JP2521943B2 - Programmable logic array device - Google Patents

Programmable logic array device

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JP2521943B2
JP2521943B2 JP62043468A JP4346887A JP2521943B2 JP 2521943 B2 JP2521943 B2 JP 2521943B2 JP 62043468 A JP62043468 A JP 62043468A JP 4346887 A JP4346887 A JP 4346887A JP 2521943 B2 JP2521943 B2 JP 2521943B2
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國広 小薮
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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H10B20/00Read-only memory [ROM] devices

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  • Metal-Oxide And Bipolar Metal-Oxide Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Logic Circuits (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明はプログラマブルロジックアレイ装置に関す
る。
The present invention relates to a programmable logic array device.

[従来の技術] 従来この種のプログラマブルロジックアレイ(以下、
PLAという)としては第4(a)図乃至第4(c)図、
または第5(a)乃至第5(b)図に示されているよう
なプログラマブルロジックアレイユニット(以下、PLA
ユニットという)を第7図に示されているようにi行
(iは2以上)j列(jは2以上)のマトリックス配置
してアンド平面またはオア平面を構築したものが知られ
ている。
[Prior Art] Conventionally, this type of programmable logic array (hereinafter,
(Referred to as PLA) as shown in FIGS. 4 (a) to 4 (c),
Alternatively, a programmable logic array unit (hereinafter, PLA) as shown in FIGS. 5 (a) to 5 (b) is used.
As shown in FIG. 7, there is known a matrix arrangement of i rows (i is 2 or more) and j columns (j is 2 or more) to construct an AND plane or an OR plane.

第4(a)図に於て、141は第1のMOS型電界効果トラ
ンジスタ(以下、MOSFETという)列を、142は第2のMOS
FET列をそれぞれ示している。第1のMOSFET列141を構成
する各MOSFETはドレイン電極841乃至84nとポリシリコン
の共通ゲート電極241とを有しており、第2のMOSFET列1
42を構成する各MOSFETはドレイン電極941乃至94nとポリ
シリコンの共通ゲート電極242とを有している。341乃至
346、441A乃至44nA、441B乃至44nB、541A乃至54nA及び5
41B乃至54nBはコンタクト孔を示している。第1のMOSFE
T列141と第2のMOSFET列142とは拡散層からなる共通ソ
ース電極741で連結されているので、これらを等価回路
図で表すと第4(b)図のようになる。第4(c)図は
第4(a)図に示されているPLAユニットに金属配線651
乃至662を施した状態を示している。
In FIG. 4 (a), 141 is a first MOS field effect transistor (hereinafter referred to as MOSFET) row, and 142 is a second MOS field effect transistor.
The respective FET columns are shown. Each MOSFET constituting the first MOSFET row 141 has drain electrodes 841 to 84n and a common gate electrode 241 made of polysilicon, and the second MOSFET row 1
Each of the MOSFETs constituting 42 has drain electrodes 941 to 94n and a common gate electrode 242 of polysilicon. 341 to
346, 441A to 44nA, 441B to 44nB, 541A to 54nA and 5
41B to 54nB indicate contact holes. First MOSFE
Since the T column 141 and the second MOSFET column 142 are connected by the common source electrode 741 formed of a diffusion layer, the equivalent circuit diagram of them is as shown in FIG. 4 (b). FIG. 4 (c) shows metal wiring 651 on the PLA unit shown in FIG. 4 (a).
6 to 662 are shown.

第5(a)図に示されているPLAユニットは第1のMOS
FET列161と、第2のMOSFET列162とで構成されている。
第1のMOSFET列161を構成する各MOSFETはドレイン電極8
61乃至86mとポリシリコンの共通ゲート電極261とを有し
ており、第2のMOSFET列162を構成する各MOSFETはドレ
イン電極961乃至96mとポリシリコンの共通ゲート電極26
2とを有している。361乃至366、461乃至46m及び561乃至
56mはコンタクト孔を示している。第1のMOSFET列161と
第2のMOSFET列162とは拡散層からなる共通ソース電極7
61で連結されているので、これらを等価回路図で表すと
第5(b)図のようになる。第5(a)図に示されてい
るPLAユニットはドレイン電極上に1つのコンタクト孔
が形成されている以外は第4図(a)図に示されている
PLAユニットと同一である。
The PLA unit shown in FIG. 5 (a) is the first MOS.
It is composed of a FET row 161 and a second MOSFET row 162.
Each MOSFET that constitutes the first MOSFET row 161 has a drain electrode 8
The MOSFETs 61 to 86m and the common gate electrode 261 made of polysilicon are included. Each MOSFET constituting the second MOSFET row 162 has drain electrodes 961 to 96m and a common gate electrode 26 made of polysilicon.
Has 2 and. 361 to 366, 461 to 46m and 561 to
56m is a contact hole. The first MOSFET row 161 and the second MOSFET row 162 have a common source electrode 7 made of a diffusion layer.
Since they are connected by 61, they are represented by an equivalent circuit diagram as shown in FIG. 5 (b). The PLA unit shown in FIG. 5 (a) is shown in FIG. 4 (a) except that one contact hole is formed on the drain electrode.
It is the same as the PLA unit.

第4(a)図または第5(a)図に示されているPLA
ユニットを上述のようにi行j列に配置し、第6図に示
されているように金属配線671乃至673で接続するとPLA
が完成する。かかる構成のPLAは各PLAユニットを構成す
る第1MOSFET列のゲート電極241、261と第2MOSFET列のゲ
ート電極242、262とに入力信号とその反転信号とを供給
して所定の論理多項式で表される出力を発生させてい
る。
PLA shown in FIG. 4 (a) or FIG. 5 (a)
Placing the units in the i-th row and the j-th column as described above and connecting them by metal wiring 671 to 673 as shown in FIG.
Is completed. The PLA having such a configuration is supplied with an input signal and its inverted signal to the gate electrodes 241 and 261 of the first MOSFET row and the gate electrodes 242 and 262 of the second MOSFET row, which form each PLA unit, and is represented by a predetermined logical polynomial. Output is generated.

[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、例えば3−8デコーダのイネーブル信
号の場合のように所定の論理多項式に含まれる入力信号
とその反転信号との比が1:1にならない場合には該入力
信号の供給される第1MOSFET列を構成するMOSFETの使用
数とその反転信号の供給される第2MOSFET列を構成するM
OSFETの使用数との差が生じ、使用されないMOSFET数が
増加するという問題点があった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, when the ratio between the input signal included in a predetermined logical polynomial and its inverted signal is not 1: 1 as in the case of the enable signal of the 3-8 decoder, for example, The number of MOSFETs used in the first MOSFET string to which the input signal is supplied and the M number of the second MOSFET string to which the inverted signal is supplied are used.
There was a problem that the number of unused MOSFETs increased due to a difference from the number of OSFETs used.

したがって、本発明の目的はPLAユニットの構成MOSFE
Tの使用率を向上させることである。
Therefore, the object of the present invention is to configure the PLA unit MOSFE.
It is to improve the usage rate of T.

[問題点を解決するための手段] 本発明は単一の半導体基板上に複数のプログラマブル
ロジックアレイユニットを行列状に配置し、該複数のプ
ログラマブルロジックアレイユニットの各々は列方向に
延在する制御電極に供給される入力信号により制御され
る第1トランジスタ群と列方向に延在する他の制御電極
に供給される入力信号の反転信号により制御される第2
トランジスタ群とを含み、上記複数のプログラマブルロ
ジックアレイユニットの第1トランジスタ群及び第2ト
ランジスタ群を選択的に結線する第1配線群を有するプ
ログラマブルロジックアレイ装置において、互いに隣接
するプログラマブルロジックアレイユニットの行間に短
絡用配線を設け、上記互いに隣接するプログラマブルロ
ジックアレイユニットの行に属する制御電極を上記短絡
用配線を介して第2配線群により選択的に結線したこと
を特徴としている。
[Means for Solving the Problems] The present invention arranges a plurality of programmable logic array units in a matrix on a single semiconductor substrate, and each of the plurality of programmable logic array units extends in a column direction. A first transistor group controlled by an input signal supplied to an electrode and a second transistor group controlled by an inverted signal of an input signal supplied to another control electrode extending in the column direction.
In a programmable logic array device having a first wiring group that selectively connects the first transistor group and the second transistor group of the plurality of programmable logic array units, including a transistor group, between adjacent rows of programmable logic array units. Is provided with a short-circuit wiring, and the control electrodes belonging to the rows of the programmable logic array units adjacent to each other are selectively connected by the second wiring group via the short-circuit wiring.

[発明の作用] 上記構成に係るプログラマブルロジックアレイ装置で
所定の論理多項式に従い出力を発生させるには、第1配
線群で結線する。ところが、入力信号の供給される第1
トランジスタ群の構成トランジスタ数と入力信号の反転
信号の供給される第2トランジスタ群の構成トランジス
タ数とが1:1の比からかけ離れている場合には、短絡用
配線と第2配線群とによりプログラマブルロジックアレ
イユニットの制御電極を結線することができ、第1トラ
ンジスタ群と第2トランジスタ群との間で構成トランジ
スタの融通をすることができる。
[Operation of the Invention] In order to generate an output in accordance with a predetermined logical polynomial in the programmable logic array device having the above-described configuration, the first wiring group is connected. However, the first input signal is supplied
When the number of constituent transistors of the transistor group and the number of constituent transistors of the second transistor group to which the inverted signal of the input signal is supplied are far from the ratio of 1: 1, programmable by the wiring for short circuit and the second wiring group The control electrodes of the logic array unit can be connected, and the constituent transistors can be interchanged between the first transistor group and the second transistor group.

[実施例] 以下、本発明の実施例について説明する。[Examples] Examples of the present invention will be described below.

第1(a)図と第1(b)図とは本発明の第1実施例
を示しており、第1(a)図において1は第1PLAユニッ
トを示しており、第1PLAユニット1は第1MOSFET列2と
第2MOSFET列3とを有している。第1実施例に係るPLAは
第2PLAユニット4を更に含んでおり、第2PLAユニット4
も第1MOSFET列5と第2MOSFET列6とを有している。第1P
LAユニット1は拡散層からなる共通ソース電極701と第1
MOSFET列2を構成するMOSFETのドレイン電極801と共通
ゲート電極201とを有し、更に第2MOSFET列3を構成する
MOSFETのドレイン電極802と共通ゲート電極202とを備え
ている。一方、第2PLAユニット4は拡散層からなる共通
ソース電極702と第1MOSFET列5を構成するMOSFETのドレ
イン電極803と共通ゲート電極203とを有し、更に第2MOS
FET列6を構成するMOSFETのドレイン電極804と共通ゲー
ト電極204とを備えている。本実施例に係るPLAは更に第
1PLAユニット1の形成されている領域と第2PLAユニット
4の形成されている領域との間にポリシリコンの配線層
205を有しており、共通ゲート電極201、202、203、204
はコンタクト孔301乃至306を通過する短絡用金属配線60
1、602、603により結線されている。
1 (a) and 1 (b) show a first embodiment of the present invention. In FIG. 1 (a), reference numeral 1 denotes a first PLA unit, and first PLA unit 1 is a first PLA unit. It has one MOSFET row 2 and a second MOSFET row 3. The PLA according to the first embodiment further includes a second PLA unit 4, and the second PLA unit 4
Also has a first MOSFET row 5 and a second MOSFET row 6. 1st P
The LA unit 1 includes a common source electrode 701 composed of a diffusion layer and a first
It has a drain electrode 801 and a common gate electrode 201 of the MOSFETs forming the MOSFET row 2, and further forms a second MOSFET row 3.
A drain electrode 802 of the MOSFET and a common gate electrode 202 are provided. On the other hand, the second PLA unit 4 has a common source electrode 702 formed of a diffusion layer, a drain electrode 803 of the MOSFETs forming the first MOSFET row 5, and a common gate electrode 203, and further has a second MOS.
The drain electrode 804 and the common gate electrode 204 of the MOSFETs forming the FET row 6 are provided. The PLA according to this embodiment is further
A wiring layer of polysilicon between the region where the 1PLA unit 1 is formed and the region where the second PLA unit 4 is formed.
It has a common gate electrode 201, 202, 203, 204
Is a short-circuiting metal wiring 60 that passes through the contact holes 301 to 306.
It is connected by 1, 602 and 603.

これらの短絡用金属配線は選択的に設けることができ
第1(b)図に示されているように、コンタクト孔311
乃至317を通過する金属配線611乃至613を使用すると第1
PLAユニット1の第2MOSFET列3の共通ゲート電極202を
第2PLAユニット4の共通ゲート電極203、204に接続する
ことができる。その結果、第1PLAユニットと第2PLAユニ
ットとの間で構成MOSFETの融通を行うことができる。
These short-circuiting metal wirings can be selectively provided, and as shown in FIG.
The use of metal wiring 611 to 613 passing through
The common gate electrode 202 of the second MOSFET row 3 of the PLA unit 1 can be connected to the common gate electrodes 203, 204 of the second PLA unit 4. As a result, the constituent MOSFETs can be interchanged between the first PLA unit and the second PLA unit.

例えば、出力論理多項式内にイネーブル信号付きの4
−16デコーダが含まれている場合には、イネーブル信号
の供給されるMOSFET数とイネーブル信号の反転信号の供
給されるMOSFET数との比は1:1から著しくずれている
が、他の信号に関しては1:1に近い比になる。それでこ
のデコーダの含まれるPLAの寸法を以下の条件にしたが
い計算する。
For example, 4 with an enable signal in the output logic polynomial
When a −16 decoder is included, the ratio of the number of MOSFETs to which the enable signal is supplied and the number of MOSFETs to which the inverted signal of the enable signal is supplied deviates significantly from 1: 1. Is a ratio close to 1: 1. Therefore, the size of the PLA included in this decoder is calculated according to the following conditions.

H=(コンタクト孔の大きさ)=2ミクロン HM=(コンタクト孔−金属配線のマージン) =2ミクロン MW=(金属配線幅)=2ミクロン MG=(金属配線間隔)=2ミクロン FG=(拡散間隔)=1ミクロン HF=(コンタクト孔−拡散マージン) =2.5ミクロン HP=(コンタクト孔−ポリシリコンマージン) =2.5ミクロン PW=(ポリシリコン幅)=2ミクロン PG=(ポリシリコン間隔)=2ミクロン PFG=(ポリシリコン−拡散間隔) =1ミクロン また、PLAユニットの各MOSFET列のトランジスタ数は
4とする。
H = (contact hole size) = 2 microns HM = (contact hole-metal wiring margin) = 2 microns MW = (metal wiring width) = 2 microns MG = (metal wiring interval) = 2 microns FG = (diffusion Interval) = 1 micron HF = (contact hole-diffusion margin) = 2.5 micron HP = (contact hole-polysilicon margin) = 2.5 micron PW = (polysilicon width) = 2 micron PG = (polysilicon interval) = 2 micron PFG = (polysilicon-diffusion interval) = 1 micron Also, the number of transistors in each MOSFET row of the PLA unit is 4.

第4(a)図に示されているPLAユニットの列方向長
Uは U=(HP+H+HP+PFG)×2 +4×(HF+H+HM+H+HF) +3×FG または U=(HP+H+HM+MG)×2 +4(MW+MG+HM+H+HM) +3×HG 上記条件の数値を代入すると U=63ミクロン となる。一方、第6図のPLAユニット間隔をG1とすれば G1=PG=2ミクロン になる。
The column direction length U of the PLA unit shown in FIG. 4 (a) is U = (HP + H + HP + PFG) × 2 + 4 × (HF + H + HM + H + HF) + 3 × FG or U = (HP + H + HM + MG) × 2 + 4 (MW + MG + HM + H + HM) + 3 × HG Above Substituting the numerical values of the conditions gives U = 63 microns. On the other hand, if the PLA unit interval in Fig. 6 is G1, then G1 = PG = 2 microns.

4−16デコーダを従来のPLAユニットで実現したとき
の列方向のPLAユニット数Aは A=(必要積項数) ÷(1PLAユニットで使用できる積項数) =16÷4=4 従来のPLAユニットで実現したときの列方向長H1は H1=U×A+(A−1)×G1 =258ミクロン となる。
The number of PLA units in the column direction when the 4-16 decoder is implemented by conventional PLA units is A = (the number of required product terms) ÷ (the number of product terms that can be used in one PLA unit) = 16 ÷ 4 = 4 Conventional PLA The length H1 in the column direction when realized with a unit is H1 = U * A + (A-1) * G1 = 258 microns.

次に、第1図に示されているPLAユニットで4−16デ
コーダを構成する場合について計算する。第1図に示さ
れているPLAユニットの間隔をG2とすると G2=2×PG+2×HP+H=11ミクロン となり、本実施例では1つのPLAユニットで使用される
積項数を8個まで増加できるので、PLAユニット数は2
個で足りる。その結果、列方向長H2は H2=U×2+(2−1)×G2 =137ミクロン となり、従来例では258ミクロン必要であったのが本実
施例では137ミクロンで足りる。
Next, calculation will be made for the case where the PLA unit shown in FIG. 1 constitutes a 4-16 decoder. When the spacing between the PLA units shown in FIG. 1 is G2, G2 = 2 × PG + 2 × HP + H = 11 microns, and in this embodiment, the number of product terms used in one PLA unit can be increased to eight. , 2 PLA units
One is enough. As a result, the length H2 in the column direction is H2 = U * 2 + (2-1) * G2 = 137 microns, which was 258 microns in the conventional example but 137 microns in this example.

第5(a)図に示されている従来例の場合を同様に計
算すると、列方向長U1は U1=(HP+H+HP+PFG)×2 +4×(HF+H+HF)+3×FG または U1=(HP+H+HM+MG)×2 +4×(HM+H+HM)+3×FG となり U1=47ミクロン となる。
Comparing the case of the conventional example shown in FIG. 5 (a), the column length U1 is U1 = (HP + H + HP + PFG) × 2 + 4 × (HF + H + HF) + 3 × FG or U1 = (HP + H + HM + MG) × 2 + 4 X (HM + H + HM) + 3 x FG and U1 = 47 microns.

従って、全体の列方向長H3は H3=U1×4+(4−1)×G1 =194ミクロン となる。このH3を上記H2と比較しても本実施例の利点が
明かである。
Therefore, the total column length H3 is H3 = U1 × 4 + (4-1) × G1 = 194 microns. The advantages of the present embodiment are also apparent when this H3 is compared with the above H2.

第2図は本発明の第2実施例の構成を示す平面図であ
る。第2実施例に係るPLAは短絡用配線を拡散層723で実
現したものである。その他の構成は第1実施例のPLAと
同様なので対応する番号のみ付して説明は省略する。
FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the second embodiment of the present invention. In the PLA according to the second embodiment, the short circuit wiring is realized by the diffusion layer 723. Since other configurations are the same as those of the PLA of the first embodiment, only the corresponding numbers are attached and the description is omitted.

第3図は本発明の第3実施例に係るPLAを示してい
る。第3実施例に係るPLAは短絡用配線235のコンタクト
領域以外の線幅を狭くしている。それ以外の構成は第1
実施例のPLAと同様なので対応する番号のみ付して説明
は省略する。
FIG. 3 shows a PLA according to the third embodiment of the present invention. In the PLA according to the third embodiment, the line width of the short circuit wiring 235 other than the contact region is narrowed. Other configurations are first
Since it is the same as the PLA of the embodiment, only the corresponding numbers are attached and the explanation is omitted.

[発明の効果] 以上説明してきたように、本発明は互いに隣接するプ
ログラマブルロジックアレイユニットの行間に短絡用配
線を設け、上記互いに隣接するプログラマブルロジック
アレイユニットの行に属する制御電極を上記短絡用配線
を介して第2配線群により選択的に結線するようにした
ので、入力信号の供給されるトランジスタ数と入力信号
の反転信号の供給されるトランジスタ数とが異なってい
ても凝似的に上記トランジスタ数をバランスさせること
ができ、トランジスタの使用効率を向上させることがで
きるという効果を得られる。
EFFECTS OF THE INVENTION As described above, according to the present invention, the short circuit wiring is provided between the rows of the programmable logic array units adjacent to each other, and the control electrodes belonging to the rows of the programmable logic array units adjacent to each other are connected to the short circuit wiring. Since the second wiring group is selectively connected through the wirings, even if the number of transistors to which an input signal is supplied and the number of transistors to which an inverted signal of the input signal is supplied are different, the above-mentioned transistors are similar. The number can be balanced, and the use efficiency of the transistor can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1(a)図は本発明の第1実施例の構成を示す平面
図、 第1(b)図は本発明の第1実施例の他の配線例を示す
平面図、 第2図は本発明の第2実施例の構成を示す平面図、 第3図は本発明の第3実施例の構成を示す平面図、 第4(a)図は従来のPLAユニットを示す平面図、 第4(b)図は従来のPLAユニットを示す等価回路図、 第4(c)図は従来のPLAユニットのプログラム列を示
す平面図、 第5(a)図は従来の他のPLAユニットを示す平面図、 第5(b)図は従来の他のPLAユニットを示す等価回路
図、 第6図は従来のPLAの接続配線を示す平面図、 第7図は従来のPLAの配線を示す平面図である。 1……第1PLAユニット、 2……第1MOSFET列、 3……第2MOSFET列、 4……第2PLAユニット、 5……第1MOSFET列、 6……第2MOSFET列、 205……短絡用配線、 235……短絡用配線、 601、602、 603……第2配線群、 701……制御電極(ゲート電極)、 702……制御電極(ゲート電極)、 723……短絡用配線。
FIG. 1 (a) is a plan view showing a configuration of a first embodiment of the present invention, FIG. 1 (b) is a plan view showing another wiring example of the first embodiment of the present invention, and FIG. FIG. 4 is a plan view showing the configuration of the second embodiment of the invention, FIG. 3 is a plan view showing the configuration of the third embodiment of the present invention, and FIG. 4 (a) is a plan view showing a conventional PLA unit. b) is an equivalent circuit diagram showing a conventional PLA unit, FIG. 4 (c) is a plan view showing a program sequence of the conventional PLA unit, and FIG. 5 (a) is a plan view showing another conventional PLA unit. FIG. 5 (b) is an equivalent circuit diagram showing another conventional PLA unit, FIG. 6 is a plan view showing connection wiring of a conventional PLA, and FIG. 7 is a plan view showing wiring of a conventional PLA. . 1 ... 1st PLA unit, 2 ... 1st MOSFET row, 3 ... 2nd MOSFET row, 4 ... 2nd PLA unit, 5 ... 1st MOSFET row, 6 ... 2nd MOSFET row, 205 ... Short circuit wiring, 235 ...... Short circuit wiring, 601, 602, 603 ... Second wiring group, 701 ... Control electrode (gate electrode), 702 ... Control electrode (gate electrode), 723 ... Short circuit wiring.

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】単一の半導体基板上に複数のプログラマブ
ルロジックアレイユニットを行列状に配置し、該複数の
プログラマブルロジクアレイユニットの各々は列方向に
延在する制御電極に供給される入力信号により制御され
る第1トランジスタ群と列方向に延在する他の制御電極
に供給される入力信号の反転信号により制御される第2
トランジスタ群とを含み、上記複数のプログラマブルロ
ジックアレイユニットの第1トランジスタ群及び第2ト
ランジスタ群を選択的に結線する第1配線群を有するプ
ログラマブルロジックアレイ装置において、 互いに隣接するプログラマブルロジックアレイユニット
の行間に短絡用配線を設け、上記互いに隣接するプログ
ラマブルロジックアレイユニットの行に属する上記制御
電極を上記短絡用配線を介して第2配線群により選択的
に結線したことを特徴とするプログラマブルロジックア
レイ装置。
1. A plurality of programmable logic array units are arranged in a matrix on a single semiconductor substrate, each of the plurality of programmable logic array units is provided with an input signal supplied to a control electrode extending in a column direction. A first transistor group to be controlled and a second transistor controlled by an inversion signal of an input signal supplied to another control electrode extending in the column direction.
In a programmable logic array device having a first wiring group that selectively connects the first transistor group and the second transistor group of the plurality of programmable logic array units, including a transistor group, between adjacent rows of programmable logic array units. A programmable logic array device characterized in that a short-circuit wiring is provided in the control circuit, and the control electrodes belonging to rows of the programmable logic array units adjacent to each other are selectively connected by the second wiring group via the short-circuit wiring.
JP62043468A 1987-02-25 1987-02-25 Programmable logic array device Expired - Lifetime JP2521943B2 (en)

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