JP2003109989A - フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム - Google Patents
フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルムInfo
- Publication number
- JP2003109989A JP2003109989A JP2001299920A JP2001299920A JP2003109989A JP 2003109989 A JP2003109989 A JP 2003109989A JP 2001299920 A JP2001299920 A JP 2001299920A JP 2001299920 A JP2001299920 A JP 2001299920A JP 2003109989 A JP2003109989 A JP 2003109989A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide film
- flexible printed
- film
- polyimide
- polyamic acid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 title claims abstract description 48
- -1 aromatic tetracarboxylic acid compound Chemical class 0.000 claims description 28
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 claims description 13
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 7
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 238000009736 wetting Methods 0.000 abstract 1
- 229920005575 poly(amic acid) Polymers 0.000 description 30
- 238000000034 method Methods 0.000 description 25
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 108010025899 gelatin film Proteins 0.000 description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N bpda Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 3-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CN=C1 ITQTTZVARXURQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100191174 Arabidopsis thaliana PPD3 gene Proteins 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N N,N-dimethylaniline Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=C1 JLTDJTHDQAWBAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 208000023951 Polydactyly of an index finger Diseases 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-f][2]benzofuran-1,3,5,7-tetrone Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC2=C1C(=O)OC2=O ANSXAPJVJOKRDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000006798 ring closing metathesis reaction Methods 0.000 description 2
- HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N sulfonyldimethane Chemical compound CS(C)(=O)=O HHVIBTZHLRERCL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC=N1 BSKHPKMHTQYZBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 4-phenylbenzene-1,2,3,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C1C1=CC=CC=C1 CQMIJLIXKMKFQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N Phthalic anhydride Natural products C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 LGRFSURHDFAFJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N butyl 2,2-difluorocyclopropane-1-carboxylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1CC1(F)F JHIWVOJDXOSYLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 1
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
に優れ、かつフレキシビリティに富みハンドリング性の
良好なフレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム
を提供する。 【解決手段】フィルム厚みが5〜20μm、ヤング率が
4〜7GPa、熱膨張係数が14〜22ppm/℃であ
ることを特徴とするフレキシブルプリント基板用ポリイ
ミドフィルム。
Description
膨張係数が小さく寸法安定性に優れ、さらにフレキシブ
ルでハンドリング性に優れたフレキシブルプリント基板
用ポリイミドフィルムに関する。
リイミドフィルムには屈曲性、耐折り曲げ性などのフレ
キシビリティが要求され、4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテルと無水ピロメリット酸二無水物から成るポリ
アミック酸をイミド化して得られるフィルム厚み25μ
mのポリイミドフィルムが主に使用されてきた。このポ
リイミドフィルムはフレキシビリティには富むものの熱
膨張係数、湿度膨張係数が高いため、フレキシブルプリ
ント基板を作成するに至るまでの工程での寸法変化が大
きく、近年の電子機器の高機能化に伴う高寸法安定性を
要求されるフレキシブルプリント基板用には適さなくな
ってきた。
つの成分にパラフェニレンジアミンを加えたポリアミッ
ク酸をイミド化して得られるポリイミドフィルムが作成
されている。しかしこのポリイミドフィルムは加熱時の
寸法安定性には優れるものの、吸水率、湿度膨張係数が
高く薬液洗浄などのウェット工程通過時の寸法変化が大
きくなるという欠点を持つ。さらに4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテルと無水ピロメリット酸二無水物のみ
から成るポリイミドフィルムに比べるとフレキシビリテ
ィが損なわれている。
来技術における問題点の解決を課題として検討した結果
なされたものであり、加熱工程及びウェット工程通過時
の寸法安定性に優れ、かつフレキシビリティに富みハン
ドリング性の良好なフレキシブルプリント基板用ポリイ
ミドフィルムの提供を目的とするものである。
めに、本発明のフレキシブルプリント基板用ポリイミド
フィルムは、フィルム厚みが5〜20μm、ヤング率が
4〜7GPa、熱膨張係数が14〜22ppm/℃であ
ることを特徴とする。さらに、本発明のフレキシブルプ
リント基板用ポリイミドフィルムは、下記(1)〜
(3)の条件を併せ持つことが好ましい。 (1)吸水率が2.2%以下、湿度膨張係数が20pp
m/%RH以下であること。 (2)ポリイミドフィルムが芳香族ジアミン成分として
パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノジフェニルメタンのうち少なくとも
2種以上含むポリイミドから成ること。 (3)ポリイミドフィルムが芳香族テトラカルボン酸類
化合物成分としてピロメリット酸類、ビフェニルテトラ
カルボン酸類、ベンゾフェノンテトラカルボン酸類のう
ち1種以上含むポリイミドから成ること。
て以下詳細に説明する。
で、工程でのハンドリング性を保持し、かつ製造された
フレキシブルプリント基板のフレキシビリティを持たせ
るには、フィルム厚みを5〜20μm、ヤング率を4〜
7GPaの範囲内にすることが好ましい。フィルム厚み
がこの範囲より薄くすると工程でのハンドリング性を、
また厚くすると基板のフレキシビリティを損なうので好
ましくない。またヤング率も4GPa以下にするとハン
ドリング性、7GPa以上にするとフレキシビリティを
損なうので好ましくない。
よびカールを小さくするには、熱膨張係数が14〜22
ppm/℃であることが好ましい。この範囲から外れる
と銅の熱膨張係数との差異が大きくなり銅との張り合わ
せ時にヒズミが生じ寸法変化を大きくしてしまうので好
ましくない。
は吸水率を2.2%以下に抑えるのが好ましく、また同
ウェット工程での寸法変化を低減させるには湿度膨張係
数を20ppm/%RH以下に抑えるのが好ましい。
しての前駆体であるポリアミド酸溶液について説明す
る。
パラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニ
ルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエーテル、
4,4’−ジアミノジフェニルメタンのうち少なくとも
2種以上含む芳香族ジアミン成分とピロメリット酸類、
ビフェニルテトラカルボン酸類、ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸類のうち1種以上含む芳香族テトラカルボン
酸類化合物成分とを、溶媒中で重合させることによって
得られることが好ましい。
よく、例えば (1)先に芳香族ジアミン成分全量を溶媒中に入れ、その
後芳香族テトラカルボン酸類成分を芳香族ジアミン成分
全量と当量になるよう加えて重合する方法。
量を溶媒中に入れ、その後芳香族ジアミン成分を芳香族
テトラカルボン酸類成分と等量になるよう加えて重合す
る方法。
媒中に入れた後、反応成分に対して芳香族テトラカルボ
ン酸類化合物が95〜105モル%となる比率で反応に
必要な時間混合した後、先に入れたとは別の芳香族ジア
ミン化合物を添加し、続いて芳香族テトラカルボン酸類
化合物を全芳香族ジアミン成分と全芳香族テトラカルボ
ン酸類成分とがほぼ等量になるよう添加して重合する方
法。
媒中に入れた後、反応成分に対して1種の芳香族ジアミ
ン化合物が95〜105モル%となる比率で反応に必要
な時間混合した後、芳香族テトラカルボン酸類化合物を
添加し、続いて先に入れたとは別の芳香族ジアミン化合
物を全芳香族ジアミン成分と全芳香族テトラカルボン酸
類成分とがほぼ等量になるよう添加して重合する方法。
芳香族テトラカルボン酸類をどちらかが過剰になるよう
反応させてポリアミド酸溶液(A)を調整し、別の溶媒
中で先とは別の芳香族ジアミン成分と芳香族テトラカル
ボン酸類をどちらかが過剰になるよう反応させポリアミ
ド酸溶液(B)を調整する。こうして得られた各ポリア
ミド酸溶液(A)と(B)を混合し、重合を完結する方
法。この時ポリアミド酸溶液(A)を調整するに際し芳
香族ジアミン成分が過剰の場合、ポリアミド酸溶液
(B)では芳香族テトラカルボン酸成分を過剰に、また
ポリアミド酸溶液(A)で芳香族テトラカルボン酸成分
が過剰の場合、ポリアミド酸溶液(B)では芳香族ジア
ミン成分を過剰にし、ポリアミド酸溶液(A)と(B)
を混ぜ合わせこれら反応に使用される全芳香族ジアミン
成分と全芳香族テトラカルボン酸類成分とがほぼ等量に
なるよう調整する。
はなく、その他公知の方法を用いてもよい。
イミドフィルムを得る方法を説明する。
脱水剤を用いて化学環化するか加熱処理による熱的環化
によりポリイミドのゲルフィルムを得る。
縦方向に1.05〜1.5、横方向に1.05〜2.0
の倍率で延伸するのが好ましい。このような2軸延伸を
行うと、得られるポリイミドフィルムの機械特性向上、
さらには等方性が改良されるので好ましい。
類化合物の内で、ピロメリット酸類の例としては、ピロ
メリット酸またはその二無水物を、また、ビフェニルテ
トラカルボン酸類の例としては3,3’,4,4’−ビ
フェニルテトラカルボン酸またはその二無水物を、ベン
ゾフェノンテトラカルボン酸類の例としては3,3’,
4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸またはその
二無水物を挙げることができる。
チルスルホキシド、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジエチルアセトアミド、N,N−ジメチルホル
ムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチル
−2−ピロリドンおよびジメチルスルホンなどが挙げら
れ、これらを単独あるいは混合して使用するのが好まし
い。
記溶媒中に10〜30重量%の割合となるように調整す
る。
ミドフィルムにする際には、脱水剤と触媒を用いて脱水
する化学閉環法、熱的に脱水する熱閉環法のいずれで行
ってもよいが、化学閉環法で行った方が、得られるフィ
ルムにケミカルエッチング性が付与できるため好まし
い。
水酢酸などの脂肪族酸無水物、フタル酸無水物などの芳
香族酸無水物などが挙げられ、これらを単独あるいは混
合して使用するのが好ましい。また触媒としては、ピリ
ジン、ピコリン、キノリンなどの複素環式第3級アミン
類、トリエチルアミンなどの脂肪族第3級アミン類、
N,N−ジメチルアニリンなどの芳香族第3級アミン類
などが挙げられ、これらを単独あるいは混合して使用す
るのが好ましい。
ド酸溶液中に触媒・脱水剤を混合させイミド化した後に
この溶液をコーティングしてポリイミドフィルムを得る
方法と、ポリアミド酸溶液をコーティングして薄膜化さ
せた後に触媒・脱水剤の混合中に浸漬してイミド化させ
ることによってポリイミドフィルムを得る方法がある。
を粗化させてフィルムに滑り性を与え工程安定性を良く
するために、有機フィラーまたは無機フィラーをポリア
ミド酸溶液に混合してもよい。
性を持たせるため、フィルム表面にコロナ処理やプラズ
マ処理のような電気処理あるいはブラスト処理のような
物理的処理を行ってもよく、さらには熱的安定化させる
ために、フィルムをアニール処理により熱リラックスさ
せてもよい。
ムは、フレキシブルプリント基板用として好適な特性を
有する。すなわち、熱膨張係数、湿度膨張係数が小さく
寸法安定性に優れ、さらにフレキシビリティに富み、か
つハンドリング性に優れたポリイミドフィルムが得られ
る。
る。
アミン、4,4’−ODAは4,4’−ジアミノジフェ
ニルエーテル、3,4’−ODAは3,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、PMDAはピロメリット酸二無水
物、BPDAは3,3’−4,4’−ジフェニルテトラ
カルボン酸二無水物、DMAcはN,N−ジメチルアセ
トアミドをそれぞれ表す。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここにPPD2.
311g(21.4mmol)、4,4’−ODA2
4.254g(121.1mmol)、PMDA21.
757g(99.7mmol)、BPDA12.578
g(42.7mmol)を投入し、常温常圧中で1時間
反応させポリアミド酸溶液を得た。
てマイナス5℃で冷却後、無水酢酸0.8gとβ−ピコ
リン0.8gを混合することにより、ポリアミド酸のイ
ミド化を行った。
ラス板にコーティングして100℃で5分間加熱してゲ
ルフィルムを得た後、このゲルフィルムをガラス板から
剥がして、そのゲルフィルムの端部をピン止めし、縦方
向1.1倍、横方向1.3倍に延伸した。その後300
℃で20分間、続いて400℃で5分間加熱乾燥し、厚
さ12.5μmのポリイミドフィルムを得た。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここにPPD3.
116g(28.8mmol)、4,4’−ODA2
3.076g(115.2mmol)、PMDA21.
994g(100.8mmol)、BPDA12.71
5g(43.2mmol)を投入し、常温常圧中で1時
間反応させポリアミド酸溶液を得た。
2.5μmのポリイミドフィルムを得た。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここにPPD3.
937g(36.4mmol)、4,4’−ODA2
1.872g(109.2mmol)、PMDA22.
236g(101.9mmol)、BPDA12.85
5g(43.7mmol)を投入し、常温常圧中で1時
間反応させポリアミド酸溶液を得た。
2.5μmのポリイミドフィルムを得た。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここに3,4’−
ODA14.574g(72.8mmol)、4,4’
−ODA14.574g(72.8mmol)、PMD
A31.751g(145.6mmol)を投入し、常
温常圧中で1時間反応させポリアミド酸溶液を得た。
2.5μmのポリイミドフィルムを得た。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここに4,4’−
ODA29.149g(145.6mmol)、PMD
A31.751g(145.6mmol)を投入し、常
温常圧中で1時間反応させポリアミド酸溶液を得た。
マイナス5℃で冷却後、無水酢酸1.5gとβ−ピコリ
ン1.6gを混合することにより、ポリアミド酸のイミ
ド化を行った。
ラス板にコーティングして100℃で5分間加熱してゲ
ルフィルムを得た後、このゲルフィルムをガラス板から
剥がして、そのゲルフィルムの端部をピン止めし、縦方
向1.1倍、横方向1.3倍に延伸した。その後300
℃で20分間、続いて400℃で5分間加熱乾燥し、厚
さ25μmのポリイミドフィルムを得た。
スコにDMAc239.1gを入れ、ここにパラフェニ
レンジアミン5.056g(46.8mmol)、4,
4’−ODA21.847g(109.1mmol)、
PMDA33.997g(155.9mmol)を投入
し、常温常圧中で1時間反応させポリアミド酸溶液を得
た。
5μmのポリイミドフィルムを得た。 <ポリイミドフィルムの各特性の評価法> (1)フィルム厚 Mitutoyo製ライトマチック(Series318 )を使
用して測定した。 (2)ヤング率 機器:RTM−250を使用し、引張速度:100mm
/minの条件で測定した。 (3)熱膨張係数 機器:TMA−50を使用し、測定温度範囲:50〜2
00℃、昇温速度:10℃/minの条件で測定した。 (4)吸水率 98%RH雰囲気下のデシケーター内に2日間静置し、
乾燥時重量に対しての増加重量%で評価した。 (5)湿度膨張係数 25℃にてTM7000炉内にフィルムを取り付け、炉
内にドライガスを送り込んで乾燥させた後、HC−1型
水蒸気発生装置からの給気によりTM7000炉内を9
0%RHに加湿させ、その間の寸法変化から湿度膨張係
数を求めた。 (6)耐屈曲回数 JIS P 8115に準じた方法にて測定した。 <フレキシブルプリント基板の作成>得られた各種ポリ
イミドフィルムにエポキシ系接着剤を介し銅箔と130
℃にて貼り合わせ(ロール式)、120℃1時間、14
0℃1時間、160℃1時間加熱処理し銅張り積層板
(CCL)を得た。その後、表1の条件にて焼き付け〜
現像〜エッチング〜酸洗浄〜リフロー工程を経てフレキ
シブルプリント基板を得た。
法(L0)、フレキシブルプリント基板作成後の寸法
(L1)を測定し以下式により寸法変化率を求めた。
L0 ×100 以上により得られた各種結果のうち実施例結果を表2、
比較例結果を表3に纏めた。
係数、湿度膨張係数が小さく寸法安定性に優れ、さらに
フレキシブルでかつハンドリング性に優れているのでフ
レキシブルプリント基板用として好適に用いることがで
きる。
Claims (4)
- 【請求項1】 フィルム厚みが5〜20μm、ヤング率
が4〜7GPa、熱膨張係数が14〜22ppm/℃で
あることを特徴とするフレキシブルプリント基板用ポリ
イミドフィルム。 - 【請求項2】 吸水率が2.2%以下、湿度膨張係数が
20ppm/%RH以下であることを特徴とする請求項
1記載のフレキシブルプリント基板用ポリイミドフィル
ム。 - 【請求項3】 ポリイミドフィルムが芳香族ジアミン成
分としてパラフェニレンジアミン、4,4’−ジアミノ
ジフェニルエーテル、3,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル、4,4’−ジアミノジフェニルメタンのうち少
なくとも2種以上含むポリイミドから成ることを特徴と
する請求項1または2に記載のフレキシブルプリント基
板用ポリイミドフィルム。 - 【請求項4】 ポリイミドフィルムが芳香族テトラカル
ボン酸類化合物成分としてピロメリット酸類、ビフェニ
ルテトラカルボン酸類、ベンゾフェノンテトラカルボン
酸類のうち1種以上含むポリイミドから成ることを特徴
とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のフレキシブ
ルプリント基板用ポリイミドフィルム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001299920A JP2003109989A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001299920A JP2003109989A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003109989A true JP2003109989A (ja) | 2003-04-11 |
Family
ID=19120584
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001299920A Pending JP2003109989A (ja) | 2001-09-28 | 2001-09-28 | フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003109989A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004031270A1 (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-15 | Teijin Limited | ポリイミドフィルムおよびその製造法 |
JP2006054357A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブルプリント配線板用積層体及びその製造方法 |
JP2007201441A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Du Pont Toray Co Ltd | チップオンフィルム |
JP2008166554A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Du Pont Toray Co Ltd | フレキシブルプリント配線板 |
JP2008290302A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Du Pont Toray Co Ltd | 銅張り板 |
TWI405793B (zh) * | 2005-12-27 | 2013-08-21 | Du Pont Toray Co Ltd | 晶片搭載(chip-on)薄膜 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072781A (ja) * | 1998-11-05 | 2001-03-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板 |
-
2001
- 2001-09-28 JP JP2001299920A patent/JP2003109989A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001072781A (ja) * | 1998-11-05 | 2001-03-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | ポリイミドフィルムおよびそれを用いた電気・電子機器用基板 |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2004031270A1 (ja) * | 2002-10-07 | 2004-04-15 | Teijin Limited | ポリイミドフィルムおよびその製造法 |
JP2006054357A (ja) * | 2004-08-13 | 2006-02-23 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブルプリント配線板用積層体及びその製造方法 |
JP4647954B2 (ja) * | 2004-08-13 | 2011-03-09 | 新日鐵化学株式会社 | フレキシブルプリント配線板用積層体の製造方法 |
JP2007201441A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-08-09 | Du Pont Toray Co Ltd | チップオンフィルム |
TWI405793B (zh) * | 2005-12-27 | 2013-08-21 | Du Pont Toray Co Ltd | 晶片搭載(chip-on)薄膜 |
JP2008166554A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Du Pont Toray Co Ltd | フレキシブルプリント配線板 |
JP2008290302A (ja) * | 2007-05-23 | 2008-12-04 | Du Pont Toray Co Ltd | 銅張り板 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR20230157271A (ko) | 폴리이미드 필름 | |
TW202233910A (zh) | 一種聚醯亞胺薄膜及其製備方法與應用 | |
JP4665373B2 (ja) | ポリイミドフィルム | |
JP2000159887A (ja) | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP2002321300A (ja) | 接着フィルム及びその製造方法 | |
JP4009918B2 (ja) | ポリイミドフィルム、その製造方法およびそれを基材とした金属積層板 | |
JP4406764B2 (ja) | ガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびそれを用いた金属積層体 | |
JP4318111B2 (ja) | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP2003109989A (ja) | フレキシブルプリント基板用ポリイミドフィルム | |
JPH10114823A (ja) | 改質ポリイミドフィルム | |
JP5362752B2 (ja) | ポリアミド酸組成物、ポリイミドおよびポリイミドフィルムならびにそれらの製造方法 | |
JPH04207094A (ja) | フレキシブルプリント基板およびその製造方法 | |
KR101608922B1 (ko) | 접착력 및 내화학성이 우수한 폴리이미드 필름 | |
JPS62253621A (ja) | ポリイミド樹脂 | |
JPH0525273A (ja) | ポリイミドフイルムとその製造方法 | |
JP2000297163A (ja) | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP2010202681A (ja) | ポリイミドフィルム | |
JP5550010B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
JP2000063543A (ja) | ポリイミドフィルムおよびその製造方法 | |
JP2001244380A (ja) | 表面実装型エリアアレイパッケージ用ポリイミドフィルム | |
JP2002317159A (ja) | 接着フィルム、その製造方法および該接着フィルムを備えた金属箔積層体 | |
JPS60203638A (ja) | ポリイミドフイルム | |
JP2011131456A (ja) | ガスバリアー性ポリイミドフィルムおよびそれを用いた金属積層体 | |
JPH0741556A (ja) | ポリイミド樹脂及びポリイミドフィルム | |
JPH0848795A (ja) | 新規なポリイミドフィルム及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100225 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20100301 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100301 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100824 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20101221 |