JP2013006779A - ピラゾール化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】効率がよく、かつ異性体の生成量の少ない１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルの製造方法の提供。
【解決手段】下記の２工程を含む一般式（５）で表されるピラゾール化合物の製造方法。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^５は、アルキル基またはアリール基を表し、Ｘは、ハロゲン原子を表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、医農薬中間体として有用なピラゾール化合物の製造方法に関する。

１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルの製造方法としては、アルコキシ基を脱離基とする２−アルコキシメチレンアシル酢酸エステルとヒドラジン類との反応による多数の方法が知られており（例えば、特許文献１、２、３）、特許文献３には、２−エトキシメチレン−４，４−ジフルオロアセト酢酸エチルとメチルヒドラジン水溶液から３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルと５−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルの異性体混合物の得られることが記載されている。

これに対し、アミノ基を脱離基とする反応も提案され、特許文献４は、２−ペルハロアシル−３−アミノアクリル酸誘導体がヒドラジン類と反応して３−ペルハロ−置換ピラゾール類を与えることを開示している。また、特許文献５は、２−（ジフルオロアセチル）−３−（ジメチルアミノ）アクリル酸エチルとメチルヒドラジンから３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルとその異性体（５−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチル）との８９．２：１０．８の比の混合物が得られることを開示している。

特開２０００−１２８７６３号公報 特開２０００−２１２１６６号公報 国際公開第０６／０９０７７８号パンフレット 特表２００５−５１１７８２号公報 特表２００７−５０９８５０号公報

ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料とするアシル化および環化の二段階の反応による１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルの製造方法であって、効率がよく、かつ異性体（１，５−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル）の生成量の少ない製造方法を提供する。

アミノ基を脱離基とする１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル（目的生成物、１，３−異性体）の製造方法にかかる反応は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料として次の二段階のスキームで示すことができる。

ここで、第一工程（アシル化工程）のアシル化反応では、トリメシン酸エステルの生成を抑制するためにトリエチルアミン等の有機塩基が加えられることが多いが、トリエチルアミン等の塩基はアシル化反応で副生する酸との間で有機塩基・ハロゲン化水素塩（以下、「塩」ということがある。）を形成する。

本発明者らは、塩が環化反応に及ぼす影響について検討したところ、塩が存在した場合、１，５−異性体（１，５−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル）の生成が増大すること、および、アシル化工程で得られた反応液から塩を水洗浄、乾燥等の精製手段で除去することにより１，５−異性体の比率を減少させることができることを見出した。しかしながら、これらの精製手段は同時にアシル化反応生成物の収率を低下させ、その結果として目的生成物の収率も低下させることとなった。

ところが、アシル化工程で得られた反応液から塩を除去することなく、その反応液に水酸化カリウムなどの無機塩基を添加して第二工程（環化工程）の環化反応を行うことで、収率がよく、かつ、１，５−異性体の含有量の少ない１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルが得られることを見出し、本発明に至った。

本発明は、次の通りである。

［発明１］
下記の２工程を含む一般式（５）で表されるピラゾール化合物の製造方法。

第一工程：一般式（２）で表されるカルボン酸ハライドと一般式（３）で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを有機塩基の存在下で反応させて一般式（１）で表される２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルを含む反応器内容物を得る工程。

第二工程：第一工程で得られた反応器内容物、無機塩基および一般式（４）で表される置換ヒドラジンを混合して一般式（５）で表されるピラゾール化合物を合成する工程。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^５はアルキル基またはアリール基を表し、Xはハロゲン原子を表す。）
［発明２］
第二工程が、第一工程で得られた反応器内容物および塩基を含む組成物と、置換ヒドラジンを含む組成物とを混合して一般式（５）で表されるピラゾール化合物を合成する工程である発明１のピラゾール化合物の製造方法。

［発明３］
第一工程で用いる有機塩基が第三アミンであり、かつ、第二工程で用いる無機塩基が水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムである発明１または２のピラゾール化合物の製造方法。

［発明４］
一般式（２）で表されるカルボン酸ハライドがジフルオロ酢酸フルオライドである１〜３の何れかのピラゾール化合物の製造方法。

本発明の製造方法は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルを出発原料として、効率がよく、かつ１，５−異性体（１，５−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル）の含有量の少ない１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルを製造することができる。

本明細書において、１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル等の１，３−位に置換基を有するピラゾール化合物をそれに対応する１，５−位に置換基を有するピラゾール化合物から区別するために１，３−異性体と称し、同様に、１，５−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル等を１，５−異性体と称し、これらの表示は特定のピラゾール化合物を意味するものではない。

本明細書において、アルキル基は、直鎖状、分岐状および環状のアルキル基を包含するものとする。アルキル基またはアリール基というときは、それぞれは置換基を有してもよい。

＜アシル化工程 ２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造＞
一般式（１）

で表される２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルは、一般式（２）

で表されるカルボン酸ハライドと一般式（３）

で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを反応させることで製造できる。

一般式（１）〜（３）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は、それぞれ独立にアルキル基を表す。ここで、アルキル基としては、炭素数１〜１０のアルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基がより好ましい。各水素原子はハロゲン原子で置換していてもよい。ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられ、フッ素または塩素が好ましい。アルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、および、それらの任意の水素原子がハロゲン原子で置換したものが挙げられる。Ｒ^１としては、炭素数１〜４のハロゲン化アルキルが好ましく、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、クロロアルキル基またはクロロフルオロアルキル基がより好ましい。具体的には、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、モノフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、トリクロロメチル基、ジクロロメチル基、モノクロロメチル基、ペンタクロロエチル基、２，２，２−トリクロロエチル基、２，２−ジクロロエチル基、１，１，２，２−テトラクロロエチル基、クロロジフルオロメチル基、ジクロロフルオロメチル基などを挙げることができる。これらのうち、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、ジクロロメチル基などがさらに好ましい。Ｒ^２、Ｒ^３は、脱離基−ＮＲ^２Ｒ^３として機能するので、特に限定されることはなく、ハロゲン置換しないものでもよく、前記アルキル基のうち、メチル基またはエチル基が好ましく、Ｒ^２、Ｒ^３が共にメチル基であるものが特に好ましい。Ｒ^４はピラゾール化合物を反応試剤として用いる反応の目的に応じて選択するべきであるが、生成したピラゾール化合物中のＲ^４を脱保護してカルボン酸に誘導する場合は、脱離基として機能するので特に限定されず、前記アルキル基のうち、エチル基またはイソプロピル基などが好ましい。

一般式（２）におけるＸはハロゲン原子を表し、ハロゲンはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素である。カルボン酸ハライドの製法としては、公知の方法を採用すればよく、例えば、対応するカルボン酸を塩化チオニルなどの塩素化剤で塩素化する方法またはハロゲン化炭化水素を酸化してカルボン酸クロライドとする方法や、１−アルコキシ−１，１，２，２−テトラフルオロエタンを、触媒の存在下に熱分解してジフルオロ酢酸フルオライドを製造する方法（特開平８−２０５６０公報）などが挙げられる。

２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造は非水溶性溶媒中で行われる。この溶媒としては、脂肪族または芳香族の炭化水素が挙げられる。例えば石油エーテル、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリン、およびハロゲン化された炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタンまたはトリクロロエタンなどが例示できる。トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ｎ−ヘキサンまたはシクロヘキサンの使用が好ましく、トルエンまたはキシレンがより好ましい。これらの溶媒は混合して使用することができる。

２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造は通常は塩基の存在下で行われる。塩基の添加で、発生するＨＦ、ＨＣｌなどのハロゲン化水素を捕捉してトリメシン酸エステルの副生を防ぐことができる。塩基は、第三アミン（三級アミン）、ピリジンまたはピリジン誘導体（併せて、「ピリジン類」ということがある。）などが挙げられる。ピリジンまたはピリジン誘導体などの塩基としては、ピリジン、２−、３−もしくは４−メチルピリジン、２−メチル−５−エチル−ピリジン、４−エチル−２−メチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、２，４，６−コリジン、２−もしくは４−ｎ−プロピルピリジン、２，６−ジメチルピリジン（ルチジン）、４−ジメチルアミノピリジン、キノリンまたはキナルジンなどが挙げられ、ピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、２，４，６−コリジン、キノリンまたはキナルジンなどが好ましい。これらのうちピリジンはより好ましい。第三アミンとしては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−イソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−イソブチルアミン、トリ−ｓｅｃ−ブチルアミン、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、トリ−ｎ−アミルアミン、トリ−イソアミルアミン、トリ−ｓｅｃ−アミルアミン、トリ−ｔｅｒｔ−アミルアミンなどの対称第三アミン、Ｎ−メチルジ−ｎ−ブチルアミン、Ｎ−メチルジイソブチルアミン、Ｎ−メチルジ−ｔｅｒｔ−ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−オクチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルノニルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルウンデシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルドデシルアミン、Ｎ−メチルジヘキシルアミンなどの非対称第三アミンなどが挙げられる。沸点、水溶性、入手性の点で対称アミンが好ましく、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−イソプロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミンがより好ましく、トリエチルアミンがさらに好ましい。この製造に使用する塩基としては、ピリジンまたはトリエチルアミンが特に好ましい。

２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造は、温度−２０℃〜＋５０℃で行い、好ましくは−１０℃〜＋４５℃で行い、さらに好ましくは０〜４０℃で行う。反応圧力は反応に影響は及ぼさないので特に制限されないが、０．１〜１０ＭＰａ程度の加圧下で行ってもよく、通常、大気圧〜１ＭＰａ程度で行えばよい。反応時間は反応温度や反応試剤の比率に依存するが、通常１０分〜１０時間程度であり、反応を追跡しながら基質の減少または消失を目安に決定する。

２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造では、カルボン酸ハライド１モルに対してジアルキルアミノアクリル酸エステルを０．５モル〜３モル、好ましくは０．５モル〜１．５モル、より好ましくは０．９モル〜１．１モルとする。塩基は通常、カルボン酸ハライド１モルに対し等モル量程度でよいが、０．５〜５モルであり、０．８〜２モルが好ましく、０．９〜１．５モルがより好ましい。

２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの製造は、ジアルキルアミノアクリル酸エステルと塩基を溶媒に溶解して反応温度上限以下の温度に保持しながら、そこへカルボン酸ハライドを吹き込むことで行えるが、スクラバー形式とすることもできる。塩基は反応の経過に伴って連続的または逐次的に添加することもできる。

このようにして得られた２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルを含む反応液は、トリメシン酸エステルの生成を抑制するために有機塩基を添加してある場合には有機塩基・ハロゲン化水素塩が含まれているが、この塩を含む２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルを次工程の環化反応に用いた場合、好ましくない１，５−異性体の副生が促進される。そのため、水洗浄によりハロゲン化水素を除去して環化工程に供することもできる。しかしながら、２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルの水への溶解性が高いため、水洗浄は回収率が低く、望ましい手段ではない。本発明においては、この塩を除去することなく次工程に供することができる。

＜環化工程 ピラゾール化合物の製造＞
第二工程は、一般式（１）

で表される２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルと一般式（４）

で表されるヒドラジン類を塩基の存在下で反応させて一般式（５）

で表されるピラゾール化合物を製造する環化工程である。

一般式（１）および一般式（５）におけるＲ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は、前記の意味と同じであるので説明を繰り返さない。

一般式（４）及び一般式（５）におけるＲ^５は、アルキル基またはアリール基を表し、これらは置換基を有してもよい。好ましくは、Ｒ^５は、炭素数１〜１０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基またはアルコキシアルキル基またはアリール基であって、アルキル基およびアルコキシ基の任意の数の水素原子はハロゲン原子で置換されていてもよく、アルコキシ基の酸素原子は硫黄原子で置換されていてもよい。ハロゲンは、フッ素、塩素または臭素である。

具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基またはフェニル基が挙げられ、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｎ−プロピル基またはｔｅｒｔ−ブチル基が好ましく、メチル基がより好ましい。

一般式（４）で表されるヒドラジン類は、具体的にはメチルヒドラジン、エチルヒドラジンなどが好ましい。ヒドラジン類は、無水のものでもよいが水溶液のものが入手が容易で取り扱いやすく好ましい。

本発明のピラゾール化合物への環化反応は、塩基の存在下で行う。塩基としては、水溶性の無機塩基である。無機塩基としては、アルカリ土類金属またはアルカリ金属の水酸化物、炭酸塩または炭酸水素塩がより好ましい。アルカリ金属の水酸化物が特に好ましい。塩基として具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、水酸化カルシウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムまたは炭酸水素ナトリウムなどが挙げられる。これらのうち、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムまたは水酸化リチウムが好ましく、水酸化カリウムは水性溶媒に対する溶解度が高く反応、精製等での操作性に優れるのでさらに好ましい。使用する塩基は、特に高純度品は要求されず、通常の工業用薬品、試薬等の汎用グレードのものが経済的で好ましい。

環化反応での塩基の添加量は、２−アシル−３−アミノアクリル酸エステル１モルに対して、１．１〜３モルであり、１．２〜２モルが好ましく、１．３〜１．５モルがより好ましい。１．１モルよりも添加量が少ない場合は、１，５−異性体の抑制効果が低く、３モルよりも多い場合は、原料または生成物が加水分解して目的生成物の収量が低下することがある。

本発明のピラゾール化合物への環化反応は、溶媒の存在下に行うことが好ましい。具体的には、水、脂肪族、脂環式または芳香族の炭化水素、例えば石油エーテル、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンまたはデカリンなど、およびハロゲン化された炭化水素、例えばクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラクロロメタン、ジクロロエタンまたはトリクロロエタンなど、エーテル類、例えばジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、メチルｔｅｒｔ−アミルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタンまたはアニソールなど、アルコール類、例えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、シクロヘキサノールなど、ニトリル類、例えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ｎ−もしくはイソブチロニトリルまたはベンゾニトリルなど、ケトン類、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンまたはシクロヘキサノンなど、アミド類、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルホルムアニリド、Ｎ−メチルピロリドンまたはヘキサメチルホスホルアミドなど、スルホキシド類、例えばジメチルスルホキシドなど、またはスルホン類、例えばスルホランなどが挙げられる。炭化水素およびハロゲン化炭化水素が好ましく、芳香族炭化水素がより好ましい。具体的には、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ｎ−ヘキサンまたはシクロヘキサンが好ましく、トルエンまたはキシレンがより好ましい。また、前段の２−アシル−３−アミノアクリル酸エステル反応と同じ溶媒を使用することが好ましい。前段の２−アシル−３−アミノアクリル酸エステル合成での反応生成物を分離または精製することなくピラゾール環化反応に供する場合には特に同じ溶媒を選択することが好ましい。溶媒は二種以上の併用することができる。

ピラゾール化合物への環化反応は低温度で行うことが好ましいが、実用上、−７８℃〜＋３０℃で行い、−３０℃〜２０℃が好ましい。低温では選択率は高いが、−７８℃より低温では溶媒の凝固または粘度上昇による操作の困難、冷却コストの上昇、および反応速度の低下などの点から好ましくない。また、３０℃を超えると副反応が起こり選択率に低下が見られるので好ましくない。反応圧力は通常の圧力範囲では反応に影響を及ぼさないので任意であるが、加圧または減圧してもよく、一般的には意識的な加圧または減圧を行わない大気圧下で行えばよい。強い還元剤であるヒドラジン類と空気が接触することは安全上好ましくないので、窒素、アルゴン雰囲気下で行うことが好ましい。反応時間は、温度等の条件により異なるが１０分〜１０時間である。

ピラゾール化合物への環化反応は、第一工程（アシル化工程）で得られた反応器内容物、無機塩基および置換ヒドラジンを混合すればよく、反応に関与する基質および副資材を反応系に導入する順序は限定されない。塩基はヒドラジン類および溶媒を含む組成物として取り扱うのが容易であり、この組成物に対し２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルを含む組成物とを接触させる手順が好ましいが、当然、この趣旨に沿う方法であれば本発明の目的を達することができる。具体的には、反応器に仕込まれたいずれか一方の組成物へ他方の組成物を徐々に、例えば、滴下またはメータリングポンプによる注入等の方法で導入するのが好ましい。添加は反応器内容物の温度の上昇や成分の変化等の経過を観察しながら前記した反応温度の上限を超えない範囲で徐々に行うのが好ましい。また、反応器内容物は攪拌するのが好ましい。

反応器内容物に含まれるピラゾール化合物の精製は、一般的な精製方法に従って行える。反応器内容物の成分は、アシル化工程と環化工程の中間での精製の方法または環化工程での塩基や溶媒の使用の有無により異なるが、反応器内容物を有機層と水層に二層分離すると、有機層に、ピラゾール化合物が含まれ、そのほかにアシル化工程で用いた有機塩基および有機溶媒（使用した場合に限る）などが含まれることがある。一方、水層には脱離したジメチルアミン等の第二アミンが含まれ、その他にフッ化カリウム等の無機フッ化物、無機水酸化物、ヒドラジン類等が含まれることがある。有機層をフラッシュ蒸留してピラゾール化合物を取得することができ、留去された第三アミン等の有機塩基を含む溶媒は再度アシル化工程に使用することができる。また、有機層を水で洗浄して有機塩基を除去してから溶媒を留去してピラゾール化合物を取得することもできる。これらの方法で精製されたピラゾール化合物は、さらに、加熱または減圧することで乾燥させることもできる。１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルに含まれる異性体（１，５−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステル）は溶媒を用いた結晶化（晶折）により除去することができる。予め１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルとその異性体を加水分解して１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸とその異性体に変換してから再結晶化することもできる。また、吸着カラム等を用いてさらに精製することもできる。

また、本発明の方法で合成した１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルは、無極性溶媒による洗浄が効果的であり、再結晶処理に代えてこの洗浄で、９９．９％以上の高純度とすることもできる。無極性溶媒としては、特に限定されないが、シクロヘキサン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどの炭化水素が挙げられる。洗浄の温度は、０〜２５℃が好ましい。０℃未満では、不純物除去効率が低く、２５℃より高い温度では、１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルが洗浄液に溶出して回収率が低下することがある。洗浄方法は、攪拌洗浄、掛け洗浄、もしくはこれらの組み合わせが例示されるが、攪拌洗浄後に、濾過し、掛け洗浄することが好ましい。

１，５−異性体を含む１，３−二置換ピラゾール−４−カルボン酸エステルは、有機溶媒に溶解して、塩酸と接触させることで極性物質または特定の不純物を除去することができる。有機溶媒としては水溶性の低い有機溶媒が好ましく、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、ジイソプロピルエーテル、塩化メチレン、クロロホルムが例示できる。トルエン、キシレンが好ましい。処理溶液の調製には、ピラゾール化合物とこれらの溶媒を混合すればよい。また、環化反応後の反応液に有機溶媒が含まれている場合は、そのまま、または水洗して第二アミン等を除去したものが好ましい。接触温度は、０〜８０℃であるが、加熱または冷却などをしない常温で行えばよい。処理溶液／塩酸の容量比は特に限定されないが、９／１〜１／１が好ましい、塩酸の量がこれらよりも多い場合、スペースイールドが低下し、これよりも小さい場合、処理に時間を要したり、十分な処理効率が得られないので好ましくない。処理時間は、極性物質等の含有量、塩酸濃度、処理溶液／塩酸の容量比、混合状態に依存するが、通常、３０分から３時間である。接触方法は、通常の攪拌槽、スタティックミキサー、ポンプ循環等の任意の方法が適用可能であるが、攪拌槽で混合後、静定、分離する方法が簡便である。処理後の有機液は塩酸から分離後、溶媒留去すればピラゾールを回収できる。

以下に実施例をもって、本発明を説明するが、本発明はこれらの実施態様に限られない。反応液中の有機物の分析はガスクロマトグラフ（ＦＩＤ検出器）で行い、組成を面積％で示した。反応液中のＤＦＡＡＥ含有量は水洗後トルエンを留去して得られた固体の質量から求めた。

［合成例１］２−（ジフルオロアセチル）−３−（ジメチルアミノ）アクリル酸エチル（ＤＦＡＡＥ）の合成
吹き込み管、温度計、ドライアイスコンデンサーを備え、窒素シールした２０００ｍｌ三口フラスコに、３−Ｎ，Ｎジメチルアミノアクリル酸エチル（ＤＭＡＥ）１４３ｇ、トルエン５７０ｇ、トリエチルアミン（以下、Ｅｔ_３Ｎ）１１１ｇを仕込み、攪拌しながら水浴で２０℃に冷却した。そこへ、ジフルオロ酢酸フルオライド（純度９５％）１１１ｇを１ｇ／分の速度で吹き込み管から反応器に導入した。導入後、反応液の温度を３０℃として１時間攪拌を継続し、反応を終了した。

反応後の内容物（反応液）は、９２７ｇであった。反応液をガスクロマトグラフ分析したところ、ＤＦＡＡＥ：８．２２面積％、Ｅｔ_３ＮとＥｔ_３Ｎ・フッ化水素塩（Ｅｔ_３Ｎ・ｎＨＦ塩）の合計：１０．４８面積％（Ｅｔ_３Ｎ・ｎＨＦ塩のピークは約１面積％でブロードであった。）、ＤＭＡＥ：０．０８２面積％、トルエン：８０．６２面積％であった。

［比較例１］３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルの合成

滴下ロート、温度計を備え、窒素風船でシールした５００ｍｌ三口フラスコに、水９．０ｇ、トルエン１００ｍｌ、モノメチルヒドラジン６．０ｇ（０．１３モル）を仕込み、攪拌しながら−１５℃の低温恒温槽で−１０℃以下に冷却した。そこへ、合成例１で得た溶液（反応液）１０２ｇ（ＤＦＡＡＥ：０．１１モル）を滴下ロートから内温が−１０℃を超えないように徐々に滴下した。滴下終了後−１２℃で１時間攪拌を継続した後、０℃に昇温し水１００ｍｌを添加した。分液ロートで有機層を回収し、水１００ｍｌで水洗してから、硫酸マグネシウムで乾燥、ろ過、溶媒留去後粗ピラゾールを２１．０ｇ（粗収率９３．６％）得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール（３−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルと５−（ジフルオロメチル）−１−メチル−１Ｈ−ピラゾール−４−カルボン酸エチルを併せたピラゾール化合物をいう。）純度９９．１面積％であり、１，３−異性体３０．４に対して１，５−異性体が６９．６の比率で存在していた。ＤＭＡＥからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、９２．７％、１，３−異性体収率は２８．２％であった。

［実施例１］
水９．０ｇの代わりに、水酸化カリウム（ＫＯＨ）８．６ｇ（ＤＦＡＡＥに対して１．４当量）を９．０ｇの水に溶かした水溶液を仕込んだこと以外、比較例１と同様の実験を行った。粗ピラゾール２０．５ｇ（粗収率９１．４％）を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が９９．３面積％で、１，３−異性体９８．５に対して１，５−異性体が１．５の比率で存在していた。ＤＭＡＥからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、９０．７％、１，３−異性体収率は８９．４％であった。

［実施例２］
水９．０ｇの代わりに、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）６．２ｇ（ＤＦＡＡＥに対して１．４当量）を９．０ｇの水に溶かした水溶液を仕込んだこと以外、比較例１と同様の実験を行った。粗ピラゾール２１．５ｇ（粗収率９５．８％）を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が７２．６面積％で、１，３−異性体９２．７に対して１，５−異性体が７．３の比率で存在していた。ＤＭＡＥからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、６９．６％、１，３−異性体収率は６４．５％であった。

［参考例１］
水９．０ｇの代わりに、Ｅｔ_３Ｎ（１１ｇ）と水９．０ｇの溶液を仕込んだこと以外、比較例１と同様の実験を行った。粗ピラゾール２０．６ｇ（粗収率９１．８％）を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が９６．３面積％で、１，３−異性体５９．６に対して１，５−異性体が４０．４の比率で存在していた。ＤＭＡＥからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、８８．４％、１，３−異性体収率は５２．７％であった。

［参考例２］
合成例１で得られた反応液４６３ｇを水２５０ｇで二回洗浄したところ、ＤＦＡＡＥトルエン溶液３８４ｇが得られた。この溶液の１０ｇを溶媒留去して２．４５ｇのＤＦＡＡＥを得た。このとき、合成例１の反応でのＤＦＡＡＥ理論収率に基づいて、水洗浄での回収率は９０％であった。

［参考例３］
参考例２で得られたＤＦＡＡＥトルエン溶液１１３ｇ（ＤＦＡＡＥ：０．１２モル）を用いて他の基質等の量は変えずに比較例１と同様の実験を行い、粗ピラゾール２１．３ｇ（粗収率８７．０％）を得た。アセトンに溶解してガスクロマトグラフ分析したところ全ピラゾール純度が９９．５面積％で、１，３−異性体９２．５に対して１，５−異性体が７．５の比率で存在していた。ＤＭＡＥからのピラゾール合成について、全ピラゾール収率は、８６．６％、１，３−異性体収率は８０．１％であった。

［参考例６］
吹き込み管、温度計、ドライアイスコンデンサーを備え、窒素シールした１０００ｍｌ三口フラスコに、３−Ｎ，Ｎジメチルアミノアクリル酸エチル（ＤＭＡＥ）７２ｇ、トルエン２８５ｇ、トリエチルアミン（以下、Ｅｔ_３Ｎ）５６ｇを仕込み、攪拌しながら水浴で２０℃に冷却した。そこへ、ジフルオロ酢酸フルオライド（純度９５％）５６ｇを０．５ｇ／分の速度で吹き込み管から反応器に導入した。導入後、反応液の温度を３０℃として１時間攪拌を継続し、反応を終了した。

反応後の内容物（反応液）は、４６３ｇであった。反応液を水２５０ｇで二回洗浄してＥｔ３Ｎ・ｎＨＦ塩を除去し、２５．９質量％ＤＦＡＡＥトルエン溶液３８２ｇを得た。

滴下ロート、温度計を備え、窒素風船でシールした２０００ｍｌ三口フラスコに、水３６．０ｇ、水酸化ナトリウム６．４ｇ、トルエン４００ｍｌ、モノメチルヒドラジン２４．０ｇ（０．５２モル）を仕込み、攪拌しながら−１５℃の低温恒温槽で−１０℃以下に冷却した。そこへ、水で洗浄したＤＦＡＡＥトルエン溶液３７５ｇ（ＤＦＡＡＥ：０．１１モル）を滴下ロートから内温が−１０℃を超えないように徐々に滴下した。滴下終了後−１２℃で１時間攪拌を継続した後、０℃に昇温し水４００ｍｌを添加した。分液ロートで有機層を回収し、水４００ｍｌで水洗して９．７質量％のピラゾールトルエン溶液７０２ｇを得た。

［塩酸洗浄例１〜４］
温度計と還流管を備えた三口フラスコに、参考例６で合成したピラゾールトルエン溶液１５０ｇ、表１に示す各濃度（３５質量％、２５質量％、１７質量％、１０質量％、）の塩酸５０ｇを添加し、室温（２５℃）で1時間攪拌した。分液した有機層を濃縮後、粗ピラゾールを次に示す分析法および試料調製法で高速液体クロマトグラフィ（ＨＰＬＣ）分析した。結果を表１に示す。

＜HPLC分析法＞
分析機器：ａｇｉｌｅｎｔ ＨＰ−１１００ ＬＣ ｓｙｓｔｅｍ
流量１ｍｌ／ｍｉｎ．
６ｍＭメタンスルホン酸：ＡＣＮ＝６：４ ３０分間で３：７へグラジェント
ＵＶ ｄｅｔｅｃｔｏｒ λ＝２１０ｎｍ
カラム Ｃａｄｅｎｚａ ＣＤ−Ｃ１８ ４．６φ×２５０ｍｍ ３μｍ
温度 ３５℃
＜試料調製法＞
試料を採取し、窒素パージにより溶媒を除去した後、重量を測定して２ｍｇ／ｍｌの濃度（６ｍＭメタンスルホン酸：ＡＣＮ＝６：４）となるように移動相を加え均一溶解し、分析に供した。

医農薬中間体として有用なピラゾール誘導体の製造方法として有用である。

Claims (4)

1. 下記の２工程を含む一般式（５）で表されるピラゾール化合物の製造方法。
   第一工程：一般式（２）で表されるカルボン酸ハライドと一般式（３）で表されるジアルキルアミノアクリル酸エステルを有機塩基の存在下で反応させて一般式（１）で表される２−アシル−３−アミノアクリル酸エステルを含む反応器内容物を得る工程。
   第二工程：第一工程で得られた反応器内容物、無機塩基および一般式（４）で表される置換ヒドラジンを混合して一般式（５）で表されるピラゾール化合物を合成する工程。
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はそれぞれ独立にアルキル基を表し、Ｒ^５はアルキル基またはアリール基を表し、Xはハロゲン原子を表す。）
2. 第二工程が、第一工程で得られた反応器内容物および塩基を含む組成物と、置換ヒドラジンを含む組成物とを混合して一般式（５）で表されるピラゾール化合物を合成する工程である請求項１に記載のピラゾール化合物の製造方法。
3. 第一工程で用いる有機塩基が第三アミンであり、かつ、第二工程で用いる無機塩基が水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウムである請求項１または2に記載のピラゾール化合物の製造方法。
4. 一般式（２）で表されるカルボン酸ハライドがジフルオロ酢酸フルオライドである請求項１〜３の何れか１項に記載のピラゾール化合物の製造方法。