JP2013225658A - Semiconductor laser module - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光通信の分野で用いられる半導体レーザモジュールに関するものである。 The present invention relates to a semiconductor laser module used in the field of optical communication.
従来から、光通信において半導体レーザモジュールが用いられる。半導体レーザモジュールは、レーザ光を発振するLD素子および発振されたレーザ光を伝送する光ファイバなどが予め光結合されてモジュール化されている。 Conventionally, a semiconductor laser module is used in optical communication. The semiconductor laser module is modularized by optically coupling in advance an LD element that oscillates laser light, an optical fiber that transmits the oscillated laser light, and the like.
このような半導体レーザモジュールとしては、光素子収容器に収容されて用いられる場合がある。このような光素子収容器は、通常、セラミックスや金属を複合したもので構成される。これに対し、低コスト化を目的として、光素子収容器を樹脂で構成した半導体レーザモジュールがある(例えば特許文献1)。 Such a semiconductor laser module may be used by being accommodated in an optical element container. Such an optical element container is usually composed of a composite of ceramics and metal. On the other hand, for the purpose of cost reduction, there is a semiconductor laser module in which an optical element container is made of resin (for example, Patent Document 1).
また、樹脂製のカバー部材および基板との接着部を金属めっきで覆う電子素子パッケージがある(特許文献2)。 Moreover, there is an electronic element package that covers a resin cover member and an adhesive portion with a substrate by metal plating (Patent Document 2).
また、プラスチックフィルムの水蒸気透過を防ぐ手段として、金属酸化物ガラスをマトリクスとして、無機層状化合物であるスメクタイトを含有する無機組成物がある(例えば特許文献3)。 Moreover, as a means for preventing water vapor permeation of the plastic film, there is an inorganic composition containing smectite which is an inorganic layered compound using a metal oxide glass as a matrix (for example, Patent Document 3).
また、スメクタイトに代表される粘土のみ、又は粘土と添加物から構成される粘土膜の少なくとも片面に水蒸気透過度が1.0g/m2・day以下の水蒸気バリア層を設ける粘土膜複合体がある(例えば特許文献4)。
Further, there is a clay film composite in which a water vapor barrier layer having a water vapor permeability of 1.0 g /
しかし、特許文献1のような、樹脂製の光素子収容器は、材質が樹脂であるため、その密閉性に劣る。したがって、例えば内部にペルチェ素子などを配置した場合には、外部から光素子収容器の内部に水分等が浸入し、結露を招く恐れがある。 However, since the resin-made optical element container like patent document 1 is a material, it is inferior to the sealing property. Therefore, for example, when a Peltier element or the like is arranged inside, moisture or the like may enter the inside of the optical element container from the outside, which may cause condensation.
一方、特許文献2のように、表面に金属めっきを施すことで、より高い密閉性を得ることができる。すなわち、金属めっき層が、外部からの水分等の浸入を防ぐ遮蔽層として機能する。
On the other hand, like
しかしながら、このような半導体レーザモジュールでは、内部の各光電素子と導通する複数の端子が光素子収容器の外部に導出される場合がある。このような端子は、それぞれ互いに独立している。このため、金属めっきが形成された光素子収容器から端子を導出すると、金属めっきと端子とが導通するという問題がある。 However, in such a semiconductor laser module, a plurality of terminals that are electrically connected to the respective photoelectric elements inside may be led out to the outside of the optical element container. Such terminals are independent of each other. For this reason, when the terminal is led out from the optical element container on which the metal plating is formed, there is a problem that the metal plating and the terminal are electrically connected.
また、特許文献3は、金属酸化物ガラスの密着性は対成形樹脂と金属で異なるため、成形樹脂部には予めプライマー等により下地処理を行う必要があり、成形樹脂部と金属部を半導体レーザモジュールに対しての水蒸気バリア性が不十分という問題がある。 In Patent Document 3, since the adhesion of the metal oxide glass differs between the molding resin and the metal, it is necessary to pre-treat the molding resin portion with a primer or the like in advance, and the molding resin portion and the metal portion are connected to the semiconductor laser. There is a problem that the water vapor barrier property for the module is insufficient.
また、特許文献4の様な粘土膜上にポリシラザンに由来する液状シリカコーティング材を塗工しても、シリカコーティング材の溶媒が粘土膜中に拡散し、粘土膜上にシリカ膜を形成できないという問題がある。また、粘土膜の厚さを5〜50μm、水蒸気バリア層の厚さを2〜25μmとそれぞれ好適な範囲とした極めて厚い複合体構造となっている。 Further, even if a liquid silica coating material derived from polysilazane is applied on a clay film as in Patent Document 4, the solvent of the silica coating material diffuses into the clay film, and a silica film cannot be formed on the clay film. There's a problem. Moreover, it has a very thick composite structure in which the thickness of the clay film is 5 to 50 μm and the thickness of the water vapor barrier layer is 2 to 25 μm.
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、軽量で低コストであり、かつ、複数の端子が内部から導出される半導体レーザモジュールを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a semiconductor laser module that is lightweight and low-cost and in which a plurality of terminals are led out from the inside.
前述した目的を達成するため、本発明は、内部に光電部品を収容する半導体レーザモジュールであって、ケース部と、前記ケース部の上部に配置される蓋部と、前記ケース部の内部に配置される光電部品と、前記光電部品と導通し、前記ケース部の外部に導出される端子と、を具備し、前記ケース部は樹脂で形成され、前記ケース部の前記端子の導出部には、孔が形成され、前記孔の周囲には、前記端子と半田付けされる半田固定部と、前記半田固定部の周囲に形成される樹脂露出部とが形成され、前記ケース部の表面には、少なくとも前記樹脂露出部を除き、金属めっきが施され、前記端子が前記半田固定部に接合された状態で前記樹脂露出部が無機高分子材料によって被覆される被覆膜が形成されることを特徴とする半導体レーザモジュールである。 In order to achieve the above-described object, the present invention provides a semiconductor laser module that accommodates photoelectric components therein, and includes a case portion, a lid portion that is disposed above the case portion, and an interior portion of the case portion. A photoelectric component, and a terminal that is electrically connected to the photoelectric component and is led out of the case part, the case part is formed of resin, and the lead part of the terminal of the case part includes: A hole is formed, and a solder fixing portion soldered to the terminal and a resin exposed portion formed around the solder fixing portion are formed around the hole, and on the surface of the case portion, Metal coating is performed except at least the resin exposed portion, and a coating film is formed in which the resin exposed portion is covered with an inorganic polymer material in a state where the terminal is bonded to the solder fixing portion. Semiconductor laser module Is Le.
前記被覆膜の厚みが1μm以上であることが望ましい。 The thickness of the coating film is desirably 1 μm or more.
前記無機高分子材料は、ポリシラザンを主成分とすることが望ましい。ここで、ポリシラザンを主成分とするとは、ポリシラザンのみである場合に加え、適宜添加剤が添加されてもよく、その他不可避的に混在するものを含むものである。 The inorganic polymer material is preferably composed mainly of polysilazane. Here, polysilazane as a main component includes not only polysilazane but also additives that may be added as appropriate, and includes those that are inevitably mixed.
前記被覆膜は複数層からなり、少なくとも一つの層には、無機層状化合物が添加されてもよく、特に、前記被覆膜は3層からなり、中間層には、無機層状化合物が添加されることが望ましい。この場合、前記無機層状化合物は、モンモリロナイトを主成分とすることが望ましい。ここで、モンモリロナイトを主成分とするとは、モンモリロナイトのみである場合に加え、適宜添加剤が添加されてもよく、その他不可避的に混在するものを含むものである。 The coating film includes a plurality of layers, and an inorganic layered compound may be added to at least one layer. In particular, the coating film includes three layers, and the intermediate layer includes an inorganic layered compound. It is desirable. In this case, the inorganic layered compound is preferably composed mainly of montmorillonite. Here, the main component of montmorillonite includes not only montmorillonite but also additives that may be added as appropriate, and includes those that are inevitably mixed.
前記無機層状化合物は、前記無機高分子材料が100質量部に対して、10〜40質量部配合されることが望ましい。 The inorganic layered compound is preferably blended in an amount of 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic polymer material.
前記光電部品は、ペルチェ素子を含んでもよい。前記ケース部の下部に配置される底部は、金属で構成され、前記ペルチェ素子との接触部の熱伝導率が150W/(m・K)であり、前記光電部品の放熱板として機能させてもよい。前記底部は、銅タングステン合金、銅モリブデン合金のいずれかで構成されてもよい。 The photoelectric component may include a Peltier element. The bottom part arranged at the lower part of the case part is made of metal, the thermal conductivity of the contact part with the Peltier element is 150 W / (m · K), and it can function as a heat sink for the photoelectric component. Good. The bottom may be made of either a copper tungsten alloy or a copper molybdenum alloy.
前記ケース部の底部は樹脂により一体で形成され、前記底部の表面にも金属めっきが施されてもよい。 The bottom part of the case part may be integrally formed of resin, and metal plating may be applied to the surface of the bottom part.
前記蓋部は、金属製であり、前記底部と同一の材質で構成されてもよい。 The lid portion may be made of metal and made of the same material as the bottom portion.
前記半田固定部と、前記樹脂露出部が形成される面が、前記ケース部の側面に対して斜めに傾斜して形成されてもよい。 The surface on which the solder fixing portion and the resin exposed portion are formed may be formed obliquely with respect to the side surface of the case portion.
本発明によれば、ケース部が樹脂で構成されるため、従来のように、セラミックスや金属の複合体を用いる場合と比較して、軽量化と低コスト化を図ることができる。また、表面に金属めっきが施されるため、密閉性にも優れる。したがって、ペルチェ素子を配置した場合であっても、内部で結露等が生じることがない。 According to the present invention, since the case portion is made of resin, it is possible to achieve weight reduction and cost reduction as compared with the case of using a ceramic or metal composite as in the conventional case. Moreover, since metal plating is given to the surface, it is excellent also in airtightness. Therefore, even if a Peltier element is arranged, condensation or the like does not occur inside.
また、端子の導出部には、孔が形成され、孔の周囲には、半田を設けるための半田固定部と、半田固定部を囲むように形成される樹脂露出部が形成される。したがって、金属めっきと半田(半田固定部)が導通することがない。また、樹脂露出部は、架橋された無機材料によって被覆されるため、当該部位から水分が浸入することがなく、また、端子と金属めっきとが導通することもない。 Further, a hole is formed in the lead-out portion of the terminal, and a solder fixing portion for providing solder and a resin exposed portion formed so as to surround the solder fixing portion are formed around the hole. Therefore, the metal plating and solder (solder fixing part) do not conduct. Further, since the resin exposed portion is covered with the crosslinked inorganic material, moisture does not enter from the portion, and the terminal and the metal plating do not conduct.
また、ペルチェ素子を配置した場合において、底部を熱伝導性の高い金属で構成することで、底部を放熱板として機能させることができる。この際、底部の材質として、銅タングステン合金、銅モリブデン合金等を用いることで、熱伝導性が高く、線膨張係数が小さいため、熱による変形等を防止するとともに、高い放熱特性を得ることができる。この際、蓋部を同一の材質で構成すれば、容器全体としての温度変化に対して、変形の影響を小さくすることができる。 Further, when the Peltier element is disposed, the bottom portion can be made to function as a heat sink by configuring the bottom portion with a metal having high thermal conductivity. At this time, by using a copper tungsten alloy, a copper molybdenum alloy or the like as the material of the bottom portion, it has high thermal conductivity and a small coefficient of linear expansion, so that it can prevent deformation due to heat and obtain high heat dissipation characteristics. it can. At this time, if the lid is made of the same material, the influence of deformation can be reduced with respect to the temperature change of the entire container.
また、底部をケース部と一体で構成してもよい。このようにすることで、製造が容易となる。また、この場合には、底部の表面にも金属めっきを施すことで、内部への水分等の浸入を防止することができる。 Moreover, you may comprise a bottom part integrally with a case part. By doing in this way, manufacture becomes easy. In this case, the bottom surface can also be subjected to metal plating to prevent moisture and the like from entering the inside.
また、樹脂露出部が形成される面を斜めに傾斜して形成することで、製造性を高めることができる。例えば、回路基板の製造方法と同様に、エッチングによって金属層をパターン化することが容易となる。または、全面に金属めっきを施した後、レーザで金属層を除去することが容易となる。すなわち、容器の角度やレーザ等の角度を変えることなく、樹脂露出部等の成形を行うことができる。 Moreover, manufacturability can be improved by forming the surface on which the resin exposed portion is formed obliquely. For example, the metal layer can be easily patterned by etching as in the circuit board manufacturing method. Alternatively, after the metal plating is performed on the entire surface, it becomes easy to remove the metal layer with a laser. In other words, the resin exposed portion can be molded without changing the angle of the container or the angle of the laser or the like.
本発明によれば、軽量で低コストであり、かつ、複数の端子が内部から導出される半導体レーザモジュールを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a semiconductor laser module that is lightweight and low in cost and in which a plurality of terminals are led out from the inside.
以下、本発明の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール1について説明する。図1は、半導体レーザモジュール1の斜視図、図2は正面断面図、図3は、側面断面図である。なお、図1においては、蓋部23および、各構成を接続する導線25(図3)の図示を省略する。また、図1〜図3においては、後述する被覆膜の図示を省略する。半導体レーザモジュール1は、主に、ケース部3、底部5、蓋部23、光電部品7等から構成される。なお、各部の形状や配置その他の構成は、図示した例に限られない。
Hereinafter, a semiconductor laser module 1 according to an embodiment of the present invention will be described. 1 is a perspective view of the semiconductor laser module 1, FIG. 2 is a front sectional view, and FIG. 3 is a side sectional view. In FIG. 1, the illustration of the lid 23 and the conductive wire 25 (FIG. 3) connecting the components is omitted. Moreover, in FIGS. 1-3, illustration of the coating film mentioned later is abbreviate | omitted. The semiconductor laser module 1 mainly includes a case portion 3, a bottom portion 5, a lid portion 23, a
ケース部3は、略箱状の形態であり、底面が底部5となる。すなわち、底部5は、ケース部3の一部を構成し、一体で構成される。ケース部3(底部5含む)の表面は、金属めっき4が形成される。すなわち、後述する一部の部位を除き、ケース部3および底部5の表面は略全面にわたって金属めっき4で覆われる。金属めっき4は、例えばNi、Cuの無電解めっきを下地としたNi、Cu、Au等の電解めっき層である。 The case portion 3 has a substantially box shape, and the bottom surface is the bottom portion 5. That is, the bottom part 5 constitutes a part of the case part 3 and is integrally formed. A metal plating 4 is formed on the surface of the case portion 3 (including the bottom portion 5). That is, the surface of the case part 3 and the bottom part 5 is covered with the metal plating 4 over substantially the entire surface except for some parts described later. The metal plating 4 is an electroplating layer made of Ni, Cu, Au or the like, for example, based on Ni, Cu electroless plating.
なお、ケース部3を構成する樹脂材料としては、ポリスルホン(PSF)、ポリエーテルサルフォン(PES)、ポリフェニレンスルファイド(PPS)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)、液晶ポリマー(LCP)、シンジオタクチックポリスチレン(SPS)等の熱可塑性樹脂(所謂、スーパーエンジニアリングプラスチック)等を用いることができる。また、熱可塑性樹脂等の樹脂に、ガラスフィラー又はガラスビーズを混入させてもよい。この場合、その混入割合を適宜に選択することによって、ケース部3の線膨張率を調整することが可能である。更にめっき形成性を促進するための添加剤を混入させてもよい。 The resin material constituting the case part 3 includes polysulfone (PSF), polyethersulfone (PES), polyphenylene sulfide (PPS), polyetheretherketone (PEEK), polyetherimide (PEI), and liquid crystal polymer. Thermoplastic resins (so-called super engineering plastics) such as (LCP) and syndiotactic polystyrene (SPS) can be used. Further, a glass filler or glass beads may be mixed in a resin such as a thermoplastic resin. In this case, the linear expansion coefficient of the case portion 3 can be adjusted by appropriately selecting the mixing ratio. Further, an additive for promoting plating formability may be mixed.
ケース部3の内部であって、底部5の上面には、光電部品7が配置される。なお、光電部品7は、例えば、ペルチェ素子、ファイバ台座、LDサブマウント、PDキャリア、LD素子、PD素子等から構成される。
A
例えば、底部5上には、ペルチェ素子が半田によって固定される。ペルチェ素子の上部には、半田や熱伝導性銀ペーストなどの接着剤によって、ベースが固定される。ベース上には上述の接着材料等によってファイバ台座、LDサブマウント、PDキャリア等が固定される。ファイバ台座には光ファイバ21が固定される。また、LDサブマウントにはLD素子、PDキャリアにはPD素子がそれぞれ固定される。また、ベースにはLD素子の温度を検出するサーミスタが設けられる。 For example, a Peltier element is fixed on the bottom 5 with solder. A base is fixed to the upper part of the Peltier element by an adhesive such as solder or heat conductive silver paste. A fiber pedestal, LD submount, PD carrier, and the like are fixed on the base by the adhesive material described above. An optical fiber 21 is fixed to the fiber base. Further, the LD element is fixed to the LD submount, and the PD element is fixed to the PD carrier. The base is provided with a thermistor for detecting the temperature of the LD element.
図3に示すように、光電部品7(ベース)には、複数の端子9が導線25を介して接続される。導線25は、10μm〜数百μmの直径を有し、例えば金、アルミニムウムあるいは銅からなる線である。なお、端子9とベースとの表面は導線25との接合をよくするために、あらかじめ金めっき処理が施されていることが望ましい。この場合、金めっきの厚さとしては0.5μm以上であることが望ましい。なお、光電部品7を構成する各部品もベース等と導線により接続されているが図示を省略する。
As shown in FIG. 3, a plurality of terminals 9 are connected to the photoelectric component 7 (base) via a conducting wire 25. The conducting wire 25 has a diameter of 10 μm to several hundred μm and is a wire made of, for example, gold, aluminum, or copper. The surface of the terminal 9 and the base is preferably subjected to a gold plating process in advance in order to improve the bonding with the conductive wire 25. In this case, the gold plating thickness is desirably 0.5 μm or more. Note that although each component constituting the
図3に示すように、端子9は、ケース部3の側面に形成された孔27を貫通して、ケース部3の内部から外部へ導出される。孔27の近傍には、半田固定用の半田固定部11が形成される。半田固定部11は、金属部であり、めっき等によって構成される。なお、半田固定部11は、例えば金属めっき4と同様に構成される。半田固定部11の周囲には、金属めっき4が形成されず、内部の樹脂が露出する樹脂露出部15が形成される。すなわち、樹脂露出部15は、孔27および半田固定部11の周囲に環状に形成される。なお、端子9の固定方法については後述する。
As shown in FIG. 3, the terminal 9 passes through a
このように、ケース部3の表面は、樹脂露出部15を除き、金属めっき4で被覆される。ケース部3の表面に、金属めっき4を選択的に形成する手段としては、例えば、金属めっき4を形成可能な樹脂と、金属めっき4が形成されない樹脂の2種類の成形樹脂を金型により一体化して、ケース部3を形成すればよい。このようにして形成されたケース部3に金属めっき処理を行うことで、金属めっき4が形成されると、金属めっき4が形成されない部位(すなわち樹脂露出部15)を形成することができる。 As described above, the surface of the case portion 3 is covered with the metal plating 4 except for the resin exposed portion 15. As a means for selectively forming the metal plating 4 on the surface of the case portion 3, for example, two types of molding resins, a resin capable of forming the metal plating 4 and a resin not forming the metal plating 4, are integrated with a mold. And the case portion 3 may be formed. When the metal plating 4 is formed by performing metal plating on the case portion 3 formed in this manner, a portion where the metal plating 4 is not formed (that is, the resin exposed portion 15) can be formed.
また、射出成形等によって金属めっき4を形成可能な樹脂によりケース部3を形成し、ケース部3の全面に金属めっき4を形成した後に、部分的に金属めっき4を除去してもよい。例えば、プリント回路基板の製造方法と同様にエッチング処理にて金属部をパターン化してもよく、または、レーザにより金属部を除去してもよい。 Moreover, after forming the case part 3 with resin which can form the metal plating 4 by injection molding etc., and forming the metal plating 4 in the whole surface of the case part 3, you may remove the metal plating 4 partially. For example, the metal part may be patterned by etching as in the method of manufacturing a printed circuit board, or the metal part may be removed by a laser.
また、図2に示すように、ケース部3の他の側面には、ファイバパイプ17が固定される。ファイバパイプ17は、例えば金属製の筒状部材であり、ケース部3の側面に形成された孔部に半田や接着剤で固定される。ファイバパイプ17の内部には、光ファイバ21が挿通され、前述した光電部品7(ファイバ台座)に固定される。光ファイバ21はファイバパイプ17を介してケース部3の外部に導出される。なお、光ファイバ21は、ファイバパイプ17の内部において接着剤等によって固定され、ファイバパイプ17の開口部が塞がれる。 As shown in FIG. 2, a fiber pipe 17 is fixed to the other side surface of the case portion 3. The fiber pipe 17 is a metallic cylindrical member, for example, and is fixed to a hole formed in the side surface of the case portion 3 with solder or an adhesive. An optical fiber 21 is inserted into the fiber pipe 17 and fixed to the photoelectric component 7 (fiber pedestal) described above. The optical fiber 21 is led out of the case unit 3 through the fiber pipe 17. The optical fiber 21 is fixed inside the fiber pipe 17 with an adhesive or the like, and the opening of the fiber pipe 17 is closed.
ケース部3の上縁部には、蓋嵌合部19が形成される。蓋嵌合部19は、例えばケース部3の上縁部に形成された段部である。なお、蓋嵌合部19においても、金属めっき4が形成される。蓋部23は、蓋嵌合部19に嵌るように配置される。蓋部23は、例えば金属製であり、蓋嵌合部19において、半田や接着剤によって固定される。なお、蓋部23の固定に半田を用いた場合には、半田配置部に、半田接合を容易にするためのAu、Snめっきをあらかじめ施してもよい。 A lid fitting portion 19 is formed on the upper edge portion of the case portion 3. The lid fitting part 19 is a step part formed in the upper edge part of the case part 3, for example. Note that the metal plating 4 is also formed in the lid fitting portion 19. The lid portion 23 is disposed so as to fit into the lid fitting portion 19. The lid portion 23 is made of, for example, metal, and is fixed to the lid fitting portion 19 with solder or an adhesive. In addition, when solder is used for fixing the lid portion 23, Au and Sn plating for facilitating solder bonding may be applied to the solder placement portion in advance.
図4は、図3のA部に対応する部位の拡大図であり、端子9を固定して、当該部位の密閉を行う工程を示す図である。前述の通り、ケース部3の側面には、孔27が設けられる。また、ケース部3の内外面の表面には、樹脂露出部15を除き、金属めっき4が形成される。
FIG. 4 is an enlarged view of a part corresponding to part A in FIG. 3, and shows a process of fixing the terminal 9 and sealing the part. As described above, the
孔27の内面および孔27の周縁部には、半田固定部11が形成される。半田固定部11は、金属めっき4と同様の構成であってもよいが、半田接合を容易にするため、めっき上にさらにAu、Snめっきを施してもよい。また、前述の通り、半田固定部11の外周には、ケース部3の両面において樹脂露出部15が形成される。したがって、半田固定部11と金属めっき4とは樹脂露出部15によって絶縁される。
A solder fixing portion 11 is formed on the inner surface of the
まず、図4(a)に示すように、孔27に端子9が挿入される。次に、図4(b)に示すように、端子9が半田13によって半田固定部11に固定される。端子9を固定した後、図4(c)に示すように、樹脂露出部15および半田13を覆うように、被覆膜29が設けられる。なお、被覆膜29は、少なくとも樹脂露出部15を覆うことができれば、樹脂露出部15からはみ出しても良い。また、被覆膜29は、ケース部3の内外面に形成される。
First, as illustrated in FIG. 4A, the terminal 9 is inserted into the
被覆膜29は、絶縁性を有し、水分等が浸透しない無機高分子材料である。このような無機高分子材料としてはケイ酸アルカリ、ケイ酸エステル、ポリシラザンまたは双官能シラン化合物を架橋したケイ酸系の無機高分子材料が望ましいが、特に望ましくは、ポリシラザンである。このような化合物を少なくとも一種以上含む液で被覆膜29を形成することで、Si−O−Si結合の皮膜を形成することができる。したがって、被覆膜29によって、ケース部3の密閉後にケース部3内部への水分の浸入を防止して気密性を保つことができる。また、ケース部3の内側に形成することで、ケース部3を構成する樹脂中の不純物が、光電部品7(例えばLD素子)の動作を阻害することを防止する。 The coating film 29 is an inorganic polymer material that has insulating properties and does not allow moisture or the like to penetrate. As such an inorganic polymer material, an alkali silicate, a silicate ester, polysilazane, or a silicic acid-based inorganic polymer material obtained by crosslinking a bifunctional silane compound is desirable, and polysilazane is particularly desirable. By forming the coating film 29 with a liquid containing at least one such compound, a Si—O—Si bond film can be formed. Therefore, the coating film 29 can prevent moisture from entering the inside of the case portion 3 after the case portion 3 is sealed and maintain airtightness. Moreover, by forming inside the case part 3, the impurity in resin which comprises the case part 3 is prevented from inhibiting operation | movement of the photoelectric component 7 (for example, LD element).
なお、前述したファイバパイプ17(図2)とケース部3との接着や、ファイバパイプ17内部への光ファイバ21の接着等のために、エポキシ樹脂等を主原料とする有機材料の接着剤を用いた場合には、当該部位を覆うように、同様の被覆膜29を配置することが望ましい。さらに、蓋部23とケース部3との接合に同様の接着剤等を用いた場合には、当該接合部にも、被覆膜29を配置することが望ましい。 An adhesive made of an organic material mainly composed of epoxy resin or the like is used for bonding the fiber pipe 17 (FIG. 2) and the case portion 3 described above or bonding the optical fiber 21 into the fiber pipe 17. When used, it is desirable to arrange a similar coating film 29 so as to cover the part. Furthermore, when a similar adhesive or the like is used for joining the lid portion 23 and the case portion 3, it is desirable to dispose the coating film 29 also on the joint portion.
この様に封止された半導体レーザモジュール1は、内部が乾燥した不活性ガス等が充填される。この際、JIS Z2331に定めるヘリウムリーク試験において、ヘリウムリーク量が1×10−9[Pa・m3/sec]以下とする。このようにすることで、半導体レーザモジュール1内部への水分の浸入を完全に封止することができる。したがって、例えばペルチェ素子が動作した場合においても、半導体レーザモジュール1内部の冷却によって、結露等が発生することを防ぐことができる。 The semiconductor laser module 1 sealed in this way is filled with an inert gas or the like having a dry interior. At this time, in the helium leak test defined in JIS Z2331, the helium leak amount is set to 1 × 10 −9 [Pa · m 3 / sec] or less. By doing in this way, the penetration | invasion of the water | moisture content to the inside of the semiconductor laser module 1 can be sealed completely. Therefore, for example, even when the Peltier element is operated, it is possible to prevent the occurrence of condensation or the like due to the cooling inside the semiconductor laser module 1.
本実施の形態によれば、半導体レーザモジュール1を構成するケース部3が樹脂で構成されるため、従来のセラミックスや金属等を用いた場合と比較してコスト低減となり、軽量化を達成できる。また、ケース部3の表面には金属めっき4が形成される。したがって、ケース部3を構成する樹脂を透過して、水分等が半導体レーザモジュール1内部へ浸入することを防止することができる。 According to the present embodiment, since the case portion 3 constituting the semiconductor laser module 1 is made of resin, the cost can be reduced and the weight can be reduced as compared with the case of using conventional ceramics, metal, or the like. A metal plating 4 is formed on the surface of the case portion 3. Therefore, it is possible to prevent moisture and the like from entering the semiconductor laser module 1 through the resin constituting the case portion 3.
また、この際、ケース部3の内部と外部とを貫通する端子9が複数設けられるが、それぞれの端子9同士は、樹脂露出部15によって金属めっき4と絶縁される。したがって、端子9は、電気的にそれぞれ独立して配置することができる。 At this time, a plurality of terminals 9 penetrating the inside and the outside of the case portion 3 are provided. The terminals 9 are insulated from the metal plating 4 by the resin exposed portion 15. Accordingly, the terminals 9 can be arranged electrically independently.
また、少なくとも樹脂露出部15は、被覆膜29によって被覆される。したがって、金属めっき4と端子9との絶縁性を確保するとともに、樹脂露出部15等から半導体レーザモジュール1内部への水分等の浸入を防止することができる。 At least the resin exposed portion 15 is covered with the coating film 29. Therefore, it is possible to ensure the insulation between the metal plating 4 and the terminal 9 and to prevent moisture and the like from entering the semiconductor laser module 1 from the resin exposed portion 15 and the like.
次に、第2の実施の形態について説明する。なお、以下の説明において、半導体レーザモジュール1と同様の機能を奏する構成については、図1〜図4と同一の符号を付し、重複する説明を省略する。図5は、半導体レーザモジュール1aを示す正面断面図であり、図2に対応する図である。 Next, a second embodiment will be described. In the following description, components having the same functions as those of the semiconductor laser module 1 are denoted by the same reference numerals as those in FIGS. 1 to 4 and redundant description is omitted. FIG. 5 is a front sectional view showing the semiconductor laser module 1a, and corresponds to FIG.
半導体レーザモジュール1aは、半導体レーザモジュール1と略同様の構成であるが、底部5aがケース部3と別体で構成される点で異なる。すなわち、底部5aは、ケース部3と分離して別材質で構成され、ケース部3と接合される。なお、本発明では、底部を別体で構成した場合においても、ケース部に接合された底部は、ケース部の一部であるとして説明する。 The semiconductor laser module 1 a has substantially the same configuration as the semiconductor laser module 1, but differs in that the bottom 5 a is configured separately from the case 3. That is, the bottom portion 5 a is separated from the case portion 3 and is made of a different material, and is joined to the case portion 3. In the present invention, the bottom part joined to the case part will be described as a part of the case part even when the bottom part is constituted separately.
底部5aは、上面側に段差が形成される。すなわち、ケース部3の内部に収容される部位が、他の部位よりも厚さが厚い。ケース部3の下端には、蓋嵌合部19と同様に、底嵌合部31が形成される。すなわち、底嵌合部31は、例えばケース部3の下縁部の形成された段部である。なお、底嵌合部31においても、金属めっき4が形成される。 The bottom 5a has a step on the upper surface side. That is, the part accommodated in the case part 3 is thicker than the other parts. A bottom fitting portion 31 is formed at the lower end of the case portion 3, similarly to the lid fitting portion 19. That is, the bottom fitting part 31 is a step part in which the lower edge part of the case part 3 was formed, for example. Note that the metal plating 4 is also formed in the bottom fitting portion 31.
底部5aは、底嵌合部31に嵌るように配置される。なお、底部5aは、例えば金属製であり、蓋嵌合部19において、半田や接着剤によって固定される。なお、底部5aの固定に半田を用いた場合には、半田配置部に、半田接合を容易にするためのAu、Snめっきをあらかじめ施してもよい。また、底部5aの固定に接着剤を用いた場合には、接着部を被覆膜29で被覆することが望ましい。 The bottom part 5 a is arranged so as to fit into the bottom fitting part 31. The bottom 5a is made of, for example, metal, and is fixed at the lid fitting portion 19 with solder or an adhesive. When solder is used for fixing the bottom portion 5a, Au and Sn plating for facilitating solder bonding may be applied to the solder placement portion in advance. Further, when an adhesive is used for fixing the bottom portion 5a, it is desirable to cover the adhesive portion with the coating film 29.
底部5aは、上面に配置される光電部品7の放熱板として機能する。底部5aの熱伝導率は、上部に配置される部品に応じて適宜設定可能であるが、例えば150[W/(m・k)]以上であることが望ましい。この様にすることで、例えばペルチェ素子を効率よく動作させることができる。
The bottom 5a functions as a heat sink for the
また、底部5aは、内部に配置される光電部品7との熱線膨張差を極力無くすことが望ましい。したがって、銅タングステン合金、銅モリブデン合金などの低熱線膨張および高熱伝導性金属材料とすることが望ましい。また、底部5aと蓋部23を同一材料とすることで半導体レーザモジュール1aのそりを防ぐことができる。したがって、光軸のズレ等を防止することができる。
Further, it is desirable that the bottom portion 5a eliminates the difference in thermal linear expansion from the
第2の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール1aによれば、半導体レーザモジュール1と同様の効果を得ることができる。また、底部5aが放熱板として機能するため、光電部品7を効率よく動作させることができる。
According to the semiconductor laser module 1a according to the second embodiment, the same effect as that of the semiconductor laser module 1 can be obtained. Moreover, since the bottom part 5a functions as a heat sink, the
次に、第3の実施の形態について説明する。図6は、半導体レーザモジュール1bを示す正面断面図であり、図2に対応する図である。半導体レーザモジュール1bは、半導体レーザモジュール1aと略同様の構成であるが、ファイバパイプ17をケース部3と一体化させる点と、底部5bをケース部3と別体で形成し、ケース部3の内部に配置する点で異なる。 Next, a third embodiment will be described. FIG. 6 is a front sectional view showing the semiconductor laser module 1b, and corresponds to FIG. The semiconductor laser module 1b has substantially the same configuration as that of the semiconductor laser module 1a, except that the fiber pipe 17 is integrated with the case portion 3, and the bottom portion 5b is formed separately from the case portion 3. It differs in that it is placed inside.
ファイバパイプ17は、ケース部3と一体で形成される。したがって、ファイバパイプ17は、樹脂で形成される。すなわち、ファイバパイプ17の外表面には、ケース部3と同様に金属めっき4が形成される。なお、ファイバパイプ17への光ファイバ21の固定方法および接着部への被覆膜29の形成については前述した実施形態と同様である。 The fiber pipe 17 is formed integrally with the case portion 3. Therefore, the fiber pipe 17 is formed of resin. That is, the metal plating 4 is formed on the outer surface of the fiber pipe 17 similarly to the case portion 3. The method for fixing the optical fiber 21 to the fiber pipe 17 and the formation of the coating film 29 on the adhesive portion are the same as in the above-described embodiment.
底部5bは、前述した底部5aと同様に、ケース部3と別体で形成される。しかし、底部5bは、底部5aと異なり、上面に段差等は形成されず、平坦に構成される。底部5bは、ケース部3の内面に完全に嵌り込む。すなわち、半導体レーザモジュール1aでは、底部5aの上面にケース部3が配置され、底部5aがケース部3の側方に露出する。しかし、半導体レーザモジュール1bでは、底部5bは完全にケース部3内に配置され、裏面以外、外部に露出しない。 The bottom part 5b is formed separately from the case part 3 in the same manner as the above-described bottom part 5a. However, unlike the bottom portion 5a, the bottom portion 5b does not have a step or the like on the upper surface and is configured to be flat. The bottom portion 5 b is completely fitted into the inner surface of the case portion 3. That is, in the semiconductor laser module 1a, the case portion 3 is disposed on the upper surface of the bottom portion 5a, and the bottom portion 5a is exposed to the side of the case portion 3. However, in the semiconductor laser module 1b, the bottom portion 5b is completely disposed in the case portion 3 and is not exposed outside except for the back surface.
なお、底部5bとケース部3との固定方法および被覆膜29の形成方法は、前述した実施形態と同様である。また、底部5bの材質および機能も、底部5aと同様である。 In addition, the fixing method of the bottom part 5b and the case part 3 and the formation method of the coating film 29 are the same as that of embodiment mentioned above. The material and function of the bottom 5b are the same as those of the bottom 5a.
第3の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール1bによれば、半導体レーザモジュール1a等と同様の効果を得ることができる。また、ファイバパイプ17がケース部3と一体であるため、部品点数が少なく、また、ファイバパイプ17が樹脂で形成されるため、コスト低下を図ることができる。また、底部5bは、1枚の板状部材であり、段差等が形成されない。このため、銅タングステン合金、銅モリブデン合金などを用いても、加工が容易である。 According to the semiconductor laser module 1b according to the third embodiment, the same effects as those of the semiconductor laser module 1a and the like can be obtained. Moreover, since the fiber pipe 17 is integral with the case part 3, the number of parts is small, and since the fiber pipe 17 is formed of resin, the cost can be reduced. The bottom 5b is a single plate-like member, and no step is formed. For this reason, even if it uses a copper tungsten alloy, a copper molybdenum alloy, etc., processing is easy.
次に、第4の実施の形態について説明する。図7は、半導体レーザモジュール1cを示す側面断面図であり、図3に対応する図である。半導体レーザモジュール1cは、半導体レーザモジュール1bと略同様の構成であるが、ケース部3の内面に棚部33が形成される点で異なる。なお、底部5bは、半導体レーザモジュール1bと同様の構成である。 Next, a fourth embodiment will be described. FIG. 7 is a side sectional view showing the semiconductor laser module 1c and corresponds to FIG. The semiconductor laser module 1 c has substantially the same configuration as the semiconductor laser module 1 b, but differs in that a shelf 33 is formed on the inner surface of the case portion 3. The bottom 5b has the same configuration as that of the semiconductor laser module 1b.
棚部33は、ケース部3の内面であって、孔27の近傍(孔27の下部)に配置される。棚部33は、ケース部3の内面に略垂直に内側に向かって突出する。棚部33上には、半田固定用のランド35が形成される。ランド35には、光電部品7と導通する導線25の端部が溶接等によりマイクロ接合される。また、ランド35は、半田固定部11と導通する。したがって、端子9は、光電部品7と導通する。
The shelf portion 33 is disposed on the inner surface of the case portion 3 and in the vicinity of the hole 27 (lower portion of the hole 27). The shelf part 33 protrudes inward substantially perpendicularly to the inner surface of the case part 3. On the shelf 33, lands 35 for fixing solder are formed. The end of the conducting wire 25 that is electrically connected to the
図8は、半導体レーザモジュール1cに用いられるケース部3(底部5bを除く)の単体斜視図である。ランド35は、それぞれの孔27ごとに形成され、それぞれの半田固定部11と導通する。樹脂露出部15は、半田固定部11およびランド35の外周に形成される。したがって、半田固定部11およびランド35は、樹脂露出部15によって金属めっき4と絶縁される。なお、ケース部3の外周面は、前述した実施の形態と同様である。
FIG. 8 is a single perspective view of the case portion 3 (excluding the bottom portion 5b) used in the semiconductor laser module 1c. The land 35 is formed for each
第4の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール1cによれば、半導体レーザモジュール1等と同様の効果を得ることができる。また、ファイバパイプ17がケース部3と一体であるため、部品点数が少なく、また、導線25を端子9と直接接続する必要がなく、より広いランド35に接続すれば良いため、導線25の接続作業性に優れる。また、ランド35が広いため、導線25の取り回し性にも優れる。 According to the semiconductor laser module 1c according to the fourth embodiment, the same effects as those of the semiconductor laser module 1 and the like can be obtained. Further, since the fiber pipe 17 is integrated with the case portion 3, the number of parts is small, and it is not necessary to directly connect the conductive wire 25 to the terminal 9, and it is sufficient to connect to the wider land 35. Excellent workability. Moreover, since the land 35 is wide, the handling property of the conducting wire 25 is excellent.
次に、第5の実施の形態について説明する。図9は、半導体レーザモジュール1dを示す側面断面図であり、図3に対応する図である。また、図10は、半導体レーザモジュール1dに用いられるケース部3(底部5bを除く)の単体斜視図である。半導体レーザモジュール1dは、半導体レーザモジュール1cと略同様の構成であるが、ケース部3の内面に棚部33が形成される点で異なる。なお、底部5bは、半導体レーザモジュール1bと同様の構成である。 Next, a fifth embodiment will be described. FIG. 9 is a side sectional view showing the semiconductor laser module 1d, and corresponds to FIG. FIG. 10 is a single perspective view of the case 3 (excluding the bottom 5b) used in the semiconductor laser module 1d. The semiconductor laser module 1 d has substantially the same configuration as the semiconductor laser module 1 c, but differs in that a shelf 33 is formed on the inner surface of the case portion 3. The bottom 5b has the same configuration as that of the semiconductor laser module 1b.
棚部33は、ケース部3の内面であって、孔27の近傍(孔27の下部)に配置される。半導体レーザモジュール1dでは、棚部33に傾斜部37が形成される。傾斜部37は、下方に向かってケース部3の側面からの突出代が大きくなるように形成される。傾斜部37の傾斜角度は、水平面(底部表面)を基準として約60°に形成される。また、本実施の形態では、棚部33は、ケース部3の内側に形成される。 The shelf portion 33 is disposed on the inner surface of the case portion 3 and in the vicinity of the hole 27 (lower portion of the hole 27). In the semiconductor laser module 1d, an inclined portion 37 is formed on the shelf portion 33. The inclined portion 37 is formed so that the protrusion margin from the side surface of the case portion 3 increases downward. The inclination angle of the inclined portion 37 is formed at about 60 ° with respect to the horizontal plane (bottom surface). In the present embodiment, the shelf portion 33 is formed inside the case portion 3.
ケース部3の内面側の棚部33上には、半田固定用のランド35が形成される。ランド35には、光電部品7と導通する導線25の端部が半田付けされ、半田固定部11と導通する。したがって、端子9は、光電部品7と導通する。
On the shelf portion 33 on the inner surface side of the case portion 3, a solder fixing land 35 is formed. The land 35 is soldered at the end of the conductive wire 25 that is electrically connected to the
ケース部3の内面側の樹脂露出部15は、半田固定部11およびランド35の外周に形成され、ケース部3の外面側の樹脂露出部15は、半田固定部11の外周に形成される。また、ケース部3の内外面における半田固定部11および樹脂露出部15は、傾斜部37上に形成される。したがって、半田固定部11およびランド35は、金属めっき4とは、樹脂露出部15によって絶縁される。また、図示を省略した被覆膜29は、傾斜部37上に配置される。 The resin exposed portion 15 on the inner surface side of the case portion 3 is formed on the outer periphery of the solder fixing portion 11 and the land 35, and the resin exposed portion 15 on the outer surface side of the case portion 3 is formed on the outer periphery of the solder fixing portion 11. The solder fixing portion 11 and the resin exposed portion 15 on the inner and outer surfaces of the case portion 3 are formed on the inclined portion 37. Therefore, the solder fixing portion 11 and the land 35 are insulated from the metal plating 4 by the resin exposed portion 15. The coating film 29 (not shown) is disposed on the inclined portion 37.
第5の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール1dによれば、半導体レーザモジュール1等と同様の効果を得ることができる。また、棚部33に傾斜部37が形成されるため、半田固定部11や樹脂露出部15の形成が容易である。 According to the semiconductor laser module 1d according to the fifth embodiment, the same effects as those of the semiconductor laser module 1 and the like can be obtained. In addition, since the inclined portion 37 is formed on the shelf portion 33, the solder fixing portion 11 and the resin exposed portion 15 can be easily formed.
例えば、プリント回路基板の製造方法と同様にエッチング処理にて金属層をパターン化する場合には、その露光方向やケース部3の方向を変えることなく上方からのみで行うことができる。また、全面にめっき処理を施した後にレーザにより金属層を除去する場合には、レーザ照射方向やケース部3の方向を変えることなく一括で光を照射することができる。したがってケース部3への半田固定部11や樹脂露出部15の形成が容易となりより製造性に優れる。 For example, when the metal layer is patterned by etching as in the printed circuit board manufacturing method, it can be performed only from above without changing the exposure direction or the direction of the case portion 3. Further, when the metal layer is removed by laser after the entire surface is plated, light can be irradiated in a lump without changing the laser irradiation direction or the direction of the case portion 3. Therefore, it is easy to form the solder fixing portion 11 and the resin exposed portion 15 on the case portion 3, and the manufacturing efficiency is further improved.
次に、第6の実施の形態について説明する。図11は、半導体レーザモジュール40を示す斜視図であり、図12は、半導体レーザモジュール40の正面断面図である。なお、図12では、光電部品7の図示を省略する。半導体レーザモジュール40は、同軸型の半導体レーザモジュールである。なお、半導体レーザモジュール40では、ケース部41の上面に図示を省略した筒状の蓋部が固定され、内部の光電部品7が密閉される。
Next, a sixth embodiment will be described. FIG. 11 is a perspective view showing the semiconductor laser module 40, and FIG. 12 is a front sectional view of the semiconductor laser module 40. In FIG. 12, the illustration of the
ケース部41は略リング状であり、内周側に底部43が固定される。ケース部41と底部43との接合方法は、前述した実施形態と同様である。底部43上には、光電部品7が固定される。なお、ケース部41は樹脂製であり、底部43は、例えば銅タングステン合金、銅モリブデン合金で構成される。
The
ケース部41の表面は、樹脂露出部15を除き金属めっき4で被覆される。また、図12に示すように、ケース部41には、孔27が形成される。孔27には、端子9が挿通される。孔27の周囲には、半田固定部11が形成される。また、半田固定部11の外周部には、樹脂露出部15が形成される。端子9は、半田によって半田固定部11に接合される。さらに、樹脂露出部15を覆うように、ケース部3の内外面に図示を省略した被覆膜29が設けられる。なお、被覆膜29は、底部43とケース部3との接合部にさらに設けても良い。
The surface of the
第6の実施の形態にかかる半導体レーザモジュール40によれば、半導体レーザモジュール1等と同様の効果を得ることができる。このように、本発明は、同軸型の半導体レーザモジュールに対しても適用が可能である。 According to the semiconductor laser module 40 according to the sixth embodiment, the same effects as those of the semiconductor laser module 1 and the like can be obtained. Thus, the present invention can also be applied to a coaxial type semiconductor laser module.
次にさらに他の実施形態について説明する。前述した実施形態では、被覆膜29の厚みについての詳細な説明を省略したが、被覆膜29の厚みは最適な範囲で設定することが望ましい。図13は端子9近傍の密閉工程を示す図で、図4に対応する図である。 Next, still another embodiment will be described. In the embodiment described above, a detailed description of the thickness of the coating film 29 is omitted, but it is desirable to set the thickness of the coating film 29 within an optimal range. FIG. 13 is a diagram showing a sealing process in the vicinity of the terminal 9 and corresponds to FIG.
前述したように、まず、図13(a)に示すように、孔27に端子9が挿入される。次に、図13(b)に示すように、端子9が半田13によって半田固定部11に固定される。端子9を固定した後、図13(c)に示すように、樹脂露出部15および半田13を覆うように、被覆膜29aが設けられる。なお、被覆膜29aは、ケース部3の各露出部の塗布面が統一できれば、内外面の何れかに形成されれば良く、内外面の両面に形成されれば更に良い。
As described above, first, the terminal 9 is inserted into the
被覆膜29aは、絶縁性を有し、水分等が浸透しない無機高分子材料である。このような無機高分子材料としてはポリシラザンに由来する無機高分子材料が望ましい。この材料はポリシラザンを含む液で被覆膜29aを形成することで、被覆膜29aをセラミックス化処理して実質的にSiO2からなるセラミックス膜を形成することができる。したがって、被覆膜29aによって、ケース部3の密閉後にケース部3内部への水分の浸入を防止して気密性を保つことができる。また、ケース部3の内側に形成することで、ケース部3を構成する樹脂中の不純物が、光電部品7(例えばLD素子)の動作を阻害することを防止することができる。 The coating film 29a is an inorganic polymer material that has insulating properties and does not allow moisture or the like to permeate. As such an inorganic polymer material, an inorganic polymer material derived from polysilazane is desirable. By forming the coating film 29a with a liquid containing polysilazane, the material can be formed into a ceramic film substantially made of SiO 2 by converting the coating film 29a into a ceramic. Therefore, the coating film 29a can prevent moisture from entering the inside of the case part 3 after the case part 3 is sealed and maintain airtightness. Moreover, by forming inside the case part 3, it can prevent that the impurity in resin which comprises the case part 3 inhibits the operation | movement of the photoelectric component 7 (for example, LD element).
本発明で用いるポリシラザンは、分子内に少なくともSi−H 結合又はN−H結合を有するポリシラザンであればよい。ポリシラザンには、鎖状、環状又は架橋構造を有するもの、あるいは分子内にこれら複数の構造を同時に有するものがあり、これら単独でも、あるいは混合物でも利用できる。用いられるポリシラザンとしては特に限定されるものではない。得られる膜の硬度や緻密性の点からはペルヒドロポリシラザンが好ましく、可撓性の点ではオルガノポリシラザンが好ましい。 The polysilazane used in the present invention may be a polysilazane having at least a Si—H bond or an N—H bond in the molecule. Polysilazanes include those having a chain, cyclic or cross-linked structure, or those having a plurality of these structures in the molecule at the same time, and these can be used alone or in a mixture. The polysilazane used is not particularly limited. Perhydropolysilazane is preferable from the viewpoint of hardness and denseness of the obtained film, and organopolysilazane is preferable from the viewpoint of flexibility.
図14(a)は、図13のB部拡大図である。本発明では、被覆膜29aが薄すぎると、ピンホール等の発生により、水分等がケース内部に進入する恐れがある。したがって、被覆膜29aの総厚は、1μm以上であることが望ましい。このようにすることで、ピンホールの発生等を抑制することができる。 FIG. 14A is an enlarged view of part B in FIG. In the present invention, if the coating film 29a is too thin, moisture or the like may enter the case due to the occurrence of pinholes or the like. Accordingly, the total thickness of the coating film 29a is desirably 1 μm or more. By doing in this way, generation | occurrence | production of a pinhole etc. can be suppressed.
また、図14(b)に示す様に、被覆膜を2層構造としても良い。この場合、第1の被覆層である被覆膜29bにはポリシラザン下地となる成形樹脂(樹脂露出部15)や金属めっき4、端子9、及び半田13との密着性を高めるためにシランカップリング剤を配合しても良い。第2の被覆層である被覆膜29cにはポリシラザンに無機層状化合物を配合することでヘリウムガスの透過を迂回させることができる。 Further, as shown in FIG. 14B, the coating film may have a two-layer structure. In this case, a silane coupling is applied to the coating film 29b as the first coating layer in order to improve the adhesion with the molding resin (resin exposed portion 15), the metal plating 4, the terminal 9, and the solder 13 which is a polysilazane base. An agent may be blended. The coating film 29c, which is the second coating layer, can bypass the transmission of helium gas by blending an inorganic layered compound with polysilazane.
なお、通常、被覆膜が厚すぎると、被覆膜の割れが生じる恐れがある。しかし、無機層状化合物を配合することで、被覆膜の割れを防止することができる。したがって、無機層状化合物を配合することで、被覆膜29b、29cの総厚を厚膜化することができ、高い水密性・気密性を確保することができる。なお、無機層状化合物を配合した場合であっても、被覆膜の厚み(総厚)は10μm以下であることが望ましい。このようにすることで、確実に割れの発生を抑制することができる。 Usually, if the coating film is too thick, the coating film may be cracked. However, cracking of the coating film can be prevented by blending the inorganic layered compound. Therefore, by blending the inorganic layered compound, the total thickness of the coating films 29b and 29c can be increased, and high watertightness and airtightness can be ensured. In addition, even if it is a case where an inorganic layered compound is mix | blended, it is desirable that the thickness (total thickness) of a coating film is 10 micrometers or less. By doing in this way, generation | occurrence | production of a crack can be suppressed reliably.
本発発明で用いる無機層状化合物はモンモリロナイト、バイデライト、サポナイト、ヘクトライト、ソーコナイト、チーブンサイト、等のスメクタイトであり、特に好ましくはモンモリロナイトを主成分とする粘土鉱物であることが望ましい。 The inorganic layered compound used in the present invention is smectite such as montmorillonite, beidellite, saponite, hectorite, soconite, and chivensite, and particularly preferably a clay mineral mainly composed of montmorillonite.
モンモリロナイトは自身の陽イオン交換性を利用して層間に界面活性剤などの有機化剤を入れ込み、有機溶媒への分散を可能にした有機化ベントナイトである。このため、ポリシラザンを主成分とするシリカコーティング液中に、大きさ0.1μmから1μmで厚さ1nmの薄い板でナノ分散させることができる極めて好適な材料である。この有機化ベントナイトを予めキシレン、ジブチルエーテルなどの有機溶剤中に3%から5%の濃度で分散させ、所望の配合部数となるようにシリカコーティング液中に配合し撹拌し、有機化ベントナイト配合シリカコーティング液を作ることができる。 Montmorillonite is an organic bentonite that can be dispersed in an organic solvent by introducing an organic agent such as a surfactant between layers using its cation exchange property. Therefore, it is a very suitable material that can be nano-dispersed in a thin plate having a size of 0.1 μm to 1 μm and a thickness of 1 nm in a silica coating solution containing polysilazane as a main component. This organic bentonite is dispersed in advance in an organic solvent such as xylene and dibutyl ether at a concentration of 3% to 5%, mixed in the silica coating solution so as to have the desired number of parts, and stirred, and the organic bentonite mixed silica A coating solution can be made.
無機層状化合物は、無機高分子材料100質量部に対して、10〜40質量部配合されることが望ましい。10質量部未満では、十分なガス透過時の迂回効果や割れ防止の効果を得ることができない。また、40質量部を超えると、無機層状化合物が多くなりすぎるため、無機高分子材料中に分散させることが困難となる。 The inorganic layered compound is desirably blended in an amount of 10 to 40 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the inorganic polymer material. If it is less than 10 parts by mass, it is not possible to obtain a sufficient detouring effect at the time of gas permeation and an effect of preventing cracking. Moreover, when it exceeds 40 mass parts, since an inorganic layered compound will increase too much, it will become difficult to disperse | distribute in an inorganic polymer material.
また、図15に示す様に、被覆膜を3層構造としても良い。この場合、第1の被覆層である被覆膜29dにはポリシラザン下地となる成形樹脂(樹脂露出部15)や金属めっき4、端子9、及び半田13との密着性を高めるためにシランカップリング剤を配合しても良い。第2の被覆層(中間層)である被覆膜29eにはポリシラザンに無機層状化合物を配合することでヘリウムガスの透過を迂回させることができるだけでなく被覆膜の総厚を厚くすることができる。また、第3の被覆層である被覆膜29fの塗膜を形成することにより、第2の被覆膜29eのピンホール等の欠陥を修復することができる。このように、被覆膜は複層構造とすることもできる。 Further, as shown in FIG. 15, the coating film may have a three-layer structure. In this case, a silane coupling is applied to the coating film 29d as the first coating layer in order to improve the adhesion between the molding resin (resin exposed portion 15), the metal plating 4, the terminal 9, and the solder 13 serving as a polysilazane base. An agent may be blended. The coating film 29e, which is the second coating layer (intermediate layer), can not only bypass permeation of helium gas by blending an inorganic layered compound with polysilazane, but also increase the total thickness of the coating film. it can. Moreover, defects such as pinholes in the second coating film 29e can be repaired by forming a coating film of the coating film 29f that is the third coating layer. Thus, the coating film can also have a multilayer structure.
被覆膜の態様を変化させて、表面硬度、ヘリウムガスリーク性、割れの有無、被覆膜の密着性について評価した。 The aspect of the coating film was changed, and the surface hardness, helium gas leak property, presence of cracks, and adhesion of the coating film were evaluated.
(実施例1)
図14(a)に示したように1層構造の被覆膜とした。被覆膜は、ケース部の外面の樹脂露出部に形成した。被覆膜は、同一の被覆層を二度塗りした。まず、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布した。更にその上に同じペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布した。すなわち、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物の被覆膜を二度塗りすることで、厚膜化した。
Example 1
As shown in FIG. 14A, a coating film having a single layer structure was formed. The coating film was formed on the resin exposed portion on the outer surface of the case portion. As the coating film, the same coating layer was applied twice. First, a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component was applied. Furthermore, the polysilazane compound which has the same perhydropolysilazane as a main component was apply | coated on it. That is, the coating film of a polysilazane compound mainly composed of perhydropolysilazane was applied twice to increase the film thickness.
(実施例2)
図14(b)に示したように2層構造の被覆膜とした。被覆膜は、ケース部の外面の樹脂露出部に形成した。まず、第1の被覆層として、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対し無機層状化合物であるモンモリロナイト40質量部を配合した被覆膜を設けた。更にその上に第2の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物による被覆膜を設けた。
(Example 2)
As shown in FIG. 14B, a two-layer coating film was formed. The coating film was formed on the resin exposed portion on the outer surface of the case portion. First, as the first coating layer, a coating film was provided in which 40 parts by mass of montmorillonite, which is an inorganic layered compound, was added to 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component. Further thereon, a coating film made of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component was provided as a second coating layer.
(実施例3)
図15に示したように3層構造の被覆膜とした。被覆膜は、ケース部の外面の樹脂露出部に形成した。まず、第1の被覆層として、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を設けた、更にその上に第2の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対しモンモリロナイト10質量部を配合した被覆膜を設けた。更にその上に第3の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物による被覆膜を設けた。
(Example 3)
As shown in FIG. 15, it was set as the coating film of 3 layer structure. The coating film was formed on the resin exposed portion on the outer surface of the case portion. First, a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component was provided as a first coating layer, and montmorillonite 10 was added to 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a second coating layer. A coating film blended with parts by mass was provided. Further thereon, a coating film made of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component was provided as a third coating layer.
(実施例4)
第2の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対しモンモリロナイト40質量部を配合した以外は実施例3と同じとした。
Example 4
Example 2 was the same as Example 3 except that 40 parts by mass of montmorillonite was added to 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component as the second coating layer.
(比較例1)
図14(a)に示したように1層構造の被覆膜とした。被覆膜は、ケース部の両面の樹脂露出部に形成した。被覆膜は、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布して形成した。
(Comparative Example 1)
As shown in FIG. 14A, a coating film having a single layer structure was formed. The coating film was formed on the resin exposed portions on both sides of the case portion. The coating film was formed by applying a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component.
(比較例2)
図14(a)に示したように1層構造の被覆膜とした。被覆膜は、ケース部の外面の樹脂露出部に形成した。被覆膜は、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対しモンモリロナイト40質量部を配合して設けた。
(Comparative Example 2)
As shown in FIG. 14A, a coating film having a single layer structure was formed. The coating film was formed on the resin exposed portion on the outer surface of the case portion. The coating film was provided by blending 40 parts by mass of montmorillonite with 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component.
(比較例3)
図14(a)に示したように1層構造の被覆膜とした。被覆膜は、同一の被覆層を三度塗りした。まず、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布した。また、その上に同じペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布した。更にその上に同じペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物を塗布した。すなわち、ペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物の被覆膜を三度塗りすることで、厚膜化した。
(Comparative Example 3)
As shown in FIG. 14A, a coating film having a single layer structure was formed. As the coating film, the same coating layer was applied three times. First, a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component was applied. Moreover, the polysilazane compound which has the same perhydropolysilazane as a main component was apply | coated on it. Furthermore, the polysilazane compound which has the same perhydropolysilazane as a main component was apply | coated on it. That is, the coating film of a polysilazane compound mainly composed of perhydropolysilazane was applied three times to increase the thickness.
(比較例4)
第2の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対しモンモリロナイト5質量部を配合した以外は実施例3と同じとした。
(Comparative Example 4)
Example 2 was the same as Example 3 except that 5 parts by mass of montmorillonite was added to 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component as the second coating layer.
(比較例5)
第2の被覆層としてペルヒドロポリシラザンを主成分とするポリシラザン化合物100質量部に対しモンモリロナイト45質量部を配合した以外は実施例3と同じとした。
結果を表1に示す。
(Comparative Example 5)
Example 2 was the same as Example 3 except that 45 parts by mass of montmorillonite was added to 100 parts by mass of a polysilazane compound containing perhydropolysilazane as a main component as the second coating layer.
The results are shown in Table 1.
なお、被覆膜厚は、被覆膜が複数層で構成される場合であっても、その総厚とした。また、ケースの内外面に形成した場合には、その一方の被覆膜の厚さとした。表面硬度は、JIS K 5600に定める塗料一般試験方法の鉛筆硬度試験による硬度である。ヘリウムガスリーク性は、JIS Z2331に定めるヘリウムリーク試験により測定した。被覆膜の割れは、割れの有無を目視で確認した。被覆膜の密着性は、被覆膜の剥がれを目視で確認した。 The coating film thickness was the total thickness even when the coating film was composed of a plurality of layers. Moreover, when it formed in the inner and outer surface of a case, it was set as the thickness of the one coating film. The surface hardness is a hardness according to a pencil hardness test of a paint general test method defined in JIS K 5600. The helium gas leak property was measured by a helium leak test defined in JIS Z2331. The crack of the coating film was visually confirmed for the presence or absence of the crack. The adhesion of the coating film was confirmed by visual observation of the peeling of the coating film.
実施例1〜4および比較例1〜5のいずれも、被覆膜の密着性は良好であった。また、実施例1〜4は、被覆膜厚が1μm以上であって、ヘリウムリーク量が1×10−9[Pa/m3/sec]以下となった。また、被覆膜の割れも見られなかった。また、表面硬度も9Hであり、十分であった。特に、2層構造以上として、無機層状化合物であるモンモリロナイトを添加することで、ヘリウムリーク量がより低いものとなった。 In each of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 5, the adhesion of the coating film was good. In Examples 1 to 4, the coating film thickness was 1 μm or more, and the helium leak amount was 1 × 10 −9 [Pa / m 3 / sec] or less. Moreover, the crack of the coating film was not seen. The surface hardness was 9H, which was sufficient. In particular, by adding montmorillonite, which is an inorganic layered compound, to a two-layer structure or more, the amount of helium leak is lower.
一方、比較例1、2は、被覆膜の厚みが1μm未満であるため、ヘリウムリーク量が1×10−9[Pa/m3/sec]を超えた。また、比較例3は、無機層状化合物を添加せずに、被覆膜を厚くしたため、被覆膜に割れが生じた。比較例4は、無機層状化合物の添加量が5質量部と少なかったため、比較例3と同様に、割れが生じた。比較例5は、無機層状化合物の添加量が45質量部と多すぎるため、表面硬度が低下した。 On the other hand, in Comparative Examples 1 and 2, since the thickness of the coating film was less than 1 μm, the amount of helium leak exceeded 1 × 10 −9 [Pa / m 3 / sec]. In Comparative Example 3, since the coating film was thickened without adding the inorganic layered compound, the coating film was cracked. In Comparative Example 4, since the amount of the inorganic layered compound added was as small as 5 parts by mass, cracking occurred as in Comparative Example 3. In Comparative Example 5, the surface hardness was lowered because the amount of the inorganic layered compound added was too large at 45 parts by mass.
このように、被覆膜の厚みを適正化することで、確実にヘリウムリーク量を低減することができる。特に、覆膜の厚みが1μmから3μm程度の極めて薄い構成であっても、中間層のシリカ中にナノコンポジットされたモンモリロナイトによりガスの迂回効果とシリカの補強効果を得ることができる。したがって、被覆膜を厚くしても割れずに、樹脂露出部が鉛筆硬度9H以上の被覆膜により保護される。その被覆膜により、半導体レーザモジュール製品がJIS Z2331に定めるヘリウムリーク試験に於けるヘリウムリーク量が1×10−9[Pa/m3/sec]以下となり、所望のガスバリア性を確保することができる。 Thus, the amount of helium leak can be reliably reduced by optimizing the thickness of the coating film. In particular, even when the covering film has a very thin structure of about 1 μm to 3 μm, the gas bypass effect and the silica reinforcing effect can be obtained by montmorillonite nanocomposited in the silica of the intermediate layer. Therefore, even if the coating film is thickened, the resin exposed portion is protected by the coating film having a pencil hardness of 9H or more without cracking. With this coating film, the amount of helium leak in the helium leak test defined in JIS Z2331 by the semiconductor laser module product is 1 × 10 −9 [Pa / m 3 / sec] or less, and a desired gas barrier property can be secured. it can.
以上、添付図を参照しながら、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の技術的範囲は、前述した実施の形態に左右されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although embodiment of this invention was described referring an accompanying drawing, the technical scope of this invention is not influenced by embodiment mentioned above. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims, and these are naturally within the technical scope of the present invention. It is understood that it belongs.
例えば、各実施の形態で説明した各構成同士は、互いに組み合わせることが可能であることは言うまでもない。 For example, it goes without saying that the configurations described in the embodiments can be combined with each other.
1、1a、1b、1c、1d、40………半導体レーザモジュール
3、41………ケース部
5、5a、5b、43………底部
7………光電部品
9………端子
11………半田固定部
13………半田
15………樹脂露出部
17………ファイバパイプ
19………蓋嵌合部
21………光ファイバ
23………蓋部
25………導線
27………孔
29、29a、29b、29c、29d、29e、29f………被覆膜
31………底嵌合部
33………棚部
35………ランド
37………傾斜部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1a, 1b, 1c, 1d, 40 .........
Claims (13)
ケース部と、前記ケース部の上部に配置される蓋部と、前記ケース部の内部に配置される光電部品と、前記光電部品と導通し、前記ケース部の外部に導出される端子と、
を具備し、
前記ケース部は樹脂で形成され、前記ケース部の前記端子の導出部には、孔が形成され、前記孔の周囲には、前記端子と半田付けされる半田固定部と、前記半田固定部の周囲に形成される樹脂露出部とが形成され、
前記ケース部の表面には、少なくとも前記樹脂露出部を除き、金属めっきが施され、前記端子が前記半田固定部に接合された状態で前記樹脂露出部が無機高分子材料によって被覆される被覆膜が形成されることを特徴とする半導体レーザモジュール。 A semiconductor laser module containing photoelectric components therein,
A case portion, a lid portion disposed on the upper portion of the case portion, a photoelectric component disposed inside the case portion, a terminal electrically connected to the photoelectric component, and led out of the case portion;
Comprising
The case portion is formed of a resin, a hole is formed in the lead-out portion of the terminal of the case portion, a solder fixing portion soldered to the terminal around the hole, and a solder fixing portion A resin exposed portion formed around,
The surface of the case portion is coated with an inorganic polymer material in a state in which at least the resin exposed portion is removed and metal plating is performed and the terminal is joined to the solder fixing portion. A semiconductor laser module having a film formed thereon.
The surface on which the solder fixing portion and the resin exposed portion are formed is formed obliquely with respect to the side surface of the case portion. Semiconductor laser module.
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2013
- 2013-02-15 JP JP2013027346A patent/JP2013225658A/en active Pending
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