JP4624162B2 - Opto-electric wiring board - Google Patents
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Description
本発明は、基板上に電気配線と光導波路とが形成され、その上に配置される発光素子および受光素子をその光導波路を介して効率的かつ簡便に光結合させることができるとともに電気配線とも電気的に接続させることできる光電気配線基板に関するものである。 In the present invention, an electrical wiring and an optical waveguide are formed on a substrate, and a light emitting element and a light receiving element disposed thereon can be optically and easily optically coupled through the optical waveguide, The present invention relates to a photoelectric wiring board that can be electrically connected.
近年、コンピュータの処理能力向上において、マイクロプロセッサとして用いられる半導体大規模集積回路(LSI)等の電気素子ではトランジスタの集積度が高められ、その動作速度はクロック周波数でGHzに達している。それに伴い、電気素子間を電気的に接続する電気配線は高密度化・微細化の一途をたどっている。 2. Description of the Related Art In recent years, with the improvement of computer processing capability, in an electrical element such as a semiconductor large scale integrated circuit (LSI) used as a microprocessor, the degree of integration of transistors has been increased, and the operation speed has reached GHz in terms of clock frequency. Along with this, the electrical wiring for electrically connecting the electrical elements has been increasing in density and miniaturization.
マイクロプロセッサの高速化に伴う電気配線の微細化は、クロストークや伝播損失が増すこととなるため、高密度化の限界あるいは駆動と受信回路の複雑化といった問題をもたらしており、それらの問題がコンピュータの高性能化の障害となっている。 The miniaturization of electrical wiring accompanying the increase in the speed of microprocessors increases crosstalk and propagation loss. This causes problems such as limitations in high density and complicated driving and receiving circuits. This is an obstacle to the high performance of computers.
これに対し、これらの問題を解決する技術として、従来のプリント配線基板上の銅から成る配線導体による電気配線の一部を光ファイバまたは光導波路による光配線に置き換えて、素子間の配線に電気配線に代えて光配線を利用することが行なわれている。光配線は無誘導であり、信号線となるコア部はマルチモードでも断面が50μm□程度のサイズであるため、光配線を用いれば信号伝送の高速化が可能なだけでなく、信号間のクロストークの低減や配線の微細化・高密度化が可能になる。 On the other hand, as a technique for solving these problems, a part of the electrical wiring by the wiring conductor made of copper on the conventional printed wiring board is replaced with the optical wiring by the optical fiber or the optical waveguide, and the wiring between the elements is electrically connected. An optical wiring is used instead of the wiring. The optical wiring is non-inductive, and the core part that becomes the signal line has a cross-section size of about 50 μm □ even in multimode. Talk can be reduced and wiring can be miniaturized and densified.
しかしながら、光配線として光ファイバを用いる場合には、その屈曲性に限界があることから、複雑な形状の光配線には対応しきれず、配線の設計の自由度が低くなってしまい、高密度配線や基板の小型化に十分には対応できないという問題がある。そのため、光配線としては、設計の自由度が大きい光導波路を用いた構成が有効である。 However, when an optical fiber is used as an optical wiring, its flexibility is limited, so that it cannot cope with an optical wiring with a complicated shape, and the degree of freedom in wiring design is reduced, resulting in a high density wiring. In addition, there is a problem that it cannot sufficiently cope with downsizing of the substrate. Therefore, a configuration using an optical waveguide having a high degree of design freedom is effective as the optical wiring.
光導波路は、光信号が伝搬する信号線となるコア部と、コア部の周囲に配置されて光信号をコア部に閉じ込めるクラッド部とで構成されて、基板の表面に平行な方向に形成されている。コア部の形成方法はフォトリソグラフィ技術によるドライエッチングや感光性のコア材料を使用した露光および現像による形成方法等があるが、いずれもその形状や寸法精度はフォトマスクパターンで決定されるため、設計の自由度は高くなる。 An optical waveguide is composed of a core part that becomes a signal line through which an optical signal propagates, and a clad part that is arranged around the core part and traps the optical signal in the core part, and is formed in a direction parallel to the surface of the substrate. ing. There are several methods for forming the core, such as dry etching using photolithography technology and exposure and development using a photosensitive core material. In any case, the shape and dimensional accuracy are determined by the photomask pattern. The degree of freedom increases.
このような光導波路を光配線に用いた光導波路基板に半導体発光素子等の光部品や電気部品を実装する際には、従来の電気部品に用いられている表面実装技術を用いて実装できることが望ましい。そのため、光部品としては省電力化や面アレイ化に有利な面発光型の縦キャビティ型面発光レーザ(VCSEL:Vertical Cavity Surface Emitting Laser)や面受光型の半導体受光素子(PD:Photo Diode)等が使用される。 When mounting optical and electrical components such as semiconductor light emitting devices on an optical waveguide substrate using such an optical waveguide for optical wiring, it can be mounted using surface mounting technology used for conventional electrical components. desirable. For this reason, surface-emitting vertical cavity surface emitting lasers (VCSELs) and surface-receiving semiconductor light-receiving devices (PDs: Photo Diodes), which are advantageous for power saving and surface array, are used as optical components. Is used.
基板の表面に平行な方向に形成されている光導波路とその基板の表面に実装されるVCSELやPD等の光部品とを光結合させるには、ミラー等の光路変換手段を用いて、光導波路における基板の表面に平行な方向から基板の表面に垂直な方向にほぼ90度に光路を曲げる必要がある。その光路変換手段の形成方法には、これまでいくつかの提案がなされている。 In order to optically couple an optical waveguide formed in a direction parallel to the surface of the substrate and an optical component such as a VCSEL or PD mounted on the surface of the substrate, an optical waveguide using an optical path changing means such as a mirror is used. It is necessary to bend the optical path by approximately 90 degrees from the direction parallel to the surface of the substrate to the direction perpendicular to the surface of the substrate. Several proposals have been made for the method of forming the optical path changing means.
例えば、ミラー面となる斜面を基板の表面にドライエッチングにより形成する方法がある。この方法では、基板を傾けてドライエッチングを行なったり、あるいはグレースケールのフォトマスクを用いて斜面を有するフォトレジストパターンを形成した後にドライエッチングを行なったりすることで、基板の表面にミラー面となる斜面を形成する。 For example, there is a method of forming a slope serving as a mirror surface on the surface of the substrate by dry etching. In this method, the substrate is tilted to perform dry etching, or a photoresist pattern having a slope is formed using a gray scale photomask, and then dry etching is performed to form a mirror surface on the surface of the substrate. Form a slope.
また、別の斜面形成方法としては、半導体チップ切り分け用のダイシングソーを用いる方法がある。これは、下部クラッド層/コア部/上部クラッド層からなる光導波路を形成した後、ダイシングブレードの先端を45度または90度に加工したダイシングソーを用いて光導波路に対して光入出力部の切削を行ない、光導波路に45度端面を形成し、露出した45度端面に金属薄膜を蒸着してミラー面(光反射面)とするものである。 As another slope forming method, there is a method using a dicing saw for semiconductor chip separation. This is because an optical waveguide composed of a lower clad layer / core part / upper clad layer is formed, and then a dicing saw whose tip is processed at 45 degrees or 90 degrees is used to form an optical input / output section with respect to the optical waveguide. Cutting is performed to form a 45 ° end face on the optical waveguide, and a metal thin film is deposited on the exposed 45 ° end face to form a mirror surface (light reflecting surface).
それ以外にも、レーザ等を用いて基板の表面にミラー面となる一つ一つの斜面を形成する方法や、ミラーとなる部材を別途用意して配設する方法もある。
しかしながら、これらの光路変換手段の形成方法には、以下に述べるようなさまざまな問題があった。 However, these methods for forming optical path conversion means have various problems as described below.
まず、ドライエッチングによりミラー面となる斜面を形成する方法には、基板を傾けてドライエッチングを行なう方法では基板の表面内で斜面の精度にばらつきが生じやすく、また、斜面を有するフォトレジストパターンを用いて斜面を形成する方法ではフォトレジストパターンの端面の傾斜角度や厚み等を細かく制御するのが困難であるという問題があった。 First, in the method of forming the inclined surface that becomes the mirror surface by dry etching, the method of performing the dry etching by tilting the substrate tends to cause variations in the accuracy of the inclined surface within the surface of the substrate, and a photoresist pattern having an inclined surface is formed. The method of forming the slope using the method has a problem that it is difficult to finely control the inclination angle and thickness of the end face of the photoresist pattern.
一方、ダイシングソーを用いてミラー面を形成する方法は、基板の表面にミラーを配置できる場所が制限される上、ミラー面となる切削面に荒れが生じたりするため、細かい加工に向かないといった問題があった。また、光導波路の形成後にレーザ等を用いてミラー加工を行なう場合は、一つ一つのミラー形成部に対して調整を行ない加工する必要があるため、多大なる手間と時間を要するという問題があった。 On the other hand, the method of forming a mirror surface using a dicing saw limits the place where the mirror can be placed on the surface of the substrate and causes the cutting surface to become a mirror surface to be rough. There was a problem. In addition, when mirror processing is performed using a laser or the like after the optical waveguide is formed, it is necessary to adjust and process each mirror forming portion, which requires a lot of labor and time. It was.
また、前述のミラーとなる部材を用いる方法では、ミラー部材は基板と光導波路との間に埋め込まれることとなり、発光素子や受光素子等の光部品の実装は光導波路上に行なわれている。そのため、光導波路を作製が容易で低コストに作製できる高分子材料の樹脂で形成した場合には、光導波路は基板表面の凹凸の影響を受けやすく、光導波路の上面に凹凸が生じやすいため、安定した光部品の実装が困難であるという問題があった。その上、高分子材料の樹脂は柔らかいため、光導波路の上面に対する光素子の実装が不安定になったり、樹脂上の電気配線は密着性に問題が生じたりすることもあった。 Further, in the above-described method using a member that becomes a mirror, the mirror member is embedded between the substrate and the optical waveguide, and optical components such as a light emitting element and a light receiving element are mounted on the optical waveguide. Therefore, when the optical waveguide is formed of a polymer material resin that can be easily manufactured at low cost, the optical waveguide is easily affected by irregularities on the surface of the substrate, and irregularities are likely to occur on the upper surface of the optical waveguide. There was a problem that it was difficult to mount stable optical components. In addition, since the resin of the polymer material is soft, the mounting of the optical element on the upper surface of the optical waveguide may become unstable, and the electrical wiring on the resin may cause a problem in adhesion.
本発明は以上のような従来の技術における問題を解決すべく案出されたものであり、その目的は、簡便な方法で効率的に光導波路と発光素子および受光素子との光結合を可能にすると同時に、発光素子および受光素子の電気配線との電気的接続をも簡便かつ安定に可能とする光電気配線基板を提供することにある。また、本発明の他の目的は、光導波路と発光素子および受光素子との光結合のための作製工程を簡略化することができ、作製が容易で量産性に優れた光電気配線基板を提供することにある。 The present invention has been devised to solve the above-described problems in the prior art, and an object thereof is to enable efficient optical coupling between an optical waveguide, a light emitting element, and a light receiving element by a simple method. At the same time, it is an object of the present invention to provide an optoelectric wiring board that enables simple and stable electrical connection between the light emitting element and the light receiving element. Another object of the present invention is to provide an optoelectric wiring board that can simplify the manufacturing process for optical coupling between the optical waveguide, the light emitting element, and the light receiving element, and is easy to manufacture and excellent in mass productivity. There is to do.
本発明の第1の光電気配線基板は、基板と、該基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面に第1のミラー面を有する第1のミラー部材と、前記基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面に前記第1のミラー面と互いに対向する第2のミラー面を有する第2のミラー部材と、前記第1,2のミラー面の間に配置され、コア部および該コア部を囲むクラッド部を含み、前記第1,2のミラー面に光結合するように構成されている光導波路と、前記第1,2のミラー部材に電気的に接続される電気配線と、を備えており、前記第1のミラー面の上方に発光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記第1のミラー部材の上面に発光素子を電気的に接続し、当該第1のミラー部材を介して前記電気配線に前記発光素子を電気的に接続し、前記第2のミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記第2のミラー部材の上面に受光素子を電気的に接続し、当該第2のミラー部材を介して前記電気配線に前記受光素子を接続する。
本発明の第2の光電気配線基板は、基板と、該基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面にミラー面を有するミラー部材と、コア部および該コア部を囲むクラッド部を含み、前記ミラー面に光結合するように構成されている光導波路と、前記ミラー部材に電気的に接続される電気配線と、を備えており、前記ミラー面の上方に発光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記ミラー部材の上面に発光素子を電気的に接続し、当該ミラー部材を介して前記電気配線に前記発光素子を接続するか、または、前記ミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記ミラー部材の上面に受光素子を電気的に接続し、当該ミラー部材を介して前記電気配線に前記受光素子を接続する。
A first optoelectric wiring board according to the present invention includes a substrate, a first mirror member disposed on the substrate and formed of a conductive material and having a first mirror surface on a side surface, and the substrate A second mirror member having a second mirror surface disposed on the side surface and opposite to the first mirror surface on a side surface; and the first and second mirror surfaces It is disposed between, viewed including the clad portion surrounding the core portion and the core portion, the optical waveguide is configured to optically coupled to the mirror surface of the first and second, the first and second mirror member An electrical wiring that is electrically connected, a light emitting portion is positioned above the first mirror surface , optically coupled to the optical waveguide , and on the upper surface of the first mirror member the light emitting element is electrically connected, the said electric wiring via the first mirror member An optical device electrically connected to said positions the light receiving portion above the second mirror surface optically coupled to said optical waveguide, and electrically the light-receiving element on an upper surface of the second mirror member connect, connects the light receiving element to the electric wiring via the second mirror member.
The second optoelectric wiring board of the present invention surrounds a substrate, a mirror member disposed on the substrate and made of a conductive material and having a mirror surface on a side surface, the core portion, and the core portion. An optical waveguide including a clad portion and configured to be optically coupled to the mirror surface; and an electrical wiring electrically connected to the mirror member; and a light emitting portion above the mirror surface. position is not optically coupled to said optical waveguide, or and wherein electrically connecting the light emitting element on the upper surface of the mirror member, connecting the light emitting element to the electrical wiring through the mirror member, or, optically coupled to said optical waveguide to position the light receiving portion above the mirror surface, electrically connected and the light receiving element on an upper surface of the mirror member, the said electrical wiring through the mirror member Connect the light receiving element.
本発明の光電気配線基板によれば、基板上に、互いにミラー面を対向させて配置された2つのミラー部材と、前記ミラー面間に配置された、コア部およびこのコア部を囲むクラッド部からなる光導波路とを備えており、前記ミラー面の一方の上に発光素子が配置され、前記ミラー面の他方の上に受光素子が配置されるものであって、前記ミラー部材は、導電性の材料からなるとともに電気配線と電気的に接続されており、側面が光の伝搬方向を前記基板の表面に平行な方向と垂直な方向との間で変換する前記ミラー面であり、上面に前記発光素子または前記受光素子の端子電極が発光部または受光部を前記ミラー面上に位置させて接続されることから、ミラー部材を基板上に配設することによってその側面のミラー面による光路変換手段を得ると同時に、導電性の材料からなり電気配線と電気的に接続されたミラー部材の上面に発光素子または受光素子の端子電極を、発光部または受光部をミラー面上に位置させて接続することによって、光導波路と発光部または受光部との間での光路変換とともに発光素子および受光素子と基板上の電気配線との電気的な接続が可能となるため、従来のような基板の表面に対するミラー面の加工のような困難な加工を必要とせず、また、基板に形成されている電気配線と光導波路上に形成されて発光素子または受光素子の端子電極と接続される電気配線とを電気的に接続するためのビア導体等の貫通導体を別途形成する必要もないので、光配線および電気配線の高密度化に有利で、しかも簡便に作製でき、量産性に優れた光電気結合構造を有する光電気配線基板を得ることができる。 According to the optoelectric wiring board of the present invention, on the substrate, two mirror members disposed with their mirror surfaces facing each other, a core portion disposed between the mirror surfaces, and a clad portion surrounding the core portion A light-emitting element is disposed on one of the mirror surfaces, and a light-receiving element is disposed on the other of the mirror surfaces, and the mirror member is electrically conductive. The mirror surface that is electrically connected to the electrical wiring and whose side surface converts the light propagation direction between a direction parallel to the surface of the substrate and a direction perpendicular to the surface of the substrate. Since the terminal electrode of the light emitting element or the light receiving element is connected with the light emitting part or the light receiving part positioned on the mirror surface, the optical path changing means by the mirror surface on the side surface by disposing the mirror member on the substrate Get At the same time, by connecting the terminal electrode of the light emitting element or the light receiving element to the upper surface of the mirror member made of a conductive material and electrically connected to the electrical wiring, with the light emitting part or the light receiving part positioned on the mirror surface In addition to the optical path conversion between the light guide and the light emitting part or the light receiving part, it is possible to connect the light emitting element and the light receiving element to the electric wiring on the substrate, so that the mirror surface with respect to the surface of the substrate as in the prior art The electrical wiring formed on the substrate and the electrical wiring formed on the optical waveguide and connected to the terminal electrode of the light emitting element or the light receiving element are electrically connected. Since there is no need to separately form through conductors such as via conductors for connection, it is advantageous in increasing the density of optical wiring and electrical wiring, and can be easily manufactured, and has an optoelectric coupling structure with excellent mass productivity. It is possible to obtain electrical wiring board.
特に、ミラー部材が導電性の材料の中でも金属からなるものである場合は、例えば波長が850nmの光に対し良好な反射面を持つ金や銀,銅の反射率は約98%と非常に高いので、その側面に形成される金属のミラー面によって効率よく光を反射することができるため、光導波路と発光素子および受光素子との間での光路変換において高い結合効率が得られる。 In particular, when the mirror member is made of metal among conductive materials, for example, the reflectivity of gold, silver, and copper having a good reflection surface for light with a wavelength of 850 nm is as high as about 98%. Therefore, since light can be efficiently reflected by the metal mirror surface formed on the side surface, high coupling efficiency can be obtained in optical path conversion between the optical waveguide, the light emitting element, and the light receiving element.
また、電気配線のインピーダンス整合をとるために、基板上の電気配線について50Ωのインピーダンス整合が取られている場合に、ミラー部材のサイズ(全体の体積)と材料の抵抗率とにより50Ωとなるように設計してミラー部材を例えば50Ωの終端抵抗とすることも可能であり、その場合には、電気配線上に別途抵抗体を形成する必要がないため、インピーダンス整合をとることができる電気配線を形成するための作製工程を削減することができ、信号の高速化に対応した基板を簡便に得ることができる。 In addition, when impedance matching of 50Ω is taken for the electrical wiring on the substrate in order to achieve impedance matching of the electrical wiring, it will be 50Ω depending on the size (total volume) of the mirror member and the resistivity of the material. It is also possible to design the mirror member to have a terminal resistance of 50Ω, for example, and in that case, it is not necessary to form a separate resistor on the electrical wiring, so an electrical wiring that can achieve impedance matching is provided. The number of manufacturing steps for formation can be reduced, and a substrate corresponding to high-speed signal can be easily obtained.
また、発光素子および受光素子は、一般的な表面実装技術によりミラー部材のミラー面を介して光導波路との間で高効率の光結合を得ることができる上、それぞれ発光部または受光部をミラー部材のミラー面上に位置させて配設されるため、光導波路材料である樹脂と比べて硬く安定したミラー面上を土台とすることができるので、基板の凹凸や端子電極を接続するための半田等の厚み、あるいは実装時の押圧等の影響が少なく、発光素子および受光素子を安定して実装することができ、実装強度が高く信頼性が高いとともに、光導波路の上面への電気配線の形成を必要最小限とすることができるため、小型化が容易で高密度実装が可能な光電気配線基板を得ることができる。 In addition, the light emitting element and the light receiving element can obtain high-efficiency optical coupling with the optical waveguide via the mirror surface of the mirror member by a general surface mounting technique, and the light emitting part and the light receiving part are mirrored respectively. Since it is arranged on the mirror surface of the member, it can be used as a base on the mirror surface that is hard and stable compared to the resin that is the optical waveguide material. It is less affected by the thickness of solder, etc., or pressure during mounting, and can stably mount the light emitting element and the light receiving element. The mounting strength is high and the reliability is high. Since formation can be minimized, an optoelectric wiring board that can be easily miniaturized and can be mounted at high density can be obtained.
以上のように本発明の光電気配線基板によれば、基板上の光導波路と発光素子および受光素子とをミラー部材のミラー面を介して効率よく光結合させることができるとともに、発光素子および受光素子と基板上の電気配線との電気的な接続もミラー部材を介して容易に行なうことができる、作製工程の削減が可能で簡便にかつ低コストに作製できるとともに信頼性の高い光電気配線基板を提供することができる。 As described above, according to the optoelectric wiring board of the present invention, the optical waveguide on the substrate, the light emitting element, and the light receiving element can be efficiently optically coupled through the mirror surface of the mirror member, and the light emitting element and the light receiving element can be coupled. The electrical connection between the element and the electric wiring on the substrate can be easily performed via the mirror member, and the manufacturing process can be reduced, and the photoelectric wiring substrate can be manufactured easily and at low cost and with high reliability. Can be provided.
すなわち、本発明の光電気配線基板によれば、従来の光電気配線基板における光反射面のダイシング加工のように光入出力部の配置場所に制限を受けることがなく、ミラー部材のミラー面を介して高効率かつ簡便に光導波路と発光素子および受光素子との光結合が可能となると同時に、ミラー部材を介して発光素子および受光素子の端子電極と基板の電気配線との電気的な接続も可能となるため、加工や実装に多大な時間や手間をかけることなく、従来と比べて作製・実装工程にかかるコストを大幅に低減することができる。 That is, according to the optoelectric wiring board of the present invention, the mirror surface of the mirror member is not limited by the place where the light input / output unit is arranged unlike the dicing process of the light reflecting surface in the conventional optoelectric wiring board. The optical waveguide and the light emitting element and the light receiving element can be optically coupled with high efficiency and easily, and at the same time, the electrical connection between the terminal electrode of the light emitting element and the light receiving element and the electric wiring of the substrate is also possible via the mirror member. Therefore, the cost required for the production / mounting process can be greatly reduced as compared with the conventional case without taking much time and labor for processing and mounting.
次に、本発明の光電気配線基板について、図面を参照しつつ説明する。図1は本発明の光電気配線基板の実施の形態の一例を示す上面図であり、図2は図1のA−A’線断面図である。 Next, the optoelectric wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a top view showing an example of an embodiment of an optoelectric wiring board according to the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A-A 'of FIG.
図1および図2に示すように、本発明の光電気配線基板1は、基板2上に、互いにミラー面10を対向させて配置された2つのミラー部材3が形成されており、それら対向するミラー面10間に配置された、コア部4およびこのコア部4を囲むクラッド部5から構成される光導波路6とを備えており、ミラー面10の一方の上に発光素子7が、ミラー面10の他方の上に受光素子8が配置される。
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the
基板2としては、例えばプリント配線基板として一般に用いられているエポキシ樹脂等よりなるプリント配線基板を用いればよい。基板2はその上面および内部に必要に応じて電気配線(図示せず)を有している。電気配線は基板2の上面だけでなく、基板2として電気配線層と絶縁層とが交互に積層された多層基板を用いて基板2の内部に形成されていてもよい。もちろん、基板2はプリント配線基板に限らず、絶縁層にアルミナ等を用いたセラミック配線基板や、シリコンやガラス等に電気配線を形成した基板を用いてもよい。中でも、汎用性があり低コストに作製できるものとしては、ガラスエポキシ配線基板が好適である。
As the
基板2上に互いにミラー面10を対向させて配置された2つのミラー部材3は、側面に光信号の伝搬方向を基板2の表面に平行な方向と垂直な方向との間で変換するための傾斜面であるミラー面10を有するとともに、発光素子7または受光素子8の端子電極(図示せず)を発光部または受光部をミラー面10上に位置させて接続するための平坦面である上面11を有しており、基板2の上面から光導波路6の上面にわたる高さに形成されている。また、ミラー部材3は導電性の材料で形成されており、それぞれ基板2に形成された電気配線あるいは後述する光導波路6上に形成された電気配線9と電気的に接続されている。
The two
ミラー部材3が側面に有するミラー面10は、光信号の伝搬方向を基板2の表面に平行な方向(基板2上に形成された光導波路6の配設方向)と基板2の表面に垂直な方向(基板2の表面から発光素子7の発光部または受光素子8の受光部に向かう方向)との間で変換するため、通常はほぼ45度の傾斜面をなしている。このミラー面10の傾斜角を調整することで、光の反射方向を調整することができる。発光素子7の発光部や受光素子8の受光部の位置に合わせてミラー面10の傾斜角を調整することによって、発光素子7や受光素子8の構造の違いから生じる実装時の光結合効率の違いを最小限にすることができる。
The
なお、図2に示す例ではミラー面10の傾斜面の断面形状を直線(平坦面)で示しているが、ミラー面10の断面形状は直線(平坦面)に限られることはなく、凹状や凸状等の円弧状(凹面や凸面等の曲面)になっていてもよい。
In the example shown in FIG. 2, the cross-sectional shape of the inclined surface of the
ミラー部材3の断面形状は、光路変換のための傾斜面であるミラー面10と発光素子7または受光素子8を配設するための平坦面である上面11とを有していることにより、図2に示すように、通常はほぼ台形状となっている。なお、ミラー面10の反対側の側面は、必ずしも図示したようにミラー面10と同様の傾斜面とする必要はないが、このようにほぼ台形状の断面形状とすることによって、反対側の側面もミラー面として利用することができるので、1枚の基板2上に光導波路6ならびに発光素子7および受光素子8をより高密度に実装することができる上、等方的なウェットエッチングでミラー面10を形成する場合には、図示したように左右対称形である方がミラー部材3の作製が容易である。また、ミラー面10と反対側の側面を基板2の上面に対してほぼ垂直な面とすると、光導波路6の上面に露出させるミラー部材3の平坦な上面11の面積を広くとることができるので、発光素子7や受光素子8等の素子実装時の安定化や光導波路6の上面の電気配線9の密着性向上を図ることができる。
The cross-sectional shape of the
ミラー部材3は、導電性の材料からなっており、AuやPt,Hg,Cu,Al等の金属や、抵抗体として用いられるTaN等の合金や、導電性の樹脂等が用いられる。例えば、基板2にプリント配線基板を用いてその上の電気配線の銅メッキと同時に形成する場合であれば、ミラー部材3の材料としてはCuを用いることで、通常のメッキ工程を使って電気配線と同時に作製することができるため、簡便にかつ低コストに作製することができる。もちろん、ミラー部材3の形成はメッキ工程に限られず、例えば基板2の上面に逆テーパー形状を持つレジストパターンを形成し、このパターンに導電性ペースト等を流し込んで形成することにより、逆テーパー形状の傾斜面に対応したミラー面10を有するミラー部材3を形成することもできる。
The
ミラー面10は光導波路6のコア部4の端面と対向した形で配設されており、図2に示すように、基板2の上面に対して45度の傾きとすることで、発光素子7の発光部より基板2の上面に対して垂直に出た光を基板2の上面に対して平行になるようにほぼ90度の光路変換を行ない、また、コア部4の端面より基板2の上面に平行に出射された光を基板2の上面に対して垂直になるようにほぼ90度の光路変換を行ない、受光素子8の受光部へと導く。ミラー面10とコア部4の端面との距離が長いと、その間で光は拡散されることとなり、コア部4内へ入る光が減少し、受光素子8で受光される光も減少することとなるため、ミラー面10とコア部4の端面との距離は短い方がよい。ただし、その距離が短すぎるとミラー部材3によりコア部4の形状が変形してしまい光路がゆがめられてしまうことがあるため、コア部4の長さはコア部4の端面がミラー部材3の底面の端部に対応する(ミラー部材3の底面の端部の上方にコア部4の端面が位置する)位置にあるのが最も好適である。
The
また、発光素子7および受光素子8は、それぞれの発光部および受光部の中心を通る基板2の上面への垂線が、ミラー部材3上でコア部4の中心線と一致する位置にくるよう配設することで、結合効率を最も高めることができる。
Further, the
なお、より多くの情報を処理するために発光素子7および受光素子8ならびに光導波路6のアレイ化を行なう場合は、発光素子7および受光素子8側のアレイ化のピッチ(配設間隔)に対応させて光導波路6のコア部4もアレイ化を行ない、複数配列するコア部4の断面形状が常に図2に示すような形状となるようにすることが好ましい。この場合には、ミラー部材3は図2の紙面に垂直な方向に細長い台形状とすることで対応させることができる。
When the
ミラー部材3の上面11は、ミラー部材3の形成時に同時に平坦面として形成してもよいし、前述のように導電性ペースト等を用いることにより上面が凸状面や凹状面になった場合には、光導波路6の形成後に光導波路6のクラッド部5の上面と同時に上面を研磨することにより平坦面としての上面11を形成することもできる。また、ミラー部材3の形成に際して全面めっき法や蒸着法やスパッタリング法,CVD法等で導電性膜を成膜した後にグレーマスク等を用いてエッチングすることにより、傾斜面であるミラー面10と平坦面である上面11とを同時に形成することもできる。また、型抜き成形等によりミラー部材3を別途用意した後、それらを基板2の上面に張り合わせて接着することにより、基板2上にミラー部材3を形成することもできる。この場合には、ミラー部材3の下部を基板2上の電気配線に接合することによって電気的に接続するため、接合には金属接合や半田接合あるいは導電性接着剤による接着を用いることができる。
The
基板2上にミラー部材3を形成した後、それらミラー部材3の対向するミラー面10間に配置されるように光導波路6を形成する。光導波路6を構成するコア部4およびコア部4を囲むクラッド部5の材料としては、例えばポリシラン,アクリル,ポリイミド,エポキシ,シロキサン,ポリシラン,ベンゾシクロブテン(BCB),メタクリル酸メチル(PMMA),ポリカーボネート(PC)等のポリマー材料が好適に使用できる。なお、石英系の材料を使用するには火炎堆積法またはCVD法等のプロセスで光導波路6を作製する必要があるが、これらは高温で行なわれるプロセスであり、基板2として電気配線基板や特に耐熱性が低い有機材料を用いた基板を用いることができない上、光導波路6の作製に真空装置が必要となるので、大面積化が難しく作製コストも高いという難点がある。これに対し、前述のポリマー材料は、低温プロセスによる光導波路6の作製が可能で、大面積化への対応も容易であり、しかも低コストで作製することができるため、種々の基板2に形成できる点で好適である。コア部4およびクラッド部5に前述のポリマー材料を用いることにより、光導波路6は低温プロセスによる作製が可能で、大面積化への対応も容易であり、かつ低コストに作製できるという効果があるものとなる。
After the
このコア部4およびクラッド部5の形状や寸法は、例えば、マルチモード光導波路を考えた場合であれば、コア部4の厚みを約40μmとし、下部クラッド部および上部クラッド部の厚みをそれぞれ約30μmとして、約100μmの厚みの光導波路6とすればよい。
For example, in the case of considering a multi-mode optical waveguide, the
光導波路6として、クラッド部5内に所定の形状および寸法のコア部4を作製する方法には、反応性イオンエッチング法,直接露光法,屈折率変化法(フォトブリーチング法)等がある。いずれの方法でも作製可能であるが、最も簡便な作製方法としては、屈折率変化法があげられる。屈折率変化法では、UV(紫外線)照射により屈折率が低下するというポリシラン系ポリマー材料等における特性を利用することから、現像やエッチング等のフォトリソグラフィ工程を必要としないで簡便に光導波路6を作製することができる。
As the
光導波路6の形成後、本発明の光電気配線基板1では、ミラー部材3のように凹凸を有する基板2上に光導波路6を形成することとなるので、光導波路6の上面を平坦化させるために軽く研磨を行なうことが好ましい。この研磨により、光導波路6の上面を平坦化するとともに、光導波路6のクラッド部5で覆われたミラー部材3の上面11を平坦面としてクラッド部5から露出させるとよい。
After the
次に、ミラー部材3上の上面11を含んで光導波路6上に電気配線9を形成する。この電気配線9は、AuやAl,Cu等の単層膜やTi/Au,Ni/Au,Cr/Au等の積層膜を用いてもよい。その電気配線9の形成は、プリント配線基板の作製工程で一般的に使われるめっき法により形成することもできるし、蒸着法やスパッタリング法で成膜してリフトオフやエッチングによりパターニングを行なうこともできる。
Next, the
また、図1および図2に示すように電気配線9を光導波路6の上に形成するようにすると、発光素子7や受光素子8には通常、信号用のパッドとグランド用のパッドとが形成されているため、例えば、ミラー部材3の上面11と電気的に接続する電気配線9をグランド用に使用した場合には、上面11と電気的に接続しない光導波路6上に信号用の電気配線9を設ける必要がある。逆に、基板2の上面あるいは内部に形成された配線(図示せず)を利用してミラー部材3を通じて発光素子7や受光素子8への光信号の伝達を行なう場合には、グランド用となる電気配線9を光導波路6上に設ける必要がある。
When the
以上のようにして作製された本発明の光電気配線基板1に、発光素子7および受光素子8の端子電極を、それぞれの発光部または受光部をミラー面10上に位置させて、上面11に接続し、各端子電極をミラー部材3に電気的に接続された電気配線9と電気的に接続させる形で発光素子7および受光素子8の実装を行なう。これにより、発光素子7および受光素子8の端子電極が光導波路6に比較して硬いミラー部材3の上面11に実装されることによって、発光素子7および受光素子8を安定して実装することができ、信頼性の高い光電気配線基板1を得ることができる。
The terminal electrode of the
上述したように、本発明の光電気配線基板1によれば、電気配線9を有する基板2上に、互いにミラー面10を対向させて配置された2つのミラー部材3と、ミラー面10間に配置された、コア部4およびこのコア部4を囲むクラッド部5からなる光導波路6とを備えており、ミラー面10の一方の上に発光素子7が配置され、ミラー面10の他方の上に受光素子8が配置されるものであって、ミラー部材3は、導電性の材料からなるとともに電気配線9と電気的に接続されており、側面が光の伝搬方向を基板2の表面に平行な方向と垂直な方向との間で変換するミラー面10であり、上面11に発光素子7または受光素子8の端子電極が発光部または受光部をミラー面10上に位置させて接続されるものであることから、基板2上にミラー部材3を配設してその側面のミラー面10によって光導波路6と発光素子7および受光素子8との間での光路変換手段を得ると同時に、ミラー部材3の上面11によって発光素子7および受光素子8と基板2の電気配線9とのミラー部材3を介した電気的な接続が可能となる。そのため、従来の光電気配線基板における基板に対するミラー面の加工のような困難な加工を必要とせず、また、発光素子および受光素子と電気配線との間の電気的な接続のための導電性突起部等を別途形成する必要もないので、発光素子7および受光素子8を高信頼性で実装できるとともに、簡便に作製することができ量産性に優れた光電気結合構造を得ることができるものとなる。
As described above, according to the
次に、本発明の光電気配線基板の具体的な実施例を、その作製工程を工程毎に示す図3を用いて説明する。 Next, specific examples of the optoelectric wiring board according to the present invention will be described with reference to FIGS.
図3(1)〜(6)は、それぞれ本発明の光電気配線基板の作製工程の例を示す工程毎の断面図である。 3 (1) to 3 (6) are cross-sectional views for each process showing an example of a manufacturing process of the photoelectric wiring board of the present invention.
まず、基板2には、電気配線(図示せず)が形成されている基板厚みが0.6μmのエポキシ樹脂基板を用いた。この基板2上にネガ型のフォトレジストを用いて約45度の逆テーパー形状の断面を有する貫通孔を有するレジストパターンを形成し、その貫通孔の内部を充填するようにして、電解めっきによりCuからなるミラー部材3を形成し、フォトレジストを除去した。これにより、図3(1)に示すように、基板2上に互いにミラー面10を対向させて、平坦な上面11を有する2つのミラー部材3を配置した。このとき、ミラー部材3の高さは100μmに設定した。
First, an epoxy resin substrate having a thickness of 0.6 μm on which electric wiring (not shown) is formed was used as the
次に、2つのミラー部材3の対向するミラー面10間に、光導波路を形成した。光導波路の形成には、UV(紫外線)照射により屈折率が低下するというポリシラン系ポリマー材料における特性を利用した屈折率変化法を用いた。
Next, an optical waveguide was formed between the opposing mirror surfaces 10 of the two
まず、図3(2)に示すように、ミラー部材3を形成した基板2上にクラッド部を構成するポリシランをスピンコートにより膜厚が約33μmとなるように塗布し、250度のオーブンで2時間ベークを行ない、下部クラッド層20を形成した。ベーク後の下部クラッド層20の膜厚は30μmであった。
First, as shown in FIG. 3 (2), polysilane constituting the clad portion is applied on the
次に、図3(3)に示すように、下部クラッド層20の上にコア部4および側面クラッド層22となる屈折率の高いポリシランをスピンコートにより膜厚が約44μmとなるように塗布し、130度で30分プレベークを行なった。その後、コア幅を40μmとし、コア部4となる部分のUV光を遮り側面クラッド層22の部分にのみUV光が照射されるフォトマスク21を用いて、側面クラッド層22の部分に約15000mJ/cm2のUV照射を行ない、側面クラッド層22の部分の屈折率を低下させることによって、所定の形状および寸法のコア部4を形成するとともに側面クラッド層22を形成した。その際、ミラー部材3近辺の膜厚は不安定なため、コア部4の両端面がミラー部材3の端に重ならないようにフォトマスク21のパターンを設計した。その後、250度のオーブンで2時間ベークを行ない、膜厚が約40μmのコア部4および側面クラッド層22を形成した。
Next, as shown in FIG. 3 (3), polysilane having a high refractive index to be the
次に、図3(4)に示すように、上部クラッド層23となるポリシランをスピンコートにより膜厚が約33μmとなるように塗布し、250度のオーブンで2時間ベークを行ない、上部クラッド層23を形成した。ベーク後の上部クラッド層23の膜厚は30μmであった。以上により、コア幅が40μmでコア部4の厚みが40μmであり、下部クラッド層20および上部クラッド層23の膜厚がそれぞれ30μmで、全体の厚みが100μmの光導波路6が形成できた。
Next, as shown in FIG. 3 (4), polysilane to be the upper clad
次に、図3(5)に示すように、研磨によりミラー部材3の上面11上の余分なポリシラン膜を除去し、ミラー部材3を形成しているCuの表面が露出して平坦な上面11が形成されるまで軽く研磨を行なった。
Next, as shown in FIG. 3 (5), the excess polysilane film on the
その後、通常のフォトリソグラフィ法によって、光導波路6上にAuからなる電気配線9を形成した。この電気配線9のうち発光素子7および受光素子8を実装する部分は、導電性のミラー部材3と電気的接続が得られるように、一部をミラー部材3の上面11に接続させて形成した。これにより、本発明の光電気配線基板1が得られた。
Thereafter, an
最後に、図3(6)に示すように、発光素子7および受光素子8を、発光部または受光部をミラー部材3のミラー面10上に位置させて、それぞれの端子電極をミラー部材3の上面11に接続して実装することにより、本発明の光電気実装基板1を用いて発光素子7および受光素子8を実装した光電気回路基板が完成した。
Finally, as shown in FIG. 3 (6), the
このような本発明の光電気配線基板1について、光の挿入損失を測定したところ、損失は小さく十分な結合効率が得られていることが確認できた。これにより本発明によれば、光信号と電気信号との変換が簡便に、かつ安定に確実に行なえて、電気だけでは補えない信号の高速化に対応した光電気配線基板1を得られることが確認できた。
When the optical insertion loss of the
なお、本発明は以上の実施の形態の例に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更を加えることは何ら差し支えない。例えば、図4に断面図で示すように、光導波路6を基板2とその上面に積層した上部基板12とでサンドイッチ状に挟み込んでもよい。その際、上部基板12には、上部基板12の面内方向と垂直な方向に光信号を通すように上部基板12を貫通している光路用ビア13と、基板2およびミラー部材3と通電されている貫通導体14とを設ける。光路用ビア13はミラー部材3の上方に配置し、その内部は空気とするか、または光学材料の樹脂で充填あるいは中心部の屈折率を高めて光を閉じ込める構造にしてもよい。発光素子7および受光素子8の発光部および受光部は、光路用ビア13の直上にくるように配設され、光路用ビア13内に光を入射させるとともにミラー面10で反射された光を受光部へと導くようにして、光導波路6と結合される。発光素子7および受光素子8への通電は、貫通導体14を用いてもよいし、上部基板12上に形成した電気配線(図示せず)を用いてもよい。この場合には、上部基板12には多層プリント配線板やビルドアップ層を用いて電気配線が行なえて、上部基板12の上面には種々の電子部品を搭載することができるので、より高密度で複雑な電気実装が可能なものとなる。
In addition, this invention is not limited to the example of the above embodiment, A various change may be added in the range which does not deviate from the summary of this invention. For example, as shown in a sectional view in FIG. 4, the
1・・・光電気配線基板
2・・・基板
3・・・ミラー部材
4・・・コア部
5・・・クラッド部
6・・・光導波路
7・・・発光素子
8・・・受光素子
9・・・電気配線
10・・・ミラー面
11・・・上面
12・・・上部基板
13・・・光路用ビア
14・・・貫通導体
DESCRIPTION OF
10 ... Mirror surface
11 ... Top
12 ... Upper substrate
13 ... Optical path via
14 ... Penetration conductor
Claims (7)
該基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面に第1のミラー面を有する第1のミラー部材と、
前記基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面に前記第1のミラー面と互いに対向する第2のミラー面を有する第2のミラー部材と、
前記第1,2のミラー面の間に配置され、コア部および該コア部を囲むクラッド部を含み、前記第1,2のミラー面に光結合するように構成されている光導波路と、
前記第1,2のミラー部材に電気的に接続される電気配線と、を備えており、
前記第1のミラー面の上方に発光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記第1のミラー部材の上面に発光素子を電気的に接続し、当該第1のミラー部材を介して前記電気配線に前記発光素子を電気的に接続し、
前記第2のミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記第2のミラー部材の上面に受光素子を電気的に接続し、当該第2のミラー部材を介して前記電気配線に前記受光素子を接続する、光電気配線基板。 A substrate,
A first mirror member disposed on the substrate and formed of a conductive material and having a first mirror surface on a side surface;
A second mirror member disposed on the substrate and formed of a conductive material, the second mirror member having a second mirror surface facing the first mirror surface on a side surface;
The arranged first and second between the mirror surfaces of saw including a clad portion surrounding the core portion and the core portion, the optical waveguide is configured to optically coupled to the mirror surface of the first and second,
Electrical wiring electrically connected to the first and second mirror members,
A light emitting portion is positioned above the first mirror surface , optically coupled to the optical waveguide , and a light emitting element is electrically connected to the upper surface of the first mirror member, and the first mirror portion through wood the light emitting element is electrically connected to the electrical wiring,
A light receiving portion is positioned above the second mirror surface , optically coupled to the optical waveguide , and a light receiving element is electrically connected to the upper surface of the second mirror member, and the second mirror portion through the timber for connecting the light receiving element to the electric wiring, the optical electric wiring board.
前記第2のミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記第2のミラー部材の上面に電気的に接続されている受光素子と、をさらに備える、請求項1に記載の光電気配線基板。A light receiving element positioned above the second mirror surface, optically coupled to the optical waveguide, and electrically connected to an upper surface of the second mirror member; The optoelectric wiring board according to claim 1.
該基板の上に配置され、導電性の材料で形成される、側面にミラー面を有するミラー部材と、
コア部および該コア部を囲むクラッド部を含み、前記ミラー面に光結合するように構成されている光導波路と、
前記ミラー部材に電気的に接続される電気配線と、を備えており、
前記ミラー面の上方に発光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記ミラー部材の上面に発光素子を電気的に接続し、当該ミラー部材を介して前記電気配線に前記発光素子を接続するか、または、
前記ミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記ミラー部材の上面に受光素子を電気的に接続し、当該ミラー部材を介して前記電気配線に前記受光素子を接続する、光電気配線基板。 A substrate,
A mirror member disposed on the substrate and formed of a conductive material, and having a mirror surface on a side surface;
An optical waveguide including a core portion and a cladding portion surrounding the core portion, and configured to be optically coupled to the mirror surface;
Electrical wiring electrically connected to the mirror member,
Optically coupled to said optical waveguide to position the light emitting portion above the mirror surface, electrically connected and the light emitting element on an upper surface of the mirror member, the said electrical wiring through the mirror member Connect a light emitting element, or
Optically coupled to said optical waveguide to position the light receiving portion above the mirror surface, electrically connected and the light receiving element on an upper surface of the mirror member, the said electrical wiring through the mirror member An opto-electric wiring board that connects light receiving elements.
前記ミラー面の上方に受光部を位置させて前記光導波路に光学的に結合させ、且つ前記ミラー部材の上面に電気的に接続されている受光素子、をさらに備えている、請求項3に記載の光電気配線基板。 4. The light receiving device according to claim 3, further comprising: a light receiving element that is positioned above the mirror surface, optically coupled to the optical waveguide, and electrically connected to an upper surface of the mirror member. Optoelectric wiring board.
前記一方の素子と、前記ミラー部材を電気的に接続する貫通導体、を有し、
前記一方の素子と、前記ミラー部材との間に設けられる上部基板をさらに具備する、請求項1から4のいずれかに記載の光電気配線基板。 An optical path via for optically coupling one element of the light emitting element and the light receiving element and the mirror surface; and a through conductor electrically connecting the one element and the mirror member;
The optoelectric wiring board according to claim 1, further comprising an upper substrate provided between the one element and the mirror member.
The optoelectric wiring board according to claim 1, wherein the mirror member functions as a termination resistor for matching impedance of the electric wiring.
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