JP2006306085A - Photoluminescent film and photoluminescent pattern product using same - Google Patents

Photoluminescent film and photoluminescent pattern product using same Download PDF

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Makoto Aoyanagi
誠 青柳
Tetsuya Matsuyama
哲也 松山
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoluminescent film which is free from ripping off of a resin, i.e. an empty pattern, has a plurality of photoluminescent patterns excellent in brightness, is of resource saving because only a single base material is required, is extremely small with regard to a total thickness and is excellent in the integration with a transferring material or paper, and a photoluminescent pattern product using the same. <P>SOLUTION: The photoluminescent film comprises two or more pairs of photoluminescent pattern layers each contacting with a primer layer, a pair of photoluminescent pattern layer consisting of a relief forming layer and a metal thin film layer, wherein preferably each of at least two photoluminescent patterns is visible from the back side and front side, and the glass transition temperature of the primer layer is 130°C or below. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、光輝性フィルムに関し、さらに詳しくは、少なくとも2つの光輝性図柄を有し、特異な意匠性及び/又はセキュリティ性を有する光輝性フィルム、及びそれを用いた光輝性図柄形成物に関するものである。   The present invention relates to a glitter film, and more particularly, to a glitter film having at least two glitter designs and having a unique design and / or security, and a glitter pattern formation using the same. It is.

本明細書において、配合を示す「比」、「部」、「%」などは特に断わらない限り質量基準であり、「/」印は一体的に積層されていることを示す。
また、「PET」は「ポリエチレンテレフタレート」の略語、機能的表現、通称、又は業界用語である。
In the present specification, “ratio”, “part”, “%” and the like indicating the composition are based on mass unless otherwise specified, and the “/” mark indicates that they are integrally laminated.
“PET” is an abbreviation, functional expression, common name, or industry term for “polyethylene terephthalate”.

(主なる用途)本発明の光輝性フィルム、及び該光輝性フィルムを用いて、該複数光輝性図柄の少なくとも1部を、被転写体へ貼着や漉き込みなどで移行させた光輝性図柄形成物の主なる用途としては、例えば、紙幣、株券、証券、証書、商品券、小切手、手形、入場券、通帳類、ギフト券、乗車券、車馬券、印紙、切手、鑑賞券、入場証、通行証、チケット等の金券類、キャッシュカード、クレジットカード、IDカード、プリペイドカード、メンバーズカード、ICカード、光カードなどのカード類、グリーティングカード、ハガキ、名刺、運転免許証、パスポート等の各種証明書やその証明写真類、カートン、ケース、軟包装材などの包装材類、バッグ類、帳票類、封筒、タグ、パスポート、化粧品、腕時計、ライター等のブランド装身具などがある。しかしながら、光輝性を有する特異な意匠性、及び/又はセキュリティ性を必要とする用途であれば、特に限定されるものではない。   (Main use) Using the glitter film of the present invention and the glitter film, the glitter pattern is formed by transferring at least a part of the plurality of glitter patterns to the transfer object by sticking or squeezing. Major uses of goods include, for example, banknotes, stock certificates, securities, certificates, gift certificates, checks, bills, admission tickets, passbooks, gift certificates, boarding tickets, car horse tickets, stamps, stamps, appreciation tickets, admission cards, Cards such as passports, tickets, cash cards, credit cards, ID cards, prepaid cards, cards such as members cards, IC cards, optical cards, various certificates such as greeting cards, postcards, business cards, driver's licenses, passports, etc. Brands such as photographic materials, cartons, cases, flexible packaging materials, bags, forms, envelopes, tags, passports, cosmetics, watches, lighters, etc. Ingredients, and the like. However, it is not particularly limited as long as it is a use that requires a special design and / or security with glitter.

(背景技術)従来、金券類、カード類、及び各種証明書類などのは、資格証明や一定の経済的価値や効果を持つため、不正に偽造、変造、不正使用することが絶えない。特に、カラーコピー機の精度向上が著しく、各種の媒体類の偽造を容易にしている。
これを防止するため各種の偽造防止手段が施されている。光輝性、特にホログラム、回折格子などのレリーフ形状を有する転写箔は、特異な装飾像や立体像を表現できる意匠性と、これらホログラムや回折格子は高度な製造技術を要し、容易に製造できないことから、偽造防止としてセキュリティー性の向上に利用されている。
しかしながら、これらの光輝性は片側のみであり、さらなる意匠性とセキュリティ性を向上するために、光輝性に優れた複数の図柄を有し、かつ、総厚さが極めて薄くて、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、省資源で、製造が容易であることが求められている。
(Background Art) Conventionally, gold vouchers, cards, and various certificates have qualifications and certain economic values and effects, so that they are constantly counterfeited, altered, and used illegally. In particular, the accuracy of color copiers is remarkably improved, making it easy to forge various media.
In order to prevent this, various forgery prevention means are provided. Transfer foils with relief, especially holograms and diffraction gratings, have a design that can express unique decorative images and three-dimensional images, and these holograms and diffraction gratings require advanced manufacturing techniques and cannot be easily manufactured. Therefore, it is used to improve security to prevent forgery.
However, these glitters are only on one side, and in order to further improve the design and security, they have a plurality of patterns with excellent glitter, and the total thickness is extremely thin. It is required to be excellent in unity with paper-making paper, resource-saving, and easy to manufacture.

(先行技術)従来、片面に金属蒸着膜を形成したホログラフィックフイルムを2枚、この金属蒸着膜を内側にして接着剤を用いて貼合わせた積層フイルムを細幅に裁断する両面光輝性ホログラム装飾糸が知られている(例えば、特許文献1参照。)。しかしながら、表裏の発色性及び立体感の差をなくし、また、金属薄膜の腐食を防止するために、本願の課題とは全く異なる課題を解消するために、単一図柄の2枚のフィルムを背中合わせに貼合して、金属薄膜がフィルムで挟んだ両面光輝性ホログラム装飾糸であり、実施例からも同一図柄の2枚を用いており、同じ図柄を用いていることは明らかである。
さらに、片側に2層のレリーフ形成層を有する転写箔が知られている(例えば、特許文献2参照。)。しかしながら、同一面に異なるパターンで2回エンボスする転写箔の製造方法に関する特許であり、両面光輝性という事に関する記載はない。
さらにまた、本出願人も、光輝性スレッドを基紙から間欠的に露出する表出部と被覆部とを設ける偽造防止用紙を開示している(例えば、特許文献3参照。)。しかしながら、用紙の端面を見なくても偽造品であるかどうかを判断でき、同時に光輝性スレッドが基紙から剥がれにくくするためのものである。
エンボス加工は片面エンボスで十分であるが、両面エンボスでもよいとの記載が知られている(例えば、特許文献4参照。)。しかしながら、両面エンボスに関してこれ以上の具体的な説明はなされておらず、また、エンボスする絵柄に関してはなんら示唆されていない。両面エンボスの明確な意味は記載されておらず、両面にレリーフパターンが形成されているか明確ではない。
いずれの先行技術も、表裏面に異なる図柄の光輝性図柄を有することについては記載も示唆もされていない。また、総厚さも厚く、偽造防止用紙としての一体感に欠けるものであった。
(Prior art) Conventionally, a double-sided glitter hologram decoration that cuts a laminated film that has been laminated with two adhesive layers with two metallized holographic films on one side and an adhesive. Yarns are known (for example, see Patent Document 1). However, in order to eliminate the difference in color development and three-dimensionality between the front and back, and to prevent corrosion of the metal thin film, two films of a single design are back-to-back in order to eliminate a problem completely different from the problem of the present application It is a double-sided glittering hologram decorative yarn with a metal thin film sandwiched between films, and two of the same design are used from the examples, and it is clear that the same design is used.
Furthermore, a transfer foil having two relief forming layers on one side is known (for example, see Patent Document 2). However, this is a patent relating to a method for producing a transfer foil embossed twice with different patterns on the same surface, and there is no description regarding the double-sided glitter.
Furthermore, the present applicant has also disclosed an anti-counterfeit paper provided with an exposed portion and a covering portion that intermittently expose the glitter thread from the base paper (see, for example, Patent Document 3). However, it is possible to determine whether it is a counterfeit product without looking at the end face of the paper, and at the same time, to make it difficult for the glittering thread to peel off from the base paper.
Although embossing is sufficient with single-sided embossing, it is known that double-sided embossing may be used (see, for example, Patent Document 4). However, no further specific explanation is given regarding the double-sided embossing, and no embossing pattern is suggested. The clear meaning of double-sided embossing is not described, and it is not clear whether a relief pattern is formed on both sides.
None of the prior art describes or suggests that the front and back surfaces have different patterns of glitter. Moreover, the total thickness was also thick and lacked a sense of unity as anti-counterfeit paper.

特開平06−257028号公報Japanese Patent Laid-Open No. 06-257028 特開平07−199781号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 07-199781 特開平10−71759号公報JP-A-10-71759 特開2001−31729号公報JP 2001-31729 A

そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」を起こさない光輝性に優れる複数光輝性図柄を有し、基材が1枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄く、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れた光輝性フィルム、及びそれを用いた光輝性図柄形成物を提供することである。   Accordingly, the present invention has been made to solve such problems. Its purpose is to have multiple glittering patterns with excellent glittering properties that do not cause resin peeling or so-called “printing (pattern removal)”. It is an object of the present invention to provide a glittering film having an extremely thin total thickness and excellent in a sense of unity with a transfer target or paper-making paper, and a glittering pattern forming article using the same.

上記の課題を解決するために、請求項1の発明に係わる光輝性フィルムは、レリーフ形成層と金属薄膜層とを1組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、2組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有するように、したものである。
請求項2の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも2種の光輝性図柄を有しているように、したものである。
請求項3の発明に係わる光輝性フィルムは、上記の光輝性図柄がヘアライン柄、万線柄、ホログラム及び/又は回折格子であるように、したものである。
請求項4の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも第1金属薄膜層、第1光輝性図柄を有する第1レリーフ形成層、プライマ層、第2光輝性図柄を有する第2レリーフ形成層、及び第2金属薄膜層からなるように、したものである。
請求項5の発明に係わる光輝性フィルムは、少なくとも2つの光輝性図柄が、表側及び裏面から、それぞれ視認できるように、したものである。
請求項6の発明に係わる光輝性フィルムは、上記プライマ層のガラス転移温度が130℃以下であるように、したものである。
請求項7の発明に係わる光輝性フィルムは、全体厚さが5〜20μmであるように、したものである。
請求項8の発明に係わる光輝性図柄形成物は、請求項1〜7のいずれかに記載の光輝性フィルムを用いて、少なくとも1部に光輝性図柄を設けてなるように、したものである。
In order to solve the above-described problems, the glitter film according to the invention of claim 1 has two or more sets of the relief forming layer and the metal thin film layer as a pair of glitter pattern layers via the primer layer. It is made to have the glittering design layer of this group.
The glitter film according to the invention of claim 2 has at least two kinds of glitter patterns.
The glitter film according to the invention of claim 3 is such that the glitter pattern is a hairline pattern, a line pattern, a hologram and / or a diffraction grating.
The glitter film according to the invention of claim 4 includes at least a first metal thin film layer, a first relief forming layer having a first glitter pattern, a primer layer, a second relief forming layer having a second glitter pattern, and a first It consists of two metal thin film layers.
The glitter film according to the invention of claim 5 is such that at least two glitter patterns can be visually recognized from the front side and the back side.
The glittering film according to the invention of claim 6 is such that the glass transition temperature of the primer layer is 130 ° C. or lower.
The glittering film according to the invention of claim 7 has an overall thickness of 5 to 20 μm.
The glitter pattern formed product according to the invention of claim 8 is such that the glitter film according to any one of claims 1 to 7 is used to provide a glitter pattern in at least one part. .

請求項1の本発明によれば、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」を起こさない複数光輝性図柄を有し、基材が1枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄く、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れた光輝性フィルムが提供される。
請求項2の本発明によれば、異なる複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」を起こさない光輝性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項3の本発明によれば、光輝性を有する特異な意匠性、及び/又はセキュリティ性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項4の本発明によれば、請求項1〜3の効果に加えて、基材の両側に光輝性に優れる複数光輝性図柄を有する光輝性フィルムが提供される。
請求項5の本発明によれば、表側及び裏面からそれぞれ視認できる光輝性に優れる複数光輝性図柄を有する光輝性フィルムが提供される。
請求項6の本発明によれば、プライマ層の接着作用により、ロングラン複製を行っても、両方の図柄の光輝性に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項7の本発明によれば、光輝性図柄形成物とした場合でも、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れる光輝性フィルムが提供される。
請求項8の本発明によれば、複数図柄のいずれもが光輝性に優れる複数光輝性図柄を有し、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れる光輝性図柄形成物が提供される。
According to the first aspect of the present invention, each of the plurality of patterns has a plurality of glittering patterns that do not cause peeling of the resin, so-called “printing (pattern removal)”, and one substrate is sufficient. There is provided a glittering film which is resource-saving and has an extremely thin total thickness and excellent in a sense of unity with a transfer medium or paper-making paper.
According to the second aspect of the present invention, there is provided a glittering film which is excellent in glittering property in which any of a plurality of different patterns does not cause peeling of the resin, so-called “printing (pattern removal)”.
According to the third aspect of the present invention, there is provided a glittering film having a unique design having glitter and / or excellent security.
According to the fourth aspect of the present invention, in addition to the effects of the first to third aspects, a glitter film having a plurality of glitter patterns having excellent glitter on both sides of the substrate is provided.
According to the fifth aspect of the present invention, there is provided a glitter film having a plurality of glitter patterns that are excellent in glitter that can be visually recognized from the front side and the back side.
According to the sixth aspect of the present invention, there is provided a glittering film which is excellent in glittering properties of both patterns even when long run replication is performed by the adhesive action of the primer layer.
According to the seventh aspect of the present invention, there is provided a glittering film which is excellent in a sense of unity with a transfer target or paper-making paper even when a glittering pattern formed product is formed.
According to the present invention of claim 8, there is provided a glittering pattern forming product having a plurality of glittering designs each having excellent glittering properties and excellent in a sense of unity with a transfer medium or paper-making paper. The

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
図1は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図2は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図3は、本発明の1実施例を示す光輝性図柄形成物の断面図
図4は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図5は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図
図6は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図7は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図8は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図9は、本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図
図10は、本発明の1実施例を示す光輝性図柄形成物の平面図、及び断面図
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of a glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 4 is a cross-sectional view of a glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 5 is a cross-sectional view of a glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 7 is an explanatory diagram showing the visual recognition state of the pattern of the glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 8 is one embodiment of the present invention. FIG. 9 is an explanatory diagram showing the visual recognition state of the pattern of the glitter film showing one embodiment of the present invention. FIG. 10 is an explanatory diagram showing one embodiment of the present invention. Plan view and sectional view of glitter pattern formation

(版取られ)光輝性図柄層20は、レリーフ形成層15と、該レリーフ形成層15形成されたレリーフ面に接して設けた金属薄膜層17とからなり、レリーフは微細な凹凸で金属薄膜層17と相まって、光を回折、拡散、及び/又は乱反射などで光輝性を発現する。
レリーフは、例えばホログラムの場合には、凹凸の高さ及び凸と凸の間隔は、通常0.005mm以下程度と極めて微細であり、該レリーフ(凹凸)の賦型は版の製造とともに高度な技術を要する。
即ち、無理やり1枚の基材11へ複数図柄の形成をすると、最初の第1光輝性図柄層20Aはレリーフの賦型は光輝性に優れ「レリーフ層形成樹脂が版に取られる現象」、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」の発生はないが、次の第2光輝性図柄層20Bの賦型を行う際に、再び熱エンボスされるので、第1金属薄膜層17Aと第2レリーフ形成層15Bの接着が十分ではなく、第2光輝性図柄20Bを形成する際に第1金属薄膜層17Aと第2レリーフ層15Bの間で「レリーフ層形成樹脂が版に取られる現象」、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」が発生してしまう。従って、片方図柄の意匠性が劣るものしか得られなかった。
The glitter pattern layer 20 is composed of a relief forming layer 15 and a metal thin film layer 17 provided in contact with the relief surface on which the relief forming layer 15 is formed. In combination with 17, the light is diffracted, diffused, and / or diffusely reflected to exhibit glitter.
For example, in the case of a hologram, the height of the unevenness and the interval between the protrusions and the protrusions are usually very fine, about 0.005 mm or less, and the shaping of the relief (unevenness) is an advanced technology along with the production of the plate. Cost.
That is, when a plurality of patterns are forcibly formed on a single base material 11, the first first glitter pattern layer 20A is excellent in the relief formation of the relief "a phenomenon in which the relief layer forming resin is taken on the plate", so-called Although there is no occurrence of “stenciling (pattern removal)”, when the next second glittering pattern layer 20B is formed, it is heat embossed again, so that the first metal thin film layer 17A and the second relief are formed. The adhesion of the layer 15B is not sufficient, and when the second glittering pattern 20B is formed, the “relief layer forming resin is taken on the plate” between the first metal thin film layer 17A and the second relief layer 15B, so-called “ "The plate is taken off (pattern missing)". Therefore, only the one with inferior design of the design was obtained.

そこで、本発明者らは、さらに鋭意研究を進め、複数の光輝性図柄を有していても、複数図柄のいずれもが、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」を起こさないことに注目し、本発明では、第1光輝性図柄層と第2光輝性図柄との間にプライマ層を設けることにより、樹脂の剥れ、いわゆる「版取られ(柄ヌケ)」を解決し、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、基材が1枚でよいので省資源も可能とするに到った。
従来は、第1光輝性図柄層20Aの第1光輝性フィルム10Aと、第2光輝性図柄層20Bの第2光輝性フィルム10Bと、2種類の別の光輝性フィルム10を作製しておいて、これを積層するしかなかったが、厚さを薄くすることに限界があり、基材を2枚使用するので、資源の無駄遣いでもあった。
Therefore, the present inventors have made further studies, and even if they have a plurality of glittering patterns, all of the plurality of patterns cause the resin to peel off, so-called “print removal”. Focusing on the fact that this is not the case, in the present invention, by providing a primer layer between the first glitter pattern layer and the second glitter pattern, it is possible to solve the peeling of the resin, so-called “print removal”. In addition, it is excellent in the sense of unity with the transfer object and the paper to be engraved, and furthermore, since only one substrate is required, resource saving can be achieved.
Conventionally, the first glitter film 10A of the first glitter pattern layer 20A, the second glitter film 10B of the second glitter pattern layer 20B, and two different kinds of glitter films 10 have been prepared. However, there was no choice but to stack this, but there was a limit to reducing the thickness, and two substrates were used, which was a waste of resources.

そこで、第1光輝性図柄層20Aと、第2光輝性図柄層20Bとの間へ、プライマ層21を設け、該プライマ層21のガラス転移温度(Tg)を、レリーフ形成層15AのTgより低い130℃以下とすることで、該プライマ層21の接着作用で、エンボス工程においても「版取られ(柄ヌケ)」が発生せず、光輝性が保持される。また、基材11は1枚でよいので、総厚さを極めて薄く、例えば5〜20μmとすることができる。総厚が極めて薄いと、スレッドとして基紙へ抄き込んでも、違和感がなく一体感に優れている。   Therefore, a primer layer 21 is provided between the first glitter pattern layer 20A and the second glitter pattern layer 20B, and the glass transition temperature (Tg) of the primer layer 21 is lower than the Tg of the relief forming layer 15A. By setting the temperature to 130 ° C. or lower, the adhesive action of the primer layer 21 does not cause “plate removal (pattern removal)” even in the embossing process, and the glitter is maintained. Moreover, since the base material 11 may be one sheet, the total thickness can be made extremely thin, for example, 5 to 20 μm. When the total thickness is extremely thin, there is no sense of incongruity and excellent unity even when the paper is threaded into the base paper.

(光輝性フィルム)本発明の光輝性フィルム10は、第1レリーフ形成層15Aと第1金属薄膜層17Aとからなる第1光輝性図柄層20Aと、第2レリーフ形成層15Bと第2金属薄膜層17Bとからなる第2光輝性図柄層20Bとが、プライマ層21Bを介して積層されていればよい。
図1に示す例では、基材11の一方の面へ、第1レリーフ形成層15Aと第1金属薄膜層17Aとからなる第1光輝性図柄層20Aが、プライマ層21Bを介して、第2レリーフ形成層15Bと第2金属薄膜層17Bとからなる第2光輝性図柄層20Bと基材に対して同一面に、積層されている。
図2に示す例は、図1で示した光輝性フィルム10の第2金属薄膜層の上に、保護層25を設けたものである。また図3は、基材11の一方の面に、第1レリーフ形成層15A、第1金属薄膜層17A、プライマー層21B、第2レリーフ形成層15B、第2金属薄膜層17B、接着層31を順次に設けた光輝性フィルム10が、基材(基紙)101に対して接着層31により、接着したものであり、光輝性図柄形成物が得られる。 また、基材に対して反対面に、第3光輝性図柄層20Cが設けると、図4の例となり、さらに、第4光輝性図柄層20Dを設けてもよく、図4の例の書面表示で下部分へ設けると、図5に示す例となる。図5に示すように、第3光輝性図柄層20Cと第4光輝性図柄層20Dとが接する場合には、この間にもプライマ層21Dを設けることが好ましい。
(Glitter Film) The glitter film 10 of the present invention comprises a first glitter pattern layer 20A comprising a first relief forming layer 15A and a first metal thin film layer 17A, a second relief forming layer 15B and a second metal thin film. The second glittering design layer 20B composed of the layer 17B may be laminated via the primer layer 21B.
In the example shown in FIG. 1, the first glittering design layer 20 </ b> A composed of the first relief forming layer 15 </ b> A and the first metal thin film layer 17 </ b> A is formed on one surface of the substrate 11 via the primer layer 21 </ b> B. The second glitter pattern layer 20B composed of the relief forming layer 15B and the second metal thin film layer 17B and the base material are laminated on the same surface.
In the example shown in FIG. 2, the protective layer 25 is provided on the second metal thin film layer of the glitter film 10 shown in FIG. FIG. 3 also shows the first relief forming layer 15A, the first metal thin film layer 17A, the primer layer 21B, the second relief forming layer 15B, the second metal thin film layer 17B, and the adhesive layer 31 on one surface of the substrate 11. The glitter film 10 provided in sequence is bonded to the base material (base paper) 101 by the adhesive layer 31, and a glitter pattern formation product is obtained. Further, when the third bright design layer 20C is provided on the opposite surface to the base material, the example of FIG. 4 is provided, and further, the fourth bright design layer 20D may be provided. The document display of the example of FIG. If it is provided in the lower part, the example shown in FIG. 5 is obtained. As shown in FIG. 5, when the 3rd glitter design layer 20C and the 4th glitter design layer 20D contact | connect, it is preferable to provide the primer layer 21D also in between.

3以上の光輝性図柄層20を設ける場合には、内側となった光輝性図柄が外側の光輝性図柄の金属薄膜層で隠されてしまうので、外側の金属薄膜層を透明金属薄膜層とすればよい。ここで外側の光輝性図柄とは、その光輝性図柄の少なくても一方に他の光輝性図柄がないような光輝性図柄のことであり、内側の光輝性図柄とは、その光輝性図柄の両側に他の光輝性柄図柄が2組以上存在するような光輝性図柄のことである。すべての金属薄膜層が透明金属薄膜層でもよい。
また、第1〜nの光輝性図柄層20の図柄は、同じでも異なっていてもよい。例えば、第1光輝性図柄と第2光輝性図柄を同じ図柄とすれば、表側及び裏面からそれぞれ同一画像を視認することができる。図5に示す例で、第1金属薄膜層及び第3金属薄膜層を不透明金属薄膜層とし、第2金属薄膜層及び第4金属薄膜層を透明金属薄膜層とすれば、表側及び裏面からそれぞれ2図柄、合計4つの図柄を視認することができるので、極めて特異な意匠性、及び/又はセキュリティ性が得られる。
When three or more glitter pattern layers 20 are provided, the inner glitter pattern is hidden by the outer glitter pattern metal thin film layer, so that the outer metal thin film layer is replaced with a transparent metal thin film layer. That's fine. Here, the outer glitter design is a glitter design in which at least one of the glitter designs has no other glitter design, and the inner glitter design is the one of the glitter design. It is a glitter design in which two or more sets of other glitter designs exist on both sides. All the metal thin film layers may be transparent metal thin film layers.
Further, the symbols of the first to n-th glitter design layers 20 may be the same or different. For example, if the first glitter pattern and the second glitter pattern are the same pattern, the same image can be viewed from the front side and the back side. In the example shown in FIG. 5, if the first metal thin film layer and the third metal thin film layer are opaque metal thin film layers, and the second metal thin film layer and the fourth metal thin film layer are transparent metal thin film layers, respectively, from the front side and the back surface, respectively. Since two symbols, a total of four symbols, can be visually recognized, extremely unique design properties and / or security properties can be obtained.

(材料と層形成)次に、基材や層の材料、層の形成について、説明するが、第1レリーフ形成層15A、第2レリーフ形成層15B、第3レリーフ形成層15C及び第4レリーフ形成層15D(合わせてレリーフ形成層15)、第1金属薄膜層17A、第2金属薄膜層17B、第3金属薄膜層17C及び第4金属薄膜層17D(合わせて金属薄膜層17)、保護層25、プライマ層21B及びプライマ層21D(合わせてプライマ層21)は、層が異なるのみで材料や形成法は同様であり、第1〜nに読み替えればよい。第1〜nのレリーフ形成層及び金属薄膜層層は、同じ材料、形成法及び厚さでもよく、異なるものでもよい。   (Material and Layer Formation) Next, the material of the base material and the layer and the formation of the layer will be described. The first relief formation layer 15A, the second relief formation layer 15B, the third relief formation layer 15C, and the fourth relief formation. Layer 15D (together relief forming layer 15), first metal thin film layer 17A, second metal thin film layer 17B, third metal thin film layer 17C and fourth metal thin film layer 17D (together metal thin film layer 17), protective layer 25 The primer layer 21 </ b> B and the primer layer 21 </ b> D (primer layer 21 together) are the same in material and forming method except for the layers, and may be read as first to n. The first to n-th relief forming layers and the metal thin film layer layers may be the same material, formation method and thickness, or may be different.

(基材)基材11の材料としては、耐熱性、機械的強度、製造に耐える機械的強度、耐溶剤性などがあれば、用途に応じて種々の材料が適用できる。
例えば、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリブチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト、ポリエチレンテレフタレート‐イソフタレート共重合体、又はテレフタル酸‐シクロヘキサンジメタノール‐エチレングリコール共重合体などのポリエステル系樹脂、ナイロン(商品名)6、ナイロン(商品名)66、ナイロン(商品名)610、又はナイロン(商品名)12などのポリアミド系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、又はポリメチルペンテンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリノルボネンなどの環状ポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのビニル系樹脂、ポリアクリレート、ポリメタアクリレート、又はポリメチルメタアクリレートなどの(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン、高衝撃ポリスチレン、AS樹脂、又はABS樹脂などのスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、又はエチレン−ビニルアルコール共重合体等のポリビニルアルコール系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アセタール系樹脂、などがある。該基材11は、これら樹脂を主成分とする共重合樹脂、または、混合体(アロイでを含む)、若しくは複数層からなる積層体であっても良い。また、該基材11は、延伸フィルムでも、未延伸フィルムでも良いが、強度を向上させる目的で、一軸方向または二軸方向に延伸したフィルムが好ましい。該基材11は、これら樹脂の少なくとも1層からなるフィルム、シート、ボード状として使用する。
(Substrate) As the material of the substrate 11, various materials can be applied depending on the use as long as they have heat resistance, mechanical strength, mechanical strength to withstand manufacturing, solvent resistance, and the like.
For example, polyester resins such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyethylene terephthalate-isophthalate copolymer, or terephthalic acid-cyclohexanedimethanol-ethylene glycol copolymer, nylon (Product name) 6, Nylon (product name) 66, Nylon (product name) 610, Polyamide resin such as nylon (product name) 12, Polyolefin resin such as polyethylene, polypropylene, polybutene, or polymethylpentene, Polynorbonene Cyclic polyolefin resin such as polyvinyl chloride, vinyl resin such as polyvinyl chloride, (meth) acrylic resin such as polyacrylate, polymethacrylate, or polymethyl methacrylate, polystyrene, high impact polystyrene AS resin or styrene resin such as ABS resin, polyvinyl alcohol resin, or polyvinyl alcohol resin such as ethylene-vinyl alcohol copolymer, polycarbonate resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl Examples include butyral resin, polyvinyl acetate resin, and acetal resin. The substrate 11 may be a copolymer resin containing these resins as a main component, a mixture (including an alloy), or a laminate composed of a plurality of layers. The substrate 11 may be a stretched film or an unstretched film, but a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction is preferable for the purpose of improving the strength. The substrate 11 is used as a film, sheet or board formed of at least one layer of these resins.

本発明の光輝性フィルム10の全体の総厚さとしては特に限定されない。例えば1〜200μm程度厚みとすることができる。また、細幅に裁断しスレッドとして紙基材へ抄き込んだ用紙とする場合には、スレッドの厚さを極わめて薄くする必要があり、3〜40μm程度、好ましくは4〜30μm、さらに好ましくは5〜20μmである。3μm未満では、機械的な強度が不足して、裁断時や抄紙時にスレッドが切断したり、低歩留まりや低生産性、である。40μm以上では、抄紙された用紙に凹凸が生じたり、スレッドが紙基材から容易に剥離したり、また、用紙としての一体感がないので、別の用紙へ別の光輝性物を貼着されるなどの偽造をされ易いという欠点がある。   The total thickness of the glitter film 10 of the present invention is not particularly limited. For example, the thickness can be about 1 to 200 μm. In addition, when the paper is cut into a thin width and made into a paper base as a thread, the thickness of the thread needs to be extremely thin, about 3 to 40 μm, preferably 4 to 30 μm, More preferably, it is 5-20 micrometers. If it is less than 3 μm, the mechanical strength is insufficient, and the thread is cut during cutting or paper making, and the yield is low and the productivity is low. When the thickness is 40 μm or more, the paper sheet is uneven, the threads are easily peeled off from the paper base material, and there is no sense of unity as the paper, so another glittering material is affixed to another paper. There is a disadvantage that it is easy to be counterfeited.

光輝性フィルム10の総厚さの大部分は基材11の厚さであり、従来、複数の光輝性図柄の形成する場合には、通常2枚の基材を用いねばならなかった。このため、総厚さを減ずるには極薄に基材を使用せねばならず、塗布による層形成工程やレリーフの賦型工程では、良精度な設備、繊細な操作、しかもロスが多く、低歩留まりでコストがかかっていた。
本発明では、1枚の基材11でよいので、良加工適性で、安価で、汎用な基材を使用することができる。機械的強度がよく、耐熱性もよいポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートが好適で、例えば、厚さ1〜200μm程度の基材を使用することができる。また、スレッドとする場合には、厚さ2〜38μmの基材好ましく4〜18μmを使用することができる。該基材を用いると、従来設備、通常操作で、容易に製造でき、しかも低コストである。
Most of the total thickness of the glitter film 10 is the thickness of the substrate 11, and conventionally, when a plurality of glitter patterns are formed, usually two substrates must be used. Therefore, in order to reduce the total thickness, the substrate must be used very thinly. In the layer formation process by coating and the relief molding process, high-precision equipment, delicate operation, and a lot of loss, low It was costly in yield.
In the present invention, since only one base material 11 is sufficient, it is possible to use a general-purpose base material that is suitable for good processing and inexpensive. Polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate having good mechanical strength and good heat resistance are suitable. For example, a substrate having a thickness of about 1 to 200 μm can be used. Moreover, when setting it as a thread | yarn, the base material with a thickness of 2-38 micrometers, Preferably 4-18 micrometers can be used. When the base material is used, it can be easily produced by conventional equipment and normal operation, and the cost is low.

(易接着層)また、該基材11は、レリーフ層を形成する面側に、層間の密着力を向上させるために、必要に応じて易接着層、またはコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾンガス処理、フレーム処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理などなどの易接着処理を施してもよい。特に好ましくは、易接着層(図示せず)を設けておくことで、基材11とレリーフ層との接着性を向上し、複製のランニング時の版取られをより抑制できる。また、易接着層は、基材11と相乗して、熱及び/又は圧力の負荷がかかっても、柔軟性があり、そのクッション作用で、レリーフ形成層15への負荷を減じて、既に賦型されているレリーフ形状の劣化を防止し、その結果、既に賦型されているレリーフの光輝性が保持される。
該易接着層は、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノ−ル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロ−ス誘導体、ワックス類などを使用することができる。
(Easily Adhesive Layer) In addition, the base material 11 has an easy adhesive layer or corona discharge treatment, plasma treatment, ozone gas treatment as necessary to improve the adhesion between the layers on the surface on which the relief layer is formed. , Easy adhesion treatment such as frame treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, alkali treatment, etc. may be performed. Particularly preferably, by providing an easy-adhesion layer (not shown), the adhesiveness between the base material 11 and the relief layer can be improved, and the plate-cutting during the running of replication can be further suppressed. In addition, the easy-adhesion layer is synergistic with the base material 11 and is flexible even when a load of heat and / or pressure is applied, and its cushioning action reduces the load on the relief forming layer 15 and has already been applied. Deterioration of the relief shape being molded is prevented, and as a result, the glitter of the relief already shaped is maintained.
The easy adhesion layer may be, for example, a polyurethane resin, a polyester resin, a polyamide resin, an epoxy resin, a phenol resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinyl acetate resin, or a vinyl chloride-vinyl acetate copolymer. , Acid-modified polyolefin resins, copolymers of ethylene and vinyl acetate or acrylic acid, (meth) acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polybutadiene resins, rubber compounds, petroleum resins, alkyl titanes -Too compounds, polyethyleneimine compounds, isocyanate compounds, starch, casein, gum arabic, cellulose derivatives, waxes and the like can be used.

(レリ−フの賦型)レリーフ形成層15面へレリーフ形状を賦形(複製とも呼称する)する。該賦形方法としては、当業者が呼称する「熱圧法」が適用できる。まず、熱圧法は、基材11へレリーフ形成層15を形成した後に、該レリーフ形成層15の表面に、レリーフが形成されているスタンパ(金属版、又は樹脂版)を圧着(所謂エンボス)をして、該レリーフをレリーフ形成層15へ賦型し複製した後に、スタンパを剥離する方法である。
なお、レリーフの賦形は、層が異なるのみで材料や形成法は同様であり、第1〜nに読み替えればよい。第1〜nのレリーフは同じでも異なるものでもよい。
(Relief shaping) A relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the relief forming layer 15. As the shaping method, a “hot pressing method” called by those skilled in the art can be applied. First, in the hot pressing method, after forming the relief forming layer 15 on the substrate 11, a stamper (metal plate or resin plate) on which the relief is formed is pressure-bonded (so-called embossing) to the surface of the relief forming layer 15. Then, the stamper is peeled off after the relief is shaped and copied to the relief forming layer 15.
The relief shaping is the same in the material and the forming method except that the layers are different, and may be read as first to n. The first to nth reliefs may be the same or different.

(レリーフ形成層)熱圧法に用いるレリーフ形成層15の材料としては、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂(例、ポリメチルメタアクリレート)、ポリスチレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂、そして、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシ、ウレタンなどの熱硬化性樹脂、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリアジン系アクリレート等の電離放射線硬化性樹脂、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂、もしくは、電離放射線硬化性樹脂の混合物が使用可能である。
通常、これらの硬化性樹脂混合物は未硬化、もしくは半硬化の状態で塗工により形成され、製造工程全体において最も適切な工程でエンボス加工され、その後、電離放射線照射や、熱処理により完全硬化される。しかしながら、エンボス設備、その他の製造設備、製造条件を最適化することで、比較的硬化の進んだこれらの硬化性樹脂混合物にエンボスすることもよい。
特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの電離放射線で硬化する硬化性樹脂が好ましい。好ましくは、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等の電離放射線硬化性樹脂が適用でき、特に好ましくはウレタン変性アクリレート樹脂である。
(Relief forming layer) The material of the relief forming layer 15 used in the hot pressing method is a thermoplastic resin such as polyvinyl chloride, acrylic resin (eg, polymethyl methacrylate), polystyrene, polycarbonate, and unsaturated polyester, melamine, Thermosetting resins such as epoxy and urethane, polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, triazine acrylate An ionizing radiation curable resin such as the above, or a mixture of the above thermoplastic resin and thermosetting resin or ionizing radiation curable resin can be used.
Usually, these curable resin mixtures are formed by coating in an uncured or semi-cured state, embossed by the most appropriate process in the entire manufacturing process, and then completely cured by ionizing radiation irradiation or heat treatment. . However, it is also possible to emboss these curable resin mixtures that are relatively hardened by optimizing embossing equipment, other manufacturing equipment, and manufacturing conditions.
In particular, a thermosetting resin excellent in durability such as chemical resistance, light resistance and weather resistance, and a curable resin curable by ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams are preferable. Preferably, ionizing radiation curable resins such as polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and epoxy (meth) acrylate can be applied, and urethane-modified acrylate resins are particularly preferable.

レリーフ形成層15の好ましい1つとしては、一般式(a)で表されるウレタン変性アクリル系樹脂を主成分とする未硬化の電離放射線硬化性樹脂組成物である。具体的には、本出願人が特開2000−273129号公報で開示している光硬化性樹脂組成物などが適用でき、前記明細書に記載の光硬化性樹脂組成物Sを本明細書の実施例でも使用し、「電離放射線硬化性樹脂組成物S」と表記している。   A preferable example of the relief forming layer 15 is an uncured ionizing radiation curable resin composition mainly composed of a urethane-modified acrylic resin represented by the general formula (a). Specifically, the photocurable resin composition disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-273129 by the present applicant can be applied, and the photocurable resin composition S described in the above specification can be used in the present specification. It is also used in the examples and is described as “ionizing radiation curable resin composition S”.

Figure 2006306085
(ここで、6個のR1は夫々互いに独立して水素原子またはメチル基を表わし、R2は炭素数が1〜20個の炭化水素基を表わす。l、m、n、o及びpの合計を100とした場合に、lは20〜90、mは0〜80、nは0〜50、o+pは10〜80、pは0〜40の整数である。XおよびYは直鎖状または分岐鎖状のアルキレン基を表わし、Zはウレタン変性アクリル樹脂を改質するための基を表し、好ましくは嵩高い環状構造の基を表わす。)
Figure 2006306085
(Here, six R 1 s each independently represent a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 represents a hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms. Each of l, m, n, o and p L is 20 to 90, m is 0 to 80, n is 0 to 50, o + p is 10 to 80, p is an integer of 0 to 40, and X and Y are linear or Represents a branched alkylene group, Z represents a group for modifying a urethane-modified acrylic resin, and preferably represents a group having a bulky cyclic structure.)

レリーフ形成層15の好ましい他の1つとしては、融点が40℃以上のイソシアネート化合物と、イソシアネート基と反応し得る(メタ)アクリル化合物との反応生成物であって、軟化点が40℃以上のものを含有する樹脂である。   Another preferred relief forming layer 15 is a reaction product of an isocyanate compound having a melting point of 40 ° C. or higher and a (meth) acrylic compound capable of reacting with an isocyanate group, and has a softening point of 40 ° C. or higher. It is a resin containing things.

即ち、(1)融点が40℃以上のイソシアネート化合物と、(メタ)アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基と反応し得る(メタ)アクリル化合物との反応生成物であって、軟化点が40℃以上のものを含有するか、(2)融点が40℃以上のイソシアネート化合物と、(メタ)アクリロイル基を有していて且つイソシアネート基と反応し得る(メタ)アクリル化合物及び(メタ)アクリロイル基を有しておらず且つイソシアネート基と反応し得る化合物との反応生成物であって、軟化点が40℃以上のものを含有する電離放射線硬化性樹脂である。また、イソシアネート化合物が、非芳香族性炭化水素環に結合したイソシアネート基を有するもの、イソホロンジイソシアネートの三量体、又はイソホロンジイソシアネートと活性水素含有化合物との反応生成物であり、さらに、(メタ)アクリル化合物が、(メタ)アクリル酸、水酸基を有する(メタ)アクリレートであることが好ましい。具体的には、特開2001−329031号公報で開示されている光硬化性樹脂が適用できる。(電離放射線硬化性組成物Mとして、詳細を実施例に別途記載する。)   That is, (1) a reaction product of an isocyanate compound having a melting point of 40 ° C. or higher and a (meth) acryl compound having a (meth) acryloyl group and capable of reacting with the isocyanate group, and having a softening point of 40 (2) an isocyanate compound having a melting point of 40 ° C. or higher, a (meth) acrylic compound having a (meth) acryloyl group and capable of reacting with the isocyanate group, and a (meth) acryloyl group It is a reaction product of a compound that does not have a chemical reaction and can react with an isocyanate group and has a softening point of 40 ° C. or higher. The isocyanate compound is a compound having an isocyanate group bonded to a non-aromatic hydrocarbon ring, a trimer of isophorone diisocyanate, or a reaction product of isophorone diisocyanate and an active hydrogen-containing compound, and (meth) The acrylic compound is preferably (meth) acrylic acid or a (meth) acrylate having a hydroxyl group. Specifically, a photocurable resin disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-329031 can be applied. (Details are separately described in Examples as the ionizing radiation curable composition M.)

(レリーフ形成層の形成)レリーフ形成層15を設ける方法としては、前述した材料、例えば、ウレタン変性アクリル系樹脂の電離放射線硬化性樹脂には、必要に応じて、光重合開始剤、光増感剤、光重合促進剤、多官能のモノマーやオリゴマー、離型剤、重合防止剤、粘度調節剤、界面活性剤、消泡剤等の各種助剤、また、シリコーン、スチレン−ブタジエンラバー等の高分子体などを配合してもよく、これらを有機溶媒へ溶解又は分散させるか、又は溶媒を加えずノンソルベント状の、レリーフ形成層15組成物(インキ)とする。該レリーフ形成層15組成物(インキ)を、例えば、ロ−ルコ−ト法、グラビアコ−ト法、その他公知のコーティング法又は印刷法で、塗布し、必要に応じて乾燥すればよい。該レリーフ形成層15の厚さは、通常は0.1〜10μm程度、好ましくは0.2〜5μm、さらに好ましくは0.5〜2μmである。0.5μm未満では光輝性(輝度)が著しく低下し、2μmを超えても輝度は十分であり、コスト的に不利である。   (Formation of relief forming layer) As a method of providing the relief forming layer 15, for the above-mentioned materials, for example, ionizing radiation curable resins of urethane-modified acrylic resins, a photopolymerization initiator, photosensitization may be used as necessary. Agents, photopolymerization accelerators, polyfunctional monomers and oligomers, mold release agents, polymerization inhibitors, viscosity modifiers, surfactants, antifoaming agents, and other auxiliary agents, as well as silicone, styrene-butadiene rubber, etc. A molecular body etc. may be mix | blended and these are melt | dissolved or disperse | distributed to an organic solvent, or it is set as the relief forming layer 15 composition (ink) of a non-solvent form without adding a solvent. The relief forming layer 15 composition (ink) may be applied by, for example, a roll coating method, a gravure coating method, or any other known coating method or printing method, and may be dried as necessary. The thickness of the relief forming layer 15 is usually about 0.1 to 10 μm, preferably 0.2 to 5 μm, and more preferably 0.5 to 2 μm. If the thickness is less than 0.5 μm, the glitter (brightness) is remarkably reduced.

(レリーフ形状)レリーフ形状は凹凸形状であり特に限定されるものではないが、微細な凹凸形状を有する光拡散、光散乱、光反射、光回折などの機能を発現するものが好ましく、例えば、フーリエ変換やレンチキュラーレンズ、光回折パターン、モスアイ、が形成されたものである。また、光回折機能はないが、特異な光輝性を発現するヘアライン柄、マット柄、万線柄、干渉パターン、なし地柄などでもよい。光回折凹凸パターンとしては、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞が凹凸模様で記録されたホログラムや回折格子が適用できる。ホログラムとしては、フレネルホログラム等のレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラム等の白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム(CGH)、ホログラフィック回折格子などがある。
本明細書記載の図柄とは、これらの各種凹凸パターンを1種もしくは2種以上組み合わせて形成される絵柄をいい、例えば、「abc」や「Security」といったテキストパターンや、スナメ柄、水玉柄と呼ばれる幾何学パターン、さらには、花や鳥などの図柄を模擬して作製された絵画パターンなどの組み合わせで形成された絵柄を、上記したホログラムや回折格子からなる光回折凹凸パターンの組み合わせで可視化した絵柄をいう。また、複数図柄とは、これらの図柄を1種かつ1回用いたのみでは形成されない図柄をいい、通常2種以上の図柄を複数回用いて作製される図柄をいう。ただし、例えば、基材面から「Security」と観測される図柄の作製された光輝性フィルムの蒸着面同士を貼り合せることで表裏からともに「Security」を観察可能な場合も本発明の複数図柄光輝性フィルムである。
(Relief shape) The relief shape is a concavo-convex shape and is not particularly limited, but preferably has a fine concavo-convex shape and exhibits functions such as light diffusion, light scattering, light reflection, and light diffraction. For example, Fourier Conversion, a lenticular lens, a light diffraction pattern, and a moth eye are formed. Further, although there is no light diffraction function, a hairline pattern, mat pattern, line pattern, interference pattern, non-colored pattern, etc., that expresses a unique glitter may be used. As the light diffraction concavo-convex pattern, a hologram or diffraction grating in which interference fringes due to light interference between object light and reference light are recorded in a concavo-convex pattern can be applied. Holograms include laser reproduction holograms such as Fresnel holograms, white light reproduction holograms such as rainbow holograms, color holograms utilizing these principles, computer generated holograms (CGH), and holographic diffraction gratings.
The design described in this specification refers to a design formed by combining one or more of these various concavo-convex patterns. For example, a text pattern such as “abc” or “Security”, a sleek pattern, a polka dot pattern, and the like. A geometric pattern called as well as a pattern formed by a combination of a pattern such as a flower or a bird, which was created by simulating a pattern such as a flower, a bird, etc. were visualized by a combination of the above-mentioned hologram or diffraction diffraction pattern consisting of a diffraction grating. Say a picture. Moreover, a multiple symbol means the symbol which cannot be formed only by using these symbols once and once, and usually refers to a symbol produced by using two or more symbols multiple times. However, for example, even when “Security” can be observed from both the front and back by bonding the vapor-deposited surfaces of the glitter film having a pattern observed as “Security” from the base material surface, the plural design glitter of the present invention is used. It is a sex film.

回折格子としては、ホログラム記録手段を利用したホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線描画装置等を用いて機械的に回折格子を作成することにより、計算に基づいて任意の回折光が得られる回折格子をあげることもできる。また、機械切削法でもよい。これらのホログラム及び/又は回折格子の単一若しくは多重に記録しても、組み合わせて記録しても良い。これらの原版は公知の材料、方法で作成することができ、通常、感光性材料を塗布したガラス板を用いたレーザ光干渉法、電子線レジスト材料を塗布したガラス板に電子線描画法、機械切削法などが適用できる。   Examples of the diffraction grating include a holographic diffraction grating using a hologram recording means. In addition, an arbitrary diffraction light can be obtained based on a calculation by mechanically creating a diffraction grating using an electron beam drawing apparatus or the like. A diffraction grating can also be mentioned. Further, a mechanical cutting method may be used. These holograms and / or diffraction gratings may be recorded single or multiple, or may be recorded in combination. These original plates can be prepared by known materials and methods. Usually, a laser beam interference method using a glass plate coated with a photosensitive material, an electron beam drawing method on a glass plate coated with an electron beam resist material, a machine A cutting method can be applied.

(レリ−フの賦型)該レリーフ形成層15面へ上記のレリーフ形状を賦形(複製とも呼称する)する。熱圧法での賦形は、レリーフ形成層15の表面に、レリーフが形成されているスタンパ(金属版、又は樹脂版)を圧着(所謂エンボス)をして、該レリーフをレリーフ形成層15へ賦型し複製した後に、スタンパを剥離することで行う。また、レリーフ形成層15表面に、さらに金属薄膜層17を形成後、この表面にスタンパを圧着して賦型することも可能である。レリーフ形成層の材料によってはエンボス中に電離放射線を照射してからスタンパを剥離することでレリーフを複製する。商業的な複製は、長尺状で行うことで連続な複製作業ができる。また、シリンダーにスタンパをとりつけたり、シリンダーに直接レリーフを刻むなどして作製されたシリンダー状のスタンパを用いて、より商業的にレリーフを複製することができる。本レリーフ形成層はロール式連続複製方式でも有効であった。   (Relief shaping) The relief shape is shaped (also referred to as replication) on the surface of the relief forming layer 15. In the hot pressing method, a stamper (metal plate or resin plate) on which a relief is formed is pressure-bonded to the surface of the relief forming layer 15 (so-called embossing), and the relief is applied to the relief forming layer 15. After stamping and replicating, the stamper is peeled off. It is also possible to form a metal thin film layer 17 on the surface of the relief forming layer 15 and then press and mold a stamper on the surface. Depending on the material of the relief forming layer, the relief is replicated by irradiating ionizing radiation during embossing and then peeling the stamper. Commercial duplication can be carried out in a long form, allowing continuous duplication work. Further, a relief can be reproduced more commercially by using a cylindrical stamper prepared by attaching a stamper to a cylinder or by directly engraving a relief on the cylinder. This relief forming layer was also effective in the roll type continuous replication method.

(レリーフの硬化)レリーフ形成層15として電離放射線硬化性樹脂を用いた場合には、スタンパでエンボス中、又はエンボス後に、電離放射線を照射して、電離放射線硬化性樹脂を硬化させる。上記の電離放射線硬化性樹脂は、レリーフを形成後に、電離放射線を照射して硬化(反応)させると電離放射線硬化樹脂(レリーフ形成層15)となる。電離放射線としては、電磁波が有する量子エネルギーで区分する場合もあるが、本明細書では、すべての紫外線(UVA、UV−B、UV−C)、可視光線、ガンマー線、X線、電子線を包含するものと定義する。従って、電離放射線としては、紫外線(UV)、可視光線、ガンマー線、X線、または電子線などが適用できるが、紫外線(UV)が好適であり、波長300〜400nmの紫外線が最適である。電離放射線で硬化する電離放射線硬化性樹脂は、紫外線硬化の場合は光重合開始剤、及び/又は光重合促進剤を添加し、エネルギーの高い電子線硬化の場合は添加しないで良く、また、適正な触媒が存在すれば、熱エネルギーでも硬化できる。レリーフ形成層15として、熱硬化性樹脂を用いた場合には、使用する熱硬化性樹脂の硬化条件に応じた温湿度環境下で、エージングを行い硬化させればよい。   (Relief Curing) When an ionizing radiation curable resin is used as the relief forming layer 15, the ionizing radiation curable resin is cured by irradiating ionizing radiation during or after embossing with a stamper. The ionizing radiation curable resin becomes an ionizing radiation curable resin (relief forming layer 15) when cured (reacted) by irradiation with ionizing radiation after the relief is formed. Ionizing radiation may be classified by the quantum energy of electromagnetic waves, but in this specification, all ultraviolet rays (UVA, UV-B, UV-C), visible light, gamma rays, X-rays, and electron beams are classified. It is defined as including. Accordingly, ultraviolet (UV), visible light, gamma ray, X-ray, electron beam, or the like can be applied as ionizing radiation, but ultraviolet (UV) is preferable, and ultraviolet having a wavelength of 300 to 400 nm is optimal. An ionizing radiation curable resin that is cured by ionizing radiation may contain a photopolymerization initiator and / or a photopolymerization accelerator in the case of ultraviolet curing, and may not be added in the case of high energy electron beam curing. Can be cured even with thermal energy. When a thermosetting resin is used as the relief forming layer 15, it may be cured by aging under a temperature and humidity environment according to the curing conditions of the thermosetting resin to be used.

(金属薄膜層)金属薄膜層17A及び金属薄膜層17B(金属薄膜層17)は、所定のレリーフ構造を設けたレリーフ形成層15面のレリーフ面へ、金属薄膜層17を設けることにより、レリーフの反射及び/又は回折効果を高めるので、レリーフ形成層15の反射率より高れば、特に限定されず、例えば金属、または屈折率に差のある透明金属化合物が適用できる。この金属薄膜17はレリーフ構造を設ける前に、レリーフ形成層15へ形成することも可能である。すなわち、各層の材料、スタンパを適宜選定することで、金属薄膜層17形成後にレリーフ形成することも可能である。
該金属薄膜層17に用いる金属としては、金属光沢を有し光を反射する金属元素の薄膜で、Cr、Ni、Ag、Au、Al等の金属の薄膜が適用できる。上記の光反射性の金属薄膜の形成は、いずれも10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などの真空薄膜法で得られるが、その他、メッキなどによっても形成できる。金属薄膜層17の厚さがこの範囲未満では、光がある程度透過して効果が減じ、また、それ以上では、反射効果は変わらないので、コスト的に無駄である。
(Metal thin film layer) The metal thin film layer 17A and the metal thin film layer 17B (metal thin film layer 17) are formed by providing the metal thin film layer 17 on the relief surface of the relief forming layer 15 provided with a predetermined relief structure. Since the reflection and / or diffraction effect is enhanced, it is not particularly limited as long as it is higher than the reflectance of the relief forming layer 15. For example, a metal or a transparent metal compound having a difference in refractive index can be applied. The metal thin film 17 can be formed on the relief forming layer 15 before providing the relief structure. That is, it is possible to form a relief after forming the metal thin film layer 17 by appropriately selecting the material and stamper of each layer.
The metal used for the metal thin film layer 17 is a metal element thin film that has a metallic luster and reflects light, and a metal thin film such as Cr, Ni, Ag, Au, and Al can be applied. The formation of the light-reflective metal thin film can be obtained by a vacuum thin film method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. However, it can also be formed by plating. If the thickness of the metal thin film layer 17 is less than this range, light is transmitted to some extent and the effect is reduced, and if the thickness is more than that, the reflection effect is not changed, which is wasteful in cost.

また、該金属薄膜層17として、ほぼ無色透明な色相で、その光学的な屈折率がレリーフ形成層のそれとは異なる金属化合物を用いることにより、金属光沢が無いにもかかわらず、ホログラムなどの光輝性を視認できるから、透明なホログラムなどの光輝性フィルムを作製することができる。
透明な金属又は金属化合物としては、例えば、レリーフ形成層15よりも光屈折率の高い薄膜、および光屈折率の低い薄膜とがあり、前者の例としては、ZnS、TiO2、Al23、Sb23、SiO、SnO2、ITO等があり、後者の例としては、LiF、MgF2、AlF3がある。好ましくは、金属酸化物又は窒化物であり、具体的には、Be、Mg、Ca、Cr、Mn、Cu、Ag、Al、Sn、In、Te、Fe、Co、Zn、Ge、Pb、Cd、Bi、Se、Ga、Rb、Sb、Pb、Ni、Sr、Ba、La、Ce、Au等の酸化物又は窒化物他はそれらを2種以上を混合したもの等が挙げられる。
またアルミニウム等の一般的な光反射性の金属薄膜も、厚みが200Å以下になると、透明性が出て使用できる。透明金属化合物の形成は、金属の薄膜と同様、レリーフ形成層15のレリーフ面に、10〜2000nm程度、好ましくは20〜1000nmの厚さになるよう、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、CVDなどの真空薄膜法などにより設ければよい。さらには、レリーフ形成層15と光の屈折率の異なる透明な合成樹脂を使用してもよく、接着層31や保護層25材料とレリーフ形成層15材料の屈折率が十分に異なる場合には、接着層31や保護層25が金属薄膜層(反射層)17を兼ねることもできる。
Further, by using a metal compound having a substantially colorless and transparent hue and an optical refractive index different from that of the relief forming layer as the metal thin film layer 17, it is possible to obtain brightness of holograms and the like even though there is no metallic luster. Therefore, it is possible to produce a glittering film such as a transparent hologram.
Examples of the transparent metal or metal compound include a thin film having a higher refractive index than that of the relief forming layer 15 and a thin film having a lower refractive index. Examples of the former include ZnS, TiO 2 , Al 2 O 3. , Sb 2 S 3 , SiO, SnO 2 , ITO and the like, and examples of the latter include LiF, MgF 2 and AlF 3 . Preferably, it is a metal oxide or nitride, specifically, Be, Mg, Ca, Cr, Mn, Cu, Ag, Al, Sn, In, Te, Fe, Co, Zn, Ge, Pb, Cd , Bi, Se, Ga, Rb, Sb, Pb, Ni, Sr, Ba, La, Ce, Au, and other oxides or nitrides, and the like may be a mixture of two or more thereof.
Also, a general light-reflective metal thin film such as aluminum can be used when it has a thickness of 200 mm or less. As with the metal thin film, the transparent metal compound is formed on the relief surface of the relief forming layer 15 by vapor deposition, sputtering, ion plating, CVD, or the like so as to have a thickness of about 10 to 2000 nm, preferably 20 to 1000 nm. It may be provided by a vacuum thin film method or the like. Furthermore, you may use the transparent synthetic resin from which the refractive index of light differs from the relief forming layer 15, and when the refractive index of the adhesive layer 31 or the protective layer 25 material and the relief forming layer 15 material is sufficiently different, The adhesive layer 31 and the protective layer 25 can also serve as the metal thin film layer (reflective layer) 17.

特に、例えば、図5のように、第1光輝性図柄層20Aと第3光輝性図柄層20Cとの2つの図柄を有する場合には、一方の金属薄膜層17を透明薄膜とすれば、基材の一方の面から見たとき、2つの光輝性図柄を同時に視認することができる。しかしながら、必須ではなく、両方の金属薄膜層17を不透明な金属薄膜でもよく、破壊しての視認や、一方を脆質化することによるセキュリティ性の向上なども図れる。   In particular, for example, as shown in FIG. 5, in the case of having two designs of the first bright design layer 20A and the third bright design layer 20C, if one of the metal thin film layers 17 is a transparent thin film, When viewed from one side of the material, two glitter patterns can be seen at the same time. However, it is not essential, and both the metal thin film layers 17 may be opaque metal thin films, and it is possible to improve the security by visualizing them by breaking them or making one of them brittle.

(プライマ層)プライマ層21の材料としては、金属薄膜層形成材料とレリーフ材料の接着性を向上する材料であればよく、好ましくは、レリーフ形成層15AのTgより低い材料である。通常のレリーフ形成層15の硬化前Tg130℃以下より低くすることで、金属薄膜層とレリーフ層との接着性を向上し、ランニング時の版取られを抑制できる。蒸着層とレリーフ形成層15のTgに下限はないが、プライマ塗工物の巻取り保管の必要性等を考慮したとき、常温より高いことが好ましい。また、金属薄膜層形成材料との接着性に優れたプライマ層と、レリーフ層材料との接着性に優れたプライマ層など、2つ以上のプライマ層からなっていてもよい。
また、プライマ層21は、熱及び/又は圧力の負荷がかかっても、レリーフ形成層15のTgより低いので、柔軟性があり、そのクッション作用で、レリーフ形成層15への負荷を減じて、既に賦型されているレリーフ形状の劣化を防止し、その結果、既に賦型されているレリーフの光輝性が保持される。
(Primer layer) The material of the primer layer 21 may be any material that improves the adhesion between the metal thin film layer forming material and the relief material, and is preferably a material lower than the Tg of the relief forming layer 15A. By lowering the Tg before curing of the normal relief forming layer 15 to 130 ° C. or lower, the adhesion between the metal thin film layer and the relief layer can be improved, and the plate taking off during running can be suppressed. Although there is no lower limit to the Tg of the vapor deposition layer and the relief forming layer 15, it is preferably higher than room temperature when considering the necessity of winding and storing the primer coated product. Moreover, you may consist of two or more primer layers, such as a primer layer excellent in adhesiveness with a metal thin film layer forming material, and a primer layer excellent in adhesiveness with a relief layer material.
In addition, the primer layer 21 is flexible because it is lower than the Tg of the relief forming layer 15 even when heat and / or pressure is applied, and the cushion action reduces the load on the relief forming layer 15. Deterioration of the already shaped relief shape is prevented, and as a result, the glitter of the already shaped relief is maintained.

プライマ層21の材料としては、例えば、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、酸変性ポリオレフィン系樹脂、エチレンと酢酸ビニル或いはアクリル酸などとの共重合体、(メタ)アクリル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリブタジエン系樹脂、ゴム系化合物、石油系樹脂、アルキルチタネ−ト系化合物、ポリエチレンイミン系化合物、イソシアネ−ト系化合物、澱粉、カゼイン、アラビアゴム、セルロース誘導体、ワックス類などを使用することができる。ポリエチレン樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)樹脂、アクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂、酢酸セルロース樹脂、アイオノマー樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、これらの樹脂は1種または2種以上を併用して用いることができる。イソシアネートなどの架橋剤を適宜添加し、接着性を向上させてもよい。   Examples of the material of the primer layer 21 include polyurethane resins, polyester resins, polyamide resins, epoxy resins, phenol resins, polyvinyl chloride resins, polyvinyl acetate resins, and vinyl chloride-vinyl acetate copolymers. , Acid-modified polyolefin resins, copolymers of ethylene and vinyl acetate or acrylic acid, (meth) acrylic resins, polyvinyl alcohol resins, polyvinyl acetal resins, polybutadiene resins, rubber compounds, petroleum resins, alkyl titanes -Too compounds, polyethyleneimine compounds, isocyanate compounds, starch, casein, gum arabic, cellulose derivatives, waxes and the like can be used. Polyethylene resin, acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) resin, acrylonitrile-styrene (AS) resin, cellulose acetate resin, ionomer resin, polyacrylonitrile resin, these resins can be used alone or in combination of two or more. . A cross-linking agent such as isocyanate may be added as appropriate to improve the adhesion.

プライマ層形成に加え、必要に応じて、コロナ放電処理、プラズマ処理などの表面処理により、基材とレリーフ層の密着性をあげるのもよい。すなわち、レリーフ層を形成する面側に、層間の密着力を向上させるために、必要に応じてコロナ放電処理、プラズマ処理、オゾンガス処理、フレーム処理、予熱処理、除塵埃処理、アルカリ処理などなどの易接着処理を施してもよい。
プライマ層21は、公知の方法で、溶融又は溶液として塗布しても、一旦フィルム化してから貼合してもよい。
In addition to the primer layer formation, the adhesion between the base material and the relief layer may be increased by surface treatment such as corona discharge treatment or plasma treatment, if necessary. That is, in order to improve the adhesion between the layers on the surface on which the relief layer is formed, corona discharge treatment, plasma treatment, ozone gas treatment, flame treatment, pre-heat treatment, dust removal treatment, alkali treatment, etc., as necessary Easy adhesion treatment may be performed.
The primer layer 21 may be applied as a melt or a solution by a known method, or may be bonded after being formed into a film.

(光輝性図柄の複数化)以上説明してきた各層の形成、賦型を繰り返して、本発明の光輝性フィルム10が得られる。
図1に示す本発明の光輝性フィルム10では、基材11の一方の面へ、第1レリーフ形成層15Aを形成し、第1光輝性図柄を賦型し、第1金属薄膜層17Aを形成し、さらに、第1金属薄膜層17Aの表面へ、プライマ層21Bを形成し、第2レリーフ形成層15Bを形成し、第2光輝性図柄を賦型し、第2金属薄膜層17Bを形成すればよい。
また、図1に示す本発明の光輝性フィルム10の、第1金属薄膜層17Aと基材11に関して反対となる面へ、さらに第3レリーフ形成層15Cを形成し、第3光輝性図柄を賦型し、第3金属薄膜層17Cを形成すれば、図4に示す光輝性フィルム10となり、3つの光輝性図柄を有する。
さらに、図4に示す光輝性フィルム10の、第3金属薄膜層17C面へ、さらにプライマ層21Dを形成し、第4レリーフ形成層15Dを形成し、第4光輝性図柄を賦型し、透明な第4金属薄膜層17Dを形成すれば、図5に示す光輝性フィルム10となり、4つの光輝性図柄を有する。
(Pluralization of glitter pattern) The glitter film 10 of the present invention is obtained by repeating the formation and shaping of each layer described above.
In the glitter film 10 of the present invention shown in FIG. 1, the first relief forming layer 15A is formed on one surface of the substrate 11, the first glitter pattern is shaped, and the first metal thin film layer 17A is formed. Furthermore, a primer layer 21B is formed on the surface of the first metal thin film layer 17A, a second relief forming layer 15B is formed, a second glitter pattern is formed, and the second metal thin film layer 17B is formed. That's fine.
Further, a third relief forming layer 15C is further formed on the opposite surface of the glittering film 10 of the present invention shown in FIG. 1 with respect to the first metal thin film layer 17A and the substrate 11 to impart the third glittering pattern. When the third metal thin film layer 17C is formed, the glitter film 10 shown in FIG. 4 is obtained and has three glitter patterns.
Furthermore, a primer layer 21D is further formed on the surface of the third metal thin film layer 17C of the glitter film 10 shown in FIG. 4, a fourth relief forming layer 15D is formed, a fourth glitter pattern is shaped, and a transparent When the fourth metal thin film layer 17D is formed, the glittering film 10 shown in FIG. 5 is obtained and has four glittering patterns.

上記の複数図柄化についてさらに説明すると、以上のようにして、光輝性フィルム10A及び10Bが得られる。また、本発明では、層の構成に従って、レリーフ形成層15、レリーフ形状16及び金属薄膜層17を作製する工程を繰り返すことで、複数図柄を有する複数図柄光輝性フィルムを作製し、この複数図柄光輝性フィルムを適宜スリットすることで本発明の複数図柄光輝性スレッド10を得ることができる。
このように、1つの基材に対してレリーフ形成層15、レリーフ形状16及び金属薄膜層17を作製する工程を繰り返すことで複数図柄を有する複数図柄光輝性フィルムを作製する際には、後からレリーフ形成層にレリーフ形状16を作製する工程で、先に作製したレリーフ形状16を破壊しないことが必要となる。
このため先に形成された第1レリーフ形成材料のガラス転移温度をTg1(u)、この材料の硬化後のガラス転移温度をTg1(h)、後から形成された第2レリーフ形成層を作製する材料のガラス転移温度をTg2(u)、この材料の硬化後のガラス転移温度をTg2(h)とするとき、第1レリーフ形成層は第2レリーフ形成層のレリーフが賦型される前に硬化されるとともに、Tg1(h)>Tg2(u)の関係があることが好ましい。
また、第1レリーフ形成層の材料、第2レリーフ形成層の材料として一般的な熱可塑性樹脂を使用する場合には、Tg1(u)=Tg1(h)=Tg1、さらに、Tg2(u)=Tg2(h)=Tg2とすると、Tg1>Tg2の関係があることが好ましい。第3、第4とさらに複数個のレリーフ形成層を有する場合は、Tg1>Tg2>Tg3>Tg4、すなわち、Tg1(u)>Tg2(u)>Tg3(u)>Tg4(u)の関係があることが好ましい。
しかしながら、硬化性樹脂を使用する場合にはこの式(Tg1>Tg2)の関係が成立することが特に好ましいわけではない。先にレリーフ形成される樹脂として硬化性樹脂を使用すると、硬化前のTg1(u)が低くても、レリーフ形成後にこの樹脂を硬化することで、後から第2レリーフ形成層にレリーフを賦型する時点においてTg1(h)を十分に高くすることが容易なため好ましい。逆に、後からレリーフ形成する樹脂として硬化性樹脂を使用すれば、第2レリーフ形成層にレリーフを賦型する温度を十分に低くするとともに、第2レリーフ形成後にこの樹脂をTg2(h)まで硬化することで製品の耐久性を十分に高くすることができるので好ましい。すなわちレリーフ賦型時には硬化しておらず、レリーフ賦型後硬化可能な硬化性樹脂を使用することで、未硬化時の樹脂のガラス転移温度がTg1(u)=Tg2(u)、もしくは、Tg1(u)<Tg2(u)の関係にあっても、Tg1(h)>Tg2(u)の関係を成立することができ、先に形成されたレリーフの形状を破壊することなく後に形成するレリーフを作製することができる。このようなレリーフ樹脂の硬化を、全工程中、最適な工程で行うためには、レリーフ形成材料としては、電離放射線硬化性樹脂が特に好ましい。3層以上の複数図柄を有する際にも同様である。
上記に示したガラス転移温度の関係を満足しないと、レリーフ形状の形状維持が困難となり、ひび割れ、白化等が生じ、光輝性複数図柄としての十分な輝度が得られなくなってしまう。
但し、上記のガラス転移温度は、動的粘弾性測定における損失正接(tanδ)が最大値をとる温度を当該樹脂のガラス転移温度としたものである。粘弾性の測定方法は、測定機器としてレオメトリックス製ARESを用い、測定条件は、パラレルプレート10mmΦ、歪み1%、振幅1Hz、昇温速度2℃/min.で、試料の樹脂の温度を30℃から200℃に昇温させることにより行う。また、一般に貯蔵弾性率G′は弾性成分で、高分子中でのコイルの振動や凝集体構造などの構造が生じることによって発生し、損失弾性率G″は粘性成分であり、静的の剪断応力と等価なものである。tanδはG″/G′により求められ、材料が変形する際にどれくらいのエネルギーを吸収するかの指標となる。
本発明の光輝性フィルム10は、複数の光輝性図柄を有し、該複数図柄のいずれもが光輝性に優れ、基材が1枚でよく省資源であり、総厚さが極めて薄くできる。光輝性フィルム10は、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れている。コストの低減も可能である。
The above-described plural design will be further described. Thus, the glitter films 10A and 10B are obtained. Further, in the present invention, by repeating the steps of producing the relief forming layer 15, the relief shape 16 and the metal thin film layer 17 in accordance with the layer configuration, a multi-design glitter film having a plurality of designs is produced. The multi-design glittering thread 10 of the present invention can be obtained by appropriately slitting the conductive film.
As described above, when a multi-pattern glittering film having a plurality of designs is produced by repeating the steps of producing the relief forming layer 15, the relief shape 16 and the metal thin film layer 17 on one base material, In the step of producing the relief shape 16 in the relief forming layer, it is necessary not to destroy the relief shape 16 produced earlier.
Therefore, the glass relief temperature of the first relief forming material formed earlier is Tg1 (u), the glass transition temperature after curing of this material is Tg1 (h), and the second relief forming layer formed later is produced. When the glass transition temperature of the material is Tg2 (u) and the glass transition temperature after curing of this material is Tg2 (h), the first relief forming layer is cured before the relief of the second relief forming layer is formed. In addition, it is preferable that Tg1 (h)> Tg2 (u) is satisfied.
When a general thermoplastic resin is used as the material for the first relief forming layer and the material for the second relief forming layer, Tg1 (u) = Tg1 (h) = Tg1, and Tg2 (u) = When Tg2 (h) = Tg2, it is preferable that there is a relationship of Tg1> Tg2. In the case where the third, fourth and further plural relief forming layers are provided, Tg1>Tg2>Tg3> Tg4, that is, Tg1 (u)> Tg2 (u)> Tg3 (u)> Tg4 (u) Preferably there is.
However, when a curable resin is used, it is not particularly preferable that the relationship of this formula (Tg1> Tg2) is established. If a curable resin is used as the resin to be relief formed earlier, even if the Tg1 (u) before curing is low, this resin is cured after the relief formation, so that the relief is later formed on the second relief forming layer. Since it is easy to make Tg1 (h) high enough at the time of doing, it is preferable. Conversely, if a curable resin is used as the resin for relief formation later, the temperature at which the relief is formed on the second relief forming layer is sufficiently lowered, and after the second relief is formed, this resin is reduced to Tg2 (h). Curing is preferable because the durability of the product can be sufficiently increased. That is, by using a curable resin that is not cured during relief molding and can be cured after relief molding, the glass transition temperature of the resin when uncured is Tg1 (u) = Tg2 (u), or Tg1 Even if the relationship (u) <Tg2 (u) is satisfied, the relationship Tg1 (h)> Tg2 (u) can be established, and the relief formed later without destroying the shape of the relief formed earlier. Can be produced. In order to cure such a relief resin in an optimum process among all processes, an ionizing radiation curable resin is particularly preferable as the relief forming material. The same applies to the case of having a plurality of patterns of three or more layers.
If the relationship of the glass transition temperature shown above is not satisfied, it will be difficult to maintain the relief shape, cracks, whitening, etc. will occur, and sufficient brightness as a glittering multiple pattern will not be obtained.
However, the above glass transition temperature is a temperature at which the loss tangent (tan δ) in the dynamic viscoelasticity measurement has a maximum value is defined as the glass transition temperature of the resin. The measurement method of viscoelasticity uses ARES manufactured by Rheometrics as a measuring instrument, and the measurement conditions are: parallel plate 10 mmΦ, strain 1%, amplitude 1 Hz, heating rate 2 ° C./min. Then, the temperature of the resin of the sample is raised from 30 ° C. to 200 ° C. In general, the storage elastic modulus G ′ is an elastic component, which is generated by the generation of a structure such as a coil vibration or an aggregate structure in a polymer, and the loss elastic modulus G ″ is a viscous component, which is a static shear. It is equivalent to stress.tan δ is obtained by G ″ / G ′ and is an index of how much energy is absorbed when the material is deformed.
The glitter film 10 of the present invention has a plurality of glitter patterns, all of which have excellent glitter, a single substrate is sufficient for resource saving, and the total thickness can be made extremely thin. The glitter film 10 is excellent in a sense of unity with a transfer target or paper-making paper. Cost can also be reduced.

(他の層)また、本発明の光輝性フィルム10には、光輝性図柄が観察できる範囲で、必要に応じて、層構成の層間及び/又は表面に、保護層、着色層、磁気印刷、及び/又は樹脂層などの他の層、並びに/又は印刷、易接着層などを設けてもよい。さらに、光輝性フィルム10の少なくともいずれかの表面に、易接着層を設けてもよく、該易接着層の材料としては、親水性の材料、例えばポリビニルアルコール系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース系樹脂などが好ましい。
上記の保護層としては、前記のレリーフ形成層で説明した構成樹脂と同様に、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂、そして、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキシウレタン(メタ)アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたもの、不飽和エチレン系モノマーと不飽和エチレン系オリゴマーを適宜混合したものに増感剤を添加した組成物等の紫外線硬化性樹脂を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂の混合物やラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能である。特に耐薬品性、耐光性及び耐候性等の耐久性に優れた熱硬化性樹脂、紫外線や電子線などの電離放射線硬化性樹脂が好ましい。
(他の支持基材)以上のようにして得られた本発明の複数図柄光輝性フィルムへは、さらに、別の基材や層を設けてもよい。例えば図3に示すように、金属薄膜層17Bの表面に接着層31を介して支持基材101を設けることで、金属表面を保護することができる。支持基材としては、基材11に関して記載した材料が使用される。これらの合成樹脂フィルムや紙基材などを、ドライラミネーション法、押出ラミネーション法、粘着剤ラミネーション法、熱ラミネーション法などの公知の方法で積層すればよい。また、この支持基材として離型処理した支持基材を用いることで、意匠性、セキュリティー性に優れた粘着ラベルとすることができる。
(接着剤)接着層31に使用する接着剤としては、上記した従来公知の積層方法に順じて適宜材料を選定すればよい。例えば、ドライラミネーション法にて、積層する場合、熱、または紫外線・電子線などの電離放射線で硬化する接着剤が適用できる。熱硬化接着剤としては、2液硬化型ウレタン系接着剤、ポリエステルウレタン系接着剤、ポリエ−テルウレタン系接着剤、アクリル系接着剤、ポリエステル系接着剤、ポリアミド系接着剤、ポリ酢酸ビニル系接着剤、エボキシ系接着剤、ゴム系接着剤などが適用できる。なかでも2液硬化型ウレタン系接着剤が好適である。溶媒へ分散または溶解した接着剤を塗布し乾燥させて、基材と光輝性フィルムを重ねて積層した後に、30〜120℃で数時間〜数日間エージングすることで、接着剤を硬化させるとよい。既に形成されたレリーフ形状を破壊することがないよう、できるだけ低温で硬化できる接着剤、好ましくは賦型されたレリーフ形成層材料のガラス転移温度Tg(h)より低い温度で硬化できる接着剤、さらに好ましくはTg(u)より低い温度で硬化できる接着剤、が特に好ましく使用される。該接着層の膜厚としては、0.1〜20μm(乾燥状態)程度、好ましくは1.0〜5.0μmである。
(Other Layers) In addition, the glitter film 10 of the present invention has a protective layer, a colored layer, magnetic printing, a layer between layers and / or a surface as necessary, within a range where the glitter pattern can be observed. And / or other layers, such as a resin layer, and / or printing, an easily bonding layer, etc. may be provided. Furthermore, an easy-adhesion layer may be provided on at least one surface of the glitter film 10, and as the material of the easy-adhesion layer, hydrophilic materials such as polyvinyl alcohol resins, acrylic resins, and cellulose resins are used. Etc. are preferable.
As the protective layer, the thermoplastic resin such as acrylic resin, and the thermosetting resin such as unsaturated polyester, melamine, and epoxy urethane (meth) acrylate are used in the same manner as the constituent resin described in the relief forming layer. Cured, UV-curable resin such as a composition obtained by adding a sensitizer to a mixture of unsaturated ethylene monomer and unsaturated ethylene oligomer as appropriate, or the above thermoplastic resin and heat Mixtures of curable resins and thermoformable materials having radically polymerizable unsaturated groups can be used. In particular, thermosetting resins excellent in durability such as chemical resistance, light resistance and weather resistance, and ionizing radiation curable resins such as ultraviolet rays and electron beams are preferable.
(Other Supporting Substrate) Another substrate or layer may be further provided on the multi-pattern glittering film of the present invention obtained as described above. For example, as shown in FIG. 3, the metal surface can be protected by providing the support base material 101 via the adhesive layer 31 on the surface of the metal thin film layer 17B. As the support substrate, the materials described for the substrate 11 are used. These synthetic resin films and paper substrates may be laminated by a known method such as a dry lamination method, an extrusion lamination method, an adhesive lamination method, or a thermal lamination method. Moreover, it can be set as the adhesive label excellent in the designability and security property by using the support base material which carried out the mold release process as this support base material.
(Adhesive) The adhesive used for the adhesive layer 31 may be appropriately selected in accordance with the above-described conventionally known lamination method. For example, when laminating by the dry lamination method, an adhesive that is cured by heat or ionizing radiation such as ultraviolet rays or electron beams can be applied. Thermosetting adhesives include two-component curable urethane adhesives, polyester urethane adhesives, polyether urethane adhesives, acrylic adhesives, polyester adhesives, polyamide adhesives, and polyvinyl acetate adhesives. An adhesive, an epoxy adhesive, a rubber adhesive, etc. can be applied. Of these, a two-component curable urethane-based adhesive is preferable. After the adhesive dispersed or dissolved in the solvent is applied and dried, the base material and the glitter film are laminated and laminated, and then the adhesive is cured by aging at 30 to 120 ° C. for several hours to several days. . An adhesive that can be cured at as low a temperature as possible so as not to destroy the already formed relief shape, preferably an adhesive that can be cured at a temperature lower than the glass transition temperature Tg (h) of the shaped relief-forming layer material, Adhesives that can be cured at temperatures lower than Tg (u) are particularly preferably used. As a film thickness of this contact bonding layer, it is about 0.1-20 micrometers (dry state), Preferably it is 1.0-5.0 micrometers.

(複数の光輝性図柄形成物)本発明の光輝性図柄形成物100は、本発明の光輝性フィルム10を用いて、該光輝性図柄の少なくとも1部を、被転写体へ貼着、接着、や漉き込みなどで移行させ、抄込みによる抄紙法で作製することができ、光輝性に優れた複数の図柄を有し、特異な意匠性、セキュリティ性を持たせることができる。   (Plurality of glitter design products) The glitter design product 100 of the present invention uses the glitter film 10 of the present invention to attach and bond at least one part of the glitter design to a transfer object. It can be made by a papermaking method using paper making, and has a plurality of designs with excellent glitter, and can have unique design and security.

図10に本発明の光輝性図柄形成物100の1実施例として、本発明の光輝性フィルム10を細巾にスリットしてなるスレッドを、基紙の少なくとも一方の面の表面に抄き込んで偽造防止用紙とし、該偽造防止用紙を使用した商品券の例を示す。スレッドの総厚さが極めて薄くて、被転写体や抄き込み用紙との一体感に優れ、さらに、省資源で、製造が容易である。該偽造防止用紙に用いるスレッドは1本でも複数本でもよい。
また、図10(B)は有価証券印刷部と同じ面に設けた場合、図10(C)は有価証券印刷部と反対面に設けた場合、の片面のみの例で、もちろん両面に設けてもよい。
As an example of the glitter pattern forming product 100 of the present invention shown in FIG. 10, a thread formed by narrowly slitting the glitter film 10 of the present invention is formed on the surface of at least one surface of the base paper. An example of a gift certificate using anti-counterfeit paper and using the anti-counterfeit paper will be shown. The total thickness of the thread is extremely thin, and it is excellent in unity with the transfer medium and paper-making paper, and is resource-saving and easy to manufacture. One or a plurality of threads may be used for the anti-counterfeit paper.
10B is an example of only one side when it is provided on the same side as the securities printing unit, and FIG. 10C is an example when it is provided on the opposite side of the securities printing unit. Also good.

(抄紙法)次に、抄紙法について説明する。本発明の光輝性フィルム10が細幅のストライプ状の形状となった場合に、製紙業の当業者はスレッドと称する。本発明の光輝性フィルム10を幅が0.5〜30mm程度、好ましくは1〜10mmの狭い幅にスリットして、該スレッドを基紙101へ抄き込む。   (Papermaking method) Next, the papermaking method will be described. When the glitter film 10 of the present invention has a narrow stripe shape, those skilled in the papermaking industry call it a thread. The glitter film 10 of the present invention is slit into a narrow width of about 0.5 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, and the thread is made into the base paper 101.

(基紙)該偽造防止用紙の基紙101としては、表面平滑性および耐熱性に優れ、適当な強度、厚さを有するものであれば、特に制限はないが、上質紙等の洋紙、薄手の板紙、カード紙等の紙が適用できる。100〜200g/m2の坪量で、印字、転写適性に優れる上質紙、コート紙が好ましい。該基紙101へ、幅が0.5〜30mm程度、好ましくは1〜10mmの、狭い幅にスリットしたスレッドを抄き込んで製造する。即ち、針葉樹晒クラフトパルプ(NBKP)、広葉樹晒クラフトパルプ(LBKP)、針葉樹晒サルファィトパルプ(NBSP)、サーモメカニカルパルプ(TMP)等の木材パルプや麻、綿、藁を原料とした非木材パルプ等を適宜混合して叩解し、これに填料、乾燥紙力増強剤、湿潤紙力増強剤、サイズ剤、定着剤、歩留り向上剤、濾水性向上剤、消泡剤、染料、着色顔料、蛍光剤などを適宜添加し、通常フリーネス400〜250mlC.S.F.に調整した紙料を調製する。該紙料へ、狭い幅のスレッドを繰り出しながら、長網抄紙機や円網抄紙機などの公知の抄紙機を使用して抄き込んで製造し、必要に応じてマシンカレンダー、スーパーカレンダー処理をする。 (Base Paper) The base paper 101 of the anti-counterfeit paper is not particularly limited as long as it has excellent surface smoothness and heat resistance and has an appropriate strength and thickness. Paper such as paperboard and cardboard can be used. High-quality paper and coated paper having a basis weight of 100 to 200 g / m 2 and excellent printability and transferability are preferred. The base paper 101 is manufactured by embedding a thread having a width of about 0.5 to 30 mm, preferably 1 to 10 mm, slit into a narrow width. In other words, wood pulp such as softwood bleached kraft pulp (NBKP), hardwood bleached kraft pulp (LBKP), softwood bleached sulfite pulp (NBSP), thermomechanical pulp (TMP), etc. and non-wood pulp made from hemp, cotton, and straw Etc. are mixed and beaten appropriately, and this is filled with filler, dry paper strength enhancer, wet paper strength enhancer, sizing agent, fixing agent, yield improver, freeness improver, antifoaming agent, dye, coloring pigment, fluorescent A suitable freeness is usually added to 400 to 250 ml C.I. S. F. Prepare a paper stock adjusted to. The paper stock is manufactured by using a well-known paper machine such as a long paper machine or a circular paper machine while feeding a narrow-width thread, and machine calendar and super calendar processing is performed as necessary. To do.

(観察)本発明の光輝性図柄形成物100は、先の構成に加えて、印刷絵柄などを設けたりしてもよい。また、スレッドは、基紙中へ埋没させてもよく、また、半分埋め込みや、十分に接着していれば表面上でもよい。また、基紙の表面に部分的に露出させてもよい。さらに基紙を部分的に薄くして埋め込んでもよく、特に、半分埋め込みや部分的に薄い該基紙101では、本発明の光輝性フィルム10の両側の光輝性図柄を十分に視認できる。また、埋没や半分埋め込みでは、少なくとも一方の光輝性図柄が視認できなかったり、視認しにくいが、必要に応じて、剥離して観察することで視認できるので、本発明の範囲である。   (Observation) The glittering pattern forming product 100 of the present invention may be provided with a printed pattern or the like in addition to the above configuration. Further, the thread may be embedded in the base paper, or may be half-embedded or on the surface if it is sufficiently adhered. Further, it may be partially exposed on the surface of the base paper. Further, the base paper may be partially thinned and embedded. In particular, with the half-embedded or partially thin base paper 101, the glitter pattern on both sides of the glitter film 10 of the present invention can be sufficiently visually recognized. Further, in the case of burying or half-embedding, at least one of the glittering patterns cannot be visually recognized or is difficult to visually recognize, but it is within the scope of the present invention because it can be visually recognized by peeling and observing as necessary.

(製造)本発明の光輝性フィルム10の製造は、いずれの工程も既存の設備、技術を用いることができるので、製造が容易で低コストに製造することができる。また、本発明の光輝性図柄形成物100の製造も、いずれの工程も既存の設備、技術を用いることができるので、製造が容易で低コストに製造することができる。   (Production) Production of the glittering film 10 of the present invention can be carried out easily and at low cost because any process can use existing equipment and technology. In addition, since both the process of producing the glitter pattern forming product 100 of the present invention can use existing equipment and technology, it is easy to manufacture and can be manufactured at low cost.

以下、実施例及び比較例により、本発明を更に詳細に説明するが、これに限定されるものではない。
また、以下の実施例では、表裏からの視認状況を説明しやすいようネガパターン、ポジパターンの明確な文字列「abc」、「xyz」等の文字を引用したが、どちらのパターンが視認されようとも、表裏から目視した際、2種以上の図柄が視認できれば本発明の範囲内である。
なお、以下の実施例においては、例えば文字列「abc」を空気界面から見た時、通常の文字列「abc」として解読可能な文字列パターンをポジパターンと呼ぶ。逆に、通常の文字列「abc」として解読不可能な文字列パターンをネガパターンと呼ぶ。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further in detail, it is not limited to this.
In the following examples, characters such as negative patterns and clear character strings “abc” and “xyz” are quoted so as to make it easy to explain the state of visual recognition from the front and back. In both cases, it is within the scope of the present invention if two or more kinds of symbols can be visually recognized from the front and back.
In the following embodiments, for example, when the character string “abc” is viewed from the air interface, a character string pattern that can be decoded as a normal character string “abc” is referred to as a positive pattern. Conversely, a character string pattern that cannot be decoded as a normal character string “abc” is called a negative pattern.

(実施例1)
(電離放射線硬化性樹脂組成物Mの作製)まず、反応生成物(A)は以下の手順で、生成した。撹拌機、還流冷却器、滴下漏斗及び温度計を取り付けた反応器に、酢酸エチル206.1g及びイソホロンジイソシアネートの三量体(HULS社製品、VESTANAT T1890、融点110℃)133.5gを仕込み、80℃に昇温して溶解させた。溶液中に空気を吹き込んだのち、ハイドロキノンモノメチルエーテル0.38g、ペンタエリスリトールトリアクリレート(大阪有機化学工業社製品、ビスコート300)249.3g及びジブチル錫ジラウレート0.38gを仕込んだ。80℃で5時間反応させたのち酢酸エチル688.9gを添加して冷却した。得られた反応生成液は赤外吸収スペクトル分析の結果、イソシアネート基の吸収が消滅していることを確認した。反応生成液から酢酸エチルを留去したものの軟化温度は43℃であった。
該反応生成物(A)と、造膜性樹脂、光重合開始剤、及び溶媒から下記の組成で添加して電離放射線硬化性樹脂組成物Mを調製した。
・<電離放射線硬化性樹脂組成物M>
反応生成物(A) 24重量部
造膜性樹脂(メタクリル樹脂:クラレ社製品 パラペットGF) 6重量部
光重合開始剤(イルガキュア184) 0.9重量部
酢酸エチル 70重量部
基材11として厚さ6μmのルミラー6CF53(東レ社製、PETフィルム商品名)を用いた。該基材11の一方の面へ、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Mをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmのレリーフ形成層15Aを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄1:文字列「abc」の繰り返しパターン(ネガパターン))から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層15Aのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが500nmのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層17Aとした。
該金属薄膜層17A面へ、バイロン200(東洋紡績(株)社製、ポリエステル樹脂商品名)をグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ0.5μmのプライマ層層21Bを形成し、該プライマ層層21B面へさらに、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Mをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmのレリーフ形成層15Bを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄2:文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン))から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層15Bのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが500nmのアルミニウム薄膜(金属薄膜層17B)とした。このようにして、実施例1の光輝性フィルム10を得た。
Example 1
(Preparation of ionizing radiation curable resin composition M) First, the reaction product (A) was produced by the following procedure. A reactor equipped with a stirrer, reflux condenser, dropping funnel and thermometer was charged with 206.1 g of ethyl acetate and 133.5 g of isophorone diisocyanate trimer (HULS product, VESTANAT T1890, melting point 110 ° C.), 80 The solution was heated to 0 ° C. and dissolved. After blowing air into the solution, 0.38 g of hydroquinone monomethyl ether, 249.3 g of pentaerythritol triacrylate (product of Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd., Viscoat 300) and 0.38 g of dibutyltin dilaurate were charged. After reacting at 80 ° C. for 5 hours, 688.9 g of ethyl acetate was added and cooled. As a result of infrared absorption spectrum analysis, it was confirmed that the obtained reaction product solution had extinguished isocyanate groups. The softening temperature of what distilled ethyl acetate from the reaction product liquid was 43 degreeC.
An ionizing radiation curable resin composition M was prepared by adding the reaction product (A), a film-forming resin, a photopolymerization initiator, and a solvent in the following composition.
・ <Ionizing radiation curable resin composition M>
Reaction product (A) 24 parts by weight Film-forming resin (methacrylic resin: Kuraray product Parapet GF) 6 parts by weight Photopolymerization initiator (Irgacure 184) 0.9 parts by weight Ethyl acetate 70 parts by weight Thickness as substrate 11 A 6 μm Lumirror 6CF53 (manufactured by Toray Industries Inc., trade name of PET film) was used. The above-mentioned ionizing radiation curable resin composition M was applied to one surface of the substrate 11 with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a relief forming layer 15A having a thickness of 1 μm. Next, a stamper duplicated by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 1: repeated pattern (negative pattern) of the character string “abc”) by the two-beam method is attached to the relief forming layer surface on the embossing roller of the duplicating apparatus. A relief formed of a fine concavo-convex pattern was formed by heat pressing (embossing) with an opposing roller. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. An aluminum thin film having a thickness of 500 nm was formed on the relief surface of the relief forming layer 15A by a vacuum deposition method to obtain a metal thin film layer 17A.
Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., polyester resin product name) is applied to the surface of the metal thin film layer 17A with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a primer layer layer 21B having a thickness of 0.5 μm. Then, the ionizing radiation curable resin composition M was further applied to the surface of the primer layer 21B with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a relief forming layer 15B having a thickness of 1 μm. Next, a stamper copied by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 2: repeated pattern (positive pattern) of the character string “xyz”) by the two-beam method is attached to the relief forming layer surface on the embossing roller of the copying apparatus. A relief formed of a fine concavo-convex pattern was formed by heat pressing (embossing) with an opposing roller. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. An aluminum thin film (metal thin film layer 17B) having a thickness of 500 nm was formed on the relief surface of the relief forming layer 15B by vacuum deposition. Thus, the glitter film 10 of Example 1 was obtained.

(実施例2)基材として、12μmのPETフィルムを用いる以外は、実施例1と同様にして、光輝性フィルム10を得た。   Example 2 A glittering film 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 12 μm PET film was used as the substrate.

(実施例3)基材として、16μmのPETフィルムを用いる以外は、実施例1と同様にして、光輝性フィルム10を得た。   Example 3 A glittering film 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a 16 μm PET film was used as the substrate.

(実施例4)電離放射線硬化性樹脂組成物として、電離放射線硬化性樹脂組成物Sを用いる以外は、実施例1と同様にして、光輝性フィルム10を得た。   (Example 4) A glittering film 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the ionizing radiation curable resin composition S was used as the ionizing radiation curable resin composition.

(実施例5)基材として、12μmのPETフィルムを用いる以外は、実施例4と同様にして、光輝性フィルム10を得た。   Example 5 A glittering film 10 was obtained in the same manner as in Example 4 except that a 12 μm PET film was used as the substrate.

(実施例6)基材として16μmのPETフィルムを用いる以外は、実施例4と同様にして、光輝性フィルム10を得た。
(実施例7)実施例1の光輝性フィルム10の金属薄膜層17B面へ前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Sをグラビアリバースコーターで塗工し、100℃で乾燥させて、厚さ0.5μmの保護層25を形成した。
(実施例8)実施例1の光輝性フィルム10の金属薄膜層17B面へグラビアコート法で2液硬化性ポリウレタン系接着剤を乾燥後の厚さが1.5μmになるように塗布し乾燥した後に、基材101として厚さ6μmのルミラー6CF53(東レ社製、PETフィルム商品名)を用い、基材101と前記のポリウレタン系接着剤とを重ね合わせて加圧し、その後40℃で3日間放置し、実施例8の光輝性フィルムを得た。
Example 6 A glittering film 10 was obtained in the same manner as in Example 4 except that a 16 μm PET film was used as the substrate.
(Example 7) The above-mentioned ionizing radiation curable resin composition S was applied to the surface of the metal thin film layer 17B of the glitter film 10 of Example 1 with a gravure reverse coater, dried at 100 ° C, and a thickness of 0. A protective layer 25 of 5 μm was formed.
(Example 8) A two-component curable polyurethane adhesive was applied to the surface of the metal thin film layer 17B of the glitter film 10 of Example 1 by a gravure coating method so that the thickness after drying was 1.5 µm and dried. Later, Lumirror 6CF53 (product name: PET film product name, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 6 μm was used as the base material 101, and the base material 101 and the polyurethane adhesive were overlapped and pressurized, and then allowed to stand at 40 ° C. for 3 days. Thus, the glittering film of Example 8 was obtained.

(評価)実施例1〜8の光輝性フィルム10を基材(PETフィルム)越しに観察すると、いずれも、図6のように、文字列「abc」の繰り返しパターン(ポジパターン)が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン)が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。   (Evaluation) When the glitter films 10 of Examples 1 to 8 were observed through the base material (PET film), a repeated pattern (positive pattern) of the character string “abc” was observed as shown in FIG. . When observed from the opposite side, a repeated pattern (positive pattern) of the character string “xyz” was observed. A plate was not taken and a good duplicate was obtained.

(実施例9)基材11として厚さ6μmのルミラー6CF53(東レ社製、PETフィルム商品名)を用いた。該基材11の一方の面へ、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Mをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmのレリーフ形成層15Aを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄1:文字列「abc」の繰り返しパターン(ネガパターン))から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層15Aのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが500nmのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層17Aとした。
該金属薄膜層17A面へ、バイロン200(東洋紡績(株)社製、ポリエステル樹脂商品名)をグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ0.5μmのプライマ層21Bを形成し、該プライマ層21B面へさらに、電離放射線硬化性樹脂組成物Sをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmのレリーフ形成層15Bを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄2:文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン))から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフ(ポジパターン)を賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。レリーフ形成層15Bのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが300nmの酸化チタン薄膜を形成し金属薄膜層17Bとした。このようにして、実施例9の光輝性フィルム10を得た。
(評価)実施例9の光輝性フィルム10を基材(PET)越しに観察すると、図7のように、文字列「abc」の繰り返しパターン(ポジパターン)が観察された。また、その反対側から観察すると、文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン)越しに、文字列「abc」の繰り返しパターン(ネガパターン)が観察された。表2柄、裏1柄が観察され、非常に意匠性の高いホログラムであった。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
Example 9 Lumirror 6CF53 (manufactured by Toray Industries, Inc., trade name of PET film) having a thickness of 6 μm was used as the substrate 11. The above-mentioned ionizing radiation curable resin composition M was applied to one surface of the substrate 11 with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a relief forming layer 15A having a thickness of 1 μm. Next, a stamper duplicated by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 1: repeated pattern (negative pattern) of the character string “abc”) by the two-beam method is attached to the relief forming layer surface on the embossing roller of the duplicating apparatus. A relief formed of a fine concavo-convex pattern was formed by heat pressing (embossing) with an opposing roller. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. An aluminum thin film having a thickness of 500 nm was formed on the relief surface of the relief forming layer 15A by a vacuum deposition method to obtain a metal thin film layer 17A.
Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., polyester resin product name) is applied to the surface of the metal thin film layer 17A with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a primer layer 21B having a thickness of 0.5 μm. Then, the ionizing radiation curable resin composition S was further applied to the surface of the primer layer 21B with a gravure reverse coater and dried at 100 ° C. to form a relief forming layer 15B having a thickness of 1 μm. Next, a stamper copied by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 2: repeated pattern (positive pattern) of the character string “xyz”) by the two-beam method is attached to the relief forming layer surface on the embossing roller of the copying apparatus. Then, a relief (positive pattern) composed of a fine concavo-convex pattern was formed by heat pressing (embossing) with an opposing roller. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. A titanium oxide thin film having a thickness of 300 nm was formed on the relief surface of the relief forming layer 15B by a vacuum deposition method to obtain a metal thin film layer 17B. Thus, the glitter film 10 of Example 9 was obtained.
(Evaluation) When the glitter film 10 of Example 9 was observed through the base material (PET), a repetitive pattern (positive pattern) of the character string “abc” was observed as shown in FIG. When observed from the opposite side, a repetitive pattern (negative pattern) of the character string “abc” was observed over a repetitive pattern (positive pattern) of the character string “xyz”. Two patterns on the front and one pattern on the back were observed, and the hologram was very high in design. A plate was not taken and a good duplicate was obtained.

(実施例10)さらに、実施例9の光輝性フィルム10の基材11において、第1金属薄膜層17Aの反対側のPET面に、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Mをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmの第3レリーフ形成層15Cを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄3:文字列「ghi」の繰り返しパターン(ポジパターン))から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターン(ポジパターン)からなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。第3レリーフ形成層15Cのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが500nmのアルミニウム薄膜を形成して金属薄膜層17Cとした。
(評価)実施例10の光輝性フィルム10を第3レリーフ形成層15C側から観察すると、図8のように、文字列「ghi」の繰り返しパターン(ポジパターン)が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン)越しに、文字列「abc」の繰り返しパターン(ネガパターン)が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
(Example 10) Furthermore, in the base material 11 of the glitter film 10 of Example 9, the above-mentioned ionizing radiation curable resin composition M was applied to the PET surface on the opposite side of the first metal thin film layer 17A with a gravure reverse coater. It was coated and dried at 100 ° C. to form a third relief forming layer 15C having a thickness of 1 μm. Next, a stamper duplicated by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 3: repeated pattern (positive pattern) of the character string “ghi”) by the two-beam method is attached to the relief forming layer surface on the embossing roller of the duplicating apparatus. Then, a relief consisting of a fine uneven pattern (positive pattern) was formed by heat pressing (embossing) with an opposing roller. Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. An aluminum thin film having a thickness of 500 nm was formed on the relief surface of the third relief forming layer 15C by a vacuum deposition method to obtain a metal thin film layer 17C.
(Evaluation) When the glitter film 10 of Example 10 was observed from the third relief forming layer 15C side, a repetitive pattern (positive pattern) of the character string “ghi” was observed as shown in FIG. When observed from the opposite side, a repetitive pattern (negative pattern) of the character string “abc” was observed over a repetitive pattern (positive pattern) of the character string “xyz”. A plate was not taken and a good duplicate was obtained.

(実施例11)実施例10の光輝性フィルム10の第3金属薄膜層17C面へ、バイロン200(東洋紡績(株)社製、ポリエステル樹脂商品名)をグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ0.5μmの第2プライマ層21Dを形成し、該第2プライマ層21D面へさらに、前述の電離放射線硬化性樹脂組成物Mをグラビアリバースコーターで塗工し100℃で乾燥させて、厚さ1μmの第4レリーフ形成層15Dを形成した。次に、該レリーフ形成層面へ、2光束法によるレインボウホログラム(柄4:絵柄「星型」の繰り返しパターン)から2P法で複製したスタンパを複製装置のエンボスローラーに貼着して、相対するローラーと間で加熱プレス(エンボス)して、微細な凹凸パターンからなるレリーフを賦形させた。賦形後直ちに、高圧水銀灯を用いて紫外線を照射して硬化させた。第4レリーフ形成層15Dのレリーフ面へ真空蒸着法で厚さが300nmの透明な酸化チタン薄膜を形成して第4金属薄膜層17Dとした。
(評価)実施例11の光輝性フィルム10を、第4レリーフ形成層15D側から観察すると、図9のように、絵柄「星型」の繰り返しパターン越しに、文字列「ghi」の繰り返しパターン(ポジパターン)が観察された。また、その反対側から観察すると文字列「xyz」の繰り返しパターン(ポジパターン)越しに、文字列「abc」の繰り返しパターン(ネガパターン)が観察された。版取られもなく、良好な複製品が得られた。
(Example 11) Byron 200 (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name of polyester resin) was applied to the surface of the third metal thin film layer 17C of the glitter film 10 of Example 10 at 100 ° C. A second primer layer 21D having a thickness of 0.5 μm is formed by drying, and the surface of the second primer layer 21D is further coated with the ionizing radiation curable resin composition M by a gravure reverse coater at 100 ° C. By drying, a fourth relief forming layer 15D having a thickness of 1 μm was formed. Next, a stamper copied by the 2P method from a rainbow hologram (pattern 4: repetitive pattern of a pattern “star”) by the two-beam method is attached to the embossing roller of the copying apparatus on the surface of the relief forming layer, and the opposite roller A relief formed of a fine concavo-convex pattern was formed by heating and pressing (embossing). Immediately after shaping, it was cured by irradiating with ultraviolet rays using a high-pressure mercury lamp. A transparent titanium oxide thin film having a thickness of 300 nm was formed on the relief surface of the fourth relief forming layer 15D by a vacuum deposition method to form a fourth metal thin film layer 17D.
(Evaluation) When the glittering film 10 of Example 11 is observed from the fourth relief forming layer 15D side, as shown in FIG. 9, the repeated pattern of the character string “ghi” is passed over the repeated pattern of the pattern “star” ( A positive pattern) was observed. When observed from the opposite side, a repetitive pattern (negative pattern) of the character string “abc” was observed over a repetitive pattern (positive pattern) of the character string “xyz”. A plate was not taken and a good duplicate was obtained.

(実施例12〜20)実施例1〜11で得られた光輝性フィルム10を紙料へ抄き込む。NBKP20質量部、LBKP80質量部を叩解し、白土10質量部、紙力増強剤0.3質量部、サイズ剤1.0質量部、硫酸バンドを適量加えて、紙料を調製した。該紙料を用いて、2槽式円網抄紙機で抄紙速度50m/分で2層抄合わせる。この際に、上記で製造したスレッドをホログラム面を表面にして所定の位置に流した。次いで、公知の一般的な方法に従い湿紙を脱水し、ドライヤーで乾燥することで、スレッドは基紙101へ接着し、本発明の光輝性図柄形成物100である偽造防止用紙を製造した。
得られた偽造防止用紙は、スレッドの表面は露出した状態で、用紙の流れ方向にスレッドが基紙層へ埋設されていた。無理に剥離したところ該偽造防止用紙のスレッド表面は各実施例で説明した両面で異なる光輝性図柄が明確に観察できた。さらに、カラーコピー機でコピーしたところ、一方のホログラム特有の輝きはなく、スレッドのホログラムとコピーとは全く異なり、両側の面ともに一目で真贋が判断できた。
(Examples 12 to 20) The glitter film 10 obtained in Examples 1 to 11 is incorporated into a paper stock. 20 parts by mass of NBKP and 80 parts by mass of LBKP were beaten, and 10 parts by mass of white clay, 0.3 part by mass of a paper strength enhancer, 1.0 part by mass of a sizing agent and an appropriate amount of a sulfuric acid band were added to prepare a paper material. Using the stock, two-layer papermaking is carried out at a papermaking speed of 50 m / min with a two-tank circular paper machine. At this time, the thread manufactured as described above was flowed to a predetermined position with the hologram surface as the surface. Next, the wet paper was dehydrated according to a known general method and dried with a drier, whereby the thread adhered to the base paper 101, and the anti-counterfeit paper which is the glitter pattern forming product 100 of the present invention was manufactured.
The obtained anti-counterfeit paper had the thread embedded in the base paper layer in the paper flow direction with the surface of the thread exposed. When forcibly peeled off, the glitter surface of the anti-counterfeit paper was clearly observable with different glittering patterns on both sides described in each example. Furthermore, when copying with a color copier, there was no sparkle peculiar to one of the holograms, and the hologram and copy of the thread were completely different, and the authenticity of both sides could be judged at a glance.

本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図Sectional drawing of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図Sectional drawing of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性図柄形成物の断面図Sectional drawing of the glitter pattern formation which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図Sectional drawing of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの断面図Sectional drawing of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図Explanatory drawing which shows the visual recognition state of the design of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図Explanatory drawing which shows the visual recognition state of the design of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図Explanatory drawing which shows the visual recognition state of the design of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性フィルムの図柄の視認状態を示す説明図Explanatory drawing which shows the visual recognition state of the design of the glittering film which shows one Example of this invention 本発明の1実施例を示す光輝性図柄形成物の平面図、及び断面図The top view and sectional drawing of the glitter pattern formation which show one Example of this invention

符号の説明Explanation of symbols

10:光輝性フィルム
11:基材
15:レリーフ形成層
15A、15B、15C、15D:第1〜nレリーフ形成層
17:金属薄膜層
17A、17B、17C、17D:第1〜n金属薄膜層
21、21B、21D:プライマ層
25:保護層
31:接着層
100:光輝性図柄形成物
101:基紙
10: Glossy film 11: Base material 15: Relief forming layer 15A, 15B, 15C, 15D: First to n relief forming layers 17: Metal thin film layers 17A, 17B, 17C, 17D: First to n metal thin film layers 21 , 21B, 21D: Primer layer 25: Protective layer 31: Adhesive layer 100: Glossy pattern formation 101: Base paper

Claims (8)

レリーフ形成層と金属薄膜層とを1組の光輝性図柄層として、プライマ層を介して、2組又はそれ以上の組の光輝性図柄層を有することを特徴とする光輝性フィルム。 A glittering film comprising a relief forming layer and a metal thin film layer as a pair of glittering design layers, and having two or more groups of glittering design layers through a primer layer. 少なくとも2種の光輝性図柄を有していることを特徴とする請求項1記載の光輝性フィルム。 2. The glitter film according to claim 1, wherein the glitter film has at least two kinds of glitter patterns. 上記の光輝性図柄がヘアライン柄、万線柄、ホログラム及び/又は回折格子であることを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の光輝性フィルム。 The glitter film according to claim 1, wherein the glitter pattern is a hairline pattern, a line pattern, a hologram, and / or a diffraction grating. 少なくとも第1金属薄膜層、第1光輝性図柄を有する第1レリーフ形成層、プライマ層、第2光輝性図柄を有する第2レリーフ形成層、及び第2金属薄膜層からなることを特徴とする1〜3のいずれかに記載の光輝性フィルム。 It comprises at least a first metal thin film layer, a first relief forming layer having a first glitter pattern, a primer layer, a second relief forming layer having a second glitter pattern, and a second metal thin film layer. The glittering film in any one of -3. 少なくとも2つの光輝性図柄が、表側及び裏面から、それぞれ視認できることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光輝性フィルム。 The glitter film according to any one of claims 1 to 4, wherein at least two glitter patterns can be visually recognized from the front side and the back side. 上記プライマ層のガラス転移温度が130℃以下であることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光輝性フィルム。 The glitter film according to any one of claims 1 to 5, wherein a glass transition temperature of the primer layer is 130 ° C or lower. 全体厚さが5〜20μmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の光輝性フィルム。 The glittering film according to any one of claims 1 to 6, wherein the total thickness is 5 to 20 µm. 請求項1〜7のいずれかに記載の光輝性フィルムを用いて、少なくとも1部に光輝性図柄を設けてなることを特徴とする光輝性図柄形成物。
A glittering design product comprising the glittering film according to any one of claims 1 to 7, wherein a glittering design is provided on at least one part.
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