JP2003149875A - Liquid developer for electrostatic photography - Google Patents

Liquid developer for electrostatic photography

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JP2003149875A
JP2003149875A JP2001343201A JP2001343201A JP2003149875A JP 2003149875 A JP2003149875 A JP 2003149875A JP 2001343201 A JP2001343201 A JP 2001343201A JP 2001343201 A JP2001343201 A JP 2001343201A JP 2003149875 A JP2003149875 A JP 2003149875A
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JP
Japan
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group
monomer
resin particles
liquid developer
resin
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Application number
JP2001343201A
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Japanese (ja)
Inventor
Eiichi Kato
栄一 加藤
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Liquid Developers In Electrophotography (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a liquid developer excellent in charge stability, dispersion stability, re-dispersing property and fixing property of particles and capable of exhibiting excellent sensitivity for printing ink and printing durability even in an electrophotographic plate making system including a fast developing-fixing process and using a large-size master plate. SOLUTION: The liquid developer for electrostatic photography is prepared by dispersing at least resin particles in a nonwater solvent having >=10<9> Ωcm resistivity and <=3.5 dielectric constant. The resin particles are copolymer resin particles obtained by polymerization and granulation in the presence of a monomer (A) which is soluble in a nonwater solvent and changes into insoluble by polymerization, a monofunctional monomer (B) having an amino group, a monofunctional monomer (C) having an acidic group selected from -PO3 H2 group, -SO3 H group and -SO2 H group, a monofunctional monomer (D) having a substituent containing a fluorine atom and/or a silicon atom, and a resin (P) for stabilization of dispersion containing a specified polymer component and dispersed in a colloidal state in the nonwater solvent.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は静電写真用液体現像
剤に関するものであり、特に分散性、保存性、安定性、
再分散性、画像の再現性、定着性の優れた静電写真用液
体現像剤に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid developer for electrophotography, and particularly to dispersibility, storability, stability,
The present invention relates to a liquid developer for electrostatic photography, which has excellent redispersibility, image reproducibility, and fixability.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般の静電写真用液体現像剤はカーボン
ブラック、ニグロシン、フタロシアニンブルー等の有機
又は無機の顔料あるいは染料とアルキッド樹脂、アクリ
ル樹脂、ロジン、合成ゴム等の天然又は合成樹脂を石油
系脂肪族炭化水素のような高絶縁性且つ低誘電率の液体
中に分散し、更に金属セッケン、レシチン、アマニ油、
高級脂肪酸、ビニルピロリドンを含有するポリマーなど
の荷電調整剤を加えたものである。このような現像剤中
では、樹脂は不溶性ラテックス粒子として直径数nm〜
数百nmの粒子状に分散されているが、従来の液体現像
剤においては可溶性分散安定用樹脂や荷電調整剤と不溶
性ラテックス粒子との結合が不充分な為に可溶性分散安
定用樹脂及び荷電調整剤が溶液中に拡散し易い状態にあ
った。この為、長期間の保存や繰り返し使用によって可
溶性分散安定用樹脂が不溶性ラテックス粒子から脱離
し、粒子が沈降、凝集、堆積したり、極性が不明瞭にな
る、という欠点があった。又、一度凝集、堆積した粒子
は再分散しにくいので現像機の随所に粒子が付着したま
まとなり、画像部の汚れや送液ポンプの目づまり等の現
像機の故障にもつながっていた。こうした問題点を改良
するために、不溶化する単量体と、長鎖アルキル部分を
含有した単量体あるいは極性成分を2個以上含有した単
量体との共重合体からなる不溶性分散樹脂粒子を用いる
ことで、粒子の分散性、保存安定性、再分散性を改良す
る方法が特開昭60−179751号、同62−151
868号等に開示されている。また、二官能性モノマー
を利用したポリマーもしくは高分子反応を利用したポリ
マーの存在下に、不溶化する単量体と、長鎖アルキル部
分を含有した単量体との共重合体からなる不溶性分散樹
脂粒子を用いることで粒子の分散性、保存安定性、再分
散性を改良する方法が特開昭62−166362号、同
63−66567号等に開示されている。更には、分散
安定用樹脂として、従来のランダム共重合体の代わり
に、溶媒和する重合体部と非溶媒和性の重合体部からな
るブロック共重合体を用いることで保存安定性、再分散
性を改良する方法が特開平3−12666号、同3−7
7965号、同3−225353号、同4−46354
号等に開示されている。
2. Description of the Related Art A general liquid developer for electrostatic photography is an organic or inorganic pigment or dye such as carbon black, nigrosine or phthalocyanine blue, and a natural or synthetic resin such as alkyd resin, acrylic resin, rosin or synthetic rubber. Dispersed in liquids with high insulation and low dielectric constant such as aliphatic hydrocarbons, metal soap, lecithin, linseed oil,
A charge control agent such as a polymer containing a higher fatty acid or vinylpyrrolidone is added. In such a developer, the resin has a diameter of several nm as insoluble latex particles.
Although dispersed in the form of particles of several hundreds of nm, in the conventional liquid developer, the soluble dispersion stabilizing resin and the charge adjusting agent and the insoluble latex particles are insufficiently bonded to each other, so that the soluble dispersion stabilizing resin and the charge adjusting agent are The agent was in a state of being easily diffused in the solution. Therefore, there is a drawback that the soluble dispersion stabilizing resin is desorbed from the insoluble latex particles due to long-term storage and repeated use, and the particles settle, aggregate, and accumulate, or the polarity becomes unclear. Further, since particles once aggregated and accumulated are difficult to redisperse, the particles remain attached to various parts of the developing machine, leading to the failure of the developing machine such as dirt on the image area and clogging of the liquid feeding pump. In order to improve such problems, insoluble dispersed resin particles made of a copolymer of an insolubilizing monomer and a monomer containing a long-chain alkyl moiety or a monomer containing two or more polar components are used. A method for improving the dispersibility, storage stability and redispersibility of particles by using them is disclosed in JP-A-60-179751 and JP-A-62-151.
No. 868, etc. In addition, an insoluble dispersion resin composed of a copolymer of a monomer that becomes insoluble and a monomer that contains a long-chain alkyl moiety in the presence of a polymer that uses a bifunctional monomer or a polymer that uses a macromolecular reaction A method for improving the dispersibility, storage stability and redispersibility of particles by using particles is disclosed in JP-A Nos. 62-166362 and 63-66567. Furthermore, as a dispersion stabilizing resin, storage stability and redispersion are achieved by using a block copolymer composed of a solvating polymer part and a non-solvating polymer part, instead of a conventional random copolymer. To improve the properties is disclosed in JP-A-3-12666 and 3-7.
No. 7965, No. 3-225353, No. 4-46354
No., etc.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】一方、近年、電子写真
方式によるオフセット印刷用マスタープレートを用い
て、5000枚以上の多数枚を印刷する方法が試みら
れ、特にマスタープレートの改良が進められ、大版サイ
ズで1万枚以上印刷することが可能となってきた。又、
電子写真製版システムの操作時間の短縮化も進み、現像
−定着工程の迅速化の改良が行なわれている。前記特開
昭60−179751号、同62−151868号、同
62−166362号、同63−66567号、特開平
3−12666号、同3−77965号、同3−225
353号、同4−46354号に開示されている手段に
従って製造された分散樹脂粒子は、現像スピードが上昇
した場合、粒子の分散性、再分散性の点で、また定着時
間が短縮された場合もしくは大版サイズ(例えば、A−
3サイズ以上)のマスタープレートを用いる場合、耐刷
性の点で各々いまだ必ずしも満足すべき性能ではなかっ
た。
On the other hand, in recent years, a method of printing a large number of 5000 or more sheets by using a master plate for offset printing by an electrophotographic system has been attempted. It has become possible to print more than 10,000 sheets in plate size. or,
The operation time of the electrophotographic plate making system has been shortened, and the development-fixing process has been accelerated. JP-A-60-179751, JP-A-62-151868, JP-A-62-166362, JP-A-63-66567, JP-A-3-12666, JP-A-3-77965, and JP-A-3-225.
No. 353 and No. 4-46354, the dispersed resin particles produced according to the means disclosed herein are those in the case where the developing speed is increased, the dispersibility and redispersibility of the particles are increased, and the fixing time is shortened. Alternatively, a large plate size (for example, A-
In the case of using a master plate of 3 sizes or more), the performance was not always satisfactory in terms of printing durability.

【0004】本発明は、以上のような従来の液体現像剤
の有する問題を解決するものである。従って、本発明の
目的は、現像−定着工程が迅速化され且つ大版サイズの
マスタープレートを用いる電子写真製版システムにおい
ても、粒子の荷電安定性、分散安定性、再分散性及び定
着性に優れた液体現像剤を提供することである。本発明
の他の目的は、優れた印刷インク感脂性と耐刷性を有す
るオフセット印刷版の電子写真法による作成を可能にす
る液体現像剤を提供することである。本発明の他の目的
は、通常の各種静電写真用に好適な液体現像剤を提供す
ることである。
The present invention solves the above problems of the conventional liquid developer. Therefore, an object of the present invention is to provide excellent charge stability, dispersion stability, redispersibility, and fixability of particles even in an electrophotographic plate making system in which a development-fixing process is accelerated and a large plate size master plate is used. Another object is to provide a liquid developer. Another object of the present invention is to provide a liquid developer which enables the production of an offset printing plate having excellent printing ink oil sensitivity and printing durability by electrophotography. Another object of the present invention is to provide a liquid developer suitable for various ordinary electrophotography.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】上記目的は、以下の構成
により達成されることが見出された。 (1)電気抵抗109Ωcm以上、かつ誘電率3.5以
下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散して成る
静電写真用液体現像剤において、上記分散された樹脂粒
子が、非水溶媒に可溶であって、重合することにより不
溶となる一官能性単量体(A)の少なくとも一種、一般
式(I)で示されるアミノ基を含有する、単量体(A)
と共重合可能な一官能性単量体(B)の少なくとも一
種、−PO32基、−SO3H基および−SO2H基から
選ばれる酸性基を少なくとも1つ含有する、単量体
(A)と共重合可能な一官能性単量体(C)の少なくと
も一種、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の置換基
を有する、単量体(A)と共重合可能な一官能性単量体
(D)の少なくとも一種、並びに下記一般式(PI)で
示される重合成分を少なくとも含有する、該非水溶媒に
コロイド状に分散してなる分散安定用樹脂(P)の少な
くとも一種の存在下に、重合造粒することによって得ら
れる共重合体樹脂粒子であることを特徴とする静電写真
用液体現像剤。
It has been found that the above object can be achieved by the following constitution. (1) In a liquid developer for electrostatic photography, wherein at least resin particles are dispersed in a non-aqueous solvent having an electric resistance of 10 9 Ωcm or more and a dielectric constant of 3.5 or less, the dispersed resin particles are Monomer (A) containing at least one monofunctional monomer (A) which is soluble in an aqueous solvent and becomes insoluble by polymerization, which contains an amino group represented by the general formula (I)
Monomer containing at least one monofunctional monomer (B) copolymerizable with B, at least one acidic group selected from a —PO 3 H 2 group, a —SO 3 H group and a —SO 2 H group. Monofunctional Copolymerizable with Monomer (A) Having at least One Monofunctional Monomer (C) Copolymerizable with Body (A), Fluorine Atom and / or Silicon Atom-Containing Substituent Presence of at least one dispersion stabilizing resin (P) which is at least one of the monomer (D) and at least a polymerization component represented by the following general formula (PI) and is colloidally dispersed in the non-aqueous solvent. Below is a liquid developer for electrostatic photography, characterized in that it is a copolymer resin particle obtained by polymerization granulation.

【0006】[0006]

【化4】 [Chemical 4]

【0007】一般式(I)中、R1及びR2は各々同じで
も異なってもよく、水素原子又は炭素数1〜22の炭化
水素基を表すか、R1とR2が結合して窒素原子とともに
環を形成してもよい。
In the general formula (I), R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, or R 1 and R 2 are combined to form a nitrogen atom. You may form a ring with an atom.

【0008】[0008]

【化5】 一般式(PI)中、V0 は−COO−、−OCO−、−
(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−又は
[Chemical 5] In general formula (PI), V 0 is -COO-, -OCO-,-.
(CH 2) r COO -, - (CH 2) r OCO -, - O- or

【化6】 (ここでXは直接結合、−O−、−OCO−又は−CO
O−を表す)を表す。rは1〜12の整数を表す。L
は、炭素数8〜32のアルキル基または炭素数8〜32
のアルケニル基を表す。b1およびb2は互いに同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭化水素基、−COO−D1 、または炭化水素
基を介した−COO−D1 を表す(ここでD1 は水素原
子または置換されてもよい炭化水素基を示す)。
[Chemical 6] (Where X is a direct bond, -O-, -OCO- or -CO
Represents O-). r represents an integer of 1 to 12. L
Is an alkyl group having 8 to 32 carbon atoms or 8 to 32 carbon atoms
Represents an alkenyl group. b 1 and b 2 may be the same as or different from each other and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, —COO-D 1 , or —COO-D 1 via a hydrocarbon group ( Here, D 1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group).

【0009】(2)分散安定用樹脂(P)が、一般式
(PI)で示される重合成分を少なくとも含有するブロ
ックと、該一般式(PI)で示される重合成分を含有し
ないブロックとからなるブロック共重合体であることを
特徴とする前記(1)記載の静電写真用液体現像剤。
(2) The dispersion stabilizing resin (P) comprises a block containing at least a polymerization component represented by the general formula (PI) and a block not containing the polymerization component represented by the general formula (PI). A liquid developer for electrostatic photography according to (1) above, which is a block copolymer.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下に本発明の静電写真用液体現
像剤について説明する。本発明の静電写真用液体現像剤
に用いる電気抵抗109Ω・cm以上かつ誘電率3.5以
下の非水溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水
素、これらの炭化水素のハロゲン置換体、およびシリコ
ーン液体、シリコーンオイルなどのシリコーン溶媒等が
挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The liquid developer for electrostatic photography of the present invention will be described below. The non-aqueous solvent having an electric resistance of 10 9 Ω · cm or more and a dielectric constant of 3.5 or less used in the liquid developer for electrostatic photography of the present invention is preferably a linear or branched aliphatic hydrocarbon or alicyclic ring. Formula hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, halogen-substituted products of these hydrocarbons, silicone liquids, silicone solvents such as silicone oil, and the like can be mentioned.

【0011】例えば、炭化水素系溶媒としては、ペンタ
ン、イソへプタン、オクタン、イソオクタン、デカン、
イソデカン、デカリン、ノナン、ドデカン、イソドデカ
ン、シクロヘキサン、シクロオクタン、シクロデカン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、アイソパ
ーE、アイソパーG、アイソパーH,アイソパーL(ア
イソパー;エクソン社の商品名)、シェルゾール70、
シェルゾール71(シェルゾール;シェルオイル社の商
品名)、アムスコOMS、アムスコ460溶剤(アムス
コ;スピリッツ社の商品名)等がある。
For example, hydrocarbon solvents include pentane, isoheptane, octane, isooctane, decane,
Isodecane, decalin, nonane, dodecane, isododecane, cyclohexane, cyclooctane, cyclodecane,
Benzene, toluene, xylene, mesitylene, Isopar E, Isopar G, Isopar H, Isopar L (Isopar; trade name of Exxon Corporation), Shersol 70,
Shelsol 71 (Shellsol; trade name of Shell Oil Co.), Amsco OMS, Amsco 460 solvent (Amsco; trade name of Spirits Co., Ltd.) and the like.

【0012】ハロゲン置換の炭化水素系溶媒としてフル
オロカーボン系溶媒があり、例えばC716、C818
どのCn2n+2で表されるパーフルオロアルカン類(住
友3M社製「フロリナートPF5080」、「フローリ
ナートPF5070」(商品名)等)、フッ素系不活性
液体(住友3M社製「フロリナートFCシリーズ」(商
品名)等)、フルオロカーボン類(デュポンジャパンリ
ミテッド社製「クライトックスGPLシリーズ」(商品
名)等)、フロン類(ダイキン工業株式会社製「HCF
C−141b 」(商品名)等)、F(CF2)4CH2CH
2I、F(CF2)6I等のヨウ素化フルオロカーボン類
(ダイキンファインケミカル研究所製「I−142
0」、「I−1600」(商品名)等)等がある。
There is a fluorocarbon solvent as the halogen-substituted hydrocarbon solvent, and for example, perfluoroalkanes represented by C n F 2n + 2 such as C 7 F 16 and C 8 F 18 (“Fluorinate manufactured by Sumitomo 3M Ltd.”). PF5080 "," Florinert PF5070 "(trade name), etc., fluorine-based inert liquid (" Fluorinert FC series "(trade name) manufactured by Sumitomo 3M, etc.), fluorocarbons (" Krightox GPL series "manufactured by DuPont Japan Limited) (Brand name), CFCs (“HCF manufactured by Daikin Industries, Ltd.”
C-141b "(trade name), etc.), F (CF 2) 4 CH 2 CH
2 I, F (CF 2 ) 6 I, etc. iodinated fluorocarbons (“I-142 manufactured by Daikin Fine Chemical Laboratories”
0 "," I-1600 "(trade name), etc.

【0013】シリコーン液体、シリコーンオイルのシリ
コン溶媒としては、ジアルキルポリシロキサン(例え
ば、ヘキサメチルジシロキサン、テトラメチルジシロキ
サン、オクタメチルトリシロキサン、ヘキサメチルトリ
シロキサン、ヘプタメチルトリシロキサン、デカメチル
テトラシロキサン、トリフロロプロピルヘプタメチルト
リシロキサン、ジエチルテトラメチルジシロキサン
等)、環状ジアルキルポリシロキサン(例えば、ヘキサ
メチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテト
ラシロキサン、テトラメチルシクロテトラシロキサン、
テトラ(トリフロロプロピル)テトラメチルシクロテト
ラシロキサン、等)、メチルフェニルシリコンオイル
(例えば、KF56、KF58(信越シリコン(株)製
商品名)等)等が挙げられる。
Examples of silicone solvents for silicone liquids and silicone oils include dialkyl polysiloxanes (eg, hexamethyldisiloxane, tetramethyldisiloxane, octamethyltrisiloxane, hexamethyltrisiloxane, heptamethyltrisiloxane, decamethyltetrasiloxane, Trifluoropropylheptamethyltrisiloxane, diethyltetramethyldisiloxane, etc.), cyclic dialkylpolysiloxane (eg, hexamethylcyclotrisiloxane, octamethylcyclotetrasiloxane, tetramethylcyclotetrasiloxane,
Tetra (trifluoropropyl) tetramethylcyclotetrasiloxane, etc.), methylphenyl silicone oil (eg, KF56, KF58 (trade name of Shin-Etsu Silicon Co., Ltd.), etc.) and the like.

【0014】本発明では、これらの溶媒を単独または混
合して用いる。なお、このような非水溶媒の電気抵抗の
上限値は1016Ωcm程度、誘電率の下限値は1.80程
度であることが好ましい。
In the present invention, these solvents are used alone or as a mixture. The upper limit of the electric resistance of such a non-aqueous solvent is preferably about 10 16 Ωcm, and the lower limit of the dielectric constant is preferably about 1.80.

【0015】本発明の液体現像剤における最も重要な構
成部分である非水系分散樹脂粒子(以下、「樹脂粒
子」、「ラテックス粒子」と称することもある)は、非
水溶媒において、特定の成分(式(PI))を含有する
分散安定用樹脂(P)の存在下に、一官能性単量体
(A)の少なくとも一種、一般式(II)で示されるアミ
ノ基を含有する一官能性単量体(B)の少なくとも一
種、−PO32基、−SO3H基および−SO2H基から
選ばれる酸性基を少なくとも1つを含有する一官能性単
量体(C)の少なくとも一種、並びにフッ素原子及び/
又はケイ素原子含有の置換基を有する一官能性単量体
(D)を重合造粒したものである。
The non-aqueous dispersion resin particles (hereinafter sometimes referred to as "resin particles" or "latex particles"), which is the most important constituent part of the liquid developer of the present invention, is a specific component in the non-aqueous solvent. In the presence of the dispersion-stabilizing resin (P) containing (formula (PI)), at least one kind of monofunctional monomer (A), a monofunctional group containing an amino group represented by the general formula (II) A monofunctional monomer (C) containing at least one acidic group selected from at least one of the monomer (B), a —PO 3 H 2 group, a —SO 3 H group and a —SO 2 H group. At least one, and fluorine atom and /
Alternatively, the monofunctional monomer (D) having a silicon atom-containing substituent is polymerized and granulated.

【0016】ここで、非水溶媒としては、基本的には、
前記液体現像剤の非水溶媒に混和するものであれば使用
可能である。
Here, as the non-aqueous solvent, basically,
Any material that is miscible with the non-aqueous solvent of the liquid developer can be used.

【0017】すなわち、分散樹脂粒子を製造するに際し
て用いる溶媒としては、好ましくは直鎖状もしくは分岐
状の脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素
およびこれらのハロゲン置換体等が挙げられる。例えば
オクタン、イソオクタン、デカン、イソデカン、デカリ
ン、ノナン、ドデカン、イソドデカン、アイソパーE、
アイソパーG、アイソパーH、アイソパーL、シェルゾ
ール70、シェルゾール71、アムスコOMS、アムス
コ460溶剤等を単独あるいは混合して用いる。
That is, the solvent used for producing the dispersed resin particles is preferably linear or branched aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons and halogen-substituted products thereof. To be For example, octane, isooctane, decane, isodecane, decalin, nonane, dodecane, isododecane, isoper E,
Isopar G, Isopar H, Isopar L, Shelsol 70, Shelsol 71, Amsco OMS, Amsco 460 solvent and the like are used alone or in combination.

【0018】これらの非水溶媒と共に、混合して使用で
きる有機溶媒としては、アルコール類(例えば、エチル
アルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、
エチレングリコールモノメチルエーテル、フッ化アルコ
ール等)、ケトン類(例えば、メチルエチルケトン、ア
セトフェノン、シクロヘキサノン等)、カルボン酸エス
テル類(例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エ
チル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト等)、エーテル類(例えば、ジプロピルエーテル、エ
チレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等)、ハロゲン化炭化水素類(例えば、
クロロホルム、ジクロロエタン、メチルクロロホルム
等)等が挙げられる。
Organic solvents that can be used in combination with these non-aqueous solvents include alcohols (eg, ethyl alcohol, propyl alcohol, butyl alcohol,
Ethylene glycol monomethyl ether, fluoroalcohol, etc.), ketones (eg, methyl ethyl ketone, acetophenone, cyclohexanone, etc.), carboxylic acid esters (eg, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl propionate, ethyl propionate) , Ethylene glycol monomethyl ether acetate etc.), ethers (eg dipropyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane etc.), halogenated hydrocarbons (eg
Chloroform, dichloroethane, methyl chloroform, etc.) and the like.

【0019】これらの混合して使用する有機溶媒は、重
合造粒後、加熱あるいは減圧下で留去することが望まし
いが、ラテックス粒子分散物として、液体現像剤に持ち
込まれても、現像剤の抵抗が109Ωcm以上、誘電率
が3.5以下という条件を満足できる範囲であれば問題
とならない。
It is desirable that these organic solvents to be mixed and used are distilled off under heating or under reduced pressure after polymerization and granulation. There is no problem as long as the condition that the resistance is 10 9 Ωcm or more and the dielectric constant is 3.5 or less is satisfied.

【0020】通常、樹脂粒子分散物製造の段階で液体現
像剤の非水溶媒と同様の溶媒を用いることが好ましく、
前述のごとく、直鎖状もしくは分岐状の脂肪族炭化水
素、脂環式炭化水素、芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化
水素などが挙げられる。
Usually, it is preferable to use the same solvent as the non-aqueous solvent of the liquid developer in the step of producing the resin particle dispersion,
As described above, linear or branched aliphatic hydrocarbons, alicyclic hydrocarbons, aromatic hydrocarbons, halogenated hydrocarbons and the like can be mentioned.

【0021】本発明における一官能性単量体(A)は、
非水溶媒には可溶であるが重合することによって不溶化
する一官能性単量体であればいずれでもよい。具体的に
は、例えば下記一般式(II)で表される単量体が挙げら
れる。
The monofunctional monomer (A) in the present invention is
Any monofunctional monomer that is soluble in the non-aqueous solvent but is insolubilized by polymerization may be used. Specific examples include monomers represented by the following general formula (II).

【0022】[0022]

【化7】 [Chemical 7]

【0023】一般式(II)中、V1は−COO−、−O
CO−、−CH2OCO−、−CH2COO−、−O−、
−CONHCOO−、−CONHOCO−、−SO
2−、−CON(Q1)−、−SO2N(Q1)−、またはフ
ェニレン基(以下、フェニレン基を「−Ph−」と記載
することもある。なお、フェニレン基は1,2−、1,
3−および1,4−フエニレン基を包含する。)を表
す。ここでQ1は、水素原子または炭素数1〜8の置換
されていてもよい脂肪族基(たとえば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2
−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−ヒドロキ
シエチル基、ベンジル基、クロロベンジル基、メチルベ
ンジル基、メトキシベンジル基、フェネチル基、3−フ
ェニルプロピル基、ジメチルベンジル基、フロロベンジ
ル基、2−メトキシエチル基、3−メトキシプロピル基
等)を表す。
In the general formula (II), V 1 is --COO-- or --O.
CO -, - CH 2 OCO - , - CH 2 COO -, - O-,
-CONHCOO-, -CONHOCO-, -SO
2 -, - CON (Q 1 ) -, - SO 2 N (Q 1) -., Or a phenylene group (hereinafter sometimes to be referred to as a phenylene group and "-Ph-" Incidentally, phenylene group 1,2 -, 1,
Includes 3- and 1,4-phenylene groups. ) Represents. Here, Q 1 is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2
-Bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-hydroxyethyl group, benzyl group, chlorobenzyl group, methylbenzyl group, methoxybenzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, dimethylbenzyl group, fluorobenzyl group, 2-methoxy Ethyl group, 3-methoxypropyl group and the like).

【0024】Tは水素原子または炭素数1〜6の置換さ
れてもよい脂肪族基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、2−クロロエチル基、2,2−ジ
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシ
エチル基、2−ヒドロキシプロピル基、2,3−ジヒド
ロキシプロピル基、2−ヒドロキシ−3−クロロプロピ
ル基、2−シアノエチル基、3−シアノプロピル基、2
−ニトロエチル基、2−メトキシエチル基、2−メタン
スルホニルエチル基、2−エトキシエチル基、3−ブロ
モプロピル基、4−ヒドロキシブチル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシエ
チル基、3−カルボキシプロピル基、4−カルボキシブ
チル基、2−カルボキシアミドエチル基、2−N−メチ
ルカルボキシアミドエチル基、シクロペンチル基、クロ
ロシクロヘキシル基、ジクロロヘキシル基等)を表す。
T is a hydrogen atom or an optionally substituted aliphatic group having 1 to 6 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2,2-dichloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-hydroxyethyl group, 2-hydroxypropyl group, 2,3-dihydroxypropyl group, 2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-cyanoethyl group, 3-cyanopropyl group, 2
-Nitroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-ethoxyethyl group, 3-bromopropyl group, 4-hydroxybutyl group, 2-furfurylethyl group, 2-thienylethyl group, 2- Carboxyethyl group, 3-carboxypropyl group, 4-carboxybutyl group, 2-carboxyamidoethyl group, 2-N-methylcarboxyamidoethyl group, cyclopentyl group, chlorocyclohexyl group, dichlorohexyl group, etc.).

【0025】b1およびb2は、互いに同じでも異なって
もよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、
塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜3のア
ルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)、−COO−Q2または−CH2−COO−Q2〔こ
こでQ2は水素原子、または置換されてもよい炭素数1
0以下の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル
基、アラルキル基、アリール基等を表す〕を表す。
B 1 and b 2 may be the same as or different from each other, and preferably a hydrogen atom or a halogen atom (for example,
Chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, alkyl group having 1 to 3 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), —COO-Q 2 or —CH 2 —COO-Q 2 [wherein Q 2 is a hydrogen atom or optionally substituted carbon atom 1
It represents a hydrocarbon group of 0 or less (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an aryl group, or the like).

【0026】具体的な一官能性単量体(A)としては、
例えば炭素数1〜6の脂肪族カルボン酸(酢酸、プロピ
オン酸、酪酸、モノクロロ酢酸等)のビニルエステル類
あるいはアリルエステル類;アクリル酸、メタクリル
酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸等の不飽和カ
ルボン酸の炭素数1〜4の置換されてもよいアルキルエ
ステル類またはアミド類(アルキル基として例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、2−クロロエ
チル基、2−ブロモエチル基、2−ヒドロキシエチル
基、2−シアノエチル基、2−ニトロエチル基、2−メ
トキシエチル基、2−メタンスルホニルエチル基、2−
ベンゼンスルホニルエチル基、2−カルボキシエチル
基、4−カルボキシブチル基、3−クロロプロピル基、
2−ヒドロキシ−3−クロロプロピル基、2−フルフリ
ルエチル基、2−チエニルエチル基、2−カルボキシア
ミドエチル基等);
As a specific monofunctional monomer (A),
For example, vinyl esters or allyl esters of aliphatic carboxylic acids having 1 to 6 carbon atoms (acetic acid, propionic acid, butyric acid, monochloroacetic acid, etc.); Unsaturation of acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, itaconic acid, maleic acid, etc. Alkyl esters or amides of carboxylic acid having 1 to 4 carbon atoms which may be substituted (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-hydroxy group as alkyl group) Ethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-nitroethyl group, 2-methoxyethyl group, 2-methanesulfonylethyl group, 2-
Benzenesulfonylethyl group, 2-carboxyethyl group, 4-carboxybutyl group, 3-chloropropyl group,
2-hydroxy-3-chloropropyl group, 2-furfurylethyl group, 2-thienylethyl group, 2-carboxamidoethyl group, etc.);

【0027】スチレン誘導体(例えば、スチレン、ビニ
ルトルエン、α−メチルスチレン、ビニルナフタレン、
クロロスチレン、ジクロロスチレン、ブロモスチレン、
ビニルベンゼンカルボン酸、クロロメチルスチレン、ヒ
ドロキシメチルスチレン、メトキシメチルスチレン、ビ
ニルベンゼンカルボキシアミド、ビニルベンゼンスルホ
アミド等);アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、
マレイン酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸;マレイ
ン酸、イタコン酸の環状酸無水物;アクリロニトリル;
メタクリロニトリル;重合性二重結合基含有のヘテロ環
化合物(具体的には、例えば高分子学会編「高分子デー
タハンドブック−基礎編−」、p175〜184、培風
舘(1986年刊)に記載の化合物、例えば、N−ビニ
ルピリジン、N−ビニルイミダゾール、N−ビニルピロ
リドン、ビニルチオフェン、ビニルテトラヒドロフラ
ン、ビニルオキサゾリン、ビニルチアゾール、N−ビニ
ルモルホリン等)等が挙げられる。単量体(A)は2種
以上を併用してもよい。
Styrene derivatives (for example, styrene, vinyltoluene, α-methylstyrene, vinylnaphthalene,
Chlorostyrene, dichlorostyrene, bromostyrene,
Vinylbenzenecarboxylic acid, chloromethylstyrene, hydroxymethylstyrene, methoxymethylstyrene, vinylbenzenecarboxamide, vinylbenzenesulfoamide, etc.); acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid,
Unsaturated carboxylic acids such as maleic acid and itaconic acid; cyclic acid anhydrides of maleic acid and itaconic acid; acrylonitrile;
Methacrylonitrile; a heterocyclic compound containing a polymerizable double bond group (specifically, for example, described in "Polymer Data Handbook-Basic Edition", edited by The Polymer Society of Japan, p175-184, Baifukan (1986). Compounds such as N-vinylpyridine, N-vinylimidazole, N-vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinyltetrahydrofuran, vinyloxazoline, vinylthiazole and N-vinylmorpholine). The monomer (A) may be used in combination of two or more kinds.

【0028】次に、本発明に用いられる単量体(A)と
共重合可能で、前記一般式(I)で示されるアミノ基を
含有する一官能性単量体(B)について説明する。一官
能性単量体(B)においては、重合性二重結合基とアミ
ノ基は直接結合していない。
Next, the monofunctional monomer (B) containing an amino group represented by the above general formula (I), which is copolymerizable with the monomer (A) used in the present invention, will be explained. In the monofunctional monomer (B), the polymerizable double bond group and the amino group are not directly bonded.

【0029】式(I)中、R1、R2は、各々同じでも異
なってもよく、好ましくは水素原子又は炭素数1〜22
の置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ト
リデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタ
デシル基、エイコシル基、ドコシル基、2−クロロエチ
ル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−
メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、
3−ブロモプロピル基等)、炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキ
セニル基、2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレニル基
等)、
In the formula (I), R 1 and R 2 may be the same or different and are preferably a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 22.
Optionally substituted alkyl group (for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, Octadecyl group, eicosyl group, docosyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-
Methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group,
3-bromopropyl group, etc.), an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms and which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group). Group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
Hexadecenyl group, octadecenyl group, linolenyl group, etc.),

【0030】炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベ
ンジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジ
メチルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)または炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオン
アミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)
が挙げられる。
Aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methyl group). Benzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2- Cyclopentylethyl group) or an optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group) , Methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyl Shifeniru group, chlorophenyl group,
(Dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propionamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.)
Is mentioned.

【0031】また、R1、R2は結合して窒素原子と共に
環を形成する有機残基を表してもよい。この有機残基
は、更にヘテロ原子(例えば酸素原子、窒素原子、イオ
ウ原子等)を含有してもよい。形成される環状基として
は、例えばモルホリノ基、ピペリジノ基、ピリジニル
基、イミダゾリル基、キノリニル基等が挙げられる。ア
ミノ基は、単量体(B)の分子中に複数個含有されてい
てもよい。本発明の樹脂粒子は共重合成分としてアミノ
基含有の単量体(B)を含むことで、粒子が検電性とな
り、また粒子の荷電量が増加し、且つ、環境条件(低温
・低湿〜高温・高湿)の変動あるいは長期間の保存でも
荷電特性の変化が著しく軽減され、その結果、形成され
る画像は画質が安定したものが得られる。単量体(B)
は、単量体(A)の総量に対して、好ましくは1〜45
質量%、より好ましくは5〜30質量%用いる。
R 1 and R 2 may represent an organic residue which is bonded to form a ring with a nitrogen atom. The organic residue may further contain a hetero atom (eg, oxygen atom, nitrogen atom, sulfur atom, etc.). Examples of the formed cyclic group include a morpholino group, a piperidino group, a pyridinyl group, an imidazolyl group, and a quinolinyl group. A plurality of amino groups may be contained in the molecule of the monomer (B). The resin particles of the present invention contain an amino group-containing monomer (B) as a copolymerization component, so that the particles become electrophoretic, the charge amount of the particles increases, and the environmental conditions (low temperature / low humidity to The change in the charging characteristics is remarkably reduced even by the fluctuation of high temperature and high humidity or the storage for a long period of time, and as a result, the formed image has stable image quality. Monomer (B)
Is preferably 1 to 45 with respect to the total amount of the monomer (A).
Mass%, more preferably 5 to 30 mass%.

【0032】以下に、単量体(B)の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the monomer (B) are shown below.
The present invention is not limited to these.

【0033】[0033]

【化8】 [Chemical 8]

【0034】次に、本発明に用いられる一官能性単量体
(C)について説明する。一官能性単量体(C)は、−
PO32基、−SO3H基及び−SO2H基から選ばれる
酸性基を少なくとも1つ含有する、単量体(A)と共重
合可能な単量体である。単量体(C)は分子中に複数個
の上記酸性基を含有してもよい。単量体(C)は単量体
(B)の効果を補充し、樹脂粒子の荷電特性を更に向上
させ、常に安定した優れた画質の画像を与えるように作
用する。単量体(C)は、単量体(B)/単量体(C)
のモル比で、好ましくは0.2〜2.5、より好ましく
は0.5〜2.0の範囲で用いられる。
Next, the monofunctional monomer (C) used in the present invention will be described. The monofunctional monomer (C) is-
It is a monomer copolymerizable with the monomer (A), containing at least one acidic group selected from PO 3 H 2 group, —SO 3 H group and —SO 2 H group. The monomer (C) may contain a plurality of the above acidic groups in the molecule. The monomer (C) supplements the effect of the monomer (B), further improves the charging characteristics of the resin particles, and acts to always provide a stable and excellent image quality. Monomer (C) is monomer (B) / monomer (C)
The molar ratio is preferably 0.2 to 2.5, more preferably 0.5 to 2.0.

【0035】以下に、単量体(C)の具体例を示すが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of the monomer (C) are shown below.
The present invention is not limited to these.

【0036】[0036]

【化9】 [Chemical 9]

【0037】[0037]

【化10】 [Chemical 10]

【0038】次に、本発明に用いられる一官能性単量体
(D)について説明する。単量体(D)は、重合性二重
結合基の側鎖置換基中に、フッ素原子及び/又はケイ素
原子を含有する単量体(A)と共重合可能な一官能性単
量体である。
Next, the monofunctional monomer (D) used in the present invention will be described. The monomer (D) is a monofunctional monomer copolymerizable with the monomer (A) containing a fluorine atom and / or a silicon atom in the side chain substituent of the polymerizable double bond group. is there.

【0039】フッ素原子を含有する置換基としては、例
えば下記の1価又は2価の有機残基等が挙げられる。−
n(F)2n+1(nは1〜22の整数)、−CFH2
−CFHCl、−CFCl2 、−CF2Cl、−(C
2)mCF2H(mは0、又は1〜17の整数)、−CF
2−、−CFH−、−CFCl−
Examples of the substituent containing a fluorine atom include the following monovalent or divalent organic residues. −
C n (F) 2n + 1 (n is 1 to 22 integer), - CFH 2,
-CFHCl, -CFCl 2, -CF 2 Cl , - (C
F 2 ) m CF 2 H (m is 0 or an integer of 1 to 17), -CF
2- , -CFH-, -CFCl-

【0040】これらのフッ素原子含有の有機残基は組み
合わせて構成されていてもよく、その場合には、直接結
合してもよいし、他の連結基を介して組み合わされても
よい。連結する基としては、具体的には2価の有機残基
が挙げられ、−O−、−S−、−N(g1)−、−CO
−、−SO−、−SO2 −、−COO−、−OCO−、
−CONHCO−、−NHCONH−、−CON(g1)
−、−SO2 N(g1)−等から選ばれた結合基を介在さ
せてもよい、2価の脂肪族基もしくは2価の芳香族基、
又はこれらの2価の残基の組み合わせにより構成された
有機残基が挙げられる。ここで、g1 は炭素数1〜3の
アルキル基を表す。
These fluorine atom-containing organic residues may be constituted in combination, and in that case, they may be directly bonded or may be combined via another linking group. The linking radicals, specifically include divalent organic residues, -O -, - S -, - N (g 1) -, - CO
-, - SO -, - SO 2 -, - COO -, - OCO-,
-CONHCO -, - NHCONH -, - CON (g 1)
A divalent aliphatic group or a divalent aromatic group which may have a bonding group selected from —, —SO 2 N (g 1 ) — and the like,
Alternatively, an organic residue composed of a combination of these divalent residues can be mentioned. Here, g 1 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

【0041】ケイ素原子を含有する置換基としては、下
記のシロキサン構造(あるいはシリルオキシ構造)又は
シリル基を含有するものが好ましい。
As the substituent containing a silicon atom, those containing the following siloxane structure (or silyloxy structure) or silyl group are preferable.

【0042】[0042]

【化11】 [Chemical 11]

【0043】上記構造において、R11及びR12並びにR
13、R14及びR15は互いに同じでも異なってもよく、各
々脂肪族基、芳香族基又は複素環基を表す。R11〜R15
は各々、好ましくは置換されてもよい炭素数1〜18の
直鎖状又は分枝状アルキル基(例えばメチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、2−フロロエチル基、トリフロロメチル基、2−
クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチ
ル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2−メトキシ
エチル基、3−ブロモプロピル基、2−メチルカルボニ
ルエチル基、2,3−ジメトキシプロピル基、フッ化ア
ルキル基〔例えば−(CH2)hi2i+1基(但しhは1
〜6の整数、iは1〜12の整数を表す)基、−(CH
2)h−(CF2)j−R16基(但しjは0又は1〜12の整
数、R16基は炭素数1〜12のアルキル基、−CF
2H、−CFH2、−CF3を表す)、−CH(C
3) 2、−CF2Cl、−CFCl2 、−CFClH、
−CF(CF3)OCi2i+1、−OCi2i+1、−C(C
3)2OCi 2i+1等〕、
In the above structure, R11And R12And R
13, R14And R15Can be the same or different from each other
Each represents an aliphatic group, an aromatic group or a heterocyclic group. R11~ R15
Each preferably has 1 to 18 carbon atoms which may be substituted.
Linear or branched alkyl group (eg, methyl group, ethyl
Group, propyl group, butyl group, hexyl group, heptyl group,
Octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group
Syl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl
Group, 2-fluoroethyl group, trifluoromethyl group, 2-
Chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl
Group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxy
Ethyl group, 3-bromopropyl group, 2-methylcarboni
Ruethyl group, 2,3-dimethoxypropyl group, fluorinated group
Rukyl group [eg-(CH2)hCiF2i + 1Group (however, h is 1
~ Integer of 6, i represents an integer of 1 to 12) group,-(CH
2)h-(CF2)j-R16Group (where j is 0 or an integer of 1 to 12)
Number, R16The group is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, -CF
2H, -CFH2, -CF3Represents), -CH (C
F3)2, -CF2Cl, -CFCl2, -CFClH,
-CF (CF3) OCiF2i + 1, -OCiF2i + 1, -C (C
F3)2OCiF 2i + 1etc〕,

【0044】炭素数4〜18の置換されてもよいアルケ
ニル基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−
ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペン
テニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキセニル基、2−
ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセニル基、デセニ
ル基、ドデセニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル
基、オクタデセニル基、リノレニル基等)、炭素数7〜
12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジ
ル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチ
ルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル
基、ブロモベンジル基、メチルベンジル基、エチルベン
ジル基、メトキシベンジル基、ジメチルベンジル基、ジ
メトキシベンジル基等)、炭素数5〜8の置換されても
よい脂環式基(例えば、シクロペンチル基、シクロヘキ
シル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペン
チルエチル基、ポリフロロヘキシル基、メチルシクロヘ
キシル基、メトキシシクロヘキシル基等)、炭素数6〜
12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル
基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェ
ニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデ
シルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニ
ル基、ブトキシフェニル基、フロロフェニル基、クロロ
フェニル基、ジフロロフェニル基、ブロモフェニル基、
シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキシカル
ボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブ
トキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェニル
基、プロピオアミドフェニル基、トリフロロメチルフェ
ニル基等)、又は窒素原子、酸素原子、イオウ原子から
選ばれる少なくとも1種の原子を含有する縮環してもよ
いヘテロ環基(例えばヘテロ環としては、ピラン環、フ
ラン環、チオフェン環、モルホリン環、ピロール環、チ
アゾール環、オキサゾール環、ピリジン環、ピペリジン
環、ピロリドン環、ベンゾチアゾール環、ベンツオキサ
ゾール環、キノリン環、テトラヒドロフラン環等)等が
挙げられる。
An alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (eg, 2-methyl-1-propenyl group, 2-
Butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-
Hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, hexadecenyl group, octadecenyl group, linolenyl group, etc.), carbon number 7 to
12 optionally substituted aralkyl groups (eg, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, Methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (for example, cyclopentyl group, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, Polyfluorohexyl group, methylcyclohexyl group, methoxycyclohexyl group, etc.), 6 to 6 carbon atoms
12 optionally substituted aromatic groups (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxy group Phenyl group, fluorophenyl group, chlorophenyl group, difluorophenyl group, bromophenyl group,
Cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, trifluoromethylphenyl group, etc.), or nitrogen atom, oxygen atom, sulfur atom A heterocyclic group which may be condensed with at least one atom selected from (for example, the heterocycle includes pyran ring, furan ring, thiophene ring, morpholine ring, pyrrole ring, thiazole ring, oxazole ring, pyridine ring) , Piperidine ring, pyrrolidone ring, benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, tetrahydrofuran ring and the like).

【0045】特に好ましくは、R11及びR12のいずれか
の置換基、そしてR13、R14及びR 15の中の2つ以上の
置換基が、各々、アルキル基またはアルケニル基から成
ることである。フッ素原子含有置換基及びケイ素原子含
有置換基は、単量体(D)の分子中に複数個含有されて
もよい。単量体(D)は、全単量体の総量に対して、好
ましくは1〜15質量%、より好ましくは2〜10質量
%用いられる。
Particularly preferably, R11And R12One of
Substituent of R, and R13, R14And R 15Two or more in
Each of the substituents is composed of an alkyl group or an alkenyl group.
Is Rukoto. Fluorine atom-containing substituents and silicon atom-containing
A plurality of substituents are contained in the molecule of the monomer (D).
Good. Monomer (D) is better than the total amount of all monomers.
It is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 2 to 10% by mass.
% Used.

【0046】以下に、単量体(D)の具体例を示すが、
本発明はこれに限定されるものではない。
Specific examples of the monomer (D) are shown below.
The present invention is not limited to this.

【0047】[0047]

【化12】 [Chemical 12]

【0048】[0048]

【化13】 [Chemical 13]

【0049】[0049]

【化14】 次に、本発明に用いられる分散安定用樹脂(P)につい
て説明する。
[Chemical 14] Next, the dispersion stabilizing resin (P) used in the present invention will be described.

【0050】本発明において、非水溶媒中で、単量体を
重合して生成した非水溶媒不溶の重合体を安定な樹脂分
散物とするために用いられる分散安定用樹脂(P)は、
前記一般式(PI)で示される重合成分を少なくとも1
種含有する、該非水溶媒にコロイド状に分散して成る共
重合体である。該共重合体は、一般式(PI)で示され
る非水溶媒に可溶性の重合成分を少なくとも含有するブ
ロック(以下、ブロックAと称する)と含有しないブロ
ック(以下、ブロックBと称する)から成るブロック共
重合体であり、ABブロック型(ABA型、スター型を
含む)、グラフト型(もしくはクシ型とも称する)も含
まれる。即ち、ブロックA部は該非水溶媒に可溶性のパ
ート、ブロックBは該非水溶媒に不溶性のパートであ
り、分散安定用樹脂(P)としてこのような可溶性パー
ト及び不溶性パートのブロック共重合体を用いることに
より、分散安定用樹脂(P)をコロイド状に分散させる
ことが容易になる。
In the present invention, the dispersion stabilizing resin (P) used to form a non-aqueous solvent-insoluble polymer produced by polymerizing a monomer in a non-aqueous solvent into a stable resin dispersion is
At least one polymerization component represented by the general formula (PI) is used.
It is a copolymer containing seeds and dispersed in a colloidal form in the non-aqueous solvent. The copolymer is a block composed of a block containing at least a polymerization component soluble in a non-aqueous solvent represented by the general formula (PI) (hereinafter referred to as block A) and a block not containing it (hereinafter referred to as block B). It is a copolymer and includes an AB block type (including ABA type and star type) and a graft type (also referred to as comb type). That is, the block A part is a part soluble in the non-aqueous solvent, the block B is an insoluble part in the non-aqueous solvent, and such a block copolymer of the soluble part and the insoluble part is used as the dispersion stabilizing resin (P). This makes it easy to disperse the dispersion stabilizing resin (P) in a colloidal form.

【0051】本発明の分散安定用樹脂(P)は、好まし
くは、該非水溶媒に平均粒径0.15μm以下、更に好
ましくは平均粒径0.1μm以下のコロイド状に分散し
て成る樹脂である。以下に本発明の分散安定用樹脂
(P)におけるブロック共重合体の重合パターンを例示
する。
The dispersion stabilizing resin (P) of the present invention is preferably a resin which is dispersed in the non-aqueous solvent in a colloidal form having an average particle size of 0.15 μm or less, more preferably 0.1 μm or less. is there. The polymerization pattern of the block copolymer in the dispersion stabilizing resin (P) of the present invention is illustrated below.

【0052】[0052]

【化15】 [Chemical 15]

【0053】次に、本発明の分散安定用樹脂のブロック
A中の主成分となる一般式(PI)で表される繰り返し単
位について説明する。一般式(PI)において−V0
は好ましくは−COO−、−OCO−又は−O−を表
す。Lは好ましくは炭素数10以上のアルキル基又はア
ルケニル基を表し、これらは直鎖状でも分岐状でもよ
い。具体的には、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコサニル基、ドコサニル基、デセニル基、ドデ
セニル基、トリデセニル基、ヘキサデセニル基、オクタ
デセニル基、リノレル基が挙げられる。
Next, the repeating unit represented by the general formula (PI), which is the main component in the block A of the dispersion stabilizing resin of the present invention, will be described. -V 0 in the general formula (PI) -
Preferably represents -COO-, -OCO- or -O-. L preferably represents an alkyl group or an alkenyl group having 10 or more carbon atoms, which may be linear or branched. Specific examples thereof include a decyl group, a dodecyl group, a tridecyl group, a tetradecyl group, a hexadecyl group, an octadecyl group, an eicosanyl group, a docosanyl group, a decenyl group, a dodecenyl group, a tridecenyl group, a hexadecenyl group, an octadecenyl group, and a linolel group.

【0054】b1及びb2は、互いに同じでも異なってい
てもよく、好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例え
ば、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、炭素原子1〜
3のアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基等)、−COO−Z1又は−CH2COO−Z1〔Z1
は、水素原子又は置換されていてもよい炭素数22以下
の炭化水素基(例えば、アルキル基、アルケニル基、ア
ラルキル基、脂環式基、アリール基等)を表す〕を表
す。
B 1 and b 2 may be the same or different from each other, preferably a hydrogen atom, a halogen atom (eg chlorine atom, bromine atom etc.), a cyano group, a carbon atom 1 to
3 alkyl group (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, etc.), —COO-Z 1 or —CH 2 COO-Z 1 [Z 1
Represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group having 22 or less carbon atoms (for example, an alkyl group, an alkenyl group, an aralkyl group, an alicyclic group, an aryl group, etc.).

【0055】Z1は、具体的には、水素原子のほか、好
ましい炭化水素基としては、炭素数1〜22の置換され
てもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プ
ロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル
基、エイコサニル基、ドコサニル基、2−クロロエチル
基、2−ブロモエチル基、2−シアノエチル基、2−メ
トキシカルボニルエチル基、2−メトキシエチル基、3
−ブロモプロピル基等)、 炭素数4〜18の置換され
てもよいアルケニル基(例えば、2−メチル−1−プロ
ペニル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、3−メ
チル−2−ペンテニル基、1−ペンテニル基、1−ヘキ
セニル基,2−ヘキセニル基、4−メチル−2−ヘキセ
ニル基、デセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、
ヘキサデセニル基、オクタデセニル基、リノレル基
等)、 炭素数7〜12の置換されてもよいアラルキル
基(例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル
プロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチル
基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基、メチルベン
ジル基、エチルベンジル基、メトキシベンジル基、ジメ
チルベンジル基、ジメトキシベンジル基等)、 炭素数
5〜8の置換されてもよい脂環式基(例えば、シクロヘ
キシル基、2−シクロヘキシルエチル基、2−シクロペ
ンチルエチル基等)、及び炭素数6〜12の置換されて
もよい芳香族基(例えば、フェニル基、ナフチル基、ト
リル基、キシリル基、プロピルフェニル基、ブチルフェ
ニル基、オクチルフェニル基、ドデシルフェニル基、メ
トキシフェニル基、エトキシフェニル基、ブトキシフェ
ニル基、デシルオキシフェニル基、クロロフェニル基、
ジクロロフェニル基、ブロモフェニル基、シアノフェニ
ル基、アセチルフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、エトキシカルボニルフェニル基、ブトキシカルボ
ニルフェニル基、アセトアミドフェニル基、プロピオア
ミドフェニル基、ドデシロイルアミドフェニル基等)が
挙げられる。
Z 1 is specifically a hydrogen atom, and as a preferable hydrocarbon group, an optionally substituted alkyl group having 1 to 22 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) is preferable. Group, heptyl group, hexyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosanyl group, docosanyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2- Cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group, 3
-Bromopropyl group, etc., an alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms which may be substituted (for example, 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group) , 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl group, decenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group,
Hexadecenyl group, octadecenyl group, linolel group, etc.), aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms which may be substituted (for example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chloro) Benzyl group, bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxybenzyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), an alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms which may be substituted (eg, cyclohexyl group, 2-cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) and optionally substituted aromatic group having 6 to 12 carbon atoms (eg, phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl) Group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, etoxy Phenyl group, butoxyphenyl group, decyloxyphenyl group, chlorophenyl group,
Dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dodecyloylamidophenyl group, etc.) To be

【0056】ブロックA部において一般式(PI)で示
される繰り返し単位とともに、他の繰り返し単位を共重
合成分として含有してもよい。他の共重合成分として
は、一般式(PI)の繰り返し単位に相当する単量体と
共重合可能な単量体であればいずれの化合物でもよい。
しかし、好ましくは、他の成分は含有しない方が好まし
く、多くてもブロックA中20質量%以下、より好まし
くは10質量%以下で用いられる。20質量%を超える
とコロイド状分散樹脂粒子の分散安定性が劣化してしま
う。ブロックAにおいて、一般式(PI)で示される繰
り返し単位は二種以上を併用してもよい。
In the block A part, other repeating unit may be contained as a copolymerization component in addition to the repeating unit represented by the general formula (PI). The other copolymerization component may be any compound as long as it is a monomer copolymerizable with the monomer corresponding to the repeating unit of the general formula (PI).
However, it is preferable that the other components are not contained, and at most 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less in the block A is used. If it exceeds 20% by mass, the dispersion stability of the colloidal dispersed resin particles deteriorates. In the block A, the repeating unit represented by the general formula (PI) may be used in combination of two or more kinds.

【0057】また、本発明に供される分散安定用樹脂の
ブロックBを構成する重合体成分としては、前記一官能
性単量体(A)に相当する重合体成分、並びに、ホスホ
ノ基、カルボキシル基、スルホ基、ヒドロキシル基、ホ
ルミル基、アミノ基、−P(=O)(OH)R31基〔R
31は−R32基又は−OR32基を示し、R32は炭化水素基
を表す〕、−CONR3334基、−SO2NR3334
〔R33およびR34は、各々独立に、水素原子又は炭化水
素基を表す〕及び環状酸無水物含有基から選択される少
なくとも1種の極性基を含有する重合体成分挙げられ
る。
The polymer component constituting the block B of the dispersion stabilizing resin used in the present invention includes a polymer component corresponding to the monofunctional monomer (A), a phosphono group and a carboxyl group. Group, sulfo group, hydroxyl group, formyl group, amino group, -P (= O) (OH) R 31 group [R
31 represents -R 32 group or -OR 32 group, R 32 represents a hydrocarbon group], -CONR 33 R 34 group, -SO 2 NR 33 R 34 group [R 33 and R 34 are each independently , A hydrogen atom or a hydrocarbon group] and a polymer component containing at least one polar group selected from cyclic acid anhydride-containing groups.

【0058】上記の各炭化水素基は、炭素数1〜10の
炭化水素基を表す。R32の炭化水素基として、好ましく
は、炭素数1〜8の置換されてもよい脂肪族基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニ
ル基、2−クロロエチル基、2−シアノエチル基、シク
ロペンチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基、フェネ
チル基、クロロベンジル基、ブロモベンジル基等)、お
よび置換されてもよい芳香族基(例えばフェニル基、ト
リル基、キシリル基、メシチル基、クロロフェニル基、
ブロモフェニル基、メトキシフェニル基、シアノフェニ
ル基等)が挙げられる。
Each of the above-mentioned hydrocarbon groups represents a hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms. The hydrocarbon group for R 32 is preferably an optionally substituted aliphatic group having 1 to 8 carbon atoms (eg, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, butenyl group, pentenyl group). , A hexenyl group, a 2-chloroethyl group, a 2-cyanoethyl group, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a benzyl group, a phenethyl group, a chlorobenzyl group, a bromobenzyl group, and the like, and an aromatic group which may be substituted (for example, a phenyl group, Tolyl group, xylyl group, mesityl group, chlorophenyl group,
Bromophenyl group, methoxyphenyl group, cyanophenyl group, etc.).

【0059】また、環状酸無水物含有基とは、少なくと
も1つの環状酸無水物を含有する基であり、含有される
環状酸無水物としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳
香族ジカルボン酸無水物が挙げられる。脂肪族ジカルボ
ン酸無水物の例としては、コハク酸無水物、グルタコン
酸無水物、マレイン酸無水物、シクロペンタン−1,2
−ジカルボン酸無水物、シクロヘキサン−1,2−ジカ
ルボン酸無水物、シクロヘキセン−1,2−ジカルボン
酸無水物、2,3−ビシクロ〔2,2,2〕オクタンジ
カルボン酸無水物等が挙げられ、これらの脂肪族ジカル
ボン酸無水物は、例えば、塩素原子、臭素原子等のハロ
ゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシル基
等のアルキル基等で置換されていてもよい。また、芳香
族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸無水物、
ナフタレン−ジカルボン酸無水物、ピリジン−ジカルボ
ン酸無水物、チオフェン−ジカルボン酸無水物等が挙げ
られ、これらの芳香族ジカルボン酸無水物は、例えば、
塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、等のアルキル基、ヒドロ
キシル基、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル
基(アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エト
キシ基等)等で置換されていてもよい。
The cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and the cyclic acid anhydride to be contained is an aliphatic dicarboxylic acid anhydride or an aromatic dicarboxylic acid anhydride. Things can be mentioned. Examples of the aliphatic dicarboxylic acid anhydride include succinic anhydride, glutaconic anhydride, maleic anhydride, cyclopentane-1,2.
-Dicarboxylic acid anhydride, cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 2,3-bicyclo [2,2,2] octanedicarboxylic acid anhydride, and the like, These aliphatic dicarboxylic acid anhydrides may be substituted with, for example, a halogen atom such as a chlorine atom or a bromine atom, an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, a butyl group or a hexyl group. Further, examples of aromatic dicarboxylic acid anhydrides include phthalic anhydride,
Naphthalene-dicarboxylic acid anhydride, pyridine-dicarboxylic acid anhydride, thiophene-dicarboxylic acid anhydride and the like, and these aromatic dicarboxylic acid anhydrides, for example,
Chlorine atom, halogen atom such as bromine atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, alkyl group such as hydroxyl group, cyano group, nitro group, alkoxycarbonyl group (as the alkoxy group, for example, a methoxy group, Ethoxy group, etc.) and the like.

【0060】ブロックB部は、一官能性単量体(A)に
相当する重合体成分であることが好ましい。前記の特定
の極性基含有の重合体成分を含有する場合には、ブロッ
クB部の全重合体成分の30質量部を超えないことが好
ましい。30質量部を超えると本発明の分散樹脂粒子分
散物を含有するインクの吐出応答性に悪影響を及ぼして
しまう場合が生じる。
The block B part is preferably a polymer component corresponding to the monofunctional monomer (A). When the above-mentioned specific polar group-containing polymer component is contained, it is preferably not more than 30 parts by mass of the total polymer component in the block B part. If it exceeds 30 parts by mass, the ejection response of the ink containing the dispersed resin particle dispersion of the present invention may be adversely affected.

【0061】本発明の分散安定用樹脂(P)の質量平均
分子量(Mw)は、好ましくは2×104〜1×106
あり、より好ましくは3×104〜1×105である。本
発明の分散安定用樹脂(P)におけるブロックA部とブ
ロックB部の構成比は、30/70〜90/10(質量
比)が好ましく、より好ましくは、40/60〜80/
20(質量比)である。
The mass average molecular weight (Mw) of the dispersion stabilizing resin (P) of the present invention is preferably 2 × 10 4 to 1 × 10 6 , and more preferably 3 × 10 4 to 1 × 10 5 . . The composition ratio of the block A part and the block B part in the dispersion stabilizing resin (P) of the present invention is preferably 30/70 to 90/10 (mass ratio), and more preferably 40/60 to 80 /.
20 (mass ratio).

【0062】また、本発明の分散安定用樹脂(P)がス
ター型ブロック共重合体である場合について、更に詳述
する。スター型ブロックポリマーは、下記に示されるブ
ロックAとブロックBで構成される高分子鎖を少なくと
も3個以上結合して成るものである。
The case where the dispersion stabilizing resin (P) of the present invention is a star block copolymer will be described in more detail. The star-type block polymer is formed by binding at least three polymer chains composed of block A and block B shown below.

【0063】[0063]

【化16】 [Chemical 16]

【0064】ここで、各高分子鎖は、同一内容のものか
ら構成され且つブロックAとブロックBの高分子鎖中に
おける配列の順序は、ブロックAの重合体主鎖のブロッ
クBと結合する末端とは反対側の片末端で、有機分子に
結合して成るものである。
Here, each polymer chain is composed of the same contents, and the order of arrangement in the polymer chains of block A and block B is such that the end of the polymer main chain of block A which is connected to block B of the main chain. It is formed by binding to an organic molecule at one end on the side opposite to.

【0065】上記において、Xは有機分子を表し、
(A)はブロックAを、(B)はブロックBを表し、
(A)−(B)は高分子鎖を表す。また、かかるA−B
型ブロック高分子鎖は、有機分子中に含まれる上限は多
くて15個、通常10個程度である。高分子鎖を少なく
とも3個以上結合してなる有機分子としては、該分子の
分子量が1000以下のものであれば特に限定されるも
のではない。例を挙げれば、下記に記載の3価の炭化水
素残基が挙げられる。
In the above, X represents an organic molecule,
(A) represents block A, (B) represents block B,
(A)-(B) represents a polymer chain. Also, such AB
The upper limit of the type block polymer chains contained in the organic molecule is at most 15, usually about 10. The organic molecule formed by binding at least three polymer chains is not particularly limited as long as the molecular weight of the molecule is 1,000 or less. Examples include the trivalent hydrocarbon residues described below.

【0066】[0066]

【化17】 [Chemical 17]

【0067】[0067]

【化18】 [Chemical 18]

【0068】ブロック共重合体(P)は、従来公知の重
合性二重合結合基をもつ単量体のブロック共重合体合成
法を利用して合成することができる。例えばその一つと
してカルバニオンを開始剤とする重合反応が挙げられ
る。具体的には、M. Morton, T. E. Helminiak et al
“J. Polym. Sci. ”57, 471 (1962)、B. Gordon III,
M, Blumenthal, J. E. Loftus et al “ Polym. Bul
l.”11, 349(1984)、R. B. Bates, W. A. Beavers et a
l“J. Org. Chem. ”44, 3800(1979)に記載の方法に従
って合成できる。但し、本反応を用いる際には、本発明
の「特定の極性基」は、保護した官能基として用いて重
合させた後、保護基の脱離を行う。これらの、本発明の
特定の極性基の保護基による保護及びその保護基の脱離
(脱保護反応)については、従来公知の知見を利用して
容易に行なうことができる。例えば前記引用文献にも種
々記載されており、更には、 岩倉義男、栗田恵輔「反
応性高分子」(株)講談社刊(1977)、T. M. Greene“Pr
otective Groups in Organic Synthesis ”(John Wiley
& Sons, 1981年)、J. F. W. McOmic “Protective Gro
ups in Organic Chemistry ”(Plenum Press, 1973年)
等の総説に詳細に記載されている方法を適宜選択して行
なうことができる。
The block copolymer (P) can be synthesized by a conventionally known block copolymer synthesizing method of a monomer having a polymerizable dipolymerization bond group. For example, one of them is a polymerization reaction using a carbanion as an initiator. Specifically, M. Morton, TE Helminiak et al.
“J. Polym. Sci.” 57, 471 (1962), B. Gordon III,
M, Blumenthal, JE Loftus et al “Polym. Bul
l. ”11, 349 (1984), RB Bates, WA Beavers et a
It can be synthesized according to the method described in “J. Org. Chem.” 44, 3800 (1979). However, when this reaction is used, the "specific polar group" of the present invention is used as a protected functional group to polymerize, and then the protective group is removed. The protection of the specific polar group of the invention with a protecting group and the elimination of the protecting group (deprotection reaction) can be easily carried out by utilizing the conventionally known knowledge. For example, various references are given in the above cited document, and further, Yoshio Iwakura, Keisuke Kurita "Reactive Polymer" Kodansha Ltd. (1977), TM Greene "Pr.
otective Groups in Organic Synthesis ”(John Wiley
& Sons, 1981), JFW McOmic “Protective Gro
ups in Organic Chemistry ”(Plenum Press, 1973)
The method described in detail in the review article can be selected as appropriate.

【0069】他の方法としては、本発明の特定の極性基
を保護しないままの単量体を用い、ジシオカーバメント
基を含有する化合物及び/又はザンテート基を含有する
化合物を開始剤として、光照射下に重合反応を行なって
合成することもできる。例えば、大津隆行「高分子」3
7, 248 (1988)、檜森俊一、大津隆一“ Polym. Rep. Ja
p. ”37, 3508 (1988)、特開昭64−111号、特開
昭64−26619号、東信行等“Polymer Preprints,
Japan”36 (6), 1511 (1987) 、M. Niwa, N. Higashi
et al “J. Macromol. Sci. Chem. ”A24 (5), 567 (19
87) 等に記載の合成方法に従って合成することができ
る。
As another method, a monomer of the present invention which does not protect a specific polar group is used, and a compound containing a dithiocarbament group and / or a compound containing a xanthate group is used as an initiator. It can also be synthesized by performing a polymerization reaction under light irradiation. For example, Takayuki Otsu "Polymer" 3
7, 248 (1988), Shunichi Hinomori, Ryuichi Otsu “Polym. Rep. Ja
p. "37, 3508 (1988), Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-111, Japanese Unexamined Patent Publication No. 64-26619, Nobuyuki Azuma et al.," Polymer Preprints, "
Japan ”36 (6), 1511 (1987), M. Niwa, N. Higashi
et al “J. Macromol. Sci. Chem.” A24 (5), 567 (19
87) and the like.

【0070】以上のような範囲内において、本発明の油
性インク中の分散樹脂粒子の分散安定性、再分散安定
性、保存安定性に優れ、且つ、画像形成後の迅速な定着
性が良好で、印刷時にも充分な強度が保たれ高刷性を示
す。また同時に、非常に安定な分散性を示し、特に記録
装置内において、長く繰り返し使用をしても分散性がよ
く、且つ再分散も容易であり、装置の各部に付着し汚れ
を生じることが全く認められない。
Within the above range, the dispersion resin particles in the oil-based ink of the present invention are excellent in dispersion stability, re-dispersion stability and storage stability, and the rapid fixing property after image formation is good. In addition, it retains sufficient strength during printing and exhibits high printing performance. At the same time, it exhibits very stable dispersibility, and even if it is used repeatedly for a long time in the recording apparatus, it has good dispersibility and is easy to re-disperse, and it is completely adhered to each part of the apparatus to cause stains. unacceptable.

【0071】さらには、インク画像形成後に、加熱等の
迅速処理で定着すると、容易に平版印刷版用支持体表面
に強固な被膜が形成され、良好な定着性を示した。これ
により、オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高
耐刷性)が可能となる。以上のような効果をもたらす本
発明の油性インクは、本発明によって供される不溶性ラ
テックスによって可能となる。
Furthermore, when fixing was carried out by rapid processing such as heating after the formation of an ink image, a strong coating was easily formed on the surface of the lithographic printing plate support, and good fixing properties were exhibited. As a result, it is possible to print a large number of sheets (high printing durability) even in offset printing. The oil-based ink of the present invention which brings about the above effects is made possible by the insoluble latex provided by the present invention.

【0072】このような本発明の顕著な性能向上の効果
は、構成要素である特定のブロックからなり、且つ非水
溶媒にコロイド状に分散してなる共重合体(P)にも依
存するものである。すなわち、本発明の分散安定用樹脂
(P)は、前記非水溶媒に対し親和性の大きな直鎖脂肪
族基含有の重合体成分から構成されるブロックAと、前
記非水溶媒に対し親和性が小さく、不溶化する単量体
(A)に対して親和性を有する重合成分から構成される
ブロックBとが結合したブロックの高分子鎖からなる共
重合体で且つ非水担体液にはコロイド状に分散して成る
ことを特徴とする。これにより、分散樹脂粒子の重合造
粒反応において、ブロックB部分が重合造粒時に物理化
学的相互作用で充分に吸着し、かつ非水系分散媒に対し
て親和性が大きいブロック部分が前記溶媒に対して充分
に溶媒和し、かつ立体的な反発効果も充分に作用する高
分子鎖が存在することから、吸着効果及び立体反発効果
が充分に効率よく発現することで、本発明に効果が発現
されるものと推定される。
Such remarkable performance-improving effect of the present invention depends on the copolymer (P) which is composed of specific blocks as constituents and is dispersed in a non-aqueous solvent in a colloidal state. Is. That is, the dispersion stabilizing resin (P) of the present invention has a block A composed of a polymer component containing a linear aliphatic group having a high affinity for the non-aqueous solvent and an affinity for the non-aqueous solvent. Is a copolymer consisting of a polymer chain of a block bound to a block B composed of a polymerization component having a small affinity for the insoluble monomer (A) and being colloidal in a non-aqueous carrier liquid. It is characterized by being dispersed in. As a result, in the polymerization granulation reaction of the dispersed resin particles, the block B portion is sufficiently adsorbed by physicochemical interaction during the polymerization granulation, and the block portion having a large affinity for the non-aqueous dispersion medium is the solvent. On the other hand, since there is a polymer chain that is sufficiently solvated with respect to the polymer chain and sufficiently acts on the steric repulsion effect, the adsorption effect and the steric repulsion effect are sufficiently efficiently expressed, and thus the effect is exerted in the present invention. Presumed to be done.

【0073】これに対し、従来公知のブロックAで用い
られる重合体成分と、ブロックBで用いられる重合体成
分とのランダム共重合体では、吸着部分となる成分が溶
媒和する成分で構成される高分子鎖中にランダムに結合
しているため、分散樹脂粒子への吸着が充分でなく、さ
らに、その吸着パターンがループ状となるために立体反
発効果も阻害されしまい、分散安定性が充分でなかっ
た。更には、ブロックAとブロックBとで構成されるA
−B型ブロック共重合体を用いることにより、前記のラ
ンダム共重合体に比べ、分散安定性の向上効果は認めら
れた。しかし、本発明の非水溶媒にコロイド状に分散し
て成るブロック共重合体(P)は、該溶媒に可溶性のブ
ロック共重合体からなる分散安定用樹脂に比べて、分散
粒子への吸着が優れており、分散性が極めて優れている
ことがわかった。
On the other hand, in the conventionally known random copolymer of the polymer component used in the block A and the polymer component used in the block B, the component serving as the adsorbing portion is composed of a solvating component. Since they are randomly bonded in the polymer chain, they are not sufficiently adsorbed on the dispersed resin particles, and the adsorption pattern is looped, which also hinders the steric repulsion effect, resulting in insufficient dispersion stability. There wasn't. Furthermore, A composed of block A and block B
By using the -B type block copolymer, the effect of improving the dispersion stability was recognized as compared with the above random copolymer. However, the block copolymer (P) obtained by colloidally dispersing in the non-aqueous solvent of the present invention is more adsorbed on the dispersed particles than the dispersion stabilizing resin composed of the block copolymer soluble in the solvent. It was found to be excellent and the dispersibility was extremely excellent.

【0074】以上のように、本発明の油性インクは、特
定のブロック結合からなるブロック共重合体の併用によ
り、分散安定性等の向上が図られ、種々の問題が改善さ
れることとなった。
As described above, the oil-based ink of the present invention is improved in dispersion stability and the like and various problems are improved by using the block copolymer having a specific block bond in combination. .

【0075】本発明で用いられる分散樹脂粒子を製造す
るには、一般に、前述のような分散安定用樹脂(P)、
単量体(A)、単量体(B)、単量体(C)、及び単量
体(D)を非水溶媒中で過酸化ベンゾイル、アゾビスイ
ソブチロニトリル、ブチルリチウム等の重合開始剤の存
在下に加熱重合させればよい。具体的には、分散安定
用樹脂(P)、単量体(A)、単量体(B)、単量体
(C)、及び単量体(D)の混合溶液中に重合開始剤を
添加する方法、分散安定用樹脂(P)を溶解した溶液
中に単量体(A)、単量体(B)、単量体(C)、及び
単量体(D)を重合開始剤とともに滴下していく方法、
または、分散安定用樹脂(P)を溶解した溶液中に、
単量体(A)の半量と単量体(B)の混合物及び単量体
(A)の半量、単量体(C)、単量体(D)及び重合開
始剤の混合物を各々同時に滴下していく方法等があり、
いずれの方法を用いても製造することができる。本発明
に供される単量体(A)、単量体(B)、単量体
(C)、及び単量体(D)は重合反応で共重合して非水
溶媒に不溶の樹脂となる。
To produce the dispersed resin particles used in the present invention, generally, the dispersion stabilizing resin (P) as described above,
Polymerization of monomer (A), monomer (B), monomer (C), and monomer (D) in a non-aqueous solvent such as benzoyl peroxide, azobisisobutyronitrile, and butyllithium. The polymerization may be carried out by heating in the presence of an initiator. Specifically, a polymerization initiator is added to a mixed solution of the dispersion stabilizing resin (P), the monomer (A), the monomer (B), the monomer (C), and the monomer (D). Method of addition, monomer (A), monomer (B), monomer (C), and monomer (D) together with a polymerization initiator in a solution in which the dispersion stabilizing resin (P) is dissolved How to drop
Alternatively, in a solution in which the dispersion stabilizing resin (P) is dissolved,
A mixture of half amount of monomer (A) and monomer (B) and half amount of monomer (A), monomer (C), monomer (D) and polymerization initiator are added dropwise at the same time. There are ways to do it,
It can be manufactured by any method. The monomer (A), the monomer (B), the monomer (C), and the monomer (D) used in the present invention are copolymerized by a polymerization reaction to form a resin insoluble in a non-aqueous solvent. Become.

【0076】単量体(A)、単量体(B)、単量体
(C)、及び単量体(D)の総量は、非水溶媒100質
量部に対して、好ましくは10〜100質量部程度であ
り、より好ましくは10〜80質量部である。分散安定
用樹脂(P)は、上記で用いられる全単量体100質量
部に対して、好ましくは3〜25量部程度であり、より
好ましくは5〜20質量部である。重合開始剤の量は全
単量体の0.1〜10質量%程度が適当である。また、
重合温度は40〜180℃程度が好ましく、より好まし
くは50〜120℃である。反応時間は3〜15時間程
度が好ましい。
The total amount of the monomer (A), the monomer (B), the monomer (C) and the monomer (D) is preferably 10 to 100 relative to 100 parts by mass of the non-aqueous solvent. It is about 10 parts by mass, more preferably 10 to 80 parts by mass. The dispersion stabilizing resin (P) is preferably about 3 to 25 parts by weight, and more preferably 5 to 20 parts by weight, based on 100 parts by weight of all the monomers used above. The amount of the polymerization initiator is appropriately about 0.1 to 10% by mass based on all monomers. Also,
The polymerization temperature is preferably about 40 to 180 ° C, more preferably 50 to 120 ° C. The reaction time is preferably about 3 to 15 hours.

【0077】反応に用いた非水溶媒中に、前記したアル
コール類、ケトン類、エーテル類、エステル類等の極性
溶媒を併用した場合あるいは、重合造粒化される単量体
の未反応物が残存する場合、極性溶媒あるいは単量体の
沸点以上に加温して留去するかあるいは減圧留去するこ
とによって除くことが好ましい。
When a polar solvent such as the above-mentioned alcohols, ketones, ethers and esters is used in combination in the non-aqueous solvent used in the reaction, or the unreacted monomer of the polymerized granulation is When it remains, it is preferably removed by heating it to a temperature above the boiling point of the polar solvent or monomer and distilling it off, or by distilling it off under reduced pressure.

【0078】以上の如くして本発明により製造された非
水系分散樹脂粒子は、微細でかつ粒度分布が均一な粒子
として存在する。その平均粒径は、好ましくは0.15
〜1.5μm、より好ましくは0.2〜1.0μmであ
る。この粒径はCAPA−500(堀場製作所(株)
製)により求めることができる。また、本発明の分散樹
脂粒子はモノマー(B)及びモノマー(C)に対応する
重合成分の作用により正荷電性を示す。
The non-aqueous dispersion resin particles produced according to the present invention as described above exist as fine particles having a uniform particle size distribution. The average particle size is preferably 0.15
˜1.5 μm, more preferably 0.2 to 1.0 μm. This particle size is CAPA-500 (Horiba Ltd.)
Manufactured). Further, the dispersed resin particles of the present invention show positive chargeability due to the action of the polymerization components corresponding to the monomer (B) and the monomer (C).

【0079】本発明の分散樹脂の質量平均分子量(M
w)(GPC法によるポリスチレン換算値)は好ましく
は5×103〜1×106であり、より好ましくは8×1
3〜5×105である。また、その熱物性としては、ガ
ラス転移点が0℃〜80℃または軟化点が35℃〜12
0℃が好ましく、より好ましくはガラス転移点が10℃
〜70℃または軟化点が38℃〜90℃である。
The weight average molecular weight (M
w) (polystyrene conversion value by GPC method) is preferably 5 × 10 3 to 1 × 10 6 , and more preferably 8 × 1.
It is 0 3 to 5 × 10 5 . As the thermophysical properties, the glass transition point is 0 ° C to 80 ° C or the softening point is 35 ° C to 12 ° C.
0 ° C is preferable, and more preferably the glass transition point is 10 ° C.
˜70 ° C. or softening point is 38 ° C. to 90 ° C.

【0080】本発明の液体現像剤は分散樹脂粒子の分散
性、保存性、安定性、再分散性に優れ、また、画像形成
後の定着性が良好で、印刷時にも充分な画像強度が保た
れ高耐刷性を示す。即ち、非常に安定な分散性を示し、
特に現像装置内において、長く繰り返し使用をしても分
散性がよく、且つ再分散も容易であり、装置の各部に付
着し汚れを生じることが全く認められない。
The liquid developer of the present invention is excellent in dispersibility, storability, stability and redispersibility of dispersed resin particles, has good fixability after image formation, and maintains sufficient image strength during printing. Shows high printing durability. That is, it shows very stable dispersibility,
In particular, in the developing device, the dispersibility is good even after repeated use for a long time, and the redispersion is easy, and it is not observed that it adheres to each part of the device and causes stains.

【0081】さらには、良好な定着性の故に、画像形成
後に加熱等の迅速処理で定着すると、容易に平版印刷用
原版の表面に強固な被膜が形成される。そのことによ
り、オフセット印刷においても、多数枚の印刷(高耐刷
性)が可能となる。以上のような効果をもたらす本発明
の液体現像剤は、本発明によって供される非水系ラテッ
クスによって可能となる。
Further, because of its good fixing property, when fixing is carried out by rapid processing such as heating after image formation, a strong coating film is easily formed on the surface of the lithographic printing plate precursor. As a result, even in offset printing, printing on a large number of sheets (high printing durability) becomes possible. The liquid developer of the present invention which brings about the above effects is made possible by the non-aqueous latex provided by the present invention.

【0082】本発明の液体現像剤には、荷電調整剤(C
D)が用いられる。荷電調整剤は静電写真用液体現像剤
の技術分野では周知であり、具体的には、「最近の電子
写真現像システムとトナー材料の開発・実用化」139〜1
48頁、電子写真学会編「電子写真技術の基礎と応用」49
7〜505頁(コロナ社、1988年刊)、原崎勇次「電子写
真」16(N0.2)、44頁(1977年)等に記載の化合物など
を用いることができる。好ましい荷電調整剤としては、
金属セッケン類、有機リン酸又はその塩類、有機スルホ
ン酸又はその塩類、両性界面活性化合物などが挙げられ
る。
The liquid developer of the present invention comprises a charge control agent (C
D) is used. Charge control agents are well known in the technical field of liquid developers for electrostatic photography, and specifically, "Development and practical use of recent electrophotographic development systems and toner materials" 139-1
48 pages, “The Basics and Applications of Electrophotographic Technology” edited by The Institute of Electrophotography 49
The compounds described on pages 7 to 505 (Corona Publishing, 1988), Yuji Harazaki “Electrophotography” 16 (N0.2), 44 (1977) and the like can be used. Preferred charge control agents include
Examples thereof include metal soaps, organic phosphoric acid or salts thereof, organic sulfonic acids or salts thereof, and amphoteric surface active compounds.

【0083】例えば、金属セッケン類としては、炭素数
6〜24の脂肪酸(例えば2−エチルヘキシン酸、2−
エチルカプロン酸、ラウリル酸、パルミチン酸、エライ
ジン酸、リノレイン酸、リシノール酸、オレイン酸、ス
テアリン酸、エナント酸、ナフテン酸、エチレンジアミ
ン四酢酸等)、樹脂酸、ジアルキルコハク酸、アルキル
フタル酸、アルキルサリチル酸等の金属塩(金属イオン
の金属としてNa、K、Li、B、Al、Ti、Ca、
Pb、Mn、Co、Zn、Mg、Ce、Ag、Cd、Z
r、Cu、Fe、Ba、等)(例えば、米国特許3, 4
11, 936号、同3, 900, 412号、特公昭49
−27707号、特開昭51−37651号、同52−
38937号、同52−107837号、同53−12
3138号等に記載)が挙げられる。
For example, as metal soaps, fatty acids having 6 to 24 carbon atoms (for example, 2-ethylhexynic acid, 2-
Ethylcaproic acid, lauric acid, palmitic acid, elaidic acid, linoleic acid, ricinoleic acid, oleic acid, stearic acid, enanthic acid, naphthenic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, etc.), resin acid, dialkylsuccinic acid, alkylphthalic acid, alkylsalicylic acid Metal salt such as Na, K, Li, B, Al, Ti, Ca
Pb, Mn, Co, Zn, Mg, Ce, Ag, Cd, Z
r, Cu, Fe, Ba, etc.) (eg US Pat.
No. 11, 936, No. 3, 900, 412, Japanese Patent Publication No. 49
-27707, JP-A-51-37651, JP-A-52-
38937, 52-107837, 53-12.
3138, etc.).

【0084】有機リン酸またはその塩類としては、炭素
数3〜18のアルキル基から成るモノ、ジあるいはトリ
アルキルリン酸またはジアルキルジチオリン酸等(例え
ば、英国特許1, 411, 739号、同1,276,3
63号等に記載)が挙げられる。有機スルホン酸あるい
はその塩類としては、長鎖脂肪族スルホン酸、長鎖アル
キルベンゼンスルホン酸、ジアルキルスルホコハク酸等
あるいはその金属塩等(例えば、特公昭47−3712
8号、特開昭53−123138号、同51−4743
7号、同50−79640号、同53−30340号等
に記載)が挙げられる。
Examples of the organic phosphoric acid or salts thereof include mono-, di- or trialkyl phosphoric acid or dialkyldithiophosphoric acid composed of an alkyl group having 3 to 18 carbon atoms (for example, British Patents 1, 411, 739, 1, 276,3
No. 63). Examples of the organic sulfonic acids or salts thereof include long-chain aliphatic sulfonic acids, long-chain alkylbenzene sulfonic acids, dialkyl sulfosuccinic acids and the like or metal salts thereof (for example, Japanese Patent Publication No. 47-3712).
No. 8, JP-A Nos. 53-123138 and 51-4743.
No. 7, No. 50-79640, No. 53-30340, etc.).

【0085】両性界面活性化合物としては、レシチン、
ケファリン等のリン脂質(例えば、特公昭51−470
46号等に記載)、炭素数8以上のアルキル基含有のβ
−アラニン類(例えば、特開昭50−17642号,同
49−17741号等に記載)、β−ジケトン類の金属
錯体(例えば、特公昭49−27707号等に記載)、
マレイン酸半アミド成分を含有する共重合体(例えば、
特公平6−19596号、同6−19595号、同6−
23865号等に記載)が挙げられる。
As the amphoteric surface active compound, lecithin,
Phospholipids such as kephalin (for example, Japanese Examined Patent Publication No. 51-470)
46, etc.), β containing an alkyl group having 8 or more carbon atoms
-Alanines (for example, described in JP-A Nos. 50-17642 and 49-17741), metal complexes of β-diketones (for example, described in JP-B-49-27707),
A copolymer containing a maleic acid half amide component (for example,
Japanese Patent Publication No. 6-19596, No. 6-19595, No. 6-
No. 23865).

【0086】荷電調整剤は単独もしくは2種以上を組み
合わせて用いることができる。荷電調節剤は、担体液体
である非水溶媒1000質量部に対して0.001〜
1.0質量部程度用いることが好ましい。
The charge control agents can be used alone or in combination of two or more kinds. The charge control agent is added in an amount of 0.001 to 1,000 parts by mass of the non-aqueous solvent that is a carrier liquid.
It is preferable to use about 1.0 part by mass.

【0087】本発明の分散樹脂粒子は、前述の様に、そ
れ自身が正荷電性を有するが、更に荷電調整剤を用いる
ことで充分な荷電量が保持される。また、液体現像剤中
での分散粒子の荷電量の割合(粒子の荷電分率)が極め
て高い状態が維持可能となる。粒子の荷電分率について
は実施例において詳しく説明する。
As described above, the dispersed resin particles of the present invention have positive chargeability themselves, but a sufficient amount of charge can be maintained by further using a charge control agent. Further, it is possible to maintain a state in which the ratio of the charge amount of dispersed particles (charge fraction of particles) in the liquid developer is extremely high. The charge fraction of particles will be described in detail in Examples.

【0088】このことにより、本発明の液体現像剤中に
おいては、分散粒子の荷電量が選択的に高くなり、静電
記録体上の静電潜像に忠実に対応して粒子が速やかに電
気泳動して付着し、高精細な画像を形成することができ
る。因みに、液体現像剤の全体の荷電量が高くても、担
体液体分の荷電量が多いと、それら可溶性のイオン成分
が静電潜像へ付着し、本来付着すべき荷電粒子の付着が
阻害されたり、もしくは潜像の電荷が減じることによる
粒子の付着減少が生じ、結果として微小ドットの再現が
不充分になったりあるいは画像部のエッジ部分が滲んだ
り、流れたりという画像欠陥が生じてしまう。また、本
発明の液体現像剤は、荷電がほぼ選択的に粒子に強固に
保持されることにより湿度の変化による水分の影響を殆
んど受けることがなく、製版環境が低湿から高湿と変化
しても、安定して再現性の良い画像形成が可能となる。
更には、本発明の液体現像剤は長期間保存後、あるいは
高温/高湿(例えば35℃/80%RH)下に保存後、
製版を行なっても液体現像剤製造直後のフレッシュ品を
用いた場合と全く変わらない性能を示す。これは本発明
の液体現像剤の荷電特性、特に正荷電粒子の荷電性が安
定に維持されていること及び分散粒子間の凝集や沈澱を
生じることなく、充分な分散性が保持されていることに
よると考えられる。
As a result, in the liquid developer of the present invention, the charge amount of the dispersed particles is selectively increased, and the particles quickly and electrically correspond to the electrostatic latent image on the electrostatic recording body. It migrates and adheres to form a high-definition image. By the way, even if the total charge amount of the liquid developer is high, if the charge amount of the carrier liquid is large, these soluble ionic components adhere to the electrostatic latent image, and the adhesion of charged particles that should originally adhere is hindered. Or, the adhesion of particles is reduced due to the reduction of the charge of the latent image, and as a result, the reproduction of the fine dots becomes insufficient, or the edge portion of the image portion bleeds or flows, resulting in an image defect. Further, the liquid developer of the present invention is almost selectively and strongly retained on the particles, so that it is hardly affected by moisture due to a change in humidity, and the plate making environment changes from low humidity to high humidity. Even in this case, it is possible to stably form an image with good reproducibility.
Furthermore, the liquid developer of the present invention may be stored for a long period of time or under high temperature / high humidity (for example, 35 ° C./80% RH).
Even if plate making is carried out, the performance is completely the same as the case of using a fresh product immediately after the production of the liquid developer. This is because the charge characteristics of the liquid developer of the present invention, particularly the chargeability of positively charged particles, are stably maintained, and sufficient dispersibility is maintained without causing aggregation or precipitation between dispersed particles. It is believed that

【0089】本発明の液体現像剤には更に所望により各
種添加物を加えてもよく、それら添加物の総量は、液体
現像剤の電気抵抗によってその上限が規制される。即
ち、分散粒子を除去した状態のインクの電気抵抗が10
9Ωcmより低くなると良質の連続階調像が得られ難く
なるので、各添加物の添加量を、この限度内でコントロ
ールすることが望ましい。
If desired, various additives may be added to the liquid developer of the present invention, and the upper limit of the total amount of these additives is restricted by the electric resistance of the liquid developer. That is, the electric resistance of the ink with the dispersed particles removed is 10
If it is lower than 9 Ωcm, it becomes difficult to obtain a good quality continuous tone image. Therefore, it is desirable to control the addition amount of each additive within this limit.

【0090】本発明の液体現像剤中には、前記の分散樹
脂粒子とともに、製版後の版を検版する等のために着色
成分として色材を含有させることが好ましい。色材とし
ては、従来から油性インク組成物または静電写真用液体
現像剤に用いられている顔料および染料であればいずれ
も使用可能である。
In the liquid developer of the present invention, it is preferable to include a coloring material as a coloring component together with the above-mentioned dispersed resin particles in order to inspect the plate after plate making. As the color material, any pigment and dye conventionally used in oil-based ink compositions or liquid developers for electrostatic photography can be used.

【0091】顔料としては、無機顔料、有機顔料を問わ
ず、印刷の技術分野で一般に用いられているものを使用
することができる。具体的には、例えば、カーボンブラ
ック、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムイ
エロー、カドミウムイエロー、チタンイエロー、酸化ク
ロム、ピリジアン、コバルトグリーン、ウルトラマリン
ブルー、プルシアンブルー、コバルトブルー、アゾ系顔
料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、イソ
インドリノン系顔料、ジオキサジン系顔料、スレン系顔
料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、チオインジゴ系
顔料、キノフタロン系顔料、金属錯体顔料、等の従来公
知の顔料を特に限定することなく用いることができる。
As the pigment, regardless of whether it is an inorganic pigment or an organic pigment, those generally used in the technical field of printing can be used. Specifically, for example, carbon black, cadmium red, molybdenum red, chrome yellow, cadmium yellow, titanium yellow, chromium oxide, pyridian, cobalt green, ultramarine blue, Prussian blue, cobalt blue, azo pigments, phthalocyanine pigments. , Quinacridone pigments, isoindolinone pigments, dioxazine pigments, slene pigments, perylene pigments, perinone pigments, thioindigo pigments, quinophthalone pigments, metal complex pigments, etc. Can be used without.

【0092】染料としては、アゾ染料、金属錯塩染料、
ナフトール染料、アントラキノン染料、インジゴ染料、
カーボニウム染料、キノンイミン染料、キサンテン染
料、シアニン染料、キノリン染料、ニトロ染料、ニトロ
ソ染料、ベンゾキノン染料、ナフトキノン染料、フタロ
シアニン染料、金属フタロシアニン染料、等の油溶性染
料が好ましい。
As the dyes, azo dyes, metal complex salt dyes,
Naphthol dye, anthraquinone dye, indigo dye,
Oil-soluble dyes such as carbonium dyes, quinone imine dyes, xanthene dyes, cyanine dyes, quinoline dyes, nitro dyes, nitroso dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, phthalocyanine dyes and metal phthalocyanine dyes are preferable.

【0093】これらの顔料および染料は、単独で用いて
もよいし適宜組み合わせて使用することも可能である
が、液体現像剤全体に対して0.05〜5質量%の範囲
で含有されることが望ましい。
These pigments and dyes may be used alone or in appropriate combination, but they are contained in the range of 0.05 to 5 mass% with respect to the entire liquid developer. Is desirable.

【0094】これらの色材は、分散樹脂粒子とは別に色
材自身を分散粒子として非水溶媒中に分散させてもよい
し、分散樹脂粒子中に含有させてもよい。含有させる場
合の方法の1つとしては、特開昭57−48738号な
どに記載されている如く、分散樹脂物を適当な染料で染
色する方法がある。他の方法として、特開昭53−54
029号などに開示されている如く、分散樹脂と染料を
化学的に結合させる方法がある。また、特公昭44−2
2955号等に記載されている如く、重合造粒法で製造
する際に、予め色素を含有した単量体を用い、色素含有
の共重合体とする方法がある。本発明の静電写真用液体
現像剤を用いた電子写真法による印刷版の作成は常法に
より行うことができる。また、本発明の液体現像剤は、
通常の静電写真複写用としても用いることができる。
These coloring materials may be dispersed in the non-aqueous solvent as the coloring materials themselves as the dispersed particles in addition to the dispersed resin particles, or may be contained in the dispersed resin particles. As one of the methods for incorporating it, there is a method of dyeing a dispersed resin material with an appropriate dye as described in JP-A-57-48738. As another method, JP-A-53-54
As disclosed in No. 029, there is a method of chemically bonding a dispersion resin and a dye. Also, Japanese Patent Publication No.
As described in No. 2955 and the like, there is a method in which a dye-containing copolymer is prepared by using a dye-containing monomer in advance in the production by the polymerization granulation method. The production of a printing plate by the electrophotographic method using the liquid developer for electrostatic photography of the present invention can be carried out by a conventional method. Further, the liquid developer of the present invention,
It can also be used for ordinary electrostatographic copying.

【0095】[0095]

【実施例】以下に本発明に用いられる樹脂粒子の製造例
および実施例を示し、本発明をさらに詳細に説明する
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to production examples and examples of resin particles used in the present invention, but the present invention is not limited thereto.

【0096】分散安定用樹脂(P)の合成例1:樹脂
(P−1) メチルメタクリレート50g、エチルアクリレート50
g、下記構造の開始剤(I−1)7.8g及びテトラヒ
ドロフラン100gの混合物を窒素気流下に温度50℃
に加温した。この溶液に400Wの高圧水銀灯で10c
mの距離からガラスフィルターを通して8時間光照射し
光重合した。この重合物をメタノール1リットル中に再
沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。次に、上記重合物5
5g、ステアリルメタクリレート45g及びテトラヒド
ロフラン100gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
16時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5
リットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量
80gで質量平均分子量〔Mw:Mwはポリスチレン換
算によるGPO法(GPC:サイズ排除クロマトグラフ
ィー)による値〕は6×104の重合体を得た。又、得
られた樹脂とアイソパーH(エクソン社製)の5質量%
混合物を充分に撹拌した後の混合物は、ケイ光味を帯び
た青白い液となった。この液からサンプルを作成し、走
査型電子顕微鏡(以下、SEMと略称)写真から、平均
粒径0.14μmの微粒子が観察された。
Synthesis Example of Dispersion Stabilizing Resin (P) 1: Resin (P-1) Methyl Methacrylate 50 g, Ethyl Acrylate 50
g, a mixture of 7.8 g of an initiator (I-1) having the following structure and 100 g of tetrahydrofuran under a nitrogen stream at a temperature of 50 ° C.
Warmed to. 10c of this solution with 400W high pressure mercury lamp
Light was irradiated from a distance of m through a glass filter for 8 hours to perform photopolymerization. The polymer was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. Next, the above polymer 5
A mixed solution of 5 g, 45 g of stearyl methacrylate and 100 g of tetrahydrofuran was heated again to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream. Next, in the same manner as above, after performing light irradiation for 16 hours, the obtained reaction product was treated with methanol 1.5
It is reprecipitated in liter, the precipitate is collected, dried and the weight average molecular weight [Mw: Mw is a value by polystyrene conversion GPO method (GPC: size exclusion chromatography)] is 6 × 10 4 at a yield of 80 g. A polymer of Moreover, 5% by mass of the obtained resin and Isopar H (manufactured by Exxon)
After thoroughly stirring the mixture, the mixture became a bluish-white liquid. A sample was prepared from this solution, and fine particles with an average particle size of 0.14 μm were observed from a scanning electron microscope (hereinafter referred to as SEM) photograph.

【0097】[0097]

【化19】 [Chemical 19]

【0098】分散安定用樹脂(P)の合成例2:樹脂
(P−2) オクタデシルアクリレート50g、下記の構造の開始剤
(I−2)10.0g及びテトラヒドロフラン50gの
混合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラスフ
ィルターを通して8時間光照射し光重合した。この重合
物をメタノール1リットル中に再沈し、沈殿物を捕集
し、乾燥した。次に、上記重合物30g、メチルアクリ
レート36g、アクリル酸4g及びテトラヒドロフラン
70gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度50℃に加
温した。次に、上記と同様にして、光照射を8時間行っ
た後、得られた反応物をメタノール1.5リットル中に
再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。更に、この重合物
35g、オクタデシルアクリレート15g及びテトラヒ
ドロフラン50gの混合溶液を、再び窒素気流下に温度
50℃に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を
8時間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リ
ットル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して、収量4
2gでMw6.5×104の重合体を得た。合成例1と
同様にして、アイソパーH混合物のサンプルのSEM写
真観察から平均粒子0.13μmの粒子が見られた。
Synthesis Example 2 of Dispersion Stabilizing Resin (P): Resin (P-2) A mixture of 50 g of octadecyl acrylate, 10.0 g of the initiator (I-2) having the following structure and 50 g of tetrahydrofuran was heated under a nitrogen stream at temperature. Warmed to 50 ° C. This solution was irradiated with light from a high pressure mercury lamp of 400 W at a distance of 10 cm through a glass filter for 8 hours to perform photopolymerization. The polymer was reprecipitated in 1 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. Next, a mixed solution of 30 g of the above polymer, 36 g of methyl acrylate, 4 g of acrylic acid and 70 g of tetrahydrofuran was heated again to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream. Next, after performing light irradiation for 8 hours in the same manner as above, the obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. Further, a mixed solution of 35 g of this polymer, 15 g of octadecyl acrylate and 50 g of tetrahydrofuran was heated again to a temperature of 50 ° C. under a nitrogen stream. Then, after performing light irradiation for 8 hours in the same manner as above, the obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a yield of 4
A polymer having an Mw of 6.5 × 10 4 was obtained with 2 g. In the same manner as in Synthesis Example 1, particles having an average particle size of 0.13 μm were found by SEM photograph observation of a sample of the Isopar H mixture.

【0099】[0099]

【化20】 [Chemical 20]

【0100】分散安定用樹脂(P)の合成例3:樹脂
(P−3) メチルメタクリレート22g、メチルアクリレート33
g及び下記構造のマクロモノマー(MM−1)45g及
びトルエン185gの混合物を窒素気流下に温度80℃
に加温した。この混合溶液に2,2−アゾビスイソブチ
ロニトリル(略称 A.I.B.N.)1.5gを加えて3時間
反応した。更に A.I.B.N.を0.8g加えて2時間反応
し、続けてA.I.B.N.を0.5g加えた後、温度85℃に
上げて3時間反応した。得られた反応物は、青白いケイ
光味の混合物となった。この反応物をメタノール2リッ
トル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥して収量85g
でMw4.5×104の重合体を得た。合成例(P−
1)と同様にして、コロイド状分散物のSEM観察の結
果、0.10μmの粒状物であった。
Synthesis Example 3 of dispersion stabilizing resin (P): Resin (P-3) 22 g of methyl methacrylate, 33 of methyl acrylate
g and a mixture of 45 g of a macromonomer (MM-1) having the following structure and 185 g of toluene at a temperature of 80 ° C. under a nitrogen stream.
Warmed to. 1.5 g of 2,2-azobisisobutyronitrile (abbreviation AIBN) was added to this mixed solution and reacted for 3 hours. Furthermore, 0.8 g of AIBN was added and reacted for 2 hours, and subsequently 0.5 g of AIBN was added, and then the temperature was raised to 85 ° C. and reacted for 3 hours. The resulting reaction product was a pale white, bright mixture. The reaction product was reprecipitated in 2 liters of methanol, and the precipitate was collected and dried to obtain a yield of 85 g.
Thus, a polymer having Mw of 4.5 × 10 4 was obtained. Synthesis example (P-
As a result of SEM observation of the colloidal dispersion in the same manner as in 1), it was a particle of 0.10 μm.

【0101】[0101]

【化21】 [Chemical 21]

【0102】分散安定用樹脂(P)の合成例4〜14:
樹脂(P−4)〜(P−14) メチルメタクリレート35g、メチルアクリレート55
gを用いた全単量体に対して0.01モルの表−Aに示
す各開始剤(I)及びテトラヒドロフラン100gの混
合物を窒素気流下に温度50℃に加温した。この溶液
に、合成例1と同様にして、光照射を12時間行い重合
反応を行った。次に、得られた各重合物55g、トリデ
シルメタクリレート45g及びテトラヒドロフラン12
0gを加えた混合溶液を、再び窒素気流下に温度55℃
に加温した。次に、上記と同様にして、光照射を16時
間行った後、得られた反応物をメタノール1.5リット
ル中に再沈し、沈殿物を捕集し、乾燥した。収量60〜
80gでMw4×104〜7×104の各重合体を得た。
又各重合体のコロイド状分散物のSEM観察の結果、各
重合体のアイソパーH中での粒子は0.10〜0.15
μmであった。
Synthesis Examples 4 to 14 of Dispersion Stabilizing Resin (P):
Resin (P-4) to (P-14) Methyl methacrylate 35 g, methyl acrylate 55
A mixture of 0.01 mol of each initiator (I) shown in Table-A and 100 g of tetrahydrofuran was heated to 50 ° C under a nitrogen stream with respect to all monomers using g. This solution was irradiated with light for 12 hours to carry out a polymerization reaction in the same manner as in Synthesis Example 1. Next, 55 g of each polymer obtained, 45 g of tridecyl methacrylate and 12 g of tetrahydrofuran
The mixed solution containing 0 g was again heated to a temperature of 55 ° C. under a nitrogen stream.
Warmed to. Next, after performing light irradiation for 16 hours in the same manner as above, the obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 liter of methanol, and the precipitate was collected and dried. Yield 60 ~
80 g of each polymer having Mw of 4 × 10 4 to 7 × 10 4 was obtained.
As a result of SEM observation of the colloidal dispersion of each polymer, particles of each polymer in Isopar H were 0.10 to 0.15.
was μm.

【0103】分散安定用樹脂(P)の合成例15〜1
8:樹脂(P−15)〜(P−18) 分散安定用樹脂(P)の合成例1において、メチルメタ
クリレート50g、エチルアクリレート50g及びステ
アリルメタクリレート45gの代わりに、表−Bに示す
ブロック共重合体の各繰り返し単位に相当する単量体を
用いた他は、合成例1と同様にして、各共重合体を合成
した。得られた重合体の収量は80〜90gでMwは5
〜6×104の範囲であった。又各重合体のアイソパー
Hの5質量%混合物の微粒子の粒径は0.10〜0.1
5μmであった。
Synthesis Examples 15 to 1 of Dispersion Stabilizing Resin (P)
8: Resins (P-15) to (P-18) In Synthesis Example 1 of the resin (P) for dispersion stabilization, instead of 50 g of methyl methacrylate, 50 g of ethyl acrylate and 45 g of stearyl methacrylate, the block copolymer shown in Table-B was used. Each copolymer was synthesized in the same manner as in Synthesis Example 1 except that a monomer corresponding to each repeating unit of the united body was used. The yield of the obtained polymer is 80 to 90 g and the Mw is 5
The range was ˜6 × 10 4 . Further, the particle size of the fine particles of the 5 mass% mixture of Isopar H of each polymer is 0.10 to 0.1.
It was 5 μm.

【0104】[0104]

【表1】 [Table 1]

【0105】[0105]

【表2】 [Table 2]

【0106】[0106]

【表3】 [Table 3]

【0107】[0107]

【表4】 [Table 4]

【0108】樹脂粒子(L)の製造例1:樹脂粒子(L
−1) 下記構造の分散安定用樹脂(P−19)12g及びアイ
ソパーG 280gの混合物を窒素気流下攪拌しながら
温度70℃に加温した。これにメチルメタクリレート1
5g、メチルアクリレート25.8g、下記構造の単量
体(D−1)4g、2−(N,N−ジメチルアミノ)エ
チルメタクリレート6g及び2,2−アゾビスイソバレ
ロニトリル(略称:A.I.V.N.)、1.5gの混
合物及びメチルメタクリレート15g、メチルアクリレ
ート30.2g及び3−スルホプロピルメタクリレート
4g及びエタノール10gの混合物を、各々同時に1時
間で滴下し、そのまま2時間攪拌した。
Production Example of Resin Particles (L) 1: Resin Particles (L)
-1) A mixture of 12 g of a dispersion stabilizing resin (P-19) having the following structure and 280 g of Isopar G was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. Methyl methacrylate 1
5 g, methyl acrylate 25.8 g, monomer (D-1) 4 g having the following structure, 2- (N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate 6 g and 2,2-azobisisovaleronitrile (abbreviation: AI .V.N.), A mixture of 1.5 g and 15 g of methyl methacrylate, 30.2 g of methyl acrylate, 4 g of 3-sulfopropyl methacrylate and 10 g of ethanol were added dropwise at the same time in 1 hour and the mixture was stirred for 2 hours as it was.

【0109】次にA.I.V.N.を1.0g加えて温
度75℃に加温して4時間攪拌し、更に、A.I.B.
N.を0.8g加えて温度80℃に加温して4時間攪拌
した。次いで温度を100℃に上げ、減圧度200mm
Hg下で2時間攪拌しエタノール及び未反応のモノマー
を留去した。冷却後200メッシュのナイロン布を通
し、得られた白色分散物は重合率99%で平均粒径0.
25μmのラテックスであった。粒径はCAPA−50
0(堀場製作所(株)製)で測定した。上記白色分散物
の一部を遠心分離機(回転数1×104r.p.m.、
回転時間1時間)にかけ、沈降した樹脂粒子分を捕集、
乾燥し、該樹脂粒子分の質量平均分子量(Mw)とガラ
ス転移点(Tg)を測定したところ、Mwは、2×10
5(G.P.C.によるポリスチレン換算値。以下同
様)、Tgは41℃であった。
Next, A. I. V. N. Add 1.0g and warm
The mixture was heated to 75 ° C. and stirred for 4 hours. I. B.
N. 0.8g and warm to 80 ° C and stir for 4 hours
did. Then raise the temperature to 100 ° C and reduce the pressure to 200mm.
Stir for 2 hours under Hg to remove ethanol and unreacted monomer
Was distilled off. After cooling, pass through a 200 mesh nylon cloth
Then, the obtained white dispersion had a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.
It was a 25 μm latex. Particle size is CAPA-50
0 (manufactured by HORIBA, Ltd.). The above white dispersion
Part of the centrifuge (rotation speed 1 × 10Fourr. p. m. ,
The rotation time is 1 hour), and the settled resin particles are collected,
After drying, the resin particles have a mass average molecular weight (Mw) and
When the transition point (Tg) was measured, Mw was 2 × 10
Five(Polystyrene conversion value by G.P.C.
,) And Tg was 41 ° C.

【0110】[0110]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0111】樹脂粒子(L)の製造例2:樹脂粒子(L
−2) 下記構造の分散安定用樹脂(P−20)14g及びアイ
ソパーG 283gの混合物を窒素気流下攪拌しながら
温度70℃に加温した。これにメチルメタクリレート2
0g、エチルアクリレート26g、下記構造の単量体
(D−2)3g、2−(N,N−ジエチルアミノ)エチ
ルメタクリレート8g及びA.I.V.N.,1.5g
の混合物及びメチルメタクリレート15g、メチルアク
リレート23.6g及び3−スルホプロピルアクリレー
ト4.4g及びエタノール10gの混合物を、各々、同
時に1時間で滴下し、そのまま2時間攪拌した。次に
A.I.V.N.を1.0g加えて温度75℃に加温し
て3時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.8g加
えて温度80℃に加温して3時間攪拌した。次いで温度
を100℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪
拌しエタノール及び未反応のモノマーを留去した。冷却
後200メッシュのナイロン布を通し、得られた白色分
散物は重合率99%で平均粒径0.23μmのラテック
スであった。樹脂粒子分のMwは3×105、Tg41
℃であった。
Production Example 2 of Resin Particles (L): Resin Particles (L)
-2) A mixture of 14 g of a dispersion stabilizing resin (P-20) having the following structure and 283 g of Isopar G was heated to 70 ° C while stirring under a nitrogen stream. Methyl methacrylate 2
0 g, 26 g of ethyl acrylate, 3 g of monomer (D-2) having the following structure, 8 g of 2- (N, N-diethylamino) ethyl methacrylate and A.I. I. V. N. , 1.5 g
And a mixture of 15 g of methyl methacrylate, 23.6 g of methyl acrylate, 4.4 g of 3-sulfopropyl acrylate and 10 g of ethanol were added dropwise at the same time in 1 hour, and the mixture was stirred for 2 hours as it was. Then A. I. V. N. 1.0 g was added and the mixture was heated to a temperature of 75 ° C. and stirred for 3 hours. I. B. N. 0.8 g was added, and the mixture was heated to a temperature of 80 ° C. and stirred for 3 hours. Then, the temperature was raised to 100 ° C., and the mixture was stirred under a reduced pressure of 200 mmHg for 2 hours to distill off ethanol and unreacted monomers. After cooling, it was passed through a nylon cloth of 200 mesh, and the obtained white dispersion was a latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.23 μm. Mw of resin particles is 3 × 10 5 , Tg41
It was ℃.

【0112】[0112]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0113】[0113]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0114】樹脂粒子(L)の製造例3〜5:樹脂粒子
(L−3)〜(L−5) 樹脂粒子(L)の製造例1において、分散安定用樹脂
(P−19)10gと2(N,N−ジメチルアミノ)エ
チルメタクリレート6g及びモノマー(D−1)4gの
代わりに、上記構造の分散安定用樹脂(P−1)11g
及び下記表−Cの各モノマー(B)6g及びモノマー
(D)4gを用いた他は上記製造例1と同様にして各粒
子を製造した。得られた各粒子の平均粒径は0.20〜
0.25μmの範囲のラテックスであった。樹脂粒子分
のMwは1×105〜3×105、Tgは40〜50℃の
範囲であった。
Production Examples 3 to 5 of Resin Particles (L): Resin Particles (L-3) to (L-5) In Production Example 1 of resin particles (L), 10 g of the dispersion stabilizing resin (P-19) and Instead of 6 g of 2 (N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate and 4 g of the monomer (D-1), 11 g of the dispersion stabilizing resin (P-1) having the above structure
Each particle was produced in the same manner as in Production Example 1 except that 6 g of each monomer (B) and 4 g of monomer (D) shown in Table C below were used. The average particle size of the obtained particles is 0.20
It was a latex in the range of 0.25 μm. The resin particles had an Mw of 1 × 10 5 to 3 × 10 5 and a Tg of 40 to 50 ° C.

【0115】[0115]

【表5】 [Table 5]

【0116】樹脂粒子(L)の製造例6:樹脂粒子(L
−6) 上記構造の分散安定用樹脂(P−3)12g及びアイソ
パーG 280gの混合物を窒素気流下攪拌しながら温
度80℃に加温した。これに、スチレン15g、ビニル
トルエン22g、下記構造のモノマー(D)3g、4−
(N,N−ジメチルアミノ)メチルスチレン8g及び
A.I.B.N.、1.5gの混合物及びメチルメタク
リレート10g、メチルアクリレート35.4g及び4
−スルホメチルスチレン6.6g及びエタノール15g
の混合物を、各々同時に1時間で滴下し、そのまま2時
間攪拌した。次にA.I.B.N.を1.0g加えて3
時間攪拌し、更に、A.I.B.N.を0.8g加えて
温度80℃に加温して3時間攪拌した。次に、温度を1
00℃に上げ、減圧度200mmHg下で2時間攪拌し
エタノール及び未反応のモノマーを留去した。冷却後2
00メッシュのナイロン布を通し、得られた白色分散物
は重合率98%で平均粒径0.28μmのラテックスで
あった。樹脂粒子分のMwは9×104、Tgは48℃
であった。
Production Example 6 of Resin Particles (L): Resin Particles (L)
-6) A mixture of 12 g of the dispersion stabilizing resin (P-3) having the above structure and 280 g of Isopar G was heated to a temperature of 80 ° C while stirring under a nitrogen stream. To this, 15 g of styrene, 22 g of vinyltoluene, 3 g of monomer (D) having the following structure, 4-
8 g of (N, N-dimethylamino) methylstyrene and A.I. I. B. N. , 1.5 g of a mixture and 10 g of methyl methacrylate, 35.4 g of methyl acrylate and 4
-Sulfomethylstyrene 6.6g and ethanol 15g
The above mixture was added dropwise at the same time in 1 hour, and the mixture was stirred as it was for 2 hours. Then A. I. B. N. Add 1.0 g of 3
Stir for a period of time and then I. B. N. 0.8 g was added, and the mixture was heated to a temperature of 80 ° C. and stirred for 3 hours. Then set the temperature to 1
The temperature was raised to 00 ° C., and the mixture was stirred under a reduced pressure of 200 mmHg for 2 hours to distill off ethanol and unreacted monomers. After cooling 2
The resulting white dispersion was a latex having a polymerization rate of 98% and an average particle size of 0.28 μm. Mw of resin particles is 9 × 10 4 , Tg is 48 ° C.
Met.

【0117】[0117]

【化25】 [Chemical 25]

【0118】樹脂粒子(L)の製造例7〜16:樹脂粒
子(L−7)〜(L−16) 樹脂粒子(L)の製造例1において、分散安定用樹脂
(P−19)12g及びモノマー(D−1)4gの代わ
りに、下記表−Dの分散安定用樹脂(P)12g及び単
量体(D)4gを各々用いた他は、上記製造例1と同様
にして各粒子を製造した。得られた各粒子の平均粒径は
0.20〜0.25μmの範囲のラテックスであった。
樹脂粒子分のMwは8×104〜2×105、Tgは38
〜42℃の各範囲であった。
Production Examples 7 to 16 of Resin Particles (L): Resin Particles (L-7) to (L-16) In Production Example 1 of resin particles (L), 12 g of a resin (P-19) for dispersion stabilization and Instead of 4 g of the monomer (D-1), 12 g of the resin (P) for dispersion stabilization and 4 g of the monomer (D) shown in Table D below were used, and each particle was prepared in the same manner as in Production Example 1 above. Manufactured. The average particle size of the obtained particles was latex in the range of 0.20 to 0.25 μm.
Mw of resin particles is 8 × 10 4 to 2 × 10 5 , and Tg is 38.
It was each range of -42 degreeC.

【0119】[0119]

【表6】 [Table 6]

【0120】樹脂粒子(L)の製造例17:樹脂粒子
(L−17) 上記構造の分散安定用樹脂(P−13)10g及びアイ
ソパーG 380gの混合物を窒素気流下攪拌しながら
温度75℃に加温した。これに、酢酸ビニル42g、2
−(N,N−ジメチルアミノ)エチルクロトネート7
g、モノマー(D−2)5g、及びA.I.B.N.、
1.5gの混合物及び酢酸ビニル40g、3−スルホプ
ロピルクロトネート6g及びエタノール10gの混合物
を、各々同時に30分間で滴下し、そのまま3.5時間
攪拌した。次にA.I.B.N.を1.0g加えて温度
80℃に加温して3時間攪拌し、更に、A.I.B.
N.を0.8g加えて温度85℃に加温して3時間攪拌
した。次に、温度を100℃に上げ、減圧度200mm
Hg下で2時間攪拌しエタノール及び未反応のモノマー
を留去した。冷却後200メッシュのナイロン布を通
し、得られた白色分散物は重合率90%で平均粒径0.
23μmのラテックスであった。得られた樹脂粒子分の
Mwは8×104、Tgは45℃であった。
Production Example 17 of Resin Particles (L): Resin Particles (L-17) A mixture of 10 g of the dispersion stabilizing resin (P-13) having the above structure and 380 g of Isopar G was stirred at a temperature of 75 ° C. under a nitrogen stream. Heated. 42g of vinyl acetate, 2
-(N, N-Dimethylamino) ethyl crotonate 7
g, 5 g of monomer (D-2), and A. I. B. N. ,
A mixture of 1.5 g of the mixture and 40 g of vinyl acetate, 6 g of 3-sulfopropyl crotonate and 10 g of ethanol were added dropwise at the same time in 30 minutes, and the mixture was stirred for 3.5 hours as it was. Then A. I. B. N. 1.0 g was added and the mixture was heated to a temperature of 80 ° C. and stirred for 3 hours. I. B.
N. Of 0.8 g was added and the mixture was heated to a temperature of 85 ° C. and stirred for 3 hours. Next, the temperature is raised to 100 ° C and the pressure reduction degree is 200 mm.
The mixture was stirred under Hg for 2 hours, and ethanol and unreacted monomers were distilled off. After cooling, it was passed through a nylon cloth of 200 mesh, and the obtained white dispersion had a polymerization rate of 90% and an average particle size of 0.1.
It was a 23 μm latex. The resin particles thus obtained had Mw of 8 × 10 4 and Tg of 45 ° C.

【0121】樹脂粒子(L)の製造例18〜23:樹脂
粒子(L−18)〜(L−23) 樹脂粒子(L)の製造例2において、分散安定用樹脂
(P−20)14gの代わりに、下記表−Eの分散安定
用樹脂(P)14g、2−(N,N−ジエチルアミノ)
エチルメタアクリレート8gの代わりに下記表−Eの単
量体(B)0.043モル、及び3−スルホプロピルア
クリレート4.4gの代わりに下記表−Eの単量体
(D)0.03モルを用いた他は、上記製造例2と同様
にして各着色粒子(L)を製造した。得られた各着色分
散物は平均粒径0.25〜0.40μmの範囲のラテッ
クスであった。。
Production Examples 18 to 23 of Resin Particles (L): Resin Particles (L-18) to (L-23) In Production Example 2 of resin particles (L), 14 g of dispersion stabilizing resin (P-20) Instead, 14 g of the resin (P) for dispersion stabilization shown in Table E below, 2- (N, N-diethylamino)
Instead of 8 g of ethyl methacrylate, 0.043 mol of the monomer (B) shown in the following table-E and 0.03 mol of monomer (D) of the following table-E instead of 4.4 g of 3-sulfopropyl acrylate. Each colored particle (L) was produced in the same manner as in Production Example 2 except that was used. Each of the obtained colored dispersions was a latex having an average particle size of 0.25 to 0.40 μm. .

【0122】[0122]

【表7】 [Table 7]

【0123】比較用樹脂粒子の製造例1:樹脂粒子(L
L−1) 樹脂粒子(L)の製造例1において、メチルメタクリレ
ート15g及び3−スルホプルピルメタクリレート4g
をメチルメタクリレート19gに変更した以外は、樹脂
粒子(L)の製造例1と同様にして粒子を製造した。得
られた白色分散物は重合率99%で平均粒径0.24μ
mのラテックスであった。樹脂粒子分のMwは2×10
5 、Tgは41℃であった。
Production Example of Comparative Resin Particles 1: Resin Particles (L
L-1) In Production Example 1 of resin particles (L), 15 g of methyl methacrylate and 4 g of 3-sulfopropyl pyrmethacrylate
Particles were produced in the same manner as in Production Example 1 of resin particles (L), except that was changed to 19 g of methyl methacrylate. The white dispersion obtained had a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.24 μm.
m latex. Mw of resin particles is 2 × 10
5 , Tg was 41 ° C.

【0124】比較用樹脂粒子の製造例2:樹脂粒子(L
L−2) 樹脂粒子(L)の製造例1において、メチルメタクリレ
ート15g及び2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル
メタクリレート6gをメチルメタクリレート21gに変
更した以外は、樹脂粒子(L)の製造例1と同様にして
粒子を製造した。得られた白色分散物は重合率99%で
平均粒径0.23μmのラテックスであった。樹脂粒子
分のMwは2×105 、Tgは43℃であった。
Production Example 2 of Comparative Resin Particles: Resin Particles (L
L-2) Production example of resin particles (L) except that 15 g of methyl methacrylate and 6 g of 2- (N, N-dimethylamino) ethyl methacrylate were changed to 21 g of methyl methacrylate in Production Example 1 of resin particles (L). Particles were prepared as in 1. The obtained white dispersion was a latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.23 μm. The resin particles had Mw of 2 × 10 5 and Tg of 43 ° C.

【0125】比較用樹脂粒子の製造例3:樹脂粒子(L
L−3) 樹脂粒子(L)の製造例2において、メチルメタクリレ
ート15g及び3−スルホプロピルアクリレート4.4
gをメチルメタクリレート19.4gに変更した以外
は、樹脂粒子(L)の製造例2と同様にして粒子を製造
した。得られた白色分散物は重合率99%で平均粒径
0.23μmのラテックスであった。樹脂粒子分のMw
は3×105 、Tgは38℃であった。
Production Example 3 of Resin Particles for Comparison: Resin Particles (L
L-3) In Production Example 2 of resin particles (L), 15 g of methyl methacrylate and 4.4 of 3-sulfopropyl acrylate were used.
Particles were produced in the same manner as in Production Example 2 of resin particles (L) except that g was changed to 19.4 g of methyl methacrylate. The obtained white dispersion was a latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.23 μm. Mw of resin particles
Was 3 × 10 5 , and Tg was 38 ° C.

【0126】比較用樹脂粒子の製造例4:樹脂粒子(L
L−4) 樹脂粒子(L)の製造例2において、メチルメタクリレ
ート20g及び2−(N,N−ジエチルアミノ)エチル
アクリレート8gをメチルメタクリレート28gに変更
した以外は、樹脂粒子(L)の製造例2と同様にして粒
子を製造した。得られた白色分散物は重合率99%で平
均粒径0.23μmのラテックスであった。樹脂粒子分
のMwは3×105 、Tgは42℃であった。
Production Example 4 of Comparative Resin Particles: Resin Particles (L
L-4) Production Example 2 of resin particles (L) except that 20 g of methyl methacrylate and 8 g of 2- (N, N-diethylamino) ethyl acrylate were changed to 28 g of methyl methacrylate in Production Example 2 of resin particles (L). The particles were produced in the same manner as in. The obtained white dispersion was a latex having a polymerization rate of 99% and an average particle size of 0.23 μm. The resin particles had Mw of 3 × 10 5 and Tg of 42 ° C.

【0127】実施例1及び比較例A〜B <印刷用原版の作製>光導電性酸化亜鉛200g、下記
構造の樹脂(B−1)2g、下記構造の樹脂(B−2)
18g、下記構造のシアニン色素(1)0.018g、
無水フタル酸0.15g及びトルエン300gの混合物
をホモジナイザー(日本精機(株)製)中、回転数6×
103rpmで10分間分散して、感光層形成組成物を
調製し、これをELPマスター2Xタイプ(富士写真フ
イルム(株)製)用の支持体に、乾燥付着量が20g/
2となる様に、ワイヤーバーで塗布し、110℃で1
0秒間乾燥し、ついで暗所で20℃、65%RHの条件
下で24時間放置することにより、印刷用原版を作製し
た。
Example 1 and Comparative Examples A to B <Preparation of printing plate> 200 g of photoconductive zinc oxide, 2 g of resin (B-1) having the following structure, resin (B-2) having the following structure
18 g, 0.018 g of the cyanine dye (1) having the following structure,
A mixture of 0.15 g of phthalic anhydride and 300 g of toluene was placed in a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Co., Ltd.) to rotate at a rotation speed of 6 ×.
A photosensitive layer-forming composition was prepared by dispersing at 10 3 rpm for 10 minutes, and the composition was coated on a support for ELP master 2X type (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) so that the dry adhesion amount was 20 g /
As a m 2, it was coated by a wire bar, 1 at 110 ° C.
A printing original plate was prepared by drying for 0 seconds and then leaving it in the dark at 20 ° C. and 65% RH for 24 hours.

【0128】[0128]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0129】<液体現像剤(LD−1)の作製>ドデシ
ルメタクリレート/アクリル酸(95/5質量比)共重
合体10g、アルカリブルー10g及びアイソパーHの
30gをガラスビーズと共にペイントシェーカー(東洋
精機(株)製)に入れ、4時間分散して、アルカリブル
ーの微小な青色分散物を得た。
<Preparation of Liquid Developer (LD-1)> 10 g of a dodecyl methacrylate / acrylic acid (95/5 mass ratio) copolymer, 10 g of alkali blue and 30 g of Isopar H were used together with glass beads in a paint shaker (Toyo Seiki ( Co., Ltd.) and dispersed for 4 hours to obtain a fine blue dispersion of alkali blue.

【0130】樹脂粒子(L)の製造例1の樹脂粒子(L
−1)6g(固形分量として)、上記青色分散物1.0
g(固形分量として)、ヘキサデシルアルコール(FO
C−1600、日産化学(株)製)10g及びナフテン
酸コバルト塩0.01gをアイソパーGの1リットルに
希釈することにより静電写真用液体現像剤(LD−1)
を作製した。
Production of Resin Particles (L) Resin Particles (L
-1) 6 g (as solid content), 1.0 of the blue dispersion
g (as solid content), hexadecyl alcohol (FO
Liquid developer for electrostatic photography (LD-1) by diluting C-1600, Nissan Chemical Co., Ltd.) 10 g and cobalt naphthenate salt 0.01 g to 1 liter of Isopar G.
Was produced.

【0131】<比較用現像剤A及びBの作製>上記液体
現像剤(LD−1)の製造において、樹脂粒子(L−
1)を以下の樹脂粒子に代える以外は同様にして比較用
の液体現像剤A及びBを作製した。 比較用液体現像剤A:比較用樹脂粒子の製造例1で得た
樹脂粒子(LL−1)。 比較用液体現像剤B:比較用樹脂粒子の製造例2で得た
樹脂粒子(LL−2)。 これらの液体現像剤の荷電特性、画像再現性、印刷性等
を調べ、その結果を表−Fに示した。
<Production of Comparative Developers A and B> In the production of the above liquid developer (LD-1), resin particles (L-
Comparative liquid developers A and B were prepared in the same manner except that 1) was replaced with the following resin particles. Comparative liquid developer A: Resin particles (LL-1) obtained in Production Example 1 of comparative resin particles. Comparative liquid developer B: Resin particles (LL-2) obtained in Production Example 2 of comparative resin particles. The charge characteristics, image reproducibility, printability, etc. of these liquid developers were examined, and the results are shown in Table-F.

【0132】[0132]

【表8】 [Table 8]

【0133】表−Eに記載の評価は、下記のようにして
行なった。 注1)荷電特性 ・交流電気電導度 液体現像剤の荷電量として交流電気電導度(pS/c
m)をLCRメーター(安藤電気(株)製AG−431
1)を用いて測定した。測定の際には、LCRメーター
をテストリード(安藤電気(株)製AG−4912)を
介して、被測定液体現像剤2.3mlを入れた、自作し
たアルミ製のシールドボックス内に配置した液体用電極
(川口電機(株)製LP−05、電極定数198)に接
続し、印可電圧5V、測定周波数1kHzでコンダクタ
ンスの測定を行い、その値を電極定数で除すことにより
電気電導度に換算した。測定の際に、LCRメーターの
測定パラメーターの設定はキャパシタンス、サーキット
モードの設定は並列モードとした。
The evaluations shown in Table-E were carried out as follows. Note 1) Charging characteristics / AC electric conductivity AC electric conductivity (pS / c)
m) is an LCR meter (Ando Electric Co., Ltd. AG-431)
It was measured using 1). At the time of measurement, an LCR meter was placed in a self-made aluminum shield box containing 2.3 ml of the liquid developer to be measured through a test lead (Ando Electric Co., Ltd. AG-4912). It is connected to a special electrode (LP-05 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd., electrode constant 198), conductance is measured at an applied voltage of 5 V and a measurement frequency of 1 kHz, and the value is divided by the electrode constant to be converted into electric conductivity. did. At the time of measurement, the measurement parameter of the LCR meter was set to capacitance, and the circuit mode was set to parallel mode.

【0134】・粒子の荷電分率 下式で示すように、液体現像剤中での分散粒子の荷電量
の割合を表す。
Particle Charge Fraction As shown by the following equation, it represents the ratio of the charge amount of dispersed particles in the liquid developer.

【0135】[0135]

【数1】 [Equation 1]

【0136】ここで、上澄み分の荷電量は、液体現像剤
を遠心分離法(条件:1×104 r.p.m.2時間)
で粒子分を沈降させて得られる上澄みである透明液体の
交流電気電導度を表す。
Here, the charge amount of the supernatant was determined by centrifuging the liquid developer (conditions: 1 × 10 4 rpm 2 hours).
Represents the AC electric conductivity of a transparent liquid which is a supernatant obtained by allowing the particles to settle.

【0137】また、条件I及びIIは、液体現像剤製造後
の経時状態を変えたものを示し、条件Iとは、全組成分
を調合して得られた液体現像剤を常温、常湿(25℃、
65%RH)で1週間経時させたもの(フレッシュ品)
であり、一方、条件IIは、フレッシュ品を高温、高湿
(35℃、85%RH)の条件下に2カ月間保存して、
強制経時させたもの(経時品)である。
Conditions I and II indicate that the aging state after the liquid developer is manufactured is changed. Condition I is that the liquid developer obtained by mixing all the components is subjected to normal temperature and normal humidity ( 25 ° C,
65% RH) aged for 1 week (fresh product)
On the other hand, the condition II is to store the fresh product under conditions of high temperature and high humidity (35 ° C., 85% RH) for 2 months,
It is a product that has been forcibly aged (aged product).

【0138】注2)画像再現性 上記印刷用原版を−6kVで帯電し、光源として2.8
mW出力のガリウム−アルミニウム−ヒ素半導体レーザ
ー(発振波長780nm)を用いて、印刷用原版表面上
で6.4μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μm及び
スキャニング速度300m/secで露光後、液体現像
剤として、上記の各液体現像剤を用いて現像し、イソパ
ラフィン系溶剤であるアイソパーG(エッソ化学(株)
製)のリンス液で洗浄後、版面温度70℃で10秒間定
着して画像を形成した。得られたの製版画像につき、カ
ブリ、画像の画質等を目視評価した。 注3)印刷性 上記画像再現性の方法に従って画像形成した原版を、不
感脂化処理液ELP−E2(富士写真フイルム(株)
製)を用いて、エッチングマシーンを1回通して印刷版
を作成した。この様にして得られた印刷版を、湿し水と
してELP−E2(富士写真フイルム(株)製)を水で
20倍に希釈した溶液を用い、印刷用原紙として中性紙
を用い、印刷機としてハマダスター800SX型(ハマ
ダスター(株)製)を用いて印刷し、刷り出し10枚目
の印刷物の品質及び印刷物の画像部に欠落の生じない印
刷枚数を調べた。表−Eに示す様に、本発明の液体現像
剤の荷電特性は、過酷な条件下に保存しても、全体の荷
電量及び粒子の荷電分率がほとんど変化せず、極めて安
定であった。これに対して、比較例Aは全体の荷電量は
経時での変化量が比較的小さかったが、粒子の荷電分率
の変化が大きかった。比較例Bは、全体の荷電量及び粒
子の荷電分率が低く、経時で更に低下した。実際に画像
を形成した所、本発明の液体現像は条件I及びIIともに
良好であった。比較例Aは、条件IIで地カブリの発生が
認められ、比較例Bは全面に画像の流れが生じた。印刷
版として印刷した所、本発明の液体現像剤を用いた場
合、条件IIでも1万枚以上の鮮明な印刷物が得られた。
他方、比較例A及びBでは、刷り出しから、印刷物とし
て実用に供しえるものではなかった。
Note 2) Image reproducibility The above printing original plate was charged at -6 kV and 2.8 as a light source.
A mW-output gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 780 nm) was used to irradiate 6.4 μjoul / cm 2 on the surface of the printing original plate, exposed at a pitch of 25 μm and a scanning speed of 300 m / sec, and then a liquid developer. Is developed using each of the liquid developers described above, and Isopar G (Esso Chemical Co., Ltd.), which is an isoparaffinic solvent, is used.
After rinsing with a rinsing solution (1), the image was formed by fixing at a plate surface temperature of 70 ° C. for 10 seconds. Fogging, image quality of the image and the like of the obtained plate-making image were visually evaluated. Note 3) Printability The original plate on which an image was formed according to the method of image reproducibility described above was used as a desensitizing solution ELP-E2 (Fuji Photo Film Co., Ltd.).
(Manufactured by K.K.) was used to make a printing plate by passing through an etching machine once. The printing plate thus obtained was printed using a solution of ELP-E2 (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) diluted 20 times with water as fountain solution, and neutral paper as the base paper for printing. Printing was performed by using a Hamada Star 800SX type (manufactured by Hamada Star Co., Ltd.) as a machine, and the quality of the printed matter of the 10th printed sheet and the number of printed sheets in which there was no omission in the image portion of the printed matter were examined. As shown in Table-E, the charge characteristics of the liquid developer of the present invention were extremely stable even when stored under severe conditions with almost no change in the total charge amount and the particle charge fraction. . On the other hand, in Comparative Example A, the change amount of the total charge amount with time was relatively small, but the change of the charge fraction of the particles was large. In Comparative Example B, the total charge amount and the particle charge fraction were low, and further decreased with time. When an image was actually formed, the liquid development of the present invention was good under both conditions I and II. In Comparative Example A, the occurrence of background fog was observed under Condition II, and in Comparative Example B, image smearing occurred on the entire surface. When printed as a printing plate, when the liquid developer of the present invention was used, clear printed matter of 10,000 sheets or more was obtained even under the condition II.
On the other hand, Comparative Examples A and B could not be put to practical use as printed matter after printing.

【0139】実施例2及び比較例C〜D <液体現像剤(LD−2)の作成>テトラデシルメタク
リレート/メタクリル酸(95/5質量比)共重合体1
0g、ニグロシン10g及びアイソパーG30gをガラ
スビーズと共にペイントシェーカー(東洋精機(株)
製)に入れ、6時間分散してニグロシンの微小な分散物
を得た。樹脂粒子(L−2)6g(固形分量として)、
上記ニグロシン分散物1g(固形分量として)、酢酸ビ
ニル/半マレイン酸テトラデシルアミド共重合体0.0
1g及び分岐オクタデシルアルコール(FOC−180
0、日産化学(株)製)10gをアイソパーG1リット
ルに希釈することにより静電写真用液体現像剤(LD−
2)を作製した。 <比較用現像剤C及びDの作製>上記液体現像剤(LD
−2)の製造において、樹脂粒子(L−2)を以下の樹
脂粒子に代える以外は同様にして比較用の液体現像剤C
及びDを作製した。 比較用液体現像剤C:比較用樹脂粒子の製造例3で得た
樹脂粒子(LL−3)。 比較用液体現像剤D:比較用樹脂粒子の製造例4で得た
樹脂粒子(LL−4)。
Example 2 and Comparative Examples C to D <Preparation of liquid developer (LD-2)> Tetradecyl methacrylate / methacrylic acid (95/5 mass ratio) copolymer 1
0g, Nigrosine 10g and Isopar G 30g together with glass beads Paint shaker (Toyo Seiki Co., Ltd.)
Manufactured) and dispersed for 6 hours to obtain a fine dispersion of nigrosine. 6 g of resin particles (L-2) (as solid content),
1 g of the above nigrosine dispersion (as solid content), vinyl acetate / semi-maleic acid tetradecylamide copolymer 0.0
1 g and branched octadecyl alcohol (FOC-180
0, manufactured by Nissan Kagaku Co., Ltd., and diluted with 1 liter of Isopar G to obtain a liquid developer for electrostatic photography (LD-).
2) was produced. <Production of Comparative Developers C and D> The liquid developer (LD
-2), except that the resin particles (L-2) are replaced with the following resin particles, the liquid developer C for comparison is similarly used.
And D were made. Comparative liquid developer C: Resin particles (LL-3) obtained in Production Example 3 of comparative resin particles. Comparative liquid developer D: Resin particles (LL-4) obtained in Production Example 4 of comparative resin particles.

【0140】上記液体現像剤を全自動製版機ELP58
0RX(富士写真フイルム(株)製)の現像剤として使
用し、不感脂化処理液ELP−PEX(富士写真フイル
ム(株)製)を用いて、電子写真感光材料であるELP
マスター2Xタイプ(富士写真フイルム(株)製)を露
光、現像及び不感脂化処理をした。黒化率(画像面積)
35%の原稿を用いた。製版スピードは6版/分で行な
った。ELPマスター2Xタイプを1万枚処理した後の
現像装置へのトナー付着汚れの有無を観察した。その結
果を表−Gに示した。
The above liquid developer was applied to a fully automatic plate-making machine ELP58.
ELP, which is an electrophotographic light-sensitive material, is used as a developer of 0RX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) and a desensitizing solution ELP-PEX (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is used.
A master 2X type (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was exposed, developed and desensitized. Blackening rate (image area)
A 35% original was used. The plate making speed was 6 plates / minute. After processing 10,000 sheets of the ELP master 2X type, the presence or absence of toner adhesion stains on the developing device was observed. The results are shown in Table-G.

【0141】[0141]

【表9】 [Table 9]

【0142】本発明の液体現像剤を用いて製版した所、
1万版後でも現像装置の汚れを生じなかった。比較例C
及びDでは、トナーかすの付着による現像装置の汚れが
認められた。また、製版して得られた1万版目のオフセ
ット用印刷版を用いて常法により印刷し、印刷物の画像
に文字の欠落、ベタ部のカスレ等の発生するまでの印刷
枚数を調べた所、本発明の現像剤を用いて得られた印刷
版は10000枚以上でも良好であった。他方、比較例
C、Dはいずれも刷り出しから印刷物の画像不良等を生
じた。更に、実施例の条件II(35℃/85%RH下に
2か月保存)で経時させた現像剤(LD−2)を上記と
同様の試験を行なったところ、フレッシュ品とほぼ同等
の性能を示した。以上の結果から、本発明の液体現像剤
は、現像装置の汚れを全く生じないと同時に、得られた
印刷版は優れた耐刷性を有することが分かる。
A plate made using the liquid developer of the present invention,
Even after 10,000 plates, the developing device did not become dirty. Comparative Example C
In D and D, stains on the developing device due to adhesion of toner dust were observed. Further, printing was carried out by a conventional method using the 10,000th printing plate for offset obtained by plate-making, and the number of printed sheets until the occurrence of character loss in the image of the printed matter, scraping of the solid portion, etc. was examined. The printing plate obtained using the developer of the present invention was good even at 10,000 sheets or more. On the other hand, in Comparative Examples C and D, image defects and the like of the printed matter occurred after printing. Further, a developer (LD-2) aged under the condition II of the example (stored under 35 ° C./85% RH for 2 months) was subjected to the same test as above, and the performance was almost the same as that of the fresh product. showed that. From the above results, it is understood that the liquid developer of the present invention does not stain the developing device at all, and at the same time, the printing plate obtained has excellent printing durability.

【0143】実施例3 <印刷用原版の作製>砂目立て及び陽性酸化処理を施し
たアルミニウム板上に下記の光導電層用塗布液をバーコ
ーターで塗布し、120℃で10分間乾燥し、膜厚3.
0μmの印刷用原版を作製した。
Example 3 <Preparation of printing original plate> The following photoconductive layer coating solution was applied on a grained and positively oxidized aluminum plate with a bar coater and dried at 120 ° C. for 10 minutes to form a film. Thickness 3.
An original plate for printing of 0 μm was prepared.

【0144】 X型メタルフリーフタロシアニン 20部 ブチルメタクリレートとメタクリル酸の共重合体 (メタクリル酸35モル%) 140部 1−メトキシ−2−プロパノール 555部 メチルエチルケトン 555部 以上の組成をもつ混合物を、高速度分散混合機ダイナミ
ル(KDL−5、W.A.BACHOFEN社製)で2時間分散して
光導電層用塗布液とした。
X-type metal-free phthalocyanine 20 parts Copolymer of butyl methacrylate and methacrylic acid (methacrylic acid 35 mol%) 140 parts 1-methoxy-2-propanol 555 parts Methyl ethyl ketone 555 parts A mixture having the above composition was added at a high speed. It was dispersed for 2 hours with a dispersion mixer Dynamill (KDL-5, manufactured by WABACHOFEN) to obtain a coating liquid for a photoconductive layer.

【0145】<液体現像剤(LD−3)の作製>樹脂粒
子(L)の製造例1の樹脂粒子(L−1)9g(固形分
量として)、テトラデシルアルコール(FOC140
0)10g及びナフテン酸ジルコニウム塩0.011g
をアイソパーHで1リットルになる様に調液して液体現
像剤(LD−3)を作製した。実施例1と同様の記載の
方法で荷電特性を測定したところ、下記表−Hに示す結
果を得た。
<Preparation of Liquid Developer (LD-3)> 9 g (as solid content) of resin particles (L-1) of Production Example 1 of resin particles (L), tetradecyl alcohol (FOC140).
0) 10 g and 0.011 g of zirconium naphthenate
Was prepared with Isopar H to a volume of 1 liter to prepare a liquid developer (LD-3). When the charging characteristics were measured by the same method as described in Example 1, the results shown in Table H below were obtained.

【0146】[0146]

【表10】 [Table 10]

【0147】過酷な条件で経時後も、フレッシュ品とほ
ぼ同等で極めて安定な荷電特性を示した。
Even after the passage of time under severe conditions, it showed a charge characteristic almost equivalent to that of the fresh product and extremely stable.

【0148】上記の光導電層を有する印刷用原版を、光
導電層表面が均一に+400Vに帯電する様にコロナ放
電後、半導体レーザー(光源波長780nm)を用い
て、表面上で3μjoul/cm2の照射下、ピッチ25μ
m及びスキャニング速度300m/secで露光した。
続けて、本発明の液体現像剤(LD−3)を用いて、バ
イアス電圧+180Vの条件で反転現像を行った後、温
度120℃で1分間加熱して画像を定着した。この製版
版をケイ酸カリウム40部、水酸化カリウム10部、ベ
ンジルアルコール20部、エタノール20部を水900
部に希釈したエッチング液に10秒間浸漬して非画像部
を除去し、十分水洗して乾燥し、印刷版を作成した。こ
の印刷版を60倍のルーペ(PEAK(株)製)にて目
視評価した所、画像部の細線・細文字の欠損は認められ
ず、極めて鮮明な画像であった。次に、この印刷版を、
ガム引き処理した後、オフセット印刷機(オリバー52
型、桜井製作所(株)製)にかけて印刷した。10万枚
以上印刷しても、印刷物の画質は鮮明で、地カブリも全
く見られなかった。また、条件IIの液体現像剤を用い
て、上記と同様にして製版、エッチング処理して印刷し
た所、フレッシュ品と全く同等の結果が得られた。
The printing plate having the above photoconductive layer was subjected to corona discharge so that the surface of the photoconductive layer was uniformly charged to +400 V, and then 3 μjoul / cm 2 on the surface using a semiconductor laser (light source wavelength 780 nm). Under irradiation, pitch 25μ
m and a scanning speed of 300 m / sec.
Subsequently, the liquid developer (LD-3) of the present invention was used to perform reversal development under the condition of a bias voltage of +180 V, and then the image was fixed by heating at a temperature of 120 ° C. for 1 minute. 40 parts of potassium silicate, 10 parts of potassium hydroxide, 20 parts of benzyl alcohol, and 20 parts of ethanol were mixed with 900 parts of water.
A non-image area was removed by immersing in a diluted etching solution for 10 seconds, washed sufficiently with water and dried to prepare a printing plate. When this printing plate was visually evaluated with a magnifying glass of 60 times (manufactured by PEAK Co., Ltd.), no fine lines or fine characters in the image area were observed and the image was extremely clear. Next, this printing plate
After gumming treatment, offset printing machine (Oliver 52
The pattern was printed on Sakurai Seisakusho Co., Ltd. Even after printing 100,000 sheets or more, the image quality of the printed matter was clear and no background fog was observed. Further, when the liquid developer under the condition II was used to carry out plate making, etching treatment and printing in the same manner as described above, the same result as that of the fresh product was obtained.

【0149】更には、印刷用原版を、5000版製版し
て、現像部の汚れを調べた所、トナーかすの付着等の汚
れは発生しておらず、液体現像剤は極めて良好な再分散
性を示した。又5000版目のエッチング処理後の印刷
版上の画像を目視評価した所、細線・細文字等は鮮明で
初版の印刷版と差は見られなかった。以上の様に、本発
明の液体現像剤は非画像部を溶出して印刷版とする電子
写真式製版システムにおいて、過酷な条件で経時されて
も、安定な荷電特性を示し、優れた分散性、再分散性を
示した。また、耐刷性も満足できるものであった。
Further, the printing plate precursor was made into a 5000 plate, and the stains on the developing portion were examined. No stain such as adhesion of toner dust was found, and the liquid developer had very good redispersibility. showed that. In addition, when the image on the printing plate after the 5000th plate was etched was visually evaluated, fine lines and fine characters were clear and no difference was seen from the printing plate of the first plate. As described above, the liquid developer of the present invention shows stable charging characteristics even when aged under severe conditions in an electrophotographic plate making system in which a non-image area is eluted to form a printing plate, and has excellent dispersibility. , Showed redispersibility. Further, the printing durability was also satisfactory.

【0150】実施例4〜19 実施例1において、樹脂粒子(L−1)の代わりに、下
記表−Iに記載の樹脂粒子を用いた他は、実施例1と同
様に操作して各液体現像剤を作製した。得られた現像剤
の交流電気電導度は95〜100(pS/cm)、粒子
の荷電分率は90〜95%であった。又条件IIの場合
も、変化は殆ど生じなかった。
Examples 4 to 19 Each liquid was prepared in the same manner as in Example 1 except that the resin particles shown in Table I below were used in place of the resin particles (L-1) in Example 1. A developer was prepared. The AC electric conductivity of the obtained developer was 95 to 100 (pS / cm), and the charge fraction of the particles was 90 to 95%. Also, in the case of condition II, almost no change occurred.

【0151】[0151]

【表11】 [Table 11]

【0152】得られた各液体現像剤を、実施例1と同様
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例1と同様な性能を示し、
画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。また、
各現像剤ともに条件IIにおいても、同等の性能を示し良
好であった。
Each of the obtained liquid developers was used in an electrophotographic plate making system in the same manner as in Example 1, and its performance was examined. Each liquid developer exhibits the same performance as in Example 1,
The image reproducibility, dispersibility, and printability were good. Also,
Under the condition II, all the developers exhibited the same performance and were good.

【0153】実施例20〜28 実施例2において、樹脂粒子(L−2)の代わりに、下
記表−Jに記載の樹脂粒子を用いた他は、実施例2と同
様に操作して各液体現像剤を作製した。
Examples 20 to 28 In the same manner as in Example 2, except that the resin particles shown in Table J below were used in place of the resin particles (L-2) in Example 2, each liquid was prepared. A developer was prepared.

【0154】[0154]

【表12】 [Table 12]

【0155】得られた各液体現像剤を、実施例2と同様
にして電子写真式製版システムに用いて、その性能を調
べた。各液体現像剤とも実施例2と同様な性能を示し、
画像再現性、分散性、印刷性とも良好であった。又、現
像装置の汚れも実施例2と同様に発生しなかった。更
に、各現像剤とも条件IIにおいても、同等の性能を示し
良好であった。
Each of the obtained liquid developers was used in an electrophotographic plate making system in the same manner as in Example 2 and its performance was examined. Each liquid developer exhibits the same performance as in Example 2,
The image reproducibility, dispersibility, and printability were good. Further, the developing device did not stain as in the second embodiment. Further, each developer exhibited the same performance even under the condition II and was good.

【0156】実施例29 アモルファスシリコンから成る感光体ドラムの周速度を
10mm/秒で回転させ感光体表面にスリット電着装置
を用いて下記分散液を供給しながら、感光体側を接地
し、スリット電着装置の電極側に+200Vの電圧を印
加して樹脂粒子を電着した。次いでエアースクイズで分
散液を除き赤外線ラインヒーターにて溶融、皮膜化し感
光体上に膜厚1.5μm熱可塑性樹脂転写層を形成し
た。 <転写層形成用分散液>分散安定用樹脂[オクタデシルメ
タクリレート/アクリルアミド(97/3質量比)共重
合体、質量平均分子量:4×104]12g、酢酸ビニ
ル96g、テトラデシルメタクリレート4g及びアイソ
パーH384gの混合溶液を窒素気流下攪拌しながら温
度70℃に加温した。重合開始剤として2,2′−アゾ
ビス(イソバレロニトリル)(略称A.I.V.N.)
を0.8g加え、3時間反応させた。開始剤を添加して
20分後に白濁を生じ、反応温度は88℃まで上昇し
た。更に、上記開始剤を0.5g加え、2時間反応させ
た後、温度を100℃に上げ2時間攪拌し未反応の酢酸
ビニルを留去した。冷却後200メッシュのナイロン布
を通し、白色分散物(重合率90%で平均粒径0.21
μm)を得た。上記熱可塑性樹脂分散物10g(固形分
量として)及びナフテン酸ジルコニウム0.001gを
アイソパーH1リットル中に加えて正荷電樹脂粒子分散
液とした。感光体の表面温度を40℃に保ちながらただ
ちに電子写真プロセスを行なった。まずこの感光体を暗
所にて+700Vにコロナ帯電をしたのち、あらかじめ
原稿から読み取り、デジタル画像データ−としてシステ
ム内のハードディスクに納められた情報をもとに半導体
レーザーを用いて780nmの光で露光した。露光部の
電位は+220Vで未露光部は+660Vであった。続
いて現像ユニットに組み込まれているプレバス装置によ
りアイソパーHにてプレバスをしたのち、下記の本発明
の正荷電液体現像剤を現像ユニットから感光体表面へ供
給した。この時現像ユニット側へ+500Vの現像バイ
アス電圧を印加し、反転現像を行なって未露光部にトナ
ーが電着するようにした。次いでアイソパーH単独浴中
でリンスをして非画像部の汚れを除き、エアースクイズ
にて液を切り、赤外線ラインヒーター下を通過させて乾
燥した。 <液体現像剤(LD−4)の作製>青色顔料(Lionol Bl
ue FG−7350、東洋インキ(株)製)/オクタデシルメ
タクリレート−メチルメタクリレート(7/3質量比)ブ
ロック共重合体の1/1質量比から成るアイソパーG分散
物4g(固形分量として)、樹脂粒子(L−20)8g
(固形分量として)及びオクタデシルビニルエーテル−
半マレイン酸ドデシルアミド共重合体0.01gをアイ
ソパーGの1リットルに希釈することにより液体現像剤
(LD−4)を作製した。つぎに赤外線ラインヒーター
の下を通過させて、表面温度を放射温度計で測定してほ
ぼ80℃に予備加熱をしたのち、コート紙を、転写層を
有する感光体と重ね合わせ、10kgf/cm2(980kP
a)の圧力で接している表面温度が120℃に常にコン
トロールされた加熱ゴムローラーの下を、15mm/s
ecのスピードで通過させた。その後冷却ローラー下を
通過させ冷やしてからコート紙を引き剥がしたところ、
感光体上のトナーは転写層ごと全てコート紙側に熱転写
され、カラー画像が得られた。得られたカラー画像は極
めて鮮明であり、非画像部のカブリも全く見られなかっ
た。又、液体現像剤(CD−4)を実施例1と同様に強
制経時させた(条件II)場合も、フレッシュ品と差は見
られず、鮮明なものであった。
Example 29 A photosensitive drum made of amorphous silicon was rotated at a peripheral speed of 10 mm / sec, and the following dispersion liquid was supplied to the surface of the photosensitive member by using a slit electrodeposition apparatus while the photosensitive member side was grounded and slit electric charge was applied. A voltage of +200 V was applied to the electrode side of the deposition device to electrodeposit the resin particles. Then, the dispersion liquid was removed by air squeeze and the film was melted and filmed by an infrared line heater to form a thermoplastic resin transfer layer having a film thickness of 1.5 μm on the photoconductor. <Transfer Layer Forming Dispersion> Dispersion stabilizing resin [octadecyl methacrylate / acrylamide (97/3 mass ratio) copolymer, mass average molecular weight: 4 × 10 4 ] 12 g, vinyl acetate 96 g, tetradecyl methacrylate 4 g and Isopar H384 g The mixed solution of was heated to 70 ° C. while stirring under a nitrogen stream. 2,2′-azobis (isovaleronitrile) (abbreviation AIVN) as a polymerization initiator
0.8 g was added and reacted for 3 hours. Twenty minutes after the addition of the initiator, white turbidity occurred and the reaction temperature rose to 88 ° C. Further, 0.5 g of the above initiator was added and reacted for 2 hours, then the temperature was raised to 100 ° C. and stirred for 2 hours to distill off unreacted vinyl acetate. After cooling, pass through a 200-mesh nylon cloth to give a white dispersion (polymerization rate 90%, average particle size 0.21
μm) was obtained. 10 g of the thermoplastic resin dispersion (as a solid content) and 0.001 g of zirconium naphthenate were added to 1 liter of Isopar H to prepare a positively charged resin particle dispersion liquid. An electrophotographic process was immediately performed while maintaining the surface temperature of the photoconductor at 40 ° C. First, after corona charging this photoreceptor to + 700V in the dark, read it from the original document in advance and expose it with 780 nm light using a semiconductor laser based on the information stored in the hard disk in the system as digital image data. did. The potential of the exposed portion was + 220V and that of the unexposed portion was + 660V. Then, after pre-bathing with Isopar H by a pre-bath device incorporated in the developing unit, the following positively charged liquid developer of the present invention was supplied from the developing unit to the surface of the photoreceptor. At this time, a developing bias voltage of +500 V was applied to the developing unit side to carry out reversal development so that the toner was electrodeposited on the unexposed portion. Then, rinsed in a bath of Isopar H alone to remove stains on the non-image area, the liquid was drained by an air squeeze, passed through an infrared line heater and dried. <Preparation of liquid developer (LD-4)> Blue pigment (Lionol Bl
ue FG-7350, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd./Octadecyl methacrylate-methyl methacrylate (7/3 mass ratio) 4 g of Isopar G dispersion (as solid content) consisting of 1/1 mass ratio of block copolymer, resin particles (L-20) 8g
(As solid content) and octadecyl vinyl ether-
A liquid developer (LD-4) was prepared by diluting 0.01 g of a maleic acid dodecylamide copolymer with 1 L of Isopar G. Next, after passing under an infrared line heater to measure the surface temperature with a radiation thermometer and preheating to about 80 ° C., the coated paper is superposed on the photoreceptor having a transfer layer, and 10 kgf / cm 2 (980kP
15mm / s under the heating rubber roller whose surface temperature is controlled to 120 ℃ under the pressure of a).
It was passed at a speed of ec. After that, after passing the bottom of the cooling roller to cool and peeling off the coated paper,
The toner on the photoconductor was transferred to the coated paper side together with the transfer layer, and a color image was obtained. The color image obtained was extremely clear and no fog was observed in the non-image area. Also, when the liquid developer (CD-4) was forcibly aged as in Example 1 (Condition II), no difference was seen between the fresh product and the product was clear.

【0157】[0157]

【発明の効果】本発明の液体現像剤は、特定の樹脂粒子
を用いたことにより現像−定着工程が迅速化され且つ大
版サイズのマスタープレートを用いる電子写真製版シス
テムにおいても、粒子の荷電安定性、分散安定性、再分
散性及び定着性に優れるものであり、かつ優れた印刷イ
ンク感脂性と耐刷性を有するオフセット印刷版を提供で
きる。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The liquid developer of the present invention accelerates the developing-fixing process by using specific resin particles, and stabilizes the charge of particles even in an electrophotographic plate making system using a large plate master plate. It is possible to provide an offset printing plate having excellent properties, dispersion stability, redispersibility, and fixability, and having excellent printing ink oil sensitivity and printing durability.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気抵抗109Ωcm以上、かつ誘電率
3.5以下の非水溶媒中に、少なくとも樹脂粒子を分散
して成る静電写真用液体現像剤において、上記分散され
た樹脂粒子が、非水溶媒に可溶であって、重合すること
により不溶となる一官能性単量体(A)の少なくとも一
種、一般式(I)で示されるアミノ基を含有する、単量
体(A)と共重合可能な一官能性単量体(B)の少なく
とも一種、−PO32基、−SO3H基および−SO2
基から選ばれる酸性基を少なくとも1つ含有する、単量
体(A)と共重合可能な一官能性単量体(C)の少なく
とも一種、フッ素原子及び/又はケイ素原子含有の置換
基を有する、単量体(A)と共重合可能な一官能性単量
体(D)の少なくとも一種、並びに下記一般式(PI)
で示される重合成分を少なくとも含有する、該非水溶媒
にコロイド状に分散してなる分散安定用樹脂(P)の少
なくとも一種の存在下に、重合造粒することによって得
られる共重合体樹脂粒子であることを特徴とする静電写
真用液体現像剤。 【化1】 一般式(I)中、R1及びR2は各々同じでも異なっても
よく、水素原子又は炭素数1〜22の炭化水素基を表す
か、R1とR2が結合して窒素原子とともに環を形成して
もよい。 【化2】 一般式(PI)中、V0 は−COO−、−OCO−、−
(CH2)rCOO−、−(CH2)rOCO−、−O−又は 【化3】 (ここでXは直接結合、−O−、−OCO−又は−CO
O−を表す)を表す。rは1〜12の整数を表す。L
は、炭素数8〜32のアルキル基または炭素数8〜32
のアルケニル基を表す。b1およびb2は互いに同じでも
異なっていてもよく、各々水素原子、ハロゲン原子、シ
アノ基、炭化水素基、−COO−D1 、または炭化水素
基を介した−COO−D1 を表す(ここでD1 は水素原
子または置換されてもよい炭化水素基を示す)。
1. A liquid developer for electrostatic photography comprising at least resin particles dispersed in a non-aqueous solvent having an electric resistance of 10 9 Ωcm or more and a dielectric constant of 3.5 or less, wherein the dispersed resin particles are A monomer (A containing at least one monofunctional monomer (A) which is soluble in a non-aqueous solvent and becomes insoluble by polymerization, and an amino group represented by the general formula (I). ) and at least one copolymerizable monofunctional monomer (B), -PO 3 H 2 group, -SO 3 H group and -SO 2 H
At least one monofunctional monomer (C) copolymerizable with the monomer (A), containing at least one acidic group selected from the group, and having a substituent containing a fluorine atom and / or a silicon atom. , At least one monofunctional monomer (D) copolymerizable with the monomer (A), and the following general formula (PI)
Copolymer resin particles obtained by polymerizing and granulating in the presence of at least one dispersion stabilizing resin (P), which comprises at least a polymerization component represented by, and is dispersed colloidally in the non-aqueous solvent. A liquid developer for electrostatic photography, characterized by being present. [Chemical 1] In formula (I), R 1 and R 2 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 22 carbon atoms, or R 1 and R 2 are bonded to each other to form a ring together with a nitrogen atom. May be formed. [Chemical 2] In general formula (PI), V 0 is -COO-, -OCO-,-.
(CH 2) r COO -, - (CH 2) r OCO -, - O- or ## STR3 ## (Where X is a direct bond, -O-, -OCO- or -CO
Represents O-). r represents an integer of 1 to 12. L
Is an alkyl group having 8 to 32 carbon atoms or 8 to 32 carbon atoms
Represents an alkenyl group. b 1 and b 2 may be the same as or different from each other and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, —COO-D 1 , or —COO-D 1 via a hydrocarbon group ( Here, D 1 represents a hydrogen atom or an optionally substituted hydrocarbon group).
【請求項2】 分散安定用樹脂(P)が、一般式(P
I)で示される重合成分を少なくとも含有するブロック
と、該一般式(PI)で示される重合成分を含有しない
ブロックとからなるブロック共重合体であることを特徴
とする請求項1記載の静電写真用液体現像剤。
2. The dispersion stabilizing resin (P) has the general formula (P
The electrostatic block according to claim 1, which is a block copolymer comprising a block containing at least a polymerization component represented by I) and a block containing no polymerization component represented by the general formula (PI). Liquid developer for photography.
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