JP2010027500A - Organic el display, and manufacturing method thereof - Google Patents

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孝司 山田
Manabu Yamatani
学 山谷
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic EL display which hardly generates a dark spot caused by infiltration of moisture, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The organic EL display 1 includes a transparent substrate 10, a first electrode pattern 14, an insulating pattern 16 formed with an inorganic material, a separator 18, an organic EL layer 20, a second electrode pattern 22, and a protective layer 24 formed with an inorganic material. The organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22 are surrounded by the first electrode pattern 14, the insulating pattern 16 and the protective layer 24. The organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18, are separated by the protective layer 24 by arranging the protective layer 24 between the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22, and the separator 18. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a passive matrix driving type organic EL display device and a manufacturing method thereof.

有機EL表示装置は、多数の有機EL素子が格子状に並べられて構成されている。ここで、有機EL素子は、一般に、一対の電極(陽極及び陰極)によって発光層が挟持されたものである。発光層は、電極間に電圧が印加されることで発光する。しかしながら、水分が滲入して、電極が酸化したり発光層と電極とが剥離したりすることで、発光層に発光しなくなる部位(黒点やダークスポットともいう)が発生することがある。従って、有機EL表示装置においては、水分の滲入によるダークスポットの発生を防ぐ技術が極めて重要である。   An organic EL display device is configured by arranging a large number of organic EL elements in a lattice pattern. Here, the organic EL element generally has a light emitting layer sandwiched between a pair of electrodes (anode and cathode). The light emitting layer emits light when a voltage is applied between the electrodes. However, when moisture permeates and the electrode is oxidized or the light emitting layer and the electrode are separated, a portion (also referred to as a black spot or a dark spot) that does not emit light may be generated in the light emitting layer. Therefore, in the organic EL display device, a technique for preventing the generation of dark spots due to moisture infiltration is extremely important.

そこで、従来、ガラス基板と、ITO電極、有機発光材料層及び陰極がこの順でガラス基板上に積層されてなる有機EL素子と、積層体を覆うように配置された封止缶と、ガラス基板と封止缶とを接着して、ガラス基板と封止缶とによって画成される空間内を密閉する封止材と、封止缶のうち当該空間内に向かう壁面に設けられた乾燥剤とを備える有機EL表示装置が知られている(例えば、下記特許文献1参照)。この有機EL表示装置では、有機EL素子をガラス基板、封止缶及び封止剤で密閉しているので、その密閉空間内に水分が滲入し難くなっており、また、密閉空間内に乾燥剤を配置しているので、密閉空間内に水分が滲入したとしても密閉空間内の吸湿を行えるようになっている。   Therefore, conventionally, a glass substrate, an organic EL element in which an ITO electrode, an organic light emitting material layer and a cathode are laminated on the glass substrate in this order, a sealing can disposed so as to cover the laminate, and a glass substrate And a sealing material that seals the inside of the space defined by the glass substrate and the sealing can, and a desiccant provided on the wall surface of the sealing can facing the space There is known an organic EL display device including the above (for example, see Patent Document 1 below). In this organic EL display device, since the organic EL element is sealed with a glass substrate, a sealing can and a sealing agent, it is difficult for moisture to penetrate into the sealed space, and the desiccant is contained in the sealed space. Therefore, even if moisture permeates into the sealed space, moisture absorption in the sealed space can be performed.

しかしながら、従来の有機EL表示装置は、乾燥剤を収容する封止缶を備えるものであったため、薄型化に限界があった。そこで、従来、電子注入電極における基板とは反対側の面に、SiO(ここで、0.1≦x≦1、0.1≦y≦1)からなる封止膜をプラズマCVD法によって設けるようにした有機EL素子が知られている(例えば、下記特許文献2参照)。このようにすると、封止膜が極めて緻密となるので、有機EL素子内への水分の滲入が大きく抑制され、且つ、封止膜によって封止されることにより封止缶や乾燥剤が不要となるので、有機EL素子の薄型化に大きく貢献することとなる。
特開平9−148066号公報 特開2001−060491号公報
However, since the conventional organic EL display device includes a sealing can that contains a desiccant, there is a limit to reducing the thickness. Therefore, conventionally, a sealing film made of SiO x N y (where 0.1 ≦ x ≦ 1, 0.1 ≦ y ≦ 1) is formed on the surface of the electron injection electrode opposite to the substrate by plasma CVD. There is known an organic EL element provided by (see, for example, Patent Document 2 below). In this way, since the sealing film becomes extremely dense, the infiltration of moisture into the organic EL element is greatly suppressed, and the sealing can and the desiccant are not required by sealing with the sealing film. Therefore, this greatly contributes to the thinning of the organic EL element.
Japanese Patent Laid-Open No. 9-148066 JP 2001-060491 A

ところで、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置においては、有機EL層及び陰極を分離して画素を区画するために、一般に、分離体が必要である。この分離体は、有機EL層及び陰極を分離するという目的のため、有機EL層及び陰極の厚さよりも厚くなるように形成されることから、分離体には、クラックやピンホール等の欠陥が生じやすい。   By the way, in a passive matrix driving type organic EL display device, in order to separate the organic EL layer and the cathode to partition the pixels, a separator is generally required. Since this separator is formed to be thicker than the organic EL layer and the cathode for the purpose of separating the organic EL layer and the cathode, the separator has defects such as cracks and pinholes. Prone to occur.

ところが、この分離体自身は発光しないので、分離体にクラックやピンホール等の欠陥があった場合でも、出荷検査において分離体における欠陥を検出することが極めて困難であった。つまり、分離体における欠陥から水分が滲入して、発光層においてダークスポットが発生するまで、欠陥の存在を把握することが極めて困難であった。そのため、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置においては、従来の有機EL表示装置と比較して、より優れた水分の侵入対策が求められていた。このとき、上記特許文献2に記載された有機EL素子のように、プラズマCVD法によって酸窒化ケイ素からなる封止膜を形成することも考えられる。しかしながら、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置においては、構造上分離体が必要であり、この分離体の存在により、封止膜及び他の無機材料を用いての有機EL層の完全な隔離が困難であった。   However, since the separated body itself does not emit light, it is extremely difficult to detect the defect in the separated body in the shipping inspection even when the separated body has defects such as cracks and pinholes. That is, it is extremely difficult to grasp the presence of defects until moisture permeates from the defects in the separator and dark spots are generated in the light emitting layer. For this reason, in the passive matrix driving type organic EL display device, more excellent countermeasures against moisture invasion are required as compared with the conventional organic EL display device. At this time, it is also conceivable to form a sealing film made of silicon oxynitride by a plasma CVD method as in the organic EL element described in Patent Document 2 above. However, in the passive matrix driving type organic EL display device, a separator is required in terms of structure, and the presence of this separator makes it possible to completely isolate the organic EL layer using a sealing film and other inorganic materials. It was difficult.

そこで、本発明は、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生することのない有機EL表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   In view of the above, an object of the present invention is to provide an organic EL display device in which dark spots due to moisture permeation hardly occur and a method for manufacturing the same.

本発明に係る有機EL表示装置は、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置であって、透明基板と、互いに離間するように、透明基板上に配置された複数の第1電極パターンと、複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するように、透明基板上及び複数の第1電極パターン上に配置された絶縁パターンと、絶縁パターン上に配置された複数の分離体と、複数の第1電極パターン上及び絶縁パターン上に配置された複数の有機EL層と、複数の有機EL層上にそれぞれ対応して配置された複数の第2電極パターンと、無機材料によって構成され、絶縁パターン、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する保護層とを備え、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンは、複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び保護層によって囲まれ、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に保護層が配置されることにより、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが保護層によって隔離されており、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分が無機材料によって構成されていることを特徴とする。   An organic EL display device according to the present invention is a passive matrix driving type organic EL display device, and includes a transparent substrate, a plurality of first electrode patterns disposed on the transparent substrate so as to be spaced apart from each other, and a plurality of first electrode patterns. An insulating pattern disposed on the transparent substrate and the plurality of first electrode patterns so as to insulate the first electrode patterns from each other and to expose a predetermined portion of the surface of the plurality of first electrode patterns, and on the insulating pattern A plurality of separators arranged, a plurality of organic EL layers arranged on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern, and a plurality of second electrodes respectively arranged corresponding to the plurality of organic EL layers A pattern and a protective layer that is made of an inorganic material and covers the insulating pattern, the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns, and includes a plurality of organic EL layers and The plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer, and the protective layer is disposed between the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator. Thus, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator are separated by the protective layer, and at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is made of an inorganic material. It is characterized by being.

本発明に係る有機EL表示装置では、無機材料によって構成された保護層が、絶縁パターン、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆しており、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンが、複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び保護層によって囲まれていると共に、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分が無機材料によって構成されている。つまり、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが、無機材料である保護層及び絶縁パターンのうち無機材料によって構成されている部分によって隔離されている。そのため、複数の有機EL層と分離体との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体に欠陥があった場合でも、有機EL層に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   In the organic EL display device according to the present invention, the protective layer made of an inorganic material covers the insulating pattern, the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns, and the plurality of organic EL The layer and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer, and at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is made of an inorganic material. Has been. That is, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated from each other by a portion formed of the inorganic material among the protective layer and the insulating pattern that are inorganic materials. Therefore, moisture hardly permeates between the plurality of organic EL layers and the separator. As a result, even when there is a defect in the separator, moisture hardly penetrates into the organic EL layer, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

好ましくは、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分の水分透過率が10−3g/m・day以下である。ここで、水分透過率が10−3g/m・dayの場合、水1gでの水分子の量が6.02×1023/18[分子/g]であるから、単位時間・単位面積当たりの水分子の数は3.87×1010[個/cm・s]である。そして、単位面積当たりの有機分子の数が1014[個/cm]である有機EL層が100層あると仮定すると、全ての有機分子が破壊されるまでの時間tは、
t=1014×100/(3.87×1010×60)≒71.8[時間]
となる。つまり、水分透過率が10−3g/m・day以下であれば、絶縁パターンを形成してから保護層を形成するまでの間における水分の滲入による有機EL層でのダークスポットの発生を約1〜2日の間抑制することが可能となる。その結果、有機EL表示装置を安定して生産することが可能となる。
Preferably, at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator has a moisture permeability of 10 −3 g / m 2 · day or less. Here, if the moisture permeability is 10 -3 g / m 2 · day , since the amount of water molecules in the water 1g is 6.02 × 10 23/18 [molecules / g], unit time and per unit area The number of water molecules per hit is 3.87 × 10 10 [pieces / cm 2 · s]. Assuming that there are 100 organic EL layers having 10 14 [molecules / cm 2 ] organic molecules per unit area, the time t until all organic molecules are destroyed is
t = 10 14 × 100 / (3.87 × 10 10 × 60 2 ) ≈71.8 [hours]
It becomes. In other words, if the moisture permeability is 10 −3 g / m 2 · day or less, the generation of dark spots in the organic EL layer due to the penetration of moisture between the formation of the insulating pattern and the formation of the protective layer. It can be suppressed for about 1-2 days. As a result, the organic EL display device can be stably produced.

より好ましくは、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含む。   More preferably, at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is mainly composed of any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. Include as.

より好ましくは、絶縁パターンのうち保護層及び分離体と接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含んでおり、絶縁パターンのうち残余部分が樹脂である。   More preferably, the portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is mainly composed of any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. The remaining part of the insulating pattern is resin.

さらにより好ましくは、残余部分が感光性樹脂である。このようにすると、絶縁パターンの残余部分について、簡便に形成することが可能となる。   Even more preferably, the remaining part is a photosensitive resin. If it does in this way, it will become possible to form easily about the remaining part of an insulating pattern.

また、本発明に係る有機EL表示装置は、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置であって、透明基板と、互いに離間するように、透明基板上に配置された複数の第1電極パターンと、複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するように、透明基板上及び複数の第1電極パターン上に配置された絶縁パターンと、絶縁パターン上に配置された複数の分離体と、複数の第1電極パターン上及び絶縁パターン上に配置された複数の有機EL層と、複数の有機EL層上にそれぞれ対応して配置された複数の第2電極パターンと、無機材料によって構成され、絶縁パターン、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する保護層とを備え、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンは、複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び保護層によって囲まれ、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に保護層が配置されることにより、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが保護層によって隔離されており、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分が無機材料によって構成されていることを特徴とする。   The organic EL display device according to the present invention is a passive matrix driving type organic EL display device, and includes a transparent substrate and a plurality of first electrode patterns arranged on the transparent substrate so as to be separated from each other, An insulating pattern disposed on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns so as to insulate the plurality of first electrode patterns from each other and expose a predetermined portion of the surfaces of the plurality of first electrode patterns; A plurality of separators disposed above, a plurality of organic EL layers disposed on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern, and a plurality of first layers disposed respectively corresponding to the plurality of organic EL layers. A two-electrode pattern and a protective layer that is made of an inorganic material and covers an insulating pattern, a plurality of separators, a plurality of organic EL layers, and a plurality of second electrode patterns. The layer and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer, and the protective layer is disposed between the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator. Accordingly, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated by the protective layer, and at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is formed of an inorganic material. It is characterized by being.

本発明に係る有機EL表示装置では、無機材料によって構成された保護層が、絶縁パターン、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆しており、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンが、複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び保護層によって囲まれていると共に、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分が無機材料によって構成されている。つまり、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが、無機材料である保護層及び分離体のうち無機材料によって構成されている部分によって隔離されている。そのため、複数の有機EL層と分離体との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体に欠陥があった場合でも、有機EL層に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   In the organic EL display device according to the present invention, the protective layer made of an inorganic material covers the insulating pattern, the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns, and the plurality of organic EL The layer and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer, and at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is made of an inorganic material. Has been. In other words, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated by the protective layer and the separator, which are inorganic materials, by the portion constituted by the inorganic material. Therefore, moisture hardly permeates between the plurality of organic EL layers and the separator. As a result, even when there is a defect in the separator, moisture hardly penetrates into the organic EL layer, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

好ましくは、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分の水分透過率が10−3g/m・day以下である。ここで、水分透過率が10−3g/m・dayの場合、水1gでの水分子の量が6.02×1023/18[分子/g]であるから、単位時間・単位面積当たりの水分子の数は3.87×1010[個/cm・s]である。そして、単位面積当たりの有機分子の数が1014[個/cm]である有機EL層が100層あると仮定すると、全ての有機分子が破壊されるまでの時間tは、
t=1014×100/(3.87×1010×60)≒71.8[時間]
となる。つまり、水分透過率が10−3g/m・day以下であれば、絶縁パターンを形成してから保護層を形成するまでの間における水分の滲入による有機EL層でのダークスポットの発生を約1〜2日の間抑制することが可能となる。その結果、有機EL表示装置を安定して生産することが可能となる。
Preferably, the moisture permeability of at least a portion in contact with the protective layer and the insulating pattern in the separator is 10 −3 g / m 2 · day or less. Here, if the moisture permeability is 10 -3 g / m 2 · day , since the amount of water molecules in the water 1g is 6.02 × 10 23/18 [molecules / g], unit time and per unit area The number of water molecules per hit is 3.87 × 10 10 [pieces / cm 2 · s]. Assuming that there are 100 organic EL layers having 10 14 [molecules / cm 2 ] organic molecules per unit area, the time t until all organic molecules are destroyed is
t = 10 14 × 100 / (3.87 × 10 10 × 60 2 ) ≈71.8 [hours]
It becomes. In other words, if the moisture permeability is 10 −3 g / m 2 · day or less, the generation of dark spots in the organic EL layer due to the penetration of moisture between the formation of the insulating pattern and the formation of the protective layer. It can be suppressed for about 1-2 days. As a result, the organic EL display device can be stably produced.

より好ましくは、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含む。   More preferably, at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is mainly composed of any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. Include as.

好ましくは、保護層は、透明基板に近い順に、第1保護膜及び第2保護膜を有しており、第2保護膜は、第1保護膜のうち、絶縁パターンと分離体との接触部分を覆う部分の近傍に形成された狭隘部に入り込むように配置されている。このようにすると、水分の滲入をより一層防止することが可能となる。   Preferably, the protective layer has a first protective film and a second protective film in the order closer to the transparent substrate, and the second protective film is a contact portion between the insulating pattern and the separator in the first protective film. It arrange | positions so that it may enter into the narrow part formed in the vicinity of the part which covers. If it does in this way, it will become possible to prevent the penetration of moisture further.

好ましくは、第1保護膜が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含む。   Preferably, the first protective film includes, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material in which hydrogen is added thereto.

好ましくは、透明基板上に配置されると共に、複数の第1電極パターン及び第2電極パターンにそれぞれ対応するように電気的に接続された複数の配線パターンを更に備え、保護層が、複数の配線パターンの少なくとも一部を覆う。このようにすると、例えば、複数の配線パターンのうち隣り合う配線パターンの短絡等を防止することが可能となる。   Preferably, the semiconductor device further includes a plurality of wiring patterns disposed on the transparent substrate and electrically connected to correspond to the plurality of first electrode patterns and the second electrode patterns, respectively, and the protective layer includes a plurality of wirings. Cover at least part of the pattern. If it does in this way, it will become possible to prevent a short circuit etc. of an adjacent wiring pattern among a plurality of wiring patterns, for example.

一方、本発明に係る有機EL表示装置の製造方法は、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置の製造方法であって、互いに離間するように、透明基板上に複数の第1電極パターンを形成する第1工程と、複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するような絶縁パターンを、透明基板上及び複数の第1電極パターン上に形成する第2工程と、複数の分離体を絶縁パターン上に形成する第3工程と、複数の有機EL層を複数の第1電極パターン上及び絶縁パターン上に形成する第4工程と、複数の第2電極パターンを複数の有機EL層上にそれぞれ対応して形成する第5工程と、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成する第6工程と、第1保護膜を被覆する第2保護膜を、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成する第7工程とを備え、第2工程では、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分を無機材料によって形成し、第6工程では、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び第1保護膜によって囲むと共に、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に第1保護膜が位置するように第1保護膜を形成することで、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とを第1保護膜によって隔離することを特徴とする。   On the other hand, the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention is a method for manufacturing an organic EL display device of a passive matrix driving method, and forms a plurality of first electrode patterns on a transparent substrate so as to be separated from each other. Forming an insulating pattern on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns so that the first step and the plurality of first electrode patterns are insulated from each other and a predetermined portion of the surface of the plurality of first electrode patterns is exposed. A second step, a third step of forming a plurality of separators on the insulating pattern, a fourth step of forming a plurality of organic EL layers on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern, and a plurality of second steps A fifth step of forming two electrode patterns correspondingly on the plurality of organic EL layers, and a first protective film covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns. And a seventh step of forming a second protective film covering the first protective film by applying a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent. In the second step, at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is formed of an inorganic material. In the sixth step, a plurality of organic EL layers and a plurality of second electrode patterns are formed on the plurality of first layers. The first protective film is formed so as to be surrounded by the one electrode pattern, the insulating pattern, and the first protective film, and to be positioned between the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator. Thus, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are separated from the separator by the first protective film.

本発明に係る有機EL表示装置の製造方法では、第2工程において、絶縁パターンのうち少なくとも保護層及び分離体と接触している部分を無機材料によって形成し、第6工程において、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び第1保護膜によって囲むと共に、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に第1保護膜が位置するように第1保護膜を形成することで、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とを第1保護膜によって隔離している。つまり、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが、無機材料である保護層及び絶縁パターンのうち無機材料によって構成されている部分によって隔離される。そのため、複数の有機EL層と分離体との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体に欠陥があった場合でも、有機EL層に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   In the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, in the second step, at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is formed of an inorganic material, and in the sixth step, a plurality of organic EL devices are formed. The layer and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the first protective film, and the first protective film is interposed between the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator. By forming the first protective film so as to be positioned, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated by the first protective film. That is, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are isolated by the protective layer that is an inorganic material and the portion that is made of the inorganic material among the insulating patterns. Therefore, moisture hardly permeates between the plurality of organic EL layers and the separator. As a result, even when there is a defect in the separator, moisture hardly penetrates into the organic EL layer, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

ところで、第2電極パターン上に異物があるような場合、第1保護膜によって当該異物の全体を覆うことができれば、水分が滲入する虞が極めて低くなるが、第1保護膜は蒸着法により形成することから、一般に、第1保護膜を厚膜化することはコストがかかることとなる。一方、第2保護膜は塗布液を塗布することにより形成されるので、比較的容易に厚膜化することが可能であるが、当該塗布液は有機溶剤を含んでいるため、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを第2保護膜で覆うようにすると有機EL層に有機分子が破壊されてしまう。   By the way, when there is a foreign substance on the second electrode pattern, if the whole of the foreign substance can be covered with the first protective film, there is a very low possibility that moisture will permeate, but the first protective film is formed by vapor deposition. Therefore, in general, increasing the thickness of the first protective film is costly. On the other hand, since the second protective film is formed by applying a coating solution, it can be made relatively thick. However, since the coating solution contains an organic solvent, a plurality of separators are formed. When the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are covered with the second protective film, organic molecules are destroyed in the organic EL layer.

しかしながら、本発明に係る有機EL表示装置の製造方法では、第6工程において、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成し、第7工程において、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成している。そのため、第2電極パターン上に異物があるような場合であっても、第2保護膜によって当該異物の全体を覆うことができるので、水分の滲入を十分に抑制することが可能となる。   However, in the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, in the sixth step, the first protective film covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns is made of an inorganic material. In the seventh step, a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent is applied. Therefore, even when there is a foreign substance on the second electrode pattern, the entire foreign substance can be covered by the second protective film, so that it is possible to sufficiently suppress the penetration of moisture.

また、本発明に係る有機EL表示装置の製造方法は、パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置の製造方法であって、互いに離間するように、透明基板上に複数の第1電極パターンを形成する第1工程と、複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するような絶縁パターンを、透明基板上及び複数の第1電極パターン上に形成する第2工程と、複数の分離体を絶縁パターン上にそれぞれ対応して形成する第3工程と、複数の有機EL層を複数の第1電極パターン上及び絶縁パターン上に形成する第4工程と、複数の第2電極パターンを複数の有機EL層上にそれぞれ対応して形成する第5工程と、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成する第6工程と、第1保護膜を被覆する第2保護膜を、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成する第7工程とを備え、第3工程では、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分を無機材料によって形成し、第6工程では、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び第1保護膜によって囲むと共に、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に第1保護膜が位置するように第1保護膜を形成することで、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とを第1保護膜によって隔離することを特徴とする。   The method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention is a method for manufacturing an organic EL display device of a passive matrix driving method, and forms a plurality of first electrode patterns on a transparent substrate so as to be separated from each other. Forming an insulating pattern on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns so that the first step and the plurality of first electrode patterns are insulated from each other and a predetermined portion of the surface of the plurality of first electrode patterns is exposed. A second step, a third step of forming a plurality of separators correspondingly on the insulating pattern, and a fourth step of forming a plurality of organic EL layers on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern, respectively. A fifth step of forming a plurality of second electrode patterns correspondingly on the plurality of organic EL layers, and a first step of covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns. A sixth step of forming a protective film by an evaporation method using an inorganic material and a second protective film covering the first protective film are formed by applying a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent. And in the third step, at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is formed of an inorganic material. In the sixth step, a plurality of organic EL layers and a plurality of second layers are formed. The electrode pattern is surrounded by a plurality of first electrode patterns, an insulating pattern, and a first protective film, and the first protective film is positioned between the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator. By forming one protective film, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated from each other by the first protective film.

本発明に係る有機EL表示装置の製造方法では、第3工程において、分離体のうち少なくとも保護層及び絶縁パターンと接触している部分を無機材料によって形成し、第6工程において、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを複数の第1電極パターン、絶縁パターン及び第1保護膜によって囲むと共に、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体との間に第1保護膜が位置するように第1保護膜を形成することで、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とを第1保護膜によって隔離している。つまり、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンと分離体とが、無機材料である保護層及び分離体のうち無機材料によって構成されている部分によって隔離されている。そのため、複数の有機EL層と分離体との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体に欠陥があった場合でも、有機EL層に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   In the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, in the third step, at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is formed of an inorganic material, and in the sixth step, a plurality of organic EL devices The layer and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the first protective film, and the first protective film is interposed between the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator. By forming the first protective film so as to be positioned, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated by the first protective film. In other words, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns, and the separator are separated by the protective layer and the separator, which are inorganic materials, by the portion constituted by the inorganic material. Therefore, moisture hardly permeates between the plurality of organic EL layers and the separator. As a result, even when there is a defect in the separator, moisture hardly penetrates into the organic EL layer, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

ところで、第2電極パターン上に異物があるような場合、第1保護膜によって当該異物の全体を覆うことができれば、水分が滲入する虞が極めて低くなるが、第1保護膜は蒸着法により形成することから、一般に、第1保護膜を厚膜化することはコストがかかることとなる。一方、第2保護膜は塗布液を塗布することにより形成されるので、比較的容易に厚膜化することが可能であるが、当該塗布液は有機溶剤を含んでいるため、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを第2保護膜で覆うようにすると有機EL層に有機分子が破壊されてしまう。   By the way, when there is a foreign substance on the second electrode pattern, if the whole of the foreign substance can be covered with the first protective film, there is a very low possibility that moisture will permeate, but the first protective film is formed by vapor deposition. Therefore, in general, increasing the thickness of the first protective film is costly. On the other hand, since the second protective film is formed by applying a coating solution, it can be made relatively thick. However, since the coating solution contains an organic solvent, a plurality of separators are formed. When the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are covered with the second protective film, organic molecules are destroyed in the organic EL layer.

しかしながら、本発明に係る有機EL表示装置の製造方法では、第6工程において、複数の分離体、複数の有機EL層及び複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成し、第7工程において、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成している。そのため、第2電極パターン上に異物があるような場合であっても、第2保護膜によって当該異物の全体を覆うことができるので、水分の滲入を十分に抑制することが可能となる。   However, in the method for manufacturing an organic EL display device according to the present invention, in the sixth step, the first protective film covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns is made of an inorganic material. In the seventh step, a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent is applied. Therefore, even when there is a foreign substance on the second electrode pattern, the entire foreign substance can be covered by the second protective film, so that it is possible to sufficiently suppress the penetration of moisture.

本発明によれば、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生することのない有機EL表示装置及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the organic EL display apparatus with which the dark spot by moisture infiltration hardly generate | occur | produces and its manufacturing method can be provided.

本発明に係る有機EL表示装置1の好適な実施形態について、図面を参照して説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。また、説明中、「上」なる語を使用することがあるが、これは図面の上方向に対応したものである。さらに、以下では、縦横で3×3の画素を有する有機EL表示装置1を例にとって説明しているが、画素の数や画素の配置構造としてはこれに限定されず、有機EL表示装置1の用途に応じて種々の画素数又は種々の画素の配置構造とすることができるのは勿論である。   A preferred embodiment of an organic EL display device 1 according to the present invention will be described with reference to the drawings. In the description, the same reference numerals are used for the same elements or elements having the same function, and a duplicate description is omitted. In the description, the word “upper” is sometimes used, which corresponds to the upper direction of the drawing. Furthermore, in the following description, the organic EL display device 1 having 3 × 3 pixels in the vertical and horizontal directions is described as an example. However, the number of pixels and the arrangement structure of the pixels are not limited thereto, and the organic EL display device 1 Of course, various pixel numbers or various pixel arrangement structures can be used depending on the application.

(有機EL表示装置の構成)
まず、図1〜図4を参照して、有機EL表示装置1の構成について説明する。有機EL表示装置1は、いわゆるパッシブマトリクス駆動方式を採用しており、透明基板10と、複数の配線パターン12と、複数の第1電極パターン14と、絶縁パターン16と、分離体18と、複数の有機EL層20と、複数の第2電極パターン22と、保護層24と、樹脂層26と、保護部材28と、半導体チップ30と、フレキシブルプリント回路(FPC:Flexible Printed Circuit)基板32とを備える。
(Configuration of organic EL display device)
First, the configuration of the organic EL display device 1 will be described with reference to FIGS. The organic EL display device 1 employs a so-called passive matrix driving method, and includes a transparent substrate 10, a plurality of wiring patterns 12, a plurality of first electrode patterns 14, an insulating pattern 16, a separator 18, and a plurality of separators. Organic EL layer 20, a plurality of second electrode patterns 22, a protective layer 24, a resin layer 26, a protective member 28, a semiconductor chip 30, and a flexible printed circuit (FPC) substrate 32. Prepare.

透明基板10は、方形状を呈している。透明基板10の材質としては、特に限定されないが、例えば、エッチングガラス等のガラス基板、樹脂基板、樹脂フィルムが挙げられる。透明基板10の厚みは、例えば、0.2mm〜0.3mm程度に設定することができる。   The transparent substrate 10 has a square shape. Although it does not specifically limit as a material of the transparent substrate 10, For example, glass substrates, such as etching glass, a resin substrate, and a resin film are mentioned. The thickness of the transparent substrate 10 can be set to about 0.2 mm to 0.3 mm, for example.

配線パターン12は、図2に示されるように、透明基板10上に複数形成されている。本実施形態においては、後述する図7等に示されるように、3本の配線パターン12Aが、半導体チップ30と各第1電極パターン14とを物理的且つ電気的に接続するように延びており、3本の配線パターン12Bが、半導体チップ30と各第2電極パターン22とを物理的且つ電気的に接続するように延びており、5本の配線パターン12Cが、半導体チップ30とフレキシブルプリント回路基板32とを電気的に接続するように延びている。   As shown in FIG. 2, a plurality of wiring patterns 12 are formed on the transparent substrate 10. In the present embodiment, as shown in FIG. 7 and the like, which will be described later, three wiring patterns 12A extend so as to physically and electrically connect the semiconductor chip 30 and each first electrode pattern 14. Three wiring patterns 12B extend so as to physically and electrically connect the semiconductor chip 30 and each second electrode pattern 22, and the five wiring patterns 12C include the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit. It extends so as to be electrically connected to the substrate 32.

配線パターン12は、特に限定されるものではなく、例えば補助電極膜、バリアメタル膜若しくは透明電極膜又はこれらが2層以上積層されたものによって構成することができる。   The wiring pattern 12 is not particularly limited, and can be constituted by, for example, an auxiliary electrode film, a barrier metal film, a transparent electrode film, or a laminate of two or more layers thereof.

第1電極パターン14は、透明基板10上に複数(本実施形態においては3つ)形成されている。各第1電極パターン14は、図3に示されるように、一方向に延在すると共に互いに略平行となるように、透明基板10上に配置されている。各第1電極パターン14は、後述する図7等に示されるように、各配線パターン12Bとそれぞれ物理的且つ電気的に接続されている。   A plurality (three in the present embodiment) of first electrode patterns 14 are formed on the transparent substrate 10. As shown in FIG. 3, each first electrode pattern 14 is arranged on the transparent substrate 10 so as to extend in one direction and be substantially parallel to each other. Each first electrode pattern 14 is physically and electrically connected to each wiring pattern 12B, as shown in FIG.

第1電極パターン14は、例えばITOによって構成される。第1電極パターン14の厚みは、例えば10nm〜300nm程度に設定することができる。   The first electrode pattern 14 is made of, for example, ITO. The thickness of the first electrode pattern 14 can be set to, for example, about 10 nm to 300 nm.

絶縁パターン16は、透明基板10及び第1電極パターン14上に形成されている。絶縁パターン16は、図3に示されるように、複数(本実施形態においては4つ)の第1部分16aと、複数(本実施形態においては4つ)の第2部分16bとを有している。   The insulating pattern 16 is formed on the transparent substrate 10 and the first electrode pattern 14. As shown in FIG. 3, the insulating pattern 16 includes a plurality (four in the present embodiment) of first portions 16 a and a plurality (four in the present embodiment) of second portions 16 b. Yes.

各第1部分16aは、各第1電極パターン14に略直交して延在すると共に互いに略平行となるように、透明基板10及び第1電極パターン14上に配置されている。各第2部分16bは、各第1電極パターン14のうち隣り合う第1電極パターン14間に位置するように、透明基板10及び第1電極パターン14上に配置されている。そのため、絶縁パターン16は、各第1部分16aと各第2部分16bとによって格子状となるように構成されている。   Each first portion 16a is disposed on the transparent substrate 10 and the first electrode pattern 14 so as to extend substantially orthogonal to each first electrode pattern 14 and to be substantially parallel to each other. Each second portion 16 b is disposed on the transparent substrate 10 and the first electrode pattern 14 so as to be positioned between adjacent first electrode patterns 14 among the first electrode patterns 14. Therefore, the insulating pattern 16 is configured to have a lattice shape by the first portions 16a and the second portions 16b.

絶縁パターン16は、本実施形態において、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のうちいずれか一つを主成分として含んで構成される。絶縁パターン16の厚みは、例えば0.1μm〜10μm程度に設定することができる。   In the present embodiment, the insulating pattern 16 includes one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material obtained by adding hydrogen to these as a main component. The thickness of the insulating pattern 16 can be set to about 0.1 μm to 10 μm, for example.

絶縁パターン16の水分透過率は、10−3g/m・day以下であることが好ましい。ここで、水分透過率が10−3g/m・dayの場合、水1gでの水分子の量が6.02×1023/18[分子/g]であるから、単位時間・単位面積当たりの水分子の数は3.87×1010[個/cm・s]である。そして、単位面積当たりの有機分子の数が1014[個/cm]である有機EL層20が100層あると仮定すると、全ての有機分子が破壊されるまでの時間tは、
t=1014×100/(3.87×1010×60)≒71.8[時間]
となる。つまり、水分透過率が10−3g/m・day以下であれば、絶縁パターン16を形成してから保護層24を形成するまでの間における水分の滲入による有機EL層20でのダークスポットの発生を約1〜2日の間抑制することが可能となる。その結果、有機EL表示装置1を安定して生産することが可能となる。
The moisture permeability of the insulating pattern 16 is preferably 10 −3 g / m 2 · day or less. Here, if the moisture permeability is 10 -3 g / m 2 · day , since the amount of water molecules in the water 1g is 6.02 × 10 23/18 [molecules / g], unit time and per unit area The number of water molecules per hit is 3.87 × 10 10 [pieces / cm 2 · s]. Assuming that there are 100 organic EL layers 20 in which the number of organic molecules per unit area is 10 14 [pieces / cm 2 ], the time t until all organic molecules are destroyed is
t = 10 14 × 100 / (3.87 × 10 10 × 60 2 ) ≈71.8 [hours]
It becomes. That is, if the moisture permeability is 10 −3 g / m 2 · day or less, the dark spots in the organic EL layer 20 due to the penetration of moisture between the formation of the insulating pattern 16 and the formation of the protective layer 24. Can be suppressed for about 1-2 days. As a result, the organic EL display device 1 can be stably produced.

分離体18は、図2〜図4に示されるように、絶縁パターン16の各第1部分16a上にそれぞれ対応して複数(本実施形態においては4つ)形成されている。各分離体18は、各第1部分16a上において、第1部分16aの長手方向に延在すると共に互いに略平行となるように、各第1部分16a上に配置されている。   As shown in FIGS. 2 to 4, a plurality of (four in the present embodiment) the separators 18 are formed on the first portions 16 a of the insulating pattern 16. Each separator 18 is disposed on each first portion 16a so as to extend in the longitudinal direction of the first portion 16a and to be substantially parallel to each other on each first portion 16a.

分離体18は、例えば感光性樹脂によって構成される。分離体18の厚みは、有機EL層20及び第2電極パターン22を分離(詳しくは後述する)するのに十分な高さ、例えば1μm〜20μm程度に設定することができる。また、分離体18の形状についても、有機EL層20及び第2電極パターン22が分離(詳しくは後述する)され、その表面に第2電極パターン22が付着しない領域が存在するようなオーバハング形状であればよい。   The separator 18 is made of, for example, a photosensitive resin. The thickness of the separator 18 can be set to a height sufficient to separate the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22 (described in detail later), for example, about 1 μm to 20 μm. Also, the shape of the separator 18 is an overhang shape in which the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22 are separated (details will be described later), and there is a region where the second electrode pattern 22 does not adhere to the surface. I just need it.

有機EL層20は、図2〜図4に示されるように、各分離体18のうち隣り合う分離体18間に位置するように、各第1電極パターン14上及び絶縁パターン16上に複数(本実施形態においては3つ)配置されている。具体的には、各有機EL層20は、絶縁パターン16の各第1部分16aのうち隣り合う第1部分16aの間に位置している。各有機EL層20のうち延在方向に平行な両縁部は、各第1部分16aのうち延在方向に略平行な縁部を覆っている。また、各有機EL層20は、各分離体18の上面を覆うように配置されている。   As shown in FIGS. 2 to 4, a plurality of organic EL layers 20 are formed on the first electrode patterns 14 and the insulating patterns 16 so as to be positioned between the adjacent separators 18 among the separators 18 ( In this embodiment, three) are arranged. Specifically, each organic EL layer 20 is located between adjacent first portions 16 a among the first portions 16 a of the insulating pattern 16. Both edges of each organic EL layer 20 parallel to the extending direction cover edges of each first portion 16a substantially parallel to the extending direction. Each organic EL layer 20 is disposed so as to cover the upper surface of each separator 18.

有機EL層20の材料は、特に限定されないが、例えば正孔輸送層、発光層、電子輸送層によって構成される公知のものを利用できる。有機EL層20の厚みは、例えば5nm〜500nm程度に設定することができる。   Although the material of the organic EL layer 20 is not particularly limited, for example, a known material composed of a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer can be used. The thickness of the organic EL layer 20 can be set to about 5 nm to 500 nm, for example.

第2電極パターン22は、各有機EL層20上にそれぞれ対応して複数(本実施形態においては3つ)配置されている。そのため、各第2電極パターン22は、図3に示されるように、一方向に延在すると共に互いに略平行とされている。各第2電極パターン22にのうち延在方向に平行な両縁部は、各有機EL層20のうち延在方向に略平行な縁部の近傍に位置している。各第2電極パターン22は、後述する図13に示されるように、各配線パターン12Aとそれぞれ物理的且つ電気的に接続されている。また、各第2電極パターン22は、各分離体18の上面に形成された各有機EL層20を覆うように配置されている。   A plurality (three in the present embodiment) of second electrode patterns 22 are arranged on each organic EL layer 20 correspondingly. Therefore, as shown in FIG. 3, the second electrode patterns 22 extend in one direction and are substantially parallel to each other. Both edges of each second electrode pattern 22 parallel to the extending direction are located in the vicinity of the edges of each organic EL layer 20 substantially parallel to the extending direction. Each second electrode pattern 22 is physically and electrically connected to each wiring pattern 12A as shown in FIG. Each second electrode pattern 22 is arranged so as to cover each organic EL layer 20 formed on the upper surface of each separator 18.

第2電極パターン22は、例えばAlによって構成される。第2電極パターン22の厚みは、例えば50nm〜1μm程度に設定することができる。   The second electrode pattern 22 is made of, for example, Al. The thickness of the second electrode pattern 22 can be set to, for example, about 50 nm to 1 μm.

保護層24は、図1に示されるように、透明基板10のうち半導体チップ30及びフレキシブルプリント回路基板32が実装されている部分以外の大部分を覆っている。具体的には、図2〜図4に示されるように、保護層24は、配線パターン12、絶縁パターン16、分離体18、有機EL層20及び第2電極パターン22を主として被覆している。そのため、各有機EL層20及び各第2電極パターン22は、各第1電極パターン14、絶縁パターン16及び保護層24によって囲まれることとなる。   As shown in FIG. 1, the protective layer 24 covers most of the transparent substrate 10 other than the portion where the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 are mounted. Specifically, as shown in FIGS. 2 to 4, the protective layer 24 mainly covers the wiring pattern 12, the insulating pattern 16, the separator 18, the organic EL layer 20, and the second electrode pattern 22. Therefore, each organic EL layer 20 and each second electrode pattern 22 are surrounded by each first electrode pattern 14, insulating pattern 16, and protective layer 24.

保護層24は、透明基板10に近い順に第1保護膜24a及び第2保護膜24bを有している。保護膜24(第1保護膜24a及び第2保護膜24b)は、無機材料によって構成される。   The protective layer 24 includes a first protective film 24 a and a second protective film 24 b in the order closer to the transparent substrate 10. The protective film 24 (the first protective film 24a and the second protective film 24b) is made of an inorganic material.

具体的には、第1保護膜24aは、本実施形態において、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のうちいずれか一つを主成分として含んで構成される。第1保護膜24aの厚みは、例えば0.1μm〜3μm程度に設定することができる。第2保護膜24bは、本実施形態において、SOG(Spin On Glass:ケイ素化合物をアルコール等の有機溶剤に溶解させた塗布液)やポリシラザン等の無機系コーティング材料によって構成される。第2保護膜24bの厚みは、例えば0.5μm〜10μm程度に設定することができる。   Specifically, in the present embodiment, the first protective film 24a includes, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material in which hydrogen is added thereto. Composed. The thickness of the first protective film 24a can be set to, for example, about 0.1 μm to 3 μm. In the present embodiment, the second protective film 24b is made of an inorganic coating material such as SOG (Spin On Glass: a coating solution obtained by dissolving a silicon compound in an organic solvent such as alcohol) or polysilazane. The thickness of the second protective film 24b can be set to about 0.5 μm to 10 μm, for example.

第1保護膜24aは、各部材の表面を略均一の厚さ(例えば0.1μm〜3μm程度)で覆っている。そのため、第1保護膜24aのうち絶縁パターン16と分離体18との接触部分を覆う部分の近傍には、図4に示されるように、狭隘部Nが形成されている。第2保護膜24bは、この狭隘部Nに入り込むように配置されている。このように、各有機EL層20及び各第2電極パターン22と各分離体18との間に保護層24(第1保護膜24a及び第2保護膜24b)が配置されることにより、各有機EL層20及び各第2電極パターン22と各分離体18とが保護層24によって隔離される。   The first protective film 24a covers the surface of each member with a substantially uniform thickness (for example, about 0.1 μm to 3 μm). Therefore, a narrow portion N is formed in the vicinity of the portion of the first protective film 24a that covers the contact portion between the insulating pattern 16 and the separator 18, as shown in FIG. The second protective film 24b is disposed so as to enter the narrowed portion N. As described above, the protective layer 24 (the first protective film 24 a and the second protective film 24 b) is disposed between each organic EL layer 20 and each second electrode pattern 22 and each separator 18. The EL layer 20, each second electrode pattern 22, and each separator 18 are isolated by the protective layer 24.

樹脂層26は、保護層24のうち半導体チップ30及びフレキシブルプリント回路基板32側を除く大部分を被覆するように保護層24上に形成されている。樹脂層26は、例えばエポキシ樹脂等の接着性を有する樹脂によって構成される。樹脂層26のうち各分離体18の上方以外に位置する部分の厚みd1は、保護層24のうち各分離体18の上方に位置する部分の表面高さと保護層24のうち各分離体18の上方以外に位置する部分の表面高さとの差d2(例えば、0.1μm〜10μm程度)よりも大きいと好ましく、例えば5μm〜100μm程度に設定することができる。   The resin layer 26 is formed on the protective layer 24 so as to cover most of the protective layer 24 except for the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 side. The resin layer 26 is made of an adhesive resin such as an epoxy resin. The thickness d1 of the portion of the resin layer 26 positioned other than above each separator 18 is the surface height of the portion of the protective layer 24 positioned above each separator 18 and the thickness of each separator 18 of the protective layer 24. It is preferable to be larger than the difference d2 (for example, about 0.1 μm to 10 μm) from the surface height of the portion located other than above, and can be set to about 5 μm to 100 μm, for example.

ここで、樹脂層26のショアA硬度が80以上又は樹脂層26のショアD硬度が30以上であると好ましい。樹脂層26のショアA硬度が80未満又は樹脂層26のショアD硬度が30未満であると、外力に対して樹脂層26が変形しやすいので、有機EL表示装置1に外力が与えられた場合に、有機EL層20、保護層24(第1保護膜24a及び第2保護膜24b)等に損傷が生じる傾向にある。   Here, the Shore A hardness of the resin layer 26 is preferably 80 or more, or the Shore D hardness of the resin layer 26 is preferably 30 or more. When the Shore A hardness of the resin layer 26 is less than 80 or the Shore D hardness of the resin layer 26 is less than 30, the resin layer 26 is easily deformed with respect to an external force, and thus an external force is applied to the organic EL display device 1. In addition, the organic EL layer 20, the protective layer 24 (the first protective film 24a and the second protective film 24b) and the like tend to be damaged.

また、樹脂層26のガラス転移温度が90℃以上であると好ましい。有機EL表示装置1の使用環境における温度範囲は、一般に、−30℃〜80℃であるから、樹脂層26のガラス転移温度が90℃未満(特に常温未満)であると、熱衝撃による収縮応力によって、有機EL層20、第1保護膜24a、第2保護膜24b等に損傷が生じる傾向にある。   The glass transition temperature of the resin layer 26 is preferably 90 ° C. or higher. Since the temperature range in the use environment of the organic EL display device 1 is generally -30 ° C to 80 ° C, if the glass transition temperature of the resin layer 26 is less than 90 ° C (particularly less than room temperature), the shrinkage stress due to thermal shock is As a result, the organic EL layer 20, the first protective film 24a, the second protective film 24b, etc. tend to be damaged.

保護部材28は、方形状を呈しており、樹脂層26上に配置されている。保護部材28は、例えばガラス板、セラミック板、金属板、樹脂フィルムによって構成される。保護部材28の厚みは、透明基板10の厚みと実質的に同一であるか、透明基板10の厚みよりも薄い(透明基板10の厚みが保護部材28の厚みよりも厚い)ことが好ましく、例えば0.05mm〜0.2mm程度に設定することができる。このとき、透明基板10から保護部材28までの厚み、すなわち、有機EL表示装置1の厚みは、0.6mm以下であると好ましい。   The protection member 28 has a rectangular shape and is disposed on the resin layer 26. The protection member 28 is configured by, for example, a glass plate, a ceramic plate, a metal plate, or a resin film. The thickness of the protective member 28 is preferably substantially the same as the thickness of the transparent substrate 10 or thinner than the transparent substrate 10 (the transparent substrate 10 is thicker than the protective member 28). It can be set to about 0.05 mm to 0.2 mm. At this time, the thickness from the transparent substrate 10 to the protective member 28, that is, the thickness of the organic EL display device 1 is preferably 0.6 mm or less.

半導体チップ30及びフレキシブルプリント回路基板32は、図1及び図2に示されるように、透明基板10上に実装されている。半導体チップ30は、フレキシブルプリント回路基板32を介して入力される信号に基づいて、パッシブマトリクス駆動方式により、所望の画素の発光を制御する。フレキシブルプリント回路基板32は、フレキシブルな外部配線手段である。   The semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 are mounted on the transparent substrate 10 as shown in FIGS. The semiconductor chip 30 controls light emission of a desired pixel by a passive matrix driving method based on a signal input via the flexible printed circuit board 32. The flexible printed circuit board 32 is a flexible external wiring unit.

(有機EL表示装置の製造方法)
続いて、図1、図2及び図5〜図14を参照して、有機EL表示装置1の製造方法について説明する。
(Method for manufacturing organic EL display device)
Next, a method for manufacturing the organic EL display device 1 will be described with reference to FIGS. 1, 2, and 5 to 14.

まず、図5及び図6に示されるように、透明基板10上に配線パターン12(12A〜12C)及び第1電極パターン14を形成する。具体的には、配線パターン12(12A〜12C)及び第1電極パターン14となる透明電極材料をスパッタリングにより透明基板10の全面に成膜し、フォトリソグラフィー法によってパターニングすることで、配線パターン12(12A〜12C)及び第1電極パターン14を形成する。   First, as shown in FIGS. 5 and 6, the wiring patterns 12 (12 </ b> A to 12 </ b> C) and the first electrode pattern 14 are formed on the transparent substrate 10. Specifically, the wiring pattern 12 (12A to 12C) and the transparent electrode material to be the first electrode pattern 14 are formed on the entire surface of the transparent substrate 10 by sputtering and patterned by a photolithography method, whereby the wiring pattern 12 ( 12A to 12C) and the first electrode pattern 14 are formed.

続いて、図7及び図8に示されるように、絶縁パターン16を形成する。具体的には、各第1部分16aが各第1電極パターン14に略直交して延在すると共に互いに略平行となり、また、各第2部分16bが各第1電極パターン14のうち隣り合う第1電極パターン14間に位置するように、無機材料を用いてプラズマCVDやスパッタ法といった蒸着法、原子層堆積(ALD:Atomic Layer Deposition)法等により成膜する。   Subsequently, as shown in FIGS. 7 and 8, an insulating pattern 16 is formed. Specifically, each first portion 16 a extends substantially orthogonal to each first electrode pattern 14 and is substantially parallel to each other, and each second portion 16 b is adjacent to each other in each first electrode pattern 14. A film is formed using an inorganic material by an evaporation method such as plasma CVD or sputtering, an atomic layer deposition (ALD) method, or the like so as to be positioned between the one electrode patterns 14.

続いて、図9及び図10に示されるように、各分離体18を絶縁パターン16の各第1部分16a上にそれぞれ対応して形成する。具体的には、感光性樹脂等の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィー法により各分離体18を形成する。   Subsequently, as shown in FIGS. 9 and 10, each separator 18 is formed corresponding to each first portion 16 a of the insulating pattern 16. Specifically, each separator 18 is formed by a photolithography method using a resin material such as a photosensitive resin.

続いて、図11及び図12に示されるように、有機EL層20及び第2電極パターン22を形成する。具体的には、有機EL層20となる公知の材料を用いて蒸着法により、有機EL層20及び第2電極パターン22をそれぞれ成膜する。このとき、各有機EL層20は、各分離体18のうち隣り合う分離体18間に配置されると共に、各分離体18の上面を覆うように配置される。各第2電極パターン22は、各有機EL層20上にそれぞれ対応して配置されると共に、各分離体18の上面に形成された各有機EL層20を覆うように配置される。   Subsequently, as shown in FIGS. 11 and 12, an organic EL layer 20 and a second electrode pattern 22 are formed. Specifically, the organic EL layer 20 and the second electrode pattern 22 are respectively formed by a vapor deposition method using a known material that becomes the organic EL layer 20. At this time, each organic EL layer 20 is disposed between adjacent separators 18 among the respective separators 18 and is disposed so as to cover the upper surface of each separator 18. Each second electrode pattern 22 is arranged corresponding to each organic EL layer 20 and is arranged so as to cover each organic EL layer 20 formed on the upper surface of each separator 18.

続いて、図13及び図14に示されるように、透明基板10のうち半導体チップ30及びフレキシブルプリント回路基板32が実装されている部分以外の大部分を覆う保護層24を形成する。具体的には、無機材料を用いてステップカバレッジ性のよいプラズマCVDやスパッタ法といった蒸着法、原子層堆積法等により、第1保護膜24aを成膜する。そして、無機系コーティング材料を第1保護膜24a上に塗布して硬化させることにより、第2保護膜24bを形成する。   Subsequently, as shown in FIGS. 13 and 14, a protective layer 24 is formed to cover most of the transparent substrate 10 other than the portion where the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 are mounted. Specifically, the first protective film 24a is formed using an inorganic material by an evaporation method such as plasma CVD or sputtering with good step coverage, an atomic layer deposition method, or the like. Then, the second protective film 24b is formed by applying and curing an inorganic coating material on the first protective film 24a.

続いて、図1及び図2に示されるように、樹脂層26及び保護部材28を設ける。具体的には、樹脂層26となる樹脂を第2保護膜24bの所定の領域に塗布し、保護部材28を樹脂に接着させた後、樹脂を硬化させて樹脂層26を形成する。そして、半導体チップ30及びフレキシブルプリント基板32を透明基板10上の所定の位置に搭載する。これにより有機EL表示装置1が完成する。   Subsequently, as shown in FIGS. 1 and 2, a resin layer 26 and a protective member 28 are provided. Specifically, a resin to be the resin layer 26 is applied to a predetermined region of the second protective film 24b, the protective member 28 is adhered to the resin, and then the resin is cured to form the resin layer 26. Then, the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 are mounted at predetermined positions on the transparent substrate 10. Thereby, the organic EL display device 1 is completed.

以上のような本実施形態においては、無機材料によって構成された保護層24が、絶縁パターン16、各分離体18、各有機EL層20及び各第2電極パターン22を被覆しており、各有機EL層20及び各第2電極パターン22が、各第1電極パターン14、絶縁パターン16及び保護層24によって囲まれていると共に、絶縁パターン16が無機材料によって構成されている。つまり、各有機EL層20及び各第2電極パターン22と各分離体18とが、無機材料である保護層24及び無機材料である絶縁パターン16によって隔離されている。そのため、各有機EL層20と各分離体18との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体18に欠陥があった場合でも、有機EL層20に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   In the present embodiment as described above, the protective layer 24 made of an inorganic material covers the insulating pattern 16, each separator 18, each organic EL layer 20, and each second electrode pattern 22. The EL layer 20 and the second electrode patterns 22 are surrounded by the first electrode patterns 14, the insulating patterns 16, and the protective layer 24, and the insulating patterns 16 are made of an inorganic material. That is, each organic EL layer 20, each second electrode pattern 22, and each separator 18 are isolated by the protective layer 24 that is an inorganic material and the insulating pattern 16 that is an inorganic material. Therefore, moisture hardly permeates between each organic EL layer 20 and each separator 18. As a result, even when the separator 18 has a defect, it is difficult for moisture to penetrate into the organic EL layer 20, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

また、本実施形態においては、保護層24が、透明基板10に近い順に、第1保護膜24a及び第2保護膜24bを有しており、第2保護膜24bが、第1保護膜24aのうち、絶縁パターン16と分離体18との接触部分を覆う部分の近傍に形成された狭隘部Nに入り込むように配置されている。そのため、水分の滲入をより一層防止することが可能となっている。   Further, in the present embodiment, the protective layer 24 includes the first protective film 24a and the second protective film 24b in the order closer to the transparent substrate 10, and the second protective film 24b is the first protective film 24a. Among these, it is arranged so as to enter the narrow portion N formed in the vicinity of the portion covering the contact portion between the insulating pattern 16 and the separator 18. Therefore, it is possible to further prevent moisture from entering.

また、本実施形態においては、各配線パターン12が、透明基板10上に配置されると共に、各第1電極パターン14及び各第2電極パターン22にそれぞれ対応するように電気的に接続されており、保護層24が、各配線パターン12の大部分を覆っている。そのため、例えば、各配線パターン12のうち隣り合う配線パターン12の短絡等を防止することが可能となっている。   In the present embodiment, each wiring pattern 12 is disposed on the transparent substrate 10 and is electrically connected to correspond to each first electrode pattern 14 and each second electrode pattern 22. The protective layer 24 covers most of each wiring pattern 12. Therefore, for example, it is possible to prevent a short circuit between adjacent wiring patterns 12 among the wiring patterns 12.

以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記した実施形態に限定されるものではない。例えば、図15に示されるように、絶縁パターン16が樹脂層16A及び無機材料層16Bによって構成されていてもよい。具体的には、絶縁パターン16のうち少なくとも保護層24及び分離体18と接触している部分が無機材料層16Bとなっており、それ以外の残余部分が樹脂層16Aとなっている。この場合であっても、各有機EL層20及び各第2電極パターン22と各分離体18とが、無機材料である保護層24及び絶縁パターン16のうち無機材料層16Bによって隔離されこととなる。そのため、有機EL層20と分離体18との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体18に欠陥があった場合でも、有機EL層20に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   Although the preferred embodiments of the present invention have been described in detail above, the present invention is not limited to the above-described embodiments. For example, as shown in FIG. 15, the insulating pattern 16 may be constituted by a resin layer 16A and an inorganic material layer 16B. Specifically, at least a portion of the insulating pattern 16 that is in contact with the protective layer 24 and the separator 18 is the inorganic material layer 16B, and the remaining portion is the resin layer 16A. Even in this case, each organic EL layer 20, each second electrode pattern 22, and each separator 18 are isolated by the inorganic material layer 16B among the protective layer 24 and the insulating pattern 16 that are inorganic materials. . Therefore, moisture hardly permeates between the organic EL layer 20 and the separator 18. As a result, even when the separator 18 has a defect, it is difficult for moisture to penetrate into the organic EL layer 20, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

ここで、樹脂層16Aは、感光性樹脂等の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィー法により形成することができる。無機材料層16Bは、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のうちいずれか一つを主成分として含んで構成される無機材料を用いて、プラズマCVDやスパッタ法といった蒸着法、原子層堆積法等により成膜することができる。なお、無機材料層16Bの水分透過率は、10−3g/m・day以下であることが好ましい。 Here, the resin layer 16A can be formed by a photolithography method using a resin material such as a photosensitive resin. The inorganic material layer 16B is formed by plasma CVD using an inorganic material containing, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. The film can be formed by vapor deposition such as sputtering or atomic layer deposition. The moisture permeability of the inorganic material layer 16B is preferably 10 −3 g / m 2 · day or less.

また、図16及び図17に示されるように、分離体18が樹脂層18A及び無機材料層18Bによって構成されていてもよい。具体的には、図16においては、分離体18のうち少なくとも保護層24及び絶縁パターン16と接触している部分が無機材料層18Bとなっており、それ以外の残余部分が樹脂層18Aとなっている。また、図17においては、分離体18のうちいわゆるスペーサとしての機能を発揮している部分が無機材料層16Bとなっており、それ以外の残余部分が樹脂層18Aとなっている。この場合であっても、各有機EL層20及び各第2電極パターン22と各分離体18とが、無機材料である保護層24及び分離体18のうち無機材料層18Bによって隔離されている。そのため、有機EL層20と分離体18との間で水分が透過することがほとんどない。その結果、分離体18に欠陥があった場合でも、有機EL層20に水分が滲入し難くなるので、水分の滲入によるダークスポットがほとんど発生しなくなる。   As shown in FIGS. 16 and 17, the separator 18 may be constituted by a resin layer 18 </ b> A and an inorganic material layer 18 </ b> B. Specifically, in FIG. 16, at least a portion of the separator 18 that is in contact with the protective layer 24 and the insulating pattern 16 is the inorganic material layer 18 </ b> B, and the other remaining portion is the resin layer 18 </ b> A. ing. Moreover, in FIG. 17, the part which is exhibiting the function as what is called a spacer among the separators 18 is the inorganic material layer 16B, and the remaining part other than that is the resin layer 18A. Even in this case, each organic EL layer 20, each second electrode pattern 22, and each separator 18 are isolated by the inorganic material layer 18B among the protective layer 24 and the separator 18 that are inorganic materials. Therefore, moisture hardly permeates between the organic EL layer 20 and the separator 18. As a result, even when the separator 18 has a defect, it is difficult for moisture to penetrate into the organic EL layer 20, so that dark spots due to moisture penetration hardly occur.

ここで、樹脂層18Aは、感光性樹脂等の樹脂材料を用いてフォトリソグラフィー法により形成することができる。無機材料層18Bは、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のうちいずれか一つを主成分として含んで構成される無機材料を用いて、プラズマCVDやスパッタ法といった蒸着法、原子層堆積法等により成膜することができる。なお、無機材料層18Bの水分透過率は、10−3g/m・day以下であることが好ましい。 Here, the resin layer 18A can be formed by a photolithography method using a resin material such as a photosensitive resin. The inorganic material layer 18B is formed by plasma CVD using an inorganic material containing, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. The film can be formed by vapor deposition such as sputtering or atomic layer deposition. The moisture permeability of the inorganic material layer 18B is preferably 10 −3 g / m 2 · day or less.

また、本実施形態においては、保護層24が、透明基板10のうち半導体チップ30及びフレキシブルプリント回路基板32が実装されている部分以外の大部分を覆っていたが、これに限られない。すなわち、保護層24が、主として絶縁パターン16、分離体18、有機EL層20及び第2電極パターン22を被覆し、配線パターン12については一部のみを保護層24によって覆うようにしてもよい。   In the present embodiment, the protective layer 24 covers most of the transparent substrate 10 other than the portion where the semiconductor chip 30 and the flexible printed circuit board 32 are mounted. However, the present invention is not limited to this. That is, the protective layer 24 may mainly cover the insulating pattern 16, the separator 18, the organic EL layer 20, and the second electrode pattern 22, and only a part of the wiring pattern 12 may be covered by the protective layer 24.

ここで、樹脂層26の好ましい硬度について、試験により確認した。以下、実施例1−1〜1−6及び図18に基づいて説明する。   Here, the preferable hardness of the resin layer 26 was confirmed by a test. Hereinafter, description will be given based on Examples 1-1 to 1-6 and FIG.

(実施例1−1)
まず、紫外線硬化型エポキシ樹脂を硬化して、JIS K 7215「プラスチックのデュロメータ硬さ試験方法」に準拠してショアD硬度を測定した。実施例1−1では、ショアD硬度が78であった。
(Example 1-1)
First, the ultraviolet curable epoxy resin was cured, and the Shore D hardness was measured in accordance with JIS K 7215 “Plastic Durometer Hardness Test Method”. In Example 1-1, the Shore D hardness was 78.

次に、同じ紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて樹脂層26が構成された有機EL表示装置1を3つ製作した。そして、各有機EL表示装置1に対して、高温高湿貯蔵試験、熱衝撃試験及び加圧試験をそれぞれ行った。   Next, three organic EL display devices 1 in which the resin layer 26 is configured using the same ultraviolet curable epoxy resin were manufactured. And each organic EL display device 1 was subjected to a high-temperature and high-humidity storage test, a thermal shock test, and a pressure test.

ここで、高温高湿貯蔵試験は、有機EL表示装置1を60℃、湿度90%の環境下に500時間保持するものである。熱衝撃試験は、有機EL表示装置1の環境を、−40℃で30分保持した後に、85℃まで昇温して30分保持し、再び−40℃まで冷却するという熱サイクル(温度変化)を100回繰り返すものである。加圧試験は、剛性を有する支持台上に、保護部材28が下向きになるように有機EL表示装置1を載置して、直径10mmの円柱棒で有機EL表示装置1の中心部分に対し、透明基板10側から200Nの荷重を10秒加えるものである。   Here, the high temperature and high humidity storage test is to hold the organic EL display device 1 in an environment of 60 ° C. and 90% humidity for 500 hours. The thermal shock test is a thermal cycle (temperature change) in which the environment of the organic EL display device 1 is held at −40 ° C. for 30 minutes, then heated to 85 ° C., held for 30 minutes, and cooled to −40 ° C. again. Is repeated 100 times. In the pressure test, the organic EL display device 1 is placed on a support base having rigidity so that the protective member 28 faces downward, and a cylindrical bar having a diameter of 10 mm is used to center the organic EL display device 1. A load of 200 N is applied for 10 seconds from the transparent substrate 10 side.

(実施例1−2〜1−4)
使用する樹脂が紫外線硬化型アクリル樹脂であり、ショアD硬度が58、ショアD硬度が30(ショアA硬度が86)、ショアA硬度が74であること以外は、実施例1−1と同様に実施例1−2〜1−4に係る有機EL表示装置1について各試験を行った。
(Examples 1-2 to 1-4)
The resin used is an ultraviolet curable acrylic resin, the Shore D hardness is 58, the Shore D hardness is 30 (Shore A hardness is 86), and the Shore A hardness is 74, as in Example 1-1. Each test was done about the organic electroluminescence display 1 concerning Examples 1-2 to 1-4.

(実施例1−5〜1−6)
使用する樹脂がシリコーン樹脂であり、ショアA硬度が45、ショアA硬度が13であること以外は、実施例1−1と同様に実施例1−5〜1−6に係る有機EL表示装置1について各試験を行った。
(Examples 1-5 to 1-6)
The organic EL display device 1 according to Examples 1-5 to 1-6 is the same as Example 1-1 except that the resin used is a silicone resin and the Shore A hardness is 45 and the Shore A hardness is 13. Each test was conducted.

(評価結果)
各試験終了後に有機EL表示装置1の表示確認を行ったところ、実施例1−1〜1−3に係る有機EL表示装置1では、不具合(ダークスポット)の発生を確認することはできなかった。また、実施例1−4〜1−6に係る有機EL表示装置1では、わずかながら不具合(ダークスポット)が発生していた。従って、樹脂層26のショアA硬度が80以上又は樹脂層26のショアD硬度が30以上であると好ましいことが確認された。
(Evaluation results)
After confirming the display of the organic EL display device 1 after each test, in the organic EL display device 1 according to Examples 1-1 to 1-3, the occurrence of a defect (dark spot) could not be confirmed. . Further, in the organic EL display device 1 according to Examples 1-4 to 1-6, a slight defect (dark spot) occurred. Therefore, it was confirmed that the Shore A hardness of the resin layer 26 is 80 or more, or the Shore D hardness of the resin layer 26 is preferably 30 or more.

続いて、樹脂層26の好ましいガラス転移温度(Tg)について、試験により確認した。以下、実施例2−1〜2−8及び図19に基づいて説明する。   Subsequently, the preferable glass transition temperature (Tg) of the resin layer 26 was confirmed by a test. Hereinafter, description will be given based on Examples 2-1 to 2-8 and FIG.

まず、紫外線硬化型エポキシ樹脂を硬化して、動的粘弾性試験(DMA:Dynamic Mechanical Analysis)の損失正接tanδのピーク値からガラス転移温度を測定した。実施例2−1では、ガラス転移温度が102℃であった。   First, the ultraviolet curable epoxy resin was cured, and the glass transition temperature was measured from the peak value of loss tangent tan δ of a dynamic viscoelasticity test (DMA: Dynamic Mechanical Analysis). In Example 2-1, the glass transition temperature was 102 ° C.

次に、同じ紫外線硬化型エポキシ樹脂を用いて樹脂層26が構成された有機EL表示装置1を3つ製作した。そして、各有機EL表示装置1に対して、高温高湿貯蔵試験、熱衝撃試験及び加圧試験をそれぞれ行った。   Next, three organic EL display devices 1 in which the resin layer 26 is configured using the same ultraviolet curable epoxy resin were manufactured. And each organic EL display device 1 was subjected to a high-temperature and high-humidity storage test, a thermal shock test, and a pressure test.

(実施例2−2〜2−3)
ガラス転移温度が110℃、132℃であること以外は、実施例2−1と同様に実施例2−2〜2−3に係る有機EL表示装置1について各試験を行った。
(Examples 2-2 to 2-3)
Each test was conducted on the organic EL display device 1 according to Examples 2-2 to 2-3 in the same manner as in Example 2-1, except that the glass transition temperatures were 110 ° C. and 132 ° C.

(実施例2−4〜2−7)
使用する樹脂が紫外線硬化型アクリル樹脂であり、ガラス転移温度が94℃、72℃、22℃、−18℃であること以外は、実施例2−1と同様に実施例2−4〜2−7に係る有機EL表示装置1について各試験を行った。
(Examples 2-4 to 2-7)
The resin used is an ultraviolet curable acrylic resin and the glass transition temperatures are 94 ° C., 72 ° C., 22 ° C., and −18 ° C., as in Example 2-1. Each test was performed on the organic EL display device 1 according to No. 7.

(実施例2−8)
使用する樹脂がシリコーン樹脂であり、ガラス転移温度が−54℃であること以外は、実施例2−1と同様に実施例2−8に係る有機EL表示装置1について各試験を行った。
(Example 2-8)
Each test was performed on the organic EL display device 1 according to Example 2-8 in the same manner as in Example 2-1, except that the resin used was a silicone resin and the glass transition temperature was −54 ° C.

(評価結果)
各試験終了後に有機EL表示装置1の表示確認を行ったところ、実施例2−1〜2−4に係る有機EL表示装置1では、不具合(ダークスポット)の発生を確認することはできなかった。また、実施例2−5〜2−8に係る有機EL表示装置1では、わずかながら不具合(ダークスポット)が発生していた。従って、樹脂層26のガラス転移温度が90℃以上であると好ましいことが確認された。
(Evaluation results)
When the display of the organic EL display device 1 was confirmed after the completion of each test, in the organic EL display device 1 according to Examples 2-1 to 2-4, the occurrence of a defect (dark spot) could not be confirmed. . Further, in the organic EL display device 1 according to Examples 2-5 to 2-8, a slight defect (dark spot) occurred. Therefore, it was confirmed that the glass transition temperature of the resin layer 26 is preferably 90 ° C. or higher.

図1は、本実施形態に係る有機EL表示装置を示す上面図である。FIG. 1 is a top view showing an organic EL display device according to the present embodiment. 図2は、図1のII−II線端面図である。FIG. 2 is an end view taken along line II-II in FIG. 図3は、本実施形態に係る有機EL表示装置の一部を破断して示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a partially broken organic EL display device according to the present embodiment. 図4は、本実施形態に係る有機EL表示装置の分離体近傍を拡大して示す断面図である。FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of the separator of the organic EL display device according to this embodiment. 図5は、本実施形態に係る有機EL表示装置を製造する一工程を示す上面図である。FIG. 5 is a top view showing one process of manufacturing the organic EL display device according to this embodiment. 図6は、図5のVI−VI線端面図である。FIG. 6 is an end view taken along line VI-VI in FIG. 図7は、図5の後続の工程を示す上面図である。FIG. 7 is a top view showing a step subsequent to FIG. 図8は、図7のVIII−VIII線端面図である。8 is an end view taken along line VIII-VIII in FIG. 図9は、図7の後続の工程を示す上面図である。FIG. 9 is a top view showing a step subsequent to FIG. 図10は、図9のX−X線端面図である。10 is an end view taken along line XX of FIG. 図11は、図9の後続の工程を示す上面図である。FIG. 11 is a top view showing a step subsequent to FIG. 図12は、図11のXII−XII線端面図である。12 is an end view taken along line XII-XII in FIG. 図13は、図11の後続の工程を示す上面図である。FIG. 13 is a top view showing a step subsequent to FIG. 図14は、図13のXIV−XIV線端面図である。14 is an end view taken along line XIV-XIV in FIG. 図15は、本実施形態に係る有機EL表示装置の他の例における分離体近傍を拡大して示す断面図である。FIG. 15 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a separator in another example of the organic EL display device according to this embodiment. 図16は、本実施形態に係る有機EL表示装置の他の例における分離体近傍を拡大して示す断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a separator in another example of the organic EL display device according to the present embodiment. 図17は、本実施形態に係る有機EL表示装置の他の例における分離体近傍を拡大して示す断面図である。FIG. 17 is an enlarged cross-sectional view showing the vicinity of a separator in another example of the organic EL display device according to this embodiment. 図18は、実施例1−1〜1−6における各条件及びそれらの評価結果を示す表である。FIG. 18 is a table showing conditions and evaluation results in Examples 1-1 to 1-6. 図19は、実施例2−1〜2−8における各条件及びそれらの評価結果を示す表である。FIG. 19 is a table showing conditions and evaluation results in Examples 2-1 to 2-8.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL表示装置、10…透明基板、12…配線パターン、14…第1電極パターン、16…絶縁パターン、16a…第1部分、16b…第2部分、18…分離体、20…有機EL層、22…第2電極パターン、24…保護層、24a…第1保護膜、24b…第2保護膜、26…樹脂層、28…保護部材、30…半導体チップ、32…フレキシブルプリント回路基板。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL display apparatus, 10 ... Transparent substrate, 12 ... Wiring pattern, 14 ... 1st electrode pattern, 16 ... Insulation pattern, 16a ... 1st part, 16b ... 2nd part, 18 ... Separator, 20 ... Organic EL Layer, 22 ... second electrode pattern, 24 ... protective layer, 24a ... first protective film, 24b ... second protective film, 26 ... resin layer, 28 ... protective member, 30 ... semiconductor chip, 32 ... flexible printed circuit board.

Claims (13)

パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置であって、
透明基板と、
互いに離間するように、前記透明基板上に配置された複数の第1電極パターンと、
前記複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に前記複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するように、前記透明基板上及び前記複数の第1電極パターン上に配置された絶縁パターンと、
前記絶縁パターン上に配置された複数の分離体と、
前記複数の第1電極パターン上及び前記絶縁パターン上に配置された複数の有機EL層と、
前記複数の有機EL層上にそれぞれ対応して配置された複数の第2電極パターンと、
無機材料によって構成され、前記絶縁パターン、前記複数の分離体、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを被覆する保護層とを備え、
前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンは、前記複数の第1電極パターン、前記絶縁パターン及び前記保護層によって囲まれ、
前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体との間に前記保護層が配置されることにより、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体とが前記保護層によって隔離されており、
前記絶縁パターンのうち少なくとも前記保護層及び前記分離体と接触している部分が無機材料によって構成されていることを特徴とする有機EL表示装置。
A passive matrix driving organic EL display device,
A transparent substrate;
A plurality of first electrode patterns disposed on the transparent substrate so as to be separated from each other;
Insulating patterns disposed on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns so as to insulate the plurality of first electrode patterns from each other and expose a predetermined portion of the surfaces of the plurality of first electrode patterns. When,
A plurality of separators disposed on the insulating pattern;
A plurality of organic EL layers disposed on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern;
A plurality of second electrode patterns respectively correspondingly disposed on the plurality of organic EL layers;
A protective layer that is made of an inorganic material and covers the insulating pattern, the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns,
The plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer,
By arranging the protective layer between the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns and the separator. Are separated by the protective layer,
An organic EL display device, wherein at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is made of an inorganic material.
前記絶縁パターンのうち少なくとも前記保護層及び前記分離体と接触している部分の水分透過率が10−3g/m・day以下であることを特徴とする、請求項1に記載された有機EL表示装置。 2. The organic material according to claim 1, wherein a moisture permeability of at least a portion in contact with the protective layer and the separator in the insulating pattern is 10 −3 g / m 2 · day or less. EL display device. 前記絶縁パターンのうち少なくとも前記保護層及び前記分離体と接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含むことを特徴とする、請求項2に記載された有機EL表示装置。   Of the insulating pattern, at least a portion in contact with the protective layer and the separator is composed mainly of any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. The organic EL display device according to claim 2, further comprising: 前記絶縁パターンのうち前記保護層及び前記分離体と接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含んでおり、前記絶縁パターンのうち残余部分が樹脂であることを特徴とする、請求項2又は3に記載された有機EL表示装置。   A portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator includes, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material in which hydrogen is added thereto. 4. The organic EL display device according to claim 2, wherein the remaining portion of the insulating pattern is a resin. 前記残余部分が感光性樹脂であることを特徴とする、請求項4に記載された有機EL表示装置。   The organic EL display device according to claim 4, wherein the remaining portion is a photosensitive resin. パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置であって、
透明基板と、
互いに離間するように、前記透明基板上に配置された複数の第1電極パターンと、
前記複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に前記複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するように、前記透明基板上及び前記複数の第1電極パターン上に配置された絶縁パターンと、
前記絶縁パターン上に配置された複数の分離体と、
前記複数の第1電極パターン上及び前記絶縁パターン上に配置された複数の有機EL層と、
前記複数の有機EL層上にそれぞれ対応して配置された複数の第2電極パターンと、
無機材料によって構成され、前記絶縁パターン、前記複数の分離体、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを被覆する保護層とを備え、
前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンは、前記複数の第1電極パターン、前記絶縁パターン及び前記保護層によって囲まれ、
前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体との間に前記保護層が配置されることにより、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体とが前記保護層によって隔離されており、
前記分離体のうち少なくとも前記保護層及び前記絶縁パターンと接触している部分が無機材料によって構成されていることを特徴とする有機EL表示装置。
A passive matrix driving organic EL display device,
A transparent substrate;
A plurality of first electrode patterns disposed on the transparent substrate so as to be separated from each other;
Insulating patterns disposed on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns so as to insulate the plurality of first electrode patterns from each other and expose a predetermined portion of the surfaces of the plurality of first electrode patterns. When,
A plurality of separators disposed on the insulating pattern;
A plurality of organic EL layers disposed on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern;
A plurality of second electrode patterns respectively correspondingly disposed on the plurality of organic EL layers;
A protective layer that is made of an inorganic material and covers the insulating pattern, the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns,
The plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the protective layer,
By arranging the protective layer between the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns and the separator, the plurality of organic EL layers, the plurality of second electrode patterns and the separator. Are separated by the protective layer,
An organic EL display device, wherein at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is made of an inorganic material.
前記分離体のうち少なくとも前記保護層及び前記絶縁パターンと接触している部分の水分透過率が10−3g/m・day以下であることを特徴とする、請求項6に記載された有機EL表示装置。 7. The organic material according to claim 6, wherein a moisture permeability of at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is 10 −3 g / m 2 · day or less. EL display device. 前記分離体のうち少なくとも前記保護層及び前記絶縁パターンと接触している部分が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含むことを特徴とする、請求項7に記載された有機EL表示装置。   The part of the separator that is in contact with at least the protective layer and the insulating pattern is mainly composed of any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. The organic EL display device according to claim 7, further comprising: 前記保護層は、前記透明基板に近い順に、第1保護膜及び第2保護膜を有しており、
前記第2保護膜は、前記第1保護膜のうち、前記絶縁パターンと前記分離体との接触部分を覆う部分の近傍に形成された狭隘部に入り込むように配置されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一項に記載された有機EL表示装置。
The protective layer has a first protective film and a second protective film in the order closer to the transparent substrate,
The second protective film is disposed so as to enter a narrow portion formed in the vicinity of a portion of the first protective film that covers a contact portion between the insulating pattern and the separator. The organic EL display device according to any one of claims 1 to 8.
前記第1保護膜が、酸化珪素、窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化アルミニウム及びこれらに水素が添加された材料のいずれかひとつを主成分として含むことを特徴とする、請求項1〜9のいずれか一項に記載された有機EL表示装置。   The first protective film includes, as a main component, any one of silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, aluminum oxide, and a material to which hydrogen is added. An organic EL display device according to claim 1. 前記透明基板上に配置されると共に、前記複数の第1電極パターン及び前記第2電極パターンにそれぞれ対応するように電気的に接続された複数の配線パターンを更に備え、
前記保護層が、前記複数の配線パターンの少なくとも一部を覆うことを特徴とする、請求項1〜10のいずれか一項に記載された有機EL表示装置。
A plurality of wiring patterns disposed on the transparent substrate and electrically connected to correspond to the plurality of first electrode patterns and the second electrode patterns, respectively;
The organic EL display device according to claim 1, wherein the protective layer covers at least a part of the plurality of wiring patterns.
パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置の製造方法であって、
互いに離間するように、透明基板上に複数の第1電極パターンを形成する第1工程と、
前記複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に前記複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出するような絶縁パターンを、前記透明基板上及び前記複数の第1電極パターン上に形成する第2工程と、
複数の分離体を前記絶縁パターン上に形成する第3工程と、
複数の有機EL層を前記複数の第1電極パターン上及び前記絶縁パターン上に形成する第4工程と、
複数の第2電極パターンを前記複数の有機EL層上にそれぞれ対応して形成する第5工程と、
前記複数の分離体、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成する第6工程と、
前記第1保護膜を被覆する第2保護膜を、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成する第7工程とを備え、
前記第2工程では、前記絶縁パターンのうち少なくとも前記保護層及び前記分離体と接触している部分を無機材料によって形成し、
前記第6工程では、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを前記複数の第1電極パターン、前記絶縁パターン及び前記第1保護膜によって囲むと共に、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体との間に前記第1保護膜が位置するように前記第1保護膜を形成することで、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体とを前記第1保護膜によって隔離することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL display device of a passive matrix driving method,
A first step of forming a plurality of first electrode patterns on the transparent substrate so as to be separated from each other;
An insulating pattern that insulates the plurality of first electrode patterns from each other and exposes a predetermined portion of the surface of the plurality of first electrode patterns is formed on the transparent substrate and the plurality of first electrode patterns. A second step;
A third step of forming a plurality of separators on the insulating pattern;
A fourth step of forming a plurality of organic EL layers on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern;
A fifth step of forming a plurality of second electrode patterns correspondingly on the plurality of organic EL layers,
A sixth step of forming a first protective film covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns by an evaporation method using an inorganic material;
Forming a second protective film covering the first protective film by applying a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent;
In the second step, at least a portion of the insulating pattern that is in contact with the protective layer and the separator is formed of an inorganic material,
In the sixth step, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the first protective film, and the plurality of organic EL layers and By forming the first protective film such that the first protective film is positioned between the plurality of second electrode patterns and the separator, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns A method for manufacturing an organic EL display device, wherein the separator is isolated by the first protective film.
パッシブマトリクス駆動方式の有機EL表示装置の製造方法であって、
互いに離間するように、透明基板上に複数の第1電極パターンを形成する第1工程と、
前記複数の第1電極パターンを互いに絶縁すると共に前記複数の第1電極パターンの表面のうち所定部分が露出ような絶縁パターンを、前記透明基板上及び前記複数の第1電極パターン上に形成する第2工程と、
複数の分離体を前記絶縁パターン上にそれぞれ対応して形成する第3工程と、
複数の有機EL層を前記複数の第1電極パターン上及び前記絶縁パターン上に形成する第4工程と、
複数の第2電極パターンを前記複数の有機EL層上にそれぞれ対応して形成する第5工程と、
前記複数の分離体、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを被覆する第1保護膜を、無機材料を用いて蒸着法によって形成する第6工程と、
前記第1保護膜を被覆する第2保護膜を、有機溶剤に無機材料が溶解された塗布液を塗布することによって形成する第7工程とを備え、
前記第3工程では、前記分離体のうち少なくとも前記保護層及び前記絶縁パターンと接触している部分を無機材料によって形成し、
前記第6工程では、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンを前記複数の第1電極パターン、前記絶縁パターン及び前記第1保護膜によって囲むと共に、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体との間に前記第1保護膜が位置するように前記第1保護膜を形成することで、前記複数の有機EL層及び前記複数の第2電極パターンと前記分離体とを前記第1保護膜によって隔離することを特徴とする有機EL表示装置の製造方法。
A method for manufacturing an organic EL display device of a passive matrix driving method,
A first step of forming a plurality of first electrode patterns on the transparent substrate so as to be separated from each other;
Forming an insulating pattern on the transparent substrate and on the plurality of first electrode patterns that insulates the plurality of first electrode patterns from each other and exposes a predetermined portion of the surface of the plurality of first electrode patterns; Two steps,
A third step of forming a plurality of separators corresponding to each of the insulating patterns;
A fourth step of forming a plurality of organic EL layers on the plurality of first electrode patterns and the insulating pattern;
A fifth step of forming a plurality of second electrode patterns correspondingly on the plurality of organic EL layers,
A sixth step of forming a first protective film covering the plurality of separators, the plurality of organic EL layers, and the plurality of second electrode patterns by an evaporation method using an inorganic material;
Forming a second protective film covering the first protective film by applying a coating solution in which an inorganic material is dissolved in an organic solvent;
In the third step, at least a portion of the separator that is in contact with the protective layer and the insulating pattern is formed of an inorganic material,
In the sixth step, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns are surrounded by the plurality of first electrode patterns, the insulating pattern, and the first protective film, and the plurality of organic EL layers and By forming the first protective film such that the first protective film is positioned between the plurality of second electrode patterns and the separator, the plurality of organic EL layers and the plurality of second electrode patterns A method for manufacturing an organic EL display device, wherein the separator is isolated by the first protective film.
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