JP2007141790A - Display device - Google Patents

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Tetsuji Komura
哲司 小村
Masaya Nakai
正也 中井
Makoto Shirakawa
真 白川
Shuichi Sasa
修一 佐々
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To improve angle of field dependency in a display device using an organic EL layer, especially, with respect to control of display color. <P>SOLUTION: The thickness of a flat layer 34 located on a wiring layer 32 is made 1.5 μm or more. Thereby, interference by reflection by the wiring layer 32 of the light emitted from the organic EL element 40 is prevented, and angle of field dependency can be improved. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL層を利用する表示装置、特に表示色の制御に関する。   The present invention relates to a display device using an organic EL layer, and in particular, to display color control.

従来より、有機EL素子を利用した表示装置が知られており、この有機EL素子においては、電極間の有機EL層に電流を流し、流れた電流に応じて発光が起こる。   Conventionally, a display device using an organic EL element is known. In this organic EL element, a current flows through an organic EL layer between electrodes, and light emission occurs according to the flowing current.

有機ELの発光材料としては、赤色発光、青色発光、緑色発光のものが知られている。従って、RGBの塗り分けによって、フルカラー表示が行える。   As light emitting materials for organic EL, those emitting red light, blue light, and green light are known. Therefore, full-color display can be performed by separately painting RGB.

ここで、このRGBの塗り分け方式の場合、各色の有機EL層の材料が異なるため、通常RGB各色の蒸着工程が必要であり、またそのために別々のマスクを利用する。このように形成工程が多くなると、歩留まりが悪くなりやすい。そこで、全画素共通で白色発光層を形成するし、カラーフィルタによってRGBの各画素を形成することも提案されている(特許文献1)。この構成では、比較的困難な有機EL層の形成が簡易化でき、歩留まりを向上できる。   Here, in the case of the RGB separate coloring method, since the materials of the organic EL layers of the respective colors are different, usually a vapor deposition process for each of the RGB colors is necessary, and for this purpose, separate masks are used. As the number of formation steps increases, the yield tends to deteriorate. Therefore, it has also been proposed to form a white light emitting layer common to all pixels and form each pixel of RGB by a color filter (Patent Document 1). With this configuration, it is possible to simplify the formation of a relatively difficult organic EL layer and improve the yield.

特開2004−127602号公報JP 2004-127602 A

ここで、RGB塗り分け、白色発光+カラーフィルタタイプのいずれの表示装置においても、有機EL素子からの光の射出経路には各種の層が存在する。各有機EL素子への電流を画素毎に設けた薄膜トランジスタ(TFT)によって制御するアクティブマトリクス方式の表示装置においては、このTFTを形成する層が有機EL素子から発せられた光が外部に射出されるまでの経路に存在する。そして、このTFT層において各種の反射が生じ、これが有機EL素子からの光と干渉し視野角依存性が大きくなってしまうという問題があった。従って、このような問題を解決したいという課題がある。   Here, in any of RGB display, white light emission + color filter type display devices, various layers exist in the light emission path from the organic EL element. In an active matrix display device in which a current to each organic EL element is controlled by a thin film transistor (TFT) provided for each pixel, light emitted from the organic EL element is emitted to the outside by a layer forming the TFT. Exists in the route to. Then, various reflections occur in the TFT layer, which interferes with light from the organic EL element, resulting in a problem that viewing angle dependency is increased. Therefore, there is a problem that it is desired to solve such a problem.

本発明は、マトリクス状に配置された表示画素を含む表示装置であって、薄膜トランジスタを含むTFT層と、このTFT層上に形成された平坦化層と、この平坦化膜上に形成された有機EL層と、を含み、前記平坦化層の厚みを前記TFT層における反射光の前記有機EL層における発光との干渉の影響を実質的に小さくできる十分厚いものにすることを特徴とする。   The present invention is a display device including display pixels arranged in a matrix, and includes a TFT layer including a thin film transistor, a planarizing layer formed on the TFT layer, and an organic layer formed on the planarizing film. And the thickness of the planarizing layer is sufficiently thick so that the influence of interference of reflected light in the TFT layer with light emission in the organic EL layer can be substantially reduced.

また、前記有機EL層は、白色発光層であり、前記平坦化膜がRGBのカラーフィルタ層を含むことによってRGBの表示を可能とすることが好適である。   Further, it is preferable that the organic EL layer is a white light emitting layer, and that the flattening film includes an RGB color filter layer to enable RGB display.

また、前記平坦化層の厚みは、1.5μm以上であることが好適である。   The thickness of the planarizing layer is preferably 1.5 μm or more.

また、視野角が正面から傾くことによって、正面で調整された白色の色温度が正面からΔuvが±0.02以内の範囲内で移動するように設定されていることが好適である。   Further, it is preferable that the white color temperature adjusted at the front is set so that Δuv moves within the range of ± 0.02 from the front by tilting the viewing angle from the front.

また、前記有機EL層から射出される光について、干渉によって青色の光が増強されるように光の射出経路(アノードからカソードまでの光路長)が設定されていることが好適である。   In addition, it is preferable that a light emission path (an optical path length from the anode to the cathode) is set so that blue light is enhanced by interference with respect to the light emitted from the organic EL layer.

このように、本発明によれば、平坦化膜を十分厚くし、TFT層の干渉による特定波長の可視光が増強されるのを防止する。これによって、表示における視野角依存性を抑制することができる。また、視野角が正面から傾くに従って、色温度が低い方向に移動するように設定することによって、人の目によって感じる色味の変化が少なくなり視野角依存性が改善される。   Thus, according to the present invention, the planarizing film is made sufficiently thick to prevent the enhancement of visible light having a specific wavelength due to interference of the TFT layer. Thereby, the viewing angle dependency in the display can be suppressed. In addition, by setting the color temperature to move in a lower direction as the viewing angle is tilted from the front, the change in color sensed by human eyes is reduced, and the viewing angle dependency is improved.

以下、本発明の実施形態に係る発光素子について、図面に基づいて説明する。   Hereinafter, light-emitting elements according to embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、発光素子の断面構成を示す模式図である。図においては、1つの発光素子のみを取り出して記載したが、発光素子およびこの発光素子を駆動する画素回路をマトリクス状に配置して表示装置を構成する。また、ガラス基板、発光層、陰極など全画素共通に形成可能な層については、全画素共通に形成される。   FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a cross-sectional configuration of a light-emitting element. In the drawing, only one light emitting element is taken out and described, but a light emitting element and pixel circuits for driving the light emitting element are arranged in a matrix to constitute a display device. A layer that can be formed in common for all pixels, such as a glass substrate, a light emitting layer, and a cathode, is formed in common for all pixels.

ガラス基板30上には、画素回路および各種の配線を含むTFT(薄膜トランジスタ)・配線層32が形成される。画素回路は、例えばゲートラインからの制御信号に応じてデータラインからのデータ信号の取り入れを制御するスイッチングTFT、スイッチングTFTで取り込んだデータ電圧を蓄える保持容量、保持容量に蓄えられたデータ電圧に応じた駆動電流を電源ラインからEL素子に供給するドライブTFTからなる。なお、画素回路には多くの提案があり、ドライブTFTのしきい値補償回路を含むなど各種の変形が可能である。   A TFT (thin film transistor) / wiring layer 32 including a pixel circuit and various wirings is formed on the glass substrate 30. The pixel circuit is, for example, a switching TFT that controls the taking in of the data signal from the data line in accordance with a control signal from the gate line, a storage capacitor that stores the data voltage captured by the switching TFT, and a data voltage that is stored in the storage capacitor. Drive TFTs for supplying the drive current from the power supply line to the EL element. There are many proposals for the pixel circuit, and various modifications such as including a threshold compensation circuit for the drive TFT are possible.

また、TFT・配線層32上には、アクリル樹脂などからなる平坦化層34が形成される。平坦化層34上には、有機EL素子40が形成される。この有機EL素子40は、アノード10、赤色発光層16、青色発光層18、カソード24が含まれる。なお、赤色発色層16としては、オレンジ色の光を発光するものも好適である。   On the TFT / wiring layer 32, a planarizing layer 34 made of an acrylic resin or the like is formed. An organic EL element 40 is formed on the planarization layer 34. The organic EL element 40 includes an anode 10, a red light emitting layer 16, a blue light emitting layer 18, and a cathode 24. In addition, as the red color developing layer 16, a layer that emits orange light is also suitable.

ここで、この有機EL素子40の具体的構成例を図2に基づいて説明する。透明導電体からなるアノード10の上には、正孔注入層12を介し、正孔輸送層14が設けられる。この例において、アノード10はIZO(Indium Zinc Oxide)が用いられているが、ITO(Indium Tin Oxide)なども利用される。また、この例において正孔注入層12にはCFx、正孔輸送層14は、ホストとしてNPB(N,N’−ジ(ナフタレンー1−イル)−N,N’−ジフェニルーベンジシン)を採用したものが使用されている。   Here, a specific configuration example of the organic EL element 40 will be described with reference to FIG. On the anode 10 made of a transparent conductor, a hole transport layer 14 is provided via a hole injection layer 12. In this example, IZO (Indium Zinc Oxide) is used for the anode 10, but ITO (Indium Tin Oxide) or the like is also used. In this example, CFx is used for the hole injection layer 12 and NPB (N, N′-di (naphthalen-1-yl) -N, N′-diphenyl-benzidine) is used as the host for the hole transport layer 14. Is used.

この正孔輸送層14の上には、オレンジ色発光層16、青色発光層18が順次形成される。このオレンジ色発光層16は、ホストとしてトリアリールアミン誘導体またはトリフェニルアミン誘導体であるNPBが使用され、ドーパント1としてターシャリー−ブチル置換ジナフチルアントラセン(TBADN)、ドーパント2として5,12−ビス(4−(6−メチルベンゾチアゾール−2−イル)フェニル)−6,11−ジフェニルナフタセン(DBzR)が使用されている。また、青色発光層18は、ホストとしてターシャリー−ブチル置換ジナフチルアントラセン(TBADN)、ドーパント1としてNPB、ドーパント2として1,4,7,10−テトラ−ターシャリーブチルペリレン(TBP)が使用されている。   On the hole transport layer 14, an orange light emitting layer 16 and a blue light emitting layer 18 are sequentially formed. The orange light emitting layer 16 uses NPB which is a triarylamine derivative or a triphenylamine derivative as a host, tertiary-butyl substituted dinaphthylanthracene (TBADN) as a dopant 1, and 5,12-bis ( 4- (6-Methylbenzothiazol-2-yl) phenyl) -6,11-diphenylnaphthacene (DBzR) has been used. The blue light-emitting layer 18 uses tertiary-butyl-substituted dinaphthylanthracene (TBADN) as a host, NPB as dopant 1, and 1,4,7,10-tetra-tert-butylperylene (TBP) as dopant 2. ing.

青色発光層18の上には、第1電子輸送層20、第2電子輸送層22が設けられ、その上にカソード24が設けられる。   A first electron transport layer 20 and a second electron transport layer 22 are provided on the blue light emitting layer 18, and a cathode 24 is provided thereon.

第1電子輸送層20は、トリス(8-ヒドロキシキノリナト)アルミニウム(Alq)が使用され、第2電子輸送層22には、フェナントロリン誘導体が使用されている。また、カソード24には、LiFを表面に設けたアルミニウム(Al)が用いられている。   The first electron transport layer 20 is made of tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum (Alq), and the second electron transport layer 22 is made of a phenanthroline derivative. The cathode 24 is made of aluminum (Al) provided with LiF on the surface.

このように、本実施形態の有機EL素子40では、アノード10とカソード24の電極間にオレンジ色発光層16と、青色発光層18を有しており、両発光層16,18において発光が起こることによって、白色発光となる。従って、両発光層16,18の界面付近において、アノード10から供給される正孔と、カソード24から供給される電子と再結合が起こり両発光層16,18で発光が起こり、この白色光がガラス基板30から射出される。なお、実際には、フルカラーでの表示を行うために、画素毎にRGBのフィルタを設けており、WRGBタイプであれば、カラーフィルタを設けない白色光を射出する画素も設けられる。   As described above, the organic EL element 40 of the present embodiment includes the orange light emitting layer 16 and the blue light emitting layer 18 between the electrodes of the anode 10 and the cathode 24, and light emission occurs in both the light emitting layers 16 and 18. As a result, white light is emitted. Accordingly, in the vicinity of the interface between the light emitting layers 16 and 18, recombination occurs with holes supplied from the anode 10 and electrons supplied from the cathode 24, and light emission occurs in both the light emitting layers 16 and 18. Injected from the glass substrate 30. In practice, an RGB filter is provided for each pixel in order to perform full-color display. In the case of the WRGB type, a pixel that emits white light without a color filter is also provided.

ここで、本実施形態において、2つの発光層16,18において発光する。このためには、発光は2つの発光層16,18の界面付近で起こり、発光層16,18の境界が発光界面となる。これは、両発光層16,18において発光を起こすために、必須の条件である。そして、この界面付近で発せられた光は、そのまま射出されるものと、カソード24によって、反射されるものがある。すなわち、カソード24はアルミニウムであって、発光層16,18から発せられる光はここを通過することはできずに反射される。   Here, in the present embodiment, the two light emitting layers 16 and 18 emit light. For this purpose, light emission occurs near the interface between the two light-emitting layers 16 and 18, and the boundary between the light-emitting layers 16 and 18 becomes the light-emitting interface. This is an indispensable condition for causing light emission in both the light emitting layers 16 and 18. The light emitted in the vicinity of the interface may be emitted as it is, or may be reflected by the cathode 24. That is, the cathode 24 is made of aluminum, and light emitted from the light emitting layers 16 and 18 cannot be transmitted therethrough but is reflected.

従って、有機EL素子40から射出する光は、発光層16、18の界面から直接くる光とカソード24により反射された光が合成されたものになり、両者に干渉が生じる。   Accordingly, the light emitted from the organic EL element 40 is a combination of the light directly coming from the interface between the light emitting layers 16 and 18 and the light reflected by the cathode 24, and interference occurs between them.

本実施形態では、界面からカソード24の表面(反射面)までの距離を小さくすることで、直接射出される光が反射層で反射された光と干渉し、可視光が減少することを防止する。   In the present embodiment, by reducing the distance from the interface to the surface (reflection surface) of the cathode 24, the directly emitted light interferes with the light reflected by the reflective layer, thereby preventing the visible light from decreasing. .

すなわち、前記有機EL素子40におけるオレンジ色発光層16および青色発光層18との界面と、カソード24の表面との光学距離は、100nm以下に設定する。これによって、400nm〜800nmの可視光の減少を抑えることができる。なお、実質的に観察者において視認される表示において問題となる可視光の減衰を排除できればよいため、オレンジ色発光層16および青色発光層18との界面と、カソード24の表面との光学距離は、可視光の最低波長の1/4以下の光学長とすればよい。さらに、可視光の最低波長の1/4の光学長より若干大きな光学長として紫外線に近い領域の青の波長において干渉による減衰が起こる光学長としてもよい。   That is, the optical distance between the interface between the orange light emitting layer 16 and the blue light emitting layer 18 in the organic EL element 40 and the surface of the cathode 24 is set to 100 nm or less. Thereby, a decrease in visible light of 400 nm to 800 nm can be suppressed. The optical distance between the interface between the orange light-emitting layer 16 and the blue light-emitting layer 18 and the surface of the cathode 24 can be substantially reduced as long as the attenuation of visible light, which is a problem in the display visually recognized by the observer, can be eliminated. The optical length may be ¼ or less of the minimum wavelength of visible light. Furthermore, an optical length slightly longer than an optical length that is ¼ of the minimum wavelength of visible light may be an optical length in which attenuation due to interference occurs at a blue wavelength in a region close to ultraviolet light.

なお、有機層の屈折率は、1.6〜1.9程度であり、実際の屈折率に応じて各層の厚みを決定するとよい。   In addition, the refractive index of an organic layer is about 1.6-1.9, and it is good to determine the thickness of each layer according to an actual refractive index.

また、この界面からカソード24までの間には、青色発光層18などが存在し、これらの距離を50〜60nm程度に設定することが好適である。   Further, there is a blue light emitting layer 18 or the like between this interface and the cathode 24, and it is preferable to set these distances to about 50 to 60 nm.

そして、本実施形態においては、平坦化層34の厚みを厚くしてある。例えば、平坦化層34の膜厚を1μm以上、特に1.5μmとする。このように、平坦化層34の厚みが厚くなると、ここを斜め方向に通過する光について各種の経路が確保されることになり、鋭い干渉ピークがでにくくなる。従って、平坦化層34を厚くすることで、その下層となるTFT・配線層32における反射などの影響を小さくして、ここにおける干渉による特定波長の可視光のピーク発生を抑制することができる。これによって、視野角変化による色味の変化を小さくできる。すなわち、干渉により特定波長が強められる場合、その特定波長は光路長によって変化するため、視野角依存性が大きい。そこで、平坦化膜を十分厚くして干渉の影響を小さくすることで、表示についての視野角依存性を小さくすることができる。   In the present embodiment, the planarization layer 34 is thickened. For example, the thickness of the planarizing layer 34 is 1 μm or more, particularly 1.5 μm. As described above, when the thickness of the planarizing layer 34 is increased, various paths are secured for light passing in an oblique direction, and a sharp interference peak is hardly generated. Therefore, by increasing the thickness of the flattening layer 34, it is possible to reduce the influence of reflection on the underlying TFT / wiring layer 32, and to suppress the occurrence of a peak of visible light having a specific wavelength due to interference here. Thereby, the change in the color due to the change in the viewing angle can be reduced. That is, when a specific wavelength is strengthened due to interference, the specific wavelength varies depending on the optical path length, and thus has a large viewing angle dependency. Therefore, by making the planarizing film sufficiently thick to reduce the influence of interference, the viewing angle dependency of the display can be reduced.

なお、平坦化膜の上下のいずれかにカラーフィルタを配置した場合(通常の場合はカラーフィルタを平坦化膜によって覆う)、カラーフィルタと平坦化膜を合わせた厚みを上述のように1.5μmとするとよい。例えば、白色の発光層を有するRGBWの表示装置の場合、RGBの画素においてカラーフィルタが設けられ、Wの画素には設けられない。また、カラーフィルタは、通常平坦化膜の下層として形成される。   When color filters are arranged either above or below the flattening film (normally, the color filter is covered with the flattening film), the total thickness of the color filter and the flattening film is 1.5 μm as described above. It is good to do. For example, in the case of an RGBW display device having a white light-emitting layer, a color filter is provided in the RGB pixel and not in the W pixel. The color filter is usually formed as a lower layer of the planarizing film.

平坦化膜の厚みを1.5μm以上とするが、視野角依存性の改善の目的については、平坦化膜は厚ければ厚いほどよい。一方、平坦化膜を厚くすれば、それだけ材料費がかかり、ここにおける光の減衰も大きくなる。従って、薄い方が望ましく、その厚みは5μm以下、より好ましくは3μm以下とすることが好適である。   The thickness of the planarization film is 1.5 μm or more. For the purpose of improving the viewing angle dependency, the thicker the planarization film, the better. On the other hand, if the planarizing film is made thicker, the material cost is increased, and the attenuation of light here is also increased. Therefore, the thinner one is desirable, and the thickness is preferably 5 μm or less, more preferably 3 μm or less.

また、アノード10を構成するITO、IZOの屈折率は、1.8〜2.1程度である。一方、アノード10の下に形成される平坦化層34は、上述のように通常はアクリル樹脂などから形成されその屈折率は1.5〜1.6程度であり、アノード10と平坦化層34の屈折率の差は比較的大きく、この界面では反射が起きやすい。従って、このアノード10と平坦化層34との界面で反射した光はカソード24で反射され界面から直接射出された光と干渉する。   Moreover, the refractive index of ITO and IZO which comprise the anode 10 is about 1.8-2.1. On the other hand, the planarization layer 34 formed under the anode 10 is usually formed of an acrylic resin or the like as described above, and its refractive index is about 1.5 to 1.6. The difference in refractive index is relatively large, and reflection tends to occur at this interface. Therefore, the light reflected at the interface between the anode 10 and the planarization layer 34 is reflected by the cathode 24 and interferes with the light emitted directly from the interface.

本実施形態では、このときの干渉によって、青の光が強められるように、アノード10および平坦化層34の界面からカソード24の表面までの距離(光学長)が設定されている。すなわち、干渉波形のピークが青の波長に存在するように、反射が起きる界面から反射層となるカソード24までの光学長を設定する。   In the present embodiment, the distance (optical length) from the interface between the anode 10 and the planarization layer 34 to the surface of the cathode 24 is set so that blue light is enhanced by the interference at this time. That is, the optical length from the interface where the reflection occurs to the cathode 24 serving as the reflective layer is set so that the peak of the interference waveform exists at the blue wavelength.

例えば、次のように厚みを設定する。
(A)WRGB方式の場合には、アノードの下面からカソードの下面までの距離を50〜600nmとして、(1)アノード(IZO)160nm、有機層210nm、(2)アノード(IZO)30nm、有機層200nm、(3)アノード(IZO)20nm、有機層70nm、程度に設定する。これによって、干渉のピークが青色に設定され、青色の視野角変化が大きくなる。
(B)RGB(白色発光層+カラーフィルタ)方式の場合には、アノードの下面からカソードの下面までの距離を50〜600nmとして、(1)アノード(IZO)160nm、有機層230nm、(2)アノード(IZO)30nm、有機層210nm、(3)アノード(IZO)20nm、有機層80nm、程度に設定する。これによって、干渉のピークが青色に設定され、視野角変化は青が最も大きくなる。
(C)RGB(RGBの各色発光)方式の場合には、RGBの各色の画素において、アノードの下面からカソードの下面までの距離を次のように設定する。
(R)120,260,400nm、(G)130,270,410nm、(B)110,250,390nm。これによって、青の画素においては干渉のピークが青になるが、赤、緑は干渉のピークが合わない。
For example, the thickness is set as follows.
(A) In the case of the WRGB system, the distance from the lower surface of the anode to the lower surface of the cathode is set to 50 to 600 nm. (1) Anode (IZO) 160 nm, organic layer 210 nm, 200 nm, (3) anode (IZO) 20 nm, organic layer 70 nm, and so on. Thereby, the peak of interference is set to blue, and the change in the viewing angle of blue is increased.
(B) In the case of the RGB (white light emitting layer + color filter) method, the distance from the lower surface of the anode to the lower surface of the cathode is set to 50 to 600 nm. (1) Anode (IZO) 160 nm, Organic layer 230 nm, (2) Anode (IZO) 30 nm, organic layer 210 nm, (3) Anode (IZO) 20 nm, organic layer 80 nm. As a result, the peak of interference is set to blue, and blue has the largest change in viewing angle.
(C) In the case of the RGB (RGB light emission) method, the distance from the lower surface of the anode to the lower surface of the cathode is set as follows in each color pixel of RGB.
(R) 120, 260, 400 nm, (G) 130, 270, 410 nm, (B) 110, 250, 390 nm. As a result, the blue pixel has a blue interference peak, but the red and green interference peaks do not match.

このようにして、本実施形態においては、干渉によって青色の光が強められる。ここで、干渉は、その光路長の影響を受けるため、視野角依存性が大きい。そこで、上述のようにして干渉によって青色を強めた場合、視野角により青色が相対的に弱められる。すなわち、図3に示すように、青色が視野角により最も減少する。なお、図3は上述(B)の白色発光層に対し、カラーフィルタを設け、RGB各色の画素を形成した場合の特性である。   Thus, in this embodiment, blue light is intensified by interference. Here, since the interference is affected by the optical path length, the viewing angle dependency is large. Therefore, when blue is strengthened by interference as described above, blue is relatively weakened by the viewing angle. That is, as shown in FIG. 3, blue is most reduced depending on the viewing angle. FIG. 3 shows characteristics when a color filter is provided for the white light emitting layer of (B) described above and pixels of each color of RGB are formed.

そして、このように正面から斜め方向に向けて視野角がずれることによって、青色が弱めることにより、図4に示すように色温度座標上におけるΔuvの変化が非常に小さくなる。図4における黒丸は、正面から見た場合の色温度を示しており、黒三角が視野角70°における色度を示している。このように、本実施形態によれば、視野角が変化した場合に、ほぼΔuv=0上で色度が変化する。これによって、白色の色変化が小さくなり、視野角による色調変化が緩和される。また、Δuvを±0.02以内に設定することで、視野角による色変化について人間が認識しずらくなり、表示の視野角依存性を減少することができる。   Then, as the viewing angle is shifted from the front in an oblique direction, the blue color is weakened, so that the change in Δuv on the color temperature coordinate becomes very small as shown in FIG. 4 indicates the color temperature when viewed from the front, and the black triangle indicates the chromaticity at a viewing angle of 70 °. Thus, according to the present embodiment, when the viewing angle changes, the chromaticity changes approximately on Δuv = 0. Thereby, the color change of white becomes small, and the color tone change by a viewing angle is relieved. Also, by setting Δuv within ± 0.02, it becomes difficult for humans to recognize color changes due to viewing angles, and the viewing angle dependency of display can be reduced.

なお、上述の例では、アノードと有機層を干渉の対象となる光路長としたが、カラーフィルタの配置によっては、カラーフィルタもその光路長に含まれる。また、平坦化層がない場合には、TFT層もその光路長に含まれる。   In the above example, the anode and the organic layer are optical path lengths to be interfered with, but depending on the arrangement of the color filters, the color filters are also included in the optical path lengths. Further, when there is no planarization layer, the TFT layer is also included in the optical path length.

このように、本実施形態によれば、正面からの射出光について、青色が強められるような干渉の条件にしておく。これによって、斜めから見た場合には干渉により青色が弱められ、色温度が下がる方向に変化することで視野角の変化に対する色味の変化を小さくすることができる。   As described above, according to the present embodiment, the emission light from the front surface is set to an interference condition that enhances the blue color. As a result, when viewed from an oblique direction, blue is weakened by interference, and the color temperature changes in a direction in which the color temperature decreases, so that a change in color with respect to a change in viewing angle can be reduced.

図5には、他の実施形態に係る有機EL素子40の構成が示してある。この例では、赤色発光層16および青色発光層18に代えて1層の白色発光層50を採用している。   FIG. 5 shows a configuration of an organic EL element 40 according to another embodiment. In this example, a single white light emitting layer 50 is employed in place of the red light emitting layer 16 and the blue light emitting layer 18.

この白色発光層50には、例えば、ホストとして、ターシャリー−ブチル置換ジナフチルアントラセン(TBADN)、青色ドーパントとして、1,4,7,10−テトラ−ターシャリー−ブチルペリレン(TBP)、赤色ドーパントとして、5,12−ビス(4−(6−メチルベンゾチアゾール−2−イル)フェニル)−6,11−時フェニルナフタセンDBzR)が使用される。このような白色発光層50を使用した場合には、白色発光層50と、正孔輸送層14の界面において発光が生じる発光界面となる。   The white light emitting layer 50 includes, for example, tertiary-butyl-substituted dinaphthylanthracene (TBADN) as a host, 1,4,7,10-tetra-tert-butylperylene (TBP) as a blue dopant, and a red dopant. 5,12-bis (4- (6-methylbenzothiazol-2-yl) phenyl) -6,11-hr phenylnaphthacene DBzR) is used. When such a white light emitting layer 50 is used, it becomes a light emitting interface in which light emission occurs at the interface between the white light emitting layer 50 and the hole transport layer 14.

発光素子の断面構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-sectional structure of a light emitting element. 有機EL素子部分の断面構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-sectional structure of an organic EL element part. 視野角とRGB確証の輝度の関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a viewing angle and the brightness | luminance of RGB confirmation. 視野角変化による色温度変化を示す図である。It is a figure which shows the color temperature change by a viewing angle change. 有機EL素子部分の他の構成例の断面構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the cross-sectional structure of the other structural example of an organic EL element part.

符号の説明Explanation of symbols

10 アノード、12 正孔注入層、14 正孔輸送層、16 赤色発光層、18 青色発光層、20 第1電子輸送層、22 第2電子輸送層、24 カソード、30 ガラス基板、32 配線層、34 平坦化層、40 有機EL素子、50 白色発光層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Anode, 12 Hole injection layer, 14 Hole transport layer, 16 Red light emitting layer, 18 Blue light emitting layer, 20 1st electron transport layer, 22 2nd electron transport layer, 24 Cathode, 30 Glass substrate, 32 Wiring layer, 34 planarization layer, 40 organic EL element, 50 white light emitting layer.

Claims (5)

マトリクス状に配置された表示画素を含む表示装置であって、
薄膜トランジスタを含むTFT層と、
このTFT層上に形成された平坦化層と、
この平坦化膜上に形成された有機EL層と、
を含み、
前記平坦化層の厚みを前記TFT層における反射光の前記有機EL層における発光との干渉の影響を実質的に小さくできる十分厚いものにすることを特徴とする表示装置。
A display device including display pixels arranged in a matrix,
A TFT layer including a thin film transistor;
A planarization layer formed on the TFT layer;
An organic EL layer formed on the planarizing film;
Including
A display device characterized in that the thickness of the planarizing layer is made sufficiently thick to substantially reduce the influence of interference of reflected light in the TFT layer with light emission in the organic EL layer.
請求項1に記載の表示装置において、
前記有機EL層は、白色発光層であり、
前記平坦化膜がRGBのカラーフィルタ層を含むことによってRGBの表示を可能とすることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1,
The organic EL layer is a white light emitting layer,
A display device, wherein the flattening film includes an RGB color filter layer to enable RGB display.
請求項1または2に記載の表示装置において、
前記平坦化層の厚みは、1.5μm以上であることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 1 or 2,
The flattening layer has a thickness of 1.5 μm or more.
請求項1〜3のいずれか1つに記載の表示装置において、
視野角が正面から傾くことによって、正面で調整された白色の色温度が正面からΔuvが±0.02以内の範囲内で移動するように設定されていることを特徴とする表示装置。
The display device according to any one of claims 1 to 3,
A display device, wherein a white color temperature adjusted in front is set to move within a range where Δuv is within ± 0.02 from the front when the viewing angle is tilted from the front.
請求項4に記載の表示装置において、
前記有機EL層から射出される光について、干渉によって青色の光が増強されるように光の射出経路が設定されていることを特徴とする表示装置。
The display device according to claim 4,
A light emitting path is set for light emitted from the organic EL layer so that blue light is enhanced by interference.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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