JP4676739B2 - Resin composition and prepreg and laminate using the same - Google Patents

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Description

本発明は、電子・電気部品、プリント配線板、半導体基板、IC封止材等の電子材料分野に用いられる樹脂組成物およびその用途に関し、さらに詳しくは特にプリント配線板用、半導体基板用として軽薄短小化に好適な、弾性率・強度が高く、かつ加工性が良好な樹脂組成物ならびにそれを用いたプリプレグおよび積層板に関するものである。   The present invention relates to a resin composition used in the field of electronic materials such as electronic / electrical components, printed wiring boards, semiconductor substrates, and IC encapsulants, and uses thereof. More specifically, the present invention relates to a light and thin material particularly for printed wiring boards and semiconductor substrates. The present invention relates to a resin composition that is suitable for shortening and has a high elastic modulus and strength and good workability, and a prepreg and a laminate using the resin composition.

近年の電子機器の軽薄短小化に伴い、例えばメモリカード、携帯電話用回路基板など、省スペースが求められる薄型パッケージ、薄型基板に使用される積層板の厚さは0.5mm以下、好ましくは0.2mm以下が求められている。厚さが薄くなればなるほど回路形成などの工程内や搬送の過程で反りが生じやすく、折れ曲がりやすいなどの問題が生じる。これは、基板および積層板が薄くなることにより、基板の剛性、この場合では常温での基板の剛性が不足することにより生じる問題である。   As electronic devices have become lighter and thinner in recent years, the thickness of thin packages that require space saving, such as memory cards and circuit boards for mobile phones, and the thickness of laminates used for thin substrates are 0.5 mm or less, preferably 0 .2 mm or less is required. The thinner the thickness, the more likely it is to warp and bend easily in the process of circuit formation or in the process of conveyance. This is a problem caused by the thinness of the substrate and the laminate, resulting in a lack of rigidity of the substrate, in this case, the rigidity of the substrate at room temperature.

一方、同様に薄い基板を用いた場合、高温を要するACP、ACFなどを用いた半導体の実装プロセスや、ハンダリフローなどを用いる二次実装プロセスなどで高温下に曝される場合でも、熱膨張係数の違いなどにより生じる応力の結果、基板が反ったり折れ曲がったりすることにより実装不良などの問題が生じる。これは、高温によって生じた応力に対して、積層板の高温下での剛性が十分でないことが原因である。   On the other hand, when a thin substrate is used, the coefficient of thermal expansion is not limited even when exposed to high temperatures in semiconductor mounting processes using ACP, ACF, etc. that require high temperatures, or secondary mounting processes using solder reflow, etc. As a result of the stress caused by the difference between the two, the substrate is warped or bent, causing problems such as mounting defects. This is due to the fact that the laminate is not sufficiently rigid at high temperatures against stresses caused by high temperatures.

以上のことから、工程内での搬送などにおける反りという問題、および実装時の実装不良などの問題を解決するためには、常温、高温両方で高い剛性を保持する基板材料が必要となっている。   From the above, in order to solve problems such as warpage during transport in the process and mounting defects during mounting, a substrate material that retains high rigidity at both room temperature and high temperature is required. .

高剛性化の一般的な手法としては、使用するガラスクロスを硬度の高いガラス(Sガラス、Hガラスなど)にする方法、使用するガラスクロスの重ね枚数を増やす方法等の手法が一般的である(特許文献1等参照)。しかし硬度の高いガラスは、通常のガラスクロス(Eガラス)に比べ高価であり、ドリル加工などの加工性に劣る等の欠点がある。一方、重ね枚数を増やす場合は、積層板一枚あたりの使用プリプレグの枚数が増え、コスト高になるなどの問題がある。   As a general technique for increasing the rigidity, there are general techniques such as a method in which a glass cloth to be used is made of high hardness glass (S glass, H glass, etc.), a method in which the number of glass cloths to be used is increased, and the like. (Refer to patent document 1 etc.). However, glass with high hardness is more expensive than ordinary glass cloth (E glass) and has disadvantages such as poor workability such as drilling. On the other hand, when the number of stacked sheets is increased, there is a problem that the number of used prepregs per stacked sheet increases and the cost increases.

また他方、樹脂組成物中に無機充填剤を配合することにより剛性を高めるという手法も検討されている。特に無機充填剤を高い体積分率含有することで樹脂組成物の剛性を高くするといった手法が知られている(特許文献2参照)。しかしながら無機充填剤の体積分率を高めるに従って、加工時に樹脂と充填剤の界面で剥離が起きる、積層板内でプリプレグ間の接着強度が低下し剥離が生じやすい、などの問題が起きやすくなる。   On the other hand, a technique of increasing the rigidity by blending an inorganic filler in the resin composition has also been studied. In particular, a technique of increasing the rigidity of a resin composition by containing a high volume fraction of an inorganic filler is known (see Patent Document 2). However, as the volume fraction of the inorganic filler is increased, problems such as peeling at the interface between the resin and the filler during processing, and the adhesive strength between the prepregs being lowered in the laminated plate are likely to occur.

またシリカなどのように剛性の高い無機充填剤を使用した場合、ドリル加工時にドリルの磨耗が著しく、穴位置制度、穴壁粗さなどが悪化するなどの問題がある。そこでシリカなどの剛性の高い無機充填剤を使用する場合は特定の粒径のものを配合したり(特許文献3参照)、硬度の低い充填剤を併用する(特許文献4参照)などの対策が取られているが、効果は十分ではなかった。
特開2001−329080号公報 特開平8−216335号公報 特開2003−020407号公報 特開2000−117733号公報
In addition, when an inorganic filler having high rigidity such as silica is used, there is a problem that the wear of the drill is remarkable at the time of drilling, and the hole position system and the hole wall roughness are deteriorated. Therefore, when using a highly rigid inorganic filler such as silica, there are measures such as blending a specific particle size (see Patent Document 3) or using a filler having low hardness (see Patent Document 4). It was taken, but the effect was not enough.
JP 2001-329080 A JP-A-8-216335 Japanese Patent Laid-Open No. 2003-020407 JP 2000-117733 A

本発明の課題は、樹脂組成物として高い剛性を有し、該樹脂組成物を用いて0.2mm以下の積層板とした場合でも十分な剛性を有し、かつドリル加工性などの加工性に優れた積層板を提供することである。   The problem of the present invention is that the resin composition has a high rigidity, and has a sufficient rigidity even when a laminate of 0.2 mm or less is formed using the resin composition, and has a workability such as drillability. It is to provide an excellent laminate.

本出願人は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、積層板に用いられる樹脂組成物がマレイミド基を有する化合物(A)を含有する樹脂組成物に、タルクを焼成してなるもの(B)を、特定量含有させた場合、耐熱性の高い樹脂マトリクスの中に剛性の高い無機化合物の粒子が互いに重なるようにして充填されるため、常温時・高温時ともに弾性率の高い樹脂組成物を得ることができることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present applicant is obtained by firing talc into a resin composition containing a compound (A) having a maleimide group as a resin composition used for a laminate ( When a specific amount of B) is contained, a highly heat-resistant resin matrix is filled with highly rigid inorganic compound particles so as to overlap each other. The present invention was completed by finding out that the product can be obtained.

即ち、本発明は、以下に関するものである。
(1)マレイミド基を有する化合物(A)、タルクを焼成してなるもの(B)、エポキシ樹脂、および少なくとも一つのナフタレン環を有するフェノール樹脂を含有し、前記マレイミド基を含有する化合物(A)が、二つ以上のマレイミド基を含有する化合物であって、前記タルクを焼成してなるもの(B)を、樹脂成分の合計100質量部に対し、30質量部以上250質量部以下含有することを特徴とする樹脂組成物。
(2)前記マレイミド基を含有する化合物(A)を、樹脂成分の質量の合計に対して、5質量%以上70質量%以下含有するものである(1)に記載の樹脂組成物。
)前記エポキシ樹脂を、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有するものである(1)または(2)に記載の樹脂組成物。
)前記少なくとも一つのナフタレン環を有するフェノール樹脂を、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有するものである(1)乃至()いずれか一項に記載の樹脂組成物。
)(1)乃至()いずれか一項に記載の樹脂組成物を基材に含浸して得られることを特徴とするプリプレグ。
)()記載のプリプレグを一枚または複数枚積層させたものを加熱硬化することを特徴とする積層板。
)(1)乃至()いずれか一項に記載の樹脂組成物から得られる樹脂を絶縁層として含有することを特徴とする積層板。
That is, the present invention relates to the following.
(1) a compound having a maleimide group (A), made by firing talc (B), an epoxy resin, and contains a phenolic resin having at least one naphthalene ring, a compound containing the maleimide group (A) However, it is a compound containing two or more maleimide groups, which is obtained by baking the talc (B), containing 30 parts by mass or more and 250 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass in total of the resin components. A resin composition characterized by the above.
(2) The resin composition according to (1), wherein the compound (A) containing the maleimide group is contained in an amount of 5% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the resin components.
( 3 ) The resin composition according to (1) or (2) , wherein the epoxy resin is contained in an amount of 10% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the resin components.
(4) a phenolic resin having at least one naphthalene ring, relative to the total mass of the resin component, those containing more than 10 wt% 50 wt% or less (1) to (3) in any one The resin composition as described.
( 5 ) A prepreg obtained by impregnating a base material with the resin composition according to any one of (1) to ( 4 ).
( 6 ) A laminate obtained by heat-curing one or a plurality of prepregs described in ( 5 ).
( 7 ) A laminate comprising a resin obtained from the resin composition according to any one of (1) to ( 4 ) as an insulating layer.

本発明の樹脂組成物は高い剛性を有するため、0.2mm以下という薄い積層板となった場合でも常温、高温ともに十分高い弾性率を得ることができる。また樹脂組成物の弾性率が高いにも関わらずドリル加工などの加工性に優れる。   Since the resin composition of the present invention has high rigidity, even when it becomes a thin laminate of 0.2 mm or less, a sufficiently high elastic modulus can be obtained at both normal temperature and high temperature. Moreover, although the elastic modulus of the resin composition is high, it is excellent in workability such as drilling.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の樹脂組成物は、マレイミド基を有する化合物(A)を含有する樹脂組成物に、タルクを焼成してなるもの(B)を、樹脂組成物の合計100質量部に対し、30質量部以上250部以下含有することを特徴とするものである。まず、本発明の樹脂組成物を構成する各成分について説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the resin composition of the present invention, a resin composition containing a maleimide group-containing compound (A) and baked talc (B) is 30 parts by mass with respect to 100 parts by mass in total of the resin composition. More than 250 parts is contained. First, each component which comprises the resin composition of this invention is demonstrated.

マレイミド基を有する化合物(A)
本発明で用いられるマレイミド基を有する化合物は、マレイミド基を有していれば特に制限されないが、好ましくは下記一般式(1)で表されるような二つ以上のマレイミド基を有する化合物である。
Compound having maleimide group (A)
The compound having a maleimide group used in the present invention is not particularly limited as long as it has a maleimide group, but is preferably a compound having two or more maleimide groups as represented by the following general formula (1). .

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、R1はm価の有機基を示す。式中、mは好ましくは2〜10である。R1が示す有機基としては、下記一般式(2−1)〜(2−3)からなる群より選ばれるものが好ましく例示される。) (In the formula, R 1 represents an m-valent organic group. In the formula, m is preferably 2 to 10. The organic groups represented by R 1 include the following general formulas (2-1) to (2-3). Preferred examples include those selected from the group consisting of:

Figure 0004676739
Figure 0004676739

Figure 0004676739
Figure 0004676739

Figure 0004676739
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(式中、Xは互いに同一でも異なっていてもよく、−CH2−、−C(CH−、−C(C−、−CO−、−O−、−(単結合)、−S−または−SO2−を示す。Yは互いに同一でも異なっていてもよく、−CH3、−CH2CH3、または水素原子を示す。) (In the formula, Xs may be the same or different from each other, and are —CH 2 —, —C (CH 3 ) 2 —, —C (C 2 H 5 ) 2 —, —CO—, —O—, — ( Single bond), —S— or —SO 2 —, Y may be the same or different from each other, and represents —CH 3 , —CH 2 CH 3 , or a hydrogen atom.

本発明で用いられる少なくとも二つ以上のマレイミド基を含む化合物として具体的には、例えば、N,N’−(1,3−フェニレン)ビスマレイミド、N,N’−[1,3−(2−メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N’−(1,4−フェニレン)ビスマレイミド、ビス(4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(3−メチル−4−マレイミドフェニル)メタン、ビス(4−マレイミドフェニル)エーテル、ビス(4−マレイミドフェニル)スルホン、ビス(4−マレイミドフェニル)スルフィド、ビス(4−マレイミドフェニル)ケトン、1,4−ビス(マレイミドメチル)ベンゼン、1,3−ビス(3-マレイミドフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]メタン、1,1−ビス[4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,1−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(3−マレイミドフェノキシ)フェニル]エタン、1,2−ビス[4−(4−マレイミドフェノキシ)フェニル]エタンなどが挙げられる。   Specific examples of the compound containing at least two or more maleimide groups used in the present invention include, for example, N, N ′-(1,3-phenylene) bismaleimide, N, N ′-[1,3- (2 -Methylphenylene)] bismaleimide, N, N '-(1,4-phenylene) bismaleimide, bis (4-maleimidophenyl) methane, bis (3-methyl-4-maleimidophenyl) methane, bis (4-maleimide) Phenyl) ether, bis (4-maleimidophenyl) sulfone, bis (4-maleimidophenyl) sulfide, bis (4-maleimidophenyl) ketone, 1,4-bis (maleimidomethyl) benzene, 1,3-bis (3- Maleimidophenoxy) benzene, bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] methane, 1,1-bis [4- (3-maleimi Phenoxy) phenyl] ethane, 1,1-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (3-maleimidophenoxy) phenyl] ethane, 1,2-bis [4- (4-maleimidophenoxy) phenyl] ethane and the like.

また本発明で用いられる少なくとも二つ以上のマレイミド基を含む化合物として、下記一般式(3)   Moreover, as a compound containing the at least 2 or more maleimide group used by this invention, following General formula (3)

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、nは平均値で0〜10である。)で表されるマレイミド基を含む化合物および下記一般式(4) (Wherein n is an average value of 0 to 10) and a compound containing a maleimide group represented by the following general formula (4)

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、nは平均値で0〜10である。)で表されるマレイミド基を含む化合物なども挙げられる。これらの少なくとも二つ以上のマレイミド基を含む化合物(A)は、1種単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。 (Wherein, n is an average value of 0 to 10), and a compound containing a maleimide group. These compounds (A) containing at least two or more maleimide groups can be used singly or in combination of two or more.

タルクを焼成してなるもの(B)
本発明で用いられるタルクを焼成してなるもの(B)は、天然の鉱物として存在しているタルクを焼成して使用することもできるし、工業的に製造したものを使用することもできる。タルク(3MgO・4SiO・HO)は結晶水を有するため、700℃程度以上の高温下で焼成することにより結晶水を放出する。例えば1000℃〜1500℃の温度の下で、5〜20時間程度焼成することで結晶水を放出することが可能である。本発明で用いられるタルクとしては上記のように焼成することにより結晶水を放出した、例えば焼成タルクと呼ばれるものを使用する。鉱物として得られるものを焼成した場合は、微量成分として酸化アルミニウム、酸化カルシウム、酸化カリウム、酸化鉄などの酸化物を含む場合があるが、特に問題なく使用することができる。
Baked talc (B)
As the baked talc used in the present invention (B), talc existing as a natural mineral can be baked and used, or an industrially produced talc can be used. Since talc (3MgO · 4SiO 2 · H 2 O) is having a crystal water and releases the crystal water by firing at a high temperature of more than about 700 ° C.. For example, it is possible to release crystal water by firing at a temperature of 1000 ° C. to 1500 ° C. for about 5 to 20 hours. As the talc used in the present invention, for example, a so-called calcined talc is used which releases crystal water by firing as described above. When what is obtained as a mineral is baked, it may contain oxides such as aluminum oxide, calcium oxide, potassium oxide and iron oxide as trace components, but can be used without any particular problem.

タルクを焼成してなるもの(B)の含有量は、樹脂成分((A)成分+他の樹脂成分)の合計100質量部に対し、30質量部以上250質量部以下含有することが重要である。好ましくは50質量部以上150質量部以下である。添加量が30質量部以上であれば添加効果が期待でき、250質量部以下であれば、樹脂ワニスの粘度が良好で含浸性が良好である。添加する化合物の種類に依存する部分もあるが、添加量が上記の範囲にあると樹脂硬化物の弾性率が向上し、積層板となった場合の曲げ弾性率が20GPa以上と好ましい値となりやすい。   It is important that the content of the baked talc (B) is 30 to 250 parts by mass with respect to a total of 100 parts by mass of the resin component (component (A) + other resin component). is there. Preferably they are 50 to 150 mass parts. If the addition amount is 30 parts by mass or more, the effect of addition can be expected. If the addition amount is 250 parts by mass or less, the viscosity of the resin varnish is good and the impregnation property is good. Although there is a part depending on the type of compound to be added, if the addition amount is in the above range, the elastic modulus of the cured resin is improved, and the bending elastic modulus when it becomes a laminated plate tends to be a preferable value of 20 GPa or more. .

タルクを焼成したものは、焼成しないタルクよりも結晶の硬度が高くなる。そのため、マレイミド基を含む化合物を含有する樹脂組成物にそれぞれを含有した場合を比較すると、タルクを焼成したものを含有した方が、弾性率を顕著に高める効果があることを見出したのである。   The baked talc has a higher crystal hardness than the unfired talc. Therefore, when the case where each was contained in the resin composition containing the compound containing a maleimide group was compared, it discovered that the direction which contained what baked the talc had an effect which raises an elasticity modulus notably.

またタルクを焼成してなるもの(B)は、層状の構造を有する無機化合物であるため、粒子が板状であり、アスペクト比(粒子の縦の長さと横の長さの比)が高い。このような板状の粒子を充填した樹脂組成物をプリプレグとする場合、その含浸コート工程において、互いが重なるようにして樹脂中に充填されやすいため、硬化物となった際曲げ方向の応力に対する弾性率向上に寄与すると考えられる。これらの無機化合物の粒径としては、平均粒径D50が0.1μm以上10.0μm未満の範囲であることが好ましい。0.1μm以上である方が、取り扱い時に二次凝集等が起こらず、均一に分散させるのが容易であり好ましい。また、D50が10.0μm以下である方が樹脂ワニスとなった場合に沈降などが生じにくく、安定性が良好であるため好ましい。   In addition, the baked talc (B) is an inorganic compound having a layered structure, so that the particles are plate-like, and the aspect ratio (ratio between the vertical length and the horizontal length of the particles) is high. When a resin composition filled with such plate-like particles is used as a prepreg, in the impregnation coating process, it is easy to fill the resin so that they overlap each other. It is thought that it contributes to improvement in elastic modulus. As the particle size of these inorganic compounds, the average particle size D50 is preferably in the range of 0.1 μm or more and less than 10.0 μm. A thickness of 0.1 μm or more is preferable because secondary aggregation or the like does not occur during handling, and it is easy to disperse uniformly. Further, it is preferable that D50 is 10.0 μm or less because sedimentation or the like hardly occurs when the resin varnish is formed, and stability is good.

本発明で用いられるタルクを焼成してなるもの(B)は、カップリング剤による表面処理を行うことが好ましい。表面処理に必要なカップリング剤の種類としては、特に限定されず、例としてシランカップリング剤、チタネートカップリング剤等が挙げられる。特にシランカップリング剤が好ましい。シランカップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができ、これらの1種類または2種類以上が使用される。これらのシラン系カップリング剤は予めタルクを焼成したもの(B)の表面に、吸着ないしは反応により固定されていることが好ましい。   It is preferable that the talc used in the present invention (B) is subjected to a surface treatment with a coupling agent. It does not specifically limit as a kind of coupling agent required for surface treatment, A silane coupling agent, a titanate coupling agent, etc. are mentioned as an example. A silane coupling agent is particularly preferable. Examples of silane coupling agents include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxy Silane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc., and one or more of these are used. The These silane coupling agents are preferably fixed to the surface of calcinated talc (B) by adsorption or reaction.

エポキシ樹脂
本発明の樹脂組成物は、更にエポキシ樹脂を含有するものであることが好ましい。用いることのできるエポキシ樹脂は、特に限定されないが、好ましくは分子中に少なくとも2個以上のグリシジル基を有するエポキシ樹脂である。これらについて例示すると、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールAノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられ、また下記一般式(5)で示されるジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂なども挙げられる。
Epoxy resin The resin composition of the present invention preferably further contains an epoxy resin. The epoxy resin that can be used is not particularly limited, but is preferably an epoxy resin having at least two glycidyl groups in the molecule. Examples of these include bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, novolak type epoxy resin, cresol novolac type epoxy resin, bisphenol A novolak type epoxy resin, bisphenol F novolak type epoxy resin, etc. The dicyclopentadiene type epoxy resin etc. which are shown by (5) are also mentioned.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、Gはグリシジル基を、lは平均値で0〜6である)
さらにジヒドロキシナフタレン、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂、ナフタレン環を含むフェノールアラルキル樹脂、ナフタレン骨格を含むノボラック樹脂など2つ以上のフェノール性水酸基を含む化合物にエピクロルヒドリンを反応させグリシジル化させたエポキシ樹脂、または下記一般式(6)で示されるナフタレン環を含むエポキシ樹脂も挙げられる。
(In the formula, G is a glycidyl group, and l is an average value of 0 to 6)
Furthermore, an epoxy resin obtained by reacting epichlorohydrin with a compound containing two or more phenolic hydroxyl groups, such as dihydroxynaphthalene, phenol aralkyl resin, naphthol aralkyl resin, phenol aralkyl resin containing a naphthalene ring, or novolak resin containing a naphthalene skeleton, or The epoxy resin containing the naphthalene ring shown by following General formula (6) is also mentioned.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、Gはグリシジル基を、jは平均値で0〜10である)
これらエポキシ樹脂の中ではナフタレン環を含むエポキシ樹脂が好ましく、下記一般式(7)および(8)で表されるナフタレン環を含むエポキシ樹脂がより好ましい。
(In the formula, G is a glycidyl group, j is an average value of 0 to 10)
Among these epoxy resins, an epoxy resin containing a naphthalene ring is preferable, and an epoxy resin containing a naphthalene ring represented by the following general formulas (7) and (8) is more preferable.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中Gはグリシジル基を、q、qは1以上の整数を表し、かつq+q≦8である) (In the formula, G represents a glycidyl group, q 1 and q 2 represent an integer of 1 or more, and q 1 + q 2 ≦ 8)

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、Gはグリシジル基を、pは1または2、nは1〜10の整数を表す)
尚、これらのエポキシ樹脂は単独、または2種以上組み合わせて用いることができる。
(In the formula, G represents a glycidyl group, p represents 1 or 2, and n represents an integer of 1 to 10)
In addition, these epoxy resins can be used individually or in combination of 2 or more types.

フェノール樹脂
本発明の樹脂組成物は、更にフェノール樹脂を含有することが好ましい。用いることのできるフェノール樹脂は、少なくとも一つのフェノール性水酸基を有する化合物である。この条件を満たせば特に制限を受けないが、少なくとも一つのナフタレン環を有することが好ましい。具体的には以下のようなものが例として挙げられる。
Phenol resin The resin composition of the present invention preferably further contains a phenol resin. The phenol resin that can be used is a compound having at least one phenolic hydroxyl group. Although it does not receive a restriction | limiting especially if this condition is satisfy | filled, it is preferable to have at least 1 naphthalene ring. Specific examples include the following.

ナフトール、ジヒドロキシナフタレン、トリヒドロキシナフタレン、テトラヒドロキシナフタレンなどのヒドロキシナフタレン類が挙げられる。また、ヒドロキシナフタレン類、およびこれらヒドロキシナフタレン類とフェノール類との混合物をアルデヒド類と反応させて得られる化合物等が挙げられる。これらの化合物の一例を具体的に示すと一般式(9)で表される化合物などが挙げられる。尚、フェノール類の例としてフェノール、クレゾール、レゾルシノール等が挙げられ、アルデヒド類の例としてホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。   Examples thereof include hydroxynaphthalenes such as naphthol, dihydroxynaphthalene, trihydroxynaphthalene, and tetrahydroxynaphthalene. Moreover, the compound etc. which are obtained by making hydroxy naphthalenes and the mixture of these hydroxy naphthalenes and phenols react with aldehydes are mentioned. Specific examples of these compounds include compounds represented by the general formula (9). Examples of phenols include phenol, cresol, resorcinol, and examples of aldehydes include formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, and the like.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、jは平均値で0〜10である)
尚、これらの化合物は上記方法により得ることもできるが、使用可能な市販品として、日本化薬株式会社製、商品名:カヤハードNHN等を使用することも可能である。
(Where j is an average value of 0 to 10)
In addition, although these compounds can also be obtained by the said method, it is also possible to use Nippon Kayaku Co., Ltd. product name: Kayahard NHN etc. as a commercial item which can be used.

または、ヒドロキシナフタレン類、およびこれらヒドロキシナフタレン類とフェノール類との混合物と、アラルキルアルコール誘導体またはアラルキルハライド誘導体とを反応させて得られる化合物等が挙げられる。これらの化合物の一例を具体的に示すと一般式(10)で表される化合物などが挙げられる。尚、フェノール類としてはフェノール、クレゾール、レゾルシノールなどが例示でき、アラルキルアルコール誘導体としてはp−キシリレングリコール、p−キシリレングリコールジメチルエーテルなどが例示される。また、アラルキルハライド誘導体としては、p−キシリレンジクロライドなどが例として挙げられる。   Alternatively, hydroxy naphthalenes, and a compound obtained by reacting a mixture of these hydroxy naphthalenes and phenols with an aralkyl alcohol derivative or an aralkyl halide derivative can be used. Specific examples of these compounds include compounds represented by general formula (10). Examples of phenols include phenol, cresol, and resorcinol. Examples of aralkyl alcohol derivatives include p-xylylene glycol and p-xylylene glycol dimethyl ether. Examples of aralkyl halide derivatives include p-xylylene dichloride.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

(式中、pは1または2、nは1〜10の整数を表す)
尚、これらの化合物は上記方法により得ることもできるが、使用可能な市販品として、新日鐵化学株式会社製、商品名:SN180等を使用することも可能である。これらのフェノール性水酸基を有する化合物は、単独、または2種以上組み合わせて用いることができる。
(Wherein p represents 1 or 2, n represents an integer of 1 to 10)
In addition, although these compounds can also be obtained by the said method, it is also possible to use Nippon Steel Chemical Co., Ltd. product name: SN180 etc. as a commercial item which can be used. These compounds having a phenolic hydroxyl group can be used alone or in combination of two or more.

樹脂組成物
本発明の樹脂組成物において、マレイミド基を含む化合物(A)の含有量は、樹脂成分((A)+他の樹脂成分)の質量の合計に対して、5質量%以上70質量%以下であることが好ましく、より好ましくは30質量%以上60質量%以下の量で含有することが望ましい。(A)の含有量が5質量%以上、好ましくは30質量%以上であると組成物の剛性が高く、高温時の高弾性率が期待できる。一方70質量%以下の方が、樹脂組成物の吸湿性が低く、ハンダ耐熱試験等、吸湿条件下での耐熱性が十分であり好ましい。
Resin Composition In the resin composition of the present invention, the content of the compound (A) containing a maleimide group is 5% by mass or more and 70% by mass with respect to the total mass of the resin component ((A) + other resin component). % Or less, more preferably 30% by mass or more and 60% by mass or less. When the content of (A) is 5% by mass or more, preferably 30% by mass or more, the composition has high rigidity and a high elastic modulus at high temperatures can be expected. On the other hand, the content of 70% by mass or less is preferable because the resin composition has a low hygroscopic property and has sufficient heat resistance under a hygroscopic condition such as a solder heat test.

更にエポキシ樹脂を樹脂組成物に含有した場合のエポキシ樹脂の含有量は、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有することが好ましい。10質量%以上である方が、樹脂の脆性が低く好ましく、また50質量%以下である方が樹脂の熱硬化速度が速く、硬化を完了するのに必要となる時間が短いため実用的である。   Furthermore, when the epoxy resin is contained in the resin composition, the content of the epoxy resin is preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total mass of the resin components. When the content is 10% by mass or more, the resin is less brittle, and when the content is 50% by mass or less, the thermal curing speed of the resin is high, and the time required to complete the curing is short. .

また、フェノール樹脂を含有する場合のフェノール樹脂の含有量は、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有することが好ましい。10質量%以上である方が、樹脂の脆性が低く好ましく、また50質量%以下である方が樹脂の熱硬化速度が速く、硬化を完了するのに必要となる時間が短いため実用的である。   Moreover, it is preferable to contain 10 mass% or more and 50 mass% or less of content of the phenol resin in the case of containing a phenol resin with respect to the sum total of the mass of a resin component. When the content is 10% by mass or more, the resin is less brittle, and when the content is 50% by mass or less, the thermal curing speed of the resin is high, and the time required to complete the curing is short. .

その他の樹脂成分
本発明の樹脂組成物は、上記各種成分の他、必要に応じてその他の樹脂成分を加えることが可能である。好ましい例として熱可塑性樹脂、反応性希釈剤などが挙げられ、これらは本発明の目的が損なわれない範囲で加えてもよい。
Other resin components The resin composition of the present invention can contain other resin components as needed in addition to the above-mentioned various components. Preferable examples include thermoplastic resins, reactive diluents, and the like, and these may be added as long as the object of the present invention is not impaired.

熱可塑性樹脂としては特に制限されないが、好ましい例としては、分子量が5000〜100000であるポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、芳香族ポリアミド、ポリパラバン酸、ポリフェニレンエーテル、フェノキシ樹脂、さらには、芳香族ポリエステル等の液晶ポリマーを挙げることができる。さらにカルボキシル基、水酸基、アルケン基等を末端あるいは側鎖にグラフトしたものは、より好適に用いることができる。これらの熱可塑性樹脂の分子量は、5000以上である方が高分子による可とう性付与の効果を得ることができ、100000以下である方が粘度が高くなり過ぎず、成形性が十分であるため好ましい。   The thermoplastic resin is not particularly limited, but preferred examples include polyethersulfone, polysulfone, polyphenylene sulfide, polyetheretherketone, polyimide, polyetherimide, polyamideimide, aromatic polyamide, polyparaban having a molecular weight of 5000 to 100,000. Examples include acids, polyphenylene ethers, phenoxy resins, and liquid crystal polymers such as aromatic polyesters. Further, those obtained by grafting a carboxyl group, a hydroxyl group, an alkene group or the like to the terminal or side chain can be used more suitably. When the molecular weight of these thermoplastic resins is 5000 or more, the effect of imparting flexibility by the polymer can be obtained, and when the molecular weight is 100,000 or less, the viscosity does not become too high and the moldability is sufficient. preferable.

熱可塑性樹脂の含有量は、上記樹脂組成物の樹脂成分に対して0.1〜30質量%の範囲で用いられることが望ましい。0.1質量%以上である方が添加効果が得られ、30質量%以下ならば、樹脂組成物の耐熱性が保持できる。   As for content of a thermoplastic resin, it is desirable to use in the range of 0.1-30 mass% with respect to the resin component of the said resin composition. The addition effect is obtained when the content is 0.1% by mass or more, and the heat resistance of the resin composition can be maintained when the content is 30% by mass or less.

反応性希釈剤としては、グリシドール、アリルグリシジルエーテル、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテルなどのエポキシ樹脂に対して一般的に使用される反応性希釈剤、ジアリルフタレート、o,o’−ジアリルビスフェノールA、ビスフェノールAジアリルエーテルなどのアリル基をもつ化合物(これらは熱硬化性のイミド樹脂に対して一般的に使用される反応性希釈剤である)などが例示できる。これら反応性希釈剤の含有量は、樹脂成分に対して0.1〜10質量%の範囲で用いられることが望ましい。0.1質量%以上である方が反応性希釈剤としての効果が十分であり、10質量%以下であれば樹脂組成物からなる樹脂ワニスの粘度が低下しすぎることなく、作業性が良好である。   As the reactive diluent, reactive diluents commonly used for epoxy resins such as glycidol, allyl glycidyl ether, methyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, diallyl phthalate, o, o'- Examples include compounds having an allyl group such as diallyl bisphenol A and bisphenol A diallyl ether (these are reactive diluents generally used for thermosetting imide resins). The content of these reactive diluents is desirably used in the range of 0.1 to 10% by mass with respect to the resin component. If it is 0.1% by mass or more, the effect as a reactive diluent is sufficient, and if it is 10% by mass or less, the viscosity of the resin varnish made of the resin composition does not decrease too much and the workability is good. is there.

難燃剤
本発明の樹脂組成物は更に難燃剤を含有していてもよい。本発明の樹脂組成物に用いることのできる難燃剤としては、含臭素難燃剤、含リン難燃剤、金属水酸化物など公知の難燃剤が挙げられる。
Flame retardant The resin composition of the present invention may further contain a flame retardant. Examples of the flame retardant that can be used in the resin composition of the present invention include known flame retardants such as a bromine-containing flame retardant, a phosphorus-containing flame retardant, and a metal hydroxide.

含臭素難燃剤の例としては特に制限を受けないが、好ましい例としてはテトラブロモビスフェノールA、テトラブロモビスフェノールAとエピクロルヒドリンを反応させて得られるエポキシ樹脂およびそのオリゴマー、重合物などが挙げられる。また臭素置換フェニルマレイミドなど臭素含有マレイミド化合物なども用いることができる。これら含臭素難燃剤は、単独、または2種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of bromine-containing flame retardants are not particularly limited, but preferred examples include tetrabromobisphenol A, epoxy resins obtained by reacting tetrabromobisphenol A and epichlorohydrin, oligomers thereof, and polymers thereof. Also, bromine-containing maleimide compounds such as bromine-substituted phenylmaleimide can be used. These brominated flame retardants can be used alone or in combination of two or more.

含臭素難燃剤の添加量としては臭素元素に換算して樹脂成分の合計の質量に対して3〜7質量%の範囲が好ましい。この範囲である方が、難燃性を得ることができ、また樹脂組成の耐熱性が保持できるため好ましい。   The addition amount of the bromine-containing flame retardant is preferably in the range of 3 to 7% by mass with respect to the total mass of the resin components in terms of elemental bromine. This range is preferable because flame retardancy can be obtained and the heat resistance of the resin composition can be maintained.

含リン難燃剤の例としては、トリフェニルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシレニルジフェニルホスフェート、トリス(イソプロピルフェニル)ホスフェート等の燐酸エステルを用いて縮合された芳香族縮合リン酸エステル等が挙げられる。これら含リン難燃剤は、単独、または2種以上組み合わせて用いることができる。   Examples of phosphorus-containing flame retardants include aromatic condensed phosphoric acid condensed with phosphoric esters such as triphenyl phosphate, trixylenyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylenyl diphenyl phosphate, tris (isopropylphenyl) phosphate, etc. Examples include esters. These phosphorus-containing flame retardants can be used alone or in combination of two or more.

含リン難燃剤の添加量としては、リン元素に換算して樹脂成分の合計の質量に対して0.3〜3質量%の範囲が好ましい。該範囲であると難燃性を得ることができ、また樹脂組成の耐湿性が保持できるため好ましい。   As addition amount of a phosphorus-containing flame retardant, the range of 0.3-3 mass% is preferable with respect to the total mass of a resin component in conversion to a phosphorus element. This range is preferable because flame retardancy can be obtained and the moisture resistance of the resin composition can be maintained.

金属水酸化物としては水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、ヒドロキシスズ酸亜鉛などの(OH)を有する金属化合物が好ましく、このようなものであれば特に制限を受けないが、水酸化アルミニウム(Al(OH))、水酸化マグネシウム(Mg(OH))、ヒドロキシスズ酸亜鉛(ZnSn(OH))がより好ましく、水酸化アルミニウムがより更に好ましい。これら金属水酸化物は、不純物として含まれるNa2Oの含有量が低いことが好ましい。Na2Oの含有量としては好ましくは0.3%未満、より好ましくは0.2%以下、特に好ましくは0.1%以下である。金属水酸化物中に不純物として含まれるNa2O量が多い場合は洗浄を行う方法、特開平8−325011号公報などに記載されているような方法などにより、含有するNa2O量を0.3%未満に低減した上で用いることが好ましい。金属水酸化物のNa2O含有量が上記範囲内にあると、該金属水酸化物を含む耐熱性樹脂組成物から得られる積層板は、ハンダ耐熱性に優れる。また、積層板が回路基板として使用された場合にイオンマイグレーションによる信頼性劣化を引き起こしにくい。本発明の樹脂組成物において金属水酸化物を用いる場合、金属水酸化物の粒径は特に限定されないが、通常平均粒径が0.1〜10μm程度のものが用いられる。これら金属水酸化物は、単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。 As the metal hydroxide, a metal compound having (OH) n such as aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, and zinc hydroxystannate is preferable. (OH) 3 ), magnesium hydroxide (Mg (OH) 2 ), and zinc hydroxystannate (ZnSn (OH) 6 ) are more preferable, and aluminum hydroxide is still more preferable. These metal hydroxides preferably have a low content of Na 2 O contained as impurities. The content of Na 2 O is preferably less than 0.3%, more preferably 0.2% or less, and particularly preferably 0.1% or less. METHOD If Na 2 O amount is large for cleaning which is contained as an impurity in the metal hydroxide, by a method such as is described, for example, in JP-A-8-325011 discloses a Na 2 O content contained 0 It is preferable to use after reducing to less than 3%. When the Na 2 O content of the metal hydroxide is within the above range, the laminate obtained from the heat resistant resin composition containing the metal hydroxide is excellent in solder heat resistance. Further, when the laminate is used as a circuit board, it is difficult to cause reliability deterioration due to ion migration. When the metal hydroxide is used in the resin composition of the present invention, the particle size of the metal hydroxide is not particularly limited, but those having an average particle size of about 0.1 to 10 μm are usually used. These metal hydroxides can be used alone or in combination of two or more.

また上記の金属水酸化物には、カップリング剤を使用することが好ましい。カップリング剤としてはシラン系、チタネート系、アルミネート系およびジルコアルミネート系などのカップリング剤が使用できる。その中でもシラン系カップリング剤が好ましく、特に反応性の官能基を有するシラン系カップリング剤がより更に好ましい。   Moreover, it is preferable to use a coupling agent for said metal hydroxide. As the coupling agent, coupling agents such as silane, titanate, aluminate and zircoaluminate can be used. Among these, a silane coupling agent is preferable, and a silane coupling agent having a reactive functional group is even more preferable.

シラン系カップリング剤の例としてはビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどを挙げることができ、これらの1種類または2種類以上が使用される。これらのシラン系カップリング剤は予め金属水酸化物表面に吸着ないしは反応により固定されていることが好ましい。カップリング剤を用いると、金属水酸化物と樹脂との接着性が向上し、樹脂組成物から得られる積層板の機械的強度、耐熱性の向上が期待できる。   Examples of silane coupling agents are vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxy. Silane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, etc., and one or more of these are used. The These silane coupling agents are preferably fixed in advance to the surface of the metal hydroxide by adsorption or reaction. When the coupling agent is used, the adhesion between the metal hydroxide and the resin is improved, and the mechanical strength and heat resistance of the laminate obtained from the resin composition can be expected.

金属水酸化物は、樹脂成分の合計を100質量部に対して、5〜100質量部であることが好ましく、より好ましくは5〜80質量部含有することが望ましい。金属水酸化物の含有量が上記範囲内にあると、難燃効果が得られワニスにしたときの粘度が適度であり基材への含浸性が良く、作業性に優れる。また金属水酸化物の含有量が100質量部以下である方が(樹脂組成物の50質量%以下である場合の方が)、樹脂組成物の吸水性が高くならず、吸湿後のハンダ耐熱性などに悪影響を与える可能性が低いため好ましい。   The metal hydroxide is preferably 5 to 100 parts by mass, more preferably 5 to 80 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total resin components. When the content of the metal hydroxide is within the above range, the flame retardancy effect is obtained, the viscosity when made into a varnish is appropriate, the impregnation property to the substrate is good, and the workability is excellent. In addition, when the content of the metal hydroxide is 100 parts by mass or less (when the content is 50% by mass or less of the resin composition), the water absorption of the resin composition does not increase, and the solder heat resistance after moisture absorption is high. It is preferable because it is less likely to adversely affect the properties.

硬化促進剤
本発明の樹脂組成物には、硬化促進剤を含有することが好ましい。硬化促進剤としては例として2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールテトラフェニルボレートなどのイミダゾール類;トリエタノールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホリンなどのアミン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート等のテトラフェニルボロン塩類;1,8−ジアザ-ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体等が挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
Curing Accelerator The resin composition of the present invention preferably contains a curing accelerator. Examples of curing accelerators include imidazoles such as 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole tetraphenylborate; triethanolamine, triethylenediamine, Amines such as N-methylmorpholine; tetraphenylboron salts such as tetraphenylphosphonium tetraphenylborate and triethylammonium tetraphenylborate; 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7 and derivatives thereof Can be mentioned. These curing accelerators can be used alone or in combination of two or more.

これら硬化促進剤の含有量は、後述するワニスまたはプリプレグの所望するゲル化時間が得られるように配合するのが望ましいが、一般的には、樹脂成分の合計量100質量部に対して、0.005〜10質量部の範囲で用いられる。   The content of these curing accelerators is preferably blended so as to obtain the desired gelation time of the varnish or prepreg described later, but generally 0% relative to 100 parts by mass of the total amount of resin components. It is used in the range of 0.005 to 10 parts by mass.

添加剤
本発明の樹脂組成物には用途に応じて添加剤を加えることもできる。添加剤の好ましい例としては、消泡剤、レベリング剤、表面張力調整剤として一般に使用される添加剤などがあげられる。具体的な例としてはフッ素系、シリコーン系、アクリル系などの消泡剤、レベリング剤が挙げられる。添加剤の含有量は、一般的には樹脂成分の合計量100質量部に対して、好ましくは0.0005〜10質量部の範囲で用いられる。
Additives Additives can also be added to the resin composition of the present invention depending on the application. Preferable examples of the additive include an antifoaming agent, a leveling agent, an additive generally used as a surface tension adjusting agent, and the like. Specific examples include fluorine-based, silicone-based, acrylic-based antifoaming agents, and leveling agents. The content of the additive is generally preferably used in the range of 0.0005 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the resin components.

樹脂組成物の調製方法
本発明の樹脂組成物は、例えばマレイミド基を含む化合物(A)と、エポキシ樹脂、および/またはフェノール樹脂、および/または他の樹脂成分とを80〜200℃で、0.1〜10時間加熱混合して均一な混合物とすることができる。タルクを焼成してなるもの(B)は、上記の混合物を常温で粉砕し、粉末状態で混合することもできるし、以下に記述する方法で樹脂成分を樹脂ワニスとした後に(B)の無機化合物を混合することもできる。
Preparation method of resin composition The resin composition of the present invention comprises, for example, a compound (A) containing a maleimide group, an epoxy resin and / or a phenol resin, and / or other resin components at 80 to 200 ° C, 0 1. It can be heated and mixed for 1 to 10 hours to make a uniform mixture. In the case of calcination of talc (B), the above mixture can be pulverized at room temperature and mixed in a powder state, or after the resin component is made into a resin varnish by the method described below, Compounds can also be mixed.

樹脂ワニス
本発明の樹脂ワニスは、マレイミド基を含む化合物(A)とタルクを焼成してなるもの(B)、エポキシ樹脂、および/またはフェノール樹脂、および/または他の樹脂成分とが溶剤に溶解されたものである。
Resin varnish The resin varnish of the present invention is obtained by dissolving a compound (A) containing a maleimide group and calcinated talc (B), an epoxy resin, and / or a phenol resin, and / or other resin components in a solvent. It has been done.

樹脂ワニスに用いられる溶剤としては、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジオキサン、アセトン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルスルホキシド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサン、2−へプタノンなどが挙げられる。溶剤としては、比較的沸点が低いものが好ましく、メチルエチルケトン、アセトン、ジオキサンまたはこれらを主成分とする混合物が好ましく用いられる。   Solvents used in the resin varnish include ethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, dioxane, acetone, N-methyl-2-pyrrolidone , Dimethyl sulfoxide, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexane, 2-heptanone and the like. As the solvent, those having a relatively low boiling point are preferable, and methyl ethyl ketone, acetone, dioxane or a mixture containing these as a main component is preferably used.

本発明の樹脂ワニスは、本発明の目的を損なわない範囲内において、上記マレイミド基を含む化合物(A)とタルクを焼成してなるもの(B)、エポキシ樹脂、および/またはフェノール樹脂、および/または他の樹脂成分を含有していてもよい。樹脂ワニス中の上記マレイミド基を含む化合物(A)とタルクを焼成してなるもの(B)、エポキシ樹脂、および/またはフェノール樹脂、および/または他の樹脂成分の含有量は上記樹脂組成物と同様である。   The resin varnish of the present invention is obtained by baking the compound (A) containing the maleimide group and talc (B), an epoxy resin, and / or a phenol resin, and / or within the range not impairing the object of the present invention. Or other resin components may be contained. The content of the compound (A) containing the maleimide group in the resin varnish and the baked talc (B), the epoxy resin, and / or the phenol resin, and / or other resin components is the same as that of the resin composition. It is the same.

本発明の樹脂ワニスは、上記のような硬化促進剤を含有することが好ましく、含有量は上記と同様である。また本発明の樹脂ワニスは、上記樹脂組成物が含有していてもよい「その他の樹脂成分」を含有することができる。樹脂ワニス中には、上記樹脂成分の質量の合計が、通常50〜80質量%、好ましくは55〜75質量%の範囲で含まれることが望ましい。   The resin varnish of the present invention preferably contains the curing accelerator as described above, and the content is the same as described above. Further, the resin varnish of the present invention can contain “other resin components” which the resin composition may contain. In the resin varnish, the total mass of the resin components is usually 50 to 80% by mass, preferably 55 to 75% by mass.

樹脂ワニスは、上記樹脂組成物を有機溶剤中に溶解させて得ることもできるし、有機溶剤中でマレイミド基を含む化合物(A)と、エポキシ樹脂、および/またはフェノール樹脂、および/または他の樹脂成分とを加熱混合して均一な溶液とすることにより調整することができる。加熱混合時の温度は、有機溶剤の沸点にもよるが、通常50〜200℃であり、加熱混合時間は、通常0.1〜20時間である。   The resin varnish can be obtained by dissolving the resin composition in an organic solvent, or a compound (A) containing a maleimide group in an organic solvent, an epoxy resin, and / or a phenol resin, and / or other It can adjust by heating and mixing with a resin component to make a uniform solution. Although the temperature at the time of heating and mixing depends on the boiling point of the organic solvent, it is usually 50 to 200 ° C., and the heating and mixing time is usually 0.1 to 20 hours.

プリプレグ
本発明のプリプレグは、基材に上記樹脂組成物が含浸されている。本発明のプリプレグは、上記樹脂ワニスを基材に塗布または含浸させ、次いで乾燥して溶剤を除去することにより製造することができる。基材としては、ガラス不織布、ガラスクロス、炭素繊維布、有機繊維布、紙などの従来プリプレグに用いられる公知の基材が全て使用可能である。上記樹脂ワニスを上記基材に塗布または含浸した後、乾燥工程を経てプリプレグを製造するが、塗布方法、含浸方法、乾燥方法は従来公知の方法が用いられ特に限定されるものではない。乾燥条件については、使用する溶剤の沸点により適宜決められるが、プリプレグ中の残存溶剤の量が1質量%以下となるような条件であることが望ましい。具体的な例を挙げると、140℃〜220℃の範囲において5分〜10分程度の滞留時間が好ましいが、連続でプリプレグの乾燥を行うような製造工程においては、温度の最適な範囲は搬送速度に依存して変化するためこの限りではない。
Prepreg In the prepreg of the present invention, a base material is impregnated with the resin composition. The prepreg of the present invention can be produced by applying or impregnating the resin varnish to a substrate and then drying to remove the solvent. As a base material, all the well-known base materials used for conventional prepregs, such as a glass nonwoven fabric, a glass cloth, a carbon fiber cloth, an organic fiber cloth, paper, can be used. After applying or impregnating the resin varnish to the base material, a prepreg is produced through a drying step, and the coating method, impregnation method and drying method are not particularly limited, and conventionally known methods are used. The drying conditions are appropriately determined depending on the boiling point of the solvent to be used, but it is desirable that the amount of the residual solvent in the prepreg is 1% by mass or less. As a specific example, a residence time of about 5 minutes to 10 minutes is preferable in the range of 140 ° C. to 220 ° C., but in the manufacturing process in which the prepreg is continuously dried, the optimum temperature range is the conveyance. This is not the case because it changes depending on the speed.

積層板
本発明の積層板は、上記プリプレグ1枚または複数枚が積層され、熱プレスにより加熱硬化されてなることを特徴とするものである。積層板を製造するときの加熱加圧条件は特に限定されるものではないが、加熱温度は好ましくは100〜300℃、より好ましくは150〜250℃であり、圧力は好ましくは1.0〜10MPaであり、加熱加圧時間は好ましくは10〜300分程度である。
Laminate The laminate of the present invention is characterized in that one or a plurality of the prepregs are laminated and heat-cured by hot pressing. The heating and pressing conditions for producing the laminated plate are not particularly limited, but the heating temperature is preferably 100 to 300 ° C, more preferably 150 to 250 ° C, and the pressure is preferably 1.0 to 10 MPa. The heating and pressing time is preferably about 10 to 300 minutes.

また本発明の積層板は、両面に金属箔または金属板が積層されて一体化されていてもよい。その場合は、1枚のプリプレグの片面もしくは両面に金属箔もしくは金属板を積層し加熱圧着するか、または複数枚積層されたプリプレグの最外層となる両面に金属箔または金属板を積層し加熱圧着することにより、プリプレグを加熱硬化させ一体化させることにより製造することができる。金属箔または金属板としては、銅、アルミニウム、鉄、ステンレスなどが使用できる。加熱硬化させる際の条件は、上記積層板と同様の条件である。   Moreover, the laminated board of this invention may be integrated by laminating | stacking metal foil or a metal plate on both surfaces. In that case, a metal foil or a metal plate is laminated on one or both sides of one prepreg and heat-pressed, or a metal foil or a metal plate is laminated on both surfaces which are the outermost layers of a plurality of laminated prepregs. By doing so, the prepreg can be manufactured by heat-curing and integrating. As the metal foil or metal plate, copper, aluminum, iron, stainless steel or the like can be used. The conditions for heat-curing are the same conditions as for the laminate.

更に本発明の積層板は、上記の積層板の両面に回路形成を施したものに、さらにプリプレグを交互に積層し、最外層に金属箔または金属板を積層し、加熱圧着することにより上記の樹脂組成物を絶縁層とする多層積層板も包含される。本発明の多層積層板は、一般的な多層プリント配線板用の積層板の製造工程で用いられる様々な手法を用いて製造することができ、特に工法に制限を受けない。   Furthermore, the laminated board of the present invention is obtained by alternately laminating prepregs on the both sides of the above laminated board, further laminating a metal foil or metal plate on the outermost layer, and thermocompression bonding. A multilayer laminate having the resin composition as an insulating layer is also included. The multilayer laminate of the present invention can be produced using various methods used in the production process of a general laminate for a multilayer printed wiring board, and is not particularly limited by the construction method.

以下、実施例に基づいて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated further more concretely based on an Example, this invention is not limited to these Examples.

実施例1〜3および比較例1〜2
表−1に示す組成のうちマレイミドを含む化合物(A)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびその他の樹脂の配合物を、フラスコ内でメチルエチルケトン:N−メチル−2−ピロリドンの混合溶媒(混合比はメチルエチルケトン:N−メチル−2−ピロリドン=4:1)中で80℃、6時間溶解し、樹脂ワニスを得た。このようにして得られた樹脂ワニスに、タルクを焼成してなるもの(B)またはその他の無機化合物を加え、均一に攪拌したものを離型フィルム上に20μm程度の厚みで塗布し、100℃で30分乾燥した後に、フィルムから剥がして粉砕し、樹脂組成物の粉体を得る。この樹脂組成物の粉体を3cm×6cmの型に入れて、2MPaの圧力で、180〜230℃、120分の加熱条件で成形した。その後これらの成型物をダイアモンドカッターで2.5cm×5cmに切りだし、厚み2.0mm程度の樹脂板を得た。これらの樹脂板をASTM D790−00に準じて曲げ強度、弾性率を測定した。尚、表中の各成分の単位は、質量部である。
Examples 1-3 and Comparative Examples 1-2
Among the compositions shown in Table 1, a compound of maleimide-containing compound (A), epoxy resin, phenol resin and other resin was mixed in a flask with a mixed solvent of methyl ethyl ketone: N-methyl-2-pyrrolidone (mixing ratio is methyl ethyl ketone). : N-methyl-2-pyrrolidone = 4: 1) and dissolved at 80 ° C. for 6 hours to obtain a resin varnish. The resin varnish obtained in this manner is obtained by baking talc (B) or other inorganic compound, and uniformly stirring the mixture on a release film with a thickness of about 20 μm, and 100 ° C. After drying for 30 minutes, the film is peeled off and pulverized to obtain a resin composition powder. The resin composition powder was placed in a 3 cm × 6 cm mold and molded at 180 ° C. to 230 ° C. for 120 minutes under a pressure of 2 MPa. Thereafter, these molded products were cut into 2.5 cm × 5 cm with a diamond cutter to obtain a resin plate having a thickness of about 2.0 mm. The bending strength and elastic modulus of these resin plates were measured according to ASTM D790-00. In addition, the unit of each component in a table | surface is a mass part.

実施例4〜7および比較例3〜4
表−2に示す組成のうちマレイミドを含む化合物(A)、エポキシ樹脂、フェノール樹脂およびその他の樹脂の配合物を、フラスコ内でメチルエチルケトン:N−メチル−2−ピロリドンの混合溶媒(混合比はメチルエチルケトン:N−メチル−2−ピロリドン=4:1)中で80℃、6時間溶解し、樹脂ワニスを得た。このようにして得られた樹脂ワニスにタルクを焼成してなるもの(B)またはその他の無機化合物、硬化促進剤、難燃剤、添加剤を加え均一に攪拌し、均一な樹脂ワニスを得た。これらのワニスを108g/m2(厚み約100μm)のガラスクロスに含浸し、150℃で5分間乾燥して、約200g/m2(厚み約100μm)のプリプレグを得た。このプリプレグを16枚重ね合わせ、さらにその上下の最外層に18μmの銅箔を配して、2MPaの圧力で、180〜230℃、120分の加熱条件で成形し、1.6〜1.7mm厚みの銅張積層板を得た。このようにして得られた積層板の曲げ試験結果も同様に表中に示した。試験の方法を以下に示す。また0.2mm以下の積層板の弾性率の評価については、プリプレグを2枚重ね合わせた以外は上記と同様にして作成した、0.2〜0.3mm厚みの銅張積層板を使用して行った。さらに、加工性の評価としては同様にプリプレグ4枚を重ね合わせて作成した0.4〜0.5mmの銅張積層板を下記(3)の条件下で0.15mm径のドリル加工機でテスト加工し、ドリルの折損率で評価した。
Examples 4-7 and Comparative Examples 3-4
Among the compositions shown in Table 2, a compound of maleimide-containing compound (A), epoxy resin, phenol resin and other resin was mixed in a flask with a mixed solvent of methyl ethyl ketone: N-methyl-2-pyrrolidone (mixing ratio is methyl ethyl ketone). : N-methyl-2-pyrrolidone = 4: 1) and dissolved at 80 ° C. for 6 hours to obtain a resin varnish. A resin varnish obtained by firing talc (B) or other inorganic compound, a curing accelerator, a flame retardant, and an additive were added and stirred uniformly to obtain a uniform resin varnish. These varnishes were impregnated into a glass cloth of 108 g / m 2 (thickness: about 100 μm) and dried at 150 ° C. for 5 minutes to obtain a prepreg of about 200 g / m 2 (thickness: about 100 μm). Sixteen prepregs are stacked, and 18 μm copper foil is disposed on the upper and lower outermost layers, and molded under a pressure of 2 MPa at 180 to 230 ° C. for 120 minutes, and 1.6 to 1.7 mm. A thick copper-clad laminate was obtained. The results of bending tests of the laminates thus obtained are also shown in the table. The test method is shown below. Moreover, about the evaluation of the elasticity modulus of the laminated board of 0.2 mm or less, using the copper clad laminated board of thickness 0.2-0.3mm created similarly to the above except having piled up two prepregs. went. Furthermore, for evaluation of workability, a 0.4 to 0.5 mm copper-clad laminate prepared by superimposing four prepregs in the same manner was tested with a drilling machine having a diameter of 0.15 mm under the condition (3) below. Processed and evaluated by the breakage rate of the drill.

(1)曲げ強度、弾性率:JIS C6481 5.8に準じて測定した。
(2)薄板弾性率:JIS C6481 5.17.2に準じて測定し、50℃と200℃での貯蔵弾性率をそれぞれ常温、高温の弾性率とした。
(3)加工性:ユニオンツール社製ドリル(NEV0.15×2.5E962S)を使用し、重ね枚数3枚、回転数160Krpm、送り速度1.2m/分で穴加工をし、ドリル10本使用時のドリルの折損数を折損率とした。
(1) Bending strength and elastic modulus: Measured according to JIS C6481 5.8.
(2) Thin plate elastic modulus: Measured according to JIS C6481 5.17.2, and the storage elastic modulus at 50 ° C. and 200 ° C. was defined as the elastic modulus at normal temperature and high temperature, respectively.
(3) Workability: Using a drill made by Union Tool (NEV0.15 × 2.5E962S), drilling holes at 3 stacks, rotating at 160Krpm, feeding speed 1.2m / min, and using 10 drills The number of breakage of the drill at that time was taken as the breakage rate.

実施例および比較例では、以下の原料を使用した。
(A)マレイミド基を含む化合物;
BMI−S(商品名、窒素原子含有量:約8%、分子量:358、三井化学(株)社製)
BMI−MP(商品名、窒素原子含有量:約10%、分子量:268、三井化学(株)社製)
(B)タルクを焼成してなるものおよびその他の無機化合物;
焼成タルク;BST(商品名、平均粒子径;5μm、日本タルク(株)社製)
焼成タルク;SG95焼成品(平均粒子径;3μm、日本タルク(株)社製)
焼成タルク;SG2000焼成品(平均粒子径;2μm、日本タルク(株)社製)
タルク;SG2000(商品名、平均粒子径;2μm、日本タルク(株)社製)
シリカ;SO−C5(商品名、平均粒子径;1.7μm、龍森(株)社製)
エポキシ樹脂;
ビスフェノールA型エポキシ樹脂エピコート828EL(エポキシ当量190、ジャパンエポキシレジン(株)社製)
ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂エピクロンHP7200(エポキシ当量250、大日本インキ化学(株)社製)
ナフタレン型エポキシ樹脂、エピクロンHP4032(商品名、エポキシ当量150、大日本インキ化学工業(株)社製)
ナフトールアラルキル型エポキシ樹脂、ESN175(商品名、エポキシ当量270、新日鐵化学(株)社製)
フェノール樹脂;
ナフトールアラルキル樹脂、SN180(商品名、OH当量190、新日鐵化学(株)社製)
ナフトールアラルキル樹脂、SN485(商品名、OH当量215、新日鐵化学(株)社製)
In the examples and comparative examples, the following raw materials were used.
(A) a compound containing a maleimide group;
BMI-S (trade name, nitrogen atom content: about 8%, molecular weight: 358, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
BMI-MP (trade name, nitrogen atom content: about 10%, molecular weight: 268, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.)
(B) those obtained by firing talc and other inorganic compounds;
Firing talc; BST (trade name, average particle size: 5 μm, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.)
Baked talc; SG95 fired product (average particle size: 3 μm, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.)
Firing talc: SG2000 calcined product (average particle size: 2 μm, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.)
Talc: SG2000 (trade name, average particle size: 2 μm, manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.)
Silica; SO-C5 (trade name, average particle size: 1.7 μm, manufactured by Tatsumori Co., Ltd.)
Epoxy resin;
Bisphenol A type epoxy resin Epicoat 828EL (epoxy equivalent 190, manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)
Dicyclopentadiene type epoxy resin Epicron HP7200 (epoxy equivalent 250, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Naphthalene type epoxy resin, Epicron HP4032 (trade name, epoxy equivalent 150, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
Naphthol aralkyl epoxy resin, ESN175 (trade name, epoxy equivalent 270, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
Phenolic resin;
Naphthol aralkyl resin, SN180 (trade name, OH equivalent 190, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)
Naphthol aralkyl resin, SN485 (trade name, OH equivalent 215, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.)

その他の樹脂組成物:
反応性希釈剤;アリルグリシジルエーテル(エピオールA(商品名)、日本油脂(株)社製)
難燃剤:
臭素化ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エピコート5050(商品名)、ジャパンエポキシレジン(株)社製)
硬化促進剤;2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ(商品名)、四国化成工業(株)社製)
添加剤:FTX218(商品名、ネオス(株)社製)
Other resin compositions:
Reactive diluent: Allyl glycidyl ether (Epiol A (trade name), manufactured by NOF Corporation)
Flame retardants:
Brominated bisphenol A epoxy resin (Epicoat 5050 (trade name), manufactured by Japan Epoxy Resins Co., Ltd.)
Curing accelerator; 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ (trade name), manufactured by Shikoku Kasei Kogyo Co., Ltd.)
Additive: FTX218 (trade name, manufactured by Neos Co., Ltd.)

Figure 0004676739
Figure 0004676739

実施例に比較して、比較例1は無機化合物の添加がないため曲げ強度、弾性率ともに低い。比較例2は焼成品でないため曲げ弾性率が低いことがわかる。   Compared to the Examples, Comparative Example 1 has low bending strength and elastic modulus because no inorganic compound is added. Since Comparative Example 2 is not a fired product, it can be seen that the flexural modulus is low.

Figure 0004676739
Figure 0004676739

実施例に比較して比較例3は無機化合物が焼成品でないため弾性率、強度が低く、比較例4はシリカを添加しているため弾性率、強度は上がるもののドリル加工性が悪く、ドリルが折損してしまう。   Compared to the examples, Comparative Example 3 has a low elastic modulus and strength because the inorganic compound is not a fired product, and Comparative Example 4 has a low drilling workability due to the addition of silica, but the drillability is poor. It breaks.

0.2mm以下の薄い形態で配線板となった場合でも常温・高温ともに弾性率が高いため、基板反りなどによる歩留まり悪化という問題が生じにくく、軽薄短小化する電子基板材料用途に使用することができる。   Even when a wiring board is formed in a thin form of 0.2 mm or less, it has a high elastic modulus at both room temperature and high temperature, so that it is difficult to cause a problem of yield deterioration due to substrate warpage or the like, and it can be used for electronic substrate materials that are light and thin. it can.

Claims (7)

マレイミド基を有する化合物(A)、タルクを焼成してなるもの(B)、エポキシ樹脂、および少なくとも一つのナフタレン環を有するフェノール樹脂を含有し、
前記マレイミド基を含有する化合物(A)が、二つ以上のマレイミド基を含有する化合物であって、前記タルクを焼成してなるもの(B)を、樹脂成分の合計100質量部に対し、30質量部以上250質量部以下含有することを特徴とする樹脂組成物。
Containing a maleimide group-containing compound (A), a product obtained by baking talc (B), an epoxy resin, and a phenol resin having at least one naphthalene ring;
The compound (A) containing the maleimide group is a compound containing two or more maleimide groups, and is obtained by firing the talc (B) with respect to 100 parts by mass of the resin components in total. A resin composition characterized by containing not less than 250 parts by mass.
前記マレイミド基を含有する化合物(A)を、樹脂成分の質量の合計に対して、5質量%以上70質量%以下含有するものである請求項1記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1, wherein the compound (A) containing the maleimide group is contained in an amount of 5% by mass to 70% by mass with respect to the total mass of the resin components. 前記エポキシ樹脂を、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有するものである請求項1または2に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to claim 1 or 2 , wherein the epoxy resin is contained in an amount of 10% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the resin components. 前記少なくとも一つのナフタレン環を有するフェノール樹脂を、樹脂成分の質量の合計に対して、10質量%以上50質量%以下含有するものである請求項1乃至いずれか一項に記載の樹脂組成物。 The resin composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the phenol resin having at least one naphthalene ring is contained in an amount of 10% by mass to 50% by mass with respect to the total mass of the resin components. . 請求項1乃至いずれか一項に記載の樹脂組成物を基材に含浸して得られることを特徴とするプリプレグ。 A prepreg obtained by impregnating a base material with the resin composition according to any one of claims 1 to 4 . 請求項記載のプリプレグを一枚または複数枚積層させたものを加熱硬化することを特徴とする積層板。 A laminate comprising one or a plurality of laminated prepregs according to claim 5 which is heat-cured. 請求項1乃至いずれか一項に記載の樹脂組成物から得られる樹脂を絶縁層として含有することを特徴とする積層板。 A laminate comprising a resin obtained from the resin composition according to any one of claims 1 to 4 as an insulating layer.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006328105A (en) * 2005-05-23 2006-12-07 Hitachi Chem Co Ltd Resin composition, prepreg for printed wiring board, and metal-clad laminate
JP2007308640A (en) * 2006-05-19 2007-11-29 Kyocera Chemical Corp Resin composition for laminate, organic substrate prepreg, metal foil-clad laminate and printed circuit board
JP5305059B2 (en) * 2007-02-07 2013-10-02 Dic株式会社 Impregnating resin composition
JP2009218509A (en) * 2008-03-12 2009-09-24 Fujifilm Corp Method for forming conductive film and method for manufacturing printed wiring board
JP5499756B2 (en) * 2010-02-22 2014-05-21 凸版印刷株式会社 Thermal transfer recording medium
JP6436378B2 (en) * 2014-02-06 2018-12-12 三菱瓦斯化学株式会社 Resin composition for printed wiring board, prepreg, laminate and printed wiring board
JP6789936B2 (en) * 2015-06-25 2020-11-25 日本化薬株式会社 Epoxy resin composition and its cured product

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06263843A (en) * 1993-03-12 1994-09-20 Mitsui Toatsu Chem Inc Thermosetting resin composition, and prepreg and laminate produced therefrom
JPH10158363A (en) * 1996-11-29 1998-06-16 Mitsui Chem Inc Thermosetting resin composition and prepreg and laminated board produced by using the composition
JP2001347596A (en) * 2000-06-06 2001-12-18 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Metal foil-clad sheet suitable for carbon dioxide laser perforation, and printed wiring board using the same
JP2003171532A (en) * 2001-12-04 2003-06-20 Mitsui Chemicals Inc Flame-retardant resin composition, and prepreg and laminate using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06263843A (en) * 1993-03-12 1994-09-20 Mitsui Toatsu Chem Inc Thermosetting resin composition, and prepreg and laminate produced therefrom
JPH10158363A (en) * 1996-11-29 1998-06-16 Mitsui Chem Inc Thermosetting resin composition and prepreg and laminated board produced by using the composition
JP2001347596A (en) * 2000-06-06 2001-12-18 Mitsubishi Gas Chem Co Inc Metal foil-clad sheet suitable for carbon dioxide laser perforation, and printed wiring board using the same
JP2003171532A (en) * 2001-12-04 2003-06-20 Mitsui Chemicals Inc Flame-retardant resin composition, and prepreg and laminate using the same

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