JP2012024983A - 脆性材料の面取り方法とその装置 - Google Patents

脆性材料の面取り方法とその装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2012024983A
JP2012024983A JP2010164076A JP2010164076A JP2012024983A JP 2012024983 A JP2012024983 A JP 2012024983A JP 2010164076 A JP2010164076 A JP 2010164076A JP 2010164076 A JP2010164076 A JP 2010164076A JP 2012024983 A JP2012024983 A JP 2012024983A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
brittle material
chamfering
negative pressure
housing
electrodes
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2010164076A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryoji Koseki
良治 小関
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibuya Corp
Original Assignee
Shibuya Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shibuya Kogyo Co Ltd filed Critical Shibuya Kogyo Co Ltd
Priority to JP2010164076A priority Critical patent/JP2012024983A/ja
Priority to KR1020110070854A priority patent/KR20120018272A/ko
Priority to TW100125580A priority patent/TW201210746A/zh
Priority to CN2011102048849A priority patent/CN102343631A/zh
Publication of JP2012024983A publication Critical patent/JP2012024983A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B29/00Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins
    • C03B29/02Reheating glass products for softening or fusing their surfaces; Fire-polishing; Fusing of margins in a discontinuous way
    • C03B29/025Glass sheets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B23/00Re-forming shaped glass
    • C03B23/02Re-forming glass sheets

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Perforating, Stamping-Out Or Severing By Means Other Than Cutting (AREA)

Abstract

【解決手段】 面取り装置1は、板状の脆性材料2における端面2Aの面取りする面取り手段5とそれを移動させる移動手段6を備えている。
正方形の脆性材料2が吸着テーブル3上に搬入されると、移動手段6によってハウジング7が前進されて、その収容部7Bに脆性材料2の端面2Aが挿入される。その状態で、負圧室7Aに負圧が導入されるとともに電極11A,11Bに電圧が印加されるので、それらの間にグロー放電が生じて、端面2Aが加熱される。その状態において、ハウジング7は端面2Aの長手方向に沿って移動されるので、端面2Aの上縁部2C、下縁部2Eの全域が溶融されて面取りされる。
【効果】 従来と比較して簡略な構成の面取り装置1を提供できる。
【選択図】 図3

Description

本発明は脆性材料の面取り方法とその装置に関し、より詳しくは、板状の脆性材料における縁部を面取りするようにした脆性材料の面取り方法とその装置に関する。
従来、例えば液晶ディスプレイ用のガラス基板は、大寸法の平板ガラス母材を所要寸法の方形に割断して切り揃えるようになっており、このような脆性材料の割断装置として例えば特許文献1が知られている。こうした割断装置によって割断したガラス板は、その割断面の縁部には微小な傷等が生じるため、そうした傷の箇所からクラックが伸展する恐れがある。そこで、従来では、脆性材料を所要の形状に割断した後に、該脆性材料の割断面の縁部を面取りする装置が提案されている(例えば特許文献2〜特許文献4)。
特許文献2の面取り装置では、研磨機によって研磨液を供給しながらガラス基板の端面とその上下の縁部を研磨することで縁部の面取りを行っている。
特許文献3の面取り装置では、縦断面が四角形となる端面の各縁部に対して順次一辺ずつレーザビームを照射することで、4箇所の上下の縁部を溶融させて面取りするようになっている。
そして、特許文献4の面取り装置では、ガラス基板の端面に対して、その上下位置からアーク放電による熱エネルギを加えることで端面における上下の縁部を溶融して丸めて面取りするようになっている。
特開2008−115031号公報 特許第3074145号公報 特許第3823108号公報 特開2009−234856号公報
ところで、上述した従来の面取り装置においては、次のような欠点が指摘されている。すなわち、特許文献2の装置においては研磨液を供給しながら端面とその縁部を研磨するので、研磨工程後に研磨液と研磨粉の洗浄工程や洗浄液の乾燥除去工程を設ける必要があり、製造ラインが長大化して設備コストが増大するという問題があった。
また、特許文献3の装置においては、処理対象となる各縁部に順次レーザビームを照射して面取りしているので、処理能力が遅いという問題点があり、しかも、レーザ発振器等を設けるための設備コストが大きいという問題点があった。
さらに、特許文献4の装置においては、アーク放電の際の熱エネルギが数千度にもなるが、処理対象となるガラスは一般的に700度程度で溶融を開始する。そのため、特許文献4においては、アーク放電を用いてガラスを最適な溶融状態となるように加工条件を設定するのが難しいとういう問題点があった。しかも、アーク放電用の電極は消耗が激しいので電極の交換頻度が高くなり、したがって設備コストが大きいという問題点もあった。
上述した事情に鑑み、請求項1に記載した本発明は、板状の脆性材料における端面をグロー放電による熱で加熱して、脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りするようにした脆性材料の面取り方法であって、
面取り対象となる脆性材料の端面をハウジングで覆った状態において、ハウジング内を負圧とするとともに該ハウジング内の一対の電極に電圧を印加して、該電極間にグロー放電を生じさせてハウジング内に位置する脆性材料の端面を加熱し、上記電極と脆性材料とを上記脆性材料の端面の長手方向に沿って相対移動させることにより、該脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りすることを特徴とするものである。
また、請求項2に記載した本発明は、脆性材料の端面を覆うハウジングと、該ハウジング内に形成された負圧室と、該負圧室に負圧を導入する負圧源と、上記負圧室内に配置された一対の電極と、該一対の電極に電圧を印加する電源と、上記一対の電極と脆性材料とを相対移動させる移動手段とを備え、
上記脆性材料の端面を上記ハウジングにより覆い、面取り対象となる脆性材料の端面を負圧室内の一対の電極の間に位置させた状態で、上記ハウジングの負圧室を負圧とするとともに、上記電源から一対の電極に電圧を印加してそれら電極間にグロー放雷を生じさせ、該グロー放電による熱によって脆性材料の端面を加熱するとともに、上記移動手段によって上記一対の電極と脆性材料とを端面の長手方向に沿って相対移動させることにより、脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りすることを特徴とする脆性材料の面取り装置を提供するものである。
上述した構成によれば、従来と比較して簡略な構成で、処理効率の高い脆性材料の面取り方法とその装置を提供することができる。
本発明の一実施例を示す概略の平面図。 図1の要部の右側面。 図1のIII−IIIに沿う要部の拡大断面図。 図3の要部の拡大図。 図1に示した面取り装置の処理対象となる脆性材料の斜視図。 図4に示した脆性材料の要部の縦断面図であり、図6(a)は面取り前を示し、図6(b)は面取り後を示している。 図1の要部を示す正面図。 図7の平面図。 図1に示す面取り装置によって脆性材料を面取りする際における脆性材料と各封止板との位置関係を示す図であり、図9(a)は面取り開始直前を示し、図9(b)は面取り開始時を示し、図9(c)は面取り作業中を示し、図9(d)は面取り終了時を示している。
以下図示実施例について本発明を説明すると、図1ないし図3において、1は板状の脆性材料2における縁部を面取りする面取り装置である。
ここで先ず面取り装置1の処理対象となる脆性材料2について説明する。図5に示すように、面取り装置1の処理対象となる脆性材料2は所定厚さの正方形をした液晶ガラス板であり、該液晶ガラス板である脆性材料2は図示しない前工程のレーザ割断装置によって液晶ガラスの母材から所定寸法の正方形に割断されるようになっている。そのように前工程で正方形にレーザ割断された脆性材料2は、図示しないロボット又は作業者により面取り装置1の吸着テーブル3上に図1に矢印で表示した方向から搬入されるようになっている。
このように前工程でレーザ割断された脆性材料2は、その四辺となる端面2Aがレーザ割断時の割断面となっている。そのため、脆性材料2は、その上面2Bと各端面2Aと境界部である上縁部2Cの縦断面は直角となっており、また下面2Dと各端面2Aとの境界部である下縁部2Eの縦断面が直角になっている(図6(a)参照)。さらに、脆性材料2の隅部2Fの角、つまり隣り合う両端面2A、2Aの境界部となる縦縁部2Gの水平断面は直角になっている。
そこで、本実施例の面取り装置1は、脆性材料2における1つの端面2Aの縁部としての上縁部2C、下縁部部2Eおよび縦縁部2Gをグロー放電による熱で加熱・溶融することにより流動化したガラスが表面張力によって丸まることで面取りするようになっている(図6(a)、図6(b)参照)。図6(a)は面取り前の断面を示し、図6(b)は面取り後の断面を示している。本実施例においては、処理対象となる脆性材料2の厚さは1mm程度を想定しており、さらに面取り装置1によって上縁部2C、下縁部2Eおよび縦縁部2Gを半径10〜50μm程度に円弧状に面取りすることを想定している。
しかして、図1ないし図4において、本実施例の面取り装置1は、上記脆性材料2を吸着して水平に支持する正方形の吸着テーブル3と、この吸着テーブル3の四辺3Aに沿ってその隣接外方位置に配置された合計4本の支持ベース4A〜4Dと、各支持ベース4A〜4D上に配置されて、脆性材料2を加熱させて上縁部2C等を面取りする4台の面取り手段5と、各面取り手段5毎に設けられてそれらを脆性材料2の各端面2Aの長手方向に沿って移動させる移動手段6と、上記各面取り手段5のハウジング7内に負圧を導入する負圧源8と、各面取り手段5のハウジング7内に配置された上下一対の電極11A、11Bに電圧を印加する交流電源12と、さらに、上記面取り手段5、移動手段6、負圧源8および交流電源12の作動を制御する制御装置13とを備えている。
吸着テーブル3はテーブルベース14上に水平に配置されており、吸着テーブル3における平行な2辺は水平面のX方向と平行になっており、他方、吸着テーブル3における残りの平行な2辺は上記X方向と直交するY方向と平行になっている。吸着テーブル3の隣接外方位置の支持ベース4A,4CはX方向と平行に配置されており、残りの支持ベース4B、4DはY方向と平行に配置されている。
吸着テーブル3の内部には図示しない負圧通路が形成されており、該負圧通路は先端側が複数に分岐されてから該分岐された先端部は吸着テーブル3の上面に開口されている。吸着テーブル3の上面に正方形の脆性材料2が搬入されると負圧源8から図示しない導管を介して吸着テーブル3の負圧通路に負圧が導入されるので、脆性材料2は負圧によって吸着テーブル3の上面に吸着保持されるようになっている。本実施例では、脆性材料2の平行な2つの端面2A、2AがX方向と平行になり、残りの2つの端面2A、2AがY方向と平行となるように吸着テーブル3上に脆性材料2が水平状態で位置決めされて支持されるようになっている。
図1から図3に示すように、吸着テーブル3上に吸着保持された脆性材料2は、吸着テーブル3の面積よりも大きいので、脆性材料2の四辺である各端面2Aとそれらの隣接内方部分は、吸着テーブル3の四辺3Aよりも外方へ突出した状態となる。本実施例では、そのように吸着テーブル3の外方へ突出した状態の脆性材料2の各端面2Aとそこに隣接する上面2Bと下面2Dを各面取り手段5のハウジング7で覆った状態で両電極11A、11B間にグロー放電を生じさせて端面2Aを加熱し、かつ各面取り手段5を各移動手段6により同期して各端面2Aの長手方向に沿って移動させるようになっている。それによって各端面2Aの上縁部2C、下縁部2Eの長手方向全域と縦縁部2Gをグロー放電の熱によって加熱・溶融させて断面半円状に面取りするようになっている。
本実施例の面取り手段5は、前述した従来のアーク放電によるものとは異なり、それと比較して低温のグロー放電によって各端面2Aを加熱・溶融させて面取りすることが特徴である。
すなわち、図3ないし図4に示すように、面取り手段5は、ブロック状に形成されて移動手段6によって水平面のXY方向及び鉛直方向に移動されるハウジング7と、このハウジング7内の負圧室7A内に配置された上下一対の電極11A,11Bとを備えている。
ハウジング7における吸着テーブル3と対向する側壁7Cおよびそこに隣接する両隣の側壁(面取り対象となる脆性材料2の端面2Aの長手方向と直交する側壁)にわたって、高さ方向中央に同じ奥行きで水平な収容部7Bが形成されている。収容部7Bは、上記側壁7Cの両隣となる側壁にも開口しており、かつ、ハウジング7内の真空室7Aと連続するように形成されている。収容部7Bの上下方向寸法(上下の壁面7Ba、7Bbの間隔)は、脆性材料2の厚さよりも少し大きな寸法に設定されている。そのため、ハウジング7の側壁7Cとその両隣の側壁の側方から上記収容部7B内に脆性材料2の端面2Aとそこに隣接する上面2Bと下面2Dを水平方向から挿入し、あるいは水平方向に抜き取ることができるようになっている。そして、脆性材料2の端面2Aが切欠き部内7B内に挿入された際には、端面2Aは負圧室7A内の上下の電極11A,11Bの間に位置するようになっており、その状態で両電極11A,11Bに電圧が印加されることで、端面2Aがグロー放電による熱で加熱されるようになっている(図4参照)。
ハウジング7における側壁7Cに近い位置には、収容部7Bの上下の壁面7Ba、7Bbに開口する鉛直方向の第1負圧通路15が形成されており、また、ハウジング7における上記第1負圧通路15と負圧室7Aとの中間の位置にも、収容部7Bの上下の壁面7Ba、7Bbに開口する第2負圧通路16が形成されている。第1負圧通路15および第2負圧通路16は導管17を介して上記負圧源8に接続されている。
図4に示すように、脆性材料2の端面2Aが収容部7B内に側方から挿入されて負圧室7A内に位置した状態では、脆性材料2の上面2Bおよび下面2Dは、収容部7Bの上下の壁面7Ba、7Bbに近接するようになっている。その状態で、導管17に設けられた図示しない電磁開閉弁が制御装置13の指令により開放されると、導管17と両負圧通路15,16および収容部7Bの上下の壁面7Ba、7Bbと脆性材料2の上面2Bと下面2Dとの隙間を介して負圧室7Aに負圧が導入されるようになっている。これにより、本実施例では、負圧室7A内を10torr程度に減圧するようになっている。
第1負圧通路15の先端開口部と負圧室7との間に位置する上下の壁面7Ba、7Bbには、側壁7Cと平行な複数の溝からなるラビリンス7Bcが形成されている。このラビリンス7Bcは、前述したように両負圧通路15,16を介して負圧室7Aに負圧を導入する際に、負圧室7A内の負圧が収容部7Bを介してハウジング7の外部へ漏れるのを抑制する機能を備えている。
また、第1負圧通路15の隣接位置から側壁7Cにわたる収容部7Bの上下の壁面7Ba、7Bbは、それらの間隔が徐々に広がる間隔拡大部7Bdとして形成されている(図4参照)。
ここで、図4に示すように、収容部7B内に脆性材料2が挿入された状態で、上記両負圧通路15、16から負圧室7Aに負圧を導入し、面取りを行っている際に、何らかの原因によって、例えば脆性材料2がハウジング7に対して相対的に上方へ位置がずれる場合がある。この場合、脆性材料2の端面2Aの上縁部2Cが電極11Aに接近し、下縁部2Eが電極11Bと離隔するので、面取り状態が上縁部2Cと下縁部2Eとで異なることになり、好ましくない。
しかし、上記間隔拡大部7Bdを設けることにより、この間隔拡大部7Bdからハウジング7の内部に向かって外気が導入されることで、脆性材料2の上面2Bと上方の間隔拡大部7Bdとの間の空間部が相対的に陽圧となり、他方、脆性材料2の下面2Dと下方の間隔拡大部7Bdとの間の空間部が相対的に陰圧となる。その結果、上記両空間部の圧力差を無くするように脆性材料2およびハウジング7を移動させる外力が生じるので.上記両空間部の鉛直方向長さが等しくなるようにすることができる。 つまり、面取り中に、脆性材料2とハウジング7との相対位置が多少上下にずれたとしても、上記間隔拡大部7Bdの作用によって、脆性材料2を収容部7Bの鉛直方向の略中間に位置させることができ、その結果、安定した面取り加工ができるという効果が得られる。換言すれば、脆性材料2とハウジング7との相対位置が多少上下にずれていても、上記間隔拡大部7Bdの作用により位置ずれを補正するので、後述するZ軸テーブル33による面取り加工を行う際のハウジング7の収容部7Bの高さの設定は、該収容部7Bの鉛直方向の略中間位置となるように脆性材料2を位置させれば良い。
ハウジング7の負圧室7Aは、ハウジング7内部に側壁7Cと平行に設けられており、この負圧室7Aにおける側壁7Cと平行な長手方向中央位置に上下の電極11A、11Bが対向させて設けられている。そして、上記側壁7Cの両隣の側壁にわたって設けられる収容部7Bはこの負圧室7Aと連通するように設けられているので、脆性材料2の端面2Aは、収容部7B内に挿入された状態で上記電極11Aと11Bとの間に位置することができるようになつている。
各電極11A,11Bはローラ状に形成されており、その軸部に円柱状の軸部材21A,21Bの一端が嵌着されている。また、ハウジング7には負圧室7Aから背面の側壁7Dまで貫通する上下一対の段付貫通孔7E,7Eが水平方向に穿設されている。そして、これら段付貫通孔7E,7Eにブッシュ22,22を介して上記軸部材21A,21Bが気密を保持して回転自在に軸支されている。これにより、両電極11A,11Bは軸心を水平に維持された状態で、かつ上下位置で対向して負圧室7A内に回転可能に支持されている。両電極11A,11Bおよび軸部材21,21は導電体からなり、軸部材21A,21Bに設けられたスリップリング23A,23Bと、それに接触するブラシ24A,24Bおよび電線25A、25Bとおよび図示しないコンデンサを介して上記交流電源12に電気的に接続されている。なお、この図示しないコンデンサには、上記電極11A、11Bに1×10―5ないし1×10−2A程度の電流が流れるような静電容量のものを用いる。このように電極11A、11Bに供給する電流を制限することで、両電極11A、11B間に生じるグロー放電をいわゆる正規グロー放電とし、アーク放電への移行を防止して、安定的な熱エネルギーを供給して面取り作業を行うことができるようになっている。
負圧室7A内に負圧源8から負圧が導入されている状態で、制御装置13からの指令により交流電源12から図示しないコンデンサを介して両電極11A,11Bに電圧が印加されると、両電極11A,11B間にグロー放電が生じるようになっている。両電極11A,11Bにわたって生じるグロー放電の温度は約700℃〜800℃程度になり、そのグロー放電による熱エネルギーにより端面2Aが加熱されて、上縁部2C、下縁部2Eおよび縦縁部2Gを溶融させるようになっている。
さらに、ハウジング7には、上記負圧室7Aから連続させて背面の側壁7Dに開口する大径孔7Fが穿設されており、その大径孔7Fの側壁7D側の開口部は透明なガラス板26によって気密を保持して閉鎖されている。この大径孔7Fの内部空間は負圧室7Aの一部を構成している。
前述したように上記一対の電極11A、11Bに電圧を印加した際に、両者間にグロー放電が生じているか否かを透明なガラス板26を介してハウジング7の外部から作業者が観察できるようになっている。また、作業者は、観察窓としての上記ガラス板26を介して両方の電極11A,11Bの放電箇所の消耗状況を観察できるようになっている。作業者が両電極11A,11Bの放電箇所の消耗が激しいと判断した際には、上記両軸部材21A,21Bを介して両電極11A,11Bを所要回転角度だけ回転させるようにしている。それにより、両電極11A,11Bにおける未使用箇所が相互に対向する放電箇所に位置するようになっている。
面取り手段5は以上のように構成されており、面取り装置1が備える4台の面取り手段5は全て同様に構成されており、制御装置13は4台の面取り手段5および移動6を同期して作動させるようになっている。
次に、面取り手段5を脆性材料2の端面2Aに沿って移動させる移動手段6について説明する。各面取り手段5毎に配置された4台の移動手段6の構成は、同じ構成となっているので、支持ベース4A上の移動手段6について説明する。図2ないし図3に示すように、移動手段6は、支持ベース4A上に一対のX方向レール27,27を介して支持されたX軸テーブル28と、X軸テーブル28上に一対のY方向レール31,31を介して支持されたY軸テーブル32と、Y軸テーブル32上に支持されるとともに上記面取り手段5を支持したZ軸テーブル33とを備えている。
X方向レール27、27は支持ベース4A上にX方向に配置されており、X軸テーブル28の一対のスライダ28A,28AがX方向レール27,27に摺動自在に係合されている。両レール27,27間の支持ベース4A上には図示しないX軸ボールねじとそれを正逆に回転させるX軸モータが配置される一方、X軸テーブル28の底面には上記X軸ボールねじと螺合するナット部材が固定されている。これにより、制御装置13がX軸モータを正逆に回転させると、X軸テーブル28およびそれに支持された面取り手段5がX方向に、すなわち、吸着テーブル3上の脆性材料2の一辺(端面2Aの長手方向)に沿って移動できるようになっている。
次に、Y方向レール31、31はX軸テーブル28上にY方向に配置されており、Y軸テーブル32の左右一対のスライダ32A,32AがY方向レール31,31に摺動自在に係合されている。両レール31,31間のX軸テーブル28上には図示しないY軸ボールねじとそれを正逆に回転させるY軸モータが配置される一方、Y軸テーブル32の底面には上記Y軸ボールねじと螺合するナット部材が固定されている。そのため、制御装置13がY軸モータを正逆に回転させると、Y軸テーブル28およびそれに支持された面取り手段5がY方向に、すなわち、吸着テーブル3上の脆性材料2と近接または離隔する方向に移動できるようになっている。
次に、Z軸テーブル33は昇降アクチュエータ33Aにより所要量だけ昇降されるようになっており、制御装置13が昇降アクチュエータ33Aを作動させることで、Z軸テーブル33とそれに支持された面取り手段5を所要量だけ昇降させることができるようになっている。
移動手段6は以上のように構成されており、制御装置13が所要時に上記移動手段6の上記X軸モータ、上記Y軸モータを所要量だけ正逆に回転させるとともに昇降アクチュエータ33Aを所要量だけ昇降させることにより、面取り手段5が支持フレーム4A上でXY方向に移動されるとともに所要量だけ昇降されるようになっている。なお、上述した移動手段6の構成そのものは従来公知である。
本実施例においては、吸着テーブル3上に脆性材料2が搬入される前の段階において、図9(a)に示すように、各面取り手段5は脆性材料2と干渉しない吸着テーブル3の外方位置であって、各端面2Aの長手方向の延長線上となる所定高さ位置に停止している。つまり、その後、搬入される脆性材料2の隅部2Fの隣接外方位置に面取り手段5が移動手段6によって事前に停止されている。この停止位置が各面取り手段5の待機状態となっている。このように各面取り手段5が待機状態にある時には、その後に吸着テーブル3上に搬入される脆性材料2の各端面2Aの長手方向の延長上に面取り手段5の負圧室7Aが位置するとともに、各端面2Aおよびその隣接箇所と同じ高さに、各面取り手段5の収容部7Bが位置するようになっている。
この各面取り手段5の待機状態において、吸着テーブル3上に脆性材料2が搬入されると、制御装置13は各移動手段6を介して面取り手段5を脆性材料2の四辺である各端面2Aの長手方向に移動させるので、同じ高さで平行移動される各面取り手段5の収容部7Bに対して相対的に脆性材料2が挿入されるようになっている(図4、図9(a)、図9(b)参照)。その後から面取り手段5のハウジング7に負圧が導入されて、その後、両電極11A,11Bに電圧が印加されて面取りが開始されることになる。
ところで、面取り手段5の上下の電極11A,11Bは、負圧室7Aの長手方向中央部に配置されており、上記待機状態においては、電極11A.11Bの前後となる負圧室7Aおよび収容部7Bには何も挿入されていないので、それらの箇所は水平方向の空間部となっている。そのため、この待機状態において、両負圧通路15、16から収容部7B内と負圧室7Aに負圧が導入されると、収容部7Bと負圧室7Aを介して負圧漏れが激しくなる。この問題は、面取り手段5を端面2Aに沿って平行移動させて面取りを開始してから面取り終了直前の端面2Aの他端(隅部2F)の位置においても同様である。
そこで、本実施例においては、各面取り手段5が待機状態から面取り開始に移行する際(作業開始直前)と、面取り作業が進んで端面2Aの末端の隣接位置まで面取り手段5の両電極11A,11Bが移動された際(作業終了直前)に、正方形をした一対の第1封止板41Aと第2封止板41Bを用いてハウジング7の収容部7Bおよび負圧室7Aからの負圧漏れを抑制するようにしている。
すなわち、本実施例の面取り装置1は、図7ないし図8に示すように、吸着テーブル3に搬入される脆性材料2の各隅部2Fの隣接外方位置に、各1対の第1封止板41Aと第2封止板41Bとを備えている。第1封止板41Aは、面取り開始直前にハウジング7の収容部7B内に挿入され、第2封止板41Bは、面取り終了直前にハウジング7の収容部7B内に挿入されるようになっている。
吸着テーブル3の隅部におけるX方向の側壁3Bには、外方に向けて2段式エアシリンダ42が配置されるとともに、そのピストンの先端に回転アクチュエータ43を介して第1封止板41Aが揺動可能に取り付けられている。また、吸着テーブル3の隅部におけるY方向の側壁3Cにも外方に向けて2段式エアシリンダ42が配置されるとともに、そのピストンの先端に回転アクチュエータ43を介して第2封止板41Bが揺動可能に取り付けられている。
吸着テーブル3の各隅部に配置された各1対の第1封止板41A,第2封止板41B用の2段式エアシリンダ42と回転アクチュエータ43は、制御装置13によって所要時に交互に作動されるようになっている。
つまり、非作動状態における第1封止板41A及び第2封止板41Bは、鉛直下方を向けて下降端まで下降した後退端位置に停止している。非作動状態の第1封止板41Aを図7に想像線で示すように、この非作動状態では、各封止板41A,41Bは、吸着テーブル3の上面よりも下方側に支持されている。
これに対して、吸着テーブル3上に脆性材料2が搬入されてから面取り開始直前に制御装置13によって第1封止板41A用の2段式エアシリンダ42と回転式アクチュエータ43が作動されると、第1封止板41Aは図7に実線で示すように、前進端位置まで前進されるとともに脆性材料2と同じ高さで水平に支持される。このように、前進端位置まで第1封止板41Aが前進されると、該第1封止板41Aは吸着テーブル3上の脆性材料2の端面2Aと面取り手段5の収容部7Bとの間に、それらと同じ高さで支持されるようになっている(図9(a)参照)。
また、面取り作業の開始後、ハウジング7が隅部2Fの縦縁部2Gを通過した後は、制御装置13が第1封止板41Aの2段式エアシリンダ42と回転式アクチュエータ43の作動を停止させ、第1封止板41Aを前進端位置から元の後退端位置まで後退させる。他方、面取りが開始された後に端面2Aの長手方向の半分程度作業が進行した際には、制御装置13が各第2封止板41B用の2段式エアシリンダ42と回転式アクチュエータ43を作動させるので、第2封止板41Bは前進端位置まで前進されるとともに水平に支持される。これにより第2封止板41Bは吸着テーブル3上の脆性材料2における隅部2Fと同じ高さで、その隣接外方位置に連続するように支持されるようになっている(図9(c)参照)。
以上のように構成された面取り装置1の作動を説明する。
先ず、吸着テーブル3に脆性材料2が搬入される前の段階において、制御装置13は4台の移動手段6を介して各面取り手段5を待機状態に位置させる。前述したように、この待機状態では、各面取り手段5は、その後に搬入される脆性材料2と同じ高さで、隅部2Fの隣接外方となる位置に停止している(図9(a)参照)。この時には面取り手段5の負圧室7Aには負圧導入されておらず、電極11A,11Bには電圧は印加されていない。さらに、この段階では吸着テーブル3の四隅の各封止板41A,41Bは作動されておらず後退端位置に停止している。
この状態において、前工程で正方形にレーザ割断された板状の脆性材料2が吸着テーブル3上にロボットによって搬入されて支持される。この搬入時においては、4組の各封止板41A,41Bは吸着テーブル3の上面よりも下方となる後退端位置に後退しているので、各封止板41A,41Bが脆性材料2と干渉することはない。また、この搬入時に、脆性材料2は、その4辺のうちの2辺がX方向と平行になり、残り2辺がY方向と平行になるように吸着テーブル3上に位置決めされる。その後、吸着テーブル3の負圧通路に負圧源8から負圧が導入されるので、脆性材料2は前述したように位置決めされた状態で吸着テーブル3に吸着保持される。
この後、制御装置13は、吸着テーブル3の四隅における第1封止板41用の2段式エアシリンダ42および回転アクチュエータ43を作動させるので、吸着テーブル3の四隅における各第1封止板41が前進端位置まで前進される(図2、図9(a)参照)。
これにより、4枚の第1封止板41Aは脆性材料2の各端面2Aと待機状態の面取り手段5との間に水平に支持される。なお、この時には各第2封止板41Bは後退端位置に停止したままである。
この後、制御装置13は、各移動手段6により各面取り手段5を予め実験で求めた所定移動速度により縦縁部2G・端面2Aに向けて同期して移動させるとともに、負圧源8から面取り手段6の負圧室7Aに負圧を導入させる(図9(a)参照)。
これにより、先ず移動される各面取り手段5におけるハウジング7の収容部7Bと負圧室7A内に第1封止板41Aが相対的に挿入され、次に、脆性材料2の縦縁部2Gとそれに続く端面2Aが収容部7Bと負圧室7A内に相対的に挿入される(図3、図4参照)。このように、待機状態から移動された際のハウジング7の収容部7B内には第1封止板41Aが挿入されるので、収容部7Bからの負圧が漏れ量が最小限に抑制されるようになっている。
このように移動手段6により面取り手段5を移動させた直後に制御装置13は交流電源12から図示しないコンデンサを介して各面取り手段5の電極11A,11Bに電圧を印加する。これにより、負圧室7A内の両電極11A,11B間にグロー放電が生じ、そのグロー放電状態における電極11A、11Bは移動手段6により移動されつつ脆性材料2の隅部2Fの縦縁部2Gを通過して端面2Aに沿って移動される。これによりグロー放電の熱によって縦縁部2Gが加熱・溶融され、ついでその隣接位置の端面2Aの上縁部2C,下縁部2Eが加熱・溶融されて、それらの箇所が断面半円状に面取りされる。このようにして面取りが開始される。なお、ハウジング7が隅部2Fの縦縁部2Gを通過した時点で、制御装置13は、第1封止板41A用の第2エアシリンダ42と回転アクチュエータ43の作動を停止させるので、第1封止板41Aは元の後退端位置に復帰する。
そして、負圧室7A内の電極11A,11B間にグロー放電が生じている状態において、移動手段6により各面取り手段5が脆性材料2の各端面2Aの長手方向に沿って移動されるので、ハウジング7の収容部7Bと負圧室7Aに覆われてきた位置の端面2Aの上縁部2Cと下縁部2Eが面取りされる(図9(b)、図9(c)参照)。
そして、各端面2Aに沿って面取り手段5が継続して移動されて端面2Aの中央を過ぎる位置まで移動した時点で、制御装置13は、第2封止板41B用の第2エアシリンダ42と回転アクチュエータ43を作動させる。これにより、図9(c)に示すように、脆性材料2の各端面2Aの隣接外方位置にそれと連続する前進端位置に第2封止板41Bが水平に支持されるようになっている。
この後、端面2Aの長手方向の残りの箇所に沿って面取り手段5は移動手段6により移動されるとともに、両電極11A,11Bから継続してグロー放電が生じるので、脆性材料2における4箇所の端面2Aの上縁部2C、下縁部2Eの全域および縦縁部2Gがグロー放電の熱によって加熱・溶融されて面取りされるようになっている(図9(d)参照)。
そして、面取り手段5による面取り作業の最後においては、脆性材料2の隅部2Fの隣接位置に第2封止板41Bが支持されているので、移動手段6によって移動される面取り手段5は、その収容部7Bに第2封止板41Bが挿入される。それにより、面取り作業の最後において、面取り手段5の収容部7Bを介して負圧室7Aの負圧が漏れるのを抑制できるようになっている。
このように、本実施例では、脆性材料2の四辺である各端面2A毎に面取り手段5が配置されており、各面取り手段5は各移動手段6によって同期して各端面2Aに沿って所定速度で移動されるとともに、その移動に伴って各端面2Aの上縁部2C、下縁部2Eおよび縦縁部2Gを同期して加熱・溶融させて半円状に面取りするようになっている。
なお、このような面取り作業中において、面取り手段5においてグロー放電が生じているか否かに関しては、現場の作業者がガラス板26越しに観察できるようになっている。また、面取り作業を繰り返すうちに、電極11A,11Bの放電箇所の状況も現場の作業者がガラス板26越しに観察できるようになっており、放電箇所の損傷が激しいと作業者が判断した場合には、ハウジング7の外部に突出した軸部材21A,21Bの端部を所要量だけ回転させて両電極11A,11Bの未使用の箇所を対向させるようにしている。
このように、本実施例においては、面取り開始直前に各第1封止板41Aを前進端位置に位置させる一方、開始直後に各第1封止板41Aを後退端位置まで後退させるとともに、面取り作業半ばの時点で各第2封止板41Bを前進端位置に位置させるようになっている。そのように各封止板41A,41Bの停止位置を切り換えることにより、各面取り手段5における収容部7Bおよび負圧室7Aから負圧が漏れるのを最小限度に抑制できるようになっている。
以上のようにして、面取り装置1によって脆性材料2の所要箇所の面取り作業が終了すると、制御装置13は、第2封止板41B用の2段式シリンダ42等を介して元の後退端位置まで後退させる。つまり、これにより、各封止板41A,41Bは後退端位置に位置する。
この後、吸着テーブル3への負圧の導入が停止されると、上述した搬入時と同様に図示しないロボットによって吸着テーブル3上から面取り後の脆性材料2が搬出される。その際には、各封止板41A,41Bは後退端位置に位置しているので、搬出される脆性材料2と各封止板41A,41Bとが干渉することはない。
以上のように、本実施例の面取り装置1および面取り方法によれば、レーザ割断後の脆性材料2に対して簡略な構成により縁部としての上縁部2C,下縁部2Eおよび縦縁部2Gの面取りを行うことができる。そのため、本実施例によれば、面取り装置1の設備コストを従来のアーク放電を用いたものよりも減少させることができる。また、本実施例は、グロー放電による熱エネルギにより脆性材料2の面取りを行うようにしているので、つまり、液晶ガラスである脆性材料2の溶融開始温度付近で脆性材料2を加熱・溶融させて所要箇所の面取りを行うことができる。また、本実施例においては、グロー放電を利用することにより、脆性材料2の溶融温度の設定を容易に行うことが可能となり、面取りの対象箇所となる上縁部2C等が不必要に溶融するのを防止することができる。しかも、本実施例によれば、正方形の脆性材料2における4箇所の端面2Aを同期して面取りすることができるので、極めて高効率な面取り処理を行うことができる。
さらに、各封止板41A,41Bを用いてハウジング7の負圧室7Aの減圧環境を維持することができ、それによって面取り作業工程の全体に亘って安定したグロー放電による熱エネルギの供給が可能となり、したがって、面取り精度を安定させることができる。しかも、グロー放電による面取りを行うことで、面取り対象となる上縁部2C,下縁部2Eおよび縦縁部2Gが過熱されすぎることを防止して、好適な溶融温度により溶融されて面取りされる。その結果、本実施例によれば、半径10μm〜50μm程度の半円状に面取りを行うことができる。しかも、このような半径50μm程度の寸法で面取りすることにより、面取り対象となる箇所(上縁部2C,下縁部2E)の残留応力は非常に小さな値となる。そのため、面取り対象となった箇所からクラックが生じる事を良好に抑制することができる。
なお、上記第1の実施例では、方形の脆性材料2の四辺に対応させて合計4つの面取り手段5を設けているが、第2の実施例としては、面取り手段5を1つだけ設けるようにしても良い。具体的には、一つの面取り手段5を配置した加工位置を設定するとともに、上記吸着テーブル3を90度毎に回転させる回転機構を設けて、先ず上記加工位置において脆性材料2における一-辺の端面2Aの面取り作業を行う。その後、両封止板41A、41Bが後退端位置にある状態で、吸着テーブル3を上記回転機構により90度回転させてから、隣接位置の一辺の端面2Aを上記加工位置に位置させ、該加工位置に位置した端面2Aに対して面取り手段5によって面取り作業をする。以下同様にして、上記回転機構により吸着テーブル3を90度ずつ回転させて順次残りの2つの端面2Aを上記加工位置に位置させてから面取り手段5によって面取りすれば良い。
また、上記:第1の実施例では、脆性材料2の一辺の端面2Aの一部を収容部7Bで覆ってそこを面取り対象として、ハウジング7の電極11A、11Bを端面2Aの長手方向に沿って相対移動させているが、第3の実施例として次のような構成を採用しても良い。すなわち、ハウジング7によって、面取り対象となる脆性材料2の一辺の端面2Aの全域を覆うように構成し、ハウジング7内の負圧室7Aの内部において、電極11A、11B自体を端面2Aの長手方向に沿って移動させるようにしても良い。この場合、面取り手段5と脆性材料2とを接近・離隔する接近離隔機構により脆性材料2をハウジング7へ挿入・離脱させることとなる。この第3の実施例においては、隣接する面取り手段5が干渉しないようにする必要があるため、上記第1の実施例のように四辺に対応する数の面取り手段5を設ける場合は、対向する2辺の端面2Aについて面取りを行った後に、他の2辺について面取りを行うようにする。また、上記第2の実施例のように単一の面取り手段5によって面取りを行う場合は、同様に吸着テーブル3に上述した回転機構を設ける必要がある。
さらに、上記各実施例では、吸着テーブル3に方形の脆性材料2を水平に載置して面取り作業を行うようにしているが、第4の実施例として、吸着テープル3により脆性材料2を直立させて保持するようにして面取り作葉をするようにしても良い。なお、この第4の実施例においても、上記第1の実施例のように方形の脆性材料2の四辺に対応する数の面取り手段5を設けたり、上記第2の実施例のように一つの面取り手段5によって全ての辺を面取りするようにしても良く、これらの場合においても、上述した接近離隔機構や、吸着テープル3の回転機構を適宜組み合わせるようにすれば良い。
さらに、上述した各実施例は、正方形にレーザ割断された脆性材料2の面取りを行う場合について説明しているが、長方形の脆性材料2の面取りにも本実施例の面取り装置1を適用することができる。さらに、円板状にレーザ割断された脆性材料2の外周面の上下の縁部に対しても面取り装置1によっで面取りを行うことができ、その場合には上記各封止板41A,41Bは必要ではなく、それらを省略することができる。また、上記実施例における各封止板41A,41Bは必ずしも必要ではなく、それらは省略しても良い。
1‥面取り装置 2‥脆性材料
2A‥端面 2C‥上縁部(縁部)
2E‥下縁部(縁部) 5‥面取り手段
6‥移動手段 7‥ハウジング
7A‥負圧室 7B‥切欠き部
8‥負圧源 11A、11B‥電極

Claims (3)

  1. 板状の脆性材料における端面をグロー放電による熱で加熱して、脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りするようにした脆性材料の面取り方法であって、
    面取り対象となる脆性材料の端面をハウジングで覆った状態において、ハウジング内を負圧とするとともに該ハウジング内の一対の電極に電圧を印加して、該電極間にグロー放電を生じさせてハウジング内に位置する脆性材料の端面を加熱し、上記電極と脆性材料とを上記脆性材料の端面の長手方向に沿って相対移動させることにより、該脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りすることを特徴とする脆性材料の面取り方法。
  2. 脆性材料の端面を覆うハウジングと、該ハウジング内に形成された負圧室と、該負圧室に負圧を導入する負圧源と、上記負圧室内に配置された一対の電極と、該一対の電極に電圧を印加する電源と、上記一対の電極と脆性材料とを相対移動させる移動手段とを備え、
    上記脆性材料の端面を上記ハウジングにより覆い、面取り対象となる脆性材料の端面を負圧室内の一対の電極の間に位置させた状態で、上記ハウジングの負圧室を負圧とするとともに、上記電源から一対の電極に電圧を印加してそれら電極間にグロー放雷を生じさせ、該グロー放電による熱によって脆性材料の端面を加熱するとともに、上記移動手段によって上記一対の電極と脆性材料とを端面の長手方向に沿って相対移動させることにより、脆性材料の端面の縁部を加熱・溶融させて面取りすることを特徴とする脆性材料の面取り装置。
  3. 上記脆性材料は方形のガラス板であって、該ガラス板の四辺の内の一辺の端面を面取り対象とし、上記ハウジングは、上記面取り対象となる端面の一部を収容するとともに上記負圧室と連通する収容部を備え、上記移動手段は、上記ハウジングを移動させることにより上記一対の電極と脆性材料とを端面の長手方向に沿って相対移動させ、かつ、上記ハウジングの収容部に上記ガラス板の一辺の隅部が挿入される際および収容部から隅部が離脱する際には、上記脆性材料と略同等の厚さを有し、上記面取り対象となる上記ガラス板の一辺の隅部に隣接配置される封止板をハウジングの収容部内に挿入させて、該ハウジング内の負圧室の負圧漏れを抑制することを特徴とする請求項2に記載の面取り装置。
JP2010164076A 2010-07-21 2010-07-21 脆性材料の面取り方法とその装置 Pending JP2012024983A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010164076A JP2012024983A (ja) 2010-07-21 2010-07-21 脆性材料の面取り方法とその装置
KR1020110070854A KR20120018272A (ko) 2010-07-21 2011-07-18 취성재료의 베벨링 방법과 그 장치
TW100125580A TW201210746A (en) 2010-07-21 2011-07-20 Chamfering method and apparatus for brittle materials
CN2011102048849A CN102343631A (zh) 2010-07-21 2011-07-21 脆性材料的倒角方法及其装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010164076A JP2012024983A (ja) 2010-07-21 2010-07-21 脆性材料の面取り方法とその装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2012024983A true JP2012024983A (ja) 2012-02-09

Family

ID=45542884

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010164076A Pending JP2012024983A (ja) 2010-07-21 2010-07-21 脆性材料の面取り方法とその装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP2012024983A (ja)
KR (1) KR20120018272A (ja)
CN (1) CN102343631A (ja)
TW (1) TW201210746A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111421676A (zh) * 2019-01-09 2020-07-17 三星钻石工业股份有限公司 端材去除装置

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014079478A1 (en) 2012-11-20 2014-05-30 Light In Light Srl High speed laser processing of transparent materials
EP2754524B1 (de) 2013-01-15 2015-11-25 Corning Laser Technologies GmbH Verfahren und Vorrichtung zum laserbasierten Bearbeiten von flächigen Substraten, d.h. Wafer oder Glaselement, unter Verwendung einer Laserstrahlbrennlinie
EP2781296B1 (de) 2013-03-21 2020-10-21 Corning Laser Technologies GmbH Vorrichtung und verfahren zum ausschneiden von konturen aus flächigen substraten mittels laser
KR101462046B1 (ko) * 2013-08-12 2014-11-18 주식회사 나노시스템 유리판의 모서리 가공 장치
US9850160B2 (en) 2013-12-17 2017-12-26 Corning Incorporated Laser cutting of display glass compositions
US9815730B2 (en) 2013-12-17 2017-11-14 Corning Incorporated Processing 3D shaped transparent brittle substrate
US10442719B2 (en) * 2013-12-17 2019-10-15 Corning Incorporated Edge chamfering methods
US11556039B2 (en) 2013-12-17 2023-01-17 Corning Incorporated Electrochromic coated glass articles and methods for laser processing the same
KR102196672B1 (ko) * 2014-06-05 2020-12-31 엘지디스플레이 주식회사 기판 처리 장치
KR102445217B1 (ko) 2014-07-08 2022-09-20 코닝 인코포레이티드 재료를 레이저 가공하는 방법 및 장치
EP3169479B1 (en) 2014-07-14 2019-10-02 Corning Incorporated Method of and system for arresting incident crack propagation in a transparent material
EP3169477B1 (en) 2014-07-14 2020-01-29 Corning Incorporated System for and method of processing transparent materials using laser beam focal lines adjustable in length and diameter
EP3708548A1 (en) 2015-01-12 2020-09-16 Corning Incorporated Laser cutting of thermally tempered substrates using the multiphoton absorption method
KR102546692B1 (ko) 2015-03-24 2023-06-22 코닝 인코포레이티드 디스플레이 유리 조성물의 레이저 절단 및 가공
CN107835794A (zh) 2015-07-10 2018-03-23 康宁股份有限公司 在挠性基材板中连续制造孔的方法和与此相关的产品
MY194570A (en) 2016-05-06 2022-12-02 Corning Inc Laser cutting and removal of contoured shapes from transparent substrates
US10410883B2 (en) 2016-06-01 2019-09-10 Corning Incorporated Articles and methods of forming vias in substrates
US10794679B2 (en) 2016-06-29 2020-10-06 Corning Incorporated Method and system for measuring geometric parameters of through holes
CN109803934A (zh) 2016-07-29 2019-05-24 康宁股份有限公司 用于激光处理的装置和方法
EP3507057A1 (en) 2016-08-30 2019-07-10 Corning Incorporated Laser processing of transparent materials
CN109803786B (zh) 2016-09-30 2021-05-07 康宁股份有限公司 使用非轴对称束斑对透明工件进行激光加工的设备和方法
US11542190B2 (en) 2016-10-24 2023-01-03 Corning Incorporated Substrate processing station for laser-based machining of sheet-like glass substrates
US10752534B2 (en) 2016-11-01 2020-08-25 Corning Incorporated Apparatuses and methods for laser processing laminate workpiece stacks
US10688599B2 (en) 2017-02-09 2020-06-23 Corning Incorporated Apparatus and methods for laser processing transparent workpieces using phase shifted focal lines
US11078112B2 (en) 2017-05-25 2021-08-03 Corning Incorporated Silica-containing substrates with vias having an axially variable sidewall taper and methods for forming the same
US10580725B2 (en) 2017-05-25 2020-03-03 Corning Incorporated Articles having vias with geometry attributes and methods for fabricating the same
US10626040B2 (en) 2017-06-15 2020-04-21 Corning Incorporated Articles capable of individual singulation
US11554984B2 (en) 2018-02-22 2023-01-17 Corning Incorporated Alkali-free borosilicate glasses with low post-HF etch roughness

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04188683A (ja) * 1990-11-19 1992-07-07 Sanyo Electric Co Ltd プレーナ型トンネルジョセフソン素子及びその製造方法
JPH06315829A (ja) * 1993-05-07 1994-11-15 Hitachi Zosen Corp 難削材のベベリング加工方法
JPH10206670A (ja) * 1997-01-10 1998-08-07 Siemens Ag 少なくとも2つの光導波ファイバ端部を熱溶着する方法並びに装置
JP2006156599A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Sekisui Chem Co Ltd ウェハの処理方法及び処理装置
JP2007299881A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法
JP2009043969A (ja) * 2007-08-09 2009-02-26 Osaka Univ 半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04188683A (ja) * 1990-11-19 1992-07-07 Sanyo Electric Co Ltd プレーナ型トンネルジョセフソン素子及びその製造方法
JPH06315829A (ja) * 1993-05-07 1994-11-15 Hitachi Zosen Corp 難削材のベベリング加工方法
JPH10206670A (ja) * 1997-01-10 1998-08-07 Siemens Ag 少なくとも2つの光導波ファイバ端部を熱溶着する方法並びに装置
JP2006156599A (ja) * 2004-11-26 2006-06-15 Sekisui Chem Co Ltd ウェハの処理方法及び処理装置
JP2007299881A (ja) * 2006-04-28 2007-11-15 Matsushita Electric Ind Co Ltd ベベルエッチング装置およびベベルエッチング方法
US20110042007A1 (en) * 2006-04-28 2011-02-24 Panasonic Corporation Etching apparatus and etching method for substrate bevel
JP2009043969A (ja) * 2007-08-09 2009-02-26 Osaka Univ 半導体ウエハ外周部の加工方法及びその装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111421676A (zh) * 2019-01-09 2020-07-17 三星钻石工业股份有限公司 端材去除装置
CN111421676B (zh) * 2019-01-09 2024-04-19 三星钻石工业股份有限公司 端材去除装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR20120018272A (ko) 2012-03-02
CN102343631A (zh) 2012-02-08
TW201210746A (en) 2012-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2012024983A (ja) 脆性材料の面取り方法とその装置
JP6113479B2 (ja) 基板処理装置及び方法
JPH11140648A (ja) プロセスチャンバ装置及び処理装置
JP5370622B1 (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
KR20110139634A (ko) 제진흡인장치 및 동(同) 제진흡인장치를 구비한 레이저 가공기
JP2021153122A (ja) エッジリング、基板支持台、プラズマ処理システム及びエッジリングの交換方法
JP6364789B2 (ja) スクライブ装置
JP2005329471A (ja) ワークの側辺加工方法及び装置
KR20100047923A (ko) 레이저 가공 척과 이를 이용한 레이저 가공 방법
JP2008307747A (ja) 脆性材料の割断方法
TWI433627B (zh) A method for manufacturing a multilayer circuit board in which a conductive material is inserted through a through hole, a conductive material filling device for a through hole, and a method of using the same
JP2007281285A (ja) 基板搬送装置
JP2018009976A (ja) 非接触型回路パターン検査修復装置
JP2018069536A (ja) スクライブ装置およびスクライブ方法
JP4227865B2 (ja) プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置
JP2005262438A (ja) 放電加工装置及び方法
JP2017144459A (ja) プラズマ連携切断方法及びその切断装置
WO2012035721A1 (ja) レーザ加工装置およびレーザ加工方法
KR100817567B1 (ko) 회로 기판의 배선 보수 방법 및 그 장치
JP2013071150A (ja) レーザ加工機
JP2012130932A (ja) レーザ加工装置
JP2008068266A (ja) ウエハ加工方法及び装置
JP2004087635A (ja) 基板貼り合わせ方法及びその装置
KR20150001176A (ko) 기판 처리장치, 이를 구비하는 증착장치, 기판 처리방법 및 증착방법
JP2013184223A (ja) レーザ加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130628

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140424

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140507

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20141001