JP2003171441A - Epoxy resin composition for sealing use and electronic component device - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing use and electronic component device

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JP2003171441A JP2002097737A JP2002097737A JP2003171441A JP 2003171441 A JP2003171441 A JP 2003171441A JP 2002097737 A JP2002097737 A JP 2002097737A JP 2002097737 A JP2002097737 A JP 2002097737A JP 2003171441 A JP2003171441 A JP 2003171441A
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  • Epoxy Resins (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin composition for sealing use containing neither halogen nor antimony and good in flame retardancy while retaining its moldability, reflow resistance, moisture resistance and reliability including property retention even after left to stand at high temperatures. <P>SOLUTION: This epoxy resin composition essentially comprises an epoxy resin, a curing agent, a curing promoter, an inorganic filler and a compound metal hydroxide; wherein the curing promoter comprises an adduct or mixture of a phosphine compound of the general formula (I) (wherein, Rs are the same or different and selected from H, 1-12C hydrocarbon group and 1-12C alkoxy group) and a quinone compound, or an adduct or mixture of a phosphine compound with at least one alkyl group bound to the phosphorus atom and a quinone compound. The other objective electronic component device mounted with element(s) sealed with the epoxy resin composition is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、エポキシ樹脂組成
物、特にノンハロゲンかつノンアンチモンで難燃性であ
り、VLSIの封止用に好適な封止用エポキシ樹脂組成
物、及びこの組成物で封止した素子を備えた電子部品装
置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition, particularly an epoxy resin composition for encapsulation which is non-halogen, non-antimony and flame retardant and is suitable for encapsulation of VLSI, and an encapsulation composition. The present invention relates to an electronic component device having a stopped element.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、トランジスタ、IC等の電子
部品装置の素子封止の分野では生産性、コスト等の面か
ら樹脂封止が主流となり、封止用の樹脂組成物の中で
は、エポキシ樹脂組成物が広く用いられている。この理
由としては、エポキシ樹脂が電気特性、耐湿性、耐熱
性、機械特性、インサート品との接着性等の諸特性にバ
ランスがとれているためである。これらの封止用エポキ
シ樹脂組成物の難燃化は主にテトラブロモビスフェノー
ルAのジグリシジルエーテル等のブロム化樹脂と酸化ア
ンチモンの組合せにより行われてきた。近年、環境保護
の観点からダイオキシン問題に端を発し、デカブロムを
はじめとするハロゲン化樹脂やアンチモン化合物に規制
の動きがあり、封止用エポキシ樹脂組成物についてもノ
ンハロゲン化(ノンブロム化)及びノンアンチモン化の
要求が出てきている。また、プラスチック封止ICの高
温放置特性にブロム化合物が悪影響を及ぼすことが知ら
れており、この観点からもブロム化樹脂量の低減が望ま
れている。
2. Description of the Related Art Conventionally, resin encapsulation has been the mainstream in the field of element encapsulation of electronic component devices such as transistors and ICs from the viewpoints of productivity and cost. Resin compositions are widely used. The reason for this is that the epoxy resin is well balanced in various characteristics such as electric characteristics, moisture resistance, heat resistance, mechanical characteristics, and adhesiveness with insert products. The flame retardancy of these epoxy resin compositions for encapsulation has been mainly carried out by a combination of a brominated resin such as diglycidyl ether of tetrabromobisphenol A and antimony oxide. In recent years, the dioxin problem originated from the viewpoint of environmental protection, and halogenated resins such as decabrom and antimony compounds are being regulated. Non-halogenated (non-brominated) and non-antimony compounds are also used for epoxy resin compositions for encapsulation. There is a demand for conversion. Further, it is known that the bromine compound has an adverse effect on the high temperature storage property of the plastic encapsulation IC, and from this viewpoint, it is desired to reduce the amount of the brominating resin.

【0003】そこで、ブロム化樹脂や酸化アンチモンを
用いずに難燃化を達成する手法としては、赤リンを用い
る方法(特開平9−227765号公報)、リン酸エス
テル化合物を用いる方法(特開平9−235449号公
報)、ホスファゼン化合物を用いる方法(特開平8−2
25714号公報)、金属水酸化物を用いる方法(特開
平9−241483号公報)、金属水酸化物と金属酸化
物を併用する方法(特開平9−100337号公報)、
フェロセン等のシクロペンタジエニル化合物を用いる方
法(特開平11-269349号公報)、アセチルアセ
トナート銅等の有機金属化合物を用いる方法(加藤寛、
機能材料、11(6)、34(1991))等のハロゲ
ン、アンチモン以外の難燃剤を用いる方法、充填剤の割
合を高くする方法(特開平7−82343号公報)等が
試みられている。
Therefore, as a method for achieving flame retardancy without using a brominated resin or antimony oxide, a method using red phosphorus (JP-A-9-227765) or a method using a phosphoric acid ester compound (JP-A-HEI) No. 9-235449), a method using a phosphazene compound (JP-A-8-2).
25714), a method using a metal hydroxide (JP-A-9-241483), a method using a metal hydroxide and a metal oxide in combination (JP-A-9-100337),
A method using a cyclopentadienyl compound such as ferrocene (JP-A-11-269349), a method using an organometallic compound such as copper acetylacetonate (Hiroshi Kato,
Attempts have been made to use functional materials, halogens such as 11 (6), 34 (1991)) and flame retardants other than antimony, and methods for increasing the proportion of filler (Japanese Patent Laid-Open No. 7-82343).

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、封止用
エポキシ樹脂組成物に赤リンを用いた場合は耐湿性の低
下の問題、リン酸エステル化合物やホスファゼン化合物
を用いた場合は可塑化による成形性の低下や耐湿性の低
下の問題、金属水酸化物や金属酸化物を用いた場合は離
型性や流動性の低下の問題、充填剤の割合を高くした場
合は流動性の低下の問題がそれぞれある。また、アセチ
ルアセトナート銅等の有機金属化合物を用いた場合は、
硬化反応を阻害し成形性が低下する問題がある。以上の
ようにこれらノンハロゲン、ノンアンチモン系の難燃剤
では、いずれの場合もブロム化樹脂と酸化アンチモンを
併用した封止用エポキシ樹脂組成物と同等の成形性、信
頼性を得るに至っていない。本発明はかかる状況に鑑み
なされたもので、特に環境対応の観点から要求されるノ
ンハロゲンかつノンアンチモンで、成形性、耐リフロー
性、耐湿性及び高温放置特性等のVLSIの封止用に好
適な信頼性を低下させずに難燃性が良好な封止用エポキ
シ樹脂組成物、及びこの樹脂組成物により封止した素子
を備えた電子部品装置を提供しようとするものである。
However, when red phosphorus is used in the epoxy resin composition for encapsulation, there is a problem of deterioration of moisture resistance, and when a phosphoric acid ester compound or a phosphazene compound is used, moldability due to plasticization is caused. Of metal hydroxide and metal oxide, the problem of release property and fluidity decrease when metal hydroxide or metal oxide is used, and the problem of fluidity decrease when the proportion of filler is increased. There are each. When an organometallic compound such as acetylacetonato copper is used,
There is a problem that the curing reaction is hindered and the moldability is lowered. As described above, none of these halogen-free and antimony-based flame retardants has been able to achieve the same moldability and reliability as the encapsulating epoxy resin composition in which the brominated resin and antimony oxide are used in combination. The present invention has been made in view of such circumstances, and is particularly halogen-free and antimony required from the viewpoint of environmental friendliness, and is suitable for VLSI sealing such as moldability, reflow resistance, moisture resistance, and high temperature storage characteristics. It is an object of the present invention to provide an epoxy resin composition for encapsulation which has good flame retardancy without lowering reliability, and an electronic component device provided with an element encapsulated by this resin composition.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決するために鋭意検討を重ねた結果、特定のリン系
硬化促進剤及び複合金属水酸化物を配合した封止用エポ
キシ樹脂組成物により上記の目的を達成しうることを見
い出し、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies conducted by the present inventors in order to solve the above-mentioned problems, as a result, an epoxy resin for encapsulation containing a specific phosphorus-based curing accelerator and a composite metal hydroxide. It has been found that the composition can achieve the above-mentioned object, and the present invention has been completed.

【0006】すなわち、本発明の封止用エポキシ樹脂組
成物は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬
化促進剤、(D)無機充填剤および(E)複合金属水酸
化物を必須成分とする封止用エポキシ樹脂組成物であっ
て、(C)硬化促進剤が、下記一般式(I)で示される
ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含むこと
を要旨とする。
That is, the epoxy resin composition for encapsulation of the present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler and (E) a composite metal hydroxide. An epoxy resin composition for encapsulation, wherein the curing accelerator (C) includes an adduct of a phosphine compound represented by the following general formula (I) and a quinone compound. .

【化5】 (一般式(I)中で、Rは、水素原子、置換又は非置換
の炭素数1〜12の炭化水素基及び置換又は非置換の炭
素数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一で
も異なっていてもよい。)
[Chemical 5] (In the general formula (I), R is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, all of which are the same. But it may be different.)

【0007】また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促
進剤、(D)無機充填剤および(E)複合金属水酸化物
を必須成分とし、(C)硬化促進剤が上記一般式(I)
で示されるホスフィン化合物を含み、さらにキノン化合
物を含むことを要旨とする。
Further, the epoxy resin composition for encapsulation of the present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler and (E) a composite metal hydroxide. Is an essential component, and (C) a curing accelerator is the above general formula (I).
The gist of the invention is to include a phosphine compound represented by

【0008】また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)硬化促
進剤、(D)無機充填剤および(E)複合金属水酸化物
を必須成分とする封止用エポキシ樹脂組成物であって、
(C)硬化促進剤が、リン原子に少なくとも一つのアル
キル基が結合したホスフィン化合物とキノン化合物との
付加物を含むか、又は(C)硬化促進剤としてリン原子
に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化
合物を含み、さらにキノン化合物を含むことを要旨とす
る。特に、リン原子に少なくとも一つのアルキル基が結
合したホスフィン化合物としては、下記一般式(II)で
示されるホスフィン化合物が好ましい。
Further, the encapsulating epoxy resin composition of the present invention comprises (A) an epoxy resin, (B) a curing agent, (C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler and (E) a composite metal hydroxide. An epoxy resin composition for encapsulation containing a product as an essential component,
(C) The curing accelerator contains an adduct of a phosphine compound in which at least one alkyl group is bound to a phosphorus atom and a quinone compound, or (C) At least one alkyl group is bound to a phosphorus atom as the curing accelerator. The gist of the present invention is to include the phosphine compound described above and further include a quinone compound. Particularly, as the phosphine compound in which at least one alkyl group is bonded to the phosphorus atom, the phosphine compound represented by the following general formula (II) is preferable.

【化6】 (ここで、一般式(II)中のR1は置換又は非置換の
炭素数1〜12のアルキル基を示し、R2及びR3は、水
素原子又は置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素
基を示し、それぞれ全てが同一でも異なっていてもよ
い。)
[Chemical 6] (Here, R 1 in the general formula (II) represents a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 and R 3 is a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted C 1-12 Represents a hydrocarbon group, and they may all be the same or different.)

【0009】特に、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
は、(E)複合金属水酸化物が下記組成式(III)で示
される化合物であるのが好ましい。
In particular, in the encapsulating epoxy resin composition of the present invention, the (E) composite metal hydroxide is preferably a compound represented by the following composition formula (III).

【化7】 m(M1 ab)・n(M2 cd)・h(H2O) (III) (ここで、M1及びM2は互いに異なる金属元素を示し、
a、b、c、d、m、n及びhは正の数を示す。)
Embedded image m (M 1 a O b ) .n (M 2 c O d ) .h (H 2 O) (III) (wherein M 1 and M 2 represent different metal elements,
a, b, c, d, m, n and h represent positive numbers. )

【0010】また、組成式(III)中のM1とM2が同一
とならないようにM1が第3周期の金属元素、IIA族の
アルカリ土類金属元素、IVB族、IIB族、VIII族、IB
族、IIIA族及びIVA族に属する金属元素から選ばれ、
2がIIIB〜IIB族の遷移金属元素から選ばれるのが好
ましい。ここで、該M1がマグネシウム、カルシウム、
アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバルト、ニッケ
ル、銅及び亜鉛から選ばれ、該M2が鉄、コバルト、ニ
ッケル、銅及び亜鉛から選ばれるのが好ましい。M1
マグネシウムで、M2が亜鉛又はニッケルであること、
組成式(III)中のM1 ab及びM2 cdのモル比m/n
が99/1〜50/50であることが、より好ましい。
Further, in order to prevent M 1 and M 2 in the composition formula (III) from being the same, M 1 is a metal element of the third period, an alkaline earth metal element of the IIA group, IVB group, IIB group and VIII group. , IB
Selected from the group consisting of metal elements belonging to Group IIIA, Group IIIA and Group IVA,
It is preferred that M 2 is selected from the group IIIB-IIB transition metal elements. Here, the M 1 is magnesium, calcium,
Preferably, it is selected from aluminum, tin, titanium, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, and the M 2 is selected from iron, cobalt, nickel, copper and zinc. M 1 is magnesium and M 2 is zinc or nickel,
Molar ratio m / n of M 1 a O b and M 2 c O d in the composition formula (III)
Is more preferably 99/1 to 50/50.

【0011】また、(A)エポキシ樹脂がビフェニル型
エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含
有エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロ
ペンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹
脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂の少なくとも
1種を含有すること、(B)硬化剤がビフェニル型フェ
ノール樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペ
ンタジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フ
ェノール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なく
とも1種を含有することが好ましい。
The (A) epoxy resin is a biphenyl type epoxy resin, a stilbene type epoxy resin, a sulfur atom-containing epoxy resin, a novolac type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin and a triphenylmethane type epoxy resin. And (B) the curing agent contains at least one of biphenyl type phenol resin, aralkyl type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, triphenylmethane type phenol resin and novolac type phenol resin. It is preferable.

【0012】さらに、本発明は、上記のいずれかの封止
用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子部
品装置を要旨とする。
Furthermore, the gist of the present invention is an electronic component device provided with an element sealed with any of the above sealing epoxy resin compositions.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】まず、本発明の封止用エポキシ樹
脂組成物の必須成分について説明する。本発明において
用いられる(A)エポキシ樹脂は、封止用エポキシ樹脂
組成物に一般に使用されているもので特に制限はない。
たとえば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、オル
ソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂、トリフェニル
メタン骨格を有するエポキシ樹脂をはじめとするフェノ
ール、クレゾール、キシレノール、レゾルシン、カテコ
ール、ビスフェノールA、ビスフェノールF等のフェノ
ール類及び/又はα−ナフトール、β−ナフトール、ジ
ヒドロキシナフタレン等のナフトール類とホルムアルデ
ヒド、アセトアルデヒド、プロピオンアルデヒド、ベン
ズアルデヒド、サリチルアルデヒド等のアルデヒド基を
有する化合物とを酸性触媒下で縮合又は共縮合させて得
られるノボラック樹脂をエポキシ化したノボラック型エ
ポキシ樹脂;ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビ
スフェノールS等のジグリシジルエーテル(ビスフェノ
ール型エポキシ樹脂);アルキル置換又は非置換のビフ
ェノール等のジグリシジルエーテル(ビフェニル型エポ
キシ樹脂);スチルベン型エポキシ樹脂;ハイドロキノ
ン型エポキシ樹脂;フタル酸、ダイマー酸等の多塩基酸
とエピクロルヒドリンの反応により得られるグリシジル
エステル型エポキシ樹脂;ジアミノジフェニルメタン、
イソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンの
反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂;
ジシクロペンタジエンとフェノール類の共縮合樹脂のエ
ポキシ化物(ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂);
ナフタレン環を有するエポキシ樹脂(ナフタレン型エポ
キシ樹脂);フェノール・アラルキル樹脂、ナフトール
・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂のエ
ポキシ化物;トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂;
テルペン変性エポキシ樹脂;オレフィン結合を過酢酸等
の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂;脂
環族エポキシ樹脂;硫黄原子含有エポキシ樹脂;トリフ
ェニルメタン型エポキシ樹脂等が挙げられる。これらを
単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION First, the essential components of the epoxy resin composition for sealing of the present invention will be described. The (A) epoxy resin used in the present invention is generally used in epoxy resin compositions for sealing and is not particularly limited.
For example, phenols such as phenol novolac type epoxy resin, ortho-cresol novolac type epoxy resin, epoxy resin having a triphenylmethane skeleton, cresol, xylenol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol A, and / or α and the like. -Epoxy novolak resin obtained by condensing or co-condensing naphthols such as naphthol, β-naphthol, and dihydroxynaphthalene with compounds having an aldehyde group such as formaldehyde, acetaldehyde, propionaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde under an acidic catalyst. Novolac type epoxy resin; diglycidyl ether of bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S (bisphenol type epoxy resin ); Diglycidyl ether (biphenyl type epoxy resin) such as alkyl-substituted or unsubstituted biphenol; Stilbene type epoxy resin; Hydroquinone type epoxy resin; Glycidyl ester obtained by reaction of polybasic acid such as phthalic acid and dimer acid with epichlorohydrin Type epoxy resin; diaminodiphenylmethane,
Glycidylamine type epoxy resin obtained by reacting polyamine such as isocyanuric acid with epichlorohydrin;
Epoxidized products of co-condensation resin of dicyclopentadiene and phenols (dicyclopentadiene type epoxy resin);
Epoxy resin having naphthalene ring (naphthalene type epoxy resin); epoxidized aralkyl type phenol resin such as phenol / aralkyl resin and naphthol / aralkyl resin; trimethylolpropane type epoxy resin;
A terpene-modified epoxy resin; a linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing an olefin bond with a peracid such as peracetic acid; an alicyclic epoxy resin; a sulfur atom-containing epoxy resin; and a triphenylmethane type epoxy resin. These may be used alone or in combination of two or more.

【0014】なかでも、耐リフロー性の観点からはビフ
ェニル型エポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂及び
硫黄原子含有エポキシ樹脂が好ましく、硬化性の観点か
らはノボラック型エポキシ樹脂が好ましく、低吸湿性の
観点からはジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂が好ま
しく、耐熱性及び低反り性の観点からはナフタレン型エ
ポキシ樹脂及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂が好
ましい。上記のビフェニル型エポキシ樹脂、スチルベン
型エポキシ樹脂、硫黄原子含有エポキシ樹脂、ノボラッ
ク型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹
脂、ナフタレン型エポキシ樹脂及びトリフェニルメタン
型エポキシ樹脂の好ましい7種のエポシキ樹脂から、い
ずれか1種を単独で用いても2種以上を組合わせて用い
てもよいが、これらの配合量はエポキシ樹脂全量に対し
て合わせて50重量%以上とすることが好ましく、60
重量%以上がより好ましく、80重量%以上がさらに好
ましい。
Of these, a biphenyl type epoxy resin, a stilbene type epoxy resin and a sulfur atom-containing epoxy resin are preferable from the viewpoint of reflow resistance, a novolac type epoxy resin is preferable from the viewpoint of curability, and a low hygroscopicity is preferable. Is preferably a dicyclopentadiene type epoxy resin, and from the viewpoint of heat resistance and low warpage, a naphthalene type epoxy resin and a triphenylmethane type epoxy resin are preferable. From the biphenyl type epoxy resin, the stilbene type epoxy resin, the sulfur atom-containing epoxy resin, the novolac type epoxy resin, the dicyclopentadiene type epoxy resin, the naphthalene type epoxy resin and the triphenylmethane type epoxy resin, which are preferable seven types of epoxy resins, Any one kind may be used alone or two or more kinds may be used in combination, but the compounding amount thereof is preferably 50% by weight or more in total with respect to the total amount of the epoxy resin, 60
It is more preferably at least 80% by weight, still more preferably at least 80% by weight.

【0015】ビフェニル型エポキシ樹脂としてはたとえ
ば下記一般式(IV)で示されるエポキシ樹脂等が挙げら
れ、スチルベン型エポキシ樹脂としてはたとえば下記一
般式(V)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ、硫黄
原子含有エポキシ樹脂としてはたとえば下記一般式(V
I)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられる。
The biphenyl type epoxy resin includes, for example, an epoxy resin represented by the following general formula (IV), and the stilbene type epoxy resin includes, for example, an epoxy resin represented by the following general formula (V), and sulfur. As the atom-containing epoxy resin, for example, the following general formula (V
Examples thereof include epoxy resins represented by I).

【化8】 (ここで、R1〜R8は水素原子及び炭素数1〜10の置
換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同
一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示
す。)
[Chemical 8] (Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different. N is 0 to 3 Indicates an integer.)

【化9】 (ここで、R1〜R8は水素原子及び炭素数1〜10の置
換又は非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同
一でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示
す。)
[Chemical 9] (Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different. N is 0 to 3 Indicates an integer.)

【化10】 (ここで、R1〜R8は水素原子、置換又は非置換の炭素
数1〜10の一価の炭化水素基から選ばれ、全てが同一
でも異なっていてもよい。nは0〜3の整数を示す。)
[Chemical 10] (Here, R 1 to R 8 are selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and all may be the same or different. N is 0 to 3 Indicates an integer.)

【0016】上記一般式(IV)で示されるビフェニル型
エポキシ樹脂としては、たとえば、4,4´−ビス
(2,3−エポキシプロポキシ)ビフェニル又は4,4
´−ビス(2,3−エポキシプロポキシ)−3,3´,
5,5´−テトラメチルビフェニルを主成分とするエポ
キシ樹脂、エピクロルヒドリンと4,4´−ビフェノー
ル又は4,4´−(3,3´,5,5´−テトラメチ
ル)ビフェノールとを反応させて得られるエポキシ樹脂
等が挙げられる。なかでも4,4´−ビス(2,3−エ
ポキシプロポキシ)−3,3´,5,5´−テトラメチ
ルビフェニルを主成分とするエポキシ樹脂が好ましい。
The biphenyl type epoxy resin represented by the above general formula (IV) is, for example, 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) biphenyl or 4,4 '.
′ -Bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ′,
Epoxy resin containing 5,5'-tetramethylbiphenyl as a main component, epichlorohydrin and 4,4'-biphenol or 4,4 '-(3,3', 5,5'-tetramethyl) biphenol are reacted. The epoxy resin etc. which are obtained are mentioned. Among them, an epoxy resin containing 4,4'-bis (2,3-epoxypropoxy) -3,3 ', 5,5'-tetramethylbiphenyl as a main component is preferable.

【0017】上記一般式(V)で示されるスチルベン型
エポキシ樹脂は、原料であるスチルベン系フェノール類
とエピクロルヒドリンとを塩基性物質存在下で反応させ
て得ることができる。この原料であるスチルベン系フェ
ノール類としては、たとえば3−t−ブチル−4,4′
−ジヒドロキシ−3′,5,5′−トリメチルスチルベ
ン、3−t−ブチル−4,4′−ジヒドロキシ−3′,
5′,6−トリメチルスチルベン、4,4´−ジヒドロ
キシ−3,3´,5,5´−テトラメチルスチルベン、
4,4´−ジヒドロキシ−3,3´−ジ−t−ブチル−
5,5´−ジメチルスチルベン、4,4´−ジヒドロキ
シ−3,3´−ジ−t−ブチル−6,6´−ジメチルス
チルベン等が挙げられ、なかでも3−t−ブチル−4,
4′−ジヒドロキシ−3′,5,5′−トリメチルスチ
ルベン、及び4,4´−ジヒドロキシ−3,3´,5,
5´−テトラメチルスチルベンが好ましい。これらのス
チルベン型フェノール類は単独で用いても2種以上を組
み合わせて用いてもよい。
The stilbene type epoxy resin represented by the above general formula (V) can be obtained by reacting stilbene phenols as raw materials with epichlorohydrin in the presence of a basic substance. Examples of the stilbene-based phenols as the raw material include 3-t-butyl-4,4 '.
-Dihydroxy-3 ', 5,5'-trimethylstilbene, 3-t-butyl-4,4'-dihydroxy-3',
5 ', 6-trimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3', 5,5'-tetramethylstilbene,
4,4'-dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-
5,5'-dimethylstilbene, 4,4'-dihydroxy-3,3'-di-t-butyl-6,6'-dimethylstilbene and the like can be mentioned, among which 3-t-butyl-4,
4'-dihydroxy-3 ', 5,5'-trimethylstilbene, and 4,4'-dihydroxy-3,3', 5
5'-Tetramethylstilbene is preferred. These stilbene type phenols may be used alone or in combination of two or more kinds.

【0018】上記一般式(VI)で示される硫黄原子含有
エポキシ樹脂のなかでも、R1〜R8が水素原子、置換又
は非置換の炭素数1〜10のアルキル基及び置換又は非
置換の炭素数1〜10のアルコキシ基から選ばれるエポ
キシ樹脂が好ましく、R2、R4、R5及びR7が水素原子
で、R1、R3、R6及びR8がアルキル基であるエポキシ
樹脂がより好ましく、R2、R4、R5及びR7が水素原子
で、R1及びR8がメチル基で、R3及びR6がt−ブチル
基であるエポキシ樹脂がさらに好ましい。このような化
合物としては、YSLV−120TE(新日鐵化学社製
商品名)等が市販品として入手可能である。
Among the sulfur atom-containing epoxy resins represented by the above general formula (VI), R 1 to R 8 are hydrogen atoms, a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms and a substituted or unsubstituted carbon atom. An epoxy resin selected from the alkoxy groups of the formulas 1 to 10 is preferable, and an epoxy resin in which R 2 , R 4 , R 5 and R 7 are hydrogen atoms and R 1 , R 3 , R 6 and R 8 are alkyl groups is preferable. More preferred is an epoxy resin in which R 2 , R 4 , R 5, and R 7 are hydrogen atoms, R 1 and R 8 are methyl groups, and R 3 and R 6 are t-butyl groups. As such a compound, YSLV-120TE (trade name, manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available.

【0019】これら3種のエポキシ樹脂はいずれか1種
を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい
が、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ
樹脂全量に対して合わせて20重量%以上とすることが
好ましく、30重量%以上がより好ましく、50重量%
以上とすることがさらに好ましい。
These three kinds of epoxy resins may be used alone or in combination of two or more kinds, but the mixing amount thereof is based on the total amount of the epoxy resin in order to exert its performance. The total amount is preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, and 50% by weight
It is more preferable to set the above.

【0020】ノボラック型エポキシ樹脂としては、たと
えば下記一般式(VII)で示されるエポキシ樹脂等が挙
げられる。
Examples of the novolac type epoxy resin include epoxy resins represented by the following general formula (VII).

【化11】 (ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。) 上記一般式(VII)で示されるノボラック型エポキシ樹
脂は、ノボラック型フェノール樹脂にエピクロルヒドリ
ンを反応させることによって容易に得られる。なかで
も、一般式(VII)中のRとしては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、イソプロピル基、イソブチ
ル基等の炭素数1〜10のアルキル基、メトキシ基、エ
トキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜1
0のアルコキシル基が好ましく、水素原子又はメチル基
がより好ましい。nは0〜3の整数が好ましい。上記一
般式(VII)で示されるノボラック型エポキシ樹脂のな
かでも、オルトクレゾールノボラック型エポキシ樹脂が
好ましい。ノボラック型エポキシ樹脂を使用する場合、
その配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂
全量に対して20重量%以上とすることが好ましく、3
0重量%以上がより好ましい。
[Chemical 11] (Here, R is selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 10.) Represented by the above general formula (VII). The novolac type epoxy resin is easily obtained by reacting novolac type phenol resin with epichlorohydrin. Among them, R in the general formula (VII) is, for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, an isobutyl group or another alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group. 1 to 1 carbon atoms such as butoxy group
An alkoxyl group of 0 is preferable, and a hydrogen atom or a methyl group is more preferable. n is preferably an integer of 0 to 3. Among the novolac type epoxy resins represented by the general formula (VII), orthocresol novolac type epoxy resins are preferable. When using novolac type epoxy resin,
The blending amount thereof is preferably 20% by weight or more based on the total amount of the epoxy resin in order to exert its performance.
It is more preferably 0% by weight or more.

【0021】ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂とし
ては、たとえば下記一般式(VIII)で示されるエポキシ
樹脂等が挙げられる。
Examples of the dicyclopentadiene type epoxy resin include epoxy resins represented by the following general formula (VIII).

【化12】 (ここで、R1及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) 上記式(VIII)中のR1としては、たとえば、水素原
子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、イソ
プロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル基、
アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン化ア
ルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基置換
アルキル基等の炭素数1〜10の置換又は非置換の一価
の炭化水素基が挙げられ、なかでもメチル基、エチル基
等のアルキル基及び水素原子が好ましく、メチル基及び
水素原子がより好ましい。R2としては、たとえば、水
素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
イソプロピル基、t−ブチル基等のアルキル基、ビニル
基、アリル基、ブテニル基等のアルケニル基、ハロゲン
化アルキル基、アミノ基置換アルキル基、メルカプト基
置換アルキル基等の炭素数1〜10の置換又は非置換の
一価の炭化水素基が挙げられ、なかでも水素原子が好ま
しい。ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂を使用する
場合、その配合量は、その性能を発揮するためにエポキ
シ樹脂全量に対して20重量%以上とすることが好まし
く、30重量%以上がより好ましい。
[Chemical 12] (Here, R 1 and R 2 are independently selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, n is an integer of 0 to 10, and m is Represents an integer of 0 to 6.) Examples of R 1 in the above formula (VIII) include a hydrogen atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, an isopropyl group, and a t-butyl group, Vinyl group,
Alkenyl groups such as allyl groups and butenyl groups, halogenated alkyl groups, amino group-substituted alkyl groups, mercapto group-substituted alkyl groups, and other substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon groups having 1 to 10 carbon atoms. However, an alkyl group such as a methyl group and an ethyl group and a hydrogen atom are preferable, and a methyl group and a hydrogen atom are more preferable. Examples of R 2 include hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group,
Alkyl group such as isopropyl group, t-butyl group, alkenyl group such as vinyl group, allyl group, butenyl group, halogenated alkyl group, amino group-substituted alkyl group, mercapto group-substituted alkyl group and the like having 1 to 10 carbon atoms Or, it may be an unsubstituted monovalent hydrocarbon group, and among them, a hydrogen atom is preferable. When a dicyclopentadiene type epoxy resin is used, its content is preferably 20% by weight or more, and more preferably 30% by weight or more based on the total amount of the epoxy resin in order to exert its performance.

【0022】ナフタレン型エポキシ樹脂としてはたとえ
ば下記一般式(IX)で示されるエポキシ樹脂等が挙げら
れ、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂としてはたとえ
ば下記一般式(X)で示されるエポキシ樹脂等が挙げられ
る。
The naphthalene type epoxy resin includes, for example, an epoxy resin represented by the following general formula (IX), and the triphenylmethane type epoxy resin includes, for example, an epoxy resin represented by the following general formula (X). .

【化13】 (ここで、R1〜R3は水素原子及び置換又は非置換の炭
素数1〜12の一価の炭化水素基から選ばれ、それぞれ
全てが同一でも異なっていてもよい。pは1又は0で、
h、mはそれぞれ0〜11の整数であって、(h+m)
が1〜11の整数でかつ(h+p)が1〜12の整数と
なるよう選ばれる。iは0〜3の整数、jは0〜2の整
数、kは0〜4の整数を示す。) 上記一般式(IX)で示されるナフタレン型エポキシ樹脂と
しては、h個の構成単位及びm個の構成単位をランダム
に含むランダム共重合体、交互に含む交互共重合体、規
則的に含む共重合体、ブロック状に含むブロック共重合
体が挙げられ、これらのいずれか1種を単独で用いて
も、2種以上を組み合わせて用いてもよい。
[Chemical 13] (Here, R 1 to R 3 are selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and all may be the same or different. P is 1 or 0. so,
h and m are each an integer of 0 to 11, and (h + m)
Is an integer from 1 to 11 and (h + p) is an integer from 1 to 12. i is an integer of 0 to 3, j is an integer of 0 to 2, and k is an integer of 0 to 4. ) The naphthalene-type epoxy resin represented by the general formula (IX) includes a random copolymer randomly containing h constituent units and m constituent units, an alternating copolymer containing them alternately, and a copolymer containing them regularly. Examples thereof include polymers and block copolymers contained in a block form, and any one of these may be used alone or in combination of two or more.

【化14】 (ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。)
[Chemical 14] (Here, R is selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 1 to 10.)

【0023】これら2種のエポキシ樹脂はいずれか1種
を単独で用いても両者を組合わせて用いてもよいが、そ
の配合量は、その性能を発揮するためにエポキシ樹脂全
量に対して合わせて20重量%以上とすることが好まし
く、30重量%以上がより好ましく、50重量%以上と
することがさらに好ましい。
These two kinds of epoxy resins may be used alone or in combination of two kinds, but the compounding amount thereof is adjusted to the total amount of the epoxy resin in order to exert its performance. It is preferably 20% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, and further preferably 50% by weight or more.

【0024】本発明において用いられる(B)硬化剤
は、封止用エポキシ樹脂組成物に一般に使用されている
もので特に制限はない。たとえば、フェノール、クレゾ
ール、レゾルシン、カテコール、ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、フェニルフェノール、アミノフェノー
ル等のフェノール類及び/又はα−ナフトール、β−ナ
フトール、ジヒドロキシナフタレン等のナフトール類と
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、サリチルアルデ
ヒド等のアルデヒド基を有する化合物とを酸性触媒下で
縮合又は共縮合させて得られるノボラック型フェノール
樹脂;フェノール類及び/又はナフトール類とジメトキ
シパラキシレン又はビス(メトキシメチル)ビフェニル
から合成されるフェノール・アラルキル樹脂、ナフトー
ル・アラルキル樹脂等のアラルキル型フェノール樹脂;
フェノール類及び/又はナフトール類とジシクロペンタ
ジエンから共重合により合成される、ジシクロペンタジ
エン型フェノールノボラック樹脂、ナフトールノボラッ
ク樹脂等のジシクロペンタジエン型フェノール樹脂;テ
ルペン変性フェノール樹脂;ビフェニル型フェノール樹
脂;トリフェニルメタン型フェノール樹脂等が挙げられ
る。これらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用
いてもよい。
The curing agent (B) used in the present invention is generally used in epoxy resin compositions for encapsulation and is not particularly limited. For example, phenols such as phenol, cresol, resorcin, catechol, bisphenol A, bisphenol F, phenylphenol, aminophenol and / or naphthols such as α-naphthol, β-naphthol, dihydroxynaphthalene and formaldehyde, benzaldehyde, salicylaldehyde, etc. Novolac type phenolic resin obtained by condensation or co-condensation with a compound having an aldehyde group under an acidic catalyst; phenol aralkyl synthesized from phenols and / or naphthols and dimethoxyparaxylene or bis (methoxymethyl) biphenyl Resins, aralkyl-type phenolic resins such as naphthol and aralkyl resins;
Dicyclopentadiene type phenolic resins such as dicyclopentadiene type phenol novolac resins and naphthol novolac resins, which are synthesized by copolymerization of phenols and / or naphthols and dicyclopentadiene; terpene modified phenolic resins; biphenyl type phenolic resins; Examples thereof include phenylmethane type phenol resin. These may be used alone or in combination of two or more.

【0025】なかでも、難燃性の観点からはビフェニル
型フェノール樹脂が好ましく、耐リフロー性及び硬化性
の観点からはアラルキル型フェノール樹脂が好ましく、
低吸湿性の観点からはジシクロペンタジエン型フェノー
ル樹脂が好ましく、耐熱性、低膨張率及び低そり性の観
点からはトリフェニルメタン型フェノール樹脂が好まし
く、硬化性の観点からはノボラック型フェノール樹脂が
好ましく、これらのフェノール樹脂の少なくとも1種を
含有していることが好ましい。
Of these, a biphenyl type phenol resin is preferable from the viewpoint of flame retardancy, and an aralkyl type phenol resin is preferable from the viewpoint of reflow resistance and curability.
Dicyclopentadiene type phenolic resin is preferable from the viewpoint of low hygroscopicity, heat resistance, triphenylmethane type phenolic resin is preferable from the viewpoint of low expansion coefficient and low warpage, and novolac type phenolic resin is preferable from the viewpoint of curability. Preferably, it contains at least one of these phenolic resins.

【0026】ビフェニル型フェノール樹脂としては、た
とえば下記一般式(XI)で示されるフェノール樹脂等が挙
げられる。
Examples of the biphenyl type phenol resin include a phenol resin represented by the following general formula (XI).

【化15】 上記式(XI)中のR1〜R9は全てが同一でも異なっていて
もよく、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、
ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等の炭素数1
〜10のアルキル基、メトキシ基、エトキシ基、プロポ
キシ基、ブトキシ基等の炭素数1〜10のアルコキシル
基、フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数6〜
10のアリール基、及び、ベンジル基、フェネチル基等
の炭素数6〜10のアラルキル基から選ばれ、なかでも
水素原子とメチル基が好ましい。nは0〜10の整数を
示す。上記一般式(XI)で示されるビフェニル型フェノー
ル樹脂としては、たとえばR 1〜R9が全て水素原子であ
る化合物等が挙げられ、なかでも溶融粘度の観点から、
nが1以上の縮合体を50重量%以上含む縮合体の混合
物が好ましい。このような化合物としては、MEH−7
851(明和化成株式会社製商品名)が市販品として入
手可能である。ビフェニル型フェノール樹脂を使用する
場合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤
全量に対して30重量%以上とすることが好ましく、5
0重量%以上がより好ましく、60重量%以上がさらに
好ましい。
[Chemical 15] R in the above formula (XI)1~ R9Are all the same or different
Also, hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group,
Carbon number 1 such as butyl, isopropyl, and isobutyl groups
-10 alkyl group, methoxy group, ethoxy group, propoxy group
Alkoxy having 1 to 10 carbon atoms such as xy group and butoxy group
6 to 6 carbon atoms such as groups, phenyl groups, tolyl groups, xylyl groups, etc.
10 aryl groups, benzyl groups, phenethyl groups, etc.
Selected from aralkyl groups having 6 to 10 carbon atoms, among which
A hydrogen atom and a methyl group are preferred. n is an integer from 0 to 10
Show. Biphenyl-type pheno represented by the above general formula (XI)
Examples of the resin include R 1~ R9Are all hydrogen atoms
Compounds and the like, among them, from the viewpoint of melt viscosity,
Mixture of condensate containing 50% by weight or more of condensate in which n is 1 or more
The thing is preferable. Such compounds include MEH-7
851 (Meiwa Kasei Co., Ltd. product name) entered as a commercial product
It is possible. Use biphenyl type phenolic resin
In that case, the amount of the curing agent is set in order to exert its performance.
It is preferably 30% by weight or more based on the total amount, and 5
0 wt% or more is more preferable, and 60 wt% or more is further
preferable.

【0027】アラルキル型フェノール樹脂としては、た
とえばフェノール・アラルキル樹脂、ナフトール・アラ
ルキル樹脂等が挙げられ、下記一般式(XII)で示される
フェノール・アラルキル樹脂が好ましく、一般式(XII)
中のRが水素原子で、nの平均値が0〜8であるフェノ
ール・アラルキル樹脂がより好ましい。具体例として
は、p−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂、m
−キシリレン型フェノール・アラルキル樹脂等が挙げら
れる。これらのアラルキル型フェノール樹脂を用いる場
合、その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全
量に対して30重量%以上とすることが好ましく、50
重量%以上がより好ましい。
The aralkyl type phenol resin includes, for example, phenol / aralkyl resin, naphthol / aralkyl resin, and the like. Phenol / aralkyl resin represented by the following general formula (XII) is preferable, and general formula (XII)
A phenol / aralkyl resin in which R is a hydrogen atom and the average value of n is 0 to 8 is more preferable. Specific examples include p-xylylene type phenol / aralkyl resin, m
Examples include xylylene type phenol and aralkyl resin. When these aralkyl type phenol resins are used, the compounding amount thereof is preferably 30% by weight or more with respect to the total amount of the curing agent in order to exert its performance,
It is more preferably at least wt%.

【化16】 (ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは0〜10の
整数を示す。)
[Chemical 16] (Here, R is selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 10.)

【0028】ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂と
しては、たとえば下記一般式(XIII)で示されるフェノー
ル樹脂等が挙げられる。
Examples of the dicyclopentadiene type phenol resin include phenol resins represented by the following general formula (XIII).

【化17】 (ここで、R1及びR2は水素原子及び炭素数1〜10の
置換又は非置換の一価の炭化水素基からそれぞれ独立し
て選ばれ、nは0〜10の整数を示し、mは0〜6の整
数を示す。) ジシクロペンタジエン型フェノール樹脂を用いる場合、
その配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に
対して30重量%以上とすることが好ましく、50重量
%以上がより好ましい。
[Chemical 17] (Here, R 1 and R 2 are independently selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, n is an integer of 0 to 10, and m is Indicates an integer of 0 to 6.) When using a dicyclopentadiene type phenol resin,
The blending amount thereof is preferably 30% by weight or more and more preferably 50% by weight or more based on the total amount of the curing agent in order to exert its performance.

【0029】トリフェニルメタン型フェノール樹脂とし
ては、たとえば下記一般式(XIV)で示されるフェノール
樹脂等が挙げられる。
Examples of the triphenylmethane type phenol resin include a phenol resin represented by the following general formula (XIV).

【化18】 (ここで、Rは水素原子及び炭素数1〜10の置換又は
非置換の一価の炭化水素基から選ばれ、nは1〜10の
整数を示す。) トリフェニルメタン型フェノール樹脂を用いる場合、そ
の配合量は、その性能を発揮するために硬化剤全量に対
して30重量%以上とすることが好ましく、50重量%
以上がより好ましい。
[Chemical 18] (Here, R is selected from a hydrogen atom and a substituted or unsubstituted monovalent hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 10.) When using a triphenylmethane type phenol resin In order to exert its performance, its content is preferably 30% by weight or more, and 50% by weight based on the total amount of the curing agent.
The above is more preferable.

【0030】ノボラック型フェノール樹脂としては、た
とえばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラッ
ク樹脂、ナフトールノボラック樹脂等が挙げられ、なか
でもフェノールノボラック樹脂が好ましい。ノボラック
型フェノール樹脂を用いる場合、その配合量は、その性
能を発揮するために硬化剤全量に対して30重量%以上
とすることが好ましく、50重量%以上がより好まし
い。
Examples of the novolac type phenolic resin include phenol novolac resin, cresol novolac resin, naphthol novolac resin, and the like, of which phenol novolac resin is preferable. When the novolac type phenol resin is used, its content is preferably 30% by weight or more, and more preferably 50% by weight or more based on the total amount of the curing agent in order to exert its performance.

【0031】上記のビフェニル型フェノール樹脂、アラ
ルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタジエン型フェ
ノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノール樹脂及び
ノボラック型フェノール樹脂は、いずれか1種を単独で
用いても2種以上を組合わせて用いてもよいが、その配
合量は硬化剤全量に対して合わせて60重量%以上とす
ることが好ましく、80重量%以上がより好ましい。
The above-mentioned biphenyl type phenol resin, aralkyl type phenol resin, dicyclopentadiene type phenol resin, triphenylmethane type phenol resin and novolac type phenol resin may be used alone or in combination of two or more kinds. Although they may be used together, the total amount thereof is preferably 60% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, based on the total amount of the curing agent.

【0032】(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤との当
量比、すなわち、エポキシ樹脂中のエポキシ基数に対す
る硬化剤中の水酸基数の比(硬化剤中の水酸基数/エポ
キシ樹脂中のエポキシ基数)は、特に制限はないが、そ
れぞれの未反応分を少なく抑えるために0.5〜2の範
囲に設定されることが好ましく、0.6〜1.3がより
好ましい。成形性及び耐リフロー性に優れる封止用エポ
キシ樹脂組成物を得るためには0.8〜1.2の範囲に
設定されることがさらに好ましい。
Equivalent ratio of (A) epoxy resin to (B) curing agent, ie, ratio of number of hydroxyl groups in curing agent to number of epoxy groups in epoxy resin (number of hydroxyl groups in curing agent / number of epoxy groups in epoxy resin) ) Is not particularly limited, but is preferably set in the range of 0.5 to 2 and more preferably 0.6 to 1.3 in order to suppress the unreacted content of each. In order to obtain an epoxy resin composition for encapsulation which is excellent in moldability and reflow resistance, the range is more preferably set to 0.8 to 1.2.

【0033】本発明における封止用エポキシ樹脂組成物
には、(C)硬化促進剤として下記一般式(I)で示さ
れるホスフィン化合物とキノン化合物との付加物を含む
か、または、(C)硬化促進剤として一般式(I)で示
されるホスフィン化合物を含み、さらにキノン化合物を
含むか、または、(C)硬化促進剤としてリン原子に少
なくとも一つのアルキル基が結合したホスフィン化合物
とキノン化合物との付加物を含むか、または(C)硬化
促進剤としてリン原子に少なくとも一つのアルキル基が
結合したホスフィン化合物を含み、さらにキノン化合物
を含む必要がある。リン原子に少なくとも一つのアルキ
ル基が結合したホスフィン化合物としては、下記一般式
(II)で示されるホスフィン化合物が好ましい。なお、
本発明において付加物とは、特に限定はないが、付加反
応物や、π電子密度の異なる二種の化合物の分子間力に
よって生成する化合物等が挙げられる。
The encapsulating epoxy resin composition of the present invention contains (C) a curing accelerator containing an adduct of a phosphine compound represented by the following general formula (I) and a quinone compound, or (C) A phosphine compound represented by the general formula (I) as a curing accelerator, and a quinone compound, or (C) a phosphine compound having a phosphorus atom bonded to at least one alkyl group and a quinone compound as a curing accelerator. Or (C) a phosphine compound having at least one alkyl group bonded to a phosphorus atom as a curing accelerator, and a quinone compound. As the phosphine compound having at least one alkyl group bonded to the phosphorus atom, a phosphine compound represented by the following general formula (II) is preferable. In addition,
In the present invention, the adduct is not particularly limited, and examples thereof include an addition reaction product and a compound produced by the intermolecular force of two compounds having different π electron densities.

【化19】 [Chemical 19]

【化20】 [Chemical 20]

【0034】一般式(I)中のRは、水素原子、炭素数
1〜12の炭化水素基及び炭素数1〜12のアルコキシ
基から選ばれ、全てが同一でも異なっていてもよい。前
記炭化水素基およびアルコキシ基は置換されていてもよ
い。Rは、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基及び炭
素数1〜4のアルコキシ基からそれぞれ独立に選ばれる
ことが好ましく、離形性の観点からは3つのRのうち1
つ以上がアルキル基又はアルコキシル基であるのが好ま
しく、全てがアルキル基又はアルコキシル基であるのが
より好ましい。
R in the general formula (I) is selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, all of which may be the same or different. The hydrocarbon group and the alkoxy group may be substituted. R is preferably independently selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. From the viewpoint of releasability, R is 1
One or more are preferably alkyl groups or alkoxyl groups, and more preferably all are alkyl groups or alkoxyl groups.

【0035】一般式(I)で示されるホスフィン化合物
としては、トリフェニルホスフィン、ジフェニル−p−
トリルホスフィン、ジフェニル(p‐メトキシフェニ
ル)ホスフィン、ジ-p-トリルフェニルホスフィン、ビ
ス‐(p‐メトキシフェニル)フェニルホスフィン、ト
リ−p−トリルホスフィン、トリ−o−トリルホスフィ
ン、トリ−m−トリルホスフィン、トリス‐(p‐エチ
ルフェニル)ホスフィン、トリス‐(p‐n-ブチルフェ
ニル)ホスフィン、トリス‐(p‐メトキシフェニル)
ホスフィン、トリス‐(o‐メトキシフェニル)ホスフ
ィン、トリス‐(m‐メトキシフェニル)ホスフィン等
が挙げられ、中でも、フェニルジ−p−トリルホスフィ
ン、フェニルビス‐(p‐メトキシフェニル)ホスフィ
ン、トリ−p−トリルホスフィン、トリ−o−トリルホ
スフィン、トリ−m−トリルホスフィン、トリス‐(p
‐エチルフェニル)ホスフィン、トリス‐(p‐n-ブチ
ルフェニル)ホスフィン、トリス‐(p‐メトキシフェ
ニル)ホスフィン等のように、アルキル基、アルコキシ
基等の電子供与性置換基が2つ以上パラ位、メタ位、オ
ルト位に導入されたフェニルビス‐(p‐アルキルフェ
ニル)ホスフィン、フェニルビス‐(p‐アルコキシフ
ェニル)ホスフィン、トリス‐(p‐アルキルフェニ
ル)ホスフィン、トリス‐(o‐アルキルフェニル)ホ
スフィン、トリス‐(m‐アルキルフェニル)ホスフィ
ン、トリス‐(p‐アルコキシフェニル)ホスフィン等
が硬化性に優れるため好ましい。一般式(I)で示され
るホスフィン化合物は、1種または2種以上を適宜選択
してよく、キノン化合物との付加物の形態で、あるいは
キノン化合物と共に用いられ、流動性の点でキノン化合
物との付加物が好ましい。
Examples of the phosphine compound represented by the general formula (I) include triphenylphosphine and diphenyl-p-.
Tolylphosphine, diphenyl (p-methoxyphenyl) phosphine, di-p-tolylphenylphosphine, bis- (p-methoxyphenyl) phenylphosphine, tri-p-tolylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri-m-tolyl Phosphine, tris- (p-ethylphenyl) phosphine, tris- (pn-butylphenyl) phosphine, tris- (p-methoxyphenyl)
Examples thereof include phosphine, tris- (o-methoxyphenyl) phosphine and tris- (m-methoxyphenyl) phosphine. Among them, phenyldi-p-tolylphosphine, phenylbis- (p-methoxyphenyl) phosphine, tri-p- Tolylphosphine, tri-o-tolylphosphine, tri-m-tolylphosphine, tris- (p
-Ethylphenyl) phosphine, tris- (pn-butylphenyl) phosphine, tris- (p-methoxyphenyl) phosphine, etc. have two or more para-positions of electron-donating substituents such as alkyl groups and alkoxy groups. Phenylbis- (p-alkylphenyl) phosphine, phenylbis- (p-alkoxyphenyl) phosphine, tris- (p-alkylphenyl) phosphine, tris- (o-alkylphenyl) introduced at the meta, ortho ortho position Phosphine, tris- (m-alkylphenyl) phosphine, tris- (p-alkoxyphenyl) phosphine and the like are preferable because they have excellent curability. The phosphine compound represented by the general formula (I) may be appropriately selected from one kind or two or more kinds, and is used in the form of an adduct with a quinone compound or together with a quinone compound, and is used as a quinone compound in terms of fluidity. Is preferred.

【0036】また、一般式(II)中のR1は炭素数1〜
12のアルキル基を示し、R2及びR 3は、水素原子又は
炭素数1〜12の炭化水素基を示し、それぞれ全てが同
一でも異なっていてもよい。前記アルキル基および炭化
水素基は置換されていてもよい。R1、R2及びR3が、
それぞれ独立に炭素数1〜12のアルキル基から選ばれ
ることが好ましく、離型性の観点からはR1〜R3のうち
1つ以上がシクロヘキシル基、ブチル基またはオクチル
基であるのが好ましい。
Further, R in the general formula (II)1Has 1 to 1 carbon atoms
12 alkyl groups, R2And R 3Is a hydrogen atom or
Indicates a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, all of which are the same
It may be one or different. The alkyl group and carbonization
The hydrogen group may be substituted. R1, R2And R3But,
Each independently selected from an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms
It is preferable that R be R1~ R3Out of
One or more is cyclohexyl, butyl or octyl
It is preferably a group.

【0037】一般式(II)で示されるホスフィン化合物
としては、トリブチルホスフィン、トリシクロヘキシル
ホスフィン、トリオクチルホスフィン等のトリアルキル
ホスフィン、フェニルジブチルホスフィン、フェニルジ
シクロヘキシルホスフィン等のアリールジアルキルホス
フィン、ジフェニルブチルホスフィン、ジフェニルシク
ロヘキシルホスフィン等のジアリールジアルキルホスフ
ィン等が挙げられる。中でも硬化性の観点からは、トリ
ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ト
リオクチルホスフィン等のトリアルキルホスフィンが好
ましく、耐リフロー性の観点からはジフェニルブチルホ
スフィン、ジフェニルシクロヘキシルホスフィン等のア
リールジアルキルホスフィンが好ましい。一般式(II)
で示されるホスフィン化合物は、1種または2種以上を
適宜選択してよく、キノン化合物との付加物の形態で、
あるいはキノン化合物と共に用いられ、流動性の点でキ
ノン化合物との付加物が好ましい。
Examples of the phosphine compound represented by the general formula (II) include trialkylphosphines such as tributylphosphine, tricyclohexylphosphine and trioctylphosphine, aryldialkylphosphines such as phenyldibutylphosphine and phenyldicyclohexylphosphine, diphenylbutylphosphine and diphenyl. Examples thereof include diaryldialkylphosphines such as cyclohexylphosphine. Of these, trialkylphosphines such as tributylphosphine, tricyclohexylphosphine, and trioctylphosphine are preferable from the viewpoint of curability, and aryldialkylphosphines such as diphenylbutylphosphine and diphenylcyclohexylphosphine are preferable from the viewpoint of reflow resistance. General formula (II)
The phosphine compound represented by may be appropriately selected from one kind or two or more kinds, and in the form of an adduct with a quinone compound,
Alternatively, it is used together with a quinone compound, and an adduct with a quinone compound is preferable from the viewpoint of fluidity.

【0038】ホスフィン化合物との付加物の形態で、あ
るいはホスフィン化合物と共に、封止用エポキシ樹脂組
成物に含有されるキノン化合物としては、ベンゾキノ
ン、ナフトキノン、アントラキノン等が挙げられるが、
中でも1,4−ベンゾキノン、メチル−1,4−ベンゾ
キノン、メトキシ−1,4−ベンゾキノン、t−ブチル
−1,4−ベンゾキノン、フェニル−1,4−ベンゾキ
ノン、2,3−ジメチル−1,4−ベンゾキノン、2,
5−ジメチル−1,4−ベンゾキノン、2,3−ジメト
キシ−1,4−ベンゾキノン、2,5−ジメトキシ−
1,4−ベンゾキノン、2,5−ジ−t−ブチル−1,
4−ベンゾキノン、1,4−ナフトキノン、9,10−
アントラキノン等のp−キノン類が好ましい。その中で
も、1,4−ベンゾキノン、メチル−p−ベンゾキノン
がホスフィン化合物との反応性に優れるためより好まし
い。キノン化合物も1種または2種以上を適宜選択して
使用できる。
Examples of the quinone compound contained in the encapsulating epoxy resin composition in the form of an adduct with a phosphine compound or together with the phosphine compound include benzoquinone, naphthoquinone and anthraquinone.
Among them, 1,4-benzoquinone, methyl-1,4-benzoquinone, methoxy-1,4-benzoquinone, t-butyl-1,4-benzoquinone, phenyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethyl-1,4 -Benzoquinone, 2,
5-dimethyl-1,4-benzoquinone, 2,3-dimethoxy-1,4-benzoquinone, 2,5-dimethoxy-
1,4-benzoquinone, 2,5-di-t-butyl-1,
4-benzoquinone, 1,4-naphthoquinone, 9,10-
P-quinones such as anthraquinone are preferred. Among them, 1,4-benzoquinone and methyl-p-benzoquinone are more preferable because they have excellent reactivity with the phosphine compound. The quinone compound may also be used alone or in combination of two or more.

【0039】一般式(I)で示されるホスフィン化合物
とキノン化合物の付加物としては、特に制限はないが、
硬化性の観点からは、トリス‐(p‐メトキシフェニ
ル)ホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加物、ト
リス‐(p‐メトキシフェニル)ホスフィンとメチル−
1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリス‐(p‐メト
キシフェニル)ホスフィンとt−ブチル−1,4−ベン
ゾキノンとの付加物、トリ-p-トリルホスフィンと1,
4−ベンゾキノンとの付加物、トリ-p-トリルホスフィ
ンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリ-
p-トリルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノ
ンとの付加物、トリ-o-トリルホスフィンと1,4−ベ
ンゾキノンとの付加物、トリ-o-トリルホスフィンとメ
チル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリ-o-トリ
ルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの
付加物、トリ-m-トリルホスフィンと1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物、トリ-m-トリルホスフィンとメチル−
1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリ-m-トリルホス
フィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加
物、ビス‐(p‐メトキシフェニル)フェニルホスフィ
ンと1,4−ベンゾキノンとの反応物、ビス‐(p‐メ
トキシフェニル)フェニルホスフィンとメチル−1,4
−ベンゾキノンとの反応物、ビス‐(p‐メトキシフェ
ニル)フェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベン
ゾキノンとの反応物、ジ-p-トリルフェニルホスフィン
と1,4−ベンゾキノンとの反応物、ジ-p-トリルフェ
ニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの反
応物、ジ-p-トリルフェニルホスフィンとt−ブチル−
1,4−ベンゾキノンとの反応物等のフェニル基に電子
供与性置換基が導入されたアリール基を二つ以上有する
ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物が好まし
い。また、耐リフロー性の観点からは、ジフェニル(p
‐メトキシフェニル)ホスフィンと1,4−ベンゾキノ
ンとの付加物、ジフェニル(p‐メトキシフェニル)ホ
スフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、
ジフェニル(p‐メトキシフェニル)ホスフィンとt−
ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、ジフェニル
-p-トリルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加
物、ジフェニル-p-トリルホスフィンとメチル−1,4
−ベンゾキノンとの付加物、ジフェニル-p-トリルホス
フィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加
物、トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンと
の付加物、トリフェニルホスフィンとメチル−1,4−
ベンゾキノンとの付加物、トリフェニルホスフィンとt
−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物等の電子供
与性置換基が導入されたアリール基を二つ以上有しない
ホスフィン化合物とキノン化合物との付加反応物が好ま
しい。
The adduct of the phosphine compound represented by the general formula (I) and the quinone compound is not particularly limited,
From the viewpoint of curability, an adduct of tris- (p-methoxyphenyl) phosphine and 1,4-benzoquinone, tris- (p-methoxyphenyl) phosphine and methyl-
1,4-benzoquinone adduct, tris- (p-methoxyphenyl) phosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone adduct, tri-p-tolylphosphine and 1,
Addition product of 4-benzoquinone, addition product of tri-p-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, tri-
Addition product of p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, addition product of tri-o-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone, tri-o-tolylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone With adduct, tri-o-tolylphosphine with t-butyl-1,4-benzoquinone, tri-m-tolylphosphine with 1,4-benzoquinone, tri-m-tolylphosphine Methyl-
Reaction of 1,4-benzoquinone with 1,4-benzoquinone, addition of tri-m-tolylphosphine with t-butyl-1,4-benzoquinone, reaction of bis- (p-methoxyphenyl) phenylphosphine with 1,4-benzoquinone , Bis- (p-methoxyphenyl) phenylphosphine and methyl-1,4
A reaction product with benzoquinone, a reaction product with bis- (p-methoxyphenyl) phenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, a reaction product with di-p-tolylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, Reaction product of di-p-tolylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, di-p-tolylphenylphosphine and t-butyl-
An adduct of a phosphine compound and a quinone compound having two or more aryl groups having an electron-donating substituent introduced into a phenyl group such as a reaction product with 1,4-benzoquinone is preferable. From the viewpoint of reflow resistance, diphenyl (p
-Methoxyphenyl) phosphine and 1,4-benzoquinone adduct, diphenyl (p-methoxyphenyl) phosphine and methyl-1,4-benzoquinone adduct,
Diphenyl (p-methoxyphenyl) phosphine and t-
Butyl-1,4-benzoquinone adduct, diphenyl
Addition product of -p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone, diphenyl-p-tolylphosphine and methyl-1,4
An adduct of benzoquinone, an adduct of diphenyl-p-tolylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, an adduct of triphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, triphenylphosphine and methyl-1, 4-
Adduct with benzoquinone, triphenylphosphine and t
An addition reaction product of a phosphine compound and a quinone compound which does not have two or more aryl groups having an electron-donating substituent introduced therein, such as an adduct with -butyl-1,4-benzoquinone, is preferable.

【0040】一般式(II)で示されるホスフィン化合物
とキノン化合物の付加物としては、特に制限はないが、
硬化性の観点からは、トリシクロヘキシルホスフィンと
1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリシクロヘキシル
ホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加
物、トリシクロヘキシルホスフィンとt−ブチル−1,
4−ベンゾキノンとの付加物、トリブチルホスフィンと
1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリブチルホスフィ
ンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリブ
チルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンと
の付加物、トリオクチルホスフィンと1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物、トリオクチルホスフィンとメチル−
1,4−ベンゾキノンとの付加物、トリオクチルホスフ
ィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物等
のトリアルキルホスフィンとキノン化合物との付加物が
好ましい。また、耐リフロー性の観点からは、シクロヘ
キシルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンと
の付加物、シクロヘキシルジフェニルホスフィンとメチ
ル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、シクロヘキシル
ジフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物、ブチルジフェニルホスフィンと1,4
−ベンゾキノンとの付加物、ブチルジフェニルホスフィ
ンとメチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、ブチル
ジフェニルホスフィンとt−ブチル−1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィン
と1,4−ベンゾキノンとの付加物、ジシクロヘキシル
フェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾキノンと
の付加物、ジシクロヘキシルフェニルホスフィンとt−
ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物、ジブチルフ
ェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加物、
ジブチルフェニルホスフィンとメチル−1,4−ベンゾ
キノンとの付加物、ジブチルフェニルホスフィンとt−
ブチル−1,4−ベンゾキノンとの付加物等のアルキル
ジアリールホスフィン又はジアルキルアリールホスフィ
ンとキノン化合物との付加物が好ましく、なかでも、シ
クロヘキシルジフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物、ブチルジフェニルホスフィンと1,4
−ベンゾキノンとの付加物、オクチルジフェニルホスフ
ィンと1,4−ベンゾキノンとの付加物等のアルキルジ
フェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付加物
がより好ましい。
The adduct of the phosphine compound represented by the general formula (II) and the quinone compound is not particularly limited,
From the viewpoint of curability, an adduct of tricyclohexylphosphine and 1,4-benzoquinone, an adduct of tricyclohexylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, tricyclohexylphosphine and t-butyl-1,
4-benzoquinone adduct, tributylphosphine and 1,4-benzoquinone adduct, tributylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone adduct, tributylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone Addition product, addition product of trioctylphosphine and 1,4-benzoquinone, trioctylphosphine and methyl-
An adduct of a trialkylphosphine with a quinone compound such as an adduct of 1,4-benzoquinone or an adduct of trioctylphosphine with t-butyl-1,4-benzoquinone is preferable. Further, from the viewpoint of reflow resistance, an adduct of cyclohexyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, an adduct of cyclohexyldiphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, cyclohexyldiphenylphosphine and t-butyl-1, Adduct with 4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine and 1,4
-Addition product of benzoquinone, addition product of butyldiphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, addition product of butyldiphenylphosphine and t-butyl-1,4-benzoquinone, dicyclohexylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone With dicyclohexylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone with dicyclohexylphenylphosphine and t-
Addition product of butyl-1,4-benzoquinone, addition product of dibutylphenylphosphine and 1,4-benzoquinone,
Addition product of dibutylphenylphosphine and methyl-1,4-benzoquinone, dibutylphenylphosphine and t-
Preferred is an adduct of an alkyldiarylphosphine such as an adduct with butyl-1,4-benzoquinone or an adduct of a dialkylarylphosphine with a quinone compound. Among them, an adduct of cyclohexyldiphenylphosphine and 1,4-benzoquinone, butyldiphenylphosphine And 1,4
More preferred are adducts of alkyldiphenylphosphine with 1,4-benzoquinone, such as adducts with benzoquinone and adducts of octyldiphenylphosphine with 1,4-benzoquinone.

【0041】一般式(I)で示されるホスフィン化合物
とキノン化合物との付加物の製造方法及び一般式(II)
で示されるホスフィン化合物とキノン化合物との付加物
の製造方法としては特に制限はないが、例えば、原料と
して用いられるホスフィン化合物とキノン化合物とを両
者が溶解する有機溶媒中で付加反応させて単離する方
法、(B)成分の硬化剤中で付加反応させる方法等が挙
げられ、後者の方法においては単離せずにそのまま硬化
剤中に溶解した状態で、エポキシ樹脂組成物の配合成分
として用いることができる。一般式(I)で示されるホ
スフィン化合物とキノン化合物との付加物は、1種を単
独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。ま
た、一般式(II)で示されるホスフィン化合物とキノン
化合物との付加物は、1種を単独で用いても2種以上を
組み合わせて用いてもよい。ホスフィン化合物とキノン
化合物とを同時に用いる場合の割合は、モル比で1/1
〜1/1.5の範囲が好ましい。
Method for producing adduct of phosphine compound represented by general formula (I) and quinone compound and general formula (II)
The method for producing an adduct of a phosphine compound and a quinone compound represented by is not particularly limited, but for example, the phosphine compound and the quinone compound used as raw materials are subjected to an addition reaction in an organic solvent in which both are dissolved and isolated. And a method of performing an addition reaction in the curing agent of the component (B). In the latter method, it is used as a blending component of the epoxy resin composition in a state of being directly dissolved in the curing agent without isolation. You can The adduct of the phosphine compound represented by the general formula (I) and the quinone compound may be used alone or in combination of two or more. Further, the adduct of the phosphine compound represented by the general formula (II) and the quinone compound may be used alone or in combination of two or more kinds. When the phosphine compound and the quinone compound are used at the same time, the molar ratio is 1/1
The range of 1 / 1.5 is preferable.

【0042】なお、(C)硬化促進剤は、必要に応じて
上記以外に、例えばリン系化合物、三級アミン化合物、
イミダゾール化合物等の硬化促進剤を含むことができ
る。この場合、本発明の効果を得るために、その配合量
は全硬化促進剤量に対して95重量%以下であることが
好ましい。
The curing accelerator (C) may be, for example, a phosphorus compound, a tertiary amine compound,
A curing accelerator such as an imidazole compound may be included. In this case, in order to obtain the effect of the present invention, the content thereof is preferably 95% by weight or less with respect to the total amount of the curing accelerator.

【0043】(C)硬化促進剤の配合量は、硬化促進効
果が達成される量であれば特に制限されるものではない
が、封止用エポキシ樹脂組成物に対して0.005〜2
重量%が好ましく、0.01〜0.5重量%がより好ま
しい。0.005重量%未満では短時間での硬化性に劣
る傾向があり、2重量%を超えると硬化速度が速すぎて
良好な成形品を得ることが困難になる傾向がある。
The amount of the (C) curing accelerator compounded is not particularly limited as long as the curing acceleration effect is achieved, but 0.005 to 2 with respect to the encapsulating epoxy resin composition.
Weight% is preferable, and 0.01 to 0.5 weight% is more preferable. If it is less than 0.005% by weight, the curability in a short time tends to be inferior, and if it exceeds 2% by weight, the curing rate tends to be too fast, and it tends to be difficult to obtain a good molded product.

【0044】本発明において用いられる(D)無機充填
剤は、吸湿性、線膨張係数低減、熱伝導性向上及び強度
向上のために組成物に配合されるものであり、たとえ
ば、溶融シリカ、結晶シリカ、アルミナ、ジルコン、珪
酸カルシウム、炭酸カルシウム、チタン酸カリウム、炭
化珪素、窒化珪素、窒化アルミ、窒化ホウ素、ベリリ
ア、ジルコニア、ジルコン、フォステライト、ステアタ
イト、スピネル、ムライト、チタニア等の粉体、又はこ
れらを球形化したビーズ、ガラス繊維等が挙げられ、こ
れらを単独で用いても2種以上を組み合わせて用いても
よい。なかでも、線膨張係数低減の観点からは溶融シリ
カが、高熱伝導性の観点からはアルミナが好ましく、充
填剤形状は成形時の流動性及び金型摩耗性の点から球形
が好ましい。(D)無機充填剤の配合量は、難燃性、成
形性、吸湿性、線膨張係数低減及び強度向上の観点か
ら、封止用エポキシ樹脂組成物に対して60重量%以上
が好ましく、70〜95重量%がより好ましく、75〜
92重量%がさらに好ましい。60重量%未満では難燃
性及び耐リフロー性が低下する傾向があり、95重量%
を超えると流動性が不足する傾向がある。
The inorganic filler (D) used in the present invention is added to the composition for the purposes of hygroscopicity, reduction of linear expansion coefficient, improvement of thermal conductivity and improvement of strength, and examples thereof include fused silica and crystals. Powders of silica, alumina, zircon, calcium silicate, calcium carbonate, potassium titanate, silicon carbide, silicon nitride, aluminum nitride, boron nitride, beryllia, zirconia, zircon, fosterite, steatite, spinel, mullite, titania, etc., Alternatively, beads, glass fibers, and the like obtained by making them spherical may be used, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. Of these, fused silica is preferred from the viewpoint of reducing the linear expansion coefficient, and alumina is preferred from the viewpoint of high thermal conductivity, and the filler shape is preferably spherical from the viewpoint of fluidity during molding and wear of the mold. From the viewpoint of flame retardancy, moldability, hygroscopicity, reduction of linear expansion coefficient and improvement of strength, the content of the inorganic filler (D) is preferably 60% by weight or more, and 70% by weight or more with respect to the epoxy resin composition for sealing. -95% by weight is more preferable, and 75-
92% by weight is more preferred. If it is less than 60% by weight, the flame retardancy and reflow resistance tend to decrease, and 95% by weight.
If it exceeds, liquidity tends to be insufficient.

【0045】本発明において用いられる(E)複合金属
水酸化物は難燃剤として作用するもので、本発明の効果
が得られれば特に制限はないが、下記組成式(III)で
示される化合物が好ましい。
The (E) composite metal hydroxide used in the present invention acts as a flame retardant and is not particularly limited as long as the effects of the present invention can be obtained, but the compound represented by the following composition formula (III) is preferable.

【化21】 m(M1 ab)・n(M2 cd)・h(H2O) (III) (ここで、M1及びM2は互いに異なる金属元素を示し、
a、b、c、d、m、n及びhは正の数を示す。)
Embedded image m (M 1 a O b ) .n (M 2 c O d ) .h (H 2 O) (III) (wherein M 1 and M 2 represent different metal elements,
a, b, c, d, m, n and h represent positive numbers. )

【0046】上記組成式(III)中のM1及びM2は互い
に異なる金属元素であれば特に制限はないが、難燃性の
観点からは、M1とM2が同一とならないようにM1が第
3周期の金属元素、IIA族のアルカリ土類金属元素、IV
B族、IIB族、VIII族、IB族、IIIA族及びIVA族に
属する金属元素から選ばれ、M2がIIIB〜IIB族の遷移
金属元素から選ばれることが好ましく、M1がマグネシ
ウム、カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、
コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、M2
鉄、コバルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれること
がより好ましい。さらに、流動性の観点からは、M1
マグネシウム、M2が亜鉛又はニッケルであることが好
ましく、M1がマグネシウムでM2が亜鉛であることがよ
り好ましい。M1 ab及びM2 cdのモル比m/nは本発
明の効果が得られれば特に制限はないが、m/nが99
/1〜50/50であることが好ましい。なお、金属元
素とは、半金属元素といわれるものも含めるものとし、
非金属元素を除く全ての元素をさす。金属元素の分類
は、典型元素をA亜族、遷移元素をB亜族とする長周期
型の周期律表(出典:共立出版株式会社発行「化学大辞
典4」1987年2月15日縮刷版第30刷)に基いて
行った。
There is no particular limitation on M 1 and M 2 in the above composition formula (III) as long as they are different metal elements, but from the viewpoint of flame retardancy, M 1 and M 2 should not be the same. 1 is the third period metal element, Group IIA alkaline earth metal element, IV
It is preferable that M 2 is selected from the group B, IIB, VIII, IB, IIIA, and IVA group metal elements, M 2 is selected from the IIIB to IIB group transition metal elements, and M 1 is magnesium or calcium. Aluminum, tin, titanium, iron,
More preferably, it is selected from cobalt, nickel, copper and zinc, and M 2 is selected from iron, cobalt, nickel, copper and zinc. Further, from the viewpoint of fluidity, M 1 is preferably magnesium and M 2 is zinc or nickel, more preferably M 1 is magnesium and M 2 is zinc. The molar ratio m / n of M 1 a O b and M 2 c O d is not particularly limited as long as the effect of the present invention can be obtained, but m / n is 99.
It is preferably / 1 to 50/50. In addition, the metal element shall include what is called a metalloid element,
Refers to all elements except non-metallic elements. The metal elements are classified into a long-period type periodic table with a typical element being the A group and a transition element being the B group (Source: Kyoritsu Shuppan Co., Ltd., “Chemical Dictionary 4”, February 15, 1987, a reduced version) The 30th printing).

【0047】(E)複合金属水酸化物の形状は特に制限
はないが、流動性の観点からは、平板状より、適度の厚
みを有する多面体形状が好ましい。複合金属水酸化物
は、金属水酸化物と比較して多面体状の結晶が得られや
すい。(E)複合金属水酸化物の配合量は特に制限はな
いが、封止用エポキシ樹脂組成物に対して0.5〜20
重量%が好ましく、0.7〜15重量%がより好まし
く、1.4〜12重量%がさらに好ましい。0.5重量
%未満では難燃性が不十分となる傾向があり、20重量
%を超えると流動性及び耐リフロー性が低下する傾向が
ある。
The shape of the (E) composite metal hydroxide is not particularly limited, but from the viewpoint of fluidity, a polyhedral shape having an appropriate thickness is preferable to a flat plate shape. The complex metal hydroxide is more likely to obtain polyhedral crystals than the metal hydroxide. The compounding amount of the (E) composite metal hydroxide is not particularly limited, but is 0.5 to 20 relative to the encapsulating epoxy resin composition.
Weight% is preferable, 0.7-15 weight% is more preferable, 1.4-12 weight% is still more preferable. If it is less than 0.5% by weight, flame retardancy tends to be insufficient, and if it exceeds 20% by weight, fluidity and reflow resistance tend to be lowered.

【0048】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、
上記必須成分の他、以下のような成分を含むことができ
る。(E)複合金属水酸化物に加えて従来公知のノンハ
ロゲン、ノンアンチモンの難燃剤を必要に応じて配合す
ることができる。たとえば、赤リン、リン酸エステル等
のリン含有化合物、メラミン、メラミン誘導体、メラミ
ン変性フェノール樹脂、トリアジン環を有する化合物、
シアヌル酸誘導体、イソシアヌル酸誘導体等の窒素含有
化合物、シクロホスファゼン等のリン及び窒素含有化合
物、酸化亜鉛、錫酸亜鉛、硼酸亜鉛、酸化鉄、酸化モリ
ブデン、モリブデン酸亜鉛、ジシクロペンタジエニル鉄
等の金属元素を含む化合物等が挙げられ、これらの1種
を単独で用いても2種以上を組合わせて用いてもよい。
The epoxy resin composition for encapsulation of the present invention includes
In addition to the above essential components, the following components can be included. In addition to the (E) composite metal hydroxide, a conventionally known non-halogen or non-antimony flame retardant can be blended as necessary. For example, red phosphorus, phosphorus-containing compounds such as phosphates, melamine, melamine derivatives, melamine-modified phenolic resins, compounds having a triazine ring,
Nitrogen-containing compounds such as cyanuric acid derivatives and isocyanuric acid derivatives, phosphorus and nitrogen-containing compounds such as cyclophosphazene, zinc oxide, zinc stannate, zinc borate, iron oxide, molybdenum oxide, zinc molybdate, dicyclopentadienyl iron, etc. Compounds containing the above metal element are listed, and one kind thereof may be used alone or two or more kinds may be used in combination.

【0049】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物には、
IC等の半導体素子の耐湿性及び高温放置特性を向上さ
せる観点から、必要に応じてイオントラップ剤をさらに
配合することができる。イオントラップ剤としては特に
制限はなく、従来公知のものを用いることができるが、
たとえば、ハイドロタルサイト類や、マグネシウム、ア
ルミニウム、チタン、ジルコニウム及びビスマスから選
ばれる元素の含水酸化物等が挙げられ、これらを単独で
用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。なかで
も、下記組成式(XV)で示されるハイドロタルサイトが好
ましい。
The epoxy resin composition for encapsulation of the present invention comprises
From the viewpoint of improving the moisture resistance and the high-temperature storage property of semiconductor elements such as ICs, an ion trap agent can be further added if necessary. The ion trap agent is not particularly limited, and conventionally known ones can be used,
Examples thereof include hydrotalcites and hydrous oxides of elements selected from magnesium, aluminum, titanium, zirconium, and bismuth. These may be used alone or in combination of two or more. Of these, hydrotalcite represented by the following composition formula (XV) is preferable.

【化22】 Mg1-XAlX(OH)2(CO3X/2・mH2O ……(XV) (0<X≦0.5、mは正の数) イオントラップ剤の配合量は、ハロゲンイオン等の陰イ
オンを捕捉できる十分量であれば特に制限はないが、成
形性、耐湿性及び高温放置特性の観点から、(A)エポ
キシ樹脂に対して0.1〜30重量%が好ましく、0.
5〜10重量%がより好ましく、1〜5重量%がさらに
好ましい。
Embedded image Mg 1-X Al X (OH) 2 (CO 3 ) X / 2 · mH 2 O (XV) (0 <X ≦ 0.5, m is a positive number) Compounding of an ion trap agent The amount is not particularly limited as long as it is a sufficient amount to capture anions such as halogen ions, but from the viewpoint of moldability, moisture resistance and high-temperature storage characteristics, it is 0.1 to 30 wt% relative to (A) epoxy resin. % Is preferable, and 0.
5 to 10% by weight is more preferable, and 1 to 5% by weight is further preferable.

【0050】また、本発明の封止用エポキシ樹脂組成物
には、樹脂成分と無機充填剤との接着性を高めるため
に、必要に応じて、エポキシシラン、メルカプトシラ
ン、アミノシラン、アルキルシラン、ウレイドシラン、
ビニルシラン等の各種シラン系化合物、チタン系化合
物、アルミニウムキレート類、アルミニウム/ジルコニ
ウム系化合物等の公知のカップリング剤を添加すること
ができる。カップリング剤の配合量は、(D)成分の無
機充填剤に対して0.05〜5重量%であることが好ま
しく、0.1〜2.5重量%がより好ましい。0.05
重量%未満ではフレームとの接着性が低下する傾向があ
り、5重量%を超えるとパッケージの成形性が低下する
傾向がある。
In addition, in the encapsulating epoxy resin composition of the present invention, epoxy silane, mercapto silane, amino silane, alkyl silane, and ureide are added, if necessary, in order to enhance the adhesiveness between the resin component and the inorganic filler. Silane,
Known coupling agents such as various silane compounds such as vinylsilane, titanium compounds, aluminum chelates, aluminum / zirconium compounds and the like can be added. The amount of the coupling agent blended is preferably 0.05 to 5% by weight, more preferably 0.1 to 2.5% by weight, based on the inorganic filler as the component (D). 0.05
If it is less than 5% by weight, the adhesiveness to the frame tends to decrease, and if it exceeds 5% by weight, the moldability of the package tends to decrease.

【0051】上記カップリング剤を例示すると、ビニル
トリクロロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル
トリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エ
ポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリ
シドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ビニルトリ
アセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキ
シシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ
-アニリノプロピルトリメトキシシラン、γ-アニリノプ
ロピルメチルジメトキシシラン、γ−[ビス(β−ヒド
ロキシエチル)]アミノプロピルトリエトキシシラン、
N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメ
トキシシラン、γ−(β−アミノエチル)アミノプロピ
ルジメトキシメチルシラン、N−(トリメトキシシリル
プロピル)エチレンジアミン、N−(ジメトキシメチル
シリルイソプロピル)エチレンジアミン、メチルトリメ
トキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、N−β−(N−ビニルベンジルアミノ
エチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、ヘキサメチルジ
シラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルメチルジメトキシシラン等のシラン系カップリン
グ剤、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、
イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)
チタネート、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−ア
ミノエチル)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリ
デシルホスファイト)チタネート、テトラ(2,2−ジ
アリルオキシメチル−1−ブチル)ビス(ジトリデシ
ル)ホスファイトチタネート、ビス(ジオクチルパイロ
ホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジ
オクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イ
ソプロピルトリオクタノイルチタネート、イソプロピル
ジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピ
ルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプ
ロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、イソプ
ロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イ
ソプロピルトリクミルフェニルチタネート、テトライソ
プロピルビス(ジオクチルホスファイト)チタネート等
のチタネート系カップリング剤等が挙げられ、これらを
単独で用いても2種以上を組み合わせて用いてもよい。
Examples of the above coupling agent include vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri. Methoxysilane, γ
-Glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ
-Anilinopropyltrimethoxysilane, γ-anilinopropylmethyldimethoxysilane, γ- [bis (β-hydroxyethyl)] aminopropyltriethoxysilane,
N-β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ- (β-aminoethyl) aminopropyldimethoxymethylsilane, N- (trimethoxysilylpropyl) ethylenediamine, N- (dimethoxymethylsilylisopropyl) ethylenediamine , Methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ
-Chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilane, vinyltrimethoxysilane, silane coupling agents such as γ-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, isopropyltriisostearoyl titanate,
Isopropyl tris (dioctyl pyrophosphate)
Titanate, isopropyl tri (N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, tetraoctyl bis (ditridecyl phosphite) titanate, tetra (2,2-diallyloxymethyl-1-butyl) bis (ditridecyl) phosphite titanate, bis ( Dioctyl pyrophosphate) oxyacetate titanate, bis (dioctyl pyrophosphate) ethylene titanate, isopropyl trioctanoyl titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl tridodecylbenzene sulfonyl titanate, isopropyl isostearoyl diacrylic titanate, isopropyl tri (dioctyl phosphate) Titanate, isopropyl tricumyl phenyl titanate, tetraisopropyl bis (dio Chill phosphite) titanate coupling agents such as titanates and the like, may be used in combination of two or more even with these alone.

【0052】さらに、本発明の封止用エポキシ樹脂組成
物には、その他の添加剤として、高級脂肪酸、高級脂肪
酸金属塩、エステル系ワックス、ポリオレフィン系ワッ
クス、ポリエチレン、酸化ポリエチレン等の離型剤、カ
ーボンブラック等の着色剤、シリコーンオイル、シリコ
ーンゴム粉末等の応力緩和剤等を必要に応じて配合する
ことができる。
Further, in the encapsulating epoxy resin composition of the present invention, as other additives, a releasing agent such as higher fatty acid, higher fatty acid metal salt, ester wax, polyolefin wax, polyethylene or oxidized polyethylene, A coloring agent such as carbon black, a stress relieving agent such as silicone oil or silicone rubber powder, and the like can be blended as necessary.

【0053】本発明の封止用エポキシ樹脂組成物は、各
種原材料を均一に分散混合できるのであれば、いかなる
手法を用いても調製できるが、一般的な手法として、所
定の配合量の原材料をミキサー等によって十分混合した
後、ミキシングロール、押出機等によって溶融混練した
後、冷却、粉砕する方法を挙げることができる。成形条
件に合うような寸法及び重量でタブレット化すると使い
やすい。
The encapsulating epoxy resin composition of the present invention can be prepared by any method as long as it can uniformly disperse and mix various raw materials, but as a general method, a predetermined amount of the raw materials is mixed. Examples include a method of sufficiently mixing with a mixer or the like, melting and kneading with a mixing roll, an extruder or the like, and then cooling and pulverizing. It is easy to use if it is made into a tablet with dimensions and weight that match the molding conditions.

【0054】本発明で得られる封止用エポキシ樹脂組成
物により封止した素子を備えた本発明の電子部品装置と
しては、リードフレーム、配線済みのテープキャリア、
配線板、ガラス、シリコンウエハ等の支持部材に、半導
体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイリスタ等の
能動素子、コンデンサ、抵抗体、コイル等の受動素子等
の素子を搭載し、必要な部分を本発明の封止用エポキシ
樹脂組成物で封止した、電子部品装置等が挙げられる。
本発明の封止用エポキシ樹脂組成物を用いて素子を封止
する方法としては、低圧トランスファ成形法が最も一般
的であるが、インジェクション成形法、圧縮成形法等を
用いてもよい。
The electronic component device of the present invention comprising an element sealed with the sealing epoxy resin composition obtained in the present invention includes a lead frame, a pre-wired tape carrier,
Elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, active elements such as thyristors, passive elements such as capacitors, resistors, and coils are mounted on a supporting member such as a wiring board, glass, and a silicon wafer, and necessary parts are mounted according to the present invention. Examples include electronic component devices and the like, which are sealed with a sealing epoxy resin composition.
A low-pressure transfer molding method is the most general method for sealing an element using the epoxy resin composition for sealing of the present invention, but an injection molding method, a compression molding method or the like may be used.

【0055】本発明の電子部品装置としては、具体的に
は、リードフレーム上に半導体素子を固定し、ボンディ
ングパッド等の素子の端子部とリード部をワイヤボンデ
ィングやバンプで接続した後、本発明の封止用エポキシ
樹脂組成物を用いてトランスファ成形等により封止して
なる、DIP(Dual Inline Package)、PLCC(Pla
stic Leaded Chip Carrier)、QFP(Quad Flat Pack
age)、SOP(SmallOutline Package)、SOJ(Sma
ll Outline J-lead package)、TSOP(Thin Small
Outline Package)、TQFP(Thin Quad Flat Packag
e)等の一般的な樹脂封止型IC;テープキャリアにバ
ンプで接続した半導体チップを、本発明の封止用エポキ
シ樹脂組成物で封止したTCP(Tape Carrier Packag
e);配線板やガラス上に形成した配線に、ワイヤボン
ディング、フリップチップボンディング、はんだ等で接
続した半導体チップ、トランジスタ、ダイオード、サイ
リスタ等の能動素子及び/又はコンデンサ、抵抗体、コ
イル等の受動素子を、本発明の封止用エポキシ樹脂組成
物で封止したCOB(Chip On Board)モジュール;ハ
イブリッドIC;マルチチップモジュール;裏面に配線
板接続用の端子を形成した有機基板の表面に素子を搭載
し、バンプまたはワイヤボンディングにより素子と有機
基板に形成された配線を接続した後、本発明の封止用エ
ポキシ樹脂組成物で素子を封止したBGA(Ball Grid
Array);CSP(Chip Size Package)等が挙げられ
る。また、プリント回路板にも本発明の封止用エポキシ
樹脂組成物は有効に使用できる。
In the electronic component device of the present invention, specifically, a semiconductor element is fixed on a lead frame, the terminal portion of the element such as a bonding pad and the lead portion are connected by wire bonding or bump, and then the present invention is applied. DIP (Dual Inline Package), PLCC (Pla) formed by transfer molding or the like using the epoxy resin composition for sealing of
stic Leaded Chip Carrier), QFP (Quad Flat Pack)
age), SOP (SmallOutline Package), SOJ (Sma
ll Outline J-lead package), TSOP (Thin Small)
Outline Package), TQFP (Thin Quad Flat Packag)
General resin-encapsulated ICs such as e); TCP (Tape Carrier Packag) in which a semiconductor chip connected to a tape carrier by bumps is encapsulated with the encapsulating epoxy resin composition of the present invention.
e); Active elements such as semiconductor chips, transistors, diodes, thyristors, etc. that are connected to wiring formed on a wiring board or glass by wire bonding, flip chip bonding, solder, etc. and / or passive elements such as capacitors, resistors, coils, etc. A COB (Chip On Board) module in which an element is encapsulated with the encapsulating epoxy resin composition of the present invention; a hybrid IC; a multi-chip module; an element is formed on the surface of an organic substrate on which terminals for connecting wiring boards are formed on the back surface. A BGA (Ball Grid) in which the device is mounted and the element and the wiring formed on the organic substrate are connected by bumps or wire bonding, and then the element is encapsulated with the encapsulating epoxy resin composition of the present invention.
Array); CSP (Chip Size Package) and the like. Further, the epoxy resin composition for encapsulation of the present invention can be effectively used for printed circuit boards.

【0056】[0056]

【実施例】次に実施例により本発明を説明するが、本発
明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない。 (実施例1〜6、比較例1〜6)エポキシ樹脂としてエ
ポキシ当量192、融点105℃のビフェニル型エポキ
シ樹脂(エポキシ樹脂1:油化シェルエポキシ株式会社
製商品名エピコートYX−4000H)、エポキシ当量
210、軟化点130℃のスチルベン型エポキシ樹脂
(エポキシ樹脂2:住友化学工業株式会社製商品名ES
LV−210)、エポキシ当量195、軟化点65℃の
o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(エポキシ樹
脂3:住友化学工業株式会社製商品名ESCN−19
0)、エポキシ当量244、融点118℃の硫黄原子含
有エポキシ樹脂(エポキシ樹脂4:新日鐵化学株式会社
製商品名YSLV−120TE)を用意した。硬化剤と
して水酸基当量172、軟化点70℃のフェノール・ア
ラルキル樹脂(硬化剤1:三井化学株式会社製商品名ミ
レックスXL−225)、水酸基当量199、軟化点8
0℃のビフェニル型フェノール樹脂(硬化剤2:明和化
成株式会社製商品名MEH−7851)を用意した。
The present invention will now be described with reference to examples, but the scope of the present invention is not limited to these examples. (Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6) Epoxy equivalent 192 as an epoxy resin, biphenyl type epoxy resin having a melting point of 105 ° C. (epoxy resin 1: Yuka Shell Epoxy Co., Ltd. trade name Epicoat YX-4000H), epoxy equivalent 210, a stilbene type epoxy resin having a softening point of 130 ° C. (epoxy resin 2: ES manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.
LV-210), an epoxy equivalent of 195, and an o-cresol novolac type epoxy resin having a softening point of 65 ° C. (epoxy resin 3: manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., trade name ESCN-19).
0), an epoxy equivalent of 244, and a sulfur atom-containing epoxy resin having a melting point of 118 ° C. (epoxy resin 4: trade name YSLV-120TE manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) were prepared. Phenol aralkyl resin having a hydroxyl equivalent of 172 and a softening point of 70 ° C. as a curing agent (curing agent 1: Mitsui Chemicals, Inc., trade name Milex XL-225), hydroxyl equivalent of 199, and a softening point of 8
A biphenyl type phenolic resin (curing agent 2: MEH-7851, manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.) at 0 ° C. was prepared.

【0057】硬化促進剤としてトリ−p−トリルホスフ
ィンと1,4−ベンゾキノンとの付加物(硬化促進剤
1)、トリ−p−トリルホスフィンと1,4−ベンゾキ
ノンとの混合物(硬化促進剤2、トリ−p−トリルホス
フィン/1,4−ベンゾキノンのモル比1/1.2)、
トリフェニルホスフィンと1,4−ベンゾキノンとの付
加物(硬化促進剤3)、トリフェニルホスフィン(硬化
促進剤4)、トリブチルホスフィンと1,4−ベンゾキ
ノンとの付加物(硬化促進剤5)を用意した。
As a curing accelerator, an adduct of tri-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone (curing accelerator 1), a mixture of tri-p-tolylphosphine and 1,4-benzoquinone (curing accelerator 2) , Tri-p-tolylphosphine / 1,4-benzoquinone molar ratio 1 / 1.2),
Prepare an adduct of triphenylphosphine and 1,4-benzoquinone (curing accelerator 3), triphenylphosphine (curing accelerator 4), an adduct of tributylphosphine and 1,4-benzoquinone (curing accelerator 5) did.

【0058】無機充填剤として平均粒子径17.5μ
m、比表面積3.8m2/gの球状溶融シリカを用意し
た。複合金属水酸化物として上記組成式(III)中のM1
がマグネシウム、M2が亜鉛で、mが7、nが3、hが
10で、a、b、c及びdがいずれも1である水酸化マ
グネシウム・亜鉛固溶体(タテホ化学工業株式会社製商
品名エコーマグZ10)を用意した。その他の難燃剤と
して赤リン(燐化学工業株式会社製商品名ノーバエクセ
ル140)、三酸化アンチモン及びエポキシ当量37
5、軟化点80℃、臭素含量48重量%のビスフェノー
ルA型ブロム化エポキシ樹脂(住友化学工業株式会社製
商品名ESB−400T)、その他の添加剤としてエポ
キシシランカップリング剤(信越化学工業株式会社製商
品名KBM403)、カルナバワックス(クラリアント
社製)及びカーボンブラック(三菱化学株式会社製商品
名MA−100)を用意した。これらをそれぞれ表1に
示す重量部で配合し、混練温度80℃、混練時間10分
の条件でロール混練を行い、実施例1〜6及び比較例1
〜6の封止用エポキシ樹脂組成物を作製した。
As an inorganic filler, the average particle size is 17.5 μm.
m spherical silica having a specific surface area of 3.8 m 2 / g was prepared. M 1 in the above composition formula (III) as a composite metal hydroxide
Is magnesium, M 2 is zinc, m is 7, n is 3, h is 10, and all of a, b, c and d are 1 magnesium hydroxide / zinc solid solution (trade name of Tateho Chemical Industry Co., Ltd.) Echo mug Z10) was prepared. Other flame retardants include red phosphorus (Nova Excel 140 manufactured by Rin Chemical Industry Co., Ltd.), antimony trioxide and epoxy equivalent 37
5, bisphenol A type brominated epoxy resin having a softening point of 80 ° C and a bromine content of 48% by weight (trade name ESB-400T manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.), and an epoxy silane coupling agent (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as other additives. Product name KBM403), carnauba wax (manufactured by Clariant Co., Ltd.) and carbon black (Mitsubishi Chemical Co., Ltd. product name MA-100) were prepared. These were blended in the respective parts by weight shown in Table 1, and roll kneading was carried out under the conditions of a kneading temperature of 80 ° C. and a kneading time of 10 minutes.
The epoxy resin compositions for sealing of Nos. 6 to 6 were produced.

【0059】[0059]

【表1】 [Table 1]

【0060】作製した各実施例及び比較例の封止用エポ
キシ樹脂組成物を、次の各試験により評価した。結果を
表2に示す。なお、封止用エポキシ樹脂組成物の成形
は、トランスファ成形機により、金型温度180℃、成
形圧力6.9MPa、硬化時間90秒の条件で行った。
また、後硬化は180℃で5時間行った。 (1)難燃性 厚さ1/16インチの試験片を成形する金型を用いて、
封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で成形して後硬化
を行い、UL−94試験法に従って難燃性を評価した。 (2)スパイラルフロー EMMI−1−66に準じたスパイラルフロー測定用金
型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で成
形し、流動距離を求めた。 (3)熱時硬度 封止用エポキシ樹脂組成物を上記条件で直径50mm×
厚さ3mmの円板に成形し、成形後直ちに金型内の成形
品をショアD型硬度計を用いて測定した。 (4)せん断離型性 縦50mm×横35mm×厚さ0.4mmのクロムめっ
きステンレス板を挿入し、この上に直径20mmの円板
を成形する金型を用いて、封止用エポキシ樹脂組成物を
上記条件で成形し、成形後直ちに該ステンレス板を引き
抜いて最大引き抜き力を記録した。これを同一のステン
レス板に対して連続で10回繰り返し、2回目から10
回目までの引き抜き力の平均値を求めて評価した。 (5)耐リフロー性 8mm×10mm×0.4mmのシリコーンチップを搭
載した外形寸法20mm×14mm×2mmの80ピン
フラットパッケージ(QFP)を、封止用エポキシ樹脂
組成物を用いて上記条件で成形、後硬化して作製し、8
5℃、85%RHの条件で加湿して所定時間毎に240
℃、10秒の条件でリフロー処理を行い、クラックの有
無を観察し、試験パッケージ数(5)に対するクラック
発生パッケージ数で評価した。 (6)耐湿性 5μm厚の酸化膜上に線幅10μm、厚さ1μmのアル
ミ配線を施した6mm×6mm×0.4mmのテスト用
シリコーンチップを搭載した外形寸法20mm×14m
m×2.7mmの80ピンフラットパッケージ(QF
P)を、封止用エポキシ樹脂組成物を用いて上記条件で
成形、後硬化して作製し、前処理を行った後、加湿して
所定時間毎にアルミ配線腐食による断線不良を調べ、試
験パッケージ数(10)に対する不良パッケージ数で評
価した。なお、前処理は85℃、85%RH、72時間
の条件でフラットパッケージを加湿後、215℃、90
秒間のベーパーフェーズリフロー処理を行った。その後
の加湿は0.2MPa、121℃の条件で行った。 (7)高温放置特性 5μm厚の酸化膜上に線幅10μm、厚さ1μmのアル
ミ配線を施した5mm×9mm×0.4mmのテスト用
シリコーンチップを、部分銀メッキを施した42アロイ
のリードフレーム上に銀ペーストを用いて搭載し、サー
モニック型ワイヤボンダにより、200℃でチップのボ
ンディングパッドとインナリードをAu線にて接続した
16ピン型DIP(Dual Inline Package)を、封止用
エポキシ樹脂組成物を用いて上記条件で成形、後硬化し
て作製して、200℃の高温槽中に保管し、所定時間毎
に取り出して導通試験を行い、試験パッケージ数(1
0)に対する導通不良パッケージ数で、高温放置特性を
評価した。
The produced epoxy resin compositions for encapsulation of Examples and Comparative Examples were evaluated by the following tests. The results are shown in Table 2. The epoxy resin composition for encapsulation was molded by a transfer molding machine under the conditions of a mold temperature of 180 ° C., a molding pressure of 6.9 MPa, and a curing time of 90 seconds.
Further, post-curing was performed at 180 ° C. for 5 hours. (1) Flame-retardant Using a mold for molding a test piece having a thickness of 1/16 inch,
The epoxy resin composition for encapsulation was molded under the above conditions, post-cured, and flame retardancy was evaluated according to the UL-94 test method. (2) Spiral flow Using a mold for spiral flow measurement according to EMMI-1-66, the epoxy resin composition for encapsulation was molded under the above conditions, and the flow distance was determined. (3) 50 mm diameter of the epoxy resin composition for hot hardness encapsulation under the above conditions
It was molded into a disk having a thickness of 3 mm, and immediately after molding, the molded product in the mold was measured with a Shore D hardness meter. (4) Shear releasability A 50 mm long × 35 mm wide × 0.4 mm thick chrome-plated stainless steel plate is inserted, and a mold for molding a disc with a diameter of 20 mm is used on the epoxy resin composition for sealing. The product was molded under the above conditions, and immediately after the molding, the stainless steel plate was pulled out and the maximum drawing force was recorded. This is repeated 10 times for the same stainless steel plate from the second time to 10 times.
The average value of the pulling forces up to the second time was obtained and evaluated. (5) Molding an 80-pin flat package (QFP) having an external dimension of 20 mm × 14 mm × 2 mm on which a silicone chip having a reflow resistance of 8 mm × 10 mm × 0.4 mm is mounted, using an epoxy resin composition for encapsulation under the above conditions. , Post-cured and made, 8
Humidify under conditions of 5 ° C and 85% RH for 240
Reflow treatment was performed under conditions of 10 ° C. for 10 seconds, the presence or absence of cracks was observed, and the number of cracked packages was evaluated with respect to the number of test packages (5). (6) Moisture resistance External dimensions of 20 mm x 14 m mounted with a 6 mm x 6 mm x 0.4 mm test silicone chip in which aluminum wiring with a line width of 10 μm and a thickness of 1 μm is formed on an oxide film with a thickness of 5 μm
mx 2.7 mm 80-pin flat package (QF
P) is molded and post-cured using the epoxy resin composition for encapsulation under the above conditions, pre-treated, humidified, and examined for disconnection defects due to aluminum wiring corrosion every predetermined time, and tested. The number of defective packages to the number of packages (10) was evaluated. The pretreatment was performed at 85 ° C., 85% RH for 72 hours after humidifying the flat package, then at 215 ° C. for 90 minutes.
A vapor phase reflow process for 2 seconds was performed. The subsequent humidification was performed under the conditions of 0.2 MPa and 121 ° C. (7) High temperature storage characteristics 42 mm alloy lead with a partial silver plating of a 5 mm x 9 mm x 0.4 mm test silicone chip in which an aluminum wiring having a line width of 10 μm and a thickness of 1 μm is formed on an oxide film having a thickness of 5 μm. A 16-pin DIP (Dual Inline Package) in which a chip bonding pad and inner lead are connected by Au wire at 200 ° C is mounted on a frame by using a silver paste on a frame with epoxy resin for sealing. The composition was molded under the above conditions and post-cured to be prepared, stored in a high temperature bath at 200 ° C., taken out at predetermined intervals and subjected to a continuity test, and the number of test packages (1
The high temperature storage characteristics were evaluated by the number of poorly conductive packages with respect to 0).

【0061】[0061]

【表2】 [Table 2]

【0062】ホスフィン化合物を含むがキノン化合物を
含まない比較例1、5及び6では、流動性及び耐リフロ
ー性に劣る。本発明における(E)複合金属水酸化物を
含まない比較例2〜4では、難燃性、耐湿性及び高温放
置特性のいずれかが劣り、本発明の目的を満足しない。
特に、ブロム化エポキシ樹脂及びアンチモン化合物を用
いた比較例4は高温放置特性に著しく劣る。これに対し
て、本発明のホスフィン化合物とキノン化合物との付加
物、またはホスフィン化合物とキノン化合物の両者を含
み、さらに(A)〜(E)成分を全て含む実施例1〜6
では、耐リフロー性、耐湿性及び高温放置特性のいずれ
も低下せずに良好であり、かつ、UL-94試験でV−
0を達成し良好な難燃性を示す。特に一般式(I)のR
がアルキル基であるホスフィン化合物を用いた実施例
1、2、及び一般式(II)で示されるホスフィン化合物
とキノン化合物との付加物を用いた実施例4では、せん
断離形性も良好である。
Comparative Examples 1, 5 and 6 containing the phosphine compound but not the quinone compound are inferior in fluidity and reflow resistance. Comparative Examples 2 to 4 containing no (E) composite metal hydroxide in the present invention are inferior in any of flame retardancy, moisture resistance and high temperature storage property, and do not satisfy the object of the present invention.
In particular, Comparative Example 4 using a brominated epoxy resin and an antimony compound is extremely inferior in high temperature storage property. On the other hand, Examples 1 to 6 containing both the adduct of the phosphine compound and the quinone compound of the present invention, or both the phosphine compound and the quinone compound, and further containing all the components (A) to (E).
Shows that the reflow resistance, moisture resistance and high temperature storage characteristics are not deteriorated, and the UL-94 test shows V-
A value of 0 is achieved, indicating good flame retardancy. In particular, R of the general formula (I)
In Examples 1 and 2 using a phosphine compound in which is an alkyl group and Example 4 using an adduct of the phosphine compound represented by the general formula (II) and a quinone compound, shear releasability is also good. .

【0063】[0063]

【発明の効果】本発明による封止用エポキシ樹脂組成物
は実施例で示したようにノンハロゲンかつノンアンチモ
ンで難燃化を達成でき、これを用いてIC、LSI等の
電子部品を封止すれば成形性が良好であり、耐リフロー
性、耐湿性及び高温放置特性等の信頼性が良好な製品を
得ることができ、その工業的価値は大である。
Industrial Applicability The encapsulating epoxy resin composition according to the present invention can achieve flame retardancy with non-halogen and non-antimony as shown in Examples, and can be used for encapsulating electronic parts such as IC and LSI. For example, it is possible to obtain a product having good moldability and good reliability such as reflow resistance, moisture resistance and high-temperature storage property, and its industrial value is great.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 池澤 良一 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 秋元 孝幸 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 (72)発明者 片寄 光雄 茨城県つくば市和台48 日立化成工業株式 会社総合研究所内 Fターム(参考) 4J002 CC042 CC062 CC272 CD021 CD031 CD051 CD061 CD111 DE069 DE079 DE098 DE099 DE109 DE119 DE138 DE139 DE148 DF018 DJ008 DJ018 DK008 EE057 EW016 FD018 FD139 FD142 FD156 FD157 GQ01 GQ05 4J036 AA01 AB07 AD07 AD08 AF01 AF05 AF06 AF07 AF08 AF09 AJ08 DA01 DA05 DB28 DD07 FA01 FA02 FA03 FA04 FA05 FA06 FB07 FB08 JA07 KA01 4M109 AA01 CA21 EB04 EB07 EC20   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Ryoichi Ikezawa             48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd.             Company Research Institute (72) Inventor Takayuki Akimoto             48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd.             Company Research Institute (72) Inventor Mitsuo Katayose             48 Wadai, Tsukuba, Ibaraki Prefecture Hitachi Chemical Co., Ltd.             Company Research Institute F-term (reference) 4J002 CC042 CC062 CC272 CD021                       CD031 CD051 CD061 CD111                       DE069 DE079 DE098 DE099                       DE109 DE119 DE138 DE139                       DE148 DF018 DJ008 DJ018                       DK008 EE057 EW016 FD018                       FD139 FD142 FD156 FD157                       GQ01 GQ05                 4J036 AA01 AB07 AD07 AD08 AF01                       AF05 AF06 AF07 AF08 AF09                       AJ08 DA01 DA05 DB28 DD07                       FA01 FA02 FA03 FA04 FA05                       FA06 FB07 FB08 JA07 KA01                 4M109 AA01 CA21 EB04 EB07 EC20

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤および(E)複合
金属水酸化物を必須成分とし、(C)硬化促進剤が下記
一般式(I)で示されるホスフィン化合物とキノン化合
物との付加物を含むことを特徴とする封止用エポキシ樹
脂組成物。 【化1】 (一般式(I)中のRは、水素原子、置換又は非置換の
炭素数1〜12の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素
数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも
異なっていてもよい。)
1. An epoxy resin (A), a curing agent (B),
(C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler, and (E) a composite metal hydroxide as essential components, and (C) a curing accelerator comprises a phosphine compound represented by the following general formula (I) and a quinone compound. An epoxy resin composition for encapsulation, which comprises an additive. [Chemical 1] (R in the general formula (I) is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, all of which are the same. It may be different.)
【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤および(E)複合
金属水酸化物を必須成分とし、(C)硬化促進剤が一般
式(I)で示されるホスフィン化合物を含み、さらにキ
ノン化合物を含むことを特徴とする封止用エポキシ樹脂
組成物。 【化2】 (一般式(I)中のRは、水素原子、置換又は非置換の
炭素数1〜12の炭化水素基及び置換又は非置換の炭素
数1〜12のアルコキシ基から選ばれ、全てが同一でも
異なっていてもよい。)
2. An epoxy resin (A), a curing agent (B),
(C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler and (E) a composite metal hydroxide as essential components, the (C) curing accelerator contains a phosphine compound represented by the general formula (I), and further a quinone compound. An epoxy resin composition for encapsulation, comprising: [Chemical 2] (R in the general formula (I) is selected from a hydrogen atom, a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms and a substituted or unsubstituted alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, all of which are the same. It may be different.)
【請求項3】 (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、
(C)硬化促進剤、(D)無機充填剤および(E)複合
金属水酸化物を必須成分とし、(C)硬化促進剤が、リ
ン原子に少なくとも一つのアルキル基が結合したホスフ
ィン化合物とキノン化合物との付加物を含むか、又は
(C)硬化促進剤としてリン原子に少なくとも一つのア
ルキル基が結合したホスフィン化合物を含み、さらにキ
ノン化合物を含むことを特徴とする封止用エポキシ樹脂
組成物。
3. An epoxy resin (A), a curing agent (B),
(C) a curing accelerator, (D) an inorganic filler, and (E) a composite metal hydroxide as essential components, and the (C) curing accelerator is a phosphine compound in which at least one alkyl group is bonded to a phosphorus atom, and a quinone. An epoxy resin composition for encapsulation, which contains an adduct with a compound or (C) contains a phosphine compound having at least one alkyl group bonded to a phosphorus atom as a curing accelerator, and further contains a quinone compound. .
【請求項4】 リン原子に少なくとも一つのアルキル基
が結合したホスフィン化合物が一般式(II)で示される
ホスフィン化合物とキノン化合物との付加物である請求
項3に記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 【化3】 (一般式(II)中のR1は置換又は非置換の炭素数1〜
12のアルキル基を示し、R2及びR3は、水素原子又は
置換又は非置換の炭素数1〜12の炭化水素基を示し、
それぞれ全てが同一でも異なっていてもよい。)
4. The encapsulating epoxy resin composition according to claim 3, wherein the phosphine compound in which at least one alkyl group is bonded to a phosphorus atom is an adduct of the phosphine compound represented by the general formula (II) and a quinone compound. object. [Chemical 3] (R 1 in the general formula (II) is a substituted or unsubstituted C 1 to C 1
12 represents an alkyl group, R 2 and R 3 represent a hydrogen atom or a substituted or unsubstituted hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms,
All may be the same or different. )
【請求項5】 (E)複合金属水酸化物が下記組成式
(III)で示される化合物である請求項1〜4のいずれ
かに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。 【化4】 m(M1 ab)・n(M2 cd)・h(H2O) (III) (ここで、M1及びM2は互いに異なる金属元素を示し、
a、b、c、d、m、n及びhは正の数を示す。)
5. The epoxy resin composition for encapsulation according to claim 1, wherein (E) the composite metal hydroxide is a compound represented by the following composition formula (III). Embedded image m (M 1 a O b ) · n (M 2 c O d ) · h (H 2 O) (III) (wherein M 1 and M 2 represent different metal elements,
a, b, c, d, m, n and h represent positive numbers. )
【請求項6】 組成式(III)中のM1が第3周期の金属
元素、IIA族のアルカリ土類金属元素、IVB族、IIB
族、VIII族、IB族、IIIA族及びIVA族に属する金属
元素から選ばれ、M2がIIIB〜IIB族の遷移金属元素か
ら選ばれる請求項5記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
6. M 1 in the composition formula (III) is a metal element of the third period, an alkaline earth metal element of IIA group, IVB group, IIB.
The encapsulating epoxy resin composition according to claim 5, wherein M 2 is selected from the group III, VIII, IB, IIIA, and IVA group metal elements, and M 2 is selected from the IIIB to IIB group transition metal elements.
【請求項7】 組成式(III)中のM1がマグネシウム、
カルシウム、アルミニウム、スズ、チタン、鉄、コバル
ト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれ、M2が鉄、コバ
ルト、ニッケル、銅及び亜鉛から選ばれる請求項6記載
の封止用エポキシ樹脂組成物。
7. M 1 in the composition formula (III) is magnesium,
The epoxy resin composition for encapsulation according to claim 6, which is selected from calcium, aluminum, tin, titanium, iron, cobalt, nickel, copper and zinc, and M 2 is selected from iron, cobalt, nickel, copper and zinc.
【請求項8】 組成式(III)中のM1がマグネシウム
で、M2が亜鉛又はニッケルである請求項7記載の封止
用エポキシ樹脂組成物。
8. The encapsulating epoxy resin composition according to claim 7, wherein M 1 in the composition formula (III) is magnesium and M 2 is zinc or nickel.
【請求項9】 組成式(III)中のM1 ab及びM2 cd
のモル比m/nが99/1〜50/50である請求項4
〜8のいずれかに記載の封止用エポキシ樹脂組成物。
9. M 1 a O b and M 2 c O d in the composition formula (III).
The molar ratio m / n of is 99/1 to 50/50.
The epoxy resin composition for encapsulation according to any one of to 8.
【請求項10】 (A)エポキシ樹脂がビフェニル型エ
ポキシ樹脂、スチルベン型エポキシ樹脂、硫黄原子含有
エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペ
ンタジエン型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂
及びトリフェニルメタン型エポキシ樹脂の少なくとも1
種を含有する請求項1〜9のいずれかに記載の封止用エ
ポキシ樹脂組成物。
10. The (A) epoxy resin is a biphenyl type epoxy resin, a stilbene type epoxy resin, a sulfur atom-containing epoxy resin, a novolac type epoxy resin, a dicyclopentadiene type epoxy resin, a naphthalene type epoxy resin and a triphenylmethane type epoxy resin. At least one of
The epoxy resin composition for encapsulation according to claim 1, which contains a seed.
【請求項11】 (B)硬化剤がビフェニル型フェノー
ル樹脂、アラルキル型フェノール樹脂、ジシクロペンタ
ジエン型フェノール樹脂、トリフェニルメタン型フェノ
ール樹脂及びノボラック型フェノール樹脂の少なくとも
1種を含有する請求項1〜10のいずれかに記載の封止
用エポキシ樹脂組成物。
11. The (B) curing agent contains at least one of a biphenyl type phenol resin, an aralkyl type phenol resin, a dicyclopentadiene type phenol resin, a triphenylmethane type phenol resin and a novolac type phenol resin. 10. The epoxy resin composition for encapsulation according to any one of 10.
【請求項12】 請求項1〜11のいずれかに記載の封
止用エポキシ樹脂組成物で封止された素子を備えた電子
部品装置。
12. An electronic component device comprising an element encapsulated with the epoxy resin composition for encapsulation according to claim 1.
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