JP4399550B2

JP4399550B2 - Polishing method for optical parts

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Publication number: JP4399550B2
Application number: JP2001014687A
Authority: JP
Inventors: 正隆村原
Original assignee: M Hikari and Energy Laboratory Co Ltd
Current assignee: M Hikari and Energy Laboratory Co Ltd
Priority date: 2001-01-23
Filing date: 2001-01-23
Publication date: 2010-01-20
Anticipated expiration: 2021-01-23
Also published as: JP2002219635A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学部品の研磨方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光学部品を研磨するに際し、磨き皿（例えば、鉄皿上にアスファルトを網目状に加工したピッチ皿、鉄皿にフェルトまたはラシャを張ったフェルト皿、鉄皿上に発泡処理されたポリウレタン系シートを感圧接着剤で固定したポリシングパッド皿、微粒ダイヤモンド・レジンボンド・ラップ皿、化学研磨液含浸磨き皿等）の上に、研磨材としてのべんがら、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、あるいはダイヤモンド、アルミナ、シリカ、ガラス等の極微粒粉や、酸化チタン、酸化クロム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化カルシウム、酸化マグネシウム等を水やアルコール、エーテル、ケロシン等の溶媒で含浸した研磨液を載せ、その上に、光学部品の被研磨面を接触させながらスライド研磨を行っている。また、研磨効率の向上を目的として、酢酸や硼酸等の弱酸、あるいはアンモニア等の弱アルカリを混入させた研磨液も市販されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、２００ｎｍ付近の紫外光を透過させる合成石英、結晶石英、サファイア、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム等の光学材料からなる光学部品では高精度研磨が要求され、その精度を達成するために、従来の方法では、研磨に長時間を必要としていた。
【０００４】
したがって、本発明は、短時間で高精度の研磨を達成し得る光学部品の研磨方法を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意研究した結果、本質的に固体研磨材を使用せず、光化学反応を利用した全く新規な光学部品の研磨方法を開発した。
【０００６】
すなわち、本発明は、第１の側面において、光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に水を介挿させた状態で、該光学部品の被研磨面と水とフッ素樹脂に紫外光を入射しながら、光学部品とフッ素樹脂を相対的に摺動させて該光学部品の被研磨面を研磨することを特徴とする光学部品の研磨方法を提供する。
【０００７】
本発明の光学部品の研磨方法によれば、研磨される光学部品の被研磨面に水を介してフッ素樹脂を接触させ、その状態で紫外光を照射すると、紫外光が照射された照射部分のみにおいて、フッ素樹脂からフッ素原子が離脱するとともに、水から光分解した水酸基が、離脱したフッ素原子の位置に結合して親水性に改質され、同時に水のもう一方の分解物水素とフッ素樹脂から離脱したフッ素によって生成したフッ化水素が水に溶解してフッ化水素酸が生成する。このフッ化水素酸が、親水性化されたフッ素樹脂に吸着されると同時に、紫外光が照射されている光学部品の被研磨面だけをエッチングし、光学部品と接触して摺動しているフッ素樹脂により研磨が行われる。従って、本発明の研磨方法は、光研磨方法と称することができる。
【０００８】
本発明によれば、研磨時間の短縮化が達成されるばかりでなく、光学部品の紫外光が照射された部分のみが選択的にエッチングされるため、従来法で必要とした研磨治具（やとい）の必要がない。しかも（フッ化水素）水だけが研磨材であり、通常の研磨材は使わないため、途中で被研磨面の洗浄の必要もない。このため部品検査を実施しながら、研磨を続行することができる。検査により研磨不足の部位が見出されたときは、その部位に対する紫外光のエネルギー密度を高くすることにより、研磨圧力を高めた場合と同等の効果を達成することができる。
【０００９】
本発明において、光学部品の被研磨面は、予め荒ずり研磨されていることが好ましい。
【００１０】
通常、フッ素樹脂は、載置部材上に置かれ、フィルムもしくは板の形態、または粉体の形状にあることができる。
【００１１】
光学部品は、合成石英、結晶石英、サファイア、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、または光学ガラス等フッ化水素酸により侵されやすい材料で形成されていることが好ましい。
【００１２】
本発明において、紫外光は、ＡｒＦエキシマレーザ光、ＫｒＦエキシマレーザ光、非線形素子による高調波レーザ光、エキシマランプ光、水銀ランプ光、Ｘｅランプ光、重水素ランプ光、ハロゲンランプ光、またはガスのアーク、コロナもしくは無声放電により得られる紫外光であり得る。
【００１３】
また、光学部品は、通常、紫外光透過性であり、紫外光を光学部品側から入射させることができる。
【００１４】
使用する載置部材が、紫外光透過性である場合には、紫外光をその載置部材の裏側から入射させることもできる。この場合には、紫外光に不透明な光学部品をも研磨することができる。
【００１５】
水にＨＦを予め添加しておけば、研磨効率をより一層向上させることができるので好ましい。
【００１６】
また、本発明は、第２の側面において、炭化ケイ素からなる光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に過酸化水素水を介挿させた状態で、該光学部品の被研磨面と過酸化水素水とフッ素樹脂に紫外光を入射しながら、光学部品とフッ素樹脂を相対的に摺動させて該光学部品の被研磨面を研磨することを特徴とする炭化ケイ素からなる光学部品の研磨方法を提供する。この場合、紫外光照射により炭化ケイ素が過酸化水素と反応して酸化ケイ素に変換され、この酸化ケイ素が、上に述べたようにフッ素樹脂から発生するフッ化水素によりエッチング除去される。
【００１７】
第２の側面においても、第１の側面に関して上に説明された事項は、光学部品の材質を除き、基本的にはそのまま当てはまる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をより詳しく説明する。
【００１９】
本発明の光研磨方法によれば、まず、研磨しようとする光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に水を介挿させる。
【００２０】
フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン／パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）等を使用することができ、ＦＥＰおよびＰＦＡが特に好ましい。
【００２１】
フッ素樹脂は、フィルムまたは板の形態で、あるいは粉体の形態で用いることができ、一般に、通常使用されている研磨用回転台等の載置部材上に載置される。フッ素樹脂がフィルムまたは板の形態にある場合には、これを載置部材上に直接貼着させることができる。フッ素樹脂が粉体の形態にある場合には、例えば、載置部材上にアスファルトピッチ板を等の粘着層を貼着し、その上にフッ素樹脂粉体を均一な層状に散布してフッ素樹脂粉体を固定することができる。なお、フッ素樹脂粉末は、水に混ぜると凝集固着するので、単にフッ素樹脂粉末を載置部材上に置き、小量の水を添加するだけでも載置部材上に固定することができる。フッ素樹脂粉体を用いた場合には、それが研磨材としても作用するため研磨効率が一層高くなる。フッ素樹脂粉体としては、平均粒径が５〜２０μｍのものを好適に使用することができる。
【００２２】
ついで、フッ素樹脂上に光学部品をその被研磨面がフッ素樹脂に面するように載置する。光学部品としては、水に対する溶解度が小さく、しかもフッ化水素酸に対する溶解度が比較的大きな光学材料で形成されたものが好ましい。特に、水を分解させるために必要な２００ｎｍ付近（特に約１９３ｎｍ）の紫外光を透過させる光学材料、好ましくは、合成石英、結晶石英、サファイア、フッ化リチウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウムまたは紫外光透過性光学ガラスからなる光学材料で形成された光学部品が本発明には特に適しているが、これに限定されるものではない。
【００２３】
光学部品の被研磨面は、例えばカーボランダムやダイヤモンドペースト等の通常の荒ずり材を用いて予め荒ずり研磨しておくことが好ましい。荒ずり研磨により達成される被研磨面の表面粗さは、約２〜５μｍで十分である。
【００２４】
このように、フッ素樹脂層の上に載置された光学部品とフッ素樹脂層との間に水を介挿させるためには、フッ素樹脂層と光学部品とを相対的に摺動させながら、フッ素樹脂層上に水を滴下することが好ましい。滴下された水は、毛細管現象によりフッ素樹脂層と光学部材の被研磨面との間に浸入し、薄い水の層を形成する。なお、水には、水道水等の通常の水、蒸留水等の純水、重水等が含まれる。また、ここで滴下する水の代わりにＨＦ含有水（フッ化水素酸）を滴下すると、研磨効率がより一層向上する。ここで、フッ素樹脂層と光学部品との相対的摺動は、例えば、一方のを固定し、他方を回転またはスライドさせるか、あるいは両者を反対方向に回転させることによって行うことができる。
【００２５】
このように光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に水を介挿させた状態で、光学部品の被研磨面と水とフッ素樹脂に紫外光を入射しながら、光学部品とフッ素樹脂との相対的な摺動を続行する。使用する紫外光としては、エキシマレーザ光（ＡｒＦエキシマレーザ、ＫｒＦエキシマレーザ光等）、非線形素子による高調波レーザ光、エキシマランプ光、水銀ランプ光、Ｘｅランプ光、重水素ランプ光、ハロゲンランプ光、またはガス（空気、窒素、その他のガス）のアーク、コロナもしくは無声放電により得られる紫外光を用いることができる。なお、紫外光源は、紫外光をパルス的に出射するものであることが好ましい。
【００２６】
上に述べたように紫外線を照射すると、その照射された部分のみに対応して光化学反応を起こし、以下に示すようにフッ化水素（ＨＦ）が生成する（ここでは、フッ素樹脂を代表的に（ＣＦ₂）_nで示している）。
【００２７】
（ＣＦ₂）_n＋ｎＨ₂Ｏ＋ｈν（紫外光）→（ＣＦ−ＯＨ）_n＋ｎＨＦ。
【００２８】
このＨＦが、フッ素樹脂層と光学部品の被研磨面との間に形成された薄い水の層に溶解してフッ化水素酸となり、そのフッ化水素酸が、ＯＨにより置換されて親水性に改質されたばかりの（ＣＦ−ＯＨ）_nに吸着されると同時に、光照射された部分の光学部品の被研磨面を分子レベルでエッチングする。そして、フッ素樹脂層との摺動によって光学部品の被研磨面が研磨される。かくして、本発明によれば、短時間で高精度の研磨を達成することができる。なお、紫外光は、Ｃ−Ｆ結合を解離させるに必要な光エネルギー１４７ｋｃａｌ／ｍｏｌ以上でフッ素樹脂に照射する。通常、照射する紫外光のエネルギー密度は、１５ｍＪ／ｃｍ²〜１００ｍＪ／ｃｍ²程度で十分である。
【００２９】
上記摺動研磨の際の研磨圧は、光学部品をフッ素樹脂に対して十分に摺動させ得る圧力であればよく、通常、５ｇ／ｃｍ²〜１００ｇ／ｃｍ²で十分である。
【００３０】
なお、光学部品は、通常紫外光透過性であり、紫外光は光学部品側から照射することができる。また、載置部材が、紫外光透過性材料、例えば紫外光透過性ガラスもしくはプラスチックで形成され、紫外光透過性である場合には、紫外光をその載置部材の裏側から照射することもできる。この場合には、一般ガラスのように紫外線を透過させない材料で形成された光学部品をも研磨することができる。
【００３１】
本発明の特別の形態は、炭化ケイ素からなる光学部品を研磨する方法である。この場合にも、炭化ケイ素からなる光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に水を介挿させた状態で、光学部品の被研磨面と水とフッ素樹脂に紫外光を入射しながら、光学部品とフッ素樹脂を相対的に摺動させて光学部品の被研磨面を研磨するという点では上に述べた研磨方法と同じであるが、水に予め過酸化水素を添加しておくとさらに効果的であることがわかった。その場合、水の代わりに過酸化水素水を用いる。炭化ケイ素は、Ｘ線反射鏡として期待されている材料であるが、非常に固く、従来研磨にはダイヤモンド粉末を用いていた。しかしながら、タイヤモンド粉末では、Ｘ線等の短波長領域の光に使用するには不都合な表面における傷の生成を避けることができない。しかも、炭化ケイ素は、化学的に安定であるため、薬品エッチングによって表面を削ることも困難である。
【００３２】
ところが、炭化ケイ素からなる光学部品の被研磨面とフッ素樹脂との間に過酸化水素水を介挿させた状態で、光学部品の被研磨面と過酸化水素水とフッ素樹脂に紫外光を入射しながら、光学部品とフッ素樹脂を相対的に摺動させて光学部品の被研磨面を研磨すると、まず、炭化水素が過酸化水素との光反応による酸化により酸化ケイ素に変換される。この酸化ケイ素はフッ化水素酸により容易にエッチングされるため、本発明に従って上に述べたようにフッ素樹脂から生成したフッ化水素酸により除去されることとなり、炭化ケイ素からなる光学部品を非常に高精度に研磨することができる。この際の紫外光は、ＡｒＦエキシマレーザ光またはＫｒＦエキシマレーザ光であることが特に好ましい。いうまでもなく、過酸化水素水にＨＦを添加しておけば、上に述べたように、研磨効率は一層向上する。この場合、照射する紫外光のエネルギー密度は、１５ｍＪ／ｃｍ²〜１００ｍＪ／ｃｍ²程度が好ましい。なお、過酸化水素水は、２４８ｎｍの紫外光でも分解し得る。
【００３３】
次に、図１〜図４を参照して本発明の光研磨方法を実施するために好適な光研磨装置の例を説明する。これら図において、同様の要素は同様の符号で示されている。
【００３４】
図１に示す装置は、載置台としての回転台１１を備え、この回転台１１は、その回転軸１１ａの回りで、図示しないモータにより回転される。回転台１１の上には、フィルム、板または粉体からなる層の形態にあるフッ素樹脂層１２が固着されている。研磨しようとする光学部品１３は、その被研磨面がフッ素樹脂層１２に面するようにフッ素樹脂層１２上に載置される。研磨圧力は、光学部品１３の周囲に載置される枠状の重り部材２０により提供することができる。
【００３５】
本装置は、紫外光を光学部品１３の上方側から入射させるものであり、紫外光源１６からの紫外光１７は、例えばミラー１８により光学部品１３に指向される。本発明において、紫外光としては、ＡｒＦエキシマレーザ光を用いることが望ましい。ＡｒＦエキシマレーザ光の波長は、１９３ｎｍの紫外線であり、発振パルス幅が高々１０ｎｓ（１０^-8秒）と短く、しかもパルスレーザであるため、パルス繰り返し数は１０〜１０００Ｈｚである。したがって、パルス繰り返し数を１００Ｈｚとすると、レーザ光が出射している時間は１０^-8秒、次のレーザ発振までには１０^-2秒間の休息時間がある。そこで、高速回転しているフッ素樹脂層１２の上に、上面が光学研磨され、下面（被研磨面）が荒ずり面である光学部品１３を被研磨面がフッ素樹脂層１２と接触するようにして載せ、フッ素樹脂層１２上にスポイト等の水滴下手段１５により、ＨＦを含んでいてもよい水または過酸化水素水を滴下すると、上に述べたように、毛細管現象によって光学部品１３の被研磨面とフッ素樹脂層１２との間に水の薄液層１４が形成される。この状態で、光学部品１３の被研磨面と反対側の光学研磨されている側から例えばホトマスク１９を通したＡｒＦエキシマレーザ光１７を入射すると、光学部品１３の被研磨面と接触する水１４とフッ素樹脂層１２がホトマスク１９に対応した部分において局所的に光化学反応を起こし、上に述べたようにフッ化水素（ＨＦ）が生成する。このＨＦが水１４に溶解してフッ化水素酸となり、これがＯＨが置換されて親水性に改質されたばかりのフッ素樹脂１２に吸着されると同時に、光照射された部分の光学部品１３の被研磨面をエッチングする。この光が照射されている極短い時間（高々１０^-8秒）に分子単位のエッチングが終了しフッ化水素酸は無くなる。引き続いてレーザが休止している１０^-2秒間に、エッチングされた部分は、先に親水性化されたフッ素樹脂１２層上に残る水が、回転するフッ素樹脂層１２によって摩擦されて消失し、フッ素樹脂層１２による光学部品１３の被研磨面の研磨が行われる。そして次のレーザパルスで、再び光エッチングと摩擦による研磨が逐次的に行われる。このフッ素樹脂層１２を設けた回転台１１の回転運動と、ＡｒＦエキシマレーザの発振と休止の繰り返しにより、レーザのパルス数に応じて高速で高精度の研磨が行われる。
【００３６】
本実施の態様では、水とフッ素樹脂の存在下でパルス的に紫外線を入射して局所的に、しかも光学部品に接触して光化学的にフッ化水素酸を生成させるため、光源として、ＡｒＦエキシマレーザが最適であるが、同様の作用を起こすことができる非線形素子による高調波レーザも使用できる。また電気回路的にパルス発光させれば、エキシマランプ、水銀ランプ、Ｘｅランプ、重水素ランプ、ハロゲンランプ、あるいは空気、窒素、または他のガス雰囲気のアーク、コロナまたは無声放電により得られる紫外ランプも適用できる。
【００３７】
前述したように、水とフッ素樹脂の存在下で、パルス的に紫外線を入射するため、紫外線が照射されているわずかな時間だけ照射部分にのみフッ化水素酸を生成させ、これによって紫外光が照射されている光学部品の被研磨面だけをエッチングし、光が照射されない間に摺動するフッ素樹脂で該エッチングされた面を研磨する。これにより、研磨時間の短縮と、光学部品の光が照射された部分のみが選択的にエッチングされるため、従来法で必要とした研磨治具（やとい）の必要がない。しかも被加工物より硬い微粒粉等の研磨材はいっさい使わず、水だけが研磨材であるため、途中で被研磨面の洗浄の必要もなく、部品検査を実施しながら、研磨を続行することができる。
【００３８】
図２は、回転台１１が紫外光透過性であり、紫外光を回転台１１側から光学部品１３の研磨面まで入射させること以外は図１に示す装置と同様の光研磨装置を示す概略図であり、図１における部材等と同様の部材には同様の参照符号が付されている。図２に示す装置において、回転台１１は、紫外光透過性材料、例えば紫外光透過性ガラスもしくはプラスチックで形成される。本装置を用いた場合には、一般ガラスのように紫外線を透過させない材料で形成された光学部品をも研磨することができ、また上面が光学研磨されていない前記紫外光透過性光学材料で形成された光学部品を研磨することもできる。
【００３９】
図３は、回転台１１上に被研磨部品である光学部品１３をその被研磨面を上にして載置し、例えば合成石英やサファイア等の板状体からなる紫外光透過性磨き部材３１の下面にフッ素樹脂フィルム１２を貼着して光学部品１３上に置き、重り部材２０で荷重を掛け、フッ素樹脂フィルム１２と光学部品１３との間の隙間に滴下手段１５からの水または過酸化水素水を毛細管現象により浸入させて研磨を行う装置である。
【００４０】
図４は、回転台１１上に被研磨部品である光学部品１３をその被研磨面を上にして載置し、フッ素樹脂粉体４１を散布し、その上に例えば合成石英やサファイア等の板状体からなる紫外光透過性磨き部材３１を置き、重り部材２０で荷重を掛け、滴下手段１５からの水または過酸化水素水を毛細管現象フッ素樹脂粉体中に浸入させて研磨を行う装置である。
【００４１】
【実施例】
ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）はフッ素樹脂の代表であり、耐薬品性、電気絶縁性に優れ、摩擦係数が少ない樹脂であるが、溶融粘度が高いため、加工するには、粉体を圧縮成型した２６０℃内外で溶融させている。成型加工したフィルムは光学的に不透明である。ところが、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）は、トリフルオロメチル基（−ＣＦ₃）を側鎖に導入してあるため結晶化度が低く、溶融か高温度はＰＴＦＥより６０℃低い。しかも、成型加工したフィルムは光学的に透明であり、ＡｒＦレーザの１９３ｎｍの波長の光も透過する。パーフルオロアルキル基（−Ｒｆ）を側鎖に導入してある、テトラフルオロエチレン／パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）も、ＦＥＰ同様に溶融加工が可能で、光学的にも透明である。
【００４２】
まず、これら代表的なフッ素樹脂フィルムあるいは粉体に対し、超純水の存在下で、ＡｒＦレーザを照射することによって生成するフッ化水素酸の酸濃度を電気抵抗の変化によって調べ、フッ化水素酸濃度とレーザパルス依存性を測定した（以下の実験例１および２）。
【００４３】
実験例１
厚さ約１ｍｍのＰＴＦＥフィルム、ＦＥＰフィルムまたはＰＦＡフィルムの上に超純水を滴下し、その上に、金蒸着により櫛形電極が形成された合成石英層をその電極面を下側にして被せ、合成石英層の上部からエネルギ密度２０ｍＪ／ｃｍ²のＡｒＦレーザを照射し、電極間の電気抵抗変化を調べ、フッ化水素酸濃度のレーザパルス依存性を測定した。図５に示すように、レーザパルス数に応じてフッ素樹脂フィルムに接触している超純水（２０メガオウム）の電気抵抗が低くなり、フッ化水素酸濃度が上昇することがわかる。レーザ照射によって生成するフッ化水素酸濃度は、高い順にＰＦＡ＞ＦＥＰ＞ＰＴＦＥである。
【００４４】
実験例２
それぞれが粉体の形態にあるＰＴＦＥ（製品名：ポリフロンＴＦＡ／Ｆ−１０４）、ＦＥＰ（製品名：ネオフロンＦＥＰ／ＮＣ１５００）またはＰＦＡ（製品名：ネオフロンＡＣＸ−３１）の上に超純水を滴下し、その上に、金蒸着により櫛形電極が形成された合成石英層をその電極面を下側にして被せ、合成石英層の上部からエネルギ密度２０ｍＪ／ｃｍ²のＡｒＦレーザを照射し、電極間の電気抵抗変化を調べ、フッ化水素酸濃度のレーザパルス依存性を測定した。図６に示すように、レーザパルス数に応じてフッ素樹脂粉体に接触している超純水（２０メガオウム）の電気抵抗が低くなり、フッ化水素酸濃度が上昇することがわかる。レーザ照射によって生成するフッ化水素酸濃度は、高い順にＰＦＡ＞ＦＥＰ＞ＰＴＦＥである。
【００４５】
実施例１
合成石英ガラス光学部品を＃８００番のカーボンランダムで荒ずり研磨して被研磨面（表面粗さ約２〜５μｍ）とした。この合成石英ガラス光学部品１３を、図１に示すように、その被研磨面を下側にして回転台１１に貼られたフッ素樹脂フィルム（ＰＴＦＥ）１２の上に置き、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、６０分間で１０オングストローム（Å）の面精度が達成された。
【００４６】
実施例２
合成石英ガラス光学部品を＃８００番のカーボンランダムで荒ずり研磨して被研磨面（表面粗さ約２〜５μｍ）とした。この合成石英ガラス光学部品１３を、図１に示すように、その被研磨面を下側にして回転台１１に貼られたフッ素樹脂フィルム（ＦＥＰ）１２の上に置き、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、３０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００４７】
実施例３
合成石英ガラス光学部品を＃８００番のカーボンランダムで荒ずり研磨して被研磨面（表面粗さ約２〜５μｍ）とした。この合成石英ガラス光学部品１３を、図１に示すように、その被研磨面を下側にして回転台１１に貼られたフッ素樹脂フィルム（ＰＦＡ）１２の上に置き、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、２５分間で１０Åの面精度が達成された。
【００４８】
実施例４
フッ化カルシウム光学部品をダイヤモンドペーストで荒ずり研磨して被研磨面（表面粗さ約１μｍ）とした。このフッ化カルシウム光学部品１３を、図１に示すように、その被研磨面を下側にして回転台１１に貼られたフッ素樹脂フィルム（ＦＥＰ）１２の上に置き、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、３０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００４９】
実施例５
図１に示す回転台１１にアスファルトピッチ板を貼着し、その上に粉体ＦＥＰ（製品名：ネオフロンＦＥＰ／ＮＣ１５００）を散布した。その粉体ＦＥＰ層１２上に、＃８００番のカーボンランダムで荒ずり研磨された合成石英ガラス光学部品１３をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２〜５μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、２５分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５０】
実施例６
図１に示す回転台１１にアスファルトピッチ板を貼着し、その上に粉体ＦＥＰ（製品名：ネオフロンＦＥＰ／ＮＣ１５００）を散布した。その粉体ＦＥＰ層１２上に、ダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたフッ化カルシウム光学部品１３をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約１μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、２５分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５１】
実施例７
合成石英ガラス光学部品を＃８００番のカーボンランダムで荒ずり研磨して被研磨面（表面粗さ約２〜５μｍ）とした。この合成石英ガラス光学部品１３を、図１に示すように、その被研磨面を下側にして回転台１１に貼られたフッ素樹脂フィルム（ＦＥＰ）１２の上に置き、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下しながら、ヘッドオン形キセノンエキシマランプ（１７２ｎｍ）光を照射したところ、５時間で１００Åの面精度が達成された。
【００５２】
実施例８
図２に示す合成石英板からなる回転台１１の上にＦＥＰ板１２を固定し、その上に＃１５００番のカーボンランダムで荒ずり研磨されたガラス（ＢＲ−７）光学部品１３をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下し、回転台１１の裏側からＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、１５分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５３】
実施例９
図２に示す合成石英板からなる回転台１１の上に粉体ＦＥＰ（製品名：ネオフロンＦＥＰ／ＮＣ１５００）１２を散布し、その上に＃１５００番のカーボンランダムで荒ずり研磨されたガラス（ＢＲ−７）光学部品１３をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下し、回転台１１の裏側からＡｒＦレーザ光（２５ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、１５分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５４】
実施例１０
図２に示す合成石英板からなる回転台１１の上にＦＥＰ板１２を固定し、その上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から水を滴下し、回転台１１の裏側からＡｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、２００分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５５】
実施例１１
図２に示す合成石英板からなる回転台１１の上にＦＥＰ板１２を固定し、その上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から３０％過酸化水素水と４０％フッ化水素酸との混合液（混合体積比３：１）を滴下し、回転台１１の裏側からＫｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、３０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５６】
実施例１２
図２に示すサファイア板からなる回転台１１の上にＦＥＰ板１２を固定し、その上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から３０％過酸化水素水と４０％フッ化水素酸との混合液（混合体積比３：１）を滴下し、回転台１１の裏側からＫｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、５０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５７】
実施例１３
図２に示す合成石英板からなる回転台１１の上にＦＥＰ板１２を固定し、その上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を下側にして載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から３０％過酸化水素水と４０％フッ化水素酸との混合液（混合体積比３：１）を滴下し、回転台１１の裏側からＡｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、８０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５８】
実施例１４
図３に示す回転台１１の上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品１３をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を上側にして貼着し、その上に合成石英板３１の下面にＦＥＰ板１２を固着した磨き皿を載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から３０％過酸化水素水と４０％フッ化水素酸との混合液（混合体積比３：１）を滴下し、回転台１１の上方からＫｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、３０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００５９】
実施例１５
図４に示す回転台１１の上にダイヤモンドペーストで荒ずり研磨されたＳｉＣ光学部品をその荒ずり研磨された被研磨面（表面粗さ約２μｍ）を上側にして貼着し、その上に粉体ＦＥＰ（商品名ネオフロンＦＥＰ／ＮＣ１５００）４１を散布し、サファイア板からなる紫外光透過性磨き部材３１を載せ、研磨圧力を５０ｇ／ｃｍ²に設定し、１０ｒｐｍで回転台１１を回転させながら、スポイト１５から３０％過酸化水素水と４０％フッ化水素酸との混合液（混合体積比３：１）を滴下し、回転台１１の上方からＫｒＦレーザ光（５０ｍＪ／ｃｍ²、１００ｐｐｓ）を照射したところ、３０分間で１０Åの面精度が達成された。
【００６０】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、光学部品を短時間で高精度に研磨することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光研磨方法を実施するために好適な光研磨装置の一例を示す概略図。
【図２】本発明の光研磨方法を実施するために好適な光研磨装置の他の例を示す概略図。
【図３】本発明の光研磨方法を実施するために好適な光研磨装置の他の例を示す概略図。
【図４】本発明の光研磨方法を実施するために好適な光研磨装置のさらに他の例を示す概略図。
【図５】各種フッ素樹脂フィルムと水にパルス状紫外光を照射したときに生成するフッ化水素酸濃度のレーザパルス依存性を示すグラフ。
【図６】各種フッ素樹脂粉体と水にパルス状紫外光を照射したときに生成するフッ化水素酸濃度のレーザパルス依存性を示すグラフ。
【符号の説明】
１１…回転台
１１ａ…回転軸
１２…フッ素樹脂層
１３…光学部品
１４…水の薄液層
１５…水滴下手段
１６…紫外光源
１７…紫外光
１８…ミラー
１９…マスク
２０…重り部材
３１…磨き部材[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an optical component polishing method.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, when polishing optical components, a polishing plate (for example, a pitch plate in which an asphalt is processed in a mesh shape on an iron plate, a felt plate in which an iron plate is felted or lashed, and a polyurethane system foamed on the iron plate) Polishing pad dish, fine diamond / resin bond / lapping dish, chemical polishing liquid impregnated polishing dish, etc., with a sheet fixed with pressure-sensitive adhesive, etc., on the balance, zirconium oxide, cerium oxide, diamond, alumina Polishing impregnated with ultrafine powders such as silica and glass, titanium oxide, chromium oxide, tin oxide, zinc oxide, manganese oxide, nickel oxide, calcium oxide, magnesium oxide, etc. with a solvent such as water, alcohol, ether, kerosene The liquid is placed thereon, and slide polishing is performed on the surface of the liquid while the surface to be polished of the optical component is brought into contact therewith. For the purpose of improving the polishing efficiency, a polishing liquid in which a weak acid such as acetic acid or boric acid or a weak alkali such as ammonia is mixed is also commercially available.
[0003]
[Problems to be solved by the invention]
However, optical parts made of optical materials such as synthetic quartz, crystalline quartz, sapphire, lithium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, sodium fluoride, and magnesium fluoride that transmit ultraviolet light near 200 nm can be polished with high precision. In order to achieve the required accuracy, the conventional method requires a long time for polishing.
[0004]
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method for polishing an optical component capable of achieving high-precision polishing in a short time.
[0005]
[Means for Solving the Problems]
As a result of diligent research to solve the above-mentioned problems, the present inventor has developed a completely new optical component polishing method utilizing a photochemical reaction without using a solid abrasive material essentially.
[0006]
That is, according to the first aspect of the present invention, in the state where water is interposed between the surface to be polished of the optical component and the fluororesin, ultraviolet light is irradiated to the surface to be polished, water and the fluororesin of the optical component. Provided is a polishing method for an optical component, characterized in that the surface to be polished of the optical component is polished by relatively sliding the optical component and the fluororesin while being incident.
[0007]
According to the polishing method for an optical component of the present invention, when the surface to be polished of the optical component to be polished is brought into contact with fluorine resin through water and irradiated with ultraviolet light in that state, only the irradiated portion irradiated with the ultraviolet light is irradiated. In addition, the fluorine atom is released from the fluororesin, and the hydroxyl group photodecomposed from the water is bonded to the position of the detached fluorine atom to be modified to be hydrophilic, and at the same time, from the other decomposition product hydrogen and the fluororesin Hydrogen fluoride produced by the detached fluorine is dissolved in water to produce hydrofluoric acid. This hydrofluoric acid is adsorbed by the hydrophilized fluororesin, and at the same time, only the polished surface of the optical component irradiated with ultraviolet light is etched and sliding in contact with the optical component. Polishing is performed with a fluororesin. Therefore, the polishing method of the present invention can be called a photopolishing method.
[0008]
According to the present invention, not only shortening of the polishing time is achieved, but also only the portion of the optical component irradiated with the ultraviolet light is selectively etched. There is no need. Moreover, since only (hydrogen fluoride) water is an abrasive and no ordinary abrasive is used, there is no need to clean the surface to be polished. Therefore, polishing can be continued while performing component inspection. When a poorly polished part is found by inspection, an effect equivalent to that obtained when the polishing pressure is increased can be achieved by increasing the energy density of ultraviolet light for the part.
[0009]
In the present invention, the surface to be polished of the optical component is preferably rough-polished in advance.
[0010]
Usually, the fluororesin is placed on the mounting member and can be in the form of a film or plate, or in the form of a powder.
[0011]
The optical component is made of a material that is easily affected by hydrofluoric acid, such as synthetic quartz, crystal quartz, sapphire, lithium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, sodium fluoride, magnesium fluoride, or optical glass. It is preferable.
[0012]
In the present invention, the ultraviolet light is ArF excimer laser light, KrF excimer laser light, harmonic laser light by a non-linear element, excimer lamp light, mercury lamp light, Xe lamp light, deuterium lamp light, halogen lamp light, or gas. It can be ultraviolet light obtained by arc, corona or silent discharge.
[0013]
Further, the optical component is usually ultraviolet light transmissive, and ultraviolet light can be incident from the optical component side.
[0014]
When the mounting member to be used is ultraviolet light transmissive, ultraviolet light can be incident from the back side of the mounting member. In this case, an optical component opaque to ultraviolet light can be polished.
[0015]
It is preferable to add HF to water in advance, since the polishing efficiency can be further improved.
[0016]
According to the second aspect of the present invention, in the second aspect, the surface to be polished of the optical component is excessively bonded to the surface to be polished of the optical component made of silicon carbide and a fluororesin. Polishing an optical component made of silicon carbide, characterized in that the polishing surface of the optical component is polished by relatively sliding the optical component and the fluororesin while making ultraviolet light incident on the hydrogen oxide water and the fluororesin. Provide a method. In this case, silicon carbide reacts with hydrogen peroxide by ultraviolet light irradiation to convert it into silicon oxide, and this silicon oxide is removed by etching with hydrogen fluoride generated from the fluororesin as described above.
[0017]
Also in the second aspect, the matters described above with respect to the first aspect are basically the same except for the material of the optical component.
[0018]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, the present invention will be described in more detail.
[0019]
According to the photopolishing method of the present invention, first, water is inserted between the surface to be polished of the optical component to be polished and the fluororesin.
[0020]
As the fluororesin, polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), etc. can be used. And PFA are particularly preferred.
[0021]
The fluororesin can be used in the form of a film or plate, or in the form of powder, and is generally placed on a mounting member such as a polishing turntable that is normally used. When the fluororesin is in the form of a film or a plate, it can be directly stuck on the mounting member. When the fluororesin is in the form of powder, for example, an adhesive layer such as an asphalt pitch plate is stuck on the mounting member, and the fluororesin powder is spread on the layer in a uniform layer form. The powder can be fixed. Since the fluororesin powder is agglomerated and fixed when mixed with water, the fluororesin powder can be fixed on the mounting member simply by placing the fluororesin powder on the mounting member and adding a small amount of water. When the fluororesin powder is used, it also acts as an abrasive, so that the polishing efficiency is further increased. As the fluororesin powder, those having an average particle diameter of 5 to 20 μm can be suitably used.
[0022]
Next, the optical component is placed on the fluororesin so that the surface to be polished faces the fluororesin. The optical component is preferably made of an optical material having a low solubility in water and a relatively high solubility in hydrofluoric acid. In particular, an optical material that transmits ultraviolet light near 200 nm (especially about 193 nm) necessary for decomposing water, preferably synthetic quartz, crystalline quartz, sapphire, lithium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride, fluorine. An optical component formed of an optical material made of sodium fluoride, magnesium fluoride, or ultraviolet light transmitting optical glass is particularly suitable for the present invention, but is not limited thereto.
[0023]
The surface to be polished of the optical component is preferably rough polished in advance using a normal roughing material such as carborundum or diamond paste. About 2 to 5 μm is sufficient for the surface roughness of the surface to be polished achieved by rough polishing.
[0024]
As described above, in order to insert water between the optical component placed on the fluororesin layer and the fluororesin layer, the fluorine resin layer and the optical component are relatively slid while the fluorine resin layer and the optical component are relatively slid. It is preferable to drop water on the resin layer. The dropped water permeates between the fluororesin layer and the polished surface of the optical member by a capillary phenomenon to form a thin water layer. The water includes normal water such as tap water, pure water such as distilled water, and heavy water. Moreover, when HF containing water (hydrofluoric acid) is dripped instead of the dripped water here, the polishing efficiency is further improved. Here, the relative sliding of the fluororesin layer and the optical component can be performed, for example, by fixing one and rotating or sliding the other, or rotating both in the opposite direction.
[0025]
In this way, with water inserted between the surface to be polished of the optical component and the fluororesin, while the ultraviolet light is incident on the surface to be polished, water and the fluororesin of the optical component, Continue relative sliding. As the ultraviolet light to be used, excimer laser light (ArF excimer laser, KrF excimer laser light, etc.), harmonic laser light by non-linear element, excimer lamp light, mercury lamp light, Xe lamp light, deuterium lamp light, halogen lamp light Or ultraviolet light obtained by arc, corona or silent discharge of gas (air, nitrogen, other gas) can be used. The ultraviolet light source preferably emits ultraviolet light in a pulsed manner.
[0026]
As described above, when ultraviolet rays are irradiated, a photochemical reaction occurs corresponding to only the irradiated portion, and hydrogen fluoride (HF) is generated as shown below (here, fluorine resin is representatively represented). (CF ₂ ) _n ).
[0027]
(CF ₂ ) _n + NH ₂ O + hν (ultraviolet light) → (CF-OH) _n + NHF.
[0028]
This HF dissolves in a thin water layer formed between the fluororesin layer and the polished surface of the optical component to form hydrofluoric acid, and the hydrofluoric acid is substituted with OH to become hydrophilic. Just modified (CF-OH) _n At the same time, the polished surface of the optical component in the irradiated portion is etched at the molecular level. And the to-be-polished surface of an optical component is grind | polished by sliding with a fluororesin layer. Thus, according to the present invention, highly accurate polishing can be achieved in a short time. Note that the ultraviolet light is applied to the fluororesin with a light energy of 147 kcal / mol or more necessary for dissociating the C—F bond. Usually, the energy density of the irradiated ultraviolet light is 15 mJ / cm. ² ~ 100mJ / cm ² The degree is sufficient.
[0029]
The polishing pressure at the time of the above-mentioned sliding polishing may be a pressure that allows the optical component to slide sufficiently with respect to the fluororesin, and is usually 5 g / cm. ² ~ 100g / cm ² Is enough.
[0030]
Note that the optical component is usually ultraviolet light transmissive, and the ultraviolet light can be irradiated from the optical component side. Further, when the mounting member is formed of an ultraviolet light transmissive material, for example, ultraviolet light transmissive glass or plastic, and is ultraviolet light transmissive, ultraviolet light can be irradiated from the back side of the mounting member. . In this case, an optical component formed of a material that does not transmit ultraviolet rays, such as general glass, can be polished.
[0031]
A special aspect of the present invention is a method for polishing an optical component made of silicon carbide. Also in this case, while water is inserted between the polished surface of the optical component made of silicon carbide and the fluororesin, ultraviolet light is incident on the polished surface of the optical component, water, and the fluororesin, It is the same as the polishing method described above in that the polishing surface of the optical component is polished by relatively sliding the optical component and the fluororesin, but if hydrogen peroxide is added to water in advance, It turns out to be effective. In that case, hydrogen peroxide is used instead of water. Silicon carbide is a material expected as an X-ray reflecting mirror, but it is very hard and diamond powder has been conventionally used for polishing. However, in the tiremond powder, it is inevitable to generate scratches on the surface which are inconvenient for use in light of a short wavelength region such as X-rays. Moreover, since silicon carbide is chemically stable, it is difficult to cut the surface by chemical etching.
[0032]
However, ultraviolet light is incident on the polished surface of the optical component, the hydrogen peroxide solution, and the fluororesin while the hydrogen peroxide solution is inserted between the polished surface of the optical component made of silicon carbide and the fluororesin. However, when the polished surface of the optical component is polished by relatively sliding the optical component and the fluororesin, first, hydrocarbons are converted into silicon oxide by oxidation by photoreaction with hydrogen peroxide. Since this silicon oxide is easily etched by hydrofluoric acid, it is removed by hydrofluoric acid generated from the fluororesin as described above in accordance with the present invention. It can be polished with high accuracy. The ultraviolet light at this time is particularly preferably ArF excimer laser light or KrF excimer laser light. Needless to say, if HF is added to the hydrogen peroxide solution, the polishing efficiency is further improved as described above. In this case, the energy density of the irradiated ultraviolet light is 15 mJ / cm. ² ~ 100mJ / cm ² The degree is preferred. The hydrogen peroxide solution can be decomposed even by ultraviolet light of 248 nm.
[0033]
Next, an example of a photopolishing apparatus suitable for carrying out the photopolishing method of the present invention will be described with reference to FIGS. In these figures, similar elements are indicated by similar reference numerals.
[0034]
The apparatus shown in FIG. 1 includes a rotating table 11 as a mounting table, and the rotating table 11 is rotated around a rotating shaft 11a by a motor (not shown). On the turntable 11, a fluororesin layer 12 in the form of a layer made of a film, plate or powder is fixed. The optical component 13 to be polished is placed on the fluororesin layer 12 so that the surface to be polished faces the fluororesin layer 12. The polishing pressure can be provided by a frame-like weight member 20 placed around the optical component 13.
[0035]
In this apparatus, ultraviolet light is incident from above the optical component 13, and the ultraviolet light 17 from the ultraviolet light source 16 is directed to the optical component 13 by, for example, a mirror 18. In the present invention, it is desirable to use ArF excimer laser light as the ultraviolet light. The wavelength of ArF excimer laser light is 193 nm ultraviolet light, and the oscillation pulse width is at most 10 ns (10 ^-8 Second) and the pulse repetition rate is 10 to 1000 Hz. Therefore, assuming that the pulse repetition rate is 100 Hz, the time during which the laser beam is emitted is 10 ^-8 Second, 10 until the next laser oscillation ^-2 There is a rest time of seconds. Therefore, the optical component 13 whose upper surface is optically polished and whose lower surface (surface to be polished) is a rough surface is placed on the fluorine resin layer 12 rotating at high speed so that the surface to be polished contacts the fluorine resin layer 12. When water or hydrogen peroxide water that may contain HF is dropped onto the fluororesin layer 12 by a water dropping means 15 such as a dropper, the optical component 13 is covered by capillary action as described above. A thin liquid layer 14 of water is formed between the polished surface and the fluororesin layer 12. In this state, when ArF excimer laser light 17 that has passed through, for example, the photomask 19 is incident from the side of the optical component 13 opposite to the surface to be polished, water 14 that contacts the surface to be polished of the optical component 13 The fluororesin layer 12 locally causes a photochemical reaction at a portion corresponding to the photomask 19, and hydrogen fluoride (HF) is generated as described above. This HF dissolves in water 14 to form hydrofluoric acid, which is adsorbed by the fluororesin 12 just replaced with OH by substitution of OH, and at the same time, the portion of the optical component 13 that is irradiated with light is covered. Etch the polished surface. The extremely short time during which this light is irradiated (at most 10 ^-8 Second), molecular unit etching is completed, and hydrofluoric acid disappears. The laser is still idle 10 ^-2 In the etched portion per second, water remaining on the previously hydrophilicized fluororesin 12 layer is lost by rubbing with the rotating fluororesin layer 12, and the optical component 13 is polished by the fluororesin layer 12. Surface polishing is performed. Then, with the next laser pulse, polishing by photoetching and friction is sequentially performed again. By rotating the rotary table 11 provided with the fluororesin layer 12 and repeating the oscillation and pause of the ArF excimer laser, high-speed and high-precision polishing is performed according to the number of laser pulses.
[0036]
In this embodiment, ultraviolet light is incident in a pulsed manner in the presence of water and a fluororesin to generate hydrofluoric acid locally and in contact with optical components, so that ArF excimer is used as a light source. Although a laser is optimal, a harmonic laser with a non-linear element capable of causing the same effect can also be used. Also, excimer lamps, mercury lamps, Xe lamps, deuterium lamps, halogen lamps, or ultraviolet lamps obtained by arc, corona or silent discharge in air, nitrogen, or other gas atmospheres if pulsed in electrical circuit. Applicable.
[0037]
As described above, since ultraviolet rays are incident in a pulsed manner in the presence of water and a fluororesin, hydrofluoric acid is generated only in the irradiated portion for a short period of time during which the ultraviolet rays are irradiated. Only the polished surface of the irradiated optical component is etched, and the etched surface is polished with a fluororesin that slides while the light is not irradiated. This shortens the polishing time and selectively etches only the portion of the optical component irradiated with light, eliminating the need for a polishing jig required in the conventional method. In addition, no abrasives such as fine particles that are harder than the workpiece are used, and only water is the abrasive, so there is no need to clean the surface to be polished. Can do.
[0038]
FIG. 2 is a schematic view showing a light polishing apparatus similar to the apparatus shown in FIG. 1 except that the turntable 11 is ultraviolet light transmissive and that ultraviolet light is incident on the polishing surface of the optical component 13 from the turntable 11 side. The same reference numerals are given to the same members as those in FIG. In the apparatus shown in FIG. 2, the turntable 11 is made of an ultraviolet light transmissive material, for example, an ultraviolet light transmissive glass or plastic. When this device is used, optical parts made of a material that does not transmit ultraviolet rays, such as general glass, can be polished, and the upper surface is formed of the ultraviolet light-transmitting optical material that is not optically polished. The finished optical component can also be polished.
[0039]
In FIG. 3, an optical component 13 which is a component to be polished is placed on the turntable 11 with the surface to be polished facing upward, and an ultraviolet light transmitting polishing member 31 made of a plate-like material such as synthetic quartz or sapphire is shown. A fluororesin film 12 is stuck on the lower surface and placed on the optical component 13, a load is applied by the weight member 20, and water or hydrogen peroxide from the dropping means 15 is placed in the gap between the fluororesin film 12 and the optical component 13. It is a device that performs polishing by infiltrating water by capillary action.
[0040]
In FIG. 4, the optical component 13 that is a component to be polished is placed on the turntable 11 with the surface to be polished facing up, and the fluororesin powder 41 is scattered on the plate, for example, a plate made of synthetic quartz or sapphire. An apparatus that performs polishing by placing an ultraviolet light transmissive polishing member 31 made of a solid body, applying a load with the weight member 20, and allowing water or hydrogen peroxide from the dropping means 15 to enter the capillary phenomenon fluororesin powder. is there.
[0041]
【Example】
Polytetrafluoroethylene (PTFE) is a typical fluororesin, which has excellent chemical resistance and electrical insulation, and has a low coefficient of friction. It was melted at 260 ° C inside and outside. The molded film is optically opaque. However, tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP) has a trifluoromethyl group (-CF _Three ) Is introduced into the side chain, the crystallinity is low, and the melting or high temperature is 60 ° C. lower than PTFE. Moreover, the molded film is optically transparent and also transmits light with a wavelength of 193 nm from an ArF laser. A tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA) having a perfluoroalkyl group (—Rf) introduced in the side chain can be melt-processed similarly to FEP, and is optically transparent.
[0042]
First, the acid concentration of hydrofluoric acid generated by irradiating ArF laser in the presence of ultrapure water to these representative fluororesin films or powders is examined by a change in electrical resistance. The acid concentration and laser pulse dependence were measured (Experimental Examples 1 and 2 below).
[0043]
Experimental example 1
Ultrapure water is dropped on a PTFE film, FEP film or PFA film having a thickness of about 1 mm, and a synthetic quartz layer on which a comb-shaped electrode is formed by gold deposition is covered with the electrode surface facing downward. Energy density 20mJ / cm from the top of the synthetic quartz layer ² The ArF laser was irradiated, the change in electrical resistance between the electrodes was examined, and the laser pulse dependence of the hydrofluoric acid concentration was measured. As shown in FIG. 5, it can be seen that the electrical resistance of ultrapure water (20 megaum) in contact with the fluororesin film decreases according to the number of laser pulses, and the concentration of hydrofluoric acid increases. The concentration of hydrofluoric acid generated by laser irradiation is PFA>FEP> PTFE in descending order.
[0044]
Experimental example 2
Ultrapure water is dropped on PTFE (Product name: Polyflon TFA / F-104), FEP (Product name: NEOFLON FEP / NC1500) or PFA (Product name: NEOFLON ACX-31) each in the form of powder. Then, a synthetic quartz layer on which a comb-shaped electrode is formed by gold vapor deposition is covered with the electrode surface facing downward, and an energy density of 20 mJ / cm from the upper part of the synthetic quartz layer. ² The ArF laser was irradiated, the change in electrical resistance between the electrodes was examined, and the laser pulse dependence of the hydrofluoric acid concentration was measured. As shown in FIG. 6, it can be seen that the electrical resistance of ultrapure water (20 megaum) in contact with the fluororesin powder is lowered and the hydrofluoric acid concentration is increased according to the number of laser pulses. The concentration of hydrofluoric acid generated by laser irradiation is PFA>FEP> PTFE in descending order.
[0045]
Example 1
The synthetic quartz glass optical component was rough polished with # 800 carbon random to obtain a polished surface (surface roughness of about 2 to 5 μm). As shown in FIG. 1, the synthetic quartz glass optical component 13 is placed on a fluororesin film (PTFE) 12 affixed to the turntable 11 with the surface to be polished facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), surface accuracy of 10 angstroms (Å) was achieved in 60 minutes.
[0046]
Example 2
The synthetic quartz glass optical component was rough polished with # 800 carbon random to obtain a polished surface (surface roughness of about 2 to 5 μm). As shown in FIG. 1, this synthetic quartz glass optical component 13 is placed on a fluororesin film (FEP) 12 affixed to the turntable 11 with the surface to be polished facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 30 minutes.
[0047]
Example 3
The synthetic quartz glass optical component was rough polished with # 800 carbon random to obtain a polished surface (surface roughness of about 2 to 5 μm). As shown in FIG. 1, this synthetic quartz glass optical component 13 is placed on a fluororesin film (PFA) 12 affixed to a turntable 11 with the surface to be polished facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 25 minutes.
[0048]
Example 4
The calcium fluoride optical component was rough polished with diamond paste to obtain a polished surface (surface roughness of about 1 μm). As shown in FIG. 1, the calcium fluoride optical component 13 is placed on a fluororesin film (FEP) 12 affixed to the turntable 11 with the surface to be polished facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 30 minutes.
[0049]
Example 5
The asphalt pitch board was stuck on the turntable 11 shown in FIG. 1, and powder FEP (product name: NEOFLON FEP / NC1500) was sprayed on it. On the powder FEP layer 12, a synthetic silica glass optical component 13 rough-polished with # 800 carbon random is disposed so that its surface to be polished (surface roughness of about 2 to 5 μm) is on the lower side. And apply a polishing pressure of 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 25 minutes.
[0050]
Example 6
The asphalt pitch board was stuck on the turntable 11 shown in FIG. 1, and powder FEP (product name: NEOFLON FEP / NC1500) was sprayed on it. On the powder FEP layer 12, the calcium fluoride optical component 13 rough-polished with diamond paste is placed with the rough-polished surface to be polished (surface roughness of about 1 μm) on the bottom, and the polishing pressure is set. 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, while dropping water from the dropper 15, ArF laser light (25 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 25 minutes.
[0051]
Example 7
The synthetic quartz glass optical component was rough polished with # 800 carbon random to obtain a polished surface (surface roughness of about 2 to 5 μm). As shown in FIG. 1, this synthetic quartz glass optical component 13 is placed on a fluororesin film (FEP) 12 affixed to the turntable 11 with the surface to be polished facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² When the head-on type xenon excimer lamp (172 nm) light was irradiated while dripping water from the dropper 15 while rotating the turntable 11 at 10 rpm, a surface accuracy of 100 mm was achieved in 5 hours.
[0052]
Example 8
A FEP plate 12 is fixed on a turntable 11 made of a synthetic quartz plate shown in FIG. 2, and a glass (BR-7) optical component 13 rough-polished with # 1500 carbon random is placed on the FEP plate 12. The surface to be polished (surface roughness of about 2 μm) is placed on the lower side, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the rotating table 11 at 10 rpm, water was dropped from the dropper 15, and ArF laser light (25 mJ / cm 2) from the back side of the rotating table 11. ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 15 minutes.
[0053]
Example 9
A powder FEP (product name: NEOFLON FEP / NC1500) 12 is sprayed on a turntable 11 made of a synthetic quartz plate shown in FIG. -7) The optical component 13 is placed with its rough polished surface (surface roughness of about 2 μm) facing down, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the rotating table 11 at 10 rpm, water was dropped from the dropper 15, and ArF laser light (25 mJ / cm 2) from the back side of the rotating table 11. ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 15 minutes.
[0054]
Example 10
An FEP plate 12 is fixed on a turntable 11 made of a synthetic quartz plate shown in FIG. 2, and a SiC optical component rough-polished with diamond paste is rough-polished on a polished surface (surface roughness). About 2 μm) on the bottom and polishing pressure of 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, water was dropped from the dropper 15, and ArF laser light (50 mJ / cm from the back side of the turntable 11 was set. ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 200 minutes.
[0055]
Example 11
An FEP plate 12 is fixed on a turntable 11 made of a synthetic quartz plate shown in FIG. 2, and a SiC optical component rough-polished with diamond paste is rough-polished on a polished surface (surface roughness). About 2 μm) on the bottom and polishing pressure of 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, a mixture of 30% hydrogen peroxide and 40% hydrofluoric acid (mixing volume ratio 3: 1) was dropped from the dropper 15, and the turntable 11 KrF laser light (50 mJ / cm from the back side ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 30 minutes.
[0056]
Example 12
A SiC optical component rough-polished with a diamond paste is fixed on a turntable 11 made of a sapphire plate shown in FIG. 2 μm) on the bottom and the polishing pressure is 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, a mixture of 30% hydrogen peroxide and 40% hydrofluoric acid (mixing volume ratio 3: 1) was dropped from the dropper 15, and the turntable 11 KrF laser light (50 mJ / cm from the back side ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 50 minutes.
[0057]
Example 13
An FEP plate 12 is fixed on a turntable 11 made of a synthetic quartz plate shown in FIG. 2, and a SiC optical component rough-polished with diamond paste is rough-polished on a polished surface (surface roughness). About 2 μm) on the bottom and polishing pressure of 50 g / cm ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, a mixture of 30% hydrogen peroxide and 40% hydrofluoric acid (mixing volume ratio 3: 1) was dropped from the dropper 15, and the turntable 11 ArF laser light (50 mJ / cm from the back side ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 80 minutes.
[0058]
Example 14
A SiC optical component 13 rough-polished with diamond paste is stuck on the turntable 11 shown in FIG. 3 with its rough-polished surface to be polished (surface roughness of about 2 μm) on top, and on that. A polishing plate with the FEP plate 12 fixed thereon is placed on the lower surface of the synthetic quartz plate 31, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, a mixture of 30% hydrogen peroxide and 40% hydrofluoric acid (mixing volume ratio 3: 1) was dropped from the dropper 15, and the turntable 11 KrF laser beam from above (50 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 30 minutes.
[0059]
Example 15
A SiC optical component rough-polished with diamond paste is stuck on the turntable 11 shown in FIG. 4 with the rough-polished surface to be polished (surface roughness of about 2 μm) facing upward, and the powder is coated thereon. Body FEP (trade name: NEOFLON FEP / NC1500) 41 is sprayed, an ultraviolet light transmissive polishing member 31 made of a sapphire plate is placed, and the polishing pressure is 50 g / cm. ² While rotating the turntable 11 at 10 rpm, a mixture of 30% hydrogen peroxide and 40% hydrofluoric acid (mixing volume ratio 3: 1) was dropped from the dropper 15, and the turntable 11 KrF laser beam from above (50 mJ / cm ² , 100 pps), a surface accuracy of 10 mm was achieved in 30 minutes.
[0060]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, an optical component can be polished with high accuracy in a short time.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a schematic view showing an example of a photopolishing apparatus suitable for carrying out the photopolishing method of the present invention.
FIG. 2 is a schematic view showing another example of a photopolishing apparatus suitable for carrying out the photopolishing method of the present invention.
FIG. 3 is a schematic view showing another example of a photopolishing apparatus suitable for carrying out the photopolishing method of the present invention.
FIG. 4 is a schematic view showing still another example of a photopolishing apparatus suitable for carrying out the photopolishing method of the present invention.
FIG. 5 is a graph showing the laser pulse dependence of the concentration of hydrofluoric acid produced when various fluororesin films and water are irradiated with pulsed ultraviolet light.
FIG. 6 is a graph showing the laser pulse dependence of the concentration of hydrofluoric acid generated when various ultraviolet resin powders and water are irradiated with pulsed ultraviolet light.
[Explanation of symbols]
11 ... turntable
11a ... Rotating shaft
12 ... Fluororesin layer
13. Optical parts
14 ... Thin liquid layer of water
15. Water dropping means
16 ... UV light source
17 ... UV light
18 ... Mirror
19 ... Mask
20 ... Weight member
31 ... Polished material

Claims

Except for the case where ultraviolet light is incident on the polished surface, water, and fluororesin of the optical component from the optical component side with water interposed between the polished surface of the optical component and the fluororesin , the ultraviolet light Or when the surface to be polished of the optical component is rough-polished beforehand, ultraviolet light is also incident from the optical component side, and the optical component and the fluororesin are slid relative to each other so that the optical component A polishing method for an optical component comprising polishing a surface to be polished.

The method for polishing an optical component according to claim 1, wherein the fluororesin is placed on the mounting member.

Optics, synthetic quartz, crystalline quartz, sapphire, fluoride Lithium, calcium fluoride, barium fluoride, sodium fluoride, 2 claims 1, characterized in that it is composed of magnesium fluoride or optical glass The optical component polishing method according to claim 1.

Fluororesin, the polishing method of the optical component according to any one of claims 1 to 3, characterized in that in the form of a film or plate.

The polishing method of the optical component according to any one of claims 1 to 3, wherein the fluororesin is a powder.

UV light is ArF excimer laser light, KrF excimer laser light, harmonic laser light by nonlinear element, excimer lamp light, mercury lamp light, Xe lamp light, deuterium lamp light, halogen lamp light, or gas arc, corona or the polishing method of the optical component according to any one of claims 1 to 5, characterized in that ultraviolet light obtained by the silent discharge.

The optical component polishing method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the optical component is ultraviolet light transmissive.

Mounting member is, the polishing method of the optical component according to any one of claims 2 to 6 which is ultraviolet light permeable.

The method for polishing an optical component according to claim 8 , wherein ultraviolet light is incident from the back side of the mounting member.

The polishing method of the optical component according to any one of claims 1 to 9, characterized in that the addition of pre-HF in water.

In a state where hydrogen peroxide water is inserted between the surface to be polished of an optical component made of silicon carbide and the fluororesin, ultraviolet light is incident on the surface to be polished of the optical component, hydrogen peroxide water and the fluororesin. An optical component polishing method comprising polishing an optical component and a fluororesin relative to each other to polish a surface to be polished of the optical component.

The method for polishing an optical component according to claim 11 , wherein the fluororesin is in the form of a film or a plate.

The method for polishing an optical component according to claim 11 , wherein the fluororesin is powder.

Ultraviolet light, ArF excimer laser beam, the polishing method of the optical component according to any one of claims 11 to 13, characterized in that a KrF excimer laser beam.

The polishing method of the optical component according to any one of claims 11 to 14, characterized in that the addition of pre-HF to hydrogen peroxide.