JP2008051583A - Inspection device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面と裏面に各々金属パターンの形成された両面基板の検査装置に関する。 The present invention relates to an inspection apparatus for a double-sided board in which a metal pattern is formed on each of a front surface and a back surface.
近年、半導体装置の小型化の要求が強まっており、そのため、半導体装置の外形寸法をほぼ半導体素子の外形寸法にまで小型化したチップサイズパッケージ(以後、CSPと称す。)の半導体装置が提案されている。 In recent years, there has been an increasing demand for miniaturization of semiconductor devices. For this reason, a semiconductor device of a chip size package (hereinafter referred to as CSP) in which the outer dimensions of the semiconductor device are reduced to almost the outer dimensions of a semiconductor element has been proposed. ing.
このCSPの半導体装置としては、例えば、半導体素子の外形寸法よりも若干大きい外形寸法の基板上に半導体素子を接着剤などでボンディングし、半導体素子の周縁部に形成された電極と基板の周縁部に形成された電極とを金線などで電気的に接続した構成のものや、半導体素子の外形寸法程度に形成され表面にアレイ状の電極を備えた基板と、半導体素子の裏面側にアレイ状に形成された半田ボールとを融着して電気的に接続する構成など、様々な構成のCSPの半導体装置が提案されている。 As this CSP semiconductor device, for example, a semiconductor element is bonded to a substrate having an outer dimension slightly larger than the outer dimension of the semiconductor element with an adhesive or the like, and an electrode formed on the peripheral part of the semiconductor element and the peripheral part of the substrate A structure in which the electrodes formed on the substrate are electrically connected with a gold wire or the like, a substrate formed to have the outer dimensions of the semiconductor element and having an array of electrodes on the surface, and an array on the back side of the semiconductor element There have been proposed CSP semiconductor devices having various configurations, such as a configuration in which solder balls formed on are fused and electrically connected.
このようなCSPの半導体装置の製造においては、1チップに対応して形成される配線、電極、ビームリード及びスルーホールなどのパターンが複数繰り返してパタンニングされたCSPテープを用いて一度に大量のパッケージを製造するようになっている。 In the manufacture of such a CSP semiconductor device, a large amount of CSP tape is used at once using a CSP tape in which a plurality of patterns such as wirings, electrodes, beam leads, and through holes formed corresponding to one chip are patterned. The package is to be manufactured.
このCSPテープは、ポリイミド基材等の基材の表面に蒸着などにより銅箔などの導電膜を形成した後、通常のエッチング技術を用いてCSP用の配線、電極、ビームリード及びスルーホールなどのパターンを複数繰り返してパタンニングした長尺状のテープである。 In this CSP tape, a conductive film such as a copper foil is formed on the surface of a base material such as a polyimide base material by vapor deposition or the like, and then a CSP wiring, an electrode, a beam lead, a through hole, etc. are used by using a normal etching technique. It is a long tape patterned by repeating a plurality of patterns.
このようなテープの製造にあたっては、パターン形成後に配線の断線や欠けのパターン欠陥を、例えば、特許文献1に示されるような検査装置で検査している。従来の検査装置によるパターン欠陥の検出は、テープ表面のパターンをCCDなどの画像読取装置により光学的に読み取り、この読み取られた画像に基づいて欠陥を自動で検出している。この場合、読み取った画像を画像処理にて2値画像化し、パターン欠陥を自動で検出することができる。 In manufacturing such a tape, after a pattern is formed, a disconnection of a wiring or a pattern defect such as a chip is inspected by an inspection apparatus as disclosed in Patent Document 1, for example. Detection of pattern defects by a conventional inspection apparatus optically reads a tape surface pattern by an image reading device such as a CCD, and automatically detects defects based on the read image. In this case, the read image can be converted into a binary image by image processing, and a pattern defect can be automatically detected.
しかしながら、テープの両面にパターンが形成されている場合、光学的な検査では、表面の検査と裏面の検査の合計2回の検査をしなければならず、片面にパターンが形成されている場合に比較して2倍の検査時間を要しており、また、パターンの上にレジストが設けられている場合、パターンを検出できない問題がある。カメラを2台用いて表面と裏面とを同時に撮影することも考えられるが、装置構成が複雑化し、装置コストが高くなる問題がある。 However, when the pattern is formed on both sides of the tape, the optical inspection requires a total of two inspections, the front surface inspection and the back surface inspection, and the pattern is formed on one side. In comparison, it takes twice the inspection time, and there is a problem that the pattern cannot be detected when a resist is provided on the pattern. Although it is conceivable to simultaneously photograph the front and back surfaces using two cameras, there is a problem that the apparatus configuration becomes complicated and the apparatus cost increases.
レジストが設けられている基板を検査する場合には、X線カメラで撮影したX線透過画像を検査員がモニタ上で確認し、パターン欠陥を判断することができる。
ところで、X線透過画像を画像処理して2値画像化し、パターンを光学的に読み取る検査装置と同様に、パターン欠陥を自動で検出することも考えられる。 By the way, it is also conceivable to automatically detect a pattern defect in the same manner as an inspection apparatus that optically reads a pattern by processing an X-ray transmission image into a binary image.
例えば、X線透過画像のうち、表面のパターンのみの領域(または裏面のパターンのみの領域)において断線が生じていた場合、パターンの輪郭形状が変わるため、画像処理(予め設定した基準と比較する)を行って、欠陥があることを判断することができる。 For example, in the X-ray transmission image, when a disconnection occurs in a region only with the front surface pattern (or a region only with the back surface pattern), the contour shape of the pattern changes, and therefore image processing (comparison with a preset reference) ) To determine that there is a defect.
しかしながら、表面と裏面の両面にパターンが形成されている両面基板の場合、X線透過画像を2値画像化した場合、表面のパターンと裏面のパターンとが重なった部分において何れか一方のパターンに断線が生じた場合に2値画像上で断線部分が消えてしまい、従来装置ではこのようなパターン欠陥を検出することが出来ない問題があった。 However, in the case of a double-sided substrate in which patterns are formed on both the front surface and the back surface, when an X-ray transmission image is converted into a binary image, the pattern on the front surface and the back surface pattern are overlapped with either pattern. When the disconnection occurs, the disconnection portion disappears on the binary image, and there is a problem that such a pattern defect cannot be detected by the conventional apparatus.
本発明は、上記問題を解決すべく成されたもので、両面基板のパターンの重なり部分の欠陥を検出可能な両面基板の検査装置の提供を目的とする。 The present invention has been made to solve the above problem, and an object of the present invention is to provide an inspection apparatus for a double-sided board capable of detecting a defect in an overlapping portion of a pattern of a double-sided board.
請求項1に記載の両面基板の検査装置は、一方の面に形成された第1の金属パターンと、他方の面に形成された第2の金属パターンとを有する基板に放射線を照射する放射線源と、前記基板を透過した前記放射線を受けて放射線透過画像を生成する画像生成手段と、前記放射線透過画像のうち、前記第1の金属パターンを透過した第1透過画像の予め設定した濃度と、前記第2の金属パターンを透過した第2透過画像の予め設定した濃度と、前記第1の金属パターン及び前記第2の金属パターンの両方を透過した合成透過画像の予め設定した濃度とに基づいて、前記合成透過画像を含む前記第1の金属パターンと前記第2の金属パターンの重複領域を設定する設定手段と、前記設定した重複領域について、前記合成透過画像の予め定めた濃度と異なる領域を欠陥領域として検出する欠陥検出手段と、を有することを特徴としている。 The double-sided substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein the radiation source irradiates a substrate having a first metal pattern formed on one surface and a second metal pattern formed on the other surface. Image generation means for receiving the radiation transmitted through the substrate and generating a radiation transmission image; a preset density of the first transmission image transmitted through the first metal pattern in the radiation transmission image; Based on a preset density of the second transmission image that has passed through the second metal pattern and a preset density of the composite transmission image that has passed through both the first metal pattern and the second metal pattern. Setting means for setting an overlapping area between the first metal pattern and the second metal pattern including the synthesized transmission image; and a predetermined density of the synthesized transmission image for the set overlapping area. It is characterized by having a defect detecting means for detecting a different region as a defect region.
次に、請求項1に記載の両面基板の検査装置の作用を説明する。 Next, the operation of the double-sided substrate inspection apparatus according to claim 1 will be described.
請求項1に記載の両面基板の検査装置では、放射線源から基板に向けて放射線が照射され、画像生成手段は基板を透過した放射線を受けて放射線透過画像を生成する。 In the double-sided board inspection apparatus according to the first aspect, the radiation is emitted from the radiation source toward the board, and the image generation unit receives the radiation transmitted through the board and generates a radiation transmission image.
基板には、一方の面に第1の金属パターンが形成され、他方の面に第2の金属パターンが形成されているので、放射線透過画像には、第1の金属パターンと第2の金属パターンの両方が映る。 Since the first metal pattern is formed on one surface of the substrate and the second metal pattern is formed on the other surface, the first metal pattern and the second metal pattern are displayed on the radiation transmission image. Both are reflected.
設定手段は、放射線透過画像のうち、第1の金属パターンを透過した第1透過画像の予め設定した濃度と、第2の金属パターンを透過した第2透過画像の予め設定した濃度と、第1の金属パターン及び第2の金属パターンの両方を透過した合成透過画像の予め設定した濃度とに基づいて、合成透過画像を含む第1の金属パターンと第2の金属パターンの重複領域を設定する。 The setting means includes a predetermined density of the first transmission image transmitted through the first metal pattern, a predetermined density of the second transmission image transmitted through the second metal pattern, and a first density among the radiation transmission images. An overlapping region between the first metal pattern and the second metal pattern including the combined transmission image is set based on a preset density of the combined transmission image that has transmitted through both the metal pattern and the second metal pattern.
そして、欠陥検出手段は、上記のようにして設定した重複領域について、合成透過画像の予め定めた濃度と異なる領域を欠陥領域として検出する。即ち、第1の金属パターンと第2の金属パターンとが重なって映っている領域(重複領域)において、例えば、少なくとも一方のパターンに断線が生じているとすると、断線している部分の領域の濃度が他の部分と異なることになるので、濃度の異なる領域を欠陥として検出することができる。 Then, the defect detection means detects, as the defect area, an area different from the predetermined density of the combined transmission image with respect to the overlapping area set as described above. That is, in the region where the first metal pattern and the second metal pattern are overlapped (overlapping region), for example, if disconnection occurs in at least one pattern, Since the density is different from other parts, a region having a different density can be detected as a defect.
以上説明したように本発明の両面基板の検査装置によれば、従来技術では出来なかった両面基板のパターンの重なり部分の欠陥を検出することができる、という優れた効果がある。 As described above, according to the double-sided substrate inspection apparatus of the present invention, there is an excellent effect that it is possible to detect a defect in the overlapping portion of the pattern of the double-sided substrate, which was not possible with the prior art.
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の一例を詳細に説明する。 Hereinafter, an example of an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
以下、図面を参照して本発明の適用された検査装置10を説明する。
Hereinafter, an
図1に示すように、本実施形態の検査装置10は、大別して巻き出しユニット12、光学検査装置14、X線検査装置16、マーキング装置18、及び巻き取りユニット20を備えている。
(巻き出しユニット)
巻き出しユニット12は、合成樹脂製のフィルムベース上に金属パターンの形成されたテープ(例えば、TABテープ、COFテープ等)22とスペーサテープ24とを共に巻き取ってロール状に形成したロール26を保持する巻き出し側リール軸28、テープ22と共に引き出されたスペーサテープ24を巻き取って保持する巻き出し側スペーサテープ軸30を備えている。
As shown in FIG. 1, the
(Unwinding unit)
The
ロール26の送出し側には、テープ22をガイドするガイドローラ32、スペーサテープ24をガイドするガイドローラ34、及びダンサー36が配置されている。
(光学検査装置)
光学検査装置14には、ダンサー38、ローラ40、ローラ42が順に配置されている。
On the delivery side of the
(Optical inspection equipment)
In the
ローラ40とローラ42とは間隔をあけて水平に配置されており、ローラ40とローラ42との間には、テーブル44が配置されている。
The
テーブル44の中央上方には、レンズ、及びCCDラインセンサからなる光学式の画像読取装置46が配置されている。
An optical
テープ22は、ローラ40とローラ42とに掛け渡され、ローラ40とローラ42が回転することで一方向に一定の速度で送られ、テーブル44上を通過する際に上記画像読取部でテープ22の上面(回路パターン等)が撮影される。なお、ローラ40、及びローラ42は、コンピュータ等を含む制御装置48によって回転が制御されている。
The
CCDラインセンサからの画像情報は、制御装置48の画像処理を行うコンピュータ(図示せず)に送られ、コンピュータはCCDラインセンサからの画像信号(情報)に基づいて画像処理を行ってパターンの欠陥を光学的に検出する。
The image information from the CCD line sensor is sent to a computer (not shown) that performs image processing of the
なお、検査画像等は、後述する表示装置80のモニタ82に表示することができる。
(X線検査装置)
次に、X線検査装置16には、ロングダンサー52、ローラ54、ローラ56が順に配置されている。
The inspection image or the like can be displayed on the
(X-ray inspection equipment)
Next, in the
テープ22は、ローラ54とローラ56とに掛け渡されている。ローラ54とローラ56は、制御装置48によって制御されるモータ(図示せず)で回転される。
The
このローラ54とローラ56との間には、テープ22の搬送経路上側に画像生成装置58が配置されている。
An
画像生成装置58は、回転ドラム60を備えている。回転ドラム60は、回転軸がテープ22の搬送方向と直交し、かつテープ22と平行とされている。
The image generating
回転ドラム60の外周表面には、輝尽性蛍光体を含む放射線画像変換層が配置されている。
A radiation image conversion layer containing a stimulable phosphor is disposed on the outer peripheral surface of the
回転ドラム60は、X線の透過を阻止可能な金属で形成されている。なお、回転ドラム60は、鉛等の金属板が外周面側(輝尽性蛍光体の下側)に貼り付けたものであっても い。
The rotating
この回転ドラム60は、制御装置48によって制御されるモータ(図示せず)によって回転される。
The rotating
ローラ54とローラ56との間には、テープ22の搬送経路下側にX線発生装置62が配置されており、X線発生装置62は、上方の回転ドラム60に向けてX線を照射する。
Between the
なお、X線発生装置62は、X線の照射側に図示しない鉛等の金属からなるスリット64を備え、回転ドラム60の下端に向けて、回転軸方向に細長い長方形状にX線が照射されるようになっている。
The
なお、X線の照射領域の大きさは、テープ22の搬送経路上において、テープ22の幅方向の寸法としては、テープ22の幅と同等(検査装置位に応じてテープ22の幅よりも狭くても良い。)で、テープ搬送方向の寸法としては、テープ22の幅方向の寸法よりも小さく設定されている。
The size of the X-ray irradiation area is the same as the width of the
テープ22の搬送と共に回転ドラム60は図1において反時計回り(図1の矢印A方向)に回転する。なお、X線発生装置62は、X線管の1点(発生点P)から出射するので、X線は放射状に出射されることになる。したがって、X線管の発生点からテープ22までの距離をA、X線管の発生点から輝尽性蛍光体までの距離をBとすると、テープ22は、輝尽性蛍光体上で、B/A倍拡大されて写ることになるので、回転ドラム60の周速は、テープ22の搬送速度のB/A倍とする。
As the
回転ドラム60の周囲には、X線の照射位置よりも回転方向下流側に、励起光照射装置63、検出装置65、消去光照射装置66が順に配置されている。
Around the
図2に示すように、励起光照射装置63は、輝尽性蛍光体を励起し発光させる励起光Laを出射する励起光光源(例えば、レーザーダイオード等)68、モータ70によって回転駆動され励起光Laを偏向させるポリゴンミラー72、およびポリゴンミラー72によって偏向された励起光を輝尽性蛍光体上に集光させる光学系74等から構成されている。この励起光照射装置63は、例えば、レーザープリンタ等に用いられている光走査装置を利用することもできる。
As shown in FIG. 2, the excitation
励起光光源68から出射された励起光Laは、ポリゴンミラー72、光学系74を介して回転ドラム60の外周面に設けた輝尽性蛍光体上に主走査方向(回転ドラム60の回転軸方向と平行。図2の矢印B方向。)に繰り返し走査される。
Excitation light La emitted from the
そして、励起光Laが輝尽性蛍光体上を主走査方向に繰り返し走査している間に、回転ドラム60の回転により輝尽性蛍光体は副走査方向(回転ドラム60の回転方向)に移動され、これにより励起光Laは輝尽性蛍光体上を二次元的に走査することになる。
While the excitation light La repeatedly scans the stimulable phosphor in the main scanning direction, the stimulable phosphor moves in the sub-scanning direction (the rotating direction of the rotating drum 60) by the rotation of the
なお、本実施形態の励起光照射装置63では、ポリゴンミラー72の回転により、励起光Laを回転ドラム60の軸方向一端から他端まで主走査可能としている。
In the excitation
また、励起光照射装置63の近傍には、検出装置65が配置されている。
A
検出装置65は、輝尽性蛍光体から発生した輝尽発光光Lbが入射する集光ガイド76、及び集光ガイド76の射出端から出射した輝尽発光光Lbを光電的に検出するフォトマルチプライヤー78を備えている。
The
輝尽発光光Lbは、フォトマルチプライヤー78に入射した後、光電変換されて電気的なアナログ信号として制御装置48に出力される。
The stimulated emission light Lb is incident on the
制御装置48では、フォトマルチプライヤー78から出力されたアナログ信号をデジタル信号に変換して2次元画像データとして画像メモリに記憶する。なお、画像メモリには、光学的に読み取った画像を記憶するエリアと、X線で読み取った画像を記憶するエリア等を備えている。
In the
また、フォトマルチプライヤー78からの画像情報は、制御装置48の画像処理を行うコンピュータ(図示せず)に送られ、コンピュータはフォトマルチプライヤー78からの画像信号(情報)に基づいて画像処理を行って欠陥の検出を行うことができる。
The image information from the
図1に示すように、制御装置48には表示装置80が接続されている。表示装置80は、画像メモリの二次元データを入力し、映像信号に変換し出力する映像信号処理回路、及び映像信号処理回路から出力された映像信号に基づく画像を表示するモニタ82を備えている。
As shown in FIG. 1, a
消去光照射装置66は、回転ドラム60の軸方向に沿って長いランプ(例えば、ハロゲンランプ、蛍光灯、キセノンランプ等)、及びランプからの消去光をドラム表面に集める反射板を供えている。
The erasing
なお、図示はしないが、X線検査装置16からX線が外部に漏れないように、装置内部に鉛板等からなる遮蔽が行われている。
(マーキング装置)
マーキング装置18には、ロングダンサー84、ローラ86、ローラ88、ショートダンサー90が順に配置されている。
Although not shown, the apparatus is shielded from a lead plate or the like so that X-rays do not leak out from the
(Marking device)
In the marking
テープ22は、ローラ86とローラ88とに掛け渡されている。
The
ローラ86とローラ88との間には、欠陥有りと検知されたパッケージパターンの予め定めた位置にマーキングを施すマーキングユニット92が配置されている。
(巻き取りユニット)
巻き取りユニット20は、マーキング装置18のテープ搬送方向下流側に配置されている。
Between the
(Winding unit)
The winding
巻き取りユニット20は、ロール状に形成したスペーサテープ24を保持する巻き取り側スペーサテープ軸94と、スペーサテープ24と検査済みのテープ22とを共に巻き取る巻き取り側リール軸96を備えている。
The winding
巻き取り側リール軸96のテープ巻取り側には、テープ22の搬送方向を変更するローラ98、100が配置されている。また、巻き取り側スペーサテープ軸94のテープ巻取り側には、ローラ102、ショートダンサー104が配置されている。
(作用)
次に、本実施形態の検査装置10の作用を説明する。
On the tape take-up side of the take-up
(Function)
Next, the operation of the
先ず最初に、片面に金属のパターンが形成されたテープ22の検査手順を説明する。
First, an inspection procedure for the
ロール26から引き出されたテープ22は、テーブル44の上に搬送され、画像読取装置46によりテープ上面(パターンの形成されている側)が順次撮影される。そして、画像読取装置46から出力された画像情報は、制御装置48のコンピュータに送られて画像処理され、テープ22の撮影画像がモニタ82に表示されると共に、テープ22に欠陥があるか否かの判断が行われる。
The
ここで、欠陥が異物の場合、光学的な撮影画像からは重大な欠陥である金属異物か否かの判断が困難である。本実施形態の検査装置10では、光学的に欠陥があると判断された場合に、確認(ベリファイ)のためにX線による検査を自動で行う。
Here, when the defect is a foreign object, it is difficult to determine whether the defect is a metal foreign object that is a serious defect from an optical photographed image. In the
画像読取装置46を通過したテープ22は一定の速度で搬送され、欠陥があると判断された部分がX線検査装置16にて撮影される。テープ22は、合成樹脂製のベースフィルムの上に金属のパターンが形成されているものであるため、金属以外の塵等は金属に比較してX線を良く透過してしまうため放射線画像としては映らず、パターンの欠陥として誤認識することは無い。したがって、金属異物以外の塵による過検出は極めて少なくなる。一方、ショート等の原因となる金属の塵は、放射線画像として映るので、重大な欠陥であることが判断できる。したがって、X線による検査を行うことで、検査結果の品質が向上する。
The
本実施形態の検査装置10では、放射線画像に映った金属異物を装置が自動で判定するので、検査員を不要とすることが可能となる。なお、検査員がモニタ82の画像を見て欠陥を判断しても良いのは勿論である。
In the
また、金属のパターンの上にレジストが載って光学的にパターンが見えない場合がある。レジストは金属に比較してX線を良く透過してしまうため、X線検査によりパターンの画像を確実に得ることができる。 In some cases, a resist is placed on a metal pattern and the pattern cannot be seen optically. Since resist transmits X-rays better than metal, an image of a pattern can be reliably obtained by X-ray inspection.
次に、図3(A)の模式図で示すように、両面に金属のパターンが形成されたテープ22の検査手順を説明する。図3(A)は、テープ22の一部分を示しており、表面に第1の金属パターン110が形成され、裏面に第2の金属パターン112が形成されている。
Next, as shown in the schematic diagram of FIG. 3A, an inspection procedure for the
両面にパターンの形成されたテープ22を検査する場合、パターンの形成されている部分は全てX線検査装置16にて撮影を行う。
When inspecting the
X線検査装置16にて撮影された放射線透過画像には、図3(B)に示すように、テープ表面側に形成されている第1の金属パターン110を透過した第1透過画像110Aと、テープ裏面に形成されている第2の金属パターン112を透過した第2透過画像112Aの両方が映る。
As shown in FIG. 3B, the radiation transmission image photographed by the
制御装置48の画像処理用のコンピュータ(本発明の設定手段)は、放射線透過画像のうち、第1の金属パターン110を透過した第1透過画像110Aの予め設定した濃度と、第2の金属パターン112を透過した第2透過画像112Aの予め設定した濃度と、第1の金属パターン110及び第2の金属パターン112の両方を透過した合成透過画像114Aの予め設定した濃度とに基づいて、合成透過画像114Aを含む第1の金属パターン110と第2の金属パターン112の重複領域(図3(B)の正方形の領域)116を設定する。
The image processing computer (setting means of the present invention) of the
ここで、例えば、図3(C)に示すように、第1の金属パターン110と第2の金属パターン112とが交差している部分において、第1の金属パターン110に断線118があった場合、交差部分の放射線透過画像は、図3(D)に示すようになる。
Here, for example, as shown in FIG. 3C, when the
ちなみに、図3(D)において、パターンの形成されていない部分の濃度が最も濃く、次に濃い濃度の部分は、第1の金属パターン110を透過した第1透過画像110A、及び第2の金属パターン112を透過した第2透過画像112Aであり、最も低濃度の部分は、第1の金属パターン110及び第2の金属パターン112の両方を透過した合成透過画像114Aとなる。
Incidentally, in FIG. 3D, the density of the portion where the pattern is not formed is the highest, and the next darkest density portion is the
断線118部分の濃度は、X線が第1の金属パターン110のみを通過しているので、第1透過画像110Aの濃度と同じになる。
The density of the
制御装置48の画像処理用のコンピュータ(本発明の欠陥検出手段)は、上記のようにして設定した重複領域116について、合成透過画像114Aの予め定めた濃度と異なる領域120(本実施形態では、第1透過画像110Aの濃度同じ濃度の部分)を欠陥領域として検出する。
The image processing computer (defect detection means of the present invention) of the
このように、重複領域116においては、断線118部分の濃度と、断線していない部分(2つのパターンが重なっている部分)の濃度が異なるので、重複領域116の濃度分布を見ることで、欠陥(断線)があることを画像処理により容易に検出することができる。
As described above, in the
なお、欠陥が検出された場合にはマーキング装置18が欠陥のあるパターンに対応して予め決定した箇所にマーキングを行う。
[その他の実施形態]
上記検査装置10の励起光照射装置63は、ポリゴンミラー72の回転により、励起光Laを回転ドラム60の軸方向一端から他端まで主走査可能としているが、放射線画像のサイズによって回転ドラム60の軸方向長さを長くした場合、走査範囲が不足するような場合がある。このような場合には、励起光照射装置63を回転ドラム60の軸方向に複数台配置しても良い。この場合、一方の励起光走査ビームと、これに隣接する他方の励起光走査ビームとがドラム周方向に見て多少オーバーラップするように走査を行う。輝尽性蛍光体に励起光を複数回照射すると、輝尽発光光が弱くなるが、画像処理で補正すれば良い。
When a defect is detected, the marking
[Other Embodiments]
The excitation
上記実施形態では、輝尽性蛍光体を回転ドラム60の外周表面に設けたが、一対のローラに掛け渡した無端ベルトの表面に輝尽性蛍光体を設けても良い。この場合、反対側の輝尽性蛍光体にX線が照射されないように、ローラの間にX線を遮蔽する鉛板等を配置する。
In the above embodiment, the photostimulable phosphor is provided on the outer peripheral surface of the
上記実施形態では、長尺状のテープ22の欠陥を検出する例を示したが、被検査物はテープ状に限らず、通常のプリント基板等のテープ22に比較して短いものであっても良い。このような被検査物の場合、ゴム等のX線を透過し易い材料からなるベルトコンベア等で搬送すれば良く、従来のように複数枚のイメージングプレートを使用することなく、複数の被検査物を連続的に検査することが可能となる。
In the above embodiment, an example in which a defect in the
上記実施形態では、被検査物を搬送しながら検査を行ったが、被検査物を固定し、X線検査装置16を搬送しても同様に検査を行うことが可能である。
In the above-described embodiment, the inspection is performed while the inspection object is being transported. However, the inspection can be similarly performed even if the inspection object is fixed and the
また、上記検査装置10では、テープ22を透過したX線を回転ドラム60の外周表面に設けた輝尽性蛍光体を含む放射線画像変換層で受け、輝尽性蛍光体からの輝尽発光光に基づいて画像を得たが、本発明はこれに限らず、X線検査装置としてイメージインテンシファイア等を用いた一般的なX線カメラを用いても良い。
Further, in the
10 検査装置
16 X線検査装置
22 テープ
46 画像読取装置
48 制御装置
DESCRIPTION OF
Claims (1)
前記基板を透過した前記放射線を受けて放射線透過画像を生成する画像生成手段と、
前記放射線透過画像のうち、前記第1の金属パターンを透過した第1透過画像の予め設定した濃度と、前記第2の金属パターンを透過した第2透過画像の予め設定した濃度と、前記第1の金属パターン及び前記第2の金属パターンの両方を透過した合成透過画像の予め設定した濃度とに基づいて、前記合成透過画像を含む前記第1の金属パターンと前記第2の金属パターンの重複領域を設定する設定手段と、
前記設定した重複領域について、前記合成透過画像の予め定めた濃度と異なる領域を欠陥領域として検出する欠陥検出手段と、
を有することを特徴とする両面基板の検査装置。 A radiation source for irradiating a substrate having a first metal pattern formed on one surface and a second metal pattern formed on the other surface;
Image generating means for receiving the radiation transmitted through the substrate and generating a radiation transmission image;
Among the radiation transmission images, a predetermined density of a first transmission image transmitted through the first metal pattern, a predetermined density of a second transmission image transmitted through the second metal pattern, and the first The overlapping region of the first metal pattern and the second metal pattern including the composite transmission image based on a preset density of the composite transmission image transmitted through both the metal pattern and the second metal pattern A setting means for setting
For the set overlapping region, defect detection means for detecting a region different from a predetermined density of the combined transmission image as a defect region;
An inspection apparatus for a double-sided board, comprising:
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