JP2019058441A - Ophthalmologic apparatus and control method - Google Patents
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Abstract
Description
この発明は、眼科装置、及びその制御方法に関する。 The present invention relates to an ophthalmologic apparatus and a control method thereof.
眼科装置として、被検眼の眼屈折力の測定が可能なものが知られている。例えば、特許文献1には、被検眼の眼底に測定パターンを投射し、眼底からの反射光を瞳孔の中心部から取り出し、取得されたパターン像の大きさや変形の度合いから眼屈折力値を算出する眼科装置が開示されている。 As an ophthalmologic apparatus, one capable of measuring the eye refractive power of an eye to be examined is known. For example, in Patent Document 1, a measurement pattern is projected on the fundus of the subject's eye, reflected light from the fundus is extracted from the center of the pupil, and the eye refractive power value is calculated from the size of the acquired pattern image and the degree of deformation. Ophthalmologic apparatus is disclosed.
このような眼科装置では、被検眼の調節力に応じた合焦部の移動量を事前に決定する目的で仮測定が実行される。例えば、特許文献2には、仮測定により得られた合焦部の移動量に基づいて、測定パターン像が被検眼の眼底で略合焦状態となるように合焦部を移動し、更に被検眼を雲霧視させた後に、本測定を実施することにより被検眼の正確な眼屈折力を測定する眼科装置が開示されている。 In such an ophthalmologic apparatus, temporary measurement is performed for the purpose of determining in advance the movement amount of the focusing unit according to the adjustment power of the eye to be examined. For example, in Patent Document 2, based on the movement amount of the focusing unit obtained by temporary measurement, the focusing unit is moved so that the measurement pattern image is substantially in focus at the fundus of the eye to be examined, An ophthalmologic apparatus is disclosed that measures the exact eye refractive power of an eye to be examined by performing this measurement after fogging the optometry.
被検眼の眼底に投射されるパターン像の線幅が太い場合、仮測定により求められた合焦部の移動量に基づいて合焦部を移動しても、移動前後におけるセンサ上でのパターン像の明るさ(照度)の変化は小さい。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、測定精度が問題にならない。 When the line width of the pattern image projected onto the fundus of the eye to be examined is thick, the pattern image on the sensor before and after movement even if the focusing unit is moved based on the movement amount of the focusing unit obtained by temporary measurement. The change in brightness (illuminance) is small. Therefore, when the main measurement is performed under the measurement conditions determined by the temporary measurement, the measurement accuracy does not matter.
一方、眼底に投射されるパターン像の線幅を細く、かつ輝度を高くすると、得られるパターン像のエッジ部分が急峻となるため測定光束の眼内でのケラレなどの影響を受けにくくなる。このことから、白内障眼など眼内に混濁のある被検眼に対しても、安定した測定が可能となる。しかしながら、パターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合、合焦部の移動前後におけるパターン像の明るさの変化が大きくなる。従って、仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行した場合、像の検出に十分なS/N比が得られず、却って測定精度が低下する可能性がある。 On the other hand, if the line width of the pattern image to be projected onto the fundus is thin and the luminance is high, the edge portion of the pattern image to be obtained becomes sharp, and therefore the influence of vignetting or the like in the eye on the measurement light beam becomes difficult. From this, it is possible to perform stable measurement even on an eye to be examined which has turbidity in the eye such as a cataract eye. However, when the line width of the pattern image is thin and the luminance is high, the change in the brightness of the pattern image before and after the movement of the focusing portion becomes large. Therefore, when the main measurement is performed under the measurement conditions determined by the temporary measurement, the S / N ratio sufficient for image detection can not be obtained, and the measurement accuracy may be reduced.
本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、その目的は、被検眼の眼屈折力を測定するためのパターン像の線幅が細く、かつ輝度が高い場合でも測定精度の低下を抑えることが可能な眼科装置、及びその制御方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to reduce the measurement accuracy even when the line width of a pattern image for measuring the eye refractive power of an eye to be examined is thin and the luminance is high. It is an object of the present invention to provide an ophthalmologic apparatus capable of suppressing
実施形態の第1態様は、光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光する光学系と、前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部と、を含む眼科装置である。 In the first aspect of the embodiment, pattern light based on light from a light source is projected onto an eye to be inspected, and return light from the eye to be examined of the pattern light is changed by an imaging element through a focusing lens whose focal position can be changed. An optical system that receives light, an analysis unit that calculates an eye refractive power value of the subject's eye based on a pattern image obtained by the image sensor, and a light source for the light source based on a first pattern image obtained by the image sensor A first measurement condition including at least one of a light amount, an exposure time of the image sensor, a detection sensitivity of the image sensor, and control content for the focusing lens is determined, and the image sensor detects the first measurement condition. A second measurement condition including at least one of the light quantity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content is determined based on the obtained second pattern image, and the eye to be examined is determined under the second measurement condition. Cloudy view A control unit for calculating the analysis unit the eye refractive power value based on the third pattern image obtained by the imaging device in a state where a ophthalmic device comprising a.
また、実施形態の第2態様では、第1態様において、前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、前記光学系は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、を含み、前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射してもよい。 In the second aspect of the embodiment, in the first aspect, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the eye to be examined, and the optical system is optically An aperture disposed at a position substantially conjugate to the light source and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member for deflecting the light from the light source and guiding the light to the light transmitting portion; The light transmitted through the light portion may be projected onto the eye as the pattern light.
また、実施形態の第3態様では、第1態様又は第2態様において、前記制御部は、前記第1パターン像の輝度が高いとき第1輝度低下制御を実行し、前記第1パターン像の輝度が低いとき第1輝度上昇制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が高いとき第2輝度低下制御を実行し、前記第2パターン像の輝度が低いとき第2輝度上昇制御を実行してもよい。 In the third aspect of the embodiment, in the first aspect or the second aspect, the control unit executes the first luminance reduction control when the luminance of the first pattern image is high, and the luminance of the first pattern image is generated. The first brightness increase control is performed when the second pattern image has a high brightness, the second brightness decrease control is performed when the second pattern image has a high brightness, and the second brightness increase control is performed when the second pattern image has a low brightness. It is also good.
また、実施形態の第4態様では、第3態様において、前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、前記検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1検出感度制御の後に、前記露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第1露光時間制御を行ってもよい。 In a fourth aspect of the embodiment, in the third aspect, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is configured to reduce the detection sensitivity based on the luminance of the pattern image. After the first detection sensitivity control to lower the luminance of the first exposure control, the first exposure time control to lower the luminance of the pattern image by shortening the exposure time may be performed.
また、実施形態の第5態様では、第4態様において、前記第1輝度低下制御及び前記第2輝度低下制御の少なくとも一方は、前記第1露光時間制御の後に、前記光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1光量制御を行ってもよい。 Further, in a fifth aspect of the embodiment, in the fourth aspect, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is configured to reduce the light amount after the first exposure time control. The first light amount control may be performed to lower the luminance of the light source.
また、実施形態の第6態様では、第4態様又は第5態様において、前記光学系は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、前記第1露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くしてもよい。 Further, in a sixth aspect of the embodiment, in the fourth aspect or the fifth aspect, the optical system includes a rotary prism disposed in a light path of the pattern light, and the first exposure time control is performed by the rotary prism The exposure time may be shortened to be equal to or higher than a lower limit time defined by the rotational speed.
また、実施形態の第7態様では、第3態様〜第6態様のいずれかにおいて、前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第2光量制御の後に、前記露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第2露光時間制御を行ってもよい。 In the seventh aspect of the embodiment, in any one of the third to sixth aspects, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is configured to generate a pattern image by increasing the light amount. After the second light amount control to increase the luminance, a second exposure time control to increase the luminance of the pattern image by extending the exposure time may be performed.
また、実施形態の第8態様では、第7態様において、前記第1輝度上昇制御及び前記第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、前記第2露光時間制御の後に、前記検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第2検出感度制御を行ってもよい。 In the eighth aspect of the embodiment, in the seventh aspect, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is a pattern by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control. A second detection sensitivity control may be performed to increase the brightness of the image.
また、実施形態の第9態様では、第1態様〜第8態様のいずれかにおいて、前記パターン光は、リング状の光であってよい。 Moreover, in a ninth aspect of the embodiment, in any of the first aspect to the eighth aspect, the pattern light may be ring-shaped light.
実施形態の第10態様は、光源からの光に基づくパターン光を被検眼に投射し、前記パターン光の前記被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズを介して撮像素子で受光することにより前記被検眼の屈折力を測定する眼科装置の制御方法であって、前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する第1測定条件決定ステップと、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する第2測定条件決定ステップと、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、を含む眼科装置の制御方法である。 The tenth aspect of the embodiment projects pattern light based on light from a light source onto an eye to be examined, and uses an imaging element via a focusing lens whose focal position can change return light from the eye to be examined of the pattern light. It is a control method of an ophthalmologic apparatus which measures the refractive power of the said to-be-tested eye by light-receiving, Comprising: The light quantity of the said light source, the exposure time of the said image sensor based on the 1st pattern image obtained by the said image sensor A first measurement condition determining step of determining a first measurement condition including at least one of detection sensitivity of the image pickup device and control content for the focusing lens; and an image pickup device obtained under the first measurement condition A second measurement condition determining step of determining a second measurement condition including at least one of the light intensity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content based on a second pattern image; A control method of an ophthalmologic apparatus, comprising: a fog control step of fogging the eye under the condition; and a measuring step of measuring the refractive power in the fog control step in the fog control step. .
また、実施形態の第11態様では、第10態様において、前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、パターン像の輝度が高いか否かを判定する第1判定ステップと、前記第1判定ステップにおいて前記輝度が高いと判定されたとき、前記検出感度が第1閾値以上であるか否かを判定する第2判定ステップと、前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値以上であると判定されたとき、前記検出感度を下げる第1検出感度制御ステップと、前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値未満であると判定されたとき、前記露光時間が第2閾値以上であるか否かを判定する第3判定ステップと、前記第3判定ステップにおいて前記露光時間が前記第2閾値以上であると判定されたとき、前記露光時間を短くする第1露光時間制御ステップと、前記第3判定ステップにおいて前記検出感度が前記第2閾値未満であると判定されたとき、前記光量が第3閾値以上であるか否かを判定する第4判定ステップと、前記第4判定ステップにおいて前記光量が前記第3閾値以上であると判定されたとき、前記光量を下げる第1光量制御ステップと、を含んでもよい。 In an eleventh aspect of the embodiment, in the tenth aspect, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is a first determination determining whether or not the luminance of the pattern image is high. A second determination step of determining whether the detection sensitivity is higher than a first threshold when it is determined that the luminance is high in the first determination step; and the detection sensitivity in the second determination step Is determined to be equal to or greater than the first threshold, a first detection sensitivity control step for reducing the detection sensitivity, and when it is determined that the detection sensitivity is less than the first threshold in the second determination step, A third determination step of determining whether the exposure time is equal to or greater than a second threshold, and determining that the exposure time is equal to or greater than the second threshold in the third determination step The light intensity is equal to or greater than the third threshold when it is determined that the detection sensitivity is less than the second threshold in the first exposure time control step of shortening the exposure time and the third determination step. It may also include a fourth determination step of determining whether or not the light amount is lower than the third threshold value in the fourth determination step, and a first light amount control step of decreasing the light amount.
また、実施形態の第12態様では、第11態様において、前記眼科装置は、前記パターン光の光路に配置されたロータリープリズムを含み、前記第2閾値は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上であってよい。 In a twelfth aspect of the embodiment, in the eleventh aspect, the ophthalmologic apparatus includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light, and the second threshold is defined by a rotational speed of the rotary prism. It may be more than the lower limit time.
また、実施形態の第13態様では、第10態様〜第12態様のいずれかにおいて、前記第1測定条件決定ステップ及び前記第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、パターン像の輝度が低いか否かを判定する第5判定ステップと、前記第5判定ステップにおいて前記輝度が低いと判定されたとき、前記光量が第4閾値以下であるか否かを判定する第6判定ステップと、前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値以下であると判定されたとき、前記光量を上げる第2光量制御ステップと、前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値を超えると判定されたとき、前記露光時間が第5閾値以下であるか否かを判定する第7判定ステップと、前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値以下であると判定されたとき、前記露光時間を長くする第2露光時間制御ステップと、前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値を超えると判定されたとき、前記検出感度が第6閾値以下であるか否かを判定する第8判定ステップと、前記第8判定ステップにおいて前記検出感度が前記第6閾値以下であると判定されたとき、前記検出感度を上げる第2検出感度制御ステップと、を含んでもよい。 Moreover, in a thirteenth aspect of the embodiment, in any of the tenth aspect to the twelfth aspect, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step has low luminance of the pattern image or not A sixth determination step of determining whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold when it is determined that the luminance is low in the fifth determination step; When it is determined in the determination step that the light amount is equal to or less than the fourth threshold, when it is determined that the light amount exceeds the fourth threshold in a second light amount control step that raises the light amount and in the sixth determination step A seventh determination step of determining whether the exposure time is less than or equal to a fifth threshold, and determining that the exposure time is less than or equal to the fifth threshold in the seventh determination step When the exposure time is determined to exceed the fifth threshold in the second exposure time control step of lengthening the exposure time and the seventh determination step, the detection sensitivity is equal to or less than the sixth threshold And a second detection sensitivity control step of increasing the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is less than or equal to the sixth threshold value. May be.
また、実施形態の第14態様では、前記光源は、前記被検眼の眼底と光学的に略共役になるように配置され、前記眼科装置は、前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、を含み、前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射してもよい。 Further, in a fourteenth aspect of the embodiment, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate to the fundus of the eye to be examined, and the ophthalmologic apparatus is to be substantially optically conjugate to the pupil of the eye to be examined A diaphragm formed on the light source to transmit light from the light source, and a deflecting member for deflecting the light from the light source and guiding the light to the light transmitting portion; Light may be projected on the eye as the pattern light.
この発明に係る眼科装置の実施形態の例について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、この明細書において引用された文献の記載内容や任意の公知技術を、以下の実施形態に援用することが可能である。 An example of an embodiment of an ophthalmologic apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, it is possible to use the description content of the literature referred in this specification, and arbitrary well-known techniques in the following embodiment.
実施形態に係る眼科装置は、他覚測定と自覚検査とを実行可能である。他覚測定は、被検者からの応答を参照することなく、主に物理的な手法を用いて被検眼に関する情報を取得する測定手法である。 The ophthalmologic apparatus according to the embodiment can perform objective measurement and subjective examination. The objective measurement is a measurement method of acquiring information on the subject's eye mainly using a physical method without referring to the response from the subject.
他覚測定には、被検眼の特性を取得するための測定と、被検眼の画像を取得するための撮影とが含まれる。他覚測定には、他覚屈折測定、角膜形状測定、眼圧測定、眼底撮影、光干渉計測等がある。一方、自覚検査は、被検者からの応答を利用して情報を取得する測定手法である。自覚検査には、遠用検査、近用検査、コントラスト検査、グレア検査等の自覚屈折測定や、視野検査などがある。 The objective measurement includes the measurement for acquiring the characteristics of the eye to be examined and the imaging for acquiring the image of the eye to be inspected. Objective measurement includes objective refraction measurement, corneal shape measurement, intraocular pressure measurement, fundus photography, optical interference measurement and the like. On the other hand, a subjective test is a measurement method of acquiring information using a response from a subject. Subjective examinations include subjective refraction measurement such as distance vision examination, near vision examination, contrast examination, glare examination, and visual field examination.
実施形態に係る眼科装置は、少なくとも他覚屈折力の測定が可能であり、これに加えて任意の自覚検査及びその他の任意の他覚測定が実行可能である。 The ophthalmologic apparatus according to the embodiment can measure at least the objective refractive power, and can additionally perform any subjective test and any other objective measurement.
以下、眼底共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の眼底と光学的に略共役な位置であり、被検眼の眼底と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。同様に、瞳孔共役位置は、アライメントが完了した状態での被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置であり、被検眼の瞳孔と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。 Hereinafter, the fundus conjugate position is a position optically substantially conjugate with the fundus of the subject's eye in a state in which alignment is completed, and means a position optically conjugate with the fundus of the subject's eye or its vicinity. Similarly, the pupil conjugate position is a position optically substantially conjugate with the pupil of the subject eye in a state in which alignment is completed, and means a position optically conjugate with the pupil of the subject eye or the vicinity thereof. .
<光学系の構成>
図1に、実施形態に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。眼科装置1000は、被検眼Eの検査を行うための光学系として、Zアライメント系1、XYアライメント系2、ケラト測定系3、視標投影系4、前眼部観察系5、レフ測定投射系6、及びレフ測定受光系7を含む。
<Configuration of optical system>
The structural example of the optical system of the ophthalmologic apparatus which concerns on FIG. 1 at embodiment is shown. The
(前眼部観察系5)
前眼部観察系5は、被検眼Eの前眼部を動画撮影する。前眼部観察系5を経由する光学系において、撮像素子59の撮像面は瞳孔共役位置Qに配置されている。前眼部照明光源51は、被検眼Eの前眼部に照明光(例えば、赤外光)を照射する。被検眼Eの前眼部により反射された光は、対物レンズ52を通過し、ダイクロイックミラー53を透過し、ハーフミラー54を透過し、リレーレンズ55及び56を通過し、ダイクロイックミラー57を透過する。ダイクロイックミラー57を透過した光は、結像レンズ58により撮像素子59(エリアセンサ)の撮像面に結像される。撮像素子59は、所定のレートで撮像及び信号出力を行う。撮像素子59の出力(映像信号)は、後述の処理部9に入力される。処理部9は、この映像信号に基づく前眼部像を後述の表示部の表示画面に表示させる。前眼部像は、例えば赤外動画像である。
(Anterior eye observation system 5)
The anterior
(Zアライメント系1)
Zアライメント系1は、前眼部観察系5の光軸方向(前後方向、Z方向)におけるアライメントを行うための光(赤外光)を被検眼Eに投射する。Zアライメント光源11から出力された光は、被検眼Eの角膜に投射され、角膜により反射され、結像レンズ12によりラインセンサ13のセンサ面に結像される。角膜頂点の位置が前眼部観察系5の光軸方向に変化すると、ラインセンサ13のセンサ面における光の投射位置が変化する。処理部9は、ラインセンサ13のセンサ面における光の投射位置に基づいて被検眼Eの角膜頂点の位置を求め、これに基づき光学系を移動させる機構を制御してZアライメントを実行する。
(Z alignment system 1)
The Z alignment system 1 projects the light (infrared light) for performing alignment in the optical axis direction (front-rear direction, Z direction) of the anterior
(XYアライメント系2)
XYアライメント系2は、前眼部観察系5の光軸に直交する方向(左右方向(X方向)、上下方向(Y方向))のアライメントを行うための光(赤外光)を被検眼Eに照射する。XYアライメント系2は、ハーフミラー54により前眼部観察系5から分岐された光路に設けられたXYアライメント光源21を含む。XYアライメント光源21から出力された光は、ハーフミラー54により反射され、前眼部観察系5を通じて被検眼Eに投射される。被検眼Eの角膜による反射光は、前眼部観察系5を通じて撮像素子59に導かれる。
(XY alignment system 2)
The XY alignment system 2 uses light (infrared light) for alignment in a direction (horizontal direction (X direction), vertical direction (Y direction)) orthogonal to the optical axis of the anterior
この反射光に基づく像(輝点像)は前眼部像に含まれる。処理部9は、輝点像を含む前眼部像とアライメントマークとを表示部の表示画面に表示させる。手動でXYアライメントを行う場合、ユーザは、アライメントマーク内に輝点像を誘導するように光学系の移動操作を行う。自動でアライメントを行う場合、処理部9は、アライメントマークに対する輝点像の変位がキャンセルされるように、光学系を移動させる機構を制御する。
An image based on the reflected light (bright spot image) is included in the anterior segment image. The
(ケラト測定系3)
ケラト測定系3は、被検眼Eの角膜の形状を測定するためのリング状光束(赤外光)を角膜に投射する。ケラト板31は、対物レンズ52と被検眼Eとの間に配置されている。ケラト板31の背面側(対物レンズ52側)にはケラトリング光源(図示せず)が設けられている。ケラトリング光源からの光でケラト板31を照明することにより、被検眼Eの角膜にリング状光束が投射される。被検眼Eの角膜からの反射光(ケラトリング像)は撮像素子59により前眼部像とともに検出される。処理部9は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜の形状を表す角膜形状パラメータを算出する。
(Kerat measurement system 3)
The kerat measurement system 3 projects a ring-shaped luminous flux (infrared light) for measuring the shape of the cornea of the eye E to be examined on the cornea. The kerato plate 31 is disposed between the
(視標投影系4)
視標投影系4は、固視標や自覚検査用視標等の各種視標を被検眼Eに呈示する。光源41から出力された光(可視光)は、コリメートレンズ42により平行光束とされ、視標チャート43に照射される。視標チャート43は、例えば透過型の液晶パネルを含み、視標を表すパターンを表示する。視標チャート43を透過した光は、リレーレンズ44及び45を通過し、反射ミラー46により反射され、ダイクロイックミラー68を透過し、ダイクロイックミラー53により反射される。ダイクロイックミラー53により反射された光は、対物レンズ52を通過して眼底Efに投射される。光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43は、一体となって光軸方向に移動可能である。
(Target projection system 4)
The target projection system 4 presents various targets such as a fixation target and a target for subjective examination to the eye to be examined E. The light (visible light) output from the
自覚検査を行う場合、処理部9は、他覚測定の結果に基づき光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を光軸方向に移動させ、視標チャート43を制御する。処理部9は、検者又は処理部9により選択された視標を視標チャート43に表示させる。それにより、当該視標が被検者に呈示される。被検者は視標に対する応答を行う。応答内容の入力を受けて、処理部9は、更なる制御や、自覚検査値の算出を行う。例えば、視力測定において、処理部9は、ランドルト環等に対する応答に基づいて、次の視標を選択して呈示し、これを繰り返し行うことで視力値を決定する。
When the subjective inspection is performed, the
(レフ測定投射系6、レフ測定受光系7)
レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7は他覚屈折測定(レフ測定)に用いられる。レフ測定投射系6は、他覚測定用のリング状光束(赤外光)を眼底Efに投射する。レフ測定受光系7は、このリング状光束の被検眼Eからの戻り光を受光する。
(Reflex measurement projection system 6, reflex measurement light reception system 7)
The reflex measurement projection system 6 and the reflex measurement light receiving system 7 are used for objective refraction measurement (reflex measurement). The reflex measurement projection system 6 projects a ring-shaped luminous flux (infrared light) for objective measurement on the fundus oculi Ef. The reflex measurement light receiving system 7 receives the return light of the ring-shaped luminous flux from the eye E to be examined.
レフ測定光源61は、発光径が所定のサイズ以下の高輝度光源であるSLD(Superluminescent Diode)光源であってよい。レフ測定光源61は、光軸方向に移動可能であり、眼底共役位置Pに配置される。リング絞り65(具体的には、透光部)は、瞳孔共役位置Qに配置されている。合焦レンズ74は、光軸方向に移動可能である。合焦レンズ74は、後述の主制御部111からの制御を受け、焦点位置を変更可能な公知の焦点可変レンズであってもよい。レフ測定受光系7を経由する光学系において、撮像素子59の撮像面は眼底共役位置Pに配置されている。
The reflex
レフ測定光源61から出力された光は、リレーレンズ62を通過し、円錐プリズム63の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム63の底面から出射する。円錐プリズム63の底面から出射した光は、フィールドレンズ64を通過し、リング絞り65にリング状に形成された透光部を通過する。リング絞り65の透光部を通過した光(リング状光束)は、孔開きプリズム66の反射面により反射され、ロータリープリズム67を通過し、ダイクロイックミラー68により反射される。ダイクロイックミラー68により反射された光は、ダイクロイックミラー53により反射され、対物レンズ52を通過し、被検眼Eに投射される。ロータリープリズム67は、眼底Efの血管や疾患部位に対するリング状光束の光量分布を平均化や光源に起因するスペックルノイズの低減のために用いられる。
The light output from the reflex
円錐プリズム63は、瞳孔共役位置Qに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。
It is desirable that the
図2に、フィールドレンズ64の断面図を模式的に示す。例えば、図2に示すように、フィールドレンズ64の被検眼Eの側のレンズ面にリング絞り65が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、フィールドレンズ64のレンズ面には、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。
FIG. 2 schematically shows a sectional view of the
また、レフ測定投射系6は、フィールドレンズ64が省略された構成を有していてもよい。
Further, the reflex measurement projection system 6 may have a configuration in which the
図3に、円錐プリズム63の断面図を模式的に示す。例えば、図3に示すように、リレーレンズ62を通過した光が円錐面63aに入射する円錐プリズム63の底面63bにリング絞り65が貼り付けられていてもよい。この場合、例えば、円錐プリズム63の底面63bには、リング状の透光部が形成されるように遮光膜が蒸着される。また、リング絞りが円錐プリズム63の円錐面63aの側にあってもよい。
A cross-sectional view of the
リング絞り65は、所定の測定パターンに対応した形状を有する透光部が形成された絞りであってよい。この絞りには、レフ測定投射系6の光軸に対して偏心した位置に透光部が形成されていてよい。また、絞りには、2以上の透光部が形成されていてもよい。
The
眼底Efに投射されたリング状光束の戻り光は、対物レンズ52を通過し、ダイクロイックミラー53及びダイクロイックミラー68により反射される。ダイクロイックミラー68により反射された戻り光は、ロータリープリズム67を通過し、孔開きプリズム66の孔部を通過し、リレーレンズ71を通過し、反射ミラー72により反射され、リレーレンズ73及び合焦レンズ74を通過する。合焦レンズ74を通過した光は、反射ミラー75により反射され、ダイクロイックミラー57により反射され、結像レンズ58により撮像素子59の撮像面に結像される。処理部9は、撮像素子59からの出力を基に公知の演算を行うことで被検眼Eの屈折力値を算出する。例えば、屈折力値は、球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を含む。
The return light of the ring-like light beam projected onto the fundus oculi Ef passes through the
孔開きプリズム66とリレーレンズ71との間に、瞳孔上の光束径を制限する絞りが配置されている。この絞りの透光部は、瞳孔共役位置に配置される。
Between the
処理部9は、算出された屈折力値に基づいて、眼底Efとレフ測定光源61と撮像素子59の撮像面とが光学的に共役になるように、レフ測定光源61と合焦レンズ74とをそれぞれ光軸方向に移動させる。更に、処理部9は、レフ測定光源61及び合焦レンズ74の移動に連動して視標ユニットをその光軸方向に移動させる。光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を含む視標ユニットと、レフ測定光源61と、合焦レンズ74とは、連動してそれぞれの光軸方向に移動可能であってよい。
The
<処理系の構成>
眼科装置1000の処理系の構成について説明する。眼科装置1000の処理系の機能的構成の例を図4及び図5に示す。図4は、眼科装置1000の処理系の機能ブロック図の一例を表したものである。図5は、図4の演算処理部120の機能ブロック図の一例を表したものである。
<Configuration of processing system>
The configuration of the processing system of the
処理部9は、眼科装置1000の各部を制御する。また、処理部9は、各種演算処理を実行可能である。処理部9は、プロセッサを含む。プロセッサの機能は、例えば、CPU(Central Processing Unit)、GPU(Graphics Processing Unit)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)、プログラマブル論理デバイス(例えば、SPLD(Simple Programmable Logic Device)、CPLD(Complex Programmable Logic Device)、FPGA(Field Programmable Gate Array))等の回路により実現される。処理部9は、例えば、記憶回路や記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、実施形態に係る機能を実現する。
The
処理部9は、制御部110と、演算処理部120とを含む。また、眼科装置1000は、表示部170と、操作部180と、通信部190とを含む。
The
(制御部110)
制御部110は、眼科装置1000の各部を制御する。制御部110は、主制御部111と、記憶部112とを含む。
(Control unit 110)
The control unit 110 controls each unit of the
主制御部111は、眼科装置1000の各種制御を行う。主制御部111は、Zアライメント系1のZアライメント光源11やラインセンサ13、XYアライメント系2のXYアライメント光源21、ケラト測定系3のケラトリング光源を制御する。それにより、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21やケラトリング光源から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ラインセンサ13により検出された信号が取り込まれ、取り込まれた信号に基づくアライメント制御等が行われる。
The
主制御部111は、視標投影系4の光源41、及び視標チャート43を制御する。それにより、光源41から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、視標チャート43における視標や固視標の表示のオン・オフや、視標や固視標が切り替えられる。また、主制御部111は、光源41、コリメートレンズ42、及び視標チャート43を含む視標ユニットを光軸方向に移動する移動機構(図示せず)を制御することができる。
The
主制御部111は、前眼部観察系5の前眼部照明光源51や撮像素子59を制御する。それにより、前眼部照明光源51から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、撮像素子59の露光時間が変更されたり、撮像素子59に含まれる増幅器のゲインを制御することにより検出感度が変更されたりする。また、撮像素子59により取得された信号が取り込まれ、演算処理部120により画像の形成等が行われたりする。
The
主制御部111は、レフ測定投射系6のレフ測定光源61やロータリープリズム67、レフ測定受光系7の合焦レンズ74を制御する。それにより、レフ測定光源61から出力される光の光量が変更されたり、点灯や非点灯が切り替えられたりする。また、ロータリープリズム67の回転速度が変更されたり、回転動作のオン・オフが切り替えられたりする。また、合焦レンズ74の光軸方向の位置が変更される。また、主制御部111は、レフ測定光源61や合焦レンズ74を光軸方向に移動する移動機構(図示せず)を制御することができる。合焦レンズ74が可変焦点レンズである場合、主制御部111は、合焦レンズ74を制御することにより合焦レンズ74の焦点位置を変更することができる。
The
この実施形態では、主制御部111は、光源41、コリメートレンズ42、及び視標チャート43を含む視標ユニットと、レフ測定光源61と、合焦レンズ74とを保持する保持部材を含む移動機構を制御することが可能である。移動機構には、保持部材を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられる。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせやラック・アンド・ピニオンなどによって構成される。主制御部111は、このような移動機構を制御することにより、それぞれを光軸方向に移動させることができる。
In this embodiment, the
主制御部111は、視標投影系4、前眼部観察系5、レフ測定投射系6、レフ測定受光系、及び演算処理部120を制御することにより、仮測定を2回以上実行させ、最後に実行された仮測定により決定された測定条件の下で本測定を実行させることが可能である。仮測定を繰り返すたびに測定条件が収束するように、各回の仮測定により、同一種別の測定条件が決定されてもよいし、異なる種別の測定条件が決定されてもよい。この実施形態では、2回の仮測定後に本測定が実行される。例えば、各回の仮測定では、得られたリング像に基づいて、レフ測定光源61から出力される光の光量(レフ測定光源61の光量)、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度、及び合焦レンズ74に対する制御内容の少なくとも1つが決定されてよい。
The
また、主制御部111は、記憶部112にデータを書き込む処理や、記憶部112からデータを読み出す処理を行う。
Further, the
記憶部112は、各種のデータを記憶する。記憶部112に記憶されるデータとしては、ケラト測定系3により得られた測定情報、レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7により得られた測定情報、撮像素子59により取得された画像の画像データ、被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者IDや氏名などの被検者に関する情報や、左眼/右眼の識別情報などの被検眼に関する情報を含む。ケラト測定系3により得られた測定情報は、眼科装置1000にて被検眼Eのケラト測定が行われたときに記憶部112に保存される。レフ測定投射系6及びレフ測定受光系7により得られた測定情報は、眼科装置1000にて被検眼Eのレフ測定が行われたときに記憶部112に保存される。記憶部112は、角膜形状パラメータの算出処理や眼屈折力値の算出処理の作業メモリとして用いられてもよい。また、記憶部112には、眼科装置1000を動作させるための各種プログラムやデータが記憶されている。
The
(演算処理部120)
演算処理部120は、例えば、角膜形状パラメータや眼屈折力値など、眼屈折力を表すパラメータを求めるための各種の演算を実行する。演算処理部120は、解析部121を含む。
(Operation processing unit 120)
The
解析部121は、レフ測定投射系6により眼底Efに投射されたリング状光束(リング状の測定パターン)の戻り光を撮像素子59が受光することにより得られたリング像(パターン像)を解析する。例えば、解析部121は、得られたリング像が描出された画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部121は、特定されたリング像の輝度(リング輝度)が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することが可能である。解析部121は、特定されたリング像のS/N比が所定の数値範囲内にあるか否かを判定してもよい。
The
解析部121は、特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円の長径及び短径を公知の式に代入することによって球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。または、解析部121は、特定されたリング像(近似楕円)と、合焦レンズ74に対する制御内容(例えば、移動量)とに基づいて球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を求めることが可能である。或いは、解析部121は、基準パターンに対するリング像の変形及び変位に基づいて眼屈折力のパラメータを求めることができる。
The
また、解析部121は、前眼部観察系5により取得されたケラトリング像に基づいて、角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。例えば、解析部121は、ケラトリング像を解析することにより角膜前面の強主経線や弱主経線の角膜曲率半径を算出し、角膜曲率半径に基づいて上記パラメータを算出する。
Further, the
(表示部170、操作部180)
表示部170は、制御部110による制御を受けて情報を表示する。操作部180は、眼科装置1000の操作や情報入力に使用される。操作部180は、各種のハードウェアキー(ジョイスティック、ボタン、スイッチなど)、及び/又は、表示部170に提示される各種のソフトウェアキー(ボタン、アイコン、メニューなど)を含む。
(
The
(通信部190)
通信部190は、外部装置と通信する機能を持つ。通信部190は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定するための眼鏡レンズ測定装置がある。眼鏡レンズ測定装置は、被検者が装用する眼鏡レンズの度数などを測定し、この測定データを眼科装置1000に入力する。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置(リーダ)や、記録媒体に情報を書き込む装置(ライタ)などでもよい。更に、外部装置は、病院情報システム(HIS)サーバ、DICOM(Digital Imaging and COmmunication in Medicine)サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、クラウドサーバなどでもよい。
(Communication unit 190)
The
眼科装置1000において、眼底共役位置Pにレフ測定光源61を配置し、且つ瞳孔共役位置Qにリング絞り65を配置し、瞳孔共役位置Qの近傍に円錐プリズム63を配置するようにしたので、眼底Efに細く(内径と外径の幅が狭い)輝度の高いリング状の測定パターンを投射することができるようになる。従って、被検眼Eに入射する測定光束の全光量を小さくすることができ、被検者の負担を軽減しつつ、輝度の高い測定パターン光束を被検眼に投射することができる。それにより、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、眼底におけるリング像のプロファイルが急峻になるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。
In the
レフ測定光源61は、実施形態に係る「光源」の一例である。レフ測定投射系6により被検眼Eに投射されるリング状光束は、実施形態に係る「パターン光」の一例である。前眼部観察系5、レフ測定投射系6、及びレフ測定受光系7は、実施形態に係る「光学系」の一例である。リング像は、実施形態に係る「パターン像」の一例である。リング絞り65は、実施形態に係る「絞り」の一例である。円錐プリズム63は、実施形態に係る「偏向部材」の一例である。
The reflex
<動作例>
実施形態に係る眼科装置1000の動作について説明する。眼科装置1000の動作の一例を図6〜図10に示す。図6は、眼科装置1000の動作例のフロー図を表したものである。図7は、図6のステップS3の動作例のフロー図を表したものである。図8は、図7のステップS14又はステップS20の動作例のフロー図を表したものである。図9は、図8のステップS32の動作例のフロー図を表したものである。図10は、図8のステップS34の動作例のフロー図を表したものである。以下では、光源41、コリメートレンズ42及び視標チャート43を含む視標ユニットが光軸方向に移動されるものとする。
<Operation example>
The operation of the
まず、図6を参照して眼科装置1000の動作例について説明する。
First, an operation example of the
(S1:アライメント)
図示しない顔受け部に被検者の顔が固定された状態で、検者が操作部180に対して所定の操作を行うことで、眼科装置1000は、光源41及び視標チャート43により固視標を被検眼Eに投射し、アライメントを実行する。
(S1: Alignment)
The
具体的には、主制御部111は、Zアライメント光源11やXYアライメント光源21や光源41を点灯させる。更に、前眼部照明光源51を点灯する。前眼部照明光源の代わりにケラト光源を点灯させてもよい。処理部9は、撮像素子59の撮像面上の前眼部像の撮像信号を取得し、表示部170に前眼部像を表示させる。その後、図1に示す光学系が被検眼Eの検査位置に移動される。検査位置とは、十分な精度で被検眼Eの検査を行うことが可能な位置である。前述のアライメント(Zアライメント系1及びXYアライメント系2と前眼部観察系5とによるアライメント)を介して被検眼Eが検査位置に配置される。光学系の移動は、ユーザによる操作若しくは指示又は主制御部111による指示にしたがって、主制御部111によって実行される。すなわち、被検眼Eの検査位置への光学系の移動と、他覚測定を行うための準備とが行われる。
Specifically, the
また、主制御部111は、レフ測定光源61と、合焦レンズ74と、上記の視標ユニットをそれぞれの光軸に沿って原点の位置(例えば、0Dに相当する位置)に移動させる。
Further, the
(S2:ケラト測定)
主制御部111は、光源41及び視標チャート43により固視標として輝点を被検眼Eに投射させ、ケラト測定を実行させる。
(S2: Kerat measurement)
The
すなわち、主制御部111は、ケラトリング光源を点灯させる。ケラトリング光源から光が出力されると、被検眼Eの角膜に角膜形状測定用のリング状光束が投射される。解析部121は、撮像素子59によって取得された像に対して演算処理を施すことにより、角膜曲率半径を算出し、算出された角膜曲率半径から角膜屈折力、角膜乱視度及び角膜乱視軸角度を算出する。制御部110では、算出された角膜屈折力などが記憶部112に記憶される。主制御部111からの指示、又は操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はステップS3に移行する。
That is, the
(S3:レフ測定)
主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、レフ測定を実行させる。ステップS3の詳細については後述する。
(S3: reflex measurement)
The
制御部110では、ステップS3におけるレフ測定後の合焦レンズ74の移動量やリング像の形状より算出された球面度数などが記憶部112に記憶される。主制御部111からの指示、又は操作部180に対するユーザの操作若しくは指示により、眼科装置1000の動作はステップS4に移行する。以上で、眼科装置1000の動作は終了する(エンド)。
In the control unit 110, the
[レフ測定]
図7〜図10に示すように、眼科装置1000は、図6のステップS3におけるレフ測定を実行する。
[Ref measurement]
As shown in FIGS. 7 to 10, the
(S11:仮測定条件の初期化)
主制御部111は、1回目の仮測定に先立って、レフ測定光源61から出力される光の光量(レフ測定光源61の光量)、及び撮像素子59の露光時間や検出感度を初期値に設定する。
(S11: Initialization of temporary measurement conditions)
The
(S12:仮測定(1回目))
主制御部111は、合焦レンズを基準位置(0D位置)に配置した状態で、1回目の仮測定を実行させる。具体的には、主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、眼底Efに対してリング状光束をレフ測定投射系6に投射させ、眼底Efからのリング状光束の戻り光を撮像素子59に受光させる。これにより、眼底Efに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。
(S12: temporary measurement (first time))
The
(S13:輝度は適正?)
主制御部111は、ステップS12における撮像素子59の受光結果から得られたリング像に対するリング輝度チェックを解析部121に実行させる。解析部121は、撮像素子59により得られた画像における輝度分布からリング像の重心位置を求め、この重心位置から放射状に延びる複数の走査方向に沿った輝度分布を求め、この輝度分布からリング像を特定する。解析部121は、特定されたリング像の輝度が所定の輝度範囲内であるか否かを判定することにより、リング像の輝度が適正であるか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S13:Y)、眼科装置1000の動作はステップS15に移行する。リング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき(S13:N)、眼科装置1000の動作はステップS14に移行する。
(S13: Is the brightness correct?)
The
(S14:測定条件変更制御)
ステップS13においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内ではないと判定されたとき(S13:N)、主制御部111は、測定条件変更制御を実行する。ステップS14における測定条件変更制御では、取得されるリング像の輝度が変更されるように、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度が変更される。ステップS14の詳細については後述する。
(S14: Measurement condition change control)
When it is determined in step S13 that the luminance of the ring image is not within the predetermined luminance range (S13: N), the
ステップS14が終了すると、眼科装置1000の動作はステップS12に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の輝度範囲内になるまでステップS12における画像取得(1回目の仮測定)とステップS13におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。
When step S14 ends, the operation of the
(S15:仮屈折力値を算出)
ステップS13においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S13:Y)、主制御部111は、ステップS12において取得された画像に基づいて仮屈折力値(等価球面屈折力値)を解析部121に算出させる。解析部121は、上記にように、取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、この近似楕円から仮屈折力値を算出する。
(S15: Calculate temporary refractive power)
When it is determined in step S13 that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S13: Y), the
(S16:合焦制御)
次に、主制御部111は、ステップS15において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップS12において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ74を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。この実施形態では、主制御部111は、合焦レンズ74の光軸方向の移動方向及び移動量に対応したアクチュエータの制御内容を決定する。例えば、眼屈折力値と合焦レンズ74の光軸方向の移動方向及び移動量とが関連付けられた対応情報が記憶部112にあらかじめ記憶されており、主制御部111は、記憶部112に記憶されている対応情報を参照することによりアクチュエータの制御内容を決定する。
(S16: Focus control)
Next, based on the eye refractive power value obtained in step S15, the
主制御部111は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップS15において求められた眼屈折力値に対応した位置に合焦レンズ74を配置させる。
The
なお、合焦レンズ74が焦点可変レンズである場合、主制御部111は、同様に合焦レンズ74に対する制御内容を決定することができる。すなわち、眼屈折力値と合焦レンズ74に対する制御内容とが関連付けられた対応情報が記憶部112にあらかじめ記憶されており、主制御部111は、記憶部112に記憶されている対応情報を参照することにより合焦レンズ74に対する制御内容を決定する。主制御部111は、決定された制御内容に基づいて合焦レンズ74を制御することにより、所望の位置に焦点位置を変更することができる。あわせて光源61、光源41とコリメートレンズ42と視標チャート42とを含む固視標ユニットを移動する。この移動は共通のアクチュエータにより駆動されてもよいし、一体として駆動されてもよい、個別のアクチュエータにより個別に駆動されてもよい。
When the focusing
(S17:次の仮測定条件の決定)
次に、主制御部111は、2回目の仮測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップS16が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部111は、ステップS16が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。合焦レンズ74の移動量によってリング像の明るさ(輝度)が変化するため、移動量に基づき、光源61の光量を変更してもよい。合焦レンズ74の移動量と光源61の光量の関係は数式によって導かれてもよいし、テーブル情報として記憶されていてもよい。数式は、実験結果などにより導出された1次式や2次式であってよい。
(S17: Determination of the next temporary measurement condition)
Next, the
(S18:仮測定(2回目))
主制御部111は、2回目の仮測定を実行させる。ステップS18は、ステップS12とほぼ同様である。
(S18: temporary measurement (second time))
The
(S19:輝度は適正?)
主制御部111は、ステップS13と同様に、ステップS18において得られたリング像に対するリング像の輝度チェックを解析部121に実行させる。ステップS19のリング輝度チェックにおける輝度範囲は、ステップS13のリング像の輝度チェックにおける輝度範囲と同一であってもよいし、異なるものであってもよい。
(S19: Is the brightness correct?)
The
リング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S19:Y)、眼科装置1000の動作はステップS21に移行する。リング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき(S19:N)、眼科装置1000の動作はステップS20に移行する。
When it is determined that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S19: Y), the operation of the
(S20:測定条件変更制御)
ステップS19においてリング像の輝度が所定の範囲内ではないと判定されたとき(S19:N)、主制御部111は、測定条件変更制御を実行する。ステップS20における測定条件変更制御は、ステップS14と同様である。
(S20: Measurement condition change control)
When it is determined in step S19 that the luminance of the ring image is not within the predetermined range (S19: N), the
ステップS20が終了すると、眼科装置1000の動作はステップS18に移行する。すなわち、リング像の輝度が所定の範囲内になるまでステップS18における画像取得(2回目の仮測定)とステップS19におけるリング像の輝度チェックとが繰り返される。
When step S20 ends, the operation of the
(S21:仮屈折力値を算出)
ステップS19においてリング像の輝度が所定の輝度範囲内であると判定されたとき(S19:Y)、主制御部111は、ステップS15と同様に、ステップS18において取得された画像において特定されたリング像(例えば、リング像の形状と特定されリング像に対する合焦レンズ74の移動量)に基づいて仮屈折力値を解析部121に算出させる。
(S21: Calculate temporary refractive power value)
When it is determined in step S19 that the luminance of the ring image is within the predetermined luminance range (S19: Y), the
(S22:合焦制御)
主制御部111は、ステップS16と同様に、ステップS21において求められた眼屈折力値に基づいて、ステップS18において取得されたリング像のピントが合うように、合焦レンズ74を移動するアクチュエータに対する制御内容を決定する。
(S22: Focus control)
As in step S16, the
主制御部111は、決定された制御内容に基づいてアクチュエータを制御することにより、ステップS21において求められた仮屈折力値に対応した位置に合焦レンズ74を配置させる。
The
(S23:雲霧制御)
次に、主制御部111は、本測定を実行するための測定条件を設定する。この測定条件は、ステップS22が終了した時点の測定条件であってもよい。また、主制御部111は、ステップS22が終了した時点の測定条件から、新たな測定条件を特定してもよい。特に、合焦レンズ74の移動量が大きい場合、リング像の輝度の変化が大きくなる可能性があるため、この変化を加味した新たな測定条件を求めてもよい。
(S23: Cloud control)
Next, the
続いて、主制御部111は、被検眼Eを雲霧視させるための制御を実行する。具体的には、主制御部111は、上記のアクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ、光源41とコリメートレンズ42と視標チャート53とを含む固指標ユニットを移動させる。光源61、合焦レンズ74が一体で駆動される構成においてはこれらも同時に移動する。
Subsequently, the
(S24:本測定)
主制御部111は、本測定を実行させる。具体的には、主制御部111は、レフ測定光源61を点灯させ、眼底Efに対してリング状光束をレフ測定投射系6に投射させ、眼底Efからのリング状光束の戻り光を撮像素子59に受光させる。これにより、眼底Efに投射されたリング状光束に基づくリング像が描出される画像が取得される。
(S24: main measurement)
The
(S25:眼屈折力値を算出)
主制御部111は、ステップS24において取得された画像において特定されたリング像の近似楕円を求め、合焦レンズ74の移動量とこの近似楕円から球面度数、乱視度数及び乱視軸角度を解析部121に算出させる。以上で、眼科装置1000の動作は終了である(エンド)。
(S25: Calculate eye refractive power)
The
[測定条件変更制御]
眼科装置1000は、図8〜図10に示すように、図7のステップS14又はステップS20実行する。なお、ステップS14及びステップS20のいずれか一方が図8〜図10に示すように実行されてもよい。
[Measurement condition change control]
The
(S31:輝度が高い?)
主制御部111は、リング像の輝度が高いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の上限値以上であるとき、主制御部111は、リング像の輝度が高いと判定する。リング像の輝度が高いと判定されたとき(S31:Y)、眼科装置1000の動作はステップS32に移行する。リング像の輝度が高いと判定されなかったとき(S31:N)、眼科装置1000の動作はステップS33に移行する。
(S31: High brightness?)
The
(S32:輝度低下制御)
ステップS31においてリング像の輝度が高いと判定されたとき(S31:Y)、主制御部111は、輝度低下制御を実行する。ステップS32における輝度低下制御では、取得されるリング像の輝度が低下するように、レフ測定光源61の光量を変更、もしくは、撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度が変更される。ステップS32の詳細については後述する。
(S32: brightness reduction control)
When it is determined in step S31 that the luminance of the ring image is high (S31: Y), the
ステップS32が終了すると、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。
When step S32 ends, the operation of step S14 or step S20 of the
(S33:輝度が低い?)
ステップS31においてリング像の輝度が高いと判定されなかったとき(S31:N)、主制御部111は、リング像の輝度が低いか否かを判定する。リング像の輝度が所定の輝度範囲の下限値以下であるとき、主制御部111は、リング像の輝度が低いと判定する。リング像の輝度が低いと判定されたとき(S33:Y)、眼科装置1000の動作はステップS34に移行する。リング像の輝度が低いと判定されなかったとき(S33:N)、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。
(S33: Low brightness?)
When it is not determined in step S31 that the luminance of the ring image is high (S31: N), the
(S34:輝度上昇制御)
ステップS33においてリング像の輝度が低いと判定されたとき(S33:Y)、主制御部111は、輝度上昇制御を実行する。ステップS34における輝度上昇制御では、取得されるリング像の輝度が上昇するように、レフ測定光源61の光量の変更、もしくは撮像素子59の露光時間、撮像素子59の検出感度、合焦レンズ74の移動量が変更される。ステップS34の詳細については後述する。
(S34: Brightness increase control)
When it is determined in step S33 that the luminance of the ring image is low (S33: Y), the
ステップS34が終了すると、眼科装置1000のステップS14又はステップS20の動作は終了する(エンド)。
When step S34 ends, the operation of step S14 or step S20 of the
[輝度低下制御]
眼科装置1000は、図9に示すように、図8のステップS32における輝度低下制御を実行する。実施形態に係る輝度低下制御では、得られたリング像の輝度(すなわち、低下すべき量)に基づいて、撮像素子59の検出感度を下げることにより見かけのリング像の輝度を下げる第1検出感度制御が行われた後、撮像素子59の露光時間を短くすることによりリング像の輝度を下げる第1露光時間制御が行われる。更に、第1露光時間制御の後に、レフ測定光源61の光量を下げることによりリング像の輝度を下げる第1光量制御が行われる。
[Brightness reduction control]
The
例えば、輝度低下制御では、所定の第1輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第1検出感度制御が行われた後、上限が第1輝度範囲の下限以下である第2輝度範囲内でリング像の見かけの輝度を下げる第1露光時間制御が行われる。更に、第1露光時間制御の後に、上限が第2輝度範囲の下限以下である第3輝度範囲内でリング像の輝度を下げる第1光量制御が行われる。 For example, in the luminance reduction control, after the first detection sensitivity control for reducing the apparent luminance of the ring image within the predetermined first luminance range is performed, the second luminance range is within the upper limit of the lower limit of the first luminance range. The first exposure time control is performed to reduce the apparent brightness of the ring image. Furthermore, after the first exposure time control, the first light quantity control is performed to lower the luminance of the ring image in the third luminance range in which the upper limit is equal to or less than the lower limit of the second luminance range.
(S41:輝度低下量を決定)
まず、主制御部111は、リング像の輝度の低下量を決定する。低下量は、あらかじめ決められた量であってよい。
(S41: Determine the amount of decrease in luminance)
First, the
また、低下量は、撮像素子59の飽和光量もしくはA/D変換による飽和量に対応した量であってもよい。この場合、主制御部111は、リング像の輝度の低下量を解析部121に算出させる。解析部121は、合焦レンズ74移動後のリング像の輝度を予測し、予測値から輝度の低下量を求めることが可能である。例えば、解析部121は、当該リング像の輝度とステップS31における輝度範囲の上限値との差分や、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、又は撮像素子59の検出感度に対する制御量と仮測定によって決定された合焦レンズ74の移動量とに基づいて移動後の輝度を特定する。
The amount of decrease may be an amount corresponding to the saturation light amount of the
(S42:検出感度≧TH1?)
次に、主制御部111は、撮像素子59の検出感度(ゲイン)を特定し、特定された検出感度が第1閾値TH1以上であるか否かを判定する。主制御部111は、撮像素子59に対する制御内容から検出感度を特定してもよいし、撮像素子59に設定された内容から検出感度を特定してもよい。検出感度が第1閾値TH1以上であると判定されたとき(S42:Y)、眼科装置1000の動作はステップS43に移行する。検出感度が第1閾値TH1未満であると判定されたとき(S42:N)、眼科装置1000の動作はステップS44に移行する。
(S42: Detection sensitivity TH TH1?)
Next, the
(S43:検出感度を下げる)
ステップS42において検出感度が第1閾値TH1以上であると判定されたとき(S42:Y)、主制御部111は、検出感度を下げるように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で検出感度を下げることができる。
(S43: Decrease the detection sensitivity)
When it is determined in step S42 that the detection sensitivity is equal to or higher than the first threshold TH1 (S42: Y), the
このように、ステップS42及びステップS43において第1検出感度制御が行われる。ステップS43が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。
As described above, the first detection sensitivity control is performed in step S42 and step S43. When step S43 is completed, the operation of step S32 of the
(S44:露光時間≧TH2?)
ステップS42において検出感度が第1閾値TH1未満であると判定されたとき(S42:N)、主制御部111は、撮像素子59の露光時間を特定し、特定された露光時間が第2閾値TH2以上であるか否かを判定する。主制御部111は、撮像素子59に対する制御内容から露光時間を特定してもよいし、撮像素子59に設定された内容から露光時間を特定してもよい。
(S44: Exposure time TH TH2?)
When it is determined in step S42 that the detection sensitivity is less than the first threshold TH1 (S42: N), the
露光時間が短くなると、被検眼Eの移動に起因した測定誤差の発生を抑えることができるようになる。しかしながら、ロータリープリズム67による光量分布の平均化の効果を得るために、撮像素子59の露光時間は、ロータリープリズム67が所定の回数だけ回転する時間(下限時間)以上であることが望ましい。従って、第2閾値TH2は、ロータリープリズム67の回転速度に対応した下限時間であってよい。
When the exposure time becomes short, it is possible to suppress the occurrence of measurement error caused by the movement of the eye E to be examined. However, in order to obtain the effect of averaging the light amount distribution by the
撮像素子59の露光時間が第2閾値TH2以上であると判定されたとき(S44:Y)、眼科装置1000の動作はステップS45に移行する。撮像素子59の露光時間が第2閾値TH2未満であると判定されたとき(S44:N)、眼科装置1000の動作はステップS46に移行する。
When it is determined that the exposure time of the
(S45:露光時間を短くする)
ステップS44において露光時間が第2閾値TH2以上であると判定されたとき(S44:Y)、主制御部111は、露光時間を短くするように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で露光時間を短くすることができる。
(S45: shorten the exposure time)
When it is determined in step S44 that the exposure time is equal to or greater than the second threshold TH2 (S44: Y), the
このように、ステップS44及びステップS45において第1露光時間制御が行われる。ステップS45が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。
Thus, the first exposure time control is performed in step S44 and step S45. When step S45 is completed, the operation of step S32 of the
(S46:光量≧TH3?)
ステップS44において露光時間が第2閾値TH2未満であると判定されたとき(S44:N)、主制御部111は、レフ測定光源61の光量を特定し、特定された光量が第3閾値TH3以上であるか否かを判定する。主制御部111は、レフ測定光源61に対する制御内容から光量を特定してもよいし、レフ測定光源61に設定された内容から光量を特定してもよい。
(S46: Light quantity TH TH3?)
When it is determined in step S44 that the exposure time is less than the second threshold TH2 (S44: N), the
レフ測定光源61の光量が第3閾値TH3以上であると判定されたとき(S46:Y)、眼科装置1000の動作はステップS47に移行する。レフ測定光源61の光量が第3閾値TH3未満であると判定されたとき(S46:N)、眼科装置1000の動作はステップS48に移行する。
When it is determined that the light amount of the reflex
(S47:光量を下げる)
ステップS46においてレフ測定光源61の光量が第3閾値TH3以上であると判定されたとき(S46:Y)、主制御部111は、光量を下げるようにレフ測定光源61を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。
(S47: Decrease the light amount)
When it is determined in step S46 that the light quantity of the reflex
このように、ステップS46及びステップS47において第1光量制御が行われる。ステップS47が完了すると、眼科装置1000のステップS32の動作は終了する(エンド)。
As described above, the first light amount control is performed in step S46 and step S47. When step S47 is completed, the operation of step S32 of the
(S48:エラー処理)
ステップS46においてレフ測定光源61の光量が第3閾値TH3未満であると判定されたとき(S46:N)、主制御部111は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部170に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が高いと判定されたにもかかわらず、撮像素子59の検出感度や露光時間、レフ測定光源61の光量に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップS48が完了すると、眼科装置1000によるレフ測定が終了する(エンド)。
(S48: Error processing)
When it is determined in step S46 that the light amount of the reflex
以上のように、輝度低下制御が繰り返し実行されることで、第1検出感度制御が優先的に実行された後、第1検出感度制御を補足するために第1露光時間制御が実行される。最後に、第1露光時間制御を補足するために第1検出感度制御が実行される。 As described above, since the first detection sensitivity control is preferentially executed by repeatedly executing the luminance reduction control, the first exposure time control is executed to supplement the first detection sensitivity control. Finally, a first detection sensitivity control is performed to supplement the first exposure time control.
第1検出感度制御は、第1露光時間制御や第1光量制御と比較して測定環境への影響が小さい。一方、第1露光時間制御は、上記のように被検眼Eの移動に対して有利になるが、ロータリープリズム67による効果が得られなくなる。従って、第1検出感度制御の後に第1露光時間制御を行うことで、リング像の輝度が高い場合でも、ロータリープリズム67による効果を得ながら、レフ測定の測定精度の低下を抑えることができるようになる。また、第1露光時間制御の後に第1光量制御を行うようにしたので、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。
The first detection sensitivity control has less influence on the measurement environment as compared with the first exposure time control and the first light amount control. On the other hand, although the first exposure time control is advantageous to the movement of the eye E as described above, the effect of the
[輝度上昇制御]
眼科装置1000は、図10に示すように図8のステップS34における輝度上昇制御を実行する。実施形態に係る輝度上昇制御では、得られたリング像の輝度(すなわち、上昇すべき量)に基づいて、レフ測定光源61の光量を上げることによりリング像の輝度を上げる第2光量制御が行われた後、撮像素子59の露光時間を長くすることによりリング像の見かけの輝度を上げる第2露光時間制御が行われる。更に、第2露光時間制御の後に、撮像素子59の検出感度を上げることによりリング像の見かけの輝度を上げる第2検出感度制御が行われる。
[Brightness control]
The
例えば、輝度上昇制御では、所定の第4輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2光量制御が行われた後、下限が第4輝度範囲の上限以上である第5輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2露光時間制御が行われる。更に、第2露光時間制御の後に、下限が第5輝度範囲の上限以上である第6輝度範囲内でリング像の輝度を上げる第2検出感度制御が行われる。 For example, in the brightness increase control, after the second light amount control for increasing the brightness of the ring image within the predetermined fourth brightness range is performed, the ring image is generated within the fifth brightness range where the lower limit is equal to or higher than the upper limit of the fourth brightness range. A second exposure time control is performed to increase the brightness of. Furthermore, after the second exposure time control, a second detection sensitivity control is performed to increase the brightness of the ring image in the sixth brightness range in which the lower limit is equal to or higher than the upper limit of the fifth brightness range.
(S51:輝度上昇量を決定)
まず、主制御部111は、リング像の輝度の上昇量を決定する。上昇量は、あらかじめ決められた量であってよい。
(S51: Determine the brightness increase amount)
First, the
また、主制御部111は、リング像の輝度の上昇量を解析部121に算出させてもよい。例えば、解析部121は、当該リング像の輝度とステップS33における輝度範囲の下限値との差分や、レフ測定光源61の光量、撮像素子59の露光時間、又は撮像素子59の検出感度に対する制御量及び合焦レンズ74の移動量に基づいて上昇量を求めてもよい。
Further, the
(S52:光量≦TH4?)
次に、主制御部111は、レフ測定光源61の光量を特定し、特定された光量が第4閾値TH4以下であるか否かを判定する。第4閾値TH4は、被検者による測定パターン像の視認性や被検者の安全性を考慮した光量であることが望ましい。光量が第4閾値以下であると判定されたとき(S52:Y)、眼科装置1000の動作はステップS53に移行する。光量が第4閾値TH4を超えると判定されたとき(S52:N)、眼科装置1000の動作はステップS54に移行する。
(S52: Light quantity ≦ TH4?)
Next, the
(S53:光量を上げる)
ステップS52において光量が第4閾値TH4以下であると判定されたとき(S52:Y)、主制御部111は、光量を上げるようにレフ測定光源61を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で光量を下げることができる。
(S53: Increase the light intensity)
When it is determined in step S52 that the light amount is equal to or less than the fourth threshold TH4 (S52: Y), the
このように、ステップS52及びステップS53において第2光量制御が行われる。ステップS53が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。
As described above, the second light amount control is performed in step S52 and step S53. When step S53 is completed, the operation of step S34 of the
(S54:露光時間≧TH5?)
ステップS52において光量が第4閾値TH4を超えると判定されたとき(S52:N)、主制御部111は、撮像素子59の露光時間を特定し、特定された露光時間が第5閾値TH5以下であるか否かを判定する。
(S54: Exposure time TH TH5?)
When it is determined in step S52 that the light amount exceeds the fourth threshold TH4 (S52: N), the
露光時間が長くなると、被検眼Eの移動に起因した測定エラーが発生しやすくなる。従って、第5閾値TH5は、被検眼Eの移動が発生しない時間としてあらかじめ決められた時間であってよい。 When the exposure time becomes long, measurement errors due to the movement of the eye E are likely to occur. Therefore, the fifth threshold TH5 may be a time previously determined as a time in which the movement of the eye to be examined E does not occur.
撮像素子59の露光時間が第5閾値TH5以下であると判定されたとき(S54:Y)、眼科装置1000の動作はステップS55に移行する。撮像素子59の露光時間が第5閾値TH5を超えると判定されたとき(S54:N)、眼科装置1000の動作はステップS56に移行する。
When it is determined that the exposure time of the
(S55:露光時間を長くする)
ステップS54において露光時間が第5閾値TH5以下であると判定されたとき(S54:Y)、主制御部111は、露光時間を長くするように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で露光時間を長くすることができる。
(S55: Increase the exposure time)
When it is determined in step S54 that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold TH5 (S54: Y), the
このように、ステップS54及びステップS55において第2露光時間制御が行われる。ステップS55が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。
Thus, the second exposure time control is performed in step S54 and step S55. When step S55 is completed, the operation of step S34 of the
(S56:検出感度≦TH6?)
ステップS54において露光時間が第5閾値TH5を超えると判定されたとき(S54:N)、主制御部111は、撮像素子59の検出感度を特定し、特定された検出感度が第6閾値TH6以下であるか否かを判定する。
(S56: detection sensitivity TH TH6?)
When it is determined in step S54 that the exposure time exceeds the fifth threshold TH5 (S54: N), the
撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6以下であると判定されたとき(S56:Y)、眼科装置1000の動作はステップS57に移行する。撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6を超えると判定されたとき(S56:N)、眼科装置1000の動作はステップS58に移行する。
When it is determined that the detection sensitivity of the
(S57:検出感度を上げる)
ステップS56において撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6以下であると判定されたとき(S56:Y)、主制御部111は、検出感度を上げるように撮像素子59を制御する。主制御部111は、所定量又は所定の割合で検出感度を上げることができる。
(S57: Increase detection sensitivity)
When it is determined in step S56 that the detection sensitivity of the
このように、ステップS56及びステップS57において第2検出感度制御が行われる。ステップS57が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。
Thus, the second detection sensitivity control is performed in step S56 and step S57. When step S57 is completed, the operation of step S34 of the
(S58:合焦制御実行?)
ステップS56において撮像素子59の検出感度が第6閾値TH6を超えると判定されたとき(S56:N)、主制御部111は、合焦レンズ74による合焦制御を実行するか否かを判定する。主制御部111は、合焦レンズ74(アクチュエータ)に対する制御内容や合焦レンズ74の位置に基づいて合焦制御を実行するか否かを判定することができる。合焦レンズ74による合焦制御を実行すると判定されたとき(S58:Y)、眼科装置1000の動作はステップS59に移行する。合焦レンズ74による合焦制御を実行しないと判定されたとき(S58:N)、眼科装置1000の動作はステップS60に移行する。
(S58: Execution of focus control?)
When it is determined in step S56 that the detection sensitivity of the
(S59:合焦制御)
ステップS58において合焦レンズ74による合焦制御を実行すると判定されたとき(S58:Y)、主制御部111は、アクチュエータを制御することにより既定の移動量だけ合焦レンズ74を移動する。主制御部111は、リング像の輝度が上昇するように移動方向を変更しつつステップS59の制御を繰り返すことが可能である。ステップS59が完了すると、眼科装置1000のステップS34の動作は終了する(エンド)。
(S59: Focus control)
When it is determined in step S58 that focusing control by the focusing
(S60:エラー処理)
ステップS58において合焦レンズ74による合焦制御を実行しないと判定されたとき(S58:N)、主制御部111は、所定のエラー処理を実行させる。所定のエラー処理には、表示部170に対するエラー表示処理などがある。リング像の輝度が低いと判定されたにもかかわらず、撮像素子59の検出感度や露光時間、レフ測定光源61の光量、合焦レンズ74に対する制御が不可能と判断された場合に、エラー処理が実行される。ステップS60が完了すると、眼科装置1000によるレフ測定が終了する(エンド)。
(S60: error processing)
When it is determined in step S58 that the focusing control by the focusing
以上のように、輝度上昇制御が繰り返し実行されることで、第2光量制御が優先的に実行された後、第2光量制御を補足するために第2露光時間制御が実行される。そして、第2露光時間制御を補足するために第2検出感度制御が実行され、最後に第2検出感度制御を補足するために合焦制御が実行される。 As described above, by repeatedly executing the brightness increase control, after the second light amount control is preferentially performed, the second exposure time control is performed to supplement the second light amount control. Then, the second detection sensitivity control is executed to supplement the second exposure time control, and finally the focusing control is executed to supplement the second detection sensitivity control.
第2光量制御によりレフ測定光源61の光量を上げると被検眼Eに投射されるリング状光束が被検者に視認されてしまい、被検者が注視して雲霧が難しくなる可能性がある。そこで、第2光量制御によりある程度まで光量を上げた後に、第2露光時間制御により露光時間を制御することで、被検者に測定パターンが視認しにくくすることで、雲霧が容易になり、測定誤差の発生を防ぐことが可能になる。
If the light amount of the reflex
また、第2露光時間制御の実行は、測定時間を長くすることを意味する。第2検出感度制御は、ノイズ成分を増幅して画質を劣化させる可能性がある。従って、第2光量制御の後に第2露光時間制御を行うことにより、測定時間の長期化を回避することができる。第2露光時間制御の後に第2検出感度制御を行うことにより、画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。 Also, the execution of the second exposure time control means that the measurement time is prolonged. The second detection sensitivity control may amplify the noise component and degrade the image quality. Therefore, by performing the second exposure time control after the second light quantity control, it is possible to avoid prolongation of the measurement time. By performing the second detection sensitivity control after the second exposure time control, it is possible to suppress the deterioration of the image quality as much as possible.
また、図9に示す輝度低下制御又は図10に示す輝度上昇制御において、測定時間を短縮するために露光時間制御よりも検出感度制御を優先したり、検出感度制御だけを行うようにしたりしてもよい。また、図10におけるステップS58及びステップS59は、図7のステップS14(1回目の仮測定)では実行されず、図7のステップS20(2回目の仮測定)だけ実行されてもよい。 In addition, in the brightness reduction control shown in FIG. 9 or the brightness increase control shown in FIG. 10, in order to shorten the measurement time, priority is given to detection sensitivity control over exposure time control or only detection sensitivity control is performed. It is also good. Moreover, step S58 and step S59 in FIG. 10 may not be performed in step S14 (first tentative measurement) in FIG. 7, but may be performed only in step S20 (second tentative measurement) in FIG. 7.
ステップS14は、実施形態に係る「第1測定条件決定ステップ」の一例である。ステップS20は、実施形態に係る「第2測定条件決定ステップ」の一例である。ステップS23は、実施形態に係る「雲霧制御ステップ」の一例である。ステップS24は、実施形態に係る「測定ステップ」の一例である。 Step S14 is an example of the “first measurement condition determining step” according to the embodiment. Step S20 is an example of the “second measurement condition determining step” according to the embodiment. Step S23 is an example of the "fog control step" according to the embodiment. Step S24 is an example of the "measurement step" according to the embodiment.
ステップS31は、実施形態に係る「第1判定ステップ」の一例である。ステップS42は、実施形態に係る「第2判定ステップ」の一例である。ステップS43は、実施形態に係る「第1検出感度制御ステップ」の一例である。ステップS44は、実施形態に係る「第3判定ステップ」の一例である。ステップS45は、実施形態に係る「第1露光時間制御ステップ」の一例である。ステップS46は、実施形態に係る「第4判定ステップ」の一例である。ステップS47は、実施形態に係る「第1光量制御ステップ」の一例である。 Step S31 is an example of the "first determination step" according to the embodiment. Step S42 is an example of the "second determination step" according to the embodiment. Step S43 is an example of the "first detection sensitivity control step" according to the embodiment. Step S44 is an example of the "third determination step" according to the embodiment. Step S45 is an example of the “first exposure time control step” according to the embodiment. Step S46 is an example of the "fourth determination step" according to the embodiment. Step S47 is an example of the "first light amount control step" according to the embodiment.
ステップS33は、実施形態に係る「第5判定ステップ」の一例である。ステップS52は、実施形態に係る「第6判定ステップ」の一例である。ステップS53は、実施形態に係る「第2光量制御ステップ」の一例である。ステップS54は、実施形態に係る「第7判定ステップ」の一例である。ステップS55は、実施形態に係る「第2露光時間制御ステップ」の一例である。ステップS56は、実施形態に係る「第8判定ステップ」の一例である。ステップS57は、実施形態に係る「第2検出感度制御ステップ」の一例である。 Step S33 is an example of the "fifth determination step" according to the embodiment. Step S52 is an example of the "sixth determination step" according to the embodiment. Step S53 is an example of the “second light amount control step” according to the embodiment. Step S54 is an example of the "seventh determination step" according to the embodiment. Step S55 is an example of the “second exposure time control step” according to the embodiment. Step S56 is an example of the "eighth determination step" according to the embodiment. Step S57 is an example of the "second detection sensitivity control step" according to the embodiment.
[変形例]
実施形態に係る眼科装置1000の光学系の構成は図1に示す構成に限定されるものではない。
[Modification]
The configuration of the optical system of the
図11に、実施形態の変形例に係る眼科装置の光学系の構成例を示す。図11において、図1と同様の部分には同一符号を付し、適宜説明を省略する。 FIG. 11 shows a configuration example of an optical system of an ophthalmologic apparatus according to a modification of the embodiment. In FIG. 11, the same parts as in FIG. 1 are given the same reference numerals, and the description will be omitted as appropriate.
変形例に係る眼科装置1000aの構成が眼科装置1000の構成と異なる点は、レフ測定投射系6に代えてレフ測定投射系6aが設けられている点である。レフ測定投射系6aの構成がレフ測定投射系6の構成と異なる点は、円錐プリズム63及びフィールドレンズ64に代えてリングレンズ69が設けられている点である。リングレンズ69は、遮光領域として形成された中心領域と、当該中心領域の周囲にリング状に形成されたレンズ部とを含む。リングレンズ69はフィールドレンズと円錐プリズムを複合した光学素子として機能する。
The configuration of the
本変形例において、リングレンズ69は、レフ測定投射系6aの大型化を回避しつつ、瞳孔共役位置Qに可能な限り近い位置に配置されることが望ましい。
In the present modification, it is desirable that the
図12に、リングレンズ69の断面図を模式的に示す。例えば、図12に示すように、リングレンズ69の被検眼Eの側のレンズ面にリング絞り65が貼り付けられている。
FIG. 12 schematically shows a cross-sectional view of the
本変形例に係る眼科装置1000aの動作は実施形態と同様であるため、詳細な説明を省略する。
Since the operation of the
本変形例においても、実施形態と同様に、被検眼Eに入射する光量を小さくすることができ、線幅が細く、輝度の高いパターンを被検眼Eに投射することができる。従って、被検者の負担を軽減しつつ、信頼性の高い眼屈折力値を取得することができるようになる。また、瞳孔にも細いリング状光束を入射することができるため、睫毛や白内障に起因した水晶体の混濁部分で入射光束が遮られることによる影響が少なく測定エラーの発生を抑えることができるようになる。 Also in this modification, as in the embodiment, the amount of light incident on the eye to be examined E can be reduced, and a pattern having a narrow line width and high luminance can be projected on the eye to be examined E. Therefore, it is possible to obtain a highly reliable eye refractive power value while reducing the burden on the subject. In addition, since a thin ring-shaped luminous flux can be made incident on the pupil, it is possible to suppress the occurrence of measurement error with little influence due to the interception of the incident luminous flux in the turbid part of the lens caused by eyebrows and cataracts. .
[作用・効果]
実施形態又は変形例に係る眼科装置の作用及び効果について説明する。
[Operation / effect]
The operation and effects of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment or the modification will be described.
実施形態に係る眼科装置(1000、1000a)は、光学系(前眼部観察系5、レフ測定投射系6又はレフ測定投射系6a、レフ測定受光系7)と、解析部121と、制御部(110、主制御部111)とを含む。光学系は、光源(レフ測定光源61)からの光に基づくパターン光(リング状光束)を被検眼(E)に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ(74)を介して撮像素子(59)で受光する。解析部は、撮像素子により得られたパターン像(リング像)に基づいて被検眼の眼屈折力値を算出する。制御部は、撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、第1測定条件の下で撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で被検眼を雲霧視させた状態で撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて眼屈折力値を解析部に算出させる。
The ophthalmologic apparatus (1000, 1000a) according to the embodiment includes an optical system (an anterior
このような構成によれば、仮測定を行って第1測定条件を決定し、決定された第1測定条件の下で再び仮測定を行って第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, the temporary measurement is performed to determine the first measurement condition, and the temporary measurement is performed again under the determined first measurement condition to determine the second measurement condition. Since the eye refractive power value is obtained below, even when the brightness of the pattern image is high, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art.
また、実施形態に係る眼科装置では、光源は、被検眼の眼底(Ef)と光学的に略共役になるように配置され、光学系は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置(Q)に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り(リング絞り65)と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材(円錐プリズム63、リングレンズ69)と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。
In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the light source is disposed so as to be optically substantially conjugate with the fundus (Ef) of the eye to be examined, and the optical system is optically substantially conjugate to the pupil of the eye to be examined ( A diaphragm (ring diaphragm 65) disposed in Q) and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member (
このような構成によれば、眼底に細い(内径と外径との幅が狭い)パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to project thin pattern light (with narrow inner diameter and outer width) on the fundus, so that the pattern obtained by projecting high-brightness pattern light can be obtained. It becomes possible to improve the analysis accuracy of the image. As a result, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art by performing a pattern image with high luminance and performing a plurality of temporary measurements.
また、実施形態に係る眼科装置では、制御部は、第1パターン像の輝度が高いとき第1輝度低下制御(ステップS14、ステップS32)を実行し、第1パターン像の輝度が低いとき第1輝度上昇制御(ステップS14、ステップS34)を実行し、第2パターン像の輝度が高いとき第2輝度低下制御(ステップS20、ステップS32)を実行し、第2パターン像の輝度が低いとき第2輝度上昇制御(ステップS20、ステップS34)を実行してもよい。 Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the control unit executes the first luminance reduction control (step S14, step S32) when the luminance of the first pattern image is high, and the first part when the luminance of the first pattern image is low. The brightness increase control (step S14, step S34) is executed, and the second brightness decrease control (step S20, step S32) is executed when the brightness of the second pattern image is high, and the brightness of the second pattern image is low The brightness increase control (step S20, step S34) may be executed.
このような構成によれば、パターン像の輝度が所定の輝度範囲に収まるように第1測定条件と第2測定条件を決定するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても測定精度を低下させることなく、従来に比べてより高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, since the first measurement condition and the second measurement condition are determined so that the brightness of the pattern image falls within the predetermined brightness range, even if the brightness of the pattern image is high, the measurement is performed. It becomes possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than before without lowering the accuracy.
また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度低下制御及び第2輝度低下制御の少なくとも一方は、パターン像の輝度に基づいて、検出感度を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1検出感度制御(ステップS43)の後に、露光時間を短くすることによりパターン像の輝度を下げる第1露光時間制御(ステップS45)を行ってもよい。 In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control is a first detection sensitivity that lowers the luminance of the pattern image by lowering the detection sensitivity based on the luminance of the pattern image. After the control (step S43), first exposure time control (step S45) may be performed to reduce the brightness of the pattern image by shortening the exposure time.
このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、測定環境に大きな影響を与えることなく、測定精度の低下を抑えることができるようになる。 According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy without significantly affecting the measurement environment.
また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度低下制御及び第2輝度低下制御の少なくとも一方は、第1露光時間制御(ステップS45)の後に、光量を下げることによりパターン像の輝度を下げる第1光量制御(ステップS47)を行ってもよい。 In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control reduces the luminance of the pattern image by reducing the light amount after the first exposure time control (step S45). One light quantity control (step S47) may be performed.
このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、被検眼の移動に起因する測定エラーの発生を抑えつつ、測定環境への影響を最小限に抑えることができるようになる。 According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, it is possible to minimize the influence on the measurement environment while suppressing the occurrence of the measurement error caused by the movement of the eye to be examined.
また、実施形態に係る眼科装置では、光学系は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム(67)を含み、第1露光時間制御は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように露光時間を短くしてもよい。 Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the optical system includes the rotary prism (67) disposed in the optical path of the pattern light, and the first exposure time control is at least the lower limit time defined by the rotational speed of the rotary prism. The exposure time may be shortened to
このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。 According to such a configuration, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy while obtaining the effect of averaging the light amount distribution by the rotary prism.
また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度上昇制御及び第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、光量を上げることによりをパターン像の輝度を上げる第2光量制御(ステップS53)の後に、露光時間を長くすることによりパターン像の輝度を上げる第2露光時間制御(ステップS55)を行ってもよい。 In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first luminance increase control and the second luminance increase control is exposed after the second light amount control (step S53) for increasing the luminance of the pattern image by increasing the light amount. A second exposure time control (step S55) may be performed to increase the brightness of the pattern image by lengthening the time.
このような構成によれば、パターン光が被検者に視認されてしまうことなく被検眼の固視を容易にして、測定精度の低下を防ぐことができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to facilitate fixation of the eye to be examined without the pattern light being visually recognized by the subject and to prevent a decrease in measurement accuracy.
また、実施形態に係る眼科装置では、第1輝度上昇制御及び第2輝度上昇制御の少なくとも一方は、第2露光時間制御(ステップS55)の後に、検出感度を上げることによりパターン像の輝度を上げる第2検出感度制御(ステップS57)を行ってもよい。 In the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control increases the brightness of the pattern image by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control (step S55). The second detection sensitivity control (step S57) may be performed.
このような構成によれば、測定時間の長期化を回避すると共に、ノイズ成分の増幅に起因する画質の劣化をできるだけ抑えることができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to avoid the prolongation of the measurement time and to suppress the deterioration of the image quality caused by the amplification of the noise component as much as possible.
また、実施形態に係る眼科装置では、パターン光は、リング状の光であってよい。 Further, in the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the pattern light may be ring-shaped light.
このような構成によれば、リング状の光に基づくリング像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, even when the luminance of the ring image based on the ring-shaped light is high, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than conventional.
また、実施形態に係る眼科装置の制御方法は、光源(レフ測定光源61)からの光に基づくパターン光(リング状光束)を被検眼(E)に投射し、パターン光の被検眼からの戻り光を焦点位置が変更可能な合焦レンズ(74)を介して撮像素子(59)で受光することにより被検眼の屈折力を測定するための方法である。眼科装置の制御方法は、第1測定条件ステップ(ステップS14)と、第2測定条件ステップ(ステップS20)と、雲霧制御ステップ(ステップS23)と、測定ステップ(ステップS24)とを含む。第1測定条件ステップは、撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、光源の光量、撮像素子の露光時間、撮像素子の検出感度、及び合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する。第2測定条件決定ステップは、第1測定条件の下で撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、光量、露光時間、検出感度、及び制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する。雲霧制御ステップは、第2測定条件の下で被検眼を雲霧視させる。測定ステップは、雲霧制御ステップにおいて被検眼を雲霧視させた状態で屈折力を測定する。 Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, pattern light (ring light flux) based on light from the light source (reflex measurement light source 61) is projected onto the eye to be examined (E), and the pattern light is returned from the eye This is a method for measuring the refractive power of an eye to be examined by receiving light at the imaging device (59) through a focusing lens (74) whose focal position can be changed. The control method of the ophthalmologic apparatus includes a first measurement condition step (step S14), a second measurement condition step (step S20), a fog control step (step S23), and a measurement step (step S24). The first measurement condition step includes at least one of the light amount of the light source, the exposure time of the imaging device, the detection sensitivity of the imaging device, and the control content for the focusing lens based on the first pattern image obtained by the imaging device. Determine the first measurement condition. The second measurement condition determining step is a second measurement condition including at least one of light amount, exposure time, detection sensitivity, and control content based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition. Decide. The fog control step fogs the subject eye under the second measurement condition. In the measurement step, the refractive power is measured in a state of fogging the eye to be examined in the fog control step.
このような構成によれば、第1測定条件決定ステップにおいて第1測定条件を決定し、決定された第1測定条件の下で第2測定条件決定ステップにおいて第2測定条件を決定し、第2測定条件の下で眼屈折力値を取得するようにしたので、パターン像の輝度が高い場合であっても、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, the first measurement condition is determined in the first measurement condition determination step, and the second measurement condition is determined in the second measurement condition determination step under the determined first measurement condition. Since the eye refractive power value is acquired under the measurement conditions, even when the brightness of the pattern image is high, it becomes possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art.
また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第1測定条件決定ステップ及び第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第1判定ステップ(ステップS31)と、第2判定ステップ(ステップS42)と、第1検出感度制御ステップ(ステップS43)と、第3判定ステップ(ステップS44)と、第1露光時間制御ステップ(ステップS45)と、第4判定ステップ(ステップS46)と、第1光量制御ステップ(ステップS47)とを含んでもよい。第1判定ステップは、パターン像の輝度が高いか否かを判定する。第2判定ステップは、第1判定ステップにおいて輝度が高いと判定されたとき、検出感度が第1閾値(TH1)以上であるか否かを判定する。第1検出感度制御ステップは、第2判定ステップにおいて検出感度が第1閾値以上であると判定されたとき、検出感度を下げる。第3判定ステップは、第2判定ステップにおいて検出感度が第1閾値未満であると判定されたとき、露光時間が第2閾値(TH2)以上であるか否かを判定する。第1露光時間制御ステップは、第3判定ステップにおいて露光時間が第2閾値以上であると判定されたとき、露光時間を短くする。第4判定ステップは、第3判定ステップにおいて検出感度が第2閾値未満であると判定されたとき、光量が第3閾値(TH3)以上であるか否かを判定する。第1光量制御ステップは、第4判定ステップにおいて光量が第3閾値以上であると判定されたとき、光量を下げる。 In the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step includes a first determination step (step S31) and a second determination step (step S42). , First detection sensitivity control step (step S43), third determination step (step S44), first exposure time control step (step S45), fourth determination step (step S46), and first light amount control step And (Step S47) may be included. The first determination step determines whether the brightness of the pattern image is high. The second determination step determines whether the detection sensitivity is equal to or higher than a first threshold (TH1) when it is determined that the luminance is high in the first determination step. The first detection sensitivity control step reduces the detection sensitivity when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is equal to or higher than a first threshold. In the third determination step, when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is less than the first threshold, it is determined whether the exposure time is equal to or greater than a second threshold (TH2). The first exposure time control step shortens the exposure time when it is determined in the third determination step that the exposure time is equal to or greater than the second threshold. In the fourth determination step, when it is determined in the third determination step that the detection sensitivity is less than the second threshold, it is determined whether the light amount is equal to or more than a third threshold (TH3). The first light quantity control step reduces the light quantity when it is determined in the fourth determination step that the light quantity is equal to or greater than the third threshold.
このような構成によれば、パターン像の輝度が高い場合に、まず、検出感度を下げてから露光時間を短くし、光量を下げるようにしたので、測定環境に与える影響を小さくしつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。 According to such a configuration, when the brightness of the pattern image is high, first, the detection sensitivity is lowered and then the exposure time is shortened to reduce the light amount. Therefore, the influence on the measurement environment is reduced, It is possible to minimize the drop in measurement accuracy with respect to the optometry movement.
また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、眼科装置は、パターン光の光路に配置されたロータリープリズム(67)を含み、第2閾値は、ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上であってよい。 Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the ophthalmologic apparatus includes a rotary prism (67) disposed in the light path of the pattern light, and the second threshold is equal to or more than the lower limit time defined by the rotational speed of the rotary prism. It may be.
このような構成によれば、ロータリープリズムによる光量分布の平均化の効果を得ながら測定精度の低下を抑えることができる。 According to such a configuration, it is possible to suppress the decrease in measurement accuracy while obtaining the effect of averaging the light amount distribution by the rotary prism.
また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、第1測定条件決定ステップ及び第2測定条件決定ステップの少なくとも一方は、第5判定ステップ(ステップS33)と、第6判定ステップ(ステップS52)と、第2光量制御ステップ(ステップS53)と、第7判定ステップ(ステップS54)と、第2露光時間制御ステップ(ステップS55)と、第8判定ステップ(ステップS56)と、第2検出感度制御ステップ(ステップS57)とを含んでもよい。第5判定ステップは、パターン像の輝度が低いか否かを判定する。第6判定ステップは、第5判定ステップにおいて輝度が低いと判定されたとき、光量が第4閾値(TH4)以下であるか否かを判定する。第2光量制御ステップは、第6判定ステップにおいて光量が第4閾値以下であると判定されたとき、光量を上げる。第7判定ステップは、第6判定ステップにおいて光量が第4閾値を超えると判定されたとき、露光時間が第5閾値(TH5)以下であるか否かを判定する。第2露光時間制御ステップは、第7判定ステップにおいて露光時間が第5閾値以下であると判定されたとき、露光時間を長くする。第8判定ステップは、第7判定ステップにおいて露光時間が第5閾値を超えると判定されたとき、検出感度が第6閾値(TH6)以下であるか否かを判定する。第2検出感度制御ステップは、第8判定ステップにおいて検出感度が第6閾値以下であると判定されたとき、検出感度を上げる。 In the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, at least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step includes a fifth determination step (step S33) and a sixth determination step (step S52). , Second light amount control step (step S53), seventh determination step (step S54), second exposure time control step (step S55), eighth determination step (step S56), and second detection sensitivity control step And (Step S57) may be included. The fifth determination step determines whether the luminance of the pattern image is low. The sixth determination step determines whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold (TH4) when it is determined in the fifth determination step that the luminance is low. The second light quantity control step increases the light quantity when it is determined in the sixth determination step that the light quantity is equal to or less than the fourth threshold. The seventh determination step determines whether the exposure time is equal to or less than a fifth threshold (TH5) when it is determined in the sixth determination that the light amount exceeds the fourth threshold. The second exposure time control step lengthens the exposure time when it is determined in the seventh determination step that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold. The eighth determination step determines whether the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold (TH6) when the exposure time is determined to exceed the fifth threshold in the seventh determination step. The second detection sensitivity control step increases the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold.
このような構成によれば、パターン像の輝度が低い場合に、まず、光量を上げてから露光時間を長くし、検出感度を上げるようにしたので、検出感度を上げることによるノイズ成分の増加を抑えつつ、被検眼の動きに対する測定精度の低下を最小限に抑えることができるようになる。 According to such a configuration, when the luminance of the pattern image is low, first, the exposure time is increased after the light amount is increased, and the detection sensitivity is increased. Therefore, the noise component is increased by increasing the detection sensitivity. It is possible to minimize the decrease in measurement accuracy with respect to the movement of the eye while suppressing.
また、実施形態に係る眼科装置の制御方法では、光源は、被検眼の眼底(Ef)と光学的に略共役になるように配置され、眼科装置は、被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置(Q)に配置され光源からの光を透過する透光部が形成された絞り(リング絞り65)と、光源からの光を偏向して透光部に導く偏向部材(円錐プリズム63、リングレンズ69)と、を含み、透光部を透過した光をパターン光として被検眼に投射してもよい。
Further, in the control method of the ophthalmologic apparatus according to the embodiment, the light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus (Ef) of the eye to be examined, and the ophthalmologic apparatus is substantially conjugate to the pupil of the eye to be examined optically A diaphragm (ring diaphragm 65) disposed at a proper position (Q) and formed with a light transmitting portion for transmitting light from the light source, and a deflection member (
このような構成によれば、眼底に細い(内径と外径との幅が狭い)パターン光を投射することができるようになるので、輝度の高いパターン光を投射することで、取得されたパターン像の解析精度を向上させることができるようになる。それにより、輝度の高いパターン像と、複数回の仮測定の実行とにより、従来に比べて高い精度で眼屈折力を測定することができるようになる。 According to such a configuration, it is possible to project thin pattern light (with narrow inner diameter and outer width) on the fundus, so that the pattern obtained by projecting high-brightness pattern light can be obtained. It becomes possible to improve the analysis accuracy of the image. As a result, it is possible to measure the eye refractive power with higher accuracy than in the prior art by performing a pattern image with high luminance and performing a plurality of temporary measurements.
<その他の変形例>
以上に示された実施形態は、この発明を実施するための一例に過ぎない。この発明を実施しようとする者は、この発明の要旨の範囲内において任意の変形、省略、追加等を施すことが可能である。
<Other Modifications>
The embodiment shown above is only an example for implementing this invention. A person who intends to practice the present invention can make any modification, omission, addition, and the like within the scope of the present invention.
前述の実施形態では、視標チャート43として透過型の液晶パネルを用いた場合について説明したが、実施形態に係る眼科装置の構成はこれに限定されるものではない。視標チャート43は、光学式チャートであってもよい。
In the above-mentioned embodiment, although the case where a transmission type liquid crystal panel was used as
前述の実施形態おける撮像素子59の露光時間の変更に代えて、撮像素子59により得られた画像の重ね合わせ枚数を変更するようにしてもよい。この場合、演算処理部120(解析部121)は、主制御部111から指定された重ね合わせ枚数で、撮像素子59により得られた画像の重ね合わせ処理を行うことが可能である。
Instead of changing the exposure time of the
1 Zアライメント系
2 XYアライメント系
3 ケラト測定系
4 視標投影系
5 前眼部観察系
6、6a レフ測定投射系
7 レフ測定受光系
9 処理部
63 円錐プリズム
64 フィールドレンズ
65 リング絞り
69 リングレンズ
110 制御部
111 主制御部
121 解析部
1000、1000a 眼科装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Z alignment system 2 XY alignment system 3 Kerat measurement system 4
Claims (14)
前記撮像素子により得られたパターン像に基づいて前記被検眼の眼屈折力値を算出する解析部と、
前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定し、前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定し、前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させた状態で前記撮像素子により得られた第3パターン像に基づいて前記眼屈折力値を前記解析部に算出させる制御部と、
を含む眼科装置。 An optical system which projects pattern light based on light from a light source onto an eye to be examined, and receives the return light of the pattern light from the eye through a focusing lens whose focal position can be changed;
An analysis unit that calculates an eye refractive power value of the subject's eye based on the pattern image obtained by the image sensor;
A first measurement including at least one of the light amount of the light source, the exposure time of the imaging device, the detection sensitivity of the imaging device, and the control content of the focusing lens based on the first pattern image obtained by the imaging device A second condition including the at least one of the light intensity, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition; The measurement condition is determined, and the eye refracting power value is calculated by the analysis unit based on the third pattern image obtained by the imaging device in a state in which the subject's eye is clouded under the second measurement condition. A control unit,
Ophthalmic device including.
前記光学系は、
前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、
前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、
を含み、
前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する
ことを特徴とする請求項1に記載の眼科装置。 The light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the subject's eye,
The optical system is
A diaphragm disposed at a position substantially optically conjugate with the pupil of the eye to be examined and formed with a light transmitting portion transmitting light from the light source;
A deflecting member that deflects light from the light source and guides the light to the light transmitting portion;
Including
The ophthalmologic apparatus according to claim 1, wherein the light transmitted through the light transmitting unit is projected as the pattern light onto the eye to be examined.
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の眼科装置。 The control unit executes the first luminance reduction control when the luminance of the first pattern image is high, and executes the first luminance increase control when the luminance of the first pattern image is low, and the luminance of the second pattern image is generated. The ophthalmologic apparatus according to claim 1 or 2, wherein the second brightness reduction control is executed when H is high, and the second brightness increase control is executed when the brightness of the second pattern image is low.
ことを特徴とする請求項3に記載の眼科装置。 At least one of the first brightness reduction control and the second brightness reduction control performs the exposure time after the first detection sensitivity control to reduce the brightness of the pattern image by lowering the detection sensitivity based on the brightness of the pattern image. 4. The ophthalmologic apparatus according to claim 3, wherein the first exposure time control to lower the brightness of the pattern image is performed by shortening the length.
ことを特徴とする請求項4に記載の眼科装置。 At least one of the first luminance reduction control and the second luminance reduction control performs first light amount control for reducing the luminance of the pattern image by reducing the light amount after the first exposure time control. The ophthalmologic apparatus according to claim 4.
前記第1露光時間制御は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上になるように前記露光時間を短くする
ことを特徴とする請求項4又は請求項5に記載の眼科装置。 The optical system includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light,
The ophthalmologic apparatus according to claim 4 or 5, wherein the first exposure time control shortens the exposure time to be equal to or more than a lower limit time defined by a rotational speed of the rotary prism.
ことを特徴とする請求項3〜請求項6のいずれか一項に記載の眼科装置。 At least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control increases the light intensity to increase the brightness of the pattern image, and then extends the exposure time after the second light intensity control to increase the brightness of the pattern image. The ophthalmologic apparatus according to any one of claims 3 to 6, wherein a second exposure time control is performed.
ことを特徴とする請求項7に記載の眼科装置。 At least one of the first brightness increase control and the second brightness increase control performs second detection sensitivity control to increase the brightness of the pattern image by increasing the detection sensitivity after the second exposure time control. The ophthalmologic apparatus according to claim 7.
ことを特徴とする請求項1〜請求項8のいずれか一項に記載の眼科装置。 The ophthalmologic apparatus according to any one of claims 1 to 8, wherein the pattern light is ring-shaped light.
前記撮像素子により得られた第1パターン像に基づいて、前記光源の光量、前記撮像素子の露光時間、前記撮像素子の検出感度、及び前記合焦レンズに対する制御内容の少なくとも1つを含む第1測定条件を決定する第1測定条件決定ステップと、
前記第1測定条件の下で前記撮像素子により得られた第2パターン像に基づいて、前記光量、前記露光時間、前記検出感度、及び前記制御内容の少なくとも1つを含む第2測定条件を決定する第2測定条件決定ステップと、
前記第2測定条件の下で前記被検眼を雲霧視させる雲霧制御ステップと、
前記雲霧制御ステップにおいて前記被検眼を雲霧視させた状態で前記屈折力を測定する測定ステップと、
を含む眼科装置の制御方法。 The pattern light based on the light from the light source is projected onto the subject's eye, and the return light from the subject's eye of the pattern light is received by the imaging device through the focusing lens whose focal position can be changed. A control method of an ophthalmologic apparatus for measuring refractive power, comprising:
A first light source includes at least one of a light amount of the light source, an exposure time of the image pickup device, a detection sensitivity of the image pickup device, and control contents of the focusing lens based on the first pattern image obtained by the image pickup device. A first measurement condition determination step of determining a measurement condition;
A second measurement condition including at least one of the light amount, the exposure time, the detection sensitivity, and the control content is determined based on a second pattern image obtained by the imaging device under the first measurement condition. A second measurement condition determining step
A fog control step of causing the subject eye to fog under the second measurement condition;
A measuring step of measuring the refractive power in a state in which the subject's eye is seen fogged in the fog control step;
Method of controlling an ophthalmologic apparatus including:
パターン像の輝度が高いか否かを判定する第1判定ステップと、
前記第1判定ステップにおいて前記輝度が高いと判定されたとき、前記検出感度が第1閾値以上であるか否かを判定する第2判定ステップと、
前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値以上であると判定されたとき、前記検出感度を下げる第1検出感度制御ステップと、
前記第2判定ステップにおいて前記検出感度が前記第1閾値未満であると判定されたとき、前記露光時間が第2閾値以上であるか否かを判定する第3判定ステップと、
前記第3判定ステップにおいて前記露光時間が前記第2閾値以上であると判定されたとき、前記露光時間を短くする第1露光時間制御ステップと、
前記第3判定ステップにおいて前記検出感度が前記第2閾値未満であると判定されたとき、前記光量が第3閾値以上であるか否かを判定する第4判定ステップと、
前記第4判定ステップにおいて前記光量が前記第3閾値以上であると判定されたとき、前記光量を下げる第1光量制御ステップと、
を含む
ことを特徴とする請求項10に記載の眼科装置の制御方法。 At least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is
A first determination step of determining whether the brightness of the pattern image is high;
A second determination step of determining whether the detection sensitivity is equal to or greater than a first threshold when it is determined that the luminance is high in the first determination step;
A first detection sensitivity control step of decreasing the detection sensitivity when it is determined in the second determination step that the detection sensitivity is equal to or higher than the first threshold;
A third determination step of determining whether the exposure time is greater than or equal to a second threshold when the detection sensitivity is determined to be less than the first threshold in the second determination step;
A first exposure time control step of shortening the exposure time when it is determined in the third determination step that the exposure time is the second threshold or more;
A fourth determination step of determining whether the light amount is equal to or more than a third threshold when the detection sensitivity is determined to be less than the second threshold in the third determination step;
A first light amount control step of decreasing the light amount when it is determined in the fourth determination step that the light amount is equal to or greater than the third threshold;
The control method of an ophthalmologic apparatus according to claim 10, comprising:
前記第2閾値は、前記ロータリープリズムの回転速度により規定される下限時間以上である
ことを特徴とする請求項11に記載の眼科装置の制御方法。 The ophthalmologic apparatus includes a rotary prism disposed in an optical path of the pattern light,
The control method of the ophthalmologic apparatus according to claim 11, wherein the second threshold is equal to or more than a lower limit time defined by a rotational speed of the rotary prism.
パターン像の輝度が低いか否かを判定する第5判定ステップと、
前記第5判定ステップにおいて前記輝度が低いと判定されたとき、前記光量が第4閾値以下であるか否かを判定する第6判定ステップと、
前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値以下であると判定されたとき、前記光量を上げる第2光量制御ステップと、
前記第6判定ステップにおいて前記光量が前記第4閾値を超えると判定されたとき、前記露光時間が第5閾値以下であるか否かを判定する第7判定ステップと、
前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値以下であると判定されたとき、前記露光時間を長くする第2露光時間制御ステップと、
前記第7判定ステップにおいて前記露光時間が前記第5閾値を超えると判定されたとき、前記検出感度が第6閾値以下であるか否かを判定する第8判定ステップと、
前記第8判定ステップにおいて前記検出感度が前記第6閾値以下であると判定されたとき、前記検出感度を上げる第2検出感度制御ステップと、
を含む
ことを特徴とする請求項10〜請求項12のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法。 At least one of the first measurement condition determination step and the second measurement condition determination step is
A fifth determination step of determining whether the brightness of the pattern image is low;
A sixth determination step of determining whether the light amount is equal to or less than a fourth threshold when the luminance is determined to be low in the fifth determination step;
A second light amount control step of increasing the light amount when it is determined in the sixth determination step that the light amount is equal to or less than the fourth threshold;
A seventh determination step of determining whether the exposure time is equal to or less than a fifth threshold when the light amount is determined to exceed the fourth threshold in the sixth determination step;
A second exposure time control step of lengthening the exposure time when it is determined in the seventh determination step that the exposure time is equal to or less than the fifth threshold;
An eighth determination step of determining whether the detection sensitivity is equal to or less than a sixth threshold when it is determined in the seventh determination step that the exposure time exceeds the fifth threshold;
A second detection sensitivity control step of increasing the detection sensitivity when it is determined in the eighth determination step that the detection sensitivity is equal to or less than the sixth threshold;
The control method of the ophthalmologic apparatus according to any one of claims 10 to 12, further comprising:
前記眼科装置は、
前記被検眼の瞳孔と光学的に略共役な位置に配置され前記光源からの光を透過する透光部が形成された絞りと、
前記光源からの光を偏向して前記透光部に導く偏向部材と、
を含み、
前記透光部を透過した光を前記パターン光として前記被検眼に投射する
ことを特徴とする請求項10〜請求項13のいずれか一項に記載の眼科装置の制御方法。 The light source is disposed so as to be approximately optically conjugate with the fundus of the subject's eye,
The ophthalmologic apparatus
A diaphragm disposed at a position substantially optically conjugate with the pupil of the eye to be examined and formed with a light transmitting portion transmitting light from the light source;
A deflecting member that deflects light from the light source and guides the light to the light transmitting portion;
Including
The control method of the ophthalmologic apparatus according to any one of claims 10 to 13, wherein the light transmitted through the light transmitting portion is projected as the pattern light onto the eye to be examined.
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