JP2016145299A - 導電材料及びそれを用いた導電体 - Google Patents

導電材料及びそれを用いた導電体 Download PDF

Info

Publication number
JP2016145299A
JP2016145299A JP2015023190A JP2015023190A JP2016145299A JP 2016145299 A JP2016145299 A JP 2016145299A JP 2015023190 A JP2015023190 A JP 2015023190A JP 2015023190 A JP2015023190 A JP 2015023190A JP 2016145299 A JP2016145299 A JP 2016145299A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
fatty acid
conductive material
alkylamine
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015023190A
Other languages
English (en)
Inventor
元気 米倉
Genki Yonekura
元気 米倉
航介 浦島
Kosuke Urashima
航介 浦島
恭 神代
Yasushi Kamishiro
恭 神代
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
Priority to JP2015023190A priority Critical patent/JP2016145299A/ja
Publication of JP2016145299A publication Critical patent/JP2016145299A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Abstract

【課題】 低温で導体を得ることのできる導電材料、及び本発明で得た導体材料によって製造された導電体を提供する。
【解決手段】 アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子、有機溶媒及び脂肪酸Aを含有する導電材料。前記脂肪酸Aが、炭素数9以下の脂肪酸の少なくとも1種以上を含むと好ましい。前記脂肪酸Aを、銅含有粒子の100質量部に対して0.01〜40.0質量部含有すると好ましい。前記アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子が、脂肪酸Bと銅の塩化合物(脂肪酸銅)、還元性化合物、及びアルキルアミンの混合物を加熱する工程を有して得られるものであると好ましい。前記還元性化合物が、ヒドラジン、ヒドラジン誘導体、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン誘導体からなる群より選択される少なくとも1種を含むと好ましい。前記導電材料を、250℃以下で加熱することで得られる導電体。
【選択図】 なし

Description

本発明は導電材料及びそれを用いた導電体に関する。
金属パターンの形成方法として、銅等の金属粒子を含むインク、ペースト等の導電材料をインクジェット印刷、スクリーン印刷等により基材上に付与する工程と、導電材料を加熱して金属粒子を焼結させ、導電性を発現させる導体化工程とを含む方法が知られている。導電材料に含まれる金属粒子としては、金属の酸化を抑制して保存性を高めるために表面に保護剤としての有機物を付着させたものが知られている。
特許文献1には、低温で焼結でき、良好な導電性を発現する被覆銅粒子及びその製造方法が記載されている。特許文献1に記載の銅粒子は、シュウ酸銅等の銅前駆体とヒドラジン等の還元性化合物とを混合して複合化合物を得る工程と、前記複合化合物をアルキルアミンの存在下で加熱する工程とを有する方法によって製造されるものである。特許文献1の実施例では、作製した銅粒子を含むインクをアルゴン雰囲気中、60℃/分で300℃まで加熱して30分保持することで導体化を達成している。
特開2012−72418号公報
金属粒子は金属の酸化を抑制して保存性を高めるため、表面に保護剤を付着させている。しかし、導電性を発現させるためには、導体化工程で金属粒子から保護剤を脱離させ、金属表面が剥き出しの状態にして粒子同士を焼結させる必要がある。現在、この金属粒子から保護剤を脱離させる際に高温を必要とすることが問題となっている。
近年、生産効率の向上、使用する基材の種類の多様化等の観点から、より低温(例えば、150℃以下)での金属粒子の導体化を可能にする技術の開発が求められている。従って、特許文献1に記載されている温度よりもさらに低い温度で実施できる導体化方法の開発が求められている。
本発明は上記課題を解決するため、低温で導体を得ることのできる導電材料、及び本発明で得た導体材料によって製造された導電体を提供することを目的とする。
本発明の導電材料は、アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子を有機溶媒と混合し、さらに脂肪酸を添加したものである。これによって、粒子に付着したアルキルアミンに対して脂肪酸が付加して、アルキルアミンと粒子の結合力が弱くなり低温での導体化が可能となる。
本発明は、[1]アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子、有機溶媒及び脂肪酸Aを含有する導電材料に関する。
また、本発明は、[2]脂肪酸Aが、炭素数9以下の脂肪酸を少なくとも1種以上を含む上記[1]に記載の導電材料に関する。
また、本発明は、[3]前記脂肪酸Aを、銅含有粒子の100質量部に対して0.01〜40.0質量部含有する上記[1]又は[2]に記載の導電材料に関する。
また、本発明は、[4]前記アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子が、脂肪酸Bと銅の塩化合物(脂肪酸銅)、還元性化合物、及びアルキルアミンの混合物を加熱する工程を有して得られる上記[1]〜[3]のいずれか一項に記載の導電材料に関する。
また、本発明は、[5]前記脂肪酸Bが、炭素数9以下の脂肪酸を少なくとも1種以上を含む上記[4]に記載の導電材料に関する。
また、本発明は、[6]前記還元性化合物が、ヒドラジン、ヒドラジン誘導体、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン誘導体からなる群より選択される少なくとも1種を含む上記[4]又は[5]に記載の導電材料に関する。
また、本発明は、[7]上記[1]〜[6]のいずれか一項に記載の導電材料を、250℃以下で加熱することで得られる導電体に関する。
本発明は、アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子、有機溶媒及び脂肪酸Aを含有することで、低温で導体化可能な導電材料及び低温で製造可能な導電体を提供することができる。
また、脂肪酸Aの炭素数を変えることで導体化時の脂肪酸Aの揮発性を調整することができる。
また、アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子に対する脂肪酸Aの配合量を変えることで保護剤の脱離しやすさを調整することができる。
<導電材料>
本発明の導電材料は、表面の少なくとも一部に有機物であるアルキルアミンが存在する銅含有粒子、有機溶媒及び脂肪酸Aを含有する。
<脂肪酸A>
本発明に使用される脂肪酸Aは、銅含有粒子表面の保護剤であるアルキルアミンに付加して、銅含有粒子とアルキルアミンの結合力を弱めて低温でも脱離し易くできる。脂肪酸Aは1種のみでも、2種以上であってもよい。
前記脂肪酸Aは、RCOOHで表されるカルボン酸である。Rは炭化水素基であり、飽和脂肪酸でも不飽和脂肪酸であってもよく、直鎖状でも分岐状であってもよい。本発明で使用される脂肪酸Aは低温導体化で良好な導電性を得る観点から、導体への残存量が少なくなるように低沸点な分岐状の脂肪酸が好ましい。
前記脂肪酸Aが、炭素数9以下の脂肪酸であると好ましい。炭素数が9以下である飽和脂肪酸としては、酢酸(炭素数2)、プロピオン酸(炭素数3)、酪酸及びイソ酪酸(炭素数4)、吉草酸及びイソ吉草酸(炭素数5)、カプロン酸及びイソカプロン酸(炭素数6)、エナント酸及びイソエナント酸(炭素数7)、カプリル酸及びイソカプリル酸、イソカプロン酸(炭素数8)、ノナン酸及びイソノナン酸(炭素数9)等を挙げることができる。良好な導電性を得る観点から、低沸点な脂肪酸である炭素数が6以下の脂肪酸が好ましい。炭素数が2以下の脂肪酸がより好ましい。炭素数が9以下である不飽和脂肪酸としては、上記の飽和脂肪酸の炭化水素基中に1つ以上の二重結合を有するものを挙げることができる。
前記脂肪酸Aは、銅含有粒子の100質量部に対して0.01〜40.0質量部である。脂肪酸Aの配合量が多いほどアルキルアミンを銅含有粒子から脱離させ易くなるため好ましいが、多過ぎると脂肪酸Aが導電体中に残存し良好な導電性が得られなくなる。そのため、脂肪酸Aの構造や導体化温度にもよるが、脂肪酸Aは銅含有粒子の100質量部に対して1〜30.0質量部がより好ましい。炭素数が多く高沸点なノナン酸等の脂肪酸の場合は1〜20.0質量部が好ましい。
<アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子>
本発明に使用されるアルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子は、銅を含有する粒子表面の少なくとも一部にアルキルアミンあるいはアルキルアミンに由来する物質を含む。アルキルアミンの炭素数を変えることで、得られる銅含有粒子の粒径や形状、溶媒中における粒子の分散性、金属粒子の酸化抑制、保護剤の脱離し易さを調整することができる。
本発明において、アルキルアミンは、RNH(Rは炭化水素基であり、環状又は分岐状であってもよい)で表される1級アミン、RNH(R及びRは同じであっても異なっていてもよい炭化水素基であり、環状又は分岐状であってもよい)で表される2級アミン、炭化水素鎖に2つのアミノ基が置換したジアミン等を意味する。アルキルアミンは、1つ以上の二重結合を有していてもよく、酸素、ケイ素、窒素、イオウ、リン等の原子を有していてもよい。アルキルアミンは、1種のみであっても2種以上であってもよい。
アルキルアミンの炭化水素基の炭素数は、7以下であることが好ましい。アルキルアミンの炭化水素基の炭素数が7以下であると分子量が小さく低沸点で脱離し易いため、導体化工程で加熱した際に良好な導体化が達成できる傾向にある。より良好な導体化を達成する観点からは、アルキルアミンの炭化水素基の炭素数は6以下であることがより好ましい。ただし、アルキルアミンの炭化水素基の炭素数が3以下であると脱離し易くなり過ぎて銅粒子の保存性が悪くなるため、炭素数は4〜6の範囲が更に好ましい。
本発明の方法に使用される1級アミンとして具体的には、メチルアミン、エチルアミン、2−エトキシエチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、イソブチルアミン、ペンチルアミン、イソペンチルアミン、ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ドデシルアミン、3−ヒドロキシプロピルアミン、3−メトキシプロピルアミン、3−エトキシプロピルアミン等を挙げることができる。
本発明の方法に使用される2級アミンとして具体的には、ジメチルアミン、エチルメチルアミン、ジエチルアミン、エチルプロピルアミン、ジプロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジブチルアミン、エチルプロピルアミン、エチルペンチルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン等を挙げることができる。
本発明の方法に使用されるジアミンとして具体的には、エチレンジアミン、N,N−ジメチルエチレンジアミン、N,N´−ジメチルエチレンジアミン、N,N−ジエチルエチレンジアミン、N,N´−ジエチルエチレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジアミン、N,N−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N´−ジメチル−1,3−ジアミノプロパン、N,N−ジエチル−1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノブタン、1,5−ジアミノ−2−メチルペンタン、1,6−ジアミノへキサン、N,N´−ジメチル−1,6−ジアミノへキサン、1,7−ジアミノヘプタン、1,8−ジアミノオクタン、1,9−ジアミノノナン、1,12−ジアミノドデカン等を挙げることができる。
銅含有粒子表面の少なくとも一部に存在する有機物(アルキルアミン、脂肪酸A等)は、その割合が金属粒子及び有機物の合計に対して0.1〜20質量部であることが好ましい。有機物の割合が0.1質量部以上であると、充分な耐酸化性が得られる傾向にある。有機物の割合が20質量部以下であると、低温での導体化が容易に達成される傾向にある。金属粒子及び有機物の合計に対する有機物の割合は0.3〜10質量部であることがより好ましく、0.5〜5質量部であることが更に好ましい。
本発明で用いる銅含有粒子の粒径は、特に制限されないが、用途に応じて選択することができる。粒子は小粒径ほど表面エネルギーが高く、低温加熱でも焼結して導電性を発現し易いため、一般に無作為に選択される200個の銅含有粒子の長軸長さの中央値が1〜500nmの範囲内が好ましい。小粒径ほど低温でも導体化しやすいが、粒径が小さ過ぎると粒子が酸化され易く保存性が悪くなってしまう。粒子の酸化を抑えつつ焼結しやすくするためには、10〜300nmの粒径がより好ましい。
本発明で用いる銅含有粒子の形状は特に制限されず、例えば球状、長粒状、円盤状、板状、繊維状等を挙げることができる。形状は銅含有粒子の用途にあわせて選択でき、導電性の観点からは粒子同士の接触面が大きく導電性が得易い円盤状、板状が好ましい。導電材料の印刷性の観点からは、球状、長粒状であることが好ましい。
本発明において長軸の長さとは、粒子に外接し、互いに平行である二平面の間の距離が最大となるように選ばれる二平面間の距離を意味する。本発明において長軸の長さの中央値とは、200個の銅含有粒子の長軸の長さの値の平均値を意味し、長軸の長さの値を小さい順に並べたときに中央に位置する2つの値(100番目及び101番目)の算術平均値を意味する。銅含有粒子の長軸の長さは、電子顕微鏡による観察等の通常の方法によって測定できる。
本発明で用いる銅含有粒子は、少なくとも金属銅を含み、必要に応じてその他の物質を含んでもよい。金属銅以外にも脂肪酸銅、酸化銅、塩化銅等の銅化合物が導電性に悪影響を及ぼさない範囲で含まれていてもよい。銅以外の物質としては、金、銀、白金、錫、ニッケル、亜鉛、チタン等の金属又はこれらの金属元素を含む化合物等を挙げることができる。導電性に優れる銅パターンを形成する観点からは、銅含有粒子中の金属銅の含有率は50質量部以上であることが好ましく、60質量部以上であることがより好ましく、70質量部以上であることが更に好ましい。
<脂肪酸B>
本発明に使用するアルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子の製造方法は、脂肪酸Bと銅から成る塩化合物(脂肪酸銅)、還元性化合物、及びアルキルアミンを含む混合物を加熱する工程を有する方法によって製造される。
前記方法は、銅粒子原料として、脂肪酸Bと銅から成る塩化合物を使用するものである。これにより、脂肪酸Bを用いずに銅粒子原料としてシュウ酸銅等を用いる特許文献1に記載の方法と比較して、脂肪酸Bの炭素数を変えることで、得られる銅含有粒子の粒径や形状、溶媒中における粒子の分散性、金属粒子の酸化抑制、保護剤の脱離し易さを調整することができる。
前記脂肪酸Bは、RCOOHで表されるカルボン酸(Rは炭化水素基であり、直鎖状でも分岐状であってもよい)である。本発明で使用される脂肪酸Bは、飽和脂肪酸でも不飽和脂肪酸であってもよい。粒子の良好な被覆による酸化防止及び有機溶媒中への粒子分散の観点からは、直鎖状の飽和脂肪酸が好ましい。低温導体化の観点からは分岐状の飽和脂肪酸が低沸点であるため好ましい。脂肪酸は1種のみでも、2種以上であってもよい。
前記脂肪酸Bの炭素数は、9以下であることが好ましい。炭素数が9以下である飽和脂肪酸としては、酢酸(炭素数2)、プロピオン酸(炭素数3)、酪酸及びイソ酪酸(炭素数4)、吉草酸及びイソ吉草酸(炭素数5)、カプロン酸(炭素数6)、エナント酸及びイソエナント酸(炭素数7)、カプリル酸、イソカプリル酸及びイソカプロン酸(炭素数8)、ノナン酸及びイソノナン酸(炭素数9)等を挙げることができる。炭素数が9以下である不飽和脂肪酸としては、上記の飽和脂肪酸の炭化水素基中に1つ以上の二重結合を有するものを挙げることができる。
銅含有粒子の製造に使用される前記脂肪酸Bは、得られる銅含有粒子の分散媒への分散性、焼結性等の性質に影響しうる。このため、銅含有粒子の用途に応じて脂肪酸の種類を選択することが好ましい。粒子形状の均一化の観点からは、炭素数が9以下である脂肪酸と、炭素数が4以下である脂肪酸とを併用することが好ましい。例えば、炭素数が9であるノナン酸と、炭素数が2である酢酸とを併用することが好ましい。炭素数が9以下である脂肪酸と炭素数が4以下である脂肪酸とを併用する場合の比率は、特に制限されない。
前記脂肪酸Bと銅との塩化合物(脂肪酸銅)を得る方法は特に制限されない。例えば、水酸化銅と脂肪酸とを溶媒中で混合することで得てもよく、市販されている脂肪酸銅を用いてもよい。あるいは、水酸化銅、脂肪酸及び還元性化合物を溶媒中で混合することで、脂肪酸銅の生成と、脂肪酸銅と還元性化合物との間で形成される錯体の生成とを同じ工程中で行ってもよい。
<還元性化合物>
前記銅含有粒子の製造方法に使用される還元性化合物であるヒドラジン、ヒドラジン誘導体、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン誘導体からなる群として具体的には、ヒドラジン及びメチルヒドラジン等を含むヒドラジン誘導体、塩酸ヒドラジン、硫酸ヒドラジン、抱水ヒドラジン等のヒドラジン化合物、ヒドロキシルアミン及びメチルヒドロキシルアミン等のヒドロキシルアミン誘導体、水素化ホウ素ナトリウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸水素ナトリウム、チオ硫酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム等のナトリウム化合物などを挙げることができる。製造される銅含有粒子の純度の観点から、還元反応で生じる副生成物が窒素やメタン等分離の容易なヒドラジン又はメチルヒドラジン等の還元性化合物が好ましい。還元性化合物は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。
ヒドラジン又はヒドロキシルアミン誘導体から好適なものを選択することで、脂肪酸銅との反応性を変えることができ、銅含有粒子の粒径や粒度分布を調整できる。ヒドラジン誘導体としては、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、n−プロピルヒドラジン、イソプロピルヒドラジン、n−ブチルヒドラジン、イソブチルヒドラジン、sec−ブチルヒドラジン、t−ブチルヒドラジン、n−ペンチルヒドラジン、イソペンチルヒドラジン、neo−ペンチルヒドラジン、t−ペンチルヒドラジン、n−ヘキシルヒドラジン、イソヘキシルヒドラジン、n−ヘプチルヒドラジン、n−オクチルヒドラジン、n−ノニルヒドラジン、n−デシルヒドラジン、n−ウンデシルヒドラジン、n−ドデシルヒドラジン、シクロヘキシルヒドラジン、フェニルヒドラジン、4−メチルフェニルヒドラジン、ベンジルヒドラジン、2−フェニルエチルヒドラジン、2−ヒドラジノエタノール、アセトヒドラジン等を挙げることができる。ヒドロキシルアミンの誘導体としては、N,N−ジ(スルホエチル)ヒドロキシルアミン、モノメチルヒドロキシルアミン、ジメチルヒドロキシルアミン、モノエチルヒドロキシルアミン、ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジ(カルボキシエチル)ヒドロキシルアミン等を挙げることができる。
銅の塩化合物(脂肪酸銅)に含まれる銅と還元性化合物の比率は、所望の錯体が形成される条件であれば特に制限されない。例えば、前記比率(銅:還元性化合物)はモル基準で1:1〜1:4の範囲とすることができ、1:1〜1:3の範囲とすることが好ましく、1:1〜1:2の範囲とすることがより好ましい。
<アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子の製造方法>
前記方法において、銅の塩化合物(脂肪酸銅)、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物を加熱する工程を実施するための方法は特に制限されない。例えば、脂肪酸銅と還元性化合物とを溶媒に混合した後にアルキルアミンを添加して加熱する方法、脂肪酸銅とアルキルアミンとを溶媒と混合した後にさらに還元性化合物を添加して加熱する方法、脂肪酸銅の出発物質である水酸化銅、脂肪酸、還元性化合物及びアルキルアミンを溶媒に混合して加熱する方法、脂肪酸銅とアルキルアミンとを溶媒に混合した後に還元性化合物を添加して加熱する方法等を挙げることができる。
脂肪酸銅、還元性化合物及びアルキルアミンを含む組成物は、さらに溶媒を含んでもよい。脂肪酸銅と還元性化合物による錯体の形成を促進する観点からは、極性溶媒を含むことが好ましい。ここで極性溶媒とは、25℃で水に溶解するものであることが好ましく、アルコール溶媒であることがより好ましい。溶媒としてアルコールを用いることで錯体の形成が促進される理由は明らかではないが、固体である脂肪酸銅を溶解させながら水溶性である還元性化合物との接触が促進されるためと考えられる。溶媒は1種でも、2種以上を併用してもよい。
溶媒として用いるアルコールとして具体的には、1−プロパノール、2−プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール等を挙げることができる。中でも極性の強い1−プロパノール、2−プロパノールがより好ましい。メタノール、エタノール等は極性が強すぎて生成した銅含有粒子が酸化されてしまうため好ましくない。
<導電材料(インク又はペースト状組成物)>
本発明の導電材料とは、アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子及び有機溶媒、脂肪酸Aを混合して得られる導電性インク又は導電性ペーストを含むものである。必要に応じて粒子の分散状態を保つ分散安定剤やその他の成分を含んでもよい。インク又はペースト化することで、各種印刷方法に対応することができる。
本発明でインク又はペースト化する際に用いる有機溶媒は特に制限されず、導電インク、導電ペースト等の作製に一般に用いられる有機溶剤から用途に応じて選択できる。例えば、粘度コントロールの観点からはテルピネオール、イソボルニルシクロヘキサノール、ジヒドロターピネオール、ジヒドロターピネオールアセテート等が好ましい。
本発明の導電材料の状態は特に制限されず、用途に応じて選択できる。例えば、導電材料をスクリーン印刷法に適用する場合は、用いる温度で粘度が0.1〜30Pa・sの導電性インクであることが好ましく、1〜30Pa・sであることがより好ましい。導電材料をインクジェット印刷法に適用する場合は、用いる温度で粘度が0.1〜30mPa・sの導電性インクであることが好ましく、5〜20mPa・sであることがより好ましい。粘度を調整する際には用いる有機溶媒の粘度や導電材料の濃度等で制御できる。
<導体化>
本発明において「導体化」とは、金属含有粒子を焼結させて導電性を有する物体に変化させることをいう。本発明の導電材料を導体化する方法において、加熱工程が実施される雰囲気中の成分は特に制限されず、通常の導体の製造工程で用いられる窒素、アルゴン等から選択できる。
本発明の導電材料を導体化する方法において、250℃以下で加熱することで導電体を得ることができる。好ましくは200℃以下、更に好ましくは150℃以下である。加熱工程は一定の昇温速度で行っても、不規則に変化させてもよい。加熱工程の時間は特に制限されず、加熱温度、加熱雰囲気、銅含有粒子の量等を考慮して選択できる。この加熱により銅含有粒子を保護しているアルキルアミンに脂肪酸Aが付加して、アルキルアミンと粒子の結合力が弱くなり脱離され易く、銅含有粒子表面が剥き出しとなり粒子同士が焼結して導電体を形成する。
本発明の導電材料を導体化する場合、必要に応じて加熱以外の工程を含むあるいは用いてもよい。その他の工程としては、加熱前又は加熱中、加熱後のいずれかの工程において、還元雰囲気中で加熱して銅含有粒子又は導体中の酸化銅を還元する工程、光焼成で有機物成分を除去する工程、荷重をかける工程等を挙げることができる。
導体化する際の基材は特に制限されず、導電性を有していても有していなくてもよい。例えば、Cu、Au、Pt、Pd、Ag、Zn、Ni、Co、Fe、Al、Sn等の金属、これら金属の合金、ITO、ZnO、SnO、Si等の半導体、ガラス、黒鉛、グラファイト等のカーボン材料、樹脂、紙などを挙げることができる。本発明の導電材料は、低温で加熱して導電体を得られるため、特に、耐熱性が比較的低い材質からなる基板を用いる場合に好適に適用することができる。このような材質としては、熱可塑性樹脂が挙げられる。熱可塑性樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリイミド樹脂等が挙げられる。基板の形状は特に制限されず、板状、棒状、ロール状、フィルム状等であってよい。
<導電体>
「導電体」とは、導電性を有する物体をいう。本発明の導電材料(導電性インク・ペースト)により製造される導電体の形状は特に制限されず、薄膜状、パターン状等を挙げることができる。本発明の導電材料により製造される導電体は、種々の電子部品の配線や熱伝導路等に使用できる。特に、本発明の導電材料により製造される導電体は低温で製造できるため、樹脂等の耐熱性の低い基板上に金属箔、配線パターン等を形成する用途に好適に用いられる。配線パターンの形成以外にも金属表面間の導電性接着剤としての用途にも好適に用いられる。
本発明の導電体が使用される電子部品の配線や熱伝導路等は種々の装置に使用できる。配線板やディスプレイ、センサ、照明、太陽電池用途に好適に用いられる。特に、本発明の導電材料により製造される導電体は低温で製造できるため、耐熱性の低いフレキシブルディスプレイ、フレキシブルセンサなどのフレキシブルデバイスにより好適に用いられる。
以下、本発明の導電材料と導電体について実施例をもとに説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されるものではない。
<実施例1>
[1.1]ノナン酸銅の合成
水酸化銅(関東化学株式会社、特級)91.5g(0.94mol)に1−プロパノール(関東化学株式会社、特級)150mLを加えて撹拌し、これにノナン酸(関東化学株式会社、純度90質量%以上)370.9g(2.34mol)を加えた。得られた混合物を、セパラブルフラスコ中で90℃、30分間加熱撹拌した。得られた溶液を加熱したままろ過して未溶解物を除去した。その後放冷し、生成したノナン酸銅を吸引ろ過し、洗浄液が透明になるまでヘキサンで洗浄した。得られた粉体を50℃の防爆オーブンで3時間乾燥してノナン酸銅(II)を得た。収量は340g(収率96質量%)であった。
[1.2]銅粒子の合成
上記で得られたノナン酸銅(II)60.02g(0.159mol)と酢酸銅(II)無水物(関東化学株式会社、特級)28.84g(0.159mol)をセパラブルフラスコに入れ、1−プロパノール150mLとヘキシルアミン(東京化成工業株式会社、純度99質量%)131.17g(1.28mol)を添加して溶解させた。氷浴に移し、内温が5℃になるまで冷却した後、ヒドラジン一水和物(関東化学株式会社、特級)31.79g(0.64mol)を脂肪酸銅の溶液に加え、氷浴中で撹拌した。なお、銅:ヘキシルアミンのモル比は1:4である。次いで、オイルバス中125℃で加熱撹拌した。その際、発泡を伴う還元反応が進み、20分以内で反応が終了した。セパラブルフラスコの内壁が銅光沢を呈し、溶液が暗赤色に変化した。遠心分離を9000min−1(回転/分)で10分間実施して固体物を得た。固形物を更にヘキサン400mLで洗浄する工程を3回繰り返し、酸残渣を除去して、銅光沢を有する銅粒子の粉体を含む銅ケークを得た。
前記銅ケーク(50質量部)、有機溶媒としてテルピネオール(25質量部)、及びイソボルニルシクロヘキサノール(商品名:テルソルブMTPH、日本テルペン化学株式会社)(25質量部)、脂肪酸Aとして前記銅ケーク100質量部に対して酢酸(20質量部)を混合して導電性ペーストを作製した。得られた導電性ペーストをポリエチレンナフタレート(PEN)フィルム上に塗布し、加熱して金属銅の薄膜を形成した。加熱は、圧力500Pa窒素中の酸素濃度を0.0ppmとした雰囲気のオーブン内、140℃で60分間保持することによって行った。
<実施例2>
前記銅ケーク100質量部に対して酢酸(5質量部)を混合した以外は実施例1と同様に実施した。
<実施例3>
酢酸の代わりにノナン酸(20質量部)を混合した以外は実施例1と同様に実施した。
<実施例4>
導体化時に200℃で加熱した以外は実施例1と同様に実施した。
<実施例5>
導体化時に200℃で加熱した以外は実施例1と同様に実施した。
<比較例1>
酢酸を混合しない以外は実施例1と同様に実施した。
<比較例2>
導体化時に200℃で加熱した以外は比較例1と同様に実施した。
<評価>
各実施例、各比較例で得られた金属銅の薄膜の体積抵抗率を、4端針面抵抗測定器で測定した面抵抗値と、非接触表面・層断面形状計測システム(VertScan、株式会社菱化システム)で求めた膜厚とから計算した結果を、表1〜3に示した。
Figure 2016145299
脂肪酸Aとして酢酸を使用した本発明の導電材料は140℃の低温処理でも良好な導電性を発現し、添加量が多いほど良好な導電性を得られる傾向を示した。
Figure 2016145299
Figure 2016145299

表2より、脂肪酸Aとして炭素数の多いノナン酸を使用した本発明の導電材料は140℃の低温導体化では良好な導電性を発現しなかった(実施例3)。しかし、表3に示したように、200℃の比較的低温の導体化であれば炭素数が多いノナン酸でも導電性を良好にすることが分かった。
以上より本発明の導電材料によって低温の導体化で良好な導電性を発現することが判明した。

Claims (7)

  1. アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子、有機溶媒及び脂肪酸Aを含有する導電材料。
  2. 前記脂肪酸Aが、炭素数9以下の脂肪酸の少なくとも1種以上を含む請求項1に記載の導電材料。
  3. 前記脂肪酸Aを、銅含有粒子の100質量部に対して0.01〜40.0質量部含有する請求項1又は請求項2に記載の導電材料。
  4. 前記アルキルアミンを保護剤とする銅含有粒子が、脂肪酸Bと銅の塩化合物(脂肪酸銅)、還元性化合物、及びアルキルアミンの混合物を加熱する工程を有して得られる請求項1〜3のいずれか一項に記載の導電材料。
  5. 前記脂肪酸Bが、炭素数9以下の脂肪酸を少なくとも1種以上を含む請求項4に記載の導電材料。
  6. 前記還元性化合物が、ヒドラジン、ヒドラジン誘導体、ヒドロキシルアミン及びヒドロキシルアミン誘導体からなる群より選択される少なくとも1種を含む、請求項4又は請求項5に記載の導電材料。
  7. 請求項1〜6のいずれか一項に記載の導電材料を、250℃以下で加熱することで得られる導電体。
JP2015023190A 2015-02-09 2015-02-09 導電材料及びそれを用いた導電体 Pending JP2016145299A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015023190A JP2016145299A (ja) 2015-02-09 2015-02-09 導電材料及びそれを用いた導電体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015023190A JP2016145299A (ja) 2015-02-09 2015-02-09 導電材料及びそれを用いた導電体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016145299A true JP2016145299A (ja) 2016-08-12

Family

ID=56685323

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015023190A Pending JP2016145299A (ja) 2015-02-09 2015-02-09 導電材料及びそれを用いた導電体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016145299A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106397178A (zh) * 2016-08-31 2017-02-15 江苏辉丰农化股份有限公司 多碳直链羧酸铜的制备方法
JP2018145501A (ja) * 2017-03-08 2018-09-20 株式会社Adeka 銅粉の製造方法、樹脂組成物、硬化物を形成する方法および硬化物
CN109796327A (zh) * 2019-04-01 2019-05-24 成都蓉橙九天生物科技有限公司 一种2-乙基己酸铜的制备方法
CN109824505A (zh) * 2019-04-02 2019-05-31 成都蓉橙九天生物科技有限公司 一种辛酸铜的合成方法
JP2020100888A (ja) * 2018-12-25 2020-07-02 京セラ株式会社 銅粒子、銅粒子の製造方法、銅ペースト及び半導体装置並びに電気・電子部品
WO2021215428A1 (ja) 2020-04-22 2021-10-28 日華化学株式会社 核酸の検出方法及びオリゴヌクレオチドプローブ

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011061208A (ja) * 2009-09-10 2011-03-24 Samsung Electronics Co Ltd 金属パターン形成用組成物およびこれを利用した金属パターン形成方法
JP2013001966A (ja) * 2011-06-16 2013-01-07 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子分散液及びその製造方法
JP2013007076A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子の製造方法
WO2013096664A1 (en) * 2011-12-23 2013-06-27 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Ink composition for making a conductive silver structure
WO2013147535A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Korea Research Institute Of Chemical Technology Synthetic method of suppressing metal nano-particle from having oxidized film and method of manufacturing conductive metal thin film via solution-processed
WO2013147442A1 (ko) * 2012-03-29 2013-10-03 주식회사 동진쎄미켐 인쇄용 구리 페이스트 조성물 및 이를 이용한 금속패턴의 형성방법
JP2014148732A (ja) * 2013-02-04 2014-08-21 Yamagata Univ 新規被覆銅微粒子及びその製造方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011061208A (ja) * 2009-09-10 2011-03-24 Samsung Electronics Co Ltd 金属パターン形成用組成物およびこれを利用した金属パターン形成方法
JP2013001966A (ja) * 2011-06-16 2013-01-07 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子分散液及びその製造方法
JP2013007076A (ja) * 2011-06-23 2013-01-10 Ulvac Japan Ltd 金属微粒子の製造方法
WO2013096664A1 (en) * 2011-12-23 2013-06-27 The Board Of Trustees Of The University Of Illinois Ink composition for making a conductive silver structure
WO2013147442A1 (ko) * 2012-03-29 2013-10-03 주식회사 동진쎄미켐 인쇄용 구리 페이스트 조성물 및 이를 이용한 금속패턴의 형성방법
WO2013147535A1 (en) * 2012-03-30 2013-10-03 Korea Research Institute Of Chemical Technology Synthetic method of suppressing metal nano-particle from having oxidized film and method of manufacturing conductive metal thin film via solution-processed
JP2014148732A (ja) * 2013-02-04 2014-08-21 Yamagata Univ 新規被覆銅微粒子及びその製造方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106397178A (zh) * 2016-08-31 2017-02-15 江苏辉丰农化股份有限公司 多碳直链羧酸铜的制备方法
JP2018145501A (ja) * 2017-03-08 2018-09-20 株式会社Adeka 銅粉の製造方法、樹脂組成物、硬化物を形成する方法および硬化物
JP2020100888A (ja) * 2018-12-25 2020-07-02 京セラ株式会社 銅粒子、銅粒子の製造方法、銅ペースト及び半導体装置並びに電気・電子部品
WO2020137377A1 (ja) * 2018-12-25 2020-07-02 京セラ株式会社 銅粒子、銅粒子の製造方法、銅ペースト及び半導体装置並びに電気・電子部品
CN109796327A (zh) * 2019-04-01 2019-05-24 成都蓉橙九天生物科技有限公司 一种2-乙基己酸铜的制备方法
CN109824505A (zh) * 2019-04-02 2019-05-31 成都蓉橙九天生物科技有限公司 一种辛酸铜的合成方法
WO2021215428A1 (ja) 2020-04-22 2021-10-28 日華化学株式会社 核酸の検出方法及びオリゴヌクレオチドプローブ

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016145299A (ja) 導電材料及びそれを用いた導電体
JP6241908B2 (ja) 被覆金属微粒子とその製造方法
TWI696509B (zh) 含銅粒子、導體形成組成物、導體的製造方法、導體以及電子零件
JP5151476B2 (ja) インク組成物及び金属質材料
JP2008176951A (ja) 銀系微粒子インクペースト
JP2017123253A (ja) 導体形成組成物、導体の製造方法、導体及び装置
JP6414085B2 (ja) 金属ナノ微粒子の製造方法
JP2017101307A (ja) 銅含有粒子、導体形成組成物、導体の製造方法、導体及び電子部品
CN110809806B (zh) 导电性糊料
JP6627228B2 (ja) 銅含有粒子、導体形成組成物、導体の製造方法、導体及び装置
JP6476639B2 (ja) 銅含有粒子
JP2012134297A (ja) 亜酸化銅粒子分散体
JP6902321B2 (ja) 銅膜の製造方法及びそれにより得られた導電体
JP2018170227A (ja) 導体形成用組成物、導体及びその製造方法、積層体並びに装置
JP7031187B2 (ja) 導体及びその形成方法、並びに構造体及びその製造方法
JP2016160455A (ja) 銅含有粒子、導体形成組成物、導体の製造方法、導体及び装置
JP2016146289A (ja) 導電性組成物、それを用いた導電材料及び導電体
JP2017197658A (ja) 導体形成組成物、導体の製造方法、めっき層の製造方法、導体、積層体及び装置
JP7187835B2 (ja) 導体形成用組成物及びその製造方法、並びに、導体層を有する物品及びその製造方法
JP2017204371A (ja) 導体形成組成物、導体の製造方法、めっき層の製造方法、導体、積層体及び装置
JP5124822B2 (ja) 複合金属粉体およびその分散液の製造法
TWI791829B (zh) 光燒結型組成物及使用其的導電膜的形成方法
JP6970378B2 (ja) ニッケル粉末分散剤およびニッケル粉末スラリー
JP2016037628A (ja) 銅含有粒子の導体化方法、導体の製造方法及び導体
TW201802256A (zh) 覆銀銅粉及其製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180126

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180921

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181004

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20190328