JP3004222B2 - Transparent laminate and display filter using the same - Google Patents
Transparent laminate and display filter using the sameInfo
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Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、透明積層体及びそ
れを用いたディスプレイ用フィルターに関する。さらに
詳しくはプラズマディスプレイから発生する、健康に害
をなすといわれている電磁波を遮蔽する電磁波シールド
性、及び、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮
断する赤外線カット性、透明性に優れる透明積層体、及
び、それを用いた電磁波シールド性、近赤外線カット
性、高透明性、低反射性、耐候性・耐環境性に優れ、さ
らにまた、防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね備
えたディスプレイ用フィルターに関する。The present invention relates to a transparent laminate and a display filter using the same. More specifically, a transparent laminate that excels in shielding electromagnetic waves, which are said to be harmful to health, generated from a plasma display, and which cuts off near-infrared rays, which can lead to erroneous operation of peripheral electronic devices, and has excellent transparency. Body and its use for display of electromagnetic wave shielding, near-infrared cut, high transparency, low reflection, excellent weather resistance and environmental resistance, and also anti-glare and anti-Newton ring Regarding filters.
【0002】[0002]
【従来の技術】社会が高度に情報化されてくるにしたが
って、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進
歩、普及している。そのなかで、画像を表示するディス
プレイはテレビジョン装置用、パーソナルコンピュータ
ーのモニタ装置用等として著しく普及し、また、その大
型化とともに薄型化が進んでいる。近年、大型の薄型テ
レビ、薄型モニタなどの用途に適するものとして、プラ
ズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始めてい
る。しかし、プラズマディスプレイは、その構造原理
上、強度の漏洩電磁界を発生する。近年、漏洩電磁界の
人体や他の機器に与える影響が議論されるようになって
おり、プラズマディスプレイから発生する漏洩電磁界を
所定の基準値以内に抑えることが必要となってきてい
る。この値の安全基準として、例えば、日本では、VC
CI(Voluntaly Control Council for Interference b
y data processing equipment electronic office mach
ine)による基準があり、米国では、FCC(Federal Com
munication commission)による安全基準がある。2. Description of the Related Art Optoelectronics-related components and equipment have been remarkably advanced and spread as society has become highly information-oriented. Among them, displays for displaying images have become extremely popular for use in television devices, monitor devices for personal computers, and the like, and have become thinner as their sizes have increased. 2. Description of the Related Art In recent years, plasma displays have attracted attention as being suitable for applications such as large-sized thin televisions and thin monitors, and have already begun to appear on the market. However, a plasma display generates a strong leakage electromagnetic field due to its structural principle. In recent years, the influence of the leakage electromagnetic field on the human body and other devices has been discussed, and it has become necessary to suppress the leakage electromagnetic field generated from the plasma display within a predetermined reference value. As a safety standard of this value, for example, in Japan, VC
CI (Voluntaly Control Council for Interference b)
y data processing equipment electronic office mach
ine), and in the United States, the FCC (Federal
munication commission).
【0003】またプラズマディスプレイは、強い近赤外
線光を発し、コードレスフォンや赤外線リモートコント
ローラ等の電子機器に作用して誤動作を引き起こす原因
となることがある。特に問題になる波長としては、赤外
線リモートコントローラや伝送系光通信に使用されてい
る820nmと880nm、980nmが挙げられる。
そのため、プラズマディスプレイからの、近赤外領域で
ある800〜1000nmの波長領域の光を実用上問題
ないレベルまでカットする必要がある。Also, a plasma display emits strong near-infrared light, and may act on electronic devices such as a cordless phone and an infrared remote controller to cause a malfunction. Wavelengths of particular concern include 820 nm, 880 nm, and 980 nm used in infrared remote controllers and transmission optical communication.
Therefore, it is necessary to cut light in a wavelength range of 800 to 1000 nm, which is a near-infrared region, from the plasma display to a practically acceptable level.
【0004】上述したように、プラズマディスプレイを
使用する際には、プラズマディスプレイから環境中に放
射される電磁波及び近赤外線のレベルを低減することが
必要であり、そのため、プラズマディスプレイに、電磁
波シールド性及び近赤外線カット性を有するフィルター
を取り付けることが検討されている。当然のことなが
ら、このフィルターは、可視光に対しては透明性に優れ
ていることが必要である。さらに、場合により、ディス
プレイ前面に取り付けられることから、可視光の反射率
が小さく、防眩性やアンチニュートンリング性に優れて
いることが望まれる。As described above, when a plasma display is used, it is necessary to reduce the levels of electromagnetic waves and near-infrared rays emitted from the plasma display into the environment. Attachment of a filter having a near-infrared cut property has been studied. As a matter of course, this filter needs to have excellent transparency to visible light. Further, in some cases, since it is attached to the front surface of the display, it is desired that the reflectance of visible light is small and the anti-glare property and the anti-Newton ring property are excellent.
【0005】近赤外線カット性に関しては、従来、近赤
外線吸収色素を用いて近赤外吸収フィルターを作製する
ことが知られているが、これには種々の問題がある。例
えば、近赤外線吸収色素として、シアニン類は光に対す
る安定性が悪く実用的でない。また、アントラキノン
類、ナフトキノン類は可視領域の吸収が大きく、これら
を用いて近赤外線吸収フィルターを作製した場合は、フ
ィルターの可視光線透過率が低くなるため問題となる。
一方、フタロシアニン色素は耐光性も高く、700〜8
00nm領域での近赤外線光は良く吸収するが、誤動作
が問題になる800nm以上の波長はうまく吸収できな
いものもあり、また、ナフタロシアニン色素は比較的高
価である。一般に、近赤外線吸収色素は、湿度、熱、光
といった環境による劣化が生じ、経時とともに近赤外線
カット性やフィルターの色目といった光学特性の変化が
生じてしまう問題があった。[0005] With respect to the near-infrared cut property, it has been conventionally known to produce a near-infrared absorption filter using a near-infrared absorbing dye, but this has various problems. For example, as a near-infrared absorbing dye, cyanines are not practical because of poor stability to light. In addition, anthraquinones and naphthoquinones have a large absorption in the visible region, and when a near-infrared absorption filter is manufactured using these, there is a problem because the visible light transmittance of the filter is low.
On the other hand, phthalocyanine dyes have high light fastness, and
Near-infrared light in the 00 nm region is well absorbed, but some wavelengths of 800 nm or more where malfunction is problematic cannot be well absorbed, and naphthalocyanine dyes are relatively expensive. In general, near-infrared absorbing dyes have a problem in that deterioration due to environment such as humidity, heat, and light occurs, and changes in optical characteristics such as near-infrared cut property and color tone of a filter occur with time.
【0006】プラズマディスプレイは、強度かつ広い近
赤外線波長領域に渡って問題となる近赤外線を発するた
め、広い波長領域に渡って近赤外領域の吸収率の大きい
近赤外吸収フィルターを使用する必要がある。しかし、
問題とならない程度まで近赤外線の透過率を下げるため
には、フィルターに含有させる色素の量を増やさなけれ
ばならず、それに伴う、可視光線透過率の低下が問題と
なる。[0006] Since a plasma display emits near-infrared light which is problematic over a wide and near-infrared wavelength region, it is necessary to use a near-infrared absorption filter having a large absorptivity in the near-infrared region over a wide wavelength region. There is. But,
In order to reduce the transmittance of near-infrared rays to a level that does not cause a problem, it is necessary to increase the amount of the dye contained in the filter, and the accompanying reduction in visible light transmittance becomes a problem.
【0007】プラズマディスプレイ用フィルターとして
満たすべき要求性能は、電磁波シールド能等もあるた
め、要求性能の増加に伴う部材の増加は、コストの問題
や、部材の貼り合わせで生じる可視光線透過率減少、貼
り合わせ界面による反射強度の増加等の問題につなが
る。[0007] Since the required performance to be satisfied as a filter for a plasma display includes an electromagnetic wave shielding ability, the increase in the number of members accompanying the increase in the required performance causes a cost problem, a decrease in visible light transmittance caused by bonding members, This leads to problems such as an increase in reflection intensity due to the bonding interface.
【0008】プラズマディスプレイ用フィルターとして
使用する際には、プラズマディスプレイからでる近赤外
線、電磁波をカットするためにディスプレイの前面に設
置するため、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さ
が低下することになる。一般に、ディスプレイ用フィル
ターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも50%
以上、好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%
以上必要である。When used as a filter for a plasma display, the filter is installed on the front of the display to cut off near infrared rays and electromagnetic waves emitted from the plasma display. Will do. In general, the higher the visible light transmittance of the display filter, the better, at least 50%.
Or more, preferably 60% or more, more preferably 70%
It is necessary.
【0009】また、漏洩電磁界(電磁波)を遮蔽するに
は、ディスプレイ表面を導電性の大きな物体でおおう必
要がある。電磁波の遮蔽のためには、一般的には、アー
スされた金属メッシュ、または合成樹脂または金属繊維
のメッシュに金属被覆したものを用いるが、これらの方
法は、ディスプレイから発する光を透過しない部分が生
じたり、モワレ縞発生、歩留りの悪さによるコスト高な
どが問題となる。そこでITO(Indium Tin Oxide)に
代表される透明導電膜を電磁波シールド層に用いること
も検討されている。このような透明導電膜に通常要求さ
れる導電性は、面抵抗として105 Ω/□以下、好まし
くは103 Ω/□以下である。In order to shield a leakage electromagnetic field (electromagnetic wave), it is necessary to cover the display surface with a highly conductive object. For shielding electromagnetic waves, generally, a grounded metal mesh or a mesh of a synthetic resin or metal fiber coated with metal is used.However, in these methods, a portion that does not transmit light emitted from a display is used. This causes problems such as occurrence of moire fringes, high cost due to poor yield, and the like. Therefore, use of a transparent conductive film typified by ITO (Indium Tin Oxide) for the electromagnetic wave shielding layer has been studied. The conductivity normally required for such a transparent conductive film is a sheet resistance of 10 5 Ω / □ or less, preferably 10 3 Ω / □ or less.
【0010】透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、
パラジウムなどの金属薄膜;酸化インジウム、酸化第2
スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜;金属薄膜と高屈
折率透明薄膜を交互に積層した多層薄膜などがある。こ
の中で、金属薄膜による透明導電膜は、高い導電性は得
られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収に
より、可視光線透過率の高いものは得られない。また、
酸化物半導体薄膜を用いたものは、金属薄膜を用いたも
のに比べて透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外
線の反射能は乏しい。プラズマディスプレイから生じる
電磁波は非常に強度であり、ITOを透明導電層とした
電磁波シールド体で、プラズマディスプレイが発する電
磁波を遮蔽するものは得られていない。また、プラズマ
ディスプレイの電磁波シールド能を有し、かつディスプ
レイの透明性を損なわない高透明な電磁波シールド材、
または、さらに近赤外線カット能を有する電磁波シール
ド材も得られていない。As the transparent conductive film, gold, silver, copper, platinum,
Metal thin film such as palladium; indium oxide, second oxide
There are oxide semiconductor thin films such as tin and zinc oxide; multilayer thin films in which metal thin films and high-refractive-index transparent thin films are alternately stacked. Among them, a transparent conductive film made of a metal thin film can obtain high conductivity, but cannot have a high visible light transmittance due to reflection and absorption of metal over a wide wavelength range. Also,
A device using an oxide semiconductor thin film is superior in transparency to a device using a metal thin film, but is inferior in conductivity and poor in near-infrared reflectivity. Electromagnetic waves generated from a plasma display are extremely intense, and no electromagnetic wave shield using ITO as a transparent conductive layer to shield electromagnetic waves emitted from the plasma display has been obtained. In addition, a highly transparent electromagnetic wave shielding material that has the electromagnetic wave shielding ability of a plasma display and does not impair the transparency of the display,
Further, an electromagnetic wave shielding material having a near-infrared ray cutting ability has not yet been obtained.
【0011】これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄
膜とを積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性
及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域
における金属による反射の防止により、導電性、近赤外
線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好まし
い特性を有している。On the other hand, a multilayer thin film formed by laminating a metal thin film and a high-refractive-index transparent thin film is different from the conductive and optical characteristics of a metal such as silver in that the high-refractive-index transparent thin film depends on the metal in a certain wavelength region. Due to the prevention of reflection, it has favorable characteristics in all of conductivity, near-infrared cut ability, and visible light transmittance.
【0012】金属薄膜と高屈折率透明薄膜とを積層した
多層薄膜を用いた積層体は、特公平8−32436号公
報に開示があるが、プラズマディスプレイの強度の電磁
波、近赤外線を抑止するに十分な性能はなく、また、デ
ィスプレイ用フィルターとしての用途は記載されていな
い。A laminate using a multilayer thin film formed by laminating a metal thin film and a high refractive index transparent thin film is disclosed in Japanese Patent Publication No. 8-32436. There is no sufficient performance, and its use as a display filter is not described.
【0013】また、透明導電層に薄膜を用いた場合は、
一般に薄膜形成面が耐擦傷性に乏しいという問題点があ
る。また、透明導電層が金属薄膜もしくは金属薄膜を高
屈折率透明薄膜で挟み込んだ多層薄膜である場合は、使
用環境中のガスにより薄膜が化学変化又は物理変化を起
こしてしまう問題がある。特に金属薄膜に銀を用いてい
る場合は、高温高湿下において銀が凝集し、白化現象が
生じ、ディスプレイ用フィルターの視認性が低下してし
まう。したがって、透明導電層として薄膜を用いた場
合、特に金属薄膜と高屈折率透明薄膜を交互に積層した
多層薄膜を用いた場合、薄膜は耐擦傷性、環境安定性に
劣るため、薄膜の保護を目的とした透明保護層を必要と
する場合がある。When a thin film is used for the transparent conductive layer,
Generally, there is a problem that the thin film forming surface has poor scratch resistance. Further, when the transparent conductive layer is a metal thin film or a multilayer thin film in which a metal thin film is sandwiched between transparent thin films having a high refractive index, there is a problem that the thin film undergoes a chemical change or a physical change due to gas in a use environment. In particular, when silver is used for the metal thin film, silver aggregates under high temperature and high humidity, causing a whitening phenomenon, and the visibility of the display filter is reduced. Therefore, when a thin film is used as a transparent conductive layer, especially when a multilayer thin film in which a metal thin film and a high refractive index transparent thin film are alternately laminated is used, the thin film has poor scratch resistance and environmental stability. The intended transparent protective layer may be required.
【0014】また、ディスプレイ用フィルターは、ディ
スプレイの全面に設置されることから、高透明、低反射
性が要求される。さらに、場合により、アンチニュート
ンリング層が要求される。このため、直接、又は透明な
粘着材・接着剤を介して反射防止層を薄膜形成面上に設
ける場合や、同じく直接又は透明な粘着材・接着剤を介
してアンチニュートンリング層を薄膜形成面上に設ける
場合がある。Further, since the display filter is installed on the entire surface of the display, it is required to have high transparency and low reflectivity. Further, in some cases, an anti-Newton ring layer is required. For this reason, when the antireflection layer is provided directly or via a transparent adhesive or adhesive on the thin film forming surface, or when the anti-Newton ring layer is also directly or via a transparent adhesive or adhesive on the thin film forming surface. May be provided above.
【0015】しかしながら、透明積層体において、透明
導電層上に透明保護層や、反射防止層、アンチニュート
ンリング層、透明な粘着材層・接着剤層を形成すると、
透明積層体の光学特性の変化、特に、可視光反射強度の
増加とそれに伴う透明性の低下が生じてしまい、ひいて
はこのような透明積層体を用いたディスプレイ用フィル
ターの可視光反射強度の増加とそれに伴う透明性の低下
が生じてしまう。However, when a transparent protective layer, an antireflection layer, an anti-Newton ring layer, and a transparent adhesive / adhesive layer are formed on the transparent conductive layer in the transparent laminate,
Changes in the optical properties of the transparent laminate, in particular, an increase in visible light reflection intensity and a decrease in transparency associated therewith have occurred, and as a result, the increase in visible light reflection intensity of the display filter using such a transparent laminate has As a result, transparency is reduced.
【0016】[0016]
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
従来技術に鑑み、高透明性、さらにはプラズマディスプ
レイから発生する、健康に害をなすといわれている電磁
波を遮蔽する電磁波シールド性、及び、周辺電子機器の
誤操作をまねく近赤外線を遮断する赤外線カット性に優
れる透明積層体、及び、それを用いた電磁波シールド
性、近赤外線カット性、高透明性、低反射性、耐候性・
耐環境性に優れ、さらにまた、防眩性、アンチニュート
ンリング性を兼ね備えたディスプレイ用フィルターを提
供することである。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above prior art, an object of the present invention is to provide high transparency, and furthermore, an electromagnetic wave shielding property for shielding electromagnetic waves generated from a plasma display, which is said to be harmful to health. And, a transparent laminate excellent in infrared cut properties that blocks near infrared rays that may cause erroneous operation of peripheral electronic devices, and electromagnetic wave shielding properties, near infrared cut properties, high transparency, low reflection, weather resistance using it.
An object of the present invention is to provide a display filter having excellent environmental resistance and having both antiglare property and anti-Newton ring property.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、プラズマデ
ィスプレイから発生する非常に強度で、特に問題となる
20〜100MHz帯域の電磁波を遮蔽し、さらには、
プラズマディスプレイの発する強度の近赤外線光を周辺
機器誤動作が起こらない程度に抑止することができるデ
ィスプレイ用フィルターを得るためには、透明基体
(A)の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層(B)と、
銀又は銀の合金からなる金属薄膜層(C)との組合せ
(B)/(C)を繰り返し単位として3回以上繰り返し
積層され、さらにその上に1層の高屈折率透明薄膜層
(B)が少なくとも積層されてなる、面抵抗3Ω/□以
下、可視光線透過率50%以上、820nmより長波長
の領域の光線透過率が20%以下であることを特徴とす
る透明積層体が好ましいことを見いだし本発明を完成す
るに到った。The inventors of the present invention have conducted intensive studies to solve the above-mentioned problems. As a result, the present inventors have found that a very strong electromagnetic wave generated in a plasma display in the 20 to 100 MHz band is particularly problematic. And furthermore,
In order to obtain a display filter capable of suppressing the near-infrared light emitted from the plasma display to such an extent that a peripheral device does not malfunction, a high-refractive-index transparent thin film layer is formed on one main surface of the transparent substrate (A). (B),
A combination of (B) / (C) with a metal thin film layer (C) made of silver or a silver alloy is repeatedly laminated three or more times as a repeating unit, and a single layer of a high refractive index transparent thin film (B) is further formed thereon. Are laminated, and have a sheet resistance of 3Ω / □ or less, a visible light transmittance of 50% or more, and a light transmittance of 20% or less in a region having a wavelength longer than 820 nm of 20% or less. The inventors have completed the present invention.
【0018】すなわち、本発明は、(1) 透明基体
(A)の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(B)
と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層(C)と
が、高屈折率透明薄膜層(B)と金属薄膜層(C)との
組合せ(B)/(C)を繰返し単位として3回以上繰り
返して積層され、さらにその上に、高屈折率透明薄膜層
(B)が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成さ
れ、該導電面における面抵抗が3Ω/□以下であり、可
視光線透過率が50%以上であり、かつ、820nmよ
り長波長の領域の光線透過率が20%以下であることを
特徴とする透明積層体、(2) 繰返し回数が3回であ
って、透明基体から数えて2番目の金属薄膜層が、1番
目および3番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする
(1)記載の透明積層体、(3) 高屈折率透明薄膜層
のうち、透明基体から最もはなれて積層されている高屈
折率透明薄膜層上に、透明な粘着材層または透明な接着
剤層を積層しても、可視光線反射率の増加が2%以下で
あることを特徴とする(1)又は(2)記載の透明積層
体、(4) 透明基体(A)が透明な高分子成形物であ
ることを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の
透明積層体、(5) 高屈折率透明薄膜層(B)が、主
として酸化インジウムで構成されることを特徴とする
(1)〜(4)のいずれかに記載の透明積層体、(6)
透明基体(A)が色素を含有していることを特徴とす
る(1)〜(5)のいずれかに記載の透明積層体、
(7) ディスプレイ用フィルターにおいて、(1)〜
(6)のいずれかに記載の透明積層体と、該透明積層体
の導電面上に形成された、金属を含む電極とを有するこ
とを特徴とするディスプレイ用フィルター、(8) 電
極が、導電面上で、かつ、導電面の周縁部に連続的に形
成されていることを特徴とする(7)記載のディスプレ
イ用フィルター、(9) ディスプレイ用フィルターに
おいて、(1)〜(6)のいずれかに記載の透明積層体
と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保護層
(D)とを有することを特徴とするディスプレイ用フィ
ルター、(10) 透明保護層の透湿度が、10g/m
2 ・day以下であることを特徴とする(9)記載のデ
ィスプレイ用フィルター、(11) 透明保護層が形成
された面における可視光線反射率が2%以下であること
を特徴とする(9)又は(10)記載のディスプレイ用
フィルター、(12) 透明保護層の表面に、0.1〜
10μmの大きさの微小な凹凸が形成されていることを
特徴とする(9)又は(10)記載のディスプレイ用フ
ィルター、(13) ディスプレイ用フィルターにおい
て、(1)〜(6)のいずれかに記載の透明積層体と、
透明成形体(E)とを有し、透明積層体の主面と透明成
形体の一方の主面とが貼り合わせていることを特徴とす
るディスプレイ用フィルター、(14) 透明成形体の
他方の主面に、反射防止層、アンチグレア層およびアン
チニュートンリング層のいずれかが形成されていること
を特徴とする(13)記載のディスプレイ用フィルタ
ー、(15) (13)のディスプレイ用フィルターの
両方の主面にアンチニュートンリング層が形成されてい
ることを特徴とするディスプレイ用フィルター、(1
6) ディスプレイ用フィルターにおいて、(1)〜
(6)のいずれかに記載の透明積層体と、金属を含む電
極、透明保護層(D)、反射防止層、アンチニュートン
リング層、アンチグレア層、および透明成形体(E)か
らなる群から選ばれた2種類以上の付加層を備えてなる
ことを特徴とするディスプレイ用フィルター、(17)
電極以外の付加層のいずれかに色素が含有されている
ことを特徴とする(16)記載のディスプレイ用フィル
ター、(18) ディスプレイ用フィルターにおいて、
(1)〜(6)のいずれかに記載の透明積層体と、反射
防止層、アンチニュートンリング層およびアンチグレア
層の中から選ばれた1種の層からなる第1の部材と、透
明成形体(E)と、透明保護層(D)および金属を含む
電極の中から選ばれた1種以上からなる第2の部材とを
有し、第1の部材、透明成形体、透明積層体、第2の部
材の順に構成されていることを特徴とするディスプレイ
用フィルター、(19) ディスプレイ用フィルターに
おいて、(1)〜(6)のいずれかに記載の透明積層体
と、色素を含有する透明成形物(F)とを有し、820
nmより長波長の領域の光線透過率が10%以下である
ことを特徴とするディスプレイ用フィルター、(20)
プラズマディスプレイに取り付けられて使用されるフ
ィルターにおいて、(1)〜(6)のいずれかに記載の
透明積層体を有し、820nmより長波長の領域の光線
透過率が10%以下であることを特徴とするプラズマデ
ィスプレイ用フィルターに関するものである。That is, the present invention provides (1) a high refractive index transparent thin film layer (B) on one main surface of a transparent substrate (A).
And a metal thin film layer (C) made of silver or an alloy containing silver, and a combination of a high refractive index transparent thin film layer (B) and a metal thin film layer (C) (B) / (C) as a repeating unit. A high refractive index transparent thin film layer (B) is further laminated thereon, and a conductive surface is formed by a laminated structure of a metal thin film layer and a high refractive index transparent thin film layer. A transparent laminate having a sheet resistance of 3 Ω / □ or less on the conductive surface, a visible light transmittance of 50% or more, and a light transmittance in a wavelength region longer than 820 nm of 20% or less; (2) The transparent laminate according to (1), wherein the number of repetitions is three, and the second metal thin film layer counted from the transparent substrate is thicker than the first and third metal thin film layers. (3) Among the high refractive index transparent thin film layers, Even when a transparent pressure-sensitive adhesive layer or a transparent adhesive layer is laminated on the high-refractive-index transparent thin film layer that is laminated and separated, the increase in visible light reflectance is 2% or less ( (1) The transparent laminate according to any one of (1) to (3), wherein the transparent substrate (A) is a transparent polymer molded product. (5) The transparent laminate according to any one of (1) to (4), wherein the high refractive index transparent thin film layer (B) is mainly composed of indium oxide.
The transparent laminate according to any one of (1) to (5), wherein the transparent substrate (A) contains a dye.
(7) In display filters, (1) to
(8) A display filter comprising: the transparent laminate according to any one of (6) and an electrode containing a metal formed on a conductive surface of the transparent laminate. (7) The display filter according to (7), wherein the filter is formed continuously on the surface and at the periphery of the conductive surface. And a transparent protective layer (D) formed on the conductive surface of the transparent laminated body. (10) The transparent protective layer has a moisture permeability of: 10g / m
And characterized in that 2 · day or less (9) display filter according, wherein the visible light reflectivity of 2% or less in the plane which is formed (11) transparent protective layer (9) Or (10) the display filter according to (10), (12) a surface of the transparent protective layer,
(10) The display filter according to (9) or (10), wherein minute unevenness having a size of 10 μm is formed. (13) The display filter according to any one of (1) to (6). The transparent laminate of the description,
A display filter, comprising: a transparent molded body (E), wherein the main surface of the transparent laminate and one main surface of the transparent molded body are bonded to each other; (14) The other side of the transparent molded body The display filter according to (13), wherein both the antireflection layer, the antiglare layer and the anti-Newton ring layer are formed on the main surface, and both the display filter according to (15) and (13). A display filter, wherein an anti-Newton ring layer is formed on the main surface;
6) In display filters, (1)-
(6) selected from the group consisting of the transparent laminate according to any one of the above, a metal-containing electrode, a transparent protective layer (D), an antireflection layer, an anti-Newton ring layer, an antiglare layer, and a transparent molded body (E). (17) a filter for a display, comprising: two or more additional layers.
(18) The display filter according to (16), wherein the additional layer other than the electrode contains a dye.
(1) The transparent laminate according to any one of (1) to (6), a first member including one layer selected from an antireflection layer, an anti-Newton ring layer, and an antiglare layer, and a transparent molded body (E) and a second member composed of at least one selected from a transparent protective layer (D) and an electrode containing a metal, wherein the first member, the transparent molded body, the transparent laminate, (19) In the display filter, the transparent laminate according to any one of (1) to (6) and a transparent molding containing a dye are provided. (F) and 820
(20) a filter for a display, wherein a light transmittance in a wavelength region longer than 10 nm is 10% or less.
A filter used by being attached to a plasma display, having the transparent laminate according to any one of (1) to (6), and having a light transmittance of 10% or less in a wavelength region longer than 820 nm. The present invention relates to a characteristic filter for a plasma display.
【0019】[0019]
【発明の実施の形態】本発明の透明積層体は、透明基体
(A)の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(B)
と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層(C)との
組合せ、(B)/(C)を繰り返し単位として3回以上
繰り返し積層され、さらにその上に高屈折率透明薄膜層
(B)が少なくとも積層されてなり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層との積層構造によって導電面が構成さ
れ、該導電面における面抵抗が3Ω/□以下であり、可
視光線透過率が50%以上であり、820nmより長波
長の領域の光線透過率が20%以下のものである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent laminate of the present invention comprises a high refractive index transparent thin film layer (B) on one main surface of a transparent substrate (A).
And a metal thin film layer (C) made of silver or an alloy containing silver, repeatedly laminated three or more times with (B) / (C) as a repeating unit, and further having a high refractive index transparent thin film layer (B ) Are laminated at least, and a conductive surface is formed by a laminated structure of a metal thin film layer and a high refractive index transparent thin film layer. The conductive surface has a surface resistance of 3Ω / □ or less and a visible light transmittance of 50%. That is, the light transmittance in a region having a wavelength longer than 820 nm is 20% or less.
【0020】本発明において、透明基体(A)として
は、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高
分子成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れに
くいため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視
波長領域において透明であればよく、その種類を具体的
にあげれば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、
ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレン
ナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテル
ケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミ
ド、トリアセチルセルロース等が挙げられるが、これら
に限定されるものではない。これら透明な高分子成形物
は、主面が平滑であれば板(シート)状であってもフィ
ルム状であってもよい。シート状の高分子成形物を基体
として用いた場合には、基体が寸法安定性と機械的強度
に優れているため、寸法安定性と機械的強度に優れる透
明積層体が得られ、特にそれが要求される場合には好適
に使用できる。In the present invention, examples of the transparent substrate (A) include molded products of inorganic compounds such as glass and quartz and molded products of transparent organic polymers. Can be used. The polymer molded article may be transparent as long as it is transparent in the visible wavelength range.
Examples include, but are not limited to, polyether sulfone, polystyrene, polyethylene naphthalate, polyarylate, polyether ether ketone, polycarbonate, polypropylene, polyimide, triacetyl cellulose, and the like. These transparent polymer molded products may be in the form of a plate (sheet) or film as long as the main surface is smooth. When a sheet-shaped polymer molded product is used as a substrate, the substrate has excellent dimensional stability and mechanical strength, and thus a transparent laminate having excellent dimensional stability and mechanical strength is obtained. It can be used preferably when required.
【0021】また、透明な高分子フィルムは可撓性を有
しており透明導電層をロール・ツー・ロール法で連続的
に形成することができるため、これを使用した場合には
効率よく、また、長尺大面積に透明積層体を生産できる
ことや、フィルム状の透明積層体をディスプレイのガラ
スやディスプレイ用フィルターのガラス支持体に貼り付
けることによりガラス破損時の飛散防止になることか
ら、これもまた好適に使用できる。この場合フィルムの
厚さは通常10〜250μmのものが用いられる。フィ
ルムの厚さが10μm未満では、基材としての機械的強
度に不足し、厚さが250μmを超えると可撓性が不足
するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適
さない。Further, since the transparent polymer film has flexibility and the transparent conductive layer can be continuously formed by a roll-to-roll method, when this is used, it is efficient. In addition, since it is possible to produce a transparent laminate in a long and large area, and by attaching a film-like transparent laminate to the glass of a display or the glass support of a filter for a display, it is possible to prevent scattering when glass is broken. Can also be suitably used. In this case, a film having a thickness of usually 10 to 250 μm is used. When the thickness of the film is less than 10 μm, the mechanical strength as a base material is insufficient, and when the thickness is more than 250 μm, the flexibility is insufficient, so that the film is not suitable for being wound on a roll and used.
【0022】これらの基体は、その表面に予めスパッタ
リング処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子
線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施して、
この基体上に形成される薄膜層の上記基体に対する密着
性を向上させるようにしてもよい。透明基体と薄膜層と
の密着力を増強させるために、例えば、その間に任意の
無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、ニ
ッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、
チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいは
これらの材料の2種類以上からなる合金があげられる
が、特にこれらに限定されるものではない。その厚さ
は、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ま
しくは0.02nm〜10nm程度である。無機物層の
厚さが薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に
厚すぎると透明性が損なわれる。形成される薄膜層が酸
化物であると、該無機物層の金属の一部または全部は、
実際には金属酸化物となっているが、密着力向上の効果
に問題はない。また、薄膜層を成膜する前に、必要に応
じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよ
い。These substrates are subjected to an etching treatment such as a sputtering treatment, a corona treatment, a flame treatment, an ultraviolet irradiation, an electron beam irradiation or the like, or a undercoating treatment on their surfaces in advance.
The adhesion of the thin film layer formed on the substrate to the substrate may be improved. In order to enhance the adhesion between the transparent substrate and the thin film layer, for example, an arbitrary inorganic layer may be formed between them. Specific materials include nickel, chromium, gold, silver, platinum, zinc, zirconium,
Examples include titanium, tungsten, tin, palladium and the like, or alloys composed of two or more of these materials, but are not particularly limited thereto. The thickness may be a thickness that does not impair the transparency, and is preferably about 0.02 nm to 10 nm. If the thickness of the inorganic layer is too small, a sufficient effect of improving the adhesion cannot be obtained, and if it is too large, the transparency is impaired. When the formed thin film layer is an oxide, a part or all of the metal of the inorganic layer is
Although it is actually a metal oxide, there is no problem in the effect of improving the adhesion. Before forming the thin film layer, dust-proofing such as solvent cleaning or ultrasonic cleaning may be performed as necessary.
【0023】本発明においては、かかる透明基体(A)
の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層(B)と金属薄
膜層(C)を交互に積層する。その際、各金属薄膜層
(C)は、それぞれ両面から高屈折率透明薄膜層(B)
によってはさまれるように配置する。In the present invention, such a transparent substrate (A)
On one of the main surfaces, a high refractive index transparent thin film layer (B) and a metal thin film layer (C) are alternately laminated. At this time, each metal thin film layer (C) is made of a high refractive index transparent thin film layer (B) from both sides.
To be sandwiched between.
【0024】ところで、電磁波遮蔽は、電磁波シールド
体における電磁波の反射及び吸収の効果によってなされ
る。電磁波の吸収には、電磁波シールド体に導電性が必
要であり、プラズマディスプレイ用電磁波シールド体に
は、非常に低抵抗な導電層が要求される。また、ディス
プレイから発生する電磁波をすべて吸収するには、導電
層にはある値以上の厚みが必要であるが、導電層、つま
り、主たる導電層である金属薄膜層を厚くすると高屈折
率透明薄膜層を用いても可視光線透過率の低いものとな
ってしまう。したがって、多層積層により反射界面を増
やし、電磁波の反射を増やすことも重要である。The electromagnetic wave shielding is performed by the effect of reflection and absorption of the electromagnetic wave in the electromagnetic wave shielding body. To absorb electromagnetic waves, the electromagnetic wave shield needs to be conductive, and the electromagnetic wave shield for a plasma display requires a very low-resistance conductive layer. In order to absorb all the electromagnetic waves generated from the display, the conductive layer needs to have a certain thickness or more. Even if a layer is used, the visible light transmittance will be low. Therefore, it is also important to increase the reflection interface by multi-layer lamination and increase the reflection of electromagnetic waves.
【0025】電磁波シールド能を表すシールド効果は、
電磁波エネルギーをどの程度減衰させるかを表し、その
大きさはデシベル(dB)で表される。シールド効果
(SE)は、次に示す式(1)で表される相対評価であ
り、この数値が大きいほどシールド効果があるといえ
る。Eiは入射電界強度、Etは伝送電界強度つまりシ
ールド体を透過した電磁波の電界強度を示し、いずれも
単位はV/mである。 SE=20Log(Ei/Et) (1)The shielding effect representing the electromagnetic wave shielding ability is as follows.
It indicates how much the electromagnetic wave energy is attenuated, and its magnitude is expressed in decibels (dB). The shielding effect (SE) is a relative evaluation represented by the following expression (1), and it can be said that the larger this numerical value is, the more effective the shielding effect is. Ei indicates the intensity of the incident electric field, and Et indicates the intensity of the transmission electric field, that is, the electric field of the electromagnetic wave transmitted through the shield body. SE = 20 Log (Ei / Et) (1)
【0026】漏洩電磁界の規制値は、絶対値である放射
電界強度で示され、その単位はdBμV/mである。測
定対象物から3m離れた規制値は、工業用途を対象とす
る場合は50dBμV/mであり、家庭用途を対象とす
る場合は40dBμV/mである。プラズマディスプレ
イの放射電界強度は20〜100MHz帯域内で、対角
20インチ型程度で40dBμV/m、対角40インチ
型程度で50dBμV/mを越えているため、このまま
では家庭用途に使用することはできない。家庭用途とし
ては実用的には放射電界強度を40dBμV/m以下、
好ましくは35dBμV/m以下、より好ましくは30
dBμV/m以下にする必要がある。プラズマディスプ
レイ単体の放射電界強度が50dBμV/mである場合
は、10dB以上、好ましくは15dB以上、より好ま
しくは20dB以上のシールド効果を有する電磁波シー
ルドを必要とするのである。The regulation value of the leakage electromagnetic field is indicated by the absolute value of the radiated electric field intensity, and its unit is dB μV / m. The regulation value 3 m away from the object to be measured is 50 dBμV / m for industrial use and 40 dBμV / m for home use. Since the radiated electric field intensity of the plasma display is in the range of 20 to 100 MHz, it exceeds 40 dBμV / m for a diagonal of about 20 inches, and exceeds 50 dBμV / m for a diagonal of about 40 inches. Can not. For home use, practically, the radiated electric field intensity should be 40 dBμV / m or less,
Preferably it is 35 dBμV / m or less, more preferably 30 dBμV / m or less.
It is necessary to be equal to or less than dBμV / m. When the radiated electric field intensity of the plasma display alone is 50 dBμV / m, an electromagnetic wave shield having a shielding effect of 10 dB or more, preferably 15 dB or more, more preferably 20 dB or more is required.
【0027】本発明者らは、上記のプラズマディスプレ
イに対する十分なシールド効果を達成するには、電磁波
シールド体とすべき透明積層体が、多層積層による多く
の電磁波反射界面を有し、かつ、面抵抗3Ω/□以下、
好ましくは2.5Ω/□以下、さらに好ましくは2Ω/
以下の低抵抗な導電性が必要であることを見いだした。The present inventors have found that in order to achieve a sufficient shielding effect on the above-mentioned plasma display, the transparent laminate to be used as an electromagnetic wave shield has many electromagnetic wave reflection interfaces formed by multilayer lamination and has a surface. Resistance 3Ω / □ or less,
It is preferably 2.5Ω / □ or less, more preferably 2Ω / □.
It has been found that the following low resistance conductivity is required.
【0028】また、プラズマディスプレイは、強度の近
赤外線を発するため、近赤外領域である800〜100
0nmの波長領域の光を実用的に問題とならない程度に
カットする必要がある。例えば820nmにおける光線
透過率を10%以下にする必要があるが、部材数低減の
要求や色素を用いた近赤外線吸収の限界から電磁波シー
ルド体自体が近赤外線カット性を持つことが望ましい。
近赤外線吸収色素を併用する場合は、電磁波シールド体
に要求される近赤外線カット性は上記要求性能より低い
ものになるが、電磁波シールド体の近赤外線カット性が
あまり低いと近赤外線吸収色素の必要量が多くなり、従
って可視光線透過率の減少を招いてしまう。そのため、
電磁波シールド体である透明積層体は、820nmより
長波長の領域における光線透過率が、20%以下である
ことが望ましい。Further, since the plasma display emits strong near-infrared rays, the plasma display has a near-infrared range of 800 to 100.
It is necessary to cut light in the wavelength region of 0 nm to such an extent that there is no practical problem. For example, the light transmittance at 820 nm needs to be 10% or less. However, it is desirable that the electromagnetic wave shielding body itself has near-infrared cut properties in view of a demand for reducing the number of members and a limit of near-infrared absorption using a dye.
When a near-infrared absorbing dye is used in combination, the near-infrared ray cut property required for the electromagnetic wave shielding body is lower than the above-mentioned required performance. The amount is increased, and thus the visible light transmittance is reduced. for that reason,
It is desirable that the transparent laminate as the electromagnetic wave shield has a light transmittance of 20% or less in a region having a wavelength longer than 820 nm.
【0029】近赤外線カットには、金属の自由電子によ
る反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くする
と前述したように可視光線透過率も低くなり、薄くする
と近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属
薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を2
段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、か
つ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができ、ま
た、層数及び/またはそれぞれの層の厚さを制御するこ
とにより可視光線透過率、可視光線反射率、近赤外線の
透過率、透過色、反射色をある範囲で変化させることが
できる。For the near-infrared cut, reflection by free electrons of a metal can be used. However, when the metal thin film layer is made thicker, the visible light transmittance is lowered as described above. Thus, a laminated structure in which a metal thin film layer of a certain thickness is sandwiched between transparent thin film layers having a high refractive index is called a two-layer structure.
By stacking more than one step, the visible light transmittance can be increased and the overall thickness of the metal thin film layer can be increased, and the visible light can be increased by controlling the number of layers and / or the thickness of each layer. The transmittance, visible light reflectance, near infrared transmittance, transmitted color, and reflected color can be changed within a certain range.
【0030】可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設
置時に画像の鮮明さが低下するため、ディスプレイ用フ
ィルターの可視光線透過率は高い方が良く、少なくとも
50%以上、好ましくは60%以上、さらに好ましくは
70%以上必要である。そのため、透明積層体の可視光
線透過率は、少なくとも50%以上、好ましくは60%
以上、さらに好ましくは70%以上である。If the visible light transmittance is low, the sharpness of the image is reduced when the display is installed. Therefore, the visible light transmittance of the display filter is preferably high, at least 50% or more, preferably 60% or more, and more preferably. Is required to be 70% or more. Therefore, the visible light transmittance of the transparent laminate is at least 50% or more, preferably 60%.
Above, more preferably 70% or more.
【0031】ディスプレイの発光輝度が高いと、コント
ラストをあげるためにニュートラル・デンシティ(N
D)フィルターが必要となる場合があり、ディスプレイ
用フィルターはNDフィルターの役割も果たすことが好
ましい。従ってディスプレイ用フィルターの可視光線透
過率は80%以下であることを要求されることもある。
さらにフィルターの透過色は、ディスプレイのコントラ
スト等に大きく影響し、プラズマディスプレイ用フィル
ターには、緑色は不適であり、ニュートラルグレー、ま
たは、ニュートラルブルーであることが要求される。さ
らに、可視光線反射率が高いと、画面への照明器具等の
映り込みが大きくなり、視認性が低下する。反射色とし
ても、目立たない、白色、青色、紫色系が好ましい。こ
のためにも、光学的に設計、制御しやすい多層積層が好
ましくなる。なお、本発明における可視光線透過率、可
視光線反射率とは、透過率及び反射率の波長依存性か
ら、JIS(日本工業規格) R−3106に従って計
算されるものである。When the light emission luminance of the display is high, the neutral density (N
D) A filter may be required in some cases, and it is preferable that the display filter also serves as an ND filter. Therefore, the visible light transmittance of the display filter may be required to be 80% or less.
Further, the transmission color of the filter greatly affects the contrast and the like of the display. For a plasma display filter, green is unsuitable, and neutral gray or neutral blue is required. Further, when the visible light reflectance is high, the reflection of the lighting equipment and the like on the screen becomes large, and the visibility is reduced. Also, as a reflection color, an inconspicuous white, blue, or purple system is preferable. For this reason, it is preferable to use a multilayer lamination that is easily designed and controlled optically. In the present invention, the visible light transmittance and the visible light reflectance are calculated in accordance with JIS (Japanese Industrial Standard) R-3106 from the wavelength dependence of the transmittance and the reflectance.
【0032】本発明の透明積層体において、金属薄膜層
(C)は、銀又は銀を含む合金からなる薄膜層である。
なかでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層し
たときの可視光線透過性に優れているため好適に使用で
きる。しかし、銀は化学的、物理的安定性に欠け、環境
中の汚染物質、水蒸気、熱、光等によって劣化するた
め、銀に、金、白金、パラジウム、銅、インジウム、ス
ズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ合金も好適に
使用できる。ここで、銀を含む合金の銀の含有率は、特
に限定されるものではないが銀単体薄膜の導電性、光学
特性と大きく変わらないことが望ましく、50重量%以
上100重量%未満程度とすることが好ましい。一般
に、銀に他の金属を添加すると、銀の優れた導電性、光
学特性を阻害するので、可能であれば、多層薄膜を構成
する複数の金属薄膜層のうち少なくとも1つの層は、銀
を合金にしないで用いることが望ましい。金属薄膜層の
すべてが、合金ではない銀からなる場合、優れた導電性
および光学特性を有する透明積層体が得られるが、耐環
境性が必ずしも十分ではない。In the transparent laminate of the present invention, the metal thin film layer (C) is a thin film layer made of silver or an alloy containing silver.
Among them, silver is preferably used because it has excellent conductivity, infrared reflectivity, and visible light transmittance when laminated in multiple layers. However, silver lacks chemical and physical stability and is degraded by environmental pollutants, water vapor, heat, light, etc. An alloy containing at least one kind of a suitable metal can also be suitably used. Here, the silver content of the alloy containing silver is not particularly limited, but is preferably not significantly different from the conductivity and optical characteristics of the silver simple film, and is about 50% by weight or more and less than 100% by weight. Is preferred. In general, the addition of another metal to silver impairs the excellent electrical conductivity and optical characteristics of silver. Therefore, if possible, at least one of the metal thin film layers constituting the multilayer thin film should contain silver. It is desirable to use it without alloying. When all of the metal thin film layers are made of silver that is not an alloy, a transparent laminate having excellent conductivity and optical properties can be obtained, but the environmental resistance is not always sufficient.
【0033】本発明の透明積層体は、上述したように、
面抵抗3Ω/□以下、可視光線透過率50%以上、82
0nmより長波長の領域(少なくとも820〜1000
nmの領域)の光線透過率が20%以下であることを特
徴とする透明積層体である。このような透明積層体は、
透明基体(A)の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層
(B)と、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層
(C)との組合せ(B)/(C)を繰り返し単位として
3回以上繰り返し積層し、さらにその上に1層の高屈折
率透明薄膜層(B)を少なくとも積層することによって
得られ、電磁波のシールド性のための電磁波反射界面数
の多い、低抵抗性、近赤外線カット性、透明性に優れた
ものである。As described above, the transparent laminate of the present invention
Sheet resistance 3Ω / □ or less, visible light transmittance 50% or more, 82
Region longer than 0 nm (at least 820 to 1000
(nm region) is 20% or less. Such a transparent laminate is
A combination (B) / (C) of a high refractive index transparent thin film layer (B) and a metal thin film layer (C) made of silver or an alloy containing silver on one main surface of a transparent substrate (A) is a repeating unit. Is obtained by repeatedly laminating three or more times, and further laminating at least one high-refractive-index transparent thin film layer (B) thereon, which has a large number of electromagnetic wave reflection interfaces for shielding electromagnetic waves, and has a low resistance. Excellent in near-infrared cut property and transparency.
【0034】本発明において、繰り返し積層数は、3回
〜6回が好ましい。つまり、本発明による透明積層体の
好ましい層構成は、(1)透明基体/高屈折率透明薄膜
層/銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層(以下、金
属薄膜層という)/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/
高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜
層、または、(2)透明基体/高屈折率透明薄膜層/金
属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率
透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄
膜層/高屈折率透明薄膜層、または、(3)透明基体/
高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層
/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈
折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金
属薄膜層/高屈折率透明薄膜層、または、(4)透明基
体/高屈折率透明薄膜層/銀又は銀を含む合金/高屈折
率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属
薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透
明薄膜層/金属薄膜層/高屈折率透明薄膜層/金属薄膜
層/高屈折率透明薄膜層である。繰り返し回数が2回以
下であると、近赤外線の低透過率、可視光線の低反射
率、低抵抗性を同時に達成するのは困難であり、繰り返
し回数が7回以上だと生産装置の制限、生産性の問題が
大きくなり、また、可視光線透過率が低くなる。In the present invention, the number of repeated laminations is preferably 3 to 6 times. That is, the preferred layer structure of the transparent laminate according to the present invention is as follows: (1) transparent substrate / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer made of silver or an alloy containing silver (hereinafter, referred to as metal thin film layer) / high refractive index Transparent thin film layer / metal thin film layer /
High refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer, or (2) transparent substrate / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index Transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer, or (3) transparent substrate /
High refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin layer / metal thin layer / high refractive index transparent thin layer / metal thin layer / high refractive index transparent thin layer / metal thin layer / high refractive index transparent thin layer / Metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer, or (4) transparent substrate / high refractive index transparent thin film layer / alloy containing silver or silver / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film Layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer / metal thin film layer / high refractive index transparent thin film layer. If the number of repetitions is two or less, it is difficult to simultaneously achieve low transmittance of near infrared rays, low reflectance of visible light, and low resistance. The productivity problem increases, and the visible light transmittance decreases.
【0035】金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等か
ら光学設計的かつ実験的に求められ、透明積層体が要求
特性を持てば特に限定されるものではないが、導電性等
の観点から、金属薄膜層における金属原子の集合状態が
島状構造ではなく連続状態であることが必要なので、金
属薄膜層の4nm以上であることが望ましい。金属薄膜
層が厚すぎると透明性が問題になるので30nm以下が
望ましい。The thickness of the metal thin film layer is determined optically and experimentally from the viewpoint of conductivity, optical characteristics, etc., and is not particularly limited as long as the transparent laminate has the required characteristics. Therefore, it is necessary that the aggregation state of metal atoms in the metal thin film layer is not an island-like structure but a continuous state. If the metal thin film layer is too thick, transparency becomes a problem.
【0036】金属薄膜層に隣接する高屈折率透明薄膜層
が酸化物であると、金属薄膜層の金属の一部は、実際に
は金属酸化物となっていることがある。しかしながら、
金属薄膜層におけるこのような金属酸化物の領域は、非
常に薄い領域であるため光学設計及び成膜上において、
問題となることはない。また、n層(n≧3)ある金属
薄膜層は、同じ厚さとは限らない。各金属薄膜層の組成
も同一とは限らない。すなわち、金属薄膜層の積層順に
応じて、金属薄膜層中の銀の含有量や、銀以外に使用す
る金属の種類を変えるようにしてもよい。金属薄膜層の
形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真
空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用で
きる。When the high refractive index transparent thin film layer adjacent to the metal thin film layer is an oxide, a part of the metal of the metal thin film layer may actually be a metal oxide. However,
Since such a metal oxide region in the metal thin film layer is a very thin region, in optical design and film formation,
There is no problem. Further, the metal thin film layers having n layers (n ≧ 3) are not necessarily the same in thickness. The composition of each metal thin film layer is not necessarily the same. That is, the content of silver in the metal thin film layer and the type of metal used other than silver may be changed according to the lamination order of the metal thin film layers. For the formation of the metal thin film layer, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, vacuum deposition, and plating can be employed.
【0037】本発明において高屈折率透明薄膜層(B)
とは、可視光に対して透明性を有し、金属薄膜層との屈
折率の差によって、金属薄膜層における可視域の光線反
射を防止する効果を有するものであれば特に限定される
ものではないが、可視光線に対する屈折率が1.6以
上、好ましくは1.7以上の屈折率の高い材料が用いら
れる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料とし
ては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、
スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジ
ウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等
の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛
などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金
属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっ
ても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し
支えない。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウム
と酸化スズの混合物(ITO)は、透明性、屈折率に加
えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好で
あることから好適に使用できる。また、ITOといった
比較的高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いること
によって、電磁波の吸収層を増やし、また透明積層体の
導電性を上げることができる。In the present invention, the high refractive index transparent thin film layer (B)
And is not particularly limited as long as it has transparency to visible light and has an effect of preventing light reflection in the visible region in the metal thin film layer due to a difference in refractive index from the metal thin film layer. However, a material having a high refractive index of 1.6 or more, preferably 1.7 or more with respect to visible light is used. Specific materials for forming such a transparent thin film include indium, titanium, zirconium, bismuth,
Examples include oxides of tin, zinc, antimony, tantalum, cerium, neodymium, lanthanum, thorium, magnesium, gallium, and the like, a mixture of these oxides, and zinc sulfide. These oxides or sulfides may have a difference in stoichiometric composition with metal and oxygen or sulfur as long as the optical characteristics are not significantly changed. Among them, indium oxide or a mixture of indium oxide and tin oxide (ITO) can be suitably used because it has a high film-forming speed and good adhesion to a metal thin film layer in addition to transparency and refractive index. . In addition, by using an oxide semiconductor thin film having relatively high conductivity such as ITO, the number of electromagnetic wave absorbing layers can be increased and the conductivity of the transparent laminate can be increased.
【0038】各高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明基体
の光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、高
屈折率透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的
に求められ、特に限定されるものではないが、5nm以
上、200nm以下であることが好ましく、より好まし
くは10nm以上、100nm以下である。また、m層
(m≧4)ある高屈折率透明薄膜は、同じ厚さとは限ら
ず、また、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率
透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレー
ティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工
等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。The thickness of each high-refractive-index transparent thin film layer is determined optically and experimentally based on the optical characteristics of the transparent substrate, the thickness and optical characteristics of the metal thin-film layer, and the refractive index of the high-refractive-index transparent thin film layer. Although not particularly limited, it is preferably 5 nm or more and 200 nm or less, more preferably 10 nm or more and 100 nm or less. Further, the high refractive index transparent thin films having m layers (m ≧ 4) are not limited to the same thickness, and need not be the same transparent thin film material. For forming the high refractive index transparent thin film layer, any of conventionally known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating can be employed.
【0039】各種の成膜方法の中でスパッタリングは、
膜厚制御、多層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈
折率透明薄膜層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。
具体例として実施例において後述するが、主として酸化
インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層と銀または
銀を含む合金からなる金属薄膜層をスパッタリング法に
より連続成膜する。主として酸化インジウムで構成され
る高屈折率透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分
とする金属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分と
する焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングを
行う。反応性スパッタリング法においては、スパッタガ
スにはアルゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を
用い、通常圧力0.1〜20mTorr、直流(DC)
あるいは高周波(RF)マグネトロンスパッタリング法
等が利用できる。酸素ガス流量は得られる成膜速度等か
ら実験的に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られ
るように制御する。銀または銀を含む合金からなる金属
薄膜層の形成には、銀または銀を含む合金をターゲット
としたスパッタリングを行う。スパッタガスには、アル
ゴン等の不活性ガスを用い、通常、圧力0.1〜20m
Torr、直流(DC)あるいは高周波(RF)マグネ
トロンスパッタリング法等が利用できる。Among the various film forming methods, sputtering is
It is suitable for film thickness control and multilayer lamination, and a metal thin film layer and a high-refractive-index transparent thin film layer can be easily and continuously repeated.
Although specific examples will be described later in Examples, a high-refractive-index transparent thin film layer mainly composed of indium oxide and a metal thin film layer composed of silver or an alloy containing silver are continuously formed by a sputtering method. The formation of the high-refractive-index transparent thin film layer mainly composed of indium oxide is performed by reactive sputtering using a metal target containing indium as a main component or a sintered target containing indium oxide as a main component. In the reactive sputtering method, an inert gas such as argon is used as a sputtering gas and oxygen is used as a reactive gas, and the pressure is usually 0.1 to 20 mTorr, and a direct current (DC) is used.
Alternatively, a radio frequency (RF) magnetron sputtering method or the like can be used. The oxygen gas flow rate is experimentally determined from the obtained film formation rate and the like, and is controlled so as to obtain a thin film having desired transparency. To form a metal thin film layer made of silver or an alloy containing silver, sputtering is performed using silver or an alloy containing silver as a target. An inert gas such as argon is used as a sputtering gas, and the pressure is usually 0.1 to 20 m.
Torr, direct current (DC) or high frequency (RF) magnetron sputtering can be used.
【0040】本発明において、透明積層体の機械的強度
や耐環境性を向上させるために、透明基体(A)の導電
面ではない面に透明性を有するハードコート層を設けた
り、導電面の最表面に、導電性、光学特性を損なわない
程度に任意の保護層を設けてもよい。また、金属薄膜層
の耐環境性や金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との密着
性等を向上させるため、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜
層の間に、導電性、光学特性を損なわない程度に任意の
無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては銅、
ニッケル、クロム、金、白金、亜鉛、ジルコニウム、チ
タン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこ
れらの材料の2種類以上からなる合金があげられる。そ
の厚さは、好ましくは0.02nm〜2nm程度で、厚
さが薄すぎると密着力向上の十分な効果が得られない。
高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該無機物層の金
属の一部または全部は、実際には金属酸化物となってい
るがその効果に問題はない。さらには、透明積層体の主
面に単層又は多層の任意の反射防止層を設けることによ
って、さらに透過率の高い透明積層体を得ることもでき
る。In the present invention, in order to improve the mechanical strength and environmental resistance of the transparent laminate, a transparent hard coat layer may be provided on the non-conductive surface of the transparent substrate (A), An optional protective layer may be provided on the outermost surface to the extent that conductivity and optical characteristics are not impaired. In addition, in order to improve the environmental resistance of the metal thin film layer and the adhesion between the metal thin film layer and the high-refractive-index transparent thin film layer, the conductivity and optical characteristics between the metal thin-film layer and the high-refractive-index transparent thin film layer are improved. Arbitrary inorganic layers may be formed to the extent that they are not damaged. Specific materials include copper,
Examples include nickel, chromium, gold, platinum, zinc, zirconium, titanium, tungsten, tin, palladium, and the like, and alloys composed of two or more of these materials. The thickness is preferably about 0.02 nm to 2 nm. If the thickness is too small, a sufficient effect of improving the adhesion cannot be obtained.
When the high-refractive-index transparent thin film layer is an oxide, part or all of the metal of the inorganic layer is actually a metal oxide, but there is no problem in its effect. Furthermore, by providing a single-layer or multilayer antireflection layer on the main surface of the transparent laminate, a transparent laminate having a higher transmittance can be obtained.
【0041】所望の光学特性の透明積層体を得るには、
透明基体および薄膜材料の屈折率、消光係数を用いたベ
クトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光
学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決
定する。また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等
を制御して成膜を行うこともできる。To obtain a transparent laminate having desired optical properties,
An optical design is performed using a vector method using a refractive index and an extinction coefficient of the transparent substrate and the thin film material, a method using an admittance diagram, and the like, and a thin film material of each layer, the number of layers, a film thickness, and the like are determined. In addition, film formation can be performed by controlling the number of layers, film thickness, and the like while observing optical characteristics.
【0042】しかしながら、金属薄膜層を高屈折率透明
薄膜層で挟み込んだ積層構造を1段以上重ねた多層積層
の透明積層体は、透明な粘着材・接着剤を介して機能性
フィルムを薄膜形成面上に貼り合わせたり、薄膜保護を
目的とした透明保護層を薄膜形成面上に直接形成したり
すると、一般に光学特性が変化しやすく、特に可視光線
反射強度の増加とそれに伴う透過率の低下が生じてしま
う。これは、透明積層体への光の入射または出射媒体と
して屈折率1、消光係数0の真空または空気を用いて光
学設計を行うことや、成膜時の観察を、同様の条件下で
行っていることに起因していた。透明積層体が真空また
は空気中で可視光線反射強度が低くなるよう、光学設計
または成膜を行った場合、そのままでは可視光線反射強
度の低い透明積層体が得られる。しかしながら、透明な
粘着材・接着剤や透明保護層といった隣接層が薄膜形成
面上に形成されると、光の入射または出射媒質の光学特
性、特に屈折率が異なるため、透明薄膜層と媒質の間の
界面反射が変化すること、また、各薄膜層間、各薄膜層
−媒質間の光の干渉状態が変化するためで、光学特性、
特に可視光線波長領域における反射強度が変化してしま
う。以下の説明においては、金属薄膜層と高屈折率透明
薄膜層からなる多層積層構造のことを透明多層薄膜と呼
ぶ。However, a transparent laminate having a multilayer structure in which a metal thin film layer is sandwiched between high-refractive-index transparent thin film layers and formed in one or more layers, forms a thin functional film via a transparent adhesive or adhesive. When bonded on a surface or when a transparent protective layer for the purpose of protecting a thin film is formed directly on the surface on which the thin film is formed, the optical characteristics are generally liable to change, and in particular, the visible light reflection intensity increases and the transmittance decreases accordingly. Will occur. This is done by performing optical design using a vacuum or air having a refractive index of 1 and an extinction coefficient of 0 as a medium for entering or exiting light to the transparent laminate, or performing observation during film formation under similar conditions. Was due to that. When optical design or film formation is performed such that the transparent laminate has a low visible light reflection intensity in vacuum or air, a transparent laminate having a low visible light reflection intensity can be obtained as it is. However, if an adjacent layer such as a transparent adhesive / adhesive or a transparent protective layer is formed on the surface on which the thin film is formed, the optical characteristics of the light incident or emitted medium, especially the refractive index, are different. This is because the interface reflection between the layers changes, and the interference state of light between the thin film layers and between the thin film layers and the medium changes.
In particular, the reflection intensity in the visible light wavelength region changes. In the following description, a multilayer laminated structure including a metal thin film layer and a high refractive index transparent thin film layer is referred to as a transparent multilayer thin film.
【0043】従って、光の入射または出射媒質を、薄膜
形成面上に形成する予定の隣接層の屈折率、消光係数を
用いて、光学設計を行えばよい。隣接層は、先述した透
明な粘着材層・接着剤層や透明保護層であり、その厚み
は通常1μm以上、薄くとも0.5μm以上であり、透
明多層薄膜の厚みに比べ十分厚いので、光の入射または
出射媒質と見なせる。透明な粘着材・接着剤または透明
保護層に用いる材料の屈折率や消光係数は、アッベ屈折
計や、エリプソメトリー(楕円偏光解析法)等を用いる
ことによって測定することができる。また、高屈折率透
明薄膜層(B)、銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜
層(C)の屈折率、消光係数はエリプソメトリー等を用
いることができる。Therefore, the optical design may be performed using the refractive index and the extinction coefficient of the adjacent layer to be formed on the thin film forming surface for the light incident or light emitting medium. The adjacent layer is the transparent pressure-sensitive adhesive layer / adhesive layer or the transparent protective layer described above. The thickness of the layer is usually 1 μm or more, and at least 0.5 μm or thinner. Can be regarded as an input or output medium. The refractive index and the extinction coefficient of the material used for the transparent pressure-sensitive adhesive / adhesive or the transparent protective layer can be measured by using an Abbe refractometer, ellipsometry (ellipsometry) or the like. The refractive index and the extinction coefficient of the high-refractive-index transparent thin film layer (B) and the metal thin film layer (C) made of silver or an alloy containing silver can be determined by ellipsometry.
【0044】アドミッタンス図を用いる方法は、透明基
体の光学定数(屈折率、消光係数)、透明基体上に形成
する薄膜の光学定数及び膜厚、さらにその上に形成する
第1層の薄膜の光学定数及び膜厚、さらにまたその上に
形成する第2層の薄膜の光学定数及び膜厚、・・・に従
って、積層体の光学アドミッタンスを求める手法で、光
の入射または出射媒質の光学アドミッタンスに近い値に
設計するほど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくする
ことができる。従って、透明積層体の光学アドミッタン
スと隣接層の光学アドミッタンスに近い値に設計するほ
ど媒質と透明薄膜層の界面反射を小さくすることができ
る。光学アドミッタンスはガウス単位系では複素屈折率
Nに数値的に等しいものである。ここでNはN=n−i
・k(n:屈折率、k:消光係数)である。複素屈折率
つまりは光学アドミッタンスは波長に依存している。The method using the admittance diagram includes the optical constants (refractive index and extinction coefficient) of the transparent substrate, the optical constants and thicknesses of the thin films formed on the transparent substrate, and the optical constants of the first thin film formed thereon. A method of obtaining the optical admittance of a laminated body according to the constant and the film thickness, and further, the optical constant and the film thickness of the thin film of the second layer formed thereon, which is close to the optical admittance of the light incident or output medium. The more the value is designed, the smaller the interface reflection between the medium and the transparent thin film layer can be made. Therefore, the interface reflection between the medium and the transparent thin film layer can be reduced as the optical admittance of the transparent laminated body and the optical admittance of the adjacent layer are designed to be closer to each other. The optical admittance is numerically equal to the complex refractive index N in a Gaussian unit system. Where N is N = ni
K (n: refractive index, k: extinction coefficient). The complex index of refraction, or optical admittance, is wavelength dependent.
【0045】ところで、ヒトにおいては、500〜60
0nmの波長領域は視感度が高いため、この波長領域の
反射を低くすることにより、視感上の可視光線反射率を
低下させることができる。従って、この波長領域の光学
アドミッタンスを重視して光学設計を行えばよい。In humans, 500 to 60
Since the wavelength range of 0 nm has high luminosity, by reducing the reflection in this wavelength range, the visible light reflectance in luminosity can be reduced. Therefore, the optical design may be performed with emphasis on the optical admittance in this wavelength region.
【0046】機能性フィルムを透明積層体の薄膜形成面
上に貼り合わせる際には、透明な粘着材・接着剤を用い
る。具体的な材料として、アクリル系接着剤、シリコン
系接着剤、ウレタン系接着剤、ポリビニルブチラール接
着剤(PVB)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EV
A)等、ポリビニルエーテル、飽和無定形ポリエステ
ル、メラミン樹脂等があげられる。このような透明な粘
着材や接着剤の光学特性は、500〜600nmにおい
て屈折率は1.45〜1.7程度、消光係数はほぼ0で
ある。When bonding the functional film to the thin film forming surface of the transparent laminate, a transparent adhesive or adhesive is used. Specific materials include an acrylic adhesive, a silicone adhesive, a urethane adhesive, a polyvinyl butyral adhesive (PVB), and an ethylene-vinyl acetate adhesive (EV).
A) and the like, polyvinyl ether, saturated amorphous polyester, melamine resin and the like. The optical characteristics of such a transparent pressure-sensitive adhesive or adhesive have a refractive index of about 1.45 to 1.7 and an extinction coefficient of about 0 at 500 to 600 nm.
【0047】透明積層体は、その表面、裏面を考慮した
反射すなわち両面の反射が、透明多層薄膜の形成面上、
すなわち最上層の高屈折率透明薄膜層(B)上に透明な
粘着材・接着剤を形成しても、反射が大きく増加しない
ことが好ましい。すなわち、透明基体/透明多層薄膜/
透明な粘着材・接着剤の両面の反射が、透明積層体、す
なわち透明基体/透明多層薄膜の両面の反射より大きく
増加しないことが好ましい。好適には、可視光線反射率
の増加が2%以下であり、さらに好適には1%以下で、
さらには、可視光線反射率が増加しない、またさらには
可視光線反射率が減少することが好適である。このよう
な透明積層体を得ることによって、透明な粘着材・接着
剤を介して貼り合わせを行っても、可視光線反射率の低
く、それにともなって可視光線透過率の高いディスプレ
イ用フィルターを得ることができるのである。In the transparent laminate, the reflection considering the front surface and the back surface, that is, the reflection on both surfaces, occurs on the surface on which the transparent multilayer thin film is formed.
That is, it is preferable that the reflection does not greatly increase even if a transparent adhesive or adhesive is formed on the uppermost high refractive index transparent thin film layer (B). That is, transparent substrate / transparent multilayer thin film /
It is preferable that the reflection on both sides of the transparent pressure-sensitive adhesive / adhesive does not increase more than the reflection on both sides of the transparent laminate, that is, the transparent substrate / transparent multilayer thin film. Preferably, the increase in visible light reflectance is 2% or less, more preferably 1% or less,
Further, it is preferable that the visible light reflectance does not increase and further the visible light reflectance decreases. By obtaining such a transparent laminate, it is possible to obtain a display filter having a low visible light reflectance and a correspondingly high visible light transmittance even when bonding is performed via a transparent adhesive or adhesive. You can do it.
【0048】透明な粘着材・接着剤を介して貼り合わせ
を行うことを考慮して、光学アドミッタンスを用いる手
法で光学設計を行うと、透明基体(A)の一方の主面上
に、高屈折率透明薄膜層(B)および銀又は銀を含む合
金からなる金属薄膜層(C)との組合せ(B)/(C)
を繰り返し単位として3回繰り返し積層し、さらにその
上に1層の高屈折率透明薄膜層(B)を積層し、かつ、
透明基体(A)から数えて2番目の金属薄膜層(C)
を、1番目および3番目の金属薄膜層(C)より厚くす
ることにより、透明な粘着材・接着剤の光学アドミッタ
ンスに近い光学アドミッタンスを有する透明積層体を得
ることができ、従って、透明な粘着材・接着剤を薄膜形
成面上に形成しても、可視光線反射率の増加が2%以下
である透明積層体を得ることができることが分かった。When optical design is performed by a method using optical admittance in consideration of bonding via a transparent adhesive or adhesive, a high refractive index is formed on one main surface of the transparent substrate (A). (B) / (C) in combination with a transparent thin film layer (B) and a metal thin film layer (C) made of silver or an alloy containing silver
Is repeated three times as a repeating unit, and a single high-refractive-index transparent thin film layer (B) is further laminated thereon, and
Second metal thin film layer (C) counted from transparent substrate (A)
Is thicker than the first and third metal thin film layers (C), a transparent laminate having an optical admittance close to the optical admittance of the transparent adhesive / adhesive can be obtained. It was found that a transparent laminate having an increase in visible light reflectance of 2% or less could be obtained even when the material and the adhesive were formed on the thin film forming surface.
【0049】上記の方法により形成した、高屈折率透明
薄膜層および銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層の
原子組成は、オージェ電子分光法(AES)、誘導結合
プラズマ法(ICP)、ラザフォード後方散乱法(RB
S)等により測定できる。また、層構成および膜厚は、
オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡に
よる断面観察等により測定できる。また膜厚は、成膜条
件と成膜速度の関係をあらかじめ明らかにした上で成膜
を行うことや、水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニ
タリングにより制御できる。The atomic composition of the high-refractive-index transparent thin film layer and the metal thin film layer made of silver or an alloy containing silver formed by the above method is determined by Auger electron spectroscopy (AES), inductively coupled plasma method (ICP), Rutherford. Backscattering method (RB
S) and the like. The layer configuration and film thickness are
It can be measured by observation in the depth direction of Auger electron spectroscopy, cross-section observation using a transmission electron microscope, or the like. The film thickness can be controlled by clarifying the relationship between the film forming conditions and the film forming speed in advance, or by monitoring the film thickness during film formation using a quartz oscillator or the like.
【0050】上記のようにして本発明の透明積層体を得
るが、先述した様に、薄膜は耐擦傷性、耐環境性に乏し
く、薄膜が剥き出しのままではディスプレイ用フィルタ
ーとして使用することが難しい。従って、薄膜を保護す
る透明保護層(D)を形成することが好ましい。本発明
でいうところの透明保護層(D)とは、可視波長領域に
おいて透明であり、かつ、薄膜を保護する機能を有する
もので、該機能を有する膜、該機能を有する高分子フィ
ルム、高分子シート、ガラス等の透明な成形物、また
は、該機能を有する膜が形成されているものを示してい
る。透明保護層(D)を形成する基体に、該機能を有す
る膜を塗布、印刷または従来公知の各種成膜法により形
成しても、該機能を有する膜を形成した透明な成形物、
または、該機能を有する透明な成形物を任意の透明な粘
着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これら透明保
護層の作成方法は特に制限を受けない。透明な成形物の
種類、厚さも特に制限を受けない。As described above, the transparent laminate of the present invention is obtained. However, as described above, the thin film has poor scratch resistance and environmental resistance, and it is difficult to use the thin film as a filter for display if the thin film is bare. . Therefore, it is preferable to form a transparent protective layer (D) for protecting the thin film. The transparent protective layer (D) in the present invention is transparent in the visible wavelength region and has a function of protecting a thin film. A film having the function, a polymer film having the function, It shows a transparent molded product such as a molecular sheet or glass, or a product on which a film having the function is formed. Even if a film having the function is applied to the substrate on which the transparent protective layer (D) is formed by coating, printing, or formed by various conventionally known film forming methods, a transparent molded article having the film having the function formed thereon,
Alternatively, a transparent molded product having the above function may be attached via an arbitrary transparent adhesive or adhesive. The method for forming these transparent protective layers is not particularly limited. The type and thickness of the transparent molded product are not particularly limited.
【0051】本発明の透明積層体を構成する銀は、化学
的、物理的安定性に欠け、環境中の汚染物質、水蒸気等
によって劣化し、凝集、白化現象を起こすため、透明積
層体の薄膜形成面には、薄膜が使用環境中の汚染物質、
水蒸気にさらされないようにガスバリア性を有する層で
被覆することが肝要である。The silver constituting the transparent laminate of the present invention lacks chemical and physical stability, is deteriorated by pollutants in the environment, water vapor and the like, and causes aggregation and whitening. On the formation surface, a thin film is composed of contaminants in the usage environment,
It is important to cover with a layer having gas barrier properties so as not to be exposed to water vapor.
【0052】該透明保護層(D)がガスバリア性を有し
ていると好適である。必要とされるガスバリア性は、透
湿度で10g/m2 ・day以下、好ましくは5g/m
2 ・day以下、さらに好ましくは1g/m2 ・day
以下である。本発明でいうところのガスバリア性を有す
る透明保護層とは、可視波長領域で透明かつ前記ガスバ
リア性を有する層であり、ガスバリア性を有する膜、又
は、ガスバリア性を有する膜が形成されている透明な成
形物、ガスバリア性を有する透明な成形物などが挙げら
れる。It is preferable that the transparent protective layer (D) has a gas barrier property. The required gas barrier property is 10 g / m 2 · day or less in moisture permeability, preferably 5 g / m 2
2 day or less, more preferably 1 g / m 2 day
It is as follows. The transparent protective layer having a gas barrier property in the present invention is a layer that is transparent in the visible wavelength region and has the gas barrier property, and a film having a gas barrier property, or a transparent film on which a film having a gas barrier property is formed. Molded articles, transparent molded articles having gas barrier properties, and the like.
【0053】ガスバリア性を有する透明保護層を透明積
層体に設ける際には、ガスバリア性を有する膜を、化学
的気相成長法(CVD)、蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、塗布、印刷、その他従来公知の各種
成膜法により形成しても良いし、ガスバリア性を有する
高分子フィルム、高分子シート、ガラス、または、ガス
バリア性を有する膜を形成した高分子フィルム、高分子
シートを任意の透明な粘着材・接着剤を介して貼り付け
ても良いし、さらには部材を貼り合わせる透明な粘着材
・接着剤がガスバリア性を有していても良い。これらガ
スバリア性を有す透明保護層の作製方法は特に制限を受
けない。When a transparent protective layer having a gas barrier property is provided on a transparent laminate, a film having a gas barrier property is formed by chemical vapor deposition (CVD), vapor deposition, sputtering, ion plating, coating, printing, etc. It may be formed by a conventionally known various film forming method, or a polymer film having a gas barrier property, a polymer sheet, glass, or a polymer film having a gas barrier property formed thereon, or a polymer sheet having an arbitrary transparent property. The adhesive may be attached via a suitable adhesive / adhesive, or the transparent adhesive / adhesive to which the members are attached may have gas barrier properties. The method for producing the transparent protective layer having gas barrier properties is not particularly limited.
【0054】ガスバリア性を有する膜の具体例として
は、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化イン
ジウム、酸化イットリウム、酸化マグネシウム等、また
はこれらの混合物、またはこれらに他の元素を微量に添
加した金属酸化物薄膜や、ポリ塩化ビニリデンほか、ア
クリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレ
タン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられるが、特にこれ
らに限定されるものではない。これら膜の厚さは、金属
酸化物薄膜の場合10〜200nm、樹脂の場合1〜1
00μm程度であり、単層でも多層でも良いが、これも
また特に制限されるものではない。Specific examples of the film having a gas barrier property include silicon oxide, aluminum oxide, tin oxide, indium oxide, yttrium oxide, magnesium oxide, and the like, or a mixture thereof, or a metal obtained by adding a trace amount of another element thereto. In addition to an oxide thin film, polyvinylidene chloride, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, a fluorine resin, and the like, are not particularly limited thereto. The thickness of these films is 10 to 200 nm for a metal oxide thin film and 1 to 1 for a resin.
The thickness is about 00 μm, and may be a single layer or a multilayer, but this is not particularly limited.
【0055】また、水蒸気透湿度が低い高分子フィルム
としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン、
ポリ塩化ビニリデンや、塩化ビニリデンと塩化ビニル、
塩化ビニリデンとアクリロニトリルの共重合物、フッ素
系樹脂等が挙げられるが、透湿度が10g/m2 ・da
y以下、好ましくは5g/m2 ・day以下、さらに好
ましくは1g/m2 ・day以下であれば特に限定され
るものではない。透湿度が比較的高い場合でも、フィル
ムの厚みを増やすことや適当な添加物を加えることによ
り、透湿度は低下する。従って、上記の透湿度を達成す
るに十分な厚みを有するポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポ
リエーテルエーテルケトン、ポリエーテルサルフォン等
でも良い。As the polymer film having a low water vapor vapor transmission rate, polyethylene, polypropylene, nylon,
Polyvinylidene chloride, vinylidene chloride and vinyl chloride,
Examples thereof include a copolymer of vinylidene chloride and acrylonitrile, and a fluororesin. The moisture permeability is 10 g / m 2 · da.
y or less, preferably 5 g / m 2 · day or less, more preferably 1 g / m 2 · day or less, is not particularly limited. Even when the moisture permeability is relatively high, the moisture permeability decreases by increasing the thickness of the film or adding an appropriate additive. Therefore, polyethylene terephthalate having a thickness sufficient to achieve the above moisture permeability,
Polycarbonate, polystyrene, polyarylate, polyetheretherketone, polyethersulfone and the like may be used.
【0056】電磁波に対するシールドとして本発明のデ
ィスプレイ用フィスターを用いる場合、透明積層体の導
電面に電極を設けてディスプレイの本体と透明積層体と
を電気的に接続することが広く行われている。このた
め、透明保護層(D)を形成する際に肝要なことは、デ
ィスプレイ用フィルターの導電面に形成される金属を含
む電極とディスプレイ本体との電気的接触を妨げないよ
うにすることである。すなわち、電極形成部分を除いて
薄膜形成面全てを透明保護層(D)で被覆するようにす
れば良い。When the display fister of the present invention is used as a shield against electromagnetic waves, it is widely practiced to provide electrodes on the conductive surface of the transparent laminate to electrically connect the display body and the transparent laminate. For this reason, when forming the transparent protective layer (D), it is important that the electrical contact between the electrode containing metal formed on the conductive surface of the display filter and the display body is not hindered. . That is, the entire surface on which the thin film is formed except for the electrode forming portion may be covered with the transparent protective layer (D).
【0057】銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜の劣
化を抑制するには、上述したような透明保護層を設ける
ほか、銀又は銀を含む合金の劣化を抑制する化合物を任
意の溶剤に溶かし込み、本発明の透明積層体の薄膜形成
面の表面または端面に塗布しても良い。In order to suppress the deterioration of the metal thin film made of silver or an alloy containing silver, in addition to providing the transparent protective layer as described above, a compound that suppresses the deterioration of silver or the alloy containing silver is dissolved in an arbitrary solvent. Alternatively, it may be applied to the surface or the end face of the thin film forming surface of the transparent laminate of the present invention.
【0058】本発明において、透明積層体あるいはディ
スプレイ用フィルターを構成する各部材の貼り合わせに
は、任意の透明な粘着材・接着剤を使用できる。この際
肝要なことはディスプレイからの光線透過部である中心
部分に用いられる粘着材または接着剤は可視光線に対し
て充分透明である必要がある。粘着材または接着剤は、
実用上の接着強度があればシート状のものでも液状のも
のでもよい。粘着材は感圧型接着剤でシート状のものが
好適に使用できる。シート状粘着材貼り付け後または接
着材塗布後に各部材をラミネートすることによって貼り
合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合わせ後に室温
放置または加熱により硬化する接着剤であり、接着剤の
塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、
グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が
挙げられるが、接着剤の種類、粘度、塗布量等から考
慮、選定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特
に限定されるものではないが、0.5μm〜50μm、
好ましくは1μm〜30μmである。粘着材または接着
剤を用いて貼り合わせた後は、貼り合わせ時に部材間に
入り込んだ空気を脱泡または、粘着材または接着剤に固
溶させ、さらには部材間の密着力を向上させる為に、加
圧、加温の条件で養生を行うことが好ましい。このと
き、加圧条件としては、一般的に数気圧〜20気圧以下
程度であり、加温条件としては各部材の耐熱性に依る
が、一般的には室温以上、80℃以下程度であるが、こ
れらに特に制限を受けない。In the present invention, any transparent adhesive or adhesive can be used for bonding the members constituting the transparent laminate or the display filter. At this time, it is important that the adhesive or the adhesive used in the central portion, which is the light transmitting portion from the display, needs to be sufficiently transparent to visible light. The adhesive or glue is
As long as it has practical adhesive strength, it may be a sheet or a liquid. As the pressure-sensitive adhesive, a sheet-shaped pressure-sensitive adhesive can be suitably used. After the sheet-like adhesive material is attached or the adhesive material is applied, the members are laminated by laminating the respective members. The liquid material is an adhesive that is cured by being left at room temperature or heated after application and bonding, and the application method of the adhesive includes a bar coating method, a reverse coating method,
A gravure coating method, a die coating method, a roll coating method, and the like can be used, and the method is selected in consideration of the type, viscosity, and application amount of the adhesive. The thickness of the pressure-sensitive adhesive or the adhesive layer is not particularly limited, but is 0.5 μm to 50 μm,
Preferably it is 1 μm to 30 μm. After bonding using an adhesive or adhesive, air that has entered between the members at the time of bonding can be defoamed or dissolved in the adhesive or adhesive to improve the adhesion between the members. It is preferable to carry out curing under the conditions of pressure, heating and heating. At this time, the pressure condition is generally about several atmospheres to about 20 atmospheres or less, and the heating condition depends on the heat resistance of each member. These are not particularly limited.
【0059】また特に、ある種の機能を有するフィルム
を透明積層体の薄膜形成面側に貼り合わせる場合、その
際に使用する透明な粘着材・接着剤が、または、接着剤
・粘着材/該フィルムの水蒸気透湿度が10g/m2 ・
day以下、好ましくは5g/m2 ・day以下、さら
に好ましくは1g/m2 ・day以下のガスバリア性を
有している場合は、より好適に使用できる。In particular, when a film having a certain function is bonded to the thin film forming side of the transparent laminate, the transparent adhesive or adhesive used at that time or the adhesive or adhesive / adhesive is used. The film has a water vapor transmission rate of 10 g / m 2.
When it has a gas barrier property of not more than day, preferably not more than 5 g / m 2 · day, more preferably not more than 1 g / m 2 · day, it can be used more suitably.
【0060】一般に、電磁波シールドを必要とする機器
には、機器のケース内部に金属層を設けたり、ケースに
導電性材料を使用して電波を遮蔽する。ディスプレイの
如く透明性が必要である場合には、透明導電層膜を形成
した窓状の光学部材すなわちディスプレイ用フィルター
を設置する。電磁波は導電層において吸収されたのち電
荷を誘起するため、アースをとることによって電荷を逃
がさないと、再び電磁波シールド体がアンテナとなって
電磁波を発振し電磁波遮蔽能が低下する。従って、電磁
波シールド性を付与したディスプレイ用フィルターは、
ディスプレイ装置本体のケース内部の導電部に、電気的
にオーミックにコンタクトしていることが好ましい。そ
のため、透明積層体は通電部分である薄膜形成面が一部
剥き出されており、前述の透明保護層をはじめとする薄
膜形成面に形成される層は、電気的接触を得る部分以外
に形成されている必要がある。In general, a device requiring an electromagnetic wave shield is provided with a metal layer inside the case of the device or shields radio waves by using a conductive material for the case. When transparency is required as in a display, a window-shaped optical member having a transparent conductive layer film formed thereon, that is, a display filter is provided. Since the electromagnetic wave induces electric charge after being absorbed in the conductive layer, if the electric charge is not released by grounding, the electromagnetic wave shielding body again acts as an antenna to oscillate the electromagnetic wave and reduce the electromagnetic wave shielding ability. Therefore, the display filter with the electromagnetic wave shielding property is
It is preferable that the conductive portion inside the case of the display device main body be electrically in ohmic contact with the conductive portion. Therefore, in the transparent laminate, a part of the thin film forming surface, which is a current-carrying part, is exposed, and the layers formed on the thin film forming surface including the transparent protective layer described above are formed in portions other than a portion that obtains electrical contact. Must have been.
【0061】透明積層体に対する電気的接触を良好とす
るために、透明積層体の導電面に金属を含む電極を形成
することが好ましい。電極形状は特に限定するものでは
ない。しかしながら、ディスプレイ用フィルターと電磁
波シールドを必要とする機器の間に、電磁波の漏洩する
隙間が存在しないことが肝要であり、また、金属を含む
電極と透明導電層の間に空気の層が存在しないことが重
要である。従って、透明積層体の導電面すなわち薄膜形
成面上且つ周縁部に連続的に、金属を含む電極を形成す
ると好適である。すなわち、ディスプレイからの光線透
過部である中心部分を除いて、枠状にかつ凹凸がないよ
うに金属を含む電極を形成する。これは、電極が、透明
導電層で電磁波が吸収されたときに誘起される電荷を効
率的にディスプレイ本体のケース内部へ逃がす役割も担
っているからである。電極形状の具体例を図1に示す。
透明成形体30の上に透明積層体10が形成され、か
つ、透明積層体10の表面に、矩形の枠状に電極20が
形成されている。電極20は透明積層体10の周縁部に
沿って配置している。なお、電極の形状はここに示すも
のに限定されるものではない。In order to improve the electrical contact with the transparent laminate, it is preferable to form an electrode containing a metal on the conductive surface of the transparent laminate. The shape of the electrode is not particularly limited. However, it is important that there is no gap for leakage of electromagnetic waves between the display filter and the device that requires an electromagnetic wave shield, and there is no air layer between the electrode containing metal and the transparent conductive layer. This is very important. Therefore, it is preferable to form an electrode containing metal continuously on the conductive surface of the transparent laminate, that is, on the thin film forming surface and on the peripheral edge. That is, an electrode including a metal is formed in a frame shape and without irregularities except for a central portion which is a light transmitting portion from the display. This is because the electrode also plays a role in efficiently discharging the charge induced when the electromagnetic wave is absorbed by the transparent conductive layer into the case of the display body. FIG. 1 shows a specific example of the electrode shape.
The transparent laminate 10 is formed on the transparent molded body 30, and the electrodes 20 are formed on the surface of the transparent laminate 10 in a rectangular frame shape. The electrodes 20 are arranged along the periphery of the transparent laminate 10. Note that the shape of the electrode is not limited to that shown here.
【0062】また、透明積層体の透明導電層(透明多層
薄膜)、金属を含む電極、ディスプレイ本体のケース内
部の比抵抗が大きく異なると、これらの接触部分でイン
ピーダンス差が生じ、その部分で電磁波が放出されてし
まう。通常、ケース内部の導電層は金属層であり、比抵
抗は10-5Ω・cm以下であるのに対し、透明導電層の
比抵抗は10-5〜10-4Ω・cm以上である。従って、
電極は比抵抗1×10 -3Ω・cm以下であることが好ま
しい。The transparent conductive layer (transparent multilayer) of the transparent laminate
Thin film), electrodes containing metal, in the case of the display body
If the specific resistances of the parts differ greatly,
A difference in impedance occurs, and electromagnetic waves are emitted at that point.
I will. Usually, the conductive layer inside the case is a metal layer,
Anti is 10-FiveΩcm or less, whereas the transparent conductive layer
The specific resistance is 10-Five-10-FourΩ · cm or more. Therefore,
The electrode has a specific resistance of 1 × 10 -3Ω · cm or less is preferred
New
【0063】電極に用いる材料は、導電性、耐触性およ
び導電面との密着性等の点から、銀、金、銅、白金、ニ
ッケル、アルミニウム、クロム、鉄、亜鉛、等の単体も
しくは2種以上からなる合金や、合成樹脂と銀または銀
を含む合金の混合物、もしくは、ホウケイ酸ガラスと銀
または銀を含む合金の混合物からなる銀ペーストを使用
できる。電極形成にはメッキ法、真空蒸着法、スパッタ
法など、銀ペーストといったものは印刷、塗工する方法
など従来公知の方法を採用できる。金属を含む電極の厚
さは、これもまた特に限定されるものではないが、一般
的には、数μm〜数mm程度である。The material used for the electrode may be a simple substance such as silver, gold, copper, platinum, nickel, aluminum, chromium, iron, zinc, or the like in terms of conductivity, contact resistance, and adhesion to a conductive surface. A silver paste composed of an alloy composed of more than one kind, a mixture of a synthetic resin and an alloy containing silver or silver, or a mixture of a borosilicate glass and an alloy containing silver or silver can be used. For the formation of the electrode, a conventionally known method such as a printing method or a coating method can be employed for a silver paste or the like such as a plating method, a vacuum evaporation method, or a sputtering method. The thickness of the electrode containing the metal is not particularly limited, but is generally about several μm to several mm.
【0064】電極が形成されていない透明積層体をディ
スプレイ用フィルターとして用いた場合、このディスプ
レイ用フィルターにおいて、ディスプレイ本体と電気的
に接触する部分は、通電部である透明導電層が剥き出し
となる。透明導電層に用いられる薄膜は、先述した如
く、耐擦傷性、耐環境性に乏しいため、ディスプレイ本
体との電気的接触部分において透明導電層が剥き出しに
なっていると、信頼性の低下等につながる。このため、
ディスプレイ用フィルターとして用いる場合には、透明
導電層が剥き出しではなく、電極が形成されていること
が肝要なのである。金属を含む電極が十分厚い場合は、
電極が透明導電層の保護層となり、耐擦傷性、耐環境性
を付与することができる。このように、全透明導電層形
成面上が、透明保護層か電極で被覆されていることが望
ましい。どちらも形成されていない部分が存在すると、
その部分から環境中の汚染物質、水蒸気が入り込み、白
化現象が生じてしまう。When a transparent laminate having no electrodes formed thereon is used as a display filter, the portion of the display filter that is in electrical contact with the display body has the transparent conductive layer serving as a current-carrying portion exposed. As described above, the thin film used for the transparent conductive layer has poor abrasion resistance and environmental resistance.If the transparent conductive layer is exposed at the electrical contact portion with the display body, the reliability may be reduced. Connect. For this reason,
When used as a display filter, it is important that the transparent conductive layer is not exposed but has electrodes formed thereon. If the electrode containing metal is thick enough,
The electrode serves as a protective layer for the transparent conductive layer, and can impart abrasion resistance and environmental resistance. As described above, it is desirable that the entire surface on which the transparent conductive layer is formed be covered with the transparent protective layer or the electrode. If there is a part where neither is formed,
Contaminants and water vapor in the environment enter from that portion, causing a whitening phenomenon.
【0065】透明基体(A)として高分子フィルムを用
いた場合、前記のようにして得られた透明積層体は、強
度やディスプレイとの貼り合わせ時の平面性、設置方法
などの観点から、主面の平滑な板状の透明成形体(E)
と貼り合わせて用いることが望ましい。貼り合わせは、
透明成形体(E)の主面と、透明積層体の薄膜形成面で
ない主面を透明な粘着材・接着剤を介して行うと、電極
を形成し易く、かつ、ディスプレイ本体と電気的接触を
得るのに好適である。In the case where a polymer film is used as the transparent substrate (A), the transparent laminate obtained as described above is mainly used from the viewpoints of strength, flatness at the time of bonding to a display, an installation method, and the like. Plate-shaped transparent molded body with smooth surface (E)
It is desirable to use them together. For bonding,
When the main surface of the transparent molded body (E) and the main surface of the transparent laminate, which is not the thin film forming surface, are formed via a transparent adhesive or adhesive, electrodes can be easily formed and electrical contact with the display body can be achieved. It is suitable for obtaining.
【0066】電磁波シールド能を必要としないディスプ
レイ用フィルターの場合、貼り合わせは透明積層体のど
ちらの主面でも良い。このとき、薄膜形成面を透明成形
体(E)の主面と貼り合わせる場合は透明な粘着材・接
着剤及び/又は透明成形体(E)が透明保護層の役割を
有していればよい。In the case of a display filter that does not require an electromagnetic wave shielding function, the bonding may be performed on either main surface of the transparent laminate. At this time, when the thin film forming surface is bonded to the main surface of the transparent molded body (E), the transparent adhesive / adhesive and / or the transparent molded body (E) may have a role of a transparent protective layer. .
【0067】透明成形体としては、機械的強度や、軽
さ、割れにくさから、可視域において透明なプラスチッ
ク板が望ましいが、熱による変形等の少ない熱的安定性
からガラス板も好適に使用できる。プラスチック板の具
体例を挙げると、ポリメタクリル酸メチル(PMMA)
をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、
透明ABS樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定
されるものではない。特にPMMAはその広い波長領域
での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用でき
る。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわ
まずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限
定されるものではないが、通常1mm〜10mm程度で
ある。ガラス板を透明成形体(E)として使用する場合
は、機械的強度を付加するために化学強化加工または風
冷強化加工を行った半強化ガラス板または強化ガラス板
を用いることが望ましい。As the transparent molded body, a plastic plate which is transparent in the visible region is desirable from the viewpoint of mechanical strength, lightness and resistance to cracking. However, a glass plate is also preferably used because of its thermal stability with little deformation due to heat. it can. A specific example of a plastic plate is polymethyl methacrylate (PMMA)
And other acrylic resins, polycarbonate resins,
A transparent ABS resin or the like can be used, but is not limited to these resins. In particular, PMMA can be suitably used because of its high transparency in a wide wavelength region and high mechanical strength. The thickness of the plastic plate is not particularly limited as long as it has sufficient mechanical strength and rigidity for maintaining flatness without sagging, and is not particularly limited, but is usually about 1 mm to 10 mm. When a glass plate is used as the transparent molded body (E), it is desirable to use a semi-tempered glass plate or a tempered glass plate that has been subjected to a chemical strengthening process or an air-cooling strengthening process in order to add mechanical strength.
【0068】ディスプレイ用フィルターは、フィルター
の主面とディスプレイ表面を密着させて使用する場合、
ディスプレイ表面とディスプレイ用フィルターの密着度
が部分によって異なるために、それによって生じる間隙
を原因とするニュートンリングが発生してしまう。その
ため、ディスプレイ用フィルターのディスプレイ表面と
密着する主面上には、アンチニュートンリング層を形成
することが好ましい。電磁波シールドを目的としてディ
スプレイ用フィルターとの電気的接触を得る場合、アン
チニュートンリング層が金属を含む電極とディスプレイ
本体との接触を妨げることがあってはならない。When the display filter is used with the main surface of the filter and the display surface in close contact with each other,
Since the degree of adhesion between the display surface and the display filter varies depending on the portion, a Newton ring occurs due to a gap generated thereby. Therefore, it is preferable to form an anti-Newton ring layer on the main surface of the display filter that is in close contact with the display surface. When obtaining electrical contact with the display filter for the purpose of shielding electromagnetic waves, the anti-Newton ring layer must not interfere with contact between the electrode containing metal and the display body.
【0069】また、ディスプレイへの照明器具等の映り
込みによって表示画面が見づらくなってしまうため、デ
ィスプレイ用フィルターの人側すなわち装着したときの
ディスプレイ本体側の反対側の面に、反射防止層を形成
することにより外光反射を抑制するか、アンチグレア層
を形成することによって防眩性を持たせることが必要で
ある。さらに、ディスプレイ用フィルターの外光反射
は、装着したときのディスプレイ本体側の面にも反射防
止層を形成することによって、さらに低減できる。ま
た、反射防止層の形成により、ディスプレイ用フィルタ
ーの反射を減じることによって、光線透過率を向上させ
ることができる。アンチグレア層、反射防止層もまた、
透明積層体の導電面側に形成される場合は、金属を含む
電極とディスプレイ用フィルターの電気的接触を妨げて
はならない。Further, since the display screen becomes difficult to see due to the reflection of a lighting device or the like on the display, an antireflection layer is formed on the surface of the display filter on the human side, that is, on the surface opposite to the display main body side when worn. In this case, it is necessary to suppress the reflection of external light by forming the antiglare layer, or to provide an antiglare layer by forming an antiglare layer. Further, external light reflection of the display filter can be further reduced by forming an antireflection layer on the surface of the display body side when the filter is mounted. In addition, the formation of the antireflection layer can reduce the reflection of the display filter, thereby improving the light transmittance. Anti-glare layer, anti-reflection layer also
When formed on the conductive surface side of the transparent laminate, the electrical contact between the electrode containing metal and the display filter must not be prevented.
【0070】ここで、アンチニュートンリング層、アン
チグレア層、反射防止層とは、各機能を有する膜、また
は、対応する機能を有する膜が形成されているものを示
しているのであって、各層を形成する基体に、各機能を
有する膜を塗布または印刷または従来公知の各種成膜法
により形成しても、各機能を有する膜を形成した透明成
形物、または、各機能を有する透明成形物を任意の透明
な粘着材・接着剤を介して貼り付けても良い。これらの
作成方法は特に制限を受けない。透明成形物の種類、厚
さも特に制限を受けない。Here, the anti-Newton ring layer, the anti-glare layer, and the anti-reflection layer indicate a film having a function or a film having a corresponding function. Even if a film having each function is coated or printed on the substrate to be formed or formed by various conventionally known film forming methods, a transparent molded article having a film having each function formed thereon, or a transparent molded article having each function, It may be attached via any transparent adhesive or adhesive. There is no particular limitation on the method of making these. The type and thickness of the transparent molded product are not particularly limited.
【0071】透明積層体の、透明導電層側にアンチニュ
ートンリング性及び/又はアンチグレア性、又は反射防
止性が要求される場合に、透明保護層(D)がアンチニ
ュートンリング性及び/又はアンチグレア性、又は反射
防止性を有していると好適である。この場合は、透明保
護層(D)上にさらに各機能を有する層を形成する必要
がない。また、逆に、アンチニュートンリング層、アン
チグレア層、反射防止層が、透明保護層の役割、すなわ
ち耐擦傷性やガスバリア性等を有している場合も好適で
ある。これらは、構成部材数または構成層数が減ること
により工程、コスト、部材間の界面反射を減じることが
できるからである。When an anti-Newton ring property and / or anti-glare property or anti-reflection property is required on the transparent conductive layer side of the transparent laminate, the transparent protective layer (D) has an anti-Newton ring property and / or anti-glare property. It is preferable to have anti-reflection property. In this case, it is not necessary to further form a layer having each function on the transparent protective layer (D). Conversely, it is also preferable that the anti-Newton ring layer, the anti-glare layer, and the antireflection layer have a role of a transparent protective layer, that is, have a scratch resistance, a gas barrier property, and the like. These are because the number of constituent members or the number of constituent layers can be reduced, whereby the process, cost, and interfacial reflection between members can be reduced.
【0072】反射防止層は、反射防止膜を形成する基体
の光学特性を考慮し、前述したような光学設計によって
反射防止膜の構成要素及び各構成要素の膜厚を決定す
る。反射防止層は、反射防止膜が形成されている面の可
視光線反射率が2%以下、好ましくは1.5%以下、よ
り好ましくは0.5%以下の性能を有することが望まし
い。反射防止膜が形成されている面の可視光線反射率
は、反対面(反射防止膜が形成されていない面)をサン
ドペーパーで荒らし、黒色塗装等により、反対面の反射
を無くして、反射防止膜が形成されている面のみでおこ
る反射光を測定することにより測定される。The antireflection layer determines the components of the antireflection film and the film thickness of each component by the above-described optical design in consideration of the optical characteristics of the substrate on which the antireflection film is formed. It is desirable that the antireflection layer has a performance in which the visible light reflectance of the surface on which the antireflection film is formed is 2% or less, preferably 1.5% or less, more preferably 0.5% or less. The visible light reflectance of the surface on which the anti-reflection film is formed can be measured by roughening the opposite surface (the surface on which the anti-reflection film is not formed) with sandpaper and removing the reflection on the opposite surface by black paint to prevent reflection. It is measured by measuring reflected light generated only on the surface on which the film is formed.
【0073】反射防止層として具体的には、可視域にお
いて屈折率が1.5以下、好適には1.4以下と低い、
フッ素系透明高分子樹脂やフッ化マグネシウム、シリコ
ン系樹脂や酸化珪素の薄膜等を例えば1/4波長の光学
膜厚で単層形成したもの、屈折率の異なる、金属酸化
物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、
硫化物等の無機化合物またはシリコン系樹脂やアクリル
樹脂、フッ素系樹脂等の有機化合物の薄膜を2層以上多
層積層したものがある。単層形成したものは、製造が容
易であるが、反射防止性が多層積層に比べ劣る。多層積
層したものは、広い波長領域にわたって反射防止能を有
し、基体の光学特性による光学設計の制限が少ない。こ
れらの無機化合物薄膜は、スパッタリング、イオンプレ
ーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗
工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。有機化
合物薄膜は、湿式塗工等、従来公知の方法を採用でき
る。Specifically, the antireflection layer has a low refractive index of 1.5 or less, preferably 1.4 or less in the visible region.
A single layer of a thin film of a fluorine-based transparent polymer resin, magnesium fluoride, silicon-based resin, or silicon oxide, for example, having an optical thickness of 1/4 wavelength, metal oxides, fluorides, silicon oxides having different refractive indices , Boride, carbide, nitride,
There is a laminate in which two or more thin films of an inorganic compound such as a sulfide or an organic compound such as a silicon-based resin, an acrylic resin, or a fluorine-based resin are laminated in two or more layers. Although a single layer is easy to manufacture, the antireflection property is inferior to that of a multilayer laminate. The multilayer structure has an antireflection function over a wide wavelength range, and the optical design of the substrate is less limited in optical design. These inorganic compound thin films can be employed by any conventionally known methods such as sputtering, ion plating, ion beam assist, vacuum deposition, and wet coating. For the organic compound thin film, a conventionally known method such as wet coating can be adopted.
【0074】また、先述した如く、透明積層体の薄膜形
成面側に形成する反射防止層、すなわち、反射防止膜、
反射防止膜を形成した透明な成形物、または、反射防止
膜を有する透明な成形物が、ガスバリア性を有している
と、部材低減につながるため、好適である。具体例とし
ては、酸化珪素やフッ素系樹脂を1/4波長の光学膜厚
で単層形成したポリエチレンテレフタレートフィルム
や、フッ素系樹脂フィルムが挙げられ、これらは、水蒸
気透湿度が低く、また、反射防止能を有している。さら
には薄膜上に形成することによって耐擦傷性を付与する
ことができる。As described above, the anti-reflection layer formed on the thin film forming surface side of the transparent laminate, that is, the anti-reflection film,
It is preferable that a transparent molded article having an anti-reflection film or a transparent molded article having an anti-reflection film have gas barrier properties, which leads to a reduction in members. Specific examples include a polyethylene terephthalate film in which silicon oxide or a fluorine-based resin is formed as a single layer with an optical thickness of 1/4 wavelength, and a fluorine-based resin film, which have a low water vapor permeability and a low reflection Has preventive ability. Furthermore, scratch resistance can be imparted by forming on a thin film.
【0075】本発明でいうところのアンチニュートンリ
ング層とアンチグレア層は、用途が異なるだけで、0.
1μm〜10μm程度の微少な凹凸の表面状態を有する
可視光線に対して透明な層を指している。アンチニュー
トンリング層はアンチグレア性を有している。特に具体
的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系
樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂
等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、
アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散
させインキ化したものを、バーコート法、リバースコー
ト法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート
法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒
径は、1〜40μmである。または、アクリル系樹脂、
シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、ア
ルキド系樹脂、フッ素系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型
樹を基体に塗布し、所望のヘイズまたは表面状態を有す
る型を押しつけ硬化することによってもアンチニュート
ンリング層またはアンチグレア層を得ることができる。
さらには、例えばガラス板をフッ酸等でエッチングする
ように、基体を薬剤処理することによってもアンチグレ
ア層を得ることができる。この場合は、処理時間、薬剤
のエッチング性により、アンチグレア層のヘイズを調節
する事ができる。要は適当な凹凸を有することが重要で
あり、必ずしも上記方法に限定されるものではない。ア
ンチグレア層またはアンチニュートンリング層のヘイズ
は0.5%以上20%以下であり、好ましくは1%以上
10%以下である。ヘイズが小さすぎるとアンチグレア
能またはアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘ
イズが大きすぎると平行光線透過率が低くなり、ディス
プレイの視認性が悪くなる。The anti-Newton ring layer and the anti-glare layer referred to in the present invention have different applications.
It refers to a layer that is transparent to visible light and has a surface state of minute irregularities of about 1 μm to 10 μm. The anti-Newton ring layer has anti-glare properties. Particularly specifically, an acrylic resin, a silicon resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, a thermosetting resin or a photocurable resin such as a fluorine resin, silica, melamine,
An ink obtained by dispersing particles of an inorganic compound or an organic compound such as acryl into an ink is applied and cured on a substrate by a bar coating method, a reverse coating method, a gravure coating method, a die coating method, a roll coating method or the like. The average particle size of the particles is 1 to 40 μm. Or acrylic resin,
By applying a thermosetting or light-curing resin such as a silicone resin, a melamine resin, a urethane resin, an alkyd resin, or a fluororesin to a substrate, and pressing and curing a mold having a desired haze or surface state. In addition, an anti-Newton ring layer or an anti-glare layer can be obtained.
Further, the anti-glare layer can be obtained by treating the substrate with a chemical, such as etching a glass plate with hydrofluoric acid or the like. In this case, the haze of the antiglare layer can be adjusted by the treatment time and the etching property of the chemical. In short, it is important to have appropriate irregularities, and it is not necessarily limited to the above method. The haze of the antiglare layer or the anti-Newton ring layer is 0.5% or more and 20% or less, preferably 1% or more and 10% or less. If the haze is too small, the anti-glare ability or anti-Newton ring ability is insufficient, and if the haze is too large, the parallel light transmittance becomes low and the visibility of the display deteriorates.
【0076】また、透明積層体の薄膜形成面側の主面
に、アンチニュートンリング性及び/又はアンチグレア
性を要する場合、アンチニュートンリング及び/又はア
ンチグレア性を有する膜、またはアンチニュートンリン
グ及び/又はアンチグレア性を有する膜を形成した透明
な成形物、または、アンチニュートンリング及び/又は
アンチグレア性を有する透明な成形物が、ガスバリア性
を有していると、部材低減につながるため、好適であ
る。具体例としては、前述の透明保護層中に上記のよう
な無機化合物または有機化合物の粒子を分散させて透明
保護層がアンチニュートンリング性及び/又はアンチグ
レア性を付与する。また、アンチニュートンリング及び
/又はアンチグレア性を有する膜を形成したポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが水蒸気透湿度が低い場合
は、このフィルムを薄膜形成面上に透明な粘着材・接着
剤を介して貼り合わせればよく、薄膜上に形成すること
によって耐擦傷性も付与することができる。When the anti-Newton ring property and / or anti-glare property is required on the main surface on the thin film forming side of the transparent laminate, a film having anti-Newton ring and / or anti-glare property, or an anti-Newton ring and / or It is preferable that a transparent molded product having a film having an anti-glare property or a transparent molded product having an anti-Newton ring and / or an anti-glare property has a gas barrier property, because it leads to a reduction in members. As a specific example, particles of the above-mentioned inorganic compound or organic compound are dispersed in the above-mentioned transparent protective layer, and the transparent protective layer imparts anti-Newton ring properties and / or anti-glare properties. When the polyethylene terephthalate film on which the film having anti-Newton ring and / or anti-glare property is formed has a low water vapor vapor transmission rate, the film may be stuck on the thin film forming surface via a transparent adhesive / adhesive. When formed on a thin film, scratch resistance can also be imparted.
【0077】ディスプレイ用フィルターがディスプレイ
本体に密着せずに離れて設置される場合等、ディスプレ
イ用フィルターのアンチグレア層がディスプレイ表面か
ら比較的距離があると、画像の拡散によるボケが生じる
場合がある。この為このような設置方法の場合は、アン
チグレア層は防眩性を維持し、且つ、ディスプレイから
適当距離はなしても画像のボケのないヘイズのものを選
択することが肝要である。When the anti-glare layer of the display filter is relatively far from the display surface, for example, when the display filter is installed separately from the display main body without being in close contact with the display body, blurring may occur due to image diffusion. Therefore, in the case of such an installation method, it is important to select an anti-glare layer which maintains the anti-glare property and has a haze free from blurring of an image even at an appropriate distance from the display.
【0078】本発明のディスプレイ用フィルターは、上
述したように、透明積層体と、金属を含む電極、透明保
護層(D)、反射防止層、アンチニュートンリング層、
アンチグレア層、および透明成形体(E)からなる群か
ら選ばれた2種類以上の付加層を備えてなることが好ま
しい。As described above, the display filter of the present invention comprises a transparent laminate, a metal-containing electrode, a transparent protective layer (D), an antireflection layer, an anti-Newton ring layer,
It is preferable to include two or more additional layers selected from the group consisting of an antiglare layer and a transparent molded article (E).
【0079】さらには、ディスプレイ用フィルターに耐
擦傷性を付加させるために、特にフィルターのディスプ
レイ側でない方の表面に、光学特性をはじめとするディ
スプレイ用フィルターの特性を損なわない程度に透明性
を有するハードコート層を形成しても良い。アンチグレ
ア層がハードコート性を有していても良いし、反射防止
層がハードコート性を有していても良い。ハードコート
層が透明積層体の薄膜形成面側に要される場合は、透明
保護層がハードコート性を有していると好適である。Further, in order to impart abrasion resistance to the display filter, the surface of the filter which is not on the display side has transparency so as not to impair the characteristics of the display filter including optical characteristics. A hard coat layer may be formed. The antiglare layer may have a hard coat property, and the antireflection layer may have a hard coat property. When the hard coat layer is required on the thin film forming side of the transparent laminate, it is preferable that the transparent protective layer has a hard coat property.
【0080】ところで、ディスプレイ表面には、静電気
帯電によりホコリが付着しやすく、また、人体が接触し
たときに放電して電気ショックを受けることがあるた
め、静電防止処理を行うことが必要とされる場合があ
る。静電防止能については、ディスプレイ表面に導電層
を直接形成するか、導電層を有する部材をディスプレイ
表面に張り付け、導電層をアースすることにより解決で
きる。従って、ディスプレイ用フィルターに静電防止能
を付与するために、ディスプレイ用フィルターの利用者
側となる面に、導電層を設けても良い。この場合に導電
層は面抵抗で108Ω/□程度以下であれば良く、ま
た、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうもので
あってはならない。By the way, dust easily adheres to the display surface due to electrostatic charging, and may be discharged when a human body comes into contact and may receive an electric shock. Therefore, it is necessary to perform an antistatic treatment. In some cases. The antistatic ability can be solved by directly forming a conductive layer on the display surface or attaching a member having the conductive layer to the display surface and grounding the conductive layer. Therefore, a conductive layer may be provided on the surface of the display filter on the user side in order to provide the display filter with antistatic capability. In this case, the conductive layer should have a sheet resistance of about 10 8 Ω / □ or less, and should not impair the transparency or resolution of the display screen.
【0081】静電防止能を有するディスプレイ用フィル
ターは、静電防止用の透明導電層が以下のように形成さ
れていればよい。(1)アンチグレア層上に透明導電層
を形成する、(2)反射防止層またはアンチグレア層が
透明導電性を有している、である。(1)の方法では、
すでに述べたITOをはじめとする公知の透明導電膜を
前述したような方法で成膜するか、ITOを成膜した高
分子フィルムを貼り合わせることによって、静電防止用
の透明導電層を形成する。この際肝要なことは、静電防
止用の透明導電層を形成しても防眩性をあまり損なわな
いことである。アンチグレア層上に静電防止用の透明導
電層を形成する場合は、静電防止能の要求する導電性は
比較的低くて良いため、防眩性を損なわない程度の薄い
膜で十分効果がある。(2)の方法では、アンチグレア
層中にITO超微粒子や酸化スズ超微粒子をはじめとす
る導電性超微粒子を分散させたものであり、反射防止層
の場合は、反射防止層の構成要素として透明導電膜を含
めて光学設計を行えばよい。具体例を挙げれば、基体/
ITO/含ケイ素化合物/ITO/含ケイ素化合物、基
体/ITO/含フッ素化合物等が挙げられる。A display filter having an antistatic function may have a transparent conductive layer for antistatic formed as follows. (1) forming a transparent conductive layer on the antiglare layer; and (2) the antireflection layer or the antiglare layer has transparent conductivity. In the method (1),
A transparent conductive layer for preventing static electricity is formed by forming a known transparent conductive film such as the above-described ITO or the like by the method described above or by bonding a polymer film on which the ITO is formed. . In this case, it is important that the antiglare property is not significantly impaired even if a transparent conductive layer for preventing static electricity is formed. When a transparent conductive layer for antistatic is formed on the antiglare layer, the conductivity required by the antistatic ability may be relatively low, so that a thin film that does not impair the antiglare effect is sufficiently effective. . In the method (2), conductive ultrafine particles such as ITO ultrafine particles and tin oxide ultrafine particles are dispersed in an antiglare layer. An optical design including a conductive film may be performed. To give a specific example,
Examples thereof include ITO / silicon-containing compound / ITO / silicon-containing compound, and base / ITO / fluorine-containing compound.
【0082】本発明の透明積層体は、電磁波シールド能
に加え、近赤外線カット性を有するが、透明積層体が8
20nmより長波長の領域での光線透過率が10%満た
ない場合、積層体の近赤外線カット能を補填するため
に、近赤外線吸収色素を併用しても良い。また、先述し
たように、ディスプレイ用フィルターはニュートラルグ
レーまたはニュートラルブルーの透過色が望ましく、積
層体の色調を調整し、上記のような透過色のディスプレ
イ用フィルターを得るために、可視領域に吸収のある市
販の色素を調色用色素として併用しても良い。The transparent laminate of the present invention has a near-infrared cut property in addition to the electromagnetic wave shielding ability.
When the light transmittance in a region having a wavelength longer than 20 nm is less than 10%, a near-infrared absorbing dye may be used in combination in order to supplement the near-infrared cut ability of the laminate. As described above, the display filter preferably has a transmission color of neutral gray or neutral blue. Certain commercially available dyes may be used in combination as toning dyes.
【0083】色素を含有させる方法としては、(1)透
明積層体の透明基体(A)に色素を含有させたり、
(2)透明積層体に貼り合わせられたり、透明積層体に
形成される透明成形体(E)、透明保護層(D)、反射
防止層、アンチグレア層、アンチニュートリング層、ハ
ードコート層のいずれか1つ以上に色素を含有させた
り、(3)貼り合わせに使用される透明な粘着材・接着
剤のいずれか一つ以上に色素を含有させたり、(4)デ
ィスプレイ用フィルターの構成要素として、ディスプレ
イ用フィルターを構成する各部材のいずれかの間に、任
意の透明な粘着材・接着剤を介して色素を含有する透明
成形物(F)を貼り合わせたりする方法がある。このよ
うに色素を含有させたディスプレイ用フィルターは、色
素が近赤外線吸収色素である場合は薄膜による近赤外線
カット能を補填し、近赤外線カット能に優れ、色素が調
色用色素の場合は、透過色すなわち色調に優れる。本発
明でいうところの色素とは、可視波長領域に吸収を有す
る調色用色素、または、近赤外波長領域に吸収を有する
近赤外線吸収色素を示している。As a method for incorporating a dye, (1) the transparent substrate (A) of the transparent laminate may contain a dye,
(2) Any one of a transparent molded article (E), a transparent protective layer (D), an antireflection layer, an anti-glare layer, an anti-new ring layer, and a hard coat layer which are bonded to or formed on the transparent laminate. Or one or more of them contain a pigment; (3) one or more of transparent adhesives and adhesives used for lamination contain a pigment; (4) as a component of a display filter There is a method in which a transparent molded product (F) containing a dye is bonded between any one of the members constituting the display filter via an arbitrary transparent adhesive or adhesive. The display filter containing the dye as described above, when the dye is a near-infrared absorbing dye, supplements the near-infrared cut ability by the thin film, is excellent in near-infrared cut ability, and when the dye is a toning dye, Excellent transmission color, that is, color tone. The term “dye” as used in the present invention refers to a toning dye having an absorption in a visible wavelength region or a near-infrared absorbing dye having an absorption in a near-infrared wavelength region.
【0084】本発明で用いる近赤外線吸収色素は、積層
体の近赤外線カット能を補填し、プラズマディスプレイ
の発する強度の近赤外線を充分実用的になる程度に吸収
するものであれば、特に限定されるものではなく、濃度
も限定されるものではない。しかしながら、以下の式
(1)(化1)または式(2)(化2)で表されるジチ
オール錯体化合物、またはそれらの少なくとも1種以上
の混合物である場合、本発明のディスプレイ用フィルタ
ーは、よりすぐれた近赤外線カット能を有することがで
きる。下記式(1)、(2)の化合物は市販されている
ので、入手可能である。The near-infrared absorbing dye used in the present invention is not particularly limited as long as it supplements the near-infrared cutting ability of the laminate and absorbs the near-infrared light emitted by the plasma display to a sufficiently practical level. The concentration is not limited. However, when the compound is a dithiol complex compound represented by the following formula (1) (formula 1) or formula (2) (formula 2), or a mixture of at least one of them, the display filter of the present invention: It can have better near-infrared cut ability. The compounds of the following formulas (1) and (2) are commercially available and can be obtained.
【0085】[0085]
【化1】 [式中、A1 〜A8 は各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、ニトロ基、シアノ基、チオシアナート基、シアナ
ート基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカ
ルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシ
カルボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は
未置換のアリール基、置換又は未置換のアルコキシ基、
置換又は未置換のアリールオキシ基、置換又は未置換の
アルキルチオ基、置換又は未置換のアリールチオ基、置
換又は未置換のアルキルアミノ基、あるいは置換又は未
置換のアリールアミノ基を表し、かつ、隣合う2個の置
換基が連結基を介してつながっていてもよく、R1 〜R
4 は各々独立に置換又は未置換のアルキル基、置換又は
未置換のアリール基を表し、Mはニッケル、白金、パラ
ジウムまたは銅を表し、Xは窒素原子又はリン原子を表
す。]Embedded image [Wherein A 1 to A 8 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a thiocyanate group, a cyanate group, an acyl group, a carbamoyl group, an alkylaminocarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl Group, substituted or unsubstituted alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted alkoxy group,
Represents a substituted or unsubstituted aryloxy group, a substituted or unsubstituted alkylthio group, a substituted or unsubstituted arylthio group, a substituted or unsubstituted alkylamino group, or a substituted or unsubstituted arylamino group, and is adjacent to Two substituents may be connected via a linking group, and R 1 to R
4 independently represents a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, M represents nickel, platinum, palladium or copper, and X represents a nitrogen atom or a phosphorus atom. ]
【0086】[0086]
【化2】 [式中、B1 〜B4 は各々独立に、水素原子、シアノ
基、アシル基、カルバモイル基、アルキルアミノカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、置換又は未置換のアルキル基、置換又は未置
換のアリール基を表し、かつ、隣合う2個の置換基が連
結基を介してつながっていてもよく、Mはニッケル、白
金、パラジウムまたは銅を表す。]Embedded image Wherein B 1 to B 4 are each independently a hydrogen atom, a cyano group, an acyl group, a carbamoyl group, an alkylaminocarbonyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, Represents an unsubstituted aryl group, and two adjacent substituents may be connected via a linking group, and M represents nickel, platinum, palladium or copper. ]
【0087】可視領域に吸収のある市販の調色用色素の
濃度は、色素の吸収係数、調色を要する透明積層体の色
調、可視光線透過率およびディスプレイ用フィルターに
要する色調、可視光線透過率等から決まり、特に限定さ
れるものではない。可視領域において異なる吸収波長を
有する調色用色素を2種類以上使用しても良い。The concentration of a commercially available toning dye having absorption in the visible region is determined by the absorption coefficient of the dye, the color tone of the transparent laminate requiring toning, the visible light transmittance, the color tone required for the display filter, and the visible light transmittance. Etc., and is not particularly limited. Two or more kinds of toning dyes having different absorption wavelengths in the visible region may be used.
【0088】本発明でいう含有とは、基材の内部に含有
されることは勿論、基材の表面に塗布した状態、基材と
基材の間に挟まれた状態等を意味する。ここでいう基材
とは前述した透明積層体の透明基体(A)、透明積層体
を貼り合わせる透明成形体(E)、透明保護層(D)、
反射防止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング
層、ハードコート層のいずれか、または、ディスプレイ
用フィルターに挟み込む、近赤外線吸収色素を含有させ
る透明成形物(F)である。透明保護層(D)、反射防
止層、アンチグレア層、アンチニュートンリング層、ハ
ードコート層は各機能を有する膜中に色素を含有してい
ても、各機能を有する膜が色素を含有する透明成形物
(F)上に形成されていていても良い。色素を含有する
透明成形物(F)としては、透明プラスチック板、透明
高分子フィルム、ガラス等が挙げられる。色素の含有量
は、前述の如く、透明積層体の光学特性とディスプレイ
用フィルターに必要とする光学特性に依る。The term “containing” as used in the present invention means, in addition to being contained inside a substrate, a state of being applied to the surface of the substrate, a state of being sandwiched between the substrates, and the like. The substrate referred to herein is the transparent substrate (A) of the transparent laminate described above, the transparent molded body (E) to which the transparent laminate is attached, the transparent protective layer (D),
A transparent molded article (F) containing any one of an anti-reflection layer, an anti-glare layer, an anti-Newton ring layer, and a hard coat layer, or a near-infrared absorbing dye sandwiched between display filters. The transparent protective layer (D), the anti-reflection layer, the anti-glare layer, the anti-Newton ring layer, and the hard coat layer, even though the film having each function contains a dye, the transparent molding in which the film having each function contains a dye. It may be formed on the object (F). Examples of the transparent molded product (F) containing a dye include a transparent plastic plate, a transparent polymer film, and glass. As described above, the content of the dye depends on the optical characteristics of the transparent laminate and the optical characteristics required for the display filter.
【0089】色素を用いて、色素を含有する透明成形物
(F)を作製する方法としては、特に限定されるもので
はないが、例えば、以下の3つの方法が利用できる。 (1)樹脂に色素を混練し、加熱成形してプラスチック
板或いは高分子フィルムを作製する方法、(2)色素を
含有する塗料を作製し、透明プラスチック板、透明高分
子フィルム、或いは透明ガラス板上にコーティングする
方法、(3)色素を接着剤に含有させて、合わせプラス
チック板、合わせ高分子フィルム、合わせガラス等を作
製する方法、等である。The method for producing the transparent molded article (F) containing the dye by using the dye is not particularly limited, but, for example, the following three methods can be used. (1) A method of preparing a plastic plate or a polymer film by kneading a resin with a dye and heat-molding the same; (2) Producing a paint containing the dye to prepare a transparent plastic plate, a transparent polymer film, or a transparent glass plate And (3) a method in which a dye is contained in an adhesive to produce a laminated plastic plate, a laminated polymer film, a laminated glass, and the like.
【0090】まず、樹脂に色素を混練し、加熱成形する
(1)の方法において、樹脂材料としては、プラスチッ
ク板または高分子フィルムにした場合にできるだけ透明
性の高いものが好ましく、具体例として、ポリエチレ
ン、ポリスチレン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エ
ステル、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリロニトリル、ポリ
塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等のビニル化合物、及び
それらのビニル化合物の付加重合体、ポリメタクリル
酸、ポリメタクリル酸エステル、ポリ塩化ビニリデン、
ポリフッ化ビニリデン、ポリシアン化ビニリデン、フッ
化ビニリデン/トリフルオロエチレン共重合体、フッ化
ビニリデン/テトラフルオロエチレン共重合体、シアン
化ビニリデン/酢酸ビニル共重合体等のビニル化合物又
はフッ素系化合物の共重合体、ポリトリフルオロエチレ
ン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリヘキサフルオロ
プロピレン等のフッ素を含む化合物、ナイロン6、ナイ
ロン66等のポリアミド、ポリイミド、ポリウレタン、
ポリペプチド、ポリエチレンテレフタレート等のポリエ
ステル、ポリカーボネート、ポリオキシメチレン、ポリ
エチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエ
ーテル、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビ
ニルブチラール等を挙げることが出来るが、これらの樹
脂に限定されるものではない。First, in the method of (1), in which a dye is kneaded with a resin and heat-molded, the resin material is preferably as transparent as possible when formed into a plastic plate or a polymer film. Vinyl compounds such as polyethylene, polystyrene, polyacrylic acid, polyacrylic acid ester, polyvinyl acetate, polyacrylonitrile, polyvinyl chloride, polyvinyl fluoride, and addition polymers of those vinyl compounds, polymethacrylic acid, polymethacrylic acid ester , Polyvinylidene chloride,
Copolymerization of vinyl compounds or fluorine compounds such as polyvinylidene fluoride, polyvinylidene cyanide, vinylidene fluoride / trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride / tetrafluoroethylene copolymer, vinylidene cyanide / vinyl acetate copolymer, etc. Coal, polytrifluoroethylene, polytetrafluoroethylene, a compound containing fluorine such as polyhexafluoropropylene, nylon 6, polyamide such as nylon 66, polyimide, polyurethane,
Polypeptides, polyesters such as polyethylene terephthalate, polycarbonates, polyoxymethylene, polyethylene oxide, polyethers such as polypropylene oxide, epoxy resins, polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral and the like, but are not limited to these resins Absent.
【0091】作製方法としては、用いる色素、ベース高
分子成形体によって、加工温度、フィルム化条件等が多
少異なるが、通常(i) 色素を、ベース高分子成形体の粉
体或いはペレットに添加し、150〜350℃に加熱、
溶解させた後、成形して樹脂板を作製する方法、(ii)押
し出し機によりフィルム化する方法、(iii) 押し出し機
により原反を作製し、30〜120℃で2〜5倍に、1
軸乃至は2軸に延伸して10〜200μm厚のフィルム
にする方法、等が挙げられる。なお、混練する際に、紫
外線吸収剤、可塑剤等の通常の樹脂成型に用いる添加剤
を加えてもよい。色素の添加量は、色素の吸収係数、作
製する高分子成形体の厚み、目的の吸収強度、目的の可
視光透過率等によって異なるが、通常、1ppm〜20
重量%である。Although the processing temperature, film forming conditions, and the like are slightly different depending on the dye and base polymer molded article used, usually, (i) the dye is added to the powder or pellet of the base polymer molded article. , Heated to 150-350 ° C,
After dissolving, a method of forming a resin plate by molding, (ii) a method of forming a film by an extruder, (iii) preparing a raw material by an extruder, 2 to 5 times at 30 to 120 ° C.
A method of stretching the film in a biaxial or biaxial manner to form a film having a thickness of 10 to 200 μm, and the like. At the time of kneading, additives used for ordinary resin molding, such as an ultraviolet absorber and a plasticizer, may be added. The amount of the dye added depends on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the polymer molded article to be produced, the desired absorption intensity, the desired visible light transmittance, and the like.
% By weight.
【0092】塗料化してコーティングする(2)の方法
としては、色素をバインダー樹脂及び有機系溶媒に溶解
させて塗料化する方法、ジチオール錯体化合物を数μm
以下に微粒化してアクリルエマルジョン中に分散して水
系塗料とする方法、等がある。前者の方法では、通常、
脂肪族エステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン樹
脂、ウレタン樹脂、芳香族エステル系樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂、脂肪族ポリオレフィン樹脂、芳香族ポリオ
レフィン樹脂、ポリビニル系樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、ポリビニル系変成樹脂(PVB、EVA等)或
いはそれらの共重合樹脂をバインダー樹脂として用い
る。As the method (2) for forming a coating by coating, a method of dissolving a coloring matter in a binder resin and an organic solvent to form a coating, a method of preparing a dithiol complex compound of several μm
Examples of the method include a method of atomizing and dispersing in an acrylic emulsion to obtain a water-based coating, and the like. In the first case, usually
Aliphatic ester resin, acrylic resin, melamine resin, urethane resin, aromatic ester resin, polycarbonate resin, aliphatic polyolefin resin, aromatic polyolefin resin, polyvinyl resin, polyvinyl alcohol resin, modified polyvinyl resin (PVB, EVA) or a copolymer resin thereof is used as a binder resin.
【0093】溶媒としては、ハロゲン系、アルコール
系、ケトン系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族
炭化水素系、エーテル系溶媒、あるいはそれらの混合物
系等を用いる。As the solvent, a halogen-based, alcohol-based, ketone-based, ester-based, aliphatic hydrocarbon-based, aromatic hydrocarbon-based, ether-based solvent, or a mixture thereof is used.
【0094】色素の濃度は、色素の吸収係数、コーティ
ングの厚み、目的の吸収強度、目的の可視光透過率等に
よって異なるが、バインダー樹脂の重量に対して、通
常、0.1〜30%である。また、バインダー樹脂濃度
は、塗料全体に対して、通常、1〜50%である。The concentration of the dye varies depending on the absorption coefficient of the dye, the thickness of the coating, the desired absorption intensity, the desired visible light transmittance, etc., but is usually 0.1 to 30% based on the weight of the binder resin. is there. Further, the binder resin concentration is usually 1 to 50% with respect to the whole paint.
【0095】アクリルエマルジョン系水系塗料の場合も
同様に、未着色のアクリルエマルジョン塗料にジチオー
ル錯体化合物を微粉砕(50〜500nm)したものを
分散させて得られる。塗料中には、紫外線吸収剤、酸化
防止剤等の通常塗料に用いるような添加物を加えてもよ
い。The acrylic emulsion-based water-based paint is similarly obtained by dispersing a finely pulverized (50-500 nm) dithiol complex compound in an uncolored acrylic emulsion paint. Additives such as an ultraviolet absorber and an antioxidant which are usually used in paints may be added to the paints.
【0096】上記の方法で作製した塗料は、透明高分子
フィルム、透明樹脂、透明ガラス等の上にバーコーダ
ー、ブレードコーター、スピンコーター、リバースコー
ター、ダイコーター、或いはスプレー等でコーティング
して、色素を含有する基材を作製する。コーティング面
を保護するために保護層を設けたり、透明樹脂板、透明
高分子フィルム等をコーティング面に貼り合わせること
もできる。また、キャストフィルムも本方法に含まれ
る。The paint prepared by the above method is coated on a transparent polymer film, a transparent resin, a transparent glass, or the like with a bar coder, a blade coater, a spin coater, a reverse coater, a die coater, a spray, or the like to obtain a dye. Is prepared. A protective layer may be provided to protect the coated surface, or a transparent resin plate, a transparent polymer film, or the like may be attached to the coated surface. A cast film is also included in the method.
【0097】色素を接着剤に含有させて、合わせ樹脂
板、合わせ樹脂フィルム、合わせガラス等を作製する
(3)の方法においては、接着剤として、一般的なシリ
コン系、ウレタン系、アクリル系等の樹脂用、或いは合
わせガラス用のポリビニルブチラール接着剤(PV
B)、エチレン−酢酸ビニル系接着剤(EVA)等の合
わせガラス用の公知の透明接着剤が使用できる。色素を
0.1〜30重量%添加した接着剤を用いて透明な樹脂
板同士、樹脂板と高分子フィルム、樹脂板とガラス、高
分子フィルム同士、高分子フィルムとガラス、ガラス同
士を接着してを作製する。In the method of (3) in which a dye is contained in an adhesive to produce a laminated resin plate, a laminated resin film, a laminated glass, and the like, the adhesive may be a general silicone-based, urethane-based, acrylic-based, or the like. Polyvinyl butyral adhesive for resin or laminated glass (PV
B), a known transparent adhesive for laminated glass such as an ethylene-vinyl acetate adhesive (EVA) can be used. A transparent resin plate, a resin plate and a polymer film, a resin plate and glass, a polymer film, a polymer film and glass, and a glass are bonded to each other using an adhesive containing 0.1 to 30% by weight of a dye. To make.
【0098】上記の色素を含有する接着剤は、透明積層
体、透明積層体を貼り合わせる透明成形体(E)、透明
保護層(D)、反射防止層、アンチグレア層、アンチニ
ュートンリング層、色素を含有する透明成形物(F)等
の各部材の貼り合わせに用いても良い。The adhesive containing the above-mentioned dyes includes a transparent laminate, a transparent molded article (E) for bonding the transparent laminate, a transparent protective layer (D), an antireflection layer, an anti-glare layer, an anti-Newton ring layer, and a dye. May be used for laminating each member such as a transparent molded product (F).
【0099】また、プラズマディスプレイ用フィルター
は、800〜1000nmの波長領域で強度の近赤外線
をカットする必要があり、このために必要であれば、上
記の式(1)及び/または(2)で表されるジチオール
錯体化合物を2種類以上組み合わせることもできる。ま
た、さらに他の近赤外線吸収色素を1種類以上加えても
良い。また、近赤外線抑止能に加えて、好適な色調を有
するディスプレイ用フィルターを得るために、可視波長
領域に吸収を有する調色用色素を1種類以上加えても良
い。Further, the filter for a plasma display needs to cut off near infrared rays having a high intensity in a wavelength region of 800 to 1000 nm. If necessary, the above formula (1) and / or (2) can be used. Two or more of the represented dithiol complex compounds may be combined. Further, one or more other near-infrared absorbing dyes may be added. Further, in order to obtain a display filter having a suitable color tone in addition to the near-infrared ray suppressing ability, one or more toning dyes having absorption in the visible wavelength region may be added.
【0100】色素含有のディスプレイ用フィルターの耐
光性を上げるためにUV吸収剤を含有した透明フィルム
(UVカットフィルム)を貼りつけることもできるし、
UV吸収材を色素と共に含有させることもできる。A transparent film (UV cut film) containing a UV absorber can be attached to increase the light resistance of the dye-containing display filter,
UV absorbers can be included with the dye.
【0101】本発明に基づくディスプレイ用フィルター
の構成は、必要に応じて変えることができる。本発明の
透明積層体およびディスプレイ用フィルターは、近赤外
線抑止能に優れ、また、本発明のディスプレイ用フィル
ターは、通常一般の有機色素のみで近赤外線を抑止する
ディスプレイ用近赤外線カットフィルターに比較して、
湿度、熱、光といった環境による劣化が少ない。また先
述した式(1)(化1)または式(2)(化2)で表さ
れるジチオール錯体化合物、またはそれらの少なくとも
1種以上の混合物は、耐環境性に優れるため、これらを
色素として併用した場合も劣化が少ないディスプレイ用
フィルターが得られる。従って、本発明の積層体及びデ
ィスプレイ用フィルターは、近赤外線カットフィルター
としても好適に使用できる。The configuration of the display filter according to the present invention can be changed as required. The transparent laminate and the filter for display of the present invention are excellent in near-infrared suppression ability. hand,
Less deterioration due to environment such as humidity, heat and light. The dithiol complex compound represented by the above-mentioned formula (1) (formula 1) or (2) (formula 2) or a mixture of at least one of them is excellent in environmental resistance. When used in combination, a display filter with little deterioration can be obtained. Therefore, the laminate and display filter of the present invention can be suitably used as a near-infrared cut filter.
【0102】以上説明したような本発明の透明積層体及
びディスプレイ用フィルターの構成について、さらに詳
しく説明する。図2に示す本発明の好ましい実施態様に
よる透明積層体10は、高分子フィルムなどからなる透
明基体11の一方の主面上に、透明導電層12が形成さ
れたものである。透明導電層12は、透明基体11の主
面上に、4層の高屈折率透明薄膜層13と3層の金属薄
膜層14を交互に積層することによって、形成されてい
る。高屈折率透明薄膜層13は、典型的には、主として
酸化インジウムから構成されている。また、金属薄膜層
14は、銀又は銀を含む合金から構成されている。ここ
で示した透明積層体10では、3層ある金属薄膜層14
のうち、中央の金属薄膜層14が、他の金属薄膜層14
よりも厚く形成されている。The structures of the transparent laminate and the filter for display of the present invention as described above will be described in more detail. A transparent laminate 10 according to a preferred embodiment of the present invention shown in FIG. 2 is one in which a transparent conductive layer 12 is formed on one main surface of a transparent substrate 11 made of a polymer film or the like. The transparent conductive layer 12 is formed by alternately stacking four high-refractive-index transparent thin film layers 13 and three metal thin film layers 14 on the main surface of the transparent substrate 11. The high-refractive-index transparent thin film layer 13 is typically mainly composed of indium oxide. The metal thin film layer 14 is made of silver or an alloy containing silver. In the transparent laminate 10 shown here, three metal thin film layers 14 are provided.
Of these, the central metal thin film layer 14 is
It is formed thicker than that.
【0103】図3に示す本発明の好ましい実施態様によ
るディスプレイ用フィルターは、図2に示す透明積層体
10を使用したものであって、透明積層体10の主面の
うち透明導電層12が形成されていない方の主面が、透
明成形体30の一方の主面に貼り合わされている。透明
成形体30の他方の主面には、反射防止層51として反
射防止フィルムが貼り合わされている。透明導電層12
の表面のうち、周縁部を除く部分には、この透明導電層
12を保護するための透明保護層40が貼り付けられて
いる。また、透明導電層12の表面のうち周縁部には、
透明導電層12の側面も覆うようにして、電極20が形
成されている。電極20は、金属を含んでおり、透明導
電層12をアースするためのものである。電極20の平
面形状は、図1に示す通りである。このディスプレイ用
フィルターが装着されるプラズマディスプレイにおい
て、画面周縁部にアース用の導電層が形成されていれ
ば、プラズマディスプレイにディスプレイ用フィルター
を装着したときに、ディスプレイの導電層とフィルター
の電極20とが電気的に接触することになり、透明導電
層12のアースを行えることになる。また、枠状の部材
によって、ディスプレイ用フィルターとディスプレイの
画面部分とが隙間なく電気的に接続されることになり、
漏洩電磁波を著しく低減することが可能になる。なお、
透明導電層12の保護のため、透明保護層40が透明導
電層12を覆う部分と電極20が透明導電層12を覆う
部分の間に隙間が生じないようにすることが重要であ
る。The display filter according to the preferred embodiment of the present invention shown in FIG. 3 uses the transparent laminate 10 shown in FIG. 2, and the transparent conductive layer 12 is formed on the main surface of the transparent laminate 10. The main surface that is not formed is bonded to one main surface of the transparent molded body 30. An antireflection film as an antireflection layer 51 is attached to the other main surface of the transparent molded body 30. Transparent conductive layer 12
A transparent protective layer 40 for protecting the transparent conductive layer 12 is attached to a portion of the surface except for the peripheral portion. In addition, on the periphery of the surface of the transparent conductive layer 12,
The electrode 20 is formed so as to cover the side surface of the transparent conductive layer 12. The electrode 20 contains a metal and is for grounding the transparent conductive layer 12. The planar shape of the electrode 20 is as shown in FIG. In a plasma display to which the display filter is attached, if a grounding conductive layer is formed on the peripheral portion of the screen, when the display filter is attached to the plasma display, the display conductive layer and the electrode 20 of the filter are connected to each other. Are electrically in contact with each other, and the transparent conductive layer 12 can be grounded. In addition, by the frame-shaped member, the display filter and the screen portion of the display will be electrically connected without a gap,
Leakage electromagnetic waves can be significantly reduced. In addition,
In order to protect the transparent conductive layer 12, it is important that no gap is formed between the portion where the transparent protective layer 40 covers the transparent conductive layer 12 and the portion where the electrode 20 covers the transparent conductive layer 12.
【0104】本発明のディスプレイ用フィルターの用
途、装着方法としては大きく分けて、以下のものが挙げ
られるが、これらに特に制限されるものではない。 (1)電磁波シールド能および近赤外線カット能を有す
るディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディス
プレイ画面に密着させて装着する。 (2)電磁波シールド能および近赤外線カット能を有す
るディスプレイ用フィルターでフィルター主面をディス
プレイ画面から離して装着する。 (3)近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィル
ターでディスプレイ画面に密着させて装着する。 (4)近赤外線カット能を有するディスプレイ用フィル
ターでフィルター主面をディスプレイ画面から離して装
着する。The application and mounting method of the display filter of the present invention are roughly classified into the following, but are not particularly limited thereto. (1) A display filter having an electromagnetic wave shielding function and a near-infrared cut-off function is attached such that the main surface of the filter is in close contact with the display screen. (2) A filter for display having electromagnetic wave shielding ability and near-infrared cut-off ability is attached with the main surface of the filter separated from the display screen. (3) A display filter having near-infrared cut-off capability is attached in close contact with the display screen. (4) A display filter having near-infrared cut-off capability is attached with the filter main surface separated from the display screen.
【0105】以下、上述の各装着方法に応じ、本発明の
好ましい実施態様による透明積層体及びディスプレイ用
フィルターについて、図面を用いて説明する。(1)の
場合、透明保護層がアンチニュートンリング層の機能を
有し、かつディスプレイ側にアース用の導電層を有する
ディスプレイにフィルターを装着する場合には、通常、
フィルターの電極がディスプレイ側に向くようにして装
着する。図3のディスプレイ用フィルターを用いるとす
ると、ディスプレイ側から順に、(金属を含む電極20
・透明保護層40)/透明積層体10/透明成形体30
/反射防止層51の順で構成される。反射防止層の代わ
りに、図4に示すようにアンチグレア層52を設けても
良い。Hereinafter, the transparent laminate and the display filter according to the preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings according to each of the above mounting methods. In the case of (1), when a filter is mounted on a display in which the transparent protective layer has the function of an anti-Newton ring layer and has a conductive layer for grounding on the display side, usually,
Attach the filter so that the electrodes of the filter face the display. Assuming that the display filter of FIG. 3 is used, in order from the display side, (the electrode 20 including metal
-Transparent protective layer 40) / Transparent laminate 10 / Transparent molded body 30
/ Anti-reflection layer 51. Instead of the antireflection layer, an antiglare layer 52 may be provided as shown in FIG.
【0106】一方、透明保護層40がアンチニュートン
リング層としての機能を有していない場合には、図5に
示すように、透明保護層40に、さらにアンチニュート
ンリング層41を貼り合わせる。この場合、ディスプレ
イ側から、(電極20・アンチニュートンリング層4
1)/透明保護層40/透明積層体10/透明成形体3
0/反射防止層51の順で構成される。もちろん、反射
防止層51の代わりにアンチグレア層52を設けても良
い。On the other hand, when the transparent protective layer 40 does not have a function as an anti-Newton ring layer, an anti-Newton ring layer 41 is further bonded to the transparent protective layer 40 as shown in FIG. In this case, from the display side, (electrode 20 / anti-Newton ring layer 4
1) / Transparent protective layer 40 / Transparent laminate 10 / Transparent molded article 3
0 / anti-reflection layer 51. Of course, an anti-glare layer 52 may be provided instead of the anti-reflection layer 51.
【0107】さらに、ディスプレイ側にアース用の導電
層が形成されていない場合などには、透明成形体30と
透明積層体10との位置関係を上述とは逆にすることが
できる。この場合、透明保護層がアンチグレア層あるい
は反射防止層としての機能を有するのであれば、図6に
示すように、ディスプレイ側から、アンチニュートンリ
ング層53/透明成形体30/透明積層体10/(透明
保護層40・電極20)となる。透明保護層40がアン
チグレア層あるいは反射防止層としての機能を有してい
ない場合には、図7に示すように、ディスプレイ側か
ら、アンチニュートンリング層53/透明成形体30/
透明積層体10/透明保護層40/(反射防止層42・
電極20)の順で積層する。図8に示すように、反射防
止層42の代わりにアンチグレア層43を設けてよい。Further, when the ground conductive layer is not formed on the display side, the positional relationship between the transparent molded body 30 and the transparent laminate 10 can be reversed. In this case, if the transparent protective layer has a function as an anti-glare layer or an anti-reflection layer, as shown in FIG. 6, from the display side, the anti-Newton ring layer 53 / the transparent molded body 30 / the transparent laminate 10 / ( It becomes the transparent protective layer 40 and the electrode 20). When the transparent protective layer 40 does not have a function as an anti-glare layer or an anti-reflection layer, as shown in FIG. 7, the anti-Newton ring layer 53 / the transparent molded body 30 /
Transparent laminate 10 / transparent protective layer 40 / (anti-reflection layer 42
The electrodes are stacked in the order of 20). As shown in FIG. 8, an anti-glare layer 43 may be provided instead of the anti-reflection layer 42.
【0108】(2)の場合は、ディスプレイとディスプ
レイ用フィルターを装着させないことにより、アンチニ
ュートンリング層を設けたり、透明保護層にアンチニュ
ートンリング層としての機能を持たせる必要はなくな
る。その代わり、ディスプレイ用フィルターの両方の主
面に、反射防止性あるいはアンチグレア性を持たせるよ
うにする必要がある。In the case of (2), by not mounting the display and the display filter, it is not necessary to provide an anti-Newton ring layer or to provide the transparent protective layer with a function as an anti-Newton ring layer. Instead, both major surfaces of the display filter must have anti-reflective properties or anti-glare properties.
【0109】透明保護層が、反射防止層またはアンチグ
レア層としての機能を有している場合には、図3、4に
示すようにディスプレイ用フィルターを構成する。ただ
し、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディス
プレイ側に向くかはアース用導電層のある位置によって
決まる。透明保護層が、反射防止層またはアンチグレア
層としての機能を有していない場合には、図7、8に示
すディスプレイ用フィルターにおいて、アンチニュート
ンリング層53を反射防止層51あるいはアンチグレア
層52に置き換えたものを使用することができる。ただ
し、ディスプレイ用フィルターのいずれの主面がディス
プレイ側に向くかは任意である。When the transparent protective layer has a function as an anti-reflection layer or an anti-glare layer, a display filter is formed as shown in FIGS. However, which main surface of the display filter faces the display depends on the position of the grounding conductive layer. When the transparent protective layer does not have a function as an anti-reflection layer or an anti-glare layer, in the display filter shown in FIGS. Can be used. However, which main surface of the display filter faces the display is arbitrary.
【0110】(3)の場合は、ディスプレイ用フィルタ
ーに電極は必要でない。透明保護層がアンチニュートン
リング層としての機能を有している場合には、図9に示
したように、ディスプレイ側から、透明保護層40/透
明積層体10/透明成形体30/反射防止層51の順で
構成される。反射防止層51の代わりに、アンチグレア
層52を設けてもよい。透明保護層がアンチニュートン
リング層の機能を有していない場合には、図10に示す
ように、透明保護層40にさらにアンチニュートンリン
グ層41を貼り合わせる。いずれの場合も、透明保護層
40は、側面も含めて透明積層体10の全面を覆うよう
に形成される。In the case of (3), no electrode is required for the display filter. In the case where the transparent protective layer has a function as an anti-Newton ring layer, as shown in FIG. 51. An anti-glare layer 52 may be provided instead of the anti-reflection layer 51. When the transparent protective layer does not have the function of the anti-Newton ring layer, an anti-Newton ring layer 41 is further attached to the transparent protective layer 40 as shown in FIG. In any case, the transparent protective layer 40 is formed so as to cover the entire surface of the transparent laminate 10 including the side surfaces.
【0111】(4)の場合には、透明保護層が反射防止
層またはアンチグレア層としての機能を有しているので
あれば、通常、(反射防止層またはアンチグレア層)/
透明積層体/透明成形体/(反射防止層またはアンチグ
レア層)の順でディスプレイ用フィルターが構成され
る。In the case of (4), if the transparent protective layer has a function as an anti-reflection layer or an anti-glare layer, it is usually (anti-reflection layer or anti-glare layer) /
The display filter is constituted in the order of the transparent laminate / transparent molded article / (antireflection layer or antiglare layer).
【0112】本発明のディスプレイ用フィルターにおい
て、近赤外線吸収色素及び/又は調色用色素を用いる場
合は、フィルターを構成する上述の各構成要素のいずれ
か1つ以上に色素を含有するか、色素を含有する透明成
形物(F)を各構成要素の間のいずれかに挟み込む。例
えば、上述の(2)の場合において透明保護層が反射防
止層またはアンチグレア層としての機能を有する場合
は、ディスプレイ側から、(金属電極・透明保護層)/
透明積層体/透明成形体/色素を含有する透明成形物
(F)/(反射防止層またはアンチグレア層)の順で構
成される。色素を含有する透明成形物(F)上に反射防
止性またはアンチグレア性を有する膜を直接形成しても
良いし、各機能を有するフィルムを貼り合わせても良
い。In the case where a near-infrared absorbing dye and / or toning dye is used in the display filter of the present invention, at least one of the above-mentioned constituent elements constituting the filter contains a dye or a dye. Is sandwiched between any of the components. For example, in the case of the above (2), when the transparent protective layer has a function as an anti-reflection layer or an anti-glare layer, (metal electrode / transparent protective layer) /
It is composed of a transparent laminate / transparent molded article / transparent molded article containing a dye (F) / (anti-reflection layer or anti-glare layer). A film having an antireflection property or an antiglare property may be directly formed on the transparent molded product (F) containing a dye, or a film having each function may be bonded.
【0113】一般に、透明成形体(E)が透明な樹脂で
ある場合は、透明成形体(E)に透明積層体や各機能を
有する高分子フィルムを貼り合わせたとき、または、貼
り合わせにより作製したディスプレイ用フィルターの使
用時にディスプレイや使用環境による熱がかかったとき
に、ディスプレイ用フィルターが反ることがある。従っ
て、反りが発生しないように貼り合わせを行うことが肝
要である。各機能を有する高分子フィルムを貼り合わせ
る場合は、透明成形体(E)の片面のみではなく、両面
にフィルムの張力等のバランスをとって貼り合わせるこ
とが重要である。貼り合わせを行わない場合は、透明成
形体が反っていないことが肝要である。In general, when the transparent molded article (E) is a transparent resin, the transparent molded article (E) is prepared by laminating a transparent laminate or a polymer film having various functions onto the transparent molded article (E), or by laminating. The display filter may warp when heat is applied by the display or the use environment when the display filter is used. Therefore, it is important to perform bonding so that warpage does not occur. When laminating a polymer film having various functions, it is important to balance not only one surface of the transparent molded body (E) but also the film tension on both surfaces. When lamination is not performed, it is important that the transparent molded body is not warped.
【0114】特に、ディスプレイに装着した時にディス
プレイ用フィルターが利用者側に膨らむように反ると、
画像の視認性が低下する。アンチグレア層を形成してい
る場合は、画像のボケが生じる。In particular, when the display filter is warped so as to expand toward the user when attached to the display,
The visibility of the image decreases. When the anti-glare layer is formed, the image is blurred.
【0115】上記(3)の場合、アンチニュートンリン
グ層は、通常、アンチグレア性を有しており、さらにデ
ィスプレイ用フィルターの利用者側の面のアンチグレア
層がアンチニュートンリング性を有していれば、フィル
ターのどちらの面もディスプレイ画面に密着させて用い
ることができる。すなわち両面にアンチニュートンリン
グ層が形成されていることが好ましい。この場合は、デ
ィスプレイ用フィルターの反り方向を確認してから、利
用者側に膨らまずにディスプレイ本体に密着する好適な
向きで装着すればよい。図11はこのようなディスプレ
イ用フィルターの一例を示している。このディスプレイ
用フィルターでは、第1のアンチニュートンリング層4
1/透明保護層40/透明積層体10/透明成形体30
/第2のアンチニュートンリング層53の順で積層して
いる。In the case of the above (3), the anti-Newton ring layer usually has an anti-glare property, and if the anti-glare layer on the user side of the display filter has the anti-Newton ring property. Both surfaces of the filter can be used in close contact with the display screen. That is, it is preferable that anti-Newton ring layers are formed on both surfaces. In this case, after confirming the warping direction of the display filter, the filter may be mounted in a suitable direction in which the filter does not expand to the user side and closely adheres to the display body. FIG. 11 shows an example of such a display filter. In this display filter, the first anti-Newton ring layer 4
1 / Transparent protective layer 40 / Transparent laminate 10 / Transparent molded article 30
/ The second anti-Newton ring layer 53 is laminated in this order.
【0116】本発明のディスプレイ用フィルターは、デ
ィスプレイに装着したとき、装着用冶具、電極部分等が
視認者から見えないようにするために、任意の額縁印刷
を施して良い。印刷形状、印刷面、印刷色、印刷方法は
特に特定されるものではない。また、ディスプレイに装
着するための穴加工等の加工を施しても良い。さらに偏
光フィルムや位相差フィルム等をつけて円偏光フィルタ
ーの性能を付加することで、ディスプレイ側からの反射
光を抑えることができ、さらに優れたフィルターとな
る。The display filter of the present invention may be subjected to arbitrary frame printing in order to prevent the mounting jig, the electrode portion, and the like from being seen by a viewer when the filter is mounted on a display. The printing shape, printing surface, printing color, and printing method are not particularly specified. Further, a process such as a hole process for mounting on a display may be performed. Furthermore, by adding a polarizing film, a retardation film, or the like, and adding the performance of a circularly polarizing filter, it is possible to suppress the reflected light from the display side, and the filter becomes more excellent.
【0117】本発明のディスプレイ用フィルターは可視
光線透過率が高いためディスプレイの鮮明度が損なわれ
ず、ディスプレイから発生する健康に害をなすといわれ
ている電磁波を遮蔽する電磁波シールド性に優れ、さら
に、ディスプレイからでる800〜1000nm付近の
近赤外線光を効率よくカットするため、伝送系光通信等
が使用する波長に悪影響を与えることがなく、周辺にあ
る電子機器の赤外線リモートコントローラの誤動作を防
ぐことができる。また、耐候性・耐環境性に優れ、反射
防止性または防眩性、アンチニュートンリング性を兼ね
備えている。The display filter of the present invention has a high visible light transmittance, so that the sharpness of the display is not impaired, and the filter for the display has an excellent electromagnetic wave shielding property for shielding electromagnetic waves which are considered to be harmful to health generated from the display. Efficiently cuts near-infrared light of about 800 to 1000 nm from the display, without adversely affecting the wavelength used by transmission optical communication, etc., and preventing malfunction of the infrared remote controller of peripheral electronic devices. it can. In addition, it has excellent weather resistance and environmental resistance, and has anti-reflection or anti-glare properties and anti-Newton ring properties.
【0118】[0118]
【実施例】つぎに、本発明を実施例により具体的に説明
する。本発明はこれらによりなんら制限されるものでは
ない。以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚さは、
成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚では
ない。 [実施例1]2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、マグネトロン
DCスパッタリング法により、ITO薄膜(厚さ40n
m)、銀薄膜(厚さ10nm)、ITO薄膜(厚さ80
nm)、銀薄膜(厚さ15nm)、ITO薄膜(厚さ8
0nm)、銀薄膜(厚さ10nm)、ITO薄膜(厚さ
40nm)の順に積層し、これによって、3層の金属薄
膜層と4層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明
積層体を作製した。ITO薄膜は高屈折率透明薄膜層を
構成し、銀薄膜は金属薄膜層を構成する。ITO薄膜の
成膜には、ターゲットとして酸化インジウム・酸化スズ
焼結体(組成比In2 O3 :SnO2 =90:10wt
%)を、スパッタガスにはアルゴン・酸素混合ガス(全
圧266mPa:酸素分圧5mPa)を用いた。また、
銀薄膜の成膜には、ターゲットとして銀を用い、スパッ
タガスにはアルゴンガス(全圧266mPa)を用い
た。Next, the present invention will be described in detail with reference to examples. The present invention is not limited by these. The thickness of the thin film shown in the following Examples and Comparative Examples,
This is a value obtained from the film forming conditions, and is not an actually measured film thickness. Example 1 An ITO thin film (thickness: 40 n) was formed on one main surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm) by magnetron DC sputtering.
m), silver thin film (thickness 10 nm), ITO thin film (thickness 80
nm), silver thin film (thickness 15 nm), ITO thin film (thickness 8
0 nm), a silver thin film (thickness: 10 nm), and an ITO thin film (thickness: 40 nm) in this order, whereby the transparent laminate of the present invention having three metal thin film layers and four high refractive index transparent thin film layers Was prepared. The ITO thin film constitutes a high refractive index transparent thin film layer, and the silver thin film constitutes a metal thin film layer. In forming the ITO thin film, an indium oxide / tin oxide sintered body (composition ratio In 2 O 3 : SnO 2 = 90: 10 wt.) Was used as a target.
%), And an argon / oxygen mixed gas (total pressure 266 mPa: oxygen partial pressure 5 mPa) was used as a sputtering gas. Also,
Silver was used as a target for forming a silver thin film, and argon gas (total pressure of 266 mPa) was used as a sputtering gas.
【0119】[実施例2]実施例1と同様にして、2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50
μm)の一方の主面に、ITO薄膜(厚さ40nm)、
銀薄膜(厚さ12nm)、ITO薄膜(厚さ80n
m)、銀薄膜(厚さ12nm)、ITO薄膜(厚さ70
nm)、銀薄膜(厚さ12nm)、ITO薄膜(厚さ4
0nm)の順で積層し、本発明の透明積層体を作製し
た。Example 2 In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50
μm), an ITO thin film (40 nm thick)
Silver thin film (thickness 12nm), ITO thin film (thickness 80n)
m), silver thin film (thickness 12 nm), ITO thin film (thickness 70
nm), silver thin film (thickness 12 nm), ITO thin film (thickness 4
0 nm) to produce a transparent laminate of the present invention.
【0120】[実施例3]実施例1と同様にして、2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50
μm)の一方の主面に、ITO薄膜(厚さ40nm)、
銀薄膜(厚さ9nm)、ITO薄膜(厚さ80nm)、
銀薄膜(厚さ12nm)、ITO薄膜(厚さ80n
m)、銀薄膜(厚さ9nm)、ITO薄膜(厚さ40n
m)の順で積層し、本発明の透明積層体を作製した。Example 3 In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50
μm), an ITO thin film (40 nm thick)
Silver thin film (thickness 9nm), ITO thin film (thickness 80nm),
Silver thin film (thickness 12nm), ITO thin film (thickness 80n)
m), silver thin film (thickness 9 nm), ITO thin film (thickness 40 n)
m) to form a transparent laminate of the present invention.
【0121】[実施例4]実施例1と同様にして、2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50
μm)の一方の主面に、ITO薄膜(厚さ40nm)、
銀薄膜(厚さ11nm)、ITO薄膜(厚さ80n
m)、銀薄膜(厚さ11nm)、ITO薄膜(厚さ80
nm)、銀薄膜(厚さ13nm)、ITO薄膜(厚さ8
0nm)、銀薄膜(厚さ13nm)、ITO薄膜(厚さ
40nm)の順で積層し、4層の金属薄膜層と5層の高
屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層体を作製し
た。Example 4 In the same manner as in Example 1, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50
μm), an ITO thin film (40 nm thick)
Silver thin film (thickness 11nm), ITO thin film (thickness 80n)
m), silver thin film (thickness 11 nm), ITO thin film (thickness 80
nm), silver thin film (thickness 13 nm), ITO thin film (thickness 8
0 nm), a silver thin film (thickness 13 nm), and an ITO thin film (thickness 40 nm) in this order to produce a transparent laminate of the present invention having four metal thin film layers and five high refractive index transparent thin film layers. did.
【0122】[実施例5]2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、
マグネトロンDCスパッタリング法により、酸化インジ
ウム薄膜(厚さ40nm)、銀薄膜(厚さ10nm)、
酸化インジウム薄膜(厚さ70nm)、銀薄膜(厚さ1
0nm)、酸化インジウム薄膜(厚さ70nm)、銀薄
膜(厚さ10nm)、酸化インジウム薄膜(厚さ60n
m)、銀薄膜(厚さ6nm)、酸化インジウム薄膜(厚
さ40nm)、銀薄膜(厚さ6nm)、酸化インジウム
薄膜(厚さ20nm)の順に積層し、5層の金属薄膜層
と6層の高屈折率透明薄膜層を有する本発明の透明積層
体を作製した。高屈折率透明薄膜層である酸化インジウ
ム薄膜の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッ
タガスにアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:
酸素分圧80mPa)を用いた。また、金属薄膜層であ
る銀薄膜の成膜には、ターゲットに銀を、スパッタガス
にアルゴンガス(全圧266mPa)を用いた。Example 5 One principal surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm)
By magnetron DC sputtering method, an indium oxide thin film (thickness 40 nm), a silver thin film (thickness 10 nm),
Indium oxide thin film (thickness: 70 nm), silver thin film (thickness: 1)
0 nm), an indium oxide thin film (thickness 70 nm), a silver thin film (thickness 10 nm), an indium oxide thin film (thickness 60 n)
m), a silver thin film (thickness: 6 nm), an indium oxide thin film (thickness: 40 nm), a silver thin film (thickness: 6 nm), and an indium oxide thin film (thickness: 20 nm). The transparent laminate of the present invention having a high refractive index transparent thin film layer was produced. To form an indium oxide thin film as a high refractive index transparent thin film layer, indium was used as a target, and an argon / oxygen mixed gas (total pressure: 266 mPa:
An oxygen partial pressure of 80 mPa) was used. In addition, silver was used as a target and an argon gas (total pressure: 266 mPa) was used as a sputtering gas for forming a silver thin film as a metal thin film layer.
【0123】[比較例1]実施例1と同様にして、2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ:50
μm)の一方の主面に、ITO薄膜(厚さ40nm)、
銀薄膜(厚さ9nm)、ITO薄膜(厚さ70nm)、
銀薄膜(厚さ9nm)、ITO薄膜(厚さ40nm)の
順に積層し、透明積層体を作製した。Comparative Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50) was prepared in the same manner as in Example 1.
μm), an ITO thin film (40 nm thick)
Silver thin film (thickness 9nm), ITO thin film (thickness 70nm),
A silver thin film (thickness: 9 nm) and an ITO thin film (thickness: 40 nm) were laminated in this order to produce a transparent laminate.
【0124】[実施例6]2軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、
マグネトロンDCスパッタリング法により、酸化インジ
ウム薄膜(厚さ40nm)、銀薄膜(厚さ10nm)、
酸化インジウム薄膜(厚さ70nm)、銀薄膜(厚さ1
0nm)、酸化インジウム薄膜(厚さ70nm)、銀薄
膜(厚さ10nm)、酸化インジウム薄膜(厚さ60n
m)、銀−金合金薄膜(厚さ6nm)、酸化インジウム
薄膜(厚さ40nm)、銀−金合金薄膜(厚さ6n
m)、酸化インジウム薄膜(厚さ20nm)の順に積層
し、5層の金属薄膜層と6層の高屈折率透明薄膜層を有
する本発明の透明積層体を作製した。ここで酸化インジ
ウムは高屈折率透明薄膜層を構成し、銀薄膜及び銀−金
合金薄膜は金属薄膜層を構成する。酸化インジウム薄膜
の成膜には、ターゲットにインジウムを、スパッタガス
にアルゴン・酸素混合ガス(全圧266mPa:酸素分
圧80mPa)を用いた。銀薄膜の成膜には、ターゲッ
トに銀を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266m
Pa)を用いた。銀−金合金薄膜の成膜には、ターゲッ
トに銀−金合金(組成比、銀:金=85:15wt%)
を、スパッタガスにアルゴンガス(全圧266mPa)
を用いた。Example 6 One principal surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm)
By magnetron DC sputtering method, an indium oxide thin film (thickness 40 nm), a silver thin film (thickness 10 nm),
Indium oxide thin film (thickness: 70 nm), silver thin film (thickness: 1)
0 nm), an indium oxide thin film (thickness 70 nm), a silver thin film (thickness 10 nm), an indium oxide thin film (thickness 60 n)
m), silver-gold alloy thin film (thickness 6 nm), indium oxide thin film (thickness 40 nm), silver-gold alloy thin film (thickness 6 n)
m) and an indium oxide thin film (thickness: 20 nm) in this order to prepare a transparent laminate of the present invention having five metal thin film layers and six high refractive index transparent thin film layers. Here, indium oxide forms a high refractive index transparent thin film layer, and the silver thin film and the silver-gold alloy thin film form a metal thin film layer. For forming the indium oxide thin film, indium was used as a target, and a mixed gas of argon and oxygen (total pressure: 266 mPa: oxygen partial pressure: 80 mPa) was used as a sputtering gas. To form a silver thin film, silver was used as a target and argon gas (total pressure of 266 m) was used as a sputtering gas.
Pa) was used. To form a silver-gold alloy thin film, a silver-gold alloy (composition ratio, silver: gold = 85: 15 wt%) is used as a target.
With argon gas (total pressure 266 mPa) as sputtering gas
Was used.
【0125】[実施例7]実施例1の透明積層体の主面
のうち薄膜が形成されていない方の面と、厚さ2mmの
PMMA板(三菱レイヨン(株)製:アクリライト(商
品名)、470mm×350mm)の主面と、透明な粘
着材を介して貼り合わせた。さらに透明積層体の薄膜形
成面すなわち導電面に図1に示すように銀ペースト(三
井東圧化学(株)製:MSP−600F)をスクリーン
印刷し、乾燥させ、厚さ20μm、幅10mmの金属を
含む電極(比抵抗5×10-5Ω・cm)を形成し、本発明
のディスプレイ用フィルターを作製した。[Example 7] The main surface of the transparent laminate of Example 1 on which the thin film was not formed, and a 2 mm thick PMMA plate (Acrylite (trade name, manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)) ), 470 mm × 350 mm) and a transparent adhesive. Further, as shown in FIG. 1, a silver paste (MSP-600F, manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) is screen-printed on the thin film forming surface, that is, the conductive surface of the transparent laminate, and dried, and a metal having a thickness of 20 μm and a width of 10 mm is dried. (Specific resistance 5 × 10 −5 Ω · cm) was formed, and a display filter of the present invention was produced.
【0126】[実施例8]実施例5の本発明の透明積層
体(472mm×350mm)の薄膜形成面すなわち導
電面に、図1に示すように銀ペースト(三井東圧化学
(株)製)をスクリーン印刷し、乾燥させ、厚さ20μ
m、幅10mmの金属を含む電極を形成し、本発明のデ
ィスプレイ用フィルターを作製した。Example 8 As shown in FIG. 1, a silver paste (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was applied to the transparent film (472 mm × 350 mm) thin film forming surface, that is, the conductive surface of the present invention of Example 5. Is screen-printed and dried to a thickness of 20μ.
An electrode containing a metal having a width of 10 mm and a width of 10 mm was formed to prepare a display filter of the present invention.
【0127】[実施例9]ポリエチレンテレフタレート
ペレット1203(ユニチカ(株)製)に下記式(3)
(化3)で示されるジチオール錯体を0.1wt%混合
し、260〜280℃で溶融させ、押し出し機により厚
み100μmのフィルムを作製した。その後、このフィ
ルムを2軸延伸して、厚み50μmのフィルムとし、こ
のフィルムの一方の主面に、酸化珪素薄膜を電子ビーム
蒸着により厚さ90nm形成し、反射防止フィルムを作
製した。該反射防止フィルムの反射防止膜形成面での可
視光線反射率は、反射防止膜が形成されていない面をサ
ンドペーパーで荒らし、黒色塗装を行った後、後述する
方法で可視光線反射率を得たところ、1.4%であっ
た。該反射防止フィルムは、ASTM−E96に準拠し
て透湿度を測定したところ、1.4g/m2 ・dayで
あり、ガスバリア性を有していた。この近赤外線吸収色
素を含有し且つガスバリア性を有する反射防止(ガスバ
リア)フィルム(本発明でいうところの透明保護層且つ
反射防止層)の酸化珪素薄膜が形成されていないもう一
方の主面と、実施例1の本発明の透明積層体の薄膜形成
面をアクリル系粘着材(500〜600nmにおいて屈
折率1.64、消光係数0)を介して貼り合わせ、本発
明のディスプレイ用フィルターを作製した。Example 9 A polyethylene terephthalate pellet 1203 (manufactured by Unitika Ltd.) was added to the following formula (3).
0.1 wt% of the dithiol complex represented by Chemical Formula 3 was mixed and melted at 260 to 280 ° C., and a film having a thickness of 100 μm was produced by an extruder. Thereafter, the film was biaxially stretched to a film having a thickness of 50 μm, and a silicon oxide thin film was formed on one main surface of the film by electron beam evaporation to a thickness of 90 nm to produce an antireflection film. The visible light reflectance on the antireflection film-formed surface of the antireflection film was obtained by roughening the surface on which the antireflection film was not formed with sandpaper, performing black coating, and then obtaining a visible light reflectance by a method described later. As a result, it was 1.4%. The anti-reflection film was found to have a gas barrier property of 1.4 g / m 2 · day when measured for moisture permeability according to ASTM-E96. The other main surface of the antireflection (gas barrier) film containing the near-infrared absorbing dye and having gas barrier properties (the transparent protective layer and antireflection layer in the present invention) on which the silicon oxide thin film is not formed; The thin film forming surface of the transparent laminate of the present invention of Example 1 was bonded via an acrylic adhesive (refractive index: 1.64, extinction coefficient: 0 at 500 to 600 nm) to produce a display filter of the present invention.
【0128】[0128]
【化3】 Embedded image
【0129】[実施例10]実施例1の透明積層体の代
わりに実施例2の本発明の透明積層体を用いた以外は、
実施例9と同様に本発明のディスプレイ用フィルターを
作製した。 [実施例11]実施例1の透明積層体の代わりに実施例
3の本発明の透明積層体を用いた以外は、実施例9と同
様に本発明のディスプレイ用フィルターを作製した。Example 10 The procedure of Example 2 was repeated, except that the transparent laminate of Example 2 was used instead of the transparent laminate of Example 1.
A display filter of the present invention was produced in the same manner as in Example 9. Example 11 A display filter of the present invention was produced in the same manner as in Example 9 except that the transparent laminate of Example 3 was used instead of the transparent laminate of Example 1.
【0130】[比較例2]実施例1の透明積層体の代わ
りに比較例1の透明積層体を用いた以外は、実施例9と
同様にディスプレイ用フィルターを作製した。 [比較例3]実施例1の本発明の透明積層体の薄膜形成
面と、ポリカーボネートフィルム(厚さ:100μm)
の主面を、実施例8と同様にアクリル系粘着材(500
〜600nmにおいて屈折率1.64、消光係数0)を
介して貼り合わせて、ディスプレイ用フィルターを作製
した。Comparative Example 2 A display filter was produced in the same manner as in Example 9 except that the transparent laminate of Comparative Example 1 was used instead of the transparent laminate of Example 1. Comparative Example 3 A thin film forming surface of the transparent laminate of the present invention of Example 1 and a polycarbonate film (thickness: 100 μm)
Of the acrylic adhesive material (500 in the same manner as in Example 8).
At 600600 nm, a refractive index of 1.64 and an extinction coefficient of 0) were applied together to produce a display filter.
【0131】[実施例12]実施例5と同様にして、2
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ50
μm)の一主面に、酸化インジウム薄膜(厚さ40n
m)、銀薄膜(厚さ10nm)、酸化インジウム薄膜
(厚さ70nm)、銀薄膜(厚さ10nm)、酸化イン
ジウム薄膜(厚さ70nm)、銀薄膜(厚さ10n
m)、酸化インジウム薄膜(厚さ40nm)の順で積層
し、本発明の透明積層体を作製した。[Embodiment 12] In the same manner as in Embodiment 5, 2
Axial stretched polyethylene terephthalate film (thickness 50
μm), an indium oxide thin film (thickness: 40 n)
m), silver thin film (thickness 10 nm), indium oxide thin film (thickness 70 nm), silver thin film (thickness 10 nm), indium oxide thin film (thickness 70 nm), silver thin film (thickness 10 n)
m) and an indium oxide thin film (thickness: 40 nm) were laminated in this order to produce a transparent laminate of the present invention.
【0132】ポリエチレンテレフタレートペレット12
03(ユニチカ(株)製)に下記式(4)(化4)で示
されるジチオール錯体を0.13wt%混合し、260
〜280℃で溶融させ、押し出し機により厚み100μ
mのフィルムを作製した。その後、このフィルムを2軸
延伸して、厚み50μmの色素フィルムとた。Polyethylene terephthalate pellets 12
03 (manufactured by Unitika Ltd.) and 0.13 wt% of a dithiol complex represented by the following formula (4)
Melted at ~ 280 ° C, thickness 100μ by extruder
m was prepared. Thereafter, this film was biaxially stretched to obtain a dye film having a thickness of 50 μm.
【0133】[0133]
【化4】 Embedded image
【0134】また2軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルム(厚さ:100μm)の一方の主面に、大日本
インキ化学工業(株)製熱硬化ワニス(SF−C−33
5)3gをトルエン/メチルケトン(10:1)の混合
溶媒100gに溶解したものを塗布し、自然乾燥させ、
その後、150℃で20秒間硬化させて1μm厚のアン
チニュートンリング層を形成し、アンチニュートンリン
グフィルムを作製した。アンチニュートンリング層のヘ
ーズをヘーズメーターを用いて測定したところ、2%で
あり、このアンチニュートンリングフィルムはアンチグ
レア性を有していた。On one main surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm), a thermosetting varnish (SF-C-33 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) was used.
5) A solution obtained by dissolving 3 g in a mixed solvent of toluene / methyl ketone (10: 1) (100 g) was applied and air-dried.
Thereafter, the composition was cured at 150 ° C. for 20 seconds to form an anti-Newton ring layer having a thickness of 1 μm, thereby producing an anti-Newton ring film. When the haze of the anti-Newton ring layer was measured using a haze meter, it was 2%, and the anti-Newton ring film had antiglare properties.
【0135】厚さ2mmのPMMA板(三菱レイヨン
(株)製:アクリライト(商品名))の一方の主面と上
述の色素フィルムを貼り合わせ、さらに該透明積層体の
主面のうち透明多層薄膜を形成されていない方の面を、
PMMA板に貼り合わせた色素フィルム上に貼り合わせ
た。その後、透明積層体の薄膜形成面に、透明保護層と
してアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて10μm形成
し、該透明保護層上および該PMMA板の他方の主面上
に、該アンチニュートンリングフィルムをアンチニュー
トンリング層がディスプレイ側になるように透明な粘着
材を用いて貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィル
ターを作製した。One main surface of a 2 mm-thick PMMA plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: Acrylite (trade name)) was bonded to the above-mentioned dye film, and the transparent multilayer of the main surface of the transparent laminate was further laminated. The side on which the thin film is not formed
It was stuck on a dye film stuck to a PMMA plate. Thereafter, an acrylic resin is formed as a transparent protective layer by screen printing to a thickness of 10 μm on the thin film forming surface of the transparent laminate, and the anti-Newton ring film is formed on the transparent protective layer and the other main surface of the PMMA plate. The anti-Newton ring layer was bonded using a transparent adhesive so that the anti-Newton ring layer was on the display side, thereby producing a display filter of the present invention.
【0136】[実施例13]実施例5と同様にして、2
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ50
μm)の一主面に、酸化インジウム薄膜(厚さ40n
m)、銀薄膜(厚さ10nm)、酸化インジウム薄膜
(厚さ80nm)、銀薄膜(厚さ15nm)、酸化イン
ジウム薄膜(厚さ80nm)、銀薄膜(厚さ10n
m)、酸化インジウム薄膜(厚さ40nm)の順で積層
し、本発明の透明積層体(470mm×350mm)を
作製した。[Embodiment 13] In the same manner as in Embodiment 5, 2
Axial stretched polyethylene terephthalate film (thickness 50
μm), an indium oxide thin film (thickness: 40 n)
m), silver thin film (thickness 10 nm), indium oxide thin film (thickness 80 nm), silver thin film (thickness 15 nm), indium oxide thin film (thickness 80 nm), silver thin film (thickness 10 n)
m) and an indium oxide thin film (thickness: 40 nm) in this order to produce a transparent laminate (470 mm × 350 mm) of the present invention.
【0137】この透明積層体の薄膜が形成されていない
面と、片面にアンチグレア層を有する厚さ2mmのPM
MA板(三菱レイヨン(株)製:アクリフィルターMR
−NG)のアンチグレア層の形成されていない面を貼り
合わせた。アンチグレア層のヘーズをヘーズメーターを
用いて測定したところ、2%であった。さらに透明積層
体の薄膜形成面すなわち導電面に図1に示すように銀ペ
ースト(三井東圧化学(株)製)をスクリーン印刷し、
乾燥させ、厚さ20μm、幅10mmの金属を含む電極
を形成した。A surface of the transparent laminate where the thin film is not formed and a PM having a thickness of 2 mm having an antiglare layer on one side.
MA plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: Acryfilter MR)
-NG) on the surface where the antiglare layer was not formed. When the haze of the antiglare layer was measured using a haze meter, it was 2%. Further, as shown in FIG. 1, a silver paste (manufactured by Mitsui Toatsu Chemicals, Inc.) was screen-printed on the thin film forming surface, that is, the conductive surface of the transparent laminate,
After drying, an electrode containing a metal having a thickness of 20 μm and a width of 10 mm was formed.
【0138】また、2軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム(厚さ:100μm)の一方の主面に、電子
ビーム蒸着により酸化珪素薄膜を厚さ90nm形成し、
反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの反
射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例9と同様
に得たところ、1.4%であった。該反射防止フィルム
は、ASTM−E96に準拠して透湿度を測定したとこ
ろ、0.8g/m2 ・dayであり、ガスバリア性を有
していた。このガスバリア性を有する反射防止(ガスバ
リア)フィルム(本発明で言うところの透明保護層且つ
反射防止層)の酸化珪素薄膜が形成されていないもう一
方の主面と、透明積層体の薄膜形成面の金属を含む電極
が形成されていない部分を、透明な粘着材を介して貼り
合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを作製し
た。Further, a silicon oxide thin film having a thickness of 90 nm was formed on one main surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 100 μm) by electron beam evaporation.
An anti-reflection film was produced. The visible light reflectance of the antireflection film on the surface on which the antireflection film was formed was 1.4% when obtained in the same manner as in Example 9. The anti-reflection film had a gas permeability of 0.8 g / m 2 · day when measured for moisture permeability in accordance with ASTM-E96. The other main surface of the antireflection (gas barrier) film having a gas barrier property (the transparent protective layer and the antireflection layer in the present invention) on which the silicon oxide thin film is not formed, and the thin film forming surface of the transparent laminate are formed. A portion where the metal-containing electrode was not formed was attached via a transparent adhesive to produce a display filter of the present invention.
【0139】[実施例14]実施例1の本発明の透明積
層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない方の
面と、厚さ2mmのPMMA板(三菱レイヨン(株)
製:アクリライト(商品名)、470mm×350m
m)の主面を貼り合わせた。さらに実施例7と同様に金
属を含む電極(比抵抗5×10-5Ω・cm)を形成した。Example 14 The main surface of the transparent laminate according to the present invention of Example 1 on which the transparent multilayer thin film was not formed, and a 2 mm-thick PMMA plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.)
Made: Acrylite (trade name), 470 mm x 350 m
m) were bonded together. Further, in the same manner as in Example 7, an electrode containing metal (specific resistance 5 × 10 −5 Ω · cm) was formed.
【0140】また、2軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム(厚さ:50μm)の一方の主面に、電子ビ
ーム蒸着によりフッ化マグネシウム薄膜を厚さ95nm
形成し、第1の反射防止フィルムを作製した。該反射防
止フィルムの反射防止膜形成面での可視光線反射率は、
実施例9と同様に得たところ、0.8%であった。第1
の反射防止フィルムは、ASTM−E96に準拠して透
湿度を測定したところ、1.9g/m2 ・dayであ
り、ガスバリア性を有していた。第1の反射防止(ガス
バリア)フィルム(本発明でいうところの透明保護層且
つ反射防止層)のフッ化マグネシウム薄膜が形成されて
いないもう一方の主面と、該透明積層体の薄膜形成面の
電極が形成されていない部分をアクリル系粘着材を介し
て貼り合わせた。ここで、アクリル系粘着材は、500
〜600nmの波長領域において屈折率が1.64、消
光係数が0のものであった。A magnesium fluoride thin film having a thickness of 95 nm was formed on one main surface of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film (thickness: 50 μm) by electron beam evaporation.
Then, a first antireflection film was produced. Visible light reflectance on the antireflection film forming surface of the antireflection film,
When obtained in the same manner as in Example 9, it was 0.8%. First
The antireflection film of (1) was found to have a gas barrier property of 1.9 g / m 2 · day when measured for moisture permeability in accordance with ASTM-E96. The other main surface of the first antireflection (gas barrier) film (transparent protective layer and antireflection layer in the present invention) on which the magnesium fluoride thin film is not formed, and the thin film forming surface of the transparent laminate. The part where the electrode was not formed was bonded via an acrylic adhesive. Here, the acrylic adhesive is 500
The refractive index was 1.64 and the extinction coefficient was 0 in the wavelength region of 600600 nm.
【0141】またさらに、ポリエチレンテレフタレート
ペレット1203(ユニチカ(株)製)に450nm〜
600nmに吸収を有する色素(三井東圧化学(株)
製、PS−Red−G)を0.014wt%混合し、2
60〜280℃で溶融させ、押し出し機により厚み10
0μmのフィルムを作製した。その後、このフィルムを
2軸延伸して、厚み50μmの調色用色素フィルムと
し、このフィルムの一方の主面に、電子ビーム蒸着によ
りフッ化マグネシウム薄膜を厚さ95nm形成し、第2
の反射防止フィルムを作製した。該反射防止フィルムの
反射防止膜形成面での可視光線反射率は、実施例9と同
様に得たところ0.8%であった。調色用色素を含有す
る第2の反射防止フィルムの薄膜が形成されていない面
と、該PMMA板のもう一方の主面を透明な粘着材を介
して貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フィルターを
作製した。Further, a polyethylene terephthalate pellet 1203 (manufactured by Unitika Ltd.) was placed at 450 nm or less.
Dye having absorption at 600 nm (Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd.)
And PS-Red-G) (0.014 wt%).
Melted at 60 to 280 ° C and extruded to a thickness of 10
A 0 μm film was produced. Thereafter, this film was biaxially stretched to obtain a color-controlling dye film having a thickness of 50 μm, and a magnesium fluoride thin film having a thickness of 95 nm was formed on one main surface of the film by electron beam evaporation.
Was produced. The visible light reflectance of the antireflection film on the surface on which the antireflection film was formed was 0.8% when obtained in the same manner as in Example 9. The surface of the second anti-reflection film containing the toning dye, on which the thin film is not formed, and the other main surface of the PMMA plate are bonded together via a transparent adhesive material, and the display filter of the present invention is formed. Produced.
【0142】[実施例15]実施例1の本発明の透明積
層体の薄膜が形成されていない面と、片面にアンチグレ
ア層を有する厚さ2mmのPMMA板(三菱レイヨン
(株)製:アクリフィルターMR−NG、470mm×
350mm)のアンチグレア層の形成されていない面を
透明な粘着材を介して貼り合わせた。アンチグレア層の
ヘーズをヘーズメーターを用いて測定したところ、2%
であった。さらに実施例7と同様に金属を含む電極(比
抵抗5×10-5Ω・cm)を形成した。Example 15 A 2 mm-thick PMMA plate having an antiglare layer on one side of the transparent laminate of the present invention of Example 1 on which no thin film is formed (Acryfilter manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd.) MR-NG, 470mm ×
The surface on which the anti-glare layer (350 mm) was not formed was bonded via a transparent adhesive. When the haze of the anti-glare layer was measured using a haze meter, 2%
Met. Further, in the same manner as in Example 7, an electrode containing metal (specific resistance 5 × 10 −5 Ω · cm) was formed.
【0143】また、実施例14と同様に調色用フィルム
を作製し、このフィルムの一方の主面に、大日本インキ
化学工業(株)製熱硬化ワニス(SF−C−335)3
gをトルエン/メチルケトン(10:1)の混合溶媒1
00gに溶解して、塗布、自然乾燥後、150℃で20
秒間硬化させて1μm厚のアンチニュートンリング層を
形成し、アンチニュートンリングフィルムを作製した。
アンチニュートンリング層のヘーズをヘーズメーターを
用いて測定したところ、2%であった。該アンチニュー
トンリングフィルムは、ASTM−E96に準拠して透
湿度を測定したところ、1.2g/m2 ・dayであ
り、ガスバリア性を有していた。この調色用色素を含有
し、ガスバリア性を有するアンチニュートンリング(ガ
スバリア)フィルム(本発明でいうところの透明保護層
且つアンチニュートンリング層)のアンチニュートンリ
ング層が形成されていないもう一方の主面と、透明積層
体の薄膜形成面の電極が形成されていない部分で、ディ
スプレイ本体に装着したときに表示部と密着する部分の
面を、アクリル系粘着材(500〜600nmにおいて
屈折率1.64、消光係数0)を介して貼り合わせ、本
発明のディスプレイ用フィルターを作製した。A toning film was prepared in the same manner as in Example 14, and one main surface of this film was coated with a thermosetting varnish (SF-C-335) 3 manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.
g in a mixed solvent 1 of toluene / methyl ketone (10: 1)
Dissolve in 100 g, apply, air dry, and
This was cured for 2 seconds to form an anti-Newton ring layer having a thickness of 1 μm, thereby producing an anti-Newton ring film.
When the haze of the anti-Newton ring layer was measured using a haze meter, it was 2%. The moisture permeability of the anti-Newton ring film was measured in accordance with ASTM-E96, and was found to be 1.2 g / m 2 · day, indicating that it had gas barrier properties. The other main component of the anti-Newton ring (gas barrier) film (a transparent protective layer and an anti-Newton ring layer according to the present invention) which does not include the anti-Newton ring layer, which contains the toning dye and has a gas barrier property. The acrylic adhesive (with a refractive index of 1 to 500 nm to 600 nm) at the surface and the portion of the transparent laminate where the electrode is not formed on the thin film forming surface where the electrode is not formed, and which is in close contact with the display portion when mounted on the display body. 64, and an extinction coefficient of 0) to obtain a display filter of the present invention.
【0144】[実施例16]実施例1の本発明の透明積
層体の主面のうち透明多層薄膜が形成されていない面
と、厚さ2mmのPMMA板(三菱レイヨン(株)製ア
クリライト、470mm×350mm)の主面を貼り合
わせた。また2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム(厚さ:100μm)の一方の主面に、大日本イン
キ化学工業(株)製熱硬化ワニス(SF−C−335)
3gをトルエン/メチルケトン(10:1)の混合溶媒
100gに溶解して、塗布、自然乾燥後、150℃で2
0秒間硬化させて1μm厚のアンチニュートンリング層
を形成し、第1のアンチニュートンリングフィルムを作
製した。アンチニュートンリング層のヘーズをヘーズメ
ーターを用いて測定したところ、2%であった。第1の
アンチニュートンリングフィルムは、ASTM−E96
に準拠して透湿度を測定したところ、1.2g/m 2 ・
dayであり、ガスバリア性を有し、且つ、アンチグレ
ア性を有していた。[Embodiment 16] The transparent product of the present invention of Embodiment 1
The main surface of the layered body on which the transparent multilayer thin film is not formed
And a 2mm thick PMMA plate (Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
(Crylite, 470mm x 350mm)
I let you. Biaxially stretched polyethylene terephthalate filter
Lumin (thickness: 100 μm) on one major surface
Thermosetting varnish (SF-C-335) manufactured by Ki Chemical Industry Co., Ltd.
3 g of a mixed solvent of toluene / methyl ketone (10: 1)
Dissolve in 100g, apply and air dry, then 150 ℃ 2
1 micron thick anti-Newton ring layer cured for 0 seconds
To form the first anti-Newton ring film
Made. Anti-Newton ring layer haze
It was 2% when measured using a thermometer. First
Anti-Newton ring film is ASTM-E96
When the water vapor transmission rate was measured according to 1.2 g / m Two・
day, has a gas barrier property, and has an anti-glare property.
Had the nature.
【0145】第1のアンチニュートンリングフィルムの
反対の主面と、透明積層体薄膜形成面をアクリル系粘着
材(500〜600nmにおいて屈折率1.64、消光
係数0)を介して貼り合わせた。この際、該アンチニュ
ートンリングフィルムが透明積層体の端面も覆い、薄膜
が環境に曝されないように形成した。The opposite main surface of the first anti-Newton ring film and the surface on which the transparent laminate thin film was formed were adhered via an acrylic adhesive (refractive index: 1.64 at 500 to 600 nm, extinction coefficient: 0). At this time, the anti-Newton ring film also formed an end face of the transparent laminate so that the thin film was not exposed to the environment.
【0146】またさらに、実施例15と同様に調色用色
素を含有する第2のアンチニュートンリングフィルムを
作製した。調色用色素を含有する第2のアンチニュート
ンリングフィルムはアンチグレア性を有していた。調色
用色素を含有する第2のアンチニュートンリングフィル
ムのアンチニュートンリング層が形成されていないもう
一方の主面と、該PMMA板のもう一方の主面を透明な
粘着材を介して貼り合わせ、本発明のディスプレイ用フ
ィルターを作製した。Further, in the same manner as in Example 15, a second anti-Newton ring film containing a toning dye was prepared. The second anti-Newton ring film containing the toning dye had anti-glare properties. The other main surface of the second anti-Newton ring film containing the toning dye, on which the anti-Newton ring layer is not formed, is bonded to the other main surface of the PMMA plate via a transparent adhesive. The display filter of the present invention was produced.
【0147】以上のようにして作製した実施例1〜6の
本発明の透明積層体、比較例1の透明積層体、実施例7
〜13の本発明のディスプレイ用フィルター、及び比較
例2〜3のディスプレイ用フィルターについて、面抵抗
及び電磁波シールド能、可視光線透過率、近赤外線カッ
ト能、可視光線反射率、耐環境性を以下の方法で評価し
た。 1)面抵抗 実施例1〜4、6及び比較例1において、透明積層体の
面抵抗を、四探針測定法(プローブ間隔1mm)により
測定した。実施例8、13においては、用いた透明積層
体の面抵抗を同様に測定した。結果を表1に示す。The transparent laminate of the present invention of Examples 1 to 6, the transparent laminate of Comparative Example 1, and Example 7 prepared as described above.
The display resistance of the present invention, the surface resistance and the electromagnetic wave shielding ability, the visible light transmittance, the near infrared ray cutting ability, the visible light reflectance, and the environmental resistance of the display filters of the present invention are shown below. The method was evaluated. 1) Sheet Resistance In Examples 1 to 4, 6 and Comparative Example 1, the sheet resistance of the transparent laminate was measured by a four-probe measurement method (probe interval: 1 mm). In Examples 8 and 13, the sheet resistance of the used transparent laminate was measured in the same manner. Table 1 shows the results.
【0148】2)電磁波シールド能 実施例1〜4、6及び比較例1で得られた透明積層体を
用いて下記の方法で得られたディスプレイ用フィルタ
ー、および実施例7、8、13で得られたディスプレイ
用フィルターについて、電磁波のカット能力を測定し
た。2) Electromagnetic wave shielding ability Using the transparent laminates obtained in Examples 1 to 4, 6 and Comparative Example 1, a display filter obtained by the following method, and a filter obtained in Examples 7, 8, and 13 The obtained display filter was measured for its ability to cut electromagnetic waves.
【0149】実施例1〜4、6及び比較例1の各透明積
層体について、薄膜が形成されていない面と厚さ2mm
のPMMA板(三菱レイヨン(株)製アクリライト、4
70mm×350mm)の主面を透明な粘着材を介して
貼り合わせ、ディスプレイ用フィルターを作製した。デ
ィスプレイ用フィルターを対角21インチのプラズマデ
ィスプレイの画面に設置して、ダイポールアンテナを画
面中心位置から面の垂線方向3mの位置に設置し、アド
バンテスト製スペクトラム・アナライザ(TP417
2)で20〜90MHz帯域における放射電界強度を測
定した。この際、透明積層体の導電面とディスプレイ本
体のアース用電極を接触させ、アースをとった。In each of the transparent laminates of Examples 1 to 4, 6 and Comparative Example 1, the surface on which the thin film was not formed was 2 mm thick.
PMMA plate (Acrylite manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., 4
The main surface (70 mm × 350 mm) was bonded via a transparent adhesive material to produce a display filter. A display filter was installed on the screen of a 21-inch diagonal plasma display, and a dipole antenna was installed at a position 3 m perpendicular to the surface from the center of the screen, and a spectrum analyzer manufactured by Advantest (TP417) was used.
In 2), the radiated electric field intensity in the 20 to 90 MHz band was measured. At this time, the conductive surface of the transparent laminate and the ground electrode of the display main body were brought into contact with each other and grounded.
【0150】実施例7、8、13のディスプレイ用フィ
ルターにおいては、金属を含む電極とディスプレイ本体
のアース電極を接触させ、アースをとった。以上のよう
にして測定した放射電界強度は、33、62、70、9
0MHzの各周波数で評価を行った。家庭用途としては
40dBμV/m以下であると実用的であり、低いほど
良い。ディスプレイ用フィルターを設置しないプラズマ
ディスプレイの放射電界強度も併せて測定した。結果を
表1に示す。In the display filters of Examples 7, 8, and 13, the electrode containing metal was brought into contact with the earth electrode of the display body to be grounded. The radiated electric field strength measured as described above is 33, 62, 70, 9
The evaluation was performed at each frequency of 0 MHz. For home use, it is practical to be 40 dBμV / m or less, and the lower the better, the better. The radiated electric field intensity of the plasma display without a display filter was also measured. Table 1 shows the results.
【0151】3)可視光線透過率(Tvis )及び近赤外
線透過率 実施例1〜6及び比較例1の透明積層体について、ま
た、実施例9〜13及び比較例2のディスプレイ用フィ
ルターについて、それら測定対象物の透光部を小片に切
り出し、(株)日立製作所製分光光度計(U−340
0)により300〜1000nmの平行光線透過率を測
定した。ここで求めた透過率から、JISR−3106
に従って、可視光線透過率Tvis を計算した。近赤外線
透過率は820、850nm及び1000nmで評価を
行った。結果を表2に示す。3) Visible Light Transmittance (T vis ) and Near-Infrared Transmittance The transparent laminates of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, and the display filters of Examples 9 to 13 and Comparative Example 2 were used. The light-transmitting part of the object to be measured was cut into small pieces, and a spectrophotometer (U-340, manufactured by Hitachi, Ltd.) was used.
According to 0), the parallel light transmittance of 300 to 1000 nm was measured. From the transmittance determined here, JISR-3106
The visible light transmittance T vis was calculated according to The near infrared transmittance was evaluated at 820, 850 nm, and 1000 nm. Table 2 shows the results.
【0152】4)赤外線リモートコントローラに対する
限界距離試験 実施例1〜6及び比較例1の透明積層体について、ま
た、実施例9〜13及び比較例2のディスプレイ用フィ
ルターについて、プラズマディスプレイから発生する近
赤外線による赤外線リモートコントローラに対する妨害
をどの程度抑制することができるかを評価した。実施例
1〜6及び比較例1の透明積層体について、また、実施
例9〜11及び比較例2のディスプレイ用フィルターに
ついては、透明積層体の薄膜が形成されていない面と厚
さ2mmのPMMA板(三菱レイヨン(株)製:アクリ
ライト(商品名)、470mm×350mm)の主面を
透明な粘着材を介して貼り合わせディスプレイ用フィル
ターを作製し、このディスプレイ用フィルターを用いて
評価を行った。4) Critical distance test for infrared remote controller The transparent laminates of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1 and the filters for display of Examples 9 to 13 and Comparative Example 2 have a near-field generated from the plasma display. We evaluated how much interference with the infrared remote controller due to infrared rays can be suppressed. For the transparent laminates of Examples 1 to 6 and Comparative Example 1, and for the display filters of Examples 9 to 11 and Comparative Example 2, the surface of the transparent laminate on which the thin film was not formed and the PMMA having a thickness of 2 mm. A main surface of a plate (manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd .: Acrylite (trade name), 470 mm × 350 mm) is laminated with a transparent adhesive material to produce a display filter, and evaluation is performed using the display filter. Was.
【0153】試験対象のディスプレイ用フィルターを対
角21インチのプラズマディスプレイの画面に設置し
て、赤外線リモートコントローラを使用する電子機器を
0.2m〜5mディスプレイから離してその誤動作を確
認した。誤動作がある場合は、その限界距離を求めた。
限界距離が短いほど誤動作が少ないといえる。実用的に
は少なくとも2.5m以下、好適には1.5m以下であ
る。なお、ディスプレイ用フィルターを設置しないプラ
ズマディスプレイの限界距離も併せて測定した。結果を
表2に示す。The display filter to be tested was set on the screen of a 21-inch diagonal plasma display, and the electronic device using the infrared remote controller was separated from the display of 0.2 m to 5 m, and its malfunction was confirmed. If there was a malfunction, the limit distance was determined.
It can be said that the shorter the limit distance, the less the malfunction. Practically, it is at least 2.5 m or less, preferably 1.5 m or less. The limit distance of the plasma display without a display filter was also measured. Table 2 shows the results.
【0154】5)可視光線反射率(Rvis ) 実施例1〜4及び比較例1の透明積層体について、透明
積層体の薄膜形成面にアクリル系粘着材(500〜60
0nmにおいて屈折率1.64、消光係数0)を形成す
る前後で、測定対象物を小片に切り出し、反射積分球
(光線入射角度6°)を用いて(株)日立製作所製分光
光度計(U−3400)により300〜800nmにお
ける測定対象物両面の全光線反射率を測定した。ここで
求めた反射率からJIS R−3016に従って可視光
線反射率Rvis を計算した。結果を表3に示す。また、
実施例6の透明積層体、実施例9、10、11〜16及
び比較例2、3のディスプレイ用フィルターについて
も、単体での可視光線反射率Rvis を求めた。結果を表
4に示す。5) Visible light reflectance (R vis ) Regarding the transparent laminates of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1, an acrylic adhesive (500 to 60) was formed on the thin film forming surface of the transparent laminate.
Before and after forming a refractive index of 1.64 and an extinction coefficient of 0 at 0 nm, the object to be measured is cut into small pieces, and a spectrophotometer (U, manufactured by Hitachi, Ltd.) is used using a reflection integrating sphere (light incident angle 6 °). -3400), the total light reflectance of both surfaces of the measurement object at 300 to 800 nm was measured. The visible light reflectance R vis was calculated from the reflectance obtained in accordance with JIS R-3016. Table 3 shows the results. Also,
With respect to the transparent laminate of Example 6, and the display filters of Examples 9, 10, 11 to 16, and Comparative Examples 2 and 3, the visible light reflectance R vis alone was determined. Table 4 shows the results.
【0155】6)耐環境性(高温高湿試験) 実施例1、6の透明積層体について、また、実施例9、
10、11、13〜16及び比較例2、3のディスプレ
イ用フィルターについて、温度60℃、湿度95%の雰
囲気下で48時間を放置し、白化の発生を調べた。この
環境条件48時間放置後、白化(白点、全面白化)が発
生しない場合は、実用的であるといえる。結果を表4に
示す。なお、表4には、ディスプレイ用フィルターの場
合に透明積層体の薄膜形成面に貼り合わせたフィルムの
透湿度も示されている。6) Environmental resistance (high-temperature high-humidity test) The transparent laminates of Examples 1 and 6 were used.
The display filters of 10, 11, 13 to 16 and Comparative Examples 2 and 3 were allowed to stand in an atmosphere of a temperature of 60 ° C. and a humidity of 95% for 48 hours to examine the occurrence of whitening. If whitening (white spots, whitening of the entire surface) does not occur after standing for 48 hours under these environmental conditions, it can be said that the method is practical. Table 4 shows the results. Table 4 also shows the moisture permeability of the film attached to the thin film forming surface of the transparent laminate in the case of a display filter.
【0156】[0156]
【表1】 [Table 1]
【0157】[0157]
【表2】 [Table 2]
【0158】[0158]
【表3】 [Table 3]
【0159】[0159]
【表4】 [Table 4]
【0160】表1から明らかなように、面抵抗が3Ω/
□以下では、実用的な電磁波シールド効果が明らかに認
められ、面抵抗が低いほど電磁波シールド効果がある。
しかしながら、面抵抗が4.9Ω/□である比較例1の
透明積層体を用いた場合には、周波数帯域によって電磁
波シールド効果が実用的レベルではない。また、実施例
1と実施例7とを比較すると、金属を含む電極を形成
し、電極部をディスプレイ本体のアース用電極と接触さ
せるすることによって、電磁波シールド効果が増加して
いることが分かる。As is clear from Table 1, the sheet resistance was 3 Ω /
In the following, a practical electromagnetic wave shielding effect is clearly recognized, and the lower the sheet resistance, the more effective the electromagnetic wave shielding effect.
However, when the transparent laminate of Comparative Example 1 having a sheet resistance of 4.9Ω / □ is used, the electromagnetic wave shielding effect is not at a practical level depending on the frequency band. In addition, comparing Example 1 with Example 7, it can be seen that the electromagnetic wave shielding effect is increased by forming an electrode containing a metal and bringing the electrode portion into contact with the ground electrode of the display body.
【0161】表2から明らかなように、820nmより
長波長の領域の光線透過率が10%未満である実施例
1、2、4、5、6の透明積層体を用いたディスプレイ
用フィルター、及び、実施例12、13のディスプレイ
用フィルターは、誤動作限界距離が短く実用的な近赤外
線カット能を有している。実施例3の透明積層体を用い
たディスプレイ用フィルターは820nmより長波長の
領域において光線透過率が10%を越えており、誤動作
限界距離が大きいが、実用的範囲内である。しかし、比
較例1の透明積層体を用いたディスプレイ用フィルター
は、可視光線透過率は大きいものの、近赤外線の透過率
も大きいため、誤動作限界距離が大きく実用的でない。As is clear from Table 2, the filters for display using the transparent laminates of Examples 1, 2, 4, 5, and 6 having a light transmittance of less than 10% in the wavelength region longer than 820 nm, and In addition, the display filters of Examples 12 and 13 have a practical near-infrared ray cut capability with a short malfunction limit distance. The display filter using the transparent laminate of Example 3 has a light transmittance of more than 10% in a wavelength region longer than 820 nm, and has a large malfunction limit distance, but is within a practical range. However, the display filter using the transparent laminate of Comparative Example 1 has a large visible light transmittance, but also a large near-infrared transmittance, and thus has a large malfunction limit distance and is not practical.
【0162】また、実施例1、2の透明積層体に近赤外
線吸収色素を併用した実施例9、10のディスプレイ用
フィルターは、近赤外線カット能は向上し、さらに実用
的になったが、実施例1、2に比べ、可視光線透過率は
減少した。実施例3の透明積層体に近赤外線吸収色素を
併用した実施例11のディスプレイ用フィルターは、8
20nmより長波長の領域の光線透過率が10%未満と
なり、近赤外線カット能が向上し、実用的になったが、
実施例3に比べ、可視光線透過率は減少した。比較例1
の透明積層体に近赤外線吸収色素を併用した比較例2の
ディスプレイ用フィルターは、近赤外線吸収色素を併用
しても、820nmより長波長の領域において光線透過
率が10%を越えているため、誤動作限界距離が大きく
実用的でない。比較例1の透明積層体に、820nmよ
り長波長の領域の光線透過率が10%未満となるよう
に、さらに1種以上の近赤外線吸収色素を加えると、可
視光線透過率が大幅に減少してしまう。Further, the display filters of Examples 9 and 10 in which the near-infrared absorbing dye was used in combination with the transparent laminates of Examples 1 and 2 were improved in near-infrared ray cutting ability and became more practical. The visible light transmittance was reduced as compared with Examples 1 and 2. The display filter of Example 11 in which a near-infrared absorbing dye was used in combination with the transparent laminate of Example 3 was 8
Although the light transmittance in a region having a wavelength longer than 20 nm is less than 10%, the near-infrared ray cut ability is improved, and it has become practical.
Compared with Example 3, the visible light transmittance was reduced. Comparative Example 1
The display filter of Comparative Example 2 in which the near-infrared absorbing dye was used in combination with the transparent laminate of the above, since the light transmittance exceeded 10% in the wavelength region longer than 820 nm even when the near-infrared absorbing dye was used in combination. The malfunction limit distance is large and not practical. When one or more near-infrared absorbing dyes are further added to the transparent laminate of Comparative Example 1 so that the light transmittance in a region longer than 820 nm is less than 10%, the visible light transmittance is significantly reduced. Would.
【0163】表3から明らかなように、透明基体上にI
TO薄膜と薄膜を交互に計7層積層し、かつ、透明基体
から数えて2番目の銀層が、1番目及び3番目の銀層よ
り厚い、実施例1、3の透明積層体は、透明な粘着材層
を薄膜形成面上に形成しても、可視光線反射率が減少
し、ディスプレイ用フィルターの用途に好適である。実
施例2、4及び比較例1の透明積層体は、透明な粘着材
層を形成した後に可視光線反射率が2%以上増加してい
る。As is clear from Table 3, I was applied on a transparent substrate.
The transparent laminates of Examples 1 and 3, in which a total of seven TO thin films and thin films are alternately laminated, and the second silver layer counted from the transparent substrate is thicker than the first and third silver layers, Even if a suitable pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface on which the thin film is formed, the visible light reflectance is reduced, which is suitable for use as a display filter. In the transparent laminates of Examples 2, 4 and Comparative Example 1, the visible light reflectance increased by 2% or more after forming the transparent adhesive layer.
【0164】表4から明らかなように、反射防止層を併
用した実施例9〜11及び比較例2のディスプレイ用フ
ィルターは、反射防止層を形成する前よりも、可視光線
反射率が大きく減少している。特に、透明基体上にIT
O薄膜と薄膜を交互に計7層積層し、かつ、透明基体か
ら数えて2番目の銀層が、1番目及び3番目の銀層より
厚い、実施例1、3の透明積層体を用いた実施例9、1
1の本発明のディスプレイ用フィルターは、可視光線反
射率の減少が著しく、好適である。As is clear from Table 4, the filters for display of Examples 9 to 11 and Comparative Example 2 using the antireflection layer together have a much lower visible light reflectance than before the formation of the antireflection layer. ing. In particular, IT
The transparent laminates of Examples 1 and 3 were used in which a total of seven O thin films and thin films were alternately laminated, and the second silver layer counted from the transparent substrate was thicker than the first and third silver layers. Examples 9 and 1
The display filter of the first aspect of the present invention is suitable because the visible light reflectance is significantly reduced.
【0165】また、耐環境性は、薄膜形成面にフィルム
を貼合していない実施例1が最も低く、薄膜形成面に貼
合したフィルムの透湿度が10g/m2 ・day以上で
ある比較例3は、白点が発生したため実用的ではない。
また、銀を含む合金の薄膜を用いた実施例6は、実施例
1と比べ、耐環境性が優れていた。The environmental resistance was the lowest in Example 1 in which the film was not bonded to the surface on which the thin film was formed, and the moisture resistance of the film bonded to the surface on which the thin film was formed was 10 g / m 2 · day or more. Example 3 is not practical because white spots occurred.
Further, Example 6 using the thin film of the alloy containing silver was superior to Example 1 in the environmental resistance.
【0166】なお、表4には示されていないが、実施例
14〜15のディスプレイ用フィルターは、高温高湿試
験を行ったところ、透光部、電極部のどちらにおいても
白化は生じなかった。また、実施例16のディスプレイ
用フィルターは、高温高湿試験を行ったところ、透光部
及びフィルター端面付近において、白化が生じなかっ
た。実施例14のディスプレイ用フィルターの可視光線
透過率は69%、可視光線反射率は2.5%であった。
実施例15のディスプレイ用フィルターの可視光線透過
率は67%であり、また、防眩性に優れていた。実施例
16のディスプレイ用フィルターの可視光線透過率は6
7%であり、また、防眩性に優れていた。Although not shown in Table 4, the display filters of Examples 14 and 15 were subjected to a high-temperature and high-humidity test. As a result, no whitening occurred in either the light-transmitting portion or the electrode portion. . The display filter of Example 16 was subjected to a high-temperature and high-humidity test. As a result, no whitening occurred in the light-transmitting portion and near the filter end surface. The visible light transmittance of the display filter of Example 14 was 69%, and the visible light reflectance was 2.5%.
The visible light transmittance of the display filter of Example 15 was 67%, and the filter was excellent in antiglare properties. The visible light transmittance of the display filter of Example 16 was 6
7% and excellent antiglare properties.
【0167】実施例1の透明積層体は、透過色が緑色
(平行光線透過率から計算したL* a * b* 表色系でa
* =−8、b* =2)であったが、実施例1の透明積層
体に調色用を併用した実施例14〜16のディスプレイ
用フィルターはグレー(平行光線透過率から計算したL
* a* b* 表色系でa* =−3、b* =1)で好適な透
過色であり、プラズマディスプレイに設置したときにコ
ントラストが優れていた。また、実施例14、15の本
発明のディスプレイ用フィルターは、実施例7の本発明
のディスプレイ用フィルターと同等の電磁波シールド効
果を有しており、好適に使用できた。また、装着時に薄
膜形成面を痛めることがなかった。The transparent laminate of Example 1 has a transmission color of green.
(L calculated from parallel light transmittance*a *b*A in color system
*= -8, b*= 2), but the transparent laminate of Example 1
Displays of Examples 14 to 16 in which toning is used in combination with the body
Filter for gray (L calculated from parallel light transmittance)
*a*b*A in color system*= -3, b*= 1)
It is overcolored and will not work when installed on a plasma display.
The trust was excellent. Also, the books of Examples 14 and 15
The display filter of the invention is the same as that of the embodiment 7 of the invention.
Electromagnetic shielding effect equivalent to that of other display filters
It had fruit and could be used favorably. Also, when mounting
The film-forming surface was not damaged.
【0168】また、実施例12〜16のディスプレイ用
フィルターをプラズマディスプレイの画面に設置したと
ころ、周辺の電子機器の誤動作は起こらず、さらに画像
は鮮明であり、また映り込みが少なく視認性が良かっ
た。In addition, when the display filters of Examples 12 to 16 were installed on the screen of the plasma display, malfunctions of peripheral electronic devices did not occur, the image was clear, the reflection was small, and the visibility was good. Was.
【0169】実施例12、15、16のディスプレイ用
フィルターを、アンチニュートンリング層の形成されて
いる面を下にして、平坦なガラス上に重ねて乗せ、ディ
スプレイ用フィルターの四隅に重さ500gのおもりを
のせた。ディスプレイ用フィルターの中心、直上から3
波長域発光型蛍光ランプ(三菱電機(株)製ルピカ(商
品名):消費電力20W)を照射しニュートンリングの
発生の有無をフィルター平面に対して10〜80゜の角
度から観察した。いずれも、アンチニュートンリング層
を有するディスプレイ用フィルターの主面をガラス板に
密着させてもニュートンリングは発生しなかった。実施
例12、16のディスプレイ用フィルターは、どちらの
主面も発生しなかった。The display filters of Examples 12, 15, and 16 were placed on flat glass with the surface on which the anti-Newton ring layer was formed facing down, and placed on the four corners of the display filter at a weight of 500 g. We put weight. The center of the display filter, 3 from directly above
Irradiation was performed with a wavelength-band emission fluorescent lamp (Lupica (trade name) manufactured by Mitsubishi Electric Corporation: power consumption: 20 W), and the occurrence of Newton rings was observed from an angle of 10 to 80 ° with respect to the filter plane. In each case, Newton rings did not occur even when the main surface of the display filter having the anti-Newton ring layer was brought into close contact with the glass plate. The display filters of Examples 12 and 16 did not have any main surface.
【0170】また、実施例12、15、16のディスプ
レイ用フィルターをプラズマディスプレイの画面に密着
させて設置したところ、ニュートンリングが発生しなか
った。特に、実施例12、16のディスプレイ用フィル
ターは、どちらの面をディスプレイ側に向けて設置して
も、ニュートンリングが発生せず、また、映り込みが少
なく視認性が良かった。When the display filters of Examples 12, 15, and 16 were placed in close contact with the screen of the plasma display, Newton rings did not occur. In particular, the display filters of Examples 12 and 16 were free from Newton's ring, had less reflection, and had good visibility regardless of which surface was installed facing the display.
【0171】[0171]
【発明の効果】以上のごとく、本発明によれば、プラズ
マディスプレイの発する強度の電磁波を遮蔽でき、ま
た、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透
明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する820nmよ
り長波長の近赤外光のカット能を有する透明積層体を提
供できる。また、この透明積層体を用いることによっ
て、ディスプレイの鮮明性を損なわない可視域での高透
明性と、周辺電子機器の誤動作を誘発する820nmよ
り長波長の近赤外光のカット能をに優れる、820nm
より長波長の領域での光線透過率が10%以下であるデ
ィスプレイ用フィルターを提供でき、電磁波シールド
能、耐候性・耐環境性、さらには、防眩性または反射防
止能、アンチニュートンリング性に優れるディスプレイ
用フィルターを提供できる。またさらに、色素を併用す
ることによって、さらに近赤外線抑止性に優れる及び/
又は好ましい透過色のディスプレイ用フィルターを提供
できる。As described above, according to the present invention, it is possible to shield the electromagnetic waves of the intensity generated by the plasma display, to achieve high transparency in the visible region which does not impair the sharpness of the display, and to prevent malfunction of peripheral electronic devices. A transparent laminate having the ability to cut off near-infrared light having a wavelength longer than 820 nm to be induced can be provided. In addition, by using this transparent laminate, it is excellent in high transparency in the visible region that does not impair the sharpness of the display, and in the ability to cut near-infrared light having a wavelength longer than 820 nm that induces malfunction of peripheral electronic devices. , 820 nm
A display filter having a light transmittance of 10% or less in a longer wavelength region can be provided. The filter has electromagnetic wave shielding ability, weather resistance and environmental resistance, anti-glare or anti-reflection ability, and anti-Newton ring property. An excellent display filter can be provided. Further, by using a dye in combination, the near-infrared ray deterrence is further improved and / or
Alternatively, a display filter having a preferred transmission color can be provided.
【図1】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
すディスプレイ側から見た平面図FIG. 1 is a plan view showing an example of a display filter according to the present invention as viewed from a display side.
【図2】本発明の透明積層体の一例を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing an example of the transparent laminate of the present invention.
【図3】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 3 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図4】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 4 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図5】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 5 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図6】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 6 is a sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図7】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図8】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 8 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図9】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を示
す断面図FIG. 9 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図10】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を
示す断面図FIG. 10 is a cross-sectional view showing an example of the display filter of the present invention.
【図11】本発明のディスプレイ用フィルターの一例を
示す断面図FIG. 11 is a sectional view showing an example of a display filter of the present invention.
10 透明積層体 11 透明基体(A) 12 透明導電層 13 高屈折率透明薄膜層 14 銀又は銀を含む合金からなる金属薄膜層 20 金属を含む電極 30 透明成形体 40 透明保護層(D) 41 アンチニュートンリング層 42 反射防止層 43 アンチグレア層 51 反射防止層 52 アンチグレア層 53 アンチニュートンリング層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Transparent laminated body 11 Transparent base material (A) 12 Transparent conductive layer 13 High refractive index transparent thin film layer 14 Metal thin film layer made of silver or an alloy containing silver 20 Metal-containing electrode 30 Transparent molded body 40 Transparent protective layer (D) 41 Anti-Newton ring layer 42 Anti-reflection layer 43 Anti-glare layer 51 Anti-reflection layer 52 Anti-glare layer 53 Anti-Newton ring layer
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI G09F 9/00 309 G09F 9/00 309A 318 318A H05K 9/00 H05K 9/00 V // H01B 5/14 H01B 5/14 A (72)発明者 吉開 正彰 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内 (72)発明者 小山 正人 愛知県名古屋市南区丹後通2丁目1番地 三井東圧化学株式会社内 審査官 中島 庸子 (56)参考文献 特開 昭63−239044(JP,A) 特開 平7−320663(JP,A) 特開 平8−55581(JP,A) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) B32B 1/00 - 35/00 G09F 9/00 H05K 9/00 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI G09F 9/00 309 G09F 9/00 309A 318 318A H05K 9/00 H05K 9/00 V // H01B 5/14 H01B 5/14 A (72) Inventor Masaaki Yoshikai 2-1-1 Tangodori, Minami-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Inside Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd. (72) Inventor Masato Koyama 2-1-1 Tangodori, Minami-ku, Nagoya City, Aichi Prefecture Mitsui Toatsu Chemicals In-house examiner Yoko Nakajima (56) References JP-A-62-239044 (JP, A) JP-A-7-320663 (JP, A) JP-A-8-55581 (JP, A) (58) Fields investigated (Int.Cl. 7 , DB name) B32B 1/00-35/00 G09F 9/00 H05K 9/00
Claims (17)
折率透明薄膜層(B)と、銀又は銀を含む合金からなる
金属薄膜層(C)とが、高屈折率透明薄膜層(B)と金
属薄膜層(C)との組み合わせ(B)/(C)を繰り返
し単位として3回以上6回以下繰り返して積層され、さ
らにその上に高屈折率透明薄膜層(B)が積層されてな
り、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層との積層構造によ
って導電面が形成され、該導電面における面抵抗が3Ω
/□以下であり、可視光線透過率が50%以上であり、
かつ、820nm〜1000nmの波長領域の光線透過
率が当該波長領域の全域において20%以下である透明
積層体であり、当該基体(A)から最もはなれて積層さ
れている高屈折率透明薄膜上に、透明な粘着材または透
明な接着剤層又は透明な保護層を積層しても、可視光線
反射率の増加が2%以下であることを特徴とする透明積
層体。1. A high-refractive-index transparent thin film layer (B) and a metal thin-film layer (C) made of silver or an alloy containing silver are provided on one main surface of a transparent substrate (A). The combination (B) / (C) of the thin film layer (B) and the metal thin film layer (C) is repeated three to six times or less as a repeating unit, and a high refractive index transparent thin film layer (B) is further formed thereon. Are laminated, a conductive surface is formed by a laminated structure of the metal thin film layer and the high refractive index transparent thin film layer, and the sheet resistance on the conductive surface is 3Ω.
/ □ or less, the visible light transmittance is 50% or more,
Further, it is a transparent laminate having a light transmittance in a wavelength range of 820 nm to 1000 nm of 20% or less over the entire wavelength range, and is disposed on the high-refractive-index transparent thin film most separated from the substrate (A) and laminated. A transparent laminate, wherein the increase in visible light reflectance is 2% or less even when a transparent adhesive material, a transparent adhesive layer or a transparent protective layer is laminated.
基体から数えて2番目の金属薄膜層が、1番目および3
番目の金属薄膜層より厚いことを特徴とする請求項1に
記載の透明積層体。2. The method according to claim 1, wherein the number of repeating units is three, and the second metal thin film layer counted from the transparent substrate is the first and third metal thin film layers.
The transparent laminate according to claim 1, wherein the transparent laminate is thicker than the first metal thin film layer.
れている高屈折率透明薄膜(B)上に隣接して透明な粘
着材又は透明な接着剤層又は透明な保護層が積層されて
いることを特徴とする請求項1又は2に記載の透明積層
体。3. A transparent pressure-sensitive adhesive or transparent adhesive layer or a transparent protective layer is laminated adjacently on the high-refractive-index transparent thin film (B) laminated farthest from the transparent substrate (A). The transparent laminate according to claim 1, wherein:
チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチ
モン、タンタルの酸化物から少なくとも1つ選ばれた酸
化物であることを特徴とする請求項1〜3に記載の透明
積層体。4. The high-refractive transparent thin film layer (B) comprises indium,
The transparent laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the transparent laminate is at least one oxide selected from oxides of titanium, zirconium, bismuth, tin, zinc, antimony, and tantalum.
ム、スズ、チタンの酸化物から少なくとも1つ選ばれた
酸化物であることを特徴とする請求項1〜4に記載の透
明積層体。5. The transparent laminate according to claim 1, wherein the high-refractive-index transparent thin film layer (B) is at least one oxide selected from oxides of indium, tin, and titanium. body.
あることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の
透明積層体。6. The transparent laminate according to claim 1, wherein the transparent substrate (A) is a transparent polymer molded product.
酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項1
〜6に記載の透明積層体。7. The high refractive index transparent thin film layer (B) is mainly composed of indium oxide.
7. The transparent laminate according to any one of items 6 to 6.
層体と、該透明積層体の導電面上に形成された、金属を
含む電極とを有することを特徴とするディスプレイ用フ
ィルター。8. A display filter comprising: the transparent laminate according to claim 1; and a metal-containing electrode formed on a conductive surface of the transparent laminate.
縁部に連続的に形成されていることを特徴とする請求項
8記載のディスプレイ用フィルター。9. The display filter according to claim 8, wherein the electrodes are formed continuously on the conductive surface and at the periphery of the conductive surface.
積層体と、該透明積層体の導電面上に形成された透明保
護層(D)とを有することを特徴とするディスプレイ用
フィルター。10. A display filter comprising: the transparent laminate according to claim 1; and a transparent protective layer (D) formed on a conductive surface of the transparent laminate. .
m2・day以下であることを特徴とする請求項10記
載のディスプレイ用フィルター。11. The transparent protective layer (D) has a moisture permeability of 10 g /
display filter of claim 10, wherein the m is 2 · day or less.
る可視光線反射率が2%以下であることを特徴とする請
求項10または11に記載のディスプレイ用フィルタ
ー。12. The display filter according to claim 10, wherein the visible light reflectance on the surface on which the transparent protective layer (D) is formed is 2% or less.
μmの大きさの微小な凹凸が形成されていることを特徴
とする請求項10〜12記載のディスプレイ用フィルタ
ー。13. The surface of the transparent protective layer (D) having a thickness of 0.1 to 10
The display filter according to claim 10, wherein fine irregularities having a size of μm are formed.
積層体と、透明成形体(E)を有し、透明積層体の主面
と透明成形体の一方の主面とが貼り合わせられているこ
とを特徴とするディスプレイ用フィルター。14. A transparent laminate according to any one of claims 1 to 7 and a transparent molded body (E), wherein a main surface of the transparent laminate and one main surface of the transparent molded body are bonded to each other. A filter for a display, which is characterized in that it is used.
防止層、アンチグレア層およびアンチニュートンリング
層のいずれかが形成されていることを特徴とする請求項
14記載のディスプレイ用フィルター。15. The display filter according to claim 14, wherein one of an anti-reflection layer, an anti-glare layer and an anti-Newton ring layer is formed on the other main surface of the transparent molded body (E). .
ルターの両方の主面にアンチニュートンリング層が形成
されていることを特徴とするディスプレイ用フィルタ
ー。16. A display filter according to claim 14, wherein an anti-Newton ring layer is formed on both main surfaces of the display filter.
積層体と、反射防止層、アンチニュートンリング層およ
びアンチグレア層の中から選ばれた1種類の層からなる
第1の部材と、透明成形体(E)と、透明保護層(D)
および金属を含む電極の中から選ばれた1種類以上から
なる第2の部材とを有し、第1の部材、透明成形体
(E)、透明積層体、第2の部材の順に構成されているこ
とを特徴とするプラズマディスプレイ用フィルター。17. A transparent laminate according to claim 1, and a first member comprising one kind of layer selected from an anti-reflection layer, an anti-Newton ring layer, and an anti-glare layer; Transparent molded article (E) and transparent protective layer (D)
And a second member made of at least one selected from electrodes including a metal, and a first member, a transparent molded body
(E), a transparent laminate, and a second member, in which order, a filter for a plasma display.
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