JP4900890B2 - Optical film, method for producing optical film, polarizing plate, and image display device using the same - Google Patents
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Description
本発明は光学フイルム、特に反射防止フイルム、偏光板及び画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical film, in particular, an antireflection film, a polarizing plate, and an image display device.
微粒子とバインダーを配合して、接着剤、外装塗料、ハードコート、反射防止膜などの用途に用いる場合に、耐擦傷性、硬化物の強度、接しあう他の素材との密着性などを向上させることが検討されている。
微粒子とバインダーを配合する際には、微粒子が無機材料が不要な凝集を起こさないことが必要である。一般に行われる方法の1つは、微粒子をバインダーに親和性のある溶媒
中に分散した後にバインダーと混合して皮膜を形成する方法である。安定した性能を得るためには、微粒子が溶媒中に安定して分散されていることが重要である。具体的には、微粒子表面の親疎水性や立体障害性の制御が重要であり、無機酸化物微粒子においては、アルコキシシランを用いて表面処理することが知られている。例えば、非特許文献1にはシランカップリング剤を用い無機粒子を有機溶媒に分散する方法についての記載がある。
Adds fine particles and binder to improve the scratch resistance, strength of cured products, and adhesion to other materials that come into contact with each other when used in applications such as adhesives, exterior paints, hard coats, and antireflection films. It is being considered.
When blending the fine particles and the binder, it is necessary that the fine particles do not cause unnecessary aggregation of the inorganic material. One of the commonly used methods is a method in which fine particles are dispersed in a solvent having affinity for the binder and then mixed with the binder to form a film. In order to obtain stable performance, it is important that the fine particles are stably dispersed in the solvent. Specifically, it is important to control hydrophilicity / hydrophobicity and steric hindrance on the surface of fine particles, and it is known that inorganic oxide fine particles are surface-treated with alkoxysilane. For example, Non-Patent
微粒子とバインダーを含有するコーティング組成物が安定に調製できた後は、その組成物を支持体上に塗設し、所望の性能を達成するのが目的である。塗膜中での微粒子の状態が制御できないと目的の耐擦傷性、硬化物の強度、接触した他の素材との密着などの性能が変動してしまう。特に粒子サイズが1ミクロン以下の微粒子を含むコーティング組成物は比表面積が大きいため、有機溶媒の乾燥過程で微粒子間の相互作用が大きく凝集が起こりやすい。その結果塗膜中で凝集や相分離を起こして、塗膜性能に悪影響を及ぼすことがある。 After the coating composition containing the fine particles and the binder has been stably prepared, the objective is to coat the composition on a support to achieve the desired performance. If the state of the fine particles in the coating film cannot be controlled, the performance such as the intended scratch resistance, the strength of the cured product, and the adhesion with other materials that have come into contact will vary. In particular, since the coating composition containing fine particles having a particle size of 1 micron or less has a large specific surface area, the interaction between the fine particles is large in the drying process of the organic solvent, and aggregation tends to occur. As a result, aggregation and phase separation may occur in the coating film, which may adversely affect the coating film performance.
一方、反射防止フイルムは一般に、陰極管表示装置(CRT)、プラズマディスプレイ(PDP)エレクトロルミネッセンスディスプレイ(ELD)や液晶表示装置(LCD)のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。 On the other hand, an antireflection film is generally used in a display device such as a cathode ray tube display (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescence display (ELD), or a liquid crystal display (LCD). In order to prevent reflection of light, it is arranged on the outermost surface of the display so as to reduce the reflectance by using the principle of optical interference.
このような反射防止フイルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フイルムは最表面に用いられることからディスプレイ装置の保護膜としての機能が期待される。汚れやほこりが付着しにくいことや、耐擦傷性が強いことが求められる。厚さ100nm前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、および下層への密着性が必要である。 Such an antireflection film is prepared by forming a low refractive index layer having an appropriate thickness on the outermost surface, and optionally a high refractive index layer, a medium refractive index layer, a hard coat layer, etc. between the support and the support. it can. In order to realize a low reflectance, a material having a refractive index as low as possible is desired for the low refractive index layer. Further, since the antireflection film is used on the outermost surface, it is expected to function as a protective film for the display device. It is required that dirt and dust are difficult to adhere and that scratch resistance is strong. In order to realize high scratch resistance in a thin film having a thickness of around 100 nm, the strength of the coating itself and the adhesion to the lower layer are required.
材料の屈折率を下げるには、フッ素原子を導入する、密度を下げる(空隙を導入する)という手段があるがいずれも皮膜強度および密着性が損なわれ耐擦傷性が低下する方向であり、低い屈折率と高い耐傷性の両立は困難な課題であった。 In order to lower the refractive index of the material, there are means of introducing fluorine atoms and lowering the density (introducing voids), but both are in the direction that the film strength and adhesion are impaired and the scratch resistance is lowered, and low Reconciling refractive index and high scratch resistance has been a difficult task.
特にフッ素原子を含有するバインダーは、バインダーが負に帯電し易く、ディスプレイ表面に使用した場合には環境中の埃が付着し易いという問題があった。
防塵性付与の技術としては、カチオン系やアニオン系の材料を添加することが記載されている。しかしながらこの材料を用いた場合には、塗布液中で分離してしまったり、塗布時にムラが生じたり、膜の耐擦傷性が悪化するなどの問題を有していた。
また、非特許文献2には、導電性の粒子を含有する所謂帯電防止層を設けることが知られている。この方法は、新たに層を設けることが必要であり製造時の設備や時間の負荷が大きいという問題を有している。
In particular, a binder containing a fluorine atom has a problem that the binder is easily negatively charged, and when used on the display surface, dust in the environment tends to adhere.
As a technique for imparting dust resistance, it is described that a cationic or anionic material is added. However, when this material is used, there are problems such as separation in the coating solution, unevenness during coating, and deterioration of the scratch resistance of the film.
Further, Non-Patent Document 2 is known to provide a so-called antistatic layer containing conductive particles. This method has a problem that it is necessary to provide a new layer, and equipment and time load during production are large.
一方、特許文献1には含フッ素ポリマーを利用した低屈折率層素材にシランカップリング剤を添加することにより耐傷性が大幅に改良されることが記載されている。しかしながら沸点が低いシランカップリング剤は塗布乾燥工程で揮散する問題があり、揮散分を考慮した過剰量の添加を必要とし、安定した性能を得るのが難しいという問題があった。
On the other hand,
一方、非特許文献2、特許文献2には防汚性付与のためには、防汚層をオーバーコートすることが記載されている。しかしながら、これらの防汚性付与化合物は、オルガノシラン系化合物の加水分解縮合物を主バインダーとする層の上には塗設できるものの、一般に広く用いられる熱や電離放射線硬化型バインダーの上でははじき易かったり、ムラを生じ易いなどの課題を有している。 On the other hand, Non-Patent Document 2 and Patent Document 2 describe that an antifouling layer is overcoated in order to impart antifouling properties. However, these antifouling property-imparting compounds can be coated on a layer containing a hydrolyzed condensate of an organosilane compound as a main binder, but repels on generally used heat and ionizing radiation curable binders. It has problems such as being easy and causing unevenness.
本発明に係る先行技術は、以下の通りである。
本発明の目的は、反射率が低く、耐擦傷性・防塵性に優れた光学フイルムを提供することにある。更には、防汚性に優れた光学フイルムを提供することにある。また、更にはそのような反射防止フイルムを用いた偏光板やディスプレイ装置を提供することにある。 An object of the present invention is to provide an optical film having a low reflectance and excellent scratch resistance and dust resistance. Furthermore, it is providing the optical film excellent in antifouling property. Furthermore, it is providing the polarizing plate and display apparatus which used such an antireflection film.
本発明者は、鋭意検討の結果、以下の手段により本発明の効果が得られることを見出した。
(1)支持体上に微粒子とバインダーを含有する組成物が塗設されて薄膜層が形成されてなる光学フィルムであって、
該薄膜層全層中の平均粒子充填率(A)に対する、支持体と反対側の上層側30%膜厚中の平均粒子充填率(B)の比率であるSP値[(B/A)×100]]が105%以上333%以下であり、
前記微粒子が中空シリカ粒子であり、
前記微粒子の表面が該微粒子と共有結合を形成する一般式(II)で表される化合物及び一般式(IV)で表される化合物で処理されており、
前記バインダーが少なくとも1種の光重合性化合物であり、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルである2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを含有する
ことを特徴とする光学フィルム。
一般式(II)
一般式(IV) C n F 2n+1― (CH 2 ) m― Si(R) 3
上記式中、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。
As a result of intensive studies, the present inventor has found that the effects of the present invention can be obtained by the following means.
(1) An optical film in which a thin film layer is formed by coating a composition containing fine particles and a binder on a support,
SP value [(B / A) × which is the ratio of the average particle filling rate (B) in the 30% film thickness on the upper layer side opposite to the support to the average particle filling rate (A) in the entire thin film layer 100]] is 105 % or more and 333% or less,
The fine particles are hollow silica particles ;
The surface of the fine particle is treated with a compound represented by the general formula (II) and a compound represented by the general formula ( IV ) that form a covalent bond with the fine particle,
An optical film characterized in that the binder is at least one photopolymerizable compound and contains a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, which is an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid. .
Formula (II)
Formula (IV) C n F 2n + 1- (CH 2) m- Si (R) 3
In the above formula, n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.
(2)(1)に記載の光学フィルム上に、防汚層を塗設してなることを特徴とする光学フィルム。
(3)支持体が透明支持体であり、かつ少なくともハードコート層と低屈折率層が該支持体上に積層されて成る多層反射防止フィルムであることを特徴とする(1)または(2)に記載の光学フィルムであって、光学フィルム。
(2 ) An optical film obtained by coating an antifouling layer on the optical film according to (1 ) .
( 3 ) The support is a transparent support, and is a multilayer antireflection film in which at least a hard coat layer and a low refractive index layer are laminated on the support (1) or (2) An optical film according to any one of the above.
(4)上記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の光学フィルムの作製において、微粒子とバインダーを含有するコーティング組成物中に少なくとも2種類の揮発性溶媒を含有させて塗設することを特徴とする光学フィルムの作製方法。
(5)上記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする偏光板。
(6)上記(1)〜(3)のいずれか一項に記載の光学フィルムを有することを特徴とする画像表示装置。
本発明は、上記(1)〜(6)に関するものであるが、その他の事項についても参考のために記載した。
( 4 ) In the production of the optical film according to any one of (1) to ( 3 ), the coating composition containing the fine particles and the binder is coated with at least two kinds of volatile solvents. A method for producing an optical film.
( 5 ) A polarizing plate comprising the optical film according to any one of (1) to ( 3 ) above.
( 6 ) An image display device comprising the optical film according to any one of (1) to ( 3 ).
The present invention relates to the above (1) to ( 6 ), but other matters are also described for reference.
本発明の光学フイルムは、反射率が低く、耐擦傷性・防塵性、更には防汚性に優れる。
更に、本発明の光学フィルム、あるいは本発明の光学フィルムを用いた偏光板を備えたディスプレイ装置は、外光の映り込みや背景の映りこみが少なく、極めて視認性が高い。
The optical film of the present invention has a low reflectance, and is excellent in scratch resistance / dust resistance, and further in antifouling properties.
Further, the display device provided with the optical film of the present invention or the polarizing plate using the optical film of the present invention has very high visibility because there is little reflection of external light and reflection of the background.
以下、本発明を詳細に説明する。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「(数値1)〜(数値2)」という記載は「(数値1)以上(数値2)以下」の意味を表す。 Hereinafter, the present invention will be described in detail. In the present specification, when a numerical value represents a physical property value, a characteristic value, etc., the description “(numerical value 1) to (numerical value 2)” means “(numerical value 1) or more and (numerical value 2) or less” .
[層内の粒子の分布]
本発明の光学フイルムは、支持体上に微粒子とバインダーを含有する組成物が塗設されて薄膜層が形成されており、該薄膜層全層中の平均粒子充填率(A)に対して、支持体と反対側の上層側30%膜厚中の平均粒子充填率(B)の比率で表されるSP値[(B/A)×100]が90%以上333%以下であるを特徴とする。本発明における平均粒子充填率(A)は、以下の方法で決定した。光学フイルムを50nmの厚さの切片として、その断面を透過型電子顕微鏡を用いて15万倍の写真を5視野撮影した。層厚に対して50倍の長さの幅にわたり粒子数をカウントし、平均粒子充填率(A)は断面写真上で薄膜層中の単位面積当たりの粒子の個数を算出した。また、支持体と反対側の上層側30%膜厚中の平均粒子充填率(B)も平均粒子充填率(A)と同様にして算出した。また、例えば、薄膜中の上層側30%膜中に部分的に粒子が含有される場合には、断面写真上で該領域に含まれる粒子の面積の割合を乗じて粒子数を算出した。すなわちある粒子がその面積の70%が上層側の30%膜厚中に含有される場合には0.7個にカウントするものとした。また、厚さ50nmの切片の断面写真において粒子が重なって観察される場合には、重なった分もカウントするものとした。この場合、粒子の層内分布は層面方向で方向性を有しておらず、切片として選択された特定の断面の粒子の計数に基づいて平均粒子充填率を求めることができる。
本発明のSP値の範囲は防塵性の観点で、好ましくは90〜333%であり、更に好ましくは100〜333%であり、最も好ましくは150〜280%である。薄膜層内での代表的な分布の断面模式図を図1〜図3に示す。
[Distribution of particles in the layer]
In the optical film of the present invention, a thin film layer is formed by coating a composition containing fine particles and a binder on a support, and the average particle filling rate (A) in the entire thin film layer is as follows. SP value [(B / A) × 100] represented by the ratio of average particle filling rate (B) in 30% film thickness on the upper layer side opposite to the support is 90% or more and 333% or less. To do. The average particle filling rate (A) in the present invention was determined by the following method. The optical film was taken as a section having a thickness of 50 nm, and the cross section was photographed at 150,000 magnifications using five fields of view using a transmission electron microscope. The number of particles was counted over a width 50 times longer than the layer thickness, and the average particle filling rate (A) was calculated as the number of particles per unit area in the thin film layer on the cross-sectional photograph. The average particle filling rate (B) in the 30% film thickness on the upper layer side opposite to the support was also calculated in the same manner as the average particle filling rate (A). Further, for example, when the particles are partially contained in the upper 30% film in the thin film, the number of particles was calculated by multiplying the ratio of the area of the particles contained in the region on the cross-sectional photograph. That is, when 70% of the area of a certain particle is contained in a 30% film thickness on the upper layer side, it is counted as 0.7. In addition, in the case where particles were observed in a cross-sectional photograph of a section having a thickness of 50 nm, the overlapping amount was counted. In this case, the particle distribution in the layer does not have directionality in the layer surface direction, and the average particle filling rate can be obtained based on the count of particles of a specific cross section selected as an intercept.
The SP value range of the present invention is preferably 90 to 333%, more preferably 100 to 333%, and most preferably 150 to 280% from the viewpoint of dustproofness. Cross-sectional schematic diagrams of typical distributions in the thin film layer are shown in FIGS.
本発明において微粒子とバインダーを含有する薄膜層においては、微粒子と全固形分との質量の比率は、2〜85%が好ましく、更に好ましくは5〜80%、最も好ましくは20〜75%である。この比率が高くなりすぎると膜が脆くなり、少なすぎると本来の微粒子を入れる目的が発揮できない。本発明の薄膜層の上に更に防汚層を設ける場合においては、微粒子と全固形分との質量の比率は、好ましくは5〜80%、最も好ましくは25%〜75%である。
本発明において該薄膜層の厚みは、10〜5000nmが好ましく、更に好ましくは10〜500nm、最も好ましくは20〜300nmである。好ましい層は低屈折率層であり、バインダーが少なくともフルオロカーボン又はジメチルシロキサン部を含有する化合物を含有することが好ましい。例えば、屈折率の低いバインダーと低屈折率微粒子を含有した塗布組成物を塗布し、低屈折率微粒子を塗設直後の塗膜内の粒子流動性によって上部に偏析させることで、本来別層として2層必要な塗布を1回の塗布で行うことも特に好ましい。
In the present invention, in the thin film layer containing the fine particles and the binder, the mass ratio between the fine particles and the total solid content is preferably 2 to 85%, more preferably 5 to 80%, and most preferably 20 to 75%. . If this ratio is too high, the film becomes brittle, and if it is too low, the purpose of containing the original fine particles cannot be exhibited. When the antifouling layer is further provided on the thin film layer of the present invention, the mass ratio of the fine particles to the total solid content is preferably 5 to 80%, most preferably 25% to 75%.
In the present invention, the thickness of the thin film layer is preferably 10 to 5000 nm, more preferably 10 to 500 nm, and most preferably 20 to 300 nm. A preferred layer is a low refractive index layer, and the binder preferably contains a compound containing at least a fluorocarbon or dimethylsiloxane moiety. For example, a coating composition containing a low refractive index binder and low refractive index fine particles is applied, and the low refractive index fine particles are segregated to the upper part by the particle fluidity in the coating film immediately after coating, so that it is originally a separate layer. It is also particularly preferable to perform the application requiring two layers in a single application.
次に、薄膜層内の微粒子の分散性改良処理について述べる。本発明において、微粒子は、無機微粒子であることが好ましく、とくに無機酸化物微粒子であることが好ましい。
無機酸化物微粒子は、無機酸化物微粒子が下記一般式(I)で表されるオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物により分散性の改良処理がなされており、無機酸化物微粒子の分散性の改良処理の際に、酸触媒および下記の金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが好ましい。
上記分散性の改良処理は、オルガノシランと無機酸化物微粒子と必要に応じて水とを、加水分解機能を有する触媒および縮合機能を有する金属キレート化合物の少なくともいずれかの存在下に、接触させることにより行われる。オルガノシランは、一部加水分解されていても良いし、部分縮合していても良い。オルガノシランは、加水分解に引き続いて部分縮合し、これが無機酸化物微粒子の表面を修飾して、分散性が向上し、安定した無機酸化物微粒子の分散液が得られる。
Next, a process for improving the dispersibility of the fine particles in the thin film layer will be described. In the present invention, the fine particles are preferably inorganic fine particles, and particularly preferably inorganic oxide fine particles.
The inorganic oxide fine particles are treated for improving dispersibility by hydrolyzate of organosilane represented by the following general formula (I) and / or a partial condensate thereof. In the treatment for improving dispersibility, it is preferable to use an acid catalyst and / or the following metal chelate compound.
In the dispersibility improving treatment, organosilane, inorganic oxide fine particles, and water as necessary are brought into contact in the presence of at least one of a catalyst having a hydrolysis function and a metal chelate compound having a condensation function. Is done. The organosilane may be partially hydrolyzed or partially condensed. The organosilane undergoes partial condensation subsequent to hydrolysis, which modifies the surface of the inorganic oxide fine particles to improve the dispersibility and obtain a stable dispersion of inorganic oxide fine particles.
一般式(I)
(R10)m―Si(X)4-m
(式中、R10は置換もしくは無置換のアルキル基または置換もしくは無置換のアリール基を表す。Xは水酸基または加水分解可能な基を表す。mは1〜3の整数を表す。)
金属キレート化合物
一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコールと一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R4は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiおよびAlから選ばれる金属を中心金属とする少なくとも1種の金属キレート化合物。
Formula (I)
(R 10) m- Si (X ) 4-m
(In the formula, R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. M represents an integer of 1 to 3.)
Metal chelate compound An alcohol represented by a general formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and a general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein R 4 is the number of carbon atoms) Zr, Ti, and Al having a ligand of a compound represented by 1 to 10 alkyl groups, R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. At least one metal chelate compound having a metal selected from
[オルガノシラン化合物]
本発明に用いるオルガノシラン化合物について詳細に説明する。
一般式(I)
(R10)m−Si(X)4-m
一般式(I)においてR10は、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基を表す。
アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ヘキシル基、t-ブチル基、sec-ブチル基、ヘキシル基、デシル基、ヘキサデシル基等が挙げられる。アルキル基として好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは1〜6のものである。
アリール基としてはフェニル基、ナフチル基等が挙げられ、好ましくはフェニル基である。
[Organosilane compound]
The organosilane compound used in the present invention will be described in detail.
Formula (I)
(R 10 ) m -Si (X) 4-m
In the general formula (I), R 10 represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group.
Examples of the alkyl group include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, t-butyl, sec-butyl, hexyl, decyl, hexadecyl and the like. The alkyl group preferably has 1 to 30 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the aryl group include a phenyl group and a naphthyl group, and a phenyl group is preferable.
Xは、水酸基または加水分解可能な基を表す。加水分解可能な基としては、例えばアルコキシ基(炭素数1〜5のアルコキシ基が好ましい。例えばメトキシ基、エトキシ基等が挙げられる)、ハロゲン原子(例えばCl、Br、I等)、およびR2COO基(R2は水素原子または炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。例えばCH3COO基、C2H5COO基等が挙げられる)が挙げられ、好ましくはアルコキシ基であり、特に好ましくはメトキシ基またはエトキシ基である。
mは1〜3の整数を表す。R10もしくはXが複数存在するとき、複数のR10もしくはXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。mとして好ましくは1または2であり、特に好ましくは1である。
X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Examples of the hydrolyzable group include an alkoxy group (an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, such as a methoxy group and an ethoxy group), a halogen atom (for example, Cl, Br, I and the like), and R 2. COO groups (R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms. Examples include CH 3 COO groups and C 2 H 5 COO groups), preferably alkoxy groups, particularly preferably. Is a methoxy group or an ethoxy group.
m represents an integer of 1 to 3. When R 10 or X there are a plurality, a plurality of R 10 or X groups may be different, even the same, respectively. m is preferably 1 or 2, particularly preferably 1.
R10に含まれる置換基としては特に制限はないが、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基(メチル基、エチ基、i-プロピル基、プロピル基、t-ブチル基等)、アリール基(フェニル基、ナフチル基等)、芳香族ヘテロ環基(フリル基、ピラゾリル基、ピリジル基等)、アルコキシ基(メトキシ基、エトキシ基、i-プロポキシ基、ヘキシルオキシ基等)、アリールオキシ基(フェノキシ基等)、アルキルチオ基(メチルチオ基、エチルチオ基等)、アリールチオ基(フェニルチオ基等)、アルケニル基(ビニル基、1-プロペニル基)、アシルオキシ基(アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等)、アルコキシカルボニル基(メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等)、アリールオキシカルボニル基(フェノキシカルボニル基等)、カルバモイル基(カルバモイル基、N-メチルカルバモイル基、N,N-ジメチルカルバモイル基、N-メチル-N-オクチルカルバモイル基等)、アシルアミノ基(アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アクリルアミノ基、メタクリルアミノ基等)等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。なお、本明細書においては、水素原子を置換するものが単一の原子であっても、便宜上置換基として取り扱う。
R10が複数ある場合は、少なくとも一つが、置換アルキル基もしくは置換アリール基であることが好ましい。中でも該置換アルキル基もしくは置換アリール基がさらにビニル重合性基を有することが好ましく、この場合、一般式(I)で表される化合物は、下記一般式(II)で表されるビニル重合性の置換基を有するオルガノシラン化合物として表すことができる。
The substituent contained in R 10 is not particularly limited, but is a halogen atom (fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group (methyl group, ethyl group, i -Propyl group, propyl group, t-butyl group etc.), aryl group (phenyl group, naphthyl group etc.), aromatic heterocyclic group (furyl group, pyrazolyl group, pyridyl group etc.), alkoxy group (methoxy group, ethoxy group) , I-propoxy group, hexyloxy group, etc.), aryloxy group (phenoxy group, etc.), alkylthio group (methylthio group, ethylthio group, etc.), arylthio group (phenylthio group, etc.), alkenyl group (vinyl group, 1-propenyl group) ), Acyloxy group (acetoxy group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, etc.), alkoxycarbonyl group (methoxy) Sicarbonyl group, ethoxycarbonyl group, etc.), aryloxycarbonyl group (phenoxycarbonyl group, etc.), carbamoyl group (carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-methyl-N-octylcarbamoyl group) Etc.), acylamino groups (acetylamino group, benzoylamino group, acrylamino group, methacrylamino group, etc.) and the like, and these substituents may be further substituted. In the present specification, even if a hydrogen atom is replaced by a single atom, it is treated as a substituent for convenience.
When there are a plurality of R 10 , at least one is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group. Among these, the substituted alkyl group or substituted aryl group preferably further has a vinyl polymerizable group. In this case, the compound represented by the general formula (I) is a vinyl polymerizable compound represented by the following general formula (II). It can be expressed as an organosilane compound having a substituent.
一般式(II)
一般式(II)においてR1は、水素原子、メチル基、メトキシ基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子または塩素原子を表す。上記アルコキシカルボニル基としては、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。R1としては、水素原子、メチル基、メトキシ基、メトキシカルボニル基、シアノ基、フッ素原子および塩素原子が好ましく、水素原子、メチル基、メトキシカルボニル基、フッ素原子および塩素原子が更に好ましく、水素原子およびメチル基が特に好ましい。
Yは、単結合、エステル基、アミド基、エーテル基またはウレア基を表す。単結合、エステル基およびアミド基が好ましく、単結合およびエステル基が更に好ましく、エステル基が特に好ましい。
In the general formula (II), R 1 represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. R 1 is preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom or a chlorine atom, more preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom or a chlorine atom, And methyl groups are particularly preferred.
Y represents a single bond, an ester group, an amide group, an ether group or a urea group. Single bonds, ester groups and amide groups are preferred, single bonds and ester groups are more preferred, and ester groups are particularly preferred.
Lは、2価の連結鎖であり、具体的には、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基、内部に連結基(例えば、エーテル基、エステル基、アミド基)を有する置換もしくは無置換のアルキレン基、または内部に連結基を有する置換もしくは無置換のアリーレン基であり、なかでも、置換もしくは無置換の炭素数2〜10のアルキレン基、置換もしくは無置換の炭素数6〜20のアリーレン基、内部に連結基を有する炭素数3〜10のアルキレン基が好ましく、無置換のアルキレン基、無置換のアリーレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が更に好ましく、無置換のアルキレン基、内部にエーテル連結基又はエステル連結基を有するアルキレン基が特に好ましい。置換基は、ハロゲン、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられ、これら置換基は更に置換されていても良い。 L is a divalent linking chain, specifically, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and a linking group (for example, an ether group, an ester group, an amide group) inside. A substituted or unsubstituted alkylene group, or a substituted or unsubstituted arylene group having a linking group therein, among which a substituted or unsubstituted alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, a substituted or unsubstituted carbon number 6 An alkylene group having 3 to 10 carbon atoms having a linking group therein and an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group, and an alkylene group having an ether linking group or an ester linking group therein. An unsubstituted alkylene group and an alkylene group having an ether linking group or an ester linking group therein are particularly preferred. Examples of the substituent include a halogen, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group, and these substituents may be further substituted.
nは0または1を表す。Xが複数存在するとき、複数のXはそれぞれ同じであっても異なっていても良い。nとして好ましくは0である。
R10は、一般式(I)のR10と同義であり、置換もしくは無置換のアルキル基、無置換のアリール基が好ましく、無置換のアルキル基、無置換のアリール基が更に好ましい。
Xは、一般式(I)のXと同義であり、ハロゲン、水酸基、無置換のアルコキシ基が好ましく、塩素、水酸基、無置換の炭素数1〜6のアルコキシ基が更に好ましく、水酸基、炭素数1〜3のアルコキシ基が更に好ましく、メトキシ基が特に好ましい。
n represents 0 or 1. When there are a plurality of Xs, the plurality of Xs may be the same or different. n is preferably 0.
R 10 has the same meaning as R 10 in formula (I), preferably a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, and more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.
X has the same meaning as X in formula (I), preferably a halogen, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group, more preferably a chlorine, a hydroxyl group or an unsubstituted alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a hydroxyl group or a carbon number. 1-3 alkoxy groups are more preferable, and a methoxy group is particularly preferable.
本発明に用いるオルガノシラン化合物として、下記一般式(III)で表されるものも好ましい。
一般式(III) (Rf―L1)n―Si(R11 )n-4
上記式中、Rfは炭素数1〜20の直鎖、分岐、環状の含フッ素アルキル基、または炭素数6〜14の含フッ素芳香族基を表す。Rfは、炭素数3〜10の直鎖、分岐、環状のフルオロアルキル基が好ましく、炭素数4〜8の直鎖のフルオロアルキル基が更に好ましい。L1は炭素数10以下の2価の連結基を表し、好ましくは炭素数1〜10のアルキレン基、更に好ましくは炭素数1〜5のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖もしくは分岐の、置換もしくは無置換の、内部に連結基(例えば、エーテル、エステル、アミド)を有していてもよいアルキレン基である。アルキレン基は置換基を有していてもよく、その場合の好ましい置換基は、ハロゲン原子、水酸基、メルカプト基、カルボキシル基、エポキシ基、アルキル基、アリール基等が挙げられる。R11は水酸基または加水分解可能な基を表し、炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、メトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が更に好ましい。nは1〜3の整数を表す。
As the organosilane compound used in the present invention, those represented by the following general formula (III) are also preferred.
Formula (III) (Rf-L 1 ) n- Si (R 11) n-4
In the above formula, Rf represents a linear, branched or cyclic fluorinated alkyl group having 1 to 20 carbon atoms or a fluorinated aromatic group having 6 to 14 carbon atoms. Rf is preferably a linear, branched or cyclic fluoroalkyl group having 3 to 10 carbon atoms, and more preferably a linear fluoroalkyl group having 4 to 8 carbon atoms. L 1 represents a divalent linking group having 10 or less carbon atoms, preferably an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 1 to 5 carbon atoms. The alkylene group is a linear or branched, substituted or unsubstituted alkylene group that may have a linking group (for example, ether, ester, amide) inside. The alkylene group may have a substituent, and preferable substituents in that case include a halogen atom, a hydroxyl group, a mercapto group, a carboxyl group, an epoxy group, an alkyl group, and an aryl group. R 11 represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group, preferably an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom, more preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom. n represents an integer of 1 to 3.
次に一般式(III)で表される含フッ素シランカップリング剤の中でも、下記一般式(IV)で表される含フッ素シランカップリング剤が好ましい。
一般式(IV) CnF2n+1―(CH2)m―Si(R)3
上記式中、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。nは4〜10が好ましく、mは1〜3が好ましく、Rはメトキシ基、エトキシ基、及び塩素原子が好ましい。
Next, among the fluorine-containing silane coupling agent represented by the general formula (III), the fluorine-containing silane coupling agent represented by the following general formula (IV) is preferable.
Formula (IV) C n F 2n + 1- (CH 2) m- Si (R) 3
In the above formula, n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom. n is preferably 4 to 10, m is preferably 1 to 3, and R is preferably a methoxy group, an ethoxy group, or a chlorine atom.
一般式(I)の化合物は2種類以上を併用しても良い。
以下に一般式(I)で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
Two or more kinds of the compounds represented by formula (I) may be used in combination.
Specific examples of the compound represented by formula (I) are shown below, but the present invention is not limited thereto.
これらの具体例の中で、(M-1)、(M-2)、(M-56)、(M-57)等が特に好ましい。また、特許第3474330号の参考例に記載のA,B,Cの化合物も分散安定性に優れ好ましい。本発明においては、一般式(I)で表されるオルガノシラン化合物の使用量は、特に制限はないが、無機酸化物微粒子当たり1質量%〜300質量%が好ましく、更に好ましくは3質量%〜100質量%、最も好ましくは5質量%〜50質量%である。無機酸化物の表面の水酸基基準の規定度濃度(Formol)当たりでは1〜300モル%が好ましく、更に好ましくは5〜300モル%、最も好ましくは10〜200モル%である。
オルガノシラン化合物の使用量が上記範囲であると、分散液の安定化効果が充分得られ、塗膜形成時に膜強度も上昇する。複数種のオルガノシラン化合物を併用することも好ましく、複数種の化合物を同時に添加することも、添加時間をずらして反応させることもできる。また、複数種の化合物を予め部分縮合物にしてから添加すると反応制御が容易であり好ましい。
Among these specific examples, (M-1), (M-2), (M-56), (M-57) and the like are particularly preferable. Further, the compounds of A, B, and C described in Reference Example of Japanese Patent No. 3474330 are also preferable because of excellent dispersion stability. In the present invention, the amount of the organosilane compound represented by the general formula (I) is not particularly limited, but is preferably 1% by mass to 300% by mass, more preferably 3% by mass to the inorganic oxide fine particles. 100% by mass, most preferably 5% by mass to 50% by mass. It is preferably 1 to 300 mol%, more preferably 5 to 300 mol%, and most preferably 10 to 200 mol% per normal concentration (Formol) based on hydroxyl groups on the surface of the inorganic oxide.
When the amount of the organosilane compound used is in the above range, a sufficient stabilizing effect of the dispersion can be obtained, and the film strength is also increased during coating film formation. It is also preferable to use a plurality of types of organosilane compounds in combination, and a plurality of types of compounds can be added simultaneously, or the addition time can be shifted for reaction. Also, it is preferable to add a plurality of types of compounds after making them into partial condensates in advance because the reaction control is easy.
本発明においては、上記オルガノシランを加水分解物および/またはその部分縮合物を無機酸化物微粒子表面と作用させて無機酸化物微粒子の分散性を改善する。
加水分解縮合反応は、加水分解性基(X)1モルに対して0.3〜2.0モル、好ましくは0.5〜1.0モルの水を添加し、本発明に用いられる酸触媒または、金属キレート化合物の存在下、15〜100℃で、撹拌することにより行われることが好ましい。
In the present invention, the dispersibility of the inorganic oxide fine particles is improved by causing the hydrolyzate and / or partial condensate thereof to act on the surface of the inorganic oxide fine particles.
In the hydrolysis condensation reaction, 0.3 to 2.0 mol, preferably 0.5 to 1.0 mol of water is added to 1 mol of the hydrolyzable group (X), and the acid catalyst used in the present invention. Or it is preferable to carry out by stirring at 15-100 degreeC in presence of a metal chelate compound.
[分散性改良処理用の溶媒]
オルガノシランの加水分解物および/または縮合反応物による分散性の改良処理は、無溶媒でも、溶媒中でも行うことができる。溶媒を用いる場合はオルガノシランの加水分解物および/またはその部分縮合物の濃度を適宜に定めることができる。溶媒としては成分を均一に混合するために有機溶媒を用いることが好ましく、例えばアルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類などが好適である。
溶媒は、オルガノシランの加水分解物および/または縮合反応物と触媒を溶解させるものが好ましい。また、有機溶媒が塗布液あるいは塗布液の一部として用いられることが工程上好ましく、含フッ素ポリマーなどのその他の素材と混合した場合に、溶解性あるいは分散性を損なわないものが好ましい。
[Solvent for improving dispersibility]
The dispersibility improvement treatment with the hydrolyzate and / or condensation reaction product of organosilane can be performed in the absence of a solvent or in a solvent. When a solvent is used, the concentration of the hydrolyzate of organosilane and / or the partial condensate thereof can be appropriately determined. As the solvent, an organic solvent is preferably used in order to mix the components uniformly. For example, alcohols, aromatic hydrocarbons, ethers, ketones, esters and the like are preferable.
The solvent is preferably one that dissolves the hydrolyzate and / or condensation reaction product of the organosilane and the catalyst. In addition, it is preferable in the process that an organic solvent is used as a coating solution or a part of the coating solution, and those that do not impair the solubility or dispersibility when mixed with other materials such as a fluorine-containing polymer are preferable.
このうち、アルコール類としては、例えば1価アルコールまたは2価アルコールを挙げることができ、このうち1価アルコールとしては炭素数1〜8の飽和脂肪族アルコールが好ましい。これらのアルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコール、n-ブチルアルコール、sec -ブチルアルコール、tert-ブチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチレングリコールモノエチルエーテルなどを挙げることができる。 Among these, examples of the alcohols include monohydric alcohols and dihydric alcohols. Among these, monohydric alcohols are preferably saturated aliphatic alcohols having 1 to 8 carbon atoms. Specific examples of these alcohols include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, ethylene glycol. Examples thereof include monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate.
また、芳香族炭化水素類の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどを、エーテル類の具体例としては、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを、ケトン類の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトンなどを、エステル類の具体例としては、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、炭酸プロピレンなどを挙げることができる。
これらの有機溶媒は、1種単独であるいは2種以上を併用して使用することもできる。該処理における溶媒に対するオルガノシラン化合物の濃度は特に限定されるものではないが通常0.1質量%〜70質量%の範囲であり、好ましくは1質量%〜50質量%の範囲である。
本発明においては、アルコール系溶媒で無機酸化物微粒子を分散した後に、分散性改良処理を行い、それに引き続いて分散溶媒を芳香族炭化水素溶媒やケトン系溶媒に置換することが好ましい。塗設時に併用するバインダーとの親和性や分散物自身の安定性の向上の点から、ケトン系溶媒への置換が好ましい。
Specific examples of aromatic hydrocarbons include benzene, toluene and xylene, specific examples of ethers include tetrahydrofuran and dioxane, and specific examples of ketones include acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone. Specific examples of esters such as diisobutylketone and the like include ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and propylene carbonate.
These organic solvents can be used alone or in combination of two or more. Although the density | concentration of the organosilane compound with respect to the solvent in this process is not specifically limited, Usually, it is the range of 0.1 mass%-70 mass%, Preferably it is the range of 1 mass%-50 mass%.
In the present invention, it is preferable to disperse the inorganic oxide fine particles with an alcohol solvent and then perform a dispersibility improvement treatment, and subsequently replace the dispersion solvent with an aromatic hydrocarbon solvent or a ketone solvent. Substitution with a ketone solvent is preferable from the viewpoint of improving the affinity with the binder used at the time of coating and the stability of the dispersion itself.
[分散性の改良処理の触媒]
オルガノシランの加水分解物および/または縮合反応物による分散性の改良処理は、触媒の存在下で行われることが好ましい。触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸類;シュウ酸、酢酸、ギ酸、メタンスルホン酸、トルエンスルホン酸等の有機酸類;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等の無機塩基類;トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基類;トリイソプロポキシアルミニウム、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコキシド類等が挙げられるが、無機酸化物微粒子液の製造安定性や保存安定性の点から、本発明においては、酸触媒(無機酸類、有機酸類)及び/又は金属キレート化合物が用いられる。無機酸では塩酸、硫酸など、有機酸では水中での酸解離定数(pKa値(25℃))が4.5以下のものが好ましく、塩酸、硫酸及び水中での酸解離定数が3.0以下の有機酸がより好ましく、塩酸、硫酸及び水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、水中での酸解離定数が2.5以下の有機酸が更に好ましく、メタンスルホン酸、シュウ酸、フタル酸、マロン酸が更に好ましく、シュウ酸が特に好ましい。
[Catalyst for improving dispersibility]
The treatment for improving the dispersibility by the hydrolyzate and / or condensation reaction product of organosilane is preferably performed in the presence of a catalyst. Catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; triethylamine, Examples include organic bases such as pyridine; metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium. From the viewpoint of production stability and storage stability of the inorganic oxide fine particle liquid, an acid catalyst is used in the present invention. (Inorganic acids, organic acids) and / or metal chelate compounds are used. Inorganic acids such as hydrochloric acid and sulfuric acid, and organic acids preferably have an acid dissociation constant (pKa value (25 ° C.)) of 4.5 or less in water, and an acid dissociation constant in hydrochloric acid, sulfuric acid and water of 3.0 or less. More preferred is an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in hydrochloric acid, sulfuric acid and water, more preferred is an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water, and methanesulfonic acid. Further, oxalic acid, phthalic acid, and malonic acid are more preferable, and oxalic acid is particularly preferable.
オルガノシランの加水分解性基がアルコキシ基で酸触媒が有機酸の場合には、有機酸のカルボキシル基やスルホ基がプロトンを供給するために、水の添加量を減らすことができる。オルガノシランのアルコキシド基1モルに対する水の添加量は、0〜2モル、好ましくは0〜1.5モル、より好ましくは、0〜1モル、特に好ましくは、0〜0.5モルである。また、アルコールを溶媒に用いた場合には、実質的に水を添加しない場合も好適である。 When the hydrolyzable group of the organosilane is an alkoxy group and the acid catalyst is an organic acid, the amount of water added can be reduced because the carboxyl group or sulfo group of the organic acid supplies protons. The amount of water added to 1 mol of the alkoxide group of the organosilane is 0 to 2 mol, preferably 0 to 1.5 mol, more preferably 0 to 1 mol, and particularly preferably 0 to 0.5 mol. Further, when alcohol is used as a solvent, it is also preferable that water is not substantially added.
酸触媒の使用量は、酸触媒が無機酸の場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、酸触媒が有機酸の場合には、水の添加量によって最適な使用量が異なるが、水を添加する場合には加水分解性基に対して0.01〜10モル%、好ましくは0.1〜5モル%であり、実質的に水を添加しない場合には、加水分解性基に対して1〜500モル%、好ましくは10〜200モル%であり、より好ましくは20〜200モル%であり、更に好ましくは50〜150モル%であり、特に好ましくは50〜120モル%である。
処理は15〜100℃で撹拌することにより行われるがオルガノシランの反応性により調節されることが好ましい。
The amount of the acid catalyst used is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group when the acid catalyst is an inorganic acid, and the acid catalyst is an organic acid. However, when water is added, the optimal amount of use is 0.01 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the hydrolyzable group. When substantially no water is added, it is 1 to 500 mol%, preferably 10 to 200 mol%, more preferably 20 to 200 mol%, still more preferably 50 to 50 mol% with respect to the hydrolyzable group. 150 mol%, particularly preferably 50 to 120 mol%.
The treatment is carried out by stirring at 15 to 100 ° C., but is preferably controlled by the reactivity of organosilane.
[金属キレート化合物]
金属キレート化合物は、一般式R3OH(式中、R3は炭素数1〜10のアルキル基を示す。)で表されるアルコール及び/又は一般式R4COCH2COR5(式中、R4は炭素数1〜10のアルキル基を、R5は炭素数1〜10のアルキル基または炭素数1〜10のアルコキシ基を示す。)で表される化合物とを配位子とした、Zr、TiまたはAlから選ばれる金属を中心金属とするものであれば特に制限なく好適に用いることができる。この範疇であれば、2種以上の金属キレート化合物を併用しても良い。本発明に用いられる金属キレート化合物は、一般式
Zr(OR3)p1(R4COCHCOR5)p2、
Ti(OR3)q1(R4COCHCOR5)q2、および
Al(OR3)r1(R4COCHCOR5)r2
で表される化合物群から選ばれるものが好ましく、これらは前記オルガノシラン化合物の縮合反応を促進する作用を及ぼしている。
上記金属キレート化合物中のR3およびR4は、同一または異なってもよく炭素数1〜10のアルキル基、具体的にはエチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、フェニル基などである。また、R5は、前記と同様の炭素数1〜10のアルキル基のほか、炭素数1〜10のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、i−プロポキシ基、n−ブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブトキシ基などである。また、金属キレート化合物中のp1、p2、q1、q22、r1およびr2は、4あるいは6座配位となるように決定される整数を表す。
[Metal chelate compounds]
The metal chelate compound is an alcohol represented by a general formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and / or a general formula R 4 COCH 2 COR 5 (wherein R 4 Is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, R 5 is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.) Any metal having a central metal selected from Ti or Al can be suitably used without particular limitation. Within this category, two or more metal chelate compounds may be used in combination. The metal chelate compound used in the present invention has the general formula Zr (OR 3 ) p 1 (R 4 COCHCOR 5 ) p 2 ,
Ti (OR 3 ) q 1 (R 4 COCHCOR 5 ) q 2 and Al (OR 3 ) r 1 (R 4 COCHCOR 5 ) r 2
Those selected from the group of compounds represented by the formula (1) are preferred, and these act to promote the condensation reaction of the organosilane compound.
R 3 and R 4 in the metal chelate compound may be the same or different and each has an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, specifically an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group, a phenyl group, and the like. R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms as described above, or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms such as a methoxy group, an ethoxy group, an n-propoxy group, an i-propoxy group, and n-butoxy. Group, sec-butoxy group, t-butoxy group and the like. Further, p 1, p 2, q 1, q 2 2,
これらの金属キレート化合物の具体例としては、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジ-n-ブトキシビス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、n-ブトキシトリス(エチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n-プロピルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセチルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エチルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウムキレート化合物;ジイソプロポキシ・ビス(エチルアセトアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジイソプロポキシ・ビス(アセチルアセトン)チタニウムなどのチタニウムキレート化合物;ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、ジイソプロポキシアセチルアセトナートアルミニウム、イソプロポキシビス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、イソプロポキシビス(アセチルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセトナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアルミニウムキレート化合物などが挙げられる。
これらの金属キレート化合物のうち好ましいものは、トリ-n-ブトキシエチルアセトアセテートジルコニウム、ジイソプロポキシビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジイソプロポキシエチルアセトアセテートアルミニウム、トリス(エチルアセトアセテート)アルミニウムである。これらの金属キレート化合物は、1種単独であるいは2種以上混合して使用することができる。また、これらの金属キレート化合物の部分加水分解物を使用することもできる。
Specific examples of these metal chelate compounds include tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-n-butoxybis (ethylacetoacetate) zirconium, n-butoxytris (ethylacetoacetate) zirconium, tetrakis (n-propylacetate). Zirconium chelate compounds such as acetate) zirconium, tetrakis (acetylacetoacetate) zirconium, tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium; diisopropoxy bis (ethylacetoacetate) titanium, diisopropoxy bis (acetylacetate) titanium, diiso Titanium chelate compounds such as propoxy bis (acetylacetone) titanium; diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, diisopropoxy Cetylacetonate aluminum, isopropoxybis (ethylacetoacetate) aluminum, isopropoxybis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonato) aluminum, monoacetylacetonate bis (ethylacetate) And aluminum chelate compounds such as acetate) aluminum.
Among these metal chelate compounds, tri-n-butoxyethyl acetoacetate zirconium, diisopropoxybis (acetylacetonato) titanium, diisopropoxyethyl acetoacetate aluminum, and tris (ethyl acetoacetate) aluminum are preferable. These metal chelate compounds can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Moreover, the partial hydrolyzate of these metal chelate compounds can also be used.
本発明の金属キレート化合物は、縮合反応の速度および塗膜にした場合の膜強度の観点から、オルガノシランに対し、好ましくは、0.01〜50質量%、より好ましくは、0.1〜50質量%、さらに好ましくは、0.5〜10質量%の割合で用いられる。 The metal chelate compound of the present invention is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 50%, based on the organosilane, from the viewpoint of the speed of the condensation reaction and the film strength when formed into a coating film. It is used in a proportion of 0.5% by mass, more preferably 0.5 to 10% by mass.
[分散液の安定化添加剤]
本発明に用いられる分散液またはコーティング組成物には、上記オルガノシラン、酸触媒及び/又はキレート化合物に加えて、下記(c)成分が添加されることが好ましい。
以下に、(c)成分をさらに説明する。本発明で使用される(c)成分は、一般式R4COCH2COR5で表されるβ−ジケトン化合物および/またはβ−ケトエステル化合物であり、本発明に用いられる分散液またはコーティング組成物の安定性向上剤として作用するものである。すなわち、前記金属キレート化合物(ジルコニウム、チタニウムおよび/またはアルミニウム化合物)中の金属原子に配位することにより、これらの金属キレート化合物によるオルガノシランと金属キレート成分の縮合反応を促進する作用を抑制し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をなすものと考えられる。(c)成分を構成するR4およびR5は、前記金属キレート化合物を構成するR4およびR5と同様である。
[Dispersion stabilization additive]
In addition to the organosilane, acid catalyst and / or chelate compound, the following component (c) is preferably added to the dispersion or coating composition used in the present invention.
Hereinafter, the component (c) will be further described. The component (c) used in the present invention is a β-diketone compound and / or β-ketoester compound represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 , and is used for the dispersion or coating composition used in the present invention. It acts as a stability improver. That is, by coordinating to a metal atom in the metal chelate compound (zirconium, titanium and / or aluminum compound), the action of promoting the condensation reaction of organosilane and metal chelate component by these metal chelate compounds is suppressed, It is considered that it acts to improve the storage stability of the resulting composition. (C) constituting the component R4 and R5 are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.
この(c)成分のβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物の具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸-n-プロピル、アセト酢酸-i-プロピル、アセト酢酸-n-ブチル、アセト酢酸-sec-ブチル、アセト酢酸-t-ブチル、2,4-ヘキサン-ジオン、2,4-ヘプタン-ジオン、3,5-ヘプタン-ジオン、2,4-オクタン-ジオン、2,4-ノナン-ジオン、5-メチル-ヘキサン-ジオンなどを挙げることができる。これらのうち、アセト酢酸エチルおよびアセチルアセトンが好ましく、特にアセチルアセトンが好ましい。これらのβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物は、1種単独でまたは2種以上を混合して使用することもできる。本発明において(c)成分のβ-ジケトン化合物および/またはβ-ケトエステル化合物は、金属キレート化合物1モルに対し好ましくは2モル以上、より好ましくは3〜20モル用いられる。2モル未満では得られる組成物の保存安定性に劣るおそれがあり好ましいものではない。 Specific examples of the (c) component β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, acetoacetate-n-propyl, acetoacetate-i-propyl, acetoacetate- n-butyl, acetoacetate-sec-butyl, acetoacetate-t-butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, Examples include 2,4-nonane-dione, 5-methyl-hexane-dione, and the like. Of these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferred, and acetylacetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in combination of two or more. In the present invention, the β-diketone compound and / or β-ketoester compound as the component (c) is preferably used in an amount of 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal chelate compound. If it is less than 2 mol, the storage stability of the resulting composition may be inferior, which is not preferable.
[無機酸化物微粒子]
続いて本発明に用いることのできる無機酸化物微粒子について説明する。
無機酸化物粒子は、得られる硬化性組成物の硬化被膜の無色性の観点から、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも一つの元素の酸化物粒子であることが好ましい。
[Inorganic oxide fine particles]
Next, inorganic oxide fine particles that can be used in the present invention will be described.
The inorganic oxide particles are at least one selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium from the viewpoint of the colorlessness of the cured film of the resulting curable composition. Elemental oxide particles are preferred.
これらの無機酸化物粒子としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物(ITO)、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。中でも、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニアおよび酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは、単独でまたは2種以上を組合わせて用いることができる。さらには、無機酸化物粒子は、有機溶媒分散物として用いるのが好ましい。有機溶媒分散物として用いる場合、他の成分との相溶性、分散性の観点から、分散媒は、有機溶剤が好ましい。このような有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。 Examples of these inorganic oxide particles include particles of silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, indium tin oxide (ITO), antimony oxide, cerium oxide, and the like. be able to. Of these, particles of silica, alumina, zirconia and antimony oxide are preferred from the viewpoint of high hardness. These may be used alone or in combination of two or more. Furthermore, the inorganic oxide particles are preferably used as an organic solvent dispersion. When used as an organic solvent dispersion, the dispersion medium is preferably an organic solvent from the viewpoint of compatibility with other components and dispersibility. Examples of such an organic solvent include alcohols such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and octanol; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, and γ-butyrolactone. , Esters such as propylene glycol monomethyl ether acetate and propylene glycol monoethyl ether acetate; ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; dimethylformamide, dimethylacetamide, Examples thereof include amides such as N-methylpyrrolidone. Of these, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene and xylene are preferred.
酸化物粒子の数平均粒子径は、1nm〜2000nmが好ましく、3nm〜200nmがさらに好ましく、5nm〜100nmが特に好ましい。数平均粒子径が2000μmを超えると、硬化物としたときの透明性が低下したり、被膜としたときの表面状態が悪化する傾向がある。また、粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類を添加してもよい。 The number average particle diameter of the oxide particles is preferably 1 nm to 2000 nm, more preferably 3 nm to 200 nm, and particularly preferably 5 nm to 100 nm. When the number average particle diameter exceeds 2000 μm, the transparency when cured is reduced, and the surface state when coated is liable to deteriorate. Various surfactants and amines may be added to improve the dispersibility of the particles.
ケイ素酸化物粒子分散液(例えば、シリカ粒子)として市販されている商品としては、例えば、コロイダルシリカとして、日産化学工業(株)製メタノ−ルシリカゾル、MA−ST−MS、IPA−ST、IPA−ST−MS、IPA−ST−L、IPA−ST−ZL、IPA−ST−UP、EG−ST、NPC−ST−30、MEK−ST、MEK−ST−L、MIBK−ST、NBA−ST、XBA−ST、DMAC−ST、ST−UP、ST−OUP、ST−20、ST−40、ST−C、ST−N、ST−O、ST−50、ST−OL等、触媒化成工業(株)製中空シリカCS60-IPA等を挙げることができる。また粉体シリカとしては、日本アエロジル(株)製アエロジル130、アエロジル300、アエロジル380、アエロジルTT600、アエロジルOX50、旭硝子(株)製シルデックスH31、H32、H51、H52、H121、H122、日本シリカ工業(株)製E220A、E220、富士シリシア(株)製SYLYSIA470、日本板硝子(株)製SGフレ−ク等を挙げることができる。 Examples of products that are commercially available as silicon oxide particle dispersions (for example, silica particles) include colloidal silica, methanol silica sol manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., MA-ST-MS, IPA-ST, IPA- ST-MS, IPA-ST-L, IPA-ST-ZL, IPA-ST-UP, EG-ST, NPC-ST-30, MEK-ST, MEK-ST-L, MIBK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL, etc. ) Hollow silica CS60-IPA and the like. As powder silica, Aerosil 130, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT600, Aerosil OX50, Silex H31, H32, H51, H52, H121, H122, Asahi Glass Co., Ltd. Examples include E220A and E220 manufactured by Fuji Electric, SYLYSIA470 manufactured by Fuji Silysia Co., Ltd., SG flake manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd., and the like.
また、アルミナの水分散品としては、日産化学工業(株)製アルミナゾル−100、−200、−520;アルミナのイソプロパノール分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150I;アルミナのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製AS−150T;ジルコニアのトルエン分散品としては、住友大阪セメント(株)製HXU−110JC;アンチモン酸亜鉛粉末の水分散品としては、日産化学工業(株)製セルナックス;アルミナ、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム、酸化亜鉛等の粉末および溶剤分散品としては、シーアイ
化成(株)製ナノテック;アンチモンドープ酸化スズの水分散ゾルとしては、石原産業(株)製SN−100D;ITO粉末としては、三菱マテリアル(株)製の製品;酸化セリウム水分散液としては、多木化学(株)製ニードラール等を挙げることができる。
Moreover, as an aqueous dispersion product of alumina, Nissan Chemical Industries, Ltd. alumina sol-100, -200, -520; As an alumina isopropanol dispersion product, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. AS-150I; AS-150T manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd .; HXU-110JC manufactured by Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. as a toluene dispersion of zirconia; Nissan Chemical Industries, Ltd. as an aqueous dispersion of zinc antimonate powder ) Celnax; Alumina, Titanium oxide, Tin oxide, Indium oxide, Zinc oxide, etc. Powder and solvent dispersion products are nanotech made by CI Kasei Co., Ltd .; Antimony-doped tin oxide water dispersion sol is Ishihara Sangyo ( SN-100D, manufactured by Mitsubishi Materials Corporation, and ITO The aqueous dispersion, mention may be made of Taki Chemical Co., Ltd. Nidoraru like.
酸化物粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状であり、好ましくは、球状または中空状である。中空状のシリカ粒子については後述する。酸化物粒子の比表面積(窒素を用いたBET比表面積測定法による)は、好ましくは、10〜1000m2/gであり、さらに好ましくは、20〜500m2/gであり、最も好ましくは50〜300m2/gである。これら無機酸化物粒子は、乾燥状態の粉末を有機溶媒に分散することもできるが、例えば上記の酸化物の溶剤分散ゾルとして当業界に知られている微粒子状の酸化物粒子の分散液を直接用いることができる。 The oxide particles have a spherical shape, a hollow shape, a porous shape, a rod shape, a plate shape, a fiber shape, or an indefinite shape, preferably a spherical shape or a hollow shape. The hollow silica particles will be described later. The specific surface area of oxide particles (by BET method using nitrogen) is preferably at 10 to 1000 m 2 / g, more preferably from 20 to 500 m 2 / g, most preferably 50 to 300 m 2 / g. These inorganic oxide particles can be obtained by dispersing powder in a dry state in an organic solvent. For example, a dispersion of fine oxide particles known in the art as a solvent dispersion sol of the above oxide is directly used. Can be used.
[分散方法]
本発明において無機酸化物微粒子を粉体から溶媒中に分散して調製するには、分散剤を用いることもできる。本発明においては、アニオン性基を有する分散剤を用いることが好ましい。
アニオン性基としては、カルボキシル基、スルホン酸基(スルホ)、リン酸基(ホスホノ)、スルホンアミド基等の酸性プロトンを有する基、またはその塩が有効であり、特にカルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基またはその塩が好ましく、カルボキシル基、リン酸基が特に好ましい。分散性をさらに改良する目的でアニオン性基は複数個が含有されていてもよい。平均で2個以上であることが好ましく、より好ましくは5個以上、特に好ましくは10個以上である。また、分散剤に含有されるアニオン性基は、1分子中に複数種類が含有されていてもよい。
分散剤は、さらに架橋又は重合性官能基を含有することもできる。架橋又は重合性官能基としては、ラジカル種による付加反応・重合反応が可能なエチレン性不飽和基(例えば(メタ)アクリロイル基、アリル基、スチリル基、ビニルオキシ基等)、カチオン重合性基(エポキシ基、オキサタニル基、ビニルオキシ基等)、重縮合反応性基(加水分解性シリル基等、N−メチロール基)等が挙げられ、好ましくはエチレン性不飽和基を有する官能基である。
本発明においては、無機酸化物粒子を粉砕するのに分散機を用いることができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル(例、ピン付きビーズミル)、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライターおよびコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミルおよび高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダーおよびエクストルーダーが含まれる。
[Distribution method]
In the present invention, a dispersant may be used to prepare the inorganic oxide fine particles by dispersing them from a powder in a solvent. In the present invention, it is preferable to use a dispersant having an anionic group.
As the anionic group, a group having an acidic proton such as a carboxyl group, a sulfonic acid group (sulfo), a phosphoric acid group (phosphono), a sulfonamide group, or a salt thereof is effective, and in particular, a carboxyl group, a sulfonic acid group, A phosphoric acid group or a salt thereof is preferable, and a carboxyl group and a phosphoric acid group are particularly preferable. A plurality of anionic groups may be contained for the purpose of further improving dispersibility. The average number is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more. Moreover, the anionic group contained in a dispersing agent may contain multiple types in 1 molecule.
The dispersant may further contain a crosslinking or polymerizable functional group. Crosslinkable or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (for example, (meth) acryloyl groups, allyl groups, styryl groups, vinyloxy groups, etc.) that can undergo addition reactions and polymerization reactions with radical species, and cationic polymerizable groups (epoxies). Groups, oxatanyl groups, vinyloxy groups, etc.), polycondensation reactive groups (hydrolyzable silyl groups, etc., N-methylol groups) and the like, and functional groups having an ethylenically unsaturated group are preferred.
In the present invention, a disperser can be used to grind inorganic oxide particles. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pinned bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. A sand grinder mill and a high-speed impeller mill are particularly preferred. Further, preliminary dispersion processing may be performed. Examples of the disperser used for the preliminary dispersion treatment include a ball mill, a three-roll mill, a kneader, and an extruder.
[塗布液の溶媒]
以上説明した本発明に係る無機酸化物微粒子の有機溶媒分散液を用いて微粒子成分とし、バインダーと組み合わせてコーティング組成物となし、この組成物から光学フィルムの各層を形成することができる。コーティング組成物の溶媒に制限は無いが、少なくとも2種類の揮発性溶媒を含有することが好ましい。例えば、アルコールとその誘導体類、エーテル類、ケトン類、炭化水素類、エステル類、の中から選ばれる少なくとも2種を組み合わせて用いることが好ましい。バインダー成分の溶解度、無機微粒子の安定性、コーティング液の粘度調節などの観点から溶媒を選択することができる。溶媒を2種以上組み合わせて用いることで、本発明のSP値やSA値になるよう制御して微粒子を膜内に配置することができる。本発明に用いられる溶媒の好ましい沸点は、50℃以上250℃以下が好ましく、更に好ましくは65℃以上200℃以下である。また、好ましい誘電率は20℃において、1以上50以下が好ましく、5以上30以下が更に好ましい。誘電率が10以上の溶媒を無機微粒子に対して10質量%以上含むと分散安定性上好ましい。
[Coating solvent]
The organic oxide dispersion of inorganic oxide fine particles according to the present invention described above is used as a fine particle component and combined with a binder to form a coating composition, and each layer of the optical film can be formed from this composition. Although there is no restriction | limiting in the solvent of a coating composition, It is preferable to contain at least 2 type of volatile solvent. For example, it is preferable to use a combination of at least two selected from alcohol and derivatives thereof, ethers, ketones, hydrocarbons, and esters. A solvent can be selected from the viewpoint of the solubility of the binder component, the stability of the inorganic fine particles, and the adjustment of the viscosity of the coating liquid. By using a combination of two or more solvents, the fine particles can be arranged in the film in a controlled manner so that the SP value and SA value of the present invention are obtained. The boiling point of the solvent used in the present invention is preferably 50 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, more preferably 65 ° C. or higher and 200 ° C. or lower. Further, the preferable dielectric constant is preferably 1 or more and 50 or less, more preferably 5 or more and 30 or less at 20 ° C. It is preferable in terms of dispersion stability that a solvent having a dielectric constant of 10 or more is contained in an amount of 10% by mass or more based on the inorganic fine particles.
以下に本発明に用いることのできる溶媒を挙げるが、これらに限定されるものではない。
・アルコールとその誘導体類(メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロピルアルコール、n−ブタノール、イソブタノール、第二ブタノール、第三ブタノール、n−アミルアルコール、イソアミルアルコール、第二アミルアルコール、3−ペンタノール、第三アミルアルコール、n−ヘキサノール、メチルアミルアルコール、2−エチルブタノール、n−ヘプタノール、2−ヘプタノール、3−ヘプタノール、n−オクタノール、2−オクタノール、2−エチルヘキサノール、3,5,5−トリメチルヘキサノール、ノナノール、ベンジルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソアミルエーテル、メトキシメトキシエタノール、メトキシプロパノール、ブトキシエタノール、エチレングリコールモノアセテート、エチレングリコールジアセテート、ジエチレングリコール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル)
Although the solvent which can be used for this invention below is mentioned, it is not limited to these.
Alcohol and its derivatives (methanol, ethanol, n-propanol, isopropyl alcohol, n-butanol, isobutanol, sec-butanol, tert-butanol, n-amyl alcohol, isoamyl alcohol, sec amyl alcohol, 3-pentanol , Tertiary amyl alcohol, n-hexanol, methyl amyl alcohol, 2-ethylbutanol, n-heptanol, 2-heptanol, 3-heptanol, n-octanol, 2-octanol, 2-ethylhexanol, 3,5,5- Trimethylhexanol, nonanol, benzyl alcohol, ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol Diethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol isopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol isoamyl ether, methoxymethoxyethanol, methoxypropanol, butoxyethanol, ethylene glycol Monoacetate, ethylene glycol diacetate, diethylene glycol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol Mono butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether)
・エーテル類(イソプロピルエーテル、n−ブチルエーテル、ジイソアミルエーテル、メチルフェニルエーテル、エチルフェニルエーテル)
・ケトン類(アセトン、メチルアセトン、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチル−n−ブチル、メチルイソブチルケトン、メチル−n−アミルケトン、メチル−n−ヘキシルケトン、ジエチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジ−n−プロピルケトン、ジイソブチルケトン、アセトニルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン)
・ Ethers (isopropyl ether, n-butyl ether, diisoamyl ether, methylphenyl ether, ethylphenyl ether)
Ketones (acetone, methylacetone, methylethylketone, methyl-n-propylketone, methyl-n-butyl, methylisobutylketone, methyl-n-amylketone, methyl-n-hexylketone, diethylketone, ethyl-n-butylketone, Di-n-propyl ketone, diisobutyl ketone, acetonyl acetone, diacetone alcohol, cyclohexanone, methylcyclohexanone)
・炭化水素類(n−へキサン、イソへキサン、n−ヘプタン、n−オクタン、イソオクタン、n−デカン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、アミルベンゼン)
・エステル類(ギ酸プロピル、ギ酸−n−ブチル、ギ酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸エチル、酢酸−n−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、酢酸第二ブチル、酢酸−n−アミル、酢酸イソアミル、酢酸メチルイソアミル、酢酸メトキシブチル、酢酸第二へキシル、酢酸−2−エチルブチル、酢酸−2−エチルヘキシル、酢酸シクロへキシル、酢酸メチルシクロへキシル、酢酸ベンジル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸−n−ブチル、プロピオン酸イソアミル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸−n−ブチル、酪酸イソアミル、オキシイソ酪酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、イソ吉草酸イソアミル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸−n−ブチル、乳酸イソブチル、乳酸−n−アミル、乳酸イソアミル、安息香酸メチル、シュウ酸ジエチル)
Hydrocarbons (n-hexane, isohexane, n-heptane, n-octane, isooctane, n-decane, toluene, xylene, ethylbenzene, diethylbenzene, isopropylbenzene, amylbenzene)
Esters (propyl formate, n-butyl formate, isobutyl formate, amyl formate, ethyl acetate, n-propyl acetate, isopropyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, sec-butyl acetate, n-amyl acetate) , Isoamyl acetate, methyl isoamyl acetate, methoxybutyl acetate, secondary hexyl acetate, 2-ethylbutyl acetate, 2-ethylhexyl acetate, cyclohexyl acetate, methyl cyclohexyl acetate, benzyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate , N-butyl propionate, isoamyl propionate, methyl butyrate, ethyl butyrate, n-butyl butyrate, isoamyl butyrate, ethyl oxyisobutyrate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, isoamyl isovalerate, methyl lactate, ethyl lactate, Lactic acid-n-butyl, isobutyl lactate, milk -n- amyl lactate, isoamyl, methyl benzoate, diethyl oxalate)
特に好ましい組み合わせはアルコールとその誘導体類、ケトン類、エステル類の中から少なくとも2種類、更に好ましくは3種類用いることである。好ましい例としては、例えば、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、2−メトキシプロパノール、2−ブトキシエタノール、イソプロピルアルコール、トルエンの中から2種又は3種を併用して用いることができる。 A particularly preferred combination is the use of at least two, more preferably three, of alcohol and its derivatives, ketones and esters. As preferable examples, for example, two or three of methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, 2-methoxypropanol, 2-butoxyethanol, isopropyl alcohol, and toluene can be used in combination.
本発明において、無機微粒子を層内に制御して配置するには、バインダーが重量平均分子量5000以上の少なくとも1種の重合性組成物と重量平均分子量5000未満の少なくとも1種の重合性化合物から構成されることが好ましい。重量平均分子量5000を超える組成物の具体例としては、側鎖に(メタ)アクリロイル基を有する共重合体や、フルオロカーボン又はジメチルシロキサンを含有する高分子量化合物が好ましい。また、重量平均分子量が5000未満の化合物としては、多官能のアクリレートモノマーや(メタ)アクリロイル基を有する一般式(II)の化合物の部分縮合物などが好ましい。詳細な化合物は、皮膜形成バインダー及び低屈折率用材料の項で述べる。 In the present invention, in order to control and arrange the inorganic fine particles in the layer, the binder is composed of at least one polymerizable composition having a weight average molecular weight of 5000 or more and at least one polymerizable compound having a weight average molecular weight of less than 5000. It is preferred that Specific examples of the composition having a weight average molecular weight exceeding 5000 are preferably a copolymer having a (meth) acryloyl group in the side chain and a high molecular weight compound containing a fluorocarbon or dimethylsiloxane. Moreover, as a compound with a weight average molecular weight of less than 5000, the polyfunctional acrylate monomer, the partial condensate of the compound of general formula (II) which has a (meth) acryloyl group, etc. are preferable. Detailed compounds are described in the section of film forming binder and low refractive index material.
[光学フィルムの層構成]
本発明の光学フィルムは、透明な基材上に、必要に応じて後述のハードコート層を有し、その上に光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層されている。低反射積層体は、最も単純な構成では、基材上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、基材よりも屈折率の高い高屈折率層と、基材よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、基材側から高屈折率層/低屈折率層の2層のものや、屈折率の異なる3層を、中屈折率層(基材またはハードコート層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層)/高屈折率層/低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する基材上に、中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層の順に塗布することが好ましい。
[Layer structure of optical film]
The optical film of the present invention has a hard coat layer, which will be described later, on a transparent substrate, if necessary, and the refractive index, the film thickness, the number of layers so that the reflectance is reduced by optical interference on the optical film. The layers are stacked in consideration of the layer order. The simplest configuration of the low reflection laminate is a configuration in which only a low refractive index layer is coated on a substrate. In order to further reduce the reflectance, the antireflection layer is preferably constituted by combining a high refractive index layer having a higher refractive index than that of the base material and a low refractive index layer having a lower refractive index than that of the base material. Examples of configurations include two layers of a high refractive index layer / low refractive index layer from the base material side, and three layers having different refractive indices, a medium refractive index layer (having a higher refractive index than the base material or the hard coat layer , A layer having a refractive index lower than that of a high refractive index layer) / a layer having a high refractive index / a layer having a low refractive index, and the like. Especially, it is preferable to apply | coat in order of a middle refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer on the base material which has a hard-coat layer from durability, an optical characteristic, cost, productivity, etc.
本発明の低反射積層体の好ましい層構成の例を下記に示す。下記構成において基材フィルムは、フィルムで構成された支持体を指している。
・基材フィルム/低屈折率層、
・基材フィルム/帯電防止層/低屈折率層、
・基材フィルム/防眩層/低屈折率層、
・基材フィルム/防眩層/帯電防止層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/防眩層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/防眩層/帯電防止層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/帯電防止層/防眩層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/帯電防止層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/帯電防止層/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/基材フィルム/ハードコート層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・基材フィルム/帯電防止層/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/基材フィルム/防眩層/中屈折率層/高屈折率層/低屈折率層、
・帯電防止層/基材フィルム/防眩層/高屈折率層/低屈折率層/高屈折率層/低屈折率層。
層構成の形態は、光学干渉により反射率を低減できるものであれば、特にこれらの層構成のみに限定されるものではない。高屈折率層は防眩性のない光拡散性層であってもよい。
また、帯電防止層は導電性ポリマー粒子または金属酸化物微粒子(例えば、ATO、ITO)を含む層であることが好ましく、塗布または大気圧プラズマ処理等によって設けることができる。防汚層を設ける場合は、上記構成の最上層に設けることができる。
Examples of preferred layer configurations of the low reflection laminate of the present invention are shown below. In the following configuration, the base film refers to a support composed of a film.
・ Base film / low refractive index layer,
・ Base film / Antistatic layer / Low refractive index layer,
・ Base film / Anti-glare layer / Low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / antistatic layer / low refractive index layer,
・ Base film / hard coat layer / antiglare layer / low refractive index layer,
・ Base film / hard coat layer / antiglare layer / antistatic layer / low refractive index layer,
・ Base film / hard coat layer / antistatic layer / antiglare layer / low refractive index layer,
・ Base film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
・ Base film / hard coat layer / antistatic layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antistatic layer / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Base film / antistatic layer / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / antiglare layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer,
Antistatic layer / base film / antiglare layer / high refractive index layer / low refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer.
The layer configuration is not particularly limited to these layer configurations as long as the reflectance can be reduced by optical interference. The high refractive index layer may be a light diffusing layer having no antiglare property.
The antistatic layer is preferably a layer containing conductive polymer particles or metal oxide fine particles (for example, ATO, ITO), and can be provided by coating or atmospheric pressure plasma treatment. When providing an antifouling layer, it can be provided in the uppermost layer of the above-mentioned configuration.
[皮膜形成バインダー]
本発明において、皮膜形成組成物の主たる皮膜形成バインダー成分として、エチレン性不飽和基を有する化合物を用いることが、皮膜強度、塗布液の安定性、塗膜の生産性、などの点で好ましい。主たる皮膜形成バインダーとは、無機粒子を除く皮膜形成成分のうち10質量%以上をしめるものをいう。好ましくは、20質量%以上100質量%以下、更に好ましくは30質量%以上95%以下である。
飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの(共)重合体が好ましい。
高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも1種の原子を含むことが好ましい。
[Film-forming binder]
In the present invention, it is preferable to use a compound having an ethylenically unsaturated group as a main film-forming binder component of the film-forming composition in terms of film strength, coating solution stability, and coating film productivity. The main film-forming binder refers to one that accounts for 10% by mass or more of the film-forming components excluding inorganic particles. Preferably, they are 20 mass% or more and 100 mass% or less, More preferably, they are 30 mass% or more and 95% or less.
A polymer having a saturated hydrocarbon chain or a polyether chain as a main chain is preferable, and a polymer having a saturated hydrocarbon chain as a main chain is more preferable. As the binder polymer having a saturated hydrocarbon chain as the main chain and having a crosslinked structure, a (co) polymer of monomers having two or more ethylenically unsaturated groups is preferable.
In order to obtain a high refractive index, the monomer structure preferably contains an aromatic ring or at least one atom selected from halogen atoms other than fluorine, sulfur atoms, phosphorus atoms, and nitrogen atoms.
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステル(例、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート)、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールエタントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,2,3−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート)、ビニルベンゼンおよびその誘導体(例、1,4−ジビニルベンゼン、4−ビニル安息香酸−2−アクリロイルエチルエステル、1,4−ジビニルシクロヘキサノン)、ビニルスルホン(例、ジビニルスルホン)、アクリルアミド(例、メチレンビスアクリルアミド)およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは2種以上併用してもよい。尚、本明細書においては、「(メタ)アクリレート」は「アクリレート又はメタクリレート」を表す。 Examples of the monomer having two or more ethylenically unsaturated groups include esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid (eg, ethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-cyclohexanediacrylate, pentaerythritol tetra ( (Meth) acrylate), pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, di Pentaerythritol hexa (meth) acrylate, pentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,2,3-cyclohexanetetramethacrylate, polyurethane polyacrylate, polyester polymer Acrylate), vinylbenzene and its derivatives (eg, 1,4-divinylbenzene, 4-vinylbenzoic acid-2-acryloylethyl ester, 1,4-divinylcyclohexanone), vinylsulfone (eg, divinylsulfone), acrylamide (eg, , Methylenebisacrylamide) and methacrylamide. Two or more of these monomers may be used in combination. In the present specification, “(meth) acrylate” represents “acrylate or methacrylate”.
高屈折率モノマーの具体例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、4−メタクリロキシフェニル−4'−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも2種以上併用してもよい。 Specific examples of the high refractive index monomer include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinyl naphthalene, vinyl phenyl sulfide, 4-methacryloxyphenyl-4′-methoxyphenyl thioether, and the like. Two or more of these monomers may be used in combination.
本発明においては、膜強度向上、他層との結合性強化、防汚層塗布時の面状改良の点から、オルガノシラン系化合物、オルガノシラン系化合物の加水分解物および/またはその部分縮合物を添加することが好ましい。好ましいオルガノシラン系化合物としては、前記無機化合物の表面処理の頁で述べた化合物を挙げることができる。これら化合物の使用量は、被膜形成バインダーに対して好ましくは0.5〜500質量%、更に好ましくは1〜300質量%、最も好ましくは5〜100質量%である。 In the present invention, an organosilane compound, a hydrolyzate of an organosilane compound and / or a partial condensate thereof from the viewpoints of improving the film strength, enhancing the bondability with other layers, and improving the surface condition when applying an antifouling layer. Is preferably added. Preferred examples of the organosilane compound include the compounds described in the page of the surface treatment of the inorganic compound. The amount of these compounds used is preferably 0.5 to 500% by mass, more preferably 1 to 300% by mass, and most preferably 5 to 100% by mass with respect to the film-forming binder.
これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。 Polymerization of the monomer having an ethylenically unsaturated group can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.
光ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、2,3−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。 As radical photopolymerization initiators, acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds , Fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, coumarins and the like.
アセトフェノン類の例には、2,2−ジメトキシアセトフェノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、p−ジメチルアセトフェノン、1−ヒドロキシ-ジメチルフェニルケトン、1−ヒドロキシ-ジメチル-p-イソプロピルフェニルケトン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−4−メチルチオ−2−モルフォリノプロピオフェノン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、4-フェノキシジクロロアセトフェノン、4-t-ブチル-ジクロロアセトフェノン、が含まれる。
ベンゾイン類の例には、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンジルジメチルケタール、ベンゾインベンゼンスルホン酸エステル、ベンゾイントルエンスルホン酸エステル、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテルが含まれる。
Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethylphenylketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropylphenylketone, 1-hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, 4-phenoxydichloroacetophenone, 4-t- Butyl-dichloroacetophenone.
Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzene sulfonate, benzoin toluene sulfonate, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and benzoin isopropyl ether It is.
ベンゾフェノン類の例には、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、4-ベンゾイル-4’-メチルジフェニルサルファイド、2,4−ジクロロベンゾフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノンおよびp−クロロベンゾフェノン、4,4’-ジメチルアミノベンゾフェノン(ミヒラーケトン)、3,3’、4、4’-テトラ(t-ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンなどが含まれる。
ホスフィンオキシド類の例には、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシドが含まれる。
Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone and p-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone), 3,3 ′, 4,4′-tetra (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone and the like.
Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide.
活性エステル類の例には1、2-オクタンジオン、1-[4-(フェニルチオ)- 2-(o-ベンゾイルオキシム)]、スルホン酸エステル類、環状活性エステル化合物などが含まれる。
具体的には特開2000-80068号公報に記載の実施例記載化合物1〜21が特に好ましい。
オニウム塩類の例には、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩が挙げられる。
ボレート塩の例にはカチオン性色素とのイオンコンプレックス類が挙げられる。
活性ハロゲン類の例にはS-トリアジンやオキサチアゾール化合物が知られており、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、2-(p-メトキシフェニル)-4,6-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、2-(p-スチリルフェニル)-4,6-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、2-(3-Br-4-ジ(エチル酢酸エステル)アミノ)フェニル)-4,6-ビス(トリクロルメチル)-s-トリアジン、2-トリハロメチル-5-(p-メトキシフェニル)-1,3,4-オキサジアゾールが含まれる。具体的には特開昭58-15503号公報のp14〜p30、特開昭55-77742号公報のp6〜p10、特公昭60-27673号公報のp287記載のNo.1〜No.8、特開昭60-239736号公報のp443〜p444のNo.1〜No.17、US-4701399号公報のNo.1〜19などの化合物が特に好ましい。
無機錯体の例にはビス(η5-2,4-シクロペンタジエン-1-イル)-ビス(2,6−ジフルオロ-3-(1H-ピロール-1-イル)-フェニル)チタニウムが挙げられる。
クマリン類の例には3−ケトクマリンが挙げられる。
Examples of active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (o-benzoyloxime)], sulfonic acid esters, cyclic active ester compounds, and the like.
Specifically, Examples 1 to 21 described in JP-A No. 2000-80068 are particularly preferable.
Examples of the onium salts include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.
Examples of borate salts include ion complexes with cationic dyes.
Examples of active halogens are S-triazine and oxathiazole compounds. 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) ) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3-Br-4-di ( Ethyl acetate) amino) phenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole. Specifically, p. 14 to p. 30 in JP-A-58-15503, p. 6 to p. 10 in JP-A 55-77742, No. 1 to No. 8 in p. 287 in JP-B 60-27673, Compounds such as Nos. 1 to 17 of p443 to p444 of JP-A-60-239736 and Nos. 1 to 19 of US-4701399 are particularly preferable.
Examples of inorganic complexes include bis (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) -phenyl) titanium.
Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.
これらの開始剤は単独でも混合して用いても良い。
重合開始材は、「最新UV硬化技術」,(株)技術情報協会,1991年,p.159、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著、平成元年、総合技術センター発行、p.65〜148にも種々の例が記載されており、本発明に有用である。
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製のイルガキュア(651,184,819、907、1870(CGI-403/Irg184=7/3混合開始剤、500,369,1173,2959,4265,4263など)、OXE01)等、日本化薬(株)製のKAYACURE(DETX-S,BP-100,BDMK,CTX,BMS,2-EAQ,ABQ,CPTX,EPD,ITX,QTX,BTC,MCAなど)、サートマー社製のEsacure(KIP100F,KB1,EB3,BP,X33,KT046,KT37,KIP150,TZT)等及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
These initiators may be used alone or in combination.
The polymerization initiator is “Latest UV Curing Technology”, Technical Information Association, 1991, p. 159 and “UV Curing System” written by Kiyotsugu Kato, published by the General Technology Center, 1989, p. 65-148, are useful for the present invention.
Commercially available photocleavable photoradical polymerization initiators include Irgacure (651, 184, 819, 907, 1870 (CGI-403 / Irg184 = 7/3 mixed initiator, 500) manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. , 369, 1173, 2959, 4265, 4263, etc.), OXE01), etc., and Kayacure (DETX-S, BP-100, BDMK, CTX, BMS, 2-EAQ, ABQ, CPTX, EPD, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. , ITX, QTX, BTC, MCA, etc.), Esacure (KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150, TZT) manufactured by Sartomer, and combinations thereof are preferable examples.
光重合開始剤は、多官能モノマー100質量部に対して、0.1〜15質量部の範囲で使用することが好ましく、より好ましくは1〜10質量部の範囲である。
光重合開始剤に加えて、光増感剤を用いてもよい。光増感剤の具体例として、n−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−n−ブチルホスフィン、ミヒラーケトンおよびチオキサントン、などを挙げることができる。
更にアジド化合物、チオ尿素化合物、メルカプト化合物などの助剤を1種以上組み合わせて用いてもよい。
市販の光増感剤としては、日本化薬(株)製のKAYACURE(DMBI,EPA)などが挙げられる。
It is preferable to use a photoinitiator in the range of 0.1-15 mass parts with respect to 100 mass parts of polyfunctional monomers, More preferably, it is the range of 1-10 mass parts.
In addition to the photopolymerization initiator, a photosensitizer may be used. Specific examples of the photosensitizer include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butylphosphine, Michler's ketone and thioxanthone.
Furthermore, one or more auxiliary agents such as an azide compound, a thiourea compound, and a mercapto compound may be used in combination.
Examples of commercially available photosensitizers include Kayacure (DMBI, EPA) manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.
熱ラジカル開始剤としては、有機あるいは無機過酸化物、有機アゾ及びジアゾ化合物等を用いることができる。
具体的には、有機過酸化物として過酸化ベンゾイル、過酸化ハロゲンベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、過酸化ジブチル、クメンヒドロぺルオキシド、ブチルヒドロぺルオキシド、無機過酸化物として、過酸化水素、過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム等、アゾ化合物として2,2'−アゾビス(イソブチロニトリル)、2,2'−アゾビス(プロピオニトリル)、1,1'−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)等、ジアゾ化合物としてジアゾアミノベンゼン、p−ニトロベンゼンジアゾニウム等が挙げられる。
As the thermal radical initiator, organic or inorganic peroxides, organic azo, diazo compounds, and the like can be used.
Specifically, benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide, butyl hydroperoxide as organic peroxides, hydrogen peroxide, peroxides as inorganic peroxides. Diazo compounds such as 2,2′-azobis (isobutyronitrile), 2,2′-azobis (propionitrile), 1,1′-azobis (cyclohexanecarbonitrile) as azo compounds such as ammonium sulfate and potassium persulfate And diazoaminobenzene, p-nitrobenzenediazonium and the like.
本発明においてはポリエーテルを主鎖として有するポリマーを使用することもできる。多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。 In the present invention, a polymer having a polyether as a main chain can also be used. A ring-opening polymer of a polyfunctional epoxy compound is preferred. The ring-opening polymerization of the polyfunctional epoxy compound can be performed by irradiation with ionizing radiation or heating in the presence of a photoacid generator or a thermal acid generator.
二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。
Instead of or in addition to a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, a monomer having a crosslinkable functional group is used to introduce a crosslinkable functional group into the polymer, and by reaction of this crosslinkable functional group, A crosslinked structure may be introduced into the binder polymer.
Examples of the crosslinkable functional group include isocyanate group, epoxy group, aziridine group, oxazoline group, aldehyde group, carbonyl group, hydrazine group, carboxyl group, methylol group and active methylene group. Vinylsulfonic acid, acid anhydride, cyanoacrylate derivative, melamine, etherified methylol, ester and urethane, and metal alkoxide such as tetramethoxysilane can also be used as a monomer for introducing a crosslinked structure. A functional group that exhibits crosslinkability as a result of the decomposition reaction, such as a block isocyanate group, may be used. That is, in the present invention, the crosslinkable functional group may not react immediately but may exhibit reactivity as a result of decomposition.
These binder polymers having a crosslinkable functional group can form a crosslinked structure by heating after coating.
[低屈折率層用材料]
低屈折率層に用いることのできるバインダーとしては、前述の被膜形成バインダーの頁で述べたものを使用することができるが、バインダー自身の屈折率の低い含フッ素ポリマー、あるいは含フッ素ゾルゲル素材などを用いることが好ましい。含フッ素ポリマーあるいは含フッ素ゾルゲルとしては、熱または電離放射線により架橋し、形成される低屈折率層表面の動摩擦係数0.03〜0.15であり、水に対する接触角90〜120°となる素材が好ましい。
[Material for low refractive index layer]
As the binder that can be used in the low refractive index layer, those described in the above-mentioned page of the film-forming binder can be used. For example, a fluorine-containing polymer having a low refractive index of the binder itself or a fluorine-containing sol-gel material can be used. It is preferable to use it. The fluorine-containing polymer or fluorine-containing sol-gel is a material that has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.15 on the surface of the low refractive index layer formed by crosslinking with heat or ionizing radiation and a contact angle of 90 to 120 ° with water. Is preferred.
[含フッ素ポリマー]
低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物(例えば(ヘプタデカフルオロ−1,1,2,2−テトラヒドロデシル)トリエトキシシラン)の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。
[Fluoropolymer]
Examples of the fluorine-containing polymer used in the low refractive index layer include hydrolysis and dehydration condensate of perfluoroalkyl group-containing silane compounds (for example, (heptadecafluoro-1,1,2,2-tetrahydrodecyl) triethoxysilane). And a fluorine-containing copolymer having a fluorine-containing monomer unit and a structural unit for imparting crosslinking reactivity as structural components.
含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類(例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソール等)、(メタ)アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類(例えばビスコート6FM(大阪有機化学製)やM−2020(ダイキン製)等)、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。 Specific examples of the fluorine-containing monomer unit include, for example, fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc.), (meta ) A part of acrylic acid or a fully fluorinated alkyl ester derivative (for example, Biscoat 6FM (manufactured by Osaka Organic Chemical) or M-2020 (manufactured by Daikin)), a complete or partially fluorinated vinyl ether, and the like. From the viewpoint of refractive index, solubility, transparency, availability, etc., hexafluoropropylene is particularly preferred.
架橋反応性付与のための構成単位としては主として以下の(A)、(B)、(C)で示される単位が挙げられる。
(A):グリシジル(メタ)アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、(B):カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー(例えば(メタ)アクリル酸、メチロール(メタ)アクリレート、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等)の重合によって得られる構成単位、
(C):分子内に上記(A)、(B)の官能基と反応する基とそれとは別に架橋性官能基を有する化合物を、上記(A)、(B)の構成単位と反応させて得られる構成単位、(例えばヒドロキシル基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で合成できる構成単位)、
が挙げられる。
Examples of the structural unit for imparting crosslinking reactivity include units represented by the following (A), (B), and (C).
(A): a structural unit obtained by polymerization of a monomer having a self-crosslinkable functional group in the molecule in advance such as glycidyl (meth) acrylate or glycidyl vinyl ether, (B): a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, or a sulfo group A structural unit obtained by polymerization of monomers having, for example, (meth) acrylic acid, methylol (meth) acrylate, hydroxyalkyl (meth) acrylate, allyl acrylate, hydroxyethyl vinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, maleic acid, crotonic acid, etc. ,
(C): A group having a crosslinkable functional group separately from a group that reacts with the functional groups (A) and (B) in the molecule and a structural unit of the above (A) and (B). The resulting structural unit (for example, a structural unit that can be synthesized by a technique such as allowing acrylic acid chloride to act on a hydroxyl group),
Is mentioned.
上記(C)の構成単位は、特に本発明においては、該架橋性官能基が光重合性基であることが好ましい。ここに、光重合性基としては、例えば(メタ)アクリロイル基、アルケニル基、シンナモイル基、シンナミリデンアセチル基、ベンザルアセトフェノン基、スチリルピリジン基、α−フェニルマレイミド基、フェニルアジド基、スルフォニルアジド基、カルボニルアジド基、ジアゾ基、o−キノンジアジド基、フリルアクリロイル基、クマリン基、ピロン基、アントラセン基、ベンゾフェノン基、スチルベン基、ジチオカルバメート基、キサンテート基、1,2,3−チアジアゾール基、シクロプロペン基、アザジオキサビシクロ基などを挙げることができ、これらは1種のみでなく2種以上であってもよい。これらのうち、(メタ)アクリロイル基およびシンナモイル基が好ましく、特に好ましくは(メタ)アクリロイル基である。 In the constitutional unit (C), particularly in the present invention, the crosslinkable functional group is preferably a photopolymerizable group. Here, examples of the photopolymerizable group include (meth) acryloyl group, alkenyl group, cinnamoyl group, cinnamylideneacetyl group, benzalacetophenone group, styrylpyridine group, α-phenylmaleimide group, phenylazide group, sulfonylazide. Group, carbonyl azide group, diazo group, o-quinonediazide group, furylacryloyl group, coumarin group, pyrone group, anthracene group, benzophenone group, stilbene group, dithiocarbamate group, xanthate group, 1,2,3-thiadiazole group, cyclo A propene group, an azadioxabicyclo group, etc. can be mentioned, These may be not only 1 type but 2 or more types. Of these, a (meth) acryloyl group and a cinnamoyl group are preferable, and a (meth) acryloyl group is particularly preferable.
光重合性基含有共重合体を調製するための具体的な方法としては、下記の方法を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
(1)水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸クロリドを反応させてエステル化する方法、
(2)水酸基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、イソシアネート基を含有する(メタ)アクリル酸エステルを反応させてウレタン化する方法、
(3)エポキシ基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、(メタ)アクリル酸を反応させてエステル化する方法、
(4)カルボキシル基を含有してなる架橋性官能基含有共重合体に、エポキシ基を含有する含有(メタ)アクリル酸エステルを反応させてエステル化する方法。
尚、上記光重合性基の導入量は任意に調節することができ、塗膜面状安定性・無機微粒子共存時の面状故障低下・膜強度向上などの点からカルボキシル基やヒドロキシル基等を一定量残すことも好ましい。
Specific methods for preparing the photopolymerizable group-containing copolymer include, but are not limited to, the following methods.
(1) A method of esterifying a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group by reacting (meth) acrylic acid chloride,
(2) A method of urethanizing a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a hydroxyl group with a (meth) acrylic acid ester containing an isocyanate group,
(3) A method of esterifying by reacting (meth) acrylic acid with a crosslinkable functional group-containing copolymer containing an epoxy group,
(4) A method in which a crosslinkable functional group-containing copolymer containing a carboxyl group is esterified by reacting a containing (meth) acrylic acid ester containing an epoxy group.
The amount of the photopolymerizable group introduced can be arbitrarily adjusted. From the viewpoint of surface stability of the coating film, reduction of surface failure when coexisting with inorganic fine particles, and improvement of film strength, carboxyl group, hydroxyl group, etc. It is also preferable to leave a certain amount.
また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類(エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等)、アクリル酸エステル類(アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸2−エチルヘキシル)、メタクリル酸エステル類(メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等)、スチレン誘導体(スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等)、ビニルエーテル類(メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等)、ビニルエステル類(酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等)、アクリルアミド類(N−tertブチルアクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド等)、メタクリルア
ミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。
In addition to the above-mentioned fluorine-containing monomer units and structural units for imparting crosslinking reactivity, monomers not containing fluorine atoms can be copolymerized as appropriate from the viewpoints of solubility in solvents and film transparency. There are no particular limitations on the monomer units that can be used in combination. For example, olefins (ethylene, propylene, isoprene, vinyl chloride, vinylidene chloride, etc.), acrylic esters (methyl acrylate, methyl acrylate, ethyl acrylate, acrylic acid 2) -Ethylhexyl), methacrylates (methyl methacrylate, ethyl methacrylate, butyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, etc.), styrene derivatives (styrene, divinylbenzene, vinyl toluene, α-methylstyrene, etc.), vinyl ethers (methyl) Vinyl ether, ethyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, etc.), vinyl esters (vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl cinnamate etc.), acrylamides (N-tertbutylacrylamide, N-silane) B hexyl acrylamide), methacrylamides, and acrylonitrile derivatives.
本発明で特に有用な含フッ素ポリマーは、パーフルオロオレフィンとビニルエーテル類またはビニルエステル類のランダム共重合体である。特に単独で架橋反応可能な基((メタ)アクリロイル基等のラジカル反応性基、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合性基等)を有していることが好ましい。これらの架橋反応性基含有重合単位はポリマーの全重合単位の5〜70mol%を占めていることが好ましく、特に好ましくは30〜60mol%の場合である。好ましいポリマーについては、特開2002−243907号、特開2002−372601号、特開2003−26732号、特開2003−222702号、特開2003−294911号、特開2003−329804号、特開2004−4444、特開2004−45462号の各公報に記載のものを挙げることができる。 The fluorine-containing polymer particularly useful in the present invention is a random copolymer of perfluoroolefin and vinyl ethers or vinyl esters. In particular, it preferably has a group capable of undergoing a crosslinking reaction alone (a radical reactive group such as a (meth) acryloyl group, a ring-opening polymerizable group such as an epoxy group or an oxetanyl group). These crosslinkable group-containing polymerized units preferably occupy 5 to 70 mol% of the total polymerized units of the polymer, particularly preferably 30 to 60 mol%. Regarding preferred polymers, JP-A-2002-243907, JP-A-2002-372601, JP-A-2003-26732, JP-A-2003-222702, JP-A-2003-294911, JP-A-2003-329804, JP-A-2004. -4444 and JP-A-2004-45462.
また本発明の含フッ素ポリマーには防汚性を付与する目的で、ポリシロキサン構造が導入されていることが好ましい。ポリシロキサン構造の導入方法に制限はないが例えば特開平11−189621号、同11−228631号、特開2000−313709号の各公報に記載のごとく、シリコーンマクロアゾ開始剤を用いてポリシロキサンブロック共重合成分を導入する方法、特開平2−251555号、同2−308806号の各公報に記載のごとくシリコーンマクロマーを用いてポリシロキサングラフト共重合成分を導入する方法が好ましい。これらのポリシロキサン成分はポリマー中の0.5〜10質量%であることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%である。 Moreover, it is preferable that the polysiloxane structure is introduce | transduced in the fluorine-containing polymer of this invention in order to provide antifouling property. There is no limitation on the method for introducing the polysiloxane structure, but for example, as described in JP-A-11-189621, JP-A-11-228631, and JP-A-2000-313709, a polysiloxane block using a silicone macroazo initiator is used. A method of introducing a copolymer component and a method of introducing a polysiloxane graft copolymer component using a silicone macromer as described in JP-A-2-251555 and JP-A-2-308806 are preferred. These polysiloxane components are preferably 0.5 to 10% by mass, particularly preferably 1 to 5% by mass in the polymer.
防汚性付与に対しては上記以外にも反応性基含有ポリシロキサン(例えばKF-100T,X-22-169AS,KF-102,X-22-3701IE,X-22-164B,X-22-5002,X-22-173B,X-22-174D,X-22-167B,X-22-161AS(以上商品名、信越化学工業社製)、AK-5,AK-30,AK-32(以上商品名、東亜合成社製)、サイラプレーンFM0275,サイラプレーンFM0721(以上チッソ社製)等)を添加する手段も好ましい。また、特開2003−112383の表2、表3に記載のシリコーン系化合物も好ましく使用できる。この際これらのポリシロキサンは低屈折率層全固形分の0.5〜10質量%の範囲で添加されることが好ましく、特に好ましくは1〜5質量%の場合である。 In addition to the above, reactive group-containing polysiloxanes (for example, KF-100T, X-22-169AS, KF-102, X-22-3701IE, X-22-164B, X-22- 5002, X-22-173B, X-22-174D, X-22-167B, X-22-161AS (above trade name, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), AK-5, AK-30, AK-32 (above A product name, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd.), Silaplane FM0275, Silaplane FM0721 (manufactured by Chisso), etc.) is also preferred. In addition, silicone compounds described in Tables 2 and 3 of JP-A No. 2003-112383 can also be preferably used. In this case, these polysiloxanes are preferably added in the range of 0.5 to 10% by mass of the total solid content of the low refractive index layer, and particularly preferably 1 to 5% by mass.
本発明に好ましく用いることのできるポリマーの好ましい分子量は、質量平均分子量が5000以上、好ましくは10000〜500000、最も好ましくは15000〜200000である。平均分子量の異なるポリマーを併用することで塗膜面状の改良や耐傷性の改良を行うことができる。 The preferred molecular weight of the polymer that can be preferably used in the present invention is a mass average molecular weight of 5,000 or more, preferably 10,000 to 500,000, most preferably 15,000 to 200,000. By using polymers having different average molecular weights in combination, it is possible to improve the coating surface condition and scratch resistance.
上記のポリマーに対しては特開平10−25388号および特開平10−147739号の各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用してもよい。特開2000−17028号、特開2002−145952号の各公報に記載のごとく含フッ素の多官能の重合性不飽和基を有する化合物との併用も好ましい。好ましい例としては、前記ハードコート層で述べた多官能モノマーを挙げることができる。 As described in JP-A-10-25388 and JP-A-10-147739, a curing agent may be suitably used in combination with the above polymer. A combination with a compound having a fluorine-containing polyfunctional polymerizable unsaturated group is also preferred as described in JP-A Nos. 2000-17028 and 2002-145952. Preferable examples include the polyfunctional monomers described in the hard coat layer.
[含フッ素シラン系化合物]
本発明の中空シリカを用いる低屈折率層には、シリカとの親和性の高いオルガノシラン系化合物の加水分解物及び/又はその縮合物をバインダーとして用いることもできる。バインダーの具体的例としては、特開2002−79616号、特開2002−265866号、特開2002−317152号等の各公報に記載のものを挙げることができる。
[Fluorine-containing silane compounds]
In the low refractive index layer using the hollow silica of the present invention, a hydrolyzate of an organosilane compound having a high affinity for silica and / or a condensate thereof may be used as a binder. Specific examples of the binder include those described in JP-A-2002-79616, JP-A-2002-265866, JP-A-2002-317152, and the like.
[防汚層]
本発明においては、光学フイルムの最上層に防汚層を設けることが好ましい。防汚層の素材としては、含シリコーン系化合物や含フッ素系化合物を用いることができるが、末端にフルオロアルキル基を有するオルガノシラン系化合物が好ましい。好ましい化合物の具体例、合成法については、特開平4−338901号、特公平6−29332号、特開平7−16940号、特開平9−61605号、特開平10−279900号、特開2002−277604号の各公報、又は[非特許文献2]反射防止膜の特性と最適設計・膜作製技術(技術情報協会編2001年発行)に記載されている。
防汚層を設ける表面を鹸化処理しておくことも、面状や防汚耐久性向上の点で好ましい。
[Anti-fouling layer]
In the present invention, it is preferable to provide an antifouling layer as the uppermost layer of the optical film. As the material for the antifouling layer, silicone-containing compounds and fluorine-containing compounds can be used, but organosilane compounds having a fluoroalkyl group at the terminal are preferred. Specific examples of preferred compounds and synthesis methods are described in JP-A-4-338901, JP-B-6-29332, JP-A-7-16940, JP-A-9-61605, JP-A-10-279900, and JP-A-2002-2002. No. 277604, or [Non-Patent Document 2] Characteristics of antireflection film and optimum design / film production technology (issued in 2001 by the Technical Information Association).
It is also preferable to saponify the surface on which the antifouling layer is provided from the viewpoint of improving the surface shape and antifouling durability.
本発明において、反射防止膜の低屈折率層に好ましく用いることのできる無機粒子について説明する。
無機微粒子の塗設量は、1mg/m2〜100mg/m2が好ましく、より好ましくは5mg/m2〜80mg/m2、更に好ましくは10mg/m2〜60mg/m2である。少なすぎると、耐擦傷性の改良効果が減り、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。該無機微粒子は、低屈折率層に含有させることから、低屈折率であることが望ましい。
具体的には、前記した有機溶媒分散液中の分散している分散性の改良処理がなされている無機酸化物粒子または中空無機酸化物粒子であって、低屈折率のものが好ましく用いられる。
In the present invention, inorganic particles that can be preferably used for the low refractive index layer of the antireflection film will be described.
The coating amount of the inorganic fine particles is preferably 1mg / m 2 ~100mg / m 2 , more preferably 5mg / m 2 ~80mg / m 2 , more preferably from 10mg / m 2 ~60mg / m 2 . If the amount is too small, the effect of improving the scratch resistance is reduced. If the amount is too large, fine irregularities are formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and the integrated reflectance are deteriorated. Since the inorganic fine particles are contained in the low refractive index layer, it is desirable that the inorganic fine particles have a low refractive index.
Specifically, inorganic oxide particles or hollow inorganic oxide particles that have been subjected to a treatment for improving the dispersibility dispersed in the organic solvent dispersion described above and that have a low refractive index are preferably used.
次に本発明の低屈折率層中に用いることのできる中空シリカ粒子について、以下に記載する。
中空のシリカ微粒子は屈折率が1.15〜1.40が好ましく、更に好ましくは1.17〜1.35、最もに好ましくは1.17〜1.30である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、中空シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記数式(VIII)で表される空隙率xは
(数式VIII)
x=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
好ましくは10〜60%、更に好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空のシリカ粒子をより低屈折率に、より空隙率を大きくしようとすると、外殻の厚みが薄くなり、粒子の強度としては弱くなるため、耐擦傷性の観点から1.15未満の低屈折率の粒子は好ましくない。
中空シリカの製造方法は、例えば特開2001−233611号や特開2002−79616号の各公報に記載されている。特にシェルの内部に空洞を有している粒子で、そのシェルの細孔が閉塞されている粒子が特に好ましい。なお、これら中空シリカ粒子の屈折率は特開2002−79616号公報に記載の方法で算出することができる。
Next, hollow silica particles that can be used in the low refractive index layer of the present invention will be described below.
The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35, and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index here represents the refractive index of the entire particle, and does not represent the refractive index of only the outer shell silica forming the hollow silica particles. At this time, if the radius of the cavity in the particle is a and the radius of the particle shell is b, the porosity x expressed by the following formula (VIII) is (Formula VIII)
x = (4πa 3/3) / (4πb 3/3) × 100
Preferably it is 10-60%, More preferably, it is 20-60%, Most preferably, it is 30-60%. If the hollow silica particles are made to have a lower refractive index and a higher porosity, the thickness of the outer shell becomes thinner and the strength of the particles becomes weaker. From the viewpoint of scratch resistance, the low refractive index is less than 1.15. Rate particles are not preferred.
The method for producing hollow silica is described in, for example, JP-A Nos. 2001-233611 and 2002-79616. In particular, particles having cavities inside the shell and having fine pores in the shell are particularly preferred. The refractive index of these hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A No. 2002-79616.
中空シリカの平均粒径は、低屈折率層の厚みの30%以上150%以下が好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、中空シリカの粒径は30nm以上150nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上100nm以下、更に好ましくは、40nm以上65nm以下である。
シリカ微粒子の粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の低下が見込めず、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。シリカ微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子が好ましい。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であっても問題無い。
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを2種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
本発明において中空シリカの比表面積は、20〜300m2/gが好ましく、更に好ましくは30〜120m2/g、最も好ましくは40〜90m2/gである。表面積は窒素を用いBET法で求めることが出来る。
The average particle diameter of the hollow silica is preferably 30% to 150% of the thickness of the low refractive index layer, more preferably 35% to 80%, and still more preferably 40% to 60%. That is, if the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and still more preferably 40 nm to 65 nm.
If the particle size of the silica particles is too small, the proportion of cavities will decrease and a decrease in refractive index cannot be expected.If it is too large, fine irregularities will be formed on the surface of the low refractive index layer, and the appearance such as black tightening and integrated reflectance will be reduced. Getting worse. The silica fine particles may be either crystalline or amorphous, and monodisperse particles are preferred. The shape is most preferably a spherical diameter, but there is no problem even if the shape is indefinite.
Further, two or more kinds of hollow silica having different particle average particle sizes can be used in combination. Here, the average particle diameter of the hollow silica can be determined from an electron micrograph.
The specific surface area of the hollow silica in the present invention is preferably from 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30~120m 2 / g, most preferably 40~90m 2 / g. The surface area can be obtained by the BET method using nitrogen.
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、30nm以上150nm以下、更に好ましくは35nm以上100nm以下、最も好ましくは40nm以上80nm以下である。
また、平均粒径が低屈折率層の厚みの25%未満であるシリカ微粒子(「小サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)の少なくとも1種を上記の粒径のシリカ微粒子(「大サイズ粒径のシリカ微粒子」と称す)と併用することもできる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子は、大サイズ粒径のシリカ微粒子同士の隙間に存在することができるため、大サイズ粒径のシリカ微粒子の保持剤として寄与することができる。
小サイズ粒径のシリカ微粒子の平均粒径は、1nm以上20nm以下が好ましく、5nm以上15nm以下が更に好ましく、10nm以上15nm以下が特に好ましい。このようなシリカ微粒子を用いると、原料コストおよび保持剤効果の点で好ましい。
In the present invention, silica particles having no voids can be used in combination with hollow silica. The preferred particle size of silica without voids is 30 nm to 150 nm, more preferably 35 nm to 100 nm, and most preferably 40 nm to 80 nm.
In addition, at least one kind of silica fine particles having an average particle size of less than 25% of the thickness of the low refractive index layer (referred to as “silica fine particles with small size particle size”) is used as silica fine particles with the above particle size (“large size particles”). It can also be used in combination with "silica fine particles having a diameter".
Since the fine silica particles having a small size can be present in the gaps between the fine silica particles having a large size, the fine particles can contribute as a retaining agent for the fine silica particles having a large size.
The average particle diameter of the silica fine particles having a small size is preferably 1 nm to 20 nm, more preferably 5 nm to 15 nm, and particularly preferably 10 nm to 15 nm. Use of such silica fine particles is preferable in terms of raw material costs and a retaining agent effect.
シリカ微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。好ましい表面処理の方法については、前述の無機微粒子の表面処理に記載されている方法に準じて行われる。 Silica fine particles are treated by physical surface treatment such as plasma discharge treatment or corona discharge treatment in order to stabilize dispersion in the dispersion or coating solution, or to improve the affinity and binding to the binder component. Chemical surface treatment with a surfactant, a coupling agent, or the like may be performed. A preferred surface treatment method is carried out in accordance with the method described in the above-mentioned surface treatment of inorganic fine particles.
[高屈折率層用材料]
本発明には高屈折率層を設けることが好ましい。高屈折率層は、バインダー、防眩性を付与するためのマット粒子、および高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーから形成されることができる。
[Material for high refractive index layer]
In the present invention, it is preferable to provide a high refractive index layer. The high refractive index layer can be formed from a binder, mat particles for imparting antiglare properties, and an inorganic filler for increasing the refractive index, preventing crosslinking shrinkage, and increasing the strength.
高屈折率層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が0.1〜5.0μm、好ましくは1.5〜3.5μmのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有させることができる。マット粒子とバインダー間の屈折率差は大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、0.02〜0.20であることが好ましく、0.04〜0.10であることが特に好ましい。マット粒子のバインダーに対する添加量も屈折率同様、大きすぎるとフィルムが白濁し、小さすぎると十分な光拡散効果をえることができないため、3〜30質量パーセントであることが好ましく、5〜20質量パーセントであることが特に好ましい。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、TiO2粒子等の無機化合物の粒子;アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、真球あるいは不定形のいずれも使用できる。
For the purpose of imparting antiglare properties, the high refractive index layer has a matte particle having an average particle size of 0.1 to 5.0 μm, preferably 1.5 to 3.5 μm, for example, inorganic compound particles. Alternatively, resin particles can be contained. If the difference in refractive index between the matte particles and the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained, so 0.02 to 0.20 is preferable, and 0.04 to Particularly preferred is 0.10. Similarly to the refractive index, the addition amount of the matting particles with respect to the binder is too large, the film becomes cloudy, and if it is too small, a sufficient light diffusion effect cannot be obtained. A percentage is particularly preferred.
Specific examples of the matting particles include inorganic particles such as silica particles and TiO2 particles; and resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles. It is done. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
As the shape of the mat particle, either a true sphere or an indefinite shape can be used.
異なる2種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。2種類以上のマット粒子を用いる場合には両者の混合による屈折率制御を効果的に発揮するために屈折率の差が0.0
2以上、0.10以下であることが好ましく、0.03以上、0.07以下であることが特に好ましい。またより大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。例えば、133ppi以上の高精細ディスプレイに光学フィルムを貼り付けた場合に、ギラツキと呼ばれる光学性能上の不具合のないことが要求される。ギラツキは、フィルム表面に存在する凹凸(防眩性に寄与)により、画素が拡大もしくは縮小され、輝度の均一性を失うことに由来するが、防眩性を付与するマット粒子より小さな粒子径で、バインダーの屈折率と異なるマット粒子を併用することにより大きく改善することができる。
Two or more different kinds of mat particles may be used in combination. When two or more kinds of mat particles are used, the difference in refractive index is 0.0 to effectively exert the refractive index control by mixing the two.
It is preferably 2 or more and 0.10 or less, and particularly preferably 0.03 or more and 0.07 or less. Further, it is possible to impart an antiglare property with mat particles having a larger particle size and to impart another optical characteristic with mat particles having a smaller particle size. For example, when an optical film is attached to a high-definition display of 133 ppi or more, it is required that there is no problem in optical performance called glare. Glare originates from the fact that the pixels are enlarged or reduced due to unevenness existing on the film surface (contributing to anti-glare properties) and lose uniformity of brightness, but with a particle size smaller than that of mat particles that provide anti-glare properties. It can be greatly improved by using mat particles having a different refractive index from the binder.
さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも20%以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の1%以下であることが好ましく、より好ましくは0.1%以下であり、さらに好ましくは
0.01%以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。
Furthermore, the particle size distribution of the mat particles is most preferably monodisperse, and the particle sizes of the particles are preferably closer to each other. For example, when a particle having a particle size of 20% or more than the average particle size is defined as a coarse particle, the proportion of the coarse particle is preferably 1% or less, more preferably 0.1% of the total number of particles. Or less, more preferably 0.01% or less. Matt particles having such a particle size distribution are obtained by classification after a normal synthesis reaction, and a matting agent having a more preferable distribution can be obtained by increasing the number of classifications or increasing the degree of classification.
上記マット粒子は、形成されたハードコート層中のマット粒子量が好ましくは10〜1000mg/m2、より好ましくは100〜700mg/m2となるようにハードコート層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。
The mat particles are contained in the hard coat layer so that the amount of the mat particles in the formed hard coat layer is preferably 10 to 1000 mg / m 2 , more preferably 100 to 700 mg / m 2 .
The particle size distribution of the matte particles is measured by a Coulter counter method, and the measured distribution is converted into a particle number distribution.
ハードコート層には、層の屈折率を高めるため、および硬化収縮を低減するために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも1種の金属の酸化物からなり、平均粒径が0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.06μm以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いたハードコート層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
ハードコート層に用いられる無機フィラーの具体例としては、TiO2、ZrO2、Al2O3、In2O3、ZnO、SnO2、Sb2O3、ITOとSiO2等が挙げられる。TiO2およびZrO2が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、ハードコート層の全質量の10〜90%であることが好ましく、より好ましくは20〜80%であり、特に好ましくは30〜70%である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。
The hard coat layer has at least one selected from titanium, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin, and antimony, in addition to the above mat particles, in order to increase the refractive index of the layer and to reduce cure shrinkage. It is preferable to contain an inorganic filler made of one kind of metal oxide and having an average particle size of 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.06 μm or less.
In order to increase the difference in refractive index from the mat particles, it is also preferable to use a silicon oxide in order to keep the refractive index of the hard coat layer using the high refractive index mat particles low. The preferred particle size is the same as that of the aforementioned inorganic filler.
Specific examples of the inorganic filler used for the hard coat layer include TiO 2 , ZrO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3 , ITO and SiO 2 . TiO 2 and ZrO 2 are particularly preferable from the viewpoint of increasing the refractive index. The surface of the inorganic filler is preferably subjected to a silane coupling treatment or a titanium coupling treatment, and a surface treatment agent having a functional group capable of reacting with a binder species on the filler surface is preferably used.
The amount of these inorganic fillers added is preferably 10 to 90% of the total mass of the hard coat layer, more preferably 20 to 80%, and particularly preferably 30 to 70%.
Such a filler does not scatter because the particle size is sufficiently smaller than the wavelength of light, and a dispersion in which the filler is dispersed in a binder polymer behaves as an optically uniform substance.
本発明のハードコート層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、1.48〜2.00であることが好ましく、より好ましくは1.50〜1.80である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。 The bulk refractive index of the mixture of binder and inorganic filler in the hard coat layer of the present invention is preferably 1.48 to 2.00, more preferably 1.50 to 1.80. In order to make the refractive index within the above range, the kind and amount ratio of the binder and the inorganic filler may be appropriately selected. How to select can be easily known experimentally in advance.
このようにして形成された本発明の光学フィルムは、ヘイズ値が3〜70%、好ましくは4〜60%の範囲にあり、そして450nmから650nmの平均反射率が3.0%以下、好ましくは2.5%以下である。
本発明の光学フィルムが上記範囲のヘイズ値及び平均反射率であることにより、透過画像の劣化を伴なわずに良好な防眩性および反射防止性が得られる。
The optical film of the present invention thus formed has a haze value of 3 to 70%, preferably 4 to 60%, and an average reflectance of 450 nm to 650 nm is 3.0% or less, preferably 2.5% or less.
When the optical film of the present invention has a haze value and an average reflectance in the above ranges, good antiglare properties and antireflection properties can be obtained without causing deterioration of the transmitted image.
[支持体]
本発明の光学フィルムの透明支持体としては、プラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムを形成するポリマーとしては、セルロースエステル(例、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、代表的には富士写真フイルム社製TAC−TD80U,TD80UFなど)、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ノルボルネン系樹脂(アートン:商品名、JSR社製)、非晶質ポリオレフィン(ゼオネックス:商品名、日本ゼオン社製)、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、が好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。また、ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素を実質的に含まないセルロースアシレートフィルムおよびその製造法については発明協会公開技報(公技番号2001−1745、2001年3月15日発行、以下公開技報2001−1745号と略す)に記載されており、ここに記載されたセルロースアシレートも本発明に好ましく用いることができる。
[Support]
A plastic film is preferably used as the transparent support of the optical film of the present invention. Examples of polymers forming the plastic film include cellulose esters (eg, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, typically TAC-TD80U, TD80UF, etc. manufactured by Fuji Photo Film), polyamides, polycarbonates, polyesters (eg, polyethylene terephthalate, polyethylene). Naphthalate), polystyrene, polyolefin, norbornene resin (Arton: trade name, manufactured by JSR), amorphous polyolefin (ZEONEX: trade name, manufactured by Nippon Zeon), and the like. Of these, triacetyl cellulose, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate are preferable, and triacetyl cellulose is particularly preferable. In addition, the cellulose acylate film substantially free of halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and the process for producing the same are disclosed in the JIII Journal of Technical Disclosure (Publication No. 2001-1745, published on March 15, 2001; The cellulose acylate described here can also be preferably used in the present invention.
[鹸化処理]
本発明の光学フィルムを液晶表示装置に用いる場合、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置する。該透明支持体がトリアセチルセルロースの場合は偏光板の偏光層を保護する保護フィルムとしてトリアセチルセルロースが用いられるため、本発明の光学フィルムをそのまま保護フィルムに用いることがコストの上では好ましい。
[Saponification]
When the optical film of the present invention is used in a liquid crystal display device, it is disposed on the outermost surface of the display by providing an adhesive layer on one side. When the transparent support is triacetyl cellulose, triacetyl cellulose is used as a protective film for protecting the polarizing layer of the polarizing plate. Therefore, it is preferable in terms of cost to use the optical film of the present invention as it is for the protective film.
本発明の光学フィルムは、片面に粘着層を設ける等してディスプレイの最表面に配置したり、そのまま偏光板用保護フィルムとして使用される場合には、十分に接着させるためには透明支持体上に含フッ素ポリマーを主体とする最外層を形成した後、鹸化処理を実施することが好ましい。鹸化処理は、公知の手法、例えば、アルカリ液の中に該フィルムを適切な時間浸漬して実施される。アルカリ液に浸漬した後は、該フィルムの中にアルカリ成分が残留しないように、水で十分に水洗したり、希薄な酸に浸漬してアルカリ成分を中和することが好ましい。
鹸化処理することにより、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面が親水化される。
親水化された表面は、ポリビニルアルコールを主成分とする偏向膜との接着性を改良するのに特に有効である。また、親水化された表面は、空気中の塵埃が付着しにくくなるため、偏向膜と接着させる際に偏向膜と光学フィルムの間に塵埃が入りにくく、塵埃による点欠陥を防止するのに有効である。
鹸化処理は、最外層を有する側とは反対側の透明支持体の表面の水に対する接触角が40゜以下になるように実施することが好ましい。更に好ましくは30゜以下、特に好ましくは20゜以下である。
When the optical film of the present invention is disposed on the outermost surface of a display by providing an adhesive layer on one side or used as it is as a protective film for a polarizing plate, the optical film on the transparent support is sufficient for adhesion. It is preferable to perform a saponification treatment after forming an outermost layer mainly composed of a fluorine-containing polymer. The saponification treatment is performed by a known method, for example, by immersing the film in an alkali solution for an appropriate time. After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to sufficiently wash with water or neutralize the alkaline component by dipping in a dilute acid so that the alkaline component does not remain in the film.
By saponification treatment, the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is hydrophilized.
The hydrophilized surface is particularly effective for improving the adhesion with a deflection film containing polyvinyl alcohol as a main component. In addition, the hydrophilic surface makes it difficult for dust in the air to adhere to it, making it difficult for dust to enter between the deflection film and the optical film when bonded to the deflection film, and is effective in preventing point defects due to dust. It is.
The saponification treatment is preferably carried out so that the contact angle of water on the surface of the transparent support opposite to the side having the outermost layer is 40 ° or less. More preferably, it is 30 ° or less, particularly preferably 20 ° or less.
アルカリ鹸化処理の具体的手段としては、以下の(1)及び(2)の2つの手段から選択することができる。汎用のトリアセチルセルロースフィルムと同一の工程で処理できる点で(1)が優れているが、反射防止膜面まで鹸化処理されるため、表面がアルカリ加水分解されて膜が劣化する点、鹸化処理液が残ると汚れになる点が問題になり得る。その場合には、特別な工程となるが、(2)が優れる。
(1)透明支持体上に反射防止層を形成後に、アルカリ液中に少なくとも1回浸漬することで、該フィルムの裏面を鹸化処理する。
(2)透明支持体上に反射防止層を形成する前または後に、アルカリ液を該光学フィルムの光学フィルムを形成する面とは反対側の面に塗布し、加熱、水洗および/または中和することで、該フィルムの裏面だけを鹸化処理する。
Specific means for the alkali saponification treatment can be selected from the following two means (1) and (2). (1) is superior in that it can be processed in the same process as a general-purpose triacetylcellulose film, but since the surface of the antireflection film is saponified, the surface is alkali-hydrolyzed and the film deteriorates. The point that it becomes dirty when the liquid remains can be a problem. In that case, although it becomes a special process, (2) is excellent.
(1) After the antireflection layer is formed on the transparent support, the back surface of the film is saponified by immersing it in an alkaline solution at least once.
(2) Before or after forming the antireflection layer on the transparent support, an alkaline solution is applied to the surface of the optical film opposite to the surface on which the optical film is formed, and is heated, washed and / or neutralized. Thus, only the back surface of the film is saponified.
[塗膜形成方法]
本発明の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。
まず、各層を形成するための成分を含有した塗布液が調製される。塗布液を、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書参照)により透明支持体上に塗布し、加熱・乾燥する。これらの塗布方式のうち、グラビアコート法で塗布すると反射防止膜の各層のような塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、好ましい。グラビアコート法の中でもマイクログラビア法は膜厚均一性が高く、より好ましい。
また、ダイコート法を用いても塗布量の少ない塗布液を膜厚均一性高く塗布することができ、さらにダイコート法は前計量方式のため膜厚制御が比較的容易であり、さらに塗布部における溶剤の蒸散が少ないため、好ましい。二層以上を同時に塗布してもよい。同時塗布の方法については、米国特許2761791号、同2941898号、同3508947号、同3526528号の各明細書および原崎勇次著、コーティング工学、253頁、朝倉書店(1973)に記載がある。
[Coating method]
The optical film of the present invention can be formed by the following method, but is not limited to this method.
First, a coating solution containing components for forming each layer is prepared. The coating solution is applied onto a transparent support by dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating or extrusion coating (see US Pat. No. 2,681,294). Heat and dry. Among these coating methods, it is preferable to apply the gravure coating method because a coating solution with a small coating amount such as each layer of the antireflection film can be applied with high film thickness uniformity. Among the gravure coating methods, the micro gravure method has a high film thickness uniformity and is more preferable.
In addition, a coating solution with a small coating amount can be applied with high film thickness uniformity even by using a die coating method. Further, since the die coating method is a pre-measuring method, film thickness control is relatively easy, and the solvent in the coating part Is preferred because of less transpiration. Two or more layers may be applied simultaneously. The methods for simultaneous application are described in US Pat. Nos. 2,761,791, 2,941,898, 3,508,947, and 3,526,528 and Yuji Harasaki, Coating Engineering, page 253, Asakura Shoten (1973).
[偏光板]
偏光板は、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムで主に構成される。本発明の光学フィルムは、偏光膜を両面から挟む2枚の保護フィルムのうち少なくとも1枚に用いることが好ましい。本発明の光学フィルムが保護フィルムを兼ねることで、偏光板の製造コストを低減できる。また、本発明の光学フィルムを最表層に使用することにより、外光の映り込み等が防止され、耐傷性、防汚性等も優れた偏光板とすることができる。
[Polarizer]
The polarizing plate is mainly composed of two protective films that sandwich the polarizing film from both sides. The optical film of the present invention is preferably used for at least one of the two protective films sandwiching the polarizing film from both sides. The manufacturing cost of a polarizing plate can be reduced because the optical film of the present invention also serves as a protective film. In addition, by using the optical film of the present invention as the outermost layer, reflection of external light and the like can be prevented, and a polarizing plate having excellent scratch resistance, antifouling property and the like can be obtained.
偏光膜としては公知の偏光膜や、偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜から切り出された偏光膜を用いてもよい。偏光膜の吸収軸が長手方向に平行でも垂直でもない長尺の偏光膜は以下の方法により作成される。
即ち、連続的に供給されるポリマーフィルムの両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸した偏光膜で、少なくともフィルム幅方向に1.1〜20.0倍に延伸し、フィルム両端の保持装置の長手方向進行速度差が3%以内であり、フィルム両端を保持する工程の出口におけるフィルムの進行方向と、フィルムの実質延伸方向のなす角が、20〜70度傾斜するようにフィルム進行方向を、フィルム両端を保持させた状態で屈曲させてなる延伸方法によって製造することができる。特に45度傾斜させたものが生産性の観点から好ましく用いられる。
As the polarizing film, a known polarizing film or a polarizing film cut out from a long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction may be used. A long polarizing film whose absorption axis is neither parallel nor perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.
That is, a polarizing film stretched by applying tension while holding both ends of a continuously supplied polymer film by a holding means, stretched at least 1.1 to 20.0 times in the film width direction, The progress of the film is such that the difference between the moving speeds in the longitudinal direction of the holding device is within 3%, and the angle formed by the moving direction of the film at the exit of the step of holding both ends of the film and the substantial stretching direction of the film is inclined by 20 to 70 degrees. The film can be produced by a stretching method in which the direction is bent while holding both ends of the film. In particular, those inclined by 45 degrees are preferably used from the viewpoint of productivity.
ポリマーフィルムの延伸方法については、特開2002−86554号公報の段落0020〜0030に詳しい記載がある。 The method for stretching the polymer film is described in detail in paragraphs 0020 to 0030 of JP-A-2002-86554.
本発明の光学フィルムは、偏光膜の表面保護フィルムの片側として用いた場合、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等のモードの透過型、反射型、または半透過型の液晶表示装置に好ましく用いることができる。 When the optical film of the present invention is used as one side of a surface protective film of a polarizing film, twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), optically It can be preferably used for a transmissive, reflective, or transflective liquid crystal display device in a mode such as a compensated bend cell (OCB).
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
VAモードの液晶セル用には、2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムを本発明の光学フィルムと組み合わせて作成した偏光板が好ましく用いられる。2軸延伸したトリアセチルセルロースフィルムの作製方法については、例えば特開2001−249223号公報、特開2003−170492号公報などに記載の方法を用いることが好ましい。
The VA mode liquid crystal cell includes (1) a narrowly defined VA mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically when no voltage is applied, and substantially horizontally when a voltage is applied (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 2-). (2) In addition to (2) Liquid crystal cell (SID97, Digest of tech. Papers (Preliminary Collection) 28 (1997) 845 in which the VA mode is converted into a multi-domain (MVA mode) for viewing angle expansion ), (3) A liquid crystal cell in a mode (n-ASM mode) in which rod-like liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned when no voltage is applied and twisted multi-domain alignment is applied when a voltage is applied (Preliminary collections 58-59 of the Japan Liquid Crystal Society) (1998)) and (4) SURVAVAL mode liquid crystal cells (announced at LCD International 98).
For a VA mode liquid crystal cell, a polarizing plate prepared by combining a triacetyl cellulose film stretched biaxially with the optical film of the present invention is preferably used. As for the method for producing a biaxially stretched triacetyl cellulose film, for example, the methods described in JP-A Nos. 2001-249223 and 2003-170492 are preferably used.
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置であり、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(OpticallyCompensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。 The OCB mode liquid crystal cell is a liquid crystal display device using a bend alignment mode liquid crystal cell in which rod-like liquid crystalline molecules are aligned in a substantially opposite direction (symmetrically) between the upper part and the lower part of the liquid crystal cell. It is disclosed in the specifications of Japanese Patent Nos. 45882525 and 5410422. Since the rod-like liquid crystal molecules are symmetrically aligned at the upper and lower portions of the liquid crystal cell, the bend alignment mode liquid crystal cell has a self-optical compensation function. Therefore, this liquid crystal mode is also called an OCB (Optically Compensatory Bend) liquid crystal mode. The bend alignment mode liquid crystal display device has an advantage of high response speed.
ECBモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向しており、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ」東レリサーチセンター発行(2001)などに記載されている。 In an ECB mode liquid crystal cell, rod-like liquid crystal molecules are substantially horizontally aligned when no voltage is applied, and is most frequently used as a color TFT liquid crystal display device, and is described in many documents. For example, it is described in “EL, PDP, LCD display” published by Toray Research Center (2001).
特にTNモードやIPSモードの液晶表示装置に対しては、特開2001−100043号公報等に記載されているように、視野角拡大効果を有する光学補償フィルムを偏光膜の裏表2枚の保護フィルムの内の本発明の光学フィルムとは反対側の面に用いることにより、1枚の偏光板の厚みで反射防止効果と視野角拡大効果を有する偏光板を得ることができ、特に好ましい。 In particular, for TN mode and IPS mode liquid crystal display devices, as described in JP-A-2001-100043, an optical compensation film having an effect of widening a viewing angle is used as a protective film having two polarizing films on both sides. Among them, by using it on the surface opposite to the optical film of the present invention, a polarizing plate having an antireflection effect and a viewing angle expansion effect can be obtained with the thickness of one polarizing plate, which is particularly preferable.
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれに限定されない。なお、特別の断りの無い限り、「部」及び「%」は質量基準である。
また、試料No.102、103、108、111、509及び510は「参考例」と読み替えるものとする。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to this. Unless otherwise specified, “part” and “%” are based on mass.
Sample No. 102, 103, 108, 111 , 509 and 510 shall be read as “reference examples”.
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM―5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は測定誤差の範囲内で100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。固形分の濃度が29%になるようにメチルエチルケトンで調節してゾル液aとした。
(Preparation of sol solution a)
A stirrer, a reactor equipped with a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyltrimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 3 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. Thereafter, 30 parts of ion-exchanged water was added and reacted at 60 ° C. for 4 hours, and then cooled to room temperature to obtain sol solution a. The mass average molecular weight was 1600, and among the components higher than the oligomer component, the component having a molecular weight of 1000 to 20000 was 100% within the measurement error range. Further, from the gas chromatography analysis, the raw material acryloyloxypropyltrimethoxysilane did not remain at all. Sol solution a was adjusted with methyl ethyl ketone so that the solid content was 29%.
(シリカ分散液Aの調製)
中空シリカ微粒子ゾル(イソプロピルアルコールシリカゾル、平均粒子径40nm、シェル厚み6nm、シリカ濃度20質量%、シリカ粒子の屈折率1.30、特開2002−79616の調製例4に準じサイズを変更して作成)500部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学工業(株)製)8部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン(GE東芝シリコーン(株)製)2部、およびジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート1.5部加え混合した後に、イオン交換水を9部を加えた。60℃で8時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン1.8部を添加した。
この分散液500gにほぼシリカの含量一定となるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力20kPaで減圧蒸留による溶媒置換を行った。分散液に異物の発生はなく、固形分濃度をシクロヘキサノンで調整し、22質量%にしたときの粘度は25℃で9mPa・sであった。得られた分散液Aのイソプロピルアルコールの残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ、1.0%であった。
(Preparation of silica dispersion A)
Hollow silica fine particle sol (Isopropyl alcohol silica sol, average particle diameter 40 nm, shell thickness 6 nm, silica concentration 20% by mass, silica particle refractive index 1.30, prepared by changing the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616 ) 500 parts, 8 parts acryloyloxypropyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), 2 parts tridecafluorooctyltrimethoxysilane (manufactured by GE Toshiba Silicone Co., Ltd.), and
While adding cyclohexanone to 500 g of this dispersion so that the silica content was almost constant, solvent substitution was performed by distillation under reduced pressure at a pressure of 20 kPa. There was no generation of foreign matter in the dispersion, and the viscosity when adjusted to a solid content concentration of 22% by mass with cyclohexanone was 9 mPa · s at 25 ° C. When the residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography, it was 1.0%.
(ハードコート層用塗料(HC-1)の調製)
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物PETA(日本化薬(株)製)50.0質量部に、重合開始剤イルガキュア184(日本チバガイギー(株)製)2.0質量部、下記のフッ素系面状改良剤(FP−1)0.30質量部、オルガノシラン化合物KBM−5103(信越化学工業(株)製)10.0質量部、トルエン38.5質量部を添加して撹拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は1.51であった。
(Preparation of hard coat layer paint (HC-1))
A mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate PETA (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 50.0 parts by mass, polymerization initiator Irgacure 184 (manufactured by Nippon Ciba Geigy Co., Ltd.) 2.0 parts by mass, the following fluorine A system surface improver (FP-1) 0.30 parts by mass, an organosilane compound KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10.0 parts by mass, and toluene 38.5 parts by mass were added and stirred. The refractive index of the coating film obtained by applying this solution and curing with ultraviolet rays was 1.51.
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて10000rpmで分散した平均粒径3.5μmの架橋ポリスチレン粒子SX−350(屈折率1.60、綜研化学(株)製)の30質量%トルエン分散液1.7質量部、及びポリトロン分散機にて10000rpmで分散した平均粒径3.5μmの架橋アクリル−スチレン粒子(屈折率1.55、綜研化学(株)製)の30質量%トルエン分散液13.3質量部を添加して撹拌した。次いで孔径30μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して防眩性ハードコート層用塗料(HC−1)を調製した。この塗料による塗膜の屈折率は1.51であった。得られた防眩性ハードコート層用塗料(HC-1)の表面張力は32mN/mであった。 Further, a 30% by weight toluene dispersion 1.7 of crosslinked polystyrene particles SX-350 (refractive index 1.60, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) having an average particle size of 3.5 μm dispersed in this solution at 10,000 rpm with a polytron disperser 1.7. 13.3 parts by mass of a 30% by mass toluene dispersion of a mass part and a crosslinked acrylic-styrene particle having an average particle size of 3.5 μm (refractive index: 1.55, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) dispersed at 10,000 rpm with a polytron disperser. Part was added and stirred. Subsequently, it filtered with the polypropylene filter with a hole diameter of 30 micrometers, and prepared the coating material (HC-1) for glare-proof hard-coat layers. The refractive index of the coating film made of this paint was 1.51. The surface tension of the obtained antiglare hard coat layer coating material (HC-1) was 32 mN / m.
(低屈折率層用塗布液(Ln−1)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、特開2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量50000)93.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3質量部を溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−1)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-1))
93.0 parts by mass of fluorine-containing copolymer P-3 (weight average molecular weight 50000) described in JP-A-2004-45462, and terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (Gelest Co., Ltd.) with respect to 200 parts by mass of methyl ethyl ketone 4) parts by mass) and 3 parts by mass of photoradical generator Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were dissolved. The coating liquid (Ln-1) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−2)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、特開2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量50000)54.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)2質量部を溶解した。更にシリカ分散液Aを136.4質量部(中空シリカ+表面処理剤の固形分として33質量部)とゾル液aを34.5質量部(固形分として10質量部)を加えて溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−2)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-2))
With respect to 200 parts by mass of methyl ethyl ketone, 54.0 parts by mass of fluorine-containing copolymer P-3 (weight average molecular weight 50000) described in JP-A-2004-45462, terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (Gelest Co., Ltd.) 4) parts by mass) and 2 parts by mass of the photoradical generator Irgacure OXE01 (Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) were dissolved. Further, 136.4 parts by mass of silica dispersion A (33 parts by mass as a solid content of hollow silica + surface treatment agent) and 34.5 parts by mass of sol liquid a (10 parts by mass as a solid part) were added and dissolved. A coating solution (Ln-2) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−3)の調製)
低屈折率層用塗布液(Ln−2)の調製において、シリカ分散液Aの替わりにMEK−ST−L(シリカゾル、MEK−STの粒子サイズ違い、平均粒径45nm、固形分濃度30%、溶媒MEK,日産化学(株)製)を106.7質量部(シリカ固形分として33質量部)添加したこと以外は同様にして塗布液(Ln−3)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-3))
In preparing the coating liquid for low refractive index layer (Ln-2), instead of silica dispersion A, MEK-ST-L (silica sol, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, A coating solution (Ln-3) was prepared in the same manner except that 106.7 parts by mass (solvent MEK, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added (33 parts by mass as silica solid content).
(低屈折率層用塗布液(Ln−4)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)93.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3質量部を溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−4)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-4))
93.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 4 parts by mass of a terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (manufactured by Gelest Co.), 200 parts by mass of methyl ethyl ketone, light 3 parts by mass of radical generator Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) was dissolved. A coating solution (Ln-4) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−5)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)29.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)2質量部を溶解した。更にシリカ分散液Aを250質量部(中空シリカ+表面処理剤の固形分として55質量部)とゾル液aを34.5質量部(固形分として10質量部)を加えて溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−5)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-5))
2200 parts by mass of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 4 parts by mass of terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (manufactured by Gelest Co., Ltd.), 200 parts by mass of methyl ethyl ketone 2 parts by mass of the radical generator Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals) was dissolved. Further, 250 parts by mass of silica dispersion A (55 parts by mass as a solid content of hollow silica + surface treatment agent) and 34.5 parts by mass of sol liquid a (10 parts by mass as a solid part) were added and dissolved. The coating liquid (Ln-5) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−6)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、特開2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量50000)82.0質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)15.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3質量部を溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−6)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-6))
82.0 parts by mass of the fluorine-containing copolymer P-3 (weight average molecular weight 50000) described in JP-A-2004-45462, 200 parts by mass of methyl ethyl ketone, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate Mixture (DPHA) 15.0 parts by mass, terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (manufactured by Gelest Co., Ltd.) 4 parts by mass, photoradical generator Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) 3 parts by mass Dissolved. The coating liquid (Ln-6) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating liquid was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−7)の調製)
メチルエチルケトン200質量部に対して、特開2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量50000)46.0質量部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)8.0質量部、末端メタクリレート基含有シリコーンRMS‐033(Gelest(株)製)4質量部、光ラジカル発生剤イルガキュアOXE01(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)2質量部を溶解した。更にシリカ分散液Aを136.4質量部(中空シリカ+表面処理剤の固形分として33質量部)とゾル液aを34.5質量部(固形分として10質量部)を加えて溶解した。塗布液全体の固形分濃度が6質量%となり、シクロヘキサンとメチルエチルケトンの比率が20対80になるようにシクロヘキサノンとメチルエチルケトンで希釈して塗布液(Ln−7)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-7))
46.0 parts by mass of fluorine-containing copolymer P-3 (weight average molecular weight 50000) described in JP-A-2004-45462, 200 parts by mass of methyl ethyl ketone, dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate 8.0 parts by weight of the mixture (DPHA), 4 parts by weight of the terminal methacrylate group-containing silicone RMS-033 (manufactured by Gelest Co., Ltd.), 2 parts by weight of the photoradical generator Irgacure OXE01 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) Dissolved. Further, 136.4 parts by mass of silica dispersion A (33 parts by mass as a solid content of hollow silica + surface treatment agent) and 34.5 parts by mass of sol liquid a (10 parts by mass as a solid part) were added and dissolved. A coating solution (Ln-7) was prepared by diluting with cyclohexanone and methyl ethyl ketone so that the solid content concentration of the entire coating solution was 6% by mass and the ratio of cyclohexane and methyl ethyl ketone was 20:80.
(低屈折率層用塗布液(Ln−8)の調製)
低屈折率層用塗布液(Ln−7)の調製において、シリカ分散液Aの替わりにMEK−ST−L(シリカゾル、MEK−STの粒子サイズ違い、平均粒径45nm、固形分濃度30%、溶媒MEK,日産化学(株)製)を106.7質量部(シリカ固形分として33質量部)添加したこと以外は同様にして塗布液(Ln−8)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-8))
In the preparation of the coating solution for low refractive index layer (Ln-7), instead of silica dispersion A, MEK-ST-L (silica sol, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, A coating solution (Ln-8) was prepared in the same manner except that 106.7 parts by mass (solvent MEK, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added (33 parts by mass as silica solid content).
(低屈折率層用塗布液(Ln−9)の調製)
低屈折率層用塗布液(Ln−6)の調製において、含フッ素共重合体P−3の替わりに、特開平2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量51000)を同質量部使用した以外は同様にして、塗布液(Ln−9)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-9))
In the preparation of the coating solution for low refractive index layer (Ln-6), instead of the fluorinated copolymer P-3, the fluorinated copolymer P-3 (weight average molecular weight) described in JP-A No. 2004-45462 is used. 51000) was used in the same manner except that the same mass part was used to prepare a coating solution (Ln-9).
(低屈折率層用塗布液(Ln−10)の調製)
低屈折率層用塗布液(Ln−7)の調製において、含フッ素共重合体P−3の替わりに、特開平2004−45462号公報に記載の含フッ素共重合体P−3(重量平均分子量51000)を同質量部使用した以外は同様にして、塗布液(Ln−10)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-10))
In the preparation of the coating solution for low refractive index layer (Ln-7), instead of the fluorinated copolymer P-3, the fluorinated copolymer P-3 (weight average molecular weight) described in JP-A No. 2004-45462 is used. A coating solution (Ln-10) was prepared in the same manner except that the same mass part of 51000) was used.
(低屈折率層用塗布液(Ln−11)の調製)
低屈折率層用塗布液(Ln−10)の調製において、シリカ分散液Aの替わりにMEK−ST−L(シリカゾル、MEK−STの粒子サイズ違い、平均粒径45nm、固形分濃度30%、溶媒MEK,日産化学(株)製)を106.7質量部(シリカ固形分として33質量部)添加したこと以外は同様にして塗布液(Ln−11)を調製した。
(Preparation of coating solution for low refractive index layer (Ln-11))
In the preparation of the coating solution for low refractive index layer (Ln-10), instead of silica dispersion A, MEK-ST-L (silica sol, MEK-ST particle size difference, average particle size 45 nm, solid content concentration 30%, A coating solution (Ln-11) was prepared in the same manner except that 106.7 parts by mass (solvent MEK, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd.) was added (33 parts by mass as the silica solid content).
(反射防止フィルム(101)の作製)
膜厚80μm、幅1340mmのトリアセチルセルロースフィルム“TAC−TD80U”{富士写真フイルム(株)製}上に、ハードコート層用塗料(HC-1)をマイクログラビア塗工方式で、搬送速度30m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、窒素パージ(酸素濃度0.5%以下)しながら、160W/cmの空冷メタルハライドランプ{アイグラフィックス(株)製}を用いて、放射照度400mW/cm2、照射エネルギー量120mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、膜厚6μmの防眩性を有するハードコート層を作製した。
(Preparation of antireflection film (101))
On a triacetyl cellulose film “TAC-TD80U” {manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.} having a thickness of 80 μm and a width of 1340 mm, a hard coat layer coating (HC-1) is applied by a microgravure coating method at a conveyance speed of 30 m / After applying for 150 minutes and drying at 60 ° C. for 150 seconds, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp {made by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen (oxygen concentration 0.5% or less), The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an irradiance of 400 mW / cm 2 and an irradiation energy amount of 120 mJ / cm 2 to prepare a hard coat layer having an antiglare thickness of 6 μm.
このようにして得られたハードコート層の上に、上記低屈折率層用塗布液(Ln−1)を用いて低屈折率層膜厚が90nmになるように調節して試料101を作製した。低屈折率層の乾燥条件は90℃、150秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.01体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度120mW/cm2、照射エネルギー量240mJ/cm2の照射量とした。硬化後の低屈折率層の屈折率は1.44であった。
このようにして得られた試料101に対して、低屈折率層の塗布液を(Ln−2)〜(Ln−11)に変更した以外は試料101と同様にして試料102〜111を作製した。
On the hard coat layer thus obtained, a sample 101 was prepared by adjusting the film thickness of the low refractive index layer to 90 nm using the coating liquid for low refractive index layer (Ln-1). . The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 150 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics The amount of irradiation was 120 mW / cm 2 and the irradiation energy amount was 240 mJ / cm 2 . The refractive index of the low refractive index layer after curing was 1.44.
Samples 102 to 111 were produced in the same manner as the sample 101 except that the coating solution for the low refractive index layer was changed to (Ln-2) to (Ln-11) for the sample 101 thus obtained. .
(反射防止フイルムの評価)
得られたフイルムについて、以下の項目の評価を行った。
(評価1)平均反射率
反射防止フイルムの裏面を粗面化処理した後、黒色のインクで光吸収処理(380〜780nmにおける透過率が10%未満)を行った。分光光度計(日本分光(株)製)を用いて、380〜780nmの波長領域において、入射角5°における分光反射率を測定した。結果には450〜650nmの平均反射率を用いた。
(Evaluation of antireflection film)
The obtained film was evaluated for the following items.
(Evaluation 1) Average reflectance After the back surface of the antireflection film was roughened, it was subjected to light absorption treatment with black ink (transmittance at 380 to 780 nm was less than 10%). Using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation), the spectral reflectance at an incident angle of 5 ° was measured in a wavelength region of 380 to 780 nm. The average reflectance of 450-650 nm was used for the result.
(評価2)膜中粒子充填率の偏り(SP値)
各試料の50nmの厚さの切片を作製し透過型電子顕微鏡で15万倍で観察し、写真を撮影した。低屈折率層の全層中の平均粒子含有率(A)に対して、支持体と反対側の上層30%膜厚中の平均粒子充填率(B)の比率SP値[(B/A)×100]を算出した。前記のように上層30%膜厚中の粒子含有率の算出において、粒子の一部が上層30%膜中に含まれる場合には断面写真上の面積の割合で含有率を算出した。
(Evaluation 2) Bias of particle filling rate in film (SP value)
A 50 nm thick section of each sample was prepared and observed with a transmission electron microscope at 150,000 times, and a photograph was taken. Ratio SP value of average particle filling rate (B) in 30% film thickness of upper layer opposite to support relative to average particle content (A) in all layers of low refractive index layer [(B / A) × 100] was calculated. In the calculation of the particle content in the upper layer 30% film thickness as described above, when a part of the particles were included in the upper layer 30% film, the content rate was calculated by the ratio of the area on the cross-sectional photograph.
(評価3)防塵性評価
反射防止フィルムをモニターに張り付け、モニター表面に塵埃(布団、衣服の繊維屑)を振りかけた。クリーニングクロスで塵埃を拭き取り、塵埃の除去性を調べ、下記4段階で評価した。
○ ;3回以内の拭き取りで塵埃が完全に取り除けたもの。
○△;塵埃が完全に取り除けるが、4回以上6回以下の拭き取りが必要。
△ ;6回の拭き取りでは塵埃が若干残ったもの。
× ;塵埃がかなり残ったもの。
(Evaluation 3) Dust-proof evaluation An anti-reflection film was attached to the monitor, and dust (futon, fiber waste from clothes) was sprinkled on the monitor surface. The dust was wiped off with a cleaning cloth, the dust removal property was examined, and the following four grades were evaluated.
○: Dust completely removed by wiping within 3 times.
○ △: Dust can be removed completely, but wiping 4 to 6 times is required.
Δ: Some dust remains after wiping 6 times.
×: Dust remains considerably.
(評価4)耐擦傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行った。
評価環境条件:25℃、60%RH
こすり材:試料と接触するテスターのこすり先端部(1cm×1cm)にスチールウール((株)日本スチールウール製、No.0000)を巻いて、動かないようバンド固定し
た。その上で下記条件の往復こすり運動を与えた。
移動距離(片道):13cm、こすり速度:13cm/秒、
荷重:500g/cm3、先端部接触面積:1cm×1cm、
こすり回数:10往復。
こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を、以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全く傷が見えない。
○△:非常に注意深く見ると僅かに弱い傷が見える。
△:弱い傷が見える。
△×:中程度の傷が見える。
×:一目見ただけで分かる傷がある。
評価結果を第1表に示す。
(Evaluation 4) Evaluation of scratch resistance A rubbing test was performed under the following conditions using a rubbing tester.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
Rub material: Steel wool (No. 0000, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was wound around the rubbing tip (1 cm × 1 cm) of a tester in contact with the sample, and the band was fixed so as not to move. Then, the reciprocating rubbing motion under the following conditions was given.
Moving distance (one way): 13 cm, rubbing speed: 13 cm / second,
Load: 500 g / cm 3 , tip contact area: 1 cm × 1 cm,
Number of rubs: 10 round trips.
An oil-based black ink was applied to the back side of the rubbed sample and visually observed with reflected light, and scratches on the rubbed portion were evaluated according to the following criteria.
○: Even when viewed very carefully, no scratches are visible.
○ △: Slightly weak scratches are visible when viewed very carefully.
Δ: A weak scratch is visible.
Δ ×: moderate scratches are visible.
X: There are scratches that can be seen at first glance.
The evaluation results are shown in Table 1.
第1表に示される結果より、以下のことが明らかである。
微粒子を含有し、そのSP値が本発明の範囲のものは、防塵性及びスチールウール耐傷性に優れる。さらに、中空シリカを使用することで反射率の低下が認められることが分かる。また、平均分子量が5000以下の化合物(DPHA,ゾル液a)と平均分子量が5000以上のバインダー(P3、P25)を組み合わせて用いた試料ではこれら性能が一層改良されることが判る。
From the results shown in Table 1, the following is clear.
Those containing fine particles and having an SP value in the range of the present invention are excellent in dust resistance and steel wool scratch resistance. Furthermore, it turns out that the fall of a reflectance is recognized by using a hollow silica. Further, it can be seen that these performances are further improved in a sample using a combination of a compound (DPHA, sol liquid a) having an average molecular weight of 5000 or less and a binder (P3, P25) having an average molecular weight of 5000 or more.
以下に示す多層の反射防止膜を作製した。
(ハードコート層用塗布液(HC−2)の調製)
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液とした。
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、日本化薬(株)製)750.0質量部に、重量平均分子量15000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部、光カチオン重合開始剤(ロードシル2074)25.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。
孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液(HC−2)を調製した。
A multilayer antireflection film shown below was prepared.
(Preparation of hard coat layer coating solution (HC-2))
The following composition was put into a mixing tank and stirred to obtain a hard coat layer coating solution.
750.0 parts by mass of trimethylolpropane triacrylate (TMPTA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), 270.0 parts by mass of poly (glycidyl methacrylate) having a weight average molecular weight of 15000, 730.0 parts by mass of methyl ethyl ketone, 500.0 cyclohexanone Mass parts, 25.0 parts by mass of a cationic photopolymerization initiator (Lordsil 2074) and 50.0 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred.
It filtered with the polypropylene filter with the hole diameter of 0.4 micrometer, and prepared the coating liquid (HC-2) for hard-coat layers.
(二酸化チタン微粒子分散液の調製)
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129C、石原産業(株)製、TiO2:Co3O4:Al2O3:ZrO2=90.5:3.0:4.0:0.5質量比)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤41.1質量部、およびシクロヘキサノン701.8質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径70nmの二酸化チタン分散液を調製した。
(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion)
As titanium dioxide fine particles, titanium dioxide fine particles (MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd., TiO 2 : Co 3 O 4 : containing cobalt and subjected to surface treatment using aluminum hydroxide and zirconium hydroxide: Al 2 O 3 : ZrO 2 = 90.5: 3.0: 4.0: 0.5 mass ratio) was used.
The following dispersant (41.1 parts by mass) and cyclohexanone (701.8 parts by mass) were added to 257.1 parts by mass of the particles and dispersed by dynomill to prepare a titanium dioxide dispersion having a mass average diameter of 70 nm.
(中屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液99.1質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)68.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.6質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.2質量部、メチルエチルケトン279.6質量部およびシクロヘキサノン1049.0質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for medium refractive index layer)
In 99.1 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 68.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 3.6 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907), light A sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.2 parts by mass, 279.6 parts by mass of methyl ethyl ketone and 1049.0 parts by mass of cyclohexanone were added and stirred. After sufficiently stirring, the solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a medium refractive index layer.
(高屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン分散液469.8質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA、日本化薬(株)製)40.0質量部、光重合開始剤(イルガキュア907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)3.3質量部、光増感剤(カヤキュア−DETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン526.2質量部、およびシクロヘキサノン459.6質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。
(Preparation of coating solution for high refractive index layer)
To 469.8 parts by mass of the above titanium dioxide dispersion, 40.0 parts by mass of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd.), a photopolymerization initiator (Irgacure 907) 3.3 parts by mass, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 1.1 parts by mass of photosensitizer (Kayacure-DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 526.2 parts by mass of methyl ethyl ketone, and cyclohexanone 459 .6 parts by mass was added and stirred. The solution was filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for a high refractive index layer.
(反射防止フィルム(201)の作製)
膜厚80μmのトリアセチルセルロースフィルム(TD80UF、富士写真フイルム(株)製)上に、上記ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度400mW/cm2、照射エネルギー量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Ln−1を3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。
(Preparation of antireflection film (201))
The hard coat layer coating solution was applied on a triacetyl cellulose film (TD80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying at 100 ° C., using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen so that the atmosphere has an oxygen concentration of 1.0 vol% or less, an irradiance of 400 mW / The coated layer was cured by irradiating ultraviolet rays having a cm 2 and an irradiation energy amount of 300 mJ / cm 2 to form a hard coat layer having a thickness of 8 μm.
On the hard coat layer, a medium refractive index layer coating solution, a high refractive index layer coating solution, and a low refractive index layer coating solution Ln-1 were successively applied using a gravure coater having three coating stations. .
中屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度400mW/cm2、照射エネルギー量400mJ/cm2の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率1.630、膜厚67nmであった。 The medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition was 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 1.0% by volume or less. The amount of irradiation was 400 mW / cm 2 and the irradiation energy was 400 mJ / cm 2 . The medium refractive index layer after curing had a refractive index of 1.630 and a film thickness of 67 nm.
高屈折率層の乾燥条件は90℃、30秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度600mW/cm2、照射エネルギー量400mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率1.905、膜厚107nmであった。
The drying condition of the high refractive index layer is 90 ° C. for 30 seconds, and the ultraviolet curing condition is 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics The amount of irradiation was 600 mW / cm 2 and the amount of irradiation energy was 400 mJ / cm 2 .
The cured high refractive index layer had a refractive index of 1.905 and a film thickness of 107 nm.
低屈折率層の乾燥条件は90℃、15秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が0.03体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度600mW/cm2、照射エネルギー量600mJ/cm2の照射量とした。
硬化後の低屈折率層は屈折率1.44、膜厚85nmであった。
The low refractive index layer was dried at 90 ° C. for 15 seconds, and the ultraviolet curing condition was 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (eye graphics) while purging with nitrogen so that the atmosphere had an oxygen concentration of 0.03% by volume or less. The amount of irradiation was 600 mW / cm 2 and the irradiation energy was 600 mJ / cm 2 .
The low refractive index layer after curing had a refractive index of 1.44 and a film thickness of 85 nm.
このようにして得られた試料201に対して、低屈折率層の塗布液を(Ln−2)〜(Ln−11)に変更した以外は試料201と同様にして試料202〜211を作製した。
実施例1に準じた評価を行った結果、中屈折率層と高屈折率層を設けることでどの試料も反射率が大きく低下した。無機微粒子を含んだ低屈折率層は本発明で規定した範囲のSP値を示し、本発明に従えば、低反射で防塵性・耐擦傷性に優れる反射防止フイルムが得られることが判った。
Samples 202 to 211 were produced in the same manner as the sample 201 except that the coating solution for the low refractive index layer was changed to (Ln-2) to (Ln-11) for the sample 201 thus obtained. .
As a result of evaluation according to Example 1, the reflectance of each sample was greatly reduced by providing the middle refractive index layer and the high refractive index layer. The low refractive index layer containing the inorganic fine particles exhibits an SP value in the range specified in the present invention, and it was found that according to the present invention, an antireflection film having low reflection and excellent dust resistance and scratch resistance can be obtained.
(ハードコート層用塗布液(HC−3)の調製)
デソライトZ7404(ジルコニア微粒子含有ハードコート組成液、JSR(株)製)100質量部、DPHA(UV硬化性樹脂、日本化薬(株)製)31質量部、KBM−5103(シランカップリング剤、信越化学工業(株)製)10質量部、KE−P150(1.5μmシリカ粒子、日本触媒(株)製)8.9質量部、MXS−300(3μm架橋PMMA粒子、綜研化学(株)製)3.4質量部、MEK29質量部及びMIBK13質量部をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution (HC-3))
Desolite Z7404 (zirconia fine particle-containing hard coat composition, manufactured by JSR Corporation) 100 parts by mass, DPHA (UV curable resin, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 31 parts by mass, KBM-5103 (silane coupling agent, Shin-Etsu) Chemical Industry Co., Ltd.) 10 parts by mass, KE-P150 (1.5 μm silica particles, Nippon Shokubai Co., Ltd.) 8.9 parts by mass, MXS-300 (3 μm crosslinked PMMA particles, manufactured by Soken Chemical Co., Ltd.) 3.4 parts by mass, MEK 29 parts by mass and MIBK 13 parts by mass were charged into a mixing tank and stirred to prepare a hard coat layer coating solution.
(反射防止フィルムの作製)
支持体としてトリアセチルセルロースフィルム(TD80U、富士写真フイルム(株)製)をロール形態で巻き出して、上記のハードコート層用塗布液を線数135本/インチ、深度60μmのグラビアパターンを有する直径50mmのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、搬送速度10m/分の条件で塗布し、60℃で150秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、放射照度400mW/cm2、照射エネルギー量250mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成し、巻き取った。硬化後のハードコート層の厚さが4.0μmとなるようにグラビアロール回転数を調整してハードコート301を作製した。このようにして得られたハードコート層301の表面粗さはRa=0.02μm、RMS=0.03μm、Rz=0.25μmであった(Ra(中心線平均あらさ)、RMS(自乗平均面あらさ)、Rz(n点平均あらさ)は、走査型プローブ顕微鏡システムSPI3800、セイコーインスツルメンツ(株)製にて測定した)。
(Preparation of antireflection film)
A triacetyl cellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) as a support is unrolled in a roll form, and the above coating liquid for hard coat layer has a diameter of 135 lines / inch and a gravure pattern with a depth of 60 μm. Using a 50 mm micro gravure roll and a doctor blade, the coating was carried out under conditions of a conveyance speed of 10 m / min, dried at 60 ° C. for 150 seconds, and further under a nitrogen purge, an air-cooled metal halide lamp (Igraphics Corporation) )), The coating layer was cured by irradiating with ultraviolet rays having an irradiance of 400 mW / cm 2 and an irradiation energy amount of 250 mJ / cm 2 to form a hard coat layer and wound up. The hard coat 301 was produced by adjusting the rotation speed of the gravure roll so that the thickness of the hard coat layer after curing was 4.0 μm. The surface roughness of the hard coat layer 301 thus obtained was Ra = 0.02 μm, RMS = 0.03 μm, Rz = 0.25 μm (Ra (center line average roughness), RMS (root mean square roughness), Rz (n-point average roughness) was measured with a scanning probe microscope system SPI3800, manufactured by Seiko Instruments Inc.).
ハードコート301上に実施例1の低屈折率層の塗布液(Ln−1)〜(Ln−11)を塗布・硬化し試料301〜311を作製した。下記鹸化処理を行い偏光板加工をした反射防止フィルム試料を作成した。これらの試料を実施例1に準じた評価を行った結果、本発明に従えば低反射で、防塵性・耐擦傷性に優れる反射防止フイルムが得られることが判った。 On the hard coat 301, the coating solutions (Ln-1) to (Ln-11) for the low refractive index layer of Example 1 were applied and cured to prepare samples 301 to 311. An antireflection film sample was prepared by performing the following saponification treatment and processing a polarizing plate. As a result of evaluating these samples according to Example 1, it was found that according to the present invention, an antireflection film having low reflection and excellent dust resistance and scratch resistance can be obtained.
(反射防止フィルムの鹸化処理)
1.5mol/lの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、55℃に保温した。0.005mol/lNの希硫酸水溶液を調製し、35℃に保温した。作製した反射防止フィルムを上記の水酸化ナトリウム水溶液に2分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に1分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を120℃で十分に乾燥させた。
このようにして、鹸化処理済み反射防止フィルムを作製した。
(Saponification treatment of antireflection film)
A 1.5 mol / l aqueous sodium hydroxide solution was prepared and kept at 55 ° C. A 0.005 mol / lN dilute sulfuric acid aqueous solution was prepared and kept at 35 ° C. The prepared antireflection film was immersed in the aqueous sodium hydroxide solution for 2 minutes, and then immersed in water to sufficiently wash away the aqueous sodium hydroxide solution. Subsequently, after being immersed in the above-mentioned dilute sulfuric acid aqueous solution for 1 minute, it was immersed in water to sufficiently wash away the dilute sulfuric acid aqueous solution. Finally, the sample was thoroughly dried at 120 ° C.
In this way, a saponified antireflection film was produced.
(反射防止フィルム付き偏光板の作製)
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。鹸化処理済みの反射防止フィルムに、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、反射防止フィルムの支持体側(トリアセチルセルロース)が偏光膜側となるように偏光膜の片側に貼り付けた。また、ディスコティック構造単位の円盤面が透明支持体面に対して傾いており、且つ該ディスコティック構造単位の円盤面と透明支持体面とのなす角度が、光学異方層の深さ方向において変化している光学補償層を有する視野角拡大フィルム(ワイドビューフィルムSA、富士写真フイルム(株)製)を鹸化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜のもう一方の側に貼り付けた。このようにして反射防止された偏光板を作製した。
(Preparation of polarizing plate with antireflection film)
A polarizing film was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film. A saponified antireflection film was attached to one side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive so that the support side (triacetyl cellulose) of the antireflection film was the polarizing film side. Further, the disc surface of the discotic structural unit is inclined with respect to the transparent support surface, and the angle formed by the disc surface of the discotic structural unit and the transparent support surface changes in the depth direction of the optical anisotropic layer. The viewing angle widening film (Wide View Film SA, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having the optical compensation layer is saponified and attached to the other side of the polarizing film using a polyvinyl alcohol adhesive. . In this way, an antireflection polarizing plate was produced.
(ハードコート層用塗布液(HC−4)の調製)
MEK90質量部に対して、シクロヘキサノン10質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート(DPCA−20、日本化薬(株)製)85質量部、KBM−5103(シランカップリング剤:信越化学工業(株)製)10質量部、光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)5質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液(HC−4)を調製した。
(Preparation of hard coat layer coating solution (HC-4))
90 parts by mass of MEK, 10 parts by mass of cyclohexanone, 85 parts by mass of partially caprolactone-modified polyfunctional acrylate (DPCA-20, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), KBM-5103 (silane coupling agent: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 10 parts by mass) and 5 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.) were added and stirred. A hard coat layer coating solution (HC-4) was prepared by filtration through a polypropylene filter having a pore size of 0.4 μm.
(反射防止フィルムの作製・評価)
支持体としてトリアセチルセルロースフィルム上に、ハードコート層用塗布液HC−4を実施例3に準じて塗布硬化した。その際硬化後のハードコート層の厚さが4.5μmとなるようにグラビアロール回転数を調整してハードコート401を作製した。
ハードコート401上に実施例1の塗布液(Ln−1)〜(Ln−11)を塗布・硬化し試料401〜411を作製した。これら試料に対して実施例3に記載の鹸化処理を行い偏光板加工をした試料を作成した。これら偏光板試料を実施例1に準じた評価を行った結果、本発明に従えば低反射で、防塵性・耐擦傷性に優れる反射防止膜が得られることが分かった。
(Preparation and evaluation of antireflection film)
The coating liquid HC-4 for hard coat layer was applied and cured according to Example 3 on a triacetyl cellulose film as a support. At that time, the hard coat 401 was prepared by adjusting the rotation speed of the gravure roll so that the thickness of the hard coat layer after curing was 4.5 μm.
The coating liquids (Ln-1) to (Ln-11) of Example 1 were applied and cured on the hard coat 401 to prepare samples 401 to 411. These samples were subjected to a saponification treatment as described in Example 3 to prepare polarizing plates. As a result of evaluating these polarizing plate samples according to Example 1, it was found that according to the present invention, an antireflection film having low reflection and excellent dust resistance and scratch resistance can be obtained.
(反射防止フイルム(501)の作製)
実施例1の試料104の上に、防汚層用塗布液(C3F7−(OC3F6)24−O−(CF2)2−C2H4−O−CH2Si(OCH3)3からなるパーフルオロポリエーテル基含有シランカップリング剤をパーフルオロへキサンで0.5質量%に希釈)を塗布した。120℃で1分乾燥して塗膜を形成した。均一に塗布された想定で乾燥後の理論塗布量が5nmになるように塗布量を設定した。
(Preparation of antireflection film (501))
On a sample 104 of Example 1, an antifouling layer coating solution (C 3 F 7 - (OC 3 F 6) 24 -O- (CF 2) 2 -C 2 H 4 -O-CH 2 Si (OCH 3 ) The perfluoropolyether group-containing silane coupling agent consisting of 3 was diluted with perfluorohexane to 0.5% by mass). A coating film was formed by drying at 120 ° C. for 1 minute. The coating amount was set so that the theoretical coating amount after drying was 5 nm on the assumption that the coating was uniformly performed.
(反射防止フイルム(502)の作製)
実施例1の試料104に対して実施例3に記載した鹸化処理を行った。鹸化処理後の試料の上に、上記反射防止フイルム(501)と同様に防汚層用塗布液を塗布・乾燥させて、反射防止フイルム(502)を作製した。
(Preparation of antireflection film (502))
The saponification treatment described in Example 3 was performed on the sample 104 of Example 1. On the sample after saponification treatment, the antifouling layer coating solution was applied and dried in the same manner as in the antireflection film (501) to prepare an antireflection film (502).
(反射防止フイルム(503)〜(510)の作製)
実施例1の試料105、109,110、111に対して、鹸化処理をおこなわない試料と行った試料を作製した。それぞれの上に反射防止フイルム501と同様に防汚層用塗布液を塗布・乾燥させて、反射防止フイルム(503)〜(510)を作製した。
(Preparation of antireflection films (503) to (510))
Samples that were not subjected to saponification treatment on samples 105, 109, 110, and 111 of Example 1 were prepared. The antifouling layer coating solution was applied and dried on each of them in the same manner as the antireflection film 501 to prepare antireflection films (503) to (510).
各反射防止フイルムは、下記の評価を行った。
(評価5)塗布面状評価
反射防止フイルムの裏面を粗面化処理した後、黒色のインクで光吸収処理(380〜780nmにおける透過率が10%未満)を行った。防汚層の塗布前後の試料で塗布面状を下記の基準で評価した。
○ :防汚層塗布前後で差が全く認められない。
△ :防汚層塗布前後で僅かに差が認められるが、実用上は問題ない。
△×:防汚層塗布前後で差が認められる。
× :防汚層塗布前後で差が認められ、白味が増加している。
Each antireflection film was evaluated as follows.
(Evaluation 5) Evaluation of coating surface condition After the back surface of the antireflection film was roughened, it was subjected to light absorption treatment with black ink (transmittance at 380 to 780 nm was less than 10%). The surface condition of the coated surface of the sample before and after the application of the antifouling layer was evaluated according to the following criteria.
○: No difference is observed between before and after applying the antifouling layer.
Δ: A slight difference is observed before and after application of the antifouling layer, but there is no problem in practical use.
Δ: A difference is observed before and after application of the antifouling layer.
X: A difference was observed before and after application of the antifouling layer, and whiteness increased.
(評価6)防汚性評価
マジックインキ No.700(M700―T1 黒)極細を用い試料の上に直径1cmの円を描いて塗りつぶした。24時間放置後にベンコット(旭化成(株)製)で擦り、マジックがふき取れるか以下の基準で評価した。
○:非常に注意深く見ても、全くマジック跡が見えない。
△:僅かにマジックの跡が見える。
×:消えない跡が検出される。
評価環境条件:25℃、60%RH
防汚層を塗布しない試料の結果も合わせて結果を表2に示す。
(Evaluation 6) Antifouling Evaluation Magic Ink No. A 700 cm (M700-T1 black) extra fine was used to draw a circle with a diameter of 1 cm on the sample. After being allowed to stand for 24 hours, it was rubbed with Bencot (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) to evaluate whether the magic could be wiped off according to the following criteria.
○: Even if you look very carefully, you can not see any magic marks.
Δ: A slight trace of magic is visible.
X: A trace that does not disappear is detected.
Evaluation environmental conditions: 25 ° C., 60% RH
The results are shown in Table 2 together with the results of the samples not coated with the antifouling layer.
第2表に示される結果より、無機微粒子を含み本発明で規定した範囲のSP値を満たす試料の上に防汚層を設けた試料は、塗布面状と防汚性に優れることが分かる。また、防汚層の塗布前に鹸化処理を塗布面状の改良効果が認められる(試料509と510の比較)。 From the results shown in Table 2, it can be seen that the sample including the inorganic fine particles and having the antifouling layer on the sample satisfying the SP value in the range defined by the present invention is excellent in the coated surface state and antifouling property. In addition, a saponification treatment is applied before applying the antifouling layer, and the effect of improving the coated surface shape is observed (comparison between samples 509 and 510).
1 微粒子 1 Fine particles
Claims (6)
該薄膜層全層中の平均粒子充填率(A)に対する、支持体と反対側の上層側30%膜厚中の平均粒子充填率(B)の比率であるSP値[(B/A)×100]]が105%以上333%以下であり、
前記微粒子が中空シリカ粒子であり、
前記微粒子の表面が該微粒子と共有結合を形成する一般式(II)で表される化合物及び一般式(IV)で表される化合物で処理されており、
前記バインダーが少なくとも1種の光重合性化合物であり、多価アルコールと(メタ)アクリル酸とのエステルである2個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーを含有する
ことを特徴とする光学フィルム。
一般式(II)
一般式(IV) C n F 2n+1― (CH 2 ) m― Si(R) 3
上記式中、nは1〜10の整数、mは1〜5の整数を表す。Rは炭素数1〜5のアルコキシ基またはハロゲン原子を表す。 An optical film in which a thin film layer is formed by coating a composition containing fine particles and a binder on a support,
SP value [(B / A) × which is the ratio of the average particle filling rate (B) in the 30% film thickness on the upper layer side opposite to the support to the average particle filling rate (A) in the entire thin film layer 100]] is 105 % or more and 333% or less,
The fine particles are hollow silica particles ;
The surface of the fine particle is treated with a compound represented by the general formula (II) and a compound represented by the general formula ( IV ) that form a covalent bond with the fine particle,
An optical film characterized in that the binder is at least one photopolymerizable compound and contains a monomer having two or more ethylenically unsaturated groups, which is an ester of a polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid. .
Formula (II)
Formula (IV) C n F 2n + 1- (CH 2) m- Si (R) 3
In the above formula, n represents an integer of 1 to 10, and m represents an integer of 1 to 5. R represents an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms or a halogen atom.
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