JP2022554212A - 配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層を生成するための磁気アセンブリ及びプロセス - Google Patents

Abstract

本発明は、磁気配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を基板上に含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための磁気アセンブリ及びプロセスの分野に関する。特に、本発明は、前記ＯＥＬを偽造防止手段としてセキュリティ文書若しくはセキュリティ物品上に生成すること又は装飾を目的とした磁気アセンブリ及びプロセスに関する。【選択図】 図７Ａ

Description

発明の分野

[01]本発明は、偽造及び違法複製に対する有価文書並びに有価商品若しくはブランド商品の保護の分野に関する。特に、本発明は、視角的に動的な外観を示す光学効果層（ＯＥＬ）を生成するためのプロセス及びそれにより得られる光学効果層のほか、書類及び物品上の偽造防止手段としての前記ＯＥＬの使用に関する。

発明の背景

[02]当技術分野においては、磁性又は磁化可能顔料粒子、特に非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、コーティング組成物、コーティング、又は層を用いることによって、セキュリティ要素及びセキュリティ文書を生成することが知られている。

[03]セキュリティ文書及び物品のセキュリティフィーチャは、「秘密」及び「公然」のセキュリティフィーチャに分類可能である。秘密のセキュリティフィーチャによる保護は、そのようなフィーチャが人間の感覚に対して隠蔽されており、検出には通常、特殊な機器及び知識が必要である、という概念に依拠している。一方、「公然」のセキュリティフィーチャは、人間の感覚のみで容易に検出可能である。このようなフィーチャは、可視化及び／又は触覚による検出が可能でありながら、生成及び／又はコピーは依然として困難である。ただし、公然のセキュリティフィーチャの有効性は、そのセキュリティフィーチャとしての容易な認識に大きく依存している。ユーザは、このようなセキュリティフィーチャの存在及び性質に気付いている場合、そのセキュリティフィーチャに基づいて実際に安全確認を行うしかないためである。

[04]配向磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング又は層については、例えば米国特許第２，５７０，８５６号、米国特許第３，６７６，２７３号、米国特許第３，７９１，８６４号、米国特許第５，６３０，８７７号、及び米国特許第５，３６４，６８９号に開示されている。コーティング中の磁性又は磁化可能顔料粒子によれば、対応する磁界の印加により、非固化コーティング中で磁性又は磁化可能顔料粒子を局所的に配向させた後、これらを固化させて粒子をそれぞれの位置及び配向に固定することにより、磁気誘導像、デザイン、及び／又はパターンを生成することができる。これにより、特定の光学効果すなわち偽造に対する耐性が高い固定磁気誘導像、デザイン、又はパターンが得られる。配向磁性又は磁化可能顔料粒子に基づくセキュリティ要素は、磁性若しくは磁化可能顔料粒子又は当該粒子を含む対応するインク若しくはコーティング組成物と、前記インク若しくはコーティング組成物の塗布並びに塗布インク若しくはコーティング組成物中の前記顔料粒子の配向の後、前記インク又は組成物を固化させるのに用いられる特定の技術と、の両者が利用可能な場合にのみ生成可能である。

[05]視角等の視認条件が変化して、セキュリティフィーチャの視覚的外観が変化する場合は、特筆すべき光学効果を実現可能である。一例として、米国特許出願公開第２００５／０１０６３６７号に開示されているように、いわゆる「ローリングバー（ｒｏｌｌｉｎｇ ｂａｒ）」効果がある。「ローリングバー」効果は、コーティング全体で湾曲表面を再現した顔料粒子の配向に基づく。観察者には、像の傾斜に応じて観察者から遠ざかったり観察者に近づいたりする鏡面反射領域が見える。この効果は現在、５ユーロ紙幣及び１０ユーロ紙幣それぞれの「５」及び「１０」等、紙幣上の多くの安全要素に利用されている。リング等のループ状体の印象を与える動的な光学効果の他の例としては、国際公開第２０１４／１０８４０３ Ａ２号及び国際公開第２０１４／１０８４０４ Ａ２号に開示のものがある。

[06]欧州特許第２ ８４６ ９３２ Ｂ１号は、光学効果層（ＯＥＬ）のほか、前記ＯＥＬを生成する装置及び方法を開示する。開示のＯＥＬは、当該ＯＥＬを備えた基板が傾斜した場合に、傾斜方向と同じ方向に移動する明領域及び暗領域から成るパターンの光学的印象を与える。

[07]インク又はコーティング組成物中の磁気配向磁性又は磁化可能顔料粒子に基づく光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための磁気アセンブリ及びプロセスが依然として求められており、前記磁気アセンブリ及びプロセスは、動的な効果を示すとともに、偽造者が利用可能な機器で大規模に生成することが難しいＯＥＬの生成を可能にしつつ、信頼性があり、実装が容易で、高速の生産において機能し得るものとする。

[08]したがって、本発明の目的は、光学効果層（ＯＥＬ）を基板（ｘ２０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）であり、第１の平面（Ｐ）と少なくとも一部が平行な配向にて基板（ｘ２０）を受容するように構成された、磁気アセンブリ（ｘ００）であって、
ａ）磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように配向した少なくとも４つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を備えた第１の磁界発生装置（ｘ３０）であり、
第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、・・・）及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、・・・）の交差点上に配置され、直線α_ｉ及びβ_ｊが格子を形成し、
少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が、直線α_ｉのうちの１本の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、直線α_ｉのうちの別の１本の上に配設され、
各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向き、
当該第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、第１の支持マトリクス（ｘ３２）に一部又は全部が埋め込まれた、
第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
ｂ）磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように配向し、第２の支持マトリクス（ｘ４２）に一部又は全部が埋め込まれた１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えた第２の磁界発生装置（ｘ４０）であり、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下方に配設され、
各直線α_ｉ及び１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である、
第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
を備えた、磁気アセンブリ（ｘ００）を提供することである。

[09]また、本明細書には、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基板上に生成するための本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の使用を記載する。

[010]また、本明細書には、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備えた回転磁気シリンダを備えた印刷装置、又は本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備えた平台印刷ユニットを備えた印刷装置を記載する。

[011]また、本明細書には、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成するためのプロセスであって、
ｉ）複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、コーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の状態である放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップと、
非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるように、本明細書に記載の固定磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、
ｉｉｉ）非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの採用された位置及び配向に固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップと、
を含む、プロセスを記載する。

[012]また、本明細書には、本明細書に記載のプロセスにより生成された光学効果層（ＯＥＬ）を記載する。

[013]また、本明細書には、セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を製造する方法であって、ａ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体を用意するステップと、ｂ）セキュリティ文書又は装飾要素若しくは物体に含まれるように、本明細書に記載のような光学効果層（ＯＥＬ）、特に、本明細書に記載のプロセスにより得られるような光学効果層を用意するステップと、を含む、方法を記載する。

第１の支持マトリクス（１３２）及び４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）を備えた第１の磁界発生装置（１３０）であって、前記４つの第１の双極子磁石（１３１_ｉ－ｊ：１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_１３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（１３１）のＮ極が反対方向を向いている、第１の磁界発生装置（１３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（１３２）及び４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）を備えた第１の磁界発生装置（１３０）であって、前記４つの第１の双極子磁石（１３１_ｉ－ｊ：１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_１３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（１３１）のＮ極が反対方向を向いている、第１の磁界発生装置（１３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（２３２）及び６つの第１の双極子磁石（２３１_ｉ－ｊ：２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）を備えた第１の磁界発生装置（２３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（２３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_２３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、６つの第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（２３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（２３２）及び６つの第１の双極子磁石（２３１_ｉ－ｊ：２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）を備えた第１の磁界発生装置（２３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（２３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_２３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、６つの第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（２３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（３３２）及び６つの第１の双極子磁石（３３１_ｉ－ｊ：３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）を備えた第１の磁界発生装置（３３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（３３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_３３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、６つの第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（３３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（３３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（３３２）及び６つの第１の双極子磁石（３３１_ｉ－ｊ：３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）を備えた第１の磁界発生装置（３３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（３３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_３３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、６つの第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（３３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（３３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（４３２）及び９つの第１の双極子磁石（４３１_ｉ－ｊ：４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）を備えた第１の磁界発生装置（４３０）であって、前記９つの第１の双極子磁石（４３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_４３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、９つの第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（４３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（４３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（４３２）及び９つの第１の双極子磁石（４３１_ｉ－ｊ：４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）を備えた第１の磁界発生装置（４３０）であって、前記９つの第１の双極子磁石（４３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_４３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、９つの第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（４３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（４３０）の模式上面図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に生成するための磁気アセンブリ（６００）であって、磁気軸が基板（６２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（６３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（６３０）と、磁気軸が基板（６２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（６４１）を備えた第２の磁界発生装置（６４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１９）（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（６３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）及び第２の双極子磁石（６４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（６４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（６００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に生成するための磁気アセンブリ（６００）であって、磁気軸が基板（６２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（６３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（６３０）と、磁気軸が基板（６２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（６４１）を備えた第２の磁界発生装置（６４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１９）（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（６３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）及び第２の双極子磁石（６４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（６４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（６００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（７２０）上に生成するための磁気アセンブリ（７００）であって、磁気軸が基板（７２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（７３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（７３０）と、磁気軸が基板（７２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（７４２）に埋め込まれた２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）を備えた第２の磁界発生装置（７４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（７３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）及び第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（７００）を模式的に示した図である。 図６及び図７に示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７に示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７に示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７に示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。

詳細な説明

定義
[014]以下の定義は、本明細書に採用の用語及び特許請求の範囲に列挙の用語の意味に当てはまる。

[015]本明細書において、不定冠詞「ａ」は、１つ及び２つ以上を示し、必ずしもその指示対象の名詞を単数に限定するものではない。

[016]本明細書において、用語「およそ（ａｂｏｕｔ）」は、対象とする量又は値が指定された特定の値又はその近傍の他の値であってもよいことを意味する。一般的に、ある値を示す用語「およそ」は、その値の±５％の範囲を示すことを意図している。一例として、表現「およそ１００」は、１００±５の範囲すなわち９５～１０５の範囲を示す。一般的に、用語「およそ」を使用する場合は、本発明に係る類似の結果又は効果が指定値の±５％の範囲で得られることが予想され得る。

[017]用語「実質的に平行（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐａｒａｌｌｅｌ）」／「実質的に非平行（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｎｏｎ－ｐａｒａｌｌｅｌ）」は、平行整列からの逸脱が１０°以下であることを表し、用語「実質的に垂直（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ）」／「実質的に非垂直（ｓｕｂｓｔａｎｔｉａｌｌｙ ｎｏｎ－ｐｅｒｐｅｎｄｉｃｕｌａｒ）」は、垂直整列からの逸脱が１０°以下であることを表す。

[018]本明細書において、用語「及び／又は（ａｎｄ／ｏｒ）」は、この用語がつなぐ要素の両者又は１つだけが存在することを意味する。例えば、「Ａ及び／又はＢ」は、「Ａのみ、Ｂのみ、又はＡ及びＢの両者」を意味するものとする。「Ａのみ」の場合、この用語は、Ｂが存在しない可能性すなわち「ＡのみであってＢではない」という可能性も網羅している。

[019]本明細書において、用語「備える（具備する、含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、非排他的且つオープンエンドであることを意図している。したがって、例えば化合物Ａを含む溶液組成物は、Ａ以外の化合物を含んでいてもよい。ただし、用語「備える（具備する、含む）（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」は、その特定の一実施形態として、「～から本質的に成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｅｓｓｅｎｔｉａｌｌｙ ｏｆ）」及び「～から成る（ｃｏｎｓｉｓｔｉｎｇ ｏｆ）」というより限定的な意味も網羅するため、例えば「Ａ、Ｂ、及び任意選択としてＣを含む組成物」は、Ａ及びＢから（本質的に）成っていてもよいし、Ａ、Ｂ、及びＣから（本質的に）成っていてもよい。

[020]用語「コーティング組成物（ｃｏａｔｉｎｇ ｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）」は、本明細書に記載のコーティング、特に、光学効果層（ＯＥＬ）を固体基板上に形成可能であるとともに、印刷法によって好適且つ非排他的に塗布可能な任意の組成物を表す。本明細書に記載のコーティング組成物は、少なくとも複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子及びバインダを含む。

[021]本明細書において、用語「光学効果層（ｏｐｔｉｃａｌ ｅｆｆｅｃｔ ｌａｙｅｒ：ＯＥＬ）」は、少なくとも複数の磁気配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子及びバインダを含み、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子が前記バインダ内で所定の位置及び配向に固定又は停止（固定／停止）された層を示す。

[022]本開示の背景において、「顔料粒子」は、インクにもコーティング組成物にも不溶で、特定のスペクトル特性（例えば、不透明性、色、又は変色）をコーティング組成物に与える粒子状物質を表す。

[023]本発明の背景において、用語「磁気軸（ｍａｇｎｅｔｉｃ ａｘｉｓ）」は、磁石のＮ極（「Ｎ」及び／又は暗灰色により示される）及びＳ極（「Ｓ」及び／又は明灰色により示される）を接続し、Ｓ極からＮ極に向かう単位ベクトルを示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２の４６３頁）。図５Ａ、図６Ａ、及び図７において、第２の双極子磁石の磁気軸は、Ｎ極に対応する終端を有する矢印によって示されている。

[024]本発明の背景において、用語「ベクトル和（ｖｅｃｔｏｒ ｓｕｍ）」は、ベクトル幾何学の法則に従って２つ以上の磁気軸を足し合わせた結果としてのベクトルを示す。

[025]本明細書において、用語「少なくとも（ａｔ ｌｅａｓｔ）」は、決定量以上を規定するものであり、例えば、「少なくとも１つ」は、１つ、２つ、又は３つ等を意味する。

[026]用語「セキュリティ文書（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｄｏｃｕｍｅｎｔ）」は、少なくとも１つのセキュリティフィーチャにより偽造又は不正に対して保護される文書を表す。セキュリティ文書の例としては、通貨、有価文書、身分証明書類等が挙げられるが、これらに限定されない。

[027]用語「セキュリティフィーチャ（ｓｅｃｕｒｉｔｙ ｆｅａｔｕｒｅ）」は、それを有する文書又は物品の認証に使用可能な公然又は秘密の像、パターン、又は図形要素を示す。

[028]本明細書において「好適な」実施形態／特徴に言及する場合は、これら「好適な」実施形態／特徴の組合せについても、その組合せが技術的に有意である限り開示されているものと考えられる。

[029]本発明は、固化／硬化材料内に分散した複数の非ランダム配向非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む光学効果層（ＯＥＬ）を生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）及び当該磁気アセンブリ（ｘ００）を使用するプロセス、並びに、それらにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。前記磁性又は磁化可能顔料粒子の配向パターンにより、本明細書に記載の光学効果層ＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が垂直／縦軸周りに傾斜している場合に複数の暗点及び複数の明点が対角方向に移動及び／又は出現及び／又は消失するのみならず、当該ＯＥＬを有する基板が水平／横軸周りに傾斜している場合にも対角方向に移動及び／又は出現及び／又は消失する光学的印象を与える。言い換えると、本明細書に記載の光学効果層ＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が２つの垂直軸すなわち水平／横軸及び垂直／縦軸周りに傾斜している場合に複数の暗点及び複数の明点が２つの方向（縦方向及び横方向）に移動、出現、及び／又は消失する光学的印象を与える。

[030]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）によれば、ＯＥＬを本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成可能であり、前記磁気アセンブリ（ｘ００）は、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向によって本明細書に記載のＯＥＬを生成するのに用いられる。本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、少なくともａ）本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）及びｂ）本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）の相互作用に基づく。

[031]第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下方に配設されている。言い換えると、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するためのプロセスにおいて、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配設され、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上に配設されている。第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、実質的に互いの中心が合っているのが好ましい。すなわち、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、積み重ねられており、同軸に配置されているのが好ましい。

[032]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）を備えており、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載の第１の支持マトリクス（ｘ３２）に一部又は全部が埋め込まれた４つ以上の第１の双極子磁石（ｘ３１）を備える。例えば図１～図７に示すように、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されており、前記格子は、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊを含む（ｉは１、２等、ｊは１、２等）。本明細書に記載の格子は、互いに交差することにより、形状が正方形、長方形、又は平行四辺形のセルを形成する直線α_ｉ及びβ_ｊから成るパターンに対応する。一実施形態によれば、例えば図１～図７に示すように、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されており、前記格子の交差点はそれぞれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）を含む。別の実施形態（図示せず）によれば、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されているが、前記格子の交差点のいくつかは、第１の双極子磁石（ｘ３１）を含まない。

[033]少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が実質的に平行な直線α_ｉのうちの１本の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が実質的に平行な直線α_ｉのうちの別の１本の上に配設されている。言い換えると、各直線α_ｉ上には、少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が存在する。

[034]第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が、本明細書に記載の少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊを含む格子の交差点上に配設され、直線α_ｉが直線β_ｊと交差することから、第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）も直線β_ｊ上に配設されている。

[035]図１Ａ及び図１Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（１３０）は、第１の支持マトリクス（１３２）に埋め込まれた４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）を備え、前記第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）は、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配設されている。図２Ａ及び図２Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（２３０）は、第１の支持マトリクス（２３２）に埋め込まれた６つの第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）を備え、前記第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）は、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配設されている。図３Ａ及び図３Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（３３０）は、第１の支持マトリクス（３３２）に埋め込まれた６つの第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）を備え、前記第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）は、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配設されている。図４Ａ及び図４Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（４３０）は、第１の支持マトリクス（４３２）に埋め込まれた９つの第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）を備え、前記第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）は、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配設されている。

[036]実質的に平行な直線α_ｉは、互いに実質的に平行であり、実質的に平行な直線β_ｊは、互いに実質的に平行である。例えば図１Ａ、図２Ａ、図３Ａ、図４Ａ、図５Ａ～５Ｂ、６Ａ及び図７に示す一実施形態によれば、前記直線α_ｉは、前記直線β_ｊと実質的に垂直である。すなわち、直線α_ｉと直線β_ｊとの間に形成される角度は、９０°であるため、形状が正方形又は長方形のセルを含む格子を形成する。例えば図１Ｂ、図２Ｂ、図３Ｂ、及び図４Ｂに示す別の実施形態によれば、前記直線α_ｉは、前記直線β_ｊと実質的に垂直ではない。すなわち、直線α_ｉと直線β_ｊとの間に形成される角度は、９０°ではないため、形状が平行四辺形のセルを含む格子を形成する。

[037]例えば図１Ａ及び図１Ｂに示す一実施形態によれば、少なくとも４つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）に含まれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）の交差点上に配置され、直線α_ｉが互いに実質的に平行であり、直線β_ｊが互いに実質的に平行であり、実質的に平行な直線α_ｉ及びβ_ｊが格子（すなわち、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子）を形成する。少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの１本（α_１）の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの別の１本（α_２）の上に配設されている。

[038]例えば図２Ａ及び図２Ｂに示す別の実施形態によれば、少なくとも６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）に含まれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び少なくとも３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）の交差点上に配置され、直線α_ｉ及びβ_ｊが格子（すなわち、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子）を形成する。少なくとも３つの双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの１本（α_１）の上に配設され、少なくとも３つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの別の１本（α_２）の上に配設されている。

[039]例えば図３Ａ及び図３Ｂに示す別の実施形態によれば、少なくとも６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）に含まれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が、少なくとも３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）の交差点上に配置され、直線α_ｉ及びβ_ｊが格子（すなわち、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子）を形成する。少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの１本（α_１）の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの別の１本（α_２）の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちのさらに別の１本（α_３）の上に配設されている。

[040]例えば図４Ａ及び図４Ｂに示す別の実施形態によれば、少なくとも９つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が第１の磁界発生装置（ｘ３０）に含まれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が、少なくとも３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び少なくとも３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）の交差点上に配置され、直線α_ｉ及びβ_ｊが格子（すなわち、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）を含む格子）を形成する。少なくとも３つの第１の双極子磁石（ｘ３１）、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの１本（α_１）の上に配設され、少なくとも３つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちの別の１本（α_２）の上に配設され、少なくとも３つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_ｉのうちのさらに別の１本（α_３）の上に配設されている。

[041]格子が３本以上の実質的に平行な直線α_ｉを含む場合、隣り合う直線α_ｉ間の距離は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。図３Ａ～図３Ｂ及び図４Ａ～図４Ｂにおいて、隣り合う直線α_ｉ間の距離ｄ１及びｄ２（すなわち、α_１とα_２との間の距離ｄ１及びα_２とα_３との間の距離ｄ２）は、同じ値であってもよいし、異なる値であってもよい。

[042]格子が３本以上の実質的に平行な直線β_ｊを含む場合、隣り合う直線β_ｊ間の距離は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。図２Ａ～図２Ｂ、及び図４Ａ～図４Ｂにおいて、隣り合う直線β_ｊ間の距離ｅ１及びｅ２（すなわち、β_１とβ_２との間の距離ｅ１及びβ_２とβ_３との間の距離ｅ２）は、同じ値であってもよいし、異なる値であってもよい。

[043]２本の実質的に平行な直線α_ｉ間の距離及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ間の距離は、同じであってもよいし、異なっていてもよい。

[044]各平行直線α_ｉ及び／又は各平行直線β_ｊ上において、本明細書に記載の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、隣り合っていてもよいし、互いに離隔していてもよい（すなわち、隣り合っていない）。第１の双極子磁石（ｘ３１）が離隔した実施形態の場合、第１の双極子磁石はそれぞれ、０より大きな間隙すなわち距離、好ましくはおよそ０．１ｍｍ～１０ｍｍの間隙すなわち距離、より好ましくはおよそ０．２ｍｍ～６ｍｍの間隙すなわち距離だけ、それぞれの隣り合う磁石から分離されている。

[045]本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の双極子磁石（ｘ３１）はすべて、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように配向している（すなわち、磁気アセンブリ（ｘ００）が本明細書に記載のプロセスに使用される場合、磁気軸が基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直となるように配向している）。

[046]例えば図１Ａ及び図１Ｂに示すように、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向いている。言い換えると、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、各第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極がそれぞれの隣り合う磁石のＮ極と反対方向を向いている。図１Ａ及び図１Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置された４つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を含み、直線α_ｉ（α_１、α_２）は、直線β_ｊ（β_１、β_２）と実質的に垂直である場合（図１Ａ参照）又は直線β_ｊ（β_１、β_２）と実質的に垂直ではない場合（図１Ｂ参照）のいずれかである。４つの第１の双極子磁石（ｘ３１）は、直線α_１及びα_２並びに直線β_１及びβ_２に沿って、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向くように、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（すなわち、基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直となるように）配向している。第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２）は、第１の直線α_１上に配設されており、第１の双極子磁石（１３１_２－１、１３１_２－２）は、第２の直線α_２上に配設されている。第１の双極子磁石（１３１_１－１）は、プロセス中にＳ極が基板表面側を向くことにより、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成し、第２の第１双極子磁石（１３１_１－２）は、Ｎ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（１３１_２－１）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第２の第１双極子磁石（１３１_２－２）は、Ｓ極が基板表面側を向いている。

[047]第１の磁界発生装置（ｘ３０）が直線α_ｉ及び／又は直線β_ｊ上に３つ以上の第１の双極子磁石（ｘ３１）を備える実施形態の場合、各第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）は、Ｎ極がそれぞれの隣り合う磁石のＮ極と反対方向を向いている。言い換えると、第１の双極子磁石（ｘ３１）は、それぞれのＮＳ極性が直線α_ｉ及び直線β_ｊに沿って交互となるように、すなわち、２つの隣り合う第１の双極子磁石の直線α_ｉ及び直線β_ｊに沿ったＳＮ磁場方向が反対となるように配置されている。

[048]例えば図２Ａ及び図２Ｂに示すように、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向いており、各直線α_ｉ上においては、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石（ｘ３１）が配置されている。図２Ａ及び図２Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が２本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）の交差点上に配置された６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を含み、直線α_ｉ（α_１、α_２）は、直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）と実質的に垂直である場合（図２Ａ参照）又は直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）と実質的に垂直ではない場合（図２Ｂ参照）のいずれかである。６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）の磁気軸は、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（すなわち、基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直となるように）配向している。第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３）は、第１の直線α_１上に配設されており、第１の双極子磁石（２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）は、第２の直線α_２上に配設されている。第１の双極子磁石（２３１_１－１）は、プロセス中にＳ極が基板表面側を向くことにより、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成し、第２の第１双極子磁石（２３１_１－２）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第３の第１双極子磁石（２３１_１－３）は、Ｓ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（２３１_２－１）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第２の第１双極子磁石（２３１_２－２）は、Ｓ極が基板表面側を向き、第３の第１双極子磁石（２３１_２－３）は、Ｎ極が基板表面側を向いている。図２Ａ及び図２Ｂに示す第１の双極子磁石（ｘ３１）は、それぞれのＮＳ極性が２本の直線α_ｉ（α_１、α_２）及び３本の直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）に沿って交互となるように、すなわち、２つの隣り合う第１の双極子磁石の直線α_ｉ（α_１、α_２）及び直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）に沿ったＳＮ磁場方向が反対となるように配置されている。

[049]例えば図３Ａ及び図３Ｂに示すように、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向いており、各直線β_ｊ上においては、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石（ｘ３１）が配置されている。図３Ａ及び図３Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２）の交差点上に配置された６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を含み、直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）は、直線β_ｊ（β_１、β_２）と垂直である場合（図３Ａ参照）又は直線β_ｊ（β_１、β_２）と垂直ではない場合（図３Ｂ参照）のいずれかである。６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）の磁気軸は、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（すなわち、基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直となるように）配向している。第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２）は、第１の直線α_１上に配設されており、第１の双極子磁石（３３１_２－１、３３１_２－２）は、第２の直線α_２上に配設されており、第１の双極子磁石（３３１_３－１、３３１_３－２）は、第３の直線α_３上に配設されている。第１の双極子磁石（３３１_１－１）は、プロセス中にＳ極が基板表面側を向くことにより、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成し、第２の第１双極子磁石（３３１_１－２）は、Ｎ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（３３１_２－１）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第２の第１双極子磁石（３３１_２－２）は、Ｓ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（３３１_３－１）は、Ｓ極が基板表面側を向き、第２の第１双極子磁石（３３１_３－２）は、Ｎ極が基板表面側を向いている。図３Ａ及び図３Ｂに示す第１の双極子磁石（ｘ３１）は、それぞれのＮＳ極性が３本の直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び２本の直線β_ｊ（β_１、β_２）に沿って交互となるように、すなわち、２つの隣り合う第１の双極子磁石の直線α_ｉ（α_１、α_２）及び直線β_ｊ（β_１、β_２）に沿ったＳＮ磁場方向が反対となるように配置されている。

[050]例えば図４Ａ及び図４Ｂに示すように、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向いており、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上においては、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石（ｘ３１）が配置されている。図４Ａ及び図４Ｂにおいて、第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）が３本の実質的に平行な直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）の交差点上に配置された９つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を含み、直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）は、直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）と実質的に垂直である場合（図４Ａ参照）又は直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）と実質的に垂直ではない場合（図４Ｂ参照）のいずれかである。６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）の磁気軸は、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（すなわち、基板（ｘ２０）表面と実質的に垂直となるように）配向している。第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_１－３）は、第１の直線α_１上に配設されており、第１の双極子磁石（３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_２－３）は、第２の直線α_２上に配設されており、第１の双極子磁石（３３１_３－１、３３１_３－２、３３１_３－３）は、第３の直線α_３上に配設されている。第１の双極子磁石（４３１_１－１）は、プロセス中にＳ極が基板表面側を向くことにより、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成し、第２の第１双極子磁石（４３１_１－２）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第３の第１双極子磁石（４３１_１－３）は、Ｓ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（４３１_２－１）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第２の第１双極子磁石（４３１_２－２）は、Ｓ極が基板表面側を向き、第３の第１双極子磁石（４３１_２－３）は、Ｎ極が基板表面側を向いている。第１の双極子磁石（４３１_３－１）は、プロセス中にＳ極が基板表面側を向くことにより、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成し、第２の第１双極子磁石（４３１_３－２）は、Ｎ極が基板表面側を向き、第３の第１双極子磁石（４３１_３－３）は、Ｓ極が基板表面側を向いている。図４Ａ及び図４Ｂに示す第１の双極子磁石（ｘ３１）は、それぞれのＮＳ極性が３本の直線α_ｉ（α_１、α_２、α_３）及び３本の直線β_ｊ（β_１、β_２、β_３）に沿って交互となるように、すなわち、２つの隣り合う第１の双極子磁石の直線α_ｉ（α_１、α_２）及び直線β_ｊ（β_１、β_２）に沿ったＳＮ磁場方向が反対となるように配置されている。

[051]本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の双極子磁石（ｘ３１）は、同じ形状であってもよく、同じ寸法であってもよく、また、同じ材料で構成されていてもよい。

[052]磁気アセンブリ（ｘ００）は、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように（すなわち、本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に平行となるように）配向し、本明細書に記載の第２の支持マトリクス（ｘ４２）に一部又は全部が埋め込まれた１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えた本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）を備える。

[053]一実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、第２の双極子磁石（ｘ４１）を１つ備える。別の実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に平行となるように）それぞれ配向した２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合は、前記２つの第２の双極子磁石の一方が他方の上に配設されるのが好ましく、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、互いの中心が合っているのが好ましい。すなわち、本明細書の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、積み重ねられており、同軸に配置されているのがさらに好ましい。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石は、Ｎ極が同じ方向を向いていてもよいし、Ｎ極が異なる方向を向いていてもよい（例えば、図７参照）。Ｎ極が同じ方向を向いている２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を第２の磁界発生装置（ｘ４０）が備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、重なり合って配設されていてもよいし、並んで配置されていてもよく、また、離隔していてもよいが、直接接触しているのが好ましい。Ｎ極が異なる方向を向いている２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を第２の磁界発生装置（ｘ４０）が備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、重なり合って配設されているのが好ましく、また、直接接触しているのが好ましい。例えば図７に示す一実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、本明細書に記載の２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えており、前記２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）はそれぞれ、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように配向し、Ｎ極が異なる方向を向き、前記２つの第２の双極子磁石の一方が他方の上に配設され、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は互いの中心が合っており、直接接触しているのが好ましい。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合、前記２つの第２の双極子磁石は、同じ形状で、同じ寸法を有し、同じ材料で構成されていてもよいし、異なっていてもよい。

[054]本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈを有する。

[055]各直線α_ｉ及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である。言い換えると、［０１７］を参照して、各直線α_ｉ並びに１つ若しくは複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、およそ１０°～およそ８０°の範囲、およそ１００°～およそ１７０°の範囲、およそ１９０°～およそ２６０°の範囲、又はおよそ２８０°～およそ３５０°の範囲の角度γを成す。

[056]第２の磁界発生装置（ｘ４０）が第２の双極子磁石（ｘ４１）を１つ備える実施形態において、各直線α_ｉ及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）を構成する第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、基板（ｘ２０）表面と実質的に平行で、相互に捩れている。これらの実施形態の場合、各直線α_ｉ及び第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である。

[057]第２の磁界発生装置（ｘ４０）が２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態において、各直線α_ｉ並びに第２の磁界発生装置（ｘ４０）を構成する１つ若しくは複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）のベクトル和Ｈは、基板（ｘ２０）表面と実質的に平行で、相互に捩れている。これらの実施形態の場合、各直線α_ｉ及び２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である。

[058]各直線α_ｉ及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）のベクトル和Ｈは、基板（ｘ２０）表面と実質的に平行で、相互に捩れており（図６Ａ及び図７に示すように、両者間の角度がγで示される）、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である。各直線α_ｉ及び第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直であり、およそ２０°～およそ７０°の範囲、およそ１１０°～およそ１６０°の範囲、およそ２００°～およそ２５０°の範囲、およそ２９０°～およそ３４０°の範囲を成すのが好ましく、およそ３０°～およそ７０°の範囲、およそ１２０°～およそ１５０°の範囲、およそ２１０°～およそ２４０°の範囲、又はおよそ３００°～およそ３３０°の範囲の角度γを成すのがより好ましい。

[059]第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の双極子磁石（ｘ３１）並びに第２の磁界発生装置（ｘ４０）の１つ若しくは複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、高保磁力材料（強磁性材料とも称する）で独立して構成されているのが好ましい。好適な高保磁力材料は、エネルギー積の最大値（ＢＨ）_ｍａｘが少なくとも２０ｋＪ／ｍ^３、好ましくは少なくとも５０ｋＪ／ｍ^３、より好ましくは少なくとも１００ｋＪ／ｍ^３、さらに好ましくは少なくとも２００ｋＪ／ｍ^３の材料である。これらは、例えばアルニコ５（Ｒ１－１－１）、アルニコ５ＤＧ（Ｒ１－１－２）、アルニコ５－７（Ｒ１－１－３）、アルニコ６（Ｒ１－１－４）、アルニコ８（Ｒ１－１－５）、アルニコ８ＨＣ（Ｒ１－１－７）、及びアルニコ９（Ｒ１－１－６）等のアルニコ、式ＭＦｅ_１２Ｏ_１９のヘキサフェライト（例えば、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＯ^＊６Ｆｅ_２Ｏ_３）又はバリウムヘキサフェライト（ＢａＯ^＊６Ｆｅ_２Ｏ_３）、式ＭＦｅ_２Ｏ_４のハードフェライト（例えば、コバルトフェライト（ＣｏＦｅ_２Ｏ_４）又は磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４））（ただし、Ｍは二価金属イオン）、セラミック８（ＳＩ－１－５）から成る群から選択される１つ又は複数の焼結又はポリマー接合磁性材料、ＲＥＣｏ_５（ＲＥ＝Ｓｍ又はＰｒ）、ＲＥ_２ＴＭ_１７（ＲＥ＝Ｓｍ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｚｒ、Ｈｆ）、ＲＥ_２ＴＭ_１４Ｂ（ＲＥ＝Ｎｄ、Ｐｒ、Ｄｙ、ＴＭ＝Ｆｅ、Ｃｏ）から成る群から選択される希土類磁性材料、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｃｏの異方性合金、ＰｔＣｏ、ＭｎＡｌＣ、ＲＥコバルト５／１６、ＲＥコバルト１４から成る群から選択される材料で構成されているのが好ましい。双極子磁石の高保磁力材料は、好ましくは希土類磁性材料から成る群、より好ましくはＮｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ及びＳｍＣｏ_５から成る群から選択されるのが好ましい。特に好ましいのは、ストロンチウムヘキサフェライト（ＳｒＦｅ_１２Ｏ_１９）又はネオジム／鉄／ホウ素（Ｎｄ_２Ｆｅ_１４Ｂ）粉末等の永久磁石充填剤をプラスチック系又はゴム系マトリクスに含む加工が容易な永久磁石複合材である。

[060]第１の磁界発生装置（ｘ３０）の最上面と第１の磁界発生装置（ｘ３０）に対向する基板（ｘ２０）の最下面との間の距離（ｈ１）は、好ましくはおよそ０．５ｍｍ～およそ１０ｍｍであり、より好ましくはおよそ０．５ｍｍ～およそ７ｍｍであり、さらに好ましくはおよそ１ｍｍ～７ｍｍである。本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の最下面と本明細書に記載の第２の磁界発生装置（ｘ４０）の最上面との間の距離（ｈ２）は、好ましくはおよそ０～およそ１０ｍｍであり、より好ましくはおよそ０～およそ５ｍｍであり、さらに好ましくは０である。

[061]本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の支持マトリクス（ｘ３２）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の第２の支持マトリクス（ｘ４２）の形状は独立して、ディスク又は正多角形（角丸の有無は任意）であってもよいし、非正多角形（角丸の有無は任意）であってもよい。本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の支持マトリクス（ｘ３２）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の第２の支持マトリクス（ｘ４２）は独立して、１つ又は複数の非磁性材料で構成されている。非磁性材料は、非磁性金属、産業用プラスチック、及びポリマーから成る群から選択されるのが好ましい。非磁性金属としては、アルミニウム、アルミニウム合金、真鍮（銅及び亜鉛の合金）、チタン、チタン合金、及びオーステナイト鋼（すなわち、非磁性鋼）が挙げられるが、これらに限定されない。産業用プラスチック及びポリマーとしては、ポリアリールエーテルケトン（ＰＡＥＫ）とその誘導体であるポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリエーテルエーテルケトンケトン（ＰＥＥＫＫ）、及びポリエーテルケトンエーテルケトンケトン（ＰＥＫＥＫＫ）、ポリアセタール、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、コポリエーテルエステル、ポリイミド、ポリエーテルイミド、高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、超高分子量ポリエチレン（ＵＨＭＷＰＥ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリプロピレン、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）コポリマー、フッ素化及び過フッ素化ポリエチレン、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）、並びに液晶ポリマーが挙げられるが、これらに限定されない。好ましい材料は、ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）、ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）、ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン）、ナイロン（Ｎｙｌｏｎ）（登録商標）（ポリアミド）、及びＰＰＳである。

[062]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、１つ又は複数の証印を表す１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きを備えた磁化板をさらに備えていてもよく、前記磁化板は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配設されている。言い換えると、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するためのプロセスにおいて、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含むコーティング層（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）は、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の上に配置されている前記磁化板の上に配設され、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、第２の磁界発生装置（ｘ４０）の上に配設されている。第１の磁界発生装置（ｘ３０）、第２の磁界発生装置（ｘ４０）、及び磁化板は、実質的に互いの中心が合っているのが好ましい。本明細書において、用語「証印（ｉｎｄｉｃｉａ）」は、デザイン及びパターンを意味するものとし、記号、英数字記号、モチーフ、文字、単語、数字、ロゴ、及び図画を含むが、これらに限定されない。証印を有する磁化板の１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きは、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された磁界を局所的に修正することによって、非硬化状態のＯＥＬに転写される。本発明に関して本明細書に記載の１つ又は複数の表面起伏、彫刻、及び／又は切り欠きを含む磁化板（ｘ６０）の好適な例は、国際公開第２００５／００２８６６ Ａ１号、国際公開第２００８／０４６７０２ Ａ１号、国際公開第２００８／１３９３７３ Ａ１号、国際公開第２０１８／０１９５９４ Ａ１号、及び国際公開第２０１８／０３３５１２ Ａ１号に見られる。

[063]本明細書に記載の１つ又は複数の彫刻及び／又は切り欠きを含む磁化板は、任意の機械的に加工可能な軟磁性又は硬磁性材料により構成されていてもよい。硬磁性材料としては、第１の磁界発生装置（ｘ３０）の第１の双極子磁石（ｘ３１）及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）の第２の双極子磁石（ｘ４１）に関して上述したものが挙げられるが、これらに限定されない。軟磁性材料は、低保磁力及び高透磁率μを特徴とする。それぞれの保磁力は、高速の磁化及び減磁を可能にするため、ＩＥＣ ６０４０４－１：２０００に従った測定で１０００Ａｍ^－１未満である。好適な軟磁性材料は、最大比透磁率μ_Ｒｍａｘが少なくとも５である。ここで、比透磁率μ_Ｒは、自由空間の透磁率μ_０に対する材料の透磁率μである（μ_Ｒ＝μ／μ_０）（Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ａｎｄ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，２^ｎｄ Ｅｄ．，Ｎｉｃｏｌａ Ａ．Ｓｐａｌｄｉｎ，ｐ．１６－１７，Ｃａｍｂｒｉｄｇｅ Ｕｎｉｖｅｒｓｉｔｙ Ｐｒｅｓｓ，２０１１）。軟磁性材料については、例えば（１）Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｃｏｎｄｅｎｓｅｄ Ｍａｔｔｅｒ ａｎｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ Ｄａｔａ，Ｃｈａｐ．４．３．２，Ｓｏｆｔ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｐ．７５８－７９３，ａｎｄ Ｃｈａｐ．４．３．４，Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｏｘｉｄｅｓ，ｐ．８１１－８１３，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００５、（２）Ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｖｏｌ．１，Ｉｒｏｎ，Ｃｏｂａｌｔ ａｎｄ Ｎｉｃｋｅｌ，ｐ．１－７０，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ １９９９、（３）Ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｖｏｌ．２，Ｃｈａｐ． ２，Ｓｏｆｔ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍｅｔａｌｌｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｐ．５５－１８８，ａｎｄ Ｃｈａｐ．３，Ｆｅｒｒｉｔｅｓ ｆｏｒ ｎｏｎ－ｍｉｃｒｏｗａｖｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ，ｐ．１８９－２４１，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ １９９９、（４）Ｅｌｅｃｔｒｉｃ ａｎｄ Ｍａｇｎｅｔｉｃ Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ ｏｆ Ｍｅｔａｌｓ，Ｃ．Ｍｏｏｓｂｒｕｇｇｅｒ，Ｃｈａｐ．８，Ｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｐ．１９６－２０９，ＡＳＭ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ，２０００、（５）Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ ｍｏｄｅｒｎ Ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｃｈａｐ．９，Ｈｉｇｈ－ｐｅｒｍｅａｂｉｌｉｔｙ Ｈｉｇｈ－ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ Ｍｅｔａｌ Ｓｔｒｉｐ，ｐ．１５５－１８２，Ｋｌｕｗｅｒ Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，２００２、及び（６）Ｓｍｉｔｈｅｌｌｓ Ｍｅｔａｌｓ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｂｏｏｋ，Ｃｈａｐ．２０．３，Ｍａｇｎｅｔｉｃａｌｌｙ Ｓｏｆｔ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ｐ．２０－９～２０－１６，Ｂｕｔｔｅｒｗｏｒｔｈ－Ｈｅｉｎｅｍａｎｎ Ｌｔｄ，１９９２といったハンドブックに記載されている。

[064]本明細書に記載の磁化板は、軟磁性又は硬磁性材料のポリマー接合板すなわちポリマーを含む複合材で構成された磁化板であるのが好ましい。ポリマー（例えば、ゴム又はプラスチックのようなポリマー）は、構造的バインダとして作用し、軟磁性又は硬磁性材料は、増量剤又は充填剤として作用する。ポリマー並びに軟磁性若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板は、所望の磁気特性（例えば、高磁性材料の高保磁力及び軟磁性材料の高透磁率）を可鍛性の金属又はプラスチック材料の所望の機械的特性（可撓性、可削性、耐衝撃性）と組み合わせるのが好都合である。好適なポリマーとしては、ニトリルゴム、ＥＰＤＭ炭化水素ゴム、ポリイソプレン、ポリアミド（ＰＡ）、ポリフェニレンスルファイド（ＰＰＳ）、及びクロロスルホン化ポリエチレン等のゴムタイプの可撓性材料が挙げられる。

[065]ポリマー及び永久磁性粉末を含む複合材で構成された磁化板は、Ｇｒｏｕｐ ＡＲＮＯＬＤ（プラスティフォーム（Ｐｌａｓｔｉｆｏｒｍ）（登録商標））又はＭａｔｅｒｉａｌｉ Ｍａｇｎｅｔｉｃｉ、Ａｌｂａｉｒａｔｅ、Ｍｉｌａｎｏ、イタリア（Ｐｌａｓｔｏｆｅｒｒｉｔｅ）等の多くの異なる供給源から取得可能である。

[066]本明細書に記載の磁化板、特に、本明細書に記載のポリマー並びに軟磁性材料若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板は、任意所望のサイズ及び形態にて（例えば、一般的に利用可能な機械的切断ツール及びマシンのほか、空気若しくは液体ジェット切断、又はレーザ切断ツールを用いて屈曲及び機械的加工（例えば、所定サイズ又は形状への切断）を行い得る薄い可撓性のプレートとして）得られ得る。

[067]本明細書に記載の磁化板、特に、本明細書に記載のポリマー並びに軟磁性材料若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板の１つ又は複数の表面彫刻及び／又は切り欠きは、当技術分野において既知の如何なる切断又は彫刻方法により生成されるようになっていてもよく、鋳造、成型、手動彫刻又は機械的切除ツール（コンピュータ制御の彫刻ツールを含む）、気体若しくは液体ジェット切除ツールから成る群から選択される切除ツール、化学エッチング、電気化学エッチング、並びにレーザ切除ツール（例えば、ＣＯ^２－、Ｎｄ－ＹＡＧ、又はエキシマレーザ）が挙げられるが、これらに限定されない。また、当業者による理解及び本明細書に記載の通り、本明細書に記載の磁化板（ｘ６０）、特に、本明細書に記載のポリマー並びに軟磁性材料若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板は、彫刻ではなく、特定サイズ及び形状への切断又は成型も可能である。孔が切り抜かれるようになっていてもよいし、切り欠き片が支持部に組み付けられるようになっていてもよい。

[068]磁化板（ｘ６０）、特に、本明細書に記載のポリマー並びに軟磁性材料若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板の１つ又は複数の彫刻及び切り欠きは、ポリマーで充填されていてもよく、充填剤を含んでいてもよい。磁化板が硬磁性材料で構成された実施形態の場合、前記充填剤は、１つ又は複数の彫刻／切り欠きの場所で磁束を修正する軟磁性材料であってもよいし、磁界特性の修正又は単に滑らかな表面の生成を行うその他任意の種類の磁性又は非磁性材料であってもよい。また、磁化板、特に、本明細書に記載のポリマー並びに軟磁性材料若しくは硬磁性材料を含む複合材で構成された磁化板（ｘ６０）は、表面処理によって基板との接触を容易化することにより、高速印刷用途における摩擦、摩耗、及び／又は静電帯電を抑えるようにしてもよい。

[069]本発明は、回転磁気シリンダ並びに本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）を備えた印刷装置であって、前記１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）が回転磁気シリンダの周方向又は軸方向溝に取り付けられた、印刷装置と、平台印刷ユニット並びに本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリ（ｘ００）を備えた印刷装置であって、前記１つ又は複数の磁気アセンブリが平台印刷ユニットの凹部に取り付けられた、印刷装置をさらに提供する。本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載のような基板上に生成するための前記印刷装置の使用をさらに提供する。

[070]回転磁気シリンダは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリを支える。一実施形態において、回転磁気シリンダは、高い印刷速度で連続動作する回転式、枚葉給紙式、又はウェブ給紙式の産業用印刷機の一部である。

[071]平台印刷ユニットは、印刷若しくは被覆機器中での使用、印刷若しくは被覆機器との併用、又は印刷若しくは被覆機器の一部としての構成が意図されており、本明細書に記載の１つ又は複数の磁気アセンブリを支える。一実施形態において、平台印刷ユニットは、非連続動作する枚葉給紙式の産業用印刷機の一部である。

[072]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の層を有することにより、顔料粒子に作用して配向させる磁界を磁気アセンブリが生成して本明細書に記載のＯＥＬを形成させる本明細書に記載のような基板を供給する基板供給装置を具備していてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備えた印刷装置の一実施形態において、基板は、シート又はウェブの形態で基板供給装置により供給される。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置の一実施形態において、基板は、シートの形態で供給される。

[073]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を本明細書に記載の基板に塗布する被覆又は印刷ユニットであって、本明細書に記載の磁気アセンブリによって生成された磁界により配向されて光学効果層（ＯＥＬ）を形成する非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を放射線硬化性コーティング組成物が含む、被覆又は印刷ユニットを具備していてもよい。本明細書に記載の回転磁気シリンダを備えた印刷装置の一実施形態において、被覆又は印刷ユニットは、回転連続プロセスに従って動作する。本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置の一実施形態において、被覆又は印刷ユニットは、線形非連続プロセスに従って動作する。

[074]本明細書に記載の回転磁気シリンダ又は本明細書に記載の平台印刷ユニットを備えた印刷装置は、本明細書に記載の磁気アセンブリによって磁気的に配向された非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させることにより、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向及び位置を固定して光学効果層（ＯＥＬ）を生成する硬化ユニットを具備していてもよい。

[075]本発明は、本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成するためのプロセス及び方法、並びにこれにより得られる光学効果層（ＯＥＬ）であって、当該プロセスが、ｉ）本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む第１の状態の放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布して、コーティング層（ｘ１０）を形成するステップを含む、プロセス及び方法並びに光学効果層（ＯＥＬ）を提供する。放射線硬化性コーティング組成物は、コーティング層（ｘ１０）を形成するために第１の状態にある。放射線硬化性コーティング組成物は、第１の状態すなわち液体又はペースト状態であり、十分に湿潤又は柔軟であるため、当該放射線硬化性コーティング組成物中に分散した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁界への曝露によって、自由な移動、回転、及び／又は配向が可能となる。

[076]本明細書に記載のステップｉ）は、例えばローラ及びスプレー被覆プロセス等の被覆プロセス又は印刷プロセスにより実行されるようになっていてもよい。本明細書に記載のステップｉ）は、好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、フレキソ印刷、インクジェット印刷、及び凹版印刷（当技術分野においては銅版凹版印刷及び鋼製金型凹版印刷とも称する）から成る群から選択され、より好ましくはスクリーン印刷、グラビア印刷、及びフレキソ印刷から成る群から選択される印刷プロセスによって実行されるのが好ましい。

[077]本明細書に記載の基板（ｘ２０）表面に対する本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物の塗布（ステップｉ）の後、一部同時、又は同時に、本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の静的な磁界に対する放射線硬化性コーティング組成物の曝露によって非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させる（ステップｉｉ）ことにより、磁気アセンブリ（ｘ００）により生成された磁力線に沿って非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を整列させる。

[078]本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップの後又は一部同時に、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定又は停止する。このように特筆すべきこととして、放射線硬化性コーティング組成物は第１の状態すなわち液体又はペースト状態を有する必要があり、十分に湿潤又は柔軟であるため、放射線硬化性コーティング組成物中に分散した非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、磁界への曝露により自由に移動、回転、及び／又は配向可能である。また、第２の硬化（例えば、固体）状態も有する必要があり、この場合の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、それぞれの位置及び配向で固定又は停止される。

[079]以上から、光学効果層（ＯＥＬ）を本明細書に記載の基板（ｘ２０）上に生成するためのプロセスは、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの採用された位置及び配向に固定するように、ステップｉｉ）の放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップｉｉｉ）を含む。放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））の後又は一部同時に実行されるようになっていてもよい。放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させるステップｉｉｉ）は、本明細書に記載の磁界の印加により非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向／整列させるステップ（ステップｉｉ））と一部同時に実行されるのが好ましい。「一部同時」によって、両ステップの一部が同時に実行される。すなわち、各ステップの実行タイミングが部分的に重なることになる。本明細書に記載の背景において、配向ステップｉｉ）と一部同時に硬化が実行される場合は、ＯＥＬの完全又は部分的な硬化又は固化の前に顔料粒子が配向する時間があるように、配向後に硬化が有効となることが了解される必要がある。

[080]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）を生成するためのプロセスは、ステップｉｉ）の前又は少なくとも一部同時に、血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるように、コーティング層（ｘ１０）を装置の動的な磁界に曝露するステップで（ステップｉｉ２））あり、ステップｉｉ）の前若しくは一部同時に、且つステップｉｉｉ）の前に実行される、ステップ（ステップｉｉ２））をさらに含んでいてもよい。このように血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるように、コーティング組成物を装置の動的な磁界に曝露するステップを含むプロセスについては、国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号に開示されている。国際公開第２０１５／０８６２５７ Ａ１号に記載のような磁気アセンブリ（ｘ３０）の動的な磁界に対するコーティング層（ｘ１０）の曝露の後は、内部の血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がさらに移動及び回転し得るようにコーティング層（ｘ１０）が依然として湿潤又は柔軟な間に、本明細書に記載の装置を用いて、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子がさらに再配向される。２軸配向を実行することは、２つの主軸が拘束されるように血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子を配向させることを意味する。すなわち、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子はそれぞれ、顔料粒子の面内に長軸を有し、顔料粒子の面内に直交する短軸を有するものと考えられる。血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子の長軸及び短軸はそれぞれ、動的な磁界に従って配向される。実用上は、これにより、空間中で互いに近くに隣り合う磁性又は磁化可能顔料粒子が本質的に相互平行となる。２軸配向を実行するため、磁性又は磁化可能顔料粒子は、時間に強く依存する外部磁界を受ける必要がある。

[081]磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい装置は、欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示されている。欧州特許出願公開第２ １５７ １４１ Ａ１号に開示の装置は、Ｘ軸及びＹ軸という両主軸が基板表面に対して実質的に平行となるまで磁性又は磁化可能顔料粒子を急激に振動させる方向を変化させる動的な磁界を与える。すなわち、磁性又は磁化可能顔料粒子は、基板表面に実質的に平行なＸ軸及びＹ軸との安定したシート状構成になり、前記２つの次元で平坦化するまで回転する。磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の装置は、直線状の永久磁石ハルバッハ配列すなわち磁化方向が異なる複数の磁石を備えたアセンブリを含む。ハルバッハ永久磁石の詳細な説明は、Ｚ．Ｑ．Ｚｈｕ及びＤ．Ｈｏｗｅ（Ｈａｌｂａｃｈ ｐｅｒｍａｎｅｎｔ ｍａｇｎｅｔ ｍａｃｈｉｎｅｓ ａｎｄ ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓ：ａ ｒｅｖｉｅｗ，ＩＥＥ．Ｐｒｏｃ．Ｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｐｏｗｅｒ Ａｐｐｌ．，２００１，１４８，ｐ．２９９－３０８）によって与えられている。このようなハルバッハ配列により生成される磁界は、一方側に集中し、他方側ではほぼゼロまで弱まる特性を有する。国際公開第２０１６／０８３２５９ Ａ１号は、磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な装置であって、ハルバッハ円筒アセンブリを備えた、装置を開示している。磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる特に好ましい他の装置は、回転磁石であり、それらの直径に沿って本質的に磁化されるディスク状の回転磁石又は磁気アセンブリを含む。好適な回転磁石又は磁気アセンブリは、米国特許出願公開第２００７／０１７２２６１ Ａ１号に記載されており、半径方向に対称的な時間可変磁界を発生させることによって、未硬化又は未固化コーティング組成物の磁性又は磁化可能顔料粒子の２軸配向が可能になる。これらの磁石又は磁気アセンブリは、外部のモータに接続されたシャフト（又は、スピンドル）によって駆動される。中国特許第１０２５２９３２６ Ｂ号は、磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させるのに適し得る回転磁石を備えた装置の例を開示している。好適な一実施形態において、磁性又は磁化可能顔料粒子を２軸配向させる好適な装置は、非磁性材料、好ましくは非導電性材料で構成されたハウジング中に拘束されたシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリであり、ハウジングに巻回された１つ又は複数の磁石ワイヤコイルによって駆動される。このようにシャフトのないディスク状回転磁石又は磁気アセンブリの例は、国際公開第２０１５／０８２３４４ Ａ１号、国際公開第２０１６／０２６８９６ Ａ１号、及び国際公開第２０１８／１４１５４７ Ａ１に開示されている。

[082]放射線硬化性コーティング組成物の第１及び第２の状態は、ある種の放射線硬化性コーティング組成物を用いることによって提供される。例えば、放射線硬化性コーティング組成物の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子以外の成分は、インク又はセキュリティ用途（例えば、紙幣印刷）に用いられるような放射線硬化性コーティング組成物の形態であってもよい。上述の第１及び第２の状態は、電磁放射線への曝露に応答して粘度が高くなる材料を用いることにより提供される。すなわち、流体のバインダ材料は、硬化又は凝固によって、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子がそれぞれの現在位置及び配向に固定されて、バインダ材料内で移動も回転もできなくなる第２の状態に変換される。

[083]当業者には既知の通り、基板等の表面上に塗布する放射線硬化性コーティング組成物に含まれる成分及び前記放射線硬化性コーティング組成物の物性は、放射線硬化性コーティング組成物の基板表面への移動に用いられるプロセスの要件を満たす必要がある。その結果、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダ材料は通常、当技術分野において既知の材料から選定されるとともに、放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された放射線硬化プロセスによって決まる。

[084]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）において、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、当該磁性又は磁化可能顔料粒子の配向を固定／停止する硬化バインダ材料を含む硬化／固化された放射線硬化性コーティング組成物中に分散している。硬化バインダ材料は、２００ｎｍ～２５００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。このように、バインダ材料は、少なくともその硬化又は固体状態（本明細書では第２の状態とも称する）において、２００ｎｍ～２５００ｎｍすなわち通常「光学スペクトル」と称し、バインダ材料に含まれる硬化又は固体状態の粒子及びそれぞれの配向に応じた反射性がバインダ材料を通じて認識され得るように、電磁スペクトルの赤外、可視、及びＵＶ（紫外）部分を含む波長範囲内に含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。硬化バインダ材料は、好ましくは２００ｎｍ～８００ｎｍ、より好ましくは４００ｎｍ～７００ｎｍに含まれる様々な波長の電磁放射線に対して、少なくとも一部が透明である。本明細書において、用語「透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）」は、該当する（１つ又は複数の）波長において、ＯＥＬ（血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まないが、ＯＥＬのその他任意選択の成分があれば、それらをすべて含む）に存在する硬化バインダ材料の２０μｍの層に対する電磁放射線の透過率が少なくとも５０％、より好ましくは少なくとも６０％、さらに好ましくは少なくとも７０％であることを示す。これは、例えばＤＩＮ５０３６－３（１９７９－１１）等の確立した試験方法に従って硬化バインダ材料（非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は含まず）の試験片の透過率を測定することによって決定可能である。ＯＥＬが秘密のセキュリティフィーチャとして機能する場合、選択した非可視波長を含む各照明条件下においてＯＥＬが生成する（完全な）光学効果を検出するには通常、技術的な手段が必要となる。当該検出では、可視領域外（例えば、近ＵＶ領域）において入射放射線の波長が選択される必要がある。電磁スペクトルの赤外、可視、及び紫外部分は、７００～２５００ｎｍ、４００～７００ｎｍ、及び２００～４００ｎｍの波長範囲にそれぞれ略対応する。

[085]上述の通り、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、当該放射線硬化性コーティング組成物の塗布に用いられる被覆又は印刷プロセス及び選定された硬化プロセスによって決まる。放射線硬化性コーティング組成物の硬化には、本明細書に記載のＯＥＬを備えた物品の通常使用時に起こり得る（例えば、最大８０℃の）単純な温度上昇では不可逆の化学反応を伴うのが好ましい。用語「硬化（ｃｕｒｉｎｇ）」又は「硬化性（ｃｕｒａｂｌｅ）」は、塗布した放射線硬化性コーティング組成物中の少なくとも１つの成分が化学反応、架橋、又は重合によって開始材料よりも大きな分子量を有するポリマー材料に変化するプロセスを表す。放射線硬化では、硬化放射線への曝露により放射線硬化性コーティング組成物の粘度が瞬時に高くなり、顔料粒子のさらなる移動が抑えられ、結果的に磁気配向ステップ後の情報喪失が抑えられるため都合がよい。硬化ステップ（ステップｉｉｉ））は、好ましくはＵＶ・可視光放射線硬化を含む放射線硬化又は電子ビーム放射線硬化、より好ましくはＵＶ・可視光放射線硬化によって実行される。

[086]したがって、本発明に適した放射線硬化性コーティング組成物としては、ＵＶ・可視光放射線（以下、ＵＶ・可視光放射線と称する）又は電子ビーム放射線（以下、ＥＢ放射線と称する）によって硬化可能な放射線硬化性組成物が挙げられる。放射線硬化性組成物は、当技術分野において既知であり、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９６年に第４巻を発行したＣ．Ｌｏｗｅ、Ｇ．Ｗｅｂｓｔｅｒ、Ｓ．Ｋｅｓｓｅｌ、及びＩ．ＭｃＤｏｎａｌｄによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」シリーズ等の標準的な教科書に見られる。本発明の特に好適な一実施形態によれば、本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物である。したがって、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、ＵＶ・可視光放射線、好ましくはＵＶ－Ａ（３１５～４００ｎｍ）又は青（４００～５００ｎｍ）スペクトル領域の狭帯域ＬＥＤ光、最も好ましくは３５０ｎｍ～４５０ｎｍのスペクトル領域で発光する通常の発光帯域幅が２０ｎｍ～５０ｎｍの範囲の高出力ＬＥＤ光源によって、少なくとも部分的に硬化されるのが好ましい。また、水銀灯又はドープ水銀灯からのＵＶ放射線の使用によって、放射線硬化性コーティング組成物の硬化速度を上げることも可能である。

[087]ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、ラジカル硬化性化合物及びカチオン硬化性化合物から成る群から選択される１つ又は複数の化合物を含むのが好ましい。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物は、ハイブリッド系であってもよく、１つ若しくは複数のカチオン硬化性化合物並びに１つ若しくは複数のラジカル硬化性化合物の混合物を含む。カチオン硬化性化合物は、酸等のカチオン種を遊離させて硬化を開始することにより、モノマー及び／又はオリゴマーの反応及び／又は架橋によって放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる１つ又は複数の光開始剤の放射による活性化を通常含むカチオン機構によって硬化する。ラジカル硬化性化合物は、１つ又は複数の光開始剤の放射によってラジカルを生成することにより重合を開始して放射線硬化性コーティング組成物を硬化させる活性化を通常含むフリーラジカル機構によって硬化する。本明細書に記載のＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれるバインダの作成に用いられるモノマー、オリゴマー、又はプレポリマーに応じて、異なる光開始剤を使用可能である。遊離基光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ベンジルジメチルケタル、α－アミノケトン、α－ヒドロキシケトン、ホスフィンオキシド、及びホスフィンオキシド誘導体のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。カチオン光開始剤の好適な例は、当業者に既知であり、有機ヨードニウム塩（例えば、ジアリールヨードニウム塩）、オキソニウム（例えば、トリアリールオキソニウム塩）、及びスルホニウム塩（例えば、トリアリールスルホニウム塩）等のオニウム塩のほか、これらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。有用な光開始剤の他の例は、Ｇ．Ｂｒａｄｌｅｙにより編集され、ＳＩＴＡ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｌｉｍｉｔｅｄと提携したＪｏｈｎ Ｗｉｌｅｙ ＆ Ｓｏｎｓが１９９８年に発行したＪ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ及びＫ．Ｄｉｅｔｌｉｋｅｒによる「Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ＆ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ ｏｆ ＵＶ ＆ ＥＢ Ｆｏｒｍｕｌａｔｉｏｎ ｆｏｒ Ｃｏａｔｉｎｇｓ， Ｉｎｋｓ ＆ Ｐａｉｎｔｓ」第３巻の「Ｐｈｏｔｏｉｎｉｔｉａｔｏｒｓ ｆｏｒ Ｆｒｅｅ Ｒａｄｉｃａｌ Ｃａｔｉｏｎｉｃ ａｎｄ Ａｎｉｏｎｉｃ Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ」第２版等の標準的な教科書に見られる。また、効率的な硬化を実現するため、１つ又は複数の光開始剤と併せて増感剤を含むのが好都合と考えられる。好適な光増感剤の一般的な例としては、イソプロピル－チオキサントン（ＩＴＸ）、１－クロロ－２－プロポキシ－チオキサントン（ＣＰＴＸ）、２－クロロ－チオキサントン（ＣＴＸ）、及び２，４－ジエチル－チオキサントン（ＤＥＴＸ）、並びにこれらの２つ以上の混合物が挙げられるが、これらに限定されない。ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物に含まれる１つ又は複数の光開始剤は、好ましくはおよそ０．１重量％～およそ２０重量％、より好ましくはおよそ１重量％～およそ１５重量％の総量で存在し、重量パーセントは、ＵＶ・可視放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。

[088]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、１つ若しくは複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は磁性材料（本明細書に記載の血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子とは異なる）、発光材料、導電材料、及び赤外線吸収材料から成る群から選択される１つ若しくは複数の機械可読材料をさらに含んでいてもよい。本明細書において、用語「機械可読材料（ｍａｃｈｉｎｅ ｒｅａｄａｂｌｅ ｍａｔｅｒｉａｌ）」は、ある層に含めることによって、特定の認証用機器の使用により当該層又は当該層を含む物品を認証する方法を提供可能な材料（ｘ３２）を表す。

[089]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、有機顔料粒子、無機顔料粒子、及び有機色素から成る群から選択される１つ若しくは複数の着色成分、並びに／又は非磁性若しくは非磁化可能光学可変顔料、並びに／又は１つ若しくは複数の添加剤をさらに含んでいてもよい。後者としては、粘度（例えば、溶媒、増粘剤、及び界面活性剤）、稠度（例えば、硬化防止剤、充填剤、及び可塑剤）、起泡性（例えば、消泡剤）、潤滑性（ワックス、オイル）、ＵＶ安定性（光安定剤）、密着性、帯電防止特性、保存性（重合防止剤）、光沢等の放射線硬化性コーティング組成物の物理的、流動学的、及び化学的パラメータの調整に用いられる化合物及び材料が挙げられるが、これらに限定されない。本明細書に記載の添加剤は、当該添加剤の寸法のうちの少なくとも１つが１～１０００ｎｍの範囲であるいわゆるナノ材料等、当技術分野において既知の量及び形態で放射線硬化性コーティング組成物中に存在していてもよい。

[090]本明細書に記載の放射線硬化性コーティング組成物は、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む。非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、好ましくはおよそ２重量％～およそ４０重量％、より好ましくはおよそ４重量％～およそ３０重量％の量だけ存在する。この重量パーセントは、バインダ材料、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子、及び放射線硬化性コーティング組成物のその他任意選択の成分を含む放射線硬化性コーティング組成物の総重量に基づく。

[091]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、形状が非球状であることから、硬化又は固化バインダ材料の少なくとも一部が透明である入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有するように規定されている。本明細書において、用語「非等方的な反射性（ｎｏｎ－ｉｓｏｔｒｏｐｉｃ ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｉｔｙ）」は、第１の角度からの入射放射線が粒子により特定の（観察）方向（第２の角度）に反射される割合が粒子の配向の関数であること、つまり、第１の角度に対する粒子の配向の変化に応じて観察方向への反射の大きさが異なり得ることを示す。さらに好ましいこととして、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子の配向の変化によって当該粒子による反射が特定の方向に変化するように、およそ２００～およそ２５００ｎｍ、より好ましくはおよそ４００～およそ７００ｎｍの波長範囲の一部又は全部における入射電磁放射線に対して非等方的な反射性を有する。当業者には既知の通り、従来の顔料粒子が粒子配向とは無関係に同じ色及び反射性を示すのに対して、本明細書に記載の磁性又は磁化可能顔料粒子は、粒子配向によって決まる反射性、色、又は両者を示す点において従来の顔料と異なる。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、血小板状の磁性又は磁化可能顔料粒子であるのが好ましい。

[092]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の好適な例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、及びニッケル（Ｎｉ）から成る群から選択される磁性金属、鉄、クロム、マンガン、コバルト、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性合金、クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、及びこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物、並びにこれらの２つ以上の混合物を含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。金属、合金、及び酸化物に関する用語「磁性（ｍａｇｎｅｔｉｃ）」は、強磁性又はフェリ磁性金属、合金、及び酸化物を対象とする。クロム、マンガン、コバルト、鉄、ニッケル、又はこれらの２つ以上の混合物の磁性酸化物は、純粋又は混合酸化物であってもよい。磁性酸化物の例としては、赤鉄鉱（Ｆｅ_２Ｏ_３）、磁鉄鉱（Ｆｅ_３Ｏ_４）、二酸化クロム（ＣｒＯ_２）、磁性フェライト（ＭＦｅ_２Ｏ_４）、磁性スピネル（ＭＲ_２Ｏ_４）、磁性ヘキサフェライト（ＭＦｅ_１２Ｏ_１９）、磁性オルソフェライト（ＲＦｅＯ_３）、磁性ガーネット（Ｍ_３Ｒ_２（ＡＯ_４）_３）等の鉄酸化物が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、Ｍは２価、Ｒは３価、Ａは４価の金属を表す。

[093]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の例としては、コバルト（Ｃｏ）、鉄（Ｆｅ）、ガドリニウム（Ｇｄ）、又はニッケル（Ｎｉ）等の磁性金属及び鉄、クロム、コバルト、又はニッケルの磁性合金のうちの１つ又は複数で構成された磁気層Ｍを含む顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。前記血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子は、１つ又は複数の別の層を含む多層構造であってもよい。１つ又は複数の別の層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化ナトリウムアルミニウム（例えば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、及び酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、より好ましくは二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成された層Ａ、金属及び金属合金、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択される、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成された層Ｂ、或いは上述のような１つ又は複数の層Ａ並びに上述のような１つ又は複数の層Ｂの組合せである。上述の多層構造である血小板状磁性又は磁化可能顔料粒子の一般的な例としては、Ａ／Ｍ多層構造、Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ａ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ａ／Ｂ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造、Ｂ／Ｍ多層構造、Ｂ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ａ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ多層構造、Ｂ／Ａ／Ｍ／Ｂ／Ａ多層構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、層Ａ、磁気層Ｍ、及び層Ｂは、上述の層から選定される。

[094]一実施形態によれば、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体の多層構造であり、本明細書に記載の反射体層は、Ｂ層に関して上述したような金属及び金属合金から成る群から独立して構成され、誘電体層は、Ａ層に関して上述したような材料から成る群から独立して構成され、磁性体層は、Ｍ層に関して上述したような磁性金属又は磁性合金のうちの１つ又は複数を含むのが好ましい。或いは、本明細書に記載の誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体の多層構造は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子であってもよく、前記磁性体層は、およそ４０重量％～およそ９０重量％の鉄、およそ１０重量％～およそ５０重量％のクロム、及びおよそ０重量％～およそ３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む。

[095]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状変色磁性若しくは磁化可能顔料粒子並びに／又は変色特性を持たない非球状磁性若しくは磁化可能顔料粒子で構成されていてもよい。本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部は、非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子の変色特性によってもたらされる公然のセキュリティフィーチャは、本明細書に記載の非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子を含むインク、放射線硬化性コーティング組成物、コーティング、又は層を有する物品又はセキュリティ文書を人間の感覚のみで容易に検出、認識、及び／又はその考え得る偽造品から識別可能であるが、これに加えて、非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性を光学効果層（ＯＥＬ）認識用の機械可読ツールとして使用するようにしてもよい。したがって、顔料粒子の光学（例えば、スペクトル）特性を解析する認証プロセスにおいては、秘密又は準秘密のセキュリティフィーチャとして、非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子の光学特性を同時に使用するようにしてもよい。ＯＥＬを生成する放射線硬化性コーティング組成物に非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子を使用すると、ＯＥＬのセキュリティ文書用途におけるセキュリティフィーチャとしての意義が高くなる。このような材料（すなわち、非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子）は、セキュリティ文書印刷業のためのものであって、一般には市販されていないためである。

[096]さらに、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、その磁性により機械可読であるため、これらの顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、例えば特定の磁気検出器により検出されるようになっていてもよい。したがって、本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含む放射線硬化性コーティング組成物は、セキュリティ文書の秘密又は準秘密のセキュリティ要素（認証ツール）として使用可能である。

[097]上述の通り、非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、少なくとも一部が非球状変色磁性又は磁化可能顔料粒子によって構成されているのが好ましい。これらは、非球状磁性薄膜干渉顔料粒子、非球状磁性コレステリック液晶顔料粒子、磁性材料を含む非球状干渉被覆顔料粒子、及びこれらの２つ以上の混合物から成る群から選択可能であるのがより好ましい。

[098]磁性薄膜干渉顔料粒子については、当業者に既知であって、例えば米国特許第４，８３８，６４８号、国際公開第２００２／０７３２５０ Ａ２号、欧州特許第０ ６８６ ６７５ Ｂ１号、国際公開第２００３／０００８０１ Ａ２号、米国特許第６，８３８，１６６号、国際公開第２００７／１３１８３３ Ａ１号、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号、及びこれらの引用文献に開示されている。磁性薄膜干渉顔料粒子は、５層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は６層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子、及び／又は７層ファブリペロー多層構造を有する顔料粒子を含んでいるのが好ましい。

[099]好ましい５層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造から成り、反射体及び／又は吸収体が磁性層でもあり、好ましくは反射体及び／又は吸収体が、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルト、ニッケル、鉄、及び／若しくはコバルトを含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。

[0100]好ましい６層ファブリペロー多層構造は、吸収体／誘電体／反射体／磁性体／誘電体／吸収体の多層構造から成る。

[0101]好ましい７層ファブリペロー多層構造は、米国特許第４，８３８，６４８号に開示されているような吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射対／誘電体／吸収体の多層構造から成る。

[0102]本明細書に記載の反射体層は、金属及び金属合金から成る群から選択され、好ましくは反射性金属及び反射性金属合金から成る群から選択され、より好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、チタン（Ｔｉ）、パラジウム（Ｐｄ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択され、さらに好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはアルミニウム（Ａｌ）で独立して構成されているのが好ましい。誘電体層は、好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ_３）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、フッ化ランタン（ＬａＦ_３）、フッ化アルミニウムナトリウム（例えば、Ｎａ_３ＡｌＦ_６）、フッ化ネオジム（ＮｄＦ_３）、フッ化サマリウム（ＳｍＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ_２）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_２）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等の金属フッ化物、酸化ケイ素（ＳｉＯ）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）等の金属酸化物から成る群から選択され、より好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）から成る群から選択される１つ又は複数の材料、なお好ましくはフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）で独立して構成されている。吸収体層は、好ましくはアルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、銅（Ｃｕ）、パラジウム（Ｐｄ）、白金（Ｐｔ）、チタン（Ｔｉ）、バナジウム（Ｖ）、鉄（Ｆｅ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、ロジウム（Ｒｈ）、ニオブ（Ｎｂ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、これらの金属酸化物、金属硫化物、金属炭化物、及び金属合金から成る群から選択され、より好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、これらの金属酸化物、及び金属合金から成る群から選択され、さらに好ましくはクロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、及びこれらの金属合金から成る群から選択される１つ又は複数の材料で独立して構成されている。磁性体層は、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含むのが好ましい。７層ファブリペロー構造を含む磁性薄膜干渉顔料粒子が好ましい場合は、磁性薄膜干渉顔料粒子がＣｒ／ＭｇＦ_２／Ａｌ／Ｍ／Ａｌ／ＭｇＦ_２／Ｃｒ多層構造から成る７層ファブリペロー吸収体／誘電体／反射体／磁性体／反射体／誘電体／吸収体の多層構造を有するのが特に好ましく、Ｍは、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性合金、並びに／又はニッケル（Ｎｉ）、鉄（Ｆｅ）、及び／若しくはコバルト（Ｃｏ）を含む磁性酸化物を含む磁気層である。

[0103]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は、人間の健康及び環境に対して安全と考えられ、例えば５層ファブリペロー多層構造、６層ファブリペロー多層構造、及び７層ファブリペロー多層構造に基づく多層顔料粒子であってもよく、前記顔料粒子は、およそ４０重量％～およそ９０重量％の鉄、およそ１０重量％～およそ５０重量％のクロム、及びおよそ０重量％～およそ３０重量％のアルミニウムを含む実質的にニッケルを含まない組成の磁性合金を含む１つ又は複数の磁気層を備える。人間の健康及び環境に対して安全と考えられる多層顔料粒子の一般的な例は、欧州特許出願公開第２ ４０２ ４０１ Ａ１号に見られるため、そのすべての内容を参照により本明細書に援用する。

[0104]本明細書に記載の磁性薄膜干渉顔料粒子は通常、ウェブ上への異なる所要層の従来堆積技術によって製造される。例えば物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学的気相成長法（ＣＶＤ）、又は電解析出によって所望数の層を堆積させた後は、好適な溶媒中での剥離層の溶解又はウェブからの材料の剥離によって層スタックをウェブから除去する。そして、このように得られた材料を粉砕することにより血小板状の顔料粒子が得られるが、これは、研削、ミル加工（例えば、ジェットミル加工プロセス等）、又は任意の好適な方法でさらに処理して所要サイズの顔料粒子を得る必要がある。得られる製品は、縁部が破砕され、形状が不規則で、アスペクト比が異なる平らな血小板状顔料粒子から成る。好適な血小板状磁性薄膜干渉顔料粒子の作成に関する詳細については、例えば欧州特許出願公開第１ ７１０ ７５６ Ａ１号及び欧州特許出願公開第１ ６６６ ５４６ Ａ１号に見られるが、これらを参照により本明細書に援用する。

[0105]変色特性を示す好適な磁性コレステリック液晶顔料粒子としては、磁性単層コレステリック液晶顔料粒子及び磁性多層コレステリック液晶顔料粒子が挙げられるが、これらに限定されない。このような顔料粒子については、例えば国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号、米国特許第６，５８２，７８１号、及び米国特許第６，５３１，２２１号に開示されている。国際公開第２００６／０６３９２６ Ａ１号は、高い輝度及び変色特性のほか、磁化可能性等の特定の特性を有する単層及び当該単層から得られた顔料粒子を開示している。この開示の単層及び当該単層の粉砕により得られた顔料粒子は、３次元架橋したコレステリック液晶混合物及び磁性ナノ粒子を含む。米国特許第６，５８２，７８１号及び米国特許第６，４１０，１３０号は、配列がＡ^１／Ｂ／Ａ^２のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ^１及びＡ^２は、同じであってもよいし異なっていてもよく、それぞれ少なくとも１つのコレステリック層を含む。Ｂは、層Ａ^１及びＡ^２から送られた光の全部又は一部を吸収するとともに磁気特性を付与する中間層である。米国特許第６，５３１，２２１号は、配列がＡ／Ｂであり、任意選択としてＣを含む血小板状のコレステリック多層顔料粒子を開示している。ここで、Ａ及びＣは、磁気特性を付与する顔料粒子を含む吸収層であり、Ｂはコレステリック層である。

[0106]１つ又は複数の磁性材料を含む好適な干渉被覆顔料としては、１つ又は複数の層で被覆されたコアから成る群から選択される基板から成る構造が挙げられるが、これらに限定されない。ここで、上記コア又は１つ若しくは複数の層の少なくとも一方は、磁性を有する。例えば、好適な干渉被覆顔料は、上記のような磁性材料で構成されたコアであって、１つ又は複数の金属酸化物で構成された１つ又は複数の層で被覆された、コアを含むか、合成又は天然雲母、層状ケイ酸塩（例えば、タルク、カオリン、及び絹雲母）、ガラス（例えば、ホウケイ酸塩）、二酸化ケイ素（ＳｉＯ_２）、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、酸化チタン（ＴｉＯ_２）、グラファイト、及びこれらの２つ以上の混合物で構成されたコアから成る構造を有する。さらに、着色層等の１つ又は複数の別の層が存在していてもよい。

[0107]本明細書に記載の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子は、放射線硬化性コーティング組成物に生じ得る任意の劣化に対する保護及び／又は放射線硬化性コーティング組成物への組み込みの容易化のために表面処理されていてもよく、通常は、腐食防止剤及び／又は湿潤剤が用いられるようになっていてもよい。

[0108]本明細書に記載の基板は、紙又はセルロース、紙含有材料、ガラス、金属、セラミック、プラスチック、及びポリマー等のその他繊維材料、金属化プラスチック若しくはポリマー、複合材、並びにこれらの混合物又は組合せから成る群から選択するのが好ましい。代表的な紙、紙状、又はその他の繊維材料は、アバカ、綿、麻、木材パルプ、及びこれらの混合等、様々な繊維で構成されるが、これらに限定されない。当業者には周知の通り、紙幣には綿及び綿／麻混合が好ましく、紙幣以外のセキュリティ文書には、木材パルプが一般的に用いられている。プラスチック及びポリマーの代表例としては、ポリエチレン（ＰＥ）及びポリプロピレン（ＰＰ）等のポリオレフィン、ポリアミド、ポリ（エチレンテレフタレート）（ＰＥＴ）、ポリ（１，４－ブチレンテレフタレート）（ＰＢＴ）、ポリ（エチレン２，６－ナフトエート）（ＰＥＮ）等のポリエステル、並びにポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）等が挙げられる。基板としては、例えばＴｙｖｅｋ（登録商標）という商標で販売されているスパンボンドオレフィン繊維も使用可能である。金属化プラスチック又はポリマーの代表例としては、表面に連続的又は不連続的に配設された金属を有する上述のプラスチック又はポリマー材料が挙げられる。金属の代表例としては、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、銀（Ａｇ）、これらの組合せ、又はこれら金属の２つ以上の合金が挙げられるが、これらに限定されない。上述のプラスチック又はポリマー材料の金属化は、電着プロセス、高真空被覆プロセス、又はスパッタリングプロセスによって行われるようになっていてもよい。複合材の代表例としては、紙及び上記のような少なくとも１つのプラスチック若しくはポリマー材料の多層構造又は積層並びに上記のような紙状又は繊維材料に組み込まれたプラスチック及び／若しくはポリマー繊維等が挙げられるが、これらに限定されない。当然のことながら、基板には、サイジング剤、漂白剤、加工助剤、補強又は湿潤増強剤等、当業者に既知の別の添加剤を含むことも可能である。本明細書に記載の基板は、ウェブ（例えば、上述の材料の連続シート）の形態又はシートの形態で提供されるようになっていてもよい。本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）がセキュリティ文書上にある場合は、当該セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くすることを目的として、上記基板は、印刷、被覆、レーザマーキング、又はレーザ穿孔証印、透かし、セキュリティスレッド、繊維、プランシェット、発光化合物、窓、箔、デカール、及びこれらの２つ以上の組合せを備えていてもよい。セキュリティ文書の偽造及び違法複製に対するセキュリティレベル及び耐性をさらに高くするという同じ目的で、上記基板は、１つ又は複数のマーカ物質若しくは追跡用添加物並びに／又は機械可読物質（例えば、発光物質、ＵＶ／可視／ＩＲ吸収物質、磁性物質、及びこれらの組合せ）を含んでいてもよい。

[0109]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）のコーティング層（ｘ１０）の形状は、連続的であってもよいし、不連続的であってもよい。一実施形態によれば、コーティング層（ｘ１０）の形状は、１つ又は複数の証印、ドット、及び／又はラインを表す。コーティング層（ｘ１０）の形状は、何もないエリアによって互いに離隔されたライン、ドット、及び／又は証印から成っていてもよい。

[0110]本明細書に記載の光学効果層（ＯＥＬ）は、基板上に直接設けて、永久に残るようにしてもよい（例えば、紙幣用途の場合）。或いは、生成のための暫定的な基板上にＯＥＬを設け、後でＯＥＬを取り外すようにしてもよい。これにより、特にバインダ材料が流体状態のままである場合に、例えばＯＥＬの生成が容易化される可能性がある。その後、コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させてＯＥＬを生成したら、暫定基板をＯＥＬから取り外してもよい。

[0111]或いは、ＯＥＬ又はＯＥＬを備えた基板上に接着層が存在していてもよく、当該接着層は、ＯＥＬが設けられた面と反対側の基板面に存在していてもよいし、ＯＥＬと同じ面でＯＥＬの上に存在していてもよい。したがって、ＯＥＬ又は基板に接着層が塗布されていてもよい。このような物品は、機械類や大きな労力を伴う印刷等のプロセスなく、あらゆる種類の文書又は他の物品に取り付けられるようになっていてもよい。或いは、本明細書に記載のＯＥＬを備えた本明細書に記載の基板は、独立した転写ステップにおいて文書又は物品に適用可能な転写箔の形態であってもよい。この目的のため、基板には剥離コーティングが設けられ、その上において、本明細書に記載の通り、ＯＥＬが生成される。このように生成されたＯＥＬ上には、１つ又は複数の接着層を塗布するようにしてもよい。

[0112]本明細書には、本明細書に記載のプロセスにより得られた２つ以上すなわち２つ、３つ、４つ等の光学効果層（ＯＥＬ）を備えた基板も記載する。

[0113]また、本明細書には、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）を備えた物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体を記載する。これらの物品、特に、セキュリティ文書、装飾要素又は物体は、本発明に従って生成された２つ以上（例えば、２つ、３つ等）のＯＥＬを備えていてもよい。

[0114]前述の通り、本発明に従って生成された光学効果層（ＯＥＬ）は、装飾目的並びにセキュリティ文書の保護及び認証に用いられるようになっていてもよい。装飾要素又は物体の代表例としては、高級品、化粧品パッケージ、自動車部品、電子／家電製品、家具、及びネイルラッカーが挙げられるが、これらに限定されない。

[0115]セキュリティ文書としては、有価文書及び有価商品が挙げられるが、これらに限定されない。有価文書の代表例としては、紙幣、証書、チケット、小切手、証票、収入印紙及び納税印紙、契約書等、パスポート等の身分証明書類、身分証明書、ビザ、運転免許証、銀行カード、クレジットカード、取引カード、アクセス書類又はカード、入場券、公共交通乗車券又は証書等が挙げられ、紙幣、身分証明書類、権利付与書類、運転免許証、及びクレジットカードが好ましいが、これらに限定されない。用語「有価商品（ｖａｌｕｅ ｃｏｍｍｅｒｃｉａｌ ｇｏｏｄ）」は、特に化粧品、栄養補助食品、医薬品、アルコール、タバコ製品、飲料又は食料品、電気／電子製品、織物又は宝飾品、すなわち偽造及び／又は違法複製に対する保護により、例えば本物の薬等のパッケージの内容物を保証すべき物品のパッケージ材料を表す。これらパッケージ材料の例としては、認証ブランドラベル、不正防止ラベル等のラベル及びシールが挙げられるが、これらに限定されない。なお、開示の基板、有価文書、及び有価商品は、本発明の範囲を制限することなく、専ら例示目的で示している。

[0116]或いは、光学効果層（ＯＥＬ）は、例えばセキュリティスレッド、セキュリティストライプ、箔、デカール、窓、又はラベル等の補助基板上に生成され、その結果、独立したステップにおいて、セキュリティ文書に転写されるようになっていてもよい。

[0117]当業者であれば、本発明の主旨から逸脱することなく、上述した特定の実施形態について、いくつかの改良に想到し得る。このような改良は、本発明に含まれる。

[0118]さらに、本明細書全体で引用したすべての文献は、その全内容を参照により漏れなく本明細書に援用する。

[0119]図５～図７に示す磁気アセンブリ（ｘ００）の使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクのコーティング層（ｘ１０）における非球状、特に、血小板状光学可変磁性顔料粒子を配向させ、図８Ｂ－１～図８Ｂ－３に示す光学効果層（ＯＥＬ）を生成した。Ｔ９０スクリーンを用いた手動スクリーン印刷によって厚さがおよそ２０μｍ、寸法が３５ｍｍ×３５ｍｍの正方形状のコーティング層（ｘ１０）を構成することにより、黒色のコマーシャルペーパー（Ｇａｓｃｏｇｎｅ Ｌａｍｉｎａｔｅｓ Ｍ－ｃｏｔｅ １２０）（ｘ２０）にＵＶ硬化性スクリーン印刷インクを塗布した。その後、このようにして得られた血小板状光学可変磁性顔料粒子の磁気的配向パターンは、配向ステップと一部同時に（すなわち、ＵＶ硬化性スクリーン印刷インクのコーティング層（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）が依然として磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界中に存在する間に）、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）を用いて、顔料粒子を含む層をおよそ０．５秒間にわたってＵＶ硬化に曝露することにより固定した。

比較例１（図５Ａ～図５Ｃ及び図８Ｂ－１）
[0120]比較例１の光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に作成するのに用いた磁気アセンブリ（５００）を図５Ａ～図５Ｃに示す。磁気アセンブリ（５００）は、第１の平面（Ｐ）と平行な配向にて、基板（５２０）を受容するように構成されているものとした。

[0121]磁気アセンブリ（５００）は、第１の正方形状支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の棒状双極子磁石（５３１_{１～１００}）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、第２の正方形状支持マトリクス（５４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備えるものとし、第２の磁界発生装置（５４０）が第１の磁界発生装置（５３０）の下方に配設され、コーティング層（５１０）を有する基板（５２０）と第２の磁界発生装置（５４０）との間に第１の磁界発生装置（５３０）が配設されるものとした。第１の磁界発生装置（５３０）及び第２の磁界発生装置（５４０）は、本質的に互いの中心を合わせた。

[0122]第１の磁界発生装置（５３０）は、１０本の平行な直線α_ｉ（α_１～１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（β_１～１０）を含む格子の交差点上にそれぞれの中心が配置された１００個の第１の棒状双極子磁石（５３１_{１～１００}）を備えるものとし、直線α_ｉ（α_１～１０）が互いに平行且つ直線β_ｊ（β_１～１０）が互いに平行で、直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であるものとした。１０本の直線α_ｉ（α_１～１０）が等しく離隔し、隣り合う直線が２．５ｍｍの距離（Ａ７）だけ分離されるものとした。１０本の直線α_ｉ（α_１～１０）が１０個の第１の双極子磁石を含むことにより、第１の双極子磁石の総数が１００個（５３１_{１～１００}）となるようにした。１０本の直線β_ｊ（β_１～１０）が等しく離隔し、隣り合う直線が２．５ｍｍの距離（Ａ６）だけ分離されるものとした。各直線α_ｉ（α_１～１０）及び各直線β_ｊ（β_１～１０）上において、２つの隣り合う第１の棒状双極子磁石間の距離は、０．５ｍｍであるものとした。

[0123]１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）は、円筒状であり、２ｍｍ（Ａ４：直径）×２ｍｍ（Ａ５：長さ）の寸法を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ４５で構成されるものとした。１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）は、それぞれの長さ（Ａ５）方向に磁化され、ＳＮ磁気軸が基板（５２０）表面と垂直であるものとした。各直線α_ｉ（α_１～１０）及び各直線β_ｊ（β_１～１０）上においては、図５ＡのＳ→Ｎ矢印で示すように、各第１の棒状双極子磁石のＮ極がそれぞれの隣り合う磁石（５３１_{１～１００}）のＮ極と反対方向を向くものとした。言い換えると、１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）は、それぞれのＮＳ極性が交互となるように、すなわち、２つの隣り合う第１の双極子磁石の直線α_ｉ（α_１～１０）及び直線β_ｊ（β_１～１０）に沿った（また、Ａ１及びＡ２方向に沿った）ＳＮ磁場方向が反対となるように、１０×１０の配列にて配設されるものとした。

[0124]第１の磁界発生装置（５３０）の第１の正方形状支持マトリクス（５３２）は、５０ｍｍ（Ａ１）×５０ｍｍ（Ａ２）×３ｍｍ（Ａ３）の寸法を有し、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）で構成され、１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）を保持する１００個の窪みを備えるものとし、前記窪みが前記１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）と同じ寸法を有することで、前記１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）の最上面が第１の正方形状支持マトリクス（５３２）の最上面と同一平面になるようにした。

[0125]第２の磁界発生装置（５４０）の第２の双極子磁石（５４１）は、正方形状双極子磁石で、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×４ｍｍ（Ｂ３）の寸法を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ３０で構成されるものとした。第２の双極子磁石（５４１）は、ＳＮ磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行且つ第１の磁界発生装置（５３０）の１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）の磁気軸それぞれと垂直であるものとした。第２の磁界発生装置（５４０）は、そのベクトル和Ｈ（第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸に対応）が基板（５２０）と実質的に平行であるものとした。

[0126]図５Ａに示すように、各直線α_ｉ（α_１～９）及び第２の磁界発生装置（５４０）のベクトル和Ｈは、０°の角度を成すものとした（すなわち、直線α_ｉ（α_１～１０）がベクトルＨに対して平行であるものとした）。

[0127]第２の磁界発生装置（５４０）の第２の正方形状支持マトリクス（５４２）は、５０ｍｍ（Ｂ１）×５０ｍｍ（Ｂ２）×１０ｍｍ（Ｂ３）の寸法を有し、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）で構成され、第２の双極子磁石（５４１）を保持する窪み／孔を備えるものとし、前記窪み／孔が第２の双極子磁石（５４１）と同じ形状及び寸法を有する（すなわち、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×４ｍｍ（Ｂ３））ことで、前記第２の双極子磁石（５４１）の最上面が第２の正方形状支持マトリクス（５４２）の最上面と同一平面になるようにした。

[0128]第１の磁界発生装置（５３０）の第１の正方形状支持マトリクス（５３２）の上面（１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）の最上面にも対応と磁気アセンブリ（５００）に対向する基板（５２０）の表面との間の距離（ｈ１）は、２ｍｍであるものとした。第２の磁界発生装置（５４０）の第２の双極子磁石（５４１）の上面と第１の磁界発生装置（５３０）の正方形状支持マトリクス（５３２）の最下面との間の距離（ｈ２）は、０ｍｍであるものとした。すなわち、第１の磁界発生装置（５３０）及び第２の磁界発生装置（５４０）は、直接接触するものとした。

[0129]図８Ｂ－１には、基板（５２０）を－２０°～＋２０°傾斜させた様々な視角にて、図５Ａ～図５Ｃに示す磁気アセンブリ（５００）により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が２つの垂直軸すなわち水平／横軸及び垂直／縦軸周りに傾斜している場合に複数の暗点及び複数の明点が単一の方向（縦方向）にのみ移動、出現、及び／又は消失する光学的印象を与える（基板が水平／横軸周りに傾斜している場合は変化なし）。

実施例１（図６Ａ～図６Ｃ及び図８Ｂ－２）
[0130]比較例１の光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に作成するのに用いた磁気アセンブリ（６００）を図６Ａ～図６Ｂに示す。磁気アセンブリ（６００）は、第１の平面（Ｐ）と平行な配向にて、基板（６２０）を受容するように構成されているものとした。

[0131]磁気アセンブリ（６００）は、第１の正方形状支持マトリクス（６３２）に埋め込まれた１００個の第１の棒状双極子磁石（６３１_{１～１００}）を備えた第１の磁界発生装置（６３０）と、第２の正方形状支持マトリクス（６４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（６４１）を備えた第２の磁界発生装置（６４０）と、を備えるものとし、第２の磁界発生装置（６４０）が第１の磁界発生装置（６３０）の下方に配設され、コーティング層（６１０）を有する基板（６２０）と第２の磁界発生装置（６４０）との間に第１の磁界発生装置（６３０）が配設されるものとした。第１の磁界発生装置（６３０）及び第２の磁界発生装置（６４０）は、本質的に互いの中心を合わせた。

[0132]第１の磁界発生装置（６３０）は、比較例Ｃ１に関して説明したものと同じであるものとした。

[0133]第２の磁界発生装置（６４０）の第２の双極子磁石（６４１）は、正方形状双極子磁石で、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×４ｍｍ（Ｂ３）の寸法を有し、ＮｄＦｅＢ Ｎ５２で構成されるものとした。第２の双極子磁石（６４１）は、ＳＮ磁気軸が基板（６２０）と実質的に平行であるものとした。第２の磁界発生装置（６４０）は、そのベクトル和Ｈ（唯一の第２の双極子磁石（６４１）の磁気軸に対応）が基板（６２０）と実質的に平行であるものとした。

[0134]図６Ａに示すように、各直線α_ｉ（α_１～１０）及び第２の磁界発生装置（７４０）のベクトル和Ｈは、４５°の角度γを成すものとした。

[0135]第２の磁界発生装置（６４０）の第２の正方形状支持マトリクス（６４２）は、５０ｍｍ（Ｂ１）×５０ｍｍ（Ｂ２）×４ｍｍ（Ｂ３）の寸法を有し、ポリオキシメチレン（ＰＯＭ）で構成され、第２の双極子磁石（６４１）を保持する窪み／孔を備えるものとし、前記窪み／孔が第２の双極子磁石（６４１）と同じ形状及び寸法を有する（すなわち、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×４ｍｍ（Ｂ３））ことで、前記第２の双極子磁石（６４１）の最上面が第２の正方形状支持マトリクス（６４２）の最上面と同一平面になるようにした。

[0136]第１の磁界発生装置（６３０）の第１の正方形状支持マトリクス（６３２）の上面（４１個の第１の双極子磁石６３１_１～４１）の上面にも対応と磁気アセンブリ（６００）に対向する基板（６２０）の表面との間の距離（ｈ１）は、１．５ｍｍであるものとした。第２の磁界発生装置（６４０）の第２の双極子磁石（６４１）の上面と第１の磁界発生装置（６３０）の正方形状支持マトリクス（６３２）の最下面との間の距離（ｈ２）は、０ｍｍであるものとした。すなわち、第１の磁界発生装置（６３０）及び第２の磁界発生装置（６４０）は、直接接触するものとした。

[0137]図８Ｂ－２には、基板（６２０）を－２０°～＋２０°傾斜させた様々な視角にて、図６Ａ～図６Ｂに示す磁気アセンブリ（６００）により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が２つの垂直軸すなわち水平／横軸及び垂直／縦軸周りに傾斜している場合に複数の暗点及び複数の明点が縦傾斜及び横傾斜方向に関して対角方向に移動、出現、及び／又は消失する光学的印象を与える。

実施例２（図７及び図８Ｂ－３）
[0138]比較例１の光学効果層（ＯＥＬ）を基板（７２０）上に作成するのに用いた磁気アセンブリ（７００）を図７Ａ及び図７Ｂに示す。磁気アセンブリ（７００）は、第１の平面（Ｐ）と平行な配向にて、基板（７２０）を受容するように構成されるものとした。

[0139]磁気アセンブリ（７００）は、第１の正方形状支持マトリクス（７３２）に埋め込まれた１００個の第１の棒状双極子磁石（７３１_{１～１００}）を備えた第１の磁界発生装置（７３０）と、第２の正方形状支持マトリクス（７４２）に埋め込まれた２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）すなわち第１の第２双極子磁石（７４１_１）及び第２の第２双極子磁石（７４１_２）を備えた第２の磁界発生装置（７４０）と、を備えるものとし、第１の第２双極子磁石（７４１_１）が第２の第２双極子磁石（７４１_２）の上に配設され、第２の磁界発生装置（７４０）が第１の磁界発生装置（７３０）の下方に配設され、コーティング層（７１０）を有する基板（７２０）と第２の磁界発生装置（７４０）との間に第１の磁界発生装置（７３０）が配設されるものとした。第１の磁界発生装置（７３０）及び第２の磁界発生装置（７４０）は、本質的に互いの中心を合わせた。

[0140]第１の磁界発生装置（７３０）は、比較例Ｃ１に関して説明したものと同じであるものとした。

[0141]第２の磁界発生装置（７４０）は、いずれも正方形状双極子磁石である２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）を備え、第１の第２双極子磁石（７４１_１）が３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×２ｍｍの寸法を有し、第２の第２双極子磁石（７４１_２）が３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×３ｍｍの寸法を有し、両者がＮｄＦｅＢ Ｎ５２で構成されるものとした。これら２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）は、ＳＮ磁気軸が基板（７２０）と実質的に平行であるものとした。図７に示すように、第１の第２双極子磁石（７４１_１）の磁気軸は、第２の第２双極子磁石（７４１_２）の磁気軸と垂直であるものとした。

[0142]第２の磁界発生装置（７４０）は、２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）を保持する窪み／孔が２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）と同じ形状及び寸法（すなわち、３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×５ｍｍ（Ｂ３＝２＋３））を有するように寸法Ｂ３を５ｍｍ（すなわち、窪みの深さ）とした点を除いて、比較例Ｃ１に使用したものと同じ第２の正方形状支持マトリクス（７４２）を備えることで、第１の第２双極子磁石（７４１_１）の最上面が第２の正方形状支持マトリクス（７４２）の最上面と同一平面になり、２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）が一体的に積み重ねられ、互いの中心が合い、直接接触するようにした。第２の磁界発生装置（７４０）は、ベクトル和Ｈ（第１の第２双極子磁石（８４１_１）及び第２の第２双極子磁石（８４１_２）の磁気軸の足し合わせの結果）が基板（７２０）と実質的に平行であるものとした。

[0143]図８に示すように、各直線α_ｉ（α_１～１０）について、当該直線及び第２の磁界発生装置（７４０）のベクトル和Ｈは、４５°の角度γを成すものとした。

[0144]第１の磁界発生装置（７３０）の第１の正方形状支持マトリクス（７３２）の最上面（１００個の第１の双極子磁石（５３１_{１～１００}）の最上面にも対応）と磁気アセンブリ（７００）に対向する基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ１）は、およそ２ｍｍであるものとした。第２の磁界発生装置（７４０）の第２の双極子磁石（７４１）の上面と第１の磁界発生装置（７３０）の正方形状支持マトリクス（７３２）の最下面との間の距離（ｈ２）は、０ｍｍであるものとした。すなわち、第１の磁界発生装置（７３０）及び第２の磁界発生装置（６４０）は、直接接触するものとした。

[0145]図８Ｂ－３には、図７に示す磁気アセンブリ（７００）により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が２つの垂直軸すなわち水平／横軸及び垂直／縦軸周りに傾斜した場合に複数の暗点及び複数の明点が縦傾斜及び横傾斜方向に関して対角方向に移動、出現、及び／又は消失する光学的印象を与える。

第１の支持マトリクス（１３２）及び４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）を備えた第１の磁界発生装置（１３０）であって、前記４つの第１の双極子磁石（１３１_ｉ－ｊ：１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_１３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（１３１）のＮ極が反対方向を向いている、第１の磁界発生装置（１３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（１３２）及び４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）を備えた第１の磁界発生装置（１３０）であって、前記４つの第１の双極子磁石（１３１_ｉ－ｊ：１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_１３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、４つの第１の双極子磁石（１３１_１－１、１３１_１－２、１３１_２－１、１３１_２－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（１３１）のＮ極が反対方向を向いている、第１の磁界発生装置（１３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（２３２）及び６つの第１の双極子磁石（２３１_ｉ－ｊ：２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）を備えた第１の磁界発生装置（２３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（２３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_２３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、６つの第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（２３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（２３２）及び６つの第１の双極子磁石（２３１_ｉ－ｊ：２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）を備えた第１の磁界発生装置（２３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（２３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_２３１）が、２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２）（α_１、α_２）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、６つの第１の双極子磁石（２３１_１－１、２３１_１－２、２３１_１－３、２３１_２－１、２３１_２－２、２３１_２－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（２３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（２３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（３３２）及び６つの第１の双極子磁石（３３１_ｉ－ｊ：３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）を備えた第１の磁界発生装置（３３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（３３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_３３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、６つの第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（３３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（３３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（３３２）及び６つの第１の双極子磁石（３３１_ｉ－ｊ：３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）を備えた第１の磁界発生装置（３３０）であって、前記６つの第１の双極子磁石（３３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_３３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２）（β_１、β_２）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、６つの第１の双極子磁石（３３１_１－１、３３１_１－２、３３１_２－１、３３１_２－２、３３１_３－１、３３１_３－２）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（３３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（３３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（４３２）及び９つの第１の双極子磁石（４３１_ｉ－ｊ：４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）を備えた第１の磁界発生装置（４３０）であって、前記９つの第１の双極子磁石（４３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_４３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直であり、９つの第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（４３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（４３０）の模式上面図である。 第１の支持マトリクス（４３２）及び９つの第１の双極子磁石（４３１_ｉ－ｊ：４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）を備えた第１の磁界発生装置（４３０）であって、前記９つの第１の双極子磁石（４３１）がそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_４３１）が、３本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、３）（α_１、α_２、α_３）及び３本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、３）（β_１、β_２、β_３）を含む格子の交差点上に配置され、直線α_ｉが直線β_ｊと実質的に垂直ではなく、９つの第１の双極子磁石（４３１_１－１、４３１_１－２、４３１_１－３、４３１_２－１、４３１_２－２、４３１_２－３、４３１_３－１、４３１_３－２、４３１_３－３）の磁気軸が、第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に垂直となるように）配向し、各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、（暗灰色（Ｎ極）及び明灰色（Ｓ極）により示すように）隣り合う第１の棒状双極子磁石（４３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、各直線β_ｊ上において、ＮＳ極性が前記直線β_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置されている、第１の磁界発生装置（４３０）の模式上面図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 比較としての光学効果層（ＯＥＬ）を基板（５２０）上に生成するための磁気アセンブリ（５００）であって、磁気軸が基板（５２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（５３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（５３０）と、磁気軸が基板（５２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６５２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（５４１）を備えた第２の磁界発生装置（５４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（５３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（５３１_１、・・・、５３１_１００）及び第２の双極子磁石（５４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（５４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値０°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに平行となるように配置されている、磁気アセンブリ（５００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に生成するための磁気アセンブリ（６００）であって、磁気軸が基板（６２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（６３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（６３０）と、磁気軸が基板（６２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（６４１）を備えた第２の磁界発生装置（６４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１９）（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（６３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）及び第２の双極子磁石（６４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（６４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（６００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に生成するための磁気アセンブリ（６００）であって、磁気軸が基板（６２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（６３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（６３０）と、磁気軸が基板（６２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（６４２）に埋め込まれた第２の双極子磁石（６４１）を備えた第２の磁界発生装置（６４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１９）（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（６３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（６３１_１、・・・、６３１_１００）及び第２の双極子磁石（６４２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（６４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（６００）を模式的に示した図である。 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（７２０）上に生成するための磁気アセンブリ（７００）であって、磁気軸が基板（７２０）表面と実質的に垂直となるように配向し、第１の支持マトリクス（７３２）に埋め込まれた１００個の第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）を備えた第１の磁界発生装置（７３０）と、磁気軸が基板（７２０）と実質的に平行で、第２の支持マトリクス（７４２）に埋め込まれた２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）を備えた第２の磁界発生装置（７４０）と、を備え、１００個の第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）がそれぞれ、特に、それぞれの中心が、１０本の直線α_ｉ（ｉ＝１、・・・、１０）（α_１～α_１０）及び１０本の直線β_ｊ（ｊ＝１、・・・、１０）（β_１～β_１０）を含む格子の交差点上に配置され、前記直線α_ｉが直線β_ｊと垂直であり、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（７３１）のＮ極が反対方向を向き、各直線α_ｉ（α_１～α_１０）上及び各直線β_ｊ（β_１～β_１０）上において、ＮＳ極性が前記直線α_ｉ及びβ_ｊに沿って交互となるように第１の双極子磁石が配置され、第１の双極子磁石（７３１_１、・・・、７３１_１００）及び第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）が、各直線α_ｉ及び当該第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_２）の磁気軸のベクトル和Ｈが値４５°の角度γを成す、すなわち、各直線α_ｉ及びベクトル和Ｈが互いに非平行及び非垂直となるように配置されている、磁気アセンブリ（７００）を模式的に示した図である。 図６及び図７Ａに示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７Ａに示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７Ａに示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。 図６及び図７Ａに示す装置を用いて得られたＯＥＬを図８Ａに示すような－２０°～＋２０°の様々な視角で見た写真である。

[023]本発明の背景において、用語「磁気軸（ｍａｇｎｅｔｉｃ ａｘｉｓ）」は、磁石のＮ極（「Ｎ」及び／又は暗灰色により示される）及びＳ極（「Ｓ」及び／又は明灰色により示される）を接続し、Ｓ極からＮ極に向かう単位ベクトルを示す（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ Ｐｈｙｓｉｃｓ，Ｓｐｒｉｎｇｅｒ ２００２の４６３頁）。図５Ａ、図６Ａ、及び図７Ａにおいて、第２の双極子磁石の磁気軸は、Ｎ極に対応する終端を有する矢印によって示されている。

[032]本明細書に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）は、本明細書に記載の第１の磁界発生装置（ｘ３０）を備えており、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）は、本明細書に記載の第１の支持マトリクス（ｘ３２）に一部又は全部が埋め込まれた４つ以上の第１の双極子磁石（ｘ３１）を備える。例えば図１～図７Ａに示すように、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されており、前記格子は、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊを含む（ｉは１、２等、ｊは１、２等）。本明細書に記載の格子は、互いに交差することにより、形状が正方形、長方形、又は平行四辺形のセルを形成する直線α_ｉ及びβ_ｊから成るパターンに対応する。一実施形態によれば、例えば図１～図７Ａに示すように、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されており、前記格子の交差点はそれぞれ、第１の双極子磁石（ｘ３１）を含む。別の実施形態（図示せず）によれば、第１の双極子磁石（ｘ３１）はそれぞれ、特に、それぞれの中心（Ｃ_ｘ３１）は、格子の交差点上に配置されているが、前記格子の交差点のいくつかは、第１の双極子磁石（ｘ３１）を含まない。

[036]実質的に平行な直線α_ｉは、互いに実質的に平行であり、実質的に平行な直線β_ｊは、互いに実質的に平行である。例えば図１Ａ、図２Ａ、図３Ａ、図４Ａ、図５Ａ～５Ｂ、６Ａ及び図７Ａに示す一実施形態によれば、前記直線α_ｉは、前記直線β_ｊと実質的に垂直である。すなわち、直線α_ｉと直線β_ｊとの間に形成される角度は、９０°であるため、形状が正方形又は長方形のセルを含む格子を形成する。例えば図１Ｂ、図２Ｂ、図３Ｂ、及び図４Ｂに示す別の実施形態によれば、前記直線α_ｉは、前記直線β_ｊと実質的に垂直ではない。すなわち、直線α_ｉと直線β_ｊとの間に形成される角度は、９０°ではないため、形状が平行四辺形のセルを含む格子を形成する。

[053]一実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、第２の双極子磁石（ｘ４１）を１つ備える。別の実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように（本明細書に記載のプロセスにおいて、基板と実質的に平行となるように）それぞれ配向した２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合は、前記２つの第２の双極子磁石の一方が他方の上に配設されるのが好ましく、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、互いの中心が合っているのが好ましい。すなわち、本明細書の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、積み重ねられており、同軸に配置されているのがさらに好ましい。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石は、Ｎ極が同じ方向を向いていてもよいし、Ｎ極が異なる方向を向いていてもよい（例えば、図７Ａ参照）。Ｎ極が同じ方向を向いている２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を第２の磁界発生装置（ｘ４０）が備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、重なり合って配設されていてもよいし、並んで配置されていてもよく、また、離隔していてもよいが、直接接触しているのが好ましい。Ｎ極が異なる方向を向いている２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を第２の磁界発生装置（ｘ４０）が備える実施形態の場合、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は、重なり合って配設されているのが好ましく、また、直接接触しているのが好ましい。例えば図７Ａに示す一実施形態によれば、第２の磁界発生装置（ｘ４０）は、本明細書に記載の２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えており、前記２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）はそれぞれ、磁気軸が第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように配向し、Ｎ極が異なる方向を向き、前記２つの第２の双極子磁石の一方が他方の上に配設され、前記２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）は互いの中心が合っており、直接接触しているのが好ましい。第２の磁界発生装置（ｘ４０）が本明細書に記載の２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備える実施形態の場合、前記２つの第２の双極子磁石は、同じ形状で、同じ寸法を有し、同じ材料で構成されていてもよいし、異なっていてもよい。

[058]各直線α_ｉ及び第２の磁界発生装置（ｘ４０）のベクトル和Ｈは、基板（ｘ２０）表面と実質的に平行で、相互に捩れており（図６Ａ及び図７Ａに示すように、両者間の角度がγで示される）、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である。各直線α_ｉ及び第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈは、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直であり、およそ２０°～およそ７０°の範囲、およそ１１０°～およそ１６０°の範囲、およそ２００°～およそ２５０°の範囲、およそ２９０°～およそ３４０°の範囲を成すのが好ましく、およそ３０°～およそ７０°の範囲、およそ１２０°～およそ１５０°の範囲、およそ２１０°～およそ２４０°の範囲、又はおよそ３００°～およそ３３０°の範囲の角度γを成すのがより好ましい。

[0119]図５～図７Ａに示す磁気アセンブリ（ｘ００）の使用により、表１に記載のＵＶ硬化性スクリーン印刷インクのコーティング層（ｘ１０）における非球状、特に、血小板状光学可変磁性顔料粒子を配向させ、図８Ｂ－１～図８Ｂ－３に示す光学効果層（ＯＥＬ）を生成した。Ｔ９０スクリーンを用いた手動スクリーン印刷によって厚さがおよそ２０μｍ、寸法が３５ｍｍ×３５ｍｍの正方形状のコーティング層（ｘ１０）を構成することにより、黒色のコマーシャルペーパー（Ｇａｓｃｏｇｎｅ Ｌａｍｉｎａｔｅｓ Ｍ－ｃｏｔｅ １２０）（ｘ２０）にＵＶ硬化性スクリーン印刷インクを塗布した。その後、このようにして得られた血小板状光学可変磁性顔料粒子の磁気的配向パターンは、配向ステップと一部同時に（すなわち、ＵＶ硬化性スクリーン印刷インクのコーティング層（ｘ１０）を有する基板（ｘ２０）が依然として磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界中に存在する間に）、Ｐｈｏｓｅｏｎ社製ＵＶ－ＬＥＤランプ（ファイアフレックス（ＦｉｒｅＦｌｅｘ）タイプ、５０×７５ｍｍ、３９５ｎｍ、８Ｗ／ｃｍ^２）を用いて、顔料粒子を含む層をおよそ０．５秒間にわたってＵＶ硬化に曝露することにより固定した。

実施例１
[0130]比較例１の光学効果層（ＯＥＬ）を基板（６２０）上に作成するのに用いた磁気アセンブリ（６００）を図６Ａ～図６Ｂに示す。磁気アセンブリ（６００）は、第１の平面（Ｐ）と平行な配向にて、基板（６２０）を受容するように構成されているものとした。

[0134]図６Ａに示すように、各直線α_ｉ（α_１～１０）及び第２の磁界発生装置（６４０）のベクトル和Ｈは、４５°の角度γを成すものとした。

実施例２
[0138]実施例２の光学効果層（ＯＥＬ）を基板（７２０）上に作成するのに用いた磁気アセンブリ（７００）を図７Ａに示す。磁気アセンブリ（７００）は、第１の平面（Ｐ）と平行な配向にて、基板（７２０）を受容するように構成されるものとした。

[0141]第２の磁界発生装置（７４０）は、いずれも正方形状双極子磁石である２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）を備え、第１の第２双極子磁石（７４１_１）が３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×２ｍｍの寸法を有し、第２の第２双極子磁石（７４１_２）が３０ｍｍ（Ｂ４）×３０ｍｍ（Ｂ５）×３ｍｍの寸法を有し、両者がＮｄＦｅＢ Ｎ５２で構成されるものとした。これら２つの第２の双極子磁石（７４１_１、７４１_－２）は、ＳＮ磁気軸が基板（７２０）と実質的に平行であるものとした。図７Ａに示すように、第１の第２双極子磁石（７４１_１）の磁気軸は、第２の第２双極子磁石（７４１_２）の磁気軸と垂直であるものとした。

[0143]図７Ａに示すように、各直線α_ｉ（α_１～１０）について、当該直線及び第２の磁界発生装置（７４０）のベクトル和Ｈは、４５°の角度γを成すものとした。

[0144]第１の磁界発生装置（７３０）の第１の正方形状支持マトリクス（７３２）の最上面（１００個の第１の双極子磁石（７３１_{１～１００}）の最上面にも対応）と磁気アセンブリ（７００）に対向する基板（７２０）の表面との間の距離（ｈ１）は、およそ２ｍｍであるものとした。第２の磁界発生装置（７４０）の第２の双極子磁石（７４１）の上面と第１の磁界発生装置（７３０）の正方形状支持マトリクス（７３２）の最下面との間の距離（ｈ２）は、０ｍｍであるものとした。すなわち、第１の磁界発生装置（７３０）及び第２の磁界発生装置（６４０）は、直接接触するものとした。

[0145]図８Ｂ－３には、図７Ａに示す磁気アセンブリ（７００）により生成された結果としてのＯＥＬを示している。このようにして得られるＯＥＬは、当該ＯＥＬを有する基板が２つの垂直軸すなわち水平／横軸及び垂直／縦軸周りに傾斜した場合に複数の暗点及び複数の明点が縦傾斜及び横傾斜方向に関して対角方向に移動、出現、及び／又は消失する光学的印象を与える。

Claims (15)

1. 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（ｘ２０）上に生成するための磁気アセンブリ（ｘ００）であり、第１の平面（Ｐ）と少なくとも一部が平行な配向にて前記第１の平面（Ｐ）の上方で前記基板（ｘ２０）を受容するように構成された、磁気アセンブリ（ｘ００）であって、
   ａ）磁気軸が前記第１の平面（Ｐ）と実質的に垂直となるように配向した少なくとも４つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を備えた第１の磁界発生装置（ｘ３０）であり、
   前記第１の双極子磁石（ｘ３１）がそれぞれ、少なくとも２本の実質的に平行な直線α_ｉ（ｉ＝１、２、・・・）及び少なくとも２本の実質的に平行な直線β_ｊ（ｊ＝１、２、・・・）の交差点上に配置され、前記直線α_ｉ及びβ_ｊが格子を形成し、
   少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの１本の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの別の１本の上に配設され、
   各直線α_ｉ上及び各直線β_ｊ上において、隣り合う第１の棒状双極子磁石（ｘ３１）のＮ極が反対方向を向き、
   当該第１の磁界発生装置（ｘ３０）の前記第１の双極子磁石（ｘ３１）が、第１の支持マトリクス（ｘ３２）に一部又は全部が埋め込まれた、
   第１の磁界発生装置（ｘ３０）と、
   ｂ）磁気軸が前記第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように配向し、第２の支持マトリクス（ｘ４２）に一部又は全部が埋め込まれた１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えた第２の磁界発生装置（ｘ４０）であり、
   当該第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）の下方に配設され、
   各直線α_ｉ及び前記１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが、互いに実質的に非平行及び実質的に非垂直である、
   第２の磁界発生装置（ｘ４０）と、
   を備えた、磁気アセンブリ（ｘ００）。
2. 各直線α_ｉ及び前記１つ又は複数の第２の双極子磁石（ｘ４１）の磁気軸のベクトル和Ｈが、およそ２０°～およそ７０°の範囲、およそ１１０°～およそ１６０°の範囲、およそ２００°～およそ２５０°の範囲、又はおよそ２９０°～およそ３４０°の範囲の角度γを成す、請求項１に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
3. 前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、少なくとも６つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を備え、前記格子が、前記実質的に平行な直線α_ｉのうちの少なくとも３本及び前記実質的に平行な直線β_ｉのうちの少なくとも２本を備え、
   少なくとも２つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの１本の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの別の１本の上に配設され、少なくとも２つの他の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちのさらに別の１本の上に配設された、請求項１又は２に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
4. 前記第１の磁界発生装置（ｘ３０）が、少なくとも９つの第１の双極子磁石（ｘ３１）を備え、前記格子が、前記実質的に平行な直線α_ｉのうちの少なくとも３本及び前記実質的に平行な直線β_ｉのうちの少なくとも３本を含み、
   少なくとも３つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの１本の上に配設され、少なくとも３つの第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちの別の１本の上に配設され、少なくとも３つの別の第１の双極子磁石（ｘ３１）が、前記直線α_ｉのうちのさらに別の１本の上に配設された、請求項１～３のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
5. 各直線α_ｉ及び／又は各直線β_ｊ上において、隣り合う第１の双極子磁石（ｘ３１）が離隔しており、好ましくは、同じ距離だけ互いに分離されている、請求項１～４のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
6. 前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、それぞれ磁気軸が前記第１の平面（Ｐ）と実質的に平行となるように配向した２つ以上の第２の双極子磁石（ｘ４１）を備えた、請求項１～５のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
7. 前記第２の磁界発生装置（ｘ４０）が、２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）を備え、前記２つの第２の双極子磁石の一方が、前記第２の双極子磁石（ｘ４１）の他方の上に配設され、前記２つの第２の双極子磁石（ｘ４１）それぞれのＮ極が異なる方向を向いている、請求項６に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）。
8. 光学効果層（ＯＥＬ）を基板上に生成するための請求項１～７のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）の使用。
9. 請求項１～７のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備えた回転磁気シリンダを備えた印刷装置、又は請求項１～７のいずれか一項に記載の磁気アセンブリ（ｘ００）のうちの少なくとも１つを備えた平台印刷ユニットを備えた印刷装置。
10. 光学効果層（ＯＥＬ）を基板（ｘ２０）上に生成するためのプロセスであって、
    ｉ）複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子を含み、コーティング層（ｘ１０）を形成するような第１の状態である放射線硬化性コーティング組成物を基板（ｘ２０）表面に塗布するステップと、
    ｉｉ）前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を配向させるように、請求項１～７のいずれか一項に記載の固定磁気アセンブリ（ｘ００）の磁界に前記放射線硬化性コーティング組成物を曝露するステップと、
    ｉｉｉ）前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子をそれぞれの採用された位置及び配向に固定するように、前記ステップｉｉ）の前記放射線硬化性コーティング組成物を少なくとも部分的に硬化させて第２の状態とするステップと、
    を含む、プロセス。
11. 前記ステップｉｉｉ）が、紫外・可視光放射線硬化により実行され、好ましくは、前記ステップｉｉｉ）が、前記ステップｉｉ）と一部同時に実行される、請求項１０に記載のプロセス。
12. 前記複数の非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部が、非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子により構成された、請求項１０又は１１に記載のプロセス。
13. 前記非球状光学可変磁性又は磁化可能顔料粒子が、磁性薄膜干渉顔料、磁性コレステリック液晶顔料、及びこれらの混合物から成る群から選択される、請求項１２に記載のプロセス。
14. 前記非球状磁性又は磁化可能顔料粒子の少なくとも一部を２軸配向させるように、前記コーティング層（ｘ１０）を装置の動的な磁界に曝露するステップであり、前記ステップｉｉ）の前又は少なくとも一部同時に、及び前記ステップｉｉｉ）の前に発生する、ステップをさらに含む、請求項１０～１３のいずれか一項に記載のプロセス。
15. 請求項１０～１４のいずれか一項に記載のプロセスにより生成された光学効果層（ＯＥＬ）。

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