JP2019058441A - Ophthalmologic apparatus and control method - Google Patents

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Abstract

To provide an ophthalmologic apparatus capable of suppressing reduction of measurement accuracy even when intensity of a pattern light for measuring eye refractive force of an eye to be examined is high, and a control method thereof.SOLUTION: An ophthalmologic apparatus comprises: an optical system for projecting a pattern light based on a light from a light source to an eye to be examined, and receiving a return light of the pattern light from the eye to be examined on an imaging element through a focusing lens on which a focal position can be changed; an analysis part for calculating an eye refractive force value of the eye to be examined based on a pattern image; and a control part 110 for, determining a first measurement condition including at least one of a light amount of a light source, an exposure time of the imaging element, a detection sensitivity, and a control content to the focusing lens, based on a first pattern image, determining a second measurement condition including at least one of a light amount, an exposure time, a detection sensitivity, and a control content based on a second pattern image acquired under the first measurement condition, then, causing the analysis part to calculate the eye refractive force value based on a third pattern image acquired by the imaging element, in a state in which the eye to be examined is subjected to fogging view under the second measurement condition.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

この発明は、眼科装置、及びその制御方法に関する。   The present invention relates to an ophthalmologic apparatus and a control method thereof.

眼科装置として、被検眼の眼屈折力の測定が可能なものが知られている。例えば、特許文献1には、被検眼の眼底に測定パターンを投射し、眼底からの反射光を瞳孔の中心部から取り出し、取得されたパターン像の大きさや変形の度合いから眼屈折力値を算出する眼科装置が開示されている。   As an ophthalmologic apparatus, one capable of measuring the eye refractive power of an eye to be examined is known. For example, in Patent Document 1, a measurement pattern is projected on the fundus of the subject's eye, reflected light from the fundus is extracted from the center of the pupil, and the eye refractive power value is calculated from the size of the acquired pattern image and the degree of deformation. Ophthalmologic apparatus is disclosed.

このような眼科装置では、被検眼の調節力に応じた合焦部の移動量を事前に決定する目的で仮測定が実行される。例えば、特許文献2には、仮測定により得られた合焦部の移動量に基づいて、測定パターン像が被検眼の眼底で略合焦状態となるように合焦部を移動し、更に被検眼を雲霧視させた後に、本測定を実施することにより被検眼の正確な眼屈折力を測定する眼科装置が開示されている。   In such an ophthalmologic apparatus, temporary measurement is performed for the purpose of determining in advance the movement amount of the focusing unit according to the adjustment power of the eye to be examined. For example, in Patent Document 2, based on the movement amount of the focusing unit obtained by temporary measurement, the focusing unit is moved so that the measurement pattern image is substantially in focus at the fundus of the eye to be examined, An ophthalmologic apparatus is disclosed that measures the exact eye refractive power of an eye to be examined by performing this measurement after fogging the optometry.

特開2016−187461号公報JP, 2016-187461, A 特開2007−159850号公報JP 2007-159850 A

被検眼の眼底に投射されるパターン像の線幅が太い場合、仮測定により求められた合焦部の移動量に基づいて合焦部を移動しても、移動前後におけるセンサ上でのパターン像の明るさ(照度)の変化は小さい。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、測定精度が問題にならない。   When the line width of the pattern image projected onto the fundus of the eye to be examined is thick, the pattern image on the sensor before and after movement even if the focusing unit is moved based on the movement amount of the focusing unit obtained by temporary measurement. The change in brightness (illuminance) is small. Therefore, when the main measurement is performed under the measurement conditions determined by the temporary measurement, the measurement accuracy does not matter.

一方、眼底に投射されるパターン像の線幅を細く、かつ輝度を高くすると、得られるパターン像のエッジ部分が急峻となるため測定光束の眼内でのケラレなどの影響を受けにくくなる。このことから、白内障眼など眼内に混濁のある被検眼に対しても、安定した測定が可能となる。しかしながら、パターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合、合焦部の移動前後におけるパターン像の明るさの変化が大きくなる。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、像の検出に十分なS/N比が得られず、却って測定精度が低下する可能性がある。   On the other hand, if the line width of the pattern image to be projected onto the fundus is thin and the luminance is high, the edge portion of the pattern image to be obtained becomes sharp, and therefore the influence of vignetting or the like in the eye on the measurement light beam becomes difficult. From this, it is possible to perform stable measurement even on an eye to be examined which has turbidity in the eye such as a cataract eye. However, when the line width of the pattern image is thin and the luminance is high, the change in the brightness of the pattern image before and after the movement of the focusing portion becomes large. Therefore, when the main measurement is performed under the measurement conditions determined by the temporary measurement, the S / N ratio sufficient for image detection can not be obtained, and the measurement accuracy may be reduced.

本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、被検眼の眼屈折力を測定するためのパターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合でも測定精度の低下を抑えることが可能な眼科装置、及びその制御方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to reduce the measurement accuracy even when the line width of a pattern image for measuring the eye refractive power of an eye to be examined is thin and the luminance is high. It is an object of the present invention to provide an ophthalmologic apparatus capable of suppressing

実施形態の第1態様は、光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光する光学系と、前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部と、を含む眼科装置である。   In the first aspect of the embodiment, pattern light based on light from a light source is projected onto an eye to be inspected, and return light from the eye to be examined of the pattern light is changed by an imaging element through a focusing lens whose focal position can be changed. An optical system that receives light, an analysis unit that calculates an eye refractive power value of the subject's eye based on a pattern image obtained by the image sensor, and a light source for the light source based on a first pattern image obtained by the image sensor A first measurement condition including at least one of a light amount, an exposure time of the image sensor, a detection sensitivity of the image sensor, and control content for the focusing lens is determined, and the image sensor detects the first measurement condition. A second measurement condition including at least one of the light quantity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content is determined based on the obtained second pattern image, and the eye to be examined is determined under the second measurement condition. Cloudy view A control unit for calculating the analysis unit the eye refractive power value based on the third pattern image obtained by the imaging device in a state where a ophthalmic device comprising a.

また、実施形態の第2態様では、第1態様において、前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、前記光学系は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、を含み、前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射してもよい。   In the second aspect of the embodiment, in the first aspect, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the eye to be examined, and the optical system is optically An aperture disposed at a position substantially conjugate to the light source and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member for deflecting the light from the light source and guiding the light to the light transmitting portion; The light transmitted through the light portion may be projected onto the eye as the pattern light.

また、実施形態の第3態様では、第1態様又は第2態様において、前記制御部は、前記第1パターン像の輝度が高いとき第1輝度低下制御を実行し、前記第1パターン像の輝度が低いとき第1輝度上昇制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が高いとき第2輝度低下制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が低いとき第2輝度上昇制御を実行してもよい。   In the third aspect of the embodiment, in the first aspect or the second aspect, the control unit executes the first luminance reduction control when the luminance of the first pattern image is high, and the luminance of the first pattern image is generated. The first brightness increase control is performed when the second pattern image has a high brightness, the second brightness decrease control is performed when the second pattern image has a high brightness, and the second brightness increase control is performed when the second pattern image has a low brightness. It is also good.

また、実施形態の第4態様では、第3態様において、前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、前記検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1検出感度制御の後に、前記露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第1露光時間制御を行ってもよい。   In a fourth aspect of the embodiment, in the third aspect, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is configured to reduce the detection sensitivity based on the luminance of the pattern image. After the first detection sensitivity control to lower the luminance of the first exposure control, the first exposure time control to lower the luminance of the pattern image by shortening the exposure time may be performed.

また、実施形態の第5態様では、第4態様において、前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、前記第1露光時間制御の後に、前記光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1光量制御を行ってもよい。   Further, in a fifth aspect of the embodiment, in the fourth aspect, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is configured to reduce the light amount after the first exposure time control. The first light amount control may be performed to lower the luminance of the light source.

また、実施形態の第6態様では、第4態様又は第5態様において、前記光学系は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、前記第1露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くしてもよい。   Further, in a sixth aspect of the embodiment, in the fourth aspect or the fifth aspect, the optical system includes a rotary prism disposed in a light path of the pattern light, and the first exposure time control is performed by the rotary prism The exposure time may be shortened to be equal to or higher than a lower limit time defined by the rotational speed.

また、実施形態の第7態様では、第3態様〜第6態様のいずれかにおいて、前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第2光量制御の後に、前記露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第2露光時間制御を行ってもよい。   In the seventh aspect of the embodiment, in any one of the third to sixth aspects, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is configured to generate a pattern image by increasing the light amount. After the second light amount control to increase the luminance, a second exposure time control to increase the luminance of the pattern image by extending the exposure time may be performed.

また、実施形態の第8態様では、第7態様において、前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記第2露光時間制御の後に、前記検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第2検出感度制御を行ってもよい。   In the eighth aspect of the embodiment, in the seventh aspect, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is a pattern by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control. A second detection sensitivity control may be performed to increase the brightness of the image.

また、実施形態の第9態様では、第1態様〜第8態様のいずれかにおいて、前記パターン光は、リング状の光であってよい。   Moreover, in a ninth aspect of the embodiment, in any of the first aspect to the eighth aspect, the pattern light may be ring-shaped light.

実施形態の第10態様は、光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光することにより前記被検眼の屈折力を測定する眼科装置の制御方法であって、前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する第1測定条件決定ステップと、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する第2測定条件決定ステップと、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、を含む眼科装置の制御方法である。   The tenth aspect of the embodiment projects pattern light based on light from a light source onto an eye to be examined, and uses an imaging element via a focusing lens whose focal position can change return light from the eye to be examined of the pattern light. It is a control method of an ophthalmologic apparatus which measures the refractive power of the said to-be-tested eye by light-receiving, Comprising: The light quantity of the said light source, the exposure time of the said image sensor based on the 1st pattern image obtained by the said image sensor A first measurement condition determining step of determining a first measurement condition including at least one of detection sensitivity of the image pickup device and control content for the focusing lens; and an image pickup device obtained under the first measurement condition A second measurement condition determining step of determining a second measurement condition including at least one of the light intensity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content based on a second pattern image; A control method of an ophthalmologic apparatus, comprising: a fog control step of fogging the eye under the condition; and a measuring step of measuring the refractive power in the fog control step in the fog control step. .

また、実施形態の第11態様では、第10態様において、前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、パターン像の輝度が高いか否かを判定する第1判定ステップと、前記第1判定ステップにおいて前記輝度が高いと判定されたとき、前記検出感度が第1閾値以上であるか否かを判定する第2判定ステップと、前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値以上であると判定されたとき、前記検出感度を下げる第1検出感度制御ステップと、前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値未満であると判定されたとき、前記露光時間が第2閾値以上であるか否かを判定する第3判定ステップと、前記第3判定ステップにおいて前記露光時間が前記第2閾値以上であると判定されたとき、前記露光時間を短くする第1露光時間制御ステップと、前記第3判定ステップにおいて前記検出感度が前記第2閾値未満であると判定されたとき、前記光量が第3閾値以上であるか否かを判定する第4判定ステップと、前記第4判定ステップにおいて前記光量が前記第3閾値以上であると判定されたとき、前記光量を下げる第1光量制御ステップと、を含んでもよい。   In an eleventh aspect of the embodiment, in the tenth aspect, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is a first determination determining whether or not the luminance of the pattern image is high. A second determination step of determining whether the detection sensitivity is higher than a first threshold when it is determined that the luminance is high in the first determination step; and the detection sensitivity in the second determination step Is determined to be equal to or greater than the first threshold, a first detection sensitivity control step for reducing the detection sensitivity, and when it is determined that the detection sensitivity is less than the first threshold in the second determination step, A third determination step of determining whether the exposure time is equal to or greater than a second threshold, and determining that the exposure time is equal to or greater than the second threshold in the third determination step The light intensity is equal to or greater than the third threshold when it is determined that the detection sensitivity is less than the second threshold in the first exposure time control step of shortening the exposure time and the third determination step. It may also include a fourth determination step of determining whether or not the light amount is lower than the third threshold value in the fourth determination step, and a first light amount control step of decreasing the light amount.

また、実施形態の第12態様では、第11態様において、前記眼科装置は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、前記第2閾値は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上であってよい。   In a twelfth aspect of the embodiment, in the eleventh aspect, the ophthalmologic apparatus includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light, and the second threshold is defined by a rotational speed of the rotary prism. It may be more than the lower limit time.

また、実施形態の第13態様では、第10態様〜第12態様のいずれかにおいて、前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、パターン像の輝度が低いか否かを判定する第5判定ステップと、前記第5判定ステップにおいて前記輝度が低いと判定されたとき、前記光量が第4閾値以下であるか否かを判定する第6判定ステップと、前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値以下であると判定されたとき、前記光量を上げる第2光量制御ステップと、前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値を超えると判定されたとき、前記露光時間が第5閾値以下であるか否かを判定する第7判定ステップと、前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値以下であると判定されたとき、前記露光時間を長くする第2露光時間制御ステップと、前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値を超えると判定されたとき、前記検出感度が第6閾値以下であるか否かを判定する第8判定ステップと、前記第8判定ステップにおいて前記検出感度が前記第6閾値以下であると判定されたとき、前記検出感度を上げる第2検出感度制御ステップと、を含んでもよい。   Moreover, in a thirteenth aspect of the embodiment, in any of the tenth aspect to the twelfth aspect, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step has low luminance of the pattern image or not A sixth determination step of determining whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold when it is determined that the luminance is low in the fifth determination step; When it is determined in the determination step that the light amount is equal to or less than the fourth threshold, when it is determined that the light amount exceeds the fourth threshold in a second light amount control step that raises the light amount and in the sixth determination step A seventh determination step of determining whether the exposure time is less than or equal to a fifth threshold, and determining that the exposure time is less than or equal to the fifth threshold in the seventh determination step When the exposure time is determined to exceed the fifth threshold in the second exposure time control step of lengthening the exposure time and the seventh determination step, the detection sensitivity is equal to or less than the sixth threshold And a second detection sensitivity control step of increasing the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is less than or equal to the sixth threshold value. May be.

また、実施形態の第14態様では、前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、前記眼科装置は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、を含み、前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射してもよい。   Further, in a fourteenth aspect of the embodiment, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate to the fundus of the eye to be examined, and the ophthalmologic apparatus is to be substantially optically conjugate to the pupil of the eye to be examined A diaphragm formed on the light source to transmit light from the light source, and a deflecting member for deflecting the light from the light source and guiding the light to the light transmitting portion; Light may be projected on the eye as the pattern light.

実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the processing system of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の処理系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the processing system of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of the operation example of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of the operation example of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of the operation example of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of the operation example of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る眼科装置の動作例のフローを示す概略図である。It is the schematic which shows the flow of the operation example of the ophthalmologic apparatus which concerns on embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on the modification of embodiment. 実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す概略図である。It is the schematic which shows the structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on the modification of embodiment.

この発明に係る眼科装置の実施形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書において引用された文献の記載内容や任意の公知技術を、以下の実施形態に援用することが可能である。   An example of an embodiment of an ophthalmologic apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, it is possible to use the description content of the literature referred in this specification, and arbitrary well-known techniques in the following embodiment.

実施形態に係る眼科装置は、他覚測定と自覚検査とを実行可能である。他覚測定は、被検者からの応答を参照することなく、主に物理的な手法を用いて被検眼に関する情報を取得する測定手法である。   The ophthalmologic apparatus according to the embodiment can perform objective measurement and subjective examination. The objective measurement is a measurement method of acquiring information on the subject's eye mainly using a physical method without referring to the response from the subject.

他覚測定には、被検眼の特性を取得するための測定と、被検眼の画像を取得するための撮影とが含まれる。他覚測定には、他覚屈折測定、角膜形状測定、眼圧測定、眼底撮影、光干渉計測等がある。一方、自覚検査は、被検者からの応答を利用して情報を取得する測定手法である。自覚検査には、遠用検査、近用検査、コントラスト検査、グレア検査等の自覚屈折測定や、視野検査などがある。   The objective measurement includes the measurement for acquiring the characteristics of the eye to be examined and the imaging for acquiring the image of the eye to be inspected. Objective measurement includes objective refraction measurement, corneal shape measurement, intraocular pressure measurement, fundus photography, optical interference measurement and the like. On the other hand, a subjective test is a measurement method of acquiring information using a response from a subject. Subjective examinations include subjective refraction measurement such as distance vision examination, near vision examination, contrast examination, glare examination, and visual field examination.

実施形態に係る眼科装置は、少なくとも他覚屈折力の測定が可能であり、これに加えて任意の自覚検査及びその他の任意の他覚測定が実行可能である。   The ophthalmologic apparatus according to the embodiment can measure at least the objective refractive power, and can additionally perform any subjective test and any other objective measurement.

以下、眼底共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の眼底と光学的に略共役な位置であり、被検眼の眼底と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。同様に、瞳孔共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置であり、被検眼の瞳孔と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。   Hereinafter, the fundus conjugate position is a position optically substantially conjugate with the fundus of the subject's eye in a state in which alignment is completed, and means a position optically conjugate with the fundus of the subject's eye or its vicinity. Similarly, the pupil conjugate position is a position optically substantially conjugate with the pupil of the subject eye in a state in which alignment is completed, and means a position optically conjugate with the pupil of the subject eye or the vicinity thereof. .

<光学系の構成>
図1に、実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。眼科装置1000は、被検眼Eの検査を行うための光学系として、Zアライメント系1、XYアライメント系2、ケラト測定系3、視標投影系4、前眼部観察系5、レフ測定投射系6、及びレフ測定受光系7を含む。
<Configuration of optical system>
The structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on FIG. 1 at embodiment is shown. The ophthalmologic apparatus 1000 is an optical system for inspecting the eye E to be examined, and includes a Z alignment system 1, an XY alignment system 2, a kerato measurement system 3, a target projection system 4, an anterior segment observation system 5, a reflex measurement projection system 6 and a reflex measurement light receiving system 7.

(前眼部観察系5)
前眼部観察系5は、被検眼Eの前眼部を動画撮影する。前眼部観察系5を経由する光学系において、撮像素子59の撮像面は瞳孔共役位置Qに配置されている。前眼部照明光源51は、被検眼Eの前眼部に照明光(例えば、赤外光)を照射する。被検眼Eの前眼部により反射された光は、対物レンズ52を通過し、ダイクロイックミラー53を透過し、ハーフミラー54を透過し、リレーレンズ55及び56を通過し、ダイクロイックミラー57を透過する。ダイクロイックミラー57を透過した光は、結像レンズ58により撮像素子59(エリアセンサ)の撮像面に結像される。撮像素子59は、所定のレートで撮像及び信号出力を行う。撮像素子59の出力(映像信号)は、後述の処理部9に入力される。処理部9は、この映像信号に基づく前眼部像を後述の表示部の表示画面に表示させる。前眼部像は、例えば赤外動画像である。
(Anterior eye observation system 5)
The anterior eye observation system 5 captures a video of the anterior eye of the eye E to be examined. In the optical system passing through the anterior eye observation system 5, the imaging surface of the imaging element 59 is disposed at the pupil conjugate position Q. The anterior eye illumination light source 51 illuminates the anterior eye of the eye E with illumination light (for example, infrared light). The light reflected by the anterior segment of the eye E passes through the objective lens 52, passes through the dichroic mirror 53, passes through the half mirror 54, passes through the relay lenses 55 and 56, and passes through the dichroic mirror 57. . The light transmitted through the dichroic mirror 57 is imaged by the imaging lens 58 on the imaging surface of the imaging element 59 (area sensor). The imaging device 59 performs imaging and signal output at a predetermined rate. The output (video signal) of the imaging element 59 is input to the processing unit 9 described later. The processing unit 9 displays an anterior segment image based on the video signal on a display screen of a display unit described later. The anterior segment image is, for example, an infrared moving image.

(Zアライメント系1)
Zアライメント系1は、前眼部観察系5の光軸方向(前後方向、Z方向)におけるアライメントを行うための光(赤外光)を被検眼Eに投射する。Zアライメント光源11から出力された光は、被検眼Eの角膜に投射され、角膜により反射され、結像レンズ12によりラインセンサ13のセンサ面に結像される。角膜頂点の位置が前眼部観察系5の光軸方向に変化すると、ラインセンサ13のセンサ面における光の投射位置が変化する。処理部9は、ラインセンサ13のセンサ面における光の投射位置に基づいて被検眼Eの角膜頂点の位置を求め、これに基づき光学系を移動させる機構を制御してZアライメントを実行する。
(Z alignment system 1)
The Z alignment system 1 projects the light (infrared light) for performing alignment in the optical axis direction (front-rear direction, Z direction) of the anterior eye observation system 5 onto the eye E. The light output from the Z alignment light source 11 is projected onto the cornea of the eye E to be examined, reflected by the cornea, and imaged on the sensor surface of the line sensor 13 by the imaging lens 12. When the position of the corneal apex changes in the direction of the optical axis of the anterior segment observation system 5, the projection position of light on the sensor surface of the line sensor 13 changes. The processing unit 9 obtains the position of the corneal apex of the eye E based on the projection position of light on the sensor surface of the line sensor 13, and controls the mechanism for moving the optical system based on this to execute the Z alignment.

(XYアライメント系2)
XYアライメント系2は、前眼部観察系5の光軸に直交する方向(左右方向(X方向)、上下方向(Y方向))のアライメントを行うための光(赤外光)を被検眼Eに照射する。XYアライメント系2は、ハーフミラー54により前眼部観察系5から分岐された光路に設けられたXYアライメント光源21を含む。XYアライメント光源21から出力された光は、ハーフミラー54により反射され、前眼部観察系5を通じて被検眼Eに投射される。被検眼Eの角膜による反射光は、前眼部観察系5を通じて撮像素子59に導かれる。
(XY alignment system 2)
The XY alignment system 2 uses light (infrared light) for alignment in a direction (horizontal direction (X direction), vertical direction (Y direction)) orthogonal to the optical axis of the anterior eye observation system 5 as the eye E Irradiate. The XY alignment system 2 includes an XY alignment light source 21 provided in an optical path branched from the anterior segment observation system 5 by a half mirror 54. The light output from the XY alignment light source 21 is reflected by the half mirror 54 and projected onto the eye E through the anterior eye observation system 5. The reflected light from the cornea of the eye to be examined E is guided to the imaging element 59 through the anterior eye observation system 5.

この反射光に基づく像(輝点像)は前眼部像に含まれる。処理部9は、輝点像を含む前眼部像とアライメントマークとを表示部の表示画面に表示させる。手動でXYアライメントを行う場合、ユーザは、アライメントマーク内に輝点像を誘導するように光学系の移動操作を行う。自動でアライメントを行う場合、処理部9は、アライメントマークに対する輝点像の変位がキャンセルされるように、光学系を移動させる機構を制御する。   An image based on the reflected light (bright spot image) is included in the anterior segment image. The processing unit 9 displays the anterior segment image including the bright spot image and the alignment mark on the display screen of the display unit. When performing XY alignment manually, the user performs an operation of moving the optical system so as to introduce a bright spot image into the alignment mark. When the alignment is automatically performed, the processing unit 9 controls a mechanism that moves the optical system so that the displacement of the bright spot image with respect to the alignment mark is cancelled.

(ケラト測定系3)
ケラト測定系3は、被検眼Eの角膜の形状を測定するためのリング状光束(赤外光)を角膜に投射する。ケラト板31は、対物レンズ52と被検眼Eとの間に配置されている。ケラト板31の背面側(対物レンズ52側)にはケラトリング光源(図示せず)が設けられている。ケラトリング光源からの光でケラト板31を照明することにより、被検眼Eの角膜にリング状光束が投射される。被検眼Eの角膜からの反射光(ケラトリング像)は撮像素子59により前眼部像とともに検出される。処理部9は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜の形状を表す角膜形状パラメータを算出する。
(Kerat measurement system 3)
The kerat measurement system 3 projects a ring-shaped luminous flux (infrared light) for measuring the shape of the cornea of the eye E to be examined on the cornea. The kerato plate 31 is disposed between the objective lens 52 and the eye E to be examined. On the back side (the objective lens 52 side) of the kerato plate 31, a kerato ring light source (not shown) is provided. By illuminating the kerato plate 31 with the light from the keratoring light source, a ring-like light beam is projected on the cornea of the eye to be examined E. The reflected light (keratling image) from the cornea of the eye to be examined E is detected by the imaging device 59 together with the anterior segment image. The processing unit 9 calculates a corneal shape parameter representing the shape of the cornea by performing a known calculation based on the keratling image.

(視標投影系4)
視標投影系4は、固視標や自覚検査用視標等の各種視標を被検眼Eに呈示する。光源41から出力された光(可視光)は、コリメートレンズ42により平行光束とされ、視標チャート43に照射される。視標チャート43は、例えば透過型の液晶パネルを含み、視標を表すパターンを表示する。視標チャート43を透過した光は、リレーレンズ44及び45を通過し、反射ミラー46により反射され、ダイクロイックミラー68を透過し、ダイクロイックミラー53により反射される。ダイクロイックミラー53により反射された光は、対物レンズ52を通過して眼底Efに投射される。光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43は、一体となって光軸方向に移動可能である。
(Target projection system 4)
The target projection system 4 presents various targets such as a fixation target and a target for subjective examination to the eye to be examined E. The light (visible light) output from the light source 41 is collimated by the collimating lens 42 and is applied to the target chart 43. The target chart 43 includes, for example, a transmissive liquid crystal panel, and displays a pattern representing the target. The light transmitted through the target chart 43 passes through the relay lenses 44 and 45, is reflected by the reflection mirror 46, passes through the dichroic mirror 68, and is reflected by the dichroic mirror 53. The light reflected by the dichroic mirror 53 passes through the objective lens 52 and is projected onto the fundus oculi Ef. The light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 43 are integrally movable in the optical axis direction.

自覚検査を行う場合、処理部9は、他覚測定の結果に基づき光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を光軸方向に移動させ、視標チャート43を制御する。処理部9は、検者又は処理部9により選択された視標を視標チャート43に表示させる。それにより、当該視標が被検者に呈示される。被検者は視標に対する応答を行う。応答内容の入力を受けて、処理部9は、更なる制御や、自覚検査値の算出を行う。例えば、視力測定において、処理部9は、ランドルト環等に対する応答に基づいて、次の視標を選択して呈示し、これを繰り返し行うことで視力値を決定する。   When the subjective inspection is performed, the processing unit 9 controls the target chart 43 by moving the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 43 in the optical axis direction based on the result of the objective measurement. The processing unit 9 causes the visual target chart 43 to display the visual target selected by the examiner or the processing unit 9. Thereby, the target is presented to the subject. The subject responds to the target. In response to the input of the response content, the processing unit 9 performs further control and calculation of the subjective test value. For example, in visual acuity measurement, the processing unit 9 selects and presents the next visual target based on the response to the Landolt's ring or the like, and repeatedly performs this to determine the visual acuity value.

(レフ測定投射系6、レフ測定受光系7)
レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7は他覚屈折測定(レフ測定)に用いられる。レフ測定投射系6は、他覚測定用のリング状光束(赤外光)を眼底Efに投射する。レフ測定受光系7は、このリング状光束の被検眼Eからの戻り光を受光する。
(Reflex measurement projection system 6, reflex measurement light reception system 7)
The reflex measurement projection system 6 and the reflex measurement light receiving system 7 are used for objective refraction measurement (reflex measurement). The reflex measurement projection system 6 projects a ring-shaped luminous flux (infrared light) for objective measurement on the fundus oculi Ef. The reflex measurement light receiving system 7 receives the return light of the ring-shaped luminous flux from the eye E to be examined.

レフ測定光源61は、発光径が所定のサイズ以下の高輝度光源であるSLD(Superluminescent Diode)光源であってよい。レフ測定光源61は、光軸方向に移動可能であり、眼底共役位置Pに配置される。リング絞り65(具体的には、透光部)は、瞳孔共役位置Qに配置されている。合焦レンズ74は、光軸方向に移動可能である。合焦レンズ74は、後述の主制御部111からの制御を受け、焦点位置を変更可能な公知の焦点可変レンズであってもよい。レフ測定受光系7を経由する光学系において、撮像素子59の撮像面は眼底共役位置Pに配置されている。   The reflex measurement light source 61 may be a super luminescent diode (SLD) light source which is a high luminance light source having a light emission diameter equal to or smaller than a predetermined size. The reflex measurement light source 61 is movable in the optical axis direction and disposed at the fundus conjugate position P. The ring stop 65 (specifically, the light transmitting portion) is disposed at the pupil conjugate position Q. The focusing lens 74 is movable in the optical axis direction. The focusing lens 74 may be a known variable focus lens capable of changing the focus position under the control of the main control unit 111 described later. In the optical system passing through the reflex measurement light receiving system 7, the imaging surface of the imaging element 59 is disposed at the fundus conjugate position P.

レフ測定光源61から出力された光は、リレーレンズ62を通過し、円錐プリズム63の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム63の底面から出射する。円錐プリズム63の底面から出射した光は、フィールドレンズ64を通過し、リング絞り65にリング状に形成された透光部を通過する。リング絞り65の透光部を通過した光(リング状光束)は、孔開きプリズム66の反射面により反射され、ロータリープリズム67を通過し、ダイクロイックミラー68により反射される。ダイクロイックミラー68により反射された光は、ダイクロイックミラー53により反射され、対物レンズ52を通過し、被検眼Eに投射される。ロータリープリズム67は、眼底Efの血管や疾患部位に対するリング状光束の光量分布を平均化や光源に起因するスペックルノイズの低減のために用いられる。   The light output from the reflex measurement light source 61 passes through the relay lens 62 and enters the conical surface of the conical prism 63. The light incident on the conical surface is deflected and emitted from the bottom of the conical prism 63. The light emitted from the bottom of the conical prism 63 passes through the field lens 64 and passes through the light transmitting portion formed in the ring shape of the ring diaphragm 65. The light (ring-shaped light flux) that has passed through the light transmitting portion of the ring diaphragm 65 is reflected by the reflection surface of the apertured prism 66, passes through the rotary prism 67, and is reflected by the dichroic mirror 68. The light reflected by the dichroic mirror 68 is reflected by the dichroic mirror 53, passes through the objective lens 52, and is projected onto the eye E. The rotary prism 67 is used for averaging the light quantity distribution of the ring-like light flux with respect to the blood vessel and the diseased part of the fundus oculi Ef and reducing speckle noise caused by the light source.

円錐プリズム63は、瞳孔共役位置Qに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。   It is desirable that the conical prism 63 be disposed as close as possible to the pupil conjugate position Q.

図2に、フィールドレンズ64の断面図を模式的に示す。例えば、図2に示すように、フィールドレンズ64の被検眼Eの側のレンズ面にリング絞り65が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、フィールドレンズ64のレンズ面には、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。   FIG. 2 schematically shows a sectional view of the field lens 64. As shown in FIG. For example, as shown in FIG. 2, a ring diaphragm 65 may be attached to the lens surface of the field lens 64 on the eye E side. In this case, for example, a light shielding film is vapor-deposited on the lens surface of the field lens 64 so as to form a ring-shaped light transmitting portion.

また、レフ測定投射系6は、フィールドレンズ64が省略された構成を有していてもよい。   Further, the reflex measurement projection system 6 may have a configuration in which the field lens 64 is omitted.

図3に、円錐プリズム63の断面図を模式的に示す。例えば、図3に示すように、リレーレンズ62を通過した光が円錐面63aに入射する円錐プリズム63の底面63bにリング絞り65が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、円錐プリズム63の底面63bには、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。また、リング絞りが円錐プリズム63の円錐面63aの側にあってもよい。   A cross-sectional view of the conical prism 63 is schematically shown in FIG. For example, as shown in FIG. 3, the ring diaphragm 65 may be attached to the bottom surface 63 b of the conical prism 63 in which the light passing through the relay lens 62 is incident on the conical surface 63 a. In this case, for example, a light shielding film is vapor-deposited on the bottom surface 63b of the conical prism 63 so as to form a ring-shaped light transmitting portion. Also, the ring stop may be on the side of the conical surface 63 a of the conical prism 63.

リング絞り65は、所定の測定パターンに対応した形状を有する透光部が形成された絞りであってよい。この絞りには、レフ測定投射系6の光軸に対して偏心した位置に透光部が形成されていてよい。また、絞りには、2以上の透光部が形成されていてもよい。   The ring diaphragm 65 may be a diaphragm in which a light transmitting portion having a shape corresponding to a predetermined measurement pattern is formed. A light transmitting portion may be formed in this stop at a position eccentric to the optical axis of the reflex measurement projection system 6. Moreover, two or more light transmission parts may be formed in the diaphragm.

眼底Efに投射されたリング状光束の戻り光は、対物レンズ52を通過し、ダイクロイックミラー53及びダイクロイックミラー68により反射される。ダイクロイックミラー68により反射された戻り光は、ロータリープリズム67を通過し、孔開きプリズム66の孔部を通過し、リレーレンズ71を通過し、反射ミラー72により反射され、リレーレンズ73及び合焦レンズ74を通過する。合焦レンズ74を通過した光は、反射ミラー75により反射され、ダイクロイックミラー57により反射され、結像レンズ58により撮像素子59の撮像面に結像される。処理部9は、撮像素子59からの出力を基に公知の演算を行うことで被検眼Eの屈折力値を算出する。例えば、屈折力値は、球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を含む。   The return light of the ring-like light beam projected onto the fundus oculi Ef passes through the objective lens 52 and is reflected by the dichroic mirror 53 and the dichroic mirror 68. The return light reflected by the dichroic mirror 68 passes through the rotary prism 67, passes through the hole of the apertured prism 66, passes through the relay lens 71, is reflected by the reflection mirror 72, and is relay lens 73 and focusing lens Pass 74 The light passing through the focusing lens 74 is reflected by the reflection mirror 75, is reflected by the dichroic mirror 57, and is imaged on the imaging surface of the imaging element 59 by the imaging lens 58. The processing unit 9 calculates the refractive power value of the eye E by performing a known calculation based on the output from the imaging device 59. For example, refractive power values include spherical power, astigmatic power and astigmatic axis angle.

孔開きプリズム66とリレーレンズ71との間に、瞳孔上の光束径を制限する絞りが配置されている。この絞りの透光部は、瞳孔共役位置に配置される。   Between the apertured prism 66 and the relay lens 71, a stop that limits the diameter of the light beam on the pupil is disposed. The light transmitting portion of the diaphragm is disposed at the pupil conjugate position.

処理部9は、算出された屈折力値に基づいて、眼底Efとレフ測定光源61と撮像素子59の撮像面とが光学的に共役になるように、レフ測定光源61と合焦レンズ74とをそれぞれ光軸方向に移動させる。更に、処理部9は、レフ測定光源61及び合焦レンズ74の移動に連動して視標ユニットをその光軸方向に移動させる。光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を含む視標ユニットと、レフ測定光源61と、合焦レンズ74とは、連動してそれぞれの光軸方向に移動可能であってよい。   The processing unit 9 sets the reflex measurement light source 61 and the focusing lens 74 so that the fundus oculi Ef, the reflex measurement light source 61 and the imaging surface of the imaging device 59 become optically conjugate based on the calculated refractive power value. Are respectively moved in the optical axis direction. Further, the processing unit 9 moves the index unit in the optical axis direction in conjunction with the movement of the reflex measurement light source 61 and the focusing lens 74. The target unit including the light source 41, the collimator lens 42 and the target chart 43, the reflex measurement light source 61, and the focusing lens 74 may be movable in the respective optical axis directions in conjunction with each other.

<処理系の構成>
眼科装置1000の処理系の構成について説明する。眼科装置1000の処理系の機能的構成の例を図4及び図5に示す。図4は、眼科装置1000の処理系の機能ブロック図の一例を表したものである。図5は、図4の演算処理部120の機能ブロック図の一例を表したものである。
<Configuration of processing system>
The configuration of the processing system of the ophthalmologic apparatus 1000 will be described. An example of the functional configuration of the processing system of the ophthalmologic apparatus 1000 is shown in FIGS. 4 and 5. FIG. 4 illustrates an example of a functional block diagram of a processing system of the ophthalmologic apparatus 1000. FIG. 5 shows an example of a functional block diagram of the arithmetic processing unit 120 of FIG.

処理部9は、眼科装置1000の各部を制御する。また、処理部9は、各種演算処理を実行可能である。処理部9は、プロセッサを含む。プロセッサの機能は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、プログラマブル論理デバイス(例えば、SPLD(Simple Programmable Logic Device)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、FPGA(Field Programmable Gate Array))等の回路により実現される。処理部9は、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。   The processing unit 9 controls each unit of the ophthalmologic apparatus 1000. In addition, the processing unit 9 can execute various arithmetic processing. The processing unit 9 includes a processor. The functions of the processor include, for example, a central processing unit (CPU), a graphics processing unit (GPU), an application specific integrated circuit (ASIC), a programmable logic device (for example, a simple programmable logic device (SPLD), a complex programmable logic device (CPLD)). , And a circuit such as an FPGA (Field Programmable Gate Array). The processing unit 9 realizes the function according to the embodiment by, for example, reading and executing a program stored in a storage circuit or a storage device.

処理部9は、制御部110と、演算処理部120とを含む。また、眼科装置1000は、表示部170と、操作部180と、通信部190とを含む。   The processing unit 9 includes a control unit 110 and an arithmetic processing unit 120. The ophthalmologic apparatus 1000 also includes a display unit 170, an operation unit 180, and a communication unit 190.

(制御部110)
制御部110は、眼科装置1000の各部を制御する。制御部110は、主制御部111と、記憶部112とを含む。
(Control unit 110)
The control unit 110 controls each unit of the ophthalmologic apparatus 1000. Control unit 110 includes a main control unit 111 and a storage unit 112.

主制御部111は、眼科装置1000の各種制御を行う。主制御部111は、Zアライメント系1のZアライメント光源11やラインセンサ13、XYアライメント系2のXYアライメント光源21、ケラト測定系3のケラトリング光源を制御する。それにより、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21やケラトリング光源から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ラインセンサ13により検出された信号が取り込まれ、取り込まれた信号に基づくアライメント制御等が行われる。   The main control unit 111 performs various controls of the ophthalmologic apparatus 1000. The main control unit 111 controls the Z alignment light source 11 or the line sensor 13 of the Z alignment system 1, the XY alignment light source 21 of the XY alignment system 2, and the kerat light source of the kerat measurement system 3. As a result, the light amount of the light output from the Z alignment light source 11, the XY alignment light source 21, or the kerat ring light source is changed, or the lighting or non-lighting is switched. Further, a signal detected by the line sensor 13 is captured, and alignment control or the like based on the captured signal is performed.

主制御部111は、視標投影系4の光源41、及び視標チャート43を制御する。それにより、光源41から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、視標チャート43における視標や固視標の表示のオン・オフや、視標や固視標が切り替えられる。また、主制御部111は、光源41、コリメートレンズ42、及び視標チャート43を含む視標ユニットを光軸方向に移動する移動機構(図示せず)を制御することができる。   The main control unit 111 controls the light source 41 of the target projection system 4 and the target chart 43. Thereby, the light quantity of the light output from the light source 41 is changed, and lighting and non-lighting are switched. In addition, the on / off of the display of the visual targets and the fixation targets in the visual target chart 43, and the visual targets and the fixation targets are switched. In addition, the main control unit 111 can control a moving mechanism (not shown) that moves the target unit including the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 43 in the optical axis direction.

主制御部111は、前眼部観察系5の前眼部照明光源51や撮像素子59を制御する。それにより、前眼部照明光源51から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、撮像素子59の露光時間が変更されたり、撮像素子59に含まれる増幅器のゲインを制御することにより検出感度が変更されたりする。また、撮像素子59により取得された信号が取り込まれ、演算処理部120により画像の形成等が行われたりする。   The main control unit 111 controls the anterior ocular segment illumination light source 51 and the imaging device 59 of the anterior ocular segment observation system 5. Thereby, the light quantity of the light output from the anterior ocular segment illumination light source 51 is changed, and lighting and non-lighting are switched. Further, the exposure time of the imaging device 59 is changed, or the detection sensitivity is changed by controlling the gain of the amplifier included in the imaging device 59. In addition, a signal acquired by the imaging element 59 is taken in, and the formation of an image and the like are performed by the arithmetic processing unit 120.

主制御部111は、レフ測定投射系6のレフ測定光源61やロータリープリズム67、レフ測定受光系7の合焦レンズ74を制御する。それにより、レフ測定光源61から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ロータリープリズム67の回転速度が変更されたり、回転動作のオン・オフが切り替えられたりする。また、合焦レンズ74の光軸方向の位置が変更される。また、主制御部111は、レフ測定光源61や合焦レンズ74を光軸方向に移動する移動機構(図示せず)を制御することができる。合焦レンズ74が可変焦点レンズである場合、主制御部111は、合焦レンズ74を制御することにより合焦レンズ74の焦点位置を変更することができる。   The main control unit 111 controls the reflex measurement light source 61 and the rotary prism 67 of the reflex measurement projection system 6 and the focusing lens 74 of the reflex measurement light receiving system 7. As a result, the light amount of the light output from the reflex measurement light source 61 is changed, and lighting and non-lighting are switched. In addition, the rotational speed of the rotary prism 67 is changed, and the on / off of the rotational operation is switched. In addition, the position of the focusing lens 74 in the optical axis direction is changed. Further, the main control unit 111 can control a moving mechanism (not shown) that moves the reflex measurement light source 61 and the focusing lens 74 in the optical axis direction. When the focusing lens 74 is a variable focus lens, the main control unit 111 can change the focus position of the focusing lens 74 by controlling the focusing lens 74.

この実施形態では、主制御部111は、光源41、コリメートレンズ42、及び視標チャート43を含む視標ユニットと、レフ測定光源61と、合焦レンズ74とを保持する保持部材を含む移動機構を制御することが可能である。移動機構には、保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。主制御部111は、このような移動機構を制御することにより、それぞれを光軸方向に移動させることができる。   In this embodiment, the main control unit 111 includes a moving mechanism including a holding unit that holds a target unit including the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 43, the reflex measurement light source 61, and the focusing lens 74. It is possible to control The movement mechanism is provided with an actuator that generates a driving force for moving the holding member, and a transmission mechanism that transmits the driving force. The actuator is constituted by, for example, a pulse motor. The transmission mechanism is configured by, for example, a combination of gears, a rack and pinion, and the like. The main control unit 111 can move each in the optical axis direction by controlling such a moving mechanism.

主制御部111は、視標投影系4、前眼部観察系5、レフ測定投射系6、レフ測定受光系、及び演算処理部120を制御することにより、仮測定を2回以上実行させ、最後に実行された仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行させることが可能である。仮測定を繰り返すたびに測定条件が収束するように、各回の仮測定により、同一種別の測定条件が決定されてもよいし、異なる種別の測定条件が決定されてもよい。この実施形態では、2回の仮測定後に本測定が実行される。例えば、各回の仮測定では、得られたリング像に基づいて、レフ測定光源61から出力される光の光量(レフ測定光源61の光量)、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度、及び合焦レンズ74に対する制御内容の少なくとも1つが決定されてよい。   The main control unit 111 controls the target projection system 4, the anterior eye observation system 5, the reflex measurement projection system 6, the reflex measurement light receiving system, and the arithmetic processing unit 120 to execute temporary measurement twice or more, It is possible to carry out the main measurement under the measurement conditions determined by the last performed temporary measurement. The measurement conditions of the same type may be determined by each temporary measurement so that the measurement conditions converge each time the temporary measurement is repeated, or different types of measurement conditions may be determined. In this embodiment, the main measurement is performed after two temporary measurements. For example, in each temporary measurement, the light amount of light output from the reflex measurement light source 61 (the light amount of the reflex measurement light source 61), the exposure time of the imaging device 59, and the detection sensitivity of the imaging device 59 based on the obtained ring image. And at least one of the control contents for the focusing lens 74 may be determined.

また、主制御部111は、記憶部112にデータを書き込む処理や、記憶部112からデータを読み出す処理を行う。   Further, the main control unit 111 performs a process of writing data in the storage unit 112 and a process of reading data from the storage unit 112.

記憶部112は、各種のデータを記憶する。記憶部112に記憶されるデータとしては、ケラト測定系3により得られた測定情報、レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7により得られた測定情報、撮像素子59により取得された画像の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者IDや氏名などの被検者に関する情報や、左眼/右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。ケラト測定系3により得られた測定情報は、眼科装置1000にて被検眼Eのケラト測定が行われたときに記憶部112に保存される。レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7により得られた測定情報は、眼科装置1000にて被検眼Eのレフ測定が行われたときに記憶部112に保存される。記憶部112は、角膜形状パラメータの算出処理や眼屈折力値の算出処理の作業メモリとして用いられてもよい。また、記憶部112には、眼科装置1000を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。   The storage unit 112 stores various data. As data stored in the storage unit 112, measurement information obtained by the kerat measurement system 3, measurement information obtained by the reflex measurement projection system 6 and the reflex measurement light reception system 7, an image of an image acquired by the imaging device 59 There are data, eye information etc. The subject's eye information includes information on the subject such as patient ID and name, and information on the subject's eye such as identification information of the left eye / right eye. The measurement information obtained by the kerat measurement system 3 is stored in the storage unit 112 when the kerato measurement of the eye to be examined E is performed by the ophthalmologic apparatus 1000. The measurement information obtained by the reflex measurement projection system 6 and the reflex measurement light receiving system 7 is stored in the storage unit 112 when the ophthalmologic apparatus 1000 performs reflex measurement of the eye E. The storage unit 112 may be used as a working memory for calculation processing of a corneal shape parameter and calculation processing of an eye refractive power value. The storage unit 112 also stores various programs and data for operating the ophthalmologic apparatus 1000.

(演算処理部120)
演算処理部120は、例えば、角膜形状パラメータや眼屈折力値など、眼屈折力を表すパラメータを求めるための各種の演算を実行する。演算処理部120は、解析部121を含む。
(Operation processing unit 120)
The arithmetic processing unit 120 executes various arithmetic operations for obtaining parameters representing eye refractive power, such as, for example, a corneal shape parameter and an eye refractive power value. The arithmetic processing unit 120 includes an analysis unit 121.

解析部121は、レフ測定投射系6により眼底Efに投射されたリング状光束(リング状の測定パターン)の戻り光を撮像素子59が受光することにより得られたリング像(パターン像)を解析する。例えば、解析部121は、得られたリング像が描出された画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部121は、特定されたリング像の輝度(リング輝度)が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することが可能である。解析部121は、特定されたリング像のS/N比が所定の数値範囲内にあるか否かを判定してもよい。   The analysis unit 121 analyzes a ring image (pattern image) obtained by the imaging device 59 receiving the return light of the ring-shaped light beam (ring-shaped measurement pattern) projected onto the fundus oculi Ef by the reflex measurement projection system 6 Do. For example, the analysis unit 121 obtains the barycentric position of the ring image from the brightness distribution in the image in which the obtained ring image is drawn, and obtains the brightness distribution along a plurality of scanning directions extending radially from the barycentric position. Identify the ring image from the distribution. The analysis unit 121 can determine whether the luminance (ring luminance) of the specified ring image is within a predetermined luminance range. The analysis unit 121 may determine whether the S / N ratio of the identified ring image is within a predetermined numerical range.

解析部121は、特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円の長径及び短径を公知の式に代入することによって球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。または、解析部121は、特定されたリング像(近似楕円)と、合焦レンズ74に対する制御内容(例えば、移動量)とに基づいて球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。或いは、解析部121は、基準パターンに対するリング像の変形及び変位に基づいて眼屈折力のパラメータを求めることができる。   The analysis unit 121 can obtain the spherical ellipse, the astigmatic power, and the astigmatic axis angle by obtaining the approximate ellipse of the specified ring image and substituting the major axis and the minor axis of the approximate ellipse into a known equation. Alternatively, the analysis unit 121 can obtain the spherical dioptric power, the astigmatic power and the astigmatic axis angle based on the specified ring image (approximate ellipse) and the control content (for example, the movement amount) for the focusing lens 74 is there. Alternatively, the analysis unit 121 can obtain the eye refractive power parameter based on the deformation and displacement of the ring image with respect to the reference pattern.

また、解析部121は、前眼部観察系5により取得されたケラトリング像に基づいて、角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。例えば、解析部121は、ケラトリング像を解析することにより角膜前面の強主経線や弱主経線の角膜曲率半径を算出し、角膜曲率半径に基づいて上記パラメータを算出する。   Further, the analysis unit 121 calculates the corneal refractive power, the corneal astigmatism, and the corneal astigmatism axis angle based on the keratling image acquired by the anterior segment observation system 5. For example, the analysis unit 121 calculates the corneal curvature radius of the strong principal meridian and the weak principal meridian of the front surface of the cornea by analyzing the keratoring image, and calculates the above-described parameter based on the corneal curvature radius.

(表示部170、操作部180)
表示部170は、制御部110による制御を受けて情報を表示する。操作部180は、眼科装置1000の操作や情報入力に使用される。操作部180は、各種のハードウェアキー(ジョイスティック、ボタン、スイッチなど)、及び/又は、表示部170に提示される各種のソフトウェアキー(ボタン、アイコン、メニューなど)を含む。
(Display unit 170, operation unit 180)
The display unit 170 receives control of the control unit 110 and displays information. The operation unit 180 is used to operate the ophthalmologic apparatus 1000 and to input information. The operation unit 180 includes various hardware keys (joysticks, buttons, switches, etc.) and / or various software keys (buttons, icons, menus, etc.) presented on the display unit 170.

(通信部190)
通信部190は、外部装置と通信する機能を持つ。通信部190は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定するための眼鏡レンズ測定装置がある。眼鏡レンズ測定装置は、被検者が装用する眼鏡レンズの度数などを測定し、この測定データを眼科装置1000に入力する。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置(リーダ)や、記録媒体に情報を書き込む装置(ライタ)などでもよい。更に、外部装置は、病院情報システム(HIS)サーバ、DICOM(Digital Imaging and COmmunication in Medicine)サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、クラウドサーバなどでもよい。
(Communication unit 190)
The communication unit 190 has a function of communicating with an external device. The communication unit 190 includes a communication interface corresponding to the connection form with the external device. An example of an external device is a spectacle lens measuring device for measuring the optical properties of the lens. The spectacle lens measurement device measures the power of the spectacle lens worn by the subject and the like, and inputs this measurement data to the ophthalmic device 1000. Further, the external apparatus may be an optional ophthalmologic apparatus, an apparatus (reader) for reading information from a recording medium, an apparatus (writer) for writing information on a recording medium, or the like. Furthermore, the external device may be a hospital information system (HIS) server, a digital imaging and communication in medicine (DICOM) server, a doctor terminal, a mobile terminal, a personal terminal, a cloud server, or the like.

眼科装置1000において、眼底共役位置Pにレフ測定光源61を配置し、且つ瞳孔共役位置Qにリング絞り65を配置し、瞳孔共役位置Qの近傍に円錐プリズム63を配置するようにしたので、眼底Efに細く(内径と外径の幅が狭い)輝度の高いリング状の測定パターンを投射することができるようになる。従って、被検眼Eに入射する測定光束の全光量を小さくすることができ、被検者の負担を軽減しつつ、輝度の高い測定パターン光束を被検眼に投射することができる。それにより、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、眼底におけるリング像のプロファイルが急峻になるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。   In the ophthalmologic apparatus 1000, the reflex measurement light source 61 is disposed at the fundus conjugate position P, the ring diaphragm 65 is disposed at the pupil conjugate position Q, and the conical prism 63 is disposed near the pupil conjugate position Q. It becomes possible to project a ring-shaped measurement pattern with high brightness (a narrow inner diameter and a narrow outer diameter) at Ef. Therefore, the total amount of light of the measurement light flux incident on the eye E can be reduced, and the measurement pattern light flux having high luminance can be projected onto the eye E while reducing the burden on the subject. As a result, it is possible to obtain a reliable eye refractive power value. In addition, since the profile of the ring image on the fundus becomes steep, the influence of the blocking of the incident light beam on the turbid part of the lens caused by eyebrows and cataract is small, and the occurrence of measurement error can be suppressed.

レフ測定光源61は、実施形態に係る「光源」の一例である。レフ測定投射系6により被検眼Eに投射されるリング状光束は、実施形態に係る「パターン光」の一例である。前眼部観察系5、レフ測定投射系6、及びレフ測定受光系7は、実施形態に係る「光学系」の一例である。リング像は、実施形態に係る「パターン像」の一例である。リング絞り65は、実施形態に係る「絞り」の一例である。円錐プリズム63は、実施形態に係る「偏向部材」の一例である。   The reflex measurement light source 61 is an example of the “light source” according to the embodiment. The ring-shaped luminous flux projected onto the subject eye E by the reflex measurement projection system 6 is an example of the “pattern light” according to the embodiment. The anterior eye observation system 5, the reflex measurement projection system 6, and the reflex measurement light receiving system 7 are examples of the "optical system" according to the embodiment. The ring image is an example of the “pattern image” according to the embodiment. The ring diaphragm 65 is an example of the “diaphragm” according to the embodiment. The conical prism 63 is an example of the “deflection member” according to the embodiment.

<動作例>
実施形態に係る眼科装置1000の動作について説明する。眼科装置1000の動作の一例を図6〜図10に示す。図6は、眼科装置1000の動作例のフロー図を表したものである。図7は、図6のステップS3の動作例のフロー図を表したものである。図8は、図7のステップS14又はステップS20の動作例のフロー図を表したものである。図9は、図8のステップS32の動作例のフロー図を表したものである。図10は、図8のステップS34の動作例のフロー図を表したものである。以下では、光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を含む視標ユニットが光軸方向に移動されるものとする。
<Operation example>
The operation of the ophthalmologic apparatus 1000 according to the embodiment will be described. An example of the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 is shown in FIGS. FIG. 6 shows a flowchart of an operation example of the ophthalmologic apparatus 1000. FIG. 7 shows a flowchart of an operation example of step S3 of FIG. FIG. 8 shows a flowchart of an operation example of step S14 or step S20 of FIG. FIG. 9 shows a flowchart of an operation example of step S32 of FIG. FIG. 10 shows a flowchart of an operation example of step S34 of FIG. Hereinafter, it is assumed that the target unit including the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 43 is moved in the optical axis direction.

まず、図6を参照して眼科装置1000の動作例について説明する。   First, an operation example of the ophthalmologic apparatus 1000 will be described with reference to FIG.

(S1:アライメント)
図示しない顔受け部に被検者の顔が固定された状態で、検者が操作部180に対して所定の操作を行うことで、眼科装置1000は、光源41及び視標チャート43により固視標を被検眼Eに投射し、アライメントを実行する。
(S1: Alignment)
The ophthalmologic apparatus 1000 performs fixation with the light source 41 and the visual target chart 43 by the examiner performing a predetermined operation on the operation unit 180 in a state where the face of the subject is fixed to the face receiving unit (not shown). A mark is projected on the eye E to be examined and alignment is performed.

具体的には、主制御部111は、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21や光源41を点灯させる。更に、前眼部照明光源51を点灯する。前眼部照明光源の代わりにケラト光源を点灯させてもよい。処理部9は、撮像素子59の撮像面上の前眼部像の撮像信号を取得し、表示部170に前眼部像を表示させる。その後、図1に示す光学系が被検眼Eの検査位置に移動される。検査位置とは、十分な精度で被検眼Eの検査を行うことが可能な位置である。前述のアライメント(Zアライメント系1及びXYアライメント系2と前眼部観察系5とによるアライメント)を介して被検眼Eが検査位置に配置される。光学系の移動は、ユーザによる操作若しくは指示又は主制御部111による指示にしたがって、主制御部111によって実行される。すなわち、被検眼Eの検査位置への光学系の移動と、他覚測定を行うための準備とが行われる。   Specifically, the main control unit 111 turns on the Z alignment light source 11, the XY alignment light source 21, and the light source 41. Furthermore, the anterior ocular segment illumination light source 51 is turned on. The kerato light source may be turned on instead of the anterior segment illumination light source. The processing unit 9 acquires an imaging signal of an anterior segment image on the imaging surface of the imaging element 59, and causes the display unit 170 to display the anterior segment image. Thereafter, the optical system shown in FIG. 1 is moved to the examination position of the eye E. The examination position is a position at which the examination of the eye E can be performed with sufficient accuracy. The eye to be examined E is disposed at the examination position through the above-mentioned alignment (alignment by the Z alignment system 1 and the XY alignment system 2 and the anterior segment observation system 5). The movement of the optical system is performed by the main control unit 111 in accordance with an operation or instruction from the user or an instruction from the main control unit 111. That is, movement of the optical system to the examination position of the eye E to be examined and preparation for performing objective measurement are performed.

また、主制御部111は、レフ測定光源61と、合焦レンズ74と、上記の視標ユニットをそれぞれの光軸に沿って原点の位置(例えば、0Dに相当する位置)に移動させる。   Further, the main control unit 111 moves the reflex measurement light source 61, the focusing lens 74, and the above-mentioned index unit to the position of the origin (for example, a position corresponding to 0D) along the respective optical axes.

(S2:ケラト測定)
主制御部111は、光源41及び視標チャート43により固視標として輝点を被検眼Eに投射させ、ケラト測定を実行させる。
(S2: Kerat measurement)
The main control unit 111 projects a bright spot on the eye E as a fixation target by the light source 41 and the target chart 43, and performs kerato measurement.

すなわち、主制御部111は、ケラトリング光源を点灯させる。ケラトリング光源から光が出力されると、被検眼Eの角膜に角膜形状測定用のリング状光束が投射される。解析部121は、撮像素子59によって取得された像に対して演算処理を施すことにより、角膜曲率半径を算出し、算出された角膜曲率半径から角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。制御部110では、算出された角膜屈折力などが記憶部112に記憶される。主制御部111からの指示、又は操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はステップS3に移行する。   That is, the main control unit 111 turns on the kerat light source. When light is output from the kertling light source, a ring-shaped luminous flux for measuring the corneal shape is projected onto the cornea of the eye to be examined E. The analysis unit 121 calculates the corneal curvature radius by performing arithmetic processing on the image acquired by the imaging device 59, and calculates the corneal refractive power, the corneal astigmatism, and the corneal astigmatism axis angle from the calculated corneal curvature radius. calculate. In the control unit 110, the calculated corneal refractive power and the like are stored in the storage unit 112. The operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S3 in accordance with an instruction from the main control unit 111 or a user operation or instruction on the operation unit 180.

(S3:レフ測定)
主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、レフ測定を実行させる。ステップS3の詳細については後述する。
(S3: reflex measurement)
The main control unit 111 turns on the reflex measurement light source 61 to execute reflex measurement. Details of step S3 will be described later.

制御部110では、ステップS3におけるレフ測定後の合焦レンズ74の移動量やリング像の形状より算出された球面度数などが記憶部112に記憶される。主制御部111からの指示、又は操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はステップS4に移行する。以上で、眼科装置1000の動作は終了する(エンド)。   In the control unit 110, the storage unit 112 stores the movement amount of the focusing lens 74 after the reflex measurement in step S3, the spherical power calculated from the shape of the ring image, and the like. The operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S4 in accordance with an instruction from the main control unit 111 or a user operation or instruction on the operation unit 180. Thus, the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

[レフ測定]
図7〜図10に示すように、眼科装置1000は、図6のステップS3におけるレフ測定を実行する。
[Ref measurement]
As shown in FIGS. 7 to 10, the ophthalmologic apparatus 1000 executes the reflex measurement in step S3 of FIG.

(S11:仮測定条件の初期化)
主制御部111は、1回目の仮測定に先立って、レフ測定光源61から出力される光の光量(レフ測定光源61の光量)、及び撮像素子59の露光時間や検出感度を初期値に設定する。
(S11: Initialization of temporary measurement conditions)
The main control unit 111 sets the light amount of light (light amount of the reflex measurement light source 61) output from the reflex measurement light source 61, and the exposure time and detection sensitivity of the imaging device 59 to initial values prior to the first temporary measurement. Do.

(S12:仮測定(1回目))
主制御部111は、合焦レンズを基準位置(0D位置)に配置した状態で、1回目の仮測定を実行させる。具体的には、主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、眼底Efに対してリング状光束をレフ測定投射系6に投射させ、眼底Efからのリング状光束の戻り光を撮像素子59に受光させる。これにより、眼底Efに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。
(S12: temporary measurement (first time))
The main control unit 111 causes the first temporary measurement to be performed in a state in which the focusing lens is disposed at the reference position (0D position). Specifically, the main control unit 111 turns on the reflex measurement light source 61 to project a ring-shaped luminous flux on the reflex measurement projection system 6 with respect to the fundus oculi Ef, and an imaging device as a return light of the ring-shaped luminous flux from the fundus oculi Ef Make 59 receive light. As a result, an image in which a ring image based on the ring-like light beam projected onto the fundus oculi Ef is drawn is obtained.

(S13:輝度は適正?)
主制御部111は、ステップS12における撮像素子59の受光結果から得られたリング像に対するリング輝度チェックを解析部121に実行させる。解析部121は、撮像素子59により得られた画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部121は、特定されたリング像の輝度が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することにより、リング像の輝度が適正であるか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S13:Y)、眼科装置1000の動作はステップS15に移行する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき(S13:N)、眼科装置1000の動作はステップS14に移行する。
(S13: Is the brightness correct?)
The main control unit 111 causes the analysis unit 121 to perform a ring brightness check on the ring image obtained from the light reception result of the imaging device 59 in step S12. The analysis unit 121 obtains the barycentric position of the ring image from the brightness distribution in the image obtained by the imaging device 59, obtains the brightness distribution along a plurality of scanning directions extending radially from the barycentric position, and obtains the ring image from this brightness distribution. Identify The analysis unit 121 determines whether the brightness of the ring image is appropriate by determining whether the brightness of the specified ring image is within a predetermined brightness range. When it is determined that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S13: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S15. When it is determined that the luminance of the ring image is not within the predetermined luminance range (S13: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S14.

(S14:測定条件変更制御)
ステップS13においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき(S13:N)、主制御部111は、測定条件変更制御を実行する。ステップS14における測定条件変更制御では、取得されるリング像の輝度が変更されるように、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度が変更される。ステップS14の詳細については後述する。
(S14: Measurement condition change control)
When it is determined in step S13 that the luminance of the ring image is not within the predetermined luminance range (S13: N), the main control unit 111 executes measurement condition change control. In the measurement condition change control in step S14, the light intensity of the reflex measurement light source 61, the exposure time of the imaging device 59, and the detection sensitivity of the imaging device 59 are changed such that the luminance of the acquired ring image is changed. Details of step S14 will be described later.

ステップS14が終了すると、眼科装置1000の動作はステップS12に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の輝度範囲内になるまでステップS12における画像取得(1回目の仮測定)とステップS13におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。   When step S14 ends, the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S12. That is, image acquisition in step S12 (first tentative measurement) and the ring image luminance check in step S13 are repeated until the luminance of the ring image falls within the predetermined luminance range.

(S15:仮屈折力値を算出)
ステップS13においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S13:Y)、主制御部111は、ステップS12において取得された画像に基づいて仮屈折力値(等価球面屈折力値)を解析部121に算出させる。解析部121は、上記にように、取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円から仮屈折力値を算出する。
(S15: Calculate temporary refractive power)
When it is determined in step S13 that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S13: Y), the main control unit 111 determines the temporary refracting power value (equivalent spherical refraction based on the image acquired in step S12). The analysis unit 121 is made to calculate the force value). As described above, the analysis unit 121 obtains an approximate ellipse of the ring image specified in the acquired image, and calculates a temporary refractive power value from the approximate ellipse.

(S16:合焦制御)
次に、主制御部111は、ステップS15において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップS12において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ74を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。この実施形態では、主制御部111は、合焦レンズ74の光軸方向の移動方向及び移動量に対応したアクチュエータの制御内容を決定する。例えば、眼屈折力値と合焦レンズ74の光軸方向の移動方向及び移動量とが関連付けられた対応情報が記憶部112にあらかじめ記憶されており、主制御部111は、記憶部112に記憶されている対応情報を参照することによりアクチュエータの制御内容を決定する。
(S16: Focus control)
Next, based on the eye refractive power value obtained in step S15, the main control unit 111 controls the content of control for the actuator that moves the focusing lens 74 so that the ring image acquired in step S12 is in focus. decide. In this embodiment, the main control unit 111 determines the control content of the actuator corresponding to the movement direction and the movement amount of the focusing lens 74 in the optical axis direction. For example, correspondence information in which the eye refractive power value and the movement direction and movement amount of the focusing lens 74 in the optical axis direction are associated is stored in advance in the storage unit 112, and the main control unit 111 stores the information in the storage unit 112. The control content of the actuator is determined by referring to the corresponding information.

主制御部111は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップS15において求められた眼屈折力値に対応した位置に合焦レンズ74を配置させる。   The main control unit 111 arranges the focusing lens 74 at a position corresponding to the eye refractive power value obtained in step S15 by controlling the actuator based on the determined control content.

なお、合焦レンズ74が焦点可変レンズである場合、主制御部111は、同様に合焦レンズ74に対する制御内容を決定することができる。すなわち、眼屈折力値と合焦レンズ74に対する制御内容とが関連付けられた対応情報が記憶部112にあらかじめ記憶されており、主制御部111は、記憶部112に記憶されている対応情報を参照することにより合焦レンズ74に対する制御内容を決定する。主制御部111は、決定された制御内容に基づいて合焦レンズ74を制御することにより、所望の位置に焦点位置を変更することができる。あわせて光源61、光源41とコリメートレンズ42と視標チャート42とを含む固視標ユニットを移動する。この移動は共通のアクチュエータにより駆動されてもよいし、一体として駆動されてもよい、個別のアクチュエータにより個別に駆動されてもよい。   When the focusing lens 74 is a focus variable lens, the main control unit 111 can similarly determine the control content of the focusing lens 74. That is, correspondence information in which the eye refractive power value and the control content for the focusing lens 74 are associated is stored in advance in the storage unit 112, and the main control unit 111 refers to the correspondence information stored in the storage unit 112. By doing this, the control content for the focusing lens 74 is determined. The main control unit 111 can change the focus position to a desired position by controlling the focusing lens 74 based on the determined control content. At the same time, the fixation target unit including the light source 61, the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 42 is moved. This movement may be driven by a common actuator or may be driven individually by separate actuators, which may be driven together.

(S17:次の仮測定条件の決定)
次に、主制御部111は、2回目の仮測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップS16が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部111は、ステップS16が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。合焦レンズ74の移動量によってリング像の明るさ(輝度)が変化するため、移動量に基づき、光源61の光量を変更してもよい。合焦レンズ74の移動量と光源61の光量の関係は数式によって導かれてもよいし、テーブル情報として記憶されていてもよい。数式は、実験結果などにより導出された1次式や2次式であってよい。
(S17: Determination of the next temporary measurement condition)
Next, the main control unit 111 sets measurement conditions for performing the second temporary measurement. This measurement condition may be the measurement condition at the time when step S16 ends. In addition, the main control unit 111 may specify new measurement conditions from the measurement conditions at the time when step S16 ends. Since the brightness (brightness) of the ring image changes with the movement amount of the focusing lens 74, the light amount of the light source 61 may be changed based on the movement amount. The relationship between the amount of movement of the focusing lens 74 and the amount of light of the light source 61 may be derived by an equation or may be stored as table information. The equation may be a linear expression or a quadratic expression derived from an experimental result or the like.

(S18:仮測定(2回目))
主制御部111は、2回目の仮測定を実行させる。ステップS18は、ステップS12とほぼ同様である。
(S18: temporary measurement (second time))
The main control unit 111 causes the second temporary measurement to be performed. Step S18 is substantially the same as step S12.

(S19:輝度は適正?)
主制御部111は、ステップS13と同様に、ステップS18において得られたリング像に対するリング像の輝度チェックを解析部121に実行させる。ステップS19のリング輝度チェックにおける輝度範囲は、ステップS13のリング像の輝度チェックにおける輝度範囲と同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
(S19: Is the brightness correct?)
The main control unit 111 causes the analysis unit 121 to execute the brightness check of the ring image for the ring image obtained in step S18, as in step S13. The luminance range in the ring luminance check in step S19 may be the same as or different from the luminance range in the luminance check of the ring image in step S13.

リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S19:Y)、眼科装置1000の動作はステップS21に移行する。リング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき(S19:N)、眼科装置1000の動作はステップS20に移行する。   When it is determined that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S19: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S21. When it is determined that the luminance of the ring image is not within the predetermined range (S19: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S20.

(S20:測定条件変更制御)
ステップS19においてリング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき(S19:N)、主制御部111は、測定条件変更制御を実行する。ステップS20における測定条件変更制御は、ステップS14と同様である。
(S20: Measurement condition change control)
When it is determined in step S19 that the luminance of the ring image is not within the predetermined range (S19: N), the main control unit 111 executes measurement condition change control. The measurement condition change control in step S20 is the same as step S14.

ステップS20が終了すると、眼科装置1000の動作はステップS18に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の範囲内になるまでステップS18における画像取得(2回目の仮測定)とステップS19におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。   When step S20 ends, the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S18. That is, the image acquisition (second tentative measurement) in step S18 and the ring image brightness check in step S19 are repeated until the brightness of the ring image falls within the predetermined range.

(S21:仮屈折力値を算出)
ステップS19においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S19:Y)、主制御部111は、ステップS15と同様に、ステップS18において取得された画像において特定されたリング像(例えば、リング像の形状と特定されリング像に対する合焦レンズ74の移動量)に基づいて仮屈折力値を解析部121に算出させる。
(S21: Calculate temporary refractive power value)
When it is determined in step S19 that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S19: Y), the main control unit 111 determines the ring specified in the image acquired in step S18, as in step S15. Based on the image (for example, the shape of the ring image and the amount of movement of the focusing lens 74 with respect to the ring image), the temporary refractive power value is calculated by the analysis unit 121.

(S22:合焦制御)
主制御部111は、ステップS16と同様に、ステップS21において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップS18において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ74を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。
(S22: Focus control)
As in step S16, the main control unit 111 controls the actuator for moving the focusing lens 74 such that the ring image obtained in step S18 is in focus based on the eye refractive power value obtained in step S21. Determine the control content.

主制御部111は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップS21において求められた仮屈折力値に対応した位置に合焦レンズ74を配置させる。   The main control unit 111 arranges the focusing lens 74 at a position corresponding to the temporary refractive power value obtained in step S21 by controlling the actuator based on the determined control content.

(S23:雲霧制御)
次に、主制御部111は、本測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップS22が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部111は、ステップS22が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。特に、合焦レンズ74の移動量が大きい場合、リング像の輝度の変化が大きくなる可能性があるため、この変化を加味した新たな測定条件を求めてもよい。
(S23: Cloud control)
Next, the main control unit 111 sets measurement conditions for performing the main measurement. This measurement condition may be the measurement condition at the time when step S22 ends. In addition, the main control unit 111 may specify new measurement conditions from the measurement conditions at the time when step S22 ends. In particular, when the movement amount of the focusing lens 74 is large, the change in the luminance of the ring image may be large. Therefore, a new measurement condition may be obtained in consideration of this change.

続いて、主制御部111は、被検眼Eを雲霧視させるための制御を実行する。具体的には、主制御部111は、上記のアクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ、光源41とコリメートレンズ42と視標チャート53とを含む固指標ユニットを移動させる。光源61、合焦レンズ74が一体で駆動される構成においてはこれらも同時に移動する。   Subsequently, the main control unit 111 executes control for causing the eye to be examined E1 to be foggy. Specifically, the main control unit 111 moves the solid index unit including the light source 41, the collimator lens 42, and the target chart 53 by a predetermined movement amount by controlling the above-described actuator. In the configuration in which the light source 61 and the focusing lens 74 are integrally driven, they also move simultaneously.

(S24:本測定)
主制御部111は、本測定を実行させる。具体的には、主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、眼底Efに対してリング状光束をレフ測定投射系6に投射させ、眼底Efからのリング状光束の戻り光を撮像素子59に受光させる。これにより、眼底Efに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。
(S24: main measurement)
The main control unit 111 executes the main measurement. Specifically, the main control unit 111 turns on the reflex measurement light source 61 to project a ring-shaped luminous flux on the reflex measurement projection system 6 with respect to the fundus oculi Ef, and an imaging device as a return light of the ring-shaped luminous flux from the fundus oculi Ef Make 59 receive light. As a result, an image in which a ring image based on the ring-like light beam projected onto the fundus oculi Ef is drawn is obtained.

(S25:眼屈折力値を算出)
主制御部111は、ステップS24において取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、合焦レンズ74の移動量とこの近似楕円から球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を解析部121に算出させる。以上で、眼科装置1000の動作は終了である(エンド)。
(S25: Calculate eye refractive power)
The main control unit 111 obtains an approximate ellipse of the ring image specified in the image acquired in step S 24, and analyzes the spherical power, the astigmatic power and the astigmatic axis angle from the movement amount of the focusing lens 74 and this approximate ellipse. Make it calculate. This is the end of the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 (end).

[測定条件変更制御]
眼科装置1000は、図8〜図10に示すように、図7のステップS14又はステップS20実行する。なお、ステップS14及びステップS20のいずれか一方が図8〜図10に示すように実行されてもよい。
[Measurement condition change control]
The ophthalmologic apparatus 1000 executes step S14 or step S20 of FIG. 7 as shown in FIGS. In addition, any one of step S14 and step S20 may be performed as shown in FIGS.

(S31:輝度が高い?)
主制御部111は、リング像の輝度が高いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の上限値以上であるとき、主制御部111は、リング像の輝度が高いと判定する。リング像の輝度が高いと判定されたとき(S31:Y)、眼科装置1000の動作はステップS32に移行する。リング像の輝度が高いと判定されなかったとき(S31:N)、眼科装置1000の動作はステップS33に移行する。
(S31: High brightness?)
The main control unit 111 determines whether the luminance of the ring image is high. When the luminance of the ring image is equal to or higher than the upper limit value of the predetermined luminance range, the main control unit 111 determines that the luminance of the ring image is high. When it is determined that the luminance of the ring image is high (S31: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S32. When it is not determined that the luminance of the ring image is high (S31: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S33.

(S32:輝度低下制御)
ステップS31においてリング像の輝度が高いと判定されたとき(S31:Y)、主制御部111は、輝度低下制御を実行する。ステップS32における輝度低下制御では、取得されるリング像の輝度が低下するように、レフ測定光源61の光量を変更、もしくは、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度が変更される。ステップS32の詳細については後述する。
(S32: brightness reduction control)
When it is determined in step S31 that the luminance of the ring image is high (S31: Y), the main control unit 111 executes luminance reduction control. In the luminance reduction control in step S32, the light amount of the reflex measurement light source 61 is changed, or the exposure time of the imaging device 59 and the detection sensitivity of the imaging device 59 are changed so that the luminance of the acquired ring image is reduced. Details of step S32 will be described later.

ステップS32が終了すると、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。   When step S32 ends, the operation of step S14 or step S20 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S33:輝度が低い?)
ステップS31においてリング像の輝度が高いと判定されなかったとき(S31:N)、主制御部111は、リング像の輝度が低いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の下限値以下であるとき、主制御部111は、リング像の輝度が低いと判定する。リング像の輝度が低いと判定されたとき(S33:Y)、眼科装置1000の動作はステップS34に移行する。リング像の輝度が低いと判定されなかったとき(S33:N)、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。
(S33: Low brightness?)
When it is not determined in step S31 that the luminance of the ring image is high (S31: N), the main control unit 111 determines whether the luminance of the ring image is low. When the luminance of the ring image is equal to or less than the lower limit value of the predetermined luminance range, the main control unit 111 determines that the luminance of the ring image is low. When it is determined that the luminance of the ring image is low (S33: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S34. When it is not determined that the luminance of the ring image is low (S33: N), the operation of step S14 or step S20 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S34:輝度上昇制御)
ステップS33においてリング像の輝度が低いと判定されたとき(S33:Y)、主制御部111は、輝度上昇制御を実行する。ステップS34における輝度上昇制御では、取得されるリング像の輝度が上昇するように、レフ測定光源61の光量の変更、もしくは撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度、合焦レンズ74の移動量が変更される。ステップS34の詳細については後述する。
(S34: Brightness increase control)
When it is determined in step S33 that the luminance of the ring image is low (S33: Y), the main control unit 111 executes luminance increase control. In the brightness increase control in step S34, the light amount of the reflex measurement light source 61 is changed, or the exposure time of the image sensor 59, the detection sensitivity of the image sensor 59, and the focusing lens 74 are increased. Movement amount is changed. Details of step S34 will be described later.

ステップS34が終了すると、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。   When step S34 ends, the operation of step S14 or step S20 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

[輝度低下制御]
眼科装置1000は、図9に示すように、図8のステップS32における輝度低下制御を実行する。実施形態に係る輝度低下制御では、得られたリング像の輝度(すなわち、低下すべき量)に基づいて、撮像素子59の検出感度を下げることにより見かけのリング像の輝度を下げる第1検出感度制御が行われた後、撮像素子59の露光時間を短くすることによりリング像の輝度を下げる第1露光時間制御が行われる。更に、第1露光時間制御の後に、レフ測定光源61の光量を下げることによりリング像の輝度を下げる第1光量制御が行われる。
[Brightness reduction control]
The ophthalmologic apparatus 1000 executes the brightness reduction control in step S32 of FIG. 8 as shown in FIG. In the luminance reduction control according to the embodiment, the first detection sensitivity for lowering the luminance of the apparent ring image by lowering the detection sensitivity of the imaging device 59 based on the luminance (that is, the amount to be reduced) of the obtained ring image. After the control is performed, the first exposure time control for reducing the luminance of the ring image is performed by shortening the exposure time of the imaging element 59. Furthermore, after the first exposure time control, the first light quantity control is performed to lower the luminance of the ring image by reducing the light quantity of the reflex measurement light source 61.

例えば、輝度低下制御では、所定の第1輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第1検出感度制御が行われた後、上限が第1輝度範囲の下限以下である第2輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第1露光時間制御が行われる。更に、第1露光時間制御の後に、上限が第2輝度範囲の下限以下である第3輝度範囲内でリング像の輝度を下げる第1光量制御が行われる。   For example, in the luminance reduction control, after the first detection sensitivity control for reducing the apparent luminance of the ring image within the predetermined first luminance range is performed, the second luminance range is within the upper limit of the lower limit of the first luminance range. The first exposure time control is performed to reduce the apparent brightness of the ring image. Furthermore, after the first exposure time control, the first light quantity control is performed to lower the luminance of the ring image in the third luminance range in which the upper limit is equal to or less than the lower limit of the second luminance range.

(S41:輝度低下量を決定)
まず、主制御部111は、リング像の輝度の低下量を決定する。低下量は、あらかじめ決められた量であってよい。
(S41: Determine the amount of decrease in luminance)
First, the main control unit 111 determines the amount of decrease in the luminance of the ring image. The amount of reduction may be a predetermined amount.

また、低下量は、撮像素子59の飽和光量もしくはA/D変換による飽和量に対応した量であってもよい。この場合、主制御部111は、リング像の輝度の低下量を解析部121に算出させる。解析部121は、合焦レンズ74移動後のリング像の輝度を予測し、予測値から輝度の低下量を求めることが可能である。例えば、解析部121は、当該リング像の輝度とステップS31における輝度範囲の上限値との差分や、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、又は撮像素子59の検出感度に対する制御量と仮測定によって決定された合焦レンズ74の移動量とに基づいて移動後の輝度を特定する。   The amount of decrease may be an amount corresponding to the saturation light amount of the imaging device 59 or the saturation amount due to A / D conversion. In this case, the main control unit 111 causes the analysis unit 121 to calculate the reduction amount of the luminance of the ring image. The analysis unit 121 can predict the brightness of the ring image after the movement of the focusing lens 74, and can obtain the decrease in brightness from the predicted value. For example, the analysis unit 121 determines the difference between the luminance of the ring image and the upper limit value of the luminance range in step S31, the light amount of the reflex measurement light source 61, the exposure time of the image sensor 59, or the control amount for the detection sensitivity of the image sensor 59. And the amount of movement of the focusing lens 74 determined by the temporary measurement to specify the post-movement luminance.

(S42:検出感度≧TH1?)
次に、主制御部111は、撮像素子59の検出感度(ゲイン)を特定し、特定された検出感度が第1閾値TH1以上であるか否かを判定する。主制御部111は、撮像素子59に対する制御内容から検出感度を特定してもよいし、撮像素子59に設定された内容から検出感度を特定してもよい。検出感度が第1閾値TH1以上であると判定されたとき(S42:Y)、眼科装置1000の動作はステップS43に移行する。検出感度が第1閾値TH1未満であると判定されたとき(S42:N)、眼科装置1000の動作はステップS44に移行する。
(S42: Detection sensitivity TH TH1?)
Next, the main control unit 111 identifies the detection sensitivity (gain) of the imaging element 59, and determines whether the identified detection sensitivity is equal to or greater than the first threshold TH1. The main control unit 111 may specify the detection sensitivity from the control content of the image sensor 59, or may specify the detection sensitivity from the content set for the image sensor 59. When it is determined that the detection sensitivity is equal to or higher than the first threshold TH1 (S42: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S43. When it is determined that the detection sensitivity is less than the first threshold TH1 (S42: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S44.

(S43:検出感度を下げる)
ステップS42において検出感度が第1閾値TH1以上であると判定されたとき(S42:Y)、主制御部111は、検出感度を下げるように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で検出感度を下げることができる。
(S43: Decrease the detection sensitivity)
When it is determined in step S42 that the detection sensitivity is equal to or higher than the first threshold TH1 (S42: Y), the main control unit 111 controls the imaging element 59 to lower the detection sensitivity. The main control unit 111 can lower the detection sensitivity by a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS42及びステップS43において第1検出感度制御が行われる。ステップS43が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。   As described above, the first detection sensitivity control is performed in step S42 and step S43. When step S43 is completed, the operation of step S32 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S44:露光時間≧TH2?)
ステップS42において検出感度が第1閾値TH1未満であると判定されたとき(S42:N)、主制御部111は、撮像素子59の露光時間を特定し、特定された露光時間が第2閾値TH2以上であるか否かを判定する。主制御部111は、撮像素子59に対する制御内容から露光時間を特定してもよいし、撮像素子59に設定された内容から露光時間を特定してもよい。
(S44: Exposure time TH TH2?)
When it is determined in step S42 that the detection sensitivity is less than the first threshold TH1 (S42: N), the main control unit 111 identifies the exposure time of the imaging element 59, and the identified exposure time is the second threshold TH2 It is determined whether it is above or not. The main control unit 111 may specify the exposure time from the control content for the imaging device 59, or may specify the exposure time from the content set for the imaging device 59.

露光時間が短くなると、被検眼Eの移動に起因した測定誤差の発生を抑えることができるようになる。しかしながら、ロータリープリズム67による光量分布の平均化の効果を得るために、撮像素子59の露光時間は、ロータリープリズム67が所定の回数だけ回転する時間(下限時間)以上であることが望ましい。従って、第2閾値TH2は、ロータリープリズム67の回転速度に対応した下限時間であってよい。   When the exposure time becomes short, it is possible to suppress the occurrence of measurement error caused by the movement of the eye E to be examined. However, in order to obtain the effect of averaging the light amount distribution by the rotary prism 67, it is desirable that the exposure time of the image pickup device 59 be the time (lower limit time) or more at which the rotary prism 67 rotates a predetermined number of times. Therefore, the second threshold TH2 may be a lower limit time corresponding to the rotational speed of the rotary prism 67.

撮像素子59の露光時間が第2閾値TH2以上であると判定されたとき(S44:Y)、眼科装置1000の動作はステップS45に移行する。撮像素子59の露光時間が第2閾値TH2未満であると判定されたとき(S44:N)、眼科装置1000の動作はステップS46に移行する。   When it is determined that the exposure time of the imaging element 59 is equal to or greater than the second threshold TH2 (S44: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S45. When it is determined that the exposure time of the imaging element 59 is less than the second threshold TH2 (S44: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S46.

(S45:露光時間を短くする)
ステップS44において露光時間が第2閾値TH2以上であると判定されたとき(S44:Y)、主制御部111は、露光時間を短くするように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で露光時間を短くすることができる。
(S45: shorten the exposure time)
When it is determined in step S44 that the exposure time is equal to or greater than the second threshold TH2 (S44: Y), the main control unit 111 controls the imaging element 59 to shorten the exposure time. The main control unit 111 can shorten the exposure time by a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS44及びステップS45において第1露光時間制御が行われる。ステップS45が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。   Thus, the first exposure time control is performed in step S44 and step S45. When step S45 is completed, the operation of step S32 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S46:光量≧TH3?)
ステップS44において露光時間が第2閾値TH2未満であると判定されたとき(S44:N)、主制御部111は、レフ測定光源61の光量を特定し、特定された光量が第3閾値TH3以上であるか否かを判定する。主制御部111は、レフ測定光源61に対する制御内容から光量を特定してもよいし、レフ測定光源61に設定された内容から光量を特定してもよい。
(S46: Light quantity TH TH3?)
When it is determined in step S44 that the exposure time is less than the second threshold TH2 (S44: N), the main control unit 111 identifies the light quantity of the reflex measurement light source 61, and the identified light quantity is equal to or more than the third threshold TH3. It is determined whether the The main control unit 111 may specify the light amount from the control content for the reflex measurement light source 61, or may specify the light amount from the contents set in the reflex measurement light source 61.

レフ測定光源61の光量が第3閾値TH3以上であると判定されたとき(S46:Y)、眼科装置1000の動作はステップS47に移行する。レフ測定光源61の光量が第3閾値TH3未満であると判定されたとき(S46:N)、眼科装置1000の動作はステップS48に移行する。   When it is determined that the light amount of the reflex measurement light source 61 is equal to or greater than the third threshold TH3 (S46: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S47. When it is determined that the light amount of the reflex measurement light source 61 is less than the third threshold TH3 (S46: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S48.

(S47:光量を下げる)
ステップS46においてレフ測定光源61の光量が第3閾値TH3以上であると判定されたとき(S46:Y)、主制御部111は、光量を下げるようにレフ測定光源61を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。
(S47: Decrease the light amount)
When it is determined in step S46 that the light quantity of the reflex measurement light source 61 is the third threshold TH3 or more (S46: Y), the main control unit 111 controls the reflex measurement light source 61 to reduce the light quantity. The main control unit 111 can reduce the light amount by a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS46及びステップS47において第1光量制御が行われる。ステップS47が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。   As described above, the first light amount control is performed in step S46 and step S47. When step S47 is completed, the operation of step S32 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S48:エラー処理)
ステップS46においてレフ測定光源61の光量が第3閾値TH3未満であると判定されたとき(S46:N)、主制御部111は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部170に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が高いと判定されたにもかかわらず、撮像素子59の検出感度や露光時間、レフ測定光源61の光量に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップS48が完了すると、眼科装置1000によるレフ測定が終了する(エンド)。
(S48: Error processing)
When it is determined in step S46 that the light amount of the reflex measurement light source 61 is less than the third threshold TH3 (S46: N), the main control unit 111 executes predetermined error processing. The predetermined error process includes an error display process on the display unit 170 and the like. If it is determined that control of the detection sensitivity of the image sensor 59, the exposure time, and the light amount of the reflex measurement light source 61 is impossible even though the luminance of the ring image is determined to be high, error processing is performed. When step S48 is completed, the reflex measurement by the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

以上のように、輝度低下制御が繰り返し実行されることで、第1検出感度制御が優先的に実行された後、第1検出感度制御を補足するために第1露光時間制御が実行される。最後に、第1露光時間制御を補足するために第1検出感度制御が実行される。   As described above, since the first detection sensitivity control is preferentially executed by repeatedly executing the luminance reduction control, the first exposure time control is executed to supplement the first detection sensitivity control. Finally, a first detection sensitivity control is performed to supplement the first exposure time control.

第1検出感度制御は、第1露光時間制御や第1光量制御と比較して測定環境への影響が小さい。一方、第1露光時間制御は、上記のように被検眼Eの移動に対して有利になるが、ロータリープリズム67による効果が得られなくなる。従って、第1検出感度制御の後に第1露光時間制御を行うことで、リング像の輝度が高い場合でも、ロータリープリズム67による効果を得ながら、レフ測定の測定精度の低下を抑えることができるようになる。また、第1露光時間制御の後に第1光量制御を行うようにしたので、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。   The first detection sensitivity control has less influence on the measurement environment as compared with the first exposure time control and the first light amount control. On the other hand, although the first exposure time control is advantageous to the movement of the eye E as described above, the effect of the rotary prism 67 can not be obtained. Therefore, by performing the first exposure time control after the first detection sensitivity control, it is possible to suppress a decrease in measurement accuracy of the reflex measurement while obtaining an effect by the rotary prism 67 even when the luminance of the ring image is high. become. In addition, since the first light amount control is performed after the first exposure time control, it is possible to minimize the influence on the measurement environment.

[輝度上昇制御]
眼科装置1000は、図10に示すように図8のステップS34における輝度上昇制御を実行する。実施形態に係る輝度上昇制御では、得られたリング像の輝度(すなわち、上昇すべき量)に基づいて、レフ測定光源61の光量を上げることによりリング像の輝度を上げる第2光量制御が行われた後、撮像素子59の露光時間を長くすることによりリング像の見かけの輝度を上げる第2露光時間制御が行われる。更に、第2露光時間制御の後に、撮像素子59の検出感度を上げることによりリング像の見かけの輝度を上げる第2検出感度制御が行われる。
[Brightness control]
The ophthalmologic apparatus 1000 executes the brightness increase control in step S34 of FIG. 8 as shown in FIG. In the luminance increase control according to the embodiment, the second light amount control is performed to increase the luminance of the ring image by increasing the light amount of the reflex measurement light source 61 based on the luminance (that is, the amount to be increased) of the obtained ring image. After that, the second exposure time control is performed to increase the apparent brightness of the ring image by lengthening the exposure time of the imaging device 59. Furthermore, after the second exposure time control, the second detection sensitivity control is performed to increase the apparent brightness of the ring image by increasing the detection sensitivity of the imaging device 59.

例えば、輝度上昇制御では、所定の第4輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2光量制御が行われた後、下限が第4輝度範囲の上限以上である第5輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2露光時間制御が行われる。更に、第2露光時間制御の後に、下限が第5輝度範囲の上限以上である第6輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2検出感度制御が行われる。   For example, in the brightness increase control, after the second light amount control for increasing the brightness of the ring image within the predetermined fourth brightness range is performed, the ring image is generated within the fifth brightness range where the lower limit is equal to or higher than the upper limit of the fourth brightness range. A second exposure time control is performed to increase the brightness of. Furthermore, after the second exposure time control, a second detection sensitivity control is performed to increase the brightness of the ring image in the sixth brightness range in which the lower limit is equal to or higher than the upper limit of the fifth brightness range.

(S51:輝度上昇量を決定)
まず、主制御部111は、リング像の輝度の上昇量を決定する。上昇量は、あらかじめ決められた量であってよい。
(S51: Determine the brightness increase amount)
First, the main control unit 111 determines the amount of increase in the luminance of the ring image. The amount of increase may be a predetermined amount.

また、主制御部111は、リング像の輝度の上昇量を解析部121に算出させてもよい。例えば、解析部121は、当該リング像の輝度とステップS33における輝度範囲の下限値との差分や、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、又は撮像素子59の検出感度に対する制御量及び合焦レンズ74の移動量に基づいて上昇量を求めてもよい。   Further, the main control unit 111 may cause the analysis unit 121 to calculate the increase amount of the luminance of the ring image. For example, the analysis unit 121 determines the difference between the luminance of the ring image and the lower limit value of the luminance range in step S33, the light amount of the reflex measurement light source 61, the exposure time of the imaging device 59, or the control amount for the detection sensitivity of the imaging device 59. The amount of increase may be determined based on the amount of movement of the focusing lens 74.

(S52:光量≦TH4?)
次に、主制御部111は、レフ測定光源61の光量を特定し、特定された光量が第4閾値TH4以下であるか否かを判定する。第4閾値TH4は、被検者による測定パターン像の視認性や被検者の安全性を考慮した光量であることが望ましい。光量が第4閾値以下であると判定されたとき(S52:Y)、眼科装置1000の動作はステップS53に移行する。光量が第4閾値TH4を超えると判定されたとき(S52:N)、眼科装置1000の動作はステップS54に移行する。
(S52: Light quantity ≦ TH4?)
Next, the main control unit 111 identifies the light amount of the reflex measurement light source 61, and determines whether the identified light amount is equal to or less than the fourth threshold TH4. It is desirable that the fourth threshold TH4 be a light quantity in consideration of the visibility of the measurement pattern image by the subject and the safety of the subject. When it is determined that the light amount is equal to or less than the fourth threshold (S52: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S53. When it is determined that the light amount exceeds the fourth threshold TH4 (S52: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S54.

(S53:光量を上げる)
ステップS52において光量が第4閾値TH4以下であると判定されたとき(S52:Y)、主制御部111は、光量を上げるようにレフ測定光源61を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。
(S53: Increase the light intensity)
When it is determined in step S52 that the light amount is equal to or less than the fourth threshold TH4 (S52: Y), the main control unit 111 controls the reflex measurement light source 61 to increase the light amount. The main control unit 111 can reduce the light amount by a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS52及びステップS53において第2光量制御が行われる。ステップS53が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。   As described above, the second light amount control is performed in step S52 and step S53. When step S53 is completed, the operation of step S34 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S54:露光時間≧TH5?)
ステップS52において光量が第4閾値TH4を超えると判定されたとき(S52:N)、主制御部111は、撮像素子59の露光時間を特定し、特定された露光時間が第5閾値TH5以下であるか否かを判定する。
(S54: Exposure time TH TH5?)
When it is determined in step S52 that the light amount exceeds the fourth threshold TH4 (S52: N), the main control unit 111 identifies the exposure time of the imaging element 59, and the identified exposure time is equal to or less than the fifth threshold TH5. Determine if there is.

露光時間が長くなると、被検眼Eの移動に起因した測定エラーが発生しやすくなる。従って、第5閾値TH5は、被検眼Eの移動が発生しない時間としてあらかじめ決められた時間であってよい。   When the exposure time becomes long, measurement errors due to the movement of the eye E are likely to occur. Therefore, the fifth threshold TH5 may be a time previously determined as a time in which the movement of the eye to be examined E does not occur.

撮像素子59の露光時間が第5閾値TH5以下であると判定されたとき(S54:Y)、眼科装置1000の動作はステップS55に移行する。撮像素子59の露光時間が第5閾値TH5を超えると判定されたとき(S54:N)、眼科装置1000の動作はステップS56に移行する。   When it is determined that the exposure time of the imaging element 59 is less than or equal to the fifth threshold TH5 (S54: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S55. When it is determined that the exposure time of the imaging element 59 exceeds the fifth threshold TH5 (S54: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S56.

(S55:露光時間を長くする)
ステップS54において露光時間が第5閾値TH5以下であると判定されたとき(S54:Y)、主制御部111は、露光時間を長くするように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で露光時間を長くすることができる。
(S55: Increase the exposure time)
When it is determined in step S54 that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold TH5 (S54: Y), the main control unit 111 controls the imaging element 59 to extend the exposure time. The main control unit 111 can lengthen the exposure time by a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS54及びステップS55において第2露光時間制御が行われる。ステップS55が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。   Thus, the second exposure time control is performed in step S54 and step S55. When step S55 is completed, the operation of step S34 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S56:検出感度≦TH6?)
ステップS54において露光時間が第5閾値TH5を超えると判定されたとき(S54:N)、主制御部111は、撮像素子59の検出感度を特定し、特定された検出感度が第6閾値TH6以下であるか否かを判定する。
(S56: detection sensitivity TH TH6?)
When it is determined in step S54 that the exposure time exceeds the fifth threshold TH5 (S54: N), the main control unit 111 identifies the detection sensitivity of the imaging element 59, and the identified detection sensitivity is equal to or less than the sixth threshold TH6. It is determined whether the

撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6以下であると判定されたとき(S56:Y)、眼科装置1000の動作はステップS57に移行する。撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6を超えると判定されたとき(S56:N)、眼科装置1000の動作はステップS58に移行する。   When it is determined that the detection sensitivity of the imaging element 59 is less than or equal to the sixth threshold TH6 (S56: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S57. When it is determined that the detection sensitivity of the imaging element 59 exceeds the sixth threshold TH6 (S56: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S58.

(S57:検出感度を上げる)
ステップS56において撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6以下であると判定されたとき(S56:Y)、主制御部111は、検出感度を上げるように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で検出感度を上げることができる。
(S57: Increase detection sensitivity)
When it is determined in step S56 that the detection sensitivity of the imaging device 59 is equal to or less than the sixth threshold TH6 (S56: Y), the main control unit 111 controls the imaging device 59 to increase the detection sensitivity. The main control unit 111 can increase the detection sensitivity at a predetermined amount or a predetermined ratio.

このように、ステップS56及びステップS57において第2検出感度制御が行われる。ステップS57が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。   Thus, the second detection sensitivity control is performed in step S56 and step S57. When step S57 is completed, the operation of step S34 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S58:合焦制御実行?)
ステップS56において撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6を超えると判定されたとき(S56:N)、主制御部111は、合焦レンズ74による合焦制御を実行するか否かを判定する。主制御部111は、合焦レンズ74(アクチュエータ)に対する制御内容や合焦レンズ74の位置に基づいて合焦制御を実行するか否かを判定することができる。合焦レンズ74による合焦制御を実行すると判定されたとき(S58:Y)、眼科装置1000の動作はステップS59に移行する。合焦レンズ74による合焦制御を実行しないと判定されたとき(S58:N)、眼科装置1000の動作はステップS60に移行する。
(S58: Execution of focus control?)
When it is determined in step S56 that the detection sensitivity of the imaging device 59 exceeds the sixth threshold TH6 (S56: N), the main control unit 111 determines whether or not to execute focusing control by the focusing lens 74. . The main control unit 111 can determine whether or not to execute focusing control based on the control content for the focusing lens 74 (actuator) and the position of the focusing lens 74. When it is determined that the focusing control by the focusing lens 74 is to be performed (S58: Y), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S59. When it is determined that the focusing control by the focusing lens 74 is not to be performed (S58: N), the operation of the ophthalmologic apparatus 1000 proceeds to step S60.

(S59:合焦制御)
ステップS58において合焦レンズ74による合焦制御を実行すると判定されたとき(S58:Y)、主制御部111は、アクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ合焦レンズ74を移動する。主制御部111は、リング像の輝度が上昇するように移動方向を変更しつつステップS59の制御を繰り返すことが可能である。ステップS59が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。
(S59: Focus control)
When it is determined in step S58 that focusing control by the focusing lens 74 is to be performed (S58: Y), the main control unit 111 moves the focusing lens 74 by a predetermined movement amount by controlling the actuator. The main control unit 111 can repeat the control of step S59 while changing the moving direction so as to increase the luminance of the ring image. When step S59 is completed, the operation of step S34 of the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

(S60:エラー処理)
ステップS58において合焦レンズ74による合焦制御を実行しないと判定されたとき(S58:N)、主制御部111は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部170に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が低いと判定されたにもかかわらず、撮像素子59の検出感度や露光時間、レフ測定光源61の光量、合焦レンズ74に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップS60が完了すると、眼科装置1000によるレフ測定が終了する(エンド)。
(S60: error processing)
When it is determined in step S58 that the focusing control by the focusing lens 74 is not to be performed (S58: N), the main control unit 111 executes a predetermined error processing. The predetermined error process includes an error display process on the display unit 170 and the like. Error processing when it is determined that control of the detection sensitivity of the image sensor 59, the exposure time, the light amount of the reflex measurement light source 61, and the focusing lens 74 is impossible although the luminance of the ring image is determined to be low. Is executed. When step S60 is completed, the reflex measurement by the ophthalmologic apparatus 1000 ends (end).

以上のように、輝度上昇制御が繰り返し実行されることで、第2光量制御が優先的に実行された後、第2光量制御を補足するために第2露光時間制御が実行される。そして、第2露光時間制御を補足するために第2検出感度制御が実行され、最後に第2検出感度制御を補足するために合焦制御が実行される。   As described above, by repeatedly executing the brightness increase control, after the second light amount control is preferentially performed, the second exposure time control is performed to supplement the second light amount control. Then, the second detection sensitivity control is executed to supplement the second exposure time control, and finally the focusing control is executed to supplement the second detection sensitivity control.

第2光量制御によりレフ測定光源61の光量を上げると被検眼Eに投射されるリング状光束が被検者に視認されてしまい、被検者が注視して雲霧が難しくなる可能性がある。そこで、第2光量制御によりある程度まで光量を上げた後に、第2露光時間制御により露光時間を制御することで、被検者に測定パターンが視認しにくくすることで、雲霧が容易になり、測定誤差の発生を防ぐことが可能になる。   If the light amount of the reflex measurement light source 61 is increased by the second light amount control, the ring-shaped light beam projected onto the eye E may be visually recognized by the subject, and the subject may gaze closely to make fog difficult. Therefore, after the light amount is increased to a certain extent by the second light amount control, the exposure time is controlled by the second exposure time control, so that the measurement pattern is less likely to be recognized by the subject, cloudiness is facilitated, and measurement is performed. It becomes possible to prevent the occurrence of an error.

また、第2露光時間制御の実行は、測定時間を長くすることを意味する。第2検出感度制御は、ノイズ成分を増幅して画質を劣化させる可能性がある。従って、第2光量制御の後に第2露光時間制御を行うことにより、測定時間の長期化を回避することができる。第2露光時間制御の後に第2検出感度制御を行うことにより、画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。   Also, the execution of the second exposure time control means that the measurement time is prolonged. The second detection sensitivity control may amplify the noise component and degrade the image quality. Therefore, by performing the second exposure time control after the second light quantity control, it is possible to avoid prolongation of the measurement time. By performing the second detection sensitivity control after the second exposure time control, it is possible to suppress the deterioration of the image quality as much as possible.

また、図9に示す輝度低下制御又は図10に示す輝度上昇制御において、測定時間を短縮するために露光時間制御よりも検出感度制御を優先したり、検出感度制御だけを行うようにしたりしてもよい。また、図10におけるステップS58及びステップS59は、図7のステップS14(1回目の仮測定)では実行されず、図7のステップS20(2回目の仮測定)だけ実行されてもよい。   In addition, in the brightness reduction control shown in FIG. 9 or the brightness increase control shown in FIG. 10, in order to shorten the measurement time, priority is given to detection sensitivity control over exposure time control or only detection sensitivity control is performed. It is also good. Moreover, step S58 and step S59 in FIG. 10 may not be performed in step S14 (first tentative measurement) in FIG. 7, but may be performed only in step S20 (second tentative measurement) in FIG. 7.

ステップS14は、実施形態に係る「第1測定条件決定ステップ」の一例である。ステップS20は、実施形態に係る「第2測定条件決定ステップ」の一例である。ステップS23は、実施形態に係る「雲霧制御ステップ」の一例である。ステップS24は、実施形態に係る「測定ステップ」の一例である。   Step S14 is an example of the “first measurement condition determining step” according to the embodiment. Step S20 is an example of the “second measurement condition determining step” according to the embodiment. Step S23 is an example of the "fog control step" according to the embodiment. Step S24 is an example of the "measurement step" according to the embodiment.

ステップS31は、実施形態に係る「第1判定ステップ」の一例である。ステップS42は、実施形態に係る「第2判定ステップ」の一例である。ステップS43は、実施形態に係る「第1検出感度制御ステップ」の一例である。ステップS44は、実施形態に係る「第3判定ステップ」の一例である。ステップS45は、実施形態に係る「第1露光時間制御ステップ」の一例である。ステップS46は、実施形態に係る「第4判定ステップ」の一例である。ステップS47は、実施形態に係る「第1光量制御ステップ」の一例である。   Step S31 is an example of the "first determination step" according to the embodiment. Step S42 is an example of the "second determination step" according to the embodiment. Step S43 is an example of the "first detection sensitivity control step" according to the embodiment. Step S44 is an example of the "third determination step" according to the embodiment. Step S45 is an example of the “first exposure time control step” according to the embodiment. Step S46 is an example of the "fourth determination step" according to the embodiment. Step S47 is an example of the "first light amount control step" according to the embodiment.

ステップS33は、実施形態に係る「第5判定ステップ」の一例である。ステップS52は、実施形態に係る「第6判定ステップ」の一例である。ステップS53は、実施形態に係る「第2光量制御ステップ」の一例である。ステップS54は、実施形態に係る「第7判定ステップ」の一例である。ステップS55は、実施形態に係る「第2露光時間制御ステップ」の一例である。ステップS56は、実施形態に係る「第8判定ステップ」の一例である。ステップS57は、実施形態に係る「第2検出感度制御ステップ」の一例である。   Step S33 is an example of the "fifth determination step" according to the embodiment. Step S52 is an example of the "sixth determination step" according to the embodiment. Step S53 is an example of the “second light amount control step” according to the embodiment. Step S54 is an example of the "seventh determination step" according to the embodiment. Step S55 is an example of the “second exposure time control step” according to the embodiment. Step S56 is an example of the "eighth determination step" according to the embodiment. Step S57 is an example of the "second detection sensitivity control step" according to the embodiment.

[変形例]
実施形態に係る眼科装置1000の光学系の構成は図1に示す構成に限定されるものではない。
[Modification]
The configuration of the optical system of the ophthalmologic apparatus 1000 according to the embodiment is not limited to the configuration shown in FIG.

図11に、実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図11において、図1と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。   FIG. 11 shows a configuration example of an optical system of an ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. In FIG. 11, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals, and the description will be omitted as appropriate.

変形例に係る眼科装置1000aの構成が眼科装置1000の構成と異なる点は、レフ測定投射系6に代えてレフ測定投射系6aが設けられている点である。レフ測定投射系6aの構成がレフ測定投射系6の構成と異なる点は、円錐プリズム63及びフィールドレンズ64に代えてリングレンズ69が設けられている点である。リングレンズ69は、遮光領域として形成された中心領域と、当該中心領域の周囲にリング状に形成されたレンズ部とを含む。リングレンズ69はフィールドレンズと円錐プリズムを複合した光学素子として機能する。   The configuration of the ophthalmologic apparatus 1000a according to the modification is different from the configuration of the ophthalmologic apparatus 1000 in that a reflex measurement projection system 6a is provided instead of the reflex measurement projection system 6. The configuration of the reflex measurement projection system 6a is different from that of the reflex measurement projection system 6 in that a ring lens 69 is provided instead of the conical prism 63 and the field lens 64. The ring lens 69 includes a central region formed as a light shielding region, and a lens portion formed in a ring shape around the central region. The ring lens 69 functions as an optical element in which a field lens and a conical prism are combined.

本変形例において、リングレンズ69は、レフ測定投射系6aの大型化を回避しつつ、瞳孔共役位置Qに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。   In the present modification, it is desirable that the ring lens 69 be disposed at a position as close as possible to the pupil conjugate position Q while avoiding enlargement of the reflex measurement projection system 6a.

図12に、リングレンズ69の断面図を模式的に示す。例えば、図12に示すように、リングレンズ69の被検眼Eの側のレンズ面にリング絞り65が貼り付けられている。   FIG. 12 schematically shows a cross-sectional view of the ring lens 69. As shown in FIG. For example, as shown in FIG. 12, a ring diaphragm 65 is attached to the lens surface of the ring lens 69 on the eye E side.

本変形例に係る眼科装置1000aの動作は実施形態と同様であるため、詳細な説明を省略する。   Since the operation of the ophthalmologic apparatus 1000a according to the present modification is the same as that of the embodiment, the detailed description will be omitted.

本変形例においても、実施形態と同様に、被検眼Eに入射する光量を小さくすることができ、線幅が細く、輝度の高いパターンを被検眼Eに投射することができる。従って、被検者の負担を軽減しつつ、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、瞳孔にも細いリング状光束を入射することができるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。   Also in this modification, as in the embodiment, the amount of light incident on the eye to be examined E can be reduced, and a pattern having a narrow line width and high luminance can be projected on the eye to be examined E. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable eye refractive power value while reducing the burden on the subject. In addition, since a thin ring-shaped luminous flux can be made incident on the pupil, it is possible to suppress the occurrence of measurement error with little influence due to the interception of the incident luminous flux in the turbid part of the lens caused by eyebrows and cataracts. .

[作用・効果]
実施形態又は変形例に係る眼科装置の作用及び効果について説明する。
[Operation / effect]
The operation and effects of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment or the modification will be described.

実施形態に係る眼科装置(1000、1000a)は、光学系(前眼部観察系5、レフ測定投射系6又はレフ測定投射系6a、レフ測定受光系7)と、解析部121と、制御部(110、主制御部111)とを含む。光学系は、光源(レフ測定光源61)からの光に基づくパターン光(リング状光束)を被検眼(E)に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ(74)を介して撮像素子(59)で受光する。解析部は、撮像素子により得られたパターン像(リング像)に基づいて被検眼の眼屈折力値を算出する。制御部は、撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、第1測定条件の下で撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で被検眼を雲霧視させた状態で撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて眼屈折力値を解析部に算出させる。   The ophthalmologic apparatus (1000, 1000a) according to the embodiment includes an optical system (an anterior segment observation system 5, a reflex measurement projection system 6, a reflex measurement projection system 6a, a reflex measurement light reception system 7), an analysis unit 121, and a control unit. And (110, main control unit 111). The optical system projects pattern light (ring-like light flux) based on light from the light source (reflex measurement light source 61) onto the eye to be examined (E), and the focal position can change the return light of the pattern light from the eye Light is received by the imaging device (59) through the focusing lens (74). The analysis unit calculates an eye refractive power value of the subject's eye based on the pattern image (ring image) obtained by the imaging device. The control unit is a first measurement condition including at least one of the light intensity of the light source, the exposure time of the imaging device, the detection sensitivity of the imaging device, and the control content for the focusing lens based on the first pattern image obtained by the imaging device. To determine a second measurement condition including at least one of light intensity, exposure time, detection sensitivity, and control content based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition, and (2) The analysis unit is made to calculate the eye refractive power value based on the third pattern image obtained by the imaging device in a state in which the subject's eye is clouded under the measurement conditions.

このような構成によれば、仮測定を行って第1測定条件を決定し、決定された第1測定条件の下で再び仮測定を行って第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, the temporary measurement is performed to determine the first measurement condition, and the temporary measurement is performed again under the determined first measurement condition to determine the second measurement condition. Since the eye refractive power value is obtained below, even when the brightness of the pattern image is high, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art.

また、実施形態に係る眼科装置では、光源は、被検眼の眼底(Ef)と光学的に略共役になるように配置され、光学系は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置(Q)に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り(リング絞り65)と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材(円錐プリズム63、リングレンズ69)と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。   In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the light source is disposed so as to be optically substantially conjugate with the fundus (Ef) of the eye to be examined, and the optical system is optically substantially conjugate to the pupil of the eye to be examined ( A diaphragm (ring diaphragm 65) disposed in Q) and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member (conical prism 63, ring lens 69) for deflecting the light from the light source and guiding it to the light transmitting portion And light may be projected onto the subject's eye as pattern light.

このような構成によれば、眼底に細い(内径と外径との幅が狭い)パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, it is possible to project thin pattern light (with narrow inner diameter and outer width) on the fundus, so that the pattern obtained by projecting high-brightness pattern light can be obtained. It becomes possible to improve the analysis accuracy of the image. As a result, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art by performing a pattern image with high luminance and performing a plurality of temporary measurements.

また、実施形態に係る眼科装置では、制御部は、第1パターン像の輝度が高いとき第1輝度低下制御(ステップS14、ステップS32)を実行し、第1パターン像の輝度が低いとき第1輝度上昇制御(ステップS14、ステップS34)を実行し、第2パターン像の輝度が高いとき第2輝度低下制御(ステップS20、ステップS32)を実行し、第2パターン像の輝度が低いとき第2輝度上昇制御(ステップS20、ステップS34)を実行してもよい。   Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the control unit executes the first luminance reduction control (step S14, step S32) when the luminance of the first pattern image is high, and the first part when the luminance of the first pattern image is low. The brightness increase control (step S14, step S34) is executed, and the second brightness decrease control (step S20, step S32) is executed when the brightness of the second pattern image is high, and the brightness of the second pattern image is low The brightness increase control (step S20, step S34) may be executed.

このような構成によれば、パターン像の輝度が所定の輝度範囲に収まるように第1測定条件と第2測定条件を決定するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても測定精度を低下させることなく、従来に比べてより高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, since the first measurement condition and the second measurement condition are determined so that the brightness of the pattern image falls within the predetermined brightness range, even if the brightness of the pattern image is high, the measurement is performed. It becomes possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than before without lowering the accuracy.

また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度低下制御及び第2輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1検出感度制御(ステップS43)の後に、露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第1露光時間制御(ステップS45)を行ってもよい。   In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is a first detection sensitivity that lowers the luminance of the pattern image by lowering the detection sensitivity based on the luminance of the pattern image. After the control (step S43), first exposure time control (step S45) may be performed to reduce the brightness of the pattern image by shortening the exposure time.

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、測定環境に大きな影響を与えることなく、測定精度の低下を抑えることができるようになる。   According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy without significantly affecting the measurement environment.

また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度低下制御及び第2輝度低下制御の少なくとも一方は、第1露光時間制御(ステップS45)の後に、光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1光量制御(ステップS47)を行ってもよい。   In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control reduces the luminance of the pattern image by reducing the light amount after the first exposure time control (step S45). One light quantity control (step S47) may be performed.

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、被検眼の移動に起因する測定エラーの発生を抑えつつ、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。   According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, it is possible to minimize the influence on the measurement environment while suppressing the occurrence of the measurement error caused by the movement of the eye to be examined.

また、実施形態に係る眼科装置では、光学系は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム(67)を含み、第1露光時間制御は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように露光時間を短くしてもよい。   Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the optical system includes the rotary prism (67) disposed in the optical path of the pattern light, and the first exposure time control is at least the lower limit time defined by the rotational speed of the rotary prism. The exposure time may be shortened to

このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。   According to such a configuration, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy while obtaining the effect of averaging the light amount distribution by the rotary prism.

また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度上昇制御及び第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第2光量制御(ステップS53)の後に、露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第2露光時間制御(ステップS55)を行ってもよい。   In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is exposed after the second light amount control (step S53) for increasing the luminance of the pattern image by increasing the light amount. A second exposure time control (step S55) may be performed to increase the brightness of the pattern image by lengthening the time.

このような構成によれば、パターン光が被検者に視認されてしまうことなく被検眼の固視を容易にして、測定精度の低下を防ぐことができるようになる。   According to such a configuration, it is possible to facilitate fixation of the eye to be examined without the pattern light being visually recognized by the subject and to prevent a decrease in measurement accuracy.

また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度上昇制御及び第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、第2露光時間制御(ステップS55)の後に、検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第2検出感度制御(ステップS57)を行ってもよい。   In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control increases the brightness of the pattern image by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control (step S55). The second detection sensitivity control (step S57) may be performed.

このような構成によれば、測定時間の長期化を回避すると共に、ノイズ成分の増幅に起因する画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。   According to such a configuration, it is possible to avoid the prolongation of the measurement time and to suppress the deterioration of the image quality caused by the amplification of the noise component as much as possible.

また、実施形態に係る眼科装置では、パターン光は、リング状の光であってよい。   Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the pattern light may be ring-shaped light.

このような構成によれば、リング状の光に基づくリング像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, even when the luminance of the ring image based on the ring-shaped light is high, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than conventional.

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法は、光源(レフ測定光源61)からの光に基づくパターン光(リング状光束)を被検眼(E)に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ(74)を介して撮像素子(59)で受光することにより被検眼の屈折力を測定するための方法である。眼科装置の制御方法は、第1測定条件ステップ(ステップS14)と、第2測定条件ステップ(ステップS20)と、雲霧制御ステップ(ステップS23)と、測定ステップ(ステップS24)とを含む。第1測定条件ステップは、撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する。第2測定条件決定ステップは、第1測定条件の下で撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する。雲霧制御ステップは、第2測定条件の下で被検眼を雲霧視させる。測定ステップは、雲霧制御ステップにおいて被検眼を雲霧視させた状態で屈折力を測定する。   Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, pattern light (ring light flux) based on light from the light source (reflex measurement light source 61) is projected onto the eye to be examined (E), and the pattern light is returned from the eye This is a method for measuring the refractive power of an eye to be examined by receiving light at the imaging device (59) through a focusing lens (74) whose focal position can be changed. The control method of the ophthalmologic apparatus includes a first measurement condition step (step S14), a second measurement condition step (step S20), a fog control step (step S23), and a measurement step (step S24). The first measurement condition step includes at least one of the light amount of the light source, the exposure time of the imaging device, the detection sensitivity of the imaging device, and the control content for the focusing lens based on the first pattern image obtained by the imaging device. Determine the first measurement condition. The second measurement condition determining step is a second measurement condition including at least one of light amount, exposure time, detection sensitivity, and control content based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition. Decide. The fog control step fogs the subject eye under the second measurement condition. In the measurement step, the refractive power is measured in a state of fogging the eye to be examined in the fog control step.

このような構成によれば、第1測定条件決定ステップにおいて第1測定条件を決定し、決定された第1測定条件の下で第2測定条件決定ステップにおいて第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, the first measurement condition is determined in the first measurement condition determination step, and the second measurement condition is determined in the second measurement condition determination step under the determined first measurement condition. Since the eye refractive power value is acquired under the measurement conditions, even when the brightness of the pattern image is high, it becomes possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art.

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第1測定条件決定ステップ及び第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第1判定ステップ(ステップS31)と、第2判定ステップ(ステップS42)と、第1検出感度制御ステップ(ステップS43)と、第3判定ステップ(ステップS44)と、第1露光時間制御ステップ(ステップS45)と、第4判定ステップ(ステップS46)と、第1光量制御ステップ(ステップS47)とを含んでもよい。第1判定ステップは、パターン像の輝度が高いか否かを判定する。第2判定ステップは、第1判定ステップにおいて輝度が高いと判定されたとき、検出感度が第1閾値(TH1)以上であるか否かを判定する。第1検出感度制御ステップは、第2判定ステップにおいて検出感度が第1閾値以上であると判定されたとき、検出感度を下げる。第3判定ステップは、第2判定ステップにおいて検出感度が第1閾値未満であると判定されたとき、露光時間が第2閾値(TH2)以上であるか否かを判定する。第1露光時間制御ステップは、第3判定ステップにおいて露光時間が第2閾値以上であると判定されたとき、露光時間を短くする。第4判定ステップは、第3判定ステップにおいて検出感度が第2閾値未満であると判定されたとき、光量が第3閾値(TH3)以上であるか否かを判定する。第1光量制御ステップは、第4判定ステップにおいて光量が第3閾値以上であると判定されたとき、光量を下げる。   In the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step includes a first determination step (step S31) and a second determination step (step S42). , First detection sensitivity control step (step S43), third determination step (step S44), first exposure time control step (step S45), fourth determination step (step S46), and first light amount control step And (Step S47) may be included. The first determination step determines whether the brightness of the pattern image is high. The second determination step determines whether the detection sensitivity is equal to or higher than a first threshold (TH1) when it is determined that the luminance is high in the first determination step. The first detection sensitivity control step reduces the detection sensitivity when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is equal to or higher than a first threshold. In the third determination step, when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is less than the first threshold, it is determined whether the exposure time is equal to or greater than a second threshold (TH2). The first exposure time control step shortens the exposure time when it is determined in the third determination step that the exposure time is equal to or greater than the second threshold. In the fourth determination step, when it is determined in the third determination step that the detection sensitivity is less than the second threshold, it is determined whether the light amount is equal to or more than a third threshold (TH3). The first light quantity control step reduces the light quantity when it is determined in the fourth determination step that the light quantity is equal to or greater than the third threshold.

このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、まず、検出感度を下げてから露光時間を短くし、光量を下げるようにしたので、測定環境に与える影響を小さくしつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。   According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, first, the detection sensitivity is lowered and then the exposure time is shortened to reduce the light amount. Therefore, the influence on the measurement environment is reduced, It is possible to minimize the drop in measurement accuracy with respect to the optometry movement.

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、眼科装置は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム(67)を含み、第2閾値は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上であってよい。   Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the ophthalmologic apparatus includes a rotary prism (67) disposed in the light path of the pattern light, and the second threshold is equal to or more than the lower limit time defined by the rotational speed of the rotary prism. It may be.

このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。   According to such a configuration, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy while obtaining the effect of averaging the light amount distribution by the rotary prism.

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第1測定条件決定ステップ及び第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第5判定ステップ(ステップS33)と、第6判定ステップ(ステップS52)と、第2光量制御ステップ(ステップS53)と、第7判定ステップ(ステップS54)と、第2露光時間制御ステップ(ステップS55)と、第8判定ステップ(ステップS56)と、第2検出感度制御ステップ(ステップS57)とを含んでもよい。第5判定ステップは、パターン像の輝度が低いか否かを判定する。第6判定ステップは、第5判定ステップにおいて輝度が低いと判定されたとき、光量が第4閾値(TH4)以下であるか否かを判定する。第2光量制御ステップは、第6判定ステップにおいて光量が第4閾値以下であると判定されたとき、光量を上げる。第7判定ステップは、第6判定ステップにおいて光量が第4閾値を超えると判定されたとき、露光時間が第5閾値(TH5)以下であるか否かを判定する。第2露光時間制御ステップは、第7判定ステップにおいて露光時間が第5閾値以下であると判定されたとき、露光時間を長くする。第8判定ステップは、第7判定ステップにおいて露光時間が第5閾値を超えると判定されたとき、検出感度が第6閾値(TH6)以下であるか否かを判定する。第2検出感度制御ステップは、第8判定ステップにおいて検出感度が第6閾値以下であると判定されたとき、検出感度を上げる。   In the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step includes a fifth determination step (step S33) and a sixth determination step (step S52). , Second light amount control step (step S53), seventh determination step (step S54), second exposure time control step (step S55), eighth determination step (step S56), and second detection sensitivity control step And (Step S57) may be included. The fifth determination step determines whether the luminance of the pattern image is low. The sixth determination step determines whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold (TH4) when it is determined in the fifth determination step that the luminance is low. The second light quantity control step increases the light quantity when it is determined in the sixth determination step that the light quantity is equal to or less than the fourth threshold. The seventh determination step determines whether the exposure time is equal to or less than a fifth threshold (TH5) when it is determined in the sixth determination that the light amount exceeds the fourth threshold. The second exposure time control step lengthens the exposure time when it is determined in the seventh determination step that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold. The eighth determination step determines whether the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold (TH6) when the exposure time is determined to exceed the fifth threshold in the seventh determination step. The second detection sensitivity control step increases the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold.

このような構成によれば、パターン像の輝度が低い場合に、まず、光量を上げてから露光時間を長くし、検出感度を上げるようにしたので、検出感度を上げることによるノイズ成分の増加を抑えつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。   According to such a configuration, when the luminance of the pattern image is low, first, the exposure time is increased after the light amount is increased, and the detection sensitivity is increased. Therefore, the noise component is increased by increasing the detection sensitivity. It is possible to minimize the decrease in measurement accuracy with respect to the movement of the eye while suppressing.

また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、光源は、被検眼の眼底(Ef)と光学的に略共役になるように配置され、眼科装置は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置(Q)に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り(リング絞り65)と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材(円錐プリズム63、リングレンズ69)と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。   Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus (Ef) of the eye to be examined, and the ophthalmologic apparatus is substantially conjugate to the pupil of the eye to be examined optically A diaphragm (ring diaphragm 65) disposed at a proper position (Q) and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member (cone prism 63, A ring lens 69) may be included, and the light transmitted through the light transmitting portion may be projected onto the eye as pattern light.

このような構成によれば、眼底に細い(内径と外径との幅が狭い)パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。   According to such a configuration, it is possible to project thin pattern light (with narrow inner diameter and outer width) on the fundus, so that the pattern obtained by projecting high-brightness pattern light can be obtained. It becomes possible to improve the analysis accuracy of the image. As a result, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art by performing a pattern image with high luminance and performing a plurality of temporary measurements.

<その他の変形例>
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。
<Other Modifications>
The embodiment shown above is only an example for implementing this invention. A person who intends to practice the present invention can make any modification, omission, addition, and the like within the scope of the present invention.

前述の実施形態では、視標チャート43として透過型の液晶パネルを用いた場合について説明したが、実施形態に係る眼科装置の構成はこれに限定されるものではない。視標チャート43は、光学式チャートであってもよい。   In the above-mentioned embodiment, although the case where a transmission type liquid crystal panel was used as target chart 43 was explained, the composition of the ophthalmologic apparatus concerning an embodiment is not limited to this. The target chart 43 may be an optical chart.

前述の実施形態おける撮像素子59の露光時間の変更に代えて、撮像素子59により得られた画像の重ね合わせ枚数を変更するようにしてもよい。この場合、演算処理部120(解析部121)は、主制御部111から指定された重ね合わせ枚数で、撮像素子59により得られた画像の重ね合わせ処理を行うことが可能である。   Instead of changing the exposure time of the imaging device 59 in the above-described embodiment, the number of superimposed images of images obtained by the imaging device 59 may be changed. In this case, the arithmetic processing unit 120 (analyzing unit 121) can perform the superposition processing of the images obtained by the imaging device 59 with the number of overlapping sheets specified by the main control unit 111.

1 Zアライメント系
2 XYアライメント系
3 ケラト測定系
4 視標投影系
5 前眼部観察系
6、6a レフ測定投射系
7 レフ測定受光系
9 処理部
63 円錐プリズム
64 フィールドレンズ
65 リング絞り
69 リングレンズ
110 制御部
111 主制御部
121 解析部
1000、1000a 眼科装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Z alignment system 2 XY alignment system 3 Kerat measurement system 4 Target projection system 5 Front eye observation system 6, 6 a Ref measurement projection system 7 Reflex measurement light reception system 9 Processing unit 63 Conical prism 64 Field lens 65 Ring diaphragm 69 Ring lens 110 control unit 111 main control unit 121 analysis unit 1000, 1000a ophthalmologic apparatus

Claims (14)

光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光する光学系と、
前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、
前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部と、
を含む眼科装置。
An optical system which projects pattern light based on light from a light source onto an eye to be examined, and receives the return light of the pattern light from the eye through a focusing lens whose focal position can be changed;
An analysis unit that calculates an eye refractive power value of the subject's eye based on the pattern image obtained by the image sensor;
A first measurement including at least one of the light amount of the light source, the exposure time of the imaging device, the detection sensitivity of the imaging device, and the control content of the focusing lens based on the first pattern image obtained by the imaging device A second condition including the at least one of the light intensity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition; The measurement condition is determined, and the eye refracting power value is calculated by the analysis unit based on the third pattern image obtained by the imaging device in a state in which the subject's eye is clouded under the second measurement condition. A control unit,
Ophthalmic device including.
前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、
前記光学系は、
前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、
前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、
を含み、
前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する
ことを特徴とする請求項1に記載の眼科装置。
The light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the subject's eye,
The optical system is
A diaphragm disposed at a position substantially optically conjugate with the pupil of the eye to be examined and formed with a light transmitting portion transmitting light from the light source;
A deflecting member that deflects light from the light source and guides the light to the light transmitting portion;
Including
The ophthalmologic apparatus according to claim 1, wherein the light transmitted through the light transmitting unit is projected as the pattern light onto the eye to be examined.
前記制御部は、前記第1パターン像の輝度が高いとき第1輝度低下制御を実行し、前記第1パターン像の輝度が低いとき第1輝度上昇制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が高いとき第2輝度低下制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が低いとき第2輝度上昇制御を実行する
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の眼科装置。
The control unit executes the first luminance reduction control when the luminance of the first pattern image is high, and executes the first luminance increase control when the luminance of the first pattern image is low, and the luminance of the second pattern image is generated. The ophthalmologic apparatus according to claim 1 or 2, wherein the second brightness reduction control is executed when H is high, and the second brightness increase control is executed when the brightness of the second pattern image is low.
前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、前記検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1検出感度制御の後に、前記露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第1露光時間制御を行う
ことを特徴とする請求項3に記載の眼科装置。
At least one of the first brightness reduction control and the second brightness reduction control performs the exposure time after the first detection sensitivity control to reduce the brightness of the pattern image by lowering the detection sensitivity based on the brightness of the pattern image. 4. The ophthalmologic apparatus according to claim 3, wherein the first exposure time control to lower the brightness of the pattern image is performed by shortening the length.
前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、前記第1露光時間制御の後に、前記光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1光量制御を行う
ことを特徴とする請求項4に記載の眼科装置。
At least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control performs first light amount control for reducing the luminance of the pattern image by reducing the light amount after the first exposure time control. The ophthalmologic apparatus according to claim 4.
前記光学系は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、
前記第1露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くする
ことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の眼科装置。
The optical system includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light,
The ophthalmologic apparatus according to claim 4 or 5, wherein the first exposure time control shortens the exposure time to be equal to or more than a lower limit time defined by a rotational speed of the rotary prism.
前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第2光量制御の後に、前記露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第2露光時間制御を行う
ことを特徴とする請求項3〜請求項6のいずれか一項に記載の眼科装置。
At least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control increases the light intensity to increase the brightness of the pattern image, and then extends the exposure time after the second light intensity control to increase the brightness of the pattern image. The ophthalmologic apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein a second exposure time control is performed.
前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記第2露光時間制御の後に、前記検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第2検出感度制御を行う
ことを特徴とする請求項7に記載の眼科装置。
At least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control performs second detection sensitivity control to increase the brightness of the pattern image by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control. The ophthalmologic apparatus according to claim 7.
前記パターン光は、リング状の光である
ことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の眼科装置。
The ophthalmologic apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the pattern light is ring-shaped light.
光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光することにより前記被検眼の屈折力を測定する眼科装置の制御方法であって、
前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する第1測定条件決定ステップと、
前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する第2測定条件決定ステップと、
前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、
前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、
を含む眼科装置の制御方法。
The pattern light based on the light from the light source is projected onto the subject's eye, and the return light from the subject's eye of the pattern light is received by the imaging device through the focusing lens whose focal position can be changed. A control method of an ophthalmologic apparatus for measuring refractive power, comprising:
A first light source includes at least one of a light amount of the light source, an exposure time of the image pickup device, a detection sensitivity of the image pickup device, and control contents of the focusing lens based on the first pattern image obtained by the image pickup device. A first measurement condition determination step of determining a measurement condition;
A second measurement condition including at least one of the light amount, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content is determined based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition. A second measurement condition determining step
A fog control step of causing the subject eye to fog under the second measurement condition;
A measuring step of measuring the refractive power in a state in which the subject's eye is seen fogged in the fog control step;
Method of controlling an ophthalmologic apparatus including:
前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、
パターン像の輝度が高いか否かを判定する第1判定ステップと、
前記第1判定ステップにおいて前記輝度が高いと判定されたとき、前記検出感度が第1閾値以上であるか否かを判定する第2判定ステップと、
前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値以上であると判定されたとき、前記検出感度を下げる第1検出感度制御ステップと、
前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値未満であると判定されたとき、前記露光時間が第2閾値以上であるか否かを判定する第3判定ステップと、
前記第3判定ステップにおいて前記露光時間が前記第2閾値以上であると判定されたとき、前記露光時間を短くする第1露光時間制御ステップと、
前記第3判定ステップにおいて前記検出感度が前記第2閾値未満であると判定されたとき、前記光量が第3閾値以上であるか否かを判定する第4判定ステップと、
前記第4判定ステップにおいて前記光量が前記第3閾値以上であると判定されたとき、前記光量を下げる第1光量制御ステップと、
を含む
ことを特徴とする請求項10に記載の眼科装置の制御方法。
At least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is
A first determination step of determining whether the brightness of the pattern image is high;
A second determination step of determining whether the detection sensitivity is equal to or greater than a first threshold when it is determined that the luminance is high in the first determination step;
A first detection sensitivity control step of decreasing the detection sensitivity when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is equal to or higher than the first threshold;
A third determination step of determining whether the exposure time is greater than or equal to a second threshold when the detection sensitivity is determined to be less than the first threshold in the second determination step;
A first exposure time control step of shortening the exposure time when it is determined in the third determination step that the exposure time is the second threshold or more;
A fourth determination step of determining whether the light amount is equal to or more than a third threshold when the detection sensitivity is determined to be less than the second threshold in the third determination step;
A first light amount control step of decreasing the light amount when it is determined in the fourth determination step that the light amount is equal to or greater than the third threshold;
The control method of an ophthalmologic apparatus according to claim 10, comprising:
前記眼科装置は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、
前記第2閾値は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上である
ことを特徴とする請求項11に記載の眼科装置の制御方法。
The ophthalmologic apparatus includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light,
The control method of the ophthalmologic apparatus according to claim 11, wherein the second threshold is equal to or more than a lower limit time defined by a rotational speed of the rotary prism.
前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、
パターン像の輝度が低いか否かを判定する第5判定ステップと、
前記第5判定ステップにおいて前記輝度が低いと判定されたとき、前記光量が第4閾値以下であるか否かを判定する第6判定ステップと、
前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値以下であると判定されたとき、前記光量を上げる第2光量制御ステップと、
前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値を超えると判定されたとき、前記露光時間が第5閾値以下であるか否かを判定する第7判定ステップと、
前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値以下であると判定されたとき、前記露光時間を長くする第2露光時間制御ステップと、
前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値を超えると判定されたとき、前記検出感度が第6閾値以下であるか否かを判定する第8判定ステップと、
前記第8判定ステップにおいて前記検出感度が前記第6閾値以下であると判定されたとき、前記検出感度を上げる第2検出感度制御ステップと、
を含む
ことを特徴とする請求項10〜請求項12のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法。
At least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is
A fifth determination step of determining whether the brightness of the pattern image is low;
A sixth determination step of determining whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold when the luminance is determined to be low in the fifth determination step;
A second light amount control step of increasing the light amount when it is determined in the sixth determination step that the light amount is equal to or less than the fourth threshold;
A seventh determination step of determining whether the exposure time is equal to or less than a fifth threshold when the light amount is determined to exceed the fourth threshold in the sixth determination step;
A second exposure time control step of lengthening the exposure time when it is determined in the seventh determination step that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold;
An eighth determination step of determining whether the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold when it is determined in the seventh determination step that the exposure time exceeds the fifth threshold;
A second detection sensitivity control step of increasing the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is equal to or less than the sixth threshold;
The control method of the ophthalmologic apparatus according to any one of claims 10 to 12, further comprising:
前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、
前記眼科装置は、
前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、
前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、
を含み、
前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する
ことを特徴とする請求項10〜請求項13のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法。
The light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the subject's eye,
The ophthalmologic apparatus
A diaphragm disposed at a position substantially optically conjugate with the pupil of the eye to be examined and formed with a light transmitting portion transmitting light from the light source;
A deflecting member that deflects light from the light source and guides the light to the light transmitting portion;
Including
The control method of the ophthalmologic apparatus according to any one of claims 10 to 13, wherein the light transmitted through the light transmitting portion is projected as the pattern light onto the eye to be examined.
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