JP3207254B2 - Semiconductor nonvolatile memory - Google Patents
Semiconductor nonvolatile memoryInfo
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- JP3207254B2 JP3207254B2 JP20101892A JP20101892A JP3207254B2 JP 3207254 B2 JP3207254 B2 JP 3207254B2 JP 20101892 A JP20101892 A JP 20101892A JP 20101892 A JP20101892 A JP 20101892A JP 3207254 B2 JP3207254 B2 JP 3207254B2
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- storage means
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、半導体不揮発性メモ
リ、特に電気的に記憶情報の書換えが可能な不揮発性メ
モリ(Electrically Erasable-Programmable Read Only
Memory 、以下EEPROMという)の複数ビットを同
時に書込む時のページ書込み方式に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory, and more particularly, to an electrically erasable-programmable read only memory.
Memory, it relates to the page writing look method when simultaneously written multiple bits of hereinafter referred EEPROM).
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、EEPROMに関する技術として
は、例えば特開昭62−266797号公報(文献
1)、特開平2−2634005号公報(文献2)等に
記載されるものがある。EEPROMにおいては、前記
文献1に記載されているように、半導体の高集積化に伴
い、メモリの記憶容量が増大し、1ビットあるいは1バ
イトずつの書換えでは、書換えに要する時間が増大し、
使用に際し不便な点が多い。そのため、メモリセルがマ
トリクス状に配列されたメモリセルマトリクスにおける
行方向の数バイトに相当する1行全てのビットを同時に
書換えて、書換え時間を短縮するページ書込み方式を備
えるようになった。その構成例を図2に示す。図2は、
前記文献1に記載された従来のEEPROMの一構成例
を示す概略のブロック図である。このEEPROMは、
データ記憶用のメモリセルマトリクス10を備えてい
る。メモリセルマトリクス10は、複数のワード線WL
1 〜WLm 及び複数のビット線BL1 〜BLn を有し、
それらの各交点には電気的に書換え可能な不揮発性のメ
モリセル1111〜11mnがそれぞれ接続され、それらが
マトリクス状に配列されている。各メモリセル1111〜
11mnは、セレクトトランジスタ及びフローティングゲ
ートトランジスタで、それぞれ構成されている。2. Description of the Related Art Conventionally, techniques relating to an EEPROM are described in, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-266797 (Document 1) and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2-263005 (Document 2). In the EEPROM, as described in Document 1, the storage capacity of the memory increases with the increase in the degree of integration of semiconductors, and the time required for rewriting one bit or one byte at a time increases,
There are many inconveniences in use. For this reason, a page writing method for shortening the rewriting time by simultaneously rewriting all bits of one row corresponding to several bytes in the row direction in a memory cell matrix in which memory cells are arranged in a matrix has been provided. FIG. 2 shows an example of the configuration. FIG.
FIG. 1 is a schematic block diagram showing an example of a configuration of a conventional EEPROM described in Document 1. This EEPROM is
A memory cell matrix 10 for storing data is provided. The memory cell matrix 10 includes a plurality of word lines WL
1 has to WL m and a plurality of bit lines BL 1 to BL n,
The electrically rewritable nonvolatile memory cells 11 11 to 11 mn are connected to the respective intersections, and they are arranged in a matrix. Each memory cell 11 11 to
11 mn is a select transistor and a floating gate transistor, respectively.
【0003】ワード線WL1 〜WLm には、行アドレス
AD1 をデコードしてそれらのワード線WL1 〜WLm
の1本を選択する行デコーダ20が接続されている。ビ
ット線BL1 〜BLn には、スイッチ手段211 〜21
n を介してセンスアンプ23が接続されている。スイッ
チ手段211 〜21n は、列アドレスAD2 をデコード
する列デコーダ22によって該スイッチ手段211 〜2
1n のうちの1つが選択されるようになっている。セン
スアンプ23の出力側には、リード信号RDによって活
性化される出力バッファ24を介して、入出力端子25
が接続されている。さらに、入出力端子25には、ライ
ト信号WRによって活性化される入力バッファ26の入
力側が接続され、その出力側が、スイッチ手段271 〜
27n を介して一時記憶手段281 〜28n に接続され
ている。スイッチ手段271 〜27n は、そのうちの1
つが列デコーダ22の出力によってオン状態となる。一
時記憶手段281 〜28n は、信号STOによってオ
ン,オフ動作するスイッチ手段291 〜29n を介し
て、ビット線BL1 〜BLn にそれぞれ接続されてい
る。この種のEEPROMでページ書込みを行う場合、
入出力端子25より入力されたデータを、入力バッファ
26で駆動し、列デコーダ22によって選択されたスイ
ッチ手段27j を介して、一時記憶手段28j へ順次書
込む。一時記憶手段28j へのデータ書込み(入力)が
終わった後、行デコーダ20によって選択されたワード
線WLi に接続されるメモリセル11i1〜11inに対
し、一時記憶手段28j に書込まれたデータに従い、ス
イッチ手段29j を介して同時(1書込みサイクル中)
に書込む。[0003] Word lines WL 1 to WL The m, row address AD 1 decodes them word lines WL 1 to WL m
Are connected to each other. The bit lines BL 1 to BL n are connected to switch means 21 1 to 21.
The sense amplifier 23 is connected via n . Switch means 21 1 through 21 n, said switching means 21 21 to the column decoder 22 for decoding the column address AD 2
One of 1 n is selected. The output side of the sense amplifier 23 is connected to an input / output terminal 25 via an output buffer 24 activated by a read signal RD.
Is connected. Further, the input side of the input buffer 26 activated by the write signal WR is connected to the input / output terminal 25, and its output side is connected to the switch means 27 1 to 27 1 .
It is connected to the temporary storage means 28 1 ~ 28 n via the 27 n. The switch means 27 1 to 27 n are one of them.
One is turned on by the output of the column decoder 22. Temporary storage means 28 1 ~ 28 n are turned on by signal STO, through the switch means 29 1 ~ 29 n to OFF operation, are connected to the bit lines BL 1 to BL n. When writing a page in this type of EEPROM,
The data input from the input / output terminal 25 is driven by the input buffer 26, and is sequentially written to the temporary storage unit 28j via the switch unit 27j selected by the column decoder 22. After the data writing (input) is finished to the temporary storage unit 28 j, the write to the memory cell 11 i1 to 11 in, the temporary storage means 28 j is connected to the word line WL i selected by the row decoder 20 in accordance with the data that was, simultaneously through the switch means 29 j (during the first write cycle)
Write to.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成のEEPROMでは、メモリセル11 i1 〜11 in に高
電位をバイアスして書込みを行うため、ページ書込み動
作では、書込みデータによっては隣接ビット線間に高電
位差が生じ、次のような問題が生じる。 (a) 隣接ビット線間には、ワード線WLi をゲート
とし、あるビット線BL j をドレイン、このビット線B
L j の隣接ビット線BL j+1 またはBL j-1 をソースと
した、寄生フィールドトランジスタが存在する。従来の
ページ書込み動作では、書込みデータによっては隣接ビ
ット線間に高電位差が生じ、隣接ビット線間に存在する
前記フィールドトランジスタがオン状態となり、書込み
用の高電圧が該フィールドトランジスタを介してリーク
(漏洩)する。そのため、所望の電位に達せず、書込み
が不充分であったり、あるいは、書込み時の消費電流が
増大するという問題がある。 (b) 前記のフィールドトランジスタの悪影響を防止
するためには、該フィールドトランジスタのゲート長、
つまりビット線間隔を広くしたり、フィールド酸化膜を
厚くすればよいが、それによってメモリセル1111〜1
1 mn の微細化及び縮小化の妨げとなる。 (c) 前記(a),(b)の問題を解決するため、前
記文献2に記載されたメモリセルのテスト方法の技術を
利用することが考えられる。この文献2の技術では、メ
モリセルのテスト方法の1つである、セル干渉やビット
線不良等を検査するためのデータパターンの書込みで、
ワード線及びビット線を共に1本おき、かつ同時に、選
択/非選択状態として、隣接するメモリセルを全て己と
逆のデータになるように書込みを行う技術である。However, in the EEPROM having the above-described structure, writing is performed by biasing the memory cells 11 i1 to 11 in with a high potential. A high potential difference occurs, causing the following problem. (A) Between adjacent bit lines, and the gate of the word line WL i, drain a certain bit line BL j, the bit line B
There is a parasitic field transistor whose source is the bit line BL j + 1 or BL j-1 adjacent to L j . In a conventional page write operation, a high potential difference occurs between adjacent bit lines depending on write data, the field transistor existing between adjacent bit lines is turned on, and a high voltage for writing turns on the field transistor. Leaks through. Therefore, there is a problem that the potential does not reach a desired potential and writing is insufficient, or current consumption at the time of writing increases. (B) To prevent the field transistor from being adversely affected, the gate length of the field transistor must be
That or wider bit line spacing, but it may be thicker field oxide film, the memory cell 11 11-1 thereby
It hinders miniaturization and miniaturization of 1 mn . (C) In order to solve the above-mentioned problems (a) and (b), it is conceivable to use the technique of the memory cell test method described in Document 2 above. In the technique of Document 2, writing of a data pattern for inspecting cell interference, bit line failure, or the like, which is one of the test methods of a memory cell, is performed.
This is a technique in which one word line and one bit line are both placed, and at the same time, the selected / non-selected state is set so that all adjacent memory cells are written so as to have data opposite to that of the memory cell.
【0005】ところが、この技術では、同時に選択され
たビット線は全て同一状態(高電圧)である。ワード線
も1本おきに複数本選択する。特殊機能(テストモー
ド)であり、ある特殊なデータパターンを容易に書込む
ことを目的とし、任意のデータを書込むことができな
い。このように、本発明の対象とするページ書込み方式
とは大きく異なるため、前記文献2の技術を利用したと
しても、実使用において書込みデータによっては、問題
となるフィールドトランジスタが隣接ビット線間に形成
され、高電圧のリークを防止できないという問題があ
り、未だ充分技術的に満足のゆくEEPROMを提供す
ることが困難であった。本発明は、前記従来技術が持っ
ていた課題として、隣接ビット線間に存在する寄生フィ
ールドトランジスタによる書込み電圧の低下及び消費電
流の増加、さらにその書込み電圧の低下を防止すること
によるメモリセルの微細化が妨げられるという点につい
て解決したEEPROMを提供するのである。However, in this technique, all bit lines selected at the same time are in the same state (high voltage). A plurality of word lines are selected every other word line. This is a special function (test mode) for the purpose of easily writing a certain special data pattern, and cannot write arbitrary data. As described above, since the page writing method of the present invention is significantly different from the page writing method, even if the technique of Document 2 is used, depending on the write data in actual use, a problematic field transistor is formed between adjacent bit lines. However, there is a problem that high voltage leakage cannot be prevented, and it has been difficult to provide an EEPROM which is technically satisfactory. An object of the present invention is to reduce the write voltage and increase the current consumption due to a parasitic field transistor existing between adjacent bit lines, and also to reduce the size of a memory cell by preventing the write voltage from lowering. It is to provide an EEPROM that solves the problem that the conversion is hindered.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】第1の発明の半導体不揮
発性メモリは、前記課題を解決するため、複数のワード
線及びビット線の各交点にそれぞれ接続された電気的に
書き換え可能な不揮発性のメモリセルがマトリクス状に
配列されたメモリセルマトリクスと、このビット線を介
してメモリセルへ書込むためのデータをデータ入力サイ
クル時に一時記憶する複数の一時記憶手段と、データ入
力サイクルに続く不揮発性記憶サイクルにおいてアドレ
スに従い1つのワード線と複数のビット線を選択し、こ
れら複数のビット線を複数のグループに分割し、分割さ
れたグループに接続された複数のメモリセルに対して一
時記憶手段に記憶されたデータを同時に書込むページ書
き込み手段を有している。そして、このページ書き込み
手段は、各ビット線毎に接続され、このビット線と一時
記憶手段との間を接続/遮断する複数のスイッチ手段
と、この複数のビット線毎に接続されたスイッチ手段を
少なくとも1つおきに接続状態に切替え制御して、複数
のグループをそれぞれ構成するページセレクタとを有し
ている。第2の発明では、第1の発明の一時記憶手段を
各ビット線毎に設けている。また、第3の発明では、第
1の発明の一時記憶手段を隣接する2本のビット線毎に
設けている。According to a first aspect of the present invention, there is provided a semiconductor non-volatile memory electrically connected to each of intersections of a plurality of word lines and bit lines. Memory cells in which memory cells are arranged in a matrix, a plurality of temporary storage means for temporarily storing data for writing to the memory cells via the bit lines during a data input cycle, and a nonvolatile memory following the data input cycle. One word line and a plurality of bit lines are selected in accordance with an address in a memory storage cycle, and the plurality of bit lines are divided into a plurality of groups. Page writing means for simultaneously writing the data stored in the memory. The page writing means includes a plurality of switch means connected for each bit line, for connecting / disconnecting between the bit line and the temporary storage means, and a switch means connected for each of the plurality of bit lines. A page selector is provided which controls switching to a connection state at least every other one to form a plurality of groups. In the second invention, the temporary storage means of the first invention is provided for each bit line. Further, in the third invention, the temporary storage means of the first invention is provided for every two adjacent bit lines.
【0007】[0007]
【作用】第1及び第2の発明によれば、以上のようにE
EPROMを構成したので、1不揮発性記憶サイクルに
おけるページ書込み動作では、1本のワード線と複数の
ビット線とが選択され、それらの交点に接続された複数
のメモリセルに対し、一時記憶手段に記憶されたデータ
が同時に書込まれる。この時、ページセレクタ及びそれ
によって制御されるスイッチ手段により、同時に選択さ
れるビット線の組み合わせを、どの選択ビット線の隣接
ビット線も選択されないように動作する。即ち、ページ
セレクタ及びスイッチ手段により、1ページにおいて少
なくとも1本おきのビット線が選択され、どのページを
選択しても、全ての選択ビット線の隣接ビット線が、フ
ローティング状態となり、隣接ビット線間に存在する寄
生フィールドトランジスタによる高電圧のリークが、実
使用上なくなる。このように、ページ書込み時におい
て、書込みビット線の隣接ビット線がフローティング状
態となるので、前記フィールドトランジスタの悪影響が
実質的になくなり、メモリセルの縮小化が図れる。第3
の発明によれば、各一時記憶手段は、2本のビット線毎
に書込みデータの一時記憶を行い、回路規模を削減化す
る働きがある。従って、前記課題を解決できるのであ
る。According to the first and second aspects of the present invention, E
Since the EPROM is configured, in a page write operation in one nonvolatile storage cycle, one word line and a plurality of bit lines are selected, and a plurality of memory cells connected to their intersection are stored in a temporary storage unit. The stored data is written at the same time. At this time, the combination of the bit lines selected simultaneously by the page selector and the switch means controlled by the page selector operates so that the bit line adjacent to any selected bit line is not selected. That is, at least every other bit line is selected in one page by the page selector and the switch means, and no matter which page is selected, the adjacent bit lines of all the selected bit lines are in a floating state, and the Of the high voltage due to the parasitic field transistor existing in the semiconductor device is practically eliminated. As described above, at the time of page write, the bit line adjacent to the write bit line is in a floating state, so that the adverse effect of the field transistor is substantially eliminated and the size of the memory cell can be reduced. Third
According to the invention, each temporary storage means temporarily stores write data for every two bit lines, and has a function of reducing the circuit scale. Therefore, the above problem can be solved.
【0008】[0008]
【実施例】第1の実施例 図1は、本発明の第1の実施例を示すEEPROMの概
略の構成ブロック図である。このEEPROMは、デー
タ記憶用のメモリセルマトリクス30を備えている。メ
モリセルマトリクス30は、複数のワード線WL 1 〜W
L m 及び複数のビット線BL 1 〜BL n を備え、それら
の各交点には電気的に書換え可能な不揮発性のメモリセ
ル3111〜31 mn がそれぞれ接続され、それらのメモリ
セル3111〜31 mn がマトリクス状に配列されている。
各メモリセル3111〜31 mn は、例えばセレクトトラン
ジスタ及びフローティングゲートトランジスタの2つの
トランジスタで、それぞれ構成されている。EXAMPLES First Embodiment FIG. 1 is a block diagram schematic of EEPROM illustrating a first embodiment of the present invention. This EEPROM includes a memory cell matrix 30 for storing data. The memory cell matrix 30 includes a plurality of word lines WL 1 to W 1
Comprising a L m and a plurality of bit lines BL 1 to BL n, they each intersection of connected electrically rewritable nonvolatile memory cells 31 11 to 31 mn, respectively, those memory cells 31 11-31 mn are arranged in a matrix.
Each memory cell 31 11 to 31 mn are two transistors of the select transistor and the floating gate transistor if example embodiment, is constituted respectively.
【0009】ワード線WL 1 〜WL m は、行デコーダ4
0に接続されている。行デコーダ40は、行アドレスA
D 1 をデコードして複数のワード線WL 1 〜WL m の中
の1本を選択する回路である。各ビット線BL 1 〜BL
n は、トランジスタで構成されたスイッチ手段411 〜
41 n を介して、センスアンプ43に共通接続されてい
る。スイッチ手段411 〜41 n は、列アドレスAD 2
をデコードする列デコーダ42の出力によってオン,オ
フ制御される。センスアンプ43は、スイッチ手段41
1 〜41 n からの読出しデータを増幅する回路であり、
その出力側には、リード信号RDによって活性化される
出力バッファ44を介して、入出力端子45が接続され
ている。[0009] Word lines WL 1 to WL m is the row decoder 4
Connected to 0. The row decoder 40 has a row address A
Decodes the D 1 is a circuit for selecting one of the plurality of word lines WL 1 to WL m. Each bit line BL 1 ~BL
n is the switch means 41 1 to 41
Commonly connected to the sense amplifier 43 via 41 n . The switch means 41 1 to 41 n are connected to the column address AD 2
Are turned on and off by the output of the column decoder 42 which decodes The sense amplifier 43 includes a switch 41
A circuit for amplifying read data from 1 to 41 n ;
An input / output terminal 45 is connected to the output side via an output buffer 44 activated by the read signal RD.
【0010】さらに、入出力端子45には、ライト信号
WRによって活性化される入力バッファ46の入力側が
接続され、その出力側には、トランジスタで構成された
スイッチ手段471 〜47n を介して、一時記憶手段4
81 〜48n が接続されている。スイッチ手段471 〜
47n は、列デコーダ42の出力によってオン,オフ制
御される。一時記憶手段481 〜48n は、書込みデー
タを一時記憶するもので、ラッチ回路等で構成され、そ
れらの各出力側には、トランジスタで構成されたスイッ
チ手段501 〜50n を介して、ビット線BL1 〜BL
n がそれぞれ接続されている。一時記憶手段481 〜4
8n とビット線BL1 〜BLn とを接続するスイッチ手
段50 1 〜50 n は、ページセレクタ60の出力によっ
てオン,オフ制御される。ページセレクタ60は、信号
STOに基づき、複数のスイッチ手段501 〜50n を
1つおきに同時にオン,オフ制御し、複数のビット線B
L1 〜BLn を1本おきに同時に選択する機能を有して
いる。そのため、1ページを構成するメモリセル31ij
の数は、n/2個である。次に、書込み動作(1)と、
読出し動作(2)を説明する。Further, an input side of an input buffer 46 activated by the write signal WR is connected to the input / output terminal 45, and a switch means 47 1 to 47 composed of a transistor is connected to the output side. 47 n via the temporary storage means 4
8 1 to 48 n are connected. Switch means 47 1 ~
47 n are turned on and off by the output of the column decoder 42. Temporary storage means 48 1 to 48 n is for temporarily storing write data, is composed of a latch circuit or the like, to their respective output sides of, through the switch means 50 1 to 50 n, which is a transistor, Bit lines BL 1 to BL
n are connected respectively. Temporary storage means 48 1 to 4
8 n and a switch for connecting bit lines BL 1 to BL n
Stage 50 1 to 50 n are turned on by the output of the page selector 60 is turned off controlled. The page selector 60 simultaneously controls on / off of every other one of the plurality of switch means 50 1 to 50 n based on the signal STO, and
The L 1 to BL n has a function of simultaneously selected every other. Therefore, the memory cells 31 ij forming one page
Is n / 2. Next, a write operation (1)
The read operation (2) will be described.
【0011】(1) 読出し動作 読出し動作の場合、リード信号RDによって出力バッフ
ァ44が活性化されると共に、行アドレスAD 1 が行デ
コーダ40でデコードされ、複数のワード線WL 1 〜W
L m のうちの1本のWL i が選択される。さらに、列ア
ドレスAD 2 が列デコーダ42でデコードされ、複数の
スイッチ手段411 〜41 n のうちの1つの41 j がオ
ン状態となって1本のビット線BL j が選択される。選
択されたワード線WL i とビット線BL j とに接続され
たメモリセル31 ij の記憶データは、該ビット線BL j
及びスイッチ手段41 j を介してセンスアンプ43へ送
られ、該センスアンプ43で論理レベルまで増幅され、
出力バッファ44で駆動されて入出力端子45へ出力さ
れる。[0011] (1) In the case of a read operation the read operation, the output buffer 44 by the read signal RD is activated, the row address AD 1 is decoded by row decoder 40, a plurality of word lines WL 1 to W-
One WL i of L m is selected. Further, the column address AD 2 is decoded by the column decoder 42, one bit line BL j 1 single 41 j is turned on among the plurality of switch means 41 1 to 41 n is selected. The data stored in the memory cell 31 ij connected to the selected word line WL i and bit line BL j is stored in the bit line BL j
And the signal is sent to the sense amplifier 43 via the switch means 41j , and is amplified to a logic level by the sense amplifier 43.
Driven by the output buffer 44 and output to the input / output terminal 45.
【0012】(2) 書込み動作 書込み動作は、一時記憶手段481 〜48n へのデータ
の入力を行うデータ入力サイクルと、メモリセル31へ
実際にデータを書込む不揮発性記憶サイクルとから構成
される。データ入力サイクルでは、ライト信号WRによ
って入力バッファ46が活性化され、入出力端子45に
より入力された書込みデータが該入力バッファ46で駆
動され、列デコーダ42の出力によってオン状態となっ
たスイッチ手段47j を介して、入力された列アドレス
AD2 に応じた一時記憶手段48j へ順次入力される。
データ入力サイクルに続く不揮発性記憶サイクルに入る
と、ページセレクタ60によってオン,オフ制御される
2つのスイッチ手段群501 ,503 ,…,50n-1 と
502 ,504 ,…,50n のうち、入力された列アド
レスAD2 に相当するページを選択するためにいずれか
一方のスイッチ手段群が選択され、一時記憶手段48j
とビット線BLj とが接続される。これにより、一時記
憶手段48j に記憶されているデータに応じて、高電圧
がビット線BLj にバイアスされる。そして、行デコー
ダ40の出力によって1本のワード線WLi が選択さ
れ、そのワード線WLi とビット線BLj との交点に接
続されたメモリセル31ijへ、データの書込みが行われ
る。本実施例では、仮に、一時記憶手段48j に入力さ
れた書込みデータが、全てのビット線BL1 〜BLn を
高電圧にするようなデータであっても、ページセレクタ
60及びスイッチ手段501 〜50n によって、1ペー
ジがビット線BLjを1本おきに選択するように構成さ
れているため、1不揮発性記憶サイクル中において、ど
のビット線BLj も、その隣接ビット線BLj+1 または
BLj-1 がフローティング状態となっており、寄生フィ
ールドトランジスタが、高電圧のリークを起こすような
状態とはならない。従って、従来のようなページ書込み
の際に隣接ビット線間に形成される寄生フィールドトラ
ンジスタによる高電圧のリーク電流を、事実上なくすこ
とができる。しかも、フィールド酸化膜を必要以上に厚
くしなくてよいため、微細化に適している。[0012] (2) write operation The write operation is composed of a data input cycle for inputting data to the temporary storage unit 48 1 to 48 n, write actual data into the memory cell 31 and the nonvolatile memory cycle You. In the data input cycle, the input buffer 46 is activated by the write signal WR, the write data input from the input / output terminal 45 is driven by the input buffer 46, and the switch means 47 turned on by the output of the column decoder 42. through j, it is sequentially input to the temporary storage unit 48 j corresponding to the column address AD 2 input.
In the nonvolatile memory cycle following the data input cycle, two switch means groups 50 1 , 50 3 ,..., 50 n−1 and 50 2 , 50 4 ,. of n, it is one of the switch means a group in order to select the page corresponding to the column address AD 2 input is selected, the temporary storage unit 48 j
And the bit line BL j are connected. Thus, according to the data stored in the temporary storage means 48 j, a high voltage is biased to the bit line BL j. Then, output by selecting one word line WL i row decoder 40, to the word lines WL i and the bit line BL j and the memory cell 31 ij connected to the intersection of the data writing is performed. In this embodiment, if the write data input to the temporary storage means 48 j is even data such that all of the bit lines BL 1 to BL n to the high voltage, the page selector 60 and switch means 50 1 by to 50 n, 1 because the page is configured to select the one every other bit line BL j, in a first nonvolatile memory cycle, any bit line BL j, the adjacent bit line BL j + 1 Alternatively, BL j-1 is in a floating state, and the parasitic field transistor does not enter a state in which high voltage leakage occurs. Therefore, the leakage current of the high voltage due to parasitic fields Doto La <br/> Njisuta formed between adjacent bit lines during the conventional such page write, can virtually eliminate. In addition, since the field oxide film does not need to be thicker than necessary, it is suitable for miniaturization.
【0013】第2の実施例 図3は、本発明の第2の実施例を示すEEPROMの概
略の構成ブロック図であり、第1の実施例を示す図1中
の要素と共通の要素には共通の符号が付されている。こ
のEEPROMでは、図1の一時記憶手段481 〜48
n に代えて、構成の異なる一時記憶手段4812,4
834,…,48 n-1,n が、ページを異にする隣接の2本
のビット線毎に1個ずつ設けられている。即ち、ビット
線BL 1 ,BL 2 はそれぞれスイッチ手段501 ,50
2 を介して一時記憶手段4812に接続されている。同様
に、ビット線BL 3 ,BL 4 はスイッチ手段503 ,5
04 を介して一時記憶手段4834に、ビット線B
L n-1 ,BL n はスイッチ手段50 n-1 ,50 n を介し
て一時記憶手段48 n-1,n に、それぞれ接続されてい
る。各一時記憶手段4812,4834,…,48
n-1,n は、例えば第1の実施例の一時記憶手段48 n と
同様に、それぞれ構成されている。このEEPROMで
は、データの読出しと書込みが第1の実施例と同様に行
われる。そのため、第1の実施例とほぼ同様の利点を有
する他に、第1の実施例の半分の個数の一時記憶手段4
8 j-1,j で、第1の実施例と同様の効果を実現できる。
なお、本発明は上記実施例に限定されず、例えば、EE
PROMの書込み手段や読出し手段を、図1及び図3以
外の回路で構成したり、あるいはページセレクタ60で
制御されるスイッチ手段501 〜50 n を、一時記憶手
段481 〜48 n ,4812〜48 n-1,n 内にそれぞれ設
ける等、種々の変形が可能である。 Second Embodiment FIG. 3 is a schematic block diagram of an EEPROM showing a second embodiment of the present invention. The elements common to the elements in FIG. 1 showing the first embodiment are shown in FIG. Common symbols are assigned. In this EEPROM, the temporary storage means 48 1 to 48 shown in FIG.
Instead of n , temporary storage means 48 12 , 4 having a different configuration
8 34, ..., 48 n- 1, n are provided one for every two bit lines adjacent having different page. That is, the bit lines BL 1 and BL 2 are connected to the switch means 50 1 and 50, respectively.
It is connected to the temporary storage 48 12 through 2. Similarly, the bit lines BL 3 and BL 4 are connected to the switch means 50 3 and 5
0 4 in the temporary storage 48 34 through the bit line B
L n-1 and BL n are connected to temporary storage means 48 n-1 and n via switch means 50 n-1 and 50 n , respectively. Each of the temporary storage means 48 12 , 48 34 ,.
n-1 and n are configured, for example, similarly to the temporary storage means 48 n of the first embodiment. In this EEPROM, data reading and writing are performed in the same manner as in the first embodiment. Therefore, in addition to having substantially the same advantages as those of the first embodiment, the number of the temporary storage means 4 is half that of the first embodiment.
With 8 j−1, j , the same effect as in the first embodiment can be realized.
Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment.
The writing means and reading means PROM, or constituted by circuits other than FIGS. 1 and 3, or the switch means 50 1 to 50 n that are controlled by the page selector 60, a temporary storage unit 48 1 to 48 n, 48 12 ~ 48 n-1, n , etc., and various modifications are possible.
【0014】[0014]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、第1及び第
2の発明によれば、選択された1本のワード線と複数の
ビット線との交点に接続された複数のメモリセルに対し
て同時にデータを書込むためのページ書込み動作時にお
いて、1ページを少なくとも1本おきのビット線を選択
する構成にしたので、ページ書込みの際、隣接ビット線
間に形成される寄生フィールドトランジスタによる高電
圧のリーク電流を事実上なくすことができる。さらに、
フィールド酸化膜を必要以上に厚くしなくてよいため、
メモリセルを微細化して集積度を向上できる。第3の発
明によれば、隣接する2本のビット線毎に一時記憶手段
を設けたので、第2の発明の半分の個数の一時記憶手段
で第1及び第2の発明と同様の効果を実現でき、回路規
模を削減できる。As described above in detail, according to the first and second aspects, a plurality of memory cells connected to an intersection of a selected one word line and a plurality of bit lines are provided. At the time of a page write operation for simultaneously writing data, at least every other bit line is selected for one page. Therefore, at the time of page write, a parasitic field transistor formed between adjacent bit lines causes a high level. Voltage leakage current can be virtually eliminated. further,
Since the field oxide film does not need to be thicker than necessary,
The degree of integration can be improved by miniaturizing the memory cell. According to the third aspect, the temporary storage means is provided for every two adjacent bit lines. Therefore, the same effect as in the first and second aspects can be obtained with half the number of temporary storage means of the second aspect. It can be realized and the circuit scale can be reduced.
【図1】本発明の第1の実施例を示すEEPROMの概
略の構成ブロック図である。FIG. 1 is a schematic configuration block diagram of an EEPROM showing a first embodiment of the present invention.
【図2】従来のEEPROMの概略の構成ブロック図で
ある。FIG. 2 is a schematic block diagram of a conventional EEPROM.
【図3】本発明の第2の実施例を示すEEPROMの概
略の構成ブロック図である。FIG. 3 is a schematic block diagram of an EEPROM showing a second embodiment of the present invention.
30
メモリセルマトリクス 3111〜31 mn
メモリセル 40
行デコーダ 411 〜41 n ,471 〜47 n ,501 〜50 n
スイッチ手段 43
センスアンプ 44
出力バッファ 45
入出力端子 46
入力バッファ 42
列デコーダ 481 〜48 n
一時記憶手段 60
ページセレクタ BL 1 〜BL n
ビット線 WL 1 〜WL m
ワード線30
Memory cell matrix 31 11 to 31 mn
Memory cell 40
Row decoders 41 1 to 41 n , 47 1 to 47 n , 50 1 to 50 n
Switch means 43
Sense amplifier 44
Output buffer 45
I / O terminal 46
Input buffer 42
Column decoders 48 1 to 48 n
Temporary storage means 60
Page selector BL 1 ~BL n
Bit lines WL 1 to WL m
Word line
Claims (3)
それぞれ接続された電気的に書き換え可能な不揮発性の
メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセルマト
リクスと、 前記ビット線を介して前記メモリセルへ書込むためのデ
ータをデータ入力サイクル時に一時記憶する複数の一時
記憶手段と、 前記データ入力サイクルに続く不揮発性記憶サイクルに
おいてアドレスに従い前記1つのワード線と前記複数の
ビット線を選択し、前記複数のビット線を複数のグルー
プに分割し、この分割されたグループに接続された複数
のメモリセルに対して前記一時記憶手段に記憶されたデ
ータを同時に書込むページ書き込み手段であって、この
ページ書き込み手段は、 前記各ビット線毎に接続され、該ビット線と前記一時記
憶手段との間を接続/遮断する複数のスイッチ手段と、前記 複数のビット線毎に接続された前記スイッチ手段を
少なくとも1つおきに接続状態に切替え制御して、前記
複数のグループをそれぞれ構成するページセレクタと
を、有する ことを特徴とする半導体不揮発性メモリ。A memory cell matrix in which electrically rewritable nonvolatile memory cells connected to respective intersections of a plurality of word lines and bit lines are arranged in a matrix; A plurality of temporary storage means for temporarily storing data to be written into a memory cell during a data input cycle; and selecting the one word line and the plurality of bit lines according to an address in a nonvolatile storage cycle following the data input cycle. And the plurality of bit lines are connected to a plurality of glues.
Divided into up to a simultaneous writing page writing unit stored data in the temporary storage means to a plurality of memory cells connected to the divided groups, the
Page write means, connected to said each bit line, and a plurality of switch means for connecting / blocking between said temporary storage means and said bit line, the connected switch means for each of the plurality of bit lines Switching control to a connection state at least every other one ,
A page selector constituting a plurality of groups respectively, semiconductor nonvolatile memory and having.
それぞれ接続された電気的に書き換え可能な不揮発性の
メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセルマト
リクスと、 前記ビット線を介して前記メモリセルへ書込むためのデ
ータをデータ入力サイクル時に一時記憶する複数の一時
記憶手段と、 前記データ入力サイクルに続く不揮発性記憶サイクルに
おいてアドレスに従い前記1つのワード線と前記複数の
ビット線を選択し、前記複数のビット線を複数のグルー
プに分割し、この分割されたグループに接続された複数
のメモリセルに対して前記一時記憶手段に記憶されたデ
ータを同時に書込むページ書き込み手段であって、この
ページ書き込み手段は、 前記各ビット線毎に接続され、該ビット線と前記一時記
憶手段との間を接続/遮断する複数のスイッチ手段と、前記 複数のビット線毎に接続された前記スイッチ手段を
少なくとも1つおきに接続状態に切替え制御して、前記
複数のグループをそれぞれ構成するページセレクタとを
備え、 前記一時記憶手段は、前記各ビット線毎に設けたことを
特徴とする半導体不揮発性メモリ。2. A memory cell matrix in which electrically rewritable nonvolatile memory cells connected to respective intersections of a plurality of word lines and bit lines are arranged in a matrix. A plurality of temporary storage means for temporarily storing data to be written into a memory cell during a data input cycle; and selecting the one word line and the plurality of bit lines according to an address in a nonvolatile storage cycle following the data input cycle. And the plurality of bit lines are connected to a plurality of glues.
Divided into up to a simultaneous writing page writing unit stored data in the temporary storage means to a plurality of memory cells connected to the divided groups, the
Page write means, connected to said each bit line, and a plurality of switch means for connecting / blocking between said temporary storage means and said bit line, the connected switch means for each of the plurality of bit lines Switching control to a connection state at least every other one ,
A semiconductor nonvolatile memory, comprising: a page selector configuring each of a plurality of groups ; wherein the temporary storage unit is provided for each of the bit lines.
それぞれ接続された電気的に書き換え可能な不揮発性の
メモリセルがマトリクス状に配列されたメモリセルマト
リクスと、 前記ビット線を介して前記メモリセルへ書込むためのデ
ータをデータ入力サイクル時に一時記憶する複数の一時
記憶手段と、 前記データ入力サイクルに続く不揮発性記憶サイクルに
おいてアドレスに従い前記1つのワード線と前記複数の
ビット線を選択し、前記複数のビット線を複数のグルー
プに分割し、この分割されたグループに接続された複数
のメモリセルに対して前記一時記憶手段に記憶されたデ
ータを同時に書込むページ書き込み手段であって、この
ページ書き込み手段は、 前記各ビット線毎に接続され、該ビット線と前記一時記
憶手段との間を接続/遮断する複数のスイッチ手段と、前記 複数のビット線毎に接続された前記スイッチ手段を
少なくとも1つおきに接続状態に切替え制御して、前記
複数のグループをそれぞれ構成するページセレクタとを
備え、 前記一時記憶手段は、前記隣接する2本のビット線毎に
設けたことを特徴とする半導体不揮発性メモリ。3. A memory cell matrix in which electrically rewritable nonvolatile memory cells connected to respective intersections of a plurality of word lines and bit lines are arranged in a matrix. A plurality of temporary storage means for temporarily storing data to be written into a memory cell during a data input cycle; and selecting the one word line and the plurality of bit lines according to an address in a nonvolatile storage cycle following the data input cycle. And the plurality of bit lines are connected to a plurality of glues.
Divided into up to a simultaneous writing page writing unit stored data in the temporary storage means to a plurality of memory cells connected to the divided groups, the
Page write means, connected to said each bit line, and a plurality of switch means for connecting / blocking between said temporary storage means and said bit line, the connected switch means for each of the plurality of bit lines Switching control to a connection state at least every other one ,
A non-volatile semiconductor memory, comprising: a page selector respectively configuring a plurality of groups ; wherein the temporary storage unit is provided for each of the two adjacent bit lines.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP20101892A JP3207254B2 (en) | 1992-07-28 | 1992-07-28 | Semiconductor nonvolatile memory |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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