JP2003167355A - マスクのたわみ補正方法およびたわみ補正機構を備えた露光装置 - Google Patents
マスクのたわみ補正方法およびたわみ補正機構を備えた露光装置Info
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンタクト露光装置またはプロキシミティ露
光装置において、大型のマスクの歪みや自重などによる
撓みを防ぎ、マスクに対するワークの平行出しを正確に
行えるようにすること。 【解決手段】 マスクＭをマスクステージ１の下面に真
空吸着により固定保持する。そして、ワークＷ（もしく
はワークの代替品）を上昇させて、マスクＭとワークＷ
を全面に渡って密着させて平行出しを行う。このとき、
マスクステージ１によるマスクＭの真空吸着をいったん
解除し、平行出し作業が終わってから、マスクＭの吸着
を再開する。このように、ワークＷからマスクＭに対し
て下側から力がかかっているとき、マスクＭの吸着を解
除すると、ワークＷからマスクＭにかかる力によりマス
クの歪みや撓みが修正される。このため、マスクＭとワ
ークＷとの間隔が一定になり、露光精度のばらつきを少
なくすることができる。
光装置において、大型のマスクの歪みや自重などによる
撓みを防ぎ、マスクに対するワークの平行出しを正確に
行えるようにすること。 【解決手段】 マスクＭをマスクステージ１の下面に真
空吸着により固定保持する。そして、ワークＷ（もしく
はワークの代替品）を上昇させて、マスクＭとワークＷ
を全面に渡って密着させて平行出しを行う。このとき、
マスクステージ１によるマスクＭの真空吸着をいったん
解除し、平行出し作業が終わってから、マスクＭの吸着
を再開する。このように、ワークＷからマスクＭに対し
て下側から力がかかっているとき、マスクＭの吸着を解
除すると、ワークＷからマスクＭにかかる力によりマス
クの歪みや撓みが修正される。このため、マスクＭとワ
ークＷとの間隔が一定になり、露光精度のばらつきを少
なくすることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワーク上に、マス
クに形成された配線等のパターン（マスクパターン) を
形成するための露光装置に関し、特に、マスクとワーク
とを接触させて露光を行うコンタクト露光装置、また
は、マスクとワークを微小な間隙で離して露光を行うプ
ロキシミティ露光装置に関するものである。
クに形成された配線等のパターン（マスクパターン) を
形成するための露光装置に関し、特に、マスクとワーク
とを接触させて露光を行うコンタクト露光装置、また
は、マスクとワークを微小な間隙で離して露光を行うプ
ロキシミティ露光装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図４はコンタクト露光装置／プロキシミ
ティ露光装置のマスクステージへのマスクの取り付けを
説明する図、図５はコンタク露光装置／プロキシミティ
露光装置における露光手順を示す図である。図４（ａ）
（ｂ）に示すように、マスクステージ１は、軸１０を中
心として１８０°回転可能に取り付けられており、ワー
クステージ２上を開閉するように移動させることができ
る。また、図５に示すようにワークステージ２はＸＹθ
ステージ３、Ｚステージ４上に間隙調整機構５を介して
取り付けられており、ワークステージ駆動機構１１によ
りＸＹθステージ３を駆動することにより、ワークステ
ージ２は紙面左右方向（Ｘ方向）、紙面前後方向（Ｙ方
向）およびθ方向（ＸＹ平面に垂直な軸を中心とした回
転）に移動する。また、Ｚステージ４を駆動することに
より、紙面上下方向に移動する。間隙設定機構（平行設
定機構) ５は、例えば特許第２８８９１２６号公報に記
載される構成のものであり、ワークステージ２を上方に
移動させたとき、マスクＭとワークＷが接触してマスク
ＭとワークＷが相対的に移動できなくなる時点から、ワ
ークステージ２の駆動力を吸収して変位し始め、ワーク
ステージ２の移動を停止させたのち、保持信号が入力さ
れると、そのときの変位状態を保持する。マスクステー
ジ１の上方には、ランプ６ａとミラー６ｂを備えた光照
射部６が設けられており、露光時には、光照射部６から
露光光をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭ
上に記されたマスクパターンを露光する。
ティ露光装置のマスクステージへのマスクの取り付けを
説明する図、図５はコンタク露光装置／プロキシミティ
露光装置における露光手順を示す図である。図４（ａ）
（ｂ）に示すように、マスクステージ１は、軸１０を中
心として１８０°回転可能に取り付けられており、ワー
クステージ２上を開閉するように移動させることができ
る。また、図５に示すようにワークステージ２はＸＹθ
ステージ３、Ｚステージ４上に間隙調整機構５を介して
取り付けられており、ワークステージ駆動機構１１によ
りＸＹθステージ３を駆動することにより、ワークステ
ージ２は紙面左右方向（Ｘ方向）、紙面前後方向（Ｙ方
向）およびθ方向（ＸＹ平面に垂直な軸を中心とした回
転）に移動する。また、Ｚステージ４を駆動することに
より、紙面上下方向に移動する。間隙設定機構（平行設
定機構) ５は、例えば特許第２８８９１２６号公報に記
載される構成のものであり、ワークステージ２を上方に
移動させたとき、マスクＭとワークＷが接触してマスク
ＭとワークＷが相対的に移動できなくなる時点から、ワ
ークステージ２の駆動力を吸収して変位し始め、ワーク
ステージ２の移動を停止させたのち、保持信号が入力さ
れると、そのときの変位状態を保持する。マスクステー
ジ１の上方には、ランプ６ａとミラー６ｂを備えた光照
射部６が設けられており、露光時には、光照射部６から
露光光をマスクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭ
上に記されたマスクパターンを露光する。
【０００３】以下、図４、図５により、従来のコンタク
ト、またはプロキシミティ露光装置の露光手順を説明す
る。 (1) 図４（ａ）に示すように、マスクステージ１を開
き、マスクＭを取り付ける。マスクステージ１は中央部
にマスクＭの大きさに応じた開口があり、露光時、図示
しない光照射部からの光が該開口を介してマスクＭに照
射される。マスクステージ１は、上記開口の周辺に真空
吸着溝１ａが設けられており、該溝１ａに真空を供給
し、マスクＭの周辺部を吸着する。これによりマスクＭ
はマスクステージ１に固定保持される。その後、図４
（ｂ）に示すようにマスクステージ１を回転して閉じ
る。 (2) 図５（ａ）に示すように、ワークステージ２上にワ
ークＷを載置する。ワークステージ２に設けられた図示
しない真空吸着溝に真空を供給し、ワークＷをワークス
テージ２に固定保持する。 (3) ワークステージ駆動機構１１によりＺステージ４を
駆動し、図５（ｂ）に示すように、ワークステージ２を
マスクＭ方向に上昇させる。ワークＷの上面がマスクＭ
の下面に当接する。ワークステージ２をさらに上昇さ
せ、図５（ｃ）に示すようにワークＷの表面全面をマス
クＭの下面全面に押し付ける。間隙設定機構（平行設定
機構) ５により、ワークステージ２は、マスクＭの下面
の傾きとワーク表面の傾きとが一致した状態で固定され
る。これを、「マスクに対するワークの平行出し（以下
「平行出し」と呼ぶこともある) という。なお、間隙設
定機構５による平行出しについては、例えば前記した特
許第２８８９１２６号公報に記載されている。
ト、またはプロキシミティ露光装置の露光手順を説明す
る。 (1) 図４（ａ）に示すように、マスクステージ１を開
き、マスクＭを取り付ける。マスクステージ１は中央部
にマスクＭの大きさに応じた開口があり、露光時、図示
しない光照射部からの光が該開口を介してマスクＭに照
射される。マスクステージ１は、上記開口の周辺に真空
吸着溝１ａが設けられており、該溝１ａに真空を供給
し、マスクＭの周辺部を吸着する。これによりマスクＭ
はマスクステージ１に固定保持される。その後、図４
（ｂ）に示すようにマスクステージ１を回転して閉じ
る。 (2) 図５（ａ）に示すように、ワークステージ２上にワ
ークＷを載置する。ワークステージ２に設けられた図示
しない真空吸着溝に真空を供給し、ワークＷをワークス
テージ２に固定保持する。 (3) ワークステージ駆動機構１１によりＺステージ４を
駆動し、図５（ｂ）に示すように、ワークステージ２を
マスクＭ方向に上昇させる。ワークＷの上面がマスクＭ
の下面に当接する。ワークステージ２をさらに上昇さ
せ、図５（ｃ）に示すようにワークＷの表面全面をマス
クＭの下面全面に押し付ける。間隙設定機構（平行設定
機構) ５により、ワークステージ２は、マスクＭの下面
の傾きとワーク表面の傾きとが一致した状態で固定され
る。これを、「マスクに対するワークの平行出し（以下
「平行出し」と呼ぶこともある) という。なお、間隙設
定機構５による平行出しについては、例えば前記した特
許第２８８９１２６号公報に記載されている。
【０００４】(4) 平行出し終了後、図５（ｄ）に示すよ
うにワークステージ駆動機構１１によりＺステージ４を
駆動して、ワークステージ２をアライメントギャッブに
まで下降させる。ついで、マスクＭのアライメントマー
クとワークＷのアライメントマークを、図示しないアラ
イメント顕微鏡により検出し、ＸＹθステージにより、
ワークステージ２をＸＹθ方向に移動させ、マスクＭと
ワークＷの位置合せを行う。 (5) コンタクト露光の場合、再びワークステージ２を上
昇し、マスクＭとワークＷを密着させ、光照射部６から
マスクＭを介してワークＷに露光光を照射し、ワークＷ
にマスクパターンの露光する。 (6) プロキシミティ露光の場合、マスクＭとワークＷが
あらかじめ設定された露光ギャップになるように、ワー
クステージ２を露光位置までＺ方向に移動させる。上記
(3) でワークＷとマスクＭの平行出しが行われているの
で、マスクＭとワークＷとの間隔はワークＷ全面におい
て等しくなっている。 (7) この状態で光照射部６からマスクＭを介してワーク
Ｗに露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンの露光
する。
うにワークステージ駆動機構１１によりＺステージ４を
駆動して、ワークステージ２をアライメントギャッブに
まで下降させる。ついで、マスクＭのアライメントマー
クとワークＷのアライメントマークを、図示しないアラ
イメント顕微鏡により検出し、ＸＹθステージにより、
ワークステージ２をＸＹθ方向に移動させ、マスクＭと
ワークＷの位置合せを行う。 (5) コンタクト露光の場合、再びワークステージ２を上
昇し、マスクＭとワークＷを密着させ、光照射部６から
マスクＭを介してワークＷに露光光を照射し、ワークＷ
にマスクパターンの露光する。 (6) プロキシミティ露光の場合、マスクＭとワークＷが
あらかじめ設定された露光ギャップになるように、ワー
クステージ２を露光位置までＺ方向に移動させる。上記
(3) でワークＷとマスクＭの平行出しが行われているの
で、マスクＭとワークＷとの間隔はワークＷ全面におい
て等しくなっている。 (7) この状態で光照射部６からマスクＭを介してワーク
Ｗに露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンの露光
する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】最近、ワークＷである
基板の大型化、また、一括して露光する露光面積の大型
化により、マスクＭが大型化（例えば２５０ｍｍ×２５
０ｍｍ）している。通常、マスクＭをマスクステージ１
に固定する場合、前記したようにマスクＭの周囲を真空
吸着により固定する。マスクＭは、その周辺部を吸着さ
れることにより、マスクステージ１に保持される。マス
クＭは、大型化すると自重で撓みが生じやすくなり、例
えば図６に示すように、マスクが撓んだ状態で吸着保持
されることがある。また、マスクＭの材質が青板ガラス
やホウケイ酸ガラスである場合、マスク自体が歪んでい
る場合がある。このような状態でマスクＭが保持される
と、次のような問題がある。 (1) 図７（ａ）に示すように、ワークＷとマスクＭの平
行出しを行う際、ワークＷはマスクＭの自重や歪により
撓んでいる部分にのみ接し、ワークステージ２がさらに
上昇しても、マスクとワークは全面では接しない。この
ような状態で装置は平行出しを完了してしまうことがあ
る。 (2) コンタクト露光の場合、このような状態で露光を行
うと、マスクとワークが接している部分と、そうでない
部分とでは、露光精度が違ってしまい、製品不良の原因
となる。また、プロキシミティ露光の場合、図７（ａ）
の状態で平行出しができたとして、ワークステージ２が
露光位置に下降すると、図７（ｂ）に示すように、マス
クＭとワークＷの間隔が場所によって異なり、コンタク
ト露光の場合と同じく露光精度に影響が出る。例えば、
２５０ｍｍ×２５０ｍｍの露光領域において、設定値が
２０μｍのＬ＆Ｓ（ライン・アンド・スペース）のパタ
ーンを実際に露光し、そのパターン寸法を測定した結
果、１．６μｍのばらつきが生じた。
基板の大型化、また、一括して露光する露光面積の大型
化により、マスクＭが大型化（例えば２５０ｍｍ×２５
０ｍｍ）している。通常、マスクＭをマスクステージ１
に固定する場合、前記したようにマスクＭの周囲を真空
吸着により固定する。マスクＭは、その周辺部を吸着さ
れることにより、マスクステージ１に保持される。マス
クＭは、大型化すると自重で撓みが生じやすくなり、例
えば図６に示すように、マスクが撓んだ状態で吸着保持
されることがある。また、マスクＭの材質が青板ガラス
やホウケイ酸ガラスである場合、マスク自体が歪んでい
る場合がある。このような状態でマスクＭが保持される
と、次のような問題がある。 (1) 図７（ａ）に示すように、ワークＷとマスクＭの平
行出しを行う際、ワークＷはマスクＭの自重や歪により
撓んでいる部分にのみ接し、ワークステージ２がさらに
上昇しても、マスクとワークは全面では接しない。この
ような状態で装置は平行出しを完了してしまうことがあ
る。 (2) コンタクト露光の場合、このような状態で露光を行
うと、マスクとワークが接している部分と、そうでない
部分とでは、露光精度が違ってしまい、製品不良の原因
となる。また、プロキシミティ露光の場合、図７（ａ）
の状態で平行出しができたとして、ワークステージ２が
露光位置に下降すると、図７（ｂ）に示すように、マス
クＭとワークＷの間隔が場所によって異なり、コンタク
ト露光の場合と同じく露光精度に影響が出る。例えば、
２５０ｍｍ×２５０ｍｍの露光領域において、設定値が
２０μｍのＬ＆Ｓ（ライン・アンド・スペース）のパタ
ーンを実際に露光し、そのパターン寸法を測定した結
果、１．６μｍのばらつきが生じた。
【０００６】なお、図７では、マスクＭとワークＷの隙
間を誇張して描いたが、実際は目視ではわからない程度
のたわみである。したがって、マスクＭの撓みにより正
確に平行出しができていなくても、実際に露光されたパ
ターンを現像し、顕微鏡により線幅の測定等を行わない
とそれがわからない。そのため、現像により不良が発見
されるまで、多くの製品不良を生み出す場合がある。ま
た、マスクＭの撓みは、図８に示すように一方に偏るこ
ともあり、ワークＷの平行出しの際、ワークＷをマスク
Ｍに密着させるために上昇させると、マスクＭに対して
ワークＷが大きく傾いた状態になることがある。このよ
うになると、図７の場合以上に、ワークの全面において
露光精度が大きくばらついたり、十分な解像度が得られ
なくなったりする。本発明は上記従来の問題点を解決す
るためになされたものであって、本発明の目的は、コン
タクト露光装置またはプロキシミティ露光装置におい
て、大型のマスクの歪みや自重などによる撓みを防ぎ、
マスクに対するワークの平行出しを正確に行えるように
することである。
間を誇張して描いたが、実際は目視ではわからない程度
のたわみである。したがって、マスクＭの撓みにより正
確に平行出しができていなくても、実際に露光されたパ
ターンを現像し、顕微鏡により線幅の測定等を行わない
とそれがわからない。そのため、現像により不良が発見
されるまで、多くの製品不良を生み出す場合がある。ま
た、マスクＭの撓みは、図８に示すように一方に偏るこ
ともあり、ワークＷの平行出しの際、ワークＷをマスク
Ｍに密着させるために上昇させると、マスクＭに対して
ワークＷが大きく傾いた状態になることがある。このよ
うになると、図７の場合以上に、ワークの全面において
露光精度が大きくばらついたり、十分な解像度が得られ
なくなったりする。本発明は上記従来の問題点を解決す
るためになされたものであって、本発明の目的は、コン
タクト露光装置またはプロキシミティ露光装置におい
て、大型のマスクの歪みや自重などによる撓みを防ぎ、
マスクに対するワークの平行出しを正確に行えるように
することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明においては、以下
のようにして上記課題を解決する。マスクをマスクステ
ージの下面に真空吸着により固定保持する。そして、ワ
ーク、ワークの代替品もしくはワークステージを上昇さ
せて、マスクに当接させ、マスクとワーク、ワークの代
替品もしくはワークステージを全面に渡って密着させて
平行出しを行う。このとき、マスクステージによるマス
クの真空吸着をいったん解除する。平行出し作業が終わ
ってから、マスクの吸着を再開する。マスクに対するワ
ークもしくはワークの代替品の平行出しにおいて、ワー
クからマスクに対して下側から力がかかる。上記のよう
にマスクの吸着が解除されていると、ワークからマスク
にかかる力によりマスクの歪みや撓みが修正される。そ
して、歪みや撓みが修正された状態でマスクの吸着が再
開すると、マスクは外側に引っ張られるような状態でマ
スクステージに保持され、歪みや撓みがなくなるか少な
くなる。このため、コンタクト露光、プロキシミティ露
光いずれにおいても、ワークの全面においてマスクとワ
ークとの間隔が一定になり、露光精度のばらつきを少な
くすることができる。
のようにして上記課題を解決する。マスクをマスクステ
ージの下面に真空吸着により固定保持する。そして、ワ
ーク、ワークの代替品もしくはワークステージを上昇さ
せて、マスクに当接させ、マスクとワーク、ワークの代
替品もしくはワークステージを全面に渡って密着させて
平行出しを行う。このとき、マスクステージによるマス
クの真空吸着をいったん解除する。平行出し作業が終わ
ってから、マスクの吸着を再開する。マスクに対するワ
ークもしくはワークの代替品の平行出しにおいて、ワー
クからマスクに対して下側から力がかかる。上記のよう
にマスクの吸着が解除されていると、ワークからマスク
にかかる力によりマスクの歪みや撓みが修正される。そ
して、歪みや撓みが修正された状態でマスクの吸着が再
開すると、マスクは外側に引っ張られるような状態でマ
スクステージに保持され、歪みや撓みがなくなるか少な
くなる。このため、コンタクト露光、プロキシミティ露
光いずれにおいても、ワークの全面においてマスクとワ
ークとの間隔が一定になり、露光精度のばらつきを少な
くすることができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１に本発明の実施例のコンタク
ト露光装置／プロキシミティ露光装置の構成を示す。同
図において、ワークステージ２はＸＹθステージ３、Ｚ
ステージ４上に前記した間隙調整機構５を介して取り付
けられており、前記したようにワークステージ駆動機構
１１によりＸＹθステージ３を駆動することにより、ワ
ークステージ２は紙面左右方向（Ｘ方向）、紙面前後方
向（Ｙ方向）およびθ方向（ＸＹ平面に垂直な軸を中心
とした回転）に移動する。また、Ｚステージ４を駆動す
ることにより、紙面上下方向に移動する。マスクステー
ジ１のワークステージ２側には、前記したようにマスク
を真空吸着するための真空吸着溝１ａが設けられてお
り、該溝１ａに真空を供給し、マスクＭの周辺部を吸着
する。上記真空吸着溝１ａへの真空の供給をための管路
１ｂ、および、真空の供給を制御するバルブＶ１，Ｖ２
が設けられている。なお、ワークステージ２にも、ワー
クを真空吸着するための真空吸着溝が設けられ、該真空
吸着溝への真空の供給をための管路等が設けられている
が、同図では省略されている。マスクステージ１の上方
には、ランプ６ａとミラー６ｂを備えた光照射部６が設
けられており、露光時には、光照射部６から露光光をマ
スクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭ上に記され
たマスクパターンを露光する。また、上記ワークステー
ジ駆動機構１１、間隙設定機構５、上記バルブ１ｃ，１
ｄ等を制御するための制御部１２が設けられている。
ト露光装置／プロキシミティ露光装置の構成を示す。同
図において、ワークステージ２はＸＹθステージ３、Ｚ
ステージ４上に前記した間隙調整機構５を介して取り付
けられており、前記したようにワークステージ駆動機構
１１によりＸＹθステージ３を駆動することにより、ワ
ークステージ２は紙面左右方向（Ｘ方向）、紙面前後方
向（Ｙ方向）およびθ方向（ＸＹ平面に垂直な軸を中心
とした回転）に移動する。また、Ｚステージ４を駆動す
ることにより、紙面上下方向に移動する。マスクステー
ジ１のワークステージ２側には、前記したようにマスク
を真空吸着するための真空吸着溝１ａが設けられてお
り、該溝１ａに真空を供給し、マスクＭの周辺部を吸着
する。上記真空吸着溝１ａへの真空の供給をための管路
１ｂ、および、真空の供給を制御するバルブＶ１，Ｖ２
が設けられている。なお、ワークステージ２にも、ワー
クを真空吸着するための真空吸着溝が設けられ、該真空
吸着溝への真空の供給をための管路等が設けられている
が、同図では省略されている。マスクステージ１の上方
には、ランプ６ａとミラー６ｂを備えた光照射部６が設
けられており、露光時には、光照射部６から露光光をマ
スクＭを介してワークＷに照射し、マスクＭ上に記され
たマスクパターンを露光する。また、上記ワークステー
ジ駆動機構１１、間隙設定機構５、上記バルブ１ｃ，１
ｄ等を制御するための制御部１２が設けられている。
【０００９】以下、図１、図２（ａ）〜（ｄ）、図３
（ｅ）（ｆ）により、本発明の実施例について説明す
る。なお、図２では、図１に示したＸＹθステージ３、
Ｚステージ４、間隙調整機構５等は省略されている。 (1) 前記図４（ａ）（ｂ）に示したようにマスクＭをマ
スクステージ１に載置し、マスクＭをマスクステージ１
に真空吸着により固定する。マスクＭは、図２（ａ）に
示すように、マスクステージ１の下面に吸着固定され
る。この時、図２（ａ）に示すようにマスクＭが歪んで
いる、または、撓んでいるとする。また、ワークステー
ジ２上にワークＷを載置し、前記したようにワークＷを
ワークステージ２に固定保持する。 (2) 制御部１２は、ワークステージ駆動機構１１により
Ｚステージ４を駆動して、ワークステージ２をマスクＭ
方向に上昇させる。これにより図２（ｂ）に示すように
ワークＷの上面がマスクＭの下面に当接する。 (3) 制御部１２はバルブＶ２を閉じ、バルブＶ１を開い
て、真空吸着溝１ａへの真空の供給を停止し、マスクス
テージ１のマスクＭの吸着保持を解除する。これととも
に、制御部１２は、ワークステージ駆動機構１１により
Ｚステージ４を駆動して、ワークＷをマスクＭに密着さ
せるために、ワークステージ２を上昇させる。図２
（ｃ）に示すように、マスクＭは下からワークＷの押し
付ける力を受けて持ち上げられる。間隙設定機構５はワ
ークステージの駆動力を吸収して変位し、マスクＭは歪
や歪みが修正されて平面になり、マスクＭとワークＷは
全面に渡って密着する。
（ｅ）（ｆ）により、本発明の実施例について説明す
る。なお、図２では、図１に示したＸＹθステージ３、
Ｚステージ４、間隙調整機構５等は省略されている。 (1) 前記図４（ａ）（ｂ）に示したようにマスクＭをマ
スクステージ１に載置し、マスクＭをマスクステージ１
に真空吸着により固定する。マスクＭは、図２（ａ）に
示すように、マスクステージ１の下面に吸着固定され
る。この時、図２（ａ）に示すようにマスクＭが歪んで
いる、または、撓んでいるとする。また、ワークステー
ジ２上にワークＷを載置し、前記したようにワークＷを
ワークステージ２に固定保持する。 (2) 制御部１２は、ワークステージ駆動機構１１により
Ｚステージ４を駆動して、ワークステージ２をマスクＭ
方向に上昇させる。これにより図２（ｂ）に示すように
ワークＷの上面がマスクＭの下面に当接する。 (3) 制御部１２はバルブＶ２を閉じ、バルブＶ１を開い
て、真空吸着溝１ａへの真空の供給を停止し、マスクス
テージ１のマスクＭの吸着保持を解除する。これととも
に、制御部１２は、ワークステージ駆動機構１１により
Ｚステージ４を駆動して、ワークＷをマスクＭに密着さ
せるために、ワークステージ２を上昇させる。図２
（ｃ）に示すように、マスクＭは下からワークＷの押し
付ける力を受けて持ち上げられる。間隙設定機構５はワ
ークステージの駆動力を吸収して変位し、マスクＭは歪
や歪みが修正されて平面になり、マスクＭとワークＷは
全面に渡って密着する。
【００１０】(4) この状態で、制御部１２は前記バルブ
Ｖ１を閉じ、バルブＶ２を開く。これにより、マスクス
テージ１はマスクＭの吸着保持を再開する。マスクＭ
は、外側に引っ張られるような状態でマスクステージ１
に保持される。制御部１２は間隙設定機構５に対して保
持信号を送出し、間隙設定機構５は、そのときの変位状
態を保持する。これにより、マスクＭに対するワークＷ
の平行が出される。 (5) 平行出し終了後、図２（ｄ）に示すように制御部１
２はワークステージ駆動機構１１により、Ｚステージを
駆動して、ワークステージ２をアライメントギャッブに
まで下降させる。そして、前記したように、マスクＭの
アライメントマークとワークＷのアライメントマークを
図示しないアライメント顕微鏡により検出し、マスクＭ
とワークＷの位置合せを行う。 (6) コンタクト露光の場合、再びワークステージ２を上
昇させ、図３（ｅ）に示すように、マスクＭとワークＷ
を密着させ、光照射部１１から、マスクＭを介してワー
クＷに露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンを露
光する。 (7) プロキシミティ露光の場合は、ワークステージ２を
下降させ、図３（ｆ）に示すように、マスクＭとワーク
Ｗをあらかじめ設定された間隔（露光ギャップ)に設定
する。上記(3)(4)でマスクＭは、歪みまたは歪みが修正
されてマスクステージ１に保持されている。したがっ
て、マスクＭとワークＷとの間隔はワーク全面において
等しくなる。この状態で光照射部６から、マスクＭを介
してワークＷに露光光を照射し、ワークにマスクパター
ンを露光する。
Ｖ１を閉じ、バルブＶ２を開く。これにより、マスクス
テージ１はマスクＭの吸着保持を再開する。マスクＭ
は、外側に引っ張られるような状態でマスクステージ１
に保持される。制御部１２は間隙設定機構５に対して保
持信号を送出し、間隙設定機構５は、そのときの変位状
態を保持する。これにより、マスクＭに対するワークＷ
の平行が出される。 (5) 平行出し終了後、図２（ｄ）に示すように制御部１
２はワークステージ駆動機構１１により、Ｚステージを
駆動して、ワークステージ２をアライメントギャッブに
まで下降させる。そして、前記したように、マスクＭの
アライメントマークとワークＷのアライメントマークを
図示しないアライメント顕微鏡により検出し、マスクＭ
とワークＷの位置合せを行う。 (6) コンタクト露光の場合、再びワークステージ２を上
昇させ、図３（ｅ）に示すように、マスクＭとワークＷ
を密着させ、光照射部１１から、マスクＭを介してワー
クＷに露光光を照射し、ワークＷにマスクパターンを露
光する。 (7) プロキシミティ露光の場合は、ワークステージ２を
下降させ、図３（ｆ）に示すように、マスクＭとワーク
Ｗをあらかじめ設定された間隔（露光ギャップ)に設定
する。上記(3)(4)でマスクＭは、歪みまたは歪みが修正
されてマスクステージ１に保持されている。したがっ
て、マスクＭとワークＷとの間隔はワーク全面において
等しくなる。この状態で光照射部６から、マスクＭを介
してワークＷに露光光を照射し、ワークにマスクパター
ンを露光する。
【００１１】本実施例においては、上記のようにワーク
ＷをマスクＭに当接させ、平行出しを行うとき、マスク
ステージ１によるマスクＭの真空吸着をいったん解除
し、平行出し作業が終わってから、マスクＭの吸着を再
開するようにしたので、従来例で示した２５０ｍｍ×２
５０ｍｍの露光領域における２０μｍのＬ＆Ｓに対する
１．６μｍのばらつきが、０．６μｍまで小さくなっ
た。なお、上記平行出しに際し、ワークＷを使用せず、
所望の平面度を有するダミーワークやワークを載置して
いないワークステージを利用することもできる。また平
行出し作業も、ワークごとに行う必要はなく、所定の処
理回数ごと、ワークのロットごとに行っても良い。その
ような場合は、制御部１２に、平行出し動作を行うシー
ケンスを記憶させておき、あらかじめ設定した処理回数
や時間に応じ、自動的に行うようにしても良い。また、
制御部１２等に上記シーケンスを実施するスイッチを設
け、作業者がスイッチを押すことで行っても良い。ただ
し、平行出しは、マスクの交換を行った場合や、異なる
厚さのワークを処理する場合は必ず行う必要がある。
ＷをマスクＭに当接させ、平行出しを行うとき、マスク
ステージ１によるマスクＭの真空吸着をいったん解除
し、平行出し作業が終わってから、マスクＭの吸着を再
開するようにしたので、従来例で示した２５０ｍｍ×２
５０ｍｍの露光領域における２０μｍのＬ＆Ｓに対する
１．６μｍのばらつきが、０．６μｍまで小さくなっ
た。なお、上記平行出しに際し、ワークＷを使用せず、
所望の平面度を有するダミーワークやワークを載置して
いないワークステージを利用することもできる。また平
行出し作業も、ワークごとに行う必要はなく、所定の処
理回数ごと、ワークのロットごとに行っても良い。その
ような場合は、制御部１２に、平行出し動作を行うシー
ケンスを記憶させておき、あらかじめ設定した処理回数
や時間に応じ、自動的に行うようにしても良い。また、
制御部１２等に上記シーケンスを実施するスイッチを設
け、作業者がスイッチを押すことで行っても良い。ただ
し、平行出しは、マスクの交換を行った場合や、異なる
厚さのワークを処理する場合は必ず行う必要がある。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明においては
以下の効果を得ることができる。平行出しの際、マスク
ステージによるマスクの吸着保持を解除するので、ワー
ク（あるいはダミーワークやワークステージ) をマスク
に押し付ける力によって、マスクの歪や撓みが修正され
る。したがって、マスクとワークとが全面に渡って密着
し、マスクに対するワークの平行出しが、正確に行われ
る。そして、その状態でマスクステージのマスクの吸着
保持を再開するので、マスクはマスクステージに歪みや
撓みがないか、少ない状態で保持される。このため、コ
ンタクト露光、プロキシミティ露光いずれにおいても、
ワークの全面においてマスクとワークとの間隔が一定に
なり、露光精度のばらつきを少なくすることができる。
以下の効果を得ることができる。平行出しの際、マスク
ステージによるマスクの吸着保持を解除するので、ワー
ク（あるいはダミーワークやワークステージ) をマスク
に押し付ける力によって、マスクの歪や撓みが修正され
る。したがって、マスクとワークとが全面に渡って密着
し、マスクに対するワークの平行出しが、正確に行われ
る。そして、その状態でマスクステージのマスクの吸着
保持を再開するので、マスクはマスクステージに歪みや
撓みがないか、少ない状態で保持される。このため、コ
ンタクト露光、プロキシミティ露光いずれにおいても、
ワークの全面においてマスクとワークとの間隔が一定に
なり、露光精度のばらつきを少なくすることができる。
【図１】本発明の実施例の露光装置の構成を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明の実施例の露光手順を示す図（１）であ
る。
る。
【図３】本発明の実施例の露光手順を示す図（２）であ
る。
る。
【図４】コンタクト露光装置／プロキシミティ露光装置
のマスクステージへのマスクの取り付けを説明する図で
ある。
のマスクステージへのマスクの取り付けを説明する図で
ある。
【図５】コンタク露光装置／プロキシミティ露光装置に
おける露光手順を説明する図である。
おける露光手順を説明する図である。
【図６】マスクが撓んでいる場合を説明する図である。
【図７】マスクＭとワークＷの間隔が場所によって異な
る場合を説明する図である。
る場合を説明する図である。
【図８】マスクＭが一方に偏って撓んである場合を説明
する図である。
する図である。
１ マスクステージ
１ａ 真空吸着溝
１ｂ 管路
１ｃ，１ｄ バルブ
２ ワークステージ
２ａ 真空吸着溝
３ ＸＹθステージ
４ Ｚステージ
５ 間隙調整機構
６ 光照射部
６ａ ランプ
６ｂ ミラー
１１ ワークステージ駆動機構
１２ 制御部
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 2H095 BA03 BA04 BA07 BE12
2H097 BA01 CA12 CA13 GA27 GA45
GB02 LA10 LA11
5F046 BA01 BA02 CB17 CC09 DA05
DA17
Claims (2)
- 【請求項１】 ワーク、ワーク代替品またはワークステ
ージとマスクを接触させることにより、マスクとワー
ク、ワーク代替品またはワークステージを平行に設定
し、 この状態で、マスクステージによるマスクの保持を一旦
解除し、ワーク、ワーク代替品またはワークステージと
マスクを接触させたまま、マスクステージによりマスク
を再び保持させることを特徴とするマスクのたわみ補正
方法。 - 【請求項２】 ワーク, ワーク代替品またはワークステ
ージとマスクを接触させ、該ワーク, ワーク代替品また
は、ワークステージとマスクを平行に設定する機構を備
えた露光装置であって、 マスクを保持するマスクステージと、 ワーク, ワーク代替品またはワークステージとマスクを
接触させ、マスクとワーク、ワーク代替品またはワーク
ステージとマスクを密着させた状態で、上記マスクステ
ージによるマスクの保持を一旦解除し、ワーク、ワーク
代替品またはワークステージとマスクを接触させたま
ま、マスクステージによりマスクを再び保持させる制御
部を備えたことを特徴とする露光装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370080A JP2003167355A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | マスクのたわみ補正方法およびたわみ補正機構を備えた露光装置 |
| TW091132499A TWI233150B (en) | 2001-12-04 | 2002-11-04 | Correction method of curved mask and exposure device having correction mechanism of the same |
| KR1020020076556A KR100574075B1 (ko) | 2001-12-04 | 2002-12-04 | 마스크의 휨 보정 방법 및 휨 보정 기구를 구비한 노광 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001370080A JP2003167355A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | マスクのたわみ補正方法およびたわみ補正機構を備えた露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003167355A true JP2003167355A (ja) | 2003-06-13 |
Family
ID=19179368
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001370080A Pending JP2003167355A (ja) | 2001-12-04 | 2001-12-04 | マスクのたわみ補正方法およびたわみ補正機構を備えた露光装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003167355A (ja) |
| KR (1) | KR100574075B1 (ja) |
| TW (1) | TWI233150B (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100742385B1 (ko) | 2006-01-23 | 2007-07-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 마스크 정렬장치 및 그 정렬방법 |
| KR100812220B1 (ko) | 2006-07-06 | 2008-03-13 | 후지츠 히다찌 플라즈마 디스플레이 리미티드 | 패터닝용 유리 마스크 및 그 제조 방법과 제조 장치 |
| JP2010040577A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Nikon Corp | 露光方法、デバイスの製造方法及び露光装置 |
| JP2010080843A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Ushio Inc | 光照射装置のマスク保持手段 |
| WO2014017458A1 (ja) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 富士フイルム株式会社 | マスクユニット及び露光装置 |
| JP2017503207A (ja) * | 2013-12-31 | 2017-01-26 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド | レチクル形状修正装置及びこれを用いたフォトリソグラフィー・ツール |
| JP2023523987A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-06-08 | 中国科学院光電技術研究所 | 多機能フォトリソグラフィ装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103885298B (zh) | 2014-03-06 | 2015-11-25 | 京东方科技集团股份有限公司 | 曝光装置及曝光系统 |
-
2001
- 2001-12-04 JP JP2001370080A patent/JP2003167355A/ja active Pending
-
2002
- 2002-11-04 TW TW091132499A patent/TWI233150B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-12-04 KR KR1020020076556A patent/KR100574075B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100742385B1 (ko) | 2006-01-23 | 2007-07-24 | 삼성에스디아이 주식회사 | 마스크 정렬장치 및 그 정렬방법 |
| KR100812220B1 (ko) | 2006-07-06 | 2008-03-13 | 후지츠 히다찌 플라즈마 디스플레이 리미티드 | 패터닝용 유리 마스크 및 그 제조 방법과 제조 장치 |
| JP2010040577A (ja) * | 2008-07-31 | 2010-02-18 | Nikon Corp | 露光方法、デバイスの製造方法及び露光装置 |
| JP2010080843A (ja) * | 2008-09-29 | 2010-04-08 | Ushio Inc | 光照射装置のマスク保持手段 |
| WO2014017458A1 (ja) * | 2012-07-26 | 2014-01-30 | 富士フイルム株式会社 | マスクユニット及び露光装置 |
| JP2017503207A (ja) * | 2013-12-31 | 2017-01-26 | シャンハイ マイクロ エレクトロニクス イクイプメント カンパニー リミティド | レチクル形状修正装置及びこれを用いたフォトリソグラフィー・ツール |
| JP2023523987A (ja) * | 2020-04-29 | 2023-06-08 | 中国科学院光電技術研究所 | 多機能フォトリソグラフィ装置 |
| JP7500035B2 (ja) | 2020-04-29 | 2024-06-17 | 中国科学院光電技術研究所 | 多機能フォトリソグラフィ装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100574075B1 (ko) | 2006-04-27 |
| KR20030045657A (ko) | 2003-06-11 |
| TW200300960A (en) | 2003-06-16 |
| TWI233150B (en) | 2005-05-21 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070807 |
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| A02 | Decision of refusal |
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