JP2006247855A - Optical recording medium of multilayer phase changing-type - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide the optical recording medium of a multilayer phase changing-type which can simultaneously satisfy requirements of high linear velocity recording, regenerative light stability and shelf stability. <P>SOLUTION: This optical recording medium of a multilayer phase changing type comprises a plurality of information layers including a phase changing recording layer which can record information by giving rise to a phase change with laser light irradiation, and further, and each information layer excepting those on an innermost side as viewed from the side where a laser light is emitted comprises at least a lower protecting layer, a phase changing recording layer, an upper protecting layer, a reflective layer and a heat diffusion layer. The phase changing-recording layer comprises three elements such as In, Sb and Ge, and when the composition ratio is α, β and γ[atomic%], the requirements of 10≤α≤20, 65≤β≤85 and 2≤γ≤20, are met. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、光ビームを照射することにより記録層材料に光学的な変化を生じさせて情報の記録再生を行ない、かつ書き換えが可能な相変化記録層を含む情報層が複数備えられている多層相変化型光記録媒体に関する。   The present invention relates to a multilayer in which a plurality of information layers including a phase change recording layer capable of recording and reproducing information by irradiating a light beam to cause an optical change in a recording layer material and rewriting the information. The present invention relates to a phase change optical recording medium.

CD−RWなどの相変化型光ディスク(相変化型光記録媒体)は、一般的にプラスチックの基板上に、相変化材料からなる記録層を設け、その上に、記録層の光吸収率を向上させ且つ熱拡散効果を有する反射層を形成したものを基本構成とし、基板面側からレーザ光を照射して、情報の記録再生を行なうものである。
相変化型記録材料は、レーザ光照射による加熱とその後の冷却によって、結晶状態とアモルファス状態の間を相変化し、急速加熱後に急冷するとアモルファスとなり、徐冷すると結晶化するものであり、相変化型光記録媒体は、この性質を情報の記録と再生に応用したものである。
更に光照射による加熱によって起こる記録層の酸化、蒸散又は変形を阻止する目的で、通常、基板と記録層との間に下部保護層(下部誘電体層ともいう)、及び記録層と反射層との間に上部保護層(上部誘電体層ともいう)が設けられている。更に、これらの保護層は、その厚さを調節することによって、記録媒体の光学特性の調節機能を有するものであり、また下部保護層は、記録層への記録時の熱によって基板が軟化するのを防止する機能を併せ持つものである。
Phase-change optical discs (phase-change optical recording media) such as CD-RW are generally provided with a recording layer made of a phase-change material on a plastic substrate, on which a light absorption rate of the recording layer is improved. In addition, a structure in which a reflective layer having a thermal diffusion effect is formed is used as a basic configuration, and information is recorded and reproduced by irradiating a laser beam from the substrate surface side.
Phase change recording materials change between a crystalline state and an amorphous state by heating with laser light irradiation and subsequent cooling, become amorphous when rapidly cooled after rapid heating, and crystallize when slowly cooled. The type optical recording medium applies this property to information recording and reproduction.
Furthermore, for the purpose of preventing oxidation, transpiration or deformation of the recording layer caused by heating by light irradiation, a lower protective layer (also referred to as a lower dielectric layer), a recording layer and a reflective layer are usually provided between the substrate and the recording layer. An upper protective layer (also referred to as an upper dielectric layer) is provided therebetween. Furthermore, these protective layers have a function of adjusting the optical characteristics of the recording medium by adjusting the thickness thereof, and the lower protective layer softens the substrate by heat during recording on the recording layer. It also has a function to prevent this.

近年、コンピュータ等で扱う情報量が増加したことによって、DVD−RAM、DVD−RW、DVD+RWのような書き換え型光ディスクの信号記録容量が増大し、信号情報の高密度化が進んでいる。現在のCDの記録容量は650MB程度で、DVDは4.7GB程度であるが、今後更に高記録密度化の要求が高まることが予想される。また、情報量の増加に伴い、記録速度の向上も要求されると考えられる。現在、DVDの書き換え型ディスクとしては、単層で8倍速記録が可能なものが開発されているところまで来ている。
このような相変化型光記録媒体を用いて高記録密度化する方法として、例えば使用するレーザ波長を青色領域まで短波長化すること、或いは記録再生を行なうピックアップに用いられる対物レンズの開口数NAを大きくして、光記録媒体に照射されるレーザ光のスポットサイズを小さくすることが提案され、研究、開発が行なわれ、更に実用化されるところまで来ている。
In recent years, as the amount of information handled by computers and the like has increased, the signal recording capacity of rewritable optical discs such as DVD-RAM, DVD-RW, and DVD + RW has increased, and the density of signal information has been increasing. The current recording capacity of CDs is about 650 MB, and DVDs are about 4.7 GB. However, it is expected that the demand for higher recording density will increase in the future. In addition, it is considered that an improvement in recording speed is required as the amount of information increases. Currently, DVD rewritable discs have been developed that are capable of 8 × speed recording with a single layer.
As a method for increasing the recording density using such a phase change type optical recording medium, for example, the laser wavelength used is shortened to the blue region, or the numerical aperture NA of an objective lens used for a pickup for recording / reproducing is used. It has been proposed to reduce the spot size of the laser beam irradiated to the optical recording medium, and research and development have been carried out, and it has come to be put to practical use.

一方、光記録媒体自体を改良して記録容量を高める方法として、基板の片面側に少なくとも記録層と反射層からなる情報層を二つ重ねて、これら情報層間を紫外線硬化樹脂等で接着して作成される2層相変化型光記録媒体が各種提案されている。この情報層間の接着部分である分離層(本発明では中間層という)は、2つの情報層を光学的に分離する機能を有するもので、記録再生に用いるレーザ光がなるべく多く奥側の情報層に到達する必要があるため、レーザ光をなるべく吸収しないような材料から構成されている。
しかし、この2層相変化型光記録媒体については未だ多くの課題が存在している。例えば、レーザ光照射側から見て手前側にある情報層(第1情報層)をレーザ光が十分に透過しなければ、奥側にある情報層(第2情報層)の記録層に情報を記録しそれを再生できないために、第1情報層を構成する反射層は極薄な半透明反射層としなければならない。
記録容量を増大させる流れの他に、記録速度を向上させることも要求されている。記録速度を高める方法として、相変化記録材料の結晶化速度を高めることが挙げられる。これにより、情報を短時間で消去し易くなるという特徴がある。また記録する際にはレーザ光の加熱急冷を極短時間で行なう必要がある。
On the other hand, as a method of improving the recording capacity by improving the optical recording medium itself, at least two information layers consisting of a recording layer and a reflective layer are stacked on one side of the substrate, and these information layers are bonded with an ultraviolet curable resin or the like. Various types of two-layer phase change optical recording media have been proposed. The separation layer (referred to as an intermediate layer in the present invention) that is an adhesive portion between the information layers has a function of optically separating the two information layers, and the information layer on the back side has as much laser light as possible for recording and reproduction. Therefore, it is made of a material that does not absorb laser light as much as possible.
However, many problems still exist for this two-layer phase change optical recording medium. For example, if the laser beam is not sufficiently transmitted through the information layer (first information layer) on the front side when viewed from the laser beam irradiation side, information is recorded on the recording layer of the information layer (second information layer) on the back side. Since recording and reproduction cannot be performed, the reflective layer constituting the first information layer must be an extremely thin translucent reflective layer.
In addition to the flow of increasing the recording capacity, it is also required to improve the recording speed. An example of a method for increasing the recording speed is to increase the crystallization speed of the phase change recording material. As a result, the information can be easily erased in a short time. Further, when recording, it is necessary to heat and cool the laser beam in an extremely short time.

相変化型光記録媒体への記録は、記録層の相変化型材料にレーザ光を照射して急冷し、結晶をアモルファスに変化させてマークを形成することにより行なわれるため、10nm程度の非常に薄い厚さの半透明反射層の場合、放熱効果が小さくなることから、アモルファスマークを形成することが困難になってしまう。特に、CD−RW、DVD+RWなどの相変化型光記録媒体に一般的に用いられている材料の1つであるSbTe共晶系記録材料は、GeSbTe化合物系記録材料と比べて消去比が優れ、また高感度であるために記録マークのアモルファス部の輪郭が明確であるという点で優れたものとして知られている。しかしながら、SbTe共晶系記録材料は、GeSbTe化合物系記録材料と比べて材料の結晶化速度が速いので、アモルファス化するにはより短時間で急冷しなければならず、急冷構造を取ることが必要な材料である。   Recording on the phase change type optical recording medium is performed by irradiating the phase change type material of the recording layer with laser light and rapidly cooling it to change the crystal to amorphous to form a mark. In the case of a semi-transparent reflective layer having a small thickness, the heat dissipation effect is reduced, and it becomes difficult to form an amorphous mark. In particular, an SbTe eutectic recording material, which is one of materials generally used for phase-change optical recording media such as CD-RW and DVD + RW, has an excellent erasure ratio compared to a GeSbTe compound-based recording material. Further, it is known as an excellent one in that the outline of the amorphous part of the recording mark is clear because of its high sensitivity. However, since the SbTe eutectic recording material has a higher crystallization speed than the GeSbTe compound recording material, it must be rapidly cooled in order to become amorphous, and a rapid cooling structure is required. Material.

相変化型光記録媒体は、一般的にSbが母体となっており、高記録線速に対応させるためにSb量を増やすことで材料の結晶化速度を向上させる手法が取られる。結晶化速度が速いことで知られるSbTe共晶系記録材料においても、Sb量を操作することによって結晶化速度のコントロールが可能であるが、Sb量がある程度多くなると、材料の結晶化温度が低下してしまうという問題が生じる。そのため、再生光を照射しただけでアモルファスマークが再結晶化してしまい、情報を読むことができなくなるという不具合や、室温下での情報の保存状態が悪くなるという不具合が生じる。
多層相変化型光記録媒体に関する公知文献としては、記録層にSbTe系材料を用いたもの(特許文献1〜6)、GeBiSbTe系材料を用いたもの(特許文献9)、GeSbTe系材料を用いたもの(特許文献7〜8)などがあるが、本発明で用いたInSbGe系の組成に関する記述はない。
A phase change type optical recording medium generally has Sb as a base material, and in order to cope with a high recording linear velocity, a method of increasing the crystallization speed of the material by increasing the amount of Sb is taken. Even in the SbTe eutectic recording material known for its high crystallization speed, the crystallization speed can be controlled by manipulating the Sb amount. However, if the Sb amount increases to some extent, the crystallization temperature of the material decreases. The problem of end up occurs. For this reason, the amorphous mark is recrystallized only by irradiating the reproduction light, and there is a problem that the information cannot be read, and that the information storage state at room temperature is deteriorated.
Known documents relating to the multilayer phase change optical recording medium include those using SbTe-based materials for the recording layer (Patent Documents 1 to 6), those using GeBiSbTe-based materials (Patent Document 9), and GeSbTe-based materials. There are no descriptions regarding the composition of the InSbGe system used in the present invention.

特開2005−004943号公報JP-A-2005-004943 特開2004−259382号公報JP 2004-259382 A 特開2004−110913号公報JP 2004-110913 A 特開2004−047038号公報JP 2004-047038 A 特開2003−045085号公報JP 2003-045085 A 特開2003−296966号公報JP 2003-296966 A 特開2001−243655号公報JP 2001-243655 A 特開2001−215516号公報JP 2001-215516 A 特開2004−311011号公報JP 2004-311011 A

多層相変化型光記録媒体では、第1情報層を透過させて第2情報層に光を到達させる必要があるため、単層の相変化型光記録媒体に比べて2倍程度の再生光を必要とする。そのため、高線速記録と再生光安定性と保存安定性という複数の課題を同時に解決するには、第1情報層に含まれる第1記録層材料のSb含有量が比較的少なくても結晶化速度を高く確保できる記録材料で対応する必要がある。
本発明は、このような要求を満たす記録材料を用いた多層相変化型光記録媒体の提供を目的とする。
In a multilayer phase change optical recording medium, it is necessary to allow light to reach the second information layer through the first information layer, so that the reproduction light is about twice as much as that of a single layer phase change optical recording medium. I need. Therefore, in order to simultaneously solve a plurality of problems of high linear velocity recording, reproduction light stability and storage stability, crystallization is possible even if the Sb content of the first recording layer material contained in the first information layer is relatively small. It is necessary to cope with a recording material that can secure a high speed.
It is an object of the present invention to provide a multilayer phase change optical recording medium using a recording material that satisfies such requirements.

上記課題は次の1)〜6)の発明(以下、本発明1〜6という)によって解決される。
1) レーザ光の照射によって相変化を起こすことにより情報を記録し得る相変化記録層を含む情報層が複数備えられ、レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の各情報層が、少なくとも下部保護層、相変化記録層、上部保護層、反射層、熱拡散層からなり、該相変化記録層の組成をInαSbβGeγ(α、β、γは原子%)とした場合に、以下の要件を満たしていることを特徴とする多層相変化型光記録媒体。
10≦α≦20
65≦β≦85
2≦γ≦20
2) レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の反射層が、Cu、又は、Cuに対してMo、Ta、Nb、Cr、Zr、Ni、Geのうちの少なくとも1つの金属元素を0.6〜2.0重量%添加した材料からなる事を特徴とする1)記載の多層相変化型光記録媒体。
3) レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の上部保護層が、Snの酸化物を含むことを特徴とする1)又は2)記載の多層相変化型光記録媒体。
4) 熱拡散層がInの酸化物を含むことを特徴とする1)〜3)の何れかに記載の多層相変化型光記録媒体。
5) 熱拡散層にZnの酸化物が混合されていることを特徴とする4)記載の多層相変化型光記録媒体。
6) 熱拡散層にSnの酸化物が混合されていることを特徴とする4)記載の多層相変化型光記録媒体。
The above problems are solved by the following inventions 1) to 6) (hereinafter referred to as the present inventions 1 to 6).
1) A plurality of information layers including a phase change recording layer capable of recording information by causing a phase change by laser light irradiation, and each information layer other than the innermost side when viewed from the laser light irradiation side Is composed of at least a lower protective layer, a phase change recording layer, an upper protective layer, a reflective layer, and a heat diffusion layer, and when the composition of the phase change recording layer is InαSbβGeγ (α, β, and γ are atomic%), A multilayer phase change optical recording medium characterized by satisfying the above requirements.
10 ≦ α ≦ 20
65 ≦ β ≦ 85
2 ≦ γ ≦ 20
2) The reflection layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam is Cu or at least one metal of Mo, Ta, Nb, Cr, Zr, Ni, and Ge with respect to Cu. The multilayer phase change optical recording medium according to 1), comprising a material to which 0.6 to 2.0% by weight of an element is added.
3) The multilayer phase change optical recording medium according to 1) or 2), wherein the upper protective layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam contains an oxide of Sn.
4) The multilayer phase change optical recording medium according to any one of 1) to 3), wherein the thermal diffusion layer contains an oxide of In.
5) The multilayer phase change optical recording medium according to 4), wherein a Zn oxide is mixed in the thermal diffusion layer.
6) The multilayer phase change optical recording medium according to 4), wherein an oxide of Sn is mixed in the thermal diffusion layer.

以下、上記本発明について詳しく説明する。
従来の記録層の材料開発には、大きく分けて2通りの流れがある。即ち、追記型の記録層材料であるGeTe、及び可逆的に相変化できるSbとTeの合金であるSbTe、この2つの材料の固溶体又は共晶組成から発展したGeSbTeの3元合金からなる記録層材料が1つの流れである。もう1つの流れは、同じくSbとTeの合金であるが、SbとSbTeとの共晶組成であるSb含有量が70%前後となるSbTeに、微量元素を添加した記録層材料である。
2層記録層を有する光記録媒体では、特にレーザ光照射側から見て手前側の情報層は、奥側の情報層の記録及び再生のことを考慮すると、透過率が高いことが要求され、そのために金属層の吸収率を少なくする取り組みと並行して、記録層を薄膜化することが要求される。記録層を薄くしていくと結晶化速度が低下するのは公知であるから、記録材料自体を結晶化速度の速いものにすることが有利である。そのため、この材料系列の流れの中では、後者のSb含有量が70%前後となるSbTe共晶組成の方が好ましい。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
There are roughly two types of conventional recording layer material development. That is, from the write-once recording layer material GeTe, the reversible Sb and Te alloy Sb 2 Te 3 , and the GeSbTe ternary alloy developed from the solid solution or eutectic composition of these two materials. The recording layer material is one flow. Another flow is an alloy of Sb and Te, which is a recording layer material in which a trace element is added to SbTe whose Sb content is about 70%, which is a eutectic composition of Sb and Sb 2 Te 3. is there.
In the optical recording medium having a two-layer recording layer, the information layer on the near side as viewed from the laser light irradiation side is required to have high transmittance in consideration of recording and reproduction of the information layer on the back side, For this purpose, it is required to make the recording layer thinner in parallel with efforts to reduce the absorption rate of the metal layer. Since it is known that the crystallization speed decreases when the recording layer is made thinner, it is advantageous to make the recording material itself have a high crystallization speed. Therefore, in the flow of this material series, the latter SbTe eutectic composition in which the Sb content is about 70% is preferable.

しかしながら、本発明者らが検討したところによると、結晶化速度を速くするために、即ち対応できる線速を速くするためにSb量を増やしていくと、結晶化温度が低下すると伴に、保存特性が劣化していくことが分かった。そこで、GeSbTe系やSbTe系などと比べて、少ないSb量で結晶化速度が速い、即ち対応できる線速が速い材料系を検討したところ、InSb系において少ないSb量で線速を向上できることが分った。したがって、薄い記録層膜厚が要求される第一情報層の記録層材料として、InSb系を用いるのが好適である。例えば、InSb系の1層構成の転移線速(LV)を、SbTe系及びGaSb系と比較したのが図1である。この図から分かるように、InSb系では少ないSb量で速い結晶化速度を持たせることが可能である。
ここで転移線速とは、相変化記録層の結晶化速度の代用特性である。記録層を融点以上に加熱することのできる程度のパワーを持つ連続光(DC光)で照射することにより得られる反射率の線速依存性R(v)を取った場合、結晶レベルからアモルファスレベルに変化する線速をいう。転移線速という物理量で代用する理由としては、相変化記録層の結晶化速度の絶対的な値を知ることが困難なためである。
However, according to a study by the present inventors, if the amount of Sb is increased in order to increase the crystallization speed, that is, to increase the linear speed that can be handled, the crystallization temperature is lowered and the storage is continued. It was found that the characteristics deteriorated. Therefore, when a material system that has a high crystallization speed with a small amount of Sb, that is, a high linear speed that can be dealt with, compared to the GeSbTe system or the SbTe system, it was found that the linear speed can be improved with a small amount of Sb in the InSb system. It was. Therefore, it is preferable to use InSb as the recording layer material of the first information layer that requires a thin recording layer thickness. For example, FIG. 1 compares the transition linear velocity (LV) of an InSb-based single layer structure with that of an SbTe system and a GaSb system. As can be seen from this figure, the InSb system can have a high crystallization rate with a small amount of Sb.
Here, the transition linear velocity is a substitute characteristic of the crystallization speed of the phase change recording layer. When the linear velocity dependence R (v) of the reflectance obtained by irradiating with continuous light (DC light) having a power capable of heating the recording layer to the melting point or higher is taken, the crystal level changes to the amorphous level. The linear speed that changes. The reason for substituting the physical quantity of transition linear velocity is that it is difficult to know the absolute value of the crystallization speed of the phase change recording layer.

2層相変化型光記録媒体では、レーザ光照射側から見て奥側の情報層を再生する際には、手前側の情報層による吸収などが原因で、反射率が低く再生信号の振幅が小さいという問題がある。それを考慮すると、記録層が単層の光記録媒体で再生するときよりも高い再生光パワーが必要である。ここで、単層構成の相変化型光記録媒体では再生光パワーPrは0.7mW程度である。2層相変化型光記録媒体では少なくともこれよりも大きな再生光パワーが必要である。InSb系では、結晶化速度を速くするためにはSb量を増やせばよいが、それによって結晶化温度が下がる傾向にある。そのため手前の情報層にInSbの2元系を用いた場合、高い再生光パワーを用いると、アモルファスマークが再結晶化を起こし、再生できなくなるという問題が生じる。同時に結晶化温度が低くなるということは保存状態も不安定となり好ましくない。しかし、InSb系に第3の元素Geを加えると、結晶化温度を高い状態に保持することができる。これによって、高い再生光パワーで再生してもアモルファスマークが再結晶化せず、保存状態を安定なものとすることができるようになる。
以上説明したように、多層相変化型光記録媒体の相変化記録層において、高速記録が可能で、かつ高い再生光パワーでも再生ができ、保存状態が安定とできる相変化記録層材料としては、少なくともInSbGeの3元系からなるものが好ましい。
In a two-layer phase change optical recording medium, when reproducing the information layer on the back side as viewed from the laser beam irradiation side, the reflectivity is low and the amplitude of the reproduction signal is low due to absorption by the information layer on the near side. There is a problem of being small. Considering this, a higher reproducing light power is required than when reproducing with an optical recording medium having a single recording layer. Here, in the phase change type optical recording medium having a single layer structure, the reproducing light power Pr is about 0.7 mW. In a two-layer phase change optical recording medium, at least a reproducing light power larger than this is required. In the InSb system, in order to increase the crystallization speed, the amount of Sb may be increased, but this tends to lower the crystallization temperature. For this reason, when an InSb binary system is used for the information layer in the foreground, if a high reproducing light power is used, the amorphous mark recrystallizes and cannot be reproduced. At the same time, lowering the crystallization temperature is not preferable because the storage state becomes unstable. However, when the third element Ge is added to the InSb system, the crystallization temperature can be kept high. As a result, the amorphous mark is not recrystallized even when reproduced with high reproduction light power, and the storage state can be stabilized.
As described above, in the phase change recording layer of the multilayer phase change type optical recording medium, the phase change recording layer material that can be recorded at high speed, can be reproduced even with high reproduction light power, and can be stably stored. What consists of at least ternary system of InSbGe is preferable.

次に、相変化記録層を含む情報層を2層有する図2の例を参照しながら、該光記録媒体の層構成及び各層の特徴について説明する。
本発明1において、Sb量(β)が上記規定範囲にある場合には、相変化を利用した記録材料として安定した記録再生を行なうことができる。Sb量が65原子%未満では安定した記録が行なえず、更に多層の相変化型光記録媒体としては高速記録に向かない記録層となってしまう。Sb量が85原子%よりも多いと、結晶化速度を向上させることができるが結晶化温度が下がり始めてしまい、高い再生光パワーで再生しづらくなり保存状態が不安定である。
Next, the layer configuration of the optical recording medium and the characteristics of each layer will be described with reference to the example of FIG. 2 having two information layers including a phase change recording layer.
In the present invention 1, when the Sb amount (β) is in the above specified range, stable recording and reproduction can be performed as a recording material using phase change. If the amount of Sb is less than 65 atomic%, stable recording cannot be performed, and a recording layer that is not suitable for high-speed recording becomes a multilayer phase change optical recording medium. If the amount of Sb is more than 85 atomic%, the crystallization speed can be improved, but the crystallization temperature starts to decrease, making it difficult to reproduce with high reproduction light power and the storage state is unstable.

In量(α)が上記規定範囲にある場合には、比較的Sb量が少なくても速い結晶化速度を保持することができ、高線速記録においても記録特性を良好なものとすることができる。Inはアモルファス化を促進するため、添加量に応じて所望の記録線速に適した結晶化速度に調整することが可能になる。また、同時に添加量に応じて結晶化温度を高くすることができ、アモルファス相の保存安定性が向上する。更に初期化が容易で、かつ記録感度も向上するという特徴をもつ。In量が10%未満では、アモルファス状態の保存特性が悪くなる。In量が20%よりも多いと、結晶化速度を遅くする作用が強くなり、高速記録に向かなくなる。
Ge量(γ)が上記記載の範囲にある場合では、高パワーでの再生が可能で、保存状態を良好とすることができる。Ge量が2%未満では、Geの効果が現れず保存状態が良好とならない。また、Ge量が20%よりも多いと、結晶化速度が遅くなってしまい高速記録に対応できなくなり、更にはGe自身の融点が高いために記録感度が悪くなってしまうという不具合が生じる。
When the amount of In (α) is in the specified range, a high crystallization speed can be maintained even if the amount of Sb is relatively small, and the recording characteristics can be improved even in high linear velocity recording. it can. Since In promotes amorphization, it becomes possible to adjust the crystallization speed suitable for the desired recording linear velocity according to the addition amount. At the same time, the crystallization temperature can be increased according to the amount added, and the storage stability of the amorphous phase is improved. Further, the initialization is easy and the recording sensitivity is improved. If the amount of In is less than 10%, the storage characteristics in the amorphous state are deteriorated. If the amount of In is more than 20%, the effect of slowing down the crystallization speed becomes strong, making it unsuitable for high-speed recording.
When the Ge amount (γ) is in the above-described range, reproduction with high power is possible, and the storage state can be improved. If the amount of Ge is less than 2%, the effect of Ge does not appear and the storage state is not good. On the other hand, if the amount of Ge is more than 20%, the crystallization speed becomes slow and it becomes impossible to cope with high-speed recording, and furthermore, the melting point of Ge itself is high so that the recording sensitivity is deteriorated.

ここで、レーザ光が照射される側から見て一番奥以外の各情報層を構成している下部保護層、相変化記録層、上部保護層、反射層、熱拡散層の好ましい膜厚について説明する。
下部保護層の膜厚は、20〜250nmの範囲にあることが望ましい。20nmより薄い場合は膜厚に対する反射率変動が大きいことから安定に作成することが難しく、250nmより厚い場合は光透過率が低くなり奥の情報層へ光を透過させ難くなるし、成膜時間が長くなり光記録媒体の生産性が落ちる。
本発明1の組成範囲で規定するInSbGeからなる相変化記録層の膜厚は、4〜14nmの範囲にあることが好ましい。4nmよりも薄い場合は均一な膜を作ることが困難となり好ましくない。14nmよりも厚い場合は光透過率が低くなり奥の情報層へ光を透過させ難くなる。
Here, preferable thicknesses of the lower protective layer, the phase change recording layer, the upper protective layer, the reflective layer, and the thermal diffusion layer that constitute each information layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam explain.
The thickness of the lower protective layer is preferably in the range of 20 to 250 nm. When the thickness is less than 20 nm, the reflectance variation with respect to the film thickness is large, so that it is difficult to produce stably. When the thickness is more than 250 nm, the light transmittance is low and it is difficult to transmit light to the information layer at the back, and the film formation time is reduced. This increases the productivity of optical recording media.
The film thickness of the phase change recording layer made of InSbGe defined by the composition range of the present invention 1 is preferably in the range of 4 to 14 nm. If it is thinner than 4 nm, it is difficult to form a uniform film, which is not preferable. When it is thicker than 14 nm, the light transmittance is low and it is difficult to transmit light to the information layer in the back.

上部保護層の膜厚は、5〜30nmの範囲にあることが望ましい。5nmより薄い場合は膜厚に対する反射率変動が大きいことから安定に作成することが難しく、更に熱が篭り難くなり変調度が確保し難くなる。30nmより厚い場合は光透過率が低くなり奥の情報層へ光を透過させ難くなるし、成膜時間が長くなり光記録媒体の生産性が落ちる。また熱が篭りすぎて記録特性が悪くなるという不具合も生じてしまう。
反射層の膜厚は、5〜15nmの範囲にあることが好ましい。5nmよりも薄い場合は均一な膜を作ることが困難となるし、放熱効果が得られ難くなるため好ましくない。15nmよりも厚い場合は反射層による光吸収が大きくなり光透過率が低くなって奥の情報層へ光を透過させ難くなる。
熱拡散層の膜厚は、40〜250nmの範囲にあることが好ましい。40nmよりも薄い場合は極薄の反射層の放熱効果を補う役割を担うことができなくなり記録し難くなる。250nmよりも厚い場合は放熱効果は得られるものの光透過率が低くなり、奥の情報層へ光を透過させ難くなる。
The thickness of the upper protective layer is preferably in the range of 5 to 30 nm. When the thickness is less than 5 nm, the reflectance variation with respect to the film thickness is large, so that it is difficult to produce the film stably. Further, it is difficult to generate heat and it is difficult to secure the degree of modulation. If it is thicker than 30 nm, the light transmittance is low and it becomes difficult to transmit light to the information layer in the back, and the film formation time is lengthened and the productivity of the optical recording medium is lowered. Also, there is a problem that the recording characteristics deteriorate due to excessive heat.
The thickness of the reflective layer is preferably in the range of 5 to 15 nm. If it is thinner than 5 nm, it is difficult to form a uniform film, and it is difficult to obtain a heat dissipation effect, which is not preferable. If it is thicker than 15 nm, the light absorption by the reflective layer increases and the light transmittance decreases, making it difficult to transmit light to the information layer in the back.
The thickness of the thermal diffusion layer is preferably in the range of 40 to 250 nm. If it is thinner than 40 nm, it is difficult to record because it cannot play the role of supplementing the heat dissipation effect of the ultra-thin reflective layer. If it is thicker than 250 nm, the heat dissipation effect is obtained, but the light transmittance is low, and it is difficult to transmit light to the information layer in the back.

本発明2によれば、第1記録層での記録特性及び保存特性を良好とすることが可能となる。Cuで構成された第1反射(放熱)層が好適である理由を以下に述べる。
図2のように、記録層が2層含まれる相変化型光記録媒体では、第2情報層に記録再生用のレーザ光をできるだけ多く透過させることが必要である。したがって、第1反射層を考えた場合に考慮されるべき事項として、第1反射層において吸収され難くかつ透過し易い材料が好ましい。そこで本発明者らは、各種の反射膜について波長660nmにおける光学的な測定を行なった。ここではA(吸収率)、R(反射率)、T(透過率)のデータを測定した。測定用サンプルは、0.6mmのポリカーボネート基板上に各金属膜10nmを成膜したものを用いた。その結果は図3のようになった。図3からPt、Pd、Tiは透過率が低く吸収率が高いため第1反射層としては好ましくないことが予想される。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to improve the recording characteristics and the storage characteristics in the first recording layer. The reason why the first reflective (heat radiation) layer made of Cu is suitable will be described below.
As shown in FIG. 2, in a phase change optical recording medium including two recording layers, it is necessary to transmit as much laser light for recording / reproduction as possible to the second information layer. Therefore, as a matter to be considered when considering the first reflective layer, a material that is difficult to be absorbed and easily transmitted by the first reflective layer is preferable. Therefore, the present inventors performed optical measurement at various wavelengths of 660 nm for various reflective films. Here, data of A (absorbance), R (reflectance), and T (transmittance) were measured. As a measurement sample, a metal film having a thickness of 10 nm was formed on a 0.6 mm polycarbonate substrate. The result is shown in FIG. From FIG. 3, it is expected that Pt, Pd, and Ti are not preferable as the first reflective layer because they have low transmittance and high absorption.

次に透過率が比較的高く吸収率が比較的低いAg、Cuについて膜厚を振って(変化させて)調査したところ、図4及び図5のような結果が得られた。即ち、Agの方が膜厚による変化が大きいことが分った。これは、Cuの方が成膜されたときの膜厚に対する光学定数の安定性が優れていることを表している。
更に、分光透過率の測定結果を図6に示すが、450nm程度の波長域でAgとCuの透過率が交差していることが分かった。これにより、450nm程度の波長域よりも長い波長領域ではCuの方が透過率が高く、660nm付近でのレーザ光に対しては、第1反射層としてCuを用いた方が好適であることが分った。
更に、第1反射層がAg、Cu、Auの3通りの記録媒体に対し、波長660nmにおいて3Tシングルパターンを第1記録層に記録してそのC/Nを測定したところ、図7のような結果となった。第1反射層をCuとした場合に一番高いC/Nが得られ、記録特性の観点から見ても、Cuが好適であることが分かった。
Next, when Ag and Cu having a relatively high transmittance and a relatively low absorptance were investigated by varying (changing) the film thickness, results as shown in FIGS. 4 and 5 were obtained. That is, it has been found that Ag has a larger change due to the film thickness. This indicates that the stability of the optical constant with respect to the film thickness when Cu is formed is excellent.
Furthermore, although the measurement result of spectral transmittance is shown in FIG. 6, it turned out that the transmittance | permeability of Ag and Cu cross | intersects in the wavelength range of about 450 nm. Accordingly, Cu has higher transmittance in a wavelength region longer than the wavelength region of about 450 nm, and it is preferable to use Cu as the first reflective layer for laser light in the vicinity of 660 nm. I understand.
Furthermore, when the 3T single pattern was recorded on the first recording layer at a wavelength of 660 nm and the C / N was measured with respect to the three recording media in which the first reflective layer was Ag, Cu, and Au, as shown in FIG. As a result. When the first reflective layer was made of Cu, the highest C / N was obtained, and it was found that Cu was preferable from the viewpoint of recording characteristics.

また、更に保存特性を良好にするため、Cuに0.6〜2.0重量%程度の微量な金属元素を加えた反射層としても良い。微量な金属元素としては、Mo、Ta、Nb、Cr、Zr、Ni、Geから選ばれる少なくとも1つが好ましい。これにより、Cu単独のときと比べて記録特性を劣化させずに、保存特性も良好とすることができる。
Ta、Nbは、酸素及び窒素との親和力が強い金属であり、酸素及び窒素のゲッター材として使われることがある。元々、金属層の劣化は化学的には酸化であることが多く、特にCuの場合、緑青として知られる反応物は酸化物である。その点からTa、Nbに関してはCuの劣化に対し効果がある。
次に、Mo、Zr、Cr、Ni、Geに関しては、これらの金属を添加すると、再結晶化の際に膜表面や銅の結晶粒界にCuとの合金が析出し、Cuの粒界拡散を抑制するためCuのマイグレーションが阻止され劣化が防止される。
第2反射層は、第1反射層のように半透明である必要は無い。以上のような第1反射層及び第2反射層は、各種の気相成長法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。中でも、スパッタリング法が量産性、膜質等に優れている。
In order to further improve the storage characteristics, a reflective layer in which a trace amount of metal element of about 0.6 to 2.0% by weight is added to Cu may be used. The trace metal element is preferably at least one selected from Mo, Ta, Nb, Cr, Zr, Ni, and Ge. Thereby, the storage characteristics can be improved without deteriorating the recording characteristics as compared with the case of Cu alone.
Ta and Nb are metals having strong affinity for oxygen and nitrogen, and are sometimes used as getter materials for oxygen and nitrogen. Originally, deterioration of a metal layer is often chemically oxidized, and in the case of Cu in particular, a reactant known as patina is an oxide. From this point, Ta and Nb are effective against Cu deterioration.
Next, regarding Mo, Zr, Cr, Ni, and Ge, when these metals are added, an alloy with Cu precipitates on the film surface or the copper grain boundary during recrystallization, and Cu grain boundary diffusion occurs. Therefore, Cu migration is prevented and deterioration is prevented.
The second reflective layer does not need to be translucent like the first reflective layer. The first reflective layer and the second reflective layer as described above are formed by various vapor deposition methods such as vacuum vapor deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating, electron beam vapor deposition, and the like. it can. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality.

本発明3では、レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の上部保護層に、Snの酸化物を含有させる。
単層相変化型光記録媒体で上部保護層に用いられる材料は、透明で光を良く通し、かつ融点が記録層よりも高い材料からなるものが好ましく、記録層の劣化変質を防ぎ、記録層との接着強度を高め、かつ記録特性を高めるなどの作用を有するもので、特にZnS−SiOが良く用いられ、ZnS:SiO=80:20(モル%)が最も好ましい。
しかし、多層相変化型光記録媒体の場合、第1記録層に情報の記録を行なう際に、第1反射層の膜厚が薄いために放熱性が悪くなり記録しづらくなるという不具合が生じる。そのため、第1上部保護層はできるだけ熱伝導性の良い材料を用いた方が良い。したがって、ZnS−SiOよりも放熱性が高いSnの酸化物を用いることが好ましい。またSnの酸化物に金属系酸化物(例えば、Ta酸化物、Al酸化物)が含まれていても良い。
Snの酸化物を用いることによって、第1反射層の膜厚が比較的薄くても第1記録層にアモルファスマークを形成させ易くなる。Sn酸化物、Ta酸化物、Al酸化物は、それぞれが反射層に対して劣化を促進しない材料であり、組成比率は生産工程、コスト、生産許容時間などにより選択すればよい。但し、Sn酸化物が多い場合は記録に必要なパワーが大きくなる傾向にある。Ta酸化物が多い場合は、成膜速度を低下させない材料ではあるが、第一情報層において記録特性が出難くなる。Al酸化物が多い場合は成膜速度が低下する傾向にある。
なお、第2上部保護層については従来どおりZnS−SiOを用いても良いし、Snの酸化物を用いても良い。理由は、第2記録層に記録する場合は、第2反射層を充分厚く成膜できるため充分な放熱性が得られるためである。
In the third aspect of the present invention, Sn oxide is contained in the upper protective layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam.
The material used for the upper protective layer in the single-layer phase change optical recording medium is preferably made of a material that is transparent, allows light to pass through, and has a higher melting point than the recording layer, and prevents deterioration and deterioration of the recording layer. In particular, ZnS—SiO 2 is often used, and ZnS: SiO 2 = 80: 20 (mol%) is most preferable.
However, in the case of a multilayer phase change type optical recording medium, when information is recorded on the first recording layer, the film thickness of the first reflective layer is so thin that heat dissipation becomes poor and recording becomes difficult. Therefore, it is better to use a material having as good a thermal conductivity as possible for the first upper protective layer. Therefore, it is preferable to use an oxide of Sn that has higher heat dissipation than ZnS—SiO 2 . Further, the Sn oxide may contain a metal-based oxide (for example, Ta oxide or Al oxide).
By using the Sn oxide, it is easy to form an amorphous mark on the first recording layer even if the first reflective layer is relatively thin. Sn oxide, Ta oxide, and Al oxide are materials that do not promote deterioration with respect to the reflective layer, and the composition ratio may be selected according to the production process, cost, allowable production time, and the like. However, when there are many Sn oxides, the power required for recording tends to increase. When there are many Ta oxides, although it is a material which does not reduce the film-forming speed | rate, it becomes difficult to show a recording characteristic in a 1st information layer. When the amount of Al oxide is large, the deposition rate tends to decrease.
For the second upper protective layer, ZnS—SiO 2 may be used as usual, or Sn oxide may be used. The reason is that when recording on the second recording layer, the second reflective layer can be formed sufficiently thick, so that sufficient heat dissipation is obtained.

第1下部保護層及び第2下部保護層は、透明で光を良く通し、かつ融点が記録層よりも高い材料からなるものが好ましく、記録層の劣化変質を防ぎ、記録層との接着強度を高め、かつ記録特性を高めるなどの作用を有するもので、金属酸化物、窒化物、硫化物、炭化物などが主に用いられる。例として、SiO、SiO、ZnO、SnO、Al、TiO、In、MgO、ZrOなどの金属酸化物、Si、AlN、TiN、BN、ZrNなどの窒化物、ZnS、In、TaSなどの硫化物、SiC、TaC、BC、WC、TiC、ZrCなどの炭化物、ダイヤモンド状カーボンが挙げられる。これらの材料は、単体で保護膜とすることもできるが、互いの混合物としても良い。また、必要に応じて不純物を含んでも良い。例えば、ZnSとSiOを混合したZnS−SiO、TaとSiO2を混合したTa−SiOが挙げられる。特にZnS−SiOが良く用いられるが、ZnS:SiO=80:20(モル%)が最も好ましい。この材料は屈折率nが高く消衰係数kがほぼゼロであるため、記録層の光の吸収効率を上げることができ、かつ、熱伝導率が小さいため光吸収により発生した熱の拡散を適度に抑えることができるので、記録層を溶融可能な温度まで昇温することができる。
以上のような第1上部保護層、第2上部保護層、第1下部保護層及び第2下部保護層は、各種の気相成長法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。中でも、スパッタリング法が量産性、膜質等に優れている。
The first lower protective layer and the second lower protective layer are preferably made of a material that is transparent, allows light to pass through, and has a melting point higher than that of the recording layer, prevents deterioration and deterioration of the recording layer, and increases the adhesive strength with the recording layer. The metal oxide, nitride, sulfide, carbide, etc. are mainly used. Examples include metal oxides such as SiO, SiO 2 , ZnO, SnO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , In 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , Si 3 N 4 , AlN, TiN, BN, ZrN, etc. Examples thereof include nitrides, sulfides such as ZnS, In 2 S 3 and TaS 4 , carbides such as SiC, TaC, B 4 C, WC, TiC and ZrC, and diamond-like carbon. These materials can be used alone as a protective film, but they may be mixed with each other. Further, impurities may be included as necessary. For example, Ta 2 O 5 -SiO a mixture of ZnS and ZnS-SiO 2 mixed with SiO 2, Ta 2 O 5 and SiO2 and the like. In particular, ZnS—SiO is often used, but ZnS: SiO 2 = 80: 20 (mol%) is most preferable. Since this material has a high refractive index n and an extinction coefficient k of almost zero, the light absorption efficiency of the recording layer can be increased, and since the thermal conductivity is small, the diffusion of heat generated by light absorption is moderate. Therefore, the temperature of the recording layer can be raised to a melting temperature.
The first upper protective layer, the second upper protective layer, the first lower protective layer, and the second lower protective layer as described above may be formed by various vapor deposition methods such as vacuum deposition, sputtering, plasma CVD, and photo CVD. It can be formed by a method, an ion plating method, an electron beam evaporation method or the like. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality.

本発明4では、熱拡散層にInの酸化物を用いる。
熱拡散層としては、レーザ照射された第1記録層を急冷させるために熱伝導率が大きいことが望まれる。また、奥側の第2情報層が記録再生できるように、レーザ波長での吸収率が小さいことも望まれる。以上のことから、窒化物、酸化物、硫化物、炭化物、弗化物の少なくとも一種を含んでいることが好ましい。例えば、AlN、Al、SiC、SiN、IZO(酸化インジウム−酸化亜鉛)、ITO(酸化インジウム−酸化スズ)、DLC(ダイヤモンドライクカーボン)、BNなどが挙げられる。中でも、IZO(本発明5に対応)、若しくはITO(本発明6に対応)が最も好ましい。
まず、ITO(酸化インジウム−酸化スズ)に含まれている酸化スズは、1〜10重量%含まれていることが好ましい。この範囲より少ないか又は多いと、熱伝導率及び透過率が低下してしまう。また、保存安定性の向上などを目的に他の元素を添加しても良い。これらの元素は、光学的性質に影響を与えない範囲で添加することができ、0.1〜5重量%含まれていることが好ましい。0.1重量%より少ないと効果が得られなくなるし、5重量%より多いと、光吸収が大きくなり透過率が減少してしまう。また、情報の記録再生に用いるレーザ光の波長において、吸収係数が1.0以下、更には、0.5以下であることが好ましい。1.0よりも大きいと第一情報層での吸収率が増大し、第2情報層の記録再生が困難になる。
また、ITO(酸化インジウム−酸化スズ)の代りに、IZO(酸化インジウム−酸化亜鉛)を用いると、光記録媒体中での内部応力が小さくなるため、極微少な膜厚の変化などが起こり難くなり好ましい。
以上のような熱拡散層は、各種の気相成長法、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、プラズマCVD法、光CVD法、イオンプレーティング法、電子ビーム蒸着法などによって形成できる。中でも、スパッタリング法が量産性、膜質等に優れている。
In the present invention 4, an oxide of In is used for the thermal diffusion layer.
As the thermal diffusion layer, it is desirable that the thermal conductivity is high in order to quench the first recording layer irradiated with the laser. It is also desirable that the absorption rate at the laser wavelength is small so that the second information layer on the back side can be recorded and reproduced. From the above, it is preferable that at least one of nitride, oxide, sulfide, carbide and fluoride is included. Examples thereof include AlN, Al 2 O 3 , SiC, SiN, IZO (indium oxide-zinc oxide), ITO (indium oxide-tin oxide), DLC (diamond-like carbon), and BN. Among them, IZO (corresponding to the present invention 5) or ITO (corresponding to the present invention 6) is most preferable.
First, it is preferable that 1 to 10% by weight of tin oxide contained in ITO (indium oxide-tin oxide) is contained. If it is less than or greater than this range, the thermal conductivity and transmittance will be reduced. Further, other elements may be added for the purpose of improving storage stability. These elements can be added within a range that does not affect the optical properties, and are preferably contained in an amount of 0.1 to 5% by weight. If the amount is less than 0.1% by weight, the effect cannot be obtained. If the amount is more than 5% by weight, the light absorption increases and the transmittance decreases. In addition, at the wavelength of the laser beam used for recording / reproducing information, the absorption coefficient is preferably 1.0 or less, and more preferably 0.5 or less. If it is greater than 1.0, the absorptance in the first information layer increases, and recording / reproduction of the second information layer becomes difficult.
In addition, when IZO (indium oxide-zinc oxide) is used instead of ITO (indium oxide-tin oxide), the internal stress in the optical recording medium is reduced, so that a very small change in film thickness hardly occurs. preferable.
The thermal diffusion layer as described above can be formed by various vapor phase growth methods such as vacuum vapor deposition, sputtering, plasma CVD, photo CVD, ion plating, electron beam vapor deposition and the like. Among these, the sputtering method is excellent in mass productivity and film quality.

第1基板は、記録再生のために照射する光を十分透過するものであることが必要であり、当該技術分野において従来知られているものを用いる。材料としては、通常ガラス、セラミックス又は樹脂等が挙げられるが、特に樹脂が成形性、コストの点で好適である。
樹脂としては、例えばポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、シリコン系樹脂、フッ素系樹脂、ABS樹脂、ウレタン樹脂などが挙げられるが、成形性、光学特性、コストの点で優れるポリカーボネート樹脂やポリメチルメタクリレート(PMMA)などのアクリル系樹脂が好ましい。
第1基板上の情報層を形成する面には、必要に応じてレーザ光のトラッキング用のスパイラル状又は同心円状の溝などであって、通常グルーブ部及びランド部と称される凹凸パターンが形成されていてもよく、これは射出成形法又はフォトポリマー法などによって形成される。第1基板の厚さは、10〜600μm程度が好ましい。
第2基板の材料としては、第1基板と同様の材料を用いても良いが、記録再生光に対して不透明な材料を用いてもよく、第1基板とは材質や溝形状が異なってもよい。第2基板の厚さは特に限定されないが、第1基板の厚さとの合計が1.2mmになるように厚さを選択することが好ましい。
The first substrate is required to be sufficiently transparent to the light irradiated for recording / reproduction, and one known in the art is used. As the material, usually glass, ceramics, resin, or the like can be given, and resin is particularly preferable in terms of moldability and cost.
Examples of the resin include polycarbonate resin, acrylic resin, epoxy resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer resin, polyethylene resin, polypropylene resin, silicon resin, fluorine resin, ABS resin, and urethane resin. Acrylic resins such as polycarbonate resin and polymethyl methacrylate (PMMA), which are excellent in terms of moldability, optical characteristics, and cost, are preferable.
On the surface on which the information layer on the first substrate is formed, a spiral or concentric groove for tracking the laser beam is formed as necessary, and a concave / convex pattern usually referred to as a groove portion or a land portion is formed. It may be formed by an injection molding method or a photopolymer method. The thickness of the first substrate is preferably about 10 to 600 μm.
As the material of the second substrate, the same material as that of the first substrate may be used, but a material opaque to the recording / reproducing light may be used, and the material and groove shape may be different from those of the first substrate. Good. The thickness of the second substrate is not particularly limited, but it is preferable to select the thickness so that the total thickness of the second substrate is 1.2 mm.

中間層は、記録再生を行なうために照射する光の波長における光吸収が小さいことが好ましく、材料としては成形性やコストの点で樹脂が好適であり、紫外線硬化性樹脂、遅効性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。第2基板、中間層には、第1基板と同様な、射出成形法又はフォトポリマー法などによって成形されるグルーブ、案内溝などの凹凸パターンが形成されていても良い。中間層は、記録再生を行なう際に、ピックアップが第1情報層と第2情報層とを識別して光学的に分離可能とするものであり、その厚さは10〜70μmが好ましい。10μmよりも薄いと情報層間クロストークが生じる。また、70μmより厚いと第2記録層を記録再生するときに球面収差が発生し、記録再生が困難になる傾向がある。   The intermediate layer preferably has low light absorption at the wavelength of light irradiated for recording / reproduction, and as the material, a resin is preferable in terms of moldability and cost, and an ultraviolet curable resin, a slow-acting resin, A plastic resin or the like can be used. The second substrate and the intermediate layer may be provided with uneven patterns such as grooves and guide grooves formed by an injection molding method or a photopolymer method, similar to the first substrate. The intermediate layer is a layer that enables the pickup to discriminate between the first information layer and the second information layer and perform optical separation when recording / reproducing, and the thickness is preferably 10 to 70 μm. If it is thinner than 10 μm, crosstalk between information layers occurs. On the other hand, when the thickness is larger than 70 μm, spherical aberration occurs when recording / reproducing the second recording layer, and recording / reproduction tends to be difficult.

本発明の2層相変化型光記録媒体は、以下のようにして製造されるのが好ましい。製造方法としては、成膜工程、初期化工程、密着工程からなり、基本的にはこの順に各工程を行なう。
成膜工程では、図2において、第1基板のグルーブが設けられた面に第1情報層を、第2基板のグルーブが設けられた面に第2情報層をそれぞれ成膜する。第1情報層、第2情報層は、前述した各種気相成長法で形成できる。中でも、量産性、膜質等に優れたスパッタリング法は、一般にアルゴンなどの不活性ガスを流しながら成膜を行なうが、その際、酸素、窒素などを混入させながら反応スパッタリングさせても良い。
初期化工程では、第1情報層、第2情報層に対して、レーザ光などのエネルギー光を照射することにより全面を初期化、即ち記録層を結晶化させる。初期化工程の際にレーザ光エネルギーにより膜が浮いてきてしまう恐れのある場合には、初期化工程の前に、第1情報層、第2情報層の上にUV樹脂などをスピンコートし、紫外線を照射して硬化させ、オーバーコートを施しても良い。また、次の密着工程を先に行なった後に、第1基板側から第1情報層、第2情報層を初期化させても構わない。
密着工程では、第1情報層と第2情報層とを向かい合わせながら、第1基板と第2基板とを中間層を介して貼り合わせる。例えば、何れか一方の膜面にUV樹脂を塗布し、膜面同士を向かい合わせて両基板を加圧、密着させ、紫外線を照射して樹脂を硬化させることができる。
The two-layer phase change optical recording medium of the present invention is preferably produced as follows. The manufacturing method includes a film forming process, an initialization process, and an adhesion process, and each process is basically performed in this order.
In the film forming step, in FIG. 2, the first information layer is formed on the surface of the first substrate on which the groove is provided, and the second information layer is formed on the surface of the second substrate on which the groove is provided. The first information layer and the second information layer can be formed by the various vapor deposition methods described above. Among them, the sputtering method excellent in mass productivity, film quality and the like is generally performed while flowing an inert gas such as argon, and at that time, reactive sputtering may be performed while mixing oxygen, nitrogen and the like.
In the initialization step, the entire surface is initialized by irradiating the first information layer and the second information layer with energy light such as laser light, that is, the recording layer is crystallized. If there is a possibility that the film may float due to laser light energy during the initialization process, before the initialization process, spin coat UV resin or the like on the first information layer and the second information layer, It may be cured by irradiating with ultraviolet rays, and an overcoat may be applied. Moreover, after performing the next contact | adherence process previously, you may initialize a 1st information layer and a 2nd information layer from the 1st board | substrate side.
In the adhesion process, the first substrate and the second substrate are bonded to each other through the intermediate layer while the first information layer and the second information layer face each other. For example, UV resin can be applied to any one of the film surfaces, the film surfaces face each other, both substrates can be pressed and adhered, and the resin can be cured by irradiation with ultraviolet rays.

本発明によれば、高線速記録と再生光安定性と保存安定性を同時に満足する多層相変化型光記録媒体を提供できる。   According to the present invention, it is possible to provide a multilayer phase change type optical recording medium that simultaneously satisfies high linear velocity recording, reproduction light stability, and storage stability.

以下、実施例及び比較例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例により限定されるものではない。実施例で作成された2層相変化型光記録媒体は、図2のような構成である。スパッタ装置は、バルザース社製の8チャンバー枚葉スパッタ装置を用いた。評価装置は、シバソク社製DVDTesTer LM330A(記録時に照射されるレーザ波長660nm、対物レンズの開口数NA=0.65)を用いた。また、再生光パワーは1.4mWとした。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example and a comparative example demonstrate this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples. The two-layer phase change optical recording medium prepared in the example has a configuration as shown in FIG. As the sputtering apparatus, an 8-chamber single wafer sputtering apparatus manufactured by Balzers was used. The evaluation apparatus used was DVDTester LM330A (laser wavelength 660 nm irradiated during recording, numerical aperture NA = 0.65 of the objective lens) manufactured by ShibaSoku. The reproducing light power was 1.4 mW.

(実施例1)
直径12cm、厚さ0.6mmで、片面にトラックピッチ0.74μmの連続溝によるトラッキングガイドの凹凸を持つポリカーボネート樹脂からなる第1基板上に、ZnS(80モル%)−SiO(20モル%)からなる膜厚220nmの第1下部保護層、In0Sb65Ge15からなる膜厚8nmの第1記録層、SnO(90モル%)−Ta(10モル%)からなる膜厚12.5nmの第1上部保護層、Cuからなる膜厚8nmの第1反射層、In(90モル%)−ZnO(10モル%)からなる膜厚140nmの熱拡散層の順に、Arガス雰囲気中のスパッタリング法で成膜した。
一方、第1基板と同じ基板を第2基板として、第2基板上に、Agからなる膜厚140nmの第2反射層、SnO(80モル%)−Ta(4モル%)−Al(16モル%)からなる膜厚11nmの第2上部保護層、Ag0.2In3.5Sb71.4Te21.4Ge3.5からなる膜厚14nmの第2記録層、ZnS(80モル%)−SiO(20モル%)からなる膜厚120nmの第2下部保護層の順に、Arガス雰囲気中のスパッタリング法で成膜した。
次に、第1情報層、第2情報層に対して、それぞれ第1基板側、第2情報層膜面側からレーザ光を照射し、初期化処理を行なった。初期化は、半導体レーザ(発光波長810±10nm)から出射されるレーザ光を、光ピックアップ(NA=0.55)により集光することにより行なった。初期化条件は、CLV(線速度一定)モードにより光記録媒体を回転させ、線速3m/s、送り量36μm/回転、半径位置23mm〜58mm、初期化パワー700mWとした。
次に、第1情報層の膜面側上に紫外線硬化樹脂(日本化薬製カヤラッドDVD576M)を塗布し、第2基板の第2情報層面側を貼り合わせてスピンコートし、第1基板側から紫外線光を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させて中間層とし、2つの情報層を有する2層相変化型光記録媒体を作成した。中間層の厚さは45μmとした。
第1記録層へ記録を行なう際の記録線速は7m/sとした。
Example 1
ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) is formed on a first substrate made of a polycarbonate resin having a diameter of 12 cm and a thickness of 0.6 mm and having a tracking guide irregularity with a continuous groove having a track pitch of 0.74 μm on one side. ), A first lower protective layer having a thickness of 220 nm, a first recording layer having a thickness of 8 nm, made of In 2 0Sb 65 Ge 15, and a film made of SnO 2 (90 mol%)-Ta 2 O 5 (10 mol%). A first upper protective layer having a thickness of 12.5 nm, a first reflective layer having a thickness of 8 nm made of Cu, and a thermal diffusion layer having a thickness of 140 nm made of In 2 O 3 (90 mol%)-ZnO (10 mol%). A film was formed by a sputtering method in an Ar gas atmosphere.
On the other hand, using the same substrate as the first substrate as the second substrate, a second reflective layer made of Ag having a thickness of 140 nm, SnO 2 (80 mol%)-Ta 2 O 5 (4 mol%)- A second upper protective layer having a thickness of 11 nm made of Al 2 O 3 (16 mol%) and a second recording having a thickness of 14 nm made of Ag 0.2 In 3.5 Sb 71.4 Te 21.4 Ge 3.5 The layers and the second lower protective layer having a thickness of 120 nm made of ZnS (80 mol%)-SiO 2 (20 mol%) were formed in this order by a sputtering method in an Ar gas atmosphere.
Next, the first information layer and the second information layer were irradiated with laser light from the first substrate side and the second information layer film surface side, respectively, and an initialization process was performed. Initialization was performed by condensing the laser beam emitted from the semiconductor laser (emission wavelength 810 ± 10 nm) with an optical pickup (NA = 0.55). Initialization conditions were such that the optical recording medium was rotated in the CLV (constant linear velocity) mode, the linear velocity was 3 m / s, the feed amount was 36 μm / rotation, the radial position was 23 mm to 58 mm, and the initialization power was 700 mW.
Next, an ultraviolet curable resin (Nippon Kayaku Kayrad DVD576M) is applied on the film surface side of the first information layer, the second information layer surface side of the second substrate is bonded and spin-coated, and from the first substrate side. A two-layer phase change optical recording medium having two information layers was prepared by irradiating ultraviolet light to cure the ultraviolet curable resin as an intermediate layer. The thickness of the intermediate layer was 45 μm.
The recording linear velocity when recording on the first recording layer was 7 m / s.

(実施例2〜10、比較例1〜4)
第1記録層の組成を表1に記載のものに変えた点以外は、実施例1と同様にして実施例2〜10、及び比較例1〜4の各2層相変化光記録媒体を作製した。第1記録層へ記録を行なう際の記録線速は表1のとおりとした。
(Examples 2 to 10, Comparative Examples 1 to 4)
Except that the composition of the first recording layer was changed to that shown in Table 1, the two-layer phase change optical recording media of Examples 2 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 were prepared in the same manner as Example 1. did. Table 1 shows the recording linear velocity when recording on the first recording layer.

上記実施例1〜10と比較例1〜4の2層相変化光記録媒体について特性を評価した。評価基準は、8Tシングルパターン記録時のC/N比が45dB以上の場合を合格、45dB未満の場合を不合格とし、3Tシングルパターンを上書きしたときの消去比が−30dB以下の場合を合格、−30dBを超える場合を不合格とした。また保存試験は、80℃85%RHの条件下で100時間保存した後に、C/N比の低下が3dB未満の場合を「○」、3dB以上の場合を「×」とした。
結果を纏めて表1に示したが、第1記録層の組成が本発明の範囲を外れると、8Tシングルパターン記録時のC/N比が不合格になったり、保存特性が×になることが分る。
The characteristics of the two-layer phase change optical recording media of Examples 1 to 10 and Comparative Examples 1 to 4 were evaluated. The evaluation criteria are a case where the C / N ratio at the time of 8T single pattern recording is 45 dB or more, a case where it is less than 45 dB, and a case where the erase ratio when overwriting the 3T single pattern is -30 dB or less, The case where it exceeded -30 dB was made disqualified. In the storage test, after storing for 100 hours under the condition of 80 ° C. and 85% RH, the case where the decrease in C / N ratio is less than 3 dB is “◯”, and the case where it is 3 dB or more is “x”.
The results are summarized in Table 1, but if the composition of the first recording layer is outside the range of the present invention, the C / N ratio at the time of 8T single pattern recording becomes unacceptable and the storage characteristics become x. I understand.

Figure 2006247855
Figure 2006247855

(実施例11〜17、比較例5〜7)
第1記録層の組成をIn15Sb80Geに変え、第1反射層をCuに対して表2に記載の金属を表2に記載の割合で添加したものに変えた点以外は、実施例1と同様にして実施例11〜17及び比較例5〜7各2層相変化光記録媒体を作製した。
これらの媒体について、実施例1と同様にして保存特性を調べた。
評価基準は、80℃85%RHで100時間保存後に、C/N比の低下が1.5dB以下(変化量が−1.5dB以下)の場合を合格、1.5dB以上の場合を不合格とした。
結果を表2に示すが、比較例では、変化量が−1.5dBを超えていることが分かる。
なお、上記各媒体について、実施例1と同様にして保存試験前に8Tシングルパターン記録を行なったところ、何れもC/N比50dB以上が得られた。
(Examples 11-17, Comparative Examples 5-7)
Except that the composition of the first recording layer was changed to In 15 Sb 80 Ge 5 and the first reflective layer was changed to Cu added with the metals shown in Table 2 in the proportions shown in Table 2 with respect to Cu. In the same manner as in Example 1, Examples 11 to 17 and Comparative Examples 5 to 7 were prepared as two-layer phase change optical recording media.
The storage characteristics of these media were examined in the same manner as in Example 1.
The evaluation criteria are passed after storage at 80 ° C. and 85% RH for 100 hours, and when the C / N ratio decrease is 1.5 dB or less (change amount is −1.5 dB or less), it is rejected when 1.5 dB or more. It was.
The results are shown in Table 2, and it can be seen that the amount of change exceeds -1.5 dB in the comparative example.
For each of the above media, 8T single pattern recording was performed before the storage test in the same manner as in Example 1. As a result, a C / N ratio of 50 dB or more was obtained.

Figure 2006247855
Figure 2006247855

記録層が単層構成の場合の結晶化速度の転移線速を表した図。The figure showing the transition linear velocity of the crystallization speed in case a recording layer is a single layer structure. 2層相変化型光記録媒体の層構成を表した図。The figure showing the layer structure of the two-layer phase change type optical recording medium. 反射層材料の吸収率、反射率、透過率を表した図。The figure showing the absorptivity, reflectance, and transmittance of the reflective layer material. 660nmでのCuの吸収率、反射率、透過率の膜厚依存性を表した図。The figure showing the film thickness dependence of the absorptivity, reflectance, and transmittance of Cu at 660 nm. 660nmでのAgの吸収率、反射率、透過率の膜厚依存性を表した図。The figure showing the film thickness dependence of the absorptivity, reflectance, and transmittance of Ag at 660 nm. Cu、Agの透過率の波長依存性を表した図。The figure showing the wavelength dependence of the transmittance | permeability of Cu and Ag. 第1反射層がCu、Ag、Auの場合の第1記録層の記録特性を表した図。The figure showing the recording characteristic of the 1st recording layer in case the 1st reflective layer is Cu, Ag, and Au.

符号の説明Explanation of symbols

LV 転移線速
R 反射率
T 透過率
A 吸収率
LV transition linear velocity R reflectivity T transmittance A absorptance

Claims (6)

レーザ光の照射によって相変化を起こすことにより情報を記録し得る相変化記録層を含む情報層が複数備えられ、レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の各情報層が、少なくとも下部保護層、相変化記録層、上部保護層、反射層、熱拡散層からなり、該相変化記録層の組成をInαSbβGeγ(α、β、γは原子%)とした場合に、以下の要件を満たしていることを特徴とする多層相変化型光記録媒体。
10≦α≦20
65≦β≦85
2≦γ≦20
A plurality of information layers including a phase change recording layer capable of recording information by causing a phase change by laser light irradiation, each information layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with laser light, When at least a lower protective layer, a phase change recording layer, an upper protective layer, a reflective layer, and a heat diffusion layer are used, and the composition of the phase change recording layer is InαSbβGeγ (α, β, and γ are atomic%), the following requirements Multilayer phase change optical recording medium characterized by satisfying
10 ≦ α ≦ 20
65 ≦ β ≦ 85
2 ≦ γ ≦ 20
レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の反射層が、Cu、又は、Cuに対してMo、Ta、Nb、Cr、Zr、Ni、Geのうちの少なくとも1つの金属元素を0.6〜2.0重量%添加した材料からなる事を特徴とする請求項1記載の多層相変化型光記録媒体。   The reflective layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam is Cu, or at least one metal element of Mo, Ta, Nb, Cr, Zr, Ni, and Ge with respect to Cu. 2. The multilayer phase change optical recording medium according to claim 1, comprising a material added in an amount of 0.6 to 2.0% by weight. レーザ光が照射される側から見て一番奥側以外の上部保護層が、Snの酸化物を含むことを特徴とする請求項1又は2記載の多層相変化型光記録媒体。   3. The multilayer phase change optical recording medium according to claim 1, wherein the upper protective layer other than the innermost side when viewed from the side irradiated with the laser beam contains an oxide of Sn. 熱拡散層がInの酸化物を含むことを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の多層相変化型光記録媒体。   4. The multilayer phase change optical recording medium according to claim 1, wherein the heat diffusion layer contains an oxide of In. 熱拡散層にZnの酸化物が混合されていることを特徴とする請求項4記載の多層相変化型光記録媒体。   5. The multilayer phase change optical recording medium according to claim 4, wherein Zn oxide is mixed in the thermal diffusion layer. 熱拡散層にSnの酸化物が混合されていることを特徴とする請求項4記載の多層相変化型光記録媒体。
5. The multilayer phase change optical recording medium according to claim 4, wherein an Sn oxide is mixed in the thermal diffusion layer.
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