JP3647362B2 - Apparatus and method for automatically cleaning liquid after copper removal - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、粗銅を電解精製して高純度電気銅を製造する際の循環銅電解液中に増加してくる銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の不純物金属を除去する脱銅後液の自動浄液装置及び浄液方法に関するものである。特に、系内にて水硫化ソーダ及び/又は硫酸の供給量を制御しつつ添加する事により、硫化水素を必要量生成し、この硫化水素を用いて多段の硫化反応槽に所定量づつ供給し硫化沈殿物を効率的に且つ確実に生成することができる脱銅後液の自動浄液装置及び浄液方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
銅電解精製においては、陰極に析出する銅量に比べて陽極から溶出する銅量の方が一般に多いので、電解液中の銅の濃度が次第に増加する。所定以上の銅濃度の増加は最適な電解精製を妨げる。一方、銅陽極に含まれている砒素、ビスマス、ニッケル及びアンチモン等の不純物が電解液中に溶出する。これら不純物イオン濃度が高くなると陰極に析出して電気銅の品位を低下させる。また、ニッケルは電解電圧を上昇させ、アンチモンは加水分解によって浮遊化するといった有害な作用も呈する。そこで、電解槽から電解液を抜き出して、浄化後電解槽に戻す銅電解循環液の浄液が重要となる。
【0003】
浄液方法としては、銅電解尾液を加熱濃縮して溶解度差を利用し、銅を硫酸銅として分離除去し、次いで、電解採取により液中に残存する銅、砒素、アンチモン及びビスマスを電着させ、最後に液を冷却してニッケルを硫酸ニッケルとして分離除去する方法が広く実施されている。しかし、この浄液方法は、砒素、及びアンチモンの除去に電解採取法を用いているため、電解中に猛毒のアルシンガス(AsH3)が発生するという欠点が伴う。更に、電解採取時の電力消費量が極めて多いという欠点も有している。
【0004】
本願出願人は、上記問題を解決するため特開平11−286797号にて、図2に示す様に硫化水素ガスを接触させて、脱銅後液中の銅、砒素、アンチモン、及びビスマスを硫化物として分離除去し、そして銅等を回収した後、脱銅後液を2分割し、一方を脱銅後液精製系の循環脱銅後液に戻し、もう一方の脱銅後液は、加熱濃縮し、次いで冷却を行い、硫酸ニッケルの溶解度差を利用して、ニッケル分の一部を硫酸ニッケルとして除去すると共に、この脱銅後液を再び2分割し、一方を銅電解精製系の循環電解液の戻し、もう一方の脱銅後液には水硫化ソーダを添加して硫化水素を発生させ、このガスを次に処理すべき脱銅後液に接触させて、その脱銅後液中の銅、砒素、アンチモン、及びビスマスを硫化物として分離除去するのに用いる方法を提案した。
この方法は、硫化水素発生の際、副反応として脱銅後液中のニッケル分から硫化ニッケルが生ずるので、これを硫化物として分離除去する事ができる。
【0005】
しかし、上記提案された方法について大規模に工業的実施を行なう場合、硫化水素が安定して発生しないという問題が発生した。硫化水素の生成が不安定であり、発生した硫化水素の量が少ないと硫化反応が遅く、脱銅後液の浄液に時間がかかりすぎることがわかった。また、硫化水素の発生が多すぎると、過剰の硫化水素が発生し、猛毒で高価な硫化水素ガスを大量に貯蔵する事が必要となり、そのための装置も設けなければならない。
【0006】
そこで、本願出願人は、先に提案した脱銅後液の浄液方法を大規模な工業的レベルで実施するため更に改良を加え、安定した硫化水素の生成を可能とする装置及び方法を提案した(特開2000−129482号。)この出願では、前記浄液方法を工業的レベルで実施するため、水硫化ソーダと脱銅後液を接触させて硫化水素を発生させる硫化水素発生槽と、ついで前記硫化水素ガスを少なくとも脱銅後液と接触させる第一段硫化反応槽と、前記処理液のオーバーフローが連結管を介して導入される第二段硫化反応槽とを有し、装置内が密閉状態であることを特徴とする脱銅後液の処理装置を提案した。硫化反応については、複数の硫化反応槽を持ち、多段で処理することも可能であり硫化水素発生槽を含めて硫化水素を使用する浄液が密閉された状態で外気と隔離して行えることができるようにした。また、硫化水素発生槽から排出された硫化水素含有廃液を脱銅後の電解液と接触反応させる脱硫化水素槽も設置している。
【0007】
この発明により、前記浄液方法を工業的レベルで実施するための個々的な技術、例えば、硫化水素発生槽内で安定して反応を進行させるためには、硫化水素ガスを所定量安定して発生させることが必要である、この硫化水素ガスを発生させると硫酸が消費されるが、安定して硫化水素ガスを供給するには、硫化水素発生槽内の硫酸濃度のばらつきを少なくする必要がある、硫酸濃度のばらつきを少なくするためには、槽内の酸化還元電位を測定する事により管理できる等の技術が確立された。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、この出願では、工業的レベルでの操業制御を効率的に且つ確実に行える脱銅後液の自動浄液装置や浄液方法の提案はなされておらず、これらに対する要望が存在していた。
よって、本発明の目的は、上述した従来の技術の要望に応えるもので、硫化沈殿除去剤として硫化水素を用いる脱銅後液の自動浄液装置を提供することである。本発明の目的は、硫化沈殿除去剤として硫化水素を用いる脱銅後液の自動浄液方法を提供することである。
【0009】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一の態様は、硫化沈殿除去剤として硫化水素を用いる脱銅後液(脱銅電解を経ない場合は、銅電解尾液。以下、「脱銅後液」と称する)の自動浄液装置であって、水硫化ソーダと硫酸を接触させて硫化水素を発生させる硫化水素発生槽と、発生した硫化水素を貯蔵するガスホルダーと、硫化水素ガスを銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の不純物を含有する脱銅後液と接触させる直列に並べられた複数の硫化反応槽と、ガスホルダー内の硫化水素圧力を検知し、水硫化ソーダ及び/又は硫酸の硫化水素発生槽への供給量を調節することにより硫化水素の発生量を調整することができる第一の制御装置と、各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節し、脱銅後液中に存在する不純物の硫化沈殿物の生成を制御する第二の制御装置と、そして、硫化水素発生槽から排出された硫化水素含有廃液を脱銅後液と接触反応させる脱硫化水素槽とを備えて構成されてなる脱銅後液の自動浄液装置を提供する。
【0010】
請求項2に記載の本発明は、請求項1に記載の脱銅後液の自動浄液装置において、第二制御装置が、各段の硫化反応槽における酸化還元電位を測定することにより硫化沈殿物の生成量を検出し、これに基づいて各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節することを特徴とする。
【0011】
本発明の第二の態様は、硫化沈殿除去剤として硫化水素を用いて脱銅後液を自動的に浄液する脱銅後液の自動浄液方法であって、水硫化ソーダ及び/又は硫酸の供給量を制御しつつ両者を接触させ、硫化水素を生成量を制御して発生させる工程と、直列に接続された多段硫化反応槽の最上流の硫化反応槽に銅電解槽からの脱銅後液を送液すると共に、各段の硫化反応槽に供給量を制御しながら硫化水素を供給し硫化沈殿物を生成する工程と、最下流の硫化反応槽からの排液から硫化沈殿物を除去する工程と、そして、硫化水素を発生させた後の硫化水素含有廃液を脱銅後液と接触反応させ、硫化水素含有廃液から硫化水素を除去する工程とを含んで構成されてなる脱銅後液の自動浄液方法を提供する。
【0012】
請求項4に記載の本発明は、請求項3に記載の脱銅後液の自動浄液方法において、前記硫化沈殿物生成工程は、各段の硫化反応槽における酸化還元電位を測定することにより硫化沈殿物の生成量を検出し、これに基づいて各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節することを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明に係る脱銅後液の自動浄液装置及び自動浄液方法について詳細に説明する。
図1は、本発明に係る脱銅後液の自動浄液装置における一実施形態のブロック図である。
本発明に係る脱銅後液の自動浄液装置は、脱銅後液からの銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の金属を除去し浄液を図る装置である。
【0014】
本発明の装置で浄液を行う前に、電解槽60より定期的に又は必要に応じて取り出した銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の不純物を含有する銅電解尾液から、電解採取により銅の一部を予め分離回収する脱銅電解装置62を設けることも可能である。この方法によれば、純度が99%以上の電気銅が得られる。銅電解尾液中には銅が金属分としては最も多く含まれているため、液をそのまま硫化水素ガスと接触させると、多量の硫化銅が他の硫化物と共に生成される。この場合には硫化水素ガスの消費が多く、硫化物量も多くなる。予め電解採取により銅を分離回収すればその必要はなくなるため、有利である。上記処理後の電解液中には、通常、銅が約5〜20g/リットル、砒素が約1〜10g/リットル、アンチモンが約0.1〜1g/リットル、ニッケルが約5〜20g/リットル、遊離硫酸が約150〜300g/リットル含まれている。別法として、脱銅後液を加熱濃縮して硫酸銅を予め分離回収しても良い。
【0015】
次に、本発明の自動浄液装置は、概略的に、各種の液用配管1及びガス用配管2と、脱銅電解装置62からの脱銅後液を溜めておく電解液タンク3と、水硫化ソーダを溜めておく水硫化ソーダタンク4と、硫酸を冷凍後溜めておく冷凍後液タンク5と、硫酸と水硫化ソーダとを接触させて硫化水素を発生させる硫化水素発生槽6と、発生した硫化水素を密閉保持するガスホルダー7と、硫化水素ガスを銅電解尾液、図示された好ましい実施形態では、脱銅後液(以下、「脱銅後液」と略称する。)と接触させる直列に並べられた複数の硫化反応槽10,20,30,40と、硫化水素の発生量を調整する第一の制御及び各段の硫化反応槽10,20,30,40への硫化水素の供給量を調節する第二の制御を行う制御装置8と、最終段の硫化反応槽40からの排出液を溜めておく第一の貯液槽50と、第一の貯液槽50の排出液から硫化物をろ過するフィルタープレス等のろ過手段と、硫化水素発生槽6から排出された硫化水素含有廃液を電解液タンク3からの脱銅後液と接触反応させる脱硫化水素槽52と、脱硫化水素槽52からの浄化液を溜めておく第二の貯液槽54と、そして、第二の貯液槽54からの排出液の硫化物をろ過するろ過機56とを含んで構成されている。
【0016】
ここで、硫化水素発生量の調整は、制御装置8が、ガスホルダー7内の硫化水素圧力を検知し、水硫化ソーダ及び/又は硫酸の硫化水素発生槽6への供給量を調節することにより行う。図示された好ましい実施形態では、制御装置8が、バルブV1又はV2のいずれか又は両方を開閉することによって、水硫化ソーダ及び/又は硫酸の硫化水素発生槽6への供給量を調節している。
【0017】
例えば、バルブV2のみを制御し、硫酸の硫化水素発生槽6への供給量を調節する場合について、より具体的に説明する。
硫化水素発生槽6の硫酸濃度は、バルブV2の開閉を制御装置8で制御するが、酸化還元電位ORPが−80〜−120mVの範囲となるように管理される。反応を促進させるため液は槽内でヒーターにより60℃に加熱され、ポンプにより液が循環、攪拌される。ポンプとしては、硫化水素の存在、スリラーの巻き込みを考慮し、耐食性、耐摩耗性、気密性の優れたポンプが推奨される。そして、硫化水素ガス圧は硫化槽(深さ1000mm)に対応し、0.008〜0.012MPaの圧力で管理される。
【0018】
硫化水素発生槽6において、反応により硫化水素が生成され硫酸が消費されると、酸化還元電位が下がる。制御装置8は、槽内の酸化還元電位が下がるとバルブV2を開け、冷凍後液タンク5内の冷凍後液を硫化水素発生槽6に供給する。液面レベルはガス圧を安定させるため、所定のレベル範囲に管理されるが、濾液は液面の上限まで上昇すると槽内から排出され、脱硫化水素槽52へ送られる。排出される液中の硫化水素濃度は0.3g/リットルだった。槽内の圧力は大気より高いため、排出弁を開けば液の排出は簡単にできる。
【0019】
また、各段の硫化反応槽10,20,30,40への硫化水素の供給量の調節は、制御装置8が、各硫化反応槽内における酸化還元電位を検知し、各段の硫化反応槽10,20,30,40への硫化水素の供給量を調節することによって行っている。図示された好ましい実施形態では、バルブV3〜V6の開閉を制御することにより、各段の硫化反応槽10,20,30,40への硫化水素の供給量を調節する。前記の実施例では、これらの制御を一の制御装置8で行っているが、別箇の制御装置で行うこともできる。
【0020】
次に、硫化反応槽での銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の不純物の除去について、図1を参照して、詳細に説明する。
図1の4個の硫化反応槽(10、30、50、70)にて四段処理した例を挙げる。銅の一部が分離除去された脱銅後液を一段目の硫化反応槽10へ入れる。硫化水素発生槽6にて発生した硫化水素ガスは、ガス用配管2aを介して第一硫化反応槽10の底部から導入され、脱銅後液と接触反応する。酸化還元電位ORPは350〜450mVに管理される。この酸化還元電位範囲では、選択的に銅が主として硫化物となる。硫化速度を安定して進行させるため、酸化還元電位は所定の電位に対し10mV程度の許容範囲(以下、許容範囲を示す場合には、「*」を用いる。例えば、前記の場合であれば「*10mV」と表現する)となる様に制御する。この制御は、制御装置8が、硫化水素ガス導入管2aに設置されたバルブV3を操作し、導入する硫化水素ガスの量を制御することにより管理される。
【0021】
第一段の硫化反応槽10中の脱銅後液はスターラーにより攪拌され、さらに蒸気導入管(図示せず)から蒸気が吹き込まれ、60℃程度に加熱される。加熱される事により、反応が促進され、反応液の粘性も低下し、硫化物の濾過性も向上する。また、スターラーによる攪拌の効果を向上させるため、硫化反応槽壁に邪魔板(図示せず)等の凹凸を設けても良い。
【0022】
第一硫化反応槽10への脱銅後液は連続して供給され、硫化反応後の液はオーバーフローして、第一硫化反応槽10と同一の構成であるが容量の僅かに小さな第二段の硫化反応槽20へ供給される。以下、同様に硫化反応槽は、後段になる程小さくなる。
なお、脱銅後液の硫化反応槽10への供給量は、内径が1100mm、深さ1000mmの硫化反応槽に深さ650mmまで液が入っている場合で、78リットル/分とされる。一方、硫化水素ガスは、4槽で約100リットル/分の割合で供給される。硫化反応槽にて必要な硫化水素ガスの量は、生成する硫化物の量により決められ、硫化物の生成に必要な理論量の5〜10%増加した量が必要とされる。
【0023】
本発明では、ガスホルダー7に貯蓄される硫化水素の量がほぼ一定となるように、制御装置8が、液用配管1a及び/又は液用配管1bに設置されたバルブV1及び/又はV2の開閉を制御する。図示された好ましい実施形態では、液用配管1bに設置されたバルブV2の開閉を制御することにより、すなわち、冷凍後液タンク5からの冷凍後電解液の供給量を調節することにより、硫化水素発生槽6で発生する硫化水素の量を制御している。本発明では、各硫化反応槽10、20、30、40への硫化水素供給量を制御しているため余剰の硫化水素は発生しないこととなっているが、余剰の分が発生した場合には、硫化水素は硫化反応槽上部の排気管から排気され、苛性ソーダに吸収され、濃縮され水硫化ソーダとなり、再利用される。
【0024】
第一硫化反応槽10から、オーバーフローして第二硫化反応槽20へ導入された反応液は酸化還元電位が370〜390mVの範囲で管理される。この酸化還元電位では、主として、砒素が硫化沈殿物として分離される。なお、第二硫化反応槽20では、硫化水素の添加、加熱、攪拌等の条件は硫化反応槽10より容積がやや小さくなった点を除いて第一硫化反応槽10と同一で管理され硫化反応後液が排出される。同様にして、第二硫化反応槽20から、第三硫化反応槽30に送られアンチモンが、さらに、最終段の第四硫化反応槽40に送られビスマスが硫化沈殿物として分離される。第四硫化反応槽40から排出された硫化反応後液は、第一の貯液槽50に蓄えられた後、フィルタープレス等のろ過手段へ送られ、慣用的な方法にて濾過され、硫化物は回収される。ろ液は、ニッケルを高純度で含んでおり、これを従来周知の冷却・冷凍することにより粗ニッケルを分離する。
【0025】
他方、脱硫化水素槽52内には脱銅後液(銅濃度は10g/リットル、砒素濃度は5g/リットル、ニッケル濃度は15g/リットル、遊離硫酸濃度は240g/リットル)が液用配管1cを介して導入され、硫化水素発生槽6から液用配管1dを介して排出された硫化水素を含む廃液と混合される。廃液中の硫化水素は、脱銅後液中の銅等の金属元素と硫化物を形成し、液中の硫化水素は消費される。反応後の廃液は第二の貯液槽54に一旦溜められた後、ろ過機56で濾過され、硫化物は回収され、濾液は電解槽に戻されて再利用される。
上記では四段の硫化反応槽を用いる場合について説明したが、酸化還元電位を適宜管理すれば二、三段又は五段以上の多段処理も可能である。
【0026】
【実施例】
予め脱銅処理を行った脱銅後液を使用した。硫化反応は四段処理とした。電解液中の各種金属元素等の濃度は、銅10g/リットル、砒素4.7g/リットル、アンチモン0.6g/リットル、ビスマス0.3g/リットル、ニッケル16.0g/リットル、遊離硫酸252g/リットルだった。この脱銅後液(6000リットル)を第一硫化反応槽に導入した。操業条件は以下の値とし、7時間操業した。
硫化反応槽 10 20 30 40
通液量(l/分) 78 78 78 78
酸化還元電位(mV) 380*10 280*8 250*8 200*8
温度(℃) 60 60 60 60
硫化水素量(l/分) 50*5 20*5 20*5 10*5
攪拌(rpm) 280 280 280 280
【0027】
上記実施の結果、最終段の硫化反応槽40からの排出液に含まれる各種金属元素等の濃度は、銅0g/リットル、砒素0.5g/リットル、アンチモン0g/リットル、ビスマス0g/リットル、ニッケル16.0g/リットル、遊離硫酸267g/リットルだった。
こうして、最終段の硫化反応槽40後は、ニッケルを除いた銅、砒素、アンチモン及びビスマスも硫化沈殿物の形態となり分離可能となった。
最終段の硫化反応槽40からの排出液に含まれる高純度のニッケルは、加熱濃縮後冷却、濾過する事により、82kgの硫酸ニッケルを得た。
【0028】
硫化水素発生槽6は、直径450mm、深さ1300mmのものを使用し、液量を深さ850*50mmとした。操業条件は以下の通りで7時間操業した。なお、水硫化ソーダは水溶液の形態で供給した。
通液電解液量 0.5リットル/分
水硫化ソーダ添加量 250g/分
酸化還元電位 −100*5mV
温度 60℃
硫化水素ガス圧 0.01*0.002MPa
攪拌量 40リットル/分
上記の条件により、100リットル/分の硫化水素が得られた。なお、水硫化水素の反応効率は98%だった。
【0029】
【発明の効果】
本発明の銅電解尾液の自動浄液装置及び銅電解尾液の自動浄液方法により、硫化水素の発生量を制御しつつ硫化反応槽における硫化沈殿物の発生を効率的且つ確実に行うことができる。しかも、猛毒の硫化水素の発生、管理、そして、硫化反応槽への供給を隔離した制御室などから行うことができ、作業安全上も好適な環境を作ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る銅電解尾液の自動浄液装置の一実施形態のブロック図である。
【図2】特開平11−286797号に開示された浄液方法の流れを示すフローチャートである。
【符号の説明】
1 液用配管
2 ガス用配管
3 電解液タンク
4 水硫化ソーダタンク
5 冷凍後液タンク
6 硫化水素発生槽
7 ガスホルダー
8 制御装置
10、20,30,40 硫化反応槽
50 第一の貯液槽
52 脱硫化水素槽
54 第二の貯液槽
56 ろ過機
60 電解槽
62 脱銅電解装置[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention provides a post-decoppering solution for removing impurity metals such as copper, arsenic, antimony, bismuth and nickel, which increase in the circulating copper electrolyte when electrolytically purifying crude copper to produce high purity electrolytic copper. The present invention relates to an automatic liquid purification apparatus and a liquid purification method. In particular, by adding sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid while controlling the supply amount in the system, a necessary amount of hydrogen sulfide is generated, and this hydrogen sulfide is used to supply a predetermined amount to a multi-stage sulfidation reaction tank. The present invention relates to an automatic liquid purification apparatus and a liquid purification method for a post-copper removal liquid that can efficiently and reliably produce a sulfide precipitate.
[0002]
[Prior art]
In copper electrolytic refining, since the amount of copper eluted from the anode is generally larger than the amount of copper deposited on the cathode, the concentration of copper in the electrolytic solution gradually increases. Increasing the copper concentration above a predetermined level prevents optimal electrolytic purification. On the other hand, impurities such as arsenic, bismuth, nickel and antimony contained in the copper anode are eluted into the electrolyte. When these impurity ion concentrations become high, they are deposited on the cathode to lower the quality of electrolytic copper. Nickel also raises the electrolysis voltage, and antimony also exhibits harmful effects such as floating due to hydrolysis. Therefore, it is important to purify the copper electrolytic circulating liquid that is extracted from the electrolytic cell and returned to the electrolytic cell after purification.
[0003]
As the liquid purification method, the copper electrolytic tail solution is concentrated by heating and the difference in solubility is utilized, copper is separated and removed as copper sulfate, and then the copper, arsenic, antimony and bismuth remaining in the solution are electrodeposited by electrolytic collection. Finally, a method of cooling the liquid and separating and removing nickel as nickel sulfate has been widely practiced. However, since this liquid purification method uses an electrolytic collection method for removing arsenic and antimony, there is a drawback that highly toxic arsine gas (AsH3) is generated during electrolysis. Furthermore, there is a disadvantage that the amount of power consumption during electrowinning is extremely large.
[0004]
In order to solve the above problem, the applicant of the present application disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-286797 by contacting hydrogen sulfide gas as shown in FIG. 2 to sulfidize copper, arsenic, antimony, and bismuth in the solution after decopperization. After separating and removing as a product and recovering copper, etc., the post-copper removal solution is divided into two parts, one is removed and returned to the recirculating copper removal solution in the liquid purification system, and the other post-copper removal solution is heated. Concentrate, then cool down and use the difference in solubility of nickel sulfate to remove a portion of the nickel as nickel sulfate and divide the solution after the copper removal again into two parts, one of which circulates in the copper electrolytic purification system Return the electrolyte and add sodium hydrosulfide to the other post-decoppering solution to generate hydrogen sulfide, and then contact this gas with the post-decoppering solution to be processed next. Used to separate and remove copper, arsenic, antimony, and bismuth as sulfides The law was proposed.
In this method, when hydrogen sulfide is generated, nickel sulfide is generated as a side reaction from the nickel content in the solution after copper removal, and can be separated and removed as sulfide.
[0005]
However, when industrially implementing the proposed method on a large scale, there is a problem that hydrogen sulfide is not stably generated. It was found that the generation of hydrogen sulfide is unstable, and if the amount of generated hydrogen sulfide is small, the sulfurization reaction is slow and it takes too much time to clean the liquid after decopperization. If too much hydrogen sulfide is generated, excessive hydrogen sulfide is generated, and it is necessary to store a large amount of highly toxic and expensive hydrogen sulfide gas, and an apparatus for that purpose must be provided.
[0006]
Therefore, the applicant of the present application proposes an apparatus and a method that enable further stable production of hydrogen sulfide by further improving in order to carry out the previously proposed method for purifying the copper-free solution on a large-scale industrial level. In this application, in order to carry out the liquid purification method at an industrial level, a hydrogen sulfide generation tank for generating hydrogen sulfide by bringing sodium hydrosulfide into contact with a solution after copper removal, Next, the hydrogen sulfide gas has at least a first-stage sulfidation reaction tank in contact with the liquid after copper removal, and a second-stage sulfidation reaction tank into which an overflow of the treatment liquid is introduced through a connecting pipe, A treatment apparatus for the post-copper removal solution, which is hermetically sealed, was proposed. The sulfurization reaction can be performed in multiple stages with multiple sulfuration reaction tanks, and the hydrogen sulfide-containing clean solution including the hydrogen sulfide generation tank can be isolated from the outside air in a sealed state. I was able to do it. In addition, a desulfurization hydrogen tank is also installed in which the hydrogen sulfide-containing waste liquid discharged from the hydrogen sulfide generation tank is brought into contact with the electrolytic solution after decopperization.
[0007]
According to this invention, in order to carry out the reaction stably in an individual technique for carrying out the liquid purification method at an industrial level, for example, in a hydrogen sulfide generation tank, a predetermined amount of hydrogen sulfide gas is stably stabilized. When this hydrogen sulfide gas is generated, sulfuric acid is consumed. However, in order to supply hydrogen sulfide gas stably, it is necessary to reduce the variation in sulfuric acid concentration in the hydrogen sulfide generation tank. In order to reduce the variation in sulfuric acid concentration, a technique has been established that can be managed by measuring the oxidation-reduction potential in the tank.
[0008]
[Problems to be solved by the invention]
However, in this application, there has been no proposal for an automatic liquid purification apparatus or a liquid purification method for a post-copper removal solution that can efficiently and reliably perform operation control at an industrial level, and there has been a demand for these. .
Accordingly, an object of the present invention is to meet the above-mentioned demand for the prior art, and to provide an automatic liquid purification apparatus for a post-copper removal liquid using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation removing agent. An object of the present invention is to provide an automatic liquid purification method for a post-copper removal solution using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation remover.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The first aspect of the present invention is the automatic operation of a post-copper removal solution using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation remover (in the case of not undergoing copper removal electrolysis, a copper electrolytic tail solution; hereinafter referred to as “post-decopperization solution”). A liquid purification device comprising a hydrogen sulfide generation tank for generating hydrogen sulfide by contacting sodium hydrosulfide and sulfuric acid, a gas holder for storing the generated hydrogen sulfide, and hydrogen sulfide gas for copper, arsenic, antimony, bismuth and A plurality of sulfidation reaction tanks arranged in series in contact with the post-decopperization solution containing impurities such as nickel, and the hydrogen sulfide pressure in the gas holder are detected, and to the hydrogen sulfide generation tank of sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid The first control device that can adjust the amount of hydrogen sulfide generated by adjusting the supply amount of hydrogen, and the supply amount of hydrogen sulfide to the sulfidation reaction tank of each stage are adjusted and present in the liquid after copper removal To control the formation of sulfide precipitates of impurities A control unit, and, the automatic solution purification device of copper removal after solution composed is constituted by a hydrodesulfurisation tank for the discharged hydrogen sulphide-containing waste liquid is contacted reacted with Datsudo solution after the hydrogen sulfide generation tank provide.
[0010]
According to a second aspect of the present invention, there is provided an automatic liquid purification apparatus for a post-decopperization liquid according to the first aspect, wherein the second control device measures the oxidation-reduction potential in the sulfurization reaction tank of each stage, thereby causing the sulfidation precipitation. The production amount of the product is detected, and based on this, the supply amount of hydrogen sulfide to the sulfurization reaction tank of each stage is adjusted.
[0011]
A second aspect of the present invention is an automatic liquid purification method for a post-copper removal solution using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation remover, which automatically cleans the post-decopperization solution, including sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid. The step of bringing both into contact with each other while controlling the supply amount of hydrogen and controlling the generation amount of hydrogen sulfide, and removing copper from the copper electrolysis tank into the uppermost sulfurization reaction tank of the multi-stage sulfurization reaction tank connected in series Sending the post-solution, supplying hydrogen sulfide while controlling the supply amount to each stage of the sulfidation reaction tank to generate sulfide precipitate, and removing the sulfide precipitate from the effluent from the most downstream sulfidation reaction tank And removing the hydrogen sulfide from the hydrogen sulfide-containing waste liquid by contact-reacting the hydrogen sulfide-containing waste liquid after generating hydrogen sulfide with the post-decopper-free liquid and removing the hydrogen sulfide from the hydrogen sulfide-containing waste liquid. An automatic liquid purification method for a post-solution is provided.
[0012]
The present invention described in
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, an automatic liquid purification device and an automatic liquid purification method for a post-copper removal solution according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of an automatic liquid purifier for post-copper removal liquid according to the present invention.
An automatic liquid purification apparatus for a post-copper removal liquid according to the present invention is an apparatus for removing a metal such as copper, arsenic, antimony, bismuth and nickel from the post-copper removal liquid and purifying the liquid.
[0014]
Before performing the cleaning with the apparatus of the present invention, by electrolytic extraction from a copper electrolytic tail solution containing impurities such as copper, arsenic, antimony, bismuth and nickel taken out from the electrolytic cell 60 periodically or as necessary. It is also possible to provide a copper removal electrolyzer 62 that separates and collects a part of copper in advance. According to this method, electrolytic copper having a purity of 99% or more can be obtained. Since the copper electrolytic tail liquid contains the largest amount of copper as a metal component, when the liquid is directly brought into contact with hydrogen sulfide gas, a large amount of copper sulfide is produced together with other sulfides. In this case, the consumption of hydrogen sulfide gas is large and the amount of sulfide is also large. It is advantageous if the copper is separated and recovered in advance by electrowinning, because this is no longer necessary. In the electrolytic solution after the treatment, usually, copper is about 5 to 20 g / liter, arsenic is about 1 to 10 g / liter, antimony is about 0.1 to 1 g / liter, nickel is about 5 to 20 g / liter, About 150 to 300 g / liter of free sulfuric acid is contained. Alternatively, the copper sulfate may be separated and recovered in advance by heating and concentrating the solution after copper removal.
[0015]
Next, the automatic liquid purification apparatus of the present invention is roughly divided into various
[0016]
Here, the hydrogen sulfide generation amount is adjusted by the control device 8 detecting the hydrogen sulfide pressure in the gas holder 7 and adjusting the supply amount of sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid to the hydrogen
[0017]
For example, the case where only the valve V2 is controlled to adjust the supply amount of sulfuric acid to the hydrogen
The sulfuric acid concentration in the hydrogen
[0018]
In the hydrogen
[0019]
In addition, the control device 8 detects the oxidation-reduction potential in each sulfidation reaction tank and adjusts the supply amount of hydrogen sulfide to the sulfidation reaction tanks 10, 20, 30, 40 in each stage, and the sulfidation reaction tanks in each stage. This is done by adjusting the amount of hydrogen sulfide supplied to 10, 20, 30, 40. In the illustrated preferred embodiment, the supply amount of hydrogen sulfide to the sulfidation reaction tanks 10, 20, 30, 40 of each stage is adjusted by controlling the opening and closing of the valves V3 to V6. In the above-described embodiment, these controls are performed by one control device 8, but may be performed by another control device.
[0020]
Next, removal of impurities such as copper, arsenic, antimony, bismuth and nickel in the sulfurization reaction tank will be described in detail with reference to FIG.
An example of four-stage treatment in the four sulfuration reaction tanks (10, 30, 50, 70) of FIG. The post-copper removal liquid from which a part of copper has been separated and removed is put into the first stage sulfurization reaction tank 10. The hydrogen sulfide gas generated in the hydrogen
[0021]
The post-copper removal liquid in the first stage sulfidation reaction tank 10 is stirred by a stirrer, and steam is blown from a steam introduction pipe (not shown) and heated to about 60 ° C. By heating, the reaction is promoted, the viscosity of the reaction solution is lowered, and the filterability of sulfide is improved. Moreover, in order to improve the effect of stirring by a stirrer, unevenness such as a baffle plate (not shown) may be provided on the sulfurization reaction tank wall.
[0022]
The liquid after the copper removal to the first sulfurization reaction tank 10 is continuously supplied, and the liquid after the sulfurization reaction overflows, and has the same configuration as the first sulfurization reaction tank 10 but a slightly smaller capacity second stage. To the sulfurization reaction tank 20. Hereinafter, similarly, the sulfidation reaction tank becomes smaller as it becomes later.
In addition, the supply amount of the liquid after the copper removal to the sulfurization reaction tank 10 is 78 liters / minute when the liquid is contained up to a depth of 650 mm in the sulfurization reaction tank having an inner diameter of 1100 mm and a depth of 1000 mm. On the other hand, hydrogen sulfide gas is supplied at a rate of about 100 liters / minute in four tanks. The amount of hydrogen sulfide gas required in the sulfidation reaction tank is determined by the amount of sulfide produced, and an amount increased by 5 to 10% of the theoretical amount necessary for the production of sulfide is required.
[0023]
In the present invention, the control device 8 is connected to the valves V1 and / or V2 installed in the liquid pipe 1a and / or the liquid pipe 1b so that the amount of hydrogen sulfide stored in the gas holder 7 is substantially constant. Controls opening and closing. In the illustrated preferred embodiment, hydrogen sulfide is controlled by controlling the opening and closing of the valve V2 installed in the liquid pipe 1b, that is, by adjusting the supply amount of the post-freezing electrolyte from the
[0024]
The reaction solution overflowed from the first sulfurization reaction tank 10 and introduced into the second sulfurization reaction tank 20 is managed in the range of oxidation-reduction potential of 370 to 390 mV. At this redox potential, arsenic is mainly separated as a sulfide precipitate. In the second sulfidation reaction tank 20, the conditions such as addition of hydrogen sulfide, heating, and stirring are controlled in the same manner as in the first sulfidation reaction tank 10 except that the volume is slightly smaller than in the sulfidation reaction tank 10. The after liquor is discharged. Similarly, antimony sent from the second sulfurization reactor 20 to the third sulfurization reactor 30 is further sent to the fourth sulfidation reactor 40 in the final stage, and bismuth is separated as a sulfide precipitate. The sulfurized post-reaction liquid discharged from the fourth sulfidation reaction tank 40 is stored in the first liquid storage tank 50, and then sent to a filtering means such as a filter press, filtered by a conventional method, and sulfide. Is recovered. The filtrate contains nickel at a high purity, and crude nickel is separated by cooling and freezing it in a well-known manner.
[0025]
On the other hand, in the desulfurized hydrogen tank 52, a liquid after copper removal (copper concentration is 10 g / liter, arsenic concentration is 5 g / liter, nickel concentration is 15 g / liter, free sulfuric acid concentration is 240 g / liter) is connected to the liquid pipe 1c. And waste liquid containing hydrogen sulfide discharged from the hydrogen
In the above description, the case of using a four-stage sulfidation reaction tank has been described. However, if the oxidation-reduction potential is appropriately controlled, multistage treatment of two, three stages, five stages or more is possible.
[0026]
【Example】
A solution after copper removal which had been subjected to copper removal treatment in advance was used. The sulfurization reaction was a four-stage process. Concentrations of various metal elements in the electrolyte are 10 g / liter copper, 4.7 g / liter arsenic, 0.6 g / liter antimony, 0.3 g / liter bismuth, 16.0 g / liter nickel, 252 g / liter free sulfuric acid. was. The solution after removing copper (6000 liters) was introduced into the first sulfurization reactor. The operating conditions were as follows and operated for 7 hours.
Sulfurization reactor 10 20 30 40
Flow rate (l / min) 78 78 78 78
Redox potential (mV) 380 * 10 280 * 8 250 * 8 200 * 8
Temperature (℃) 60 60 60 60
Hydrogen sulfide amount (l / min) 50 * 5 20 * 5 20 * 5 10 * 5
Agitation (rpm) 280 280 280 280
[0027]
As a result of the above implementation, the concentrations of various metal elements contained in the effluent from the final stage sulfurization reactor 40 are copper 0 g / liter, arsenic 0.5 g / liter, antimony 0 g / liter, bismuth 0 g / liter, nickel It was 16.0 g / liter and free sulfuric acid 267 g / liter.
Thus, after the final stage sulfurization reactor 40, copper, arsenic, antimony, and bismuth excluding nickel were also in the form of sulfide precipitates and became separable.
High-purity nickel contained in the effluent from the final stage sulfidation reaction tank 40 was heated and concentrated, cooled and filtered to obtain 82 kg of nickel sulfate.
[0028]
A hydrogen
Flowing electrolyte amount 0.5 liter / min Sodium hydrosulfide addition amount 250 g / min redox potential −100 * 5 mV
60 ° C
Hydrogen sulfide gas pressure 0.01 * 0.002MPa
Stirring rate 40 liters / minute Under the above conditions, 100 liters / minute of hydrogen sulfide was obtained. The reaction efficiency of hydrogen hydrosulfide was 98%.
[0029]
【The invention's effect】
Efficient and reliable generation of sulfide precipitates in a sulfidation reactor while controlling the amount of hydrogen sulfide generated by the copper electrolytic tail solution automatic cleaning device and the copper electrolytic tail solution automatic cleaning method of the present invention. Can do. In addition, the generation and management of highly toxic hydrogen sulfide and the supply to the sulfurization reaction tank can be performed from a separate control room, and a suitable environment for work safety can be created.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a block diagram of an embodiment of an automatic copper tail solution purifier according to the present invention.
FIG. 2 is a flowchart showing the flow of a liquid purification method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-286797.
[Explanation of symbols]
1
Claims (4)
水硫化ソーダと硫酸を接触させて硫化水素を発生させる硫化水素発生槽と、
発生した硫化水素を貯蔵するガスホルダーと、
前記硫化水素ガスを銅、砒素、アンチモン、ビスマス及びニッケル等の不純物を含有する脱銅後液と接触させる直列に並べられた複数の硫化反応槽と、
前記ガスホルダー内の硫化水素圧力を検知し、水硫化ソーダ及び/又は硫酸の硫化水素発生槽への供給量を調節することにより硫化水素の発生量を調整することができる第一の制御装置と、
各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節し、脱銅後液中に存在する不純物の硫化沈殿物の生成を制御する第二の制御装置と、そして、
前記硫化水素発生槽から排出された硫化水素含有廃液を脱銅後液と接触反応させる脱硫化水素槽と、
を備えて構成されてなる脱銅後液の自動浄液装置。An automatic liquid purification device for the post-copper removal liquid using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation remover,
A hydrogen sulfide generation tank for generating hydrogen sulfide by contacting sodium hydrosulfide and sulfuric acid;
A gas holder for storing the generated hydrogen sulfide,
A plurality of sulfurization reaction tanks arranged in series, wherein the hydrogen sulfide gas is brought into contact with a post-decopperization solution containing impurities such as copper, arsenic, antimony, bismuth and nickel;
A first control device capable of adjusting a hydrogen sulfide generation amount by detecting a hydrogen sulfide pressure in the gas holder and adjusting a supply amount of sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid to a hydrogen sulfide generation tank; ,
A second control device for adjusting the supply amount of hydrogen sulfide to the sulfurization reaction tank of each stage, and controlling the generation of sulfide precipitates of impurities present in the liquid after decopperization; and
A desulfurization hydrogen tank for contacting the hydrogen sulfide-containing waste liquid discharged from the hydrogen sulfide generation tank with a post-decoppering liquid; and
An automatic liquid purification device for the liquid after copper removal, which is configured to include:
前記第二制御装置は、各段の硫化反応槽における酸化還元電位を測定することにより硫化沈殿物の生成量を検出し、これに基づいて各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節することを特徴とする脱銅後液の自動浄液装置。In the automatic liquid purification apparatus of the post-copper removal liquid according to claim 1,
The second control device detects the amount of sulfide precipitate generated by measuring the oxidation-reduction potential in each stage of the sulfurization reaction tank, and based on this, determines the amount of hydrogen sulfide supplied to the sulfurization reaction tank of each stage. An automatic liquid purification device for the liquid after copper removal, characterized by adjusting.
水硫化ソーダ及び/又は硫酸の供給量を制御しつつ両者を接触させ、硫化水素を生成量を制御して発生させる工程と、
直列に接続された多段硫化反応槽の最上流の硫化反応槽に銅電解槽からの脱銅後液を送液すると共に、各段の硫化反応槽に供給量を制御しながら硫化水素を供給し硫化沈殿物を生成する工程と、
最下流の硫化反応槽からの排液から硫化沈殿物を除去する工程と、そして、
硫化水素を発生させた後の硫化水素含有廃液を脱銅後液と接触反応させ、硫化水素含有廃液から硫化水素を除去する工程と、
を含んで構成されてなる脱銅後液の自動浄液方法。An automatic liquid purification method for a post-copper removal liquid that automatically purifies the post-decopperization liquid using hydrogen sulfide as a sulfide precipitation remover,
A step of bringing hydrogen sulfide into contact with each other while controlling the supply amount of sodium hydrosulfide and / or sulfuric acid, and generating hydrogen sulfide by controlling the production amount;
After removing the copper-free copper from the copper electrolysis tank, the hydrogen sulfide is supplied to each stage of the sulfurization reaction tank while controlling the supply amount. Producing a sulfide precipitate;
Removing sulfurized sediment from the effluent from the most downstream sulfurization reactor; and
Removing hydrogen sulfide from the hydrogen sulfide-containing waste liquid by reacting the hydrogen sulfide-containing waste liquid after the generation of hydrogen sulfide with the liquid after the copper removal contact reaction;
A method for automatically purifying a solution after copper removal, comprising:
前記硫化沈殿物生成工程は、各段の硫化反応槽における酸化還元電位を測定することにより硫化沈殿物の生成量を検出し、これに基づいて各段の硫化反応槽への硫化水素の供給量を調節することを特徴とする脱銅後液の自動浄液方法。In the automatic liquid cleaning method of the post-copper removal liquid according to claim 3 ,
The sulfide precipitate generation step detects the amount of sulfide precipitate generated by measuring the oxidation-reduction potential in each stage of the sulfurization reaction tank, and based on this, the amount of hydrogen sulfide supplied to each stage of the sulfurization reaction tank A method for automatically purifying a solution after decoppering, characterized by adjusting the pH.
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