JP2006339270A - Multilayer printed-wiring board and manufacturing method thereof - Google Patents
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- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Abstract
Description
本発明は、多層プリント配線板の製造方法及び多層プリント配線板に関する。 The present invention relates to a method for producing a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board.
電気部品及び電子部品の小型化、軽量化、多機能化に伴い、多層プリント配線板は高密度化、高多層化してきている。したがって、これらに対応可能な特性を有する、より信頼性の高い多層プリント配線板が要求されている。この要求特性の1つに、配線回路と樹脂を含むプリプレグの硬化体との接着性がある。 With the miniaturization, weight reduction, and multifunctionality of electrical and electronic components, multilayer printed wiring boards have become denser and higher multilayered. Therefore, there is a demand for a more reliable multilayer printed wiring board having characteristics that can cope with these. One of the required characteristics is adhesion between the wiring circuit and a cured prepreg containing resin.
図3は、従来にみられる一般的な多層プリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。図3に示される多層プリント配線板100は、内層回路基板10と、内層回路基板10の両面上に設けられたプリプレグの硬化体20と、プリプレグの硬化体20上に設けられた金属箔30とからなる。内層回路基板10及びプリプレグの硬化体20は、一対の金属箔30間に挟まれている。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing an example of a general multilayer printed wiring board that has been conventionally found. A multilayer printed
内層回路基板10は、基板12と、基板12上に設けられた配線回路14とからなる。プリプレグの硬化体20は、配線回路14を覆うように設けられている。なお、プリプレグとは、成形可能な樹脂(例えば、未硬化の熱硬化性樹脂等)を、炭素繊維、ガラス繊維若しくはアラミド繊維等の織物状又は繊条状強化材に含浸させた半硬化状態の樹脂シートのことである。
The inner
このような多層プリント配線板100の製造方法では、一般に、内層回路基板10にプリプレグを張り合わせ、更にプリプレグ上に金属箔30を積層して、全体を加熱及び加圧することにより、内層回路基板10とプリプレグの硬化体20とを一体化してなる多層構造を構築する。内層回路基板10は、例えば両面銅張積層板(CCL板)のように、両面に金属箔を有し、その金属箔表面が平滑な光沢面である基材を使用して作製される。このため、この金属箔をパターニングすることにより得られる配線回路14の表面14aは、その高い平滑性に起因してプリプレグの硬化体20と接着し難い状態にある。
In such a method of manufacturing the multilayer printed
そこで、配線回路14とプリプレグの硬化体20との接着性を向上させるために、特許文献1,2に記載されているように、配線回路14の表面14aをブラッシングした後にカップリング剤で処理する方法、配線回路14の表面14aにアルカリ処理液を接触させて水酸基を付与した後にカップリング剤で処理する方法等が提案されている。しかしながら、その接着性は未だ実用レベルに達していない。
Therefore, in order to improve the adhesion between the
また、酸を主成分とする水溶液を使用して、配線回路14の表面14aに微細な針状の酸化第一銅又は酸化第二銅を形成することによって表面14aを粗化する黒化処理が一般に行われる。しかしながら、黒化処理を用いた場合、酸が、形成された酸化第一銅又は酸化第二銅と反応して金属塩を作り、これらを溶解してしまう現象(ハローイング現象)が生じる。このため、このハローイング現象によって酸による侵食が生じた領域では、配線回路14の表面14aの粗化性が低下し、配線回路14とプリプレグの硬化体20との接着性が弱くなるという問題が生じる。
Also, there is a blackening treatment in which the
また、接着後においても、スルーホール(貫通孔;部品挿入を行わない場合はビアホール)の形成や基板の切断等を行うことにより、酸化第一銅又は酸化第二銅がスルーホール内面や切断面に露呈すると、その後のメッキ処理の際、メッキ液中の酸によって同様の現象が生じ、多層プリント配線板の信頼性が低下するという問題が生じる。特に、近年では、隣り合うスルーホール間の距離、及び、配線回路とスルーホールとの間の距離が接近しつつあるため、このような問題が生じやすい傾向にある。 Moreover, even after bonding, cuprous oxide or cupric oxide is formed on the inner surface or cut surface of the through hole by forming a through hole (through hole; via hole if no component is inserted) or cutting the substrate. When exposed to the above, the same phenomenon occurs due to the acid in the plating solution during the subsequent plating treatment, resulting in a problem that the reliability of the multilayer printed wiring board is lowered. In particular, since the distance between adjacent through holes and the distance between the wiring circuit and the through holes are getting closer in recent years, such a problem tends to occur.
上記黒化処理の問題を解決すべく、例えば、黒化処理液による処理条件を変えて、銅回路上に生成される酸化第二銅を酸に溶解し難い酸化第一銅にする方法、有機キレート剤を含む処理液で酸化第二銅を溶解して除去する方法、黒化処理後にアルカリ還元溶液を用いて金属銅への還元処理を行う方法(例えば、特許文献3、4参照。)等が実用化され普及している。 In order to solve the above blackening problem, for example, by changing the processing conditions with the blackening solution, cupric oxide formed on the copper circuit is made to be cuprous oxide which is difficult to dissolve in acid, organic A method of dissolving and removing cupric oxide with a treatment solution containing a chelating agent, a method of performing reduction treatment to metallic copper using an alkaline reduction solution after blackening treatment (for example, see Patent Documents 3 and 4), and the like. Has been put into practical use.
また、近年では、内層回路板の薄板化に伴い、黒化処理法や黒化処理後に化学還元を行う処理法の代替法として、銅表面を針状にエッチングするエッチング型化学粗化処理(例えば、特許文献5〜8参照。)により、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性の向上を図る方法も普及してきている。
しかしながら、近年では、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性の更なる向上が求められている。そこで本発明者らは以下のような検討を行った。 However, in recent years, further improvement in the adhesion between the wiring circuit and the cured prepreg has been demanded. Therefore, the present inventors conducted the following examination.
まず、FR−4銅張積層板(銅箔厚み18μm)を用いて内層回路基板を作製し、当該内層回路基板の配線回路の表面に、(a)化学粗化処理のみ、(b)黒化処理のみ、(c)黒化処理及び還元処理のみ、をそれぞれ施した後に、当該内層回路基板上にプリプレグを積層して多層プリント配線板(a)〜(c)を作製した。得られた多層プリント配線板(a)〜(c)において、内層回路基板とプリプレグの硬化体との間のピール強度をJIS C6481に準じてそれぞれ測定した。その結果、多層プリント配線板(a)におけるピール強度は1.0kN/mであり、多層プリント配線板(b)におけるピール強度は1.1kN/mであり、多層プリント配線板(c)におけるピール強度は1.0kN/mであった。しかしながら、多層プリント配線板(a)〜(c)を、オーブン中で空気雰囲気下、240時間高温放置すると、いずれもプリプレグの硬化体が配線回路から剥離してしまった。 First, an inner layer circuit board is prepared using an FR-4 copper clad laminate (copper foil thickness 18 μm), and (a) only chemical roughening treatment is applied to the surface of the wiring circuit of the inner layer circuit board. After performing only the treatment, (c) only the blackening treatment and the reduction treatment, a prepreg was laminated on the inner layer circuit board to produce multilayer printed wiring boards (a) to (c). In the obtained multilayer printed wiring boards (a) to (c), the peel strength between the inner layer circuit board and the cured prepreg was measured in accordance with JIS C6481. As a result, the peel strength in the multilayer printed wiring board (a) is 1.0 kN / m, the peel strength in the multilayer printed wiring board (b) is 1.1 kN / m, and the peel strength in the multilayer printed wiring board (c). The strength was 1.0 kN / m. However, when the multilayer printed wiring boards (a) to (c) were allowed to stand at a high temperature for 240 hours in an oven in an air atmosphere, the cured prepreg was peeled off from the wiring circuit.
このように、特に高温条件で使用される多層プリント配線板においては、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性は未だ実用レベルに達していない。 Thus, in the multilayer printed wiring board used especially in high temperature conditions, the adhesiveness of a wiring circuit and the hardening body of a prepreg has not yet reached a practical use level.
本発明は上記事情にかんがみてなされたものであり、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性を十分に向上できる多層プリント配線板の製造方法及び多層プリント配線板を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object thereof is to provide a method for producing a multilayer printed wiring board and a multilayer printed wiring board capable of sufficiently improving the adhesion between a wiring circuit and a cured body of a prepreg. .
上述の課題を解決するため、本発明の多層プリント配線板の製造方法は、基板と上記基板上に設けられた配線回路とを有する内層回路基板の上記配線回路上に、樹脂及び繊維を含有するプリプレグを積層し、上記内層回路基板と上記プリプレグの硬化体とを一体化してなる積層構造を備える多層プリント配線板の製造方法であって、上記配線回路の表面に化学粗化液を接触させて上記表面を粗化する粗化工程と、上記粗化工程の後に上記配線回路の上記表面を酸化する酸化工程と、上記酸化工程の後に上記配線回路の上記表面を還元する還元工程とを含む。 In order to solve the above-described problems, a method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention contains a resin and fibers on the wiring circuit of an inner layer circuit board having a substrate and a wiring circuit provided on the substrate. A method of manufacturing a multilayer printed wiring board having a laminated structure in which a prepreg is laminated and the inner circuit board and the cured body of the prepreg are integrated, wherein a chemical roughening solution is brought into contact with the surface of the wiring circuit. A roughening step for roughening the surface; an oxidation step for oxidizing the surface of the wiring circuit after the roughening step; and a reduction step for reducing the surface of the wiring circuit after the oxidation step.
本発明の多層プリント配線板の製造方法では、粗化工程、酸化工程及び還元工程を順次実施するため、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性を十分に向上できる。本発明の多層プリント配線板の製造方法により、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性を十分に向上できる理由は必ずしも明白ではないが、以下のように考えられる。粗化工程によって大まかに粗化された配線回路の表面が、酸化工程及び還元工程によって更に細かく粗化されるため、配線回路の表面に微細な複雑形状の凸凹が形成されると推測される。 In the method for producing a multilayer printed wiring board according to the present invention, since the roughening step, the oxidation step, and the reduction step are sequentially performed, the adhesion between the wiring circuit and the cured prepreg can be sufficiently improved. The reason why the adhesiveness between the wiring circuit and the cured prepreg can be sufficiently improved by the method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention is not necessarily clear, but is considered as follows. Since the surface of the wiring circuit roughly roughened by the roughening process is further finely roughened by the oxidation process and the reduction process, it is estimated that fine irregularities are formed on the surface of the wiring circuit.
また、上記配線回路が銅を構成材料とすることが好ましい。これにより、本発明の効果をより確実に得ることができる。 The wiring circuit is preferably made of copper as a constituent material. Thereby, the effect of this invention can be acquired more reliably.
また、上記化学粗化液が1,2,3−ベンゾトリアゾールを含有することが好ましい。これにより、配線回路の表面をより確実に粗化することができる。 The chemical roughening solution preferably contains 1,2,3-benzotriazole. Thereby, the surface of a wiring circuit can be roughened more reliably.
特に、例えば配線回路が銅を構成材料とする場合、X線光電子分光分析(XPS)から、1,2,3−ベンゾトリアゾールを含有する化学粗化液で粗化した配線回路の表面上には、Cu(C6H4N3)2と推定される銅/1,2,3−ベンゾトリアゾールの化学結合が認められた。このため、例えば配線回路が銅を構成材料とする場合、このCu(C6H4N3)2の層に起因して、配線回路の表面が粗化するものと考えられる。また、例えば化学粗化液が酸を更に含み酸化第一銅又は酸化第二銅が形成される場合、このCu(C6H4N3)2の層が酸の侵食を抑制し、耐ハローイング性を向上させることができるため、得られる多層プリント配線板は半田耐熱性等に優れるものと考えられる。 In particular, for example, when the wiring circuit is made of copper, the surface of the wiring circuit roughened with a chemical roughening solution containing 1,2,3-benzotriazole is obtained from X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). , A chemical bond of copper / 1,2,3-benzotriazole presumed to be Cu (C 6 H 4 N 3 ) 2 was observed. For this reason, for example, when the wiring circuit is made of copper, it is considered that the surface of the wiring circuit is roughened due to the layer of Cu (C 6 H 4 N 3 ) 2 . In addition, for example, when the chemical roughening solution further contains an acid to form cuprous oxide or cupric oxide, this Cu (C 6 H 4 N 3 ) 2 layer suppresses acid erosion, thereby preventing halo resistance. It is considered that the multilayer printed wiring board obtained is excellent in solder heat resistance and the like because the ingress property can be improved.
また、上記化学粗化液が硫酸、過酸化水素及び5−アミノテトラゾールを更に含有することが好ましい。 Moreover, it is preferable that the said chemical roughening liquid further contains a sulfuric acid, hydrogen peroxide, and 5-aminotetrazole.
これにより、本発明による効果を更に確実に得ることができる。その理由は必ずしも明らかではないが、かかる化学粗化液においては、硫酸及び過酸化水素が配線回路の表面を酸化する一方(以下、このような成分を「酸化促進剤」という。)、5−アミノテトラゾール及び1,2,3−ベンゾトリアゾールが配線回路の表面の腐食を抑制する(以下、このような成分を「腐食抑制剤」という。)と考えられる。このように互いに拮抗する成分を同時に配線回路の表面に接触させると、酸化促進剤による表面の酸化が、部分的に腐食抑制剤によって防止されるものと考えられる。これにより、配線回路の表面が極めて複雑な粗化面になるものと推測される。更に、例えば配線回路が銅を構成材料とする場合、化学粗化液が1,2,3−ベンゾトリアゾールを含有するため、上述のCu(C6H4N3)2の層も起因して、配線回路の表面が粗化するものと考えられる。 Thereby, the effect by this invention can be acquired more reliably. The reason for this is not necessarily clear, but in such a chemical roughening solution, sulfuric acid and hydrogen peroxide oxidize the surface of the wiring circuit (hereinafter, such components are referred to as “oxidation promoters”). It is considered that aminotetrazole and 1,2,3-benzotriazole suppress corrosion on the surface of the wiring circuit (hereinafter, such a component is referred to as “corrosion inhibitor”). When the components that antagonize each other at the same time are brought into contact with the surface of the wiring circuit in this way, it is considered that oxidation of the surface by the oxidation accelerator is partially prevented by the corrosion inhibitor. Thereby, it is estimated that the surface of a wiring circuit becomes a very complicated roughened surface. Furthermore, for example, when the wiring circuit uses copper as the constituent material, the chemical roughening solution contains 1,2,3-benzotriazole, so the above-described layer of Cu (C 6 H 4 N 3 ) 2 is also caused. It is considered that the surface of the wiring circuit is roughened.
本発明の多層プリント配線板は、上述の多層プリント配線板の製造方法により得られる。本発明の多層プリント配線板では、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性が十分に向上されているため、配線回路をより安定して機能させることができる。 The multilayer printed wiring board of the present invention is obtained by the above-described method for producing a multilayer printed wiring board. In the multilayer printed wiring board of the present invention, the adhesion between the wiring circuit and the cured prepreg is sufficiently improved, so that the wiring circuit can function more stably.
本発明によれば、配線回路とプリプレグの硬化体との接着性を十分に向上できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness of a wiring circuit and the hardening body of a prepreg can fully be improved.
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一又は同等の要素には同一符号を用い、重複する説明を省略する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In the description of the drawings, the same reference numerals are used for the same or equivalent elements, and duplicate descriptions are omitted.
図1は、実施形態に係る多層プリント配線板の一例を模式的に示す断面図である。図1に示される多層プリント配線板1は、内層回路基板6と、内層回路基板6の両面上に設けられたプリプレグの硬化体8と、プリプレグの硬化体8上に設けられた金属箔9とを備える。内層回路基板6及びプリプレグの硬化体8は、一対の金属箔9間によって挟まれている。内層回路基板6は、基板2と基板2の両面上に設けられパターニングされた配線回路4とを有する。したがって、多層プリント配線板1は、内層回路基板6の配線回路4上に、樹脂及び繊維を含有するプリプレグを積層し、内層回路基板6とプリプレグの硬化体8とを一体化してなる積層構造を備える。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing an example of a multilayer printed wiring board according to the embodiment. A multilayer printed wiring board 1 shown in FIG. 1 includes an inner
基板2としては、例えば、ガラスエポキシ基板、金属基板、ポリエステル基板、BTレジン基板、熱硬化型PPE基板等が挙げられる。配線回路4は、銅を構成材料とすることが好ましい。プリプレグの硬化体8は、通常使用されるプリプレグを硬化させることによって好適に得られる。金属箔9の構成材料は銅であることが好ましい。
Examples of the
ここで、図1及び図2を参照しながら、実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法の一例を詳細に説明する。図2は、実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法の一例を示すフローチャートである。以下、実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法の一例として、上述の多層プリント配線板1の製造方法について詳細に説明する。 Here, an example of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the embodiment will be described in detail with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 2 is a flowchart illustrating an example of a method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the embodiment. Hereinafter, the manufacturing method of the above-mentioned multilayer printed wiring board 1 will be described in detail as an example of the manufacturing method of the multilayer printed wiring board according to the embodiment.
(内層回路基板準備工程)
まず、内層回路基板6を準備する。内層回路基板6は、例えば、以下のように製造される。まず、基板2と基板2の両面上に設けられた金属箔とを有する積層板を準備する。次に、フォトリソグラフィー法を用いて当該金属箔をパターニングすることにより、当該金属箔から配線回路4を形成する。
(Inner layer circuit board preparation process)
First, the inner
(粗化工程)
次に、配線回路4の表面4aに化学粗化液を接触させて表面4aを粗化する(粗化工程S1)。これにより、配線回路4を形成するための金属箔のグレードの影響を小さくできる。なお、このような粗化処理を、必要に応じて2回以上行うとしてもよい。以下、化学粗化液の構成材料について詳細に説明する。
(Roughening process)
Next, a chemical roughening solution is brought into contact with the
化学粗化液は、アゾール化合物を含有することが好ましい。かかるアゾール化合物としては、1,2,3−ベンゾトリアゾールが特に好ましい。これにより、配線回路4の表面4aをより確実に粗化することができるので、得られる多層プリント配線板1において半田耐熱性(高温時の耐半田性)を向上させることができる。かかる効果を好適に得るためには、1,2,3−ベンゾトリアゾールの濃度は、0.5〜20g/Lであると好ましく、0.5〜10g/Lであるとより好ましく、0.5〜7g/Lであると特に好ましい。なお、Lはリットルを表す。
The chemical roughening solution preferably contains an azole compound. As such an azole compound, 1,2,3-benzotriazole is particularly preferable. Thereby, since the
化学粗化液は、酸化促進剤を更に含有することが好ましい。かかる酸化促進剤としては、例えば、硫酸、過酸化水素、次亜塩素酸、硝酸、リン酸等が挙げられる。特に、化学粗化液が硫酸及び過酸化水素を含有することが好ましい。 The chemical roughening solution preferably further contains an oxidation accelerator. Examples of the oxidation accelerator include sulfuric acid, hydrogen peroxide, hypochlorous acid, nitric acid, phosphoric acid and the like. In particular, the chemical roughening solution preferably contains sulfuric acid and hydrogen peroxide.
化学粗化液は、1,2,3−ベンゾトリアゾールに加えて、更なるアゾール化合物を含有することが好ましい。アゾール化合物は、腐食抑制剤として働くと考えられる。アゾール化合物としては、例えば、5−アミノテトラゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、1−メチルテトラゾール、2−メチルテトラゾール、5−メチルトリアゾール、1−フェニルテトラゾール、イミダゾール、5−フェニルテトラゾール、チアゾール、ピラゾール、イソオキサゾール、1,2,3−トリアゾール、インダゾール、1,2,4−トリアゾール等が挙げられる。これらの中でも5−アミノテトラゾールが特に好ましい。 The chemical roughening solution preferably contains a further azole compound in addition to 1,2,3-benzotriazole. The azole compound is believed to work as a corrosion inhibitor. Examples of the azole compound include 5-aminotetrazole, benzotriazole, tolyltriazole, 1-methyltetrazole, 2-methyltetrazole, 5-methyltriazole, 1-phenyltetrazole, imidazole, 5-phenyltetrazole, thiazole, pyrazole, Examples include oxazole, 1,2,3-triazole, indazole, 1,2,4-triazole and the like. Among these, 5-aminotetrazole is particularly preferable.
化学粗化液の構成材料の好適な組み合わせとしては、例えば下記(1)〜(6)の組み合わせ等が挙げられる。
(1)過硫酸塩及び腐食抑制剤
(2)過硫酸塩、酸及び腐食抑制剤
(3)硫酸、過酸化水素及び腐食抑制剤
(4)塩化第二鉄及び腐食抑制剤
(5)塩化第二銅及び腐食抑制剤
(6)塩化テトラアンミン銅及び腐食抑制剤
As a suitable combination of the constituent materials of the chemical roughening solution, for example, the following combinations (1) to (6) may be mentioned.
(1) Persulfates and corrosion inhibitors (2) Persulfates, acids and corrosion inhibitors (3) Sulfuric acid, hydrogen peroxide and corrosion inhibitors (4) Ferric chloride and corrosion inhibitors (5) Chlorination Dicopper and corrosion inhibitor (6) Tetraamine copper chloride and corrosion inhibitor
これらの中でも上記(3)の組み合わせが特に好ましい。具体的には、硫酸、過酸化水素及びアゾール化合物の組み合わせが好ましい。かかるアゾール化合物としては、5−アミノテトラゾール及び1,2,3−ベンゾトリアゾールが特に好ましい。 Among these, the combination (3) is particularly preferable. Specifically, a combination of sulfuric acid, hydrogen peroxide and an azole compound is preferable. As such an azole compound, 5-aminotetrazole and 1,2,3-benzotriazole are particularly preferable.
硫酸の濃度としては、20〜400g/Lであると好ましく、20〜200g/Lであるとより好ましく、50〜100g/Lであると特に好ましい。硫酸の濃度が20g/L未満であると、銅等の金属の溶解度が低下して結果的に液寿命が低下する傾向にあり、400g/Lを超えると、工業的に液が高価になりランニングコストが上がる傾向にある。 The concentration of sulfuric acid is preferably 20 to 400 g / L, more preferably 20 to 200 g / L, and particularly preferably 50 to 100 g / L. If the concentration of sulfuric acid is less than 20 g / L, the solubility of metals such as copper tends to decrease, resulting in a decrease in the life of the liquid. If it exceeds 400 g / L, the liquid becomes industrially expensive and running. Cost tends to increase.
過酸化水素の濃度としては、10〜200g/Lであると好ましく、10〜100g/Lであるとより好ましく、10〜50g/Lであると特に好ましい。過酸化水素の濃度が10g/L未満であると、粗化処理のスピードが低下して処理時間が長くなると共に水平搬送処理ラインの場合に装置が長くなる傾向にあり、200g/Lを超えると、過酸化水素の自然分解が増加して使用量が増加し、ランニングコストが上がる傾向にある。 The concentration of hydrogen peroxide is preferably 10 to 200 g / L, more preferably 10 to 100 g / L, and particularly preferably 10 to 50 g / L. If the concentration of hydrogen peroxide is less than 10 g / L, the speed of the roughening process decreases, the processing time becomes longer, and the apparatus tends to be longer in the case of a horizontal conveyance processing line. However, the natural decomposition of hydrogen peroxide increases, so that the amount used increases and the running cost tends to increase.
アゾール化合物の濃度としては、0.5〜40g/Lであると好ましく、0.5〜30g/Lであるとより好ましく、0.5〜20g/Lであると特に好ましい。アゾール化合物の濃度が0.5g/L未満であると、半田耐熱性が低下する傾向にあり、40g/Lを超えると、粗化処理における処理ムラが増加する傾向にある。 The concentration of the azole compound is preferably 0.5 to 40 g / L, more preferably 0.5 to 30 g / L, and particularly preferably 0.5 to 20 g / L. When the concentration of the azole compound is less than 0.5 g / L, the solder heat resistance tends to decrease, and when it exceeds 40 g / L, the processing unevenness in the roughening treatment tends to increase.
上記構成材料に加え、化学粗化液は、更にアルコール系溶媒を含有してもよい。これにより、黒色沈殿物の発生が抑制される。その結果、黒色沈殿物の再付着による多層プリント配線板の異物不良を撲滅することができる。さらに、接着特性を損なうことなく、化学粗化液の液寿命を4倍程度に延命することができる。アルコール系溶媒としては、特に限定されないが、グリコール系溶媒が好ましく、例えば、アルキレングリコール、アルキレングリコールアルキルエーテル、グリコール酸、及び分子量200〜20000のポリエチレングリコール等が挙げられる。 In addition to the above constituent materials, the chemical roughening solution may further contain an alcohol solvent. Thereby, generation | occurrence | production of black deposit is suppressed. As a result, the foreign matter defect of the multilayer printed wiring board due to redeposition of the black precipitate can be eradicated. Furthermore, the life of the chemical roughening solution can be extended by about 4 times without impairing the adhesive properties. The alcohol solvent is not particularly limited, but a glycol solvent is preferable, and examples thereof include alkylene glycol, alkylene glycol alkyl ether, glycolic acid, and polyethylene glycol having a molecular weight of 200 to 20000.
アルキレングリコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、メチルプロピレングリコール等が挙げられる。アルキレングリコールアルキルエーテルとしては、例えば、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。これらの溶媒は単独で使用してもよく、また、2種以上混合して使用することもできる。 Examples of the alkylene glycol include ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, and methylpropylene glycol. Examples of the alkylene glycol alkyl ether include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol dimonoethyl ether, and diethylene glycol monobutyl ether. These solvents may be used alone or in combination of two or more.
上述の化学粗化液を配線回路4の表面4aに接触させる方法としては、例えば、スプレー法、ディップ法等が挙げられる。また、処理温度及び処理時間は、表面4aでの粗化量(エッチング量)が0.5μm以上となるように適宜決定されることが好ましい。表面4aでの粗化量が0.5μm未満であると、十分な接着力が得られない傾向にある。
Examples of the method for bringing the chemical roughening solution into contact with the
上記粗化量は電子天秤を用いて下記式(1)により、重量法で測定することができる。 The roughening amount can be measured by a weight method using the electronic balance according to the following formula (1).
粗化量=[粗化処理前重量(g)−粗化処理後重量(g)]/[粗化処理面積(cm2)×粗化する金属の比重(g/cm3)] … (1) Roughening amount = [weight before roughening treatment (g) −weight after roughening treatment (g)] / [roughening area (cm 2 ) × specific gravity of metal to be roughened (g / cm 3 )] (1 )
(酸化工程)
上記粗化工程の後に、配線回路4の表面4aを酸化する(酸化工程S2)。具体的には、例えば、配線回路4の表面4aを、水及び酸化剤を含む酸化処理液に接触させる。かかる酸化剤としては、例えば、亜塩素酸ナトリウム、過硫酸アルカリ、塩素酸カリウム、過塩素酸カリウム、又はペルオキソ硫酸アルカリ等のアルカリ性水溶液等が挙げられる。配線回路4の表面4aに酸化処理液を接触させる方法としては、例えば、配線回路4の表面4aを酸化処理液中に浸漬する方法、配線回路4の表面4aに酸化処理液を吹き付ける方法等が挙げられる。
(Oxidation process)
After the roughening step, the
例えば配線回路4が銅から構成されている場合、配線回路4の表面4aには酸化銅が形成される。このような酸化処理は黒化処理とも呼ばれる。
For example, when the
酸化処理液の組成及び処理条件は例えば下記の通りである。
NaClO2:30〜150g/L
Na3PO4・12H2O:10〜60g/L
NaOH:5〜30g/L
水:酸化処理液全体が1Lとなる量
処理温度(液温):55〜95℃
処理時間:60〜600秒
The composition of the oxidation treatment liquid and the treatment conditions are, for example, as follows.
NaClO 2 : 30 to 150 g / L
Na 3 PO 4 · 12H 2 O: 10 to 60 g / L
NaOH: 5-30 g / L
Water: Amount in which the entire oxidation treatment liquid becomes 1 L Treatment temperature (liquid temperature): 55 to 95 ° C.
Processing time: 60-600 seconds
(還元工程)
上記酸化工程の後に、配線回路4の表面4aを還元する(還元工程S3)。具体的には、例えば、配線回路4の表面4aを、水及び還元剤を含む還元処理液に接触させる。かかる還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、ホルマリン等が挙げられる。配線回路4の表面4aに還元処理液を接触させる方法としては、例えば、配線回路4の表面4aを還元処理液中に浸漬する方法、配線回路4の表面4aに還元処理液を吹き付ける方法等が挙げられる。
(Reduction process)
After the oxidation step, the
還元処理液の組成及び処理条件は例えば下記の通りである。
水素化ホウ素ナトリウム:0.1〜10g/L
水:還元処理液全体が1Lとなる量
pH:7.0〜13.0
処理温度(液温):20〜60℃
処理時間:30〜300秒
The composition of the reduction treatment liquid and the treatment conditions are, for example, as follows.
Sodium borohydride: 0.1-10 g / L
Water: Amount in which the entire reduction treatment solution becomes 1 L pH: 7.0 to 13.0
Process temperature (liquid temperature): 20-60 degreeC
Processing time: 30-300 seconds
続いて、必要に応じて、水洗した後、配線回路4の表面4aに処理液を接触させる。
Subsequently, after washing with water as necessary, the treatment liquid is brought into contact with the
処理液の組成及び処理条件は例えば下記の通りである。
36質量%ホルマリン:2〜20mL/L
NaOH:0.05〜0.03モル/L
水:処理液全体が1Lとなる量
pH:11.0〜13.0
処理温度(液温):50〜70℃
処理時間:配線回路4の表面4aの電位が、Ag−AgCl電極に対して−1400〜−1100mVとなるまでの時間
The composition of the treatment liquid and the treatment conditions are, for example, as follows.
36 mass% formalin: 2 to 20 mL / L
NaOH: 0.05 to 0.03 mol / L
Water: Amount in which the entire treatment liquid becomes 1 L pH: 11.0-13.0
Process temperature (liquid temperature): 50-70 degreeC
Processing time: Time until the potential of the
(シラン処理工程)
上記還元工程の後に、必要に応じて、シランカップリング剤を用いて配線回路4の表面4aにシラン処理を施してもよい。これにより、配線回路4とプリプレグの硬化体8との接着性を更に増大させることができる。その理由は必ずしも明らかではないが、シランカップリング剤の加水分解で生じるシラノール基(Si−OH)が配線回路4の表面4aに存在する銅原子と結合することにより、メタロシロキサン結合(Si−O−Cu)が形成されるためと推測される。
(Silane treatment process)
After the reduction step, if necessary, the
(積層工程)
上記還元工程の後に、内層回路基板6にプリプレグを張り合わせ、条件を調節しながら全体を加熱及び加圧することにより成形する。成形方法としては、多段プレス機、多段真空プレス機、連続成形機又はオートクレーブ成形機等を使用する方法が挙げられる。加熱及び加圧は、温度100〜250℃、圧力2〜100kg/cm2及び処理時間0.1〜5時間の条件で行うことができる。ここで、プリプレグは、120℃以上の温度で15〜30分、好ましくは170〜220℃の温度で60〜150分の加熱を行うことにより好適に硬化される。このようにして、プリプレグの硬化体8が内層回路基板6上に形成される。
(Lamination process)
After the reduction step, the prepreg is bonded to the
次に、プリプレグの硬化体8に金属箔9を密着させ、全体を加熱及び/又は加圧することにより、多層プリント配線板1を作製することができる。金属箔9としては片面粗化金属箔又は両面粗化金属箔を用いることができる。金属箔9は、プレプリグの硬化体8側を粗化面にして密着させることが好ましい。
Next, the multilayer printed wiring board 1 can be produced by bringing the
以上説明したように、本実施形態に係る多層プリント配線板の製造方法では、粗化工程、酸化工程及び還元工程を順次実施するため、配線回路4とプリプレグの硬化体8との接着性を十分に向上できる。よって、内層回路基板6とプリプレグの硬化体8との間のピール強度、半田耐熱性及び耐塩酸性(耐ハローイング性)が向上する。特に、内層回路基板6とプリプレグの硬化体8との間のピール強度は顕著に向上する。したがって、得られる多層プリント配線板1では、配線回路4をより安定して機能させることができる。
As described above, in the method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to the present embodiment, the roughening process, the oxidation process, and the reduction process are sequentially performed, so that the adhesiveness between the
また、例えば配線回路4が銅を構成材料とする場合には、配線回路4とプリプレグの硬化体8との接着性を、より確実に向上できる。さらに、例えば化学粗化液が硫酸、過酸化水素、1,2,3−ベンゾトリアゾール及び5−アミノテトラゾールを含有する場合には、配線回路4とプリプレグの硬化体8との接着性を、更に確実に向上できる。
For example, when the
なお、内層回路基板6、プリプレグの硬化体8及び金属箔9の接着方法は上記方法に限定されない。例えば、予め金属箔9をプリプレグに接着してから、金属箔9が接着されたプリプレグを内層回路基板6に接着してもよいし、内層回路基板6、プリプレグ及び金属箔9をプレス成形等でまとめて接着してもよい。また、金属箔9の代わりに樹脂板と金属箔とを張り合わせた片面板を使用し、樹脂板側をプリプレグに接着させることも可能である。
The bonding method of the
また、多層プリント配線板1において、必要に応じて金属箔9をパターニングしてもよい。この場合、金属箔9から配線回路が形成される。また、その配線回路の表面(配線回路を形成しない場合は金属箔9表面)を必要に応じて粗化、酸化及び還元し、更に上述の方法によりプリプレグ及び金属箔を積層することができる。このような操作を繰り返して、プリプレグと金属箔(配線回路)とを交互に積層することにより、更に多層化された構造を有する多層プリント配線板を作製することができる。
Moreover, in the multilayer printed wiring board 1, you may pattern the
また、プリプレグを硬化した後であれば、内層回路基板、プリプレグの硬化体及び金属箔を有する積層基板にビアホール(スルーホール)等の形成を行ってもよい。ビアホール形成のためには当該積層基板の穴あけが必要となる。積層基板における金属箔が薄い場合には、ドリル又はレーザーによって直接穴あけが可能である。積層基板における金属箔が厚い場合には、コンフォーマルマスク法又はラージウインド法により窓穴を形成した後に、ドリル又はレーザーによって穴あけが可能である。なお、プリプレグが硬化されていて、外層が金属箔である場合、金属箔表面の粗化処理は穴あけ前に行ってもよく、穴あけ後に行ってもよい。穴あけ終了後、金属箔表面やスルーホール等に樹脂残渣が残存している場合には当該樹脂残渣の除去を行い、無電解銅めっき法、金属蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を用いてビアホールを形成することができる。 Further, after the prepreg is cured, via holes (through holes) may be formed in the laminated substrate having the inner circuit board, the cured prepreg, and the metal foil. In order to form a via hole, it is necessary to make a hole in the multilayer substrate. When the metal foil in the laminated substrate is thin, it can be directly drilled by a drill or a laser. When the metal foil in the laminated substrate is thick, the hole can be drilled with a drill or a laser after the window hole is formed by the conformal mask method or the large window method. When the prepreg is cured and the outer layer is a metal foil, the surface of the metal foil may be roughened before drilling or after drilling. If resin residue remains on the surface of metal foil or through holes after drilling, remove the resin residue and use electroless copper plating, metal deposition, sputtering, ion plating, etc. Via holes can be formed.
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described in detail, this invention is not limited to the said embodiment.
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.
(実施例1)
エポキシ樹脂の基板の両面上に圧延銅箔(商品名:BHN−35、日鉱マテリアルズ社製、箔厚35μm)が形成された銅張積層板(商品名:E−67、日立化成工業社製、両面板:厚み0.4mm)の圧延銅箔を予めパターニングすることにより銅回路が形成された内層回路基板を作製した。得られた内層回路基板を以下の方法により処理した。
Example 1
Copper-clad laminate (trade name: E-67, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) in which rolled copper foil (trade name: BHN-35, manufactured by Nikko Materials Co., Ltd., foil thickness 35 μm) is formed on both surfaces of the epoxy resin substrate. The inner layer circuit board on which the copper circuit was formed was produced by patterning in advance a rolled copper foil having a thickness of 0.4 mm on both sides. The obtained inner layer circuit board was processed by the following method.
まず、内層回路基板を脱脂液(NaOH水溶液、50g/L)に4分間浸し、十分に水洗を行った後、75質量%硫酸水溶液80mL/L、35質量%過酸化水素水60mL/L、5−アミノテトラゾール2g/L、及び1,2,3−ベンゾトリアゾール3g/Lからなる混合液(化学粗化液)に30℃で1分間浸漬した(粗化工程)。粗化量は2.5μmであった。 First, after immersing the inner layer circuit board in a degreasing solution (NaOH aqueous solution, 50 g / L) for 4 minutes and thoroughly washing with water, a 75 mass% sulfuric acid aqueous solution 80 mL / L, a 35 mass% hydrogen peroxide solution 60 mL / L, 5 -It immersed for 1 minute at 30 degreeC in the liquid mixture (chemical roughening liquid) which consists of aminotetrazole 2g / L and 1,2,3-benzotriazole 3g / L (roughening process). The roughening amount was 2.5 μm.
続いて、水洗した後、内層回路基板の銅回路の表面に黒化処理液(酸化処理液)を接触させて黒化処理を施した。これにより、銅回路の表面に酸化銅を形成した(酸化工程)。 Subsequently, after washing with water, the blackening treatment liquid (oxidation treatment liquid) was brought into contact with the surface of the copper circuit of the inner layer circuit board to perform the blackening treatment. Thereby, copper oxide was formed on the surface of the copper circuit (oxidation step).
黒化処理液の組成及び処理条件は下記の通りである。
NaClO2:90g/L
Na3PO4・12H2O:30g/L
NaOH:15g/L
水:黒化処理液全体が1Lとなる量
処理温度(液温):85℃
処理時間:180秒
The composition and treatment conditions of the blackening treatment liquid are as follows.
NaClO 2 : 90 g / L
Na 3 PO 4 · 12H 2 O: 30 g / L
NaOH: 15 g / L
Water: Amount of the blackening treatment liquid to be 1 L Treatment temperature (liquid temperature): 85 ° C.
Processing time: 180 seconds
続いて、水洗した後、内層回路基板の銅回路の表面に還元処理液を接触させて還元処理を施した。これにより、銅回路の表面に形成された酸化銅を還元した(還元工程)。 Subsequently, after washing with water, a reduction treatment was performed by bringing the reduction treatment liquid into contact with the surface of the copper circuit of the inner layer circuit board. Thereby, the copper oxide formed on the surface of the copper circuit was reduced (reduction process).
還元処理液の組成及び処理条件は下記の通りである。
水素化ホウ素ナトリウム:1g/L
水:還元処理液全体が1Lとなる量
pH:12.5
処理温度(液温):40℃
処理時間:40秒
The composition of the reduction treatment liquid and the treatment conditions are as follows.
Sodium borohydride: 1g / L
Water: Amount in which the entire reduction treatment solution becomes 1 L pH: 12.5
Processing temperature (liquid temperature): 40 ° C
Processing time: 40 seconds
続いて、水洗した後、内層回路基板の銅回路の表面に処理液を接触させた。 Subsequently, after washing with water, the treatment liquid was brought into contact with the surface of the copper circuit of the inner layer circuit board.
処理液の組成及び処理条件は下記の通りである。
36質量%ホルマリン:4mL/L
NaOH:0.1モル/L
水:処理液全体が1Lとなる量
pH:12.5
処理温度(液温):60℃
処理時間:銅回路の表面の電位が、Ag−AgCl電極に対して−1200mVとなるまでの時間
The composition of the treatment liquid and the treatment conditions are as follows.
36% by mass formalin: 4 mL / L
NaOH: 0.1 mol / L
Water: Amount of 1L of the entire treatment solution pH: 12.5
Processing temperature (liquid temperature): 60 ° C
Processing time: Time until the surface potential of the copper circuit becomes −1200 mV with respect to the Ag—AgCl electrode
その後、再び水洗し、80℃で40分間乾燥させ、内層回路基板を得た。この内層回路基板の両面に、ガラスクロス−エポキシ樹脂よりなるプリプレグ(商品名:E−67、日立化成工業社製)を張り合わせ、更にプリプレグに外層として圧延銅箔(商品名:BHN−18、日鉱マテリアルズ社製、箔厚18μm)を張り合わせた。そして、これらを、4.9×106Pa(50kgf/cm2)、170℃で90分間、プレス成形することにより、実施例1の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。 Thereafter, it was washed again with water and dried at 80 ° C. for 40 minutes to obtain an inner layer circuit board. A prepreg made of glass cloth-epoxy resin (trade name: E-67, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.) is laminated on both surfaces of the inner layer circuit board, and rolled copper foil (trade name: BHN-18, Nikko) as an outer layer on the prepreg. The materials company make, foil thickness 18micrometer) were bonded together. And these were press-molded at 4.9 × 10 6 Pa (50 kgf / cm 2 ) and 170 ° C. for 90 minutes to produce a multilayer printed wiring board (four-layer printed wiring board) of Example 1. .
(実施例2)
内層回路基板を作製する際に、圧延銅箔に代えて電解銅箔(商品名:NDGR−35、日本電解社製)を用いた以外は実施例1と同様にして、実施例2の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。
(Example 2)
The multilayer print of Example 2 was made in the same manner as in Example 1 except that electrolytic copper foil (trade name: NDGR-35, manufactured by Nippon Electrolytic Co., Ltd.) was used instead of the rolled copper foil when producing the inner layer circuit board. A wiring board (4-layer printed wiring board) was produced.
(比較例1)
酸化工程及び還元工程を実施しなかった以外は実施例1と同様にして、比較例1の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。
(Comparative Example 1)
A multilayer printed wiring board (four-layer printed wiring board) of Comparative Example 1 was produced in the same manner as in Example 1 except that the oxidation process and the reduction process were not performed.
(比較例2)
粗化工程及び還元工程を実施しなかった以外は実施例1と同様にして、比較例2の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。
(Comparative Example 2)
A multilayer printed wiring board (four-layer printed wiring board) of Comparative Example 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the roughening step and the reduction step were not performed.
(比較例3)
粗化工程を実施しなかった以外は実施例1と同様にして、比較例3の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。
(Comparative Example 3)
A multilayer printed wiring board (4-layer printed wiring board) of Comparative Example 3 was produced in the same manner as in Example 1 except that the roughening step was not performed.
(比較例4)
還元工程を実施しなかった以外は実施例1と同様にして、比較例4の多層プリント配線板(4層のプリント配線板)を作製した。
(Comparative Example 4)
A multilayer printed wiring board (four-layer printed wiring board) of Comparative Example 4 was produced in the same manner as in Example 1 except that the reduction step was not performed.
(評価結果)
上記で作製された実施例1,2及び比較例1〜4の多層プリント配線板について、内層回路基板とプリプレグの硬化体との間のピール強度、半田耐熱性、及び耐塩酸性(耐ハローイング性)を評価した。評価結果を表1に示す。
(Evaluation results)
For the multilayer printed wiring boards of Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 4 produced above, peel strength between the inner circuit board and the cured prepreg, solder heat resistance, and hydrochloric acid resistance (haloing resistance) ) Was evaluated. The evaluation results are shown in Table 1.
ピール強度の測定は、JIS C6481に準じて行った。ピール強度試験は、オートグラフ(島津製作所社製、型式:AGS−100B)を用いて引っ張りスピード50mm/分にて実施した。 The peel strength was measured according to JIS C6481. The peel strength test was performed using an autograph (manufactured by Shimadzu Corporation, model: AGS-100B) at a pulling speed of 50 mm / min.
半田耐熱性試験では、まず、多層プリント配線板を積層方向に切断して、100mm角の試験片を作製した。次に、試験片を230℃で2時間乾燥させた後、プレッシャークッカーテスト(121℃、2気圧)を2時間実施した。その後、試験片を260℃の半田浴に20秒間浸漬させた。半田浴から取り出した試験片について、実体顕微鏡を用いて表層面を観察した。これにより、内層回路基板とプリプレグの硬化体との界面での剥離現象にともなう膨れ(ブリスタリング)が確認されたものを「膨れ発生」、膨れが確認されなかったものを「異常なし」とした。 In the solder heat resistance test, first, a multilayer printed wiring board was cut in the laminating direction to produce a 100 mm square test piece. Next, after drying a test piece at 230 degreeC for 2 hours, the pressure cooker test (121 degreeC, 2 atmospheres) was implemented for 2 hours. Thereafter, the test piece was immersed in a solder bath at 260 ° C. for 20 seconds. About the test piece taken out from the solder bath, the surface layer surface was observed using the stereomicroscope. As a result, “blowing” was confirmed when blistering was confirmed due to the peeling phenomenon at the interface between the inner layer circuit board and the cured prepreg, and “abnormality” was confirmed when blistering was not confirmed. .
耐塩酸性試験では、まず、多層プリント配線板に直径0.3mmの穴あけを行った後、外層の銅箔を除去し、積層方向に切断して、130mm×30mm角の試験片を作製した。その後、試験片を18質量%塩酸に浸漬させて、塩酸が内層回路基板とプリプレグの硬化体との間に染み込むまでの時間を測定した。表1中、○は染み込みがないことを示し、×は染み込みがあることを示す。 In the hydrochloric acid resistance test, first, a multilayer printed wiring board was drilled with a diameter of 0.3 mm, and then the outer layer copper foil was removed and cut in the stacking direction to prepare a 130 mm × 30 mm square test piece. Then, the test piece was immersed in 18 mass% hydrochloric acid, and the time until hydrochloric acid permeates between the inner layer circuit board and the cured prepreg was measured. In Table 1, ◯ indicates that there is no soaking, and x indicates that there is soaking.
1…多層プリント配線板、2…基板、4…配線回路、4a…配線回路の表面、6…内層回路基板、8…プリプレグの硬化体、9…金属箔。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Multilayer printed wiring board, 2 ... Board | substrate, 4 ... Wiring circuit, 4a ... The surface of a wiring circuit, 6 ... Inner layer circuit board, 8 ... Hardened | cured body of prepreg, 9 ... Metal foil.
Claims (5)
前記配線回路の表面に化学粗化液を接触させて前記表面を粗化する粗化工程と、
前記粗化工程の後に前記配線回路の前記表面を酸化する酸化工程と、
前記酸化工程の後に前記配線回路の前記表面を還元する還元工程と、
を含む、多層プリント配線板の製造方法。 A prepreg containing a resin and a fiber is laminated on the wiring circuit of an inner layer circuit board having a substrate and a wiring circuit provided on the substrate, and the inner layer circuit board and the cured body of the prepreg are integrated. A method for producing a multilayer printed wiring board having a laminated structure comprising:
A roughening step of roughening the surface by bringing a chemical roughening solution into contact with the surface of the wiring circuit;
An oxidation step of oxidizing the surface of the wiring circuit after the roughening step;
A reduction step of reducing the surface of the wiring circuit after the oxidation step;
A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising:
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