JP4456836B2 - ポリイミドフィルム及びその製造方法並びにその利用 - Google Patents
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- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims description 165
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 22
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 claims description 73
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 claims description 52
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 42
- 125000006158 tetracarboxylic acid group Chemical group 0.000 claims description 41
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 28
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims description 26
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 25
- 230000005606 hygroscopic expansion Effects 0.000 claims description 24
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 22
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 21
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N diisononyl phthalate Chemical compound CC(C)CCCCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCCCCC(C)C HBGGXOJOCNVPFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 16
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 15
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 claims description 14
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 13
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 claims description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 9
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 7
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 claims description 6
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 54
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- -1 aromatic diamine compound Chemical class 0.000 description 23
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 23
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 21
- 230000008569 process Effects 0.000 description 21
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 18
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 16
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 15
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 11
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- 230000008859 change Effects 0.000 description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 4
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 4
- AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N isoquinoline Chemical compound C1=NC=CC2=CC=CC=C21 AWJUIBRHMBBTKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 4
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 1,2-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC=C1N GEYOCULIXLDCMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNLFBTIJJNGBQZ-UHFFFAOYSA-N 2-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC=C1N LNLFBTIJJNGBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001494 2-propynyl group Chemical group [H]C#CC([H])([H])* 0.000 description 2
- LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenyl)sulfonylaniline Chemical compound NC1=CC=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LJGHYPLBDBRCRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Thiodianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1SC1=CC=C(N)C=C1 ICNFHJVPAJKPHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(3,4-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 IJJNNSUCZDJDLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(3,4-dicarboxyphenyl)propan-2-yl]phthalic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 GEYAGBVEAJGCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 HYDATEKARGDBKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N N-phenyl amine Natural products NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N benzidine Chemical class C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1 HFACYLZERDEVSX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N isopropyl alcohol Natural products CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N mono-methylamine Natural products NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 2
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 2
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 2
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dicarboxyphenyl)phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C=2C(=C(C(O)=O)C=CC=2)C(O)=O)=C1C(O)=O GWHLJVMSZRKEAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFSQGQXKVFGKSO-UHFFFAOYSA-N 3-(2-phenylphenoxy)aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C(=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 NFSQGQXKVFGKSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminophenoxy)aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(N)C=CC=2)=C1 LXJLFVRAWOOQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 3-[1-(2,3-dicarboxyphenyl)ethyl]phthalic acid Chemical compound C=1C=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=1C(C)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1C(O)=O UCFMKTNJZCYBBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]phenoxy]aniline Chemical group NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 UCQABCHSIIXVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 1
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L calcium hydrogenphosphate Chemical compound [Ca+2].OP([O-])([O-])=O FUFJGUQYACFECW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000389 calcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011010 calcium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 235000019700 dicalcium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N dicyandiamide Chemical compound NC(N)=NC#N QGBSISYHAICWAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000006358 imidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- REPVNSJSTLRQEQ-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylacetamide;n,n-dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O.CN(C)C(C)=O REPVNSJSTLRQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,5,6-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 OBKARQMATMRWQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,3,6,7-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C=C2C=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC2=C1 DOBFTMLCEYUAQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N pigment red 224 Chemical compound C=12C3=CC=C(C(OC4=O)=O)C2=C4C=CC=1C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C4=CC=C3C1=C42 CLYVDMAATCIVBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
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- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Moulding By Coating Moulds (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
Description
一般に屈曲性の高いポリイミドは熱膨張性が高い、すなわち線膨張係数が大きいため、ポリイミドフィルムをベースフィルムとして用いたFPCは反りやカールを生じやすいという欠点を有している。また、逆に線膨張係数が小さいポリイミドを選択して樹脂フィルムを形成し、これをベースフィルムとして用いた場合は、フィルム自体の可撓性が失われるため、ベースフィルムが非常に脆弱となり、得られるFPCの屈曲性までも低下してしまうという欠点が生じる。
ベースフィルムの吸水率が大きい場合、上記2)銅箔ラミネーティング工程の後、ベースフィルムと銅箔とにはさまれた接着剤層に内部応力が蓄積されるという問題が生じる。この内部応力は次のように蓄積される。すなわち、2)銅箔ラミネーティング工程で、接着剤の硬化反応が終了して硬化用加熱炉から取り出された直後はベースフィルムが乾燥しているため、ベースフィルムは、歪なく銅箔と固定されている。ここで、銅箔をラミネートした状態で放置すると、ベースフィルムは時間と共に吸湿膨張する。これに対して、銅箔は吸湿膨張せず、また、フィルムと比較して、剛性が高くフィルムの膨張が原因で寸法変化を起こすこともほとんどない。そのため、ベースフィルムと銅箔とに挟まれた接着剤層に内部応力が蓄積される。
さらに、ベースフィルムの弾性率が小さい、すなわち腰が弱いと、ベースフィルムが寸法変化を起こす場合もある。これは、リールトゥリールの製造工程では、長手方向に張力がかかるためである。この寸法変化は、加工工程に悪影響を及ぼしたり、反りやカールの原因となったりする。それゆえ、例えば、TABテープに用いられるポリイミドフィルムは、弾性率の大きなものである必要がある。
(1)本発明にかかるポリイミドフィルム
<ポリイミドフィルムの物性>
本発明にかかるポリイミドフィルムは、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸(polyamic acid)をイミド化してポリイミドを用いてなるものである。このうち、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物には、少なくとも3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が含まれており、このようにして得られたポリイミドフィルムは、次に示す3つの条件を満たすものとなっている。
条件(1):100℃から200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm/℃の範囲内である。
条件(2):弾性率が4.5GPa以上である。
条件(3):吸湿膨張係数が13ppm以下である。
本発明にかかるポリイミドフィルムは、主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物から合成されるポリアミド酸をイミド化することにより得られるポリイミドを用いる。すなわち、本発明で用いられるポリイミドは、前駆体のポリアミド酸を重合(合成)した後に、これをイミド化することにより得ることができる。
本発明にかかるポリイミドフィルムでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の原料のうち、酸成分として、少なくとも3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物が用いられる。この3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物は、上記芳香族テトラカルボン酸二無水物の範疇に含まれるものである。
本発明にかかるポリイミドフィルムでは、ポリイミドの前駆体であるポリアミド酸の原料のうち、ジアミン成分として、少なくとも芳香族ジアミンが用いられる。
本発明にかかるポリイミドフィルムの製造方法について以下に説明する。
b)脱水剤およびイミド化触媒を低温でポリアミド酸溶液中に混合した製膜ドープをガラス板、アルミ箔、エンドレスステンレスベルト、ステンレスドラムなどの支持体上にフィルム状にキャストし、
c)支持体上で80℃〜200℃、好ましくは100℃〜180℃の温度領域で加熱することで脱水剤及びイミド化触媒を活性化することによって部分的に硬化及び/または乾燥した後支持体から剥離してポリアミド酸フィルム(以下、ゲルフィルムという)を得る。
(A−B)×100/B・・・・式1
式1中、A、Bは以下のものを表す。
A:ゲルフィルムの重量
B:ゲルフィルムを450℃で20分間加熱した後の重量
から算出される揮発分含量は5〜500%の範囲、好ましくは5〜100%、より好ましくは10〜80%、最も好ましくは30〜60%の範囲にある。
本発明にかかるポリイミドフィルムは、その物性に応じた様々な用途に用いることができるが、特に、FPCや、TABテープ等に用いるFC(フィルムキャリア)テープに好適に用いることができる。本発明にかかるFCテープは、本発明にかかるポリイミドフィルム上に接着剤層を設け、接着剤層の上に保護層を設けて3層構造としたテープをいう。接着剤層の材質としては、例えばエポキシ系樹脂、ナイロン変性エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フェノール系樹脂、フェノール変性エポキシ系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。また、保護層の材質としても、例えばPET、EVA等が挙げられるが特にこれらに限定されるものではない。
100℃から200℃の平均線膨張係数の測定は、セイコー電子(株)社製TMA120Cを用いて行った。サンプルサイズは幅3mm、長さ10mmとした。3gの荷重をかけ、10℃/minで10℃〜400℃まで一旦昇温させた後、10℃まで冷却した。さらに10℃/minで昇温させて、2回目の昇温時の100℃及び200℃における熱膨張率から平均値として計算した。
測定するフィルムを、50℃、相対湿度30%の環境試験機に24時間放置し、フィルム寸法(L1)を測定した。次にそのフィルムを50℃、相対湿度80%の環境試験機に24時間放置し、フィルム寸法(L2)を測定し、吸湿膨張係数を下記式より算出した。
また、得られたポリイミドフィルムから、次のようにTABテープを作成し、反りを測定した。
ポリアミド樹脂(日本リルサン社製プラタボンドM1276)50重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社製エピコート828)30重量部、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂10重量部、トルエン/イソプロピルアルコール1/1混合溶液150重量部を混合した溶液に、ジアミノジフェニルスルホン/ジシアンジアミド4/1 20%メチルセロソルブ溶液45重量部を混合した接着剤溶液を調製した。
反り量の値は、上記の手順で作成したTABテープを、長さ40mm×幅35mm角に切り出して測定した。試験片を、相対湿度60%、温度23℃の部屋に72時間放置したのち、平面上に静置し、4隅のうき上がり高さを測定した。反り量の値は、4点のデータの平均値で示した。
N,N−ジメチルホルムアミド(DMF)407.5gに、4,4’−オキシジアニリン(ODA)21.98gと、p−フェニレンジアミン(PDA)7.91gとを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA)29.47gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にp-フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)(TMHQ)25.15gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにピロメリット酸二無水物(PMDA)7.98gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。なお、表1および後述する表3においては、モノマー組成は、モノマーを添加した順序にしたがって、最上段から下方の段に向かって記載されている。
DMF407.5gにODA17.90gと、PDA9.67gとを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA28.81gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ24.59gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA11.52gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。また、表1中でBTDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたBPDAと後から加えたBPDAの量を示している。
DMF407.5gにODA17.90g、PDA9.67gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA38.61gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ24.59gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA1.73gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度310000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。また、表1中でBTDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたBPDAと後から加えたBPDAの量を示している。
DMF407.5gにODA19.86g、PDA8.77gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA29.04gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ28.92gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA5.90gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
DMF407.5gにODA18.66g、PDA10.07gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA30.02gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ25.62gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA8.13gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3200ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
DMF407.5gにODA22.92g、PDA8.25gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA18.44gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.23gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA16.65gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
DMF407.5gにODA25.13g、PDA7.31gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA12.44gを徐々に添加し、1時間撹拌してBTDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.55gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA21.06gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
DMF407.5gにODA18.86g、PDA10.19gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水(BPDA)11.09gを徐々に添加し、1時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にBTDA18.22gを徐々に添加して1時間撹拌後、TMHQ25.91gを添加して1時間撹拌、さらにPMDA8.22gを添加して23℃における溶液粘度2700ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表1に示す。
DMF407.5gにODA21.48g、PDA11.06gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BPDA31.56gを徐々に添加し、2時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にPMDA14.04gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにBTDA13.83gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
DMF407.5gにODA19.20g、PDA10.37gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BPDA28.21gを徐々に添加し、2時間撹拌してBPDAを完全に溶解させた。この溶液にTMHQ26.36gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA8.36gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
DMF407.5gにODA19.92gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA16.49gを徐々に添加し、1時間撹拌してPMDAを完全に溶解させた。この溶液にPDA10.76gを溶解させた後、17.57gのBPDAを徐々に添加して2時間攪拌し、BPDAを完全に溶解させた。さらに、TMHQ26.45gを徐々に添加して1時間撹拌し、さらにPMDA1.30gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度3100ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。また、表3中でPMDAのmol%が50および20となっているのは、最初に加えたPMDAと後から加えたBPDAの量を示している。
DMF407.5gにODA30.21g、PDA5.15gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、TMHQ26.39gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA30.75gを添加して1時間撹拌して23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
DMF407.5gにODA44.27gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA48.23gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度2800ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
DMF407.5gに、ODA24.87g、PDA13.43gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、PMDA54.19gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度2900ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
DMF489gにODA26.19g、PDA14.14gを溶解して、この溶液を0℃に保った。ここに、BTDA42.14gを徐々に添加して1時間撹拌した後、さらにPMDA28.53gを徐々に添加し、2時間撹拌してPMDAを完全に溶解させて23℃における溶液粘度3000ポイズ、固形分濃度18.5wt%のポリアミド酸溶液を得た。なお、このときに添加したモノマー成分のmol%を表3に示す。
上述した特許文献2に開示されている、酸成分として3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を用いる実施例11と同様のモノマー組成でポリアミド酸を得た。各モノマーの添加重量は、PPD5.93g;PMDA11.64g;ODA32.97g;BTDA17.68g;PMDA24.28gであった。
Claims (12)
- 主として芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とから合成されるポリアミド酸を用いて得られるポリイミドフィルムであって、
100〜200℃における平均線膨張係数が18〜28ppm、弾性率が4.5GPa以上、吸湿膨張係数が13ppm以下であり、
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、
i)3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、及び、芳香族エステル酸二無水物
又は、
ii)3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、及び、芳香族エステル酸二無水物に加えて、ピロメリット酸二無水物、及び/又は、3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
を用いてなるポリイミドフィルムであって、
全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物を、20〜60mol%の範囲内となるように用いることを特徴とするポリイミドフィルム。 - 全芳香族テトラカルボン酸二無水物成分を100mol%としたときに、上記芳香族エステル酸二無水物を、10〜60mol%の範囲内となるように用いることを特徴とする請求項1に記載のポリイミドフィルム。
- 上記芳香族エステル酸二無水物として、p−フェニレンビス(トリメリット酸モノエステル無水物)が用いられることを特徴とする請求項1または2に記載のポリイミドフィルム。
- 上記芳香族ジアミン成分として、直線性ジアミンと、屈曲性ジアミンとを、それぞれ少なくとも1種類用いることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。
- 全芳香族ジアミン成分を100mol%としたときに、上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンを、それぞれ、20〜80mol%の範囲内および80〜20mol%の範囲内で用いることを特徴とする請求項4に記載のポリイミドフィルム。
- 上記直線性ジアミンとして、p−フェニレンジアミンが用いられることを特徴とする請求項4または5に記載のポリイミドフィルム。
- 上記屈曲性ジアミンとして、4,4’−オキシジアニリンが用いられることを特徴とする請求項4〜6のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。
- 上記直線性ジアミンおよび屈曲性ジアミンは、ポリイミド分子中で、ランダムに分布していることを特徴とする請求項4〜7のいずれか1項に記載のポリイミドフィルム。
- 少なくとも、
a)有機溶媒中で芳香族ジアミンと芳香族テトラカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミド酸溶液を得る工程、
b)上記ポリアミド酸溶液を含む製膜ドープを支持体上に流延する工程、
c)上記製膜ドープを支持体上で加熱した後、支持体からゲルフィルムを引き剥がす工程、
d)更にゲルフィルムを加熱して、残存するアミド酸をイミド化し、乾燥させる工程、
を含むことを特徴とする請求項1〜8のいずれか1項に記載のポリイミドフィルムの製造方法。 - 少なくとも、脱水剤とイミド化触媒とを併用することを特徴とする請求項9に記載のポリイミドフィルムの製造方法。
- 請求項1〜8の何れかに記載のポリイミドフィルム上に接着剤層および保護層を設けてなることを特徴とするフィルムキャリアテープ。
- 請求項1〜8の何れかに記載のポリイミドフィルムからなる層と、金属導電層とを少なくとも有することを特徴とするフレキシブルプリント配線板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003318579A JP4456836B2 (ja) | 2002-09-13 | 2003-09-10 | ポリイミドフィルム及びその製造方法並びにその利用 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002268870 | 2002-09-13 | ||
JP2003318579A JP4456836B2 (ja) | 2002-09-13 | 2003-09-10 | ポリイミドフィルム及びその製造方法並びにその利用 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004124091A JP2004124091A (ja) | 2004-04-22 |
JP4456836B2 true JP4456836B2 (ja) | 2010-04-28 |
Family
ID=32301629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003318579A Expired - Lifetime JP4456836B2 (ja) | 2002-09-13 | 2003-09-10 | ポリイミドフィルム及びその製造方法並びにその利用 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4456836B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020138743A1 (ko) * | 2018-12-24 | 2020-07-02 | 에스케이씨코오롱피아이 주식회사 | 디스플레이 기판 제조용 폴리아믹산 조성물 및 이를 이용하여 디스플레이용 기판을 제조하는 방법 |
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---|---|---|---|---|
US20100143729A1 (en) * | 2005-08-04 | 2010-06-10 | Takashi Kikuchi | Flexible Metal-Clad Laminate Plate |
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JP4994672B2 (ja) * | 2006-01-27 | 2012-08-08 | 新日鐵化学株式会社 | 芳香族ポリアミド酸及び芳香族ポリイミド |
WO2008010409A1 (fr) * | 2006-07-18 | 2008-01-24 | Kaneka Corporation | Film de polyimide |
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JP2004124091A (ja) | 2004-04-22 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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