JP2015053214A - Organic electroluminescent display device and method for manufacturing the same - Google Patents

Organic electroluminescent display device and method for manufacturing the same Download PDF

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Toshihiro Sato
敏浩 佐藤
裕訓 豊田
Hirokuni Toyoda
裕訓 豊田
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent current leakage between pixels adjacent to each other.SOLUTION: A substrate is prepared in which a plurality of pixel electrodes 18 are provided. An organic electroluminescent film 22 is formed so as to contain a common layer 24 continuously covering a plurality of pixel electrodes 18. A common electrode 28 is formed on the organic electroluminescent film 22. The common layer 24 is irradiated with energy rays in an upper part of a region between pixel electrodes 18 adjacent to each other avoiding an upper part of a plurality of pixel electrodes 18. The conductivity of the common layer 24 decreases in the upper part of the region between pixel electrodes 18 adjacent to each other due to the irradiation of the energy rays.

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence display device and a manufacturing method thereof.

有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、有機膜を陽極と陰極で挟み込んだ構造を有している。通常、複数の有機膜が積層されており、その一層は発光層である。複数の画素に一色(例えば白色)の発光を得るためには、発光層となる有機膜を全体的に連続するように設ける。あるいは、複数の画素に複数色の発光を得るためには、発光層となる有機膜は画素ごとに分離されるが、正孔注入層、電子注入層、正孔輸送層又は電子輸送層となる有機膜は連続的に設ける。いずれの場合であっても、少なくとも1層の有機膜が隣同士の画素にわたって連続的に設けられる。   An organic electroluminescence display device has a structure in which an organic film is sandwiched between an anode and a cathode. Usually, a plurality of organic films are laminated, and one layer is a light emitting layer. In order to obtain light emission of one color (for example, white) in a plurality of pixels, an organic film serving as a light emitting layer is provided so as to be entirely continuous. Alternatively, in order to obtain light emission of a plurality of colors in a plurality of pixels, an organic film serving as a light emitting layer is separated for each pixel, but becomes a hole injection layer, an electron injection layer, a hole transport layer, or an electron transport layer. The organic film is provided continuously. In any case, at least one organic film is continuously provided over adjacent pixels.

特開2009−88320号公報JP 2009-88320 A

高画質の表示装置では、画素の微細化によって、隣同士の画素が接近するようになってきた。そのため、連続する有機膜を伝わって、いずれかの画素の電極から隣の画素に電流がリークすることがあった。電流リークにより、隣の画素が発光してしまうという問題があった。   In a high-quality display device, adjacent pixels have come close to each other due to pixel miniaturization. Therefore, current may leak from the electrode of any pixel to the adjacent pixel through the continuous organic film. There is a problem in that adjacent pixels emit light due to current leakage.

特許文献1には、電流リークの防止方法が開示されているが、一つの画素における陽極と陰極の間での電流リークの防止に関するもので、本発明が解決しようとする課題とは異なる。   Patent Document 1 discloses a method for preventing current leakage, but relates to prevention of current leakage between an anode and a cathode in one pixel, which is different from the problem to be solved by the present invention.

本発明は、隣同士の画素間での電流リークの防止を目的とする。   An object of the present invention is to prevent current leakage between adjacent pixels.

(1)本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、複数の画素電極が設けられた基板を用意する工程と、前記複数の画素電極を連続的に覆う共通層を含むように、有機エレクトロルミネッセンス膜を形成する工程と、前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上に共通電極を形成する工程と、前記複数の画素電極の上方を避けて、隣同士の前記画素電極の間の領域の上方で、前記共通層にエネルギー線を照射する工程と、を含み、前記エネルギー線の照射によって、隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で、前記共通層の導電率を低下させることを特徴とする。本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス膜の共通層が、隣同士の画素電極の間の領域の上方で導電率が低くなるので、隣同士の画素間での電流リークを防止することができる。   (1) An organic electroluminescence display device manufacturing method according to the present invention includes a step of preparing a substrate provided with a plurality of pixel electrodes, and an organic layer so as to include a common layer continuously covering the plurality of pixel electrodes. A step of forming an electroluminescence film, a step of forming a common electrode on the organic electroluminescence film, and above the plurality of pixel electrodes, above a region between the adjacent pixel electrodes, Irradiating the common layer with energy rays, and reducing the conductivity of the common layer above the region between the adjacent pixel electrodes by irradiation with the energy rays. To do. According to the present invention, since the common layer of the organic electroluminescence film has a low conductivity above the region between the adjacent pixel electrodes, current leakage between the adjacent pixels can be prevented.

(2)(1)に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、それぞれの前記画素電極の端部に載るように、隣同士の前記画素電極の間の前記領域に絶縁層を形成する工程をさらに含み、前記有機エレクトロルミネッセンス膜を前記絶縁層に載るように形成することを特徴としてもよい。   (2) In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to (1), an insulating layer is formed in the region between adjacent pixel electrodes so as to be placed on the end portions of the pixel electrodes. The method may further include a step of forming the organic electroluminescence film on the insulating layer.

(3)(1)又は(2)に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記共通電極を形成する前に、前記共通層に前記エネルギー線を照射することを特徴としてもよい。   (3) In the manufacturing method of the organic electroluminescence display device described in (1) or (2), the energy beam may be irradiated to the common layer before the common electrode is formed.

(4)(1)又は(2)に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記共通電極を形成した後に、前記エネルギー線を、前記共通電極を通過させて前記共通層に照射することを特徴としてもよい。   (4) In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to (1) or (2), after the common electrode is formed, the energy beam is irradiated to the common layer through the common electrode. This may be a feature.

(5)(1)又は(2)に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記共通電極の上に封止膜を形成する工程をさらに含み、前記封止膜を形成した後に、前記エネルギー線を、前記封止膜及び前記共通電極を通過させて前記共通層に照射することを特徴としてもよい。   (5) In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to (1) or (2), the method further includes a step of forming a sealing film on the common electrode, and after forming the sealing film, The energy beam may be irradiated to the common layer through the sealing film and the common electrode.

(6)(1)から(5)のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記エネルギー線を、マスクを通して照射し、前記マスクは、前記複数の画素電極の上方で前記エネルギー線の通過を妨げて隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で前記エネルギー線を通過させるパターンを有することを特徴としてもよい。   (6) In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to any one of (1) to (5), the energy beam is irradiated through a mask, and the mask is above the plurality of pixel electrodes. In this case, a pattern may be provided in which the energy rays are prevented from passing and the energy rays are allowed to pass above the region between the adjacent pixel electrodes.

(7)(1)から(5)のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上方に、前記エネルギー線の通過を妨げるマスク層を形成する工程をさらに含み、前記エネルギー線を、前記マスク層のパターンを通して照射し、前記マスク層の前記パターンは、前記複数の画素電極の上方で前記エネルギー線の通過を妨げて隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で前記エネルギー線を通過させることを特徴としてもよい。   (7) In the method of manufacturing an organic electroluminescence display device according to any one of (1) to (5), a mask layer that prevents passage of the energy beam is formed above the organic electroluminescence film. A step of irradiating the energy rays through the pattern of the mask layer, the pattern of the mask layer preventing the passage of the energy rays above the plurality of pixel electrodes; The energy rays may be passed above the region in between.

(8)本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、基板と、前記基板に設けられた複数の画素電極と、前記複数の画素電極を連続的に覆う共通層を含むように前記基板に設けられた有機エレクトロルミネッセンス膜と、前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上に設けられた共通電極と、を有し、前記共通層は、隣同士の前記画素電極の間の領域の上方に、前記複数の画素電極の上方の部分よりも導電率が低い低導電部を有することを特徴とする。本発明によれば、有機エレクトロルミネッセンス膜の共通層は、隣同士の画素電極の間の領域の上方で、導電率が低くなっているので、隣同士の画素間での電流リークを防止することができる。   (8) An organic electroluminescence display device according to the present invention is provided on the substrate so as to include a substrate, a plurality of pixel electrodes provided on the substrate, and a common layer continuously covering the plurality of pixel electrodes. An organic electroluminescence film, and a common electrode provided on the organic electroluminescence film, wherein the common layer has a plurality of pixel electrodes above a region between adjacent pixel electrodes. It has the low electroconductive part whose electrical conductivity is lower than the part above this. According to the present invention, since the common layer of the organic electroluminescence film has a low conductivity above the region between the adjacent pixel electrodes, it prevents current leakage between the adjacent pixels. Can do.

本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の斜視図である。1 is a perspective view of an organic electroluminescence display device according to an embodiment of the present invention. 図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のII−II線断面の概略図である。It is the schematic of the II-II sectional view of the organic electroluminescent display apparatus shown in FIG. 本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例1に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 1 of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例2に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 2 of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例3に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 3 of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例4に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on the modification 4 of embodiment of this invention.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。図1は、本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の斜視図である。図2は、図1に示す有機エレクトロルミネッセンス表示装置のII−II線断面の概略図である。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of an organic electroluminescence display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram of a cross section taken along line II-II of the organic electroluminescence display device shown in FIG.

図1に示すように、有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、ガラスなどからなる光透過性の第1基板10を有する。第1基板10は、画像表示のための画像表示領域を有する。第1基板10には、画像を表示するための素子を駆動するための集積回路チップ12が搭載されている。第1基板10には、外部との電気的接続のために、フレキシブル配線基板14が接続されている。   As shown in FIG. 1, the organic electroluminescence display device has a light-transmitting first substrate 10 made of glass or the like. The first substrate 10 has an image display area for image display. An integrated circuit chip 12 for driving an element for displaying an image is mounted on the first substrate 10. A flexible wiring substrate 14 is connected to the first substrate 10 for electrical connection with the outside.

図2に示すように、第1基板10には回路層16が設けられている。回路層16は、図示しない配線、薄膜トランジスタ及び絶縁膜などを含む。第1基板10(図2の例では回路層16の上)には、複数の画素電極18が設けられている。画素電極18は陽極である。それぞれの画素電極18の端部に載るように、隣同士の画素電極18の間の領域に絶縁層20が設けられている。絶縁層20は、それぞれの画素電極18の周縁部を囲むようになっている。   As shown in FIG. 2, a circuit layer 16 is provided on the first substrate 10. The circuit layer 16 includes a wiring, a thin film transistor, an insulating film, and the like (not shown). A plurality of pixel electrodes 18 are provided on the first substrate 10 (on the circuit layer 16 in the example of FIG. 2). The pixel electrode 18 is an anode. An insulating layer 20 is provided in a region between adjacent pixel electrodes 18 so as to be placed on an end portion of each pixel electrode 18. The insulating layer 20 surrounds the periphery of each pixel electrode 18.

第1基板10には、有機エレクトロルミネッセンス膜22が設けられている。有機エレクトロルミネッセンス膜22は、複数の画素電極18及び絶縁層20に載るようになっている。有機エレクトロルミネッセンス膜22は、図示しないが複数層からなり、少なくとも発光層を含み、さらに、電子輸送層、正孔輸送層、電子注入層及び正孔注入層のうち少なくとも一層を含む。発光層は、一色(例えば白色)の光のみを発するように構成されている。   An organic electroluminescence film 22 is provided on the first substrate 10. The organic electroluminescence film 22 is placed on the plurality of pixel electrodes 18 and the insulating layer 20. Although not shown, the organic electroluminescence film 22 includes a plurality of layers, includes at least a light emitting layer, and further includes at least one of an electron transport layer, a hole transport layer, an electron injection layer, and a hole injection layer. The light emitting layer is configured to emit only light of one color (for example, white).

有機エレクトロルミネッセンス膜22は、複数の画素電極18を連続的に覆う共通層24を含む。図2の例では、有機エレクトロルミネッセンス膜22の全体が共通層24である。あるいは、複数層からなる有機エレクトロルミネッセンス膜22の少なくとも1層(少なくとも1層を除く)が共通層24(例えば電子注入層)であり、少なくとも1層からなる残りの層は、画素電極18ごとに切断された層であってもよい。2層以上の発光層を含むタンデム構造からなる有機エレクトロルミネッセンス膜では、隣同士の発光層の間に配置された電子及び正孔を供給するためのチャージジェネレーション層が共通層であってもよい。   The organic electroluminescence film 22 includes a common layer 24 that continuously covers the plurality of pixel electrodes 18. In the example of FIG. 2, the entire organic electroluminescence film 22 is the common layer 24. Alternatively, at least one layer (excluding at least one layer) of the organic electroluminescence film 22 including a plurality of layers is the common layer 24 (for example, an electron injection layer), and the remaining layers including at least one layer are provided for each pixel electrode 18. It may be a cut layer. In the organic electroluminescence film having a tandem structure including two or more light emitting layers, a charge generation layer for supplying electrons and holes arranged between adjacent light emitting layers may be a common layer.

共通層24は、隣同士の画素電極18の間の領域の上方に、複数の画素電極18の上方の部分よりも導電率が低い低導電部26を有する。低導電部26があることで、共通層24の拡がり方向にキャリア(電子又は正孔)が流れにくくなる。低導電部26は、絶縁層20の上にあるので、絶縁層20の上方で共通層24の拡がり方向へのキャリアの流れが妨げられる。これに対して、共通層24の複数の画素電極18の上方の部分(低導電部26を除く部分)では、共通層24の厚み方向及び拡がり方向に電流が流れるようになっている。   The common layer 24 includes a low conductive portion 26 having a lower conductivity than a portion above the plurality of pixel electrodes 18 above a region between adjacent pixel electrodes 18. The presence of the low conductive portion 26 makes it difficult for carriers (electrons or holes) to flow in the spreading direction of the common layer 24. Since the low conductive portion 26 is on the insulating layer 20, the carrier flow in the spreading direction of the common layer 24 is prevented above the insulating layer 20. On the other hand, in the portion above the plurality of pixel electrodes 18 of the common layer 24 (portion excluding the low conductive portion 26), current flows in the thickness direction and the spreading direction of the common layer 24.

有機エレクトロルミネッセンス膜22の上に共通電極28が設けられている。共通電極28は陰極である。画素電極18及び共通電極28に電圧をかけることにより各々から正孔と電子を有機エレクトロルミネッセンス膜22に注入する。注入された正孔と電子が発光層で結合して光を発する。画素電極18の端部と共通電極28の間には、絶縁層20が介在しているので、両者間のショートが防止されている。   A common electrode 28 is provided on the organic electroluminescence film 22. The common electrode 28 is a cathode. By applying a voltage to the pixel electrode 18 and the common electrode 28, holes and electrons are injected into the organic electroluminescence film 22 from each. The injected holes and electrons combine in the light emitting layer to emit light. Since the insulating layer 20 is interposed between the end portion of the pixel electrode 18 and the common electrode 28, a short circuit between them is prevented.

本実施形態によれば、有機エレクトロルミネッセンス膜22の共通層24は、隣同士の画素電極18の間の領域の上方で、導電率が低くなっているので、隣同士の画素間での電流リークを防止することができる。したがって、電流を流した画素の隣の画素が発光しないようになっている。   According to the present embodiment, the common layer 24 of the organic electroluminescence film 22 has a low conductivity above the region between the adjacent pixel electrodes 18, so that current leakage between the adjacent pixels is performed. Can be prevented. Therefore, the pixel adjacent to the pixel through which the current flows is prevented from emitting light.

共通電極28の上には封止膜42が設けられている。封止膜42は、有機エレクトロルミネッセンス膜22を、水分から遮断するように封止している。封止膜42の上には充填層38が設けられている。   A sealing film 42 is provided on the common electrode 28. The sealing film 42 seals the organic electroluminescence film 22 so as to shield it from moisture. A filling layer 38 is provided on the sealing film 42.

第1基板10と間隔をあけて対向するように、第2基板30が配置されている。第2基板30の第1基板10側の面には、カラーフィルタ層32が設けられている。カラーフィルタ層32は、ブラックマトリクス34及び着色層36を含む。上述した有機エレクトロルミネッセンス膜22の発光層(図示せず)が単一色(例えば白色)を発するので、本実施形態ではカラーフィルタ層32を設けてフルカラー表示を可能にしている。有機エレクトロルミネッセンス膜22が、異なる色(例えば、赤、緑及び青)を発する複数の発光層を含む場合、発光層が複数色の光を発するので着色層36は不要である。第1基板10と第2基板30との間には充填層38が設けられている。   The second substrate 30 is disposed so as to face the first substrate 10 with a gap. A color filter layer 32 is provided on the surface of the second substrate 30 on the first substrate 10 side. The color filter layer 32 includes a black matrix 34 and a colored layer 36. Since the light emitting layer (not shown) of the organic electroluminescence film 22 emits a single color (for example, white), the color filter layer 32 is provided in the present embodiment to enable full color display. When the organic electroluminescence film 22 includes a plurality of light emitting layers that emit different colors (for example, red, green, and blue), the light emitting layer emits light of a plurality of colors, and thus the colored layer 36 is unnecessary. A filling layer 38 is provided between the first substrate 10 and the second substrate 30.

図3は、本発明の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。   FIG. 3 is a view for explaining a method of manufacturing the organic electroluminescence display device according to the embodiment of the present invention.

本実施形態では、複数の画素電極18が設けられた第1基板10を用意する。それぞれの画素電極18の端部に載るように、隣同士の画素電極18の間の領域に絶縁層20を形成する。複数の画素電極18を連続的に覆う共通層24を含むように、有機エレクトロルミネッセンス膜22を形成する。有機エレクトロルミネッセンス膜22は絶縁層20に載るように形成する。有機エレクトロルミネッセンス膜22は、蒸着又はスパッタリングによって形成する。   In the present embodiment, a first substrate 10 provided with a plurality of pixel electrodes 18 is prepared. An insulating layer 20 is formed in a region between adjacent pixel electrodes 18 so as to be placed on the end of each pixel electrode 18. The organic electroluminescence film 22 is formed so as to include a common layer 24 that continuously covers the plurality of pixel electrodes 18. The organic electroluminescence film 22 is formed on the insulating layer 20. The organic electroluminescence film 22 is formed by vapor deposition or sputtering.

そして、共通層24にエネルギー線(紫外線、電子線、赤外線など)を照射する。エネルギー線は、複数の画素電極18の上方を避けて、隣同士の画素電極18の間の領域(絶縁層20)の上方に照射する。エネルギー線の照射によって、隣同士の画素電極18の間の領域の上方で、共通層24の導電率を低下させる。これにより、共通層24に低導電部26を形成する。   Then, the common layer 24 is irradiated with energy rays (ultraviolet rays, electron beams, infrared rays, etc.). The energy rays are irradiated above the area (insulating layer 20) between the adjacent pixel electrodes 18 while avoiding the area above the plurality of pixel electrodes 18. The conductivity of the common layer 24 is lowered above the region between the adjacent pixel electrodes 18 by irradiation with energy rays. Thereby, the low conductive portion 26 is formed in the common layer 24.

エネルギー線は、マスク40を通して照射する。マスク40は、リブと開口からなるパターンを有する。そのパターンは、複数の画素電極18の上方でエネルギー線の通過を妨げ、隣同士の画素電極18の間の領域の上方でエネルギー線を通過させるようになっている。あるいは、レーザービームを使用したレーザースキャンを適用すれば、マスク40は不要である。   The energy rays are irradiated through the mask 40. The mask 40 has a pattern including ribs and openings. The pattern prevents the energy rays from passing above the plurality of pixel electrodes 18 and allows the energy rays to pass above the region between the adjacent pixel electrodes 18. Alternatively, if laser scanning using a laser beam is applied, the mask 40 is unnecessary.

続いて、図2に示すように、有機エレクトロルミネッセンス膜22の上に共通電極28を形成する。共通電極28は、共通層24にエネルギー線を照射した後に形成する。共通電極28の形成前にエネルギー線を照射するので、その照射エネルギーの損失が少ない。   Subsequently, as shown in FIG. 2, the common electrode 28 is formed on the organic electroluminescence film 22. The common electrode 28 is formed after the common layer 24 is irradiated with energy rays. Since the energy beam is irradiated before the formation of the common electrode 28, the loss of the irradiation energy is small.

本実施形態によれば、有機エレクトロルミネッセンス膜22の共通層24が、隣同士の画素電極18の間の領域の上方で導電率が低くなるので、隣同士の画素間での電流リークを防止することができる。   According to the present embodiment, the common layer 24 of the organic electroluminescence film 22 has a low conductivity above the region between the adjacent pixel electrodes 18, thereby preventing current leakage between the adjacent pixels. be able to.

図4は、本発明の実施形態の変形例1に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。この例では、共通電極28を形成した後に、エネルギー線を共通層24に照射する。エネルギー線は、共通電極28を通過させる。   FIG. 4 is a diagram for explaining a method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to Modification 1 of the embodiment of the present invention. In this example, after forming the common electrode 28, the common layer 24 is irradiated with energy rays. The energy ray passes through the common electrode 28.

図5は、本発明の実施形態の変形例2に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。この例では、共通電極28の上に封止膜42を形成する。そして、封止膜42を形成した後に、エネルギー線を、封止膜42及び共通電極28を通過させて共通層24に照射する。これによれば、封止膜42によって異物の混入を防止することができる。   FIG. 5 is a diagram for explaining a method of manufacturing the organic electroluminescence display device according to the second modification of the embodiment of the present invention. In this example, the sealing film 42 is formed on the common electrode 28. Then, after forming the sealing film 42, energy rays are applied to the common layer 24 through the sealing film 42 and the common electrode 28. According to this, foreign substances can be prevented from being mixed by the sealing film 42.

図6は、本発明の実施形態の変形例3に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。この例では、共通電極28の上に封止膜42を形成し、封止膜42の上(有機エレクトロルミネッセンス膜22の上方)にマスク層44を形成する。マスク層44は、例えば酸化チタンで形成し、エネルギー線の通過を妨げる材料から形成する。エネルギー線を、マスク層44のパターンを通して照射する。マスク層44のパターンは、複数の画素電極18の上方でエネルギー線の通過を妨げ、隣同士の画素電極18の間の領域の上方でエネルギー線を通過させるようになっている。   FIG. 6 is a diagram for explaining a method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to Modification 3 of the embodiment of the present invention. In this example, the sealing film 42 is formed on the common electrode 28, and the mask layer 44 is formed on the sealing film 42 (above the organic electroluminescence film 22). The mask layer 44 is made of, for example, titanium oxide and is made of a material that prevents the passage of energy rays. Energy rays are irradiated through the pattern of the mask layer 44. The pattern of the mask layer 44 prevents the energy rays from passing above the plurality of pixel electrodes 18 and allows the energy rays to pass above the region between the adjacent pixel electrodes 18.

図7は、本発明の実施形態の変形例4に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法を説明するための図である。この例では、共通電極28の上(有機エレクトロルミネッセンス膜22の上方)にマスク層44を形成し、マスク層44の上に封止膜42を形成する。マスク層44は、例えば酸化チタンで形成し、エネルギー線の通過を妨げる。エネルギー線を、封止膜42及びマスク層44のパターンを通して照射する。マスク層44のパターンは、複数の画素電極18の上方でエネルギー線の通過を妨げ、隣同士の画素電極18の間の領域の上方でエネルギー線を通過させるようになっている。   FIG. 7 is a diagram for explaining a method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to Modification 4 of the embodiment of the present invention. In this example, the mask layer 44 is formed on the common electrode 28 (above the organic electroluminescence film 22), and the sealing film 42 is formed on the mask layer 44. The mask layer 44 is made of, for example, titanium oxide, and prevents the passage of energy rays. Energy rays are irradiated through the pattern of the sealing film 42 and the mask layer 44. The pattern of the mask layer 44 prevents the energy rays from passing above the plurality of pixel electrodes 18 and allows the energy rays to pass above the region between the adjacent pixel electrodes 18.

本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく種々の変形が可能である。例えば、実施形態で説明した構成は、実質的に同一の構成、同一の作用効果を奏する構成又は同一の目的を達成することができる構成で置き換えることができる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made. For example, the configuration described in the embodiment can be replaced with substantially the same configuration, a configuration that exhibits the same operational effects, or a configuration that can achieve the same purpose.

10 第1基板、12 集積回路チップ、14 フレキシブル配線基板、16 回路層、18 画素電極、20 絶縁層、22 エレクトロルミネッセンス膜、24 共通層、26 低導電部、28 共通電極、30 第2基板、32 カラーフィルタ層、34 ブラックマトリクス、36 着色層、38 充填層、40 マスク、42 封止膜、44 マスク層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st board | substrate, 12 Integrated circuit chip, 14 Flexible wiring board, 16 Circuit layer, 18 Pixel electrode, 20 Insulating layer, 22 Electroluminescent film, 24 Common layer, 26 Low conductive part, 28 Common electrode, 30 2nd board | substrate, 32 color filter layers, 34 black matrix, 36 colored layer, 38 filling layer, 40 mask, 42 sealing film, 44 mask layer.

Claims (8)

複数の画素電極が設けられた基板を用意する工程と、
前記複数の画素電極を連続的に覆う共通層を含むように、有機エレクトロルミネッセンス膜を形成する工程と、
前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上に共通電極を形成する工程と、
前記複数の画素電極の上方を避けて、隣同士の前記画素電極の間の領域の上方で、前記共通層にエネルギー線を照射する工程と、
を含み、
前記エネルギー線の照射によって、隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で、前記共通層の導電率を低下させることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
Preparing a substrate provided with a plurality of pixel electrodes;
Forming an organic electroluminescence film so as to include a common layer continuously covering the plurality of pixel electrodes;
Forming a common electrode on the organic electroluminescence film;
Irradiating the common layer with energy rays above the area between the adjacent pixel electrodes, avoiding the upper part of the plurality of pixel electrodes;
Including
A method of manufacturing an organic electroluminescence display device, wherein the conductivity of the common layer is lowered above the region between adjacent pixel electrodes by irradiation with the energy beam.
請求項1に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
それぞれの前記画素電極の端部に載るように、隣同士の前記画素電極の間の前記領域に絶縁層を形成する工程をさらに含み、
前記有機エレクトロルミネッセンス膜を前記絶縁層に載るように形成することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display device according to claim 1,
Further including a step of forming an insulating layer in the region between adjacent pixel electrodes so as to be placed on an end of each pixel electrode;
A method for manufacturing an organic electroluminescence display device, comprising forming the organic electroluminescence film on the insulating layer.
請求項1又は2に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
前記共通電極を形成する前に、前記共通層に前記エネルギー線を照射することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus described in Claim 1 or 2,
Before forming the common electrode, the energy layer is irradiated with the energy beam before the common electrode is formed.
請求項1又は2に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
前記共通電極を形成した後に、前記エネルギー線を、前記共通電極を通過させて前記共通層に照射することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus described in Claim 1 or 2,
A method for manufacturing an organic electroluminescence display device, comprising: forming the common electrode; and irradiating the energy layer with the energy beam through the common electrode.
請求項1又は2に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
前記共通電極の上に封止膜を形成する工程をさらに含み、
前記封止膜を形成した後に、前記エネルギー線を、前記封止膜及び前記共通電極を通過させて前記共通層に照射することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus described in Claim 1 or 2,
Further comprising forming a sealing film on the common electrode;
After forming the sealing film, the energy ray is applied to the common layer through the sealing film and the common electrode, and the method for manufacturing the organic electroluminescence display device.
請求項1から5のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
前記エネルギー線を、マスクを通して照射し、
前記マスクは、前記複数の画素電極の上方で前記エネルギー線の通過を妨げて隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で前記エネルギー線を通過させるパターンを有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display device according to any one of claims 1 to 5,
Irradiating the energy rays through a mask;
The mask has a pattern in which the energy rays are blocked above the plurality of pixel electrodes and the energy rays are allowed to pass above the region between the adjacent pixel electrodes. Manufacturing method of luminescence display device.
請求項1から5のいずれか1項に記載された有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、
前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上方に、前記エネルギー線の通過を妨げるマスク層を形成する工程をさらに含み、
前記エネルギー線を、前記マスク層のパターンを通して照射し、
前記マスク層の前記パターンは、前記複数の画素電極の上方で前記エネルギー線の通過を妨げて隣同士の前記画素電極の間の前記領域の上方で前記エネルギー線を通過させることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent display device according to any one of claims 1 to 5,
Forming a mask layer on the organic electroluminescence film to prevent passage of the energy rays;
Irradiating the energy rays through the pattern of the mask layer;
The organic layer characterized in that the pattern of the mask layer prevents the energy beam from passing above the plurality of pixel electrodes and allows the energy beam to pass above the region between the adjacent pixel electrodes. A method for manufacturing an electroluminescence display device.
基板と、
前記基板に設けられた複数の画素電極と、
前記複数の画素電極を連続的に覆う共通層を含むように前記基板に設けられた有機エレクトロルミネッセンス膜と、
前記有機エレクトロルミネッセンス膜の上に設けられた共通電極と、
を有し、
前記共通層は、隣同士の前記画素電極の間の領域の上方に、前記複数の画素電極の上方の部分よりも導電率が低い低導電部を有することを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
A substrate,
A plurality of pixel electrodes provided on the substrate;
An organic electroluminescence film provided on the substrate so as to include a common layer continuously covering the plurality of pixel electrodes;
A common electrode provided on the organic electroluminescence film;
Have
The organic electroluminescence display device, wherein the common layer has a low conductive portion having a lower conductivity than a portion above the plurality of pixel electrodes above a region between adjacent pixel electrodes.
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