JP2014527534A - スピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用 - Google Patents
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Abstract
本発明はスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用に関する。式（Ｉ）で表される構造を有する化合物であって、ここで、ｎ＝０〜３；Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９の値は請求項１で定義された通りである。置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンを出発原料として、２段階又は３段階反応を経て合成される。当該新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンはイリジウム前駆体と錯体を形成し、さらにイオン交換を経て、異なるアニオンを含むイリジウム/スピロベンジルアミン−ホスフィン錯体を得ることができる。本発明にかかるスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体は多種のα−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒でき、極めて高い活性及びエナンチオ選択性を示し、良好な産業見通しを有する。【化１】【選択図】なし
Description
本願は、２０１１年８月３１日に中国特許庁に提出した、出願番号が２０１１１０２５２０００.７、発明の名称が「スピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用」である中国特許出願の優先権を主張し、その全ての内容を本願に援引している。
本発明は新規のスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用に関する。具体的には、置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンを出発原料として、２段階又は３段階反応を経て、本発明にかかる新規のスピロベンジルアミンを合成する。当該新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンとイリジウム前駆体は錯体を形成し、さらにイオン交換を経て、異なるアニオンを含むイリジウム/スピロベンジルアミン−ホスフィン錯体を得ることができる。当該新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体は多種のα−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒でき、極めて高い活性及びエナンチオ選択性を示し、良好な産業見通しを有する。
遷移金属触媒による不斉合成は今の有機合成化学の研究分野でのホットスポットである（Ohkuma, Τ.; Kitamura, Μ.; Noyori, R. Catalytic Asymmetric Synthesis, Wiley, New York, 2000）。触媒的不斉合成のキーはキラル触媒の合成である。キラル触媒の合成は、その核心がキラル配位子の合成であり、キラル配位子はキラル触媒が不斉制御を生じる根源であるためである。新規のキラル配位子及び触媒を設計・合成することは、触媒的不斉合成が発展する原動力である。
キラルカルボン酸は医薬品及び天然物の合成に広く用いられ、重要な合成のブロックである。その中で、α−アリール置換プロピオン酸、例えばナプロキセン及びイブプロフェンは、今の世の中で広く用いられる非ステロイド性鎮痛抗炎症薬である。高効率、高選択性で光学活性α−置換プロピオン酸を合成する方法を発展するのは、重要な応用価値を有する。遷移金属触媒によるα−置換アクリル酸の不斉水素化は、この類の化合物を得る最も直接的かつ最も効果的な方法の一つである。過去数十年間で、遷移金属触媒によるα−置換アクリル酸の不斉水素化について多くの研究が行われていて、いくつかの有効なキラル配位子及び催化剤が開発される。今まで、α−置換アクリル酸の不斉水素化において、最良の結果を得るものは軸不斉ジホスフィン配位子とルテニウムとの錯体触媒であるが、この類の触媒は、一般に、良い結果を与えるために水素ガスの圧力が６ＭＰａ以上である必要があり、水素ガスの圧力を低下させれば、反応の活性及びエナンチオ選択性はそれに伴って低下することがある。（l . Ohta, Τ.; Takaya, Η.; Kitamura, Μ.; Nagai, Κ.; Noyori, R. J. Org. Chem. 1987, 52, 3174; 2. Chan, A. S. C; Laneman, S. A. US5144050, 1992; 3. Benincori, T.; Brenna, E.;Ｓannicolo, F; Trimarco, L.; Antognazza, P.; Ceｓarotti, E.; Demartin, F; Pilati, T. J. Org. Chem.1996, 61, 6244; 4. Pai, C.-C.; Lin, C.-W.; Lin, C.-C.; Chen, C.-C.; Chan, A. S. C. J. Am. Chem. Ｓoc.2000, 122, 11513 ; 5. Qiu, L.; Wu, J.; Chan, S.; Au-Yeung, T. T.-L.; Ji, J.-X.; Guo, R.; Pai, C.-C.; Zhou, Z.; Li, X.; Fan, Q.-H.; Chan, A. S. C. Proc. Natl. Acad. Ｓci. U. Ｓ. A.2004, 101, 5815）。このような高圧の反応条件は機器に対する要求が厳しく、且つ生産中に多くの安全上の問題に直面している。ジホスフィン配位子とロジウムとの錯体触媒もα−置換アクリル酸の不斉水素化に用いられ、一部のロジウム触媒はα−アリール置換アクリル酸の不斉水素化で高いエナンチオ選択性が得られるが、触媒の使用量が比較的大きく（１ｍｏｌ％）、そしてα−アルキル基置換アクリル酸基質に対するエナンチオ選択性が中等に過ぎない（1. Robin, R; Mercier, F; Ricard, L.;Mathey, F; Spagnol,M. Chem. Eur. J. 1997, 3, 1365 ;2. Hu, W.-H.; Pai, C. C.; Chen, C. C.; Xue, G.-P.; Chan, A. S. C. Tetrahedron：Asymmetry 1998, 9, 3241; 3. Zupancic, B.; Mohar, B.; Stephan,M. Org. Lett. 2010, 12, 3022）。最近、いくつかのキラルホスフィン−オキサゾリン配位子とイリジウムとの錯体もα−置換アクリル酸の不斉水素化の触媒に用いられているが、その転化数（ＴＯＮ＜１００）及び転化頻度（ＴＯＦ＜１３h−１）が比較的低く、エナンチオ選択性が最高８８％ｅｅに過ぎないため、実用上の要求を満足できない（1. Scrivanti, A.; Bovo, S; Ciappa, A.; matteoli, U. Tetrahedron Lett. 2006, 47, 9261；2. Zhang, Y.; Han, Z.-B.; Li, F.-Y.; Ding, K.-L.; Zhang, A. Chem. Commun.2010, 46, 156）。上記のように、α−置換アクリル酸の不斉接触水素化反応に対して、キラル配位子及び触媒は水素ガスの圧力が高く、触媒の使用量が大きく、反応時間が長く、基質が制限されるなどの欠点があり、実用上に不利になる。このため、新規の効率よいキラル配位子及びそれに対応する触媒を発展して既知の配位子及び触媒のある欠点を克服することは、この分野における研究の重点の一つである。
本発明は、従来技術の欠点を克服することができるスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用を提供することを目的とする。この新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体は、多種のα−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒でき、極めて高い活性とエナンチオ選択性を示し、良好な産業見通しを有する。
本発明で提供されるスピロベンジルアミン−ホスフィンは、式（Ｉ）で表される構造を有する化合物である。
（ここで、ｎ＝０〜３。Ｒ１、Ｒ２はそれぞれＨ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、 Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アシル基、Ｃ２〜Ｃ８エステル基、（Ｃ１〜Ｃ８アシル基)アミノ基、ジ(Ｃ１〜Ｃ８アルキル基)アミノ基、ハロゲン、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基であり、或いはｎ≧２のとき、縮合脂肪環或縮合芳香環である。Ｒ１とＲ２は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はそれぞれＨ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アシル基、Ｃ２〜Ｃ８エステル基、（Ｃ１〜Ｃ８アシル基)アミノ基、ジ(Ｃ１〜Ｃ８アルキル基)アミノ基、ハロゲン、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基であり、或いはＲ３〜Ｒ４、Ｒ５〜Ｒ６は縮合脂肪環又は芳香環である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ７はＣ１〜Ｃ８アルキル基、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基である。
Ｒ８、Ｒ９はそれぞれＨ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、ベンジル基、置換されるベンジル基、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基である。Ｒ８とＲ９は同一でも異なっていてもよい。
前記置換されるフェニル基又はナフチル基において、置換基はＣ１〜Ｃ８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、水酸基、Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基、ハロゲン、アミノ基、（Ｃ１〜Ｃ８アシル基)アミノ基、ジ(Ｃ１〜Ｃ８アルキル基)アミノ基、Ｃ１〜Ｃ８アシル基、Ｃ２〜Ｃ８エステル基の１種又は複数種である。置換基の数は０〜５である。
本発明に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィン（Ｉ)において、
前記Ｃ１〜Ｃ８アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ネオヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ネオオクチル基、ｓ−オクチル基又はｔ−オクチル基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｓ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ネオヘキシルオキシ基、ｓ−ヘキシルオキシ基、ｔ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ネオヘプチルオキシ基、ｓ−ヘプチルオキシ基、ｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ネオオクチルオキシ基、ｓ−オクチルオキシ基又はｔ−オクチルオキシ基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アシル基は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イソブチリル基、ｎ−バレリル基、イソバレリル基、ｓ−バレリル基、ネオバレリル基、ｎ−ヘキサノイル基、イソヘキサノイル基、ネオヘキサノイル基、ｓ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、イソヘプタノイル基、ネオヘプタノイル基、ｓ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、イソオクタノイル基、ネオオクタノイル基、ｓ−オクタノイル基、１−シクロプロピルホルミル基、１−シクロブチルホルミル基、１−シクロペンチルホルミル基、１−シクロヘキシルホルミル基、１−シクロヘプチルホルミル基であり；
前記Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基は、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ｎ−ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ｎ−バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ｓ−バレリルオキシ基、ネオバレリルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、イソヘキサノイルオキシ基、ネオヘキサノイルオキシ基、ｓ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、イソヘプタノイルオキシ基、ネオヘプタノイルオキシ基、ｓ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、イソオクタノイルオキシ基、ネオオクタノイルオキシ基、ｓ−オクタノイルオキシ基、１−シクロプロピルホルミルオキシ基、１−シクロブチルホルミルオキシ基、１−シクロペンチルホルミルオキシ基、１−シクロヘキシルホルミルオキシ基、１−シクロヘプチルホルミルオキシ基であり、
前記Ｃ２〜Ｃ８エステル基は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｓ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘキシルオキシカルボニル基、ネオヘキシルオキシカルボニル基、ｓ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｔ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ネオヘプチルオキシカルボニル基、ｓ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、シクロヘプチルオキシカルボニル基であり、
前記ハロアルキル基は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を含むハロアルキル基である。
前記Ｃ１〜Ｃ８アルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ネオヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ネオオクチル基、ｓ−オクチル基又はｔ−オクチル基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｓ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ネオヘキシルオキシ基、ｓ−ヘキシルオキシ基、ｔ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ネオヘプチルオキシ基、ｓ−ヘプチルオキシ基、ｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ネオオクチルオキシ基、ｓ−オクチルオキシ基又はｔ−オクチルオキシ基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アシル基は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イソブチリル基、ｎ−バレリル基、イソバレリル基、ｓ−バレリル基、ネオバレリル基、ｎ−ヘキサノイル基、イソヘキサノイル基、ネオヘキサノイル基、ｓ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、イソヘプタノイル基、ネオヘプタノイル基、ｓ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、イソオクタノイル基、ネオオクタノイル基、ｓ−オクタノイル基、１−シクロプロピルホルミル基、１−シクロブチルホルミル基、１−シクロペンチルホルミル基、１−シクロヘキシルホルミル基、１−シクロヘプチルホルミル基であり；
前記Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基は、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ｎ−ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ｎ−バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ｓ−バレリルオキシ基、ネオバレリルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、イソヘキサノイルオキシ基、ネオヘキサノイルオキシ基、ｓ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、イソヘプタノイルオキシ基、ネオヘプタノイルオキシ基、ｓ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、イソオクタノイルオキシ基、ネオオクタノイルオキシ基、ｓ−オクタノイルオキシ基、１−シクロプロピルホルミルオキシ基、１−シクロブチルホルミルオキシ基、１−シクロペンチルホルミルオキシ基、１−シクロヘキシルホルミルオキシ基、１−シクロヘプチルホルミルオキシ基であり、
前記Ｃ２〜Ｃ８エステル基は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｓ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘキシルオキシカルボニル基、ネオヘキシルオキシカルボニル基、ｓ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｔ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ネオヘプチルオキシカルボニル基、ｓ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｔ−ヘプチルオキシカルボニル基、シクロヘプチルオキシカルボニル基であり、
前記ハロアルキル基は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を含むハロアルキル基である。
本発明に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィン（Ｉ)は、さらに、同じ化学構造一般式を有するが、異なる立体構造及び旋光性を持つラセミ体、Ｄ体及びＬ体を含む。
本発明に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンの製造方法は、
置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン１を出発原料とし、まず、パラジウム触媒によるシアノ化反応により、中間体２を製造するステップと、
還元剤の作用下で、シアノ化合物２からＲ８とＲ９は同時にＨであるスピロベンジルアミン−ホスフィン３を得るステップと、
スピロベンジルアミン−ホスフィン３のアミノ基に置換反応を行って、Ｒ８とＲ９は同時にＨであることではない他のスピロベンジルアミン−ホスフィンを製造するステップとを含む。
置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン１を出発原料とし、まず、パラジウム触媒によるシアノ化反応により、中間体２を製造するステップと、
還元剤の作用下で、シアノ化合物２からＲ８とＲ９は同時にＨであるスピロベンジルアミン−ホスフィン３を得るステップと、
スピロベンジルアミン−ホスフィン３のアミノ基に置換反応を行って、Ｒ８とＲ９は同時にＨであることではない他のスピロベンジルアミン−ホスフィンを製造するステップとを含む。
具体的な反応は以下の通りである。
（ここで、ｎ＝０〜３。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９の値は前記化合物(Ｉ)で定義された通りである。）
本発明で提供されるスピロベンジルアミン−ホスフィンから製造されるスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体５は以下のような構造式を有する。
本発明で提供されるスピロベンジルアミン−ホスフィンから製造されるスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体５は以下のような構造式を有する。
（ここで、
はシクロオクタジエンである。ｎ＝０〜３である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９の値は請求項１で定義された通りである。Ｘはハロゲン、Ｃ１〜Ｃ８のカルボン酸イオン、硫酸イオン、テトラ（３,５−ビストリフルオロメチルフェニル）ホウ素酸イオン、テトラ（ペンタフルオロフェニル）ホウ素酸イオン、テトラ（パーフルオロ−ｔ−ブトキシ）アルミニウムイオン、テトラ（ヘキサフルオロイソプロポキシ）アルミニウムイオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロホウ素酸イオン又はトリフルオロメタンスルホン酸イオンである。シクロオクタジエン配位子はエチレン、ノルボルナジエンで置換されても良い。）
前記のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の製造方法は、有機溶媒（ジクロロメタン、トリクロロメタン又は１,２−ジクロロエタンの１種又は複数種）に、１０〜５０℃で、スピロベンジルアミン−ホスフィン（１ｍｏｌ）と１価のイリジウム化合物、例えは[Ｉｒ(ＣＯＤ)Ｃl]２（ＣＯＤ＝シクロオクタジエン）(０.５〜１ｍｏｌ)が０.５〜２４時間反応して、Ｃlをアニオンとするスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を製造し、さらに、アニオン交換により異なるアニオンを有するスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を得る。
前記のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の製造方法は、有機溶媒（ジクロロメタン、トリクロロメタン又は１,２−ジクロロエタンの１種又は複数種）に、１０〜５０℃で、スピロベンジルアミン−ホスフィン（１ｍｏｌ）と１価のイリジウム化合物、例えは[Ｉｒ(ＣＯＤ)Ｃl]２（ＣＯＤ＝シクロオクタジエン）(０.５〜１ｍｏｌ)が０.５〜２４時間反応して、Ｃlをアニオンとするスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を製造し、さらに、アニオン交換により異なるアニオンを有するスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を得る。
（ここで、ｎ＝０〜３である。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｘの値は請求項６で定義されたものである。ＣＯＤは１,５−シクロオクタジエンである。シクロオクタジエン配位子はエチレン、ノルボルナジエンで置換されても良い。ナトリウム塩は対応するカリウム塩、アンモニウム塩、銀塩又はタリウム塩で置換されても良い。）
前記ピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の使用は、α−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒することに用いられるものである。
前記ピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の使用は、α−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒することに用いられるものである。
（ここで、[Ｉｒ]は請求項６に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体である。Ｒ１０はＣ１〜Ｃ８アルキル基、ハロアルキル基、ベンジル基、フェニルエチル基、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、フェニルメトキシ基、フェノキシ基である。＊で表記している場所はキラル中心である。）
具体的な過程は、触媒と基質とを反応釜の内管に加え、添加剤と溶媒を加え、反応釜を密閉して水素ガスで３〜１０回置換し、所定の圧力まで水素ガスを導入し、所定の温度で反応終了まで撹拌する。
具体的な過程は、触媒と基質とを反応釜の内管に加え、添加剤と溶媒を加え、反応釜を密閉して水素ガスで３〜１０回置換し、所定の圧力まで水素ガスを導入し、所定の温度で反応終了まで撹拌する。
前記触媒による水素化反応の条件は、使用される溶媒がＣ１〜Ｃ６のアルコール類であり、触媒の使用量が０.００１〜１ｍｏｌ％であり、基質の濃度が０.００１〜１０.０Ｍであり、添加剤がイソプロピルアミン、ｔ−ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１,８−ジアザビシクロ[５,４,０]ウンデカ−７−エン、１,４−ジアザビシクロ[２,２,２]オクタン、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、ｔ−ブタノールナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、ｔ−ブタノールカリウム、水酸化セシウム、炭酸セシウムの１種又は複数種であり、反応温度が０〜１００℃であり、水素ガスの圧力が０.１〜１０ＭＰａであり、１０分間〜４８時間反応する。
本発明は置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンを出発原料として、２段階又は３段階反応を経て、本発明にかかる新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンを合成する。当該新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンとイリジウム前駆体は錯体を形成し、さらにイオン交換を経て、異なるアニオンを含むイリジウム/スピロベンジルアミン−ホスフィン錯体を得ることができる。当該新規のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体は、多種のα−置換アクリル酸の不斉水素化反応を触媒できると共に、作業圧力が比較的低く（一般に０.６ＭＰａである。)、常圧でも不斉接触水素化を良く完成でき、基質の適用範囲が広く、α−アリール置換アクリル酸、α−アルキル置換アクリル酸に対していずれも良好な結果を得ることができ、官能基に対する耐性が良く、側鎖でのエステル基、アルコキシ基、アリールオキシ基が反応結果に影響を与えなく、効率が高く、転化頻度が６０００回/時間、転化数が１００００、エナンチオ選択性が９９％ｅｅに達することができるという特点を示す。前記特点から明らかにするように、本発明で提供される新規のスピロベンジルアミン−ホスフィン及びそのイリジウム錯体は、従来技術の欠点を克服し、今まで、α−置換アクリル酸の不斉接触水素化における最も効率的な配位子及び触媒の一つであり、良好な産業見通しを有する。
本発明はスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用を開示し、当業者は本願の内容を参考として、プロセスパラメータを適切に改善することによって実現できる。特に指摘すべきのは、全ての類似の差し替え及び変わりは当業者にとって明らかであり、それらは全て本発明に含まれると見なされる。本発明の方法及び使用は、好適な実施例により説明したが、当業者は本発明の内容、主旨を逸脱しない範囲で、本願にかかる方法及び使用に変り又は適切な変更及び組み合わせを施すことにより、本発明の技術を実現・適用することができることが明らかである。
以下の実施例により、さらに本発明の理解に寄与するが、本発明の前記カテゴリーの保護範囲は以下の実施例のみに限られると理解すべきではなく、本発明の前記内容に基づいて実現される技術は、全て本発明の範囲に属する。
特記：
実施例で略語を使用し、その意味は以下の通りである。
実施例で略語を使用し、その意味は以下の通りである。
Ｍｅはメチル基、Ｅｔはエチル基であり、ｔＢuはｔ−ブチル基であり、Ｐｈはフェニル基であり、Ａｎはp−メトキシフェニルであり、Ｘｙlは３,５−ジメチルフェニルであり、ＤＴＢは３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニルであり、ＢＡｒＦはテトラ（３,５−ビストリフルオロメチルフェニル）ホウ素酸イオンであり、ＯＴｆはトリフルオロメタンスルホン酸イオンであり、ＣｌＯ４は過塩素酸イオンであり、ＢＦ４はテトラフルオロホウ素酸イオンであり、ＰＦ６はヘキサフルオロリン酸イオンであり、ＤＭＦはＮ,Ｎ−ジメチルホルムアミドであり、ＴＨＦはテトラヒドロフランであり、ＮＭＲは核磁気共鳴であり、キラルＨＰＬＣはキラルカラムを備えた高速液体クロマトグラフィーであり、キラルＳＦＣはキラルカラムを備えた超臨界流体クロマトグラフィーであり、キラルＧＣはキラルキャピラリーカラムを備えたガスクロマトグラフィーであり、ｅｅ値は鏡像体の過剰率であり、Ｓ/Ｃは基質と触媒物質との量の比である。
使用する溶媒は、使用の前に汎用の標準操作により精製、乾燥したものである。使用する試薬はいずれも市販品、或いは従来の文献の方法により合成され、使用の前に精製したものである。
実施例１：（Ｓ）７−シアノ−７'−ジ(３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンの製造
窒素ガスの保護下で、（Ｓ）−１ａ(２.０ｇ,２.６ｍｍｏｌ)、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（４５０ｍｇ,０.４ｍｍｏｌ）及びシアン化亜鉛（６１０ｍｇ,５.２ｍｍｏｌ）を入れたＳｃｈｌｅｎｋ管にＤＭＦ４ｍLを加え、１６０℃に加熱して３日撹拌して反応した。反応終了後に、系を室温まで冷却させ、酢酸エチルを加えて希釈した混合液を飽和炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。回転蒸発により溶媒を除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル/ジクロロメタン＝１５:１）にかけて、白色固体として２ａ（１.５ｇ,８８％)を得た。融点：２１２−２１４℃である。[α]Ｄ ３０−１２６(ｃ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２).１Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)７.４１(ｄ,Ｊ＝７.６Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.３１−７.３０(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.２４−７.２０(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.０９,(ｍｔ,Ｊ＝７.６ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.０３−７.００(ｍ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９４−６.８８(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.７８(ｄ,J＝７.６Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.２１−３.０３(ｍ,４Ｈ,ＣＨ２),２.７５−２.６７(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.４３−２.３５(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),１.２２(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３),１.１６(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−１６.９(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５４.９,１５３.８,１５３.５,１５０.４,１５０.３,１５０.２,１４６.０,１４４.６,１４４.５,１３８.２,１３８.１,１３５.５,１３４.９,１３３.７,１３３.５,１３１.３,１２８.７,１２８.１,１２７.９,１２７.４,１２５.７,１２２.７,１２１.９,１１７.３,１０９.２,６３.０,４１.３,４０.０,３９.９,３５.２,３５.１,３１.８,３１.７,３１.３.ＨＲＭＳ(ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ４６Ｈ５７ＮＰ]+：６５４.４２２３,Ｆｏｕｎｄ ６５４.４２３０.
以下の化合物の合成方法は実施例１と同じである。
以下の化合物の合成方法は実施例１と同じである。
白色固体。収率：８９％、融点：１７６−１７８℃;[α]２０ Ｄ−１９０(ｃ１.０５,ＣＨＣｌ３); １Ｈ ＮＭＲ(３００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)７.４２−６.９２(ｍ,１６ Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１６−３.０５(ｍ,４Ｈ,ＣＨ２),３.１９−３.００(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.５５−２.３２(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２);３１Ｐ ＮＭＲ(１２１ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)−１９.５(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(７５ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)１５４.４,１５３.８,１４５.８,１４４.８,１４４.７,１３８.７,１３５.９,１３４.８,１３４.０,１３３.８,１３３.５,１３３.３,１３２.６,１３２.３,１３１.４,１２８.８,１２８.６,１２８.４,１２８.３,１２７.３,１２５.８,１２７.３,１０８.７,６２.８,４１.１,３９.７,３１.４,３１.０; ＨＲＭＳ(ＥＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ３０Ｈ２４ＮＰ：４２９.１６４６,Ｆｏｕｎｄ ４２９.１６４７.
白色固体。収率：８８％、融点：１９４−１９６℃.[α]Ｄ ３０−１８３(ｃ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)７.２５(ｄ,Ｊ＝７.６ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１９−７.１７(ｍ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１１−７.０７(ｍ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９３−６.８７(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.７８−６.７４(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.６５(ｄ,Ｊ＝７.６ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.５７−６.５０(ｍ,４Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１５−２.９２(ｍ,４Ｈ,ＣＨ２),２.７７−２.６９(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.３４−２.２２(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),２.１０(ｓ,６Ｈ,ＣＨ３),２.０７(ｓ,６Ｈ,ＣＨ３);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−２０.１(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５３.１,１５３.０,１５２.２,１５２.０,１４４.６,１４３.４,１４３.３,１３７.３,１３７.２,１３６.４,１３６.２,１３６.１,１３３.６,１３３.５,１３１.９,１３１.７,１３０.９,１３０.７,１３０.０,１２９.８,１２９.７,１２９.１,１２８.８,１２７.３,１２６.８,１２５.５,１２４.３,１１５.９,１０７.６,６１.６,４０.２,３８.６,３０.３,３０.０,２９.９,２０.３,２０.２. ＨＲＭＳ(ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ３４Ｈ３３ＮＰ]+：４８６.２３４５,Ｆｏｕｎｄ ４８６.２３４５.
白色固体。収率：９０％、融点：１６６−１６８℃. [α]Ｄ ２３−１９０(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.４１(ｄ,Ｊ＝７.３ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.２８(ｄ,Ｊ＝７.３ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１９(ｔ：Ｊ＝７.４ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１１(ｔ,Ｊ＝７.５ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９６(ｍ,６Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.７７(ｄ,J＝８.０ Ｈｚ,４Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.７９(ｓ,３Ｈ,ＣＨ３),３.７６(ｓ,３Ｈ,ＣＨ３),３.０８(ｍ,４Ｈ,ＣＨ２),２.５８(ｄｄ,J=２１.６ ａｎｄ １０.２ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.３４(ｄｄ,Ｊ＝１７.５ ａｎｄ ９.４ Ｈｚ,３Ｈ,ＣＨ２).３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−２３.８(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)：δ １７０.３,１５９.５,１５９.３,１５３.５,１５２.４,１５２.２,１４５.０,１４３.９,１４３.８,１３４.６,１３４.４,１３４.１,１３３.５,１３３.１,１３２.９,１３０.６,１２８.９,１２８.８,１２８.１,１２７.３,１２６.７,１２６.６,１２６.５,１２５.７,１２４.９,１１６.５,１１３.５,１１３.４,１１３.３,１０８.０,６２.１,５９.７,５４.６,５４.５,４０.４,３８.７,３８.６,３０.７,３０.３,２０.５,１３.８. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ３２Ｈ２８Ｎ０２Ｐ]+：４９０.１９３３,Ｆｏｕｎｄ ４９０.１９２２.
実施例２：(Ｓ)−７−アミノメチル−７'−ジ(３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンの製造
氷水浴冷却下に、水素化リチウムアルミニウム（３０４ｍｇ,８ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン４０ｍＬを混合した懸濁液に（Ｓ）−２ａ（１.０ｇ,１.５３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液をゆっくり滴下した。滴下終了後、氷水浴を外し、自然に室温まで昇温させた後、一晩加熱還流し、ＴＬＣにより反応の終点を確認した。反応終了後、室温まで系を冷却させ、水４０ｍＬを注意に加えて、反応をキリングし、回転蒸発によりテトラヒドロフランを除去し、酢酸エチルで残留物を希釈し、順に飽和重炭酸ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。回転蒸発により溶媒を除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル/酢酸エチル=２：１、２％のトリエチルアミンを加える）にかけて、白色泡沫状固体として３ａ（０.９５ｇ,９４％）を得た。融点：１１２−１１４℃である。[α]Ｄ １８−１６２(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)７.２５−７.００(ｍ,７Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.８７−６.７７(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.５８−６.５６(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１６−２.８６(ｍ,６Ｈ,ＣＨ２),２.５６−２.４２(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.２２−２.０３(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),１.１４(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３),１.０４(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３),０.８３(ｂｒｓ,２Ｈ,ＮＨ２);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−１９.３(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.３,１５５.６,１５５.２,１５０.２,１５０.１,１４９.９,１４７.２,１４７.１,１４４.１,１４３.２,１４３.１,１３９.１,１３９.０,１３５.４,１３５.２,１３４.７,１３３.９,１３３.７,１３３.６,１３３.３,１２８.７,１２８.５,１２７.４,１２７.３,１２７.１,１２６.７,１２５.７,１２４.８,１２２.８,１２２.６,１２１.１,６２.８,４２.４,４０.４,４０.３,３８.９,３４.９,３４.８,３１.５,３１.４,３１.１,３０.９. ＨＲＭＳ(ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ４６Ｈ６１ＮＰ]+：６５８.４５３６,Ｆｏｕｎｄ ６５８.４５３０.
以下の化合物の合成方法は実施例２と同じである。
以下の化合物の合成方法は実施例２と同じである。
白色固体。収率：９０％、融点：５４−５６℃であり.[α]Ｄ ２５+１８６(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２).１Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.３２−７.２８(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.２４−７.０２(ｍ,１１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９５−６.９１(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.８６(ｄ,Ｊ＝６.７ Ｈｚ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１９(ｄ,Ｊ＝１５.５ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),３.０８−３.０４(ｍ,４Ｈ,ＣＨ２),２.８７(ｄ,Ｊ＝１５.５ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.５７−２.４９(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.３４−２.２６(ｍ,２Ｈ,ＣＨ２),２.２２−２.１４(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),１.２６(ｂｒｓ,２Ｈ,ＮＨ２);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−２２.０(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５５.７,１５５.３,１４７.２,１４６.０,１４５.７,１４４.２,１４４.１,１４３.５,１４３.４,１３９.８,１３９.６,１３９.０,１３６.１,１３６.０,１３４.７,１３４.４,１３２.９,１３２.７,１３２.０,１３１.９,１３１.７,１３１.２,１３０.９,１２８.７,１２８.２,１２８.１,１２８.０,１２７.６,１２７.３,１２７.２,１２５.９,１２４.７,１２２.８,６２.８,４２.３,４０.６,４０.５,４０.３,３９.５,３８.９,３１.０,３０.８,２９.７,１９.２. ＨＲＭＳ ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ３０Ｈ２９ＮＰ]+：４３４.２０３２,Ｆｏｕｎｄ ４３４.２０３６.
白色固体。収率：９２％、融点：７６−７８℃. [α]Ｄ ２８−２１６(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ ４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.２３−７.１２(ｍ,５Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９０(ｓ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.８３−６.７９(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.６５(ｄ,Ｊ＝８.４ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.５６(ｄ,Ｊ＝７.２ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１６−２.９７(ｍ,５Ｈ,ＣＨ２),２.８３−２.７９(ｄ,Ｊ＝１５.６ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.６８−２.６０(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.３３−２.２３(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),２.２１(ｓ,６Ｈ,ＣＨ３),２.１４(ｓ,６Ｈ,ＣＨ３),０.８９(ｂｒｓ,２Ｈ,ＮＨ２);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)５ −２１.７(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５５.４,１５５.１,１４７.３,１４７.２,１４４.２,１４４.１,１４３.２,１４３.１,１３９.５,１３９.４,１３９.１,１３７.２,１３７.１,１３５.３,１３５.１,１３４.５,１３４.４,１３３.７,１３３.４,１３２.７,１３２.５,１３０.５,１３０.３,１２９.３,１２７.０,１２６.９,１２５.６,１２４.４,１２２.６,６２.７,６２.６,４２.１,４０.５,３９.０,３１.１,３０.８,２１.３. ＨＲＭＳ(ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ３４Ｈ３７ＮＰ]+：４９０.２６５８,Ｆｏｕｎｄ ４９０.２６６０.
白色固体。収率：９２％、融点：８０−８２℃. [α]Ｄ ２３−１３１(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １ＨＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.１０− ６.９３(ｍ,４Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９２−６.８２(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.８２−６.６９(ｍ：３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.６３(ｄ,Ｊ＝８.３ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ）,６.５７(ｄ,Ｊ＝８.０ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.５７(ｓ,３Ｈ,ＣＨ３),３.５１(ｓ,３Ｈ,ＣＨ３),３.０７(ｄ,Ｊ＝１５.３ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.９３−２.７４(ｍ,５Ｈ,ＣＨ２),２.４２−２.２７(ｍ,１Ｈ,ＣＨ２),２.１７−１.９５(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),０.８３(ｂｒｓ,２Ｈ,ＮＨ２);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ−２５.２(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５９.７,１５９.０,１５４.６,１５４.４,１４６.６,１４６.６,１４３.６,１４３.５,１４２.９,１４２.８,１３８.７,１３８.７,１３５.５,１３５.３,１３４.０,１３３.８,１３３.７,１３３.６,１３３.５,１３０.１,１２３.０,１２６.８,１２６.７,１２５.２,１２４.４,１２２.４,１１３.４,１１３.３,１１３.３,６２.３,６２.２,５４.７,５４.６,４５.９,４１.９,３９.７,３９.７,３８.５,３０.６,３０.４. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ３２Ｈ３２Ｎ０２Ｐ]+：４９４.２２４３.２６５８,Ｆｏｕｎｄ ４９４.２２３７.
実施例３：（Ｓ）−Ｎ−メチル−７−(アミノメチル）７'−ジ（３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンの製造
窒素ガスの保護下で、Ｓｃｈｌｅｎｋ管に（Ｓ）−３ａ（１００ｍｇ、０.１５ｍｍｏｌ）及び無水テトラヒドロフラン２ｍＬを加え、電磁撹拌により固体を十分に溶解させ、氷水浴で０℃程度に冷却し、無水ピリジン(４０μＬ,０.５ｍｍｏｌ)及びクロロギ酸エチル（２０ｍｇ,０.１８ｍｍｏｌ)をシリンジで加え、自然に室温まで昇温させ、一晩撹拌して反応した。ＴＬＣにより反応の完了を検出した後、酢酸エチル６ｍＬを加えて系を希釈し、分液し、有機相を順に５％ＨＣｌ及び飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、溶媒を減圧で除去した固体を乾燥テトラヒドロフラン２ｍＬで溶解し、氷水浴で０℃程度に冷却した。その後、当該テトラヒドロフラン溶液を、ＬiＡlＨ４(２７ｍｇ,０.７ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン２ｍＬからなる懸濁液に注意に滴下し、還流まで油浴で加熱し、一晩撹拌して反応した。ＴＬＣにより反応の完了を検出した後、油浴を外し、氷水浴で冷却し、少量の水で反応をキリングし、酢酸エチル２０ｍＬを加えて希釈した後、分液し、順に５％水酸化ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で有機層を洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。回転蒸発により溶媒を除去し、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル/酢酸エチル=２０：１、２％トリエチルアミンを加える)にかけて、白色固体として４ａ(６０ｍｇ,６０％)を得た。融点：１２０−１２２℃である。[α]Ｄ ２５−１２６(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.３２−７.２７(ｍ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.２１−７.１２(ｍ,４Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１１−７.０３(ｍ,１Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９４−６.９０(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.６６(ｄｄ,Ｊ＝７.４ ａｎｄ １.６ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.１３− .９２(ｍ,５Ｈ,ＣＨ２),２.７８(ｄ,Ｊ＝１３.５ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.４２(ｄｄ,J =２１.９ ａｎｄ １１.２ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.２９−２.２２(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),２.０７(ｓ,３Ｈ,ＣＨ３),１.２１(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３),１.１３(ｓ,１８Ｈ,ＣＨ３),１.０２(ｂｒｓ,１Ｈ,ＮＨ).３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)５ −１８.９(ｓ).１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５５.５,１５５.３,１４９.９,１４７.７,１４４.０,１４３.１,１３８.７,１３６.４,１３５.４,１３４.４,１３３.５,１３３.３,１２８.５,１２８.２,１２７.３,１２７.０,１２６.６,１２５.４,１２２.９,１２２.４,１２１.１,６２.７,５２.３,３９.８,３９.１,３６.９,３４.７,３１.３,３０.８,２９.７. ＨＲＭＳ(ＥＳＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ４７Ｈ７３ＮＰ]+：６７２.４６９３,Ｆｏｕｎｄ ６７２.４６９８.
実施例４：（Ｓ）−Ｎ−ベンジル−７−(アミノメチル）７'−ジ（３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンの製造
窒素ガスの保護下で、Ｓｃｈｌｅｎｋ管に（Ｓ）−３ａ(２５０ｍｇ、０.３８ｍｍｏｌ）、４Å分子篩３ｇ、ベンズアルデヒド（３９μＬ、０.３８ｍｍｏｌ）及びジクロロメタン１０ｍＬを加え、３５℃で反応完了まで撹拌した。吸引ろ過により分子篩を除去し、真空で溶媒を除去し、白色固体を得た。Ｓｃｈｌｅｎｋ管に当該白色固体を量り取り、メタノール１０ｍＬを加え、撹拌して溶解させた。窒素ガスの保護下で、系に３００ｍｇの粉末状の水素化ホウ素ナトリウムをバッチに添加し、室温で反応完了まで撹拌した。水２０ｍＬを加えて反応をキリングし、ジクロロメタンで水相を抽出し、無水炭酸カリウムで乾燥した。溶媒を除去後、残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（石油エーテル/酢酸エチル＝１６：１、２％トリエチルアミンを加える）にかけて、分離精製して白色固体として４ｂ(２８０ｍｇ,８２％）を得た。融点：７８−８０℃である。[α]Ｄ ２３−１５７(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２).１Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.２９(ｓ,lＨ,Ａｒ−Ｈ),７.２５−７.１１(ｍ,８Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.０８(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.９８−６.８６(ｍ,３Ｈ,Ａｒ−Ｈ),６.６７(ｄ,Ｊ＝６.５ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.５５(ｄ,Ｊ＝１３.３ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),３.３２(ｄ,Ｊ＝１３.３ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),３.１１(ｄ,J＝１３.２ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.９９(ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),２.８０(ｍ,２Ｈ,ＣＨ２),２.４５(ｄｄ,J =２１.９ ａｎｄ １０.４ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ２),２.２３ｍ,３Ｈ,ＣＨ２),１.５５(ｂｒｓ,１Ｈ,ＮＨ),１.２０(ｓ,１８Ｈ),１.１３(ｓ,１８Ｈ).１３Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)５ −１９.１(ｓ).１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１５５.６,１５５.３,１４９.８,１４８.３,１４４.１,１４３.２,１４０.６,１３８.８,１３６.４,１３５.５,１３４.４,１３３.３,１２８.４,１２８.２,１２７.９,１２７.２,１２６.５,１２５.５,１２３.０,１２２.３,１２１.１,６２.７,５３.９,４９.６,４０.０,３９.０,３４.７,３１.３,３０.９,３０.８,２９.７. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ [Ｍ+Ｈ,Ｃ５３Ｈ６６ＮＰ]+：７４８.５００６,Ｆｏｕｎｄ ７４８.５０００.
実施例５：スピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の製造
１０ｍＬのＳｃｈｌｅｎｋフラスコに（Ｓ）−３ａ （５６ｍｇ、０.０８５ｍｍｏｌ）、[Ｉｒ(ＣＯＤ)Ｃl]２（３２ｍｇ、０.０４７ｍｍｏｌ）及びＮａＢＡｒＦ（１００ｍｇ、０.１０７ｍｍｏｌ）を量り取り、シリンジで新たに蒸留したジクロロメタン（２ｍＬ）を加え、水浴４５℃で加熱しながら、２時間撹拌して反応し、ＴＬＣにより反応の状況を検出し、配位子は完全に錯形成した後、加熱を停止させ、系を自然に室温まで冷却した。回転蒸発により溶媒を除去した後、残留物はカラムクロマトグラフィーにかけて５ａ（１４２ｍｇ,９１％）を得た。生成物はオレンジ色の泡沫状の固体である。融点：２００−２０２℃である。[α]Ｄ ２５+１１２(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)：δ ７.９１(ｄ,Ｊ＝６.３ Ｈｚ,１Ｈ),７.８４−７.６５(ｍ,１０Ｈ),７.６１(ｓ,１Ｈ),７.５５−７.４１(ｍ,６Ｈ),７.４２−７.２６(ｍ,５Ｈ),６.５４(ｍ,１Ｈ),４.７０(ｄｄ,Ｊ＝１３.２ ａｎｄ ８.２ Ｈｚ,１Ｈ),４.１５−４.００(ｍ,１Ｈ),３.７２−３.６２(ｍ,１Ｈ),３.５８−３.５４(ｍ,１Ｈ),３.４９−３.４４(ｍ,１Ｈ),３.４１−３.３５(ｍ,１Ｈ),３.０２(ｔ,Ｊ＝８.８ Ｈｚ,２Ｈ),２.８４−２.８０(ｍ,１Ｈ),２.７４−２.５９(ｍ,２Ｈ),２.４４−２.３５(ｍ,１Ｈ),２.０７−２.０３(ｍ、２Ｈ),１.９４(ｄｄ,Ｊ＝１６.６ ａｎｄ ９.７ Ｈｚ,２Ｈ),１.６１−１.５５(ｍ,３Ｈ),１.２０(ｓ,３６Ｈ),０.９１−０.８０(ｍ,４Ｈ);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１４.４(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.５,１６２.０ １６１.５,１６１.０,１５２.５,１５１.７,１４６.９,１４６.６,１４４.８,１３４.８,１３４.１,１３２.５,１３２.０,１３０.９,１２９.８,１２９.５,１２９.２,１２８.６,１２８.０,１２７.８,１２７.２,１２６.７,１２５.９,１２４.０,１２３.７,１２３.２,１２０.５,１１９.２,１１７.５,７３.７,７１.５,７０.３,６３.４,６１.５,６１.３,４７.２,４０.０,３４.９,３２.５,３１.０,３０.６,３０.２,２９.７,２９.１. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ５４Ｈ７２ＩｒＮＰ+：９５８.５０３２,Ｆｏｕｎｄ ９５８.５０３３.
以下の化合物の合成方法は実施例５と同じである。
以下の化合物の合成方法は実施例５と同じである。
オレンジ色の固体、収率８９％、融点：１９２−１９４℃。[α]Ｄ ２５−１６７(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２).１Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.９９−７.９１(ｍ,１Ｈ),７.７７−７.６５(ｍ,８Ｈ),７.６０−７.５０(ｍ、６Ｈ),７.５０−７.２７(ｍ,１１Ｈ),６.８５−６.６７(ｍ,２Ｈ),４.７３−４.６３(ｍ,１Ｈ),４.０７−３.９６(ｍ、 １Ｈ),３.８１−３.７２(ｍ,１Ｈ),３.６３−３.４４(ｍ,３Ｈ),３.３２−３.２３(ｍ,１Ｈ),３.０４−２.９２(ｍ,２Ｈ),２.８７−２.５１(ｍ,３Ｈ),２.５０−２.３６(ｍ,１Ｈ),２.２１−２.１２(ｍ,３Ｈ),２.１０−１.９５(ｍ,３Ｈ),１.９４−１.７９(ｍ,１Ｈ),１.６６−１.５７(ｍ,１Ｈ),１.５７−１.５２(ｍ,２Ｈ),１.４６(ｄｄ,Ｊ＝９.０ ａｎｄ ５.１ Ｈｚ,１Ｈ);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１２.７(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.６,１６２.１,１６１.６,１６１.１,１５１.８,１４６.８,１４６.８,１４６.６,１４５.５,１３５.６,１３５.６,１３５.５,１３５.０,１３３.８,１３２.９,１３２.４,１３０.４,１３０.１,１２９.７,１２９.６,１２９.５,１２９.２,１２８.９,１２８.７,１２８.７,１２８.６,１２８.４,１２８.３,１２８.０,１２７.２,１２７.０,１２６.８,１２６.０,１２４.１,１２３.８,１２３.３,１２０.６,１１９.２,１１７.６,７４.９,７３.１,７０.８,６３.５,６１.７,６１.４,４７.１,３９.６,３５.４,３３.０,３１.２,３０.５,３０.３,２８.５. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ３８Ｈ４０ＩｒＮＰ＋： ７３４.２５２８,Ｆｏｕｎｄ ７３４.２５１９.
オレンジ色の固体、収率８９％、融点：１９６−１９８℃。[α]Ｄ ２５+１５２(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.９６(ｄ,J=６.４ Ηｚ,１Η)),７.７４−７.７１(ｍ,８Ｈ),７.６７−７.４５(ｍ,６Ｈ),７.４３−７.４１(ｍ,１Ｈ),７.３７−７.２７(ｍ,３Ｈ),７.２６(ｓ,１Ｈ),７.１７(ｓ,１Ｈ),７.０９(ｓ,１Ｈ),６.９３−６.８５(ｍ,２Ｈ),４.６７(ｄｄ,Ｊ＝１３.２ ａｎｄ ８.２ Ｈｚ,１Ｈ),４.０５−３.９８(ｍ,１Ｈ),３.７２−３.６９(ｍ,１Ｈ),３.５４−３.５０(ｍ,３Ｈ),３.２９−３.２３(ｍ,１Ｈ),３.０２−２.９８(ｍ,２Ｈ),２.８４−２.５５(ｍ,３Ｈ),２.４９−２.３５(ｍ,１Ｈ)),２.２６(ｓ,１２Ｈ),２.１６(ｓ,３Ｈ),２.１１−１.８６(ｍ,５Ｈ),１.６６−１.５１(ｍ ３Ｈ);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１２.９(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.７,１６２.２,１６１.０５,１５１.６,１４７.１,１４６.３,１４５.６,１３９.４,１３８.１,１３５.０,１３４.０,１３３. ３,１３２.４,１３２.０,１３０.１,１２９.９,１２９.７,１２９.４,１２９.０,１２７.９,１２７.５,１２６.８,１２６.４,１２６.１,１２４.８,１２４.４,１２３.４,１２０.６,１１９.３,１１７.６,７４.８,７２.２,７０.９,６８.９,６３.５,６１.０,４７.１,３９.５,３５.０,３２.８,３１.９,３１.１,３０.９,３０.１,２９.８,２８.９,２１.１. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ４２Ｈ４８ＩｒＮＰ+：７９０.３１５４ Ｆｏｕｎｄ ７９０.３１４８.
オレンジ色の固体、収率９４％、融点：１２０−１２２℃。 [α]Ｄ ２３+１２１(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ７.９３(ｄ,Ｊ＝６.１ Ｈｚ,１Ｈ),７.７１(ｍ,９Ｈ),７.５８−７.３７(ｍ,７Ｈ),７.３６−７.２６(ｍ,４Ｈ),６.９９−６.７７(ｍ,５Ｈ),３.８４(ｓ,３Ｈ),３.８２(ｓ,３Ｈ),３.５２(ｍ,３Ｈ),３.２８(ｍ,１Ｈ),２.９９(ｍ,２Ｈ),２.８２−２.６５(ｍ,２Ｈ),２.６２−２.５１(ｍ,１Ｈ),２.５０−２.２８(ｍ,１Ｈ),２.１４−１.８７(ｍ,４Ｈ),１.７１−１.３９(ｍ,１０Ｈ);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１０.３(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.７,１６２.０,１６１.５,１６１.３,１６１.１,１５１.６,１５１.５,１４６.８,１４６.７,１４６.６,１４５.４,１３４.９,１３３.６,１３０.１,１２９.４,１２９.２,１２８.８,１２８.６８,１２７.９,１２６.９,１２６.０,１２５.２,１２４.９,１２３.６,１２３.３,１２３.０,１２０.６,１１９.５,１１７.５,１１５.１,１１３.９,１１３.８,７４.２,７３.１,７０.５,６３.４,６１.４,６１.２,５５.３,５５.２,４７.１,３９.７,３５.５,３２.９,３２.８,３１.９,３１.２,３０.７,３０.６,３０.３,２９.７,２９.４,２８.６,２８.６,２.７. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒＣ４０Ｈ４４ＩｒＮＯ２Ｐ+：７９４.２７３３,Ｆｏｕｎｄ ７９４.２７２７.
オレンジ色の固体、収率７６％、融点：２１０−２１２℃。 [α]Ｄ ２５+１０４(ｃ ０.５,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,)δ７.９３(ｄ,Ｊ＝６.７ Ｈｚ,１Ｈ),７.７４−７. ７１(ｍ,９Ｈ),７.６１(ｓ,１Ｈ),７.５６−７.３８(ｍ,８Ｈ),７.３６−７.２７(ｍ,２Ｈ),７.０４−６.９２(ｍ,１Ｈ),６.３１(ｄ,Ｊ＝１０.８Ｈｚ,１Ｈ),６.１１(ｄｄ,Ｊ＝７.０ ａｎｄ ３.８ Ｈｚ,１Ｈ),４.８５(ｄ,Ｊ＝１２.５ ａｎｄ ６.１ Ｈ,１Ｈ),４.６１(ｄｄ,Ｊ＝９.４ ａｎｄ ４.８ Ｈｚ,１Ｈ),４.０５(ｄｄ,Ｊ＝１１.７ ａｎｄ ７.７ Ｈｚ,１Ｈ),３.８２(ｄｔ,Ｊ＝１７.８ ａｎｄ ９.３ Ｈｚ,２Ｈ),３.４２−３.２８(ｍ,２Ｈ),３.０２(ｄｄ,Ｊ＝９.６ ａｎｄ３.７ Ｈｚ,２Ｈ),２.７９−２.５９(ｍ,２Ｈ),２.３１(ｔｄｄ,Ｊ＝１０.８ ａｎｄ ７.２ ａｎｄ ３.６Ｈｚ,１Ｈ),２.２１−１.９７(ｍ,６Ｈ),１.９０(ｄｄ,Ｊ＝１６.４ ａｎｄ １０.０ Ｈｚ,１Ｈ),１.６４−１.４８(ｍ,３Ｈ),１.３０(ｍ,２２Ｈ),１.０８(ｓ,１８Ｈ);３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６.７(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６２.５,１６２.０,１６１.５,１６１.０,１５２.５,１５１.８,１５１.７,１５１.６,１５１.５,１４９.８,１４９.７,１４８.５,１４８.１,１４６.７,１４６.５,１４６.５,１４５.１,１４４.１,１３６.５,１３４.８,１３４.０,１３２.１,１３１.９,１３１.４,１３１.１,１３１.１,１２９.７,１２９.３,１２９.３,１２９.０,１２８.７,１２８.６,１２８.４,１２８.３,１２８.２,１２８.１,１２６.５,１２６.４,１２６.０,１２６.０,１２５.９,１２４.０,１２３.２,１２２.０,１２１.６,１２０.５,１１７.７,１１７.４,１１５.４,１１２.６,７２.６,７１.８,６８.９,６３.６,６１.３,６１.０,５８.５,３９.３,３６.３,３５.１,３５.０,３４.８,３１.２,３１.０,３１.０,３０.９,３０.２,２９.７,２９.６,２９.２,２３.７,２２.８,２２.７,２２.４,２２.１,２１.９,２１.３,２１.０,２１.０,２０.９,２０.７,２０.４,２０.３,２０.１,１４.１. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ５５Ｈ７４ＩｒＮＰ+：９７２.５１８８,Ｆｏｕｎｄ ９７２.５１９３.
オレンジ色の固体、収率８１％、融点：１６４−１６６℃。[α]Ｄ ２５+７６(ｃ ０.１,ＣＨ２Ｃｌ２). １Ｈ ＮＭＲ(４００ＭＨｚ,）δ７.９５(ｄ,Ｊ＝７.１ Ｈｚ,１ Ｈ),７.８９−７.７９(ｍ,１Ｈ),７.７７−７.５６(ｍ,１２Ｈ),７.５１(ｍ,３Ｈ),７.３６−７.１５(ｍ,８Ｈ),７.００(ｄ,Ｊ＝９.７ Ｈｚ,１Ｈ),６.３７(ｍ,２Ｈ),６.１０(ｄ,Ｊ＝１２.７ Ｈｚ,１Ｈ),４.３９(ｄｄ,Ｊ＝１２.５ ａｎｄ ５.９ Ｈｚ,１Ｈ),４.２８−４.１８(ｍ,１Ｈ),４.１３−４.０４(ｍ,１Ｈ),３.６９−３.６２(ｍ,２Ｈ),３.５４−３.４０(ｍ,２Ｈ),３.０１−２.４０(ｍ,４Ｈ),１.９３−１.４０(ｍ,９Ｈ),１.３５(ｓ ７Ｈ),１.２６(ｄ,Ｊ＝６.５ Ｈｚ,１６Ｈ),１.０９(ｄ,Ｊ＝１７.９ Ｈｚ,１３Ｈ),０.９５− ０.７２(ｍ,５Ｈ).３１Ｐ ＮＭＲ(１６２ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)δ１６.２(ｓ);１３Ｃ ＮＭＲ(１００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)：δ １６２.０,１６１.５,１５１.９,１４７.０,１４６.２,１４５.２,１３４.８,１３４.３,１３２.５,１３２.２,１３１.０,１２９.７,１２９.４,１２９.０,１２８.７,１２８.３,１２７.７,１２６.８,１２６.３,１２５.９,１２４.０,１２３.２,１１７.５,７２.１,６９.３,６３.６,６１.４,５５.１,５４.８,３８.４,３５.３,３５.０,３４.９,３１.９,３１.３,３１.２,３１.０,３０.９,３０.０,２９.７,２９.４,２２.７,１４.１. ＨＲＭＳ(ＭＡＬＤＩ)ｃａlｃｄ ｆｏｒ Ｃ６１Ｈ７８ＩｒＮＰ+：１０４８.５５０１,Ｆｏｕｎｄ １０４８.５５０２.
ＮａＢＡｒＦの代わりに、異なるアニオンを含むナトリウム塩、銀塩などを用いて、各種の異なるアニオンを含むスピロベンジルアミン−ホスフィンとイリジウムとの錯体を現地で製造できた。具体的な操作を実施例１０を参照した。
ＮａＢＡｒＦの代わりに、異なるアニオンを含むナトリウム塩、銀塩などを用いて、各種の異なるアニオンを含むスピロベンジルアミン−ホスフィンとイリジウムとの錯体を現地で製造できた。具体的な操作を実施例１０を参照した。
実施例６：異なるイリジウム触媒の（Ｒ)−イブプロフェンの不斉合成への使用
グローブボックスで触媒（０.０００５ｍｍｏｌ）及び２−(４−イソブチルフェニル)アクリル酸６ａ（１０２ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、密閉して用意した。取り出した後、炭酸セシウム（８２ｍｇ、０.２５ｍｍｏｌ）及びメタノール（２ｍＬ）を加え,内管を水素化反応釜に置いて、加圧−放気の操作（３〜５回）により水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、４５℃で、圧力が下がらないまで撹拌して反応した。そして、撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出して、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、融点：５３〜５５℃である目的生成物７ａを得た。｛[α]Ｄ ３０−５２(ｃ２.０,ｅhｔａｎｏl); １ＨＮＭＲ(４００ＭＨｚ,ＣＤＣｌ３)：δ ９.９８(ｂｒｓ,１Ｈ,ＣＯＯＨ),７.２４(ｄ,Ｊ＝７.６ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),７.１２(ｄ,Ｊ＝７.６ Ｈｚ,２Ｈ,Ａｒ−Ｈ),３.７３(ｑ,Ｊ＝７.２ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ),２.４７(ｄ,Ｊ＝７.２ Ｈｚ,２Ｈ,ＣＨ２),１.８６(ｓｅpｔｅｔ,Ｊ＝６.８ Ｈｚ,１Ｈ,ＣＨ),１.５２(ｄ,Ｊ＝７.２ Ｈｚ,３Ｈ,ＣＨ３),０.９２(ｄ,Ｊ＝６.４ Ｈｚ,６Ｈ,ＣＨ３)}。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、それを対応するメチルエステルに転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表１に示した。
実施例７：異なる温度における(Ｒ)−イブプロフェンの不斉合成
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（０.９ｍｇ、０.０００５ｍｍｏｌ）及び２−(４−イソブチルフェニル）アクリル酸６ａ（１０２ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、密閉して用意した。取り出した後、炭酸セシウム（８２ｍｇ、０.２５ｍｍｏｌ）及びメタノール（２ｍＬ）を加え、内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、異なる温度で圧力が下がらないまで撹拌して反応した。そして、撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物(Ｒ)−７ａを得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、それを対応するメチルエステルに転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表２に示した。
実施例８：異なる圧力における（Ｒ)−イブプロフェンの不斉合成
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（０.９ｍｇ、０.０００５ｍｍｏｌ）及び２−(４−イソブチルフェニル）アクリル酸６ａ（１０２ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、密閉して用意した。取り出した後、炭酸セシウム（８２ｍｇ、０.２５ｍｍｏｌ）及びメタノール（２ｍＬ）を加え、内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により、水素ガス雰囲気に置換し、最後に対応する水素ガスの圧力を設定し、４５℃で、圧力が下がらないまで撹拌して反応した。そして撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物(Ｒ)−７ａを得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、それを対応するメチルエステルに転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表３に示した。
実施例９：異なる添加剤の場合の(Ｒ)−イブプロフェンの不斉合成
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（０.９ｍｇ、０.０００５ｍｍｏｌ）及び２−(４−イソブチルフェニル）アクリル酸６ａ（１０２ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、密閉して用意した。取り出した後、異なる添加剤（０.２５ｍｍｏｌ）及びメタノール（２ｍＬ）を加え、内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、４５℃で圧力が下がらないまで撹拌した反応した。そして、撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物(Ｒ)−７ａを得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、それを対応するメチルエステル転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表４に示した。
実施例１０：異なるアニオンを含む触媒による（Ｒ)−イブプロフェンの合成
グローブボックスでスピロベンジルアミン−ホスフィン（Ｓ）−３ａ（０.００１ｍｍｏｌ）、[Ｉｒ(ＣＯＤ)Ｃl]２（０.０００５５ｍｍｏｌ）、ＭＸ（０.００１２ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、無水ジクロロメタン１ｍＬを加えて、２時間撹拌して錯形成した。２−(４−イソブチルフェニル)アクリル酸６ａ(２０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（１６４ｍｇ、０.５ｍｍｏｌ）及びメタノール（４ｍＬ）を順次に内管に加え、内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、４５℃で圧力が下がらないまで撹拌して反応した。そして撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物(Ｒ)−７ａを得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、それを対応するメチルエステルに転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表５に示した。
実施例１１：低い触媒の使用量での（Ｒ)−イブプロフェンの合成
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（l.lｍｇ、０.０００６ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、メタノール１２ｍＬを加え、撹拌して十分に溶解させた。当該触媒溶液から１０ｍＬを採取して廃棄し、そして残った２ｍＬの溶液にトリエチルアミン（７００μＬ）、メタノール（２ｍＬ）、２−(４−イソブチルフェニル)アクリル酸６ａ(２０４ｍｇ、１ｍｍｏｌ）を加えた。内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、６０℃で圧力が下がらないまで撹拌した。そして撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、白色固体として目的生成物(Ｒ)−７ａを得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析したところ、１００％であり、収率が９８％である。それを対応するメチルエステルに転化した後、キラルＧＣによりそのｅｅ値を分析したところ、９７％である。
実施例１２：０.６ＭＰａの水素ガスの圧力におけるα−置換アクリル酸の水素化
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（０.９ｍｇ、０.０００５ｍｍｏｌ）、α−置換アクリル酸６（０.５ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（８２ｍｇ、０.２５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えた反応内管に加え、密閉して用意した。取り出した後、シリンジでメタノール（２ｍＬ）を加え,内管を水素化反応釜に置き、加圧−放気の操作（３〜５回）により、水素ガス雰囲気に置換し、最後に水素ガスの圧力を０.６ＭＰａに設定し、４５℃で圧力が下がらないまで撹拌した。そして撹拌を停止させ、水素ガスを放出し、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、以３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物７を得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、全ての反応はいずれも完全に転化した。生成物を対応するメチルエステル又はアミドに転化した後、キラルＧＣ、キラルＨＰＬＣ又はキラルＳＦＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表６に示した。
実施例１３：常圧におけるα−置換アクリル酸の水素化
グローブボックスで触媒（Ｓ）−５ａ（０.９ｍｇ、０.０００５ｍｍｏｌ）、α−置換アクリル酸６（０.５ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム（８２ｍｇ、０.２５ｍｍｏｌ）を量り取って、撹拌子を備えたＳｃｈｌｅｎｋ反応管に加え、密閉して用意した。取り出した後、シリンジでメタノール（２ｍＬ）を加え、真空ラインで水素ガス雰囲気に置換し、常圧で水素化し、ＴＬＣにより完全に転化まで反応したことを検出した。そして、撹拌を停止させ、反応系を回転蒸発により濃縮させた後、３Ｎ塩酸水溶液でpＨ＜３に系を調整し、ジエチルエーテル（１０ｍＬ×３）で抽出し、有機相を合わせ、飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。吸引ろ過により乾燥剤を除去し、回転蒸発により溶媒を除去し、目的生成物７を得た。１Ｈ ＮＭＲによりその転化率を分析し、全ての反応はいずれも完全に転化した。生成物を対応するメチルエステル又はアミドに転化した後、キラルＧＣ、キラルＨＰＬＣ又はキラルＳＦＣによりそのｅｅ値を分析した。得られた実験結果を表７に示した。
本発明で提出したスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用については、実施例により述べたが、当業者は本発明の内容、主旨を逸脱しない範囲で、本願にかかるスピロベンジルアミン−ホスフィン及びその製造方法並びにその使用を変り又は適切な変更及び組み合わせを施すことにより、本発明の技術を実現できることが明らかである。特に指摘すべきのは、全ての類似な差し替え及び変わりは当業者にとって明らかであり、それらは全て本発明の主旨、範囲及び内容に含まれると見なされる。
Claims (10)
- 式（Ｉ）で表される構造を有する化合物であることを特徴とするスピロベンジルアミン−ホスフィン。
Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６はそれぞれＨ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、ハロアルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基、Ｃ１〜Ｃ８アシル基、Ｃ２〜Ｃ８エステル基、（Ｃ１〜Ｃ８アシル基)アミノ基、ジ(Ｃ１〜Ｃ８アルキル基)アミノ基、ハロゲン、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、チエニル基であり；或いはＲ３〜Ｒ４、Ｒ５〜Ｒ６は縮合脂肪環又は芳香環である。Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６は同一でも異なっていてもよい。
Ｒ７はＣ１〜Ｃ８アルキル基、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、又はチエニル基である。
Ｒ８、Ｒ９はそれぞれＨ、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基、ベンジル基、置換されるベンジル基、フェニル基、置換されるフェニル基、ナフチル基、置換されるナフチル基、フリル基、又はチエニル基である。Ｒ８とＲ９は同一でも異なっていてもよい。
前記置換されるフェニル基又はナフチル基において、置換基はＣ１〜Ｃ８アルキル基、Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基、水酸基、Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基、ハロゲン、アミノ基、（Ｃ１〜Ｃ８アシル基)アミノ基、ジ(Ｃ１〜Ｃ８アルキル基)アミノ基、Ｃ１〜Ｃ８アシル基、Ｃ２〜Ｃ８エステル基の１種又は複数種である。置換基の数は０〜５である。） - 前記Ｃ１〜Ｃ８アルキル基はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、イソヘプチル基、ネオヘプチル基、ｓ−ヘプチル基、ｔ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、イソオクチル基、ネオオクチル基、ｓ−オクチル基又はｔ−オクチル基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ｓ−ペンチルオキシ基、ｔ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、イソヘキシルオキシ基、ネオヘキシルオキシ基、ｓ−ヘキシルオキシ基、ｔ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、イソヘプチルオキシ基、ネオヘプチルオキシ基、ｓ−ヘプチルオキシ基、ｔ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、イソオクチルオキシ基、ネオオクチルオキシ基、ｓ−オクチルオキシ基又はｔ−オクチルオキシ基であり、
前記Ｃ１〜Ｃ８アシル基は、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イソブチリル基、ｎ−バレリル基、イソバレリル基、ｓ−バレリル基、ネオバレリル基、ｎ−ヘキサノイル基、イソヘキサノイル基、ネオヘキサノイル基、ｓ−ヘキサノイル基、ｎ−ヘプタノイル基、イソヘプタノイル基、ネオヘプタノイル基、ｓ−ヘプタノイル基、ｎ−オクタノイル基、イソオクタノイル基、ネオオクタノイル基、ｓ−オクタノイル基、１−シクロプロピルホルミル基、１−シクロブチルホルミル基、１−シクロペンチルホルミル基、１−シクロヘキシルホルミル基又は１−シクロヘプチルホルミル基であり；
前記Ｃ２〜Ｃ８アシルオキシ基は、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ｎ−ブチリルオキシ基、イソブチリルオキシ基、ｎ−バレリルオキシ基、イソバレリルオキシ基、ｓ−バレリルオキシ基、ネオバレリルオキシ基、ｎ−ヘキサノイルオキシ基、イソヘキサノイルオキシ基、ネオヘキサノイルオキシ基、ｓ−ヘキサノイルオキシ基、ｎ−ヘプタノイルオキシ基、イソヘプタノイルオキシ基、ネオヘプタノイルオキシ基、ｓ−ヘプタノイルオキシ基、ｎ−オクタノイルオキシ基、イソオクタノイルオキシ基、ネオオクタノイルオキシ基、ｓ−オクタノイルオキシ基、１−シクロプロピルホルミルオキシ基、１−シクロブチルホルミルオキシ基、１−シクロペンチルホルミルオキシ基、１−シクロヘキシルホルミルオキシ基又は１−シクロヘプチルホルミルオキシ基であり、
前記Ｃ２〜Ｃ８エステル基は、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、イソブトキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、イソペンチルオキシカルボニル基、ネオペンチルオキシカルボニル基、ｓ−ペンチルオキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基、シクロペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルオキシカルボニル基、イソヘキシルオキシカルボニル基、ネオヘキシルオキシカルボニル基、ｓ−ヘキシルオキシカルボニル基、ｔ−ヘキシルオキシカルボニル基、シクロヘキシルオキシカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、イソヘプチルオキシカルボニル基、ネオヘプチルオキシカルボニル基、ｓ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｔ−ヘプチルオキシカルボニル基又はシクロヘプチルオキシカルボニル基であり、
前記ハロアルキル基は、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を含むハロアルキル基であることを特徴とする請求項１に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィン。 - 同じ化学構造一般式を有するが、異なる立体構造及び旋光性を持つラセミ体、Ｄ体及びＬ体を含むことを特徴とする請求項１に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィン。
- ７−アミノメチル−７'−ジ(３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン、
７−アミノメチル−７'−ジフェニルホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン、
７−アミノメチル−７'−ジ(４−メチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン、
７−アミノメチル−７'−ジ(４−メトキシフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン、
７−アミノメチル−７'−ジ(３,５−ジメチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン
Ｎ−メチル−７−アミノメチル−７'−ジ(３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン、
Ｎ−ベンジル−７−アミノメチル−７'−ジ(３,５−ジ−ｔ−ブチルフェニル)ホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデンであることを特徴とする請求項１に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィン。 - 置換される７−トリフルオロメシルオキシ−７'−ジアリールホスフィノ−１,１’−スピロジヒドロインデン１を出発原料として、まず、パラジウム触媒によるシアノ化反応により中間体２を製造するステップと、
還元剤の作用下で、シアノ化合物２からＲ８とＲ９は同時にＨであるスピロベンジルアミン−ホスフィン３を得るステップと、
スピロベンジルアミン−ホスフィン３のアミノ基に置換反応を行って、Ｒ８とＲ９は同時にＨであることではない他のスピロベンジルアミン−ホスフィンを製造するステップとを含むことを特徴とする請求項１に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンの製造方法であって、
具体的な反応は以下の通りである。
- 以下のような構造式を有することを特徴とする請求項１に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンから製造されるイリジウム錯体。
- ジクロロメタン、トリクロロメタン又は１,２−ジクロロエタンの１種又は複数種の有機溶媒に、１０〜５０℃で、スピロベンジルアミン−ホスフィンとイリジウム前駆体は錯体を形成し、ＸがＣｌであるスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を製造し、さらに、アニオン交換により異なるアニオンを有するスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体を得ることを特徴とする請求項６に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の製造方法。
- 触媒としてα−置換アクリル酸の不斉水素化に用いられることを特徴とする請求項６に記載のスピロベンジルアミン−ホスフィンのイリジウム錯体の使用。
- 触媒と基質とを反応釜の内管に加え、添加剤と溶媒を加え、反応釜を密閉して水素ガスで３〜１０回置換し、所定の圧力まで水素ガスを導入し、所定の温度で反応終了まで撹拌することを特徴とする請求項８に記載の使用。
- 前記触媒による水素化反応の条件は、使用される溶媒がＣ１〜Ｃ６のアルコール類であり、触媒の使用量が０.００１〜１ｍｏｌ％、基質の濃度が０.００１〜１０.０Ｍであり、添加剤がイソプロピルアミン、ｔ−ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、１,８−ジアザビシクロ[５,４,０]ウンデカ−７−エン、１,４−ジアザビシクロ[２,２,２]オクタン、水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、ｔ−ブタノールナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、ｔ−ブタノールカリウム、水酸化セシウム、炭酸セシウムの１種又は複数種であり、反応温度が０〜１００℃であり、水素ガスの圧力が０.１〜１０ＭＰａであり、１０分間〜４８時間反応することを特徴とする請求項８に記載の使用。
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