JP4997404B2 - Tribomicroplasma coating method and coating apparatus - Google Patents

Tribomicroplasma coating method and coating apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP4997404B2
JP4997404B2 JP2008202640A JP2008202640A JP4997404B2 JP 4997404 B2 JP4997404 B2 JP 4997404B2 JP 2008202640 A JP2008202640 A JP 2008202640A JP 2008202640 A JP2008202640 A JP 2008202640A JP 4997404 B2 JP4997404 B2 JP 4997404B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
coating
sliding
plasma
tribomicroplasma
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008202640A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2009007678A (en
Inventor
景次 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST filed Critical National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Priority to JP2008202640A priority Critical patent/JP4997404B2/en
Publication of JP2009007678A publication Critical patent/JP2009007678A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4997404B2 publication Critical patent/JP4997404B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

本発明は、機械の摺動面などの、摩擦接触点の隙間で発生するトライボマイクロプラズマを用いて、該摺動面等にコーティング膜を形成するトライボマイクロプラズマコーティング方法及び同コーティング装置に関する。 The present invention relates to a tribomicroplasma coating method and a coating apparatus for forming a coating film on a sliding surface using a tribomicroplasma generated in a gap between frictional contact points such as a sliding surface of a machine.

従来、各種摩擦又は摺動機器の摺動面に、耐摩耗性などを持たせるための保護膜を形成する技術は、湿式または乾式によるコーティング技術が使用されており、これらの適用に際しては、歯車等の機器の機械要素に耐摩耗性硬質膜を予めプラズマコーティングし、その後、機器に組み込まれてきた。   Conventionally, as a technology for forming a protective film for imparting wear resistance or the like on various friction or sliding surfaces of a sliding device, a wet or dry coating technology has been used. A machine-resistant element such as a wear-resistant hard film has been previously plasma-coated and then incorporated into the apparatus.

一方、固体表面に薄膜を形成させるのにプラズマを用いることは周知の技術である。この既知のプラズマコーティング法には、プラズマCVD法やスパッタリング法等がある。
これらの装置においては、いずれも真空槽の中に、試料やコーティング材等をいれ、さらに外部より高電圧を試料とターゲットの間に印加するものであり、またスパッタガスや反応性ガスを導入すること、あるいはイオン照射を行うなどのために、大掛かりで高価な装置を必要とするという問題があった。
On the other hand, using plasma to form a thin film on a solid surface is a well-known technique. Examples of the known plasma coating method include a plasma CVD method and a sputtering method.
In any of these apparatuses, a sample or a coating material is placed in a vacuum chamber, and a high voltage is applied between the sample and the target from the outside, and a sputtering gas or a reactive gas is introduced. In addition, there is a problem that a large and expensive apparatus is required for performing ion irradiation.

上記のように、歯車等の機器に潤滑性の皮膜を形成する場合には、機械要素に耐摩耗性硬質膜を予めプラズマコーティングし、その後機器に組み込むため、このコーティングした膜を実機で使用する場合には、初期なじみ運転をしなければならないという問題もあった。   As described above, when a lubrication film is formed on a gear or other equipment, the machine element is preliminarily plasma-coated with a wear-resistant hard film, and then this coated film is used in an actual machine for incorporation into the equipment. In some cases, there was also a problem of having to perform an initial familiar operation.

上記に鑑み、本発明は実機の摺動面の隙間で発生するプラズマを用いて、その場でプラズマコーティングし、摺動しつつプラズマコーティングを行うことにより、コーティングと同時になじみ運転も行うことができる技術を提供する。
また、摩擦または摺動により、薄膜には絶えず接線力を加えた状態でコーティングし、接線力による膜中の組織の配向を発生させ、極めて高い耐摩耗性、良潤滑性の膜をコーティングできるトライボマイクロプラズマコーティング方法及び同コーティング装置を提供する。
In view of the above, the present invention uses plasma generated in the gap between the sliding surfaces of the actual machine, performs plasma coating on the spot, and performs plasma coating while sliding, so that familiar operation can be performed simultaneously with coating. Provide technology.
Also, a tribo that can be coated with a film with extremely high wear resistance and good lubricity by coating with a tangential force constantly applied to the thin film by friction or sliding, generating orientation of the structure in the film by the tangential force. providing microplasma coating how and the coating apparatus.

本発明者は、摩擦接触点の隙間にトライボマイクロプラズマが発生することを発見した。すなわち、摩擦接触点で発生するプラズマの直接撮影に成功し、プラズマの存在が明らかになった。このことはプラズマコーティング技術が可能であることを示唆した。
そして、このプラズマは、絶縁体、半導体、金属酸化膜など、ほとんどあらゆる材料の摩擦接触点の隙間に発生することが分かった。本発明においては、摩擦接触点の隙間に自然に発生するこのトライボマイクロプラズマを利用して、その場でプラズマコーティングできるとの知見を得、本発明を完成させた。
The inventor has discovered that tribomicroplasma is generated in the gap between the frictional contact points. That is, direct imaging of plasma generated at the frictional contact point was successful, and the existence of the plasma became clear. This suggested that plasma coating technology is possible.
And it turned out that this plasma generate | occur | produces in the clearance gap of the friction contact point of almost all materials, such as an insulator, a semiconductor, and a metal oxide film. In the present invention, the inventor has obtained knowledge that plasma coating can be performed in situ using the tribomicroplasma naturally generated in the gap between the frictional contact points, and the present invention has been completed.

上記知見に基づき、本発明は以下の発明を提供するものである。
1)摺動体と回転体を摩擦又は摺動させることにより、これらの間にトライボマイクロプラズマを発生させ、該摺動体と回転体の一方を正に他方を負に帯電させて、摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体を構成する他方の物質の少なくとも一部からなるプラズマスパッタ膜を形成することを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング方法
2)摺動体と回転体を摩擦又は摺動させる装置、摺動体と回転体との間に摩擦又は摺動によりトライボマイクロプラズマを発生させる装置、摺動体と回転体の一方を正に他方を負に帯電させ、該摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体の他方の物質の少なくとも一部を形成させる装置からなることを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング装置
Based on the above findings, the present invention provides the following inventions.
By 1) it is friction or sliding rotating body and the sliding member, to generate a tribo microplasma between them, by positively charged and the other negatively one sliding body and the rotating body, and rotation sliding member A plasma sputtering film comprising at least a part of the other substance constituting the sliding body or the rotating body is formed on one or both of the bodies, and the tribomicroplasma coating method 2) friction between the sliding body and the rotating body or apparatus for sliding, apparatus for generating tribo microplasma by friction or sliding between the sliding body and the rotating body, positively charges the other negatively one slide body and the rotating body, sliding body and the rotating body A tribo microplasma coating apparatus comprising an apparatus for forming at least a part of the other substance of the sliding body or the rotating body on one or both of

本発明によると、例えば機械の摺動面に、その場で発生するプラズマを利用して潤滑性皮膜をコーティングできるので、従来技術で用いてきたようなプラズマを発生させる高電圧を用いた高価なプラズマコーティング装置を必要とせず、実機の摺動面でそのままコーティングできるという大きな長所を有する。
さらに、従来の方法であれば、薄膜コーティングした後なじみ運転をしなければならないが、本発明においては、薄膜コーティングと同時になじみ運転も行われるため、極めて効率的に有効な薄膜コーティングを行うことができる。
さらに、摩擦による接線力の作用により薄膜をすべり方向に配向させることができ、極めて耐久性の高い潤滑性、耐摩耗性薄膜をコーティングできるという優れた効果を有する。
According to the present invention, for example, a lubricating film can be coated on a sliding surface of a machine by using plasma generated on the spot, so that it is expensive to use a high voltage that generates plasma as used in the prior art. There is a great advantage that a plasma coating apparatus is not required and coating can be performed directly on the sliding surface of the actual machine.
Furthermore, in the case of the conventional method, the running operation must be performed after thin film coating. In the present invention, the running operation is performed simultaneously with the thin film coating. it can.
Furthermore, the thin film can be oriented in the sliding direction by the action of the tangential force due to friction, and it has an excellent effect of being able to coat an extremely durable lubricating and wear-resistant thin film.

以下、本発明を図示の例を用いて説明する。図1は本発明によるピンディスク(摺動体と回転体)接触型トライボマイクロプラズマコーティング装置の原理説明図である。本説明では、摺動体と回転体を便宜上、ピン摺動子2と回転ディスク3に置き換えて説明する。
ピンディスク接触型トライボマイクロプラズマコーティング装置1において、試料であるピン摺動子2と回転ディスク3の、両者の接触点の隙間にトライボマイクロプラズマ4が発生する。これを利用してトライボマイクロプラズマコーティングを行う。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to illustrated examples. FIG. 1 is a diagram illustrating the principle of a pin disk (sliding body and rotating body) contact tribo microplasma coating apparatus according to the present invention. In this description, the sliding body and the rotating body will be described by replacing them with the pin slider 2 and the rotating disk 3 for convenience.
In the pin disk contact type tribo microplasma coating apparatus 1, tribo microplasma 4 is generated in the gap between the contact points of the pin slider 2 and the rotating disk 3 which are samples. Using this, tribo microplasma coating is performed.

先ず、大気中トライボマイクロプラズマCVD法において述べる。本CVD法においては、反応性ガス5を、パイプ6を通して摩擦接触点に発生したプラズマ4中に吹き込むことによりトライボマイクロプラズマCVDコーティングを行う。
雰囲気制御型トライボマイクロプラズマCVDコーティング法においては、真空槽7内にピン2とディスク3の接触点を置き、一度真空槽7内部を、バルブ8を通して、ターボ分子ポンプ9、ロータリーポンプ10により排気し、ガス圧力計11にてガス圧を計測しつつ、反応性ガス5を可変リークバルブ12通じて所定の圧力まで導入し、最も効率の良いガス圧にてCVDコーティングを行う。
First, the atmospheric tribomicroplasma CVD method will be described. In the present CVD method, a reactive gas 5 is blown into a plasma 4 generated at a frictional contact point through a pipe 6 to perform tribo microplasma CVD coating.
In the atmosphere control type tribo micro plasma CVD coating method, the contact point between the pin 2 and the disk 3 is placed in the vacuum chamber 7, and the inside of the vacuum chamber 7 is once exhausted through the valve 8 by the turbo molecular pump 9 and the rotary pump 10. While the gas pressure is measured by the gas pressure gauge 11, the reactive gas 5 is introduced to a predetermined pressure through the variable leak valve 12, and CVD coating is performed at the most efficient gas pressure.

この際、負荷機構13にて荷重を調整し、回転機構14によりディスクの回転速度を調整して最適の摩擦条件を選定する。さらに広範囲の表面をCVDコーティングするために、摺動子移動機構15によりピン摺動子を半径方向に所定の距離、移動させてコーティングする。
プラズマ中には電子、正イオン、ラジカル、フォトン(光子)、励起分子などの活性な素粒子や反応中間体が存在するので、メタン、エタン、プロパンなどの有機分子ガスを初めとする様々な安定なガスでも、これらの分子のポリマーコーティングが可能である。
At this time, the load mechanism 13 adjusts the load, and the rotating mechanism 14 adjusts the rotational speed of the disk to select the optimum friction condition. Further, in order to perform CVD coating on a wide range of surfaces, the pin slider is moved by a predetermined distance in the radial direction by the slider moving mechanism 15 for coating.
Since active elementary particles such as electrons, positive ions, radicals, photons (photons), and excited molecules and reaction intermediates exist in the plasma, various stable molecular gases such as methane, ethane, and propane are used. Even with simple gases, polymer coatings of these molecules are possible.

大気中はもとより空気圧を下げていくと、プラズマは大きく強くなり最大点を経て減少していく。このプラズマが最大となる圧力は上記の通り、空気、炭化水素ガスなどの場合には約1000Paである。したがって、プラズマCVDコーティングには有利である。
実際、ブタンガスで雰囲気制御型プラズマCVD装置を試作して実験したところでは、1000Paで、最も効率よくポリマー状の薄膜が形成され、摩擦・摩耗低減効果をもつことが分かった。すなわち、ダイヤモンドピン/窒素珪素ディスクの接触点で、この1000Paの気体圧力で、プラズマコーティングが最大となるのをブタンガス雰囲気で確認した。
また、アルゴン雰囲気中で、ダイヤモンドピン/サファイヤディスクを組み合わせたトライボマイクロプラズマコーティングにより、サファイヤ材料がピン表面にスパッタコートすることができた。
When the air pressure is lowered as well as in the atmosphere, the plasma becomes larger and stronger and decreases after reaching the maximum point. As described above, the pressure at which the plasma is maximum is about 1000 Pa in the case of air, hydrocarbon gas, or the like. Therefore, it is advantageous for plasma CVD coating.
In fact, when an experimental atmosphere control type plasma CVD apparatus was made with butane gas, it was found that a polymer thin film was formed most efficiently at 1000 Pa and had a friction / wear reduction effect. That is, it was confirmed in the butane gas atmosphere that the plasma coating was maximized at the gas pressure of 1000 Pa at the contact point of the diamond pin / silicon nitride disk.
In addition, sapphire material could be sputter coated on the pin surface by tribomicroplasma coating with diamond pin / sapphire disk combination in an argon atmosphere.

プラズマは、絶縁性固体同士の摩擦帯電による高電界による周囲気体の放電により発生する。摩擦帯電には帯電列と呼ばれるものがあり、この帯電列の序列により固体が正に帯電するか負に帯電するか決定される。
例えばガラスとナイロンを摩擦させるとガラスは正にナイロンは負に帯電するので、前者をピンに後者をディスクに選べば、図1Cに示されているようにピンは正に、ディスクは負に帯電する。
逆に、前者をディスクに、後者をピンに選べば、ピンは負に、ディスクは正に帯電する。どちらの組み合わせが良いかは実験的に求める必要がある。
Plasma is generated by discharge of ambient gas due to a high electric field due to frictional charging between insulating solids. There is what is called a charge train in frictional charging, and the order of the charge train determines whether the solid is positively charged or negatively charged.
For example, when glass and nylon are rubbed, glass is positively charged and nylon is negatively charged. If the former is selected as a pin and the latter as a disk, the pin is positively charged and the disk is negatively charged as shown in FIG. 1C. To do.
Conversely, if the former is selected as the disk and the latter as the pin, the pin is negatively charged and the disk is positively charged. Which combination is better should be determined experimentally.

CVDコーティング膜16、17はディスク表面上、及びピン摺動子表面上のいずれにも形成されるが、どちらにより多く発生するかは、摩擦帯電列の組み合わせに依存する。
例えば、原料の反応性ガスにシラン(SiH)を用いたアモルファスシリコン、有機金属などを用いた金属及び金属化合物膜、メタン、アセトン、一酸化炭素等、及びこれらのガスと水素の混合物によるダイヤモンド薄膜、メタンによるダイヤモンド状炭素膜(DLC膜)など、従来のプラズマCVD法による薄膜が形成できると考えられる。
The CVD coating films 16 and 17 are formed on both the disk surface and the pin slider surface, and depending on the combination of the triboelectric charge trains, which occurs more frequently.
For example, amorphous silicon using silane (SiH 4 ) as a reactive gas for raw materials, metal and metal compound films using organic metals, methane, acetone, carbon monoxide, etc., and diamond by a mixture of these gases and hydrogen It is considered that a thin film by a conventional plasma CVD method such as a thin film or a diamond-like carbon film (DLC film) by methane can be formed.

次に、トライボプラズマスパッタリング法であるが、この場合には、従来のスパッタリン法と同様に反応性ガスは必要としない。
ターゲットとしてピンを用いれば、ディスク表面にピンの材料をコーティング可能であるし、逆にディスクにターゲット材料を使用すればピンにディスク材料をコーティング可能である。
この場合、摩擦帯電の序列が重要であり、ターゲット材料が負に帯電する材料を選び、他方、コーティング膜を形成させるべき試料は摩擦帯電により正に帯電する材料の組み合わせとする必要がある。
Next, a triboplasma sputtering method is used. In this case, a reactive gas is not required as in the conventional sputtering method.
If a pin is used as the target, the pin material can be coated on the disk surface, and conversely, if the target material is used for the disk, the pin can be coated with the disk material.
In this case, the order of frictional charging is important, and a material for which the target material is negatively charged is selected. On the other hand, the sample on which the coating film is to be formed needs to be a combination of materials that are positively charged by frictional charging.

試料としては、摩擦帯電を生ずる材料であれば、有機、無機を問わず、何でも良い。また、ターゲット材料としては摩擦帯電を生ずる絶縁性の材料であれば何でも良い。
例えば、従来のスパッタリングのターゲットとして用いられている窒化珪素(Si)、酸化物、有機物ポリマー等である。
大気中トライボマイクロプラズマコーティング法では、当然スパッタガスに空気を使用することとなるが、この場合、膜の酸化が起こる可能性が高いことに注意する必要がある。
雰囲気制御型トライボプラズマコーティング装置においては、従来技術と同様にアルゴンガスなどの不活性ガスを使用することが勧められる。
As the sample, any material may be used as long as it is a material that generates triboelectric charging, regardless of whether it is organic or inorganic. The target material may be anything as long as it is an insulating material that generates frictional charging.
For example, silicon nitride (Si 3 N 4 ), oxide, organic polymer, etc., which are used as conventional sputtering targets.
In the atmospheric tribomicroplasma coating method, air is naturally used as a sputtering gas, but it should be noted that in this case, the film is likely to be oxidized.
In an atmosphere control type tribo plasma coating apparatus, it is recommended to use an inert gas such as an argon gas as in the prior art.

次に、コーティングの行われる場所であるが、図2のコーティング膜形成平面図に示されているように、プラズマ発生領域18、19の範囲に発生する。プラズマ発生領域18、19とコーティング膜Bの形成される範囲は、それぞれ同一である。
実験によれば、プラズマの発生する範囲は、図2に示されるように摩擦トラック20を大きく越えて発生するので、摩擦トラックよりも広い範囲にコーティングをすることが可能である。
また、トライボマイクロプラズマCVDコーティングにおいては、ディスクの表面上に形成されたポリマーなどの潤滑性薄膜は、摺動中にピンの表面に移着することが実験で確かめられており、ピンとディスクの同時コーティングが可能である。
Next, although it is a place where coating is performed, as shown in the coating film formation plan view of FIG. The areas where the plasma generation regions 18 and 19 and the coating film B are formed are the same.
According to the experiment, the plasma generation range is generated so as to greatly exceed the friction track 20 as shown in FIG. 2, so that the coating can be performed in a wider range than the friction track.
Also, in the tribomicroplasma CVD coating, it has been experimentally confirmed that the lubricating thin film such as a polymer formed on the surface of the disk is transferred to the surface of the pin during sliding. Coating is possible.

図3と図4はすべり軸受用摺動面と歯車の摺動面に潤滑性薄膜をコーティングするための原理を説明した図である。図3と図4では、すべり軸受けと歯車が真空槽の中にいれてあるが、ピンディスク型トライボマイクロプラズマコーティング装置と同様に、大気中でもコーティングが可能である。
いずれの場合も、すべり軸受けの軸21と軸受け22との間及び歯車23と歯車24の間に発生したトライボマイクロプラズマを利用して、トライボマイクロプラズマコーティングを行う。
試料のピンとディスクの組み合わせを、すべり軸受においては軸と軸受、歯車においては歯と歯に置き換えれば、コーティング装置、コーティング方法ともピンとディスクの組み合わせの場合と同じである。
3 and 4 are diagrams for explaining the principle for coating the sliding surface for the sliding bearing and the sliding surface of the gear with a lubricating thin film. In FIG. 3 and FIG. 4, the sliding bearing and the gear are placed in the vacuum chamber, but the coating can be performed in the atmosphere as in the pin disk type tribo microplasma coating apparatus.
In any case, tribo microplasma coating is performed using tribomicroplasma generated between the shaft 21 and the bearing 22 of the sliding bearing and between the gear 23 and the gear 24.
If the combination of the sample pin and disk is replaced with a shaft and bearing in a sliding bearing and a tooth and tooth in a gear, the coating apparatus and coating method are the same as in the case of a combination of a pin and a disk.

このように、本発明は実機の摺動面の隙間で発生するプラズマを用いて、その場でプラズマコーティングし、摺動しつつプラズマコーティングを行うことができる。
また、摩擦または摺動により、薄膜には絶えず接線力を加えた状態でコーティングし、接線力による膜中の組織の配向を発生させることができるので、極めて高い耐摩耗性、良潤滑性の膜をコーティングできるトライボマイクロプラズマコーティング膜を提供することができる。
Thus, the present invention can perform plasma coating while performing plasma coating on the spot using plasma generated in the gap between the sliding surfaces of the actual machine.
In addition, the film can be coated with a tangential force constantly applied to the thin film by friction or sliding, and the orientation of the structure in the film can be generated by the tangential force. Therefore, the film has extremely high wear resistance and good lubricity. A tribomicroplasma coating film can be provided.

本発明によると、歯車、すべり軸受けなど、摺動部分をともなうあらゆる機器のコーティング膜の形成に使用することが可能であり、 機械産業、潤滑剤産業、ドライメッキ産業、薄膜コーティング産業など広範囲な技術に適用できるという優れた効果を有する。   According to the present invention, it can be used to form a coating film for any equipment with sliding parts such as gears, sliding bearings, etc., and has a wide range of technologies such as machinery industry, lubricant industry, dry plating industry, thin film coating industry, etc. It has an excellent effect that it can be applied to.

ピンディスク(摺動体と回転体)接触型トライボマイクロプラズマコーティング装置の説明図である。It is explanatory drawing of a pin disk (sliding body and rotary body) contact type tribo microplasma coating apparatus. コーティング膜を形成する際のトライボマイクロプラズマ発生領域を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the tribomicroplasma generation | occurrence | production area | region at the time of forming a coating film. すべり軸受用トライボマイクロプラズマコーティング装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the tribomicroplasma coating apparatus for slide bearings. 歯車用トライボマイクロプラズマコーティング装置の概略説明図である。It is a schematic explanatory drawing of the tribomicroplasma coating apparatus for gears.

符号の説明Explanation of symbols

1:ピンディスク接触型トライボマイクロプラズマコーティング装置
2:ピン摺動子、 3:回転ディスク
4:トライボマイクロプラズマ、 5:反応性ガス
6:パイプ、 7:真空槽、 8:バルブ
9:ターボ分子ポンプ、 10:ロータリーポンプ
11:ガス圧力計、12:リークバルブ
13:負荷機構、 14:回転機構、 15:摺動子移動機構
16、17:CVDコーティング膜
18、19:プラズマ発生領域
20:摩擦トラック、 21:すべり軸受けの軸、 22:軸受け
23、24:歯車
1: Pin disk contact type tribo micro plasma coating device 2: Pin slider, 3: Rotating disk 4: Tribo micro plasma, 5: Reactive gas 6: Pipe, 7: Vacuum tank, 8: Valve 9: Turbo molecular pump 10: Rotary pump 11: Gas pressure gauge 12: Leak valve 13: Load mechanism 14: Rotating mechanism 15: Slider moving mechanism 16, 17: CVD coating film 18, 19: Plasma generation region 20: Friction track 21: Slide bearing shaft 22: Bearing 23, 24: Gear

Claims (2)

摺動体と回転体を摩擦又は摺動させることにより、これらの間にトライボマイクロプラズマを発生させ、該摺動体と回転体の一方を正に他方を負に帯電させて、摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体を構成する他方の物質の少なくとも一部からなるプラズマスパッタ膜を形成することを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング方法。 By friction or slide sliding body and the rotating member, to generate a tribo microplasma between them, by positively charged and the other negatively one sliding body and the rotating body, the slide member and the rotating member A tribomicroplasma coating method comprising forming a plasma sputtered film comprising at least a part of the other substance constituting the sliding body or rotating body on one or both sides. 摺動体と回転体を摩擦又は摺動させる装置、摺動体と回転体との間に摩擦又は摺動によりトライボマイクロプラズマを発生させる装置、摺動体と回転体の一方を正に他方を負に帯電させ、該摺動体と回転体の一方又は双方に、摺動体又は回転体の他方の物質の少なくとも一部を形成させる装置からなることを特徴とするトライボマイクロプラズマコーティング装置。 Sliding body and apparatus of rubbing or sliding the rotating body, apparatus for generating Tribo microplasma by friction or sliding between the sliding body and the rotating body, positively charged and the other negatively one slide body and the rotating body And a tribo microplasma coating apparatus comprising: an apparatus for forming at least a part of the sliding body or the other material of the rotating body on one or both of the sliding body and the rotating body.
JP2008202640A 2008-08-06 2008-08-06 Tribomicroplasma coating method and coating apparatus Expired - Fee Related JP4997404B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008202640A JP4997404B2 (en) 2008-08-06 2008-08-06 Tribomicroplasma coating method and coating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008202640A JP4997404B2 (en) 2008-08-06 2008-08-06 Tribomicroplasma coating method and coating apparatus

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003312995A Division JP4264509B2 (en) 2003-09-04 2003-09-04 Tribomicroplasma coating film, coating method and coating apparatus

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2009007678A JP2009007678A (en) 2009-01-15
JP4997404B2 true JP4997404B2 (en) 2012-08-08

Family

ID=40323039

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008202640A Expired - Fee Related JP4997404B2 (en) 2008-08-06 2008-08-06 Tribomicroplasma coating method and coating apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4997404B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109540782A (en) * 2018-10-23 2019-03-29 中国科学院理化技术研究所 Pin disc type friction and wear testing machine

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2765897B2 (en) * 1988-12-23 1998-06-18 株式会社日立製作所 Lubricant supply method and bearing device using the method
JPH1145429A (en) * 1997-07-24 1999-02-16 Meidensha Corp Hard disk and manufacture of hard disk
JP3477516B2 (en) * 2001-01-10 2003-12-10 独立行政法人産業技術総合研究所 Apparatus and method for detecting charged particle emission using magnetoresistive element
JP3427186B2 (en) * 2001-01-12 2003-07-14 独立行政法人産業技術総合研究所 Contact state observation method and device
JP4264509B2 (en) * 2003-09-04 2009-05-20 独立行政法人産業技術総合研究所 Tribomicroplasma coating film, coating method and coating apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109540782A (en) * 2018-10-23 2019-03-29 中国科学院理化技术研究所 Pin disc type friction and wear testing machine
CN109540782B (en) * 2018-10-23 2021-08-20 中国科学院理化技术研究所 Pin disc type friction and wear testing machine

Also Published As

Publication number Publication date
JP2009007678A (en) 2009-01-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Gu et al. Amorphous self-lubricant MoS2-C sputtered coating with high hardness
Bootkul et al. Nitrogen doping for adhesion improvement of DLC film deposited on Si substrate by Filtered Cathodic Vacuum Arc (FCVA) technique
Moriguchi et al. History and applications of diamond-like carbon manufacturing processes
Konca et al. Elevated temperature tribological behavior of non-hydrogenated diamond-like carbon coatings against 319 aluminum alloy
Yang et al. Development of advanced duplex surface systems by combining CrAlN multilayer coatings with plasma nitrided steel substrates
KR20130094226A (en) Current insulated bearing components and bearings
Mo et al. Tribological investigation of WC/C coating under dry sliding conditions
Shimizu et al. Micro-texturing of DLC thin film coatings and its tribological performance under dry sliding friction for microforming operation
Konca et al. Dry sliding behaviour of non-hydrogenated DLC coatings against Al, Cu and Ti in ambient air and argon
Huang et al. Effect of deposition temperature on the microstructure and tribological properties of Si-DLC coatings prepared by PECVD
Tanaka et al. Tribological behavior of unlubricated sliding between a steel ball and Si-DLC deposited by ultra-high-speed coating employing an MVP method
Polcar et al. Self‐Lubricating W–S–C Nanocomposite Coatings
JP4997404B2 (en) Tribomicroplasma coating method and coating apparatus
Kim et al. Improved wear imbalance with multilayered nanocomposite nanocrystalline Cu and tetrahedral amorphous carbon coating
Feng et al. Structure and properties of ta-C films prepared by vacuum cathodic arc with an unbalanced external electromagnetic field
Xue et al. Current-carrying friction in carbon coated ball bearing
JP4264509B2 (en) Tribomicroplasma coating film, coating method and coating apparatus
Zhou et al. Wear-mechanism map of amorphous carbon nitride coatings sliding against silicon carbide balls in water
Wang et al. Low friction of graphene nanocrystallite embedded carbon nitride coatings prepared with MCECR plasma sputtering
Lofaj et al. Transfer layer evolution during friction in HIPIMS W–C coatings
CN107868936B (en) Sliding member and method for manufacturing same
JP6298019B2 (en) Manufacturing method of sliding member
Paskvale et al. Tribological properties of diamond-like carbon coatings prepared by anode layer source and magnetron sputtering
Khun et al. Effects of platinum content on tribological properties of platinum/nitrogen doped diamond-like carbon thin films deposited via magnetron sputtering
Semenov et al. Influence of environment and temperature on tribological behavior of diamond and diamond-like coatings

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110420

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A132

Effective date: 20110913

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120327

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120404

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150525

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees