables storing data defining subframe periods in which light emission is performed are prepared, and a table a is provided for the adjacent pixel (A). A table b is provided for the pixel (B).

このとき、隣接する画素(A)(B)の配置は、(m、n)(m、n+1)と表すことができる。ここで、mは画素部における行方向の任意の画素数、nは画素部における列方向の任意の画素数である。このとき、次の行である(m+1)行目では、画素(A)(B)が上下に隣接しないように配置する。すなわち(m+1)行目においては、画素(A)(B)の配置は、(m+1、n+1)(m+1、n)となる。このような画素の配置を全体でみると、画素(A)(B)はそれぞれ対角状になっている。 At this time, the arrangement of adjacent pixels (A) and (B) can be expressed as (m, n) (m, n + 1). Here, m is an arbitrary number of pixels in the row direction in the pixel portion, and n is an arbitrary number of pixels in the column direction in the pixel portion. At this time, in the next row (m + 1), the pixels (A) and (B) are arranged so as not to be adjacent vertically. That is, in the (m + 1) th row, the arrangement of the pixels (A) and (B) is (m + 1, n + 1) (m + 1, n). Looking at the arrangement of such pixels as a whole, the pixels (A) and (B) are diagonal.

このような配置された画素に対して、それぞれ設けるテーブルa、bは、それぞれ異なるタイミングで、ある階調を表示するように設定されている。このように異なるタイミングである階調を表示するためには、共有率を考慮した上、サブフレーム期間の長さを決定する。なお共有率とは、階調が1段階異なっている2つのフレーム期間において、共通して発光の状態にあるサブフレーム期間の長さの割合である。 The tables a and b provided for the pixels arranged in this way are set to display a certain gradation at different timings. In order to display gradations at different timings as described above, the length of the subframe period is determined in consideration of the sharing rate. Note that the sharing rate is a ratio of the length of a subframe period in which light is emitted in common in two frame periods in which gradation is different by one step.

具体的な共有率を求め方は、フレーム期間をSF1〜SF3のサブフレーム期間に分けた場合、先のフレーム期間でSF3のみ発光し、次のフレーム期間でSF1〜SF3がすべて発光する場合、共有率はSF3/(SF1+SF2+SF3)×100(%)となる。 The specific sharing rate is calculated by dividing the frame period into sub-frame periods SF 1 to SF 3 , and emitting only SF 3 in the previous frame period, and all SF 1 to SF 3 in the next frame period. In the case of emitting light, the sharing rate is SF 3 / (SF 1 + SF 2 + SF 3 ) × 100 (%).

一般的に、サブフレーム期間の長さは、20:21:22:23:・・・となるように設定されるが、本発明では、これに制約されることなく、共有率を考慮してサブフレーム期間の長さを決定することを特徴とする。 In general, the length of the subframe period is set to be 2 0 : 2 1 : 2 2 : 2 3 :..., But in the present invention, the sharing rate is not limited to this. The length of the subframe period is determined in consideration of the above.

図16に、サブフレーム期間の構成を、一例として示す。図16(A)は、総階調数24の表示を行う際の、従来法による階調7のサブフレーム期間の構成と、階調8のサブフレーム期間の構成とを示している。図16(A)では4つのサブフレーム期間SF1〜SF4を用いており、さらにサブフレーム期間SF4は2つに分割している。各サブフレーム期間SF1〜SF4の長さの比は、SF1:SF2:SF3:SF4=1:2:4:8となっている。またBKで示される期間は、発光素子を強制的に非発光の状態とする期間(非表示期間)に相当するため、階調には寄与しない。 FIG. 16 shows an example of the configuration of the subframe period. FIG. 16 (A) shows the time for displaying the total gray scale level 2 4, the configuration of the sub-frame period of the gradation 7 according to the conventional method, the configuration of the sub-frame period of gradation 8. In FIG. 16A, four subframe periods SF 1 to SF 4 are used, and the subframe period SF 4 is further divided into two. The ratio of the lengths of the subframe periods SF 1 to SF 4 is SF 1 : SF 2 : SF 3 : SF 4 = 1: 2: 4: 8. Further, the period indicated by BK corresponds to a period (non-display period) in which the light emitting element is forced to be in a non-light emitting state, and thus does not contribute to gradation.

図16(A)において階調7を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間はSF1、SF2、SF3、非発光の状態にあるサブフレーム期間はSF4である。そして、階調8を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間はSF4、非発光の状態にあるサブフレーム期間はSF1、SF2、SF3である。従って、共に発光の状態にあるサブフレーム期間は存在しないので、共有率は0%である。このような図16(A)に示すサブフレーム期間の構成では、疑似輪郭が発生しやすいと言える。 In the case of displaying gradation 7 in FIG. 16A, the subframe periods in the light emitting state are SF 1 , SF 2 , SF 3 , and the subframe periods in the non-light emitting state are SF 4 . Then, when displaying a gradation 8, subframe periods in a state of light emission SF 4, subframe period in the non-emission state is SF 1, SF 2, SF 3 . Therefore, since there is no subframe period in which both are in a light emitting state, the sharing rate is 0%. In such a configuration of the subframe period shown in FIG. 16A, it can be said that a pseudo contour is likely to occur.

また図16(B)には、図16(A)とは異なり、共有率を考慮したサブフレーム期間の構成を示す。図16(B)は図16(A)と同様に、総階調数24の表示を行う際の階調7のサブフレーム期間の構成と、階調8のサブフレーム期間の構成とを示している。図16(B)では8つのサブフレーム期間SF1〜SF8を用いている。各サブフレーム期間SF1〜SF8の長さの比は、SF1:SF2:SF3:SF4:SF5:SF6:SF7:SF8=1:1:1:2:2:2:3:3となっている。なおBKで示される期間は非表示期間に相当するため、階調には寄与しない。 FIG. 16B shows a structure of a subframe period in consideration of the sharing rate, unlike FIG. 16A. Figure 16 (B), like the FIG. 16 (A), the shown configuration of the sub-frame period of the tone 7 in displaying the total gray scale level 2 4, the configuration of the sub-frame period of gradation 8 ing. In FIG. 16B, eight subframe periods SF 1 to SF 8 are used. The ratio of the lengths of the subframe periods SF 1 to SF 8 is as follows: SF 1 : SF 2 : SF 3 : SF 4 : SF 5 : SF 6 : SF 7 : SF 8 = 1: 1: 1: 2: 2: 2: 3: 3. Note that the period indicated by BK corresponds to a non-display period and thus does not contribute to gradation.

図16(B)において階調7を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間はSF3、SF7、SF8、非発光の状態にあるサブフレーム期間はSF1、SF2、SF4、SF5、SF6である。そして、図16(B)において階調8を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間はSF6、SF7、SF8、非発光の状態にあるサブフレーム期間はSF1、SF2、SF3、SF4、SF5である。従って、共通して発光の状態にあるサブフレーム期間はSF7、SF8であるので、共有率は(SF7+SF8)×100/(SF6+SF7+SF8)=75%である。よって、図16(B)に示すサブフレーム期間の構成は、図16(A)の場合よりも疑似輪郭が発生しにくいと言える。 When gradation 7 is displayed in FIG. 16B, SF 3 , SF 7 , SF 8 are in the subframe period in the light emission state, and SF 1 , SF 2 , SF 4 are in the subframe period in the non-light emission state. , SF 5 and SF 6 . 16B, when gradation 8 is displayed, SF 6 , SF 7 , SF 8 are in the sub-frame period in the light emission state, and SF 1 , SF 2 , in the sub-frame period in the non-light emission state. SF 3 , SF 4 , and SF 5 . Therefore, since the subframe periods in which light is emitted in common are SF 7 and SF 8 , the sharing rate is (SF 7 + SF 8 ) × 100 / (SF 6 + SF 7 + SF 8 ) = 75%. Therefore, it can be said that the configuration of the subframe period illustrated in FIG. 16B is less likely to generate a pseudo contour than the case of FIG.

さらに本発明のサブフレーム期間は、階調7や8といったある階調を表示するため、発光状態となるサブフレーム期間の組み合わせが複数ある。例えば図16(B)において、階調7を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間を、(SF1、SF7、SF8)、(SF2、SF7、SF8)、又は(SF1、SF4、SF5、SF6)等とすることができる。また階調8を表示する場合、発光の状態にあるサブフレーム期間を、(SF6、SF7、SF8)、(SF1、SF2、SF7、SF8)、又は(SF1、SF2、SF4、SF5、SF6)等とすることができる。それ故、各画素に異なるテーブルを設けることができる。どのようなサブフレーム期間の組み合わせとするかは、共有率を考慮して決定することができる。その結果、テーブルに応じて、擬似輪郭の発生しにくい階調を定めた表示装置を提供することができる。 Further, in the subframe period of the present invention, since a certain gradation such as gradations 7 and 8 is displayed, there are a plurality of combinations of subframe periods in which light emission occurs. For example, in FIG. 16B, when gradation 7 is displayed, subframe periods in a light emission state are (SF 1 , SF 7 , SF 8 ), (SF 2 , SF 7 , SF 8 ), or ( SF 1 , SF 4 , SF 5 , SF 6 ) and the like. In the case of displaying gradation 8, the subframe period in the light emission state is set to (SF 6 , SF 7 , SF 8 ), (SF 1 , SF 2 , SF 7 , SF 8 ), or (SF 1 , SF 8 ). 2 , SF 4 , SF 5 , SF 6 ) and the like. Therefore, a different table can be provided for each pixel. The combination of subframe periods can be determined in consideration of the sharing rate. As a result, it is possible to provide a display device in which gradations that do not easily generate pseudo contours are determined according to the table.

次に、共有率Rshと総階調数から、1フレーム期間が有する各サブフレーム期間の長さを定める方法について、具体的に説明する。 Next, a method for determining the length of each subframe period of one frame period from the sharing rate R sh and the total number of gradations will be specifically described.

まず共有率Rshを、駆動に用いるフレーム周波数から求める。擬似輪郭はフレーム周波数が高いほど発生しにくく、逆にフレーム周波数が低いほど発生しやすい。そのため、フレーム周波数を予め決めておけば、擬似輪郭の発生を抑制することができるであろう最低の共有率を、表示装置ごとに定めることができる。 First, the sharing rate R sh is obtained from the frame frequency used for driving. The false contour is less likely to be generated as the frame frequency is higher, and conversely, it is more likely to be generated as the frame frequency is lower. For this reason, if the frame frequency is determined in advance, the lowest sharing rate that will be able to suppress the occurrence of the pseudo contour can be determined for each display device.

図5に、フレーム周波数(Hz)と、擬似輪郭の発生を抑制することができるであろう最低の共有率(%)の関係を、一例として示す。 FIG. 5 shows an example of the relationship between the frame frequency (Hz) and the lowest sharing rate (%) that can suppress the occurrence of the pseudo contour.

図5に示すように、共有率が低いほど、擬似輪郭の発生を抑制するために、より高いフレーム周波数が必要となる。なお擬似輪郭が発生しているか否かの判断基準は、実施者が適宜決めることができるので、必ずしも図5と同じ数値の関係が導き出されるとは限らない。しかし、定められた一定の判断基準の下であれば、フレーム周波数が高いほど、擬似輪郭の発生を抑制できるという、フレーム周波数(Hz)と、擬似輪郭の発生を抑制することができるであろう最低の共有率(%)との関係を導き出すことができる。 As shown in FIG. 5, the lower the sharing rate, the higher the frame frequency is required to suppress the occurrence of pseudo contours. Note that since the practitioner can appropriately determine whether or not the pseudo contour is generated, the same numerical relationship as in FIG. 5 is not always derived. However, under a certain set criterion, the higher the frame frequency, the more the generation of pseudo contour can be suppressed, and the generation of the pseudo contour can be suppressed. The relationship with the lowest share (%) can be derived.

図5に示したグラフから、特定のフレーム周波数を用いた場合の、擬似輪郭の発生を抑制することができるであろう最低の共有率(%)を導き出したら、該共有率と同じかそれ以上の値を有する共有率Rshを決定することができる。共有率Rshを決定したら、次は共有率Rshから各サブフレーム期間の長さを決める。 From the graph shown in FIG. 5, when the lowest sharing rate (%) that can suppress the occurrence of pseudo contours when a specific frame frequency is used is derived, it is equal to or higher than the sharing rate. A sharing rate R sh having a value of can be determined. After determining the sharing rate R sh , next, the length of each subframe period is determined from the sharing rate R sh .

まず、1フレーム期間に含まれるn個のサブフレーム期間を、最も短いほうから順にSF1〜SFnとする。そして、SF1〜SFp(p<nとする)を全て発光させたときに、階調m(m<2n)の表示を行うことができると仮定する。この場合、階調mを表示する際に発光するサブフレーム期間SF1〜SFpの、合計の長さをTmとすると、Tmは以下の式1で表すことができる。 First, it is assumed that n subframe periods included in one frame period are SF 1 to SF n in order from the shortest. It is assumed that gradation m (m <2 n ) can be displayed when all of SF 1 to SF p (p <n) are emitted. In this case, the sub-frame periods SF 1 - SF p that emits light when displaying the gradation m, and the length of the total of the T m, T m can be expressed by Equation 1 below.

Figure 0005392965
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次に、階調(m+1)を表示する場合について考える。SF1〜SFpを全て発光させたときに、階調mの表示を行うことができるので、階調(m+1)を表示するためには、SFpよりも長いSFp+1を用いる必要がある。またそれと共に、SFp+1から1階調分の長さ(例えばSF1に相当する長さ)を差し引いた分に相当する、単数または複数のサブフレーム期間を、SF1〜SFpから除いて表示を行う必要がある。よって、階調(m+1)を表示する際に発光するサブフレーム期間の、合計の長さをTm+1とすると、Tm+1は以下の式2で表すことができる。 Next, consider the case of displaying gradation (m + 1). Since gradation m can be displayed when all of SF 1 to SF p are emitted, it is necessary to use SF p + 1 longer than SF p in order to display gradation (m + 1). is there. At the same time, one or a plurality of subframe periods corresponding to a value obtained by subtracting a length corresponding to one gradation (for example, a length corresponding to SF 1 ) from SF p + 1 is excluded from SF 1 to SF p. Need to be displayed. Therefore, if the total length of the subframe periods that emit light when displaying the gradation (m + 1) is T m + 1 , T m + 1 can be expressed by Equation 2 below.

Figure 0005392965
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ここで、Σ(SF1〜SFp+1)に対するSFp+1の割合を、サブフレーム率RSFとすると、RSFは以下の式3で表すことができる。 Here, if the ratio of SF p + 1 to Σ (SF 1 to SF p + 1 ) is the subframe rate R SF , R SF can be expressed by the following Equation 3.

Figure 0005392965
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式3から、以下の式4を導き出すことができる。 From Equation 3, the following Equation 4 can be derived.

Figure 0005392965
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また、階調mを表示する場合と、階調(m+1)を表示する場合とで、共に発光するサブフレーム期間の、合計の長さをWm/m+1とすると、Wm/m+1は以下の式5で表すことができる。 Further, if the total length of the sub-frame periods in which both the gray scale m is displayed and the gray scale (m + 1) is displayed is W m / m + 1 , W m / m + 1 can be represented by the following formula 5.

Figure 0005392965
Figure 0005392965

よって、式1、式4、式5から、以下の式6が導き出される。 Therefore, the following Expression 6 is derived from Expression 1, Expression 4, and Expression 5.

Figure 0005392965
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また、階調mを表示する場合と、階調(m+1)を表示する場合とで、共に発光するサブフレーム期間の共有率Rshは、以下の式7のように表される。 Further, the sharing rate R sh of the sub-frame period in which both the gradation m is displayed and the gradation (m + 1) is displayed is expressed by the following Expression 7.

Figure 0005392965
Figure 0005392965

よって、式2、式4、式6、式7から、以下の式8が導き出される。 Therefore, the following Expression 8 is derived from Expression 2, Expression 4, Expression 6, and Expression 7.

Figure 0005392965
Figure 0005392965

したがって、式8から、以下の式9を導き出すことができる。 Therefore, from Equation 8, the following Equation 9 can be derived.

Figure 0005392965
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よって式9に、共有率Rshの値を代入することで、サブフレーム率RSFの値を導き出すことができる。サブフレーム率RSFはΣ(SF1〜SFp+1)に対するSFp+1の割合である。上記サブフレーム率RSFを用いることで、最も長いサブフレーム期間SFnから順に、各サブフレーム期間の長さを決めることができる。 Therefore, the value of the subframe rate R SF can be derived by substituting the value of the sharing rate R sh into Equation 9. Subframe ratio R SF is the ratio of the SF p + 1 for Σ (SF 1 ~SF p + 1 ). By using the sub-frame rate R SF, in order from the longest sub-frame period SF n, it is possible to determine the length of each sub-frame period.

このように共有率を考慮して、サブフレーム期間の長さを決めると、上述したように、ある階調を表示するために発光するサブフレーム期間に、選択の幅がでてくる。すなわち、発光の状態となるサブフレームを定めたデータが記憶された複数のテーブル間で冗長性がでる。そのため、複数の画素に対してそれぞれ、複数のテーブルから選ばれたあるテーブルを設けることができるのである。 When the length of the subframe period is determined in consideration of the sharing rate in this way, as described above, a selection range appears in the subframe period in which light is emitted to display a certain gradation. That is, redundancy occurs between a plurality of tables in which data defining subframes in a light emission state is stored. Therefore, a certain table selected from a plurality of tables can be provided for each of the plurality of pixels.

このように少なくとも2以上の画素に対して、それぞれテーブルを設けることにより、擬似輪郭の発生しやすい階調を分散することで、擬似輪郭を目立たなくすることができる。 In this way, by providing a table for each of at least two or more pixels, the pseudo contour can be made inconspicuous by distributing gradations at which pseudo contour is likely to occur.

なお本実施の形態では、画素(A)(B)に対してそれぞれテーブルを設ける場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、4つのテーブルを設ける場合、それぞれのテーブルが設けられた画素を矩形状に配置してもよい。すなわち本発明は、少なくとも2以上の画素に対してそれぞれテーブルを設けることにより、従来の方法と比較して擬似輪郭を防止することができる。 Note that although cases have been described with the present embodiment where a table is provided for each of the pixels (A) and (B), the present invention is not limited to this. For example, when four tables are provided, the pixels provided with the respective tables may be arranged in a rectangular shape. That is, according to the present invention, by providing a table for each of at least two or more pixels, pseudo contours can be prevented as compared with the conventional method.

なお、上述した本発明の駆動方法を行う表示装置は、信号の入力に対して決められた信号を出力するテーブルは、一種のルックアップテーブルであり、ハードウェアとしてはROMやRAM等のメモリに記憶される。 Note that in the display device that performs the driving method of the present invention described above, a table that outputs a signal determined in response to signal input is a kind of lookup table, and the hardware is a memory such as a ROM or a RAM. Remembered.

本実施の形態に示した駆動方法において、サブフレーム期間を反転させてもよい。例えば、1フレーム期間内において、1組のサブフレーム期間をその端部において反転させる。その結果、さらに擬似輪郭、特に動画擬似輪郭を防止することができる。 In the driving method described in this embodiment, the subframe period may be inverted. For example, within one frame period, a set of subframe periods is inverted at the end. As a result, it is possible to further prevent pseudo contours, particularly moving image pseudo contours.

(実施の形態2)
本実施の形態では、サブフレーム期間の具体例を示す。
(Embodiment 2)
In this embodiment, a specific example of a subframe period is shown.

図6に、4ビットのビデオ信号を用いて総階調数24を表示する場合の発光の状態にあるサブフレーム期間の具体例を示す。図6では、横軸が階調、左縦軸が発光の状態にあるサブフレーム期間の合計の長さ(発光期間)に相当する。また同じく図6に、階調が1段階低い場合と比較した時の共有率Rsh(%)を、右縦軸に併せて示す。なお図6では、9つのサブフレーム期間SF1〜SF9を用いて表示を行っている例を示している。各サブフレーム期間SF1〜SF9の長さの比は、SF1から順に、1:1:1:1:1:2:2:3:3となっている。 Figure 6 shows a specific example of sub-frame periods in the state of light emission in displaying the total gray scale level is 2 4 using 4-bit video signal. In FIG. 6, the horizontal axis corresponds to the total length (light emission period) of the subframe periods in which the gray scale is on the left and the left vertical axis is in the light emission state. FIG. 6 also shows the sharing rate R sh (%) when compared with the case where the gradation is one step lower, along with the right vertical axis. FIG. 6 shows an example in which display is performed using nine subframe periods SF 1 to SF 9 . The ratio of the lengths of the subframe periods SF 1 to SF 9 is 1: 1: 1: 1: 1: 2: 2: 3: 3 in order from SF 1 .

このサブフレーム期間において、同一な長さを有する期間が存在する。そのため、ある階調を表示するために選択されるサブフレーム期間の組み合わせは複数あり、この組み合わせに応じて異なるテーブルを設定することができる。 In this subframe period, there are periods having the same length. Therefore, there are a plurality of combinations of subframe periods selected for displaying a certain gray scale, and different tables can be set according to the combinations.

このようなテーブルは、一種のルックアップテーブルである。そしてテーブルは、ハードウェアとしてはROMやRAM等のメモリに記録されている。 Such a table is a kind of lookup table. The table is recorded in a memory such as a ROM or a RAM as hardware.

図6では、階調4〜16を表示する際に、共有率Rsh(%)が65%以上に保たれるように、各サブフレーム期間の長さを定めている。なお、共有率Rshの定義上、階調0、1では、共有率Rsh(%)は満たされない。また図6では、比較的低い階調2において、共有率Rsh(%)が満たされていない。これは、低い階調では擬似輪郭が発生しにくいので、必ずしも共有率Rsh(%)を満たしておく必要はないからである。 In FIG. 6, the length of each subframe period is determined so that the sharing rate R sh (%) is maintained at 65% or more when the gradations 4 to 16 are displayed. Incidentally, the definition of the sharing ratio R sh, the gradation 0,1, sharing ratio R sh (%) is not satisfied. In FIG. 6, the sharing rate R sh (%) is not satisfied at the relatively low gradation 2. This is because it is not always necessary to satisfy the sharing rate R sh (%) because pseudo contours hardly occur at low gradations.

また図17に、6ビットのビデオ信号を用いて総階調数26を表示する場合の発光の状態にあるサブフレーム期間の具体例を示す。図17では、横軸が階調、左縦軸が発光の状態にあるサブフレーム期間の合計の長さ(発光期間)に相当する。発光期間の長さによって、表示される階調が決まる。また同じく図17に、階調が1段階低い場合と比較した時の共有率Rsh(%)を、右縦軸に併せて示す。なお図17では、12のサブフレーム期間SF1〜SF12を用いて表示を行っている例を示している。各サブフレーム期間SF1〜SF12の長さの比は、SF1から順に、1:2:3:3:4:4:5:6:7:8:9:11となっている。 FIG. 17 shows a specific example of a subframe period in a light emission state when the total number of gradations 26 is displayed using a 6-bit video signal. In FIG. 17, the horizontal axis corresponds to the total length of the subframe periods (light emission period) in which the gray scale is on the left and the left vertical axis is in the light emission state. The gradation to be displayed is determined by the length of the light emission period. Similarly, FIG. 17 also shows the sharing ratio R sh (%) when compared with the case where the gradation is one step lower on the right vertical axis. FIG. 17 shows an example in which display is performed using twelve subframe periods SF 1 to SF 12 . The ratio of the lengths of the subframe periods SF 1 to SF 12 is 1: 2: 3: 3: 4: 4: 5: 6: 7: 8: 9: 11 in order from SF 1 .

このサブフレーム期間において、同一な長さを有する期間が存在する。そのため、ある階調を表示するために選択されるサブフレーム期間の組み合わせは複数あり、この組み合わせに応じて異なるテーブルを設定することができる。 In this subframe period, there are periods having the same length. Therefore, there are a plurality of combinations of subframe periods selected for displaying a certain gray scale, and different tables can be set according to the combinations.

このようなテーブルは、一種のルックアップテーブルであり、ハードウェアとしてはROMやRAM等のメモリに記憶される。 Such a table is a kind of lookup table, and is stored in a memory such as a ROM or a RAM as hardware.

図17では、階調12〜63を表示する際に、共有率Rsh(%)が70%以上に保たれるように、各サブフレーム期間の長さを定めている。なお、共有率Rshの定義上、階調0、1では、共有率Rsh(%)は満たされない。また図17では、比較的低い階調2〜11において、共有率Rsh(%)が満たされていない。これは、低い階調では擬似輪郭が発生しにくいので、必ずしも共有率Rsh(%)を満たしておく必要はないからである。 In FIG. 17, when displaying gradations 12 to 63, the length of each subframe period is determined so that the sharing rate R sh (%) is maintained at 70% or more. Incidentally, the definition of the sharing ratio R sh, the gradation 0,1, sharing ratio R sh (%) is not satisfied. In FIG. 17, the sharing rate R sh (%) is not satisfied at the relatively low gradations 2 to 11. This is because it is not always necessary to satisfy the sharing rate R sh (%) because pseudo contours hardly occur at low gradations.

このように、共有率を考慮してサブフレーム期間を決定することにより、複数の異なるテーブルを設定することができる。この複数のテーブルを、各画素に適用することにより、擬似輪郭の防止を図ることができるのである。 Thus, a plurality of different tables can be set by determining the subframe period in consideration of the sharing rate. By applying the plurality of tables to each pixel, it is possible to prevent false contours.

(実施の形態3)
本実施の形態では、各画素に対応するテーブルを固定せずに、フレーム期間毎に変更する場合について説明する。
(Embodiment 3)
In the present embodiment, a case will be described in which the table corresponding to each pixel is changed for each frame period without being fixed.

例えば、Tフレーム目には図2(A)に示すように隣接している画素(A)(B)に対して、テーブルa、bをそれぞれ設ける。 For example, tables a and b are provided for the adjacent pixels (A) and (B) as shown in FIG.

そして、(T+1)フレーム目には図2(B)に示すように、画素(A)(B)の位置に対応して設けられていたテーブルa、bを反転するように設ける。このようにフレーム毎に、各画素位置に対応して設けられていたテーブルを変更することができる。このテーブルの内容や変更の情報は、ROMやRAMに記憶させておくことができる。 In the (T + 1) th frame, as shown in FIG. 2 (B), the tables a and b provided corresponding to the positions of the pixels (A) and (B) are provided so as to be reversed. Thus, the table provided corresponding to each pixel position can be changed for each frame. The contents of this table and information on changes can be stored in ROM or RAM.

以上のように、フレーム毎に各画素に対応したテーブルを変更する、つまり発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶されたテーブル入れ替えることにより、さらに擬似輪郭を防止することができる。 As described above, the pseudo contour can be further prevented by changing the table corresponding to each pixel for each frame, that is, by replacing the table storing the data defining the subframe period in which the light emission is performed.

なお本実施の形態では、画素(A)(B)に対してそれぞれテーブルを設ける場合について説明したが、本発明はこれに限定されない。例えば、4つのテーブルを設ける場合、それぞれのテーブルが設けられた画素を矩形状に配置してもよい。
すなわち本発明は、少なくとも2以上の画素に対してそれぞれテーブルを設けることにより、従来の方法と比較して擬似輪郭を防止することができる。
Note that although cases have been described with the present embodiment where a table is provided for each of the pixels (A) and (B), the present invention is not limited to this. For example, when four tables are provided, the pixels provided with the respective tables may be arranged in a rectangular shape.
That is, according to the present invention, by providing a table for each of at least two or more pixels, pseudo contours can be prevented as compared with the conventional method.

(実施の形態4)
本実施の形態では、表示装置の一つである発光装置の具体的な構成について説明する。図7(A)に、本発明の発光装置の構成を、ブロック図で一例として示す。図7に示す発光装置は、パネル104と、コントローラ102と、テーブル103とを有している。さらにパネル104は、各画素に発光素子を有する画素部100と、信号線駆動回路105と、走査線駆動回路106とを有している。
(Embodiment 4)
In this embodiment, a specific structure of a light-emitting device that is one of display devices is described. FIG. 7A illustrates a structure of the light-emitting device of the present invention as an example in a block diagram. The light emitting device illustrated in FIG. 7 includes a panel 104, a controller 102, and a table 103. Further, the panel 104 includes a pixel portion 100 having a light emitting element in each pixel, a signal line driver circuit 105, and a scanning line driver circuit 106.

テーブル103は、ハードウェアとしてはROMやRAM等のメモリに記憶され、またテーブルは、画素に応じて複数設けられている。またメモリには、各テーブルに対応した画素配置の情報等も記憶されている。そして該メモリには、サブフレーム率RSFに従って、1フレーム期間に含まれる複数のサブフレーム期間の数及び長さと、各階調において前記複数のサブフレーム期間のうち、発光の状態となるサブフレーム期間を定めるためのデータが記憶されている。そしてサブフレーム率RSFは、フレーム周波数により定められた共有率Rshに従い、算出されている。 The table 103 is stored in a memory such as a ROM or a RAM as hardware, and a plurality of tables are provided according to pixels. The memory also stores pixel arrangement information corresponding to each table. According to the subframe rate R SF , the memory stores the number and length of a plurality of subframe periods included in one frame period, and a subframe period in which light is emitted among the plurality of subframe periods in each gradation. The data for determining is stored. The subframe rate R SF is calculated according to the sharing rate R sh determined by the frame frequency.

コントローラ102は、テーブル103に記憶されているデータに従って、入力されたビデオ信号の階調に応じて、発光の状態となるサブフレーム期間を定め、それを出力することができる。またコントローラ102はフレームメモリを有しており、テーブル103に記憶されている複数の各サブフレーム期間の長さ、信号線駆動回路105または走査線駆動回路106の駆動周波数などに合わせて、クロック信号、スタートパルス信号などの、各種制御信号を生成することができる。 In accordance with the data stored in the table 103, the controller 102 can determine a sub-frame period in which light is emitted according to the gradation of the input video signal, and output it. In addition, the controller 102 includes a frame memory, and a clock signal in accordance with the length of each of a plurality of subframe periods stored in the table 103, the driving frequency of the signal line driver circuit 105 or the scanning line driver circuit 106, and the like. Various control signals such as a start pulse signal can be generated.

なお図7(A)では、ビデオ信号の変換と、制御信号の生成とを、共にコントローラ102で行う例について示したが、本発明はこの構成に限定されない。ビデオ信号の変換を行うコントローラと、制御信号を生成するコントローラとを、別個に発光装置に設けるようにしても良い。 Note that FIG. 7A illustrates an example in which the video signal conversion and the control signal generation are both performed by the controller 102; however, the present invention is not limited to this structure. A controller that converts video signals and a controller that generates control signals may be provided separately in the light emitting device.

図7(B)に、図7(A)に示したパネル104の、より具体的な構成の一例を示す。 FIG. 7B illustrates an example of a more specific structure of the panel 104 illustrated in FIG.

図7(B)において信号線駆動回路105は、シフトレジスタ110、ラッチA111、ラッチB112を有している。シフトレジスタ110には、クロック信号(CLK)、スタートパルス信号(SP)などの各種制御信号が入力されている。クロック信号(CLK)とスタートパルス信号(SP)が入力されると、シフトレジスタ110においてタイミング信号が生成される。生成したタイミング信号は、一段目のラッチA111に順に入力される。ラッチA111にタイミング信号が入力されると、該タイミング信号のパルスに同期して、コントローラ102から入力されたビデオ信号が、順にラッチA111に書き込まれ、保持される。なお、本実施の形態ではラッチA111に順にビデオ信号を書き込んでいるが、本発明はこの構成に限定されない。複数のステージのラッチA111をいくつかのグループに分け、グループごとに並行してビデオ信号を入力する、いわゆる分割駆動を行っても良い。なおこのときのグループの数を分割数と呼ぶ。例えば4つのステージごとにラッチをグループに分けた場合、4分割で分割駆動するといえる。 In FIG. 7B, the signal line driver circuit 105 includes a shift register 110, a latch A111, and a latch B112. Various control signals such as a clock signal (CLK) and a start pulse signal (SP) are input to the shift register 110. When the clock signal (CLK) and the start pulse signal (SP) are input, a timing signal is generated in the shift register 110. The generated timing signals are sequentially input to the first-stage latch A111. When the timing signal is input to the latch A111, the video signal input from the controller 102 is sequentially written and held in the latch A111 in synchronization with the pulse of the timing signal. Note that in this embodiment mode, video signals are sequentially written in the latch A111; however, the present invention is not limited to this structure. A plurality of stages of latches A111 may be divided into several groups, and so-called divided driving may be performed in which video signals are input in parallel for each group. Note that the number of groups at this time is called the number of divisions. For example, when the latches are divided into groups for every four stages, it can be said that the driving is divided into four.

ラッチA111の全ステージのラッチへの、ビデオ信号の書き込みが一通り終了するまでの期間を、行選択期間と呼ぶ。実際には、上記行選択期間に水平帰線期間が加えられた期間を行選択期間に含むことがある。 A period until video signal writing to the latches of all stages of the latch A111 is completed is called a row selection period. Actually, the row selection period may include a period in which a horizontal blanking period is added to the row selection period.

1行選択期間が終了すると、2段目のラッチB112に、制御信号の一つに相当するラッチ信号が供給され、該ラッチ信号に同期してラッチA111に保持されているビデオ信号が、ラッチB112に一斉に書き込まれる。ビデオ信号をラッチB112に送出し終えたラッチA111には、再びシフトレジスタ110からのタイミング信号に同期して、次のビットのビデオ信号の書き込みが順次行われる。この2順目の1行選択期間中には、ラッチB112に書き込まれ、保持されているビデオ信号が画素部100に入力される。 When the one row selection period ends, a latch signal corresponding to one of the control signals is supplied to the second-stage latch B112, and the video signal held in the latch A111 in synchronization with the latch signal is latched into the latch B112. Are written all at once. In the latch A111 that has finished sending the video signal to the latch B112, the video signal of the next bit is sequentially written in synchronization with the timing signal from the shift register 110 again. During this second row selection period, the video signal written and held in the latch B 112 is input to the pixel portion 100.

なお、シフトレジスタ110の代わりに、例えばデコーダのような信号線の選択ができる回路を用いても良い。 Instead of the shift register 110, a circuit capable of selecting a signal line such as a decoder may be used.

次に、走査線駆動回路106の構成について説明する。走査線駆動回路106は、シフトレジスタ113、バッファ114を有している。また、レベルシフタを有していても良い。走査線駆動回路106において、シフトレジスタ113にクロック信号(CLK)及びスタートパルス信号(SP)が入力されることによって、選択信号が生成される。生成された選択信号はバッファ114において増幅され、対応する走査線に供給される。走査線に供給される選択信号によって、1行分の画素に含まれているトランジスタの動作が制御されるので、バッファ114には、比較的大きな電流を走査線に供給することができるものを用いることが望ましい。 Next, the configuration of the scanning line driving circuit 106 will be described. The scan line driver circuit 106 includes a shift register 113 and a buffer 114. Moreover, you may have a level shifter. In the scan line driver circuit 106, when the clock signal (CLK) and the start pulse signal (SP) are input to the shift register 113, a selection signal is generated. The generated selection signal is amplified in the buffer 114 and supplied to the corresponding scanning line. Since the operation of the transistors included in the pixels for one row is controlled by the selection signal supplied to the scan line, a buffer 114 that can supply a relatively large current to the scan line is used. It is desirable.

なお、シフトレジスタ113の代わりに、例えばデコーダのような信号線の選択ができる回路を用いても良い。 Note that instead of the shift register 113, a circuit capable of selecting a signal line such as a decoder may be used.

本発明において、走査線駆動回路106、信号線駆動回路105は、パネル104と同じ基板上に形成していても、異なる基板上に形成していても、どちらでも良い。また走査線駆動回路106、又は信号線駆動回路105をICチップにより形成し、実装しても良い。また本発明の発光装置が有するパネルは、図7(A)、図7(B)に示す構成に限定されない。パネル104は、コントローラ102から入力されたビデオ信号に従って、画素の階調が制御されるような構成を有していれば良い。 In the present invention, the scanning line driver circuit 106 and the signal line driver circuit 105 may be formed on the same substrate as the panel 104 or may be formed on a different substrate. Alternatively, the scan line driver circuit 106 or the signal line driver circuit 105 may be formed using an IC chip and mounted. Further, the panel included in the light-emitting device of the present invention is not limited to the structure illustrated in FIGS. 7A and 7B. The panel 104 may have a configuration in which the gradation of the pixel is controlled in accordance with the video signal input from the controller 102.

このような発光装置に、複数のテーブルを用いることにより、擬似輪郭を防止することができる。 By using a plurality of tables in such a light emitting device, pseudo contour can be prevented.

またその他の表示装置においても、複数のテーブルが記憶されているメモリを用いることに入り、擬似輪郭を防止することができる。 In other display devices, a pseudo contour can be prevented by using a memory in which a plurality of tables are stored.

(実施の形態5)
次に、本発明の発光装置が有する画素の等価回路図について、図8を用いて説明する。
(Embodiment 5)
Next, an equivalent circuit diagram of a pixel included in the light-emitting device of the present invention will be described with reference to FIG.

図8(A)は、画素の等価回路図の一例を示したものであり、信号線6114、電源線6115、走査線6116、発光素子6113、トランジスタ6110、6111、容量素子6112を有する。信号線6114には信号線駆動回路によってビデオ信号が入力される。トランジスタ6110は、走査線6116に入力される選択信号に従って、トランジスタ6111のゲートへの、該ビデオ信号の電位の供給を制御することができる。トランジスタ6111は、該ビデオ信号の電位に従って、発光素子6113への電流の供給を制御することができる。容量素子6112は、トランジスタ6111のゲート・ソース間の電圧を保持することができる。なお、図8(A)では、容量素子6112を図示したが、トランジスタ6111のゲート容量や他の寄生容量で賄うことが可能な場合には、設けなくてもよい。 FIG. 8A illustrates an example of an equivalent circuit diagram of a pixel, which includes a signal line 6114, a power supply line 6115, a scanning line 6116, a light-emitting element 6113, transistors 6110 and 6111, and a capacitor 6112. A video signal is input to the signal line 6114 by a signal line driver circuit. The transistor 6110 can control supply of the potential of the video signal to the gate of the transistor 6111 in accordance with a selection signal input to the scan line 6116. The transistor 6111 can control supply of current to the light-emitting element 6113 in accordance with the potential of the video signal. The capacitor 6112 can hold the voltage between the gate and the source of the transistor 6111. Note that although the capacitor 6112 is illustrated in FIG. 8A, the capacitor 6112 is not necessarily provided when it can be covered by the gate capacitance of the transistor 6111 or other parasitic capacitance.

図8(B)は、図8(A)に示した画素に、トランジスタ6118と走査線6119を新たに設けた画素の等価回路図である。トランジスタ6118により、トランジスタ6111のゲートとソースを同電位とし、強制的に発光素子6113に電流が流れない状態を作ることができるため、全ての画素にビデオ信号が入力される期間よりも、サブフレーム期間の長さを短くすることができる。従って、駆動周波数を抑えつつ、高い総階調数の表示を行うことができる。 FIG. 8B is an equivalent circuit diagram of a pixel in which a transistor 6118 and a scan line 6119 are newly provided in the pixel shown in FIG. The transistor 6118 can set the gate and the source of the transistor 6111 to the same potential and can forcibly prevent a current from flowing to the light-emitting element 6113, so that a subframe can be obtained as compared with a period in which video signals are input to all pixels. The length of the period can be shortened. Accordingly, display with a high total number of gradations can be performed while suppressing the driving frequency.

図8(C)は、図8(B)に示した画素に、新たにトランジスタ6125と、配線6126を設けた画素の等価回路図である。トランジスタ6125は、そのゲートの電位が、配線6126によって固定されている。そして、トランジスタ6111とトランジスタ6125は、電源線6115と発光素子6113との間に直列に接続されている。よって図8(C)では、トランジスタ6125により発光素子6113に供給される電流の値が制御され、トランジスタ6111により発光素子6113への該電流の供給の有無が制御できる。 FIG. 8C is an equivalent circuit diagram of a pixel in which a transistor 6125 and a wiring 6126 are newly provided in the pixel illustrated in FIG. The potential of the gate of the transistor 6125 is fixed by the wiring 6126. The transistor 6111 and the transistor 6125 are connected in series between the power supply line 6115 and the light-emitting element 6113. Therefore, in FIG. 8C, the value of the current supplied to the light-emitting element 6113 is controlled by the transistor 6125, and the presence or absence of the current supplied to the light-emitting element 6113 can be controlled by the transistor 6111.

なお、本発明の発光装置が有する画素回路は、本実施の形態で示した構成に限定されず、時間階調表示を行う表示装置であれば、本発明を適用することができる。また本実施の形態は、上記の実施の形態と自由に組み合わせることができる。 Note that the pixel circuit included in the light-emitting device of the present invention is not limited to the structure described in this embodiment mode, and the present invention can be applied to any display device that performs time grayscale display. This embodiment can be freely combined with the above embodiment.

(実施の形態6)
本実施の形態では、図6に示した本発明の駆動方法を例に挙げ、各サブフレーム期間が出現するタイミングについて説明する。
(Embodiment 6)
In this embodiment, the driving method of the present invention shown in FIG. 6 is taken as an example, and the timing at which each subframe period appears will be described.

図9に、図6に示した本発明の駆動方法を用いて、4ビットの階調を表示する場合の、タイミングチャートを示す。図9では、1フレーム期間に出現するサブフレーム期間SF1〜SF9の長さを横軸に示しており、縦軸は走査線の選択順を示している。サブフレーム期間SF1〜SF9の長さの比は、SF1から順に、1:1:1:1:1:2:2:3:3となっている。そのため、例えば3階調を表示するとき、SF1〜SF3の合計、SF1〜SF4のいずれかと、SF6、SF7のいずれかの合計、SF8、又はSF9から選ばれたサブフレーム期間を発光状態とすることができる。それ故、テーブルに冗長性を持たせることができ、各画素に対して異なるテーブルを設けることができるのである。 FIG. 9 shows a timing chart in the case of displaying 4-bit gradation using the driving method of the present invention shown in FIG. In FIG. 9, the length of the subframe periods SF 1 to SF 9 appearing in one frame period is shown on the horizontal axis, and the vertical axis shows the selection order of the scanning lines. The ratio of the lengths of the subframe periods SF 1 to SF 9 is 1: 1: 1: 1: 1: 2: 2: 3: 3 in order from SF 1 . Therefore, when displaying, for example, three gradations, the sum of SF 1 - SF 3, and either SF 1 - SF 4, the sum of one of SF 6, SF 7, sub selected from SF 8, or SF 9 The frame period can be a light emission state. Therefore, the table can have redundancy, and a different table can be provided for each pixel.

各サブフレーム期間が開始されると、ビデオ信号の入力が、走査線を共有する画素一行ごとに行なわれる。ビデオ信号が画素に入力されると、該ビデオ信号が有する情報に従って、発光素子が発光の状態または非発光の状態となる。そして、次のサブフレーム期間が開始されるまで、各画素の発光素子は、該ビデオ信号に従って、発光の状態または非発光の状態を維持する。 When each subframe period starts, video signals are input for each row of pixels sharing a scan line. When a video signal is input to a pixel, the light-emitting element enters a light-emitting state or a non-light-emitting state in accordance with information included in the video signal. Then, until the next subframe period starts, the light emitting element of each pixel maintains a light emitting state or a non-light emitting state according to the video signal.

なお図9では、ビデオ信号が画素に入力されると同時に、該ビデオ信号が有する情報に従って、発光素子が発光の状態または非発光の状態となる場合のタイミングチャートを示しているが、本発明はこの構成に限定されない。全ての画素にビデオ信号が入力されるまで、発光素子を非発光の状態としておき、全ての画素にビデオ信号が入力された後で、該ビデオ信号が有する情報に従い、発光素子を発光の状態または非発光の状態としても良い。 Note that FIG. 9 illustrates a timing chart in the case where a light-emitting element is in a light-emitting state or a non-light-emitting state in accordance with information included in the video signal at the same time as the video signal is input to the pixel. It is not limited to this configuration. Until the video signal is input to all the pixels, the light emitting element is in a non-light emitting state. After the video signal is input to all the pixels, the light emitting element is turned on or off according to the information included in the video signal. It may be in a non-light emitting state.

また図9では、全てのサブフレーム期間が連続して出現する場合のタイミングチャートを示しているが、本発明はこの構成に限定されない。サブフレーム期間とサブフレーム期間の間に、発光素子を強制的に非発光の状態とする期間(非表示期間)を設けるようにしても良い。非表示期間は、図8(B)又は(C)に示した、トランジスタ6118を用いて、容量素子6112の電荷を放電させることにより、設けることができる。非表示期間は、非表示期間の直前に出現するサブフレーム期間において、全ての画素にビデオ信号が入力された後に出現させても良いし、全ての画素にビデオ信号が入力される前に出現させても良い。 Further, FIG. 9 shows a timing chart when all subframe periods appear continuously, but the present invention is not limited to this configuration. A period (non-display period) in which the light-emitting element is forcibly brought into a non-light-emitting state may be provided between the sub-frame period and the sub-frame period. The non-display period can be provided by discharging the charge of the capacitor 6112 using the transistor 6118 illustrated in FIG. 8B or 8C. The non-display period may appear after the video signal is input to all the pixels in the subframe period that appears immediately before the non-display period, or may appear before the video signal is input to all the pixels. May be.

(実施の形態7)
本実施の形態では、発光素子への電流の供給を制御するトランジスタがp型薄膜トランジスタ(TFT)の場合における、画素の断面構造について、図10を用いて説明する。なお本発明では、発光素子が有する陽極と陰極の2つの電極のうち、トランジスタによって電位を制御することができる一方の電極を第1の電極、他方の電極を第2の電極とする。そして図10では、第1の電極が陽極、第2の電極が陰極の場合について説明するが、第1の電極が陰極、第2の電極が陽極であってもよい。
(Embodiment 7)
In this embodiment, a cross-sectional structure of a pixel in the case where a transistor that controls supply of current to a light-emitting element is a p-type thin film transistor (TFT) will be described with reference to FIGS. Note that in the present invention, of the two electrodes of the anode and the cathode included in the light-emitting element, one electrode whose potential can be controlled by a transistor is a first electrode and the other electrode is a second electrode. 10 illustrates the case where the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode, the first electrode may be a cathode and the second electrode may be an anode.

図10(A)に、TFT6001がp型で、発光素子6003から発せられる光を第1の電極6004側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(A)では、発光素子6003の第1の電極6004と、TFT6001が電気的に接続されている。 FIG. 10A is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6001 is p-type and light emitted from the light-emitting element 6003 is extracted from the first electrode 6004 side. In FIG. 10A, the first electrode 6004 of the light-emitting element 6003 and the TFT 6001 are electrically connected.

TFT6001は層間絶縁膜6007で覆われており、層間絶縁膜6007上には開口部を有する隔壁6008が形成されている。隔壁6008の開口部において第1の電極6004が一部露出しており、該開口部において第1の電極6004、電界発光層6005、第2の電極6006が順に積層されている。 The TFT 6001 is covered with an interlayer insulating film 6007, and a partition wall 6008 having an opening is formed over the interlayer insulating film 6007. A part of the first electrode 6004 is exposed in the opening of the partition wall 6008, and the first electrode 6004, the electroluminescent layer 6005, and the second electrode 6006 are sequentially stacked in the opening.

層間絶縁膜6007は、有機樹脂膜、無機絶縁膜またはシロキサン系材料を出発材料として形成されたSi−O−Si結合を含む絶縁膜(以下、シロキサン系絶縁膜と呼ぶ)を用いて形成することができる。シロキサン系絶縁膜は、置換基に水素を有し、その他フッ素、アルキル基、または芳香族炭化水素のうち少なくとも1種を有することができる。層間絶縁膜6007に、低誘電率材料(low−k材料)と呼ばれる材料を用いていても良い。 The interlayer insulating film 6007 is formed using an organic resin film, an inorganic insulating film, or an insulating film including a Si—O—Si bond (hereinafter referred to as a siloxane-based insulating film) formed using a siloxane-based material as a starting material. Can do. The siloxane-based insulating film has hydrogen as a substituent and can have at least one of fluorine, an alkyl group, and aromatic hydrocarbon. A material called a low dielectric constant material (low-k material) may be used for the interlayer insulating film 6007.

隔壁6008は、有機樹脂膜、無機絶縁膜またはシロキサン系絶縁膜を用いて形成することができる。有機樹脂膜ならば、例えばアクリル、ポリイミド、ポリアミドなど、無機絶縁膜ならば酸化珪素、窒化酸化珪素などを用いることができる。特に感光性の有機樹脂膜を隔壁6008に用い、第1の電極6004上に開口部を形成し、その開口部の側壁が連続した曲率を持って形成される傾斜面となるように形成することで、第1の電極6004と第2の電極6006とが接続してしまうのを防ぐことができる。 The partition wall 6008 can be formed using an organic resin film, an inorganic insulating film, or a siloxane-based insulating film. For example, acrylic resin, polyimide, polyamide, or the like can be used for the organic resin film, and silicon oxide, silicon nitride oxide, or the like can be used for the inorganic insulating film. In particular, a photosensitive organic resin film is used for the partition wall 6008, an opening is formed on the first electrode 6004, and the side wall of the opening is formed to have an inclined surface formed with a continuous curvature. Thus, the connection between the first electrode 6004 and the second electrode 6006 can be prevented.

第1の電極6004は、光を透過する材料または膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を第1の電極6004に用いることが可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(以下、ITSOとも記す)、ITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを第1の電極6004に用いても良い。また上記透光性酸化物導電材料の他に、例えばTiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第1の電極6004に用いることもできる。ただし透光性酸化物導電材料以外の材料を用いる場合、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で第1の電極6004を形成する。 The first electrode 6004 is formed using a light-transmitting material or film thickness, and is formed using a material suitable for use as an anode. For example, another light-transmitting oxide conductive material such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide added with gallium (GZO) is used for the first electrode 6004. Is possible. For the first electrode 6004, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (hereinafter also referred to as ITSO), and ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) are used. May be. In addition to the light-transmitting oxide conductive material, for example, a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., titanium nitride and aluminum are used. The first electrode 6004 can be formed using a stack including a main component film, a three-layer structure including a titanium nitride film, an aluminum main component film, and a titanium nitride film. Note that in the case where a material other than the light-transmitting oxide conductive material is used, the first electrode 6004 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm).

また第2の電極6006は、光を反射もしくは遮蔽する材料及び膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(CaF2、Ca32)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。 The second electrode 6006 can be formed using a material and a film thickness that reflect or shield light, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to CaF 2 and Ca 3 N 2 , rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used.

電界発光層6005は、単数または複数の層で構成されている。複数の層で構成されている場合、これらの層は、キャリア輸送特性の観点から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層などに分類することができる。電界発光層6005が発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のいずれかを有している場合、第1の電極6004から正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、電子注入層の順に積層する。なお各層の境目は必ずしも明確である必要はなく、互いの層を構成している材料が一部混合し、界面が不明瞭になっている場合もある。各層には、有機系の材料、無機系の材料を用いることが可能である。有機系の材料として、高分子系、中分子系、低分子系のいずれの材料も用いることが可能である。なお中分子系の材料とは、構造単位の繰返しの数(重合度)が2から20程度の低重合体に相当する。正孔注入層と正孔輸送層との区別は必ずしも厳密なものではなく、これらは正孔輸送性(正孔移動度)が特に重要な特性である意味において同じである。便宜上正孔注入層は陽極に接する側の層であり、正孔注入層に接する層を正孔輸送層と呼んで区別する。電子輸送層、電子注入層についても同様であり、陰極に接する層を電子注入層と呼び、電子注入層に接する層を電子輸送層と呼んでいる。発光層は電子輸送層を兼ねる場合もあり、発光性電子輸送層とも呼ばれる。 The electroluminescent layer 6005 is composed of one or more layers. When composed of a plurality of layers, these layers can be classified into a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like from the viewpoint of carrier transport characteristics. In the case where the electroluminescent layer 6005 includes any of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer, the first electrode 6004 to the positive hole injection layer, A hole transport layer, a light emitting layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are laminated in this order. Note that the boundaries between the layers are not necessarily clear, and there are cases where the materials constituting the layers are partially mixed and the interface is unclear. For each layer, an organic material or an inorganic material can be used. As the organic material, any of a high molecular weight material, a medium molecular weight material, and a low molecular weight material can be used. The medium molecular weight material corresponds to a low polymer having a number of repeating structural units (degree of polymerization) of about 2 to 20. The distinction between a hole injection layer and a hole transport layer is not necessarily strict, and these are the same in the sense that hole transportability (hole mobility) is a particularly important characteristic. For convenience, the hole injection layer is a layer in contact with the anode, and the layer in contact with the hole injection layer is referred to as a hole transport layer to be distinguished. The same applies to the electron transport layer and the electron injection layer. The layer in contact with the cathode is called an electron injection layer, and the layer in contact with the electron injection layer is called an electron transport layer. The light emitting layer may also serve as an electron transport layer, and is also referred to as a light emitting electron transport layer.

図10(A)に示した画素の場合、発光素子6003から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6004側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 10A, light emitted from the light-emitting element 6003 can be extracted from the first electrode 6004 side as shown by a hollow arrow.

次に図10(B)に、TFT6011がp型で、発光素子6013から発せられる光を第2の電極6016側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(B)では、発光素子6013の第1の電極6014と、TFT6011が電気的に接続されている。また第1の電極6014上に電界発光層6015、第2の電極6016が順に積層されている。 Next, FIG. 10B is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6011 is a p-type and light emitted from the light-emitting element 6013 is extracted from the second electrode 6016 side. In FIG. 10B, the first electrode 6014 of the light-emitting element 6013 and the TFT 6011 are electrically connected. In addition, an electroluminescent layer 6015 and a second electrode 6016 are sequentially stacked over the first electrode 6014.

第1の電極6014は、光を反射もしくは遮蔽する材料及び膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、TiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第1の電極6014に用いることができる。 The first electrode 6014 is formed using a material and a film thickness that reflect or shield light, and is formed using a material that is suitable for use as an anode. For example, in addition to a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., a laminate of titanium nitride and a film containing aluminum as a main component, a titanium nitride film A three-layer structure of a film mainly containing aluminum and aluminum and a titanium nitride film can be used for the first electrode 6014.

また第2の電極6016は、光を透過する材料または膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(CaF2、Ca32)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。そして第2の電極6016を、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で形成する。なお、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を用いることも可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(ITSO)、ITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを用いても良い。透光性酸化物導電材料を用いる場合、電界発光層6015に電子注入層を設けるのが望ましい。 The second electrode 6016 can be formed using a light-transmitting material or film thickness, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to CaF 2 and Ca 3 N 2 , rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used. Then, the second electrode 6016 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm). Note that other light-transmitting oxide conductive materials such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), and zinc oxide to which gallium is added (GZO) can also be used. Alternatively, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO), or ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used. In the case of using a light-transmitting oxide conductive material, it is preferable to provide an electron injection layer in the electroluminescent layer 6015.

電界発光層6015は、図10(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。 The electroluminescent layer 6015 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG.

図10(B)に示した画素の場合、発光素子6013から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第2の電極6016側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 10B, light emitted from the light-emitting element 6013 can be extracted from the second electrode 6016 side as shown by a hollow arrow.

次に図10(C)に、TFT6021がp型で、発光素子6023から発せられる光を第1の電極6024側及び第2の電極6026側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図10(C)では、発光素子6023の第1の電極6024と、TFT6021が電気的に接続されている。また第1の電極6024上に電界発光層6025、第2の電極6026が順に積層されている。 Next, FIG. 10C is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6021 is p-type and light emitted from the light-emitting element 6023 is extracted from the first electrode 6024 side and the second electrode 6026 side. In FIG. 10C, the first electrode 6024 of the light-emitting element 6023 and the TFT 6021 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6025 and a second electrode 6026 are sequentially stacked over the first electrode 6024.

第1の電極6024は、図10(A)の第1の電極6004と同様に形成することができる。また第2の電極6026は、図10(B)の第2の電極6016と同様に形成することができる。電界発光層6025は、図10(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。 The first electrode 6024 can be formed in a manner similar to that of the first electrode 6004 in FIG. The second electrode 6026 can be formed in a manner similar to that of the second electrode 6016 in FIG. The electroluminescent layer 6025 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG.

図10(C)に示した画素の場合、発光素子6023から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6024側及び第2の電極6026側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 10C, light emitted from the light-emitting element 6023 can be extracted from the first electrode 6024 side and the second electrode 6026 side as indicated by white arrows.

本実施の形態は、上記の実施の形態、実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態8)
本実施の形態では、発光素子への電流の供給を制御するトランジスタがn型TFTの場合における、画素の断面構造について、図11を用いて説明する。なお図11では、第1の電極が陰極、第2の電極が陽極の場合について説明するが、第1の電極が陽極、第2の電極が陰極であっても良い。
(Embodiment 8)
In this embodiment, a cross-sectional structure of a pixel in the case where an n-type TFT is used as a transistor that controls supply of current to a light-emitting element will be described with reference to FIGS. Note that although FIG. 11 illustrates the case where the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode, the first electrode may be an anode and the second electrode may be a cathode.

図11(A)に、TFT6031がn型で、発光素子6033から発せられる光を第1の電極6034側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(A)では、発光素子6033の第1の電極6034と、TFT6031が電気的に接続されている。また第1の電極6034上に電界発光層6035、第2の電極6036が順に積層されている。 FIG. 11A is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6031 is n-type and light emitted from the light-emitting element 6033 is extracted from the first electrode 6034 side. In FIG. 11A, the first electrode 6034 of the light-emitting element 6033 and the TFT 6031 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6035 and a second electrode 6036 are sequentially stacked over the first electrode 6034.

第1の電極6034は、光を透過する材料または膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(CaF2、Ca32)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。そして第1の電極6034を、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で形成する。さらに、光が透過する程度の膜厚を有する上記導電層の上または下に接するように、透光性酸化物導電材料を用いて透光性を有する導電層を形成し、第1の電極6034のシート抵抗を抑えるようにしても良い。なお、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を用いた導電層だけを用いることも可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズITSO)、ITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを用いても良い。透光性酸化物導電材料を用いる場合、電界発光層6035に電子注入層を設けるのが望ましい。 The first electrode 6034 can be formed using a light-transmitting material or film thickness, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to CaF 2 and Ca 3 N 2 , rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used. Then, the first electrode 6034 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm). Further, a light-transmitting conductive layer is formed using a light-transmitting oxide conductive material so as to be in contact with or under the conductive layer having a thickness enough to transmit light, and the first electrode 6034 is formed. The sheet resistance may be suppressed. Note that only conductive layers using other light-transmitting oxide conductive materials such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), and zinc oxide to which gallium is added (GZO) should be used. Is also possible. Alternatively, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO), or ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used. In the case of using a light-transmitting oxide conductive material, it is preferable to provide an electron injection layer in the electroluminescent layer 6035.

また第2の電極6036は、光を反射もしくは遮蔽する材料及び膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、TiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第2の電極6036に用いることができる。 The second electrode 6036 is formed of a material and a film thickness that reflect or shield light, and is formed using a material that is suitable for use as an anode. For example, in addition to a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., a laminate of titanium nitride and a film containing aluminum as a main component, a titanium nitride film A three-layer structure of a film containing aluminum and aluminum as main components and a titanium nitride film can be used for the second electrode 6036.

電界発光層6035は、図10(A)の電界発光層6005と同様に形成することができる。ただし、電界発光層6035が発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子輸送層、電子注入層のいずれかを有している場合、第1の電極6034から、電子注入層、電子輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層の順に積層する。 The electroluminescent layer 6035 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6005 in FIG. However, in the case where the electroluminescent layer 6035 includes any one of a hole injection layer, a hole transport layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the light emitting layer, the first electrode 6034 to the electron injection layer The electron transport layer, the light emitting layer, the hole transport layer, and the hole injection layer are laminated in this order.

図11(A)に示した画素の場合、発光素子6033から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6034側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11A, light emitted from the light-emitting element 6033 can be extracted from the first electrode 6034 side as shown by a hollow arrow.

次に図11(B)に、TFT6041がn型で、発光素子6043から発せられる光を第2の電極6046側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(B)では、発光素子6043の第1の電極6044と、TFT6041が電気的に接続されている。また第1の電極6044上に電界発光層6045、第2の電極6046が順に積層されている。 Next, FIG. 11B is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6041 is an n-type and light emitted from the light-emitting element 6043 is extracted from the second electrode 6046 side. In FIG. 11B, the first electrode 6044 of the light-emitting element 6043 and the TFT 6041 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6045 and a second electrode 6046 are sequentially stacked over the first electrode 6044.

第1の電極6044は、光を反射もしくは遮蔽する材料及び膜厚で形成し、なおかつ仕事関数の小さい金属、合金、電気伝導性化合物、およびこれらの混合物などで形成することができる。具体的には、LiやCs等のアルカリ金属、およびMg、Ca、Sr等のアルカリ土類金属、これらを含む合金(Mg:Ag、Al:Li、Mg:Inなど)、およびこれらの化合物(CaF2、Ca32)の他、YbやEr等の希土類金属を用いることができる。また電子注入層を設ける場合、Alなどの他の導電層を用いることも可能である。 The first electrode 6044 can be formed using a material and a film thickness that reflect or shield light, and can be formed using a metal, an alloy, an electrically conductive compound, a mixture thereof, or the like with a low work function. Specifically, alkali metals such as Li and Cs, and alkaline earth metals such as Mg, Ca, and Sr, alloys containing these (Mg: Ag, Al: Li, Mg: In, etc.), and compounds thereof ( In addition to CaF 2 and Ca 3 N 2 , rare earth metals such as Yb and Er can be used. When an electron injection layer is provided, other conductive layers such as Al can be used.

また第2の電極6046は、光を透過する材料または膜厚で形成し、なおかつ陽極として用いるのに適する材料で形成する。例えば、酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化インジウム亜鉛(IZO)、ガリウムを添加した酸化亜鉛(GZO)などその他の透光性酸化物導電材料を第2の電極6046に用いることが可能である。またITO、酸化珪素を含む酸化亜鉛、酸化珪素を含む酸化インジウムスズ(ITSO)、ITSOにさらに2〜20%の酸化亜鉛(ZnO)を混合したものを第2の電極6046に用いても良い。また上記透光性酸化物導電材料の他に、例えばTiN、ZrN、Ti、W、Ni、Pt、Cr、Ag、Al等の1つまたは複数からなる単層膜の他、窒化チタンとアルミニウムを主成分とする膜との積層、窒化チタン膜とアルミニウムを主成分とする膜と窒化チタン膜との三層構造等を第2の電極6046に用いることもできる。ただし透光性酸化物導電材料以外の材料を用いる場合、光が透過する程度の膜厚(好ましくは、5nm〜30nm程度)で第2の電極6046を形成する。 The second electrode 6046 is formed using a light-transmitting material or film thickness, and is formed using a material suitable for use as an anode. For example, another light-transmitting oxide conductive material such as indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), indium zinc oxide (IZO), or zinc oxide added with gallium (GZO) is used for the second electrode 6046. Is possible. Alternatively, ITO, zinc oxide containing silicon oxide, indium tin oxide containing silicon oxide (ITSO), or ITSO mixed with 2 to 20% zinc oxide (ZnO) may be used for the second electrode 6046. In addition to the light-transmitting oxide conductive material, for example, a single layer film made of one or more of TiN, ZrN, Ti, W, Ni, Pt, Cr, Ag, Al, etc., titanium nitride and aluminum are used. The second electrode 6046 can be formed using a stack of a main component film, a three-layer structure including a titanium nitride film, an aluminum main component film, and a titanium nitride film. Note that in the case where a material other than the light-transmitting oxide conductive material is used, the second electrode 6046 is formed with a thickness enough to transmit light (preferably, about 5 nm to 30 nm).

電界発光層6045は、図11(A)の電界発光層6035と同様に形成することができる。 The electroluminescent layer 6045 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6035 in FIG.

図11(B)に示した画素の場合、発光素子6043から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第2の電極6046側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11B, light emitted from the light-emitting element 6043 can be extracted from the second electrode 6046 side as shown by a hollow arrow.

次に図11(C)に、TFT6051がn型で、発光素子6053から発せられる光を第1の電極6054側及び第2の電極6056側から取り出す場合の、画素の断面図を示す。図11(C)では、発光素子6053の第1の電極6054と、TFT6051が電気的に接続されている。また第1の電極6054上に電界発光層6055、第2の電極6056が順に積層されている。 Next, FIG. 11C is a cross-sectional view of a pixel in the case where the TFT 6051 is an n-type and light emitted from the light-emitting element 6053 is extracted from the first electrode 6054 side and the second electrode 6056 side. In FIG. 11C, the first electrode 6054 of the light-emitting element 6053 and the TFT 6051 are electrically connected. Further, an electroluminescent layer 6055 and a second electrode 6056 are stacked over the first electrode 6054 in this order.

第1の電極6054は、図11(A)の第1の電極6034と同様に形成することができる。また第2の電極6056は、図11(B)の第2の電極6046と同様に形成することができる。電界発光層6055は、図11(A)の電界発光層6035と同様に形成することができる。 The first electrode 6054 can be formed in a manner similar to that of the first electrode 6034 in FIG. The second electrode 6056 can be formed in a manner similar to that of the second electrode 6046 in FIG. The electroluminescent layer 6055 can be formed in a manner similar to that of the electroluminescent layer 6035 in FIG.

図11(C)に示した画素の場合、発光素子6053から発せられる光を、白抜きの矢印で示すように第1の電極6054側及び第2の電極6056側から取り出すことができる。 In the case of the pixel shown in FIG. 11C, light emitted from the light-emitting element 6053 can be extracted from the first electrode 6054 side and the second electrode 6056 side as indicated by white arrows.

本実施の形態は、上記の実施の形態、実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態9)
本実施の形態では、スクリーン印刷法、オフセット印刷法に代表される印刷法、または液滴吐出法を用いて発光装置を形成する場合について説明する。なお液滴吐出法とは、所定の組成物を含む液滴を細孔から吐出して所定のパターンを形成する方法を意味し、インクジェット法などがその範疇に含まれる。上記印刷法、液滴吐出法を用いることで、露光用のマスクを用いずとも、信号線、走査線、選択線に代表される各種配線、TFTのゲート、発光素子の電極などを形成することが可能になる。ただし、パターンを形成する全ての工程に、印刷法または液滴吐出法を用いる必要はない。よって、例えば配線及びゲートの形成には印刷法または液滴吐出法を用い、半導体膜のパターニングにはリソグラフィ法を用いる、というように、少なくとも一部の工程において印刷法または液滴吐出法を用いていれば良く、リソグラフィ法も併用していても良い。またパターニングの際に用いるマスクは、印刷法または液滴吐出法で形成しても良い。
(Embodiment 9)
In this embodiment, the case where a light-emitting device is formed using a printing method typified by a screen printing method, an offset printing method, or a droplet discharge method will be described. The droplet discharge method means a method of forming a predetermined pattern by discharging droplets containing a predetermined composition from the pores, and includes an ink jet method and the like in its category. By using the above printing method and droplet discharge method, various wirings typified by signal lines, scanning lines, selection lines, TFT gates, and light emitting element electrodes can be formed without using an exposure mask. Is possible. However, it is not necessary to use a printing method or a droplet discharge method for all the steps of forming a pattern. Therefore, for example, a printing method or a droplet discharge method is used in at least a part of the process, for example, a printing method or a droplet discharge method is used to form a wiring and a gate, and a lithography method is used to pattern a semiconductor film. As long as it is, a lithography method may be used in combination. A mask used for patterning may be formed by a printing method or a droplet discharge method.

図12に、液滴吐出法を用いて形成された、本発明の発光装置の断面図を、一例として示す。図12において、1301、1302はTFT、1304は発光素子に相当する。TFT1302は、発光素子1304の第1の電極1350と電気的に接続されている。TFT1302はn型であることが望ましく、この場合、第1の電極1350は陰極を用い、第2の電極1331は陽極を用いるのが望ましい。 FIG. 12 shows an example of a cross-sectional view of a light-emitting device of the present invention formed using a droplet discharge method. In FIG. 12, 1301 and 1302 correspond to TFTs, and 1304 corresponds to a light emitting element. The TFT 1302 is electrically connected to the first electrode 1350 of the light-emitting element 1304. The TFT 1302 is preferably n-type. In this case, the first electrode 1350 is preferably a cathode, and the second electrode 1331 is preferably an anode.

スイッチング素子として機能するTFT1301は、ゲート1310と、チャネル形成領域を含む第1の半導体膜1311と、ゲート1310と第1の半導体膜1311の間に形成されたゲート絶縁膜1317と、ソースまたはドレインとして機能する第2の半導体膜1312、1313と、第2の半導体膜1312に接続された配線1314と、第2の半導体膜1313に接続された配線1315とを有している。 The TFT 1301 functioning as a switching element includes a gate 1310, a first semiconductor film 1311 including a channel formation region, a gate insulating film 1317 formed between the gate 1310 and the first semiconductor film 1311, and a source or drain. The semiconductor device includes functional second semiconductor films 1312 and 1313, a wiring 1314 connected to the second semiconductor film 1312, and a wiring 1315 connected to the second semiconductor film 1313.

TFT1302は、ゲート1320と、チャネル形成領域を含む第1の半導体膜1321と、ゲート1320と第1の半導体膜1321との間に形成されたゲート絶縁膜1317と、ソースまたはドレインとして機能する第2の半導体膜1322、1323と、第2の半導体膜1322に接続された配線1324と、第2の半導体膜1323に接続された配線1325とを有している。 The TFT 1302 includes a gate 1320, a first semiconductor film 1321 including a channel formation region, a gate insulating film 1317 formed between the gate 1320 and the first semiconductor film 1321, and a second functioning as a source or a drain. The semiconductor films 1322 and 1323, the wiring 1324 connected to the second semiconductor film 1322, and the wiring 1325 connected to the second semiconductor film 1323 are included.

配線1314は信号線に相当し、配線1315はTFT1302のゲート1320に電気的に接続されている。また配線1325は電源線に相当する。 The wiring 1314 corresponds to a signal line, and the wiring 1315 is electrically connected to the gate 1320 of the TFT 1302. The wiring 1325 corresponds to a power supply line.

液滴吐出法、印刷法を用いてパターンを形成することで、リソグラフィ法で行なわれるフォトレジストの成膜、露光、現像、エッチング、剥離などの一連の工程を簡略化することができる。また、液滴吐出法、印刷法だと、リソグラフィ法と異なり、エッチングにより除去されてしまうような材料の無駄がない。また高価な露光用のマスクを用いなくとも良いので、発光装置の作製に費やされるコストを抑えることができる。 By forming a pattern using a droplet discharge method or a printing method, a series of steps such as photoresist film formation, exposure, development, etching, and peeling performed by a lithography method can be simplified. Further, unlike the lithography method, the droplet discharge method and the printing method do not waste material that is removed by etching. Further, it is not necessary to use an expensive exposure mask, so that the cost for manufacturing the light-emitting device can be suppressed.

さらに、リソグラフィ法とは異なり、配線を形成するためにエッチングを行う必要がない。よって、配線を形成する工程に費やされる時間をリソグラフィ法の場合に比べて著しく短くすることが可能である。特に、印刷法を用いて配線の厚さを0.5μm以上、より望ましくは2μm以上で形成する場合、配線抵抗を抑えることができるので、配線の作製工程に費やされる時間を抑えつつ、発光装置の大型化に伴う配線抵抗の上昇を抑えることができる。 Further, unlike the lithography method, it is not necessary to perform etching to form the wiring. Therefore, the time spent for the process of forming the wiring can be significantly shortened compared to the case of the lithography method. In particular, when the wiring thickness is 0.5 μm or more, more desirably 2 μm or more by using a printing method, the wiring resistance can be suppressed, so that the time required for the wiring manufacturing process can be suppressed, and the light emitting device The increase in wiring resistance due to the increase in size can be suppressed.

なお第1の半導体膜1311、1321は非晶質半導体であっても、セミアモルファス半導体(SAS)であってもどちらでも良い。 Note that the first semiconductor films 1311 and 1321 may be either an amorphous semiconductor or a semi-amorphous semiconductor (SAS).

非晶質半導体は、珪化物気体をグロー放電分解することにより得ることができる。代表的な珪化物気体としては、SiH4、Si26が挙げられる。この珪化物気体を、水素、水素とヘリウムで希釈して用いても良い。 An amorphous semiconductor can be obtained by glow discharge decomposition of a silicide gas. Typical silicide gases include SiH 4 and Si 2 H 6 . This silicide gas may be diluted with hydrogen, hydrogen and helium.

またSASも珪化物気体をグロー放電分解することにより得ることができる。代表的な珪化物気体としては、SiH4であり、その他にもSi26、SiH2Cl2、SiHCl3、SiCl4、SiF4などを用いることができる。また水素や、水素にヘリウム、アルゴン、クリプトン、ネオンから選ばれた一種または複数種の希ガス元素を加えたガスで、この珪化物気体を希釈して用いることで、SASの形成を容易なものとすることができる。希釈率は2倍〜1000倍の範囲で珪化物気体を希釈することが好ましい。またさらに、珪化物気体中に、CH4、C26などの炭化物気体、GeH4、GeF4などのゲルマニウム化気体、F2などを混入させて、エネルギーバンド幅を1.5〜2.4eV、若しくは0.9〜1.1eVに調節しても良い。SASを第1の半導体膜として用いたTFTは、1〜10cm2/Vsecや、それ以上の移動度を得ることができる。 SAS can also be obtained by glow discharge decomposition of silicide gas. A typical silicide gas is SiH 4 , and in addition, Si 2 H 6 , SiH 2 Cl 2 , SiHCl 3 , SiCl 4 , SiF 4 and the like can be used. In addition, it is easy to form a SAS by diluting and using this silicide gas with hydrogen or a gas obtained by adding one or more kinds of rare gas elements selected from helium, argon, krypton, and neon to hydrogen. It can be. It is preferable to dilute the silicide gas at a dilution rate in the range of 2 to 1000 times. Furthermore, a carbide gas such as CH 4 or C 2 H 6 , a germanium gas such as GeH 4 or GeF 4 , F 2 or the like is mixed in the silicide gas, so that the energy bandwidth is 1.5-2. You may adjust to 4 eV or 0.9-1.1 eV. A TFT using SAS as the first semiconductor film can obtain a mobility of 1 to 10 cm 2 / Vsec or more.

また第1の半導体膜1311、1321は、非晶質半導体またはセミアモルファス半導体(SAS)を結晶化した半導体を用いてもよい。例えば、レーザーや加熱炉を用いて、非晶質半導体又はSASを結晶化することができる。 Alternatively, the first semiconductor films 1311 and 1321 may be formed using a semiconductor obtained by crystallizing an amorphous semiconductor or a semi-amorphous semiconductor (SAS). For example, an amorphous semiconductor or SAS can be crystallized using a laser or a heating furnace.

本実施の形態は、上記の実施の形態、実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態10)
本実施の形態では、本発明の発光装置の一形態に相当するパネルの外観について、図13を用いて説明する。図13(A)は、第1の基板上に形成されたTFT及び発光素子を、第2の基板との間にシール材によって封止した、パネルの上面図であり、図13(B)は、図13(A)のA−A’における断面図に相当する。
(Embodiment 10)
In this embodiment, the appearance of a panel corresponding to one embodiment of the light-emitting device of the present invention will be described with reference to FIGS. FIG. 13A is a top view of a panel in which a TFT and a light-emitting element formed over a first substrate are sealed with a sealing material between the second substrate and FIG. 13B. FIG. 13A corresponds to a cross-sectional view taken along line AA ′ of FIG.

第1の基板4001上には画素部4002と、信号線駆動回路4003と、走査線駆動回路4004が設けられており、少なくとも画素部を囲むようにして、シール材4005が設けられている。また少なくとも画素部4002上には、シール材4005を介して、第2の基板4006が設けられている。図13に示す発光装置では、画素部4002と、信号線駆動回路4003と、走査線駆動回路4004とは、第1の基板4001とシール材4005と第2の基板4006とによって、充填材4007と共に密封されている。 A pixel portion 4002, a signal line driver circuit 4003, and a scan line driver circuit 4004 are provided over the first substrate 4001, and a sealant 4005 is provided so as to surround at least the pixel portion. A second substrate 4006 is provided over at least the pixel portion 4002 with a sealant 4005 interposed therebetween. In the light-emitting device illustrated in FIG. 13, the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, and the scan line driver circuit 4004 are combined with a filler 4007 by a first substrate 4001, a sealant 4005, and a second substrate 4006. Sealed.

また第1の基板4001上に設けられた画素部4002と、信号線駆動回路4003と、走査線駆動回路4004とは、TFTを複数有しており、図13(B)では、信号線駆動回路4003に含まれるTFT4008と、画素部4002に含まれるTFT4009とを例示している。 In addition, the pixel portion 4002, the signal line driver circuit 4003, and the scan line driver circuit 4004 provided over the first substrate 4001 each include a plurality of TFTs. In FIG. A TFT 4008 included in 4003 and a TFT 4009 included in the pixel portion 4002 are illustrated.

また4011は発光素子に相当し、TFT4009のドレインと接続されている配線4017の一部が、発光素子4011の第1の電極として機能する。
また透明導電膜4012が、発光素子4011の第2の電極として機能する。
なお発光素子4011の構成は、本実施の形態に示した構成に限定されない。上記実施の形態のように、発光素子4011から取り出す光の方向や、TFT4009の極性などに合わせて、発光素子4011の構成は適宜変えることができる。
Reference numeral 4011 corresponds to a light-emitting element, and a part of the wiring 4017 connected to the drain of the TFT 4009 functions as a first electrode of the light-emitting element 4011.
The transparent conductive film 4012 functions as the second electrode of the light-emitting element 4011.
Note that the structure of the light-emitting element 4011 is not limited to the structure described in this embodiment. As in the above embodiment mode, the structure of the light-emitting element 4011 can be changed as appropriate depending on the direction of light extracted from the light-emitting element 4011, the polarity of the TFT 4009, or the like.

また信号線駆動回路4003、走査線駆動回路4004または画素部4002に与えられる各種信号及び電圧は、図13(B)に示す断面図では図示されていないが、引き回し配線4014及び4015を介して、接続端子4016から供給されている。 Further, various signals and voltages supplied to the signal line driver circuit 4003, the scan line driver circuit 4004, or the pixel portion 4002 are not shown in the cross-sectional view of FIG. 13B, but are routed through lead wirings 4014 and 4015. It is supplied from the connection terminal 4016.

本実施の形態では、接続端子4016が、発光素子4011が有する第1の電極と同じ導電膜から形成されている。また、引き回し配線4014は、配線4017と同じ導電膜から形成されている。また引き回し配線4015は、TFT4009、TFT4008がそれぞれ有するゲートと、同じ導電膜から形成されている。 In this embodiment, the connection terminal 4016 is formed using the same conductive film as the first electrode included in the light-emitting element 4011. Further, the lead wiring 4014 is formed of the same conductive film as the wiring 4017. The lead wiring 4015 is formed of the same conductive film as the gates of the TFTs 4009 and 4008.

接続端子4016は、FPC4018が有する端子と、異方性導電膜4019を介して電気的に接続されている。 The connection terminal 4016 is electrically connected to a terminal included in the FPC 4018 through an anisotropic conductive film 4019.

なお、第1の基板4001、第2の基板4006としては、ガラス、金属(代表的にはステンレス)、セラミックス、プラスチックを用いることができる。プラスチックとしては、FRP(Fiberglass−Reinforced Plastics)板、PVF(ポリビニルフルオライド)フィルム、マイラーフィルム、ポリエステルフィルムまたはアクリル樹脂フィルムを用いることができる。また、アルミニウムホイルをPVFフィルムやマイラーフィルムで挟んだ構造のシートを用いることもできる。 Note that as the first substrate 4001 and the second substrate 4006, glass, metal (typically stainless steel), ceramics, or plastic can be used. As the plastic, an FRP (Fiberglass-Reinforced Plastics) plate, a PVF (polyvinyl fluoride) film, a mylar film, a polyester film, or an acrylic resin film can be used. A sheet having a structure in which an aluminum foil is sandwiched between PVF films or mylar films can also be used.

但し、発光素子4011からの光の取り出し方向に位置する基板は透光性を有していなければならない。その場合には、ガラス板、プラスチック板、ポリエステルフィルムまたはアクリルフィルムのような透光性を有する材料を用いる。 However, board located in the direction in which light is extracted from the light-emitting element 4011 should have a light-transmitting property. In that case, a light-transmitting material such as a glass plate, a plastic plate, a polyester film, or an acrylic film is used.

また、充填材4007としては窒素やアルゴンなどの不活性な気体の他に、紫外線硬化樹脂または熱硬化樹脂を用いることができ、PVC(ポリビニルクロライド)、アクリル、ポリイミド、エポキシ樹脂、シリコン樹脂、PVB(ポリビニルブチラル)またはEVA(エチレンビニルアセテート)を用いることができる。本実施の形態では充填材として窒素を用いた。 Further, as the filler 4007, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used in addition to an inert gas such as nitrogen or argon. PVC (polyvinyl chloride), acrylic, polyimide, epoxy resin, silicon resin, PVB (Polyvinyl butyral) or EVA (ethylene vinyl acetate) can be used. In this embodiment, nitrogen is used as the filler.

本実施の形態は、上記の実施の形態、実施の形態と自由に組み合わせることができる。 This embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施の形態11)
本発明の表示装置は、擬似輪郭の発生を抑えることができるので、携帯電話、携帯型ゲーム機または電子書籍、ビデオカメラ、デジタルスチルカメラ等の、携帯用の電子機器が有する表示部として用いるのに最適である。また本発明の表示装置は、擬似輪郭を防止することができるので、表示装置などの動画の再生を行うことができる、映像を観賞するための表示部を有する電子機器に最適である。
(Embodiment 11)
Since the display device of the present invention can suppress the occurrence of pseudo contours, it can be used as a display portion included in a portable electronic device such as a mobile phone, a portable game machine, an electronic book, a video camera, or a digital still camera. Ideal for. In addition, since the display device of the present invention can prevent false contours, the display device is optimal for an electronic apparatus having a display unit for viewing a video, which can reproduce a moving image.

その他、本発明の表示装置を用いることができる電子機器として、ビデオカメラ、デジタルカメラ、ゴーグル型ディスプレイ(ヘッドマウントディスプレイ)、ナビゲーションシステム、音響再生装置(カーオーディオ、オーディオコンポ等)、ノート型パーソナルコンピュータ、ゲーム機器、記録媒体を備えた画像再生装置(代表的にはDVD:Digital Versatile Disc等の記録媒体を再生し、その画像を表示しうるディスプレイを有する装置)などが挙げられる。本実施の形態では、これら電子機器の具体例を図14に示す。 Other electronic devices that can use the display device of the present invention include a video camera, a digital camera, a goggle type display (head mounted display), a navigation system, a sound reproduction device (car audio, audio component, etc.), and a notebook type personal computer. And an image reproducing apparatus (typically, an apparatus having a display that can reproduce a recording medium such as a DVD: Digital Versatile Disc and display the image). In this embodiment, specific examples of these electronic devices are illustrated in FIGS.

図14(A)は携帯電話であり、本体2101、表示部2102、音声入力部2103、音声出力部2104、操作キー2105を含む。本発明の表示装置を用いて表示部2102を作製することで、本発明の電子機器の一つである携帯電話を完成させることができる。 FIG. 14A illustrates a mobile phone, which includes a main body 2101, a display portion 2102, a voice input portion 2103, a voice output portion 2104, and operation keys 2105. By manufacturing the display portion 2102 using the display device of the present invention, a mobile phone which is one of the electronic devices of the present invention can be completed.

図14(B)はビデオカメラであり、本体2601、表示部2602、筐体2603、外部接続ポート2604、リモコン受信部2605、受像部2606、バッテリー2607、音声入力部2608、操作キー2609、接眼部2610等を含む。本発明の表示装置を用いて表示部2602を作製することで、本発明の電子機器の一つであるビデオカメラを完成させることができる。 FIG. 14B illustrates a video camera, which includes a main body 2601, a display portion 2602, a housing 2603, an external connection port 2604, a remote control receiving portion 2605, an image receiving portion 2606, a battery 2607, an audio input portion 2608, operation keys 2609, and an eyepiece. Part 2610 and the like. By manufacturing the display portion 2602 using the display device of the present invention, a video camera which is one of the electronic devices of the present invention can be completed.

図14(C)は表示装置であり、筐体2401、表示部2402、スピーカー部2403等を含む。本発明の表示装置を用いて表示部2402を作製することで、本発明の電子機器の一つである表示装置を完成させることができる。なお、表示装置には、パーソナルコンピュータ用、TV放送受信用、広告表示用などの全ての情報表示用表示装置が含まれる。 FIG. 14C illustrates a display device, which includes a housing 2401, a display portion 2402, a speaker portion 2403, and the like. By manufacturing the display portion 2402 using the display device of the present invention, a display device which is one of the electronic devices of the present invention can be completed. The display device includes all information display devices for personal computers, TV broadcast reception, advertisement display, and the like.

以上の様に、本発明の適用範囲は極めて広く、あらゆる分野の電子機器に用いることが可能である。また本実施の形態は、上記の実施の形態、実施の形態と自由に組み合わせることができる。 As described above, the applicable range of the present invention is so wide that it can be used for electronic devices in various fields. Further, this embodiment mode can be freely combined with the above embodiment modes.

(実施例1)
本実施例では、共有率に対する擬似輪郭発生の関係についての実験を説明する。
Example 1
In the present embodiment, an experiment on the relationship of pseudo contour generation to the sharing rate will be described.

本発明者は、共有率と、擬似輪郭の発生との関係について調べるために、以下の実験を行った。 The present inventor conducted the following experiment in order to investigate the relationship between the sharing rate and the occurrence of the pseudo contour.

まず1フレーム期間を2つのサブフレーム期間SF1、SF2に分割し、第1のフレーム期間と第2のフレーム期間とで、図3に示すようなパターンを表示した。具体的に、サブフレーム期間SF1では市松模様を表示し、サブフレーム期間SF2では全領域において白を表示した。なお隣接する第1のフレーム期間と第2のフレーム期間とでは、サブフレーム期間SF1において、白の領域と黒の領域とが互いに反転しているパターンを表示する。 First, one frame period is divided into two subframe periods SF 1 and SF 2 , and a pattern as shown in FIG. 3 is displayed in the first frame period and the second frame period. Specifically, to display a checkerboard pattern in the sub-frame periods SF 1, displaying white in the entire region in the sub-frame period SF 2. Note that in the adjacent first frame period and second frame period, a pattern in which the white area and the black area are inverted with each other in the subframe period SF 1 is displayed.

そして、2つのフレームを交互に出現させ、擬似輪郭の発生の有無を調べた。このとき1フレーム期間における、サブフレーム期間SF1の長さの割合をR1(%)としたとき、R1(%)に対する、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数F(Hz)の値は、図4に示すような関係になった。このときサブフレーム期間SF1は、図3に示すように、フレーム期間ごとに表示が異なっている。図4から分かるように、2つのフレームにおいて、異なる表示を行うサブフレーム期間の長さの割合R1(%)が低いほど、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数F(Hz)は低くなった。逆に、R1(%)が高いほど、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数F(Hz)は高くなった。 Then, two frames were made to appear alternately, and the presence or absence of a pseudo contour was examined. In this case one frame period, the length ratio of the subframe periods SF 1 when the R 1 (%), for R 1 (%), the lowest frame frequency F which generation of a pseudo contour is observed in (Hz) The values are as shown in FIG. Subframe periods SF 1 this time, as shown in FIG. 3, have different display for each frame period. As can be seen from FIG. 4, the lower the frame frequency F (Hz) at which the occurrence of the pseudo contour is recognized, the lower the ratio R 1 (%) of the length of the subframe period for performing different display in the two frames. became. Conversely, the higher the R 1 (%), the higher the lowest frame frequency F (Hz) at which the occurrence of a pseudo contour is recognized.

よって、隣接するフレーム期間ごとに、サブフレーム期間SF1が短いほど、擬似輪郭が発生しにくいといえる。一方、2つのフレーム期間ごとに、表示が同じであるサブフレーム期間SF2が長いほど、擬似輪郭が発生しにくいといえる。この状態は、2つのフレーム期間において、共通した発光の状態にあるサブフレーム期間SF2の長さの割合が高い、つまり共有率が高いといえる。 Thus, for each frame period the adjacent, more subframe periods SF 1 is short, it can be said that the false contour hardly occurs. On the other hand, it can be said that the pseudo contour is less likely to occur as the sub-frame period SF 2 having the same display is longer every two frame periods. In this state, it can be said that the ratio of the length of the subframe period SF 2 in the common light emission state is high in two frame periods, that is, the sharing rate is high.

以上の実験の結果から、隣接する2つのフレーム期間において、共有率が高いほど、擬似輪郭の発生が抑えられるということを見出した。なお、共有率(%)は、100−R1(%)に相当する。 From the results of the above experiment, it was found that the generation of pseudo contours can be suppressed as the sharing rate increases in two adjacent frame periods. The sharing rate (%) corresponds to 100-R 1 (%).

(実施例2)
上記本実施例では、SFnからSF1まで全て一定のサブフレーム率RSFを適用する例を示しているが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、総階調数2nの表示を行う場合でも、必ずしもサブフレーム期間がn個であるとは限らない。式9に従って算出された長さを、各サブフレーム期間に反映させると、サブフレーム期間の数がn個以上になる場合が多い。しかし、低い階調を表示するための短いサブフレーム期間は、必ずしも上述した共有率Rshの値を満たしていなくとも、さほど擬似輪郭の発生に関与しない。なぜならば低い階調の場合、階調の逆数×100(階調比)が、高い階調の場合と比較して大きいため、階調の差に起因する輪郭が視認され、逆に擬似輪郭が目立たなくなるからである。
(Example 2)
In the present embodiment, an example in which a constant subframe rate R SF is applied from SF n to SF 1 is shown, but the present invention is not limited to this configuration. For example, even when a display with a total number of gradations of 2 n is performed, the number of subframe periods is not necessarily n. When the length calculated according to Equation 9 is reflected in each subframe period, the number of subframe periods is often n or more. However, a short subframe period for displaying a low gradation does not necessarily contribute to the generation of a pseudo contour even if the value of the sharing rate R sh described above is not necessarily satisfied. This is because, in the case of a low gradation, the reciprocal of the gradation × 100 (gradation ratio) is larger than that in the case of a high gradation, so that the contour due to the difference in gradation is visually recognized, and conversely the pseudo contour is This is because it doesn't stand out.

これを説明するため、図15に、階調比(%)と、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数F(Hz)との関係を調べ、その結果を示す。図15において、横軸は階調比(%)を示しており、縦軸は、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数F(Hz)を示している。図15から、階調比(%)が高くなる、即ち階調が低くなるほど、より低いフレーム周波数においても擬似輪郭の発生を抑制できることが分かる。従って、低い階調を表示するための短いサブフレーム期間は、必ずしも上述した共有率を満たす必要はない。 In order to explain this, FIG. 15 shows the result of examining the relationship between the gradation ratio (%) and the lowest frame frequency F (Hz) at which the occurrence of the pseudo contour is recognized. In FIG. 15, the horizontal axis indicates the gradation ratio (%), and the vertical axis indicates the lowest frame frequency F (Hz) at which the occurrence of a pseudo contour is recognized. From FIG. 15, it can be seen that the higher the gradation ratio (%), that is, the lower the gradation, the more the generation of pseudo contour can be suppressed even at a lower frame frequency. Therefore, a short subframe period for displaying a low gradation does not necessarily satisfy the above-described sharing rate.

以上を踏まえると、擬似輪郭の発生に関与しない短いサブフレーム期間を、多く作るより、駆動回路の駆動周波数の低減に重点を置くとよい。そのため、短いサブフレーム期間を間引くようにして、その他のサブフレーム期間が共有率を満たすように設定すると良い。計算上、階調1に相当する期間の短いサブフレーム期間が複数存在する場合、それらの1つまたは幾つかは共有率の値を満たさずに、設定することができる。 In light of the above, it is better to focus on reducing the drive frequency of the drive circuit rather than creating many short subframe periods that are not involved in the generation of pseudo contours. For this reason, it is preferable to set the other subframe periods to satisfy the sharing rate by thinning out the short subframe periods. In calculation, when there are a plurality of subframe periods having a short period corresponding to gradation 1, one or several of them can be set without satisfying the sharing ratio value.

具体的には、総階調数を三等分し、該三等分された総階調数のうち最も低い側の階調において、共有率Rshの値は必ずしも満たしていなくとも良い。逆に、三等分された総階調数のうち、中間の階調と、最も高い側の階調において、共有率Rshの値を満たすようにする。例えば総階調数が26=64の場合、階調0〜63を三等分すると21となる。この場合、低い側の階調は0〜21、中間の階調は22〜42、最も高い側の階調は43〜63となる。なお、総階調数を三等分して割り切れない場合は、端数を切り上げても良いし、切り下げても良い。 Specifically, the total number of gradations is divided into three, and the value of the sharing rate R sh does not necessarily have to be satisfied in the lowest gradation among the three divided total gradation numbers. On the other hand, the value of the sharing rate R sh is satisfied in the intermediate gray level and the highest gray level among the total number of gray levels divided into three. For example, when the total number of gradations is 2 6 = 64, 21 is obtained by dividing the gradations 0 to 63 into three equal parts. In this case, the lower gradation is 0 to 21, the intermediate gradation is 22 to 42, and the highest gradation is 43 to 63. If the total number of tones is not evenly divided by three, the fraction may be rounded up or down.

(実施例3)
本実施例では、4つのテーブルを設ける場合の具体的なタイミングチャート及びそのテーブルについて説明する。
(Example 3)
In this embodiment, a specific timing chart in the case where four tables are provided and the tables will be described.

図18に示すように、複数の画素101を有する画素部100がある。この画素101から、ある画素(A)(B)(C)(D)を取り出す。画素(A)(B)(C)(D)のそれぞれの配置は、(m、n)(m、n+1)(m+1、n)(m+1、n+1)であるとする。なお、mは画素部における行方向の任意の画素数、nは画素部における列方向の任意の画素数に相当する。 As shown in FIG. 18, there is a pixel portion 100 having a plurality of pixels 101. From this pixel 101, certain pixels (A), (B), (C), and (D) are taken out. The arrangement of the pixels (A), (B), (C), and (D) is (m, n) (m, n + 1) (m + 1, n) (m + 1, n + 1). Note that m corresponds to an arbitrary number of pixels in the row direction in the pixel portion, and n corresponds to an arbitrary number of pixels in the column direction in the pixel portion.

この画素101のうち、矩形に隣接している画素(A)(B)(C)(D)を用いた場合のタイミングチャート及びテーブルについて説明する。 A timing chart and table in the case of using pixels (A), (B), (C), and (D) adjacent to the rectangle among the pixels 101 will be described.

図19には、タイミングチャートを示す。フレーム周波数は60Hzであり、図19(A)に示すように1秒間には、60フレーム存在することになる。このとき、1フレーム期間の長さは、およそ16.67msとなる。1つのフレーム期間には、16つのサブフレーム期間が設けられており、これらサブフレームは1フレーム期間においてランダムに現れる。本実施例では、SF2、SF4、SF6、SF8、SF10、SF12、SF14、SF16、SF15、SF13、SF11、SF9、SF7、SF5、SF3、SF1の順にサブフレーム期間が現れる。各サブフレーム期間の長さのそれぞれの比率は、SF1:SF2:SF3:SF4:SF5:SF6:SF7:SF8:SF9:SF10:SF11:SF12:SF13:SF14:SF15:SF16=1:2:4:8:10:10:10:12:12:14:17:21:25:30:36:43となっている。そして図19(B)に示すように、最初行から最終行の画素へ順に表示が行われる。図19(B)の最終行画素の表示の下方には、サブフレーム期間の長さの比率を示す。 FIG. 19 shows a timing chart. The frame frequency is 60 Hz, and there are 60 frames per second as shown in FIG. At this time, the length of one frame period is approximately 16.67 ms. In one frame period, 16 subframe periods are provided, and these subframes appear randomly in one frame period. In this embodiment, SF 2, SF 4, SF 6, SF 8, SF 1 0, SF 12, SF 14, SF 16, SF 15, SF 13, SF 11, SF 9, SF 7, SF 5, SF 3 , SF 1 appear in the order of SF 1 . The ratio of the length of each subframe period is as follows: SF 1 : SF 2 : SF 3 : SF 4 : SF 5 : SF 6 : SF 7 : SF 8 : SF 9 : SF 10 : SF 11 : SF 12 : SF 13: SF 14: SF 15: SF 16 = 1: 2: 4: 8: 10: 10: 10: 12: 12: 14: 17: 21: 25: 30: 36: and has a 43. Then, as shown in FIG. 19B, display is performed in order from the first row to the last row of pixels. Below the display of the last row pixel in FIG. 19B, the ratio of the length of the subframe period is shown.

また図19(C)には、消去用走査線駆動回路による走査のタイミングを示している。本実施例では、サブフレーム期間SF1〜SF15において、消去期間Se1〜Se15を設けている。 FIG. 19C shows scanning timing by the erasing scanning line driver circuit. In this embodiment, in the sub-frame periods SF 1 - SF 15, is provided an erasing period Se1~Se15.

図19(D)には、書き込み用の走査線駆動回路による走査のタイミングを示しており、各サブフレーム期間には、書き込み期間Ta1〜Ta16が設けられている。 FIG. 19D shows scanning timing by the scanning line driver circuit for writing, and writing periods Ta1 to Ta16 are provided in each subframe period.

図19(E)に示すように、1つの書き込み期間には、1列走査期間が設けられており、この間に全行(本実施例では324行)を選択する。 As shown in FIG. 19E, one writing period is provided with one column scanning period, and all rows (324 rows in this embodiment) are selected during this period.

また1フレーム期間には、逆方向電圧印加期間(DS期間)が設けられている。逆方向電圧を発光素子へ印加する結果、発光素子の劣化状態を改善し、信頼性を向上させることができる。また、発光素子は、異物の付着や、陽極又は陰極にある微細な突起によるピンホール、電界発光層の不均一性を起因として、陽極と陰極が短絡する初期不良が生じることがある。逆方向電圧を印加することにより、この初期不良を解消し、画像の表示を良好に行うことができる。なお、このような短絡部の絶縁化は、出荷前に行うとよい。 Further, in one frame period, a reverse voltage application period (DS period) is provided. As a result of applying the reverse voltage to the light emitting element, the deterioration state of the light emitting element can be improved and the reliability can be improved. In addition, the light emitting element may have an initial failure in which the anode and the cathode are short-circuited due to adhesion of foreign matters, pinholes due to fine protrusions on the anode or the cathode, and non-uniformity of the electroluminescent layer. By applying a reverse voltage, this initial failure can be eliminated and an image can be displayed satisfactorily. Such insulation of the short-circuit portion is preferably performed before shipment.

このようなサブフレーム期間では、SF5、SF6、及びSF7やSF8、及びSF9のように、ある階調を表示するために、発光させるサブフレーム期間に選択性がある。そのため、複数のテーブルを設けることができる。 In such a sub-frame period, there is selectivity in the sub-frame period for light emission in order to display a certain gradation like SF 5 , SF 6 , SF 7 , S F8 , and SF 9 . Therefore, a plurality of tables can be provided.

表1乃至4には、上記タイミングチャートの場合の具体的なテーブルの例を示す。なお表1乃至4に示すテーブルa乃至dにおいて、「0」を非発光状態、「1」を発光状態とする。 Tables 1 to 4 show examples of specific tables in the case of the timing chart. In Tables a to d shown in Tables 1 to 4, “0” is a non-light emitting state and “1” is a light emitting state.

Figure 0005392965
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上記テーブルa乃至dは、一種のルックアップテーブルであって、ハードウェア的にはROMやRAM等のメモリに記憶されている。もちろんテーブルのデータはテーブルa乃至dに限らず、消費電力や求める画質に応じて任意に設けることができる。 The tables a to d are a kind of look-up table, and are stored in a memory such as a ROM or a RAM in terms of hardware. Of course, the data of the table is not limited to the tables a to d, and can be arbitrarily provided according to the power consumption and the required image quality.

これらテーブルa乃至dにおいて、例えば191階調目をみると、各テーブルで発光状態となるサブフレーム期間が異なっていることがわかる。 In these tables a to d, for example, looking at the 191st gradation, it can be seen that the subframe periods in which the light emission state is different in each table.

このように、複数のテーブルを設け、これらに対応する隣接する画素の組み合わせを指定する。例えば、4つのテーブルがあるため、図18に示すような画素(A)〜(D)の組み合わせを指定することができる。すなわち、テーブルの数と、組み合わせを構成する画素の数とは同数とするとよい。言い換えると、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された複数のテーブルから選ばれたテーブルa乃至dを用意し、少なくとも2つの画素が隣接する画素(A)乃至(D)に対して、画素(A)に対してテーブルaを設け、画素(B)に対してテーブルbを設け、画素(C)に対してテーブルcを設け、画素(D)に対してテーブルdを設ける。 In this way, a plurality of tables are provided and a combination of adjacent pixels corresponding to these tables is designated. For example, since there are four tables, combinations of pixels (A) to (D) as shown in FIG. 18 can be designated. That is, the number of tables and the number of pixels constituting the combination are preferably the same. In other words, tables a to d selected from a plurality of tables storing data defining subframe periods in which light emission is performed are prepared, and at least two pixels are adjacent to adjacent pixels (A) to (D). On the other hand, a table a is provided for the pixel (A), a table b is provided for the pixel (B), a table c is provided for the pixel (C), and a table d is provided for the pixel (D). .

なお、画素の配置は図18に限定されるものではない。例えば、図18に示すように1組として区分けされた、4つの画素に対して、4つのテーブルを設ける場合、画素(A)〜(D)を縦一列、又は横一列に配置してもよい。但し、異なるテーブルを設ける、少なくとも2つの画素は、隣接している必要がある。 Note that the pixel arrangement is not limited to that shown in FIG. For example, when four tables are provided for four pixels divided as a set as shown in FIG. 18, the pixels (A) to (D) may be arranged in one vertical row or one horizontal row. . However, at least two pixels provided with different tables need to be adjacent to each other.

そのため、隣接する画素で、ある階調を表示するときに選択されているサブフレーム期間を異ならせることができる。その結果、擬似輪郭の発生しやすい階調を空間的に分散することができる。なお、擬似輪郭の発生しやすい階調とは、共有率が低く、且つ中間階調又は高階調である。 Therefore, it is possible to change the subframe period selected when displaying a certain gradation between adjacent pixels. As a result, it is possible to spatially disperse gradations where pseudo contours are likely to occur. Note that a gradation in which a pseudo contour is likely to occur is a low sharing ratio and an intermediate gradation or a high gradation.

なお本実施例ではフレーム周波数60Hzの場合16つのサブフレームに分けるタイミングチャートを説明したが、フレーム周波数を考慮することにより、サブフレーム数を変えることができる。 In this embodiment, the timing chart divided into 16 subframes when the frame frequency is 60 Hz has been described. However, the number of subframes can be changed by considering the frame frequency.

さらに上記実施例に示すように、各画素に対応するテーブルを固定せずに、フレーム毎に変更してもよい。すなわち、フレーム毎に、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶されたテーブルを入れ替えてもよい。 Further, as shown in the above embodiment, the table corresponding to each pixel may be changed for each frame without fixing. That is, for each frame, a table in which data defining subframe periods in which light emission is performed is stored may be replaced.

本発明の画素部及びテーブルを示した図であるIt is the figure which showed the pixel part and table of this invention 本発明の画素部及びテーブルを示した図であるIt is the figure which showed the pixel part and table of this invention 共有率と、擬似輪郭の発生との関係を調べるために行った実験において、表示に用いたパターンを示す図であるIt is a figure which shows the pattern used for the display in the experiment conducted in order to investigate the relationship between a share rate and generation | occurrence | production of a pseudo contour. 1フレーム期間におけるサブフレーム期間SF1の割合をR1(%)としたとき、R1(%)と、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数との関係を示すグラフであるIt is a graph showing the relationship between R1 (%) and the lowest frame frequency at which the occurrence of a pseudo contour is recognized, where the ratio of the subframe period SF1 in one frame period is R1 (%). フレーム周波数と、擬似輪郭の発生を抑制できる最低の共有率との関係を示すグラフであるIt is a graph which shows the relationship between a frame frequency and the lowest share rate which can suppress generation | occurrence | production of a pseudo contour. 発光の状態にあるサブフレーム期間と階調との関係と、階調が1段階低い場合と比較したときの、共有率を示すグラフであるIt is a graph which shows the sharing rate when comparing the relationship between the sub-frame period in the light emission state and the gradation, and the case where the gradation is one step lower. 本発明の発光装置の構成を示したブロック図であるIt is the block diagram which showed the structure of the light-emitting device of this invention 本発明の発光装置が有する画素の一例を示した図であるIt is the figure which showed an example of the pixel which the light-emitting device of this invention has 本発明の駆動方法において、4ビットの階調を表示する場合のタイミングチャートである4 is a timing chart when displaying 4-bit gradation in the driving method of the present invention. 本発明の発光装置が有する画素を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the pixel which the light-emitting device of this invention has 本発明の発光装置が有する画素を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the pixel which the light-emitting device of this invention has 本発明の発光装置が有する画素を示した断面図であるIt is sectional drawing which showed the pixel which the light-emitting device of this invention has 本発明の発光装置を示した上面図及び断面図であるIt is the top view and sectional view showing the light emitting device of the present invention. 本発明の電子機器を示す図であるIt is a figure which shows the electronic device of this invention 階調比と、擬似輪郭の発生が認められる最低のフレーム周波数との関係を示すグラフであるIt is a graph which shows the relationship between a gradation ratio and the minimum frame frequency where generation | occurrence | production of a pseudo contour is recognized. 従来のサブフレーム期間と、本発明のサブフレーム期間とを示した図であるIt is the figure which showed the conventional sub-frame period and the sub-frame period of this invention 発光の状態にあるサブフレーム期間と階調の関係と、階調が1段階低い場合とを比較したときの、共有率を示すグラフであるIt is a graph which shows a share rate when the relationship between the sub-frame period in the light emission state and the gradation is compared with the case where the gradation is one step lower. 本発明の画素部及びテーブルを示した図であるIt is the figure which showed the pixel part and table of this invention 本発明のタイミングチャートを示した図であるIt is the figure which showed the timing chart of this invention

Claims (2)

1つのフレーム期間は複数のサブフレーム期間を有し、
前記複数のサブフレーム期間のうち、発光の状態となるサブフレーム期間を定めたデータが記憶された第1のテーブル乃至第4のテーブルを有し、
前記データに従ってビデオ信号を出力するコントローラを有し、
前記出力されたビデオ信号に従って、画素の階調が制御される画素部を有し、
前記第1のテーブルは、前記画素部のうち、(m,n)の画素に対応した前記複数のサブフレーム期間が記憶され、
前記第2のテーブルは、前記画素部のうち、(m,n+1)の画素に対応した前記複数のサブフレーム期間が記憶され、
前記第3のテーブルは、前記画素部のうち、(m+1,n)の画素に対応した前記複数のサブフレーム期間が記憶され、
前記第4のテーブルは、前記画素部のうち、(m+1,n+1)の画素に対応した前記複数のサブフレーム期間が記憶され、
前記第1のテーブル乃至第4のテーブルにおいて、少なくとも中間階調及び高階調を表示するために、組み合わせられた前記発光の状態となるサブフレーム期間の数と長さは、異なり、
前記複数のサブフレーム期間の数と長さは、前記各テーブルにおいて、中間階調及び高階調における階調が1段階異なっている2つのサブフレーム期間において、共通して発光の状態にあるサブフレーム期間の割合が、擬似輪郭が発生しない程度以上の割合となるように、決定されていることを特徴とする表示装置。
One frame period has a plurality of subframe periods,
A first table to a fourth table in which data defining a subframe period in which light is emitted among the plurality of subframe periods are stored;
A controller that outputs a video signal according to the data;
In accordance with the output video signal, the pixel portion is controlled in gradation,
The first table stores the plurality of subframe periods corresponding to (m, n) pixels in the pixel portion,
The second table stores the plurality of subframe periods corresponding to (m, n + 1) pixels in the pixel portion,
The third table stores the plurality of subframe periods corresponding to (m + 1, n) pixels in the pixel portion,
The fourth table stores the plurality of subframe periods corresponding to (m + 1, n + 1) pixels in the pixel portion,
In the first table to the fourth table, the number and length of subframe periods in which the combined light emission states are set to display at least intermediate gradation and high gradation are different,
The number and length of the plurality of sub-frame periods are the same as the sub-frames that are in the light emission state in two sub-frame periods in which the gradations in the intermediate gradation and the high gradation differ by one step in each table. A display device characterized in that the ratio of the period is determined so as to be a ratio that does not generate a pseudo contour .
請求項1において、
前記第1のテーブル乃至第4のテーブルが記憶されたメモリを有することを特徴とする表示装置。
In claim 1,
A display device comprising a memory in which the first to fourth tables are stored.
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