JP5266176B2 - Planographic printing plate precursor - Google Patents

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JP5266176B2 JP2009220406A JP2009220406A JP5266176B2 JP 5266176 B2 JP5266176 B2 JP 5266176B2 JP 2009220406 A JP2009220406 A JP 2009220406A JP 2009220406 A JP2009220406 A JP 2009220406A JP 5266176 B2 JP5266176 B2 JP 5266176B2
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an original lithographic printing plate which is excellent in resistance to plate wear/print smear and resistance to micro-corrosion stain and can develop an image aboard the machine. <P>SOLUTION: The original lithographic printing plate has an image recording layer comprising a sensitizing dye (A), a polymerization initiator (B), a polymerizable compound (C) and a polymer (D), on a support, wherein the image recording layer of an unexposed part is removed by a printing ink and/or moistening water. Therein, the support is made by using an aluminum alloy plate wherein the density, on the surface, of an inter-metallic compound having a circle-equivalent diameter of 0.2 &mu;m or more is 35,000 pieces/mm<SP>2</SP>or more. <P>COPYRIGHT: (C)2011,JPO&amp;INPIT

Description

本発明は、平版印刷版原版に関する。詳しくは、機上現像が可能な平版印刷版原版に関する。   The present invention relates to a lithographic printing plate precursor. Specifically, the present invention relates to a lithographic printing plate precursor capable of on-press development.

近年進展が目覚ましいコンピュータ・ツウ・プレート(CTP)システムについては、多数の研究がなされている。中でも、一層の工程合理化と廃液処理問題の解決を目指すものとして、露光後、現像処理することなしにそのまま印刷機に装着して印刷できる平版印刷版原版が研究され、種々の方法が提案されている。   Numerous studies have been conducted on computer-to-plate (CTP) systems that have made remarkable progress in recent years. Among them, as an aim to further streamline the process and solve the waste liquid treatment problem, lithographic printing plate precursors that can be mounted on a printing machine and printed without being developed after exposure have been studied, and various methods have been proposed. Yes.

処理工程をなくす方法の一つに、露光済みの平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着し、版胴を回転しながら湿し水とインキを供給することによって、平版印刷版原版の非画像部を除去する機上現像と呼ばれる方法がある。即ち、平版印刷版原版を露光後、そのまま印刷機に装着し、通常の印刷過程の中で現像処理が完了する方式である。このような機上現像に適した平版印刷版原版は、湿し水やインキ溶剤に可溶な画像記録層を有し、しかも、明室に置かれた印刷機上で現像されるのに明室取り扱い性を有することが必要とされる。   One method of eliminating the processing step is to mount the exposed lithographic printing plate precursor on the plate cylinder of the printing press, and supply dampening water and ink while rotating the plate cylinder to remove the lithographic printing plate precursor. There is a method called on-machine development that removes the image area. That is, the lithographic printing plate precursor is exposed to light and mounted on a printing machine as it is, and development processing is completed in a normal printing process. A lithographic printing plate precursor suitable for on-press development has an image recording layer that is soluble in fountain solution or an ink solvent, and is bright when developed on a press in a bright room. It is required to have room handling properties.

例えば、特許文献1には、親水性バインダーポリマー中に熱可塑性疎水性重合体の微粒子を分散させた画像記録層を親水性支持体上に設けた平版印刷版原版が記載されている。この特許文献1には、平版印刷版原版をレーザー露光し、画像記録層中の熱可塑性疎水性重合体粒子を熱により合体させて画像形成した後、印刷機の版胴上に版を取付け、湿し水および/またはインキにより未露光部を除去する(機上現像)できることが記載されている。この平版印刷版原版は感光域が赤外線域であることにより、明室取り扱い適性も有している。   For example, Patent Document 1 describes a lithographic printing plate precursor in which an image recording layer in which fine particles of a thermoplastic hydrophobic polymer are dispersed in a hydrophilic binder polymer is provided on a hydrophilic support. In this Patent Document 1, a lithographic printing plate precursor is subjected to laser exposure, and the thermoplastic hydrophobic polymer particles in the image recording layer are coalesced by heat to form an image, and then the plate is mounted on a plate cylinder of a printing press, It is described that an unexposed portion can be removed (on-press development) with fountain solution and / or ink. This lithographic printing plate precursor also has suitability for handling a bright room because the photosensitive region is an infrared region.

また、特許文献2には、熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性基を有するポリマー微粒子および熱反応性基を有する化合物を内包するマイクロカプセルのうち少なくとも何れかを含有する画像記録層を有する平版印刷版原版が、機上現像性が良好であり、高感度かつ高耐印刷性を有することが記載されている。   Patent Document 2 discloses a lithographic printing plate having an image recording layer containing at least one of thermoplastic polymer fine particles, polymer fine particles having a thermoreactive group, and microcapsules encapsulating a compound having a thermoreactive group. It is described that the original plate has good on-press developability, high sensitivity and high printing resistance.

しかしながら、特許文献1および2に記載の平版印刷版原版は、長期間保存した場合に、非画像部表面の一部にインキが付着しやすい箇所が発生し、印刷された紙等に表れる点状または円環状の汚れ(以下、「微小腐食汚れ」ともいう。)が生じることがあった。   However, the lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 and 2 have spots where ink tends to adhere to a part of the surface of the non-image area when stored for a long period of time, and appear on printed paper or the like. Or annular dirt (hereinafter also referred to as “micro-corrosive dirt”) may occur.

また、特許文献3〜5では、支持体の金属間化合物に着目した平版印刷版原版の支持体が記載されており、いずれも金属間化合物が35000個/mm2以下の支持体に関する発明である。 Patent Documents 3 to 5 describe lithographic printing plate precursor supports focusing on the intermetallic compound of the support, and all are inventions relating to a support having 35000 intermetallic compounds / mm 2 or less. .

特許第2938397号公報Japanese Patent No. 2938397 特開2001−293971号公報JP 2001-293971 A 特開2002−160466号公報JP 2002-160466 A 特許第3788943号公報Japanese Patent No. 3788943 特開2002−88434号公報JP 2002-88434 A

本発明者は、この微小腐食汚れが発生する原因について検討したところ、まず、特許文献1および2等に記載のいわゆる機上現像型の平版印刷版原版は、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層を設けているため、画像記録層中に多くの親水性成分が存在しており、その結果、外気等の影響により画像記録層中に水分を包含しやすいものとなっていることに着目した。そして、特許文献1および2等に記載のいわゆる機上現像型の平版印刷版原版は、外気等の影響により画像記録層中に包含する水分や、その水分によりアニオン化した親水性成分(以下、単に「アニオン」という。)の存在により、アルミニウム合金板の腐食が生じ、それにより微小腐食汚れが生じていることを明らかとした。   The present inventor examined the cause of the occurrence of the micro-corrosion stains. First, the so-called on-press development type lithographic printing plate precursor described in Patent Documents 1 and 2 and the like is obtained using printing ink and / or fountain solution. Since a removable image recording layer is provided, there are many hydrophilic components in the image recording layer. As a result, the image recording layer easily contains moisture due to the influence of outside air or the like. Focused on being. And so-called on-press development type lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 and 2, etc., include moisture contained in the image recording layer due to the influence of outside air, etc., and hydrophilic components anionized by the moisture (hereinafter, It was clarified that the presence of the “anion”) caused corrosion of the aluminum alloy plate, thereby causing minute corrosion stains.

一方、アルミニウム合金板の金属間化合物について、例えば、特開2005−330588号公報、特開2005−232596号公報、特開平11−151870号公報等には、平版印刷版用アルミニウム合金板に含まれる金属間化合物に関する内容が記載されている。
具体的には、Al−Fe系金属間化合物は、Al−Fe−Si系金属間化合物よりも電解粗面化の際のピットの起点となりやすいことや、Al−Fe系金属間化合物の中でも、準安定相のAl−Fe系金属間化合物がピットの起点となりやすいことが記載されている。また、特開2005−330588号公報には、Fe/Alの割合が0.6以下の準安定相粒子の数が、全金属間化合物粒子数に対して0.35以上であると均一な砂目が形成すると記載されている。更に、特開2005−232596号公報には、AlFe系晶析出物が平均で0.5〜2.0%含まれるアルミニウム合金板が記載されている。また、特開平11−151870号公報には、Al−Fe系金属間化合物粒子数/Al−Fe−Si系金属間化合物粒子数の比が0.7以上であることを特徴としている。
しかしながら、これらの特許文献には、画像記録層によるアルミニウム基板の腐食を抑制するための金属間化合物に関する記述はなされていない。
On the other hand, regarding the intermetallic compound of the aluminum alloy plate, for example, JP 2005-330588 A, JP 2005-232596 A, JP 11-151870 A and the like are included in an aluminum alloy plate for a lithographic printing plate. Contents related to intermetallic compounds are described.
Specifically, the Al-Fe intermetallic compound is likely to be a starting point of pits during electrolytic surface roughening than the Al-Fe-Si intermetallic compound, and among the Al-Fe intermetallic compounds, It is described that a metastable phase Al—Fe-based intermetallic compound tends to be a starting point of pits. JP-A-2005-330588 discloses that the number of metastable phase particles having a Fe / Al ratio of 0.6 or less is 0.35 or more with respect to the total number of intermetallic compound particles. It is described that eyes form. Furthermore, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-232596 describes an aluminum alloy plate containing 0.5 to 2.0% of an average AlFe-based crystal precipitate. Japanese Patent Laid-Open No. 11-151870 is characterized in that the ratio of the number of Al—Fe intermetallic compound particles / the number of Al—Fe—Si intermetallic compound particles is 0.7 or more.
However, these patent documents do not describe an intermetallic compound for suppressing corrosion of the aluminum substrate by the image recording layer.

そこで、本発明は、耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れた平版印刷版原版、特に上記の特性を有する機上現像可能な平版印刷版原版を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a lithographic printing plate precursor excellent in printing durability, stain resistance and microcorrosion stain resistance, particularly a lithographic printing plate precursor having on-press developability having the above-mentioned characteristics. .

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究した結果、表面における金属間化合物密度が35000個/mm2以上のアルミニウム合金板を用いて作成した支持体を使用することにより、耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れた、機上現像可能な平版印刷版原版を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、以下の(1)〜(11)を提供する。
As a result of earnest research to achieve the above-mentioned object, the inventor uses a support made using an aluminum alloy plate having an intermetallic compound density of 35000 pieces / mm 2 or more on the surface, thereby improving the printing durability, The inventors have found that it is possible to obtain an on-press developable lithographic printing plate precursor excellent in stain resistance and micro-corrosion stain resistance, and completed the present invention.
That is, the present invention provides the following (1) to (11).

(1)支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および、(D)ポリマーを有する画像記録層を有し、非露光部の画像記録層が印刷インキおよび又は湿し水で除去される平版印刷版原版において、
上記支持体が、表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が35000個/mm2以上のアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする平版印刷版原版。
(1) An image recording layer having (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymer on the support, and image recording in an unexposed area. In a lithographic printing plate precursor where the layer is removed with printing ink and / or fountain solution,
A lithographic printing plate precursor, wherein the support is prepared using an aluminum alloy plate having a density of an intermetallic compound having a circle-equivalent diameter of 0.2 µm or more on the surface of 35000 pieces / mm 2 or more.

(2)上記アルミニウム合金板が、表面における円相当直径が1.0μm以上の金属間化合物の個数が2500個/mm2以下であることを特徴とする、上記(1)に記載の平版印刷版原版。 (2) The lithographic printing plate as described in (1) above, wherein the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 1.0 μm or more on the surface is 2500 pieces / mm 2 or less. Original edition.

(3)上記画像記録層上に酸素遮断層を有することを特徴とする、上記(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。   (3) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, wherein an oxygen blocking layer is provided on the image recording layer.

(4)上記画像記録層上に酸素遮断層を有さないことを特徴とする、上記(1)または(2)に記載の平版印刷版原版。   (4) The lithographic printing plate precursor as described in (1) or (2) above, which does not have an oxygen barrier layer on the image recording layer.

(5)上記(D)ポリマーがアルキレンオキサイド鎖を有することを特徴とする、上記(1)〜(4)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (5) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (4) above, wherein the polymer (D) has an alkylene oxide chain.

(6)上記(D)ポリマーが粒子状であることを特徴とする、上記(1)〜(5)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (6) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (5) above, wherein the polymer (D) is in the form of particles.

(7)X線回折装置(XRD)を用いて測定される、上記アルミニウム合金板のAl−Fe系金属間化合物のピークカウント値が400cps以下であることを特徴とする、上記(1)〜(6)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (7) The peak count value of the Al—Fe-based intermetallic compound of the aluminum alloy plate, measured using an X-ray diffractometer (XRD), is 400 cps or less, (1) to (1) above 6) The lithographic printing plate precursor as described in any one of 6).

(8)X線回折装置(XRD)を用いて測定される、上記アルミニウム合金板のAlFeSi系金属間化合物のピークカウント値が30cps以であることを特徴とする、上記(1)〜(7)のいずれかに記載の平版印刷版原版。 (8) is measured using X-ray diffraction apparatus (XRD), the peak count value of the AlFeSi intermetallic compound of the aluminum alloy sheet is characterized in that an on 30cps than the above (1) to (7 ) The lithographic printing plate precursor as described in any of the above.

(9)上記支持体の前記画像記録層が形成される側の表面には、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成されており、該陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径が10〜75nmであり、ポア内部における最大径の平均値が前記平均ポア径の1.1〜3.0倍であることを特徴とする、上記(1)〜(8)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (9) An anodized film having micropores is formed on the surface of the support on which the image recording layer is formed, and the average pore diameter in the surface layer of the anodized film is 10 to 75 nm. The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (8) above, wherein the average value of the maximum diameter inside the pore is 1.1 to 3.0 times the average pore diameter.

(10)上記陽極酸化皮膜が、硫酸またはリン酸を含有する電解液を用いた陽極酸化処理により形成されたものであることを特徴とする、上記(1)〜(9)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (10) The anodic oxide film is formed by an anodic oxidation treatment using an electrolytic solution containing sulfuric acid or phosphoric acid, according to any one of (1) to (9) above, Lithographic printing plate precursor.

(11)上記アルミニウム合金板が、連続鋳造法により製造されたアルミニウム合金板であることを特徴とする、上記(1)〜(10)のいずれかに記載の平版印刷版原版。   (11) The lithographic printing plate precursor as described in any one of (1) to (10) above, wherein the aluminum alloy plate is an aluminum alloy plate produced by a continuous casting method.

本発明によれば、耐刷性、耐汚れ性および耐微小腐食汚れ性に優れた、機上現像可能な平版印刷版原版を得ることができる。   According to the present invention, an on-press developable lithographic printing plate precursor having excellent printing durability, stain resistance and micro-corrosion stain resistance can be obtained.

電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the alternating waveform current waveform figure used for an electrochemical roughening process. 交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。It is a side view which shows an example of the radial type cell in the electrochemical roughening process using alternating current. 陽極酸化処理に用いられる陽極酸化処理装置の概略図である。It is the schematic of the anodizing apparatus used for anodizing. 電気化学的粗面化処理に用いられるサイン波形図の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the sine waveform figure used for an electrochemical roughening process. 機械粗面化処理に用いられるブラシグレイニングの工程の概念を示す側面図である。It is a side view which shows the concept of the process of the brush graining used for a machine roughening process.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の平版印刷版原版は、支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および、(D)ポリマーを有する画像記録層を有し、非露光部の画像記録層が印刷インキおよび又は湿し水で除去される平版印刷版原版において、上記支持体が、表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が35000個/mm2以上のアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
The planographic printing plate precursor of the present invention has an image recording layer having (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymer on a support, In the lithographic printing plate precursor in which the image recording layer in the non-exposed area is removed with printing ink and / or fountain solution, the support has a density of 35,000 / intermetallic compound having a circle-equivalent diameter of 0.2 μm or more on the surface. It is produced using an aluminum alloy plate of mm 2 or more.

上述したように、いわゆる機上現像型の平版印刷版原版の場合、印刷インキおよび/または湿し水により除去可能な画像記録層を設けているため、画像記録層中に多くの親水性成分が存在しており、その結果、外気等の影響により画像記録層中に水分を包含しやすいものとなっている。そして、外気等の影響により画像記録層中に包含する水分や、その水分によりアニオン化した親水性成分(以下、単に「アニオン」という。)の存在により、アルミニウム合金板の腐食が生じ、それにより微小腐食汚れが生じる。
本発明者は、アルミニウム合金板の表面に円相当直径が大きな金属間化合物が存在すると、画像記録層に多くの親水性成分が含有する場合にアルミニウム合金板の腐食の起点になり易く、円相当直径が1μm超の金属間化合物が存在するとこの傾向が顕著となるという知見を得た。
表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が35000個/mm2以上のアルミニウム合金板であれば、アルミニウム合金板の表面に存在する円相当直径が1μm超の金属間化合物の個数がきわめて少なくなるため、画像記録層に多くの親水性成分が含有する場合において、アルミニウム合金板の腐食、およびそれによる微小腐食汚れが抑制することができる。
微小腐食汚れの抑制という観点からは、アルミニウム合金板の表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が50000個/mm2以上であることが好ましい。
As described above, in the case of a so-called on-press development type lithographic printing plate precursor, an image recording layer that can be removed by printing ink and / or dampening water is provided, so that many hydrophilic components are present in the image recording layer. As a result, moisture is likely to be included in the image recording layer due to the influence of outside air or the like. The presence of moisture contained in the image-recording layer due to the influence of outside air and the hydrophilic component anionized by the moisture (hereinafter simply referred to as “anion”) causes corrosion of the aluminum alloy plate, thereby Micro-corrosion contamination occurs.
The present inventor, when an intermetallic compound having a large equivalent circle diameter is present on the surface of the aluminum alloy plate, when the image recording layer contains many hydrophilic components, it is likely to become a starting point of corrosion of the aluminum alloy plate, and is equivalent to a circle. It was found that this tendency becomes remarkable when an intermetallic compound having a diameter of more than 1 μm is present.
If the density of the intermetallic compound having an equivalent circle diameter of 0.2 μm or more on the surface is 35,000 / mm 2 or more, the intermetallic compound having an equivalent circle diameter of more than 1 μm existing on the surface of the aluminum alloy plate Since the number is extremely small, the corrosion of the aluminum alloy plate and the resulting fine corrosion stains can be suppressed when the image recording layer contains many hydrophilic components.
From the viewpoint of suppressing minute corrosion stains, the density of the intermetallic compound having an equivalent circle diameter of 0.2 μm or more on the surface of the aluminum alloy plate is preferably 50,000 pieces / mm 2 or more.

また、アルミニウム合金板の表面に存在する金属間化合物は、該アルミニウム合金板に電気化学的粗面化処理を施す際に、有効な反応起点になるという新たな知見も得ており、表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が35000個/mm2以上のアルミニウム合金板を用いることにより、電解粗面化面の均一性がより良好となる。 In addition, new knowledge has been obtained that intermetallic compounds present on the surface of an aluminum alloy plate are effective starting points when electrochemically roughening the aluminum alloy plate. By using an aluminum alloy plate having an equivalent diameter of 0.2 μm or more and an intermetallic compound density of 35000 pieces / mm 2 or more, the uniformity of the electrolytically roughened surface becomes better.

上述したように、微小腐食汚れの抑制という観点からは、アルミニウム合金板の表面に存在する円相当直径が1μm超の金属間化合物の個数が少ないことが好ましい。具体的には、アルミニウム合金板の表面における円相当直径が1.0μm以上の金属間化合物の個数が2500個/mm2以下であることが好ましく、1500個/mm2以下であることがより好ましい。 As described above, from the viewpoint of suppressing minute corrosion stains, it is preferable that the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of more than 1 μm existing on the surface of the aluminum alloy plate is small. Specifically, the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 1.0 μm or more on the surface of the aluminum alloy plate is preferably 2500 / mm 2 or less, and more preferably 1500 / mm 2 or less. .

ここで、アルミニウム合金板の表面における金属間化合物の個数および密度は、以下に示す方法で測定することができる。
まず、アルミニウム合金板について、その表面の油分をアセトンでふき取ったものを測定試料として用いる。
次に、走査型電子顕微鏡(PC−SEM7401F、日本電子社製)を用い、加速電圧を12.0kV、倍率2000倍の条件で、アルミニウム合金板表面の反射電子像を撮影する。
次いで、得られた反射電子像から任意に選んだ5箇所の画像をJPEG形式で保存し、MS−Paint(マイクロソフト社製)を用いてbmf(ビットマップファイル)形式に変換する。
このbmf形式ファイルを画像解析ソフトImageFactory Ver.3.2日本語版(旭ハイテック社製)に読み込んで画像解析を行った後、画像の静的二値化処理を行い、白く抜けた金属間化合物に対応する部分をカウントし、特徴量として円相当直径(等価円直径)を指定して粒度分布を得る。
この粒度分布の結果から、円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度を算出する。なお、この算出は、5箇所の画像データ(粒度分布)の各々から算出した個数の平均値を百の位で四捨五入して行う。
また、同様の手順で円相当直径が1μm以上の金属間化合物の個数を算出する。
なお、上記したアルミニウム合金板表面における金属間化合物の密度、若しくは、金属間化合物の個数は、平版印刷版原版を製造した後においては、画像記録層が形成されていないアルミニウム合金板の裏面において同様に測定することができる。
Here, the number and density of intermetallic compounds on the surface of the aluminum alloy plate can be measured by the following method.
First, an aluminum alloy plate obtained by wiping off the oil on its surface with acetone is used as a measurement sample.
Next, using a scanning electron microscope (PC-SEM7401F, manufactured by JEOL Ltd.), a reflected electron image on the surface of the aluminum alloy plate is taken under the conditions of an acceleration voltage of 12.0 kV and a magnification of 2000 times.
Subsequently, five images arbitrarily selected from the obtained reflected electron images are stored in JPEG format, and converted into bmf (bitmap file) format using MS-Paint (manufactured by Microsoft).
This bmf format file is stored in the image analysis software ImageFactory Ver. 3.2 After reading into the Japanese version (Asahi Hitech Co., Ltd.) and performing image analysis, static binarization of the image is performed, and the portion corresponding to the white intermetallic compound is counted as a feature value. Specify the equivalent circle diameter (equivalent circle diameter) to obtain the particle size distribution.
From the result of the particle size distribution, the density of an intermetallic compound having an equivalent circle diameter of 0.2 μm or more is calculated. This calculation is performed by rounding off the average value of the numbers calculated from each of the five image data (particle size distributions) to the nearest hundred.
In addition, the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 1 μm or more is calculated in the same procedure.
The density of the intermetallic compound on the surface of the aluminum alloy plate or the number of intermetallic compounds is the same on the back surface of the aluminum alloy plate on which the image recording layer is not formed after the lithographic printing plate precursor is produced. Can be measured.

アルミニウム合金板に存在する金属間化合物は、アルミニウム合金板に含まれる金属元素の種類によって異なるが、Al、SiおよびFeを必須成分として含む、後述するアルミニウム合金板の好適態様の場合、アルミニウム合金板に存在する金属間化合物としては、具体的には、例えば、Al3Fe、Al6FeといったAl−Fe系金属間化合物、および、α−AlFeSi、β−AlFeSiといったAlFeSi系金属間化合物が挙げられる。
なお、本発明に用いるアルミニウム合金板は、Al含有量が99質量%以上であり、微量元素として、Si、Fe、Ni、Mn、Cu、Mg、Cr、Zn、Bi、Ti、および、Vからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含有するものである。
本発明に用いるアルミニウム合金板は、Al、SiおよびFeを必須成分として含む、後述するアルミニウム合金板の好適態様であることが好ましい。
The intermetallic compound present in the aluminum alloy plate varies depending on the type of metal element contained in the aluminum alloy plate, but in the case of a preferred embodiment of the aluminum alloy plate described later, which contains Al, Si and Fe as essential components, the aluminum alloy plate Specifically, examples of the intermetallic compound present in Al include an Al—Fe intermetallic compound such as Al 3 Fe and Al 6 Fe and an AlFeSi intermetallic compound such as α-AlFeSi and β-AlFeSi. .
The aluminum alloy plate used in the present invention has an Al content of 99% by mass or more, and as trace elements, Si, Fe, Ni, Mn, Cu, Mg, Cr, Zn, Bi, Ti, and V are used. It contains at least one element selected from the group consisting of:
The aluminum alloy plate used in the present invention is preferably a preferred embodiment of an aluminum alloy plate to be described later, which contains Al, Si and Fe as essential components.

上述したように、Al、SiおよびFeを必須成分として含むアルミニウム合金板の好適態様の場合、アルミニウム合金板には、Al3Fe、Al6FeといったAl−Fe系金属間化合物、若しくは、α−AlFeSi、β−AlFeSiといったAlFeSi系金属間化合物、または、それらの両方が存在する。
これらのうち、Al−Fe系金属間化合物は、画像記録層に多くの親水性成分が含有する場合において、アルミニウム合金板の腐食の起点になるという知見を得ており、微小腐食汚れの抑制という観点からは、アルミニウム合金板に含まれるAl−Fe系金属間化合物の量は少ないことが好ましい。具体的には、X線回折装置(XRD)を用いて測定される、アルミニウム合金板のAl−Fe系金属間化合物のピークカウント値が400cps以下であることが好ましく、特に、Al3FeとAl6Feの両方のピークカウント値が400cps以下であることが好ましい。
ここで、Al−Fe系金属間化合物のピークカウント値とは、X線回折装置(例えば、RAD−rR(12kW回転対陰極型、リガク社製))にアルミニウム合金板をセットし、以下の条件により測定した。
・設定管電圧 50kV
・設定管電流 200mA
・サンプリング間隔 0.01°
・スキャン速度 1°/分
・2θ走査範囲 10°〜70°
・グラファイトモノクロメータ使用
微小腐食汚れの抑制という観点からは、アルミニウム合金板のAl−Fe系金属間化合物のピークカウント値が200cps以下であることが好ましく、特に、Al3FeとAl6Feの両方のピークカウント値が200cps以下であることが好ましい。
As described above, in the preferred embodiment of the aluminum alloy plate containing Al, Si, and Fe as essential components, the aluminum alloy plate includes an Al—Fe-based intermetallic compound such as Al 3 Fe, Al 6 Fe, or α- AlFeSi-based intermetallic compounds such as AlFeSi and β-AlFeSi, or both exist.
Among these, Al-Fe-based intermetallic compounds have been found to be a starting point for corrosion of aluminum alloy sheets when many hydrophilic components are contained in the image recording layer. From the viewpoint, it is preferable that the amount of the Al—Fe intermetallic compound contained in the aluminum alloy plate is small. Specifically, the peak count value of the Al—Fe-based intermetallic compound of the aluminum alloy plate measured using an X-ray diffractometer (XRD) is preferably 400 cps or less, and in particular, Al 3 Fe and Al It is preferable that both 6 Fe have a peak count value of 400 cps or less.
Here, the peak count value of the Al—Fe-based intermetallic compound means that an aluminum alloy plate is set in an X-ray diffractometer (for example, RAD-rR (12 kW rotating counter cathode type, manufactured by Rigaku Corporation)) It was measured by.
・ Set tube voltage 50kV
・ Set tube current 200mA
・ Sampling interval 0.01 °
・ Scanning speed 1 ° / min ・ 2θ scanning range 10 ° ~ 70 °
Use of graphite monochromator From the viewpoint of suppressing minute corrosion stains, it is preferable that the peak count value of the Al—Fe intermetallic compound of the aluminum alloy plate is 200 cps or less, particularly both Al 3 Fe and Al 6 Fe. The peak count value is preferably 200 cps or less.

一方、α−AlFeSi、β−AlFeSiといったAl−Fe−Si系金属間化合物は、Al−Fe系金属間化合物と比較して、アルミニウム合金板の腐食の起点となり難いことを見出している。
これらのうち、Al−Fe系金属間化合物は、画像記録層に多くの親水性成分が含有する場合において、アルミニウム合金板の腐食の起点になるという知見を得ており、微小腐食汚れの抑制という観点からは、アルミニウム合金板に含まれるAl−Fe−Si系金属間化合物(特に、α−AlFeSi)の量は多いことが好ましい。具体的には、X線回折装置(XRD)を用いて測定される、アルミニウム合金板のAl−Fe−Si系金属間化合物(特に、α−AlFeSi)のピークカウント値が30cps以上であることが好ましく、50cps以上であることがより好ましい。
On the other hand, it has been found that Al—Fe—Si intermetallic compounds such as α-AlFeSi and β-AlFeSi are less likely to be a starting point of corrosion of an aluminum alloy plate than Al—Fe intermetallic compounds.
Among these, Al-Fe-based intermetallic compounds have been found to be a starting point for corrosion of aluminum alloy sheets when many hydrophilic components are contained in the image recording layer. From the viewpoint, it is preferable that the amount of the Al—Fe—Si intermetallic compound (particularly α-AlFeSi) contained in the aluminum alloy plate is large. Specifically, the peak count value of the Al—Fe—Si intermetallic compound (particularly α-AlFeSi) of the aluminum alloy plate measured using an X-ray diffractometer (XRD) is 30 cps or more. Preferably, it is 50 cps or more.

<アルミニウム合金板(圧延アルミ)>
以下、本発明に用いるアルミニウム合金板の好適態様について記載する。
本発明に用いるアルミニウム合金板の好適態様は、Al含有量が99質量%以上であることに加えて、0.03〜0.20質量%のSiと0.11〜0.45質量%のFeとを含有し、Siの固溶量が120〜600ppmであり、Feの固溶量が100ppm以下である。
上述したアルミニウム合金板の好適態様を用いることで、電解粗面化処理の安定性が向上し、電解粗面化面の均一性を高めることができる。これにより、種々の電解粗面化処理条件によっても均一な電解粗面化面を有する支持体を得ることができ、該支持体を用いることで、耐刷性および耐汚れ性に優れた平版印刷版原版を得ることができる。
上述したアルミニウム合金板の好適態様における必須の合金成分は、Al、FeおよびSiであるが、任意成分として銅(Cu)を含有してもよい。
<Aluminum alloy plate (rolled aluminum)>
Hereinafter, the suitable aspect of the aluminum alloy plate used for this invention is described.
The preferred embodiment of the aluminum alloy plate used in the present invention is that the Al content is 99% by mass or more, 0.03 to 0.20% by mass of Si, and 0.11 to 0.45% by mass of Fe. The solid solution amount of Si is 120 to 600 ppm, and the solid solution amount of Fe is 100 ppm or less.
By using the preferred embodiment of the aluminum alloy plate described above, the stability of the electrolytic surface roughening treatment can be improved, and the uniformity of the electrolytic surface roughened surface can be enhanced. As a result, a support having a uniform electrolytic roughened surface can be obtained even under various electrolytic roughening treatment conditions. By using the support, lithographic printing excellent in printing durability and stain resistance is obtained. You can get the original version.
Although the essential alloy component in the suitable aspect of the aluminum alloy plate mentioned above is Al, Fe, and Si, you may contain copper (Cu) as an arbitrary component.

Siは、原材料であるAl地金に不可避不純物として0.03〜0.1質量%前後含有される元素であり、原材料差によるばらつきを防ぐため、意図的に微量添加されることが多い。Siは、アルミニウム中に固溶した状態で、または、金属間化合物もしくは単独の析出物として存在する。   Si is an element contained as an inevitable impurity in an Al ingot, which is a raw material, in an amount of about 0.03 to 0.1% by mass, and is often intentionally added in a small amount to prevent variation due to a difference in raw materials. Si exists as a solid solution in aluminum, or as an intermetallic compound or a single precipitate.

本発明においては、Siの含有量は0.03〜0.20質量%であるのが好ましく、0.04〜0.18質量%であるのがより好ましく、0.05〜0.15質量%であるのがさらに好ましい。
Siの含有量がこの範囲であると、必要なSiの固溶量を確保し、また、電解粗面化処理後に陽極酸化処理を施したときであっても、陽極酸化皮膜に欠陥が生じ難くなり、平版印刷版としての耐汚れ性も良好となる。
In the present invention, the Si content is preferably 0.03 to 0.20 mass%, more preferably 0.04 to 0.18 mass%, and 0.05 to 0.15 mass%. More preferably.
When the Si content is within this range, the necessary amount of Si solid solution is ensured, and even when the anodizing treatment is performed after the electrolytic surface-roughening treatment, it is difficult for defects to occur in the anodized film. Thus, the stain resistance as a lithographic printing plate is also improved.

また、本発明においては、Siの固溶量は120〜600ppmであるのが好ましく、150〜600ppmであるのがより好ましく、150〜500ppmであるのがさらに好ましい。
Siの固溶量がこの範囲であると、電解粗面化面が均一となり、また、0.01〜0.05μmおよび0.05〜1.5μmの平均開口径を有するピットが表面全体に均一に形成される。
Moreover, in this invention, it is preferable that the solid solution amount of Si is 120-600 ppm, It is more preferable that it is 150-600 ppm, It is further more preferable that it is 150-500 ppm.
When the solid solution amount of Si is within this range, the electrolytic roughened surface becomes uniform, and pits having average opening diameters of 0.01 to 0.05 μm and 0.05 to 1.5 μm are uniform over the entire surface. Formed.

Feは、アルミニウム中に固溶する量は少なく、ほとんどが金属間化合物として残存する元素である。   Fe is an element that hardly dissolves in aluminum and remains as an intermetallic compound.

本発明においては、Feの含有量は0.11〜0.45質量%であるのが好ましく、0.15〜0.45質量%であるのがより好ましく、0.20〜0.43質量%であるのがさらに好ましい。
Feの含有量がこの範囲であると、Feが細かい金属間化合物として分散し、それらが電解粗面化処理の起点として働く結果、電解粗面化面が均一となる。
In the present invention, the Fe content is preferably 0.11 to 0.45 mass%, more preferably 0.15 to 0.45 mass%, and 0.20 to 0.43 mass%. More preferably.
When the Fe content is within this range, Fe is dispersed as a fine intermetallic compound, and as a result of acting as a starting point for the electrolytic roughening treatment, the electrolytic roughened surface becomes uniform.

また、本発明においては、必要なFeの金属間化合物を確保する観点から、Feの固溶量は100ppm以下であるのが好ましく、50ppm以下であるのがより好ましく、40ppm以下であるのがさらに好ましい。
また、アルミニウム合金板の耐熱性を確保する観点から、Feの固溶量は10ppm以上であるのが好ましい。
In the present invention, from the viewpoint of securing a necessary intermetallic compound of Fe, the solid solution amount of Fe is preferably 100 ppm or less, more preferably 50 ppm or less, and further 40 ppm or less. preferable.
From the viewpoint of ensuring the heat resistance of the aluminum alloy plate, the solid solution amount of Fe is preferably 10 ppm or more.

Cuは、電解粗面化処理を制御するうえで重要な元素であるが、本発明においては任意元素である。
本発明においては、電解粗面化の均一性を保持する観点から、Cuを含有する場合の含有量は0.030質量%以下であるのが好ましい。
Cu is an important element in controlling the electrolytic surface roughening treatment, but is an optional element in the present invention.
In the present invention, from the viewpoint of maintaining the uniformity of electrolytic surface roughening, the content when Cu is contained is preferably 0.030% by mass or less.

結晶粒微細化元素は、電解粗面化の均一性に影響を与えないため、鋳造時の割れ発生防止のために適宜添加してよい。そのために、例えばTiは0.05質量%以下の範囲で、Bは0.02質量%以下の範囲で添加できる。   Since the grain refinement element does not affect the uniformity of the electrolytic surface roughening, it may be added as appropriate to prevent cracking during casting. Therefore, for example, Ti can be added in a range of 0.05% by mass or less, and B can be added in a range of 0.02% by mass or less.

アルミニウム合金板の残部は、Alと不可避不純物からなる。
この不可避不純物としては、例えば、Mg、Mn、Zn、Cr、Zr、V、Zn、Be等が挙げられ、これらはそれぞれ0.05質量%以下含まれていてもよい。
また、不可避不純物の大部分は、Al地金中に含有される。不可避不純物は、例えば、Al純度99.5%の地金に含有されるものであれば、本発明の効果を損なわない。
不可避不純物については、例えば、L.F.Mondolfo著「Aluminum Alloys:Structure and properties」(1976年)等に記載されている量の不純物が含有されていてもよい。
The balance of the aluminum alloy plate is made of Al and inevitable impurities.
As this inevitable impurity, Mg, Mn, Zn, Cr, Zr, V, Zn, Be etc. are mentioned, for example, These may each be contained 0.05 mass% or less.
Moreover, most of inevitable impurities are contained in the Al ingot. For example, if the inevitable impurities are contained in a metal having an Al purity of 99.5%, the effects of the present invention are not impaired.
For inevitable impurities, see, for example, L.A. F. The amount of impurities described in Mondolfo's “Aluminum Alloys: Structure and properties” (1976) and the like may be contained.

上述したアルミニウム合金板の好適態様は、連続鋳造法により好ましく製造される。
連続鋳造による圧延は、鋳造材表面の凝固速度が大きいので晶出物が微細均一であり、DC鋳造法で必要とする鋳塊の均質化熱処理が不要であり、長時間の処理を施されないことから品質が安定しているため、平版印刷版用支持体用の素板として適切である。
The preferred embodiment of the aluminum alloy plate described above is preferably manufactured by a continuous casting method.
Rolling by continuous casting has a high solidification rate on the surface of the cast material, so that the crystallized material is fine and uniform, does not require the homogenization heat treatment of the ingot required by the DC casting method, and is not subjected to long-time processing. Therefore, it is suitable as a base plate for a lithographic printing plate support.

具体的には、以下の方法が好適に例示される。
まず、所定の合金成分含有量に調整したアルミニウム合金溶湯に、常法に従い、必要に応じて清浄化処理を施すことができる。
清浄化処理としては、例えば、溶湯中の水素等の不要ガスを除去するための脱ガス処理(例えば、アルゴンガス、塩素ガス等を用いたフラックス処理等);セラミックチューブフィルタ、セラミックフォームフィルタなどのいわゆるリジッドメディアフィルタや、アルミナフレーク、アルミナボールなどをろ材とするフィルタや、グラスクロスフィルタなどを用いるフィルタリング処理;このような脱ガス処理とフィルタリング処理とを組み合わせた処理;等が挙げられる。
Specifically, the following method is preferably exemplified.
First, a molten aluminum alloy adjusted to a predetermined alloy component content can be subjected to a cleaning treatment as necessary according to a conventional method.
Examples of the cleaning treatment include degassing treatment for removing unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal (eg flux treatment using argon gas, chlorine gas, etc.); ceramic tube filter, ceramic foam filter, etc. A filtering process using a so-called rigid media filter, a filter using alumina flakes, alumina balls, or the like as a filter medium, a glass cloth filter, or the like; a process in which such a degassing process and a filtering process are combined;

これらの清浄化処理は、溶湯中の非金属介在物、酸化物等の異物による欠陥や、溶湯に溶け込んだガスによる欠陥を防ぐために実施されることが好ましい。溶湯のフィルタリングに関しては、特開平6−57432号、特開平3−162530号、特開平5−140659号、特開平4−231425号、特開平4−276031号、特開平5−311261号、特開平6−136466号の各公報等に記載されている。また、溶湯の脱ガスに関しては、特開平5−51659号公報、実開平5−49148号公報等に記載されている。本出願人も、特開平7−40017号公報において、溶湯の脱ガスに関する技術を提案している。   These cleaning treatments are preferably performed in order to prevent defects caused by foreign matters such as non-metallic inclusions and oxides in the molten metal and defects caused by gas dissolved in the molten metal. Regarding filtering of the molten metal, JP-A-6-57432, JP-A-3-162530, JP-A-5-140659, JP-A-4-231425, JP-A-4-276031, JP-A-5-311261, JP-A-5-311261 6-136466 and the like. Further, the degassing of the molten metal is described in JP-A-5-51659, Japanese Utility Model Laid-Open No. 5-49148, and the like. The present applicant has also proposed a technique relating to degassing of molten metal in Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-40017.

次いで、必要に応じて清浄化処理を施した溶湯を用いて、連続鋳造を施す。
連続鋳造は、アルミニウム合金溶湯を溶湯供給ノズルを介して一対の冷却ローラの間に供給し、該一対の冷却ローラによって該アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行う工程であり、双ロール法(ハンター法)、3C法に代表される冷却ロールを用いる方法、双ベルト法(ハズレー法)、アルスイスキャスターII型に代表される冷却ベルトや冷却ブロックを用いる方法等により施すことができる。
連続鋳造法は、一般的には、DC鋳造法に比べて冷却速度が速いため、アルミマトリックスに対する合金成分固溶度を高くすることができるという特徴を有する。また、冷却速度が100〜1000℃/秒の範囲で凝固する。
連続鋳造法に関しては、本出願人によって提案された技術が、特開平3−79798号、特開平5−201166号、特開平5−156414号、特開平6−262203号、特開平6−122949号、特開平6−210406号、特開平6−26308号の各公報等に記載されている。
Next, continuous casting is performed using a molten metal that has been subjected to a cleaning treatment as necessary.
Continuous casting is a process in which a molten aluminum alloy is supplied between a pair of cooling rollers via a molten metal supply nozzle, and rolling is performed while the molten aluminum alloy is solidified by the pair of cooling rollers. Method), a method using a cooling roll represented by the 3C method, a double belt method (Hasley method), a method using a cooling belt or a cooling block represented by the Al-Swiss Caster II type, and the like.
Since the continuous casting method generally has a higher cooling rate than the DC casting method, it has a feature that the solid solubility of the alloy component in the aluminum matrix can be increased. Moreover, it solidifies in the range whose cooling rate is 100-1000 degrees C / sec.
Regarding the continuous casting method, the techniques proposed by the present applicant are disclosed in JP-A-3-79798, JP-A-5-201166, JP-A-5-156414, JP-A-6-262203, and JP-A-6-122949. JP-A-6-210406 and JP-A-6-26308.

連続鋳造においては、例えば、ハンター法等の冷却ロールを用いる方法を用いると、板厚1〜10mmの鋳造板を直接、連続鋳造することができ、熱間圧延の工程を省略することができるというメリットが得られる。
また、ハズレー法等の冷却ベルトを用いる方法を用いると、板厚10〜50mmの鋳造板を鋳造することができ、一般的に、鋳造直後に熱間圧延ロールを配置し連続的に圧延することで、板厚1〜10mmの連続鋳造圧延板が得られる。
本発明においては、多くの金属間化合物を生成する観点から、冷却ロールを用いる方法が好ましく、また、板厚を7mm以下にするのが好ましい。
In continuous casting, for example, if a method using a cooling roll such as a Hunter method is used, a cast plate having a thickness of 1 to 10 mm can be directly continuously cast, and the hot rolling step can be omitted. Benefits are gained.
In addition, when a method using a cooling belt such as the Husley method is used, a cast plate having a thickness of 10 to 50 mm can be cast. Generally, a hot rolling roll is arranged immediately after casting and continuously rolled. Thus, a continuous cast and rolled plate having a thickness of 1 to 10 mm is obtained.
In the present invention, from the viewpoint of producing a large number of intermetallic compounds, a method using a cooling roll is preferred, and the plate thickness is preferably 7 mm or less.

連続鋳造後、得られたアルミニウム合金板は、必要に応じて施す冷間圧延工程等を経て、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmの板厚に仕上げられる。   After the continuous casting, the obtained aluminum alloy plate is finished to a predetermined thickness, for example, a thickness of 0.1 to 0.5 mm, through a cold rolling process or the like applied as necessary.

本発明においては、冷間圧延の前もしくは後、またはその途中において、Siの固溶量を増やしたり、Feの固溶量を抑制したりする観点から中間焼鈍処理を施してもよい。また、適切な中間焼鈍処理は、結晶粒を微細にする効果もあり、面質を良好なものにできる。
上記中間焼鈍処理は、金属間化合物の大きさおよび個数を適正化する観点から、過剰な高温で施したり、過度に長時間施したりすることは避けるのが望ましい。特に550℃を越える温度や36時間を超える熱処理は避けるのが望ましい。これは、上記金属間化合物がアルミニウムに再固溶したり、α−AlFeSi、β−AlFeSiのような準安定相の金属間化合物が安定相のAl3Feに変化する過程で数が減少したりする場合があるためである。
上記中間焼鈍処理の好適条件としては、バッチ式焼鈍炉を用いて280〜550℃で2〜20時間、好ましくは350〜550℃で2〜10時間、より好ましくは350〜550℃で2〜5時間加熱する条件;連続焼鈍炉を用いて400〜550℃で6分以下、好ましくは450〜550℃で2分以下加熱する条件;等が挙げられる。
In the present invention, intermediate annealing treatment may be performed from the viewpoint of increasing the Si solid solution amount or suppressing the Fe solid solution amount before, after, or during the cold rolling. Further, the appropriate intermediate annealing treatment has an effect of making the crystal grains fine, and the surface quality can be improved.
From the viewpoint of optimizing the size and number of intermetallic compounds, it is desirable to avoid the intermediate annealing treatment from being performed at an excessively high temperature or excessively for a long time. In particular, it is desirable to avoid heat treatment exceeding 550 ° C. or heat treatment exceeding 36 hours. This is because the intermetallic compound re-dissolves in aluminum, or the number decreases in the process in which the metastable phase intermetallic compound such as α-AlFeSi and β-AlFeSi changes to stable phase Al 3 Fe. It is because there is a case to do.
As a suitable condition for the intermediate annealing treatment, a batch annealing furnace is used at 280 to 550 ° C. for 2 to 20 hours, preferably 350 to 550 ° C. for 2 to 10 hours, more preferably 350 to 550 ° C. for 2 to 5 hours. Conditions for heating for a period of time; conditions for heating at 400 to 550 ° C. for 6 minutes or less, preferably 450 to 550 ° C. for 2 minutes or less using a continuous annealing furnace;

以上の工程によって、所定の厚さ、例えば、0.1〜0.5mmに仕上げられたアルミニウム合金板は、更にローラレベラ、テンションレベラ等の矯正装置によって平面性を改善してもよい。平面性の改善は、アルミニウム合金板をシート状にカットした後に行ってもよいが、生産性を向上させるためには、連続したコイルの状態で行うことが好ましい。
また、所定の板幅に加工するため、スリッタラインを通してもよい。
更に、アルミニウム合金板同士の摩擦による傷の発生を防止するために、アルミニウム合金板の表面に薄い油膜を設けてもよい。油膜には、必要に応じて、揮発性のものや、不揮発性のものが適宜用いられる。
The flatness of the aluminum alloy plate finished to a predetermined thickness, for example, 0.1 to 0.5 mm by the above steps may be further improved by a correction device such as a roller leveler or a tension leveler. The flatness may be improved after the aluminum alloy plate is cut into a sheet shape, but in order to improve productivity, it is preferably performed in a continuous coil state.
Further, a slitter line may be used for processing into a predetermined plate width.
Furthermore, in order to prevent generation | occurrence | production of the damage | wound by friction between aluminum alloy plates, you may provide a thin oil film on the surface of an aluminum alloy plate. As the oil film, a volatile or non-volatile film is appropriately used as necessary.

<粗面化処理>
上述した連続鋳造工程ならびに所望により行われる各種工程(例えば、中間焼鈍工程、冷間圧延工程等)を経て得られるアルミニウム合金板の表面に、粗面化処理を施すことによって、本発明の平版印刷版原版に用いる支持体を作成することができる。
粗面化処理としては、一般に、機械的粗面化処理、化学的粗面化処理および電気化学的粗面化処理のうちの1種または2種以上の組み合わせが用いられる。
本発明においては、粗面化処理として、少なくとも電解粗面化処理を施し、電解粗面化処理の前にアルカリエッチング処理(第1アルカリエッチング処理)を施すのが好ましく、電解粗面化処理の後にアルカリエッチング処理(第2アルカリエッチング処理)を施すのが好ましい。
<Roughening treatment>
The lithographic printing of the present invention is carried out by subjecting the surface of the aluminum alloy plate obtained through the above-described continuous casting process and various processes (for example, intermediate annealing process, cold rolling process, etc.) to be performed as desired. A support used for the plate precursor can be prepared.
As the roughening treatment, generally one or a combination of two or more of mechanical roughening treatment, chemical roughening treatment and electrochemical roughening treatment is used.
In the present invention, as the surface roughening treatment, it is preferable to perform at least electrolytic surface roughening treatment and to perform alkali etching treatment (first alkali etching treatment) before the electrolytic surface roughening treatment. It is preferable to perform an alkali etching process (second alkali etching process) later.

粗面化処理としては、電気化学的粗面化処理を2回行い、それらの間にアルカリ水溶液中でのエッチング処理を行うのが好ましく、具体的には、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(第1アルカリエッチング処理)、酸性水溶液中でのデスマット処理(第1デスマット処理)、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(第1電解粗面化処理)、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(第2アルカリエッチング処理)、酸性水溶液中でのデスマット処理(第2デスマット処理)、塩酸を含有する水溶液中での電気化学的粗面化処理(第2電解粗面化処理)、アルカリ水溶液中でのエッチング処理(第3アルカリエッチング処理)および酸性水溶液中でのデスマット処理(第3デスマット処理)、陽極酸化処理をこの順に施す処理が好適に例示される。
また、上記アルカリエッチング処理(第1アルカリエッチング処理)の前に、機械的粗面化処理を施すのが好ましい。
更に、上記陽極酸化処理の後に、更に封孔処理および親水化処理を施すのも好ましい。
As the surface roughening treatment, electrochemical surface roughening treatment is preferably performed twice, and an etching treatment in an alkaline aqueous solution is preferably performed between them. 1 alkali etching treatment), desmut treatment in acidic aqueous solution (first desmut treatment), electrochemical roughening treatment in aqueous solution containing nitric acid or hydrochloric acid (first electrolytic roughening treatment), in alkaline aqueous solution Etching treatment (second alkali etching treatment), desmutting treatment in acidic aqueous solution (second desmutting treatment), electrochemical surface roughening treatment in aqueous solution containing hydrochloric acid (second electrolytic surface roughening treatment) Etching treatment in alkaline aqueous solution (third alkaline etching treatment), desmutting treatment in acidic aqueous solution (third desmutting treatment), and anodizing treatment in this order Be treated are preferably exemplified.
Moreover, it is preferable to perform a mechanical surface-roughening process before the said alkali etching process (1st alkali etching process).
Furthermore, it is also preferable to perform sealing treatment and hydrophilization treatment after the anodizing treatment.

本発明の平版印刷版原版に用いる支持体を製造する際には、上記以外の各種の工程を含んでいてもよい。
以下、表面処理の各工程について、詳細に説明する。
When manufacturing the support body used for the lithographic printing plate precursor according to the invention, various processes other than those described above may be included.
Hereinafter, each step of the surface treatment will be described in detail.

<機械的粗面化処理>
本発明においては、アルミニウム合金板の表面の中心平均表面粗さを0.35〜1.0μmとする目的で行われる機械的粗面化処理を施すのが好ましい。
以下、機械的粗面化処理として好適に用いられるブラシグレイン法について説明する。
<Mechanical roughening>
In this invention, it is preferable to perform the mechanical roughening process performed in order to make the center average surface roughness of the surface of an aluminum alloy plate 0.35-1.0 micrometer.
Hereinafter, the brush grain method used suitably as a mechanical roughening process is demonstrated.

ブラシグレイン法は、一般に、円柱状の胴の表面に、ナイロン(商標名)、プロピレン、塩化ビニル樹脂等の合成樹脂からなる合成樹脂毛等のブラシ毛を多数植設したローラ状ブラシを用い、回転するローラ状ブラシに研磨剤を含有するスラリー液を噴きかけながら、上記アルミニウム合金板の表面の一方または両方を擦ることにより行う。
上記ローラ状ブラシおよびスラリー液の代わりに、表面に研磨層を設けたローラである研磨ローラを用いることもできる。
The brush grain method generally uses a roller-shaped brush in which a large number of brush hairs such as synthetic resin hair made of synthetic resin such as nylon (trade name), propylene, and vinyl chloride resin are implanted on the surface of a cylindrical body. This is performed by rubbing one or both of the surfaces of the aluminum alloy plate while spraying a slurry liquid containing an abrasive on a rotating roller brush.
Instead of the roller brush and the slurry liquid, a polishing roller which is a roller having a polishing layer on the surface can be used.

ローラ状ブラシを用いる場合、曲げ弾性率が好ましくは10,000〜40,000kg/cm2、より好ましくは15,000〜35,000kg/cm2であり、かつ、毛腰の強さが好ましくは500g以下、より好ましくは400g以下であるブラシ毛を用いる。ブラシ毛の直径は、一般的には、0.2〜0.9mmである。ブラシ毛の長さは、ローラ状ブラシの外径および胴の直径に応じて適宜決定することができるが、一般的には、10〜100mmである。
本発明では、ナイロンブラシは複数本用いるのが好ましく、具体的には、3本以上がより好ましく、4本以上が特に好ましい。ブラシの本数を調整することにより、アルミニウム合金板表面に形成される凹部の波長成分を調整できる。
When a roller brush is used, the flexural modulus is preferably 10,000 to 40,000 kg / cm 2 , more preferably 15,000 to 35,000 kg / cm 2 , and the bristle strength is preferably Brush hair that is 500 g or less, more preferably 400 g or less is used. The diameter of the brush bristles is generally 0.2 to 0.9 mm. The length of the brush bristles can be appropriately determined according to the outer diameter of the roller brush and the diameter of the body, but is generally 10 to 100 mm.
In the present invention, it is preferable to use a plurality of nylon brushes, specifically, 3 or more are more preferable, and 4 or more are particularly preferable. By adjusting the number of brushes, the wavelength component of the recess formed on the aluminum alloy plate surface can be adjusted.

また、ブラシを回転させる駆動モータの負荷は、ブラシローラをアルミニウム合金板に押さえつける前の負荷に対して1kWプラス以上が好ましく、2kWプラス以上がより好ましく、8kWプラス以上が特に好ましい。該負荷を調整することにより、アルミニウム合金板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。ブラシの回転数は、100回転以上が好ましく、200回転以上が特に好ましい。   Further, the load of the drive motor that rotates the brush is preferably 1 kW plus or more, more preferably 2 kW plus or more, and particularly preferably 8 kW plus or more with respect to the load before the brush roller is pressed against the aluminum alloy plate. By adjusting the load, the depth of the recess formed on the surface of the aluminum alloy plate can be adjusted. The number of rotations of the brush is preferably 100 or more, and particularly preferably 200 or more.

研磨剤は公知の物を用いることができる。例えば、パミストン(パミスストーン)、ケイ砂、水酸化アルミニウム、アルミナ粉、炭化ケイ素、窒化ケイ素、火山灰、カーボランダム、金剛砂等の研磨剤;これらの混合物を用いることができる。中でも、パミストン、ケイ砂が好ましい。ケイ砂は、パミストンに比べて硬く、壊れにくいので粗面化効率に優れる。また、水酸化アルミニウムは過度の荷重がかかると粒子が破損するため、局所的に深い凹部を生成させたくない場合に好適である。
研磨剤のメジアン径は、粗面化効率に優れ、かつ、砂目立てピッチを狭くすることができる点で、2〜100μmであるのが好ましく、20〜60μmであるのがより好ましい。研磨剤のメジアン径を調整することにより、アルミニウム合金板表面に形成される凹部の深さを調整することができる。
A well-known thing can be used for an abrasive | polishing agent. For example, abrasives such as pumice stone (pumice stone), silica sand, aluminum hydroxide, alumina powder, silicon carbide, silicon nitride, volcanic ash, carborundum, and gold sand; a mixture thereof can be used. Of these, pumiston and silica sand are preferable. Quartz sand is harder and less fragile than Pamiston, so it has excellent roughening efficiency. In addition, aluminum hydroxide is suitable when an excessive load is applied and the particles are damaged, so that it is not desired to generate deep recesses locally.
The median diameter of the abrasive is preferably from 2 to 100 μm, more preferably from 20 to 60 μm, from the viewpoint of excellent surface roughening efficiency and the ability to narrow the graining pitch. By adjusting the median diameter of the abrasive, the depth of the recess formed on the aluminum alloy plate surface can be adjusted.

研磨剤は、例えば、水中に懸濁させて、スラリー液として用いる。スラリー液には、研磨剤のほかに、増粘剤、分散剤(例えば、界面活性剤)、防腐剤等を含有させることができる。スラリー液の比重は0.5〜2であるのが好ましい。
機械的粗面化処理に適した装置としては、例えば、特公昭50−40047号公報に記載された装置を挙げることができる。
For example, the abrasive is suspended in water and used as a slurry. In addition to the abrasive, the slurry liquid may contain a thickener, a dispersant (for example, a surfactant), a preservative, and the like. The specific gravity of the slurry liquid is preferably 0.5-2.
As an apparatus suitable for the mechanical surface roughening treatment, for example, an apparatus described in Japanese Patent Publication No. 50-40047 can be given.

ブラシと研磨剤とを用いて機械的粗面化処理を行う装置の詳細については、本出願人によって、特開2002−211159号公報に記載されているものを用いることができる。   As for details of an apparatus for performing a mechanical surface roughening process using a brush and an abrasive, those described in JP-A-2002-2111159 can be used by the present applicant.

ブラシグレイン法以外の機械的粗面化処理としては、上述した冷間圧延の最後に転写によって表面に凹凸を形成する処理等が挙げられ、本発明においては、ブラシグレイン法に代えて、またはブラシグレイン法とともに施すことができる。   Examples of the mechanical surface roughening process other than the brush grain method include a process of forming irregularities on the surface by transfer at the end of the cold rolling described above. In the present invention, instead of the brush grain method, or a brush Can be applied together with the grain method.

<第1アルカリエッチング処理>
第1アルカリエッチング処理は、アルミニウム合金板をアルカリ溶液に接触させることにより、表層を溶解する処理である。
<First alkali etching treatment>
The first alkali etching treatment is a treatment for dissolving the surface layer by bringing the aluminum alloy plate into contact with an alkali solution.

電解粗面化処理(第1電解粗面化処理)の前に行われる第1アルカリエッチング処理は、機械的粗面化を行った場合は、その凹凸形状をなめらかにすること、電解粗面化処理(第1電解粗面化処理)で均一な凹部を形成させること、および、機械的粗面化を行わない場合には、アルミニウム合金板の表面の圧延油、汚れ、自然酸化皮膜等を除去することを目的として行われる。
第1アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、0.1g/m2以上であるのが好ましく、0.5g/m2以上であるのがより好ましく、1g/m2以上であるのが更に好ましく、また、12g/m2以下であるのが好ましく、10g/m2以下であるのがより好ましく、8g/m2以下であるのが更に好ましい。エッチング量の下限が上記範囲にあると、電解粗面化処理(第1電解粗面化処理)において均一なピットを生成でき、更に処理ムラの発生を防止できる。エッチング量の上限が上記範囲にあると、アルカリ水溶液の使用量が少なくなり、経済的に有利となる。
The first alkali etching treatment performed before the electrolytic surface roughening treatment (first electrolytic surface roughening treatment) is to smooth the uneven shape when the mechanical surface roughening is performed. When forming a uniform recess by the treatment (first electrolytic surface roughening treatment) and when mechanical surface roughening is not performed, the rolling oil, dirt, natural oxide film, etc. on the surface of the aluminum alloy plate are removed. It is done for the purpose of doing.
In the first alkali etching treatment, the etching amount is preferably 0.1 g / m 2 or more, more preferably 0.5 g / m 2 or more, and further preferably 1 g / m 2 or more. Further, it is preferably 12 g / m 2 or less, more preferably 10 g / m 2 or less, and still more preferably 8 g / m 2 or less. When the lower limit of the etching amount is within the above range, uniform pits can be generated in the electrolytic surface roughening treatment (first electrolytic surface roughening treatment), and further, the occurrence of processing unevenness can be prevented. When the upper limit of the etching amount is in the above range, the amount of the alkaline aqueous solution used is reduced, which is economically advantageous.

アルカリ溶液に用いられるアルカリとしては、例えば、カセイアルカリ、アルカリ金属塩が挙げられる。具体的には、カセイアルカリとしては、例えば、カセイソーダ、カセイカリが挙げられる。また、アルカリ金属塩としては、例えば、メタケイ酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、メタケイ酸カリ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩;炭酸ソーダ、炭酸カリ等のアルカリ金属炭酸塩;アルミン酸ソーダ、アルミン酸カリ等のアルカリ金属アルミン酸塩;グルコン酸ソーダ、グルコン酸カリ等のアルカリ金属アルドン酸塩;第二リン酸ソーダ、第二リン酸カリ、第一リン酸ソーダ、第一リン酸カリ等のアルカリ金属リン酸水素塩が挙げられる。中でも、エッチング速度が速い点および安価である点から、カセイアルカリの溶液、および、カセイアルカリとアルカリ金属アルミン酸塩との両者を含有する溶液が好ましい。特に、カセイソーダの水溶液が好ましい。   Examples of the alkali used in the alkaline solution include caustic alkali and alkali metal salts. Specifically, examples of caustic alkali include caustic soda and caustic potash. Examples of the alkali metal salt include alkali metal silicates such as sodium metasilicate, sodium silicate, potassium metasilicate, and potassium silicate; alkali metal carbonates such as sodium carbonate and potassium carbonate; sodium aluminate and alumina. Alkali metal aluminates such as potassium acid; alkali metal aldones such as sodium gluconate and potassium gluconate; dibasic sodium phosphate, dibasic potassium phosphate, primary sodium phosphate, primary potassium phosphate, etc. An alkali metal hydrogen phosphate is mentioned. Among these, a caustic alkali solution and a solution containing both a caustic alkali and an alkali metal aluminate are preferable from the viewpoint of high etching rate and low cost. In particular, an aqueous solution of caustic soda is preferable.

第1アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、300g/L以上であるのがより好ましく、また、500g/L以下であるのが好ましく、450g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、50g/L以上であるのがより好ましく、また、200g/L以下であるのが好ましく、150g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the first alkali etching treatment, the concentration of the alkaline solution is preferably 30 g / L or more, more preferably 300 g / L or more, and preferably 500 g / L or less, 450 g / L. The following is more preferable.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 50 g / L or more, and preferably 200 g / L or less, more preferably 150 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

第1アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、30℃以上であるのが好ましく、50℃以上であるのがより好ましく、また、80℃以下であるのが好ましく、75℃以下であるのがより好ましい。
第1アルカリエッチング処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また、30秒以下であるのが好ましく、15秒以下であるのがより好ましい。
In the first alkali etching treatment, the temperature of the alkali solution is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 50 ° C. or higher, and preferably 80 ° C. or lower, and 75 ° C. or lower. Is more preferable.
In the first alkaline etching treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 2 seconds or longer, more preferably 30 seconds or shorter, and more preferably 15 seconds or shorter. preferable.

アルミニウム合金板を連続的にエッチング処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、アルミニウム合金板のエッチング量が変動する。そこで、エッチング液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
即ち、カセイソーダ濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるようにカセイソーダと水とを添加する。そして、カセイソーダと水とを添加することによって増加したエッチング液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加するカセイソーダとしては、工業用の40〜60質量%のものを用いることができる。
電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
When the aluminum alloy plate is continuously etched, the aluminum ion concentration in the alkaline solution increases and the etching amount of the aluminum alloy plate varies. Therefore, the composition management of the etching solution is preferably performed as follows.
That is, a matrix of conductivity, specific gravity, and temperature, or a matrix of conductivity, ultrasonic velocity, and temperature, corresponding to the matrix of caustic soda concentration and aluminum ion concentration, is prepared in advance, and the conductivity and specific gravity. The liquid composition is measured according to the temperature and temperature, or the electrical conductivity, the ultrasonic wave propagation speed, and the temperature, and caustic soda and water are added so that the control target value of the liquid composition is reached. Then, the amount of the etching liquid increased by adding caustic soda and water is overflowed from the circulation tank, thereby keeping the liquid amount constant. As caustic soda to be added, 40 to 60% by mass for industrial use can be used.
As the conductivity meter and the specific gravity meter, it is preferable to use those that are temperature compensated. As the specific gravity meter, a differential pressure type is preferably used.

アルミニウム合金板をアルカリ溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム合金板をアルカリ溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム合金板をアルカリ溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、アルカリ溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きかける方法が挙げられる。   Examples of the method of bringing the aluminum alloy plate into contact with the alkaline solution include, for example, a method of passing the aluminum alloy plate through a tank containing an alkaline solution, a method of immersing the aluminum alloy plate in a tank containing an alkaline solution, and an alkali. The method of spraying a solution on the surface of an aluminum alloy plate is mentioned.

中でも、アルカリ溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ2〜5mmの孔を10〜50mmピッチで有するスプレー管から、スプレー管1本あたり、10〜100L/minの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。   Among these, a method of spraying an alkaline solution onto the surface of the aluminum alloy plate is preferable. Specifically, a method of spraying an etching solution in an amount of 10 to 100 L / min per spray tube from a spray tube having φ2 to 5 mm holes at a pitch of 10 to 50 mm is preferable. It is preferable to provide a plurality of spray tubes.

アルカリエッチング処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いて水洗し、更に、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。
After the alkali etching process is completed, it is preferable to drain the liquid with a nip roller, and further perform the water washing process for 1 to 10 seconds and then drain the liquid with a nip roller.
The water washing treatment is preferably carried out using an apparatus for washing with a free-falling curtain-like liquid film, and further using a spray tube.

自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置は、水を貯留する貯水タンクと、貯水タンクに水を供給する給水筒と、貯水タンクから自由落下カーテン状の液膜をアルミニウム合金板に供給する整流部とを有する。
この装置においては、給水タンクに給水筒から水が供給され、水が給水タンクからオーバーフローする際に、整流部により整流され、自由落下カーテン状の液膜がアルミニウム合金板に供給される。この装置を用いる場合、液量は10〜100L/minであるのが好ましい。また、整流部とアルミニウムとの間で水が自由落下カーテン状の液膜として存在する距離Lは、20〜50mmであるのが好ましい。また、アルミニウム合金板の角度αは、水平方向に対して30〜80°であるのが好ましい。
The apparatus for washing with a free-fall curtain liquid film is a water storage tank for storing water, a water supply pipe for supplying water to the water storage tank, and a free-fall curtain liquid film from the water storage tank to the aluminum alloy plate. And a rectifying unit.
In this apparatus, water is supplied to the water supply tank from the water supply cylinder, and when the water overflows from the water supply tank, the water is rectified by the rectifying unit, and a free-falling curtain-like liquid film is supplied to the aluminum alloy plate. When this apparatus is used, the liquid amount is preferably 10 to 100 L / min. Moreover, it is preferable that the distance L in which water exists as a free fall curtain-like liquid film between a rectification | straightening part and aluminum is 20-50 mm. Moreover, it is preferable that the angle (alpha) of an aluminum alloy plate is 30-80 degrees with respect to a horizontal direction.

自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する装置を用いると、アルミニウム合金板に均一に水洗処理を施すことができるので、水洗処理の前に行われた処理の均一性を向上させることができる。自由落下カーテン状の液膜により水洗処理する具体的な装置としては、例えば、特開2003−96584号公報に記載されている装置が好適に挙げられる。   If an apparatus for performing water washing treatment with a free-fall curtain-like liquid film is used, the aluminum alloy plate can be uniformly washed with water, so that the uniformity of the treatment performed before the water washing treatment can be improved. As a specific apparatus for washing with a free-fall curtain-like liquid film, for example, an apparatus described in JP-A-2003-96584 is preferably exemplified.

また、水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム合金板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は20〜100mmであるのが好ましく、また、スプレーチップ1本あたりの液量は0.5〜20L/minであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。   Moreover, as a spray tube used for the water washing process, for example, a spray tube having a plurality of spray tips spreading in a fan shape in the width direction of the aluminum alloy plate can be used. The distance between spray tips is preferably 20 to 100 mm, and the amount of liquid per spray tip is preferably 0.5 to 20 L / min. It is preferable to use a plurality of spray tubes.

<第1デスマット処理>
第1アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(第1デスマット処理)を行うのが好ましい。デスマット処理は、アルミニウム合金板を酸性溶液に接触させることにより行う。
<First desmut treatment>
After the first alkali etching treatment, it is preferable to perform pickling (first desmutting treatment) in order to remove dirt (smut) remaining on the surface. The desmut treatment is performed by bringing the aluminum alloy plate into contact with an acidic solution.

用いられる酸としては、例えば、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ化水素酸、ホウフッ化水素酸が挙げられる。
なお、第1アルカリエッチング処理の後に行われる第1デスマット処理においては、電解粗面化処理(第1電解粗面化処理)として引き続き硝酸電解が行われる場合には、硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いるのが好ましい。
Examples of the acid used include nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, and borohydrofluoric acid.
In the first desmutting process performed after the first alkali etching process, when nitric acid electrolysis is continuously performed as the electrolytic surface roughening process (first electrolytic surface roughening process), an electrolytic solution used for nitric acid electrolysis is used. It is preferable to use an overflow waste liquid.

デスマット処理液の組成管理においては、酸性溶液濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と温度で管理する方法、電導度と比重と温度とで管理する方法、および、電導度と超音波の伝搬速度と温度とで管理する方法のいずれかを選択して用いることができる。
第1デスマット処理においては、1〜400g/Lの酸および0.1〜5g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。
In the composition management of the desmut treatment liquid, a method of managing by conductivity and temperature, a method of managing by conductivity, specific gravity and temperature, and a conductivity and superconductivity corresponding to a matrix of acidic solution concentration and aluminum ion concentration. Either of the methods managed by the propagation speed of sound waves and temperature can be selected and used.
In the first desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 1 to 400 g / L acid and 0.1 to 5 g / L aluminum ions.

酸性溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、70℃以下であるのが好ましく、60℃以下であるのがより好ましい。   The temperature of the acidic solution is preferably 20 ° C. or more, more preferably 30 ° C. or more, and preferably 70 ° C. or less, more preferably 60 ° C. or less.

第1デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、40秒以下であるのがより好ましい。   In the first desmutting treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 4 seconds or longer, and preferably 60 seconds or shorter, more preferably 40 seconds or shorter. .

アルミニウム合金板を酸性溶液に接触させる方法としては、例えば、アルミニウム合金板を酸性溶液を入れた槽の中を通過させる方法、アルミニウム合金板を酸性溶液を入れた槽の中に浸せきさせる方法、酸性溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きかける方法が挙げられる。
中でも、酸性溶液をアルミニウム合金板の表面に噴きかける方法が好ましい。具体的には、φ2〜5mmの孔を10〜50mmピッチで有するスプレー管から、スプレー管1本あたり、10〜100L/minの量でエッチング液を吹き付ける方法が好ましい。スプレー管は複数本設けるのが好ましい。
Examples of the method of bringing an aluminum alloy plate into contact with an acidic solution include a method of passing an aluminum alloy plate through a tank containing an acidic solution, a method of immersing an aluminum alloy plate in a tank containing an acidic solution, and an acidic solution. The method of spraying a solution on the surface of an aluminum alloy plate is mentioned.
Among these, a method in which an acidic solution is sprayed on the surface of the aluminum alloy plate is preferable. Specifically, a method of spraying an etching solution in an amount of 10 to 100 L / min per spray tube from a spray tube having φ2 to 5 mm holes at a pitch of 10 to 50 mm is preferable. It is preferable to provide a plurality of spray tubes.

デスマット処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、アルカリエッチング処理の後の水洗処理と同様である。ただし、スプレーチップ1本あたりの液量は1〜20L/minであるのが好ましい。
なお、第1デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる硝酸電解に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切りおよび水洗処理を行わず、アルミニウム合金板の表面が乾かないように、必要に応じて適宜デスマット処理液をスプレーしながら、硝酸電解工程までアルミニウム合金板をハンドリングするのが好ましい。
After the desmutting process is completed, it is preferable to drain the liquid with a nip roller, and further perform the water washing process for 1 to 10 seconds, and then drain the liquid with a nip roller.
The water washing treatment is the same as the water washing treatment after the alkali etching treatment. However, the amount of liquid per spray tip is preferably 1 to 20 L / min.
In the first desmut process, when using an overflow waste liquid of the electrolyte used for the subsequent nitric acid electrolysis as the desmut process liquid, after the desmut process, the draining with a nip roller and the water washing process are not performed. It is preferable to handle the aluminum alloy plate until the nitric acid electrolysis step while spraying a desmut treatment liquid as necessary so that the surface does not dry.

<第1電解粗面化処理>
第1電解粗面化処理は、硝酸または塩酸を含有する水溶液中での電解粗面化処理である。
本発明においては、第1電解粗面化処理は、硝酸を含有する電解液中で、台形波形の交流電流を用いる処理であるのが電解粗面化面のラチチュードが拡大する理由から好ましく、塩酸を含有する電解液中で、正弦波形の交流電流を用いる処理であるのが電解粗面化面の表面形状の制御しやすい理由から好ましい。
なお、第1電解粗面化処理のアルミニウム合金板表面の平均粗さRaは、0.2〜1.0μmであるのが好ましい。
<First electrolytic surface roughening treatment>
The first electrolytic surface roughening treatment is an electrolytic surface roughening treatment in an aqueous solution containing nitric acid or hydrochloric acid.
In the present invention, the first electrolytic surface roughening treatment is preferably a treatment using a trapezoidal waveform alternating current in an electrolytic solution containing nitric acid because the latitude of the electrolytic surface roughened surface is increased. It is preferable to use a sinusoidal alternating current in the electrolyte solution containing selenium because it is easy to control the surface shape of the electrolytically roughened surface.
The average roughness R a of the aluminum alloy plate surface of the first electrolytic graining treatment is preferably 0.2 to 1.0 [mu] m.

(硝酸を含有する水溶液中での電解粗面化処理(硝酸電解))
硝酸電解により、好適な凹凸構造をアルミニウム合金板の表面に形成させることができる。本発明において、アルミニウム合金板がCuを比較的多量に含有している場合には、硝酸電解において、比較的大きく、かつ、均一な凹部が形成される。その結果、本発明の平版印刷版用支持体を用いた平版印刷版は、耐刷性が優れたものになる。
(Electrolytic roughening treatment in aqueous solution containing nitric acid (nitric acid electrolysis))
A suitable uneven structure can be formed on the surface of the aluminum alloy plate by nitric acid electrolysis. In the present invention, when the aluminum alloy plate contains a relatively large amount of Cu, a relatively large and uniform recess is formed in nitric acid electrolysis. As a result, the lithographic printing plate using the lithographic printing plate support of the present invention has excellent printing durability.

硝酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、濃度1〜100g/Lの硝酸の水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオンを有する硝酸化合物の少なくとも一つを1g/Lから飽和するまでの範囲で添加して使用することができる。
また、硝酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を1〜100g/L添加してもよい。
具体的には、硝酸濃度5〜15g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を3〜7g/Lとなるように調整した液が好ましい。
The aqueous solution containing nitric acid can be one used for electrochemical surface roughening using ordinary direct current or alternating current, and an aqueous solution of nitric acid having a concentration of 1 to 100 g / L can be used for aluminum nitrate, sodium nitrate, ammonium nitrate, etc. At least one of the nitrate compounds having the nitrate ion can be added and used in the range from 1 g / L to saturation.
Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution containing nitric acid. Hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be added at 1 to 100 g / L.
Specifically, a solution prepared by dissolving aluminum nitrate in an aqueous nitric acid solution having a nitric acid concentration of 5 to 15 g / L and adjusting the aluminum ion concentration to 3 to 7 g / L is preferable.

硝酸を含有する水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、また、55℃以下であるのが好ましい。   The temperature of the aqueous solution containing nitric acid is preferably 20 ° C. or higher, and preferably 55 ° C. or lower.

硝酸電解により、平均開口径1〜10μmのピットを形成することができる。ただし、電気量を比較的多くしたときは、電解反応が集中し、10μmを超えるハニカムピットも生成する。   Pits having an average opening diameter of 1 to 10 μm can be formed by nitric acid electrolysis. However, when the amount of electricity is relatively large, the electrolytic reaction is concentrated, and honeycomb pits exceeding 10 μm are also generated.

このような砂目を得るためには、電解反応が終了した時点でのアルミニウム合金板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、150C/dm2以上であるのが好ましく、170C/dm2以上であるのがより好ましく、また、600C/dm2以下であるのが好ましく、500C/dm2以下であるのがより好ましい。
この際の電流密度は、電流のピーク値で5A/dm2以上であるのが好ましく、20〜100A/dm2であるのがより好ましい。
In order to obtain such a grain, the total amount of electricity furnished to anode reaction on the aluminum alloy plate up until the electrolysis reaction is completed is preferably at 150C / dm 2 or more, 170C / dm 2 or more more preferably is, but preferably not 600C / dm 2 or less, more preferably 500C / dm 2 or less.
The current density at this time is preferably 5 A / dm 2 or more, more preferably 20 to 100 A / dm 2 in terms of current peak value.

(塩酸を含有する水溶液中での電解粗面化処理(塩酸電解))
塩酸を含有する水溶液は、通常の直流または交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いるものを使用でき、1〜30g/L、好ましくは2〜10g/Lの塩酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン、塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを有する塩酸または硝酸化合物の1つ以上を1g/L〜飽和まで添加して使用することができる。
また、塩酸を含有する水溶液には、鉄、銅、マンガン、ニッケル、チタン、マグネシウム、シリカ等のアルミニウム合金中に含まれる金属が溶解していてもよい。次亜塩素酸や過酸化水素を1〜100g/L添加してもよい。さらに、上記した銅と錯体を形成する化合物を1〜200g/Lの割合で添加することもできる。また、1〜100g/Lの割合で硫酸を添加することもできる。
(Electrolytic roughening treatment in aqueous solution containing hydrochloric acid (hydrochloric acid electrolysis))
As the aqueous solution containing hydrochloric acid, those used for electrochemical surface roughening treatment using ordinary direct current or alternating current can be used. One or more of hydrochloric acid or nitric acid compounds having nitrate ions such as sodium nitrate and ammonium nitrate, and hydrochloric acid ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride can be added to 1 g / L to saturation.
Moreover, the metal contained in aluminum alloys, such as iron, copper, manganese, nickel, titanium, magnesium, and a silica, may melt | dissolve in the aqueous solution containing hydrochloric acid. Hypochlorous acid or hydrogen peroxide may be added at 1 to 100 g / L. Furthermore, the above-mentioned compound which forms a complex with copper can also be added at a rate of 1 to 200 g / L. Moreover, sulfuric acid can also be added at a rate of 1 to 100 g / L.

更に、塩酸を含有する水溶液は、塩酸を2〜10g/L含有する水溶液に、アルミニウム塩(塩化アルミニウム、AlCl3・6H2O)を添加してアルミニウムイオン濃度を3〜7g/L、好ましくは4〜6g/Lにした水溶液であることが特に好ましい。
このような塩酸水溶液を用いて電解粗面化処理を行うと、電解粗面化面がより均一になり、また、低純度のアルミニウム合金板を使用しても、高純度のアルミニウム合金板を使用しても、処理ムラが発生せず、平版印刷版としたときにより優れた耐刷性および耐汚れ性を両立できる。
Furthermore, the aqueous solution containing hydrochloric acid has an aluminum ion concentration of 3 to 7 g / L, preferably by adding an aluminum salt (aluminum chloride, AlCl 3 .6H 2 O) to an aqueous solution containing 2 to 10 g / L of hydrochloric acid. Particularly preferred is an aqueous solution of 4 to 6 g / L.
When electrolytic surface roughening is performed using such an aqueous hydrochloric acid solution, the surface roughened electrolytic surface becomes more uniform, and even if a low purity aluminum alloy plate is used, a high purity aluminum alloy plate is used. Even in this case, processing unevenness does not occur, and it is possible to achieve both excellent printing durability and stain resistance when using a planographic printing plate.

塩酸を含有する水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、55℃以下であるのが好ましく、50℃以下であるのがより好ましい。   The temperature of the aqueous solution containing hydrochloric acid is preferably 20 ° C or higher, more preferably 30 ° C or higher, more preferably 55 ° C or lower, and even more preferably 50 ° C or lower.

塩酸を含有する水溶液への添加物、装置、電源、電流密度、流速、温度としては公知の電気化学的な粗面化に使用するものが用いることができる。電気化学的な粗面化に用いる電源は交流または直流が用いられるが、交流が特に好ましい。   As the additive, apparatus, power source, current density, flow rate, and temperature to the aqueous solution containing hydrochloric acid, those used for known electrochemical surface roughening can be used. AC or DC is used as the power source used for electrochemical roughening, but AC is particularly preferable.

塩酸はそれ自身のアルミニウム溶解力が強いため、わずかな電流を加えるだけで表面に微細な凹凸を形成させることが可能である。この微細な凹凸は、平均開口径(ピットの径)が0.01〜1.5μmであり、アルミニウム合金板の表面の全面に均一に生成する。
また、電気量を増やしていく(電気量の総和(アノード反応)が150〜2000C/dm2)と、平均開口径0.01〜0.4μmのピットを表面に有する平均開口径1〜30μmのピットが生成する。このような砂目を得るためには電解反応が終了した時点でのアルミニウム合金板のアノード反応にあずかる電気量の総和が、10C/dm2以上であるのが好ましく、50C/dm2以上であるのがより好ましく、さらには100C/dm2以上であるのが好ましい。また、2000C/dm2以下であるのが好ましく、600C/dm2以下であるのがより好ましい。
Since hydrochloric acid itself has a strong ability to dissolve aluminum, it is possible to form fine irregularities on the surface by applying a slight current. The fine irregularities have an average opening diameter (pit diameter) of 0.01 to 1.5 μm and are uniformly generated on the entire surface of the aluminum alloy plate.
Further, when the amount of electricity is increased (the total amount of electricity (anode reaction) is 150 to 2000 C / dm 2 ), the average opening diameter is 1 to 30 μm having pits with an average opening diameter of 0.01 to 0.4 μm on the surface. A pit is generated. In order to obtain such a grain, the total amount of electricity involved in the anode reaction of the aluminum alloy plate at the time when the electrolytic reaction is completed is preferably 10 C / dm 2 or more, and more preferably 50 C / dm 2 or more. Is more preferable, and more preferably 100 C / dm 2 or more. But preferably not more 2000C / dm 2 or less, more preferably 600C / dm 2 or less.

塩酸電解においては、電流密度は、電流のピーク値で5A/dm2以上であるのが好ましく、20〜100A/dm2であるのがより好ましい。 In hydrochloric acid electrolysis, the current density is preferably 5 A / dm 2 or more, more preferably 20 to 100 A / dm 2 at the peak current value.

上記大電気量でアルミニウム合金板を塩酸電解すると、大きなうねりと微細な凹凸を同時に形成させることができ、後述する第二アルカリエッチング処理により該大きなうねりをより均一にすることで、耐汚れ性を向上させることができる。   When the aluminum alloy plate is subjected to hydrochloric acid electrolysis with the above-mentioned large electric quantity, large waviness and fine irregularities can be formed at the same time, and by making the large waviness more uniform by the second alkali etching process described later, the stain resistance is improved. Can be improved.

第1電解粗面化処理は、例えば、特公昭48−28123号公報および英国特許第896,563号明細書に記載されている電気化学的グレイン法(電解グレイン法)に従うことができる。この電解グレイン法は、正弦波形の交流電流を用いるものであるが、特開昭52−58602号公報に記載されているような特殊な波形を用いて行ってもよい。また、特開平3−79799号公報に記載されている波形を用いることもできる。また、特開昭55−158298号、特開昭56−28898号、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭54−85802号、特開昭60−190392号、特開昭58−120531号、特開昭63−176187号、特開平1−5889号、特開平1−280590号、特開平1−118489号、特開平1−148592号、特開平1−178496号、特開平1−188315号、特開平1−154797号、特開平2−235794号、特開平3−260100号、特開平3−253600号、特開平4−72079号、特開平4−72098号、特開平3−267400号、特開平1−141094号の各公報に記載されている方法も適用できる。また、前述のほかに、電解コンデンサーの製造方法として提案されている特殊な周波数の交番電流を用いて電解することも可能である。例えば、米国特許第4,276,129号明細書および同第4,676,879号明細書に記載されている。   The first electrolytic surface roughening treatment can be performed according to, for example, the electrochemical grain method (electrolytic grain method) described in Japanese Patent Publication No. 48-28123 and British Patent No. 896,563. This electrolytic grain method uses a sinusoidal alternating current, but it may be performed using a special waveform as described in JP-A-52-58602. Further, the waveform described in JP-A-3-79799 can also be used. JP-A-55-158298, JP-A-56-28898, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-54-85802, JP-A-60-190392, JP-A-58-120531, JP-A-63-176187, JP-A-1-5889, JP-A-1-280590, JP-A-1-118489, JP-A-1-148592, and JP-A-1-17896. JP-A-1-188315, JP-A-1-1549797, JP-A-2-235794, JP-A-3-260100, JP-A-3-253600, JP-A-4-72079, JP-A-4-72098, The methods described in JP-A-3-267400 and JP-A-1-141094 can also be applied. In addition to the above, it is also possible to perform electrolysis using an alternating current having a special frequency that has been proposed as a method of manufacturing an electrolytic capacitor. For example, it is described in US Pat. Nos. 4,276,129 and 4,676,879.

電解槽および電源については、種々提案されているが、米国特許第4,203,637号明細書、特開昭56−123400号、特開昭57−59770号、特開昭53−12738号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32823号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特開昭62−127500号、特開平1−52100号、特開平1−52098号、特開昭60−67700号、特開平1−230800号、特開平3−257199号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
また、特開昭52−58602号、特開昭52−152302号、特開昭53−12738号、特開昭53−12739号、特開昭53−32821号、特開昭53−32822号、特開昭53−32833号、特開昭53−32824号、特開昭53−32825号、特開昭54−85802号、特開昭55−122896号、特開昭55−132884号、特公昭48−28123号、特公昭51−7081号、特開昭52−133838号、特開昭52−133840号、特開昭52−133844号、特開昭52−133845号、特開昭53−149135号、特開昭54−146234号の各公報等に記載されているもの等も用いることができる。
Various electrolyzers and power sources have been proposed, including US Pat. No. 4,203,637, JP-A-56-123400, JP-A-57-59770, JP-A-53-12738, JP 53-32821, JP 53-32222, JP 53-32823, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 62-127500, JP Those described in JP-A-1-52100, JP-A-1-52098, JP-A-60-67700, JP-A-1-230800, JP-A-3-257199 and the like can be used.
Also, JP-A-52-58602, JP-A-52-152302, JP-A-53-12738, JP-A-53-12739, JP-A-53-32821, JP-A-53-32822, JP 53-32833, JP 53-32824, JP 53-32825, JP 54-85802, JP 55-122896, JP 55-13284, JP 48-28123, JP-B-51-7081, JP-A-52-133638, JP-A-52-133840, JP-A-52-133844, JP-A-52-133845, JP-A-53-149135 And those described in JP-A No. 54-146234 and the like can also be used.

アルミニウム合金板を連続的に電解粗面化処理していくと、アルカリ溶液中のアルミニウムイオン濃度が上昇していき、第1電解粗面化処理により形成されるアルミニウム合金板の凹凸の形状が変動する。そこで、硝酸電解液または塩酸電解液の組成管理を、以下のようにして行うのが好ましい。
即ち、硝酸濃度または塩酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度とのマトリクス、または、電導度と超音波伝搬速度と温度とのマトリクスをあらかじめ作成しておき、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度によって液組成を測定し、液組成の制御目標値になるように硝酸または塩酸と水とを添加する。そして、硝酸または塩酸と水とを添加することによって増加した電解液を、循環タンクからオーバーフローさせることにより、その液量を一定に保つ。添加する硝酸としては、工業用の30〜70質量%のものを用いることができる。添加する塩酸としては、工業用の30〜40質量%のものを用いることができる。
As the aluminum alloy plate is continuously subjected to electrolytic surface roughening, the aluminum ion concentration in the alkaline solution increases, and the shape of the irregularities of the aluminum alloy plate formed by the first electrolytic surface roughening treatment varies. To do. Therefore, the composition management of the nitric acid electrolytic solution or hydrochloric acid electrolytic solution is preferably performed as follows.
That is, a matrix of conductivity, specific gravity, and temperature, or a matrix of conductivity, ultrasonic propagation velocity, and temperature corresponding to a matrix of nitric acid concentration or hydrochloric acid concentration and aluminum ion concentration is prepared in advance. The liquid composition is measured by the degree, specific gravity and temperature, or the electric conductivity, the ultrasonic wave propagation speed and the temperature, and nitric acid or hydrochloric acid and water are added so as to reach the control target value of the liquid composition. Then, the electrolytic solution increased by adding nitric acid or hydrochloric acid and water is overflowed from the circulation tank, so that the amount of the electrolytic solution is kept constant. As nitric acid to be added, 30 to 70% by mass of industrial grade can be used. As hydrochloric acid to add, the industrial thing of 30-40 mass% can be used.

電導度計および比重計としては、それぞれ温度補償されているものを用いるのが好ましい。比重計としては、差圧式のものを用いるのが好ましい。
液組成の測定に用いるために電解液から採取されたサンプルは、電解液とは別の熱交換機を用いて、一定温度(例えば、40±0.5℃)に制御した後に、測定に用いるのが、測定の精度が高くなる点で好ましい。
As the conductivity meter and the specific gravity meter, it is preferable to use those that are temperature compensated. As the specific gravity meter, a differential pressure type is preferably used.
Samples taken from the electrolyte for use in measuring the liquid composition are used for measurement after being controlled at a constant temperature (eg, 40 ± 0.5 ° C.) using a heat exchanger different from the electrolyte. However, it is preferable in that the accuracy of measurement is increased.

電気化学的粗面化処理に用いられる交流電源波は、特に限定されず、サイン波(sin波、正弦波)、矩形波、台形波、三角波等が用いられるが、サイン波、矩形波または台形波が好ましく、台形波が特に好ましい。第一塩酸電解の場合には、平均直径1μm以上のピットが均一に生成しやすくなる点でサイン波が特に好ましい。サイン波とは、図4に示したものをいう。
台形波とは、図1に示したものをいう。この台形波において電流がゼロからピークに達するまでの時間(TP)は0.5〜3msecであるのが好ましい。TPが3msecを超えると、特に硝酸を含有する水溶液を用いると、電解処理で自然発生的に増加するアンモニウムイオン等に代表される電解液中の微量成分の影響を受けやすくなり、均一な砂目立てが行われにくくなる。その結果、平版印刷版としたときの耐汚れ性が低下する傾向にある。
The AC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited, and a sine wave (sin wave, sine wave), a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like is used. Waves are preferred and trapezoidal waves are particularly preferred. In the case of the first hydrochloric acid electrolysis, a sine wave is particularly preferable in that pits having an average diameter of 1 μm or more are easily generated. The sine wave refers to that shown in FIG.
A trapezoidal wave means what was shown in FIG. In this trapezoidal wave, the time (TP) until the current reaches a peak from zero is preferably 0.5 to 3 msec. When TP exceeds 3 msec, especially when an aqueous solution containing nitric acid is used, it becomes susceptible to the influence of trace components in the electrolytic solution typified by ammonium ions and the like that spontaneously increase by electrolytic treatment, and uniform graining. Is difficult to be performed. As a result, the stain resistance tends to decrease when a lithographic printing plate is obtained.

交流のduty比は1:2〜2:1のものが使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているように、アルミニウムにコンダクタロールを用いない間接給電方式においてはduty比が1:1のものが好ましい。
交流の周波数は0.1〜120Hzのものを用いることが可能であるが、50〜70Hzが設備上好ましい。50Hzよりも低いと、主極のカーボン電極が溶解しやすくなり、また、70Hzよりも高いと、電源回路上のインダクタンス成分の影響を受けやすくなり、電源コストが高くなる。
An AC duty ratio of 1: 2 to 2: 1 can be used. However, as described in Japanese Patent Laid-Open No. 5-195300, in an indirect power feeding method in which no conductor roll is used for aluminum, a duty ratio is used. Is preferably 1: 1.
An AC frequency of 0.1 to 120 Hz can be used, but 50 to 70 Hz is preferable in terms of equipment. If it is lower than 50 Hz, the carbon electrode of the main electrode is likely to be dissolved, and if it is higher than 70 Hz, it is easily affected by the inductance component on the power supply circuit, and the power supply cost is increased.

図2は、交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
電解槽には1個以上の交流電源を接続することができる。主極に対向するアルミニウム合金板に加わる交流の陽極と陰極との電流比をコントロールし、均一な砂目立てを行うことと、主極のカーボンを溶解することとを目的として、図2に示したように、補助陽極を設置し、交流電流の一部を分流させることが好ましい。図2において、11はアルミニウム合金板であり、12はラジアルドラムローラであり、13aおよび13bは主極であり、14は電解処理液であり、15は電解液供給口であり、16はスリットであり、17は電解液通路であり、18は補助陽極であり、19aおよび19bはサイリスタであり、20は交流電源であり、40は主電解槽であり、50は補助陽極槽である。整流素子またはスイッチング素子を介して電流値の一部を二つの主電極とは別の槽に設けた補助陽極に直流電流として分流させることにより、主極に対向するアルミニウム合金板上で作用するアノード反応にあずかる電流値と、カソード反応にあずかる電流値との比を制御することができる。主極に対向するアルミニウム合金板上で、陽極反応と陰極反応とにあずかる電気量の比(陰極時電気量/陽極時電気量)は、0.3〜0.95であるのが好ましい。
FIG. 2 is a side view showing an example of a radial type cell used for electrochemical surface roughening using alternating current.
One or more AC power supplies can be connected to the electrolytic cell. For the purpose of controlling the current ratio between the alternating current anode and cathode applied to the aluminum alloy plate facing the main electrode, uniform graining, and dissolving the carbon of the main electrode are shown in FIG. Thus, it is preferable to install an auxiliary anode and divert part of the alternating current. In FIG. 2, 11 is an aluminum alloy plate, 12 is a radial drum roller, 13a and 13b are main poles, 14 is an electrolytic treatment liquid, 15 is an electrolytic solution supply port, and 16 is a slit. Yes, 17 is an electrolyte passage, 18 is an auxiliary anode, 19a and 19b are thyristors, 20 is an AC power source, 40 is a main electrolytic cell, and 50 is an auxiliary anode cell. An anode acting on the aluminum alloy plate facing the main electrode by diverting a part of the current value as a direct current to an auxiliary anode provided in a tank separate from the two main electrodes via a rectifying element or a switching element It is possible to control the ratio between the current value for the reaction and the current value for the cathode reaction. On the aluminum alloy plate facing the main electrode, the ratio of the amount of electricity involved in the anodic reaction and the cathodic reaction (the amount of electricity at the time of cathode / the amount of electricity at the time of anode) is preferably 0.3 to 0.95.

電解槽は、縦型、フラット型、ラジアル型等の公知の表面処理に用いる電解槽が使用可能であるが、特開平5−195300号公報に記載されているようなラジアル型電解槽が特に好ましい。電解槽内を通過する電解液は、アルミニウムウェブの進行方向に対してパラレルであってもカウンターであってもよい。   As the electrolytic cell, electrolytic cells used for known surface treatments such as a vertical type, a flat type, and a radial type can be used, but a radial type electrolytic cell as described in JP-A-5-195300 is particularly preferable. . The electrolytic solution passing through the electrolytic cell may be parallel to the traveling direction of the aluminum web or may be a counter.

また、直流を用いた電気化学的粗面化処理には、通常の直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液を用いることができる。具体的には、上記交流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる電解液と同様のものを用いることができる。   In addition, in the electrochemical surface roughening treatment using direct current, an electrolytic solution used for the electrochemical surface roughening treatment using normal direct current can be used. Specifically, the same electrolyte solution used for the electrochemical surface roughening treatment using the alternating current can be used.

電気化学的粗面化処理に用いられる直流電源波は、極性の変化しない電流であれば特に限定されず、くし形波、連続直流、商用交流をサイリスタで全波整流したもの等が用いられるが、平滑化された連続直流が好ましい。
直流を用いた電気化学的粗面化処理は、回分法、半連続法および連続法のいずれでも行うことができるが、連続法で行うのが好ましい。
The DC power supply wave used for the electrochemical surface roughening treatment is not particularly limited as long as the current does not change in polarity. Smoothed continuous direct current is preferred.
The electrochemical surface roughening treatment using direct current can be performed by any of a batch method, a semi-continuous method, and a continuous method, but is preferably performed by a continuous method.

直流を用いた電気化学的粗面化処理に用いられる装置は、交互に配置された陽極と陰極との間に直流電圧を印加し、アルミニウム合金板を該陽極および該陰極と、間隔を保って通過させることができるものであれば、特に限定されない。   The apparatus used for the electrochemical surface roughening treatment using direct current applies a direct current voltage between anodes and cathodes arranged alternately, and an aluminum alloy plate is spaced from the anode and cathode. If it can be passed, it will not be specifically limited.

電極は、特に限定されず、電気化学的粗面化処理に用いられる従来公知の電極を用いることができる。
陽極としては、例えば、チタン、タンタル、ニオブ等のバルブ金属に白金族系の金属をめっきし、またはクラッドしたもの;バルブ金属に白金族系の金属の酸化物を塗布し、または焼結させたもの;アルミニウム;ステンレスが挙げられる。中でも、バルブ金属に白金をクラッドしたものが好ましい。電極の内部に水を通して水冷化するなどの方法により、陽極の寿命を更に長くすることができる。
陰極としては、例えば、ブールベイダイヤグラムから、電極電位を負としたときに溶解しない金属等を選択して用いることができる。中でも、カーボンが好ましい。
An electrode is not specifically limited, The conventionally well-known electrode used for an electrochemical roughening process can be used.
As the anode, for example, a valve metal such as titanium, tantalum, or niobium is plated or clad with a platinum group metal; the valve metal is coated with an oxide of a platinum group metal or sintered. Aluminium; stainless steel. Among these, a valve metal obtained by cladding platinum is preferable. The life of the anode can be further extended by a method such as water-cooling by passing water through the electrode.
As the cathode, for example, a metal that does not dissolve when the electrode potential is negative can be selected and used from the Boolean Bay diagram. Among these, carbon is preferable.

電極の配列は、波状構造に応じて、適宜選択することができる。また、陽極と陰極とのアルミニウム合金板の進行方向の長さを変えたり、アルミニウム合金板の通過速度を変えたり、電解液の流速、液温、液組成、電流密度等を変えることにより、波状構造を調整することができる。また、陽極の槽と陰極の槽とを別個の電解槽とした装置を用いる場合には、各処理槽の電解条件を変えることもできる。   The arrangement of the electrodes can be appropriately selected according to the wave structure. In addition, by changing the length of the aluminum alloy plate in the traveling direction between the anode and the cathode, changing the passing speed of the aluminum alloy plate, changing the flow rate of the electrolyte, the temperature, the liquid composition, the current density, etc. The structure can be adjusted. In addition, in the case of using an apparatus in which the anode tank and the cathode tank are separated from each other, the electrolysis conditions of each treatment tank can be changed.

第1電解粗面化処理が終了した後は、ニップローラで液切りし、更に、1〜10秒間水洗処理を行った後、ニップローラで液切りするのが好ましい。
水洗処理は、スプレー管を用いて水洗するのが好ましい。水洗処理に用いられるスプレー管としては、例えば、扇状に噴射水が広がるスプレーチップをアルミニウム合金板の幅方向に複数個有するスプレー管を用いることができる。スプレーチップの間隔は20〜100mmであるのが好ましく、また、スプレーチップ1本あたりの液量は1〜20L/minであるのが好ましい。スプレー管は複数本用いるのが好ましい。
After the first electrolytic surface roughening treatment is finished, it is preferable to drain the liquid with a nip roller, and further perform the water washing treatment for 1 to 10 seconds and then drain the liquid with a nip roller.
The washing treatment is preferably carried out using a spray tube. As a spray tube used for the water washing treatment, for example, a spray tube having a plurality of spray tips in the width direction of the aluminum alloy plate in which spray water spreads in a fan shape can be used. The distance between spray tips is preferably 20 to 100 mm, and the amount of liquid per spray tip is preferably 1 to 20 L / min. It is preferable to use a plurality of spray tubes.

<第2アルカリエッチング処理>
第1電解粗面化処理と第2電解粗面化処理との間に行われる第2アルカリエッチング処理は、第1電解粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第1電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。
これにより、第1電解粗面化処理によって形成された大きなピットのエッジ部分が溶解して表面が滑らかになり、インキを該エッジ部分にひっかかりにくくするため、耐汚れ性に優れる平版印刷版原版を得ることができる。
第2アルカリエッチング処理は、基本的に第1アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
<Second alkali etching treatment>
The second alkaline etching process performed between the first electrolytic surface roughening process and the second electrolytic surface roughening process includes dissolving the smut generated in the first electrolytic surface roughening process, and the first electrolytic roughing process. This is performed for the purpose of dissolving the edge portion of the pit formed by the surface treatment.
As a result, the edge portion of the large pit formed by the first electrolytic surface roughening treatment is melted and the surface becomes smooth, so that the ink is not easily caught on the edge portion. Can be obtained.
Since the second alkali etching process is basically the same as the first alkali etching process, only different points will be described below.

第2アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、0.05g/m2以上であるのが好ましく、0.1g/m2以上であるのがより好ましく、また、4g/m2以下であるのが好ましく、3.5g/m2以下であるのがより好ましい。エッチング量が0.05g/m2以上であると、平版印刷版の非画像部において、第1電解粗面化処理で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が4g/m2以下であると、第1電解粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。 In the second alkali etching treatment, the etching amount is preferably at 0.05 g / m 2 or more, more preferably 0.1 g / m 2 or more, and it is at 4g / m 2 or less Preferably, it is 3.5 g / m 2 or less. When the etching amount is 0.05 g / m 2 or more, the edge portion of the pit generated by the first electrolytic surface roughening process becomes smooth in the non-image portion of the lithographic printing plate, and the ink is difficult to get caught. Excellent in properties. On the other hand, when the etching amount is 4 g / m 2 or less, the unevenness generated by the first electrolytic surface roughening treatment becomes large, and thus the printing durability is excellent.

第2アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、300g/L以上であるのがより好ましく、また、500g/L以下であるのが好ましく、450g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、50g/L以上であるのがより好ましく、また、200g/L以下であるのが好ましく、150g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the second alkali etching treatment, the concentration of the alkaline solution is preferably 30 g / L or more, more preferably 300 g / L or more, and preferably 500 g / L or less, 450 g / L. The following is more preferable.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 50 g / L or more, and preferably 200 g / L or less, more preferably 150 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

<第2デスマット処理>
第2アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去する
ために酸洗い(第2デスマット処理)を行うのが好ましい。第2デスマット処理は、第一デスマット処理と同様の方法で行うことができる。
<Second desmut treatment>
After the second alkali etching treatment, it is preferable to perform pickling (second desmut treatment) in order to remove dirt (smut) remaining on the surface. The second desmut process can be performed in the same manner as the first desmut process.

第2デスマット処理においては、硝酸または硫酸を用いるのが好ましい。
第2デスマット処理においては、1〜400g/Lの酸および0.1〜8g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。
硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度100〜350g/Lの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を0.1〜5g/Lとなるように調整した液を用いることができる。また、後述する陽極酸化処理に用いられる電解液のオーバーフロー廃液を用いこともできる。
In the second desmut treatment, nitric acid or sulfuric acid is preferably used.
In the second desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 1 to 400 g / L acid and 0.1 to 8 g / L aluminum ions.
When using sulfuric acid, specifically, use a solution prepared by dissolving aluminum sulfate in an aqueous sulfuric acid solution having a sulfuric acid concentration of 100 to 350 g / L so that the aluminum ion concentration is 0.1 to 5 g / L. Can do. Moreover, the overflow waste liquid of the electrolyte solution used for the anodizing process mentioned later can also be used.

第2デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、20秒以下であるのがより好ましい。
第2デスマット処理においては、酸水溶液の温度は、20℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、70℃以下であるのが好ましく、60℃以下であるのがより好ましい。
In the second desmut treatment, the treatment time is preferably 1 second or more, more preferably 4 seconds or more, and preferably 60 seconds or less, more preferably 20 seconds or less. .
In the second desmut treatment, the temperature of the acid aqueous solution is preferably 20 ° C. or higher, more preferably 30 ° C. or higher, and preferably 70 ° C. or lower, and preferably 60 ° C. or lower. More preferred.

<第2電解粗面化処理(第2塩酸電解)>
第2電解粗面化処理は、塩酸を含有する水溶液中での交流または直流を用いた電気化学的粗面化処理である。
本発明においては、上述した第1電解粗面化処理だけでもよいが、この第2電解粗面化処理を組み合わせることにより、さらに複雑な凹凸構造をアルミニウム合金板の表面に形成させることができ、ひいては、耐刷性を優れたものにすることができる。
<Second electrolytic surface roughening treatment (second hydrochloric acid electrolysis)>
The second electrolytic surface roughening treatment is an electrochemical surface roughening treatment using alternating current or direct current in an aqueous solution containing hydrochloric acid.
In the present invention, only the first electrolytic surface roughening treatment described above may be used, but by combining this second electrolytic surface roughening treatment, a more complicated uneven structure can be formed on the surface of the aluminum alloy plate, As a result, the printing durability can be improved.

第2電解粗面化処理は、上記第1電解粗面化処理において説明した塩酸電解と基本的に同様である。
第2電解粗面化処理における塩酸を含有する水溶液中での電気化学的な粗面化でアルミニウム合金板が陽極反応にあずかる電気量の総和は、電気化学的な粗面化処理が終了した時点で、10〜200C/dm2の範囲から選択でき、第1電解粗面化処理で形成した粗面を大きくくずさないためには、10〜100C/dm2が好ましく、50〜80C/dm2が特に好ましい。
The second electrolytic surface roughening treatment is basically the same as the hydrochloric acid electrolysis described in the first electrolytic surface roughening treatment.
The total amount of electricity that the aluminum alloy plate takes part in the anodic reaction by electrochemical surface roughening in an aqueous solution containing hydrochloric acid in the second electrolytic surface roughening treatment is the time when the electrochemical surface roughening treatment is completed. in may be selected from the range of 10~200C / dm 2, to first electrolytic graining increase destroying not formed was roughened by treatment is preferably 10~100C / dm 2, 50~80C / dm 2 is Particularly preferred.

<第1アルカリエッチング処理−第1電解粗面化処理(硝酸電解)−第2アルカリエッチング処理−第2電解粗面化処理(第2塩酸電解)>
上記処理を組み合わせて行う場合は、硝酸を含有する電解液中でアノード反応における電気量の総和が65〜500C/dm2となる硝酸電解、溶解量が0.1g/m2以上となるアルカリエッチング処理、塩酸を含有する電解液中でアノード反応における電気量の総和が25〜100C/dm2となる第2塩酸電解、および、溶解量が0.03g/m2以上となるアルカリエッチング処理をこの順で施すのが好ましい。
この組み合わせで粗面化処理すれば、耐汚れ性および耐刷性がより優れた平版印刷版原版を得ることができる。
<First Alkaline Etching Treatment-First Electrolytic Roughening Treatment (Nitric Acid Electrolysis) -Second Alkaline Etching Treatment-Second Electrolytic Roughening Treatment (Second Hydrochloric Acid Electrolysis)>
When performing the above treatment in combination, nitric acid electrolysis in which the total amount of electricity in the anodic reaction is 65 to 500 C / dm 2 in the electrolytic solution containing nitric acid, and alkaline etching in which the dissolution amount is 0.1 g / m 2 or more. Treatment, second hydrochloric acid electrolysis in which the total amount of electricity in the anodic reaction is 25 to 100 C / dm 2 in an electrolytic solution containing hydrochloric acid, and alkaline etching treatment in which the dissolution amount is 0.03 g / m 2 or more. It is preferable to apply in order.
By roughening with this combination, a lithographic printing plate precursor having more excellent stain resistance and printing durability can be obtained.

<第3アルカリエッチング処理>
第2電解粗面化処理の後に行われる第3アルカリエッチング処理は、第2電解粗面化処理で生成したスマットを溶解させること、および、第2電解粗面化処理により形成されたピットのエッジ部分を溶解させることを目的として行われる。第3アルカリエッチング処理は、基本的に第1アルカリエッチング処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
<Third alkali etching treatment>
The third alkali etching process performed after the second electrolytic surface roughening process is performed by dissolving the smut generated by the second electrolytic surface roughening process and the edge of the pit formed by the second electrolytic surface roughening process. This is done for the purpose of dissolving the part. Since the third alkali etching process is basically the same as the first alkali etching process, only different points will be described below.

第3アルカリエッチング処理においては、エッチング量は、0.05g/m2以上であるのが好ましく、0.1g/m2以上であるのがより好ましく、また、0.3g/m2以下であるのが好ましく、0.25g/m2以下であるのがより好ましい。エッチング量が0.05g/m2以上であると、平版印刷版の非画像部において、第二塩酸電解で生成したピットのエッジ部分が滑らかとなり、インキがひっかかりにくくなるため、耐汚れ性が優れる。一方、エッチング量が0.3g/m2以下であると、第1電解粗面化処理および第2電解粗面化処理で生成した凹凸が大きくなるため、耐刷性が優れる。 In the third alkali etching treatment, the etching amount is preferably at 0.05 g / m 2 or more, more preferably 0.1 g / m 2 or more, is 0.3 g / m 2 or less Of 0.25 g / m 2 or less is more preferable. When the etching amount is 0.05 g / m 2 or more, the edge portion of the pit generated by the second hydrochloric acid electrolysis becomes smooth in the non-image portion of the lithographic printing plate, and the ink is difficult to catch, so that the stain resistance is excellent. . On the other hand, when the etching amount is 0.3 g / m 2 or less, the unevenness generated by the first electrolytic surface roughening treatment and the second electrolytic surface roughening treatment becomes large, and thus the printing durability is excellent.

第3アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の濃度は、30g/L以上であるのが好ましく、また、前段の塩酸交流電解によって生じた凹凸を小さくしすぎないようにするため、100g/L以下であるのが好ましく、70g/L以下であるのがより好ましい。
また、アルカリ溶液は、アルミニウムイオンを含有しているのが好ましい。アルミニウムイオン濃度は、1g/L以上であるのが好ましく、3g/L以上であるのがより好ましく、また、50g/L以下であるのが好ましく、8g/L以下であるのがより好ましい。このようなアルカリ溶液は、例えば、水と48質量%カセイソーダ水溶液とアルミン酸ソーダとを用いて調製することができる。
In the third alkali etching treatment, the concentration of the alkaline solution is preferably 30 g / L or more, and in order not to make the unevenness caused by the hydrochloric acid alternating current electrolysis in the previous stage too small, the concentration is 100 g / L or less. It is preferable that it is 70 g / L or less.
The alkaline solution preferably contains aluminum ions. The aluminum ion concentration is preferably 1 g / L or more, more preferably 3 g / L or more, and preferably 50 g / L or less, more preferably 8 g / L or less. Such an alkaline solution can be prepared using, for example, water, a 48 mass% sodium hydroxide aqueous solution, and sodium aluminate.

第3アルカリエッチング処理においては、アルカリ溶液の温度は、25℃以上であるのが好ましく、30℃以上であるのがより好ましく、また、60℃以下であるのが好ましく、50℃以下であるのがより好ましい。
第3アルカリエッチング処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また、30秒以下であるのが好ましく、10秒以下であるのがより好ましい。
In the third alkali etching treatment, the temperature of the alkaline solution is preferably 25 ° C or higher, more preferably 30 ° C or higher, and preferably 60 ° C or lower, and 50 ° C or lower. Is more preferable.
In the third alkali etching treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 2 seconds or longer, more preferably 30 seconds or shorter, and more preferably 10 seconds or shorter. preferable.

<第3デスマット処理>
第3アルカリエッチング処理を行った後、表面に残留する汚れ(スマット)を除去するために酸洗い(第3デスマット処理)を行うのが好ましい。第3デスマット処理は、基本的に第1デスマット処理と同様であるので、異なる点のみ以下に説明する。
第3デスマット処理においては、5〜400g/Lの酸および0.5〜8g/Lのアルミニウムイオンを含有する酸性溶液を用いるのが好ましい。硫酸を用いる場合は、具体的には、硫酸濃度100〜350g/Lの硫酸水溶液に、硫酸アルミニウムを溶解させてアルミニウムイオン濃度を1〜5g/Lとなるように調整した液が好ましい。
<Third desmut treatment>
After the third alkali etching treatment, pickling (third desmutting treatment) is preferably performed to remove dirt (smut) remaining on the surface. Since the third desmut process is basically the same as the first desmut process, only the differences will be described below.
In the third desmutting treatment, it is preferable to use an acidic solution containing 5-400 g / L acid and 0.5-8 g / L aluminum ions. When sulfuric acid is used, specifically, a solution prepared by dissolving aluminum sulfate in a sulfuric acid aqueous solution having a sulfuric acid concentration of 100 to 350 g / L to adjust the aluminum ion concentration to 1 to 5 g / L is preferable.

第3デスマット処理においては、処理時間は、1秒以上であるのが好ましく、4秒以上であるのがより好ましく、また、60秒以下であるのが好ましく、15秒以下であるのがより好ましい。
第3デスマット処理において、デスマット処理液として、引き続き行われる陽極酸化処理に用いられる電解液と同じ種類の液を用いる場合には、デスマット処理後にニップローラによる液切りおよび水洗処理を省略することができる。
In the third desmut treatment, the treatment time is preferably 1 second or longer, more preferably 4 seconds or longer, and preferably 60 seconds or shorter, more preferably 15 seconds or shorter. .
In the third desmut process, when the same type of liquid as the electrolyte used in the subsequent anodizing process is used as the desmut process liquid, the draining with a nip roller and the water washing process can be omitted after the desmut process.

<陽極酸化処理>
以上のように処理されたアルミニウム合金板には、陽極酸化処理を施すのが好ましい。
陽極酸化処理はこの分野で従来行われている方法で行うことができる。この場合、例えば、硫酸濃度50〜300g/Lで、アルミニウム濃度5質量%以下の溶液中で、アルミニウム合金板を陽極として通電して陽極酸化皮膜を形成させることができる。陽極酸化処理に用いられる溶液としては、硫酸、リン酸、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸、アミドスルホン酸等を単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
<Anodizing treatment>
It is preferable to anodize the aluminum alloy plate treated as described above.
The anodizing treatment can be performed by a method conventionally used in this field. In this case, for example, in a solution having a sulfuric acid concentration of 50 to 300 g / L and an aluminum concentration of 5% by mass or less, an anodized film can be formed by energizing an aluminum alloy plate as an anode. As a solution used for the anodizing treatment, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, amidosulfonic acid and the like can be used alone or in combination of two or more.

この際、少なくともアルミニウム合金板、電極、水道水、地下水等に通常含まれる成分が電解液中に含まれていても構わない。更には、第二、第三の成分が添加されていても構わない。ここでいう第二、第三の成分としては、例えば、Na、K、Mg、Li、Ca、Ti、Al、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Zn等の金属のイオン;アンモニウムイオン等の陽イオン;硝酸イオン、炭酸イオン、塩化物イオン、リン酸イオン、フッ化物イオン、亜硫酸イオン、チタン酸イオン、ケイ酸イオン、ホウ酸イオン等の陰イオンが挙げられ、0〜10000ppm程度の濃度で含まれていてもよい。   Under the present circumstances, the component normally contained at least in an aluminum alloy plate, an electrode, tap water, groundwater, etc. may be contained in electrolyte solution. Furthermore, the second and third components may be added. Examples of the second and third components herein include metal ions such as Na, K, Mg, Li, Ca, Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, and Zn; Cation such as ammonium ion; anion such as nitrate ion, carbonate ion, chloride ion, phosphate ion, fluoride ion, sulfite ion, titanate ion, silicate ion, borate ion, etc., 0 to 10,000 ppm It may be contained at a concentration of about.

陽極酸化処理の条件は、使用される電解液によって種々変化するので一概に決定され得ないが、一般的には電解液濃度1〜80質量%、液温5〜70℃、電流密度0.5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間15秒〜50分であるのが適当であり、所望の陽極酸化皮膜量となるように調整される。 The conditions for anodizing treatment vary depending on the electrolyte used, and thus cannot be determined unconditionally. In general, however, the electrolyte concentration is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ˜60 A / dm 2 , voltage 1 to 100 V, electrolysis time 15 seconds to 50 minutes are appropriate, and the amount of anodic oxide film is adjusted as desired.

また、特開昭54−81133号、特開昭57−47894号、特開昭57−51289号、特開昭57−51290号、特開昭57−54300号、特開昭57−136596号、特開昭58−107498号、特開昭60−200256号、特開昭62−136596号、特開昭63−176494号、特開平4−176897号、特開平4−280997号、特開平6−207299号、特開平5−24377号、特開平5−32083号、特開平5−125597号、特開平5−195291号の各公報等に記載されている方法を使用することもできる。   Further, JP-A-54-81133, JP-A-57-47894, JP-A-57-51289, JP-A-57-51290, JP-A-57-54300, JP-A-57-136596, JP-A-58-107498, JP-A-60-200366, JP-A-62-136696, JP-A-63-176494, JP-A-4-17697, JP-A-4-280997, JP-A-6-280997 The methods described in JP-A-207299, JP-A-5-24377, JP-A-5-32083, JP-A-5-125597, JP-A-5-195291 and the like can also be used.

中でも、特開昭54−12853号公報および特開昭48−45303号公報に記載されているように、電解液として硫酸溶液を用いるのが好ましい。電解液中の硫酸濃度は、10〜300g/L(1〜30質量%)であるのが好ましく、50〜200g/L(5〜20質量%)であるのがより好ましく、また、アルミニウムイオン濃度は、1〜25g/L(0.1〜2.5質量%)であるのが好ましく、2〜10g/L(0.2〜1質量%)であるのがより好ましい。このような電解液は、例えば、硫酸濃度が50〜200g/Lである希硫酸に硫酸アルミニウム等を添加することにより調製することができる。   Of these, as described in JP-A-54-12853 and JP-A-48-45303, it is preferable to use a sulfuric acid solution as the electrolytic solution. The sulfuric acid concentration in the electrolytic solution is preferably 10 to 300 g / L (1 to 30% by mass), more preferably 50 to 200 g / L (5 to 20% by mass), and the aluminum ion concentration. Is preferably 1 to 25 g / L (0.1 to 2.5% by mass), more preferably 2 to 10 g / L (0.2 to 1% by mass). Such an electrolytic solution can be prepared, for example, by adding aluminum sulfate or the like to dilute sulfuric acid having a sulfuric acid concentration of 50 to 200 g / L.

電解液の組成管理は、上述した硝酸電解等の場合と同様の方法を用いて、硫酸濃度とアルミニウムイオン濃度とのマトリクスに対応する、電導度と比重と温度、または、電導度と超音波伝搬速度と温度により管理するのが好ましい。   The composition management of the electrolyte is conducted using the same method as in the case of nitric acid electrolysis described above, and the conductivity, specific gravity and temperature, or conductivity and ultrasonic wave propagation corresponding to the matrix of sulfuric acid concentration and aluminum ion concentration. It is preferable to control by speed and temperature.

電解液の液温は、25〜55℃であるのが好ましく、30〜50℃であるのがより好ましい。   The liquid temperature of the electrolytic solution is preferably 25 to 55 ° C, and more preferably 30 to 50 ° C.

硫酸を含有する電解液中で陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム合金板と対極との間に直流を印加してもよく、交流を印加してもよい。
アルミニウム合金板に直流を印加する場合においては、電流密度は、1〜60A/dm2であるのが好ましく、5〜40A/dm2であるのがより好ましい。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム合金板の一部に電流が集中していわゆる「焼け」(皮膜が周囲より厚くなる部分)が生じないように、陽極酸化処理の開始当初は、5〜10A/m2の低電流密度で電流を流し、陽極酸化処理が進行するにつれ、30〜50A/dm2またはそれ以上に電流密度を増加させるのが好ましい。
具体的には、直流電源の電流配分を、下流側の直流電源の電流が上流側の直流電源の電流以上にするのが好ましい。このような電流配分とすることにより、いわゆる焼けが生じにくくなり、その結果、高速での陽極酸化処理が可能となる。
連続的に陽極酸化処理を行う場合には、アルミニウム合金板に、電解液を介して給電する液給電方式により行うのが好ましい。
このような条件で陽極酸化処理を行うことによりポア(マイクロポア)と呼ばれる孔を多数有する多孔質皮膜が得られるが、通常、その平均ポア径は5〜50nm程度であり、平均ポア密度は300〜800個/μm2程度である。
When anodizing is performed in an electrolytic solution containing sulfuric acid, a direct current may be applied between the aluminum alloy plate and the counter electrode, or an alternating current may be applied.
When a direct current is applied to the aluminum alloy plate, the current density is preferably from 1 to 60 A / dm 2, and more preferably 5 to 40 A / dm 2.
In the case of continuous anodizing treatment, at the beginning of anodizing treatment, so as not to cause so-called "burn" (part where the film becomes thicker than the surroundings) due to current concentration on a part of the aluminum alloy plate. It is preferable to increase the current density to 30 to 50 A / dm 2 or higher as the anodic oxidation process proceeds with a current flowing at a low current density of 5 to 10 A / m 2 .
Specifically, it is preferable that the current distribution of the DC power supply is set so that the current of the downstream DC power supply is equal to or greater than the current of the upstream DC power supply. By using such current distribution, so-called burning is less likely to occur, and as a result, high-speed anodization can be performed.
When the anodizing treatment is continuously performed, it is preferable that the anodization is performed by a liquid power feeding method in which power is supplied to the aluminum alloy plate through an electrolytic solution.
By performing anodizing treatment under such conditions, a porous film having many pores called micropores can be obtained. Usually, the average pore diameter is about 5 to 50 nm, and the average pore density is 300. it is a 800 pieces / μm 2 about.

また、特開平2−57391号公報に記載されているように、電解液としてリン酸溶液を用いるのが特に好ましい。特開平2−57391号公報に記載の方法では、電解液としてリン酸溶液を使用し、リン酸濃度15〜45質量%、電解液温度20〜70℃、電流密度2.0アンペア・分/dm2以上、電圧50V以上、電解時間15秒〜3分の条件で陽極酸化処理を実施している。
なお、上記の手順を実施することにより、陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径(表面平均ポア径)が10〜75nm、好ましくは20〜50nmであり、ポア内部における最大径の平均値(ポア内最大径の平均値)が該平均ポア径の1.1〜3.0倍である陽極酸化皮膜を形成することができる。
Further, as described in JP-A-2-57391, it is particularly preferable to use a phosphoric acid solution as the electrolytic solution. In the method described in JP-A-2-57391, a phosphoric acid solution is used as an electrolytic solution, a phosphoric acid concentration of 15 to 45% by mass, an electrolytic solution temperature of 20 to 70 ° C., and a current density of 2.0 ampere / minute / dm. The anodizing treatment is performed under the conditions of 2 or more, voltage of 50 V or more, and electrolysis time of 15 seconds to 3 minutes.
By carrying out the above procedure, the average pore diameter (surface average pore diameter) in the surface layer of the anodized film is 10 to 75 nm, preferably 20 to 50 nm, and the average value of the maximum diameter inside the pore (inside the pore) An anodized film having an average value of the maximum diameter of 1.1 to 3.0 times the average pore diameter can be formed.

陽極酸化皮膜の量は1〜5g/m2であるのが好ましい。1g/m2未満であると版に傷が入りやすくなり、一方、5g/m2を超えると製造に多大な電力が必要となり、経済的に不利となる。陽極酸化皮膜の量は、1.5〜4g/m2であるのがより好ましい。また、アルミニウム合金板の中央部と縁部近傍との間の陽極酸化皮膜量の差が1g/m2以下になるように行うのが好ましい。 The amount of the anodized film is preferably 1 to 5 g / m 2 . If it is less than 1 g / m 2 , the plate tends to be damaged, while if it exceeds 5 g / m 2 , a large amount of electric power is required for production, which is economically disadvantageous. The amount of the anodized film is more preferably 1.5 to 4 g / m 2 . Further, it is preferable that the difference in the amount of the anodized film between the center portion of the aluminum alloy plate and the vicinity of the edge portion is 1 g / m 2 or less.

陽極酸化処理に用いられる電解装置としては、特開昭48−26638号、特開昭47−18739号、特公昭58−24517号、特開2001−11698号の各公報等に記載されているものを用いることができる。
中でも、図3に示す装置が好適に用いられる。図3は、アルミニウム合金板の表面を陽極酸化処理する装置の一例を示す概略図である。
As electrolysis apparatuses used for anodizing treatment, those described in JP-A-48-26638, JP-A-47-18739, JP-B-58-24517, JP-A-2001-11698, etc. Can be used.
Among these, the apparatus shown in FIG. 3 is preferably used. FIG. 3 is a schematic view showing an example of an apparatus for anodizing the surface of an aluminum alloy plate.

図3に示される陽極酸化処理装置410では、アルミニウム合金板416に電解液を経由して通電するために、アルミニウム合金板416の進行方向の上流側に給電槽412、下流側に陽極酸化処理槽414を設置してある。アルミニウム合金板416は、パスローラ422および428により、図3中矢印で示すように搬送される。アルミニウム合金板416が最初に導入される給電槽412においては、直流電源434の正極に接続された陽極420が設置されており、アルミニウム合金板416は陰極となる。したがって、アルミニウム合金板416においてはカソード反応が起こる。   In the anodizing apparatus 410 shown in FIG. 3, in order to energize the aluminum alloy plate 416 via the electrolytic solution, the feeding tank 412 is upstream of the aluminum alloy plate 416 in the traveling direction, and the anodizing tank is downstream. 414 is installed. Aluminum alloy plate 416 is conveyed by pass rollers 422 and 428 as indicated by arrows in FIG. In the power supply tank 412 into which the aluminum alloy plate 416 is first introduced, an anode 420 connected to the positive electrode of the DC power supply 434 is installed, and the aluminum alloy plate 416 serves as a cathode. Therefore, a cathode reaction occurs in the aluminum alloy plate 416.

アルミニウム合金板416が引き続き導入される陽極酸化処理槽414においては、直流電源434の負極に接続された陰極430が設置されており、アルミニウム合金板416は陽極となる。したがって、アルミニウム合金板416においてはアノード反応が起こり、アルミニウム合金板416の表面に陽極酸化皮膜が形成される。
アルミニウム合金板416と陰極430の間隔は50〜200mmであるのが好ましい。陰極430としてはアルミニウムが用いられる。陰極430としては、アノード反応により発生する水素ガスが系から抜けやすくなるようにするために、広い面積を有する電極でなく、アルミニウム合金板416の進行方向に複数個に分割した電極であるのが好ましい。
In the anodizing tank 414 into which the aluminum alloy plate 416 is subsequently introduced, a cathode 430 connected to the negative electrode of the DC power source 434 is installed, and the aluminum alloy plate 416 serves as an anode. Therefore, an anodic reaction occurs in the aluminum alloy plate 416, and an anodized film is formed on the surface of the aluminum alloy plate 416.
The distance between the aluminum alloy plate 416 and the cathode 430 is preferably 50 to 200 mm. Aluminum is used as the cathode 430. The cathode 430 is not an electrode having a large area but an electrode divided into a plurality of pieces in the traveling direction of the aluminum alloy plate 416 so that the hydrogen gas generated by the anode reaction can easily escape from the system. preferable.

給電槽412と陽極酸化処理槽414との間には、図3に示されるように、中間槽413と呼ばれる電解液が溜まらない槽を設けるのが好ましい。中間槽413を設けることにより、電流がアルミニウム合金板416を経由せず陽極420から陰極430にバイパスすることを抑止することができる。中間槽413にはニップローラ424を設置して液切りを行うことにより、バイパス電流を極力少なくするようにするのが好ましい。液切りにより出た電解液は、排液口442から陽極酸化処理装置410の外に排出される。   Between the power supply tank 412 and the anodizing tank 414, it is preferable to provide a tank called an intermediate tank 413 that does not accumulate an electrolyte as shown in FIG. By providing the intermediate tank 413, it is possible to prevent the current from bypassing the anode 420 to the cathode 430 without passing through the aluminum alloy plate 416. It is preferable to reduce the bypass current as much as possible by installing a nip roller 424 in the intermediate tank 413 to drain the liquid. The electrolyte discharged by draining is discharged out of the anodizing apparatus 410 from the drain port 442.

給電槽412に貯留される電解液418は、電圧ロスを少なくするために、陽極酸化処理槽414に貯留される電解液426よりも高温および/または高濃度とする。また、電解液418および426は、陽極酸化皮膜の形成効率、陽極酸化皮膜のマイクロポアの形状、陽極酸化皮膜の硬さ、電圧、電解液のコスト等から、組成、温度等が決定される。   The electrolyte solution 418 stored in the power supply tank 412 has a higher temperature and / or higher concentration than the electrolyte solution 426 stored in the anodizing tank 414 in order to reduce voltage loss. In addition, the composition, temperature, and the like of the electrolytic solutions 418 and 426 are determined from the formation efficiency of the anodized film, the micropore shape of the anodized film, the hardness of the anodized film, the voltage, the cost of the electrolytic solution, and the like.

給電槽412および陽極酸化処理槽414には、給液ノズル436および438から電解液を噴出させて給液する。電解液の分布を一定にし、陽極酸化処理槽414でのアルミニウム合金板416の局所的な電流集中を防ぐ目的で、給液ノズル436および438にはスリットが設けられ、噴出する液流を幅方向で一定にする構造となっている。   Electrolyte is ejected from the liquid supply nozzles 436 and 438 and supplied to the power supply tank 412 and the anodizing treatment tank 414. For the purpose of making the distribution of the electrolyte constant and preventing local current concentration of the aluminum alloy plate 416 in the anodizing tank 414, the liquid supply nozzles 436 and 438 are provided with slits, and the ejected liquid flow is changed in the width direction. It has a structure that makes it constant.

陽極酸化処理槽414においては、陽極430からみてアルミニウム合金板416を挟んだ反対側にはしゃへい板440が設けられ、電流がアルミニウム合金板416の陽極酸化皮膜を形成させたい面の反対側に流れるのを抑止する。アルミニウム合金板416としゃへい板440の間隔は5〜30mmであるのが好ましい。直流電源434は複数個用いて、正極側を共通に接続して用いるのが好ましい。これによって、陽極酸化処理槽414中の電流分布を制御することができる。   In the anodizing bath 414, a shielding plate 440 is provided on the opposite side of the aluminum alloy plate 416 from the anode 430, and current flows on the opposite side of the surface of the aluminum alloy plate 416 where the anodized film is to be formed. Suppresses The distance between the aluminum alloy plate 416 and the shielding plate 440 is preferably 5 to 30 mm. It is preferable to use a plurality of DC power supplies 434 and connect the positive electrode sides in common. Thereby, the current distribution in the anodizing bath 414 can be controlled.

<封孔処理>
本発明においては、必要に応じて陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアを封じる封孔処理を行ってもよい。封孔処理は、沸騰水処理、熱水処理、蒸気処理、ケイ酸ソーダ処理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等の公知の方法に従って行うことができる。例えば、特公昭56−12518号公報、特開平4−4194号公報、特開平5−202496号公報、特開平5−179482号公報等に記載されている装置および方法で封孔処理を行ってもよい。
<Sealing treatment>
In this invention, you may perform the sealing process which seals the micropore which exists in an anodic oxide film as needed. The sealing treatment can be performed according to a known method such as boiling water treatment, hot water treatment, steam treatment, sodium silicate treatment, nitrite treatment, ammonium acetate treatment and the like. For example, even if the sealing treatment is carried out by the apparatus and method described in JP-B-56-12518, JP-A-4-4194, JP-A-5-20296, JP-A-5-179482, etc. Good.

<親水化処理>
陽極酸化処理後または封孔処理後、親水化処理を行ってもよい。親水化処理としては、例えば、米国特許第2,946,638号明細書に記載されているフッ化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモリブデート処理、英国特許第1,108,559号に記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸処理、独国特許第1,134,093号明細書および英国特許第1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホスホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載されているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−16893号公報および特開昭58−18291号公報に記載されている親油性有機高分子化合物と2価の金属との塩による処理、米国特許第3,860,426号明細書に記載されているように、水溶性金属塩(例えば、酢酸亜鉛)を含む親水性セルロース(例えば、カルボキシメチルセルロース)の下塗層を設ける処理、特開昭59−101651号公報に記載されているスルホ基を有する水溶性重合体を下塗りする処理が挙げられる。
<Hydrophilic treatment>
A hydrophilization treatment may be performed after the anodizing treatment or the sealing treatment. Examples of the hydrophilization treatment include treatment with potassium fluorinated zirconate described in US Pat. No. 2,946,638 and phosphomolybdate described in US Pat. No. 3,201,247. Treatment, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, polyacrylic acid treatment described in German Patent 1,091,433, German Patent 1,134, No. 093 and British Patent No. 1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment, Japanese Patent Publication No. 44-6409, phosphonic acid treatment, US Pat. No. 3,307,951 Phytic acid treatment described in the specification of JP, No. 58-16893 and JP-A No. 58-18291 Treatment with a salt of a molecular compound and a divalent metal, as described in US Pat. No. 3,860,426, hydrophilic cellulose (eg, zinc acetate) containing a water-soluble metal salt (eg, zinc acetate) Carboxymethyl cellulose) is provided with a subbing layer, and a water-soluble polymer having a sulfo group described in JP-A-59-101651.

また、特開昭62−019494号公報に記載されているリン酸塩、特開昭62−033692号公報に記載されている水溶性エポキシ化合物、特開昭62−097892号公報に記載されているリン酸変性デンプン、特開昭63−056498号公報に記載されているジアミン化合物、特開昭63−130391号公報に記載されているアミノ酸の無機または有機酸、特開昭63−145092号公報に記載されているカルボキシ基またはヒドロキシ基を含む有機ホスホン酸、特開昭63−165183号公報に記載されているアミノ基とホスホン酸基を有する化合物、特開平2−316290号公報に記載されている特定のカルボン酸誘導体、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平3−261592号公報に記載されている1個のアミノ基とリンの酸素酸基1個を持つ化合物、特開平3−215095号公報に記載されているリン酸エステル、特開平5−246171号公報に記載されているフェニルホスホン酸等の脂肪族または芳香族ホスホン酸、特開平1−307745号公報に記載されているチオサリチル酸のようなS原子を含む化合物、特開平4−282637号公報に記載されているリンの酸素酸のグループを持つ化合物等を用いた下塗りによる処理も挙げられる。
更に、特開昭60−64352号公報に記載されている酸性染料による着色を行うこともできる。
Further, phosphates described in JP-A No. 62-019494, water-soluble epoxy compounds described in JP-A No. 62-033692, and JP-A No. 62-097892 Phosphate-modified starch, diamine compounds described in JP-A-63-056498, amino acid inorganic or organic acids described in JP-A-63-130391, JP-A-63-145092 Organic phosphonic acids containing carboxy group or hydroxy group, compounds having amino group and phosphonic acid group described in JP-A-63-165183, and JP-A-2-316290 Specific carboxylic acid derivatives, phosphate esters described in JP-A-3-215095, JP-A-3-261592 Compounds having one amino group and one oxygen acid group of phosphorus described in the publication, phosphoric esters described in JP-A-3-215095, and JP-A-5-246171 Aliphatic or aromatic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid, compounds containing S atoms such as thiosalicylic acid described in JP-A-1-307745, and phosphorus described in JP-A-4-282737 Examples of the treatment include undercoating using a compound having a group of oxygen acids.
Further, coloring with an acid dye described in JP-A-60-64352 can also be performed.

また、ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸せきさせる方法、親水性ビニルポリマーまたは親水性化合物を塗布して親水性の下塗層を形成させる方法等により、親水化処理を行うのが好ましい。   Hydrophilicity can also be achieved by soaking in an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate or potassium silicate, or by applying a hydrophilic vinyl polymer or hydrophilic compound to form a hydrophilic primer layer. It is preferable to carry out the treatment.

ケイ酸ソーダ、ケイ酸カリ等のアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液による親水化処理は、米国特許第2,714,066号明細書および米国特許第3,181,461号明細書に記載されている方法および手順に従って行うことができる。
アルカリ金属ケイ酸塩としては、例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムが挙げられる。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等を適当量含有してもよい。
また、アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液は、アルカリ土類金属塩または4族(第IVA族)金属塩を含有してもよい。アルカリ土類金属塩としては、例えば、硝酸カルシウム、硝酸ストロンチウム、硝酸マグネシウム、硝酸バリウム等の硝酸塩;硫酸塩;塩酸塩;リン酸塩;酢酸塩;シュウ酸塩;ホウ酸塩が挙げられる。4族(第IVA族)金属塩としては、例えば、四塩化チタン、三塩化チタン、フッ化チタンカリウム、シュウ酸チタンカリウム、硫酸チタン、四ヨウ化チタン、塩化酸化ジルコニウム、二酸化ジルコニウム、オキシ塩化ジルコニウム、四塩化ジルコニウムが挙げられる。これらのアルカリ土類金属塩および4族(第IVA族)金属塩は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いられる。
Hydrophilization treatment with an aqueous solution of an alkali metal silicate such as sodium silicate and potassium silicate is described in US Pat. No. 2,714,066 and US Pat. No. 3,181,461. It can be performed according to methods and procedures.
Examples of the alkali metal silicate include sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate. The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an appropriate amount of sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide or the like.
The aqueous solution of alkali metal silicate may contain an alkaline earth metal salt or a Group 4 (Group IVA) metal salt. Examples of the alkaline earth metal salt include nitrates such as calcium nitrate, strontium nitrate, magnesium nitrate, and barium nitrate; sulfates; hydrochlorides; phosphates; acetates; oxalates; Examples of Group 4 (Group IVA) metal salts include titanium tetrachloride, titanium trichloride, potassium titanium fluoride, titanium oxalate, titanium sulfate, titanium tetraiodide, zirconium chloride, zirconium dioxide, zirconium oxychloride. And zirconium tetrachloride. These alkaline earth metal salts and Group 4 (Group IVA) metal salts are used alone or in combination of two or more.

アルカリ金属ケイ酸塩処理によって吸着するSi量は蛍光X線分析装置により測定することができ、その吸着量は約1.0〜15.0mg/m2 であるのが好ましい。
このアルカリ金属ケイ酸塩処理により、平版印刷版用支持体の表面のアルカリ現像液に対する耐溶解性向上の効果が得られ、アルミニウム成分の現像液中への溶出が抑制されて、現像液の疲労に起因する現像カスの発生を低減することができる。
The amount of Si adsorbed by the alkali metal silicate treatment can be measured with a fluorescent X-ray analyzer, and the amount of adsorption is preferably about 1.0 to 15.0 mg / m 2 .
By this alkali metal silicate treatment, the effect of improving the dissolution resistance to the alkaline developer on the surface of the lithographic printing plate support is obtained, the dissolution of the aluminum component into the developer is suppressed, and the developer fatigue It is possible to reduce the occurrence of development residue due to the above.

また、親水性の下塗層の形成による親水化処理は、特開昭59−101651号公報および特開昭60−149491号公報に記載されている条件および手順に従って行うこともできる。
この方法に用いられる親水性ビニルポリマーとしては、例えば、ポリビニルスルホン酸、スルホ基を有するp−スチレンスルホン酸等のスルホ基含有ビニル重合性化合物と(メタ)アクリル酸アルキルエステル等の通常のビニル重合性化合物との共重合体が挙げられる。また、この方法に用いられる親水性化合物としては、例えば、−NH2基、−COOH基およびスルホ基からなる群から選ばれる少なくとも一つを有する化合物が挙げられる。
The hydrophilization treatment by forming a hydrophilic undercoat layer can also be performed according to the conditions and procedures described in JP-A Nos. 59-101651 and 60-149491.
Examples of the hydrophilic vinyl polymer used in this method include polyvinyl sulfonic acid, sulfo group-containing vinyl polymerizable compounds such as p-styrene sulfonic acid having a sulfo group, and ordinary vinyl polymerization such as (meth) acrylic acid alkyl ester. And a copolymer with a functional compound. Examples of hydrophilic compounds that may be used in this method include, -NH 2 group, compounds having at least one selected from the group consisting of -COOH group and sulfo group.

<乾燥>
上述した手順により本発明の平版印刷版原版に用いる支持体を得た後、該支持体上に画像記録層を設ける前に、該支持体の表面を乾燥させるのが好ましい。乾燥は、表面処理の最後の処理の後、水洗処理およびニップローラで液切りしてから行うのが好ましい。
乾燥温度は、70℃以上であるのが好ましく、80℃以上であるのがより好ましく、また、110℃以下であるのが好ましく、100℃以下であるのがより好ましい。
乾燥時間は、1秒以上であるのが好ましく、2秒以上であるのがより好ましく、また20秒以下であるのが好ましく、15秒であるのがより好ましい。
<Dry>
After obtaining the support used for the lithographic printing plate precursor according to the present invention by the procedure described above, it is preferable to dry the surface of the support before providing the image recording layer on the support. Drying is preferably performed after the final treatment of the surface treatment, after washing with water and draining with a nip roller.
The drying temperature is preferably 70 ° C or higher, more preferably 80 ° C or higher, preferably 110 ° C or lower, more preferably 100 ° C or lower.
The drying time is preferably 1 second or longer, more preferably 2 seconds or longer, more preferably 20 seconds or shorter, and even more preferably 15 seconds.

<液組成の管理>
本発明においては、上述した表面処理に用いられる各種の処理液の組成を、特開2001−121837号公報に記載されている方法で管理するのが好ましい。あらかじめ、種々の濃度の多数の処理液サンプルを調製し、それぞれ二つの液温における超音波の伝搬速度を測定し、マトリクス状のデータテーブルを作成しておき、処理中に、液温および超音波の伝搬速度をリアルタイム測定し、それに基づいて濃度の制御を行うのが好ましい。特に、デスマット処理において、硫酸濃度250g/L以上の電解液を用いる場合においては、上述する方法により、濃度の制御を行うのが好ましい。
なお、電解粗面化処理および陽極酸化処理に用いられる各電解液は、Cu濃度が100ppm以下であるのが好ましい。Cu濃度が高すぎると、ラインを停止するとアルミニウム合金板上にCuが析出し、ラインを再度稼動した際に析出したCuがパスロールに転写されて、処理ムラの原因となる場合がある。
<Management of liquid composition>
In the present invention, it is preferable to manage the composition of various processing solutions used for the surface treatment described above by the method described in JP-A-2001-121837. Prepare a large number of treatment liquid samples of various concentrations in advance, measure the ultrasonic wave propagation speed at each of the two liquid temperatures, create a matrix-like data table, It is preferable to measure the propagation speed of the light in real time and control the concentration based on the measurement. In particular, in the desmutting treatment, when an electrolytic solution having a sulfuric acid concentration of 250 g / L or more is used, it is preferable to control the concentration by the method described above.
In addition, it is preferable that each electrolyte solution used for an electrolytic roughening process and an anodic oxidation process is 100 ppm or less of Cu concentration. If the Cu concentration is too high, Cu is deposited on the aluminum alloy plate when the line is stopped, and Cu deposited when the line is operated again may be transferred to a pass roll, which may cause processing unevenness.

[画像記録層]
上述した手順で作成した支持体上に画像記録層を形成する。上述したように、本発明の平版印刷版原版の画像記録層は、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および、(D)ポリマーを有している。
[Image recording layer]
An image recording layer is formed on the support prepared by the procedure described above. As described above, the image recording layer of the lithographic printing plate precursor according to the invention has (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymer. .

(A)増感色素
増感色素は、画像露光時の光を吸収して励起状態となり、後述する重合開始剤に電子移動、エネルギー移動又は発熱などでエネルギーを供与し、重合開始機能を向上させるものであれば特に限定せず用いることができる。特に、300〜450nm又は760〜1200nmに極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。
(A) Sensitizing dye A sensitizing dye absorbs light at the time of image exposure to be in an excited state, and supplies energy to the polymerization initiator described later by electron transfer, energy transfer, or heat generation, thereby improving the polymerization initiation function. Any material can be used without particular limitation. In particular, a sensitizing dye having a maximum absorption at 300 to 450 nm or 760 to 1200 nm is preferably used.

350〜450nmの波長域に極大吸収を有する増感色素としては、メロシアニン色素類、ベンゾピラン類、クマリン類、芳香族ケトン類、アントラセン類、等を挙げることができる。このような増感色素の具体例としては特開2007−58170〔0047〕〜〔0053〕に記載の化合物が好ましく用いられる。また、特開2007−171406、特開2007−206216、特開2007−206217、特開2007−225701、特開2007−225702、特開2007−316582、特開2007−328243に記載の増感色素も好ましく用いることができる。   Examples of the sensitizing dye having the maximum absorption in the wavelength range of 350 to 450 nm include merocyanine dyes, benzopyrans, coumarins, aromatic ketones, and anthracenes. As specific examples of such sensitizing dyes, compounds described in JP-A 2007-58170 [0047] to [0053] are preferably used. Further, there are also sensitizing dyes described in JP2007-171406, JP2007-206216, JP2007-206217, JP2007-225701, JP2007-225702, JP2007-316582, and JP2007-328243. It can be preferably used.

(A−1)赤外線吸収色素
増感色素の中でも760〜1200nmに極大吸収を有する増感色素が好ましく用いられる。これらは赤外線吸収色素と呼ばれ、特に、波長760〜1200nmに吸収極大を有する染料である赤外線吸収染料が好ましく用いられる。
(A-1) Infrared absorbing dye Among the sensitizing dyes, a sensitizing dye having a maximum absorption at 760 to 1200 nm is preferably used. These are called infrared absorbing pigments, and in particular, an infrared absorbing dye which is a dye having an absorption maximum at a wavelength of 760 to 1200 nm is preferably used.

赤外線吸収染料としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0058]〜[0087]に記載されている化合物を用いることができる。
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。特に好ましい例として下記一般式(a)で示されるシアニン色素が挙げられる。
As the infrared absorbing dye, compounds described in paragraph numbers [0058] to [0087] of JP-A-2008-195018 can be used.
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes. Particularly preferred examples include cyanine dyes represented by the following general formula (a).

一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロゲン原子、−N(R9)(R10)、−X2−L1または以下に示す基を表す。ここで、R9及びR10は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素基、炭素原子数1〜8のアルキル基、水素原子を表し、またR9とR10とが互いに結合して環を形成してもよい。なかでもフェニル基が好ましい。X2は酸素原子または硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、S、O、ハロゲン原子、Seを示す。以下に示す基において、Xa-は後述するZa-と同様に定義され、Raは、水素原子、アルキル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、ハロゲン原子より選択される置換基を表す。 In the general formula (a), X 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, -N (R 9) (R 10), - X 2 -L 1 or a group shown below. Here, R 9 and R 10 may be the same or different, and may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Represents a hydrogen atom, and R 9 and R 10 may be bonded to each other to form a ring. Of these, a phenyl group is preferred. X 2 represents an oxygen atom or a sulfur atom, and L 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, an aromatic ring having a hetero atom, or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms including a hetero atom. . In addition, a hetero atom here shows N, S, O, a halogen atom, and Se. In the group shown below, Xa - has Za described later - is defined as for, R a represents a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group, a substituted or unsubstituted amino group, substituted or unsubstituted amino group and a halogen atom .

1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが好ましく、更に、R1とR2とは互いに結合し、5員環または6員環を形成していることが特に好ましい。 R 1 and R 2 each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the image recording layer coating solution, R 1 and R 2 are preferably hydrocarbon groups having 2 or more carbon atoms, and R 1 and R 2 are bonded to each other to form a 5-membered ring. It is particularly preferable that a 6-membered ring is formed.

Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、硫黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、置換基を有していてもよい炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシ基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、それぞれ同じでも異なっていてもよく、水素原子または炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za-は、対アニオンを示す。ただし、一般式(a)で示されるシアニン色素が、その構造内にアニオン性の置換基を有し、電荷の中和が必要ない場合にはZa-は必要ない。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲン化物イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びアリールスルホン酸イオンである。 Ar 1 and Ar 2 may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4 may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxy groups, and sulfo groups. R 5 , R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za represents a counter anion. However, Za is not necessary when the cyanine dye represented by formula (a) has an anionic substituent in its structure and charge neutralization is not necessary. Preferred Za is a halide ion, a perchlorate ion, a tetrafluoroborate ion, a hexafluorophosphate ion, and a sulfonate ion, particularly preferably a perchlorate ion, in view of the storage stability of the image recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions, and aryl sulfonate ions.

本発明において、好適に用いることのできる一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例としては、特開2001−133969号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特開2002−023360号公報の段落番号[0012]〜[0021]、特開2002−040638号公報の段落番号[0012]〜[0037]に記載されたものを挙げることができる。   Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) that can be suitably used in the present invention include paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A No. 2001-133969 and JP-A No. 2002-023360. Examples thereof include those described in paragraph Nos. [0012] to [0021] of Japanese Patent Publication No. and paragraph Nos. [0012] to [0037] of JP-A No. 2002-040638.

また、これらの赤外線吸収染料は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよく、顔料等の赤外線吸収染料以外の赤外線吸収剤を併用してもよい。顔料としては、特開2008−195018号公報[0072]〜[0076]に記載の化合物が好ましい。   Moreover, only 1 type may be used for these infrared absorption dyes, and 2 or more types may be used together, and infrared absorbers other than infrared absorption dyes, such as a pigment, may be used together. As the pigment, compounds described in JP 2008-195018 A [0072] to [0076] are preferable.

本発明における画像記録層中の増感色素の含有量は、画像記録層の全固形分の0.1〜10.0質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5.0質量%である。   In the present invention, the content of the sensitizing dye in the image recording layer is preferably 0.1 to 10.0% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass, based on the total solid content of the image recording layer. .

(B)重合開始剤
本発明に用いられる重合開始剤とは、重合性化合物の重合を開始、促進する化合物である。本発明において使用しうる重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。
本発明におけるラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(h)有機ホウ酸塩化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、(k)オニウム塩化合物、が挙げられる。
(B) Polymerization initiator The polymerization initiator used in the present invention is a compound that initiates and accelerates the polymerization of a polymerizable compound. As the polymerization initiator that can be used in the present invention, a radical polymerization initiator is preferable, and a known thermal polymerization initiator, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, and the like can be used.
Examples of the radical polymerization initiator in the present invention include (a) an organic halide, (b) a carbonyl compound, (c) an azo compound, (d) an organic peroxide, (e) a metallocene compound, and (f) an azide compound. (G) hexaarylbiimidazole compound, (h) organic borate compound, (i) disulfone compound, (j) oxime ester compound, (k) onium salt compound.

(a)有機ハロゲン化物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0022]〜[0023]に記載の化合物が好ましい。   (A) As the organic halide, compounds described in paragraph numbers [0022] to [0023] of JP-A-2008-195018 are preferable.

(b)カルボニル化合物としては、特開2008−195018号公報の段落番号[0024]に記載の化合物が好ましい。   (B) As the carbonyl compound, compounds described in paragraph [0024] of JP-A-2008-195018 are preferable.

(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8−108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。   (C) As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.

(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0025]に記載の化合物が好ましい。   (D) As the organic peroxide, for example, compounds described in paragraph [0025] of JP-A-2008-195018 are preferable.

(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0026]に記載の化合物が好ましい。   As the (e) metallocene compound, for example, the compound described in paragraph [0026] of JP-A-2008-195018 is preferable.

(f)アジド化合物としては、2,6−ビス(4−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0027]に記載の化合物が好ましい。
(F) Examples of the azide compound include 2,6-bis (4-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone.
(G) As the hexaarylbiimidazole compound, for example, a compound described in paragraph [0027] of JP-A-2008-195018 is preferable.

(h)有機ホウ酸塩化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]に記載の化合物が好ましい。   (H) As the organic borate compound, for example, a compound described in paragraph [0028] of JP-A-2008-195018 is preferable.

(i)ジスルホン化合物としては、特開昭61−166544号、特開2003−328465号公報等に記載の化合物が挙げられる。   (I) Examples of the disulfone compound include compounds described in JP-A Nos. 61-166544 and 2003-328465.

(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0028]〜[0030]に記載の化合物が好ましい。   (J) As the oxime ester compound, for example, compounds described in paragraph numbers [0028] to [0030] of JP-A-2008-195018 are preferable.

(k)オニウム塩化合物としては、例えば、S.I.Schlesinger,Photogr.Sci.Eng.,18,387(1974)、T.S.Bal et al,Polymer,21,423(1980)に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,055号明細書、特開平4−365049号公報等に記載のアンモニウム塩、米国特許第4,069,055号、同4,069,056号の各明細書に記載のホスホニウム塩、欧州特許第104、143号、米国特許第339,049号、同第410,201号、米国特許出願公開第2008/0311520号の各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号、特開2008−195018号の各公報に記載のヨードニウム塩、欧州特許第370,693号、同390,214号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同161,811号、同410,201号、同339,049号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivello et al,Macromolecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.Polymer Sci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩、特開2008−195018号公報に記載のアジニウム塩等のオニウム塩等が挙げられる。   (K) Examples of the onium salt compounds include S.I. I. Schlesinger, Photogr. Sci. Eng. , 18, 387 (1974), T.A. S. Diazonium salts described in Bal et al, Polymer, 21, 423 (1980), ammonium salts described in US Pat. No. 4,069,055, JP-A-4-365049, etc., US Pat. No. 4,069 , 055, 4,069,056, phosphonium salts described in European Patent Nos. 104,143, U.S. Pat. Nos. 339,049, 410,201, U.S. Patent Application Publication No. 2008 No. 0311520, iodonium salts described in JP-A-2-150848, JP-A-2-296514, JP-A-2008-195018, European Patent Nos. 370,693 and 390,214. 233,567, 297,443, 297,442, U.S. Pat.Nos. 4,933,377, 161,811 410,201, 339,049, 4,760,013, 4,734,444, 2,833,827, German Patent 2,904,626, 3 , 604, 580, and 3,604, 581, the sulfonium salts described in the respective specifications; V. Crivello et al, Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977), J. MoI. V. Crivello et al, J.A. Polymer Sci. , Polymer Chem. Ed. , 17, 1047 (1979), a selenonium salt described in C.I. S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, Oct (1988), and onium salts such as azinium salts described in JP-A-2008-195018.

上記の中でもより好ましいものとして、オニウム塩、なかでもヨードニウム塩、スルホニウム塩及びアジニウム塩が挙げられる。以下に、これらの化合物の具体例を示すが、これに限定されない。   Of these, more preferred are onium salts, especially iodonium salts, sulfonium salts and azinium salts. Although the specific example of these compounds is shown below, it is not limited to this.

ヨードニウム塩の例としては、ジフェニルヨードニウム塩が好ましく、特に電子供与性基、例えばアルキル基またはアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩が好ましく、さらに好ましくは非対称のジフェニルヨードニウム塩が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−メトキシフェニル−4−(2−メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−(2−メチルプロピル)フェニル−p−トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−ヘキシルオキシフェニル−2,4−ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=1−ペルフルオロブタンスルホナート、4−オクチルオキシフェニル−2,4,6−トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウム=テトラフェニルボラートが挙げられる。   As an example of the iodonium salt, a diphenyl iodonium salt is preferable, and a diphenyl iodonium salt substituted with an electron donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group is particularly preferable, and an asymmetric diphenyl iodonium salt is more preferable. Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4- (2-methylpropyl) phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4- (2-methylpropyl) phenyl-p-tolyliodonium = hexa. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis ( -t- butylphenyl) iodonium tetraphenylborate and the like.

スルホニウム塩の例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4−クロロフェニル)−4−メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4−クロロフェニル)スルホニウム=3,5−ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナートが挙げられる。   Examples of sulfonium salts include triphenylsulfonium = hexafluorophosphate, triphenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) phenylsulfonium = benzoylformate, bis (4-chlorophenyl) -4-methylphenylsulfonium = Examples include tetrafluoroborate and tris (4-chlorophenyl) sulfonium = 3,5-bis (methoxycarbonyl) benzenesulfonate.

アジニウム塩の例としては、1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−シクロヘキシルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、4−クロロ−1−シクロヘキシルメチルオキシピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−エトキシ−4−シアノピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、3,4−ジクロロ−1−(2−エチルヘキシルオキシ)ピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−ベンジルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−フェネチルオキシ−4−フェニルピリジニウム=ヘキサフルオロホスファート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=p−トルエンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ペルフルオロブタンスルホナート、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=ブロミド、1−(2−エチルヘキシルオキシ)−4−フェニルピリジニウム=テトラフルオロボラートが挙げられる。   Examples of azinium salts include 1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-cyclohexyl (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 4-chloro-1-cyclohexylmethyloxypyridinium = hexafluorophosphate, 1-ethoxy-4-cyanopyridinium = hexafluorophosphate, 3,4 -Dichloro-1- (2-ethylhexyloxy) pyridinium = hexafluorophosphate, 1-benzyloxy-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1-phenethylo Ci-4-phenylpyridinium = hexafluorophosphate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = p-toluenesulfonate, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium = perfluorobutanesulfonate 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium bromide, 1- (2-ethylhexyloxy) -4-phenylpyridinium tetrafluoroborate.

重合開始剤は、画像記録層を構成する全固形分に対し0.1〜50質量%が好ましく、より好ましくは0.5〜30質量%、特に好ましくは0.8〜20質量%の割合で添加することができる。この範囲で良好な感度と印刷時の非画像部の良好な汚れ難さが得られる。   The polymerization initiator is preferably 0.1 to 50% by mass, more preferably 0.5 to 30% by mass, and particularly preferably 0.8 to 20% by mass with respect to the total solid content constituting the image recording layer. Can be added. Within this range, good sensitivity and good stain resistance of the non-image area during printing can be obtained.

(C)重合性化合物
本発明に用いることができる重合性化合物は、少なくとも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する付加重合性化合物であり、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれることが好ましい。このような化合物群は当該産業分野において広く知られているものであり、本発明においてはこれらを特に限定無く用いることができる。これらは、例えば、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体及びオリゴマー、またはそれらの混合物並びにそれらの(共)重合体などの化学的形態をもつ。
(C) Polymerizable compound The polymerizable compound that can be used in the present invention is an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and preferably has at least one terminal ethylenically unsaturated bond, preferably It is preferably selected from compounds having two or more. Such a compound group is widely known in the industrial field, and can be used without any particular limitation in the present invention. These have chemical forms such as monomers, prepolymers, i.e. dimers, trimers and oligomers, or mixtures thereof and their (co) polymers.

具体例としては、特開2008−105018号公報の段落番号[0089]〜[0098]に記載の化合物が挙げられる。なかでも好ましいものとして、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)とのエステルが挙げられる。別の好ましいラジカル重合性化合物としては特開2005−329708号公報に記載のイソシアヌル酸構造を有する重合性化合物が挙げられる。   Specific examples include the compounds described in JP-A-2008-105018, paragraph numbers [0089] to [0098]. Among them, preferred are esters of aliphatic polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids (for example, acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid and the like). Another preferred radically polymerizable compound is a polymerizable compound having an isocyanuric acid structure described in JP-A-2005-329708.

上記の中でも、機上現像性に関与する親水性と耐刷性に関与する重合能のバランスに優れる点から、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ビス(アクリロイルオキシエチル)ヒドロキシエチルイソシアヌレートなどのイソシアヌル酸エチレンオキシド変性アクリレート類が特に好ましい。   Among them, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, bis (acryloyloxyethyl) hydroxyethyl isocyanurate, etc. are excellent in the balance between the hydrophilicity involved in on-press developability and the polymerization ability involved in printing durability. Isocyanuric acid ethylene oxide modified acrylates are particularly preferred.

本発明において、重合性化合物は、画像記録層の全固形分に対して、好ましくは5〜80質量%、更に好ましくは25〜75質量%の範囲で使用される。   In the present invention, the polymerizable compound is used in an amount of preferably 5 to 80% by mass, more preferably 25 to 75% by mass, based on the total solid content of the image recording layer.

(D)ポリマー
本発明の画像記録層は機上現像性を持たせるために、ポリマーを含有する。特に、ポリアルキレンオキサイド鎖(EO鎖)を有するポリマーが好ましい。ポリアルキレンオキサイド鎖を有するポリマー、特に側鎖にポリアルキレンオキサイド鎖を有するポリマーは、画像記録層に、微粒子の形態で含まれていても、粒子形状のような特定の形状を持たず、画像記録層各種材料を相溶または結合させる媒体として(以下本発明でバインダーポリマーという)含まれていてもよい。いずれにしてもこのようなポリマーにポリアルキレンオキサイド鎖を側鎖に導入することにより、湿し水の浸透性が向上し、機上現像性が良好となる。特にアルキレンオキサイド鎖がエチレンオキシド鎖であり、エチレンオキシド鎖の繰り返し単位数が9〜250であることが好ましく、特に9〜50であることが好ましい。
(D) Polymer The image recording layer of the present invention contains a polymer in order to impart on-press developability. In particular, a polymer having a polyalkylene oxide chain (EO chain) is preferable. A polymer having a polyalkylene oxide chain, particularly a polymer having a polyalkylene oxide chain in the side chain, does not have a specific shape such as a particle shape even if it is contained in the form of fine particles in the image recording layer, and image recording It may be contained as a medium for compatibilizing or bonding various materials in the layer (hereinafter referred to as a binder polymer in the present invention). In any case, by introducing a polyalkylene oxide chain into such a polymer, the permeability of the fountain solution is improved and the on-press developability is improved. In particular, the alkylene oxide chain is an ethylene oxide chain, and the number of repeating units of the ethylene oxide chain is preferably 9 to 250, and particularly preferably 9 to 50.

(D−1)ポリマー微粒子
本発明では、機上現像性を向上させるため、粒子状のポリマー、すなわち、ポリマー微粒子を用いることができる。本発明におけるポリマー微粒子とは、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子、熱反応性ポリマー微粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び架橋ポリマー微粒子(ミクロゲル)から選ばれる少なくともひとつの微粒子が好ましい。
(D-1) Polymer fine particles In the present invention, in order to improve the on-press developability, a particulate polymer, that is, polymer fine particles can be used. The polymer fine particles in the present invention are preferably at least one fine particle selected from hydrophobic thermoplastic polymer fine particles, heat-reactive polymer fine particles, microcapsules enclosing a hydrophobic compound, and crosslinked polymer fine particles (microgel).

本発明においては、上記のポリマー微粒子はポリアルキレンオキサイド鎖を有することが好ましい。このポリアルキレンオキサイド鎖が上記の湿し水中の特定共重合体が有するポリアルキレンオキサイド基と相互作用し、機上現像性が向上する。特にアルキレンオキサイド鎖がエチレンオキシド鎖であり、エチレンオキシド鎖の繰り返し単位数が9〜250であることが好ましく、特に9〜50であることが好ましい。   In the present invention, the polymer fine particles preferably have a polyalkylene oxide chain. This polyalkylene oxide chain interacts with the polyalkylene oxide group of the specific copolymer in the fountain solution, and the on-press developability is improved. In particular, the alkylene oxide chain is an ethylene oxide chain, and the number of repeating units of the ethylene oxide chain is preferably 9 to 250, and particularly preferably 9 to 50.

ポリアルキレンオキサイド鎖のポリマー微粒子への導入は、疎水性熱可塑性ポリマー微粒子・熱反応性ポリマー微粒子の場合には、例えば、ポリアルキレンオキサイド鎖を有するビニルモノマーやアクリルモノマーを乳化重合又は懸濁重合する方法がある。この場合、共重合するモノマーとしては、このようなポリマー微粒子を構成するポリマーの具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレンオキサイド鎖を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマーもしくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。その中で、より好適なものとして、ポリスチレン、スチレン及びアクリロニトリルを含む共重合体、ポリメタクリル酸メチルを挙げることができる。   The introduction of polyalkylene oxide chains into polymer fine particles is, for example, in the case of hydrophobic thermoplastic polymer fine particles or heat-reactive polymer fine particles, for example, emulsion polymerization or suspension polymerization of vinyl monomers or acrylic monomers having polyalkylene oxide chains. There is a way. In this case, as a monomer to be copolymerized, specific examples of polymers constituting such polymer fine particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride. , Acrylonitrile, vinyl carbazole, homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates with polyalkylene oxide chains or mixtures thereof. Among them, more preferable examples include a copolymer containing polystyrene, styrene and acrylonitrile, and polymethyl methacrylate.

疎水性熱可塑性ポリマー微粒子とは、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9−123387号公報、同9−131850号公報、同9−171249号公報、同9−171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載されているように赤外線レーザー露光の際に発生する熱により融着することで疎水化する微粒子を意味する。
熱反応性ポリマー微粒子とは、熱反応性基を有するポリマー微粒子が挙げられ、これらは、熱反応による架橋、及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する微粒子を意味する。
本発明に用いる熱反応性基を有するポリマー微粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基など)、付加反応を行うイソシアナート基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などを好適なものとして挙げることができる。
Hydrophobic thermoplastic polymer fine particles refer to Research Disclosure No. 1 of January 1992. 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 and European Patent No. 931647, etc. It means fine particles that become hydrophobized by fusing with heat generated during the process.
The heat-reactive polymer fine particles include polymer fine particles having a heat-reactive group, and these mean fine particles that form a hydrophobized region by crosslinking due to a thermal reaction and a functional group change at that time.
The thermally reactive group in the polymer fine particle having a thermally reactive group used in the present invention may be any functional group that undergoes a reaction as long as a chemical bond is formed. Group (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.), cationically polymerizable group (for example, vinyl group, vinyloxy group, etc.), isocyanate group that performs addition reaction or its block, epoxy group, vinyloxy group And a functional group having an active hydrogen atom as a reaction partner (for example, an amino group, a hydroxy group, a carboxy group, etc.), a carboxy group for performing a condensation reaction, a hydroxy group or an amino group as a reaction partner, a ring-opening addition reaction Examples of suitable acid anhydrides and reaction partners are amino groups or hydroxy groups. .

ポリアルキレンオキサイド鎖のポリマー微粒子への導入は、マイクロカプセルまたはミクロゲルの場合には、例えば、多官能イソシアネートを用いる界面重合の成分にポリアルキレンオキサイドモノアルキルエーテルなどを加える方法など、公知の方法で、ポリマー微粒子に関する以下の説明の応用として行うことができる。
本発明で用いられるマイクロカプセルとしては、例えば、特開2001−277740号公報、特開2001−277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の全て又は一部をマイクロカプセルに内包させたものである。なお、画像記録層の構成成分は、マイクロカプセル外にも含有させることもできる。更に、マイクロカプセルを含有する画像記録層は、疎水性の構成成分をマイクロカプセルに内包し、親水性の構成成分をマイクロカプセル外に含有することが好ましい態様である。
In the case of microcapsules or microgels, introduction of polyalkylene oxide chains into polymer fine particles is a known method such as a method of adding polyalkylene oxide monoalkyl ether to a component of interfacial polymerization using polyfunctional isocyanate, This can be done as an application of the following description regarding polymer fine particles.
As the microcapsules used in the present invention, for example, as described in JP-A Nos. 2001-277740 and 2001-277742, all or part of the constituent components of the image recording layer are encapsulated in the microcapsules. Is. The constituent components of the image recording layer can also be contained outside the microcapsules. Furthermore, it is preferable that the image recording layer containing the microcapsule includes a hydrophobic constituent component in the microcapsule and a hydrophilic constituent component outside the microcapsule.

本発明においては、架橋樹脂粒子、すなわちミクロゲルを含有する態様であってもよい。このミクロゲルは、その中及び/又は表面に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができ、特に、(C)重合性化合物をその表面に有することによって反応性ミクロゲルとした態様が、画像形成感度や耐刷性の観点から特に好ましい。   In this invention, the aspect containing a crosslinked resin particle, ie, a microgel, may be sufficient. This microgel can contain a part of the components of the image recording layer in and / or on the surface thereof. In particular, the microgel has a reactive microgel by having (C) a polymerizable compound on the surface thereof. From the viewpoint of image formation sensitivity and printing durability, it is particularly preferable.

画像記録層の構成成分をマイクロカプセル化、もしくはミクロゲル化する方法としては、公知の方法が適用できる。   As a method for microencapsulating or microgelling the constituent components of the image recording layer, known methods can be applied.

上記のポリマー微粒子の平均粒径は、0.01〜3.0μmが好ましい。0.05〜2.0μmがさらに好ましく、0.10〜1.0μmが特に好ましい。この範囲内で良好な解像度と経時安定性が得られる。   The average particle size of the polymer fine particles is preferably 0.01 to 3.0 μm. 0.05-2.0 micrometers is further more preferable, and 0.10-1.0 micrometer is especially preferable. Within this range, good resolution and stability over time can be obtained.

ポリマー微粒子の含有量としては、画像記録層全固形分の5〜90質量%の範囲であることが好ましい。   The content of the polymer fine particles is preferably in the range of 5 to 90% by mass of the total solid content of the image recording layer.

(D−2)バインダーポリマー
本発明の画像記録層には、画像記録層の各成分の結合剤として、また膜強度を向上させるため、バインダーポリマーを用いることができる。本発明に用いることができるバインダーポリマーは、従来公知のものを制限なく使用でき、皮膜性を有するポリマーが好ましい。なかでも、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂が好ましい。
バインダーポリマーは、親水性基としてアルキレンオキサイド鎖を有することが機上現像性向上の観点から特に好ましい。特にアルキレンオキサイド鎖がエチレンオキシド鎖であり、エチレンオキシド鎖の繰り返し単位数が9〜250であることが好ましく、特に9〜50であることが好ましい。特に好ましくは、ポリアルキレンオキサイド鎖を有するアクリルモノマーを共重合したアクリル樹脂が好ましい。
バインダーポリマーのアルキレンオキサイド鎖が、本発明で用いられる湿し水中の特定共重合体のアルキレンオキサイド基と相互作用し、機上現像性が向上すると考えられる。
(D-2) Binder polymer In the image recording layer of the present invention, a binder polymer can be used as a binder for each component of the image recording layer and for improving the film strength. As the binder polymer that can be used in the present invention, conventionally known binder polymers can be used without limitation, and polymers having film properties are preferred. Of these, acrylic resins, polyvinyl acetal resins, and polyurethane resins are preferable.
It is particularly preferable that the binder polymer has an alkylene oxide chain as a hydrophilic group from the viewpoint of improving the on-press developability. In particular, the alkylene oxide chain is an ethylene oxide chain, and the number of repeating units of the ethylene oxide chain is preferably 9 to 250, and particularly preferably 9 to 50. An acrylic resin obtained by copolymerizing an acrylic monomer having a polyalkylene oxide chain is particularly preferable.
It is considered that the alkylene oxide chain of the binder polymer interacts with the alkylene oxide group of the specific copolymer in the fountain solution used in the present invention, and the on-press developability is improved.

また、本発明のバインダーポリマーには、着肉性を制御するため、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基などの親油性の基を導入できる。具体的には、メタクリル酸アルキルエステルなどの親油性基含有モノマーを共重合すればよい。   In addition, in the binder polymer of the present invention, an oleophilic group such as an alkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an alkenyl group can be introduced in order to control the inking property. Specifically, a lipophilic group-containing monomer such as an alkyl methacrylate may be copolymerized.

なかでも本発明に好適なバインダーポリマーとしては、特開2008−195018号公報に記載のような、画像部の皮膜強度を向上するための架橋性官能基を主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。架橋性基によってポリマー分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。   Among them, as a binder polymer suitable for the present invention, as described in JP-A-2008-195018, a crosslinkable functional group for improving the film strength of the image portion is a main chain or a side chain, preferably a side chain. Have the following. Crosslinking is formed between the polymer molecules by the crosslinkable group, and curing is accelerated.

架橋性官能基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基などのエチレン性不飽和基やエポキシ基等が好ましく、これらの基は高分子反応や共重合によってポリマーに導入することができる。例えば、カルボキシ基を側鎖に有するアクリルポリマーやポリウレタンとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。   The crosslinkable functional group is preferably an ethylenically unsaturated group such as a (meth) acryl group, a vinyl group or an allyl group, or an epoxy group, and these groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. . For example, a reaction between an acrylic polymer or polyurethane having a carboxy group in the side chain and polyurethane and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.

バインダーポリマー中の架橋性基の含有量は、バインダーポリマー1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、より好ましくは1.0〜7.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。   The content of the crosslinkable group in the binder polymer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, more preferably 1.0 to 7.0 mmol, and most preferably 2.0 to 5.5 mmol per 1 g of the binder polymer. .

また、該バインダーポリマーは、更にポリアルキレンオキサイド鎖以外の親水性基を有することができる。別の親水性基としては、たとえば、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、スルホ基、リン酸基等などが挙げられる。親水性基は画像記録層に機上現像性を付与するのに寄与するが、特に、架橋性基と親水性基を共存させることにより、耐刷性と現像性の両立が可能になる。
バインダーポリマーに親水性基を付与するには親水性基を有するモノマーを共重合すればよい。
The binder polymer can further have a hydrophilic group other than the polyalkylene oxide chain. Examples of other hydrophilic groups include a hydroxy group, a carboxy group, an amino group, an ammonium group, an amide group, a sulfo group, and a phosphoric acid group. The hydrophilic group contributes to imparting on-press developability to the image recording layer. In particular, the coexistence of the crosslinkable group and the hydrophilic group makes it possible to achieve both printing durability and developability.
In order to impart a hydrophilic group to the binder polymer, a monomer having a hydrophilic group may be copolymerized.

以下に本発明に用いられるバインダーポリマーの具体例(1)〜(11)を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。   Specific examples (1) to (11) of the binder polymer used in the present invention are shown below, but the present invention is not limited thereto.

なお、本発明におけるバインダーポリマーは質量平均モル質量(Mw)が2000以上であることが好ましく、5000以上であるのがより好ましく、1万〜30万であるのがさらに好ましい。   The binder polymer in the present invention preferably has a mass average molar mass (Mw) of 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and even more preferably 10,000 to 300,000.

本発明では必要に応じて、特開2008−195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを用いることができる。また、親油的なバインダーポリマーと親水的なバインダーポリマーを併用することもできる。   In the present invention, if necessary, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used. Further, a lipophilic binder polymer and a hydrophilic binder polymer can be used in combination.

バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全固形分に対して、通常5〜90質量%であり、5〜80質量%であるのが好ましく、10〜70質量%であるのがより好ましい。   The content of the binder polymer is usually 5 to 90% by mass, preferably 5 to 80% by mass, and more preferably 10 to 70% by mass with respect to the total solid content of the image recording layer.

(その他の成分)
本発明における画像記録層には、必要に応じて、さらに他の成分を含有することができる。その他の成分として、疎水化前駆体、低分子親水性化合物、感脂化剤、界面活性剤、着色剤、焼き出し剤、重合禁止剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機微粒子、無機質層状化合物、及び共増感剤もしくは連鎖移動剤などを添加することができる。具体的には、特開2008−284817号公報の段落番号[0114]〜[0159]、特開2006−091479号公報の段落番号[0023]〜[0027]、米国特許公開2008/0311520号明細書[0060]に記載の化合物及び添加量が好ましい。
(Other ingredients)
The image recording layer in the invention may further contain other components as required. Other components include hydrophobized precursors, low molecular weight hydrophilic compounds, sensitizers, surfactants, colorants, baking-out agents, polymerization inhibitors, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic fine particles, inorganic layered compounds, In addition, a co-sensitizer or a chain transfer agent can be added. Specifically, paragraph numbers [0114] to [0159] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-284817, paragraph numbers [0023] to [0027] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-091479, and US Patent Publication No. 2008/0311520. [0060] The compounds and addition amounts described in [0060] are preferred.

(画像記録層の形成)
本発明における画像記録層は、例えば、特開2008−195018号公報の段落番号[0142]〜[0143]に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散または溶解して塗布液を調製し、これを支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することで形成される。塗布、乾燥後に得られる支持体上の画像記録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、一般的に0.3〜3.0g/m2が好ましい。この範囲で、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性が得られる。
(Formation of image recording layer)
The image recording layer in the present invention is, for example, a coating solution prepared by dispersing or dissolving the necessary components in a known solvent as described in paragraphs [0142] to [0143] of JP-A-2008-195018. This is prepared by coating the substrate by a known method such as bar coater coating and drying. The image recording layer coating amount (solid content) on the support obtained after coating and drying varies depending on the use, but is generally preferably 0.3 to 3.0 g / m 2 . Within this range, good sensitivity and good film characteristics of the image recording layer can be obtained.

(下塗り層)
本発明の平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある)を設けることが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわず現像性を向上させるのに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合は、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ。
(Undercoat layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an undercoat layer (sometimes referred to as an intermediate layer) is preferably provided between the image recording layer and the support. The undercoat layer enhances the adhesion between the support and the image recording layer in the exposed area, and easily peels off the image recording layer from the support in the unexposed area. Contributes to improvement. In the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, thereby preventing the heat generated by the exposure from diffusing to the support and reducing the sensitivity.

下塗り層に用いる化合物としては、具体的には、特開平10−282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2−304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が挙げられる。より好ましいものとして、特開2005−125749号及び特開2006−188038号公報に記載のごとき、支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基、及び架橋性基を有する高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー、及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。より具体的には、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、−PO32、−OPO32、−CONHSO2−、−SO2NHSO2−、−COCH2COCH3などの吸着性基を有するモノマーと、親水性のスルホ基を有するモノマーと、さらにメタクリル基、アリル基などの重合性の架橋性基を有するモノマーとの共重合体である高分子樹脂が挙げられる。この高分子樹脂は、高分子樹脂の極性置換基と、対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーがさらに共重合されていてもよい。 Specific examples of the compound used for the undercoat layer include silane coupling agents having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, and JP-A-2- Examples thereof include phosphorus compounds having an ethylenic double bond reactive group described in Japanese Patent No. 304441. More preferable is a polymer resin having an adsorptive group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group that can be adsorbed on the surface of the support, as described in JP-A Nos. 2005-125749 and 2006-188038. It is done. The polymer resin is preferably a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group. More specifically, a phenolic hydroxyl group, a carboxyl group, -PO 3 H 2, -OPO 3 H 2, -CONHSO 2 -, - SO 2 NHSO 2 -, - having an adsorptive group such as COCH 2 COCH 3 Examples thereof include a polymer resin that is a copolymer of a monomer, a monomer having a hydrophilic sulfo group, and a monomer having a polymerizable crosslinkable group such as a methacryl group or an allyl group. This polymer resin may have a crosslinkable group introduced by salt formation between a polar substituent of the polymer resin, a substituent having a counter charge and a compound having an ethylenically unsaturated bond, Other monomers, preferably hydrophilic monomers may be further copolymerized.

下塗り層用高分子樹脂中の不飽和二重結合の含有量は、高分子樹脂1g当たり、好ましくは0.1〜10.0mmol、最も好ましくは2.0〜5.5mmolである。
下塗り層用の高分子樹脂は、質量平均モル質量が5000以上であるのが好ましく、1万〜30万であるのがより好ましい。
The content of unsaturated double bonds in the polymer resin for the undercoat layer is preferably 0.1 to 10.0 mmol, and most preferably 2.0 to 5.5 mmol, per 1 g of the polymer resin.
The polymer resin for the undercoat layer preferably has a mass average molar mass of 5000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.

本発明の下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時における汚れ防止のため、キレート剤、第2級または第3級アミン、重合禁止剤、アミノ基または重合禁止能を有する官能基とアルミニウム支持体表面と相互作用する基とを有する化合物等(例えば、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6−テトラヒドロキシ−p−キノン、クロラニル、スルホフタル酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸など)を含有することができる。   The undercoat layer of the present invention comprises a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, an amino group, or a functional group having a polymerization inhibiting ability, in addition to the above-mentioned undercoat layer compound, to prevent contamination with time. Compounds having a group that interacts with the surface of an aluminum support (for example, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane (DABCO), 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil , Sulfophthalic acid, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid, hydroxyethyliminodiacetic acid, and the like.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1〜100mg/m2であるのが好ましく、1〜30mg/m2であるのがより好ましい。 The undercoat layer is applied by a known method. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably from 0.1-100 mg / m 2, and more preferably 1 to 30 mg / m 2.

(酸素遮断層)
本発明の平版印刷版原版において、画像記録層の上に酸素遮断層を設けてもよい。酸素遮断層は酸素遮断によって画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止、及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止といった保護層としての機能を有する。
(Oxygen barrier layer)
In the lithographic printing plate precursor according to the invention, an oxygen blocking layer may be provided on the image recording layer. The oxygen blocking layer has a function as a protective layer such as preventing the occurrence of scratches in the image recording layer and preventing ablation at the time of high-illuminance laser exposure, in addition to the function of suppressing the image formation inhibition reaction by blocking oxygen.

このような特性の酸素遮断層(保護層)については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55−49729号公報に記載されている。酸素遮断層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。   The oxygen barrier layer (protective layer) having such characteristics is described in, for example, US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low oxygen permeability polymer used for the oxygen blocking layer, any one of a water-soluble polymer and a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinyl pyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly (meth) acrylonitrile, and the like.

また、酸素遮断層には酸素遮断性を高めるため、特開2005−119273号公報に記載のように天然雲母、合成雲母等の無機質の層状化合物を含有することが好ましい。
また、酸素遮断層には、可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御する無機微粒子など公知の添加物を含むことができる。また、画像記録層の説明に記載した感脂化剤を酸素遮断層に含有させることもできる。
In order to enhance oxygen barrier properties, the oxygen barrier layer preferably contains an inorganic layered compound such as natural mica and synthetic mica as described in JP-A-2005-119273.
Further, the oxygen barrier layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coating properties, and inorganic fine particles for controlling surface slipperiness. Further, the oil-sensitizing agent described in the description of the image recording layer can be contained in the oxygen blocking layer.

酸素遮断層は、公知の方法で塗布される。酸素遮断層の塗布量としては、乾燥後の塗布量で、0.01〜10g/m2の範囲であることが好ましく、0.02〜3g/m2の範囲がより好ましく、最も好ましくは0.02〜1g/m2の範囲である。 The oxygen barrier layer is applied by a known method. The coating amount of the oxygen blocking layer, the coating amount after drying is preferably in the range of 0.01 to 10 g / m 2, more preferably in the range of 0.02 to 3 g / m 2, most preferably 0 The range is 0.02 to 1 g / m 2 .

〔製版方法〕
本発明の平版印刷版原版の製版は機上現像方法で行うことが好ましい。機上現像方法は、平版印刷版原版を画像露光する工程と、露光後の平版印刷版原版になんらの現像処理を施すことなく、油性インキと水性成分とを供給して、印刷する印刷工程とを有し、該印刷工程の途上において平版印刷版原版の未露光部分が除去されることを特徴とする。画像様の露光は平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で行ってもよいし、プレートセッターなどで別途行ってもよい。後者の場合は、露光済み平版印刷版原版は現像処理工程を経ないでそのまま印刷機に装着される。その後、該印刷機を用い、油性インキと水性成分とを供給してそのまま印刷することにより、印刷途上の初期の段階で機上現像処理、すなわち、未露光領域の画像記録層が除去され、それに伴って親水性支持体表面が露出され非画像部が形成される。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキと湿し水が用いられる。
以下、さらに詳細に説明する。
[Plate making method]
The plate making of the lithographic printing plate precursor according to the invention is preferably carried out by an on-press development method. The on-press development method includes an image exposure process for a lithographic printing plate precursor, a printing process in which an oil-based ink and an aqueous component are supplied and printed without performing any development process on the exposed lithographic printing plate precursor. The unexposed portion of the planographic printing plate precursor is removed during the printing process. Imagewise exposure may be performed on the printing machine after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing machine, or may be separately performed with a plate setter or the like. In the latter case, the exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a printing machine without undergoing a development process. Thereafter, by using the printing machine and supplying the oil-based ink and the aqueous component and printing as it is, an on-press development process, that is, an image recording layer in an unexposed area is removed at an early stage of printing, Accordingly, the surface of the hydrophilic support is exposed to form a non-image part. As the oil-based ink and the aqueous component, ordinary lithographic printing ink and fountain solution are used.
This will be described in more detail below.

本発明において画像露光に用いられる光源としては、レーザーが好ましい。本発明に用いられるレーザーは、特に限定されないが、波長760〜1200nmの赤外線を照射する固体レーザー及び半導体レーザーなどが好適に挙げられる。
赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10〜300mJ/cm2であるのが好ましい。レーザーにおいては、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いるのが好ましい。
In the present invention, the light source used for image exposure is preferably a laser. Although the laser used for this invention is not specifically limited, The solid laser and semiconductor laser etc. which irradiate infrared rays with a wavelength of 760-1200 nm are mentioned suitably.
Regarding the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 to 300 mJ / cm 2 . In the laser, it is preferable to use a multi-beam laser device in order to shorten the exposure time.

露光された平版印刷版原版は、印刷機の版胴に装着される。レーザー露光装置付きの印刷機の場合は、平版印刷版原版を印刷機の版胴に装着したのち画像露光される。   The exposed lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of a printing press. In the case of a printing press equipped with a laser exposure device, image exposure is performed after a lithographic printing plate precursor is mounted on a plate cylinder of the printing press.

画像様に露光した平版印刷版原版に湿し水と印刷インキとを供給して印刷すると、画像記録層の露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する印刷インキ受容部を形成する。一方、未露光部においては、供給された湿し水及び/または印刷インキによって、未硬化の画像記録層が溶解または分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。その結果、湿し水は露出した親水性の表面に付着し、印刷インキは露光領域の画像記録層に着肉して印刷が開始される。   When printing is performed by supplying dampening water and printing ink to the lithographic printing plate precursor exposed imagewise, the image recording layer cured by exposure has a printing ink acceptance having an oleophilic surface in the exposed portion of the image recording layer. Forming part. On the other hand, in the unexposed area, the uncured image recording layer is removed by dissolution or dispersion with the supplied fountain solution and / or printing ink, and a hydrophilic surface is exposed in that area. As a result, the fountain solution adheres to the exposed hydrophilic surface, and the printing ink is deposited on the image recording layer in the exposed area and printing is started.

ここで、最初に版面に供給されるのは、湿し水でもよく、印刷インキでもよいが、湿し水が除去された画像記録層成分によって汚染されることを防止する点で、最初に印刷インキを供給するのが好ましい。
このようにして、本発明の平版印刷版原版はオフセット印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。
Here, dampening water or printing ink may be supplied to the printing plate first, but printing is first performed in order to prevent the dampening water from being contaminated by the removed image recording layer components. It is preferable to supply ink.
In this way, the planographic printing plate precursor of the present invention is developed on-press on an offset printing machine and used as it is for printing a large number of sheets.

以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited to these.

[アルミニウム合金板の製造]
(実施例1〜23)
下記表1に示した組成のアルミニウム合金溶湯を用いて、下記表2に示す条件の熱処理条件(中間焼鈍)を施す連続鋳造により、アルミニウム合金板を製造した。
具体的には、まず、各組成のアルミニウム合金溶湯を用い、双ロール式連続鋳造で鋳造板厚が5.5mmになるように連続鋳造を行った。
次いで、得られた連続鋳造板に冷間圧延を施して板厚を0.9mmとした後に下記表2に示す条件で中間焼鈍の熱処理を施し、更に再度冷間圧延を施して0.3mmの厚みに仕上げた。
次いで、テンションレベラを用いて平面性矯正を行い、アルミニウム合金板を製造した。なお、製造したアルミニウム合金板の組成は、各々に用いたアルミニウム合金溶湯の組成と同一である。
[Manufacture of aluminum alloy sheets]
(Examples 1 to 23)
Using an aluminum alloy melt having the composition shown in Table 1 below, an aluminum alloy plate was manufactured by continuous casting with the heat treatment conditions (intermediate annealing) shown in Table 2 below.
Specifically, first, continuous casting was performed using a molten aluminum alloy of each composition so that the cast plate thickness was 5.5 mm by twin roll type continuous casting.
Next, the obtained continuous cast plate was cold-rolled to a thickness of 0.9 mm, then subjected to intermediate annealing heat treatment under the conditions shown in Table 2 below, and then cold-rolled again to obtain a 0.3 mm thickness. Finished to a thickness.
Next, flatness was corrected using a tension leveler to produce an aluminum alloy plate. In addition, the composition of the manufactured aluminum alloy plate is the same as the composition of the molten aluminum alloy used for each.

(比較例1〜6)
下記第1表に示した組成のアルミニウム合金溶湯を用いて、DC鋳造によりアルミニウム合金板を製造した。
具体的には、Al−5のアルミニウム合金溶湯を使って、DC鋳造(Direct Chill)で厚さ500mmのスラブを鋳造した。
次いで、得られたスラブの両面を20mm面削し、スラブの状態での熱処理は均熱処理で500〜600℃で実施した。
次いで、熱間圧延を施して厚さ3mmまで圧延し、410〜550℃で中間焼鈍処理を施し、その後、冷間圧延を施して厚さ0.3mmに仕上げた。
次いで、テンションレベラを用いて平面性矯正を行い、アルミニウム合金板を製造した。なお、製造したアルミニウム合金板の組成は、アルミニウム合金溶湯の組成と同一である。
(Comparative Examples 1-6)
An aluminum alloy plate was produced by DC casting using a molten aluminum alloy having the composition shown in Table 1 below.
Specifically, a 500 mm thick slab was cast by DC casting (Direct Chill) using an aluminum alloy melt of Al-5.
Subsequently, both sides of the obtained slab were faced by 20 mm, and the heat treatment in the slab state was carried out at 500 to 600 ° C. by soaking.
Next, hot rolling was performed to a thickness of 3 mm, an intermediate annealing treatment was performed at 410 to 550 ° C., and then a cold rolling was performed to a thickness of 0.3 mm.
Next, flatness was corrected using a tension leveler to produce an aluminum alloy plate. In addition, the composition of the manufactured aluminum alloy plate is the same as the composition of the molten aluminum alloy.

製造した各アルミニウム合金板の金属間化合物の単位面積あたりの個数を以下に示す方法で測定した。結果を下記第2表に示す。
(金属間化合物の単位面積あたりの個数)
まず、製造したアルミニウム合金板について、その表面の油分をアセトンでふき取ったものを測定試料として用いた。
次に、走査型電子顕微鏡(PC−SEM7401F、日本電子社製)を用い、加速電圧を12.0kV、倍率2000倍の条件で、アルミニウム合金板表面の反射電子像を撮影した。
次いで、得られた反射電子像から任意に選んだ5箇所の画像をJPEG形式で保存し、MS−Paint(マイクロソフト社製)を用いてbmf(ビットマップファイル)形式に変換した。
このbmf形式ファイルを画像解析ソフトImageFactory Ver.3.2日本語版(旭ハイテック社製)に読み込んで画像解析を行った後、画像の静的二値化処理を行い、白く抜けた金属間化合物に対応する部分をカウントし、特徴量として円相当直径(等価円直径)を指定して粒度分布を得た。
この粒度分布の結果から、円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の個数を算出した。なお、この算出は、5箇所の画像データ(粒度分布)の各々から算出した個数の平均値を百の位で四捨五入して行った。
同様の手順で、円相当径1μm以上の金属間化合物の個数を算出した。
The number per unit area of the intermetallic compound of each manufactured aluminum alloy plate was measured by the method shown below. The results are shown in Table 2 below.
(Number of intermetallic compounds per unit area)
First, about the manufactured aluminum alloy board, what wiped off the oil of the surface with acetone was used as a measurement sample.
Next, using a scanning electron microscope (PC-SEM7401F, manufactured by JEOL Ltd.), a reflected electron image on the surface of the aluminum alloy plate was taken under the conditions of an acceleration voltage of 12.0 kV and a magnification of 2000 times.
Subsequently, five images arbitrarily selected from the obtained reflected electron images were stored in JPEG format, and converted into bmf (bitmap file) format using MS-Paint (manufactured by Microsoft).
This bmf format file is stored in the image analysis software ImageFactory Ver. 3.2 After reading into the Japanese version (Asahi Hitech Co., Ltd.) and performing image analysis, static binarization of the image is performed, and the portion corresponding to the white intermetallic compound is counted as a feature value. The particle size distribution was obtained by specifying the equivalent circle diameter (equivalent circle diameter).
From the result of the particle size distribution, the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 0.2 μm or more was calculated. In addition, this calculation was performed by rounding off the average value of the number calculated from each of the five image data (particle size distribution) to the hundreds.
In the same procedure, the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 1 μm or more was calculated.

また、X線回折装置を用いて、製造した各アルミニウム合金板のAl−Fe系金属間化合物およびα−AlFeSiのピークカウント値を以下の条件で測定した。Al−Fe系金属間化合物としては、Al3FeとAl6Feのピークカウント値を測定し、最大値であるものを「Al−Fe系金属間化合物の種類(Al−Fe系の種類)」として表2に記載した。Al3Feのピ−ク角度は24.1°、Al6Feのピーク角度は18.0°、α−AlFeSiのピ−ク角度は42.0°であり、ピ−クカウント値はそれぞれの角度の回折強度(cps)を計測した値である。結果を下記第2表に示す。
・X線回折装置 RAD−rR(12kW回転対陰極型、リガク社製)
・設定管電圧 50kV
・設定管電流 200mA
・サンプリング間隔 0.01°
・スキャン速度 1°/分
・2θ走査範囲 10°〜70°
・グラファイトモノクロメータ使用
In addition, using an X-ray diffractometer, the peak count values of the Al—Fe-based intermetallic compound and α-AlFeSi of each manufactured aluminum alloy plate were measured under the following conditions. As the Al—Fe-based intermetallic compound, the peak count values of Al 3 Fe and Al 6 Fe are measured, and the maximum value is the “type of Al—Fe-based intermetallic compound (type of Al—Fe-based)”. As listed in Table 2. The peak angle of Al 3 Fe is 24.1 °, the peak angle of Al 6 Fe is 18.0 °, the peak angle of α-AlFeSi is 42.0 °, and the peak count value is This is a value obtained by measuring the diffraction intensity (cps) of the angle. The results are shown in Table 2 below.
X-ray diffractometer RAD-rR (12 kW rotating counter-cathode type, manufactured by Rigaku Corporation)
・ Set tube voltage 50kV
・ Set tube current 200mA
・ Sampling interval 0.01 °
・ Scanning speed 1 ° / min ・ 2θ scanning range 10 ° ~ 70 °
・ Use of graphite monochromator

[支持体の製造]
製造した各アルミニウム合金板に、以下の粗面化処理を施し、平版印刷版原版に用いる支持体を得た。
[Manufacture of support]
Each manufactured aluminum alloy plate was subjected to the following roughening treatment to obtain a support used for a lithographic printing plate precursor.

粗面化処理として、下記(a)〜(k)の処理を施した。なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施した。   As the roughening treatment, the following treatments (a) to (k) were performed. In addition, the water washing process was performed between all the process steps.

(a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)
図5に模式的に示したような装置を使って、研磨剤(パミス)の水懸濁液(比重1.12g/cm3)を研磨スラリー液としてアルミニウム合金板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。図5において、1はアルミニウム合金板、2および4はローラ状ブラシ、3は研磨スラリー液、5、6、7および8は支持ローラである。
ここで、研磨剤の平均粒径は40μm、最大粒径は100μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム合金板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム合金板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
(A) Mechanical roughening treatment (brush grain method)
Using an apparatus as schematically shown in FIG. 5, while rotating an aqueous suspension (specific gravity 1.12 g / cm 3 ) of an abrasive (pumice) as a polishing slurry liquid on the surface of the aluminum alloy plate, rotation The surface was mechanically roughened with a roller nylon brush. In FIG. 5, 1 is an aluminum alloy plate, 2 and 4 are roller brushes, 3 is a polishing slurry, and 5, 6, 7 and 8 are support rollers.
Here, the average particle size of the abrasive was 40 μm, and the maximum particle size was 100 μm. The material of the nylon brush was 6 · 10 nylon, the hair length was 50 mm, and the hair diameter was 0.3 mm. The nylon brush was planted so as to be dense by making a hole in a stainless steel tube having a diameter of 300 mm. Three rotating brushes were used. The distance between the two support rollers (φ200 mm) at the bottom of the brush was 300 mm. The brush roller was pressed until the load of the drive motor for rotating the brush became 7 kW plus with respect to the load before the brush roller was pressed against the aluminum alloy plate. The rotation direction of the brush was the same as the movement direction of the aluminum alloy plate. The rotation speed of the brush was 200 rpm.

(b)アルカリエッチング処理
カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、温度70℃の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を行い、アルミニウム合金板を10g/m2溶解した。その後、スプレーによる水洗を行った。
(B) Alkali Etching Treatment An etching treatment was performed by spraying using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass%, an aluminum ion concentration of 6.5 mass%, and a temperature of 70 ° C., thereby dissolving 10 g / m 2 of the aluminum alloy plate. Then, water washing by spraying was performed.

(c)デスマット処理
温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電解粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(C) Desmutting treatment The desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by mass aqueous solution of nitric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 0.5% by mass of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmutting treatment was a waste liquid from a step of performing an electrolytic surface roughening treatment using alternating current in an aqueous nitric acid solution.

(d)電解粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、液温50℃であった。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム合金板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(D) Electrolytic roughening treatment An electrochemical roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a 10.5 g / L aqueous solution of nitric acid (containing 5 g / L of aluminum ions and 0.007% by mass of ammonium ions) at a liquid temperature of 50 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 1. The time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode. An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used.
The current density was 30 A / dm 2 at the peak current value, and the amount of electricity was 220 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum alloy plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Then, water washing by spraying was performed.

(e)アルカリエッチング処理
カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を60℃で行い、アルミニウム合金板を1.0g/m2溶解し、前段の交流を用いて電解粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(E) Alkaline etching treatment An etching treatment by spraying is performed at 60 ° C. using an aqueous solution having a caustic soda concentration of 26 mass% and an aluminum ion concentration of 6.5 mass% to dissolve 1.0 g / m 2 of the aluminum alloy plate. The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when the electrolytic surface roughening treatment was performed using alternating current was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.

(f)デスマット処理
温度30℃の硫酸濃度15質量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマット処理に用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電解粗面化処理を行う工程の廃液を用いた。
(F) Desmut treatment Desmut treatment by spraying was performed with a 15% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 30 ° C. (containing 4.5% by weight of aluminum ions), and then washed with water by spraying. The nitric acid aqueous solution used for the desmutting treatment was a waste liquid from a step of performing an electrolytic surface roughening treatment using alternating current in an aqueous nitric acid solution.

(g)電解粗面化処理
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸7.5g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L含む。)、温度35℃であった。交流電源波形は図1に示した波形であり、電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、duty比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽は図2に示すものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム合金板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、スプレーによる水洗を行った。
(G) Electrolytic surface roughening treatment An electrochemical surface roughening treatment was performed continuously using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was a hydrochloric acid 7.5 g / L aqueous solution (containing 5 g / L of aluminum ions) at a temperature of 35 ° C. The AC power supply waveform is the waveform shown in FIG. 1. The time TP until the current value reaches the peak from zero is 0.8 msec, the duty ratio is 1: 1, and a trapezoidal rectangular wave AC is used with the carbon electrode as the counter electrode. An electrochemical roughening treatment was performed. Ferrite was used for the auxiliary anode. The electrolytic cell shown in FIG. 2 was used.
The current density was 25 A / dm 2 at the current peak value, and the amount of electricity was 50 C / dm 2 in terms of the total amount of electricity when the aluminum alloy plate was the anode. 5% of the current flowing from the power source was shunted to the auxiliary anode.
Then, water washing by spraying was performed.

(h)アルカリエッチング処理
カセイソーダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%の水溶液を用いてスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム合金板を0.5g/m2溶解し、前段の交流を用いて電解粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、スプレーによる水洗を行った。
(H) Alkali etching treatment An aqueous etching solution having a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass is subjected to an etching treatment by spraying at 32 ° C., and 0.5 g / m 2 of the aluminum alloy plate is dissolved. The smut component mainly composed of aluminum hydroxide generated when the electrolytic surface roughening treatment was performed using alternating current was removed, and the edge portion of the generated pit was melted to smooth the edge portion. Then, water washing by spraying was performed.

(i)デスマット処理
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーによる水洗を行った。
(I) Desmutting treatment A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid at a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ions), followed by washing with water by spraying.

(j)陽極酸化処理
電解液としてリン酸を用いて陽極酸化処理を実施した。電解液は、リン酸濃度22質量%、温度38℃であった。その後、スプレーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は1.5g/m2であった。
上記の手順で形成された陽極酸化皮膜について、陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径(表面平均ポア径)、および、マイクロポア内部における最大径の平均値(ポア内最大径の平均値)を以下の手順で測定した。結果を第3表に示す。
表面平均ポア径:陽極酸化皮膜の表層におけるポア径の測定には超高分解能型SEM(日立S-900)を使用した。12Vという比較的低加速電圧で、導電性を付与する蒸着処理等を施すこと無しに、表面を15万倍の倍率で観察し、50個のポアを無作為抽出して平均値を得た。標準偏差誤差は±10%以下であった。
ポア内最大径の平均値の測定方法:マイクロポア内部における最大径は、陽極酸化処理後のアルミニウム合金板を折り曲げて、折り曲げた際に発生したひび割れ部分の側面(通称破断面)を超高分解能型SEM(日立S-900)を使用し、観察した。12Vという比較的低加速電圧で、導電性を付与する蒸着処理等を施すこと無しに、陽極酸化皮膜の破断面におけるマイクロポア内部の最大径部分を15万倍の倍率で観察し、50個のポアを無作為抽出して平均値を得た。標準偏差誤差は±10%以下であった。
(J) Anodizing treatment Anodizing treatment was performed using phosphoric acid as the electrolytic solution. The electrolytic solution had a phosphoric acid concentration of 22% by mass and a temperature of 38 ° C. Then, water washing by spraying was performed. The final oxide film amount was 1.5 g / m 2 .
For the anodized film formed by the above procedure, the average pore diameter (surface average pore diameter) in the surface layer of the anodized film and the average value of the maximum diameter inside the micropore (average value of the maximum diameter in the pore) are as follows: It measured in the procedure of. The results are shown in Table 3.
Surface average pore diameter: An ultrahigh resolution SEM (Hitachi S-900) was used to measure the pore diameter in the surface layer of the anodized film. The surface was observed at a magnification of 150,000 times, and an average value was obtained by randomly extracting 50 pores without performing a vapor deposition treatment imparting conductivity at a relatively low acceleration voltage of 12 V. The standard deviation error was ± 10% or less.
Measuring method of the average value of the maximum diameter in the pore: The maximum diameter inside the micropore is the ultra-high resolution of the side surface (commonly called the fracture surface) of the cracked part that occurs when the aluminum alloy plate after anodizing is bent. A type SEM (Hitachi S-900) was used and observed. The maximum diameter portion inside the micropore on the fracture surface of the anodized film was observed at a magnification of 150,000 times without applying a vapor deposition treatment that imparts conductivity at a relatively low acceleration voltage of 12 V, and 50 pieces The pores were randomized to obtain an average value. The standard deviation error was ± 10% or less.

(k)親水化処理
液温20℃の3号ケイ酸ソーダの1質量%水溶液の処理槽の中に10秒間浸せきさせることで、親水化処理(アルカリ金属ケイ酸塩処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。
(K) Hydrophilization treatment Hydrophilic treatment (alkali metal silicate treatment) was performed by immersing in a treatment tank of 1 mass% aqueous solution of sodium silicate No. 3 having a liquid temperature of 20 ° C. for 10 seconds. Then, the water washing by the spray using well water was performed.

[平版印刷版原版の製造]
上記手順で得られた支持体上に以下の手順で画像記録層を形成して平版印刷版原版を得た。
[Manufacture of lithographic printing plate precursor]
An image recording layer was formed on the support obtained by the above procedure by the following procedure to obtain a planographic printing plate precursor.

(1)下塗り層の形成
次に、上記の手順で製造された支持体上に、下記下塗り層用塗布液(1)を乾燥塗布量が20mg/m2になるよう塗布して、該支持体上に下塗り層を形成した。
<下塗り層用塗布液(1)>
・下記構造の下塗り層用化合物(1) 0.18g
・ヒドロキシエチルイミノ二酢酸 0.10g
・メタノール 55.24g
・水 6.15g
(1) Formation of undercoat layer Next, the following undercoat layer coating solution (1) is applied onto the support produced by the above procedure so that the dry coating amount is 20 mg / m 2. An undercoat layer was formed on top.
<Coating liquid for undercoat layer (1)>
-Undercoat layer compound (1) having the following structure: 0.18 g
・ Hydroxyethyliminodiacetic acid 0.10g
・ Methanol 55.24g
・ Water 6.15g

(2)画像記録層の形成
下塗り層を有する上記の支持体に、下記の画像記録層塗布液(1)をバー塗布した後、70℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.6g/m2の画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
(2) Formation of image recording layer The following image recording layer coating solution (1) was bar coated on the above support having an undercoat layer, followed by oven drying at 70 ° C. for 60 seconds, and a dry coating amount of 0.6 g. An image recording layer of / m 2 was formed to obtain a lithographic printing plate precursor.

<画像記録層塗布液(1)>
・ポリマー微粒子水分散液(1) 20.0g
・赤外線吸収染料(2)[下記構造] 0.2g
・重合開始剤 Irgacure250(チバスペシャリティケミカルズ製) 0.5g
・重合性化合物 SR-399(サートマー社製) 1.50g
・メルカプト−3−トリアゾール 0.2g
・BYK336(Byk Chimie社製) 0.4g
・KlucelM(Hercules社製) 4.8g
・ELVACITE4026(Ineos Acrylica社製) 2.5g
・n−プロパノール 55.0g
・2−ブタノン 17.0g
<Image recording layer coating solution (1)>
-Polymer fine particle aqueous dispersion (1) 20.0 g
・ Infrared absorbing dye (2) [The following structure] 0.2g
・ Polymerization initiator Irgacure250 (Ciba Specialty Chemicals) 0.5g
-Polymerizable compound SR-399 (Sartomer) 1.50 g
・ Mercapto-3-triazole 0.2g
・ BYK336 (Byk Chimie) 0.4g
・ KlucelM (Hercules) 4.8g
・ ELVACITE4026 (Ineos Acrylica) 2.5g
・ N-propanol 55.0g
・ 2-butanone 17.0g

なお、上記組成中の商品名で記載の化合物は下記の通りである。
・IRGACURE 250:(4−メトキシフェニル)[4−(2−メチルプロピル)フェニル]ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート(75質量%プロピレンカーボナート溶液)
・SR-399:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート
・BYK 336:変性ジメチルポリシロキサン共重合体(25質量%キシレン/メトキシプロピルアセテート溶液)
・KLUCEL M:ヒドロキシプロピルセルロース(2質量%水溶液)
・ELVACITE 4026:高分岐ポリメチルメタクリレート(10質量%2−ブタノン溶液)
In addition, the compounds described by trade names in the above composition are as follows.
IRGACURE 250: (4-methoxyphenyl) [4- (2-methylpropyl) phenyl] iodonium = hexafluorophosphate (75% by mass propylene carbonate solution)
・ SR-399: Dipentaerythritol pentaacrylate
BYK 336: modified dimethylpolysiloxane copolymer (25% by mass xylene / methoxypropyl acetate solution)
・ KLUCEL M: Hydroxypropyl cellulose (2 mass% aqueous solution)
ELVACITE 4026: Hyperbranched polymethyl methacrylate (10% by mass 2-butanone solution)

(ポリマー微粒子水分散液(1)の製造)
1000mlの4つ口フラスコに撹拌機、温度計、滴下ロート、窒素導入管、還流冷却器を施し、窒素ガスを導入して脱酸素を行いつつ、ポリエチレングリコールメチルエーテルメタクリレート(PEGMA 実施例1〜12,17〜23、比較例1〜6のエチレングリコール鎖(EO鎖)の平均の繰返し単位は9、実施例13〜16ではこのエチレングリコール鎖の平均繰返し単位を表3に示すように変更した。)20g、蒸留水200g及びn−プロパノール200gを加えて内温が70℃となるまで加熱した。次に予め混合されたスチレン(St)10g、アクリロニトリル(AN)70g及び2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.8gの混合物を1時間かけて滴下した。滴下終了後5時間そのまま反応を続けた後、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル0.4gを添加し、内温を80℃まで上昇させた。続いて、0.5gの2,2’−アゾビスイソブチロニトリルを6時間かけて添加した。合計で20時間反応させた段階でポリマー化は98%以上進行しており、質量比でPEGMA/St/AN=20/10/80のポリマー微粒子水分散液(1)が得られた。このポリマー微粒子の粒径分布は、粒子径150nmに極大値を有していた。
(Production of polymer fine particle aqueous dispersion (1))
A 1000 ml four-necked flask was equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel, nitrogen inlet tube, reflux condenser, and introduced with nitrogen gas to perform deoxygenation, and then polyethylene glycol methyl ether methacrylate (PEGMA Examples 1 to 12) 17-23 and Comparative Examples 1-6, the average repeating unit of the ethylene glycol chain (EO chain) was 9, and in Examples 13-16, the average repeating unit of the ethylene glycol chain was changed as shown in Table 3. ) 20 g, distilled water 200 g and n-propanol 200 g were added and heated until the internal temperature reached 70 ° C. Next, a premixed mixture of 10 g of styrene (St), 70 g of acrylonitrile (AN) and 0.8 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added dropwise over 1 hour. After completion of the dropwise addition, the reaction was continued for 5 hours, and then 0.4 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added to raise the internal temperature to 80 ° C. Subsequently, 0.5 g of 2,2′-azobisisobutyronitrile was added over 6 hours. Polymerization progressed 98% or more at the stage of reaction for a total of 20 hours, and a polymer fine particle aqueous dispersion (1) having a mass ratio of PEGMA / St / AN = 20/10/80 was obtained. The particle size distribution of the polymer fine particles had a maximum value at a particle size of 150 nm.

ここで、粒径分布は、ポリマー微粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で微粒子の粒径を総計で5000個測定し、得られた粒径測定値の最大値から0の間を対数目盛で50分割して各粒径の出現頻度をプロットして求めた。なお非球形粒子については写真上の粒子面積と同一の粒子面積を持つ球形粒子の粒径値を粒径とした。   Here, the particle size distribution is obtained by taking an electron micrograph of polymer fine particles, measuring a total of 5000 fine particle sizes on the photograph, and a logarithmic scale between 0 and the maximum value of the obtained particle size measurement values. And the frequency of appearance of each particle size was plotted and obtained. For non-spherical particles, the particle size of spherical particles having the same particle area as that on the photograph was used as the particle size.

(3)酸素遮断層の形成
表3中、酸素遮断層ありと記載されているものについては、上記画像記録層上に、さらに下記組成の酸素遮断層塗布液(1)をバー塗布した後、120℃、60秒でオーブン乾燥し、乾燥塗布量0.15g/m2の酸素遮断層を形成して平版印刷版原版を得た。
(3) Formation of oxygen barrier layer In Table 3, for those described as having an oxygen barrier layer, the oxygen barrier layer coating solution (1) having the following composition was further bar coated on the image recording layer, The plate was oven dried at 120 ° C. for 60 seconds to form an oxygen barrier layer having a dry coating amount of 0.15 g / m 2 to obtain a lithographic printing plate precursor.

<酸素遮断層用塗布液(1)>
・無機質層状化合物分散液(1) 1.5g
・ポリビニルアルコール(日本合成化学工業(株)製CKS50、スルホン酸変性、
けん化度99モル%以上、重合度300)6質量%水溶液 0.55g
・ポリビニルアルコール((株)クラレ製PVA−405、
けん化度81.5モル%、重合度500)6質量%水溶液 0.03g
・日本エマルジョン(株)製界面活性剤
(エマレックス710)1質量%水溶液 0.86g
・イオン交換水 6.0g
<Coating liquid for oxygen barrier layer (1)>
・ Inorganic layered compound dispersion (1) 1.5 g
-Polyvinyl alcohol (Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. CKS50, sulfonic acid modification,
Saponification degree 99 mol% or more, polymerization degree 300) 6% by mass aqueous solution 0.55 g
・ Polyvinyl alcohol (PVA-405 manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
Degree of saponification 81.5 mol%, degree of polymerization 500) 6% by weight aqueous solution 0.03 g
・ Nippon Emulsion Co., Ltd. surfactant (Emalex 710) 1% by weight aqueous solution 0.86g
・ Ion-exchanged water 6.0g

(無機質層状化合物分散液(1)の調製)
イオン交換水193.6gに合成雲母ソマシフME−100(コープケミカル(株)製)6.4gを添加し、ホモジナイザーを用いて平均粒径(レーザー散乱法)が3μmになるまで分散した。得られた分散粒子のアスペクト比は100以上であった。
(Preparation of inorganic layered compound dispersion (1))
6.4 g of synthetic mica Somasif ME-100 (manufactured by Coop Chemical Co., Ltd.) was added to 193.6 g of ion-exchanged water, and dispersed using an homogenizer until the average particle size (laser scattering method) became 3 μm. The aspect ratio of the obtained dispersed particles was 100 or more.

[平版印刷版原版の評価]
上記の手順で得られた平版印刷版原版について、以下の評価を実施した。結果を第4表に示す。
[Evaluation of lithographic printing plate precursor]
The lithographic printing plate precursor obtained by the above procedure was evaluated as follows. The results are shown in Table 4.

(1)耐刷性評価
得られた平版印刷版原版を赤外線半導体レーザー搭載の富士フイルム(株)製Luxel PLATESETTER T−6000IIIにて、外面ドラム回転数1000rpm、レーザー出力70%、解像度2400dpiの条件で露光した。露光画像にはベタ画像及び20μmドットFMスクリーンの50%網点チャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、(株)小森コーポレーション製印刷機LITHRONE26の版胴に取り付けた。Ecolity−2(富士フイルム(株)製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業(株)製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、毎時10000枚の印刷速度で、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を行った。
印刷枚数を増やしていくと徐々に画像記録層が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるFMスクリーン50%網点の網点面積率をグレタグ濃度計で計測した値が印刷100枚目の計測値よりも5%低下したときの印刷部数を刷了枚数として、耐刷性を評価した。結果を第4表に示す(○、○△、△、△×の指標は下記参照)。
○ … 5万枚以上
○△ … 4万枚以上5万枚未満
△ … 3万枚以上4万枚未満
△× … 3万枚未満
(2)耐汚れ性評価
1万枚印刷した後におけるブランケットの汚れを目視で確認し、以下に示す基準で評価した。
○ … ブランケットが汚れていないもの
○△ … ブランケットが若干汚れているが良好
△ … ブランケットが汚れているものの許容できる範囲にあるもの
△× … ブランケットが汚れており印刷物が明らかに汚れているもの
(3)微小腐食汚れ評価
得られた平版印刷版原版を、25℃、70%RHの環境下で1時間、合紙と共に調湿し、アルミクラフト紙で包装した後、60℃に設定したオーブンで5日間加熱を行った。
その後、室温まで温度を下げてから、現像処理することなく、印刷機LITHRONE26(小森コーポレーション社製)の版胴に取り付けた。
Ecolity−2(富士フイルム社製)/水道水=2/98(容量比)の湿し水とValues−G(N)墨インキ(大日本インキ化学工業社製)とを用い、LITHRONE26の標準自動印刷スタート方法で湿し水とインキとを供給して機上現像した後、特菱アート(76.5kg)紙に印刷を500枚行った。
500枚目の印刷物を目視により確認し、100cm2当たりの、20μm以上の印刷
汚れの個数を算出した。その結果を第4表に示す。
◎ … 微小腐食汚れが20個以下(80cm2当たり)
○ … 微小腐食汚れが21〜50個(80cm2当たり)
○△ … 微小腐食汚れが51〜80個(80cm2当たり)
△ … 微小腐食汚れが81〜100個(80cm2当たり)
△× … 微小腐食汚れが101〜150個(80cm2当たり)
× … 微小腐食汚れが151個以上(80cm2当たり)
汚れ個数が100cm2当たり200個以下であれば、耐苛酷汚れに優れるものとして評価できる。
(1) Evaluation of printing durability The obtained lithographic printing plate precursor was subjected to an external drum rotation speed of 1000 rpm, a laser output of 70%, and a resolution of 2400 dpi on a Fujifilm Corporation Luxel PLASETTER T-6000III equipped with an infrared semiconductor laser. Exposed. The exposure image included a solid image and a 50% halftone dot chart of a 20 μm dot FM screen.
The obtained exposed original plate was attached to a plate cylinder of a printing machine LITHRONE 26 manufactured by Komori Corporation without developing. Equality-2 (manufactured by FUJIFILM Corporation) / tap water = 2/98 (volume ratio) dampening water and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After dampening water and ink were supplied by the standard automatic printing start method of Lithrone 26 and developed on the machine, printing was performed on Tokuhishi Art (76.5 kg) paper at a printing speed of 10,000 sheets per hour.
As the number of printed sheets was increased, the image recording layer was gradually worn out, so that the ink density on the printed material decreased. Evaluate printing durability by assuming the number of copies to be printed when the value measured with a Gretag densitometer for the 50% halftone dot area ratio of the FM screen in the printed material is 5% lower than the measured value for the 100th printed sheet. did. The results are shown in Table 4 (see the following for the indicators of ○, ○ △, Δ, and Δx).
○… More than 50,000 copies ○ △… More than 40,000 copies and less than 50,000 copies △… More than 30,000 copies and less than 40,000 copies △ ×… Less than 30,000 copies (2) Dirt resistance evaluation Blanket after printing 10,000 copies The dirt was visually confirmed and evaluated according to the following criteria.
○… Blanket is not dirty ○ △… Blanket is slightly dirty but good △… Blanket is in acceptable range △ ×… Blanket is dirty and printed matter is clearly dirty ( 3) Evaluation of micro-corrosion stains The obtained lithographic printing plate precursor was conditioned at 25 ° C. and 70% RH for 1 hour with interleaf and packaged with aluminum kraft paper, and then in an oven set at 60 ° C. Heating was performed for 5 days.
Thereafter, the temperature was lowered to room temperature, and then the plate was attached to the plate cylinder of the printing machine LITHRONE 26 (manufactured by Komori Corporation) without developing.
Standard automatic of LITHRONE26 using dampening water of Equality-2 (manufactured by Fujifilm) / tap water = 2/98 (volume ratio) and Values-G (N) black ink (manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) After supplying dampening water and ink by the printing start method and developing on the machine, 500 sheets were printed on Tokishi Art (76.5 kg) paper.
The 500th printed matter was visually confirmed, and the number of print stains of 20 μm or more per 100 cm 2 was calculated. The results are shown in Table 4.
◎ ... Less than 20 fine corrosion stains (per 80 cm 2 )
○ ... 21-50 fine corrosion stains (per 80 cm 2 )
○ △ ... 51-80 fine corrosion stains (per 80 cm 2 )
Δ: 81 to 100 fine corrosion stains (per 80 cm 2 )
△ ×… 101-150 minute corrosion stains (per 80 cm 2 )
×… 151 or more micro-corrosion stains (per 80 cm 2 )
If the number of stains is 200 or less per 100 cm 2 , it can be evaluated as having excellent resistance to severe stains.

1 アルミニウム合金板
2、4 ローラ状ブラシ
3 研磨スラリー液
5、6、7、8 支持ローラ
11 アルミニウム合金板
12 ラジアルドラムローラ
13a、13b 主極
14 電解処理液
15 電解液供給口
16 スリット
17 電解液通路
18 補助陽極
19a、19b サイリスタ
20 交流電源
40 主電解槽
50 補助陽極槽
410 陽極酸化処理装置
412 給電槽
413 中間槽
414 陽極酸化処理槽
416 アルミニウム合金板
418、426 電解液
420 陽極
422、428 パスローラ
424 ニップローラ
430 陰極
434 直流電源
436、438 給液ノズル
440 しゃへい板
442 排液口
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Aluminum alloy plate 2, 4 Roller-like brush 3 Polishing slurry liquid 5, 6, 7, 8 Support roller 11 Aluminum alloy plate 12 Radial drum roller 13a, 13b Main electrode 14 Electrolytic treatment liquid 15 Electrolytic solution supply port 16 Slit 17 Electrolytic solution Passage 18 Auxiliary anode 19a, 19b Thyristor 20 AC power supply 40 Main electrolytic tank 50 Auxiliary anode tank 410 Anodizing device 412 Power supply tank 413 Intermediate tank 414 Anodizing tank 416 Aluminum alloy plate 418, 426 Electrolytic solution 420 Anode 422, 428 Pass roller 424 Nip roller 430 Cathode 434 DC power supply 436, 438 Liquid supply nozzle 440 Shielding plate 442 Drain outlet

Claims (9)

支持体上に、(A)増感色素、(B)重合開始剤、(C)重合性化合物、および、(D)ポリマーを有する画像記録層を有し、非露光部の画像記録層が印刷インキおよび又は湿し水で除去される平版印刷版原版において、
前記支持体が、表面における円相当直径が0.2μm以上の金属間化合物の密度が35000個/mm2以上、表面における円相当直径が1.0μm以上の金属間化合物の個数が2500個/mm 2 以下、かつ、X線回折装置(XRD)を用いて測定される、Al−Fe系金属間化合物のピークカウント値が400cps以下であり、AlFeSi系金属間化合物のピークカウント値が30cps以上であるアルミニウム合金板を用いて作成されることを特徴とする平版印刷版原版。
An image recording layer having (A) a sensitizing dye, (B) a polymerization initiator, (C) a polymerizable compound, and (D) a polymer is printed on the support, and the image recording layer in the non-exposed area is printed. In a lithographic printing plate precursor removed with ink and / or fountain solution,
In the support, the density of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 0.2 μm or more on the surface is 35000 pieces / mm 2 or more , and the number of intermetallic compounds having an equivalent circle diameter of 1.0 μm or more on the surface is 2500 pieces / mm. 2 or less, and the peak count value of the Al—Fe-based intermetallic compound measured using an X-ray diffractometer (XRD) is 400 cps or less, and the peak count value of the AlFeSi-based intermetallic compound is 30 cps or more. A lithographic printing plate precursor produced by using an aluminum alloy plate.
前記画像記録層上に酸素遮断層を有することを特徴とする、請求項1に記載の平版印刷版原版 2. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, further comprising an oxygen barrier layer on the image recording layer . 前記画像記録層上に酸素遮断層を有さないことを特徴とする、請求項1に記載の平版印刷版原版 2. The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 1, wherein an oxygen barrier layer is not provided on the image recording layer . 前記(D)ポリマーがアルキレンオキサイド鎖を有することを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の平版印刷版原版 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 3, wherein the (D) polymer has an alkylene oxide chain . 前記(D)ポリマーが粒子状であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の平版印刷版原版 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 4, wherein the (D) polymer is in the form of particles . 前記支持体の前記画像記録層が形成される側の表面には、マイクロポアを有する陽極酸化皮膜が形成されており、該陽極酸化皮膜の表層における平均ポア径が10〜75nmであり、ポア内部における最大径の平均値が前記平均ポア径の1.1〜3.0倍であることを特徴とする、請求項1〜5のいずれかに記載の平版印刷版原版 An anodized film having micropores is formed on the surface of the support on the side on which the image recording layer is formed, and the average pore diameter in the surface layer of the anodized film is 10 to 75 nm. The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 5, wherein the average value of the maximum diameter is 1.1 to 3.0 times the average pore diameter . 前記陽極酸化皮膜が、硫酸またはリン酸を含有する電解液を用いた陽極酸化処理により形成されたものであることを特徴とする、請求項6に記載の平版印刷版原版 The lithographic printing plate precursor as claimed in claim 6, wherein the anodized film is formed by an anodizing treatment using an electrolytic solution containing sulfuric acid or phosphoric acid . 前記アルミニウム合金板が、連続鋳造法により製造されたアルミニウム合金板であることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版 The lithographic printing plate precursor as claimed in any one of claims 1 to 7, wherein the aluminum alloy plate is an aluminum alloy plate produced by a continuous casting method . 前記アルミニウム合金板が、アルミニウム合金溶湯を溶湯供給ノズルを介して一対の冷却ローラの間に供給し、前記一対の冷却ローラによって前記アルミニウム合金溶湯を凝固させつつ圧延を行う連続鋳造により得られる請求項1〜7のいずれかに記載の平版印刷版原版。The aluminum alloy plate is obtained by continuous casting in which molten aluminum alloy is supplied between a pair of cooling rollers via a molten metal supply nozzle, and rolling is performed while the molten aluminum alloy is solidified by the pair of cooling rollers. The lithographic printing plate precursor as described in any one of 1 to 7.
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