JP2576662B2 - Heat blocking glass - Google Patents

Heat blocking glass

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JP2576662B2 JP2047134A JP4713490A JP2576662B2 JP 2576662 B2 JP2576662 B2 JP 2576662B2 JP 2047134 A JP2047134 A JP 2047134A JP 4713490 A JP4713490 A JP 4713490A JP 2576662 B2 JP2576662 B2 JP 2576662B2
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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、熱線遮断ガラスに関する。Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a heat ray shielding glass.

[従来の技術] 従来から、窓ガラスを通して建物の室内に流入する太
陽エネルギーを遮断して室内の温度上昇を抑え、冷房負
荷を軽減するために熱線遮断ガラスが使われている。従
来の熱線遮断ガラスとしては、スプレー法、CVD法、又
は浸漬法などで酸化チタン、酸化錫などの酸化物薄膜を
ガラス上に数百Å形成したものが知られている。
[Related Art] Conventionally, a heat ray blocking glass has been used to block solar energy flowing into a room of a building through a window glass to suppress a rise in the temperature of the room and reduce a cooling load. As a conventional heat ray blocking glass, a glass in which an oxide thin film such as titanium oxide or tin oxide is formed on glass by a spray method, a CVD method, or an immersion method, for example, is known.

最近では、スパッタリング法により酸化物ばかりでな
く、金属や窒化物などの薄膜が大面積に自由に形成でき
るようになった。このため、クロムやチタンなどの遷移
金属の単層膜系、金属/酸化物膜、又は窒化物膜/酸化
物膜の2層膜系、又は酸化物膜/窒化物膜/酸化物膜、
又は酸化物膜/金属/酸化物膜の3層膜系、又はそれ以
上の多層膜構成の熱線遮断ガラスも使われるようになっ
てきた。
Recently, a thin film of not only an oxide but also a metal or a nitride can be freely formed over a large area by a sputtering method. Therefore, a single-layer film system of a transition metal such as chromium or titanium, a metal / oxide film, or a two-layer film system of a nitride film / oxide film, or an oxide film / nitride film / oxide film,
Alternatively, a heat-shielding glass having a three-layer film system of an oxide film / metal / oxide film or a multilayer film structure of a multilayer film or more has been used.

単層膜と異なり、3層、又はそれ以上の多層膜構成の
熱線遮断ガラスは、干渉を利用することで反射率や反射
色調をかなり自由に選択できる。このため、意匠性を重
視する建築用に需要が伸びている。
Unlike a single-layer film, a heat-shielding glass having a multi-layer structure of three or more layers can considerably freely select a reflectance and a reflection color tone by utilizing interference. For this reason, demand is increasing for architectural applications that emphasize designability.

この他に、Low−Eガラス(低放射率ガラス)と呼ば
れ、室内からの熱線を反射することにより室内の温度の
低下を防ぎ、暖房負荷を軽減するための熱線反射ガラス
も知られている。これは、酸化物/Ag/酸化膜、又は酸化
膜/Ag/酸化膜/Ag/酸化膜の構成の積層膜を有し、主に寒
冷地で用いられている。しかし、Ag膜を使用しているの
で耐久性に劣る。このため、合わせガラスか複層ガラス
のかたちで積層膜が外部に露出しないようにして用いら
れる。このLow−Eガラスは、太陽光の熱線遮断効果も
有するため、一部の自動車ガラスにもこの目的で採用さ
れている。
In addition, there is also known a heat ray reflection glass called Low-E glass (low emissivity glass) for reflecting a heat ray from the room to prevent a decrease in the temperature of the room and reduce a heating load. . It has an oxide / Ag / oxide film or a stacked film of the structure of oxide film / Ag / oxide film / Ag / oxide film, and is mainly used in cold regions. However, the durability is inferior because the Ag film is used. For this reason, the laminated film is used in the form of a laminated glass or a multi-layer glass so as not to be exposed to the outside. Since this Low-E glass also has a heat ray blocking effect for sunlight, it is also used for some automotive glasses for this purpose.

[発明の解決しようとする課題] 従来のスプレー法、CVD法、浸漬法などで酸化チタン
や酸化錫などの酸化物膜をガラス上に形成した熱線遮断
ガラスは、低コストで生産性よく製造できる反面、最近
のスパッタリング法によって形成された金属又は合金系
の単層又は多層系の熱線遮断ガラスと比べると、熱線遮
断性能がやや劣ること、また、酸化錫は酸に弱く、化学
的安全性が十分でないという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] A heat ray shielding glass in which an oxide film such as titanium oxide or tin oxide is formed on glass by a conventional spray method, CVD method, immersion method or the like can be manufactured at low cost and with good productivity. On the other hand, compared to single-layer or multi-layer heat-shielding glass of metal or alloy system formed by recent sputtering method, heat-shielding performance is slightly inferior, and tin oxide is weak to acid, and chemical safety is low. There was a problem that it was not enough.

また、クロムやチタンなどの遷移金属の単層膜系熱線
遮断ガラスは、一般に可視光線反射率RVが10〜50%と高
く、反射色もデサイン面からブロンズ、ブルー、グリー
ン、グレー、ゴールド、シルバーなどの色がついてい
る。また、可視光線透過率TVも10〜60%と低い。
In addition, a single-layer heat-shielding glass made of a transition metal such as chromium or titanium generally has a high visible light reflectance R V of 10 to 50%, and the reflection color is bronze, blue, green, gray, gold, It has a color such as silver. Also, 10% to 60% and low visible light transmittance T V.

このため、自然な色、即ちニュートラル色で低い反射
率、かつ70%以上の可視光線透過率が要求される自動車
用や一般家庭の窓ガラスに応用するには、不適当であっ
た。また、かかる金属の単層膜では、耐擦傷性、化学的
安全性といった耐久性もあまり十分でなく、自動車用な
ど、使用環境も厳しい用途には単板で用いることは不可
能であった。
For this reason, it has been unsuitable for application to window glasses for automobiles and general households that require a natural color, that is, a neutral color, a low reflectance and a visible light transmittance of 70% or more. Further, such a metal single-layer film has insufficient durability such as abrasion resistance and chemical safety, and cannot be used as a single plate in applications where the use environment is severe such as for automobiles.

また、前述したタイプのLow−Eガラスは、比較的ニ
ュートラルな反射色を有し、70%以上の可視光線透過率
を有するが、Ag膜を用いているので耐擦傷性が不十分な
ため、単板では使用できず、必ず合わせガラス化又は複
層ガラス化しなければならないという難点があった。
In addition, the above-mentioned type of Low-E glass has a relatively neutral reflection color and has a visible light transmittance of 70% or more, but since the Ag film is used, the abrasion resistance is insufficient. There is a drawback that it cannot be used as a single plate and must be made into a laminated glass or a multi-layered glass.

また、従来の金属/酸化物膜や窒化物膜/酸化物膜な
どの2層系の熱線遮断ガラスにおいては、ニュートラル
な色調、耐久性、高透過率、低反射率を有するものは得
られていなかった。
Further, among conventional two-layered heat ray shielding glasses such as a metal / oxide film and a nitride film / oxide film, those having a neutral color tone, durability, high transmittance, and low reflectance have been obtained. Did not.

また、チタン、ジルコニウム、クロムなどの金属、又
はこれらの金属の窒化物からなる膜を高屈折率酸化物膜
で挟んだ3層構成の熱線遮断ガラスも、十分に良好な熱
線遮断性能を有しており、酸化物膜の厚みを調整し、光
の干渉を利用して可視光の反射率を抑えて可視光線透過
率を70%以上にすることが可能であり、最外層が酸化物
膜であるため、耐久性も優れているので単板の熱線遮断
ガラスとして好適ではあるが、光の干渉によってブル
ー、ピンク、又は黄色などの色を帯びてしまい、自然で
ニュートラルな外観が得られにくいという問題があっ
た。
In addition, a three-layered heat ray shielding glass in which a film made of a metal such as titanium, zirconium, chromium, or a nitride of these metals is sandwiched between high-refractive-index oxide films also has sufficiently good heat ray shielding performance. By adjusting the thickness of the oxide film, it is possible to reduce the visible light reflectance by using light interference to increase the visible light transmittance to 70% or more. Because it is excellent in durability, it is suitable as a single-plate heat ray shielding glass, but it takes on colors such as blue, pink, or yellow due to light interference, and it is difficult to obtain a natural and neutral appearance There was a problem.

このように、単板で使用できる程度の高耐久性を有
し、可視光線透過率が高く、特に自動車の窓ガラスとし
て使用できるよう、70%以上であって、透過率、反射色
ともにニュートラルな熱線遮断ガラスは得られていなか
った。
As described above, it has high durability enough to be used as a single plate, has high visible light transmittance, and is 70% or more, and is neutral in both transmittance and reflection color so that it can be used particularly as a window glass of an automobile. No heat-shield glass was obtained.

[課題を解決するための手段] 本発明は、前述の課題を解決すべくなされたものであ
り、透明基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少なくとも2
層が順次積層された熱線遮断ガラスであって、該酸化物
膜が空気側最外層であり、かつ2.0以下の屈折率を有す
るZrBxOy膜(1.0≦x<2.3、2.5≦y<5.45)であるこ
とを特徴とする熱線遮断ガラスを提供する。
Means for Solving the Problems The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film on a transparent substrate.
A heat-shielding glass in which the layers are sequentially laminated, wherein the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less, a ZrB x O y film (1.0 ≦ x <2.3, 2.5 ≦ y <5.45) ) Is provided.

本発明は、また、ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物
膜の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスで
あって、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有するZrSizOy膜(0.28≦z<19、2.56≦
y<40)であることを特徴とする熱線遮断ガラスを提供
する。
The present invention also provides a heat ray blocking glass in which at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is an air side outermost layer and has a refractive index of 2.0 or less. ZrSi z O y film (0.28 ≦ z <19, 2.56 ≦
y <40) is provided.

本発明は、また、ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物
膜の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスで
あって、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有するZrBxSizOy膜(0.28≦x+z<19、
2.5≦y<40、ただしx+z−3>0かつx−3z+1>
0の部分を除く)であることを特徴とする熱線遮断ガラ
スを提供する。
The present invention also provides a heat ray blocking glass in which at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is an air side outermost layer and has a refractive index of 2.0 or less. ZrB x Si z O y film (0.28 ≦ x + z <19,
2.5 ≦ y <40, where x + z−3> 0 and x−3z + 1>
(Excluding 0)).

本発明は、また、ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物
膜の少なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスで
あって、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以
下の屈折率を有するTiSizOy膜(z≧0.56、y=2+2
z)であることを特徴とする熱線遮断ガラスを提供す
る。
The present invention also provides a heat ray blocking glass in which at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is an air side outermost layer and has a refractive index of 2.0 or less. TiSi z O y film (z ≧ 0.56, y = 2 + 2
z) A heat-shielding glass is provided, which is characterized in that:

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例の断面図を示
すものであり、1はガラス基板、2は熱線吸収膜、3は
屈折率が2.0以下である酸化物膜を示す。
FIG. 1 is a cross-sectional view of one example of the heat ray blocking glass of the present invention, wherein 1 is a glass substrate, 2 is a heat ray absorbing film, and 3 is an oxide film having a refractive index of 2.0 or less.

本発明における最も大きな特徴は、空気側最外層に屈
折率が2.0以下である酸化膜を形成することである。空
気側最外層の酸化物膜の屈折率が2.0を超えると、可視
光線反射率が大きくなり、その結果可視光線透過率が低
くなり、70%以上の可視光線透過率が容易に得られにく
くなる。したがって、酸化物膜3の屈折率は2.0以下、
好ましくは1.8以下、特に1.7以下が望ましい。
The most significant feature of the present invention is that an oxide film having a refractive index of 2.0 or less is formed in the outermost layer on the air side. If the refractive index of the oxide film on the air side outermost layer exceeds 2.0, the visible light reflectance increases, and as a result, the visible light transmittance decreases, and it becomes difficult to easily obtain a visible light transmittance of 70% or more. . Therefore, the refractive index of the oxide film 3 is 2.0 or less,
It is preferably 1.8 or less, particularly preferably 1.7 or less.

表1に、具体的に各種非晶質酸化物膜の性質を示す。
それぞれ表に挙げた組成のターゲットを用いて、反応性
スパッタリングにより製膜したものである。
Table 1 specifically shows properties of various amorphous oxide films.
Films were formed by reactive sputtering using targets having the compositions shown in the table.

結晶性は、薄膜X線回折により観測した。 The crystallinity was observed by thin film X-ray diffraction.

耐擦傷性は、砂消しゴムによる擦り試験の結果で、○
は傷がほとんどつかなかったもの、×は容易に傷が生じ
たものである。
The abrasion resistance is the result of the rubbing test using a sand eraser.
Indicates that scars were scarcely formed, and x indicates that scratches occurred easily.

耐摩耗性は、テーバー試験(摩耗輪CS−10F、加重500
g、1000回転)の結果、ヘイズ4%以内のものを○、ヘ
イズ4%超のものを×とした。
Abrasion resistance was measured using the Taber test (wear wheel CS-10F, weight 500
g, 1000 rotations), those with a haze of 4% or less were evaluated as ○, and those with a haze of more than 4% were evaluated as x.

耐酸性は0.1規定の硫酸水溶液中に240時間浸漬した結
果、TV(可視光線透過率)、RV(可視光線反射率)の浸
漬前に対する変化率が1%以内のものを○、1〜4%の
ものを△、膜が溶解して消滅してしまったものを×とし
た。
The acid resistance was evaluated by immersing in a 0.1N aqueous sulfuric acid solution for 240 hours, and the rate of change of T V (visible light transmittance) and R V (visible light reflectance) with respect to before immersion was within 1%. 4% was evaluated as Δ, and the film dissolved and disappeared was evaluated as ×.

耐アルカリ性は0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液中
に240時間浸漬した結果、TV、RVの浸漬前に対する変化
率が1%以内のものを○、2%以内のものを△、膜が溶
解してしまったものを×とした。
The alkali resistance was determined by immersing in a 0.1N aqueous sodium hydroxide solution for 240 hours. As a result, the film was dissolved when the rate of change of T V and R V from before immersion was within 1%. The one that was lost was marked X.

煮沸テストは、1気圧下、100℃の水に2時間浸漬し
た後、TV、RVの浸漬前に対する変化率が1%以内である
とき○、1%超のとき×とした。
Boiling test, one atmosphere, was immersed for 2 hours in 100 ° C. water, when T V, the rate of change for the previous immersion R V is within 1% ○, and as × when 1 percent.

Zr(ジコルニウム)とB(ホウ酸)を含む酸化物ZrBx
Oy、ZrとSi(ケイ素)を含む酸化物ZrSizOy、ZrとBとS
iを含む酸化物ZrBxSizOyからなる膜において、その組成
については、B、Si、O(酸素)各々の膜中におけるZr
に対する原子比をそれぞれx、z、yとすると、次のよ
うな範囲である。
Oxide containing Zr (dicornium) and B (boric acid) ZrB x
O y , an oxide containing Zr and Si (silicon) ZrSi z O y , Zr, B and S
Regarding the composition of the film composed of the oxide ZrB x Si z O y containing i, the composition of Zr in the respective films of B, Si and O (oxygen)
Assuming that the atomic ratios to are x, z, and y, respectively, the ranges are as follows.

表1から明らかなようにZrBxOyについては1.0≦xで
ある。x<1.0であると膜の屈折率が2.0を超えてしま
い、可視光線透過率が70%以上の熱線遮断が得られにく
くなってしまうためである。一方、xが増加するほど、
膜の屈折率が下がる(第2図(a)参照)が、x≧2.3
で耐熱性が低下し、x≧4で耐アルカリ性の低下及び煮
沸テストで劣化を示すようになるので、本発明の酸化物
膜3としてのZrBxOy膜においては1.0≦x<2.3である。
yについては、ZrO2とB2O3の複合系と考えて、ZrO2+xB
O1.5と表すと、y=2+1.5x程度、即ち、2.5≦y<5.4
5である。
As is clear from Table 1, ZrB x O y satisfies 1.0 ≦ x. When x <1.0, the refractive index of the film exceeds 2.0, and it becomes difficult to obtain a heat ray cutoff having a visible light transmittance of 70% or more. On the other hand, as x increases,
Although the refractive index of the film decreases (see FIG. 2A), x ≧ 2.3
, The heat resistance is lowered, and the alkali resistance is lowered and the boiling test is degraded when x ≧ 4. Therefore, in the ZrB x O y film as the oxide film 3 of the present invention, 1.0 ≦ x <2.3. .
y is considered to be a composite system of ZrO 2 and B 2 O 3 , and ZrO 2 + xB
When expressed as O 1.5 , y = about 2 + 1.5x, that is, 2.5 ≦ y <5.4
5

ZrSizOy膜については、ZrBxOy膜と同様にzが増加す
るほど、屈折率が下がるが(第2図(b)参照)、Bよ
りもSiの方が屈折率低下に対する寄与度が高いため、B
より少量で屈折率が2.0以下となるので、0.28≦zであ
る。また、z≧19であると膜の耐アルカリ性が不十分と
なり、Zrを含有している優位性があまり認められなくな
るので、0.28≦z<19である。yについては同様にZrO2
とSiO2の複合系を考えてy=2+2z程度、すなわち2.56
≦y<40である。
As with the ZrB x O y film, the refractive index of the ZrSi z O y film decreases as z increases (see FIG. 2 (b)). Is high, so B
Since the refractive index becomes 2.0 or less with a smaller amount, 0.28 ≦ z. Further, when z ≧ 19, the alkali resistance of the film becomes insufficient, and the superiority containing Zr is hardly recognized, so that 0.28 ≦ z <19. Similarly for y, ZrO 2
And consider the SiO 2 composite systems y = 2 + 2z about, namely 2.56
≤ y <40.

ZrBxSizOy膜については、同様に屈折率の点から0.28≦
x+zである。また、x+z<19であれば耐アルカリ性
も良好であるので、ZrBxSizOy膜においては、0.28≦x
+z<19である。ただし、上述のように、B2O3は吸湿性
で空気中の水分を吸収して溶けてしまうため、ZrBxSizO
y膜中にあまり多く含有されない方がよい。
For the ZrB x Si z O y film, similarly, from the viewpoint of the refractive index, 0.28 ≦
x + z. If x + z <19, the alkali resistance is also good, so that in the ZrB x Si z O y film, 0.28 ≦ x
+ Z <19. However, as described above, since B 2 O 3 is hygroscopic and absorbs and dissolves moisture in the air, ZrB x Si z O
It is better not to contain too much in the y film.

具体的には、膜中において、O(酸素)以外のZr、
B、Siの合計に対して、Zr<25原子%、かつSi<25原子
%で残りがB2O3となるほどBが含まれていると化学的耐
久性が不十分となる。即ち、ZrBxSizOy膜中のZr:B:Si
(原子比)を1:x:zとすると、1/(1+x+z)<0.2
5、かつz/(1+x+z)<0.25、即ち、x+z−3>
0、かつx−3z+1>0の組成は化学的耐久性が好まし
くない。yは、ZrBxOyの場合に述べたのと同様の理由に
よりこの膜をZrO2+B2O3+SiO2の複合系と考えて、yは
2+1.5y+2z程度である。よってほぼ2.5≦y<40程度
である。BやSiの含有量が多いほどZrBxSizOy膜の屈折
率は低下する。(第2図(c)参照)。
Specifically, Zr other than O (oxygen) in the film,
When Zr <25 at% and Si <25 at% with respect to the total of B and Si, and B is contained so that the remainder becomes B 2 O 3 , the chemical durability becomes insufficient. That is, Zr: B: Si in the ZrB x Si z O y film
If (atomic ratio) is 1: x: z, 1 / (1 + x + z) <0.2
5, and z / (1 + x + z) <0.25, that is, x + z−3>
A composition of 0 and x−3z + 1> 0 has poor chemical durability. y is considered to be a composite system of ZrO 2 + B 2 O 3 + SiO 2 for the same reason as described in the case of ZrB x O y , and y is about 2 + 1.5 y + 2z. Therefore, approximately 2.5 ≦ y <40. The higher the content of B or Si, the lower the refractive index of the ZrB x Si z O y film. (See FIG. 2 (c)).

以上より、本発明の酸化物膜3としての、BとSiのう
ち少なくとも1種とZrとを含む酸化物膜としては、ZrBx
Oy膜(1.0≦x<2.3、2.5≦y<5.45)、ZrSizOy膜(0.
28≦z<19、2.56≦y<40)、ZrBxSizOy膜(0.28≦x
<19、2.5≦y<40、ただしx+z−3>0かつx−3z
+1>0の部分を除く)が用いられる。
As described above, the oxide film containing at least one of B and Si and Zr as the oxide film 3 of the present invention is ZrB x
O y film (1.0 ≦ x <2.3,2.5 ≦ y <5.45), ZrSi z O y film (0.
28 ≦ z <19, 2.56 ≦ y <40), ZrB x Si z O y film (0.28 ≦ x
<19, 2.5 ≦ y <40, where x + z−3> 0 and x−3z
+1> 0) is used.

これらの膜はZrBxOy膜についてはx>0.10、ZrSizOy
膜についてはz≧0.05、ZrBxSiZOy膜についてはx+z
≧0.05であれば膜が非晶質化し、優れた耐摩耗性を有す
る。
These films have x> 0.10 for the ZrB x O y film and ZrSi z O y
Z ≧ 0.05 for the film, x + z for the ZrB x Si Z O y film
If ≧ 0.05, the film becomes amorphous and has excellent wear resistance.

TiSizOy膜については、第2図(d)より、z≧0.56
で屈折率は2以下となる。yについては、TiO2とSiO2
複合系と考えて、y=2+2zとなる。
As for the TiSi z O y film, as shown in FIG.
, The refractive index becomes 2 or less. As for y, y = 2 + 2z, assuming that it is a composite system of TiO 2 and SiO 2 .

本発明において用いる、B又はSiのうち少なくとも1
種とZrとを含む酸化物膜は、ジルコニウム、ホウ素、ケ
イ素の混合物、ホウ化ジルコニウム、又はこれらの混合
物等の焼結ターゲットから直流を用いた反応性スパッタ
リング法で容易に大面積のコーティングが可能であるの
で、自動車用、建築用等の用途に好適である。
At least one of B and Si used in the present invention
Oxide film containing species and Zr can be easily coated over a large area by reactive sputtering using direct current from a sintered target such as a mixture of zirconium, boron, silicon, zirconium boride, or a mixture of these. Therefore, it is suitable for use in automobiles, buildings and the like.

以上、本発明の熱線遮断ガラスの空気側最外層の酸化
物膜3は、耐久性向上、光学定数調整、成膜時の安定
性、又は成膜速度の向上などのために、他の成分を含ん
でいても支障はない。また、本発明の酸化物膜3は完全
に透明である必要はなく、酸素欠損の状態の吸収性膜で
あってもよいし、一部窒素や炭素を含有してていもよ
い。
As described above, the oxide film 3 as the outermost layer on the air side of the heat ray blocking glass of the present invention contains other components for the purpose of improving durability, adjusting optical constants, stability during film formation, or improving the film formation speed. There is no problem even if it is included. The oxide film 3 of the present invention does not need to be completely transparent, and may be an oxygen-deficient absorptive film, or may partially contain nitrogen or carbon.

酸化物層3の膜厚は限定されないが、あまり薄いと十
分な耐久性が得られないため、用途にもよるが、50Å以
上、好ましくは100Å以上、特に150Å以上であることが
望ましい。一方、あまり厚くなると、屈折率にも依る
が、干渉効果が生じてきて反射色も強くなるので、1000
Å以下、好ましくは700Å以下、特に500Å以下であるこ
とが望ましい。
The thickness of the oxide layer 3 is not limited, but if it is too thin, sufficient durability cannot be obtained. Therefore, depending on the use, it is preferably at least 50 °, preferably at least 100 °, and particularly preferably at least 150 °. On the other hand, if the thickness is too large, depending on the refractive index, an interference effect occurs and the reflected color becomes strong, so
Å, preferably 700Å or less, particularly preferably 500Å or less.

熱線吸収膜2の膜材料は特に限定されず、用途によっ
て、又は要求仕様によって、金属、炭化物、酸化物、又
はこれらの複合膜から選定される。具体的には、チタ
ン、クロム、ジルコニウム、タンタル、ハフニウム、窒
化チタン、窒化クロム、窒化ジルコニウム、窒化タンタ
ル、窒化ハフニウムのうち1種主を成分とした膜が熱線
吸収性能が良好なため好ましい。
The film material of the heat ray absorbing film 2 is not particularly limited, and is selected from a metal, a carbide, an oxide, or a composite film thereof depending on an application or a required specification. Specifically, a film mainly composed of one of titanium, chromium, zirconium, tantalum, hafnium, titanium nitride, chromium nitride, zirconium nitride, tantalum nitride, and hafnium nitride is preferable because of its good heat ray absorbing performance.

かかる熱線吸収膜2の膜厚としては、あまり厚くなる
と可視光線透過率が低下してしまうので、基板1の種
類、酸化物膜3の屈折率と膜厚にも依るが、1000Å以
下、好ましくは800Å以下が望まれる。800Åを超える
と、特に窒化物膜の場合には、内部応力が大きくなり膜
の剥離が生じやすくなる。また、あまり薄いと十分な熱
線吸収性能が得られないので、膜材料と基板ガラスの板
厚、種類にも依るが、20Å以上、好ましくは20〜100Å
であることが望ましい。
When the thickness of the heat ray absorbing film 2 is too large, the visible light transmittance is reduced. Therefore, although it depends on the type of the substrate 1 and the refractive index and the thickness of the oxide film 3, it is 1000 ° or less, preferably 800 mm or less is desired. If it exceeds 800 °, especially in the case of a nitride film, the internal stress increases and the film is liable to peel off. Further, if it is too thin, sufficient heat ray absorption performance cannot be obtained, so depending on the film material and the thickness and type of the substrate glass, it is 20 mm or more, preferably 20 to 100 mm.
It is desirable that

また、酸化物層3及び熱線吸収膜2の膜形成法も特に
限定されず、真空蒸着法、イオンプレーティング法、ス
パッタリング法などが可能であるが、大面積コーティン
グが必要な場合は、均一性に優れる反応性スパッタリン
グ法が好ましい。
The method for forming the oxide layer 3 and the heat ray absorbing film 2 is not particularly limited, and a vacuum deposition method, an ion plating method, a sputtering method, or the like can be used. Is preferred.

本発明において、色調がニュートラルとは、以下のよ
うな特性を有するものを意味する。
In the present invention, a neutral color tone means one having the following characteristics.

即ち、CIEの表色系で表示したときの、基板表面に熱
線吸収膜、酸化物膜等の被膜形成する前と後のx坐標、
y坐標の変化巾をΔx、Δyとする。
That is, when displayed in the CIE color system, the x-coordinates before and after the formation of a coating such as a heat ray absorbing film and an oxide film on the substrate surface,
The change widths of the y-coordinates are Δx and Δy.

を、被膜形成したことによる色調変化とし、ニュートラ
ル色とは、この色調変化の値が、透過色、反射色の各々
について0.008、0.032以下、より好ましくは0.007、0.0
28以下であることをいう。ただし、反射色については、
被膜形成した面と、形成していない面とで反射色が異な
る場合であるので、値の大きい方を指すものとする。
Is the color change due to the formation of the film, and the neutral color, the value of this color change, transmission color, each of the reflection color 0.008, 0.032 or less, more preferably 0.007, 0.07
28 or less. However, regarding the reflection color,
Since the reflection color is different between the surface on which the film is formed and the surface on which the film is not formed, it indicates the larger value.

熱線吸収膜2が窒化物膜である場合、該窒化物膜を内
部応力を低減しガラス基板との付着力を増すため、ガラ
ス基板と窒化物膜との間に酸化物膜を形成してもよい。
また、ガラス基板との間に付着力を増すもう1つの方法
として、ガラス基板上にまず下地膜を形成し、次いで高
エネルギーイオンを注入し、その後、熱線吸収膜を形成
するという方法も有効である。例えば、下地膜としてチ
タン膜を形成し、次いで高エネルギー窒素イオンを注入
した後窒化チタン膜を形成すると、熱線吸収膜2として
大変付着力の高い窒化チタン膜が得られる。
When the heat ray absorbing film 2 is a nitride film, an oxide film is formed between the glass substrate and the nitride film in order to reduce the internal stress of the nitride film and increase the adhesion to the glass substrate. Good.
Another effective method for increasing the adhesion between the glass substrate and the glass substrate is to first form a base film on the glass substrate, then implant high energy ions, and then form a heat ray absorbing film. is there. For example, when a titanium film is formed as a base film and then a high-energy nitrogen ion is implanted and then a titanium nitride film is formed, a titanium nitride film having a very high adhesive force can be obtained as the heat ray absorbing film 2.

[作用] 本発明の熱線遮断ガラスにおいて、空気側最外層の酸
化物膜3は、その屈折率、膜厚などにより、光学的な機
能を果している。即ち、熱線遮断ガラスの反射率を低下
させ、可視光線透過率の向上に寄付するとともに、反射
色の刺激純度を低下させ全体の色調をニュートラル化す
る作用を有する。さらに、酸化物膜3は熱線遮断ガラス
の耐摩耗性、耐薬品性を向上させるための保護膜の役割
を有する。
[Function] In the heat ray blocking glass of the present invention, the oxide film 3 as the outermost layer on the air side has an optical function by its refractive index, film thickness and the like. That is, it has the effect of lowering the reflectance of the heat ray blocking glass and contributing to the improvement of the visible light transmittance, and at the same time, lowering the stimulating purity of the reflected color and neutralizing the overall color tone. Further, the oxide film 3 has a role of a protective film for improving abrasion resistance and chemical resistance of the heat ray shielding glass.

熱線吸収膜2は、太陽光線エネルギーを吸収する作用
を果たすとともに可視光線透過率を調整している。
The heat ray absorbing film 2 functions to absorb sunlight energy and adjusts the visible light transmittance.

また、酸化物膜3がB又はSiのうち少なくとも1種と
Zrとを含む酸化物膜である場合は、その屈折率を低下さ
せる作用を有するとともに、かかるB又はSiは酸化ジル
コニウム膜に不足している耐摩耗性を向上させる作用も
有する。
Further, the oxide film 3 is made of at least one of B and Si.
In the case of an oxide film containing Zr, B or Si has an effect of lowering the refractive index and also has an effect of improving the wear resistance which is insufficient in the zirconium oxide film.

これは、ガラス構成要素であるB又はSiの添加によ
り、膜が非晶質化し、表面の平滑さが増すため摩擦抵抗
が低下し、耐摩耗性が向上しているものと考えられる。
このような非晶質化により、酸、アルカリなどに強い化
学的安定性を有する酸化ジルコニウムにあわせて耐摩耗
性を付与でき、耐摩耗性と化学的安定性の両方を併せも
つきわめて優れた耐久性を有する膜の実現に寄付してい
る。
This is probably because the addition of B or Si, which is a glass component, makes the film amorphous and increases the smoothness of the surface, so that the frictional resistance is reduced and the wear resistance is improved.
Due to such amorphization, abrasion resistance can be imparted to zirconium oxide, which has strong chemical stability against acids, alkalis, etc., and extremely excellent durability that combines both abrasion resistance and chemical stability Donated to the realization of a film with properties.

[実施例] 実施例1 ガラス基板をスパッタリング装置の真空槽にセットし
1×10-6Torrまで排気した。ガラス基板としては4mm厚
の青板を用いた。実施例2以下も同様のガラス基板を用
いた。アルゴンと窒素の混合ガスを導入して圧力を2×
10-3Torrとした後、チタンを反応性スパッタリングして
窒化チタン(第1層)を約20Å形成した。次にアルゴン
と酸素の混合ガスに切り替え圧力を2×10-3Torrにし
て、ZrB2ターゲット反応性スパッタリングしてZrとBか
らなる酸化膜(第2層)を約200Å形成した。
Example 1 Example 1 A glass substrate was set in a vacuum chamber of a sputtering apparatus and evacuated to 1 × 10 −6 Torr. A 4 mm thick blue plate was used as a glass substrate. The same glass substrate was used in Example 2 and thereafter. Introduce a mixed gas of argon and nitrogen to increase the pressure to 2 ×
After 10 -3 Torr, titanium was reactively sputtered to form titanium nitride (first layer) of about 20 °. Next, the pressure was switched to a mixed gas of argon and oxygen, the pressure was set to 2 × 10 −3 Torr, and a ZrB 2 target reactive sputtering was performed to form an oxide film (second layer) composed of Zr and B at about 200 °.

こうして得られた熱線遮断ガラスの可視光線透過率
TV、太陽光線透過率TE、コート面可視光線反射率RVF
ガラス面可視光線反射率RVG、透過色、反射色の色調変
は、それぞれ71、56、13、12(%)、0.0068、0.026で
あった。
Visible light transmittance of the heat-shield glass thus obtained
T V , sunlight transmittance TE , coated surface visible light reflectance R VF ,
Glass surface visible light reflectance R VG , color change of transmitted color, reflected color Were 71, 56, 13, 12 (%), 0.0068, and 0.026, respectively.

また、透過色、反射色も素板のガラスとほとんど見分
けがつかないほどニュートラル色であった。
Further, the transmission color and the reflection color were also neutral colors that could hardly be distinguished from the bare glass.

膜の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、水酸化ナ
トリウム各水溶液中に室温で6時間、又は沸騰水中に2
時間浸漬したが、光学性能に変化は認められなかった。
酸、アルカリに対してさらに浸漬を続けて240時間経過
後に同様に評価したところ、TV、TEが2〜3%上昇して
いて、劣化が認められた。砂消しゴムによる擦り試験で
も、傷はほとんどつかずきわめて優れた耐擦傷性を示し
た。
To examine the durability of the membrane, immerse in 0.1N hydrochloric acid and sodium hydroxide aqueous solution for 6 hours at room temperature or in boiling water for 2 hours.
After immersion for a time, no change was observed in the optical performance.
Acid, further was evaluated in the same manner continue to immersion in after 240 hours in an alkali, T V, and T E is not increased 2-3%, degradation was observed. The rubbing test with a sand eraser showed very good scratch resistance with almost no scratches.

実施例2 実施例1と同様にガラス基板上にジルコニウムを反応
性スパッタリングして窒化ジルコニウム(第1層)を約
20Å形成した後、アルゴンと酸素の混合ガスに切り替え
2×10-3Torrにした。次に、ZrB2ターゲットを反応性ス
パッタリングしてZrとBからなる酸化膜(第2層)を約
200Å形成した。
Example 2 As in Example 1, zirconium was reactively sputtered on a glass substrate to form zirconium nitride (first layer).
After the formation of 20 °, the mixture was switched to a mixed gas of argon and oxygen to be 2 × 10 −3 Torr. Next, a ZrB 2 target is reactively sputtered to form an oxide film (second layer) composed of Zr and B approximately.
200 mm formed.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RVF
RVG、透過色、反射色の色調変化は、それぞれ71、55、1
2、12(%)、0.0067、0.026であった。
The optical performance T V , T E , R VF ,
The color tone changes of R VG , transmission color and reflection color are 71, 55 and 1 respectively.
2, 12, (%), 0.0067, and 0.026.

膜の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、水酸化ナ
トリウム各水溶液中に室温で6時間、又は沸騰水中に2
時間浸漬したが、光学性能に変化は認められなかった。
実施例1と同様な耐久試験を行ったが、同様に優れた性
能を示した。
To examine the durability of the membrane, immerse in 0.1N hydrochloric acid and sodium hydroxide aqueous solution for 6 hours at room temperature or in boiling water for 2 hours.
After immersion for a time, no change was observed in the optical performance.
A durability test similar to that of Example 1 was performed, and similarly, excellent performance was shown.

実施例3 実施例1と同様にガラス基板上にクロムを反応性スパ
ッタリングして窒化クロム(第1層)を約10Å形成後、
アルゴンと酸素の混合ガスに切り替え2×10-3Torrにし
た。次に、ZrB2とSiCを含むターゲットを反応性スパッ
タリングしてZr、B、Siを含む酸化膜(第2層)を約20
0Å形成した。
Example 3 Chromium was reactively sputtered on a glass substrate in the same manner as in Example 1 to form chromium nitride (first layer) of about 10 °.
The mixture was switched to a mixed gas of argon and oxygen to 2 × 10 −3 Torr. Next, a target containing ZrB 2 and SiC is reactively sputtered to form an oxide film (second layer) containing Zr, B, and Si for about 20 minutes.
0 ° formed.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RVF、RVG
透過色、反射色の色調変化は、それぞれ72、58、10、9
(%)、0.0074、0.029であった。透過色、反射色も素
板とほとんど見分けがつかなかった。耐久性も実施例1
と同様できわめて優れていた。
The optical performance T V , T E , R VF , R VG ,
The color changes of the transmitted color and the reflected color are 72, 58, 10, 9 respectively.
(%), 0.0074 and 0.029. The transmitted color and the reflected color were almost indistinguishable from the bare plate. Example 1 for durability
It was very good as well.

実施例4 実施例1の窒化チタンのかわりに第1層としてクロ
ム、チタン、ジルコニウムをそれぞれ約10Å形成した。
その上にZrB2ターゲットを反応性スパッタリングしてZr
とBを含む酸化膜(第2層)を約200Å形成して3種類
の熱線遮断ガラスを作った。これらのTV、TE、RVF、RVG
は第1層のクロム、チタン、ジルコニウムに大きな差は
みられず、それぞれ72、58、11、10(%)のものであっ
た。透過色、反射色の色調変化は、それぞれ0.0031〜0.
0065、0.028〜0.030と実施例1と同様にきわめて優れて
いた。耐久性も実施例1と同様にきわめて優れていた。
Example 4 Instead of the titanium nitride of Example 1, chromium, titanium, and zirconium were each formed as a first layer by about 10 °.
Reactive sputtering of ZrB 2 target on top
An oxide film (second layer) containing B and B was formed at about 200 ° to produce three types of heat-shielding glasses. These T V , T E , R VF , R VG
No significant difference was observed in chromium, titanium, and zirconium of the first layer, which were 72, 58, 11, and 10 (%), respectively. The color change of the transmitted color and the reflected color is 0.0031 to 0, respectively.
0065, 0.028 to 0.030, which were extremely excellent as in Example 1. The durability was extremely excellent as in Example 1.

実施例5 実施例1と同様に窒化チタンを20Å形成後、錫を反応
性スパッタリングして200Å形成した。こうして得られ
た熱線遮断ガラスのTV、TE、RVF、RVGは、それぞれ70、
55、15、13(%)であった。
Example 5 In the same manner as in Example 1, after forming titanium nitride at 20 °, tin was reactively sputtered to form 200 °. T V , T E , R VF , R VG of the thus obtained heat shielding glass are 70, respectively.
55, 15, and 13 (%).

長時間の0.1規定の塩酸水溶液中保存で膜の溶液がみ
られた他は耐久性に優れていた。色調も反射が若干高い
ことを除けば透過色、反射色の色調変化がそれぞれ0.00
36、0.030とニュートラル色であった。
The membrane was excellent in durability except that the solution of the membrane was observed after being stored in a 0.1 N hydrochloric acid aqueous solution for a long time. Except that the color tone is slightly higher in reflection, the color change of the transmitted color and the reflected color is 0.00
36, 0.030 and neutral color.

実施例6 実施例1と同様に窒化チタンを20Å形成した後、酸素
ケイ素を高周波反応性スパッタリングして250Å形成し
た。こうして得られた熱線遮断ガラスのTV、TE、RVF、R
VGは、それぞれ73、56、8、6(%)であった。
Example 6 In the same manner as in Example 1, titanium nitride was formed at a thickness of 20 [deg.], And silicon oxide was formed at 250 [deg.] By high frequency reactive sputtering. T V , T E , R VF , R
VG was 73, 56, 8, and 6 (%), respectively.

長時間の0.1規定の水酸化ナトリウム水溶液中で膜の
溶解が見られた他は耐久性に優れていた。反射率が低
く、透過色、反射色の色調変化が0.005、0.018と色調も
きわめて優れていた。
The durability was excellent except that the film was dissolved in a 0.1 N aqueous sodium hydroxide solution for a long time. The reflectance was low, and the color tone change of the transmitted color and the reflected color was 0.005 and 0.018, which was extremely excellent.

実施例7 実施例1と同様に窒化チタンを20Å形成後、ジルコニ
ウム−ホウ素合金ターゲット(組成は原子濃度で50Zr−
50B)を反応性スパッタリングしてZrとBからなる酸化
膜(第2層)を約200Å形成した。
Example 7 In the same manner as in Example 1, after forming titanium nitride by 20 °, a zirconium-boron alloy target (composition: 50Zr-atomic concentration)
50B) was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) composed of Zr and B at about 200 °.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RVF
RVG、透過色、反射色の色調変化は、それぞれ72.3、58.
5、10.4、8.8(%)、0.0024、0.0290であった。透過
色、反射色も素板とほとんど見分けがつかなかった。膜
の耐久性を調べるために0.1規定の塩酸、水酸化ナトリ
ウム各水溶液中に室温で240時間、又は沸騰水中に2時
間浸漬したが、光学性能に変化は認められなかった。こ
のことから実施例1よりさらにきびしい耐久性試験によ
って優れた耐久性を示すことがわかった。砂消しゴムに
よる擦り試験でも、きわめて優れた耐擦傷性を示した。
The optical performance T V , T E , R VF ,
R VG , transmissive color and reflected color change in color tone are 72.3 and 58.
5, 10.4, 8.8 (%), 0.0024, and 0.0290. The transmitted color and the reflected color were almost indistinguishable from the bare plate. To examine the durability of the film, the film was immersed in a 0.1 N aqueous solution of hydrochloric acid or sodium hydroxide for 240 hours at room temperature or for 2 hours in boiling water, but no change was observed in the optical performance. From this, it was found that a more durable durability test than Example 1 showed excellent durability. The rubbing test with a sand eraser also showed extremely good scratch resistance.

実施例8 実施例1と同様に窒化チタンを20Å形成後、ZrSi2
ーゲットを反応性スパッタリングしてZrとSiからなる酸
化膜(第2層)を約200Å形成した。
Example 8 In the same manner as in Example 1, after forming titanium nitride at 20 °, a ZrSi 2 target was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) composed of Zr and Si at about 200 °.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RVF
RVG、透過色、反射色の色調変化は、それぞれ73.7、59.
3、8.6、7.1(%)、0.0010、0.0175であった。膜の耐
久性は実施例7と同条件で評価したが、同様に優れた性
能を示した。
The optical performance T V , T E , R VF ,
The color tone changes of R VG , transmission color and reflection color are 73.7 and 59.
3, 8.6, 7.1 (%), 0.0010, 0.0175. The durability of the film was evaluated under the same conditions as in Example 7, but also showed excellent performance.

実施例9 実施例1と同様に窒化チタンを20Å形成後、ジルコニ
ウム−ケイ素合金ターゲット(組成は原子濃度で10Zr−
90Si)を反応性スパッタリングしてZrとSiからなる酸化
膜(第2層)を約200Å形成した。
Example 9 A titanium zirconium-silicon alloy target (atomic concentration of 10Zr-
90Si) was reactively sputtered to form an oxide film (second layer) composed of Zr and Si with a thickness of about 200 °.

得られた熱線遮断ガラスの光学性能TV、TE、RVF
RVG、透過色、反射色の色調変化は、それぞれ74.3、59.
6、8.0、6.3(%)、0.0008、0.0074であった。膜の耐
久性は実施例7と同条件で評価したが、同様に優れた性
能を示した。
The optical performance T V , T E , R VF ,
The color tone changes of R VG , transmission color and reflection color are 74.3 and 59.
It was 6, 8.0, 6.3 (%), 0.0008, 0.0074. The durability of the film was evaluated under the same conditions as in Example 7, but also showed excellent performance.

[発明の効果] 本発明の熱線遮断ガラスは透明基板上に熱線吸収膜、
屈折率が2.0以下の特定の酸化物膜を積層した2層以上
の膜構成を有するので、自然な、ニュートラル色調を有
し、可視光線透過率が高く、かつ高耐久性を有する。し
たがって、単板としても建築用、自動車用など、使用環
境の厳しい用途において充分使用できる。
[Effects of the Invention] The heat ray blocking glass of the present invention has a heat ray absorbing film on a transparent substrate,
Since it has a film configuration of two or more layers in which a specific oxide film having a refractive index of 2.0 or less is laminated, it has a natural, neutral color tone, a high visible light transmittance, and high durability. Therefore, it can be used satisfactorily in applications where the use environment is severe, such as for construction and automobiles.

酸化物膜3としてB又はSiのうち1種以上とZrとを含
む酸化物膜を形成した場合には、特に耐摩耗性、耐薬品
性に優れた熱線遮断ガラスが可能となる。
When an oxide film containing one or more of B or Si and Zr is formed as the oxide film 3, a heat ray shielding glass having particularly excellent wear resistance and chemical resistance can be obtained.

B又はSiあるいはその合計量の含有割合を多くするこ
とにより、該酸化物膜の屈折率を1.7以下にすることが
でき、その結果、可視光線低反射、高透過、ニュートラ
ルな色調を有する熱線遮断ガラスが可能となる。
By increasing the content ratio of B or Si or the total amount thereof, the refractive index of the oxide film can be reduced to 1.7 or less, and as a result, visible light low reflection, high transmission, and heat ray blocking having a neutral color tone Glass becomes possible.

さらに、かかるB又はSiのうち1種以上とZrとを含む
酸化物膜を空気側最外層3とする場合には、直流スパッ
タリング法により製膜できるため、大面積が必要とされ
る自動車用、建築用等の用途に最適である。
Further, when an oxide film containing one or more of B or Si and Zr is used as the air-side outermost layer 3, the film can be formed by a DC sputtering method, and therefore, for an automobile requiring a large area, Ideal for applications such as construction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

第1図は本発明の熱線遮断ガラスの一例を示す断面図で
ある。 第2図(a)はZrBxOy膜中のBの含有量と膜の屈折率n
との関係を示した図である。 第2図(b)はZrSizOy膜中のSiの含有量とnとの関係
を示した図である。 第2図(c)はZrB1SizOy膜中のSiの含有量とnとの関
係を示した図である。 第2図(d)はTiSizOy膜中のSiの含有量とnとの関係
を示した図である。 1:ガラス基板、 2:熱線吸収膜、 3:酸化物膜。
FIG. 1 is a sectional view showing an example of the heat ray shielding glass of the present invention. FIG. 2A shows the content of B in the ZrB x O y film and the refractive index n of the film.
FIG. FIG. 2 (b) is a diagram showing the relationship between the content of Si in the ZrSi z O y film and n. FIG. 2 (c) is a diagram showing the relationship between the content of Si in the ZrB 1 Si z O y film and n. FIG. 2 (d) is a diagram showing the relationship between the content of Si in the TiSi z O y film and n. 1: glass substrate, 2: heat ray absorbing film, 3: oxide film.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02B 5/20 G02B 5/20 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location G02B 5/20 G02B 5/20

Claims (6)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少
なくとも2層の順次積層された熱線遮断ガラスであっ
て、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以下の
屈折率を有するZrByOy膜(1.0≦x<2.3、2.5≦y<5.4
5)であることを特徴とする熱線遮断ガラス。
1. A heat-shielding glass in which at least two layers of a heat-ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less. ZrB y O y film (1.0 ≦ x <2.3, 2.5 ≦ y <5.4
5) A heat ray shielding glass, characterized in that:
【請求項2】ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少
なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであっ
て、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以下の
屈折率を有するZrSizOy膜(0.28≦z<19、2.56≦y<4
0)であることを特徴とする熱線遮断ガラス。
2. A heat-shielding glass in which at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less. ZrSi z O y film (0.28 ≦ z <19, 2.56 ≦ y <4
0) A heat ray shielding glass, which is characterized in that:
【請求項3】ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少
なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであっ
て、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以下の
屈折率を有するZrBxSizOy膜(0.28≦x+z<19、2.5≦
y<40、ただしx+z−3>0かつx−3z+1>0の部
分を除く)であることを特徴とする熱線遮断ガラス。
3. A heat-shielding glass in which at least two layers of a heat-absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less. ZrB x Si z O y film (0.28 ≦ x + z <19, 2.5 ≦
y <40 except for x + z−3> 0 and x−3z + 1> 0).
【請求項4】ガラス基板上に熱線吸収膜、酸化物膜の少
なくとも2層が順次積層された熱線遮断ガラスであっ
て、該酸化物膜が空気側最外層であり、かつ2.0以下の
屈折率を有するTiSizOy膜(z≧0.56、y=2+2z)で
あることを特徴とする熱線遮断ガラス。
4. A heat ray blocking glass in which at least two layers of a heat ray absorbing film and an oxide film are sequentially laminated on a glass substrate, wherein the oxide film is the outermost layer on the air side and has a refractive index of 2.0 or less. A heat-shielding glass, characterized in that the film is a TiSi z O y film (z ≧ 0.56, y = 2 + 2z) having the following formula:
【請求項5】可視光線透過率が70%以上であることを特
徴とする請求項1〜4のいずれか一項記載の熱線遮断ガ
ラス。
5. The heat ray blocking glass according to claim 1, wherein the visible light transmittance is 70% or more.
【請求項6】熱線吸収膜がチタン、クロム、ジルコニウ
ム、タンタル、ハフニウム、窒化チタン、窒化クロム、
窒化ジルコニウム、窒化タンタル、窒化ハフニウムの群
から選ばれた1種又は2種以上を主成分とすることを特
徴とする請求項1〜5のいずれか一項記載の熱線遮断ガ
ラス。
6. A heat ray absorbing film comprising titanium, chromium, zirconium, tantalum, hafnium, titanium nitride, chromium nitride,
The heat ray shielding glass according to any one of claims 1 to 5, wherein one or two or more selected from the group consisting of zirconium nitride, tantalum nitride, and hafnium nitride are used as main components.
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