JP5174325B2 - (Meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound and method for producing the same - Google Patents
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Description
本発明は、重合特性の異なる2個以上の重合性官能基を有し、イソシアネート基に十分な反応性を有する新規な(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物およびその製造方法に関し、さらにこのイソシアネート化合物から得られ、特に光学材料に適した反応性モノマーおよびこれを含有する硬化性組成物、ならびにその硬化物に関する。 The present invention relates to a novel (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound having two or more polymerizable functional groups having different polymerization characteristics and sufficient reactivity to an isocyanate group, and a process for producing the same, and further to the isocyanate The present invention relates to a reactive monomer obtained from a compound and particularly suitable for optical materials, a curable composition containing the same, and a cured product thereof.
一分子内に重合特性の異なる重合性官能基を有するモノマーとして、たとえば、分子内に不飽和基とイソシアネート基を有する化合物、2−イソシアナートエチルメタクリレート(カレンズMOI、昭和電工)が知られている。このような2つの異なる重合特性を有する官能基、すなわち不飽和基とイソシアネート基とを分子内に有するモノマーは、コーティング材料、紫外線硬化塗料、熱硬化塗料、成形材料、接着剤、インキ、レジスト、光学材料、光造形材料、印刷版材料、歯科材料、ポリマー電池材料などの分野において、樹脂の原料モノマーとして有用な化合物である。 As monomers having polymerizable functional groups having different polymerization characteristics in one molecule, for example, compounds having an unsaturated group and an isocyanate group in the molecule, 2-isocyanatoethyl methacrylate (Karenz MOI, Showa Denko) are known. . Such a functional group having two different polymerization characteristics, that is, a monomer having an unsaturated group and an isocyanate group in the molecule is a coating material, an ultraviolet curable paint, a thermosetting paint, a molding material, an adhesive, an ink, a resist, In the fields of optical materials, stereolithography materials, printing plate materials, dental materials, polymer battery materials, etc., they are useful compounds as raw material monomers for resins.
このような化合物の製造方法として、米国特許第2821544号公報(特許文献1)には、一分子内に不飽和基とイソシアネート基を有する脂肪族化合物の製法が開示されている。具体的には、不飽和カルボン酸クロリドとアミノアルコール塩酸塩との反応により、不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル塩酸塩を合成し、次いで塩化カルボニルを反応させることにより不飽和カルボン酸イソシアナトアルキルエステルを得る方法である。 As a method for producing such a compound, US Pat. No. 2,821,544 (Patent Document 1) discloses a method for producing an aliphatic compound having an unsaturated group and an isocyanate group in one molecule. Specifically, unsaturated carboxylic acid aminoalkyl ester hydrochloride is synthesized by reaction of unsaturated carboxylic acid chloride with amino alcohol hydrochloride, and then reacted with carbonyl chloride to produce unsaturated carboxylic acid isocyanatoalkyl ester. How to get.
しかしながら、特許文献1に記載の方法では、不飽和基に基づくと考えられる副生成物(不飽和基に対するHCl付加物など)を多量に含有するため、反応収率が低く、精製に多大な労力を要するなどの問題がある。
However, since the method described in
一方、光学分野などにおいては、近年、高屈折率や高耐熱性などの要求があり、分子内に芳香環を有するモノマーが求められている。このような化合物として、特開2003−12632号公報(特許文献2)には、一分子内に不飽和基とイソシアネート基とを有し、さらに芳香環を有する3-イソプロペニル-イソプロペニル−α,α−ジメチルベンジルイソシアネート化合物が開示されている。 On the other hand, in the optical field and the like, in recent years, there is a demand for high refractive index and high heat resistance, and a monomer having an aromatic ring in the molecule is demanded. As such a compound, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-12632 (Patent Document 2) discloses 3-isopropenyl-isopropenyl-α having an unsaturated group and an isocyanate group in one molecule and further having an aromatic ring. , Α-dimethylbenzyl isocyanate compounds are disclosed.
しかしながら、特許文献2に記載の化合物は不飽和基をベンジル位に有することから、該化合物からなる硬化物の耐候性が低く、さらにはイソシアネート基の反応速度が遅いという問題点がある。
However, since the compound described in
また、上記に代表されるようなイソシアネート化合物の付加体に関して、例えば特開2000−086302号公報(特許文献3)には、特定のジオール成分と多塩基酸成分との反応によって得られるポリエステルポリオール、ヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレートおよびポリイソシアネートをウレタン化反応に付すことによって得られるポリエステルポリウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを使用することにより、N−ビニルピロリドンなどの吸水性の高いアクリルモノマーを併用したり、ウレタン基の濃度を高くしても、高い光硬化性および耐熱性を有する組成物が開示されている。 In addition, regarding an adduct of an isocyanate compound as typified above, for example, JP-A-2000-086302 (Patent Document 3) discloses a polyester polyol obtained by a reaction between a specific diol component and a polybasic acid component, By using a polyester polyurethane (meth) acrylate oligomer obtained by subjecting a (meth) acrylate having a hydroxy group and a polyisocyanate to a urethanation reaction, an acrylic monomer having high water absorption such as N-vinylpyrrolidone can be used in combination. A composition having high photocurability and heat resistance even when the concentration of urethane groups is increased is disclosed.
また、特開2000−204125号公報(特許文献4)、特開2001−200007号公報(特許文献5)、特開2004−014327号公報(特許文献6)においても、特定の化学構造を有するウレタンアクリレート化合物が高い耐熱性を与えることが開示
されている。
Also, JP-A-2000-204125 (Patent Document 4), JP-A-2001-200007 (Patent Document 5), and JP-A-2004-014327 (Patent Document 6) also have urethane having a specific chemical structure. It is disclosed that acrylate compounds provide high heat resistance.
しかしながら、上記記載の内容においては、ウレタン化合物を合成する際に、高い反応温度を要する、長時間の反応が不可欠である、触媒として環境に負荷のかかる錫系の触媒を用いるなどの要素のいずれかを含み、さらなる改善の余地を残している。
本発明の課題は、反応性に優れるとともに、高耐熱性および高屈折率を付与することができる、重合特性の異なる2個以上の重合性官能基と芳香環とを分子内に有するモノマーおよび該モノマーの工業的に有利な製造方法を提供し、温和な条件等で得られる該モノマーの付加体、さらには高い耐熱性や硬化性を有する硬化物を提供することにある。 An object of the present invention is to provide a monomer having two or more polymerizable functional groups having different polymerization characteristics and an aromatic ring in the molecule, which is excellent in reactivity and can impart high heat resistance and high refractive index, and the monomer. An object of the present invention is to provide an industrially advantageous production method of a monomer, and to provide an adduct of the monomer obtained under mild conditions, and further a cured product having high heat resistance and curability.
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した。その結果、分子骨格に芳香環を有し、かつ、重合特性の異なる2個以上の重合性官能基を分子内に有する(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物およびその製造方法を見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors diligently studied to solve the above problems. As a result, a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound having an aromatic ring in the molecular skeleton and two or more polymerizable functional groups having different polymerization characteristics in the molecule, and a method for producing the same, have been found. It came to complete.
すなわち、本発明は以下の事項を含む。
〔1〕下記式(I)で表される(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合
物。
That is, the present invention includes the following matters.
[1] A (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the following formula (I).
(式(I)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表し、mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表し、1≦m+n≦5である。)。 (In the formula (I), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 represents a single bond or 1 to 1 carbon atoms. 3 represents a linear or branched alkylene group, X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group, m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 ≦ m + n ≦ 5. .)
〔2〕前記式(I)中のR3が単結合であることを特徴とする〔1〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物。
〔3〕前記式(I)中のnが1であることを特徴とする〔1〕または〔2〕に記載の(
メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物。
[2] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [1], wherein R 3 in the formula (I) is a single bond.
[3] n in said formula (I) is 1, [1] or [2]
(Meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound.
〔4〕前記式(I)中のR1が単結合であることを特徴とする〔1〕〜〔3〕のいずれかに記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物。
〔5〕下記式(II)で表される〔1〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソ
シアネート化合物。
[4] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to any one of [1] to [3], wherein R 1 in the formula (I) is a single bond.
[5] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [1] represented by the following formula (II).
(式(II)中、R1、R2、R3およびnは、式(I)中のR1、R2、R3およびnと同一の
ものを表す。)
〔6〕下記式(III)で表される〔1〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イ
ソシアネート化合物。
(Formula (in II), R 1, R 2, R 3 and n have the formula (R 1 in I), R 2, represent the R 3 and n the same as those.)
[6] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [1] represented by the following formula (III).
(式(III)中、R2は水素原子またはメチル基を表す。)
〔7〕下記式(IV)で表される〔1〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物。
(In the formula (III), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
[7] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [1] represented by the following formula (IV).
(式(IV)中、R2は水素原子またはメチル基を表す。)
〔8〕前記式(I)において、芳香環上のイソシアネートを含む基に対して、(メタ)
アクリロイルオキシ基を含む置換基の置換基定数σが−0.2<σ<0.8であることを特徴とする〔1〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物。
(In formula (IV), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.)
[8] In the above formula (I), for the group containing an isocyanate on the aromatic ring, (meth)
The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [1], wherein a substituent constant σ of a substituent containing an acryloyloxy group is −0.2 <σ <0.8.
〔9〕下記工程(1)〜(4)を含むことを特徴とする、下記式(I)で表される(メ
タ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法:
[9] A process for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the following formula (I), comprising the following steps (1) to (4):
(式(I)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表し、mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表し、1≦m+n≦5である。)
(1)下記式(V)で表されるヒドロキシフェニルアミン化合物と鉱酸とから、下記式
(VI)で表されるヒドロキシフェニルアミノ鉱酸塩化合物を得る工程;
(In the formula (I), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 represents a single bond or 1 to 1 carbon atoms. 3 represents a linear or branched alkylene group, X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group, m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 ≦ m + n ≦ 5. .)
(1) A step of obtaining a hydroxyphenylamino mineral acid salt compound represented by the following formula (VI) from a hydroxyphenylamine compound represented by the following formula (V) and a mineral acid;
(式(V)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、X、mおよびnと同一のものを表す。) (Formula (in V), R 1, R 3 , X, m and n are. Representing those of formulas (R 1 in I), R 3, X, the same as m and n)
(式(VI)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、X、mおよびnと
同一のものを表し、W1は鉱酸を表す。)
(2)前記工程(1)で得られたヒドロキシフェニルアミノ鉱酸塩化合物と、下記式(VII)で表される化合物とから、下記式(VIII)で表されるヒドロキシフェニルイソシア
ネート化合物を得る工程;
(In the
(2) A step of obtaining a hydroxyphenyl isocyanate compound represented by the following formula (VIII) from the hydroxyphenylamino mineral acid compound obtained in the step (1) and a compound represented by the following formula (VII): ;
(式(VII)中、Z1およびZ2は、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、イ
ミダゾール類、ピラゾール類またはR’O−を表し、該R’は、炭素数1〜6の分岐を有してもよいアルキル基もしくはアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基を表す。)
(In Formula (VII), Z 1 and Z 2 each independently represent a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an imidazole, a pyrazole, or R′O—, wherein R ′ is a C 1-6 carbon atom. An alkyl group or alkenyl group which may have a branch or an aryl group which may have a substituent.
(式(VIII)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、X、mおよびn
と同一のものを表す。)
(3)前記工程(2)で得られたヒドロキシフェニルイソシアネート化合物と、下記式(IX)で表される化合物とから、下記式(X)で表されるイソシアネート基含有フェニル
エステル化合物を得る工程;
(In the
Represents the same thing. )
(3) A step of obtaining an isocyanate group-containing phenyl ester compound represented by the following formula (X) from the hydroxyphenyl isocyanate compound obtained in the step (2) and a compound represented by the following formula (IX);
(式(IX)中、R2は式(I)中のR2と同一のものを表す。) (In the formula (IX), R 2 represents the same as R 2 in formula (I).)
(式(X)中、R1〜R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1〜R3、X、mおよびnと
同一のものを表す。)
(4)前記工程(3)で得られたイソシアネート基含有フェニルエステル化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素させる工程。
(Formula (X) in, R 1 to R 3, X, m and n have the formula (R 1 to R 3 in I), X, represents those same m and n.)
(4) A step of dehydrochlorinating the isocyanate group-containing phenyl ester compound obtained in the step (3) in the presence of a basic nitrogen compound.
〔10〕前記鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸およびリン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔9〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [10] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [9], wherein the mineral acid is at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, carbonic acid and phosphoric acid. Manufacturing method.
〔11〕前記工程(1)〜(4)における反応が溶媒中で行われることを特徴とする〔9〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。
〔12〕前記工程(1)で使用する溶媒が、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類およびハロゲン系炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔11〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。
[11] The process for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [9], wherein the reactions in the steps (1) to (4) are performed in a solvent.
[12] The solvent used in the step (1) is selected from the group consisting of water, alcohols, esters, ethers, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons. It is at least 1 type, The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing aromatic isocyanate compound as described in [11] characterized by the above-mentioned.
〔13〕前記工程(2)〜(4)で使用する溶媒が、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類およびハロゲン系炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔11〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [13] The solvent used in the steps (2) to (4) is at least selected from the group consisting of esters, ethers, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons. It is 1 type, The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing aromatic isocyanate compound as described in [11] characterized by the above-mentioned.
〔14〕前記工程(2)が、工程(1)の終了後、溶媒を留去してから行われることを特徴とする〔12〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [14] The production of a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [12], wherein the step (2) is carried out after the solvent is distilled off after completion of the step (1). Method.
〔15〕前記工程(4)の塩基性窒素化合物がトリエチルアミンであることを特徴とする〔9〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。
〔16〕前記工程(3)で、塩基性窒素化合物を触媒として添加することを特徴とする
〔9〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。
[15] The method for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [9], wherein the basic nitrogen compound in the step (4) is triethylamine.
[16] The method for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [9], wherein a basic nitrogen compound is added as a catalyst in the step (3).
〔17〕下記工程(1’)〜(3’)を含むことを特徴とする、下記式(I)で表され
る(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法:
[17] A process for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the following formula (I), comprising the following steps (1 ′) to (3 ′):
(式(I)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表し、mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表し、1≦m+n≦5である。)
(1’)下記式(V)で表されるヒドロキシフェニルアミン化合物と鉱酸とから、下記
式(VI)で表されるヒドロキシフェニルアミノ鉱酸塩化合物を得る工程;
(In the formula (I), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 represents a single bond or 1 to 1 carbon atoms. 3 represents a linear or branched alkylene group, X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group, m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 ≦ m + n ≦ 5. .)
(1 ′) a step of obtaining a hydroxyphenylamino mineral acid salt compound represented by the following formula (VI) from a hydroxyphenylamine compound represented by the following formula (V) and a mineral acid;
(式(V)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、X、mおよびnと同一のものを表す。) (Formula (in V), R 1, R 3 , X, m and n are. Representing those of formulas (R 1 in I), R 3, X, the same as m and n)
(式(VI)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、Xおよびn、mと
同一のものを表し、W1は鉱酸を表す。)
(2’)前記工程(1’)で得られたヒドロキシフェニルアミノ鉱酸塩化合物と、下記式(VII)で表される化合物とから、下記式(VIII)で表されるヒドロキシフェニルイソ
シアネート化合物を得る工程;
(In the formula (VI), R 1 , R 3 , X, m and n represent the same as R 1 , R 3 , X and n, m in the formula (I), and W 1 represents a mineral acid. Represents.)
(2 ′) A hydroxyphenyl isocyanate compound represented by the following formula (VIII) is obtained from the hydroxyphenylamino mineral acid salt compound obtained in the step (1 ′) and the compound represented by the following formula (VII). Obtaining step;
(式(VII)中、Z1およびZ2は、それぞれ独立にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、イ
ミダゾール類、ピラゾール類またはR’O−を表し、該R’は、炭素数1〜6の分岐を有してもよいアルキル基もしくはアルケニル基または置換基を有していてもよいアリール基を表す。)
(In Formula (VII), Z 1 and Z 2 each independently represent a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, an imidazole, a pyrazole, or R′O—, wherein R ′ is a C 1-6 carbon atom. An alkyl group or alkenyl group which may have a branch or an aryl group which may have a substituent.
(式(VIII)中、R1、R3、X、mおよびnは、式(I)中のR1、R3、X、mおよびn
と同一のものを表す。)
(3’)前記工程(2’)で得られたヒドロキシフェニルイソシアネート化合物と、下記式(XI)で表される化合物とを反応させる工程。
(In the
Represents the same thing. )
(3 ′) A step of reacting the hydroxyphenyl isocyanate compound obtained in the step (2 ′) with a compound represented by the following formula (XI).
(式(XI)中、R2は式(I)中のR2と同一のものを表す。)
〔18〕前記鉱酸が、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸およびリン酸からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔17〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。
(In the formula (XI), R 2 represents the same as R 2 in formula (I).)
[18] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [17], wherein the mineral acid is at least one selected from the group consisting of sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, carbonic acid and phosphoric acid. Manufacturing method.
〔19〕前記工程(1’)〜(3’)における反応が溶媒中で行われることを特徴とする〔17〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [19] The process for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [17], wherein the reaction in the steps (1 ′) to (3 ′) is carried out in a solvent.
〔20〕前記工程(1’)で使用する溶媒が、水、アルコール類、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類およびハロゲン系炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔19〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [20] The solvent used in the step (1 ′) is selected from the group consisting of water, alcohols, esters, ethers, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons. [19] The method for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [19].
〔21〕前記工程(2’)および(3’)で使用する溶媒が、エステル類、エーテル類、芳香族系炭化水素類、脂肪族系炭化水素類およびハロゲン系炭化水素類からなる群より選ばれる少なくとも1種であることを特徴とする〔19〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [21] The solvent used in the steps (2 ′) and (3 ′) is selected from the group consisting of esters, ethers, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, and halogenated hydrocarbons. [19] The method for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [19].
〔22〕前記工程(2’)が、工程(1’)の終了後、溶媒を留去してから行われることを特徴とする〔20〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [22] The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [20], wherein the step (2 ′) is performed after the solvent is distilled off after the step (1 ′) is completed. Manufacturing method.
〔23〕前記工程(3’)で、塩基性窒素化合物を触媒として添加することを特徴とする〔17〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の製造方法。 [23] The process for producing a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to [17], wherein a basic nitrogen compound is added as a catalyst in the step (3 ′).
〔24〕下記式(XII)で表される(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。 [24] A (meth) acryloyl group-containing urethane compound represented by the following formula (XII).
(式(XII)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、R4はエーテル基、チオエーテル基またはNH基を表し、
Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表し、Yは脂肪族基、芳香環を含む基、複素環を含む基、ポリカーボネート残基、ポリウレタン残基、ポリエステル残基または繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物残基を表し、lは1〜50、mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表し、1≦m+n≦5である。)
〔25〕前記式(XII)中のR3が単結合であることを特徴とする〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
(In the formula (XII), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 represents a single bond or 1 to 1 carbon atoms. 3 linear or branched alkylene groups, R 4 represents an ether group, a thioether group or an NH group,
X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group, Y represents an aliphatic group, a group containing an aromatic ring, a group containing a heterocyclic ring, a polycarbonate residue, a polyurethane residue, a polyester residue or a polyhydroxy compound having a repeating unit Represents a residue, 1 represents an integer of 1 to 50, m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 ≦ m + n ≦ 5. )
[25] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound as described in [24], wherein R 3 in the formula (XII) is a single bond.
〔26〕前記式(XII)中のnが1であることを特徴とする〔24〕または〔25〕に
記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
〔27〕前記式(XII)中のR1が単結合であることを特徴とする〔24〕〜〔26〕のいずれかに記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
[26] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound as described in [24] or [25], wherein n in the formula (XII) is 1.
[27] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound according to any one of [24] to [26], wherein R 1 in the formula (XII) is a single bond.
〔28〕下記式(XIII)で表される〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。 [28] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound according to [24] represented by the following formula (XIII).
(式(XIII)中、R1、R2、R3、R4、Y、lおよびnは、式(XII)中のR1、R2、R3
、R4、Y、lおよびnと同一のものを表す。)
〔29〕下記式(XIV)で表される〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレ
タン化合物。
(In the formula (XIII), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , Y, l and n are the same as R 1 , R 2 , R 3 in the formula (XII)).
, R 4 , Y, l and n are the same. )
[29] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound according to [24] represented by the following formula (XIV).
(式(XIV)中、R2、R4、Yおよびlは、式(XIII)中のR2、R4、Yおよびlと同一の
ものを表す。)
〔30〕下記式(XV)で表される〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
(Formula (XIV) in, R 2, R 4, Y and l are. Representing those of formulas (XIII) in R 2, R 4, Y and l the same as the)
[30] The (meth) acryloyl group-containing urethane compound according to [24] represented by the following formula (XV).
(式(XV)中、R2、R4、Yおよびlは、式(XIII)中のR2、R4、Yおよびlと同一のものを表す。)
〔31〕〔24〕に記載の式(XII)で表され、該式(XII)において、芳香環上のウレタン結合を含む基に対して、(メタ)アクリロイルオキシ基を含む置換基の置換基定数σが−0.2<σ<0.8であることを特徴とする反応性モノマー。
(Formula (XV) in, R 2, R 4, Y and l are. Representing those of formulas (XIII) in R 2, R 4, Y and l the same as the)
[31] The substituent of the substituent containing a (meth) acryloyloxy group with respect to the group containing a urethane bond on the aromatic ring, represented by the formula (XII) according to [24] A reactive monomer, wherein the constant σ is −0.2 <σ <0.8.
〔32〕〔24〕に記載の式(XII)で表され、該式(XII)において、R4がエーテル
基であり、Yがアルキル基、キシリレン基、フッ素を含有する基またはノルボルナン基であり、l=1または2であることを特徴とする反応性モノマー。
[32] represented by the formula (XII) according to [24], wherein R 4 is an ether group, Y is an alkyl group, a xylylene group, a fluorine-containing group or a norbornane group. , L = 1 or 2, a reactive monomer.
〔33〕前記式(XII)のYが−(CH2)p(CF2)qFで表される基(pは0〜2の
整数を示し、qは0〜8の整数を示し、pとqが同時に0となることはない。)であることを特徴とする〔32〕に記載の反応性モノマー。
[33] Y of the formula (XII) is - (CH 2) p (CF 2) a group represented by q F (p represents an integer of 0 to 2, q is an integer of 0 to 8, p And q are not 0 at the same time.) The reactive monomer as described in [32].
〔34〕〔24〕に記載の式(XII)で表され、該式(X II)において、R4がエーテル基であり、Yがフルオレン骨格を有する基であり、n=2であることを特徴とする反応性モノマー。 [34] represented by the formula (XII) described in [24], wherein in the formula (XII), R 4 is an ether group, Y is a group having a fluorene skeleton, and n = 2. Reactive monomer characterized.
〔35〕〔24〕に記載の式(XII)で表され、該式(XII)において、R4がNH基で
あり、Yがアルキル基、キシリレン基、フッ素を含有する基またはノルボルナン基であり、nが1または2であることを特徴とする反応性モノマー。
[35] represented by the formula (XII) according to [24], wherein R 4 is an NH group, Y is an alkyl group, a xylylene group, a fluorine-containing group or a norbornane group. , N is 1 or 2, a reactive monomer.
〔36〕前記式(XII)において、Yが−CH2(CF2)8Fで表される基であるか、または、−R4−Yが2,6−ジフルオロアニリンの残基であることを特徴とする〔35〕
に記載の反応性モノマー。
[36] In the formula (XII), Y is a group represented by —CH 2 (CF 2 ) 8 F, or —R 4 —Y is a residue of 2,6-difluoroaniline. [35]
The reactive monomer described in 1.
〔37〕〔24〕に記載の式(XII)で表され、該式(XII)において、R4がチオエー
テル基であり、Yが直鎖または分岐の飽和脂肪族基またはフェニル基であることを特徴とする反応性モノマー。
[37] represented by the formula (XII) described in [24], wherein in the formula (XII), R 4 is a thioether group, and Y is a linear or branched saturated aliphatic group or phenyl group. Reactive monomer characterized.
〔38〕〔1〕に記載の式(I)で表わされる(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソ
シアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した化合物とを反応させることを特徴とする〔31〕〜〔37〕に記載の反応性モノマーの製造方法。
[38] A (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the formula (I) according to [1] is reacted with a compound to which a functional group having active hydrogen is bonded [31] -The manufacturing method of the reactive monomer as described in [37].
〔39〕前記式(XII)中、
Yが、分子量500〜5000のポリカーボネート骨格からなる構造を有するとともに、
アルキレン基がトリメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;
アルキレン基がテトラメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;
アルキレン基がペンタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;
アルキレン基がヘキサメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;
アルキレン基がヘプタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;
アルキレン基がオクタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基;ならびに、
1,9−ノナンジオール、1,10−デカンジオール、1,11−ウンデカンジオール、1,12−ドデカンジオール、1,20−エイコサンジオールおよび1,4−シクロヘキサンジメタノール残基
から選ばれる少なくとも1種の残基を有し、
nが2であること
を特徴とする〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
[39] In the formula (XII),
Y has a structure composed of a polycarbonate skeleton having a molecular weight of 500 to 5000,
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a trimethylene group;
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a tetramethylene group;
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a pentamethylene group;
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a hexamethylene group;
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a heptamethylene group;
An aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is an octamethylene group; and
At least one selected from 1,9-nonanediol, 1,10-decanediol, 1,11-undecanediol, 1,12-dodecanediol, 1,20-eicosanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol residue Having species residues,
The (meth) acryloyl group-containing urethane compound according to [24], wherein n is 2.
〔40〕前記アルキレン基がトリメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、2−メチル−1,3−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、2,4−ヘプタンジオール、2,2−ジエチル−1,3−プロパンジオール、2−メチル−2−プロピル−1,3−プロパンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、2−メチル−2,4−ペンタンジオール、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオールおよび2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオール残基から選ばれ;
前記アルキレン基がテトラメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、1,4−ブタンジオール残基であり;
前記アルキレン基がペンタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、1,5−ペンタンジオール、3−メチル−1,5−ペンタンジオールおよび1,5−ヘキサンジオール残基から選ばれ;
前記アルキレン基がヘキサメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、1,6−ヘキサンジオールおよび2−エチル−1,6−ヘキサンジオール残基から選ばれ;
前記アルキレン基がヘプタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、1,7−ヘプタンジオール残基であり;
前記アルキレン基がオクタメチレン基である脂肪族2価アルコール残基が、1,8−オクタンジオールおよび2−メチル−1,8−オクタンジオール残基から選ばれること
を特徴とする〔39〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物。
[40] The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a trimethylene group is 2-methyl-1,3-propanediol, 1,3-butanediol, 2,4-heptanediol, 2,2-diethyl. -1,3-propanediol, 2-methyl-2-propyl-1,3-propanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, 2-methyl-2,4-pentanediol, 2,2,4 -Selected from trimethyl-1,3-pentanediol and 2-butyl-2-ethyl-1,3-propanediol residues;
The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a tetramethylene group is a 1,4-butanediol residue;
The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a pentamethylene group is selected from 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol and 1,5-hexanediol residue;
The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a hexamethylene group is selected from 1,6-hexanediol and 2-ethyl-1,6-hexanediol residues;
The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is a heptamethylene group is a 1,7-heptanediol residue;
[39] The aliphatic dihydric alcohol residue in which the alkylene group is an octamethylene group is selected from 1,8-octanediol and 2-methyl-1,8-octanediol residues. (Meth) acryloyl group-containing urethane compound.
〔41〕〔1〕に記載の式(I)で表わされる(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソ
シアネート化合物と、〔24〕に記載の(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物とを反応させることを特徴とする反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。
[41] A (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the formula (I) described in [1] is reacted with the (meth) acryloyl group-containing urethane compound described in [24]. A method for producing a reactive (meth) acrylate polymer.
〔42〕〔1〕に記載の式(I)で表わされる(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソ
シアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させることを特徴とする反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。
[42] A (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the formula (I) according to [1] is reacted with a polymer compound having a repeating unit to which a functional group having active hydrogen is bonded. A method for producing a reactive (meth) acrylate polymer.
〔43〕前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であるこ
とを特徴とする〔42〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。
〔44〕前記(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物が、〔6〕に記載の式(III)または〔7〕に記載の式(IV)で表わされることを特徴とする〔41〕ま
たは〔42〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。
[43] The method for producing a reactive (meth) acrylate polymer as described in [42], wherein the polymer compound is a polyhydroxy compound having a repeating unit.
[44] The [meth] acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound is represented by the formula (III) described in [6] or the formula (IV) described in [7]. 42]. The process for producing a reactive (meth) acrylate polymer as described in 42].
〔45〕前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独重合体もしくは共重合体、またはエポキシ(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする〔43〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。 [45] The polyhydroxy compound having the repeating unit is a polyester polyol compound, a polycarbonate polyol compound, a polyether polyol compound, a polyurethane polyol compound, a hydroxyalkyl (meth) acrylate homopolymer or copolymer, or an epoxy (meth). It is an acrylate compound, The manufacturing method of the reactive (meth) acrylate polymer as described in [43].
〔46〕前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする〔43〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマーの製造方法。
〔47〕〔1〕に記載の式(I)で表される(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシ
アネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られた反応性(メタ)アクリレートポリマー。
[46] The process for producing a reactive (meth) acrylate polymer as described in [43], wherein the polyhydroxy compound having a repeating unit contains a carboxyl group.
[47] Obtained by reacting the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound represented by the formula (I) according to [1] with a polymer compound having a repeating unit to which a functional group having active hydrogen is bonded. Reactive (meth) acrylate polymer.
〔48〕前記ポリマー化合物が、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物であることを特徴とする〔47〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー。
〔49〕前記(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物が、〔6〕に記載の式(III)で表わされることを特徴とする〔47〕または〔48〕に記載の反応性(
メタ)アクリレートポリマー。
[48] The reactive (meth) acrylate polymer as described in [47], wherein the polymer compound is a polyhydroxy compound having a repeating unit.
[49] The reactivity according to [47] or [48], wherein the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound is represented by the formula (III) according to [6]
(Meth) acrylate polymer.
〔50〕前記(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物が、〔7〕に記載の式(IV)で表わされることを特徴とする〔47〕または〔48〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー。 [50] The reactive (meth) acrylate according to [47] or [48], wherein the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound is represented by the formula (IV) according to [7] polymer.
〔51〕前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする〔48〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー。 [51] The polyhydroxy compound having the repeating unit is a polyester polyol compound, polycarbonate polyol compound, polyether polyol compound, polyurethane polyol compound, hydroxyalkyl (meth) acrylate homopolymer or copolymer, or epoxy (meth) The reactive (meth) acrylate polymer according to [48], which is an acrylate compound.
〔52〕前記繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が、カルボキシル基を含有することを特徴とする〔48〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー。
〔53〕前記ポリヒドロキシ化合物が、分子量5000〜50000の下記一般式(XVI)または(XVII)で表される繰り返し単位を有するアクリル共重合体であることを特徴
とする〔48〕に記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー。
[52] The reactive (meth) acrylate polymer as described in [48], wherein the polyhydroxy compound having a repeating unit contains a carboxyl group.
[53] The reaction according to [48], wherein the polyhydroxy compound is an acrylic copolymer having a repeating unit represented by the following general formula (XVI) or (XVII) having a molecular weight of 5,000 to 50,000. (Meth) acrylate polymer.
〔54〕〔31〕〜〔37〕のいずれかに記載の反応性モノマーと重合開始剤とを含有することを特徴とする硬化性組成物。
〔55〕〔54〕に記載の硬化性組成物を硬化することにより形成された硬化物。
[54] A curable composition comprising the reactive monomer according to any one of [31] to [37] and a polymerization initiator.
[55] A cured product formed by curing the curable composition according to [54].
〔56〕前記重合開始剤が光重合開始剤であることを特徴とする〔54〕に記載の硬化性組成物。
〔57〕エチレン性不飽和モノマーをさらに含有することを特徴とする〔56〕に記載の硬化性組成物。
[56] The curable composition as described in [54], wherein the polymerization initiator is a photopolymerization initiator.
[57] The curable composition according to [56], further comprising an ethylenically unsaturated monomer.
〔58〕10〜40質量%の〔47〕〜〔53〕のいずれかに記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、25〜60質量%の顔料(B)と、2〜25質量%の光重合開始剤(D)と、5〜20質量%のエチレン性不飽和モノマー(F)と、有機溶剤(G)とを含有することを特徴とする硬化性組成物。 [58] 10 to 40% by mass of the reactive (meth) acrylate polymer (A) according to any one of [47] to [53], 25 to 60% by mass of the pigment (B), and 2 to 25% by mass % Of a photopolymerization initiator (D), 5 to 20% by mass of an ethylenically unsaturated monomer (F), and an organic solvent (G).
〔59〕10〜40質量%の〔47〕〜〔53〕のいずれかに記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、25〜60質量%の顔料(B)と、2〜20質量%の光重合開始剤(D)と、5〜20質量%のエチレン性不飽和モノマー(F)と、有機溶剤(G)と、2〜20質量%の多官能チオール(H)とを含有することを特徴とする硬化性組成物。 [59] 10 to 40% by mass of the reactive (meth) acrylate polymer (A) according to any one of [47] to [53], 25 to 60% by mass of the pigment (B), and 2 to 20% by mass % Photopolymerization initiator (D), 5 to 20% by mass of ethylenically unsaturated monomer (F), organic solvent (G), and 2 to 20% by mass of polyfunctional thiol (H). A curable composition characterized by that.
〔60〕カラーフィルタを形成するために用いられることを特徴とする〔57〕〜〔59〕のいずれかに記載の硬化性組成物。
〔61〕前記顔料(B)が、カーボンブラックであることを特徴とする〔58〕または〔59〕に記載の硬化性組成物。
[60] The curable composition as described in any one of [57] to [59], which is used for forming a color filter.
[61] The curable composition according to [58] or [59], wherein the pigment (B) is carbon black.
〔62〕〔47〕〜〔53〕のいずれかに記載の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、熱硬化性ポリマー(C)と、光重合開始剤(D)と、熱重合触媒(E)とを含有することを特徴とする硬化性組成物。 [62] The reactive (meth) acrylate polymer (A) according to any one of [47] to [53], a thermosetting polymer (C), a photopolymerization initiator (D), a thermal polymerization catalyst ( E) and curable composition characterized by the above-mentioned.
〔63〕ソルダーレジストとして用いられることを特徴とする〔62〕に記載の硬化性組成物。
〔64〕〔62〕に記載の硬化性組成物を用いて形成された絶縁保護被膜。
[63] The curable composition as described in [62], which is used as a solder resist.
[64] An insulating protective film formed using the curable composition according to [62].
〔65〕〔64〕に記載の絶縁保護被膜を有するプリント配線基板。 [65] A printed wiring board having the insulating protective film according to [64].
本発明の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物は、反応性に優れるとともに、高耐熱性や高屈折率性などの機能を付与することが期待できる。したがって、コーティング材料、紫外線硬化塗料、熱硬化塗料、成形材料、接着、インキ、レジスト、
光学材料、光造形材料、印刷版材料、歯科材料、ポリマー電池材料などの広範な分野で、原料モノマーとして使用できる。
The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of the present invention is excellent in reactivity and can be expected to impart functions such as high heat resistance and high refractive index. Therefore, coating material, UV curable paint, thermosetting paint, molding material, adhesion, ink, resist,
It can be used as a raw material monomer in a wide range of fields such as optical materials, stereolithography materials, printing plate materials, dental materials, and polymer battery materials.
また、本発明の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物を用いて合成される反応性モノマーは、温和な条件下において短時間で得られ、さらに反応を促進するための触媒を用いないため、着色や不純物などの要素を抑えた硬化物を提供することができる。 In addition, the reactive monomer synthesized using the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of the present invention is obtained in a short time under mild conditions, and further does not use a catalyst for promoting the reaction. A cured product in which elements such as coloring and impurities are suppressed can be provided.
以下、本発明に係る(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物およびその製造方法、ならびにウレタン化合物の合成について詳細に説明する。なお、本明細書中におけるすべての一般式において、cis,trans等の立体異性体はすべて含まれるものとす
る。
Hereinafter, the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound according to the present invention, the production method thereof, and the synthesis of the urethane compound will be described in detail. In addition, in all general formulas in this specification, all stereoisomers such as cis and trans are included.
(i)(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物
本発明の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物は、下記式(I)で
表される。
(I) (Meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of the present invention is represented by the following formula (I).
式(I)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基およびイソブチレン基などが挙げられる。これらの中では、単結合、メチレン基およびエチレン基が好ましい。R2は水素原子またはメチル基を表す。R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基およびイソプロピレン基が挙げられる。これらの中では、単結合、メチレン基およびエチレン基が好ましい。Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表す。mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表し特に1が好ましい。ただし1≦m+n≦5である。 In the formula (I), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, and specifically includes a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, butylene. Group and isobutylene group. In these, a single bond, a methylene group, and an ethylene group are preferable. R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group. R 3 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and specific examples include a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. In these, a single bond, a methylene group, and an ethylene group are preferable. X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group. m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 is particularly preferable. However, 1 ≦ m + n ≦ 5.
上記式(I)で表される化合物(以下「化合物(I)」ともいう。)の好ましい例として、下記式(III)または(IV)で表される化合物が挙げられる。 Preferable examples of the compound represented by the above formula (I) (hereinafter also referred to as “compound (I)”) include compounds represented by the following formula (III) or (IV).
上記化合物(I)の好ましい具体例としては、4−アクリロイルオキシフェニルイソシ
アネート、3−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、2−アクリロイルオキシフェニルイソシアネート、4−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネート、3−(アクリロイルオキシメチル)フェニルイソシアネート、2−(アクリロイルオキシメチル)フェニルイソシアネート、3,5−ビス(メタクリロイルオキシエチル)フェニルイソシアネートおよび2,4−ビス(アクリロイルオキシ)フェニルイソシアネートが挙げられる。
Preferred specific examples of the compound (I) include 4-acryloyloxyphenyl isocyanate, 3-acryloyloxyphenyl isocyanate, 2-acryloyloxyphenyl isocyanate, 4-methacryloyloxyphenyl isocyanate, 3- (acryloyloxymethyl) phenyl isocyanate, Examples include 2- (acryloyloxymethyl) phenyl isocyanate, 3,5-bis (methacryloyloxyethyl) phenyl isocyanate, and 2,4-bis (acryloyloxy) phenyl isocyanate.
特に、反応性(メタ)アクリロイル基を含む置換基としては、芳香環上のイソシアネートを含む基に対して置換基定数が−0.2<σ<0.8である電子吸引基が好ましく、具体的にはメタクリロイルオキシ基およびアクリロイルオキシ基などが挙げられる。 In particular, the substituent containing a reactive (meth) acryloyl group is preferably an electron withdrawing group having a substituent constant of −0.2 <σ <0.8 with respect to the group containing isocyanate on the aromatic ring. Specific examples include a methacryloyloxy group and an acryloyloxy group.
上記化合物(I)の好ましい具体例として例示したイソシアネート化合物は、反応性(
メタ)アクリロイル基を含む置換基の置換基定数によって、イソシアネート基の反応性を制御することが可能となり、室温下や無触媒といった条件下で付加反応を行うことを可能とする。
The isocyanate compounds exemplified as preferred specific examples of the compound (I) are reactive (
The reactivity of the isocyanate group can be controlled by the substituent constant of the substituent containing the (meth) acryloyl group, and the addition reaction can be performed under conditions such as room temperature and no catalyst.
(ii)(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の第一の製造方法
上記化合物(I)の第一の製造方法は、
(1)上記式(V)で表されるヒドロキシフェニルアミン化合物(以下「化合物(V)」ともいう)と鉱酸とから、上記式(VI)で表されるヒドロキシフェニルアミノ鉱酸塩化合物(以下「化合物(VI)」ともいう)を合成する工程と、
(2)前記工程(1)で得られた化合物(VI)と上記式(VII)で表される化合物とから
、上記式(VIII)で表されるヒドロキシフェニルイソシアネート化合物(以下「化合物(VIII)」ともいう)を合成する工程と、
(3)前記工程(2)で得られた化合物(VIII)と上記式(IX)で表される化合物とから、上記式(X)で表されるイソシアネート基含有フェニルエステル化合物(以下「化合物
(X)」ともいう)を合成する工程と、
(4)前記工程(3)で得られた化合物(X)を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水
素させる工程とを含む。以下、各工程について説明する。
(Ii) First production method of (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound The first production method of the compound (I) is:
(1) From a hydroxyphenylamine compound represented by the above formula (V) (hereinafter also referred to as “compound (V)”) and a mineral acid, a hydroxyphenylamino mineral salt compound represented by the above formula (VI) ( (Hereinafter also referred to as “compound (VI)”),
(2) From the compound (VI) obtained in the step (1) and the compound represented by the above formula (VII), a hydroxyphenyl isocyanate compound represented by the above formula (VIII) (hereinafter referred to as “compound (VIII)”) ))), And
(3) From the compound (VIII) obtained in the step (2) and the compound represented by the above formula (IX), an isocyanate group-containing phenyl ester compound represented by the above formula (X) (hereinafter referred to as “compound ( X) ")), and
(4) A step of dehydrochlorinating the compound (X) obtained in the step (3) in the presence of a basic nitrogen compound. Hereinafter, each step will be described.
<工程(1)>
工程(1)は、下記反応スキームに示すように、式(V)で表される化合物(V)と鉱酸(W1)とから、式(VI)で表される化合物(VI)を合成する工程である。
<Step (1)>
In step (1), as shown in the following reaction scheme, compound (VI) represented by formula (VI) is synthesized from compound (V) represented by formula (V) and mineral acid (W 1 ). It is a process to do.
上記工程(1)で原料として用いる化合物(V)としては、たとえば、4−アミノフェノール、3−アミノフェノール、2−アミノフェノール、4−(アミノメチル)フェノール、3−(アミノメチル)フェノール、2−(アミノメチル)フェノール、4−(1−アミノエチル)フェノール、3−(1−アミノエチル)フェノール、2−(1−アミノエチル)フェノール、4−(1−アミノプロピル)フェノール、3−(1−アミノプロピル)フェノール、2−(1−アミノプロピル)フェノール、4−(2−アミノプロピル)フェノール、3−(2−アミノプロピル)フェノール、2−(2−アミノプロピル)フェノール、4−(3−アミノプロピル)フェノール、3−(3−アミノプロピル)フェノール、2−(3−アミノプロピル)フェノール、 Examples of the compound (V) used as a raw material in the step (1) include 4-aminophenol, 3-aminophenol, 2-aminophenol, 4- (aminomethyl) phenol, 3- (aminomethyl) phenol, 2 -(Aminomethyl) phenol, 4- (1-aminoethyl) phenol, 3- (1-aminoethyl) phenol, 2- (1-aminoethyl) phenol, 4- (1-aminopropyl) phenol, 3- ( 1-aminopropyl) phenol, 2- (1-aminopropyl) phenol, 4- (2-aminopropyl) phenol, 3- (2-aminopropyl) phenol, 2- (2-aminopropyl) phenol, 4- ( 3-aminopropyl) phenol, 3- (3-aminopropyl) phenol, 2- (3-aminopropyl) phenol Lumpur,
4−(1−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、3−(1−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、2−(1−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、4−(2−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、3−(2−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、2−(2−アミノ−1−メチルエチル)フェノール、4−アミノ−1,2−ベンゼンジオール、3−アミノ−1,2−ベンゼンジオール、5−アミノ−1,3−ベンゼンジオール、4−アミノ−1,3−ベンゼンジオール、2−アミノ−1,3−ベンゼンジオール、3−アミノ−1,4−ベンゼンジオール、2−アミノ−1,4−ベンゼンジオール、5−アミノメチル−1,3−ベンゼンジオール、4−アミノメチル−1,3−ベンゼンジオール、2−アミノメチル−1,3−ベンゼンジオール、4−アミノメチル−1,2−ベンゼンジオール、3−アミノメチル−1,2−ベンゼンジオール、 4- (1-amino-1-methylethyl) phenol, 3- (1-amino-1-methylethyl) phenol, 2- (1-amino-1-methylethyl) phenol, 4- (2-amino-1) -Methylethyl) phenol, 3- (2-amino-1-methylethyl) phenol, 2- (2-amino-1-methylethyl) phenol, 4-amino-1,2-benzenediol, 3-amino-1 , 2-benzenediol, 5-amino-1,3-benzenediol, 4-amino-1,3-benzenediol, 2-amino-1,3-benzenediol, 3-amino-1,4-benzenediol, 2-amino-1,4-benzenediol, 5-aminomethyl-1,3-benzenediol, 4-aminomethyl-1,3-benzenediol, 2-aminomethyl-1,3 Benzenediol, 4-aminomethyl-1,2-benzenediol, 3-aminomethyl-1,2-benzenediol,
4−(2−アミノエチル)−1,2−ベンゼンジオール、3−(2−アミノエチル)−1,2−ベンゼンジオール、5−(2−アミノエチル)−1,3−ベンゼンジオール、4−(2−アミノエチル)−1,3−ベンゼンジオール、2−(2−アミノエチル)−1,3−ベンゼンジオール、3−(3−アミノプロピル)−1,4−ベンゼンジオール、2−(3−アミノプロピル)−1,4−ベンゼンジオール、4−(3−アミノプロピル)−1,2−ベンゼンジオール、3−(3−アミノプロピル)−1,2−ベンゼンジオール、3−(2−アミノプロピル)−1,4−ベンゼンジオール、2−(2−アミノプロピル)−1,4−ベンゼンジオール、4−(2−アミノプロピル)−1,2−ベンゼンジオール、3−(2−アミノプロピル)−1,2−ベンゼンジオール、4−(2−アミノ−1−メチルエチル)−1,2−ベンゼンジオール、3−(2−アミノ−1−メチルエチル)−1,2−ベンゼンジオール、 4- (2-aminoethyl) -1,2-benzenediol, 3- (2-aminoethyl) -1,2-benzenediol, 5- (2-aminoethyl) -1,3-benzenediol, 4- (2-aminoethyl) -1,3-benzenediol, 2- (2-aminoethyl) -1,3-benzenediol, 3- (3-aminopropyl) -1,4-benzenediol, 2- (3 -Aminopropyl) -1,4-benzenediol, 4- (3-aminopropyl) -1,2-benzenediol, 3- (3-aminopropyl) -1,2-benzenediol, 3- (2-amino) Propyl) -1,4-benzenediol, 2- (2-aminopropyl) -1,4-benzenediol, 4- (2-aminopropyl) -1,2-benzenediol, 3- (2-aminopropyl) − , 2-benzenediol, 4- (2-amino-1-methylethyl) -1,2-benzenediol, 3- (2-amino-1-methylethyl) -1,2-benzenediol,
2−アミノ−1,3,5−ベンゼントリオール、6−アミノ−1,2,4−ベンゼントリオール、5−アミノ−1,2,4−ベンゼントリオール、3−アミノ−1,2,4−ベンゼントリオール、5−アミノ−1,2,3−ベンゼントリオール、4−アミノ−1,2,3−ベンゼントリオール、5−アミノメチル−1,2,3−ベンゼントリオール、4−アミノメチル−1,2,3−ベンゼントリオール、(4−アミノフェニル)メタノール、(3−アミノフェニル)メタノール、(2−アミノフェニル)メタノール、2−(4−アミノフェニル)エタノール、2−(3−アミノフェニル)エタノール、2−(2−アミノ
フェニル)エタノール、2−[4−(アミノメチル)フェニル]エタノール、2−[2−(
アミノメチル)フェニル]エタノール、3,5−ビス(1−アミノフェニル)エタノール
などが挙げられる。
2-amino-1,3,5-benzenetriol, 6-amino-1,2,4-benzenetriol, 5-amino-1,2,4-benzenetriol, 3-amino-1,2,4-benzene Triol, 5-amino-1,2,3-benzenetriol, 4-amino-1,2,3-benzenetriol, 5-aminomethyl-1,2,3-benzenetriol, 4-aminomethyl-1,2 , 3-benzenetriol, (4-aminophenyl) methanol, (3-aminophenyl) methanol, (2-aminophenyl) methanol, 2- (4-aminophenyl) ethanol, 2- (3-aminophenyl) ethanol, 2- (2-aminophenyl) ethanol, 2- [4- (aminomethyl) phenyl] ethanol, 2- [2- (
Aminomethyl) phenyl] ethanol, 3,5-bis (1-aminophenyl) ethanol and the like.
これらの中では、5−アミノ−1,3−ベンゼンジオール、3,5−ビス(1−アミノフェニル)エタノール、2−[4−(アミノメチル)フェニル]エタノール、4−(アミノメチル)フェノール、2−(アミノメチル)フェノール、4−アミノフェノール、3−アミノフェノールおよび2−アミノフェノールが好ましい。 Among these, 5-amino-1,3-benzenediol, 3,5-bis (1-aminophenyl) ethanol, 2- [4- (aminomethyl) phenyl] ethanol, 4- (aminomethyl) phenol, 2- (aminomethyl) phenol, 4-aminophenol, 3-aminophenol and 2-aminophenol are preferred.
上記工程(1)で用いる鉱酸は、特に限定されるものはないが、たとえば、硫酸、硝酸、塩酸、炭酸、リン酸などを使用することができる。好ましくは塩酸、炭酸および乾燥塩化水素ガスであり、より好ましくは塩酸および乾燥塩化水素ガスであり、特に好ましくは乾燥塩化水素ガスである。 Although the mineral acid used at the said process (1) is not specifically limited, For example, a sulfuric acid, nitric acid, hydrochloric acid, carbonic acid, phosphoric acid etc. can be used. Hydrochloric acid, carbonic acid and dry hydrogen chloride gas are preferred, hydrochloric acid and dry hydrogen chloride gas are more preferred, and dry hydrogen chloride gas is particularly preferred.
上記鉱酸の使用量は、上記アミン化合物(V)の種類によって異なり、特に限定される
ものではないが、アミン化合物(V)1モルに対して、通常、1〜5モル、好ましくは1
〜1.2モルである。鉱酸使用量が上記範囲よりも少ないと、収率が低下する可能性、および、次の工程に悪影響を与える可能性がある。一方、上記範囲を超えると廃液処理や除外装置等に負担となることから好ましくない。
The amount of the mineral acid used varies depending on the type of the amine compound (V) and is not particularly limited, but is usually 1 to 5 mol, preferably 1 with respect to 1 mol of the amine compound (V).
-1.2 mol. If the amount of mineral acid used is less than the above range, the yield may decrease and the next step may be adversely affected. On the other hand, if the above range is exceeded, it is not preferable because it imposes a burden on the waste liquid treatment and the exclusion device.
上記工程(1)で用いる溶媒は、上記アミン化合物(V)の種類によって異なり、特に
限定されるものではない。通常は、溶媒を使用することが好ましいが、原料のアミン化合物(V)および/または生成するアミノ鉱酸塩化合物(VI)が液体である場合または溶融
する場合は、溶媒を使用しなくてもよい。
The solvent used in the step (1) varies depending on the type of the amine compound (V) and is not particularly limited. Usually, it is preferable to use a solvent, but if the starting amine compound (V) and / or the resulting amino mineral salt compound (VI) is liquid or melts, it is not necessary to use a solvent. Good.
使用することができる溶媒としては、たとえば、水;メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノール、n−ヘキサノールなどのアルコール類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテルなどの鎖状エーテル類;ジオキサン、ジオキソラン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類;トルエン、キシレン、エチルベンゼン、メシチレン、クメンなどの芳香族系炭化水素類;プロパン、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族系炭化水素類;塩化メチレン、1、2−ジクロロエタン、1、2−ジクロロベンゼンなどのハロゲン系炭化水素類が挙げられる。これらの中では、ジオキサン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、酢酸エチルなどが極性が高いことから好ましい。 Examples of the solvent that can be used include water; alcohols such as methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, and n-hexanol; methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate, and the like. Esters; chain ethers such as diethyl ether, dipropyl ether and dibutyl ether; cyclic ethers such as dioxane, dioxolane and tetrahydrofuran; aromatic hydrocarbons such as toluene, xylene, ethylbenzene, mesitylene and cumene; propane Aliphatic hydrocarbons such as hexane, heptane and cyclohexane; and halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, 1,2-dichloroethane and 1,2-dichlorobenzene. Among these, dioxane, dioxolane, tetrahydrofuran, ethyl acetate and the like are preferable because of their high polarity.
上記溶媒の使用量としては、アミン化合物(V)1質量部に対して、通常、2〜100
質量部、好ましくは3〜20質量部、より好ましくは5〜10質量部である。溶媒量が上記範囲よりも少ないと、反応を制御することが困難になる可能性があり、上記範囲よりも多いと、反応速度が著しく遅くなる可能性があることから好ましくない。
As the usage-amount of the said solvent, it is 2-100 normally with respect to 1 mass part of amine compound (V).
It is 3 parts by mass, preferably 3-20 parts by mass, more preferably 5-10 parts by mass. If the amount of the solvent is less than the above range, it may be difficult to control the reaction, and if it is more than the above range, the reaction rate may be remarkably reduced, which is not preferable.
反応温度は、使用する化合物の種類によって異なり、特に限定されるものではないが、たとえば、通常、0〜150℃、好ましくは15〜120℃、より好ましくは30〜100℃である。反応温度が上記範囲よりも低いと、反応速度が遅くなる可能性があり、上記範囲を超えると生成した塩が熱により分解する可能性があるため好ましくない。 Although reaction temperature changes with kinds of compound to be used and is not specifically limited, For example, it is 0-150 degreeC normally, Preferably it is 15-120 degreeC, More preferably, it is 30-100 degreeC. If the reaction temperature is lower than the above range, the reaction rate may be slow, and if it exceeds the above range, the generated salt may be decomposed by heat, which is not preferable.
上記工程(1)で得られたアミノ鉱酸塩化合物(VI)は、そのまま次の工程(2)に使
用できるが、溶媒を留去した後、次の工程(2)に使用することが好ましい。また、抽出、再結晶などの通常の精製方法により精製してから用いてもよい。
The amino mineral acid compound (VI) obtained in the step (1) can be used in the next step (2) as it is, but it is preferably used in the next step (2) after distilling off the solvent. . Further, it may be used after being purified by a usual purification method such as extraction or recrystallization.
<工程(2)>
工程(2)は、下記反応スキームに示すように、上記工程(1)で得られた化合物(VI)と、式(VII)で表される化合物(VII)とから、式(VIII)で表される化合物(VIII)を合成する工程である。
<Step (2)>
As shown in the following reaction scheme, the step (2) is represented by the formula (VIII) from the compound (VI) obtained in the above step (1) and the compound (VII) represented by the formula (VII). This is a step of synthesizing Compound (VIII).
上記式(VII)中のZ1およびZ2の好ましい例としては、フッ素原子;塩素原子;臭素
原子;メトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、イソプロピオキシ基、ブトキシ基、ペンタオキシ基、ヘキサオキシ基、シクロヘキサオキシ基などのアルキルオキシ基;ビニルオキシ基、アリルオキシ基などのアルケニルオキシ基;フェニルオキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ビフェニルオキシ基、ナフチルオキシ基、アントリルオキシ基、フェナントリルオキシ基などのアリールオキシ基;イミダゾール、2−イミダゾリン、3−イミダゾリン、4−イミダゾリン、イミダゾリジン、イミダゾリドン、エチレン尿素、エチレンチオ尿素などのイミダゾール類;ピラゾール、1−ピラゾリン、2−ピラゾリン、3−ピラゾリン、ピラゾリドンなどのピラゾール類などが挙げられる。これらの中では、塩素原子およびフッ素原子がより好ましく、特に塩素原子が好ましい。
Preferred examples of Z 1 and Z 2 in the above formula (VII) include fluorine atom; chlorine atom; bromine atom; methoxy group, ethoxy group, propoxy group, isopropyloxy group, butoxy group, pentaoxy group, hexaoxy group, cyclohexyl group. Alkyloxy groups such as saoxy groups; alkenyloxy groups such as vinyloxy groups and allyloxy groups; phenyloxy groups, tolyloxy groups, xylyloxy groups, biphenyloxy groups, naphthyloxy groups, anthryloxy groups, phenanthryloxy groups, etc. Aryloxy group; imidazoles such as imidazole, 2-imidazoline, 3-imidazoline, 4-imidazoline, imidazolidine, imidazolidone, ethyleneurea, ethylenethiourea; pyrazole, 1-pyrazoline, 2-pyrazoline, 3-pyrazoline, pyrazolidone And pyrazoles. In these, a chlorine atom and a fluorine atom are more preferable, and especially a chlorine atom is preferable.
また、上記化合物の二量体または三量体を使用することもできる。二量体は、化合物(VII)2分子からなり、たとえば、Z1およびZ2が塩素原子である場合、下記式(XVIII)で表される。 Moreover, the dimer or trimer of the said compound can also be used. The dimer is composed of two molecules of compound (VII). For example, when Z 1 and Z 2 are chlorine atoms, the dimer is represented by the following formula (XVIII).
また、三量体は、化合物(VII)3分子からなり、たとえば、Z1およびZ2が塩素原子
である場合、下記式(XIX)で表される。
The trimer is composed of three molecules of compound (VII). For example, when Z 1 and Z 2 are chlorine atoms, the trimer is represented by the following formula (XIX).
上記アミノ鉱酸塩化合物(VI)に対する化合物(VII)の使用量は、使用する化合物(VII)の種類によって異なり、特に限定されるものではない。理論的には、化合物(VI)と化合物(VII)との反応は、1対1のモル比で進行するが、反応を円滑に行わせるには、
過剰量の化合物(VII)を使用することが好ましい。たとえば、化合物(VI)1モルに対
して、化合物(VII)は、通常1〜10モル、好ましくは1〜5モルである。化合物(VII
)の量が上記範囲よりも少ないと、未反応アミノ鉱酸塩化合物(VI)が増加し、収率が低下するとともに、不純物が多くなる恐れがある。一方、上記範囲を超えると反応には何ら影響を与えないが、除外装置等が必要となり、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。
The amount of compound (VII) used relative to the amino mineral salt compound (VI) varies depending on the type of compound (VII) used and is not particularly limited. Theoretically, the reaction between compound (VI) and compound (VII) proceeds at a molar ratio of 1: 1, but in order to carry out the reaction smoothly,
It is preferred to use an excess of compound (VII). For example, compound (VII) is 1-10 mol normally with respect to 1 mol of compound (VI), Preferably it is 1-5 mol. Compound (VII
When the amount of) is less than the above range, the unreacted amino mineral acid compound (VI) increases, the yield decreases, and the impurities may increase. On the other hand, if the above range is exceeded, the reaction is not affected at all, but an exclusion device or the like is required, which is not preferable because there is a possibility that the load on the environment is increased.
上記工程(2)で用いられる溶媒は、原料アミン化合物(V)の種類によって異なり、
特に限定されるものではない。通常は溶媒を使用することが好ましいが、アミノ鉱酸塩化合物(VI)が液体である場合または溶融する場合は、溶媒を使用しなくてもよい。使用することができる溶媒としては、上記工程(1)で例示した溶媒のうち、水およびアルコール類を除く各種有機溶媒が挙げられる。
The solvent used in the above step (2) varies depending on the type of raw material amine compound (V),
It is not particularly limited. Usually, it is preferable to use a solvent, but when the amino mineral acid compound (VI) is liquid or melts, it is not necessary to use a solvent. As a solvent which can be used, various organic solvents except water and alcohol are mentioned among the solvents illustrated by the said process (1).
溶媒の使用量としては、アミノ鉱酸塩化合物(VI)1質量部に対して、1.5〜200質量部、好ましくは2〜20質量部である。溶媒量が上記範囲よりも少ないと、反応を円滑に行うことができない可能性があり、上記範囲を超えると廃棄する溶媒量が増えるため、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。 As a usage-amount of a solvent, it is 1.5-200 mass parts with respect to 1 mass part of amino mineral salt compound (VI), Preferably it is 2-20 mass parts. If the amount of the solvent is less than the above range, the reaction may not be performed smoothly. If the amount exceeds the above range, the amount of the solvent to be discarded increases, which may increase the burden on the environment. .
工程(2)における反応温度は、使用する化合物の種類によって異なるが、通常、30〜150℃、好ましくは50〜120℃である。反応温度が上記範囲よりも低いと、反応速度が遅くなる可能性があり、上記範囲を超えるとアミン鉱酸塩化合物(VI)から鉱酸塩が遊離し、不純物生成の原因となる可能性があることから好ましくない。
得られたイソシアネート化合物(VIII)は、そのまま次の工程(3)の反応に使用できるが、抽出、再結晶、蒸留などの精製操作により精製してから使用してもよい。
Although the reaction temperature in a process (2) changes with kinds of compound to be used, it is 30-150 degreeC normally, Preferably it is 50-120 degreeC. If the reaction temperature is lower than the above range, the reaction rate may be slow, and if it exceeds the above range, the mineral acid salt may be liberated from the amine mineral salt compound (VI), which may cause impurity generation. This is not preferable.
The obtained isocyanate compound (VIII) can be used as it is for the reaction in the next step (3), but may be used after being purified by a purification operation such as extraction, recrystallization or distillation.
<工程(3)>
工程(3)は、下記反応スキームに示すように、工程(2)で得られた化合物(VIII)と式(IX)で表される化合物(IX)とから、式(X)で表される化合物(X)を合成する工程である。
<Step (3)>
Step (3) is represented by the formula (X) from the compound (VIII) obtained in the step (2) and the compound (IX) represented by the formula (IX) as shown in the following reaction scheme. In this step, compound (X) is synthesized.
上記化合物(IX)、例えば3−クロロプロピオン酸クロライドは、ジメチルホルムアミドを溶媒としてメタクリル酸とホスゲンとを反応させることにより得られる。これらの化合物は、一般的に試薬として購入することができる。 The above compound (IX), for example, 3-chloropropionic acid chloride is obtained by reacting methacrylic acid and phosgene using dimethylformamide as a solvent. These compounds can generally be purchased as reagents.
イソシアネート化合物(VIII)に対する化合物(IX)の使用量は、使用する化合物の種類によって異なるが、一般に、化合物(VIII)1モルに対して1〜10モル、好ましくは3〜6モルである。化合物(IX)の使用量が上記範囲よりも少ないと、収率が低下し不純物が多くなる可能性があり、上記範囲を超えると廃棄物が増えるため、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。 Although the usage-amount of compound (IX) with respect to isocyanate compound (VIII) changes with kinds of compound to be used, it is generally 1-10 mol with respect to 1 mol of compound (VIII), Preferably it is 3-6 mol. If the amount of compound (IX) used is less than the above range, the yield may decrease and impurities may increase, and if it exceeds the above range, waste increases, which may increase the burden on the environment. That is not preferable.
工程(3)では、通常、溶媒を使用することが好ましいが、イソシアネート化合物が液体である場合または溶融する場合は、溶媒を使用しなくてもよい。使用することができる
溶媒としては、上記工程(2)の溶媒と同じものが挙げられる。
In the step (3), it is usually preferable to use a solvent, but when the isocyanate compound is liquid or melts, it is not necessary to use a solvent. Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those used in the above step (2).
溶媒の使用量としては、イソシアネート化合物(VIII)1質量部に対して、1.5〜200倍質量、好ましくは2〜20倍質量である。溶媒量が上記範囲よりも少ないと、反応を円滑に行うことができない可能性があり、上記範囲を超えると廃棄する溶媒量が増えるため、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。 As a usage-amount of a solvent, it is 1.5-200 times mass with respect to 1 mass part of isocyanate compound (VIII), Preferably it is 2-20 times mass. If the amount of the solvent is less than the above range, the reaction may not be performed smoothly. If the amount exceeds the above range, the amount of the solvent to be discarded increases, which may increase the burden on the environment. .
工程(3)における反応温度は、使用する化合物の種類によって異なるが、通常、30〜150℃、好ましくは50〜120℃である。反応温度が上記範囲よりも低いと反応速度が遅くなる可能性があり、上記範囲を超えると不純物が増える可能性があるとともに、不飽和結合が重合する可能性があることから好ましくない。 Although the reaction temperature in a process (3) changes with kinds of compound to be used, it is 30-150 degreeC normally, Preferably it is 50-120 degreeC. If the reaction temperature is lower than the above range, the reaction rate may be slow, and if it exceeds the above range, impurities may increase and unsaturated bonds may be polymerized.
工程(3)においては、反応速度を促進する触媒として塩基性窒素化合物を添加することが好ましい。塩基性窒素化合物とは、脱塩酸反応を目的とした塩基性を示す窒素含有化合物である。 In step (3), it is preferable to add a basic nitrogen compound as a catalyst for accelerating the reaction rate. A basic nitrogen compound is a nitrogen-containing compound that exhibits basicity for the purpose of dehydrochlorination.
このような塩基性窒素化合物としては、たとえば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジメチルエチルアミン、ジメチルイソプロピルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルブチルアミン、ジメチルヘキシルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミン、テトラメチルジアミノメタン、ジメチルベンジルアミン、テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチル−1,4−ジアミノブタン、テトラメチル−1,3−ジアミノブタン、テトラメチル−1,6−ジアミノヘキサン、ペンタメチルジエチレントリアミン、1−メチルピペリジン、1−エチルピペリジン、N,N−メチルピペラジン、N−メチルモルフォリン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン(DBU)、1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノエン(DBN)、2,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、第三級窒素を含有するイオン交換樹脂などが挙げられる。 Examples of such basic nitrogen compounds include trimethylamine, triethylamine, tripropylamine, dimethylethylamine, dimethylisopropylamine, diethylmethylamine, dimethylbutylamine, dimethylhexylamine, diisopropylethylamine, dimethylcyclohexylamine, tetramethyldiaminomethane, Dimethylbenzylamine, tetramethylethylenediamine, tetramethyl-1,4-diaminobutane, tetramethyl-1,3-diaminobutane, tetramethyl-1,6-diaminohexane, pentamethyldiethylenetriamine, 1-methylpiperidine, 1-ethyl Piperidine, N, N-methylpiperazine, N-methylmorpholine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene (DBU) 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-noene (DBN), 2,4-diazabicyclo [2.2.2] octane (DABCO), N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline And ion exchange resins containing tertiary nitrogen.
上記塩基性窒素化合物は、単独で用いても、2種類以上を組み合わせて用いてもよい。上記塩基性窒素化合物の中では、トリメチルアミン、トリエチルアミンおよびトリプロピルアミンが好ましい。 The basic nitrogen compounds may be used alone or in combination of two or more. Among the basic nitrogen compounds, trimethylamine, triethylamine and tripropylamine are preferable.
得られたイソシアネート基含有フェニルエステル化合物(X)は、そのまま次の工程(
4)の反応に使用できるが、さらに、抽出、再結晶、蒸留などの精製操作により精製してから使用してもよい。
The resulting isocyanate group-containing phenyl ester compound (X) is directly used in the next step (
Although it can be used for the reaction of 4), it may be used after further purification by a purification operation such as extraction, recrystallization or distillation.
<工程(4)>
工程(4)は、下記反応スキームに示すように、工程(3)で得られた化合物(X)を
、上記塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素することにより、式(I)で表される(メ
タ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物を合成する工程である。
<Process (4)>
In the step (4), as shown in the following reaction scheme, the compound (X) obtained in the step (3) is dehydrochlorinated in the presence of the above basic nitrogen compound, thereby being represented by the formula (I). This is a step of synthesizing the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound.
工程(4)で用いる塩基性窒素化合物としては、上記工程(3)で例示した塩基性窒素化合物を用いることができる。なお、工程(4)においては、第三級窒素原子を含有する塩基性窒素化合物が好ましく、第三級窒素原子を含有し、該第三級窒素原子が芳香環基以外の基、たとえばアルキル基を少なくとも1個有している塩基性窒素化合物がより好ましい。また、この第三級窒素原子に結合している芳香環基は1個以下であることが好ましい。具体的には、トリメチルアミン、トリエチルアミンおよびトリプロピルアミンが好ましく、特にトリエチルアミンが好適である。 As a basic nitrogen compound used at a process (4), the basic nitrogen compound illustrated at the said process (3) can be used. In the step (4), a basic nitrogen compound containing a tertiary nitrogen atom is preferable, a tertiary nitrogen atom is contained, and the tertiary nitrogen atom is a group other than an aromatic ring group, such as an alkyl group. A basic nitrogen compound having at least one is more preferable. Moreover, it is preferable that the aromatic ring group couple | bonded with this tertiary nitrogen atom is 1 or less. Specifically, trimethylamine, triethylamine and tripropylamine are preferable, and triethylamine is particularly preferable.
上記塩基性窒素化合物の使用量は、使用する化合物の種類によって異なるが、上記工程(3)終了後の反応液中のアルカリ分解性塩素を測定し、その測定値により塩基性窒素化合物の量を決めることが望ましい。具体的には、測定されたアルカリ分解性塩素1モルに対して、塩基性窒素化合物の量は0.5〜10モル、好ましくは0.8〜5.0モル、さらに好ましくは0.9〜2.0モルである。 The amount of the basic nitrogen compound used varies depending on the type of compound used, but the alkali-decomposable chlorine in the reaction solution after the completion of the step (3) is measured, and the amount of the basic nitrogen compound is determined by the measured value. It is desirable to decide. Specifically, the amount of the basic nitrogen compound is 0.5 to 10 mol, preferably 0.8 to 5.0 mol, more preferably 0.9 to 1 mol per 1 mol of the alkali-decomposable chlorine measured. 2.0 moles.
塩基性窒素化合物の使用量が上記範囲よりも少ないと収率が低下する可能性があり、上記範囲を超えると生成する化合物の安定性が悪くなる可能性があるとともに、コストアップになることから好ましくない。 If the amount of basic nitrogen compound used is less than the above range, the yield may decrease, and if it exceeds the above range, the stability of the resulting compound may be deteriorated and the cost will increase. It is not preferable.
なお、上記アルカリ分解性塩素の量は、上記工程(3)で得られた反応液を、メタノール/水混合溶媒で希釈し、さらに水酸化ナトリウム水溶液を加えて加熱した後、硝酸銀溶液を用いて電位差滴定法により得られる値であり、詳細は後述する。 The amount of the alkali-decomposable chlorine is determined by diluting the reaction solution obtained in the step (3) with a methanol / water mixed solvent, adding a sodium hydroxide aqueous solution and heating it, and then using a silver nitrate solution. This value is obtained by potentiometric titration, and details will be described later.
工程(4)で用いられる溶媒は、使用する化合物の種類によって異なり、特に限定されるものではない。通常は溶媒を使用することが好ましいが、エステル化合物(X)が液体
である場合または溶融する場合は、溶媒を使用しなくてもよい。使用することができる溶媒としては、上記工程(2)と同じものが挙げられる。
The solvent used in the step (4) varies depending on the type of compound used and is not particularly limited. Usually, it is preferable to use a solvent, but when the ester compound (X) is liquid or melts, it is not necessary to use a solvent. Examples of the solvent that can be used include the same solvents as those in the above step (2).
溶媒の使用量は、たとえば、エステル化合物(X)1質量部に対して、1.5〜200
質量部、好ましくは2〜20質量部である。溶媒量が上記範囲よりも少ないと反応を円滑に行うことができない可能性があるとともに、生成する塩の除去が困難となり、上記範囲を超えると廃棄する溶媒量が増えるため、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。
The usage-amount of a solvent is 1.5-200 with respect to 1 mass part of ester compound (X), for example.
Part by mass, preferably 2 to 20 parts by mass. If the amount of the solvent is less than the above range, the reaction may not be performed smoothly, and it is difficult to remove the generated salt. If the amount exceeds the above range, the amount of the solvent to be discarded increases, so the burden on the environment is high. It is not preferable because there is a possibility of becoming.
工程(4)における反応温度は、使用する化合物の種類によって異なり、特に限定されるものではないが、たとえば、0〜150℃、好ましくは20〜100℃である。反応温度が上記範囲よりも低いと反応速度が遅くなる可能性があり、上記範囲を超えると脱塩化水素反応により生成した不飽和結合が重合する可能性があることから好ましくない。 The reaction temperature in the step (4) varies depending on the kind of the compound to be used and is not particularly limited, but is, for example, 0 to 150 ° C, preferably 20 to 100 ° C. If the reaction temperature is lower than the above range, the reaction rate may be slow, and if it exceeds the above range, the unsaturated bond produced by the dehydrochlorination reaction may be polymerized.
上記工程(4)により得られた本発明の化合物(I)は、一般的な操作、すなわち、濾
過、抽出、再結晶、蒸留などにより精製できる。
(iii)(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の第二の製造方法
次に、本発明の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物の第二の製造方法について説明する。第二の製造方法は、
(1’)上記第一の製造方法の工程(1)と同じ工程と、
(2’)上記第一の製造方法の工程(2)と同じ工程と、
(3’)前記工程(2’)で得られたイソシアネート化合物(VIII)と、式(XI)で表される化合物(以下「化合物(XI)」ともいう)とから、式(I)で表される(メタ)アク
リロイル基含有芳香族イソシアネート化合物を合成する工程とを含む。工程(3’)の反応スキームを以下に示す。
The compound (I) of the present invention obtained by the above step (4) can be purified by general operations, that is, filtration, extraction, recrystallization, distillation and the like.
(Iii) Second method for producing (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound Next, a second method for producing the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of the present invention will be described. The second manufacturing method is
(1 ′) the same step as step (1) of the first production method,
(2 ′) the same step as step (2) of the first production method,
(3 ′) From the isocyanate compound (VIII) obtained in the step (2 ′) and a compound represented by the formula (XI) (hereinafter also referred to as “compound (XI)”), the compound represented by the formula (I) Synthesizing the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound. The reaction scheme of the step (3 ′) is shown below.
工程(3’)で用いられる化合物(XI)は、例えばメタクリル酸クロライドの場合、ジメチルホルムアミドを溶媒としてメタクリル酸とホスゲンとを反応させることにより得られる。また、化合物(XI)は試薬会社から購入することもできる。 For example, in the case of methacrylic acid chloride, the compound (XI) used in the step (3 ') can be obtained by reacting methacrylic acid and phosgene using dimethylformamide as a solvent. Compound (XI) can also be purchased from a reagent company.
上記化合物(XI)の使用量は、使用する化合物の種類によって異なるが、ヒドロキシフェニルイソシアネート化合物(VIII)1モルに対し1〜10モル、好ましくは3〜6モルである。化合物(XI)の使用量が上記範囲よりも少ないと、収率が低下し、不純物が増加する可能性があり、上記範囲を超えると廃棄物が増え、処理費用が嵩む可能性があることから好ましくない。 Although the usage-amount of the said compound (XI) changes with kinds of compound to be used, it is 1-10 mol with respect to 1 mol of hydroxyphenyl isocyanate compounds (VIII), Preferably it is 3-6 mol. If the amount of compound (XI) used is less than the above range, the yield may decrease and impurities may increase, and if it exceeds the above range, waste may increase and processing costs may increase. It is not preferable.
上記工程(3’)で用いられる溶媒は、使用する化合物の種類によって異なり、特に限定されるものではない。通常は溶媒を使用することが好ましいが、イソシアネート化合物(VIII)が液体である場合または溶融する場合は、溶媒を使用しなくてもよい。使用することができる溶媒としては、上記第一の製造方法の工程(2)で例示したものが挙げられる。 The solvent used in the above step (3 ′) varies depending on the type of compound used and is not particularly limited. Usually, it is preferable to use a solvent, but when the isocyanate compound (VIII) is liquid or melts, it is not necessary to use a solvent. Examples of the solvent that can be used include those exemplified in the step (2) of the first production method.
溶媒の使用量は、化合物(VIII)1質量部に対して、1.5〜200質量部、好ましくは2〜20質量部である。溶媒量が上記範囲よりも少ないと反応を円滑に行うことができない可能性があり、上記範囲を超えると廃棄する溶媒量が増えるため、環境に対する負荷が高くなる可能性があることから好ましくない。 The usage-amount of a solvent is 1.5-200 mass parts with respect to 1 mass part of compounds (VIII), Preferably it is 2-20 mass parts. If the amount of the solvent is less than the above range, the reaction may not be carried out smoothly. If the amount exceeds the above range, the amount of the solvent to be discarded increases, which may increase the burden on the environment.
工程(3’)における反応温度は、使用する化合物の種類によって異なるが、通常は30〜150℃、好ましくは50〜120℃である。反応温度が上記範囲よりも低いと反応速度が遅くなる可能性があり、上記範囲を超えると不純物が増える可能性があるとともに、不飽和結合が重合する可能性があることから好ましくない。 Although the reaction temperature in a process (3 ') changes with kinds of compound to be used, it is 30-150 degreeC normally, Preferably it is 50-120 degreeC. If the reaction temperature is lower than the above range, the reaction rate may be slow, and if it exceeds the above range, impurities may increase and unsaturated bonds may be polymerized.
上記工程(3’)により得られた本発明の化合物(I)は、一般的な操作、すなわち、
濾過、抽出、再結晶、蒸留などにより精製できる。
本発明の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物は、高耐熱性および高屈折率などを付与する機能を有することから、機能性樹脂の分野において有用である。たとえば、本発明の化合物(I)と、メチルメタクリレート、メチルアクリレートなどの
(メタ)アクリレート類、または、ビニルエーテル、スチレンなどのビニル基を有する化合物などとを共重合させることにより、高耐熱性および高屈折率などの機能を有する機能性ポリマー材料を製造することができる。
Compound (I) of the present invention obtained by the above step (3 ′) is subjected to a general procedure, that is,
It can be purified by filtration, extraction, recrystallization, distillation and the like.
The (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of the present invention has a function of imparting high heat resistance, a high refractive index and the like, and thus is useful in the field of functional resins. For example, by copolymerizing the compound (I) of the present invention with a (meth) acrylate such as methyl methacrylate or methyl acrylate, or a compound having a vinyl group such as vinyl ether or styrene, it has high heat resistance and high resistance. A functional polymer material having a function such as a refractive index can be manufactured.
(iv)反応性モノマー
本発明の化合物(I)と、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基などの活性水素
を有するモノマー、オリゴマーまたはポリマーなどとを反応させることにより、該モノマー、オリゴマーまたはポリマーなどに高耐熱性および高屈折率などの機能を付与した材料を製造することができる。
(Iv) Reactive monomer By reacting the compound (I) of the present invention with a monomer, oligomer or polymer having active hydrogen such as hydroxyl group, amino group or carboxyl group, the monomer, oligomer or polymer is reacted. A material having functions such as high heat resistance and a high refractive index can be manufactured.
さらに、本発明の化合物(I)を用いることにより、速い硬化速度を実現し、高耐熱性
および高屈折率などの機能を有する組成物が得られる可能性がある。
本発明の化合物(I)と、分子内にヒドロキシル基を有する化合物とを反応させること
により、下記式(XII)に示す(メタ)アクリロイル基含有ウレタン化合物を得ることが
できる。
Furthermore, by using the compound (I) of the present invention, there is a possibility that a composition having a high curing speed and functions such as high heat resistance and high refractive index can be obtained.
By reacting the compound (I) of the present invention with a compound having a hydroxyl group in the molecule, a (meth) acryloyl group-containing urethane compound represented by the following formula (XII) can be obtained.
上記式(XII)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、具体的には、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基およびイソブチレン基などが挙げられる。これらの中では、単結合、メチレン基およびエチレン基が好ましい。 In the above formula (XII), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, specifically, a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, Examples include butylene group and isobutylene group. In these, a single bond, a methylene group, and an ethylene group are preferable.
R2は水素原子またはメチル基を表す。
R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、具体的に
は、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基およびイソプロピレン基が挙げられる。これらの中では、単結合、メチレン基およびエチレン基が好ましい。
R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.
R 3 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 3 carbon atoms, and specific examples include a single bond, a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and an isopropylene group. In these, a single bond, a methylene group, and an ethylene group are preferable.
R4はエーテル基、チオエーテル基またはNH基を示す。
Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表す。
lは1〜50の整数を表し、mは0〜4の整数を表し、nは1〜3の整数を表し特に1が好ましい。ただし、1≦m+n≦5である。
R 4 represents an ether group, a thioether group or an NH group.
X independently represents a halogen atom or an electron withdrawing group.
l represents an integer of 1 to 50, m represents an integer of 0 to 4, n represents an integer of 1 to 3, and 1 is particularly preferable. However, 1 ≦ m + n ≦ 5.
Yは、脂肪族基、芳香環を含む基、複素環を含む基、ポリカーボネート残基、ポリウレタン残基、ポリエステル残基または繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物残基である。 Y is an aliphatic group, a group containing an aromatic ring, a group containing a heterocyclic ring, a polycarbonate residue, a polyurethane residue, a polyester residue or a polyhydroxy compound residue having a repeating unit.
置換基Yの脂肪族基は、直鎖状、分岐状または環状の炭素鎖からなり、1〜4個の置換できる位置を有する基である。その具体例としては、直鎖または分岐のアルキル基、直鎖または分岐のアルキレン基、環状アルキル基などを挙げることができる。 The aliphatic group of the substituent Y is a group having a linear, branched or cyclic carbon chain and having 1 to 4 substitutable positions. Specific examples thereof include a linear or branched alkyl group, a linear or branched alkylene group, and a cyclic alkyl group.
置換基Yの脂肪族基は、さらに置換基を有していてもよい。このような置換基の具体例としては、エチル基、n−ブチル基、n−ヘキシル基、−CH2CH2(CF2)8F、−CH2CF2CF2CF2CF2CF2CF2CH3などのアルキル基;シクロヘキシル基、シクロアルケニル基、ノルボルニル基などの環状アルキル基などが挙げられる。 The aliphatic group of the substituent Y may further have a substituent. Specific examples of such a substituent include an ethyl group, an n-butyl group, an n-hexyl group, —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 8 F, —CH 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF 2 CF. 2 An alkyl group such as CH 3 ; and a cyclic alkyl group such as a cyclohexyl group, a cycloalkenyl group, and a norbornyl group.
置換基Yの芳香族基は、1〜4個の置換できる位置を有する芳香族基であり、その具体例としては、フェニル基、キシリレン基、ビスフェノール基、フルオレン基などが挙げられる。 The aromatic group of the substituent Y is an aromatic group having 1 to 4 substitutable positions, and specific examples thereof include a phenyl group, a xylylene group, a bisphenol group, and a fluorene group.
置換基Yの複素環基は、1〜4個の置換できる位置を有する複素環基であり、その具体例としては、ピリジル基、チエニル基、フリル基、ピペリジル基、イミダゾリル基、キノ
リル基などが挙げられる。
The heterocyclic group of the substituent Y is a heterocyclic group having 1 to 4 substitutable positions, and specific examples thereof include pyridyl group, thienyl group, furyl group, piperidyl group, imidazolyl group, quinolyl group and the like. Can be mentioned.
上記式(XII)で表される化合物の特に好ましい例として、下記式(XIV)または(XV)で表される化合物が挙げられる。 Particularly preferred examples of the compound represented by the above formula (XII) include compounds represented by the following formula (XIV) or (XV).
(式(XIV)中、R2、Yおよびlは、式(XII)中のR2、Yおよびlと同一のものを表す。) (Formula (XIV) in, R 2, Y and l. Representing the the same as R 2, Y and l in formula (XII))
(式(XV)中、R2、Yおよびlは、式(XII)中のR2、Yおよびlと同一のものを表す。)
本発明の反応性モノマーは、光または熱により、エチレン性不飽和基においてラジカル重合またはカチオン重合などが起き、硬化される。
以下、本発明の反応性モノマーにおける好ましい具体例について、R4がエーテル基で
ある場合、チオエーテル基である場合、NH基である場合のそれぞれに関して説明する。
(Formula (XV) in, R 2, Y and l. Representing the the same as R 2, Y and l in formula (XII))
The reactive monomer of the present invention is cured by radical polymerization or cationic polymerization in an ethylenically unsaturated group by light or heat.
Hereinafter, preferred specific examples of the reactive monomer of the present invention will be described for each of the case where R 4 is an ether group, a thioether group, and an NH group.
<R4がエーテル基である反応性モノマー>
第1の例における反応性モノマーでは、式(XII)のR4がエーテル基であり、Yがフッ素を含有する基であり、l=1である。このような1個の置換位置をもつフッ素含有基の具体例としては、フルオロアルキル基を挙げることができる。このフルオロアルキル基は、炭素数が1〜20であることが好ましく、より好ましくは1〜10であり、直鎖構造(例えば−CF2CF3、−CH2(CF2)4H、−CH2(CF2)8CF3、−CH2CH2(
CF2)4H、−CH2CH2(CF2)8Fなど)であってもよく、分岐構造(例えば−CH(CF3)2、−CH2CF(CF3)2、−CH(CH3)CF2CF3、−CH(CH3)(
CF2)5CF2Hなど)であってもよく、脂環式構造(好ましくは5員環または6員環、
例えばパーフルオロシクロへキシル基、パーフルオロシクロペンチル基またはこれらで置換されたアルキル基など)であってもよく、エーテル結合を有していてもよい。エーテル結合を有するフルオロアルキル基の具体例としては、−CH2OCH2CF2CF3、−CH2CH2OCH2C4F8H、−CH2CH2OCH2CH2C8F17、−CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2Hなどが挙げられる。
<Reactive monomer in which R 4 is an ether group>
In the reactive monomer in the first example, R 4 in the formula (XII) is an ether group, Y is a group containing fluorine, and l = 1. Specific examples of such a fluorine-containing group having one substitution position include a fluoroalkyl group. The fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms, and a linear structure (for example, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) 4 H, —CH 2 (CF 2 ) 8 CF 3 , —CH 2 CH 2 (
CF 2 ) 4 H, —CH 2 CH 2 (CF 2 ) 8 F, etc.), and branched structures (eg, —CH (CF 3 ) 2 , —CH 2 CF (CF 3 ) 2 , —CH ( CH 3) CF 2 CF 3, -CH (CH 3) (
CF 2 ) 5 CF 2 H and the like, and an alicyclic structure (preferably a 5- or 6-membered ring,
For example, it may be a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group or an alkyl group substituted with these, and may have an ether bond. Specific examples of the fluoroalkyl group having an ether bond include —CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, —CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 , such as -CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2
なお、上記のフルオロアルキル基は同一分子中に複数含まれていてもよい。
式(XII)におけるYの好ましい例としては、−(CH2)p(CF2)qFで表される基
(pは0〜2の整数を示し、qは0〜8の整数を示す。pとqが同時に0となることはない。)を挙げることができる。
A plurality of the above fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.
Preferable examples of Y in the formula (XII) are groups represented by — (CH 2 ) p (CF 2 ) q F (p represents an integer of 0 to 2, and q represents an integer of 0 to 8. p and q are not 0 at the same time.).
フッ素含量は、反応性モノマーの全体量に対して30重量%以上であることが好ましく、より好ましくは40重量%以上であり、さらに好ましくは50重量%以上である。フッ素含量が低いと屈折率の値が大きくなり、反射防止膜やクラッド材として使用される場合に、低屈折材料としての特性が発揮できない場合がある。例えば、フッ素含量が40重量%未満になると屈折率が1.45以上になる場合があるが、このような屈折率は低屈折材料として適切ではない。但し、反応性モノマーを一成分として組成物を調製することで、組成物の全体量に対してフッ素含量を50重量%以上とすることができる。 The fluorine content is preferably 30% by weight or more, more preferably 40% by weight or more, and still more preferably 50% by weight or more based on the total amount of reactive monomers. When the fluorine content is low, the value of the refractive index increases, and when used as an antireflection film or a cladding material, the characteristics as a low refractive material may not be exhibited. For example, when the fluorine content is less than 40% by weight, the refractive index may be 1.45 or more, but such a refractive index is not suitable as a low refractive material. However, a fluorine content can be 50 weight% or more with respect to the whole quantity of a composition by preparing a composition by using a reactive monomer as one component.
第2の例における反応性モノマーでは、式(XII)のR4がエーテル基であり、Yがフッ素を含有する基であり、l=2である。このような2個の置換位置をもつフッ素含有基としては、フッ素含有ジオールから得られる基が好ましく、フッ素含有ジオールの具体例としては、2,2,3,3,4,4−ヘキサフルオロ−1,5−ペンタンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5−オクタフルオロ−1,6−ヘキサンジオール、2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7−ドデカフルオロ−1,8−オクタンジオールなどのパーフルオロアルキルジオール;パーフルオロトリエチレングリコール、パーフルオロテトラエチレングリコールなどのパーフルオロアルキレングリコール;α−(1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエチル)−ω−(2,2−ジフルオロエタノール)ポリ(オキシ−1,1,2,2−テトラフルオロエチレン)、α−(1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエチル)−ω−(2,2−ジフルオロエタノール)ポリ(オキシ−ジフルオロメチレン)、α−(1,1−ジフルオロ−2−ヒドロキシエチル)−ω−(2,2−ジフルオロエタノール)ポリ(オキシ−ジフルオロメチレン)(オキシ−1,1,2,2−テトラフルオロエチレン)などのポリパーフルオロアルキレンエーテルジオール;3−パーフルオロブチル−1,2−エポキシプロパン、3−パーフルオロオクチル−1,2−エポキシプロパン、3−パーフルオロブチル−1,2−エポキシプロパンなどのフルオロアルキルエポキシドの開環ジオール;2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。また、これらのフッ素含有ジオールにエチレンオキシド、プロピレンオキシドなどのアルキレンオキシドを付加させたジオールから得られる基であってもよい。 In the reactive monomer in the second example, R 4 in the formula (XII) is an ether group, Y is a group containing fluorine, and l = 2. Such a fluorine-containing group having two substitution positions is preferably a group obtained from a fluorine-containing diol. Specific examples of the fluorine-containing diol include 2,2,3,3,4,4-hexafluoro- 1,5-pentanediol, 2,2,3,3,4,4,5,5-octafluoro-1,6-hexanediol, 2,2,3,3,4,4,5,5,6 , 6,7,7-dodecafluoro-1,8-octanediol and the like; perfluoroalkylene glycols such as perfluorotriethylene glycol and perfluorotetraethylene glycol; α- (1,1-difluoro- 2-hydroxyethyl) -ω- (2,2-difluoroethanol) poly (oxy-1,1,2,2-tetrafluoroethylene), α- (1,1-diph Oro-2-hydroxyethyl) -ω- (2,2-difluoroethanol) poly (oxy-difluoromethylene), α- (1,1-difluoro-2-hydroxyethyl) -ω- (2,2-difluoroethanol ) Polyperfluoroalkylene ether diols such as poly (oxy-difluoromethylene) (oxy-1,1,2,2-tetrafluoroethylene); 3-perfluorobutyl-1,2-epoxypropane, 3-perfluorooctyl Examples include ring-opening diols of fluoroalkyl epoxides such as -1,2-epoxypropane and 3-perfluorobutyl-1,2-epoxypropane; 2,2-bis (4-hydroxycyclohexyl) hexafluoropropane and the like. Further, it may be a group obtained from a diol obtained by adding an alkylene oxide such as ethylene oxide or propylene oxide to these fluorine-containing diols.
反応性モノマーの全体量に対するフッ素含量の好ましい範囲は、上述した第1の例と同様である。
第3の例における反応性モノマーでは、式(XII)のR4がエーテル基であり、Yがフルオレン骨格を有する基であり、l=2である。このようなフルオレン骨格を有する基としては、下記式(XX)で表わされる基が挙げられる。
The preferred range of the fluorine content with respect to the total amount of reactive monomers is the same as in the first example described above.
In the reactive monomer in the third example, R 4 in the formula (XII) is an ether group, Y is a group having a fluorene skeleton, and l = 2. Examples of the group having a fluorene skeleton include a group represented by the following formula (XX).
上記式(XX)において、hは好ましくは1〜4、より好ましくは1〜2である。
<R4がNH基である反応性モノマー>
第1の例における反応性モノマーでは、式(XII)のR4がNH基であり、Yがフッ素を含有する基であり、l=1である。このような1個の置換位置をもつフッ素含有基として
は、上述したR4がエーテル基である場合と同様な基が挙げられるが、好ましい具体例と
しては、F(CF2)3CH2−、F(CF2)6CH2−、F(CF2)7CH2−、F(CF2)8CH2−、2,6−ジフルオロアニリンの残基などの芳香族基が挙げられる。
In the above formula (XX), h is preferably 1 to 4, more preferably 1 to 2.
<Reactive monomer in which R 4 is NH group>
In the reactive monomer in the first example, R 4 in formula (XII) is an NH group, Y is a group containing fluorine, and l = 1. Examples of the fluorine-containing group having one substitution position include the same groups as those in the case where R 4 is an ether group, and preferred specific examples include F (CF 2 ) 3 CH 2 —. , F (CF 2 ) 6 CH 2 —, F (CF 2 ) 7 CH 2 —, F (CF 2 ) 8 CH 2 —, an aromatic group such as a residue of 2,6-difluoroaniline.
第2の例における反応性モノマーでは、式(XII)のR4がNH基であり、Yが飽和脂肪族基または芳香族基であり、l=2である。飽和脂肪族基としては、例えば、2個の置換位置をもつ直鎖、分岐または環状の炭素鎖からなる基が挙げられる。具体例としては、エチレン、プロピレン、ブチレン、ヘキサメチレン、ポリオキシアルキレンなどのアルキレン直鎖構造をもつ基、シクロヘキシル、ノルボルナンなどの脂環構造をもつ基が挙げられる。 In the reactive monomer in the second example, R 4 in the formula (XII) is an NH group, Y is a saturated aliphatic group or an aromatic group, and l = 2. Examples of the saturated aliphatic group include a group consisting of a linear, branched or cyclic carbon chain having two substitution positions. Specific examples include groups having an alkylene linear structure such as ethylene, propylene, butylene, hexamethylene and polyoxyalkylene, and groups having an alicyclic structure such as cyclohexyl and norbornane.
また、芳香族基としては、フェニレン基、キシリレン基、4,4’−メチレンビス(フェニルアミン)基、2,3,5,6−テトラフルオロ−フェニル基、2,3,5,6−テトラフルオロ−1,4−キシリレニル基などが挙げられる。 In addition, aromatic groups include phenylene group, xylylene group, 4,4'-methylenebis (phenylamine) group, 2,3,5,6-tetrafluoro-phenyl group, 2,3,5,6-tetrafluoro. Examples include a -1,4-xylylenyl group.
<R4がチオエーテル基である反応性モノマー>
R4がチオエーテル基である場合の置換基Yとしては、R4がエーテル基またはNH基である上述した場合と同様な基が挙げられる。置換基Yの具体例としては、式(I)の(メタ)アクリロイル基含有イソシアネート化合物のイソシアネート基が、メルカプト基を1つ以上有する次のような化合物に付加することにより得られたものが挙げられる。
<Reactive monomer in which R 4 is a thioether group>
Examples of the substituent Y when R 4 is a thioether group include the same groups as those described above in which R 4 is an ether group or an NH group. Specific examples of the substituent Y include those obtained by adding the isocyanate group of the (meth) acryloyl group-containing isocyanate compound of the formula (I) to the following compound having one or more mercapto groups. It is done.
このようなメルカプト基を1つ以上有する化合物の具体例としては、メチルメルカプタン、エチルメルカプタン、プロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、アミルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン、ヘプチルメルカプタン、オクチルメルカプタン、ノニルメルカプタン、シクロペンチルメルカプタン、シクロヘキシルメルカプタン、フルフリルメルカプタン、チオフェノール、チオクレゾール、エチルチオフェノール、ベンジルメルカプタン、1,2−エタンジチオール、1,2−プロパンジチオール、1,3−プロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6−ヘキサンジチオール、1,2,3−プロパントリチオール、1,1−シクロヘキサンジチオール、1,2−シクロヘキサンジチオール、ビシクロ〔2,2,1〕ヘプタ−exo−cis−2,3−ジチオール、1,1−ビス(メルカプトメチル)シクロヘキサン、ビス(2−メルカプトエチル)エーテル、エチレングリコールビス(2−メルカプトアセテート)、エチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、トリメチロールプロパンビス(2−メルカプトアセテート)、トリメチロールプロパンビス(3−メルカプトプロピオネート)、ペンタエリスリトールテトラキス(2−メルカプトアセテート)、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、 Specific examples of the compound having one or more mercapto groups include methyl mercaptan, ethyl mercaptan, propyl mercaptan, butyl mercaptan, amyl mercaptan, hexyl mercaptan, heptyl mercaptan, octyl mercaptan, nonyl mercaptan, cyclopentyl mercaptan, cyclohexyl mercaptan, Furfuryl mercaptan, thiophenol, thiocresol, ethylthiophenol, benzyl mercaptan, 1,2-ethanedithiol, 1,2-propanedithiol, 1,3-propanedithiol, 1,4-butanedithiol, 1,6-hexane Dithiol, 1,2,3-propanetrithiol, 1,1-cyclohexanedithiol, 1,2-cyclohexanedithiol, bicyclo [2,2,1] Puta-exo-cis-2,3-dithiol, 1,1-bis (mercaptomethyl) cyclohexane, bis (2-mercaptoethyl) ether, ethylene glycol bis (2-mercaptoacetate), ethylene glycol bis (3-mercaptopro Pionate), trimethylolpropane bis (2-mercaptoacetate), trimethylolpropane bis (3-mercaptopropionate), pentaerythritol tetrakis (2-mercaptoacetate), pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate),
1,2−ジメルカプトベンゼン、1,3−ジメルカプトベンゼン、1,4−ジメルカプトベンゼン、1,2−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,4−ビス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3−トリメルカプトベンゼン、1,2,4−トリメルカプトベンゼン、1,3,5−トリメルカプトベンゼン、1,2,3−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,3,5−トリス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,3
,5−トリス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、
1,2-dimercaptobenzene, 1,3-dimercaptobenzene, 1,4-dimercaptobenzene, 1,2-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,3-bis (mercaptomethyl) benzene, 1,4- Bis (mercaptomethyl) benzene, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2- Bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,3-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3-trimercaptobenzene, 1, 2,4-trimercaptobenzene, 1,3,5-trimercaptobenzene, 1,2,3-tris (mercaptomethyl) ben 1,2,4-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,3,5-tris (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,3
, 5-Tris (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4-tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,3,5- Tris (2-mercaptoethyleneoxy) benzene,
1,2,3,4−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,4,5−テトラメルカプトベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(メルカプトメチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチル)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチレンオキシ)ベンゼン、2,2'−ジメルカプトビフェニル、4,4'−チオビス−ベンゼンチオール、4,4'−ジメルカプトビフェニル、4,4'−ジメルカプトビベンジル、2,5−トルエンジチオール、3,4−トルエンジチオール、1,4−ナフタレンジチオール、1,5−ナフタレンジチオール、2,6−ナフタレンジチオール、2,7−ナフタレンジチオール、2,4−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、4,5−ジメチルベンゼン−1,3−ジチオール、9,10−アントラセンジメタンチオール、 1,2,3,4-tetramercaptobenzene, 1,2,3,5-tetramercaptobenzene, 1,2,4,5-tetramercaptobenzene, 1,2,3,4-tetrakis (mercaptomethyl) benzene 1,2,3,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (mercaptomethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyl) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethyleneoxy) Benzene, 2,2′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-thiobis-benzenethiol, 4,4′-dimercaptobiphenyl, 4,4′-dimercaptobibenzyl, 2,5-toluenedithiol, 3,4 -Toluenedithiol, 1,4-naphthalenedithiol, 1,5-naphthalenedithiol, 2,6-naphthalenedithiol, 2,7-naphthalenedithiol, 2,4-dimethylbenzene-1,3-dithiol, 4,5-dimethyl Benzene-1,3-dithiol, 9,10-anthracene dimethanethiol,
1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,4−ビス(2−メルカプトエチルチオメチル)ベンゼン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,4−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,3,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、1,2,4,5−テトラキス(2−メルカプトエチルチオ)ベンゼン、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス(2−メルカプトエチルチオ)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)エタン、1,3−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、1,2,3−トリス(2−メルカプトエチルチオ)プロパン、テトラキス(2−メルカプトエチルチオメチル)メタン、1,2−ビス(2−メルカプトエチルチオ)プロパンチオール、2,5−ジメルカプト−1,4−ジチアン、ビス(2−メルカプトエチル)ジスルフィド、3,4−チオフェンジチオール、1,2−ビス(2−メルカプトエチル)チオ−3−メルカプトプロパン、ビス−(2−メルカプトエチルチオ−3−メルカプトプロパン)スルフィドなどが挙げられる。 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,3-bis (2 -Mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,4-bis (2-mercaptoethylthiomethyl) benzene, 1,2,3-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,4-tris (2-mercapto Ethylthio) benzene, 1,3,5-tris (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3,4-tetrakis (2-mercaptoethylthio) benzene, 1,2,3,5-tetrakis (2 -Mercaptoethylthio) benzene, 1,2,4,5-tetrakis (2-mercaptoethylthio) benzene, bis (2-mercaptoethyl) sulfide Bis (2-mercaptoethylthio) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) ethane, 1,3-bis (2-mercaptoethylthio) propane, 1,2,3-tris (2-mercaptoethyl) Thio) propane, tetrakis (2-mercaptoethylthiomethyl) methane, 1,2-bis (2-mercaptoethylthio) propanethiol, 2,5-dimercapto-1,4-dithiane, bis (2-mercaptoethyl) disulfide 3,4-thiophenedithiol, 1,2-bis (2-mercaptoethyl) thio-3-mercaptopropane, bis- (2-mercaptoethylthio-3-mercaptopropane) sulfide, and the like.
これらの中でも、オクチルメルカプタン、1,6−ヘキサンジチオール、2−メルカプトエチルスルフィド、1,4−ジメルカプトベンゼンが好ましい。
(v)反応性モノマーの製造方法
本発明における式(XII)の反応性モノマーは、式(I)で表される2個の重合性官能基を含有する(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した化合物、たとえば、ヒドロキシル基、アミノ基またはメルカプト基を含有する化合物とを反応させて得ることができる。その反応方法は特に制限されるものではなく、例えば、混合するだけで式(XII)の反応性モノマーを得ることができる。
Among these, octyl mercaptan, 1,6-hexanedithiol, 2-mercaptoethyl sulfide, and 1,4-dimercaptobenzene are preferable.
(V) Method for Producing Reactive Monomer The reactive monomer represented by the formula (XII) in the present invention contains a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound containing two polymerizable functional groups represented by the formula (I) And a compound to which a functional group having active hydrogen is bonded, for example, a compound containing a hydroxyl group, an amino group, or a mercapto group. The reaction method is not particularly limited. For example, the reactive monomer of the formula (XII) can be obtained simply by mixing.
上記式(X II)の化合物の製造方法として、(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する化合物とを溶媒中で反応させる際には、ウレタン化触媒を使用することが一般的に行われている。ウレタン化触媒を使用することにより、著しく反応を速めることができる。 As a method for producing the compound of the above formula (XII), when a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound and a compound containing a hydroxyl group are reacted in a solvent, a urethanization catalyst may be used. Generally done. By using the urethanization catalyst, the reaction can be remarkably accelerated.
ウレタン化触媒としては、たとえば、ジブチル錫ジラウレート、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛などが挙げられる。しかし、これらの触媒はいずれも重金属類を含むため、環境への配慮を考慮した場合、極力使用を避けることが望まれる。 Examples of the urethanization catalyst include dibutyltin dilaurate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, and zinc naphthenate. However, since these catalysts all contain heavy metals, it is desirable to avoid using them as much as possible in consideration of environmental considerations.
また、ウレタン化反応における芳香族イソシアネートの反応性は、芳香環上の置換基の電子吸引性または置換基定数に大きく影響を受ける。
置換基定数とは、ハメットの式に基づいて定義された、芳香環上の活性水素を有する置換基の反応性を定量化したパラメーターであり、置換基が水素原子の場合、置換基定数は0であると定義されている。一般的に電子供与性基の置換基定数は負、電子吸引性基の置換基定数は正であるとされ、その絶対値が高いほど効果も大きいとされている。
The reactivity of aromatic isocyanate in the urethanization reaction is greatly influenced by the electron withdrawing property or substituent constant of the substituent on the aromatic ring.
The substituent constant is a parameter that is defined based on Hammett's formula and quantifies the reactivity of a substituent having an active hydrogen on the aromatic ring. When the substituent is a hydrogen atom, the substituent constant is 0. Is defined as Generally, the substituent constant of the electron-donating group is negative and the substituent constant of the electron-withdrawing group is positive. The higher the absolute value, the greater the effect.
本発明の一般式(I)で表される芳香族イソシアネートにおいては、置換基の電子吸引性が高いほど、イソシアネート基の反応性を高める点において望ましく、置換基定数が正の値であると、反応を促進することができる点において望ましい。 In the aromatic isocyanate represented by the general formula (I) of the present invention, the higher the electron withdrawing property of the substituent, the more desirable in terms of increasing the reactivity of the isocyanate group, and the substituent constant is a positive value. It is desirable in that the reaction can be promoted.
例を挙げれば、無置換のフェニルイソシアネートやp−メチルフェニルイソシアメートを用いた場合においては、一般式(I)で示される芳香族イソシアネートと比較し、イソシアネート基の反応性が大幅に低下する傾向にある。 For example, when unsubstituted phenyl isocyanate or p-methylphenyl isocyanate is used, the reactivity of the isocyanate group tends to be greatly reduced as compared with the aromatic isocyanate represented by the general formula (I). It is in.
無置換のフェニルイソシアネートの置換基定数は上記した通り0であり、p−メチルフェニルイソシアメートの置換基定数は−0.17であり、いずれも正の値ではなく、またいずれも電子吸引性基でもない。このことは、両化合物のイソシアネート基の反応性が、一般式(I)のイソシアネートモノマーと比較して低いという結果を支持するものである。 The substituent constant of unsubstituted phenyl isocyanate is 0 as described above, and the substituent constant of p-methylphenyl isocyanate is −0.17, both of which are not positive values, and both are electron-withdrawing groups. not. This supports the result that the reactivity of the isocyanate groups of both compounds is low compared to the isocyanate monomer of general formula (I).
一方で、一般式(I)で示される化合物は、ヒドロキシル基に対する十分な反応性を有しており、触媒を用いることなく、上記反応性モノマーを製造するための反応を完結させることが可能である。その反応温度は、好ましくは0℃〜60℃であり、より好ましくは25℃から40℃である。反応温度が0℃未満であると反応が完結せず、原料が残留してしまうおそれがあり、60℃を超えると副反応が起きたり、あるいは着色したりするおそれがあり、いずれも望ましくない。 On the other hand, the compound represented by the general formula (I) has sufficient reactivity with respect to a hydroxyl group, and can complete the reaction for producing the reactive monomer without using a catalyst. is there. The reaction temperature is preferably 0 ° C to 60 ° C, more preferably 25 ° C to 40 ° C. If the reaction temperature is less than 0 ° C., the reaction may not be completed and the raw materials may remain. If the reaction temperature exceeds 60 ° C., side reactions may occur or coloring may occur.
また、上記手法を用いることにより、反応組成の簡略化、重金属類の排除による環境への負荷の低減を行うことができ、工業的に非常に有用である。
上記の反応は、ヒドロキシル基、アミノ基、およびメルカプト基以外の基でも進行することが知られている。例えば、イソシアネート基はカルボキシル基などとも反応するので、反応により付加させることで反応性エチレン性不飽和基を導入することができる。
In addition, by using the above method, the reaction composition can be simplified and the burden on the environment can be reduced by eliminating heavy metals, which is very useful industrially.
It is known that the above reaction proceeds even with a group other than a hydroxyl group, an amino group, and a mercapto group. For example, since an isocyanate group also reacts with a carboxyl group or the like, a reactive ethylenically unsaturated group can be introduced by addition by reaction.
したがって、このような式(I)の(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物と、1個の反応性エチレン性不飽和基を含有するイソシアネート化合物とを併用して、ヒドロキシル基、アミノ基、またはメルカプト基を含有する化合物と反応させてもよい。このような1個の反応性エチレン性不飽和基を含有するイソシアネート化合物の具体例としては、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート、2−アクリロイロキシエチルイソシアネート、2−(2−エチルブテノイロキシ)エチルイソシアネート、2−(2−プロピルブテノイロキシ)エチルイソシアネート、メタクリロイロキシメチルイソシアネート、アクリロイロキシメチルイソシアネート、(2−エチルブテノイロキシ)メチルイソシアネート、(2−プロピルブテノイロキシ)メチルイソシアネート、3−メタクリロイロキシプロピルイソシアネート、3−アクリロイロキシプロピルイソシアネート、3−(2−エチルブテノイロキシ)プロピルイソシアネート、3−(2−プロピルブテノイ
ロキシ)プロピルイソシアネート、4−メタクリロイロキシブチルイソシアネート、4−アクリロイロキシブチルイソシアネート、4−(2−エチルブテノイロキシ)ブチルイソシアネート、4−(2−プロピルブテノイロキシ)ブチルイソシアネートなどが挙げられる。
Therefore, a hydroxyl group, an amino group, or a combination of such a (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound of formula (I) and an isocyanate compound containing one reactive ethylenically unsaturated group You may make it react with the compound containing a mercapto group. Specific examples of the isocyanate compound containing one reactive ethylenically unsaturated group include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, and 2- (2-ethylbutenoyloxy). Ethyl isocyanate, 2- (2-propylbutenoyloxy) ethyl isocyanate, methacryloyloxymethyl isocyanate, acryloyloxymethyl isocyanate, (2-ethylbutenoyloxy) methyl isocyanate, (2-propylbutenoyloxy) methyl isocyanate, 3-methacryloyloxypropyl isocyanate, 3-acryloyloxypropyl isocyanate, 3- (2-ethylbutenoyloxy) propyl isocyanate, 3- (2-propylbutenoyloxy) propyl isocyanate 4-methacryloyloxy-butyl isocyanate, 4-acryloyloxy-butyl isocyanate, 4- (2-ethyl-Bed Tenofovir acetoxyphenyl) butyl isocyanate, such as 4- (2-propyl Bed Tenofovir acetoxyphenyl) butyl isocyanate.
(vi)硬化性組成物
本発明の硬化組成物は、式(XII)の反応性モノマーと、重合開始剤とを含有する。重
合開始剤としては光重合開始剤が使用でき、紫外線あるいは可視光線などの活性エネルギー線を照射することで、反応性モノマーが重合反応を起こし硬化物を得ることができる。このような光重合開始剤の具体例としては、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2'−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレン、フ
ルオレノン、ベンズアルデヒド、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4'−ジメトキシベンゾフ
ェノン、4,4'−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイルプロピルエー
テル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オンなどが挙げられる。
(Vi) Curable composition The curable composition of the present invention contains a reactive monomer of the formula (XII) and a polymerization initiator. As the polymerization initiator, a photopolymerization initiator can be used, and by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays or visible rays, the reactive monomer undergoes a polymerization reaction to obtain a cured product. Specific examples of such a photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2′-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorene, fluorenone, benzaldehyde, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3- Methyl acetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoylpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy 2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, -Chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2-benzyl-2-dimethylamino Examples include -1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 1- [4- (2-hydroxyethoxy) -phenyl] -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one.
これらの中でも、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンが好ましい。
上記の光重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Among these, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone are preferable.
Said photoinitiator may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
また、熱により反応性モノマーの重合反応を起こし、硬化物を得ることもできる。すなわち、熱重合開始剤を反応性モノマーに添加することで、熱硬化性組成物とすることができる。このような熱重合開始剤としては、ジアシルパーオキサイド類、ケトンパーオキサイド類、ハイドロパーオキサイド類、ジアルキルパーオキサイド類、パーオキシエステル類、アゾ系化合物、過硫酸塩などが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 In addition, a cured product can be obtained by causing a polymerization reaction of the reactive monomer by heat. That is, it can be set as a thermosetting composition by adding a thermopolymerization initiator to a reactive monomer. Examples of such thermal polymerization initiators include diacyl peroxides, ketone peroxides, hydroperoxides, dialkyl peroxides, peroxyesters, azo compounds, and persulfates. These may be used alone or in combination of two or more.
重合開始剤の使用量は、反応性モノマー100重量部に対して好ましくは0.1〜20重量部、より好ましくは0.5〜10重量部である。重合開始剤の使用量が0.1重量部未満となると、反応性モノマーの重合速度が遅くなる場合がある。また、酸素等による重合阻害を受け易くなる場合がある。一方、重合開始剤の使用量が20重量部を超えると、逆に重合反応が抑制され、得られる硬化膜の強度、密着強度、耐熱性が低下する場合がある。さらに、着色の原因となる。 The amount of the polymerization initiator used is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reactive monomer. When the usage-amount of a polymerization initiator will be less than 0.1 weight part, the polymerization rate of a reactive monomer may become slow. Moreover, it may become easy to receive the polymerization inhibition by oxygen etc. On the other hand, when the usage-amount of a polymerization initiator exceeds 20 weight part, a polymerization reaction will be suppressed conversely and the intensity | strength of a cured film obtained, adhesive strength, and heat resistance may fall. Furthermore, it causes coloring.
本発明の硬化性組成物は、式(XII)の反応性モノマー以外の反応性モノマーを含有し
ていてもよい。このような反応性モノマーを含有させることにより、組成物の粘度調整ができるとともに、得られる硬化物の特性、例えば、反応性、硬度、弾性、密着性などの機械的特性、透明性などの光学的特性が調整できる。
The curable composition of the present invention may contain a reactive monomer other than the reactive monomer of the formula (XII). By containing such a reactive monomer, the viscosity of the composition can be adjusted, and the properties of the resulting cured product, for example, mechanical properties such as reactivity, hardness, elasticity and adhesion, optical properties such as transparency, etc. Characteristics can be adjusted.
このような反応性モノマーの具体例としては、
スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチ
ルスチレン、p−tert−ブチルスチレン、ジイソプロペニルベンゼン、o−クロロスチレン、m−クロロスチレン、p−クロロスチレン、1,1−ジフェニルエチレン、p−メトキシスチレン、N,N−ジメチル−p−アミノスチレン、N,N−ジエチル−p−アミノスチレン、エチレン性不飽和ピリジン、エチレン性不飽和イミダゾールなどのエチレン性不飽和芳香族化合物;
(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのカルボキシル基含有化合物;
Specific examples of such reactive monomers include
Styrene, α-methylstyrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-tert-butylstyrene, diisopropenylbenzene, o-chlorostyrene, m-chlorostyrene, p-chlorostyrene, 1 , 1-diphenylethylene, p-methoxystyrene, N, N-dimethyl-p-aminostyrene, N, N-diethyl-p-aminostyrene, ethylenically unsaturated pyridine, ethylenically unsaturated imidazole, etc. Aromatic compounds;
Carboxyl group-containing compounds such as (meth) acrylic acid, crotonic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid;
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート類; Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, Amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, Decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ) Acrylates, alkyl such isostearyl (meth) acrylate (meth) acrylates;
トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、テトラフルオロプロピル(メタ)アクリレート、ヘキサフルオロイソプロピル(メタ)アクリレート、オクタフルオロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフルオロデシル(メタ)アクリレートなどのフルオロアルキル(メ
タ)アクリレート類;
ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートなどのヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート類;
フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレートなどのフェノキシアルキル(メタ)アクリレート類;
メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、プロポキシエチル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシブチル(メタ)アクリレートなどのアルコキシアルキル(メタ)アクリレート類;
Fluoroalkyl (meth) acrylates such as trifluoroethyl (meth) acrylate, tetrafluoropropyl (meth) acrylate, hexafluoroisopropyl (meth) acrylate, octafluoropentyl (meth) acrylate, heptadecafluorodecyl (meth) acrylate;
Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate;
Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as phenoxyethyl (meth) acrylate and 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate;
Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as methoxyethyl (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, propoxyethyl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, methoxybutyl (meth) acrylate;
ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレートなどのポリエチレングリコール(メタ)アクリレート類;
ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートなどのポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート類;
シクロヘキシル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレートなどのシクロアルキル(メタ)アクリレート類;
Polyethylene glycol (meth) acrylates such as polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate;
Polypropylene glycol (meth) acrylates such as polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate;
Cyclohexyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentadienyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl ( Cycloalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate and tricyclodecanyl (meth) acrylate;
ベンジル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレートトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。これらの反応性モノマーは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Benzyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di ( (Meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,3-propanediol di (meth)
本発明の硬化性組成物は、式(XII)の反応性モノマーと重合開始剤とを、室温または
加熱条件下で、ミキサー、ボールミル、3本ロールなどの混合機により混合するか、あるいは、反応性モノマーや溶剤などを希釈剤として添加して溶解することによって、配合および調整することができる。ここで希釈剤として用いられる反応性モノマーの具体例としては、上述した反応性モノマーなどを挙げることができる。溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピルなどのエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;テトラヒドロフラン、ジオキサンなどの環状エーテル類;N,N−ジメチルホルムアミドなどのアミド類;トルエンなどの芳香族炭化水素類、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素などが挙げられる。
In the curable composition of the present invention, the reactive monomer of formula (XII) and the polymerization initiator are mixed with a mixer such as a mixer, a ball mill, or a three-roller at room temperature or under heating conditions, or reacted. It can be blended and adjusted by adding a soluble monomer or solvent as a diluent and dissolving it. Here, specific examples of the reactive monomer used as the diluent include the reactive monomers described above. Specific examples of the solvent include esters such as ethyl acetate, butyl acetate and isopropyl acetate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; cyclic ethers such as tetrahydrofuran and dioxane; N, N-dimethylformamide and the like Amides; aromatic hydrocarbons such as toluene; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride.
本発明の硬化性組成物は、例えば、基材上に硬化性組成物を塗布し、塗膜を形成した後、放射線を照射することによって、あるいは加熱することによって硬化させることができる。硬化のために、放射線の照射と加熱との両方を行ってもよい。 The curable composition of the present invention can be cured, for example, by applying a curable composition on a substrate and forming a coating film, and then irradiating with radiation or heating. You may perform both irradiation of a radiation and a heating for hardening.
塗膜の厚さは、評価用としては1〜200μmが好ましいが、用途により適宜に設定される。
塗布方法としては、例えば、ダイコーター、スピンコーター、スプレーコーター、カーテンコーター、ロールコーターなどによる塗布、スクリーン印刷などによる塗布、ディッピングなどによる塗布が挙げられる。
The thickness of the coating film is preferably 1 to 200 μm for evaluation, but is appropriately set depending on the application.
Examples of the coating method include coating by a die coater, spin coater, spray coater, curtain coater, roll coater, etc., coating by screen printing, and coating by dipping.
硬化のために使用される放射線としては、電子線、または紫外から赤外の波長範囲の光が好ましい。例えば、紫外線であれば超高圧水銀光源またはメタルハライド光源、可視光線であればメタルハライド光源またはハロゲン光源、赤外線であればハロゲン光源が使用できるが、この他にもレーザー、LEDなどの光源が使用できる。放射線の照射量は、光源の種類、塗膜の膜厚などに応じて適宜に設定される。 The radiation used for curing is preferably an electron beam or light in the ultraviolet to infrared wavelength range. For example, an ultra-high pressure mercury light source or a metal halide light source can be used for ultraviolet rays, a metal halide light source or a halogen light source can be used for visible rays, and a halogen light source can be used for infrared rays, but other light sources such as lasers and LEDs can be used. The radiation dose is appropriately set according to the type of light source, the film thickness of the coating film, and the like.
本発明の硬化性組成物は、レジスト(ソルダーレジスト、エッチングレジスト、カラーフィルタレジスト、スペーサなど)、シーリング(防水シーリングなど)、塗料(防汚塗料、フッ素系塗料、水性塗料など)、粘・接着剤(接着剤、ダイシングテープなど)、印刷版(CTP版、オフセット版など)、印刷校正(カラープルーフなど)、レンズ(コンタクトレンズ、マイクロレンズ、光導波路など)、歯科材料、表面処理(光ファイバーコーティング、ディスクコートなど)、電池材料(固体電解質など)などの用途に使用できる。 The curable composition of the present invention comprises resist (solder resist, etching resist, color filter resist, spacer, etc.), sealing (waterproof sealing, etc.), paint (antifouling paint, fluorine-based paint, water-based paint, etc.), adhesive / adhesive Agents (adhesives, dicing tape, etc.), printing plates (CTP plates, offset plates, etc.), printing proofs (color proofs, etc.), lenses (contact lenses, microlenses, optical waveguides, etc.), dental materials, surface treatment (optical fiber coating) , Disk coat, etc.) and battery materials (solid electrolyte, etc.).
(vii)反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)
本発明の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)は、下記式(I)で表されるイソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られる化合物である。
(Vii) Reactive (meth) acrylate polymer (A)
The reactive (meth) acrylate polymer (A) of the present invention is obtained by reacting an isocyanate compound represented by the following formula (I) with a polymer compound having a repeating unit to which a functional group having active hydrogen is bonded. A compound.
式(I)中、R1は単結合または炭素数1〜5の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表
し、R2は水素原子またはメチル基を表し、R3は単結合または炭素数1〜3の直鎖もしくは分岐のアルキレン基を表し、Xは独立にハロゲン原子または電子吸引基を表し、mは0〜4の整数、nは1〜3の整数を表す。ただし1≦m+n≦5である。
In formula (I), R 1 represents a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 to 5 carbon atoms, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 3 represents a single bond or 1 to 3 carbon atoms. X represents a halogen atom or an electron-withdrawing group, m represents an integer of 0 to 4, and n represents an integer of 1 to 3. However, 1 ≦ m + n ≦ 5.
上記イソシアネート化合物における好ましい具体例としては、下記式(III)または(IV)で表される化合物を挙げることができる。 Preferable specific examples of the isocyanate compound include compounds represented by the following formula (III) or (IV).
式(III)中、R2は水素原子またはメチル基を表す。 In the formula (III), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.
式(IV)中、R2は水素原子またはメチル基を表す。
ここで、式(I)のイソシアネート化合物と反応させる上記のポリマー化合物は、ヒドロキシル基、アミノ基、メルカプト基などの活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有している。これらのヒドロキシル基、アミノ基またはメルカプト基は、式(I)のイソシアネート化合物のイソシアナート基と反応してウレタン結合、尿素結合またはチオウレタン結合を形成する。
In the formula (IV), R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Here, the above-mentioned polymer compound to be reacted with the isocyanate compound of the formula (I) has a repeating unit to which a functional group having an active hydrogen such as a hydroxyl group, an amino group, or a mercapto group is bonded. These hydroxyl group, amino group or mercapto group react with the isocyanate group of the isocyanate compound of formula (I) to form a urethane bond, a urea bond or a thiourethane bond.
ここで、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位とは、このような官能基を有するかまたは重合反応により該官能基を形成可能なモノマーを基準とした繰り返し単位のことであり、モノマーを重合させることによって上記ポリマー化合物が得られる。ポリマー化合物は、同一種のモノマーからなる単独重合体であってもよく、互いに異種のモノマー同士の共重合体であってもよい。 Here, the repeating unit to which a functional group having active hydrogen is bonded is a repeating unit based on a monomer having such a functional group or capable of forming the functional group by a polymerization reaction. The polymer compound is obtained by polymerization. The polymer compound may be a homopolymer composed of the same type of monomer, or may be a copolymer of monomers different from each other.
上記ポリマー化合物としては、繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物が好ましい。
本発明の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の数平均分子量(ゲルパーミエー
ションクロマトグラフィー(質量部PC)によるポリスチレン換算の値)は、通常500〜100,000であり、好ましくは8,000〜40,000である。
As the polymer compound, a polyhydroxy compound having a repeating unit is preferable.
The number average molecular weight of the reactive (meth) acrylate polymer (A) of the present invention (polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (mass part PC)) is usually 500 to 100,000, preferably 8,000. ~ 40,000.
(viii)反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の製造方法
上記の反応性(メタ)アクリレートポリマーは、式(I)のイソシアネート化合物と、活性水素をもつ官能基が結合した繰り返し単位を有するポリマー化合物とを反応させて得られるが、その反応方法は特に制限されるものではなく、例えば、これらを混合するだけで反応性(メタ)アクリレートポリマーを得ることができる。
(Viii) Method for producing reactive (meth) acrylate polymer (A) The reactive (meth) acrylate polymer is a polymer having a repeating unit in which an isocyanate compound of formula (I) and a functional group having active hydrogen are bonded. Although it can be obtained by reacting with a compound, the reaction method is not particularly limited. For example, a reactive (meth) acrylate polymer can be obtained simply by mixing them.
上記(メタ)アクリレートポリマー(A)の製造方法として、(メタ)アクリロイル基含有芳香族イソシアネート化合物と、ヒドロキシル基を含有する化合物とを溶媒中で反応させる際には、ウレタン化触媒を使用することが一般的に行われている。ウレタン化触媒を使用することにより、著しく反応を速めることができる。 When the (meth) acryloyl group-containing aromatic isocyanate compound and the hydroxyl group-containing compound are reacted in a solvent as a method for producing the (meth) acrylate polymer (A), a urethanization catalyst should be used. Is generally done. By using the urethanization catalyst, the reaction can be remarkably accelerated.
ウレタン化触媒の具体例としては、ジブチル錫ジラウレート、ナフテン酸銅、ナフテン酸コバルト、ナフテン酸亜鉛などが挙げられる。しかし、それらの触媒はいずれも重金属類であり、環境への配慮を考慮した場合、極力使用を避けることが望まれる。 Specific examples of the urethanization catalyst include dibutyltin dilaurate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, and zinc naphthenate. However, these catalysts are all heavy metals, and it is desired to avoid using them as much as possible in consideration of environmental considerations.
また、ウレタン化反応における芳香族イソシアネートの反応性は、芳香環上の置換基の電子吸引性または置換基定数に大きく影響を受ける。置換基定数とは、ハメットの式に基づいて定義された、芳香環上の活性水素を有する置換基の反応性を定量化したパラメーターであり、一般的に電子供与性基の置換基定数は負、電子吸引性基の置換基定数は正であるとされ、その絶対値が高いほど効果も大きいとされている。 The reactivity of aromatic isocyanate in the urethanization reaction is greatly influenced by the electron withdrawing property or substituent constant of the substituent on the aromatic ring. Substituent constant is a parameter defined based on Hammett's formula that quantifies the reactivity of a substituent having an active hydrogen on an aromatic ring. Generally, the substituent constant of an electron donating group is negative. The substituent constant of the electron-withdrawing group is positive, and the higher the absolute value, the greater the effect.
本発明の式(I)の芳香族イソシアネートにおいては、置換基の電子吸引性が高いほど、イソシアネート基の反応性を高める点において望ましく、置換基定数が正の値であると、反応を促進することができる点において望ましい。 In the aromatic isocyanate of the formula (I) of the present invention, the higher the electron withdrawing property of the substituent, the more desirable in terms of increasing the reactivity of the isocyanate group, and the reaction is promoted when the substituent constant is a positive value. Is desirable in that it can.
例を挙げれば、無置換のフェニルイソシアネートやp−メチルフェニルイソシアネートを用いた場合においては、一般式(I)で示される芳香族イソシアネートと比較し、イソシアネート基の大幅な反応性の低下が見られる。 For example, in the case of using unsubstituted phenyl isocyanate or p-methylphenyl isocyanate, compared with the aromatic isocyanate represented by the general formula (I), a significant decrease in the reactivity of the isocyanate group is observed. .
無置換のフェニルイソシアネートの置換基定数を0とした場合、p−メチルフェニルイソシアネートの置換基定数は−0.17であり、このことは上記の結果を支持するものである。 When the substituent constant of unsubstituted phenyl isocyanate is 0, the substituent constant of p-methylphenyl isocyanate is -0.17, which supports the above result.
一方で、上記式(I)で示される化合物はヒドロキシル基に対する十分な反応性を有し
ており、触媒を用いることなく、反応性(メタ)アクリレートポリマーを製造するための反応を完結させることが可能である。その反応温度は0℃〜60℃であり、好ましくは25℃から40℃である。反応温度が0℃未満であると反応が完結せず、原料が残留してしまうおそれがあり、60℃を超えると副反応が起きたり、あるいは着色したりするおそれがあり、いずれも望ましくない。
On the other hand, the compound represented by the above formula (I) has sufficient reactivity with respect to a hydroxyl group, and can complete a reaction for producing a reactive (meth) acrylate polymer without using a catalyst. Is possible. The reaction temperature is 0 ° C to 60 ° C, preferably 25 ° C to 40 ° C. If the reaction temperature is less than 0 ° C., the reaction may not be completed and the raw materials may remain. If the reaction temperature exceeds 60 ° C., side reactions may occur or coloring may occur.
(ix)繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物
本発明で用いられる繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物は、ポリエステルポリオール化合物、ポリカーボネートポリオール化合物、ポリエーテルポリオール化合物、ポリウレタンポリオール化合物、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独重合体または共重合体、またはエポキシ(メタ)アクリレート化合物である。
(Ix) Polyhydroxy compound having a repeating unit The polyhydroxy compound having a repeating unit used in the present invention is a polyester polyol compound, a polycarbonate polyol compound, a polyether polyol compound, a polyurethane polyol compound, or a single weight of a hydroxyalkyl (meth) acrylate. A combination or copolymer, or an epoxy (meth) acrylate compound.
(ix-a)ポリエステルポリオール化合物
本発明で用いられるポリエステルポリオール化合物は、1分子中に2以上のヒドロキシル基と1以上のエステル結合を有する化合物であり、その具体例としては、多価アルコールと多塩基酸のエステルから得られるポリエステル系ポリオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリブチロラクトンジオールなどのポリラクトン系ジオールなどが挙げられる。また、カルボキシル基が残存するように合成されたポリエステルポリオール化合物を使用することもできる。
(Ix-a) Polyester polyol compound The polyester polyol compound used in the present invention is a compound having two or more hydroxyl groups and one or more ester bonds in one molecule. Specific examples thereof include polyhydric alcohols and polyhydric alcohols. Examples thereof include polyester-based polyols obtained from esters of basic acids, polylactone-based diols such as polycaprolactone diol and polybutyrolactone diol. Moreover, the polyester polyol compound synthesize | combined so that a carboxyl group may remain | survive can also be used.
(ix-b)ポリカーボネートポリオール化合物
本発明で用いられるポリカーボネートポリオールは、1分子中に2以上のヒドロキシル基と1以上のカーボネート結合を有する化合物である。中でも、下記式(XXI)
(Ix-b) Polycarbonate polyol compound The polycarbonate polyol used in the present invention is a compound having two or more hydroxyl groups and one or more carbonate bonds in one molecule. Above all, the following formula (XXI)
(式中、R8、R9およびR10は、それぞれ独立に、ヒドロキシル基および/またはカルボキシル基を有していてもよい炭素数が2〜30である直鎖状、分岐状または環状の炭化水素基を示し、iおよびjは、それぞれ独立に、0〜100の整数を示す。)で表される化合物が好ましい。 (In the formula, R 8 , R 9 and R 10 are each independently a linear, branched or cyclic carbonization having 2 to 30 carbon atoms which may have a hydroxyl group and / or a carboxyl group. A hydrogen group, i and j each independently represents an integer of 0 to 100).
R8、R9およびR10は、好ましくは炭素数が2〜12であるアルキレン基であり、その具体例としては、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、プロピレン基、2,2−ジメチル−1,3−プロピレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,4−シクロヘキシレン基などが挙げられる。 R 8 , R 9 and R 10 are preferably an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms, and specific examples thereof include ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group, hexamethylene group, propylene Group, 2,2-dimethyl-1,3-propylene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,3-cyclohexylene group, 1,4-cyclohexylene group and the like.
上記のポリカーボネートポリオール化合物は、例えば、ジフェニルカーボネートなどのジアリールカーボネートと、エチレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ソルビトールなどのポリオールとの反応により得ることができる。 The polycarbonate polyol compound can be obtained, for example, by reacting a diaryl carbonate such as diphenyl carbonate with a polyol such as ethylene glycol, tetramethylene glycol, hexamethylene glycol, trimethylol ethane, trimethylol propane, glycerin, or sorbitol. .
(ix-c)ポリエーテルポリオール化合物
本発明で用いられるポリエーテルポリオール化合物は、好ましくは、2以上のアルキレングリコールが脱水して縮合した構造を有する化合物である。このような化合物は、アルキレングリコールの縮合またはアルキレンオキサイドの開環重合などにより製造される。
(Ix-c) Polyether Polyol Compound The polyether polyol compound used in the present invention is preferably a compound having a structure in which two or more alkylene glycols are dehydrated and condensed. Such a compound is produced by condensation of alkylene glycol or ring-opening polymerization of alkylene oxide.
アルキレングリコールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。 Specific examples of the alkylene glycol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, Examples include 1,6-hexanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol.
アルキレンオキサイドの具体例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、テトラヒドロフラン、スチレンオキサイド、フェニルグリシジルエーテルなどが挙げられる。 Specific examples of the alkylene oxide include ethylene oxide, propylene oxide, tetrahydrofuran, styrene oxide, phenyl glycidyl ether and the like.
ポリエーテルポリオール化合物の具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、エチレンオキサイド/プロピレンオキサイド共重合体、ポリテトラメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコールなどが挙げられる。 Specific examples of the polyether polyol compound include polyethylene glycol, polypropylene glycol, ethylene oxide / propylene oxide copolymer, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol and the like.
(ix-d)ポリウレタンポリオール化合物
本発明で用いられるポリウレタンポリオール化合物は、1分子中に2以上のヒドロキシル基と1以上のウレタン結合を有するものである。これらはポリイソシアネートとポリオールとを任意の方法により反応させることで得られる。この反応の際、式(I)のイソシアネート化合物を同時に仕込んで反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)を製造してもよい。
(Ix-d) Polyurethane polyol compound The polyurethane polyol compound used in the present invention has two or more hydroxyl groups and one or more urethane bonds in one molecule. These can be obtained by reacting polyisocyanate and polyol by any method. In this reaction, the reactive (meth) acrylate polymer (A) may be produced by simultaneously charging the isocyanate compound of the formula (I).
ポリイソシアネートの具体的としては、2,4−トルエンジイソシアネート、2,6−トルエンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメチレンジイソシアネート、(o,mまたはp)−キシレンジイソシアネート、メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,3−ジメチレンジイソシアネート、シクロヘキサン−1,4−ジメチレンジイソシアネート、1,5−ナフタレンジイソシアネートなどのジイソシアネートなどが挙げられる。これらのポリイソシアネートは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of the polyisocyanate include 2,4-toluene diisocyanate, 2,6-toluene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethylene diisocyanate, (o, m or p) -xylene diisocyanate, methylene bis (cyclohexyl isocyanate), And diisocyanates such as trimethylhexamethylene diisocyanate, cyclohexane-1,3-dimethylene diisocyanate, cyclohexane-1,4-dimethylene diisocyanate, and 1,5-naphthalene diisocyanate. These polyisocyanates may be used alone or in combination of two or more.
ポリオールの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,5−ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、3−メチル−1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノールなどのジオール化合物、グリセリン、トリメチロールプロパンなどのトリオール化合物、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、ジグリセリンなどが挙げられる。 Specific examples of the polyol include ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 1,5-pentanediol, neopentyl glycol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1 Diol compounds such as 1,6-hexanediol and 1,4-cyclohexanedimethanol, triol compounds such as glycerin and trimethylolpropane, pentaerythritol, dipentaerythritol and diglycerin.
なお、ポリオール化合物として、ジヒドロキシ脂肪族カルボン酸などのカルボキシル基を有するポリオール化合物を使用することができ、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)中にカルボキシル基を導入することによりアルカリ現像性を付与することができる点で好ましい。 As the polyol compound, a polyol compound having a carboxyl group such as dihydroxy aliphatic carboxylic acid can be used, and alkali developability is imparted by introducing a carboxyl group into the reactive (meth) acrylate polymer (A). It is preferable in that it can be performed.
このようなカルボキシル基を有するポリオール化合物としては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸などが挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of such a polyol compound having a carboxyl group include dimethylolpropionic acid and dimethylolbutanoic acid. These may be used alone or in combination of two or more.
また、ポリオールとして、上記(ix-a)のポリエステルポリオール化合物、上記(ix-b)のポリカーボネートポリオール化合物、上記(ix-c)のポリエーテルポリオール化合物を用いてもよい。 Further, as the polyol, the polyester polyol compound (ix-a), the polycarbonate polyol compound (ix-b), or the polyether polyol compound (ix-c) may be used.
(ix-e)ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独重合体または共重合体
本発明で用いられるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの単独重合体または共重合体は、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの1種以上を任意の方法により単独重合または共重合させて得られる重合体である。ここで使用されるヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの具体例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、グリセリンモノ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ(メタ)アクリレート、ジトリメチロールプロパンモノ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパン−酸化アルキレン付加物−モノ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、6−ヒドロキシヘキサノイルオキシエチル(メタ)アクリレートなどが挙げられる。
(Ix-e) Hydroxyalkyl (meth) acrylate homopolymer or copolymer The hydroxyalkyl (meth) acrylate homopolymer or copolymer used in the present invention is one or more hydroxyalkyl (meth) acrylates. Is a polymer obtained by homopolymerization or copolymerization by any method. Specific examples of the hydroxyalkyl (meth) acrylate used here include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, glycerin mono (meth) acrylate, glycerin di ( (Meth) acrylate, trimethylolpropane mono (meth) acrylate, pentaerythritol mono (meth) acrylate, dipentaerythritol mono (meth) acrylate, ditrimethylolpropane mono (meth) acrylate, trimethylolpropane-alkylene oxide adduct-mono ( (Meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, polyethylene glycol (meth) acrylate, 6-hydroxyhexanoyloxyethyl (meth) Acrylate and the like.
これらの中でも、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートが好ましく、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートがより好ましい。これらのヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレートは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Among these, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, and hydroxybutyl (meth) acrylate are preferable, and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate is more preferable. These (meth) acrylates having a hydroxyl group may be used singly or in combination of two or more.
共重合体を構成するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート以外の構成成分は、これらと共重合性を有する不飽和化合物であり、その具体例としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)
アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートなどの脂環式(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ(メタ)アクリレートなどの芳香族(メタ)アクリレート;2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−tert−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどのアミノ基を有する(メタ)アクリレート;メタクリロキシエチルフォスフェート、ビス・メタクリロキシエチルフォスフェート、メタクリロキシエチルフェニルアシッドホスフェート(フェニールP)などのリン原子を有するメタクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート;アリル(メタ)アクリレート;フェノキシエチルアクリレートなどが挙げられる。
Constituent components other than the hydroxyalkyl (meth) acrylate constituting the copolymer are unsaturated compounds copolymerizable with these, and specific examples thereof include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (Meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth)
Alkyl (meth) acrylates such as acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) acrylate, bornyl (meth) ) Acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, etc .; benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenyl carb Thor (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, nonylphenyl carbitol (meth) acrylate, nonylphenoxy (meth) acrylate, etc. Group (meth) acrylate; (meth) acrylate having an amino group such as 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-tert-butylaminoethyl (meth) acrylate; methacryloxyethyl Methacrylate having a phosphorus atom such as phosphate, bis-methacryloxyethyl phosphate, methacryloxyethyl phenyl acid phosphate (phenyl P); glycidyl (meth) acrylate; allyl (meth) acrylate; phenoxyethyl acrylate, and the like.
また、(メタ)アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸、無水イタコン酸、ポリカプロラクトン(メタ)アクリレート、(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート、(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネートなどのカルボキシル基または酸無水物基を有する不飽和化合物を用いてもよい。 Also, carboxyl groups or acid anhydrides such as (meth) acrylic acid, itaconic acid, maleic anhydride, itaconic anhydride, polycaprolactone (meth) acrylate, (meth) acryloyloxyethyl phthalate, (meth) acryloyloxyethyl succinate An unsaturated compound having a group may be used.
なお、本明細書において(メタ)アクリレートなどの表現はメタクリレートおよび/またはアクリレートを意味する。
また、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルムアミド、N−ビニルアセトアミドなどのN−ビニル化合物、スチレン、ビニルトルエンなどのビニル芳香族化合物も好適に用いることができる。
In the present specification, expressions such as (meth) acrylate means methacrylate and / or acrylate.
In addition, N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, and N-vinylacetamide, and vinyl aromatic compounds such as styrene and vinyltoluene can also be suitably used.
(ix-f)エポキシ(メタ)アクリレート化合物
エポキシ(メタ)アクリレート化合物は、エポキシ樹脂のエポキシ基に不飽和モノカルボン酸を付加させたもので、場合によっては、さらに多塩基酸無水物を反応させることにより得られる。ここで使用できるエポキシ樹脂の具体例としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ノボラックエポキシ樹脂、(o,m,p−)クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、ナフトール変性ノボラックエポキシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラックエポキシ樹脂などが挙げられる。
(Ix-f) Epoxy (meth) acrylate compound The epoxy (meth) acrylate compound is an epoxy resin with an unsaturated monocarboxylic acid added to the epoxy group, and in some cases, a polybasic acid anhydride is further reacted. Can be obtained. Specific examples of the epoxy resin that can be used here include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, novolac epoxy resin, (o, m, p-) cresol novolac epoxy resin, phenol novolac epoxy. Examples thereof include resins, naphthol-modified novolac epoxy resins, halogenated phenol novolac epoxy resins, and the like.
これらの中でも、光感度の点からノボラックエポキシ樹脂、(o,m,p−)クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノールノボラックエポキシ樹脂、ナフトール変性ノボラックエポキシ樹脂、ハロゲン化フェノールノボラックエポキシ樹脂などのノボラック型エ
ポキシ樹脂を原料として用いたカルボン酸基を有するエポキシ(メタ)アクリレート樹脂が好ましい。
Among these, novolak epoxy resins such as novolak epoxy resins, (o, m, p-) cresol novolac epoxy resins, phenol novolac epoxy resins, naphthol-modified novolac epoxy resins, halogenated phenol novolac epoxy resins and the like from the viewpoint of light sensitivity. An epoxy (meth) acrylate resin having a carboxylic acid group used as a raw material is preferred.
本発明の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の数平均分子量(ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(質量部PC)によるポリスチレン換算の値)は、通常500〜100,000であり、好ましくは8,000〜40,000である。数平均分子量500未満であると、皮膜強度が著しく低下する。一方、数平均分子量が40,000を超えると、現像性や可撓性が低下する。 The number average molecular weight of the reactive (meth) acrylate polymer (A) of the present invention (polystyrene conversion value by gel permeation chromatography (mass part PC)) is usually 500 to 100,000, preferably 8,000. ~ 40,000. When the number average molecular weight is less than 500, the film strength is remarkably lowered. On the other hand, when the number average molecular weight exceeds 40,000, developability and flexibility are lowered.
本発明の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)をレジストに使用する場合、その酸価が5〜150mgKOH/gであるものが好ましく、30〜120mgKOH/gであるものがより好ましい。酸価が5mgKOH/g未満であると、アルカリ現像性が低下する場合がある。一方、酸価が150mgKOH/gを超えると、硬化膜の耐アルカリ性・電気特性などを損なう場合がある。 When the reactive (meth) acrylate polymer (A) of the present invention is used for a resist, the acid value is preferably 5 to 150 mgKOH / g, more preferably 30 to 120 mgKOH / g. If the acid value is less than 5 mgKOH / g, the alkali developability may be lowered. On the other hand, if the acid value exceeds 150 mgKOH / g, the alkali resistance and electrical properties of the cured film may be impaired.
上述した繰り返し単位を有するポリヒドロキシ化合物のうち、カルボキシル基をもつ化合物は、式(I)のイソシアネートが反応条件によりカルボキシル基と反応し、アミド結合を生成する。このような反応によって式(I)の化合物を付加させることもできる。 Among the polyhydroxy compounds having a repeating unit described above, the compound having a carboxyl group reacts with the carboxyl group under the reaction conditions of the isocyanate of formula (I) to form an amide bond. A compound of formula (I) can also be added by such a reaction.
さらに、このような式(I)のイソシアネート化合物と、1個の反応性エチレン性不飽和基を含有するイソシアネート化合物とを併用して、ヒドロキシル基(またはアミノ基、メルカプト基)を含有するポリマー化合物と反応させてもよい。このような1個の反応性エチレン性不飽和基を含有するイソシアネート化合物の具体例としては、2−メタクリロイロキシエチルイソシアネート、2−アクリロイロキシエチルイソシアネート、2−(2−エチルブテノイロキシ)エチルイソシアネート、2−(2−プロピルブテノイロキシ)エチルイソシアネート、メタクリロイロキシメチルイソシアネート、アクリロイロキシメチルイソシアネート、(2−エチルブテノイロキシ)メチルイソシアネート、(2−プロピルブテノイロキシ)メチルイソシアネート、3−メタクリロイロキシプロピルイソシアネート、3−アクリロイロキシプロピルイソシアネート、3−(2−エチルブテノイロキシ)プロピルイソシアネート、3−(2−プロピルブテノイロキシ)プロピルイソシアネート、4−メタクリロイロキシブチルイソシアネート、4−アクリロイロキシブチルイソシアネート、4−(2−エチルブテノイロキシ)ブチルイソシアネート、4−(2−プロピルブテノイロキシ)ブチルイソシアネートなどが挙げられる。 Further, a polymer compound containing a hydroxyl group (or amino group or mercapto group) in combination with such an isocyanate compound of formula (I) and an isocyanate compound containing one reactive ethylenically unsaturated group And may be reacted. Specific examples of the isocyanate compound containing one reactive ethylenically unsaturated group include 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 2-acryloyloxyethyl isocyanate, and 2- (2-ethylbutenoyloxy). Ethyl isocyanate, 2- (2-propylbutenoyloxy) ethyl isocyanate, methacryloyloxymethyl isocyanate, acryloyloxymethyl isocyanate, (2-ethylbutenoyloxy) methyl isocyanate, (2-propylbutenoyloxy) methyl isocyanate, 3-methacryloyloxypropyl isocyanate, 3-acryloyloxypropyl isocyanate, 3- (2-ethylbutenoyloxy) propyl isocyanate, 3- (2-propylbutenoyloxy) propyl isocyanate 4-methacryloyloxy-butyl isocyanate, 4-acryloyloxy-butyl isocyanate, 4- (2-ethyl-Bed Tenofovir acetoxyphenyl) butyl isocyanate, such as 4- (2-propyl Bed Tenofovir acetoxyphenyl) butyl isocyanate.
(x)硬化性組成物
本発明の反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の他に、他の成分を配合することによって硬化性組成物が得られる。この硬化性組成物は、レジスト(ソルダーレジスト、エッチングレジスト、カラーフィルタレジスト、スペーサなど)、シーリング(防水シーリングなど)、塗料(防汚塗料、フッ素系塗料、水性塗料など)、粘・接着剤(接着剤、ダイシングテープなど)、印刷版(CTP版、オフセット版など)、印刷校正(カラープルーフなど)、レンズ(コンタクトレンズ、マイクロレンズ、光導波路など)、歯科材料、表面処理(光ファイバーコーティング、ディスクコートなど)、電池材料(固体電解質など)などの用途に使用することができる。
(X) Curable composition A curable composition is obtained by mix | blending another component other than the reactive (meth) acrylate polymer (A) of this invention. This curable composition consists of resist (solder resist, etching resist, color filter resist, spacer, etc.), sealing (waterproof sealing, etc.), paint (antifouling paint, fluorine paint, aqueous paint, etc.), adhesive / adhesive ( Adhesives, dicing tape, etc.), printing plates (CTP plates, offset plates, etc.), printing proofs (color proofs, etc.), lenses (contact lenses, microlenses, optical waveguides, etc.), dental materials, surface treatment (optical fiber coatings, discs) Coating) and battery materials (solid electrolyte, etc.).
例えば、カラーフィルタ用に好適な硬化性組成物、あるいはソルダーレジスト用に好適な硬化性組成物の具体例は以下のとおりである。なお、このような硬化性組成物に使用される反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)として特に好ましいのは、ポリヒドロキシ化合物に式(I)のイソシアネート化合物を反応させて得られらウレタン(メタ)アクリレートポリマーである。 For example, specific examples of a curable composition suitable for a color filter or a curable composition suitable for a solder resist are as follows. Particularly preferred as the reactive (meth) acrylate polymer (A) used in such a curable composition is urethane (meta) obtained by reacting a polyhydroxy compound with an isocyanate compound of formula (I). ) Acrylate polymer.
(x-a)カラーフィルタ用に好適な硬化性組成物
この硬化性組成物は、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)、顔料(B)、光重合開始剤(D)、エチレン性不飽和モノマー(F)および有機溶剤(G)を含有する。
(Xa) Curable composition suitable for color filter This curable composition comprises a reactive (meth) acrylate polymer (A), a pigment (B), a photopolymerization initiator (D), an ethylenically unsaturated monomer ( F) and an organic solvent (G).
(x-a-a)反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)
上記の硬化性組成物における反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の含有量は、通常は10質量%以上であり、好ましくは20質量%以上、より好ましくは30〜90質量%である。反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、エチレン性不飽和モノマー(F)などの他の硬化性成分との質量比は、強度と光感度のバランスの点で、好ましくは30/70〜90/10、より好ましくは40/60〜85/15である。反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の質量比が30/70より小さくなると、皮膜強度が低下する。一方、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の質量比が90/10より大きくなると、硬化収縮が大きくなる。
(Xaa) Reactive (meth) acrylate polymer (A)
Content of the reactive (meth) acrylate polymer (A) in said curable composition is 10 mass% or more normally, Preferably it is 20 mass% or more, More preferably, it is 30-90 mass%. The mass ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) and other curable components such as the ethylenically unsaturated monomer (F) is preferably 30/70 to 90 in terms of the balance between strength and photosensitivity. / 10, more preferably 40/60 to 85/15. When the mass ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) is smaller than 30/70, the film strength is lowered. On the other hand, when the mass ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) is larger than 90/10, the curing shrinkage is increased.
(x-a-b)顔料(B)
顔料(B)としては、赤色、緑色、青色の顔料が使用できるが、放射線を最大限遮蔽するものとしは、黒色顔料が挙げられる。このような顔料として、公知のものを使用することができるが、その具体例としては、カーボンブラック、アセチレンブラック、ランプブラック、カーボンナノチューブ、黒鉛、鉄黒、酸化鉄系黒色顔料、アニリンブラック、シアニンブラック、チタンブラックなどが挙げられる。また、赤色、緑色、青色の三色の有機顔料を混合して黒色系顔料として用いることもできる。
(Xab) Pigment (B)
As the pigment (B), red, green, and blue pigments can be used, and examples of the pigment (B) that can shield radiation to the maximum include black pigments. As such pigments, known pigments can be used. Specific examples thereof include carbon black, acetylene black, lamp black, carbon nanotube, graphite, iron black, iron oxide black pigment, aniline black, cyanine. Examples thereof include black and titanium black. In addition, organic pigments of three colors of red, green and blue can be mixed and used as a black pigment.
これらの中でも、カーボンブラック、チタンブラッックが好ましく、遮光率、画像特性の点から特にカーボンブラックが好ましい。
カーボンブラックとしては、市販されているものを使用することができ、その好ましい粒子径は、分散性、解像度を考慮すると、5〜200nm、より好ましくは10〜100nmである。粒子径が5nm未満であると均一な分散が困難となり、粒子径が200nmを超えると解像度が低下する。
Among these, carbon black and titanium black are preferable, and carbon black is particularly preferable in terms of light shielding rate and image characteristics.
As the carbon black, commercially available ones can be used, and the preferable particle diameter thereof is 5 to 200 nm, more preferably 10 to 100 nm in consideration of dispersibility and resolution. When the particle size is less than 5 nm, uniform dispersion becomes difficult, and when the particle size exceeds 200 nm, the resolution decreases.
カーボンブラックの具体例としては、デグサ社製のSpecialBlack550、SpecialBlack350、SpecialBlack250、SpecialBlack100、SpecialBlack4、三菱化学(株)製のMA100、MA220、MA230、キャボット社製のBLACKPEARLS480、コロンビヤンカーボン社製のRAVEN410、RAVEN420、RAVEN450、RAVEN500などが挙げられる。
Specific examples of carbon black include Degussa's Special Black 550, Special Black 350, Special Black 250,
(x-a-c)光重合開始剤(D)
光重合開始剤(D)は、活性光線により励起されてラジカルを発生し、エチレン性不飽和結合の重合を開始する化合物である。このような光重合開始剤は、高遮光下でラジカルを発生することが必要とされるため、光感度が高いものが好ましい。光重合開始剤の具体例としては、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物、増感色素と有機ホウ素塩系化合物の組み合わせ、チタノセン系化合物、オキサジアゾール系化合物などが挙げられる。
(Xac) Photopolymerization initiator (D)
The photopolymerization initiator (D) is a compound that is excited by actinic rays to generate radicals and initiates polymerization of ethylenically unsaturated bonds. Such a photopolymerization initiator is preferably one having high photosensitivity because it is necessary to generate radicals under high light shielding. Specific examples of the photopolymerization initiator include hexaarylbiimidazole compounds, triazine compounds, aminoacetophenone compounds, combinations of sensitizing dyes and organic boron salt compounds, titanocene compounds, oxadiazole compounds, and the like. It is done.
これらの中でも、ヘキサアリールビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、アミノアセトフェノン系化合物、グリオキシエステル系化合物、ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物およびこれらの組み合わせが好ましい。 Among these, hexaarylbiimidazole compounds, triazine compounds, aminoacetophenone compounds, glyoxyester compounds, bisacylphosphine oxide compounds, and combinations thereof are preferable.
ヘキサアリールビイミダゾール系化合物の具体例としては、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,
2’−ビス(o−ブロモフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o,p−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(o,p−ジクロロフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラ(m−メトキシフェニル)−1,2’−ビイミダゾール、2,2’−ビス(o−メチルフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
Specific examples of the hexaarylbiimidazole compound include 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole, 2,
2'-bis (o-bromophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4', 5 , 5'-tetra (o, p-dichlorophenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (o, p-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (o, p -Dichlorophenyl) -1,2'-biimidazole, 2,2'-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetra (m-methoxyphenyl) -1,2'-biimidazole, Examples include 2,2′-bis (o-methylphenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2′-biimidazole.
感度をさらに上げるために、ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、4−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系化合物、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントンなどのチオキサントン系化合物などを増感剤として添加してもよい。 To further increase the sensitivity, benzophenone compounds such as benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, 4-phenylbenzophenone, 4,4'-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone Further, thioxanthone compounds such as 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, and 2-chlorothioxanthone may be added as a sensitizer.
トリアジン系化合物の具体例としては、2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチル)−s−トリアジン、2−プロピオニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−ベンゾイル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−クロロフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(4−メトキシフェニル)−6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−メトキシフェニル)−2,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン,2−(4−メトキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−クロロスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4−アミノフェニル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(3−クロロフェニル)−6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−アミノスチリル)−4,6−ビス(ジクロロメチル)−s−トリアジンなどが挙げられる。 Specific examples of the triazine compound include 2,4,6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -s-triazine, 2-propionyl-4,6- Bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-benzoyl-4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (4-methoxyphenyl) -6-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -2,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxy Styryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-chlorostyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-tri , 2- (4-aminophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (3-chlorophenyl) -6-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4- Aminostyryl) -4,6-bis (dichloromethyl) -s-triazine and the like.
アミノアセトフェノン系化合物の具体例としては、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)−ブタノン−1などが挙げられる。 Specific examples of aminoacetophenone compounds include 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl). ) -Butanone-1.
ベンゾフェノン系化合物の具体例としては、ベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノン、3,3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルファイド、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、(2−アクリロイロキシエチル)(4−ベンゾイルベンジル)ジメチルアンモニウムブロマイド、4−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロポキシ)−ベンゾフェノンメトクロライドモノハイドレート、(4−ベンゾイルベンジル)トリメチルアンモニウムクロライドなどが挙げられる。 Specific examples of the benzophenone compounds include benzophenone, 4-methylbenzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-benzoyl- 4′-methyldiphenyl sulfide, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, (2-acryloyloxyethyl) (4-benzoylbenzyl) dimethylammonium bromide, 4 -(3-Dimethylamino-2-hydroxypropoxy) -benzophenone methochloride monohydrate, (4-benzoylbenzyl) trimethylammonium chloride and the like.
チオキサントン系化合物の具体例としては、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2,4−ジイソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、2−(3−ジメチルアミノ−2−ヒドロキシプロポキシ)−3,4−ジメチル−9H−チオキサンテン−9−オンメトクロライドなどが挙げられる。 Specific examples of the thioxanthone compound include thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diisopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, 2- (3-dimethylamino- 2-hydroxypropoxy) -3,4-dimethyl-9H-thioxanthen-9-one methochloride and the like.
キノン系化合物の具体例としては、2−エチルアンスラキノン、9,10−フェナンスレンキノンなどが挙げられる。
チタノセン系化合物の具体例としては、特開昭59−152396号公報、特開昭61−151197号公報、特開昭63−10602号公報、特開昭63−41484号公報、特開平2−291号公報、特開平3−12403号公報、特開平3−20293号公報、特開平3−27393号公報、特開平3−52050号公報、特開平4−221958号公報、特開平4−21975号公報などに記載されたチタノセン化合物が挙げられる。具体的には、ジシクロペンタジエニル−Ti−ジクロライド、ジシクロペンタジエニル−Ti−ジフェニル、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,4,6−トリフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,6−ジフルオロフェニル)、ジシクロペンタジエニル−Ti−ビス(2,4−ジフルオロフェニル)、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス(2,3,4,5,6−ペンタフルオロフェニル)、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス(2,3,5,6−テトラフルオロフェニル)、ビス(メチルシクロペンタジエニル)−Ti−ビス(2,6−ジフルオロフェニル)などが挙げられる。
Specific examples of the quinone compound include 2-ethylanthraquinone and 9,10-phenanthrenequinone.
Specific examples of the titanocene compound include JP 59-152396 A, JP 61-151197 A, JP 63-10602 A, JP 63-41484 A, and JP 2-291 A. No. 3, JP-A-3-12403, JP-A-3-20293, JP-A-3-27393, JP-A-3-52050, JP-A-4-221958, JP-A-4-21975. And titanocene compounds described in the above. Specifically, dicyclopentadienyl-Ti-dichloride, dicyclopentadienyl-Ti-diphenyl, dicyclopentadienyl-Ti-bis (2,3,4,5,6-pentafluorophenyl), Dicyclopentadienyl-Ti-bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl), dicyclopentadienyl-Ti-bis (2,4,6-trifluorophenyl), dicyclopentadienyl- Ti-bis (2,6-difluorophenyl), dicyclopentadienyl-Ti-bis (2,4-difluorophenyl), bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis (2,3,4,5) , 6-pentafluorophenyl), bis (methylcyclopentadienyl) -Ti-bis (2,3,5,6-tetrafluorophenyl), bis (methylcyclope). Tajieniru)-Ti-bis (2,6-difluorophenyl), and the like.
オキサジアゾール系化合物の具体例としては、ハロメチル基を有する2−フェニル−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾール、2−(p−メチルフェニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾール、2−(p−メトキシフェニル)−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾール、2−スチリル−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾール、2−(p−メトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾール、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4,−オキサジアゾールなどが挙げられる。 Specific examples of the oxadiazole-based compound include 2-phenyl-5-trichloromethyl-1,3,4, -oxadiazole having a halomethyl group and 2- (p-methylphenyl) -5-trichloromethyl-1. , 3,4, -oxadiazole, 2- (p-methoxyphenyl) -5-trichloromethyl-1,3,4, -oxadiazole, 2-styryl-5-trichloromethyl-1,3,4, -Oxadiazole, 2- (p-methoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4, -oxadiazole, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4, -Oxadiazole and the like.
グリオキシエステル系化合物の具体例としては、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどが挙げられる。
ビスアシルホスフィンオキサイド系化合物の具体例としては、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−フェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,6−ジクロルベンゾイル)−2,5−ジメチルフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイドなどが挙げられる。
Specific examples of the glyoxyester compounds include benzyl dimethyl ketal, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and the like.
Specific examples of the bisacylphosphine oxide compound include bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, bis (2,6-dichlorobenzoyl) -phenylphosphine oxide, bis ( 2,6-dichlorobenzoyl) -2,5-dimethylphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, and the like.
(x-a-d)エチレン性不飽和モノマー(F)
エチレン性不飽和モノマー(F)は、活性光線の照射時に光重合開始剤(D)から発生するラジカルで架橋する化合物であり、組成物の粘度の調整する役割などを有する。具体的には、(メタ)アクリル酸エステルが好ましく使用される。
(Xad) ethylenically unsaturated monomer (F)
The ethylenically unsaturated monomer (F) is a compound that crosslinks with radicals generated from the photopolymerization initiator (D) when irradiated with actinic rays, and has a role of adjusting the viscosity of the composition. Specifically, (meth) acrylic acid esters are preferably used.
(メタ)アクリル酸エステルの具体例としては、
メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、tert−ブチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレートなどのアルキル(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレートなどの脂環式(メタ)アクリレート;
As a specific example of (meth) acrylic acid ester,
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, sec-butyl (meth) acrylate, tert-butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) Alkyl (meth) acrylates such as acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate; cyclohexyl (meth) ) Acrylate, bornyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate Alicyclic, such as (meth) acrylate;
ベンジル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、フェニルカルビトール(メタ)アクリレート、ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ノニルフェニルカルビ
トール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシ(メタ)アクリレートなどの芳香族(メタ)アクリレート;
2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、ブタンジオールモノ(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、フェノキシヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレートなどのヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート;
2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−tert−ブチルアミノエチル(メタ)アクリレートなどのアミノ基を有する(メタ)アクリレート;
Aromatic (meth) acrylates such as benzyl (meth) acrylate, phenyl (meth) acrylate, phenyl carbitol (meth) acrylate, nonylphenyl (meth) acrylate, nonylphenyl carbitol (meth) acrylate, nonylphenoxy (meth) acrylate, etc. ;
2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, butanediol mono (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, phenoxyhydroxypropyl (meth) acrylate, polyethylene glycol (meth) (Meth) acrylate having a hydroxyl group such as acrylate and glycerol di (meth) acrylate;
(Meth) acrylate having an amino group such as 2-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-diethylaminoethyl (meth) acrylate, 2-tert-butylaminoethyl (meth) acrylate;
メタクリロキシエチルフォスフェート、ビス・メタクリロキシエチルフォスフェート、メタクリロオキシエチルフェニルアシッドホスフェート(フェニール−P)などのリン原子を有するメタクリレート;
エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレンジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ビス・グリシジル(メタ)アクリレートなどのジアクリレート;
Methacrylates having a phosphorus atom such as methacryloxyethyl phosphate, bis-methacryloxyethyl phosphate, methacryloxyethyl phenyl acid phosphate (phenyl-P);
Ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene Glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,3-butanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1 Diacrylates such as 1,6-hexanediol di (meth) acrylate and bis-glycidyl (meth) acrylate;
トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレートなどのポリアクリレート;
ビスフェノールSのエチレンオキシド4モル変性ジアクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキシド4モル変性ジアクリレート、脂肪酸変性ペンタエリスリトールジアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド3モル変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンのプロピレンオキシド6モル変性トリアクリレートなどの変性ポリオールポリアクリレート;
ビス(アクリロイルオキシエチル)モノヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ε−カプロラクトン変性トリス(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレートなどのイソシアヌル酸骨格を有するポリアクリレート;
Polyacrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate;
Polyacrylates having an isocyanuric acid skeleton such as bis (acryloyloxyethyl) monohydroxyethyl isocyanurate, tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate, ε-caprolactone modified tris (acryloyloxyethyl) isocyanurate;
α,ω−ジアクリロイル−(ビスエチレングリコール)−フタレート、α,ω−テトラアクリロイル−(ビストリメチロールプロパン)−テトラヒドロフタレートなどのポリエステルアクリレート;
グリシジル(メタ)アクリレート;アリル(メタ)アクリレート;ω−ヒドロキシヘキサノイルオキシエチル(メタ)アクリレート;ポリカプロラクトン(メタ)アクリレート;(メタ)アクリロイルオキシエチルフタレート;(メタ)アクリロイルオキシエチルサクシネート;2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート;フェノキシエチルアクリレートなどが挙げられる。
polyester acrylates such as α, ω-diaacryloyl- (bisethylene glycol) -phthalate, α, ω-tetraacryloyl- (bistrimethylolpropane) -tetrahydrophthalate;
Glycidyl (meth) acrylate; allyl (meth) acrylate; ω-hydroxyhexanoyloxyethyl (meth) acrylate; polycaprolactone (meth) acrylate; (meth) acryloyloxyethyl phthalate; (meth) acryloyloxyethyl succinate; Examples include hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate; phenoxyethyl acrylate.
また、エチレン性不飽和モノマー(F)として、N−ビニルピロリドン、N−ビニルホルミアミド、N−ビニルアセトアミドなどのN−ビニル化合物、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどを用いてもよい。 Further, as the ethylenically unsaturated monomer (F), N-vinyl compounds such as N-vinylpyrrolidone, N-vinylformamide, N-vinylacetamide, polyester acrylate, urethane acrylate, epoxy acrylate, and the like may be used.
これらの中でも、ヒドロキシル基を有する(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)
アクリレート、ウレタンアクリレートが好ましい。また硬化性や耐熱性が高くなる点では、エチレン性不飽和基を3個以上有するものが好ましい。
Among these, (meth) acrylate having a hydroxyl group, glycidyl (meth)
Preferred are acrylates and urethane acrylates. Moreover, the thing which has 3 or more of ethylenically unsaturated groups is preferable at the point which sclerosis | hardenability and heat resistance become high.
(x-a-e)有機溶剤(G)
有機溶剤(G)の具体例としては、ジイソプロピルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ブチルエーテルなどのエーテル類;酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル(n、sec、tert)、酢酸アミル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオ
ン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチルなどのエステル類;メチルエチルケトン、イソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルイソアミルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−t−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルなどのグリコール類、およびこれらの混合物などが挙げられる。
(Xae) Organic solvent (G)
Specific examples of the organic solvent (G) include ethers such as diisopropyl ether, ethyl isobutyl ether and butyl ether; ethyl acetate, isopropyl acetate, butyl acetate (n, sec, tert), amyl acetate, ethyl 3-ethoxypropionate, Esters such as methyl 3-methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, propyl 3-methoxypropionate, butyl 3-methoxypropionate; methyl ethyl ketone, isobutyl ketone, diisopropyl ketone, ethyl amyl ketone, methyl butyl ketone, methyl hexyl Ketones such as ketone, methyl isoamyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol diethyl ether Ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol mono-t-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl Glycols such as ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol monobutyl ether, tripropylene glycol methyl ether, Beauty and the like and mixtures thereof.
有機溶剤(G)は、他の各成分を溶解または分散させることができるものであり、その沸点は、好ましくは100〜200℃、より好ましくは120〜170℃である。有機溶剤(G)の使用量は、硬化性組成物中における固形分濃度が5〜50質量%、好ましくは10〜30質量%の範囲となる量である。 The organic solvent (G) can dissolve or disperse other components, and the boiling point thereof is preferably 100 to 200 ° C, more preferably 120 to 170 ° C. The amount of the organic solvent (G) used is such that the solid content concentration in the curable composition is in the range of 5 to 50 mass%, preferably 10 to 30 mass%.
(x-a-f)多官能チオール(H)
上記の硬化性組成物は、多官能チオール(H)を含有していてもよい。多官能チオール(H)は、チオール基を2以上有する化合物であり、その具体例としては、ヘキサンジチオール、デカンジチオール、ブタンジオールビスチオプロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオプロピオネート、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスリトールテトラキスチオプロピオネート、トリメルカプトプロピオン酸トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、1,4−ジメチルメルカプトベンゼン、2、4、6−トリメルカプト−s−トリアジン、2−(N,N−ジブチルアミノ)−4,6−ジメルカプト−s−トリアジンなどが挙げられる。
(Xaf) Multifunctional thiol (H)
Said curable composition may contain polyfunctional thiol (H). The polyfunctional thiol (H) is a compound having two or more thiol groups. Specific examples thereof include hexanedithiol, decanedithiol, butanediol bisthiopropionate, butanediol bisthioglycolate, ethylene glycol bisthioglycol. Rate, ethylene glycol bisthiopropionate, trimethylolpropane tristhioglycolate, trimethylolpropane tristhiopropionate, pentaerythritol tetrakisthioglycolate, pentaerythritol tetrakisthiopropionate, trimercaptopropionate tris (2- Hydroxyethyl) isocyanurate, 1,4-dimethylmercaptobenzene, 2,4,6-trimercapto-s-triazine, 2- (N, N-dibutylamino) -4,6-dimethyl Such as mercaptopurine -s- triazine, and the like.
(x-a-g)各成分の含有量
上記の硬化性組成物において、有機溶剤(G)以外の各成分の好ましい含有率は以下のとおりである。
(Xag) Content of each component In said curable composition, the preferable content rate of each component other than the organic solvent (G) is as follows.
反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは10〜40質量%、より好ましくは15〜35質量%である。含有量が10質量%未満であると皮膜強度が低下する場合がある。一方、含有量が40質量%を超えると充分な光学濃度が得られない場合がある。 The content of the reactive (meth) acrylate polymer (A) is preferably 10 to 40% by mass, more preferably 15 to 35% by mass, based on the total amount of the composition. When the content is less than 10% by mass, the film strength may decrease. On the other hand, if the content exceeds 40% by mass, sufficient optical density may not be obtained.
顔料(B)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは25〜60質量%、より好まし
くは30〜55質量%である。含有量が25質量%未満であると充分な光学濃度が得られない場合がある。一方、含有量が60質量%を超えると皮膜強度が低下する場合がある。
The content of the pigment (B) is preferably 25 to 60% by mass, more preferably 30 to 55% by mass with respect to the total amount of the composition. If the content is less than 25% by mass, sufficient optical density may not be obtained. On the other hand, when the content exceeds 60% by mass, the film strength may decrease.
光重合開始剤(D)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは2〜25質量%、より好ましくは5〜20質量%である。含有量が2質量%未満であると充分な光感度が得られない場合がある。一方、含有量が25質量%を超えると光感度が高すぎて逆に解像度が低下する場合がある。 The content of the photopolymerization initiator (D) is preferably 2 to 25% by mass, more preferably 5 to 20% by mass, based on the total amount of the composition. If the content is less than 2% by mass, sufficient photosensitivity may not be obtained. On the other hand, if the content exceeds 25% by mass, the photosensitivity is too high and the resolution may be lowered.
エチレン性不飽和モノマー(F)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは5〜20質量%、より好ましくは8〜18質量%である。含有量が5質量%未満であると充分な光感度が得られない場合がある。一方、含有量が20質量%を超えると充分な光学濃度が得られない場合がある。 The content of the ethylenically unsaturated monomer (F) is preferably 5 to 20% by mass, more preferably 8 to 18% by mass, based on the total amount of the composition. If the content is less than 5% by mass, sufficient photosensitivity may not be obtained. On the other hand, if the content exceeds 20% by mass, sufficient optical density may not be obtained.
多官能チオール(H)を添加する場合は、光重合開始剤(D)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは2〜20質量%、より好ましくは3〜15質量%である。含有量が2質量%未満であると充分な光感度が得られない場合がある。一方、含有量が20質量%を超えると光感度が高すぎて逆に解像度が低下する場合がある。多官能チオール(F)の含有量は、組成物全量に対して好ましくは2〜20質量%、より好ましくは3〜15質量%である。含有量が2質量%未満であると多官能チオールの効果が現れない場合がある。一方、含有量が20質量%を超えると光感度が高すぎて逆に解像度が低下する場合がある。 When adding polyfunctional thiol (H), content of a photoinitiator (D) becomes like this. Preferably it is 2-20 mass% with respect to the composition whole quantity, More preferably, it is 3-15 mass%. If the content is less than 2% by mass, sufficient photosensitivity may not be obtained. On the other hand, if the content exceeds 20% by mass, the photosensitivity is too high and the resolution may be lowered. The content of the polyfunctional thiol (F) is preferably 2 to 20% by mass, more preferably 3 to 15% by mass with respect to the total amount of the composition. If the content is less than 2% by mass, the effect of the polyfunctional thiol may not appear. On the other hand, if the content exceeds 20% by mass, the photosensitivity is too high and the resolution may be lowered.
上記の硬化性組成物には、上述した各成分の他に、顔料分散剤、密着向上剤、レベリング剤、現像改良剤、酸化防止剤、熱重合禁止剤などを添加することができる。特に、着色材料を微細に分散し、かつ、その分散状態を安定化させることが品質安定上重要であるため、必要に応じて顔料分散剤を配合することが望ましい。 In addition to the components described above, a pigment dispersant, an adhesion improver, a leveling agent, a development improver, an antioxidant, a thermal polymerization inhibitor, and the like can be added to the curable composition. Particularly, since it is important for quality stability to finely disperse the coloring material and stabilize the dispersion state, it is desirable to add a pigment dispersant as necessary.
(x-a-h)硬化性組成物の製造方法
上記の硬化性組成物は、上述した各成分を任意の方法で混合することにより製造できる。混合方法は、各成分を同時に混合する方法、各成分を逐次混合する方法のいずれであってもよい。
(Xah) Manufacturing method of curable composition Said curable composition can be manufactured by mixing each component mentioned above by arbitrary methods. The mixing method may be either a method of mixing each component at the same time or a method of sequentially mixing each component.
なお、配合する全成分を混合して分散処理を行うと、分散時の発熱のため高反応性の成分が変性するおそれがある。このため、黒色系などの顔料(B)を、溶剤(G)および顔料分散剤、またはこれらと反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)との混合物と共に予め分散処理した後に、残りの成分を混合する方法で混合を行うことが好ましい。 In addition, when all the components to mix | blend are mixed and a dispersion process is performed, there exists a possibility that a highly reactive component may modify | denature because of the heat_generation | fever at the time of dispersion | distribution. For this reason, a black pigment or the like (B) is predispersed together with a solvent (G) and a pigment dispersant, or a mixture of these with a reactive (meth) acrylate polymer (A), and then the remaining components are mixed. It is preferable to perform mixing by the method to do.
分散処理は、ペイントコンディショナー、ビーズミル、ボールミル、3本ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザーなどを用いて行うことができる。
ビーズミルで分散させる場合には、0.1〜数ミリ径のガラスビーズまたはジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散時の温度は通常0〜100℃であり、好ましくは室温〜80℃である。分散時間は、着色組成物の組成(着色材料、溶剤、分散剤、バインダーポリマー)、ビーズミルの装置サイズなどに応じて適切な時間とする。
The dispersion treatment can be performed using a paint conditioner, a bead mill, a ball mill, a three roll mill, a stone mill, a jet mill, a homogenizer, or the like.
When dispersed by a bead mill, glass beads or zirconia beads having a diameter of 0.1 to several millimeters are preferably used. The temperature at the time of dispersion is usually from 0 to 100 ° C, preferably from room temperature to 80 ° C. The dispersion time is set to an appropriate time according to the composition of the coloring composition (coloring material, solvent, dispersant, binder polymer), bead mill apparatus size, and the like.
3本ロールミルで分散させる場合には、分散時の温度は通常0〜60℃である。ロールの摩擦熱が大きく温度が60℃を超える場合には、循環水でロール内部を冷却する。インキを3本ロールミルに通す回数は、ロールの線速度、ロール間の圧力、材料の粘度などの条件に依存するが、例えば2〜10回である。 In the case of dispersing with a three-roll mill, the temperature during dispersion is usually 0 to 60 ° C. When the frictional heat of the roll is large and the temperature exceeds 60 ° C., the inside of the roll is cooled with circulating water. The number of passes of the ink through the three-roll mill depends on conditions such as the linear velocity of the roll, the pressure between the rolls, and the viscosity of the material, but is, for example, 2 to 10 times.
上記分散処理により得られた組成物を、残りの成分と任意の方法で混合することによって、硬化性組成物が製造される。
(x-a-i)カラーフィルタの製造方法
上述した硬化性組成物を透明基板上に塗布し、溶剤をオーブンなどで乾燥した後、露光現像してパターンを形成させ、次いで、ポストベークを行うことによりカラーフィルタが製造される。
A curable composition is manufactured by mixing the composition obtained by the said dispersion process with the remaining component by arbitrary methods.
(Xai) Color filter manufacturing method The color filter is formed by applying the curable composition described above on a transparent substrate, drying the solvent in an oven or the like, exposing and developing to form a pattern, and then performing post-baking. Is manufactured.
上記の透明基板の具体例としては、石英ガラス、ホウケイ酸ガラス、表面をシリカコートしたライムソーダガラスなどの無機ガラス類;ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルホンなどの熱可塑性プラスチック;エポキシポリマー、ポリエステルポリマーなどの熱硬化性プラスチックなどのフィルムまたはシートなどが挙げられる。このような透明基板には、表面の接着性などの物性を改良するために、予め、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマーなどの各種ポリマーによる薄膜処理などを施してもよい。 Specific examples of the transparent substrate include quartz glass, borosilicate glass, inorganic glass such as lime soda glass coated with silica on the surface; polyester such as polyethylene terephthalate, polyolefin such as polypropylene and polyethylene, polycarbonate, polymethyl methacrylate, Examples include thermoplastics such as polysulfone; films or sheets of thermosetting plastics such as epoxy polymers and polyester polymers. Such a transparent substrate may be subjected in advance to corona discharge treatment, ozone treatment, thin film treatment with various polymers such as silane coupling agents and urethane polymers in order to improve physical properties such as surface adhesion. .
硬化性組成物の透明基板への塗布は、ディップコーター、ロールコーター、ワイヤーバー、フローコーター、ダイコーター、スプレーコーター、スピンコーターなどの塗布装置を用いて行うことができる。 Application of the curable composition to the transparent substrate can be performed using an application apparatus such as a dip coater, a roll coater, a wire bar, a flow coater, a die coater, a spray coater, or a spin coater.
塗布後における溶剤の乾燥は、任意の方法で行うことが可能であり、ホットプレート、IRオーブン、コンベクションオーブンなどの乾燥装置が使用できる。乾燥温度は40〜150℃が好ましく、乾燥時間は10秒〜60分が好ましい。また、真空状態で溶剤を乾燥してもよい。 The solvent can be dried after application by any method, and a drying device such as a hot plate, an IR oven, or a convection oven can be used. The drying temperature is preferably 40 to 150 ° C., and the drying time is preferably 10 seconds to 60 minutes. Further, the solvent may be dried in a vacuum state.
露光は、試料の上にフォトマスクを配置し、フォトマスクを介して画像露光することにより行う。露光に用いる光源の具体例としては、キセノンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯などのランプ光源、アルゴンイオンレーザー、YAGレーザー、エキシマーレーザー、窒素レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定波長の照射光のみを使用する場合には、光学フィルタを利用してもよい。 The exposure is performed by placing a photomask on the sample and exposing the image through the photomask. Specific examples of light sources used for exposure include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high pressure mercury lamps, metal halide lamps, medium-pressure mercury lamps, low-pressure mercury lamps, and other laser sources, argon ion lasers, YAG lasers, excimer lasers, nitrogen lasers Etc. In the case where only irradiation light with a specific wavelength is used, an optical filter may be used.
現像処理には現像液を用い、ディップ、シャワー、パドル法などでレジストの現像を行う。現像液としては、未露光部のレジスト膜を溶解させる能力のある溶剤を用いることができ、その具体例としては、アセトン、塩化メチレン、トリクレン、シクロヘキサノンなどの有機溶剤が挙げられる。 A developing solution is used for the developing process, and the resist is developed by dipping, showering, paddle method or the like. As the developer, a solvent capable of dissolving the resist film in the unexposed area can be used, and specific examples thereof include organic solvents such as acetone, methylene chloride, trichrene, and cyclohexanone.
また、現像液としてアルカリ現像液を用いることができる。このようなアルカリ現像液の具体例としては、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの無機のアルカリ剤、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化テトラアルキルアンモニウム塩などの有機のアルカリ剤などを含有した水溶液が挙げられる。アルカリ現像液には、必要に応じて界面活性剤、水溶性の有機溶剤、水酸基またはカルボキシル基を有する低分子化合物などを含有させてもよい。特に、界面活性剤は現像性、解像性、地汚れなどに対して改良効果をもつものが多く、このような界面活性剤を添加することが好ましい。 Further, an alkali developer can be used as the developer. Specific examples of such an alkaline developer include inorganic alkali agents such as sodium carbonate, potassium carbonate, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide, diethanolamine, triethanolamine, tetraalkylammonium hydroxide salt An aqueous solution containing an organic alkaline agent such as The alkali developer may contain a surfactant, a water-soluble organic solvent, a low molecular compound having a hydroxyl group or a carboxyl group, and the like as necessary. In particular, many surfactants have an improving effect on developability, resolution, background stains, and the like, and it is preferable to add such surfactants.
現像液用の界面活性剤の具体例としては、ナフタレンスルホン酸ナトリウム基、ベンゼンスルホン酸ナトリウム基などを有するアニオン性界面活性剤、ポリアルキレンオキシ基を有するノニオン性界面活性剤、テトラアルキルアンモニウム基を有するカチオン性界面活性剤などが挙げられる。 Specific examples of the surfactant for the developer include an anionic surfactant having a sodium naphthalenesulfonate group, a sodium benzenesulfonate group, a nonionic surfactant having a polyalkyleneoxy group, and a tetraalkylammonium group. And a cationic surfactant.
現像処理は、通常10〜50℃、好ましくは15〜45℃の現像温度で、浸漬現像、ス
プレー現像、ブラシ現像、超音波現像などの方法により行われる。
ポストベークは、通常は、溶剤乾燥と同様の装置を用いて、温度150〜300℃で1〜120分の間行われる。このようにして得られるマトリックスの膜厚は、好ましくは0.1〜2μm、より好ましくは0.1〜1.5μm、さらに好ましくは0.1〜1μmである。マトリックスとしての機能を果たすため、これらの膜厚において光学濃度が3以上であることが好ましい。
The development treatment is usually performed at a development temperature of 10 to 50 ° C., preferably 15 to 45 ° C., by a method such as immersion development, spray development, brush development, or ultrasonic development.
The post-bake is usually performed at a temperature of 150 to 300 ° C. for 1 to 120 minutes using the same apparatus as that for solvent drying. The thickness of the matrix thus obtained is preferably 0.1 to 2 μm, more preferably 0.1 to 1.5 μm, and still more preferably 0.1 to 1 μm. In order to fulfill the function as a matrix, the optical density is preferably 3 or more at these film thicknesses.
上記の方法で製造された黒色マトリックスパターンは、通常はパターン間に20〜200μm程度の開口部が設けられており、後工程でこのスペースにR、G、Bの画素が形成される。通常、各画素は、R、G、Bの3色であり、上述した顔料または染料で着色された硬化性組成物を用いて、黒色マトリックスの形成と同様に、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)を用いた硬化性組成物で形成することができる。 The black matrix pattern manufactured by the above method usually has an opening of about 20 to 200 μm between the patterns, and R, G, and B pixels are formed in this space in a later process. Usually, each pixel has three colors of R, G, and B, and a reactive (meth) acrylate polymer (like the formation of a black matrix) using a curable composition colored with the above-described pigment or dye ( It can be formed with a curable composition using A).
(x-b)ソルダーレジスト用に好適な硬化性組成物
この硬化性組成物は、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、熱硬化性ポリマー(C)と、光重合開始剤(D)と、エチレン性不飽和モノマー(F)と、熱重合触媒(E)とを含有する。
(Xb) Curable composition suitable for solder resist This curable composition comprises a reactive (meth) acrylate polymer (A), a thermosetting polymer (C), and a photopolymerization initiator (D). And an ethylenically unsaturated monomer (F) and a thermal polymerization catalyst (E).
(x-b-a)熱硬化性ポリマー(C)
熱硬化性ポリマー(C)は、熱硬化成分として組成物に含有されるものであり、それ自身が熱によって硬化するものであってもよく、熱により反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)のカルボキシル基と反応するものであってもよい。
(Xba) Thermosetting polymer (C)
The thermosetting polymer (C) is contained in the composition as a thermosetting component, and may itself be cured by heat, and the reactive (meth) acrylate polymer (A) by heat. It may react with a carboxyl group.
熱硬化性ポリマー(C)の具体例としては、エポキシポリマー;フェノールポリマー;シリコーンポリマー;ヘキサメトキシメラミン、ヘキサブトキシメラミン、縮合ヘキサメトキシメラミンなどのメラミン誘導体;ジメチロール尿素などの尿素化合物;テトラメチロール・ビスフェノールAなどのビスフェノールA系化合物;オキサゾリン化合物;オキセタン化合物などが挙げられる。これらは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of the thermosetting polymer (C) include epoxy polymers; phenol polymers; silicone polymers; melamine derivatives such as hexamethoxymelamine, hexabutoxymelamine and condensed hexamethoxymelamine; urea compounds such as dimethylolurea; tetramethylol bisphenol. Examples thereof include bisphenol A compounds such as A; oxazoline compounds; oxetane compounds. These may be used alone or in combination of two or more.
これらの中でもエポキシポリマーが好ましい。エポキシポリマーの具体例としては、ビスフェノールA型エポキシポリマー、水添ビスフェノールA型エポキシポリマー、臭素化ビスフェノールA型エポキシポリマー、ビスフェノールF型エポキシポリマー、ノボラック型エポキシポリマー、フェノールノボラック型エポキシポリマー、クレゾールノボラック型エポキシポリマー、N−グリシジル型エポキシポリマー、ビスフェノールAのノボラック型エポキシポリマー、キレート型エポキシポリマー、グリオキザール型エポキシポリマー、アミノ基含有エポキシポリマー、ゴム変性エポキシポリマー、ジシクロペンタジエンフェノリック型エポキシポリマー、シリコーン変性エポキシポリマー、ε−カプロラクトン変性エポキシポリマーなどの一分子中に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化合物;ビスフェノールS型エポキシポリマー、ジグリシジルフタレートポリマー、ヘテロサイクリックエポキシポリマー、ビキシレノール型エポキシポリマー、ビフェニル型エポキシポリマー、テトラグリシジルキシレノイルエタンポリマーなどが挙げられる。 Among these, an epoxy polymer is preferable. Specific examples of the epoxy polymer include bisphenol A type epoxy polymer, hydrogenated bisphenol A type epoxy polymer, brominated bisphenol A type epoxy polymer, bisphenol F type epoxy polymer, novolac type epoxy polymer, phenol novolac type epoxy polymer, cresol novolak type. Epoxy polymer, N-glycidyl type epoxy polymer, bisphenol A novolac type epoxy polymer, chelate type epoxy polymer, glyoxal type epoxy polymer, amino group-containing epoxy polymer, rubber modified epoxy polymer, dicyclopentadiene phenolic type epoxy polymer, silicone modified epoxy Polymers having two or more epoxy groups in one molecule such as polymer and ε-caprolactone-modified epoxy polymer Carboxymethyl compound; bisphenol S epoxy polymer, diglycidyl phthalate polymer, heterocyclic epoxy polymer, bixylenol epoxy polymer, biphenyl epoxy polymer, such as tetraglycidyl xylenoyl yl ethane polymers.
また、難燃性付与のために、塩素、臭素などのハロゲンまたは燐などの原子が、熱や水によって分解されにくい結合状態でその構造中に導入されたものを使用してもよい。これらのエポキシポリマーは、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Further, in order to impart flame retardancy, a material in which atoms such as halogen such as chlorine and bromine or phosphorus are introduced into the structure in a bonded state that is difficult to be decomposed by heat or water may be used. These epoxy polymers may be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
熱硬化性ポリマー(C)の含有量は、光硬化成分の合計100質量部に対して好ましくは10〜150質量部、より好ましくは10〜50質量部である。熱硬化性ポリマー(C
)の含有量が10質量部未満であると、硬化膜のはんだ耐熱性が不充分となる場合がある。一方、熱硬化性ポリマー(C)の含有量が150質量部を超えると、硬化膜の収縮量が多くなり、硬化膜をFPC基板の絶縁保護被膜に用いた場合にそり変形が増大する傾向がある。
The content of the thermosetting polymer (C) is preferably 10 to 150 parts by mass, more preferably 10 to 50 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the photocurable component. Thermosetting polymer (C
) Content of less than 10 parts by mass, the cured film may have insufficient solder heat resistance. On the other hand, when the content of the thermosetting polymer (C) exceeds 150 parts by mass, the amount of shrinkage of the cured film increases, and warpage deformation tends to increase when the cured film is used as an insulating protective film on an FPC board. is there.
(x-b-b)光重合開始剤(D)
光重合開始剤(D)としては、前述したカラーフィルタ用に好適な硬化性組成物に用いられるものと同様の光重合開始剤が使用できる。
(Xbb) Photopolymerization initiator (D)
As a photoinitiator (D), the photoinitiator similar to what is used for the curable composition suitable for the color filter mentioned above can be used.
光重合開始剤(D)の含有量は、ウレタン(メタ)アクリレートポリマー(A)と、エチレン性不飽和モノマー(F)と、必要に応じて配合されるカルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物との合計100質量部に対して、好ましくは0.1〜20質量部、より好ましくは0.2〜10質量部である。光重合開始剤(D)の含有量が0.1質量部未満であると、組成物の硬化が不充分となる場合がある。 The content of the photopolymerization initiator (D) is an epoxy (meth) acrylate compound having a urethane (meth) acrylate polymer (A), an ethylenically unsaturated monomer (F), and a carboxyl group blended as necessary. Is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.2 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total. When the content of the photopolymerization initiator (D) is less than 0.1 parts by mass, the composition may be insufficiently cured.
(x-b-c)熱重合触媒(E)
熱重合触媒(E)は、熱硬化性ポリマー(C)を熱硬化させる作用を示すものであり、その具体例としては、アミン類;該アミン類の塩化物などのアミン塩類または第四級アンモニウム塩類;環状脂肪族酸無水物、脂肪族酸無水物、芳香族酸無水物などの酸無水物類;ポリアミド類、イミダゾール類、トリアジン化合物などの窒素含有複素環化合物類;有機金属化合物などが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
(Xbc) Thermal polymerization catalyst (E)
The thermal polymerization catalyst (E) exhibits the action of thermosetting the thermosetting polymer (C). Specific examples thereof include amines; amine salts such as chlorides of the amines or quaternary ammonium. Salts; acid anhydrides such as cycloaliphatic acid anhydrides, aliphatic acid anhydrides, and aromatic acid anhydrides; nitrogen-containing heterocyclic compounds such as polyamides, imidazoles, and triazine compounds; and organometallic compounds It is done. These may be used alone or in combination of two or more.
アミン類の具体例としては、脂肪族または芳香族の第一、第二、第三アミンが挙げられる。
脂肪族アミンの具体例としては、ポリメチレンジアミン、ポリエーテルジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレントリアミン、テトラエチレンペンタミン、トリエチレンテトラミン、ジメチルアミノプロピルアミン、メンセンジアミン、アミノエチルエタノールアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、1,3,6−トリスアミノメチルヘキサン、トリブチルアミン、1,4−ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン、1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]ウンデセン−7−エンなどが挙げられる。
Specific examples of amines include aliphatic or aromatic primary, secondary and tertiary amines.
Specific examples of the aliphatic amine include polymethylene diamine, polyether diamine, diethylenetriamine, triethylenetriamine, tetraethylenepentamine, triethylenetetramine, dimethylaminopropylamine, mensendiamine, aminoethylethanolamine, bis (hexamethylene). ) Triamine, 1,3,6-trisaminomethylhexane, tributylamine, 1,4-diazabicyclo [2,2,2] octane, 1,8-diazabicyclo [5,4,0] undecene-7-ene Can be mentioned.
芳香族アミンの具体例としては、メタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルスルフォンなどが挙げられる。
酸無水物類の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)などの芳香族酸無水物、および、無水マレイン酸、無水コハク酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ポリアジピン酸無水物、クロレンド酸無水物、テトラブロム無水フタル酸などが挙げられる。
Specific examples of the aromatic amine include metaphenylenediamine, diaminodiphenylmethane, diaminodiphenylsulfone and the like.
Specific examples of acid anhydrides include aromatic acids such as phthalic anhydride, trimellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis (anhydro trimellitate), glycerol tris (anhydro trimellitate), etc. Examples of the anhydride include maleic anhydride, succinic anhydride, methyl nadic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, polyadipic anhydride, chlorendic anhydride, tetrabromophthalic anhydride, and the like.
ポリアミド類の具体例としては、ダイマー酸にジエチレントリアミン、トリエチレンテトラアミンなどのポリアミンを縮合反応させて得られる第一または第二アミノ基を有するポリアミノアミドなどが挙げられる。 Specific examples of polyamides include polyaminoamides having primary or secondary amino groups obtained by condensation reaction of polyamines such as diethylenetriamine and triethylenetetraamine with dimer acid.
イミダゾール類の具体例としては、イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、N−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウム・トリメリテート、2−メチルイミダゾリウム・イソシアムレートなどが挙げられる。 Specific examples of imidazoles include imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, N-benzyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazolium trimellitate, 2-methylimidazolium isocyanurate, and the like. Is mentioned.
トリアジン化合物は、窒素原子3個を含む6員環を有する化合物であり、その具体例としては、メラミン、N−エチレンメラミン、N,N’,N’’−トリフェニルメラミンなどのメラミン化合物;シアヌル酸、イソシアヌル酸、トリメチルシアヌレート、イソシアヌレート、トリエチルシアヌレート、トリスエチルイソシアヌレート、トリ(n−プロピル)シアヌレート、トリス(n−プロピル)イソシアヌレート、ジエチルシアヌレート、N,N’−ジエチルイソシアヌレート、メチルシアヌレート、メチルイソシアヌレートなどのシアヌル酸化合物;メラミン化合物とシアヌル酸化合物との等モル反応産物などのシアヌル酸メラミン化合物などが挙げられる。 The triazine compound is a compound having a six-membered ring containing three nitrogen atoms. Specific examples thereof include melamine compounds such as melamine, N-ethylenemelamine, N, N ′, N ″ -triphenylmelamine; Acid, isocyanuric acid, trimethyl cyanurate, isocyanurate, triethyl cyanurate, trisethyl isocyanurate, tri (n-propyl) cyanurate, tris (n-propyl) isocyanurate, diethyl cyanurate, N, N'-diethyl isocyanurate And cyanuric acid compounds such as methyl cyanurate and methyl isocyanurate; and cyanuric acid melamine compounds such as equimolar reaction products of melamine compounds and cyanuric acid compounds.
有機金属化合物の具体例としては、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫マレエート、2−エチルヘキサン酸亜鉛等の有機酸金属塩;ニッケルアセチルアセトナート、亜鉛アセチルアセトナートなどの1,3−ジケトン金属錯塩;チタンテトラブトキシド、ジルコニウムテトラブトキシド、アルミニウムブトキシドなどの金属アルコキシドなどが挙げられる。 Specific examples of organometallic compounds include organic acid metal salts such as dibutyltin dilaurate, dibutyltin maleate and zinc 2-ethylhexanoate; 1,3-diketone metal complex salts such as nickel acetylacetonate and zinc acetylacetonate; titanium Examples thereof include metal alkoxides such as tetrabutoxide, zirconium tetrabutoxide, and aluminum butoxide.
熱重合触媒(E)の使用量は、熱硬化性ポリマー(C)100質量部に対して好ましくは0.5〜20質量部、より好ましくは1〜10質量部である。熱重合触媒(E)の使用量が0.5質量部より少ないと、硬化反応が充分に進まず、耐熱性が低下する場合がある。また、長時間、高温での硬化が必要となるため、作業効率低下の原因となる場合がある。一方、熱重合触媒(E)の使用量が20質量部を超えると、組成物中のカルボキシル基と反応してゲル化が起こりやすくなり、保存安定性の低下などの問題を生じる場合がある。 The amount of the thermal polymerization catalyst (E) used is preferably 0.5 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermosetting polymer (C). If the amount of the thermal polymerization catalyst (E) used is less than 0.5 parts by mass, the curing reaction may not proceed sufficiently and the heat resistance may be lowered. Moreover, since curing at a high temperature is required for a long time, it may cause a reduction in work efficiency. On the other hand, when the usage-amount of a thermal-polymerization catalyst (E) exceeds 20 mass parts, it will react with the carboxyl group in a composition, gelatinization will occur easily, and problems, such as a fall of storage stability, may arise.
(x-b-d)エチレン性不飽和モノマー(F)
エチレン性不飽和モノマー(F)としては、前述したカラーフィルタ用に好適な硬化性組成物に用いられるものと同様のエチレン性不飽和モノマーが使用できる。
(Xbd) ethylenically unsaturated monomer (F)
As the ethylenically unsaturated monomer (F), the same ethylenically unsaturated monomer as that used in the curable composition suitable for the color filter described above can be used.
反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)と、それ以外の他のエチレン性不飽和モノマー(F)との配合比は、質量比で好ましくは95:5〜50:50、より好ましくは90:10〜60:40、さらに好ましくは85:15〜70:30である。反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の配合比が95を超えると、組成物からなる硬化膜の耐熱性が低下する場合がある。一方、反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)の配合比が5未満になると組成物のアルカリ可溶性が低下する傾向がある。 The mixing ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) to the other ethylenically unsaturated monomer (F) is preferably 95: 5 to 50:50, more preferably 90:10 in terms of mass ratio. -60: 40, more preferably 85: 15-70: 30. When the blending ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) exceeds 95, the heat resistance of the cured film made of the composition may be lowered. On the other hand, when the compounding ratio of the reactive (meth) acrylate polymer (A) is less than 5, the alkali solubility of the composition tends to decrease.
また、硬化性の成分として、必要に応じて、カルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物を使用してもよい。このようなカルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物としては、例えば、上記(ix -f)に記載されたものを使用でき
る。その酸価は、好ましくは10mgKOH/g以上、より好ましくは45〜160mgKOH/g、さらに好ましくは50〜140mgKOH/gである。このような酸価のエポキシ(メタ)アクリレート化合物を使用すると、組成物のアルカリ溶解性と硬化膜の耐アルカリ性のバランスを向上させることができる。酸価が10mgKOH/g未満であると、アルカリ溶解性が悪くなる。一方、酸価が大き過ぎると、組成物の成分構成によっては、硬化膜の耐アルカリ性、および電気特性などのレジストとしての特性が下がる場合がある。カルボキシル基を有するエポキシ(メタ)アクリレート化合物を使用する場合には、カルボキシル基を有する反応性(メタ)アクリレートポリマー(A)100質量部に対して、100質量部以下の範囲で使用することが好ましい。
Moreover, you may use the epoxy (meth) acrylate compound which has a carboxyl group as a sclerosing | hardenable component as needed. As the epoxy (meth) acrylate compound having such a carboxyl group, for example, those described in the above (ix-f) can be used. The acid value is preferably 10 mgKOH / g or more, more preferably 45 to 160 mgKOH / g, and still more preferably 50 to 140 mgKOH / g. When such an acid value epoxy (meth) acrylate compound is used, the balance between the alkali solubility of the composition and the alkali resistance of the cured film can be improved. When the acid value is less than 10 mgKOH / g, the alkali solubility is deteriorated. On the other hand, if the acid value is too large, depending on the component composition of the composition, the resist properties such as alkali resistance and electrical properties of the cured film may be lowered. When using the epoxy (meth) acrylate compound which has a carboxyl group, it is preferable to use in the range of 100 mass parts or less with respect to 100 mass parts of the reactive (meth) acrylate polymer (A) which has a carboxyl group. .
(x-b-e)硬化性組成物の製造方法
上記の硬化性組成物は、前述したカラーフィルタ用に好適な硬化性組成物と同様に、上述した各成分を通常の方法で混合することによって製造できる。混合の方法は特に制限は
なく、一部の成分を混合してから残りの成分を混合してもよく、全ての成分を一括で混合してもよい。
(Xbe) Manufacturing method of curable composition The said curable composition can be manufactured by mixing each component mentioned above by a normal method similarly to the curable composition suitable for the color filter mentioned above. The mixing method is not particularly limited, and after mixing some components, the remaining components may be mixed, or all components may be mixed at once.
また、粘度調節などのために必要に応じて組成物に有機溶媒を添加してもよい。このように粘度を調節することによって、ローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物上に塗布したり、印刷したりしやすくなる。有機溶媒としては、エチルメチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒;アセト酢酸エチル、γ−ブチロラクトン、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒;ブタノール、ベンジルアルコールなどのアルコール系溶媒;カルビトールアセテート、メチルセロソルブアセテートなどのセロソルブ系、カルビトール系およびそれらのエステル、エーテル誘導体の溶媒;N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドンなどのアミド系溶媒;ジメチルスルホキシド;フェノール、クレゾールなどのフェノール系溶媒;ニトロ化合物系溶媒;トルエン、キシレン、ヘキサメチルベンゼン、クメン芳香族系溶媒、テトラリン、デカリン、ジペンテンなどの炭化水素からなる芳香族系または脂環族系の溶媒などが挙げられる。これらは1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Moreover, you may add an organic solvent to a composition as needed for viscosity adjustment. By adjusting the viscosity in this manner, it becomes easy to apply or print on an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, or the like. Examples of the organic solvent include ketone solvents such as ethyl methyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ester solvents such as ethyl acetoacetate, γ-butyrolactone, and butyl acetate; alcohol solvents such as butanol and benzyl alcohol; carbitol acetate, Solvents of cellosolves such as methyl cellosolve acetate, carbitols and their esters and ether derivatives; N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, etc. Amide solvents: dimethyl sulfoxide; phenol solvents such as phenol and cresol; nitro compound solvents; toluene, xylene, hexamethylbenzene, cumene aromatic solvents, tetralin, decalin, dipen And aromatic or solvents alicyclic consisting of hydrocarbon such as emissions and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
有機溶媒の使用量は、組成物の粘度が500〜500,000mPa・s、より好ましくは1,000〜500,000mPa・s(B型粘度計(Brookfield Viscometer)にて
25℃で測定)になる量が好ましい。組成物がこのような粘度であると、対象物への塗布や印刷により適し、使用しやすくなる。また、このような粘度とするために好ましい有機溶媒の使用量は、有機溶媒以外の固形分の1.5質量倍以下である。1.5質量倍を超えると固形分濃度が低くなるため、この組成物を基板などに印刷する場合、一回の印刷で充分な膜厚が得られず、多数回の印刷が必要になる場合がある。
The amount of the organic solvent used is such that the composition has a viscosity of 500 to 500,000 mPa · s, more preferably 1,000 to 500,000 mPa · s (measured at 25 ° C. with a B-type viscometer (Brookfield Viscometer)). An amount is preferred. When the composition has such a viscosity, it is more suitable for application and printing on an object and is easy to use. Moreover, the preferable usage-amount of the organic solvent in order to set it as such a viscosity is 1.5 mass times or less of solid content other than an organic solvent. If the composition exceeds 1.5 mass times, the solid concentration will be low, so when printing this composition on a substrate, etc., a sufficient film thickness will not be obtained with a single print, and a large number of prints will be required. There is.
また、このような組成物にさらに着色剤を加えて、インクとして使用することもできる。着色剤の具体例としては、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラックなどが挙げられる。インクとして使用する場合も、その粘度は500〜500,000mPa・sであることが好ましい。 Further, a colorant can be further added to such a composition and used as an ink. Specific examples of the colorant include phthalocyanine blue, phthalocyanine green, iodin green, disazo yellow, crystal violet, titanium oxide, carbon black, naphthalene black and the like. Even when used as an ink, the viscosity is preferably 500 to 500,000 mPa · s.
組成物には、流動性の調整のため、さらに流動調整剤を添加することができる。流動性調整剤を添加することによって、組成物をローラーコート、スピンコート、スクリーンコート、カーテンコートなどで対象物に塗布する場合などに、組成物の流動性を適宜調整することができる。 A flow control agent can be further added to the composition in order to adjust the fluidity. By adding a fluidity modifier, the fluidity of the composition can be appropriately adjusted when the composition is applied to an object by roller coating, spin coating, screen coating, curtain coating, or the like.
流動調整剤の具体例としては、無機または有機充填剤、ワックス、界面活性剤などが挙げられる。無機充填剤の具体例としては、タルク、硫酸バリウム、チタン酸バリウム、シリカ、アルミナ、クレー、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、水酸化アルミニウム、珪酸塩化合物等が挙げられる。有機充填剤の具体例としては、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、弗素樹脂などが挙げられる。ワックスの具体例としては、ポリアミドワックス、酸化ポリエチレンワックスなどが挙げられる。界面活性剤の具体例としては、シリコーンオイル、高級脂肪酸エステル、アミドなどが挙げられる。これらの流動性調整剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Specific examples of the flow regulator include inorganic or organic fillers, waxes, surfactants, and the like. Specific examples of the inorganic filler include talc, barium sulfate, barium titanate, silica, alumina, clay, magnesium carbonate, calcium carbonate, aluminum hydroxide, and a silicate compound. Specific examples of the organic filler include silicone resin, silicone rubber, and fluorine resin. Specific examples of the wax include polyamide wax and oxidized polyethylene wax. Specific examples of the surfactant include silicone oil, higher fatty acid ester, amide and the like. These fluidity modifiers may be used alone or in combination of two or more.
また、組成物には必要に応じて、熱重合禁止剤、増粘剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤などの添加剤を添加することができる。熱重合禁止剤の具体例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、tert−ブチルカテコール、ピロガロール、フェノチアジンなどが挙げられる。増粘剤の具体例としては、アスベスト、オルベン、ベントン、モンモリロナイトなどが挙げられる。消泡剤は、印刷、塗工時または硬化
時に生じる泡を消すために用いられ、その具体例としては、アクリル系、シリコーン系などの界面活性剤が挙げられる。レベリング剤は、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられ、その具体例としては、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が挙げられる。密着性付与剤の具体例としては、イミダゾール系、チアゾール系、トリアゾール系、シランカップリング剤などが挙げられる。
Moreover, additives, such as a thermal-polymerization inhibitor, a thickener, an antifoamer, a leveling agent, and an adhesive provision agent, can be added to a composition as needed. Specific examples of the thermal polymerization inhibitor include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, tert-butylcatechol, pyrogallol, phenothiazine and the like. Specific examples of the thickener include asbestos, olben, benton and montmorillonite. The antifoaming agent is used for eliminating bubbles generated at the time of printing, coating or curing, and specific examples thereof include acrylic and silicone surfactants. The leveling agent is used to lose unevenness on the surface of the film that occurs during printing and coating, and specific examples thereof include acrylic and silicone surfactants. Specific examples of the adhesion-imparting agent include imidazole-based, thiazole-based, triazole-based, and silane coupling agents.
また、他の添加剤として、例えば、保存安定性のために紫外線防止剤、可塑剤などを添加することができる。また、上記の硬化性組成物を、基板上などにスクリーン印刷により適当な厚みで塗布し、熱処理して乾燥し塗布膜が得られる。その後、露光、現像し、熱硬化して硬化させることにより、硬化物とすることができる。 Further, as other additives, for example, an ultraviolet ray inhibitor and a plasticizer can be added for storage stability. Further, the above curable composition is applied onto a substrate or the like by screen printing at an appropriate thickness, and is heat-treated and dried to obtain a coating film. Then, it can be set as hardened | cured material by exposing and developing, thermosetting and hardening.
上記の硬化性組成物は、様々な用途に使用できるが、特に、光感度、現像性に優れ、かつ、硬化させて薄膜とした場合の基板との密着性、絶縁性、耐熱性、そり変形性、可撓性、外観の点でも優れるため、プリント配線基板の絶縁保護被膜としての使用に適している。絶縁保護被膜を形成する場合には、組成物やインクを回路が形成された基板上に10〜100μmの厚さで塗布した後、60〜100℃の温度で5〜30分間程度熱処理して乾燥し、5〜70μmの厚さとする。次いで、所望の露光パターンが施されたネガマスクを介して露光し、未露光部分を現像液で除去して現像する。その後、100〜180℃の温度で10〜40分間程度熱硬化して硬化させる。 The above-mentioned curable composition can be used for various applications. In particular, it has excellent photosensitivity and developability, and adhesion to a substrate when cured to form a thin film, insulation, heat resistance, warp deformation. It is also suitable for use as an insulating protective coating on a printed wiring board because of its excellent properties, flexibility and appearance. In the case of forming an insulating protective film, the composition or ink is applied to a substrate on which a circuit is formed in a thickness of 10 to 100 μm, and then heat-treated at a temperature of 60 to 100 ° C. for about 5 to 30 minutes and dried. And a thickness of 5 to 70 μm. Next, exposure is performed through a negative mask provided with a desired exposure pattern, and unexposed portions are removed with a developer and developed. Thereafter, it is cured by thermosetting at a temperature of 100 to 180 ° C. for about 10 to 40 minutes.
この硬化性組成物は、硬化物とした場合の可撓性に特に優れ、硬化物は良好な柔軟性を有しているため、FPC基板の絶縁保護被膜に用いるのに特に適しており、カールが少なく、取り扱い性にも優れたFPC基板とすることができる。また、例えば、多層プリント配線基板の層間の絶縁樹脂層として使用してもよい。 This curable composition is particularly excellent in flexibility when made into a cured product, and the cured product has good flexibility, so it is particularly suitable for use as an insulating protective film on an FPC board. Therefore, the FPC board can be made excellent in handleability. Further, for example, it may be used as an insulating resin layer between layers of a multilayer printed wiring board.
露光に用いられる活性光源には、公知の活性光源、例えば、カーボンアーク、水銀蒸気アーク、キセノンアークなどから発生する活性光が用いられる。
現像液には、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、リン酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、アンモニア、アミン類などのアルカリ水溶液を使用することができる。
As the active light source used for the exposure, active light generated from a known active light source such as a carbon arc, a mercury vapor arc, a xenon arc, or the like is used.
As the developer, an alkaline aqueous solution such as potassium hydroxide, sodium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, sodium phosphate, sodium silicate, ammonia, amines and the like can be used.
また、この硬化性組成物は、ドライフィルムレジストの感光層に使用することもできる。ドライフィルムレジストは、重合体フィルムなどからなる支持体上に、組成物からなる感光層を有するものである。感光層の厚さは10〜70μmが好ましい。支持体に使用される重合体フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート、脂肪族ポリエステルなどのポリエステル樹脂、ポリプロピレン、低密度ポリエチレンなどのポリオレフィン樹脂からなるフィルムなどが挙げられる。 Moreover, this curable composition can also be used for the photosensitive layer of a dry film resist. The dry film resist has a photosensitive layer made of a composition on a support made of a polymer film or the like. The thickness of the photosensitive layer is preferably 10 to 70 μm. Specific examples of the polymer film used for the support include films made of polyester resins such as polyethylene terephthalate and aliphatic polyester, and films made of polyolefin resins such as polypropylene and low density polyethylene.
ドライフィルムレジストは、硬化性組成物を支持体上に塗布し乾燥することにより感光層を形成することによって得られる。また、形成された感光層上にカバーフィルムを設けることにより、支持体、感光層、カバーフィルムが順次積層され、感光層の両面にフィルムを有するドライフィルムレジストを製造することもできる。カバーフィルムはドライフィルムレジストの使用時には剥がされるが、使用時までの間、感光層上にカバーフィルムが設けられることにより、感光層を保護でき、ポットライフに優れたドライフィルムレジストとなる。 The dry film resist is obtained by forming a photosensitive layer by applying a curable composition on a support and drying it. In addition, by providing a cover film on the formed photosensitive layer, a support, a photosensitive layer, and a cover film are sequentially laminated, and a dry film resist having films on both sides of the photosensitive layer can be produced. The cover film is peeled off when the dry film resist is used, but by providing the cover film on the photosensitive layer until the time of use, the photosensitive layer can be protected and a dry film resist excellent in pot life can be obtained.
ドライフィルムレジストを使用して、プリント配線基板に絶縁保護被膜を形成するためには、まず、ドライフィルムレジストの感光層と基板とを貼合する。ここで、カバーフィルムが設けられているドライフィルムレジストを使用する場合には、カバーフィルムを剥がして感光層を露出させてから基板に接触させる。 In order to form an insulating protective film on a printed wiring board using a dry film resist, first, the photosensitive layer of the dry film resist and the substrate are bonded. Here, when using a dry film resist provided with a cover film, the cover film is peeled off to expose the photosensitive layer, and then contacted with the substrate.
次に、感光層と基板とを加圧ローラなどを用いて40〜120℃程度で熱圧着して、基板上に感光層を積層する。その後、感光層を所望の露光パターンが施されたネガマスクを介して露光し、感光層から支持体を剥離し、現像液で未露光部分を除去して現像し、感光層を熱硬化させることによって、基板の表面に絶縁保護被膜が設けられたプリント配線基板が製造される。また、このようなドライフィルムレジストを使用して、多層プリント配線基板の層間に絶縁樹脂層を形成してもよい。 Next, the photosensitive layer and the substrate are thermocompression bonded at about 40 to 120 ° C. using a pressure roller or the like, and the photosensitive layer is laminated on the substrate. Thereafter, the photosensitive layer is exposed through a negative mask having a desired exposure pattern, the support is peeled off from the photosensitive layer, the unexposed portion is removed with a developer and developed, and the photosensitive layer is thermally cured. A printed wiring board having an insulating protective film provided on the surface of the substrate is manufactured. Moreover, you may form an insulating resin layer between the layers of a multilayer printed wiring board using such a dry film resist.
[実施例]
以下、実施例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。なお、実施例で使用した分析機器および分析条件は以下のとおりである。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples. The analytical instruments and analysis conditions used in the examples are as follows.
<ガスクロマトグラフィー>
分析機器:島津製作所社製「GC14A」
カラム:J&W社製「DB−1」30m×0.53mm×1.5μm
カラム温度:70℃〜250℃まで10℃/minで昇温、250℃で18分ホールド
インテグレーター:島津製作所社製「CR7A」
インジェクション温度:220℃
ディテクター温度:270℃ FID
検出器:FID H2 40ml/min Air 400ml/min
キャリアーガス:He 10ml/min
<Gas chromatography>
Analytical instrument: “GC14A” manufactured by Shimadzu Corporation
Column: “DB-1” manufactured by J & W, Inc. 30 m × 0.53 mm × 1.5 μm
Column temperature: raised from 70 ° C. to 250 ° C. at 10 ° C./min, 18 minutes at 250 ° C. Hold integrator: “CR7A” manufactured by Shimadzu Corporation
Injection temperature: 220 ° C
Detector temperature: 270 ° C FID
Detector: FID H 2 40 ml / min Air 400 ml / min
Carrier gas: He 10ml / min
<自動滴定装置>
分析機器:平沼産業社製「COM−550」
<赤外分光分析>
分析機器:Thermo Nicolet Japan社製「AVATAR 360 FT−IR」
測定法:反射法
<核磁気共鳴>
分析機器:JEOL社製「JNM−AL400型」
<Automatic titrator>
Analytical instrument: “COM-550” manufactured by Hiranuma Sangyo
<Infrared spectroscopic analysis>
Analytical instrument: “AVATAR 360 FT-IR” manufactured by Thermo Nicolet Japan
Measurement method: reflection method <nuclear magnetic resonance>
Analytical instrument: “JNM-AL400” manufactured by JEOL
[工程(1)]
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた300mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、4−アミノフェノール(東京化成製、試薬)10g(0.09mol)と、溶媒として1,4-ジオキサン100mlとを仕込んだ。次いで、50℃に加熱し、
塩化水素ガスを100ml/minの流量で1時間供給した。
[Step (1)]
In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser, 10 g (0.09 mol) of 4-aminophenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry, reagent) and 1, 100 ml of 4-dioxane was charged. Then heat to 50 ° C.
Hydrogen chloride gas was supplied at a flow rate of 100 ml / min for 1 hour.
[工程(2)]
得られた液を55℃に加熱し、塩化カルボニル27.1g(0.27mol)を6時間かけて供給し、さらに3時間温度を維持した。反応終了後、窒素を導入して溶存塩化カルボニルを除去した。サンプルを採取し、ガスクロマトグラフィー(以下「GC」という)で分析した結果、4−イソシアネートフェノールが収率90%で得られた。
[Step (2)]
The obtained liquid was heated to 55 ° C., 27.1 g (0.27 mol) of carbonyl chloride was supplied over 6 hours, and the temperature was maintained for 3 hours. After completion of the reaction, nitrogen was introduced to remove dissolved carbonyl chloride. A sample was collected and analyzed by gas chromatography (hereinafter referred to as “GC”). As a result, 4-isocyanatephenol was obtained in a yield of 90%.
[工程(3)]
得られた液にo‐ジクロロベンゼン100mlを添加し、さらに3−クロロプロピオン酸クロライド31.0g(0.25mmol)を添加後、130℃で9時間加熱した。その際、1,4―ジオキサンを系外に留去しながら反応を行った。得られた反応液のアルカリ分解性塩素を以下の方法で分析した。
[Step (3)]
100 ml of o-dichlorobenzene was added to the obtained liquid, and 31.0 g (0.25 mmol) of 3-chloropropionic acid chloride was further added, followed by heating at 130 ° C. for 9 hours. At that time, the reaction was carried out while distilling 1,4-dioxane out of the system. The resulting reaction solution was analyzed for alkali-decomposable chlorine by the following method.
300ml共栓付三角フラスコに試料約0.5gを正確に量り取り、メタノール/精製水混合液(容量比:70/30)100mlを加えた後、30%水酸化ナトリウム水溶液10mlを加えた。この三角フラスコに冷却管を取り付けて80℃の水浴で1時間加熱還流させた後、室温まで冷却した。次いで、得られた溶液をメスフラスコに移液し、精製水を加え全体を200mlにした。 About 0.5 g of a sample was accurately weighed into a 300 ml conical stoppered flask, 100 ml of a methanol / purified water mixture (volume ratio: 70/30) was added, and then 10 ml of a 30% aqueous sodium hydroxide solution was added. A condensing tube was attached to this Erlenmeyer flask and heated to reflux in an 80 ° C. water bath for 1 hour, and then cooled to room temperature. Subsequently, the obtained solution was transferred to a volumetric flask, and purified water was added to make up a total of 200 ml.
得られた液10mlを正確に200mlビーカーに取り、精製水を100ml加え、(1+1)硝酸1mlを添加し、1/50規定硝酸銀溶液を用いて電位差滴定をし、下記式からアルカリ分解性塩素の濃度を求めた。ただし、下記式において、Aは硝酸銀滴定量(ml)、Bは硝酸銀水溶液のfactorである。 10 ml of the obtained liquid is accurately taken in a 200 ml beaker, 100 ml of purified water is added, 1 ml of (1 + 1) nitric acid is added, potentiometric titration is performed using a 1/50 normal silver nitrate solution, The concentration was determined. However, in the following formula, A is a silver nitrate titration amount (ml), and B is a factor of the silver nitrate aqueous solution.
塩素濃度(%)=A×B×35.5/50×(サンプル質量)×100
得られた反応液からo-ジクロロベンゼンを留去した反応液は29.2gであり、その
中のアルカリ分解性塩素濃度は4.1%であった。したがって、反応液中のアルカリ分解性塩素は1.20g(0.03mol)と算出された。
Chlorine concentration (%) = A × B × 35.5 / 50 × (sample mass) × 100
The reaction solution obtained by distilling off o-dichlorobenzene from the obtained reaction solution was 29.2 g, and the alkali-decomposable chlorine concentration in the reaction solution was 4.1%. Therefore, the alkali-decomposable chlorine in the reaction solution was calculated to be 1.20 g (0.03 mol).
[工程(4)]
反応液およびトルエン90mlを200mlフラスコに仕込み、トリエチルアミン4.4g(0.04mol)を1時間かけて滴下した。次いで、50℃で6時間加熱攪拌した後、室温に冷却した。生成した固形分を濾過して分離し、濾液95gを得た。
[Process (4)]
The reaction solution and 90 ml of toluene were charged into a 200 ml flask, and 4.4 g (0.04 mol) of triethylamine was added dropwise over 1 hour. Next, the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours and then cooled to room temperature. The produced solid content was separated by filtration to obtain 95 g of a filtrate.
[精製工程]
得られた濾液に、フェノチアジン(東京化成製、試薬)0.02gおよび2,6−ビス−t−ブチルヒドロキシトルエン(シグマアルドリッチジャパン(株)製、試薬)0.02gを加え、真空ポンプで圧力を10kPaに減圧して溶媒を留去した。得られた濃縮液を100mlフラスコに仕込み、0.5kPaに減圧して蒸留し、100〜110℃の留分5.0gを得た。
[Purification process]
0.02 g of phenothiazine (manufactured by Tokyo Chemical Industry, reagent) and 0.02 g of 2,6-bis-t-butylhydroxytoluene (manufactured by Sigma Aldrich Japan Co., Ltd., reagent) are added to the obtained filtrate, and the pressure is reduced with a vacuum pump The pressure was reduced to 10 kPa and the solvent was distilled off. The obtained concentrated liquid was charged into a 100 ml flask, distilled under reduced pressure to 0.5 kPa, and 5.0 g of a fraction at 100 to 110 ° C. was obtained.
得られた留分は、赤外分光分析(以下「IR」という)および核磁気共鳴分析(以下「NMR」という)により、4−アクリロイルオキシフェニルイソシアネートと同定された。そのIRおよびNMRチャートを図1および図2に示す。また、4−アクリロイルオキシフェニルイソシアネートの収率は24%であった。 The obtained fraction was identified as 4-acryloyloxyphenyl isocyanate by infrared spectroscopic analysis (hereinafter referred to as “IR”) and nuclear magnetic resonance analysis (hereinafter referred to as “NMR”). The IR and NMR charts are shown in FIGS. The yield of 4-acryloyloxyphenyl isocyanate was 24%.
[工程(1)]
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた300mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、3−アミノフェノール(東京化成製、試薬)15g(0.14mol)および酢酸エチル100mlを仕込んだ。次いで、50℃に加熱し、塩化水素ガスを100ml/minの流量で1時間供給した。
[Step (1)]
A 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser was charged with 15 g (0.14 mol) of 3-aminophenol (manufactured by Tokyo Chemical Industry, reagent) and 100 ml of ethyl acetate under a nitrogen atmosphere. It is. Subsequently, it heated at 50 degreeC and hydrogen chloride gas was supplied at the flow volume of 100 ml / min for 1 hour.
[工程(2)]
得られた液を55℃に加熱し、塩化カルボニル40.6g(0.41mol)を6時間かけて供給した後、60℃で3時間加熱を継続した。反応終了後、窒素を導入し溶存塩化カルボニルを除去した。サンプルを採取しGC分析を行った結果、4−イソシアネートフェノールが収率90%で得られた。
[Step (2)]
The obtained liquid was heated to 55 ° C., 40.6 g (0.41 mol) of carbonyl chloride was supplied over 6 hours, and then heating was continued at 60 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, nitrogen was introduced to remove dissolved carbonyl chloride. As a result of collecting a sample and performing GC analysis, 4-isocyanatephenol was obtained with a yield of 90%.
[工程(3)]
得られた反応液にo‐ジクロロベンゼン100mlを添加し、さらに3−クロロプロピオン酸クロライド46.5g(0.37mmol)を添加後、130℃で1時間加熱を継
続した。その際、酢酸エチルを系外に留去しながら反応を行った。反応終了後、反応液を0.5kPaに減圧して蒸留し、100〜110℃の留分を回収し、3-クロロプロピオ
ニルオキシ−1−イソシアネートーベンゼン25gを得た。
[Step (3)]
To the resulting reaction solution, 100 ml of o-dichlorobenzene was added, and 46.5 g (0.37 mmol) of 3-chloropropionic acid chloride was further added, and heating was continued at 130 ° C. for 1 hour. At that time, the reaction was carried out while distilling off ethyl acetate out of the system. After completion of the reaction, the reaction solution was distilled under reduced pressure to 0.5 kPa, and a fraction at 100 to 110 ° C. was collected to obtain 25 g of 3-chloropropionyloxy-1-isocyanate-benzene.
得られた液のアルカリ分解性塩素を前記方法で分析した結果、アルカリ分解性塩素濃度は6.4%であり、25gの液中のアルカリ分解性塩素は1.60g(0.04mol)であった。 As a result of analyzing the alkali-decomposable chlorine of the obtained liquid by the above method, the alkali-decomposable chlorine concentration was 6.4%, and the alkali-decomposable chlorine in 25 g of liquid was 1.60 g (0.04 mol). It was.
[工程(4)]
得られた液25gを100mlフラスコに仕込み、さらに50gのトルエンを仕込み、トリエチルアミン5.1g(0.05mol)を1時間かけて滴下した。次いで、50℃で6時間加熱攪拌した後、室温に冷却した。生成した固形分を濾過して分離し、濾液72.5gを得た。
[Process (4)]
25 g of the obtained liquid was charged into a 100 ml flask, 50 g of toluene was further charged, and 5.1 g (0.05 mol) of triethylamine was added dropwise over 1 hour. Next, the mixture was stirred at 50 ° C. for 6 hours and then cooled to room temperature. The produced solid content was separated by filtration to obtain 72.5 g of a filtrate.
[精製工程]
得られた濾液に、フェノチアジン0.02gおよび2,6−ビス−t−ブチルヒドロキシトルエン0.02gを加え、真空ポンプで圧力を10kPaに減圧して溶媒を留去した。その濃縮液を50mlフラスコに仕込み、0.5kPaに減圧して蒸留し、100〜110℃の留分6.1gを得た。
[Purification process]
To the obtained filtrate, 0.02 g of phenothiazine and 0.02 g of 2,6-bis-t-butylhydroxytoluene were added, the pressure was reduced to 10 kPa with a vacuum pump, and the solvent was distilled off. The concentrated liquid was charged into a 50 ml flask, distilled under reduced pressure to 0.5 kPa, and 6.1 g of a fraction at 100 to 110 ° C. was obtained.
得られた留分は、IRおよびNMRにより3−アクリロイルオキシフェニルイソシアネートと同定された。そのIRおよびNMRチャートを図3および図4に示す。また、3−アクリロイルオキシフェニルイソシアネートの収率は23.9%であった。 The resulting fraction was identified as 3-acryloyloxyphenyl isocyanate by IR and NMR. The IR and NMR charts are shown in FIGS. The yield of 3-acryloyloxyphenyl isocyanate was 23.9%.
[工程(1’)]
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた300mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、4−アミノフェノール10g(0.09mol)および1,4−ジオキサン100mlを仕込んだ。次いで、50℃に加熱し、塩化水素ガスを100ml/minの流量で1時間供給した。
[Step (1 ′)]
In a 300 ml four-necked flask equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 10 g (0.09 mol) of 4-aminophenol and 100 ml of 1,4-dioxane were charged under a nitrogen atmosphere. Subsequently, it heated at 50 degreeC and hydrogen chloride gas was supplied at the flow volume of 100 ml / min for 1 hour.
[工程(2’)]
得られた液を55℃に加熱し、塩化カルボニル27.1g(0.27mol)を6時間かけて供給し、その後60℃で3時間加熱を継続した。反応終了後、窒素を導入して溶存塩化カルボニルを除去した。サンプルを採取しGC分析した結果、4−イソシアネートフェノールが収率90%で得られた。
[Step (2 ′)]
The obtained liquid was heated to 55 ° C., 27.1 g (0.27 mol) of carbonyl chloride was supplied over 6 hours, and then heating was continued at 60 ° C. for 3 hours. After completion of the reaction, nitrogen was introduced to remove dissolved carbonyl chloride. As a result of collecting a sample and performing GC analysis, 4-isocyanate phenol was obtained in a yield of 90%.
[工程(3’)]
得られた液にメタクリル酸クロライド(東京化成製、試薬)22.3g(0.25mmol)を添加後、110℃で6時間加熱を継続した。その際、1,4−ジオキサンを系外に留去しながら反応を行った。
[Step (3 ′)]
After adding 22.3 g (0.25 mmol) of methacrylic acid chloride (manufactured by Tokyo Chemical Industry, reagent) to the resulting liquid, heating was continued at 110 ° C. for 6 hours. At that time, the reaction was carried out while distilling 1,4-dioxane out of the system.
[精製工程]
得られた反応液に、フェノチアジン0.02gおよび2,6−ビス−t−ブチルヒドロキシトルエン0.02gを加え、真空ポンプで圧力を10kPaに減圧して溶媒を留去した。その濃縮液を100mlフラスコに仕込み、0.5kPaに減圧して蒸留し、100〜110℃の留分6.4gを得た。留分は4−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネートで、収率は31%であった。
[Purification process]
To the obtained reaction solution, 0.02 g of phenothiazine and 0.02 g of 2,6-bis-t-butylhydroxytoluene were added, the pressure was reduced to 10 kPa with a vacuum pump, and the solvent was distilled off. The concentrated liquid was charged into a 100 ml flask, distilled under reduced pressure to 0.5 kPa, and 6.4 g of a fraction at 100 to 110 ° C. was obtained. The fraction was 4-methacryloyloxyphenyl isocyanate, and the yield was 31%.
[工程(1’)]
攪拌器、温度計、滴下ロートおよび還流冷却器を備えた500ml四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、3−アミノフェノール(三井化学製、試薬)30g(0.275mol)および1,4−ジオキサン350mlを仕込んだ。次いで、60℃に加熱し、塩化水素ガスを100ml/minの流量で70分間供給した。
[Step (1 ′)]
In a 500 ml four-necked flask equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser, 30 g (0.275 mol) of 3-aminophenol (manufactured by Mitsui Chemicals, reagent) and 350 ml of 1,4-dioxane were added under a nitrogen atmosphere. Was charged. Subsequently, it heated at 60 degreeC and hydrogen chloride gas was supplied for 70 minutes at the flow volume of 100 ml / min.
[工程(2’)]
得られた液を60℃に加熱し、塩化カルボニル54.0g(0.54mol)を5時間かけて供給し、さらに3時間温度を維持した。反応終了後、窒素を導入して塩化カルボニルを除去した。サンプルを採取してGC分析した結果、3‐イソシアネートフェノールが収率90%で得られた。
[Step (2 ′)]
The obtained liquid was heated to 60 ° C., 54.0 g (0.54 mol) of carbonyl chloride was supplied over 5 hours, and the temperature was maintained for 3 hours. After completion of the reaction, nitrogen was introduced to remove carbonyl chloride. As a result of collecting a sample and performing GC analysis, 3-isocyanatephenol was obtained in a yield of 90%.
[工程(3’)]
得られた液にo−ジクロロベンゼン300ml添加し、さらにメタクリル酸クロライド200g(1.91mol)、フェノチアジン1.0gを添加後、110℃で48時間加熱した。
[Step (3 ′)]
300 ml of o-dichlorobenzene was added to the obtained liquid, 200 g (1.91 mol) of methacrylic acid chloride and 1.0 g of phenothiazine were further added, and the mixture was heated at 110 ° C. for 48 hours.
[精製工程]
得られた反応液に、フェノチアジン1.0gおよび2,6−ビス−t−ブチルヒドロキシトルエン0.5gを加え、真空ポンプで圧力10kPaに減圧して溶媒を留去した。その濃縮液を100mlフラスコに仕込み、0.1kPaに減圧して留去し、123〜125℃の留分13.8gを得た。留分は3−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネートで、収率は25%であった。
[Purification process]
To the obtained reaction liquid, 1.0 g of phenothiazine and 0.5 g of 2,6-bis-tert-butylhydroxytoluene were added, and the solvent was distilled off by reducing the pressure to 10 kPa with a vacuum pump. The concentrated liquid was charged into a 100 ml flask and distilled off under reduced pressure to 0.1 kPa to obtain 13.8 g of a fraction at 123 to 125 ° C. The fraction was 3-methacryloyloxyphenyl isocyanate, and the yield was 25%.
〔実施例5,6〕
(1)一般式(I)の化合物のイソシアネート基の反応性
反応器に、4−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネート0.613g、2−プロパノール0.721g、トルエン5mlを加え、60℃のオイルバスにて加熱攪拌を行った。一定時間ごとに少量のサンプルを採取し、NaCl板を用いIR測定し2272cm-1付近のイソシアネート基の吸収ピークの強度を測定し、ピークが消えるまでの時間を測定した。また、3−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネートについても同様の測定を行った。結果を表1に示す。
[Examples 5 and 6]
(1) Reactivity of isocyanate group of compound of general formula (I) To a reactor, 0.613 g of 4-methacryloyloxyphenyl isocyanate, 0.721 g of 2-propanol and 5 ml of toluene are added and heated in an oil bath at 60 ° C. Stirring was performed. A small sample was taken at regular intervals, IR measurement was performed using a NaCl plate, the intensity of the absorption peak of the isocyanate group near 2272 cm −1 was measured, and the time until the peak disappeared was measured. Moreover, the same measurement was performed also about 3-methacryloyloxyphenyl isocyanate. The results are shown in Table 1.
〔比較例1〕
(2)フェニルイソシアネートのイソシアネート基の反応性
反応器に、フェニルイソシアネート0.477g、2−プロパノール0.721gおよびトルエン5mlを加え、60℃のオイルバスにて加熱攪拌を行った。一定時間ごとに少量のサンプルを採取し、NaCl板を用いIR測定し2272cm-1付近のイソシアネートの吸収ピークの強度を測定し、ピークが完全に消えるまでの時間を測定しようと試みた。結果を表1に示す。
[Comparative Example 1]
(2) Reactivity of isocyanate group of phenyl isocyanate 0.477 g of phenyl isocyanate, 0.721 g of 2-propanol and 5 ml of toluene were added to the reactor, and the mixture was heated and stirred in an oil bath at 60 ° C. A small sample was taken at regular intervals, IR measurement was performed using a NaCl plate, the intensity of the isocyanate absorption peak around 2272 cm −1 was measured, and an attempt was made to measure the time until the peak completely disappeared. The results are shown in Table 1.
〔参考製造例A1〕
(1)ウレタン(メタ)アクリレート(U−1)の合成
撹拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、ポリカーボネ−トジオール(クラレ(株)製、C3090、平均分子量3000)3.66gおよび4−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネート0.521gを投入し、溶媒として塩化メチレン10mLを加えて1時間攪拌した。その後、ジブチル錫ジラウレート0.0174g投入した。さらに撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収ピーク(2280cm-1)がほぼ消失したことを確認して反応を終了し、粘稠液体のウレタン(メタ)アクリレート(U−1)を得た。得られたウレタン(メタ)アクリレート(U−1)のNMRチャートを図5に示す。
[ Reference Production Example A1 ]
(1) Synthesis of urethane (meth) acrylate (U-1) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer and a condenser, polycarbonate diol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., C3090, average molecular weight 3000) 3.66 g and 4 -0.521 g of methacryloyloxyphenyl isocyanate was added, 10 mL of methylene chloride was added as a solvent, and the mixture was stirred for 1 hour. Thereafter, 0.0174 g of dibutyltin dilaurate was added. The stirring was further continued, and the reaction was terminated after confirming that the absorption peak (2280 cm −1 ) of the isocyanate group had almost disappeared in the infrared absorption spectrum, whereby a viscous liquid urethane (meth) acrylate (U-1) was obtained. . The NMR chart of the obtained urethane (meth) acrylate (U-1) is shown in FIG.
〔参考製造例B1〕
(2)ウレタン(メタ)アクリレート(U−2)の合成
撹拌装置、温度計およびコンデンサーを備えた反応容器に、ポリカーボネ−トジオール(クラレ(株)製、C3090、平均分子量3000)30.089gおよび2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート3.149gを投入し、溶媒として塩化メチレン100mLを加えた。1時間攪拌した後、ジブチル錫ジラウレート0.133g投入した。さらに撹拌を続け、赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収ピーク(2280cm-1)がほぼ消失したことを確認して反応を終了し、粘稠液体のウレタン(メタ)アクリレート(U−2)を得た。得られたウレタン(メタ)アクリレート(U−2)のNMRチャートを図6に示す。
[ Reference Production Example B 1]
(2) Synthesis of urethane (meth) acrylate (U-2) In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, and a condenser, polycarbonate diol (manufactured by Kuraray Co., Ltd., C3090, average molecular weight 3000) 30.089 g and 2 -3.149 g of methacryloyloxyethyl isocyanate was added, and 100 mL of methylene chloride was added as a solvent. After stirring for 1 hour, 0.133 g of dibutyltin dilaurate was added. The stirring was further continued, and the reaction was terminated after confirming that the absorption peak (2280 cm −1 ) of the isocyanate group had almost disappeared in the infrared absorption spectrum, thereby obtaining a viscous liquid urethane (meth) acrylate (U-2). . The NMR chart of the obtained urethane (meth) acrylate (U-2) is shown in FIG.
〔参考製造例A2〕
(メタ)アクリル共重合ポリマー(XVI)の合成
滴下漏斗、温度計、冷却管および撹拌機を取り付けた4つ口フラスコに、ヒドロキシエチルアクリレート9.917g、ブチルメタクリレート48.533g、メルカプトエタノール0.133gおよびプロピレングリコールモノメトキシアセテート(以下「PMA」という)62.97gを仕込み、4つ口フラスコ内を1時間窒素置換した。さらにオイルバスで90℃まで加温した後、アゾビスイソブチロニトリル0.84gとPMA62.97gの混合液を1時間かけて滴下した。3時間重合を行った後、アゾビスイソブチロニトリル0.27gとPMA7.00gの混合液を加え、さらに100℃に昇温して1.5時間重合を行った。その後、室温下で冷却し、減圧蒸留にて溶媒を一定量除去した後、1.5Lのメタノール中にて高分子量成分を除去し、ヘキサン中にて精製を行うことによって、白色の(メタ)アクリル共重合ポリマー(XVI)55.29gを得た。GPCにより測定したポリスチレン換算の質量平均分子量は25,000であった。
[ Reference Production Example A2 ]
Synthesis of (meth) acrylic copolymer (XVI) In a four-necked flask equipped with a dropping funnel, thermometer, condenser and stirrer, 9.917 g of hydroxyethyl acrylate, 48.533 g of butyl methacrylate, 0.133 g of mercaptoethanol Then, 62.97 g of propylene glycol monomethoxyacetate (hereinafter referred to as “PMA”) was charged, and the inside of the four-necked flask was purged with nitrogen for 1 hour. Furthermore, after heating to 90 degreeC with an oil bath, the liquid mixture of 0.84g of azobisisobutyronitrile and 62.97g of PMA was dripped over 1 hour. After carrying out the polymerization for 3 hours, a mixed solution of 0.27 g of azobisisobutyronitrile and 7.00 g of PMA was added, and the temperature was further raised to 100 ° C. to carry out the polymerization for 1.5 hours. Then, after cooling at room temperature and removing a certain amount of solvent by distillation under reduced pressure, the high molecular weight component is removed in 1.5 L of methanol and purified in hexane to obtain a white (meth) 55.29 g of acrylic copolymer (XVI) was obtained. The weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by GPC was 25,000.
〔参考製造例A3〕
(1)反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MPI)の合成
反応器に、4−メタクリロイルオキシフェニルイソシアネート0.215g、(メタ)アクリル共重合ポリマー(XVI)1.454g、ジブチル錫ジラウレート0.0067gおよび塩化メチレン5mLを加えて攪拌した。赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル(2280cm-1)がほぼ消失したことを確認して反応を終了し、反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MPI)を得た。得られた反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MPI)のNMRチャートを図7に示す。
[ Reference Production Example A3 ]
(1) Synthesis of reactive acrylic copolymer (P1-MPI) In a reactor, 0.215 g of 4-methacryloyloxyphenyl isocyanate, 1.454 g of (meth) acrylic copolymer (XVI), 0.0067 g of dibutyltin dilaurate And 5 mL of methylene chloride was added and stirred. It was confirmed that the absorption spectrum (2280 cm −1 ) of the isocyanate group almost disappeared in the infrared absorption spectrum, and the reaction was terminated to obtain a reactive acrylic copolymer (P1-MPI). An NMR chart of the obtained reactive acrylic copolymer (P1-MPI) is shown in FIG.
〔参考製造例B2〕
(2)反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MOI)の合成
反応器に、2−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート0.180g、(メタ)アクリル共重合ポリマー(XVI)を1.614g、ジブチル錫ジラウレート0.0067gおよび塩化メチレン5mLを加えて攪拌した。赤外線吸収スペクトルでイソシアネート基の吸収スペクトル(2280cm-1)がほぼ消失したことを確認して反応を終了し、反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MOI)を得た。得られた反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MOI)のNMRチャートを図8に示す。
[ Reference Production Example B2 ]
(2) Synthesis of Reactive Acrylic Copolymer (P1-MOI) In a reactor, 0.180 g of 2-methacryloyloxyethyl isocyanate, 1.614 g of (meth) acrylic copolymer (XVI), 0. 0067 g and 5 mL of methylene chloride were added and stirred. After confirming that the absorption spectrum of the isocyanate group (2280 cm −1 ) almost disappeared in the infrared absorption spectrum, the reaction was terminated to obtain a reactive acrylic copolymer (P1-MOI). An NMR chart of the obtained reactive acrylic copolymer (P1-MOI) is shown in FIG.
〔参考例7〜12、参考比較例2〜5〕
(1)硬化性組成物の調製および評価サンプル作成
表2−1および表2−2に示した種類および量の反応性ウレタン化合物と、表2−1および表2−2に示した量の反応性モノマーとしてビスフェノールA型両末端ビスアクリレートモノマー(第一工業製薬(株)社製、BPE4−A)と、表2−1および表2−2に示した量の光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、Irgacure184)とを、ジクロロメタン(純正化学社製)20g中に、室温で撹拌混合することにより、均一に溶解させて硬化性組成物溶液を得た。得られた硬化性組成物溶液をガラス基板(大きさ50mm×50mm)に、乾燥膜厚が約200μmとなるように塗布し、50℃で30分間溶剤を乾燥することにより評価サンプルを得た。
なお、参考例12で用いた反応性ウレタン化合物は、参考製造例A1で得られたウレタン(メタ)アクリレート(U−1)であり、参考例7〜11で用いた反応性ウレタン化合物は、参考製造例A1において原料化合物等を変更することにより製造した。また、参考比較例5で用いた反応性ウレタン化合物は、参考製造例B1で得られたウレタン(メタ)アクリレート(U−2)であり、参考比較例2〜4で用いた反応性ウレタン化合物は、参考製造例B1において原料化合物等を変更することに製造した。
[ Reference Examples 7-12, Reference Comparative Examples 2-5]
(1) Preparation of curable composition and preparation of evaluation sample Reactive urethane compounds of the types and amounts shown in Table 2-1 and Table 2-2, and reactions of amounts shown in Table 2-1 and Table 2-2 Bisphenol A type both-end bisacrylate monomer (DPE Kogyo Seiyaku Co., Ltd., BPE4-A) as a photopolymerizable monomer and 1-hydroxy as a photopolymerization initiator in the amounts shown in Tables 2-1 and 2-2 -Cyclohexyl-phenyl-ketone (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was stirred and mixed in 20 g of dichloromethane (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) at room temperature to uniformly dissolve the curable composition solution. Obtained. The obtained curable composition solution was applied to a glass substrate (size 50 mm × 50 mm) so that the dry film thickness was about 200 μm, and the solvent was dried at 50 ° C. for 30 minutes to obtain an evaluation sample.
In addition, the reactive urethane compound used in Reference Example 12 is the urethane (meth) acrylate (U-1) obtained in Reference Production Example A1 , and the reactive urethane compound used in Reference Examples 7 to 11 is It manufactured by changing a raw material compound etc. in reference manufacture example A1 . Further, reactive urethane compounds used in Reference Comparative Example 5 is a urethane obtained in Reference Production Example B 1 (meth) acrylate (U-2), reactive urethane compounds used in Comparative Reference Example 2-4 Were produced by changing the raw material compounds and the like in Reference Production Example B1 .
(2)反応性モノマーの硬化性組成物に関する評価
<硬化性>
(1)で得られた評価サンプルを、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置(ウシオ電機マルチルチライトML−251A/B)で露光した。この間、赤外分光計(日本分光社製FT/IR7000)でエチレン性不飽和基吸収ピ−ク(810cm-1)を測定するこ
とにより、反応が定常状態になるような露光量500mJ/cm2で露光した。エチレン
性不飽和基吸収ピ−クの変化量(露光後の吸収ピーク強度/露光前の吸収ピーク強度×100:%)からエチレン性不飽和基反応率を測定した。結果を表3に示す。
(2) Evaluation of curable composition of reactive monomer <Curability>
The evaluation sample obtained in (1) was exposed with an exposure apparatus (USHIO ELECTRIC MULTILUCILITE ML-251A / B) incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp. During this time, an exposure dose of 500 mJ / cm 2 is obtained so that the reaction becomes steady by measuring the ethylenically unsaturated group absorption peak (810 cm −1 ) with an infrared spectrometer (FT / IR7000 manufactured by JASCO Corporation). And exposed. The ethylenically unsaturated group reaction rate was measured from the amount of change in the ethylenically unsaturated group absorption peak (absorption peak intensity after exposure / absorption peak intensity before exposure × 100:%). The results are shown in Table 3.
<密着強度>
(1)で得られた評価サンプルを、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置で3J/cm2露光した。硬化した各サンプルの硬化膜表面をサンドペーパーで磨き、さらにアドヒ
ージョンテスター(Elcometer Instrument.Std社製、elcometor)の冶具をエポキシ接着剤(三井化学社製、HC−1210)で硬化させ、アドヒージョンテスターで密着強度を測定した。結果を表3に示す。
<Adhesion strength>
The evaluation sample obtained in (1) was exposed at 3 J / cm 2 with an exposure apparatus incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp. The cured film surface of each cured sample is polished with sandpaper, and a jig of an adhesion tester (Elcomtor Instrument.Std, elcomtor) is cured with an epoxy adhesive (Mitsui Chemicals, HC-1210). The adhesion strength was measured with a fusion tester. The results are shown in Table 3.
<耐熱性>
(1)で得られた評価サンプルを、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置で3J/cm2露光した。硬化した各サンプルについて、示差走査熱量計(セイコーインスツルメン
ト社製、EXSTAR6000)により分解温度を測定し耐熱性を比較した。結果を表3に示す。
<Heat resistance>
The evaluation sample obtained in (1) was exposed at 3 J / cm 2 with an exposure apparatus incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp. About each hardened sample, the decomposition temperature was measured with the differential scanning calorimeter (The Seiko Instruments make, EXSTAR6000), and the heat resistance was compared. The results are shown in Table 3.
<屈折率>
(1)で調製した硬化性組成物を、PETフィルム上に、乾燥膜厚が約200μmになるように塗布し、50℃で30分間溶剤を乾燥することにより評価サンプルを得た。得られた評価サンプルを、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置で3J/cm2露光した。
硬化した各サンプルをフィルムとして剥離し、アッベ屈折率計を用いて硬化したフィルムの屈折率を測定した。結果を表3に示す。
<Refractive index>
The curable composition prepared in (1) was applied on a PET film so that the dry film thickness was about 200 μm, and the solvent was dried at 50 ° C. for 30 minutes to obtain an evaluation sample. The obtained evaluation sample was exposed to 3 J / cm 2 with an exposure apparatus incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp.
Each cured sample was peeled off as a film, and the refractive index of the cured film was measured using an Abbe refractometer. The results are shown in Table 3.
<硬化収縮率>
(1)で調製した硬化性組成物を、ガラス基板上に、乾燥膜厚が約200μmになるように塗布し、50℃で30分間溶剤を乾燥することにより評価サンプルを得た。得られた評価サンプルの膜厚を測定した後、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置で3J/cm2露光した。硬化した各サンプルの膜厚を再度測定し、膜厚の減少率から硬化収縮率を算
出した。結果を表3に示す。
<Curing shrinkage>
The curable composition prepared in (1) was applied on a glass substrate so that the dry film thickness was about 200 μm, and the solvent was dried at 50 ° C. for 30 minutes to obtain an evaluation sample. After measuring the film thickness of the obtained evaluation sample, it was exposed to 3 J / cm 2 with an exposure apparatus incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp. The film thickness of each cured sample was measured again, and the curing shrinkage rate was calculated from the film thickness reduction rate. The results are shown in Table 3.
〔参考実施例13,14、参考比較例6,7〕
(1)硬化性組成物の調製および評価サンプル作成
表4に示した種類および量の反応性ポリマーと、表4に示した量の光重合開始剤として1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン(チバスペシャルティケミカルズ(株)製、Irgacure184)とを、ジクロロメタン(純正化学社製)20g中に、室温で撹拌混合することにより、均一に溶解させて硬化性組成物溶液を得た。得られた硬化性組成物溶液をガラス基板(大きさ50mm×50mm)に、乾燥膜厚が約200μmとなるように塗布し、50℃で30分間溶剤を乾燥することにより評価サンプルを得た。
なお、参考例14で用いた反応性ポリマーは、参考製造例A3で得られた反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MPI)であり、参考例13で用いた反応性ポリマーは、参考製造例A3において原料化合物等を変更することにより製造した。また、参考比較例7で用いた反応性ポリマーは、参考製造例B2で得られた反応性アクリル共重合ポリマー(P1−MOI)であり、参考比較例6で用いた反応性ポリマーは、参考製造例B2において原料化合物等を変更することにより製造した。
[ Reference Examples 13 and 14, Reference Comparative Examples 6 and 7]
(1) Preparation of curable composition and evaluation sample preparation Reactive polymer of the kind and amount shown in Table 4, and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (Ciba) as the photopolymerization initiator of the amount shown in Table 4 Specialty Chemicals Co., Ltd., Irgacure 184) was stirred and mixed at room temperature in 20 g of dichloromethane (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) to obtain a curable composition solution. The obtained curable composition solution was applied to a glass substrate (size 50 mm × 50 mm) so that the dry film thickness was about 200 μm, and the solvent was dried at 50 ° C. for 30 minutes to obtain an evaluation sample.
The reactive polymer used in Reference Example 14 is the reactive acrylic copolymer (P1-MPI) obtained in Reference Production Example A3 , and the reactive polymer used in Reference Example 13 is the Reference Production Example. It manufactured by changing a raw material compound etc. in A3 . The reactive polymer used in Reference Comparative Example 7 is the reactive acrylic copolymer (P1-MOI) obtained in Reference Production Example B2 , and the reactive polymer used in Reference Comparative Example 6 is a reference. Manufactured by changing raw material compounds and the like in Production Example B2 .
(2)反応性ポリマーの硬化性組成物に関する評価
<耐熱性>
(1)で得られた評価サンプルを、超高圧水銀ランプを組み込んだ露光装置で3J/cm2露光した。硬化した各サンプルについて、示差走査熱量計(セイコーインスツルメン
ト社製、EXSTAR6000)により分解温度を測定し耐熱性を比較した。結果を表5に示す。
(2) Evaluation of curable composition of reactive polymer <Heat resistance>
The evaluation sample obtained in (1) was exposed at 3 J / cm 2 with an exposure apparatus incorporating an ultrahigh pressure mercury lamp. About each hardened sample, the decomposition temperature was measured with the differential scanning calorimeter (The Seiko Instruments make, EXSTAR6000), and the heat resistance was compared. The results are shown in Table 5.
Claims (13)
(1)下記式(V)で表されるヒドロキシフェニルアミン化合物と塩酸とから、下記式(VI)で表されるヒドロキシフェニルアミノ塩酸塩化合物を得る工程;
(2)前記工程(1)で得られたヒドロキシフェニルアミノ塩酸塩化合物と、下記式(VII)で表される化合物とから、下記式(VIII)で表されるヒドロキシフェニルイソシアネート化合物を得る工程;
(3)前記工程(2)で得られたヒドロキシフェニルイソシアネート化合物と、下記式(IX)で表される化合物とから、下記式(X)で表されるイソシアネート基含有フェニルエステル化合物を得る工程;
(4)前記工程(3)で得られたイソシアネート基含有フェニルエステル化合物を、塩基性窒素化合物の存在下で脱塩化水素させる工程。 The manufacturing method of the (meth) acryloyl group containing aromatic isocyanate compound represented by following formula (I) characterized by including the following process (1)-(4):
(1) A step of obtaining a hydroxyphenylamino hydrochloride compound represented by the following formula (VI) from a hydroxyphenylamine compound represented by the following formula (V) and hydrochloric acid;
(2) A step of obtaining a hydroxyphenyl isocyanate compound represented by the following formula (VIII) from the hydroxyphenylamino hydrochloride compound obtained in the step (1) and a compound represented by the following formula (VII);
(3) A step of obtaining an isocyanate group-containing phenyl ester compound represented by the following formula (X) from the hydroxyphenyl isocyanate compound obtained in the step (2) and a compound represented by the following formula (IX);
(4) A step of dehydrochlorinating the isocyanate group-containing phenyl ester compound obtained in the step (3) in the presence of a basic nitrogen compound.
(1’)下記式(V)で表されるヒドロキシフェニルアミン化合物と塩酸とから、下記式(VI)で表されるヒドロキシフェニルアミノ塩酸塩化合物を得る工程;
(2’)前記工程(1’)で得られたヒドロキシフェニルアミノ塩酸塩化合物と、下記式(VII)で表される化合物とから、下記式(VIII)で表されるヒドロキシフェニルイソシアネート化合物を得る工程;
(3’)前記工程(2’)で得られたヒドロキシフェニルイソシアネート化合物と、下記式(XI)で表される化合物とを反応させる工程。
(1 ′) a step of obtaining a hydroxyphenylamino hydrochloride compound represented by the following formula (VI) from a hydroxyphenylamine compound represented by the following formula (V) and hydrochloric acid;
(2 ′) A hydroxyphenyl isocyanate compound represented by the following formula (VIII) is obtained from the hydroxyphenylamino hydrochloride compound obtained in the step (1 ′) and a compound represented by the following formula (VII). Process;
(3 ′) A step of reacting the hydroxyphenyl isocyanate compound obtained in the step (2 ′) with a compound represented by the following formula (XI).
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