JP2009015152A - Connection structure of electronic device and method of manufacturing the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a connection structure of an electronic device improved in connection reliability while maintaining excellent shape processing characteristics and ease of work. <P>SOLUTION: The connection structure of an electronic device 10 includes a conductive layer 12, a substrate 16 arranged to face the conductive layer 12, metal foils 17a and 17b each having the lower face directly touching part of the upper face of the conductive layer 12 and fixed on the upper face of conductive layer 12 in a non-adherent state, and an adhesive film 18 stuck to the upper face of the conductive layer 12, the upper faces of the metal foils 17a and 17b, and the lower face of the substrate 16. <P>COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子デバイスの接続構造及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an electronic device connection structure and a method for manufacturing the same.

従来、フラットパネルディスプレイの分野においてディスプレイパネルに備えられた電極(以下、「パネル電極」という。)と制御回路や駆動回路などの外部回路とを接続する取り出し手段として、フレキシブルプリント配線板(以下、「FPC」という。)が用いられている。FPCとパネル電極との接着ははんだ付け又は熱圧着によるものが一般的である。しかしながら、これらの接着温度は通常150℃以上になるため、接続部周辺の電子部材の耐熱性が低い場合は、FPCを採用することが困難となる。   Conventionally, a flexible printed wiring board (hereinafter referred to as “panel electrode”) as a take-out means for connecting an electrode (hereinafter referred to as “panel electrode”) provided in a display panel and an external circuit such as a control circuit or a drive circuit in the field of flat panel displays. "FPC") is used. The adhesion between the FPC and the panel electrode is generally by soldering or thermocompression bonding. However, since these bonding temperatures are usually 150 ° C. or higher, it is difficult to employ FPC when the heat resistance of the electronic member around the connection portion is low.

さらには、特許文献1に記載されるように、異方導電性膜などの導電性接着剤を採用する方法も知られている。しかしながら、導電性接着剤を採用する場合でも接着温度が通常150℃以上となるため、FPCと同様に、接続部周辺の電子部材の耐熱性が低い場合は、その採用が困難となる。   Furthermore, as described in Patent Document 1, a method of employing a conductive adhesive such as an anisotropic conductive film is also known. However, even when a conductive adhesive is employed, the adhesion temperature is usually 150 ° C. or higher, so that, similarly to FPC, when the heat resistance of the electronic member around the connection portion is low, it is difficult to employ the conductive adhesive.

そこで、別の取り出し手段としてクリップ電極と呼ばれるクリップ状の電極が開発されている。このクリップ電極はパネルの一部を狭持しつつパネル電極と接触することで、ディスプレイパネルに固定した状態となる。ところが、クリップ電極はそのばね性によりパネルの一部を狭持するため、寸法や形状の制約を受けてしまう。   Therefore, a clip-like electrode called a clip electrode has been developed as another extraction means. The clip electrode is in a state of being fixed to the display panel by being in contact with the panel electrode while sandwiching a part of the panel. However, since the clip electrode sandwiches a part of the panel due to its spring property, the clip electrode is limited in size and shape.

そこで、上述の問題点を解決可能な手段として特許文献2に記載の接続構造が提案されている。この接続構造は、固体型エレクトロクロミック素子において、下部透明導電層の端部に、導電性粘着材を介して金属箔を接着したものである。この接続構造によると、種々の形に加工が容易であり、取り付け時の作業性を向上させることができる。
特開平11−7040号公報 国際公開第02/39180号パンフレット
Therefore, a connection structure described in Patent Document 2 has been proposed as means for solving the above-described problems. This connection structure is a solid electrochromic device in which a metal foil is bonded to the end of the lower transparent conductive layer via a conductive adhesive. According to this connection structure, processing into various shapes is easy, and workability at the time of attachment can be improved.
JP-A-11-7040 International Publication No. 02/39180 Pamphlet

しかしながら、特許文献2に記載の接続構造は、金属箔及び下部導電層が、それらと比較して高抵抗である導電性粘着材を介して接続されている。そのため、このような接続構造を備えた電子デバイスでは、接続信頼性の点において更に改善の余地がある。   However, in the connection structure described in Patent Document 2, the metal foil and the lower conductive layer are connected via a conductive adhesive material having a higher resistance than those. Therefore, the electronic device having such a connection structure has room for further improvement in terms of connection reliability.

そこで、本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、優れた形状加工性及び作業性を維持しつつ、接続信頼性を向上させた電子デバイスの接続構造及びその製造方法を提供することを目的とする。   Therefore, the present invention has been made in view of the above circumstances, and provides an electronic device connection structure with improved connection reliability while maintaining excellent shape workability and workability, and a method for manufacturing the same. Objective.

上記目的を達成する本発明は、導電層と、その導電層に対向して配置された基板と、上記導電層の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ導電層の上記上面上に非接着の状態で固定された金属箔と、導電層の上面、金属箔の上面及び基板の下面に接着した接着フィルムとを備える電子デバイスの接続構造を提供する。   The present invention for achieving the above object has a conductive layer, a substrate disposed opposite to the conductive layer, a lower surface in direct contact with a part of the upper surface of the conductive layer, and on the upper surface of the conductive layer. An electronic device connection structure comprising: a metal foil fixed in a non-adhering state; and an adhesive film bonded to the upper surface of the conductive layer, the upper surface of the metal foil, and the lower surface of the substrate.

また、本発明は、導電層の上面の一部と金属箔の下面とを直接接触させるようにして、非接着の状態で導電層の上記上面上に金属箔を載置する工程と、導電層及び金属箔の両方の露出した上面上に接着フィルムを載置する工程と、接着フィルムの上面上に基板を載置する工程と、導電層、金属箔、接着フィルム及び基板をそれらの積層方向に押圧して、接着フィルムにより導電層の上面上に金属箔を固定すると同時に、接着フィルムを介して基板を導電層に対向させて固定する工程とを有する電子デバイスの接続構造の製造方法を提供する。   The present invention also includes a step of placing the metal foil on the upper surface of the conductive layer in a non-adhered state so that a part of the upper surface of the conductive layer is in direct contact with the lower surface of the metal foil; And a step of placing the adhesive film on the exposed upper surface of both the metal foil, a step of placing the substrate on the upper surface of the adhesive film, and the conductive layer, the metal foil, the adhesive film, and the substrate in the stacking direction thereof. There is provided a method for manufacturing a connection structure of an electronic device, comprising pressing and fixing a metal foil on an upper surface of a conductive layer with an adhesive film, and simultaneously fixing the substrate to the conductive layer through the adhesive film. .

本発明によると、まず、導電層及び金属箔が、特許文献2で提案されたような導電性粘着材を介することなく直接接触しているため、十分に優れた接続信頼性を示す。また、金属箔が外部回路との接続に用いられる取り出し手段として機能するため、外部回路と導電層との接続に関する作業性を向上させることができる。さらに、金属箔はクリップ電極と比較して寸法や形状の制約を受け難く、種々の形状に容易に加工することができる。   According to the present invention, first, the conductive layer and the metal foil are in direct contact without interposing a conductive adhesive material as proposed in Patent Document 2, and thus sufficiently excellent connection reliability is exhibited. In addition, since the metal foil functions as a take-out means used for connection with the external circuit, workability relating to the connection between the external circuit and the conductive layer can be improved. Furthermore, the metal foil is less susceptible to size and shape restrictions than the clip electrode, and can be easily processed into various shapes.

また、本発明で用いられる接着フィルムは、150℃よりも低い温度で接着可能なものでもよいため、接続部周辺の電子部材に高度な耐熱性が要求されず、材料選択の幅が広くなり生産コストの低減も可能となる。さらに、本発明の電子デバイスの接続構造の製造方法によると、導電層の上面上に金属箔を固定すると同時に、接着フィルムを介して基板を導電層に対向させて固定するため、この接続構造の製造工程を簡略化することが可能となる。   In addition, since the adhesive film used in the present invention may be capable of being bonded at a temperature lower than 150 ° C., high heat resistance is not required for the electronic members around the connection part, and the range of material selection is widened and produced. Cost can also be reduced. Furthermore, according to the manufacturing method of the connection structure of the electronic device of the present invention, the metal foil is fixed on the upper surface of the conductive layer, and at the same time, the substrate is fixed opposite to the conductive layer through the adhesive film. The manufacturing process can be simplified.

本発明によれば、優れた形状加工性及び作業性を維持しつつ、接続信頼性を向上させた電子デバイスの接続構造及びその製造方法を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the connection structure of the electronic device which improved connection reliability, and its manufacturing method can be provided, maintaining the outstanding shape workability and workability | operativity.

以下、必要に応じて図面を参照しつつ、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一要素には同一符号を付すこととし、重複する説明は省略する。また、上下左右等の位置関係は、特に断らない限り、図面に示す位置関係に基づくものとする。更に、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。   Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as necessary. In the drawings, the same elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the positional relationship such as up, down, left and right is based on the positional relationship shown in the drawings unless otherwise specified. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios.

図1は本発明の好適な第1の実施形態に係る電子デバイスの接続構造を模式的に示す断面図である。図1に示す電子デバイスは固体型エレクトロクロミック(以下、単に「EC」と表記する。)素子である。このEC素子10は、下部透明導電層12と、その下部透明導電層12に対向して配置された基板である対向ガラス16と、下部透明導電層12の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ下部透明導電層12の上面上に非接着の状態で固定された金属箔17a、bと、下部透明導電層12の上面、金属箔17a、bの上面及び対向ガラス16の下面に接着した接着フィルム18とを備える接続構造を有する。以下、このEC素子10について詳細に説明する。   FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure of an electronic device according to a preferred first embodiment of the present invention. The electronic device shown in FIG. 1 is a solid-type electrochromic (hereinafter simply referred to as “EC”) element. The EC element 10 includes a lower transparent conductive layer 12, a counter glass 16 that is a substrate disposed to face the lower transparent conductive layer 12, and a lower surface in direct contact with a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 12. Metal foils 17a and 17b that are fixed on the upper surface of the lower transparent conductive layer 12 in a non-adhering state, and the upper surfaces of the lower transparent conductive layer 12, the upper surfaces of the metal foils 17a and 17b, and the lower surface of the counter glass 16. It has a connection structure provided with the adhesive film 18 adhered. Hereinafter, the EC element 10 will be described in detail.

図1に示すように、固体型EC素子10には、基板ガラス11の上面上にITO等を構成材料とする下部透明導電層12が設けられており、この下部透明導電層12の一部に溝12bを形成して隔離部12aが設けられている。下部透明導電層12は、2つの取り出し電極を設けるために、溝12bによって隔離された隔離部12aと本体部12cとの2つの部分からなる。隔離部12a及び本体部12cを含めた下部透明導電層12の幅寸法は、基板ガラス11と同じ寸法である。下部透明導電層12の上面上には、WO等を構成材料とするEC層13が成層され、EC層13の上面上にITO等を構成材料とする上部透明導電層14が成層されている。 As shown in FIG. 1, the solid EC element 10 is provided with a lower transparent conductive layer 12 made of ITO or the like on the upper surface of a substrate glass 11, and a part of the lower transparent conductive layer 12 is provided. The isolation part 12a is provided by forming the groove 12b. The lower transparent conductive layer 12 is composed of two parts, an isolation part 12a and a main body part 12c, which are isolated by a groove 12b in order to provide two extraction electrodes. The width of the lower transparent conductive layer 12 including the isolation part 12 a and the main body part 12 c is the same as that of the substrate glass 11. An EC layer 13 made of WO 3 or the like is formed on the upper surface of the lower transparent conductive layer 12, and an upper transparent conductive layer 14 made of ITO or the like is formed on the upper surface of the EC layer 13. .

さらに、下部透明導電層12の本体部12cの外端の上面上、並びに、隔離部12aの外端の上面上には、金属箔17a、bが各々取り付けられている。金属箔17a、bは、その下面の一部が下部透明導電層12の上面の一部と接触している。そして、基板ガラス11、下部透明導電層12、EC層13、上部透明導電層14及び金属箔17a、bを上側から被覆するようにして、接着フィルム18が備えられている。ただし、接着フィルム18はその幅寸法が基板ガラス11と同じであるため、金属箔17a、bの外側の一部は接着フィルム18で被覆されることなく露出している。この接着フィルム18による接着によって、金属箔17a、bがそれぞれ、下部透明導電層12の本体部12c及び隔離部12a上に固定されている。下部透明導電層12と金属箔17a、bとの接点は、それらが直接接触することによって確保されるが、これらは互いに接着していない。   Further, metal foils 17a and 17b are respectively attached to the upper surface of the outer end of the main body portion 12c of the lower transparent conductive layer 12 and the upper surface of the outer end of the isolation portion 12a. A part of the lower surface of the metal foils 17 a and b is in contact with a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 12. An adhesive film 18 is provided so as to cover the substrate glass 11, the lower transparent conductive layer 12, the EC layer 13, the upper transparent conductive layer 14, and the metal foils 17a and 17b from above. However, since the width dimension of the adhesive film 18 is the same as that of the substrate glass 11, a part of the outside of the metal foils 17 a and 17 b is exposed without being covered with the adhesive film 18. The metal foils 17 a and 17 b are fixed on the main body portion 12 c and the isolation portion 12 a of the lower transparent conductive layer 12 by the adhesion by the adhesive film 18, respectively. Although the contact between the lower transparent conductive layer 12 and the metal foils 17a and 17b is ensured by direct contact, they are not bonded to each other.

金属箔17a、bの構成材料は箔を形成可能な金属であれば特に限定されず、例えば銅、アルミニウム、スズ、ステンレス綱などが挙げられる。これらの中では、耐食性及び光沢性等の観点からステンレス綱が好ましい。また、金属箔17a、bは金属箔の表面を被覆するようにめっきを施したものであってもよい。めっきを施すことにより耐食性を向上させることができる。   The constituent material of the metal foils 17a and 17b is not particularly limited as long as it is a metal capable of forming a foil, and examples thereof include copper, aluminum, tin, and stainless steel. Among these, stainless steel is preferable from the viewpoints of corrosion resistance and gloss. Further, the metal foils 17a and 17b may be plated so as to cover the surface of the metal foil. Corrosion resistance can be improved by plating.

また、接着フィルム18の構成材料は樹脂を主成分とする公知のものであれば特に限定されない。接着フィルム18に含まれる樹脂としては、熱硬化性樹脂であっても熱可塑性樹脂であってもよく、例えばエチレンビニルアセテート(EVA)、ポリエチレンテレフタラート(PET)、ポリビニルブチラール(PVB)、ポリビニルアルコール(PVA)等が挙げられる。   Further, the constituent material of the adhesive film 18 is not particularly limited as long as it is a known material mainly composed of a resin. The resin contained in the adhesive film 18 may be a thermosetting resin or a thermoplastic resin. For example, ethylene vinyl acetate (EVA), polyethylene terephthalate (PET), polyvinyl butyral (PVB), polyvinyl alcohol (PVA).

更に接着フィルム18の上面上には、対向ガラス16が備えられており、対向ガラス16は、接着フィルム18による接着によって固定されている。また、上部透明導電層14はその下面で隔離部12aの上面と直接接しており、下部透明導電層12の本体部12cと上部透明導電層14とは互いに短絡しないように形成されている。さらに、隔離部12aから上部透明導電層14の電極を取り出すことができるようになっている。つまり、溝12b内にもEC層13が成層されており、下部透明導電層12の本体部12cと上部透明導電層14及び下部透明導電層12の隔離部12aとの間にはEC層13が挟まった状態になっている。   Further, a counter glass 16 is provided on the upper surface of the adhesive film 18, and the counter glass 16 is fixed by bonding with the adhesive film 18. The upper transparent conductive layer 14 is in direct contact with the upper surface of the isolation part 12a on the lower surface thereof, and the main body part 12c and the upper transparent conductive layer 14 of the lower transparent conductive layer 12 are formed so as not to short-circuit each other. Furthermore, the electrode of the upper transparent conductive layer 14 can be taken out from the isolation part 12a. That is, the EC layer 13 is also formed in the groove 12b, and the EC layer 13 is formed between the main body portion 12c of the lower transparent conductive layer 12 and the isolation portion 12a of the upper transparent conductive layer 14 and the lower transparent conductive layer 12. It is in a pinched state.

また、上部透明導電層14の幅寸法は、隔離部12aのEC素子10中心側からEC層13を大部分覆う寸法である。対向ガラス16の幅寸法は、隔離部12a及び本体部12cを含めた下部透明導電層12の幅寸法(すなわち、基板ガラス11の幅寸法)より両側に長い寸法である。さらに、図示していないが、外部回路と金属箔17a、bとは例えばスポット溶接により金属箔17a、bに接合されたリード線を介して接続されている。   Further, the width dimension of the upper transparent conductive layer 14 is a dimension that covers most of the EC layer 13 from the center side of the EC element 10 of the isolation part 12a. The width dimension of the counter glass 16 is longer than the width dimension of the lower transparent conductive layer 12 including the isolation part 12a and the main body part 12c (that is, the width dimension of the substrate glass 11). Further, although not shown, the external circuit and the metal foils 17a and 17b are connected to each other through lead wires joined to the metal foils 17a and 17b by spot welding, for example.

この固体型EC素子10の金属箔17a、bは取り出し電極として機能し、これらを通して、外部から下部透明導電層12と上部透明導電層14との間に直流電流を印加すると、EC層13は着色し、逆電圧を印加するとEC層13は消色する。   The metal foils 17a and 17b of the solid EC element 10 function as extraction electrodes. When a direct current is applied between the lower transparent conductive layer 12 and the upper transparent conductive layer 14 from the outside, the EC layer 13 is colored. When the reverse voltage is applied, the EC layer 13 is decolored.

このように、取り出し電極である金属箔17a、bが下部透明導電層12と直接接触することにより、固体型EC素子10の接続信頼性は十分に優れたものとなる。また、金属箔17a、bが外部回路との接続に用いられる取り出し電極として機能するため、外部回路と下部透明導電層12とを接続する際の作業性を向上させることができる。   As described above, when the metal foils 17a and 17b serving as extraction electrodes are in direct contact with the lower transparent conductive layer 12, the connection reliability of the solid-state EC element 10 is sufficiently excellent. Further, since the metal foils 17a and 17b function as extraction electrodes used for connection to the external circuit, workability when connecting the external circuit and the lower transparent conductive layer 12 can be improved.

さらに、金属箔17a、bは、クリップ電極と比較して省スペース化を図ることができ、また、必要に応じて種々の形状に容易に加工することができる。すなわち、クリップ電極で接続する場合、その形状の制約により対向ガラスの幅寸法を基板ガラスのものよりも小さくせざるを得ない。しかしながら、本実施形態の固体型EC素子10では、図1からも明らかなとおり、対向ガラス16の幅寸法を基板ガラス11と同程度にすることが可能であり、あるいは、基板ガラス11よりも大きくすることができる。また、金属箔17a、bは、製品自体が複雑な形状をしていたとしてもその形状に合わせて種々の形に容易に加工することができ、接触抵抗が低下するほか、外観をすっきりさせることができる。   Furthermore, the metal foils 17a and 17b can save space compared to the clip electrode, and can be easily processed into various shapes as required. That is, when connecting with a clip electrode, the width dimension of the counter glass must be made smaller than that of the substrate glass due to the restriction of its shape. However, in the solid-state EC element 10 of the present embodiment, as is clear from FIG. 1, the width dimension of the counter glass 16 can be made comparable to the substrate glass 11 or larger than the substrate glass 11. can do. Moreover, even if the metal foil 17a, b has a complicated shape, it can be easily processed into various shapes according to the shape, the contact resistance is reduced, and the appearance is made clear. Can do.

また、接着フィルム18の構成材料として、150℃よりも低い温度で接着可能なEVAなどを採用することができるため、その場合に固体型EC素子10の各部材を構成する材料に高度な耐熱性が要求されない。さらに、下部透明導電層12の上面と対向ガラス16下面との距離は、一般的に数10μm程度に形成されているが、金属箔17a、b及び接着フィルム18は変形が容易であるので、この材料を押しつぶすことによって、上記距離に追従させることができる。また、金属箔17a、bの構成材料に光沢性の高い金属を採用することで、この金属箔17a、b自体を反射面として活用できるため、固体型EC素子10の有効反射面積を、上述の特許文献2に記載のものよりも拡大することができる。   Moreover, since EVA etc. which can be adhere | attached at the temperature lower than 150 degreeC can be employ | adopted as a constituent material of the adhesive film 18, high heat resistance is used for the material which comprises each member of the solid EC element 10 in that case Is not required. Furthermore, although the distance between the upper surface of the lower transparent conductive layer 12 and the lower surface of the counter glass 16 is generally formed to be about several tens of μm, the metal foils 17a and 17b and the adhesive film 18 are easily deformed. By crushing the material, the distance can be followed. Further, by adopting a highly glossy metal as a constituent material of the metal foils 17a and 17b, the metal foils 17a and b themselves can be used as a reflecting surface. Therefore, the effective reflection area of the solid-state EC element 10 is increased as described above. It can be expanded from that described in Patent Document 2.

かかる固体型EC素子10は、下記のようにして製造することができる。まず、基板ガラス11、下部透明導電層12、EC層13及び上部透明導電層14を図1のように構成した構造体を準備すると共に、図1に示す金属箔17a、bを準備する。次いで、下部透明導電層12の本体部12cの外端の上面上、並びに、隔離部12aの外端の上面上に、それぞれ金属箔17a、bの下面が直接接触するようにして、それら金属箔17a、bを載置する。この際、下部透明導電層12の本体部12c及び隔離部12aの上面と、金属箔17a、bの下面とは接着されていない。また、金属箔17a、bはピン留めなどにより位置合わせ及び仮固定される。   Such a solid EC element 10 can be manufactured as follows. First, a structure in which the substrate glass 11, the lower transparent conductive layer 12, the EC layer 13, and the upper transparent conductive layer 14 are configured as shown in FIG. 1 is prepared, and metal foils 17a and 17b shown in FIG. 1 are prepared. Next, the lower surfaces of the metal foils 17a and 17b are in direct contact with the upper surface of the outer end of the main body portion 12c of the lower transparent conductive layer 12 and the upper surface of the outer end of the isolation portion 12a, respectively. 17a and b are mounted. At this time, the upper surfaces of the main body portion 12c and the isolation portion 12a of the lower transparent conductive layer 12 and the lower surfaces of the metal foils 17a and 17b are not bonded. The metal foils 17a and 17b are aligned and temporarily fixed by pinning or the like.

次に、上記構造体及び/又は金属箔17a、bの両方の露出した上面上に接着フィルム18を載置する。図1では、構造体の上面の方が金属箔17a、bの上面よりも高い位置にあるため、構造体の上面上に接着フィルム18が載置される。ただし、金属箔17a、bの上面の方が高ければ、金属箔17a、bの上面上に載置される。もちろん、接着フィルム18を載置する際に積層方向に押圧して、構造体及び金属箔17a、bの両方の上面上に接着フィルム18の下面を直接接触させてもよい。   Next, the adhesive film 18 is placed on the exposed upper surfaces of both the structure and / or the metal foils 17a and 17b. In FIG. 1, since the upper surface of the structure is located higher than the upper surfaces of the metal foils 17a and 17b, the adhesive film 18 is placed on the upper surface of the structure. However, if the upper surfaces of the metal foils 17a, b are higher, they are placed on the upper surfaces of the metal foils 17a, b. Of course, when the adhesive film 18 is placed, the adhesive film 18 may be pressed in the laminating direction to directly contact the lower surface of the adhesive film 18 on the upper surfaces of both the structure and the metal foils 17a and 17b.

続いて、接着フィルム18の上面上に対向ガラス16を載置する。そして、真空圧着などの手段によりそれらの積層方向に押圧することにより、接着フィルム18が圧縮されて、下部透明導電層12の本体部12c及び隔離部12aの上面上に金属箔17a、bを固定すると同時に、接着フィルム18を介して対向ガラス16を下部透明導電層12に対向させて固定する。こうして、固体型EC素子10を得る。   Subsequently, the counter glass 16 is placed on the upper surface of the adhesive film 18. Then, the adhesive film 18 is compressed by pressing in the laminating direction by means such as vacuum pressure bonding, and the metal foils 17a and 17b are fixed on the upper surface of the main body portion 12c and the isolation portion 12a of the lower transparent conductive layer 12. At the same time, the facing glass 16 is fixed to the lower transparent conductive layer 12 through the adhesive film 18. In this way, the solid EC element 10 is obtained.

この固体型EC素子の製造方法によると、下部透明導電層12の本体部12c及び隔離部12aの上面上に金属箔17a、bを固定すると同時に、接着フィルム18を介して対向ガラス16を下部透明導電層12に対向させて固定するため、その製造工程を従来よりも簡略化することができる。また、対向ガラス16を基板ガラス11よりも両側に長い幅寸法(あるいは図示していないが、基板ガラス11と同程度の幅寸法)にできるため、対向ガラスを押圧して接着フィルム18を圧着する際に金属箔17a、bが浮くことによる位置ずれを防止できる。   According to this method for manufacturing a solid EC element, the metal foils 17a and 17b are fixed on the upper surfaces of the main body portion 12c and the isolation portion 12a of the lower transparent conductive layer 12, and at the same time, the opposing glass 16 is transparently transferred to the lower transparent conductive layer 12 via the adhesive film 18. Since the conductive layer 12 is opposed and fixed, the manufacturing process can be simplified as compared with the conventional method. Moreover, since the opposing glass 16 can be made into a width dimension longer than the substrate glass 11 on both sides (or a width dimension similar to that of the substrate glass 11 although not shown), the opposing glass is pressed to pressure-bond the adhesive film 18. In this case, it is possible to prevent the displacement due to the metal foils 17a and 17b floating.

次に、図2を参照して、上記第1の実施形態にかかる固体型EC素子を用いたミラー装置について説明する。図2は、上記固体型EC素子10を用いたミラー装置の概略断面図である。この図2では、図1に示した固体型EC素子10が上下逆に示されている。   Next, with reference to FIG. 2, a mirror device using the solid-state EC element according to the first embodiment will be described. FIG. 2 is a schematic sectional view of a mirror device using the solid EC element 10. In FIG. 2, the solid-state EC element 10 shown in FIG. 1 is shown upside down.

図2に示すように、ミラー装置20は、基板ガラス11及びその上面上に成膜された金属反射膜21からなる反射部材22と、金属反射膜21の上面に成膜されその一部に溝を設けることにより隔離された下部透明導電層(図示せず)と、下部透明導電層の上面に成膜されたEC層13と、隔離された下部透明導電膜の一部とEC層13との上面にわたって成膜された上部透明導電層(図示せず)と、下部透明導電層に対向した対向ガラス16とを備え、かつ、下部透明導電層の本体部及び隔離された下部透明導電層の隔離部の端部上面に、金属箔17a、bを固定している。したがって、この固体型EC素子によるミラー装置20において、上部透明導電層と対向ガラス16との間には空隙が形成されている。   As shown in FIG. 2, the mirror device 20 includes a substrate glass 11 and a reflection member 22 made of a metal reflection film 21 formed on the upper surface thereof, and a film formed on the upper surface of the metal reflection film 21 and partially provided with a groove. A lower transparent conductive layer (not shown) isolated by providing, an EC layer 13 formed on the upper surface of the lower transparent conductive layer, a part of the isolated lower transparent conductive film, and the EC layer 13 An upper transparent conductive layer (not shown) formed over the upper surface and an opposing glass 16 facing the lower transparent conductive layer, and the main body of the lower transparent conductive layer and the isolated lower transparent conductive layer are isolated The metal foils 17a and 17b are fixed to the upper surface of the end of each part. Therefore, in the mirror device 20 using the solid EC element, a gap is formed between the upper transparent conductive layer and the counter glass 16.

金属箔17a、bは、一端部が対向ガラス16及び下部透明導電層間に挟まれて接着フィルム(図示せず)により下部透明導電層に接着されて取り付けられており、他端部が外部に延びている。金属反射膜21の幅寸法は、基板ガラス11の幅寸法より両側に短い寸法である。対向ガラス16の幅寸法は、基板ガラス11の幅寸法と同じ寸法である。なお、上下の透明導電層、接着フィルム及びEC層13の積層状態は図1に示すものと同様であり、ここでは詳細な図示及び説明を省略してある。   The metal foils 17a and 17b are attached with one end sandwiched between the opposing glass 16 and the lower transparent conductive layer and bonded to the lower transparent conductive layer with an adhesive film (not shown), and the other end extending to the outside. ing. The width dimension of the metal reflective film 21 is shorter than the width dimension of the substrate glass 11 on both sides. The width dimension of the counter glass 16 is the same as the width dimension of the substrate glass 11. The laminated state of the upper and lower transparent conductive layers, the adhesive film, and the EC layer 13 is the same as that shown in FIG. 1, and detailed illustration and description are omitted here.

このミラー装置20は、容易に電極を取り付けることができるので、取り付け時の作業性が向上する。また、金属箔17a、bを用いることにより、取り出し電極を基板ガラス11や対向ガラス16及び金属反射膜21等の形状に対応して種々の形状に加工して取り付けることができる。例えば、対向ガラス16の幅寸法を基板ガラス11の幅寸法と同じ寸法とすることも可能となる。さらに、金属箔17a、bを用いることにより、ミラー装置20の設置場所や使用状況に取り出し電極の形状を適応させることができ、しかも厚さが薄い取り出し電極とすることもできる。このようなミラー装置20は、自動車等の車両用ECミラーとして有用である。   Since this mirror device 20 can easily attach electrodes, workability at the time of attachment is improved. Further, by using the metal foils 17a and 17b, the extraction electrode can be processed and attached in various shapes corresponding to the shapes of the substrate glass 11, the counter glass 16, the metal reflection film 21, and the like. For example, the width dimension of the counter glass 16 can be the same as the width dimension of the substrate glass 11. Furthermore, by using the metal foils 17a and 17b, the shape of the extraction electrode can be adapted to the installation location and use situation of the mirror device 20, and the extraction electrode can be made thin. Such a mirror device 20 is useful as an EC mirror for vehicles such as automobiles.

図3は本発明の好適な第2の実施形態に係る電子デバイスの接続構造を模式的に示しており、(b)はその模式平面図であり、(a)は(b)のII−II線に沿った断面を模式的に示している。図3に示す電子デバイスは高分子有機EL素子である。この高分子有機EL素子30は、下部透明導電層32と、その下部透明導電層32に対向して配置された対向基板33と、下部透明導電層32の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ下部透明導電層32の上面上に非接着の状態で固定された金属箔37bと、下部透明導電層32の上面、金属箔37bの上面及び対向基板33の下面に接着した接着フィルム38bとを備える接続構造を有する。以下、この高分子有機EL素子30について詳細に説明する。   FIG. 3 schematically shows a connection structure of an electronic device according to a preferred second embodiment of the present invention, where (b) is a schematic plan view thereof, and (a) is II-II of (b). A cross section along the line is schematically shown. The electronic device shown in FIG. 3 is a polymer organic EL element. The polymer organic EL element 30 includes a lower transparent conductive layer 32, a counter substrate 33 disposed to face the lower transparent conductive layer 32, and a lower surface in direct contact with a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 32. And a metal foil 37b fixed in a non-adhesive state on the upper surface of the lower transparent conductive layer 32, and an adhesive film bonded to the upper surface of the lower transparent conductive layer 32, the upper surface of the metal foil 37b, and the lower surface of the counter substrate 33 38b. Hereinafter, the polymer organic EL element 30 will be described in detail.

図3に示すように、高分子有機EL素子30には、基板ガラス31の上面上にITO等を構成材料とする下部透明導電層32が設けられている。下部透明導電層32の上面上には、発光層35が設けられている。この発光層35は電圧の印加により発光する高分子有機化合物を構成材料としている。そのような高分子有機化合物としては従来公知のものであれば特に制限されず、例えば、ポリパラフェニレンビニル(PPV)、MEH−PPV、PF系などのπ共役ポリマー、ポリビニルカルバソール(PVK)、TPDPES、PVOXDなどの色素含有ポリマーが挙げられる。この発光層35の上面上には対向基板33が設けられている。対向基板33は、発光層35側からAl等を構成材料とする上部導電層39及びセラミック又はガラス基板36が順に積層されている。   As shown in FIG. 3, the polymer organic EL element 30 is provided with a lower transparent conductive layer 32 made of ITO or the like on the upper surface of a substrate glass 31. A light emitting layer 35 is provided on the upper surface of the lower transparent conductive layer 32. The light emitting layer 35 is made of a high molecular organic compound that emits light when a voltage is applied. Such a high molecular weight organic compound is not particularly limited as long as it is a conventionally known one, and examples thereof include polyparaphenylene vinyl (PPV), MEH-PPV, PF-based π-conjugated polymers, polyvinyl carbazole (PVK), Examples thereof include dye-containing polymers such as TPDPES and PVOXD. A counter substrate 33 is provided on the upper surface of the light emitting layer 35. In the counter substrate 33, an upper conductive layer 39 made of Al or the like and a ceramic or glass substrate 36 are sequentially laminated from the light emitting layer 35 side.

さらに、下部透明導電層32の外端の上面上には、金属箔37bが取り付けられている。下部透明導電層32の金属箔37bよりも高分子有機EL素子30中心側の上面上には、接着フィルム38bが備えられており、この接着フィルム38bによる接着によって、金属箔37bが下部透明導電層32上に固定されている。下部透明導電層32と金属箔37bとの接点は、それらが直接接触することによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔37bは、幅方向一端部が下部透明導電層32及び接着フィルム38b間に挟まれ、接着フィルム38bにより下部透明導電層32に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。   Further, a metal foil 37 b is attached on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 32. An adhesive film 38b is provided on the upper surface of the lower transparent conductive layer 32 closer to the center of the polymer organic EL element 30 than the metal foil 37b, and the metal foil 37b is bonded to the lower transparent conductive layer by bonding with the adhesive film 38b. 32 is fixed. Although the contact between the lower transparent conductive layer 32 and the metal foil 37b is ensured by direct contact, they are not bonded to each other. The metal foil 37b has one end in the width direction sandwiched between the lower transparent conductive layer 32 and the adhesive film 38b, and is attached to the lower transparent conductive layer 32 by the adhesive film 38b, and the other end in the width direction is externally attached. It extends.

一方、下部透明導電層32の上記金属箔37bが取り付けられた外端とは反対側の外端の上面上には、上記接着フィルム38bと同程度の幅寸法を有する接着フィルム38aが備えられている。さらに接着フィルム38aの上面の外端側一部と接するようにして金属箔37aが備えられている。この金属箔37aは接着フィルム38aによる接着により固定されている。また、金属箔37aはその上面の一部が上部導電層39と直接接しており、上部導電層39と金属箔37aとの接点はそれによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔37aは、幅方向一端部が上部導電層39及び接着フィルム38a間に挟まれ、接着フィルム38aにより上部導電層39に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。   On the other hand, an adhesive film 38a having the same width as the adhesive film 38b is provided on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 32 opposite to the outer end to which the metal foil 37b is attached. Yes. Further, a metal foil 37a is provided so as to be in contact with a part of the outer end side of the upper surface of the adhesive film 38a. The metal foil 37a is fixed by adhesion using an adhesive film 38a. Further, a part of the upper surface of the metal foil 37a is in direct contact with the upper conductive layer 39, and a contact between the upper conductive layer 39 and the metal foil 37a is secured thereby, but they are not bonded to each other. One end in the width direction of the metal foil 37a is sandwiched between the upper conductive layer 39 and the adhesive film 38a and attached to the upper conductive layer 39 with the adhesive film 38a, and the other end in the width direction extends to the outside. Yes.

金属箔37a、bの構成材料は上記第1の実施形態における金属箔17a、bと同様であればよい。また、接着フィルム38a、bの構成材料は上記第1の実施形態における接着フィルム18と同様であればよい。   The constituent materials of the metal foils 37a and 37b may be the same as those of the metal foils 17a and 17b in the first embodiment. The constituent materials of the adhesive films 38a and 38b may be the same as those of the adhesive film 18 in the first embodiment.

接着フィルム38a、bの上面上には、対向基板33が備えられており、対向基板33は、接着フィルム38a、bによる接着によって固定されている。対向基板33の幅寸法は、基板ガラス31と同じ寸法である。さらに、図示していない外部回路と金属箔37a、bとは、金属箔37a、bに例えばスポット溶接により接合されたリード線34を介して接続されている。   A counter substrate 33 is provided on the upper surfaces of the adhesive films 38a and 38b, and the counter substrate 33 is fixed by bonding with the adhesive films 38a and 38b. The width dimension of the counter substrate 33 is the same as that of the substrate glass 31. Further, an external circuit (not shown) and the metal foils 37a and 37b are connected to each other via a lead wire 34 joined to the metal foils 37a and 37b by, for example, spot welding.

この高分子有機EL素子30において、金属箔37bは下部透明導電層32からの取り出し電極として機能し、金属箔37aは上部導電層39からの取り出し電極として機能する。この金属箔37a、bを通して、それぞれ下部透明導電層32及び上部導電層39に外部から電圧を印加すると発光層35が発光し、その光が下部透明導電層32及び基板ガラス31を通して外部に取り出される。   In the polymer organic EL element 30, the metal foil 37 b functions as an extraction electrode from the lower transparent conductive layer 32, and the metal foil 37 a functions as an extraction electrode from the upper conductive layer 39. When a voltage is externally applied to the lower transparent conductive layer 32 and the upper conductive layer 39 through the metal foils 37a and 37b, the light emitting layer 35 emits light, and the light is extracted to the outside through the lower transparent conductive layer 32 and the substrate glass 31. .

このように、取り出し電極である金属箔37a、bが、それぞれ下部透明導電層32及び上部導電層39と直接接触することにより、高分子有機EL素子30の接続信頼性は十分に優れたものとなる。また、金属箔37a、bが外部回路との接続に用いられる取り出し電極として機能するため、外部回路と下部透明導電層32及び上部導電層39とを接続する際の作業性を向上させることができる。   As described above, the metal foils 37a and 37b serving as extraction electrodes are in direct contact with the lower transparent conductive layer 32 and the upper conductive layer 39, respectively, so that the connection reliability of the polymer organic EL element 30 is sufficiently excellent. Become. Further, since the metal foils 37a and 37b function as extraction electrodes used for connection to the external circuit, workability when connecting the external circuit to the lower transparent conductive layer 32 and the upper conductive layer 39 can be improved. .

さらに、金属箔37a、bは、クリップ電極と比較して省スペース化を図ることができ、あるいは、必要に応じて種々の形状に容易に加工することができる。また、金属箔37a、bは、製品自体が複雑な形状をしていたとしてもその形状に合わせて種々の形に容易に加工することができ、接触抵抗が低下するほか、外観をすっきりさせることができる。さらには、接着フィルム38a、bの構成材料として、150℃よりも低い温度で接着可能なEVAなどを採用することができるため、その場合に高分子有機EL素子30の各部材を構成する材料に高度な耐熱性が要求されない。加えて、金属箔37a、b及び接着フィルム38a、bは変形が容易であるので、この材料を押しつぶすことによって、下部透明導電層32の上面と対向基板33下面との距離に追従させることができる。   Furthermore, the metal foils 37a and 37b can save space compared to the clip electrode, or can be easily processed into various shapes as necessary. Moreover, even if the metal foils 37a and 37b have a complicated shape, the metal foils 37a and b can be easily processed into various shapes according to the shape, the contact resistance is reduced, and the appearance is made clear. Can do. Furthermore, since EVA that can be bonded at a temperature lower than 150 ° C. can be adopted as a constituent material of the adhesive films 38a and 38b, in that case, the material constituting each member of the polymer organic EL element 30 is used. High heat resistance is not required. In addition, since the metal foils 37a and 37b and the adhesive films 38a and 38b are easily deformed, by crushing this material, the distance between the upper surface of the lower transparent conductive layer 32 and the lower surface of the counter substrate 33 can be followed. .

かかる高分子有機EL素子30は、下記のようにして製造することができる。まず、基板ガラス31上に、下部透明導電層32を例えば真空蒸着により形成する。次いで、図3に示す金属箔37a、bを準備し、下部透明導電層32の一方の外端上面上に、金属箔37bの下面が直接接触するようにして、その金属箔37bを載置する。この際、下部透明導電層32の上面と、金属箔37bの下面とは接着されていない。また、金属箔37bはピン留めなどにより位置合わせされる。   Such a polymer organic EL device 30 can be manufactured as follows. First, the lower transparent conductive layer 32 is formed on the substrate glass 31 by, for example, vacuum deposition. Next, metal foils 37a and 37b shown in FIG. 3 are prepared, and the metal foil 37b is placed on the upper surface of one outer end of the lower transparent conductive layer 32 so that the lower surface of the metal foil 37b is in direct contact. . At this time, the upper surface of the lower transparent conductive layer 32 and the lower surface of the metal foil 37b are not bonded. The metal foil 37b is aligned by pinning or the like.

次に、下部透明導電層32及び金属箔37bの両方の露出した上面上に、接着フィルム38bを載置すると共に、下部透明導電層32の他方の外端上面上に接着フィルム38aを載置する。この際、金属箔37bの上面は接着フィルム38bの下面と直接接触するが、下部透明導電層32の上面は接着フィルム38bの下面と直接接触していなくてもよい。もちろん、接着フィルム38a、bを載置する際に積層方向に押圧して、金属箔37b上の部分を圧縮することで、下部透明導電層32の上面を接着フィルム38bの下面と直接接触させてもよい。   Next, the adhesive film 38b is placed on the exposed upper surfaces of both the lower transparent conductive layer 32 and the metal foil 37b, and the adhesive film 38a is placed on the other outer end upper surface of the lower transparent conductive layer 32. . At this time, the upper surface of the metal foil 37b is in direct contact with the lower surface of the adhesive film 38b, but the upper surface of the lower transparent conductive layer 32 may not be in direct contact with the lower surface of the adhesive film 38b. Of course, when the adhesive films 38a and 38b are placed, the upper surface of the lower transparent conductive layer 32 is brought into direct contact with the lower surface of the adhesive film 38b by pressing in the laminating direction and compressing the portion on the metal foil 37b. Also good.

続いて、接着フィルム38aの外端側上面上に金属箔37aを載置する。この際、金属箔37aを軽く接着フィルム38aに押し付けることで金属箔37aは仮固定される。次いで、接着フィルム38b並びに金属箔37a及び接着フィルム38aの上面上に対向基板33を載置する。対向基板33は、セラミック又はガラス基板36上に上部導電層39を、例えば真空蒸着により形成したものを準備する。そして、圧着などの手段によりそれらの積層方向に押圧することにより、接着フィルム38a、bが圧縮されて、下部透明導電層32及び接着フィルム38b間に金属箔37b、上部導電層39及び接着フィルム38a間に金属箔37aをそれぞれ固定すると同時に、接着フィルム38a、bを介して対向基板33を下部透明導電層32に対向させて固定する。この際、下部透明導電層32、接着フィルム38a、b及び対向基板33に囲まれた空間が形成される。その空間内に、外部から空間内に貫通して設けられた図示しない注入孔から発光層35の構成材料である高分子有機材料を充填した後、注入孔を塞ぐことにより発光層35が形成される。こうして、高分子有機EL素子30を得る。   Subsequently, the metal foil 37a is placed on the upper surface on the outer end side of the adhesive film 38a. At this time, the metal foil 37a is temporarily fixed by lightly pressing the metal foil 37a against the adhesive film 38a. Next, the counter substrate 33 is placed on the upper surfaces of the adhesive film 38b, the metal foil 37a, and the adhesive film 38a. The counter substrate 33 is prepared by forming an upper conductive layer 39 on a ceramic or glass substrate 36 by, for example, vacuum deposition. Then, the adhesive films 38a and 38b are compressed by pressing them in the lamination direction by means such as pressure bonding, and the metal foil 37b, the upper conductive layer 39 and the adhesive film 38a are compressed between the lower transparent conductive layer 32 and the adhesive film 38b. At the same time as fixing the metal foil 37a therebetween, the counter substrate 33 is fixed to face the lower transparent conductive layer 32 via the adhesive films 38a and 38b. At this time, a space surrounded by the lower transparent conductive layer 32, the adhesive films 38a and 38b, and the counter substrate 33 is formed. The space is filled with a polymer organic material that is a constituent material of the light emitting layer 35 from an injection hole (not shown) penetrating from the outside into the space, and then the light emitting layer 35 is formed by closing the injection hole. The In this way, the polymer organic EL element 30 is obtained.

この高分子有機EL素子30の製造方法によると、下部透明導電層32及び接着フィルム38b間、並びに上部導電層39及び接着フィルム38a間に金属箔37b、aをそれぞれ固定すると同時に、接着フィルム38a、bを介して対向基板33を下部透明導電層32に対向させて固定するため、その製造工程を従来よりも簡略化することができる。   According to the method for manufacturing the polymer organic EL element 30, the metal foils 37b and a are fixed between the lower transparent conductive layer 32 and the adhesive film 38b and between the upper conductive layer 39 and the adhesive film 38a, respectively, and at the same time, the adhesive films 38a, Since the counter substrate 33 is fixed to be opposed to the lower transparent conductive layer 32 via b, the manufacturing process can be simplified as compared with the conventional method.

図4は本発明の好適な第3の実施形態に係る電子デバイスの接続構造を模式的に示す断面図である。図4に示す電子デバイスは低分子有機EL素子である。この低分子有機EL素子40は、下部透明導電層42と、その下部透明導電層42に対向して配置された基板である上部基板ガラス46と、下部透明導電層42の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ下部透明導電層42の上面上に非接着の状態で固定された金属箔47a、bと、下部透明導電層42の上面、金属箔47a、bの上面及び上部基板ガラス46の下面に接着した接着フィルム48とを備える接続構造を有する。以下、この低分子有機EL素子40について詳細に説明する。   FIG. 4 is a cross-sectional view schematically showing a connection structure of an electronic device according to a preferred third embodiment of the present invention. The electronic device shown in FIG. 4 is a low molecular organic EL element. The low molecular organic EL element 40 includes a lower transparent conductive layer 42, an upper substrate glass 46 that is a substrate disposed to face the lower transparent conductive layer 42, and a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 42. Metal foils 47a, b having a lower surface in contact and fixed in an unbonded state on the upper surface of the lower transparent conductive layer 42; upper surfaces of the lower transparent conductive layer 42; upper surfaces of the metal foils 47a, b; It has a connection structure including an adhesive film 48 adhered to the lower surface of the glass 46. Hereinafter, the low molecular organic EL element 40 will be described in detail.

図4に示すように、低分子有機EL素子40には、下部基板ガラス41の上面上にITO等を構成材料とする下部透明導電層42が設けられており、この下部透明導電層42の一部に溝42bを形成して隔離部42aが設けられている。下部透明導電層42は、2つの取り出し電極を設けるために、溝42bによって隔離された隔離部42aと本体部42cとの2つの部分からなる。隔離部42a及び本体部42cを含めた下部透明導電層42の幅寸法は、下部基板ガラス41と同じ寸法である。下部透明導電層42の上面上には、フタロシアニン類などを構成材料とする正孔注入層43a及びアリールアミン類等を構成材料とする正孔輸送層43bが順に設けられている。正孔輸送層43bの上面上には発光層45が積層され、更にその上面上にオキサジアゾール類等の電子輸送層49が設けられている(以下、正孔注入層43a、正孔輸送層43b、発光層45及び電子輸送層49からなる積層体を「EL積層体」という)。また、電子輸送層49の上面上にはITO等を構成材料とする上部透明導電層44が成層されている。   As shown in FIG. 4, the low molecular organic EL element 40 is provided with a lower transparent conductive layer 42 made of ITO or the like on the upper surface of the lower substrate glass 41, and one of the lower transparent conductive layers 42 is provided. The isolation part 42a is provided by forming a groove 42b in the part. The lower transparent conductive layer 42 is composed of two parts, an isolation part 42a and a main body part 42c, which are isolated by a groove 42b in order to provide two extraction electrodes. The width dimension of the lower transparent conductive layer 42 including the isolation part 42 a and the main body part 42 c is the same as that of the lower substrate glass 41. On the upper surface of the lower transparent conductive layer 42, a hole injection layer 43a made of phthalocyanines or the like and a hole transport layer 43b made of arylamines or the like are provided in this order. A light emitting layer 45 is laminated on the upper surface of the hole transport layer 43b, and an electron transport layer 49 such as oxadiazoles is provided on the upper surface (hereinafter referred to as a hole injection layer 43a, a hole transport layer). 43b, the light emitting layer 45, and the electron transport layer 49 are referred to as “EL laminate”). An upper transparent conductive layer 44 made of ITO or the like is formed on the upper surface of the electron transport layer 49.

発光層45は電圧の印加により発光する低分子有機化合物を構成材料としている。そのような低分子有機化合物としては従来公知のものであれば特に制限されず、例えば、アルミニウム錯体、アントラセン類、希土類錯体、イリジウム錯体などが挙げられる。また、これらの低分子有機化合物をホスト材料として含み、ペリレンやルブレン等の蛍光色素をドーパント材料として含んでもよい。   The light emitting layer 45 is made of a low molecular organic compound that emits light when a voltage is applied. Such low molecular weight organic compounds are not particularly limited as long as they are conventionally known, and examples thereof include aluminum complexes, anthracenes, rare earth complexes, iridium complexes, and the like. Further, these low molecular organic compounds may be included as a host material, and fluorescent dyes such as perylene and rubrene may be included as a dopant material.

さらに、下部透明導電層42の本体部42cの外端の上面上、並びに、隔離部42aの外端の上面上には、金属箔47a、bが各々取り付けられている。金属箔47a、bは、その下面の一部が下部透明導電層42の上面の一部と接触している。そして、下部基板ガラス41、下部透明導電層42、EL積層体、上部透明導電層44及び金属箔47a、bを上側から被覆するようにして、接着フィルム48が備えられている。ただし、接着フィルム48はその幅寸法が下部基板ガラス41と同じであるため、金属箔47a、bの外側の一部は接着フィルム48で被覆されることなく露出している。この接着フィルム48による接着によって、金属箔47a、bがそれぞれ、下部透明導電層42の本体部42c及び隔離部42a上に固定されている。下部透明導電層42と金属箔47a、bとの接点は、それらが直接接触することによって確保されるが、これらは互いに接着していない。   Further, metal foils 47a and 47b are attached to the upper surface of the outer end of the main body portion 42c of the lower transparent conductive layer 42 and the upper surface of the outer end of the isolation portion 42a, respectively. A part of the lower surface of the metal foils 47 a and 47 b is in contact with a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 42. An adhesive film 48 is provided so as to cover the lower substrate glass 41, the lower transparent conductive layer 42, the EL laminate, the upper transparent conductive layer 44, and the metal foils 47a and 47b from above. However, since the adhesive film 48 has the same width as the lower substrate glass 41, a part of the outside of the metal foils 47 a and b is exposed without being covered with the adhesive film 48. The metal foils 47a and 47b are fixed on the main body part 42c and the isolation part 42a of the lower transparent conductive layer 42 by the adhesion by the adhesive film 48, respectively. Although the contact between the lower transparent conductive layer 42 and the metal foils 47a and 47b is ensured by direct contact, they are not bonded to each other.

金属箔47a、bの構成材料は上記第1の実施形態における金属箔17a、bと同様であればよい。また、接着フィルム48の構成材料は上記第1の実施形態における接着フィルム18と同様であればよい。   The constituent materials of the metal foils 47a, b may be the same as those of the metal foils 17a, b in the first embodiment. The constituent material of the adhesive film 48 may be the same as that of the adhesive film 18 in the first embodiment.

更に接着フィルム48の上面上には、上部基板ガラス46が備えられており、上部基板ガラス46は、接着フィルム48による接着によって固定されている。また、上部透明導電層44はその下面で隔離部42aの上面と直接接しており、下部透明導電層42の本体部42cと上部透明導電層44とは互いに短絡しないように形成されている。さらに、隔離部42aから上部透明導電層44の電極を取り出すことができるようになっている。つまり、溝42b内にも正孔注入層43aが成層されており、下部透明導電層42の本体部42cと上部透明導電層44及び下部透明導電層42の隔離部42aとの間には正孔注入層43aが挟まった状態になっている。   Further, an upper substrate glass 46 is provided on the upper surface of the adhesive film 48, and the upper substrate glass 46 is fixed by adhesion with the adhesive film 48. The upper transparent conductive layer 44 is in direct contact with the upper surface of the isolation part 42a on the lower surface, and the main body part 42c and the upper transparent conductive layer 44 of the lower transparent conductive layer 42 are formed so as not to short-circuit each other. Furthermore, the electrode of the upper transparent conductive layer 44 can be taken out from the isolation part 42a. That is, the hole injection layer 43a is also formed in the groove 42b, and there is a hole between the main body portion 42c of the lower transparent conductive layer 42 and the isolation portion 42a of the upper transparent conductive layer 44 and the lower transparent conductive layer 42. The injection layer 43a is sandwiched.

また、上部透明導電層44の幅寸法は、隔離部42aの低分子有機EL素子40中心側からEL積層体を大部分覆う寸法である。上部基板ガラス46の幅寸法は、下部基板ガラス41と同程度の幅寸法である。さらに、図示していないが、外部回路と金属箔47a、bとは例えばスポット溶接により金属箔47a、bに接合されたリード線を介して接続されている。   The width of the upper transparent conductive layer 44 is a dimension that covers most of the EL laminate from the center of the low molecular organic EL element 40 of the isolation part 42a. The width dimension of the upper substrate glass 46 is the same as that of the lower substrate glass 41. Further, although not shown, the external circuit and the metal foils 47a and 47b are connected via lead wires joined to the metal foils 47a and 47b by, for example, spot welding.

この低分子有機EL素子40の金属箔47a、bは取り出し電極として機能し、これらを通して、外部から下部透明導電層42と上部透明導電層44との間に電圧を印加すると、発光層45が発光する。   The metal foils 47a and 47b of the low molecular organic EL element 40 function as extraction electrodes, and when a voltage is applied between the lower transparent conductive layer 42 and the upper transparent conductive layer 44 from the outside, the light emitting layer 45 emits light. To do.

このように、取り出し電極である金属箔47a、bが下部透明導電層42と直接接触することにより、低分子有機EL素子40の接続信頼性は十分に優れたものとなる。また、金属箔47a、bが外部回路との接続に用いられる取り出し電極として機能するため、外部回路と下部透明導電層42とを接続する際の作業性を向上させることができる。   Thus, when the metal foils 47a and 47b serving as extraction electrodes are in direct contact with the lower transparent conductive layer 42, the connection reliability of the low molecular organic EL element 40 is sufficiently excellent. Further, since the metal foils 47a and 47b function as extraction electrodes used for connection to the external circuit, workability when connecting the external circuit and the lower transparent conductive layer 42 can be improved.

さらに、金属箔47a、bは、製品自体が複雑な形状をしていたとしてもその形状に合わせて種々の形に容易に加工することができ、接触抵抗が低下するほか、外観をすっきりさせることができる。また、接着フィルム48の構成材料として、150℃よりも低い温度で接着可能なEVAなどを採用することができるため、その場合に低分子有機EL素子40の各部材を構成する材料に高度な耐熱性が要求されない。さらに、金属箔47a、b及び接着フィルム48は変形が容易であるので、この材料を押しつぶすことによって、低分子有機EL素子40の基板ガラス41、46間の密閉性を高めることができる。   Furthermore, even if the metal foils 47a and 47b have a complicated shape, the metal foils 47a and b can be easily processed into various shapes according to the shape, the contact resistance is reduced, and the appearance is made clear. Can do. Moreover, since EVA etc. which can be adhere | attached at the temperature lower than 150 degreeC can be employ | adopted as a constituent material of the adhesive film 48, in that case, it is highly heat-resistant to the material which comprises each member of the low molecular organic EL element 40 Sex is not required. Further, since the metal foils 47a and 47b and the adhesive film 48 are easily deformed, the sealing between the substrate glasses 41 and 46 of the low molecular organic EL element 40 can be improved by crushing this material.

図5は本発明の好適な第4の実施形態に係る電子デバイスの接続構造を模式的に示す断面図である。図5に示す電子デバイスは液体型EC素子である。図5に示す液体型EC素子50は、下部透明導電層52と、その下部透明導電層52に対向して配置された対向基板53と、下部透明導電層52の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ下部透明導電層52の上面上に非接着の状態で固定された金属箔57bと、下部透明導電層52の上面、金属箔57bの上面及び対向基板53の下面に接着した接着フィルム58bとを備える接続構造を有する。以下、この液体型EC素子50について詳細に説明する。   FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing an electronic device connection structure according to a preferred fourth embodiment of the present invention. The electronic device shown in FIG. 5 is a liquid EC element. The liquid EC element 50 shown in FIG. 5 is in direct contact with the lower transparent conductive layer 52, the counter substrate 53 disposed to face the lower transparent conductive layer 52, and a part of the upper surface of the lower transparent conductive layer 52. A metal foil 57b having a lower surface and fixed in a non-adhering state on the upper surface of the lower transparent conductive layer 52, and bonded to the upper surface of the lower transparent conductive layer 52, the upper surface of the metal foil 57b, and the lower surface of the counter substrate 53 It has a connection structure comprising an adhesive film 58b. Hereinafter, the liquid EC element 50 will be described in detail.

図5に示すように、液体型EC素子50には、基板ガラス51の上面上にITO等を構成材料とする下部透明導電層52が設けられている。さらに、下部透明導電層52の外端の上面上には、金属箔57bが取り付けられている。下部透明導電層52の金属箔57bよりも液体型EC素子50中心側の上面上には、接着フィルム58bが備えられており、この接着フィルム58bによる接着によって、金属箔57bが下部透明導電層52上に固定されている。下部透明導電層52と金属箔57bとの接点は、それらが直接接触することによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔57bは、幅方向一端部が下部透明導電層52及び接着フィルム58b間に挟まれ、接着フィルム58bにより下部透明導電層52に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。   As shown in FIG. 5, the liquid EC element 50 is provided with a lower transparent conductive layer 52 made of ITO or the like on the upper surface of a substrate glass 51. Further, a metal foil 57 b is attached on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 52. An adhesive film 58b is provided on the upper surface of the lower transparent conductive layer 52 closer to the center of the liquid EC element 50 than the metal foil 57b, and the metal foil 57b is bonded to the lower transparent conductive layer 52 by the adhesion by the adhesive film 58b. It is fixed on the top. Although the contact between the lower transparent conductive layer 52 and the metal foil 57b is ensured by direct contact, they are not bonded to each other. One end in the width direction of the metal foil 57b is sandwiched between the lower transparent conductive layer 52 and the adhesive film 58b and attached to the lower transparent conductive layer 52 by the adhesive film 58b, and the other end in the width direction is externally attached. It extends.

一方、下部透明導電層52の上記金属箔57bが取り付けられた外端とは反対側の外端の上面上には、上記接着フィルム58bと同程度の幅寸法を有する接着フィルム58aが備えられている。さらに接着フィルム58aの上面の外端側一部と接するようにして金属箔57aが備えられている。この金属箔57aは接着フィルム58aによる接着により固定されている。また、金属箔57aはその上面の一部がITO等を構成材料とする上部透明導電層59と直接接しており、上部透明導電層59と金属箔57aとの接点はそれによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔57aは、幅方向一端部が上部透明導電層59及び接着フィルム58a間に挟まれ、接着フィルム58aにより上部透明導電層59に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。   On the other hand, an adhesive film 58a having the same width as the adhesive film 58b is provided on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 52 opposite to the outer end to which the metal foil 57b is attached. Yes. Further, a metal foil 57a is provided so as to be in contact with a part of the outer end side of the upper surface of the adhesive film 58a. The metal foil 57a is fixed by adhesion using an adhesive film 58a. Further, the metal foil 57a has a part of its upper surface directly in contact with the upper transparent conductive layer 59 made of ITO or the like, and the contact between the upper transparent conductive layer 59 and the metal foil 57a is secured thereby. They are not adhered to each other. One end in the width direction of the metal foil 57a is sandwiched between the upper transparent conductive layer 59 and the adhesive film 58a and attached to the upper transparent conductive layer 59 by the adhesive film 58a, and the other end in the width direction is externally attached. It extends.

金属箔57a、bの構成材料は上記第1の実施形態における金属箔17a、bと同様であればよい。また、接着フィルム58a、bの構成材料は上記第1の実施形態における接着フィルム18と同様であればよい。   The constituent materials of the metal foils 57a and 57b may be the same as those of the metal foils 17a and 17b in the first embodiment. The constituent materials of the adhesive films 58a and 58b may be the same as those of the adhesive film 18 in the first embodiment.

接着フィルム58a、bの上面上には、対向基板53が備えられており、対向基板53は、接着フィルム58a、bによる接着によって固定されている。対向基板53は、下側から上述の上部透明導電層59及びセラミック又はガラス基板56が順に積層されている。対向基板53の幅寸法は、基板ガラス51と同じ寸法である。さらに、図示しない外部回路と金属箔57a、bとは、金属箔57a、bに例えばスポット溶接により接合されたリード線を介して接続されている。   A counter substrate 53 is provided on the upper surfaces of the adhesive films 58a and 58b, and the counter substrate 53 is fixed by bonding with the adhesive films 58a and 58b. In the counter substrate 53, the upper transparent conductive layer 59 and the ceramic or glass substrate 56 are sequentially laminated from the lower side. The width dimension of the counter substrate 53 is the same as that of the substrate glass 51. Further, an external circuit (not shown) and the metal foils 57a and 57b are connected to each other through lead wires joined to the metal foils 57a and 57b by, for example, spot welding.

そして、下部透明導電層52、接着フィルム58a、b及び対向基板53により形成された空間には液体型EC材料55が封入されている。液体型EC材料55は、窒素含有極性溶媒中に、電解質(イオン性有機化合物)と発色剤(2つのカルボニル基を有する芳香族化合物)とを溶解することにより得られる。液体型EC材料55は、外部から空間内に貫通して設けられた図示しない注入孔から上記空間内に充填された後、注入孔を塞ぐことで、上記空間に封入される。   A liquid EC material 55 is sealed in a space formed by the lower transparent conductive layer 52, the adhesive films 58a and 58b, and the counter substrate 53. The liquid EC material 55 is obtained by dissolving an electrolyte (ionic organic compound) and a color former (aromatic compound having two carbonyl groups) in a nitrogen-containing polar solvent. The liquid EC material 55 is filled in the space by filling the space from an injection hole (not shown) penetrating into the space from the outside and then closing the injection hole.

この液体型EC素子50において、金属箔57bは下部透明導電層52からの取り出し電極として機能し、金属箔57aは上部透明導電層59からの取り出し電極として機能する。この金属箔57a、bを通して、それぞれ下部透明導電層32及び上部導電層39に外部から電圧を印加すると、液体型EC材料55が着色し、逆電圧を印加すると液体型EC材料55は消色する。   In the liquid EC element 50, the metal foil 57b functions as an extraction electrode from the lower transparent conductive layer 52, and the metal foil 57a functions as an extraction electrode from the upper transparent conductive layer 59. When a voltage is applied from the outside to the lower transparent conductive layer 32 and the upper conductive layer 39 through the metal foils 57a and 57b, the liquid EC material 55 is colored, and when a reverse voltage is applied, the liquid EC material 55 is decolored. .

このように、取り出し電極である金属箔57a、bが、それぞれ下部透明導電層52及び上部透明導電層59と直接接触することにより、液体型EC素子50の接続信頼性は十分に優れたものとなる。また、金属箔57a、bが外部回路との接続に用いられる取り出し電極として機能するため、外部回路と下部透明導電層52及び上部透明導電層59とを接続する際の作業性を向上させることができる。さらには、接着フィルム58a、bの構成材料として、150℃よりも低い温度で接着可能なEVAなどを採用することができるため、その場合に液体型EC素子50の各部材を構成する材料に高度な耐熱性が要求されない。加えて、金属箔57a、b及び接着フィルム58a、bは変形が容易であるので、この材料を押しつぶすことによって、下部透明導電層52の上面と対向基板53下面との距離に追従させることができる。   As described above, the metal foils 57a and 57b serving as the extraction electrodes are in direct contact with the lower transparent conductive layer 52 and the upper transparent conductive layer 59, respectively, so that the connection reliability of the liquid EC element 50 is sufficiently excellent. Become. Further, since the metal foils 57a and 57b function as take-out electrodes used for connection to the external circuit, workability when connecting the external circuit to the lower transparent conductive layer 52 and the upper transparent conductive layer 59 can be improved. it can. Furthermore, since EVA or the like that can be bonded at a temperature lower than 150 ° C. can be adopted as the constituent material of the adhesive films 58a and 58b, the material constituting each member of the liquid type EC element 50 in that case is highly advanced. Heat resistance is not required. In addition, since the metal foils 57a and 57b and the adhesive films 58a and 58b are easily deformed, by crushing this material, the distance between the upper surface of the lower transparent conductive layer 52 and the lower surface of the counter substrate 53 can be followed. .

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   The preferred embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above embodiment. The present invention can be variously modified without departing from the gist thereof.

例えば、本発明の電子デバイスの接続構造は、色素増感型太陽電池に適用することもできる。図6は、本発明の電子デバイスの接続構造を備えた色素増感型太陽電池の一例を示す模式断面図である。図6に示す色素増感型太陽電池60には、基板ガラス61の上面上にITO等を構成材料とする下部透明導電層62が設けられている。さらに、下部透明導電層62の外端の上面上には、金属箔67bが取り付けられている。下部透明導電層62の金属箔67bよりも色素増感型太陽電池60中心側の上面上には、接着フィルム68bが備えられており、この接着フィルム68bによる接着によって、金属箔67bが下部透明導電層62上に固定されている。下部透明導電層62と金属箔67bとの接点は、それらが直接接触することによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔67bは、幅方向一端部が下部透明導電層62及び接着フィルム68b間に挟まれ、接着フィルム68bにより下部透明導電層62に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。   For example, the electronic device connection structure of the present invention can be applied to a dye-sensitized solar cell. FIG. 6 is a schematic cross-sectional view showing an example of a dye-sensitized solar cell having the electronic device connection structure of the present invention. In the dye-sensitized solar cell 60 shown in FIG. 6, a lower transparent conductive layer 62 made of ITO or the like is provided on the upper surface of a substrate glass 61. Further, a metal foil 67 b is attached on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 62. An adhesive film 68b is provided on the upper surface of the lower transparent conductive layer 62 closer to the center of the dye-sensitized solar cell 60 than the metal foil 67b, and the metal foil 67b is bonded to the lower transparent conductive layer by the adhesive film 68b. Fixed on the layer 62. Although the contact between the lower transparent conductive layer 62 and the metal foil 67b is ensured by direct contact, they are not bonded to each other. One end in the width direction of the metal foil 67b is sandwiched between the lower transparent conductive layer 62 and the adhesive film 68b, and is attached to the lower transparent conductive layer 62 by the adhesive film 68b, and the other end in the width direction is externally attached. It extends.

一方、下部透明導電層62の上記金属箔67bが取り付けられた外端とは反対側の外端の上面上には、上記接着フィルム68bと同程度の幅寸法を有する接着フィルム68aが備えられている。さらに接着フィルム68aの上面の外端側一部と接するようにして金属箔67aが備えられている。この金属箔67aは接着フィルム68aによる接着により固定されている。また、金属箔67aはその上面の一部がITO等を構成材料とする上部透明導電層69と直接接しており、上部透明導電層69と金属箔67aとの接点はそれによって確保されるが、これらは互いに接着していない。金属箔67aは、幅方向一端部が上部透明導電層69及び接着フィルム68a間に挟まれ、接着フィルム68aにより上部透明導電層69に接着されて取り付けられており、幅方向他端部が外部に延びている。また、下部透明導電層62上の接着フィルム68a、b間には色素を吸着したTiO層64が積層されている。 On the other hand, an adhesive film 68a having a width similar to that of the adhesive film 68b is provided on the upper surface of the outer end of the lower transparent conductive layer 62 opposite to the outer end to which the metal foil 67b is attached. Yes. Further, a metal foil 67a is provided so as to be in contact with a part of the outer end side of the upper surface of the adhesive film 68a. The metal foil 67a is fixed by bonding with an adhesive film 68a. The metal foil 67a has a part of its upper surface directly in contact with the upper transparent conductive layer 69 made of ITO or the like, and the contact between the upper transparent conductive layer 69 and the metal foil 67a is thereby secured. They are not adhered to each other. The metal foil 67a has one end in the width direction sandwiched between the upper transparent conductive layer 69 and the adhesive film 68a, and is attached to the upper transparent conductive layer 69 by the adhesive film 68a. It extends. In addition, a TiO 2 layer 64 that adsorbs a pigment is laminated between the adhesive films 68 a and 68 b on the lower transparent conductive layer 62.

金属箔67a、bの構成材料は上記第1の実施形態における金属箔17a、bと同様であればよい。また、接着フィルム68a、bの構成材料は上記第1の実施形態における接着フィルム18と同様であればよい。   The constituent material of the metal foils 67a and 67b may be the same as that of the metal foils 17a and 17b in the first embodiment. The constituent materials of the adhesive films 68a and 68b may be the same as those of the adhesive film 18 in the first embodiment.

接着フィルム68a、bの上面上には、上部基板63が備えられており、上部基板63は、接着フィルム68a、bによる接着によって固定されている。上部基板63は、下側から上述の上部透明導電層69及びガラス基板66が順に積層されている。上部基板63の幅寸法は、基板ガラス61と同じ寸法である。さらに、図示しない外部装置と金属箔67a、bとは、金属箔67a、bに例えばスポット溶接により接合されたリード線を介して接続されている。   An upper substrate 63 is provided on the upper surfaces of the adhesive films 68a and 68b, and the upper substrate 63 is fixed by bonding with the adhesive films 68a and 68b. The upper transparent conductive layer 69 and the glass substrate 66 are sequentially laminated on the upper substrate 63 from the lower side. The width dimension of the upper substrate 63 is the same as that of the substrate glass 61. Further, the external device (not shown) and the metal foils 67a and 67b are connected to each other through lead wires joined to the metal foils 67a and 67b by, for example, spot welding.

そして、TiO層64、接着フィルム68a、b及び上部基板63により形成された空間にはヨウ素溶液等の電解質溶液65が封入されている。電解質溶液65は、外部から空間内に貫通して設けられた図示しない注入孔から上記空間内に充填された後、注入孔を塞ぐことで、上記空間に封入される。 An electrolyte solution 65 such as an iodine solution is enclosed in a space formed by the TiO 2 layer 64, the adhesive films 68a and 68b, and the upper substrate 63. The electrolyte solution 65 is filled in the space by filling the space from an injection hole (not shown) penetrating into the space from the outside, and then closing the injection hole.

この色素増感型太陽電池60において、金属箔67bは下部透明導電層62からの取り出し電極として機能し、金属箔67aは上部透明導電層69からの取り出し電極として機能する。下部透明導電層62に太陽光を照射すると、TiO層64の色素が光を吸収し電子を放出することにより、その電子が下部透明導電層62及び上部透明導電層69間を移動すると共に、電解質溶液の酸化還元反応により電流が流れる。こうして下部透明導電層62及び上部透明導電層69間に接続された図示しない外部装置が駆動する。 In the dye-sensitized solar cell 60, the metal foil 67b functions as an extraction electrode from the lower transparent conductive layer 62, and the metal foil 67a functions as an extraction electrode from the upper transparent conductive layer 69. When the lower transparent conductive layer 62 is irradiated with sunlight, the dye of the TiO 2 layer 64 absorbs light and emits electrons, so that the electrons move between the lower transparent conductive layer 62 and the upper transparent conductive layer 69, and Current flows due to the oxidation-reduction reaction of the electrolyte solution. Thus, an external device (not shown) connected between the lower transparent conductive layer 62 and the upper transparent conductive layer 69 is driven.

また、本発明の電子デバイスの接続構造は、液晶パネルに適用することもできる。図7は、本発明の電子デバイスの接続構造を備えた液晶パネルの一例を示す模式断面図である。液晶パネル70において、偏光板71a、TFTアレイ基板71b、バスラインが設けられたガラス基板71c、TFTドット電極72が順に積層されている。また、ガラス基板71c上の外端上面上には金属箔77a、bが備えられており、それらは接着フィルム78a、bによりガラス基板71cに固定されている。接着フィルム78a、bはまた、ガラス基板71cに対向するRGBフィルタ79aとガラス基板79bと偏光板79cとを備えたカラーフィルタ基板79をガラス基板71cに接着している。また、接着フィルム78a、bの内側にはAgペースト82が備えられており、RGBフィルタ79aの下側にはコモン電極76が設けられている。TFTドット電極72及びコモン電極76の表面上にはポリイミド配向膜73が形成されており、それらの間の間隔を確保するようにギャップ・スペーサー74が配設されている。また、TFTドット電極72及びコモン電極76間には液晶材料75が封入されている。この液晶材料75は接着フィルム78bに設けられた注入孔から注入された後、その注入孔が封孔材81で塞がれることにより封入される。   Further, the electronic device connection structure of the present invention can be applied to a liquid crystal panel. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view showing an example of a liquid crystal panel provided with the electronic device connection structure of the present invention. In the liquid crystal panel 70, a polarizing plate 71a, a TFT array substrate 71b, a glass substrate 71c provided with a bus line, and a TFT dot electrode 72 are sequentially laminated. Further, metal foils 77a and 77b are provided on the upper surface of the outer end on the glass substrate 71c, and these are fixed to the glass substrate 71c by adhesive films 78a and 78b. The adhesive films 78a and 78b also adhere the color filter substrate 79 including the RGB filter 79a, the glass substrate 79b, and the polarizing plate 79c facing the glass substrate 71c to the glass substrate 71c. Further, an Ag paste 82 is provided inside the adhesive films 78a and 78b, and a common electrode 76 is provided below the RGB filter 79a. A polyimide alignment film 73 is formed on the surfaces of the TFT dot electrode 72 and the common electrode 76, and a gap spacer 74 is disposed so as to ensure a gap between them. A liquid crystal material 75 is sealed between the TFT dot electrode 72 and the common electrode 76. The liquid crystal material 75 is injected by being injected from an injection hole provided in the adhesive film 78 b, and then the injection hole is sealed with a sealing material 81.

また、上記各実施形態における金属箔は接着フィルムにより固定されているが、その固定を更に強固にするために、上述の各電子デバイスをその上下方向(各部材の積層方向)に押圧する外枠を設けてもよい。さらには、その外枠が、金属箔及び接着フィルムを外部環境から遮断できるように設けられることで、この電子デバイスの耐環境性を向上することができる。   Moreover, although the metal foil in each said embodiment is being fixed with the adhesive film, in order to strengthen the fixation further, the outer frame which presses each above-mentioned electronic device to the up-down direction (lamination direction of each member) May be provided. Furthermore, the environmental resistance of the electronic device can be improved by providing the outer frame so that the metal foil and the adhesive film can be shielded from the external environment.

本発明の好適な実施形態に係る固体型EC素子を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a solid-state EC element according to a preferred embodiment of the present invention. 図1に示す電子デバイスを用いたミラー装置の模式断面図である。It is a schematic cross section of the mirror apparatus using the electronic device shown in FIG. 本発明の好適な実施形態に係る高分子有機EL素子を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a polymer organic EL device according to a preferred embodiment of the present invention. 本発明の好適な実施形態に係る低分子有機EL素子を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the low molecular organic EL element which concerns on suitable embodiment of this invention. 本発明の好適な実施形態に係る液体型EC素子を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing a liquid EC element according to a preferred embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る色素増感型太陽電池を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the dye-sensitized solar cell which concerns on embodiment of this invention. 本発明の好適な実施形態に係る液晶パネルを示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows the liquid crystal panel which concerns on suitable embodiment of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

10…固体型EC素子、11、31…基板ガラス、12、32…下部透明導電層、13…EC層、14…上部透明導電層、16…対向ガラス、17a、17b、37a、37b…金属箔、18、38a、38b…接着フィルム、30…高分子有機EL素子、33…対向基板、35…発光層、36…ガラス基板、39…上部導電層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Solid type EC element 11, 31 ... Substrate glass, 12, 32 ... Lower transparent conductive layer, 13 ... EC layer, 14 ... Upper transparent conductive layer, 16 ... Opposite glass, 17a, 17b, 37a, 37b ... Metal foil , 18, 38a, 38b ... adhesive film, 30 ... polymer organic EL element, 33 ... counter substrate, 35 ... light emitting layer, 36 ... glass substrate, 39 ... upper conductive layer.

Claims (2)

導電層と、
その導電層に対向して配置された基板と、
前記導電層の上面の一部と直接接触した下面を有し、かつ前記導電層の前記上面上に非接着の状態で固定された金属箔と、
前記導電層の前記上面、前記金属箔の上面及び前記基板の下面に接着した接着フィルムと、
を備える電子デバイスの接続構造。
A conductive layer;
A substrate disposed opposite the conductive layer;
A metal foil having a lower surface in direct contact with a portion of the upper surface of the conductive layer, and fixed in an unbonded state on the upper surface of the conductive layer;
An adhesive film adhered to the upper surface of the conductive layer, the upper surface of the metal foil, and the lower surface of the substrate;
An electronic device connection structure comprising:
導電層の上面の一部と金属箔の下面とを直接接触させるようにして、非接着の状態で前記導電層の前記上面上に前記金属箔を載置する工程と、
前記導電層及び前記金属箔の両方の露出した上面上に接着フィルムを載置する工程と、
前記接着フィルムの上面上に基板を載置する工程と、
前記導電層、前記金属箔、前記接着フィルム及び前記基板をそれらの積層方向に押圧して、前記接着フィルムにより前記導電層の前記上面上に前記金属箔を固定すると同時に、前記接着フィルムを介して前記基板を前記導電層に対向させて固定する工程と、
を有する電子デバイスの接続構造の製造方法。
Placing the metal foil on the upper surface of the conductive layer in a non-adhered state so that a part of the upper surface of the conductive layer is in direct contact with the lower surface of the metal foil;
Placing an adhesive film on the exposed upper surfaces of both the conductive layer and the metal foil;
Placing the substrate on the top surface of the adhesive film;
The conductive layer, the metal foil, the adhesive film and the substrate are pressed in the laminating direction to fix the metal foil on the upper surface of the conductive layer with the adhesive film, and at the same time through the adhesive film Fixing the substrate to face the conductive layer;
A method for manufacturing a connection structure of an electronic device having
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