JP2862956B2 - Substrate transfer device - Google Patents
Substrate transfer deviceInfo
- Publication number
- JP2862956B2 JP2862956B2 JP13749090A JP13749090A JP2862956B2 JP 2862956 B2 JP2862956 B2 JP 2862956B2 JP 13749090 A JP13749090 A JP 13749090A JP 13749090 A JP13749090 A JP 13749090A JP 2862956 B2 JP2862956 B2 JP 2862956B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- arm
- moving
- mounting
- storage container
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Warehouses Or Storage Devices (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、半導体基板やガラス基板などの電子部品製
造用の各種基板(以下、基板と称する)を多段に収納し
たカセットから1枚ずつ取り出して、その取り出した基
板を所定の基板待機位置へ搬送供給したり、前記基板待
機位置に在る基板をカセット内へ搬送収納する搬送装
置、すなわち、いわゆるインデクサー搬送ユニットに関
する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION <Industrial application field> The present invention takes out various substrates (hereinafter, referred to as substrates) for manufacturing electronic components such as a semiconductor substrate and a glass substrate one by one from a cassette containing multiple stages. Further, the present invention relates to a transport device for transporting and supplying the taken-out substrate to a predetermined substrate standby position or transporting and storing the substrate at the substrate standby position into a cassette, that is, a so-called indexer transport unit.
〈従来の技術〉 従来の基板処理装置は、大きく分けて、基板を多段に
収納した複数個のカセットを載置した状態で昇降する昇
降台と、この昇降台に沿って水平移動可能で、昇降台上
のカセットに対して進退移動可能な基板取り出しアーム
と、基板に種々の処理を施す複数個の処理ユニットと、
カセットから取り出された基板を各処理ユニットへ搬送
するプロセス搬送ユニットとを備えている。<Conventional technology> A conventional substrate processing apparatus can be roughly divided into a lifting platform that moves up and down with a plurality of cassettes containing substrates stored in multiple stages, and a horizontally movable movable along the lifting platform. A substrate take-out arm that can move forward and backward with respect to the cassette on the table, a plurality of processing units that perform various processes on the substrate,
A process transport unit that transports the substrate taken out of the cassette to each processing unit.
処理対象となる基板をカセットから取り出す場合に
は、まず基板取り出しアームが所定のカセットに対向す
る位置にまで水平移動する。続いて、そのカセット内に
収納されている処理対象の基板が基板取り出しアームに
対向する高さになるように、昇降台が昇降する。基板と
基板取り出しアームとが対向すると、基板取り出しアー
ムが前進移動して基板の下方に進入する。アームが進入
した後、昇降台が少し下降する。これにより基板が基板
取り出しアーム上に移載される。基板取り出しアーム
は、この基板を吸着保持した後に後退して、カセットか
ら基板を取り出す。取り出された基板は、さらにプロセ
ス搬送ユニットへ受け渡される。プロセス搬送ユニット
は、この基板を各処理ユニットに搬送する。そして、各
処理ユニットにおいて基板に所定の処理が施される。各
処理ユニットで処理された基板は、上記した基板の取り
出し動作とは逆の順序でカセット内に戻される。When removing a substrate to be processed from the cassette, first, the substrate removal arm is horizontally moved to a position facing a predetermined cassette. Subsequently, the elevating table is moved up and down so that the substrate to be processed stored in the cassette is at a height facing the substrate unloading arm. When the substrate and the substrate take-out arm face each other, the substrate take-out arm moves forward and enters below the substrate. After the arm has entered, the elevator will lower slightly. As a result, the substrate is transferred onto the substrate take-out arm. The substrate take-out arm retracts after holding the substrate by suction, and takes out the substrate from the cassette. The substrate taken out is further transferred to the process transport unit. The process transport unit transports the substrate to each processing unit. Then, a predetermined process is performed on the substrate in each processing unit. The substrates processed in each processing unit are returned to the cassette in the reverse order of the above-described substrate removal operation.
〈発明が解決しようとする課題〉 しかしながら、このような構成を有する従来装置に
は、次のような問題点がある。<Problems to be Solved by the Invention> However, the conventional device having such a configuration has the following problems.
すなわち、従来装置によれば、カセットを昇降させる
際にカセットが振動するので、カセット内に付着してい
た塵埃が離脱して基板に付着したり、あるいは基板収納
溝の内壁と基板端部とが擦れあって塵埃が発生するとい
った不都合がある。そのため従来装置によれば、カセッ
トの振動に起因した塵埃の影響で、基板が汚染されやす
いという問題がある。That is, according to the conventional apparatus, the cassette vibrates when the cassette is moved up and down, so that the dust adhered in the cassette is separated and adheres to the substrate, or the inner wall of the substrate storage groove and the substrate end are separated. There is an inconvenience that dust is generated due to friction. Therefore, according to the conventional device, there is a problem that the substrate is easily contaminated by the influence of dust caused by vibration of the cassette.
ところで、上記のような基板処理装置では、プロセス
搬送ユニットによる基板搬送を支障なく行うために、あ
るいは処理された基板を支障なくカセット内に収納する
ために、基板取り出しアームとプロセス搬送ユニットと
の間で基板を受け渡す過程で、基板の位置合わせを行う
ことが要望されている。しかし、基板の位置合わせ機構
を設けると、基板処理装置がその分、大型化する。特
に、装置の設置スペースが限られている半導体製造工程
などでは、装置の小型が強く望まれているので、基板の
位置合わせ機構をできるだけコンパクトに装置内に組み
込むことは重要な課題である。By the way, in the substrate processing apparatus as described above, in order to carry out the substrate transfer by the process transfer unit without any trouble, or to store the processed substrate in the cassette without any trouble, the distance between the substrate take-out arm and the process transfer unit is reduced. It is desired that the substrate be aligned in the process of transferring the substrate. However, providing a substrate positioning mechanism increases the size of the substrate processing apparatus. In particular, in a semiconductor manufacturing process or the like where the installation space of the device is limited, it is strongly desired to reduce the size of the device. Therefore, it is an important issue to incorporate the substrate positioning mechanism in the device as compactly as possible.
本発明は、このような事情からなされたものであり、
カセットと所定の基板待機位置との間での基板の搬送に
おいて、待機位置への基板の位置合わせを行うことによ
り搬送精度および搬送安定性を確保するにもかかわら
ず、基板を位置決めする装置を載置するためのスペース
を不要にした基板搬送装置を提供することを目的とす
る。The present invention has been made under such circumstances,
In transporting substrates between the cassette and a predetermined substrate standby position, a device for positioning the substrate is mounted, despite ensuring transport accuracy and transport stability by aligning the substrate to the standby position. It is an object of the present invention to provide a substrate transfer device that does not require a space for placing the substrate.
また、本発明の他の目的は、カセットからの基板の取
り出しや、カセットへの基板の収納の際に、塵埃によっ
て基板が汚染されることを極力少なくした基板搬送装置
を提供することにある。It is another object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus which minimizes contamination of a substrate by dust when taking out a substrate from a cassette or storing a substrate in the cassette.
〈課題を解決するための手段〉 本発明は、このような目的を達成するために、次のよ
うな構成をとる。<Means for Solving the Problems> The present invention has the following configuration in order to achieve such an object.
すなわち、請求項(1)に記載の第1の発明は、静止
した基台上に載置された状態で基板を多段に収納する基
板収納容器と、所定の基板待機位置との間で、基板を搬
送する基板搬送装置において、 前記基板収納容器と前記基板待機位置との間を移動す
る移動手段と、 前記移動手段に搭載され、基板保持機構を備えたアー
ムと、 前記移動手段に搭載され、前記アームを基板収納容器
に対して進退駆動するアーム進退駆動手段と、 前期移動手段に搭載され、上端が基板収納容器の最下
段の基板収納高さよりも低い位置にあって、基板を載置
する基板載置具と、 前記移動手段に搭載され、上端が基板収納容器の最下
段の基板収納高さよりも低い位置にある複数個の当接片
を、前記基板載置具に載置されている基板の外縁に当接
離間させて、基板載置具に対する基板の載置位置を整合
する基板整合手段と、 前記移動手段に搭載され、少なくとも、基板収納容器
の最上段の基板収納高さから、基板載置具が基板を載置
する高さに至る上下方向の範囲内で、前記アームを昇降
駆動するアーム昇降駆動手段と、 を備えたものである。That is, a first aspect of the present invention is directed to a first aspect of the present invention, wherein a substrate storage container for storing substrates in multiple stages while being mounted on a stationary base and a predetermined substrate standby position are provided. In the substrate transfer device for transferring, a moving means for moving between the substrate storage container and the substrate standby position, an arm mounted on the moving means, provided with a substrate holding mechanism, mounted on the moving means, Arm forward / backward drive means for driving the arm forward / backward with respect to the substrate storage container; mounted on the moving means, the upper end is located at a position lower than the lowermost substrate storage height of the substrate storage container, and the substrate is placed thereon. A plurality of abutting pieces mounted on the moving means and having an upper end positioned lower than the lowermost substrate storage height of the substrate storage container, and mounted on the substrate mounting tool; Contact and separate the outer edge of the board A substrate aligning means for aligning the mounting position of the substrate with respect to the mounting equipment; and a height at which the substrate mounting equipment mounts the substrate, based on at least a substrate storage height of the uppermost stage of the substrate storage container, which is mounted on the moving means. Arm driving means for driving the arm up and down within a range of up and down directions.
また、請求項(2)に記載の第2の発明は、前記第1
の発明の各構成のうち、 アーム昇降駆動手段の代わりに、移動手段を昇降可能
に構成し、 アームに保持された基板を基板載置具に載置する手段
として、基板載置具を、基板搬送高さよりも低い退避位
置と、アームの基板搬送高さよりも高い基板載置位置と
の間で昇降させる基板載置具昇降駆動手段を移動手段に
搭載し、 かつ、移動手段に搭載される基板整合手段の複数個の
当接片を、アームによって基板が搬送される領域外であ
る退避位置から、前記基板載置具に載置されている基板
の外縁に当接する位置にまで移動させて、基板載置具に
対する基板の載置位置を整合するようにしたものであ
る。Further, the second invention according to claim (2) provides the first invention.
In each of the configurations of the invention, the moving means is configured to be capable of elevating and lowering instead of the arm elevating drive means, and the substrate mounting tool is used as a means for mounting the substrate held by the arm on the substrate mounting tool. A substrate mounting device lifting / lowering drive unit for raising / lowering between a retracted position lower than the transfer height and a substrate mounting position higher than the substrate transfer height of the arm is mounted on the moving unit, and a substrate mounted on the moving unit. A plurality of abutting pieces of the aligning means are moved from a retracted position outside the area where the substrate is transported by the arm to a position where the abutting piece contacts the outer edge of the substrate placed on the substrate placing tool, The position where the substrate is placed on the substrate placing device is adjusted.
また、請求項(3)に記載の第3の発明は、前記第1
の発明の各構成のうち、 基板収納容器への基板の出し入れの際にアームを所望
の基板収納高さにまで昇降させる動作を、移動手段を昇
降可能に構成することによって行い、 前記移動手段に搭載される基板整合手段の複数個の当
接片を、前記アームによって基板が搬送される領域外で
ある退避位置から、前記基板載置具に載置されている基
板の外縁に当接する位置にまで移動させて、基板載置具
に対する基板の載置位置を整合するように構成し、 かつ、アームの保持された基板を、その上端が前記ア
ームによる基板搬送高さよりも低い位置にある基板載置
具に載置する手段として、アームを、基板載置具の基板
載置高さよりも高い位置から、基板載置高さよりも低い
位置の間にわたって昇降駆動するアーム昇降駆動手段を
備え、これを移動手段に搭載したものである。Further, the third invention described in claim (3) is the first invention.
In each of the configurations of the invention, the operation of raising and lowering the arm to a desired substrate storage height when loading and unloading the substrate into and from the substrate storage container is performed by configuring the moving unit to be able to move up and down. The plurality of abutting pieces of the mounted substrate aligning means are moved from a retreat position outside the area where the substrate is transported by the arm to a position where the abutting piece contacts the outer edge of the substrate mounted on the substrate mounting tool. To move the substrate on the substrate mounting device so that the mounting position of the substrate is adjusted with respect to the substrate mounting device. As means for placing on the mounting device, the arm is provided with arm lifting and lowering driving means for driving the arm to move up and down from a position higher than the substrate mounting height of the substrate mounting device to a position lower than the substrate mounting height. Moving hand In which it is mounted on.
〈作用〉 第1の発明の作用は次のとおりである。<Operation> The operation of the first invention is as follows.
基板収納容器から基板を取り出す場合は、移動手段が
基板収納容器の近傍にまで移動するとともに、アーム昇
降駆動手段がアームを昇降駆動することにより、基板収
納容器内の取り出し対象となる基板が収納されている高
さにアームをセッティングする。アーム進退駆動手段が
アームを前進駆動することにより、アームが基板収納容
器内に進入し、アーム昇降駆動手段がアームを少々上昇
させることで、アームに基板を保持する。その後、アー
ムが後退駆動されることにより、基板を基板収納容器か
ら取り出す。このとき、基板載置具および基板整合手段
は、その上端が基板収納容器の最下段の基板収納高さよ
りも低い位置にあるので、アームに保持された基板は、
基板載置具や基板整合手段にその進路が邪魔されること
なく取り出されて基板載置具の上方位置にもってこられ
る。When removing the substrate from the substrate storage container, the moving means moves to the vicinity of the substrate storage container, and the arm lifting drive means drives the arm up and down, so that the substrate to be removed in the substrate storage container is stored. Set the arm at the required height. The arm moves forward and backward by the arm advance / retreat drive means, the arm enters the substrate storage container, and the arm lifting / lowering drive means slightly raises the arm to hold the substrate on the arm. Thereafter, the substrate is taken out of the substrate storage container by driving the arm backward. At this time, since the upper end of the substrate mounting tool and the substrate alignment means is located at a position lower than the lowermost substrate storage height of the substrate storage container, the substrate held by the arm is
The path is taken out without obstruction by the substrate placing device or the substrate aligning means, and is brought to a position above the substrate placing device.
次に、移動手段が移動して基板を待機位置まで搬送
し、この移動の間に、あるいは、その前後に、アーム昇
降駆動手段によって、基板載置具が基板を載置する高さ
以下にアームが下降駆動されることにより、アームに保
持されていた基板が基板載置具に受け渡される。この
後、基板載置具に基板が載置された状態で、基板整合手
段の当接片を基板の外縁に当接離間させることにより、
基板載置具に対する基板の位置合わせが行われる。な
お、基板支持具は移動手段によって基板待機位置へ到着
しているから、基板支持具に対して基板を位置決めする
ことで、基板は基板待機位置へ搬送および位置決めされ
た状態となる。Next, the moving means moves to convey the substrate to the standby position, and during, before or after this movement, the arm is lowered by the arm lifting / lowering driving means to a height at which the substrate mounting tool mounts the substrate or less. Is driven downward, and the substrate held by the arm is transferred to the substrate mounting member. Thereafter, in a state where the substrate is mounted on the substrate mounting tool, the contact piece of the substrate alignment means is brought into contact with and separated from the outer edge of the substrate by
Positioning of the substrate with respect to the substrate mounting tool is performed. Since the substrate support has arrived at the substrate standby position by the moving means, by positioning the substrate with respect to the substrate support, the substrate is transported and positioned to the substrate standby position.
一方、基板待機位置にある基板を基板収納容器に搬入
する場合、移動手段は基板待機位置にあり、アームは基
板載置具の基板載置高さよりも下方にあり、基板載置具
は基板を載置した状態にある。基板整合手段によって、
基板の位置合わせを行った後、アームが上昇することに
より、基板載置具から位置合わせされた基板をアームが
受け取り、これを保持する。このような位置合わせの後
に、移動手段は基板収納容器の近傍に移動し、この移動
の間に、あるいは、その後に、アームが昇降駆動され
て、基板収納容器の所定の収納位置にセッティングされ
る。続いて、アームが前進駆動されて、基板収納容器内
に基板を搬入して、基板を基板収納容器の所定の収納溝
内に受渡した後、アームを基板収納容器から退出駆動す
る。On the other hand, when carrying the substrate at the substrate standby position into the substrate storage container, the moving means is at the substrate standby position, the arm is below the substrate mounting height of the substrate mounting device, and the substrate mounting device is configured to transfer the substrate. It is in a mounted state. By means of substrate alignment,
After the positioning of the substrate, the arm is lifted, so that the arm receives the aligned substrate from the substrate mounting tool and holds it. After such alignment, the moving means moves to the vicinity of the substrate storage container, and during or after this movement, the arm is driven up and down to be set at a predetermined storage position of the substrate storage container. . Subsequently, the arm is driven forward to carry the substrate into the substrate storage container, transfer the substrate into a predetermined storage groove of the substrate storage container, and then drive the arm out of the substrate storage container.
第2の発明の作用は次のとおりである。 The operation of the second invention is as follows.
基板収納容器から基板を取り出す場合は、移動手段が
基板収納容器の近接にまで移動するとともに、昇降する
ことにより、基板収納容器内の取り出し対象となる基板
が収納されている高さにアームをセッティングし、第1
の発明と同様にして基板を基板収納容器外に取り出す。
このとき、基板載置具および基板整合手段の当接片は、
アームにより基板が搬送される領域の外の退避位置にあ
るので、基板載置具や当接片に邪魔されることなく基板
が取り出されて、基板載置具の上方にもってこられる。
基板が取り出されると、移動手段が基板待機位置へ移動
した後、基板載置具は、アームが基板を搬送している高
さよりも低い退避位置から、アームの搬送高さよりも高
い位置にまで上昇駆動され、アーム上の基板が基板載置
具に受渡される。続いて、基板整合手段によって基板載
置具上の基板の位置合わせが行われ、基板は、基板待機
位置へ搬送および位置決めされた状態となる。When removing a substrate from the substrate storage container, the moving means moves to the vicinity of the substrate storage container and moves up and down to set the arm to a height at which the substrate to be removed is stored in the substrate storage container. And the first
The substrate is taken out of the substrate storage container in the same manner as in the above invention.
At this time, the contact pieces of the substrate mounting tool and the substrate alignment means are:
Since the arm is at the retracted position outside the area where the substrate is transported, the substrate can be taken out without being disturbed by the substrate mounting tool or the contact piece, and brought above the substrate mounting tool.
After the substrate is taken out, after the moving means has moved to the substrate standby position, the substrate mounting device rises from a retracted position lower than the height at which the arm is transporting the substrate to a position higher than the transport height of the arm. The substrate is driven and the substrate on the arm is transferred to the substrate mounting device. Subsequently, the alignment of the substrate on the substrate mounting tool is performed by the substrate alignment means, and the substrate is conveyed and positioned to the substrate standby position.
基板待機位置にある基板を基板収納容器に搬入する場
合、移動手段は基板待機位置にあり、基板載置具はアー
ムよりも高い位置にある。基板載置具上の基板を基板整
合手段によって位置合わせした後、基板載置具が下降す
ることにより位置合わせされた基板がアームに受渡され
る。このような位置合わせの後に、移動手段は基板収納
容器の近傍に移動するとともに昇降して、アームを基板
収納容器の所定の収納位置にセッティングする。以下、
第1の発明と同様にして基板が基板収納容器内に搬入さ
れる。When the substrate at the substrate standby position is carried into the substrate storage container, the moving unit is at the substrate standby position, and the substrate mounting tool is at a position higher than the arm. After aligning the substrate on the substrate mounting device by the substrate alignment means, the substrate mounting device is lowered and the aligned substrate is delivered to the arm. After such alignment, the moving means moves to the vicinity of the substrate storage container and moves up and down to set the arm to a predetermined storage position of the substrate storage container. Less than,
The substrate is carried into the substrate storage container in the same manner as in the first invention.
第3の発明の作用は次のとおりである。 The operation of the third invention is as follows.
基板収納容器から基板を取り出す場合は、第2の発明
と同様に移動手段の移動および昇降によって、アームの
位置がセッティングがされて、所定の基板が基板収納容
器外に取り出される。このとき、基板載置具はアームに
よる基板搬送高さよりも低い位置にあり、また、基板整
合手段の当接片は、アームにより基板が搬送される領域
の外の退避位置にあるので、基板載置具や当接片に邪魔
されることなく基板が取り出されて、基板載置具の上方
にもってこられる。基板が取り出されると、移動手段が
基板待機位置へ移動するのは第1の発明と同じである。
この後、アームが基板載置具の上端よりも低い位置に下
降することにより、アーム上の基板が基板載置具に受渡
される。続いて、基板整合手段によって基板載置具上の
基板の位置合わせが行われる。、基板は、基板待機位置
へ搬送および位置決めされた状態となる。When the substrate is taken out of the substrate storage container, the position of the arm is set by moving and moving up and down the moving means as in the second invention, and the predetermined substrate is taken out of the substrate storage container. At this time, the substrate mounting member is at a position lower than the substrate transfer height by the arm, and the contact piece of the substrate alignment means is at the retracted position outside the area where the substrate is transferred by the arm, so that the substrate The substrate is taken out without being disturbed by the mounting device or the contact piece, and is brought above the substrate mounting device. When the substrate is taken out, the moving means moves to the substrate standby position as in the first invention.
Thereafter, the substrate on the arm is delivered to the substrate mounting device by lowering the arm to a position lower than the upper end of the substrate mounting device. Subsequently, the substrate is aligned on the substrate mounting tool by the substrate alignment means. The substrate is conveyed and positioned to the substrate standby position.
一方、基板待機位置にある基板を基板収納容器に搬入
する場合、移動手段は基板待機位置にあり、アームは基
板載置具よりも下方にある状態にある。基板載置具上の
基板を基板整合手段によって位置合わせした後、アーム
が上昇することにより位置合わせされた基板がアームに
受渡される。このような位置合わせの後に、移動手段は
基板収納容器の近傍に移動するとともに昇降して、アー
ムを基板収納容器の所定の収納位置にセッティングす
る。以下、第1の発明と同様にして基板が基板収納容器
内に搬入される。On the other hand, when the substrate at the substrate standby position is carried into the substrate storage container, the moving unit is at the substrate standby position, and the arm is in a state below the substrate mounting member. After the substrate on the substrate mounting device is aligned by the substrate alignment means, the arm is raised and the aligned substrate is delivered to the arm. After such alignment, the moving means moves to the vicinity of the substrate storage container and moves up and down to set the arm to a predetermined storage position of the substrate storage container. Hereinafter, the substrate is carried into the substrate storage container in the same manner as in the first invention.
〈実施例〉 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明す
る。<Example> Hereinafter, an example of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
第1実施例 第1図は本実施例に係る基板搬送装置が使用された半
導体製造装置の概略構成を示している。First Embodiment FIG. 1 shows a schematic configuration of a semiconductor manufacturing apparatus using a substrate transfer apparatus according to the present embodiment.
この半導体製造装置は、半導体基板にフォトレジスト
等をコーティングして熱処理するための装置であり、大
きく分けて、未処理基板を保管したり処理ずみ基板を保
管する部分(以下、インデクサーモジュールと称する)
10と、基板処理に係るプロセスモジュール20とから構成
されている。This semiconductor manufacturing apparatus is an apparatus for coating a semiconductor substrate with a photoresist or the like and performing a heat treatment, and is roughly divided into a portion for storing an unprocessed substrate and a portion for storing a processed substrate (hereinafter, referred to as an indexer module). )
10 and a process module 20 related to substrate processing.
インデクサーモジュール10の静止した基台11の上に
は、シリコンウエハ等の半導体基板(以下、単に基板と
いう)Wを多段に収納した基板収納容器としての複数個
(ここでは4個)のカセットCが一列状態に載置されて
いる。インデクサーモジュール10には、各カセットC
と、所定の基板受渡し位置Pとの間で、基板Wを搬送す
るインデクサー搬送ユニット30が設けられている。な
お、前記受渡し位置Pは、プロセスモジュール20におけ
る各処理ユニット231、232、242、242、243へ所定の順
番で基板Wを搬送するプロセス搬送ユニット21とインデ
クサー搬送ユニット30との間で基板Wの受渡しをする位
置である。On the stationary base 11 of the indexer module 10, a plurality (here, four) of cassettes C as a substrate storage container that stores semiconductor substrates (hereinafter, simply referred to as substrates) W such as silicon wafers in multiple stages. Are placed in a line. The indexer module 10 includes each cassette C
And an indexer transfer unit 30 for transferring the substrate W between the substrate transfer position P and a predetermined substrate transfer position P. Incidentally, the transfer position P, each processing unit 23 1 in the process module 20, 23 2, 24 2, 24 2, 24 3 to the process transport unit 21 and the indexer transport unit 30 which transports the substrate W in a predetermined order This is a position where the substrate W is transferred between them.
第2図を参照する。第2図はインデクサーモジュール
10の平面図を示している。Please refer to FIG. Figure 2 shows the indexer module
10 shows a plan view.
後に詳しく説明するように、インデクサー搬送ユニッ
ト30は、各カセットCと前記基板受渡し位置Pとの間を
移動可能に構成されており、基板の下面を吸着すること
によって基板を保持するアーム31や、第2図には現れて
いないが、アーム31をカセットCに対して進退駆動する
ためのアーム進退駆動機構およびアーム31を昇降させる
ためのアーム昇降機構が搭載されているとともに、基板
Wを載置するための基板載置具としての昇降自在な3本
の支持ピン32や、これらの支持ピン32に載置された基板
Wの位置合わせをするための基板整合機構などが搭載さ
れている。基板整合機構は、後に詳しく説明するが、支
持ピン32の両側にそれぞれ摺動自在に配設された整合板
34a,34bに、凸状の複数個の当接片33を基板Wと略同じ
曲率になるように円弧状に配置しており、前記当接片33
が支持ピン32上の基板Wの外縁に当接離間するように整
合板34a,34bを往復駆動することにより、支持ピン32に
対して基板Wの位置合わせを行う。As described in detail later, the indexer transport unit 30 is configured to be movable between each cassette C and the substrate transfer position P, and an arm 31 that holds the substrate by sucking the lower surface of the substrate, Although not shown in FIG. 2, an arm moving mechanism for moving the arm 31 forward and backward with respect to the cassette C and an arm moving mechanism for moving the arm 31 up and down are mounted, and the substrate W is placed thereon. There are mounted three support pins 32 which can be moved up and down as substrate mounting tools for performing the operation, a substrate alignment mechanism for aligning the substrate W mounted on these support pins 32, and the like. The substrate alignment mechanism will be described later in detail, but an alignment plate slidably disposed on each side of the support pin 32.
34a and 34b, a plurality of convex contact pieces 33 are arranged in an arc shape so as to have substantially the same curvature as the substrate W.
The alignment plates 34a and 34b are reciprocally driven so that the substrate W comes into contact with and separates from the outer edge of the substrate W on the support pins 32, so that the position of the substrate W with respect to the support pins 32 is adjusted.
基台11に載置されたカセットCの前後を挟むよよう
に、昇降自在のコの字状のブラケット35が配備されてお
り、このブラケット35の両先端部に投光素子36と受光素
子37とからなる光センサが取り付けられている。本実施
例では、アーム31による基板Wの取り出しの前に、ブラ
ケット35をカセットCに沿って昇降することにより、前
記光センサで各カセットCの各収納溝に基板Wが収納さ
れているかどうかを検出し、それによって得られた各カ
セットCの収納溝ごとの基板有り無しの情報を、図示し
ない制御装置のメモリ内に記憶しておき、アーム31によ
る基板の取り出し時には、前記メモリ内の情報に基づい
てアーム31の位置をセッティングするように構成されて
いる。A U-shaped bracket 35 that can be moved up and down is provided so as to sandwich the front and rear of the cassette C mounted on the base 11, and a light projecting element 36 and a light receiving element 37 are provided at both ends of the bracket 35. Is attached. In the present embodiment, before the substrate W is taken out by the arm 31, the bracket 35 is moved up and down along the cassette C to determine whether the substrate W is stored in each storage groove of each cassette C by the optical sensor. The information on the presence or absence of the substrate for each storage groove of each cassette C obtained by the detection is stored in a memory of a control device (not shown), and when the substrate is taken out by the arm 31, the information in the memory is stored in the memory. The position of the arm 31 is set based on this.
第1図に戻って、インデクサー搬送ユニット30によっ
て、カセットCから取り出されて、基板受渡し位置Pへ
移動してから、後述するようにして、基板Wの位置決め
を行い、プロセス搬送ユニット21への基板Wの受け渡し
がなされる。Returning to FIG. 1, after being taken out of the cassette C by the indexer transport unit 30 and moved to the substrate transfer position P, the substrate W is positioned as described later, and the substrate is transferred to the process transport unit 21. W is delivered.
プロセス搬送ユニット21は、旋回可能なUの字状の基
板支持アーム22に基板Wを載置した状態で基板Wを移送
し、プロセスモジュール20に備えられたスピンナーユニ
ット231、232や、熱処理ユニット241〜243に基板Wを順
にセッティングしていく。プロセスモジュール20で処理
された基板Wは、前記基板受渡し位置Pにおいて、プロ
セス搬送ユニット21からインデクサー搬送ユニット30へ
受け渡された後、インデクサー搬送ユニット30によって
カセットC内に戻される。The process transfer unit 21 transfers the substrate W while the substrate W is mounted on the swivelable U-shaped substrate support arm 22, and the spinner units 23 1 and 23 2 provided in the process module 20 and heat treatment. turn continue to setting the substrate W to the unit 24 1-24 3. The substrate W processed by the process module 20 is transferred from the process transfer unit 21 to the indexer transfer unit 30 at the substrate transfer position P, and then returned into the cassette C by the indexer transfer unit 30.
以下、第3図〜第7図を参照して、インデクサー搬送
ユニット30の詳細な構成を説明する。Hereinafter, the detailed configuration of the indexer transport unit 30 will be described with reference to FIGS.
第3図は、インデクサー搬送ユニット30に備えられた
移動機構40、アーム昇降機構50、およびアーム進退駆動
機構60を示した分解斜視図である。なお、第3図では、
理解の容易のために、インデクサー搬送ユニット30に備
えられた支持ピン32、当接片33、およびこれらを駆動す
るための機構については、図示を省略している。FIG. 3 is an exploded perspective view showing the moving mechanism 40, the arm lifting / lowering mechanism 50, and the arm advance / retreat driving mechanism 60 provided in the indexer transport unit 30. In FIG. 3,
For easy understanding, the support pins 32 and the contact pieces 33 provided in the indexer transport unit 30 and a mechanism for driving them are not shown.
移動機構40の可動ベース部材41は、第1図に示したカ
セット設置用の基台11に並設された一対のガイドレール
42に摺動自在に嵌め付けられている。可動ベース部材41
は、ガイドレール42に並設された螺軸43に螺合され、こ
の螺軸43の一端に連結された図示しないモータで螺軸43
が正逆方向に回転駆動されることにより、基台11に沿っ
て水平移動するようになっている。なお、移動機構40が
第1の発明の構成に言う「移動手段」に対応する。The movable base member 41 of the moving mechanism 40 includes a pair of guide rails arranged side by side on the cassette setting base 11 shown in FIG.
42 is slidably fitted to 42. Movable base member 41
Is screwed onto a screw shaft 43 arranged side by side on the guide rail 42, and is connected to one end of the screw shaft 43 by a motor (not shown).
Are horizontally driven along the base 11 by being driven to rotate in the forward and reverse directions. Note that the moving mechanism 40 corresponds to the “moving means” in the configuration of the first invention.
移動機構40には、次のような構成のアーム昇降機構50
が搭載されている。The moving mechanism 40 includes an arm elevating mechanism 50 having the following configuration.
Is installed.
すなわち、可動ベース部材41には門形フレーム51が立
設されており、この門形フレーム51に上下方向にわたっ
て架設された一対のガイド軸52に、昇降部材53が摺動自
在に嵌入されている。昇降部材53は、ガイド軸52に並設
された螺軸54に螺合されており、この螺軸54を梁部材51
aに取り付けられたモータ55で正逆方向にベルト駆動す
ることにより、昇降するようになっている。昇降部材53
には、一対のブラケット56が設けられており、このブラ
ケット56の上にアーム進退駆動機構60が配設されてい
る。なお、アーム昇降機構50が第1の発明の構成に言う
「アーム昇降駆動手段」に対応する。That is, a gate-shaped frame 51 is erected on the movable base member 41, and a lifting member 53 is slidably fitted on a pair of guide shafts 52 that are erected on the gate-shaped frame 51 vertically. . The elevating member 53 is screwed to a screw shaft 54 provided in parallel with the guide shaft 52, and this screw shaft 54 is connected to the beam member 51.
The belt is driven in the forward and reverse directions by a motor 55 attached to a to ascend and descend. Lifting member 53
Is provided with a pair of brackets 56, and an arm advance / retreat drive mechanism 60 is disposed on the brackets 56. Note that the arm lifting / lowering mechanism 50 corresponds to “arm lifting / lowering driving means” in the configuration of the first invention.
アーム進退駆動機構60のベース板61には、可動ベース
部材41の移動方向と直交する方向にガイドレール62が設
けられており、このガイドレール62にアーム基台63が摺
動自在に嵌め付けられている。このアーム基台63に立設
された支持棒64の上部に、基板Wを吸着保持するための
薄板状のアーム31が水平状態に片持ち支持されている。
このアーム31の先端部に、基板Wを真空吸着するための
吸着孔31aがある。A guide rail 62 is provided on a base plate 61 of the arm advance / retreat drive mechanism 60 in a direction perpendicular to the moving direction of the movable base member 41, and an arm base 63 is slidably fitted on the guide rail 62. ing. Above the support rod 64 erected on the arm base 63, a thin plate-shaped arm 31 for holding the substrate W by suction is horizontally supported in a cantilever manner.
At the tip of the arm 31, there is a suction hole 31a for sucking the substrate W in vacuum.
アーム進退駆動機構60のベース板61には、ガイドレー
ル62に平行して、無端状のベルト65が一対の従動プーリ
66a,66b間に張設されており、このベルト65の一部がア
ーム基台63と連結されている。また、従動プーリ66bと
主動プーリ67との間に無端状のベルト68が張設され、前
記主動プーリ67をステッピングモータ69で正逆方向に駆
動することにより、アーム基台63がガイドレール62に沿
って往復動するようになっている。なお、アーム進退駆
動機構60が第1の発明の構成に言う「アーム進退駆動手
段」に対応する。An endless belt 65 is provided on the base plate 61 of the arm advance / retreat drive mechanism 60 in parallel with the guide rail 62 by a pair of driven pulleys.
The belt 65 is stretched between 66a and 66b, and a part of the belt 65 is connected to the arm base 63. Further, an endless belt 68 is stretched between the driven pulley 66b and the driven pulley 67, and the arm base 63 is moved to the guide rail 62 by driving the driven pulley 67 in the forward and reverse directions by a stepping motor 69. It reciprocates along. Note that the arm advance / retreat drive mechanism 60 corresponds to “arm advance / retreat drive means” in the configuration of the first invention.
ベース板61には、アーム基台63の原点位置を検出する
ために光センサ70が取り付けられており、この光センサ
70がアーム基台63から水平に延び出たL型の遮光板71を
検出することにより、アーム31の原点検出が行われる。An optical sensor 70 is attached to the base plate 61 to detect the origin position of the arm base 63.
The origin of the arm 31 is detected by detecting the L-shaped light shielding plate 71 extending horizontally from the arm base 63 by the arm 70.
次に、第4図〜第6図を参照して、インデクサー搬送
ユニット30に備えられた支持ピン32、当接片33、および
これら駆動するための機構について説明する。なお、支
持ピン32が第1の発明の構成に言う「基板載置具」に対
応する。Next, with reference to FIGS. 4 to 6, the support pins 32 and the contact pieces 33 provided in the indexer transport unit 30 and a mechanism for driving them will be described. Note that the support pins 32 correspond to the “substrate placing device” in the configuration of the first invention.
第4図は、支持ピン32、当接片33、およびこれらの駆
動機構を搭載した状態のインデクサー搬送ユニット30
を、第3図のA矢印方向からみた一部破断図、第5図は
インデクサー搬送ユニットを第4図のB矢印方向からみ
た図、第6図はインデクサー搬送ユニット30に搭載され
た基板整合機構の一部破断平面図である。FIG. 4 shows a support pin 32, an abutment piece 33, and an indexer transport unit 30 with these drive mechanisms mounted.
3 is a partially cutaway view taken in the direction of arrow A in FIG. 3, FIG. 5 is a view of the indexer transport unit seen in the direction of arrow B in FIG. 4, and FIG. 6 is a substrate alignment mechanism mounted on the indexer transport unit 30. 3 is a partially broken plan view of FIG.
門形フレーム51の上面には、第2図で説明した整合板
34a,34bを摺動可能に支持するためのベース板80が、片
持ち状に取り付けられている。このベース板80の中央部
には、第3図に示したアーム31の支持棒64を導出すると
ともに、基板出し入れ時の支持棒64の進退駆動を許容す
る長孔80a(第2図および第6図参照)が形成されてい
る。この長孔80aに直交する方向に、第4図に示すよう
に、一対のガイドレール81aが設けられ、このガイドレ
ール81aに摺動板82aが摺動自在に架設されている。この
摺動板82aに一方の整合板34aが支持板83aを介して支持
されている。長孔80aを挟んでガイドレール81aと対向す
る位置に同様の一対のガイドレール81bがあり(第5図
参照)、このガイドレール81bに摺動自在に架設された
摺動板82bに、他方の整合板34bが支持板83bを介して支
持されている。On the upper surface of the gate-shaped frame 51, the matching plate described in FIG.
A base plate 80 for slidably supporting the base plates 34a and 34b is mounted in a cantilever manner. At the center of the base plate 80, a support rod 64 of the arm 31 shown in FIG. 3 is led out, and a long hole 80a (FIG. 2 and FIG. (See the figure). As shown in FIG. 4, a pair of guide rails 81a is provided in a direction orthogonal to the elongated holes 80a, and a slide plate 82a is slidably mounted on the guide rails 81a. One matching plate 34a is supported by the sliding plate 82a via a support plate 83a. A similar pair of guide rails 81b is provided at a position facing the guide rail 81a with the long hole 80a interposed therebetween (see FIG. 5), and the other slide plate 82b slidably mounted on the guide rail 81b is provided on the other side. The matching plate 34b is supported via a support plate 83b.
第4図に示すように、各摺動板82a,82bの下方には、
支軸84を介してベース板80に揺動自在に取り付けられた
リンク部材85がそれぞれ設けられている。各リンク部材
85は、連結ピン86を介して摺動板82a,82bにそれぞれ緩
く連結されている。また、各リンク部材85の下方には、
ベース板80上に設けられたガイドレール87に摺動自在に
嵌め付けられたUの字形状のプッシャー板88があり(第
6図、第7図参照)、このプッシャー板88が連結ピン89
を介して、各リンク部材85に緩く結合されている。第7
図に示すように、前記プッシャー板88が、後述するカム
機構によって同図の矢印C方向に押し出されると、その
作用力が連結ピン89を介して各リンク部材85に伝えら
れ、各リンク部材85は支軸84を中心にして矢印D方向に
揺動する。その結果、各リンク部材85の連結ピン86に連
結された整合板34a,34bが互いに近づく方向(矢印E方
向)に動き、整合板34a,34bに設けられた各当接片33が
基板Wの外縁に当接する。As shown in FIG. 4, below each sliding plate 82a, 82b,
Link members 85 are provided, each of which is swingably attached to the base plate 80 via a support shaft 84. Each link member
85 is loosely connected to the sliding plates 82a, 82b via connecting pins 86, respectively. In addition, below each link member 85,
There is a U-shaped pusher plate 88 slidably fitted on a guide rail 87 provided on the base plate 80 (see FIGS. 6 and 7).
Are loosely coupled to the respective link members 85. Seventh
As shown in the figure, when the pusher plate 88 is pushed out in the direction of arrow C in the same figure by a cam mechanism described later, the acting force is transmitted to each link member 85 via a connecting pin 89, and each link member 85 Swings about the support shaft 84 in the direction of arrow D. As a result, the alignment plates 34a and 34b connected to the connection pins 86 of the link members 85 move in a direction approaching each other (the direction of arrow E), and the respective contact pieces 33 provided on the alignment plates 34a and 34b Touch the outer edge.
第6図に示すように、整合板34a,34bの間にある3本
の支持ピン32は、Uの字状の支持板90に支持されてい
る。支持板90の基部は昇降部材91に連結さており、この
昇降部材91が門形フレーム51に上下方向に取り付けられ
たガイドレール92に摺動自在に嵌め付けられている。第
5図に示すように、昇降部材91はコイルバネ93によって
下方向に付勢されており、アーム31がカセットCに対し
て基板Wの出し入れを行っているときには、同図に示し
たような下限位置にある。なお、同図に鎖線で示したア
ーム31は、下限位置にあるときのアーム位置を示してい
る。As shown in FIG. 6, three support pins 32 between the alignment plates 34a and 34b are supported by a U-shaped support plate 90. The base of the support plate 90 is connected to an elevating member 91, and the elevating member 91 is slidably fitted on a guide rail 92 attached to the portal frame 51 in the vertical direction. As shown in FIG. 5, the elevating member 91 is urged downward by a coil spring 93, and when the arm 31 moves the substrate W in and out of the cassette C, the lower limit shown in FIG. In position. Note that the arm 31 indicated by a chain line in the figure indicates the arm position when it is at the lower limit position.
なお、整合板34a,34bに設けられた当接片33の上端、
および下限位置にある支持ピン32の上端を、第4図およ
び第5図に示したように、カセットCの最下段にある基
板W′の収納高さよりも低い位置になるように設定する
ことにより、アーム31がカセットCに対して基板Wを出
し入れする際に、当接片33や支持ピン32が基板搬送の障
害にならないようにしている。The upper ends of the contact pieces 33 provided on the alignment plates 34a and 34b,
4 and 5, the upper end of the support pin 32 at the lower limit position is set to a position lower than the storage height of the substrate W 'at the lowermost stage of the cassette C, as shown in FIGS. When the arm 31 moves the substrate W in and out of the cassette C, the contact pieces 33 and the support pins 32 do not hinder the substrate transport.
次に、上述した当接片33や支持ピン32を駆動するため
の機構について説明する。Next, a mechanism for driving the contact piece 33 and the support pin 32 described above will be described.
第4図および第6図に示すように、門形フレーム51の
一方の側壁にガイドレール94が上下方向に設けられてお
り、このガイドレール94に、部材97cが摺動自在に嵌め
付けられており、この部材97cが部材97bを介してカム部
材95に連結されている。カム部材95が設けられた門形フ
レーム51の側壁の内側にエアーシリンダ96が取り付けら
れており、このエアーシリンダ96のロッド96aと前記カ
ム部材95とが、連結部材97a,97bを介して連結されてい
る。カム部材95に形成されたカム溝95aの作動曲面は、
その上方がプッシャー板88のスライド方向(第4図の左
方向)に凸状態になるような湾曲部分95bをもち、湾曲
部分95bの下方は鉛直に延びている。このカム部材95
に、Lの字状の従動部材98の下方に取り付けられたカム
ホロア99が嵌入されており、この従動部材98の他端がプ
ッシャー板88に連結されている。As shown in FIGS. 4 and 6, a guide rail 94 is provided on one side wall of the gate-shaped frame 51 in a vertical direction, and a member 97c is slidably fitted on the guide rail 94. The member 97c is connected to the cam member 95 via the member 97b. An air cylinder 96 is attached inside the side wall of the portal frame 51 provided with the cam member 95, and the rod 96a of the air cylinder 96 and the cam member 95 are connected via connecting members 97a and 97b. ing. The operating curved surface of the cam groove 95a formed in the cam member 95 is:
The upper portion has a curved portion 95b that is convex in the sliding direction of the pusher plate 88 (leftward in FIG. 4), and the lower portion of the curved portion 95b extends vertically. This cam member 95
A cam follower 99 attached below the L-shaped driven member 98 is fitted into the driven member 98, and the other end of the driven member 98 is connected to the pusher plate 88.
第5図に示すように、カム部材95に連結された部材97
bの下方には、押し上げ部材100が、昇降部材91の下端と
離間した状態で取り付けられており、カム部材95が上昇
駆動されている途中で、この押し上げ部材100が昇降部
材91の下端に当接することにより、その後のカム部材95
の上昇に伴って押し上げ部材100がコイルバネ93の付勢
力に抗して昇降部材91を押し上げて支持ピン32が上昇す
るように構成されている。なお、第5図に示した符号10
1は押し上げ部材100の下端に当接して、カム部材95の下
方への動きを規制するストッパである。As shown in FIG. 5, the member 97 connected to the cam member 95
Below the b, a push-up member 100 is attached so as to be separated from the lower end of the elevating member 91, and the push-up member 100 abuts on the lower end of the elevating member 91 while the cam member 95 is being driven up. By contact, the subsequent cam member 95
The lifting member 100 is configured to push up the elevating member 91 against the urging force of the coil spring 93 and to raise the support pin 32 with the rise. Note that reference numeral 10 shown in FIG.
Reference numeral 1 denotes a stopper that contacts the lower end of the push-up member 100 and restricts the downward movement of the cam member 95.
次に、上述した構成を備えたインデクサー搬送ユニッ
ト30の動作を、第8図を参照して説明する。Next, the operation of the indexer transport unit 30 having the above-described configuration will be described with reference to FIG.
カセットCから所定の基板Wを取り出す場合の動作
は、次のとおりである。The operation for taking out a predetermined substrate W from the cassette C is as follows.
まず、第3図に示した移動機構40の螺軸43が回転駆動
することによって、可動ベース部材41が水平移動して、
所定のカセットCに対向する位置にまでくる。上述の移
動途中、あるいは移動後にアーム昇降機構50のモータ55
が駆動して、アーム31を昇降させることにより、アーム
31を前記カセットCの取り出し対象となっている基板W
の収納溝位置に対応する高さにセッティングする。次
に、アーム進退駆動機構60のステッピングモータ69が正
転駆動することにより、アーム31をカセットC内の取り
出し対象となる基板Wの下方に進入させる。そして、ア
ーム31を少し上昇させることにより、基板Wをアーム31
上に移載し、アーム31が基板Wを吸着保持する。基板W
の吸着後、ステッピングモータ69が逆転駆動して、アー
ム31を原点位置(第2図示の位置)にまで後退させる。
このような基板取り出し動作のとき、支持ピン32は下限
位置にまで下降している。First, when the screw shaft 43 of the moving mechanism 40 shown in FIG. 3 is driven to rotate, the movable base member 41 moves horizontally,
It reaches a position facing a predetermined cassette C. During the above-mentioned movement or after the movement, the motor 55 of the arm lifting mechanism 50
Is driven to move the arm 31 up and down.
31 is the substrate W from which the cassette C is to be taken out.
Set to the height corresponding to the storage groove position. Next, when the stepping motor 69 of the arm advancing / retracting drive mechanism 60 is driven to rotate forward, the arm 31 is advanced below the substrate W to be taken out from the cassette C. Then, the substrate W is moved upward by slightly raising the arm 31.
The substrate W is moved upward, and the arm 31 holds the substrate W by suction. Substrate W
, The stepping motor 69 is driven to rotate in the reverse direction, and the arm 31 is retracted to the original position (the position shown in the second diagram).
At the time of such a substrate taking-out operation, the support pins 32 are lowered to the lower limit position.
基板Wを吸着保持した状態でアーム31が原点位置に戻
ると、移動機構40の可動ベース部材41が水平移動して、
基板Wを第1図に示した基板受渡し位置Pまで搬送す
る。この水平移動の間に、あるいは、その後に、アーム
昇降機構50のモータ55を駆動して、アーム31を下限位置
にまで下降させる。アーム31の下限位置は退避位置にあ
る支持ピン32の上端よりも下方に設定されているので、
アーム31の下降の際に吸着が解除されることにより、ア
ーム31上の基板Wが、第8図(A1),(B1)に示すよう
に、待機位置にある支持ピン32の上に受渡される。この
とき、第4図に示したエアーシリンダ96のロッド96aは
縮退している(第4図示の状態)ので、カム部材95は下
限位置にある。したがって、第9図に示すように、従動
部材98に設けられたカムホロア99はカム溝95aの上限位
置にあるので、整合板34a,34bは開いた状態になってい
る。When the arm 31 returns to the home position while holding the substrate W by suction, the movable base member 41 of the moving mechanism 40 moves horizontally,
The substrate W is transported to the substrate transfer position P shown in FIG. During or after this horizontal movement, the motor 55 of the arm elevating mechanism 50 is driven to lower the arm 31 to the lower limit position. Since the lower limit position of the arm 31 is set lower than the upper end of the support pin 32 at the retracted position,
When the suction is released when the arm 31 is lowered, the substrate W on the arm 31 is transferred onto the support pin 32 at the standby position as shown in FIGS. 8 (A1) and (B1). You. At this time, since the rod 96a of the air cylinder 96 shown in FIG. 4 is retracted (the state shown in FIG. 4), the cam member 95 is at the lower limit position. Therefore, as shown in FIG. 9, since the cam follower 99 provided on the driven member 98 is at the upper limit position of the cam groove 95a, the alignment plates 34a and 34b are in an open state.
アーム31が下限位置に達すると、エアーシリンダ96が
駆動されて、ロッド96aが伸長し、カム部材95が上方に
移動する。カム部材95の上昇に伴い、第9図に示すよう
に、カムホロア99がカム溝95aの湾曲部分95bに沿って、
同図における左方向に変位するので、従動部材98が同方
向に変位し、その結果として、整合板34a,34bが互いに
近づくように移動する。カムホロア99が湾曲部分95bの
頂点P1にきたとき、すなわち、整合板34a,34bが相互に
最も近づいたとき、各当接片33に対する内接円が基板径
と同程度になるように整合板34a,34bの位置関係が予め
調整されているので、仮に基板Wが位置ズレを起こした
状態で支持ピン32に載置されていても、上述の整合板34
a,34bの移動途中に、当接片33が基板Wの外縁に接触し
て基板Wを水平変移させることで、基板Wは支持ピン32
に対して常に一定の位置関係になるように位置合わせさ
れる(第8図(A2)、(B2)参照)。When the arm 31 reaches the lower limit position, the air cylinder 96 is driven, the rod 96a is extended, and the cam member 95 moves upward. With the rise of the cam member 95, as shown in FIG. 9, the cam follower 99 moves along the curved portion 95b of the cam groove 95a,
Since the driven member 98 is displaced in the left direction in the drawing, the driven member 98 is displaced in the same direction, and as a result, the alignment plates 34a and 34b move closer to each other. When the cam follower 99 has come to the vertex P 1 of the curved portion 95b, i.e., the aligning plates 34a, when 34b is closest to each other, the alignment plate as the inscribed circle of each contact member 33 is about the same as the substrate diameter Since the positional relationship between 34a and 34b is adjusted in advance, even if the substrate W is placed on the support pins 32 in a state where the substrate is displaced, the alignment plate 34
During the movement of the a and b, the contact piece 33 contacts the outer edge of the substrate W to horizontally displace the substrate W, so that the substrate W
(See FIGS. 8 (A2) and (B2)).
カム部材95がさらに上昇すると、カムホロア99は第9
図のP1位置から次第に右方向に戻り、P2位置にまで進ん
だところで、元の位置に戻る。これにより整合板34a,34
bは元の開放状態に復帰する。カムホロア99がP2位置に
くるまで、カム部材95が上昇したときに、カム部材95に
連結された押し上げ部材100が、昇降部材91の下端に当
接し、それ以後、カム部材95の上昇に伴って、昇降部材
91が上昇する。これにより、位置合わせ済みの基板Wを
載置した状態で支持ピン32が上昇し、インデクサー搬送
ユニット30とプロセス搬送ユニット21とで基板Wの受渡
しをするように予め設定しておいた高さ(以下、「基板
受渡し高さ」と称する)まで基板Wが持ち上げられる
(第8図(A3),(B3)参照)。この基板受け渡し高さ
は、第9図に示すカムホロア99のP3位置に対応してい
る。When the cam member 95 further rises, the cam follower 99 moves to the ninth position.
Gradually return to the right direction from the P 1 position of the figure, where advanced to the P 2 position, returns to the original position. Thereby, the matching plates 34a, 34
b returns to the original open state. Cam follower 99 until the P 2 position, when the cam member 95 is raised, the push-up member 100 connected to the cam member 95 comes into contact with the lower end of the elevating member 91, thereafter, with increasing cam member 95 And elevating members
91 rises. As a result, the support pins 32 are raised in a state where the aligned substrate W is placed thereon, and the height set in advance so that the substrate W is transferred between the indexer transport unit 30 and the process transport unit 21 ( The substrate W is lifted up to the “substrate delivery height” (see FIGS. 8 (A3) and 8 (B3)). The substrate transfer height corresponds to P 3 position of the cam follower 99 shown in Figure 9.
移動機構40が基板受渡し位置Pに達し、基板の位置決
めが完了すると、この位置に来たプロセス搬送ユニット
21の基板支持アーム22が、第8図(A4),(B4)に示す
ように、支持ピン32に載置された基板Wの下方に進入す
る。その後、基板支持アーム22が上昇することにより、
基板Wが基板支持アーム22上に受渡され、基板支持アー
ム22は、この基板Wを上述したように、プロセスモジュ
ール20の各処理ユニットに移送する。When the moving mechanism 40 reaches the substrate transfer position P and the positioning of the substrate is completed, the process transport unit that has come to this position
The substrate support arm 22 of 21 enters below the substrate W placed on the support pins 32, as shown in FIGS. 8 (A4) and 8 (B4). Thereafter, the substrate support arm 22 is raised,
The substrate W is transferred onto the substrate support arm 22, and the substrate support arm 22 transfers the substrate W to each processing unit of the process module 20, as described above.
次に、基板WをカセットCに搬入する場合の動作につ
いて説明する。Next, an operation when the substrate W is carried into the cassette C will be described.
基板Wの搬入は、上述した基板Wの搬出動作と略逆の
順序で行われる。すなわち、インデクサー搬送ユニット
30は、基板受渡し位置Pで、アーム31は下降した状態で
支持ピン32は上昇した状態で待機している。その後、プ
ロセスモジュール20で処理された基板Wは、基板支持ア
ーム22に載置された状態で、基板受渡し位置Pに移送さ
れる。その後、プロセス搬送ユニット21の基板支持アー
ム22が下降することによって、基板Wが支持ピン32に受
渡される。The loading of the substrate W is performed in substantially the reverse order of the above-described unloading operation of the substrate W. That is, the indexer transport unit
Numeral 30 denotes a substrate transfer position P, in which the arm 31 is lowered and the support pins 32 are raised and waiting. Thereafter, the substrate W processed by the process module 20 is transferred to the substrate transfer position P while being placed on the substrate support arm 22. Thereafter, the substrate W is transferred to the support pins 32 by lowering the substrate support arm 22 of the process transfer unit 21.
この状態で、カムホロア99は第9図に示したように、
カム部材95のP3位置にある。基板Wが受渡されると、エ
アーシリンダ96のロッド96aが縮退することにより、カ
ム部材95が下降し、カムホロア99はP3位置からP2位置に
向けて移動する。この間、カム部材95の下降に伴って、
昇降部材91が下降することにより、支持ピン32が下降し
て、基板Wを下限位置にセッティングする。カム部材95
が更に下降して、カムホロア99がP2位置からP1位置に移
動することにより、当接片33が上述の同様に、前記基板
Wの外縁に当接するように駆動されて、基板Wの位置合
わせが行われる。カム部材95が原点位置にまで下降する
と、カムホロア99がP0位置に戻る。これにより、当接片
33は基板Wから離れた初期状態に復帰する。In this state, the cam follower 99 is, as shown in FIG.
In P 3 position of the cam member 95. When the substrate W is delivery, the rod 96a of the air cylinder 96 retracts, the cam member 95 is lowered, cam follower 99 moves toward the P 2 position from the P 3 position. During this time, as the cam member 95 descends,
When the elevating member 91 is lowered, the support pins 32 are lowered, and the substrate W is set at the lower limit position. Cam member 95
There was further lowered, by the cam follower 99 moves from P 2 located in P 1 position, the abutment piece 33 is similarly described above, it is driven so as to contact the outer edge of the substrate W, the position of the substrate W Matching is performed. When the cam member 95 is lowered to the home position, cam follower 99 returns to P 0 position. With this, the contact piece
33 returns to the initial state away from the substrate W.
上述の位置合わせの後、アーム31が上昇し、支持ピン
32上で位置合わせされた基板Wがアーム31上に載置さ
れ、吸着保持される。つづいて、移動機構40は元のカセ
ットCに対向する位置にまで水平駆動されるとともに、
その基板Wが収納されていた収納溝の高さにまで昇降さ
れる。After the above-described alignment, the arm 31 is raised and the support pin
The substrate W aligned on 32 is placed on the arm 31 and held by suction. Subsequently, the moving mechanism 40 is horizontally driven to a position facing the original cassette C, and
The substrate W is moved up and down to the height of the storage groove in which the substrate W is stored.
移動機構40の移動およびアーム31の高さセッティング
が完了すると、アーム進退駆動機構60が駆動されて、ア
ーム31がカセットC内に進入し、基板Wが所定の収納溝
内に搬入される。その後、アーム31が基板Wの吸着を解
除した状態で、若干下降することにより、基板Wが収納
溝に受け渡される。基板Wの受渡しが終わると、アーム
31が退出駆動され、原点位置に戻る。When the movement of the moving mechanism 40 and the setting of the height of the arm 31 are completed, the arm advance / retreat drive mechanism 60 is driven, the arm 31 enters the cassette C, and the substrate W is carried into the predetermined storage groove. Thereafter, the substrate W is transferred to the storage groove by slightly descending in a state where the arm 31 has released the suction of the substrate W. When the delivery of the substrate W is completed, the arm
31 is driven out and returns to the origin position.
以上のように、基板Wの搬入が終わると、インデクサ
ー搬送ユニット30は、次の基板Wの取り出し動作に備え
て待機する。As described above, when the transfer of the substrate W is completed, the indexer transport unit 30 waits for the next substrate W removal operation.
第2実施例 第1実施例では、移動機構40に搭載されたアーム昇降
機構50によって、アーム31をカセットCの所定の収納溝
に対向する高さにまで昇降させて基板Wの搬出・搬入を
行うように構成したが、水平移動可能な移動機構(第1
実施例の移動機構40に相当する)を昇降機構に搭載して
移動機構を昇降可能に構成し、移動機構自体を昇降させ
ることによってアームを所定の収納溝高さにセッティン
グするように構成してもよい。Second Embodiment In the first embodiment, the arm 31 is moved up and down to a height facing a predetermined storage groove of the cassette C by the arm elevating mechanism 50 mounted on the moving mechanism 40 to carry out the loading / unloading of the substrate W. The moving mechanism (the first
(Equivalent to the moving mechanism 40 of the embodiment) is mounted on the elevating mechanism so that the moving mechanism can be moved up and down, and the arm is set to a predetermined storage groove height by moving the moving mechanism itself up and down. Is also good.
前記移動機構に搭載されたアームは吸着などによる基
板保持機構を備え、第1実施例と同様のアーム進退駆動
機構によってカセットに対して進退駆動される。The arm mounted on the moving mechanism has a substrate holding mechanism by suction or the like, and is driven forward and backward with respect to the cassette by the same arm forward and backward driving mechanism as in the first embodiment.
第2実施例では、移動機構自体を昇降させるように構
成し、第1実施例のようにアーム自体は独立して昇降し
ないので、アームと基板載置具(第1実施例での支持ピ
ン32に相当する)の間の基板受渡しのために、次のよう
な基板載置具昇降駆動機構を備える。すなわち、第2実
施例の基板載置具昇降駆動機構は、基板載置具の上端
が、アームによる基板搬送高さよりも低い退避位置と、
前記基板搬送高さよりも高い基板載置との間で移動する
ように、基板載置具を昇降駆動するように構成する。In the second embodiment, the moving mechanism itself is configured to move up and down, and the arm itself does not move up and down independently as in the first embodiment. Therefore, the arm and the substrate mounting device (the support pins 32 in the first embodiment) are used. ) Is provided with the following substrate placement device lifting / lowering drive mechanism for the transfer of the substrate. That is, in the substrate mounting device lifting / lowering drive mechanism of the second embodiment, the upper end of the substrate mounting device has a retracted position lower than the substrate transfer height by the arm;
The substrate mounting device is configured to be driven to move up and down so as to move between the substrate mounting height higher than the substrate transfer height.
また、第2実施例では、アームが独立して昇降しない
ように構成した関係上、アームによってカセットに基板
を出し入れする際、基板位置合わせ用の当接片が前記基
板の出し入れに障害とならないような位置に退避させて
いる。すなわち、本実施例の基板整合手段(例えば、第
1実施例での整合板34a,34b等)は、これに設けられた
複数個の当接片が、アームによって基板が搬送される際
に、基板が搬送される領域よりも外側にある退避位置に
退避させておく(すなわち、第1実施例で言えば、基板
搬出・搬入時に、当接片33が基板に接触しないように、
整合板34a,34bの間が基板Wの外径よりも広い状態にな
る位置にまで退避させておく)ように構成している。そ
して、基板載置具に載置された基板を位置合わせする際
には、前記退避位置から、基板の外縁に当接する位置に
まで当接片を移動させて、基板の位置合わせを行うよう
にしている。Further, in the second embodiment, when the substrate is taken in and out of the cassette by the arm, the abutment piece for aligning the substrate does not hinder the taking in and out of the substrate because the arm is configured not to move up and down independently. To a different position. In other words, the substrate alignment means of the present embodiment (for example, the alignment plates 34a and 34b in the first embodiment) is provided with a plurality of abutting pieces provided when the substrate is transported by the arm. The substrate is retracted to a retreat position outside the area where the substrate is transported (that is, in the first embodiment, the contact piece 33 does not contact the substrate when the substrate is carried out / in.
(It is retracted to a position where the space between the matching plates 34a and 34b is wider than the outer diameter of the substrate W). When aligning the substrate placed on the substrate mounting device, the contact piece is moved from the retracted position to a position in contact with the outer edge of the substrate so that the substrate is aligned. ing.
第2実施例によれば、移動手段による水平方向の移動
と昇降移動によって、アームがカセットの所定の収納溝
に対向する高さにセッティングされた後、アームはアー
ム進退駆動機構によってカセット内に進入駆動され、カ
セット内の基板を受け取り、この基板を保持する。その
後、アームはカセットから退出して、基板載置具の上方
に基板を取り出す。次に、前記移動機構が水平移動し
て、基板を基板受渡し位置へ搬送するのは第1実施例の
場合と同様である。その後、基板載置具がアームによる
基板搬送高さよりも高い位置にまで上昇することによ
り、アーム上の基板が基板載置具に受渡される。そして
基板整合機構が駆動されて基板の位置合わせが行われ
る。According to the second embodiment, after the arm is set to the height facing the predetermined storage groove of the cassette by the horizontal movement and the vertical movement by the moving means, the arm enters the cassette by the arm advance / retreat drive mechanism. When driven, it receives the substrate in the cassette and holds the substrate. After that, the arm withdraws from the cassette and takes out the substrate above the substrate placing device. Next, the movement of the moving mechanism horizontally to transfer the substrate to the substrate delivery position is the same as in the first embodiment. Thereafter, the substrate on the arm is transferred to the substrate mounting tool by raising the substrate mounting tool to a position higher than the substrate transfer height by the arm. Then, the substrate alignment mechanism is driven to perform substrate alignment.
基板をカセットに搬入する場合には、基板載置具をア
ームによる基板搬送高さよりも高い位置にまで上昇させ
た状態で、本発明に係る基板搬送装置を基板受渡し位置
に待機させておき、第1図に示したプロセス搬送ユニッ
ト21などから基板載置具上に基板が受渡される。次に、
基板整合手段が駆動されて基板の位置合わせが行われた
後に、基板載置具が下降することにより、基板載置具上
の基板がアーム上に載置されて、保持される。上述の基
板位置合わせの後に、移動機構が水平移動とともに昇降
移動して、基板をカセットの元の収納溝に対向する位置
にまで搬送し、アームを前記カセット内に進入駆動され
ることによって、基板をカセット内の所定の溝に収納す
る。When loading a substrate into the cassette, the substrate transfer device according to the present invention is kept at the substrate transfer position in a state where the substrate mounting member is raised to a position higher than the substrate transfer height by the arm, and The substrate is transferred from the process transfer unit 21 shown in FIG. next,
After the substrate aligning means is driven and the substrate is aligned, the substrate mounting tool is lowered, whereby the substrate on the substrate mounting tool is mounted on the arm and held. After the above-described substrate alignment, the moving mechanism moves up and down together with the horizontal movement, transports the substrate to a position facing the original storage groove of the cassette, and drives the arm to enter the cassette, thereby moving the substrate. Is stored in a predetermined groove in the cassette.
このように構成することによっても、第1実施例と同
様に、カセットに対する基板の搬出・搬入および基板の
位置合わせを、同じ基板搬送装置内で行うことができ
る。With this configuration as well, as in the first embodiment, the loading / unloading of the substrate to / from the cassette and the alignment of the substrate can be performed in the same substrate transport apparatus.
第3実施例 第3実施例も、前記第2実施例と同様に、アームをカ
セットの所定の収納溝に対向する高さにまで昇降させる
ための機構として、移動機構を昇降可能に構成し、移動
機構自体を昇降させることによってアームを所定の収納
溝高さにセッティングするように構成する。Third Embodiment Similarly to the second embodiment, the third embodiment is configured such that a moving mechanism can be moved up and down as a mechanism for moving the arm up and down to a height facing a predetermined storage groove of the cassette, The arm is set to a predetermined storage groove height by raising and lowering the moving mechanism itself.
前記移動機構に搭載されたアームは吸着などによる基
板保持機構を備え、第1実施例と同様のアーム進退駆動
機構によってカセットに対して進退駆動される。The arm mounted on the moving mechanism has a substrate holding mechanism by suction or the like, and is driven forward and backward with respect to the cassette by the same arm forward and backward driving mechanism as in the first embodiment.
基板を載置するために移動機構に搭載される基板載置
具は、アームによる基板の搬送の際に障害にならないよ
うに、基板搬送高さよりも低い位置に設けられている。The substrate mounting device mounted on the moving mechanism for mounting the substrate is provided at a position lower than the substrate transfer height so as not to hinder the transfer of the substrate by the arm.
また、基板載置具に載置された基板を位置合わせする
ための基板整合手段に備えられた複数個の当接片は、第
2実施例の場合と同様に構成されている。Further, a plurality of contact pieces provided in the substrate aligning means for aligning the substrate placed on the substrate placing device are configured in the same manner as in the second embodiment.
さらに、アームと基板載置具との間で基板を受渡しす
る手段として、第1実施例のアーム昇降機構50と同様の
アーム昇降駆動機構を前記移動機構に搭載する。ただ
し、本実施例のアーム昇降駆動機構は、アームと基板載
置具との間で基板を受渡しするために設けられたもので
あるので、アームの駆動範囲は、基板載置具の基板載置
高さよりも高い位置から、基板載置高さよりも低い位置
の間である。Further, an arm lifting / lowering drive mechanism similar to the arm lifting / lowering mechanism 50 of the first embodiment is mounted on the moving mechanism as a means for transferring the substrate between the arm and the substrate mounting tool. However, since the arm lifting / lowering drive mechanism of the present embodiment is provided for transferring the substrate between the arm and the substrate mounting device, the driving range of the arm is limited to the substrate mounting of the substrate mounting device. It is between a position higher than the height and a position lower than the substrate mounting height.
本実施例によれば、第2実施例と同様に、移動機構が
駆動された後、アームによってカセット内の基板が取り
出される。アームがカセットから退出した後、移動機構
が水平に移動して、基板を基板受渡し位置へ搬送するの
は第1実施例の場合と同様である。次に、アーム昇降駆
動機構によってアームが下降することにより、基板が基
板載置具に受渡され、基板整合機構が駆動されて基板の
位置合わせが行われる。According to the present embodiment, as in the second embodiment, after the moving mechanism is driven, the substrate in the cassette is taken out by the arm. After the arm withdraws from the cassette, the moving mechanism moves horizontally to transfer the substrate to the substrate transfer position, as in the first embodiment. Next, when the arm is lowered by the arm lifting / lowering drive mechanism, the substrate is delivered to the substrate mounting tool, and the substrate alignment mechanism is driven to perform the alignment of the substrate.
基板をカセットに搬入する場合には、アームを基板載
置具よりも低い位置に退避させた状態で、本発明に係る
基板搬送装置を基板受渡し位置に待機させておき、第1
図に示したプロセス搬送ユニット21などから基板が基板
載置具上に受渡される。次に、基板整合手段が駆動さ
れ、基板の位置合わせが行われた後に、アームが基板載
置高さよりも高い位置にまで上昇駆動されることによ
り、基板載置具上の基板がアーム上に載置されて、保持
される。上述の基板位置合わせの後に、移動機構が水平
および昇降移動して、基板をカセットの元の収納溝に対
向する位置にまで搬送し、アームが前記カセット内に進
入駆動されることによって、基板をカセット内の所定の
溝に収納する。When loading the substrate into the cassette, the substrate transfer device according to the present invention is kept at the substrate transfer position in a state where the arm is retracted to a position lower than the substrate mount, and the first
The substrate is transferred from the process transfer unit 21 or the like shown in FIG. Next, the substrate alignment means is driven, and after the substrate is aligned, the arm is driven up to a position higher than the substrate mounting height, so that the substrate on the substrate mounting tool is placed on the arm. It is placed and held. After the above-described substrate alignment, the moving mechanism moves horizontally and vertically, transports the substrate to a position facing the original storage groove of the cassette, and drives the arm into the cassette to move the substrate. It is stored in a predetermined groove in the cassette.
また、第1〜第3いずれの発明も、以下のように構成
することが可能である。Further, any of the first to third inventions can be configured as follows.
(1)第1実施例で、4個のカセットを静止した基台上
に載置したが、カセットの数は1個、あるいは5個以上
であってもよい。(1) In the first embodiment, four cassettes are mounted on the stationary base. However, the number of cassettes may be one or five or more.
(2)第1実施例において、支持ピン32を昇降させたの
は、ウエハ移送機構21のウエハ支持アーム22が、支持ピ
ン32の外側から基板Wを支えるUの字形状のアームで構
成されているため、支持ピン32の下限位置で基板Wの受
渡しを行うと、整合板34a,34bが邪魔になって、基板W
の下方にウエハ支持アーム22を進入させることができな
いからである。したがって、整合板34a,34bと干渉し合
わないような構造のウエハ支持アーム(例えば、基板W
を上から吸着保持するようなアーム)にすれば、基板W
の受渡しのために必ずしも支持ピン32を昇降させる必要
はない。(2) In the first embodiment, the reason why the support pins 32 are moved up and down is that the wafer support arm 22 of the wafer transfer mechanism 21 is constituted by a U-shaped arm that supports the substrate W from outside the support pins 32. Therefore, when the substrate W is transferred at the lower limit position of the support pins 32, the alignment plates 34a and 34b are in the
This is because the wafer support arm 22 cannot enter below the space. Therefore, the wafer support arm (for example, the substrate W) having a structure that does not interfere with the alignment plates 34a and 34b.
Arm that sucks and holds the substrate from above), the substrate W
It is not always necessary to raise and lower the support pin 32 for the delivery of the product.
(3)本発明に係る基板搬送装置が使用される基板処理
装置の一例として、基板にフォトレジストなどをコーテ
ィング処理する半導体製造装置を例に採って説明した
が、本発明は、例えば現像、エッチング、拡散処理装置
などの、種々の基板処理装置にも適用することが可能で
ある。特に、拡散炉や酸化炉等のような熱処理装置に適
用する場合の基板収納容器として、実施例のカセットの
代わりに、半導体基板を一定間隔に多数枚配列させた状
態で半導体熱処理炉の石英管内に挿抜されるボートを用
いてもよい。(3) As an example of a substrate processing apparatus in which the substrate transfer apparatus according to the present invention is used, a semiconductor manufacturing apparatus that coats a substrate with a photoresist or the like has been described as an example. It can be applied to various substrate processing apparatuses such as a diffusion processing apparatus. In particular, as a substrate storage container when applied to a heat treatment apparatus such as a diffusion furnace or an oxidation furnace, instead of the cassette of the embodiment, a large number of semiconductor substrates are arranged at regular intervals in a quartz tube of a semiconductor heat treatment furnace. It is also possible to use a boat that is inserted into and extracted from the boat.
(4)また、搬送対象となる基板は、実施例のような半
導体基板に限らず、例えば、液晶表示器用のガラス基板
や、金属板など、種々の基板を対象とすることができ
る。(4) The substrate to be transported is not limited to the semiconductor substrate as in the embodiment, but may be various substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display and a metal plate.
(5)アームに備えられる基板保持機構は、吸着による
ものに限らず、基板を載置するような支持ピンなどで構
成してもよい。(5) The substrate holding mechanism provided on the arm is not limited to the one by suction, and may be configured by a support pin or the like for mounting the substrate.
(6)また、基板載置具は必ずしもピン構造に限らず、
板状部材であってもよく、また、基板整合手段の当接片
もピン構造のものに限らず、端辺が基板の外径と同様な
曲率の凹状に形成された板状部材を基板の外縁に当接離
間させて、基板の位置合わせを行うようにしてもよい。
また、基板が矩形状である場合には、その形状に合わせ
て当接片が配置形成されることはいうまでもない。(6) Further, the substrate mounting device is not necessarily limited to the pin structure.
The plate-shaped member may be a plate-shaped member, and the contact piece of the substrate aligning means is not limited to the pin-shaped one, and the plate-shaped member whose end side is formed in a concave shape having a curvature similar to the outer diameter of the substrate may be used. The substrate may be aligned by contacting and separating from the outer edge.
When the substrate is rectangular, it goes without saying that the contact pieces are arranged and formed according to the shape.
(7)本発明に係る基板搬送装置は、前記プロセスモジ
ュール20のような基板に対して処理を施す装置に組み付
けられるのに限定されるものではなく、例えば、各種測
定装置に組付けられてもよい。また、前記各実施例にお
ける基板受渡し位置Pは、第1から第3の発明の構成に
言う「基板待機位置」に対応する。基板待機位置は、前
記プロセス搬送ユニット21のような基板搬送手段との基
板受渡し位置Pに限定されるものではなく、例えば、基
板に対する各種測定装置の測定ステージであってもよ
い。(7) The substrate transfer device according to the present invention is not limited to being mounted on an apparatus that performs processing on a substrate such as the process module 20, but may be mounted on various measuring devices, for example. Good. Further, the substrate transfer position P in each of the embodiments corresponds to the “substrate standby position” in the configuration of the first to third inventions. The substrate standby position is not limited to the substrate transfer position P with the substrate transfer means such as the process transfer unit 21, and may be, for example, a measurement stage of various measurement devices for the substrate.
このように、本発明の各部は種々変形実施可能であ
り、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、それらの変形態
様も本発明に含まれるものである。As described above, each part of the present invention can be variously modified and implemented, and these modified embodiments are also included in the present invention without departing from the gist of the present invention.
〈発明の効果〉 以上の説明から明らかなように、請求項第(1)項か
ら第(3)項のいづれの発明に係る基板搬送装置も、基
板収納容器と基板待機位置との間を移動する移動手段
に、基板搬出・搬入用のアームとともに、基板を載置す
る基板載置具、および前記基板載置具に載置された基板
を位置合わせする基板整合手段などを搭載したから、従
来装置のように、基板搬送装置とは別体の基板位置合わ
せ機構を設置する必要がなくなり、その分だけ、この種
の基板搬送装置が使用される基板処理装置を小型化する
ことができる。<Effects of the Invention> As is apparent from the above description, the substrate transfer device according to any one of the first to third aspects of the present invention also moves between the substrate storage container and the substrate standby position. Conventionally, the moving means mounted with the arm for carrying out and carrying in the substrate, a substrate mounting device for mounting the substrate, and a substrate aligning device for aligning the substrate mounted on the substrate mounting device. Unlike the apparatus, there is no need to provide a substrate positioning mechanism separate from the substrate transport apparatus, and the substrate processing apparatus using this type of substrate transport apparatus can be downsized accordingly.
また、請求項第(1)項から第(3)項の各発明は、
カセットからの基板の取り出しや、カセットへの基板の
収納の際に、カセットが昇降しないので、カセットの振
動に起因した塵埃の発生がなくなり、基板搬送の過程で
基板が汚染されるという不都合を極力少なくすることが
できる。In addition, each invention of claims (1) to (3) is:
Since the cassette does not move up and down when removing substrates from the cassette or storing substrates in the cassette, dust generated due to vibration of the cassette is eliminated, and the problem of substrate contamination during the substrate transport process is minimized. Can be reduced.
第1図ないし第9図は本発明の第1実施例に係り、第1
図は実施例に係る基板搬送装置が使用される基板処理装
置の外観斜視図、第2図はインデクサー搬送ユニットの
平面図、第3図はインデクサー搬送ユニットに備えられ
た移動機構,アーム昇降機構,アーム進退駆動機構を示
した分解斜視図、第4図はインデクサー搬送ユニットに
備えられた基板載置機構および基板整合機構の構成を示
した第3図のA方向矢視図、第5図は第4図のB方向矢
視図、第6図は基板載置機構および基板整合機構を平面
視した一部破断図、第7図は基板整合機構の説明図、第
8図は実施例装置の動作説明図、第9図はカム部材の昇
降に伴うカムホロアの位置の説明図である。 W…半導体基板(基板) C…カセット(基板収納容器)、11…基台 30…インデクサー搬送ユニット 32…支持ピン(基板載置具) 40…移動機構(移動手段) 60…アーム進退駆動機構(アーム進退駆動手段) 33…当接片(基板整合手段) 34a,34b…整合板(基板整合手段) 95…カム部材、99…カムホロア 96…エアーシリンダFIGS. 1 to 9 relate to a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a perspective view of an external appearance of a substrate processing apparatus using the substrate transport apparatus according to the embodiment, FIG. 2 is a plan view of an indexer transport unit, and FIG. 3 is a moving mechanism, an arm elevating mechanism, FIG. 4 is an exploded perspective view showing an arm advance / retreat drive mechanism, FIG. 4 is a view taken in the direction of arrow A in FIG. 3, and FIG. 5 is a view showing the configuration of a substrate mounting mechanism and a substrate alignment mechanism provided in the indexer transport unit. FIG. 4 is a view in the direction of arrow B in FIG. 4, FIG. 6 is a partially cutaway view of the substrate mounting mechanism and the substrate alignment mechanism in plan view, FIG. 7 is an explanatory view of the substrate alignment mechanism, and FIG. FIG. 9 is an explanatory view of the position of a cam follower as the cam member moves up and down. W: semiconductor substrate (substrate) C: cassette (substrate storage container), 11: base 30: indexer transport unit 32: support pin (substrate mounting tool) 40: moving mechanism (moving means) 60: arm advance / retract driving mechanism ( Arm advance / retreat drive means) 33 ... Contact piece (board alignment means) 34a, 34b ... Alignment plate (board alignment means) 95 ... Cam member, 99 ... Cam follower 96 ... Air cylinder
フロントページの続き (72)発明者 岡本 健男 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社洛西 工場内 (72)発明者 岡 義二 京都府京都市伏見区羽束師古川町322番 地 大日本スクリーン製造株式会社洛西 工場内 (56)参考文献 特開 平2−211650(JP,A) 特開 平3−211749(JP,A) 特開 平3−290946(JP,A) 特許2552017(JP,B2) (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) H01L 21/68 B65G 49/07Continued on the front page (72) Inventor Takeo Okamoto 322 Hazushishi Furukawacho, Fushimi-ku, Kyoto-shi, Kyoto Prefecture Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd.Narasai Plant No. 322 Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. Rakusai Plant (56) References JP-A-2-211650 (JP, A) JP-A-3-211749 (JP, A) JP-A-3-290946 (JP, A) ) Patent 2552017 (JP, B2) (58) Fields investigated (Int. Cl. 6 , DB name) H01L 21/68 B65G 49/07
Claims (3)
多段に収納する基板収納容器と、所定の基板待機位置と
の間で、基板を搬送する基板搬送装置において、 前記基板収納容器と前記基板待機位置との間を移動する
移動手段と、 前記移動手段に搭載され、基板保持機構を備えたアーム
と、 前記移動手段に搭載され、前記アームを基板収納容器に
対して進退駆動するアーム進退駆動手段と、 前記移動手段に搭載され、上端が基板収納容器の最下段
の基板収納高さよりも低い位置にあって、基板を載置す
る基板載置具と、 前記移動手段に搭載され、上端が基板収納容器の最下段
の基板収納高さよりも低い位置にある複数個の当接片
を、前記基板載置具に載置されている基板の外縁に当接
離間させて、基板載置具に対する基板の載置位置を整合
する基板整合手段と、 前記移動手段に搭載され、少なくとも、基板収納容器の
最上段の基板収納高さから、基板載置具が基板を載置す
る高さに至る上下方向の範囲内で、前記アームを昇降駆
動するアーム昇降駆動手段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。1. A substrate transport apparatus for transporting a substrate between a substrate storage container for storing substrates in multiple stages while being mounted on a stationary base and a predetermined substrate standby position, wherein: Moving means for moving between a container and the substrate standby position; an arm mounted on the moving means and having a substrate holding mechanism; and an arm mounted on the moving means for driving the arm forward and backward with respect to the substrate storage container. An arm reciprocating drive unit that is mounted on the moving unit, an upper end is located at a position lower than a lowermost substrate storage height of the substrate storage container, and a substrate mounting tool for mounting a substrate; A plurality of abutting pieces whose upper ends are lower than the lowermost substrate storage height of the substrate storage container are in contact with and separated from the outer edge of the substrate placed on the substrate mounting tool, Adjust the mounting position of the substrate with respect to the mounting And a substrate aligning means to be mounted on the moving means, at least in a vertical range from the uppermost substrate storage height of the substrate storage container to a height at which the substrate mounting tool mounts the substrate. A substrate transport device, comprising: an arm raising / lowering drive unit that drives an arm up / down.
多段に収納する基板収納容器と、所定の基板待機位置と
の間で、基板を搬送する基板搬送装置において、 前記基板収納容器と前記基板待機位置との間を移動し、
かつ昇降可能な移動手段と、 前記移動手段に搭載され、基板保持機構を備えたアーム
と、 前記移動手段に搭載され、前記アームを基板収納容器に
対して進退駆動するアーム進退駆動手段と、 前記移動手段に搭載され、基板載置する基板載置具と、 前記移動手段に搭載され、前記基板載置具の上端が、前
記アームの基板搬送高さよりも低い退避位置と、アーム
の基板搬送高さよりも高い基板載置位置との間で移動す
るように、基板載置具を昇降駆動する基板載置具昇降駆
動手段と、 前記移動手段に搭載され、複数個の当接片を、前記アー
ムによって基板が搬送される領域外である退避位置か
ら、前記基板載置具に載置されている基板の外縁に当接
する位置にまで移動させて、基板載置具に対する基板の
載置位置を整合する基板整合手段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。2. A substrate transport apparatus for transporting a substrate between a substrate storage container for storing substrates in multiple stages while being mounted on a stationary base and a predetermined substrate standby position, wherein Moving between the container and the substrate standby position,
A moving means capable of moving up and down, an arm mounted on the moving means and provided with a substrate holding mechanism, an arm moving means mounted on the moving means and driving the arm forward and backward with respect to the substrate storage container, A substrate mounting device mounted on a moving unit and mounting a substrate, an upper end of the substrate mounting device mounted on the moving unit, a retreat position lower than the substrate transfer height of the arm, and a substrate transfer height of the arm. A substrate mounting tool elevating drive means for driving the substrate mounting tool up and down so as to move between a substrate mounting position higher than the arm and a plurality of abutting pieces mounted on the moving means; From the retreat position, which is outside the area where the substrate is transported, to a position where it abuts on the outer edge of the substrate mounted on the substrate mounting device, and aligns the mounting position of the substrate with respect to the substrate mounting device. Substrate alignment means for Substrate transfer apparatus characterized by comprising.
多段に収納する基板収納容器と、所定の基板待機位置と
の間で、基板を搬送する基板搬送装置において、 前記基板収納容器と前記基板待機位置との間を移動し、
かつ昇降可能な移動手段と、 前記移動手段に搭載され、基板保持機構を備えたアーム
と、 前記移動手段に搭載され、前記アームを基板収納容器に
対して進退駆動するアーム進退駆動手段と、 前記移動手段に搭載され、その上端が前記アームによる
基板搬送高さよりも低い位置にあって、基板を載置する
基板載置具と、 前記移動手段に搭載され、複数個の当接片を、前記アー
ムによって基板が搬送される領域外である退避位置か
ら、前記基板載置具に載置されている基板の外縁に当接
する位置にまで移動させて、基板載置具に対する基板の
載置位置を整合する基板整合手段と、 前記移動手段に搭載され、前記アームを、基板載置具の
基板載置高さよりも高い位置から、基板載置高さよりも
低い位置の間にわたって昇降駆動するアーム昇降駆動手
段と、 を備えたことを特徴とする基板搬送装置。3. A substrate transport apparatus for transporting a substrate between a substrate storage container that stores substrates in multiple stages while being mounted on a stationary base and a predetermined substrate standby position, wherein Moving between the container and the substrate standby position,
A moving means capable of moving up and down, an arm mounted on the moving means and provided with a substrate holding mechanism, an arm moving means mounted on the moving means and driving the arm forward and backward with respect to the substrate storage container, The upper end is located at a position lower than the substrate transfer height by the arm, and a substrate mounting tool for mounting the substrate, and a plurality of contact pieces mounted on the moving unit, By moving the arm from the retracted position outside the area where the substrate is transported to the position where the arm is in contact with the outer edge of the substrate mounted on the substrate mounting tool, the mounting position of the substrate relative to the substrate mounting tool is changed. A substrate aligning means for aligning, and an arm lifting / lowering drive mounted on the moving means for driving the arm up and down from a position higher than the substrate mounting height of the substrate mounting tool to a position lower than the substrate mounting height. Substrate transfer apparatus comprising: the means.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13749090A JP2862956B2 (en) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | Substrate transfer device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13749090A JP2862956B2 (en) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | Substrate transfer device |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP9136465A Division JP3034484B2 (en) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | Substrate processing equipment |
JP9136466A Division JP3029409B2 (en) | 1997-05-27 | 1997-05-27 | Substrate processing equipment |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0430549A JPH0430549A (en) | 1992-02-03 |
JP2862956B2 true JP2862956B2 (en) | 1999-03-03 |
Family
ID=15199869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13749090A Expired - Lifetime JP2862956B2 (en) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | Substrate transfer device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2862956B2 (en) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2644912B2 (en) * | 1990-08-29 | 1997-08-25 | 株式会社日立製作所 | Vacuum processing apparatus and operating method thereof |
USRE39823E1 (en) * | 1990-08-29 | 2007-09-11 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing operating method with wafers, substrates and/or semiconductors |
US7089680B1 (en) | 1990-08-29 | 2006-08-15 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing apparatus and operating method therefor |
USRE39756E1 (en) * | 1990-08-29 | 2007-08-07 | Hitachi, Ltd. | Vacuum processing operating method with wafers, substrates and/or semiconductors |
JP2622046B2 (en) * | 1991-11-26 | 1997-06-18 | 大日本スクリーン製造株式会社 | Substrate transfer device |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13749090A patent/JP2862956B2/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0430549A (en) | 1992-02-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI452643B (en) | Inspection device and inspection method | |
KR20170131534A (en) | Object conveyance apparatus, exposure apparatus, flat panel display production method, device production method, object conveyance method, and exposure method | |
JP4166813B2 (en) | Inspection apparatus and inspection method | |
TWI442493B (en) | Processing device | |
JP2862956B2 (en) | Substrate transfer device | |
KR20040075699A (en) | Cutting machine | |
JPH11165864A (en) | Substrate conveying device and substrate treating device | |
JP3468430B2 (en) | Position detection guide device, position detection guide method, and vacuum processing device | |
JP2976317B2 (en) | Plate-like processing apparatus and plate-like body conveying method | |
JP2552017B2 (en) | Substrate alignment support device | |
JP3642729B2 (en) | Processing equipment | |
JP3029409B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JPH0334345A (en) | Position correction type substrate supporting device | |
JP3100953B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP3241336B2 (en) | Substrate processing equipment | |
JP2001077173A (en) | Semiconductor manufacturing apparatus and manufacture of device | |
JP2515325Y2 (en) | Board carry-out / carry-in device | |
JP2662450B2 (en) | Interface device between substrate processing equipment | |
JP2504337Y2 (en) | Board carry-out / carry-in device | |
JPH05323251A (en) | Substrate conveying mechanism for proximity exposing device | |
JP3205525B2 (en) | Substrate unloading device, loading device and unloading and loading device | |
JP2506379B2 (en) | Conveying method and conveying device | |
JP2503732Y2 (en) | Semiconductor manufacturing equipment | |
JPH05286526A (en) | Wafer transferring device | |
JPH04154144A (en) | Substrate carrying-in and taking-out mechanism |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071211 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081211 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091211 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091211 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091211 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101211 Year of fee payment: 12 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101211 Year of fee payment: 12 |