JP3265393B2 - ２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及びその製法 - Google Patents
２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール及びその製法Info
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Description
【０００１】本発明は、２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールに係る。
ル）ベンゾトリアゾールに係る。
【０００２】さらに詳述すれば、本発明は、分子中に
２,４−イミダゾリジンジオン基又は２,４−イミダゾリ
ジンジオン−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、その製法及び
有機重合体用の光安定剤としての使用にかかる。
２,４−イミダゾリジンジオン基又は２,４−イミダゾリ
ジンジオン−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、その製法及び
有機重合体用の光安定剤としての使用にかかる。
【０００３】本発明は、上記ベンゾトリアゾールによっ
て安定化させた有機重合体組成物及びこれら組成物から
得られた最終製品にも係る。
て安定化させた有機重合体組成物及びこれら組成物から
得られた最終製品にも係る。
【０００４】光安定剤として使用される２−(２'−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で知られ
ている。しかしながら、これらのベンゾトリアゾールは
各種の欠点を有する。実際のところ、これらはかなり揮
発性であり、熱安定性が低く400nmに吸収を有するた
め、これらが配合された重合体を黄色に着色する。 発
明者らは、驚くべきことには、分子中に２,４−イミダ
ゾリジンジオン基又は、２,４−イミダゾリジンジオン
−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で公知の欠点を解
消できることを見出し、本発明に至った。事実、これら
ベンゾトリアゾールは、低い揮発性（このため、安定化
有機重合体内に長期間留まることができる）及び高い熱
安定性を有する。さらに、これらはλ＝400nmに低い吸
収を有し、ベンゾトリアゾールの代表的な２つのλ、す
なわち約300nm及び340nmにおける吸収を保持し、その結
果、これらが配合された重合体を黄色に着色することは
ない。
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で知られ
ている。しかしながら、これらのベンゾトリアゾールは
各種の欠点を有する。実際のところ、これらはかなり揮
発性であり、熱安定性が低く400nmに吸収を有するた
め、これらが配合された重合体を黄色に着色する。 発
明者らは、驚くべきことには、分子中に２,４−イミダ
ゾリジンジオン基又は、２,４−イミダゾリジンジオン
−５,５−ジ置換基を含有する２−(２'−ヒドロキシフ
ェニル）ベンゾトリアゾールは当分野で公知の欠点を解
消できることを見出し、本発明に至った。事実、これら
ベンゾトリアゾールは、低い揮発性（このため、安定化
有機重合体内に長期間留まることができる）及び高い熱
安定性を有する。さらに、これらはλ＝400nmに低い吸
収を有し、ベンゾトリアゾールの代表的な２つのλ、す
なわち約300nm及び340nmにおける吸収を保持し、その結
果、これらが配合された重合体を黄色に着色することは
ない。
【０００５】このように、本発明は、下記一般式（Ｉ）
で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾールに係る。
で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾールに係る。
【０００６】一般式（Ｉ）
【化１】 式中、Ｘは、水素原子、塩素及び臭素から選ばれるハロ
ゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖
状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、又はシアノ基で
あり；Ｒは、塩素又は臭素から選ばれるハロゲン原子、
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）、Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基、Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）、直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）、
式 −ＣＯＨ で表される基、−ＣＯＲ4又は−ＮＲ5Ｒ6基［ここで、
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、同一又は異なるものであって、直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖状又は分枝状
のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ2-18アル
キニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていても
よい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール
基；Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）；酸
素、窒素及びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテ
ロ原子を含有する５又は６員複素環基（置換されていて
もよい）である］であるか；又は、Ｒは、一般式（II）
ゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖
状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、又はシアノ基で
あり；Ｒは、塩素又は臭素から選ばれるハロゲン原子、
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）、Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基、Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）、直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）、
式 −ＣＯＨ で表される基、−ＣＯＲ4又は−ＮＲ5Ｒ6基［ここで、
Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、同一又は異なるものであって、直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖状又は分枝状
のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ2-18アル
キニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていても
よい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリール
基；Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）；酸
素、窒素及びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテ
ロ原子を含有する５又は６員複素環基（置換されていて
もよい）である］であるか；又は、Ｒは、一般式（II）
【化２】 一般式（III）
【化３】 一般式（IV）
【化４】 で表されるエステル基、又は、一般式（Ｖ）
【化５】 で表されるアミド基［これら一般式において、Ｒ′は、
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基；Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）；直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基；酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）で
ある］であるか；又は、Ｒは、構造式（VI）
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基；Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）；直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基；酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）で
ある］であるか；又は、Ｒは、構造式（VI）
【化６】 を有する４,４'−エチリデンビスフェノール基であり；
Ｒ1は、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル
基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又
は分枝状のＣ2-18アルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル
基（置換されていてもよい）、Ｃ7-15アリールアルキル
又はアルキルアリール基、Ｃ6-14アリール基（置換され
ていてもよい）、酸素、窒素及びイオウから選ばれる少
なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環
基（置換されていてもよい）、一般式（VII）
Ｒ1は、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル
基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又
は分枝状のＣ2-18アルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル
基（置換されていてもよい）、Ｃ7-15アリールアルキル
又はアルキルアリール基、Ｃ6-14アリール基（置換され
ていてもよい）、酸素、窒素及びイオウから選ばれる少
なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環
基（置換されていてもよい）、一般式（VII）
【化７】 で表されるアシル基又は一般式（VIII）
【化８】 で表されるエステル基（これら一般式において、Ｒ′は
前記と同意義である）であり；Ｒ2及びＲ3は、同一又は
異なるものであって、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ
1-18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及びイオウか
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又
は６員複素環基（置換されていてもよい）である。
前記と同意義である）であり；Ｒ2及びＲ3は、同一又は
異なるものであって、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ
1-18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及びイオウか
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又
は６員複素環基（置換されていてもよい）である。
【０００７】一般式（Ｉ）で表される化合物は有機重合
体用の光安定剤として使用される。Ｃ5-18シクロアルキ
ル基、Ｃ6-14アリール基及び５又は６員複素環基が置換
されたものである場合、これらの基は、塩素及び臭素か
ら選ばれるハロゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18ア
ルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直
鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、ＯＨ基、ＮＨ
基、ＳＨ基で置換される。
体用の光安定剤として使用される。Ｃ5-18シクロアルキ
ル基、Ｃ6-14アリール基及び５又は６員複素環基が置換
されたものである場合、これらの基は、塩素及び臭素か
ら選ばれるハロゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18ア
ルキル基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直
鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、ＯＨ基、ＮＨ
基、ＳＨ基で置換される。
【０００８】Ｃ1-18アルキル基の例としては、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級
ブチル、第３級ブチル、第３級アミル、２−エチルヘキ
シル、ｎ−オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチ
ル、ｎ−ドデシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチ
ル、ｎ−オクタデシル等がある。
エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級
ブチル、第３級ブチル、第３級アミル、２−エチルヘキ
シル、ｎ−オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチ
ル、ｎ−ドデシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチ
ル、ｎ−オクタデシル等がある。
【０００９】Ｃ2-18アルケニル基の例としては、ビニ
ル、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等
がある。
ル、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン等
がある。
【００１０】Ｃ2-18アルキニル基の例としては、アセチ
レン、プロピン、ブチン、２−ブチン等がある。
レン、プロピン、ブチン、２−ブチン等がある。
【００１１】Ｃ5-18シクロアル基（置換されていてもよ
い）の例は、シクロヘキシル、シクロペンチル、メチル
シクロヘキシル等である。
い）の例は、シクロヘキシル、シクロペンチル、メチル
シクロヘキシル等である。
【００１２】Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリ
ールの例は、ベンジル、２−フェニルエチル、４−第３
級ブチルベンジル等である。
ールの例は、ベンジル、２−フェニルエチル、４−第３
級ブチルベンジル等である。
【００１３】Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよ
い）の例は、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２
−ヒドロキシフェニル等である。
い）の例は、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２
−ヒドロキシフェニル等である。
【００１４】Ｃ1-18アルコキシル基の例としては、メト
キシル、エトキシル、プロポキシル、ｎ−ブトキシル等
がある。
キシル、エトキシル、プロポキシル、ｎ−ブトキシル等
がある。
【００１５】５又は６員複素環基（置換されていてもよ
い）の例は、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、ト
リアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピ
ペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモル
ホリン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジン等で
ある。
い）の例は、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、ト
リアゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピ
ペリジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモル
ホリン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジン等で
ある。
【００１６】一般式（Ｉ）で表される化合物の特別な例
（本発明の範囲を限定するものではない）は、次のとお
りである。 （Ia）
（本発明の範囲を限定するものではない）は、次のとお
りである。 （Ia）
【化１４】 （Ib）
【化１５】 （Ic）
【化１６】 本発明の一般式（I）で表される化合物は各種の方法に
よって調製される。
よって調製される。
【００１７】本発明の他の目的は、一般式（I）で表さ
れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ルの製法に係る。
れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ルの製法に係る。
【００１８】一般式（Ｉ）で表される化合物の製法は、
一般式（IX）
一般式（IX）
【化１１】 （式中、Ｘ及びＲは前記と同意義である）で表される２
−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールと、
一般式（Ｘ）
−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールと、
一般式（Ｘ）
【化１２】 で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１,３−ジメ
チロール又は一般式（Xa）
チロール又は一般式（Xa）
【化１３】 で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１−メチロ
ール（これらの式において、Ｒ2及びＲ3は前記と同意義
である）とを、たとえば、濃度８０〜９６％の濃硫酸の
存在下、温度−５〜＋８０℃で反応させることからな
る。このようにして得られた混合物から、当分野で公知
の方法、たとえば、水、好ましくは水−氷混合物で希釈
し、得られた固状物を瀘取し、つづいて洗浄し、不活性
有機溶媒の存在下での結晶化によって所望の化合物を単
離する。
ール（これらの式において、Ｒ2及びＲ3は前記と同意義
である）とを、たとえば、濃度８０〜９６％の濃硫酸の
存在下、温度−５〜＋８０℃で反応させることからな
る。このようにして得られた混合物から、当分野で公知
の方法、たとえば、水、好ましくは水−氷混合物で希釈
し、得られた固状物を瀘取し、つづいて洗浄し、不活性
有機溶媒の存在下での結晶化によって所望の化合物を単
離する。
【００１９】上記結晶化に使用できる不活性溶媒は、た
とえば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン等の如き直鎖状又は環状の脂肪族炭化水
素；たとえば、トルエンの如き芳香族炭化水素；たとえ
ば、メタノール、イソプロパノールの如きアルコール；
たとえば、クロルベンゼン等の如き塩素化芳香族溶媒；
たとえば、メチルイソブチルケトン等の如きケトン；た
とえば、２−メトキシエタノール（メチルセロソルブ）
等の如きエチレングリコールのモノアルチルエーテルで
ある。
とえば、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン、メチル
シクロヘキサン等の如き直鎖状又は環状の脂肪族炭化水
素；たとえば、トルエンの如き芳香族炭化水素；たとえ
ば、メタノール、イソプロパノールの如きアルコール；
たとえば、クロルベンゼン等の如き塩素化芳香族溶媒；
たとえば、メチルイソブチルケトン等の如きケトン；た
とえば、２−メトキシエタノール（メチルセロソルブ）
等の如きエチレングリコールのモノアルチルエーテルで
ある。
【００２０】一般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾールにおいて、Ｒが一般
式（II）、（III）又は（IV）で表されるエステル基、
又は一般式（V）で表されるアミド基である場合、上述
の一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと、一般式（Ｘ）で表される
２,４−イミダゾリジンジオン−１,３−ジメチロール又
は一般式（Xa）で表される２,４−イミダゾリジンジオ
ン−１−メチルロールとの間の反応は、硫酸の不存在下
で行われなければならない。
キシフェニル）ベンゾトリアゾールにおいて、Ｒが一般
式（II）、（III）又は（IV）で表されるエステル基、
又は一般式（V）で表されるアミド基である場合、上述
の一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと、一般式（Ｘ）で表される
２,４−イミダゾリジンジオン−１,３−ジメチロール又
は一般式（Xa）で表される２,４−イミダゾリジンジオ
ン−１−メチルロールとの間の反応は、硫酸の不存在下
で行われなければならない。
【００２１】この反応は、触媒としてトルエン及びｐ−
トルエンスルホン酸の存在下、室温〜トルエンの沸点の
範囲の温度で行われる。
トルエンスルホン酸の存在下、室温〜トルエンの沸点の
範囲の温度で行われる。
【００２２】一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾールは、たとえば、独国
特許出願第4237817号に開示された如くして調製され
る。
キシフェニル）ベンゾトリアゾールは、たとえば、独国
特許出願第4237817号に開示された如くして調製され
る。
【００２３】一般式（Ｘ）で表される２,４−イミダゾ
リジンジオン−１,３−ジメチロールは、たとえば、米
国特許第4908456号に開示された如くして調製される。
一般式（Xa）で表される２,４−イミダゾリジンジオン
−１−メチロールは、たとえば、ルーマニア特許第7241
3号に開示された如くして調製される。
リジンジオン−１,３−ジメチロールは、たとえば、米
国特許第4908456号に開示された如くして調製される。
一般式（Xa）で表される２,４−イミダゾリジンジオン
−１−メチロールは、たとえば、ルーマニア特許第7241
3号に開示された如くして調製される。
【００２４】一般式（Ｉ）で表される化合物は、上述の
一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと一般式（XI）
一般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールと一般式（XI）
【化１７】 （ここで、Ｒ2及びＲ3は前記と同意義である）で表され
る化合物とを、たとえば、米国特許第4077971号に開示
された如く操作して、ホルムアルデヒド及び硫酸の存在
下で反応させることによっても調製される。
る化合物とを、たとえば、米国特許第4077971号に開示
された如く操作して、ホルムアルデヒド及び硫酸の存在
下で反応させることによっても調製される。
【００２５】上述した如く、本発明の一般式（Ｉ）で表
される化合物は、広範囲の有機重合体用の光安定剤とし
て使用される。
される化合物は、広範囲の有機重合体用の光安定剤とし
て使用される。
【００２６】本発明の化合物によって安定化されうる有
機重合体としては次のものがある。 （１）たとえば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリ−ブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポ
リイソプレン又はポリブタジエンの如きモノオレフィン
及びジオレフィン重合体、たとえば、シクロペンテン又
はノルボルネンの如きシクロオレフィンの重合体；たと
えば、高密度ポリエチレン（HDPE）、低密度ポリエチレ
ン（LDPE）、直鎖状低密度ポリエチレン（LLDPE）、分
枝状低密度ポリエチレン（BLDPE）の如きポリエチレン
（任意に架橋される）。
機重合体としては次のものがある。 （１）たとえば、ポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリ−ブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポ
リイソプレン又はポリブタジエンの如きモノオレフィン
及びジオレフィン重合体、たとえば、シクロペンテン又
はノルボルネンの如きシクロオレフィンの重合体；たと
えば、高密度ポリエチレン（HDPE）、低密度ポリエチレ
ン（LDPE）、直鎖状低密度ポリエチレン（LLDPE）、分
枝状低密度ポリエチレン（BLDPE）の如きポリエチレン
（任意に架橋される）。
【００２７】たとえば、上述のモノオレフィンの如きポ
リオレフィン、好ましくは、ポリエチレン及びポリプロ
ピレンは、文献において公知の各種の方法、好ましくは
次の方法を利用して調製される。
リオレフィン、好ましくは、ポリエチレン及びポリプロ
ピレンは、文献において公知の各種の方法、好ましくは
次の方法を利用して調製される。
【００２８】 （ａ）ラジカル重合法（一般に高圧及び高温で行われ
る） （ｂ）通常、周期律表第IVb、Vb，VIb，又はVIII族の１
以上の金属を含有する触媒を使用して行われる触媒重合
法。一般に、これら金属は、たとえばπ−又はα−配位
される酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エーテ
ル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリール
の如き１以上の配位子を有する。これらの金属錯体は、
たとえば、活性化クロル化マグネシウム、クロル化チタ
ン（III）、アルミナ又は酸化ケイ素の如き物質から遊
離しているか又はこれらに支持される。触媒は単独で、
又は、たとえば、金属アルキル、金属ヒドリッド、金属
アルキルのハロゲン化物、金属アルキルの酸化物又は金
属アルキルオキサン（これら金属は、周期律表第Ia，II
a、及び／又はIIIa族に属する元素である）の如き他の
活性剤の存在下で使用される。
る） （ｂ）通常、周期律表第IVb、Vb，VIb，又はVIII族の１
以上の金属を含有する触媒を使用して行われる触媒重合
法。一般に、これら金属は、たとえばπ−又はα−配位
される酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エーテ
ル、アミン、アルキル、アルケニル及び／又はアリール
の如き１以上の配位子を有する。これらの金属錯体は、
たとえば、活性化クロル化マグネシウム、クロル化チタ
ン（III）、アルミナ又は酸化ケイ素の如き物質から遊
離しているか又はこれらに支持される。触媒は単独で、
又は、たとえば、金属アルキル、金属ヒドリッド、金属
アルキルのハロゲン化物、金属アルキルの酸化物又は金
属アルキルオキサン（これら金属は、周期律表第Ia，II
a、及び／又はIIIa族に属する元素である）の如き他の
活性剤の存在下で使用される。
【００２９】活性化剤は、他のエステル、エーテル、ア
ミン又はシリル−エーテル基で変性される。これらの触
媒系は、通常、Phillips, Standard Oil Indiana, チー
グラー（ナッタ）、TNZ（Du Pont)、メタロセン又は
「シングル・サイト・触媒（SSC）」と称される。
ミン又はシリル−エーテル基で変性される。これらの触
媒系は、通常、Phillips, Standard Oil Indiana, チー
グラー（ナッタ）、TNZ（Du Pont)、メタロセン又は
「シングル・サイト・触媒（SSC）」と称される。
【００３０】（２）たとえば、ポリプロピレンとポリイ
ソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン
との混合物（たとえば、PP／HDPE、PP／LDPE）、異なる
種類のポリエチレンの混合物（たとえば、LDPE／HDPE）
の如き上記（１）に記載の重合体の混合物。
ソブチレンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレン
との混合物（たとえば、PP／HDPE、PP／LDPE）、異なる
種類のポリエチレンの混合物（たとえば、LDPE／HDPE）
の如き上記（１）に記載の重合体の混合物。
【００３１】（３）たとえば、エチレンープロピレン共
重合体、直鎖状低密度ポリエチレン（LLDPE）及びその
低密度ポリエチレン（LDPE）との混合物、プロピレン／
ブテン−１共重合体、プロピレン／イソブチレン共重合
体、エチレン／ブテン−１共重合体、エチレン／ヘキセ
ン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合体、エチ
レン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン共重合
体、プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチレン／
イソプレン共重合体、エチレン／アルキルアクリレート
共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共重合
体、エチレン／酢酸ビニル共重合体の如き及びこれらの
一酸化炭素との共重合体又はエチレン／アクリル酸共重
合体及びこれらの塩（イオノマー）、エチレンとポリプ
ロピレン及びジエン（たとえば、ヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエン又はエチリデンーノルボルネン）との三
元重合体の如きモノオレフィン及びジオレフィンの相互
の又は他のビニルモノマーとの共重合体；及びこれら共
重合体の相互の又は上記（１）に示した重合体との混合
物（たとえば、ポリプロピレン／エチレンープロピレン
共重合体、LDPE／エチレン−酢酸ビニル（EVA）共重合
体、LDPE／エチレン−アクリル酸（EAA）共重合体、LLD
PE／EVA、LLDPE／EAA）及び交互又はランダムポリアル
キレン／一酸化炭素共重合体及びこれらの他の重合体
（たとえば、ポリアミド）との混合物。 （４）炭化水素樹脂（たとえば、Ｃ5-9)(これらの水素
化変性体（たとえば、接着剤）及びポリアルキレン及び
デンプンとの混合物を包含する）。 （５）ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ（α−メチルスチレン）。 （６）たとえば、スチレン／ブタジエン、スチレン／ア
クリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、
スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレ
ン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン
／、無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メ
タクリレートの如きスチレン又はα−メチルスチレンの
ジエン又はアクリル誘導体との共重合体；スチレン共重
合体と、たとえば、ポリアクリレート、ジエンの重合体
又はエチレン／プロピレン／ジエン三元重合体、スチレ
ンのブロック重合体（たとえば、スチレン／ブタジエン
／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレ
ン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチ
レン／プロピレン／スチレン）の如き他の重合体との間
の高衝撃強さを有する混合物。
重合体、直鎖状低密度ポリエチレン（LLDPE）及びその
低密度ポリエチレン（LDPE）との混合物、プロピレン／
ブテン−１共重合体、プロピレン／イソブチレン共重合
体、エチレン／ブテン−１共重合体、エチレン／ヘキセ
ン共重合体、エチレン／メチルペンテン共重合体、エチ
レン／ヘプテン共重合体、エチレン／オクテン共重合
体、プロピレン／ブタジエン共重合体、イソブチレン／
イソプレン共重合体、エチレン／アルキルアクリレート
共重合体、エチレン／アルキルメタクリレート共重合
体、エチレン／酢酸ビニル共重合体の如き及びこれらの
一酸化炭素との共重合体又はエチレン／アクリル酸共重
合体及びこれらの塩（イオノマー）、エチレンとポリプ
ロピレン及びジエン（たとえば、ヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエン又はエチリデンーノルボルネン）との三
元重合体の如きモノオレフィン及びジオレフィンの相互
の又は他のビニルモノマーとの共重合体；及びこれら共
重合体の相互の又は上記（１）に示した重合体との混合
物（たとえば、ポリプロピレン／エチレンープロピレン
共重合体、LDPE／エチレン−酢酸ビニル（EVA）共重合
体、LDPE／エチレン−アクリル酸（EAA）共重合体、LLD
PE／EVA、LLDPE／EAA）及び交互又はランダムポリアル
キレン／一酸化炭素共重合体及びこれらの他の重合体
（たとえば、ポリアミド）との混合物。 （４）炭化水素樹脂（たとえば、Ｃ5-9)(これらの水素
化変性体（たとえば、接着剤）及びポリアルキレン及び
デンプンとの混合物を包含する）。 （５）ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポ
リ（α−メチルスチレン）。 （６）たとえば、スチレン／ブタジエン、スチレン／ア
クリロニトリル、スチレン／アルキルメタクリレート、
スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレート、スチレ
ン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン
／、無水マレイン酸、スチレン／アクリロニトリル／メ
タクリレートの如きスチレン又はα−メチルスチレンの
ジエン又はアクリル誘導体との共重合体；スチレン共重
合体と、たとえば、ポリアクリレート、ジエンの重合体
又はエチレン／プロピレン／ジエン三元重合体、スチレ
ンのブロック重合体（たとえば、スチレン／ブタジエン
／スチレン、スチレン／イソプレン／スチレン、スチレ
ン／エチレン／ブチレン／スチレン又はスチレン／エチ
レン／プロピレン／スチレン）の如き他の重合体との間
の高衝撃強さを有する混合物。
【００３２】（７）たとえば、ポリブタジエン中のスチ
レン、ポリブタジエン又はポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体中のスチレン；ポリブタジエン中のスチ
レン及びアクリロニトリル（又はメタクリロントリ
ル）；ポリブタジエン中のスチレンアクリロニトリル及
びメタクリロニトリル；ポリブタジエン中のスチレン及
び無水マレイン酸；ポリブタジエン中のスチレン、アク
リロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリ
ブタジエン中のスチレン及びマレイミド；ポリブタジエ
ン中のスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリ
レート；エチレン／プロピレン／ジエン三元重合体中の
スチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレ
ート又はポリアルキルメタクリレート中のスチレン及び
アクリロニトリル；アクリレート／ブタジエン共重合体
中のスチレン及びアクリロニトリルの如きスチレン又は
α−メチルスチレンのグラフト共重合体、上記共重合体
と、上記（６）に示した共重合体との混合物（たとえ
ば、ABS、MBS、ASA又はAESの如き公知の共重合体の混合
物）。
レン、ポリブタジエン又はポリブタジエン−アクリロニ
トリル共重合体中のスチレン；ポリブタジエン中のスチ
レン及びアクリロニトリル（又はメタクリロントリ
ル）；ポリブタジエン中のスチレンアクリロニトリル及
びメタクリロニトリル；ポリブタジエン中のスチレン及
び無水マレイン酸；ポリブタジエン中のスチレン、アク
リロニトリル及び無水マレイン酸又はマレイミド；ポリ
ブタジエン中のスチレン及びマレイミド；ポリブタジエ
ン中のスチレン及びアルキルアクリレート又はメタクリ
レート；エチレン／プロピレン／ジエン三元重合体中の
スチレン及びアクリロニトリル；ポリアルキルアクリレ
ート又はポリアルキルメタクリレート中のスチレン及び
アクリロニトリル；アクリレート／ブタジエン共重合体
中のスチレン及びアクリロニトリルの如きスチレン又は
α−メチルスチレンのグラフト共重合体、上記共重合体
と、上記（６）に示した共重合体との混合物（たとえ
ば、ABS、MBS、ASA又はAESの如き公知の共重合体の混合
物）。
【００３３】（８）たとえば、ポリクロロプレン、塩素
化ゴム、塩素化又はスルホクロル化ポリエチレン、エチ
レン−塩素化エチレン共重合体、エピクロルヒドリンの
ホモ重合体及び共重合体（特に、ハロゲンを含有するビ
ニル化合物の重合体、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ
ビニリデンクロリド、ポリビニルフルオライド又はポリ
ビニリデンフルオライド）の如きハロゲンを含有する重
合体；及びこれらの共重合体、たとえば塩化ビニル／ビ
ニリデンクロリド、塩化ビニル／酢酸ビニル又はビニリ
デンクロリド／酢酸ビニル。
化ゴム、塩素化又はスルホクロル化ポリエチレン、エチ
レン−塩素化エチレン共重合体、エピクロルヒドリンの
ホモ重合体及び共重合体（特に、ハロゲンを含有するビ
ニル化合物の重合体、たとえば、ポリ塩化ビニル、ポリ
ビニリデンクロリド、ポリビニルフルオライド又はポリ
ビニリデンフルオライド）の如きハロゲンを含有する重
合体；及びこれらの共重合体、たとえば塩化ビニル／ビ
ニリデンクロリド、塩化ビニル／酢酸ビニル又はビニリ
デンクロリド／酢酸ビニル。
【００３４】（９）たとえば、ポリアクリレート及びポ
リメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリルアミド及びポリアクリロニトリル、ブチルアクリ
レートで変性したものの如きα、β−不飽和酸及びその
誘導体から誘導された重合体。
リメタクリレート、ポリメチルメタクリレート、ポリア
クリルアミド及びポリアクリロニトリル、ブチルアクリ
レートで変性したものの如きα、β−不飽和酸及びその
誘導体から誘導された重合体。
【００３５】（１０）たとえば、アクリロニトリル／ブ
タジエン共重合体、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レート共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキ
ルアクリレート共重合体又はアクリロニトリル／ビニル
ハロゲン化物共重合体又はアクリロニトリル／アルキル
メタクリレート／ブタジエン三元重合体の如き上記
（９）による単量体の相互の又は他の不飽和単量体との
共重合体。
タジエン共重合体、アクリロニトリル／アルキルアクリ
レート共重合体、アクリロニトリル／アルコキシアルキ
ルアクリレート共重合体又はアクリロニトリル／ビニル
ハロゲン化物共重合体又はアクリロニトリル／アルキル
メタクリレート／ブタジエン三元重合体の如き上記
（９）による単量体の相互の又は他の不飽和単量体との
共重合体。
【００３６】（１１）たとえば、ポリビニルアルコー
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビ
ニルベンゾアート、ポリビニルマレエート、ポリビニル
ブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルマレ
エートの如き不飽和アルコール及びアミン、又はこれら
のアシル又はアセチル誘導体から誘導された重合体、及
びこれらと上記（１）に示したオレフィンとの共重合
体。
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビ
ニルベンゾアート、ポリビニルマレエート、ポリビニル
ブチラール、ポリアリルフタレート又はポリアリルマレ
エートの如き不飽和アルコール及びアミン、又はこれら
のアシル又はアセチル誘導体から誘導された重合体、及
びこれらと上記（１）に示したオレフィンとの共重合
体。
【００３７】（１２）たとえば、ポリアルキレングリコ
ール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド
の如き開放鎖状エーテル又は環状エーテルのホモ重合体
及び共重合体、又は上記化合物のビスグリシジルエーテ
ルとの共重合体。
ール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド
の如き開放鎖状エーテル又は環状エーテルのホモ重合体
及び共重合体、又は上記化合物のビスグリシジルエーテ
ルとの共重合体。
【００３８】（１３）たとえば、ポリオキシンメチレン
及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリ
オキシメチレンの如きポリアセタール；熱可塑性ポリウ
レタン、アクリレート又はMBSで変性したポリアセター
ル。
及びコモノマーとしてエチレンオキシドを含有するポリ
オキシメチレンの如きポリアセタール；熱可塑性ポリウ
レタン、アクリレート又はMBSで変性したポリアセター
ル。
【００３９】（１４）ポリフェニレンオキシド及びスル
フィッド及びポリフェニレンオキシドとスチレンとの混
合物又はポリアミド重合体。
フィッド及びポリフェニレンオキシドとスチレンとの混
合物又はポリアミド重合体。
【００４０】（１５）ヒドロキシル末端ポリエーテル、
ポリエステル又はポリブタジエン及び脂肪族又は芳香族
ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、かか
る化合物の前駆体。
ポリエステル又はポリブタジエン及び脂肪族又は芳香族
ポリイソシアネートから誘導されたポリウレタン、かか
る化合物の前駆体。
【００４１】（１６）たとえば、ポリアミド４、ポリア
ミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１
２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド
１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸を原料とし
て得られた芳香族ポリアミドの如きジアミン及びジカル
ボン酸及び／又はアミノカルボン酸に由来する又は相当
するラクタムに由来するポリアミド及びコポリアミド；
ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテ
レフタル酸から、変性剤としてのエラストマーを併用し
又は併用することなく調製されるポリアミド、たとえ
ば、ポリ−２,４,４−トリメチルヘキサメチレンテレフ
タルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミ
ド；及び上記ポリアミドのこれに化学的に結合又はグラ
フトしたポリオレフィン、オレフィン系共重合体、イオ
ノマー又はエラストマーとの、又はポリエーテル（たと
えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール又はポリテトラメチレングリコール）とのブロック
共重合体；EPDM又はABSで変性されたポリアミド又はコ
ポリアミド；及び加工の間に縮合したポリアミド（「RIM
ポリアミド系」）。
ミド６、ポリアミド６／６、６／１０、６／９、６／１
２、４／６、１２／１２、ポリアミド１１、ポリアミド
１２、ｍ−キシレンジアミン及びアジピン酸を原料とし
て得られた芳香族ポリアミドの如きジアミン及びジカル
ボン酸及び／又はアミノカルボン酸に由来する又は相当
するラクタムに由来するポリアミド及びコポリアミド；
ヘキサメチレンジアミン及びイソフタル酸及び／又はテ
レフタル酸から、変性剤としてのエラストマーを併用し
又は併用することなく調製されるポリアミド、たとえ
ば、ポリ−２,４,４−トリメチルヘキサメチレンテレフ
タルアミド又はポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミ
ド；及び上記ポリアミドのこれに化学的に結合又はグラ
フトしたポリオレフィン、オレフィン系共重合体、イオ
ノマー又はエラストマーとの、又はポリエーテル（たと
えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコ
ール又はポリテトラメチレングリコール）とのブロック
共重合体；EPDM又はABSで変性されたポリアミド又はコ
ポリアミド；及び加工の間に縮合したポリアミド（「RIM
ポリアミド系」）。
【００４２】（１７）ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミ
ドーイミド及びポリベンゾイミダゾール。
ドーイミド及びポリベンゾイミダゾール。
【００４３】（１８）たとえば、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１,４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒ
ドロキシベンゾアートの如きポリカルボン酸及びジオー
ルに及び／又はヒドロキシカルボン酸に又は相当するラ
クトンに由来するポリエステル；ヒドロキシル末端基を
有するポリエーテルに由来するブロックコポリエーテル
エステル；及びポリカーボネート又はMBSで変性したポ
リエステル。
レート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１,４−
ジメチロールシクロヘキサンテレフタレート及びポリヒ
ドロキシベンゾアートの如きポリカルボン酸及びジオー
ルに及び／又はヒドロキシカルボン酸に又は相当するラ
クトンに由来するポリエステル；ヒドロキシル末端基を
有するポリエーテルに由来するブロックコポリエーテル
エステル；及びポリカーボネート又はMBSで変性したポ
リエステル。
【００４４】（１９）ポリカーボネート及びポリエステ
ルカーボネート。
ルカーボネート。
【００４５】（２０）ポリスルホン、ポリエーテルスル
ホン及びポリエーテルケトン。
ホン及びポリエーテルケトン。
【００４６】（２１）たとえば、フェノール／ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミ
ン／ホルムアルデヒド樹脂の如きアルデヒド及びフェノ
ールに由来する架橋重合体。
ルデヒド樹脂、尿素／ホルムアルデヒド樹脂及びメラミ
ン／ホルムアルデヒド樹脂の如きアルデヒド及びフェノ
ールに由来する架橋重合体。
【００４７】（２２）乾性又は非乾性アルキッド樹脂。
【００４８】（２３）多価アルコールで飽和した及び不
飽和のジカルボン酸のコポリエステルに由来の不飽和ポ
リエステル及び架橋剤としてのビニル化合物を基材とす
る樹脂、及びさらにハロゲンを含有し、良好な耐炎性を
有する上記樹脂。
飽和のジカルボン酸のコポリエステルに由来の不飽和ポ
リエステル及び架橋剤としてのビニル化合物を基材とす
る樹脂、及びさらにハロゲンを含有し、良好な耐炎性を
有する上記樹脂。
【００４９】（２４）たとえば、エポキシアクリレー
ト、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレー
トの如き置換アクリレートに由来の架橋可能なアクリル
系樹脂。（２５）アルキッド樹脂、メラミンン樹脂で架
橋したポリエステル又はアクリレート樹脂を基材とする
樹脂、ポリイソシアネートを基材とする樹脂又はエポキ
シ樹脂。
ト、ウレタンアクリレート又はポリエステルアクリレー
トの如き置換アクリレートに由来の架橋可能なアクリル
系樹脂。（２５）アルキッド樹脂、メラミンン樹脂で架
橋したポリエステル又はアクリレート樹脂を基材とする
樹脂、ポリイソシアネートを基材とする樹脂又はエポキ
シ樹脂。
【００５０】（２６）たとえば、ビス−グリシジルエー
テル又は脂環式ジエポキシドの如きポリエポキシドに由
来する架橋エポキシ樹脂。
テル又は脂環式ジエポキシドの如きポリエポキシドに由
来する架橋エポキシ樹脂。
【００５１】（２７）たとえば、セルロース、ゴム、ゼ
ラチンの如き天然高分子物質、及びたとえば、セルロー
ルアセテート、プロピオネート及びブチレート、又はセ
ルロースエーテル（たとえば、メチルセルロース）の如
き同族高分子物質を提供するように化学的に変性した誘
導体、炭化水素樹脂（ロジン）又はこれらの誘導体。
ラチンの如き天然高分子物質、及びたとえば、セルロー
ルアセテート、プロピオネート及びブチレート、又はセ
ルロースエーテル（たとえば、メチルセルロース）の如
き同族高分子物質を提供するように化学的に変性した誘
導体、炭化水素樹脂（ロジン）又はこれらの誘導体。
【００５２】（２８）たとえば、PP／EPDM、ポリアミド
／EPDM又はABS、PVC／EVA、PVC／ABS、PVC／MBS、PC／A
BS、PBTP／ABS、PC／ASA、PC／PBT、PVC／CPE、PVC／ア
クリレート、POM／熱可塑性PUR、PC／熱可塑性PUR、POM
／アクリレート、POM／MBS、PPO／HIPS、PPO／PA６.６
及び共重合体、PA／HDPE、PA／PP、PA／PPOの如き上記
重合体の混合物（ポリブレンド）。
／EPDM又はABS、PVC／EVA、PVC／ABS、PVC／MBS、PC／A
BS、PBTP／ABS、PC／ASA、PC／PBT、PVC／CPE、PVC／ア
クリレート、POM／熱可塑性PUR、PC／熱可塑性PUR、POM
／アクリレート、POM／MBS、PPO／HIPS、PPO／PA６.６
及び共重合体、PA／HDPE、PA／PP、PA／PPOの如き上記
重合体の混合物（ポリブレンド）。
【００５３】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
は、特にポリカーボネートの安定化において有用であ
る。
は、特にポリカーボネートの安定化において有用であ
る。
【００５４】本発明の他の目的は、有機重合体及び一般
式（Ｉ）で表される１以上の化合物の有効量を含有して
なる重合体組成物にある。
式（Ｉ）で表される１以上の化合物の有効量を含有して
なる重合体組成物にある。
【００５５】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
は、上記組成物において、そのままで又は他の安定剤と
組み合わせて使用される。
は、上記組成物において、そのままで又は他の安定剤と
組み合わせて使用される。
【００５６】一般に、一般式（Ｉ）で表される上記化合
物は、被安定化重合体組成物の重量の約０.１〜約５重
量％の量で使用されるが、使用する量は被安定化物質及
び用途に応じて変動する。好ましくは、被安定化重合体
組成物の重量の約０.５〜約３重量％の量で添加され
る。
物は、被安定化重合体組成物の重量の約０.１〜約５重
量％の量で使用されるが、使用する量は被安定化物質及
び用途に応じて変動する。好ましくは、被安定化重合体
組成物の重量の約０.５〜約３重量％の量で添加され
る。
【００５７】一般式（I）で表される化合物は、可及的
に他の添加剤の存在下で、常法を利用して、被安定化有
機重合体に容易に配合される。この配合は、最終製品の
製造前又は製造中に、たとえば粉末状の一般式（Ｉ）で
表される化合物を被安定化重合体と混合することによっ
て、又はこれら化合物を溶融状態又は溶液状の被安定化
重合体に添加することによって、又は被安定化重合体
に、これら化合物の溶液又は懸濁液を塗布し、任意に使
用した溶媒を蒸発させることによって行われる。エラス
トマーはラテックスとして安定化される。
に他の添加剤の存在下で、常法を利用して、被安定化有
機重合体に容易に配合される。この配合は、最終製品の
製造前又は製造中に、たとえば粉末状の一般式（Ｉ）で
表される化合物を被安定化重合体と混合することによっ
て、又はこれら化合物を溶融状態又は溶液状の被安定化
重合体に添加することによって、又は被安定化重合体
に、これら化合物の溶液又は懸濁液を塗布し、任意に使
用した溶媒を蒸発させることによって行われる。エラス
トマーはラテックスとして安定化される。
【００５８】一般式（Ｉ）で表される化合物を有機重合
体に配合する他の方法は、相当する単量体の重合前又は
重合中に、又は活性架橋前に、これらを添加するもので
ある。 一般式（Ｉ）で表される化合物又はこれらの混
合物は、たとえば２.５〜２５重量％の濃度でこれらの
化合物を含有してなるマスターバッチの形でも被安定化
重合体に添加される。
体に配合する他の方法は、相当する単量体の重合前又は
重合中に、又は活性架橋前に、これらを添加するもので
ある。 一般式（Ｉ）で表される化合物又はこれらの混
合物は、たとえば２.５〜２５重量％の濃度でこれらの
化合物を含有してなるマスターバッチの形でも被安定化
重合体に添加される。
【００５９】一般式（I）で表される化合物は、下記の
方法によって、被安定化有機重合体に便利に配合され
る。
方法によって、被安定化有機重合体に便利に配合され
る。
【００６０】−エマルジョン又は懸濁液の形（たとえ
ば、エマルジョン中のラテックス又は重合体の場合）。
ば、エマルジョン中のラテックス又は重合体の場合）。
【００６１】−追加化合物又は有機重合体の混合物の一
般的な添加の場合においては粉末状の混合物として。
般的な添加の場合においては粉末状の混合物として。
【００６２】−有機重合体の加工に使用される装置（た
とえば、押出し機、密閉式混合機）への直接添加。
とえば、押出し機、密閉式混合機）への直接添加。
【００６３】−溶液又は溶融製品の形。
【００６４】上述の如く安定化された重合体組成物は、
当分野で公知の方法、たとえば、注型法、熱成型法、紡
糸法、押出し又は射出成型法によって、たとえば、繊
維、フィルム、テープ、シート、多層シート、容器、管
及び他の形状の最終製品に変換される。
当分野で公知の方法、たとえば、注型法、熱成型法、紡
糸法、押出し又は射出成型法によって、たとえば、繊
維、フィルム、テープ、シート、多層シート、容器、管
及び他の形状の最終製品に変換される。
【００６５】従って、本発明は、上記重合体組成物の最
終製品の製造への使用にも係る。
終製品の製造への使用にも係る。
【００６６】一般式（Ｉ）で表される化合物を比較的高
い含量（たとえば、５〜１５重量％）で含有する上記組
成物の１つを、一般式（Ｉ）で表される化合物を含まな
い又は少量含有する重合体でなる成形製品に、薄い層
（厚さ１０〜100μm）の形で塗布してなる多層構造体の
使用も興味深い。このような塗布は、前記製品の製造の
間に、たとえば共押出しによって行われる。また、かか
る塗布を、たとえば、フィルムの積層によって又は溶液
のコーティングによって最終成形製品に対して行うこと
もできる。表面層又は最終製品の層はＵＶフィルターと
して作用し、製品の内部をＵＶ光の劣化作用から保護す
る。上層は、好ましくは、一般式（Ｉ）で表される少な
くとも１つの化合物を５〜１５重量％、さらに好ましく
は５〜１０重量％濃度で量で含有する。
い含量（たとえば、５〜１５重量％）で含有する上記組
成物の１つを、一般式（Ｉ）で表される化合物を含まな
い又は少量含有する重合体でなる成形製品に、薄い層
（厚さ１０〜100μm）の形で塗布してなる多層構造体の
使用も興味深い。このような塗布は、前記製品の製造の
間に、たとえば共押出しによって行われる。また、かか
る塗布を、たとえば、フィルムの積層によって又は溶液
のコーティングによって最終成形製品に対して行うこと
もできる。表面層又は最終製品の層はＵＶフィルターと
して作用し、製品の内部をＵＶ光の劣化作用から保護す
る。上層は、好ましくは、一般式（Ｉ）で表される少な
くとも１つの化合物を５〜１５重量％、さらに好ましく
は５〜１０重量％濃度で量で含有する。
【００６７】厚さ１０〜100μmを有する上層がこれら組
成物でなり、一方、内部層が一般式（Ｉ）で表される化
合物を含有しないか又は少量含有する多層構造体の形成
に上記組成物を使用することも、本発明の他の目的であ
る。
成物でなり、一方、内部層が一般式（Ｉ）で表される化
合物を含有しないか又は少量含有する多層構造体の形成
に上記組成物を使用することも、本発明の他の目的であ
る。
【００６８】上述の如く安定化された重合体は、大気中
の作用剤によって生ずる劣化に対する高い抵抗性、特に
ＵＶ光に対する高い抵抗性を有する。従って、外気中の
作用剤にさらされる場合にも、長期間、その色及び光沢
を維持できる。
の作用剤によって生ずる劣化に対する高い抵抗性、特に
ＵＶ光に対する高い抵抗性を有する。従って、外気中の
作用剤にさらされる場合にも、長期間、その色及び光沢
を維持できる。
【００６９】上述の組成物は、たとえば塗料、ラッカ
ー、プラスチック基材組成物の如きコーティング又はペ
インティング用組成物（「コーティング組成物」）として
も使用される。
ー、プラスチック基材組成物の如きコーティング又はペ
インティング用組成物（「コーティング組成物」）として
も使用される。
【００７０】本発明のかかる目的には、下記の中から選
ばれる有機重合体を含有するコーティング又はペインテ
ィング組成物が好適である。
ばれる有機重合体を含有するコーティング又はペインテ
ィング組成物が好適である。
【００７１】（ａ）主鎖中にヘテロ原子（特に、窒素、
イオウ及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体の中
から選ばれる熱可塑性重合体スチレン共重合体、グラフ
トスチレン重合体及びポリメチルメタクリレート（PMM
A）；又は （ｂ）ペイントリガンド。
イオウ及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体の中
から選ばれる熱可塑性重合体スチレン共重合体、グラフ
トスチレン重合体及びポリメチルメタクリレート（PMM
A）；又は （ｂ）ペイントリガンド。
【００７２】主鎖中にヘテロ原子（特に、窒素、イオウ
及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体（ａ）の例
としては、上述の（１３）〜（２０）に示したものであ
る。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキ
シド及びポリフェニレンスルフィッドが好適である。特
に好ましくは、ポリカーボネート、ポリエステル（たと
えばポリエチレンテレフタレート（PET）及びポリアミ
ド（PA）（たとえば、PA６及びPA６／６）であり、最も
好ましくはポリカーボネートである。
及び／又は酸素）を含有する熱可塑性重合体（ａ）の例
としては、上述の（１３）〜（２０）に示したものであ
る。これらの中でも、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリアミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキ
シド及びポリフェニレンスルフィッドが好適である。特
に好ましくは、ポリカーボネート、ポリエステル（たと
えばポリエチレンテレフタレート（PET）及びポリアミ
ド（PA）（たとえば、PA６及びPA６／６）であり、最も
好ましくはポリカーボネートである。
【００７３】スチレン共重合体及びグラフトスチレン重
合体（ａ）の例については、上述（６）及び（７）に示
されている。
合体（ａ）の例については、上述（６）及び（７）に示
されている。
【００７４】ペイントリガンド（ｂ）は上述の有機重合
体の少なくとも１つでなるものである。特別なリガンド
を含有する塗料の例としては次のものがある。
体の少なくとも１つでなるものである。特別なリガンド
を含有する塗料の例としては次のものがある。
【００７５】 １．アルキッド樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル樹
脂、エポキン樹脂又はメラミン樹脂を基材とする塗料
（低温又は高温で架橋される）。これら樹脂の混合物
（任意に架橋剤が添加される）； ２．ヒドロキシル基を含有するアクリル系樹脂、ポリエ
ステル樹脂、又はポリエーテル樹脂及び脂肪族又は芳香
族イソシネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネ
ートを基材とする２成分系ポリウレタン塗料； ３．ブロックイソシアネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする１成分系ポリウレタン塗
料（オーブン処理の間に解ブロック化される）； ４．（ポリ）ケトイミン及び脂肪族又は芳香族イソシネ
ート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートを基材
とする２成分系塗料； ５．（ポリ）ケトイミン及び不飽和アクリル系樹脂又は
ポリアセトアセテート樹脂又はメチルメタクリルアミド
グリコレートを基材とする２成分系塗料； ６．カルボキシル基又はアミン基を含有するポリアクリ
レート及びポリエポキシドを基材とする２成分系塗料； ７．アンヒドリッド基を含有するアクリル系樹脂及びポ
リヒドロキシル又はポリアミン化合物を基材とする２成
分系塗料； ８．アンヒドリッド基を含有する（ポリ）−オキサゾリ
ン及びアクリル系樹脂又は不飽和アクリル系樹脂及び脂
肪族又は芳香族イソシネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする２成分系塗料； ９．不飽和ポリアクリレート及びポリマロネートを基材
とする２成分系塗料； １０．熱可塑性アクリル系樹脂又はエーテル化メラミン
樹脂を配合した非自己架橋性アクリル系樹脂を基材とす
る熱可塑性ポリアクリル系塗料； １１．シロキサン変性アクリル系樹脂を基材とする塗料
用システム； １２．フルオロ変性アクリル系樹脂を基材とする塗料用
システム；及び １３．アリルグリシジルエーテルを基材とする塗料用シ
ステム。
脂、エポキン樹脂又はメラミン樹脂を基材とする塗料
（低温又は高温で架橋される）。これら樹脂の混合物
（任意に架橋剤が添加される）； ２．ヒドロキシル基を含有するアクリル系樹脂、ポリエ
ステル樹脂、又はポリエーテル樹脂及び脂肪族又は芳香
族イソシネート、イソシアヌレート又はポリイソシアネ
ートを基材とする２成分系ポリウレタン塗料； ３．ブロックイソシアネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする１成分系ポリウレタン塗
料（オーブン処理の間に解ブロック化される）； ４．（ポリ）ケトイミン及び脂肪族又は芳香族イソシネ
ート、イソシアヌレート又はポリイソシアネートを基材
とする２成分系塗料； ５．（ポリ）ケトイミン及び不飽和アクリル系樹脂又は
ポリアセトアセテート樹脂又はメチルメタクリルアミド
グリコレートを基材とする２成分系塗料； ６．カルボキシル基又はアミン基を含有するポリアクリ
レート及びポリエポキシドを基材とする２成分系塗料； ７．アンヒドリッド基を含有するアクリル系樹脂及びポ
リヒドロキシル又はポリアミン化合物を基材とする２成
分系塗料； ８．アンヒドリッド基を含有する（ポリ）−オキサゾリ
ン及びアクリル系樹脂又は不飽和アクリル系樹脂及び脂
肪族又は芳香族イソシネート、イソシアヌレート又はポ
リイソシアネートを基材とする２成分系塗料； ９．不飽和ポリアクリレート及びポリマロネートを基材
とする２成分系塗料； １０．熱可塑性アクリル系樹脂又はエーテル化メラミン
樹脂を配合した非自己架橋性アクリル系樹脂を基材とす
る熱可塑性ポリアクリル系塗料； １１．シロキサン変性アクリル系樹脂を基材とする塗料
用システム； １２．フルオロ変性アクリル系樹脂を基材とする塗料用
システム；及び １３．アリルグリシジルエーテルを基材とする塗料用シ
ステム。
【００７６】塗料はコーティングの１つ又は２つの層
（「１又２−コート」）として塗布され、好ましくは、一
般式（Ｉ）で表される安定化化合物は、上方の無色コー
ティングに添加される。
（「１又２−コート」）として塗布され、好ましくは、一
般式（Ｉ）で表される安定化化合物は、上方の無色コー
ティングに添加される。
【００７７】塗料は、常法、たとえば、刷ぬり、噴霧、
流し、浸漬又は電気泳動を利用して基材（金属、プラス
チック、木材等）に塗布される。
流し、浸漬又は電気泳動を利用して基材（金属、プラス
チック、木材等）に塗布される。
【００７８】本発明の好適な１具体例は、一般式（Ｉ）
で表される少なくとも１つの化合物を含有する塗料又は
コーティング（たとえば、自動車用コーティング）であ
る。かかる目的に使用されるリガンドは、たとえば、上
述したものである。
で表される少なくとも１つの化合物を含有する塗料又は
コーティング（たとえば、自動車用コーティング）であ
る。かかる目的に使用されるリガンドは、たとえば、上
述したものである。
【００７９】本発明の一般式（Ｉ）で表される化合物
は、既に述べたように、他の一般的な添加剤又はこれら
の混合物と組合される。これら添加剤は、被安定化重合
体組成物の重量の約０.１〜約５重量％の量で、好まし
くは約０.５〜約３重量％の量で添加される。使用でき
る添加剤を例として下記に示す。
は、既に述べたように、他の一般的な添加剤又はこれら
の混合物と組合される。これら添加剤は、被安定化重合
体組成物の重量の約０.１〜約５重量％の量で、好まし
くは約０.５〜約３重量％の量で添加される。使用でき
る添加剤を例として下記に示す。
【００８０】１． 酸化防止剤 １.１ アルキル化モノフェノール：たとえば、２,６−
ジ−第３級ブチル−４−メチルフェノール；２−第３級
ブチル−４,６−ジメチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−エチルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−イソブチルフェノール；２,６−ジ−シ
クロペンチル−４−メチルフェノール；２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４,６−ジメチルフェノール；２,
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール；２,４,６
−トリシクロヘキシルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−メトキシメチルフェノール；２,６−ジ−
ノニル−４−メチルフェノール；２,４−ジメチル−６
−(１'−メチルウンデカ−１'−イール)フェノール；
２,４−ジメチル−６−(１'−エチルウンデカ−１'−イ
ール)フェノール；２,４−ジメチル−６−(１'−メチル
トリデカ−１'−イール)フェノール；及びこれらの混合
物。
ジ−第３級ブチル−４−メチルフェノール；２−第３級
ブチル−４,６−ジメチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−エチルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール；２,６−ジ−第３
級ブチル−４−イソブチルフェノール；２,６−ジ−シ
クロペンチル−４−メチルフェノール；２−（α−メチ
ルシクロヘキシル）−４,６−ジメチルフェノール；２,
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール；２,４,６
−トリシクロヘキシルフェノール；２,６−ジ−第３級
ブチル−４−メトキシメチルフェノール；２,６−ジ−
ノニル−４−メチルフェノール；２,４−ジメチル−６
−(１'−メチルウンデカ−１'−イール)フェノール；
２,４−ジメチル−６−(１'−エチルウンデカ−１'−イ
ール)フェノール；２,４−ジメチル−６−(１'−メチル
トリデカ−１'−イール)フェノール；及びこれらの混合
物。
【００８１】１.２ アルキルチオメチルフェノール：
たとえば、２,４−ジオクチルチオ−６−第３級ブチル
フェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール；２,６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。
たとえば、２,４−ジオクチルチオ−６−第３級ブチル
フェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−メチ
ルフェノール；２,４−ジオクチルチオメチル−６−エ
チルフェノール；２,６−ジドデシルチオメチル−４−
ノニルフェノール。
【００８２】１.３ ヒドロキノン及びアルキル化ヒド
ロキノン：たとえば、２,６−ジ−第３級ブチル−４−
メトキシフェノール；２,５−ジ−第３級ブチルヒドロ
キノン；２,５−ジ−第３級アミルヒドロキノン；２,６
−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール；
２,６−ジ−第３級ブチルヒドロキノン；２,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレー
ト；ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
ロキノン：たとえば、２,６−ジ−第３級ブチル−４−
メトキシフェノール；２,５−ジ−第３級ブチルヒドロ
キノン；２,５−ジ−第３級アミルヒドロキノン；２,６
−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール；
２,６−ジ−第３級ブチルヒドロキノン；２,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシアニソール；３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレー
ト；ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル)アジペート。
【００８３】１.４ トコフェロール：たとえば、α−
トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロ
ール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。
トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロ
ール、δ−トコフェロール及びこれらの混合物（ビタミ
ンＥ）。
【００８４】１.５ ヒドロキシル化チオフェニルエー
テル：たとえば２,２'−チオビス−(６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２,２'−チオビス−(４−
オクチルフェノール）；４,４'−チオビス−(６−第３
級ブチル−３−メチルフェノール）；４,４'−チオビス
−(６−第３級ブチル−２−メチルフェノール）；４,
４'−チオビス−(３,６−ジ−第２級アミルフェノー
ル）；４,４−ビス−(２,６−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル)ジスルフィッド。
テル：たとえば２,２'−チオビス−(６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２,２'−チオビス−(４−
オクチルフェノール）；４,４'−チオビス−(６−第３
級ブチル−３−メチルフェノール）；４,４'−チオビス
−(６−第３級ブチル−２−メチルフェノール）；４,
４'−チオビス−(３,６−ジ−第２級アミルフェノー
ル）；４,４−ビス−(２,６−ジメチル−４−ヒドロキ
シフェニル)ジスルフィッド。
【００８５】１.６ アルキリデン−ビスフェノール：
たとえば、２,２'−メチレンビス−(６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２,２'−メチレンビス−
(６−第３級ブチル−４−メチルフェノール）；２,２'
−メチレンビス[４−メチル−６−(α−メチルシクロヘ
キシル)フェノール］；２,２'−メチレンビス(４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）；２,２'−メチレ
ンビス(６−ノニル−４−メチルフェノール）；２,２'
−メチレンビス(４,６−ジ−第３級ブチルフェノー
ル）；２,２'−エチリデンビス(４,６−ジ−第３級ブチ
ルフェノール）；２,２'−エチリデンビス(６−第３級
ブチル−４−イソブチルフェノール）；２,２'−メチレ
ンビス[６−(α−メチルベンジル)−４−ノニルフェノ
ール］；２,２'−メチレンビス[６−(α,α−ジ−メチ
ルベンジル)−４−ノニルフェノール］；４,４'−メチ
レンビス(２,６−第３級ブチルフェノール）；４,４'−
メチレンビス(６−第３級ブチル−２−メチルフェノー
ル）；１,１−ビス−(５−第３級ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル)−ブタン；２,６−ビス−(３
−第３級ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル)−４−メチルフェノール；１,１,３−トリス−(５−
第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル)
−ブタン；１,１−ビス−(５−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル)−３−ｎ−ドデシルメル
カプトブタン；エチレングリコールビス[３,３−ビス
(３'−第３級ブチル−４'−ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート］；ビス(３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン；ビス[２−
(３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルベ
ンジル)−６−第３級ブチル−４−メチルフェニル]テレ
フタレート；１,１−ビス(３,５−ジメチル−２−ヒド
ロキシフェニル)ブタン；２,２−ビス(３,５−ジ−第３
級ブチル−４−ヒドロキシフェニル)プロパン；２,２−
ビス(５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル)−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン；１,
１,５,５−テトラ(５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル)−ペンタン。１.７ Ｏ、Ｎ又は
Ｓを含有するベンジル化合物：たとえば、３,５,３',
５'−テトラ−第３級ブチル−４,４'−ジヒドロキシベ
ンジルエーテル；オクタデシル−４−ヒドロキシ−３,
５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート；トリス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
アミン；ビス(４−第３級ブチル−３−ヒドロキシ−２,
６−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート；ビス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
スルフィッド；イソ−オクチル−３,５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
たとえば、２,２'−メチレンビス−(６−第３級ブチル
−４−メチルフェノール）；２,２'−メチレンビス−
(６−第３級ブチル−４−メチルフェノール）；２,２'
−メチレンビス[４−メチル−６−(α−メチルシクロヘ
キシル)フェノール］；２,２'−メチレンビス(４−メチ
ル−６−シクロヘキシルフェノール）；２,２'−メチレ
ンビス(６−ノニル−４−メチルフェノール）；２,２'
−メチレンビス(４,６−ジ−第３級ブチルフェノー
ル）；２,２'−エチリデンビス(４,６−ジ−第３級ブチ
ルフェノール）；２,２'−エチリデンビス(６−第３級
ブチル−４−イソブチルフェノール）；２,２'−メチレ
ンビス[６−(α−メチルベンジル)−４−ノニルフェノ
ール］；２,２'−メチレンビス[６−(α,α−ジ−メチ
ルベンジル)−４−ノニルフェノール］；４,４'−メチ
レンビス(２,６−第３級ブチルフェノール）；４,４'−
メチレンビス(６−第３級ブチル−２−メチルフェノー
ル）；１,１−ビス−(５−第３級ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル)−ブタン；２,６−ビス−(３
−第３級ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル)−４−メチルフェノール；１,１,３−トリス−(５−
第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル)
−ブタン；１,１−ビス−(５−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシ−２−メチルフェニル)−３−ｎ−ドデシルメル
カプトブタン；エチレングリコールビス[３,３−ビス
(３'−第３級ブチル−４'−ヒドロキシフェニル)ブチレ
ート］；ビス(３−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−５
−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン；ビス[２−
(３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−メチルベ
ンジル)−６−第３級ブチル−４−メチルフェニル]テレ
フタレート；１,１−ビス(３,５−ジメチル−２−ヒド
ロキシフェニル)ブタン；２,２−ビス(３,５−ジ−第３
級ブチル−４−ヒドロキシフェニル)プロパン；２,２−
ビス(５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチル
フェニル)−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン；１,
１,５,５−テトラ(５−第３級ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル)−ペンタン。１.７ Ｏ、Ｎ又は
Ｓを含有するベンジル化合物：たとえば、３,５,３',
５'−テトラ−第３級ブチル−４,４'−ジヒドロキシベ
ンジルエーテル；オクタデシル−４−ヒドロキシ−３,
５−ジメチルベンジルメルカプトアセテート；トリス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
アミン；ビス(４−第３級ブチル−３−ヒドロキシ−２,
６−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレート；ビス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
スルフィッド；イソ−オクチル−３,５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。
【００８６】１.８ ヒドロキシベンジル化マロネー
ト：たとえば、ジオクタデシル−２,２−ビス(３,５−
ジ−第３級ブチル−２−ヒドロキシベンジル)マロネー
ト；ジオクタデシル−２−(３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル)マロネート；ジドデシ
ルメルカプトエチル−２,２−ビス(３,５−ジ−第３級
ブチル−２−ヒドロキシベンジル)マロネート；ビス[４
−(１,１,３,３−テトラメチルブチル)フェニル]−２,
２−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル)マロネート。
ト：たとえば、ジオクタデシル−２,２−ビス(３,５−
ジ−第３級ブチル−２−ヒドロキシベンジル)マロネー
ト；ジオクタデシル−２−(３−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−５−メチルベンジル)マロネート；ジドデシ
ルメルカプトエチル−２,２−ビス(３,５−ジ−第３級
ブチル−２−ヒドロキシベンジル)マロネート；ビス[４
−(１,１,３,３−テトラメチルブチル)フェニル]−２,
２−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル)マロネート。
【００８７】１.９ 芳香族ヒドロキシベンジル化合
物：たとえば、１,３,５−トリス(３,５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル)−２,４,６−トリメチ
ルベンゼン；１,４−ビス−(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル)−２,３,５,６−テトラメチ
ルベンゼン；２,４,６−トリス(３,５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル)フェノール。
物：たとえば、１,３,５−トリス(３,５−ジ−第３級ブ
チル−４−ヒドロキシベンジル)−２,４,６−トリメチ
ルベンゼン；１,４−ビス−(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシベンジル)−２,３,５,６−テトラメチ
ルベンゼン；２,４,６−トリス(３,５−ジ−第３級ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジル)フェノール。
【００８８】１.１０ トリアジン化合物：たとえば、
２,４−ビス(オクチルメルカプト)−６−(３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシアニリン)−１,３,５−
トリアジン；２−オクチルメルカプト−４,６−ビス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシアニリン)
−１,３,５−トリアジン；２−オクチルメルカプト−
４,６−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ)−１,３,５−トリアジン；２,４,６−ト
リス−(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ノキシ)−１,２,３−トリアジン；１,３,５−トリス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート；１,３,５−トリス(４−第３級ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル)イソシ
アヌレート；２,４,６−トリス−(３,５−ジ−第３級ブ
チル−３−ヒドロキシフェニルエチル)−１,３,５−ト
リアジン；１,３,５−トリス(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ
−１,３,５−トリアジン；１,３,５−トリス−(３,５−
ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。
２,４−ビス(オクチルメルカプト)−６−(３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシアニリン)−１,３,５−
トリアジン；２−オクチルメルカプト−４,６−ビス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシアニリン)
−１,３,５−トリアジン；２−オクチルメルカプト−
４,６−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ)−１,３,５−トリアジン；２,４,６−ト
リス−(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシフェ
ノキシ)−１,２,３−トリアジン；１,３,５−トリス
(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンジル)
イソシアヌレート；１,３,５−トリス(４−第３級ブチ
ル−３−ヒドロキシ−２,６−ジメチルベンジル)イソシ
アヌレート；２,４,６−トリス−(３,５−ジ−第３級ブ
チル−３−ヒドロキシフェニルエチル)−１,３,５−ト
リアジン；１,３,５−トリス(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ
−１,３,５−トリアジン；１,３,５−トリス−(３,５−
ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。
【００８９】１.１１ ベンジルホスホネート；たとえ
ば、ジメチル−２,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジエチル−３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート；ジ
オクタジシル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジオクタジシル−５−第３
級ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホ
ネート；３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
ば、ジメチル−２,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジエチル−３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート；ジ
オクタジシル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロ
キシベンジルホスホネート；ジオクタジシル−５−第３
級ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホ
ネート；３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジルホスホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
【００９０】１.１２ アシルアミノフェノール：たと
えば、４−ヒドロキシラウリルアニリド；４−ヒドロキ
システアリルアニリド；オクチル−Ｎ−(３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
えば、４−ヒドロキシラウリルアニリド；４−ヒドロキ
システアリルアニリド；オクチル−Ｎ−(３,５−ジ−第
３級ブチル−４−ヒドロキシフェニル)カルバメート。
【００９１】１.１３ β−(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多
価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、オ
クタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオ
ール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス
(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノー
ル、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.
２.２］オクタン）とのエステル。
−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多
価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、オ
クタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオ
ール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ’−ビス
(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノー
ル、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.
２.２］オクタン）とのエステル。
【００９２】１.１４ β−(５−第３級ブチル−４−ヒ
ドロキシ−３−メチルフェニル)プロピオン酸の一価又
は多価アルコール（たとえば、メタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサ
ンジオール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−
ビス(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノ
ール、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ
［２.２.２］オクタン）とのエステル。
ドロキシ−３−メチルフェニル)プロピオン酸の一価又
は多価アルコール（たとえば、メタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサ
ンジオール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−
ビス(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノ
ール、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ
［２.２.２］オクタン）とのエステル。
【００９３】１.１５ β−(３,５−ジシクロヘキシル
−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多
価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、オ
クタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオ
ール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−ビス
(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノー
ル、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.
２.２］オクタン）とのエステル。
−４−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の一価又は多
価アルコール（たとえば、メタノール、エタノール、オ
クタノール、オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオ
ール、１,９−ノナンジオール、エチレングリコール、
１,２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、
チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、ト
リエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス
(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−ビス
(ヒドキシエチル)オキサミド、３−チオウンデカノー
ル、３−チオペンタデカノール、トリメチルヘキサンジ
オール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチ
ル−１−ホスホ−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.
２.２］オクタン）とのエステル。
【００９４】１.１６ （３,５−ジ−第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）酢酸の一価又は多価アルコール
（たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、
オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−
ノナンジオール、エチレングリコール、１,２−プロパ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−ビス(ヒドキシエチ
ル)オキサミド、３−チオウンデカノール、３−チオペ
ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスホ
−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.２.２］オクタ
ン）とのエステル。
−ヒドロキシフェニル）酢酸の一価又は多価アルコール
（たとえば、メタノール、エタノール、オクタノール、
オクタデカノール、１,６−ヘキサンジオール、１,９−
ノナンジオール、エチレングリコール、１,２−プロパ
ンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレン
グリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエ
チル）イソシアヌレート、Ｎ,Ｎ'−ビス(ヒドキシエチ
ル)オキサミド、３−チオウンデカノール、３−チオペ
ンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメ
チロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスホ
−２,６,７−トリオキサビシクロ［２.２.２］オクタ
ン）とのエステル。
【００９５】１.１７ β−(３,５−ジ−第３級ブチル
−４−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸のアミド：
たとえば、Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジ
アミン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
−４−ヒドロキシフェニル)−プロピオン酸のアミド：
たとえば、Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４
−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジ
アミン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)トリメチレンジアミ
ン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒド
ロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン。
【００９６】２． 紫外線及び光安定剤
【００９７】２.１ ２−(２'−ヒドロキシフェニル)ベ
ンゾトリアゾール誘導体：たとえば、２−(２'−ヒドロ
キシ−５'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール；２−
(３',５'−ジ−第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール；２−(５'−第３級ブチル−２'
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール；２−[２'
−ヒドロキシ−５'−(１,１,３,３−テトラメチルブチ
ル)フェニル]ベンゾトリアゾール；２−(３',５'−ジ−
第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニル)−５−クロロ
ベンゾトリアゾール；２−(３'−第３級ブチル−２'−
ヒドロキシ−５'−メチルフェニル)−５−クロロベンゾ
トリアゾール；２−(３'−第２級ブチル−５'−第３級
ブチル−２'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル；２−(２'−ヒドロキシ−４'−オクチルオキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール；２−(３',５'−ジ−第３級
アミル−２'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル；２−[３',５'−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
２'−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾール；２−
[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−(２−オ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニル]−５−クロロ
ベンゾトリアゾール；２−[３'−第３級ブチル−５'−
(２−(２−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル)−
２'−ヒドロキシフェニル]−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'
−(２−メトキシカルボニルエチル)フェニル]−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−[３'−第３級ブチル−
２'−ヒドロキシ−５'−(２−メトキシカルボニルエチ
ル)フェニル]ベンゾトリアゾール、２−[３'−第３級ブ
チル−２'−ヒドロキシ−５'−(２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾール、２−
[３'−第３級ブチル−５'−(２−(２−エチルヘキシル
オキシ)カルボニルエチル)−２'−ヒドロキシフェニル]
ベンゾトリアゾール、２−(３'−ドデシル−２'−ヒド
ロキシ−５'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び
２−[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−(２
−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]ベン
ゾトリアゾール、２,２'−メチレン−ビス[４−(１,１,
３,３−テトラメチルブチル)−６−ベンゾトリアゾール
−２−イ−ル−フェノール］の混合物；２−[３'−第３
級ブチル−５'−(２−ベトキシカルボニル)−２'−ヒド
ロキシフェニル]−２Ｈ−ベンソトリアゾールとポリエ
チレングリコール300とのエステル化反応生物；［Ｒ−
ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ(ＣＨ2)3］2 (式中、Ｒ＝３'−第３
級ブチル−４−ヒドロキシ−５'−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イ−ル−フェニル）。
ンゾトリアゾール誘導体：たとえば、２−(２'−ヒドロ
キシ−５'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール；２−
(３',５'−ジ−第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニ
ル)ベンゾトリアゾール；２−(５'−第３級ブチル−２'
−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール；２−[２'
−ヒドロキシ−５'−(１,１,３,３−テトラメチルブチ
ル)フェニル]ベンゾトリアゾール；２−(３',５'−ジ−
第３級ブチル−２'−ヒドロキシフェニル)−５−クロロ
ベンゾトリアゾール；２−(３'−第３級ブチル−２'−
ヒドロキシ−５'−メチルフェニル)−５−クロロベンゾ
トリアゾール；２−(３'−第２級ブチル−５'−第３級
ブチル−２'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル；２−(２'−ヒドロキシ−４'−オクチルオキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール；２−(３',５'−ジ−第３級
アミル−２'−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル；２−[３',５'−ビス(α,α−ジメチルベンジル)−
２'−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾール；２−
[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−(２−オ
クチルオキシカルボニルエチル)フェニル]−５−クロロ
ベンゾトリアゾール；２−[３'−第３級ブチル−５'−
(２−(２−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル)−
２'−ヒドロキシフェニル]−５−クロロベンゾトリアゾ
ール、２−[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'
−(２−メトキシカルボニルエチル)フェニル]−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−[３'−第３級ブチル−
２'−ヒドロキシ−５'−(２−メトキシカルボニルエチ
ル)フェニル]ベンゾトリアゾール、２−[３'−第３級ブ
チル−２'−ヒドロキシ−５'−(２−オクチルオキシカ
ルボニルエチル)フェニル]ベンゾトリアゾール、２−
[３'−第３級ブチル−５'−(２−(２−エチルヘキシル
オキシ)カルボニルエチル)−２'−ヒドロキシフェニル]
ベンゾトリアゾール、２−(３'−ドデシル−２'−ヒド
ロキシ−５'−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール及び
２−[３'−第３級ブチル−２'−ヒドロキシ−５'−(２
−イソオクチルオキシカルボニルエチル)フェニル]ベン
ゾトリアゾール、２,２'−メチレン−ビス[４−(１,１,
３,３−テトラメチルブチル)−６−ベンゾトリアゾール
−２−イ−ル−フェノール］の混合物；２−[３'−第３
級ブチル−５'−(２−ベトキシカルボニル)−２'−ヒド
ロキシフェニル]−２Ｈ−ベンソトリアゾールとポリエ
チレングリコール300とのエステル化反応生物；［Ｒ−
ＣＨ2ＣＨ2−ＣＯＯ(ＣＨ2)3］2 (式中、Ｒ＝３'−第３
級ブチル−４−ヒドロキシ−５'−２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イ−ル−フェニル）。
【００９８】２.２ ２−ヒドロキシベンゾフェノン誘
導体：たとえば、４−ヒドロキシ−；４−メトキシ−；
４−オクチルオキシ−；４−デシルオキシ−；４−ドデ
シルオキシ−；４−ベンジルオキシ−；４,２',４'−ト
リヒドロキシ−；２'−ヒドロキシ−４,４'−ジメトキ
シ。
導体：たとえば、４−ヒドロキシ−；４−メトキシ−；
４−オクチルオキシ−；４−デシルオキシ−；４−ドデ
シルオキシ−；４−ベンジルオキシ−；４,２',４'−ト
リヒドロキシ−；２'−ヒドロキシ−４,４'−ジメトキ
シ。
【００９９】２.３ 安息香酸（置換されていてもよ
い）のエステル：たとえば、サリチル酸フェニル；サリ
チル酸４−第３級ブチルフェニル；サリチル酸オクチル
フェニル；ベンゾイル−レゾルシノール；ビス（４−第
３級ブチルベンゾイル）−レゾルシノール；ジベンゾイ
ル−レゾルシノール；２,４−ジ−第３級ブチルフェニ
ル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
アート；ヘキサデシル−３,５−ジ−第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンゾアート；オクタデシル−３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート；２−メ
チル−４,６−ジ−第３級ブチルフェニル−３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート。
い）のエステル：たとえば、サリチル酸フェニル；サリ
チル酸４−第３級ブチルフェニル；サリチル酸オクチル
フェニル；ベンゾイル−レゾルシノール；ビス（４−第
３級ブチルベンゾイル）−レゾルシノール；ジベンゾイ
ル−レゾルシノール；２,４−ジ−第３級ブチルフェニ
ル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾ
アート；ヘキサデシル−３,５−ジ−第３級ブチル−４
−ヒドロキシベンゾアート；オクタデシル−３,５−ジ
−第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート；２−メ
チル−４,６−ジ−第３級ブチルフェニル−３,５−ジ−
第３級ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート。
【０１００】２.４ アクリレート：たとえば、エチル
又はイソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアク
リレート：メチルα−カルボメトキシシンナメート；メ
チル又はブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ
シンナメート；メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナメート；Ｎ−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル)−２−メチルインドリン。
又はイソオクチルα−シアノ−β,β−ジフェニルアク
リレート：メチルα−カルボメトキシシンナメート；メ
チル又はブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ
シンナメート；メチルα−カルボメトキシ−ｐ−メトキ
シシンナメート；Ｎ−(β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル)−２−メチルインドリン。
【０１０１】２.５ ニッケル化合物：たとえば、２,
２'−チオ−ビス−[４−(１,１,３,３−テトラメチルブ
チル)フェノール］の錯体（他の追加配位子（たとえ
ば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−
シクロヘキシルジエタノールアミン）を含む又は含まな
い)(たとえば１：１又は１：２錯体）；４−ヒドロキシ
−３,５−ジ−第３級ブチルベンジル−ホスホン酸のモ
ノアルキルエステル（たとえば、メチル又はエチルエス
テル）のニッケル塩；ケトオキシム（たとえば，２−ヒ
ドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシ
ム）とのニッケル錯体；１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体（追加配位
子を含む又は含まない）。
２'−チオ−ビス−[４−(１,１,３,３−テトラメチルブ
チル)フェノール］の錯体（他の追加配位子（たとえ
ば、ｎ−ブチルアミン、トリエタノールアミン又はＮ−
シクロヘキシルジエタノールアミン）を含む又は含まな
い)(たとえば１：１又は１：２錯体）；４−ヒドロキシ
−３,５−ジ−第３級ブチルベンジル−ホスホン酸のモ
ノアルキルエステル（たとえば、メチル又はエチルエス
テル）のニッケル塩；ケトオキシム（たとえば，２−ヒ
ドロキシ−４−メチルフェニルウンデシルケトオキシ
ム）とのニッケル錯体；１−フェニル−４−ラウロイル
−５−ヒドロキシピラゾールのニッケル錯体（追加配位
子を含む又は含まない）。
【０１０２】２.６ 立体障害アミン：たとえば、ビス
(２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル)セバケー
ト；ビス(２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル)ス
クシネート；ポリ−メチルプロピル−３−オキシ[４−
(２,２,６,６−テトラメチル)ピペリジニル]シロキサ
ン；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−ピペリジル)
セバケート；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−ピ
ペリジル)ｎ−ブチル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジルマロネート；１−(２−ヒドロキシ
エチル)−２,２,６,６−テトラ−４−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸との間の縮合生成物；Ｎ,Ｎ'−ビス(２,
２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ヘキサメチ
レンジアミンと４−第３級オクチルアミノ−２,６−ジ
クロロ−１,３,５−トリアジンとの間の縮合生成物；ト
リス(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ニ
トリロトリアセテート；テトラキス(２,２,６,６−テト
ラメチル−４−ピペリジル)１,２,３,４−ブタンテトラ
カルボキシレート；１,１'−(１,２−エタノジル)ビス
(３,３,５,５−テトラメチルピペラジノン）；４−ベン
ゾイル−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン；４−
ステアリルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリ
ジン；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル)
−２−ｎ−ブチル−２−(２−ヒドロキシ−３,５−ジ−
第３級ブチルベンジル)マロネート；３−ｎ−オクチル
−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−トリアザス
ピロ[４.５]デカン−２,４−ジオン；ビス(１−オクチ
ルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート；ビス(１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テト
ラメチルピペリジル)スクシネート：Ｎ,Ｎ'−ビス(２,
２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ヘキサメチ
レンジアミンと４−モルホリン−２,６−ジクロロ−１,
３,５−トリアジンとの間の縮合生成物；２−クロロ−
４,６−ジ−(４−ｎ−ブチルアミノ−２,２,６,６−テ
トラメチルピペリジル)−１,３,５−トリアジンと１,２
−ビス(３−アミノプロピルアミノ)エタンとの間の縮合
生成物；２−クロロ−４,６−ジ−(４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル)−１,
３,５−トリアジンと１,２−ビス(３−アミノプロピル
アミノ)エタンとの間の縮合生成物；８−アセチル−３
−ドデシル−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−
８トリアザスピロ[４.５]デカン−２,４−ジオン；３−
ドデシル−１−(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペ
リジル)ピロリジン−２,５−ジオン；３−ドデシル−１
−(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル)ピ
ロリジン−２,５−ジオン。
(２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル)セバケー
ト；ビス(２,２,６,６−テトラメチル−ピペリジル)ス
クシネート；ポリ−メチルプロピル−３−オキシ[４−
(２,２,６,６−テトラメチル)ピペリジニル]シロキサ
ン；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−ピペリジル)
セバケート；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−ピ
ペリジル)ｎ−ブチル−３,５−ジ−第３級ブチル−４−
ヒドロキシベンジルマロネート；１−(２−ヒドロキシ
エチル)−２,２,６,６−テトラ−４−ヒドロキシピペリ
ジンとコハク酸との間の縮合生成物；Ｎ,Ｎ'−ビス(２,
２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ヘキサメチ
レンジアミンと４−第３級オクチルアミノ−２,６−ジ
クロロ−１,３,５−トリアジンとの間の縮合生成物；ト
リス(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ニ
トリロトリアセテート；テトラキス(２,２,６,６−テト
ラメチル−４−ピペリジル)１,２,３,４−ブタンテトラ
カルボキシレート；１,１'−(１,２−エタノジル)ビス
(３,３,５,５−テトラメチルピペラジノン）；４−ベン
ゾイル−２,２,６,６−テトラメチルピペリジン；４−
ステアリルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリ
ジン；ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル)
−２−ｎ−ブチル−２−(２−ヒドロキシ−３,５−ジ−
第３級ブチルベンジル)マロネート；３−ｎ−オクチル
−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−トリアザス
ピロ[４.５]デカン−２,４−ジオン；ビス(１−オクチ
ルオキシ−２,２,６,６−テトラメチルピペリジル)セバ
ケート；ビス(１−オクチルオキシ−２,２,６,６−テト
ラメチルピペリジル)スクシネート：Ｎ,Ｎ'−ビス(２,
２,６,６−テトラメチル−４−ピペリジル)ヘキサメチ
レンジアミンと４−モルホリン−２,６−ジクロロ−１,
３,５−トリアジンとの間の縮合生成物；２−クロロ−
４,６−ジ−(４−ｎ−ブチルアミノ−２,２,６,６−テ
トラメチルピペリジル)−１,３,５−トリアジンと１,２
−ビス(３−アミノプロピルアミノ)エタンとの間の縮合
生成物；２−クロロ−４,６−ジ−(４−ｎ−ブチルアミ
ノ−１,２,２,６,６−ペンタメチルピペリジル)−１,
３,５−トリアジンと１,２−ビス(３−アミノプロピル
アミノ)エタンとの間の縮合生成物；８−アセチル−３
−ドデシル−７,７,９,９−テトラメチル−１,３,８−
８トリアザスピロ[４.５]デカン−２,４−ジオン；３−
ドデシル−１−(２,２,６,６−テトラメチル−４−ピペ
リジル)ピロリジン−２,５−ジオン；３−ドデシル−１
−(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル)ピ
ロリジン−２,５−ジオン。
【０１０３】２.７ オキサミド：たとえば、４,４'−
ジオクチルオキシオキサニリド；２,２'−ジエトキシオ
キサニリド；２,２'−ジオクチルオキシ−５,５'−ジ−
第３級ブトキサニリド；２,２'−ジドテシルオキシ−
５,５'−ジ−第３級ブトキサニリド；２−エトキシ−
２'−エチルオキサニド；Ｎ,Ｎ'−ビス(３−ジメチルア
ミノプロピル)オキサミド；２−エトキシ−５−第３級
ブチル−２'−エトキサニリド及びその２−エトキシ−
２'−エチル−５,４'−ジ−第３級ブロキサニリドとそ
の混合物；及びジ置換オルト−及びパラ−メトキシアニ
リドの混合物及びジ置換オルト及びパラ−エトキシアニ
リドの混合物。
ジオクチルオキシオキサニリド；２,２'−ジエトキシオ
キサニリド；２,２'−ジオクチルオキシ−５,５'−ジ−
第３級ブトキサニリド；２,２'−ジドテシルオキシ−
５,５'−ジ−第３級ブトキサニリド；２−エトキシ−
２'−エチルオキサニド；Ｎ,Ｎ'−ビス(３−ジメチルア
ミノプロピル)オキサミド；２−エトキシ−５−第３級
ブチル−２'−エトキサニリド及びその２−エトキシ−
２'−エチル−５,４'−ジ−第３級ブロキサニリドとそ
の混合物；及びジ置換オルト−及びパラ−メトキシアニ
リドの混合物及びジ置換オルト及びパラ−エトキシアニ
リドの混合物。
【０１０４】２.８ ２−(２−ヒドロキシフェニル)−
１,３,５−トリアジン：たとえば、２,４,６−トリス
(２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)−１,
３,５−トリアジン；２−(２−ヒドロキシ−４−オクチ
ルオキシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェ
ニル)−１,３,５−トリアジン；２−(２,４−ジヒドロ
キシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェニ
ル)−１,３,５−トリアジン；２,４−ビス(２−ヒドロ
キシ−４−プロピルオキシフェニル)−６−(２,４−ジ
メチルフェニル)−１,３,５−トリアジン；２−(２−ヒ
ドロキシ)−４,６−ビス(４−メチルフェニル)−１,３,
５−トリアジン；２−(２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル)−４−ビス(２,４−ジメチルフェニル)
−１,３,５−トリアジン；２−[２−ヒドロキシ−４−
(２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ)フェニ
ル]−４,６−ビス(２,４−ジメチル)−１,３,５−トリ
アジン；２−[２−ヒドロキシ−４−(２−ヒドロキシ−
３−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−４,６
−ビス(２,４−ジメチル)−１,３,５−トリアジン。
１,３,５−トリアジン：たとえば、２,４,６−トリス
(２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル)−１,
３,５−トリアジン；２−(２−ヒドロキシ−４−オクチ
ルオキシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェ
ニル)−１,３,５−トリアジン；２−(２,４−ジヒドロ
キシフェニル)−４,６−ビス(２,４−ジメチルフェニ
ル)−１,３,５−トリアジン；２,４−ビス(２−ヒドロ
キシ−４−プロピルオキシフェニル)−６−(２,４−ジ
メチルフェニル)−１,３,５−トリアジン；２−(２−ヒ
ドロキシ)−４,６−ビス(４−メチルフェニル)−１,３,
５−トリアジン；２−(２−ヒドロキシ−４−ドデシル
オキシフェニル)−４−ビス(２,４−ジメチルフェニル)
−１,３,５−トリアジン；２−[２−ヒドロキシ−４−
(２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシプロポキシ)フェニ
ル]−４,６−ビス(２,４−ジメチル)−１,３,５−トリ
アジン；２−[２−ヒドロキシ−４−(２−ヒドロキシ−
３−オクチルオキシプロピルオキシ)フェニル]−４,６
−ビス(２,４−ジメチル)−１,３,５−トリアジン。
【０１０５】３. 「金属脱活性剤」：たとえば、Ｎ,
Ｎ'−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ'−サ
リチロイル−ヒドラジン、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)
ヒドラジン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−
４−ヒドキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、３−
サリチロイルアミノ−１,２,４−トリアゾール、ビス
(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドジド、セバコイルビスフェニ
ルヒドラジド、Ｎ,Ｎ'−ジアセチルアジポイルジヒドラ
ジド、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラ
ジド、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジ
ヒドラジド。
Ｎ'−ジフェニルオキサミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ'−サ
リチロイル−ヒドラジン、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)
ヒドラジン；Ｎ,Ｎ'−ビス(３,５−ジ−第３級ブチル−
４−ヒドキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、３−
サリチロイルアミノ−１,２,４−トリアゾール、ビス
(ベンジリデン)オキサリルジヒドラジド、オキサニリ
ド、イソフタロイルジヒドジド、セバコイルビスフェニ
ルヒドラジド、Ｎ,Ｎ'−ジアセチルアジポイルジヒドラ
ジド、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)オキサリルジヒドラ
ジド、Ｎ,Ｎ'−ビス(サリチロイル)チオプロピオニルジ
ヒドラジド。
【０１０６】４. ホスファイト及びホスホナイト：た
とえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスホナイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(２,４
−ジ−第３級ブチルフェニル)ホスファイト、ジインデ
シルペンタエリトリトールジホスファイト、ビス(２,４
−ジ−第３級ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジ
ホスファイト、ビス(２,５−ジ−第３級ブチル−４−メ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト；
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスファイ
ト、ビス(２,４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス[２,４,
５−トリス(第３級ブチルフェニル)]ペンタエリトリト
ールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリ
ホスファイト、テトラキス−(２,４−ジ−第３級ブチル
フェニル)−４,４'−ジフェニルリレンジホスホナイ
ト、５−イソオクチルオキシ−２,４,８,10−テトラ−
第３級ブチル−12Ｈ−ジベンゾ[ｄ,ｇ]−１,３,２−ジ
オキサホスホシン、６−フルオロ−２,４,８,10−テト
ラ−第３級ブチル−12−メチル−ジベンゾ[ｄ,ｇ]−１,
３,２−ジオキサホスホシン、ビス(２,４−ジ−第３級
ブチル−６−メチルフェニル)メチルホスファイト、ビ
ス(２,４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル)エ
チルホスファイト。
とえば、トリフェニルホスファイト、ジフェニルアルキ
ルホスホナイト、フェニルジアルキルホスファイト、ト
リス(ノニルフェニル)ホスファイト、トリラウリルホス
ファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジステアリ
ルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(２,４
−ジ−第３級ブチルフェニル)ホスファイト、ジインデ
シルペンタエリトリトールジホスファイト、ビス(２,４
−ジ−第３級ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジ
ホスファイト、ビス(２,５−ジ−第３級ブチル−４−メ
チルフェニル)ペンタエリトリトールジホスファイト；
ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホスファイ
ト、ビス(２,４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニ
ル)ペンタエリトリトールジホスファイト、ビス[２,４,
５−トリス(第３級ブチルフェニル)]ペンタエリトリト
ールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリ
ホスファイト、テトラキス−(２,４−ジ−第３級ブチル
フェニル)−４,４'−ジフェニルリレンジホスホナイ
ト、５−イソオクチルオキシ−２,４,８,10−テトラ−
第３級ブチル−12Ｈ−ジベンゾ[ｄ,ｇ]−１,３,２−ジ
オキサホスホシン、６−フルオロ−２,４,８,10−テト
ラ−第３級ブチル−12−メチル−ジベンゾ[ｄ,ｇ]−１,
３,２−ジオキサホスホシン、ビス(２,４−ジ−第３級
ブチル−６−メチルフェニル)メチルホスファイト、ビ
ス(２,４−ジ−第３級ブチル−６−メチルフェニル)エ
チルホスファイト。
【０１０７】５. 過酸化物を分解しうる試薬：たとえ
ば、β−チオジプロピオン酸のエステル（たとえば、ラ
ウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステ
ル）、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプ
トベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカ
ルバメート、ジオクタデシルスルフィッドペンタエリト
リトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。
ば、β−チオジプロピオン酸のエステル（たとえば、ラ
ウリル、ステアリル、ミリスチル又はトリデシルエステ
ル）、メルカプトベンズイミダゾール又は２−メルカプ
トベンズイミダゾールの亜鉛塩、亜鉛ジブチルジチオカ
ルバメート、ジオクタデシルスルフィッドペンタエリト
リトールテトラキス(β−ドデシルメルカプト)プロピオ
ネート。
【０１０８】６. ポリアミドの安定剤：たとえば、ヨ
ウ素及び／又はリンの化合物と併用される銅塩、２価マ
ンガン塩。
ウ素及び／又はリンの化合物と併用される銅塩、２価マ
ンガン塩。
【０１０９】７. 塩基性補助安定剤：たとえば、メラ
ニン、ポリビニルピロリドン、ジシアノジアミド、トリ
アリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、
アミン、ポリアミド、ポリウレタン、脂肪酸のアルカリ
金属塩及びアルカリ土類金属塩（たとえば、ステアリン
酸Ca、ステアリン酸Zn、ステアリン酸Mg、ベヘン酸Mg、
リシノレン酸Na、パルミチン酸Ｋ、ピロカテコール酸ア
ンチモン、ピロカテコール酸スズ。
ニン、ポリビニルピロリドン、ジシアノジアミド、トリ
アリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、
アミン、ポリアミド、ポリウレタン、脂肪酸のアルカリ
金属塩及びアルカリ土類金属塩（たとえば、ステアリン
酸Ca、ステアリン酸Zn、ステアリン酸Mg、ベヘン酸Mg、
リシノレン酸Na、パルミチン酸Ｋ、ピロカテコール酸ア
ンチモン、ピロカテコール酸スズ。
【０１１０】８. 核生成剤：たとえば、４−第３級ブ
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
チル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。
【０１１１】９. 充填剤及び強化剤：たとえば、炭酸
カルシウム、シリケートガラス繊維、石綿、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化
物、カーボンブラック、グラファイト。
カルシウム、シリケートガラス繊維、石綿、タルク、カ
オリン、雲母、硫酸バリウム、金属酸化物及び水酸化
物、カーボンブラック、グラファイト。
【０１１２】１０. 他の添加物：たとえば、可塑化
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤（たとえ
ば、臭化物、塩化物、ホスフィッド及びリン／ハロゲン
混合物）、帯電防止剤、発ぽう剤（たとえば、ジラウリ
ルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピ
オネート）。
剤、潤滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤（たとえ
ば、臭化物、塩化物、ホスフィッド及びリン／ハロゲン
混合物）、帯電防止剤、発ぽう剤（たとえば、ジラウリ
ルチオジプロピオネート又はジステアリルチオジプロピ
オネート）。
【０１１３】１１. ベンゾフラン及びインドリノン：
たとえば、３−[４−(２−アセトキシエトキシ)フェニ
ル]−５,７−ジ−第３級ブチルベンゾフラン−２−オ
ン；５,７−ジ−第３級ブチル−３−[４−(２−ステア
ロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−２−オ
ン；３,３'−ビス[５,７−ジ−第３級ブチル−３−[４
−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−
２−オン］；５,７−ジ−第３級ブチル−３−(４−エト
キシフェニル)ベンゾフラン−２−オン；３−(４−アセ
トキシ−３,５−ジメチルフェニル)−５,７−ジ−第３
級ブチル−ベンゾフラン−２−オン；３−(３,５−ジメ
チル−４−ピバロイルオキシフェニル)−５,７−ジ−第
３級ブチル−ベンゾフラン−２−オン；又は米国特許第
4,325,863号、同第4,338,244号、同第5,175,312号、同
第5,216,052号、同第5,252,643号、同第4,316,611号、
同第4,316,622号、同第4,316,876号又はヨーロッパ特許
出願第589,839号及び同第591,102号に開示されたもの。
たとえば、３−[４−(２−アセトキシエトキシ)フェニ
ル]−５,７−ジ−第３級ブチルベンゾフラン−２−オ
ン；５,７−ジ−第３級ブチル−３−[４−(２−ステア
ロイルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−２−オ
ン；３,３'−ビス[５,７−ジ−第３級ブチル−３−[４
−(２−ヒドロキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−
２−オン］；５,７−ジ−第３級ブチル−３−(４−エト
キシフェニル)ベンゾフラン−２−オン；３−(４−アセ
トキシ−３,５−ジメチルフェニル)−５,７−ジ−第３
級ブチル−ベンゾフラン−２−オン；３−(３,５−ジメ
チル−４−ピバロイルオキシフェニル)−５,７−ジ−第
３級ブチル−ベンゾフラン−２−オン；又は米国特許第
4,325,863号、同第4,338,244号、同第5,175,312号、同
第5,216,052号、同第5,252,643号、同第4,316,611号、
同第4,316,622号、同第4,316,876号又はヨーロッパ特許
出願第589,839号及び同第591,102号に開示されたもの。
【０１１４】本発明がさらに理解されるように、下記に
いくつかの実施例を例示するが、これらは本発明を限定
するものではない。
いくつかの実施例を例示するが、これらは本発明を限定
するものではない。
【０１１５】
【実施例１】下記の構造式を有する化合物１の製造
【化９】 方法（ａ） 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却器を具備す
る４頸フラスコ（250ml）に温度を−５℃から０℃の間
に維持しながら、９６％の濃硫酸５０ml中の２−(２'−
ヒドロキシ−５'−メチル)ベンゾトリアゾール11.3ｇ
（0.05モル）を充填した。ついで、１−メチロール−５,
５−ジメチルヒダントインの３３％水溶液９.０ｇ（0.0
57モル）を、温度を−５℃から０℃の間に維持しながら、
３０分間でゆっくりと滴下した。かかる混合物を撹拌下
に放置して２０℃に昇温させ、ついで、連続して撹拌し
ながら、この温度に５時間維持し、つづいて７０℃にさ
らに２時間加熱した。得られた粗生成物を水−氷混合物
400mlに注加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなるまで洗
浄した。このようにして固状物が得られ、この固状物を
２−メトキシエタノール200mlで結晶化させた。この結
晶化から、化合物１（その特性を後述する）に相当する
白色粉末１５ｇ（収率８２％）が得られた。方法（ｂ） 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却器を具備す
る４頸フラスコ（250ml）に温度を−５℃から０℃の間
に維持しながら、９６％の濃硫酸６７ml中の２−(２'−
ヒドロキシ−５'−メチル)ベンゾトリアゾール 11.3ｇ
（0.05モル）を充填した。ついで、１,３−ジメチロール
−５,５−ジメチルヒダントインの６０％水溶液９.４ｇ
（0.05モル）を、温度を−５℃から０℃の間に維持しなが
ら、３０分間でゆっくりと滴下した。かかる混合物を撹
拌下に放置して２０℃に昇温させ、ついで、連続して撹
拌しながら、この温度に４時間維持し、つづいて８０℃
にさらに２時間加熱した。得られた組成成物を水−氷混
合物400ml中に注加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなる
まで洗浄した。このようにして固状物が得られ、この固
状物を２−メタノール200mlで結晶化させた。この結晶
化から、下記の特性を有する化合物１に相当する白色の
粉末１３ｇ（収率７１％）が得られた。 −融点（DSC）：236℃ −ＩＲ（ヌジョール中)(cm-1）：3100，1770，1714 −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.38（ｓ,
６Ｈ）；2.38（ｓ,３Ｈ）；４.７（ｓ,２Ｈ）；７.３
（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；７.５（ｄｄ,２Ｈ）；７.９
（ｄｄ,２Ｈ）；8.15（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；８.３
（brs,１Ｈ）；11.6（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.3；2
2.8；36,3；63.7；117.6；120.8；124.8；127；127.8；
129.6；131.7；142.8；145；155.4；177.3−重量分析
（ｍ/ｅ）：［Ｍ+イオン］：365（100）*；279（９１）
*；253（５３）*；238（３０）*；９１（９）*；７７
（１３）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ19Ｈ19Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６２.４７％ ５.２１％ １９.１７％ 実測値 ６２.４４％ ５.１９％ １９.１５％
る４頸フラスコ（250ml）に温度を−５℃から０℃の間
に維持しながら、９６％の濃硫酸５０ml中の２−(２'−
ヒドロキシ−５'−メチル)ベンゾトリアゾール11.3ｇ
（0.05モル）を充填した。ついで、１−メチロール−５,
５−ジメチルヒダントインの３３％水溶液９.０ｇ（0.0
57モル）を、温度を−５℃から０℃の間に維持しながら、
３０分間でゆっくりと滴下した。かかる混合物を撹拌下
に放置して２０℃に昇温させ、ついで、連続して撹拌し
ながら、この温度に５時間維持し、つづいて７０℃にさ
らに２時間加熱した。得られた粗生成物を水−氷混合物
400mlに注加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなるまで洗
浄した。このようにして固状物が得られ、この固状物を
２−メトキシエタノール200mlで結晶化させた。この結
晶化から、化合物１（その特性を後述する）に相当する
白色粉末１５ｇ（収率８２％）が得られた。方法（ｂ） 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却器を具備す
る４頸フラスコ（250ml）に温度を−５℃から０℃の間
に維持しながら、９６％の濃硫酸６７ml中の２−(２'−
ヒドロキシ−５'−メチル)ベンゾトリアゾール 11.3ｇ
（0.05モル）を充填した。ついで、１,３−ジメチロール
−５,５−ジメチルヒダントインの６０％水溶液９.４ｇ
（0.05モル）を、温度を−５℃から０℃の間に維持しなが
ら、３０分間でゆっくりと滴下した。かかる混合物を撹
拌下に放置して２０℃に昇温させ、ついで、連続して撹
拌しながら、この温度に４時間維持し、つづいて８０℃
にさらに２時間加熱した。得られた組成成物を水−氷混
合物400ml中に注加し、濾取し、ついで中性ｐＨとなる
まで洗浄した。このようにして固状物が得られ、この固
状物を２−メタノール200mlで結晶化させた。この結晶
化から、下記の特性を有する化合物１に相当する白色の
粉末１３ｇ（収率７１％）が得られた。 −融点（DSC）：236℃ −ＩＲ（ヌジョール中)(cm-1）：3100，1770，1714 −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.38（ｓ,
６Ｈ）；2.38（ｓ,３Ｈ）；４.７（ｓ,２Ｈ）；７.３
（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；７.５（ｄｄ,２Ｈ）；７.９
（ｄｄ,２Ｈ）；8.15（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；８.３
（brs,１Ｈ）；11.6（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.3；2
2.8；36,3；63.7；117.6；120.8；124.8；127；127.8；
129.6；131.7；142.8；145；155.4；177.3−重量分析
（ｍ/ｅ）：［Ｍ+イオン］：365（100）*；279（９１）
*；253（５３）*；238（３０）*；９１（９）*；７７
（１３）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ19Ｈ19Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６２.４７％ ５.２１％ １９.１７％ 実測値 ６２.４４％ ５.１９％ １９.１５％
【０１１６】
【実施例２】下記の構造式を有する化合物２の製造
【化１０】 機械式撹拌機、滴下ロート、温度計及び冷却機を具備す
る４頸フラスコ（250ml）に、温度を−５℃から０℃の
間に維持しながら、９８％の濃硫酸６７ml中の２−(２'
−ヒドロキシ−５'−第３級オクチル)ベンゾトリアゾー
ル16.15ｇ（0.05モル）を充填した。ついで、１,３−ジメ
チロール−５,５−ジメチルヒダントインの６０％水溶
液９.４ｇ（0.05モル）を、温度を−５℃から０℃の間に
維持しながら、３０分間でゆっくりと滴下した。かかる
混合物を撹拌下に放置して２０℃に昇温させ、ついで、
連続して撹拌しながら、この温度に３時間維持し、つづ
いて、８０℃にさらに３時間加熱した。得られた組生成
物を水−氷混合物400ml中に注加し、濾取し、ついで、
中性ｐＨとなるまで洗浄した。このようにして固状物が
得られ、この固状物をヘキサン200mlで結晶化させた。
この結晶化から、下記の特性を有する化合物２に相当す
る白色の粉末１９ｇ（収率８２％）が得られた。 −融点（DSC）：138℃ −ＩＲ（ヌジョール中)(cm-1）：3100，1770，1714 −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：０.８
（ｓ,９Ｈ）；1.37（ｓ,６Ｈ）；１.４（ｓ,６Ｈ）；
１.７（ｓ,２Ｈ）；４.７（ｓ,２Ｈ）；７.４（ｄｄ,２
Ｈ）；７.５（ｄ,Ｊ＝２Hz,１Ｈ）；７.９（ｄｄ,２
Ｈ）；８.３（ｄ,Ｊ＝２Hz,１Ｈ）；８.６（brs,１
Ｈ）；11.6（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：22.7；2
8.9；３１；３２；36.6；38.2；56.6；63.6；117.6；11
8.3；124；126；127；129；142.2；142.7；144；155；1
77 −重量分析（ｍ/ｅ）：［Ｍ+イオン］：392（100）*；2
64（７４）*；463（５３）*；４１（１０）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ22Ｈ33Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.３９％ ７.１３％ １５.００％ 実測値 ６７.２１％ ７.０４％ １４.８０％
る４頸フラスコ（250ml）に、温度を−５℃から０℃の
間に維持しながら、９８％の濃硫酸６７ml中の２−(２'
−ヒドロキシ−５'−第３級オクチル)ベンゾトリアゾー
ル16.15ｇ（0.05モル）を充填した。ついで、１,３−ジメ
チロール−５,５−ジメチルヒダントインの６０％水溶
液９.４ｇ（0.05モル）を、温度を−５℃から０℃の間に
維持しながら、３０分間でゆっくりと滴下した。かかる
混合物を撹拌下に放置して２０℃に昇温させ、ついで、
連続して撹拌しながら、この温度に３時間維持し、つづ
いて、８０℃にさらに３時間加熱した。得られた組生成
物を水−氷混合物400ml中に注加し、濾取し、ついで、
中性ｐＨとなるまで洗浄した。このようにして固状物が
得られ、この固状物をヘキサン200mlで結晶化させた。
この結晶化から、下記の特性を有する化合物２に相当す
る白色の粉末１９ｇ（収率８２％）が得られた。 −融点（DSC）：138℃ −ＩＲ（ヌジョール中)(cm-1）：3100，1770，1714 −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：０.８
（ｓ,９Ｈ）；1.37（ｓ,６Ｈ）；１.４（ｓ,６Ｈ）；
１.７（ｓ,２Ｈ）；４.７（ｓ,２Ｈ）；７.４（ｄｄ,２
Ｈ）；７.５（ｄ,Ｊ＝２Hz,１Ｈ）；７.９（ｄｄ,２
Ｈ）；８.３（ｄ,Ｊ＝２Hz,１Ｈ）；８.６（brs,１
Ｈ）；11.6（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：22.7；2
8.9；３１；３２；36.6；38.2；56.6；63.6；117.6；11
8.3；124；126；127；129；142.2；142.7；144；155；1
77 −重量分析（ｍ/ｅ）：［Ｍ+イオン］：392（100）*；2
64（７４）*；463（５３）*；４１（１０）* *：相対強さを括弧内に示す。 −元素分析：Ｃ22Ｈ33Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.３９％ ７.１３％ １５.００％ 実測値 ６７.２１％ ７.０４％ １４.８０％
【０１１７】
【実施例３】下記の構造式を有する化合物３の製造
【化１８】 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、前記実施例１
に記載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、
ジメチルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.
014モル）を充填し、最後にヨウ化メチル２ｇ（0.0147モ
ル）を滴下した。撹拌下、温度を室温に維持し、溶離液
として１／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLC
（薄層クロマトグラフィー）によって制御した。反応終
了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成物に塩化メチ
レンを添加し、ついで、水で洗浄した。有機相を分離
し、硫酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発さ
せた。得られた生成物をヘプタンから結晶化させたとこ
ろ、下記の特性を有する化合物３に相当する白色の固体
３.７ｇ（収率７０％）が得られた。 −融点：208℃〜210℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.35（ｓ,
６Ｈ）；2.36（ｓ,３Ｈ）；3.00（ｓ,３Ｈ）；4.72
（ｓ,２Ｈ）；7.28（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；7.48（ｄ
ｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２Ｈ）；8.13（ｄ,Ｊ＝１.６H
z,１Ｈ）；11.60（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.50；
22.80；24.90；36.50；62.20；117.50；120.80；124.6
0；127.20；127.80；129.50；131.70；142.80；145.0
0；156.00；177.00 −元素分析：Ｃ20Ｈ21Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６３.３％ ５.５０％ １８.５％ 実測値 ６３.０％ ５.４５％ １８.１％
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、前記実施例１
に記載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、
ジメチルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.
014モル）を充填し、最後にヨウ化メチル２ｇ（0.0147モ
ル）を滴下した。撹拌下、温度を室温に維持し、溶離液
として１／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLC
（薄層クロマトグラフィー）によって制御した。反応終
了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成物に塩化メチ
レンを添加し、ついで、水で洗浄した。有機相を分離
し、硫酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発さ
せた。得られた生成物をヘプタンから結晶化させたとこ
ろ、下記の特性を有する化合物３に相当する白色の固体
３.７ｇ（収率７０％）が得られた。 −融点：208℃〜210℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.35（ｓ,
６Ｈ）；2.36（ｓ,３Ｈ）；3.00（ｓ,３Ｈ）；4.72
（ｓ,２Ｈ）；7.28（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；7.48（ｄ
ｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２Ｈ）；8.13（ｄ,Ｊ＝１.６H
z,１Ｈ）；11.60（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.50；
22.80；24.90；36.50；62.20；117.50；120.80；124.6
0；127.20；127.80；129.50；131.70；142.80；145.0
0；156.00；177.00 −元素分析：Ｃ20Ｈ21Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６３.３％ ５.５０％ １８.５％ 実測値 ６３.０％ ５.４５％ １８.１％
【０１１８】
【実施例４】下記の構造式を有する化合物４の製造
【化１９】 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後に臭化プロピル１.８ｇ（0.0147モル）
を滴下した。反応混合物を150℃に２時間加熱し、溶離
剤として２／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLC
によって制御した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除
去し、粗生成物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、
ついで、酸性水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を
分離し、硫酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸
発させた。得られた生成物をヘプタンから結晶化させた
ところ、下記の特性を有する化合物４に相当する白色の
固体４.３ｇ（収率７５％）が得られた。 −融点：120℃〜123℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：0.90（ｔ,
３Ｈ）；1.30（ｓ,６Ｈ）；1.65（ｍ,２Ｈ）；2.30
（ｓ,３Ｈ）；3.50（ｔ,３Ｈ）；4.68（ｓ,２Ｈ）；7.2
2（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；7.40（ｄｄ,２Ｈ）；7.80
（ｄｄ,２Ｈ）；8.00（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；11.50
（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppｍ）：11.0
0；20.60；21.40；22.90；36.50；40.40；61.90；117.6
0；120.00；124.80；127.40；127.80；129.50；131.7
0；142.80；145.00；156.10；176.90−元素分析：Ｃ22
Ｈ25Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６４.９％ ６.１０％ １７.２０％ 実測値 ６４.３％ ５.８５％ １７.０３％
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後に臭化プロピル１.８ｇ（0.0147モル）
を滴下した。反応混合物を150℃に２時間加熱し、溶離
剤として２／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLC
によって制御した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除
去し、粗生成物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、
ついで、酸性水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を
分離し、硫酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸
発させた。得られた生成物をヘプタンから結晶化させた
ところ、下記の特性を有する化合物４に相当する白色の
固体４.３ｇ（収率７５％）が得られた。 −融点：120℃〜123℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：0.90（ｔ,
３Ｈ）；1.30（ｓ,６Ｈ）；1.65（ｍ,２Ｈ）；2.30
（ｓ,３Ｈ）；3.50（ｔ,３Ｈ）；4.68（ｓ,２Ｈ）；7.2
2（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；7.40（ｄｄ,２Ｈ）；7.80
（ｄｄ,２Ｈ）；8.00（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；11.50
（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppｍ）：11.0
0；20.60；21.40；22.90；36.50；40.40；61.90；117.6
0；120.00；124.80；127.40；127.80；129.50；131.7
0；142.80；145.00；156.10；176.90−元素分析：Ｃ22
Ｈ25Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６４.９％ ６.１０％ １７.２０％ 実測値 ６４.３％ ５.８５％ １７.０３％
【０１１９】
【実施例５】下記の構造式を有する化合物５の製造
【化２０】 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後にブロモオクタン２.８ｇ（0.0147モ
ル）を滴下した。反応混合物を120℃に加熱し、溶離剤と
して２／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLCで制
御した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生
成物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、ついで、酸
性水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫
酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。
得られた生成物をヘプタンから結晶化させたところ、下
記の特性を有する化合物５に相当する白色の固体４.７
ｇ（収率７１％）が得られた。 −融点：９５℃〜９８℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：0.80（ｔ,
３Ｈ）；1.20（ｍ,１０Ｈ）；1.30（ｓ,６Ｈ）；1.50
（ｔ,２Ｈ）；2.40（ｓ,３Ｈ）；3.50（ｔ,２Ｈ）；4.7
0（ｓ,２Ｈ）；7.20（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,２Ｈ）；7.50
（ｄｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２Ｈ）；8.10（ｄ,Ｊ＝１.
６Hz,１Ｈ）；11.60（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：14.00；
20.60；22.60；22.90；28.00；28.70；29.10；31.80；3
6.50；38.90；62.00；117.60；120.80；124.80；127.5
0；127.80；129.50；131.70；142.80；145.10；156.1
0；176.90 −元素分析：Ｃ27Ｈ35Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.９％ ７.３４％ １４.７０％ 実測値 ６７.１％ ７.２９％ １４.２０％
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後にブロモオクタン２.８ｇ（0.0147モ
ル）を滴下した。反応混合物を120℃に加熱し、溶離剤と
して２／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLCで制
御した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生
成物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、ついで、酸
性水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫
酸ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。
得られた生成物をヘプタンから結晶化させたところ、下
記の特性を有する化合物５に相当する白色の固体４.７
ｇ（収率７１％）が得られた。 −融点：９５℃〜９８℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：0.80（ｔ,
３Ｈ）；1.20（ｍ,１０Ｈ）；1.30（ｓ,６Ｈ）；1.50
（ｔ,２Ｈ）；2.40（ｓ,３Ｈ）；3.50（ｔ,２Ｈ）；4.7
0（ｓ,２Ｈ）；7.20（ｄ,Ｊ＝１.６Hz,２Ｈ）；7.50
（ｄｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２Ｈ）；8.10（ｄ,Ｊ＝１.
６Hz,１Ｈ）；11.60（ｓ,１Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：14.00；
20.60；22.60；22.90；28.00；28.70；29.10；31.80；3
6.50；38.90；62.00；117.60；120.80；124.80；127.5
0；127.80；129.50；131.70；142.80；145.10；156.1
0；176.90 −元素分析：Ｃ27Ｈ35Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６７.９％ ７.３４％ １４.７０％ 実測値 ６７.１％ ７.２９％ １４.２０％
【０１２０】
【実施例６】下記の構造式を有する化合物６の製造
【化２１】 還流冷却器、温度計及び滴下ロートを具備する３頸フラ
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後に臭化ベンジル２.５ｇ（0.0147モル）
を滴下した。反応混合物を130℃に加熱し、溶離剤とし
て１／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLCで制御
した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成
物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、ついで、酸性
水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸
ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得
られた生成物をヘプタンから結晶化させたところ、下記
の特性を有する化合物６に相当する白色の固体４.１ｇ
（収率６５％）が得られた。 −融点：９６℃〜９８℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.34（ｓ,
６Ｈ）；2.34（ｓ,３Ｈ）；4.70（ｓ,４Ｈ）；7.35
（ｍ,６Ｈ）；7.45（ｄｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２
Ｈ）；8.10（ｄｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；11.58（ｓ,１
Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.60；
22.90；23.60；42.50；62.30；117.60；120.80；124.8
0；127.30；127.80；128.30；128.70；129.60；131.7
0；136.40；142.80；145.10；155.80；176.6−元素分
析：Ｃ26Ｈ25Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６８.６％ ５.４９％ １５.４％ 実測値 ６８.１％ ５.４３％ １５.０％
スコ（100ml）に、次の物質、すなわち、実施例１に記
載の如くして得られた化合物15.0ｇ（0.014モル）、ジメ
チルホルムアミド４０ml、炭酸カリウム1.93ｇ（0.014モ
ル）を充填し、最後に臭化ベンジル２.５ｇ（0.0147モル）
を滴下した。反応混合物を130℃に加熱し、溶離剤とし
て１／１のヘキサン／酢酸エチルを使用するTLCで制御
した。反応終了後、溶媒を蒸留によって除去し、粗生成
物に塩化メチレンを添加し、ついで、水、ついで、酸性
水及び最後に再び水で洗浄した。有機相を分離し、硫酸
ナトリウムにて脱水し、濾過し、最後に蒸発させた。得
られた生成物をヘプタンから結晶化させたところ、下記
の特性を有する化合物６に相当する白色の固体４.１ｇ
（収率６５％）が得られた。 −融点：９６℃〜９８℃ −1Ｈ−ＮＭＲ（200MHz, CDCl3）δ（ppm）：1.34（ｓ,
６Ｈ）；2.34（ｓ,３Ｈ）；4.70（ｓ,４Ｈ）；7.35
（ｍ,６Ｈ）；7.45（ｄｄ,２Ｈ）；7.90（ｄｄ,２
Ｈ）；8.10（ｄｄ,Ｊ＝１.６Hz,１Ｈ）；11.58（ｓ,１
Ｈ） −13Ｃ−ＮＭＲ（５０MHz，CDCl3）δ（ppm）：20.60；
22.90；23.60；42.50；62.30；117.60；120.80；124.8
0；127.30；127.80；128.30；128.70；129.60；131.7
0；136.40；142.80；145.10；155.80；176.6−元素分
析：Ｃ26Ｈ25Ｎ5０3 Ｃ Ｈ Ｎ 理論値 ６８.６％ ５.４９％ １５.４％ 実測値 ６８.１％ ５.４３％ １５.０％
【０１２１】
【実施例７】熱重量分析のデータ 熱重量分析のための標準装置（MettlerのTA Instrumen
tモデル3000）を使用して、化合物１及び２に関して、
等温及び重量データを測定し、Ciba Geigy社により製造
販売されているTinuvin 900のデータと比較した。デー
タを表１に示す。
tモデル3000）を使用して、化合物１及び２に関して、
等温及び重量データを測定し、Ciba Geigy社により製造
販売されているTinuvin 900のデータと比較した。デー
タを表１に示す。
【表１】 化合物 280℃で等温；N218Nl/時 ; 10℃/分で走査；N218Nl/時; (番号) 安定剤の重量損失(重量％) 安定剤の重量損失(重量％) を示す時間(分) を示す温度(℃) １０％ ５０％ １０％ ５０％ １ ＊ − ３３３ ３８７ ２ ＊＊ − ３０９ ３６２ Tinuvin900 ＊＊＊ ２０ ２８１ ３１９ 注） ＊：２３分後 ＊＊：１６分後 ＊＊＊：４.２分後
【０１２２】
【実施例８】ポリカーボネートにおける安定化 撹拌下、室温において、ビスフェノールＡポリカーボネ
ート２０ｇを塩化メチレン100ml中に溶解させた。数時
間後、ポリカーボネートが完全に溶解したところで、化
合物１又は化合物２又はTinuvin 900 ０.１ｇを添加し
た（添加量０.５％に等しい）。比較のため、光安定剤
を含有しない溶液も調製した。注型法によって、該溶液
から厚さ100μmをもつフィルムを調製した。得られたフ
ィルムを、下記の条件下におけるAtlas CI 65ウエザー
オメーターにおける促進エージングに供した。 −ブラックパネル温度：６０℃ −相対湿度：５０％ エージングの開始前及びその後に、一定間隔で、上記フ
ィルムのイエローインデックス（YI）をASTM E313の方
法によって測定した。脆化時間についても分析した。得
られた結果を表２に示す。
ート２０ｇを塩化メチレン100ml中に溶解させた。数時
間後、ポリカーボネートが完全に溶解したところで、化
合物１又は化合物２又はTinuvin 900 ０.１ｇを添加し
た（添加量０.５％に等しい）。比較のため、光安定剤
を含有しない溶液も調製した。注型法によって、該溶液
から厚さ100μmをもつフィルムを調製した。得られたフ
ィルムを、下記の条件下におけるAtlas CI 65ウエザー
オメーターにおける促進エージングに供した。 −ブラックパネル温度：６０℃ −相対湿度：５０％ エージングの開始前及びその後に、一定間隔で、上記フ
ィルムのイエローインデックス（YI）をASTM E313の方
法によって測定した。脆化時間についても分析した。得
られた結果を表２に示す。
【表２】 化合物 暴露時間 （番号） （時間） 0 250 500 600 800 1,000 1,500 − 0.4 4.0 12.4* - - - - 1 0.3 3.0 5.0 8.0 9.5 10.6 12.6* 2 0.5 3.6 5.8 8.7 9.3 10.9 12.7* Tinuvin 900 0.4 3.2 6.0 9.5 10.8 12.0* - 注）＊：サンプルの脆化
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０８Ｌ 101/00 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｃ０９Ｄ 7/12 Ｚ (72)発明者 カルロ・ネーリ イタリー国ミラノ州 サン・ドナト・ミ ラネーゼ市 ビア・エウローパ 32 (72)発明者 ロザルバ・コロンボ イタリー国ミラノ州 ビメルカーテ市 ビア・マンゾーニ 12 (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 403/10 ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ) ＣＡ（ＳＴＮ)
Claims (19)
- 【請求項１】下記一般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。 一般式（Ｉ） 【化１】 式中、Ｘは、水素原子、塩素及び臭素から選ばれるハロ
ゲン原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖
状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、又はシアノ基で
あり；Ｒは、塩素又は臭素から選ばれるハロゲン原子、
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）、Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基、Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）、直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基、酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）、
式 −ＣＯＨで表される基、−ＣＯＲ4又は−ＮＲ5Ｒ6
基［ここで、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6は、同一又は異なるもの
であって、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖
状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状
のＣ2-18アルキニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換
されていてもよい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアル
キルアリール基；Ｃ6-14アリール基（置換されていても
よい）；酸素、窒素及びイオウから選ばれる少なくとも
１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環基（置換
されていてもよい）である］であるか；又は、Ｒは、一
般式（II） 【化２】 一般式（III） 【化３】 一般式（IV） 【化４】 で表されるエステル基、又は、一般式（Ｖ） 【化５】 で表されるアミド基［これら一般式において、Ｒ′は、
直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基；直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルケニル基；直鎖状又は分枝状のＣ2-18ア
ルキニル基；Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）；Ｃ7-15アリールアルキル又はアルキルアリー
ル基；Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよい）；直
鎖状又は分枝状のＣ1-18アルコキシル基；酸素、窒素及
びイオウから選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含
有する５又は６員複素環基（置換されていてもよい）で
ある］であるか；又は、Ｒは、構造式（VI） 【化６】 を有する４,４'−エチリデンビスフェノール基であり；
Ｒ1は、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル
基、直鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又
は分枝状のＣ2-18アルキニル基、Ｃ5-18シクロアルキル
基（置換されていてもよい）、Ｃ7-15アリールアルキル
又はアルキルアリール基、Ｃ6-14アリール基（置換され
ていてもよい）、酸素、窒素及びイオウから選ばれる少
なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又は６員複素環
基（置換されていてもよい）、一般式（VII） 【化７】 で表されるアシル基又は一般式（VIII） 【化８】 で表されるエステル基（これら一般式において、Ｒ′は
前記と同意義である）であり；Ｒ2及びＲ3は、同一又は
異なるものであって、水素原子、直鎖状又は分枝状のＣ
1-18アルキル基、フェニル基、酸素、窒素及びイオウか
ら選ばれる少なくとも１つのヘテロ原子を含有する５又
は６員複素環基（置換されていてもよい）である。 - 【請求項２】Ｃ5-18シクロアルキル基、Ｃ6-14アリール
基及び５又は６員複素環基が、塩素及び臭素から選ばれ
るハロゲン、直鎖状又は分枝状のＣ1-18アルキル基、直
鎖状又は分枝状のＣ2-18アルケニル基、直鎖状又は分枝
状のＣ2-18アルキニル基、ＯＨ基、ＮＨ基、ＳＨ基で置
換されたものである、請求項１記載の一般式（Ｉ）で表
される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ
ール。 - 【請求項３】Ｃ1-18アルキル基が、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級ブチル、第
３級ブチル、第３級アミル、２−エチルヘキシル、ｎ−
オクチル、１,１,３,３−テトラメチルブチル、ｎ−ド
デシル、１,１,７,７−テトラメチルオクチル、ｎ−オ
クタデシルである、請求項１記載の一般式（Ｉ）で表さ
れる２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル。 - 【請求項４】Ｃ2-18アルケニル基が、ビニル、プロピレ
ン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレンである、請求項
１記載の一般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒドロキシ
フェニル）ベンゾトリアゾール。 - 【請求項５】Ｃ2-18アルキニル基が、アセチレン、プロ
ピン、ブチン、２−ブチンである、請求項１記載の一般
式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベ
ンゾトリアゾール。 - 【請求項６】Ｃ5-18シクロアルキル基（置換されていて
もよい）が、シクロヘキシル、シクロペンチル、メチル
シクロヘキシルである、請求項１記載の一般式（Ｉ）で
表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール。 - 【請求項７】Ｃ 7-15 アリールアルキル又はアルキルアリ
ール基が、ベンジル、２−フェニルエチル、４−第３級
ブチルベンジルである、請求項１記載の一般式（Ｉ）で
表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリア
ゾール。 - 【請求項８】Ｃ6-14アリール基（置換されていてもよ
い）が、フェニル、ナフチル、アントラセニル、２−ヒ
ドロキシフェニルである、請求項１記載の一般式（Ｉ）
で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリ
アゾール。 - 【請求項９】Ｃ 1-18 アルコキシル基が、メトキシル、エ
トキシル、プロポキシル、ｎ−ブトキシルである、請求
項１記載の一般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒドロキ
シフェニル）ベンゾトリアゾール。 - 【請求項１０】５又は６員複素環基（置換されていても
よい）が、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン、トリ
アゾール、テトラメチルピペリジン、ペンタメチルピペ
リジン、テトラメチルモルホリン、ペンタメチルモルホ
リン、４−ヒドロキシ−テトラメチルピペリジンであ
る、請求項１記載の一般式（Ｉ）で表される２−(２'−
ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール。 - 【請求項１１】構造式 【化９】 を有する、請求項１記載の２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール。 - 【請求項１２】構造式 【化１０】 を有する、請求項１記載の２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾール。 - 【請求項１３】請求項１〜１２のいずれか１項記載の一
般式（Ｉ）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾールを製造する方法において、一般式
（IX） 【化１１】 （式中、Ｘ及びＲは前記と同意義である）で表される２
−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールと、
一般式（Ｘ） 【化１２】 で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１,３−ジメ
チロール又は一般式（Xa） 【化１３】 で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１−メチロ
ール（これらの式において、Ｒ2及びＲ3は前記と同意義
である）とを、濃度８０〜９６％の濃硫酸の存在下、温
度−５〜＋８０℃で反応させて混合物を得た後、該混合
物から水−氷混合物によって希釈し、得られた固状物を
瀘取し、洗浄し、不活性有機溶媒の存在下における結晶
化によって所望の化合物を単離することを特徴とする、
２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの
製法。 - 【請求項１４】結晶化に使用される不活性有機溶媒が、
直鎖状又は環状の脂肪族炭化水素、芳香族炭化水素、ア
ルコール、塩素化芳香族溶媒、ケトン、エチレングリコ
ールのモノアルキルエーテルである、請求項１３記載の
２−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの
製法。 - 【請求項１５】一般式（Ｉ）におけるＲが、一般式（I
I）、（III）又は（IV）で表されるエステル基、又は一
般式（Ｖ）で表されるアミド基である２−(２'−ヒドロ
キシフェニル）ベンゾトリアゾールの製法において、一
般式（IX）で表される２−(２'−ヒドロキシフェニル）
ベンゾトリアゾールと一般式（Ｘ）で表される２,４−
イミダゾリジンジオン−１,３−ジメチロール又は一般
式（Xa）で表される２,４−イミダゾリジンジオン−１
−メチロールとの反応を、触媒としてトルエン及びｐ−
トルエンスルホン酸の存在下、室温〜トルエンの沸点の
範囲の温度において行う、２−(２'−ヒドロキシフェニ
ル）ベンゾトリアゾールの製法。 - 【請求項１６】有機重合体及び請求項１〜１２のいずれ
か１項記載の一般式（Ｉ）で表される１以上の２−(２'
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの有効量を
含有してなる、重合体組成物。 - 【請求項１７】一般式（I）で表される２−(２'−ヒド
ロキシフェニル）ベンゾトリアゾールを他の安定剤と併
用した、請求項１６記載の重合体組成物。 - 【請求項１８】有機重合体がポリカーボネートから選ば
れるものである、請求項１６又は１７記載の重合体組成
物。 - 【請求項１９】有機重合体の光安定剤としての請求項１
〜１５のいずれか１項記載の一般式（Ｉ）で表される２
−(２'−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾールの使
用。
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| IT97A002476 | 1997-11-06 |
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