JP2005274943A - Method for manufacturing protective film for polarizing plate, protective film for polarizing plate, polarizing plate and liquid crystal display apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、偏光板保護フィルムとその製造方法、偏光板及び液晶表示装置とに関する。 The present invention relates to a polarizing plate protective film, a manufacturing method thereof, a polarizing plate, and a liquid crystal display device.
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々用途が広がっている。従来、画像の視野角依存性が大きいことが液晶表示装置の大きな欠点であったが、近年、VAモード、IPSモード等の高視野角液晶モードが実用化されており、これによりテレビ等の高視野角が要求される市場でも液晶表示装置の需要が急速に拡大しつつある。
これに伴い、液晶表示装置に用いられる偏光板に対しても品質及び生産性のさらなる向上が求められている。
現在、液晶表示装置用の偏光板としては、ヨウ素で染色されたポリビニルアルコール系フィルムを延伸した偏光子に、両側から偏光板保護フィルムを貼り合わせたものを用いることが一般的である。偏光板保護フィルムとしては、セルロースアシレートフィルムを鹸化処理して、表面を親水的にし、ポリビニルアルコール系フィルムとの親和性を付与したものが広く用いられている。
しかし、これらの偏光板は点欠陥やしみ等の面状故障が多く歩留まりが低いという問題を抱えていた。これに対して、セルロースアシレートフィルムの製膜時の面状故障を低減することにより、偏光板の面状を改良する方法が特許文献1及び2に開示されている。しかし、これらの方法によっても面状改良は不十分であった。
Liquid crystal display devices are increasingly used year by year as space-saving image display devices with low power consumption. Conventionally, the large viewing angle dependence of images has been a major drawback of liquid crystal display devices, but in recent years, high viewing angle liquid crystal modes such as VA mode and IPS mode have been put into practical use. The demand for liquid crystal display devices is rapidly expanding even in markets where viewing angles are required.
Along with this, further improvements in quality and productivity have been demanded for polarizing plates used in liquid crystal display devices.
Currently, as a polarizing plate for a liquid crystal display device, it is common to use a polarizer obtained by stretching a polyvinyl alcohol film dyed with iodine and a polarizing plate protective film bonded from both sides. As a polarizing plate protective film, a film obtained by saponifying a cellulose acylate film to make the surface hydrophilic and imparting affinity with a polyvinyl alcohol film is widely used.
However, these polarizing plates have a problem that the yield is low with many surface defects such as point defects and spots. On the other hand,
本発明の目的は、点欠陥が少なく歩留まりの高い偏光板を提供することである。
本発明の別の目的は、表示品位の高い液晶表示装置を提供することである。
An object of the present invention is to provide a polarizing plate with few point defects and high yield.
Another object of the present invention is to provide a liquid crystal display device with high display quality.
本発明の研究者は、鋭意検討した結果、鹸化工程でセルロースアシレートフィルムから溶出する成分がさらにに変質して水に不溶となり、これが保護フィルム上に残存したまま、偏光子と貼り合わせられることにより点欠陥やしみ状の面状故障が発生していることを見出し、この不溶成分の生成の抑制及び/又は生成した不溶成分の効果的な洗浄により、上記課題を解決できることを見出した。
すなわち、本発明の第1の側面は以下の1)製造方法に係る。
1)酸化防止剤を含有する高アルカリ水溶液に熱可塑性樹脂フィルムを浸漬し、鹸化処理を行うことを特徴とする偏光板保護フィルムの製造方法。
As a result of diligent research, the researchers of the present invention have found that the components eluted from the cellulose acylate film in the saponification step are further altered and become insoluble in water, and remain on the protective film and bonded to the polarizer. As a result, it was found that a point defect or a spot-like surface failure occurred, and it was found that the above problem can be solved by suppressing the generation of the insoluble component and / or effectively cleaning the generated insoluble component.
That is, the first aspect of the present invention relates to the following 1) manufacturing method.
1) A method for producing a polarizing plate protective film, comprising immersing a thermoplastic resin film in a highly alkaline aqueous solution containing an antioxidant and performing a saponification treatment.
好ましい実施態様2)〜5)を以下に列挙する。
2)高アルカリ水溶液が界面活性剤を含有する1)記載の偏光板保護フィルムの製造方法、
3)熱可塑性樹脂フィルムが分子量200以上1,000以下の低分子化合物を0.1〜30質量%含有するセルロースアシレートフィルムである1)又は2)記載の偏光板保護フィルムの製造方法、
4)該セルロースアシレートフィルムが、アルカリ水溶液中で分解し、アルカリ水溶液に可溶の分解物を生成する分子量200以上1,000以下の化合物を1〜30質量%以上含有する1)〜3)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルムの製造方法、
5)該セルロースアシレートフィルムがpKaが8以上14以下の解離性基を少なくともひとつ有し、分子量が200以上1,000以下の低分子化合物を1〜30質量%含有する1)〜4)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルムの製造方法、
1)と関連する第2の側面にかかる6)偏光板保護フィルムとその実施態様7)〜11)、12)偏光板、及び13)液晶表示装置は以下のとおりである。
6)1)〜5)いずれか1つに記載の方法により製造された偏光板保護フィルム、
7)セルロースアシレートの置換度、及び分子量200以上1,000以下の低分子化合物が下記関係を満たす6)記載の偏光板保護フィルム、
0<Ao/Ai<1
0≦Ro/Ri≦0.9
Ao:表面からの深さが0.1μm以内の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
Ai:表面からの深さが2μm以上の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
Ro:表面からの深さが0.1μm以内の領域おける低分子化合物の存在量
Ri:表面からの深さが2μm以上の領域における低分子化合物の存在量
8)下記一般式(1)で表される化合物を含有する6)又は7)記載の偏光板保護フィルム。
一般式(1)
9)下記一般式(3)で表される化合物を含有する6)〜8)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルム、
上記一般式(3)において、R1はアルキル基またはアリール基を表し、R2は、アルキル基またはアリール基を表す。
10)セルロースアシレートフィルムが1.05以上2.00以下の延伸倍率で延伸されている6)〜9)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルム、
11)光学補償機能を有する6)〜10)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルム、
Preferred embodiments 2) to 5) are listed below.
2) A method for producing a polarizing plate protective film according to 1), wherein the highly alkaline aqueous solution contains a surfactant,
3) The method for producing a polarizing plate protective film according to 1) or 2), wherein the thermoplastic resin film is a cellulose acylate film containing 0.1 to 30% by mass of a low molecular compound having a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less,
4) The cellulose acylate film contains 1 to 30% by mass or more of a compound having a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less that decomposes in an aqueous alkali solution to produce a decomposition product soluble in the aqueous alkali solution. A method for producing a polarizing plate protective film according to any one of the above,
5) The cellulose acylate film contains at least one dissociable group having a pKa of 8 or more and 14 or less, and contains 1 to 30% by mass of a low molecular compound having a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less. A method for producing a polarizing plate protective film according to
6) Polarizing plate protective film and its embodiments 7) to 11), 12) polarizing plate, and 13) liquid crystal display device according to the second aspect related to 1) are as follows.
6) A polarizing plate protective film produced by the method according to any one of 1) to 5),
7) The polarizing plate protective film according to 6), wherein the substitution degree of cellulose acylate and the low molecular weight compound having a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less satisfy the following relationship:
0 <Ao / Ai <1
0 ≦ Ro / Ri ≦ 0.9
Ao: degree of acylation of cellulose acylate in a region having a depth of 0.1 μm or less from the surface Ai: degree of acylation of cellulose acylate in a region having a depth of 2 μm or more from the surface Ro: depth from the surface Abundance of low molecular compounds in a region having a thickness of 0.1 μm or less Ri: abundance of low molecular compounds in a region having a depth of 2 μm or more from the surface 8) containing a compound represented by the following general formula (1) The polarizing plate protective film of 6) or 7) description.
General formula (1)
9) The polarizing plate protective film as described in any one of 6) -8) containing the compound represented by following General formula (3),
In the general formula (3), R 1 represents an alkyl group or an aryl group, and R 2 represents an alkyl group or an aryl group.
10) The polarizing plate protective film according to any one of 6) to 9), wherein the cellulose acylate film is stretched at a stretch ratio of 1.05 to 2.00.
11) The polarizing plate protective film according to any one of 6) to 10) having an optical compensation function,
12)偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも1枚が6)〜11)いずれか1つに記載の偏光板保護フィルムであることを特徴とする偏光板、
13)液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板を有する液晶表示装置であって、少なくとも1つの偏光板が12)に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
12) A polarizing plate in which a protective film is bonded to both sides of a polarizer, wherein at least one of the protective films is the polarizing plate protective film according to any one of 6) to 11). Polarizing plate,
13) A liquid crystal display device having a liquid crystal cell and two polarizing plates disposed on both sides thereof, wherein at least one polarizing plate is the polarizing plate described in 12).
本発明によれば、点欠陥やムラが少なく、歩留まりの高い偏光板を提供することができる。さらに本発明の偏光板をを液晶表示装置に用いることで、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い液晶表示装置を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a polarizing plate with less yield of point defects and unevenness and high yield. Furthermore, by using the polarizing plate of the present invention for a liquid crystal display device, a liquid crystal display device with high display quality can be provided without causing problems such as light leakage.
(偏光板保護フィルム)
本発明の偏光板は偏光子の両側に1ずつ合計2枚の保護フィルムを有する偏光板であって、保護フィルムの少なくとも1枚は本発明の保護フィルムを使用した偏光板である。液晶表示装置に本発明の偏光板を用いる場合、液晶セルの両側に配置される二枚の偏光板の少なくとも一方が、本発明の偏光板であることが好ましい。
(Polarizing plate protective film)
The polarizing plate of the present invention is a polarizing plate having a total of two protective films, one on each side of the polarizer, and at least one of the protective films is a polarizing plate using the protective film of the present invention. When using the polarizing plate of this invention for a liquid crystal display device, it is preferable that at least one of the two polarizing plates arrange | positioned at the both sides of a liquid crystal cell is a polarizing plate of this invention.
本発明の偏光板保護フィルムの製造方法は、酸化防止剤を含有する高アルカリ水溶液に熱可塑性樹脂フィルムを浸漬し、鹸化処理を行うことを特徴とする。
鹸化処理に用いる酸化防止剤及び高アルカリ水溶液については後述する。
本発明において用いられる保護フィルムはノルボルネン樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリアリレート、ポリスルフォン、セルロースアシレートなどから製造されたポリマーフィルムであることが好ましく、セルロースアシレートフィルムであることがより好ましい。
The manufacturing method of the polarizing plate protective film of this invention is characterized by immersing a thermoplastic resin film in the highly alkaline aqueous solution containing antioxidant, and performing a saponification process.
The antioxidant and the highly alkaline aqueous solution used for the saponification treatment will be described later.
The protective film used in the present invention is preferably a polymer film produced from norbornene resin, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polycarbonate, polystyrene, polyarylate, polysulfone, cellulose acylate, etc., and is a cellulose acylate film. It is more preferable.
[セルロースアシレート]
本発明に使用するセルロースアシレートについて説明する。
セルロースアシレートの置換度は、セルロースの構成単位(β1→4グリコシド結合しているグルコース)に存在している三つの水酸基がアシル化されている割合を意味する。置換度は、セルロースの構成単位重量当りの結合脂肪酸量を測定して算出することができる。測定方法は、ASTM−D817−91に準じて実施する。
本発明のセルロースアシレートはアセチル化度が2.7以上3.0以下で炭素数3以上のアシル基を有しないものが好ましい。アセチル化度は2.75以上2.95以下がさらに好ましい。
[Cellulose acylate]
The cellulose acylate used in the present invention will be described.
The degree of substitution of cellulose acylate means the proportion of acylation of three hydroxyl groups present in cellulose structural units (glucose having β1 → 4 glycosidic bonds). The degree of substitution can be calculated by measuring the amount of bound fatty acid per unit weight of cellulose. The measurement method is carried out according to ASTM-D817-91.
The cellulose acylate of the present invention preferably has an acetylation degree of 2.7 to 3.0 and does not have an acyl group having 3 or more carbon atoms. The degree of acetylation is more preferably 2.75 or more and 2.95 or less.
さらに、本発明においては、アシル化度は1以上2.9であるセルロースアシレートを使用することも好ましい。アシル化度は1.7以上2.7以下がさらに好ましく、2.0以上2.5以下が最も好ましい。また、アシル基の平均炭素数は置換度は2以上7以下が好ましく、2.05以上5以下がさらに好ましく、2.6以上4以下が最も好ましい。
また、アシル基の炭素原子数は2乃至6であることが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基を用いることがさらに好ましい。また、本発明に使用するセルロースアシレートフィルムがアセチル基とそれ以外のアシル基を有する場合、アセチル基の置換度は2.5未満が好ましく、1.9未満がさらに好ましく、1.1未満が最も好ましい。
Furthermore, in the present invention, it is also preferable to use cellulose acylate having an acylation degree of 1 or more and 2.9. The degree of acylation is more preferably from 1.7 to 2.7, and most preferably from 2.0 to 2.5. The average carbon number of the acyl group is preferably 2 or more and 7 or less, more preferably 2.05 or more and 5 or less, and most preferably 2.6 or more and 4 or less.
The acyl group preferably has 2 to 6 carbon atoms, and more preferably an acetyl group, a propionyl group, or a butyryl group. When the cellulose acylate film used in the present invention has an acetyl group and other acyl groups, the degree of substitution of the acetyl group is preferably less than 2.5, more preferably less than 1.9, and less than 1.1. Most preferred.
本発明のセルロースアシレートは、350乃至800の重量平均重合度を有することが好ましく、370乃至600の重量平均重合度を有することがさらに好ましい。本発明のセルロースアシレートは、70,000乃至230,000の数平均分子量を有することが好ましく、75,000乃至230,000の数平均分子量を有することがさらに好ましく、78,000乃至120,000の数平均分子量を有することが最も好ましい。 The cellulose acylate of the present invention preferably has a weight average degree of polymerization of 350 to 800, more preferably a weight average degree of polymerization of 370 to 600. The cellulose acylate of the present invention preferably has a number average molecular weight of 70,000 to 230,000, more preferably a number average molecular weight of 75,000 to 230,000, and 78,000 to 120,000. Most preferably, it has a number average molecular weight of
本発明のセルロースアシレートは、アシル化剤として酸無水物や酸塩化物を用いて合成できる。アシル化剤が酸無水物である場合は、反応溶媒として有機酸(例、酢酸)や塩化メチレンが使用される。触媒としては、硫酸のようなプロトン性触媒が用いられる。アシル化剤が酸塩化物である場合は、触媒として塩基性化合物が用いられる。工業的に最も一般的な合成方法では、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する有機酸(酢酸、プロピオン酸、酪酸)またはそれらの酸無水物(無水酢酸、無水プロピオン酸、無水酪酸)を含む混合有機酸成分でエステル化してセルロースエステルを合成する。この方法において、綿花リンターや木材パルプのようなセルロースは、酢酸のような有機酸で活性化処理した後、硫酸触媒の存在下で、上記のような有機酸成分の混合液を用いてエステル化する場合が多い。有機酸無水物成分は、一般にセルロース中に存在する水酸基の量に対して過剰量で使用する。このエステル化処理では、エステル化反応に加えてセルロース主鎖β1→4グリコシド結合)の加水分解反応(解重合反応)が進行する。主鎖の加水分解反応が進むとセルロースエステルの重合度が低下し、製造するセルロースエステルフイルムの物性が低下する。そのため、反応温度のような反応条件は、得られるセルロースエステルの重合度や分子量を考慮して決定する必要がある。 The cellulose acylate of the present invention can be synthesized using an acid anhydride or acid chloride as an acylating agent. When the acylating agent is an acid anhydride, an organic acid (eg, acetic acid) or methylene chloride is used as a reaction solvent. As the catalyst, a protic catalyst such as sulfuric acid is used. When the acylating agent is an acid chloride, a basic compound is used as a catalyst. In the most common synthetic method in the industry, cellulose is an organic acid corresponding to acetyl group and other acyl groups (acetic acid, propionic acid, butyric acid) or their acid anhydrides (acetic anhydride, propionic anhydride, butyric anhydride). A cellulose ester is synthesized by esterification with a mixed organic acid component containing. In this method, cellulose such as cotton linter and wood pulp is activated with an organic acid such as acetic acid, and then esterified using a mixture of organic acid components as described above in the presence of a sulfuric acid catalyst. There are many cases to do. The organic acid anhydride component is generally used in an excess amount relative to the amount of hydroxyl groups present in the cellulose. In this esterification treatment, a hydrolysis reaction (depolymerization reaction) of the cellulose main chain β1 → 4 glycoside bond) proceeds in addition to the esterification reaction. When the hydrolysis reaction of the main chain proceeds, the degree of polymerization of the cellulose ester is lowered, and the physical properties of the cellulose ester film to be produced are lowered. Therefore, the reaction conditions such as the reaction temperature must be determined in consideration of the degree of polymerization and molecular weight of the resulting cellulose ester.
重合度の高い(分子量の大きい)セルロースエステルを得るためには、エステル化反応工程における最高温度を50℃以下に調節することが重要である。最高温度は、好ましくは35乃至50℃、さらに好ましくは37乃至47℃に調節する。反応温度が35℃未満では、エステル化反応が円滑に進行しない場合がある。反応温度が50℃を越えると、セルロースエステルの重合度が低下しやすい。エステル化反応の後、温度上昇を抑制しながら反応を停止すると、さらに重合度の低下を抑制でき、高い重合度のセルロースエステルを合成できる。すなわち、反応終了後に反応停止剤(例、水、酢酸)を添加すると、エステル化反応に関与しなかった過剰の酸無水物は、加水分解して対応する有機酸を副成する。この加水分解反応は激しい発熱を伴い、反応装置内の温度が上昇する。反応停止剤の添加速度が大きいと、反応装置の冷却能力を超えて急激に発熱する。そのため、セルロース主鎖の加水分解反応が著しく進行し、得られるセルロースエステルの重合度が低下する。また、エステル化の反応中に触媒の一部はセルロースと結合しており、その大部分は反応停止剤の添加中にセルロースから解離する。しかし、反応停止剤の添加速度が大きいと、触媒が解離するために充分な反応時間がなく、触媒の一部がセルロースに結合した状態で残る。強酸の触媒が一部結合しているセルロースエステルは安定性が非常に悪く、製品の乾燥時の熱などで容易に分解して重合度が低下する。これらの理由により、エステル化反応の後、好ましくは4分以上、さらに好ましくは4乃至30分の時間をかけて反応停止剤を添加して、反応を停止することが望ましい。なお、反応停止剤の添加時間が30分を越えると、工業的な生産性が低下する。反応停止剤としては、一般に酸無水物を分解する水やアルコールが用いられている。ただし、本発明では、各種有機溶媒への溶解性が低いトリエステルを析出させないために、水と有機酸との混合物が、反応停止剤として好ましく用いられる。以上のような条件でエステル化反応を実施すると、重量平均重合度が500以上である高分子量セルロースエステルを容易に合成することができる。 In order to obtain a cellulose ester having a high degree of polymerization (high molecular weight), it is important to adjust the maximum temperature in the esterification reaction step to 50 ° C. or lower. The maximum temperature is preferably adjusted to 35 to 50 ° C, more preferably 37 to 47 ° C. If the reaction temperature is less than 35 ° C., the esterification reaction may not proceed smoothly. When the reaction temperature exceeds 50 ° C., the degree of polymerization of the cellulose ester tends to decrease. After the esterification reaction, when the reaction is stopped while suppressing a temperature rise, a decrease in the degree of polymerization can be further suppressed, and a cellulose ester having a high degree of polymerization can be synthesized. That is, when a reaction terminator (eg, water, acetic acid) is added after completion of the reaction, excess acid anhydride that has not participated in the esterification reaction is hydrolyzed to form a corresponding organic acid as a by-product. This hydrolysis reaction is accompanied by intense heat generation, and the temperature in the reactor rises. When the rate of addition of the reaction terminator is high, heat is rapidly generated exceeding the cooling capacity of the reactor. Therefore, the hydrolysis reaction of the cellulose main chain proceeds remarkably, and the polymerization degree of the resulting cellulose ester is lowered. In addition, a part of the catalyst is bonded to the cellulose during the esterification reaction, and most of the catalyst is dissociated from the cellulose during the addition of the reaction terminator. However, when the rate of addition of the reaction terminator is high, there is not enough reaction time for the catalyst to dissociate, and a part of the catalyst remains in a state of being bound to cellulose. Cellulose esters to which a strong acid catalyst is partially bonded are very poor in stability, and are easily decomposed by heat during drying of the product to lower the degree of polymerization. For these reasons, after the esterification reaction, the reaction is preferably stopped by adding a reaction terminator over a period of preferably 4 minutes or more, more preferably 4 to 30 minutes. In addition, when the addition time of the reaction terminator exceeds 30 minutes, industrial productivity decreases. As the reaction terminator, water or alcohol that decomposes an acid anhydride is generally used. However, in the present invention, a mixture of water and an organic acid is preferably used as a reaction terminator in order not to precipitate triesters having low solubility in various organic solvents. When the esterification reaction is carried out under the above conditions, a high molecular weight cellulose ester having a weight average polymerization degree of 500 or more can be easily synthesized.
[疎水化剤]
次に、本発明に使用する分子量1,000以下の低分子化合物(以下、「疎水化剤」ともいう。)について説明する。
低分子化合物は分子量1,000以下であるが、分子量200以上1,000以下であることが好ましい。
本発明に使用する疎水化剤としては、アルカリ鹸化処理によりフィルム表面から深さが0.1μm以内に存在するものが取り除かれるものが好ましい。このような特性を有する疎水化剤の1つの好ましい例は、アルカリにより容易に分解し、かつ分解物が鹸化液中に溶出する疎水化剤を使用することである。このような疎水化剤としては分子内に少なくとも1つのエステル結合を有する化合物が好ましい。
[Hydrophobic agent]
Next, a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,000 or less (hereinafter also referred to as “hydrophobizing agent”) used in the present invention will be described.
The low molecular weight compound has a molecular weight of 1,000 or less, but preferably has a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less.
As the hydrophobizing agent used in the present invention, a hydrophobizing agent having a depth of within 0.1 μm from the film surface is preferably removed by alkali saponification treatment. One preferred example of a hydrophobizing agent having such characteristics is to use a hydrophobizing agent that is easily decomposed by alkali and the decomposition product elutes in the saponification solution. As such a hydrophobizing agent, a compound having at least one ester bond in the molecule is preferable.
なかでも下記一般式(1)で表される化合物は疎水化効果が大きく、且つセルロースアシレートとの相溶性にも優れ、特に好ましい。
以下にこれらの化合物に関して詳細に説明する。
一般式(1)
Among these, the compound represented by the following general formula (1) is particularly preferable because it has a large hydrophobizing effect and is excellent in compatibility with cellulose acylate.
These compounds are described in detail below.
General formula (1)
(式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、R1、R2、R3、R4およびR5のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。) (In the formula, R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 each represents an electron donating group, wherein R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, or an aryl having 6 to 12 carbon atoms. A group, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.
一般式(1)中、R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Tが適用できる。
R1、R2、R3、R4およびR5のうち少なくとも1つは電子供与性基を表す。好ましくはR1、R3またはR5のうちの1つが電子供与性基であり、R3が電子供与性基であることがより好ましい。
In general formula (1), R 1 , R 2 , R 3 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represent a hydrogen atom or a substituent, and the substituent will be described later. The substituent T can be applied.
At least one of R 1 , R 2 , R 3 , R 4 and R 5 represents an electron donating group. Preferably, one of R 1 , R 3 or R 5 is an electron donating group, and R 3 is more preferably an electron donating group.
電子供与性基とはHammetのσp値がO以下のものを表し、Chem.Rev.,91,165(1991).記載のHammetのσp値がO以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−0.85〜0のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6特に好ましくは炭素数1〜4である。)である。
The electron-donating group is one having a Hammett σ p value of O or less. Rev. 91, 165 (1991). Those having a Hammet's σ p value of not more than O can be preferably applied, and those having −0.85 to 0 are more preferably used. Examples thereof include an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, and a hydroxyl group.
The electron donating group is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably carbon). 1 to 4).
R1として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、最も好ましくはメトキシ基である。
R 1 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, and still more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a
R2として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基(好ましくは炭素数1〜4、より好ましくはメチル基である。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 2 is preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group or a hydroxyl group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group (preferably a carbon number). 1 to 4, more preferably a methyl group), an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to carbon atoms). 4). Particularly preferred are a hydrogen atom, a methyl group, and a methoxy group.
R3として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)である。最も好ましくはn−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である R 3 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, still more preferably an alkyl group or an alkoxy group, particularly preferably. An alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). Most preferred are n-propoxy group, ethoxy group, and methoxy group
R4として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4)であり、特に好ましくは水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数1〜4のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。 R 4 is preferably a hydrogen atom or an electron donating group, more preferably a hydrogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, an amino group, or a hydroxyl group, and still more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms. , An alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms), particularly preferably. Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and most preferably a hydrogen atom, a methyl group, or a methoxy group.
R5として好ましい基は、R2で挙げた基と同じである。 Preferred groups for R 5 are the same as those listed for R 2 .
R6、R7、R9およびR10として好ましくは水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数1〜12のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。 R 6 , R 7 , R 9 and R 10 are preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen atom, more preferably a hydrogen atom or a halogen atom. More preferably a hydrogen atom.
R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Tが適用できる。 R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryloxy having 6 to 12 carbon atoms. Group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom, which may have a substituent if possible. The group T can be applied.
R8として好ましくは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数2〜12アリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数1〜12のアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4である。)であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。 R 8 is preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 2 to 12 carbon atoms. And more preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms (preferably 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, particularly preferably 1 to 4 carbon atoms), and particularly preferably a methoxy group, an ethoxy group, and n. -A propoxy group, an iso-propoxy group, and an n-butoxy group.
一般式(1)のうちより好ましくは下記一般式(1−A)である。
一般式(1−A)
Of the general formula (1), the following general formula (1-A) is more preferable.
Formula (1-A)
(式中、R11はアルキル基を表す。R1、R2、R4、R5、R6、R7、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。R8は水素原子、炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。)
一般式(1―A)中、R1、R2、R4、R5、R6、R7、R8、R9およびR10はそれぞれ一般式(1)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
(Wherein R 11 represents an alkyl group. R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 8 Is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms, (Represents an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.)
In the general formula (1-A), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 8 , R 9 and R 10 are respectively synonymous with those in the general formula (1), and The preferable range is also the same.
一般式(1−A)中、R11はアルキル基を表し、R11で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数1〜12のアルキル基、より好ましくは炭素数1〜8アルキル基、更に好ましくは炭素数1〜6アルキル基、特に好ましくは炭素数1〜4のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる)を表す。 In general formula (1-A), R 11 represents an alkyl group, and the alkyl group represented by R 11 may be linear or branched, and may further have a substituent, An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, still more preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group or an ethyl group). , N-propyl group, iso-propyl group, n-butyl group, iso-butyl group, tert-butyl group and the like).
一般式(1)のうちより好ましくは下記一般式(1−B)である。
一般式(1−B)
Of the general formula (1), the following general formula (1-B) is more preferable.
Formula (1-B)
(式中、R1、R2、R4、R5、R6、R7、R9およびR10はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。R11は炭素数1〜12のアルキル基を表す。Xは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。) (Wherein R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 each independently represents a hydrogen atom or a substituent. R 11 is an alkyl having 1 to 12 carbon atoms. X represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, or an aryloxy group having 6 to 12 carbon atoms. A group, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.)
一般式(1−B)中、R1、R2、R4、R5、R6、R7、R9、R10は一般式(1)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
一般式(1−B)中、R11は一般式(1−A)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
In general formula (1-B), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 6 , R 7 , R 9 and R 10 have the same meanings as those in general formula (1), and the preferred ranges are also the same. It is.
In general formula (1-B), R 11 has the same meaning as those in general formula (1-A), and the preferred range is also the same.
一般式(1−B)中、Xは炭素数1〜4のアルキル基、炭素数2〜6のアルキニル基、炭素数6〜12のアリール基、炭素数1〜12のアルコキシ基、炭素数6〜12のアリールオキシ基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、炭素数2〜12のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
R1、R2、R4、R5がすべて水素原子の場合にはXとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基(好ましくは炭素数1〜12、より好ましくは炭素数1〜8、更に好ましくは炭素数1〜6、特に好ましくは炭素数1〜4である。)であり、特に好ましくは、メトキシ基、メトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。
In general formula (1-B), X is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkynyl group having 2 to 6 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and 6 carbon atoms. Represents an aryloxy group having 12 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, an acylamino group having 2 to 12 carbon atoms, a cyano group, or a halogen atom.
When all of R 1 , R 2 , R 4 and R 5 are hydrogen atoms, X is preferably an alkyl group, alkynyl group, aryl group, alkoxy group or aryloxy group, more preferably an aryl group or alkoxy group. And an aryloxy group, more preferably an alkoxy group (preferably having 1 to 12 carbon atoms, more preferably 1 to 8 carbon atoms, still more preferably 1 to 6 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 4 carbon atoms). And particularly preferably a methoxy group, a methoxy group, an n-propoxy group, an iso-propoxy group or an n-butoxy group.
R1、R2、R4、R5のうち少なくとも1つが置換基の場合にはXとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、であり、より好ましくはアリール基(好ましくは炭素数6〜12)、シアノ基、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜12)であり、更に好ましくはアリール基(好ましくは炭素数6〜12のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニルである。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素2〜12、より好ましくは炭素数2〜6、更に好ましくは炭素数2〜4、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニルである。)、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。 When at least one of R 1 , R 2 , R 4 and R 5 is a substituent, X is preferably an alkynyl group, aryl group, alkoxycarbonyl group or cyano group, more preferably an aryl group (preferably 6 to 12 carbon atoms), a cyano group, and an alkoxycarbonyl group (preferably 2 to 12 carbon atoms), more preferably an aryl group (preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, more preferably a phenyl group, p-cyanophenyl group and p-methoxyphenyl group), alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 12 carbon atoms, more preferably having 2 to 6 carbon atoms, still more preferably having 2 to 4 carbon atoms, particularly preferably methoxycarbonyl, Ethoxycarbonyl, n-propoxycarbonyl), cyano group, particularly preferably phenyl group, methoxycarbonyl. Boniru group, an ethoxycarbonyl group, n- propoxycarbonyl group, a cyano group.
一般式(1)のうち更に好ましくは下記一般式(1−C)である。
一般式(1−C)
Of the general formula (1), the following general formula (1-C) is more preferable.
Formula (1-C)
(式(1−C)中、R1、R2、R4、R5、R11およびXは一般式(1−B)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。) (In the formula (1-C), R 1 , R 2 , R 4 , R 5 , R 11 and X have the same meanings as those in the general formula (1-B), and preferred ranges are also the same.)
一般式(1)で表される化合物の中で好ましいのは下記一般式(1−D)で表される化合物である。
一般式(1−D)
Among the compounds represented by the general formula (1), a compound represented by the following general formula (1-D) is preferable.
Formula (1-D)
(式(1−D)中、R2、R4およびR5は一般式(1−C)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。R21、R22はそれぞれ独立に炭素数1〜4のアルキル基である。X1は炭素数6〜12のアリール基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。) (In formula (1-D), R 2 , R 4 and R 5 have the same meanings as those in formula (1-C), and preferred ranges are also the same. R 21 and R 22 are each independently carbon. X 1 is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or a cyano group.
R21は炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。
R22は炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
R 21 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, and more preferably an ethyl group or a methyl group.
R 22 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a methyl group, and still more preferably a methyl group.
X1は炭素数6〜12のアリール基、炭素2〜12アルコキシカルボニル基、又はシアノ基であり、好ましくは炭素数6〜10のアリール基、炭素数2〜6アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。 X 1 is an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms, or a cyano group, preferably an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, or a cyano group. More preferably a phenyl group, a p-cyanophenyl group, a p-methoxyphenyl group, a methoxycarbonyl, an ethoxycarbonyl, an n-propoxycarbonyl, a cyano group, and still more preferably a phenyl group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, n-propoxycarbonyl group and cyano group.
一般式(1)のうち最も好ましくは下記一般式(1−E)である。
一般式(1−E)
Of the general formula (1), the following general formula (1-E) is most preferable.
Formula (1-E)
(式(1−E)中、R2、R4およびR5は一般式(1−D)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1つは−OR13で表される基である(R13は炭素数1〜4のアルキル基である。)。R21、R22、X1は一般式(1−D)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。) (In the formula (1-E), R 2 , R 4 and R 5 have the same meanings as those in the general formula (1-D), and preferred ranges are also the same, but one of them is represented by —OR 13. (R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.) R 21 , R 22 and X 1 have the same meanings as those in formula (1-D), and preferred ranges are also the same. is there.)
一般式(1−E)中、R2、R4およびR5は一般式(1−D)におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか1つは−OR13で表される基であり(R13は炭素数1〜4のアルキル基である。)、好ましくはR4、R5が−OR13で表される基であり、より好ましくはR4が−OR13で表される基である。
R13は炭素数1〜4のアルキル基を表し、好ましくは炭素数1〜3のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。
In general formula (1-E), R 2 , R 4, and R 5 have the same meanings as those in general formula (1-D), and preferred ranges are also the same, but one of them is represented by —OR 13. (R 13 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), preferably R 4 and R 5 are groups represented by —OR 13 , more preferably R 4 is —OR 13 . It is a group represented.
R 13 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, preferably an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms, more preferably an ethyl group or a methyl group, and still more preferably a methyl group.
以下に前述の置換基Tについて説明する。
置換基Tとしては例えばアルキル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメチル、エチル、iso−プロピル、tert−ブチル、n−オクチル、n−デシル、n−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。)、アルケニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばビニル、アリル、2−ブテニル、3−ペンテニルなどが挙げられる。)、アルキニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜12、特に好ましくは炭素数2〜8であり、例えばプロパルギル、3−ペンチニルなどが挙げられる。)、アリール基(好ましくは炭素数6〜30、より好ましくは炭素数6〜20、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニル、p−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。)、置換又は未置換のアミノ基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜10、特に好ましくは炭素数0〜6であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜12、特に好ましくは炭素数1〜8であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。)、アリールオキシ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルオキシ、2−ナフチルオキシなどが挙げられる。)、アシル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニル基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜10であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。)、アシルオキシ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。)、アシルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜10であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。)、アルコキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数2〜20、より好ましくは炭素数2〜16、特に好ましくは炭素数2〜12であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、アリールオキシカルボニルアミノ基(好ましくは炭素数7〜20、より好ましくは炭素数7〜16、特に好ましくは炭素数7〜12であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。)、スルホニルアミノ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。)、アルキルスルファモイル基又はアリールスルファモイル基(好ましくは炭素数0〜20、より好ましくは炭素数0〜16、特に好ましくは炭素数0〜12であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。)、カルバモイル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。)、アルキルチオ基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。)、アリールチオ基(好ましくは炭素数6〜20、より好ましくは炭素数6〜16、特に好ましくは炭素数6〜12であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。)、アルキルスルホニル基又はアリールスルホニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。)、アルキルスルフィニル基又はアリールスルフィニル基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。)、ウレイド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。)、リン酸アミド基(好ましくは炭素数1〜20、より好ましくは炭素数1〜16、特に好ましくは炭素数1〜12であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。)、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子)、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基(好ましくは炭素数1〜30、より好ましくは1〜12であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。)、シリル基(好ましくは、炭素数3〜40、より好ましくは炭素数3〜30、特に好ましくは、炭素数3〜24であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる)などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
The aforementioned substituent T will be described below.
Examples of the substituent T include an alkyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 12 carbon atoms, and particularly preferably 1 to 8 carbon atoms such as methyl, ethyl, iso-propyl, tert-butyl, and n-octyl, n-decyl, n-hexadecyl, cyclopropyl, cyclopentyl, cyclohexyl, etc.), an alkenyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably carbon number). 2 to 8, for example, vinyl, allyl, 2-butenyl, 3-pentenyl, etc.), an alkynyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 12 carbon atoms, and particularly preferably carbon number). 2-8, for example, propargyl, 3-pentynyl, etc.), aryl groups (preferably having 6-30 carbon atoms) More preferably, it has 6 to 20 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, and examples thereof include phenyl, p-methylphenyl, naphthyl and the like, and a substituted or unsubstituted amino group (preferably having 0 to 0 carbon atoms). 20, more preferably 0 to 10 carbon atoms, particularly preferably 0 to 6 carbon atoms, such as amino, methylamino, dimethylamino, diethylamino, dibenzylamino, etc.), an alkoxy group (preferably having a carbon number) 1 to 20, more preferably 1 to 12 carbon atoms, particularly preferably 1 to 8 carbon atoms, such as methoxy, ethoxy, butoxy, etc.), an aryloxy group (preferably 6 to 20 carbon atoms, more Preferably it has 6 to 16 carbon atoms, particularly preferably 6 to 12 carbon atoms, such as phenyloxy, 2-naphthyloxy and the like. An acyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms, and examples thereof include acetyl, benzoyl, formyl, and pivaloyl). An alkoxycarbonyl group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, etc.), an aryloxycarbonyl group ( Preferably it has 7 to 20 carbon atoms, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 10 carbon atoms, and examples thereof include phenyloxycarbonyl, etc.), an acyloxy group (preferably 2 to 20 carbon atoms, More preferably, it has 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms. Nzoyloxy and the like. ), An acylamino group (preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 10 carbon atoms, and examples thereof include acetylamino and benzoylamino), alkoxycarbonylamino group (Preferably having 2 to 20 carbon atoms, more preferably 2 to 16 carbon atoms, particularly preferably 2 to 12 carbon atoms, such as methoxycarbonylamino), aryloxycarbonylamino group (preferably having carbon number) 7 to 20, more preferably 7 to 16 carbon atoms, particularly preferably 7 to 12 carbon atoms, such as phenyloxycarbonylamino, and the like, and sulfonylamino groups (preferably 1 to 20 carbon atoms, more preferably Has 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably 1 to 12 carbon atoms. , Benzenesulfonylamino, etc.), alkylsulfamoyl group or arylsulfamoyl group (preferably having 0 to 20 carbon atoms, more preferably 0 to 16 carbon atoms, particularly preferably 0 to 12 carbon atoms). For example, sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, phenylsulfamoyl, etc.), carbamoyl group (preferably having 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 16 carbon atoms, particularly preferably
また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。 Moreover, when there are two or more substituents, they may be the same or different. If possible, they may be linked together to form a ring.
以下に一般式(1)で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。 Hereinafter, the compound represented by the general formula (1) will be described in detail with specific examples, but the present invention is not limited to the following specific examples.
本発明の一般式(1)で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。
製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。
The compound represented by the general formula (1) of the present invention can be synthesized by a general ester reaction of a substituted benzoic acid and a phenol derivative, and any reaction may be used as long as it is an ester bond forming reaction. Examples thereof include a method of converting a substituted benzoic acid to an acid halide and then condensing with phenol, a method of dehydrating the substituted benzoic acid and a phenol derivative using a condensing agent or a catalyst, and the like.
In view of the production process and the like, a method in which the substituted benzoic acid is functionally converted to an acid halide and then condensed with phenol is preferable.
反応溶媒として炭化水素系溶媒(好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。)、エーテル系溶媒(好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる)、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。 Reaction solvents include hydrocarbon solvents (preferably toluene and xylene), ether solvents (preferably dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc.), ketone solvents, ester solvents, acetonitrile, dimethylformamide, dimethyl Acetamide or the like can be used. These solvents may be used alone or in admixture of several kinds, and preferred reaction solvents are toluene, acetonitrile, dimethylformamide and dimethylacetamide.
反応温度としては、好ましくは0〜150℃、より好ましくは0〜100℃、更に好ましくは0〜90℃であり、特に好ましくは20℃〜90℃である。
本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、3級アルキルアミン(好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる)である。
The reaction temperature is preferably 0 to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C, still more preferably 0 to 90 ° C, and particularly preferably 20 ° C to 90 ° C.
In this reaction, it is preferable not to use a base. When a base is used, either an organic base or an inorganic base may be used, preferably an organic base such as pyridine, tertiary alkylamine (preferably triethylamine, ethyldiisopropyl). Pyramine and the like).
以下に本発明の化合物の合成法に関して具体的に記載するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。 The method for synthesizing the compound of the present invention is specifically described below, but the present invention is not limited by the following specific examples.
[合成例1:例示化合物A−1の合成]
3,4,5−トリメトキシ安息香酸24.6g(0.116モル)、トルエン100mL、N−N−ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル15.2g(0.127モル)をゆっくりと滴下し、2時間60℃で加熱した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール15.1g(0.127モル)をアセトニトリル50mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、60℃で3時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル、水で分液操作を行い、得られた有機相を硫酸ナトリウムで水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、得られた固形物に、アセトニトリル100mLを加え、再結晶操作を行った。アセトニトリル溶液を室温まで冷却し、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を11.0g(収率11%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 1: Synthesis of Exemplified Compound A-1]
After heating 24.6 g (0.116 mol) of 3,4,5-trimethoxybenzoic acid, 100 mL of toluene and 1 mL of NN-dimethylformamide to 60 ° C., 15.2 g (0.127 mol) of thionyl chloride was slowly added. And then heated at 60 ° C. for 2 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 15.1 g (0.127 mol) of 4-cyanophenol in 50 mL of acetonitrile was slowly added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 3 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, liquid separation operation was performed with ethyl acetate and water. After removing water from the obtained organic phase with sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure. 100 mL was added and recrystallization operation was performed. The acetonitrile solution was cooled to room temperature, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 11.0 g (yield 11%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.50(br,9H),7.37(d,2H),7.45(s,2H),7.77(s,2H)
マススペクトル:m/z 314(M+H)+
得られた化合物の融点は172〜173℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.50 (br, 9H), 7.37 (d, 2H), 7.45 (s, 2H), 7.77 (s, 2H)
Mass spectrum: m / z 314 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 172 to 173 ° C.
[合成例2:例示化合物A−2の合成]
2,4,5−トリメトキシ安息香酸106.1g(0.5モル)、トルエン340mL、ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル65.4g(0.55モル)をゆっくりと滴下し、2時間65〜70℃で加熱した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール71.5g(0.6モル)をアセトニトリル150mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、80〜85℃で2時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル(1L)、水で分液操作を行い、得られた有機相を硫酸マグネシウムで水分を除去した後、約500mLの溶媒を減圧留去し、メタノール1Lを加え、再結晶操作を行った。析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を125.4g(収率80%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 2: Synthesis of Exemplified Compound A-2]
After heating 106.1 g (0.5 mol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 340 mL of toluene and 1 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 65.4 g (0.55 mol) of thionyl chloride was slowly added dropwise, Heated at 65-70 ° C. for 2 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 71.5 g (0.6 mol) of 4-cyanophenol in 150 mL of acetonitrile was slowly added dropwise. After completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 80 to 85 ° C. for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, liquid separation operation was performed with ethyl acetate (1 L) and water. After removing water from the obtained organic phase with magnesium sulfate, about 500 mL of the solvent was distilled off under reduced pressure, and 1 L of methanol was added. And recrystallization operation was performed. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 125.4 g (yield 80%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.91(s,3H),3.93(s,3H),3.98(s,3H),6.59(s,1H),7.35(d,2H),7.58(s,1H),7.74(d,2H)
マススペクトル:m/z 314(M+H)+
得られた化合物の融点は116℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.91 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.98 (s, 3H), 6.59 (s, 1H), 7.35 (d, 2H), 7.58 (s, 1H), 7.74 (d, 2H)
Mass spectrum: m / z 314 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 116 ° C.
[合成例3:例示化合物A−3の合成]
2,3,4−トリメトキシ安息香酸10.1g(47.5ミリモル)、トルエン40mL、ジメチルホルムアミド0.5mLを80℃に加熱した後、塩化チオニル6.22g(52.3ミリモル)をゆっくりと滴下し、80℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール6.2g(52.3ミリモル)をアセトニトリル20mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、80〜85℃で2時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル、水で分液操作を行い、得られた有機相を硫酸ナトリウムで水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、メタノール50mLを加え、再結晶操作を行った。析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を11.9g(収率80%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 3: Synthesis of Exemplified Compound A-3]
After heating 10.1 g (47.5 mmol) of 2,3,4-trimethoxybenzoic acid, 40 mL of toluene and 0.5 mL of dimethylformamide to 80 ° C., 6.22 g (52.3 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise. And stirred at 80 ° C. for 2 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 6.2 g (52.3 mmol) of 4-cyanophenol in 20 mL of acetonitrile was slowly added dropwise. After completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 80 to 85 ° C. for 2 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, liquid separation operation was performed with ethyl acetate and water. After removing water from the obtained organic phase with sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, 50 mL of methanol was added, and recrystallization operation was performed. Went. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 11.9 g (yield 80%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3):δ3.50(br,9H),7.37(d,2H),7.45(s,2H),7.77(s,2H)
マススペクトル:m/z 314(M+H)+
得られた化合物の融点は102〜103℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ): δ 3.50 (br, 9H), 7.37 (d, 2H), 7.45 (s, 2H), 7.77 (s, 2H)
Mass spectrum: m / z 314 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 102 to 103 ° C.
[合成例4:例示化合物A−4の合成]
2,4,6−トリメトキシ安息香酸25.0g(118ミリモル)、トルエン100mL、ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル15.4g(129ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール15.4g(129ミリモル)をアセトニトリル50mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、80〜85℃で4.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル、水で分液操作を行い、得られた有機相を硫酸ナトリウムで水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、メタノール500mL、アセトニトリル100mLを加え、再結晶操作を行った。析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を10.0g(収率27%)得た。なお、化合物の同定はマススペクトルで行った。
マススペクトル:m/z 314(M+H)+
得られた化合物の融点は172〜173℃であった。
[Synthesis Example 4: Synthesis of Exemplary Compound A-4]
After heating 25.0 g (118 mmol) of 2,4,6-trimethoxybenzoic acid, 100 mL of toluene and 1 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 15.4 g (129 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise, Stir for hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 15.4 g (129 mmol) of 4-cyanophenol in 50 mL of acetonitrile was slowly added dropwise. After completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 80 to 85 ° C. for 4.5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, liquid separation operation was performed with ethyl acetate and water. After removing water from the obtained organic phase with sodium sulfate, the solvent was distilled off under reduced pressure, and 500 mL of methanol and 100 mL of acetonitrile were added, Recrystallization operation was performed. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 10.0 g (yield 27%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 314 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 172 to 173 ° C.
[合成例5:例示化合物A−5の合成]
2,3−ジメトキシ安息香酸15.0g(82.3ミリモル)、トルエン60mL、ジメチルホルムアミド0.5mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル10.7(90.5ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール10.8g(90.5ミリモル)をアセトニトリル30mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、70〜80℃で7時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、イソプロピルアルコール90mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を12.3g(収率53%)得た。なお、化合物の同定はマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 5: Synthesis of Exemplary Compound A-5]
After heating 15.0 g (82.3 mmol) of 2,3-dimethoxybenzoic acid, 60 mL of toluene and 0.5 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 10.7 (90.5 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise. The mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 2 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 10.8 g (90.5 mmol) of 4-cyanophenol in 30 mL of acetonitrile was slowly added dropwise, and after completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 70 to 80 ° C. for 7 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, 90 mL of isopropyl alcohol was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 12.3 g (yield 53%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by mass spectrum.
マススペクトル:m/z 284(M+H)+
得られた化合物の融点は104℃であった。
Mass spectrum: m / z 284 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 104 ° C.
[合成例6:例示化合物A−6の合成]
A−5における2,3−ジメトキシ安息香酸を2,4−ジメトキシ安息香酸に変更する以外は同様の方法で合成した。また化合物の同定はマススペクトルで行った。
マススペクトル:m/z 284(M+H)+
得られた化合物の融点は134〜136℃であった。
[Synthesis Example 6: Synthesis of Exemplified Compound A-6]
The synthesis was performed in the same manner except that 2,3-dimethoxybenzoic acid in A-5 was changed to 2,4-dimethoxybenzoic acid. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 284 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 134 to 136 ° C.
[合成例7:例示化合物A−7の合成]
2,5−ジメトキシ安息香酸25.0g(137ミリモル)、トルエン100mL、ジメチルホルムアミド1.0mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル18.0(151ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−シアノフェノール18.0g(151ミリモル)をアセトニトリル50mLに溶解させた液をゆっくりと滴下し、滴下終了後、70〜80℃で7.5時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却した後、酢酸エチル、飽和食塩水で分液操作を行い、得られた有機相を硫酸ナトリウムで水分を除去した後、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル(9/1、V/V))で精製操作を行い、白色の結晶として目的化合物を18.8g(収率48%)得た。また化合物の同定はマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 7: Synthesis of Exemplified Compound A-7]
After heating 25.0 g (137 mmol) of 2,5-dimethoxybenzoic acid, 100 mL of toluene and 1.0 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 18.0 (151 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise. Stir for hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 18.0 g (151 mmol) of 4-cyanophenol in 50 mL of acetonitrile was slowly added dropwise. After completion of the addition, the mixture was heated and stirred at 70 to 80 ° C. for 7.5 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, liquid separation operation was performed with ethyl acetate and saturated brine, and water was removed from the obtained organic phase with sodium sulfate. Then, the solvent was distilled off under reduced pressure, and silica gel column chromatography (hexane -Purification operation with ethyl acetate (9/1, V / V)) yielded 18.8 g (yield 48%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by mass spectrum.
マススペクトル:m/z 284(M+H)+
得られた化合物の融点は79〜80℃であった。
Mass spectrum: m / z 284 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 79-80 ° C.
[合成例8:例示化合物A−8の合成]
A−5における2,3−ジメトキシ安息香酸を2,6−ジメトキシ安息香酸に変更する以外は同様の方法で合成した。また化合物の同定はマススペクトルで行った。
マススペクトル:m/z 284(M+H)+
得られた化合物の融点は130〜131℃であった。
[Synthesis Example 8: Synthesis of Exemplary Compound A-8]
The synthesis was performed in the same manner except that 2,3-dimethoxybenzoic acid in A-5 was changed to 2,6-dimethoxybenzoic acid. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 284 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 130 to 131 ° C.
[合成例9:例示化合物A−11の合成]
A−2における4−シアノフェノール71.5gを4−クロロフェノール76.9gに変更する以外は同様の方法で目的化合物を得た。また化合物の同定は1H−NMR(400MHz)およびマススペクトルで行った。
[Synthesis Example 9: Synthesis of Exemplary Compound A-11]
The target compound was obtained in the same manner except that 71.5 g of 4-cyanophenol in A-2 was changed to 76.9 g of 4-chlorophenol. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.90(s,3H),3.94(s,3H),3.99(s,3H),6.58(s,1H),7.15(d,2H),7.37(d,2H),7.56(s,1H)
マススペクトル:m/z 323(M+H)+
得られた化合物の融点は127〜129℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.90 (s, 3H), 3.94 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 6.58 (s, 1H), 7.15 (d, 2H), 7.37 (d, 2H), 7.56 (s, 1H)
Mass spectrum: m / z 323 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 127 to 129 ° C.
[合成例10:例示化合物A−12の合成]
2,4,5−トリメトキシ安息香酸45.0g(212ミリモル)、トルエン180mL、ジメチルホルムアミド1.8mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル27.8g(233ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2.5時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−ヒドロキシ安息香酸メチル35.4g(233ミリモル)をジメチルホルムアミド27mLに溶解させた液をゆっくりと添加し、80℃で3時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却し、メタノール270mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を64.5g(収率88%)得た。また化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 10: Synthesis of Exemplified Compound A-12]
After heating 45.0 g (212 mmol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 180 mL of toluene and 1.8 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 27.8 g (233 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise to the mixture at 60 ° C. And stirred for 2.5 hours. Thereafter, a solution prepared by dissolving 35.4 g (233 mmol) of methyl 4-hydroxybenzoate in 27 mL of dimethylformamide was slowly added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. 270 mL was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 64.5 g (yield 88%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.95(m,9H),3.99(s,3H),6.57(s,1H),7.28(d,2H),7.57(s,1H)8.11(d,2H)
マススペクトル:m/z 347(M+H)+
得られた化合物の融点は121〜123℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.95 (m, 9H), 3.99 (s, 3H), 6.57 (s, 1H), 7.28 (d, 2H), 7.57 (s, 1H) 8.11 (d, 2H)
Mass spectrum: m / z 347 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 121 to 123 ° C.
[合成例11:例示化合物A−13の合成]
2,4,5−トリメトキシ安息香酸20.0g(94.3ミリモル)、トルエン100mL、ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル12.3g(104ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で3.5時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−フェニルフェノール17.7g(104ミリモル)をトルエン150mLに溶解させた液をゆっくりと添加し、80℃で3時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却し、メタノール250mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を21.2g(収率62%)得た。また化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 11: Synthesis of Exemplary Compound A-13]
After heating 20.0 g (94.3 mmol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 100 mL of toluene and 1 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 12.3 g (104 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise to the mixture at 60 ° C. And stirred for 3.5 hours. Thereafter, a solution in which 17.7 g (104 mmol) of 4-phenylphenol was dissolved in 150 mL of toluene was slowly added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 3 hours. The reaction solution was then cooled to room temperature, and 250 mL of methanol was added. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 21.2 g (yield 62%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.93(s,3H),3.96(s,3H),3.99(s,3H),6.59(s,1H),7.26−7.75(m,10H)
マススペクトル:m/z 365(M+H)+
得られた化合物の融点は131−132℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.93 (s, 3H), 3.96 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 6.59 (s, 1H), 7.26-7. 75 (m, 10H)
Mass spectrum: m / z 365 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 131-132 ° C.
[合成例12:例示化合物A−14の合成]
2,4,5−トリメトキシ安息香酸12.9g(61ミリモル)、トルエン50mL、ジメチルホルムアミド0.6mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル8.0g(67ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で3.5時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−フェニルフェノール17.7g(104ミリモル)をアセトニトリル25mLに溶解させた液をゆっくりと添加し、80℃で3時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却し、メタノール100mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を21.6g(収率93%)得た。なお、化合物の同定はマススペクトルにより行った。
マススペクトル:m/z 381(M+H)+
得られた化合物の融点は91〜92℃であった。
[Synthesis Example 12: Synthesis of Exemplified Compound A-14]
After heating 12.9 g (61 mmol) of 2,4,5-trimethoxybenzoic acid, 50 mL of toluene, and 0.6 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 8.0 g (67 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise to the mixture at 60 ° C. And stirred for 3.5 hours. Thereafter, a solution prepared by dissolving 17.7 g (104 mmol) of 4-phenylphenol in 25 mL of acetonitrile was slowly added and stirred at 80 ° C. for 3 hours. The reaction solution was then cooled to room temperature, and 100 mL of methanol was added. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 21.6 g (yield 93%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 381 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 91-92 ° C.
[合成例13:例示化合物A−15の合成]
A−2における4−シアノフェノール71.5gをフェノール56.4gに変更する以外は同様の方法で目的化合物を得た。なお、化合物の同定は1H−NMRおよびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 13: Synthesis of Exemplary Compound A-15]
The target compound was obtained in the same manner except that 71.5 g of 4-cyanophenol in A-2 was changed to 56.4 g of phenol. The compound was identified by 1 H-NMR and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.91(s,3H),3.93(s,3H),3.99(s,3H),6.58(s,1H),7.19−7.27(m,3H),7.42(m,2H)
,7.58(s,1H)
マススペクトル:m/z 365(M+H)+
得られた化合物の融点は105〜108℃であった。
マススペクトル:m/z 289(M+H)+ 1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.91 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 6.58 (s, 1H), 7.19-7. 27 (m, 3H), 7.42 (m, 2H)
7.58 (s, 1H)
Mass spectrum: m / z 365 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 105 to 108 ° C.
Mass spectrum: m / z 289 (M + H) +
[合成例14:例示化合物A−16の合成]
A−2における4−シアノフェノール71.5gを4−メトキシフェノール74.4gに変更する以外は同様の方法で目的化合物を得ることができる。なお、化合物の同定は1H−NMRおよびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 14: Synthesis of Exemplified Compound A-16]
The target compound can be obtained in the same manner except that 71.5 g of 4-cyanophenol in A-2 is changed to 74.4 g of 4-methoxyphenol. The compound was identified by 1 H-NMR and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ3.84(s,3H),3.92(s,3H),3.93(s,3H),3.99(s,3H),6.58(s,1H),6.92(d,2H),7.12(d,2H),7.42(m,2H),7.58(s,1H)
マススペクトル:m/z 319(M+H)+
得られた化合物の融点は102〜103℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.84 (s, 3H), 3.92 (s, 3H), 3.93 (s, 3H), 3.99 (s, 3H), 6.58 (s, 1H), 6.92 (d, 2H), 7.12 (d, 2H), 7.42 (m, 2H), 7.58 (s, 1H)
Mass spectrum: m / z 319 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 102 to 103 ° C.
[合成例15:例示化合物A−17の合成]
A−2における4−シアノフェノール71.5gを4−エチルフェノール73.3gに変更する以外は同様の方法で目的化合物を得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
マススペクトル:m/z 317(M+H)+
得られた化合物の融点は70〜71℃であった。
[Synthesis Example 15: Synthesis of Exemplified Compound A-17]
The target compound was obtained in the same manner except that 71.5 g of 4-cyanophenol in A-2 was changed to 73.3 g of 4-ethylphenol. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 317 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 70 to 71 ° C.
[合成例16:例示化合物A−24の合成]
4―エトキシ安息香酸27.3g(164ミリモル)、トルエン108mL、ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル21.5g(181ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−エトキシフェノール25.0g(181ミリモル)をアセトニトリル50mLに溶解させた溶液をゆっくり添加し、80℃で4時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却した後、メタノール100mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を30.6g(収率65%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 16: Synthesis of Exemplary Compound A-24]
After heating 27.3 g (164 mmol) of 4-ethoxybenzoic acid, 108 mL of toluene, and 1 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 21.5 g (181 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise and stirred at 60 ° C. for 2 hours. . Thereafter, a solution in which 25.0 g (181 mmol) of 4-ethoxyphenol was previously dissolved in 50 mL of acetonitrile was slowly added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 4 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, 100 mL of methanol was added. The precipitated crystals were collected by filtration to obtain 30.6 g (yield 65%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ1.48−1.59(m,6H),4.05(q,2H),4.10(q,2H),6.89−7.00(m,4H),7.10(d,2H),8.12(d,2H)
マススペクトル:m/z 287(M+H)+
得られた化合物の融点は113〜114℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 1.48-1.59 (m, 6H), 4.05 (q, 2H), 4.10 (q, 2H), 6.89-7.00 (m, 4H) ), 7.10 (d, 2H), 8.12 (d, 2H)
Mass spectrum: m / z 287 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 113 to 114 ° C.
[合成例17:例示化合物A−25の合成]
4―エトキシ安息香酸24.7g(149ミリモル)、トルエン100mL、ジメチルホルムアミド1mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル19.5g(164ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−プロポキシフェノール25.0g(165ミリモル)をアセトニトリル50mLに溶解させた溶液をゆっくり添加し、80℃で4時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却した後、メタノール100mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、得られた固体にメタノール100mLを加え再結晶操作を行い、得られた結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を33.9g(収率76%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
[Synthesis Example 17: Synthesis of Exemplified Compound A-25]
After heating 24.7 g (149 mmol) of 4-ethoxybenzoic acid, 100 mL of toluene and 1 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 19.5 g (164 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 2 hours. . Thereafter, a solution prepared by dissolving 25.0 g (165 mmol) of 4-propoxyphenol in 50 mL of acetonitrile was slowly added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 4 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, 100 mL of methanol was added. The precipitated crystals were collected by filtration, 100 mL of methanol was added to the obtained solid, and recrystallization was performed. The obtained crystals were collected by filtration to obtain 33.9 g (yield 76%) of the target compound as white crystals. It was. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1H−NMR(CDCl3)δ1.04(t,3H),1.45(t,3H),1.82(q,2H),3.93(q,2H),4.04(q,2H),6.89−7.00(m,4H),7.10(d,2H),8.12(d,2H)
マススペクトル:m/z 301(M+H)+
得られた化合物の融点は107℃であった。
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 1.04 (t, 3H), 1.45 (t, 3H), 1.82 (q, 2H), 3.93 (q, 2H), 4.04 (q, 2H), 6.89-7.00 (m, 4H), 7.10 (d, 2H), 8.12 (d, 2H)
Mass spectrum: m / z 301 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 107 ° C.
[合成例18:例示化合物A−27の合成]
A−24の合成法における4―エトキシ安息香酸27.3gを4―プロポキシ安息香酸29.5gに変更する以外は同様の方法で合成した。なお、化合物の同定はマススペクトルにより行った。
マススペクトル:m/z 301(M+H)+
得られた化合物の融点は88〜89℃であった。
[Synthesis Example 18: Synthesis of Exemplified Compound A-27]
The compound was synthesized in the same manner except that 27.3 g of 4-ethoxybenzoic acid in the synthesis method of A-24 was changed to 29.5 g of 4-propoxybenzoic acid. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 301 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 88-89 ° C.
[合成例19:例示化合物A−28の合成]
A−25の合成法における4―エトキシ安息香酸24.7gを4―プロポキシ安息香酸26.8gに変更する以外は同様の方法で合成した。なお、化合物の同定はマススペクトルにより行った。
マススペクトル:m/z 315(M+H)+
得られた化合物の融点は92℃であった。
[Synthesis Example 19: Synthesis of Exemplary Compound A-28]
The compound was synthesized in the same manner except that 24.7 g of 4-ethoxybenzoic acid in the synthesis method of A-25 was changed to 26.8 g of 4-propoxybenzoic acid. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 315 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 92 ° C.
[合成例20:例示化合物A−40の合成]
2,4―ジメトキシ安息香酸20.0g(109ミリモル)、トルエン80mL、ジメチルホルムアミド0.8mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル14.4g(121ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で3.5時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−フェニルフェノール20.5g(121ミリモル)をジメチルホルムアミド50mLに溶解させた溶液をゆっくり添加し、80℃で6時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却した後、メタノール100mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を31.7g(収率86%)得た。なお、化合物の同定はマススペクトルにより行った。
マススペクトル:m/z 335(M+H)+
得られた化合物の融点は161〜162℃であった。
[Synthesis Example 20: Synthesis of Exemplified Compound A-40]
After heating 20.0 g (109 mmol) of 2,4-dimethoxybenzoic acid, 80 mL of toluene, and 0.8 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 14.4 g (121 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise, The mixture was heated and stirred for 5 hours. Thereafter, a solution prepared by previously dissolving 20.5 g (121 mmol) of 4-phenylphenol in 50 mL of dimethylformamide was slowly added and stirred at 80 ° C. for 6 hours. After cooling the reaction solution to room temperature, 100 mL of methanol was added. In addition, the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 31.7 g (yield 86%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by mass spectrum.
Mass spectrum: m / z 335 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 161-162 ° C.
[合成例21:例示化合物A−42の合成]
2,4―ジメトキシ安息香酸30.0g(165ミリモル)、トルエン120mL、ジメチルホルムアミド1.2mLを60℃に加熱した後、塩化チオニル21.6g(181ミリモル)をゆっくりと滴下し、60℃で2時間加熱攪拌した。その後、あらかじめ4−フヒドロキシ安息香酸メチル27.6g(181ミリモル)をジメチルホルムアミド40mLに溶解させた溶液をゆっくり添加し、80℃で6時間加熱攪拌した後、反応液を室温まで冷却した後、メタノール140mLを加え、析出した結晶をろ過回収し、白色の結晶として目的化合物を24.4g(収率47%)得た。なお、化合物の同定は1H―NMR(400MHz)およびマススペクトルにより行った。
1H−NMR(CDCl3)δ3.92(m,9H),6.56(m,2H),7.27(m,2H),8.09(m,3H)
[Synthesis Example 21: Synthesis of Exemplified Compound A-42]
After heating 30.0 g (165 mmol) of 2,4-dimethoxybenzoic acid, 120 mL of toluene, and 1.2 mL of dimethylformamide to 60 ° C., 21.6 g (181 mmol) of thionyl chloride was slowly added dropwise. Stir for hours. Thereafter, a solution prepared by dissolving 27.6 g (181 mmol) of methyl 4-hydroxyhydroxybenzoate in 40 mL of dimethylformamide was slowly added, and the mixture was heated and stirred at 80 ° C. for 6 hours. Methanol (140 mL) was added, and the precipitated crystals were collected by filtration to obtain 24.4 g (yield 47%) of the target compound as white crystals. The compound was identified by 1 H-NMR (400 MHz) and mass spectrum.
1 H-NMR (CDCl 3 ) δ 3.92 (m, 9H), 6.56 (m, 2H), 7.27 (m, 2H), 8.09 (m, 3H)
マススペクトル:m/z 317(M+H)+
得られた化合物の融点は122〜123℃であった。
Mass spectrum: m / z 317 (M + H) +
The melting point of the obtained compound was 122-123 ° C.
(脂肪族多価アルコール)
以下に示す脂肪族多価アルコールエステルも本発明の疎水化剤として好ましく用いることができる。本発明の脂肪族多価アルコールエステルは、2価以上の脂肪族多価アルコールと1種以上のモノカルボン酸とのエステルである。
(Aliphatic polyhydric alcohol)
The following aliphatic polyhydric alcohol esters can also be preferably used as the hydrophobizing agent of the present invention. The aliphatic polyhydric alcohol ester of the present invention is an ester of a dihydric or higher aliphatic polyhydric alcohol and one or more monocarboxylic acids.
本発明に用いられる脂肪族多価アルコールは、2価以上のアルコールで次の一般式(2)で表される。
R1−(OH)n ・・・ 一般式(2)
ただし、R1はn価の脂肪族有機基、nは2以上の正の整数、OH基はアルコール性、及び/またはフェノール性水酸基を表す。
The aliphatic polyhydric alcohol used in the present invention is a dihydric or higher alcohol represented by the following general formula (2).
R 1- (OH) n ... General formula (2)
R 1 represents an n-valent aliphatic organic group, n represents a positive integer of 2 or more, and an OH group represents an alcoholic and / or phenolic hydroxyl group.
n価の脂肪族有機基としては、アルキレン基(例えばメチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基等)、アルケニレン基(例えばエテニレン基等)、アルキニレン基(例えばエチニレン基等)、シクロアルキレン基(例えば1,4−シクロヘキサンジイル基等)、アルカントリイル基(例えば1,2,3−プロパントリイル基等)が挙げられる。n価の脂肪族有機基は置換基(例えばヒドロキシ基、アルキル基、ハロゲン原子等)を有するものを含む。 Examples of the n-valent aliphatic organic group include an alkylene group (eg, methylene group, ethylene group, trimethylene group, tetramethylene group, etc.), an alkenylene group (eg, ethenylene group, etc.), an alkynylene group (eg, ethynylene group, etc.), a cycloalkylene group. (For example, 1,4-cyclohexanediyl group) and alkanetriyl group (for example, 1,2,3-propanetriyl group). The n-valent aliphatic organic group includes those having a substituent (for example, a hydroxy group, an alkyl group, a halogen atom, etc.).
nは2〜20が好ましい。好ましい多価アルコールの例としては、例えばアドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、ジブチレングリコール、1,2,4−ブタントリオール、1,5−ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、3−メチルペンタン−1,3,5−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。 n is preferably from 2 to 20. Examples of preferable polyhydric alcohol include, for example, adonitol, arabitol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-propanediol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1 , 2-butanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, dibutylene glycol, 1,2,4-butanetriol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, hexanetriol, Examples thereof include galactitol, mannitol, 3-methylpentane-1,3,5-triol, pinacol, sorbitol, trimethylolpropane, trimethylolethane, xylitol and the like. In particular, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, sorbitol, trimethylolpropane, and xylitol are preferable.
(モノカルボン酸)
本発明の多価アルコールエステルにおけるモノカルボン酸としては、特に制限はなく公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
(Monocarboxylic acid)
There is no restriction | limiting in particular as monocarboxylic acid in the polyhydric alcohol ester of this invention, Well-known aliphatic monocarboxylic acid, alicyclic monocarboxylic acid, aromatic monocarboxylic acid, etc. can be used. Use of an alicyclic monocarboxylic acid or aromatic monocarboxylic acid is preferred in terms of improving moisture permeability and retention.
好ましいモノカルボン酸の例としては、以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。 Examples of preferred monocarboxylic acids include the following, but the present invention is not limited thereto.
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数1〜32の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は1〜20であることが更に好ましく、1〜10であることが特に好ましい。酢酸を含有するとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。 As the aliphatic monocarboxylic acid, a fatty acid having a straight chain or side chain having 1 to 32 carbon atoms can be preferably used. The number of carbon atoms is more preferably 1-20, and particularly preferably 1-10. When acetic acid is contained, compatibility with the cellulose ester is increased, and it is also preferable to use a mixture of acetic acid and another monocarboxylic acid.
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、2−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。これらは更に置換基を有しても良い。 Preferred aliphatic monocarboxylic acids include acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, caproic acid, enanthic acid, caprylic acid, pelargonic acid, capric acid, 2-ethyl-hexanecarboxylic acid, undecylic acid, lauric acid, tridecylic acid , Saturated fatty acids such as myristic acid, pentadecylic acid, palmitic acid, heptadecylic acid, stearic acid, nonadecanoic acid, arachidic acid, behenic acid, lignoceric acid, serotic acid, heptacosanoic acid, montanic acid, melicic acid, laccelic acid, undecylenic acid, Examples thereof include unsaturated fatty acids such as oleic acid, sorbic acid, linoleic acid, linolenic acid and arachidonic acid. These may further have a substituent.
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。 Examples of preferred alicyclic monocarboxylic acids include cyclopentane carboxylic acid, cyclohexane carboxylic acid, cyclooctane carboxylic acid, or derivatives thereof.
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を2個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。 Examples of preferred aromatic monocarboxylic acids include those in which an alkyl group is introduced into the benzene ring of benzoic acid such as benzoic acid and toluic acid, and two or more benzene rings such as biphenylcarboxylic acid, naphthalenecarboxylic acid, and tetralincarboxylic acid. The aromatic monocarboxylic acid which has, or those derivatives can be mentioned. Benzoic acid is particularly preferable.
(多価アルコールエステル)
本発明に用いられる多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、300〜1500であることが好ましく、350〜750であることが更に好ましい。保留性の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
(Polyhydric alcohol ester)
The molecular weight of the polyhydric alcohol ester used in the present invention is not particularly limited, but is preferably 300 to 1500, and more preferably 350 to 750. The larger one is preferable in terms of retention, and the smaller one is preferable in terms of moisture permeability and compatibility with the cellulose ester.
本発明の多価アルコールエステルにおけるカルボン酸は一種類でも、二種以上の混合でもよい。また、多価アルコール中のOH基は全てエステル化してもよいし、一部をOH基のままで残してもよい。好ましくは、分子内に芳香環もしくはシクロアルキル環を3つ以上有することが好ましい。 The carboxylic acid in the polyhydric alcohol ester of the present invention may be one kind or a mixture of two or more kinds. Moreover, all the OH groups in the polyhydric alcohol may be esterified, or a part of the OH groups may be left as they are. Preferably, it has 3 or more aromatic rings or cycloalkyl rings in the molecule.
本発明に用いられる多価アルコールエステルの例を以下に示す。 Examples of the polyhydric alcohol ester used in the present invention are shown below.
さらに、アルキルフタリルアルキルグリコレート類も本発明の疎水化剤として好ましく用いることができる。
アルキルフタリルアルキルグリコレートのアルキルは炭素原子数1〜8のアルキル基である。アルキルフタリルアルキルグリコレートとしてはメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、プロピルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等を挙げることが出来、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレートが好ましく、特にエチルフタリルエチルグリコレートが好ましく用いられる。
Furthermore, alkylphthalyl alkyl glycolates can also be preferably used as the hydrophobizing agent of the present invention.
The alkyl in the alkylphthalylalkyl glycolate is an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Examples of alkyl phthalyl alkyl glycolates include methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, octyl phthalyl octyl glycolate, methyl phthalyl ethyl glycolate, Ethyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl propyl glycolate, propyl phthalyl ethyl glycolate, methyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl butyl glycolate, ethyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl methyl glycolate, butyl Phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl butyl glycolate, butyl phthalyl propyl glycolate, methyl phthalyl octyl glycolate, ethyl phthalyl octyl Collate, octyl phthalyl methyl glycolate, octyl phthalyl ethyl glycolate and the like can be mentioned, methyl phthalyl methyl glycolate, ethyl phthalyl ethyl glycolate, propyl phthalyl propyl glycolate, butyl phthalyl butyl glycolate, Octyl phthalyl octyl glycolate is preferable, and ethyl phthalyl ethyl glycolate is particularly preferably used.
本発明においてはアルカリ鹸化液中で解離する官能基(以下「解離性基」と称する。)を有する疎水化剤も好ましく使用できる。解離性基としては中性pHでは非解離でアルカリ水溶液への溶解度が低いが、高pHでは解離し、アルカリ水溶液への溶解度が著しく向上するものであれば、どのようなものでも用いることができる。解離性基の酸解離定数(pKa)は7以上が好ましく、8以上がさらに好ましく、9以上が最も好ましい。
解離性基として好ましい官能基はフェノール基、ナフトール基、スルフォンアミド基、ウレイド基等が挙げられる。
これらの中でも、疎水化剤として、pKaが8以上14以下の解離性基を少なくとも1つ有し、分子量1,000以下の低分子化合物を使用することが好ましい。
In the present invention, a hydrophobizing agent having a functional group that dissociates in an alkali saponification solution (hereinafter referred to as “dissociable group”) can also be preferably used. Any dissociable group can be used as long as it is non-dissociable at a neutral pH and has low solubility in an aqueous alkaline solution, but dissociates at a high pH and significantly improves the solubility in an aqueous alkaline solution. . The acid dissociation constant (pKa) of the dissociable group is preferably 7 or more, more preferably 8 or more, and most preferably 9 or more.
Preferable functional groups as the dissociable group include phenol group, naphthol group, sulfonamide group, ureido group and the like.
Among these, as the hydrophobizing agent, it is preferable to use a low molecular compound having at least one dissociable group having a pKa of 8 or more and 14 or less and having a molecular weight of 1,000 or less.
上記のような疎水化剤として、下記一般式(3)で表される化合物が特に好ましい。
一般式(3)
As the hydrophobizing agent as described above, a compound represented by the following general formula (3) is particularly preferable.
General formula (3)
上記一般式(3)において、R1はアルキル基またはアリール基を表し、R2は、アルキル基またはアリール基を表す。
また、R1およびR2の炭素原子数の総和が10以上であることが特に好ましい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数1乃至25のものが好ましく、6乃至25のものがより好ましく、6乃至20のもの(例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、アミル、イソアミル、t−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、t−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシル)が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が6乃至30のものが好ましく、6乃至24のもの(例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニル)が特に好ましい。また、本発明の改質剤の添加量は、セルロースアシレートに対し、2乃至30質量%であることが好ましく、2乃至25質量%であることがさらに好ましく、2乃至20質量%であることが特に好ましい。一般式(3)で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
In the general formula (3), R 1 represents an alkyl group or an aryl group, and R 2 represents an alkyl group or an aryl group.
Moreover, it is particularly preferable that the total number of carbon atoms of R 1 and R 2 is 10 or more. As the substituent, a fluorine atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a sulfone group, and a sulfonamide group are preferable, and an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a sulfone group, and a sulfonamide group are particularly preferable. Further, the alkyl group may be linear, branched or cyclic, and preferably has 1 to 25 carbon atoms, more preferably 6 to 25, and more preferably 6 to 20 (E.g., methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, isobutyl, t-butyl, amyl, isoamyl, t-amyl, hexyl, cyclohexyl, heptyl, octyl, bicyclooctyl, nonyl, adamantyl, decyl, t-octyl, undecyl, Dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl, octadecyl, nonadecyl, didecyl) are particularly preferred. As the aryl group, those having 6 to 30 carbon atoms are preferable, and those having 6 to 24 carbon atoms (for example, phenyl, biphenyl, terphenyl, naphthyl, binaphthyl, triphenylphenyl) are particularly preferable. Further, the addition amount of the modifier of the present invention is preferably 2 to 30% by mass, more preferably 2 to 25% by mass, and more preferably 2 to 20% by mass with respect to cellulose acylate. Is particularly preferred. Preferred examples of the compound represented by the general formula (3) are shown below, but the present invention is not limited to these specific examples.
本発明に使用する分子量1,000以下の低分子化合物は、疎水化剤の機能だけではなく、レターデーション調節剤、可塑剤等の他の機能を併せ持つことができる。
本発明の疎水化剤は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランの有機溶媒に溶解してから、セルロースアセテート溶液(ドープ)に添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
本発明の疎水化剤のセルロースアシレート100質量部に対する含有量は0.1〜30質量%が好ましく、1〜30質量%がより好ましく、3〜25質量%がさらに好ましく、5〜20質量%が最も好ましい。
The low molecular weight compound having a molecular weight of 1,000 or less used in the present invention can have not only the function of a hydrophobizing agent but also other functions such as a retardation adjusting agent and a plasticizer.
The hydrophobizing agent of the present invention may be added to a cellulose acetate solution (dope) after being dissolved in an organic solvent such as alcohol, methylene chloride or dioxolane, or may be added directly to the dope composition.
The content of the hydrophobizing agent of the present invention relative to 100 parts by mass of cellulose acylate is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 30% by mass, further preferably 3 to 25% by mass, and 5 to 20% by mass. Is most preferred.
本発明のセルロースアシレートフィルムは前記疎水化剤の他に紫外線吸収剤を含有してもよい。
紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物等を挙げることが出来るが、着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物が好ましい。また、特開平10−182621号、特開平8−337574号記載の紫外線吸収剤、特開平6−148430号記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板の保護フィルムとして用いる場合、紫外線吸収剤としては、偏光子や液晶の劣化防止の観点から、波長370nm以下の紫外線の吸収能に優れており、且つ、液晶表示性の観点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
The cellulose acylate film of the present invention may contain an ultraviolet absorber in addition to the hydrophobizing agent.
Examples of ultraviolet absorbers include oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylic acid ester compounds, benzophenone compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex compounds, etc., but less colored benzotriazole compounds Compounds are preferred. Further, ultraviolet absorbers described in JP-A-10-182621 and JP-A-8-337574 and polymer ultraviolet absorbers described in JP-A-6-148430 are also preferably used. When the cellulose acylate film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate, the ultraviolet absorber is excellent in the ability to absorb ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less from the viewpoint of preventing deterioration of the polarizer and the liquid crystal, and the liquid crystal. From the viewpoint of display properties, those that absorb less visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferred.
本発明に有用なベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5′−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ドデシル)−4−メチルフェノール、オクチル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、市販品として、チヌビン(TINUVIN)109、チヌビン(TINUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)326、チヌビン(TINUVIN)328(何れもチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製)を好ましく使用出来る。 Specific examples of the benzotriazole ultraviolet absorber useful in the present invention include 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert). -Butylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butyl Phenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methylphenyl) benzotriazole, 2,2 -Methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2 ' Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methylphenol Octyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy Examples include, but are not limited to, a mixture of -5- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate. As commercially available products, TINUVIN 109, TINUVIN 171, TINUVIN 326, and TINUVIN 328 (all manufactured by Ciba Specialty Chemicals) can be preferably used.
[セルロースアシレートフィルムの製造]
本発明のセルロースアシレートフィルムは、ソルベントキャスト法により製造することができる。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いてフィルムを製造する。
[Manufacture of cellulose acylate film]
The cellulose acylate film of the present invention can be produced by a solvent cast method. In the solvent cast method, a film is produced using a solution (dope) in which cellulose acylate is dissolved in an organic solvent.
[有機溶媒]
セルロースアシレートを溶解させる有機溶媒は、炭素原子数が3〜12のエーテル、炭素原子数が3〜12のケトン、炭素原子数が3〜12のエステルおよび炭素原子数が1〜6のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する溶媒の上記した好ましい炭素原子数範囲内であることが好ましい。
[Organic solvent]
The organic solvent for dissolving cellulose acylate is an ether having 3 to 12 carbon atoms, a ketone having 3 to 12 carbon atoms, an ester having 3 to 12 carbon atoms, and a halogenation having 1 to 6 carbon atoms. It is preferable to include a solvent selected from hydrocarbons.
The ether, ketone and ester may have a cyclic structure. A compound having two or more functional groups of ether, ketone and ester (that is, —O—, —CO— and —COO—) can also be used as the organic solvent. The organic solvent may have another functional group such as an alcoholic hydroxyl group. In the case of an organic solvent having two or more kinds of functional groups, the number of carbon atoms is preferably within the above-described preferable range of carbon atoms of the solvent having any functional group.
炭素原子数が3〜12のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が3〜12のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が3〜12のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチルアセテート、2−メトキシエタノールおよび2−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、1または2であることが好ましく、1であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、25〜75モル%であることが好ましく、30〜70モル%であることがより好ましく、35〜65モル%であることがさらに好ましく、40〜60モル%であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。
Examples of ethers having 3 to 12 carbon atoms include diisopropyl ether, dimethoxymethane, dimethoxyethane, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, tetrahydrofuran, anisole and phenetole.
Examples of ketones having 3 to 12 carbon atoms include acetone, methyl ethyl ketone, diethyl ketone, diisobutyl ketone, cyclohexanone and methylcyclohexanone.
Examples of the esters having 3 to 12 carbon atoms include ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and pentyl acetate.
Examples of the organic solvent having two or more kinds of functional groups include 2-ethoxyethyl acetate, 2-methoxyethanol and 2-butoxyethanol.
The number of carbon atoms of the halogenated hydrocarbon is preferably 1 or 2, and most preferably 1. The halogen of the halogenated hydrocarbon is preferably chlorine. The proportion of halogen atoms substituted by halogen in the halogenated hydrocarbon is preferably 25 to 75 mol%, more preferably 30 to 70 mol%, and more preferably 35 to 65 mol%. More preferably, it is most preferable that it is 40-60 mol%. Methylene chloride is a representative halogenated hydrocarbon.
Two or more organic solvents may be mixed and used.
0℃以上の温度(常温または高温)で処理することからなる一般的な方法で、セルロースアシレート溶液を調製することができる。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にメチレンクロリド)を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に10〜40質量%含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、10〜30質量%であることがさらに好ましい。有機溶媒(主溶媒)中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
A cellulose acylate solution can be prepared by a general method comprising processing at a temperature of 0 ° C. or higher (ordinary temperature or high temperature). The solution can be prepared using a dope preparation method and apparatus in a normal solvent cast method. In the case of a general method, it is preferable to use a halogenated hydrocarbon (particularly methylene chloride) as the organic solvent.
The amount of cellulose acylate is adjusted so as to be contained in the obtained solution in an amount of 10 to 40% by mass. The amount of cellulose acylate is more preferably 10 to 30% by mass. Arbitrary additives described later may be added to the organic solvent (main solvent).
溶液は、常温(0〜40℃)でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。
加熱温度は、通常は40℃以上であり、好ましくは60〜200℃であり、さらに好ましくは80〜110℃である。
The solution can be prepared by stirring the cellulose acylate and the organic solvent at room temperature (0 to 40 ° C.). High concentration solutions may be stirred under pressure and heating conditions. Specifically, the cellulose acylate and the organic solvent are placed in a pressure vessel and sealed, and stirred while being heated to a temperature equal to or higher than the boiling point of the solvent at normal temperature and in a range where the solvent does not boil.
The heating temperature is usually 40 ° C. or higher, preferably 60 to 200 ° C., and more preferably 80 to 110 ° C.
各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
Each component may be coarsely mixed in advance and then placed in a container. Moreover, you may put into a container sequentially. The container needs to be configured so that it can be stirred. The container can be pressurized by injecting an inert gas such as nitrogen gas. Moreover, you may utilize the raise of the vapor pressure of the solvent by heating. Or after sealing a container, you may add each component under pressure.
When heating, it is preferable to heat from the outside of the container. For example, a jacket type heating device can be used. The entire container can also be heated by providing a plate heater outside the container and piping to circulate the liquid.
It is preferable to provide a stirring blade inside the container and stir using this. The stirring blade preferably has a length that reaches the vicinity of the wall of the container. A scraping blade is preferably provided at the end of the stirring blade in order to renew the liquid film on the vessel wall.
Instruments such as a pressure gauge and a thermometer may be installed in the container. Each component is dissolved in a solvent in the container. The prepared dope is taken out of the container after cooling, or taken out and then cooled using a heat exchanger or the like.
冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。セルロースアシレートの量は、この混合物中に10〜40質量%含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、10〜30質量%であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
A solution can also be prepared by a cooling dissolution method. In the cooling dissolution method, cellulose acylate can be dissolved in an organic solvent that is difficult to dissolve by a normal dissolution method. In addition, even if it is a solvent which can melt | dissolve a cellulose acylate with a normal melt | dissolution method, there exists an effect that a uniform solution can be obtained rapidly according to a cooling melt | dissolution method.
In the cooling dissolution method, first, cellulose acylate is gradually added to an organic solvent at room temperature while stirring. The amount of cellulose acylate is preferably adjusted so as to be contained in the mixture at 10 to 40% by mass. The amount of cellulose acylate is more preferably 10 to 30% by mass. Furthermore, you may add the arbitrary additive mentioned later in a mixture.
次に、混合物を−100〜−10℃(好ましくは−80〜−10℃、さらに好ましくは−50〜−20℃、最も好ましくは−50〜−30℃)に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液(−30〜−20℃)中で実施できる。冷却によりセルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、10,000℃/秒が理論的な上限であり、1,000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。
The mixture is then cooled to -100 to -10 ° C (preferably -80 to -10 ° C, more preferably -50 to -20 ° C, most preferably -50 to -30 ° C). The cooling can be performed, for example, in a dry ice / methanol bath (−75 ° C.) or a cooled diethylene glycol solution (−30 to −20 ° C.). The mixture of cellulose acylate and organic solvent is solidified by cooling.
The cooling rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The higher the cooling rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1,000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. The cooling rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of cooling and the final cooling temperature by the time from the start of cooling to the final cooling temperature.
さらに、これを0〜200℃(好ましくは0〜150℃、さらに好ましくは0〜120℃、最も好ましくは0〜50℃)に加温すると、有機溶媒中にセルロースアシレートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよく、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、4℃/分以上であることが好ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、12℃/分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、10,000℃/秒が理論的な上限であり、1,000℃/秒が技術的な上限であり、そして100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。
Furthermore, when this is heated to 0 to 200 ° C. (preferably 0 to 150 ° C., more preferably 0 to 120 ° C., most preferably 0 to 50 ° C.), cellulose acylate dissolves in the organic solvent. The temperature may be increased by simply leaving it at room temperature or in a warm bath.
The heating rate is preferably 4 ° C./min or more, more preferably 8 ° C./min or more, and most preferably 12 ° C./min or more. The higher the heating rate, the better. However, 10,000 ° C./second is the theoretical upper limit, 1,000 ° C./second is the technical upper limit, and 100 ° C./second is the practical upper limit. . The heating rate is a value obtained by dividing the difference between the temperature at the start of heating and the final heating temperature by the time from the start of heating until the final heating temperature is reached. .
A uniform solution is obtained as described above. If the dissolution is insufficient, the cooling and heating operations may be repeated. Whether or not the dissolution is sufficient can be determined by merely observing the appearance of the solution with the naked eye.
冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアセテート(酢化度:60.9%、粘度平均重合度:299)を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した20質量%の溶液は、示差走査熱量計(DSC)による測定によると、33℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス10℃程度の温度で保する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアセテートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。
In the cooling dissolution method, it is desirable to use a sealed container in order to avoid moisture mixing due to condensation during cooling. In the cooling and heating operation, if the pressure is applied during cooling and the pressure is reduced during heating, the dissolution time can be shortened. In order to perform pressurization and decompression, it is desirable to use a pressure-resistant container.
In addition, according to the measurement by a differential scanning calorimeter (DSC), the 20 mass% solution which melt | dissolved cellulose acetate (acetylation degree: 60.9%, viscosity average polymerization degree: 299) in methyl acetate by the cooling dissolution method is. In the vicinity of 33 ° C., there exists a quasi-phase transition point between a sol state and a gel state, and a uniform gel state is obtained below this temperature. Therefore, it is necessary to keep this solution at a temperature equal to or higher than the pseudo phase transition temperature, preferably about 10 ° C. plus the gel phase transition temperature. However, this pseudo phase transition temperature varies depending on the degree of acetylation of cellulose acetate, the degree of viscosity average polymerization, the concentration of the solution, and the organic solvent used.
調製したセルロースアシレート溶液(ドープ)から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造する。ドープにはレターデーション上昇剤を添加することが好ましい。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が18〜35%となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が10℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。
A cellulose acylate film is produced from the prepared cellulose acylate solution (dope) by a solvent cast method. It is preferable to add a retardation increasing agent to the dope.
The dope is cast on a drum or band and the solvent is evaporated to form a film. The concentration of the dope before casting is preferably adjusted so that the solid content is 18 to 35%. The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state. The dope is preferably cast on a drum or band having a surface temperature of 10 ° C. or less.
ソルベントキャスト法における乾燥方法については、米国特許2336310号、同2367603号、同2492078号、同2492977号、同2492978号、同2607704号、同2739069号、同2739070号、英国特許640731号、同736892号の各明細書、特公昭45−4554号、同49−5614号、特開昭60−176834号、同60−203430号、同62−115035号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。 Regarding the drying method in the solvent cast method, U.S. Pat. Nos. 45-4554, 49-5614, JP-A-60-176834, JP-A-60-203430, and JP-A-62-115035. Drying on the band or drum can be performed by blowing an inert gas such as air or nitrogen.
得られたフィルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに100℃から160℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平5−17844号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。 The obtained film can be peeled off from the drum or band and further dried with high-temperature air whose temperature is successively changed from 100 ° C. to 160 ° C. to evaporate the residual solvent. The above method is described in Japanese Patent Publication No. 5-17844. According to this method, it is possible to shorten the time from casting to stripping. In order to carry out this method, it is necessary for the dope to gel at the surface temperature of the drum or band during casting.
調製したセルロースアシレート溶液(ドープ)を用いて二層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が10〜40%の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。 Two or more layers can be cast using the prepared cellulose acylate solution (dope) to form a film. In this case, it is preferable to produce a cellulose acylate film by a solvent cast method. The dope is cast on a drum or band and the solvent is evaporated to form a film. It is preferable to adjust the concentration of the dope before casting so that the solid content is in the range of 10 to 40%. The surface of the drum or band is preferably finished in a mirror state.
二層以上の複数のセルロースアシレート液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能で、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。例えば、特開昭61−158414号、特開平1−122419号、および、特開平11−198285号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、2つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによってもフィルム化することもできる。例えば、特公昭60−27562号、特開昭61−94724号、特開昭61−947245号、特開昭61−104813号、特開昭61−158413号、および、特開平6−134933号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、特開昭56−162617号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。 When casting a plurality of cellulose acylate solutions of two or more layers, it is possible to cast a plurality of cellulose acylate solutions, from a plurality of casting openings provided at intervals in the direction of travel of the support. You may produce a film, casting and laminating the solution containing a cellulose acylate, respectively. For example, the methods described in JP-A-61-158414, JP-A-1-122419, and JP-A-11-198285 can be used. It can also be formed into a film by casting a cellulose acylate solution from two casting ports. For example, JP-B-60-27562, JP-A-61-94724, JP-A-61-947245, JP-A-61-104413, JP-A-61-158413, and JP-A-6-134933. The method described in each publication can be used. Further, a cellulose acylate film is disclosed in which a flow of a high-viscosity cellulose acylate solution described in JP-A-56-162617 is wrapped with a low-viscosity cellulose acylate solution and the high-low viscosity cellulose acylate solution is extruded simultaneously. A casting method can also be used.
また、二個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭44−20235号公報に記載の方法を挙げることができる。
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など)と同時に流延することもできる。
Also, using two casting ports, the film formed on the support by the first casting port is peeled off, and the second casting is performed on the side that is in contact with the support surface to produce a film. You can also For example, the method described in Japanese Patent Publication No. 44-20235 can be mentioned.
As the cellulose acylate solution to be cast, the same solution may be used, or different cellulose acylate solutions may be used. In order to give a function to a plurality of cellulose acylate layers, a cellulose acylate solution corresponding to the function may be extruded from each casting port. Furthermore, the cellulose acylate solution of the present invention can be cast simultaneously with other functional layers (for example, an adhesive layer, a dye layer, an antistatic layer, an antihalation layer, an ultraviolet absorbing layer, a polarizing layer, etc.).
従来の単層液では、必要なフィルムの厚さにするためには高濃度で高粘度のセルロースアシレート溶液を押し出すことが必要である。その場合セルロースアシレート溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良となったりして問題となることが多かった。この問題の解決方法として、複数のセルロースアシレート溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に支持体上に押し出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なセルロースアシレート溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができる。 In the conventional single-layer solution, it is necessary to extrude a cellulose acylate solution having a high concentration and a high viscosity in order to obtain a necessary film thickness. In such a case, the stability of the cellulose acylate solution is poor and solid matter is generated, which often causes problems due to defects or poor flatness. As a solution to this problem, by casting a plurality of cellulose acylate solutions from the casting port, it is possible to extrude a highly viscous solution onto the support at the same time, improving the flatness and improving the planar film. Not only can be produced, but also the use of a concentrated cellulose acylate solution can reduce the drying load and increase the production speed of the film.
セルロースアシレートフィルムには、劣化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平3−199201号、同5−1907073号、同5−194789号、同5−271471号、同6−107854号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液(ドープ)の0.01〜1質量%であることが好ましく、0.01〜0.2質量%であることがさらに好ましい。添加量が0.01質量%未満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められない。添加量が1質量%を越えると、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト(滲み出し)が認められる場合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン(BHT)、トリベンジルアミン(TBA)を挙げることができる。 A degradation inhibitor (eg, antioxidant, peroxide decomposer, radical inhibitor, metal deactivator, acid scavenger, amine) may be added to the cellulose acylate film. The deterioration preventing agents are described in JP-A-3-199201, JP-A-51907073, JP-A-5-194789, JP-A-5-271471, and JP-A-6-107854. The addition amount of the deterioration preventing agent is preferably 0.01 to 1% by mass of the solution (dope) to be prepared, and more preferably 0.01 to 0.2% by mass. When the addition amount is less than 0.01% by mass, the effect of the deterioration preventing agent is hardly recognized. When the addition amount exceeds 1% by mass, bleed-out (bleeding) of the deterioration preventing agent to the film surface may be observed. Examples of particularly preferred deterioration inhibitors include butylated hydroxytoluene (BHT) and tribenzylamine (TBA).
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明に用いるセルロースアシレートフィルムの製造に用いる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。 These steps from casting to post-drying may be performed in an air atmosphere or an inert gas atmosphere such as nitrogen gas. The winder used for the production of the cellulose acylate film used in the present invention may be a commonly used winder such as a constant tension method, a constant torque method, a taper tension method, or a program tension control method with a constant internal stress. It can be wound up by a take-up method.
[延伸処理]
本発明の偏光板保護フィルムには、延伸処理されたセルロースアシレートフィルムも好ましく用いることができる。延伸処理によりセルロースアシレートフィルムに所望のレターデーションを付与することが可能であり、セルロースアシレートフィルムに位相差フィルムとしての機能も合わせて持たせることが可能となる。
セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。
[Stretching treatment]
For the polarizing plate protective film of the present invention, a stretched cellulose acylate film can also be preferably used. A desired retardation can be imparted to the cellulose acylate film by the stretching treatment, and the cellulose acylate film can also have a function as a retardation film.
The stretching direction of the cellulose acylate film is preferably either the width direction or the longitudinal direction.
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭62−115035号、特開平4−152125号、同4−284211号、同4−298310号、同11−48271号などの各公報に記載されている。フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。加熱温度は、フィルムのガラス転移温度以下であることが好ましい。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること(好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸)もできる。フィルムの延伸倍率は、1.05〜2.00倍が好ましく、1.10倍〜1.80倍がさらに好ましい。 Methods for stretching in the width direction are described in, for example, JP-A-62-115035, JP-A-4-152125, JP-A-2842211, JP-A-298310, and JP-A-11-48271. Yes. The film is stretched at room temperature or under heating conditions. The heating temperature is preferably not higher than the glass transition temperature of the film. The film can be stretched by a treatment during drying, and is particularly effective when the solvent remains. In the case of stretching in the longitudinal direction, for example, the film is stretched by adjusting the speed of the film transport roller so that the film winding speed is higher than the film peeling speed. In the case of stretching in the width direction, the film can also be stretched by conveying while holding the width of the film with a tenter and gradually widening the width of the tenter. After the film is dried, it can be stretched using a stretching machine (preferably uniaxial stretching using a long stretching machine). The draw ratio of the film is preferably 1.05 to 2.00 times, more preferably 1.10 times to 1.80 times.
[鹸化処理]
本発明の偏光板保護フィルムは前記疎水化剤を含有するセルロースアシレートフィルムを酸化防止剤を含有する高アルカリ水溶液に浸漬してアルカリ鹸化処理することにより作製することができる。
以下、アルカリ鹸化処理について具体的に説明する。
セルロースアセテートフイルムのアルカリ鹸化処理は、フイルム表面を高アルカリ溶液(以下鹸化液)に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。
高アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。本発明において、高アルカリ溶液とは水酸化イオンの規定濃度が0.05乃至5.0Nの範囲であるアルカリ溶液であるが、0.1乃至3.0Nの範囲にあることが好ましく、0.5乃至2.0Nの範囲にあることがさらに好ましい。
アルカリ溶液温度は、室温乃至90℃の範囲にあることが好ましく、40乃至70℃の範囲にあることがさらに好ましい。
[Saponification]
The polarizing plate protective film of the present invention can be produced by immersing a cellulose acylate film containing the hydrophobizing agent in a highly alkaline aqueous solution containing an antioxidant and subjecting it to an alkali saponification treatment.
Hereinafter, the alkali saponification treatment will be specifically described.
The alkali saponification treatment of the cellulose acetate film is preferably carried out in a cycle in which the film surface is immersed in a highly alkaline solution (hereinafter referred to as saponification solution), neutralized with an acidic solution, washed with water and dried.
Examples of the highly alkaline solution include potassium hydroxide solution and sodium hydroxide solution. In the present invention, the highly alkaline solution is an alkaline solution having a prescribed concentration of hydroxide ions in the range of 0.05 to 5.0 N, preferably in the range of 0.1 to 3.0 N, and More preferably, it is in the range of 5 to 2.0N.
The alkaline solution temperature is preferably in the range of room temperature to 90 ° C, and more preferably in the range of 40 to 70 ° C.
[酸化防止剤]
本発明の鹸化液は酸化防止剤を含有することが好ましい。酸化防止剤としては、無機化合物及び有機化合物のどちらも好ましく用いることができる。
無機化合物として亜硫酸塩(例えば、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、など)、重亜硫酸塩(例えば、重亜硫酸アンモニウム、重亜硫酸ナトリウム、重亜硫酸カリウム、など)、メタ重亜硫酸塩(例えば、メタ重亜硫酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸アンモニウム、など)等の亜硫酸イオン放出化合物が好ましい。これらの化合物は亜硫酸イオンに換算して約0.02〜0.05モル/リットル含有させることが好ましく、更に好ましくは0.04〜0.40モル/リットルである。
[Antioxidant]
The saponification solution of the present invention preferably contains an antioxidant. As the antioxidant, both inorganic compounds and organic compounds can be preferably used.
Inorganic compounds such as sulfites (eg, sodium sulfite, potassium sulfite, ammonium sulfite, etc.), bisulfites (eg, ammonium bisulfite, sodium bisulfite, potassium bisulfite, etc.), metabisulfites (eg, metabisulfite) Sulfite ion releasing compounds such as potassium sulfite, sodium metabisulfite, ammonium metabisulfite, etc.) are preferred. These compounds are preferably contained in an amount of about 0.02 to 0.05 mol / liter in terms of sulfite ion, and more preferably 0.04 to 0.40 mol / liter.
有機化合物としては、ジエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジメトキシエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジスルホエチルヒドロキシルアミン、N,Nジカルボキシエチルヒドロキシルアミン、N,N−ジホスホノエチルヒドロキシルアミン等のヒドロキシルアミン誘導体、N,N−ジカルボキシメチルヒドラジン、スルホエチルヒドラジン、スルホプロピルヒドラジン等のヒドラジン類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン等のアルカノールアミン類、カテコール−3,5−ジスルホン酸、カテコール−3,5,6−トリスルホン酸等のカテコール類を好ましく用いることができる。
これらの酸化防止剤の添加量は鹸化液1Lあたり好ましくは0.1g〜30gであり、より好ましくは0.5〜15gである。
Examples of the organic compound include hydroxyl groups such as diethylhydroxylamine, N, N-dimethoxyethylhydroxylamine, N, N-disulfoethylhydroxylamine, N, Ndicarboxyethylhydroxylamine, N, N-diphosphonoethylhydroxylamine and the like. Amine derivatives, hydrazines such as N, N-dicarboxymethylhydrazine, sulfoethylhydrazine, sulfopropylhydrazine, alkanolamines such as triethanolamine, diethanolamine, catechol-3,5-disulfonic acid, catechol-3,5 Catechols such as 6-trisulfonic acid can be preferably used.
The amount of these antioxidants added is preferably 0.1 g to 30 g, more preferably 0.5 to 15 g per liter of saponification solution.
[界面活性剤]
本発明に使用する鹸化液は界面活性剤を含有することが好ましい。
本発明に使用される水溶性界面活性剤としては、アニオン、ノニオン、カチオン、ベタインの種々の界面活性剤を使用することができ、具体的には特開平1−150136号63頁〜71頁や特開平4−194851号7頁〜14頁に記載の化合物を使用することができる。その中でも特に下記一般式で示されるノニオン系界面活性剤が好ましく用いられる。
一般式(II)
[Surfactant]
The saponification liquid used in the present invention preferably contains a surfactant.
As the water-soluble surfactant used in the present invention, various surfactants such as anion, nonion, cation and betaine can be used. Specifically, JP-A-1-150136, pages 63 to 71, The compounds described in JP-A-4-194451,
Formula (II)
これらの化合物の中でも、Griffinによって数値化された界面活性剤のHLB値(Hydrophile−Lipo phile Balance,親水性と疎水性のバランス)が9〜15の化合物が好ましい。HLB値が11〜13の化合物は液濁りがなく、かつステインを低減する効果が大きく特に好ましく用いられる。HLB値についての詳細は、J.Soc.Cosmetic Chem.,1,311(1949),5,249(1954)やJ.T.Davis and E.K.Rideal著“Interfacial Phenomena”Academic Press,New York(1961)366頁に記載されている。また甲田善生著“有機概念図−基礎と応用”三共出版(株)(1986)88頁〜91頁に記載のように、無機性と有機性の比(I/O)を算出し、その値を10倍した値を代用できる。その他下記一般式(IV)で表される化合物も好ましく用いられる。
一般式(IV)
Among these compounds, compounds having a surfactant HLB value (Hydrophile-Lipophile Balance, balance between hydrophilicity and hydrophobicity) quantified by Griffin are preferably 9 to 15. A compound having an HLB value of 11 to 13 is particularly preferably used because it has no liquid turbidity and has a large effect of reducing stain. For details on the HLB value, see J.H. Soc. Cosmetic Chem. 1, 311 (1949), 5,249 (1954), and J. Org. T.A. Davis and E.M. K. Rideal, “Interfacial Phenomena”, Academic Press, New York (1961), page 366. In addition, as described in Yoshio Koda "Organic Conceptual Diagram-Fundamentals and Applications", Sankyo Publishing Co., Ltd. (1986), pages 88-91, the ratio of inorganic to organic (I / O) was calculated, and the value was calculated. A value obtained by multiplying x by 10 can be substituted. In addition, compounds represented by the following general formula (IV) are also preferably used.
Formula (IV)
式中、R41はアルキル基、アルケニル基、アリール基またはアルキルカルボニル基を表わす。n、mは各々0〜100の整数を表わし、n+mは2以上である。Mはアルカリ金属(Na、K、Li)を表わす。
R41は好ましくは、炭素数6〜20の直鎖もしくは分岐したアルキル基またはアルケニル基、フェニル基、炭素数1〜18の直鎖もしくは分岐したアルキル基で置換されたフェニル基または炭素数5〜20のアルキルカルボニル基を表わす。n、mは好ましくは0〜50の整数を表わす。一般式(IV)で表わされる化合物の具体例を以下に示すが、本発明はこれら化合物に限定されるものではない。
In the formula, R 41 represents an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group or an alkylcarbonyl group. n and m each represents an integer of 0 to 100, and n + m is 2 or more. M represents an alkali metal (Na, K, Li).
R 41 is preferably a linear or branched alkyl group having 6 to 20 carbon atoms or an alkenyl group, a phenyl group, a phenyl group substituted with a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a carbon number of 5 to 5 Represents 20 alkylcarbonyl groups. n and m preferably represent an integer of 0 to 50. Specific examples of the compound represented by formula (IV) are shown below, but the present invention is not limited to these compounds.
これらの水溶性界面活性剤を使用する際において、その添加量は、その作用を有効に生じる程度の量とすればよく、特に制限はないが、好ましくは0.1g〜30g/リットルであり、より好ましくは0.5g〜20g/リットル、特に好ましくは1g〜10g/リットルである。またこれらを使用した際における現像液のpHとしては好ましくは8〜12であり、より好ましくは9〜11である。 When using these water-soluble surfactants, the amount added may be an amount that effectively produces the action, and is not particularly limited, but is preferably 0.1 g to 30 g / liter, More preferably, it is 0.5g-20g / liter, Especially preferably, it is 1g-10g / liter. Further, the pH of the developer when these are used is preferably 8 to 12, and more preferably 9 to 11.
固体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社 1989.12.10発行)に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアセテートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である2種の溶液をセルロースアセテートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。
The surface energy of a solid can be determined by a contact angle method, a wet heat method, and an adsorption method as described in “Basics and Applications of Wetting” (issued by Realize 1989.12.10). In the case of the cellulose acetate film of the present invention, the contact angle method is preferably used.
Specifically, two types of solutions having known surface energies are dropped on a cellulose acetate film, and at the intersection of the surface of the droplet and the surface of the film, the angle between the tangent line drawn on the droplet and the surface of the film The surface angle of the film can be calculated by defining the angle containing the droplet as the contact angle.
鹸化処理後のセルロースアシレートフィルム中のセルロースアシレートの置換度、は下記関係を満たすことが好ましい。
0<Ao/Ai<1
Ao:表面からの深さが0.1μm以内の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
Ai:表面からの深さが2μm以上の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
より好ましくは0<Ao/Ai<0.9であり、さらに好ましくは0<Ao/Ai<0.8である。
また、鹸化処理後のセルロースアシレートフィルム中の分子量200以上1,000以下の低分子化合物の存在量は下記関係を満たすことが好ましい。
0≦Ro/Ri≦0.9
Ro:表面からの深さが0.1μm以内の領域おける低分子化合物の存在量
Ri:表面からの深さが2μm以上の領域における低分子化合物の存在量
より好ましくは0≦Ro/Ri≦0.7であり、さらに好ましくは0≦Ro/Ri≦0.5である。
The degree of substitution of cellulose acylate in the cellulose acylate film after saponification treatment preferably satisfies the following relationship.
0 <Ao / Ai <1
Ao: Degree of acylation of cellulose acylate in the region where the depth from the surface is within 0.1 μm Ai: Degree of acylation of cellulose acylate in the region where the depth from the surface is 2 μm or more, more preferably 0 <Ao /Ai<0.9, more preferably 0 <Ao / Ai <0.8.
The abundance of low molecular weight compounds having a molecular weight of 200 or more and 1,000 or less in the cellulose acylate film after saponification treatment preferably satisfies the following relationship.
0 ≦ Ro / Ri ≦ 0.9
Ro: abundance of a low molecular compound in a region having a depth of 0.1 μm or less from the surface Ri: abundance of a low molecular compound in a region having a depth of 2 μm or more from the surface, more preferably 0 ≦ Ro / Ri ≦ 0 0.7, and more preferably 0 ≦ Ro / Ri ≦ 0.5.
フィルム深さ方向でのセルロースアシレートのアシル化度及び低分子化合物の存在量の変化は、フィルムをフィルム面に対して1°の角度で斜めに切削し、生成したフィルム断面を飛行時間型二次イオン質量分析計(TOF−SIMS)でフラグメントイオン強度あるいは分子イオン強度をマッピングすることにより求めることができる。 Changes in the degree of acylation of cellulose acylate and the amount of low molecular weight compounds in the depth direction of the film were determined by cutting the film diagonally at an angle of 1 ° with respect to the film surface, It can be determined by mapping fragment ion intensity or molecular ion intensity with a secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS).
[セルロースアシレートフィルムの厚み]
本発明のセルロースアシレートフィルムの厚みは10μm以上200μm以下が好ましく、20μm以上150μm以下がさらに好ましく、30μm以上100μm以下が最も好ましい。
[Thickness of cellulose acylate film]
The thickness of the cellulose acylate film of the present invention is preferably 10 μm to 200 μm, more preferably 20 μm to 150 μm, and most preferably 30 μm to 100 μm.
[セルロースアシレートフィルムの含水率]
セルロースアシレートフィルムの含水率は一定温湿度における平衡含水率を測定することにより評価することができる。平衡含水率は前記温湿度に24時間放置した後、平衡に達した試料の水分量をカールフィッシャー法で測定し、水分量(g)を試料質量(g)で除して算出したものである。
本発明のセルロースアシレートフィルムの25℃80%RHにおける含水率は5.0質量%以下であることが好ましく、4.3質量%以下であることがさらに好ましく、3.8質量%以下であることが最も好ましい。
[Moisture content of cellulose acylate film]
The moisture content of the cellulose acylate film can be evaluated by measuring the equilibrium moisture content at a constant temperature and humidity. The equilibrium moisture content is calculated by measuring the moisture content of the sample that has reached equilibrium after being left at the temperature and humidity for 24 hours by the Karl Fischer method and dividing the moisture content (g) by the sample mass (g). .
The water content at 25 ° C. and 80% RH of the cellulose acylate film of the present invention is preferably 5.0% by mass or less, more preferably 4.3% by mass or less, and further preferably 3.8% by mass or less. Most preferred.
[透湿度]
透湿度はJIS Z 0208に記載の方法に則り、各試料の透湿度を測定し、面積1m2あたり24時間で蒸発する水分量(g)として算出する。透湿度は偏光板の耐久性と密接に関係したフィルム物性であり、透湿度を下げることにより偏光板耐久性を向上させることができる。本発明のセルロースアシレートフィルムは、60℃95%RH24hrにおける透湿度が200g/m2以上1700g/m2以下であることが好ましい。より好ましくは、500以上1400以下である。
[Moisture permeability]
The moisture permeability is calculated as the amount of moisture (g) that evaporates in 24 hours per 1 m 2 of area by measuring the moisture permeability of each sample in accordance with the method described in JIS Z 0208. The moisture permeability is a film property closely related to the durability of the polarizing plate, and the durability of the polarizing plate can be improved by reducing the moisture permeability. The cellulose acylate film of the present invention preferably has a moisture permeability at 60 ℃ 95% RH24hr is 1700 g / m 2 or less 200 g / m 2 or more. More preferably, it is 500 or more and 1400 or less.
[フィルムのレターデーション]
フィルムのReレターデーション値およびRthレターデーション値は、それぞれ、下記式(I)および(II)で定義される。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式(I)および(II)において、nxは、フィルム面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率である。
式(I)および(II)において、nyは、フィルム面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率である。
式(II)において、nzは、フィルムの厚み方向の屈折率である。
式(I)および(II)において、dは、単位をnmとするフィルムの厚さである。
[Film retardation]
The Re retardation value and Rth retardation value of the film are defined by the following formulas (I) and (II), respectively.
(I) Re = (nx−ny) × d
(II) Rth = {(nx + ny) / 2−nz} × d
In the formulas (I) and (II), nx is the refractive index in the slow axis direction (direction in which the refractive index is maximum) in the film plane.
In formulas (I) and (II), ny is the refractive index in the fast axis direction (the direction in which the refractive index is minimized) in the film plane.
In formula (II), nz is the refractive index in the thickness direction of the film.
In the formulas (I) and (II), d is the thickness of the film whose unit is nm.
[偏光板]
本発明のセルロースアシレートフィルムは偏光板の保護フィルムとして用いられ、特に、様々な液晶モードに対応した位相差フィルムとしても好ましく用いることができる。
偏光子の両側に保護フィルムが貼り合わされてなる偏光板において、保護フィルムの少なくとも1枚が本発明の偏光板保護フィルムであることが好ましい。
[Polarizer]
The cellulose acylate film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate, and can be particularly preferably used as a retardation film corresponding to various liquid crystal modes.
In the polarizing plate in which the protective film is bonded to both sides of the polarizer, it is preferable that at least one of the protective films is the polarizing plate protective film of the present invention.
本発明のセルロースアシレートフィルムを位相差フィルムとして用いる場合、セルロースアシレートフィルムの好ましい光学特性は液晶モードによって異なる。
OCBモード用としてはReは10〜100のものが好ましく、20〜70のものがさらに好ましい。Rthは50〜300のものが好ましく100〜250のものがさらに好ましい。
VAモード用としてはReは20〜100のものが好ましく、30〜70のものがさらに好ましい。Rthは50〜250のものが好ましく80〜180のものがさらに好ましい。
また、TN用としてはReは0〜50のものが好ましく、2〜30のものがさらに好ましい。Rthは10〜200のものが好ましく30〜150のものがさらに好ましい。
OCB用モード及びTN用モードでは前記レターデーション値を有するセルロースアシレートフィルム上に光学異方性層を塗布して光学補償フィルムとして使用できる。
When the cellulose acylate film of the present invention is used as a retardation film, preferred optical properties of the cellulose acylate film vary depending on the liquid crystal mode.
For the OCB mode, Re is preferably 10 to 100, more preferably 20 to 70. Rth is preferably from 50 to 300, more preferably from 100 to 250.
For the VA mode, Re is preferably 20 to 100, more preferably 30 to 70. Rth is preferably 50 to 250, more preferably 80 to 180.
For TN, Re is preferably 0-50, more preferably 2-30. Rth is preferably 10-200, more preferably 30-150.
In the OCB mode and the TN mode, an optically anisotropic layer can be applied on the cellulose acylate film having the retardation value and used as an optical compensation film.
なお、セルロースアシレートフィルムの複屈折率(Δn:nx−ny)は、0.00〜0.002μmの範囲にあることが好ましい。また、支持体フィルムおよび対向フィルムの厚み方向の複屈折率{(nx+ny)/2−nz}は、0.00〜0.04の範囲にあることが好ましい。 In addition, it is preferable that the birefringence ((DELTA) n: nx-ny) of a cellulose acylate film exists in the range of 0.00-0.002 micrometer. The birefringence {(nx + ny) / 2-nz} in the thickness direction of the support film and the counter film is preferably in the range of 0.00 to 0.04.
[光弾性]
本発明のセルロースアシレートの光弾性係数は60×10-8cm2/N以下が好ましく、20×10-8cm2がさらに好ましい。光弾性係数はエリプソメーターにより求めることができる。
[ガラス転移温度]
本発明のセルロースアシレートのガラス転移温度は120℃以上が好ましく、更に140℃以上が好ましい。ガラス転移温度は、示差走査型熱量計(DSC)を用いて昇温速度10℃/分で測定したときにフィルムのガラス転移に由来するベースラインが変化しはじめる温度と再びベースラインに戻る温度との平均値として求めたものである。
[Photoelasticity]
The photoelastic coefficient of the cellulose acylate of the present invention is preferably 60 × 10 −8 cm 2 / N or less, and more preferably 20 × 10 −8 cm 2 . The photoelastic coefficient can be determined by an ellipsometer.
[Glass-transition temperature]
The glass transition temperature of the cellulose acylate of the present invention is preferably 120 ° C. or higher, more preferably 140 ° C. or higher. The glass transition temperature is a temperature at which the baseline derived from the glass transition of the film begins to change and a temperature at which the glass returns to the baseline again when measured at a heating rate of 10 ° C./min using a differential scanning calorimeter (DSC). Is obtained as an average value of.
(偏光板の構成)
つぎに、本発明の偏光板に使用する偏光子について説明する。
本発明の偏光板は、偏光子や保護フィルム以外にも、粘着剤層、セパレートフィルム、保護フィルムを構成要素として有していても構わない。
(Configuration of polarizing plate)
Next, a polarizer used for the polarizing plate of the present invention will be described.
The polarizing plate of this invention may have an adhesive layer, a separate film, and a protective film as a component other than a polarizer and a protective film.
[偏光子]
本発明の偏光子は、ポリビニルアルコール(PVA)と二色性分子から構成することが好ましいが、特開平11−248937に記載されているようにPVAやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
[Polarizer]
The polarizer of the present invention is preferably composed of polyvinyl alcohol (PVA) and a dichroic molecule. However, as described in JP-A-11-248937, PVA and polyvinyl chloride are dehydrated and dechlorinated. Polyvinylene-based polarizers in which a polyene structure is generated and oriented can also be used.
PVAは、ポリ酢酸ビニルをケン化したポリマー素材であるが、例えば不飽和カルボン酸、不飽和スルホン酸、オレフィン類、ビニルエーテル類のような酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有しても構わない。また、アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等を含有する変性PVAも用いることができる。
PVAのケン化度は特に限定されないが、溶解性等の観点から80〜100mol%が好ましく、90〜100mol%が特に好ましい。またPVAの重合度は特に限定されないが、1000〜10000が好ましく、1500〜5000が特に好ましい。
PVAのシンジオタクティシティーは特許2978219号に記載されているように耐久性を改良するため55%以上が好ましいが、特許第3317494号に記載されている45〜52.5%も好ましく用いることができる。
PVA is a polymer material obtained by saponifying polyvinyl acetate, but may contain components copolymerizable with vinyl acetate such as unsaturated carboxylic acids, unsaturated sulfonic acids, olefins, and vinyl ethers. . In addition, modified PVA containing an acetoacetyl group, a sulfonic acid group, a carboxyl group, an oxyalkylene group, or the like can also be used.
The saponification degree of PVA is not particularly limited, but is preferably 80 to 100 mol%, particularly preferably 90 to 100 mol% from the viewpoint of solubility and the like. The degree of polymerization of PVA is not particularly limited, but is preferably 1000 to 10,000, and particularly preferably 1500 to 5000.
The syndiotacticity of PVA is preferably 55% or more for improving durability as described in Japanese Patent No. 2978219, but 45 to 52.5% described in Japanese Patent No. 3317494 is also preferably used. it can.
PVAはフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。PVAフィルムの製造方法は、PVA系樹脂を水又は有機溶媒に溶解した原液を流延して成膜する方法が一般に好ましく用いられる。原液中のポリビニルアルコール系樹脂の濃度は、通常5〜20質量%であり、この原液を流延法により製膜することによって、膜厚10〜200μmのPVAフィルムを製造できる。PVAフィルムの製造は、特許第3342516号、特開平09−328593号、特開2001−302817号、特開2002−144401号を参考にして行うことができる。
PVAフィルムの結晶化度は、特に限定されないが、特許第3251073号に記載されている平均結晶化度(Xc)50〜75質量%や、面内の色相バラツキを低減させるため、特開2002−236214号に記載されている結晶化度38%以下のPVAフィルムを用いることができる。
After PVA is formed into a film, it is preferable to introduce a dichroic molecule to constitute a polarizer. As a method for producing a PVA film, a method of forming a film by casting a stock solution obtained by dissolving a PVA resin in water or an organic solvent is generally preferably used. The density | concentration of the polyvinyl alcohol-type resin in a stock solution is 5-20 mass% normally, and a PVA film with a film thickness of 10-200 micrometers can be manufactured by forming this stock solution with a casting method. The PVA film can be produced with reference to Japanese Patent No. 3342516, Japanese Patent Application Laid-Open No. 09-328593, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-302817, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-144401.
The degree of crystallinity of the PVA film is not particularly limited. However, in order to reduce the average crystallinity (Xc) of 50 to 75% by mass described in Japanese Patent No. 3251073 and in-plane hue variation, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-2005 A PVA film having a crystallinity of 38% or less described in No. 236214 can be used.
PVAフィルムの複屈折(△n)は小さいことが好ましく、特許第3342516号に記載されている複屈折が1.0×10-3以下のPVAフィルムを好ましく用いることができる。但し、特開2002−228835号に記載されているように、PVAフィルムの延伸時の切断を回避しながら高偏光度を得るため、PVAフィルムの複屈折を0.02以上0.01以下としてもよいし、特開2002−060505号に記載されているように(nx+ny)/2−nzの値を0.0003以上0.01以下としてもよい。PVAフィルムのレターデーション(面内)は0nm以上100nm以下が好ましく、0nm以上50nm以下がさらに好ましい。また、PVAフィルムのRth(膜厚方向)は0nm以上500nm以下が好ましく、0nm以上300nm以下がさらに好ましい。 The birefringence (Δn) of the PVA film is preferably small, and a PVA film having a birefringence of 1.0 × 10 −3 or less described in Japanese Patent No. 3342516 can be preferably used. However, as described in JP-A-2002-228835, in order to obtain a high degree of polarization while avoiding cutting during stretching of the PVA film, the birefringence of the PVA film may be set to 0.02 or more and 0.01 or less. Alternatively, as described in JP-A-2002-060505, the value of (nx + ny) / 2-nz may be 0.0003 or more and 0.01 or less. The retardation (in-plane) of the PVA film is preferably from 0 nm to 100 nm, and more preferably from 0 nm to 50 nm. Moreover, 0 nm or more and 500 nm or less are preferable, and, as for Rth (film thickness direction) of a PVA film, 0 nm or more and 300 nm or less are more preferable.
この他、本発明の偏光板には、特許3021494号に記載されている1、2−グリコール結合量が1.5モル%以下のPVAフィルム、特開2001−316492号に記載されている5μm以上の光学的異物が100cm2当たり500個以下であるPVAフィルム、特開2002−030163号に記載されているフィルムのTD方向の熱水切断温度斑が1.5℃以下であるPVAフィルム、さらにグリセリンなどの3〜6価の多価アルコ−ルを1〜100質量部したり、特開平06−289225号に記載されている可塑剤を15質量%以上混合した溶液から製膜したPVAフィルムを好ましく用いることができる。 In addition, the polarizing plate of the present invention includes a PVA film having a 1,2-glycol bond amount of 1.5 mol% or less described in Japanese Patent No. 3021494, 5 μm or more described in JP-A No. 2001-316492. PVA film having 500 or less optical foreign matter per 100 cm 2 , PVA film having a hot water cutting temperature spot of 1.5 ° C. or less in the TD direction of the film described in JP-A-2002-030163, and glycerin Preferred is a PVA film formed from a solution in which 1 to 100 parts by mass of a trivalent to hexavalent polyhydric alcohol such as 1 to 100 parts by mass or a plasticizer described in JP-A 06-289225 is mixed in an amount of 15% by mass or more. Can be used.
PVAフィルムの延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、1μm〜1mmが好ましく、20〜200μmが特に好ましい。特開2002−236212号に記載されているように水中において4倍から6倍の延伸を行った時に発生する応力が10N以下となるような薄いPVAフィルムを使用してもよい。 Although the film thickness before extending | stretching of a PVA film is not specifically limited, 1 micrometer-1 mm are preferable and 20-200 micrometers is especially preferable from a viewpoint of stability of film holding | maintenance and the uniformity of extending | stretching. As described in JP-A-2002-236212, a thin PVA film in which the stress generated when stretching 4 to 6 times in water is 10 N or less may be used.
二色性分子はI3 -やI5 -などの高次のヨウ素イオンもしくは二色性染料を好ましく使用することができる。本発明では高次のヨウ素イオンが特に好ましく使用される。高次のヨウ素イオンは、「偏光板の応用」永田良編、CMC出版や工業材料、第28巻、第7号、p.39〜p.45に記載されているようにヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液および/またはホウ酸水溶液にPVAを浸漬し、PVAに吸着・配向した状態で生成することができる。 Dichroic molecule I 3 - or I 5 - can be preferably used an iodine ion or a dichroic dye higher such. In the present invention, higher-order iodine ions are particularly preferably used. Higher-order iodine ions can be found in “Applications of Polarizing Plates” by Ryo Nagata, CMC Publishing and Industrial Materials, Vol. 28, No. 7, p. 39-p. As described in 45, PVA can be produced by immersing PVA in a solution obtained by dissolving iodine in an aqueous potassium iodide solution and / or an aqueous boric acid solution and adsorbing and orienting the PVA.
二色性分子として二色性染料を用いる場合は、アゾ系色素が好ましく、特にビスアゾ系とトリスアゾ系色素が好ましい。二色性染料は水溶性のものが好ましく、このため二色性分子にスルホン酸基、アミノ基、水酸基などの親水性置換基が導入され、遊離酸、あるいはアルカリ金属塩、アンモニウム塩、アミン類の塩として好ましく用いられる。 When a dichroic dye is used as the dichroic molecule, an azo dye is preferable, and a bisazo dye and a trisazo dye are particularly preferable. The dichroic dye is preferably a water-soluble dye. For this reason, a hydrophilic substituent such as a sulfonic acid group, an amino group or a hydroxyl group is introduced into the dichroic molecule, so that a free acid, an alkali metal salt, an ammonium salt or an amine is introduced. It is preferably used as a salt.
このような二色性染料の具体例としては、例えば、C.I.Direct Red 37、 Congo Red(C.I. Direct Red 28)、C.I.Direct Violet 12、 C.I.Direct Blue 90、 C.I.Direct Blue 22、 C.I.Direct Blue 1、 C.I.Direct Blue 151、 C.I.Direct Green 1等のベンジジン系、C.I.Direct Yellow 44、 C.I.Direct Red 23、 C.I.Direct Red 79等のジフェニル尿素系、C.I.Direct Yellow 12等のスチルベン系、C.I.Direct Red 31等のジナフチルアミン系、C.I.Direct Red 81、 C.I.Direct Violet 9、 C.I.Direct Blue 78等のJ酸系を挙げることができる。
Specific examples of such dichroic dyes include C.I. I. Direct Red 37, Congo Red (C.I. Direct Red 28), C.I. I.
これ以外にも、C.I.Direct Yellow 8、C.I.Direct Yellow 28、C.I.Direct Yellow 86、C.I.Direct Yellow 87、C.I.Direct Yellow 142、C.I.Direct Orange 26、C.I.Direct Orange 39、C.I.Direct Orange 72、C.I.Direct Orange 106、C.I.Direct Orange 107、C.I.Direct Red 2、C.I.Direct Red 39、C.I.Direct Red 83、C.I.Direct Red 89、C.I.Direct Red 240、C.I.Direct Red 242、C.I.Direct Red 247、C.I.Direct Violet 48、C.I.Direct Violet 51、C.I.Direct Violet 98、C.I.Direct Blue 15、C.I.Direct Blue 67、C.I.Direct Blue 71、C.I.Direct Blue 98、C.I.Direct Blue 168、C.I.Direct Blue 202、C.I.Direct Blue 236、C.I.Direct Blue 249、C.I.Direct Blue 270、C.I.Direct Green 59、C.I.Direct Green 85、C.I.Direct Brown 44、C.I.Direct Brown 106、C.I.Direct Brown 195、C.I.Direct Brown 210、C.I.Direct Brown 223、C.I.Direct Brown 224、C.I.Direct Black 1、C.I.Direct Black 17、C.I.Direct Black 19、C.I.Direct Black 54等が、さらに特開昭62−70802号、特開平1−161202号、特開平1−172906号、特開平1−172907号、特開平1−183602号、特開平1−248105号、特開平1−265205号、特開平7−261024号、の各公報記載の二色性染料等も好ましく使用することができる。各種の色相を有する二色性分子を製造するため、これらの二色性染料は2種以上を配合してもかまわない。二色性染料を用いる場合、特開2002−082222号に記載されているように吸着厚みが4μm以上であってもよい。
In addition, C.I. I. Direct Yellow 8, C.I. I. Direct Yellow 28, C.I. I. Direct Yellow 86, C.I. I. Direct Yellow 87, C.I. I. Direct Yellow 142, C.I. I. Direct Orange 26, C.I. I. Direct Orange 39, C.I. I. Direct Orange 72, C.I. I. Direct Orange 106, C.I. I. Direct Orange 107, C.I. I.
フィルム中の該二色性分子の含有量は、少なすぎると偏光度が低く、また、多すぎても単板透過率が低下することから通常、フィルムのマトリックスを構成するポリビニルアルコール系重合体に対して、0.01質量%から5質量%の範囲に調整される。
偏光子の好ましい膜厚としては、5μm〜40μmが好ましく、さらに好ましくは10μm〜30μmである。偏光子の厚さと後述する保護フィルムの厚さの比を、特開2002−174727号に記載されている0.01≦A(偏光子膜厚)/B(保護フィルム膜厚)≦0.16範囲とすることも好ましい。
保護フィルムの遅相軸と偏光子の吸収軸の交差角は、任意の値でよいが、平行もしくは45±20゜の方位角であることが好ましい。
If the content of the dichroic molecule in the film is too small, the degree of polarization is low, and if it is too large, the single-plate transmittance is lowered. Therefore, the polyvinyl alcohol polymer constituting the film matrix is usually used. On the other hand, it is adjusted to a range of 0.01% by mass to 5% by mass.
A preferable film thickness of the polarizer is preferably 5 μm to 40 μm, and more preferably 10 μm to 30 μm. The ratio between the thickness of the polarizer and the thickness of the protective film described later is 0.01 ≦ A (polarizer film thickness) / B (protective film thickness) ≦ 0.16 described in JP-A No. 2002-174727. A range is also preferable.
The crossing angle between the slow axis of the protective film and the absorption axis of the polarizer may be any value, but is preferably parallel or an azimuth angle of 45 ± 20 °.
(偏光板の製造工程)
次に、本発明の偏光板の製造工程について説明する。
本発明における偏光板の製造工程は、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程から構成されることが好ましい。染色工程、硬膜工程、延伸工程の順序を任意に変えること、また、いくつかの工程を組み合わせて同時に行っても構わない。また、特許第3331615に記載されているように、硬膜工程の後に水洗することも好ましく行うことができる。
(Polarizing plate manufacturing process)
Next, the manufacturing process of the polarizing plate of this invention is demonstrated.
The production process of the polarizing plate in the present invention is preferably composed of a swelling process, a dyeing process, a hardening process, a stretching process, a drying process, a protective film bonding process, and a post-bonding drying process. The order of the dyeing step, the hardening step, and the stretching step may be arbitrarily changed, or several steps may be combined and performed simultaneously. Further, as described in Japanese Patent No. 3331615, washing with water after the hardening step can be preferably performed.
本発明では、膨潤工程、染色工程、硬膜工程、延伸工程、乾燥工程、保護フィルム貼り合わせ工程、貼り合わせ後乾燥工程を記載の順序で遂次行うことが特に好ましい。また、前述の工程中あるいは後にオンライン面状検査工程を設けても構わない。 In the present invention, it is particularly preferable to sequentially perform the swelling process, the dyeing process, the hardening process, the stretching process, the drying process, the protective film bonding process, and the drying process after bonding in the order described. An on-line surface inspection step may be provided during or after the above-described steps.
膨潤工程は、水のみで行うことが好ましいが、特開平10−153709に記載されているように、光学性能の安定化及び、製造ラインでの偏光板基材のシワ発生回避のために、偏光板基材をホウ酸水溶液により膨潤させて、偏光板基材の膨潤度を管理することもできる。
また、膨潤工程の温度、時間は、任意に定めることができるが、10℃以上60℃以下、5秒以上2000秒以下が好ましい。
染色工程は、特開2002−86554に記載の方法を用いることができる。また、染色方法としては浸漬だけでなく、ヨウ素あるいは染料溶液の塗布あるいは噴霧等、任意の手段が可能である。また、特開2002−290025号に記載されているように、ヨウ素の濃度、染色浴温度、浴中の延伸倍率、および浴中の浴液を攪拌させながら染色させる方法を用いてもよい。
The swelling process is preferably performed only with water, but as described in JP-A-10-153709, in order to stabilize optical performance and avoid wrinkling of the polarizing plate substrate in the production line, polarized light is used. It is also possible to manage the degree of swelling of the polarizing plate substrate by swelling the plate substrate with an aqueous boric acid solution.
Moreover, although the temperature and time of a swelling process can be defined arbitrarily, 10 to 60 degreeC and 5 to 2000 second are preferable.
For the dyeing step, the method described in JP-A-2002-86554 can be used. Further, as a dyeing method, not only immersion but any means such as application or spraying of iodine or a dye solution can be used. Further, as described in JP-A-2002-290025, iodine concentration, dye bath temperature, draw ratio in the bath, and a method of dyeing while stirring the bath liquid in the bath may be used.
二色性分子として高次のヨウ素イオンを用いる場合、高コントラストな偏光板を得るためには、染色工程はヨウ素をヨウ化カリウム水溶液に溶解した液を用いることが好ましい。この場合のヨウ素−ヨウ化カリウム水溶液のヨウ素は0.05〜20g/l、ヨウ化カリウムは3〜200g/l、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は1〜2000が好ましい範囲である。染色時間は10〜1200秒が好ましく、液温度は10〜60℃が好ましい。さらに好ましくは、ヨウ素は0.5〜2g/l、ヨウ化カリウムは30〜120g/l、ヨウ素とヨウ化カリウムの質量比は30〜120がよく、染色時間は30〜600秒、液温度は20〜50℃がよい。
また、特許第3145747号に記載されているように、染色液にホウ酸、ホウ砂等のホウ素系化合物を添加しても良い。
When higher-order iodine ions are used as the dichroic molecule, in order to obtain a high-contrast polarizing plate, it is preferable to use a solution obtained by dissolving iodine in an aqueous potassium iodide solution in the dyeing step. In this case, iodine in the iodine-potassium iodide aqueous solution is preferably 0.05 to 20 g / l, potassium iodide is 3 to 200 g / l, and the mass ratio of iodine and potassium iodide is preferably 1 to 2000. The dyeing time is preferably 10 to 1200 seconds, and the liquid temperature is preferably 10 to 60 ° C. More preferably, the iodine is 0.5 to 2 g / l, the potassium iodide is 30 to 120 g / l, the mass ratio of iodine to potassium iodide is 30 to 120, the dyeing time is 30 to 600 seconds, and the liquid temperature is 20-50 degreeC is good.
Further, as described in Japanese Patent No. 3145747, boron compounds such as boric acid and borax may be added to the dyeing solution.
硬膜工程は、架橋剤溶液に浸漬、または溶液を塗布して架橋剤を含ませるのが好ましい。また、特開平11−52130に記載されているように、硬膜工程を数回に分けて行うこともできる。 In the hardening step, it is preferable to immerse in the crosslinking agent solution or apply the solution to contain the crosslinking agent. Further, as described in JP-A-11-52130, the hardening process can be performed in several steps.
架橋剤としては米国再発行特許第232897号に記載のものが使用でき、特許第3357109号に記載されているように、寸法安定性を向上させるため、架橋剤として多価アルデヒドを使用することもできるが、ホウ酸類が最も好ましく用いられる。硬膜工程に用いる架橋剤としてホウ酸を用いる場合には、ホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液に金属イオンを添加しても良い。金属イオンとしては塩化亜鉛が好ましいが、特開2000−35512に記載されているように、塩化亜鉛の変わりに、ヨウ化亜鉛などのハロゲン化亜鉛、硫酸亜鉛、酢酸亜鉛などの亜鉛塩を用いることもできる。 As the cross-linking agent, those described in US Reissue Patent No. 232897 can be used, and as described in Japanese Patent No. 3357109, a polyhydric aldehyde may be used as a cross-linking agent in order to improve dimensional stability. However, boric acids are most preferably used. When boric acid is used as a crosslinking agent used in the hardening step, metal ions may be added to the boric acid-potassium iodide aqueous solution. Zinc chloride is preferred as the metal ion, but as described in JP 2000-35512 A, zinc halides such as zinc iodide, zinc sulfates, zinc acetates and the like are used instead of zinc chloride. You can also.
本発明では、塩化亜鉛を添加したホウ酸−ヨウ化カリウム水溶液を作製し、PVAフィルムを浸漬させて硬膜を行うことが好ましく行われる。ホウ酸は1〜100g/l、ヨウ化カリウムは1〜120g/l、塩化亜鉛は0.01〜10g/l、硬膜時間は10〜1200秒が好ましく、液温度は10〜60℃が好ましい。さらに好ましくは、ホウ酸は10〜80g/l、ヨウ化カリウムは5〜100g/l、塩化亜鉛は0.02〜8g/l、硬膜時間は30〜600秒がよく、液温度は20〜50℃がよい。 In the present invention, it is preferable to prepare a boric acid-potassium iodide aqueous solution to which zinc chloride has been added, and perform dura- tion by immersing the PVA film. Boric acid is preferably 1 to 100 g / l, potassium iodide is 1 to 120 g / l, zinc chloride is preferably 0.01 to 10 g / l, hardening time is preferably 10 to 1200 seconds, and liquid temperature is preferably 10 to 60 ° C. . More preferably, boric acid is 10 to 80 g / l, potassium iodide is 5 to 100 g / l, zinc chloride is 0.02 to 8 g / l, hardening time is 30 to 600 seconds, and liquid temperature is 20 to 50 ° C is preferable.
延伸工程は、米国特許2、454、515などに記載されているような、縦一軸延伸方式、もしくは特開2002−86554に記載されているようなテンター方式を好ましく用いることができる。好ましい延伸倍率は2倍以上12倍以下であり、さらに好ましくは3倍以上10倍以下である。また、延伸倍率と原反厚さと偏光子厚さの関係は特開2002−040256号に記載されている(保護フィルム貼合後の偏光子膜厚/原反膜厚)×(全延伸倍率)>0.17としたり、最終浴を出た時の偏光子の幅と保護フィルム貼合時の偏光子幅の関係は特開2002−040247号に記載されている0.80≦(保護フィルム貼合時の偏光子幅/最終浴を出た時の偏光子の幅)≦0.95とすることも好ましく行うことができる。 For the stretching step, a longitudinal uniaxial stretching method as described in US Pat. No. 2,454,515, or a tenter method as described in JP-A-2002-86554 can be preferably used. A preferable draw ratio is 2 times or more and 12 times or less, and more preferably 3 times or more and 10 times or less. Moreover, the relationship between the draw ratio, the thickness of the original fabric and the thickness of the polarizer is described in JP-A No. 2002-040256 (polarizer film thickness / raw film thickness after bonding of the protective film) × (total draw ratio) > 0.17 or the relationship between the width of the polarizer when leaving the final bath and the width of the polarizer when bonding the protective film is 0.80 ≦ (protective film pasting) described in JP-A-2002-040247 It is also preferable to satisfy the following condition: polarizer width at the time / width of the polarizer when leaving the final bath) ≦ 0.95.
乾燥工程は、特開2002−86554で公知の方法を使用できるが、好ましい温度範囲は30℃〜100℃であり、好ましい乾燥時間は30秒〜60分である。また、特許第3148513号に記載されているように、水中退色温度を50℃以上とするような熱処理を行ったり、特開平07−325215号や特開平07−325218号に記載されているように温湿度管理した雰囲気でエージングすることも好ましく行うことができる。 As the drying step, a method known in JP-A-2002-86554 can be used, but a preferable temperature range is 30 ° C. to 100 ° C., and a preferable drying time is 30 seconds to 60 minutes. Further, as described in Japanese Patent No. 3148513, heat treatment is performed so that the fading temperature in water is 50 ° C. or higher, or as described in Japanese Patent Laid-Open Nos. 07-325215 and 07-325218. Aging in a temperature and humidity controlled atmosphere can also be preferably performed.
保護フィルム貼り合わせ工程は、乾燥工程を出た前述の偏光子の両面を2枚の保護フィルムで貼合する工程である。貼合直前に接着液を供給し、偏光子と保護フィルムを重ね合わせるように、一対のロールで貼り合わせる方法が好ましく使用される。また、特開2001−296426及び特開2002−86554に記載されているように、偏光子の延伸に起因するレコードの溝状の凹凸を抑制するため、貼り合わせ時の偏光子の水分率を調整することが好ましい。本発明では0.1%〜30%の水分率が好ましく用いられる。 A protective film bonding process is a process of bonding the both surfaces of the above-mentioned polarizer which went out of the drying process with two protective films. A method of bonding with a pair of rolls is preferably used so that the adhesive liquid is supplied immediately before bonding and the polarizer and the protective film are overlapped. In addition, as described in JP-A-2001-296426 and JP-A-2002-86554, the moisture content of the polarizer at the time of bonding is adjusted in order to suppress the groove-like unevenness of the record due to the stretching of the polarizer. It is preferable to do. In the present invention, a moisture content of 0.1% to 30% is preferably used.
偏光子と保護フィルムとの接着剤は特に限定されないが、PVA系樹脂(アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等の変性PVAを含む)やホウ素化合物水溶液等が挙げられ、中でもPVA系樹脂が好ましい。接着剤層厚みは乾燥後に0.01〜5μmが好ましく、0.05〜3μmが特に好ましい。 The adhesive between the polarizer and the protective film is not particularly limited, and examples thereof include PVA resin (including modified PVA such as acetoacetyl group, sulfonic acid group, carboxyl group, oxyalkylene group) and boron compound aqueous solution. PVA resin is preferable. The thickness of the adhesive layer is preferably 0.01 to 5 μm, and particularly preferably 0.05 to 3 μm after drying.
また、偏光子と保護フィルムの接着力を向上させるために、保護フィルムを表面処理して親水化してから接着することが好ましく行われる。表面処理の方法は特に制限は無いが、アルカリ溶液を用いてケン化する方法、コロナ処理法など公知の方法を用いることができる。また、表面処理後にゼラチン下塗り層等の易接着層を設けても良い。特開2002−267839号に記載されているように保護フィルム表面の水との接触角は50°以下が好ましい。
貼り合わせ後乾燥条件は、特開2002−86554に記載の方法に従うが、好ましい温度範囲は30℃〜100℃であり、好ましい乾燥時間は30秒〜60分である。また、特開平07−325220号に記載されているように温湿度管理をした雰囲気でエージングすることも好ましい。
Moreover, in order to improve the adhesive force of a polarizer and a protective film, it is preferable to perform adhesion after surface-treating the protective film to make it hydrophilic. The surface treatment method is not particularly limited, and a known method such as a saponification method using an alkaline solution or a corona treatment method can be used. Further, an easy-adhesion layer such as a gelatin undercoat layer may be provided after the surface treatment. As described in JP-A-2002-267839, the contact angle of the protective film surface with water is preferably 50 ° or less.
The drying conditions after bonding are in accordance with the method described in JP-A-2002-86554, but the preferred temperature range is 30 ° C. to 100 ° C., and the preferred drying time is 30 seconds to 60 minutes. It is also preferable to perform aging in an atmosphere with temperature and humidity control as described in JP-A-07-325220.
偏光子中の元素含有量は、ヨウ素0.1〜3.0g/m2、ホウ素0.1〜5.0g/m2、カリウム0.1〜2.00g/m2、亜鉛0〜2.00g/m2であることが好ましい。また、カリウム含有量は特開2001−166143号に記載されているように0.2質量%以下であってもよいし、偏光子中の亜鉛含有量を特開2000−035512号に記載されている0.04質量%〜0.5質量%としてもよい。 The element content in the polarizer is as follows: iodine 0.1-3.0 g / m 2 , boron 0.1-5.0 g / m 2 , potassium 0.1-2.00 g / m 2 , zinc 0-2. It is preferably 00 g / m 2 . Further, the potassium content may be 0.2% by mass or less as described in JP-A No. 2001-166143, and the zinc content in the polarizer is described in JP-A No. 2000-035512. It is good also as 0.04 mass%-0.5 mass%.
特許第3323255号に記載されているように、偏光板の寸法安定性をあげるために、染色工程、延伸工程および硬膜工程のいずれかの工程において有機チタン化合物および/または有機ジルコニウム化合物を添加使用し、有機チタン化合物および有機ジルコニウム化合物から選ばれた少なくとも一種の化合物を含有することもできる。また、偏光板の色相を調整するために二色性染料を添加しても良い。 As described in Japanese Patent No. 3323255, in order to increase the dimensional stability of the polarizing plate, an organic titanium compound and / or an organic zirconium compound is added and used in any of the dyeing process, stretching process and hardening process And at least 1 type of compound chosen from the organic titanium compound and the organic zirconium compound can also be contained. A dichroic dye may be added to adjust the hue of the polarizing plate.
(偏光板の特性)
(1)透過率および偏光度
本発明の偏光板の好ましい単板透過率は42.5%以上49.5%以下であるが、さらに好ましくは42.8%以上49.0%以下である。式4で定義される偏光度の好ましい範囲は99.900%以上99.999%以下であり、さらに好ましくは99.940%以上99.995%以下である。平行透過率の好ましい範囲は36%以上42%以下であり、直交透過率の好ましい範囲は、0.001%以上0.05%以下である。式5で定義される二色性比の好ましい範囲は48以上、1215以下であるが、さらに好ましくは53以上525以下である。
(Characteristics of polarizing plate)
(1) Transmittance and degree of polarization The preferred single plate transmittance of the polarizing plate of the present invention is 42.5% or more and 49.5% or less, more preferably 42.8% or more and 49.0% or less. A preferable range of the degree of polarization defined by
上述の透過率はJISZ8701に基づいて、下記式により定義される。
S(λ):色の表示に用いる標準光の分光分布
y(λ):XYZ系における等色関数
τ(λ):分光透過率
S (λ): spectral distribution of standard light used for color display y (λ): color matching function in XYZ system τ (λ): spectral transmittance
偏光度は下記式4で定義される。
また、二色性比は下記式5で定義される。
ヨウ素濃度と単板透過率は特開2002−258051号に記載されている範囲であってもよい。
平行透過率は、特開2001−083328号や特開2002−022950号に記載されているように波長依存性が小さくてもよい。偏光板をクロスニコルに配置した場合の光学特性は、特開2001−091736号に記載されている範囲であってもよく、平行透過率と直交透過率の関係は、特開2002−174728号に記載されている範囲内であってもよい。
The iodine concentration and the single plate transmittance may be within the ranges described in JP-A No. 2002-258051.
The parallel transmittance may be small in wavelength dependency as described in JP-A-2001-083328 and JP-A-2002-022950. The optical characteristics when the polarizing plates are arranged in crossed Nicols may be in the range described in Japanese Patent Laid-Open No. 2001-091136, and the relationship between parallel transmittance and orthogonal transmittance is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-174728. It may be within the range described.
特開2002−221618号に記載されているように、光の波長が420〜700nmの間での10nm毎の平行透過率の標準偏差が3以下で、且つ、光の波長が420〜700nmの間での10nm毎の(平行透過率/直交透過率)の最小値が300以上であってもよい。 As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-221618, the standard deviation of the parallel transmittance every 10 nm when the light wavelength is between 420 and 700 nm is 3 or less, and the light wavelength is between 420 and 700 nm. The minimum value of (parallel transmittance / orthogonal transmittance) every 10 nm may be 300 or more.
偏光板の波長440nmにおける平行透過率と直交透過率、平行透過率、波長550nmにおける平行透過率と直交透過率、波長610nmにおける平行透過率と直交透過率が、特開2002−258042号や特開2002−258043号に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。 The parallel transmittance and the orthogonal transmittance at a wavelength of 440 nm of the polarizing plate, the parallel transmittance, the parallel transmittance and the orthogonal transmittance at a wavelength of 550 nm, and the parallel transmittance and the orthogonal transmittance at a wavelength of 610 nm are disclosed in JP-A No. 2002-258042 and JP-A No. 2002-80442. The range described in 2002-258043 can also be preferably performed.
(2)色相
本発明の偏光板の色相は、CIE均等知覚空間として推奨されているL*a*b*表色系における明度指数L*およびクロマティクネス指数a*とb*を用いて好ましく評価される。
L*、a*、b*は、上述のX、Y、Zを用いて式6で定義される。
(2) Hue The hue of the polarizing plate of the present invention is preferably evaluated using the lightness index L * and chromaticness index a * and b * in the L * a * b * color system recommended as the CIE uniform perceptual space. Is done.
L *, a *, and b * are defined by
ここでX0、Y0、Z0は照明光源の三刺激値を表し、標準光Cの場合、X0=98.072、Y0=100、Z0=118.225であり、標準光D65の場合、X0=95.045、Y0=100、Z0=108.892である。 Here, X 0 , Y 0 , and Z 0 represent tristimulus values of the illumination light source. In the case of standard light C, X 0 = 98.072, Y 0 = 100, Z 0 = 118.225, and standard light D In the case of 65 , X 0 = 95.045, Y 0 = 100, Z 0 = 108.892.
偏光板単枚の好ましいa*の範囲は−2.5以上0.2以下であり、さらに好ましくは−2.0以上0以下である。偏光板単枚の好ましいb*の範囲は1.5以上5以下であり、さらに好ましくは2以上4.5以下である。2枚の偏光板の平行透過光のa*の好ましい範囲は−4.0以上0以下であり、さらに好ましくは−3.5以上−0.5以下である。2枚の偏光板の平行透過光のb*の好ましい範囲は2.0以上8以下であり、さらに好ましくは2.5以上7以下である。2枚の偏光板の直交透過光のa*の好ましい範囲は−0.5以上1.0以下であり、さらに好ましくは0以上2以下である。2枚の偏光板の直交透過光のb*の好ましい範囲は−2.0以上2以下であり、さらに好ましくは−1.5以上0.5以下である。 The preferable range of a * for a single polarizing plate is −2.5 or more and 0.2 or less, and more preferably −2.0 or more and 0 or less. The preferred b * range of a single polarizing plate is 1.5 or more and 5 or less, and more preferably 2 or more and 4.5 or less. The preferable range of a * of the parallel transmitted light of the two polarizing plates is −4.0 to 0, and more preferably −3.5 to −0.5. The preferable range of b * of the parallel transmitted light of the two polarizing plates is 2.0 or more and 8 or less, and more preferably 2.5 or more and 7 or less. The preferable range of a * of the orthogonally transmitted light of the two polarizing plates is −0.5 or more and 1.0 or less, and more preferably 0 or more and 2 or less. The preferable range of b * of the orthogonally transmitted light of the two polarizing plates is −2.0 or more and 2 or less, and more preferably −1.5 or more and 0.5 or less.
色相は、前述のX、Y、Zから算出される色度座標(x,y)で評価しても良く、例えば、2枚の偏光板の平行透過光の色度(xp、yp)と直交透過光の色度(xc、yc)は、特開2002−214436号、特開2001−166136号や特開2002−169024に記載されている範囲にしたり、色相と吸光度の関係を特開2001−311827号に記載されている範囲内にすることも好ましく行うことができる。 The hue may be evaluated by the chromaticity coordinates (x, y) calculated from the aforementioned X, Y, and Z. For example, the chromaticity (x p , y p ) of the parallel transmitted light of the two polarizing plates. And the chromaticity (x c , y c ) of the orthogonal transmitted light are within the ranges described in JP-A-2002-214436, JP-A-2001-166136, and JP-A-2002-169024, or the relationship between the hue and the absorbance. It can also be preferably performed within the range described in JP-A-2001-311827.
(3)視野角特性
偏光板をクロスニコルに配置して波長550nmの光を入射させる場合の、垂直光を入射させた場合と、偏光軸に対して45度の方位から法線に対し40度の角度で入射させた場合の、透過率比やxy色度差を特開2001−166135号や特開2001−166137号に記載された範囲とすることも好ましい。また、特開平10−068817号に記載されているように、クロスニコル配置した偏光板積層体の垂直方向の光透過率(T0)と、積層体の法線から60°傾斜方向の光透過率(T60)との比(T60/T0)を10000以下としたり、特開2002−139625号に記載されているように、偏光板に法線から仰角80度までの任意な角度で自然光を入射させた場合に、その透過スペクトルの520〜640nmの波長範囲において波長域20nm以内における透過光の透過率差を6%以下としたり、特開平08−248201号に記載されている、フィルム上の任意の1cm離れた場所における透過光の輝度差が30%以内とすることも好ましい。
(3) Viewing angle characteristics When a polarizing plate is arranged in crossed Nicol and light with a wavelength of 550 nm is incident, when vertical light is incident, from a azimuth of 45 degrees with respect to the polarization axis, 40 degrees with respect to the normal line It is also preferable that the transmittance ratio and the xy chromaticity difference when the light is incident at an angle of within the range described in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-166135 and 2001-166137. Further, as described in JP-A-10-068817, the light transmittance (T 0 ) in the vertical direction of the polarizing plate laminate having the crossed Nicols arrangement and the light transmission in the direction inclined by 60 ° from the normal line of the laminate. The ratio (T 60 / T 0 ) to the rate (T 60 ) is 10000 or less, or as described in JP-A No. 2002-139625, the polarizing plate is at an arbitrary angle from the normal to an elevation angle of 80 degrees. When natural light is incident, the transmittance difference of transmitted light within a wavelength range of 20 nm within the wavelength range of 520 to 640 nm of the transmission spectrum is set to 6% or less, or a film described in JP-A-08-248201 It is also preferable that the brightness difference of the transmitted light at an
(4)耐久性
(4−1)湿熱耐久性
特開2001−116922号に記載されているように60℃、90%RHの雰囲気に500時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率が絶対値に基づいて3%以下であることが好ましい。特に光透過率の変化率は2%以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて1.0%以下、更には0.1%以下であることが好ましい。また、特開平07−077608号に記載されているように80℃、90%RH、500時間放置後の偏光度が95%以上、単体透過率が38%以上であることも好ましい。
(4) Durability (4-1) Wet heat durability As described in JP-A-2001-116922, light transmittance and polarization degree before and after standing in an atmosphere of 60 ° C. and 90% RH for 500 hours. It is preferable that the change rate of is 3% or less based on the absolute value. In particular, the change rate of the light transmittance is 2% or less, and the change rate of the polarization degree is preferably 1.0% or less, more preferably 0.1% or less based on the absolute value. Further, as described in JP-A-07-0777608, it is also preferred that the degree of polarization after standing at 80 ° C. and 90% RH for 500 hours is 95% or more and the single transmittance is 38% or more.
(4−2)ドライ耐久性
80℃、ドライ雰囲気下に500時間放置した場合のその前後における光透過率及び偏光度の変化率も絶対値に基づいて3%以下であることが好ましい。特に、光透過率の変化率は2%以下、また、偏光度の変化率は絶対値に基づいて1.0%以下、更には0.1%以下であることが好ましい。
(4-2) Dry durability It is preferable that the light transmittance and the rate of change of the degree of polarization before and after leaving in a dry atmosphere at 80 ° C. for 500 hours are also 3% or less based on absolute values. In particular, the change rate of the light transmittance is preferably 2% or less, and the change rate of the polarization degree is preferably 1.0% or less, more preferably 0.1% or less based on the absolute value.
(4−3)その他の耐久性
さらに、特開平06−167611号に記載されているように80℃で2時間放置した後の収縮率が0.5%以下としたり、ガラス板の両面にクロスニコル配置した偏光板積層体を69℃の雰囲気中で750時間放置した後のx値及びy値が特開平10−068818号に記載されている範囲内としたり、80℃、90%RHの雰囲気中で200時間放置処理後のラマン分光法による105cm-1及び157cm-1のスペクトル強度比の変化を、特開平08−094834号や特開平09−197127号に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
(4-3) Other Durability Further, as described in JP-A-06-167611, the shrinkage rate after being left at 80 ° C. for 2 hours is 0.5% or less, or the both sides of the glass plate are crossed. The x and y values after leaving the Nicol-arranged polarizing plate laminate in an atmosphere of 69 ° C. for 750 hours are within the range described in JP-A-10-068818, or an atmosphere of 80 ° C. and 90% RH. the change in spectral intensity ratio of the 105 cm -1 and 157cm -1 after 200 hours standing processing by Raman spectroscopy at medium, it is also preferable to fall within the range as described in JP-a-08-094834 and JP-a-09-197127 It can be carried out.
(5)配向度
PVAの配向度は高い程良好な偏光性能が得られるが、偏光ラマン散乱や偏光FT−IR等の手段によって算出されるオーダーパラメーター値として0.2〜1.0が好ましい範囲である。また、特開昭59−133509号に記載されているように、偏光子の全非晶領域の高分子セグメントの配向係数と占領分子の配向係数(0.75以上)との差を少なくとも0.15としたり、特開平04−204907号に記載されているように偏光子の非晶領域の配向係数が0.65〜0.85としたり、I3 -やI5 -の高次ヨウ素イオンの配向度を、オーダーパラメーター値として0.8〜1.0とすることも好ましく行うことができる。
(5) Orientation degree The higher the degree of orientation of PVA, the better the polarization performance, but the range of 0.2 to 1.0 is preferable as the order parameter value calculated by means such as polarization Raman scattering or polarization FT-IR. It is. Further, as described in JP-A-59-133509, the difference between the orientation coefficient of the polymer segment in the entire amorphous region of the polarizer and the orientation coefficient of the occupied molecule (0.75 or more) is at least 0. 15, the orientation coefficient of the amorphous region of the polarizer is 0.65 to 0.85 as described in JP-A No. 04-204907, and the higher order iodine ions of I 3 − and I 5 − It is also preferable to set the degree of orientation to 0.8 to 1.0 as an order parameter value.
(6)その他の特性
特開2002−006133号に記載されているように、80℃30分加熱したときの単位幅あたりの吸収軸方向の収縮力が4.0N/cm以下としたり、特開2002−236213号に記載されているように、偏光板を70℃の加熱条件下に120時間置いた場合に、偏光板の吸収軸方向の寸法変化率及び偏光軸方向の寸法変化率を、共に±0.6%以内としたり、偏光板の水分率を特開2002−090546号に記載されているように3質量%以下とすることも好ましく行うことができる。さらに、特開2000−249832号に記載されているように延伸軸に垂直な方向の表面粗さが中心線平均粗さに基づいて0.04μm以下としたり、特開平10−268294号に記載されているように透過軸方向の屈折率n0 を1.6より大きくしたり、偏光板の厚みと保護フィルムの厚みの関係を特開平10−111411号に記載された範囲とすることも好ましく行うことができる。
(6) Other properties As described in JP-A-2002-006133, the contraction force in the absorption axis direction per unit width when heated at 80 ° C. for 30 minutes is 4.0 N / cm or less, As described in 2002-236213, when the polarizing plate was placed under heating conditions of 70 ° C. for 120 hours, both the dimensional change rate in the absorption axis direction and the dimensional change rate in the polarization axis direction of the polarizing plate were It is also preferable to make it within ± 0.6%, or to set the moisture content of the polarizing plate to 3% by mass or less as described in JP-A-2002-090546. Further, as described in JP-A No. 2000-249832, the surface roughness in the direction perpendicular to the stretching axis is set to 0.04 μm or less based on the center line average roughness, or described in JP-A No. 10-268294. The refractive index n 0 in the transmission axis direction is preferably made larger than 1.6, or the relationship between the thickness of the polarizing plate and the thickness of the protective film is preferably within the range described in JP-A-10-111411. be able to.
(偏光板の機能化)
本発明の偏光板は、LCDの視野角拡大フィルム、反射型LCDに適用するためのλ/4板等の位相差フィルム、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア(防眩)層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板として好ましく使用される。
(Functionalization of polarizing plate)
The polarizing plate of the present invention includes an LCD viewing angle widening film, a retardation film such as a λ / 4 plate for application to a reflective LCD, an antireflection film for improving display visibility, a brightness enhancement film, It is preferably used as a functionalized polarizing plate combined with an optical film having functional layers such as a coat layer, a forward scattering layer, and an antiglare (antiglare) layer.
本発明の偏光板と上述の機能性光学フィルムを複合した構成例を図1に示した。
偏光板5の片側の保護フィルムとして機能性光学フィルム3を偏光子2に粘着層を介して接着しても良いし(図1(A))、偏光子2の両面に保護フィルム1a、1bを設けた偏光板5に粘着層4を介して機能性光学フィルム3を接着しても良い(図1(B))。前者の場合、もう一方の保護フィルム1には任意の透明保護フィルムを使用してもよい。また、本発明の偏光板においては、保護フィルムに光学機能層を粘着層を介して貼り合わせ、機能性光学フィルム3として、図1(A)の構成とすることも好ましい。機能層や保護フィルム等の各層間の剥離強度は特開2002−311238号に記載されている4.0N/25mm以上とすることも好ましい。機能性光学フィルムは、目的とする機能に応じて液晶モジュール側に配置したり、液晶モジュールとは反対側、すなわち表示側もしくはバックライト側に配置することが好ましい。
A configuration example in which the polarizing plate of the present invention and the above-described functional optical film are combined is shown in FIG.
The functional
以下に本発明の偏光板と複合して使用される機能性光学フィルムについて説明する。
(1)視野角拡大フィルム
本発明の偏光板は、TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、OCB(Optically Compensatory Bend)、VA(Vertically Aligned)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)のような表示モードに提案されている視野角拡大フィルムと組み合わせて使用することができる。
The functional optical film used in combination with the polarizing plate of the present invention will be described below.
(1) Viewing Angle Enlargement Film The polarizing plate of the present invention includes TN (Twisted Nematic), IPS (In-Plane Switching), OCB (Optically Compensated Bend), VA (Vertically Aligned), ECB (Electrically Bold). It can be used in combination with a viewing angle widening film proposed for the display mode.
TNモード用の視野角拡大フィルムとしては、日本印刷学会誌第36巻第3号(1999)p.40〜44、月刊ディスプレイ8月号(2002)p.20〜24、特開平4−229828、特開平6−75115、特開平6−214116号、特開平8−50206等に記載されたWVフィルム(富士写真フィルム(株)製)を好ましく組み合わせて使用される。
TNモード用の視野角拡大フィルムの好ましい構成は、前述の透明なポリマーフィルム上に配向層と光学異方性層をこの順に有したものである。視野角拡大フィルムは粘着剤を介して偏光板と貼合され、用いられてよいが、SID’00 Dig.、p.551(2000)に記載されているように、前記偏光子の保護フィルムの一方も兼ねて使用されることが薄手化の観点から特に好ましい。
As a viewing angle widening film for the TN mode, the Japan Printing Society Vol. 36, No. 3 (1999) p. 40-44, monthly display August issue (2002) p. No. 20-24, JP-A-4-229828, JP-A-6-75115, JP-A-6-214116, JP-A-8-50206, etc. are preferably used in combination. The
A preferred configuration of the viewing angle widening film for the TN mode has an alignment layer and an optically anisotropic layer in this order on the transparent polymer film. Although a viewing angle expansion film may be used by being bonded to a polarizing plate via an adhesive, SID'00 Dig. , P. As described in 551 (2000), it is particularly preferable from the viewpoint of thinning that one of the protective films of the polarizer is also used.
配向層は、有機化合物(好ましくはポリマー)のラビング処理、無機化合物の斜方蒸着、マイクログループを有する層の形成のような手段で設けることができる。さらに電場の付与、磁場の付与あるいは光照射により配向機能が生じる配向層も知られているが、ポリマーのラビング処理により形成する配向層が特に好ましい。ラビング処理はポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより好ましく実施される。偏光子の吸収軸方向とラビング方向は実質的に平行であることが好ましい。配向層に使用するポリマーの種類は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特開平9−152509号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を好ましく使用することができる。配向層の厚さは0.01〜5μmであることが好ましく、0.05〜2μmであることがさらに好ましい。 The alignment layer can be provided by means such as a rubbing treatment of an organic compound (preferably a polymer), oblique deposition of an inorganic compound, or formation of a layer having a microgroup. Furthermore, an alignment layer in which an alignment function is generated by application of an electric field, application of a magnetic field, or light irradiation is also known. The rubbing treatment is preferably performed by rubbing the surface of the polymer layer several times in a certain direction with paper or cloth. It is preferable that the absorption axis direction and the rubbing direction of the polarizer are substantially parallel. As the polymer used for the alignment layer, polyimide, polyvinyl alcohol, a polymer having a polymerizable group described in JP-A-9-152509, and the like can be preferably used. The thickness of the alignment layer is preferably 0.01 to 5 μm, and more preferably 0.05 to 2 μm.
光学異方性層は液晶性化合物を含有していることが好ましい。本発明に使用される液晶性化合物はディスコティック化合物(ディスコティック液晶)を有していることが特に好ましい。ディスコティック液晶分子は、トリフェニレン誘導体のように円盤状のコア部を有し、そこから放射状に側鎖が伸びた構造を有している。また、経時安定性を付与するため、熱、光等で反応する基をさらに導入することも好ましく行われる。上記ディスコティック液晶の好ましい例は特開平8−50206号公報に記載されている。
ディスコティック液晶分子の例を以下に示す。
The optically anisotropic layer preferably contains a liquid crystalline compound. The liquid crystal compound used in the present invention particularly preferably has a discotic compound (discotic liquid crystal). The discotic liquid crystal molecule has a disk-like core portion like a triphenylene derivative, and has a structure in which side chains extend radially therefrom. In order to impart stability over time, it is also preferable to further introduce a group that reacts with heat, light or the like. Preferred examples of the discotic liquid crystal are described in JP-A-8-50206.
Examples of discotic liquid crystal molecules are shown below.
ディスコティック液晶分子は、配向層付近ではラビング方向にプレチルト角を持ってほぼフィルム平面に平行に配向しており、反対の空気面側ではディスコティック液晶分子が面に垂直に近い形で立って配向している。ディスコティック液晶層全体としては、ハイブリッド配向を取っており、この層構造によってTNモードのTFT−LCDの視野角拡大を実現することができる。 The discotic liquid crystal molecules are aligned almost parallel to the film plane with a pretilt angle in the rubbing direction in the vicinity of the alignment layer, and the discotic liquid crystal molecules are oriented so that they are perpendicular to the plane on the opposite air side. doing. The discotic liquid crystal layer as a whole has a hybrid alignment, and this layer structure can realize a wide viewing angle of a TN mode TFT-LCD.
上記光学異方性層は、一般にディスコティック化合物及び他の化合物(更に、例えば重合性モノマー、光重合開始剤)を溶剤に溶解した溶液を配向層上に塗布し、乾燥し、次いでディスコティックネマチック相形成温度まで加熱した後、UV光の照射等により重合させ、さらに冷却することにより得られる。本発明に用いるディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度としては、70〜300℃が好ましく、特に70〜170℃が好ましい。 The optically anisotropic layer is generally a discotic compound and another compound (for example, a polymerizable monomer, a photopolymerization initiator) dissolved in a solvent, coated on the alignment layer, dried, and then discotic nematic. After heating to the phase formation temperature, it is obtained by polymerization by irradiation with UV light or the like and further cooling. The discotic nematic liquid crystal phase-solid phase transition temperature of the discotic liquid crystalline compound used in the present invention is preferably 70 to 300 ° C, particularly preferably 70 to 170 ° C.
また、上記光学異方性層に添加するディスコティック化合物以外の化合物としては、ディスコティック化合物と相溶性を有し、液晶性ディスコティック化合物に好ましい傾斜角の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しない限り、どのような化合物も使用することができる。これらの中で、重合性モノマー(例、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物)、含フッ素トリアジン化合物等の空気界面側の配向制御用添加剤が、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、ヒドロキシプロピルセルロース及びセルロースアセテートブチレート等のポリマーを挙げることができる。これらの化合物は、ディスコティック化合物に対して一般に0.1〜50質量%、好ましくは0.1〜30質量%の添加量にて使用される。
光学異方性層の厚さは、0.1〜10μmであることが好ましく、0.5〜5μmであることがさらに好ましい
In addition to the discotic compound added to the optically anisotropic layer, the compound has compatibility with the discotic compound and can give a preferable change in tilt angle to the liquid crystalline discotic compound or inhibit the alignment. Any compound can be used as long as it is not. Among these, additives for controlling the orientation on the air interface side such as polymerizable monomers (eg, compounds having vinyl group, vinyloxy group, acryloyl group and methacryloyl group), fluorine-containing triazine compounds are cellulose acetate, cellulose acetate pro Mention may be made of polymers such as pionate, hydroxypropylcellulose and cellulose acetate butyrate. These compounds are generally used in an amount of 0.1 to 50% by mass, preferably 0.1 to 30% by mass, based on the discotic compound.
The thickness of the optically anisotropic layer is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.5 to 5 μm.
視野角拡大フィルムの好ましい態様は、透明基材フィルムとしてのセルロースアシレートフィルム、その上に設けられた配向層、および該配向層上に形成されたディスコティック液晶からなる光学異方性層から構成され、かつ光学異方性層がUV光照射により架橋されている。 A preferred embodiment of the viewing angle widening film is composed of a cellulose acylate film as a transparent substrate film, an alignment layer provided thereon, and an optically anisotropic layer comprising a discotic liquid crystal formed on the alignment layer And the optically anisotropic layer is crosslinked by UV light irradiation.
また、上記以外にも視野角拡大フィルムと本発明の偏光板を組み合わせる場合、例えば、特開平07−198942号に記載されているように板面に対し交差する方向に光軸を有して複屈折に異方性を示す位相差板と積層したり、特開2002−258052号に記載されているように保護フィルムと光学異方性層の寸法変化率が実質的に同等とすることも好ましく行うことができる。また、特開平12−258632号に記載されているように視野角拡大フィルムと貼合される偏光板の水分率を2.4%以下としたり、特開2002−267839号に記載されているように視野角拡大フィルム表面の水との接触角を70°以下とすることも好ましく行うことができる。 In addition to the above, when the viewing angle widening film and the polarizing plate of the present invention are combined, for example, as described in JP-A-07-198942, a compound having an optical axis in a direction intersecting the plate surface is used. It is also preferable to laminate with a phase difference plate exhibiting anisotropy in refraction or to make the dimensional change rate of the protective film and the optically anisotropic layer substantially the same as described in JP-A No. 2002-258052. It can be carried out. Further, as described in JP-A-12-258632, the moisture content of the polarizing plate bonded to the viewing angle widening film is set to 2.4% or less, or as described in JP-A-2002-267839. Further, the contact angle with water on the surface of the viewing angle widening film can be preferably set to 70 ° or less.
IPSモード液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印状態の黒表示時において、基板面に平行配向した液晶分子の光学補償および偏光板の直交透過率の視野角特性向上に用いる。IPSモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の透過軸は直交している。しかし斜めから観察した場合は、透過軸の交差角が90°ではなくなり、漏れ光が生じてコントラストが低下する。本発明の偏光板をIPSモード液晶セルに用いる場合は、漏れ光を低下するため特開平10−54982号公報に記載されているような面内の位相差が0に近く、かつ厚さ方向に位相差を有する視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。 The viewing angle widening film for an IPS mode liquid crystal cell is used for optical compensation of liquid crystal molecules aligned in parallel to the substrate surface and for improving the viewing angle characteristics of the orthogonal transmittance of the polarizing plate during black display without an electric field. In the IPS mode, black is displayed when no electric field is applied, and the transmission axes of the pair of upper and lower polarizing plates are orthogonal. However, when observed from an oblique direction, the crossing angle of the transmission axes is not 90 °, and leakage light is generated, resulting in a decrease in contrast. When the polarizing plate of the present invention is used in an IPS mode liquid crystal cell, the in-plane retardation as described in JP-A-10-54982 is close to 0 and the thickness direction is reduced in order to reduce leakage light. It is preferably used in combination with a viewing angle widening film having a phase difference.
OCBモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界印加により液晶層中央部で垂直配向し、基板界面付近で傾斜配向した液晶層の光学補償を行い、黒表示の視野角特性を改善するために使用される。本発明の偏光板をOCBモード液晶セルに用いる場合は、米国特許5805253号に記載されたような円盤状の液晶性化合物をハイブリット配向させた視野角拡大フィルムと好ましく組み合わせて用いられる。 The OCB mode viewing angle widening film for liquid crystal cells is intended to improve the viewing angle characteristics of black display by optically compensating the liquid crystal layer that is vertically aligned at the center of the liquid crystal layer by applying an electric field and tilted near the substrate interface. used. When the polarizing plate of the present invention is used in an OCB mode liquid crystal cell, it is preferably used in combination with a viewing angle widening film in which a discotic liquid crystalline compound as described in US Pat. No. 5,805,253 is hybrid-aligned.
VAモードの液晶セル用視野角拡大フィルムは、電界無印加状態で液晶分子が基板面に対して垂直配向した状態の黒表示の視野角特性を改善する。このような視野角拡大フィルムしては特許番号第2866372号公報に記載されているような面内の位相差が0に近く、かつ厚さ方向に位相差を有するフィルムや、円盤状の化合物が基板に平行に配列したフィルムや、同じ面内レターデーション値を有する延伸フィルムを遅相軸が直交になるように積層配置したフィルムや、偏光板の斜め方向の直交透過率悪化防止のために液晶分子のような棒状化合物からなるフィルムを積層したものと好ましく組み合わせて用いられる。 The viewing angle widening film for liquid crystal cells in the VA mode improves the viewing angle characteristics of black display in a state where liquid crystal molecules are vertically aligned with respect to the substrate surface in the absence of an electric field. As such a viewing angle widening film, a film having an in-plane retardation close to 0 and having a retardation in the thickness direction as described in Japanese Patent No. 2866372, and a discotic compound are used. Films arranged in parallel to the substrate, stretched films with the same in-plane retardation value laminated so that the slow axes are orthogonal, and liquid crystals to prevent the deterioration of orthogonal transmittance in the oblique direction of the polarizing plate It is preferably used in combination with a laminate of films made of rod-like compounds such as molecules.
(2)位相差フィルム
本発明の偏光板は、位相差層を有することが好ましい。本発明における位相差層としてはλ/4板が好ましく、本発明の偏光板とλ/4板とを積層させることで、円偏光板として使用することができる。円偏光板は入射した光を円偏光に変換する機能を有しており、反射型液晶表示装置やECBモードなどの半透過型液晶表示装置、あるいは有機EL素子等に好ましく利用されている。
(2) Retardation film The polarizing plate of the present invention preferably has a retardation layer. The retardation layer in the present invention is preferably a λ / 4 plate, and can be used as a circularly polarizing plate by laminating the polarizing plate of the present invention and the λ / 4 plate. The circularly polarizing plate has a function of converting incident light into circularly polarized light, and is preferably used for a reflective liquid crystal display device, a transflective liquid crystal display device such as an ECB mode, or an organic EL element.
本発明に用いるλ/4板は、可視光の波長の範囲においてほぼ完全な円偏光を得るため、可視光の波長の範囲において概ね波長の1/4のレターデーション(Re)を有する位相差フィルムであることが好ましい。「可視光の波長の範囲において概ね1/4のレターデーション」とは、波長400から700nmにおいて長波長ほどレターデーションが大きく、波長450nmで測定したレターデーション値(Re450)が80〜125nmであり、かつ波長590nmで測定したレターデーション値(Re590)が120〜160nmである関係を満足する範囲を示す。Re590−Re450≧5nmであることがさらに好ましく、Re590−Re450≧10nmであることが特に好ましい。 The λ / 4 plate used in the present invention is a retardation film having a retardation (Re) of approximately ¼ of the wavelength in the visible light wavelength range in order to obtain almost perfect circularly polarized light in the visible light wavelength range. It is preferable that “Retardation of approximately ¼ in the wavelength range of visible light” means that the longer the wavelength is from 400 to 700 nm, the larger the retardation, and the retardation value (Re450) measured at a wavelength of 450 nm is 80 to 125 nm. And the range which satisfies the relationship whose retardation value (Re590) measured by wavelength 590nm is 120-160 nm is shown. It is more preferable that Re590-Re450 ≧ 5 nm, and it is particularly preferable that Re590-Re450 ≧ 10 nm.
本発明で用いるλ/4板は上記の条件を満たしていれば特に制限はないが、例えば、特開平5−27118号公報、特開平10−68816号公報、特開平10−90521号公報に記載された複数のポリマーフィルムを積層したλ/4板、WO00/65384号公報、WO00/26705号公報に記載された1枚のポリマーフィルムを延伸したλ/4板、特開2000−284126号公報、特開2002−31717号公報に記載されたポリマーフィルム上に少なくとも1層以上の光学異方性層を設けたλ/4板など公知のλ/4板を用いることができる。また、ポリマーフィルムの遅相軸の方向や光学異方性層の配向方向は液晶セルに合わせて任意の方向に配置することができる。 The λ / 4 plate used in the present invention is not particularly limited as long as the above conditions are satisfied, but for example, described in JP-A-5-27118, JP-A-10-68816, and JP-A-10-90521. A λ / 4 plate obtained by laminating a plurality of polymer films, a λ / 4 plate obtained by stretching a single polymer film described in WO00 / 65384, WO00 / 26705, JP 2000-284126 A, A known λ / 4 plate such as a λ / 4 plate in which at least one optically anisotropic layer is provided on a polymer film described in JP-A-2002-31717 can be used. Moreover, the direction of the slow axis of the polymer film and the orientation direction of the optically anisotropic layer can be arranged in any direction according to the liquid crystal cell.
円偏光板において、λ/4板の遅相軸と上記偏光子の透過軸は、任意の角度で交差できるが、45゜±20°の範囲で交差されることが好ましい。但し、λ/4板の遅相軸と上記偏光子の透過軸は上記以外の範囲で交差されても構わない。 In the circularly polarizing plate, the slow axis of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer can intersect at an arbitrary angle, but preferably intersect within a range of 45 ° ± 20 °. However, the slow axis of the λ / 4 plate and the transmission axis of the polarizer may intersect within a range other than the above.
λ/4板をλ/4板およびλ/2板を積層して構成する場合は、特許番号第3236304号公報や特開平10−68816号公報に記載されているように、λ/4板およびλ/2板の面内の遅相軸と偏光板の透過軸とがなす角度が実質的に75°および15゜となるように貼り合わせることが好ましい。 When the λ / 4 plate is formed by laminating the λ / 4 plate and the λ / 2 plate, as described in Japanese Patent No. 3236304 and Japanese Patent Laid-Open No. 10-68816, the λ / 4 plate and The λ / 2 plate is preferably bonded so that the angle formed between the slow axis in the plane of the λ / 2 plate and the transmission axis of the polarizing plate is substantially 75 ° and 15 °.
(3)反射防止フィルム
本発明の偏光板は反射防止フィルムと組み合わせて使用することができる。反射防止フィルムは、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率1.5%程度のフィルム、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率1%以下のフィルムのいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(即ち、高屈折率層、中屈折率層)を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報, vol.38, No.1, may, 2000, 26頁〜28頁や特開2002−301783号などに記載された反射防止フィルムも好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
(3) Antireflection film The polarizing plate of the present invention can be used in combination with an antireflection film. For the anti-reflection film, either a film having a reflectance of about 1.5% only by applying a single layer of a low refractive index material such as a fluorine-based polymer, or a film having a reflectance of 1% or less using multilayer interference of a thin film is used. it can. In the present invention, a structure in which a low refractive index layer and at least one layer having a higher refractive index than that of the low refractive index layer (that is, a high refractive index layer and a middle refractive index layer) is laminated on a transparent support is preferably used. The In addition, Nitto Technical Report, vol. 38, no. 1, may, 2000, pages 26 to 28 and JP-A No. 2002-301783 can also be preferably used.
The refractive index of each layer satisfies the following relationship.
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
The refractive index of the high refractive index layer> The refractive index of the medium refractive index layer> The refractive index of the transparent support> The refractive index of the low refractive index layer. A transparent polymer film can be preferably used.
低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55であり、好ましくは1.30〜1.50である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。 The refractive index of the low refractive index layer is 1.20 to 1.55, preferably 1.30 to 1.50. The low refractive index layer is preferably used as an outermost layer having scratch resistance and antifouling properties. In order to improve the scratch resistance, it is also preferable to impart slipperiness to the surface using a material containing a silicone group or fluorine.
含フッ素化合物としては、例えば、特開平9−222503号公報明細書段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報明細書段落番号[0019]〜[0030]、特開2001−40284号公報明細書段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン(例、サイラプレーン(チッソ(株)製)や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報)等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−157582号公報、同11−106704号公報、特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)。
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物、特開平11−3820公報の段落番号[0020]〜[0038]に記載の有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
Examples of the fluorine-containing compound include paragraph numbers [0018] to [0026] of JP-A-9-222503, paragraph numbers [0019] to [0030] of JP-A-11-38202, and JP-A-2001-40284. The compounds described in paragraph Nos. [0027] to [0028] and JP-A No. 2000-284102 can be preferably used.
The silicone-containing compound is preferably a compound having a polysiloxane structure, but reactive silicone (eg, Silaplane (manufactured by Chisso Corporation), silanol group-containing polysiloxane at both ends (JP-A-11-258403), etc. An organometallic compound such as a silane coupling agent and a specific fluorine-containing hydrocarbon group-containing silane coupling agent may be cured by a condensation reaction in the presence of a catalyst (Japanese Patent Laid-Open No. 58-142958). Gazettes, 58-147483, 58-147484, JP-A-9-157582, 11-106704, JP-A-2000-117902, 2001-48590, 2002-2002. 53804).
The low refractive index layer has an average primary particle diameter of 1 to 150 nm such as fillers (for example, silicon dioxide (silica), fluorine-containing particles (magnesium fluoride, calcium fluoride, barium fluoride)) as additives other than the above. And a low refractive index inorganic compound, organic fine particles described in paragraphs [0020] to [0038] of JP-A No. 11-3820, silane coupling agents, slip agents, surfactants, and the like are also preferably included. be able to.
低屈折率層は、気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、30〜200nmであることが好ましく、50〜150nmであることがさらに好ましく、60〜120nmであることが最も好ましい。
The low refractive index layer may be formed by a vapor phase method (vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, plasma CVD method, etc.), but is preferably formed by a coating method because it can be manufactured at low cost. . As the coating method, dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and micro gravure can be preferably used.
The film thickness of the low refractive index layer is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 150 nm, and most preferably 60 to 120 nm.
中屈折率層および高屈折率層は、平均粒径100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物、例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり(シランカップリング剤等:特開平11−295503号公報、同11−153703号公報、特開2000−9908、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001−310432号公報等)、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり(特開2001−166104等)、特定の分散剤併用する(例、特開平11−153703号公報、特許番号US6210858B1、特開2002−2776069号公報等)等の態様で使用することができる。
The medium refractive index layer and the high refractive index layer preferably have a constitution in which ultrafine particles of high refractive index having an average particle size of 100 nm or less are dispersed in a matrix material. The inorganic compound fine particles having a high refractive index include inorganic compounds having a refractive index of 1.65 or more, for example, oxides such as Ti, Zn, Sb, Sn, Zr, Ce, Ta, La, and In, and metal atoms thereof. A composite oxide or the like can be preferably used.
Such ultrafine particles may be obtained by treating the surface of the particles with a surface treatment agent (silane coupling agent, etc .: JP-A Nos. 11-295503, 11-153703, 2000-9908, anionic compounds or (Organic metal coupling agent: JP-A No. 2001-310432, etc.), core-shell structure with a high refractive index particle as a core (JP-A No. 2001-166104, etc.), or a specific dispersant (eg, JP-A No. 11- No. 153703, Patent No. US62010858B1, Japanese Patent Laid-Open No. 2002-27776069, etc.).
マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の多官能性材料や、特開2001−293818号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
高屈折率層の屈折率は、1.70〜2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70であることが好ましい。
As the matrix material, conventionally known thermoplastic resins, curable resin films, and the like can be used, but JP-A-2000-47004, 2001-315242, 2001-31871, and 2001-296401. It is also possible to use a curable film obtained from a polyfunctional material described in a gazette or the like or a metal alkoxide composition described in JP-A-2001-293818 or the like.
The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.70 to 2.20. The thickness of the high refractive index layer is preferably 5 nm to 10 μm, and more preferably 10 nm to 1 μm.
The refractive index of the middle refractive index layer is adjusted to be a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the middle refractive index layer is preferably 1.50 to 1.70.
反射防止フィルムのヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。又膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。 The haze of the antireflection film is preferably 5% or less, more preferably 3% or less. Further, the strength of the film is preferably H or more, more preferably 2H or more, and most preferably 3H or more in a pencil hardness test according to JIS K5400.
(4)輝度向上フィルム
本発明の偏光板は、輝度向上フィルムと組み合わせて使用することができる。輝度向上フィルムは、円偏光もしくは直線偏光の分離機能を有しており、偏光板とバックライトの間に配置され、一方の円偏光もしくは直線偏光をバックライト側に後方反射もしくは後方散乱する。バックライト部からの再反射光は、部分的に偏光状態を変化させ、輝度向上フィルムおよび偏光板に再入射する際、部分的に透過するため、この過程を繰り返すことにより光利用率が向上し、正面輝度が1.4倍程度に向上する。輝度向上フィルムとしては異方性反射方式および異方性散乱方式が知られており、いずれも本発明の偏光板と組み合わせることができる。
(4) Brightness improving film The polarizing plate of this invention can be used in combination with a brightness improving film. The brightness enhancement film has a function of separating circularly polarized light or linearly polarized light, and is disposed between the polarizing plate and the backlight, and reflects or scatters one circularly polarized light or linearly polarized light back to the backlight side. Re-reflected light from the backlight part partially changes the polarization state and partially transmits when re-entering the brightness enhancement film and the polarizing plate, so the light utilization rate is improved by repeating this process. The front luminance is improved to about 1.4 times. As the brightness enhancement film, an anisotropic reflection system and an anisotropic scattering system are known, and both can be combined with the polarizing plate of the present invention.
異方性反射方式では、一軸延伸フィルムと未延伸フィルムを多重に積層して、延伸方向の屈折率差を大きくすることにより反射率ならびに透過率の異方性を有する輝度向上フィルムが知られており、誘電体ミラーの原理を用いた多層膜方式(WO95/17691号、WO95/17692号、WO95/17699号の各明細書記載)やコレステリック液晶方式(欧州特許606940A2号明細書、特開平8−271731号公報記載)が知られている。誘電体ミラーの原理を用いた多層方式の輝度向上フィルムとしてはDBEF―E、DBEF−D、DBEF−M(いずれも3M社製)、コレステリック液晶方式の輝度向上フィルムとしてはNIPOCS(日東電工(株)製)が本発明で好ましく使用される。NIPOCSについては、日東技報,vol.38,No.1,may,2000,19頁〜21頁などを参考にすることができる。 In the anisotropic reflection system, a brightness enhancement film having anisotropy in reflectance and transmittance is known by laminating a uniaxially stretched film and an unstretched film in multiple layers and increasing the refractive index difference in the stretching direction. Multilayer film systems using the principle of dielectric mirrors (described in the specifications of WO95 / 17691, WO95 / 17692, WO95 / 17699) and cholesteric liquid crystal systems (European Patent No. 606940A2, Japanese Patent Laid-Open No. Hei 8- No. 271731) is known. DBEF-E, DBEF-D, and DBEF-M (all manufactured by 3M) are used as multi-layer brightness enhancement films using the principle of dielectric mirrors, and NIPOCS (Nitto Denko Corporation) as a cholesteric liquid crystal brightness enhancement film. )) Is preferably used in the present invention. For NIPOCS, see Nitto Giho, vol. 38, no. 1, may, 2000, pages 19 to 21 and the like.
また、本発明ではWO97/32223号、WO97/32224号、WO97/32225号、WO97/32226号の各明細書および特開平9−274108号、同11−174231号の各公報に記載された正の固有複屈折性ポリマーと負の固有複屈折性ポリマーをブレンドして一軸延伸した異方性散乱方式の輝度向上フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。異方性散乱方式輝度向上フィルムとしては、DRPF−H(3M社製)が好ましい。
本発明の偏光板と輝度向上フィルムは、粘着剤を介して貼合された形態、もしくは偏光板の保護フィルムの一方を輝度向上フィルムとした一体型として使用することが好ましい。
Further, in the present invention, the positive values described in the specifications of WO97 / 32223, WO97 / 32224, WO97 / 32225, WO97 / 32226 and JP-A-9-274108 and 11-174231 are described. It is also preferable to use in combination with an anisotropic scattering type brightness enhancement film obtained by uniaxially stretching by blending an intrinsic birefringent polymer and a negative intrinsic birefringent polymer. As the anisotropic scattering system brightness enhancement film, DRPF-H (manufactured by 3M) is preferable.
The polarizing plate and the brightness enhancement film of the present invention are preferably used as an integrated type in which one of the polarizing film and the protective film of the polarizing plate is bonded via an adhesive.
(5)他の機能性光学フィルム
本発明の偏光板は、さらに、ハードコート層、前方散乱層、アンチグレア(防眩)層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けた機能性光学フィルムと組み合わせて使用することも好ましい。また、これらの機能層は、前述の反射防止フィルムにおける反射防止層、あるいは視野角補償フィルムにおける光学異方性層等と同一層内で相互に複合して使用することも好ましい。これらの機能層は、偏光子側および偏光子と反対面(より空気側の面)のどちらか片面、もしくは両面の設けて使用できる。
(5) Other functional optical films The polarizing plate of the present invention further comprises a hard coat layer, a forward scattering layer, an antiglare (antiglare) layer, a gas barrier layer, a sliding layer, an antistatic layer, an undercoat layer, a protective layer, and the like. It is also preferable to use in combination with the provided functional optical film. These functional layers are also preferably used in combination with each other in the same layer as the antireflection layer in the above-mentioned antireflection film or the optically anisotropic layer in the viewing angle compensation film. These functional layers can be used by providing either one side or both sides of the polarizer side and the surface opposite to the polarizer (more air side surface).
(5−1)ハードコート層
本発明の偏光板は耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を透明支持体の表面に設けた機能性光学フィルムと組み合わせることが好ましく行われる。ハードコート層を、前述の反射防止フィルムに適用して用いる場合は、特に、透明支持体と高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び/又は熱による硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、WO0/46617号公報等記載のものを好ましく使用することができる。
ハードコート層の膜厚は、0.2〜100μmであることが好ましい。
ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。又、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
(5-1) Hard coat layer The polarizing plate of the present invention is preferably combined with a functional optical film having a hard coat layer provided on the surface of the transparent support in order to impart mechanical strength such as scratch resistance. . When the hard coat layer is applied to the above-described antireflection film, it is particularly preferable to provide it between the transparent support and the high refractive index layer.
The hard coat layer is preferably formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of the curable compound by light and / or heat. The curable functional group is preferably a photopolymerizable functional group, and the hydrous functional group-containing organometallic compound is preferably an organic alkoxysilyl compound. As specific constitutional compositions of the hard coat layer, for example, those described in JP-A Nos. 2002-144913, 2000-9908 and WO0 / 46617 can be preferably used.
The film thickness of the hard coat layer is preferably 0.2 to 100 μm.
The strength of the hard coat layer is preferably H or higher, more preferably 2H or higher, and most preferably 3H or higher in a pencil hardness test according to JIS K5400. Further, in the Taber test according to JIS K5400, the smaller the wear amount of the test piece before and after the test, the better.
ハードコート層を形成する材料は、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類;ビスフェノールAジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類;ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。 また、市販化合物としては、EB−600、EB−40、EB−140、EB−1150、EB−1290K、IRR214、EB−2220、TMPTA、TMPTMA(以上、ダイセル・ユーシービー(株)製)、UV−6300、UV−1700B(以上、日本合成化学工業(株)製)等が挙げられる。 As the material for forming the hard coat layer, a compound containing an ethylenically unsaturated group or a compound containing a ring-opening polymerizable group can be used, and these compounds can be used alone or in combination. Preferred examples of the compound containing an ethylenically unsaturated group include ethylene glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol. Polyacrylates of polyols such as hexaacrylate; epoxy acrylates such as diacrylate of bisphenol A diglycidyl ether, diacrylate of hexanediol diglycidyl ether; obtained by reaction of polyisocyanate and hydroxyl group-containing acrylate such as hydroxyethyl acrylate Examples of preferred compounds include urethane acrylates. Moreover, as a commercially available compound, EB-600, EB-40, EB-140, EB-1150, EB-1290K, IRR214, EB-2220, TMPTA, TMPTMA (above, Daicel UCB Co., Ltd. product), UV -6300, UV-1700B (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) and the like.
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド2021P、セロキサイド2081、エポリードGT−301、エポリードGT−401、EHPE3150CE(以上、ダイセル化学工業(株)製)、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてOXT−121、OXT−221、OX−SQ、PNOX−1009(以上、東亞合成(株)製)などが挙げられる。その他にグリシジル(メタ)アクリレートの重合体、或いはグリシジル(メタ)アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。 Preferred examples of the compound containing a ring-opening polymerizable group include ethylene glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether, trimethylol ethane triglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, glycerol triglycidyl ether as glycidyl ethers. Triglycidyl trishydroxyethyl isocyanurate, sorbitol tetraglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycyl ether, polyglycidyl ether of cresol novolac resin, polyglycidyl ether of phenol novolac resin, etc. Celoxide 2021P, Celoxide 2081, Epoxide GT-301, Epolide GT-401, EHPE3150CE (above, Oxetane, OXT-121, OXT-221, OX-SQ, PNOX-1009 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), etc. Can be mentioned. In addition, a polymer of glycidyl (meth) acrylate or a copolymer of a monomer that can be copolymerized with glycidyl (meth) acrylate may be used for the hard coat layer.
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、本発明のハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ(メタ)アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、SBR、NBRなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、1nmないし20000nmであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限無く使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の60体積%以下であることが好ましく、40体積%以下がより好ましい。 In the hard coat layer, fine particles of oxide such as silicon, titanium, zirconium, and aluminum are used to reduce curing shrinkage of the hard coat layer, improve adhesion to the substrate, and reduce curling of the hard coat treated article of the present invention. It is also preferable to add crosslinked fine particles such as crosslinked fine particles such as polyethylene, polystyrene, poly (meth) acrylic acid esters, polydimethylsiloxane, etc., and fine organic particles such as fine crosslinked rubber particles such as SBR and NBR. These crosslinked fine particles preferably have an average particle size of 1 nm to 20000 nm. Further, the shape of the crosslinked fine particles can be used without any particular limitation, such as a spherical shape, a rod shape, a needle shape, or a plate shape. The addition amount of the fine particles is preferably 60% by volume or less, more preferably 40% by volume or less of the hard coat layer after curing.
上記で記載した無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。 In the case of adding the inorganic fine particles described above, since the affinity with the binder polymer is generally poor, it contains a metal such as silicon, aluminum, titanium, etc., and an alkoxide group, carboxylic acid group, sulfonic acid group, phosphonic acid group, etc. It is also preferable to perform a surface treatment using a surface treatment agent having a functional group of
ハードコート層は、熱または活性エネルギー線を用いて硬化することが好ましく、その中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は140℃以下が好ましく、より好ましくは100℃以下である。 The hard coat layer is preferably cured using heat or active energy rays. Among them, active energy rays such as radiation, gamma rays, alpha rays, electron rays, and ultraviolet rays are more preferred, and safety and productivity are improved. In view of the above, it is particularly preferable to use an electron beam or an ultraviolet ray. In the case of curing with heat, in consideration of the heat resistance of the plastic itself, the heating temperature is preferably 140 ° C. or lower, more preferably 100 ° C. or lower.
(5−2)前方散乱層
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性(色相と輝度分布)改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定化した特開11−38208号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開2000−199809号公報、ヘイズ値を40%以上と規定した特開2002−107512号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学の技術レポート「光機能性フィルム」31頁〜39頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましく行うことができる。
(5-2) Forward scattering layer The forward scattering layer is used to improve the viewing angle characteristics (hue and luminance distribution) in the vertical and horizontal directions when the polarizing plate of the present invention is applied to a liquid crystal display device. In the present invention, a configuration in which fine particles having different refractive indexes are dispersed in a binder is preferable. The construction of JP-A No. 199809, JP-A No. 2002-107512 that defines the haze value as 40% or more can be used. In addition, in order to control the viewing angle characteristics of haze, the polarizing plate of the present invention is also preferably used in combination with “Lumisty” described in Sumitomo Chemical's technical report “Photofunctional Films” on pages 31-39. be able to.
(5−3)アンチグレア層
アンチグレア(防眩)層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面(表示側)に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する光学フィルムのヘイズは、3〜30%であることが好ましく、5〜20%であることがさらに好ましく、7〜20%であることが最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法(例えば、特開2000−271878号公報等)、比較的大きな粒子(粒径0.05〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加して表面凹凸膜を形成する方法(例えば、特開2000−281410号公報、同2000−95893号公報、同2001−100004号公報、同2001−281407号公報等)、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法(例えば、エンボス加工方法として、特開昭63−278839号公報、特開平11−183710号公報、特開2000−275401号公報等記載)等を好ましく使用することができる。
(5-3) Antiglare layer The antiglare (antiglare) layer is used to scatter reflected light and prevent reflection. The antiglare function is obtained by forming irregularities on the outermost surface (display side) of the liquid crystal display device. The haze of the optical film having an antiglare function is preferably 3 to 30%, more preferably 5 to 20%, and most preferably 7 to 20%.
The method for forming irregularities on the film surface is, for example, a method of adding fine particles to form irregularities on the film surface (for example, JP-A No. 2000-271878), relatively large particles (particle size 0.05 to 2 μm). ) Is added in a small amount (0.1 to 50% by mass) (for example, JP-A Nos. 2000-281410, 2000-95893, 2001-100004, and 2001). No. 281407, etc.), a method of physically transferring the concavo-convex shape onto the film surface (for example, as an embossing method, JP-A-63-278839, JP-A-11-183710, JP-A-2000-275401) Etc.) can be preferably used.
(偏光板を使用する液晶表示装置)
次に本発明の偏光板が使用される液晶表示装置について説明する。
液晶セルおよびその両側に配置された2枚の偏光板を有する液晶表示装置は、少なくとも1枚の偏光板が本発明の偏光板である。
図2は、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置の一例である。
(Liquid crystal display device using polarizing plate)
Next, a liquid crystal display device in which the polarizing plate of the present invention is used will be described.
In a liquid crystal display device having a liquid crystal cell and two polarizing plates disposed on both sides thereof, at least one polarizing plate is the polarizing plate of the present invention.
FIG. 2 is an example of a liquid crystal display device in which the polarizing plate of the present invention is used.
本発明の図2に示す液晶表示装置は、液晶セル(10〜13)、および液晶セル(10〜13)を挟持して配置された上側偏光板6と下側偏光板17とを有する。偏光板は偏光子および一対の透明保護フィルムによって挟持されているが、図2中では一体化された偏光板として示し、詳細構造は省略する。液晶セルは、上側電極基板10および下側電極基板13と、これらに挟持される液晶分子12から形成される液晶層からなる。液晶セルは、ON・OFF表示を行う液晶分子の配向状態の違いで、TN(Twisted Nematic)、IPS(In−Plane Switching)、OCB(Optically Compensatory Bend)、VA(Vertically Aligned)、ECB(Electrically Controlled Birefringence)のような表示モードに分類されるが、本発明の偏光板は透過および反射型によらず、いずれの表示モードにも使用できる。
これらの表示モードの中でも、OCBモードまたはVAモードであることが好ましい。
The liquid crystal display device shown in FIG. 2 of the present invention includes a liquid crystal cell (10-13), and an upper
Among these display modes, the OCB mode or the VA mode is preferable.
電極基板10および13の液晶分子12に接触する表面(以下、「内面」という場合がある)には、配向膜(不図示)が形成されていて、配向膜上に施されたラビング処理等により、電界無印加状態もしくは低印加状態における液晶分子12の配向が制御されている。また、基板10および13の内面には、液晶分子12からなる液晶層に電界を印加可能な透明電極(不図示)が形成されている。
An alignment film (not shown) is formed on the surface of the
TNモードのラビング方向は上下基板で互いに直交する方向に施し、その強さとラビング回数などでチルト角の大きさが制御できる。配向膜はポリイミド膜を塗布後焼成して形成する。液晶層のねじれ角(ツイスト角)の大きさは、上下基板のラビング方向の交差角と液晶材料に添加するカイラル剤により決まる。ここではツイスト角が90°になるようにするためピッチ60μm程度のカイラル剤を添加する。
なお、ツイスト角は、ノートパソコンやパソコンモニタ、テレビ用の液晶表示装置の場合は90°近傍(85から95°)に、携帯電話などの反射型表示装置として使用する場合は0から70°に設定する。またIPSモードやECBモードでは、ツイスト角が0°となる。IPSモードでは電極が下側基板8のみに配置され、基板面に平行な電界が印加される。また、OCBモードでは、ツイスト角がなく、チルト角を大きくされ、VAモードでは液晶分子12が上下基板に垂直に配向する。
The rubbing direction of the TN mode is applied in directions perpendicular to each other on the upper and lower substrates, and the magnitude of the tilt angle can be controlled by the strength and the number of rubbing times. The alignment film is formed by applying and baking a polyimide film. The magnitude of the twist angle (twist angle) of the liquid crystal layer is determined by the crossing angle of the upper and lower substrates in the rubbing direction and the chiral agent added to the liquid crystal material. Here, a chiral agent having a pitch of about 60 μm is added so that the twist angle becomes 90 °.
The twist angle is in the vicinity of 90 ° (85 to 95 °) in the case of a notebook computer, a personal computer monitor, and a liquid crystal display device for a television, and is 0 to 70 ° in the case of use as a reflective display device such as a mobile phone. Set. In the IPS mode and the ECB mode, the twist angle is 0 °. In the IPS mode, electrodes are disposed only on the lower substrate 8 and an electric field parallel to the substrate surface is applied. In the OCB mode, there is no twist angle and the tilt angle is increased, and in the VA mode, the
ここで液晶層の厚さdと屈折率異方性Δnの積Δndの大きさは白表示時の明るさを変化させる。このため最大の明るさを得るために表示モード毎にその範囲を設定する。
上側偏光板6の吸収軸7と下側偏光板17の吸収軸18の交差角は一般に概略直交に積層することで高コントラストが得られる。液晶セルの上側偏光板6の吸収軸7と上側基板10のラビング方向の交差角は液晶表示モードによってことなるが、TN、IPSモードでは一般に平行か垂直に設定する。OCB、ECBモードでは45°に設定することが多い。ただし、表示色の色調や視野角の調整のために各表示モードで最適値が異なり、この範囲に限定されるわけではない。
Here, the magnitude of the product Δnd of the thickness d of the liquid crystal layer and the refractive index anisotropy Δn changes the brightness during white display. Therefore, in order to obtain the maximum brightness, the range is set for each display mode.
The crossing angle between the
本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、図2の構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光子との間にカラーフィルターを配置してもよい。また、液晶セルと偏光板との間に、別途、前述した視野角拡大フィルムを配置することもできる。偏光板6、17と光学異方性層(視野角拡大フィルム)8、15は粘着剤で貼合した積層形態で配置されてもよいし、液晶セル側保護フィルムの一方を視野角拡大に使用した、いわゆる一体型楕円偏光板として配置されてもよい。
The liquid crystal display device in which the polarizing plate of the present invention is used is not limited to the configuration of FIG. 2, and may include other members. For example, a color filter may be disposed between the liquid crystal cell and the polarizer. Moreover, the viewing angle widening film mentioned above can also be separately arranged between the liquid crystal cell and the polarizing plate. The
また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置できる。また、本発明の偏光板が使用される液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、偏光板は観察側に1枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けてもよい。 When the liquid crystal display device using the polarizing plate of the present invention is used as a transmission type, a backlight using a cold cathode or a hot cathode fluorescent tube, or a light emitting diode, a field emission element, or an electroluminescent element as a light source. Can be placed on the back. Further, the liquid crystal display device in which the polarizing plate of the present invention is used may be of a reflective type. In such a case, only one polarizing plate may be disposed on the observation side, and the back of the liquid crystal cell or under the liquid crystal cell. A reflective film is installed on the inner surface of the side substrate. Of course, a front light using the light source may be provided on the liquid crystal cell observation side.
[実施例1]
(セルロースアシレートフィルム1の作製)
<セルロースアセテート溶液の調製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Aを調製した。
[Example 1]
(Preparation of cellulose acylate film 1)
<Preparation of cellulose acetate solution>
The following composition was put into a mixing tank and stirred to dissolve each component to prepare a cellulose acetate solution A.
(セルロースアシレート溶液A組成)
アセチル化度2.8のセルロースアセテート 100.0質量部
疎水化剤:ビフェニルフォスフェート 3.0質量部
疎水化剤:A−12 5.0質量部
疎水化剤:A−2 4.0質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 402.0質量部
メタノール(第2溶媒) 60.0質量部
(Cellulose acylate solution A composition)
Cellulose acetate with acetylation degree 2.8 100.0 parts by mass Hydrophobizing agent: biphenyl phosphate 3.0 parts by mass Hydrophobizing agent: A-12 5.0 parts by mass Hydrophobizing agent: A-2 4.0 parts by mass Methylene chloride (first solvent) 402.0 parts by mass Methanol (second solvent) 60.0 parts by mass
<マット剤溶液の調製>
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
<Preparation of matting agent solution>
The following composition was charged into a disperser and stirred to dissolve each component to prepare a matting agent solution.
(マット剤溶液組成)
平均粒径20nmのシリカ粒子
(AEROSIL R972、日本アエロジル(株)製 2.0質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 75.0質量部
メタノール(第2溶媒) 12.7質量部
セルロースアシレート溶液A 10.3質量部
(Matting agent solution composition)
Silica particles having an average particle diameter of 20 nm (AEROSIL R972, manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. 2.0 parts by mass Methylene chloride (first solvent) 75.0 parts by mass Methanol (second solvent) 12.7 parts by mass Cellulose acylate solution A 10.3 parts by mass
<UV吸収剤溶液の調製>
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、UV吸収剤溶液を調製した。
<Preparation of UV absorber solution>
The following composition was put into a mixing tank and stirred while heating to dissolve each component to prepare a UV absorber solution.
(UV吸収剤溶液組成)
UV吸収剤(A) 4.0質量部
UV吸収剤(B) 8.0質量部
メチレンクロライド(第1溶媒) 58.4質量部
メタノール(第2溶媒) 8.7質量部
セルロースアシレート溶液A 12.8質量部
(UV absorber solution composition)
UV absorber (A) 4.0 parts by weight UV absorber (B) 8.0 parts by weight Methylene chloride (first solvent) 58.4 parts by weight Methanol (second solvent) 8.7 parts by weight Cellulose acylate solution A 12.8 parts by mass
上記セルロースアシレート溶液Aを94.6質量部、マット剤溶液を1.3質量部、UV吸収剤溶液4.1質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤含量35%でフィルムをバンドから剥離し、140℃の条件でフィルムをテンターを用いて25%の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま140℃で30秒間保持した。その後、クリップを外して140℃で40分間乾燥させ、セルロースアシレートフィルムを製造した。出来あがったセルロースアシレートフィルムの残留溶剤量は0.2%であり、膜厚は91μmであった。 94.6 parts by mass of the cellulose acylate solution A, 1.3 parts by mass of the matting agent solution, and 4.1 parts by mass of the UV absorber solution were mixed after filtration, and cast using a band casting machine. The film was peeled from the band with a residual solvent content of 35%, and the film was stretched transversely at a stretch ratio of 25% using a tenter under the condition of 140 ° C., and held at 140 ° C. for 30 seconds with the stretched width. Thereafter, the clip was removed and dried at 140 ° C. for 40 minutes to produce a cellulose acylate film. The resulting cellulose acylate film had a residual solvent amount of 0.2% and a film thickness of 91 μm.
セルロースアシレートの種類、疎水化剤の種類、添加量、UV剤の種類、添加量、テンター延伸倍率を表1の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアシレートフィルム2〜5を作製した。
(光学特性の測定)
また、下記方法により作製したセルロースアシレートフィルムの25℃60%におけるRe及びRthを測定した。
自動複屈折率計(KOBRA−21ADH、王子計測機器(株)製)を用い、面内レターデーションRe(0)を測定した。また面内の遅相軸をあおり軸として40°および−40°あおってレターデーションRe(40)およびRe(−40)を測った。膜厚および遅相軸方向の屈折率nxをパラメータとし、これらの測定値Re(0)、Re(40)、Re(‐40)にフィッティングするように進相軸方向の屈折率nyおよび厚み方向の屈折率nzを計算で求め、Rthレターデーション値を決定した。測定波長は590nmとした。
セルロースアシレートフィルムの材料及び得られたフィルムの特性値を表1に示す。
(Measurement of optical properties)
Further, Re and Rth at 25 ° C. and 60% of a cellulose acylate film produced by the following method were measured.
In-plane retardation Re (0) was measured using an automatic birefringence meter (KOBRA-21ADH, manufactured by Oji Scientific Instruments). Retardation Re (40) and Re (-40) were measured with the in-plane slow axis as the tilt axis at 40 ° and -40 °. Using the film thickness and the refractive index nx in the slow axis direction as parameters, the refractive index ny and the thickness direction in the fast axis direction are fitted to these measured values Re (0), Re (40), Re (−40). The refractive index nz was determined by calculation to determine the Rth retardation value. The measurement wavelength was 590 nm.
The material of the cellulose acylate film and the characteristic values of the obtained film are shown in Table 1.
なお、表1中、疎水化剤A−2、A−5及びA−12は[発明を実施するための最良の形態]欄に記載したとおりである。 In Table 1, hydrophobizing agents A-2, A-5, and A-12 are as described in the [Best Mode for Carrying Out the Invention] column.
[実施例2]
(鹸化処理)
セルロースアシレートフィルム1〜5を、表2に示す組成の鹸化液に55℃で2分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、30℃で0.1規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに100℃の温風で乾燥した。このようにして、偏光板保護フィルム1−イ〜ニ、2−イ、ニ、3−イ、ニ、4−イ、ニ、5−イ、ニを作製した。
鹸化液の組成を表2に示す。
[Example 2]
(Saponification treatment)
Table 2 shows the composition of the saponification solution.
(疎水化剤の存在比及びセルロースアシレートのアシル化度の測定)
鹸化後の保護フィルムをフィルム面に対して1°の角度で斜めに切削し、生成したフィルム断面を飛行時間型二次イオン質量分析計(TOF−SIMS)でマッピング測定した。ポジ測定における、深さ0.1μより外側に相当する部分の分子量1000以下の低分子化合物の各々について、分子+H+イオンのピーク強度の平均値と2μより内側に相当する領域の分子+H+イオンのピーク強度の平均値との比をとることにより、Ro/Riを求めた。
さらにネガ測定における深さ0.1μより外側に相当する部分のCH3COO−とC2H7COO−のピーク強度の和の平均値と2μより内側に相当する領域のCH3COO−とC2H7COO−のピーク強度の和の平均値の比をとることにより、Ao/Aiを求めた。
結果を表3に示す。
(Measurement of abundance ratio of hydrophobizing agent and acylation degree of cellulose acylate)
The saponified protective film was cut obliquely at an angle of 1 ° with respect to the film surface, and the resulting film cross section was subjected to mapping measurement with a time-of-flight secondary ion mass spectrometer (TOF-SIMS). In the positive measurement, for each molecular weight of 1,000 or less low molecular weight compound of a portion corresponding to the outside than the depth 0.1 [mu], of the region than the average value and the 2μ of the peak intensity of the molecular + H + ions corresponding to the inner molecular + H + ions Ro / Ri was determined by taking a ratio with the average value of the peak intensities.
Moreover CH 3 COO of a portion corresponding to the outside than the depth 0.1μ in negative measurement - and C 2 H 7
The results are shown in Table 3.
[実施例3]
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、実施例1で作製したセルロースアシレートフィルム1を偏光子の片側に貼り付けた。偏光子の透過軸とセルロースアシレートフィルムの遅相軸とは平行になるように配置した。
さらに実施例2で鹸化処理した偏光板保護フィルム1−イをポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板(1−イ)を作製した。
[Example 3]
A polarizer was prepared by adsorbing iodine to the stretched polyvinyl alcohol film, and the
Further, the polarizing plate protective film 1-i saponified in Example 2 was attached to the opposite side of the polarizer using a polyvinyl alcohol-based adhesive. Thus, a polarizing plate (1-i) was produced.
偏光板保護フィルム1−ロ〜ニ、2−イ、ニ、3−イ、ニ、4−イ、ニ、5−イ、ニについても同様にして偏光板1−ロ〜ニ、2−イ、ニ、3−イ、ニ、4−イ、ニ、5−イ、ニを作製した。 Polarizing plate protective film 1-ro-ni, 2-i, 2-i, 3-i, ni, 4-i, ni, 5-i, ni is similarly applied to polarizing plate 1-ro-ni, 2-i, D, 3-I, D, 4-I, D, 5-I, D were prepared.
このようにして作製した偏光板について、1m×1mあたりの点欠陥及びしみ状ムラの数を測定した。さらに偏光板を20cm×20cmに打ち抜き、60℃95%で500hr経時させ、偏光子と保護フィルム間の剥離の程度を目視により評価した。結果を表3に示す。表3の結果から本発明の鹸化方法及び偏光板保護フィルムは欠陥が少なく好ましいことがわかる。 Thus, about the produced polarizing plate, the number of the point defect per 1 m x 1 m and a spot-like nonuniformity was measured. Further, the polarizing plate was punched into 20 cm × 20 cm, allowed to age at 60 ° C. and 95% for 500 hours, and the degree of peeling between the polarizer and the protective film was visually evaluated. The results are shown in Table 3. From the results in Table 3, it can be seen that the saponification method and the polarizing plate protective film of the present invention are preferable with few defects.
[実施例4]
(配向膜の形成)
ケン化処理したセルロースアシレート2−ニ上の上に、下記の組成の塗布液を#14のワイヤーバーコーターで24ml/m2塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
次に、セルロースアシレート2−ニ(透明支持体)の延伸方向(遅相軸とほぼ一致)と45゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。
[Example 4]
(Formation of alignment film)
On the saponified cellulose acylate 2-ni, a coating solution having the following composition was applied at 24 ml / m 2 with a # 14 wire bar coater. Drying was performed with warm air of 60 ° C. for 60 seconds, and further with warm air of 90 ° C. for 150 seconds.
Next, the formed film was rubbed in the direction of 45 ° with the stretching direction of cellulose acylate 2-ni (transparent support) (substantially coincident with the slow axis).
(配向膜塗布液組成)
変性ポリビニルアルコール 20質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
グルタルアルデヒド(架橋剤) 1.0質量部
(Orientation film coating solution composition)
Modified polyvinyl alcohol 20 parts by mass Water 360 parts by mass Methanol 120 parts by mass Glutaraldehyde (crosslinking agent) 1.0 part by mass
(光学異方性層の形成)
配向膜上に、下記ディスコティック化合物91質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#360、大阪有機化学(株)製)9質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)1.5質量部、光重合開始剤(イルガキュアー907、チバガイギー社製)3質量部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1質量部を、214.2質量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液を、#3のワイヤーバーコーターで5.2ml/m2塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、130℃の恒温槽中で2分間加熱し、ディスコティック化合物を配向させた。次に、90℃で120W/cm高圧水銀灯を用いて、1分間UV照射しディスコティック化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学補償シート2−ニを得た。
(Formation of optically anisotropic layer)
On the alignment film, 91 parts by mass of the following discotic compound, 9 parts by mass of ethylene oxide-modified trimethylolpropane triacrylate (V # 360, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), cellulose acetate butyrate (CAB531-1, Eastman Chemical) 15 parts by mass), 3 parts by mass of a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy), and 1 part by mass of a sensitizer (Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) A coating solution dissolved in a portion of methyl ethyl ketone was applied with 5.2 ml / m 2 with a # 3 wire bar coater. This was affixed to a metal frame and heated in a thermostatic bath at 130 ° C. for 2 minutes to orient the discotic compound. Next, using a 120 W / cm high-pressure mercury lamp at 90 ° C., UV irradiation was performed for 1 minute to polymerize the discotic compound. Then, it stood to cool to room temperature. In this way, an optically anisotropic layer was formed, and an optical compensation sheet 2-ni was obtained.
(偏光板の作製)
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光子を作製した。
次に、作製した光学補償シート2−ニの透明支持体側を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて偏光子の側に貼り付けた。透明支持体の遅相軸および偏光子の透過軸が平行になるように配置した。
市販のセルローストリアセテートフイルム(フジタックTD80UF、富士写真フイルム(株)製)を鹸化液4を用いて実施例2と同様にケン化処理し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光子の反対側(光学補償シートを貼り付けなかった側)に貼り付けた。
このようにして、本発明の楕円偏光板(2−ニ)を作製した。さらに、ケン化処理したセルロースアシレートフィルムを2−イに変えた以外は同様にして比較例の楕円偏光板(2−イ)を作製した。
(Preparation of polarizing plate)
A polarizer was prepared by adsorbing iodine to a stretched polyvinyl alcohol film.
Next, the transparent support side of the produced optical compensation sheet 2-ni was attached to the side of the polarizer using a polyvinyl alcohol-based adhesive. The slow axis of the transparent support and the transmission axis of the polarizer were arranged in parallel.
A commercially available cellulose triacetate film (Fujitac TD80UF, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was saponified in the same manner as in Example 2 using the
Thus, the elliptically polarizing plate (2-ni) of this invention was produced. Further, an elliptically polarizing plate (2-i) of a comparative example was produced in the same manner except that the saponified cellulose acylate film was changed to 2-i.
[実施例5]
(ベンド配向液晶セルの作製)
ITO電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを5.7μmに設定した。セルギャップにΔnが0.1396の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
[Example 5]
(Preparation of bend alignment liquid crystal cell)
A polyimide film was provided as an alignment film on a glass substrate with an ITO electrode, and the alignment film was rubbed. The obtained two glass substrates were faced to each other so that the rubbing directions were parallel to each other, and the cell gap was set to 5.7 μm. A bend-aligned liquid crystal cell was prepared by injecting a liquid crystal compound (ZLI1132, manufactured by Merck & Co., Inc.) having a Δn of 0.1396 into the cell gap.
(液晶表示装置の作製)
作製したベンド配向セルを挟むように本発明の楕円偏光板(2−ニ)を2枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。比較例の楕円偏光板(2−イ)についても同様にして液晶表示装置を作製した。この結果、本発明の楕円偏光板を使用した液晶表示装置は比較例の楕円偏光板を使用した液晶表示装置に対して面状故障が少なく好ましいことがわかった。
(Production of liquid crystal display device)
Two elliptical polarizing plates (2-ni) of the present invention were attached so as to sandwich the prepared bend alignment cell. The optically anisotropic layer of the polarizing plate faced the cell substrate, and the rubbing direction of the liquid crystal cell and the rubbing direction of the optically anisotropic layer facing it were antiparallel. A liquid crystal display device was prepared in the same manner for the elliptically polarizing plate (2-a) of the comparative example. As a result, it was found that the liquid crystal display device using the elliptically polarizing plate of the present invention is preferable to the liquid crystal display device using the elliptically polarizing plate of the comparative example with less surface failure.
[実施例6]
〔VA液晶表示装置の作成と評価〕
ポリビニルアルコール3質量%水溶液に、オクタデシルジメチルアンモニウムクロライド(カップリング剤)を1質量%添加した。これを、ITO電極付のガラス基板上にスピンコートし、160℃で熱処理した後、ラビング処理を施して、垂直配向膜を形成した。ラビング処理は、2枚のガラス基板において反対方向となるようにした。セルギャップ(d)が5μmとなるように2枚のガラス基板を向かい合わせた。セルギャップに、エステル系とエタン系を主成分とする液晶性化合物(Δn:0.08)を注入し、垂直配向液晶セルを作成した。Δnとdとの積は400nmであった。
[Example 6]
[Production and evaluation of VA liquid crystal display]
1% by mass of octadecyldimethylammonium chloride (coupling agent) was added to a 3% by mass aqueous polyvinyl alcohol solution. This was spin-coated on a glass substrate with an ITO electrode, heat-treated at 160 ° C., and then rubbed to form a vertical alignment film. The rubbing treatment was performed in opposite directions on the two glass substrates. Two glass substrates were opposed to each other so that the cell gap (d) was 5 μm. A liquid crystal compound (Δn: 0.08) mainly composed of ester and ethane was injected into the cell gap to prepare a vertically aligned liquid crystal cell. The product of Δn and d was 400 nm.
作製した偏光板1−ニを25℃60%の温湿度条件で事前に調湿した後、防湿処理を施した袋に包装し、3日間放置した。袋はポリエチレンテレフタレート/アルミ/ポリエチレンの積層構造からなる包装材であり、透湿度は1×10-5g/m2・Day以下であった。
25℃60%の環境下で、偏光板1−ニを取り出して、作成した垂直配向液晶セルの両面に、粘着シートを用いて貼り付けて、液晶表示装置を作製した。
本発明の偏光板を用いた液晶表示装置は欠陥、しみ状故障がなく好ましいことがわかった。
The produced polarizing plate 1-ni was preliminarily conditioned at 25 ° C. and 60% temperature and humidity, and then packaged in a moisture-proof bag and left for 3 days. The bag was a packaging material having a laminated structure of polyethylene terephthalate / aluminum / polyethylene, and the water vapor transmission rate was 1 × 10 −5 g / m 2 · Day or less.
Under an environment of 25 ° C. and 60%, the polarizing plate 1-ni was taken out and pasted to both surfaces of the created vertical alignment liquid crystal cell using an adhesive sheet to produce a liquid crystal display device.
It has been found that the liquid crystal display device using the polarizing plate of the present invention is preferable since it has no defects or spot-like failures.
1、1a、1b 保護フィルム
2 偏光子
3 機能性光学フィルム
4 粘着層
5 偏光板
6 上偏光板
7 上偏光板吸収軸
8 上光学異方性層
9 上光学異方性層配向制御方向
10 液晶セル上電極基板
11 上基板配向制御方向
12 液晶分子
13 液晶セル下電極基板
14 下基板配向制御方向
15 下光学異方性層
16 下光学異方性層配向制御方向
17 下偏光板
18 下偏光板吸収軸
1, 1a,
Claims (9)
0<Ao/Ai<1
0≦Ro/Ri≦0.9
Ao:表面からの深さが0.1μm以内の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
Ai:表面からの深さが2μm以上の領域でのセルロースアシレートのアシル化度
Ro:表面からの深さが0.1μm以内の領域おける低分子化合物の存在量
Ri:表面からの深さが2μm以上の領域における低分子化合物の存在量 The polarizing plate protective film according to claim 6, wherein the substitution degree of cellulose acylate and the low molecular weight compound satisfy the following relationship.
0 <Ao / Ai <1
0 ≦ Ro / Ri ≦ 0.9
Ao: degree of acylation of cellulose acylate in a region having a depth of 0.1 μm or less from the surface Ai: degree of acylation of cellulose acylate in a region having a depth of 2 μm or more from the surface Ro: depth from the surface Abundance of low molecular compounds in a region having a thickness of 0.1 μm or less Ri: abundance of low molecular compounds in a region having a depth of 2 μm or more from the surface
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