JP2005169696A - Gas barrier laminated film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、食品分野や医薬品、電子部材等の非食品分野の包装等に用いられる積層材料に関するもので、特に酸素や水蒸気等の高いガスバリア性を持つことで、大気中の酸素や水蒸気から内容物を遮断し、劣化・変質を抑制する機能を有する積層材料に関するものである。 The present invention relates to a laminated material used for packaging in the non-food field such as the food field, pharmaceuticals, and electronic parts, and in particular, it has a high gas barrier property such as oxygen and water vapor, so that the content from oxygen and water vapor in the atmosphere. The present invention relates to a laminated material having a function of blocking objects and suppressing deterioration and deterioration.
近年、食品分野や医薬品、電子部材等の非食品分野の包装等に用いられる積層材料は、内容物の変質を抑制し、それらの機能や性質を保持するために、積層材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質させる気体による影響を防止する必要があり、これら気体(ガス)を遮断するガスバリア性を備えることが求められている。そのため、積層材料のガスバリア層としては、アルミニウム等の金属からなる金属箔、金属蒸着フィルムやエチレン・ビニルアルコール共重合体樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂若しくはポリアクリロニトリル樹脂等の樹脂フィルムや前記樹脂を基材にコーティングしたフィルム等が主に用いられてきた。しかしながら、金属箔や金属蒸着フィルムは、ガスバリア性に優れるが透視して内容物が確認できない、検査の際金属探知器が使用できない、使用後の廃棄の際は不燃物として処理しなければならない等の問題がある。また前記エチレン・ビニルアルコール共重合体樹脂フィルムやそれらをコーティングしたフィルムは、温湿度依存性が大きく高度なガスバリア性を維持できない、更に塩化ビニリデン樹脂やポリアクリロニトリル樹脂を使用したものは廃棄・焼却の際に有害物質の原料となりうる可能性があるなどの問題があった。これらの諸問題を改善する為の代替えのバリア性積層フィルムが種々提案されている(例えば特許文献1、特許文献2参照。)。
本発明の課題は、透明で、優れたガスバリ性を保持し、金属探知器を使用した検査が可能で、かつ、廃棄、焼却時に環境に悪影響を与える原因物質を含有しないガスバリア性積層フィルムを提供することにある。 An object of the present invention is to provide a gas barrier laminate film that is transparent, has excellent gas burr properties, can be inspected using a metal detector, and does not contain a causative substance that adversely affects the environment during disposal or incineration. There is to do.
本発明の請求項1に係る発明は、透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層Aを積層した積層体からなることを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。
The invention according to
本発明の請求項2に係る発明は、透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、無機酸化物の蒸着薄膜層、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層Bを順次積層した積層体からなることを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。
The invention according to
本発明の請求項3に係る発明は、透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層B、無機酸化物の蒸着薄膜層を順次積層した積層体からなることを特徴とするガ
スバリア性積層フィルムである。
The invention according to
本発明の請求項4に係る発明は、上記請求項1乃至請求項3のいずれか1項に係る発明において、前記アミン化合物がアルコールアミン若しくはアミン系シランカップリング剤であることを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。
The invention according to
本発明の請求項5に係る発明は、上記請求項2乃至請求項4のいずれか1項に係る発明において、前記蒸着薄膜層とガスバリア性被膜層Bが同一真空成膜装置中で連続して成膜されていることを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。
The invention according to claim 5 of the present invention is the invention according to any one of
本発明のガスバリア性積層フィルムは、透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層Aを積層した積層体、又は透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、無機酸化物の蒸着薄膜層、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層Bを順次積層した積層体、あるいは透明フィルムからなる基材層の片面若しくは両面に、(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなるガスバリア性被膜層B、無機酸化物の蒸着薄膜層を順次積層した積層体からなっており、前記アミン化合物がアルコールアミン若しくはアミン系シランカップリング剤であるので、透明で優れたガスバリア性を有し、金属探知機を使用した検査が可能で、廃棄焼却された時も特に悪い影響を与えず、さらに前記蒸着薄膜層とガスバリア性被膜層Bを積層する場合は同一真空成膜装置中で連続して成膜しているので、効率も良く、良好な品質を保持出来る。 In the gas barrier laminate film of the present invention, a gas barrier coating layer A made of a cured coating of a mixture of (meth) acrylic acid and one or more amine compounds is laminated on one or both sides of a base material layer made of a transparent film. Gas barrier coating layer B comprising a laminated film or a thin film layer of an inorganic oxide, or a cured coating of a mixture of (meth) acrylic acid and one or more amine compounds on one or both sides of a base material layer made of a laminate or a transparent film. A gas barrier coating layer B comprising a cured coating of a mixture of (meth) acrylic acid and one or more amine compounds on one side or both sides of a laminate obtained by sequentially laminating or a substrate layer comprising a transparent film, an inorganic oxide Since the above-described amine compound is an alcohol amine or an amine-based silane coupling agent. When it is transparent and has an excellent gas barrier property, it can be inspected using a metal detector, has no particularly bad influence when discarded and incinerated, and when the deposited thin film layer and the gas barrier coating layer B are laminated. Since the films are continuously formed in the same vacuum film forming apparatus, the efficiency is high and good quality can be maintained.
本発明のガスバリア性積層フィルムを実施の形態に沿って以下に説明する。図1(a)は本発明のガスバリア性積層フィルムの一実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の片面にガスバリア性被膜層A(2)が積層された構成で、(b)は他の実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の両面にガスバリア性被膜層A(2)が積層された構成で、(c)はさらに他の実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の片面にそれぞれ蒸着薄膜層(4)、ガスバリア性被膜層B(3)が順次積層された構成で、(d)はさらに他の実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の両面にそれぞれ蒸着薄膜層(4)、ガスバリア性被膜層B(3)が順次積層された構成で、(e)はさらに他の実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の片面にそれぞれガスバリア性被膜層B(3)、蒸着薄膜層(4)が順次積層された構成で、(f)はさらに他の実施形態を示す側断面図であり、基材層(1)の両面にそれぞれガスバリア性被膜層B(3)、蒸着薄膜層(4)が順次積された構成である。 The gas barrier laminate film of the present invention will be described below along the embodiments. FIG. 1A is a side sectional view showing an embodiment of a gas barrier laminate film of the present invention, in which a gas barrier coating layer A (2) is laminated on one side of a base material layer (1). b) is a side sectional view showing another embodiment, in which a gas barrier coating layer A (2) is laminated on both surfaces of a base material layer (1), and (c) shows still another embodiment. It is side sectional drawing, and is the structure by which the vapor deposition thin film layer (4) and the gas-barrier coating layer B (3) were laminated | stacked one by one on the one side of the base material layer (1), respectively, (d) shows other embodiment. It is side sectional drawing, and is the structure by which the vapor-deposited thin film layer (4) and the gas barrier coating layer B (3) were laminated | stacked one by one on both surfaces of the base material layer (1), respectively, (e) shows other embodiment. It is side sectional drawing, and gas barrier film layer B (3) and vapor-deposited thin film layer (4) are sequentially arranged on one side of the base material layer (1), respectively. (F) is a side sectional view showing still another embodiment, and a gas barrier coating layer B (3) and a vapor deposition thin film layer (4) are sequentially formed on both surfaces of the base material layer (1). It is a stacked configuration.
前記基材層(1)は、透明フィルムからなっており、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、66−ナイロン等のポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアクリロニトリルフィルム、ポリイミドフィルム等が用いられ、延伸、未延伸のどちらでも良いが、二軸方向に任意に延伸されたフィルムが好ましく、また機械強度や寸法安定性を有するものが良い。特にこれらの中で価格面、防湿性、充填適性、風合、廃棄性を考慮すると二軸延伸ポリアミドフィルム、二軸延伸ポリエステルフィルムが好ましい。 The base material layer (1) is made of a transparent film, for example, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, a polystyrene film, 66-nylon or the like. Polyamide film, polycarbonate film, polyacrylonitrile film, polyimide film, etc. may be used, which may be either stretched or unstretched, but a film arbitrarily stretched in the biaxial direction is preferred, and has mechanical strength and dimensional stability. Things are good. Among these, a biaxially stretched polyamide film and a biaxially stretched polyester film are preferable in consideration of price, moisture resistance, filling suitability, texture, and disposal.
前記基材層(1)は、帯電防止剤、可塑剤、滑剤、酸化防止剤などが添加されたフィルムでも良く、積層される各種層との密着性を良くするために、前処理としてコロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理などの表面処理を施したものでも良く、更に薬品処理、溶剤処
理を施したものでも良い。さらに基材層(1)の表面に濡れ性、密着性等を向上させる為のアンカーコート層を積層しても構わない。
The substrate layer (1) may be a film to which an antistatic agent, a plasticizer, a lubricant, an antioxidant, or the like is added, and a corona treatment is performed as a pretreatment in order to improve adhesion to various layers to be laminated. Those subjected to surface treatment such as plasma treatment and ozone treatment, and those subjected to chemical treatment and solvent treatment may be used. Furthermore, you may laminate | stack the anchor coat layer for improving wettability, adhesiveness, etc. on the surface of a base material layer (1).
前記基材層(1)の厚さは特に制限を受けるものでないが、使用する際の適性、他の層を積層する場合の加工性を考慮すると、実用的には3〜200μmの範囲であることがより好ましい。 The thickness of the base material layer (1) is not particularly limited, but is practically in the range of 3 to 200 μm in consideration of suitability for use and workability in the case of laminating other layers. It is more preferable.
前記ガスバリア性被膜層A(2)は(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなっており、(メタ)アクリル酸とアミン化合物の混合物の配合割合は(メタ)アクリル酸10〜95重量部に対してアミン化合物5〜90重量部が好ましい。アミン化合物が5重量部未満であるとガスバリア性を発現せず、90重量部を超えると被膜を形成しない為良くない。形成方法としては、公知のグラビアコート法等で混合物からなる塗布液を塗布後に電子線や紫外線を照射して、前記混合物を架橋重合させ、硬化被膜を形成させる。 The gas barrier coating layer A (2) comprises a cured coating of a mixture of (meth) acrylic acid and one or more amine compounds, and the blending ratio of the mixture of (meth) acrylic acid and the amine compound is (meth). 5 to 90 parts by weight of an amine compound is preferable with respect to 10 to 95 parts by weight of acrylic acid. If the amine compound is less than 5 parts by weight, gas barrier properties are not exhibited, and if it exceeds 90 parts by weight, a film is not formed. As a forming method, a coating liquid made of a mixture is applied by a known gravure coating method or the like, and then irradiated with an electron beam or an ultraviolet ray to cross-link the mixture to form a cured film.
前記ガスバリア性被膜層B(3)は、同様に(メタ)アクリル酸と1種以上のアミン化合物との混合物の硬化被膜からなっており、(メタ)アクリル酸とアミン化合物の混合物との配合割合は(メタ)アクリル酸10〜95重量部に対してアミン化合物5〜90重量部が好ましい。形成方法としては、前記混合物からなる塗布液を真空成膜装置内で噴射方式等の方法で塗布後に電子線や紫外線を照射して、前記混合物を架橋重合させ、硬化被膜を形成させる。この時重合を効率良く進行させるために、混合物に重合開始剤を配合するのが好ましい。 The gas barrier coating layer B (3) is similarly composed of a cured coating of a mixture of (meth) acrylic acid and one or more amine compounds, and a blending ratio of (meth) acrylic acid and a mixture of amine compounds. Is preferably 5 to 90 parts by weight of an amine compound with respect to 10 to 95 parts by weight of (meth) acrylic acid. As a forming method, a coating liquid made of the mixture is applied by a method such as a spraying method in a vacuum film forming apparatus, and then irradiated with an electron beam or ultraviolet rays to crosslink the mixture to form a cured film. At this time, it is preferable to add a polymerization initiator to the mixture in order to allow the polymerization to proceed efficiently.
前記アミン化合物は、分子内に窒素を持つ化合物を指し、1分子内にアミノ基、イミノ基を2個以上もつものでもかまわない。メチルアミンやエチルアミン、プロピルアミンなどの第1級アミンや、ジメチルアミン、ジエチルアミン等の第2級アミン、トリエチルアミンやトリプロピルアミン等の第3級アミンのどれをも含み、脂肪族でも芳香族でもかまわない。 The amine compound refers to a compound having nitrogen in the molecule, and may have two or more amino groups and imino groups in one molecule. Contains any primary amine such as methylamine, ethylamine or propylamine, secondary amines such as dimethylamine or diethylamine, and tertiary amines such as triethylamine or tripropylamine, which may be aliphatic or aromatic. Absent.
特に、分子内に水酸基を含むアルコールアミンは、アルコール部位とカルボン酸部位とがエステル結合を形成する為、イオン結合、アミド結合に加えてさらに結合が増え、3次元架橋を形成する為耐水性が向上する。アルコールアミンとは、分子内に水酸基とアミノ基の両方をもち、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなどのエタノールアミン、プロパノールアミン、またはアルキルアミンとエチレンオキサイドの反応により生成するアミノアルコール類などいずれをも含む。 In particular, an alcohol amine containing a hydroxyl group in the molecule has an ester bond between the alcohol moiety and the carboxylic acid moiety, so that in addition to the ionic bond and the amide bond, the bond is further increased and a three-dimensional cross-link is formed. improves. Alcoholamine has both hydroxyl and amino groups in the molecule, and includes ethanolamines such as monoethanolamine, diethanolamine, and triethanolamine, propanolamine, and aminoalcohols produced by the reaction of alkylamine and ethylene oxide. Is also included.
また、アミン化合物にアミノ系シランカップリング剤を用いれば、加水分解したアルコキシシラン部位によるシラノール部位とカルボン酸部位とが結合し、イオン結合、アミド結合に加えてさらに結合が増え、3次元架橋を形成する為耐水性がさらに向上し、基材層や他の層との密着も向上する。アミノ系シランカップリング剤とは、1分子中にアルコキシシリル基とアミノ基などの、反応性の異なる官能基を2つ以上持つものである。一般的にN−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシランなどどれを用いても良く、コスト的にも安価で使いやすい。 In addition, if an amino-based silane coupling agent is used for the amine compound, the silanol moiety and the carboxylic acid moiety due to the hydrolyzed alkoxysilane moiety are bonded, and in addition to the ionic bond and amide bond, the bond is further increased and three-dimensional crosslinking is performed. Since it forms, water resistance improves further and adhesion with a base material layer and another layer also improves. The amino silane coupling agent has two or more functional groups having different reactivity such as alkoxysilyl group and amino group in one molecule. Generally N- (2-aminoethyl) 3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane Any of N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, etc. may be used, and it is inexpensive and easy to use.
また、前記ガスバリア性被膜層A(2)及びガスバリア性被膜層B(3)は密着性、濡れ性、硬化促進性を考慮して、他のアクリルモノマー、シランカップリング剤、有機酸、コロイダルシリカ、イソシアネート化合物、スメクタイトなどの粘土鉱物、安定化剤、着色剤、粘度調整剤などの公知の添加剤などを、ガスバリア性や耐水性を阻害しない範囲で
添加したものからなっていても良い。
In addition, the gas barrier coating layer A (2) and the gas barrier coating layer B (3) are other acrylic monomers, silane coupling agents, organic acids, colloidal silica in consideration of adhesion, wettability, and curing acceleration. In addition, a clay mineral such as an isocyanate compound or smectite, a known additive such as a stabilizer, a colorant, or a viscosity modifier may be added to the extent that gas barrier properties and water resistance are not impaired.
前記ガスバリア性被膜層A(2)及びガスバリア性被膜層B(3)の厚みは特に限定しないが、0.01μm未満だと性能は発現せず、厚みが10μmを越えると架橋不良による密着低下が生じる為、0.01μm〜10μmが望ましい。 The thicknesses of the gas barrier coating layer A (2) and the gas barrier coating layer B (3) are not particularly limited. However, if the thickness is less than 0.01 μm, the performance does not appear. If the thickness exceeds 10 μm, the adhesion decreases due to poor crosslinking. In order to produce, 0.01 micrometer-10 micrometers are desirable.
前記蒸着薄膜層(4)に使用する無機酸化物は、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、錫、マグネシウムなどの酸化物あるいはそれらの複合物であり、真空蒸着法、スパッタリング法又はプラズマ気相成長法などより形成される。膜厚は、用途によって異なるが、50Å〜3000Åの範囲が望ましいが、50Å未満では薄膜の連続性に問題があり、また3000Åを超えるとクラックが発生しやすく、可とう性が低下するため良くない。 The inorganic oxide used for the vapor deposition thin film layer (4) is an oxide such as silicon, aluminum, titanium, zirconium, tin, magnesium, or a composite thereof, and is a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or a plasma vapor deposition method. And so on. Although the film thickness varies depending on the application, it is preferably in the range of 50 to 3000 mm, but if it is less than 50 mm, there is a problem with the continuity of the thin film, and if it exceeds 3000 mm, cracks are likely to occur and the flexibility is lowered, which is not good. .
なお、前記ガスバリア性被膜層B(3)と蒸着薄膜層(4)を積層する場合は同一真空成膜装置内で同時に連続して成膜する。前記のように成膜することにより、効率良く成膜でき、品質も安定する。前記ガスバリア性被膜層B(3)と蒸着薄膜層(4)は、要求されるガスバリア性能に応じて同一順序で繰り返し何回も積層しても良い。 In addition, when laminating | stacking the said gas-barrier film layer B (3) and a vapor deposition thin film layer (4), it forms into a film simultaneously and continuously in the same vacuum film-forming apparatus. By forming the film as described above, the film can be formed efficiently and the quality is stable. The gas barrier coating layer B (3) and the deposited thin film layer (4) may be repeatedly laminated in the same order according to the required gas barrier performance.
前記ガスバリア性被膜層A(2)及びガスバリア性被膜層B(3)の上には必要に応じて印刷層を積層する事も可能であるし、接着剤を介して複数の樹脂層を積層する事も可能である。 A printing layer can be laminated on the gas barrier coating layer A (2) and the gas barrier coating layer B (3) as needed, and a plurality of resin layers are laminated via an adhesive. Things are also possible.
本発明のガスバリア性積層フィルムは、ガスバリア性が要求される各種の包装分野で利用され、さらにはEL素子、液晶表示素子などの各種表示媒体のガスバリア性保護フィルムとしても利用できる。 The gas barrier laminate film of the present invention is used in various packaging fields where gas barrier properties are required, and can also be used as a gas barrier protective film for various display media such as EL elements and liquid crystal display elements.
本発明のガスバリア性積層フィルムを具体的な実施例を挙げて更に説明する。
〈ガスバリア性被膜層Aの塗布液Aの調整〉
アクリル酸70重量%とトリエタノールアミン30重量%からなる塗布液Aを調整した。
〈ガスバリア性被膜層Bの塗布液Bの調整〉
アクリル酸70重量%とN−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン30重量%からなる塗布液Bを調整した。
The gas barrier laminate film of the present invention will be further described with specific examples.
<Adjustment of coating liquid A for gas barrier coating layer A>
A coating solution A consisting of 70% by weight of acrylic acid and 30% by weight of triethanolamine was prepared.
<Adjustment of coating solution B for gas barrier coating layer B>
A coating solution B consisting of 70% by weight of acrylic acid and 30% by weight of N- (2-aminoethyl) 3-aminopropyltrimethoxysilane was prepared.
基材層(1)として、片面にコロナ処理を施した厚さ50μmの二軸延伸ポリエステルフィルム(PETフィルム)を使用し、前記PETフィルムのコロナ処理面に前記調整した塗布液Aをバーコーターにより塗布し、電子線照射を行って膜厚3.0μmのガスバリア性被膜層A(2)を積層し、本発明のガスバリア性積層フィルムを得た。 As the base material layer (1), a 50 μm thick biaxially stretched polyester film (PET film) having a corona treatment on one side is used, and the adjusted coating liquid A is applied to the corona treatment surface of the PET film by a bar coater. The gas barrier coating film A (2) having a film thickness of 3.0 μm was laminated by applying and irradiating with an electron beam to obtain the gas barrier laminated film of the present invention.
実施例1において、塗布液Bを使用した以外は、同様にして本発明のガスバリア性積層フィルムを得た。 In Example 1, the gas barrier laminate film of the present invention was obtained in the same manner except that the coating liquid B was used.
基材層(1)として、片面にコロナ処理を施した厚さ12μmの二軸延伸ポリエステルフィルム(PETフィルム)を使用し、同一真空成膜装置内で前記PETフィルムのコロナ処理面に厚さ150Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜層(4)を積層し、その上に前記調整した塗布液Aを塗布後に電子線照射を行って膜厚1μmのガスバリア性被膜層B(3)を積層し、本発明のガスバリア性積層フィルムを得た。
〈評価〉
実施例1〜3のガスバリア性積層フィルムの酸素透過度を酸素透過度測定装置(モダンコントロール社製OXTRAN−10/50A)を用いて、温度30℃、相対湿度70%中の雰囲気下で測定し、評価した。その結果を表1に示す。
As the base material layer (1), a biaxially stretched polyester film (PET film) having a thickness of 12 μm and subjected to corona treatment on one side is used, and the PET film has a thickness of 150 mm on the corona treatment surface in the same vacuum film forming apparatus. A vapor-deposited thin film layer (4) of aluminum oxide is laminated, and the gas-coating coating layer B (3) having a film thickness of 1 μm is laminated by applying electron beam irradiation after coating the prepared coating liquid A, and the present invention. The gas barrier laminate film was obtained.
<Evaluation>
The oxygen permeability of the gas barrier laminate films of Examples 1 to 3 was measured in an atmosphere at a temperature of 30 ° C. and a relative humidity of 70% using an oxygen permeability measuring device (OXTRAN-10 / 50A manufactured by Modern Control). ,evaluated. The results are shown in Table 1.
1…基材層
2…ガスバリア性被膜層A
3…ガスバリア性被膜層B
4…蒸着薄膜層
DESCRIPTION OF
3. Gas barrier coating layer B
4 ... Vapor deposition thin film layer
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