JP5042626B2 - ベンズイミダゾール誘導体:製造及び医薬適用 - Google Patents
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Description
本発明は、ヒストンデアセチラーゼ阻害剤であるヒドロキサメート化合物に関する。より詳細には、本発明は、ベンズイミダゾール含有化合物及びその製造方法に関する。これらの化合物は、増殖性障害、及び、ヒストンデアセチラーゼ(HDAC)の調節不全を伴うか、調節不全に関連するか又は付随する他の疾患の治療用医薬として有用でありうる。
局所クロマチン構造は、遺伝子発現の調節における重要な要素として一般に認識されている。タンパク質−DNA複合体であるクロマチンの構造は、タンパク質成分であるヒストンの翻訳後修飾に強く影響される。ヒストンの可逆的アセチル化は、転写因子のDNAへの接近可能性を変えることによる遺伝子発現の調節の主要因子である。一般的に、ヒストンアセチル化のレベルの増加は転写活性の増加と関連しているのに対し、アセチル化のレベルの減少は遺伝子発現の抑制と関連している[Wadem P.A. Hum.Mol.Genet.10,693−698(2001)、De Ruijter A.J.M.ら,Biochem.J.,370,737−749(2003)]。正常細胞においては、ヒストンデアセチラーゼ(HDAC)とヒストンアセチルトランスフェラ−ゼは、バランスを維持するため、共にヒストンのアセチル化のレベルを制御している。HDACの阻害は、アセチル化ヒストンの蓄積をもたらし、これは、アポトーシス、ネクロ−シス、分化、細胞生存、増殖及び細胞分裂の阻害など、様々な細胞型依存性細胞応答をもたらす。
R1は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ(cycloalkylkoxy)、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ(alkoxyalky)、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよいか、
又はR1=Lであり、
R2は、H、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−COR5、−C(O)OR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよいか、
又はR2=Lであり、
R3は、H、C1−C6アルキル及びアシルからなる群から選択されるか、又は、ナトリウム、カルシウム、マグネシウムから選択される金属イオンであり、
X及びYは同一であるか又は異なっており、H、ハロゲン、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6、アシル及び−NR7R8からなる群から独立して選択され、
R4は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から選択され、
各R5は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R6は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R7及びR8は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群からそれぞれ独立して選択され、
Lは、
a)L=Cy−L1−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1は、C1−C5アルキルからなる群から選択され、これは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
b) L=Cy−L1−W−L2
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR 6 、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、独立してC1−C5アルキルであり、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
c) L=Cy−(CH2)m−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
mは0、1、2、3、4又は5であり、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
d) L=L1−W−L2
(L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、C1−C5アルキルから独立して選択され、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ、アルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
からなる群から選択され、
R9及びR10は、同一であるか又は異なっており、H、C1−C6アルキル、C4−C9シクロアルキル、C4−C9ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
Zは単結合であるか、又は、非置換の又はC1−C4アルキルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されている、−CH2−、−CH2CH2−、−CH=CH−、C3−C6シクロアルキルから選択される。)
又はその医薬的に許容される塩である。
R1は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されていてもよいか、
又はR1=Lであり、
R2は、H、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−COR5、−C(O)OR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されていてもよいか、
又はR2=Lであり、
R3は、H、C1−C6アルキル及びアシルからなる群から選択されるか、又は、ナトリウム、カルシウム、マグネシウムから選択される金属イオンであり、
X及びYは、同一であるか又は異なっており、H、ハロゲン、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6、アシル及び−NR7R8からなる群から独立して選択され、
各R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R6は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R7及びR8は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群からそれぞれ独立して選択され、
Lは、
a) L=Cy−L1−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1は、C1−C5アルキルからなる群から選択され、これは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択され、
b) L=Cy−L1−W−L2
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、独立してC1−C5アルキルであり、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択され、
c) L=Cy−(CH2)m−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
mは0、1、2、3、4又は5であり、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択され、
d) L=L1−W−L2
(L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、C1−C5アルキルから独立して選択され、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ、アルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
からなる群から選択され、
R9及びR10は、同一であるか又は異なっており、H、C1−C6アルキル、C4−C9シクロアルキル、C4−C9ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルから独立して選択され、
Zは、非置換の又はC1−C4アルキルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されている、−CH2−、−CH2CH2−、−CH=CH−、C3−C6シクロアルキルから選択される。)
又はその医薬的に許容される塩である。
R1は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されていてもよいか、
又はR1=Lであり、
R2は、H、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−COR5、−C(O)OR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されていてもよいか、
又はR2=Lであり、
X及びYは、同一であるか又は異なっており、H、ハロゲン、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、アシル及び−NR7R8からなる群から独立して選択され、
各R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R6は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R7及びR8は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群からそれぞれ独立して選択され、
Lは、
a) L=Cy−L1−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1は、C1−C5アルキルからなる群から選択され、これは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択され、
b) L=Cy−L1−W−L2
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、独立してC1−C5アルキルであり、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
c)L=Cy−(CH2)m−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
mは、0、1、2、3、4又は5であり、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択され、
d) L=L1−W−L2
(L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、C1−C5アルキルから独立して選択され、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ、アルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
からなる群から選択され、
R9及びR10は、同一であるか又は異なっており、H、C1−C6アルキル、C4−C9シクロアルキル、C4−C9ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルから独立して選択され、
Zは、非置換の又はC1−C4アルキルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されている、−CH2−、−CH2CH2−、−CH=CH−、C3−C6シクロアルキルから選択される。)
又はその医薬的に許容される塩である。
Yは、最も好ましくはHであり、
X及びYは、最も好ましくは芳香環の4及び7位にある。
R4は、好ましくは、H又はC1−C4アルキル、最も好ましくは、Hであり、
R5は、好ましくは、C1−C4アルキル、ヘテロアルキル又はアシル、最も好ましくは、メチルであり、
R6は、好ましくは、C1−C4アルキル、ヘテロアルキル又はアシル、最も好ましくは、C1−C4アルキルであり、
R7及びR8は、好ましくは、H、C1−C6アルキル、C4−C9シクロアルキル、C4−C9ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル及びヘテロアリールアルキルからなる群から選択される。
a)ヒストンデアセチラーゼ阻害剤で処理された細胞を提供する工程と、
b)請求項32〜35のいずれか1項に記載の方法によって、細胞中のアセチル化ヒストン濃度を測定する工程と、
c)該アセチル化ヒストン濃度と、コントロールサンプルのアセチル化ヒストン濃度とを比較する工程と
を含む。
a)ヒストンデアセチラーゼ阻害剤で処理された被験体から生物学的サンプルを得る工程と、
b)上記の発明に従った方法によって、生物学的サンプル中のアセチル化ヒストン濃度を測定する工程と、
c)該アセチル化ヒストン濃度と、コントロールサンプルのアセチル化ヒストン濃度とを比較する工程と
を含む。
ヒストンアセチラーゼ阻害剤を含むがこれに限定されないデアセチラーゼ阻害剤でありうるヒドロキサメート化合物(例えば、置換基の一つにヒドロキサム酸を含むベンズイミダゾール)が開示される。該ヒドロキサメート化合物は、単独で又は医薬的に許容される担体、希釈剤又は賦形剤と共に使用されるとき、細胞増殖及び/又は血管新生の混乱によって起こるか、これと関連するか又はこれを伴う障害の予防又は治療に適切でありうる。そのような障害の例は、癌である。
R1は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよいか、
又はR1=Lであり、
R2は、H、ハロゲン、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルケニル、シクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキルヘテロアルキル、ヘテロアリールヘテロアルキル、アリールヘテロアルキル、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルコキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アミノアルキル、アシルアミノ、アリールアミノ、フェノキシ、ベンジルオキシ、COOH、アルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、スルホニル、アルキルスルホニル、アルキルスルフィニル、アリールスルホニル、アリールスルフィニル、アミノスルホニル、SR6及びアシルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−COR5、−C(O)OR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよいか、
又はR2=Lであり、
R3は、H、C1−C6アルキル及びアシルからなる群から選択されるか、又は、ナトリウム、カルシウム、マグネシウムから選択される金属イオンであり、
X及びYは、同一であるか又は異なっており、H、ハロゲン、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、アシル及び−NR7R8からなる群から独立して選択され、
R4は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から選択され、
各R5は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R6は、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群から独立して選択され、
各R7及びR8は、H、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルからなる群からそれぞれ独立して選択され、
Lは、
a) L=Cy−L1−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR5、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1は、C1−C5アルキルからなる群から選択され、これは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
b) L=Cy−L1−W−L2
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、−C(O)OR6、−COR5、−SH、−SR 6 、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、独立してC1−C5アルキルであり、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ及びアルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
c) L=Cy−(CH2)m−W−
(式中、
Cyは、C1−C15アルキル、アミノアルキル、ヘテロシクロアルキル、シクロアルキル、アリール、アリールオキシ又はヘテロアリールであり、これらのいずれも、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルキニル、ヘテロアルキル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、ヒドロキシアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルコキシアリール、アルコキシヘテロアリール、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、ヘテロシクロアルキルオキシ、ヘテロシクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル、アリールアルキルオキシ、アミノ、アルキルアミノ、アシルアミノ、アミノアルキル、アリールアミノ、スルホニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、アミノアルキル、アルコキシアルキ、−COOH、C(O)OR6、−COR5、−SH、−SR6、−OR6及びアシルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
mは0、1、2、3、4又は5であり、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
d) L=L1−W−L2
(L1及びL2は、同一であるか又は異なっており、C1−C5アルキルから独立して選択され、これらは、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、アルキル、アルコキシ、アシルアミノ、アルキルアミノからなる群から独立して選択される一以上の置換基で必要に応じ置換されていてもよく、
Wは、単結合、−O−、−S−、−S(O)−、−S(O)2−、−N(R9)−、−C(O)N(R9)−、−SO2N(R9)−、N(R9)C(O)−、N(R9)SO2−及び−N(R9)−C(O)−N(R10)−からなる群から選択される。)
からなる群から選択され、
R9及びR10は、同一であるか又は異なっており、H、C1−C6アルキル、C4−C9シクロアルキル、C4−C9ヘテロシクロアルキル、アリール、ヘテロアリール、アリールアルキル、ヘテロアリールアルキル及びアシルから独立して選択され、
Zは単結合であるか、又は、非置換の又はC1−C4アルキルからなる群から独立して選択される一以上の置換基で置換されている、−CH2−、−CH2CH2−、−CH=CH−及びC3−C6シクロアルキルから選択される。)
又はその医薬的に許容される塩である。
デアセチラーゼ阻害剤の合成
スキームIは、式Ibの化合物を製造するために用いられる手順を説明しており、式中X及びYは水素であり、式Iaの化合物(VI)は、例えば、適切な出発物質の選択により、類似の手順により製造されうる。例えば、Zが−CH=CH−であり、式Ib中のC5−位に結合されていた場合、そのような化合物(単数又は複数)は、置換された桂皮酸(例えば、トランス−3−ニトロ−4−クロロ−桂皮酸)、適切なアミン成分(R1NH2)、アルデヒド又はカルボン酸成分(R2CHO又はR2COOH)、及び適切なヒドロキシルアミン又はN−アルキルヒドロキシルアミン(NHR3OH、ここで、R3は式Ia中で上記のように定義される)から出発する、スキームIに説明されている類似の方法により合成されうる。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(1)の製造
工程1
ジオキサン中のトランス−4−クロロ−3−ニトロ桂皮酸(1.0g,4.4mmol)の事前攪拌溶液に、トリエチルアミン(2mL)、3−アミノ−1−プロパノール(1.5mL)を加えた。得られた溶液を85℃で19時間加熱し、その後室温まで冷却した。溶媒を真空下で除去した。水(100mL)を残渣に加え、pHを1〜1.5に調整した。析出物を回収し、冷水で2回洗浄し、乾燥した。生成物3−[3−ニトロ−4−(ヒドロキシプロピルアミン)−フェニル]−アクリル酸を黄色固体として得た(1.10g,95%)。MS(m/z):267(MH)+。
工程2
濃硫酸(0.5mL)を、トランス−4−(3−ヒドロキシプロピルアミン)−3−ニトロ桂皮酸(1.10g,3.9mmol)及びMeOH(15mL)の溶液に加えた。得られた溶液を、18時間加熱還流した。反応混合物を、−10°〜−15℃で3時間冷却した。3−[3−ニトロ−4−(ヒドロキシプロピルアミン)−フェニル]−アクリル酸メチルエステルを結晶性黄色固体として回収した(1.06g,91%)。MS(m/z):281(MH)+。
工程3
氷酢酸(5mL)中の、メチル トランス−4−(3−ヒドロキシプロピルアミン)−3−ニトロ桂皮酸(280mg,1.0mmol)及び3−フェニルブチルアルデヒド(500mg,3.4mmol)の事前攪拌溶液に、塩化スズを加えた(1.18g,10.0mmol)。得られた溶液を、45℃で17時間加熱し、その後室温まで冷却した。溶媒を真空下で除去した。水(20mL)及びジクロロメタン(20mL)を残渣に加え、30分間攪拌した。有機層を乾燥し(MgSO4)、濾過し、油状残渣まで濃縮した。100mLジエチルエーテルを加え、4時間攪拌した。生成物3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステルを、34.9%の収率(132.0mg)で得た。MS(m/z):379(MH)+。
工程4
ナトリウムメトキシド(メタノール中30%)(782mg,4.1mmol)を、MeOH(1.5mL)中の、3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステル(130mg,0.34mmol及びヒドロキシルアミン塩酸塩(242mg,3.4mmolの事前攪拌溶液に加えた。反応混合物を継続して室温で40分間攪拌し、その後1.0mL濃塩酸を含んだ氷水溶液中に注いだ。混合物をジクロロメタンで抽出した。有機層を乾燥し(MgSO4)、濾過し濃縮した。所望の生成物を逆相分取HPLCで分離した。凍結乾燥後、7.8mg(6%)のN−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミドを粉末として得た。HPLC:96%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.22分;92%。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.35(3H,d,J=6.5Hz),1.83(2H,m),3.00−4.00(6H,m),4.33(2H,t,J=7.1Hz),6.55(1H,d,J=15.8Hz),7.19−7.33(5H,m),7.62(1H,d,J=15.8Hz),7.70(1H,d,J=8.60Hz),7.82(1H,d,J=8.60Hz),7.92(1H,s),10.15(1H,bs),10.33(1H,bs)。MS(m/z):380[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3,4,5−トリメトキシベンジル)−2−(2−フェニル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(2)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(2)を製造した。HPLC:91%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.22分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.08(2H,t,J=7.72Hz),3.48(2H,t,7.72Hz),3.63(3H,s),3.67(6H,s),5.58(2H,s),6.59(2H,s),7.22−7.31(7H,m),7.63(1H,d,J=15.78Hz),7.71(1H,d,J=8.76Hz),7.83(1H,d,J=8.76Hz),7.98(1H,s),11.00(2H,bs)。MS(m/z):488[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−(4−ベンジルオキシ−3−メトキシ−フェニル)−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(3)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(3)を製造した。HPLC:92%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.32分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.87(3H,s),4.01(3H,s),5.24(2H,s),6.56(1H,d=15.80Hz),7.32−7.50(8H,m),7.74(1H,d,J=8.72Hz),7.88(1H,d,J=8.72Hz),7.94(1H,s),10.85(1H,bs)。MS(m/z):431[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−(4−ベンジルオキシ−3−メトキシ−フェニル)−1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(4)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(4)を製造した。HPLC:95%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.82分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.96(2H,m),3.88(3H,s),4.48(2H,t,J=7.12Hz),5.24(2H,s),6.56(1H,d,J=15.76Hz),7.32−7.50(8H,m),7.65(1H,d,J=15.76Hz),7.74(1H,d,J=8.60Hz),7.91(1H,d,J=8.60Hz),7.95(1H,s),10.85(1H,bs)。MS(m/z):474[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2−ヒドロキシ−エチル)−2−(4−メトキシ−フェニル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(5)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(5)を製造した。HPLC:98%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):4.12分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.80(2H,t,J=5.36Hz),3.87(3H,s),4.39(2H,t,J=5.36Hz),6.56(1H,d,15.72Hz),7.17(2H,d,J=8.88Hz),7.61(1H,d,J=8.52Hz),7.62(1H,d,J=15.72Hz),7.78(1H,d,J=8.52Hz),7.88(1H,d,J=8.88Hz),7.90(1H,s),10.77(1H,bs)。MS(m/z):354[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2,3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(4−メトキシ−フェニル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(6)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(6)を製造した。HPLC:98%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.39分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.90(3H,s),4.01(1H,m),4.35(2H,m),4.58(2H,dd,J=2.48及び14.48Hz),6.62(1H,d,J=15.84Hz),7.27(2H,d,J=8.92Hz),7.68(1H,d,J=15.84Hz),8.01(4H,m),10.13(1H,bs)。MS(m/z):383[M]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−(4−ベンジルオキシ−3−メトキシ−フェニル)−1−(2,3−ヒドロキシ−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(7)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(7)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.06分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ4.04−4.38(3H,m),4.05(3H,s),4.49(2H,m),5.22(2H,s),6.55(1H,d,J=15.72Hz),7.29−7.94(11H,m),8.01(1H,s)。MS(m/z):490[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2,3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−ピリジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(9)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(9)を製造した。HPLC:93.7%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.61分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.20−3.37(4H,m),3.90(1H,m),4.90−4.95(2H,m),6.54(1H,d,J=15.52Hz),7.98(1H,s),8.04(1H,m),8.27(1H,m),9.73(1H,d,J=8.0Hz)。MS(m/z):355[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2−ヒドロキシ−エチル)−2−(4−ピリジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(10)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(10)を製造した。HPLC:97%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.14分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.78(2H,t,J=5.80Hz),4.43(2H,t,J=5.80Hz),6.50(1H,d,J=15.80Hz),7.82(2H,d,J=8.56Hz),7.94(1H,s),8.00(2H,d,J=5.97Hz),8.81(2H,d,J=5.97Hz)。MS(m/z):325[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(4−ピリジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(11)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(11)を製造した。HPLC:98.2%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.61分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.91(2H,m),3.37(2H,t,J=5.84Hz),4.49(2H,t,J=7.84Hz),6.54(1H,d,J=15.52Hz),7.98(1H,s),8.06(2H,d,J=6.26Hz),8.90(2H,d,J=626Hz)。MS(m/z):339[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ピリジルメチル)−2−(2−フェニル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(12)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(12)を製造した。HPLC:97.9%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.32分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.11(2H,t,J=8.40Hz),5.71(2H,s),6.51(1H,d,J=15.80Hz),7.20−7.31(6H,m),7.43(1H,m),7.40−7.57(4H,m),7.94(1H,s),8.57(1H,s)。MS(m/z):399[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−(2−ピリジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(13)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(13)を製造した。HPLC:98.3%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.37分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.98(2H,m),3.30(2H,m),4.86(2H,t,J=7.00Hz),6.51(1H,d,J=15.76Hz),7.77(2H,d,J=8.56Hz),7.94(1H,s),8.05(1H,m),8.30(1H,d,J=7.92Hz),8.78(1H,d,J=4.28Hz)。MS(m/z):339[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(14)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(14)を製造した。HPLC:97.3%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.63分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.87(2H,m),3.18(2,t,J=7.40Hz),4.41(2H,t,J=7.0Hz),6.57(1H,d,J=17.60Hz),7.15(5H,m),7.64(1,d,J=17.60Hz),7.89(1H,d,J=8.64Hz),7.95(1H,s)。MS(m/z):366[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−フェネチル−1−(ピリジン−2−イル)メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(16)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(16)を製造した。HPLC:99.7%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.11分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.31(2H,t,J=7.56Hz),5.81(2H,s),6.57(1H,d,J=17.60Hz),7.20−7.36(6H,m),7.52(1H,m),7.64(1H,d,J=17.60Hz),7.68(1H,d,J=8.48Hz),7.77(1H,d,J=8.48Hz),7.87(1H,m),8.44(1H,d,J=3.92Hz)。MS(m/z):399[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(17)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(17)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.13分。NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.08(6H,s),2.89(6H,s),4.30(2H,s),6.54(1H,d,J=15.80Hz),7.03(1H,s),7.16(1H,s),7.22−7.32(6H,m),7.65(1H,d,J=15.80Hz),7.91(1H,s)。MS(m/z):421[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−ベンジルオキシメチル−1−(3−ヒドロキシ−プロピル−1H−ベンズイミダゾール−5イル]−アクリルアミド(19)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(19)を製造した。HPLC:98.6%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):4.50分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.94(2H,m),3.43(2H,t,J=5.8Hz),4.42(2H,t,J=7.2Hz),4.67(2H,s),4.97(2H,s),6.53(1H,d,J=15.8Hz),7.38(5H,m),7.63(1H,d,J=15.8Hz),7.67(1H,d,J=9.1Hz),7.80(1H,d,J=8.6Hz),7.90(1H,s),10.77(1H,bs)。MS(m/z):382[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−チオフェン−3−イル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(20)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(20)を製造した。HPLC:97.9%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.06分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.98(2H,m),3.49(2H,t,J=5.8Hz),4.56(2H,t,J=7.2Hz),6.56(1H,d,J=15.8Hz),7.65(1H,d,J=15.8Hz),7.69(1H,d,J=8.7Hz),7.75(1H,dd,J=5.1Hz,1.2Hz),7.89(2H,m),7.93(1H,s),8.42(1H,dd,J=2.6Hz),10.90(1H,bs);。MS(m/z):344[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(21)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(21)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.14分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.01(6H,d,J=6.6Hz),1.94(2H,m),2.28(1H,m),3.04(2H,d,J=7.4Hz),3.47(2H,t,J=5.8Hz),4.46(2H,t,J=7.1Hz),6.56(1H,d,J=15.8Hz),7.65(1H,d,J=15.8Hz),7.73(1H,d,J=8.6Hz),7.89(1H,d,J=8.6Hz),7.94(1H,s)。MS(m/z):318[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−オクチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(23)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(23)を製造した。HPLC:99.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.38分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ0.86(3H,t,J=6.8Hz),1.32(10H,m),1.83(2H,m),1.94(2H,m),3.12(2H,t,J=7.7Hz),3.46(2H,t,J=5.8Hz),4.44(2H,t,J=7.0Hz),6.56(1H,d,J=15.8Hz),7.64(1H,d,J=15.8Hz),7.71(1H,d,J=8.6Hz),7.87(1H,d,J=8.6Hz),7.92(1H,s)。MS(m/z):374[MH]+。
N−ヒドロキシ−[2−シクロヘキシル−1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(24)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(24)を製造した。HPLC:98.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.38分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.28−2.03(12H,m),3.33(1H,m),3.47(2H,t,J=5.7Hz),4.51(2H,t,J=6.9Hz),6.58(1H,d,J=15.8Hz),7.65(1H,d,J=15.8Hz),7.76(1H,d,J=8.6Hz),7.92(1H,d,J=8.7Hz),7.93(1H,s),10.85(1H,bs)。MS(m/z):344[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−イソブチル−1−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(25)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(25)を製造した。HPLC:99.1%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.51分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ0.90(6H,d,J=6.6Hz),2.10(1H,m),2.70(2H,d,J=7.3Hz),3.11(2H,t,J=7.0Hz),4.66(2H,t,J=7.0Hz),6.57(1H,d,J=15.8Hz),7.14(2H,m),7.26(3H,m),7.64(1H,d,J=15.8Hz),7.70(1H,d,J=8.8Hz),7.86(1H,d,J=8.6Hz),7.92(1H,s);13C NMR(100MHz,DMSO−d6)δ22.0,26.9,33.3,34.5,45.8,113.0,114.3,119.7,123.7,126.9,128.5,129.0,132.2,132.7,137.2,137.8,154.4,162.5。MS(m/z):364[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1,2−ジフェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(26)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(26)を製造した。HPLC:98.3%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.68分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.99(4H,m),3.09(2H,m),4.59(2H,t,J=6.9Hz),6.56(1H,d,J=15.8Hz),7.07(2H,m),7.23(6H,m),7.31(2H,m),7.64(1H,d,J=15.5Hz),7.66(1H,d,J=7.2Hz),7.78(1H,d,J=8.6Hz),7.92(1H,s);13C NMR(100MHz,DMSO−d6)δ27.0,31.9,34.5,45.6,112.7,114.7,119.4,123.5,126.5,126.9,128.3,128.5,129.0,131.8,133.0,137.3,138.0,139.5,154.6,162.6。MS(m/z):412[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−フェネチル−1−(2−ピリジン−3−イル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(27)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(27)を製造した。HPLC:99.9%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.42分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.10(4H,m),3.28(2H,t),4.63(2H,t),6.53(1H,d),7.22−7.33(7H,m),7.54−7.74(4H,m),8.55(2H,d),10.88(1H,bs)。MS(m/z):413[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−プロピオンアミド(29)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(29)を製造した。HPLC:99.6%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.88分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.00(6H,d,J=6.4Hz),2.06(2H,m),2.27(1H,m),2.42(2H,t,J=7.6Hz),3.05−3.11(4H,m),3.57(2H,t,J=6.0Hz),4.52(2H,t,J=7.2Hz),7.45(1H,d,J=8.0Hz),7.56(1H,s),7.78(1H,d,J=8.0Hz);13C NMR(100MHz,MeOD)δ20.6(2C),27.2,30.4,30.6,32.7,33.5,41.5,57.0,112.0,112.3,112.4,126.3,129.9,139.6,152.3,169.4。MS(m/z):320[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−{1−[3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル]−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(30)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(30)を製造した。HPLC:99.7%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.88分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.84(4H,m),3.14−3.41(8H,m),4.29(2H,t,J=7.04Hz),6.54(1H,d,J=15.76Hz),7.21−7.33(5H,m),7.62(1H,d,J=15.76Hz),7.71(1H,d,J=8.36Hz),7.84(1H,d,J=8.36Hz),7.93(1H,s)。MS(m/z):433[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−モルホリン−4−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(31)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(31)を製造した。HPLC:99.7%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.16分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.12(2H,m),3.11(6H,m),3.39(2H,t,J=7.44Hz),4.39(2H,t,J=7.01Hz),6.56(1H,d,J=15.8Hz),7.23−7.33(5H,m),7.62(1H,d,J=15.8Hz),7.71(1H,d,J=8.60Hz),7.85(1H,d,J=8.60Hz),7.95(1H,s)。MS(m/z):435[MH]+。
3−[5−(2−ヒドロカルバモイル−ビニル)−2−フェネチル−ベンズイミダゾール−1−イル]−プロピオン酸(32)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(32)を製造した。HPLC:95.6%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.55分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.74(2H,t,J=6.68Hz),4.49(2H,t,J=6.68Hz),3.16(2H,t,J=7.44Hz),6.52(1H,d,J=15.76Hz),7.22−7.33(5H,m),7.62(1H,d,J=15.76Hz),7.66(1H,d,J=8.56Hz),7.82(1H,d,J=8.56Hz),7.89(1H,s),11.00(1H,s)
MS(m/z):380[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−ベンジル−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(33)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(33)を製造した。HPLC:99.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):7.82分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.08(2H,t,J=7.4Hz),3.34(2H,t,J=7.5Hz),5.62(2H,s),6.50(1H,d,J=15.8Hz),7.14(2H,m),7.30(8H,m),7.63(3H,m),7.92(1H,s),10.78(1H,br);13C NMR(100MHz,DMSO−d6)δ27.8,32.2,46.8,112.1,115.9,118.6,123.0,126.4,126.8,127.9,128.3,128.4,128.9,131.0,134.4,135.7,138.4,139.9,155.3,162.7。MS(m/z):398[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−ベンジル−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(34)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(34)を製造した。HPLC:89.2%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.07分。1H NMR(400MHz,CDCl3)δ0.92(6H,d,J=6.6Hz),2.13(1H,m),3.02(2H,d,J=7.4Hz),5.72(2H,s),6.54(1H,d,J=15.8Hz),7.21(2H,m),7.35(3H,m),7.66(3H,m),7.96(1H,s);13C NMR(100MHz,CDCl3)δ22.0,27.2,34.0,47.2,112.8,114.9,119.4,123.7,126.8,128.0,128.9,131.9,133.6,135.3,138.0,155.0,162.6。MS(m/z):350[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−ベンジル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(35)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(35)を製造した。HPLC:97.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.69分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ5.68(2H,s),6.54(1H,d,J=15.7Hz),7.37(5H,m),7.66(1H,d,J=15.8Hz),7.75(2H,s),7.94(1H,s),9.36(1H,br);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ51.7,114.8,116.1,120.6,126.5,129.2,130.2,130.4,135.0,135.3,140.1,165.6。MS(m/z):294[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−フェネチル−1−プロピル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(36)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(36)を製造した。HPLC:93.9%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.05分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ0.90(3H,t,J=7.4Hz),1.70(2H,m),3.20(2H,m),3.48(2H,t,J=7.1Hz),4.21(2H,t,J=7.4Hz),6.54(1H,d,J=15.7Hz),7.20(5H,m),7.65(1H,d,J=15.7Hz),7.75(1H,d,J=8.8Hz),7.79(1H,d,J=8.6Hz),7.84(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ11.2,23.6,28.7,34.0,47.7,114.4,114.6,120.5,126.3,128.3,129.5,130.0,132.7,134.0,135.2,139.9,140.1,155.5,165.6。MS(m/z):350[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−プロピル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(37)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(37)を製造した。HPLC:95.2%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.92分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ0.97(3H,t,J=7.4Hz),1.98(2H,m),4.42(2H,t,J=7.3Hz),6.55(1H,d,J=15.8Hz),7.68(1H,d,J=15.8Hz),7.79(1H,d,J=8.7Hz),7.88(1H,d,J=8.7Hz),7.92(1H,s),9.24(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3CD)δ11.1,23.8,48.4,114.3,116.1,120.3,126.4,133.8,134.9,135.0,140.3,143.5,165.7。MS(m/z):246[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−エチル−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(38)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(38)を製造した。HPLC:99.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):5.06分。1H NMR:(400MHz,CD3OD)δ1.37(3H,t,J=7.3Hz),3.26(2H,t,J=7.6Hz),3.53(2H,t,J=7.5Hz),4.78(2H,dd,J=7.3Hz),6.60(1H,d,J=15.8Hz),7.21−7.31(5H,m),7.72(1H,d,J=15.8Hz),7.83−7.89(3H,m)。MS(m/z):336[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−エチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル}−アクリルアミド(39)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(39)を製造した。HPLC:99.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.86分。1H NMR:(400MHz,CD3OD)δ1.64(3H,t,J=7.3Hz),4.55(2H,dd,J=7.3Hz),6.61(1H,d,J=15.8Hz),7.72(1H,d,J=15.8Hz),7.86−7.97(3H,m),9.38(1H,s)。MS(m/z):232[MH]+。
1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−カルボン酸ヒドロキシアミド(40)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(40)を製造した。HPLC:96.0%。1H NMR(400MHz,CD3OD,δ):1.88(2H,m),3.16(2H,t,J=7.2Hz),3.46(4H,m),4.34(2H,t,J=7.2Hz),7.12−7.21(5H,m),7.82(2H,m),8.05(1H,s)。MS(m/z):340[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2−ピリジン−2−イル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(42)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(42)を製造した。HPLC:98.4%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.05分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.43(2H,t),4.84(2H,t),6.53(1H,d),7.41(2H,m),7.64(2H,m),7.77−7.95(4H,m),8.56(1H,s),9.16(1H,s)。MS(m/z):309[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−エチル−2−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(43)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(43)を製造した。HPLC:96.5%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.52分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.38(3H,t),2.85(3H,s),4.42(2H,t),6.58(1H,d),7.31(1H,m),7.50(1H.d),7.88(2H,m),10.31(1H,bs),11.18(1H,bs)。MS(m/z):246[MH]+。
N−ヒドロキシ−3[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(47)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(47)を製造した。HPLC:>99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.02分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ2.12(2H,m),3.58(2H,t,J=5.7Hz),4.57(2H,t,J=6.9Hz),6.55(1H,d,J=15.8Hz),7.67(1H,d,J=15.8Hz),7.79(1H,d,J=8.7Hz),7.89(1H,d,J=8.9Hz),7.92(1H,s),9.22(1H,s);13C NMR(100MHz,MeOD)δ32.7,45.3,59.2,114.3,116.1,120.3,126.4,135.0,140.3,143.8,165.7。MS(m/z):262[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−メチル−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(48)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(48)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):4.53分。1H NMR:(400MHz,CD3OD)δ3.18(2H,t,J=7.5Hz),3.47(2H,t,J=7.4Hz),3.76(3H,s),6.54(1H,d,J=15.8Hz),7.10−7.26(5H,m),7.65(1H,d,J=15.8Hz),7.75−7.82(3H,m)。MS(m/z):322[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(50)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(50)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):4.36分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.16(2H,t,J=7.5Hz),3.36(2H,t,J=7.9Hz),6.53(1H,d,J=15.8Hz),7.17−7.29(5H,m),7.58(1H,d,J=15.8Hz),7.66−7.87(3H,m)。MS(m/z):308[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(51)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(51)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):0.99分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ6.62(1H,d,J=15.8Hz),7.74(1H,d,J=15.8Hz),7.85−7.99(3H,m),9.32(1H,s)。MS(m/z):204[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−メチル−2−(3−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(52)の製造
工程1
40mLメタノール及び10mL氷酢酸中の、メチル トランス−4−(メチルアミン)−3−ニトロシナメ−ト(1.0g、4.0mmol;実施例1に記載したように製造)の事前攪拌溶液に、塩化スズ(3.0g、16.0mmol)を加えた。得られた溶液を55℃まで24時間加熱し、その後室温まで冷却した。溶媒を除去し、混合物を炭酸水素ナトリウムでpH=8に中和した。粗生成物をジクロロメタン(20mL)で3回抽出した。有機抽出液を合わせて、水(10mL)で2回及びブライン(10mL)で1回洗浄し、さらにNa2SO4で1時間乾燥し、濾過し濃縮した。生成物メチル トランス−4−(メチルアミン)−3−アミノシナメ−トを、82.5%の収率(726mg)で得た。MS(m/s):207[MH]+。
工程2
4−フェニル酪酸(68mg、0.41mmol)、メチル トランス−4−(メチルアミン)−3−アミノシナメ−ト(85mg、0.40mmol)及びPyBOP(236mg、0.46mmol)を、25mL丸底フラスコ中で、10mLの乾燥ジクロロメタンと混合した。得られた混合物を、窒素雰囲気下で5分間攪拌した。DIEA(288uL、1.62mmol)を注入し、得られた混合物を室温でさらに4時間攪拌した。反応の進行は、TLCでモニターした。カラムクロマトグラフィ−を用いた精製の後、結合生成物、3−{3−アミノ−4−[メチル−(4−フェニル−ブチリル)アミノ]−フェニル}−アクリル酸メチルエステル及び3−[4−メチルアミノ−3−(4−フェニル−ブチリルアミノ)−フェニル]−アクリル酸メチルエステルを得た(110mg 78%)。(溶媒系:酢酸エチル:ヘキサン=1:1)MS(m/z):353[MH]+。
工程3
上記結合生成物(59mg、0.17mmol)を5mLの氷酢酸と共に、70℃で4時間加熱した。室温まで冷却後、真空下で氷酢酸を除去することにより、純粋生成物3−[1−メチル−2−(3−フェニル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステルを、定量的に得た。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.14(2H,m),2.75(2H,t),3.14(2H,t),3.95(3H,s),6.58(1H,d),7.16−7.30(5H,m),7.65(1H,d),7.72(1H,d),7.90(2H,m)。MS(m/z):335[MH]+。
工程4
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載したヒドロキサム酸の製造手順に従って表題化合物(52)を製造した。HPLC:99.8%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):5.01分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.14(2H,m),2.75(2H,t),3.14(2H,t),3.95(3H,s),6.58(1H,d),7.16−7.30(5H,m),7.65(1H,d),7.72(1H,d),7.90(2H,m),10.89(1H,bs)。MS(m/z):336[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−イミダゾール−1−イル−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(56)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(56)を製造した。HPLC:98.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.50分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ2.20(2H,m),3.19(2H,m),3.39(2H,t,J=7.6Hz),4.28(4H,t,J=7.6Hz),6.52(1H,d,J=16.0Hz),7.17(5H,m),7.52(1H,t,J=1.5Hz),7.58(1H,t,J=1.6Hz),7.65(1H,d,J=16.0Hz),7.68(2H,s),7.85(1H,s),8.84(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ29.3,30.7,34.4,42.4,47.6,113.0,116.2,119.2,121.6,123.1,125.7,128.0,129.6,129.9,133.7,135.1,136.6,137.2,140.7,140.9,156.5,166.0。MS(m/z):416[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(4−ジメチルアミノ−ブチル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(57)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(57)を製造した。HPLC:97.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.70分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ1.71(4H,m),2.82(6H,s),3.05(2H,t,J=7.1Hz),3.21(2H,t,J=7.6Hz),3.44(2H,t,J=7.5Hz),4.27(2H,t,J=7.5Hz),6.53(1H,d,J=16.0Hz),7.20(5H,m),7.65(1H,d,J=16.0Hz),7.73(2H,m),7.85(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ22.8,27.3,29.1,34.2,43.5,45.1,58.3,113.5,115.6,119.6,125.9,128.1,129.5,130.0,134.2,134.7,140.4,140.6,156.2,162.7,165.9。MS(m/z):407[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(29)の製造
工程1
10mLのMeOH中の、3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステル(実施例1、工程1〜3に従って製造)(126.6mg、0.4mmol)及び10%Pd/C(40mg)を、水素バルーンを用いて、一晩水素化した。ショートカラムシリカゲルを通じて濾過した後、濾液を減圧下で蒸発させ、3−[1−(3−ヒドロキシ−プロピル)−2−イソブチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−プロピオン酸メチルエステル(127mg)を定量的な収率で得た:MS m/s(M+H)+:319;1H NMR(400MHz,MeOD)δ0.95(6H,d,J=6.4Hz),1.92(2H,m),2.19(1H,m),2.60(2H,t,J=8.0Hz),2.74(2H,d,J=7.2Hz),2.96(2H,t,J=7.6Hz),3.50(2H,t,J=4.1Hz),3.54(3H,s),4.25(2H,t,J=7.2Hz),7.05(1H,d,J=8.0Hz),7.30−7.40(2H,m);13C NMR(100MHz,MeOD)δ20.9(2C),27.3,30.1,31.5,34.6,35.3,39.5,50.1,57.4,109.1,116.4,122.1,132.6,134.2,141.3,154.2,173.2。
工程2
ヒドロキサム酸の製造について上記した方法に従って表題化合物(29)を製造した。:MS m/s(M+H)+:320;1H NMR(400MHz,MeOD)δ1.00(6H,d,J=6.4Hz),2.06(2H,m),2.27(1H,m),2.42(2H,t,J=7.6Hz),3.05−3.11(4H,m),3.57(2H,t,J=6.0Hz),4.52(2H,t,J=7.2Hz),7.45(1H,d,J=8.0Hz),7.56(1H,s),7.78(1H,d,J=8.0Hz);13C NMR(100MHz,MeOD)δ20.6(2C),27.2,30.4,30.6,32.7,33.5,41.5,57.0,112.0,112.3,112.4,126.3,129.9,139.6,152.3,169.4。
N−ヒドロキシ−3−[2−(ベンジルアミノ−メチル)−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(60)の製造
工程1
3−[2−(N−Fmoc−アミノメチル)−1メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステル(43mg、0.176mmol、適切な出発物質を用いることによって実施例42、工程1〜3に従って製造)を、10mLのジクロロメタン中に溶解した。得られた溶液を、2.0mLのピペリジンで処理した。真空下、全ての溶媒及びピペリジンを除去し、3−(2−アミノメチル−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリル酸メチルエステルを得た。MS(m/z):246[MH]+。
工程2
ベンズアルデヒド(47mg、0.445mmol)、3−(2−アミノメチル−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリル酸メチルエステル(109mg、80%、0.445mmol)及び酢酸(27mg、0.445mmol)を、15mLのジクロロメタン中に溶解した。混合物を室温で1時間攪拌した。水素化トリアセトキシホウ素ナトリウム(142mg、95%、0.668mmol)を上記溶液に加えた。12時間後、反応は完了し、有機層を飽和NaHCO3(10mL)で2回洗浄し、その後、水(10mL)で2回、ブライン(10mL)で1回洗浄し、次いで、Na2SO4で乾燥した。濾過後、溶媒を除去することにより、粗生成物(100mg、収率67.6%)、3−[2−(ベンジルアミノ−メチル)−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステルを得た。MS(m/z):336[MH]+。
工程3
出発物質として、3−[2−(ベンジルアミノ−メチル)−1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステルを用いることによって、実施例1の工程4に記載した手順に従って表題化合物(60)を製造した HPLC:89.6%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.68分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.78(3H,s),4.37(2H,s),4.58(2H,s),6.48(1H,d),7.46(3H,m),7.55(3H,m) 7.64(2H,t) 7.88(1H,s),9.88(1H,bs),10.74(1H,bs)。MS(m/z):337[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ジメチルアミノ−プロピル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(63)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(63)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.52分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ2.09(2H,m),2.75(3H,s),2.76(3H,s),3.12−3.22(4H,m),3.37(2H,b),4.50(2H,b),6.55(1H,d,J=15.76Hz),7.22−7.34(5H,m),7.63(1H,d,J=15.76Hz),7.66(1H,d,J=7.80Hz),7.82(1H,d,7.80Hz),7.92(1H,s)。MS(m/z):393[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−(ベンジルアミノ−メチル)−エチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(64)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例46に記載した手順に従って表題化合物(64)を製造した。HPLC:98.5%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.52分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.31(3H,t),3.37(2H,m),3.50(2H,t),4.28(4H,m),6.48(1H,d),7.43−50(3H,m),7.55(3H,m) 7.73−7.83(2H,t) 7.95(1H,s),9.25(1H,bs),10.76(1H,bs)。MS(m/z):351[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−(ベンジル−1−メチル−3−オキソ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(65)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(65)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):4.48分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.87(3H,s),4.59(2H,s),6.57(1H,d,J=15.9Hz),7.09−7.36(5H,m),7.62(1H,d,J=15.8Hz),7.73−7.95(3H,m)。MS(m/z):309[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(2−ジエチルアミノ−エチル)−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(66)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(66)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.72分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ1.29(6H,t,J=7.3Hz),3.26(8H,m),3.40(2H,t,J=7.5Hz),4.60(2H,t,J=8.0Hz),6.50(1H,d,J=16.0Hz),7.21(5H,m),7.62(1H,d,J=16.0Hz),7.70(2H,m),7.85(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ9.0,29.4,34.3,39.9,48.4,50.3,112.7,116.6,119.3,125.8,128.1,129.6,130.0,133.9,134.9,137.6,140.8,157.0,166.0。MS(m/z):407[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−フェネチル−1−(ピペリジン−1−イル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(67)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(67)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.90分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ1.86(6H,br s),3.26(8H,m),3.40(2H,t,J=7.5Hz),4.62(2H,t,J=7.9Hz),6.50(1H,d,J=16.0Hz),7.23(5H,m),7.62(1H,d,J=16.0Hz),7.70(2H),7.84(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ22.5,24.2,29.4,34.3,39.6,54.4,54.9,112.7,116.6,119.2,125.7,128.1,129.6,130.0,133.8,134.9,137.8,140.8,157.0,166.0。MS(m/z):419[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−フェネチル−1−(2−ピロリジン−1−イル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(72)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(72)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.71分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ2.06(4H,br),3.21(2H,t,J=7.4Hz),3.26(4H,m),3.37(2H,t,J=7.7Hz),3.42(2H,t,J=7.5Hz),4.57(2H,t,J=7.4Hz),6.47(1H,d,J=16.0Hz),7.21(5H,m),7.58(1H,d,J=16.0Hz),7.67(1H,d,J=8.6Hz),7.74(1H,d,J=8.6Hz),7.83(1H,s);13C NMR(100MHz,CD3OD)δ24.1,29.4,34.3,41.1,52.8,55.7,112.9,116.5,119.2,125.8,128.1,129.6,130.0,133.9,134.9,137.2,140.7,140.8,157.0,165.9。MS(m/z):405[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−(2−ベンジルアミノ−エチル)−1−エチル−−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(74)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例46に記載した手順に従って表題化合物(74)を製造した。HPLC:98.5%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):3.52分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.31(3H,t),3.37(2H,m),3.50(2H,t),4.28(4H,m),6.48(1H,d),7.43−50(3H,m),7.55(3H,m) 7.73−7.83(2H,t) 7.95(1H,s),9.25(1H,bs),10.76(1H,bs)。MS(m/z):365[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−フェネチル−1−(3−ピロリジン−1−イル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(82)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(82)を製造した。HPLC:100%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.18分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ2.01(2H),2.17(4H),3.03(2H),3.26(4H),3.48(2H),3.62(2H),4.37(2H),6.60(1H),7.27(5H),7.71(1H),7.78(2H),7.91(1H)。MS(m/z):419[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−(2−ピリジン−3−イル−エチル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(86)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(86)を製造した。HPLC:90.4%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.24分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.00(6H,s),2.94(6H,s),3.32(2H,m),3.38(4H,m) 4.35(2H,m),6.52(1H,d),7.58−7.86(5H,m) 8.20(1H,d),8.65(1H,m) 8.77(1H,s),9.50(1H,s)。MS(m/z):422[MH]+。
2−[2−フェネチル−1−(3,4,5−トリメトキシ−ベンジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−シクロプロパンカルボン酸ヒドロキシアミド(88)の製造
工程1
(CH3)3S(O)I(132mg、0.6mmol)の無水DMSO(1mL)溶液に、窒素ガス下室温で、水素化ナトリウム(28mg、鉱油中60%)を加え、次いで、10分後、4mLの無水THF中の、化合物(244mg、0.5mmol)3−[2−フェネチル−1−(3,4,5−トリメトキシ−ベンジル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸メチルエステル(実施例1、工程1〜3に従って製造)の溶液を加えた。次いで、得られた混合物を、室温で一晩攪拌した。水溶性のワークアップ後、残渣を油状物(135mg)として得、次いで、これをそれ以上精製することなく次の工程に供した。
工程2
上記粗生成物の0.5mL MeOH溶液に、前に行ったように、事前製造した2.0M NH2OHストック溶液(2mL)を加えた。得られた混合物を室温で4時間攪拌した。TFA(0.4mL)でクエンチ後、得られた混合物をHPLC精製に供し、10mgの所望の表題化合物(88)を得た。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.36分。1H NMR(400MHz,CD3OD)δ1.21−1.29(1H,m),1.45−1.52(1H,m),1.75−1.79(1H,m),2.48−2.55(1H,m),2.99(2H,t,J=8.0Hz),3.45(2H,t,J=8.0Hz),3.61(6H,s),3.64(3H,s),5.42(2H,s),6.40(2H,s),7.00−7.18(5H,m),7.26(1H,d,J=8.4Hz),7.45 (1H,s),7.59(1H,d,J=8.4Hz)。MS(m/z):502[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[2−ベンジルスルファニル−1−(3−ジメチルアミノ−2−2,ジメチル−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(89)の製造
工程1
3−[4−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピルアミノ)−3−ニトロ−フェニル]−アクリル酸(1.93g、6.0mmol、実施例1、工程1に記載したように製造)、塩化スズ(13.5g、60mmol)及びMeOH(50mL)を混合し、45℃で20時間加熱した。反応混合物を室温まで冷却し、減圧下で溶媒を除去した。残渣に、100mLジクロロメタン及び100mL水を加えた。pHを濃アンモニアで10に調整した。層を分離し、水層を100mLジクロロメタンで抽出した。有機抽出液を合わせ、硫酸ナトリウムで乾燥し、濾過し、減圧下で溶媒を除去した。得られた残渣に、MeOH(100mL)、CS2(18mL)及び水酸化カリウム(3.4g)を加えた。反応混合物を80℃で16時間加熱し、次いで、室温まで冷却し、溶媒を減圧下で除去した。得られた粗生成物をMeOHから再結晶した。
生成物3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−チオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸を二つの工程で75%の収率で得た(1.5g)。MS(m/z):334[MH]+。
工程2
3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−チオキソ−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸(100mg、0.3mmol)、ベンジルブロマイド(360mg、3.6mmol)、及び炭酸カリウム(0.83g)を10mLのDMFと混合した。得られた混合物を45℃で一晩攪拌した。所望の生成物3−[2−ベンジルスルファニル−1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸ベンジルエステルを分取HPLCで精製した:150mg(収率、76.6%)。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.08(6H,s),2.88(3H,s),2.89(3H,s),3.30(2H),4.11(2H,s),4.65(2H,s),5.24(2H,s),6.72(2H,d,J=15.96Hz),7.26−7.47(10H,m),7.68(2H,bs),7.83(1H,d,J=15.96Hz),8.00(1H,s)。MS(m/z):514[MH]+。
工程3
ヒドロキサム酸の製造について上記した方法(実施例1の工程4)に従って、3−[2−ベンジルスルファニル−1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸ベンジルエステルを処理することにより、表題化合物(89)を得た。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.87分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.09(6H,s),2.88(3H,s),2.89(3H,s),3.26(2H),4.11(2H,s),4.65(2H,s),6.48(2H,d,J=15.79Hz),7.26−7.47(6H,m),7.58(1H,d,J=15.79Hz),7.65(1H,d,J=8.48Hz),7.80(1H,s).MS(m/z):439[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−フェニルメタンスルホニル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(91)の製造
工程1
118mgの3−[2−ベンジルスルファニル−1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2,3−ジヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸ベンジルエステル(実施例57、工程1〜2に従って製造)、1.0mLの過酸化水素(30%)及び10mLの酢酸を、氷浴中、0℃で混合した。追加の氷を加えることなく、反応混合物を一晩攪拌した。生成物3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−フェニルメタンスルフィニル−2,3−ヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸ベンジルエステルを定量的に得た。MS(m/z):530[MH]+。
工程2
ヒドロキサム酸の製造について上記した方法(実施例1の工程4)に従って、3−[1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−フェニルメタンスルフィニル−2,3−ヒドロ−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリル酸ベンジルエステルを処理することにより、表題化合物(91)を得た。HPLC:77.1%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.46分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.11(6H,s),2.90(3H,s),2.91(3H,s),3.12(2H,s),3.82(2H,s),4.79(2H,s),6.56(1H,d,J=15.80Hz),7.15−7.32(5H,m),7.59−7.66(2H,m),7.87(1H,d,J=8.68Hz),8.06(1H,s)。MS(m/z):455[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−ベンジル−1−エチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(92)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(92)を製造した。HPLC:97.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.60分。1H NMR (400MHz,DMSO−d6)δ1.17(3H,t,J=7.1Hz),4.34(2H,dd,J=6.8Hz),4.56(2H,s),6.55(1H,d,J=15.8Hz),7.31−7.40(5H,m),7.63(1H,d,J=15.8Hz),7.85−7.93(3H,m).MS(m/z):322[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−{1−エチル−2−[3−(1H−インドール−3−イル)−プロピル]−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(93)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(93)を製造した。HPLC:98.5%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.98分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.33(3H,t),2.22(2H,m),2.87(2H,t),3.16(2H,m),4.37(2H,m),6.53(1H,d),6.98(1H,m) 7.06(1H,m) 7.19(1H,s),7.33(1H.d),7.54−7.88(5H,d),10.82(2H,bs)。MS(m/z):389[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−{1−(3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル)−2−[2−(3−メトキシ−フェニル)−エチル]−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(94)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(94)を製造した。HPLC:99.7%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.34分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.03(6H,s),2.90(6H,s),3.19(2H,t),3.34(4H,s) 3.71(3H,s) 4.29(2H,t),6.52(1H,d),6.80(1H,m) 6.88(2H,d) 7.22(1H,m),7.62(2H,m),7.83−7.89(2H,m),9.34(1H,s),10.77(1H,bs)。MS(m/z):451[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−[1−エチル−2−(3−フェノキシ−プロピル)−1H−ベンズイミダゾール−5−イル]−アクリルアミド(96)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例46に記載した手順に従って表題化合物(96)を製造した。HPLC:99.6%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.83分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ1.36(3H,t),2.32(2H,m),3.34(2H,m),4.12(2H,m),4.46(2H,m),6.58(1H,d),6.73(2H,d) 6.90(1H,m) 7.22(2H,m),7.65(1H.d),7.80(1H,d),7.94(2H,m)。MS(m/z):366[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(2−{[2−(4−メトキシ−フェニル)−アセチルアミノ]−メチル}−1−メチル−H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(99)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例42に記載した手順に従って表題化合物(99)を製造した。HPLC:97.0%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):2.75分。1H NMR(400MHz,DMSO−d6)δ3.48(2H,s),3.67(3H,s),3.87(3H,s),4.71(2H,m),6.55(1H,d),6.86(3H,m) 7.18(3H,m) 7.84−7.92(2H,m),10.77(1H,s)。MS(m/z):395[MH]+。
2−(1−メチル−2−フェネチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−シクロプロパンカルボン酸ヒドロキシアミド(100)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例56に記載した手順に従って表題化合物(100)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):6.36分 1H NMR(400MHz,CDCl3,一滴のd6−DMSO−d6を含む)δ1.25(1H,m),1.64(1H,m),1.88(1H,m),1.98(3H,s),2.63(1H,m),3.23(2H,t,J=8.0Hz),3.52(2H,t,J=8.0Hz),7.08−7.45(7H,m),7.57(1H,s)。MS(m/z):336[MH]+。
N−ヒドロキシ−3−(1−メチル−1H−ベンズイミダゾール−5−イル)−アクリルアミド(49)の製造
適切な出発物質を用いることによって、実施例1に記載した手順に従って表題化合物(49)を製造した。HPLC:99%;tR=(LC/PDA:Phenomenex Luna C18 2.0×150mm 5μ カラム;0.8mL/分、勾配5〜65% B 15.5分間で、溶媒A:0.1%トリフルオロ酢酸含有H2O;溶媒B:0.1%トリフルオロ酢酸含有アセトニトリル;UV254):1.05分。1H NMR:(400MHz,CD3OD)δ4.05(3H,s),6.52(1H,d,J=15.8Hz),7.62(1H,d,J=15.8Hz),7.77−7.89(3H,m),9.19(1H,s)。MS(m/z):218[MH]+。
組み換えGST−HDAC1タンパク発現及び精製
培養SW620細胞を用いてヒトcDNAライブラリーを作製した。このcDNAライブラリーからのヒトHDAC1及びHDAC8コ−ディング領域の増幅を、別々に、バキュロウイルス発現pDEST20ベクタ−及びpFASTBACベクタ−へそれぞれ、クローニングした(GATEWAY Cloning Technology、Invitrogen Pte Ltd)。該pDEST20−HDAC1及びpFASTBAC−HTGST−HDAC8構築物をDNA塩基配列決定法により確認した。製造者の説明書(Invitrogen Pte Ltd)に従ったBac−To−Bac法を用いて組換えバキュロウイルスを作製した。バキュロウイルス力価を、プラークアッセイで約108PFU/mlまで決定した。
SF9細胞(Invitrogen Pte Ltd)を、MOI=1で48時間、pDEST20−HDAC1又はpFASTBAC−GST−HDAC8バキュロウイルスに感染させることによりGST−HDAC1又はHTGST−HDAC8の発現を行った。可溶性細胞溶解物を、予め平衡化したグルタチオンセファロース4Bビ−ズ(Amersham)と共に、4℃で2時間インキュベートした。該ビ−ズをPBSバッファーで3回洗浄した。GST−HDAC1タンパク又はGST−HDAC8タンパクを、50mMトリス(pH8.0)、150mM Nacl、1%トリトンX−100及び10mM又は20mM還元グルタチオンを含む溶出バッファーで溶出した。精製したGST−HDAC1タンパク又は精製したGST−HDAC8タンパクを、10mMトリス(pH7.5)、100mM Nacl及び3mM MgCl2を含むHDAC保存バッファーで透析した。20%グリセロールを、−80℃で保存する前に、精製したGST−HDAC1タンパク又は精製したGST−HDAC8へ加えた。
アッセイは、96ウェル型で行い、BIOMAL蛍光に基づいたHDAC活性アッセイを適用した。反応系は、25mMトリス pH7.5、137mM NaCl、2.7mM KCl、1mM MgCl2、1mg/ml BSA、試験される化合物、500nM HDAC8酵素又は600nM HDAC1酵素、HDAC8酵素については200μM Flur de lys p53ペプチド基質、HDAC1酵素については500μM Flur de lys 一般基質を含む測定バッファーから構成され、次いで室温で2時間インキュベ−トした。Flur de lysディベロッパーを加え、反応系を10分間インキュベ−トした。手短に言えば、基質の脱アセチル化はそれをディベロッパーに感受性にし、これは、次いで、蛍光体(シンボル)を生じる。蛍光体は、360nmの光で励起し、放射光(460nm)が蛍光プレートリーダー(Tecan Ultra Microplate検出システム、Tecan Group Ltd.)で検出される。
分析ソフトウェアPrism 3.0を、一連のデータからIC50を出すために用いた。代表的な化合物のHDAC酵素阻害の結果を表3に示す。
ヒト結腸癌細胞株(Colo205及びHCT116)、ヒト乳癌細胞株(MDA−MB435及びMDA−MB231)、及びヒト肺癌細胞株(A549)をATCCから得た。Colo205細胞を、2mM L−グルタミン、5% FBS、1.0mM ピルビン酸Naを含むRPMI 1640中で培養した。A549及びMDA−MB231を、2mM L−グルタミン、5%FBSを含むRPMI 1640中で培養した。MDA−MB435細胞を、2mM L−グルタミン、5%FBSを含むDMEM中で培養した。HCT116細胞を2mM L−グルタミン、5%FBSを含むIMEM中で培養した。A549及びColo205細胞を、それぞれ1ウェルあたり2000及び5000細胞で96ウェルプレートに播種した。MDA−MB435、HCT116、MDA−MB231細胞を1ウェルあたり6000細胞で、96ウェルプレートに播種した。該プレートを37℃、5%CO2で24時間インキュベートした。細胞を様々な濃度の化合物で96時間処理した。次いで、細胞増殖を、cyquant細胞増殖アッセイ(Invitrogen Pte Ltd)を用いてモニターした。用量反応曲線をプロットして、XL−フィットを用いて化合物のGI50値を決定した。
代表的な化合物の細胞活性の結果を表4に示す。表5は、さらなる癌細胞株のためのそれらの異なる塩を含む選択された化合物の抗増殖活性をまとめた。これらのデータは、本発明における化合物が、腫瘍細胞増殖の阻害において高活性であることを示している。
ヒストンデアセチラーゼ(HDAC)阻害の特徴は、ヒストンのアセチル化レベルの増加である。H3、H4及びH2Aを含むヒストンアセチル化は、免疫ブロッティング(ウエスタン−ブロット)により検出することができる。約1.5×106細胞/10cmディッシュのColo205細胞を上記培地に播種し、24時間培養し、次いで0.1、1、5及び10μMの最終濃度のHDAC阻害剤で処理した。24時間後、Sigma Mammalian Cell Lysis Kitの説明書に従って、細胞を回収し、溶解した。タンパク濃度をBCA法(Sigma Pte Ltd)を用いて定量化した。タンパク溶解物を4〜12% ビス−トリス SDS−PAGEゲル(Invitrogen Pte Ltd)を用いて分離し、PVDF膜(BioRad Pte Ltd)上へ移した。その膜をアセチル化H3、アセチル化H4又はアセチル化H2A(Upstate Pte Ltd)に特異的な一次抗体を別々に用いて、プローブした。HRPを結合したヤギ抗ウサギ抗体である検出抗体を、製造説明書(Pierce Pte Ltd)に従って用いた。膜から検出抗体を除去した後、HRPの検出のための強化化学発光基質(Pierce Pte Ltd)を膜上に加えた。基質を除去した後、膜を1秒〜20分間X線フィルム(Kodak)に曝露した。X線フィルムを、X線フィルム処理装置を用いて現像した。現像したフィルム上に観察された各バンドの濃度はUVPバイオイメージングソフトウェア(UVP,Inc、アップランド、CA)を用いて分析することができた。次いで、その値を、対応するサンプル中のアクチン濃度に対して正規化して、タンパクの発現量を得た。
ヒストンデアセチラーゼH3、H4及びH2A抗体を用いた免疫−ブロットアッセイの結果を表6に示す。
酵素免疫測定法(ELISA)は、HDAC阻害剤で処理された癌細胞株から得られるタンパク溶解物中の、アセチル化ヒストン3(AcH3)を検出し、定量化するために適用することができる。
ELISAアッセイは、10μM HDAC阻害性化合物で処理されたColo205結腸癌細胞株由来のAcH3レベルを検出するために開発された。未処理の及び処理されたColo205由来のタンパク溶解物を、上記の通り得た。溶解細胞由来のタンパク濃度を、BCA法(Sigma−Aldrich Pte Ltd)を用いて決定した。
一次抗体(捕捉抗体)又は二次抗体として使用されうる抗体の異なる組み合わせ(表7参照)を、適切な抗体を決定するため、そして、抗体濃度及びアッセイ条件を最適化するために調べた。H3に対するマウスモノクローナル抗体及びAcH3(Lys9/14)に対するウサギポリクローナル抗体の組み合わせが、HDAC阻害剤で処理したColo205結腸癌細胞株由来のペプチド又はタンパク溶解物のいずれの抗原に対しても、最も優れた結合を生じることが判明した。バッググラウンドは観察されなかった。このELISAに用いた検出抗体はペルオキシダーゼを結合したロバ抗ウサギであった。
アセチル化ヒストン3が50%で誘導されるEC50を決定するため、Colo205細胞を96ウェルプレートで、1.5×105細胞/ウェルで24時間培養した。次いでColo205細胞を異なる用量(二連で、9用量の処理、100μMから4倍希釈)のHDAC阻害剤で処理した。24時間処理した後、細胞を溶解し、タンパク濃度を決定した。
ELISAプレート(immulon 2HBプレート、Biolaboratories Pte Ltd)を、4℃で一晩、4μg/mlのH3に対するマウスモノクローナル抗体でコーティングした。H3に対するマウスモノクローナル抗体を除去した後、プレートを0.05% Tween−20を含んだPBSバッファーで洗浄し、37℃で1時間、スーパーブロック溶液(Pierce Pte Ltd)でブロックした。スーパーブロック溶液を除去し、プレートを0.05% Tweenを含んだPBSバッファーで洗浄した。AcH3ペプチド、H3ペプチド及びHDAC阻害剤で処理したColo205由来のタンパク溶解物を適用した。一次抗体と抗原(これは、サンプル中のヒストン3である)との捕捉反応を、37℃で、1時間行った。サンプルを除去した後、プレートを0.05% Tweenを含んだPBSバッファーで洗浄した。二次抗体である0.5μg/mlのAcH3(Lys9/14)に対するウサギポリクローナル抗体を、サンプル中のアセチル化H3を検出するために、37℃で1時間適用した。二次抗体を除去した後、プレートを0.05% Tweenを含んだPBSバッファーで洗浄した。検出抗体を、サンプル中のAcH3を捕捉した二次抗体を検出するために、37℃で30分間適用した。基質である1−ステップTurbo TMB(Pierce Pte Ltd)を色が発色するまで30分間適用した。反応を1M H2SO4を用いて停止した。吸光度をSpectromaxリーダー(Molecular Devices Corporation、サニーベール、CA)を用いてOD450nmで測定した。
標準曲線を引き、SpectromaxのSoftmaxソフトウェアを用いてサンプル中のAcH3[(Lys9/14)、μg/ml]濃度を決定した。サンプル中のAcH3の量は、以下の式に基づいて計算した。
示されていないデータにおいて、選択した化合物を、正常マウスにおける最大耐量について試験し、適用された用量の範囲(これは>200mg/kg/日でありうる)において、毒性又は副作用の明らかな兆候なく、マウスによって良好に耐えられるものであることがわかった。
Claims (19)
- 式(I)の化合物
R1は、H、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 アルケニル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、ヒドロキシC 1 −C 14 アルキル、C 1 −C 6 アルコキシC 1 −C 14 アルキル、及びアミノC 1 −C 14 アルキルからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 3 −C 9 シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、C 1 −C 6 アルコキシ、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 6 アルキルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アミノ、C 1 −C 14 アルキルアミノ、−COOH及び−OHからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよく、
R2は、H、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 3 −C 9 シクロアルキル、C 6 −C 12 アリール、ヘテロアリール、C 3 −C 9 シクロアルキルC 1 −C 14 アルキル、ヘテロシクロアルキルC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 6 −C 12 アリールC 2 −C 14 ヘテロアルキル及びC 1 −C 6 アルコキシC 6 −C 12 アリールからなる群から選択され、これらのそれぞれは、非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO2、−CF3、−OCF3、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 3 −C 9 シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、C 1 −C 6 アルコキシ、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 6 アルキルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、アミノ、C 1 −C 14 アルキルアミノ、−COOH及び−OHからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよく、
R3はHであり、
X及びYはHであり、
R4はHであり、
ここで、前記「ヘテロシクロアルキル」は、窒素、硫黄、及び酸素から選択される少なくとも一つのヘテロ原子を含む3〜7員のヘテロシクロアルキルであり;前記「ヘテロアリール」は、窒素、硫黄、及び酸素から選択される一以上のヘテロ原子を含む単環又は縮合多環の5〜10員のヘテロアリールである)
又はその医薬的に許容される塩。 - R1が、H、ヒドロキシC 1 −C 14 アルキル、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、C 1 −C 6 アルコキシC 1 −C 14 アルキル、アミノC 1 −C 14 アルキル及びヘテロシクロアルキルからなる群から選択され、これらのそれぞれは非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO 2 、−CF 3 、−OCF 3 、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 3 −C 9 シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、C 1 −C 6 アルコキシ、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 6 アルキルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、−アミノ、C 1 −C 14 アルキルアミノ、−COOH及び−OHからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよい、請求項1に記載の化合物。
- R1が、H、メチル、(ピリジン−2−イル)メチル、(ピリジン−3−イル)メチル、エチル、2−ヒドロキシ−エチル、2−(ピリジン−2−イル)エチル、2−(ピリジン−3−イル)エチル、2−フェニル−エチル、2−カルボキシ−エチル、2−(モルホリン−4−イル)−エチル、2−(ピペリジン−1−イル)−エチル、2−(ピロリジン−1−イル)−エチル、2−ジエチルアミノ−エチル、プロピル、2,3−ジ−ヒドロキシ−プロピル、3−ヒドロキシ−プロピル、3−メトキシ−プロピル、3−イソプロポキシ−プロピル、2,2−ジメチル−プロピル、3−ジメチルアミノ−プロピル、3−ジメチルアミノ−2,2−ジメチル−プロピル、3−(2−オキソ−ピロリジン−1−イル)−プロピル、3−(モルホリン−4−イル)−プロピル、3−(イミダゾール−1−イル)−プロピル、3−(4−メチル−ピペリジン−1−イル)−プロピル、3−(ピロリジン−1−イル)−プロピル、4−ジメチルアミノ−ブチル、5−ヒドロキシ−ペンチル、アリル、ベンジル、3,4,5−トリメトキシベンジルからなる群から選択される、請求項1〜2のいずれか1項に記載の化合物。
- R2が、H、C 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリール、ヘテロアリール、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、及びC 3 −C 9 シクロアルキルからなる群から選択され、これらのそれぞれは非置換であってもよいし、ハロゲン、=O、=S、−CN、−NO 2 、−CF 3 、−OCF 3 、C 1 −C 14 アルキル、C 2 −C 14 ヘテロアルキル、C 3 −C 9 シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、C 1 −C 6 アルコキシ、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 14 アルキル、ヘテロアリールC 1 −C 14 アルキル、C 6 −C 12 アリールC 1 −C 6 アルキルオキシ、ベンジル、ベンジルオキシ、−アミノ、C 1 −C 14 アルキルアミノ、−COOH及び−OHからなる群から独立して選択される一以上の置換基によって置換されていてもよい、請求項1〜3のいずれか1項に記載の化合物。
- R2が、H、メチル、ベンジルアミノ−メチル、ジベンジルアミノ−メチル、[2−(4−フルオロ−フェニル)−アセチルアミノ]−メチル、[2−(4−メトキシ−フェニル)−アセチルアミノ]−メチル、4−メトキシ−ベンジルアミノ−メチル、ベンジルオキシ−メチル、フェニルアセチルアミノ−メチル、1−アミノ−2−フェニル−エチル、2−ベンジルアミノ−エチル、2−(3−メトキシ−フェニル)−エチル、2−(ピリジン−3−イル)エチル、2−(2−フェノキシアセチルアミノ)−エチル、2−ベンゼンスルホニルアミノ−エチル、2−フェニル−エチル、イソプロピル、2−フェニル−プロピル、3−フェニル−プロピル、3−フェノキシ−プロピル、3−(1H−インドール−3−イル)−プロピル、4−メトキシ−フェニル、4−フルオロ−フェニル、4−ベンジルオキシ−3−メトキシ−フェニル、イソブチル、シクロヘキシル、オクチル、ベンジル、ピリジン−2−イル、ピリジン−4−イル、チオフェン−3−イル、ベンジルスルファニル及び2−フェニルメタンスルファニルである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の化合物。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物及び医薬的に許容される希釈剤、賦形剤又は担体を含む、医薬組成物。
- 細胞増殖及び/又は血管新生の混乱によって起こるか、これと関連するか又はこれを伴う障害の治療用の医薬の製造における、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物の使用。
- 障害が増殖性障害である、請求項8に記載の使用。
- 増殖性障害が癌である、請求項9に記載の使用。
- ヒストンデアセチラーゼの阻害によって治療されうる障害の治療用の医薬の製造における、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物の使用。
- 障害が、増殖性障害である、請求項11に記載の使用。
- 障害が癌である、請求項11に記載の使用。
- 細胞増殖の阻害用の医薬の製造における、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物の使用。
- 患者における神経変性障害の治療用の医薬の製造における、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物の使用。
- 神経変性障害がハンチントン病である、請求項15に記載の使用。
- 炎症性疾患及び/又は免疫系障害の治療用の医薬の製造における、請求項1〜6のいずれか1項に記載の化合物の使用。
- 炎症性疾患及び/又は免疫系障害が関節リウマチである、請求項17に記載の使用。
- 炎症性疾患及び/又は免疫系障害が全身性エリテマトーデスである、請求項17に記載の使用。
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